(57)【要約】【課題】  検査用基板の表面に形成した撥液性膜の塗布液との接触角にばらつきがあっても、各ノズルから吐出されて基板上に滴下された各液滴の着弾面積の検出精度を向上し、ひいては各ノズルの個体差に起因する各ノズルの吐出量を調整すること。【解決手段】  液滴塗布方法において、複数のノズルＮｉのそれぞれから吐出される液滴Ｅｉを基板Ｋ上に滴下し、滴下された各液滴Ｅｉの画像を検出した後、塗布ヘッド１４に対して基板Ｋをその表面に直交する軸を中心に180度回転させた状態で、再度、複数のノズルＮｉのそれぞれから吐出される液滴Ｅｉを基板Ｋ上に滴下し、滴下された各液滴Ｅｉの画像を検出するもの。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布ヘッドの複数のノズルのそれぞれから吐出される液滴を撥液性の膜が形成された基板上に滴下させ、基板上に滴下された各液滴の画像に基づいて、各ノズルからの液滴の吐出量を求める液滴塗布方法において、
複数のノズルのそれぞれから吐出される液滴を基板上に滴下し、滴下された各液滴の画像を検出した後、
塗布ヘッドに対して基板をその表面に直交する軸を中心に180度回転させた状態で、
再度、複数のノズルのそれぞれから吐出される液滴を基板上に滴下し、滴下された各液滴の画像を検出することを特徴とする液滴塗布方法。
【請求項２】
前記基板の180度回転の前後で、同一ノズルから基板上に滴下された各液滴の画像に基づいて求めた各吐出量の平均値を当該ノズルからの液滴の吐出量とする請求項１に記載の液滴塗布方法。
【請求項３】
前記基板の180度回転の中心軸を、塗布ヘッドにおける複数のノズルの配列の中央に合致させる請求項１又は２に記載の液滴塗布方法。
【請求項４】
塗布ヘッドの複数のノズルのそれぞれから吐出される液滴を撥液性の膜が形成された基板上に滴下させ、基板上に滴下された各液滴の画像に基づいて、各ノズルからの液滴の吐出量を求める液滴塗布装置において、
基板上に滴下された各液滴の画像に基づいて各ノズルからの液滴の吐出量を求める検出部を有し、
検出部は、複数のノズルのそれぞれから吐出される液滴を基板上に滴下し、滴下された各液滴の画像を検出した後、塗布ヘッドに対して基板をその表面に直交する軸を中心に180度回転させた状態で、再度、複数のノズルのそれぞれから吐出される液滴を基板上に滴下し、滴下された各液滴の画像を検出することを特徴とする液滴塗布装置。
【請求項５】
前記検出部が、前記基板の180度回転の前後で、同一ノズルから基板上に滴下された各液滴の画像に基づいて求めた各吐出量の平均値を当該ノズルからの液滴の吐出量とする請求項４に記載の液滴塗布装置。
【請求項６】
前記基板の180度回転の中心軸を、塗布ヘッドにおける複数のノズルの配列の中央に合致させる請求項４又は５に記載の液滴塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴塗布方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
インク等の液滴塗布装置として、特許文献１に記載の如く、塗布ヘッドの複数のノズルのそれぞれから吐出される液滴を基板上に滴下させるものがある。塗布ヘッドは、各ノズルに対応する圧電素子を備え、各圧電素子に対する駆動電圧の印加に応じて各ノズルから塗布液を吐出する。配向膜やカラーフィルタ等の薄膜の形成に用いられる塗布ヘッドでは、均一な厚さの膜を形成するために、各ノズルからの塗布液の吐出量が均一に調整されていることが求められる。ところが、各ノズルの個体差、各圧電素子の個体差等により、各圧電素子に同一の駆動電圧を印加しても、各ノズルからの塗布液の吐出量は必ずしも同一にならない。
【０００３】
そこで、従来技術では、各ノズルからの塗布液の吐出量を検出し、この検出結果に基づいて各圧電素子の印加電圧を調整することにより、各ノズルからの塗布液の吐出量が互いに同一になるように調整している。
【０００４】
このとき、従来技術では、各ノズルからの塗布液の吐出量を、各ノズルから吐出されて検査用基板上に滴下された各液滴の画像、換言すれば各液滴の着弾面積（投影面積）から測定している。
【０００５】
更に、従来技術では、各ノズルから吐出されて検査用基板上に滴下された各液滴の着弾面積の検出精度を向上するため、検査用基板の表面にフッ素樹脂等の撥液性の膜を形成して各液滴の着弾形状の明瞭化を図っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開2004-136582号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来技術では、検査用基板の表面の撥液性膜の全体において、塗布液との接触角が均一であるものとして、上述の各液滴の着弾形状を検出している。
【０００８】
しかしながら、検査用基板の表面に形成された撥液性膜の塗布液との接触角は、基板上の場所（領域）によってばらつきがある。検査用基板の各領域で接触角にばらつきがある場合、仮に塗布量が同じであっても接触角が小さい領域に比べて接触角が大きい領域では、着弾した塗布液の投影面積が小さくなる。このような検査用基板を用いた場合、着弾面積の検出結果に接触角のばらつきに起因する誤差が含まれ、ノズル間の吐出量を均一に調整することが困難になる。
【０００９】
本発明の課題は、検査用基板の表面に形成した撥液性膜の塗布液との接触角にばらつきがあっても、各ノズルから吐出されて基板上に滴下された各液滴の着弾面積の検出精度を向上し、ひいては各ノズルの個体差に起因する各ノズルの吐出量を調整することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１の発明は、塗布ヘッドの複数のノズルのそれぞれから吐出される液滴を撥液性の膜が形成された基板上に滴下させ、基板上に滴下された各液滴の画像に基づいて、各ノズルからの液滴の吐出量を求める液滴塗布方法において、複数のノズルのそれぞれから吐出される液滴を基板上に滴下し、滴下された各液滴の画像を検出した後、塗布ヘッドに対して基板をその表面に直交する軸を中心に180度回転させた状態で、再度、複数のノズルのそれぞれから吐出される液滴を基板上に滴下し、滴下された各液滴の画像を検出するようにしたものである。
【００１１】
請求項２の発明は、請求項１の発明において更に、前記基板の180度回転の前後で、同一ノズルから基板上に滴下された各液滴の画像に基づいて求めた各吐出量の平均値を当該ノズルからの液滴の吐出量とするようにしたものである。
【００１２】
請求項３の発明は、請求項１又は２の発明において更に、前記基板の180度回転の中心軸を、塗布ヘッドにおける複数のノズルの配列の中央に合致させるようにしたものである。
【００１３】
請求項４の発明は、塗布ヘッドの複数のノズルのそれぞれから吐出される液滴を撥液性の膜が形成された基板上に滴下させ、基板上に滴下された各液滴の画像に基づいて、各ノズルからの液滴の吐出量を求める液滴塗布装置において、基板上に滴下された各液滴の画像に基づいて各ノズルからの液滴の吐出量を求める検出部を有し、検出部は、複数のノズルのそれぞれから吐出される液滴を基板上に滴下し、滴下された各液滴の画像を検出した後、塗布ヘッドに対して基板をその表面に直交する軸を中心に180度回転させた状態で、再度、複数のノズルのそれぞれから吐出される液滴を基板上に滴下し、滴下された各液滴の画像を検出するようにしたものである。
【００１４】
請求項５の発明は、請求項４の発明において更に、前記検出部が、前記基板の180度回転の前後で、同一ノズルから基板上に滴下された各液滴の画像に基づいて求めた各吐出量の平均値を当該ノズルからの液滴の吐出量とするようにしたものである。
【００１５】
請求項６の発明は、請求項４又は５の発明において更に、前記基板の180度回転の中心軸を、塗布ヘッドにおける複数のノズルの配列の中央に合致させるようにしたものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、基板の180度回転の前後で、同一ノズルから基板上に滴下された各液滴の画像を検出することにより、検査用基板の表面に形成した撥液性膜の塗布液との接触角にばらつきがあっても、各ノズルから吐出されて基板上に滴下された各液滴の着弾面積の検出精度を向上し、ひいては各ノズルの個体差に起因する各ノズルの吐出量を調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は液滴塗布装置を示す模式図である。
【図２】図２は検出部による検出状態を示す模式図である。
【図３】図３は基板の接触角分布と液滴の着弾面積を示す模式図である。
【図４】図４は本発明による各ノズルの吐出量測定原理を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
液滴塗布装置１０は、図１に示す如く、塗布対象物である基板Ｋが水平状態（図１中、Ｘ軸方向とそれに直交するＹ軸方向に沿う状態）で載置される移動テーブル１１と、その移動テーブル１１を保持してＹ軸方向に移動させるＹ軸移動機構１２と、そのＹ軸移動機構１２を介して移動テーブル１１をＸ軸方向に移動させるＸ軸移動機構１３と、移動テーブル１１上の基板Ｋに向けてインク等の塗布液を液滴として吐出する複数の塗布ヘッド１４を隣接して有し、各塗布ヘッド１４の複数のノズルＮｉ（Ｎ1，Ｎ2，…）のそれぞれから吐出される液滴Ｅｉ（Ｅ1，Ｅ2，…）を基板Ｋに塗布する。移動テーブル１１のＹ軸移動機構１２、Ｘ軸移動機構１３、各塗布ヘッド１４は制御部１５により制御される。
【００１９】
即ち、移動テーブル１１は、Ｙ軸移動機構１２上に積層され、Ｙ軸方向に移動可能に設けられている。この移動テーブル１１はＹ軸移動機構１２によりＹ軸方向に移動する。尚、移動テーブル１１には、基板Ｋが自重により載置されるが、これに限るものではなく、例えば、その基板Ｋを保持するため、静電チャックや吸着チャック等の機構を設けるようにしても良い。このような移動テーブル１１の端部には、各塗布ヘッド１４の吐出を安定させるための吐出安定部１１ａが設けられている。この吐出安定部１１ａは、各塗布ヘッド１４のダミー吐出用の受皿、及び各塗布ヘッド１４の吐出面をワイプするワイプブレード等を有している。
【００２０】
Ｙ軸移動機構１２は、移動テーブル１１をＹ軸方向に案内して移動させる機構である。このＹ軸移動機構１２は制御部１５に電気的に接続されており、その駆動が制御部１５により制御される。尚、Ｙ軸移動機構１２としては、例えば、リニアモータを駆動源とするリニアモータ移動機構やモータを駆動源とする送りネジ移動機構等を用いる。
【００２１】
Ｘ軸移動機構１３は、Ｙ軸移動機構１２をＸ軸方向に案内して移動させる機構である。このＸ軸移動機構１３は制御部１５に電気的に接続されており、その駆動が制御部１５により制御される。尚、Ｘ軸移動機構１３としては、例えば、リニアモータを駆動源とするリニアモータ移動機構やモータを駆動源とする送りネジ移動機構等を用いる。
【００２２】
塗布ヘッド１４は、インク等の塗布液を収容する液体タンク（図示せず）から供給される塗布液を複数のノズルＮｉからそれぞれ液滴Ｅｉとして吐出するインクジェットヘッドである。この塗布ヘッド１４は、液滴を吐出する複数のノズルＮｉにそれぞれ対応する複数の圧電素子（図示せず）を内蔵している。各ノズルＮｉは、所定のピッチ（間隔）で直線一列状に並べて吐出面に形成されている。例えば、ノズルＮｉの数は数十個から数百個程度であり、ノズルＮｉの直径は数μmから数十μm程度であり、更に、ノズルＮｉのピッチは数十μmから数百μm程度である。
【００２３】
塗布ヘッド１４は、制御部１５に電気的に接続されており、その駆動が制御部１５により制御される。塗布ヘッド１４は、各圧電素子に対する駆動電圧の印加に応じて各ノズルＮｉから液滴（インク滴）Ｅｉを吐出する。ここで、塗布液は揮発性を有している。この塗布液は、基板Ｋ上に残留物として残留する溶質と、その溶質を溶解（分散）させる溶媒とにより構成されている。例えば、塗布液であるインクは、顔料、溶剤（インク溶剤）、分散剤及び添加剤等の各種の成分により構成されている。
【００２４】
塗布ヘッド１４は、回転機構（図示せず）によりθ方向（図１中、ＸＹ平面に沿う回転方向）に回転可能に支持されている。この塗布ヘッド１４は、回転機構により、相対移動する基板Ｋの相対移動方向に対して所定の傾斜角度だけ傾けられ、その状態で塗布を行なう。尚、Ｙ軸方向に相対移動する基板Ｋに対して塗布を行なう場合には、塗布ヘッド１４の傾斜角度を変更することによって、Ｘ軸方向の液滴の塗布ピッチを調整することができる。また、液滴の吐出周波数（吐出タイミング）を変更することによって、Ｙ軸方向の塗布ピッチを調整することができる。
【００２５】
尚、制御部１５は、各部を集中的に制御するマイクロコンピュータと、塗布に関する塗布情報や各種のプログラム等を記憶する記憶部と（いずれも図示せず）を備えている。塗布情報は、ドットパターン等の所定の塗布パターン、塗布ヘッド１４の傾斜角度、塗布ヘッド１４の吐出周波数及び基板Ｋの移動速度に関する情報等を含んでいる。この塗布情報としては、製造塗布用の塗布情報及び検査塗布用の塗布情報（検査用のパターン及び溶媒雰囲気形成用のパターンを含む）が記憶部に格納されている。
【００２６】
しかるに、液滴塗布装置１０は、塗布ヘッド１４の複数のノズルＮｉの吐出量が均一になるように調整するため、塗布ヘッド１４の各ノズルＮｉのそれぞれから吐出される液滴Ｅｉを撥液性の膜が形成された検査用基板Ｋ上に滴下させ、検査用基板Ｋ上に滴下された各液滴Ｅｉの画像に基づいて、各ノズルＮｉからの液滴Ｅｉの吐出量を求める。即ち、液滴塗布装置１０は、検査用基板Ｋ上に滴下された各液滴Ｅｉの画像に基づいて塗布ヘッド１４の各ノズルＮｉからの液滴Ｅｉの吐出量を求める検出部１６を有する。検出部１６は、図２に示す如く、撮像部１６Ａ、画像処理部を兼ねた演算処理部１６Ｂ、表示部１６Ｃを有する。
【００２７】
撮像部１６Ａは、基板Ｋ上に着弾した各液滴Ｅｉを撮像する撮像カメラからなる。この撮像部１６Ａは演算処理部１６Ｂ及び制御部１５に電気的に接続されており、その駆動は制御部１５により制御され、撮像した各液滴の画像を演算処理部１６Ｂに送信する。尚、撮像部１６Ａとしては、例えばＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラ等を用いる。
【００２８】
演算処理部１６Ｂは、撮像部１６Ａから送信された各液滴Ｅｉの画像（検出結果）に基づいて、基板Ｋ上に着弾した各液滴Ｅｉの各々の着弾面積（投影面積）Ｓｉ（Ｓ1，Ｓ2，…）を求める。更に、演算処理部１６Ｂは、求めた各液滴Ｅｉの各々の着弾面積に基づいて各ノズルＮｉからの液滴Ｅｉの吐出量を求め、その結果を制御部１５に送信する。ここで、その吐出量は、液滴Ｅｉの着弾面積と吐出量（滴下量）との関係式から算出される。例えば、液滴の着弾面積と吐出量との関係は一次式で表すことができ、この一次式は実験結果から導き出すことが可能である。その関係式は演算処理部１６Ｂが備える記憶部に格納されている。尚、演算処理部１６Ｂとしては、例えばコンピュータ等を用いる。
【００２９】
表示部１６Ｃは、撮像した各液滴の画像等の各種画像を表示する表示装置である。この表示部１６Ｃは電気的に演算処理部１６Ｂに接続されている。尚、表示部１６Ｃとしては、例えば、液晶ディスプレイやＣＲＴディスプレイ等を用いる。
【００３０】
制御部１５は、検出部１６の演算処理部１６Ｂが求めた塗布ヘッド１４の各ノズルＮｉからの液滴Ｅｉの吐出量を送信されると、塗布ヘッド１４の各ノズルＮｉの吐出量が目標吐出量に合致するように各ノズルＮｉに対応する圧電素子を駆動する。即ち、塗布ヘッド１４の各ノズルＮｉの圧電素子に印加する電圧と吐出量との関係（電圧係数）に基づいて、印加電圧を調整する。これにより、塗布ヘッド１４の各ノズルＮｉの吐出量を互いに均一になるように調整する。
【００３１】
ところで、本実施例で用いられている検査用基板Ｋの如くに、検査用基板Ｋの表面にフッ素樹脂等による撥液性の膜を形成する場合には、通常、スパッタリングや真空蒸着による成膜装置が用いられる。このような成膜装置では、通常、処理室内に基板を収容して成膜している。一方、処理室内において、成膜材料は天井側１箇所の材料ガス導入口から床側一箇所の排気口に向けて移動する。このため、処理室内の基板の表面上では、成膜材料のガス導入口からの距離に差が生じる。具体的には、成膜材料のガス導入口に近い一方の端から他方の端にかけて、基板と成膜材料のガス導入口との距離が次第に大きくなる。
【００３２】
このような成膜装置を用いた撥液性膜の形成においては、成膜材料のガス導入口からの距離に差が生じた場合、形成された撥液性膜において、成膜材料のガス導入口に近い部分の方が遠い部分よりも接触角が大きくなる傾向がある。従って、スパッタリングや真空蒸着による成膜装置を用いて基板に撥液性膜を形成した場合、基板の一方の端部Ａ側の領域Ｍ1から他方の端部Ｂ側の領域Ｍ3にかけて、塗布液との接触角が次第に増加、或いは次第に減少するように直線的に変化する分布となる傾向がある。即ち、図３に示す如く、塗布ヘッド１４が一列状に配列されている３個のノズルＮ1〜Ｎ3を備え、各ノズルＮ1〜Ｎ3のそれぞれが検査用基板Ｋ上の３個の領域Ｍ1〜Ｍ3のそれぞれに液滴Ｅ1〜Ｅ3を着弾させるものとしたとき、この検査用基板Ｋの各領域Ｍ1、Ｍ2、Ｍ3で、仮に塗布量が同じであっても接触角が小さい領域Ｍ3に比べて接触角が大きいＭ1では、着弾した塗布液の投影面積が小さくなる（Ｓ1＜Ｓ2＜Ｓ3）。このような検査用基板Ｋを用いた場合、各ノズルＭ1〜Ｍ3のそれぞれから吐出された液滴Ｅ1〜Ｅ3の着弾面積Ｓ1、Ｓ2、Ｓ3の検出結果に接触角のばらつきに起因する誤差が含まれ、ノズル間の吐出量を均一に調整することが困難になる。
【００３３】
そこで、液滴塗布装置１０は、検査用基板Ｋの表面に形成した撥液性膜の塗布液との接触角にばらつきがあっても、塗布ヘッド１４の各ノズルＮｉから吐出されて検査用基板Ｋ上に滴下された各液滴Ｅｉの着弾面積の検出精度を向上し、ひいては各ノズルＮｉの個体差に起因する各ノズルＮｉの吐出量を調整可能にするため、下記(1)〜(4)の順に動作する（図４）。
【００３４】
(1)塗布ヘッド１４の３個のノズルＮ1〜Ｎ3のそれぞれから吐出される液滴Ｅ1〜Ｅ3を検査用基板Ｋ（図４の基板Ｋ1）上に滴下する。検査用基板Ｋ（図４の基板Ｋ1）上に滴下された各液滴Ｅ1〜Ｅ3を検出部１６の撮像部１６Ａによって個々に撮像する。それぞれの撮像画像を演算処理部１６Ｂに送り、演算処理部１６Ｂにより、滴下された各液滴Ｅ1〜Ｅ3の着弾面積を検出する。
【００３５】
塗布ヘッド１４の一端側のノズルＮ1から検査用基板Ｋ（図４の基板Ｋ1）上に吐出された液滴Ｅ1は、検査用基板Ｋの一端Ａ側の大接触角領域Ｍ1に着弾して小着弾面積Ｓ1ａを呈する。
【００３６】
尚、塗布ヘッド１４の他端側のノズルＮ3から検査用基板Ｋ（図４の基板Ｋ1）上に吐出された液滴Ｅ3は、検査用基板Ｋの他端Ｂ側の小接触角領域Ｍ3に着弾して大着弾面積Ｓ3ｂを呈する。
【００３７】
(2)塗布ヘッド１４に対し、検査用基板Ｋをその表面に直交する軸を中心に180度回転させる（図４の基板Ｋ2）。
【００３８】
検査用基板Ｋの180度回転の中心軸は、塗布ヘッド１４における３個のノズルＮ1〜Ｎ3の配列の中央に合致させる。この例では、ノズルＮ2の位置が丁度中央となる。
【００３９】
(3)塗布ヘッド１４の３個のノズルＮ1〜Ｎ3のそれぞれから吐出される液滴Ｅ1〜Ｅ3を検査用基板Ｋ（図４の基板Ｋ2）上に滴下する。検査用基板Ｋ（図４の基板Ｋ2）上に滴下された各液滴Ｅ1〜Ｅ3を検出部１６の撮像部１６Ａによって個々に撮像する。それぞれの撮像画像を演算処理部１６Ｂに送り、演算処理部１６Ｂにより、滴下された各液滴Ｅ1〜Ｅ3の着弾面積を検出する。
【００４０】
塗布ヘッド１４の一端側のノズルＮ1から検査用基板Ｋ（図４の基板Ｋ2）上に吐出された液滴Ｅ1は、検査用基板Ｋの他端Ｂ側の小接触角領域Ｍ3に着弾して大着弾面積Ｓ1ｂを呈する。
【００４１】
尚、塗布ヘッド１４の他端側のノズルＮ3から検査用基板Ｋ（図４の基板Ｋ2）上に吐出された液滴Ｅ3は、検査用基板Ｋの他端Ａ側の大接触角領域Ｍ1に着弾して小着弾面積Ｓ3ａを呈する。
【００４２】
(4)検出部１６の演算処理部１６Ｂは、上述(1)、(3)により、検査用基板Ｋの上述の180度回転の前後で、同一ノズル、例えばノズルＮ1から検査用基板Ｋ上に滴下された液滴Ｅ1の撮像画像に基づき、液滴Ｅ1の着弾面積（投影面積）Ｓ1ａ、Ｓ1ｂを求め、更には当該液滴Ｅ1のそれらの着弾面積Ｓ1ａ、Ｓ1ｂに基づく吐出量Ｔ1ａ、Ｔ1ｂを求める。
【００４３】
更に、検出部１６の演算処理部１６Ｂは、２つの吐出量Ｔ1ａ、Ｔ1ｂの平均値Ｔ1を求め、このＴ1を当該ノズルＮ1から吐出された液滴Ｅ1の吐出量とする。
【００４４】
塗布ヘッド１４の他のノズルＮ2、Ｎ3から吐出された液滴Ｅ2、Ｅ3の吐出量も上述(1)〜(4)と同様にして求める。
【００４５】
本実施例によれば以下の作用効果を奏する。
(a)本実施例の検査用基板Ｋにおけるように、スパッタリングや真空蒸着による成膜装置を用いて基板Ｋに撥液性膜を形成した場合、基板Ｋの一端Ａ側の領域Ｍ1から他端Ｂ側の領域Ｍ3にかけて、塗布液との接触角が次第に増加、或いは次第に減少するように直線的に変化する分布となる傾向がある。これに対し、本発明では、塗布ヘッド１４の複数のノズルＮｉのそれぞれから吐出される液滴Ｅｉを基板Ｋ上に滴下し、滴下された各液滴Ｅｉの画像を検出した後、塗布ヘッド１４に対して基板Ｋをその表面に直交する軸を中心に180度回転させた状態で、再度、複数のノズルＮｉのそれぞれから吐出される液滴Ｅｉを基板Ｋ上に滴下し、滴下された各液滴Ｅｉの画像を検出することにした。従って、塗布ヘッド１４の一端側のあるノズルＮｉから吐出された液滴Ｅｉの撮像画像は、180度回転前の基板Ｋの一端Ａ側の大接触角領域Ｍ1に着弾して小着弾面積Ｓ1ａを呈するとともに、180度回転後の基板Ｋの他端Ｂ側の小接触角領域Ｍ3に着弾して大着弾面積Ｓ1ｂを呈するものになる。同一ノズルＮ1から吐出された２つの液滴Ｅ1の着弾面積（Ｓ1ａ、Ｓ1ｂ）の相違は、基板Ｋの一端Ａから他端Ｂに向かう接触角の直線的変化にのみ基づくものであるから、それら２つの液滴Ｅ1の着弾面積（Ｓ1ａ、Ｓ1ｂ）の平均値をとることにより、基板Ｋの接触角のばらつきを排除した、当該ノズルＮ1の個体差に起因する当該ノズルＮ1の吐出量を測定し得るものになる。
【００４６】
(b)基板Ｋの180度回転の前後で、同一ノズルＮｉから基板Ｋ上に滴下された各液滴Ｅｉの撮像画像、換言すれば各液滴Ｅｉの着弾面積（Ｓ1ａ、Ｓ1ｂ）に基づいて求めた各吐出量の平均値を当該ノズルＮｉからの液滴Ｅｉの吐出量とすることにより、基板Ｋの接触角のばらつきを排除した、当該ノズルＮｉの個体差に起因する当該ノズルＮｉの吐出量を測定し得るものになる。これにより、塗布ヘッド１４の各ノズルＮｉの吐出量を高精度に測定することができ、結果として各ノズルＮｉの吐出量を互いに均一に調整することができる。
【００４７】
(c)基板Ｋの180度回転の中心軸を、塗布ヘッド１４における複数のノズルＮｉの配列の中央に合致させることにより、全ノズルＮｉのそれぞれから吐出される液滴Ｅｉを、180度回転前後の基板Ｋ上に確実に着弾させることができる。同一の基板Ｋを用いて、全ノズルＮｉについて上述(a)、(b)を行なうことができる。
【００４８】
以上、本発明の実施例を図面により詳述したが、本発明の具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
本発明は、基板の180度回転の前後で、同一ノズルから基板上に滴下された各液滴の画像を検出することにより、検査用基板の表面に形成した撥液性膜の塗布液との接触角にばらつきがあっても、各ノズルから吐出されて基板上に滴下された各液滴の着弾面積の検出精度を向上し、ひいては各ノズルの個体差に起因する各ノズルの吐出量を調整することができる。
【符号の説明】
【００５０】
１０  液滴塗布装置
１４  塗布ヘッド
１５  制御部
１６  検出部
Ｅｉ  液滴
Ｋ  基板
Ｎｉ  ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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