(57)【要約】【課題】ペリクルの構造を複雑にすることなく、しかも、高精度の動作機構を備える必要もなく、ペリクル内部の換気を行う。【解決手段】ペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、ペリクルの内部空間が気圧調整穴を介して外部に連通した構成のペリクル付きフォトマスクを保管しながら、ペリクル付きフォトマスクに対して温度変化を与えることが可能な温度変化付与部１００ａを備える。ペリクル付きフォトマスクに温度変化を与えることによって、気圧調整穴を介してペリクル内の雰囲気を換気する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペリクルの内部空間が該ペリクルに形成された穴を介して外部に連通しているペリクル付きフォトマスクを内部に保管可能であり、かつ、前記ペリクル付きフォトマスクに対して温度変化を与えることが可能な温度変化付与部、を備えることを特徴とするペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項２】
前記温度変化付与部は、それぞれ前記ペリクル付きフォトマスクをそれぞれ保管可能であり、かつ、相互に異なる温度に設定される第１及び第２保管領域を有し、前記ペリクル付きフォトマスクが各保管領域へ順次に移動されることにより、前記ペリクル付きフォトマスクに対して温度変化を与えることを特徴とする請求項１に記載のペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項３】
前記ペリクル付きフォトマスクをそれぞれ保管可能であり、かつ、相互に異なる温度に設定される第１、第２及び第３保管領域を有し、前記ペリクル付きフォトマスクが各保管領域へ順次に移動されることにより、前記ペリクル付きフォトマスクに対して温度変化を与えることを特徴とする請求項１に記載のペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項４】
前記第１保管領域は、当該ペリクル付きフォトマスク保管装置の外部の雰囲気の温度に設定されることを特徴とする請求項２又は３に記載のペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項５】
前記第１保管領域は、当該ペリクル付きフォトマスク保管装置の外部の雰囲気の温度に、前記第２保管領域は前記第１保管領域よりも高温に、前記第３保管領域は前記第１保管領域よりも低温に、それぞれ設定されることを特徴とする請求項３に記載のペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項６】
前記ペリクル付きフォトマスクを各保管領域の相互間で搬送可能な搬送機構を備えることを特徴とする請求項２乃至５のいずれか一項に記載のペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項７】
前記搬送機構の動作制御を行う制御手段を備え、
前記制御手段は、前記ペリクル付きフォトマスクを各保管領域へ順次に搬送させる制御を行うことを特徴とする請求項６に記載のペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項８】
前記第１保管領域は当該ペリクル付きフォトマスク保管装置の外部の雰囲気の温度に設定され、
前記ペリクル付きフォトマスクを各保管領域の相互間で搬送可能な搬送機構と、前記搬送機構の動作制御を行う制御手段と、を備え、
前記制御手段は、
前記ペリクル付きフォトマスクを所定時間内に使用する予定の有無を判断し、
前記所定時間内に使用する予定がない場合には、前記ペリクル付きフォトマスクを前記第２保管領域と前記第３保管領域とに交互に搬送させ、
前記所定時間内に使用する予定がある場合には、前記ペリクル付きフォトマスクを前記第１保管領域に搬送させることを特徴とする請求項３に記載のペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項９】
前記第２保管領域は前記第１保管領域よりも高温に、前記第３保管領域は前記第１保管領域よりも低温に、それぞれ設定されることを特徴とする請求項８に記載のペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記ペリクル付きフォトマスクを各保管領域のうちの一の保管領域内に所定の滞在時間の間滞在させた後、他の保管領域へ搬送させることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか一項に記載のペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、
前記ペリクル付きフォトマスクを前記所定時間内に使用する予定がない場合には、前記ペリクル付きフォトマスクを前記第２保管領域及び前記第３保管領域のうちの一の保管領域内に所定の滞在時間の間滞在させた後、他の保管領域へ搬送させることを特徴とする請求項８又は９に記載のペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項１２】
各保管領域の間に仕切りが設けられていることを特徴とする請求項２乃至１１のいずれか一項に記載のペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項１３】
各保管領域は、個別の筐体内の領域であることを特徴とする請求項１２に記載のペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項１４】
各保管領域へ清浄なガスを供給する清浄ガス供給手段を備えることを特徴とする請求項２乃至１３のいずれか一項に記載のペリクル付きフォトマスク保管装置。
【請求項１５】
ペリクルの内部空間が該ペリクルに形成された穴を介して外部に連通しているペリクル付きフォトマスクを保管しながら、該ペリクル付きフォトマスクに対して温度変化を与えることによって、前記穴を介して前記ペリクル内の雰囲気を換気することを特徴とするペリクル付きフォトマスクの換気方法。
【請求項１６】
前記ペリクル付きフォトマスクをそれぞれ保管可能であり、かつ、相互に異なる温度に設定されている第１、第２及び第３保管領域に対し、順次に前記ペリクル付きフォトマスクを搬送することによって、前記ペリクル付きフォトマスクに温度変化を与えることを特徴とする請求項１５に記載のペリクル付きフォトマスクの換気方法。
【請求項１７】
前記第１保管領域は常温に設定され、
前記ペリクル付きフォトマスクを搬送する搬送機構の動作を、前記ペリクル付きフォトマスクを所定時間内に使用する予定の有無を判断することが可能な制御手段の制御下で行うようにし、
前記制御手段は、
前記ペリクル付きフォトマスクを前記所定時間内に使用する予定がないと判断した場合には、前記ペリクル付きフォトマスクを前記第２保管領域と前記第３保管領域とに交互に搬送させ、
前記所定時間内に使用する予定があると判断した場合には、前記ペリクル付きフォトマスクを前記第１保管領域に搬送させることを特徴とする請求項１６に記載のペリクル付きフォトマスクの換気方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ペリクル付きフォトマスクの保管装置及び換気方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばＬＳＩ（Ｌａｒｇｅ  Ｓｃａｌｅ  Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ）などを製造する際のリソグラフィー工程においては、所定のパターン形状が形成されたフォトマスク（レチクルとも称される）のパターンを、フォトレジストが塗布された基板へ縮小投影露光装置を用いて投影することにより、該パターンをフォトレジストへ転写する。
【０００３】
フォトマスクは、ガラス基板と、このガラス基板上に形成された金属遮光膜パターンと、を備えて構成されている。この金属遮光膜パターンは、ガラス基板上に形成された金属遮光膜を、所望のＬＳＩ回路のパターン形状を相似拡大したパターン形状に加工することにより形成されたものである。
【０００４】
このようなフォトマスクのパターン面（金属遮光膜パターンが形成された面）に異物が付着すると、この異物の形状までフォトレジストに転写されるため、転写されるパターン形状に欠陥が生じてしまう。
【０００５】
このような欠陥の発生を防止するために、フォトマスクにペリクルと呼ばれる保護部材を取り付けてパターン面へのパーティクルの付着を防止することが、一般に行われている。
【０００６】
図７はペリクル付きフォトマスク２０の構成を示す斜視図、図８及び図９は図７のＡ−Ａ線に沿った矢視断面図である。
【０００７】
図７及び図８に示すように、ペリクル付きフォトマスク２０は、基板（ガラス基板）６と、この基板６上に所定のパターン形状に形成された金属遮光膜パターン１０（図８）と、この金属遮光膜パターン１０を覆うペリクル３０と、を備えて構成されている。
【０００８】
ペリクル３０は、金属遮光膜パターン１０が形成された領域の周囲を囲むように基板６上に配置される矩形枠状のフレーム７と、このフレーム７の一方の開口（基板６から遠い側の開口）を閉塞するように該フレーム７に設けられた透光性フィルム膜８と、を備えて構成されている。
【０００９】
このようなペリクル３０は、フレーム７の他方の開口側（透光性フィルム膜８が設けられていない方）の端面を、接着剤を用いて基板６に貼り付けることによって、基板６に取り付けられている。
【００１０】
なお、フレーム７の側面には、ペリクル３０の内部の空間とペリクル３０の外部の空間とを相互に連通させる気圧調整穴９が形成されている。ペリクル３０内部の空間は、気圧調整穴９のみを通じて、その外部空間と連通している。
【００１１】
このようなペリクル付きフォトマスク２０においては、パーティクルがパターン面に付着することをペリクル３０により防止できる。
【００１２】
しかしながら、露光装置の光源が短波長化されＡｒＦレーザーなど照射エネルギーがより高い照射光が用いられるようになったことなどに起因し、例えば、図９に示すように、ペリクル３０の内部に異物ないしは曇り（以下、単に異物と称する）１１が発生するようになった。
【００１３】
この異物１１は、例えば、ペリクル３０の内部の金属遮光膜パターン１０或いはガラス面（基板６の表面）に、硫酸アンモニウム等が析出することにより生成される。
【００１４】
このような硫酸アンモニウムの析出は、例えば、ガラス面に吸着したまま残存している硫酸の残渣と、空気中のアンモニウムないしはアンモニウムイオンなどとが、ペリクル付きフォトマスク２０を介したレーザー光照射が繰り返されるのに伴って反応することにより生じることが知られている。
【００１５】
このような異物１１がペリクル３０の内部に存在すると、フォトレジストに転写されるパターン形状に欠陥が生じてしまい、製品歩留まりを低下させるという課題がある。
【００１６】
異物１１が発生した場合は、一旦ペリクル３０を基板６から剥離して、洗浄により異物１１を除去した後、再度、ペリクル３０を基板６に貼り付ける必要があり、その間はペリクル付きフォトマスク２０を使用できなくなる。
【００１７】
このため、このような異物１１の発生を防止又は遅延させるための様々な対策が採られている。
【００１８】
一例としては、例えば、金属遮光膜パターン１０を形成した後の基板６にペリクル３０を取り付ける直前段階での最終洗浄をより確実に行うことによって、金属遮光膜パターン１０或いはガラス面（基板６の表面）における残渣の残存率を低減し、異物１１の発生を防止又は遅延させるという対策がある。
【００１９】
また、特許文献１には、フォトマスク（レチクル）の保管装置内に、フィルタによって化学物質（アンモニア系不純物及び硫黄系不純物）を除去した後の空気を導入することにより、ペリクルの内部での異物の発生防止を図る技術が開示されている。
【００２０】
特許文献２には、ペリクルのフレームの内側、並びに、ペリクルを収容するケースの内側に、それぞれ異物の析出要因となるアンモニア等を吸着する層構造を設けたことにより、異物の発生防止を図る技術が開示されている。
【００２１】
特許文献３には、搬送ハンドでフォトマスクを保持して搬送する際に、搬送ハンドに設けられたガス噴射部から、ペリクルのフレームの通気孔（気圧調整穴９に相当）に向けてガスを噴射することにより、ペリクル内の雰囲気を強制的に換気する技術が開示されている。
【００２２】
特許文献４には、ペリクルのフレームに、該フレームにおける基板側とは反対側の端面からペリクルの内部に至るような屈曲した経路の通気孔を形成し、ガス供給装置の供給口を前記通気孔の外側の開口部分に臨ませて配置し、供給口から通気孔を介してペリクルの内部へとガスを供給することにより、ペリクル内の雰囲気を強制的に換気する技術が開示されている。
【特許文献１】特開２００４−３６１５５６号公報
【特許文献２】特開２０００−３５２８１２号公報
【特許文献３】特開２００４−１７９５１５号公報
【特許文献４】特開２００４−２５８１１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２３】
しかしながら、特許文献１の技術では、ペリクルの周囲の雰囲気は清浄な雰囲気に換気できるとしても、ペリクルの内部の雰囲気を効率よく換気することは困難である。
【００２４】
また、異物の析出要因となるアンモニア等を吸着する層構造をペリクル内部に形成する技術（特許文献２）では、ペリクル自体の構造が複雑となり、ペリクルの製造コスト増大を招く。また、同様の層構造をペリクルの収容ケースに設ける技術（特許文献２）では、ペリクルの周囲の雰囲気からは異物の析出要因となるアンモニア等を吸着除去できるとしても、ペリクル内部の雰囲気からは効率よくアンモニア等を吸着除去することが困難である。
【００２５】
また、特許文献３の技術では、通気孔とガスの噴射口との位置決めを高精度に行う必要があるため搬送ハンドの位置制御を高精度に行うための機構が必要となるということに加え、ガス噴射により強制的な換気を行う動作が適切になされないと、ペリクルを破損させるなどの懸念がある。
【００２６】
また、特許文献４の技術では、ペリクルのフレームに複雑な形状の通気孔を形成する必要があるため、ペリクル自体の構造が複雑となり、ペリクルの製造コスト増大を招く。また、強制的な換気を行う動作が適切になされないと、ペリクルを破損させるなどの懸念もある。
【００２７】
要するに、ペリクル付きフォトマスクの構造を複雑にすることなく、しかも、高精度の動作機構を備える必要もなく、ペリクル内部の換気を行うことは困難だった。
【課題を解決するための手段】
【００２８】
本発明は、ペリクルの内部空間が該ペリクルに形成された穴を介して外部に連通しているペリクル付きフォトマスクを内部に保管可能であり、かつ、前記ペリクル付きフォトマスクに対して温度変化を与えることが可能な温度変化付与部、を備えることを特徴とするペリクル付きフォトマスク保管装置を提供する。
【００２９】
このペリクル付きフォトマスク保管装置によれば、温度変化付与部の内部にペリクル付きフォトマスクを保管できるとともに、温度変化付与部においてペリクル付きフォトマスクに温度変化を与えることによって、ペリクルの内部の雰囲気を熱膨張或いは熱収縮させることができる。よって、ペリクルに形成された穴を介してペリクル内の雰囲気を換気することが可能である。すなわち、ペリクル付きフォトマスクの温度が高温に移行する際には、ペリクルの内部の雰囲気が熱膨張するのに伴い、該雰囲気の一部は穴を介してペリクルの外部へ排出されるので、ペリクル内の雰囲気の換気がなされる。他方、ペリクル付きフォトマスクの温度が低温に移行する際には、ペリクルの内部の雰囲気が熱収縮するのに伴い、ペリクルの外部の雰囲気が穴を介してペリクルの内部へ導入されるので、ペリクル内の雰囲気の換気がなされる。
【００３０】
よって、ペリクル付きフォトマスクとしては、例えば、図７及び図８に示すような一般的な構造のものを用いれば良い。つまり、ペリクルの構造を複雑にする必要がない。しかも、例えばペリクルの穴に対しガス噴射口を位置決めする場合のような高精度の動作機構を備える必要もない。
【００３１】
このような換気を行うことにより、短波長かつ高エネルギーの光源を用いてパターン転写を繰り返すことによりペリクル付きフォトマスクのペリクルの内部に生成される成長性異物の発生を抑止する効果、又は発生までの時間を遅延させる効果が得られる。そのことにより、フォトレジストに転写されるパターン形状の欠陥の発生頻度を低減し、製品の歩留まりを向上することができる。また、ペリクルの再装着の必要回数を低減できるとともに、ペリクル付きフォトマスクの耐用期間も延長することが可能となる。
【００３２】
また、本発明は、ペリクルの内部空間が該ペリクルに形成された穴を介して外部に連通した構成のペリクル付きフォトマスクを保管しながら、該ペリクル付きフォトマスクに対して温度変化を与えることによって、前記穴を介して前記ペリクル内の雰囲気を換気することを特徴とするペリクル付きフォトマスクの換気方法を提供する。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、ペリクル付きフォトマスクの構造を複雑にすることなく、しかも、高精度の動作機構を備える必要もなく、ペリクル内部の換気を行うことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様の構成要素には同一の符号を付し、適宜に説明を省略する。
【００３５】
図１は実施形態に係るペリクル付きフォトマスク保管装置１００の斜視図、図２はペリクル付きフォトマスク２０（図７）を収容するケース１の斜視図、図３はペリクル付きフォトマスク保管装置１００の制御ブロック図、図４は実施形態に係るペリクル付きフォトマスクの換気方法の流れを示すフローチャート、図５はペリクル付きフォトマスク２０の気圧調整穴９を通した換気動作を説明するための模式的な断面図、図６は図４を一部変更したフローチャート、図７はペリクル付きフォトマスク２０の斜視図、図８は図７のＡ−Ａ線に沿った矢視断面図である。
【００３６】
本実施形態に係るペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、ペリクル３０の内部空間が該ペリクル３０に形成された穴（例えば、気圧調整穴９）を介して外部に連通しているペリクル付きフォトマスク２０を保管可能であり、かつ、ペリクル付きフォトマスク２０に対して温度変化を与えることが可能な温度変化付与部１００ａを備えている。また、本実施形態に係るペリクル付きフォトマスクの換気方法では、ペリクル３０の内部空間が該ペリクル３０に形成された穴（例えば、気圧調整穴９）を介して外部に連通した構成のペリクル付きフォトマスク２０を保管しながら、該ペリクル付きフォトマスク２０に対して温度変化を与えることによって、その穴を介してペリクル３０内の雰囲気を換気する。以下、詳細に説明する。
【００３７】
先ず、ペリクル付きフォトマスク保管装置１００の構成を説明する。なお、ペリクル付きフォトマスク２０の構造は、例えば、図７及び図８を用いて上述した構造である。
【００３８】
図１に示すように、本実施形態に係るペリクル付きフォトマスク保管装置１００の温度変化付与部１００ａは、高温に設定される高温保管室（第２保管領域）２と、低温に設定される低温保管室（第３保管領域）３と、常温保管室（第１保管領域）４と、を有している。各保管室２、３、４には、それぞれペリクル付きフォトマスク２０を（例えば、後述するケース１内に納めた状態で該ケース１ごと）保管可能となっている。そして、後述するように、ペリクル付きフォトマスク２０が各保管室２、３、４へ順次に移動されることにより、ペリクル付きフォトマスク２０に対して温度変化を与えることが可能となっている。
【００３９】
ここで、ペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、例えば、一定温度に空調されたクリーンルーム内で使用されることを想定しており、常温保管室４は、ペリクル付きフォトマスク保管装置１００の外部の雰囲気と同程度の温度、すなわち、例えば、クリーンルームの設定温度と同程度の温度に設定される。本実施形態の場合、常温保管室４は、例えば、２３℃程度に設定する。
【００４０】
高温保管室２の温度は、例えば、常温保管室４よりも少なくとも５℃以上高温であり、かつ、例えば４０℃以下（より好ましくは３８℃以下：すなわちペリクル付きフォトマスク保管装置１００の外部の雰囲気の温度から１５℃以内の範囲）の温度に設定することが好ましい。高温保管室２の好適な温度範囲は、例えば、常温保管室４よりも５℃乃至１０℃高い温度である。本実施形態の場合、具体的には、例えば、高温保管室２の温度は、３０℃程度に設定する。なお、高温保管室２の温度は、図４のステップＳ１（後述）にて熱膨張によりペリクル付きフォトマスク２０のペリクル３０の内部の雰囲気を外部に排出できるような温度であれば、その他の温度であっても良い。また、高温保管室２の温度は、ペリクル付きフォトマスク２０の透光性フィルム膜８（図７、図８）を変形させるなどの影響を及ぼさない程度の温度であれば、４０℃を超える温度であっても良い。
【００４１】
低温保管室３の温度は、例えば、常温保管室４よりも少なくとも５℃以上低温であり、かつ、例えば８℃以上（すなわちペリクル付きフォトマスク保管装置１００の外部の雰囲気の温度から１５℃以内の範囲）の温度に設定することが好ましい。低温保管室３の好適な温度範囲は、例えば、常温保管室４よりも５℃乃至１０℃低い温度である。具体的には、例えば、低温保管室３の温度は、１５℃程度に設定する。なお、低温保管室３の温度は、図４のステップＳ２（後述）にて熱収縮によりペリクル付きフォトマスク２０のペリクル３０の外部の雰囲気を該ペリクル３０の内部に導入できるような温度であれば、その他の温度であっても良い。また、低温保管室３の温度は、図４のステップＳ３にてペリクル３０内に結露が発生しないような温度であることが好ましい。
【００４２】
これら高温保管室２、低温保管室３、及び常温保管室４は、例えば、その外形を構成するとともに内部にケース１を出し入れ可能に構成された筐体２ａ、３ａ、４ａと、その筐体２ａ、３ａ、４ａ内に配置された複数段の棚と、をそれぞれ備えて構成されている。各保管室２、３、４を構成する筐体２ａ、３ａ、４ａ内の棚の各段には、ペリクル付きフォトマスク２０を収容したケース１をそれぞれ格納し保管することが可能とされている。なお、図１に示すように、各保管室２、３、４は、相互に独立した筐体２ａ、３ａ、４ａを備えているため、各保管室２、３、４の間には、仕切り（例えば、各筐体２ａ、３ａ、４ａの側壁）が設けられていることになる。
【００４３】
図２に示すように、ケース１は、例えば、扁平な直方体形状の筐体であり、その前面には、ペリクル付きフォトマスク２０を該ケース１内に出し入れするための開口部１ａが形成されている。更に、ケース１の前面には、例えば、この開口部１ａを閉塞可能な蓋１ｂが設けられている。この蓋１ｂは、例えば、その上端部に沿って設けられたヒンジ機構によってケース１の前面に対し回動可能に連結されており、図２に２点鎖線で示すように、手前上側に開くことが可能となっている。なお、このようなケース１においては、蓋１ｂとケース１の前面との隙間を介して、容易に、ケース１外の雰囲気がケース１内に流入したり、逆にケース１内の雰囲気がケース１外に流出したりできるようになっている。つまり、ケース１の内外で雰囲気の流通がある状態となっている。
【００４４】
ペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、他に、ペリクル付きフォトマスク２０を収容したケース１を各保管室２、３、４の相互間で搬送可能な搬送機構５０（図３）と、各保管室２、３、４の温度を調節する第１乃至第３調温部２ｂ、３ｂ、４ｂ（図３）と、各保管室２、３、４に清浄なガスを供給する清浄ガス供給部（清浄ガス供給手段）５と、搬送機構５０及び第１乃至第３調温部２ｂ、３ｂ、４ｂの動作制御を行う制御部（制御手段）６０（図３）と、オペレータにより操作される操作部７０（図３）と、を備えている。
【００４５】
このうち搬送機構５０は、ケース１を各保管室２、３、４の相互間で移動させることが可能なロボット機構である。
【００４６】
第１調温部２ｂは高温保管室２の温度を調温する加熱装置（ヒータ）及び該高温保管室２の温度を検出する温度センサなどからなり、第２調温部３ｂは低温保管室３の温度を調温する冷却装置及び該低温保管室３の温度を検出する温度センサなどからなり、第３調温部４ｂは常温保管室４の温度を調温する加熱装置及び冷却装置と、該常温保管室４の温度を検出する温度センサなどからなる。
【００４７】
なお、第３調温部４ｂは備えないこととしてもよい。常温保管室４は、特に調温しなくても、ペリクル付きフォトマスク保管装置１００の外部の雰囲気の温度に近い温度となるためである。
【００４８】
清浄ガス供給部５は、例えば、後述する外部筐体８０の内部を清浄な状態に保つとともにペリクル３０内の雰囲気の置換に用いられる清浄な不活性ガス（例えば、Ｎ２）を、供給ダクト５ａを介して各保管室２、３、４の例えば上部へ供給する。なお、各保管室２、３、４の例えば下部からは、各保管室２、３、４内の雰囲気を排気ダクト５ｂを介してペリクル付きフォトマスク保管装置１００の外部へ排気することが可能となっている。
【００４９】
ペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、更に、温度変化付与部１００ａ、搬送機構５０、第１乃至第３調温部２ｂ〜４ｂ、清浄ガス供給部５、供給ダクト５ａ及び排気ダクト５ｂを内部に収容した外部筐体８０を備えている。
【００５０】
操作部７０は、例えば、ペリクル付きフォトマスク保管装置１００内に保管されるペリクル付きフォトマスク２０の使用予定時期などの入力操作を受け付ける。なお、この使用予定時期は、例えば、個々のペリクル付きフォトマスク２０毎に入力できるものとし、制御部６０は個々のペリクル付きフォトマスク２０の使用予定時期を記憶保持し管理するものとする。また、これら使用予定時期は、随時に操作部７０への操作を行うことにより、随時に更新される。
【００５１】
制御部６０は、例えば、各種の演算処理並びに制御動作を行うＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）と、このＣＰＵの動作用プログラムを格納したＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）と、このＣＰＵの作業領域などとして機能するＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）と、を備えて構成されている。
【００５２】
制御部６０には、操作部７０に対する入力結果（使用予定時期を示すデータを含む）の他、各調温部２ｂ〜４ｂの温度センサによる検出結果などが入力されるようになっている。制御部６０は、操作部７０に対する入力結果に応じて、搬送機構５０の動作制御を行う。なお、制御部６０による搬送機構５０の動作制御の詳細は後述する。
【００５３】
また、制御部６０は、各調温部２ｂ〜４ｂの温度センサによる検出結果に応じて、各調温部２ｂ〜４ｂを制御し、それぞれ対応する保管室２、３、４をそれぞれの設定温度に調温させる。
【００５４】
ペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、以上のように構成されている。なお、このようなペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、既存のペリクル付きフォトマスク保管装置に対し、温度変化付与部１００ａ、搬送機構５０、制御部６０、清浄ガス供給部５などを追加で設けることにより構成することができる。
【００５５】
次に、上記のような構成のペリクル付きフォトマスク保管装置１００を用いたペリクル付きフォトマスクの換気方法を説明する。なお、以下では簡単のため、１つのケース１を各保管室２、３、４へ順次に搬送することにより１つのペリクル付きフォトマスク２０の換気を行う動作を説明するが、複数のケース１をそれぞれの内部のペリクル付きフォトマスク２０の使用予定に応じて適宜に搬送することによって、複数のペリクル付きフォトマスク２０の換気動作を並列的に行うようにしても良いのは勿論である。
【００５６】
例えば、ペリクル付きフォトマスク２０を収容したケース１が新たに常温保管室４内に入れられ、そのペリクル付きフォトマスク２０に対する換気動作を指示する操作が操作部７０に対してなされたとする。すると、制御部６０は、搬送機構５０を制御し、該ケース１を高温保管室２へ搬送させる（図４のステップＳ１）。
【００５７】
ステップＳ１では、ケース１内のペリクル付きフォトマスク２０は加熱される。このため、ペリクル３０内の雰囲気が熱膨張するので、図５（ａ）に示すように、ペリクル３０内の雰囲気が気圧調整穴９を通してペリクル３０の外部に排出される。
【００５８】
また、制御部６０は、ケース１が高温保管室２内に搬送されてからの経過時間を監視する。この経過時間が所定の滞在時間に達したら、制御部６０は、ケース１内のペリクル付きフォトマスク２０を所定時間内に使用する予定の有無を判断する（ステップＳ２）。すなわち、操作部７０に対し入力された使用予定時期と現在時刻とを比較し、その差が所定時間内であるか否かを判定する。
【００５９】
そして、所定時間内に使用予定があると判断した場合、すなわち、操作部７０に対し入力された使用予定時期と現在時刻との差が所定時間内であった場合（ステップＳ２のＹｅｓ）、制御部６０は、搬送機構５０を制御してケース１を高温保管室２から常温保管室４へ搬送させ、使用前のペリクル付きフォトマスク２０の温度を安定化させる（図４のステップＳ５）。
【００６０】
ここでのステップＳ５では、ケース１内のペリクル付きフォトマスク２０は冷却される。このため、ペリクル３０内の雰囲気が熱収縮するので、ペリクル３０の外部の清浄な雰囲気が気圧調整穴９を通してペリクル３０の内部に導入される。
【００６１】
なお、上記の滞在時間は、例えば、３０分間〜１時間の間の任意の時間とすることができる。また、上記の所定時間は、例えば、上記滞在時間以上の長さの任意の時間とすることができる。
【００６２】
また、所定時間内には使用予定がないと判断した場合（ステップＳ２のＮｏ）、制御部６０は、搬送機構５０を制御してペリクル付きフォトマスク２０を低温保管室３へ搬送させる（ステップＳ３）。
【００６３】
ステップＳ３では、ケース１内のペリクル付きフォトマスク２０は冷却される。このため、ペリクル３０内の雰囲気が熱収縮するので、図５（ｂ）に示すように、ペリクル３０の外部の清浄な雰囲気が気圧調整穴９を通して、ペリクル３０の内部に導入される。
【００６４】
また、制御部６０は、ケース１が低温保管室３内に搬送されてからの経過時間を監視する。この経過時間が上記所定の滞在時間に達したら、制御部６０は、ケース１内のペリクル付きフォトマスク２０を上記所定時間内に使用する予定の有無を判断する（ステップＳ４）。
【００６５】
そして、所定時間内に使用予定があると判断した場合（ステップＳ４のＹｅｓ）、制御部６０は、搬送機構５０を制御してケース１を低温保管室３から常温保管室４へ搬送させ、使用前のペリクル付きフォトマスク２０の温度を安定化させる（図４のステップＳ５）。
【００６６】
ここでのステップＳ５では、ケース１内のペリクル付きフォトマスク２０の温度は上昇する。このため、ペリクル３０内の雰囲気が熱膨張するので、図５（ｃ）に示すように、ペリクル３０内の雰囲気が気圧調整穴９を通してペリクル３０の外部に排出される。
【００６７】
また、所定時間内には使用予定がないと判断した場合（ステップＳ４のＮｏ）、制御部６０は、搬送機構５０によってケース１を再び高温保管室２へ搬送させる（ステップＳ１）。
【００６８】
以後は、上記と同様に、所定時間内にペリクル付きフォトマスク２０を使用する予定がない限りは、該ペリクル付きフォトマスク２０を高温保管室２と低温保管室３とに交互に搬送し、ペリクル３０内の換気を継続的に行う。これにより、徐々に、ペリクル３０内の雰囲気を清浄ガス供給部５から供給される清浄な不活性ガスへと置換する。
【００６９】
こうして、温度安定等の無駄な待ち時間なく、ペリクル付きフォトマスク２０の換気動作を実行できる。
【００７０】
なお、図４の動作は、図６の動作に置き換えることも可能である。すなわち、図６の場合、図４におけるステップＳ２の動作を省略し、図4におけるステップＳ１に引き続きステップＳ３の動作を行う。この場合、例えば、上記所定時間の長さを、図４の動作の場合の２倍の長さ（上記滞在時間の２倍以上の長さの任意の時間）に設定すれば良い。
【００７１】
以上のような実施形態によれば、ペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、ペリクル３０の内部空間が該ペリクル３０に形成された気圧調整穴９を介して外部に連通しているペリクル付きフォトマスク２０を保管可能であり、かつ、ペリクル付きフォトマスク２０に対して温度変化を与えることが可能な温度変化付与部１００ａを備えるので、温度変化付与部１００ａの内部にペリクル付きフォトマスク２０を保管できるとともに、温度変化付与部１００ａにおいてペリクル付きフォトマスク２０に温度変化を与えることによって、ペリクル３０の内部の雰囲気を熱膨張或いは熱収縮させることができる。よって、ペリクルに形成された気圧調整穴９を介してペリクル３０内の雰囲気を換気することが可能である。すなわち、ペリクル付きフォトマスク２０の温度が高温に移行する際には、ペリクル３０の内部の雰囲気が熱膨張するのに伴い、該雰囲気の一部は気圧調整穴９を介してペリクル３０の外部へ排出されることにより、ペリクル３０内の雰囲気の換気がなされる。他方、ペリクル付きフォトマスク２０の温度が低温に移行する際には、ペリクル３０の内部の雰囲気が熱収縮するのに伴い、ペリクル３０の外部の雰囲気が気圧調整穴９を介してペリクルの内部へ導入されることにより、ペリクル３０内の雰囲気の換気がなされる。
【００７２】
よって、ペリクル付きフォトマスク２０としては、例えば、図７及び図８に示すような一般的な構造のものを用いれば良い。つまり、ペリクル付きフォトマスク２０の構造を複雑にする必要がない。しかも、例えばペリクル３０の気圧調整穴９に対しガス噴射口を位置決めする場合のような高精度の動作機構を備える必要もない。
【００７３】
このような換気を行うことにより、短波長かつ高エネルギーの光源を用いてパターン転写を繰り返すことによりペリクル付きフォトマスク２０のペリクル３０の内部に生成される成長性異物の発生を抑止する効果、又は発生までの時間を遅延させる効果が得られる。そのことにより、ペリクル３０の再装着の必要回数を低減できるとともに、ペリクル付きフォトマスク２０の耐用期間も延長することが可能となる。
【００７４】
また、ペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、ペリクル付きフォトマスク２０をそれぞれ保管可能であり、かつ、相互に異なる温度に設定される各保管室２、３、４を有しているので、ペリクル付きフォトマスク２０が各保管室２、３、４間を移動されることにより、ペリクル付きフォトマスク２０に対して温度変化を与えることができる。
【００７５】
また、常温保管室４は、ペリクル付きフォトマスク保管装置１００の外部の雰囲気の温度に設定されるので、ペリクル付きフォトマスク２０の使用に際して該ペリクル付きフォトマスク２０を常温保管室４に配置することにより、該ペリクル付きフォトマスク２０の温度の安定化を図ることができる。
【００７６】
さらに、ペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、常温保管室４よりも高温の高温保管室２と、常温保管室４よりも低温の低温保管室３と、を備えるので、ペリクル３０内の雰囲気を大きく熱膨張及び熱収縮させることができるため、該雰囲気を好適に換気することができる。
【００７７】
また、ペリクル付きフォトマスク２０を各保管室２、３、４の相互間で搬送可能な搬送機構５０を備えるので、ペリクル付きフォトマスク２０を各保管室２、３、４に配置させる動作を自動化することができる（手作業で行う必要がない）。
【００７８】
また、搬送機構５０の動作制御を行う制御部６０を備え、制御部６０は、ペリクル付きフォトマスク２０を各保管室２、３、４へ順次に搬送させる制御を行うので、ペリクル付きフォトマスク２０に対し自動的に好適な温度サイクルを付与することができる。
【００７９】
また、制御部６０は、ペリクル付きフォトマスク２０を所定時間内に使用する予定の有無を判断し、所定時間内に使用する予定がない場合にはペリクル付きフォトマスク２０を高温保管室２と低温保管室３とに交互に搬送させ、所定時間内に使用する予定がある場合にはペリクル付きフォトマスク２０を常温保管室４に搬送させるので、ペリクル付きフォトマスク２０を所定時間内に使用する予定がない限りは、ペリクル付きフォトマスク２０に対し、温度変化量が大きい温度サイクルを付与して好適に換気を行うことができる一方で、所定時間内に使用する予定がある場合にはペリクル付きフォトマスク２０を常温保管室４に配置することにより、該ペリクル付きフォトマスク２０の温度の安定化を図ることができる。よって、ペリクル付きフォトマスク２０の使用に際し、温度安定のための無駄な待ち時間が発生しないようにできる。
【００８０】
また、制御部６０は、ペリクル付きフォトマスク２０を所定時間内に使用する予定がない場合には、ペリクル付きフォトマスク２０を各保管室２、３のうちの一の保管室内に所定の滞在時間の間滞在させた後、他の保管室（各保管室２、３、４のうちの何れか他の１つの保管室）へ搬送させるので、各保管室２、３で温度が安定化するまで十分に換気動作を行った後、他の保管室へ搬送させるようにできる。
【００８１】
また、保管領域としての各保管室２、３、４の間に仕切りが設けられているので、より具体的には、例えば、各保管室２、３、４は、それぞれ筐体２ａ、３ａ、４ａを備えて構成されているので、各保管室２、３、４をそれぞれ好適に設定温度に維持させることができる。
【００８２】
また、各保管室２、３、４へ清浄なガスを供給する清浄ガス供給部５を備えるので、各保管室２、３、４内の雰囲気を清浄に保つことができるとともに、ペリクル３０内を清浄なガスで置換することができる。
【００８３】
また、ペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、既存のペリクル付きフォトマスク保管装置に対し、温度変化付与部１００ａ、搬送機構５０、制御部６０、清浄ガス供給部５などを追加で設けることにより、容易に構成することができる。
【００８４】
上記の実施形態では、温度変化付与部１００ａが第１、第２及び第３保管領域としての各保管室２、３、４を備える構成を例示したが、この例に限らず、１つの保管領域で（ペリクル付きフォトマスク２０を移動させることなく）ペリクル付きフォトマスク２０を加熱又は冷却が可能なように、或いは加熱及び冷却が可能なように、該１つの保管領域を加熱或いは冷却する手段を設けても良い。
【００８５】
また、上記の実施形態では、温度変化付与部１００ａが第１、第２及び第３保管領域としての各保管室２、３、４を備える構成を例示したが、相互に異なる温度に設定される第１及び第２保管領域としての２つの保管室を備える構成としても良い。この場合に、例えば、一方の保管室がペリクル付きフォトマスク保管装置１００の外部の雰囲気の温度に設定されるものとすると、他方の保管室は、当該一方の保管室よりも高温に設定されても良いし、或いは、低温に設定されても良い。
【００８６】
また、保管領域（例えば、保管室）の数は、４つ以上であっても良いし、各保管領域のうちの何れか複数の保管室は、互いに同一の設定温度に設定されても良い。
【００８７】
また、上記の実施形態では、ペリクル付きフォトマスク保管装置１００が搬送機構５０を備える例を説明したが、搬送機構５０を備えない構成とし、例えば手作業でペリクル付きフォトマスク２０を各保管室２、３、４へ順次に移動させるようにしても良い。
【００８８】
また、上記の実施形態では、各保管室２、３、４が、それぞれ筐体２ａ、３ａ、４ａを備えて構成されている例を説明したが、単に、各保管室２、３、４の間に仕切りを設けただけの構成であっても良い。更には、各保管領域を相互に異なる温度に設定可能であれば、各保管領域の間に仕切りさえも設けない構成としても良い。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】実施形態に係るペリクル付きフォトマスク保管装置の斜視図である。
【図２】ペリクル付きフォトマスクを収容するケースの斜視図である。
【図３】ペリクル付きフォトマスク保管装置の制御ブロック図である。
【図４】実施形態に係るペリクル付きフォトマスクの換気方法の好適な一例を示すフローチャートである。
【図５】ペリクル付きフォトマスクの気圧調整穴を通した換気動作を説明するための模式的な断面図である。
【図６】実施形態に係るペリクル付きフォトマスクの換気方法の他の一例を示すフローチャートである。
【図７】ペリクル付きフォトマスクの斜視図である。
【図８】図７のＡ−Ａ線に沿った矢視断面図である。
【図９】図７のＡ−Ａ線に沿った矢視断面図であり、特に、ペリクルの内部に異物が発生した状態を模式的に示す。
【符号の説明】
【００９０】
１  ケース
１ａ  開口部
１ｂ  蓋
２  高温保管室（第２保管領域）
２ａ  筐体
２ｂ  第１調温部
３  低温保管室（第３保管領域）
３ａ  筐体
３ｂ  第２調温部
４  常温保管室（第１保管領域）
４ａ  筐体
４ｂ  第３調温部
５  清浄ガス供給部（清浄ガス供給手段）
５ａ  供給ダクト
５ｂ  排気ダクト
６  基板
７  フレーム
８  透光性フィルム膜
９  気圧調整穴（穴）
１０  金属遮光膜パターン
１１  異物
２０  ペリクル付きフォトマスク
３０  ペリクル
５０  搬送機構
６０  制御部（制御手段）
７０  操作部
８０  外部筐体
１００  ペリクル付きフォトマスク保管装置
１００ａ  温度変化付与部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2010153551.tif 000008
【図７】
2010153551.tif 000009
【図８】
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【図９】
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