(57)【要約】【課題】レーザ発振器から照射されるレーザ光を機械的に制御することで、レーザ光のプロファイルを制御したり出力を制御したりすること。【解決手段】レーザシャッタユニット１は、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌを透過させる透過状態と、レーザ光Ｌを遮断する遮断状態とを切り替える。レーザシャッタユニット１は、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌの一部を反射可能な前方反射ミラー１０ａと、レーザ光Ｌの残部を反射可能な後方反射ミラー１０ｂと、前方反射ミラー１０ａに設けられて前方反射ミラー１０ａを駆動する前方駆動部１５ａと、後方反射ミラー１０ｂに設けられて後方反射ミラー１０ｂを駆動する後方駆動部１５ｂと、を備えている。前方駆動部１５ａの前方反射ミラー１０ａを駆動する速度は可変となり、後方駆動部１５ｂの後方反射ミラー１０ｂを駆動する速度は可変となっている。【選択図】図１
2010264501.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ発振器から照射されたレーザ光を透過させる透過状態と、該レーザ光を遮断する遮断状態とを切り替えるレーザシャッタユニットにおいて、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射可能な前方反射ミラーと、
前記レーザ光の残部を反射可能な後方反射ミラーと、
前記前方反射ミラーに設けられ、該前方反射ミラーを駆動する前方駆動部と、
前記後方反射ミラーに設けられ、該後方反射ミラーを駆動する後方駆動部と、を備え、
前記前方駆動部の前記前方反射ミラーを駆動する速度は可変となり、
前記後方駆動部の前記後方反射ミラーを駆動する速度は可変となることを特徴とするレーザシャッタユニット。
【請求項２】
レーザ発振器から照射されたレーザ光を透過させる透過状態と、該レーザ光を遮断する遮断状態とを切り替えるレーザシャッタユニットにおいて、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射可能な前方反射ミラーと、
前記レーザ光の残部を反射可能な後方反射ミラーと、
前記前方反射ミラーに設けられ、該前方反射ミラーを駆動する前方駆動部と、
前記後方反射ミラーに設けられ、該後方反射ミラーを駆動する後方駆動部と、を備え、
前記前方駆動部は、前記前方反射ミラーを前記透過状態の際に位置づけられる位置と前記遮断状態の際に位置づけられる位置との間の任意の位置で停止させることができ、
前記後方駆動部は、前記後方反射ミラーを前記透過状態の際に位置づけられる位置と前記遮断状態の際に位置づけられる位置との間の任意の位置で停止させることができることを特徴とするレーザシャッタユニット。
【請求項３】
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射して光路を変えるとともに、残部を透過するハーフミラーをさらに備え、
前記前方反射ミラーおよび前記後方反射ミラーが、前記レーザ発振器から照射されたレーザ光が前記ハーフミラーに達するまでの間に配置されることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載のレーザシャッタユニット。
【請求項４】
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射して光路を変えるとともに、残部を透過するハーフミラーをさらに備え、
前記前方反射ミラーおよび前記後方反射ミラーが、前記ハーフミラーで反射されたレーザ光を透過状態と遮断状態に切り替えることができる位置、または、前記ハーフミラーを透過したレーザ光を透過状態と遮断状態に切り替えることができる位置に配置されることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載のレーザシャッタユニット。
【請求項５】
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射して光路を変えるとともに、残部を透過するハーフミラーをさらに備え、
前記前方反射ミラーと前記後方反射ミラーの組み合わせを二つ以上有し、
前記前方反射ミラーと前記後方反射ミラーの組み合わせのうちの一つは、前記レーザ発振器から照射されたレーザ光が前記ハーフミラーに達するまでの間に配置され
前記前方反射ミラーと前記後方反射ミラーの組み合わせのうちの別の一つは、前記ハーフミラーで反射されたレーザ光を透過状態と遮断状態に切り替えることができる位置、または、前記ハーフミラーを透過したレーザ光を透過状態と遮断状態に切り替えることができる位置に配置されることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載のレーザシャッタユニット。
【請求項６】
前記前方反射ミラーで反射されたレーザ光の一部を吸収する前方吸収部材と、
前記後方反射ミラーで反射されたレーザ光の残部を吸収する後方吸収部材と、をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のレーザシャッタユニット。
【請求項７】
前記前方反射ミラーを回転駆動させる前方回転駆動部と、
前記後方反射ミラーを回転駆動させる後方回転駆動部と、をさらに備え、
前記透過状態において、前記前方反射ミラーおよび前記後方反射ミラーは、前記レーザ光に略平行に位置づけられ、前記遮断状態において、前記前方反射ミラーは回転されて該レーザ光の一部を反射する位置に位置づけられ、前記後方反射ミラーは回転されて該レーザ光の残部を反射する位置に位置づけられることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のレーザシャッタユニット。
【請求項８】
レーザ光を照射させるレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光を透過させる透過状態と、該レーザ光を遮断する遮断状態とを切り替えるレーザシャッタユニットと、を備え、
前記レーザシャッタユニットは、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射可能な前方反射ミラーと、
前記レーザ光の残部を反射可能な後方反射ミラーと、
前記前方反射ミラーに設けられ、該前方反射ミラーを駆動する前方駆動部と、
前記後方反射ミラーに設けられ、該後方反射ミラーを駆動する後方駆動部と、を有し、
前記前方駆動部の前記前方反射ミラーを駆動する速度は可変となり、
前記後方駆動部の前記後方反射ミラーを駆動する速度は可変となることを特徴とするレーザ加工装置。
【請求項９】
レーザ光を照射させるレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光を透過させる透過状態と、該レーザ光を遮断する遮断状態とを切り替えるレーザシャッタユニットと、を備え、
前記レーザシャッタユニットは、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射可能な前方反射ミラーと、
前記レーザ光の残部を反射可能な後方反射ミラーと、
前記前方反射ミラーに設けられ、該前方反射ミラーを駆動する前方駆動部と、
前記後方反射ミラーに設けられ、該後方反射ミラーを駆動する後方駆動部と、を有し、
前記前方駆動部は、前記前方反射ミラーを前記透過状態の際に位置づけられる位置と前記遮断状態の際に位置づけられる位置との間の任意の位置で停止させることができ、
前記後方駆動部は、前記後方反射ミラーを前記透過状態の際に位置づけられる位置と前記遮断状態の際に位置づけられる位置との間の任意の位置で停止させることができることを特徴とするレーザ加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ発振器から照射されたレーザ光を透過させる透過状態と、当該レーザ光を遮断する遮断状態とを切り替えるレーザシャッタユニットと、このようなレーザシャッタユニットを用いたレーザ加工装置に関する
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザ光を照射させるレーザ発振器と、当該レーザ発振器から照射されたレーザ光を透過させる透過状態と、当該レーザ光を遮断する遮断状態とを切り替えるレーザシャッタユニットと、を備えたレーザ加工装置が知られている（特許文献１および２、参照）。そして、このようなシャッタユニットは、レーザ発振器から照射されるレーザ光の出力が安定するまでの間でレーザ光を遮断したり、レーザ加工装置と外部搬送機との同期をとったりするために用いられ、レーザ加工装置において必要不可欠なユニットになってきている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１３６４７８号公報
【特許文献２】特開平６−１９６７８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述のようなレーザシャッタユニットは、従来、透過状態と遮断状態(ＯＰＥＮ，ＣＬＯＳＥ)を切り換えることだけに用いられており、レーザ発振器から照射されたレーザ光のプロファイルや出力を制御する場合には、レーザ発振器を制御している。
【０００５】
そして、このようにレーザ発振器を制御するには、励起光照射部から照射される励起光を制御する必要があるが、励起光の強度などを変化させる態様では（例えば高速に変化させる態様では）、レーザ発振器から照射されるレーザ光が不安定なものとなってしまい、ひいては、被処理基板の加工品質が損なわれてしまう。
【０００６】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、レーザ発振器から照射されるレーザ光を機械的に制御することができ、レーザ光のプロファイルを制御したり出力を制御したりすることができるレーザシャッタユニットと、このようなレーザシャッタユニットを用いたレーザ加工装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によるレーザシャッタユニットは、
レーザ発振器から照射されたレーザ光を透過させる透過状態と、該レーザ光を遮断する遮断状態とを切り替えるレーザシャッタユニットにおいて、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射可能な前方反射ミラーと、
前記レーザ光の残部を反射可能な後方反射ミラーと、
前記前方反射ミラーに設けられ、該前方反射ミラーを駆動する前方駆動部と、
前記後方反射ミラーに設けられ、該後方反射ミラーを駆動する後方駆動部と、を備え、
前記前方駆動部の前記前方反射ミラーを駆動する速度が可変となり、
前記後方駆動部の前記後方反射ミラーを駆動する速度が可変となっている。
【０００８】
本発明によるレーザシャッタユニットは、
レーザ発振器から照射されたレーザ光を透過させる透過状態と、該レーザ光を遮断する遮断状態とを切り替えるレーザシャッタユニットにおいて、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射可能な前方反射ミラーと、
前記レーザ光の残部を反射可能な後方反射ミラーと、
前記前方反射ミラーに設けられ、該前方反射ミラーを駆動する前方駆動部と、
前記後方反射ミラーに設けられ、該後方反射ミラーを駆動する後方駆動部と、を備え、
前記前方駆動部が、前記前方反射ミラーを前記透過状態の際に位置づけられる位置と前記遮断状態の際に位置づけられる位置との間の任意の位置で停止させることができ、
前記後方駆動部が、前記後方反射ミラーを前記透過状態の際に位置づけられる位置と前記遮断状態の際に位置づけられる位置との間の任意の位置で停止させることができるようになっている。
【０００９】
本発明によるレーザシャッタユニットは、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射して光路を変えるとともに、残部を透過するハーフミラーをさらに備え、
前記前方反射ミラーおよび前記後方反射ミラーが、前記レーザ発振器から照射されたレーザ光が前記ハーフミラーに達するまでの間に配置されてもよい。
【００１０】
本発明によるレーザシャッタユニットは、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射して光路を変えるとともに、残部を透過するハーフミラーをさらに備え、
前記前方反射ミラーおよび前記後方反射ミラーが、前記ハーフミラーで反射されたレーザ光を透過状態と遮断状態に切り替えることができる位置、または、前記ハーフミラーを透過したレーザ光を透過状態と遮断状態に切り替えることができる位置に配置されてもよい。
【００１１】
本発明によるレーザシャッタユニットは、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射して光路を変えるとともに、残部を透過するハーフミラーをさらに備え、
前記前方反射ミラーと前記後方反射ミラーの組み合わせを二つ以上有し、
前記前方反射ミラーと前記後方反射ミラーの組み合わせのうちの一つが、前記レーザ発振器から照射されたレーザ光が前記ハーフミラーに達するまでの間に配置され
前記前方反射ミラーと前記後方反射ミラーの組み合わせのうちの別の一つが、前記ハーフミラーで反射されたレーザ光を透過状態と遮断状態に切り替えることができる位置、または、前記ハーフミラーを透過したレーザ光を透過状態と遮断状態に切り替えることができる位置に配置されてもよい。
【００１２】
本発明によるレーザシャッタユニットは、
前記前方反射ミラーで反射されたレーザ光の一部を吸収する前方吸収部材と、
前記後方反射ミラーで反射されたレーザ光の残部を吸収する後方吸収部材と、をさらに備えてもよい。
【００１３】
本発明によるレーザシャッタユニットは、
前記前方反射ミラーを回転駆動させる前方回転駆動部と、
前記後方反射ミラーを回転駆動させる後方回転駆動部と、をさらに備え、
前記透過状態において、前記前方反射ミラーおよび前記後方反射ミラーが、前記レーザ光に略平行に位置づけられ、前記遮断状態において、前記前方反射ミラーは回転されて該レーザ光の一部を反射する位置に位置づけられ、前記後方反射ミラーは回転されて該レーザ光の残部を反射する位置に位置づけられてもよい。
【００１４】
本発明によるレーザ加工装置は、
レーザ光を照射させるレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光を透過させる透過状態と、該レーザ光を遮断する遮断状態とを切り替えるレーザシャッタユニットと、を備え、
前記レーザシャッタユニットが、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射可能な前方反射ミラーと、
前記レーザ光の残部を反射可能な後方反射ミラーと、
前記前方反射ミラーに設けられ、該前方反射ミラーを駆動する前方駆動部と、
前記後方反射ミラーに設けられ、該後方反射ミラーを駆動する後方駆動部と、を有し、
前記前方駆動部の前記前方反射ミラーを駆動する速度が可変となり、
前記後方駆動部の前記後方反射ミラーを駆動する速度が可変となっている。
【００１５】
本発明によるレーザ加工装置は、
レーザ光を照射させるレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光を透過させる透過状態と、該レーザ光を遮断する遮断状態とを切り替えるレーザシャッタユニットと、を備え、
前記レーザシャッタユニットが、
前記レーザ発振器から照射されたレーザ光の一部を反射可能な前方反射ミラーと、
前記レーザ光の残部を反射可能な後方反射ミラーと、
前記前方反射ミラーに設けられ、該前方反射ミラーを駆動する前方駆動部と、
前記後方反射ミラーに設けられ、該後方反射ミラーを駆動する後方駆動部と、を有し、
前記前方駆動部が、前記前方反射ミラーを前記透過状態の際に位置づけられる位置と前記遮断状態の際に位置づけられる位置との間の任意の位置で停止させることができ、
前記後方駆動部が、前記後方反射ミラーを前記透過状態の際に位置づけられる位置と前記遮断状態の際に位置づけられる位置との間の任意の位置で停止させることができるようになっている。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、レーザ光の一部を反射する前方反射ミラーの駆動速度が可変となり、かつ、レーザ光の残部を反射する後方反射ミラーの駆動速度が可変となっているか、または、前方反射ミラーを透過状態と遮断状態との間の任意の位置で停止させることができ、かつ、後方反射ミラーを透過状態と遮断状態との間の任意の位置で停止させることができるようになっている。このため、レーザ発振器から照射されるレーザ光を機械的に制御することができ、レーザ光のプロファイルを制御したり出力を制御したりすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の第１の実施の形態によるレーザ加工装置が透過状態および遮断状態にある態様を示す概略図。
【図２】本発明の第１の実施の形態によるレーザ加工装置で、レーザ光のスポットの大きさを調整する態様を示した図。
【図３】本発明の第１の実施の形態の変形例によるレーザ加工装置を示す概略図。
【図４】本発明の第２の実施の形態によるレーザ加工装置で、レーザ光のスポットの大きさを調整する態様を示した図。
【図５】本発明の第３の実施の形態によるレーザ加工装置の構成を示す概略図。
【図６】本発明の第３の実施の形態によるレーザ加工装置のある駆動態様を示す概略図。
【図７】本発明の第３の実施の形態によるレーザ加工装置の別の駆動態様を示す概略図。
【図８】本発明の第３の実施の形態によるレーザ加工装置のさらに別の駆動態様を示す概略図。
【図９】本発明の第４の実施の形態によるレーザ加工装置の構成を示す概略図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
第１の実施の形態
以下、本発明に係るレーザシャッタユニットとレーザ加工装置の第１の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１（ａ）（ｂ）乃至図３（ａ）−（ｃ）は本発明の第１の実施の形態を示す図である。
【００１９】
図１（ａ）（ｂ）に示すように、本実施の形態によるレーザ加工装置は、レーザ光Ｌを照射させるレーザ発振器２０と、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌを透過させる透過状態と、当該レーザ光Ｌを遮断する遮断状態とを切り替えるレーザシャッタユニット１と、を備えている。なお、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌはガラス基板などの被処理基板６０を処理するために用いられる。
【００２０】
このうち、レーザシャッタユニット１は、図１（ａ）（ｂ）に示すように、回転軸１１ａを中心に回転自在に配置され、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌの一部を反射可能な第一反射ミラー（前方反射ミラー）１０ａと、回転軸１１ｂを中心に回転自在に配置され、レーザ光Ｌの残部（第一反射ミラー１０ａで反射されなかったレーザ光Ｌ）を反射可能な第二反射ミラー（後方反射ミラー）１０ｂと、第一反射ミラー１０ａを回転駆動させる第一回転駆動部（前方駆動部）１５ａと、第二反射ミラー１０ｂを回転駆動させる第二回転駆動部（後方駆動部）１５ｂと、を有している。
【００２１】
また、レーザ発振器２０としては、例えば、パルスレーザを照射するパルスレーザ発振器や、ＣＷレーザを発振するＣＷレーザ発振器を用いることができる。なお、本実施の形態では、レーザ発振器２０が径の太いレーザ光Ｌ（例えば、直径１０ｍｍ以上のレーザ光Ｌ）を照射する場合態様を用いて説明するが、これに限られることはない。
【００２２】
また、本実施の形態では、第一回転駆動部１５ａの第一反射ミラー１０ａを回転駆動する速度が可変となり、第二回転駆動部１５ｂの第二反射ミラー１０ｂを駆動する速度が可変となっている。このため、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを高速で回転駆動することによって、透過状態と遮断状態を切り替えることができる。また、レーザ発振器２０としてＣＷレーザを発振するＣＷレーザ発振器を用いた場合には、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを高速で回転駆動することによって、透過状態と遮断状態を高速で切り替えることでパルス状のレーザ光Ｌを機械的に生成することもできる。
【００２３】
他方、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを低速で回転駆動することによって、被処理基板６０に照射されるレーザ光Ｌの強度を徐々に強めたり徐々に弱めたりすることができ、出力を制御することができる。また、レーザ発振器２０としてパルスレーザを照射するパルスレーザ発振器を用いた場合には、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを低速で回転駆動することによって、パルスレーザの立ち上がりや立ち下がりのプロファイルを制御することもできる。
【００２４】
なお、本実施の形態では、回転自在な第一反射ミラー１０ａと第二反射ミラー１０ｂを用いて説明するが、これに限られることなく、例えば、第一反射ミラー１０ａがスライドすることでレーザ光Ｌの一部を反射し、第二反射ミラー１０ｂが同様にスライドすることでレーザ光Ｌの残部を反射するような態様を用いることもできる。しかしながら、わずかに回転するだけで透過状態と遮断状態を切り替えることができ、このため、迅速に透過状態と遮断状態を切り替えることができる点からすると、本実施の形態で示すよう第一反射ミラー１０ａと第二反射ミラー１０ｂを回転させる態様を用いる方が好ましい。
【００２５】
ところで、透過状態において、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂは、レーザ光Ｌを反射しない位置に位置づけられるように構成されている（図１（ａ）参照）。より具体的には、本実施の形態では、透過状態において、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂは、レーザ光Ｌに略平行に位置づけられるように構成されている。
【００２６】
他方、遮断状態において、第一反射ミラー１０ａはレーザ光Ｌの一部を反射する位置に位置づけられ、第二反射ミラー１０ｂはレーザ光Ｌの残部を反射する位置に位置づけられるように構成されている（図１（ｂ）参照）。より具体的には、本実施の形態では、遮断状態において、第一反射ミラー１０ａは回転されてレーザ光Ｌの一部を反射する位置に位置づけられ、第二反射ミラー１０ｂは回転されてレーザ光Ｌの残部を反射する位置に位置づけられるように構成されている。
【００２７】
また、図１（ａ）（ｂ）に示すように、レーザシャッタユニット１は、第一反射ミラー１０ａで反射されたレーザ光Ｌの一部を吸収する第一吸収部材（前方吸収部材）３０ａと、第二反射ミラー１０ｂで反射されたレーザ光Ｌの残部を吸収する第二吸収部材（後方吸収部材）３０ｂをさらに備えている。このうち、第一吸収部材３０ａには、当該第一吸収部材３０ａを冷却する第一冷却装置（前方冷却装置）３５ａが設けられ、第二吸収部材３０ｂには、当該第二吸収部材３０ｂを冷却する第二冷却装置（後方冷却装置）３５ｂが設けられている。なお、第一吸収部材３０ａおよび第二吸収部材３０ｂとしては、例えば、レーザ光Ｌを多重反射するダンパなどを用いることができる。
【００２８】
また、図１（ａ）（ｂ）に示すように、レーザ発振器２０、第一回転駆動部１５ａおよび第二回転駆動部１５ｂの各々には、これらを制御する制御部５０が電気的に接続されている。
【００２９】
なお、本実施の形態では、図１（ａ）（ｂ）に示す構成を用いて説明するが、これに限られることはない。例えば、レーザ光Ｌを集光する集光レンズを設けてもよいし、集光レンズを通過させたレーザ光を光ファイバ内に導いて、ファイバ伝送してもよい。
【００３０】
また、本実施の形態では、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂとして、平板状のものを用いて説明するが、これに限られることはなく、第一反射ミラーおよび第二反射ミラーとして、ポリゴンミラーのような多角形のミラーを用いることもできる。
【００３１】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。
【００３２】
透過状態
最初に、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌを透過させる透過状態となっている場合について説明する。
【００３３】
まず、レーザ発振器２０からレーザ光Ｌが照射される。このとき、レーザ発振器２０からは、径の太いレーザ光Ｌ（例えば、直径１０ｍｍ以上のレーザ光Ｌ）が照射される（図１（ａ）参照）。
【００３４】
次に、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌは、レーザシャッタユニット１を通過して、被処理基板６０に到達し、このことによって、当該被処理基板６０が加工される（図１（ａ）参照）。
【００３５】
このように、レーザ光Ｌがレーザシャッタユニット１を通過する際には、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂの各々は、レーザ光Ｌに略平行に位置づけられ、レーザ光Ｌを反射しない位置に位置づけられている（図１（ａ）参照）。
【００３６】
遮断状態
次に、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌを遮断する遮断状態となっている場合について説明する。
【００３７】
まず、制御部５０からの信号に基づいて第一回転駆動部１５ａによって、第一反射ミラー１０ａが回転軸１１ａを中心に回転駆動され、当該第一反射ミラー１０ａによってレーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌの一部（本実施の形態では、レーザ光Ｌのうち図１（ｂ）の上側の部分）が反射される（図１（ｂ）参照）。このとき、同様に、制御部５０からの信号に基づいて第二回転駆動部１５ｂによって、第二反射ミラー１０ｂが回転軸１１ｂを中心に回転駆動され、当該第二反射ミラー１０ｂによってレーザ光Ｌの残部（第一反射ミラー１０ａで反射されなかったレーザ光Ｌ、本実施の形態ではレーザ光Ｌのうち図１（ｂ）の下側の部分）が反射される（図１（ｂ）参照）。
【００３８】
このように、本実施の形態によれば、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌの一部を第一反射ミラー１０ａで反射し、他方、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌの残部を第二反射ミラー１０ｂで反射するので、反射ミラー１０ａ，１０ｂをわずかな角度だけ回転させるだけで、被処理基板６０に達するレーザ光Ｌを遮断することができる。このため、透過状態と遮断状態を迅速に切り替えることができ、例えば、直径１０ｍｍからなるレーザ光Ｌであっても、５ｍｓ以下の応答速度で、透過状態と遮断状態を迅速に切り替えることができる。
【００３９】
この点、一つの反射ミラーを用いた場合でも、反射ミラーの大きさを大きくすることで反射ミラーを回転させる角度を小さくし、このことによって、透過状態と遮断状態を迅速に切り替えることも考えられる。しかしながら、反射ミラーの大きさを大きくすると回転駆動部に加わる負荷が大きくなってしまい好ましくない。また、回転駆動部に加わる負荷を考慮しないとして、本実施の形態において、同様の大きさからなる（大きさの大きな）反射ミラー１０ａ，１０ｂを二つ用いれば、より迅速に透過状態と遮断状態を切り替えることができるようになる。
【００４０】
また、レーザ発振器２０のレーザ光Ｌを照射する部分の前面に透過状態と遮断状態を切り替えるための遮断板（図示せず）を設けることも考えられるが、このような遮断板ではレーザ発振器２０に向かうレーザ光Ｌの反射がどうしても発生してしまい、レーザ発振器２０を損壊してしまう可能性があり、好ましくない。また、このような遮断板を設けた場合には、当該遮断板を冷却するための冷却機構が必要となる。しかしながら、このような冷却機構を設けると大きさが大きくなってしまい、高速駆動させることが難しくなる。
【００４１】
この点、本実施の形態によれば、回転駆動部１５ａ，１５ｂに過剰な負荷を与えることなく、また、レーザ発振器２０を損壊するおそれもなく、さらに、装置の構成が複雑になったり大きくなってしまったりすることなく、迅速に透過状態と遮断状態を切り替えることができるので、好ましい。
【００４２】
また、本実施の形態によれば、第一回転駆動部１５ａの第一反射ミラー１０ａを回転駆動する速度が可変となり、第二回転駆動部１５ｂの第二反射ミラー１０ｂを駆動する速度が可変となっている。このため、上述のように、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを高速で回転駆動して透過状態と遮断状態を切り替えるだけではなく、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを低速で回転駆動してレーザ光Ｌのスポット径を制御することができる。
【００４３】
第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを低速で回転駆動することについてより具体的に説明すると、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを遮断状態から透過状態へ低速で回転駆動することによって、レーザ発振器２０から照射されるレーザ光Ｌを、時間が経過するにつれて徐々に透過させることができる（図２（ｂ）において、スポットＳ１からスポットＳ２へと変化させることができる）。また、逆に、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを透過状態から遮断状態へ低速で回転駆動することによって、レーザ発振器２０から照射されるレーザ光Ｌを、時間が経過するにつれて徐々に遮断することができる（図２（ｂ）において、スポットＳ２からスポットＳ３へと変化させることができる）。
【００４４】
このため、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを回転させる速度を調整することによって、レーザ光ＬのスポットＳ１，Ｓ２，Ｓ３の大きさが変化する速度を適宜変化させることができ、有益である。
【００４５】
すなわち、従来技術のようにレーザ発振器を制御する場合には、励起光照射部（図示せず）から照射される励起光を制御する必要があるが、このように励起光の強度などを変化させる態様では（例えば高速に変化させる態様では）、レーザ発振器から照射されるレーザ光が不安定なものとなってしまう。これに対して、本実施の形態では、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを回転させる速度を調整することによって、レーザ発振器２０から照射されるレーザ光Ｌの強度自体を変化させることなく、レーザ光ＬのスポットＳ１，Ｓ２，Ｓ３の大きさが変化する速度を機械的に調整することができる（図２（ａ）の点線で示したように傾斜を変化させることができる）。
【００４６】
このため、レーザ発振器２０としてＣＷレーザを発振するＣＷレーザ発振器を用いた場合においては、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを低速で回転駆動することによって、励起光を制御することなく安定した状態で、出力を制御したり、プロファイルを制御したりすることができ、ひいては、被処理基板６０の加工品質を向上させることができる。
【００４７】
他方、レーザ発振器２０としてパルスレーザを照射するパルスレーザ発振器を用いた場合においても、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを低速で回転駆動することによって、出力を制御したり、パルスレーザの立ち上がりや立ち下がりのプロファイルを制御したりすることができる。
【００４８】
なお、上述のように第一反射ミラー１０ａで反射されたレーザ光Ｌの一部は、第一吸収部材３０ａに達し、当該第一吸収部材３０ａで吸収されることとなる（図１（ｂ）参照）。他方、第二反射ミラー１０ｂで反射されたレーザ光Ｌの残部は、第二吸収部材３０ｂに達し、当該第二吸収部材３０ｂで吸収されることとなる（図１（ｂ）参照）。このように、第一吸収部材３０ａと第二吸収部材３０ｂはレーザ光Ｌを吸収するので加熱されることとなるが、第一吸収部材３０ａは第一冷却装置３５ａで冷却され、他方、第二吸収部材３０ｂは第二冷却装置３５ｂで冷却されるので、これら第一吸収部材３０ａと第二吸収部材３０ｂが過剰に高温になることを防止することができる。
【００４９】
ところで、本実施の形態では、レーザシャッタユニット１が、第一反射ミラー１０ａと第二反射ミラー１０ｂの２つの反射ミラーを有する態様を用いて説明したが、これに限られることなく、図３（ａ）−（ｃ）に示すように、レーザシャッタユニット１は、３つ以上の反射ミラー（図３（ａ）（ｂ）では４つの反射ミラー、図３（ｃ）では３つの反射ミラー）を有していてもよい。この場合には、そのうちの一つ（図３（ａ）−（ｃ）において例えば第一反射ミラー１０ａ）が前方反射ミラーを構成し、当該前方反射ミラーよりもレーザ光Ｌの進行方向における下流側に位置する残りのミラーうちの一つ（図３（ａ）−（ｃ）において例えば第二反射ミラー１０ｂ、第三反射ミラー１０ｃおよび第四反射ミラー１０ｄのうちのいずれか一つ）が後方反射ミラーを構成することとなる。なお、図３（ａ）は、本実施の形態の変形例によるレーザ加工装置が透過状態にある態様を示す側方図を示しており、図３（ｂ）は、図３（ａ）の矢印Ｂから見た場合であってレーザ加工装置が遮断状態にある態様を示す正面図を示している。また、図３（ｃ）は、図３（ｂ）に対応する図面であるが、反射ミラーが３つからなる態様を示したものである。
【００５０】
なお、図３（ａ）（ｂ）において、符号１０ｃは第三反射ミラーを示し、符号１０ｄは第四反射ミラーを示し、符号１５ｃは第三回転駆動部を示し、符号１５ｄは第四回転駆動部を示し、符号３０ｃは第三吸収部材を示し、符号３０ｄは第四吸収部材を示し、符号３５ｃは第三冷却装置を示し、符号３５ｄは第四冷却装置を示している。
【００５１】
ところで、図３（ａ）（ｂ）において、第一反射ミラー１０ａで、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌの一部（本実施の形態では、レーザ光Ｌのうち図３（ａ）の上側であって紙面奥側の部分）が反射され、第三反射ミラー１０ｃで、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌの残部の一部（本実施の形態では、レーザ光Ｌのうち図３（ａ）の上側であって紙面手前側の部分）が反射され、第二反射ミラー１０ｂで、レーザ光Ｌの残部の一部（本実施の形態では、レーザ光Ｌのうち図３（ａ）の下側であって紙面奥側の部分）が反射され、第四反射ミラー１０ｄで、レーザ光Ｌの残部の全部（本実施の形態では、レーザ光Ｌのうち図３（ａ）の下側であって紙面手前側の部分）が反射される（図３（ｂ）参照）。
【００５２】
なお、図３（ａ）−（ｃ）に示すように３つ以上の反射ミラー１０ａ−１０ｄを用いる場合には、回転駆動部１５ａ−１５ｄに大きな負荷をかけることなく、より径の太いレーザ光Ｌを遮断することができるようになる。他方、径の太さが同じレーザ光Ｌについては、より小さな反射ミラーでレーザ光Ｌを遮断することができるので、反射ミラーを駆動する慣性力を小さくすることができ、この結果、反射ミラーをより迅速に切り替えることができたり、低出力の駆動源（小型のモータなど）を利用することができたりする。また、反射するレーザ光Ｌの範囲を適宜変更することができるようになり、被処理基板６０を処理するためのレーザ光Ｌの形状をより緻密に制御することができることとなる。
【００５３】
第２の実施の形態
次に、図４により、本発明の第２の実施の形態について説明する。図４に示す第２の実施の形態は、第一回転駆動部１５ａが、第一反射ミラー１０ａを透過状態の際に位置づけられる位置と遮断状態の際に位置づけられる位置との間で停止させることができ、第二回転駆動部１５ｂが、第二反射ミラー１０ｂを透過状態の際に位置づけられる位置と遮断状態の際に位置づけられる位置との間に停止させることができることができるものであり、その他の構成は図１（ａ）（ｂ）乃至図３（ａ）−（ｃ）に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００５４】
図４に示す第２の実施の形態において、図１（ａ）（ｂ）乃至図３（ａ）−（ｃ）に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。なお、図４において、図面を簡略化するために、吸収部材および冷却装置を図示していない。
【００５５】
本実施の形態では、第一回転駆動部１５ａが、第一反射ミラー１０ａを透過状態の際に位置づけられる位置と遮断状態の際に位置づけられる位置との間の任意の位置に停止させることができ（一部遮断状態にすることができ）、第二回転駆動部１５ｂが、第二反射ミラー１０ｂを透過状態の際に位置づけられる位置と遮断状態の際に位置づけられる位置との間の任意の位置に停止させることができることができる（一部遮断状態にすることができる）（図４参照）。
【００５６】
そして、このように第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂを一部遮断状態にする際に、これら第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂの角度（位置）を適宜調整することによって、レーザ発振器２０から照射されるレーザ光Ｌの強度自体を変化させることなく、レーザ光ＬのスポットＳの大きさを適宜変化させることができる。
【００５７】
このため、レーザ発振器２０としてＣＷレーザを発振するＣＷレーザ発振器を用いた場合においては、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂの一部遮断状態における停止位置を調整することによって、励起光を制御することなく安定した状態で、出力を制御することができ、ひいては、被処理基板６０の加工品質を向上させることができる。
【００５８】
他方、レーザ発振器２０としてパルスレーザを照射するパルスレーザ発振器を用いた場合においても、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂの一部遮断状態における停止位置を調整することによって、出力を制御することができる。
【００５９】
なお、第一反射ミラー１０ａおよび第二反射ミラー１０ｂの一部遮断状態における停止位置を時系列で変化させることによって、レーザ発振器２０から照射されるレーザ光Ｌのプロファイルを機械的に制御することもできる。
【００６０】
なお、第一回転駆動部１５ａは、第一反射ミラー１０ａの回転角度を調整するだけでなく、第１の実施の形態のように第一反射ミラー１０ａの回転速度を調整することができるように構成され、同様に、第二回転駆動部１５ｂも、第二反射ミラー１０ｂの回転角度を調整するだけでなく、第二反射ミラー１０ｂの回転速度を調整することができるように構成されてもよい。
【００６１】
第３の実施の形態
次に、図５乃至図８により、本発明の第３の実施の形態について説明する。図５乃至図８に示す第３の実施の形態は、全反射ミラーからなる光路変更反射ミラー２５と、当該光路変更反射ミラー２５とレーザ発振器２０との間に、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌの一部を反射して光路を変えるとともに残部を透過するハーフミラー２６ａ，２６ｂが設けられている。
【００６２】
また、第一反射ミラー１０ａと第二反射ミラー１０ｂの組み合わせが二つ以上設けられ（本実施の形態では六つ設けられ）、第一反射ミラー１０ａ１と第二反射ミラー１０ｂ１（第一反射ミラー１０ａと第二反射ミラー１０ｂの組み合わせのうちの一つ）が、レーザ発振器２０から照射されたレーザ光Ｌがハーフミラー２６ａに達するまでの間に配置され、第一反射ミラー１０ａ３と第二反射ミラー１０ｂ３（第一反射ミラー１０ａと第二反射ミラー１０ｂの組み合わせのうちの一つ）が、ハーフミラー２６ａとハーフミラー２６ｂの間に配置され、第一反射ミラー１０ａ５と第二反射ミラー１０ｂ５（第一反射ミラー１０ａと第二反射ミラー１０ｂの組み合わせのうちの一つ）が、ハーフミラー２６ｂと光路変更反射ミラー２５の間に配置されている。
【００６３】
また、第一反射ミラー１０ａ２と第二反射ミラー１０ｂ２（第一反射ミラー１０ａと第二反射ミラー１０ｂの組み合わせのうちの一つ）が、ハーフミラー２６ａで反射されたレーザ光Ｌを透過状態と遮断状態に切り替えることができる位置に配置され、第一反射ミラー１０ａ４と第二反射ミラー１０ｂ４（第一反射ミラー１０ａと第二反射ミラー１０ｂの組み合わせのうちの一つ）が、ハーフミラー２６ｂで反射されたレーザ光Ｌを透過状態と遮断状態に切り替えることができる位置に配置され、第一反射ミラー１０ａ６と第二反射ミラー１０ｂ６（第一反射ミラー１０ａと第二反射ミラー１０ｂの組み合わせのうちの一つ）が、光路変更反射ミラー２５で反射されたレーザ光Ｌを透過状態と遮断状態に切り替えることができる位置に配置されている。
【００６４】
ところで、本実施の形態では、第一回転駆動部１５ａ１−１５ａ６は、第一反射ミラー１０ａ１−１０ａ６の回転速度と回転角度の両方を調整することができるように構成され、同様に、第二回転駆動部１５ｂ１−１５ｂ６も、第二反射ミラー１０ｂ１−１０ｂ６の回転速度と回転角度の両方を調整することができるように構成されている。
【００６５】
その他の構成は、図１（ａ）（ｂ）乃至図３（ａ）−（ｃ）に示す第１の実施の形態および図４に示す第２の実施の形態と略同一である。図５乃至図８に示す第３の実施の形態において、図１（ａ）（ｂ）乃至図３（ａ）−（ｃ）に示す第１の実施の形態および図４に示す第２の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。なお、図５乃至図８においては、図面を簡略化するために、吸収部材および冷却装置を図示していない。
【００６６】
本実施の形態によれば、レーザ発振器２０とハーフミラー２６ａとの間に配置された第一反射ミラー１０ａ１と第二反射ミラー１０ｂ１を駆動するだけで、被処理基板６０の各々（本実施の形態では三つの被処理基板６０）に対して同時に透過状態と遮断状態を切り替えることができる（図６参照）。また、第一反射ミラー１０ａ１と第二反射ミラー１０ｂ１を回転させる速度と角度を調整することによって、被処理基板６０の各々に対して同時に、レーザ光ＬのスポットＳ１，Ｓ２，Ｓ３の大きさを適宜変化させることができ（図２（ｂ）参照）、レーザ光Ｌのプロファイルを制御したり出力を制御したりすることができる。
【００６７】
また、ハーフミラー２６ａとハーフミラー２６ｂとの間に配置された第一反射ミラー１０ａ３と第二反射ミラー１０ｂ３を駆動するだけで、ハーフミラー２６ｂの下流側に位置する被処理基板６０の各々（本実施の形態では二つの被処理基板６０）に対して同時に透過状態と遮断状態を切り替えることができる。また、第一反射ミラー１０ａ３と第二反射ミラー１０ｂ３を回転させる速度と角度を調整することによって、ハーフミラー２６ｂの下流側に位置する被処理基板６０の各々に対して同時に、レーザ光ＬのスポットＳ１，Ｓ２，Ｓ３の大きさを適宜変化させることができ（図２（ｂ）参照）、レーザ光Ｌのプロファイルを制御したり出力を制御したりすることができる。
【００６８】
また、ハーフミラー２６ｂと光路変更反射ミラー２５との間に配置された第一反射ミラー１０ａ５と第二反射ミラー１０ｂ５を駆動するだけで、光路変更反射ミラー２５の下流側に位置する被処理基板６０に対して透過状態と遮断状態を切り替えることができる（図７参照）。また、第一反射ミラー１０ａ５と第二反射ミラー１０ｂ５を回転させる速度と角度を調整することによって、光路変更反射ミラー２５の下流側に位置する被処理基板６０に対してレーザ光ＬのスポットＳ１，Ｓ２，Ｓ３の大きさを適宜変化させることができ（図２（ｂ）参照）、レーザ光Ｌのプロファイルを制御したり出力を制御したりすることができる。
【００６９】
また、ハーフミラー２６ａ、ハーフミラー２６ｂおよび光路変更反射ミラー２５の下流側に配置された第一反射ミラー１０ａ２，１０ａ４，１０ａ６と第二反射ミラー１０ｂ２，１０ｂ４，１０ｂ６を駆動するだけで、被処理基板６０の各々に対して個別に透過状態と遮断状態を切り替えることができる（図８参照）。また、第一反射ミラー１０ａ２，１０ａ４，１０ａ６と第二反射ミラー１０ｂ２，１０ｂ４，１０ｂ６を回転させる速度と角度を調整することによって、被処理基板６０の各々に対して個別に、レーザ光ＬのスポットＳ１，Ｓ２，Ｓ３の大きさを適宜変化させることができ（図２（ｂ）参照）、レーザ光Ｌのプロファイルを制御したり出力を制御したりすることができる。
【００７０】
ところで、本実施の形態では、第一反射ミラー１０ａ１−１０ａ６と第二反射ミラー１０ｂ１−１０ｂ６を回転させる速度と角度を調整する態様からなるものを用いて説明したが、これに限られることはない。
【００７１】
例えば、回転速度のみを調整することができる第一反射ミラー１０ａ１−１０ａ６と第二反射ミラー１０ｂ１−１０ｂ６を用いてもよいし、回転角度のみを調整することができる第一反射ミラー１０ａ１−１０ａ６と第二反射ミラー１０ｂ１−１０ｂ６を用いてもよいし、第一反射ミラー１０ａ１−１０ａ６と第二反射ミラー１０ｂ１−１０ｂ６のうちの一部について回転速度と回転角度を調整することができ、第一反射ミラー１０ａ１−１０ａ６と第二反射ミラー１０ｂ１−１０ｂ６のうちの残りについて回転速度のみ、または、回転角度のみを調整することができるようになってもよいし、第一反射ミラー１０ａ１−１０ａ６と第二反射ミラー１０ｂ１−１０ｂ６のうちの一部について回転速度のみを調整することができ、第一反射ミラー１０ａ１−１０ａ６と第二反射ミラー１０ｂ１−１０ｂ６のうちの残りについて回転角度のみを調整することができるようになってもよい。
【００７２】
第４の実施の形態
次に、図９により、本発明の第４の実施の形態について説明する。図９に示す第４の実施の形態は、ハーフミラー２６ａ、ハーフミラー２６ｂおよび光路変更反射ミラー２５の下流側に配置された第一反射ミラー１０ａ２，１０ａ４，１０ａ６と第二反射ミラー１０ｂ２，１０ｂ４，１０ｂ６の下流側に、被処理基板６０の同一箇所へレーザ光Ｌを集光させる複数（本実施の形態では３つ）の集光レンズ３０ａ，３０ｂ，３０ｃが設けられているものである。その他の構成は、図６に示す第４の実施の形態と略同一である。なお、本実施の形態では、被処理基板６０の同一箇所へレーザ光Ｌを集光させる集光レンズとして「３つ」の集光レンズ３０ａ，３０ｂ，３０ｃを用いて説明するが、これに限られることはなく、分岐されるレーザ光Ｌの数に応じて適宜数量を調整すればよい。
【００７３】
図９に示す第４の実施の形態において、図５乃至図８に示す第３の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。なお、図９においては、図面を簡略化するために、吸収部材および冷却装置を図示していない。
【００７４】
本実施の形態では、被処理基板６０の同一箇所へレーザ光Ｌを集光させる複数の集光レンズ３０ａ，３０ｂ，３０ｃが設けられている。このため、第一反射ミラー１０ａ１−１０ａ６および第二反射ミラー１０ｂ１−１０ｂ６の各々を適宜駆動させることによって、被処理基板６０に照射されるレーザ光Ｌの形状や被処理基板６０に加えられるエネルギーを適宜調整することができる。
【００７５】
例えば、レーザ発振器２０がＣＷレーザを発振するＣＷレーザ発振器からなる場合で、図９に示すように、第一反射ミラー１０ａ４，１０ａ６および第二反射ミラー１０ｂ４，１０ｂ６を透過状態と遮断状態との間で高速で切り替え、第一反射ミラー１０ａ２および第二反射ミラー１０ｂ２を透過状態と遮断状態とをゆっくり切り換えることによって、第一反射ミラー１０ａ４，１０ａ６および第二反射ミラー１０ｂ４，１０ｂ６を通過するレーザ光をパルス形状のものとし、第一反射ミラー１０ａ２および第二反射ミラー１０ｂ２を通過するレーザ光を連続波（ＣＷ）形状のものにすることができる。また、第一反射ミラー１０ａ２および第二反射ミラー１０ｂ２を通過するレーザ光について、安定した状態で、出力を制御したり、そのプロファイルを制御したりすることができる。
【００７６】
また、レーザ発振器２０としてパルスレーザを照射するパルスレーザ発振器を用いた場合においても、第一反射ミラー１０ａ４，１０ａ６および第二反射ミラー１０ｂ４，１０ｂ６を透過状態と遮断状態との間で高速で切り替え、第一反射ミラー１０ａ２および第二反射ミラー１０ｂ２を透過状態と遮断状態とをゆっくり切り換えることによって、第一反射ミラー１０ａ２および第二反射ミラー１０ｂ２を通過するレーザ光について、出力を制御したり、そのプロファイルを制御したりすることができる。
【００７７】
なお、本実施の形態において集光レンズ３０ａ，３０ｂ，３０ｃを設けることなく、集光レンズ３０ａ，３０ｃの代わりに光路変更反射ミラー（図示せず）を設けるようにしてもよい。このように光路変更反射ミラー設けることによっても、被処理基板６０の同一箇所へレーザ光Ｌを集中させることができる。
【符号の説明】
【００７８】
１        レーザシャッタユニット
１０ａ，１０ａ１−１０ａ６  第一反射ミラー（前方反射ミラー）
１０ｂ，１０ｂ１−１０ｂ６  第二反射ミラー（後方反射ミラー）
１１ａ，１１ａ１−１１ａ６  回転軸
１１ｂ，１１ｂ１−１１ｂ６  回転軸
１５ａ，１５ａ１−１５ａ６  第一回転駆動部（前方駆動部）
１５ｂ，１５ｂ１−１５ｂ６  第二回転駆動部（後方駆動部）
２０      レーザ発振器
２５      光路変更反射ミラー（全反射ミラー）
２６ａ，２６ｂ  ハーフミラー
３０ａ    第一吸収部材（前方吸収部材）
３０ｂ    第二吸収部材（後方吸収部材）
３５ａ    第一冷却装置（前方冷却装置）
３５ｂ    第二冷却装置（後方冷却装置）
６０      被処理基板
Ｌ        レーザ光
【図１】
2010264501.tif 000003
【図２】
2010264501.tif 000004
【図３】
2010264501.tif 000005
【図４】
2010264501.tif 000006
【図５】
2010264501.tif 000007
【図６】
2010264501.tif 000008
【図７】
2010264501.tif 000009
【図８】
2010264501.tif 000010
【図９】
2010264501.tif 000011