(57)【要約】【課題】処理装置の処理チャンバ間のクロストークを減少または排除すること。【解決手段】処理装置の処理チャンバ間のクロストークを減少または排除するために、透過層と制御層とを含む試料処理装置が開示されている。透過層は、信号光および／または問合せ光の大部分を透過し、制御層は、信号光および／または問合せ光の大部分を遮蔽する。透過層と制御層とを含む処理装置の製造方法も開示されている。この方法は、材料を共押出しして透過層と制御層を処理装置に形成してから、制御層に処理チャンバを形成する連続形成プロセスを包含する。あるいは、この方法では、制御層の材料を押出してから、制御層に処理チャンバを形成することを包含してもよい。【選択図】図１
2010122237.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
選択した光を透過する透過層と、前記透過層に取り付けられた前記選択した光を遮蔽する制御層とを含む本体であって、前記制御層の第１の主面が前記透過層に対向しており、第２の主面が前記透過層から見て外方に向いている本体と、
前記制御層に形成された複数の処理チャンバ構造であって、各処理チャンバ構造が、前記制御層により形成された内部窓面と内部側面とを含む、複数の処理チャンバ構造と、
前記制御層の前記第２の主面に取り付けられたカバーシートであって、当該カバーシートと前記複数の処理チャンバ構造が試料処理装置の複数の処理チャンバを画定しており、前記選択した光が前記内部窓面を通して各処理チャンバへまたは各処理チャンバから透過可能である、カバーシートと、
前記試料処理装置内の管であって、前記複数の処理チャンバの各処理チャンバと流体連通している管と、
を含む試料処理装置。
【請求項２】
各処理チャンバ構造が、前記制御層の前記第１の主面と前記第２の主面を貫通して形成されたボイドを含み、前記ボイドが、前記透過層により形成された前記内部窓面を露出している請求項１に記載の装置。
【請求項３】
各処理チャンバ内の前記内部窓面が前記透過層により形成されている請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記制御層が前記透過層にメルトボンドされている請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記透過層および前記制御層が、同じポリマー材料を含み、更に、前記制御層が、その中に組み込まれた光遮蔽フィラーを含む請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記複数の処理チャンバの各処理チャンバは、前記カバーシートから前記内部窓面まで測定される高さを有しており、前記制御層は、前記複数の処理チャンバの各処理チャンバの前記高さより低いまたはこれに等しい前記カバーシートと前記透過層の間の厚さを有している請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記管が前記カバーシートと前記制御層の間に形成されている請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記管が前記制御層の前記第２の主面に形成された管構造を含み、前記カバーシートと前記管構造が前記試料処理装置の前記管を画定している請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記管構造が、前記制御層の前記第１の主面と前記第２の主面の間で測定される前記制御層の厚さより薄い、前記制御層の前記第２の主面から測定される深さを有している請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記カバーシートが前記選択した光を遮蔽する請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記カバーシートが前記制御層に対向する反射表面を含む請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記カバーシートが前記選択した光を透過する請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
選択した光を透過する透過層と、前記選択した光を遮蔽する制御層とを含む本体であって、前記制御層の第１の主面が前記透過層に対向してメルトボンドされており、前記制御層の第２の主面が前記透過層から見て外方に向いている本体と、
前記本体に形成された複数の処理チャンバ構造であって、各処理チャンバ構造が、前記制御層の前記第１の主面および前記第２の主面を貫通して形成されたボイドを含み、前記ボイドが、各処理チャンバ構造内で前記透過層により形成された内部窓面を露出している、複数の処理チャンバ構造と、
前記制御層の前記第２の主面に取り付けられたカバーシートであって、前記カバーシートと前記複数の処理チャンバ構造が試料処理装置の複数の処理チャンバを画定しており、前記選択した光を遮蔽するカバーシートと、
前記試料処理装置内の前記カバーシートと前記制御層の間に形成された管であって、前記複数の処理チャンバの各処理チャンバと流体連通している管と、
を含む試料処理装置。
【請求項１４】
選択した光を透過する透過層と、
前記透過層に取り付けられた前記選択した光を遮蔽する制御層であって、前記制御層の第１の主面が前記透過層に対向しており、第２の主面が前記透過層から見て外方に向いている制御層と、
前記制御層に形成される複数の処理チャンバ構造であって、各処理チャンバ構造が、前記制御層により形成された内部窓面と内部側面とを含む、複数の処理チャンバ構造と、
を含む本体を用意する工程と、
前記制御層の前記第２の主面にカバーシートを取り付ける工程と、
を含み、前記カバーシートと前記複数の処理チャンバ構造が試料処理装置の複数の処理チャンバを画定し、前記カバーシートを取り付けることにより、前記試料処理装置内に管が形成され、前記複数の処理チャンバの各処理チャンバが前記管と流体連通する試料処理装置の製造方法。
【請求項１５】
前記本体を用意する工程が、前記制御層を前記透過層にメルトボンドする工程を含む請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記本体を用意する工程が、前記制御層を通してボイドを形成して、前記複数の処理チャンバ構造の各処理チャンバ構造を形成する工程を含み、前記ボイドの形成により、前記処理チャンバの前記内部窓面が露出する請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
各処理チャンバ構造について、前記ボイドを形成する工程が、前記透過層を露出して、前記内部窓面を形成する工程を含む請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記本体を用意する工程が、前記複数の処理チャンバ構造を前記制御層へと形成する工程を含む請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
前記複数の処理チャンバ構造を形成する工程が、
前記透過層に、前記ポリマー材料の溶融加工温度またはそれ以上でポリマー材料を含む前記制御層を提供する工程と、
前記制御層を前記溶融加工温度またはそれ以上で保持しながら前記複数の処理チャンバ構造を前記制御層へ形成する工程と、
前記複数の処理チャンバ構造を形成した後、前記制御層の温度を前記溶融加工温度より下げる工程と、
を含む請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記管が、前記カバーシートと前記制御層の間に形成されている請求項１４に記載の方法。
【請求項２１】
前記管が、前記制御層の前記第２の主面に形成された管構造を含み、前記カバーシートと前記管構造が、前記試料処理装置の前記管を画定している請求項１４に記載の方法。
【請求項２２】
前記制御層の前記第２の主面に前記管構造を形成する工程を更に含む請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記管構造を形成する工程が、
前記透過層上に、前記ポリマー材料の溶融加工温度またはそれ以上でポリマー材料を含む前記制御層を提供する工程と、
前記制御層を前記溶融加工温度またはそれ以上で保持しながら前記制御層に前記管構造を形成する工程と、
前記管構造を形成した後、前記制御層の温度を前記溶融加工温度より下げる工程と、
を含む請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記管構造が、前記制御層の前記第１の主面と前記第２の主面の間で測定される前記制御層の厚さより薄い、前記制御層の前記第２の主面から測定される深さを有している請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
前記カバーシートを取り付ける前に前記処理チャンバ構造の１つ以上に１種類以上の試薬を配置する工程を更に含む請求項１４に記載の方法。
【請求項２６】
前記複数の処理チャンバの各処理チャンバは、前記カバーシートから前記内部窓面まで測定される高さを有しており、前記制御層は、前記複数の処理チャンバの各処理チャンバの高さより低いまたはこれに等しい前記カバーシートと前記透過層の間の厚さを有している請求項１４に記載の方法。
【請求項２７】
各処理チャンバ内の前記内部窓面が前記透過層により形成されている請求項１４に記載の方法。
【請求項２８】
前記カバーシートが前記選択した光を遮蔽する請求項１４に記載の方法。
【請求項２９】
前記カバーシートが前記制御層に対向する反射表面を含む請求項１４に記載の方法。
【請求項３０】
前記カバーシートが前記選択した光を透過する請求項１４に記載の方法。
【請求項３１】
第１の主面と平坦な第２の主面とを含み、選択した光を遮蔽する本体と、
前記本体に形成された複数の処理チャンバ構造であって、前記本体の前記第１の主面に形成された複数の処理チャンバ構造と、
前記本体の前記第１の主面に取り付けられたカバーシートであって、前記カバーシートと前記複数の処理チャンバ構造が試料処理装置の複数の処理チャンバ構造を画定しており、前記選択した光を透過するカバーシートと、
前記本体と前記カバーシートの間に配置された管であって、前記複数の処理チャンバの各処理チャンバが前記管と流体連通している管と、
を含む試料処理装置。
【請求項３２】
前記管が前記本体の前記第１の主面に形成された管構造を含み、前記カバーシートと前記管構造が前記試料処理装置の前記管を画定している請求項３１に記載の装置。
【請求項３３】
前記カバーシートが前記本体の前記第１の主面に接着して取り付けられている請求項３１記載の装置。
【請求項３４】
第１の主面と平坦な第２の主面とを含む本体であって、選択した光を遮蔽し、前記本体の前記第１の主面に形成された複数の処理チャンバ構造を更に含む本体を用意する工程と、
前記本体の前記第１の主面にカバーシートを取り付ける工程であって、前記カバーシートと前記複数の処理チャンバ構造が試料処理装置の複数の処理チャンバを画定する工程と、
を含み、前記カバーシートを取り付ける工程により、前記試料処理装置内に管が形成され、前記複数の処理チャンバの各処理チャンバが前記管と流体連通する試料処理装置の製造方法。
【請求項３５】
前記管が前記カバーシートと前記本体の前記第１の主面の間に形成されている請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
前記管が前記本体の前記第１の主面に形成された管構造を含み、前記カバーシートと前記管構造が前記試料処理装置の前記管を画定している請求項３４に記載の方法。
【請求項３７】
前記本体の前記第１の主面に前記管構造を形成する工程を更に含む請求項３４に記載の方法。
【請求項３８】
前記カバーシートを取り付ける前に前記処理チャンバ構造の１つ以上に１種類以上の試薬を配置する工程を更に含む請求項３４に記載の方法。
【請求項３９】
前記カバーシートが前記選択した光を透過する請求項３４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
化学的反応、生化学的反応およびその他反応の同時処理のために様々な装置が設計されている。かかる装置は、典型的には、処理を実施する数多くのウェルまたはプロセスチャンバを含む。様々な被検体または処理生成物の検出は、処理チャンバから放出される信号光を検出することによりなされる。信号光は、例えば、処理チャンバ内の反応により生じる。他の場合では、信号光が化学発光等から得られる場合には、信号光は、外部源（例えば、レーザー等）から処理チャンバへ向かう問合せ光による励起に応答する。
【０００２】
処理チャンバから信号光を放出させるのに用いる機構や技術に係らず、特定の処理チャンバの検出および補正は必要である。例えば、１つの処理チャンバから放出される信号光が異なる処理チャンバからのものである場合、誤った試験結果となる恐れがある。第１の処理チャンバから放出され、第２の処理チャンバへ伝送される信号光の現象は、一般的に「クロストーク」と呼ばれる。例えば、第２の処理チャンバが信号光のみを放出せず、第１の処理チャンバから第２の処理チャンバへ伝送される信号光が誤った正の結果として検出および記録されると、クロストークがエラーを招く可能性がある。
【０００３】
クロストークを排除するには、第２の処理チャンバに達する信号光が、検出器による正の結果として記録するには弱くなるように、処理チャンバ間の距離を増やしている。他のやり方としては、国際公開第０２／０１１８０  Ａ２号パンフレット（ベディンガムら（Ｂｅｄｉｎｇｈａｍ  ｅｔ  ａｌ．））に記載されているように、処理チャンバに外部機器を配置して処理チャンバをマスキングまたは覆うものがある。これらのやり方に伴う問題は、装置の処理チャンバ密度が限られていることであり、与えられた試料処理装置で、所望とする回数よりも少ない回数の試験しか行えない。これらのやり方での他の起こりえる問題は、試料処理装置に加えて、物品または材料（例えば、マスク、覆い等）を用いる必要があることであり、試料処理装置を用いるコストを増大し、複雑なものとさせることである。
【０００４】
処理チャンバ間をクロストークから分離する問題の他の状況は、問合せ光（ｉｎｔｅｒｒｏｇａｔｉｎｇ  ｌｉｇｈｔ）の処理チャンバへの送出の際に生じる。例えば、全処理チャンバが同時に問合せされないのが望ましい。すなわち、処理チャンバは連続的（すなわち一度に１回）に問合せされるか、または、処理チャンバの選択したグループのみが同時に問合せされる。かかる状況においては、問合せされていない処理チャンバには全くまたは限られた量の問合せ信号が伝送されるのが好ましい。公知の処理装置では、問合せ信号の制御には、マスクまたは覆いが必要であり、処理チャンバ密度が限定されたり、追加の物品／処理工程によりコストおよび複雑さが増すという同じ問題が生じる。
【０００５】
処理装置に関連した他の問題としては、フィーチャーサイズ、形状および位置の制御が挙げられる。例えば、処理チャンバサイズ、形状、位置等、および装置の他のフィーチャー（例えば、送出管、充填チャンバ等）のサイズ、形状および位置における変更が制限される。フィーチャーサイズを変更すると、例えば、異なる処理チャンバにおける分析物の体積が変わる等、試験精度に悪影響を及ぼす。更に、フィーチャーサイズの変更には、例えば、全処理チャンバに確実に充填する等、追加の試料体積を必要とする。フィーチャー形状の変更は、例えば、処理チャンバから放出される信号光密度に影響する。フィーチャー位置を変更すると、異なる処理装置間で処理チャンバ位置を繰り返せない場合には、例えば、試験精度が減じる。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、処理装置の処理チャンバ間のクロストークを減少または排除するために、透過層と制御層とを含む試料処理装置を提供する。透過層は、信号光および／または問合せ光の大部分を透過し、制御層は、信号光および／または問合せ光の大部分を遮蔽するのが好ましい。
【０００７】
本発明はまた、透過層と制御層とを含む処理装置の製造方法も提供する。ある実施形態において、この方法は、材料を共押出しして透過層と制御層を処理装置に形成してから、制御層に処理チャンバを形成する連続形成プロセスを包含する。他の実施形態において、この方法では、制御層の材料を押出してから、制御層に処理チャンバを形成してもよい。
【０００８】
本発明の処理装置および方法に用いる制御層は、選択した光の透過を遮蔽するために提供されている。ここで、「選択した光」とは、１つ以上の特定の波長、１つ以上の波長範囲、１つ以上の偏光状態またはこれらの組み合わせの光である。本発明に関して用いる、光の「遮蔽」には、選択した光の吸収、反射、屈折または拡散の１つ以上が包含される。信号光の場合には、制御層を通した信号光の透過を、処理チャンバからの誤った正の読取りとならないレベルまで防止または減少させるのが好ましい。問合せ光の場合には、制御層を通した問合せ光の透過を、処理チャンバの望まない問合せとならないレベルまで防止または減少させるのが好ましい。制御層は、選択した波長または波長範囲の光を遮蔽する。制御層は、１つ以上の選択した偏光状態（例えば、ｓ偏光、ｐ偏光、円偏波等）の光も制御する。
【０００９】
本発明に関して用いる「光」という用語は、人間の目に目視されるかどうかに係らず電磁エネルギーのことを指すのに用いる。光は紫外〜赤外電磁エネルギーの範囲に入るのが好ましく、場合によっては、光は人間の目に目視のスペクトルの電磁エネルギーを含むのが好ましい。
【００１０】
本発明の処理装置は、数多くの潜在的な利点を与える。例えば、信号光の透過を遮蔽することにより、信号光の放出中のクロストークを減少または排除することができる。問合せ光の送出に関して、選択した処理チャンバについて問合せ光の透過を遮蔽すると、選択した処理チャンバの望まない問合せを減少または排除することができる。
【００１１】
更に、本発明の方法は、透過層と制御層の両方を含む処理装置の迅速かつ経済的な製造を行う。更に、本方法は、正確なサイズに成形され配置されたフィーチャー（例えば、処理チャンバ、分配管等）を含む処理装置を提供する。
【００１２】
一態様において、本発明は、選択した光を透過する透過層と、透過層に取り付けられた選択した光を遮蔽する制御層とを含む本体であって、制御層の第１の主面が透過層に対向しており、第２の主面が透過層から見て外方に向いている本体と、制御層に形成される複数の処理チャンバ構造であって、各処理チャンバ構造が、制御層により形成された内部窓面と内部側面とを含む、複数の処理チャンバ構造と、制御層の第２の主面に取り付けられたカバーシートであって、カバーシートと複数の処理チャンバ構造が試料処理装置の複数の処理チャンバを画定しており、選択した光が内部窓面を通して各処理チャンバへまたは各処理チャンバから透過可能であるカバーシートと、試料処理装置内の管であって、複数の処理チャンバの各処理チャンバと流体連通している管と、を含む試料処理装置を提供する。
【００１３】
他の態様において、本発明は、選択した光を透過する透過層と、選択した光を遮蔽する制御層とを含む本体であって、制御層の第１の主面が透過層に対向してメルトボンドされており、制御層の第２の主面が透過層から見て外方に向いている本体と、本体に形成された複数の処理チャンバ構造であって、各処理チャンバ構造が、制御層の第１の主面および第２の主面を貫通して形成されたボイドを含み、ボイドが、各処理チャンバ構造内で透過層により形成された内部窓面を露出している複数の処理チャンバ構造と、制御層の第２の主面に取り付けられたカバーシートであって、当該カバーシートと複数の処理チャンバ構造が試料処理装置の複数の処理チャンバを画定しており、選択した光を遮蔽するカバーシートと、試料処理装置内のカバーシートと制御層の間に形成された管であって、複数の処理チャンバの各処理チャンバと流体連通する管と、を含む試料処理装置を提供する。
【００１４】
他の態様において、本発明は、選択した光を透過する透過層と、透過層に取り付けられた選択した光を遮蔽する制御層であって、制御層の第１の主面が透過層に対向しており、第２の主面が透過層から見て外方に向いている制御層と、制御層に形成された複数の処理チャンバ構造であって、各処理チャンバ構造が制御層により形成された内部窓面と内部側面とを含む複数の処理チャンバ構造とを含む本体を用意する工程と、制御層の第２の主面にカバーシートを取り付ける工程とを含み、ここでカバーシートと複数の処理チャンバ構造が試料処理装置の複数の処理チャンバを画定し、カバーシートを取り付けることにより、試料処理装置内に管が形成され、複数の処理チャンバの各処理チャンバが前記管と流体連通する試料処理装置の製造方法を提供する。
【００１５】
他の態様において、本発明は、第１の主面と平坦な第２の主面とを含み、選択した光を遮蔽する本体と、本体に形成された複数の処理チャンバ構造であって、本体の第１の主面に形成された複数の処理チャンバ構造と、本体の第１の主面に取り付けられたカバーシートであって、カバーシートと複数の処理チャンバ構造が試料処理装置の複数の処理チャンバを画定しており、選択した光を透過するカバーシートと、本体とカバーシートの間に配置された管であって、複数の処理チャンバの各処理チャンバと流体連通する管と、を含む試料処理装置を提供する。
【００１６】
他の態様において、本発明は、第１の主面と平坦な第２の主面とを含む本体であって、選択した光を遮蔽し、本体の第１の主面に形成された複数の処理チャンバ構造を更に含む本体を提供する工程と、本体の第１の主面にカバーシートを取り付ける工程であって、カバーシートと複数の処理チャンバ構造が試料処理装置の複数の処理チャンバを画定する工程と、を含み、カバーシートを取り付ける工程により、試料処理装置内に管が形成され、複数の処理チャンバの各処理チャンバが前記管と流体連通する試料処理装置の製造方法を提供する。
【００１７】
これらおよびその他の特徴および利点を、本発明の様々な例証の実施形態により以下に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】中に形成された構造を露出するためカバーを取り除いた、本発明による一例の処理装置の斜視図である。
【図２】図１の処理装置の一部の拡大図である。
【図３】カバーが配置された、図２の線３−３に沿った図２の断面図である。
【図４】本発明による変形の処理装置の断面図である。
【図５】本発明による製造プロセスの一部の概略図である。
【図６】本発明による処理装置を製造するためのシステムの概略図である。
【図７】本発明による他の製造プロセスの一部の概略図である。
【図８】本発明による処理装置を製造するためのシステムの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
例証の実施形態の以下の詳細な説明において、その一部を形成する添付の図面と例証のために示した本発明を実施する特定の実施形態を参照する。他の実施形態を用いたり、構造上の変更を本発明の範囲から逸脱することなく行えるものと考えられる。
【００２０】
本発明は、所望の反応、例えば、ＰＣＲ増幅、リガーゼ連鎖反応（ＬＣＲ）、自立シーケンス複製、酵素動力学の研究、均一系配位子結合アッセイ、および、正確かつ／または即時の熱変化を必要とするその他の化学、生化学またはその他反応を行うために、多数の処理チャンバにおける液体試料材料（または液体に含まれた試料材料）の処理に用いることのできる試料処理装置を提供する。より具体的には、本発明は、夫々、装填チャンバと、複数の処理チャンバと、処理チャンバを装填チャンバと流体連通させる主管とを有する１つ以上の処理アレイを含む試料処理装置を提供する。
【００２１】
例証の実施形態の様々な構造を後述するが、本発明の試料処理装置は、例えば、国際公開第０２／０１１８０号パンフレットおよび同第０２／００３４７号パンフレット（両方共、ベディンガムら（Ｂｅｄｉｎｇｈａｍ  ｅｔ  ａｌ．））に記載されているようなものと同様である。上述した文献は全て、本発明の試料処理装置に組み込むことのできる様々な異なるフィーチャーを開示している。
【００２２】
本発明の原理に従って製造された例証の試料処理装置を図１および２に示す。図１は試料処理装置１０の斜視図であり、図２は試料処理装置１０の一部の拡大平面図である。両図面において、装置１０の本体６０に形成された構造を露出するために、カバー（図３に関して後述してある）を取り外してある。
【００２３】
試料処理装置１０には、少なくとも１つ、好ましくは複数の処理アレイ２０が含まれる。図示した処理アレイ２０は夫々、試料処理装置１０の第２の端部１４に向かって、第１の端部１２近傍から延在しているのが好ましい。処理アレイ２０は、試料処理装置１０に実質的に平行な配列で図示されている。この配列が好ましいが、この代わりに任意の処理アレイ２０の配列も提供できるものと考えられる。
【００２４】
国際公開第０２／０１１８０号パンフレットに述べられているように、処理アレイの主管４０を同時に閉じなければならない場合には、図示したような処理アレイ２０の位置合せが有用である。例えば、国際公開第０２／０１１８０号パンフレットに述べられているように、装置１０の第１の端部１２近傍で回転軸周囲を回転させることにより試料材料を試料処理装置全体に分配しなければならない場合にも、処理アレイ２０の位置合せが有用である。
【００２５】
図示した実施形態の各処理アレイ２０は、少なくとも１つの主管４０と、各主管４０に沿って配置された複数の処理チャンバ５０とを含んでいる。処理アレイ２０はまた、試料材料の主管４０を通した処理チャンバ５０への送出を促すために、主管４０と流体連通している装填構造を含んでいるのも好ましい。図１に示す通り、処理アレイは夫々、１つのみの装填構造３０と１つのみの主管４０とを含むのが好ましい。
【００２６】
装填構造３０は、試料材料を受けるために、外部装置（例えば、ピペット、中空シリンジまたはその他流体分配装置）と接続できるように設計されていてもよい。装填構造３０自身が、体積を画定しても、特定の体積を画定しなくてもよいが、その代わりに、試料材料を導入する場所となってもよい。例えば、装填構造は、ピペットまたはニードルが挿入されるポートの形態で提供されてもよい。一実施形態において、装填構造は、ピペット、シリンジ、ニードル等を受けるべく適合された主管に沿って指定された位置であってもよい。装填は、手動で、または自動化システム（例えば、ロボット等）により行ってよい。更に、処理装置１０は、他の装置から（自動化システムを用いて、または手動で）直接装填してもよい。
【００２７】
図１に示した装填チャンバは、主管４０と流体連通している装填構造３０の一実施形態に過ぎない。装填チャンバ体積、すなわち、装填チャンバ（がある場合には）により画定される体積は、主管４０、処理チャンバ５０およびフィーダ管４２（がある場合には）を合わせた体積と等しい、またはこれより大きいのが好ましい。
【００２８】
処理チャンバ５０は、フィーダ管４２を通して主管４０と流体連通している。その結果、各処理アレイ２０の装填構造３０は、装填構造３０へつながる主管４０に沿って配置された各処理チャンバ５０と流体連通している。所望であれば、各処理アレイ２０が、装填構造３０の逆の主管４０の端部に配置された任意のドレーンチャンバ（図示せず）を含んでいてもよい。
【００２９】
図３は、図２の線３−３に沿った図２に示した処理装置１０の部分の断面図である。処理装置１０は、透過層６２と制御層６４とを含む本体６０を含む。透過層６２と制御層６４はメルトボンドにより取り付けられているのが好ましい。本明細書で用いる「メルトボンド」とは、例えば、ヒートシーリング、熱溶接、超音波溶接、化学溶接、溶剤ボンディング、共押出し、押出し鋳造等の間に生じる、材料の溶融および／または混合により形成される結合のことである。かかる結合において、試料材料の処理チャンバでの処理中に生じる力に耐え得る十分な完全性の取り付けが形成できるよう、透過層６２および制御層６４で互いに向き合う材料は、メルトボンディングと適合しうるものでなければならない。
【００３０】
あるいは、透過層６２および制御層６４は、例えば、接着剤、メルトボンディングと接着剤の組み合わせ等を用いて互いに取り付けてもよい。取り付け技術については、例えば、国際公開第０２／０１１８０号パンフレットに記載されている。
【００３１】
透過層６２が選択した光の大部分を透過するような１種類以上の材料で透過層６２が構築されているのが好ましい。本発明のために、大部分は、例えば、５０％以上の垂直入射選択光、より好ましくは７５％以上の垂直入射選択光である。上述した通り、選択した光は、１つ以上の特定の波長、１つ以上の波長範囲、１つ以上の偏光状態またはこれらの組み合わせの光である。透過層６２に好適な材料としては、これらに限られるものではないが、例えば、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン−ポリエチレンコポリマー、シクロ−オレフィンポリマー（例えば、ポリジシクロペンタジエン）等が例示される。
【００３２】
制御層６４が選択した光の大部分を遮蔽するような１種類以上の材料で制御層６４が構築されているのが好ましい。本発明のために、遮蔽される光の大部分は、例えば、５０％以上の垂直入射選択光、より好ましくは７５％以上の垂直入射選択光、さらに好ましくは９０％以上の垂直入射選択光である。上述した通り、選択した光は、１つ以上の特定の波長、１つ以上の波長範囲、１つ以上の偏光状態またはこれらの組み合わせである。制御層６４に好適な材料としては、これらに限られるものではないが、例えば、所望の光遮蔽機能を与えるべく修正されたポリプロピレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン−ポリエチレンコポリマー、シクロ−オレフィンポリマー（例えば、ポリジシクロペンタジエン）等が例示される。例えば、制御層６４に用いる材料としては、制御層６４を通る選択した光の透過を防止または減少する光遮蔽フィラー（例えば、着色剤、カーボンブラック、金属粒子等）が挙げられる。他の場合に、制御層６４には、所望の光遮蔽機能を与えるために、コーティングまたはその他処理がなされていてもよい。
【００３３】
透過層６２と制御層６４の間にメルトボンドが形成される場合には、透過層６２と制御層６４が、相容性のある材料で形成されているのが好ましく、場合によっては、透過層６２と制御層６４が同じポリマー材料で形成されているのが好ましい。
【００３４】
処理装置１０は、処理チャンバ５０と、本体６０とカバーシート７０の間に配置された主管４０とを含んでいる。カバーシート７０は、接着剤７２を用いて透過層６２から離れるように対向している制御層６４の表面６５に取り付けられている。しかしながら、カバーシート７０は、例えば、接着剤、メルトボンディングと接着剤の組み合わせ等、好適な技術または技術の組み合わせにより制御層６４に取り付けてもよい。好適な取り付け技術については、例えば、国際公開第０２／０１１８０号パンフレットに記載されている。
【００３５】
図示した実施形態において、処理チャンバ５０は、本体６０の制御層６４に形成された処理チャンバ構造および制御層６４に取り付けられたカバーシート７０により画定されている。図示した実施形態において、処理チャンバ構造は、制御層６４を貫通して形成されたボイドの形態にある。ボイドは内部側面５２を含む。内部窓面５４はまた、制御層６４のボイドにより露出している透過層６２の一部により処理チャンバ５０内に形成されている。従って、処理チャンバ５０は、カバーシート７０から内部ウィンドウ表面５４まで測定された高さを有するものとして説明される。更に、制御層６４は、各処理チャンバ５０の高さより低い、または等しいカバーシート７０と透過層６２の間の厚さを有しているのが好ましい。処理チャンバ５０の高さが、制御層６４の厚さより大きい場合には、透過層６２は、窓面５４の領域において薄くする、またはその他変形させるのが好ましい。
【００３６】
図示した処理チャンバ構造は、内部窓面５４内の透過層６２の一部を露出するボイドとして形成されているが、場合によっては、比較的薄い部分の制御層６４が窓面５４の占める領域に残る場合も許容されるものと考えられる。しがしながら、このように比較的薄い部分の制御層６４は、選択した光が、窓面５４を透過するのが尚可能なほど十分に薄くなければならない。
【００３７】
処理チャンバ構造はまた、制御層６４により形成された図示したような１つ以上の内部側面５２を含んでいるのも好ましい。内部側面５２は、任意の好適な形状を採ってよい。ただし、制御層６４の一主面から制御層６４の他主面まで延在しているのが好ましい。
【００３８】
図３にまた図示されている通り、処理チャンバ５０は中に試薬５８を含んでいてもよい。本発明の装置１０の少なくともいくつか、好ましくは全ての処理チャンバ５０は、カバーシート７０が本体６０に取り付けられる前、少なくとも１種類の試薬を含有しているのが好ましい。試薬５８は、図３に示すように、処理チャンバ５０内で固定されていても、処理チャンバ５０内でばらばらであってもよい。試薬５８は任意であり、本発明の試料処理装置１０は、処理チャンバ５０に試薬５８を含んでいてもいなくてもよい。変形例においては、処理チャンバ５０のいくつかが試薬５８を含んでいて、他のチャンバは含んでいなくてもよい。更に他の変形例において、異なる処理チャンバ５０が、異なる試薬を含有していてもよい（この場合は、各処理チャンバ５０内の表面に試薬を固定するのが望ましい）。更に、処理チャンバ構造の内部をコートまたはその他処理して、試薬５８の接着力を制御してもよい。同様に、場合によっては、試薬をカバーシート７０に施してもよい。
【００３９】
カバーシート７０は略平坦なものとして図示されているが、カバーシート７０は所望であれば、平坦なシートから外れたものであってもよい。例えば、カバーシート７０は、処理チャンバ５０の体積を増減させるべく形成されていてもよい。
【００４０】
カバーシート７０は、処理チャンバ構造５２を覆う制御層６４に取り付けて、処理チャンバ５０を形成する、例えば、金属ホイルシート、ポリマー材料、多層複合体等として提供してもよい。カバーシート７０は単体の均一層として図示されているが、カバーシート７０は１種類以上の材料を含んでいてもよく、これらの材料を異なる層に提供したり、カバーシート７０内で混ぜ合わせてもよいものと考えられる。
【００４１】
カバーシート７０が金属ホイルを含む場合には、カバーシート７０は、試料材料の金属による汚染を防ぐために、処理チャンバ５０の内部および主管４０に対向する表面にパッシベーション層を含むのが好ましい。別個のパッシベーション層の代替として、カバーシート７０を制御層６４に取り付けるのに用いた任意の接着層７２はまた、試料材料とカバーシート７０の金属層間の接触を防ぐパッシベーション層としても機能する。カバーシート７０は、例えば、国際公開第０２／０１１８０号パンフレットに記載されているように、主管４０が閉鎖またはシールできるよう変形可能であるのが好ましい。
【００４２】
ある実施形態において、カバーシート７０および接着剤７２（がある場合には）は、選択した光の処理チャンバ５０の内部に対向する反射表面を与えるのが好ましい。反射率は、例えば、カバーシート７０の金属表面、接着剤７２自身、カバーシート７０を形成するのに用いた反射性のポリマーシート、またはその他反射性構造または材料により与えてもよい。
【００４３】
他の実施形態において、カバーシート７０は、選択した光を透過するよう透過性であるのが好ましい。かかる実施形態において、処理チャンバ５０は、処理チャンバ５０内の１つ以上のコンポーネントにより吸収される光により問い合わせされる。透過層６２とカバー７０の両方が選択した光を透過する場合には、選択した光が処理チャンバ５０に向けられる側とは逆の処理装置の側部に検出器を配置することができる。例えば、選択した光が、透過層６２を通して処理チャンバ５０に向かう場合には、選択した光が処理チャンバ５０内で吸収されるか、または検出器に達する前に、透過層６２、処理チャンバ５０およびカバー７０を透過するように、検出器はカバー７０と同じ側に配置される。かかる吸収を用いて、処理チャンバ５０内での１種類以上の分析物の有無を判断する。あるいは、例えば、処理チャンバ５０内の化学発光からの信号光は、透過層６２か透過カバー７０のいずれかを通って処理チャンバ５０から透過する。
【００４４】
様々な接着剤７２を用いてよい。ただし、選択した接着剤は、処理チャンバ５０に配置された試料材料の処理中に生じる力、例えば、試料材料の分配中に生じる力、試料材料の熱処理中に生じる力等に耐えることができなければならない。これらの力は、例えば、ポリメラーゼ連鎖反応や同様のプロセス等、処理に熱サイクルが含まれる場合に大きい。試料処理装置と組み合わせて用いる接着剤はまた、低蛍光を示し、試料処理装置、例えば、ＰＣＲ等と組み合わせて用いる処理や材料と適合性があるのが好ましい。
【００４５】
感圧接着特性を示す接着剤を用いるのが好ましい。かかる接着剤は、試料処理装置の大量生産用に修正しやすい。というのは、メルトボンディングに用いられる高温ボンディングプロセスが一般的に含まれず、液体接着剤、溶剤ボンディング、超音波ボンディング等を用いるときに生じる取扱いの問題がないからである。感圧接着剤を識別し選択する技術については、例えば、国際公開第０２／０１１８０号パンフレットに記載されている。
【００４６】
本発明の試料処理装置に関連して用いる感圧接着剤は、接着剤の特性に水による悪影響が確実に及ばない材料を含むのが好ましい。例えば、感圧接着剤は、試料充填および処理中に水に晒されたことに応答して、接着力を失わない、凝集力を失わない、軟化せず、膨潤せず、不透明化しないのが好ましい。また、感圧接着剤は、試料処理中に水に抽出されて、装置性能を損なう可能性のある成分を含んでいてはならない。
【００４７】
これらの問題点を鑑みると、感圧接着剤は、疎水性材料で構成されているのが好ましい。よって、感圧接着剤は、シリコーン材料で構成されているのが好ましい。好適な組成のいくつかについては、国際公開第００／６８３３６号パンフレット、シリコーン接着剤、物品および方法（ＳＩＬＩＣＯＮＥ  ＡＤＨＥＳＩＶＥＳ，ＡＲＴＩＣＬＥＳ，ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤＳ）（コーら（Ｋｏ  ｅｔ  ａｌ．））に記載されている。
【００４８】
同じく、図３の実施形態に示すのは、処理チャンバ５０と流体連通している主管４０の断面図である。図示した実施形態において、主管４０は、本体６０の制御層６４および制御層６４に取り付けられたカバーシート７０に形成された管構造４４により画定されている。図示した実施形態において、管構造４４は、透過層６２から離れるように対向している制御層６４の表面に形成されたチャネルの形態にある。従って、管構造４４は、カバーシート７０から透過層６２まで測定された高さを有するものとして説明される。更に、管構造４４の高さは、例えば、透過層６２が管構造４４内で決して露出しないよう、制御層６４の厚さ（制御層６４の対向する主面の間で測定）より小さいのが好ましい。
【００４９】
カバーシート７０は略平坦なものとして図示されているが、カバーシート７０は所望であれば、平坦なシートから外れるものであってもよい。例えば、カバーシート７０は、管４０の断面積を増減するよう形成してよい（図３に示す通り）。
【００５０】
更に、管構造４４の形状および制御層６４、カバーシート７０および接着剤７２について選択された材料は、国際公開第０２／０１１８０号パンフレットに記載されているように、カバーシート７０を管構造４４へと変形することにより管４０をシールまたは封止できるようなものとするのが好ましい。
【００５１】
図４に、本発明による試料処理装置の他の構造を示す。処理装置は、本体１６０とカバーシート１７０により形成されている。しかしながら、本実施形態において、本体１６０は、処理チャンバ１５０間で選択した光の透過を遮蔽する材料で形成されているのが好ましい。
【００５２】
選択した光の処理チャンバ１５０への、かつ／または処理チャンバ１５０からの透過は、むしろ、好ましくは選択した光の大部分を透過するカバーシート１７０を通してなされる。本発明のために、大部分は、例えば、５０％以上の垂直入射選択光、より好ましくは７５％以上の垂直入射選択光である。上述した通り、選択した光は、１つ以上の特定の波長、１つ以上の波長範囲、１つ以上の偏光状態またはこれらの組み合わせである。カバーシート１７０に好適な材料としては、これらに限られるものではないが、例えば、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン−ポリエチレンコポリマー、シクロ−オレフィンポリマー（例えば、ポリジシクロペンタジエン）等が例示される。
【００５３】
カバーシート１７０は単体の均一層として図示されているが、カバーシート１７０は１種類以上の材料を含んでいてもよく、これらの材料を異なる層に提供したり、カバーシート１７０内で混ぜ合わせてもよいものと考えられる。
【００５４】
本体１６０が選択した光の大部分の透過を遮蔽するような１種類以上の材料で本体１６０が構築されているのが好ましい。本発明のために、遮蔽される光の大部分は、例えば、５０％以上の垂直入射選択光、より好ましくは７５％以上の垂直入射選択光、さらに好ましくは９０％以上の垂直入射選択光である。上述した通り、選択した光は、１つ以上の特定の波長、１つ以上の波長範囲、１つ以上の偏光状態またはこれらの組み合わせである。
【００５５】
本体１６０に好適な材料としては、これらに限られるものではないが、例えば、所望の光遮蔽機能を与えるべく修正されたポリプロピレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン−ポリエチレンコポリマー、シクロ−オレフィンポリマー（例えば、ポリジシクロペンタジエン）等が例示される。例えば、本体１６０に用いる材料としては、本体１６０を通る選択した光の透過を防止または減少する光遮蔽フィラー（例えば、着色剤、カーボンブラック、金属粒子等）が挙げられる。他の場合に、本体１６０には、所望の光遮蔽機能を与えるために、コーティングまたはその他処理がなされていてもよい。
【００５６】
処理装置は、処理チャンバ１５０と、本体１６０とカバーシート１７０の間に配置された主管１４０とを含んでいる。図示した実施形態において、処理チャンバ１５０は、本体１６０の表面１６１および本体１６０に取り付けられたカバーシート１７０に形成された処理チャンバ１５２構造により画定されている。図示した実施形態において、処理チャンバ構造１５２は、本体に形成された凹部の形態にあるが、本体１６０の全厚を貫通してはいない。カバーシート１７０は略平坦なものとして図示されているが、カバーシート１７０は所望であれば、平坦なシートから外れるものであってもよい。例えば、カバーシート１７０は、処理チャンバ１５０の体積を増減させるべく形成されていてもよい。
【００５７】
カバーシート１７０は、接着剤１７２を用いて本体１６０の表面１６１に取り付けられている。しかしながら、カバーシート１７０は、例えば、接着剤、メルトボンディングと接着剤の組み合わせ等、好適な技術または技術の組み合わせにより本体１６０に取り付けてもよい。好適な取り付け技術については、図３のカバーシート７０への接着剤７２に関して上述してあり、また、例えば、国際公開第０２／０１１８０号パンフレットに記載されている。
【００５８】
同じく、図４の実施形態に示すのは、処理チャンバ１５０と流体連通している主管１４０の断面図である。図示した実施形態において、主管１４０は、本体１６０に形成された管構造１４４および本体１６０に取り付けられたカバーシート１７０により画定されている。図示した実施形態において、管構造１４４は、カバーシート１７０に対向している表面１６１に形成されたチャネルの形態にある。従って、管構造１４４は、カバーシート１７０から本体１６０の対向面１６３まで測定された高さを有するものとして説明される。更に、管構造１４４の高さは、対向する主面１６１および１６３の間で測定したときに、本体１６０の厚さより少ないのが好ましい。
【００５９】
本発明の処理装置は、様々な方法および技術により製造される。図３に関して記載した透過層と制御層を有する本体を含む処理装置を製造するための例証の製造方法の一部を図５に示す。透過層６２のための溶融加工可能なポリマーを、押出機８０から多層フィードブロックおよびフィルムダイ８２まで送出する。同時に、制御層６４のための溶融加工可能なポリマーを、押出し機８４から多層フィードブロックおよびフィルムダイ８２まで送出する。２つの溶融加工可能なポリマーストリームを、それらの溶融加工温度またはそれ以上の温度で、多層フィードブロックおよびフィルムダイ８２へ送出する。多層フィードブロックおよびフィルムダイ８２は、２つのポリマーが分離した別個の層６２と６４を形成するよう、押出機８０および８４からの２つのポリマー溶融ストリームの分離を保つのが好ましい。
【００６０】
ポリマーの層６２および６４は、多層フィードブロックおよびフィルムダイ８２から形成ツール８６へ放出される。ポリマーは、形成ツール８６とバックアップロール８８間のニップ近傍のポイントで形成ツール８６の表面にドロップ鋳造されるのが好ましい。
【００６１】
形成ツール８６は、処理装置、例えば、処理チャンバ、管等に形成される様々なフィーチャーに対応してそこから延在している突出部８７を有している。各層６２および６４の厚さは、層６４の厚さが、本発明の処理装置において処理チャンバ構造を形成する突出部８７の高さより低い、またはそれに等しくなるように制御されるのが好ましい。そのやり方で層６４の厚さを制限すると、図３に関して上述したボイドとして形成される処理チャンバ構造を層６４に与えることができる。
【００６２】
少なくとも制御層６４は、溶融加工温度（すなわち、形成または鋳造できる温度）またはそれより高い温度で形成ツール８６に送出されるのが好ましい。溶融加工温度またはそれ以上の温度で制御層６４を形成ツール８６に与えることによって、制御層中のポリマーは、形成ツール８６の突出部８７の形状を適切に形成または複製することができる。形成ツール８６は、ロールとして図示されているが、この代わりに、連続ベルトまたは連続ウェブ形成処理に適用できるその他構造として提供してもよいものと考えられる。
【００６３】
形成ツール８６のフィーチャーを制御層６４に形成しながら、２層６２および６４を併せて形成して、２層の間をメルトボンドできるよう、透過層６２のポリマーはまた、溶融加工温度またはそれ以上の温度で形成ツール８６とバックアップロール８８により形成されたニップに送出されるのも好ましい。
【００６４】
両層６２および６４の温度は、層６４中に形成された構造を保持し、ウェブに機械的な安定性を与えるために、バックアップロール８８とのニップの後のどこかの点で夫々の溶融加工温度より低く下げるのが好ましい。
【００６５】
図５に示した処理の結果は、本発明による処理装置の本体６０を形成する透過層６２と制御層６４の両方を含むウェブである。制御層６４は、例えば、処理チャンバ、管、充填チャンバ等のために形成された構造を含む。
【００６６】
図６は、本発明による処理装置を製造するための大規模プロセスの概略図である。図６に示すシステムは、装置８９として、図５のコンポーネントおよびプロセスを含む。装置８９（透過層と制御層６４を含む）により形成されたウェブを試薬ステーション９０に供給して、試薬を、例えば、本明細書に記載した処理チャンバ構造に添加するのが好ましい。試薬の添加後、ウェブをラミネーティングステーション９１に供給して、カバーシートウェブ７０をそれにラミネートして、処理チャンバ５０、管４０等を含む複合体ウェブ構造を形成するのが好ましい。複合体ウェブは、シーティングステーション９２に送出して、ウェブを、例えば、ダイカットにより、個々の処理装置１０へと分離するのが好ましい。
【００６７】
図７および８に、例えば、図４に示す構造の処理装置を製造する変形製造プロセスを示す。本体１６０のための溶融加工可能なポリマーを、押出し機１８０からダイ１８２まで送出する。溶融加工可能なポリマーストリームを、その溶融加工温度またはそれ以上の温度で、ダイ１８２へ送出する。
【００６８】
ポリマー層１６０は、ダイ１８２から形成ツール１８６へ放出される。層１６０は、バックアップロール１８８により形成されるニップの直前で形成ツール１８６にドロップ鋳造されるのが好ましい。形成ツール１８６は、処理装置、例えば、処理チャンバ、管等に形成される様々なフィーチャーに対応してそこから延在している突出部１８７を有している。ポリマー層１６０の厚さは、層１６０の厚さが、本発明の処理装置において処理チャンバ構造を形成する突出部１８７の高さより大きくなるように制御されるのが好ましい。
【００６９】
ポリマー層１６０は、溶融加工温度（すなわち、形成または鋳造できる温度）またはそれより高い温度で形成ツール１８６に送出されるのが好ましい。溶融加工温度またはそれ以上の温度でポリマー層１６０を形成ツール１８６に与えることによって、ポリマーは、形成ツール１８６の突出部１８７の形状を適切に形成または複製することができる。形成ツール１８６は、ロールとして図示されているが、この代わりに、連続ベルトまたは連続ウェブ形成処理に適用できるその他構造として提供してもよいものと考えられる。
【００７０】
ポリマー層１６０の温度は、層１６０中に形成された構造を保持し、ウェブに機械的な安定性を与えるために、バックアップロール１８８とのニップの後のどこかの点で溶融加工温度より低く下げるのが好ましい。図７に示した処理の結果は、本発明による処理装置の本体を形成するのに用いることのできるウェブ１６０である。ウェブ１６０は、例えば、処理チャンバ、管、装填チャンバ等のために形成された構造を含む。
【００７１】
図８は、本発明による処理装置を製造するための大規模プロセスの概略図である。図８に示すシステムは、装置１８９として、図７のコンポーネントおよびプロセスを含む。装置１８９により形成されたウェブを試薬ステーション１９０に供給して、試薬を、例えば、本明細書に記載した処理チャンバ構造に添加するのが好ましい。試薬の添加後、ウェブをラミネーティングステーション１９１に供給して、カバーシートウェブ１７０をそれにラミネートして、処理チャンバ、管等を含む複合体ウェブ構造を形成するのが好ましい。複合体ウェブは、シーティングステーション１９２に送出して、ウェブを、例えば、ダイカットにより、個々の処理装置１１０へと分離するのが好ましい。
【００７２】
変形プロセスにおいて、試薬をシート化したウェブに添加する前に、装置１８９により形成されたウェブをシート化してもよい。かかるプロセスにおいて、装置１８９のウェブから形成されたシートにラミネートする前に、カバーシートウェブ１７０をシート化するのも好ましい。
【００７３】
本発明の例証の実施形態を述べ、本発明の範囲内の可能な変形について参照してきた。本発明におけるこれらおよびその他の変更および修正は、本発明の範囲から逸脱することなしに当業者には明白であり、本発明はここに規定した説明のための実施形態に限定されないものと考えられる。従って、本発明は、添付の請求項およびこの等価物によってのみ限定されるものとする。
【図１】
2010122237.tif 000003
【図２】
2010122237.tif 000004
【図３】
2010122237.tif 000005
【図４】
2010122237.tif 000006
【図５】
2010122237.tif 000007
【図６】
2010122237.tif 000008
【図７】
2010122237.tif 000009
【図８】
2010122237.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月8日(2010.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
処理装置１０は、処理チャンバ５０と、本体６０とカバーシート７０の間に配置された主管４０とを含んでいる。カバーシート７０は、接着剤７２を用いて透過層６２とは反対側の制御層６４の表面６５に取り付けられている。しかしながら、カバーシート７０は、例えば、接着剤、メルトボンディングと接着剤の組み合わせ等、好適な技術または技術の組み合わせにより制御層６４に取り付けてもよい。好適な取り付け技術については、例えば、国際公開第０２／０１１８０号パンフレットに記載されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
同じく、図３の実施形態に示すのは、処理チャンバ５０と流体連通している主管４０の断面図である。図示した実施形態において、主管４０は、本体６０の制御層６４および制御層６４に取り付けられたカバーシート７０に形成された管構造４４により画定されている。図示した実施形態において、管構造４４は、透過層６２とは反対側の制御層６４の表面に形成されたチャネルの形態にある。従って、管構造４４は、カバーシート７０から透過層６２まで測定された高さを有するものとして説明される。更に、管構造４４の高さは、例えば、透過層６２が管構造４４内で決して露出しないよう、制御層６４の厚さ（制御層６４の対向する主面の間で測定）より小さいのが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
選択した光を透過する透過層と、前記透過層に取り付けられた前記選択した光を遮蔽する制御層とを含む本体であって、前記制御層の第１の主面が前記透過層に対向しており、第２の主面が前記透過層から見て外方に向いている本体と、
前記制御層に形成された複数の処理チャンバ構造であって、各処理チャンバ構造が、前記制御層により形成された内部窓面と内部側面とを含む、複数の処理チャンバ構造と、
を含み、前記選択した光が前記内部窓面を通して各処理チャンバへまたは各処理チャンバから透過可能である、試料処理装置。
【請求項２】
選択した光を透過する透過層と、前記透過層に取り付けられた前記選択した光を遮蔽する制御層とを含む本体であって、前記制御層の第１の主面が前記透過層に対向しており、第２の主面が前記透過層から見て外方に向いている本体と、
前記制御層に形成された複数の処理チャンバ構造であって、各処理チャンバ構造が、前記制御層により形成された内部窓面と内部側面とを含み、各処理チャンバ内の内部窓面が制御層の薄い部分により形成されており、当該制御層の薄い部分は当該制御層の薄い部分が透過層からの前記選択した光を透過できるように十分に薄く、前記選択した光が前記内部窓面を通して各処理チャンバへまたは各処理チャンバから透過可能である、複数の処理チャンバ構造と、
を含む試料処理装置。
【請求項３】
前記透過層および制御層が同じポリマー材料を含み、更に、前記制御層が、その中に組み込まれた光遮蔽フィラーを含む、請求項１または２に記載の試料処理装置。
【請求項４】
選択した光を透過する透過層と、
前記透過層に取り付けられた前記選択した光を遮蔽する制御層であって、前記制御層の第１の主面が前記透過層に対向しており、第２の主面が前記透過層から見て外方に向いている制御層と、
を含む本体を用意する工程と、
前記制御層に複数の処理チャンバ構造を形成する工程であって、各処理チャンバ構造が、前記制御層により形成された内部窓面と内部側面とを含み、各処理チャンバ内の内部窓面が制御層の薄い部分により形成されており、当該制御層の薄い部分は当該制御層の薄い部分が透過層からの前記選択した光を透過できるように十分に薄い複数の処理チャンバ構造を形成する工程、
を含む、試料処理装置の製造方法。
【請求項５】
前記透過層上に、ポリマー材料を含む制御層を、当該ポリマー材料の溶融加工温度またはそれより高い温度で提供すること；
前記制御層を前記溶融加工温度以上に保持しながら、前記制御層に複数の処理チャンバ構造を形成すること；および
前記複数の処理チャンバ構造を形成した後、前記制御層の温度を溶融加工温度より低い温度に下げること；
を含む、請求項４に記載の方法。
【外国語明細書】
2010122237000001.pdf