(57)【要約】【課題】薄型化、および軽量化を図ることができるとともに、支障を生じることなくタッチパネル機能を発揮することができる表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】液晶表示装置１は、アクティブマトリクス基板２とアクティブマトリクス基板２に対向して配置された対向基板３と、アクティブマトリクス基板２及び対向基板３の間に設けられた液晶層４とを備えている。対向基板３には、所定の間隔の隙間を介して互いに対向配置されるとともに、押圧された位置を検出するための第１透明電極２２及び第２透明電極２３が設けられている。そして、対向基板３が押圧された際に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とが互いに接触して導通することにより、押圧された位置を検出する。【選択図】図１
2010122296.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に対向して配置された第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に設けられた表示媒体層と
を備えた表示装置であって、
前記第１基板又は前記第２基板には、所定の間隔の隙間を介して互いに対向配置されるとともに、前記第１基板又は前記第２基板が押圧された際に、互いに接触して導通する一対の透明導電膜と、前記一対の透明導電膜の導通に基づいて、前記一対の透明導電膜の接触位置を検出する位置検出部とが設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記一対の透明導電膜と前記表示媒体層との間には、カラーフィルタ層が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記一対の透明導電膜の間には、前記所定の間隔の隙間を形成するためのドットスペーサが設けられていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記ドットスペーサは、透明性を有する感光性樹脂により形成されていることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記表示媒体層は、液晶層であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル機能を備える表示装置に関し、特に、抵抗膜方式のタッチパネル機能を備える表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、自動販売機、ＡＴＭ、携帯ゲーム機、カーナビゲーション等の電子機器においては、画面に触れることにより、電子機器の操作を行う装置であるタッチパネルが設けられている。このタッチパネルは、指やペンなどでタッチ（押圧）することによって、電子機器に対して対話形式で情報を入力する装置である。
【０００３】
このタッチパネルは、その動作原理によって、抵抗膜方式、静電容量結合方式、赤外線方式、超音波方式、及び電磁誘導結合方式等に分類されている。そして、抵抗膜方式、及び静電容量結合方式のタッチパネルは、低コストで表示装置などに搭載可能であるので、近年、よく利用されている。
【０００４】
上記抵抗膜方式のタッチパネルは、例えば、互いに対向して配置された一対の基板と、一対の基板の内側に抵抗膜としてそれぞれ設けられた一対の透明導電膜と、一対の基板の間に挟持されて一対の透明導電膜の間に空気層を形成する絶縁性を有するスペーサとを備え、例えば、液晶表示パネルの表示画面の前面に搭載して使用される。
【０００５】
このような構成の抵抗膜方式のタッチパネルでは、その表面が押圧されることにより、一対の透明導電膜同士が接触（短絡）して、一対の透明導電膜の間に電流が流れることになり、一対の透明導電膜の間に電流が流れたときの電圧の変化（即ち、抵抗の変化）を検知することにより、押圧された位置を検出する構成となっている。
【０００６】
また、一般に、液晶表示パネルは、例えば、互いに対向して配置されたアクティブマトリクス基板及び対向基板と、アクティブマトリクス基板及び対向基板の間に設けられた液晶層とを備えている。そのため、上記抵抗膜方式のタッチパネルが液晶表示パネルの前面に搭載された液晶表示装置では、構成基板が、タッチパネルを構成する一対の基板、アクティブマトリクス基板及び対向基板の４枚からなるため、装置全体の厚みが増大し、液晶表示装置の薄型化が困難になるという問題があった。
【０００７】
そこで、装置全体の厚み、及び重量を低減することができるタッチセンサ式の液晶表示装置が提案されている。より具体的には、液晶表示パネルのアレイ基板と対向基板との間に封止された液晶層において、アレイ基板に設けられた電極層と、電極層に対向するとともに、対向基板に設けられた突条電極からなるタッチセンサを設けた液晶表示装置が開示されている。そして、対向基板の裏面側を押圧し、電極層と突条電極を接触させることにより、押圧された位置を検出する構成となっている。このような構成により、液晶表示パネルにタッチパネルが内蔵され、液晶表示パネルがタッチパネル機能を備えるため、液晶表示パネルに、別途、タッチパネルを搭載する必要がなくなり、液晶表示装置の厚み、及び重量の増加を抑制できると記載されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００７−５８０７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ここで、一般に、液晶表示装置においては、アクティブマトリクス基板、及び対向基板の液晶層側の各表面に、液晶層の液晶分子を配向させるための配向膜を設ける必要があるが、上記特許文献１に記載の液晶表示装置においては、電極層と突条電極の間に、配向膜が介在しているため、配向膜が電極層と突条電極の間の抵抗成分となる。従って、電極層と突条電極間の導通が困難になり、タッチパネル機能に支障が生じるという問題があった。
【０００９】
そこで、本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、薄型化、および軽量化を図ることができるとともに、支障を生じることなくタッチパネル機能を発揮することができる表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、第１基板と、第１基板に対向して配置された第２基板と、第１基板及び第２基板の間に設けられた表示媒体層とを備えた表示装置であって、第１基板又は第２基板には、所定の間隔の隙間を介して互いに対向配置されるとともに、第１基板又は第２基板が押圧された際に、互いに接触して導通する一対の透明導電膜と、一対の透明導電膜の導通に基づいて、一対の透明導電膜の接触位置を検出する位置検出部とが設けられていることを特徴とする。
【００１１】
同構成によれば、第１基板又は第２基板に、押圧された位置を検出するための一対の透明導電膜を設ける構成としたため、別個にタッチパネルを設ける必要がなくなり、タッチパネル機能を備える表示装置を２枚の基板により構成することが可能になる。従って、装置全体の薄型化、及び軽量化を図ることが可能になる。また、別個にタッチパネルを設ける場合に発生する光学特性（透過率）の低下を防止して、写り込み等が発生を回避できる。従って、表面品位の低下を防止することができる。
【００１２】
また、上記従来技術とは異なり、一対の透明導電膜間に抵抗成分となる配向膜が介在していないため、第１基板又は第２基板が押圧された際に、一対の透明導電膜間を容易に導通させることができる。その結果、一対の透明導電膜間の導通不良等の支障を生じることなくタッチパネル機能を発揮することができる。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の表示装置であって、一対の透明導電膜と表示媒体層との間には、カラーフィルタ層が設けられていることを特徴とする。
【００１４】
同構成によれば、カラー画像の表示を行うことができる表示装置において、装置全体の薄型化、及び軽量化を図ることが可能になるとともに、表面品位の低下を防止することができる。
【００１５】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の表示装置であって、一対の透明導電膜の間には、所定の間隔の隙間を形成するためのドットスペーサが設けられていることを特徴とする。
【００１６】
同構成によれば、一対の透明導電膜の間に、ドットスペーサが挟持されることになるので、第１基板又は第２基板が押圧されていない状態では、一対の透明導電膜間の接触が防止されて、一対の透明導電膜間の絶縁性がドットスペーサにより保持されることになる。
【００１７】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の表示装置であって、ドットスペーサは、透明性を有する感光性樹脂により形成されていることを特徴とする。
【００１８】
同構成によれば、透明性に優れるとともに、押圧操作の繰り返しによる寸法変化を効果的に抑制することができるドットスペーサを得ることができるため、一対の透明電極間において、所定の間隔の隙間が得られなくなるという不都合を回避することができる。
【００１９】
また、本発明の請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の表示装置は、表面品位の低下を防止して、装置全体の薄型化、及び軽量化を図ることができるとともに、支障を生じることなくタッチパネル機能を発揮することができるという優れた特性を備えている。従って、請求項５に記載の発明のように、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の表示装置であって、表示媒体層に、液晶層を使用した表示装置に好適に使用される。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、タッチパネル機能を有する表示装置において、表面品位の低下を防止して、装置全体の薄型化、及び軽量化を図ることができるとともに、支障を生じることなくタッチパネル機能を発揮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本実施形態においては、タッチパネル機能を有する表示装置として、液晶表示装置を例に挙げて説明する。
【００２２】
図１は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の断面図であり、図２は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置を構成するアクティブマトリクス基板の断面図である。また、図３は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置を構成する対向基板の断面図であり、図４は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の第１透明電極の平面図である。また、図５は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の第２透明電極の平面図であり、図６は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の平面図である。
【００２３】
液晶表示装置１は、抵抗膜方式のタッチパネル機能を有するものであり、第１基板であるアクティブマトリクス基板２と、当該アクティブマトリクス基板２に対向して配置された第２基板である対向基板３と、アクティブマトリクス基板２及び対向基板３の間に挟持して設けられた表示媒体層である液層層４と、アクティブマトリクス基板２の液晶層４側と反対の表面に設けられた偏光板１０と、対向基板３の液晶層４側と反対の表面に設けられた偏光板３１とを備えている。また、アクティブマトリクス基板２及び対向基板３を互いに接着するとともに、アクティブマトリクス基板２及び対向基板３の間に液晶層４を封入するために枠状に設けられたシール材（不図示）を備えている。
【００２４】
アクティブマトリクス基板２は、絶縁性基板であるガラス基板６と、ＴＦＴアレイ層７とにより構成されている。
【００２５】
ＴＦＴアレイ層７は、ガラス基板６上に互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート線（不図示）と、各ゲート線を覆うように設けられたゲート絶縁膜１２と、ゲート絶縁膜１２上に各ゲート線と直交する方向に互いに平行に延設された複数のソース線（不図示）と、各ゲート線及び各ソース線の交差部分毎にそれぞれ設けられた複数のＴＦＴ５と、各ソース線及び各ＴＦＴ５を覆うように順に設けられた第１層間絶縁膜１５及び第２層間絶縁膜１６と、第２層間絶縁膜１６上にマトリクス状に設けられ、各ＴＦＴ５の各々に接続された複数の画素電極１９と、各画素電極１９を覆うように設けられた配向膜９とを備えている。ここで、本実施形態では、第１層間絶縁膜１５及び第２層間絶縁膜１６からなる２層により構成された層間絶縁膜を例示したが、この層間絶縁膜は、１層により構成されていてもよい。
【００２６】
また、ＴＦＴ５は、図２に示すように、各ゲート線が側方に突出したゲート電極１７と、ゲート電極１７を覆うように設けられたゲート絶縁膜１２と、ゲート絶縁膜１２上でゲート電極１７に重なる位置において島状に設けられた半導体層１３と、半導体層１３上で互いに対峙するように設けられたソース電極１８及びドレイン電極２０とを備えている。ここで、ソース電極２０は、各ソース線の側方に突出した部分である。また、ドレイン電極２０は、図２に示すように、第１層間絶縁膜１５及び第２層間絶縁膜１６の積層膜に形成されたコンタクトホール３０を介して画素電極１９に接続されている。また、半導体層１３は、図２に示すように、下層の真性アモルファスシリコン層１３ａと、その上層のリンがドープされたｎ＋アモルファスシリコン層１３ｂとを備え、ソース電極１８及びドレイン電極２０から露出する真性アモルファスシリコン層１３ａがチャネル領域を構成している。
【００２７】
対向基板３は、図３に示すように、絶縁性基板であるガラス基板２１と、ガラス基板２１上に設けられ、タッチされた位置を検出するための第１透明導電膜である第１透明電極２２と、第１透明電極２２と対向して配置され、タッチされた位置を検出するための第２透明電極２３と、第１透明電極２２と第２透明電極２３の間に所定の間隔の隙間が形成されるように、第１透明電極２２と第２透明電極２３の間に設けられた複数のドットスペーサ２４と、第２透明電極２３上に設けられるとともに、各画素に対して設けられた赤色層Ｒ、緑色層Ｇ、および青色層Ｂを含むカラーフィルター層２５と、カラーフィルター層２５を覆うように設けられた共通電極２６と、共通電極２６上に柱状に設けられた複数のフォトスペーサ２７と、共通電極２６及びフォトスペーサ２７を覆うように設けられた配向膜２８とを備えている。
【００２８】
第１透明電極２２、及び第２透明電極２３は、押圧された位置を検出するための一対の透明導電膜であり、所定の間隔の隙間を介して互いに対向配置されている。この第１透明電極２２、及び第２透明電極２３は、例えば、錫をドープした酸化インジウムであるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜により形成されており、スパッタリング法、ＣＶＤ法、真空蒸着法等により形成される。
【００２９】
ドットスペーサ２４は、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間に、所定の間隔の隙間を形成するとともに、押圧した部分以外の部分の第１透明電極２２と第２透明電極２３とが接触するのを防止するためのものである。また、ドットスペーサ２４は、対向基板３が押圧されていない状態において、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間の接触を防止して、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間の絶縁性を保持する機能を有する。また、ドットスペーサ２４は、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間に設けられており、第１透明電極２２の表面上、及び第２透明電極２２の表面上に、一定間隔で二次元的に配設されている。また、ドットスペーサ２４は、図３に示すように、カラーフィルタ層２５を構成する各着色層（即ち、赤色層Ｒ、緑色層Ｇ、及び青色層Ｂ）間を仕切る様に配設されている。ドットスペーサ２４を形成する材料としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、及びエポキシ樹脂等の透明な感光性樹脂が好適に使用できる。このような樹脂を使用することにより、タッチ操作の繰り返しによる、各ドットスペーサ２４の寸法変化（特に、ドットスペーサ２４の高さの変化）を効果的に抑制することができるため、第１透明電極２２と第２透明電極２３の間において所定の間隔が得られなくなるという不都合を回避することができる。なお、これらの樹脂は、単独で使用してもよく、２種以上を同時に使用しても良い。
【００３０】
偏光板１０，３１は、一定方向のみに振動する光を透過させるためのものであり、例えば、偏光素子（例えば、ヨウ素や二色性染料）が添加されたポリビニルアルコールフィルムからなる偏光フィルムと、当該偏光フィルムの両面に張り合わされたセルロース系フィルムからなる基板フィルムにより構成されたものが使用できる。
【００３１】
液晶層４は、例えば、電気光学特性を有するネマチックの液晶材料等により構成されている。
【００３２】
液晶表示装置１は、各画素電極毎に１つの画素が構成されており、各画素において、ゲート線からゲート信号が送られてＴＦＴ５をオン状態にした場合に、ソース線からソース信号が送られてソース電極１８及びドレイン電極２０を介して、画素電極１９に所定の電荷が書き込まれ、画素電極１９と共通電極２６との間で電位差が生じ、液晶層４に所定の電圧が印加されるように構成されている。そして、液晶表示装置１では、印加された電圧の大きさに応じて、液晶分子の配向状態が変わることを利用して、バックライト（不図示）から入射する光の透過率を調整することにより、画像が表示される構成となっている。
【００３３】
また、図４に示すように、ガラス基板２１上に設けられた第１透明電極２２には、当該第１透明電極２２の対向する二辺に接続された金属製の第１タッチパネル用配線４０，４１が形成されている。
【００３４】
また、図５に示すように、カラーフィルタ層２５上に設けられた第２透明電極２３には、当該第２透明電極２３の対向する二辺に接続された金属製の第２タッチパネル用配線４２，４３が形成されている。そして、第２タッチパネル用配線４２に形成された端子部４２ａは、ガラス基板２１上に形成された端子部４４ａに、例えば、導電性接着剤を介して接続され、端子部４２ａと端子部４４ａとの導通がとられている。また、同様に、第２タッチパネル用配線４３に形成された端子部４３ａは、ガラス基板２１上に形成された端子部４５ａに、例えば、導電性接着剤を介して接続され、端子部４３ａと端子部４５ａの導通がとられている。
【００３５】
また、図６に示すように、アクティブマトリクス基板２には、対向基板３が押圧されて、第１透明電極２２と第２透明電極２３が互いに接触して導通する場合に、押圧された位置を検出するための端子部４８と、この端子部４８に接続された配線４９が形成されている。また、端子部４８には、第１透明電極２２と第２透明電極２３との導通に基づいて、第１透明電極２２と第２透明電極２３との接触位置を検出する位置検出部５０が接続されている。
【００３６】
そして、図４に示す、第１タッチパネル用配線４０に形成された端子部４０ａと、第１タッチパネル用配線４１に形成された端子部４１ａと、上述の端子部４４ａ、及び４５ａは、図示しない導電性部材（例えば、金ビース等）を介して、アクティブマトリクス基板２に形成された配線４９に接続され、導通がとられている。
【００３７】
以上の構成の下、対向基板３の表面（即ち、偏光板１０の表面）を指やペンにより押圧して、一対の透明導電膜である第１透明電極２２と第２透明電極２３が接触（短絡）すると、第１透明電極２２と第２透明電極２３間に電流が流れるとともに、第１透明電極２２と第２透明電極２３の電圧が変化する。そして、これらの第１透明電極２２と第２透明電極２３の電圧に関する信号が、上述の、第１タッチパネル用配線４０，４１、第２タッチパネル用配線４２，４３、及び端子部４８を介して、端子部４８に接続された位置検出部５０に入力され、当該位置検出部５０が第１透明電極２２と第２透明電極２３の電圧の変化（即ち、抵抗の変化）を検知することにより、押圧された位置（即ち、第１透明電極２２と第２透明電極２３の接触位置）が検出される構成となっている。
【００３８】
このように本実施形態の液晶表示装置１においては、対向基板３に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とを設けるとともに、対向基板３が押圧された際に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とが互いに接触して導通することにより、押圧された位置を検出する。従って、別個にタッチパネルを設ける必要がなくなり、タッチパネル機能を備える液晶表示装置１を２枚の基板（即ち、アクティブマトリクス基板２と対向基板３）により構成することが可能になる。また、上記従来技術とは異なり、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間に抵抗成分となる配向膜が介在していないため、対向基板３が押圧された際に、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間を容易に導通させることができる。
【００３９】
また、一般に、液晶表示パネルにタッチパネルを貼り付けて搭載した液晶表示装置では、固定用テープにより、液晶表示パネルにタッチパネルを貼り付けるため、液晶表示パネルとタッチパネルの間に空気層が形成されてしまう。その結果、透明導電膜と空気層との屈折率の違いから、その界面で光の反射が発生し、光学特性（透過率）が低下して、写り込み等が発生するするため、表示品位が低下してしまうという問題があった。
【００４０】
一方、本実施形態においては、対向基板３に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とを設けて、タッチパネル機能を内蔵する構成としているため、別個にタッチパネルを設ける必要がない。従って、光学特性（透過率）の低下を防止して、写り込み等が発生を回避できる。
【００４１】
次に、本実施形態の液晶表示装置の製造方法について一例を挙げて説明する。図７〜図９は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置における対向基板の製造方法を説明するために断面図である。なお、本実施形態の製造方法は、アクティブマトリクス基板作製工程、対向基板作製工程、及び基板貼り合わせ工程を備える。
【００４２】
＜アクティブマトリクス基板作製工程＞
まず、ガラス基板６の全体に、スパッタリング法により、例えば、チタン膜、アルミニウム膜及びチタン膜などを順に成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ゲート線及びゲート電極１７を厚さ４０００Å程度に形成する。
【００４３】
続いて、ゲート線及びゲート電極１７が形成された基板全体に、プラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により、例えば、窒化シリコン膜などを成膜し、ゲート絶縁膜１２を厚さ４０００Å程度に形成する。
【００４４】
さらに、ゲート絶縁膜１２が形成された基板全体に、プラズマＣＶＤ法により、例えば、真性アモルファスシリコン膜（厚さ２０００Å程度）、及びリンがドープされたｎ＋アモルファスシリコン膜（厚さ５００Å程度）を連続して成膜し、その後、フォトリソグラフィによりゲート電極１７上に島状にパターニングして、真性アモルファスシリコン層及びｎ＋アモルファスシリコン層が積層された半導体形成層を形成する。
【００４５】
そして、上記半導体形成層が形成された基板全体に、スパッタリング法により、例えば、アルミニウム膜及びチタン膜などを順に成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ソース線、ソース電極１８及びドレイン電極２０を厚さ２０００Å程度に形成する。
【００４６】
続いて、ソース電極１８及びドレイン電極２０をマスクとして上記半導体形成層のｎ＋アモルファスシリコン層をエッチングすることにより、チャネル領域をパターニングして、半導体層１３及びそれを備えたＴＦＴ５を形成する。
【００４７】
さらに、ＴＦＴ５が形成された基板全体に、プラズマＣＶＤ法により、例えば、窒化シリコン膜などを成膜し、第１層間絶縁膜１５を厚さ４０００Å程度に形成する。
【００４８】
そして、第１層間絶縁膜１５が形成された基板全体に、スピンコート法により、例えば、ポジ型の感光性樹脂を厚さ３μｍ程度に塗布し、その塗布された感光性樹脂を、フォトマスクを介して露光した後、現像することにより、第２層間絶縁膜１６を形成する。その後、第１絶縁膜１５及び第２層間絶縁膜１６をエッチングして、コンタクトホール２１を形成する。
【００４９】
続いて、第２層間絶縁膜１６上の基板全体に、ＩＴＯ膜などからなる透明導電膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、画素電極１９を厚さ１０００Å程度に形成する。
【００５０】
次いで、画素電極１９が形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド樹脂を塗布し、その後、ラビング処理を行って、配向膜９を厚さ１０００Å程度に形成する。
【００５１】
以上のようにして、ガラス基板６上にＴＦＴアレイ層７が形成されたアクティブマトリクス基板２を作製することができる。
【００５２】
＜対向基板作製工程＞
まず、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂等により形成され、離型処理が施されたフィルム基板の基板全体に、ＩＴＯ膜などからなる透明導電膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、共通電極２６を厚さ１５００Å程度に形成する。
【００５３】
続いて、共通電極２６が形成された基板上に、例えば、赤、緑又は青に着色されたアクリル系の感光性樹脂を塗布し、その塗布された感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後に、現像することによりパターニングして、選択した色の着色層（例えば、赤色層Ｒ）を厚さ２．０μｍ程度に形成する。さらに、他の２色についても同様な工程を繰り返して、他の２色の着色層（例えば、緑色層Ｇ及び青色層Ｂ）を厚さ２．０μｍ程度に形成して、赤色層Ｒ、緑色層Ｇ及び青色層Ｂを備えたカラーフィルター層２５を形成する。
【００５４】
次いで、カラーフィルタ層２５上の基板全体に、ＩＴＯ膜などからなる透明導電膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、第２透明電極２３を厚さ５０〜１５０Å程度に形成する。
【００５５】
次いで、第２透明電極２３上の基板全体に、スピンコート法により、例えば、ポジ型の透明な感光性樹脂（例えば、アクリル樹脂）を厚さ３μｍ程度に塗布し、その塗布された感光性樹脂を、フォトマスクを介して露光した後、現像することにより、第２透明電極２３の表面上に複数のドットスペーサ２４を形成する。なお、ドットスペーサ２４は、第２透明電極２３の表面上において、一定間隔で二次元的に配設されており、高さが３〜５μｍ、ドット間隔が８０〜５００μｍとなるように形成する。
【００５６】
次いで、カラーフィルタ層２５上に、印刷法を用いて、第２透明電極２３の対向する二辺に接続された金属製（例えば、銅製）の第２タッチパネル用配線４２，４３を形成することにより、対向基板作製用の第１ベース基板を作製する。この際、第１タッチパネル用配線４０，４１と第２タッチパネル用配線４２，４３の接触を防止するとの観点から、第２タッチパネル用配線４２，４３に形成された端子部４２ａ，４３ａ以外の部分を、絶縁性の樹脂により被覆する。
【００５７】
次いで、ガラス基板２１の全体に、ＩＴＯ膜などからなる透明導電膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、第１透明電極２２を厚さ５０〜１５０Å程度に形成する。
【００５８】
次いで、ガラス基板２１上に、印刷法を用いて、第１透明電極２２の対向する二辺に接続された金属製（例えば、銅製）の第１タッチパネル用配線４０，４１、及び端子部４４ａ，４５ａを形成することにより、対向基板作製用の第２ベース基板を作製する。この際、第１タッチパネル用配線４０，４１と第２タッチパネル用配線４２，４３の接触を防止するとの観点から、第１タッチパネル用配線４０，４１に形成された端子部４０ａ，４１ａ、および上述の端子部４４ａ,４５ａ以外の部分を、絶縁性の樹脂により被覆する。
【００５９】
次いで、図７に示すように、フィルム基板５０を有するとともに、第２透明電極２３が形成された第１ベース基板６０を下向きにした状態で、第１ベース基板６０と、第１透明電極２２が形成された第２ベース基板７０を対向させて配置し、第１透明電極２２と第２透明電極２３を対向させる。
【００６０】
次いで、図８に示すように、第１ベース基板６０に形成されたドットスペーサ２４を、第２ベース基板７０に形成された第１透明電極２２上に載置し、第１ベース基板６０を転写用基板として、第１ベース基板６０を第２ベース基板７０に転写する。なお、転写方法としては、特に限定されず、例えば、圧着による転写や、接着剤により、第１ベース基板６０を第２ベース基板に貼り付けて転写する方法が挙げられる。また、この際、複数のドットスペーサ２４が、第１透明電極２２と第２透明電極２３の間に設けられて、第１透明電極２２と第２透明電極２３の間に所定の間隔の隙間が形成される。また、第１ベース基板６０を第２ベース基板７０に転写する際に、上述のごとく、第２タッチパネル用配線４２に形成された端子部４２ａとガラス基板２１上に形成された端子部４４ａの導通がとられるとともに、第２タッチパネル用配線４３に形成された端子部４３ａとガラス基板２１上に形成された端子部４５ａの導通がとられる。
【００６１】
次いで、図９に示すように、第１ベース基板６０から、フィルム基板５０を剥離する。
【００６２】
次いで、共通電極２６が形成された基板全体に、スピンコート法により、アクリル系の感光性樹脂を塗布し、その塗布された感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後に、現像することにより、共通電極２６上にフォトスペーサ２７を厚さ４μｍ程度に形成する。
【００６３】
次いで、フォトスペーサ２７が形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド系樹脂を塗布し、その後、ラビング処理を行って、配向膜２８を厚さ１０００Å程度に形成する。
【００６４】
以上のようにして、対向基板３を作製することができる。
【００６５】
＜貼り合わせ工程＞
まず、例えば、ディスペンサを用いて、上記対向基板作製工程で作製された対向基板３に、紫外線硬化及び熱硬化併用型樹脂などにより構成されたシール材を枠状に描画する。
【００６６】
次いで、上記シール材が描画された対向基板３におけるシール材の内側の領域に液晶材料を滴下する。
【００６７】
さらに、上記液晶材料が滴下された対向基板３と、上記アクティブマトリクス基板作製工程で作製されたアクティブマトリクス基板２とを、減圧下で貼り合わせた後に、その貼り合わせた貼合体を大気圧に開放することにより、その貼合体の表面及び裏面を加圧する。
【００６８】
次いで、上記貼合体に挟持されたシール材にＵＶ光を照射した後に、その貼合体を加熱することによりシール材を硬化させる。
【００６９】
次いで、アクティブマトリクス基板２のガラス基板６の表面に偏光板３１を取り付けるとともに、対向基板３のガラス基板２１の表面に偏光板１０を取り付ける。
【００７０】
以上のようにして、図１に示す液晶表示装置１を作製することができる。
【００７１】
以上に説明した本実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。
【００７２】
（１）本実施形態においては、対向基板３に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とを設けるとともに、対向基板３が押圧された際に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とが互いに接触して導通することにより、押圧された位置を検出する構成としている。従って、別個にタッチパネルを設ける必要がなくなり、タッチパネル機能を備える液晶表示装置１を２枚の基板（即ち、アクティブマトリクス基板２と対向基板３）により構成することが可能になる。その結果、液晶表示装置１において、装置全体の薄型化、及び軽量化を図ることが可能になる。
【００７３】
（２）また、別個にタッチパネルを設ける場合に発生する光学特性（透過率）の低下を防止して、写り込み等の発生を回避できる。従って、液晶表示装置１の表面品位の低下を防止することができる。
【００７４】
（３）また、上記従来技術とは異なり、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間に抵抗成分となる配向膜が介在していないため、対向基板３が押圧された際に、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間を容易に導通させることができる。その結果、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間の導通不良等の支障を生じることなくタッチパネル機能を発揮することができる。
【００７５】
（４）本実施形態においては、一対の透明導電膜である第１及び第２透明電極２２，２３と液晶層４との間に、カラーフィルタ層を設ける構成としているため、カラー画像の表示を行うことができる液晶表示装置１において、装置全体の薄型化、及び軽量化を図ることが可能になるとともに、表面品位の低下を防止することができる。
【００７６】
（５）本実施形態においては、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間に、所定の間隔の隙間を形成するためのドットスペーサ２４を設ける構成としている。従って、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間に、ドットスペーサ２４が挟持されることになるため、対向基板３が押圧されていない状態では、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間の接触が防止されて、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間の絶縁性をドットスペーサ２４により保持することができる。
【００７７】
（６）本実施形態においては、ドットスペーサ２４を、透明性を有する感光性樹脂により形成する構成としている。従って、透明性に優れるとともに、押圧操作の繰り返しによる寸法変化を効果的に抑制することができるドットスペーサ２４を得ることができる。その結果、第１透明電極２２と第２透明電極２３において、所定の間隔の隙間が得られなくなるという不都合を回避することができる。
【００７８】
なお、上記実施形態は以下のように変更しても良い。
【００７９】
・上記実施形態においては、対向基板３に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とを設ける構成としたが、アクティブマトリクス基板２に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とを設けるとともに、アクティブマトリクス基板２が押圧された際に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とが互いに接触して導通することにより、押圧された位置を検出する構成としても良い。なお、この場合も、上述の実施形態の場合と同様に、アクティブマトリクス基板２の液晶層４側と反対の表面に偏光板１０を設けるとともに、対向基板３の液晶層４側と反対の表面偏光板３１を設ける構成とすることができる。また、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間にドットスペーサ２４を設ける構成とすることができる。このような構成においても、上述の（１）〜（６）と同様の効果を得ることができる。
【００８０】
・上記実施形態においては、シングルタッチのタッチパネル機能を有する液晶表示装置１を例示したが、本発明は、マルチタッチのタッチパネル機能を有する液晶表示装置にも適用することができる。
【００８１】
・上記実施形態の液晶表示装置１の方式は、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertical Alignment）、ＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）、ＡＳＶ（Advanced Super View）、ＩＰＳ（In-Plane-Switching）など、どのような方式であってもよい。
【００８２】
・上記実施形態においては、表示装置として、液晶表示装置を例に挙げて説明したが、例えば、有機ＥＬ表示装置等の他の表示装置についても、本発明を適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
以上説明したように、本発明は、タッチパネル機能を備える表示装置に関し、特に、抵抗膜方式のタッチパネル機能を備える表示装置に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る液晶表示装置を構成するアクティブマトリクス基板の断面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る液晶表示装置を構成する対向基板の断面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る液晶表示装置の第１透明電極の平面図である。
【図５】本発明の実施形態に係る液晶表示装置の第２透明電極の平面図である。
【図６】本発明の実施形態に係る液晶表示装置の平面図である。
【図７】本発明の実施形態に係る液晶表示装置における対向基板の製造方法を説明するために断面図である。
【図８】本発明の実施形態に係る液晶表示装置における対向基板の製造方法を説明するために断面図である。
【図９】本発明の実施形態に係る液晶表示装置における対向基板の製造方法を説明するために断面図である。
【符号の説明】
【００８５】
１    液晶表示装置
２    アクティブマトリクス基板（第１基板）
３    対向基板（第２基板）
４    液晶層（表示媒体層）
１０    偏光板
２２    第１透明電極（透明電極膜）
２３    第２透明電極（透明電極膜）
２４    ドットスペーサ
３１    偏光板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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