(57)【要約】      （修正有）【課題】有害生物に対して優れた防除効力を有する組成物を提供すること。【解決手段】下記式（I）で示される有機硫黄化合物〔式中、Ｒ1は少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基等、Ｒ2、Ｒ3は水素原子、アルキル基等を、Ｒ4はシアノ基、アルコキシカルボニル基、アミド基等を、Ｒ5は水素原子、ハロゲン原子等を、Ｒ6はフルオロアルキル基を、ｍは０〜4の整数を、ｎは０〜２の整数を表す。〕とピリプロールの一般名で知られる化合物の様なピラゾール化合物とを含有する有害生物防除組成物；並びに、該組成物を有害生物又は有害生物の生息場所に施用することを特徴とする有害生物の防除方法。2010120858.tif 000201【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（I）
2010120858.tif 000199
〔式中、
Ｒ1は少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニルオキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニル基又はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニルオキシ基を表し、
Ｒ2はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基又は水素原子を表し、
（但し、Ｒ1がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニルオキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニルオキシ基である場合、Ｒ2はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基又は水素原子である。）
Ｒ3はＣ１−Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、
Ｒ4はシアノ基、Ｃ(＝Ｑ)ＯＲ7又はＣ(＝Ｑ)Ｎ(Ｒ8)2を表し、
Ｒ5は水素原子、ハロゲン原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、
Ｒ6はＣ１−Ｃ５フルオロアルキル基を表し、
Ｑは酸素原子又は硫黄原子を表し、
Ｒ7はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、
Ｒ8は各々独立して水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表すか、２つのＲ8が末端で結合してＣ２−Ｃ７アルキレン基を表し、
ｍは０〜４の整数を表し、
ｎは０、１又は２を表す。〕
で示される有機硫黄化合物と、
下記式（II）
2010120858.tif 000200
〔式中、
Ｘ1はシアノ基又はアセチル基を表し、Ｘ2はメチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、フルオロメチルスルフィニル基、ジフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルフィニル基又はエチルスルフィニル基を表し、Ｘ3はアミノ基、（２−ピリジルメチル）アミノ基、（ピラジニルメチル）アミノ基又は（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ基を表す。〕
で示されるピラゾール化合物とを含有する有害生物防除組成物。
【請求項２】
式（I）において、Ｒ1がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニルオキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニル基又はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニルオキシ基である請求項１記載の組成物。
【請求項３】
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子と少なくとも１個の塩素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基又は少なくとも１個のフッ素原子と少なくとも１個の臭素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基である請求項１記載の組成物。
【請求項４】
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2及びＲ3が水素原子である請求項１記載の組成物。
【請求項５】
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｒ3が水素原子である請求項１記載の組成物。
【請求項６】
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基であり、Ｒ3が水素原子である請求項１記載の組成物。
【請求項７】
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール、
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（エチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール又は
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−アセチル−４−（メチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾールである請求項１〜６のいずれか１項記載の組成物。
【請求項８】
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾールである請求項１〜６のいずれか１項記載の組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか記載の組成物を、有害生物又は有害生物の生息場所に施用することを特徴とする有害生物の防除方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか記載の組成物を、有害生物の防除の為の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、下記の式（ａ）で示される有機硫黄化合物と下記の式（ｂ）で示されるピラゾール化合物とを含有する有害生物防除組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−アセチル−４−（メチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール等のピラゾール化合物が有害生物防除剤の有効成分として有用であることが知られている（例えば、特許文献１）。
防除対象によっては、より優れた防除効力を必要とする場合がある。
【０００３】
【特許文献１】特表２００８−５１７０２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、有害生物の防除に適する、優れた防除効力を有する組成物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、優れた防除効力を有する組成物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式（I）
2010120858.tif 000002
〔式中、
Ｒ1は少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニルオキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニル基又はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニルオキシ基を表し、
Ｒ2はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、
（但し、Ｒ1がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニルオキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニルオキシ基である場合、Ｒ2はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基又は水素原子である。）
Ｒ3はＣ１−Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、
Ｒ4はシアノ基、Ｃ(＝Ｑ)ＯＲ7又はＣ(＝Ｑ)Ｎ(Ｒ8)2を表し、
Ｒ5は水素原子、ハロゲン原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、
Ｒ6はＣ１−Ｃ５フルオロアルキル基を表し、
Ｑは酸素原子又は硫黄原子を表し、
Ｒ7はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、
Ｒ8は各々独立して水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表すか、２つのＲ8が末端で結合してＣ２−Ｃ７アルキレン基を表し、
ｍは０〜４の整数を表し、
ｎは０、１又は２を表す。〕
で示される有機硫黄化合物と、
下記式（II）
2010120858.tif 000003
〔式中、
Ｘ1はシアノ基又はアセチル基を表し、Ｘ2はメチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、フルオロメチルスルフィニル基、ジフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルフィニル基又はエチルスルフィニル基を表し、Ｘ3はアミノ基、（２−ピリジルメチル）アミノ基、（ピラジニルメチル）アミノ基又は（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ基を表す。〕
で示されるピラゾール化合物とを含有する組成物が、有害生物に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明に到った。
【０００６】
即ち、本発明は以下の発明を含む。
［発明１］
下記式（I）で示される有機硫黄化合物と、下記式（II）で示されるピラゾール化合物とを含有する有害生物防除組成物。
［発明２］
式（I）において、Ｒ1がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニルオキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニル基又はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニルオキシ基である発明１記載の組成物。
［発明３］
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子と少なくとも１個の塩素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基又は少なくとも１個のフッ素原子と少なくとも１個の臭素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基である発明１記載の組成物。
［発明４］
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2及びＲ3が水素原子である発明１記載の組成物。
［発明５］
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｒ3が水素原子である請求項１記載の組成物。
［発明６］
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基又はハロゲン原子であり、Ｒ3が水素原子である発明１記載の組成物。
［発明７］
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール、
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（エチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール又は
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−アセチル−４−（メチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾールである発明１〜６のいずれか１項記載の組成物。
［発明８］
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾールである請求項１〜６のいずれか１項記載の組成物。
［発明９］
式（I）において、Ｒ1がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニルオキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニル基又はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニルオキシ基であり、
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール、
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（エチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール又は
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−アセチル−４−（メチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾールである発明１記載の組成物。
［発明１０］
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子と少なくとも１個の塩素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基又は少なくとも１個のフッ素原子と少なくとも１個の臭素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール、
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（エチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール又は
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−アセチル−４−（メチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾールである発明１記載の組成物。
［発明１１］
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2及びＲ3が水素原子であり、
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール、
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（エチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール又は
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−アセチル−４−（メチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾールである発明１記載の組成物。
［発明１２］
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｒ3が水素原子であり、
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール、
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（エチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール又は
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−アセチル−４−（メチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾールである請求項１記載の組成物。
［発明１３］
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基又はハロゲン原子であり、Ｒ3が水素原子であり、
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール、
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（エチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール又は
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−アセチル−４−（メチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾールである発明１記載の組成物。
［発明１４］
式（I）において、Ｒ1がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニルオキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニル基又はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニルオキシ基であり、
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾールである発明１記載の組成物。
［発明１５］
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子と少なくとも１個の塩素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基又は少なくとも１個のフッ素原子と少なくとも１個の臭素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾールである発明１記載の組成物。
［発明１６］
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2及びＲ3が水素原子であり、
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾールである発明１記載の組成物。
［発明１７］
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｒ3が水素原子であり、
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾールである請求項１記載の組成物。
［発明１８］
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基又はハロゲン原子であり、Ｒ3が水素原子であり、
式（II）で示されるピラゾール化合物が
１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（ジフルオロメチルチオ）−５−［（２−ピリジルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾールである発明１記載の組成物。
［発明１９］
発明１〜１８のいずれか記載の組成物を、有害生物又は有害生物の生息場所に施用することを特徴とする有害生物の防除方法。
［発明２０］
発明１〜１８のいずれか記載の組成物を、有害生物の防除の為の使用。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の防除組成物は、有害生物の防除において優れた効力を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の防除組成物において、式（I）で示される有機硫黄化合物（以下、本有機硫黄化合物と記す。）と、式（II）で示されるピラゾール化合物（以下、本ピラゾール化合物と記す。）との重量比は、好ましくは１０００：１〜１：１０００、より好ましくは５００：１〜１：５００、１００：１〜１：１００、１０：１〜１：１０の範囲内である。
【０００９】
本明細書において、「ハロゲン原子」とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子を意味する。
「少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基」としては、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１−フルオロエチル基、２−フルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエチル基、
１−フルオロプロピル基、１，１−ジフルオロプロピル基、２−フルオロプロピル基、２，２−ジフルオロプロピル基、３−フルオロプロピル基、３，３−ジフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、１，１，２，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２，２，２−トリフルオロ−（１−トリフルオロメチル）エチル基、１，２，２，２−テトラフルオロ−（１−トリフルオロメチル）エチル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、
１−フルオロブチル基、１，１−ジフルオロブチル基、２−フルオロブチル基、２，２−ジフルオロブチル基、３−フルオロブチル基、３，３−ジフルオロブチル基、４−フルオロブチル基、４，４−ジフルオロブチル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル基、２，２，３，４，４−ペンタフルオロブチル基、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル基、
１−フルオロペンチル基、１，１−ジフルオロペンチル基、２−フルオロペンチル基、２，２−ジフルオロペンチル基、３−フルオロペンチル基、３，３−ジフルオロペンチル基、４−フルオロペンチル基、４，４−ジフルオロペンチル基、５−フルオロペンチル基、５，５−ジフルオロペンチル基、５，５，５−トリフルオロペンチル基、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル基、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル基、
３−クロロ−３，３−ジフルオロプロピル基、１−クロロ−１，３，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，３−ジクロロ−２，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピル基、
２−クロロ−２，４，４，４−テトラフルオロブチル基、３，４−ジクロロ−３，４，４−トリフルオロブチル基、３，３−ジクロロ−４，４，４−トリフルオロブチル基、４−クロロ−１，１，２，３，３，４，４−ヘプタフルオロブチル基、３，３−ジクロロ−４，４，４−トリフルオロブチル基、３，４−ジクロロ−３，４，４−トリフルオロブチル基、
５−クロロ−２，２，３，４，４，５，５−ヘプタフルオロペンチル基、４，４−ジクロロ−５，５，５−トリフルオロペンチル基、４，５−ジクロロ−４，５，５−トリフルオロペンチル基、
２，２−ジブロモ−３，３，３−トリフルオロプロピル基、２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，３−ジブロモ−３，３−ジフルオロプロピル基、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピル基、１−ブロモ−１，３，３，３−テトラフルオロプロピル基、１−ブロモ−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１，３−ジブロモ−２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、３−ブロモ−２，３，３−トリフルオロプロピル基、３−ブロモ−２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，３−ジブロモ−２，３，３−トリフルオロプロピル基、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピル基、
２−ブロモ−２，４，４，４−テトラフルオロブチル基、２−ブロモ−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル基、２，４−ジブロモ−３，３，４，４−テトラフルオロブチル基、４−ブロモ−３，４，４−トリフルオロブチル基、４−ブロモ−３，３，４，４−テトラフルオロブチル基、３，４−ジブロモ−３，４，４−トリフルオロブチル基、４−ブロモ−４，４−ジフルオロブチル基、４−ブロモ−３，３，４，４−テトラフルオロブチル基、
５−ブロモ−４，４，５，５−テトラフルオロペンチル基、１−ブロモ−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル基、１，１−ジブロモ−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル基、
２−ブロモ−３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル基、２，２−ジブロモ−３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル基等が挙げられる。
「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニル基」としては、２−プロペニル基、３−ブテニル基、４−ペンテニル基、５−ヘキセニル基、６−ヘプテニル基、７−オクテニル基、１−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘプテニル基、６−オクテニル基、２−メチル−１−プロペニル基、３−メチル−２−ブテニル基、４−メチル−３−ペンテニル基、５−メチル−４−ヘキセニル基、６−メチル−５−ヘプテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−ブテニル基、３−メチル−３−ペンテニル基、４−メチル−４−ヘキセニル基、５−メチル−５−ヘプテニル基、１，２−ジメチル−１−プロペニル基、２，３−ジメチル−２−ブテニル基、３，４−ジメチル−３−ペンテニル基、４，５−ジメチル−４−ヘキセニル基、５，６−ジメチル−５−ヘプテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−３−ブテニル基、３−メチル−４−ペンテニル基、４−メチル−５−ヘキセニル基、５−メチル−６−ヘプテニル基、２−メチル−２−プロペニル基、３−メチル−３−ブテニル基、４−メチル−４−ペンテニル基、５−メチル−５−ヘキセニル基、６−メチル−６−ヘプテニル基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基、４，４−ジフルオロ−３−ブテニル基、３，４，４−トリフルオロ−３−ブテニル基、５，５−ジフルオロ−４−ペンテニル基、６，６−ジフルオロ−５−ヘキセニル基、７，７−ジフルオロ−６−ヘプテニル基、４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル基、４−ブロモ−４，４−ジフルオロ−２−ブテニル基、３−クロロ−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル基、５−ブロモ−４−クロロ−４，５，５−トリフルオロ−２−ペンテニル基、４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロ−２−ヘキセニル基、３−メチル−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル基、３−メチル−４，４，５，５，５−ペンタフルオロ−２−ペンテニル基、３−メチル−４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロ−２−ヘキセニル基、３−（トリフルオロメチル）−２−ペンテニル基、３−エチル−４，４，５，５，５−ペンタフルオロ−２−ペンテニル基、３−エチル−４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロ−２−ヘキセニル基等が挙げられる。
「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニルオキシ基」としては、例えば２−プロペニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、４−ペンテニルオキシ基、５−ヘキセニルオキシ基、６−ヘプテニルオキシ基、７−オクテニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ペンテニルオキシ基、４−ヘキセニルオキシ基、５−ヘプテニルオキシ基、６−オクテニルオキシ基等が挙げられる。
「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニル基」としては、例えば２−プロピニル基、３−ブチニル基、４−ペンチニル基、５−ヘキシニル基、６−ヘプチニル基、７−オクチニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−メチル−３−ブチニル基、３−メチル−４−ペンチニル基、４−メチル−５−ヘキシニル基、５−メチル−６−ヘプチニル基、６−メチル−７−オクチニル基、１−メチル−５−ヘキシニル基、１−エチル−５−ヘキシニル基、１，１−ジメチル−５−ヘキシニル基、２−メチル−５−ヘキシニル基、２−エチル−５−ヘキシニル基、２，２−ジメチル−５−ヘキシニル基、３−メチル−５−ヘキシニル基、３−エチル−５−ヘキシニル基、３，３−ジメチル−５−ヘキシニル基、４−メチル−５−ヘキシニル基、４−エチル−５−ヘキシニル基、４，４−ジメチル−５−ヘキシニル基、１−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ペンチニル基、４−ヘキシニル基、５−ヘプチニル基、６−オクチニル基、３，３，３−トリフルオロ−１−プロピニル基、４，４，４−トリフルオロ−２−ブチニル基、５，５，５−トリフルオロ−３−ペンチニル基、６，６，６−トリフルオロ−４−ヘキシニル基、７，７，７−トリフルオロ−５−ヘプチニル基、８，８，８−トリフルオロ−６−オクチニル基等が挙げられる。
「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニルオキシ基」としては、例えば２−プロピニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、４−ペンチニルオキシ基、５−ヘキシニルオキシ基、６−ヘプチニルオキシ基、７−オクチニルオキシ基、１−メチル−２−プロピニルオキシ基、２−メチル−３−ブチニルオキシ基、３−メチル−４−ペンチニルオキシ基、４−メチル−５−ヘキシニルオキシ基、５−メチル−６−ヘプチニルオキシ基、６−メチル−７−オクチニルオキシ基、２−ブチニルオキシ）メチル基、（３−ペンチニルオキシ基、４−ヘキシニルオキシ基、５−ヘプチニルオキシ基、６−オクチニルオキシ基、４，４，４−トリフルオロ−２−ブチニルオキシ基、５，５，５−トリフルオロ−３−ペンチニルオキシ基、６，６，６−トリフルオロ−４−ヘキシニルオキシ基、７，７，７−トリフルオロ−５−ヘプチニルオキシ基等が挙げられる。
「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基等が挙げられる。
「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基」としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基」としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基等が挙げられる。
「Ｃ１−Ｃ５フルオロアルキル基」としては、例えばトリフルオロメチル基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエチル基、１，１，２，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロピル基等が挙げられる。
「Ｃ１−Ｃ４アルキル基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
【００１０】
本有機硫黄化合物としては、例えば
式（I）において、Ｒ1がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニルオキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニル基又はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニルオキシ基である有機硫黄化合物；
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子と少なくとも１個の塩素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基、又は少なくとも１個のフッ素原子と少なくとも１個の臭素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基である有機硫黄化合物；
式（I）において、Ｒ1がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルケニルオキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニル基又はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３−Ｃ５アルキニルオキシ基であり、Ｒ2及びＲ3が水素原子である有機硫黄化合物；
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子と少なくとも１個の塩素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基、又は少なくとも１個のフッ素原子と少なくとも１個の臭素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2及びＲ3が水素原子である有機硫黄化合物；
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2及びＲ3が水素原子である有機硫黄化合物；
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｒ3が水素原子である有機硫黄化合物；
式（I）において、Ｒ1が少なくとも１個のフッ素原子を有するＣ１−Ｃ５ハロアルキル基であり、Ｒ2がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基又はハロゲン原子であり、Ｒ3が水素原子である有機硫黄化合物
等が挙げられる。
【００１１】
本有機硫黄化合物には、Ｒ４及びＲ５が結合する不斉炭素、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３が相異なる場合にはＲ１、Ｒ２及びＲ３が結合する不斉炭素に基く、立体異性体が存在するが、本発明には活性な立体異性体を任意の比率で含有するものを使用することができる。
本有機硫黄化合物は、例えば以下の（製造法１）〜（製造法１２）により製造することができる。
【００１２】
（製造法１）
本有機硫黄化合物のうち、Ｒ5がＣ１−Ｃ４アルキル基である化合物（I-2）は、化合物（a）と化合物（I-1）とを反応させることにより製造することができる。
2010120858.tif 000004
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、ｍ及びｎは前記と同じ意味を表し、Ｒ5-1はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基及びトリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。］
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（I-1）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（a）の量は、化合物（I-1）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−１００〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（I-2）を単離することができる。単離された化合物（I-2）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１３】
（製造法２）
本有機硫黄化合物のうち、Ｒ5が水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基である化合物（I-3）は、化合物（c）と化合物（d）とを反応させることにより製造することができる。
2010120858.tif 000005
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、ｍ、ｎ及びＸは前記と同じ意味を表し、Ｒ5-2は水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。］
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（d）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（c）の量は、化合物（d）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−１００〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（I-3）を単離することができる。単離された化合物（I-3）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１４】
（製造法３）
本有機硫黄化合物のうち、Ｒ5がハロゲン原子である化合物（I-4）は、化合物（I-1）とハロゲン化剤（e）とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
2010120858.tif 000006
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、ｍ及びｎは前記と同じ意味を表し、Ｒ5-3はハロゲン原子を表す。］
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（I-1）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
該反応に用いられるハロゲン化剤（e）としては、例えば四塩化炭素、ヘキサクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン、Ｎ−クロロコハク酸イミド、Ｎ−ブロモコハク酸イミド、Ｎ−ヨードコハク酸イミド等のハロゲン化スクシンイミド、１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート、１，１’−ジフルオロ−２，２’−ビピリジニウム ビステトラフルオロボレート等のＮ−フルオロピリジニウム塩、塩化銅（2価）、臭化銅（2価）等の無機塩が挙げられる。
反応に用いられるハロゲン化剤（e）の量は、化合物（I-1）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−１００〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（I-4）を単離することができる。単離された化合物（I-4）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１５】
（製造法４）
本有機硫黄化合物のうち、Ｒ5がハロゲン原子である化合物（I-4）は、化合物（I-1）とハロゲン化剤(f)とを反応させることにより製造することができる。
2010120858.tif 000007
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5-3、Ｒ6、ｍ及びｎは前記と同じ意味を表す。］
該反応は無溶媒若しくは溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、アセトニトリル、プロピオニトリル等の脂肪族ニトリル、酢酸等の脂肪族カルボン酸、二硫化炭素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるハロゲン化剤(f)としては、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素のハロゲン化水素、塩化チオニル、臭化チオニル、塩化スルフリル等のハロゲン化硫黄化合物、三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン等のハロゲン化リン化合物があげられる。
反応に用いられるハロゲン化剤(f)の量は、化合物(I-1）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−１００〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I-4)を単離することができる。単離された化合物(I-4）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１６】
（製造法５）
本有機硫黄化合物のうち、Ｒ4がＣ(＝Ｏ)ＯＲ7又はＣ(＝Ｏ)Ｎ(Ｒ8)2である化合物（I-5）は、化合物（i）と化合物（j）とを反応させることにより製造する方法。
2010120858.tif 000008
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5-1、Ｒ6、ｍ及びｎは前記と同じ意味を表し、Ｚはハロゲン原子を表し、Ｒ78はＯＲ7又はＮ(Ｒ8）2を表す（Ｒ7及びＲ8は前記と同じ意味を表す）。］
（工程５−１）
化合物（i）は、化合物（g）とハロゲン化剤（h）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は無溶媒若しくは溶媒中で行うことができる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられるハロゲン化剤（h）としては、例えば塩化オキサリル、塩化チオニル、臭化チオニル、三塩化リン、三臭化リン及び五塩化リンが挙げられる。反応に用いられるハロゲン化剤（h）の量は、化合物（g）１モルに対し、通常１モル〜溶媒量の割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物（i）を単離することができる。単離された化合物（i）は蒸留等によりさらに精製することもできる。
（工程５−２）
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基及びトリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（i）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（j）の量は、化合物（i）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（I-5）を単離することができる。単離された化合物（I-5）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１７】
（製造法６）
本有機硫黄化合物のうち、Ｒ4がＣ(＝Ｏ)ＯＲ7又はＣ(＝Ｏ)Ｎ(Ｒ8)2である化合物（I-5）は、化合物（g）と化合物（j）とを反応させることにより製造することができる。
2010120858.tif 000009
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5-1、Ｒ6、ｍ及びｎは前記と同じ意味を表し、Ｒ78はＯＲ7又はＮ(Ｒ8)2を表す（Ｒ7及びＲ8は前記と同じ意味を表す）。］
該反応は通常溶媒中、縮合剤の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられる縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ′−エチルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。
反応に用いられる縮合剤の量は、化合物（g）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（j）の量は、化合物（g）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物（I-5）を単離することができる。単離された化合物（I-5）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１８】
（製造法７）
本有機硫黄化合物のうち、Ｒ5が水素原子である化合物（I-1）は、化合物（c）と化合物（k）とを反応させることにより製造することができる。
2010120858.tif 000010
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｘ、ｍ及びｎは前記と同じ意味を表す。］
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｋ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（c）の量は、化合物（k）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−１００〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（I-1）を単離することができる。単離された化合物（I-1）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１９】
（製造法８）
本有機硫黄化合物のうち、Ｒ4がＣ(＝Ｏ)Ｎ(Ｒ8)2であり、ｎが２である化合物（I-8）は、本有機硫黄化合物のうちＲ4がＣ(＝Ｏ)ＯＲ7であり、ｎが２である化合物（I-7）を化合物（p）と反応させることにより製造することもできる。
2010120858.tif 000011
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、ｍ及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられる化合物（p）の量は、化合物（I-7）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物（I-8）を単離することができる。単離された化合物（I-8）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２０】
（製造法９）
本有機硫黄化合物のうち、Ｒ4がＣ(＝Ｓ)ＯＲ7又はＣ(＝Ｓ)Ｎ(Ｒ8)2である化合物（I-9）は、本有機硫黄化合物のうちＲ4がＣ(＝Ｏ)ＯＲ7又はＣ(＝Ｏ)Ｎ(Ｒ8)2である化合物（I-5）を硫黄化剤（q）と反応させることにより製造することもできる。
2010120858.tif 000012
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ78、ｍ及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
該反応に用いられる硫黄化剤（ｑ）としては、例えば硫化水素、五硫化二りん等の無機硫黄化合物、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン ２，４−ジスルフィド等の有機硫黄化合物が挙げられる。
該反応に用いられる硫黄化剤（q）の量は、化合物（I-5）１モルに対し、通常０．５〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常０〜２５０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜７２時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物（I-9）を単離することができる。単離された化合物（I-9）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２１】
（製造法１０）
本有機硫黄化合物のうち、ｎが０である化合物（I-10）は、例えば製造法１０又は製造法１１に示される方法により製造することができる。
化合物（r）と化合物（m）とを反応させることにより製造する方法。
2010120858.tif 000013
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5-2、Ｒ6、ｍ及びＸは前記と同じ意味を表す。］
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物（r）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（m）の量は、化合物（r）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（I-10）を単離することができる。単離された化合物（I-10）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２２】
（製造法１１）
本有機硫黄化合物のうち、ｎが０である化合物（I-10）は、化合物（s）と化合物（o）とを反応させることにより製造することができる。
2010120858.tif 000014
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5-2、Ｒ6、ｍ及びＸは前記と同じ意味を表す。］
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類及びトリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（o）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（s）の量は、化合物（o）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（I-10）を単離することができる。単離された化合物（I-10）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２３】
（製造法１２）
本有機硫黄化合物のうち、ｎが１又は２である化合物（I-11）は、例えば化合物（I-10）を酸化することにより製造することができる。
2010120858.tif 000015
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5-2、Ｒ6及びｍは前記と同じ意味を表し、ｎ’は1又は２を表す。］
該反応は、酸化剤の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、Ｎ−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸（若しくはその塩）、過ヨウ素酸（若しくはその塩）等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物（I-10）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−５０〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜７２時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、化合物（I-11）を単離することができる。単離した化合物（I-11）は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
【００２４】
次に、本有機硫黄化合物の製造に用いられる中間体の製造法について、参考製造法で説明する。
【００２５】
（参考製造法１）
化合物（g）は化合物（I-6）を加水分解することにより製造することができる。
2010120858.tif 000016
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6、ｍ及びｎは前記と同じ意味を表し、Ｒ7-3はメチル基又はエチル基を表す。］
該反応は酸又は塩基、並びに水の存在下、通常有機溶媒中で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、蟻酸、酢酸等の脂肪族カルボン酸及びそれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。
反応に用いられる酸又は塩基の量は、化合物（I-6）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて水及び／又は酸を加え、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより化合物（g）を単離することができる。単離された化合物（g）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２６】
（参考製造法２）
化合物（d）のうち、Ｒ5がＣ１−Ｃ４アルキル基である化合物（d-1）は、例えば下記の化合物（a）と化合物（k）を反応させることにより製造することができる。
2010120858.tif 000017
［式中、Ｒ4、Ｒ5-1、Ｒ6、ｎ及びＸは前記と同じ意味を表す。］
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物（k）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（a）の量は、化合物（k）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（d-1）を単離することができる。単離された化合物（d-1）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２７】
（参考製造法３）
化合物（k）のうち、ｎが０である化合物（k-1）及びｎが１又は２である化合物（k-2）は、例えば以下に示す方法により製造することができる。
2010120858.tif 000018
［式中、Ｒ4、Ｒ6、Ｘ及びｎ’は前記と同じ意味を表す。］
（工程III−１−ａ）
化合物（k-1）は、例えば化合物（l）と化合物（m）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物（l）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（m）の量は、化合物（l）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（k-1）を単離することができる。単離された化合物（k-1）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
（工程III−１−ｂ）
化合物（k-1）は、例えば化合物（n）と化合物（o）とを反応させることにより製造することもできる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類及びトリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（o）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（n）の量は、化合物（o）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（k-1）を単離することができる。単離された化合物（k-1）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２８】
（工程III−２）
化合物（k-2）は、例えば化合物（k-1）を酸化することにより製造することができる。
該反応は、酸化剤の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、Ｎ−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸（若しくはその塩）、過ヨウ素酸（若しくはその塩）等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物（k-1）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−５０〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜７２時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、化合物（k-2）を単離することができる。単離した化合物（ｋ−２）は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
【００２９】
前記化合物（o）及び（r）は、例えばThe Journal of Organic Chemistry，27（1），p．93−95（1962）及びHETEROCYCLES，24（5），p．1331−1346（1986）に記載の方法に準じて各々製造することができる。
【００３０】
前記化合物（s）は、例えばThe Journal of Organic Chemistry, 18, p.1112−1116 (1953)に記載の方法に準じて製造することができる。
前記化合物（a）、（c）、（j）、（m）、（n）及び（p）は、公知物であるか、公知な製造法に準じて製造することができる。
【００３１】
本ピラゾール化合物としては、例えば
式（II）において、Ｘ1がシアノ基であり、Ｘ2がジフルオロメチルチオ基であり、Ｘ3が（２−ピリジルメチル）アミノ基であるピラゾール化合物（以下、ピリプロールと記す。）；
式（II）において、Ｘ1がシアノ基であり、Ｘ2がフルオロメチルチオ基であり、Ｘ3が（ピラジニルメチル）アミノ基であるピラゾール化合物；
式（II）において、Ｘ1がアセチル基であり、Ｘ2がメチルスルフィニル基であり、Ｘ3がアミノ基であるピラゾール化合物（以下、アセトプロールと記す。）；
式（II）において、Ｘ1がシアノ基であり、Ｘ2がエチルスルフィニル基であり、Ｘ3がアミノ基であるピラゾール化合物（以下、エチプロールと記す。）；
式（II）において、Ｘ1がシアノ基であり、Ｘ2がトリフルオロメチルチオ基であり、Ｘ3が（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ基であるピラゾール化合物等が挙げられる。
【００３２】
本ピラゾール化合物には、シクロプロパン環上の１位および３位の不斉炭素に基く、立体異性体が存在するが、本発明には活性な立体異性体を任意の比率で含有するものを使用することができる。
本ピラゾール化合物は、例えば特開昭６３−３１６７７１号公報、特表２０００−５０２０９５号公報、特表２００１−５０６６６４号公報等に記載された方法にて製造することができる。また、市販の化合物も使用することができる。
【００３３】
本発明の有害生物防除組成物が効力を示す有害生物としては、有害昆虫類並びに有害ダニ類等が挙げられる。より具体的には、下記のものが挙げられる。
【００３４】
半翅目害虫：ヒメトビウンカ(Laodelphax striatellus)，トビイロウンカ(Nilaparvata lugens)，セジロウンカ(Sogatella furcifera)等のウンカ類，ツマグロヨコバイ(Nephotettix cincticeps)，タイワンツマグロヨコバイ(Nephotettix virescens)，チャノミドリヒメヨコバイ(Empoasca onukii)等のヨコバイ類，ワタアブラムシ(Aphis gossypii)，モモアカアブラムシ(Myzus persicae)，ダイコンアブラムシ(Brevicoryne brassicae)，ユキヤナギアブラムシ(Aphis spiraecola)，チューリップヒゲナガアブラムシ(Macrosiphum euphorbiae)，ジャガイモヒゲナガアブラムシ(Aulacorthum solani)，ムギクビレアブラムシ(Rhopalosiphum padi)，ミカンクロアブラムシ(Toxoptera citricidus)，モモコフキアブラムシ(Hyalopterus pruni)等のアブラムシ類，アオクサカメムシ(Nezara antennata)，ホソヘリカメムシ(Riptortus clavetus)，クモヘリカメムシ(Leptocorisa chinensis)，トゲシラホシカメムシ(Eysarcoris parvus)，クサギカメムシ(Halyomorpha mista)等のカメムシ類，オンシツコナジラミ(Trialeurodes vaporariorum)，タバココナジラミ(Bemisia tabaci)，ミカンコナジラミ(Dialeurodes citri)，ミカントゲコナジラミ(Aleurocanthus spiniferus)等のコナジラミ類，アカマルカイガラムシ(Aonidiella aurantii)，サンホーゼカイガラムシ(Comstockaspis perniciosa)，シトラススノースケール(Unaspis citri)，ルビーロウムシ(Ceroplastes rubens)，イセリヤカイガラムシ(Icerya purchasi)，フジコナカイガラムシ(Planococcus kraunhiae)，クワコナカイガラムシ(Pseudococcus longispinis)，クワシロカイガラムシ(Pseudaulacaspis pentagona)等のカイガラムシ類，グンバイムシ類，トコジラミ(Cimex lectularius)等のトコジラミ類，キジラミ類等。
【００３５】
鱗翅目害虫：ニカメイガ(Chilo suppressalis)，サンカメイガ(Tryporyza incertulas)，コブノメイガ(Cnaphalocrocis medinalis)，ワタノメイガ(Notarcha derogata)，ノシメマダラメイガ(Plodia interpunctella)，アワノメイガ(Ostrinia furnacalis)，ハイマダラノメイガ(Hellula undalis)，シバツトガ(Pediasia teterrellus)等のメイガ類，ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)，シロイチモジヨトウ(Spodoptera exigua)，アワヨトウ(Pseudaletia separata)，ヨトウガ(Mamestra brassicae)，タマナヤガ(Agrotis ipsilon)，タマナギンウワバ(Plusia nigrisigna)，トリコプルシア属，ヘリオティス属，ヘリコベルパ属等のヤガ類，モンシロチョウ(Pieris rapae)等のシロチョウ類，アドキソフィエス属，ナシヒメシンクイ(Grapholita molesta)，マメシンクイガ(Leguminivora glycinivorella)，アズキサヤムシガ(Matsumuraeses azukivora)，リンゴコカクモンハマキ(Adoxophyes orana fasciata)，チャノコカクモンハマキ(Adoxophyes honmai. )，チャハマキ(Homona magnanima)，ミダレカクモンハマキ(Archips fuscocupreanus)，コドリンガ(Cydia pomonella)等のハマキガ類，チャノホソガ(Caloptilia theivora)，キンモンホソガ(Phyllonorycter ringoneella)のホソガ類，モモシンクイガ(Carposina niponensis)等のシンクイガ類，リオネティア属等のハモグリガ類，リマントリア属，ユープロクティス属等のドクガ類，コナガ(Plutella xylostella)等のスガ類，ワタアカミムシ(Pectinophora gossypiella)ジャガイモガ(Phthorimaea operculella)等のキバガ類，アメリカシロヒトリ(Hyphantria cunea)等のヒトリガ類，イガ(Tinea translucens)，コイガ(Tineola bisselliella)等のヒロズコガ類等。 
【００３６】
アザミウマ目害虫：ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)，ミナミキイロアザミウマ(Thrips parmi)，チャノキイロアザミウマ(Scirtothrips dorsalis)，ネギアザミウマ(Thrips tabaci)，ヒラズハナアザミウマ(Frankliniella intonsa)などのアザミウマ類等。 
【００３７】
双翅目害虫：アカイエカ(Culex pipiens pallens)，コガタアカイエカ(Culex tritaeniorhynchus)，ネッタイイエカ(Culex quinquefasciatus)等のイエカ類，ネッタイシマカ(Aedes aegypti)，ヒトスジシマカ(Aedes albopictus)等のエーデス属，シナハマダラカ(Anopheles sinensis)等のアノフェレス属，ユスリカ類，イエバエ(Musca domestica)，オオイエバエ(Muscina stabulans)等のイエバエ類，クロバエ類，ニクバエ類，ヒメイエバエ類，タネバエ(Delia platura)，タマネギバエ(Delia antiqua)等のハナバエ類，イネハモグリバエ(Agromyza oryzae)，イネヒメハモグリバエ(Hydrellia griseola)，トマトハモグリバエ，(Liriomyza sativae)，マメハモグリバエ(Liriomyza trifolii)，ナモグリバエ(Chromatomyia horticola)等のハモグリバエ類，イネキモグリバエ(Chlorops oryzae)等のキモグリバエ類，ウリミバエ(Dacus cucurbitae)，チチュウカイミバエ(Ceratitis capitata)等のミバエ類，ショウジョウバエ類，オオキモンノミバエ(Megaselia spiracularis)等のノミバエ類，オオチョウバエ(Clogmia albipunctata)等のチョウバエ類，ブユ類，ウシアブ(Tabanus trigonus)等のアブ類，サシバエ類等。 
【００３８】
鞘翅目害虫：ウエスタンコーンルートワーム(Diabrotica virgifera virgifera)，サザンコーンルートワーム(Diabrotica undecimpunctata howardi)等のコーンルートワーム類，ドウガネブイブイ(Anomala cuprea)，ヒメコガネ(Anomala rufocuprea)，マメコガネ(Popillia japonica)等のコガネムシ類，メイズウィービル(Sitophilus zeamais)，イネミズゾウムシ(Lissorhoptrus oryzophilus)，アズキゾウムシ(Callosobruchuys chienensis)，イネゾウムシ(Echinocnemus squameus)，ワタミゾウムシ(Anthonomus grandis)，シバオサゾウムシ(Sphenophorus venatus)等のゾウムシ類，チャイロコメノゴミムシダマシ(Tenebrio molitor)，コクヌストモドキ(Tribolium castaneum)等のゴミムシダマシ類，
イネドロオイムシ(Oulema oryzae)，ウリハムシ(Aulacophora femoralis)，キスジノミハムシ(Phyllotreta striolata)，コロラドハムシ(Leptinotarsa decemlineata)等のハムシ類，ヒメマルカツオブシムシ(Anthrenus verbasci)，ハラジロカツオブシムシ(Dermestes maculates)等のカツオブシムシ類，タバコシバンムシ(Lasioderma serricorne)等のシバンムシ類，ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)等のエピラクナ類，ヒラタキクイムシ(Lyctus brunneus)，マツノキクイムシ(Tomicus piniperda)等のキクイムシ類，ナガシンクイムシ類，ヒョウホンムシ類，ゴマダラカミキリ(Anoplophora malasiaca)等のカミキリムシ類，コメツキムシ類(Agriotes spp. )アオバアリガタハネカクシ(Paederus fuscipes)等。 
【００３９】
直翅目害虫：トノサマバッタ(Locusta migratoria)，ケラ(Gryllotalpa africana)，コバネイナゴ(Oxya yezoensis)，ハネナガイナゴ(Oxya japonica)，コオロギ類等。 
【００４０】
隠翅目害虫：ネコノミ(Ctenocephalides felis)，イヌノミ(Ctenocephalides canis)，ヒトノミ(Pulex irritans)，ケオプスネズミノミ(Xenopsylla cheopis)等。 
【００４１】
シラミ目害虫：コロモジラミ(Pediculus humanus corporis)，ケジラミ (Phthirus pubis)，ウシジラミ(Haematopinus eurysternus)，ヒツジジラミ(Dalmalinia ovis)，ブタジラミ(Haematopinus suis)等。  
【００４２】
膜翅目害虫： イエヒメアリ(Monomorium pharaosis)，クロヤマアリ(Formica fusca japonica)，ルリアリ(Ochetellus glaber)，アミメアリ(Pristomyrmex pungens)，オオズアリ(Pheidole noda)，ハキリアリ(Acromyrmex spp. )，ファイヤーアント(Solenopsis spp. )等のアリ類，スズメバチ類，アリガタバチ類，カブラハバチ(Athalia rosae)，ニホンカブラバチ(Athalia japonica)等のハバチ類等。 
【００４３】
ゴキブリ目害虫：チャバネゴキブリ(Blattella germanica)，クロゴキブリ(Periplaneta fuliginosa)，ワモンゴキブリ(Periplaneta americana)，トビイロゴキブリ(Periplaneta brunnea)，トウヨウゴキブリ(Blatta orientalis)等のゴキブリ類，ヤマトシロアリ(Reticulitermes speratus)，イエシロアリ(Coptotermes formosanus)，アメリカカンザイシロアリ(Incisitermes minor)，ダイコクシロアリ(Cryptotermes domesticus)，タイワンシロアリ(Odontotermes formosanus)，コウシュンシロアリ(Neotermes koshunensis)，サツマシロアリ(Glyptotermes satsumensis)，ナカジマシロアリ(Glyptotermes nakajimai)，カタンシロアリ(Glyptotermes fuscus)，コダマシロアリ(Glyptotermes kodamai)，クシモトシロアリ(Glyptotermes kushimensis)，オオシロアリ(Hodotermopsis japonica)，コウシュウイエシロアリ(Coptotermes guangzhoensis)，アマミシロアリ(Reticulitermes miyatakei)，キアシシロアリ(Reticulitermes flaviceps amamianus)，カンモンシロアリ(Reticulitermes sp. )，タカサゴシロアリ(Nasutitermes takasagoensis)，ニトベシロアリ(Pericapritermes nitobei)，ムシャシロアリ(Sinocapritermes mushae)等のシロアリ類等。 
【００４４】
ダニ目害虫：ナミハダニ(Tetranychus urticae)，カンザワハダニ(Tetranychus kanzawai)，ミカンハダニ(Panonychus citri)リンゴハダニ(Panonychus ulmi)，オリゴニカス属等のハダニ類，ミカンサビダニ(Aculops pelekassi)，リュウキュウミカンサビダニ(Phyllocoptruta citri)，トマトサビダニ(Aculops lycopersici)，チャノサビダニ(Calacarus carinatus)，チャノナガサビダニ(Acaphylla theavagrans)，ニセナシサビダニ(Eriophyes chibaensis)，リンゴサビダニ(Aculus schlechtendali)等のフシダニ類，チャノホコリダニ(Polyphagotarsonemus latus)等のホコリダニ類，ミナミヒメハダニ(Brevipalpus phoenicis)等のヒメハダニ類，ケナガハダニ類，フタトゲチマダニ(Haemaphysalis longicornis)，ヤマトチマダニ(Haemaphysalis flava)，タイワンカクマダニ(Dermacentor taiwanicus)，アメリカンドックチック（Dermacentor variabilis），ヤマトマダニ(Ixodes ovatus)，シュルツマダニ(Ixodes persulcatus)，ブラックレッグドチック(Ixodes scapularis)，ローンスターチック（Amblyomma americanum），オウシマダニ(Boophilus microplus)，クリイロコイタマダニ(Rhipicephalus sanguineus)等のマダニ類，ミミヒゼンダニ（Octodectes cynotis）等のキュウヒゼンダニ類，ヒゼンダニ（Sacroptes scabiei）等のヒゼンダニ類，イヌニキビダニ（Demodex canis）等のニキビダニ類，ケナガコナダニ(Tyrophagus putrescentiae)，ホウレンソウケナガコナダニ(Tyrophagus similis)等のコナダニ類，コナヒョウヒダニ(Dermatophagoides farinae)，ヤケヒョウヒダニ(Dermatophagoides ptrenyssnus)等のヒョウヒダニ類，ホソツメダニ(Cheyletus eruditus)，クワガタツメダニ(Cheyletus malaccensis)，ミナミツメダニ(Cheyletus moorei)等のツメダニ類，イエダニ(Ornithonyssus bacoti)，トリサシダニ(Ornithonyssus sylvairum)，ワクモ(Dermanyssus gallinae)等のワクモ類，アオツツガムシ(Leptotrombidium akamushi)等のツツガムシ類等，カバキコマチグモ(Chiracanthium japonicum)，セアカゴケグモ(Latrodectus hasseltii)等のクモ類等。
【００４５】
唇脚綱類：ゲジ(Thereuonema hilgendorfi)，トビズムカデ(Scolopendra subspinipes)等。 
倍脚綱類：ヤケヤスデ(Oxidus gracilis)，アカヤスデ(Nedyopus tambanus)等。 
等脚目類：オカダンゴムシ(Armadillidium vulgare)等。 
腹足綱類：チャコウラナメクジ(Limax marginatus)，キイロコウラナメクジ(Limax flavus)等。
【００４６】
本発明の有害生物防除組成物は、本有機硫黄化合物及び本ピラゾール化合物のみでもよいが、通常は固体担体、液体担体及び又はガス状担体と混合し、更に必要に応じて界面活性剤その他の製剤用補助剤を添加して、乳剤、油剤、シャンプー剤、フロアブル剤、粉剤、水和剤、粒剤、ペースト状製剤、マイクロカプセル製剤、泡沫剤、エアゾール製剤、炭酸ガス製剤、錠剤、樹脂製剤等の形態に製剤化されたものである。これらの製剤は、毒餌、蚊取り線香、電気蚊取りマット、燻煙剤、燻蒸剤、シートに加工されて、使用されることもある。
これらの製剤は、本有機硫黄化合物及び本ピラゾール化合物の合計量で通常０．１〜９５重量％含有する。
【００４７】
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば粘土類（カオリンクレー、珪藻土、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等）、合成含水酸化珪素、タルク、セラミック、その他の無機鉱物（セリサイト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ等）、化学肥料（硫安、燐安、硝安、塩安、尿素等）等の微粉末及び粒状物が挙げられる。
【００４８】
液体担体としては、例えば芳香族または脂肪族炭化水素類（キシレン、トルエン、アルキルナフタレン、フェニルキシリルエタン、ケロシン、軽油、ヘキサン、シクロヘキサン等）、ハロゲン化炭化水素類（クロロベンゼン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、エチレングリコール等）、エーテル類（ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、ニトリル類（アセトニトリル、イソブチロニトリル等）、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、酸アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、ピロリドン類（Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−オクチル−２−ピロリドン等）、炭酸プロピレン、乳酸エチル、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、植物油（大豆油、綿実油等）、植物精油（オレンジ油、ヒソップ油、レモン油等）および水などが挙げられる。
【００４９】
ガス状担体としては、例えばブタンガス、フロンガス、液化石油ガス（ＬＰＧ）、ジメチルエーテル、炭酸ガス等を挙げることができる。
【００５０】
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類及び糖アルコール誘導体が挙げられる。
【００５１】
その他の製剤用補助剤としては、固着剤、分散剤及び安定剤等、具体的には例えばカゼイン、ゼラチン、多糖類（澱粉、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等）、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸及び脂肪酸エステルが挙げられる。
【００５２】
樹脂製剤の基材としては、例えば塩化ビニル系重合体、ポリウレタン等を挙げることができ、これらの基材には必要によりフタル酸エステル類（フタル酸ジメチル、フタル酸ジオクチル等）、アジピン酸エステル類、ステアリン酸等の可塑剤が添加されていてもよい。樹脂製剤は該基材中に化合物を通常の混練装置を用いて混練した後、射出成型、押出成型、プレス成型等により成型することにより得られ、必要により更に成型、裁断等の工程を経て、板状、フィルム状、テープ状、網状、ひも状等の樹脂製剤に加工できる。これらの樹脂製剤は、例えば動物用首輪、動物用イヤータッグ、シート製剤、誘引ひも、園芸用支柱として加工される。
毒餌の基材としては、例えば穀物粉、植物油、糖、結晶セルロース等が挙げられ、更に必要に応じて、ジブチルヒドロキシトルエン、ノルジヒドログアイアレチン酸等の酸化防止剤、デヒドロ酢酸等の保存料、トウガラシ末等の子供やペットによる誤食防止剤、チーズ香料、タマネギ香料ピーナッツオイル等の害虫誘引性香料等が添加される。
【００５３】
本発明の有害生物防除組成物は、例えば有害節足動物に直接、及び／又は有害節足動物の生息場所（植物体、動物体、土壌等）に施用することにより用いられる。
【００５４】
本発明の有害生物防除組成物を農林害虫の防除に用いる場合は、その施用量は本有機硫黄化合物及び本ピラゾール化合物の合計量で通常１〜１００００ｇ／ｈａ、好ましくは１０〜５００ｇ／ｈａである。乳剤、水和剤、フロアブル剤、マイクロカプセル製剤等は通常本有機硫黄化合物及び本ピラゾール化合物の合計が１〜１０００ｐｐｍとなるように水で希釈して使用し、粉剤、粒剤等は通常そのまま使用する。これらの製剤を有害節足動物から保護すべき植物に対して直接散布してもよい。これらの製剤を土壌に処理することにより土壌に棲息する有害節足動物を防除することもでき、またこれらの製剤を植物を植え付ける前の苗床に処理したり、植付時に植穴や株元に処理することもできる。さらに、本発明の有害節足動物防除剤のシート製剤を植物に巻き付けたり、植物の近傍に設置したり、株元の土壌表面に敷くなどの方法でも施用することができる。
【００５５】
本発明の有害節足動物防除剤は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地において使用することができ、当該農耕地で栽培されている作物に対して薬害を与えることなく、当該農耕地における有害節足動物を防除することができる場合がある。
【００５６】
そのような作物としては、具体的には下記の作物が挙げられる。
農作物；トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、
野菜；ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、
花卉、
観葉植物、
果樹；仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹；チャ、クワ、花木、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ）等。
【００５７】
上記作物には、イソキサフルトール等のＨＰＰＤ阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のＡＬＳ阻害剤、ＥＰＳＰ合成酵素阻害剤、グルタミン合成酵素阻害剤、アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤、ブロモキシニル等の除草剤に対する耐性が、古典的な育種法、もしくは遺伝子組換え技術により付与された作物も含まれる。
古典的な育種法により耐性が付与された作物としては、例えば、イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤耐性のクリアーフィールド（Ｃｌｅａｒｆｉｅｌｄ）<登録商標>カノーラ、チフェンスルフロンメチル等のスルホニル尿素系ＡＬＳ阻害型除草剤耐性のＳＴＳダイズ等がある。同様に古典的な育種法によりトリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された作物の例としてＳＲコーン等がある。アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された作物はプロシーディングズ・オブ・ザ・ナショナル・アカデミー・オブ・サイエンシーズ・オブ・ザ・ユナイテッド・ステーツ・オブ・アメリカ（Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ）８７巻、７１７５〜７１７９頁（１９９０年）等に記載されている。またアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の変異アセチルＣｏＡカルボキシラーゼがウィード・サイエンス（Ｗｅｅｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅ）５３巻、７２８〜７４６頁（２００５年）等に報告されており、こうした変異アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ遺伝子を遺伝子組換え技術により作物に導入するかもしくは抵抗性付与に関わる変異を作物アセチルＣｏＡカルボキシラーゼに導入する事により、アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の作物を作出することができる。さらに、キメラプラスティ技術（Ｇｕｒａ  Ｔ．  １９９９．  Ｒｅｐａｉｒｉｎｇ  ｔｈｅ  Ｇｅｎｏｍｅ’ｓ  Ｓｐｅｌｌｉｎｇ  Ｍｉｓｔａｋｅｓ．  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ２８５：  ３１６−３１８．）に代表される塩基置換変異導入核酸を作物細胞内に導入して作物（アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ／除草剤標的）遺伝子に部位特異的アミノ酸置換変異を引き起こすことにより、（アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤／除草剤）に耐性の作物を作出することができる。
【００５８】
また、遺伝子組換え技術により耐性が付与された作物としては、例えばグリホサートやグルホシネート耐性のトウモロコシ品種があり、ラウンドアップレディ（ＲｏｕｎｄｕｐＲｅａｄｙ）<登録商標>及びリバティーリンク（ＬｉｂｅｒｔｙＬｉｎｋ）<登録商標>等の商品名で既に販売されている。
【００５９】
上記作物には、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった作物も含まれる。
この様な遺伝子組換え植物で発現される殺虫性毒素としては、例えばバチルス・セレウス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃｅｒｅｕｓ）やバチルス・ポピリエ（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｐｏｐｉｌｌｉａｅ）由来の殺虫性タンパク；バチルス・チューリンゲンシス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ）由来のＣｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１またはＣｒｙ９Ｃ等のδ−エンドトキシン、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３またはＶＩＰ３Ａ等の殺虫性タンパク；線虫由来の殺虫性タンパク；さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素または昆虫特異的神経毒素等の動物によって産生される毒素；糸条菌類毒素；植物レクチン；アグルチニン；トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤；リシン、トウモロコシ−ＲＩＰ、アブリン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク（ＲＩＰ）；３−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−ＵＤＰ−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素；エクダイソン阻害剤；ＨＭＧ−ＣｏＡリダクターゼ；ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤；幼若ホルモンエステラーゼ；利尿ホルモン受容体；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ等が挙げられる。
またこの様な遺伝子組換え作物で発現される毒素として、Ｃｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１またはＣｒｙ９Ｃ等のδ−エンドトキシンタンパク、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３またはＶＩＰ３Ａ等の殺虫性タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したＣｒｙ１Ａｂが知られている。修飾された毒素としては、天然型の毒素のアミノ酸の1つまたは複数が置換されている。
これら毒素の例およびこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、例えばＥＰ−Ａ−０３７４７５３、ＷＯ９３／０７２７８、ＷＯ９５／３４６５６、ＥＰ−Ａ−０４２７５２９、ＥＰ−Ａ−４５１８７８、ＷＯ０３／０５２０７３等に記載されている。
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
【００６０】
また、１つもしくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、１つまたは複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、イールドガード（ＹｉｅｌｄＧａｒｄ）<登録商標>（Ｃｒｙ１Ａｂ毒素を発現するトウモロコシ品種）、イールドガードルートワーム（ＹｉｅｌｄＧａｒｄ  Ｒｏｏｔｗｏｒｍ）<登録商標>（Ｃｒｙ３Ｂｂ１毒素を発現するトウモロコシ品種）、イールドガードプラス（ＹｉｅｌｄＧａｒｄ  Ｐｌｕｓ）<登録商標>（Ｃｒｙ１ＡｂとＣｒｙ３Ｂｂ１毒素を発現するトウモロコシ品種）、ハーキュレックスＩ（Ｈｅｒｃｕｌｅｘ  Ｉ）<登録商標>（Ｃｒｙ１Ｆａ２毒素とグルホシネートへの耐性を付与する為のホスフィノトリシン Ｎ−アセチルトランスフェラーゼ（ＰＡＴ）を発現するトウモロコシ品種）、ＮｕＣＯＴＮ３３Ｂ<登録商標>（Ｃｒｙ１Ａｃ毒素を発現するワタ品種）、ボルガードＩ（Ｂｏｌｌｇａｒｄ  Ｉ）<登録商標>（Ｃｒｙ１Ａｃ毒素を発現するワタ品種）、ボルガードＩＩ（Ｂｏｌｌｇａｒｄ  ＩＩ）<登録商標>（Ｃｒｙ１ＡｃとＣｒｙ２Ａｂ毒素を発現するワタ品種）、ＶＩＰＣＯＴ<登録商標>（ＶＩＰ毒素を発現するワタ品種）、ニューリーフ（ＮｅｗＬｅａｆ）<登録商標>（Ｃｒｙ３Ａ毒素を発現するジャガイモ品種）、ネイチャーガード  アグリシュアー  ＧＴ  アドバンテージ（ＮａｔｕｒｅＧａｒｄ<登録商標>Ａｇｒｉｓｕｒｅ<登録商標>ＧＴ  Ａｄｖａｎｔａｇｅ）（ＧＡ２１ グリホサート耐性形質）、アグリシュアー  ＣＢ  アドバンテージ（Ａｇｒｉｓｕｒｅ<登録商標> ＣＢ  Ａｄｖａｎｔａｇｅ）（Ｂｔ１１コーンボーラー（ＣＢ）形質）、プロテクタ（Ｐｒｏｔｅｃｔａ）<登録商標>等が挙げられる。
【００６１】
上記作物には、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。
抗病原性物質としては、例えばＰＲタンパク（ＰＲＰｓ、ＥＰ−Ａ−０３９２２２５に記載されている）；ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤（ウイルスが産生するＫＰ１、ＫＰ４、ＫＰ６毒素等が知られている）等のイオンチャネル阻害剤；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ；ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子（植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、ＷＯ０３／０００９０６に記載されている）等の微生物が産生する物質等が挙げられる。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、ＥＰ−Ａ−０３９２２２５、ＷＯ９５／３３８１８、ＥＰ−Ａ−０３５３１９１等に記載されている。
【００６２】
本発明の有害生物防除組成物を防疫用として用いる場合は、その施用量は空間に適用するときは本有機硫黄化合物及び本ピラゾール化合物の合計で通常０．００１〜１０ｍｇ／ｍ3であり、平面に適用するときは０．００１〜１００ｍｇ／ｍ2である。乳剤、水和剤、フロアブル剤等は通常は本有機硫黄化合物及び本ピラゾール化合物の合計の濃度が０．０１〜１００００ｐｐｍとなるように水で希釈して施用し、油剤、エアゾール、燻煙剤、毒餌等は通常そのまま施用する。
【００６３】
本発明の有害生物防除組成物をウシ、ウマ、ブタ、ヒツジ、ヤギ、ニワトリ用の家畜、イヌ、ネコ、ラット、マウス等の小動物の外部寄生虫防除に用いる場合は、獣医学的に公知な経口的または非経口的な投与方法にて、動物に使用することができる。具体的な使用方法としては、全身抑制を目的にする場合には、例えば錠剤（糖衣錠、フィルムコーティング錠を含む）、丸剤、カプセル剤、顆粒剤、細粒剤、散剤、乳剤、懸濁剤、フィルム剤等の経口剤；および注射剤（例、皮下注射剤、静脈内注射剤、筋肉内注射剤、腹腔内注射剤、点滴剤、徐放性注射剤）、坐剤（例、直腸坐剤、膣坐剤）、埋め込み剤（埋め込み錠、生体内分解性ポリマーを基材として成形されたもの、チタン等の生体適合性金属のカプセルに封入され、一定速度で有効成分を放出するものを含む）等の非経口剤等が挙げられる。なお、経口投与の際には、上記の製剤を飼料に混入して用いることができる。
また、非全身的抑制を目的とする場合には、例えば油剤若しくは水性液剤を噴霧する、外用剤（例、経皮製剤、軟膏剤）をぬる、ポアオン処理若しくはスポットオン処理を行う、シャンプー製剤で動物を洗う又は樹脂製剤を首輪や耳札にして動物に付ける等の方法により用いられる。動物体に投与する場合の本有機硫黄化合物及び本エステル化合物の合計量は、通常動物の体重１ｋｇに対して、０．１〜１０００ｍｇの範囲である。
【００６４】
上記の獣医学的な投与方法にて用いられる製剤剤形には、製剤素材として慣用の各種有機あるいは無機担体物質が用いられ、固形製剤における賦形剤、滑沢剤、結合剤、崩壊剤；液状製剤における溶剤、溶解補助剤、懸濁化剤、等張化剤、緩衝剤、無痛化剤などとして配合される。また必要に応じて、防腐剤、抗酸化剤、着色剤、甘味剤などの製剤添加物を用いることもできる。賦形剤の好適な例としては、乳糖、白糖、Ｄ−マンニトール、Ｄ−ソルビトール、デンプン、α化デンプン、デキストリン、結晶セルロース、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、アラビアゴム、デキストリン、プルラン、軽質無水ケイ酸、合成ケイ酸アルミニウム、メタケイ酸アルミン酸マグネシウムなどが挙げられる。滑沢剤の好適な例としては、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、タルク、コロイドシリカなどが挙げられる。結合剤の好適な例としては、α化デンプン、ショ糖、ゼラチン、アラビアゴム、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、結晶セルロース、白糖、Ｄ−マンニトール、トレハロース、デキストリン、プルラン、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドンなどが挙げられる。崩壊剤の好適な例としては、乳糖、白糖、デンプン、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム、クロスカルメロースナトリウム、カルボキシメチルスターチナトリウム、軽質無水ケイ酸、低置換度ヒドロキシプロピルセルロースなどが挙げられる。溶剤の好適な例としては、注射用水、生理的食塩水、リンゲル液、アルコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ゴマ油、トウモロコシ油、オリーブ油、綿実油などが挙げられる。溶解補助剤の好適な例としては、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、Ｄ−マンニトール、トレハロース、安息香酸ベンジル、エタノール、トリスアミノメタン、コレステロール、トリエタノールアミン、炭酸ナトリウム、クエン酸ナトリウム、サリチル酸ナトリウム、酢酸ナトリウムなどが挙げられる。 懸濁化剤の好適な例としては、ステアリルトリエタノールアミン、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリルアミノプロピオン酸、レシチン、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、モノステアリン酸グリセリンなどの界面活性剤；例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロースナトリウム、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどの親水性高分子；ポリソルベート類、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油などが挙げられる。等張化剤の好適な例としては、塩化ナトリウム、グリセリン、Ｄ−マンニトール、Ｄ−ソルビトール、ブドウ糖などが挙げられる。緩衝剤の好適な例としては、リン酸塩、酢酸塩、炭酸塩、クエン酸塩などの緩衝液などが挙げられる。無痛化剤の好適な例としては、ベンジルアルコールなどが挙げられる。防腐剤の好適な例としては、パラオキシ安息香酸エステル類、クロロブタノール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、デヒドロ酢酸、ソ���ビン酸などが挙げられる。抗酸化剤の好適な例としては、亜硫酸塩、アスコルビン酸塩などが挙げられる。着色剤の好適な例としては、水溶性食用タール色素（例、食用赤色２号および３号、食用黄色４号および５号、食用青色１号および２号などの食用色素、水不溶性レーキ色素（例、前記水溶性食用タール色素のアルミニウム塩など）、天然色素（例、β−カロチン、クロロフィル、ベンガラなど）などが挙げられる。
また、注射剤は、有効成分を分散剤（例、ポリソルベート８０，ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油６０など，ポリエチレングリコール，カルボキシメチルセルロース，アルギン酸ナトリウムなど）、保存剤（例、メチルパラベン，プロピルパラベン，ベンジルアルコール，クロロブタノール，フェノールなど）、等張化剤（例、塩化ナトリウム，グリセリン，Ｄ−マンニトール，Ｄ−ソルビトール，ブドウ糖など）などと共に水性溶剤（例、蒸留水，生理的食塩水，リンゲル液等）あるいは油性溶剤（例、オリーブ油，ゴマ油，綿実油，トウモロコシ油などの植物油、プロピレングリコール等）などに溶解、懸濁あるいは乳化することにより製造される。この際、所望により溶解補助剤（例、サリチル酸ナトリウム，酢酸ナトリウム等）、安定剤（例、ヒト血清アルブミン等）、無痛化剤（例、ベンジルアルコール等）等の添加物を用いてもよい。注射液は、通常、適当なアンプルに充填される。
本発明の有害生物防除組成物は徐放性製剤として用いることもできる。該徐放性製剤としては、例えば水中乾燥法（ｏ／ｗ法、ｗ／ｏ／ｗ法等）、相分離法、噴霧乾燥法あるいはこれらに準ずる方法によって製造されたマイクロカプセル（例えば、マイクロスフェア・マイクロカプセル、マイクロパーティクル等）、生体適合性ポリマーで成形されたもの等がある。
【００６５】
本発明の有害生物防除組成物は他の殺虫剤、殺線虫剤、殺ダニ剤、殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤、共力剤、肥料、土壌改良剤、動物用飼料等と混用又は併用することもできる。
【実施例】
【００６６】
以下、本発明を本有機硫黄化合物の参考製造例、本発明の有害生物防除組成物の製剤例及び試験例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
【００６７】
まず、本有機硫黄化合物の参考製造例を示す。
【００６８】
参考製造例１
１−ヨード−３，３，３−トリフルオロプロパン０．６ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で２４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，５−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ペンタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（１）と記す。） １．４４ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１）
2010120858.tif 000019
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．００−４．０７（ｍ，１Ｈ）、３．４４−３．６２（ｍ，２Ｈ）、２．７２−２．８７（ｍ，２Ｈ）、２．３６−２．６４（ｍ，４Ｈ）
【００６９】
参考製造例２
トリフルオロメタンスルホン酸 ２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル０．７ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．３ｇを加え、同温で４０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４，４，５，５，５−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ペンタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（２）と記す。） ０．４０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２）
2010120858.tif 000020
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．２２（ｄｄ，１Ｈ）、３．５４−３．７２（ｍ，２Ｈ）、２．７６−３．０６（ｍ，４Ｈ）
【００７０】
参考製造例３
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン０．６ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０９ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３）と記す。） １．４４ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３）
2010120858.tif 000021
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．０１−４．０８（ｍ，１Ｈ）、３．４４−３．６２（ｍ，２Ｈ）、２．７３−２．８８（ｍ，２Ｈ）、２．２８−２．６２（ｍ，４Ｈ）
【００７１】
参考製造例４
トリフルオロメタンスルホン酸 ２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル０．９ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．３ｇを加え、同温で２８時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（４）と記す。） ０．４０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（４）
2010120858.tif 000022
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．２２（ｄｄ，１Ｈ）、３．５５−３．７２（ｍ，２Ｈ）、２．７８−３．１０（ｍ，４Ｈ）
【００７２】
参考製造例５
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン０．８ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で２４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（５）と記す。） ０．４５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（５）
2010120858.tif 000023
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．０４−４．０８（ｍ，１Ｈ）、３．４６−３．６３（ｍ，２Ｈ）、２．７３−２．８８（ｍ，２Ｈ）、２．３４−２．６４（ｍ，４Ｈ）
【００７３】
参考製造例６
トリフルオロメタンスルホン酸 ２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル１．３ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．７ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．５ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（６）と記す。） ０．３２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（６）
2010120858.tif 000024
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．０５（ｔｔ，１Ｈ）、４．２１（ｄｄ，１Ｈ）、３．５０−３．７１（ｍ，２Ｈ）、２．７０−３．０９（ｍ，４Ｈ）
【００７４】
参考製造例７
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキサン１．３ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．７ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．１ｇを加え、同温で６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，７，７，８，８，８−ノナフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）オクタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（７）と記す。） ０．５９ｇを得た。
本有機硫黄化合物（７）
2010120858.tif 000025
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．０２−４．０８（ｍ，１Ｈ）、３．４５−３．６３（ｍ，２Ｈ）、２．７３−２．８６（ｍ，２Ｈ）、２．３４−２．６３（ｍ，４Ｈ）
【００７５】
参考製造例８
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン０．６ｇ及び（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）アセトニトリル０．４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．５ｇを加え、同温で４日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（８）と記す。） ２．６６ｇを得た。
本有機硫黄化合物（８）
2010120858.tif 000026
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．０４−４．０９（ｍ，１Ｈ）、３．４８−３．６８（ｍ，２Ｈ）、２．６７−２．８２（ｍ，２Ｈ）、２．３１−２．６１（ｍ，４Ｈ）
【００７６】
参考製造例９
トリフルオロメタンスルホン酸 ２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル０．７ｇ及び（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）アセトニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．３ｇを加え、同温で４０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（９）と記す。） ０．３８ｇを得た。
本有機硫黄化合物（９）
2010120858.tif 000027
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．２２（ｄｄ，１Ｈ）、３．５６−３．７６（ｍ，２Ｈ）、２．６８−３．１０（ｍ，４Ｈ）
【００７７】
参考製造例１０
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン１．８ｇ及び（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）アセトニトリル２．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．３ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（１０）と記す。） １．４３ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１０）
2010120858.tif 000028
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．０７（ｄｄ，１Ｈ）、３．４８−３．６７（ｍ，２Ｈ）、２．３２−２．８５（ｍ，６Ｈ）
【００７８】
参考製造例１１
ヨードメタン０．２ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０６ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（１１）と記す。） ０．３５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１１）
2010120858.tif 000029
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．４０−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．７３−２．８８（ｍ，２Ｈ）、２．１６−２．５８（ｍ，４Ｈ）、１．８３（ｓ，３Ｈ）
【００７９】
参考製造例１２
ヨードメタン０．３ｇ及び４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル０．７ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０７ｇを加え、同温で２４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロ−２−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（１２）と記す。） ０．３２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１２）
2010120858.tif 000030
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．４８−３．６５（ｍ，２Ｈ）、２．６１−３．１３（ｍ，４Ｈ）、２．００（ｄ，３Ｈ）
【００８０】
参考製造例１３
ヨードメタン０．２ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサンニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０５ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（１３）と記す。） ０．４９ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１３）
2010120858.tif 000031
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．４２−３．６１（ｍ，２Ｈ）、２．６８−２．８２（ｍ，２Ｈ）、２．１８−２．５８（ｍ，４Ｈ）、１．８４（ｓ，３Ｈ）
【００８１】
参考製造例１４
ヨードメタン０．２ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）ヘキサンニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０５ｇを加え、同温で２日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（１４）と記す。） ０．４９ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１４）
2010120858.tif 000032
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．４２−３．６１（ｍ，２Ｈ）、２．６８−２．８２（ｍ，２Ｈ）、２．１８−２．５８（ｍ，４Ｈ）、１．８４（ｓ，３Ｈ）
【００８２】
参考製造例１５
ヨードエタン０．２ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０６ｇを加え、同温で１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−エチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（１５）と記す。） ０．３７ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１５）
2010120858.tif 000033
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．３９−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．７２−２．８４（ｍ，２Ｈ）、２．３２−２．５６（ｍ，４Ｈ）、２．０６−２．２６（ｍ，２Ｈ）、１．２８（ｔ，３Ｈ）
【００８３】
参考製造例１６
１−ヨードプロパン０．２ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０６ｇを加え、同温で２４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−プロピル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（１６）と記す。） ０．３８ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１６）
2010120858.tif 000034
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．３８−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．７２−２．８６（ｍ，２Ｈ）、２．３２−２．５８（ｍ，４Ｈ）、１．９５−２．１１（ｍ，２Ｈ）、１．５８−１．７２（ｍ，２Ｈ）、１．１０（ｔ，３Ｈ）
【００８４】
参考製造例１７
２−ヨードプロパン０．２ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０６ｇを加え、同温で６時間、６０℃で２時間さらに９０℃で６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（２−プロピル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（１７）と記す。） ０．１３ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１７）
2010120858.tif 000035
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．３９−３．６０（ｍ，２Ｈ）、２．７０−２．８７（ｍ，２Ｈ）、２．２６−２．６２（ｍ，５Ｈ）、１．３５（ｄ，３Ｈ）、１．２７（ｄ，３Ｈ）
【００８５】
参考製造例１８
１−ヨードブタン０．３ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０６ｇを加え、同温で８時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−ブチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（１８）と記す。） ０．２８ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１８）
2010120858.tif 000036
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．３８−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．７２−２．８６（ｍ，２Ｈ）、２．３２−２．５８（ｍ，４Ｈ）、１．９４−２．１１（ｍ，２Ｈ）、１．３８−１．６５（ｍ，４Ｈ）、１．００（ｔ，３Ｈ）
【００８６】
参考製造例１９
１−ヨードペンタン０．３ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０６ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（１９）と記す。） ０．２８ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１９）
2010120858.tif 000037
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．３８−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．７２−２．８６（ｍ，２Ｈ）、２．３２−２．５８（ｍ，４Ｈ）、１．９４−２．１１（ｍ，２Ｈ）、１．３８−１．６５（ｍ，６Ｈ）、１．００（ｔ，３Ｈ）
【００８７】
参考製造例２０
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル０．５ｇをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させた。ここへ０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０６ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。続いて同温で１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート０．４ｇを加え０．５時間撹拌した。さらに室温で１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（２０）と記す。） ０．３７ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２０）
2010120858.tif 000038
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．５４−３．６７（ｍ，２Ｈ）、２．３９−２．８８（ｍ，６Ｈ）
【００８８】
参考製造例２１
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル０．５ｇをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させた。ここへ０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０６ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。続いて同温でＮ−クロロコハク酸イミド０．２ｇを加え０．５時間撹拌した。さらに室温で３日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（２１）と記す。） ０．１５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２１）
2010120858.tif 000039
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．６６−３．８４（ｍ，２Ｈ）、２．４２−２．９２（ｍ，６Ｈ）
【００８９】
参考製造例２２
１−ヨード−４，４，４−トリフルオロブタン２．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム１．２ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２２）と記す。） ０．８０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２２）
2010120858.tif 000040
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，３Ｈ）、３．８２−３．８８（ｍ，１Ｈ）、３．３０−３．５０（ｍ，２Ｈ）、２．６２−２．７７（ｍ，２Ｈ）、２．１０−２．２４（ｍ，４Ｈ）、１．６４−１．７５（ｍ，２Ｈ）
【００９０】
参考製造例２３
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン１．２ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．６ｇを加え、同温で３０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２３）と記す。） １．２０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２３）
2010120858.tif 000041
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９０（ｓ，３Ｈ）、３．８６−３．９４（ｍ，１Ｈ）、３．３８−３．５１（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．３８−２．５３（ｍ，２Ｈ）、２．１８−２．３４（ｍ，２Ｈ）
【００９１】
参考製造例２４
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン４．８ｇ及び（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）酢酸メチル５．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．７ｇを加え、同温で２日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２４）と記す。） ４．６９ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２４）
2010120858.tif 000042
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９１（ｓ，３Ｈ）、３．８９−３．９７（ｍ，１Ｈ）、３．４４−３．５１（ｍ，２Ｈ）、２．５８−２．７３（ｍ，２Ｈ）、２．３９−２．５３（ｍ，２Ｈ）、２．２０−２．３４（ｍ，２Ｈ）
【００９２】
参考製造例２５
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸０．５ｇをジクロロメタン１０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．２ｍｌを順次滴下し、同温で２時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でtert−ブチルアルコール０．１ｇ及びトリエチルアミン０．２ｍｌを滴下した。同温で１時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸 tert−ブチル（以下、本有機硫黄化合物（２５）と記す。） ０．４２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２５）
2010120858.tif 000043
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．７５−３．８２（ｍ，１Ｈ）、３．３８−３．５２（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．１８−２．４６（ｍ，４Ｈ）、１．５３（ｓ，９Ｈ）
【００９３】
参考製造例２６
ヨードメタン０．４ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で３時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２６）と記す。）０．７３ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２６）
2010120858.tif 000044
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８８（ｓ，３Ｈ）、３．４３−３．５２（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．５４（ｍ，４Ｈ）、１．７０（ｓ，３Ｈ）
【００９４】
参考製造例２７
ヨードエタン０．４ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−エチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２７）と記す。）０．４５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２７）
2010120858.tif 000045
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８８（ｓ，３Ｈ）、３．３３−３．６５（ｍ，２Ｈ）、２．０６−２．７７（ｍ，８Ｈ）、１．０４（ｔ，３Ｈ）
【００９５】
参考製造例２８
１−ヨードプロパン０．４ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−プロピル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２８）と記す。）０．８９ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２８）
2010120858.tif 000046
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８７（ｓ，３Ｈ）、３．３２−３．６６（ｍ，２Ｈ）、１．９６−２．７６（ｍ，８Ｈ）、１．１６−１．５８（ｍ，２Ｈ）、１．０１（ｔ，３Ｈ）
【００９６】
参考製造例２９
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．５ｇをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解し、ここに０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０５ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。続いて同温で１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウム  トリフルオロメタンスルホナート０．４ｇを加え０．５時間撹拌した。さらに室温で１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２９）と記す。） ０．３９ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２９）
2010120858.tif 000047
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．００（ｓ，３Ｈ）、３．２６−３．５６（ｍ，２Ｈ）、２．０９−２．８０（ｍ，６Ｈ）
【００９７】
参考製造例３０
ヨードメタン０．７ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル２．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２ｇを加え、同温で４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３０）と記す。）１．２０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３０）
2010120858.tif 000048
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９０（ｓ，３Ｈ）、３．４６−３．５３（ｍ，２Ｈ）、２．４５−２．７２（ｍ，３Ｈ）、２．０９−２．３４（ｍ，３Ｈ）、１．７１（ｓ，３Ｈ）
【００９８】
参考製造例３１
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸０．５ｇをジクロロメタン１０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．２ｍｌを順次滴下し、同温で２時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でアンモニア（３０％（ｗ／w）水溶液）０．２ｇを滴下した。同温で２時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３１）と記す。） ０．２４ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３１）
2010120858.tif 000049
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．３４（ｂｓ，１Ｈ）、５．７３（ｂｓ，１Ｈ）、３．７３（ｄｄ，１Ｈ）、３．２１−３．４２（ｍ，２Ｈ）、２．６４−２．７３（ｍ，２Ｈ）、２．１２−２．４８（ｍ，４Ｈ）
【００９９】
参考製造例３２
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸０．５ｇをジクロロメタン１０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．２ｍｌを順次滴下し、同温で１時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でメチルアミン（４０％（ｗ／w）水溶液）０．３ｇを滴下した。同温で２時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、Ｎ−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３２）と記す。） ０．２６ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３２）
2010120858.tif 000050
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．２２（ｂｓ，１Ｈ）、３．６３（ｄｄ，１Ｈ）、３．１８−３．３９（ｍ，２Ｈ）、２．９４（ｄ，３Ｈ）、２．６０−２．７３（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．５０（ｍ，４Ｈ）
【０１００】
参考製造例３３
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸０．５ｇをジクロロメタン１０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．２ｍｌを順次滴下し、同温で１時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でジメチルアミン（４０％（ｗ／w）水溶液）０．５ｇを滴下した。同温で２時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、Ｎ，Ｎ−ジメチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３３）と記す。） ０．３０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３３）
2010120858.tif 000051
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．３１（ｄｄ，１Ｈ）、３．１９−３．５３（ｍ，２Ｈ）、３．２１（ｓ，３Ｈ）、３．０９（ｓ，３Ｈ）、２．５７−２．７０（ｍ，２Ｈ）、１．９８−２．５４（ｍ，４Ｈ）
【０１０１】
参考製造例３４
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸１．１ｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．５ｍｌを順次滴下し、同温で２時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でアンモニア（３０％（ｗ／w）水溶液）０．５ｇを滴下した。同温で２時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３４）と記す。） ０．７６ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３４）
2010120858.tif 000052
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．６２（ｂｓ，１Ｈ）、５．７４（ｂｓ，１Ｈ）、３．２０−３．４１（ｍ，２Ｈ）、２．６４−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．５４（ｍ，４Ｈ）、１．６８（ｓ，３Ｈ）
【０１０２】
参考製造例３５
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸１．１ｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．５ｍｌを順次滴下し、同温で２時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でメチルアミン（４０％（ｗ／w）水溶液）０．７ｇを滴下した。同温で２時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、Ｎ，２−ジメチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３５）と記す。） ０．７０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３５）
2010120858.tif 000053
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５６（ｂｓ，１Ｈ）、３．１４−３．３９（ｍ，２Ｈ）、２．９１（ｄ，３Ｈ）、２．６０−２．７４（ｍ，２Ｈ）、２．０３−２．５３（ｍ，４Ｈ）、１．６７（ｓ，３Ｈ）
【０１０３】
参考製造例３６
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸０．５ｇをジクロロメタン１０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．２ｍｌを順次滴下し、同温で１時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でジメチルアミン（４０％（ｗ／w）水溶液）１．０ｇを滴下した。同温で４時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−Ｎ，Ｎ，２−トリメチルヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３６）と記す。） ０．９７ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３６）
2010120858.tif 000054
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．３７（ｄｄ，２Ｈ）、３．１６（ｂｓ，６Ｈ）、１．９８−２．８８（ｍ，６Ｈ）、１．８２（ｓ，３Ｈ）
【０１０４】
参考製造例３７
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸０．５ｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１滴、続いて塩化オキサリル０．２ｍｌを順次滴下し、同温で２時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でエチルアミン（７０％（ｗ／w）水溶液）０．２ｇを滴下した。同温で８時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、Ｎ−エチル−２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３７）と記す。） ０．４１ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３７）
2010120858.tif 000055
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５７（ｂｓ，１Ｈ）、３．１３−３．４４（ｍ，４Ｈ）、２．６１−２．７４（ｍ，２Ｈ）、２．０１−２．５２（ｍ，４Ｈ）、１．６６（ｓ，３Ｈ）、１．１８（ｔ，３Ｈ）
【０１０５】
参考製造例３８
２−エチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸０．５ｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１滴、続いて塩化オキサリル０．２ｍｌを順次滴下し、同温で２時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でアンモニア（３０％（ｗ／w）水溶液）０．２ｇを滴下した。同温で１時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−エチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３８）と記す。） ０．３７ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３８）
2010120858.tif 000056
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５９（ｂｓ，１Ｈ）、５．８２（ｂｓ，１Ｈ）、３．１９−３．４８（ｍ，２Ｈ）、２．６２−２．７６（ｍ，２Ｈ）、２．１１−２．５２（ｍ，６Ｈ）、１．１０（ｔ，３Ｈ）
【０１０６】
参考製造例３９
１−ヨード−４，４，４−トリフルオロブタン０．６ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３９）と記す。） ０．５７ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３９）
2010120858.tif 000057
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９０−３．９７（ｍ，１Ｈ）、３．４１−３．５９（ｍ，２Ｈ）、２．６８−２．８８（ｍ，２Ｈ）、１．７８−２．３６（ｍ，６Ｈ）
【０１０７】
参考製造例４０
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸０．５ｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．２ｍｌを順次滴下し、同温で２時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でプロピルアミン０．２ｇを滴下した。同温で１４時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−Ｎ−プロピル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（４０）と記す。） ０．２６ｇを得た。
本有機硫黄化合物（４０）
2010120858.tif 000058
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．６２（ｂｓ，１Ｈ）、３．１１−３．３８（ｍ，４Ｈ）、２．００−２．７４（ｍ，６Ｈ）、１．６６（ｓ，３Ｈ）、１．４５−１．７０（ｍ，２Ｈ）、０．９４（ｔ，３Ｈ）
【０１０８】
参考製造例４１
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸０．５ｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．２ｍｌを順次滴下し、同温で２時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でイソプロピルアミン０．２ｇを滴下した。同温で１４時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、Ｎ−イソプロピル−２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（４１）と記す。） ０．２５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（４１）
2010120858.tif 000059
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．４０（ｂｓ，１Ｈ）、４．０５−４．１８（ｍ，１Ｈ）、３．１０−３．３９（ｍ，２Ｈ）、２．６０−２．７８（ｍ，２Ｈ）、１．９８−２．５２（ｍ，４Ｈ）、１．６５（ｓ，３Ｈ）、１．１９（ｄｄ,６Ｈ）
【０１０９】
参考製造例４２
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン０．９ｇ及び（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）酢酸メチル１．１ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で３日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（４２）と記す。） １．１２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（４２）
2010120858.tif 000060
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９１−３．９５（ｍ，１Ｈ）、３．９１（ｓ，３Ｈ）、３．４１−３．５３（ｍ，２Ｈ）、２．６２−２．７７（ｍ，２Ｈ）、２．３８−２．５４（ｍ，２Ｈ）、２．１９−２．３４（ｍ，２Ｈ）
【０１１０】
参考製造例４３
ヨードメタン０．２ｇ及び２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサン酸メチル０．６ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（４３）と記す。）０．４１ｇを得た。
本有機硫黄化合物（４３）
2010120858.tif 000061
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，３Ｈ）、３．４７−３．５６（ｍ，２Ｈ）、２．６１−２．７８（ｍ，２Ｈ）、１．９５−２．５６（ｍ，４Ｈ）、１．７１（ｓ，３Ｈ）
【０１１１】
参考製造例４４
ヨードメタン０．４ｇ及び６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（４４）と記す。）０．８５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（４４）
2010120858.tif 000062
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８６（ｓ，３Ｈ）、３．３１−３．５５（ｍ，２Ｈ）、２．６２−２．７５（ｍ，２Ｈ）、１．９５−２．３３（ｍ，４Ｈ）、１．６７（ｓ，３Ｈ）、１．４３−１．８０（ｍ，２Ｈ）
【０１１２】
参考製造例４５
ヨードメタン０．２ｇ及び６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０６ｇを加え、同温で１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（４５）と記す。） ０．３７ｇを得た。
本有機硫黄化合物（４５）
2010120858.tif 000063
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．４０−３．５５（ｍ，２Ｈ）、２．７３−２．８８（ｍ，２Ｈ）、１．８５−２．３４（ｍ，６Ｈ）、１．８０（ｓ，３Ｈ）
【０１１３】
参考製造例４６
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン１．０ｇ及び２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）プロピオン酸エチル１．０ｇをジメチルスルホキシド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２ｇを加え、同温で１０時間、６０℃で４時間さらに９０℃で４時間撹拌した後、反応混合物を室温まで放冷し、ここへ１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸エチル（以下、本有機硫黄化合物（４６）と記す。）０．４７ｇを得た。
本有機硫黄化合物（４６）
2010120858.tif 000064
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．３３（ｑ，２Ｈ）、３．４６−３．５３（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．５４（ｍ，４Ｈ）、１．６９（ｓ，３Ｈ）、１．３４（ｔ，３Ｈ）
【０１１４】
参考製造例４７
Ｓ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート１．８ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解し、氷冷下でここにナトリウムメトキシド（２８％（ｗ／w）メタノール溶液）１．５ｍｌを加えた。該混合物中に氷冷下で２−ブロモ−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサンニトリル２．０ｇを滴下し、室温で０．５時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルチオ）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（４７）と記す。）１．６ｇを得た。
本有機硫黄化合物（４７）
2010120858.tif 000065
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．６７（ｔ，１Ｈ）、２．８９−３．０４（ｍ，２Ｈ）、２．１０−２．５８（ｍ，６Ｈ）
【０１１５】
参考製造例４８
Ｓ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート０．５ｇをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解し、氷冷下でここにナトリウムメトキシド（２８％（ｗ／w）メタノール溶液）０．４ｍｌを加えた。該混合物中に氷冷下で２−ブロモ−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサンニトリル０．６ｇを滴下し、室温で１時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をクロロホルム２０ｍｌに溶解し、氷冷下でここに過酢酸（３２％（ｗ／w）酢酸溶液）０．５ｇを加えた後、同温で４時間撹拌した。反応混合物を室温まで昇温してから水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルフィニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（４８）と記す。）０．４ｇを得た。
本有機硫黄化合物（４８）
2010120858.tif 000066
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．６２−３．６９（ｍ，１Ｈ）、２．９８−３．３８（ｍ，２Ｈ）、２．２５−２．８２（ｍ，６Ｈ）
【０１１６】
参考製造例４９
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸１．１ｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．５ｍｌを順次滴下し、同温で２時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解し、ここへ室温でアンモニア（３０％（ｗ／w）水溶液）０．５ｇを加え、同温で１０時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣に、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン ２，４−ジスルフィド１．２ｇ及びトルエン２０ｍｌを加えた混合物を１０時間加熱還流した。室温まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンチオアミド（以下、本有機硫黄化合物（４９）と記す。） ０．４７ｇを得た。
本有機硫黄化合物（４９）
2010120858.tif 000067
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）８．０３（ｂｓ，１Ｈ）、７．８０（ｂｓ，１Ｈ）、３．１９−３．４４（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．７８（ｍ，６Ｈ）、１．８５（ｓ，３Ｈ）
【０１１７】
参考製造例５０
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルチオ）ヘキサンニトリル０．５ｇ及びヨードメタン０．２ｇをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解し、ここへ−７８℃でナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド（１M−テトラヒドロフラン溶液）１．６ｍｌを加えた。同温で０．５時間攪拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルチオ）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（５０）と記す。）０．４ｇを得た。
本有機硫黄化合物（５０）
2010120858.tif 000068
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）２．９８（ｔ，２Ｈ）、２．０８−２．５８（ｍ，６Ｈ）、１．７１（ｓ，３Ｈ）
【０１１８】
参考製造例５１
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン５．７ｇ及び（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）酢酸メチル５．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解し、ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．７ｇを加え、同温で３日間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（５１）と記す。）１．８０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（５１）
2010120858.tif 000069
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９１（ｓ，３Ｈ）、３．９０−３．９７（ｍ，１Ｈ）、３．４１−３．５４（ｍ，２Ｈ）、２．２０−２．７３（ｍ，６Ｈ）
【０１１９】
参考製造例５２
ヨードメタン０．４ｇ及び５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘプタン酸メチル１．３ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解し、ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で３時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−メチル−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（５２）と記す。）１．３０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（５２）
2010120858.tif 000070
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８８（ｓ，３Ｈ）、３．４７−３．５４（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．７３（ｍ，６Ｈ）、１．７１（ｓ，３Ｈ）
【０１２０】
参考製造例５３
１−ヨード−３，３，３−トリフルオロプロパン０．４ｇ及び（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）アセトニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解、ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０８ｇを加え、同温で２０時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）−５，５，５−トリフルオロペンタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（５３）と記す。） ０．２６ｇを得た。
本有機硫黄化合物（５３）
2010120858.tif 000071
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．０４−４．０８（ｍ，１Ｈ）、３．４７−３．６６（ｍ，２Ｈ）、２．３５−２．８１（ｍ，６Ｈ）
【０１２１】
参考製造例５４
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン０．６ｇ及び（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）アセトニトリル０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０８ｇを加え、同温で２４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘプタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（５４）と記す。） ０．３０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（５４）
2010120858.tif 000072
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．１６−４．２２（ｍ，１Ｈ）、３．５０−３．６８（ｍ，２Ｈ）、２．３３−２．８８（ｍ，６Ｈ）
【０１２２】
参考製造例５５
５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘプタン酸０．５ｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．１ｍｌを順次滴下し、同温で２時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でアンモニア（３０％（ｗ／w）水溶液）０．２ｇを滴下した。同温で２時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘプタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（５５）と記す。） ０．３１ｇを得た。
本有機硫黄化合物（５５）
2010120858.tif 000073
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．３１（ｂｓ，１Ｈ）、５．７３（ｂｓ，１Ｈ）、３．７２−３．７８（ｍ，１Ｈ）、３．２４−３．４５（ｍ，２Ｈ）、２．１２−２．７４（ｍ，６Ｈ）
【０１２３】
参考製造例５６
５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−メチル−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘプタン酸１．１ｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．４ｍｌを順次滴下し、同温で２時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でアンモニア（３０％（ｗ／w）水溶液）０．４ｇを滴下した。同温で２時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−メチル−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘプタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（５６）と記す。） ０．６０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（５６）
2010120858.tif 000074
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．６３（ｂｓ，１Ｈ）、５．７６（ｂｓ，１Ｈ）、３．２０−３．４５（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．７３（ｍ，６Ｈ）、１．７０（ｓ，３Ｈ）
【０１２４】
参考製造例５７
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルチオ）ヘキサンニトリル０．６ｇをクロロホルム３０ｍｌに溶解し、氷冷下で過酢酸（３２％（ｗ／w）酢酸溶液）０．４ｇを加えた後、同温で２時間、さらに室温で１０時間撹拌した。反応混合物を水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルフィニル）ヘキサンニトリルのジアステレオマー混合物（以下、本有機硫黄化合物（５７）と記す。）０．２５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（５７）
2010120858.tif 000075
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）２．９８−３．２１（ｍ，２Ｈ）、２．６０−２．８２（ｍ，２Ｈ）、２．０４−２．５４（ｍ，４Ｈ）、１．６８（ｓ，２Ｈ）、１．５９（ｓ，１Ｈ）
【０１２５】
参考製造例５８
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．８ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０８ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．３ｇを加え４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（５８）と記す。） ０．６０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（５８）
2010120858.tif 000076
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９７（ｓ，３Ｈ）、３．５２−３．９２（ｍ，２Ｈ）、２．１８−２．９１（ｍ，６Ｈ）
【０１２６】
参考製造例５９
２−クロロ−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．５ｇをメタノール５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．５ｍｌを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（５９）と記す。） ０．１５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（５９）
2010120858.tif 000077
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８８（ｂｓ，１Ｈ）、６．０２（ｂｓ，１Ｈ）、３．３８−３．７４（ｍ，２Ｈ）、２．１３−２．９５（ｍ，６Ｈ）
【０１２７】
参考製造例６０
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸０．５ｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．２ｍｌを順次滴下し、同温で４時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でアンモニア（３０％（ｗ／w）水溶液）０．２ｇを滴下した。同温で２日間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（６０）と記す。） ０．２０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（６０）
2010120858.tif 000078
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．４１（ｂｓ，１Ｈ）、５．７３（ｂｓ，１Ｈ）、３．７４−３．７９（ｍ，１Ｈ）、３．２０−３．４５（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．７４（ｍ，６Ｈ）
【０１２８】
参考製造例６１
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸０．８ｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．３ｍｌを順次滴下し、同温で４時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でアンモニア（３０％（ｗ／w）水溶液）０．３ｇを滴下した。同温で２日間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（６１）と記す。） ０．６０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（６１）
2010120858.tif 000079
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．６９（ｂｓ，１Ｈ）、６．０１（ｂｓ，１Ｈ）、３．２２−３．４６（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．７３（ｍ，６Ｈ）、１．６９（ｓ，３Ｈ）
【０１２９】
参考製造例６２
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルチオ）ヘキサンニトリル２．０ｇをメタノール５０ｍｌに溶解し、室温下でここにナトリウムメトキシド（２８％（ｗ／w）メタノール溶液）１２．５ｍｌを加え、同温で１５時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルチオ）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（６２）と記す。）０．８ｇを得た。
本有機硫黄化合物（６２）
2010120858.tif 000080
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．７９（ｓ，３Ｈ）、３．３１（ｔ，１Ｈ）、２．７２−２．９０（ｍ，２Ｈ）、１．９３−２．４８（ｍ，６Ｈ）
【０１３０】
参考製造例６３
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルチオ）ヘキサン酸メチル０．３ｇをクロロホルム２０ｍｌに溶解し、氷冷下で過酢酸（３２％（ｗ／w）酢酸溶液）０．２ｇを加えた後、室温まで昇温し、６時間撹拌した。反応混合物を水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルフィニル）ヘキサン酸メチルのジアステレオマー混合物（以下、本有機硫黄化合物（６３）と記す。）０．１８ｇを得た。
本有機硫黄化合物（６３）
2010120858.tif 000081
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８６（ｓ，１．２Ｈ）、３．８４（ｓ，１．８Ｈ）、３．５７−３．６９（ｍ，１Ｈ）、２．１３−３．１４（ｍ，８Ｈ）
【０１３１】
参考製造例６４
２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．５ｇをメタノール２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．５ｍｌを加え、同温で０．５時間撹拌した。さらにアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）５ｍｌを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（６４）と記す。） ０．３７ｇを得た。
本有機硫黄化合物（６４）
2010120858.tif 000082
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５４（ｂｓ，１Ｈ）、５．８８（ｂｓ，１Ｈ）、３．３０−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．１４−２．８３（ｍ，６Ｈ）
【０１３２】
参考製造例６５
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル２．０ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解させた。ここへ氷冷下で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。ここへＮ−ブロモコハク酸イミド０．９ｇを加え、反応混合物を室温まで昇温した後、１２時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−ブロモ−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（６５）と記す。） ０．３０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（６５）
2010120858.tif 000083
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９６（ｓ，３Ｈ）、３．７５−４．０１（ｍ，２Ｈ）、２．３５−２．９２（ｍ，６Ｈ）
【０１３３】
参考製造例６６
２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサン酸メチル１．０ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解し、ここに０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０８ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に０℃で１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート０．６ｇを加え１時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（６６）と記す。） ０．７５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（６６）
2010120858.tif 000084
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．００（ｓ，３Ｈ）、３．３４−３．６１（ｍ，２Ｈ）、２．０９−２．８１（ｍ，６Ｈ）
【０１３４】
参考製造例６７
２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロヘキサン酸メチル１．５ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）１．３ｍｌを加え、同温で２４時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（６７）と記す。） １．１０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（６７）
2010120858.tif 000085
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５４（ｂｓ，１Ｈ）、５．８９（ｂｓ，１Ｈ）、３．３４−３．６２（ｍ，２Ｈ）、２．１０−２．８２（ｍ，６Ｈ）
【０１３５】
参考製造例６８
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルチオ）ヘキサン酸メチル０．３ｇ及びヨードメタン０．１２ｇをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解し、ここへ０℃でナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド（１M−テトラヒドロフラン溶液）０．９ｍｌを加えた。同温で１時間攪拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルチオ）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（６８）と記す。）０．３ｇを得た。
本有機硫黄化合物（６８）
2010120858.tif 000086
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．７８（ｓ，３Ｈ）、２．７３−２．７９（ｍ，２Ｈ）、１．９６−２．４１（ｍ，６Ｈ）、１．５０（ｓ，３Ｈ）
【０１３６】
参考製造例６９
２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．０ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でメチルアミン（２Ｍ−メタノール溶液）３．８ｍｌを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロ−N−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（６９）と記す。） ０．９２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（６９）
2010120858.tif 000087
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５８（ｂｓ，１Ｈ）、３．２６−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．９９（ｄ，３Ｈ）、２．０４−２．８２（ｍ，６Ｈ）
【０１３７】
参考製造例７０
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルチオ）ヘキサン酸メチル１．０ｇをメタノール５０ｍｌに溶解し、室温で水酸化カリウム水溶液（水酸化カリウム０．９ｇ及び水５ｍｌの混合溶液の全量）を加え、同温で１日間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．４ｍｌを順次滴下し、同温で１時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でアンモニア（３０％（ｗ／w）水溶液）０．４ｇを滴下した。同温で１時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルチオ）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（７０）と記す。） ０．２５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（７０）
2010120858.tif 000088
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．６０（ｂｓ，１Ｈ）、５．４９（ｂｓ，１Ｈ）、２．７３（ｔ，２Ｈ）、１．９６−２．４４（ｍ，６Ｈ）、１．５１（ｓ，３Ｈ）
【０１３８】
参考製造例７１
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルチオ）ヘキサン酸メチル４．４ｇをクロロホルム３０ｍｌに溶解し、氷冷下で過酢酸（３２％（ｗ／w）酢酸溶液）２．９ｇを加えた後、４時間撹拌した。反応混合物を水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルフィニル）ヘキサン酸メチルのジアステレオマー混合物（以下、本有機硫黄化合物（７１）と記す。）１．１０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（７１）
2010120858.tif 000089
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８４（ｓ，１．２Ｈ）、３．８２（ｓ，１．８Ｈ）、２．０６−２．８４（ｍ，８Ｈ）、１．５３（ｓ，１．２Ｈ）、１．５２（ｓ，１．８Ｈ）
【０１３９】
参考製造例７２
２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサン酸メチル１．０ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解し、ここに室温下で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０９ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温で１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート０．７ｇを加え３時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（７２）と記す。） ０．７８ｇを得た。
本有機硫黄化合物（７２）
2010120858.tif 000090
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．００（ｓ，３Ｈ）、３．３３−３．６０（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．８１（ｍ，６Ｈ）
【０１４０】
参考製造例７３
２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．６ｇをメタノール２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．６ｍｌを加え、同温で１２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（７３）と記す。） ０．４５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（７３）
2010120858.tif 000091
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５５（ｂｓ，１Ｈ）、５．９１（ｂｓ，１Ｈ）、３．３３−３．６１（ｍ，２Ｈ）、２．０４−２．８３（ｍ，６Ｈ）
【０１４１】
参考製造例７４
２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．５ｇをメタノール３０ｍｌに溶解し、室温で水酸化カリウム水溶液（水酸化カリウム０．４ｇ及び水５ｍｌの混合溶液の全量）を加え、同温で１２時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．２ｍｌを順次滴下し、同温で２時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でジメチルアミン（４０％（ｗ／w）水溶液）０．４ｇを滴下した。同温で２時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２，５，５，６，６，６−ヘキサフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（７４）と記す。） ０．２６ｇを得た。
本有機硫黄化合物（７４）
2010120858.tif 000092
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．３２−３．５５（ｍ，２Ｈ）、３．２９（ｄ，３Ｈ）、３．１０（ｓ，３Ｈ）、２．１４−２．９７（ｍ，６Ｈ）
【０１４２】
参考製造例７５
２−クロロ−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．０ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でメチルアミン（２Ｍ−メタノール溶液）３．６ｍｌを加え、同温で１６時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−Ｎ−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（７５）と記す。） ０．１５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（７５）
2010120858.tif 000093
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．９５（ｂｓ，１Ｈ）、３．３５−３．７５（ｍ，２Ｈ）、２．９６（ｄ，３Ｈ）、２．０５−２．９８（ｍ，６Ｈ）
【０１４３】
参考製造例７６
１−ヨード−３，３，３−トリフルオロプロパン１．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル１．０ｇをジメチルスルホキシド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．６ｇを加え、同温で１６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，５−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ペンタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（７６）と記す。） ０．４２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（７６）
2010120858.tif 000094
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９０（ｓ，３Ｈ）、３．８８−３．９４（ｍ，１Ｈ）、３．３６−３．５２（ｍ，２Ｈ）、２．６２−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．３８−２．５３（ｍ，２Ｈ）、２．２４−２．４８（ｍ，２Ｈ）
【０１４４】
参考製造例７７
５，５，５−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ペンタン酸メチル１．０ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１２ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．４ｇを加え２時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５，５，５−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ペンタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（７７）と記す。） ０．６５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（７７）
2010120858.tif 000095
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９７（ｓ，３Ｈ）、３．５８−３．８８（ｍ，２Ｈ）、２．３５−２．８８（ｍ，６Ｈ）
【０１４５】
参考製造例７８
１−ヨード−４，４，４−トリフルオロブタン２．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．０ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム１．２ｇを加え、同温で３日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（７８）と記す。） １．５０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（７８）
2010120858.tif 000096
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，３Ｈ）、３．８０−３．９０（ｍ，１Ｈ）、３．２８−３．５０（ｍ，２Ｈ）、２．６０−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．０９−２．２７（ｍ，４Ｈ）、１．６２−１．７５（ｍ，２Ｈ）
【０１４６】
参考製造例７９
６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．０ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１２ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．４ｇを加え４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（７９）と記す。） ０．９６ｇを得た。
本有機硫黄化合物（７９）
2010120858.tif 000097
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９６（ｓ，３Ｈ）、３．５３−３．８４（ｍ，２Ｈ）、２．１２−２．７９（ｍ，６Ｈ）、１．７２−２．０２（ｍ，２Ｈ）
【０１４７】
参考製造例８０
２−クロロ−６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．８ｇをメタノール２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．９ｍｌを加え、同温で１０時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（８０）と記す。） ０．５１ｇを得た。
本有機硫黄化合物（８０）
2010120858.tif 000098
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．９３（ｂｓ，１Ｈ）、６．２０（ｂｓ，１Ｈ）、３．３６−３．７４（ｍ，２Ｈ）、２．１３−２．８１（ｍ，６Ｈ）、１．６１−２．０１（ｍ，２Ｈ）
【０１４８】
参考製造例８１
２−クロロ−５，５，５−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ペンタン酸メチル１．０ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）１．２ｍｌを加え、同温で１４時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５，５，５−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ペンタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（８１）と記す。） ０．６２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（８１）
2010120858.tif 000099
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．９３（ｂｓ，１Ｈ）、６．３６（ｂｓ，１Ｈ）、３．３８−３．７３（ｍ，２Ｈ）、２．２１−２．９２（ｍ，６Ｈ）
【０１４９】
参考製造例８２
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン２．８ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．０ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．３４ｇを加え、同温で１４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（８２）と記す。）２．３０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（８２）
2010120858.tif 000100
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９１（ｓ，３Ｈ）、３．８７−３．９５（ｍ，１Ｈ）、３．３６−３．５２（ｍ，２Ｈ）、２．２１−２．７８（ｍ，６Ｈ）
【０１５０】
参考製造例８３
５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル１．０ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０９ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．３ｇを加え１時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（８３）と記す。） ０．９３ｇを得た。
本有機硫黄化合物（８３）
2010120858.tif 000101
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９７（ｓ，３Ｈ）、３．５３−３．９０（ｍ，２Ｈ）、２．３０−２．９１（ｍ，６Ｈ）
【０１５１】
参考製造例８４
２−クロロ−５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル０．７ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．６ｍｌを加え、同温で１０時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（８４）と記す。） ０．５０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（８４）
2010120858.tif 000102
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８８（ｂｓ，１Ｈ）、５．９４（ｂｓ，１Ｈ）、３．３７−３．７３（ｍ，２Ｈ）、２．１４−２．９６（ｍ，６Ｈ）
【０１５２】
参考製造例８５
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキサン７．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル４．４ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム２．５９ｇを加えた。反応混合物を６０℃まで昇温し２日間撹拌した後、室温付近まで放冷し、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，７，７，８，８，８−ノナフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）オクタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（８５）と記す。）１．５０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（８５）
2010120858.tif 000103
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９２（ｓ，３Ｈ）、３．８７−３．９５（ｍ，１Ｈ）、３．３８−３．５２（ｍ，２Ｈ）、２．２０−２．７８（ｍ，６Ｈ）
【０１５３】
参考製造例８６
５，５，６，６，７，７，８，８，８−ノナフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）オクタン酸メチル１．０ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０８ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．３ｇを加え１６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５，５，６，６，７，７，８，８，８−ノナフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）オクタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（８６）と記す。） ０．８９ｇを得た。
本有機硫黄化合物（８６）
2010120858.tif 000104
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９７（ｓ，３Ｈ）、３．５８−３．９２（ｍ，２Ｈ）、２．３３−２．９４（ｍ，６Ｈ）
【０１５４】
参考製造例８７
２−クロロ−５，５，６，６，７，７，８，８，８−ノナフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）オクタン酸メチル０．８ｇをメタノール２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）１．１ｍｌを加え、同温で１２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５，５，６，６，７，７，８，８，８−ノナフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）オクタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（８７）と記す。） ０．４５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（８７）
2010120858.tif 000105
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８８（ｂｓ，１Ｈ）、５．９３（ｂｓ，１Ｈ）、３．３８−３．７７（ｍ，２Ｈ）、２．１５−２．９８（ｍ，６Ｈ）
【０１５５】
参考製造例８８
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル２．０ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１９ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温で塩化銅（II）１．９ｇを加え１２時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（８８）と記す。） １．７０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（８８）
2010120858.tif 000106
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９８（ｓ，３Ｈ）、３．６３−３．９３（ｍ，２Ｈ）、２．２９−２．９２（ｍ，６Ｈ）
【０１５６】
参考製造例８９
２−クロロ−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．５ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）１．４ｍｌを加え、同温で１６時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（８９）と記す。） １．１０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（８９）
2010120858.tif 000107
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８６（ｂｓ，１Ｈ）、５．９３（ｂｓ，１Ｈ）、３．４０−３．７８（ｍ，２Ｈ）、２．１３−２．９５（ｍ，６Ｈ）
【０１５７】
参考製造例９０
５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル１．０ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解し、ここに室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０９ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温で１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウム  トリフルオロメタンスルホナート０．７ｇを加え１０時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２，５，５，６，６，７，７，７−オクタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（９０）と記す。） ０．９０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（９０）
2010120858.tif 000108
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．００（ｓ，３Ｈ）、３．２６−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．１２−２．８０（ｍ，６Ｈ）
【０１５８】
参考製造例９１
２，５，５，６，６，７，７，７−オクタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル０．７ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．７ｍｌを加え、同温で１０時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２，５，５，６，６，７，７，７−オクタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（９１）と記す。） １．１０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（９１）
2010120858.tif 000109
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５８（ｂｓ，１Ｈ）、５．９２（ｂｓ，１Ｈ）、３．２６−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．１９−２．８３（ｍ，６Ｈ）
【０１５９】
参考製造例９２
１−ヨード−３，３，３−トリフルオロプロパン１．６ｇ及び（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）酢酸メチル２．０ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．３ｇを加え、同温で１９時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）−５，５，５−トリフルオロペンタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（９２）と記す。）１．２０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（９２）
2010120858.tif 000110
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９０（ｓ，３Ｈ）、３．８８−３．９６（ｍ，１Ｈ）、３．３８−３．５５（ｍ，２Ｈ）、２．５４−２．７３（ｍ，２Ｈ）、２．２３−２．５０（ｍ，４Ｈ）
【０１６０】
参考製造例９３
２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）−５，５，５−トリフルオロペンタン酸メチル１．０ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．４ｇを加え１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）−５，５，５−トリフルオロペンタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（９３）と記す。） ０．７５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（９３）
2010120858.tif 000111
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９７（ｓ，３Ｈ）、３．６２−３．９１（ｍ，２Ｈ）、２．３７−２．８８（ｍ，６Ｈ）
【０１６１】
参考製造例９４
２−クロロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）−５，５，５−トリフルオロペンタン酸メチル０．５ｇをメタノール５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．５ｍｌを加え、同温で１８時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）−５，５，５−トリフルオロペンタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（９４）と記す。） １．１０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（９４）
2010120858.tif 000112
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８７（ｂｓ，１Ｈ）、６．０１（ｂｓ，１Ｈ）、３．３５−３．８０（ｍ，２Ｈ）、２．１９−２．９２（ｍ，６Ｈ）
【０１６２】
参考製造例９５
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン２．３ｇ及び（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）酢酸メチル２．０ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．３ｇを加え、同温で２６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（９５）と記す。）１．４０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（９５）
2010120858.tif 000113
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９３−３．９７（ｍ，１Ｈ）、３．９１（ｓ，３Ｈ）、３．４１−３．５５（ｍ，２Ｈ）、２．２１−２．７３（ｍ，６Ｈ）
【０１６３】
参考製造例９６
５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘプタン酸メチル１．３ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．４ｇを加え１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（９６）と記す。） ０．９１ｇを得た。
本有機硫黄化合物（９６）
2010120858.tif 000114
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９８（ｓ，３Ｈ）、３．６２−３．９２（ｍ，２Ｈ）、２．１９−２．９４（ｍ，６Ｈ）
【０１６４】
参考製造例９７
２−クロロ−５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘプタン酸メチル０．８ｇをメタノール５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．７ｍｌを加え、同温で１８時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５，５，６，６，７，７，７−ヘプタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘプタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（９７）と記す。） ０．６０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（９７）
2010120858.tif 000115
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８８（ｂｓ，１Ｈ）、５．９５（ｂｓ，１Ｈ）、３．３９−３．７８（ｍ，２Ｈ）、２．１４−２．９６（ｍ，６Ｈ）
【０１６５】
参考製造例９８
１−ヨード−５，５，５−トリフルオロペンタン２．２ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．０ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．３ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、７，７，７−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（９８）と記す。）１．６９ｇを得た。
本有機硫黄化合物（９８）
2010120858.tif 000116
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８７（ｓ，３Ｈ）、３．８０−３．８８（ｍ，１Ｈ）、３．２６−３．５０（ｍ，２Ｈ）、２．５９−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．０３−２．１８（ｍ，４Ｈ）、１．４４−１．７２（ｍ，４Ｈ）
【０１６６】
参考製造例９９
７，７，７−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル１．０ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．４ｇを加え１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−７，７，７−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（９９）と記す。） ０．８０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（９９）
2010120858.tif 000117
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９４（ｓ，３Ｈ）、３．５０−３．８１（ｍ，２Ｈ）、２．５５−２．８０（ｍ，３Ｈ）、２．０５−２．３２（ｍ，３Ｈ）、１．５０−１．８０（ｍ，４Ｈ）
【０１６７】
参考製造例１００
２−クロロ−７，７，７−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル０．６ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．７ｍｌを加え、同温で３日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−７，７，７−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（１００）と記す。） ０．４６ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１００）
2010120858.tif 000118
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８８（ｂｓ，１Ｈ）、５．９８（ｂｓ，１Ｈ）、３．３４−３．７８（ｍ，２Ｈ）、２．５８−２．８１（ｍ，３Ｈ）、２．０１−２．２８（ｍ，３Ｈ）、１．４０−１．８２（ｍ，４Ｈ）
【０１６８】
参考製造例１０１
ｐ−トルエンスルホン酸４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル１．４ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル１．０ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２ｇを加えた後９０℃まで昇温した。同温で６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，７，７，７−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（１０１）と記す。）０．７０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１０１）
2010120858.tif 000119
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，３Ｈ）、３．８０−３．８８（ｍ，１Ｈ）、３．２６−３．５４（ｍ，２Ｈ）、２．５９−２．８０（ｍ，３Ｈ）、２．００−２．２６（ｍ，３Ｈ）、１．６５−１．７８（ｍ，２Ｈ）
【０１６９】
参考製造例１０２
６，６，７，７，７−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル０．５ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０５ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．２ｇを加え１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６，７，７，７−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（１０２）と記す。） ０．３８ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１０２）
2010120858.tif 000120
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９６（ｓ，３Ｈ）、３．５０−３．８５（ｍ，２Ｈ）、２．６１−２．７８（ｍ，３Ｈ）、１．７５−２．４０（ｍ，５Ｈ）
【０１７０】
参考製造例１０３
２−クロロ−６，６，７，７，７−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル０．３ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．３ｍｌを加え、同温で２０時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６，７，７，７−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（１０３）と記す。） ０．２３ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１０３）
2010120858.tif 000121
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．９５（ｂｓ，１Ｈ）、６．３０（ｂｓ，１Ｈ）、３．３５−３．７８（ｍ，２Ｈ）、２．６１−２．８０（ｍ，３Ｈ）、１．６２−２．３２（ｍ，５Ｈ）
【０１７１】
参考製造例１０４
１，２−ジクロロ−１，１，２−トリフルオロ−４−ヨードブタン５．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル３．８ｇをジメチルスルホキシド１００ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．７ｇを加え、同温で３日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，６−ジクロロ−５，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（１０４）と記す。）１．５０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１０４）
2010120858.tif 000122
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９０（ｓ，３Ｈ）、３．８８−３．９８（ｍ，１Ｈ）、３．３８−３．５４（ｍ，２Ｈ）、２．２３−２．７８（ｍ，６Ｈ）
【０１７２】
参考製造例１０５
本有機硫黄化合物（１０４）１．０ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．３ｇを加え１６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２，５，６−トリクロロ−５，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（１０５）と記す。） ０．８５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１０５）
2010120858.tif 000123
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９７（ｓ，３Ｈ）、３．５９−３．８８（ｍ，２Ｈ）、２．３８−３．０８（ｍ，６Ｈ）
【０１７３】
参考製造例１０６
本有機硫黄化合物（１０５）０．６ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．６ｍｌを加え、同温で１６時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２，５，６−トリクロロ−５，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（１０６）と記す。） ０．４０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１０６）
2010120858.tif 000124
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８６（ｂｓ，１Ｈ）、５．９０（ｂｓ，１Ｈ）、３．３４−３．７８（ｍ，２Ｈ）、２．４０−３．０９（ｍ，６Ｈ）
【０１７４】
参考製造例１０７
１，４−ジブロモ−１，１，２，２−テトラフルオロブタン１．２ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル１．０ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２ｇを加えた。同温で３日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６−ブロモ−５，５，６，６−テトラフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（１０７）と記す。）０．５０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１０７）
2010120858.tif 000125
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９２（ｓ，３Ｈ）、３．８８−３．９５（ｍ，１Ｈ）、３．３８−３．５２（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．２４−２．５５（ｍ，４Ｈ）
【０１７５】
参考製造例１０８
本有機硫黄化合物（１０７）０．４ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０４ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温で無水塩化第二銅０．４ｇを加え４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６−ブロモ−２−クロロ−５，５，６，６−テトラフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（１０８）と記す。） ０．４０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１０８）
2010120858.tif 000126
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９７（ｓ，３Ｈ）、３．５０−３．９４（ｍ，２Ｈ）、２．３０−２．９２（ｍ，６Ｈ）
【０１７６】
参考製造例１０９
本有機硫黄化合物（１０８）０．３ｇをメタノール２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．２ｍｌを加え、同温で１４時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６−ブロモ−２−クロロ−５，５，６，６−テトラフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（１０９）と記す。） ０．１９ｇを得た。
本有機硫黄化合物（１０９）
2010120858.tif 000127
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８７（ｂｓ，１Ｈ）、５．９８（ｂｓ，１Ｈ）、３．３８−３．７５（ｍ，２Ｈ）、２．１８−２．９５（ｍ，６Ｈ）
【０１７７】
参考製造例１１０
ｐ−トルエンスルホン酸４，４，４−トリフルオロ−３−メチルブチル２．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル１．６ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．３ｇを加えた。反応混合物を６０℃まで昇温し、同温で２０時間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−５−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２０１）と記す。）０．８３ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２０１）
2010120858.tif 000128
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８８（ｓ，３Ｈ）、３．７５−３．８５（ｍ，１Ｈ）、３．２８−３．４９（ｍ，２Ｈ）、１．３３−２．７８（ｍ，７Ｈ）、１．１５（ｄ，３Ｈ）
【０１７８】
参考製造例１１１
本有機硫黄化合物（２０１）０．７ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．３ｇを加え１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６，６−トリフルオロ−５−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２０２）と記す。） ０．７０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２０２）
2010120858.tif 000129
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９６（ｓ，３Ｈ）、３．５０−３．８６（ｍ，２Ｈ）、１．４２−２．８１（ｍ，７Ｈ）、１．１８（ｄｄ，３Ｈ）
【０１７９】
参考製造例１１２
本有機硫黄化合物（２０２）０．６ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．６ｍｌを加え、同温で３日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６，６−トリフルオロ−５−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（２０３）と記す。） ０．４５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２０３）
2010120858.tif 000130
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８８（ｂｓ，１Ｈ）、５．９９（ｂｓ，１Ｈ）、３．３３−３．６８（ｍ，２Ｈ）、１．３５−２．８１（ｍ，７Ｈ）、１．１７（ｄ，３Ｈ）
【０１８０】
参考製造例１１３
ｐ−トルエンスルホン酸３−（トリフルオロメチル）ペンチル２．７ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．０ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム１．２ｇを加えた。反応混合物を６０℃まで昇温し、同温で４日間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２０４）と記す。）１．２０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２０４）
2010120858.tif 000131
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，３Ｈ）、３．７８−３．８４（ｍ，１Ｈ）、３．２８−３．５０（ｍ，２Ｈ）、１．４３−２．７８（ｍ，９Ｈ）、１．００（ｄｔ，３Ｈ）
【０１８１】
参考製造例１１４
本有機硫黄化合物（２０４）１．１ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．４ｇを加え１時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２０５）と記す。） ０．４０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２０５）
2010120858.tif 000132
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９６（ｓ，３Ｈ）、３．５０−３．８５（ｍ，２Ｈ）、１．４３−２．８０（ｍ，９Ｈ）、１．０１（ｔ，３Ｈ）
【０１８２】
参考製造例１１５
本有機硫黄化合物（２０５）０．９ｇをメタノール２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．９ｍｌを加え、同温で１６時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（２０６）と記す。） ０．６５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２０６）
2010120858.tif 000133
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８８（ｂｓ，１Ｈ）、６．０３（ｂｓ，１Ｈ）、３．３１−３．７８（ｍ，２Ｈ）、１．４２−２．８０（ｍ，９Ｈ）、１．０１（ｔ，３Ｈ）
【０１８３】
参考製造例１１６
ｐ−トルエンスルホン酸４，４−ジメチル−３−（トリフルオロメチル）ペンチル２．９ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．０ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム１．２ｇを加えた。反応混合物を９０℃まで昇温し、同温で６時間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６−ジメチル−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２０７）と記す。）２．００ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２０７）
2010120858.tif 000134
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，３Ｈ）、３．７８−３．８９（ｍ，１Ｈ）、３．２４−３．５０（ｍ，２Ｈ）、１．４９−２．７８（ｍ，７Ｈ）、１．０３（ｓ，９Ｈ）
【０１８４】
参考製造例１１７
本有機硫黄化合物（２０７）１．９ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．６ｇを加え１時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６−ジメチル−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２０８）と記す。） ０．４０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２０８）
2010120858.tif 000135
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９５（ｓ，３Ｈ）、３．４９−３．８３（ｍ，２Ｈ）、１．６０−２．９０（ｍ，７Ｈ）、１．０５（ｓ，９Ｈ）
【０１８５】
参考製造例１１８
本有機硫黄化合物（２０８）１．０ｇをメタノール５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）１．０ｍｌを加え、同温で１８時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６−ジメチル−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（２０９）と記す。） ０．５３ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２０９）
2010120858.tif 000136
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８８（ｂｓ，１Ｈ）、５．８６（ｂｓ，１Ｈ）、３．３３−３．７８（ｍ，２Ｈ）、１．５０−２．８９（ｍ，７Ｈ）、１．０５（ｓ，９Ｈ）
【０１８６】
参考製造例１１９
ｐ−トルエンスルホン酸４，４，４−トリフルオロ−３−メチルブチル１．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．７ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．５ｇを加えた後、同温で１６時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−５−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（２１０）と記す。）０．５０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２１０）
2010120858.tif 000137
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８８−３．９５（ｍ，１Ｈ）、３．３５−３．６０（ｍ，２Ｈ）、１．５０−２．９６（ｍ，７Ｈ）、１．２０（ｄ，３Ｈ）
【０１８７】
参考製造例１２０
本有機硫黄化合物（２０４）１．０ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温で１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート０．８ｇを加え１時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２―フロオロ―５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２１１）と記す。） ０．７７ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２１１）
2010120858.tif 000138
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９９（ｓ，３Ｈ）、３．２４−３．５２（ｍ，２Ｈ）、２．５８−２．８０（ｍ，２Ｈ）、１．４２−２．１４（ｍ，７Ｈ）、１．００（ｔ，３Ｈ）
【０１８８】
参考製造例１２１
本有機硫黄化合物（２１１）０．６ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．６ｍｌを加え、同温で３日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２―フロオロ―５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（２１２）と記す。） ０．３２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２１２）
2010120858.tif 000139
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５８（ｂｓ，１Ｈ）、６．１６（ｂｓ，１Ｈ）、３．２６−３．５３（ｍ，２Ｈ）、１．４３−２．８０（ｍ，９Ｈ）、１．００（ｄ，３Ｈ）
【０１８９】
参考製造例１２２
本有機硫黄化合物（２０４）１．１ｇ及びヨードメタン０．４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解し、ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で１時間攪拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をメタノール２０ｍｌに溶解し、室温で水酸化カリウム水溶液（水酸化カリウム０．５ｇ及び水５ｍｌの混合溶液の全量）を加え、同温で６時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をジクロロメタン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２滴、続いて塩化オキサリル０．２ｍｌを順次滴下し、同温で２時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でアンモニア（３０％（ｗ／w）水溶液）０．３ｇを滴下した。同温で１０時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（２１３）と記す。） ０．３０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２１３）
2010120858.tif 000140
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５７（ｂｓ，１Ｈ）、５．６９（ｂｓ，１Ｈ）、３．１３−３．４２（ｍ，２Ｈ）、２．６０−２．７７（ｍ，２Ｈ）、１．４０−２．３６（ｍ，７Ｈ）、１．６７（ｓ，３Ｈ）、１．００（ｓ，３Ｈ）
【０１９０】
参考製造例１２３
メタンスルホン酸３−（トリフルオロメチル）ペンチル３．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル２．６ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム１．８ｇを加え、６０℃まで昇温した後、同温で３日間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（２１４）と記す。） ３．００ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２１４）
2010120858.tif 000141
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９１（ｄｄ，１Ｈ）、３．３７−３．６０（ｍ，２Ｈ）、１．４５−２．９８（ｍ，９Ｈ）、１．０３（ｔ，３Ｈ）
【０１９１】
参考製造例１２４
本有機硫黄化合物（２１４）０．９ｇをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。続いて同温で１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート０．８ｇを加え２時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−フルオロ−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（２１５）と記す。） ０．５０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２１５）
2010120858.tif 000142
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．５０−３．６５（ｍ，２Ｈ）、１．４６−２．９０（ｍ，９Ｈ）、１．０４（ｔ，３Ｈ）
【０１９２】
参考製造例１２５
本有機硫黄化合物（２１４）０．９ｇをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。続いて同温でＮ−クロロコハク酸イミド０．３ｇを加え２時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（２１６）と記す。） ０．５２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２１６）
2010120858.tif 000143
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．６３−３．８２（ｍ，２Ｈ）、１．４５−２．９０（ｍ，９Ｈ）、１．０４（ｔ，３Ｈ）
【０１９３】
参考製造例１２６
本有機硫黄化合物（２１４）０．９ｇ及びヨードメタン０．４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（２１７）と記す。） ０．６４ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２１７）
2010120858.tif 000144
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．３５−３．５３（ｍ，２Ｈ）、１．４２−２．９８（ｍ，９Ｈ）、１．８０（ｓ，３Ｈ）、１．０３（ｔ，３Ｈ）
【０１９４】
参考製造例１２７
メタンスルホン酸４−メチル−３−（トリフルオロメチル）ぺンチル５．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル４．７ｇをジメチルスルホキシド１００ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム２．８ｇを加えた。反応混合物を６０℃まで昇温し、同温で３日間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６−メチル−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２１８）と記す。）４．１０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２１８）
2010120858.tif 000145
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，３Ｈ）、３．７８−３．８５（ｍ，１Ｈ）、３．２５−３．５０（ｍ，２Ｈ）、１．４８−２．９８（ｍ，８Ｈ）、０．８９−１．０２（ｍ，６Ｈ）
【０１９５】
参考製造例１２８
本有機硫黄化合物（２１８）４．０ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．４ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド１．４ｇを加え１時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６−メチル−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２１９）と記す。） ２．８３ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２１９）
2010120858.tif 000146
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９５（ｓ，３Ｈ）、３．４９−３．８４（ｍ，２Ｈ）、１．５８−２．８４（ｍ，８Ｈ）、０．９３−１．０６（ｍ，６Ｈ）
【０１９６】
参考製造例１２９
本有機硫黄化合物（２１９）１．０ｇをメタノール５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）１．０ｍｌを加え、同温で１６時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６−メチル−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（２２０）と記す。） ０．７５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２２０）
2010120858.tif 000147
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８７（ｂｓ，１Ｈ）、５．９４（ｂｓ，１Ｈ）、３．３５−３．７６（ｍ，２Ｈ）、１．４８−２．８２（ｍ，８Ｈ）、０．９４−１．０５（ｍ，６Ｈ）
【０１９７】
参考製造例１３０
メタンスルホン酸３−（トリフルオロメチル）−ヘキシル３．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．８ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム１．７ｇを加えた。反応混合物を６０℃まで昇温し、同温で２日間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）オクタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２２１）と記す。）１．９０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２２１）
2010120858.tif 000148
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，３Ｈ）、３．７８−３．８５（ｍ，１Ｈ）、３．２５−３．５０（ｍ，２Ｈ）、１．３０−２．７８（ｍ，１１Ｈ）、０．９４（ｔ，３Ｈ）
【０１９８】
参考製造例１３１
本有機硫黄化合物（２２１）１．７ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．６ｇを加え２時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）オクタン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２２２）と記す。） １．２０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２２２）
2010120858.tif 000149
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９５（ｓ，３Ｈ）、３．５０−３．８０（ｍ，２Ｈ）、１．３０−２．８０（ｍ，１１Ｈ）、０．９５（ｔ，３Ｈ）
【０１９９】
参考製造例１３２
本有機硫黄化合物（２２２）１．０ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）１．０ｍｌを加え、同温で４日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）オクタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（２２３）と記す。） ０．６０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２２３）
2010120858.tif 000150
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８７（ｂｓ，１Ｈ）、５．９５（ｂｓ，１Ｈ）、３．３４−３．７８（ｍ，２Ｈ）、１．３２−２．８０（ｍ，１１Ｈ）、０．９５（ｔ，３Ｈ）
【０２００】
参考製造例１３３
ｐ−トルエンスルホン酸４，４，４−トリフルオロ−３−メトキシ−ブチル１．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル０．８ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．４ｇを加え、室温で４日間撹拌した。さらに６０℃まで昇温し、同温で２０時間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−５−メトキシ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２２４）と記す。）０．６２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２２４）
2010120858.tif 000151
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，１．５Ｈ）、３．８８（ｓ，１．５Ｈ）、３．８４−３．９５（ｍ，１Ｈ）、３．３０−３．６３（ｍ，６Ｈ）、１．６３−２．８２（ｍ，６Ｈ）
【０２０１】
参考製造例１３４
本有機硫黄化合物（２２４）０．８ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．３ｇを加え１時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６，６−トリフルオロ−５−メトキシ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２２５）と記す。） ０．５０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２２５）
2010120858.tif 000152
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９５（ｓ，３Ｈ）、３．４９−３．８９（ｍ，３Ｈ）、３．５６（ｓ，３Ｈ）、１．７８−２．９１（ｍ，６Ｈ）
【０２０２】
参考製造例１３５
本有機硫黄化合物（２２５）０．４ｇをメタノール２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．４ｍｌを加え、同温で２日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６，６−トリフルオロ−５−メトキシ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（２２６）と記す。） ０．２８ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２２６）
2010120858.tif 000153
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８８（ｂｓ，１Ｈ）、５．９８（ｂｓ，１Ｈ）、３．３７−３．８０（ｍ，３Ｈ）、３．５８（ｓ，３Ｈ）、１．６６−２．８６（ｍ，６Ｈ）
【０２０３】
参考製造例１３６
メタンスルホン酸４，４，４−トリフルオロ−３−メチルチオ−ブチル５．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル４．６ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．８ｇを加えた。反応混合物を６０℃まで昇温し、同温で５日間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−５−メチルチオ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２２７）と記す。）２．００ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２２７）
2010120858.tif 000154
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，３Ｈ）、３．８１−３．９３（ｍ，１Ｈ）、３．３０−３．５２（ｍ，２Ｈ）、２．１３−３．００（ｍ，５Ｈ）、２．２３（ｓ，１．５Ｈ）、２．２２（ｓ，１．５Ｈ）、１．５８−２．０８（ｍ，２Ｈ）
【０２０４】
参考製造例１３７
本有機硫黄化合物（２２７）１．０ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．３ｇを加え２時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６，６−トリフルオロ−５−メチルチオ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（２２８）と記す。） ０．８０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２２８）
2010120858.tif 000155
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９７（ｓ，１．５Ｈ）、３．９６（ｓ，１．５Ｈ）、３．５０−３．８５（ｍ，２Ｈ）、１．７０−３．１０（ｍ，７Ｈ）、２．２３（ｓ，１．５Ｈ）、２．２２（ｓ，１．５Ｈ）
【０２０５】
参考製造例１３８
本有機硫黄化合物（２２８）０．７ｇをメタノール２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．７ｍｌを加え、同温で１６時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６，６−トリフルオロ−５−メチルチオ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンアミド（以下、本有機硫黄化合物（２２９）と記す。） ０．４２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２２９）
2010120858.tif 000156
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８７（ｂｓ，１Ｈ）、５．８７（ｂｓ，１Ｈ）、３．３８−３．７８（ｍ，２Ｈ）、２．２２（ｓ，３Ｈ）、１．５０−３．０８（ｍ，７Ｈ）
【０２０６】
参考製造例１３９
メタンスルホン酸４，４，４−トリフルオロ−３−メチルチオ−ブチル１．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．８ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．５ｇを加え、６０℃まで昇温した後、同温で２日間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−５−メチルチオ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（２３０）と記す。） ０．４９ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２３０）
2010120858.tif 000157
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９９−４．１３（ｍ，１Ｈ）、３．４０−３．６４（ｍ，２Ｈ）、１．６６−３．６４（ｍ，１０Ｈ）
【０２０７】
参考製造例１４０
メタンスルホン酸４，４，５，５，５−ペンタフルオロ−３−メチル−ペンチル２．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル１．７ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム１．０ｇを加え、６０℃まで昇温し、同温で７日間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，７，７，７−ペンタフルオロ−５−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタン酸メチル０．５ｇを得た。これをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．２ｇを加え２時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をメタノール２０ｍｌに溶解させ、ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．５ｍｌを加え、同温で３０時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６，７，７，７−ペンタフルオロ−５−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘプタンアミド（以下、本有機硫黄化合物（２３１）と記す。） ０．２２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（２３１）
2010120858.tif 000158
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．９７（ｂｓ，１Ｈ）、６．５１（ｂｓ，１Ｈ）、３．３５−３．８０（ｍ，２Ｈ）、１．３５−２．８３（ｍ，７Ｈ）、１．１９（ｄ，３Ｈ）
【０２０８】
参考製造例１４１
６−クロロ−１−ヘキシン１．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．０ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．３ｇを加え、同温で１２時間、６０℃で２時間、９０℃で１０時間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３０１）と記す。）１．５０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３０１）
2010120858.tif 000159
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８７（ｓ，３Ｈ）、３．８２−３．８８（ｍ，１Ｈ）、３．２５−３．５０（ｍ，２Ｈ）、２．６０−２．７６（ｍ，２Ｈ）、２．０３−２．２８（ｍ，４Ｈ）、１．９６（ｔ，１Ｈ）、１．４５−１．６５（ｍ，４Ｈ）
【０２０９】
参考製造例１４２
本有機硫黄化合物（３０１）０．６ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で１０分間撹拌した。該混合物中に室温で１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウム  トリフルオロメタンスルホナート０．５ｇを加え１６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−フルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３０２）と記す。） ０．３２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３０２）
2010120858.tif 000160
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９６（ｓ，３Ｈ）、３．２５−３．４９（ｍ，２Ｈ）、２．６０−２．８０（ｍ，２Ｈ）、２．１９−２．５４（ｍ，４Ｈ）、１．９７（ｔ，１Ｈ）、１．４５−１．７６（ｍ，４Ｈ）
【０２１０】
参考製造例１４３
本有機硫黄化合物（３０２）０．２ｇをメタノール２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．３ｍｌを加え、同温で１０時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−フルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３０３）と記す。） ０．１２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３０３）
2010120858.tif 000161
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５４（ｂｓ，１Ｈ）、６．００（ｂｓ，１Ｈ）、３．２７−３．５５（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．８０（ｍ，２Ｈ）、２．１９−２．５４（ｍ，４Ｈ）、１．９７（ｔ，１Ｈ）、１．５０−１．７６（ｍ，４Ｈ）
【０２１１】
参考製造例１４４
本有機硫黄化合物（３０１）１．０ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で１０分間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．４ｇを加え６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３０４）と記す。）０．８９ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３０４）
2010120858.tif 000162
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９４（ｓ，３Ｈ）、３．４７−３．８０（ｍ，２Ｈ）、２．５５−２．８０（ｍ，３Ｈ）、２．１９−２．３２（ｍ，３Ｈ）１．９７（ｔ，１Ｈ）、１．５５−１．８４（ｍ，４Ｈ）
【０２１２】
参考製造例１４５
本有機硫黄化合物（３０４）０．８ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）１．０ｍｌを加えた後、６０℃に昇温し２０時間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷した後減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３０５）と記す。） ０．５１ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３０５）
2010120858.tif 000163
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．９２（ｂｓ，１Ｈ）、６．２２（ｂｓ，１Ｈ）、３．３７−３．８０（ｍ，２Ｈ）、２．５５−２．８１（ｍ，３Ｈ）、２．１３−２．３２（ｍ，３Ｈ）１．９８（ｔ，１Ｈ）、１．４５−１．８８（ｍ，４Ｈ）
【０２１３】
参考製造例１４６
本有機硫黄化合物（３０１）１．０ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で１０分間撹拌した。該混合物中に室温でヨウ化メチル０．５ｇを加え１日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３０６）と記す。）０．９５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３０６）
2010120858.tif 000164
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８５（ｓ，３Ｈ）、３．２６−３．６１（ｍ，２Ｈ）、２．６０−２．７８（ｍ，２Ｈ）、１．９６（ｔ，１Ｈ）、１．８８−２．２９（ｍ，４Ｈ）、１．５６（ｓ，３Ｈ）、１．２５−１．６９（ｍ，４Ｈ）
【０２１４】
参考製造例１４７
本有機硫黄化合物（３０６）０．９ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）１．２ｍｌを加えた後、６０℃に昇温し２０時間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷した後減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３０７）と記す。） ０．６９ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３０７）
2010120858.tif 000165
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５４（ｂｓ，１Ｈ）、５．６９（ｂｓ，１Ｈ）、３．１５−３．４５（ｍ，２Ｈ）、２．６１−２．７４（ｍ，２Ｈ）、１．９８（ｔ，１Ｈ）、１．８６−２．２９（ｍ，４Ｈ）、１．５８（ｓ，３Ｈ）、１．３５−１．６８（ｍ，４Ｈ）
【０２１５】
参考製造例１４８
ｐ−トルエンスルホン酸３−ブチニル２．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．１ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．４ｇを加え、同温で４日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−５−ヘキシン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３０８）と記す。）０．９０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３０８）
2010120858.tif 000166
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．０８−４．１７（ｍ，１Ｈ）、３．８８（ｓ，３Ｈ）、３．３０−３．５０（ｍ，２Ｈ）、２．２６−２．７８（ｍ，６Ｈ）、２．０７（ｔ，１Ｈ）
【０２１６】
参考製造例１４９
本有機硫黄化合物（３０８）０．８ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で１０分間撹拌した。該混合物中に室温で１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート０．９ｇを加え１２時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−フルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−５−ヘキシン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３０９）と記す。） ０．６２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３０９）
2010120858.tif 000167
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９６（ｓ，３Ｈ）、３．２５−３．５０（ｍ，２Ｈ）、２．３５−２．８１（ｍ，６Ｈ）、２．０４（ｔ，１Ｈ）
【０２１７】
参考製造例１５０
本有機硫黄化合物（３０９）０．５ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．７ｍｌを加え、同温で２０時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−フルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−５−ヘキシンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３１０）と記す。） ０．２３ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３１０）
2010120858.tif 000168
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５２（ｂｓ，１Ｈ）、５．８４（ｂｓ，１Ｈ）、３．３０−３．６０（ｍ，２Ｈ）、２．３５−２．８３（ｍ，６Ｈ）、２．０４（ｔ，１Ｈ）
【０２１８】
参考製造例１５１
ｐ−トルエンスルホン酸４−ペンチニル２．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．０ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム１．２ｇを加え、６０℃で４時間、９０℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷した後１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−６−ヘプチン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３１１）と記す。）０．９０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３１１）
2010120858.tif 000169
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８７（ｓ，３Ｈ）、３．８５−３．９３（ｍ，１Ｈ）、３．２６−３．５０（ｍ，２Ｈ）、２．６０−２．７７（ｍ，２Ｈ）、２．１５−２．３４（ｍ，４Ｈ）、２．０２（ｔ，１Ｈ）、１．５９−１．７１（ｍ，２Ｈ）
【０２１９】
参考製造例１５２
本有機硫黄化合物（３１１）１．０ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で１０分間撹拌した。該混合物中に室温で１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート１．０ｇを加え１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−フルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−６−ヘプチン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３１２）と記す。） ０．９５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３１２）
2010120858.tif 000170
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９７（ｓ，３Ｈ）、３．２５−３．５２（ｍ，２Ｈ）、２．２８−２．８２（ｍ，６Ｈ）、２．０２（ｔ，１Ｈ）、１．５１−１．８６（ｍ，２Ｈ）
【０２２０】
参考製造例１５３
本有機硫黄化合物（３１２）０．５ｇをメタノール２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．７ｍｌを加え、同温で１６時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−フルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−６−ヘプチンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３１３）と記す。） ０．２２ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３１３）
2010120858.tif 000171
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５１（ｂｓ，１Ｈ）、５．８７（ｂｓ，１Ｈ）、３．２９−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．２９−２．８０（ｍ，６Ｈ）、２．０３（ｔ，１Ｈ）、１．６１−１．８８（ｍ，２Ｈ）
【０２２１】
参考製造例１５４
ｐ−トルエンスルホン酸６−ヘプチニル３．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．６ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム１．６ｇを加えた後９０℃に昇温し、同温で６時間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷した後１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−８−ノニン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３１４）と記す。）０．８０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３１４）
2010120858.tif 000172
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８７（ｓ，３Ｈ）、３．８０−３．９０（ｍ，１Ｈ）、３．２４−３．５０（ｍ，２Ｈ）、２．５９−２．７６（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．２６（ｍ，４Ｈ）、１．９６（ｔ，１Ｈ）、１．３８−１．６０（ｍ，６Ｈ）
【０２２２】
参考製造例１５５
本有機硫黄化合物（３１４）０．６ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で１０分間撹拌した。該混合物中に室温で１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート０．５ｇを加え２時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−フルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−８−ノニン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３１５）と記す。） ０．４５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３１５）
2010120858.tif 000173
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９６（ｓ，３Ｈ）、３．２１−３．５０（ｍ，２Ｈ）、２．５８−２．７９（ｍ，２Ｈ）、２．１５−２．５３（ｍ，４Ｈ）、１．９６（ｔ，１Ｈ）、１．３０−１．７０（ｍ，６Ｈ）
【０２２３】
参考製造例１５６
本有機硫黄化合物（３１５）０．４ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．５ｍｌを加え、同温で１０時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−フルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−８−ノニンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３１６）と記す。） ０．２０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３１６）
2010120858.tif 000174
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．４９（ｂｓ，１Ｈ）、５．８５（ｂｓ，１Ｈ）、３．２５−３．５５（ｍ，２Ｈ）、２．６２−２．７９（ｍ，２Ｈ）、２．１５−２．５１（ｍ，４Ｈ）、１．９６（ｔ，１Ｈ）、１．３８−１．６５（ｍ，６Ｈ）
【０２２４】
参考製造例１５７
ｐ−トルエンスルホン酸４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル２．４ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．０ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム１．２ｇを加えた後、同温で１６時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−４−ヘキセン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３１７）と記す。）１．４０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３１７）
2010120858.tif 000175
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．２６−６．４０（ｍ，１Ｈ）、５．７６−５．８９（ｍ，１Ｈ）、３．９１−３．９８（ｍ，１Ｈ）、３．８８（ｓ，３Ｈ）、３．３５−３．５２（ｍ，２Ｈ）、２．９０−３．０４（ｍ，２Ｈ）、２．６１−２．７６（ｍ，２Ｈ）
【０２２５】
参考製造例１５８
本有機硫黄化合物（３１７）１．３ｇををテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２ｇを加え、同温で１０分間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．５ｇを加え１時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−４−ヘキセン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３１８）と記す。）１．１０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３１８）
2010120858.tif 000176
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．３５−６．４５（ｍ，１Ｈ）、５．８５−５．９６（ｍ，１Ｈ）、３．９６（ｓ，３Ｈ）、３．５５−３．８８（ｍ，２Ｈ）、３．０８−３．４８（ｍ，２Ｈ）、２．６５−２．８１（ｍ，２Ｈ）
【０２２６】
参考製造例１５９
ｐ−トルエンスルホン酸４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル１．７ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル１．２ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２ｇを加え、同温で１日間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−４−ヘキセンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３１９）と記す。）０．９５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３１９）
2010120858.tif 000177
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．３５−６．４８（ｍ，１Ｈ）、５．９２−６．０５（ｍ，１Ｈ）、４．０２（ｄｄ，１Ｈ）、３．４４−３．６２（ｍ，２Ｈ）、２．９０−３．１３（ｍ，２Ｈ）、２．７２−２．８８（ｍ，２Ｈ）
【０２２７】
参考製造例１６０
６−ブロモ−１−ヘキセン２．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．９ｇをジメチルスルホキシド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．５ｇを加えた後６０℃に昇温し、４時間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクテン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３２０）と記す。）３．１０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３２０）
2010120858.tif 000178
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８７（ｓ，３Ｈ）、３．８２−３．８８（ｍ，１Ｈ）、３．２５−３．５０（ｍ，２Ｈ）、２．６０−２．７６（ｍ，２Ｈ）、２．０３−２．２８（ｍ，４Ｈ）、１．９６（ｔ，１Ｈ）、１．４５−１．６５（ｍ，４Ｈ）
【０２２８】
参考製造例１６１
本有機硫黄化合物（３２０）２．０ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．３ｇを加え、同温で１０分間撹拌した。該混合物中に室温で１−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート１．８ｇを加え２時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−フルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクテン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３２１）と記す。） １．９０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３２１）
2010120858.tif 000179
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９６（ｓ，３Ｈ）、３．２５−３．４９（ｍ，２Ｈ）、２．６０−２．８０（ｍ，２Ｈ）、２．１９−２．５４（ｍ，４Ｈ）、１．９７（ｔ，１Ｈ）、１．４５−１．７６（ｍ，４Ｈ）
【０２２９】
参考製造例１６２
本有機硫黄化合物（３２１）１．２ｇをメタノール５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）１．５ｍｌを加え、同温で３日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−フルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクテンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３２２）と記す。） ０．７５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３２２）
2010120858.tif 000180
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．５４（ｂｓ，１Ｈ）、６．００（ｂｓ，１Ｈ）、３．２７−３．５５（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．８０（ｍ，２Ｈ）、２．１９−２．５４（ｍ，４Ｈ）、１．９７（ｔ，１Ｈ）、１．５０−１．７６（ｍ，４Ｈ）
【０２３０】
参考製造例１６３
６−クロロ−１−ヘキシン１．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル１．７ｇをジメチルスルホキシド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム１．２ｇを加え、６０℃で４時間、９０℃で２時間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３２３）と記す。）０．７０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３２３）
2010120858.tif 000181
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８７−３．９５（ｍ，１Ｈ）、３．３８−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．７０−２．８５（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．３１（ｍ，４Ｈ）、２．００（ｔ，１Ｈ）、１．６０−１．９２（ｍ，４Ｈ）
【０２３１】
参考製造例１６４
ｐ−トルエンスルホン酸６−ヘプチニル１．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．８ｇをジメチルスルホキシド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．５ｇを加え、室温で１時間、６０℃で２日間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−８−ノニンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３２４）と記す。）０．２３ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３２４）
2010120858.tif 000182
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９２（ｄｄ，１Ｈ）、３．４２−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．７０−２．８７（ｍ，２Ｈ）、１．４４−２．２９（ｍ，１０Ｈ）、１．９８（ｔ，１Ｈ）
【０２３２】
参考製造例１６５
ｐ−トルエンスルホン酸７−オクチニル１．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．７ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．５ｇを加え、室温で２時間、６０℃で２時間、９０℃で６時間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−９−デシンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３２５）と記す。）０．２８ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３２５）
2010120858.tif 000183
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９１（ｄｄ，１Ｈ）、３．３８−３．５７（ｍ，２Ｈ）、１．３５−２．８７（ｍ，１４Ｈ）、１．９７（ｔ，１Ｈ）
【０２３３】
参考製造例１６６
本有機硫黄化合物（３２３）０．５ｇをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中に室温でＮ−クロロコハク酸イミド０．２ｇを加え１時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３２６）と記す。）０．３８ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３２６）
2010120858.tif 000184
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．６０−３．８１（ｍ，２Ｈ）、２．７４−２．９２（ｍ，２Ｈ）、１．６０−２．６０（ｍ，８Ｈ）、１．９９（ｔ，１Ｈ）
【０２３４】
参考製造例１６７
メタンスルホン酸３−メチル−５−ヘキシニル１．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル１．１ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２ｇを加え、６０℃で３日間、９０℃で２時間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３２７）と記す。）０．６９ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３２７）
2010120858.tif 000185
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８５−３．９４（ｍ，１Ｈ）、３．３８−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．７０−２．８５（ｍ，２Ｈ）、１．３８−２．３５（ｍ，７Ｈ）、２．０１（ｔ，１Ｈ）、１．０６（ｄｄ，３Ｈ）
【０２３５】
参考製造例１６８
メタンスルホン酸４−メチル−５−ヘキシニル１．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル１．１ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．７ｇを加え、６０℃で２日間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３２８）と記す。）０．４５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３２８）
2010120858.tif 000186
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８７−３．９５（ｍ，１Ｈ）、３．３５−３．５６（ｍ，２Ｈ）、１．４５−２．８５（ｍ，９Ｈ）、２．０９（ｔ，１Ｈ）、１．２４（ｄｄ，３Ｈ）
【０２３６】
参考製造例１６９
メタンスルホン酸３−エチル−５−ヘキシニル０．７ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．７ｇをジメチルスルホキシド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．５ｇを加え、６０℃で２０時間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５−エチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３２９）と記す。）０．４０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３２９）
2010120858.tif 000187
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８５−３．９７（ｍ，１Ｈ）、３．３５−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．８５（ｍ，２Ｈ）、１．３０−２．４１（ｍ，９Ｈ）、２．００（ｔ，１Ｈ）、０．９３（ｄｔ，３Ｈ）
【０２３７】
参考製造例１７０
メタンスルホン酸３−エチル−５−ヘキシニル３．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル３．４ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム２．０ｇを加えた。反応混合物を６０℃まで昇温し、同温で１日間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５−エチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３３０）と記す。）１．３０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３３０）
2010120858.tif 000188
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８７（ｓ，３Ｈ）、３．７６−３．８８（ｍ，１Ｈ）、３．２３−３．５２（ｍ，２Ｈ）、２．５８−２．７８（ｍ，２Ｈ）、１．３０−２．３０（ｍ，９Ｈ）、１．９６（ｔ，１Ｈ）、０．８９（ｄｔ，３Ｈ）
【０２３８】
参考製造例１７１
本有機硫黄化合物（３３０）１．０ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解させた。ここへ氷冷下で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中にＮ−クロロコハク酸イミド０．４ｇを加え２時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５−エチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチン酸メチル（以下、本有機硫黄化合物（３３１）と記す。） ０．７５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３３１）
2010120858.tif 000189
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９３（ｓ，３Ｈ）、３．４２−３．８２（ｍ，２Ｈ）、１．３２−２．８４（ｍ，１１Ｈ）、１．９５（ｔ，１Ｈ）、０．９０（ｄｔ，３Ｈ）
【０２３９】
参考製造例１７２
本有機硫黄化合物（３３１）０．７ｇをメタノール３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温でアンモニア（７Ｍ−メタノール溶液）０．７ｍｌを加え、同温で２日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５−エチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチンアミド（以下、本有機硫黄化合物（３３２）と記す。） ０．４０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３３２）
2010120858.tif 000190
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．８６（ｂｓ，１Ｈ）、５．９５（ｂｓ，１Ｈ）、３．３３−３．８２（ｍ，２Ｈ）、１．３０−２．８０（ｍ，１１Ｈ）、１．９７（ｔ，１Ｈ）、０．９０（ｄｔ，３Ｈ）
【０２４０】
参考製造例１７３
メタンスルホン酸３，３−ジメチル−５−ヘキシニル１．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル１．０ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２ｇを加え、６０℃で２日間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５−ジメチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−７−オクチンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３３３）と記す。）０．３８ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３３３）
2010120858.tif 000191
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｄｄ，１Ｈ）、３．３９−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．６６−２．８６（ｍ，２Ｈ）、１．４８−２．２５（ｍ，４Ｈ）、２．１４（ｓ，１Ｈ）、２．１３（ｓ，１Ｈ）、２．０４（ｔ，１Ｈ）、１．０４０（ｓ，３Ｈ）、１．０３６（ｓ，３Ｈ）
【０２４１】
参考製造例１７４
ｐ−トルエンスルホン酸４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル１．５ｇ及び２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）プロピオニトリル１．２ｇをテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２ｇを加え、同温で２日間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−２−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−４−ヘキセンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３３４）と記す。）０．８０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３３４）
2010120858.tif 000192
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．３７−６．４８（ｍ，１Ｈ）、５．９０−６．１３（ｍ，１Ｈ）、３．４０−３．５７（ｍ，２Ｈ）、２．７０−３．１１（ｍ，４Ｈ）、１．７８（ｓ，３Ｈ）
【０２４２】
参考製造例１７５
（工程１）
４，４，４−トリフルオロ−３−メチル−２−ブテン酸エチル４．５ｇを５０ｍｌのテトラヒドロフランに溶解させた。氷冷下、ここへ水素化ジイソブチルアルミニウム（１．０２Ｍ  ヘキサン溶液）４８ｍｌを滴下した。同温で２時間撹拌した後、反応混合物に希硫酸を加え、ｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮することにより、４，４，４−トリフルオロ−３−メチル−２−ブテン−１−オールの粗生成物を得た。
上記粗生成物及び塩化ｐ−トルエンスルホニル４．７ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解し、室温でトリエチルアミン３ｍｌを滴下した。同温で２日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮することで、ｐ−トルエンスルホン酸４，４，４−トリフルオロ−３−メチル−２−ブテニルの粗生成物を得た。
（工程２）
ｐ−トルエンスルホン酸４，４，４−トリフルオロ−３−メチル−２−ブテニルの粗生成物１．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル０．７ｇをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で２日間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−５−メチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−４−ヘキセンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３３５）と記す。）０．１７ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３３５）
2010120858.tif 000193
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．１０−６．１８（ｍ，１Ｈ）、３．９５−４．０２（ｍ，１Ｈ）、３．４０−３．６０（ｍ，２Ｈ）、２．７０−３．０８（ｍ，４Ｈ）、１．９２（ｓ，３Ｈ）
【０２４３】
参考製造例１７６
ｐ−トルエンスルホン酸３−トリフルオロメチル−２−ペンテニル３．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．３ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．４ｇを加え、同温で１０時間撹拌した。さらに反応混合物を６０℃で６時間、９０℃で１時間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５−トリフルオロメチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−４−ヘプテン酸メチルの（Ｅ）、（Ｚ）混合物（以下、本有機硫黄化合物（３３６）と記す。）１．８６ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３３６）
2010120858.tif 000194
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）５．９６（ｔ，０．４Ｈ）、５．６５（ｔ，０．６Ｈ）、３．８０−３．９５（ｍ，１Ｈ）、３．８７（ｓ，３Ｈ）、３．３０−３．５１（ｍ，２Ｈ）、２．９２−３．１５（ｍ，２Ｈ）、２．５９−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．１５−２．３５（ｍ，２Ｈ）、１．０８（ｄｔ，３Ｈ）
【０２４４】
参考製造例１７７
本有機硫黄化合物（３３６）１．０ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解させた。ここへ氷冷下で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で０．５時間撹拌した。該混合物中にＮ−クロロコハク酸イミド０．３ｇを加え１時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−クロロ−５−トリフルオロメチル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）−４−ヘプテン酸メチルの（Ｅ）、（Ｚ）混合物（以下、本有機硫黄化合物（３３７）と記す。） ０．５５ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３３７）
2010120858.tif 000195
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．１１（ｔ，０．４Ｈ）、５．７５（ｔ，０．６Ｈ）、３．９７（ｓ，１．２Ｈ）、３．９６（ｓ，１．８Ｈ）、３．０７−３．８９（ｍ，４Ｈ）、２．６１−２．８０（ｍ，２Ｈ）、２．２０−２．３５（ｍ，２Ｈ）、１．１０（ｄｔ，３Ｈ）
【０２４５】
参考製造例１７８
メタンスルホン酸２−（２−プロピニルオキシ）エチル０．９ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）アセトニトリル１．０ｇをジメチルスルホキシド３０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．７ｇを加え、同温で６時間、６０℃で６時間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４−（２−プロピニルオキシ）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ブタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３３８）と記す。）０．２０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３３８）
2010120858.tif 000196
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．２９（ｄｄ，１Ｈ）、４．１９（ｓ，２Ｈ）、３．７１−３．９２（ｍ，２Ｈ）、３．４３−３．５８（ｍ，２Ｈ）、２．７０−２．８５（ｍ，２Ｈ）、２．２１−２．６４（ｍ，２Ｈ）、２．５１（ｔ，１Ｈ）
【０２４６】
参考製造例１７９
本有機硫黄化合物（３３８）０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で１０分間撹拌した。該混合物中に室温でヨウ化メチル０．３ｇを加え２時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−４−（２−プロピニルオキシ）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ブタンニトリル（以下、本有機硫黄化合物（３３９）と記す。）０．４０ｇを得た。
本有機硫黄化合物（３３９）
2010120858.tif 000197
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．２０（ｓ，２Ｈ）、３．８０−３．９３（ｍ，２Ｈ）、３．４３−３．５６（ｍ，２Ｈ）、２．７０−２．８８（ｍ，２Ｈ）、２．１５−２．５６（ｍ，２Ｈ）、２．５０（ｔ，１Ｈ）、１．８７（ｓ，３Ｈ）
【０２４７】
次に、本発明の有害生物防除組成物の製剤例を示す。なお、部は重量部を示す。
【０２４８】
製剤例１
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２部、並びにピリプロール７部を、キシレン３７．５部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
【０２４９】
製剤例２
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部、並びにピリプロール４部を、キシレン３７．５部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
【０２５０】
製剤例３
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２０部、並びにピリプロール２０部の混合物に、ソルポール５０６０（東邦化学登録商標名）５部を加え、よく混合して、カープレックス＃８０（塩野義製薬登録商標名、合成含水酸化ケイ素微粉末）３２部、３００メッシュ珪藻土２３部を加え、ジュースミキサーで混合して、水和剤を得る。
【０２５１】
製剤例４
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物１部、ピリプロール２部、合成含水酸化珪素微粉末５部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム５部、ベントナイト３０部およびクレー５７部を加え、よく撹拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに撹拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。
【０２５２】
製剤例５
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物１．５部、ピリプロール３部、合成含水酸化珪素微粉末１部、凝集剤としてドリレスＢ(三共社製)１部、クレー７部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで撹拌混合する。得られた混合物にカットクレー８６．５部を加えて、充分撹拌混合し、粉剤を得る。
【０２５３】
製剤例６
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部；ピリプロール５部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；並びに水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
【０２５４】
製剤例７
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２部、並びにピリプロール０．３部の混合物をジクロロメタン１０部に溶解し、これをアイソパーＭ（イソパラフィン：エクソン化学登録商標名）８９．５部に混合して油剤を得る。
【０２５５】
製剤例８
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．０５部、ピリプロール０．０５部、並びにネオチオゾール（中央化成株式会社）４９．９部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、２５部のジメチルエーテル及び２５部のＬＰＧを充填し、アクチュエータを装着することにより油性エアゾールを得る。
【０２５６】
製剤例９
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２部、ピリプロール０．４部、ＢＨＴ０．０１部、キシレン５部、脱臭灯油３．３９部、並びに乳化剤｛アトモス３００（アトモスケミカル社登録商標名）｝１部を混合溶解したものと、蒸留水５０部とをエアゾール容器に充填し、バルブ部分を取り付け、該バルブを通じて噴射剤（ＬＰＧ）４０部を加圧充填して、水性エアゾールを得る。
【０２５７】
製剤例１０
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２部、並びにピリプロール３部をジエチレングリコールモノエチルエーテル８０部に溶解し、これに炭酸プロピレン１５部を混合して、スポットオン液剤を得る。
【０２５８】
製剤例１１
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部、並びにピリプロール５部をジエチレングリコールモノエチルエーテル７０部に溶解し、これに２−オクチルドデカノール２０部を混合して、ポアオン液剤を得る。
【０２５９】
製剤例１２
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２５部、並びにピリプロール０．２５部の混合物に、ニッコールTEALS-４２（日光ケミカルズ・ラウリル硫酸トリエタノールアミンの４２％水溶液）６０部、プロピレングリコール２０部を添加し、均一溶液になるまで充分撹拌混合した後、水１９．５部を加えてさらに充分撹拌混合し、均一溶液のシャンプー剤を得る。
【０２６０】
製剤例１３
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．０５ｇ、並びにピリプロール０．０５ｇの混合物を、プロピレングリコール２mlに溶解させ、４．０×４．０cm、厚さ１．２cmの多孔セラミック板に含浸させて、加熱式くん煙剤を得る。
【０２６１】
製剤例１４
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２．５部と、ピリプロール２．５部と、エチレンーメタクリル酸メチル共重合体（共重合体中のメタクリル酸メチルの割合：１０重量%、アクリフトWD301、住友化学製）９５部とを密閉式加圧ニーダー（森山製作所製）で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ１５cm、直径３mmの棒状成型体を得る。
【０２６２】
製剤例１５
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２．５部とピリプロール２．５部と軟質塩化ビニル樹脂９５部とを密閉式加圧ニーダー（森山製作所製）で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ１５cm、直径３mmの棒状成型体を得る。
【０２６３】
製剤例１６
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール７部を、キシレン３７．５部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
【０２６４】
製剤例１７
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール４部を、キシレン３７．５部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
【０２６５】
製剤例１８
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２０部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール２０部の混合物に、ソルポール５０６０（東邦化学登録商標名）５部を加え、よく混合して、カープレックス＃８０（塩野義製薬登録商標名、合成含水酸化ケイ素微粉末）３２部、３００メッシュ珪藻土２３部を加え、ジュースミキサーで混合して、水和剤を得る。
【０２６６】
製剤例１９
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物１部、１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール２部、合成含水酸化珪素微粉末５部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム５部、ベントナイト３０部およびクレー５７部を加え、よく撹拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに撹拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。
【０２６７】
製剤例２０
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物１．５部、１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール３部、合成含水酸化珪素微粉末１部、凝集剤としてドリレスＢ(三共社製)１部、クレー７部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで撹拌混合する。得られた混合物にカットクレー８６．５部を加えて、充分撹拌混合し、粉剤を得る。
【０２６８】
製剤例２１
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部；１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール５部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；並びに水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
【０２６９】
製剤例２２
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール０．３部の混合物をジクロロメタン１０部に溶解し、これをアイソパーＭ（イソパラフィン：エクソン化学登録商標名）８９．５部に混合して油剤を得る。
【０２７０】
製剤例２３
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．０５部、１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール０．０５部、並びにネオチオゾール（中央化成株式会社）４９．９部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、２５部のジメチルエーテル及び２５部のＬＰＧを充填し、アクチュエータを装着することにより油性エアゾールを得る。
【０２７１】
製剤例２４
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２部、１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール０．４部、ＢＨＴ０．０１部、キシレン５部、脱臭灯油３．３９部、並びに乳化剤｛アトモス３００（アトモスケミカル社登録商標名）｝１部を混合溶解したものと、蒸留水５０部とをエアゾール容器に充填し、バルブ部分を取り付け、該バルブを通じて噴射剤（ＬＰＧ）４０部を加圧充填して、水性エアゾールを得る。
【０２７２】
製剤例２５
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール３部をジエチレングリコールモノエチルエーテル８０部に溶解し、これに炭酸プロピレン１５部を混合して、スポットオン液剤を得る。
【０２７３】
製剤例２６
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール５部をジエチレングリコールモノエチルエーテル７０部に溶解し、これに２−オクチルドデカノール２０部を混合して、ポアオン液剤を得る。
【０２７４】
製剤例２７
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２５部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール０．２５部の混合物に、ニッコールTEALS-４２（日光ケミカルズ・ラウリル硫酸トリエタノールアミンの４２％水溶液）６０部、プロピレングリコール２０部を添加し、均一溶液になるまで充分撹拌混合した後、水１９．５部を加えてさらに充分撹拌混合し、均一溶液のシャンプー剤を得る。
【０２７５】
製剤例２８
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．０５ｇ、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール０．０５ｇの混合物を、プロピレングリコール２mlに溶解させ、４．０×４．０cm、厚さ１．２cmの多孔セラミック板に含浸させて、加熱式くん煙剤を得る。
【０２７６】
製剤例２９
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２．５部と、１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール２．５部と、エチレンーメタクリル酸メチル共重合体（共重合体中のメタクリル酸メチルの割合：１０重量%、アクリフトWD301、住友化学製）９５部とを密閉式加圧ニーダー（森山製作所製）で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ１５cm、直径３mmの棒状成型体を得る。
【０２７７】
製剤例３０
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２．５部と１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（フルオロメチルチオ）−５−［（ピラジニルメチル）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール２．５部と軟質塩化ビニル樹脂９５部とを密閉式加圧ニーダー（森山製作所製）で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ１５cm、直径３mmの棒状成型体を得る。
【０２７８】
製剤例３１
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２部、並びにアセトプロール７部を、キシレン３７．５部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
【０２７９】
製剤例３２
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部、並びにアセトプロール４部を、キシレン３７．５部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
【０２８０】
製剤例３３
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２０部、並びにアセトプロール２０部の混合物に、ソルポール５０６０（東邦化学登録商標名）５部を加え、よく混合して、カープレックス＃８０（塩野義製薬登録商標名、合成含水酸化ケイ素微粉末）３２部、３００メッシュ珪藻土２３部を加え、ジュースミキサーで混合して、水和剤を得る。
【０２８１】
製剤例３４
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物１部、アセトプロール２部、合成含水酸化珪素微粉末５部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム５部、ベントナイト３０部およびクレー５７部を加え、よく撹拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに撹拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。
【０２８２】
製剤例３５
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物１．５部、アセトプロール３部、合成含水酸化珪素微粉末１部、凝集剤としてドリレスＢ(三共社製)１部、クレー７部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで撹拌混合する。得られた混合物にカットクレー８６．５部を加えて、充分撹拌混合し、粉剤を得る。
【０２８３】
製剤例３６
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部；アセトプロール５部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；並びに水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
【０２８４】
製剤例３７
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２部、並びにアセトプロール０．３部の混合物をジクロロメタン１０部に溶解し、これをアイソパーＭ（イソパラフィン：エクソン化学登録商標名）８９．５部に混合して油剤を得る。
【０２８５】
製剤例３８
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．０５部、アセトプロール０．０５部、並びにネオチオゾール（中央化成株式会社）４９．９部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、２５部のジメチルエーテル及び２５部のＬＰＧを充填し、アクチュエータを装着することにより油性エアゾールを得る。
【０２８６】
製剤例３９
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２部、アセトプロール０．４部、ＢＨＴ０．０１部、キシレン５部、脱臭灯油３．３９部、並びに乳化剤｛アトモス３００（アトモスケミカル社登録商標名）｝１部を混合溶解したものと、蒸留水５０部とをエアゾール容器に充填し、バルブ部分を取り付け、該バルブを通じて噴射剤（ＬＰＧ）４０部を加圧充填して、水性エアゾールを得る。
【０２８７】
製剤例４０
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２部、並びにアセトプロール３部をジエチレングリコールモノエチルエーテル８０部に溶解し、これに炭酸プロピレン１５部を混合して、スポットオン液剤を得る。
【０２８８】
製剤例４１
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部、並びにアセトプロール５部をジエチレングリコールモノエチルエーテル７０部に溶解し、これに２−オクチルドデカノール２０部を混合して、ポアオン液剤を得る。
【０２８９】
製剤例４２
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２５部、並びにアセトプロール０．２５部の混合物に、ニッコールTEALS-４２（日光ケミカルズ・ラウリル硫酸トリエタノールアミンの４２％水溶液）６０部、プロピレングリコール２０部を添加し、均一溶液になるまで充分撹拌混合した後、水１９．５部を加えてさらに充分撹拌混合し、均一溶液のシャンプー剤を得る。
【０２９０】
製剤例４３
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．０５ｇ、並びにアセトプロール０．０５ｇの混合物を、プロピレングリコール２mlに溶解させ、４．０×４．０cm、厚さ１．２cmの多孔セラミック板に含浸させて、加熱式くん煙剤を得る。
【０２９１】
製剤例４４
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２．５部と、アセトプロール２．５部と、エチレンーメタクリル酸メチル共重合体（共重合体中のメタクリル酸メチルの割合：１０重量%、アクリフトWD301、住友化学製）９５部とを密閉式加圧ニーダー（森山製作所製）で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ１５cm、直径３mmの棒状成型体を得る。
【０２９２】
製剤例４５
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２．５部とアセトプロール２．５部と軟質塩化ビニル樹脂９５部とを密閉式加圧ニーダー（森山製作所製）で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ１５cm、直径３mmの棒状成型体を得る。
【０２９３】
製剤例４６
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２部、並びにエチプロール７部を、キシレン３７．５部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
【０２９４】
製剤例４７
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部、並びにエチプロール４部を、キシレン３７．５部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
【０２９５】
製剤例４８
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２０部、並びにエチプロール２０部の混合物に、ソルポール５０６０（東邦化学登録商標名）５部を加え、よく混合して、カープレックス＃８０（塩野義製薬登録商標名、合成含水酸化ケイ素微粉末）３２部、３００メッシュ珪藻土２３部を加え、ジュースミキサーで混合して、水和剤を得る。
【０２９６】
製剤例４９
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物１部、エチプロール２部、合成含水酸化珪素微粉末５部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム５部、ベントナイト３０部およびクレー５７部を加え、よく撹拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに撹拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。
【０２９７】
製剤例５０
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物１．５部、エチプロール３部、合成含水酸化珪素微粉末１部、凝集剤としてドリレスＢ(三共社製)１部、クレー７部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで撹拌混合する。得られた混合物にカットクレー８６．５部を加えて、充分撹拌混合し、粉剤を得る。
【０２９８】
製剤例５１
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部；エチプロール５部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；並びに水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
【０２９９】
製剤例５２
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２部、並びにエチプロール０．３部の混合物をジクロロメタン１０部に溶解し、これをアイソパーＭ（イソパラフィン：エクソン化学登録商標名）８９．５部に混合して油剤を得る。
【０３００】
製剤例５３
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．０５部、エチプロール０．０５部、並びにネオチオゾール（中央化成株式会社）４９．９部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、２５部のジメチルエーテル及び２５部のＬＰＧを充填し、アクチュエータを装着することにより油性エアゾールを得る。
【０３０１】
製剤例５４
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２部、エチプロール０．４部、ＢＨＴ０．０１部、キシレン５部、脱臭灯油３．３９部、並びに乳化剤｛アトモス３００（アトモスケミカル社登録商標名）｝１部を混合溶解したものと、蒸留水５０部とをエアゾール容器に充填し、バルブ部分を取り付け、該バルブを通じて噴射剤（ＬＰＧ）４０部を加圧充填して、水性エアゾールを得る。
【０３０２】
製剤例５５
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２部、並びにエチプロール３部をジエチレングリコールモノエチルエーテル８０部に溶解し、これに炭酸プロピレン１５部を混合して、スポットオン液剤を得る。
【０３０３】
製剤例５６
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部、並びにエチプロール５部をジエチレングリコールモノエチルエーテル７０部に溶解し、これに２−オクチルドデカノール２０部を混合して、ポアオン液剤を得る。
【０３０４】
製剤例５７
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２５部、並びにエチプロール０．２５部の混合物に、ニッコールTEALS-４２（日光ケミカルズ・ラウリル硫酸トリエタノールアミンの４２％水溶液）６０部、プロピレングリコール２０部を添加し、均一溶液になるまで充分撹拌混合した後、水１９．５部を加えてさらに充分撹拌混合し、均一溶液のシャンプー剤を得る。
【０３０５】
製剤例５８
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．０５ｇ、並びにエチプロール０．０５ｇの混合物を、プロピレングリコール２mlに溶解させ、４．０×４．０cm、厚さ１．２cmの多孔セラミック板に含浸させて、加熱式くん煙剤を得る。
【０３０６】
製剤例５９
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２．５部と、エチプロール２．５部と、エチレンーメタクリル酸メチル共重合体（共重合体中のメタクリル酸メチルの割合：１０重量%、アクリフトWD301、住友化学製）９５部とを密閉式加圧ニーダー（森山製作所製）で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ１５cm、直径３mmの棒状成型体を得る。
【０３０７】
製剤例６０
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２．５部とエチプロール２．５部と軟質塩化ビニル樹脂９５部とを密閉式加圧ニーダー（森山製作所製）で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ１５cm、直径３mmの棒状成型体を得る。
【０３０８】
製剤例６１
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール７部を、キシレン３７．５部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
【０３０９】
製剤例６２
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール４部を、キシレン３７．５部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
【０３１０】
製剤例６３
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２０部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール２０部の混合物に、ソルポール５０６０（東邦化学登録商標名）５部を加え、よく混合して、カープレックス＃８０（塩野義製薬登録商標名、合成含水酸化ケイ素微粉末）３２部、３００メッシュ珪藻土２３部を加え、ジュースミキサーで混合して、水和剤を得る。
【０３１１】
製剤例６４
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物１部、１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール２部、合成含水酸化珪素微粉末５部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム５部、ベントナイト３０部およびクレー５７部を加え、よく撹拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに撹拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。
【０３１２】
製剤例６５
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物１．５部、１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール３部、合成含水酸化珪素微粉末１部、凝集剤としてドリレスＢ(三共社製)１部、クレー７部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで撹拌混合する。得られた混合物にカットクレー８６．５部を加えて、充分撹拌混合し、粉剤を得る。
【０３１３】
製剤例６６
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部；１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール５部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；並びに水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
【０３１４】
製剤例６７
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール０．３部の混合物をジクロロメタン１０部に溶解し、これをアイソパーＭ（イソパラフィン：エクソン化学登録商標名）８９．５部に混合して油剤を得る。
【０３１５】
製剤例６８
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．０５部、１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール０．０５部、並びにネオチオゾール（中央化成株式会社）４９．９部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、２５部のジメチルエーテル及び２５部のＬＰＧを充填し、アクチュエータを装着することにより油性エアゾールを得る。
【０３１６】
製剤例６９
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２部、１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール０．４部、ＢＨＴ０．０１部、キシレン５部、脱臭灯油３．３９部、並びに乳化剤｛アトモス３００（アトモスケミカル社登録商標名）｝１部を混合溶解したものと、蒸留水５０部とをエアゾール容器に充填し、バルブ部分を取り付け、該バルブを通じて噴射剤（ＬＰＧ）４０部を加圧充填して、水性エアゾールを得る。
【０３１７】
製剤例７０
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルスルフィニル）−５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール３部をジエチレングリコールモノエチルエーテル８０部に溶解し、これに炭酸プロピレン１５部を混合して、スポットオン液剤を得る。
【０３１８】
製剤例７１
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物５部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール５部をジエチレングリコールモノエチルエーテル７０部に溶解し、これに２−オクチルドデカノール２０部を混合して、ポアオン液剤を得る。
【０３１９】
製剤例７２
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．２５部、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール０．２５部の混合物に、ニッコールTEALS-４２（日光ケミカルズ・ラウリル硫酸トリエタノールアミンの４２％水溶液）６０部、プロピレングリコール２０部を添加し、均一溶液になるまで充分撹拌混合した後、水１９．５部を加えてさらに充分撹拌混合し、均一溶液のシャンプー剤を得る。
【０３２０】
製剤例７３
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物０．０５ｇ、並びに１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール０．０５ｇの混合物を、プロピレングリコール２mlに溶解させ、４．０×４．０cm、厚さ１．２cmの多孔セラミック板に含浸させて、加熱式くん煙剤を得る。
【０３２１】
製剤例７４
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２．５部と、１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール２．５部と、エチレンーメタクリル酸メチル共重合体（共重合体中のメタクリル酸メチルの割合：１０重量%、アクリフトWD301、住友化学製）９５部とを密閉式加圧ニーダー（森山製作所製）で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ１５cm、直径３mmの棒状成型体を得る。
【０３２２】
製剤例７５
本有機硫黄化合物（１）〜（１０９）、（２０１）〜（２３１）及び（３０１）〜（３３９）からなる群より選ばれる１種の有機硫黄化合物２．５部と１−［２，６−ジクロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル−３−シアノ−４−（トリフルオロメチルチオ）−５−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデン）アミノ］−１Ｈ−ピラゾール２．５部と軟質塩化ビニル樹脂９５部とを密閉式加圧ニーダー（森山製作所製）で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ１５cm、直径３mmの棒状成型体を得る。
【０３２３】
次に、本発明の有害生物防除組成物が有害生物に対して優れた防除効力を有することをを試験例として示す。
【０３２４】
試験例１
本有機硫黄化合物および本ピラゾール化合物の所定濃度のアセトン溶液を調製した。該アセトン溶液1μlをチャバネゴキブリ雌成虫（Blattella germanica）の胸部腹面側に滴下処理した後、供試虫を直径約９cm、高さ約４．５cmのプラスチックカップへ移し、餌及び水と共に２５℃で放置した。７日後に供試虫の生死を観察し死虫率を求めた。供試したチャバネゴキブリは、１つの試験に対して１０頭とし、１つのカップの移した。
結果を、下記表１に示す。
【０３２５】
【表１】
2010120858.tif 000198
【０３２６】
その結果、本発明の有害生物防除組成物は、高い防除効力を示した。
【産業上の利用可能性】
【０３２７】
本発明の有害生物防除組成物は、有害生物に対し優れた防除効力を有しており、有用である。