(57)【要約】【課題】  未研磨であっても、断線やショートが起こりにくい表面品位の高いガラス基板と製造方法を提供することである。【解決手段】  本発明のディスプレイ用ガラス基板は、未研磨で、表面突起が２ヶ／ｍ２以下であることを特徴とする。このガラス基板は、質量百分率で、ＳｉＯ２  ４０〜７０％、Ａｌ２Ｏ３  ２〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０〜２０％、ＭｇＯ  ０〜１０％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  ０〜３０％、ＺｎＯ  ０〜１０％、Ｒ２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋを表わす）  ０〜２５％、Ａｓ２Ｏ３  ０〜０．４％、Ｓｂ２Ｏ３  ０〜３％、ＳｎＯ２  ０．０１〜１％を含有するガラスとなるように調合されたガラス原料を用意して、これを製造工程の少なくとも一部に白金族元素又は白金族元素合金を用いた連続溶融炉で溶融し、成形することにより得ることができる。【選択図】図１
2010280563.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の面積が０．１ｍ２以上、ガラス基板の肉厚が２．５ｍｍ以下のディスプレイ用途に使用されるガラス基板において、表面突起が２ヶ／ｍ２以下であり、且つ未研磨であることを特徴とするディスプレイ用ガラス基板。
【請求項２】
白金族元素及び白金族元素合金のブツが４０ヶ／ｋｇ以下であることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用ガラス基板。
【請求項３】
Ａｓ２Ｏ３が０．４質量％以下であることを特徴とする請求項１または２記載のディスプレイ用ガラス基板。
【請求項４】
Ｓｂ２Ｏ３が３質量％以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板。
【請求項５】
質量百分率で、ＳｎＯ２  ０．０１〜１％を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板。
【請求項６】
ダウンドロー成形法により成形されてなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板。
【請求項７】
質量百分率で、ＳｉＯ２  ４０〜７０％、Ａｌ２Ｏ３  ２〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０〜２０％、ＭｇＯ  ０〜１０％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  ０〜３０％、ＺｎＯ  ０〜１０％、Ｒ２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋを表わす）  ０〜２５％、Ａｓ２Ｏ３  ０〜０．４％、Ｓｂ２Ｏ３  ０〜３％、ＳｎＯ２  ０．０１〜１％を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板。
【請求項８】
製造工程の少なくとも一部でガラスが白金族元素又は白金族元素合金と接触するディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、ガラスと白金族元素又は白金族元素合金の接触により生じる起電力を打ち消すように、外部から逆電位を掛けることを特徴とするディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
面積が０．１ｍ２以上、ガラス基板の肉厚が２．５ｍｍ以下のガラス基板となるように、成形することを特徴とする請求項８記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
ダウンドロー成形法にて成形することを特徴とする請求項８または９記載のディスプレイ用ガラス基板。
【請求項１１】
Ａｓ２Ｏ３が０．４質量％以下であるガラスとなるように調合されたガラス原料を使用することを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項１２】
Ｓｂ２Ｏ３が３質量％以下であるガラスとなるように調合されたガラス原料を使用することを特徴とする請求項８〜１１のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項１３】
質量百分率で、ＳｎＯ２  ０．０１〜１％を含有するガラスとなるように、調合されたガラス原料を使用することを特徴とする請求項８〜１２のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項１４】
質量百分率で、ＳｉＯ２  ４０〜７０％、Ａｌ２Ｏ３  ２〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０〜２０％、ＭｇＯ  ０〜１０％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  ０〜３０％、ＺｎＯ  ０〜１０％、Ｒ２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋを表わす）  ０〜２５％、Ａｓ２Ｏ３  ０〜０．４％、Ｓｂ２Ｏ３  ０〜３％、ＳｎＯ２  ０．０１〜１％を含有するガラスとなるように、調合されたガラス原料を使用することを特徴とする請求項８〜１３のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等に用いられるディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等に用いられるディスプレイ基板としては、矩形状のガラス基板が広く使用されている。
【０００３】
一般に、ディスプレイ用ガラス基板は、原料を調合し、調合した原料を、溶融設備を用いて溶融する。続いて、スロットダウンドロー法、オーバーフローダウンドロー法、フロート法、ロールアウト法等の方法で板状に成形し、切断することで得られる。（例えば、引用文献１）
尚、ガラスの汚染防止等の目的で、設備の多くは白金族元素又は白金族元素合金からなる、或いは、白金族元素又は白金族元素合金で被覆されている。
【０００４】
得られたガラス基板について、従来は、ガラス基板表面に存在するうねりや異質なガラス相を除去するために研磨が行われていた。しかし、研磨を行うと、製造コストが上昇する問題が生じる。また、近年、ディスプレイの高精細化が進み、研磨によるガラス表面の微小傷が問題視されるようになってきた。
【０００５】
そこで、うねりや異質なガラス相の発生を抑えるべく、溶融技術や成形技術の一層の改善がなされた結果、現在では表面研磨を行わなくとも、平坦なガラス基板を得ることができるようになってきている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−１２２６３７
【特許文献２】特開２００３−１９２３７７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、未研磨のガラス基板は後の成膜工程でパターンが断線したり、ショートするという不具合が生じることがある。
【０００８】
本発明の目的は、未研磨であっても、断線やショートが起こりにくい表面品位の高いガラス基板とその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は種々検討した結果、白金族元素ブツに起因する突起がパターンの断線等を引き起こすことを見いだし本発明を提案するに至った。
【００１０】
即ち、本発明のディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板の面積が０．１ｍ２以上、ガラス基板の肉厚が２．５ｍｍ以下のディスプレイ用途に使用されるガラス基板において、表面突起が２ヶ／ｍ２以下であり、且つ未研磨であることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明のディスプレイ用ガラス基板の製造方法は、製造工程の少なくとも一部でガラスが白金族元素又は白金族元素合金と接触するディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、ガラスと白金族元素又は白金族元素合金の接触により生じる起電力を打ち消すように、外部から逆電位を掛けることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のディスプレイ用ガラス基板は、白金族元素ブツが少ないため、未研磨であっても突起が少なく表面品位の高いガラス基板が得られる。そのため、ディスプレイ用ガラス基板として好適である。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】連続溶融炉の概略図を示す説明図である。
【図２】連続溶融炉の断面図を示す説明図である。
【図３】スターラー管に逆電位を掛ける説明図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
ガラス基板に突起が生じる原因は、次の様に考えられる。
【００１５】
溶融炉や成形体に白金族元素又は白金族元素合金が使用されていると、これらが溶融ガラス中に取り込まれ、白金族元素ブツとなる。この溶融ガラスをガラス基板に成形する際、溶融ガラスは所定の厚みに延伸されるが、ガラス中に存在する白金族元素ブツは固体であり、ほとんど延伸されない。そのため、白金族元素ブツが存在する部分は、白金族元素ブツの厚みが減少しない分だけ板厚が増大する。この板厚の増大は、白金族元素ブツ周囲のガラスの粘性流動及び延伸によりやがて緩和される。しかし、白金族元素ブツがガラス基板表面近傍に存在する場合、白金族元素ブツ周囲のガラス量が少ないため、板厚増加が緩和されないうちにガラスが固まり、ガラス基板表面に突起として現れやすくなる。しかも、ディスプレイ用ガラス基板に用いられるような高粘性（プラズマディスプレイ用ガラスでは１０４ｄＰａ・ｓの粘度に相当するガラス融液の温度が１１２０℃以上、液晶ディスプレイ用ガラスでは１０４ｄＰａ・ｓの粘度に相当するガラス融液の温度が１２００℃以上）のガラスは延伸されにくいので、上記現象が起こりやすい。このようにして生じたガラス基板表面の突起は、成膜工程でのパターンの断線やショートにつながり、表示欠陥の原因となる。
【００１６】
ところで、ガラス基板は、大型化、薄肉化の傾向にあるが、ガラス基板の面積が大きくなったり、肉厚が薄くなると、ガラス基板表面に突起が現れる確率が高くなり、良品率が急激に低下する。従って、突起を減少させることは、大型のガラス基板を作製する上で大きなメリットがある。例えば、ガラス基板の面積が０．１ｍ２以上（具体的には、３２０ｍｍ×４２０ｍｍ以上のガラス基板のサイズ）、特に、０．５ｍ２以上（具体的には、６３０ｍｍ×８３０ｍｍ以上のサイズ）、１．１ｍ２以上（具体的には、９５０ｍｍ×１１５０ｍｍ以上のサイズ）更には、２．３ｍ２以上（具体的には、１４００ｍｍ×１７００ｍｍ以上のサイズ）、３．５ｍ２以上（具体的には、１７５０ｍｍ×２０５０ｍｍ以上のサイズ）４．８ｍ２以上（具体的には、２１００ｍｍ×２３００ｍｍ以上のサイズ）とガラス基板が大型化するほど好適である。また、ガラス基板の肉厚が２．５ｍｍ以下、特に、１．２ｍｍ以下、更には、０．８ｍｍ以下、０．５ｍｍ以下とガラス基板の肉厚が薄くなるほど好適である。
【００１７】
本発明者等の知見によると、本発明のディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板表面の突起が２ヶ／ｍ２以下であるため、成膜工程でのパターンの断線やショートが少なくなり、これらによる表示欠陥を抑えることができる。また、突起を少なくすることで、研磨が不要となるため、表面品位の高いガラス基板を得ることができる。ガラス基板表面の突起の好ましい値は１ヶ／ｍ２以下であり、更に好ましい値は０．４ヶ／ｍ２以下、より好ましい値は０．２５ヶ／ｍ２以下、更により好ましい値は０．２ヶ／ｍ２以下である。
【００１８】
ガラス基板表面の突起を２ヶ／ｍ２以下にするには、突起の原因となる白金族元素ブツを４０ヶ／ｋｇ以下、好ましくは３０ヶ／ｋｇ以下、更に好ましくは２０ヶ／ｍ２以下、より好ましくは１０ヶ／ｋｇ以下、更により好ましくは５ヶ／ｍ２以下にすることが望ましい。
【００１９】
尚、ここで言う突起とは、表面粗さ計にて１０００μｍの距離を検査したときに、突部の先端とガラス基板表面との高低差（突部の高さ）が１μｍ以上となる部位を指す。また、白金族元素ブツとは、最長径が３μｍ以上のものとする。
【００２０】
白金族元素ブツが発生する原因のひとつとして次のようなことが考えられる。溶融炉や成形体或いは攪拌装置等に用いられている白金族元素或いは白金族元素合金が電気化学的に酸化され、白金族元素イオンや白金族元素酸化物となる。生成した白金族元素イオンや白金族元素酸化物はガラス中に取り込まれる。ガラス中に取り込まれた白金族元素イオンや白金族元素酸化物は不安定であるため、再び金属に戻り、白金族元素ブツとなってガラス中に析出する。そのため、ガラス基板中の白金族元素ブツを少なくするには、白金族元素や白金族元素合金の酸化反応を抑えることが必要である。
【００２１】
白金族元素や白金族元素合金の酸化反応は、組成や温度の異なる溶融ガラスが白金族元素又は白金族元素合金と接触することで生じる起電力によって起こる。また、酸化反応と還元反応は同時に起こるため、白金族元素や白金族元素合金の酸化反応が起こると、ガラス中では還元反応が起こる。そのため、ガラス中での還元反応を抑えれば、白金族元素の酸化反応を抑制できると考えられる。
【００２２】
ガラスの白金族元素や白金族元素合金の酸化反応を抑えるには、例えば、起電力が発生する個所に逆電位を掛けて起電力の発生を抑制したり、ガラス中で白金族元素より酸化されやすいＳｎＯに一部変化するＳｎＯ２を０．０１質量％以上含有させて溶融したり、ガラス成分中で還元されやすいＡｓ２Ｏ３或いはＳｂ２Ｏ３を所定量以下、具体的には、Ａｓ２Ｏ３を０．４質量％以下、Ｓｂ２Ｏ３を３質量％以下にして溶融すれば良い。尚、白金族元素や白金族元素合金の酸化反応をより抑制するには、これらの方法を併用することが望ましい。
【００２３】
また、本発明のディスプレイ用ガラス基板の具体的な組成は、耐薬品性、熱収縮性、溶融性、成形性、熱膨張係数等を考慮して、用途に応じて適宜決定すればよい。好適な組成範囲は、質量百分率で、ＳｉＯ２  ４０〜７０％、Ａｌ２Ｏ３  ２〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０〜２０％、ＭｇＯ  ０〜１０％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  ０〜３０％、ＺｎＯ  ０〜１０％、Ｒ２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋを表わす）  ０〜２５％、Ａｓ２Ｏ３  ０〜０．４％、Ｓｂ２Ｏ３  ０〜３％、ＳｎＯ２  ０．０１〜１％である。
【００２４】
本発明においてガラスの組成を上記のように限定した理由は、次のとおりである。
【００２５】
ＳｉＯ２は、ガラスのネットワークフォーマーとなる成分であり、ガラスの耐酸性を向上させたり、ガラスの歪点を上昇させてガラス基板の熱収縮を小さくする効果がある。含有量が多くなると、ガラスの高温粘度が高くなり、溶融性が悪化すると共にクリストバライトの失透ブツが析出しやすくなる傾向にある。また、含有量が少なくなると、ガラスの耐酸性や歪点が低下する傾向にある。ＳｉＯ２の含有量が４０〜７０％であれば、耐酸性が高く、熱収縮の小さいガラス基板を得やすくなる。好ましい範囲は、５０〜６７％であり、より好ましい範囲は、５７〜６４％である。
【００２６】
Ａｌ２Ｏ３は、ガラスの歪点を上昇させたり、クリストバライトの失透ブツの析出を抑える成分である。含有量が多くなると、ガラスの耐バッファードフッ酸性が悪化したり、液相温度が上昇して成形しにくくなる傾向にある。また、含有量が少なくなると、ガラスの歪点が低下する傾向にある。Ａｌ２Ｏ３の含有量が２〜２５％であれば、液相温度が低いガラス基板を得やすくなる。好ましい範囲は、１０〜２０％であり、より好ましい範囲は、１４〜１７％である。
【００２７】
Ｂ２Ｏ３は、融剤として作用し、ガラスの粘性を下げ、溶融性を改善する成分である。含有量が多くなると、ガラスの歪点が低下したり、耐酸性が悪化する傾向にある。また、含有量が少なくなると、融剤として十分に作用せず溶融性が低下する傾向にある。Ｂ２Ｏ３の含有量が０〜２０％であれば、上記効果が得やすくなる。好ましい範囲は、５〜１５％であり、より好ましい範囲は、７．５〜１１％である。
【００２８】
ＭｇＯは、ガラスの歪点を低下させずに高温粘性のみを低下させて、ガラスの溶融性を改善する成分である。含有量が多くなると、エンステタイトの失透ブツが析出しやすくなる。また、耐バッファードフッ酸性が低下し、ガラス基板表面が侵食されて、反応性生物がガラス基板表面に付着し、ガラス基板が白濁し易くなる。ＭｇＯの含有量が１０％以下であれば、耐バッファードフッ酸性を低下させることなく、ガラスの溶融性を改善することができる。好ましい範囲は０〜５％であり、より好ましい範囲は、０〜３．５％である。
【００２９】
ＣａＯは、ガラスの歪点を低下させずに高温粘性のみを低下させて、ガラスの溶融性を著しく改善する成分である。含有量が多くなると、耐バッファードフッ酸性が悪化する傾向にある。ＣａＯの含有量が１５％以下であれば、耐バッファードフッ酸性を低下させることなく、ガラスの溶融性を改善することができる。好ましい範囲は０〜１２％であり、より好ましい範囲は、３．５〜８％である。
【００３０】
ＳｒＯは、ガラスの耐薬品性と耐失透性を向上させる成分である。含有量が多くなると、ガラスの密度や熱膨張係数が大きくなったり、溶融性が悪化する傾向にある。ＳｒＯの含有量が１０％以下であれば、上記効果が得やすくなる。好ましい範囲は０〜８％であり、より好ましい範囲は、０．５超〜８％である。
【００３１】
ＢａＯは、ＳｒＯと同様にガラスの耐薬品性と耐失透性を向上させる成分である。含有量が多くなると、ガラスの密度や熱膨張係数が大きくなったり、溶融性が著しく悪化する傾向にある。ＢａＯの含有量が３０％以下であれば、上記効果が得やすくなる。好ましい範囲は０〜２０％であり、より好ましい範囲は、０〜１０％である。
【００３２】
ＺｎＯは、ガラスの耐バッファードフッ酸性や溶融性を改善する成分である。含有量が多くなると、ガラスの耐失透性や歪点が低下する傾向にある。ＺｎＯの含有量が１０％以下であれば、上記効果を得ることができる。好ましい範囲は、０〜５％であり、より好ましい範囲は、０〜１％である。
【００３３】
Ｒ２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋを表わす）は、ガラスの粘度を低下させて溶融性を改善する成分である。含有量が多くなると、ガラスの歪点が低下する傾向にある。アルカリ金属酸化物の含有量が合量で２５％以下であれば、上記効果が得やすくなる。好ましい範囲は、０〜２０％である。
【００３４】
尚、本発明のディスプレイ用ガラス基板を液晶ディスプレイ用途に使用する場合、使用するガラスは無アルカリガラスにすべきである。その理由は、ガラス中にアルカリ金属酸化物を含有すると、ガラス中のアルカリ成分が、ガラス基板上に形成された各種の膜やＴＦＴ素子の特性を劣化させる虞があるからである。尚、無アルカリとは、Ｒ２Ｏが０．１％以下を意味する。
【００３５】
Ａｓ２Ｏ３は、清澄剤成分であるが、著しく還元されやすい成分である。含有量が多くなると、白金族元素の酸化反応が著しく促進される傾向にあり、ガラス中に白金族元素ブツが析出しやすくなる。Ａｓ２Ｏ３の含有量が０．４％以下であれば、白金族元素の酸化反応を促進させることなく、清澄作用のみ得やすくなる。好ましくは、０．２％以下、より好ましくは、０．０５％以下である。
【００３６】
Ｓｂ２Ｏ３は、清澄剤成分であるが、還元されやすい成分である。含有量が多くなると、ガラスが還元され、白金族元素の酸化反応が促進される傾向にあり、ガラス中にＰｔブツが析出しやすくなる。Ｓｂ２Ｏ３の含有量が３％以下であれば、白金族元素の酸化反応を促進させることなく、清澄作用のみ得やすくなる。好ましくは、２％以下、より好ましくは、１．５％以下である。
【００３７】
ＳｎＯ２は、ガラス中で一部ＳｎＯとなり、白金族元素の代わりに酸化され、白金族元素の酸化反応を抑制し、ガラス中にＰｔブツを析出させにくくする成分である。また、清澄剤成分でもあるため、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3の含有量を減らし泡のないガラスを得ることが難しいガラスに対しても、泡のないガラスを得ることができる。但し、ＳｎＯ２の含有量が多くなると失透する傾向にある。含有量が０．０１〜１％であれば、上記効果が得やすくなる。好ましくは、０．０１〜０．５％であり、より好ましくは、０．１超〜０．５％未満である。
【００３８】
尚、本発明において、上記成分以外にも、清澄剤として、ＣｌやＳＯ３をそれぞれ０．５％まで加えることができる。
【００３９】
次に、本発明のディスプレイ用ガラス基板の製造方法について説明する。
【００４０】
まず、ガラス原料を上記のガラス組成範囲となるように調合する。続いて、調合したガラス原料を図１及び図２に示す連続溶融炉に投入し、溶解槽１０でガラス原料を溶融し、清澄槽２０で脱泡した後、攪拌槽３０でスターラー３１を回転させながら溶融ガラスを均質にし、成形装置４０に供給し、溶融ガラスを板状に成形した後、徐冷し、切断することでガラス基板５０を得ることができる。
【００４１】
尚、白金族元素や白金族元素合金と溶融ガラスとの接触により、起電力が発生している個所がある場合、その個所に逆電位を掛けておくと（例えば、図３に示すように、攪拌槽において、スターラー３１とスターラー管３０との隙間の高温溶融物に生成する起電力を抑制するように、前記スターラー管３０に逆電位を掛ける）、白金族元素ブツの発生を効果的に抑えることができる。
【００４２】
また、ガラス基板の成形方法としては、スロットダウンドロー法、オーバーフローダウンドロー法、フロート法、リドロー法等の様々な成形方法があるが、ダウンドロー法、特に、オーバーフローダウンドロー法で板状に成形することが好ましい。その理由は、オーバーフローダウンドロー法の場合、他の成形方法と異なり、ガラス基板の表面は、成形体と接することがないため、汚染部のないガラス表面を有するガラス基板を得ることができる。そのため、未研磨のガラス基板を得る上で有利となり、研磨による微小傷の発生をなくすことができるからである。
【００４３】
このようにすることで、未研磨であっても、表面品位の高いディスプレイ用ガラス基板を得ることができる。
【実施例】
【００４４】
以下、本発明のディスプレイ用ガラス基板を実施例に基づいて詳細に説明する。
【００４５】
表１及び２は本発明の実施例（試料Ｎｏ．１〜１３）を、表３は、比較例（試料Ｎｏ．１４〜１６）をそれぞれ示している。
【００４６】
尚、本発明は、本実施例に記載したガラス組成に限定されるものではなく、上記の組成範囲であれば、他のガラス組成であっても良い。
【００４７】
【表１】
2010280563.tif 000003
【００４８】
【表２】
2010280563.tif 000004
【００４９】
【表３】
2010280563.tif 000005
【００５０】
表中の各試料は、次のようにして調製した。
【００５１】
まず、表中のガラス組成となるように調合した原料バッチを、白金合金を用いたスターラー及びスターラー管を備えた連続溶融炉で溶融する。続いて、オーバーフローダウンドロー法で肉厚０．７ｍｍのガラス基板に成形し、３６０ｍｍ×４６０ｍｍのサイズに切断した。
【００５２】
尚、試料Ｎｏ．８〜１０については、攪拌槽において、前記スターラー管に逆電位を掛けた。
【００５３】
こうして得られた各試料について、突起とＰｔブツの数を測定した。
【００５４】
表から明らかなように、実施例である試料Ｎｏ．１〜１３は、ガラス基板中のＰｔブツが３０．０ヶ／ｋｇ以下と少なく、また、ガラス基板表面の突起も０．３２ヶ／ｍ２以下と少なかった。
【００５５】
これに対し、比較例である試料Ｎｏ．１４〜１６は、ガラス基板中のＰｔブツが８６．０ヶ／ｋｇ以上と多く、また、ガラス基板表面の突起も２．５１ヶ／ｍ２以上と多かった。
【００５６】
尚、ガラス基板表面の突起の数は、暗室内でガラス基板に蛍光灯の光をあて、反射光を利用して、目視で粗検査を行い、その後、接触式粗さ計を用いて突起の高さを測定し、１０００μｍの距離を検査したときに、突部の先端とガラス基板表面との高低差（突部の高さ）１μｍ以上の突起をカウントし、その個数を１ｍ２に換算して求めた。
【００５７】
Ｐｔブツの数は、暗室内でガラス基板の側面からナトリウムランプの光をあて、目視で粗検査を行い、その後、顕微鏡を用いて、最長径が３μｍ以上のＰｔブツをカウントし、その個数を１ｋｇに換算して求めた。
【符号の説明】
【００５８】
１０  溶解槽
２０  清澄槽
３０  攪拌槽（スターラー管）
３１  スターラー
３２  直流電源
４０  成形装置
５０  ガラス基板
【図１】
2010280563.tif 000006
【図２】
2010280563.tif 000007
【図３】
2010280563.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月6日(2010.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の面積が０．１ｍ２以上、肉厚が２．５ｍｍ以下のディスプレイ用途に使用されるガラス基板の製造方法であって、質量百分率で、ＳｉＯ２  ４０〜７０％、Ａｌ２Ｏ３  ２〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０〜２０％、ＭｇＯ  ０〜１０％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  ０〜３０％、ＺｎＯ  ０〜１０％、Ｒ２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋを表わす）  ０〜２５％、Ａｓ２Ｏ３  ０〜０．４％、Ｓｂ２Ｏ３  ０〜３％、ＳｎＯ２  ０．０１〜１％を含有するガラスとなるように調合されたガラス原料を、製造工程の少なくとも一部に白金族元素又は白金族元素合金を用いた連続溶融炉で溶融し、成形することによって、白金族元素又は白金族元素合金のブツが４０ヶ／ｋｇ以下であり、且つ、未研磨で、表面突起が２ヶ／ｍ２以下のガラス基板を得ることを特徴とするディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
連続溶融炉が撹拌装置を備えており、前記撹拌装置に白金族元素又は白金族元素合金が用いられていることを特徴とするディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
ダウンドロー成形法にて成形することを特徴とする請求項1又は２に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の目的は、未研磨であっても、断線やショートが起こりにくい表面品位の高いガラス基板の製造方法を提供することである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
即ち、本発明のディスプレイ用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の面積が０．１ｍ２以上、肉厚が２．５ｍｍ以下のディスプレイ用途に使用されるガラス基板の製造方法であって、質量百分率で、ＳｉＯ２  ４０〜７０％、Ａｌ２Ｏ３  ２〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０〜２０％、ＭｇＯ  ０〜１０％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  ０〜３０％、ＺｎＯ  ０〜１０％、Ｒ２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋを表わす）  ０〜２５％、Ａｓ２Ｏ３  ０〜０．４％、Ｓｂ２Ｏ３  ０〜３％、ＳｎＯ２  ０．０１〜１％を含有するガラスとなるように調合されたガラス原料を、製造工程の少なくとも一部に白金族元素又は白金族元素合金を用いた連続溶融炉で溶融し、成形することによって、白金族元素又は白金族元素合金のブツが４０ヶ／ｋｇ以下であり、且つ、未研磨で、表面突起が２ヶ／ｍ２以下のガラス基板を得ることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明のディスプレイ用ガラス基板の製造方法によれば、白金族元素ブツが少ないため、未研磨であっても突起が少なく表面品位の高いガラス基板が得られる。そのため、ディスプレイ用ガラス基板の製造方法として好適である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明者等の知見によると、本発明の方法により得られるガラス基板は、ガラス基板表面の突起が２ヶ／ｍ２以下であるため、成膜工程でのパターンの断線やショートが少なくなり、これらによる表示欠陥を抑えることができる。また、突起を少なくすることで、研磨が不要となるため、表面品位の高いガラス基板を得ることができる。ガラス基板表面の突起の好ましい値は１ヶ／ｍ２以下であり、更に好ましい値は０．４ヶ／ｍ２以下、より好ましい値は０．２５ヶ／ｍ２以下、更により好ましい値は０．２ヶ／ｍ２以下である。
ガラス基板表面の突起を２ヶ／ｍ２以下にするには、突起の原因となる白金族元素ブツを４０ヶ／ｋｇ以下、好ましくは３０ヶ／ｋｇ以下、更に好ましくは２０ヶ／ｍ２以下、より好ましくは１０ヶ／ｋｇ以下、更により好ましくは５ヶ／ｍ２以下にすることが望ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、本発明に係るディスプレイ用ガラス基板の具体的な組成は、耐薬品性、熱収縮性、溶融性、成形性、熱膨張係数等を考慮して、用途に応じて適宜決定すればよい。好適な組成範囲は、質量百分率で、ＳｉＯ２  ４０〜７０％、Ａｌ２Ｏ３  ２〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０〜２０％、ＭｇＯ  ０〜１０％、ＣａＯ  ０〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１０％、ＢａＯ  ０〜３０％、ＺｎＯ  ０〜１０％、Ｒ２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋを表わす）  ０〜２５％、Ａｓ２Ｏ３  ０〜０．４％、Ｓｂ２Ｏ３  ０〜３％、ＳｎＯ２  ０．０１〜１％である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
尚、本発明の方法で得られるディスプレイ用ガラス基板を液晶ディスプレイ用途に使用する場合、使用するガラスは無アルカリガラスにすべきである。その理由は、ガラス中にアルカリ金属酸化物を含有すると、ガラス中のアルカリ成分が、ガラス基板上に形成された各種の膜やＴＦＴ素子の特性を劣化させる虞があるからである。尚、無アルカリとは、Ｒ２Ｏが０．１％以下を意味する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。