(57)【要約】      （修正有）【課題】露光装置の有効活用の点で有利な情報処理を提供する。【解決手段】基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理装置は、前記基板に対応して前記露光装置が実施した処理に関する装置情報と前記装置情報を特定する属性情報とを前記記憶部から抽出する抽出条件の情報と、前記抽出条件に基づいて抽出された前記装置情報および前記属性情報から表示情報を生成する生成条件の情報とが入力される入力部と、前記入力部から入力された前記抽出条件の情報に基づいて、前記抽出条件に該当する前記装置情報および前記属性情報を前記記憶部から抽出する抽出部と、前記入力部から入力された前記生成条件の情報に基づいて、前記抽出部により抽出された前記装置情報および前記属性情報から表示情報を生成する表示情報生成部と、前記表示情報生成部により生成された前記表示情報を出力する出力部と、を有する。【選択図】図２
2010153601.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理装置であって、
前記基板に対応して前記露光装置が実施した処理に関する装置情報と前記装置情報を特定する属性情報とを前記記憶部から抽出する抽出条件の情報と、前記抽出条件に基づいて抽出された前記装置情報および前記属性情報から表示情報を生成する生成条件の情報とが入力される入力部と、
前記入力部から入力された前記抽出条件の情報に基づいて、前記抽出条件に該当する前記装置情報および前記属性情報を前記記憶部から抽出する抽出部と、
前記入力部から入力された前記生成条件の情報に基づいて、前記抽出部により抽出された前記装置情報および前記属性情報から表示情報を生成する表示情報生成部と、
前記表示情報生成部により生成された前記表示情報を出力する出力部と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記表示情報生成部は、前記表示情報として、前記装置情報に関する時系列グラフの情報を生成し、
前記生成条件は、前記属性情報に基づいて前記グラフを時間軸上で区切る条件を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記表示情報生成部は、前記表示情報として、前記装置情報に関する時系列グラフの情報を生成し、
前記生成条件は、前記グラフ上の前記装置情報の表示態様を前記属性情報に基づいて異ならせる条件を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記表示情報生成部は、前記表示情報として、前記装置情報に関する時系列グラフの情報と前記属性情報に関する統計値の情報とを生成し、
前記生成条件は、前記グラフ上の領域を指定する条件と、前記領域内の前記装置情報に対応した前記属性情報に関して前記統計値を算出する条件とを含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項５】
基板を露光する露光装置であって、
請求項１乃至４のいずれかに記載の情報処理装置
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項６】
請求項５に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項７】
基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理方法であって、
前記基板に対応して前記露光装置が実施した処理に関する装置情報と前記装置情報を特定する属性情報とを前記記憶部から抽出する抽出条件の情報と、前記抽出条件に基づいて抽出された前記装置情報および前記属性情報から表示情報を生成する生成条件の情報とが入力される入力工程と、
前記入力工程で入力された前記抽出条件の情報に基づいて、前記抽出条件に該当する前記装置情報および前記属性情報を前記記憶部から抽出する抽出工程と、
前記入力工程で入力された前記生成条件の情報に基づいて、前記抽出工程で抽出された前記装置情報および前記属性情報から表示情報を生成する表示情報生成工程と、
前記表示情報生成工程で生成された前記表示情報を出力する出力工程と、
を有することを特徴とする情報処理方法。
【請求項８】
基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する請求項５に記載の情報処理方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置により生成された情報を処理する情報処理に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスなどを製造するデバイス製造工程では、膜形成、レジスト塗布、回路パターンの露光、現像、エッチング、イオン注入などを含むプロセスを繰り返し行なう。そのようにして、ウエハ上の複数の区画領域（ショット）各々に対し、回路などのデバイスのレイヤ（層）を幾層にも重ね合わせて形成するのが一般的である。
【０００３】
半導体製造装置のうち、例えば露光装置は、高い解像力や重ね合わせ精度が要求される。そのため、フォーカス計測やアライメント計測が高精度に行なわれる。また、露光装置は、半導体製造装置の中で最も高価な装置のひとつで、費用回収のため高い生産性が要求される。そのため、露光工程に要する時間の短縮も求められている。
【０００４】
近年は、情報処理技術が進み、装置の動作過程で生成される情報が収集しやすくなったことで、その情報の分析により、装置の状態診断、異常原因の特定などを行なうことが求められている。この情報分析では、収集した情報をコンピュータで処理してグラフ化し、装置の挙動を視覚化することが行なわれている（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００３−１０８２２３号公報
【特許文献２】特開２００５−２５８５４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
半導体製造工程では、処理を定義する設定や処理対象の物理的状態などの要素が処理結果に影響を及ぼす。例えば、露光装置は、プロセスごとに設定される処理条件や、ウエハの形状、レジスト塗布状態、既に形成されたパターンの状態など、装置に対する設定や露光対象物の物理的な特性が処理の正確度・精度・時間等に影響しうる。
【０００６】
特許文献２には、ユーザによる簡易な操作によって、グラフ中の各要素に関連する情報を効率的に表示する情報管理装置が開示されている。しかし、このような方法を適用しても、グラフ中の各要素に関連する情報の表示が効率化されるに過ぎず、装置の状態診断や、異常原因の特定、設定パラメータの最適化等のための情報分析には不十分である。
【０００７】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、例えば、露光装置の有効活用の点で有利な情報処理を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を考慮してなされた本発明の第１の側面は、基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理装置であって、
前記基板に対応して前記露光装置が実施した処理に関する装置情報と前記装置情報を特定する属性情報とを前記記憶部から抽出する抽出条件の情報と、前記抽出条件に基づいて抽出された前記装置情報および前記属性情報から表示情報を生成する生成条件の情報とが入力される入力部と、
前記入力部から入力された前記抽出条件の情報に基づいて、前記抽出条件に該当する前記装置情報および前記属性情報を前記記憶部から抽出する抽出部と、
前記入力部から入力された前記生成条件の情報に基づいて、前記抽出部により抽出された前記装置情報および前記属性情報から表示情報を生成する表示情報生成部と、
前記表示情報生成部により生成された前記表示情報を出力する出力部と、
を有することを特徴とする情報処理装置である。
【０００９】
また、本発明の第２の側面は、基板を露光する露光装置であって、
上記の情報処理装置
を有することを特徴とする露光装置である。
【００１０】
また、本発明の第３の側面は、上記の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法である。
【００１１】
また、本発明の第４の側面は、基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する情報処理方法であって、
前記基板に対応して前記露光装置が実施した処理に関する装置情報と前記装置情報を特定する属性情報とを前記記憶部から抽出する抽出条件の情報と、前記抽出条件に基づいて抽出された前記装置情報および前記属性情報から表示情報を生成する生成条件の情報とが入力される入力工程と、
前記入力工程で入力された前記抽出条件の情報に基づいて、前記抽出条件に該当する前記装置情報および前記属性情報を前記記憶部から抽出する抽出工程と、
前記入力工程で入力された前記生成条件の情報に基づいて、前記抽出工程で抽出された前記装置情報および前記属性情報から表示情報を生成する表示情報生成工程と、
前記表示情報生成工程で生成された前記表示情報を出力する出力工程と、
を有することを特徴とする情報処理方法である。
【００１２】
さらに、本発明の第５の側面は、基板を露光する露光装置により生成されて記憶部に記憶された情報を処理する上記の情報処理方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラムである。
【００１３】
本発明の他の側面は、『特許請求の範囲』や、『発明を実施するための最良の形態』、添付した図面等に記載したとおりである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、例えば、露光装置の有効活用の点で有利な情報処理を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態として、露光装置により生成された情報をグラフ化し、グラフ化された装置情報とその属性情報との関連性を視覚的に表示する機能を有する情報処理装置を説明する。
【００１６】
図１は、本発明の好適な実施形態の露光装置の構成を示す図である。この実施形態の露光装置１００は、走査露光装置とし構成されている。露光装置１００において、光源１から提供される光束は、照明光学系２で形状・光量分布が調整され、レチクルステージ６に保持されたレチクル（原版）３を照明する。レチクル３のパターンは、感光剤（レジスト）が塗布されてウエハステージ７上のウエハチャック８に保持されたウエハ（基板）５に、投影光学系４を介して投影され、転写される。これにより、感光剤に潜像パターンが形成される。潜像パターンは、現像工程において現像されて、マスクパターン（レジストパターン）となる。
【００１７】
照明光学系２には、例えば、コヒーレンスファクタ（σ値）を設定するための開口面積が異なる複数の円形開口絞りが備えられうる。照明光学系２には、更に、輪帯照明用のリング形状絞りや、４重極絞り、照明光量を調整するための機構（例えば、複数のＮＤフィルタ及びそれを切り替える機構）が備えられうる。照明光学系２には、更に、光量を計測する光量検出器や、光束の形状を決めるスリット、照明範囲を制限するためにレチクル３と共役な位置に載置されたブラインド及びそれを駆動する駆動機構が備えられうる。光源１と照明光学系と２は、光源制御系２１の指示によって動作が制御される。
【００１８】
投影光学系４には、開口数を設定するための開口数設定機構や、収差を調整するためのレンズ（光学素子）駆動機構が備えられうる。投影光学系４は、投影光学系制御系２４によって動作が制御される。
【００１９】
レチクルステージ６の位置は、レチクルステージ計測系１０によって、投影光学系の光軸（Ｚ軸）方向の位置、光軸に直交する面内における互いに直交する２つの軸（Ｘ軸・Ｙ軸）方向の位置、並びに、各軸周りの回転角が計測される。その計測結果に基づいて、レチクルステージ６の位置は、レチクルステージ制御系１１によって制御される。
【００２０】
また、照明光学系２とレチクルステージ６との間には、レチクル３上のマーク、または、レチクルステージ６上の基準マークと、ウエハステージ７上の基準マークとを、投影光学系４を介して同時に撮像及び計測することができる計測系９が構成されている。当該計測系は、ＴＴＲ（Ｔｈｒｏｕｇｈ  Ｔｈｅ  Ｒｅｔｉｃｌｅ）方式であり、ＴＴＲ計測系９と呼ぶことにする。これにより、Ｘ軸・Ｙ軸・Ｚ軸方向それぞれの位置、並びに、各軸周りの回転角に関して、レチクルステージ６上のレチクル３とウエハステージ７上のウエハ５との間の位置決めが可能となる。
【００２１】
ウエハ５上のショットの位置は、ウエハステージ計測系１２及びフォーカス計測系３０よって計測されうる。ウエハステージ計測系１２は、例えば、レーザ干渉計を含み、ウエハステージ７のＸ軸・Ｙ軸・Ｚ軸方向それぞれの位置、並びに、各軸周りの回転角を計測する。フォーカス計測系３０は、投影光学系４の光軸方向（Ｚ軸方向）におけるウエハ５の表面の位置を計測できる。ウエハステージ制御系１３は、ウエハステージ計測系１２及びフォーカス計測系３０から提供される情報に基づいてウエハステージ７の位置を制御する。また、ウエハ５上のアライメントマークを非露光光で撮像し、その位置を計測することが可能なオフアクシス計測系１１が構成される。オフアクシス計測系１１は、ウエハ５上の複数のマークの位置を計測し、レチクル３のパターンをウエハ５上のショットに重ねて転写できるよう、ウエハ５上のショットの位置と形状とを計測する。また、オフアクシス計測系１１は、自身のベースライン値の計測のため、ウエハステージ７上の基準マークの位置を計測する。
【００２２】
スリット状の照明光束でレチクル３上のパターン全体をウエハ５に転写するため、レチクルステージ６は、図１に示された『走査方向』に駆動される。それと同時に、ウエハステージ７も、図１に示された『走査方向』に駆動される。ここで、レチクルステージ６とウエハステージ７とは、投影光学系４の投影倍率に応じた速度比で駆動される。レチクル３とウエハ５との相対位置がずれると、ウエハ５に変形したパターンが転写される。そこで、主制御系２７は、レチクル３とウエハ５との相対位置ずれを計算し、その相対位置ずれがゼロになるようにレチクルステージ制御系１１及びウエハステージ制御系１３を制御する。
【００２３】
また、露光装置１００は、レチクルライブラリ１４や、レチクル搬送ロボット１３、レチクル３上のマークの位置をレチクルステージ６上のマークの位置に合わせるレチクルアライメントユニット２９などから構成されるレチクル搬送ユニットを備える。レチクル搬送ユニットは、レチクル搬送制御系１９の指示により動作する。また、露光装置１００は、ウエハカセットエレベータ１６やウエハ搬送ロボット１５などから構成されるウエハ搬送ユニットを備える。ウエハ搬送ユニットは、ウエハ搬送制御系２６の指示により動作する。
【００２４】
コンディショナ３１は、主に雰囲気の温度調整と、塵や化学物質の除去（雰囲気の清浄化）とを行ない、装置１００のチャンバ内の環境を一定に保つ。コンディショナ３１は、チャンバ制御系１８の指示により動作する。
【００２５】
主制御系２７は、露光装置１００の構成要素、例えば、チャンバ制御系１８や、レチクル搬送制御系１９、ウエハ搬送制御系２６、レチクルステージ制御系２２、ウエハステージ制御系２５、照明光学系２１、投影光学制御系２４等を制御する。主制御系２７は、通信インターフェイス１７を介して、露光装置１００の動作を設定すするパラメータ、又は動作の指示を取得し、それに基づいて露光装置１００の各構成要素を制御することができる。主制御系２７は、通信インターフェイス１７を介して、当該設定パラメータ、当該動作指示内容、動作状態、動作結果、計測結果、エラーイベントなどの情報と、それらの発生時刻などの情報とを含むログ情報を後述の外部記憶装置３００に送信する機能を有する。
【００２６】
ここで、レチクル３のパターンをウエハ５に転写する、露光装置１００による露光処理ついて説明する。
【００２７】
露光処理は、露光装置１００の動作を設定するパラメータ（ジョブ（ＪＯＢ）パラメータ）に従って行なわれる。ＪＯＢパラメータは、例えば、工程名（ジョブ名）、ロット名（ロットＩＤ）、ショットサイズ、ショット配列、各ショット番号、露光量、ウエハステージ走査速度、ウエハステージ走査方向、等を含みうる。さらに、露光装置を構成するユニットのキャリブレーション項目、キャリブレーションの実施タイミング、キャリブレーションのための計測回数、アライメント方式、アライメント計測におけるサンプルショット数及び計測回数、等を含みうる。
【００２８】
主制御系２７は、１枚もしくは複数枚のウエハを含む１ロット単位で、上記のＪＯＢパラメータに基づいて露光装置１００の各構成要素を制御し露光処理を行なう。まず、ロット処理開始にあたり、露光処理に使用されるレチクル及びウエハの露光装置内への供給が開始される。レチクル及びウエハの供給が完了すると、露光装置を構成するユニットのうちＪＯＢパラメータで指定されたユニットのキャリブレーションと、レチクルとウエハのショットとをアライメントするための計測処理を行なう。主制御系２７は、その結果に基づいて、各ユニットの動作を制御し、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハを露光する。
【００２９】
この露光処理により、各ユニットの動作の開始・終了・エラーなどのイベントや、イベントの発生時刻、動作に対する設定値、キャリブレーションやアライメントの各計測値、各ショットの露光量、各ステージの走査制御の結果（同期誤差等）等の情報が生成される。これらの情報は、以下、装置情報ともいう。露光処理は、ＪＯＢパラメータにしたがってロット単位で行なわれ、ジョブ名やロット名（ロットＩＤまたはロット認識ＩＤ）で特定できる。さらに、ウエハやショットは、ウエハ番号（ウエハＩＤ）やショット番号（ショットＩＤ、ダイＩＤまたはダイ認識ＩＤ）で特定できる。主制御系２７は、装置名（ＴＯＯＬ  ＩＤ）、ジョブ名、ロット名、ウエハ番号、ショット番号などを属性情報として、装置情報に付加し、通信インターフェイス１７を介して後述の外部記憶装置３００に送信する。当該属性情報は、上述の装置情報を特定する情報となりうる。
【００３０】
ここで、本発明が適用される露光システムの構成例を説明する。図２は、露光システムの構成例を示す図である。露光システムは、露光装置１００と、外部記憶装置３００と、情報処理装置２００とを備え、それらは通信インターフェースを介して接続される。なお、外部記憶装置３００と情報処理装置２００とを合わせて情報処理装置として構成してもよい。また、露光装置１００・外部記憶装置３００・情報処理装置２００を合わせて露光装置として構成してもよい。
【００３１】
外部記憶装置３００は、通信インターフェイス３１２を介して、図１６に示すような装置情報と上述の属性情報とを露光装置１００から収集する。そして、それらをデータベース３１１に格納する。
【００３２】
情報処理装置２００は、露光装置１００から提供される上記の情報を処理するように構成されうる。情報処理装置２００は、例えば、汎用のコンピュータにコンピュータプログラムをインストールすることによって構成されうる。情報処理装置２００は、該プログラムがインストールされることによって、通信インターフェイス２１０、管理部２２０、フィルタリング部（抽出部）２３０、入力部２４０、情報表示処理部２５０（表示情報生成部）、出力部２６０を備える装置として動作する。外部記憶装置３００を含む場合には、外部記憶装置３００（記憶部）をも備える装置として動作する。または、情報処理装置２００は、該コンピュータプログラムがインストールされることによって、通信ステップ、管理ステップ、フィルタリングステップ、入力ステップ、情報表示処理ステップ、出力ステップを実行する装置として動作する。外部記憶装置３００を含む場合には、記憶ステップをも実行する装置として動作する。
【００３３】
次に、データベース（ＤＢ）３１１に記憶された上記装置情報をグラフ表示し、グラフ上に表示された装置情報とその属性情報との関連性を視覚的に表示するための情報処理を説明する。
【００３４】
例として、レチクル３の像とウエハ５上のショットとのＺ軸方向における相対位置ずれを分析する場合を説明する。露光装置は、前述したステップ・アンド・スキャン方式で、レチクル３のパターンを介してウエハ５上の各ショットを露光していく。このとき、レチクル３の像とウエハ５上の各ショットとのＺ軸方向の相対位置ずれが計測され、その情報が露光装置１００から外部記憶装置３００に送信されデータベース３１１に格納される。この相対位置ずれは、投影光学系４の像面に各ショットの表面を位置決めするためのウエハステージ７の目標位置と実際の位置との差として計測しうる。当該実際の位置は、上述のレーザ干渉計等公知の計測手段により計測しうる。図３は、データベース３１１に格納された計測値の例である。データベース３１１には、計測値としてのＺ軸方向のずれ量、計測が行なわれた時刻、ロット認識ＩＤ、ウエハ番号、ショット番号、等が記憶されている。
【００３５】
図４は、第１の実施形態における情報処理の一例を示すフローチャートである。ステップＳ４０１では、グラフで表示する情報をデータベース３１１から抽出するため、入力部２４０を介して情報抽出条件を入力する。本例では、抽出対象の情報項目としてショット毎のＺ軸方向ずれ量の計測値、抽出対象の期間（計測時刻の属する期間）を情報抽出条件として入力する。
【００３６】
ステップＳ４０２では、入力された情報抽出条件に基づき、フィルタリング部２３０を介してデータベース３１１から情報を抽出する。これにより、指定期間内におけるショット毎のＺ軸方向ずれ量や、計測時刻、ロット認識ＩＤ、ウエハ番号、ショット番号の情報が抽出される。
【００３７】
ステップＳ４０３では、入力部２４０を介して、属性情報処理条件・グラフ表示条件を入力する。これらの条件を総称して、表示情報生成条件または単に生成条件ともいう。属性情報処理条件は、グラフ上に装置情報と関連付けて表示したい属性情報に関する条件であり、グラフ表示条件は、その表示態様に関する条件である。図５は、抽出したショット毎のＺ軸方向ずれ量計測値を時系列に表示したグラフである（横軸は時刻）。プロットが集中して帯状になっていることがグラフから見てとれる。この帯状グラフから、バラツキが相対的に大きい範囲や、平均的な計測値が異なる範囲が見られる。このような現象は、ロットにより露光処理条件が異なることが要因である場合がある。それをグラフ上で確認するため、ロット認識ＩＤが切替る箇所をグラフ上に表示させることが有効である。そのため、本例では、属性情報処理条件は、ロット認識ＩＤが切り換わる箇所であることとし、グラフ表示条件は、グラフの縦軸と平行な線であることとしている。すなわち、ここでは、表示情報生成条件（生成条件）は、属性情報に基づいてグラフを時間軸上で区切る条件を含むものとしている。
【００３８】
ステップＳ４０４では、指示（入力）された属性情報処理条件・グラフ表示条件に基づき、情報表示処理部２５０により、フィルタリング部２３０が抽出した情報を処理する。図６は、属性情報処理条件・グラフ表示条件に基づいて情報表示処理部２５０が生成した時系列グラフの情報の一例に対応している。
【００３９】
ステップＳ４０５では、ステップＳ４０４で生成されたグラフの情報を出力部２６０により出力（表示）する。図６は、出力部２６０による出力例である。図６のように、ショット毎のＺ軸方向ずれ量の時系列グラフ上でロット認識ＩＤの切替り箇所を線で表示すれば、例えば、ショット毎のＺ軸方向ずれ量がロットと相関があることを視覚的に容易に確認できる。
【００４０】
ステップＳ４０６では、出力部２６０が出力したグラフに対し、入力部２４０によりグラフ表示変更指示（グラフ変更指示ともいう）の入力があった場合、変更指示に基づいたグラフ表示変更処理（グラフ変更処理ともいう）のステップに移行する。本例では、グラフの拡大表示や、拡大表示後の拡大範囲の変更を行なう。
【００４１】
まず、拡大表示したいグラフ領域に含まれる箇所をグラフ変更条件として入力する。これは、ユーザーにより指示されたグラフの横軸における位置を入力しうる。本例では、グラフが時系列のため、ユーザーにより指示された時刻を入力してもよい。また、情報処理装置２００が入力装置としてマウスなどのポインティングデバイスを備える場合、図７のようにポインティングデバイスでの指定により当該箇所が入力されてもよい。図７ではマウスカーソル７０１を介した指定の例を示している。
【００４２】
次に、グラフ拡大範囲をグラフ変更条件として指示する。本例では、上記指定箇所より時系列で２つ前のロット認識ＩＤ切替り箇所を拡大範囲の開始位置とし、上記指定箇所より時系列で２つ後のロット認識ＩＤ切替り箇所を拡大範囲の終了位置とする。この場合、拡大範囲の指定情報として「２」が入力されうる。拡大範囲は、初期値が設定されていてもよく、その場合、拡大範囲の入力は不要となる。なお、ポインティングデバイスにより指定された開始位置および終了位置の情報が拡大範囲の指定情報として入力されてもよい。
【００４３】
ステップＳ４０７では、グラフ変更指示に基づき、グラフ拡大範囲の開始位置・終了位置となるロット認識ＩＤの切替り箇所が特定され、グラフ変更処理が行なわる。その結果は、ステップＳ４０５で、図７に示すように拡大表示されたグラフが出力部２６０により出力される。
【００４４】
拡大表示されたグラフが出力された後、ステップＳ４０６では、変更された拡大範囲を入力することができる。変更された拡大範囲は、グラフの移動方向・移動量として入力しうる。ここでは、移動方向として左方（−Ｘ方向）、移動量としてロット認識ＩＤ切替り１回分の場合を図８に例示している。例えば、情報処理装置２００が入力装置としてキーボードを備えている場合、カーソルキーの押下１回により、そのカーソルキーの示す方向にロット認識ＩＤ切替り１回分だけ拡大範囲が移動するように、拡大範囲が変更されてもよい。
【００４５】
［第２の実施形態］
本発明の第２の実施形態として、露光装置におけるウエハ搬送・アライメント計測・露光の開始・終了タイミング示したタイミングチャートにおいて、属性情報であるウエハ番号によりタイミングチャートの表示態様を異ならせる例を説明する。
【００４６】
露光装置が順次行なうウエハ処理について説明する。まず、ウエハ搬入は、例えば、ウエハ搬入出ロボット１５がウエハを受け取った時点から、ウエハステージ７のウエハチャック８上にウエハが保持される時点までの搬送過程である。搬入されるウエハは、ウエハカセットエレベータ１６内にあるウエハや、工場のウエハ搬送システム（不図示）またはレジスト塗布現像装置（不図示）から露光装置内の受渡ステーション（不図示）に供給されたウエハである。アライメント計測は、例えば、オフアクシススコープ（計測系）１１により、ウエハ５上の複数のショットの位置（ショットの形状を含んでもよい）が計測される過程である。露光は、例えば、ウエハ上の最初のショットの露光が開始した時点から最後のショットの露光が終了する時点までの過程である。ウエハ搬出は、例えば、ウエハ搬入出ロボット１５がウエハチャック８からウエハを受け取った時点からウエハカセットエレベータ１６内または受渡ステーションにウエハを置く時点までの過程である。なお、不図示だが、計測ステーションと露光ステーションと複数のウエハステージとを有する露光装置では、露光と計測とが並行して行われる。この場合、フォーカス計測系３０・オフアクシス計測系１１が計測ステーションに配置され、フォーカス計測・アライメント計測と露光とが並行して実施される。主制御部１６は、それぞれの処理（過程）の開始・終了をイベントとし、イベント名・イベント時刻に属性情報を付加し、通信インターフェイス１７を介して外部記憶装置３００に送信する。外部記憶装置３００は、送信された情報をデータベース（ＤＢ）３１１に記憶する。
【００４７】
図９は、属性情報に応じてタイミングチャートの表示態様を異ならせる第２の実施形態の処理のフローチャートである。ステップＳ９０１では、グラフで表示する装置情報・属性情報をデータベース３１１から抽出するための情報抽出条件を入力部２４０により入力する。本例では、前述のイベント名・イベント時刻を装置情報とし、ウエハ番号を属性情報とする情報抽出条件を入力する。また、イベント時刻が属する期間も情報抽出条件として入力する。
【００４８】
ステップＳ９０２では、入力された情報抽出条件に基づき、フィルタリング部２３０によりデータベース３１１から情報を抽出する。
【００４９】
ステップＳ９０３では、属性情報処理条件・グラフ表示条件を入力部２４０により入力する。属性情報処理条件は、例えば、グラフ上で表示態様を異ならせるために用いられる属性情報に関する条件であり、グラフ表示条件は、例えば、当該表示態様に関する条件である。図１０は、各イベントのタイミングを示したタイミングチャートである。本例では、各ウエハのイベントを区別するため、表示態様を異ならせるために用いられる属性情報をウエハ番号としている（属性情報処理条件）。また、ウエハ番号毎にチャート線の種類を異ならせている（グラフ表示条件）。種類は、ウエハ番号毎に指定してもよく、初期値として予め決められていてもよい。チャート線の種類（表示態様）は、最初のイベントから最後のイベントまでウエハ番号毎に共通している。
【００５０】
ステップＳ９０４では、入力された属性情報処理条件・グラフ表示条件に基づき、フィルタリング部２３０の抽出した情報を情報表示処理部２５０により処理する。ステップＳ９０５では、情報表示処理部２５０により得られたグラフ（タイミングチャート）を出力部２６０により出力する。図１１は、本実施形態に基づいて出力部２６０により出力（表示）されたタイミングチャートの表示態様の一例である。
【００５１】
なお、上述した表示態様は、チャート線・グラフ・表等を含む被表示情報を表示するにあたって視覚的に識別可能な属性であればよく、色、線の太さ・種類、サイズ（拡大率等を含む）、模様等を例示することができる。
【００５２】
［第３の実施形態］
本発明の第３の実施形態として、露光装置におけるアライメント計測時間とジョブ（ＪＯＢ）パラメータとの関連性を分析する場合への適用例を説明する。図１２は、ウエハ毎のウエハアライメント計測時間を示す時系列グラフである。ウエハアライメント計測時間は、ＪＯＢパラメータで指定されるアライメント計測方式や、計測対象のショット数（サンプルショット数）、ショット毎の計測回数により増減しうる。そのため、ＪＯＢパラメータとの関連性が分析の対象となりうる。図１２では、所要時間を示すグラフ中のドット（プロット）がおよそ２つの所要時間帯に集中（二局化）していることがわかる。本例では、グラフ中の所要時間が集中している帯においてジョブ名毎の比率を表示することで、ＪＯＢパラメータとの関連性を分析する。
【００５３】
所要時間は、データベース３１１に記録されている情報を利用してもよいし、複数のイベント時刻の情報から算出してもよい。図１５は、第３の実施形態に適した情報処理システムを例示する図である。情報処理システム２００は、図２の構成に加えて、フィルタリング部２３０により抽出した情報からグラフ明細を作成（生成）するグラフ明細作成部２７０と、作成されたグラフ明細を記録するグラフ明細記録部２８０とを含んでいる。
【００５４】
図１３は、第３の実施形態の処理を示すフローチャートである。ステップＳ１３０１では、使用する装置情報・属性情報をデータベース３１１から抽出するための情報抽出条件を入力部２４０により入力する。本例では、ウエハアライメント計測の開始イベント・終了イベントを装置情報とし、ジョブ（ＪＯＢ）名を属性情報とし、さらに、イベント時刻が含まれる期間を限定する情報抽出条件とする。
【００５５】
ステップＳ１３０２では、入力された情報抽出条件に基づき、フィルタリング部２３０によりデータベース３１１から情報を抽出する。
【００５６】
ステップＳ１３０３では、グラフ明細作成条件を入力部より入力し、フィルタリング部２３０が抽出した情報からグラフ明細作成部２７０によりグラフ明細を作成する。上述した表示情報生成条件（生成条件）は、このグラフ明細作成条件を含みうるものとする。本例では、ウエハアライメント計測の開始イベント時刻・終了イベント時刻から各ウエハアライメント計測の所要時間を算出することを含むグラフ明細作成条件としている。算出した所要時間は、ウエハアライメント計測の開始時刻・終了時刻や、ジョブ名・ロット認識ＩＤ・ウエハ番号の属性情報とともに、グラフ明細としてグラフ明細記録部２８０に記録される。ステップＳ１３０４では、グラフ明細記録部２６０に記録された各ウエハアライメント計測の所要時間を出力部２７０により時系列グラフとして表示する。
【００５７】
ステップＳ１３０５では、属性情報処理条件・表示条件を入力部２４０により入力する。本例では、ジョブ名毎の出現比率を算出するため、属性情報としてジョブ名を指示し、さらに、統計処理として、指定した情報範囲（グラフ上の領域）内におけるジョブ名毎の出現比率（統計値）の算出を指示する（属性情報処理条件）。上記の情報範囲は、グラフの横軸における範囲および縦軸におけるの少なくとも一方を指示する（属性情報処理条件）。本例では、横軸における範囲として、始点時刻・終点時刻を入力しうる。また、縦軸における範囲として、所要時間の下限値・上限値を入力しうる。また、例えば、情報処理装置２００が入力装置としてマウスを備え且つ出力装置としてディスプレイを備える場合、図１４のように、ディスプレイに出力されたグラフ上で処理対象の情報範囲１４０１をマウスで指定して入力しうる。さらに、ＪＯＢ名毎の出現比率の表示は、表を用いて行うよう指示する（表示条件）。表示条件は、初期設定として設定されていてもよく、その場合、入力は不要となる。なお、本例では、ジョブ名を属性情報とし、指定したグラフ上の領域内におけるジョブ名毎の出現比率を統計値としたが、属性情報や統計値は、それに限らず必要に応じて種々の指示が可能である。
【００５８】
ステップＳ１３０６では、指示された情報範囲のグラフ明細情報に対し、指定された属性情報処理条件・表示条件にしたがった処理を情報表示処理部２６０により行い、表示データを生成する。ステップＳ１３０７では、生成された表示データを出力部２７０により出力する。図１４は、出力部２７０により出力されるグラフ・表の一例である。
【００５９】
以上、第１乃至第３の実施形態では、露光装置への適用例を説明したが、本発明はそれに限定されるものではない。デバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造工程における露光工程以外の他の工程で使用される装置にも適用しうる。当該装置は、複数枚のウエハをひとまとめにして同時に処理するバッチ処理を行なう装置であってもよい。また、本発明は、単一の装置のみならず複数の装置を含むシステムに対しても適用しうる。さらに、本発明は、ウエハ以外の物品や情報を処理する装置、例えば、装置に対する設定や処理対象の特性が処理の性能（正確度、精度または時間等）に影響するような装置、にも適用しうる。なお、露光装置１００・外部記憶装置３００・情報処理装置２００を合わせて露光装置として構成してもよいと上述したことは、他の装置に適用する場合にも同様である。
【００６０】
［デバイス製造方法の実施形態］
つぎに、本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。当該方法において、本発明を適用した露光装置を使用し得る。
【００６１】
半導体デバイスは、ウエハ（半導体基板）に集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程とを経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を用いて、感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、その工程で露光されたウエハを現像する工程とを含みうる。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）とを含みうる。また、液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を用いて、感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、その工程で露光されたガラス基板を現像する工程とを含みうる。
【００６２】
本実施形態のデバイス製造方法は、デバイスの生産性、品質および生産コストの少なくとも一つにおいて従来よりも有利である。
【００６３】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】実施形態の露光装置の構成を示す図
【図２】システムの構成例を示す図
【図３】データベースに格納された計測値の例を示す図
【図４】第１の実施形態における情報処理を示すフローチャート
【図５】抽出したショット毎のＺ軸方向ずれ量計測値を時系列に表示したグラフ
【図６】出力部による出力例を示す図
【図７】マウスカーソルを介した拡大領域指定の例を示す図
【図８】拡大範囲の変更例を示す図
【図９】第２の実施形態における情報処理を示すフローチャート
【図１０】各イベントのタイミングを示したタイミングチャート
【図１１】タイミングチャートの表示態様の一例を示す図
【図１２】ウエハアライメント計測時間を示す時系列グラフ
【図１３】第３の実施形態における情報処理を示すフローチャート
【図１４】出力部により出力されるグラフ・表の一例を示す図
【図１５】第３の実施形態におけるシステムの構成例を示す図
【図１６】データベースが格納する情報の例を示す図
【符号の説明】
【００６５】
１００  露光装置
２００  情報処理装置
２３０  フィルタリング部（抽出部）
２４０  入力部
２５０  情報表示処理部（表示情報生成部）
２６０  出力部
３００  外部記憶装置（記憶部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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