(57)【要約】【課題】薬液又は再利用水を供給する配管が長く又は配管の経路が複雑な場合も、ノズルの詰まりを防止して、基板の処理を均一に行う。【解決手段】基板１を移動しながら、制御弁３４を閉じ、制御弁３３を開いて、共通経路３５ａ及び分岐経路３５ｂを介して、ノズル３９を薬液供給源３０に接続して、ノズル３９から基板１の表面へ薬液を吐出する。所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、制御弁３３を閉じ、制御弁３４を開いて、共通経路３５ａ及び分岐経路３５ｃを介して、ノズル３９を圧縮気体供給源４０に接続して、ノズル３９から共通経路３５ａ内の薬液及び圧縮気体を吐出する。圧縮気体の圧力により、ノズル３９へつながる共通経路３５ａ内から薬液が排出されて、薬液の結晶や異物の発生が抑制される。また、ノズル３９内に付着した薬液の結晶や異物が、圧縮気体の圧力で除去される。【選択図】図１
2010153425.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を移動する基板移動手段と、
前記基板移動手段により移動される基板の表面へ薬液を吐出するノズルと、
前記ノズルへ薬液を供給する薬液供給源と、
前記ノズルへ圧縮気体を供給する圧縮気体供給源と、
前記ノズルへつながる共通経路、該共通経路から前記薬液供給源へつながる第１の分岐経路、及び該共通経路から前記圧縮気体供給源へつながる第２の分岐経路を有する配管と、
前記第１の分岐経路に設けられた第１の制御弁と、
前記第２の分岐経路に設けられた第２の制御弁と、
前記第１の制御弁及び前記第２の制御弁を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記第２の制御弁を閉じ、前記第１の制御弁を開いて、前記共通経路及び前記第１の分岐経路を介して、前記ノズルを前記薬液供給源に接続して、前記ノズルから基板の表面へ薬液を吐出させ、所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、前記第１の制御弁を閉じ、前記第２の制御弁を開いて、前記共通経路及び前記第２の分岐経路を介して、前記ノズルを前記圧縮気体供給源に接続して、前記ノズルから前記共通経路内の薬液及び圧縮気体を吐出させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
基板を移動する基板移動手段と、基板の表面へ薬液を吐出するノズルと、ノズルへ薬液を供給する薬液供給源と、ノズルへ圧縮気体を供給する圧縮気体供給源と、ノズルへつながる共通経路、共通経路から薬液供給源へつながる第１の分岐経路、及び共通経路から圧縮気体供給源へつながる第２の分岐経路を有する配管とを設け、
第１の分岐経路に第１の制御弁を設け、
第２の分岐経路に第２の制御弁を設け、
基板を移動しながら、第２の制御弁を閉じ、第１の制御弁を開いて、共通経路及び第１の分岐経路を介して、ノズルを薬液供給源に接続して、ノズルから基板の表面へ薬液を吐出し、
所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、第１の制御弁を閉じ、第２の制御弁を開いて、共通経路及び第２の分岐経路を介して、ノズルを圧縮気体供給源に接続して、ノズルから共通経路内の薬液及び圧縮気体を吐出することを特徴とする基板処理方法。
【請求項３】
表面に薬液が供給された基板を移動する基板移動手段と、
前記基板移動手段により移動される基板の表面へ再利用水を吐出するノズルと、
前記ノズルへ再利用水を供給する再利用水供給源と、
前記ノズルへ圧縮気体を供給する圧縮気体供給源と、
前記ノズルへつながる共通経路、該共通経路から前記再利用水供給源へつながる第１の分岐経路、及び該共通経路から前記圧縮気体供給源へつながる第２の分岐経路を有する配管と、
前記第１の分岐経路に設けられた第１の制御弁と、
前記第２の分岐経路に設けられた第２の制御弁と、
前記第１の制御弁及び前記第２の制御弁を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記第２の制御弁を閉じ、前記第１の制御弁を開いて、前記共通経路及び前記第１の分岐経路を介して、前記ノズルを前記再利用水供給源に接続して、前記ノズルから基板の表面へ再利用水を吐出させ、所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、前記第１の制御弁を閉じ、前記第２の制御弁を開いて、前記共通経路及び前記第２の分岐経路を介して、前記ノズルを前記圧縮気体供給源に接続して、前記ノズルから前記共通経路内の再利用水及び圧縮気体を吐出させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
表面に薬液が供給された基板を移動する基板移動手段と、基板の表面へ再利用水を吐出するノズルと、ノズルへ再利用水を供給する再利用水供給源と、ノズルへ圧縮気体を供給する圧縮気体供給源と、ノズルへつながる共通経路、共通経路から再利用水供給源へつながる第１の分岐経路、及び共通経路から圧縮気体供給源へつながる第２の分岐経路を有する配管とを設け、
第１の分岐経路に第１の制御弁を設け、
第２の分岐経路に第２の制御弁を設け、
基板を移動しながら、第２の制御弁を閉じ、第１の制御弁を開いて、共通経路及び第１の分岐経路を介して、ノズルを再利用水供給源に接続して、ノズルから基板の表面へ再利用水を吐出し、
所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、第１の制御弁を閉じ、第２の制御弁を開いて、共通経路及び第２の分岐経路を介して、ノズルを圧縮気体供給源に接続して、ノズルから共通経路内の再利用水及び圧縮気体を吐出することを特徴とする基板処理方法。
【請求項５】
請求項１又は請求項３に記載の基板処理装置を用いて基板の処理を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項６】
請求項２又は請求項４に記載の基板処理方法を用いて基板の処理を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、現像液、エッチング液、剥離液等の薬液を用いて、基板の現像、エッチング、剥離等の処理を行う基板処理装置、基板処理方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に、基板を移動しながら、薬液又は再利用水をノズルから基板へ吐出して基板の処理を行う基板処理装置、基板処理方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われ、基板の現像、エッチング、剥離等の処理は、現像液、エッチング液、剥離液等の薬液を、スプレーノズル、シャワーノズル、又はスリットノズルから基板へ吐出して行われる。
【０００３】
現像液、エッチング液、剥離液等の薬液には、乾燥時に結晶を生ずるものや、異物が溶解したものが多くあり、これらの結晶や異物がスプレーノズル、シャワーノズル、又はスリットノズルの吐出口に詰ると、薬液が基板へ均一に供給されない。特許文献１には、ノズル内の圧力を大気開放することにより、ノズル内の処理液をノズルから迅速に排出して、ノズルの詰まりを防止する技術が開示されている。
【特許文献１】特開２００７−２７３５６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基板処理装置には、特許文献１に記載の様に、基板を回転しながら基板の処理を行うものと、ローラコンベア等の移動手段を用いて、基板を移動しながら基板の処理を行うものとがある。基板を移動しながら基板の処理を行う基板処理装置は、複数のスプレーノズルやシャワーノズルを設置する必要があるので、特許文献１に記載の基板を回転しながら基板の処理を行う基板処理装置に比べ、スプレーノズルやシャワーノズルへ薬液を供給する配管が長くなり、また配管の経路が複雑になる。特に、表示用パネルの大画面化に伴って基板が大型化すると、スプレーノズルやシャワーノズルの数が増加するので、配管がより長く太くなり、配管の経路もより複雑になる。
【０００５】
特許文献１に記載の技術は、ノズル内の圧力を大気開放することにより、ノズル内と大気との差圧がなくなり、処理液が自重により落下してノズルから排出されるものであるが、これを、薬液を供給する配管が長く又は配管の経路が複雑な基板処理装置に適用しても、薬液の供給を止めたときに、配管内に残った薬液を排出することができなかった。そのため、配管内に残った薬液から薬液の結晶や異物が生じ、長期間使用している間に、これらの結晶や異物がノズル内に付着してノズルが詰まり、薬液が基板へ均一に供給されなくなるという問題があった。
【０００６】
また、基板の現像、エッチング、剥離等の処理の終了時には、基板の表面の現像液、エッチング液、剥離液等の薬液を水に置き換える水置換プロセスが行われる。水置換プロセスは、スプレーノズルやシャワーノズルから基板へ純水を供給して行われるが、後工程で使用した純水をタンクに溜めて、溜めた水を再利用することが多い。この再利用水には、異物や不純物が多く含まれており、再利用水に含まれる異物や不純物がノズルに詰まり、再利用水が基板へ均一に供給されなくなるという問題があった。
【０００７】
本発明の課題は、薬液又は再利用水を供給する配管が長く又は配管の経路が複雑な場合も、ノズルの詰まりを防止して、基板の処理を均一に行うことである。また、本発明の課題は、基板の処理を均一に行い、高品質な表示用パネル基板を製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の基板処理装置は、基板を移動する基板移動手段と、基板移動手段により移動される基板の表面へ薬液を吐出するノズルと、ノズルへ薬液を供給する薬液供給源と、ノズルへ圧縮気体を供給する圧縮気体供給源と、ノズルへつながる共通経路、共通経路から薬液供給源へつながる第１の分岐経路、及び共通経路から圧縮気体供給源へつながる第２の分岐経路を有する配管と、第１の分岐経路に設けられた第１の制御弁と、第２の分岐経路に設けられた第２の制御弁と、第１の制御弁及び第２の制御弁を制御する制御手段とを備え、制御手段が、第２の制御弁を閉じ、第１の制御弁を開いて、共通経路及び第１の分岐経路を介して、ノズルを薬液供給源に接続して、ノズルから基板の表面へ薬液を吐出させ、所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、第１の制御弁を閉じ、第２の制御弁を開いて、共通経路及び第２の分岐経路を介して、ノズルを圧縮気体供給源に接続して、ノズルから共通経路内の薬液及び圧縮気体を吐出させるものである。
【０００９】
また、本発明の基板処理方法は、基板を移動する基板移動手段と、基板の表面へ薬液を吐出するノズルと、ノズルへ薬液を供給する薬液供給源と、ノズルへ圧縮気体を供給する圧縮気体供給源と、ノズルへつながる共通経路、共通経路から薬液供給源へつながる第１の分岐経路、及び共通経路から圧縮気体供給源へつながる第２の分岐経路を有する配管とを設け、第１の分岐経路に第１の制御弁を設け、第２の分岐経路に第２の制御弁を設け、基板を移動しながら、第２の制御弁を閉じ、第１の制御弁を開いて、共通経路及び第１の分岐経路を介して、ノズルを薬液供給源に接続して、ノズルから基板の表面へ薬液を吐出し、所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、第１の制御弁を閉じ、第２の制御弁を開いて、共通経路及び第２の分岐経路を介して、ノズルを圧縮気体供給源に接続して、ノズルから共通経路内の薬液及び圧縮気体を吐出するものである。
【００１０】
あるいは、本発明の基板処理装置は、表面に薬液が供給された基板を移動する基板移動手段と、基板移動手段により移動される基板の表面へ再利用水を吐出するノズルと、ノズルへ再利用水を供給する再利用水供給源と、ノズルへ圧縮気体を供給する圧縮気体供給源と、ノズルへつながる共通経路、共通経路から再利用水供給源へつながる第１の分岐経路、及び共通経路から圧縮気体供給源へつながる第２の分岐経路を有する配管と、第１の分岐経路に設けられた第１の制御弁と、第２の分岐経路に設けられた第２の制御弁と、第１の制御弁及び第２の制御弁を制御する制御手段とを備え、制御手段が、第２の制御弁を閉じ、第１の制御弁を開いて、共通経路及び第１の分岐経路を介して、ノズルを再利用水供給源に接続して、ノズルから基板の表面へ再利用水を吐出させ、所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、第１の制御弁を閉じ、第２の制御弁を開いて、共通経路及び第２の分岐経路を介して、ノズルを圧縮気体供給源に接続して、ノズルから共通経路内の再利用水及び圧縮気体を吐出させるものである。
【００１１】
また、本発明の基板処理方法は、表面に薬液が供給された基板を移動する基板移動手段と、基板の表面へ再利用水を吐出するノズルと、ノズルへ再利用水を供給する再利用水供給源と、ノズルへ圧縮気体を供給する圧縮気体供給源と、ノズルへつながる共通経路、共通経路から再利用水供給源へつながる第１の分岐経路、及び共通経路から圧縮気体供給源へつながる第２の分岐経路を有する配管とを設け、第１の分岐経路に第１の制御弁を設け、第２の分岐経路に第２の制御弁を設け、基板を移動しながら、第２の制御弁を閉じ、第１の制御弁を開いて、共通経路及び第１の分岐経路を介して、ノズルを再利用水供給源に接続して、ノズルから基板の表面へ再利用水を吐出し、所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、第１の制御弁を閉じ、第２の制御弁を開いて、共通経路及び第２の分岐経路を介して、ノズルを圧縮気体供給源に接続して、ノズルから共通経路内の再利用水及び圧縮気体を吐出するものである。
【００１２】
基板の現像、エッチング、剥離等の処理又は薬液の水置換を行う際は、基板を移動しながら、第２の制御弁を閉じ、第１の制御弁を開いて、共通経路及び第１の分岐経路を介して、ノズルを薬液供給源又は再利用水供給源に接続して、ノズルから基板の表面へ薬液又は再利用水を吐出する。そして、所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、第１の制御弁を閉じ、第２の制御弁を開いて、共通経路及び第２の分岐経路を介して、ノズルを圧縮気体供給源に接続して、ノズルから共通経路内の薬液又は再利用水、及び圧縮気体を吐出する。薬液又は再利用水を供給する配管が長く又は配管の経路が複雑であっても、圧縮気体の圧力により、ノズルへつながる共通経路内から薬液又は再利用水が排出されて、薬液の結晶や異物の発生が抑制される。また、ノズル内に付着した薬液の結晶や異物、不純物が、圧縮気体の圧力で除去される。従って、ノズルの詰まりが防止され、薬液又は再利用水がノズルから基板へ均一に供給されるので、基板の処理が均一に行われる。
【００１３】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかの基板処理装置又は基板処理方法を用いて基板の処理を行うものである。基板の処理が均一に行われるので、高品質な表示用パネル基板が製造される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の基板処理装置及び基板処理方法によれば、所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、ノズルを圧縮気体供給源に接続して、ノズルからノズルへつながる共通経路内の薬液又は再利用水、及び圧縮気体を吐出することにより、薬液又は再利用水を供給する配管が長く又は配管の経路が複雑な場合も、ノズルの詰まりを防止して、基板の処理を均一に行うことができる。
【００１５】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、基板の処理を均一に行うことができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図１は、本発明の一実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。基板処理装置は、ローラ１０、回転軸１１、薬液回収チャンバ２０、薬液回収通路２１、薬液タンク３０、ポンプ３１、フィルタ３２、制御弁３３，３４、配管３５、ノズルヘッダー３６、支持具３７、吊り棒３８、ノズル３９、圧縮空気供給設備４０、及び制御装置５０を含んで構成されている。
【００１７】
図１において、薬液回収チャンバ２０内には、複数の回転軸１１が、図面奥行き方向に一定の間隔で設置されており、各回転軸１１には複数のローラ１０が取り付けられている。各回転軸１１は、薬液回収チャンバ２０の外側で図示しないモータに接続されており、モータにより各回転軸１１を回転することで、各回転軸１１に取り付けられたローラ１０が所定の速度で回転する。基板１は、複数のローラ１０上に搭載され、ローラ１０の回転により図面奥行き方向へ移動される。
【００１８】
なお、本実施の形態では基板１を水平な状態で移動しているが、本発明はこれに限らず、基板１を水平に対して基板移動方向と直交する方向又は基板移動方向に所定の角度傾斜した状態で移動してもよい。
【００１９】
ローラ１０により移動される基板１の上方には、複数のノズルヘッダー３６が、図面奥行き方向に一定の間隔で設置されている。図２は、ノズルヘッダーの上面図である。本実施の形態では、ノズルヘッダー３６が基板移動方向に８段設けられている。しかしながら、ノズルヘッダー３６の段数は、これに限らず、基板１の基板移動方向の寸法に応じて適宜決定される。
【００２０】
図１において、各段のノズルヘッダー３６は、支持具３７を挟んで左右２つに分割されており、分割された各ノズルヘッダー３６の一端は配管３５に接続され、他端は支持具３７により固定されている。支持具３７は、吊り棒３８により、図示しない支持部材から吊り下げられている。なお、本実施の形態では、各段のノズルヘッダー３６を２つに分割しているが、各段のノズルヘッダー３６は、基板１の図面横方向の寸法に応じて、分割せずに一体としてもよく、また３つ以上に分割してもよい。
【００２１】
分割された各ノズルヘッダー３６には、複数のノズル３９がそれぞれ設けられている。ノズル３９は、スプレーノズル又はシャワーノズルであり、現像液、エッチング液、剥離液等の薬液を、ローラ１０により移動される基板１の表面へ吐出する。基板１の移動に伴い、ノズル３９から吐出された薬液が基板１の表面全体へ供給され、基板１の現像、エッチング、剥離等の処理が行われる。
【００２２】
ローラ１０の周囲には、薬液回収チャンバ２０が配置されており、薬液回収チャンバ２０の底には、薬液回収通路２１が設けられている。なお、図１には、薬液回収チャンバ２０及び薬液回収通路２１の断面が示されている。ノズル３９から基板１の表面へ吐出された薬液は、基板１の表面から薬液回収チャンバ２０へ流れ落ち、薬液回収通路２１を通って薬液タンク３０へ流れ込む。
【００２３】
分割された各ノズルヘッダー３６と薬液タンク３０との間には、薬液を薬液タンク３０から各ノズルヘッダー３６へ供給する配管３５が設置されている。配管３５は、ノズルヘッダー３６へつながる共通経路３５ａと、共通経路３５ａから薬液タンク３０へつながる分岐経路３５ｂと、後述する分岐経路３５ｃとで構成されている。
【００２４】
分岐経路３５ｂには、薬液タンク３０内の薬液を配管３５内へ流すためのポンプ３１と、薬液に混入した異物や不純物を取り除くフィルタ３２と、制御弁３３とが設けられている。制御弁３３は、分岐経路３５ｃとの分岐点の直前に設けられている。分岐経路３５ｃは、共通経路３５ａと圧縮空気供給設備４０との間に設置されており、分岐経路３５ｃには、制御弁３４が設けられている。制御装置５０は、ポンプ３１、及び制御弁３３，３４を制御する。
【００２５】
以下、本発明の一実施の形態による基板処理方法について説明する。まず、基板１の処理を行う場合、制御装置５０は、制御弁３４を閉じ、制御弁３３を開いて、共通経路３５ａ及び分岐経路３５ｂを介して、ノズルヘッダー３６を薬液タンク３０に接続する。そして、制御装置５０は、ポンプ３１を動作させて、薬液タンク３０内の薬液をノズルヘッダー３６へ供給させる。ノズルヘッダー３６へ供給された薬液は、ノズル３９から基板１の表面へ吐出され、薬液回収チャンバ２０で回収されて、薬液タンク３０へ戻る。
【００２６】
所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、ローラ１０を止めて、基板１の処理を中止する。制御装置５０は、ポンプ３１を停止させ、制御弁３３を閉じ、制御弁３４を開いて、共通経路３５ａ及び分岐経路３５ｃを介して、ノズルヘッダー３６を圧縮空気供給設備４０に接続する。圧縮空気供給設備４０は、圧力が０．１ＭＰａ以上、例えば０．５ＭＰａの圧縮空気を、ノズルヘッダー３６へ供給する。ノズルヘッダー３６へ供給された圧縮空気は、共通経路３５ａ内の薬液と共に、ノズル３９から吐出される。薬液を供給する配管３５が長く又は配管３５の経路が複雑であっても、圧縮空気の圧力により、ノズルヘッダー３６へつながる共通経路３５ａ内から薬液が排出されて、薬液の結晶や異物の発生が抑制される。また、ノズル３９内に付着した薬液の結晶や異物が、圧縮空気の圧力で除去される。従って、ノズル３９の詰まりが防止される。
【００２７】
共通経路３５ａ内の薬液を全て吐出した後、再び、ローラ１０を回転して、基板１の処理を再開する。制御装置５０は、制御弁３４を閉じ、制御弁３３を開いて、共通経路３５ａ及び分岐経路３５ｂを介して、ノズルヘッダー３６を薬液タンク３０に接続する。そして、制御装置５０は、ポンプ３１を動作させて、薬液タンク３０内の薬液をノズルヘッダー３６へ供給させる。ノズルヘッダー３６へ供給された薬液は、ノズル３９から基板１の表面へ吐出され、薬液がノズル３９から基板１へ均一に供給されるので、基板１の処理が均一に行われる。
【００２８】
以上説明した実施の形態によれば、所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、ノズルヘッダー３６を圧縮空気供給設備４０に接続して、ノズル３９からノズルヘッダー３６へつながる共通経路３５ａ内の薬液及び圧縮空気を吐出することにより、薬液を供給する配管３５が長く又は配管３５の経路が複雑な場合も、ノズル３９の詰まりを防止して、基板１の処理を均一に行うことができる。
【００２９】
なお、基板の処理に用いる薬液が有機溶剤やアルコール等の可燃物を含む場合、静電気による発火の可能性がある。その場合は、圧縮空気の代わりに不燃性ガスを使用し、あるいは配管に除電用アースを設置する等の対策を行う。
【００３０】
図３は、本発明の他の実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、図１に示した実施の形態のノズルヘッダー３６の代わりに、スリットノズル６０を用いたものである。図３において、基板１は、ローラ１０の回転により図面手前方向へ移動される。その他の構成要素は、図１に示した実施の形態と同様である。
【００３１】
基板の処理において、薬液を短時間に基板の表面全体に盛る必要がある場合、スプレーノズルやシャワーノズルの代わりに、スリット状の吐出口を有するスリットノズルが用いられる。図４は、スリットノズルの斜視図である。スリットノズル６０は、スリット状の吐出口６０ａから、薬液２を基板１の表面へ長手方向に渡って均一に吐出する。スリットノズル６０も、薬液の結晶や異物がスリット状の吐出口６０ａに詰まることがあり、本発明はスリットノズル６０のスリット状の吐出口６０ａの詰まりにも効果がある。
【００３２】
本発明は、基板の現像、エッチング、剥離等の処理の終了時に、現像液、エッチング液、剥離液等の薬液を水に置き換える水置換プロセスにも適用できる。水置換プロセスでは、後工程で使用した純水をタンクに溜めて、溜めた水を再利用することが多い。図５は、本発明のさらに他の実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。基板処理装置は、ローラ１０、水回収チャンバ７０、水回収通路７１、再利用水タンク８０、ポンプ８１、フィルタ８２、制御弁８３，８４、配管８５、ノズルヘッダー８６，８７、ノズル８９、純水供給源、圧縮空気供給源、及び制御装置９０を含んで構成されている。
【００３３】
表面に薬液が供給された基板１は、複数のローラ１０上に搭載され、ローラ１０の回転により図面左方向へ移動される。ノズルヘッダー８６，８７には、複数のノズル８９がそれぞれ設けられている。ノズル８９は、スプレーノズル又はシャワーノズルであり、再利用水又は純水を、ローラ１０により移動される基板１の表面へ吐出する。基板１の移動に伴い、ノズル８９から吐出された再利用水又は純水が基板１の表面全体へ供給され、基板１の表面の薬液が再利用水、純水に置換される。
【００３４】
後工程のノズルヘッダー８７は、純水供給源に接続されており、ノズル８９から基板１の表面へ純水を吐出する。ノズルヘッダー８７のノズル８９から基板１の表面へ吐出された純水は、基板１の表面から水回収チャンバ７０へ流れ落ち、水回収通路７１を通って再利用水タンク８０へ流れ込む。
【００３５】
前工程のノズルヘッダー８６と再利用水タンク８０との間には、再利用水３を再利用水タンク８０から各ノズルヘッダー８６へ供給する配管８５が設置されている。配管８５は、ノズルヘッダー８６へつながる共通経路８５ａと、共通経路８５ａから再利用水タンク８０へつながる分岐経路８５ｂと、後述する分岐経路８５ｃとで構成されている。
【００３６】
分岐経路８５ｂには、再利用水タンク８０内の再利用水３を配管８５内へ流すためのポンプ８１と、再利用水に混入した異物や不純物を取り除くフィルタ８２と、制御弁８３とが設けられている。制御弁８３は、分岐経路８５ｃとの分岐点の直前に設けられている。分岐経路８５ｃは、共通経路８５ａと圧縮空気供給源との間に設置されており、分岐経路８５ｃには、制御弁８４が設けられている。制御装置９０は、ポンプ８１、及び制御弁８３，８４を制御する。
【００３７】
制御装置９０は、制御弁８４を閉じ、制御弁８３を開いて、共通経路８５ａ及び分岐経路８５ｂを介して、ノズルヘッダー８６を再利用水タンク８０に接続する。そして、制御装置９０は、ポンプ８１を動作させて、再利用水タンク８０内の再利用水３をノズルヘッダー８６へ供給させる。ノズルヘッダー８６へ供給された再利用水３は、ノズル８９から基板１の表面へ吐出される。
【００３８】
所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、ローラ１０を止めて、基板１の処理を中止する。制御装置９０は、ポンプ８１を停止させ、制御弁８３を閉じ、制御弁８４を開いて、共通経路８５ａ及び分岐経路８５ｃを介して、ノズルヘッダー８６を圧縮空気供給源に接続する。ノズルヘッダー８６へ供給された圧縮空気は、共通経路８５ａ内の再利用水と共に、ノズル８９から吐出される。再利用水には、異物や不純物が多く含まれており、フィルタ８２で除去しきれない異物や不純物がノズルヘッダー８６のノズルに詰る問題に対しても、本発明は効果を発揮する。
【００３９】
本発明の基板処理装置又は基板処理方法を用いて基板の処理を行うことにより、基板の処理を均一に行うことができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。
【００４０】
例えば、図６は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、ガラス基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄工程及び乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、ガラス基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００４１】
また、図７は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、ガラス基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、ガラス基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄工程及び乾燥工程が実施される。
【００４２】
図６に示したＴＦＴ基板の製造工程では、現像工程（ステップ１０４）、エッチング工程（ステップ１０５）、及び剥離工程（ステップ１０６）において、図７に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の現像、エッチング、及び剥離の処理において、本発明の基板処理装置又は基板処理方法を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の一実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図２】ノズルヘッダーの上面図である。
【図３】本発明の他の実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図４】スリットノズルの斜視図である。
【図５】本発明のさらに他の実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図６】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図７】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００４４】
１  基板
１０  ローラ
１１  回転軸
２０  薬液回収チャンバ
２１  薬液回収通路
３０  薬液タンク
３１  ポンプ
３２  フィルタ
３３，３４  制御弁
３５  配管
３５ａ  共通経路
３５ｂ，３５ｃ  分岐経路
３６  ノズルヘッダー
３７  支持具
３８  吊り棒
３９  ノズル
４０  圧縮空気供給設備
５０  制御装置
６０  スリットノズル
７０  水回収チャンバ
７１  水回収通路
８０  再利用水タンク
８１  ポンプ
８２  フィルタ
８３，８４  制御弁
８５  配管
８５ａ  共通経路
８５ｂ，８５ｃ  分岐経路
８６，８７  ノズルヘッダー
９０  制御装置
【図１】
2010153425.tif 000003
【図２】
2010153425.tif 000004
【図３】
2010153425.tif 000005
【図４】
2010153425.tif 000006
【図５】
2010153425.tif 000007
【図６】
2010153425.tif 000008
【図７】
2010153425.tif 000009