(57)【要約】【課題】生産性良く液滴を吐出する方法を提供する。【解決手段】ノズルから基板に液滴を吐出する吐出方法にかかわり、基板に液滴を吐出するステップＳ６およびステップＳ１０の吐出工程と、ノズルと基板とを所定の方向に相対移動させる移動工程と、を有し、移動工程はノズルと基板との相対速度を減速させるステップＳ９の減速移動工程と、相対速度を加速させるステップＳ４の加速移動工程と、を有し、加速移動工程と減速移動工程との少なくとも一方の工程と吐出工程とが並行して行われる。【選択図】図５
2010188251.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルから基板に液滴を吐出する吐出方法であって、
前記基板に前記液滴を吐出する吐出工程と、
前記ノズルと前記基板とを所定の方向に相対移動させる移動工程と、を有し、
前記移動工程は前記ノズルと前記基板との相対速度を減速させる減速工程と、
前記相対速度を加速させる加速工程と、を有し、
前記加速工程と前記減速工程との少なくとも一方の工程と前記吐出工程とが並行して行われることを特徴とする吐出方法。
【請求項２】
請求項１に記載の吐出方法であって、
前記基板上に前記液滴を吐出する領域である塗布領域を設定し、
前記加速工程と前記減速工程との少なくとも一方の工程と前記吐出工程とが並行して行われるときには、前記塗布領域の外周と離れた中央側の場所に前記液滴を吐出することを特徴とする吐出方法。
【請求項３】
請求項２に記載の吐出方法であって、
前記ノズルから前記液滴を吐出するパターンである描画パターンを演算する描画パターン演算工程を有し、
前記描画パターン演算工程では前記相対速度の情報と前記塗布領域の情報とを用いて前記描画パターンを演算することを特徴とする吐出方法。
【請求項４】
請求項３に記載の吐出方法であって、
前記吐出工程では複数の前記液滴を所定の時間間隔にて前記塗布領域に吐出することを特徴とする吐出方法。
【請求項５】
請求項４に記載の吐出方法であって、
前記減速工程と前記加速工程とには前記相対速度の加速度が一定となる等加速度区間を有し、
前記減速工程と前記加速工程との少なくとも一方の工程と前記吐出工程とが並行して行われるときには、前記等加速度区間において前記吐出工程が行われることを特徴とする吐出方法。
【請求項６】
請求項５に記載の吐出方法であって、
前記塗布領域以外の場所に前記液滴を吐出する模擬吐出工程を有し、
前記減速工程と前記加速工程とには前記相対速度の加速度が変化する非等加速度区間を有し、
前記模擬吐出工程のうち少なくとも一部は前記非等加速度区間に行われることを特徴とする吐出方法。
【請求項７】
ノズルと基板とを相対的に走査して、前記ノズルから液滴を前記基板に吐出する液滴吐出装置であって、
前記ノズルと前記基板とを相対移動させるステージと、
前記ステージの移動と前記液滴の吐出とを制御する制御部と、を有し、
前記制御部は前記ステージが等速移動するときに加えて、加速移動または減速移動するときにも前記液滴を前記基板に吐出する制御を行うことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項８】
請求項７に記載の液滴吐出装置であって、
前記基板には前記液滴を吐出する領域である塗布領域が設定され、
前記塗布領域を検出する検出部を有し、
前記制御部は前記塗布領域の外周と離れた中央側の場所に前記液滴を吐出する制御を行うことを特徴とする液滴吐出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吐出方法および液滴吐出装置にかかわり、特に生産性良く描画する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ワークに対して液滴を吐出する方法として、インクジェット式の液滴吐出装置を用いて吐出する方法が知られている。液滴吐出装置は、基板等のワークを載置してワークを一方向に移動させるテーブルと、テーブルの上方位置において、テーブルの移動方向と直交する方向に配置されるガイドレールに沿って移動するキャリッジとを備えている。キャリッジはインクジェットヘッド（以下、液滴吐出ヘッドと称す）を配置し、ワークに対して液滴を吐出して、塗布していた。
【０００３】
特許文献１において、フィルターエレメント形成領域にインクを吐出する方法が開示されている。これによると、テーブルの主走査が開始され、同時にインクの吐出が開始される。具体的には、インクジェットヘッドに対してテーブルを主走査方向へ一定の速度で直線的に走査移動させる。その移動中、インクを供給すべきフィルターエレメント形成領域と対向する場所にノズルが到達したとき、ノズルからインクすなわちフィルターエレメント材料が吐出される。そして、フィルターエレメント領域にインクが充填されることにより、フィルターエレメントが形成されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−２７３８６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
テーブルを走査するとき、テーブルは往復運動をする。このときテーブルは加速運動、等速運動、減速運動をこの順に行う。そして、進行方向を反転した後、同様の運動を行う。これまでは、等速運動時にのみ液滴を吐出していた。そこで、さらに生産性良く液滴を吐出する方法が望まれていた。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］
本適用例にかかる吐出方法は、ノズルから基板に液滴を吐出する吐出方法であって、前記基板に前記液滴を吐出する吐出工程と、前記ノズルと前記基板とを所定の方向に相対移動させる移動工程と、を有し、前記移動工程は前記ノズルと前記基板との相対速度を減速させる減速工程と、前記相対速度を加速させる加速工程と、を有し、前記加速工程と前記減速工程との少なくとも一方の工程と前記吐出工程とが並行して行われることを特徴とする。
【０００８】
この吐出方法によれば、ノズルと基板とを相対移動するときには、ノズルと基板との相対速度が等速移動、減速移動、加速移動の３つの移動形態が行われる。これらの移動形態における時間の中で等速移動する時間に限って基板に液滴を吐出する方法がある。この方法と比べて、減速移動および加速移動する時間にも基板に液滴を吐出する方法の方が液滴を吐出する時間を長くすることができる。
【０００９】
［適用例２］
上記適用例にかかる吐出方法において、前記基板上に前記液滴を吐出する領域である塗布領域を設定し、前記加速工程と前記減速工程との少なくとも一方の工程と前記吐出工程とが並行して行われるときには、前記塗布領域の外周と離れた中央側の場所に前記液滴を吐出することを特徴とする。
【００１０】
この吐出方法によれば、塗布領域の外周と離れた中央側の場所に吐出している。ノズルの状態によっては吐出された液滴の着弾位置が目標とする位置から離れる場合がある。そして、塗布領域の外周と離れた中央側の場所に吐出する方が塗布領域の端に吐出する場合に比べて、塗布領域内に着弾する確率を高くすることができる。
【００１１】
［適用例３］
上記適用例にかかる吐出方法において、前記ノズルから前記液滴を吐出するパターンである描画パターンを演算する描画パターン演算工程を有し、前記描画パターン演算工程では前記相対速度の情報と前記塗布領域の情報とを用いて前記描画パターンを演算することを特徴とする。
【００１２】
この吐出方法によれば、描画パターン演算工程において描画パターンを演算している。そして、相対速度の情報と塗布領域の情報と用いている為、相対速度が変化するときにも塗布領域の所望の場所に液滴が着弾する描画パターンを演算することができる。
【００１３】
［適用例４］
上記適用例にかかる吐出方法において、前記吐出工程では複数の前記液滴を所定の時間間隔にて前記塗布領域に吐出することを特徴とする。
【００１４】
この吐出方法によれば、吐出工程において塗布領域に複数の液滴が着弾するように吐出している。液滴を吐出するとき、吐出する時間間隔が変動する場合にくらべて時間間隔が変動しない場合の方が吐出する液滴の大きさが変動し難い傾向がある。そして、吐出する時間間隔を所定の時間間隔に固定して吐出することにより時間間隔が変動しないようにしている。従って、吐出する液滴の大きさを変動し難くすることができる。
【００１５】
［適用例５］
上記適用例にかかる吐出方法において、前記減速工程と前記加速工程とには前記相対速度の加速度が一定となる等加速度区間を有し、前記減速工程と前記加速工程との少なくとも一方の工程と前記吐出工程とが並行して行われるときには、前記等加速度区間において前記吐出工程が行われることを特徴とする。
【００１６】
この吐出方法によれば、等加速度区間において液滴が吐出される。等加速度区間では速度が経過時間に比例して増加または減少する。従って、速度の変化が推測し易いので、ノズルと基板との相対位置が推測し易くなっている。その結果、加速度が一定でない区間で吐出する場合に比べて等加速度区間にて吐出する方が着弾位置を制御し易くすることができる。
【００１７】
［適用例６］
上記適用例にかかる吐出方法において、前記塗布領域以外の場所に前記液滴を吐出する模擬吐出工程を有し、前記減速工程と前記加速工程とには前記相対速度の加速度が変化する非等加速度区間を有し、前記模擬吐出工程のうち少なくとも一部は前記非等加速度区間に行われることを特徴とする。
【００１８】
この吐出方法によれば、模擬吐出工程において液滴を吐出することによりノズルから品質良く液滴を吐出可能にしている。そして、非等加速度区間において模擬吐出工程が行われる。従って、非等加速度区間において模擬吐出工程を行わないときに比べて生産性良く模擬吐出工程を行うことができる。
【００１９】
［適用例７］
本適用例にかかる液滴吐出装置は、ノズルと基板とを相対的に走査して、前記ノズルから液滴を前記基板に吐出する液滴吐出装置であって、前記ノズルと前記基板とを相対移動させるステージと、前記ステージの移動と前記液滴の吐出とを制御する制御部と、を有し、前記制御部は前記ステージが等速移動するときに加えて、加速移動または減速移動するときにも前記液滴を前記基板に吐出する制御を行うことを特徴とする。
【００２０】
この液滴吐出装置によれば、ステージがノズルと基板とを相対移動させることにより、ノズルと基板とが相対的に走査している。このとき、ステージは加速移動、等速移動、減速移動を繰り返すことにより走査する。そして、制御部がステージの移動と液滴の吐出とを制御することにより、ノズルは基板の所定の場所に液滴を吐出する。そして、ステージが等速移動する時間に限って基板に液滴を吐出する方法と比べて、減速移動および加速移動する時間にも基板に液滴を吐出する方が生産性良く液滴を吐出することができる。
【００２１】
［適用例８］
上記適用例にかかる液滴吐出装置において、前記基板には前記液滴を吐出する領域である塗布領域が設定され、前記塗布領域を検出する検出部を有し、前記制御部は前記塗布領域の外周と離れた中央側の場所に前記液滴を吐出する制御を行うことを特徴とする。
【００２２】
この液滴吐出装置によれば、検出部が塗布領域を検出する。そして、ノズルから塗布領域の外周と離れた中央側の場所に液滴を吐出している。ノズルの状態によっては吐出された液滴の着弾位置が目標とする位置から離れる場合がある。そして、塗布領域の外周と離れた中央側の場所に吐出する方が塗布領域の端に吐出する場合に比べて、塗布領域内に着弾する確率を高くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】（ａ）は、カラーフィルターを示す模式平面図、（ｂ）は、カラーフィルターの模式断面図。
【図２】液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図。
【図３】（ａ）は、キャリッジを示す模式平面図、（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの構造を示す要部模式断面図。
【図４】液滴吐出装置の電気制御ブロック図。
【図５】カラーフィルターを製造する製造工程を示すフローチャート。
【図６】カラーフィルターの製造方法を説明するための模式図。
【図７】カラーフィルターの製造方法を説明するための模式図。
【図８】カラーフィルターの製造方法を説明するための模式図。
【図９】カラーフィルターの製造方法を説明するための模式図。
【図１０】カラーフィルターの製造方法を説明するための模式図。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、具体化した実施形態について図面に従って説明する。尚、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせて図示している。
【００２５】
（実施形態）
本実施形態における特徴的な液滴吐出装置とこの液滴吐出装置を用いて液滴を吐出してカラーフィルターを製造する方法との特徴的な例について図１〜図１０に従って説明する。液滴吐出装置に関しては様々な種類の装置があるが、インクジェット法を用いた装置が好ましい。インクジェット法は微小液滴の吐出が可能であるため、微細加工に適している。
【００２６】
（カラーフィルター）
最初に、カラーフィルター１について図１を用いて説明する。図１（ａ）は、カラーフィルターを示す模式平面図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）のカラーフィルターのＡ−Ａ’線に沿う模式断面図である。カラーフィルター１は液晶テレビ等の表示装置に用いられる。そして、画像信号に応じた輝度分布をもつ白色光をカラーフィルター１に通過させることにより、カラー画像が形成される。図１に示すように、カラーフィルター１は基板２を備えている。この基板２は光透過性があり、張力に対して破れ難い強度があればよく、ガラス板、プラスチック板、プラスチックシート等を用いることができる。本実施形態においては、例えば、ガラス板を採用している。基板２の上面には着色素子３が縦横並んで配列して形成されている。そして、着色素子３は赤、青、緑色の着色素子３により構成され、各色の着色素子３が列毎に配列して配置されている。図１（ａ）において、上から赤色素子列３ａ、青色素子列３ｂ、緑色素子列３ｃの順に着色素子３が配列して配置されている。そして、図中の上から下へ、この順番を繰り返してストライプ状に配置されている。
【００２７】
着色素子３は格子状に形成された隔壁４を備え、隔壁４は着色された樹脂材料によって形成され光が透過しないようになっている。隔壁４によって矩形に仕切られた場所には赤色着色膜５ａ、青色着色膜５ｂ、緑色着色膜５ｃ等の色要素としての着色膜５が形成されている。赤色素子列３ａの着色素子３には赤色着色膜５ａが形成され、青色素子列３ｂ、緑色素子列３ｃにはそれぞれ青色着色膜５ｂ、緑色着色膜５ｃが形成されている。
【００２８】
隔壁４は断面形状が略台形に形成され、隔壁上面４ａは平坦に形成されている。隔壁側面４ｂは傾斜をつけて形成された斜面になっている。隔壁側面４ｂにより矩形に囲まれた基板２上の面は平坦に形成され、この面を隔壁底面６と称す。そして、隔壁４によって矩形に区画された隔壁側面４ｂ及び隔壁底面６からなる領域を塗布領域７と称し、塗布領域７に着色膜５が配置されることにより着色素子３が形成される。
【００２９】
着色膜５は、着色膜５の材料を溶解もしくは分散した機能液を塗布領域７に塗布して形成されている。そして、塗布領域７及び隔壁上面４ａにはこの機能液に対して親液性を有する場所と撥液性を有する場所とが形成されている。具体的には、隔壁底面６と隔壁側面４ｂとには機能液に対する親液性が高い親液面が形成されており、例えば、接触角が２０度以下に形成されている。そして、隔壁上面４ａでは機能液に対する撥液性が高い撥液面が形成されており、例えば、接触角が５０度以上に形成されている。
【００３０】
図１（ａ）の図中上側には基板２上に位置検出マーク８が２つ配置されている。そして、位置検出マーク８に対して設定された場所に隔壁４および着色素子３が配置されている。
【００３１】
（液滴吐出装置）
図２は、液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図である。液滴吐出装置１１により、膜を構成する材料を含む機能液が吐出されて塗布される。図２に示すように、液滴吐出装置１１は、直方体形状に形成される基台１２が備えている。本実施形態では、この基台１２の長手方向をＹ方向とし、水平面内にてＹ方向と直交する方向をＸ方向とする。そして、鉛直方向をＺ方向とする。
【００３２】
基台１２の上面１２ａには、Ｙ方向に延びる一対の案内レール１３ａ，１３ｂが同Ｙ方向全幅にわたり凸設されている。その基台１２の上側には、一対の案内レール１３ａ，１３ｂに対応する図示しない直動機構を備えたステージ１４が取付けられている。この直動機構の種類は、特に限定されないが、サーボモーターとボールネジとを組み合わせて構成することができる。他にも、リニアモーターを採用しても良い。
【００３３】
さらに、基台１２の上面１２ａには、案内レール１３ａ，１３ｂと平行に主走査位置検出装置１５が配置され、ステージ１４の位置が計測できるようになっている。そのステージ１４の上面には、載置面１６が形成され、その載置面１６には、図示しない吸引式の基板チャック機構が設けられている。操作者が載置面１６に基板２を載置して所定の位置に位置決めする。その後、基板チャック機構により基板２は載置面１６に固定される。
【００３４】
載置面１６上であって基板２のＹ方向両側には模擬吐出液受装置１７が配置されている。液滴吐出装置１１が基板２以外の場所に液滴を吐出するとき、模擬吐出液受装置１７は吐出された液滴を受ける場所になっている。模擬吐出液受装置１７は多孔質の液吸収部材を備えている。そして、着弾した液滴が液吸収部材に吸収されることにより、液滴が跳ね難くなっている。一対の模擬吐出液受装置１７の間の距離は基板２のＹ方向の長さより少し短く形成されている。そして、基板２を載置面１６上に載置するとき、基板２のＹ方向の両端が模擬吐出液受装置１７と対向する場所に位置するように基板２が配置される。
【００３５】
基台１２のＸ方向両側には、一対の支持台１８ａ，１８ｂが立設されている。その一対の支持台１８ａ，１８ｂには、Ｘ方向に延びる架橋部材１９および案内部材２１が架設されている。架橋部材１９には一対の撮像装置２０が配置されている。そして、載置面１６に基板２が載置されるときに撮像装置２０は基板２の位置検出マーク８を撮像することが可能になっている。撮像装置２０は落射照明装置とオートフォーカス装置とを備えている。従って、撮像装置２０は位置検出マーク８を鮮明に撮像することが可能になっている。
【００３６】
案内部材２１は、その長手方向の幅がステージ１４のＸ方向よりも長く形成され、その一端が支持台１８ａ側に張り出すように配置されている。案内部材２１の上側には、吐出する液体を供給可能に収容する収容タンク２２が配設されている。一方、その案内部材２１の下側には、Ｘ方向に延びる案内レール２３がＸ方向全幅にわたり凸設されている。そして、案内レール２３に沿って略直方体形状に形成されたキャリッジ２４が配置されている。キャリッジ２４は直動機構を備え、Ｘ方向に走査可能となっている。この直動機構の種類は、特に限定されないが、例えば、リニアモーターを採用することができる。キャリッジ２４が走査するＸ方向を副走査方向とする。案内部材２１とキャリッジ２４との間には、副走査位置検出装置２５が配置され、キャリッジ２４の位置が計測できるようになっている。そして、キャリッジ２４のステージ１４側に位置する下面２４ａには、液滴吐出ヘッド２６が凸設されている。
【００３７】
基台１２の図中左側の側面であって案内部材２１と対向する場所には保守装置２７が配置されている。この保守装置２７には液滴吐出ヘッド２６をクリーニングする機構が配置されている。そして、保守装置２７が液滴吐出ヘッド２６をクリーニングすることにより、液滴吐出ヘッド２６を正常に吐出可能な状態に保つことが可能になっている。
【００３８】
図３（ａ）は、キャリッジを示す模式平面図である。図３（ａ）に示すようにキャリッジ２４には９個の液滴吐出ヘッド２６が配置され、液滴吐出ヘッド２６の下面には、それぞれノズルプレート２８が備えられている。そのノズルプレート２８には、それぞれ複数のノズル２９がＸ方向に所定の間隔で配列されている。
【００３９】
図３（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの構造を示す要部模式断面図である。図３（ｂ）に示すように、ノズルプレート２８の上側であってノズル２９と相対する位置には、キャビティ３０が形成されている。そして、キャビティ３０には収容タンク２２に貯留されている液状体としての機能液３１が供給される。キャビティ３０の上側には、上下方向に振動して、キャビティ３０内の容積を拡大縮小する振動板３２と、上下方向に伸縮して振動板３２を振動させる圧電素子３３が配設されている。
【００４０】
液滴吐出ヘッド２６が圧電素子３３を制御駆動するためのノズル駆動信号を受けると、圧電素子３３が上下方向に伸縮する。そして、圧電素子３３は振動板３２を振動させるので、振動板３２と隣接するキャビティ３０の容積が拡大縮小する。それにより、キャビティ３０内に供給された機能液３１のうち縮小した容積分の機能液３１がノズル２９を通り、液滴３４となって吐出される。液滴吐出装置１１はステージ１４とキャリッジ２４とを走査する。そして、ノズル２９が所定の場所に位置するときに液滴３４を吐出することにより、所望のパターンを描画することができる。
【００４１】
図４は、液滴吐出装置の電気制御ブロック図である。図４において、液滴吐出装置１１は液滴吐出装置１１の動作を制御する制御部としての制御装置３７を備えている。そして、制御装置３７はプロセッサーとして各種の演算処理を行うＣＰＵ（中央演算処理装置）３８と、各種情報を記憶するメモリー３９とを備えている。
【００４２】
主走査駆動装置４０、主走査位置検出装置１５、副走査駆動装置４１、副走査位置検出装置２５、液滴吐出ヘッド２６を駆動するヘッド駆動回路４２は、入出力インターフェース４３及びデータバス４４を介してＣＰＵ３８に接続されている。さらに、撮像装置２０、入力装置４５、表示装置４６、保守装置２７も入出力インターフェース４３及びデータバス４４を介してＣＰＵ３８に接続されている。
【００４３】
主走査駆動装置４０はステージ１４の移動と停止とを制御する装置であり、副走査駆動装置４１はキャリッジ２４の移動と停止とを制御する装置である。主走査位置検出装置１５がステージ１４の位置を認識し、主走査駆動装置４０がステージ１４の移動を制御することにより、ステージ１４を所望の位置に移動及び停止することが可能になっている。同じく、副走査位置検出装置２５がキャリッジ２４の位置を認識し、副走査駆動装置４１がキャリッジ２４の移動を制御することにより、キャリッジ２４を所望の位置に移動及び停止することが可能となっている。
【００４４】
撮像装置２０はＣＰＵ３８の指示により位置検出マーク８を撮像する。そして、撮像した画像データを制御装置３７に出力する。入力装置４５は液滴３４を吐出する各種加工条件を入力する装置であり、例えば、基板２に液滴３４を吐出する座標を図示しない外部装置から受信し、入力する装置である。表示装置４６は加工条件や作業状況を表示する装置であり、表示装置４６に表示される情報を基に、操作者は入力装置４５を用いて操作を行う。保守装置２７はＣＰＵ３８の指示信号に従って液滴吐出ヘッド２６の保守を行う。ＣＰＵ３８はキャリッジ２４を保守装置２７と対向する場所に移動させた後、保守装置２７に保守の指示信号を出力する。
【００４５】
メモリー３９は、ＲＡＭ、ＲＯＭ等といった半導体メモリーや、ハードディスク、ＤＶＤ−ＲＯＭといった外部記憶装置を含む概念である。機能的には、液滴吐出装置１１の動作の制御手順が記述されたプログラムソフト４７を記憶する記憶領域や、基板２上に吐出する液滴３４の着弾位置の座標データである吐出位置データ４８を記憶するための記憶領域が設定される。他にも、液滴吐出ヘッド２６を駆動するときの駆動信号である駆動信号データ４９を記憶するための記憶領域や、ステージ１４の移動速度を設定したデータであるステージ速度データ５０の記憶領域が設定される。他にも、ＣＰＵ３８のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機能する記憶領域やその他各種の記憶領域が設定される。
【００４６】
ＣＰＵ３８は、メモリー３９内に記憶されたプログラムソフト４７に従って、基板２の表面の所定位置に液滴３４を吐出するための制御を行うものである。具体的な機能実現部として液滴吐出ヘッド２６から液滴３４を吐出するための演算を行う吐出演算部５１を有する。
【００４７】
吐出演算部５１を詳しく分割すれば、基板２を主走査方向へ所定の速度で走査移動させるための制御を演算する主走査制御部５２と、キャリッジ２４を副走査方向へ所定の副走査量で移動させるための制御を演算する副走査制御部５３を有する。さらに、吐出演算部５１は液滴吐出ヘッド２６内の複数あるノズル２９から液滴３４を吐出させるノズル２９を選択する吐出制御部５４等を有する。吐出制御部５４は選択したノズル２９に対応する圧電素子３３を作動させて液滴３４を吐出させる。
【００４８】
他にも、ＣＰＵ３８は基板位置演算部５５を有する。基板位置演算部５５は撮像装置２０が撮像した位置検出マーク８の画像データを用いて載置面１６における基板２の位置を演算する。そして、主走査位置検出装置１５、主走査制御部５２、基板位置演算部５５等により塗布領域７の位置を検出する検出部が構成されている。他にも、ＣＰＵ３８はビットマップ演算部５６を有する。ビットマップは基板２上に着弾する液滴３４の位置データを示す。そして、ビットマップ演算部５６は載置面１６における基板２の位置とステージ１４の移動速度のデータをもちいてビットマップの演算を行う。他にも、ＣＰＵ３８は保守装置２７を制御する保守装置制御部５７を有する。
【００４９】
尚、本実施形態では、上記の各機能がＣＰＵ３８を用いてプログラムソフトで実現することとしたが、上記の各機能がＣＰＵを用いない単独の電子回路（ハードウェア）によって実現できる場合には、そのような電子回路を用いることも可能である。
【００５０】
（カラーフィルターの製造方法）
次に、上述した液滴吐出装置１１を用いて、カラーフィルター１を製造する方法について図５〜図１０にて説明する。図５は、カラーフィルターを製造する製造工程を示すフローチャートである。図６〜図１０は、カラーフィルターの製造方法を説明するための模式図である。
【００５１】
図５に示したフローチャートにおいて、ステップＳ１は、描画パターン演算工程に相当し、基板上に描画する描画パターンを演算する工程である。基板の速度情報と塗布領域の情報とを用いて描画パターンを演算することにより、基板の移動速度の変化に対応した描画パターンを演算する。次にステップＳ２に移行する。ステップＳ２は、給材工程に相当し、ステージ上の載置面に基板を載置する工程である。次にステップＳ３に移行する。ステップＳ３は、模擬吐出工程に相当し、ノズルから模擬吐出液受装置に液滴を吐出する工程である。次にステップＳ４およびステップＳ５に移行する。ステップＳ４とステップＳ５およびステップＳ６とは並行して行われる。ステップＳ４は、加速移動工程に相当し、ステージが加速しながら移動する工程である。次にステップＳ７およびステップＳ８に移行する。ステップＳ５は、模擬吐出工程に相当し、ノズルから液滴を模擬吐出液受装置に吐出する工程である。次にステップＳ６に移行する。
【００５２】
ステップＳ６は、吐出工程に相当し、ノズルから液滴を基板上の塗布領域に吐出する工程である。次にステップＳ７およびステップＳ８に移行する。ステップＳ７とステップＳ８とは並行して行われる。ステップＳ７は、等速移動工程に相当し、ステージが等速で移動する工程である。次にステップＳ９およびステップＳ１０に移行する。ステップＳ８は、吐出工程に相当し、ノズルから液滴を基板上の塗布領域に吐出する工程である。次にステップＳ９およびステップＳ１０に移行する。
【００５３】
ステップＳ９とステップＳ１０およびステップＳ１１とは並行して行われる。ステップＳ９は、減速移動工程に相当し、ステージが減速しながら移動する工程である。次にステップＳ１２に移行する。ステップＳ１０は、吐出工程に相当し、ノズルから液滴を基板上の塗布領域に吐出する工程である。次にステップＳ１１に移行する。ステップＳ１１は、模擬吐出工程に相当し、ノズルから液滴を模擬吐出液受装置に吐出する工程である。次にステップＳ１２に移行する。ステップＳ４、ステップＳ７、ステップＳ９がステップＳ２１の移動工程であり、ステージを移動する工程となっている。
【００５４】
ステップＳ１２は、終了判断工程に相当し、基板上で予定した総ての場所に機能液を塗布したか否かを判断する工程である。未塗布の場所があるときにはステップＳ１３およびステップＳ１４に移行する。予定した場所は総て塗布したときステップＳ１５に移行する。ステップＳ１３は、方向変更工程に相当し、ステージの移動方向を変更する工程である。次にステップＳ３に移行する。ステップＳ１４は、模擬吐出工程に相当し、ノズルから液滴を模擬吐出液受装置に吐出する工程である。次にステップＳ３に移行する。ステップＳ１３とステップＳ１４とは並行して行われる。ステップＳ３からステップＳ１２までがステップＳ２２の塗布工程となっている。
【００５５】
ステップＳ１５は、除材工程に相当し、液滴吐出装置から次の工程を行う場所へ基板を移動する工程である。次にステップＳ１６に移行する。ステップＳ１６は、固化工程に相当し、基板上に塗布した機能液を固化する工程である。以上の工程によりカラーフィルターの製造工程を終了する。
【００５６】
次に、図６〜図１０を用いて、図５に示したステップと対応させて、カラーフィルターの製造方法を詳細に説明する。図６はステップＳ１の描画パターン演算工程に対応する図である。図６（ａ）はステージ１４を低速に移動するときの例を示し、図６（ｂ）はステージ１４を高速に移動するときの例を示している。図６（ａ）において、描画パターンとしての低速描画パターン６０には低速時塗布領域パターン６１が設定されている。低速時塗布領域パターン６１は塗布領域７に対応する領域のパターンである。そして、低速時塗布領域パターン６１には２０個の着弾位置６２が設定されている。着弾位置６２はＸ方向に５個並んだ配列がＹ方向に４列配置されている。この配列の間隔を低速時配列間隔６３とする。そして、低速時塗布領域パターン６１のＹ方向の辺６１ａと配列との距離を低速時初列距離６４とする。
【００５７】
着弾位置６２は低速時塗布領域パターン６１の外周と離れた中央側の場所に配置されている。従って、この低速描画パターン６０を用いて描画することにより、塗布領域７の外周と離れた中央側の場所に液滴３４を着弾させることができる。
【００５８】
同様に、図６（ｂ）において、描画パターンとしての高速描画パターン６５には高速時塗布領域パターン６６が設定されている。高速時塗布領域パターン６６も塗布領域７に対応する領域のパターンである。そして、高速時塗布領域パターン６６にも２０個の着弾位置６２が設定されている。着弾位置６２はＸ方向に５個並んだ配列がＹ方向に４列配置されている。この配列の間隔を高速時配列間隔６７とする。そして、高速時塗布領域パターン６６のＹ方向の辺６６ａと配列との距離を高速時初列距離６８とする。
【００５９】
この場合にも、着弾位置６２は高速時塗布領域パターン６６の外周と離れた中央側の場所に配置されている。従って、この高速描画パターン６５を用いて描画することにより、塗布領域７の外周と離れた中央側の場所に液滴３４を着弾させることができる。
【００６０】
低速時塗布領域パターン６１のＹ方向の長さを低速時長さ６１ｂとし、高速時塗布領域パターン６６のＹ方向の長さを高速時長さ６６ｂとする。このとき、高速時長さ６６ｂは低速時長さ６１ｂより長く設定されている。同様に、高速時初列距離６８は低速時初列距離６４より長く設定され、高速時配列間隔６７は低速時配列間隔６３より長く設定されている。
【００６１】
そして、低速描画パターン６０を描画するときにステージ１４がＹ方向に移動する速度は、高速描画パターン６５を描画するときにステージ１４がＹ方向に移動する速度より遅くなる。このとき、ステージ１４が低速時長さ６１ｂの長さを移動する時間と、ステージ１４が高速時長さ６６ｂを移動する時間とが同じになるように設定されている。そして、ステージ１４の移動速度を変えて低速描画パターン６０と高速描画パターン６５とを描画するとき、同じパターンが描画されるようになっている。従って、ステージ１４が低速時配列間隔６３の長さを移動する時間と、ステージ１４が高速時配列間隔６７の長さを移動する時間とが同じになるように設定されている。
【００６２】
そして、低速描画パターン６０では着弾位置６２の配列が低速時塗布領域パターン６１の外周と離れた中央側の場所に位置するように低速時初列距離６４が設定される。同様に、高速描画パターン６５では着弾位置６２の配列が高速時塗布領域パターン６６の外周と離れた中央側の場所に位置するように高速時初列距離６８が設定される。ここでは、低速描画パターン６０と高速描画パターン６５との２つの例を紹介したが、このパターンは２つに限らずステージ１４の速度に対応して設定される。
【００６３】
図７（ａ）はステップＳ２の給材工程に対応する図である。図７（ａ）に示すように、ステップＳ２においてステージ１４の載置面１６上に基板２を載置する。このとき、基板２を一対の模擬吐出液受装置１７の間に載置する。そして、基板２のＹ方向両端が模擬吐出液受装置１７と対向する場所に位置するように基板２を載置する。基板２には予め隔壁４が形成されている。そして、隔壁底面６は機能液３１に対して親液処理が施され、隔壁上面４ａには機能液３１に対して撥液処理が施されている。隔壁４は公知の製造方法を用いて製造可能であり、説明を省略する。
【００６４】
図７（ｂ）はステップＳ３およびステップＳ５の模擬吐出工程およびステップＳ４の加速移動工程に対応する図である。図７（ｂ）に示すように、ステップＳ３において液滴吐出ヘッド２６のノズル２９から模擬吐出液受装置１７に液滴３４を吐出する。基板２に液滴３４を吐出する前に、ノズル２９から液滴３４を吐出することにより液滴吐出ヘッド２６の吐出を安定して品質良く吐出できるようになる。
【００６５】
次にステップＳ４において主走査制御部５２はステージ１４を図中左側へ加速しながら移動させる。このとき、ステップＳ４とステップＳ５とが並行して行われる。ステップＳ５は液滴吐出ヘッド２６のノズル２９から模擬吐出液受装置１７に液滴３４を吐出する工程である。そして、主走査制御部５２がステージ１４を加速移動させながら、吐出制御部５４がノズル２９から模擬吐出液受装置１７に液滴３４を吐出させる。
【００６６】
図７（ｃ）はステップＳ４の加速移動工程およびステップＳ６の吐出工程に対応する図である。図７（ｃ）に示すように、液滴吐出ヘッド２６と対向する場所が模擬吐出液受装置１７から基板２に移動する。そして、ステップＳ６においてノズル２９から基板２に液滴３４が吐出される。このとき、ステップＳ４が並行して行われるのでステージ１４は加速しながら移動する。そして、吐出する予定の場所と対向する場所にノズル２９が位置するときにノズル２９から基板２に向かって液滴３４が吐出される。
【００６７】
図７（ｄ）はステップＳ７の等速移動工程およびステップＳ８の吐出工程に対応する図である。図７（ｄ）に示すように、ステップＳ８ではステップＳ６と同様にノズル２９から基板２に液滴３４が吐出される。このとき、ステップＳ７が並行して行われるのでステージ１４は所定の速度を保ちつつ移動する。そして、吐出する予定の場所と対向する場所にノズル２９が位置するときにノズル２９から基板２に向かって液滴３４が吐出される。
【００６８】
図７（ｅ）はステップＳ９の減速移動工程およびステップＳ１０の吐出工程に対応する図である。図７（ｅ）に示すように、液滴吐出ヘッド２６と対向する場所が基板２の端に接近する。そして、ステップＳ１０においてステップＳ６と同様にノズル２９から基板２に液滴３４が吐出される。このとき、ステップＳ９が並行して行われるのでステージ１４は減速しながら移動する。そして、吐出する予定の場所と対向する場所にノズル２９が位置するときにノズル２９から基板２に向かって液滴３４が吐出される。
【００６９】
図７（ｆ）はステップＳ１１およびステップＳ１４の模擬吐出工程、ステップＳ９の減速移動工程、ステップＳ１３の方向変更工程に対応する図である。図７（ｆ）に示すように、ステップＳ９において主走査制御部５２はステージ１４を図中左側へ減速しながら移動させる。そして、液滴吐出ヘッド２６と対向する場所が基板２と対向する場所から模擬吐出液受装置１７と対向する場所に移動する。このとき、ステップＳ９とステップＳ１１とが並行して行われる。ステップＳ１１は液滴吐出ヘッド２６のノズル２９から模擬吐出液受装置１７に液滴３４を吐出する工程である。そして、主走査制御部５２がステージ１４を減速移動させながら、吐出制御部５４がノズル２９から模擬吐出液受装置１７に液滴３４を吐出させる。
【００７０】
ステップＳ１２の終了判断工程において、基板２上に未塗布の場所があると判断するとき、ステップＳ１３の方向変更工程に移行する。そして、主走査制御部５２はステージ１４の移動方向を変更する。このとき、ステップＳ１３とステップＳ１４とが並行して行われる。ステップＳ１４は液滴吐出ヘッド２６のノズル２９から模擬吐出液受装置１７に液滴３４を吐出する工程である。そして、主走査制御部５２がステージ１４の移動方向を変更する間も、ノズル２９から模擬吐出液受装置１７に液滴３４を吐出する。
【００７１】
次に、各ステップにおけるステージ１４の動作を説明する。図８はテーブルの加速度、速度、位置の推移を示すタイムチャートである。横軸は時間の推移を示す。縦軸には、３つの要素が配置されている。図中上側から順にテーブル加速度、テーブル速度、テーブル位置が配置されている。図中上段のテーブル加速度はステージ１４の加速度を示している。そして、加速度推移線７０は、ステージ１４の移動加速度を示している。縦軸のテーブル加速度は横軸と交差する場所が零点である。横軸の上側ではステージ１４のＹ方向に加速度が加わり、横軸の下側ではステージ１４のＹ方向と逆の方向に加速度が加わっていることを示す。そして、横軸から図中上下方向に離れるに従い大きな加速度が加わっていることを示す。加速度推移線７０において加速度が所定の値を維持している区間を等加速度区間７０ａとし、加速度が変化している区間を非等加速度区間７０ｂとする。
【００７２】
図中中段のテーブル速度はステージ１４の速度を示している。そして、速度推移線７１は、ステージ１４の移動速度を示している。縦軸のテーブル速度は横軸と交差する場所が零点である。横軸の上側はステージ１４がＹ方向に移動する速度を示し、横軸の下側はステージ１４がＹ方向と逆の方向に移動する速度を示す。そして、横軸から離れるに従い大きな速度になっていることを示す。
【００７３】
図中下段のテーブル位置はステージ１４のＹ方向の位置を示している。そして、位置推移線７２は、ステージ１４が位置する場所の推移を示している。縦軸のテーブル位置において横軸と交差する場所が零点であり、ステージ１４が移動する範囲内で最もＹ方向と逆の方向に位置するときの場所を示している。そして、縦軸の上側は下側よりステージ１４がＹ方向に位置することを示している。
【００７４】
ステップＳ３の模擬吐出工程において、ステージ１４はＹ方向と逆の方向の場所に位置し、停止している。そして、ノズル２９から液滴３４を模擬吐出液受装置１７に吐出する。次に、ステップＳ４の加速移動工程とステップＳ５の模擬吐出工程とが並行して行われる。このとき、ステップＳ４には非等加速度区間７０ｂと等加速度区間７０ａが含まれる。つまり、ステージ１４の加速度を増加させながらステージ１４を移動し、加速度推移線７０が等加速度区間７０ａに移行する。そして、ステップＳ５には、非等加速度区間７０ｂと等加速度区間７０ａの一部が含まれる。液滴吐出装置１１はステージ１４をＹ方向に進行しながら、ノズル２９から液滴３４を模擬吐出液受装置１７に吐出する。ステップＳ３とステップＳ４とにおいてステージ１４が移動する区間が模擬吐出区間７２ａとなっている。
【００７５】
次に、ステップＳ４の加速移動工程とステップＳ６の吐出工程とが並行して行われる。このとき、加速度推移線７０は等加速度区間７０ａとなっている。つまり、ステージ１４の加速度を一定に維持させながらステージ１４を移動している。従って、速度推移線７１は直線状に増加する。そして、位置推移線７２は２次曲線状となる。このとき、ノズル２９から液滴３４を基板２に吐出する。
【００７６】
次に、ステップＳ７の等速移動工程とステップＳ８の吐出工程とが並行して行われる。このとき、加速度推移線７０は等加速度区間７０ａにあり、テーブル加速度が零に維持させている。つまり、ステージ１４の加速度を零に維持させながらステージ１４を移動している。従って、速度推移線７１は等速度に維持される。このとき、ノズル２９から液滴３４を基板２に吐出する。
【００７７】
次に、ステップＳ９の減速移動工程とステップＳ１０の吐出工程とが並行して行われる。このとき、加速度推移線７０は等加速度区間７０ａとなっている。つまり、ステージ１４の加速度を一定に維持させながらステージ１４を移動している。そして、加速方向はステップＳ４にて加速した方向と逆の方向としている。従って、速度推移線７１は直線状に減速する。そして、位置推移線７２は２次曲線状となる。このとき、ノズル２９から液滴３４を基板２に吐出する。ステップＳ６、ステップＳ８、ステップＳ１０の間にステージ１４が移動する区間が吐出区間７２ｂとなっている。
【００７８】
次に、ステップＳ９の減速移動工程とステップＳ１１の模擬吐出工程とが並行して行われる。このとき、加速度推移線７０には等加速度区間７０ａと非等加速度区間７０ｂとが含まれる。つまり、一定の加速度にてステージ１４を減速した後、加速度を減少させる。このときには、ノズル２９から液滴３４を模擬吐出液受装置１７に吐出する。
【００７９】
次に、ステップＳ１３の方向変更工程とステップＳ１４の模擬吐出工程とが並行して行われる。このとき、ステージ１４はＹ方向の場所に位置し、停止している。そして、ノズル２９から液滴３４を模擬吐出液受装置１７に吐出する。ステップＳ１１とステップＳ１４とにおいてステージ１４が移動する区間が模擬吐出区間７２ａとなっている。
【００８０】
ステップＳ１３においてステージ１４の進行方向をＹ方向と逆の方向に変える。そして、ステップＳ４〜ステップＳ１１までを同様の方法にて行う。そして、ステージ１４の走査駆動が行われる。
【００８１】
ステップＳ５において加速度推移線７０が増加するときおよびステップＳ１１において加速度推移線７０が減少する非等加速度区間７０ｂではノズル２９から液滴３４を模擬吐出液受装置１７に吐出する。一方、ステップＳ６、ステップＳ８、ステップＳ１０において加速度推移線７０が所定の値を維持する等加速度区間７０ａではノズル２９から液滴３４を基板２に吐出する。
【００８２】
次に、塗布領域７に液滴３４を吐出する位置と吐出タイミングを説明する。図９は、着弾位置と吐出タイミングを説明するための模式図である。図９（ａ）は、液滴の着弾位置を示す図である。図９（ａ）において、１つの塗布領域７に２０滴の液滴３４が着弾している。そして、液滴３４の着弾位置はＹ方向に第１着弾列７３から第４着弾列７６までの４列が配置される。ステージ１４が移動することにより、塗布領域７がＹ方向に移動する。そして、第１着弾列７３から第４着弾列７６まで順に液滴３４が着弾する。このとき、塗布領域７のＹ方向側の第１辺７ａと第１着弾列７３の中心との距離を第１距離７３ａとする。そして、塗布領域７のＹ方向と逆側の第２辺７ｂと第４着弾列７６の中心との距離を第２距離７６ａとする。このとき、第１距離７３ａと第２距離７６ａとが略同じ距離になるように設定される。つまり、液滴３４の着弾位置は塗布領域７の外周と離れた中央側の場所に配列して配置される。ステージ１４がＹ方向と逆の方向に移動するときにも同様に液滴３４が吐出される。尚、Ｘ方向においても液滴３４の着弾位置は塗布領域７の外周と離れた中央側の場所に配列して配置される。従って、塗布領域７の周囲に近い場所には着弾し難い配置となっている。
【００８３】
撮像装置２０が位置検出マーク８を撮像して、基板位置演算部５５がステージ１４に対する基板２の位置を検出する。そして、主走査位置検出装置１５がステージ１４の位置を検出して主走査制御部５２に出力する。従って、主走査制御部５２は基板２の主走査方向の位置を検出することができる。次に、ビットマップ演算部５６が演算した吐出位置データ４８と基板２の位置情報とを用いて主走査制御部５２は塗布領域７の位置を検出する。つまり、検出部が塗布領域７の位置を検出する。そして、吐出制御部５４が吐出位置データ４８を用いて吐出することにより、塗布領域７の外周と離れた中央側の場所に液滴３４を配列して吐出する吐出制御をすることができる。
【００８４】
塗布領域７の外周と液滴３４の着弾位置の中心との距離は液滴３４の直径以上の距離に離れるように設定するのが望ましい。さらに、塗布領域７の外周と液滴３４の着弾位置の中心との距離は着弾後の液滴３４の直径に対して１．５倍以上の距離に離れるように設定する方が好ましく、液滴３４の直径に対して２倍以上の距離に離れるように設定するのがさらに好ましい。
【００８５】
次に、ステージ１４がＹ方向に移動するときの一例を用いて液滴の吐出タイミングを説明する。図９（ｂ）は、液滴の吐出タイミングを示すタイムチャートである。図９（ｂ）において、横軸は時間の推移を示す。縦軸は電圧を示し、図中上側が下側より高い電圧となっている。縦軸には、３つの要素が配置されている。図中上段の位置信号７７は吐出制御部５４がヘッド駆動回路４２に送信するパルス信号である。塗布領域７の第１辺７ａがノズル２９と対向する場所を通過するときに吐出制御部５４はパルス波形７７ａを送信する。
【００８６】
吐出制御部５４は主走査位置検出装置１５が検出するステージ１４の位置データを受信する。そして、吐出制御部５４は吐出位置データ４８とステージ１４の位置データとを用いて位置信号７７を出力する。
【００８７】
第１駆動信号７８および第２駆動信号７９はヘッド駆動回路４２が液滴吐出ヘッド２６に送信する信号であり、液滴吐出ヘッド２６を駆動する信号である。そして、第１駆動信号７８はステージ１４の移動速度が速いときの駆動信号の例である。第２駆動信号７９はステージ１４の移動速度が遅いときの駆動信号の例である。第１駆動信号７８および第２駆動信号７９は略台形の形状をしたパルス信号により構成される。そして、１つのパルス信号に対応して１滴の液滴３４が吐出される。
【００８８】
第１駆動信号７８におけるパルス波形の間隔を第１パルス間隔７８ａとする。同じく、第２駆動信号７９におけるパルス波形の間隔を第２パルス間隔７９ａとする。そして、第１パルス間隔７８ａと第２パルス間隔７９ａとは略同じ間隔に設定されている。
【００８９】
位置信号７７のパルス波形７７ａが送信されたあと最初のパルス信号が送信されるまでの時間を遅延時間８０とする。第１駆動信号７８における遅延時間８０を第１遅延時間７８ｂとし、第２駆動信号７９における遅延時間８０を第２遅延時間７９ｂとする。そして、ステージ１４の移動速度が速いときには第１遅延時間７８ｂのように遅延時間８０を短くする。そして、ステージ１４の移動速度が遅いときには第２遅延時間７９ｂのように遅延時間８０を長くする。このように、遅延時間８０を制御することにより、第１距離７３ａおよび第２距離７６ａを制御する。尚、この制御はステップＳ１において設定された描画パターンに従って描画することにより行われる。
【００９０】
ステージ１４を走査して、予定した塗布領域７の総ての場所に塗布することによりステップＳ２２の塗布工程が終了する。次に、ステップＳ１５の除材工程において、基板２を液滴吐出装置１１から移動する。
【００９１】
図１０はステップＳ１６の固化工程に対応する図である。図１０に示すように、機能液３１が塗布された基板２は乾燥装置８３の内部に配置される。乾燥装置８３は乾燥室８４を備えている。乾燥室８４は載置台８５を備え、基板２は載置台８５に配置される。乾燥室８４は図中上側の供給管８６及び供給バルブ８７を介して乾燥気体供給部８８と接続されている。さらに、乾燥室８４は図中下側の排気管８９及び排気バルブ９０を介して排気部９１と接続されている。そして、乾燥気体供給部８８から供給される乾燥気体９２が供給バルブ８７及び供給管８６を介して乾燥室８４に供給される。次に、乾燥気体９２は基板２に塗布された機能液３１に沿って流動する。このとき、機能液３１に含まれる溶媒及び分散媒を乾燥気体９２に蒸発させて除去することにより、機能液３１を乾燥させる。そして、機能液３１が乾燥することにより、着色膜５が形成される。次に、溶媒及び分散媒を含んだ乾燥気体９２は排気管８９及び排気バルブ９０を通過して排気部９１により図示しない処理装置に排気される。以上で、カラーフィルター１を形成する製造工程を終了する。
【００９２】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、ステージ１４の移動には、ステップＳ７の等速移動工程、ステップＳ９の減速移動工程、ステップＳ４の加速移動工程の３つ工程における移動形態が行われる。これらの移動形態の中で等速移動するときに限定して基板２に液滴３４を吐出する方法がある。この方法と比べて、ステップＳ９の減速移動工程およびステップＳ４の加速移動工程でも基板２に液滴を吐出する方が液滴３４を吐出する時間を長くすることができる。従って、生産性良く描画することができる。
【００９３】
（２）本実施形態によれば、塗布領域７の外周と離れた中央側の場所に吐出している。ノズル２９の状態によっては吐出された液滴３４の着弾位置が目標とする位置から離れる場合がある。そして、塗布領域７の外周と離れた中央側の場所に吐出する方が塗布領域７の端に吐出する場合に比べて、塗布領域７内に着弾する確率を高くすることができる。その結果、着色膜５の混色を防止することができる。また、品質の良い着色膜５を形成することができる。
【００９４】
（３）本実施形態によれば、描画パターン演算工程において描画パターンを演算している。そして、ステージ１４速度の情報と塗布領域７の情報と用いている為、ステージ１４速度が変化するときにも塗布領域７の所望の場所に液滴３４が着弾する描画パターンを演算することができる。
【００９５】
（４）本実施形態によれば、ステップＳ６、ステップＳ８、ステップＳ１０の吐出工程において塗布領域７に複数の液滴３４が着弾するように吐出している。液滴３４を吐出するとき、吐出する時間間隔が変動する場合にくらべて時間間隔が変動しない場合の方が吐出する液滴３４の大きさが変動し難い傾向がある。そして、吐出する時間間隔を所定の時間間隔に固定して吐出することにより時間間隔が変動しないようにしている。従って、吐出する液滴の大きさを変動し難くすることができる。
【００９６】
（５）本実施形態によれば、ステップＳ４の加速移動工程およびステップＳ９の減速移動工程では等加速度区間において液滴３４を吐出している。等加速度区間では速度が経過時間に比例して増加または減少する。従って、速度の変化が推測し易いので、ノズル２９と基板２との相対位置が推測し易くなっている。その結果、加速度が一定でない区間で吐出する場合に比べて等加速度区間にて吐出する方が着弾位置を制御し易くすることができる。
【００９７】
（６）本実施形態によれば、ステップＳ５およびステップＳ１１の模擬吐出工程において液滴３４を模擬吐出液受装置１７に吐出することによりノズル２９を洗浄している。そして、品質良く液滴を吐出可能にしている。ステージ１４を停止しているときに加えて、加速度推移線７０が上昇または下降する非等加速度区間においてもステップＳ５およびステップＳ１１の模擬吐出工程が行われる。従って、非等加速度区間において模擬吐出工程を行わないときに比べて生産性良く模擬吐出工程を行うことができる。
【００９８】
（７）本実施形態によれば、主走査位置検出装置１５がステージ１４の位置を検出する。そして、基板位置演算部５５がステージ１４の位置データを用いて塗布領域７を検出する。そして、ノズル２９から塗布領域７の外周と離れた中央側の場所に液滴を吐出している。そして、塗布領域７の外周と離れた中央側の場所に吐出することにより、塗布領域７内に着弾する確率を高くすることができる。
【００９９】
尚、本実施形態は上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変更や改良を加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
（変形例１）
前記実施形態では、塗布領域７内に吐出する吐出間隔を所定の時間間隔にして一定にしたが、これに限らない。塗布領域７の大きさや吐出する液滴３４の数によって変更しても良い。例えば、塗布領域７に吐出する吐出数を増やしたいときには吐出間隔を短くしても良い。また、１つの基板２の内で吐出間隔を複数設定しても良い。
【０１００】
（変形例２）
前記実施形態では、ステップＳ１の描画パターン演算工程にて、総ての着弾位置６２の設定を行ったが、これに限らない。例えば、低速描画パターン６０では低速時初列距離６４もしくは第２遅延時間７９ｂと第２パルス間隔７９ａと吐出数のみ設定しても良い。設定のデータ数を少なくすることができる。この内容は、低速描画パターン６０に限らず、各種の速度の描画パターンにも適用することができる。
【０１０１】
（変形例３）
前記実施形態では、ステージ１４を移動して主走査を行ったが、これに限らない。キャリッジ２４を移動して主走査を行っても良い。また、ステージ１４をＸＹ方向に移動可能にして、ステージ１４が主走査と副走査とを行っても良い。この場合にも実施形態と同様の方法を採用することができる。
【０１０２】
（変形例４）
前記実施形態では、ステップＳ４の加速移動工程とステップＳ９の減速移動工程との両方の工程において液滴３４を吐出した。どちらか一方の工程のみにて液滴３４を吐出しても良い。この場合にも生産性良く描画することができる。
【０１０３】
（変形例５）
前記実施形態では、カラーフィルター１の製造における例を示したが、カラーフィルター１以外の製造に活用しても良い。基板に液滴３４を吐出して描画するときに上述の方法を採用することにより生産性良く描画することができる。
【０１０４】
（変形例６）
前記実施形態では、ステップＳ５およびステップＳ１１の模擬吐出工程において、模擬吐出液受装置１７に液滴３４を吐出したが、ステップＳ５およびステップＳ１１を省いても良い。また、ステップＳ５およびステップＳ１１の一方のみ省いても良い。品質良く液滴３４を吐出できる場合には省略することにより、生産性良く描画することができる。
【０１０５】
（変形例７）
前記実施形態では、ステップＳ７の等速移動工程において液滴３４を基板２上に吐出したが、ステップＳ７をステップＳ４の加速移動工程またはステップＳ９の減速移動工程と置き換えても良い。そして、主走査時の総ての区間において加速または減速しながら液滴３４を吐出しても良い。さらに生産性良く描画することができる。
【０１０６】
（変形例８）
前記実施形態では、ステップＳ３とステップＳ１４の模擬吐出工程にて模擬吐出液受装置１７に液滴３４を吐出したが、ステップＳ３とステップＳ１４とを省略しても良い。また、ステップＳ３とステップＳ１４の一方を省略しても良い。品質良く液滴３４を吐出できる場合には省略することにより、生産性良く描画することができる。
【０１０７】
（変形例９）
前記実施形態では、ステップＳ４の加速移動工程では等加速度区間７０ａにおける加速度を１つの水準に設定したが、複数の水準に設定しても良い。描画パターンとステージ１４の運動特性に合わせて設定しても良い。さらに生産性良く描画することができる。この内容については、ステップＳ９の減速移動工程にも適用することができる。
【符号の説明】
【０１０８】
２…基板、７…塗布領域、１１…液滴吐出装置、１４…ステージ、２９…ノズル、３４…液滴、３７…制御部としての制御装置、４０…検出部としての主走査駆動装置、５２…検出部としての主走査制御部、５５…検出部としての基板位置演算部、６０…描画パターンとしての低速描画パターン、６５…描画パターンとしての高速描画パターン、７０ａ…等加速度区間、７０ｂ…非等加速度区間。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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