(57)【要約】【課題】光変調特性が高性能で、安定性について改善された光変調器を提供する。【解決手段】基板１と、光導波路３と、進行波電極４と、基板に形成した凹部により構成されるリッジ部とを具備する光変調器において、凹部は、第１の凹部に対称に第２、３の凹部が形成され、第１、２の凹部間に中心導体用リッジ部が形成され、第１、３の凹部間に接地導体用リッジ部が形成され、第３の凹部の上方に、第１の接続用接地導体４ｂ（４）と第１の空隙部１１ａと交互に形成され、第２の凹部に隣接する中心導体用リッジ部でない側の接地導体に、中心導体４ａに対し第３の凹部と対称に、第２の接続用接地導体４ｃ（４）と第２の空隙部１１ｅと交互に形成され、第１の空隙部と第２の空隙部の少なくとも一部について光導波路方向の位置、長さ、幅の少なくとも１つが異なる。【選択図】図１
2010049073.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学効果を有する基板と、前記基板に形成された２本の光導波路と、前記基板の上に形成されたバッファ層と、該バッファ層の上方に配置された中心導体と接地導体からなる進行波電極と、前記進行波電極を伝搬する高周波電気信号の電界強度が強い領域における前記基板の少なくとも一部を掘り下げることにより形成した凹部により構成されるリッジ部とを具備し、該リッジ部は前記中心導体が上方に形成された中心導体用リッジ部と、前記接地導体が上方に形成された接地導体用リッジ部からなり、前記中心導体用リッジ部に前記２本の光導波路のうちの１本が形成され、前記接地導体用リッジ部にもう１本の光導波路が形成されている光変調器において、
前記凹部は第１、第２及び第３の凹部でなり、前記第１の凹部の中心線に対して対称な位置に前記第２及び第３の凹部が形成されており、前記第１の凹部と前記第２の凹部との間に前記中心導体用リッジ部が形成され、前記第１の凹部と前記第３の凹部との間に前記接地導体用リッジ部が形成されており、
前記第１の凹部及び前記第２の凹部の上方には前記接地導体が形成されておらず、
前記第３の凹部の上方には、前記接地導体が形成された部分と形成されていない部分とが、第１の接続用接地導体と第１の空隙部として光導波路方向に交互に形成されており、
前記第２の凹部に隣接する前記中心導体用リッジ部でない側の基板上に形成された接地導体には、前記中心導体の中心線に対して前記第３の凹部と対称となる位置に、前記接地導体が形成された部分と形成されていない部分とが、第２の接続用接地導体と第２の空隙部として前記光導波路の方向に交互に形成されており、
前記接地導体の前記第１の空隙部と前記第２の空隙部の少なくとも一部について前記光導波路の方向における位置、長さ、もしくは幅の少なくとも１つが異なって形成されていることを特徴とする光変調器。
【請求項２】
電気光学効果を有する基板と、前記基板に形成された２本の光導波路と、前記基板の上に形成されたバッファ層と、該バッファ層の上方に配置された中心導体と接地導体からなる進行波電極と、前記進行波電極を伝搬する高周波電気信号の電界強度が強い領域における前記基板の少なくとも一部を掘り下げることにより形成した凹部により構成されるリッジ部とを具備し、該リッジ部は前記中心導体が上方に形成された中心導体用リッジ部と、前記接地導体が上方に形成された接地導体用リッジ部からなり、前記中心導体用リッジ部に前記２本の光導波路のうちの１本が形成され、前記接地導体用リッジ部にもう１本の光導波路が形成されている光変調器において、
前記凹部は第１、第２及び第３の凹部でなり、前記第１の凹部の中心線に対して対称な位置に前記第２及び第３の凹部が形成されており、前記第１の凹部と前記第２の凹部との間に前記中心導体用リッジ部が形成され、前記第１の凹部と前記第３の凹部との間に前記接地導体用リッジ部が形成されており、
前記第１の凹部及び前記第２の凹部の上方には前記接地導体が形成されておらず、
前記第３の凹部の上方には、前記接地導体が形成された部分と形成されていない部分とが、第１の接続用接地導体と第１の空隙部として光導波路方向に交互に形成されており、
前記第２の凹部に隣接する前記中心導体用リッジ部でない側の基板上に形成された接地導体には、前記中心導体の中心線に対して前記第３の凹部と対称となる位置に、前記接地導体が形成された部分と形成されていない部分とが、第２の接続用接地導体と第２の空隙部として前記光導波路の方向に交互に形成されており、
前記第１の接続用接地導体と前記第２の接続用接地導体の少なくとも一部について前記光導波路の方向における位置、長さ、幅、もしくは厚みの少なくとも１つが異なって形成されていることを特徴とする光変調器。
【請求項３】
前記第１の接続用接地導体または前記第２の接続用接地導体が、前記中心導体もしくは前記接地導体の少なくとも一部とほぼ同じ厚みを持つことを特徴とする請求項１もしくは請求項２に記載の光変調器。
【請求項４】
前記第１の接続用接地導体または前記第２の接続用接地導体が、前記中心導体の厚みよりも薄いことを特徴とする請求項１もしくは請求項２に記載の光変調器。
【請求項５】
前記第３の凹部に隣接する前記接地導体用リッジ部でない側の基板上に形成された接地導体の、前記高周波電気信号の電磁界が小さくなった領域である前記第３の凹部から所定距離離れた領域における厚みを、当該領域以外の領域における接地導体の厚みよりも薄く構成したことを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載の光変調器。
【請求項６】
前記第２の凹部に隣接する前記中心導体用リッジ部でない側の基板上に形成された接地導体の、前記高周波電気信号の電磁界が小さくなった領域である前記第２の凹部から所定距離離れた領域における厚みを、当該領域以外の領域における接地導体の厚みよりも薄く構成したことを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れか１項に記載の光変調器。
【請求項７】
前記基板がリチウムナイオベートからなることを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れか１項に記載の光変調器。
【請求項８】
前記基板が半導体からなることを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れか１項に記載の光変調器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学効果を利用して、光導波路に入射した光を高周波電気信号で変調して光信号パルスとして出射する光変調器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、高速、大容量の光通信システムが実用化されている。このような高速、大容量の光通信システムに組込むための高速、小型、低価格、かつ高安定な光変調器の開発が求められている。
【０００３】
このような要望に応える光変調器として、リチウムナイオベート（ＬｉＮｂＯ３）のように電界を印加することにより屈折率が変化する、いわゆる電気光学効果を有する基板（以下、ＬＮ基板と略す）に光導波路と進行波電極を形成した進行波電極型リチウムナイオベート光変調器（以下、ＬＮ光変調器と略す）がある。このＬＮ光変調器は、その優れたチャーピング特性から２．５Ｇｂｉｔ／ｓ、１０Ｇｂｉｔ／ｓの大容量光通信システムに適用されている。最近はさらに４０Ｇｂｉｔ／ｓの超大容量光通信システムにも適用が検討されている。
【０００４】
以下、従来、実用化され、又は提唱されてきたリチウムナイオベートの電気光学効果を利用したＬＮ光変調器について説明する。
【０００５】
（第１の従来技術）
特許文献１に開示された、ｚ−カットＬＮ基板を用いて構成した、いわゆるリッジ型ＬＮ光変調器を第１の従来技術の光変調器として図１５にその斜視図を示す。なお、図１６は図１５のＡ−Ａ´線における断面図である。
【０００６】
ｚ−カットＬＮ基板１上に光導波路３が形成されている。この光導波路３は、金属Ｔｉを１０５０℃で約１０時間熱拡散して形成した光導波路であり、マッハツェンダ干渉系（あるいは、マッハツェンダ光導波路）を構成している。したがって、光導波路３の電気信号と光が相互作用する部位（相互作用部と言う）には２本の相互作用光導波路３ａ、３ｂ、つまりマッハツェンダ光導波路の２本のアームが形成されている。
【０００７】
この光導波路３の上面にＳｉＯ２バッファ層２が形成され、このＳｉＯ２バッファ層２の上面に進行波電極４が形成されている。進行波電極４としては、１つの中心導体４ａと２つの接地導体４ｂ、４ｃを有するコプレーナウェーブガイド（ＣＰＷ）を用いている。なお、通常、進行波電極４は高価な貴金属材料であるＡｕにより形成されている。５はｚ−カットＬＮ基板１を用いて製作したＬＮ光変調器に特有の焦電効果に起因する温度ドリフトを抑圧するための導電層であり、通常はＳｉ導電層を用いる。中心導体４ａの幅Ｓは７μｍ程度で、中心導体４ａと接地導体４ｂ、４ｃの間のギャップＷは１５μｍ程度である。なお、説明を簡単にするために、図１５では図示した温度ドリフト抑圧のためのＳｉ導電層５を図１６においては省略している。また、以下においてもＳｉ導電層５は省略して議論する。
【０００８】
この第１の従来技術では、ｚ−カットＬＮ基板１をエッチングなどで掘り込むことにより、凹部９ａ、９ｂ、及び９ｃ（あるいは、リッジ部８ａ、８ｂとも言える）を形成している。ここで、１０ａ、１０ｂは接地導体において高周波電信号の電磁界が小さくなった領域あるいは部位であり、外周部と呼ぶ。なお、リッジ部８ａ、８ｂを各々中心導体用リッジ部、接地導体用リッジ部とも呼ぶ。
【０００９】
このリッジ構造をとることにより、高周波電気信号の実効屈折率（あるいは、マイクロ波実効屈折率）、特性インピーダンス、変調帯域、駆動電圧などにおいて優れた特性を実現することができる。なお、図１６では凹部９ａ、９ｂ、及び９ｃの深さ（あるいはリッジ部８ａ、８ｂの高さ）を強調して描いているが、実際には２〜５μｍ程度であり、中心導体４ａや接地導体４ｂ、４ｃの厚み約２０μｍに比較するとその値は小さい。
【００１０】
さて、この第１の従来技術はＬＮ光変調器としての変調特性は高いものの、安定性について問題があることがわかった。即ち、Ｓｉ導電層５を使用しているにもかかわらず、温度ドリフト特性が悪いことが判明した。その原因は高い変調性能を生み出すリッジ構造に起因していると考えられる。
【００１１】
以下にその原因について詳しく説明する。図１６からわかるように、中心導体４ａの直下のリッジ部８ａについては、接地導体４ｂ、４ｃとは独立しているので、ｚ−カットＬＮ基板１の表面に平行な方向にリッジ部８ａを引っ張る力は存在しない。
【００１２】
ところが、リッジ部８ｂについては、前述のように約２０μｍの厚い接地導体４ｂが凹部９ｃ、外周部１０ｂとともに形成されている。そして、ＳｉＯ２バッファ層２上の接地導体４ｂのＡｕとｚ−カットＬＮ基板１の熱膨張係数は互いに大きく異なる。さらに、ｚ−カットＬＮ基板１の幅は数ミリメートル（例えば、１ｍｍ〜５ｍｍ）と広い。一方、相互作用光導波路３ａ、３ｂのギャップは約１５μｍ程度と狭いので、接地導体４ｂや４ｃの幅は各々ｚ−カットＬＮ基板１の幅の約半分と言えるくらいに広い（換言すると、外周部１０ａや１０ｂが広い）。つまり、図１６の接地導体４ｂの幅も広いので環境変化に起因する熱膨張や熱収縮などの応力が積み重なり、リッジ部８ｂへかなり大きな応力（あるいは厚みが厚いことに起因するモーメント）がかかる。さらに、リッジ部８ｂは突起しているので、応力（特にモーメントによる応力）の影響を受けやすい。なお、実際には接地導体４ｃの幅も広く、その影響もある。
【００１３】
ところが、ｚ−カットＬＮ基板１に応力がかかるとその屈折率が変化する（応力複屈折）ので、結果的に相互作用光導波路３ａの屈折率が変化することになり、ＬＮ光変調器を動作させる際のＤＣバイアス点が変わってしまう。これがリッジ構造特有の温度ドリフト現象であり、ＬＮ光変調器としての安定性を損なう結果となる。ちなみに、ＬＮ光変調器の環境温度を室温から８０℃まで変化させた際に、この第１の従来技術でのＤＣバイアス点の変化は６Ｖと大きかった。
【００１４】
（第２の従来技術）
この第１の従来技術の問題点を解決するために、特許文献２に開示された第２の従来技術の相互作用部における断面図を図１７に示す。この図１７からわかるように、リッジ部８ｂの上に形成された接地導体４ｂ´と外周部１０ｂの上に形成された接地導体４ｂ´´の厚みは厚いが、凹部９ｃに形成された接地導体４ｂ´´´の厚みを例えば約３００ｎｍ以下と薄くしている。このように凹部９ｃにおける接地導体４ｂ´´´の厚みを薄くすることにより、広い面積を有する接地導体４ｂ´´がリッジ部８ｂへ与える応力を小さくすることができるので、温度安定性を改善できるという考え方である。
【００１５】
以下において、温度ドリフトと高周波電気信号の伝搬の観点から議論する。この第２の従来技術ではリッジ部８ａと８ｂを形成する凹部９ａ、９ｂ、９ｃと光導波路３ａと３ｂはそれらの中間に設けた中心線Ｉに対して対称な構造である。さて、リッジ部８ａや８ｂの側面は傾斜している（よって、傾斜面あるいは傾斜部とも言う）。こうした傾斜面は−ｚ面でないため焦電効果による電荷の発生が−ｚ面であるｚ−カットＬＮ基板１の上面や凹部９ａ、９ｂ、及び９ｃと異なっている。
【００１６】
そのため、優れた温度ドリフト特性を実現するためには、凹部９ａ、９ｂ、及び９ｃを光導波路３ａと３ｂの中間に設けることのできる中心線Ｉに対してほぼ対称な（あるいは、光導波路３ａと３ｂを含むｚ−カットＬＮ基板１の構造がその中間に設けた中心線Ｉに対してほぼ対称な）構造が望ましい。つまり、この第２の従来技術は温度ドリフト抑圧に適した構造と言える。なお、マッハツェンダ光導波路のように、相互作用光導波路が２本（光導波路３ａと３ｂ）の場合に、光導波路３ａと３ｂがそれらの中間の中心線に対して対称となる構造では、実質的な凹部（９ａ、９ｂ、９ｃ）の数が奇数となる。
【００１７】
ところが、高周波電気信号の低損失で安定な伝搬の観点からこの第２の従来技術は以下のように問題を有していることがわかる。図１５に示すように、マイクロ波である高周波電気信号は高周波電気信号給電線６や不図示のコネクタを伝搬した後、進行波電極４に印加されるが、高周波電気信号給電線６と不図示のコネクタの電磁界分布は各々の中心導体に対して軸対称である。また、高周波電気信号給電線６に接続される不図示のコネクタと進行波電極４との接続部（入力用フィードスルー部と呼ばれる）においても高周波電磁界の電磁界分布は進行波電極４の中心導体（相互作用部の中心導体４ａを不図示のコネクタの芯線との接続部まで延長した部位）に対して左右対称（つまり、基板表面方向に対して対称）である。
【００１８】
しかしながら、この第２の従来技術では図１７の中心導体４ａの中央に引いた線ＩＩに対して進行波電極が構造的に左右非対称である。構造が左右非対称ということは電磁界分布も左右非対称となるので、入力用フィードスルー部における左右対称な電磁界分布と整合性が良くない。その結果、高周波電気信号が中心導体４ａ、接地導体４ｂ´、４ｂ´´´、４ｂ´´、４ｃで構成される進行波電極４を伝搬する際に、対称な電磁界分布から非対称な電磁界分布に変換せねばならず、電磁界分布が安定しない、あるいは放射損失（または伝搬損失）が生じるなどの不都合が生じてしまう。
【００１９】
（第３の従来技術）
図１８に特許文献３に開示された第３の従来技術の上面図を示す。なお、ｚ−カットＬＮ基板１の幅は数ミリメートルあり、相互作用光導波路３ａと３ｂのギャップは１５μｍ程度である。またｚ−カットＬＮ基板１の長さは５ｃｍ〜７ｃｍ程度である。
【００２０】
ここで、Ｂ−Ｂ´とＣ−Ｃ´における断面図を図１９と図２０に示す。なお、１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、及び１１ｄは凹部９ａ、９ｂ、９ｃ及び９ｄがあることによる空隙部であり、４ｂ（４）、４ｂ（５）、４ｂ（６）、４ｃ（４）、４ｃ（５）、４ｃ（６）は接地導体である。ここで、接地導体４ｂ（５）は接地導体４ｂ（４）と４ｂ（６）を接続している。また、１０ｃは外周部である。８ａ、８ｂ、８ｃはリッジ部である。空隙部１１ａと１１ｄは接地導体において導体が欠落した部位（あるいは、接地導体に開けた窓）とも言える。また、１３ａ、１３ｄは空隙部１１ａと１１ｄを接地導体４ｂ（５）と４ｃ（５）で埋めた埋め込み部である。図１９と図２０において、ＩＶは中心導体４ａの中心線であり、進行波電極はこの中心線ＩＶに対して対称となっている。
【００２１】
図からわかるように、接地導体４ｂ（４）と４ｃ（４）の幅は図１７に示した第２の従来技術の接地導体４ｂ´や中心導体４ａと同程度に狭い。また、接地導体４ｂ（６）、４ｃ（６）は図１７に示した第２の従来技術の接地導体４ｂ´´のように広い。そして、この第３の従来技術において接地導体４ｂ（４）と４ｂ（６）を接続する接地導体４ｂ（５）と、接地導体４ｃ（４）と４ｃ（６）を接続する接地導体４ｃ（５）の厚みは、図１７に示した第２の従来技術の接地導体４ｂ´´´よりも厚く設定している。
【００２２】
ところが、この第３の従来技術を実際に製作したところ、この構造ではリッジ構造に起因する温度ドリフトを抑圧することができないという重要な問題があることがわかった。以下、その問題点を焦電効果の観点から説明する。
【００２３】
光導波路３ａと３ｂの中間の中心線ＩＩＩに対して、リッジ８ａ、８ｂ、８ｃ（あるいは凹部９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄ）が非対称に配置されている。リッジ８ａ、８ｂ、８ｃの側面である傾斜面は−ｚ面ではないので、環境温度の変化に伴う焦電効果による電荷の分布はこれらの凹部やｚ−カットＬＮ基板１の上面と異なっている。そのため、環境温度の変化とともに刻々と変化する不均一な電荷分布（即ち、不均一な電界分布）が生じるので光導波路３ａと３ｂに不均一な電圧が印加される。これらの不均一な電界分布を打ち消すように外部回路からＤＣバイアスを印加する必要があるので、結果的に温度ドリフトを生じてしまうと結論できる。
【特許文献１】特開平４−２８８５１８号公報
【特許文献２】特開２００４−１５７５００号公報
【特許文献３】特開２００６−８４５３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２４】
以上のように、リッジ型ＬＮ光変調器として提案された従来の第１技術では電極を構成するＡｕとｚ−カットＬＮ基板との熱膨張係数の差に起因する接地導体からの応力（あるいは、モーメントによる応力）が温度とともに最適ＤＣバイアス点を変化させる温度ドリフトを生じた。この温度特性を改善するために提案された第２の従来技術では、温度ドリフトは改善できるものの、進行波電極が中心導体に対して対称ではないため、高周波電気信号が対称モードから非対称モードへのモード変換における安定な伝搬と低損失な伝搬という観点から不利であった。また、第３の従来技術では進行波電極が中心導体に対して対称であるため、高周波電気信号の安定で低損失な伝搬という観点から有利であったが、リッジ部（あるいは凹部）の構成が２本の光導波路に対して非対称であったため、特にリッジの傾斜面における焦電効果の影響が強く、温度ドリフトの観点から問題があった。つまり、光変調器としての高速性・低駆動電圧性を犠牲にしないで温度安定化を実現できる光変調器の開発が急務となっている。
【００２５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、光変調特性が高性能であるとともに、安定性について改善された光変調器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２６】
上記課題を解決するために、本発明の請求項１の光変調器は、電気光学効果を有する基板と、前記基板に形成された２本の光導波路と、前記基板の上に形成されたバッファ層と、該バッファ層の上方に配置された中心導体と接地導体からなる進行波電極と、前記進行波電極を伝搬する高周波電気信号の電界強度が強い領域における前記基板の少なくとも一部を掘り下げることにより形成した凹部により構成されるリッジ部とを具備し、該リッジ部は前記中心導体が上方に形成された中心導体用リッジ部と、前記接地導体が上方に形成された接地導体用リッジ部からなり、前記中心導体用リッジ部に前記２本の光導波路のうちの１本が形成され、前記接地導体用リッジ部にもう１本の光導波路が形成されている光変調器において、前記凹部は第１、第２及び第３の凹部でなり、前記第１の凹部の中心線に対して対称な位置に前記第２及び第３の凹部が形成されており、前記第１の凹部と前記第２の凹部との間に前記中心導体用リッジ部が形成され、前記第１の凹部と前記第３の凹部との間に前記接地導体用リッジ部が形成されており、前記第１の凹部及び前記第２の凹部の上方には前記接地導体が形成されておらず、前記第３の凹部の上方には、前記接地導体が形成された部分と形成されていない部分とが、第１の接続用接地導体と第１の空隙部として光導波路方向に交互に形成されており、前記第２の凹部に隣接する前記中心導体用リッジ部でない側の基板上に形成された接地導体には、前記中心導体の中心線に対して前記第３の凹部と対称となる位置に、前記接地導体が形成された部分と形成されていない部分とが、第２の接続用接地導体と第２の空隙部として前記光導波路の方向に交互に形成されており、前記接地導体の前記第１の空隙部と前記第２の空隙部の少なくとも一部について前記光導波路の方向における位置、長さ、もしくは幅の少なくとも１つが異なって形成されていることを特徴とする。
【００２７】
本発明の請求項２の光変調器は、電気光学効果を有する基板と、前記基板に形成された２本の光導波路と、前記基板の上に形成されたバッファ層と、該バッファ層の上方に配置された中心導体と接地導体からなる進行波電極と、前記進行波電極を伝搬する高周波電気信号の電界強度が強い領域における前記基板の少なくとも一部を掘り下げることにより形成した凹部により構成されるリッジ部とを具備し、該リッジ部は前記中心導体が上方に形成された中心導体用リッジ部と、前記接地導体が上方に形成された接地導体用リッジ部からなり、前記中心導体用リッジ部に前記２本の光導波路のうちの１本が形成され、前記接地導体用リッジ部にもう１本の光導波路が形成されている光変調器において、前記凹部は第１、第２及び第３の凹部でなり、前記第１の凹部の中心線に対して対称な位置に前記第２及び第３の凹部が形成されており、前記第１の凹部と前記第２の凹部との間に前記中心導体用リッジ部が形成され、前記第１の凹部と前記第３の凹部との間に前記接地導体用リッジ部が形成されており、前記第１の凹部及び前記第２の凹部の上方には前記接地導体が形成されておらず、前記第３の凹部の上方には、前記接地導体が形成された部分と形成されていない部分とが、第１の接続用接地導体と第１の空隙部として光導波路方向に交互に形成されており、前記第２の凹部に隣接する前記中心導体用リッジ部でない側の基板上に形成された接地導体には、前記中心導体の中心線に対して前記第３の凹部と対称となる位置に、前記接地導体が形成された部分と形成されていない部分とが、第２の接続用接地導体と第２の空隙部として前記光導波路の方向に交互に形成されており、前記第１の接続用接地導体と前記第２の接続用接地導体の少なくとも一部について前記光導波路の方向における位置、長さ、幅、もしくは厚みの少なくとも１つが異なって形成されていることを特徴とする。
【００２８】
本発明の請求項３の光変調器は、前記第１の接続用接地導体または前記第２の接続用接地導体が、前記中心導体もしくは前記接地導体の少なくとも一部とほぼ同じ厚みを持つことを特徴とする。
【００２９】
本発明の請求項４の光変調器は、前記第１の接続用接地導体または前記第２の接続用接地導体が、前記中心導体の厚みよりも薄いことを特徴とする。
【００３０】
本発明の請求項５の光変調器は、前記第３の凹部に隣接する前記接地導体用リッジ部でない側の基板上に形成された接地導体の、前記高周波電気信号の電磁界が小さくなった領域である前記第３の凹部から所定距離離れた領域における厚みを、当該領域以外の領域における接地導体の厚みよりも薄く構成したことを特徴とする。
【００３１】
本発明の請求項６の光変調器は、前記第２の凹部に隣接する前記中心導体用リッジ部でない側の基板上に形成された接地導体の、前記高周波電気信号の電磁界が小さくなった領域である前記第２の凹部から所定距離離れた領域における厚みを、当該領域以外の領域における接地導体の厚みよりも薄く構成したことを特徴とする。
【００３２】
本発明の請求項７の光変調器は、前記基板がリチウムナイオベートからなることを特徴とする。
【００３３】
本発明の請求項８の光変調器は、前記基板が半導体からなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００３４】
本発明に係る光変調器では、リッジやそれを構成する凹部は２本の光導波路の中間に設けた中心線に対して対称とする。これにより、環境温度の変化に対応して起こる焦電効果による電荷の分布（即ち、電界の分布）が２本の光導波路の中間に設けた中心線に対してほぼ対称となるので、温度ドリフトを解決することができる。また、進行波電極の基本的な構造を中心導体の中心線に対して対称とすることにより、高周波電気信号の安定で低損失な伝搬を可能とする。これらの結果、リッジ型光変調器の変調の観点からの高い性能を損なうことなく、熱ドリフトが小さなＬＮ光変調器を提供することが可能となるという優れた効果がある。さらに、本発明には接地導体において高周波電気信号の電磁界分布が小さくなる領域（あるいは部位）である外周部の導体の厚みを薄くする構造も含んでいる。この外周部の導体の厚みを薄くする構造により、環境温度が変化する際に、ＳｉＯ２バッファ層２上の接地導体とｚ−カットＬＮ基板の熱膨張係数の差に起因して生じる広い接地導体からの導体の応力を緩和することができるので、一層の温度ドリフト特性の改善に寄与するばかりでなく、高価な貴金属材料であるＡｕの使用量を減らすことができるので光変調器としてのコスト低減も可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、本発明の実施形態について説明するが、図１５から図２０に示した従来技術と同一の符号は同一機能部に対応しているため、ここでは同一の符号を持つ機能部の説明を省略する。
【００３６】
（第１の実施形態）
図１に本発明の第１の実施形態についてその上面図を示す。また、Ｄ−Ｄ´、Ｅ−Ｅ´における断面図を各々図２と図３に示す。ここで、１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、及び１１ｅは空隙部である。なお、４ｂ（４）、４ｂ（５）、４ｂ（６）、４ｃ（４）、４ｃ（５）、４ｃ（６）は接地導体である。接地導体４ｂ（５）は接地導体４ｂ（４）と４ｂ（６）を、また接地導体４ｃ（５）は接地導体４ｃ（４）と４ｃ（６）を接続している（接地導体４ｂ（５）と接地導体４ｃ（５）は接続用接地導体とも呼ばれる）。
【００３７】
本実施形態では高周波電気信号としての表皮効果の影響を受けにくいように、接続用接地導体である接地導体４ｂ（５）と４ｃ（５）はそれらの厚みを厚くしている。また、１０ｂと１０ｄは接地導体において高周波電気信号の強度が小さくなった部位であり、外周部と呼ぶ。８ａと８ｂはリッジ部である。空隙部１１ａと１１ｅは接地導体において導体が欠落した部位（あるいは、接地導体に開けた窓）とも言える。また、１３ａは空隙部１１ａを接地導体４ｂ（５）で埋めた埋め込み部である。
【００３８】
ここで、光導波路が形成されていない側の接地導体４ｃ（５）と４ｃ（６）の下には凹部を形成していない。図２においてＶは光導波路３ａと３ｂの中間に設けた中心線であり、光導波路３ａと３ｂ（あるいは、リッジ部８ａと８ｂ、もしくは凹部９ａ、９ｂ、９ｃ）はこの中心線Ｖに対して対称な構造となっている。従って、Ｖは光導波路についての対称軸と言える。前述のように、リッジ部８ａと８ｂは焦電効果により発生する電荷の分布が凹部９ａ、９ｂ、９ｃの底面やｚ−カットＬＮ基板１の上面とは異なる傾斜部（前述のように、リッジ８ａと８ｂの側面であり、傾斜面とも言う）を持っている。
【００３９】
重要なことは第１の実施形態では光導波路３ａと３ｂについてこの傾斜面を含め、凹部９ａ、９ｂ、９ｃを中心線Ｖに対して対称な構造としていることである。これにより、焦電効果による電荷分布、即ち電界分布も中心線Ｖに対して対称となるので、環境変化に伴う温度ドリフトについては極めて安定な特性を実現できる。
【００４０】
なお、各接地導体の下方において、温度ドリフトには影響のない箇所に凹部を作ることにより光導波路３ａと３ｂについての対称性を壊しても、それは影響のない箇所の変更であるので本発明に属する。また、図２や図３における凹部の数は３個であるが、２本の光導波路の中間に設けた中心線に対して構造が対称でありさえすれば、これ以上の数の凹部を設けても本発明に属すると言える。そして、これらのことは本発明の全ての実施形態について成り立つことは言うまでもない。
【００４１】
図４には環境温度Ｔを２０℃から８０℃まで変化させた場合の本発明における第１の実施形態についての実験結果を示す。比較のために、図には第１の従来技術、第２の従来技術、及び第３の従来技術についての測定結果も示している。ここで、中心導体４ａの幅Ｓは７μｍ、中心導体４ａと接地導体４ｂ（４）、もしくは接地導体４ｃ（４）とのギャップＷは１５μｍとした。また、空隙部１１ａ幅のＷｗが１５μｍで、それらの長さＬｗと接地導体４ｂ（５）の長さＬｅが各々１ｍｍと１００μｍとした。図からわかるように、本実施形態を採用することにより、進行波電極が中心導体４ａの中心線に対して対称であるため、高周波光変調の観点から有利ではあるものの、凹部１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄの配置が光導波路３ａ、３ｂについては対称ではない第３の従来技術よりも温度ドリフトを大幅に抑えることが可能となり、本発明の考え方が正しいことを実証できた。なお、温度ドリフトについては第２の従来技術も優れているが、先に述べたように第２の従来技術は高周波電気信号のモード変換の観点から問題がある。ここで、空隙部１１ａの長さＬｗと接地導体４ｂ（５）の長さＬｅは各々３０μｍ〜３ｍｍ、及び５μｍ〜５００μｍ程度まで変化させても効率よく温度ドリフトを抑圧できた。なお、本発明はこれらの数値に限るものではないことは言うまでもない。
【００４２】
以上の説明においては、本発明の原理の説明を簡単にするために、空隙部１１ａの幅Ｗｗと長さＬｗが、空隙部１１ｅの幅Ｗｗ´と長さＬｗ´と各々等しく、また接地導体４ｂ（５）の長さＬｅと接地導体４ｃ（５）の長さＬｅ´も等しいと仮定したが、本発明はこれに限るものではない。さらに、空隙部１１ａや接地導体４ｂ（５）の個数と空隙部１１ｅや接地導体４ｃ（５）の個数が各々異なっていても良い。そして、このことは本発明の全ての実施形態について言える。なお、以上に述べた接地導体（接続用接地導体）や空隙部の長さや幅は相互作用光導波路３ａ、３ｂの長さ方向に対するものとする。
【００４３】
次に、高周波電気信号の電磁界分布の観点から考察する。本発明におけるその他の全ての実施形態と同じく、図１〜図３における進行波電極としての基本的な構成要素は中心導体４ａと接地導体４ｂ（４）、４ｂ（６）、４ｃ（４）、４ｃ（６）である。そして、図２と図３からわかるように、中心導体４ａの中心に引いた中心線ＶＩは中心導体４ａと接地導体４ｂ（４）、４ｂ（６）、４ｃ（４）、４ｃ（６）からなる進行波電極の対称軸となっている。このように、本実施形態における進行波電極の基本的な構造について、中心導体４ａの中心線を対称軸とする構造対称性を有している。進行波電極の構造が対称であるということは、進行波電極を伝搬する高周波電気信号の電磁界分布も対称であることを意味している。従って、図１７に示した第２の従来技術では必要であったコネクタや入力用フィードスルー部の対称な高周波電気信号の対称モードから進行波電極の非対称モードへの変換が不要となるので、高周波電気信号を安定、そして低損失に伝搬することが可能となる。
【００４４】
さて、凹部が光導波路３ａと３ｂの中間に設けた中心線Ｖに対して厳密に対称でないと本発明の効果を発揮できないかというとそれは正しくない。接地導体４ｂ（４）の幅は中心導体４ａの幅と数μｍ程度異なっていても良く、これを含めて光導波路３ａ、３ｂの中間に設けた中心線Ｖに対して光導波路３ａ、３ｂの上にある中心導体と接地導体が対称である（あるいは、実質的にほぼ対称）としている。また、同様に進行波電極の構造が中心線ＶＩに対して厳密に対称でなくても本発明の効果を発揮できる。そしてこれらのことは本発明の全ての実施形態について言える。
【００４５】
以上のように、本実施形態は光導波路に関する構造を２本の光導波路の中間に設けた中心線Ｖについて対称とするとともに、進行波電極に関する基本的な構造を中心導体の中心線ＶＩについて対称とすることにより、それらの対称性を有しない場合と比較して、環境温度変化に伴う温度ドリフトを抑圧し、かつ高周波電気信号のモードを安定させ、そして低損失に伝搬させている。
【００４６】
（第２の実施形態）
図５に本発明の第２の実施形態についてその上面図を示す。また、Ｆ−Ｆ´、Ｇ−Ｇ´における断面図を各々図６と図７に示す。ここで、１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、及び１１ｆは空隙部である。なお、４ｂ（７）、４ｂ（８）、４ｂ（９）、４ｃ（７）、４ｃ（８）、４ｃ（９）は接地導体である。接地導体４ｂ（８）は接地導体４ｂ（７）と４ｂ（９）を、また接地導体４ｃ（８）は接地導体４ｃ（７）と４ｃ（９）を接続している（接地導体４ｂ（８）と接地導体４ｃ（８）は接続用接地導体とも呼ばれる）。また、１０ｂと１０ｄは外周部である。８ａと８ｂはリッジ部である。空隙部１１ａと１１ｆは接地導体において導体が欠落した部位（あるいは、接地導体に開けた窓）とも言える。
【００４７】
ここで、図６においてＶは光導波路３ａと３ｂの中間に設けた中心線であり、光導波路３ａと３ｂ（あるいは、リッジ部８ａと８ｂ、もしくは凹部９ａ、９ｂ、９ｃ）はこの中心線Ｖに対して対称な構造となっている。従って、第１の実施形態として示した図２において述べたように、Ｖは光導波路３ａと３ｂについての対称軸と言える。前述のように、リッジ部８ａと８ｂは焦電効果により発生する電荷の分布が凹部９ａ、９ｂ、９ｃの底面やｚ−カットＬＮ基板１の上面とは異なる傾斜部（リッジ８ａと８ｂの側面、あるいは傾斜面）を持っている。本発明のこの第２の実施形態においても光導波路３ａと３ｂについてはこの傾斜部を含め、凹部９ａ、９ｂ、９ｃを中心線Ｖに対して対称な構造となっているので、焦電効果による電荷分布、即ち電界分布も中心線Ｖに対して対称となり、環境変化に伴う温度ドリフトについては極めて安定となる。
【００４８】
次に、第１の実施形態と同様に、高周波電気信号の電磁界分布の観点から考察する。本発明におけるその他の全ての実施形態と同じく、図５〜図７における進行波電極としての基本的な構成要素は中心導体４ａと接地導体４ｂ（７）、４ｂ（９）、４ｃ（７）、４ｃ（９）である。そして、図６と図７からわかるように、中心導体４ａの中心に引いた中心線ＶＩＩは中心導体４ａと接地導体４ｂ（７）、４ｂ（９）、４ｃ（７）、４ｃ（９）からなる進行波電極の対称軸となっている。このように、本実施形態では進行波電極の基本的な構造について、中心導体４ａの中心を対称軸とする構造対称性を有しているので、その構造対称性を有しない図１６に示す第２の従来技術よりも、コネクタや入力用フィードスルー部の対称な電磁界を安定、かつ低損失に伝搬することができる。
【００４９】
以上のように、本実施形態においても光導波路に関する構造を２本の光導波路の中間に設けた中心線Ｖについて対称とするとともに、進行波電極に関する基本的な構造を中心導体の中心線ＶＩＩについて対称とすることにより、それらの対称性を有しない場合と比較して、環境温度変化に伴う温度ドリフトを抑圧し、かつ高周波電気信号のモードを安定させ、かつ低損失に伝搬させている。
【００５０】
但し、図３と図７を比較すると、図７における接続用接地導体４ｂ（８）と４ｃ（８）は図３における接続用接地導体４ｂ（５）と４ｃ（５）よりも薄いので、表皮効果の観点から高速光変調にはやや不利になる。
【００５１】
（第３の実施形態）
図８に本発明の第３の実施形態についてその上面図を示す。また、Ｈ−Ｈ´、Ｉ−Ｉ´における断面図を各々図９と図１０に示す。ここで、１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、及び１１ｅは空隙部である。なお、４ｂ（１０）、４ｂ（１２）、４ｂ（１３）、４ｃ（１０）、４ｃ（１２）、４ｃ（１３）は接地導体である。接地導体４ｂ（１１）は接地導体４ｂ（１０）と４ｂ（１２）を、また接地導体４ｃ（１１）は接地導体４ｃ（１０）と４ｃ（１２）を接続している（接地導体４ｂ（１１）と接地導体４ｃ（１１）は接続用接地導体とも呼ばれる）。また、１０ｂ、１０ｄは高周波電気信号が小さくなった部位、つまり外周部である。８ａと８ｂはリッジ部である。空隙部１１ａと１１ｅは接地導体において導体が欠落した部位（あるいは、接地導体に開けた窓）とも言える。
【００５２】
図９に示した本実施形態においても、光導波路に関する構造は２本の光導波路３ａと３ｂの中間における中心線Ｖに対して凹部９ａ、９ｂ、９ｃを対称に配置しており、このことは優れた温度ドリフト特性を有する上で重要な要素となる。また、中心導体４ａの中心に引いた中心線ＶＩは中心導体４ａと接地導体４ｂ（１０）、４ｂ（１２）、４ｂ（１３）、４ｃ（１０）、４ｃ（１２）、４ｃ（１３）からなる進行波電極の対称軸となっている。このように、本実施形態も進行波電極の基本的な構造について、中心導体４ａの中心を対称軸とする構造対称性を有しているので、進行波電極を伝搬する高周波電気信号は対称モードである。従って、コネクタや入力用フィードスルー部の対称な電磁界分布と整合性が良く、高周波電気信号を安定なモードで、かつ低損失に伝搬することが可能となる。
【００５３】
この本発明の第３の実施形態において注目すべきことは接地導体４ｂ（１３）と４ｃ（１３）の厚みが例えば３００ｎｍのように薄くなっていることである。接地導体の厚みが厚いと、てこの原理によりｚ−カットＬＮ基板１、ひいてはリッジ部８ａや８ｂに加わる応力（あるいは、モーメントによる応力）が大きくなる。そこで、まずこの実施形態では外周部１０ｂの接地導体４ｂ（１３）の厚みを薄くすることにより、この応力を小さくしている。さらに、本発明の効果を一層顕著とするために、外周部１０ｄ上に形成した接地導体４ｃ（１３）の厚みも同じく薄くしている。この工夫をとり入れることにより、図１１に示すように２０℃から８０℃の環境温度の変化に対するＤＣバイアスの温度ドリフトを第１の実施形態よりもさらに小さく抑えることができた。
【００５４】
先に述べたように、相互作用光導波路３ａと３ｂのギャップが１５μｍ程度であることを考慮すると、高周波電気信号と相互作用光導波路３ａ、３ｂを伝搬する光が相互作用する相互作用部の幅は、ｚ−カットＬＮ基板１の幅（約１ｍｍ〜５ｍｍ程度）と比較して著しく狭い。従って、接地導体４ｂ（１３）と４ｃ（１３）の厚みを薄くすることにより、高価なＡｕの使用量を著しく低減することができ、コスト削減に貢献できる。
【００５５】
なお、厚みは薄いものの面積が広い接地導体４ｂ（１３）と４ｃ（１３）は高周波電気信号の観点からしっかりとした電気的アースの確立と電気的アースである筐体とのワイヤやリボンによる接続の観点から有用である。このことは本発明の全ての実施形態について言える。
【００５６】
このように、高周波電気信号が小さい外周部の接地導体の厚みを薄くすることにより、変調特性を損なわずに、かつ温度ドリフトを改善するという考え方は図５から図７に示した本発明の第２の実施形態にも適用可能であることは言うまでもない。また図９や図１０において接地導体４ｂ（１３）と４ｃ（１３）の厚みのどちらかのみを薄くしてもある程度の効果がある。また、もともと高周波電気信号の電磁界は外周部では小さいので、非対称性がこの程度壊れても高周波電気信号の伝搬特性に影響を与えることは小さい。そしてこのことは本発明の全ての実施形態にあてはまる。
【００５７】
（第４の実施形態）
図１２に本発明の第４の実施形態についてその上面図を示す。また、Ｊ−Ｊ´、Ｋ−Ｋ´における断面図を各々図１３と図１４に示す。ここで、１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、及び１１ｅは空隙部である。なお、４ｂ（１４）、４ｂ（１５）、４ｂ（１６）、４ｃ（１４）、４ｃ（１５）、４ｃ（１６）は接地導体である。接地導体４ｂ（１５）は接地導体４ｂ（１４）と４ｂ（１６）を、また接地導体４ｃ（１５）は接地導体４ｃ（１４）と４ｃ（１６）を接続する接続用接地導体である。また、１０ｂと１０ｄは接地導体において高周波電気信号の強度が小さくなった部位であり、外周部と呼ぶ。８ａと８ｂはリッジ部である。空隙部１１ａと１１ｅは接地導体において導体が欠落した部位（あるいは、接地導体に開けた窓）とも言える。また、１３ａは空隙部１１ａを接地導体４ｂ（１５）で埋めた埋め込み部である。
【００５８】
本実施形態において特徴的なことは、接続用接地導体である接地導体４ｂ（１５）と接地導体４ｃ（１５）の厚みが異なっていることである。つまり、接地導体４ｂ（１５）の厚みを接地導体４ｃ（１５）の厚みよりも厚くしている。これにより、接地導体４ｂ（１５）と接地導体４ｃ（１５）の両方の厚みを薄くするよりは高周波電気信号の表皮効果の影響を受けにくいという利点がある。なお、本実施形態では接地導体４ｂ（１５）の厚みを接地導体４ｃ（１５）の厚みよりも厚くしたが、逆に接地導体４ｃ（１５）の厚みを接地導体４ｂ（１５）の厚みよりも厚くしても良いことは言うまでもない。
【００５９】
なお、空隙部１１ａの幅Ｗｗと長さＬｗが、空隙部１１ｅの幅Ｗｗ´と長さＬｗ´と各々等しく、また接地導体４ｂ（１５）の長さＬｅと接地導体４ｃ（１５）の長さＬｅ´も等しいとして図を描いているが、本発明はこれに限るものではない。さらに、空隙部１１ａや接地導体４ｂ（１５）の個数と空隙部１１ｅや接地導体４ｃ（１５）の個数が各々異なっていても良い。そして、このことは本発明の全ての実施形態について言える。また、以上に述べた接地導体（接続用接地導体）や空隙部の長さや幅は相互作用光導波路３ａ、３ｂの長さ方向に対するものとする。なお、空隙部１１ａの幅Ｗｗと、空隙部１１ｅの幅Ｗｗ´は各々接続用接地導体４ｂ（１５）と接続用接地導体４ｃ（１５）の幅とも言える。
【００６０】
また、図１や図５に示した第１の実施形態や第２の実施形態と同様に、接続用接地導体である接地導体４ｂ（１５）と接地導体４ｃ（１５）を光導波路３ａや３ｂの長手方向にずらしても良い。さらには、図８に示した第３の実施形態と同じく外周部の接地導体の厚みを薄くしても良いことは言うまでもない。
【００６１】
以上のように、本実施形態においても光導波路に関する構造を２本の光導波路の中間に設けた中心線Ｖについて対称とするとともに、進行波電極に関する基本的な構造を中心導体の中心線ＶＩについて対称とすることにより、それらの対称性を有しない場合と比較して、環境温度変化に伴う温度ドリフトを抑圧し、かつ高周波電気信号のモードを安定させ、そして低損失に伝搬させている。
【００６２】
（各実施形態）
なお、本明細書において、進行波電極が中心導体の中心線に対して左右対称であることが高周波電気信号の伝搬の観点から最も望ましいと述べてきたが、これは主要な構造についてのことである。つまり、図１、図５、図８において、接続用接地導体４ｂ（５）と４ｃ（５）、４ｂ（８）と４ｃ（８）、４ｂ（１１）と４ｃ（１１）が光導波路の長手方向において（図１、図５、図８の紙面では上下方向に）互いにずれているが、進行波電極の基本的な構造である中心導体４ａや光導波路の長手方向に連続な接地導体（４ｂ（４）と４ｃ（４）、４ｂ（６）と４ｃ（６）、また４ｂ（７）と４ｃ（７）、４ｂ（９）と４ｃ（９）、そして４ｂ（１０）と４ｃ（１０）、４ｂ（１２）と４ｃ（１２））については中心導体４の中心軸に対して対称であるため、高周波電気信号にとってはほぼ左右対称な電極構造と感じる。なお、相互作用部の長手方向のぎりぎりまで空隙部１１ｂ、１１ｃを形成しても良いことは言うまでもない。つまり、厳密には対称でない構造であっても主要な部位でほぼ対称であれば、それも本発明に属することは言うまでもない。
【００６３】
そして、図１２に示した本発明における第４の実施形態のように、中心線ＶＩに対して対称な位置に接続用接地導体を配置した構造についても、接続用接地導体４ｂ（１５）と４ｃ（１５）が相互作用光導波路３ａ、３ｂの長手方向においてずれていても良い。
【００６４】
分岐光導波路の例としてマッハツェンダ光導波路を用いたが、方向性結合器などその他の分岐合波型の光導波路にも本発明を適用可能であることは言うまでもなく、考え方は３本以上の光導波路にも適用可能であるし、光導波路が１本の位相変調器にも適用できる。なお、位相変調器の場合には、その１本の光導波路と進行波電極が中心導体の中心線に対して対称となる。また光導波路の形成法としてはＴｉ熱拡散法の他に、プロトン交換法など光導波路の各種形成法を適用できるし、バッファ層としてＡｌ２Ｏ３等のＳｉＯ２以外の各種材料も適用できる。
【００６５】
また、ｚ−カットＬＮ基板について説明したが、ｘ−カットやｙ−カットなどその他の面方位のＬＮ基板でも良いし、リチウムタンタレート基板、さらには半導体基板など異なる材料の基板でも良い。さらに、電極は進行波電極として説明してきたが、原理的には集中定数電極でも良いので、本明細書における進行波電極は集中定数電極も含むものとする。
【００６６】
また、通常、各凹部は同じ程度の幅で形成するが、外周部に近い凹部が極めて広くなるように（外周部が凹部の底部とほぼ同じ高さとなるように）エッチングしている場合には、その広くエッチングされた部分を事実上の外周部と考え、本発明を適用することが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
以上のように、本発明に係る光変調器は、高性能なリッジ型の光変調器において、基板に設ける凹部や光導波路に関する構造を２本の光導波路の中間に設けた中心線に対称とすることにより温度ドリフト特性を改善し、進行波電極の基本的な構造について、中心導体の中心線に対して構造対称とすることにより高周波電気信号の伝搬特性を改善し、かつ外周部のＡｕの厚みを薄くすることにより温度ドリフト特性のさらなる改善と、コストの低減を実現した光変調器として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係わる光変調器の概略構成を示す上面図
【図２】図１のＤ−Ｄ´における断面図
【図３】図１のＥ−Ｅ´における断面図
【図４】本発明の第１の実施形態の特性を説明する図
【図５】本発明の第２の実施形態に係わる光変調器の概略構成を示す上面図
【図６】図５のＦ−Ｆ´における断面図
【図７】図５のＧ−Ｇ´における断面図
【図８】本発明の第３の実施形態に係わる光変調器の概略構成を示す上面図
【図９】図８のＨ−Ｈ´における断面図
【図１０】図８のＩ−Ｉ´における断面図
【図１１】本発明の第３の実施形態の特性を説明する図
【図１２】本発明の第４の実施形態に係わる光変調器の概略構成を示す上面図
【図１３】図１２のＪ−Ｊ´における断面図
【図１４】図１２のＫ−Ｋ´における断面図
【図１５】第１の従来技術の光変調器についての概略構成を示す斜視図
【図１６】図１５のＡ−Ａ´における断面図
【図１７】第２の従来技術の光変調器についての概略構成を示す断面図
【図１８】第３の従来技術の光変調器についての概略構成を示す上面図
【図１９】図１８のＢ−Ｂ´における断面図
【図２０】図１８のＣ−Ｃ´における断面図
【符号の説明】
【００６９】
１：ｚ−カットＬＮ基板（ＬＮ基板）
２、１４、１５：ＳｉＯ２バッファ層（バッファ層）
３：マッハツェンダ光導波路（光導波路）
３ａ、３ｂ：マッハツェンダ光導波路を構成する相互作用光導波路
４：進行波電極
４ａ：中心導体
４ｂ、４ｂ´、４ｂ´´、４ｂ´´´、４ｂ（４）、４ｂ（５）、４ｂ（６）、４ｂ（７）、４ｂ（８）、４ｂ（９）、４ｂ（１０）、４ｂ（１１）、４ｂ（１２）、４ｂ（１３）、４ｂ（１４）、４ｂ（１５）、４ｂ（１６）、４ｃ、４ｃ（４）、４ｃ（５）、４ｃ（６）、４ｃ（７）、４ｃ（８）、４ｃ（９）、４ｃ（１０）、４ｃ（１１）、４ｃ（１２）、４ｃ（１３）、４ｃ（１４）、４ｃ（１５）、４ｃ（１６）：接地導体
５：Ｓｉ導電層
６：高周波（ＲＦ）電気信号給電線
７：高周波（ＲＦ）電気信号出力線
８ａ：リッジ部（中心導体用リッジ部）
８ｂ、８ｃ：リッジ部（接地導体用リッジ部）
９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄ：凹部
１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄ：外周部
１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅ、１１ｆ：空隙部（導体が欠落した部位）
１３ａ：埋め込み部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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