(57)【要約】【課題】プラズマ生成部で発生するプラズマ光が被処理物に照射されるのを防止し、被処理物の変質等を防止する。【解決手段】吹出しノズル２０の内部の吹出し路２１のプラズマ導入口２１ａをプラズマ生成部１０の放電空間１２に連ね、吹出し口２１ｅを処理空間８に臨ませる。処理ガスを放電空間１２に導入してプラズマ化し、吹出し路２１を経て、吹出し口２１ｅから吹出し、処理空間８の被処理物９０に接触させる。吹出し路２１内には、ガス流通を許容するようにして遮光部材２３を設ける。遮光部材２３によって、プラズマ導入口２１ａから吹出し口２１ｅへ向かう光を遮る。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理ガスを放電空間に通して吹き出し、前記放電空間の外部の処理空間に配置された被処理物に接触させ、プラズマ表面処理を行なう装置において、
前記放電空間を形成するプラズマ生成部と、内部に吹出し路を有する吹出しノズルを備え、前記吹出し路の一端が前記放電空間に連なるプラズマ導入口になり、前記吹出し路の他端が前記処理空間に臨む吹出し口になり、前記吹出し路の内部には、前記プラズマ導入口から前記吹出し口へ向かう光を遮る遮光部材が、吹出し路内のガス流通を許容するように設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記プラズマ導入口内の任意の点と前記吹出し口内の任意の点とを結ぶ直線が、前記遮光部材と交差することを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記遮光部材が、前記吹出し路を、前記プラズマ導入口に連なる導入室と、前記吹出し口に連なる吹出し室とに仕切り、前記遮光部材に前記導入室と前記吹出し室とを連通する連通孔が形成され、前記連通孔が、前記プラズマ導入口の縁と前記吹出し口の縁とを結ぶ直線と遮光部材とが交差する位置より遮光部材の外側の部分に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記吹出しノズルの吹出し路を画成する内面に、前記被処理物を変質させる波長域の光に対し吸収帯を有する光吸収層が形成されていることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記光吸収層が黒系色であることを特徴とする請求項４に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記光吸収層がレイデント処理にて形成されていることを特徴とする請求項４又は５に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記吹出しノズルの吹出し路を画成する内面が粗化されていることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記吹出しノズルの吹出し路を画成する内面の算術平均粗さＲａが２μｍ以上であることを特徴とする請求項７に記載のプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理物をプラズマ処理する装置に関し、特に、プラズマの光によって変質しやすい被処理物を処理するのに適したプラズマ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１では、プラズマ放電によるＵＶ光をＵＶ硬化性樹脂に照射し、ＵＶ硬化性樹脂の硬化を促進している。
特許文献２では、プラズマ生成部とプラズマ照射ノズルが、分離され、かつチューブにより連結されている。
【特許文献１】特開平６−５１５０号公報
【特許文献２】特許第３１４７１３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
例えば光硬化性の樹脂をプラズマ処理装置にてアッシング処理する場合、光硬化性樹脂にプラズマガスだけでなくプラズマ光までもが照射されるおそれがある。光硬化性樹脂にプラズマ光が照射されると、光硬化性樹脂が硬化してしまい、アッシングが困難になる。特許文献２の構造においても、プラズマ生成部とノズルとの位置関係によっては、プラズマ生成部からのプラズマ光がチューブを経てノズルから外部に漏れて被処理物に照射され得る。また、ノズルが被処理物と対向していないときは、プラズマ光がプラズマ処理装置の構成部材や周辺機器に照射され得る。
本発明は、上記事情に鑑み、処理ガスをプラズマ化して被処理物に吹き付け、被処理物をプラズマ処理するに際し、プラズマ生成部で発生するプラズマ光が被処理物等に照射されるのを防止し、被処理物が変質（例えば光硬化）する等の不具合が起きるのを防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決するため、本発明は、処理ガスを放電空間に通して吹き出し、前記放電空間の外部の処理空間に配置された被処理物に接触させ、プラズマ表面処理を行なう装置において、
前記放電空間を形成するプラズマ生成部と、内部に吹出し路を有する吹出しノズルを備え、前記吹出し路の一端が前記放電空間に連なるプラズマ導入口になり、前記吹出し路の他端が前記処理空間に臨む吹出し口になり、前記吹出し路の内部には、前記プラズマ導入口から前記吹出し口へ向かう光を遮る遮光部材が、吹出し路内のガス流通を許容するように設けられていることを特徴とする。
放電空間で発生したプラズマ光は、プラズマ導入口から吹出し路内に入射する。このプラズマ光のうち吹出し口へ向かう光は遮光部材によって進路を遮られる。したがって、プラズマ光が、吹出し口を通って被処理物に直接的に照射されるのを防止でき、或いはプラズマ処理装置の構成部材や周辺機器に直接照射されるのを防止できる。この結果、被処理物が光照射により変質したりプラズマ処理装置の構成部材や周辺機器が光照射により劣化したりする等の不具合が起きるのを防止できる。
前記吹出し路の容積は、プラズマ光を遮蔽し得る大きさであり、かつ、できる限り小さいことが好ましく、前記吹出し路の内壁の面積はできる限り小さいことが好ましい。これにより、プラズマガスのエネルギーが自然放射や壁面への衝突により散逸するのを抑制することができる。
【０００５】
前記プラズマ導入口内の任意の点（プラズマ導入口の縁を含む）と前記吹出し口内の任意の点（吹出し口の縁を含む）とを結ぶ直線が、前記遮光部材と交差することが好ましい。
これによって、プラズマ導入口から吹出し口へ向かうプラズマ光を遮光部材によって確実に遮ることができる。したがって、被処理物等にプラズマ光が直接照射されるのを確実に防止でき、被処理物が光により変質する等の不具合が起きるのを確実に防止できる。
【０００６】
前記遮光部材が、前記吹出し路を、前記プラズマ導入口に連なる導入室と、前記吹出し口に連なる吹出し室とに仕切り、前記遮光部材に前記導入室と前記吹出し室とを連通する連通孔が形成され、前記連通孔が、前記プラズマ導入口の縁と前記吹出し口の縁とを結ぶ直線と遮光部材とが交差する位置より遮光部材の外側の部分に配置されていることが好ましい。
連通孔によってプラズマガスの流通を確保できる。連通孔は、遮光部材におけるガス流通の許容部になる。プラズマガスは、プラズマ導入口、導入室、連通孔、吹出し室、吹出し口を順次経て吹き出される。一方、プラズマ光の一部がプラズマ導入口から直接連通孔を通過して吹出し室に入射し得る。この光は、プラズマ導入口の縁と吹出し口の縁とを結ぶ直線と連通孔との位置関係により、そのまま吹出し口から出射されることはない。これにより、被処理物の変質等の不具合が起きるのを一層確実に防止できる。
【０００７】
前記吹出しノズルの吹出し路を画成する内面に、前記被処理物を変質させる波長域の光に対し吸収帯を有する光吸収層が形成されていることが好ましい。
これによって、前記吹出しノズルの内面に入射したプラズマ光のうち被処理物を変質させる波長域の光を光吸収層によって吸収できる。したがって、かかる波長域の光が、吹出しノズルの内面で反射するのを防止でき、ひいては吹出し口を通って被処理物に照射されるのを十分に防止できる。よって、被処理物が上記波長域の光によって変質するのを防止できる。
ここで、光とは、例えば波長が０ｎｍより大きく１００００ｎｍ以下の電磁波を云う。光吸収層は、０ｎｍ〜１００００ｎｍの電磁波のうち被処理物を変質させる波長域に対し吸収帯を有していればよい。変質とは、例えば被処理物の硬化、軟化、劣化等の物理的又は化学的な変化を言う。
【０００８】
前記光吸収層が黒系色であることが好ましい。
これによって、光吸収層の吸収帯を広くでき、広い波長範囲のプラズマ光を吸収できる。したがって、吹出しノズルの内面で反射する光量を低減でき、吹出し口を通って被処理物に照射される光量を十分に低減できる。よって、この結果、被処理物が光により変質する等の不具合が起きるのを一層確実に防止できる。
【０００９】
前記光吸収層がレイデント処理にて形成されていることが好ましい。
レイデント処理によって吹出しノズルの内面を黒色化できる。これによって、吹出しノズルの内面に入射したプラズマ光を吸収でき、反射して吹出し口から漏れ出る光量を低減でき、ひいては被処理物に照射される光量を低減できる。この結果、被処理物が光により変質する等の不具合が起きるのを一層確実に防止できる。加えて、レイデント処理によって、吹出しノズルの耐熱性及び耐食性を高めることができる。例えばプラズマが数百度を越える場合や腐蝕性成分を含有する場合でも、吹出しノズルが熱損傷や腐蝕を来たすのを防止できる。
【００１０】
前記吹出しノズルの吹出し路を画成する内面が粗化されていることが好ましい。
これによって、吹出しノズルの内面に入射したプラズマ光を散乱させることができる。したがって、吹出しノズルの内面で反射して吹出し口から漏れ出るプラズマ光の光量密度を低減でき、ひいては被処理物に照射される光量密度を低減できる。この結果、被処理物が光により変質する等の不具合が起きるのを一層確実に防止できる。
【００１１】
前記吹出しノズルの吹出し路を画成する内面の算術平均粗さＲａが２μｍ以上であることが好ましい。
前記吹出しノズルの内面の算術平均粗さＲａは、Ｒａ＝２μｍ以上であることが好ましく、Ｒａ＝４μｍ以上であることがより好ましい。これによって、前記吹出しノズルの内面に入射したプラズマ光を確実に散乱させることができる。前記吹出しノズルの内面の算術平均粗さＲａの上限は、Ｒａ＝１０μｍ程度が好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、プラズマ生成部で発生するプラズマ光が被処理物に照射されるのを防止でき、被処理物が変質する等の不具合が起きるのを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。
図１及び図２は、本発明の第１実施形態を示したものである。この実施形態の被処理物９０は、例えば液晶パネル用のガラス基板９１を有し、該ガラス基板９１の表面に処理対象の膜９２が被膜されている。被処理膜９２は、例えばポリイミド等の光硬化性の樹脂で構成されている。なお、図２において、基板９１及び膜９２の厚さは誇張されている（図４において同じ）。
【００１４】
この実施形態では、プラズマ処理装置１にて被処理膜９２をアッシングする。プラズマ処理装置１は、処理ヘッド２と、被処理物支持部３を備えている。被処理物支持部３は、例えばステージにて構成されている。被処理物９０が支持部３に水平に支持されている。
【００１５】
処理ヘッド２は、軸線Ｌを鉛直に向けた筒状になっている。処理ヘッド２は、図示しない架台によって、支持部３の被処理物配置面より上方の高さに支持されている。処理ヘッド２の直下の被処理物配置面の周辺が、処理空間８を構成している。処理ヘッド２は、移動手段（図示省略）によって水平な２方向（図２の左右方向及び紙面と直交する方向）に移動されるようになっている。処理ヘッド２が移動されるのに代えて、被処理物９０が移動されるようになっていてもよい。
【００１６】
処理ヘッド２は、上側のプラズマ生成部１０と、下側の吹出しノズル２０を一体に有している。プラズマ生成部１０には電極１１が収容されている。電極１１は、軸線Ｌに沿って延びる棒状になっている。電極１１に高圧電源（図示省略）が接続されている。プラズマ生成部１０の筐体１９は、円筒状になっている。筐体１９は、金属で構成され、かつ電気的に接地されている。筐体１９は、高圧電極１１と対をなす接地電極を構成している。電極１１と筐体１９の間に放電空間１２が形成される。放電空間１２の放電形態は、アーク放電であるが、これに限定されるものではなく、グロー放電でもよく、コロナ放電でもよい。放電空間１２の圧力は、大気圧近傍でもよく、真空でもよい。
ここで、大気圧近傍とは、１．０１３×１０４〜５０．６６３×１０４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０４〜１０．６６４×１０４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０４〜１０．３９７×１０４Ｐａがより好ましい。
筐体１９の内部に例えば同一形状の一対の電極が１８０°離れて配置され、これら電極間に放電が生成されるようになっていてもよい。
【００１７】
処理ガスが処理ガス供給源（図示省略）から放電空間１２に導入されてプラズマ化される。ここでは、アッシング用の処理ガスとして、窒素（Ｎ２）で希釈した酸素（Ｏ２）が用いられている。
放電空間１２では、処理ガスのプラズマ化とともに発光（電磁波）が生じる。このプラズマ光（電磁波）の波長は、大略０ｎｍより大きく１００００ｎｍ以下である。
【００１８】
プラズマ生成部１０の下側に吹出しノズル２０が連なっている。吹出しノズル２０は、処理ヘッド２における放電空間１２より下側の部分によって構成されている。吹出しノズル２０の本体２９が、プラズマ生成部１０の筐体１９と一体をなし、プラズマ生成部１０より下方へ延びている。吹出しノズル本体２９のプラズマ生成部筐体１９に連なる上側部分は、円筒状になっている。吹出しノズル本体２９の下側部分は、下方（先端）に向かうにしたがって縮径するテーパ状になっている。
【００１９】
吹出しノズル本体２９の内面は、被処理物９０を変質させる波長域の光に対し吸収帯を有するよう、表面処理が施されている。ここでは、吹出しノズル本体２９の内面は、光硬化樹脂膜９２を硬化させる波長域の光に対し吸収帯を有するよう、表面処理が施されている。具体的には、吹出しノズル本体２９の内面に黒色化処理によって黒系色の光吸収層２９ａが形成されている。黒色化は、例えばレイデント処理によりなされている。
【００２０】
さらに、吹出しノズル本体２９の内面は、粗化されている。粗化方法として例えばプラスト処理が用いられている。吹出しノズル本体２９の内面すなわち光吸収層２９ａの表面の算術平均粗さＲａは、Ｒａ＝２μｍ以上である。
【００２１】
吹出しノズル本体２９の内部空間が吹出し路２１になっている。吹出し路２１の上端部（一端）が、プラズマ導入口２１ａを構成している。プラズマ導入口２１ａが、放電空間１２の下端部に直接連なっている。吹出し路２１の下端部（他端）は、開口され、処理空間８に臨む吹出し口２１ｅを構成している。吹出し口２１ｅは、放電空間１２より小径の円形になっている。放電空間１２と吹出し口２１ｅは、互いに共通の中心軸線Ｌ上に配置され、かつ放電空間１２の直下に吹出し口２１ｅが配置されている。
【００２２】
吹出し路２１の内部に遮光部材２３が設けられている。遮光部材２３の材質は、プラズマに対する耐性が高いことが好ましい。遮光部材２３の材質として、ステンレス、アルミ等の金属や、セラミック等が挙げられる。
【００２３】
遮光部材２３は、例えば円形の板状になっている。遮光部材２３は、軸線Ｌと直交するよう水平に配置されている。遮光部材２３の外周縁は、吹出しノズル本体２９の内周面に接して連結されている。遮光部材２３は、吹出しノズル本体２９の円筒状の部分と逆円錐状の部分との境に配置されているが、上記境より上側又は下側に配置されていてもよい。
【００２４】
遮光部材２３によって、吹出し路２１の内部が上側の円柱状の導入室２１ｂと下側の逆円錐状の吹出し室２１ｄとに仕切られている。遮光部材２３には複数の連通孔２１ｃ（連通部）が形成されている。連通孔２１ｃは、遮光部材２３を厚さ方向（上下）に貫通している。連通孔２１ｃによって、導入室２１ｂと吹出し室２１ｄが連ねられている。連通孔２１ｃは、遮光部材２３におけるガス流通の許容部になる。遮光部材２３は、連通孔２１ｃにおいて吹出し路２１内のガス流通を許容している。
【００２５】
複数の連通孔２１ｃは、遮光部材２３の周方向に間隔を置いて配置されている。これら連通孔２１は、プラズマ導入口２１ａの縁と吹出し口２１ｅの縁とを結ぶ直線Ｌ０と遮光部材２３とが交差する位置より遮光部材２３の外側の部分に配置されている。詳細には、図１の一点鎖線に示すように、上記直線Ｌ０を包絡すると逆円錐体になる。遮光部材２３がこの逆円錐体と交差する部分は円Ｃになる。連通孔２１ｃは、遮光部材２３の円Ｃよりも外側の部分に配置されている。
【００２６】
遮光部材２３（連通孔２１ｃを除く）は、プラズマ導入口２１ａ内（プラズマ導入口２１ａの縁を含む）の任意の点と吹出し口２１ｅ内（吹出し口２１ｅの縁を含む）の任意の点とを結ぶ直線（上記直線Ｌ０を含む）と交差している。吹出し口２１ｅの下方から吹出しノズル２０の内部を覗くと、遮光部材２３が見え、かつ放電空間１２が遮光部材２３の奥に隠れる。なお、遮光部材２３を除去した場合、吹出し口２１ｅの下方から吹出しノズル２０の内部を覗くと、放電空間１２が見える。
【００２７】
上記構成のプラズマ処理装置１によれば、処理ガス（Ｏ２＋Ｎ２）が、放電空間１２に導入されてプラズマ化され、酸素ラジカル等の活性種が生成される。このプラズマ化された処理ガス（プラズマガスｆ）が、プラズマ導入口２１ａから導入室２１ｂに入る。さらに、プラズマガスｆは、連通部２１ｃを通って吹出し室２１ｄに入る。その後、プラズマガスｆは、吹出し口２１ｅから処理空間８に吹き出される。このプラズマガスｆが被処理物９０に局所的に吹き付けられ、膜９２と酸素ラジカル等が反応して膜９２が局所的にアッシングされ、ＣＯ、ＣＯ２等が生成される。処理ヘッド２が被処理物９０に対し相対移動することにより、被処理物９０の任意の箇所の膜９２をアッシングできる。
【００２８】
放電空間１２ではプラズマから光が発生する。このプラズマ光がプラズマ導入口２１ａから吹出し路２１内に入射する。プラズマ光のうち吹出し口２１ｅへ向かう光Ｌ１は、吹出し路２１の内部で遮光部材２３に当たり、進路を遮られる。したがって、プラズマ光が、プラズマ導入口２１ａから吹出し口２１ｅを通って被処理物９０に直接的に照射されるのを防止できる。この結果、光硬化性の膜９２がプラズマ光の直接照射によって硬化するのを防止できる。
【００２９】
プラズマ光の一部Ｌ２は、吹出しノズル本体２９の導入室２１ｂの内面に直接入射する。また、遮光部材２３等で反射し、吹出しノズル本体２９の導入室２１ｂの内面に入射する光Ｌ３もある。これらの入射光Ｌ２，Ｌ３は、所定波長に対し吸収帯を有する光吸収層２９ａによって吸収される。特に、光吸収層２９ａは黒系色になっているため、入射光Ｌ２，Ｌ３を波長に依らず確実に吸収できる。これにより、プラズマ光が、間接的に被処理物９０に照射されるのを防止でき、光硬化樹脂膜９２が硬化するのを確実に防止できる。
【００３０】
吹出しノズル本体２９への入射光Ｌ２，Ｌ３のうち光吸収層２９ａに吸収されなかった光は、吹出しノズル本体２９の粗化された内面によって散乱される。吹出しノズル本体２９の内面の算術平均粗さはＲａ＝２μｍ以上であるため、入射光Ｌ２，Ｌ３を確実かつ十分に散乱させることができる。したがって、散乱光の一部Ｌ４が、連通孔２１ｃを通って吹出し口２１ｅから漏れたとしても、被処理物９０に照射される光量密度を十分に小さくすることができる。よって、光硬化性の膜９２が硬化するのを一層確実に防止できる。
【００３１】
さらに、プラズマ導入口２１ａからの一部の光Ｌ５は、直接、連通孔２１ｃを通って吹出し室２１ｄに入る。この光Ｌ５は、連通孔２１ｃの直線Ｌ０に対する配置関係により、吹出しノズル本体２９の吹出し室２１ｄの内面に入射し、該内面の光吸収層２９ａに吸収され、又は散乱する。光Ｌ５が、直接、吹出し口２１ｅから出射されることはない。これにより、光硬化性の膜９２が硬化するのを一層確実に防止できる。
【００３２】
吹出しノズル本体２９の内面がレイデント処理されているため、吹出しノズル本体２９の耐熱性及び耐腐蝕性を高めることができる。例えばプラズマが数百度を越える場合や腐蝕性成分を含有する場合でも、吹出しノズル本体２９が熱損傷や腐蝕を来たすのを防止できる。
【００３３】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において第１実施形態と同様の構成に関しては、図面に同一符号を付して説明を適宜省略する。
図３及び図４に示すように、第２実施形態のプラズマ処理装置１では、処理ヘッド２が、長手方向を図４の紙面と直交する前後方向に向けた直方体形状になっている。処理ヘッド２内には一対の電極１１，１１が設けられている。これら電極１１は、前後方向（図４の紙面直交方向）に延びる長板状になっており、互いに左右に対向している。電極１１は、絶縁体のホルダ１３にて保持されている。ホルダ１３は、各電極１１の上面、背面（他方の電極との対向面の反対側の面）及び下面に被さっている。一対の電極１１の一方が電源（図示省略）に接続され、他方が電気的に接地されている。電源からの電圧供給によって、これら電極１１，１１間に略大気圧の放電空間１２が形成される。放電空間１２が、長手方向を前後方向に向けた直方体形状の空間ないしは前後方向に延びるスリット状になっている。
【００３４】
吹出しノズル２０の本体２９は、長手方向を前後方向に向けた直方体になっている。吹出しノズル本体２９の内面は、第１実施形態と同様に黒色処理（光吸収層２９ａ形成処理）及び粗化処理を施されている。ホルダ１３の底面をも黒色処理及び粗化処理してもよい。
【００３５】
吹出しノズル本体２９内の吹出し路２１が直方体の空間になっている。プラズマ導入口２１ａは、一対のホルダ１３，１３の下端部どうしの間に画成され、放電空間１２の底面とほぼ同じ大きさ及び形状の長方形になっている。吹出し口２１ｅは、放電空間１２と平行に前後方向（図４の紙面直交方向）に延びるスリット状になっている。吹出し口２１ｅは、放電空間１２の短手方向の中央部のちょうど真下に放電空間１２と平行に配置されている。吹出し口２１ｅの幅（図４の左右方向の寸法）は、放電空間１２の幅（図４の左右方向の寸法）とほぼ同じ大きさになっている。吹出し口２１ｅの幅を放電空間１２の幅より大きくしてもよく小さくしてもよい。
【００３６】
第２実施形態の遮光部材２３は、長方形の板状になっており、長手方向を前後に向け、短手方向を左右に向けて水平に配置されている。遮光部材２３の短手（左右）方向の両縁が、吹出しノズル本体２９の左右の内壁に接して連結されている。詳細な図示は省略するが、遮光部材２３の長手（前後）方向の両縁は、吹出しノズル本体２９の前後の内壁に接して連結されている。第１実施形態と同様に、遮光部材２３によって吹出し路２１が上側の導入室２１ｂと下側の吹出し室２１ｄとに仕切られている。
【００３７】
第２実施形態の連通孔２１ｃは、左右に２列をなし、前後に間隔を置いて複数配置されている。これら連通孔２１ｃは、プラズマ導入口２１ａの幅方向の縁と吹出し口２１ｅの同側の縁とを結ぶ直線Ｌ０が遮光部材２３と交差する位置より遮光部材２３の幅方向の外側に配置されている。遮光部材２３の大きさ、形状、位置は、プラズマ導入口２１ａ内の任意の点と吹出し口２１ｅ内の任意の点とを結ぶ直線Ｌ０が必ず遮光部材２３（連通孔２１ｃを除く）と交差するように設定されていればよい。
【００３８】
第２実施形態では、直方体の放電空間１２でプラズマ化された処理ガスｆが、プラズマ導入口２１ａから導入室２１ｂに入り、連通部２１ｃを通って吹出し室２１ｄに入り、その後、スリット状の吹出し口２１ｅから処理空間８へ吹き出される。これにより、膜９２の直線状の領域を一度にアッシングできる。また、プラズマガスｆが、広い導入室２１ａ、狭い連通部２１ｃ、広い吹出し室２１ｄ、狭い吹出し口２１ｅの順に流通することによって、長手方向（図４の紙面直交方向）に均一化が促進され、膜９２を長手方向に均一に処理できる。さらに、図示しない移動手段によって処理ヘッド２を被処理物９０に対し処理ヘッド２の短手方向（図４の左右方向）に相対移動させることにより、膜９２を面状にアッシングできる。
【００３９】
第２実施形態においても、第１実施形態と同様に、放電空間１２から吹出し口２１ｅへ向かうプラズマ光Ｌ１を遮光部材２３によって遮ることができる。したがって、被処理物９０にプラズマ光が直接照射されるのを防止できる。また、吹出しノズル本体２９の内面に入射した光Ｌ２，Ｌ３は、黒系色の光吸収層２９ａに吸収され、又は吹出しノズル本体２９の粗面化された内面によって散乱される。これにより、散乱光の一部Ｌ４が吹出し口２１ｅから漏れたとしても被処理物９０に照射される光量密度を小さくできる。さらに、プラズマ導入口２１ａから直接、連通孔２１ｃを通過する光Ｌ５は、吹出しノズル本体２９の吹出し室２１ｄの内面に入射し、該内面の光吸収層２９ａに吸収され、又は散乱する。光Ｌ５が、直接、吹出し口２１ｅから出射されることはない。この結果、光硬化性の膜９２が硬化するのを確実に防止できる。
【００４０】
本発明は、上記実施形態に限られず、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の改変をなすことができる。
例えば、処理対象は、光硬化性の樹脂に限られず、光硬化性でない樹脂でもよく、樹脂等の有機材料に限られず、無機材料でもよい。本発明は、光により変質する処理対象を処理するのに適しているが、光により変質しない、又は変質しにくい処理対象にも適用できる。
処理内容は、アッシングに限られず、表面改質（親水化、撥水化等）、洗浄、エッチング、成膜などの種々の表面処理に適用可能である。
処理対象及び処理内容に応じて処理ガス成分を適宜選択する。例えば無機材料のエッチングの場合、処理ガス成分としてＣＦ４、ＣＨ３Ｆ等のハロゲン系ガスを用いるとよい。
【００４１】
吹出しノズル本体２９の内面の黒色化は、レイデント処理に限られず、黒色塗装にて行なってもよく、そうすると製作コストを安価にすることができる。吹出しノズル本体２９の内面の黒色化方法として、吹出しノズル本体２９の内面を亜鉛めっきし、その上に黒色クロメート加工を行なうことにしてもよく、そうすると、吹出しノズル本体２９の耐蝕性、防錆性を高めることができる。
吹出しノズル本体２９の内面は、純黒色に限られず、黒に近い色（黒系色）であればよく、更には黒系色であるのに限られず、膜９２を変質させる光の波長に対し吸収性を有する色になっていればよい。
遮光部材２３にも、被処理物を変質させる波長域の光に対し吸収帯を有するよう、表面処理を施してもよく、レイデント処理等の黒色化処理を施してもよい。
【００４２】
遮光部材２３が、吹出しノズル本体２９と一体になっていてもよい。吹出しノズル本体２９の一部が、遮光部材２３として提供されていてもよい。
遮光部材２３の外周縁が、吹出しノズル本体２９の内壁から離れ、遮光部材２３がブラケットを介して吹出しノズル本体２９と連結されていてもよく、遮光部材２３の外周縁と吹出しノズル本体２９の内壁との間に、導入室２１ｂと吹出し室２１ｄとを連通する連通部２１ｃが形成されていてもよい。
連通孔２１ｃの形状は、円形に限られず、多角形等の任意の形状を採用できる。
第２実施形態の連通孔２１ｃは、遮光部材２３の長手方向に延びるスリット状であってもよい。
【００４３】
処理ヘッド２の形状及び構造は、実施形態に示したものに限られず、種々の改変をなすことができる。例えば、プラズマ導入口２１ａは、放電空間１２に直接連なるのに限られず、チューブやパイプ等からなる連通路を介して放電空間１２と連なっていてもよい。処理ヘッド２の底面に処理済みのガス等を吸引する吸引口を設けてもよい。
プラズマ導入口２１ａと吹出し口２１ｅとが鉛直方向（被処理物配置面の法線）に対しずれていてもよい。この場合においても、プラズマ導入口２１ａ内の任意の点と吹出し口２１ｅ内の任意の点とを結ぶ直線が、必ず遮光部材２３と交差していることが好ましい。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
この発明は、例えばフラットパネルディスプレイ用のガラス基板や半導体基板の製造工程における表面処理に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の第１実施形態に係るプラズマ処理装置を示す斜視図である。
【図２】第１実施形態に係るプラズマ処理装置の吹出しノズルの断面図である。
【図３】本発明の第２実施形態に係るプラズマ処理装置を示す斜視図である。
【図４】第２実施形態に係るプラズマ処理装置の吹出しノズルの断面図である。
【符号の説明】
【００４６】
１      プラズマ処理装置
２      処理ヘッド
３      被処理物支持部
８      処理空間
１０    プラズマ生成部
１１    電極
１２    放電空間
１９    プラズマ生成部筐体
２０    吹出しノズル
２１    吹出し路
２１ａ  プラズマ導入口
２１ｂ  導入室
２１ｃ  連通孔（連通部）
２１ｄ  吹出し室
２１ｅ  吹出し口
２３    遮光部材
２９    吹出しノズル本体
２９ａ  光吸収層
９０    被処理物
９１    基板
９２    被処理膜
ｆ      プラズマガス流
Ｌ      軸線
Ｌ０    プラズマ導入口の縁と吹出し口の縁とを結ぶ直線
Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４，Ｌ５  プラズマ光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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