(57)【要約】【課題】支持基体表面に情報記録層を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生用のレーザー光が照射される光情報媒体において、レーザー光のビームスポット径が小さく、かつ、線速度が速い場合の記録・再生特性を向上させる。【解決手段】  支持基体上に情報記録層を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体であって、前記光透過層表面の最大うねりをＷｔ（単位：nm）とし、記録または再生時の線速度をＶ（単位：m/s ）としたとき、前記光透過層表面における、記録または再生用のレーザー光のビームスポット径が３００μｍ以下である条件下において、  Ｗｔ≦１８４０ｅ-0.04V  が成立する光情報媒体。【選択図】図１
2010153036.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基体上に情報記録層を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体であって、
前記光透過層表面の最大うねりをＷｔ（単位：nm）とし、記録または再生時の線速度をＶ（単位：m/s ）としたとき、前記光透過層表面における、記録または再生用のレーザー光のビームスポット径が３００μｍ以下である条件下において、
Ｗｔ≦１８４０ｅ-0.04V
が成立する光情報媒体。
【請求項２】
前記光透過層は、樹脂から構成される光透過性シートと、この光透過性シートを支持基体側に接着するための接着層とから構成され、前記接着層が紫外線硬化型樹脂の硬化物を含有し、前記接着層の平均厚さが０．５μｍ以上５μｍ未満である請求項１の光情報媒体。
【請求項３】
前記光透過層は、樹脂から構成される光透過性シートと、この光透過性シートを支持基体側に接着するための接着層とから構成され、
前記光透過性シートは、ポリカーボネート、ポリアリレートおよび環状ポリオレフィンの１種から構成され、かつ、流延法により製造されたものである請求項１または２の光情報媒体。
【請求項４】
線速度８m/s 以上で使用される請求項１〜３のいずれかの光情報媒体。
【請求項５】
対物レンズの開口数をＮＡ、記録光または再生光の波長をλとしたとき、
λ／ＮＡ≦７８０nm
である装置により記録または再生が行われる請求項１〜４のいずれかの光情報媒体。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれかの光情報媒体を製造する方法であって、
前記光透過層は、樹脂から構成される光透過性シートと、この光透過性シートを支持基体側に接着するための接着層とから構成され、前記接着層が紫外線硬化型樹脂の硬化物を含有するものであり、
紫外線硬化型樹脂の塗膜に紫外線を照射して硬化することにより前記接着層を形成するに際し、紫外線照射エネルギー密度を１０００mW/cm2以下とする光情報媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、再生専用光ディスク、光記録ディスク等の光情報媒体と、この光情報媒体を製造する方法と、この光情報媒体に対し記録または再生を行う方法と、この光情報媒体を検査する方法とに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、再生専用光ディスクや光記録ディスク等の光記録媒体では、動画情報等の膨大な情報を記録ないし保存するため、記録密度向上による媒体の高容量化が求められ、これに応えるために、高記録密度化のための研究開発が盛んに行われてきた。
【０００３】
その中のひとつとして、例えばＤＶＤ（Digital Versatile Disk）にみられるように、記録・再生波長を短くし、かつ、記録・再生光学系の対物レンズの開口数（ＮＡ）を大きくして、記録・再生時のレーザービームスポット径を小さくすることが提案されている。ＤＶＤをＣＤと比較すると、記録・再生波長を７８０nmから６５０nmに変更し、ＮＡを０．４５から０．６に変更することにより、６〜８倍の記録容量（４．７GB／面）を達成している。
【０００４】
さらに、最近、高品位の動画像を長時間記録するために、記録・再生波長を４００nm程度まで短くし、かつ、対物レンズの開口数を０．８５程度まで大きくすることにより、ＤＶＤの４倍以上、すなわち２０GB／面以上の記録容量を達成しようとする試みが行われている。
【０００５】
しかし、このように高ＮＡ化すると、チルトマージンが小さくなってしまう。チルトマージンは、光学系に対する光記録媒体の傾きの許容度であり、ＮＡによって決定される。記録・再生波長をλ、記録・再生光が入射する透明基体の厚さをｔとすると、チルトマージンは
λ／（ｔ・ＮＡ3 ）
に比例する。また、光記録媒体がレーザービームに対して傾くと、すなわちチルトが発生すると、波面収差（コマ収差）が発生する。基体の屈折率をｎ、傾き角をθとすると、波面収差係数は
（１／２）・ｔ・｛ｎ2 ・ sinθ・ cosθ｝・ＮＡ3 ／（ｎ2 −sin2θ）-5/2
で表される。これら各式から、チルトマージンを大きくし、かつコマ収差の発生を抑えるためには、基体の厚さｔを小さくすればよいことがわかる。実際、ＤＶＤでは、基体の厚さをＣＤ基体の厚さ（１．２mm程度）の約半分（０．６mm程度）とすることにより、チルトマージンを確保している。
【０００６】
ところで、より高品位の動画像を長時間記録するために、基体をさらに薄くできる構造が提案されている。この構造は、通常の厚さの基体を剛性維持のための支持基体として用い、その表面にピットや記録層を形成し、その上に薄型の基体として厚さ１００μｍ前後の光透過層を設け、この光透過層を通して記録・再生光を入射させるものである。この構造では、従来に比べ基体を著しく薄くできるため、高ＮＡ化による高記録密度達成が可能である。このような構造をもつ媒体は、例えば特開平１０−２８９４８９号公報に記載されている。同公報に記載された媒体は、光硬化性樹脂からなる光透過層を有する。
【０００７】
しかし、紫外線硬化型樹脂等の光硬化性樹脂から光透過層を構成すると、硬化時に発生する収縮のために媒体に反りが発生する。また、媒体を高温・高湿環境下で保存した場合にも、反りが発生する。媒体に反りが生じると、読み取りエラーが生じやすくなり、反り量が大きいと読み取り不能となってしまうことがある。
【０００８】
特開平８−１９４９６８号公報には、樹脂製の保護コートを有する光ディスクが記載されている。同公報では、保護コートの引張破壊伸びを１５％以上とすることにより、高温・高湿環境下で保存したときの光ディスクの反り発生を抑えている。ただし、同公報には、保護コートを通して記録・再生光を入射させる旨の記載はない。
【０００９】
しかし、本発明者らの研究によれば、厚さ１００μｍ前後の光透過層（保護コート）を通して記録・再生光を入射させる場合、光透過層の引張破壊伸びを単に１５％以上とするだけでは、良好な記録・再生特性が得られないことがわかった。特に、レーザー光のビームスポット径を小さくし、かつ、高線速度で記録・再生を行う場合に問題が生じた。特に問題であったのは、フォーカスサーボの安定性が不十分となったことである。また、複屈折率が大きくなるという問題もあった。
【００１０】
記録・再生波長を短波長化し、かつ、ＮＡを大きくすることによってビームスポット径を小さくし、さらに、記録・再生時の線速度を速くすれば、データ転送レートの著しい向上が可能であり、１００Mbps、あるいはそれを超えるデータ転送レートを実現することも可能である。２０００年末に放送が開始される衛星デジタル放送により、高品位の映像情報が各家庭に送信されるようになり、その録画などのためにデータ転送レートの著しい向上が求められている。
【００１１】
しかし、データ転送レート向上のためには、上記したフォーカスサーボ安定性の向上が必須である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開平１０−２８９４８９号公報
【特許文献２】特開平８−１９４９６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の目的は、支持基体表面に情報記録層を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生用のレーザー光が照射される光情報媒体において、レーザー光のビームスポット径が小さく、かつ、線速度が速い場合の記録・再生特性を向上させることである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
このような目的は、下記（１）〜（１５）の本発明により達成される。
（１）  支持基体上に情報記録層を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体であって、前記光透過層は、樹脂から構成され、引張破壊強さが５〜４０MPa かつ引張破壊伸びが１５〜１００％かつ引張弾性率が４０〜１０００MPa である光情報媒体。
（２）  前記光透過層の厚さが３０〜２００μｍである上記（１）の光情報媒体。
（３）  支持基体上に情報記録層を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体であって、前記光透過層は、情報記録領域において、波長６３０nmでの複屈折率（絶対値）が２０nm以下であり、波長６３０nmでの複屈折率の分布幅が２０nm以下である光情報媒体。
（４）  支持基体上に情報記録層を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体であって、前記光透過層は、記録波長および再生波長における表面反射率が１０％以下である光情報媒体。
（５）  支持基体上に情報記録層を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体であって、記録時または再生時の線速度におけるフォーカスエラー信号の残留エラー分をＲで表し、フォーカス感度曲線のｐ−ｐ値をＦで表したとき、Ｒ／Ｆが１０％以下である光情報媒体。
（６）  支持基体上に情報記録層を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体であって、前記光透過層表面の最大うねりをＷｔ（単位：nm）とし、記録または再生時の線速度をＶ（単位：m/s ）としたとき、前記光透過層表面における、記録または再生用のレーザー光のビームスポット径が３００μｍ以下である条件下において、
Ｗｔ≦１８４０ｅ-0.04V
が成立する光情報媒体。
（７）  前記光透過層は、樹脂から構成される光透過性シートと、この光透過性シートを支持基体側に接着するための接着層とから構成され、前記接着層が紫外線硬化型樹脂の硬化物を含有し、前記接着層の平均厚さが０．５μｍ以上５μｍ未満である上記（６）の光情報媒体。
（８）  前記光透過層は、樹脂から構成される光透過性シートと、この光透過性シートを支持基体側に接着するための接着層とから構成され、前記光透過性シートは、ポリカーボネート、ポリアリレートおよび環状ポリオレフィンの１種から構成され、かつ、流延法により製造されたものである上記（６）または（７）の光情報媒体。
（９）  線速度８m/s 以上で使用される上記（３）〜（８）のいずれかの光情報媒体。
（１０）  対物レンズの開口数をＮＡ、記録光または再生光の波長をλとしたとき、
λ／ＮＡ≦７８０nm
である装置により記録または再生が行われる上記（３）〜（９）のいずれかの光情報媒体。
（１１）  上記（１）または（２）の光情報媒体である上記（３）〜（１０）のいずれかの光情報媒体。
（１２）  上記（６）〜（８）のいずれかの光情報媒体を製造する方法であって、前記光透過層は、樹脂から構成される光透過性シートと、この光透過性シートを支持基体側に接着するための接着層とから構成され、前記接着層が紫外線硬化型樹脂の硬化物を含有するものであり、紫外線硬化型樹脂の塗膜に紫外線を照射して硬化することにより前記接着層を形成するに際し、紫外線照射エネルギー密度を１０００mW/cm2以下とする光情報媒体の製造方法。
（１３）  支持基体上に情報記録層を有し、この情報記録層上に、波長６３０nmでの複屈折率（絶対値）が２０nm以下であり、波長６３０nmでの複屈折率の分布幅が２０nm以下である光透過層を有する光情報媒体に対し、光透過層を通して記録または再生のためのレーザー光を入射させて記録または再生を行う光情報媒体の記録または再生方法。
（１４）  支持基体上に情報記録層を有し、この情報記録層上に、記録波長および再生波長における表面反射率が１０％以下である光透過層を有する光情報媒体に対し、光透過層を通して記録または再生のためのレーザー光を入射させて記録または再生を行う光情報媒体の記録または再生方法。
（１５）  支持基体上に情報記録層を有し、この情報記録層上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体を検査する方法であって、記録時または再生時の線速度におけるフォーカスエラー信号の残留エラー分をＲで表し、フォーカス感度曲線のｐ−ｐ値をＦで表したとき、Ｒ／Ｆが１０％以下である光情報媒体を選別する光情報媒体の検査方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明では、厚さ１００μｍ前後の光透過層を通して情報の再生を行う光情報媒体において、光透過層の引張破壊強さ、引張破壊伸びおよび引張弾性率をそれぞれ所定範囲内となるように制御する。このような物性を有する光透過層は、複屈折率が小さく、その分布幅が小さくなり、かつ、媒体の反り量および面振れ量が小さくなる。
【００１６】
本発明の媒体では、反り量および面振れ量が小さく、特に面振れ量が著しく小さいため、線速度を速くしたときの面振れ加速度が小さくなる。その結果、線速度を速くしたときのフォーカスエラー信号の残留エラー分（Ｒ）が、フォーカス感度曲線のｐ−ｐ（peak-to-peak）値（Ｆ）に対し１０％以下となり、高転送レート下でのフォーカスサーボエラーが少なくなる。
【００１７】
なお、媒体の反り量と面振れ量との間には、直接的な相関はない。反り量が大きい媒体では面振れ量が大きくなる傾向はあるが、例えばディスク状媒体が傘状に反った場合には面振れ量はほとんど増大しない。一方、ディスク状媒体に捻れを伴う反りが発生すると、反り量として測定される値が小さくても面振れ量は大きくなる。
【００１８】
フォーカスサーボ特性に関する判定基準としてＲ／Ｆを利用することは従来提案されていないが、本発明者らは、Ｒ／Ｆを小さくすることが、具体的にはＲ／Ｆを１０％以下にすることが、再生時のジッタ低減に大きく寄与すること、また、書き込みエラー防止に著しく寄与することを見いだした。記録または再生に使用する線速度（使用線速度）においてＲ／Ｆを測定することにより、その媒体がその使用線速度において信頼性の高い記録および再生が可能である否かが判定できるので、Ｒ／Ｆの測定は媒体の検査に利用することができる。なお、Ｒ／Ｆが１０％より大きくなっても、フォーカスサーボが外れるわけではない。
【００１９】
また、本発明の媒体では、複屈折率が小さいために光の利用効率が高くなる結果、再生信号出力を高くできる。
【００２０】
なお、光透過層のような樹脂層において、引張破壊強さ、引張破壊伸び、および引張弾性率の３者の間に直接的な相関関係はない。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の光情報媒体の構成例を示す部分断面図である。
【図２】フォーカス感度曲線のｐ−ｐ値（Ｆ）に対するフォーカスエラー信号の残留エラー分（Ｒ）の比率Ｒ／Ｆが１０％を超えない最大の線速度Ｖmax と、媒体の光入射面の最大うねりＷｔとの関係を表すグラフである。
【符号の説明】
【００２２】
２  光透過層
２０  支持基体
２１  グルーブ
４  記録層
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の光情報媒体の構成例を、図１に示す。この光情報媒体は記録媒体であり、支持基体２０上に、情報記録層として記録層４を有し、この記録層４上に光透過層２を有する。記録または再生のためのレーザー光は、光透過層２を通して入射する。
【００２４】
本発明は、記録層の種類によらず適用できる。すなわち、例えば、相変化型記録媒体であっても、ピット形成タイプの記録媒体であっても、光磁気記録媒体であっても適用できる。なお、通常は、記録層の少なくとも一方の側に、記録層の保護や光学的効果を目的として誘電体層や反射層が設けられるが、図１では図示を省略してある。また、本発明は、図示するような記録可能タイプに限らず、再生専用タイプにも適用可能である。その場合、ピットを一体的に設けた支持基体２０を用い、その上に金属膜、半金属膜、誘電体多層膜などからなる反射層を設けて、この反射層に前記ピットの形状を転写させる。この場合、反射層が情報記録層を構成することになる。
【００２５】
次に、本発明の媒体各部の具体的構成を説明する。
【００２６】
支持基体２０は、媒体の剛性を維持するために設けられる。支持基体２０の厚さは、通常、０．２〜１．２mm、好ましくは０．４〜１．２mmとすればよく、透明であっても不透明であってもよい。支持基体２０は、通常の光記録媒体と同様に樹脂から構成すればよいが、ガラスから構成してもよい。光記録媒体において通常設けられるグルーブ（案内溝）２１は、図示するように、支持基体２０に設けた溝を、その上に形成される各層に転写することにより、形成できる。グルーブ２１は、記録再生光入射側から見て手前側に存在する領域であり、隣り合うグルーブ間に存在する筋状の凸部はランドと呼ばれる。
【００２７】
光透過層２は、レーザー光を透過するために透光性を有する。本発明における光透過層２の厚さは、好ましくは３０〜２００μｍ、より好ましくは５０μｍ超２００μｍ以下、さらに好ましくは７０〜１５０μｍである。光透過層が薄すぎると、光透過層表面に付着した塵埃による光学的な影響が大きくなる。また、高ＮＡ化により光ピックアップと媒体との距離が小さくなって光ピックアップが媒体表面と接触しやすくなるが、光透過層が薄いと光ピックアップの接触に対して十分な保護効果が得られなくなる。一方、光透過層が厚すぎると、高ＮＡ化による高記録密度達成が難しくなる。なお、光透過層が厚いと、光透過層を形成する際の硬化による収縮が大きくなり、その結果、媒体の反りが大きくなる。しかし、本発明における光透過層は、引張弾性率が小さく、かつ、引張破壊伸びが大きいため、５０μｍ超、さらには７０μｍ以上と比較的厚い光透過層であっても、硬化時に生じる反りが小さく、しかも、生じた反りが経時的に緩和される。その結果、従来になく反りおよび面振れの小さい媒体が得られる。
【００２８】
光透過層２は、引張破壊強さが４０MPa 以下、好ましくは３５MPa 以下であり、かつ引張破壊伸びが１５％以上、好ましくは２０％以上であり、引張弾性率が１０００MPa 以下、好ましくは８００MPa 以下である。引張破壊強さが大きすぎると、複屈折率およびその分布幅が大きくなってしまう。引張破壊伸びが小さすぎると、媒体の面振れが大きくなり、また、媒体に反りが発生しやすく、特に、高温・高湿等の悪条件下で保存したときに大きな反りが発生してしまう。引張弾性率が大きすぎると、媒体に反りが発生しやすくなり、また、媒体の面振れが大きくなる。
【００２９】
一方、光透過層の引張破壊強さが低すぎる場合、光透過層本来の効果、すなわち情報記録層を保護する効果、が不十分となるほか、かえって反り量が大きくなってしまうので、引張破壊強さは５MPa 以上、好ましくは７MPa 以上とする。光透過層の引張破壊伸びが大きすぎる場合、光透過層が柔らかくなりすぎて、強度が不十分となる。また、その上に、より強度の高い表面層を設けたとしても、十分な保護効果を得ることができなくなる。そのため、引張破壊伸びは１００％以下、好ましくは８０％以下とする。光透過層の引張弾性率が低すぎる場合、かえって反り量が大きくなってしまい、また、光透過層が柔らかくなりすぎるので、引張弾性率は４０MPa 以上とする。
【００３０】
なお、本明細書における引張破壊強さ、引張破壊伸びおよび引張弾性率は、JIS K7127-1989において規定されたものである。これらを測定するに際しては、
試験片の長さ：６０mm、
試験片の幅：１０mm、
標線間距離：４０±１mm、
掴み具間距離：４４±１mm、
引張速度：３０mm／min 
とし、そのほかの測定条件はJIS K7127-1989の規定に従えばよい。これらの条件をJIS K7127-1989と異なるものとするのは、媒体から剥離した光透過層で測定できるように、媒体（光ディスク）の寸法（通常、直径１２cm程度）を考慮したためである。
【００３１】
このように、引張破壊強さ、引張破壊伸びおよび引張弾性率をそれぞれ上記範囲内とすることにより、複屈折率およびその分布幅を小さくでき、かつ、製造直後における媒体の反りを小さくでき、かつ、高温・高湿環境下での保存による反り発生を抑えることができ、かつ、媒体の面振れを小さくできる。
【００３２】
具体的には、波長６３０nmでの光透過層の複屈折率（絶対値）を２０nm以下にすることが容易にでき、１８nm以下にすることもできる。また、波長６３０nmでの複屈折率の分布幅を、ｐ−ｐ値で２０nm以下にすることが容易にでき、１５nm以下にすることもできる。なお、複屈折率およびその分布幅は小さいほど好ましいが、複屈折率およびその分布幅を著しく小さくしても、それによって効果が著しく向上するわけではないので、複屈折率を２nm未満とする必要はなく、また、複屈折率の分布幅を２nm未満とする必要はない。上記した複屈折率およびその分布幅は、情報記録領域における値である。すなわち、例えば光ディスクでは、情報記録領域ではない領域（内周部および外周部）を除く領域における値である。なお、本発明で限定する複屈折率の値およびその分布幅は波長６３０nmでの測定値であるが、本発明において記録光または再生光の波長が６３０nmに限定されるわけではない。波長６３０nmでの複屈折率およびその分布幅が上記のように小さければ、例えば波長２５０〜９００nm程度の広い波長域において、光の利用効率向上などの効果が実現する。
【００３３】
また、面振れ加速度が大きくなってフォーカスサーボエラーが発生しやすい高線速時、具体的には線速度８m/s 以上、特に１０〜３５m/s である場合にも、フォーカスサーボエラーの発生を著しく抑制できる。具体的には、フォーカスエラー信号の残留エラー分をＲで表し、フォーカス感度曲線のｐ−ｐ値をＦで表したとき、Ｒ／Ｆを１０％以下にすることが容易にでき、６％以下にすることもできる。なお、Ｒ／Ｆは小さいほど好ましいが、Ｒ／Ｆを著しく小さくしても、それによって効果が著しく向上するわけではないので、Ｒ／Ｆを０．１％未満とする必要はない。
【００３４】
本発明では、記録波長および再生波長における光透過層の表面反射率が１０％以下であることが好ましい。表面反射率を１０％以下とすることは、レーザーエネルギーの利用効率が低くなる高線速度時、具体的には線速度８m/s 以上、特に１０〜３５m/s である場合に特に有効である。なお、表面反射率は低いほど好ましいが、表面反射率を著しく低くしても、それによって効果が著しく向上するわけではないので、表面反射率を０．１％未満とする必要はない。
【００３５】
なお、本発明の効果は、対物レンズの開口数をＮＡ、記録光または再生光の波長をλとしたとき、
λ／ＮＡ≦７８０nm、特に
λ／ＮＡ≦６８０nm
である装置により記録または再生が行われる場合に、特に有効である。すなわち、比較的短波長の記録・再生光を、高ＮＡの対物レンズを用いて照射する場合に特に有効である。なお、
４００nm≦λ／ＮＡ
の範囲において良好な記録・再生特性を実現できれば、一般的には十分である。
【００３６】
本発明は、光透過層の引張破壊強さ、引張破壊伸びおよび引張弾性率を前記範囲内とすることを特徴とし、これにより上記した各種効果が実現する。したがって、光透過層を構成する樹脂の具体的構成および光透過層の形成方法は特に限定されない。例えば、樹脂ないし硬化後に樹脂となる組成物を塗布し、必要に応じて硬化する方法や、あらかじめ作製した樹脂シートを、紫外線硬化型接着剤や粘着剤等で貼付する方法などのいずれを用いてもよい。ただし、引張破壊強さ、引張破壊伸びおよび引張弾性率が本発明で限定する範囲内である光透過層を得るためには、活性エネルギー線硬化型組成物をスピンコート法により塗布し、その後、紫外線等の活性エネルギー線により硬化することによって光透過層を形成する方法が好ましい。
【００３７】
活性エネルギー線硬化型組成物には、通常、それぞれ単官能または多官能のモノマー、オリゴマーおよびポリマーの少なくとも１種が含有され、さらに、光重合開始剤、光重合開始助剤、重合禁止剤等が含有される。このような組成物は、例えば前記特開平８−１９４９６８号公報に記載された高密度光ディスク用保護コート剤の構成材料から選択することができる。本発明で用いる組成物としては、両端に官能基を有する線状の２官能オリゴマーと、単官能モノマーとを少なくとも含有するものが好ましい。上記２官能オリゴマーの含有量が少なすぎたり、２官能オリゴマーの分子量が小さすぎたりすると、硬化後の引張破壊伸びが小さくなってしまう。２官能オリゴマーに対する単官能モノマーの比率を高くしていくと、硬化後の引張破壊伸びをほとんど低下させることなく硬化後の引張破壊強さを低下させることができる。また、単官能モノマーの添加により、光透過層とそれが形成される面との間の接着性も向上する。ただし、単官能モノマーの添加量が多すぎると、硬化後の引張破壊伸びが小さくなってしまう。したがって、本発明において要求される光透過層の物性に応じて、２官能オリゴマーの含有量、分子量、単官能モノマーの含有量などを適宜選択すればよい。なお、このような組成物は、市販のものから選択することができる。
【００３８】
活性エネルギー線硬化型組成物に用いるオリゴマーやモノマーとしては、例えば以下のものが挙げられる。
【００３９】
２官能オリゴマーとしては、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートが挙げられる。ポリエステルアクリレートとしては、東亜合成化学工業（株）製のアロニックスＭ−6200、アロニックスＭ−6400Ｘ、アロニックスＭ−6410Ｘ、アロニックスＭ−6420Ｘが挙げられる。エポキシアクリレートとしては、昭和高分子（株）製のリポキシSP−1506、リポキシSP−1509、リポキシSP−1519−1 、リポキシSP−1563、リポキシVR−77、リポキシVR−60、リポキシVR−90；大坂有機化学工業（株）製のビスコート540 ；日本化薬（株）製のカヤラッドＲ−167 ；共栄社油脂（株）製のエポキシエステル3002Ａ、エポキシエステル3002Ｍ、エポキシエステル80MFA ；長瀬産業（株）製のナデコールDM−851 、ナデコールDA−811 、ナデコールDM−811 、ナデコールDA−721 、ナデコールDA−911 が挙げられる。ウレタンアクリレートとしては、根上工業（株）製のアートレンジUN−1000PEP 、アートレンジUN−9000PEP 、アートレンジUN−9200A 、アートレンジUN−2500、アートレンジUN−5200、アートレンジUN−llO2、アートレンジUN−380G、アートレンジUN−500 、アートレンジUN−9832；東亜合成（株）製のアロニックスＭ−1200；サートマー社製のケムリンク9503、ケムリンク9504、ケムリンク9505が挙げられる。
【００４０】
単官能モノマーとしては、べンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルメタクリレート、ブタンジオールモノアクリレート、シクロへキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、脂環式変性ネオペンチルグリコールアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニロキシエチルアクリレート、ジシクロペンテニロキシエチルメタアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒロソキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、イソデシルアクリレート、イソデシルメタクリレート、イソオクチルアクリレート、イソオクチルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、モルフォリンアクリレート、フェノキシヒドロキシプロピルアクリレート、フィノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、ＥＯ変性フタル酸アクリレート、ＥＯ変性フタル酸メタクリレート、ステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドンが挙げられる。
【００４１】
本発明で好ましく用いられる活性エネルギー線硬化型組成物は、粘度が比較的高くなり、具体的には１，０００〜３０，０００cP程度となる。これに対し上記特開平８−１９４９６８号公報には、組成物の２５℃における好ましい粘度として５〜３００cPの範囲が開示されている。
【００４２】
なお、上記特開平８−１９４９６８号公報には、光ディスクの保護コートを引張破壊伸び１５％以上とすることにより、高温・高湿環境下での保存による光ディスクの反り発生を抑制できる旨が記載されている。同公報に記載された引張破壊伸びの範囲は、本発明で限定する範囲と重複する。しかし、上記したように、同公報記載の保護コート形成用組成物と本発明で用いる組成物とは粘度が異なるため、同公報記載の組成物を硬化して形成される光透過層は、本発明における光透過層の物性を備えるとは考えられない。しかも、同公報には、記録部の腐食を防止するために、厚さ１〜５０μｍの保護コートを設ける旨の記載があるだけであり、保護コートを通して記録光および再生光が入射する旨の記載はない。したがって、同公報において、保護コートの複屈折率低減が着目されていないことは明らかである。これに対し本発明では、厚さ１００μｍ前後の薄い光透過層を通して短波長の記録・再生光を入射させるため、媒体の反り量を著しく小さく抑えると共に、複屈折率およびその分布幅を著しく小さく抑えることが重要である。同公報には、反りが小さくなった旨の記載はあるが、面振れおよび面振れ加速度についての記載はない。また、同公報に記載されたような低粘度の組成物を用いると、５０μｍを超える厚さの光透過層を形成することは実質的に不可能である。
【００４３】
本発明における光透過層は、２層以上の樹脂層の積層体であってもよい。積層タイプとしては、例えば、引張破壊強さが低く、かつ引張破壊伸びが大きい内部層上に、この内部層よりも耐擦傷性の良好な表面層が積層され、この表面層が光透過層の表面を構成する構造が挙げられる。この構造では、表面層を内部層よりかなり薄くしても十分な耐擦傷性が得られるため、表面層は薄くすることができる。そのため、表面層構成材料については、物性に関する要求は厳しくない。したがって、表面層構成材料は、各種樹脂から耐擦傷性の良好なものを比較的自由に選択できる。なお、表面層は、内部層よりも引張破壊強さが高いことが好ましく、引張破壊強さが４０MPa より高いことがより好ましい。
【００４４】
この構造における内部層および表面層は、上記した活性エネルギー線硬化型組成物の硬化物であることが好ましい。内部層の形成に用いる組成物については、上記したように、硬化後の引張破壊強さが低く、かつ、引張破壊伸びが大きく、かつ、引張弾性率が低くなるように組成を選択する。一方、表面層の形成に用いる組成物では、多官能オリゴマーおよび／または多官能モノマーの比率を比較的高くすることが好ましい。これにより、表面層の硬度を高くすることができる。また、単官能モノマーの比率を比較的高くすれば、表面層と内部層との間の接着性が向上する。
【００４５】
表面層と内部層との２層構造とする場合、表面層の厚さは、好ましくは０．１〜１０μｍ、より好ましくは０．３〜５μｍである。表面層が薄すぎると、保護効果が不十分となる。一方、表面層が厚すぎると、光透過層全体の物性を本発明で限定する範囲内とすることが困難となる。
【００４６】
なお、内部層を２層以上の多層構造としてもよい。
【００４７】
光透過層を、活性エネルギー線硬化型樹脂からなる多層構造とする場合、通常、下側の層を形成するための組成物を塗布して硬化した後、上側の層を形成するための組成物を塗布して硬化する。ただし、下側の層と上側の層との接着性を向上させるために、下側の層が半硬化状態のときに上側の層を積層し、最終的に全層を完全に硬化させる方法を利用してもよい。
【００４８】
前記したように、フォーカス感度曲線のｐ−ｐ値（Ｆ）に対するフォーカスエラー信号の残留エラー分（Ｒ）の比率Ｒ／Ｆは、光情報媒体の検査に利用できる。ただし、同一の媒体であっても、使用線速度によってＲ／Ｆは異なる。本発明者らは、Ｒ／Ｆを好ましい範囲内に収めるために、使用線速度に対応して制御すべきパラメータを探索した結果、光透過層表面の最大うねりがＲ／Ｆに大きく影響することを見いだした。具体的には、光透過層表面の最大うねりをＷｔ（単位：nm）とし、記録または再生時の線速度（使用線速度）をＶ（単位：m/s ）としたとき、
Ｗｔ≦１８４０ｅ-0.04V
が成立することが好ましいことを見いだした。使用線速度Ｖに応じて最大うねりＷｔが上記範囲内に収まるように光透過層を形成することにより、フォーカスサーボエラーの少ない媒体が実現できる。なお、Ｗｔは小さいほど好ましいが、Ｗｔを著しく小さくしても、それによって効果が著しく向上するわけではないので、通常、Ｗｔは
Ｗｔ≧１０nm
とすればよい。なお、本発明で限定する最大うねりＷｔは、ANSI B46.1に規定されている。光透過層のＷｔを測定するに際しては、
ハイパスフィルタ：０．２mm、
ローパスフィルタ：２mm、
評価長さ：２０mm、
基準長さ：１６mm、
プローブ押しつけ力：１０mg、
プローブ：曲率半径１２．５μｍのダイヤモンド針、
測定時間：２５秒間
とし、そのほかの測定条件は上記ANSI B46.1の規定に従えばよい。
【００４９】
Ｗｔが前記Ｒ／Ｆに与える影響は、記録または再生用のレーザー光のビームスポット径によって異なる。この場合のビームスポット径は、レーザー光入射面（光透過層表面）におけるスポット径である。このビームスポット径が大きければ、Ｗｔが比較的大きくてもＲ／Ｆはそれほど大きくならない。そのため、本発明で限定するＶとＷｔとの関係は、前記ビームスポット径が３００μｍ以下、特に２００μｍ以下である条件下で有効である。ただし、前記ビームスポット径があまりにも小さいと、光透過層の表面粗さの影響が大きくなるため、本発明におけるＷｔの制御は、前記ビームスポット径が１０μｍ以上の場合に適用することが好ましい。本発明の媒体のように光透過層が薄い場合には、光透過層表面におけるビームスポット径が小さくなるので、Ｗｔの制御は有効である。なお、レーザー光の波長をλとし、レーザー光照射光学系の開口数をＮＡとし、波長λにおける光透過層の屈折率をｎとし、光透過層の厚さをｔとすると、光透過層表面におけるビームスポット径Ｄは、
Ｄ＝２ tan｛ sin -1 （ＮＡ／ｎ）｝・ｔ＋１．２２λ／ＮＡ
で表される。なお、ビームスポットが長円形である場合、上記ビームスポット径は記録トラック長さ方向における径である。
【００５０】
ディスク状媒体において、光透過層表面の最大うねりＷｔと前記したメカニズムで発生する媒体の反りおよび捻れとは相関しない。ただし、媒体の反りや捻れが大きいと、Ｗｔの測定が不可能となることがある。
【００５１】
最大うねりＷｔの好ましい値は使用線速度Ｖによって異なるので、使用線速度に応じて光透過層表面の最大うねりを制御すればよいが、高線速度、例えば線速度８m/s 以上、特に１０〜３５m/s に対応させる必要がある場合には、光透過層を以下に説明するように形成することが好ましい。
【００５２】
紫外線硬化型樹脂を含む塗膜をスピンコート法により形成し、この塗膜を紫外線照射により硬化させて光透過層を形成する場合、塗膜に塗布むらが生じないようにスピンコート条件を制御する必要がある。そのためには、例えば、塗膜に気泡が混入しないように塗布液の粘度を制御したり、塗布液中にゲル化物が存在しないように塗布液を調製したりすることが好ましい。
【００５３】
一方、光透過層が、樹脂から構成される光透過性シートと、この光透過性シートを支持基体側に接着するための接着層とから構成され、接着層が紫外線硬化型樹脂の硬化物を含有する場合には、接着層の平均厚さを０．５μｍ以上５μｍ未満、特に１〜３μｍとすることが好ましい。接着層が薄すぎると、紫外線の吸収量が少なくなるため、活性種が生じにくくなる。また、空気中で硬化を行う場合、接着層が薄すぎると接着層の単位体積あたりの接触空気量が多くなるので、酸素阻害を受けやすい樹脂（例えばラジカル重合系樹脂）や湿度阻害を受けやすい樹脂（例えばカチオン重合系樹脂）では活性種が失活しやすい。したがって、接着層が硬化しにくくなり、接着力が不十分となる。また、接着層が薄すぎると一様な層を形成することが困難となる。一方、接着層が厚すぎると、接着層の厚さ分布が大きくなると共に、接着層上に接着される光透過性シート表面の最大うねりＷｔが大きくなってしまう。なお、接着層の平均厚さとは、光ディスク中心からの距離がディスク半径の１／２である位置での厚さを意味する。
【００５４】
次に、接着層の形成方法を説明する。
【００５５】
接着層を形成するに際しては、まず、紫外線硬化型樹脂またはその溶液を含有する塗膜を、支持基体側の表面（図１では記録層４の表面）全面に形成する。接着層の厚さ分布および塗布むらを小さくするためには、紫外線硬化型樹脂を溶剤で希釈して樹脂溶液とし、この樹脂溶液を用いて塗膜を形成することが好ましい。樹脂の希釈に用いる溶剤は特に限定されず、例えばアルコール系、エステル系、セロソルブ系、炭化水素系等の各種溶剤から、支持基体および光透過性シートを侵さないものを適宜選択すればよい。
【００５６】
樹脂溶液の粘度は、好ましくは１０cP未満、より好ましくは４〜６cPである。粘度が高すぎると、接着層の厚さ分布を小さくすることが困難となる。一方、粘度が小さすぎると一様な接着層を形成することが困難となる。樹脂溶液の固形分濃度は、好ましくは１０〜５０重量％、より好ましくは２０〜４０重量％である。固形分濃度が低すぎると、一様な接着層を形成することが困難となる。一方、固形分濃度が高すぎると、接着層の厚さ分布を小さくすることが困難となり、また、光透過性シート表面の最大うねりＷｔを小さくすることも困難となる。
【００５７】
塗膜の形成方法は特に限定されず、例えばスピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法、スクリーンコート法、ダイコート法、カーテンコート法、ディップコート法などのいずれを用いてもよい。ただし、スピンコート法では、光ディスクの外周側ほど接着層が厚くなり、また、ロールコートおよびダイコートでは、リーディング側とトレーリング側とで接着層の厚さに違いがでやすくなるので、接着層の厚さ制御による効果はこれらの方法において特に高くなる。これらの塗布法のなかでは、一様な接着層を形成しやすいこと、非接触コートのため媒体にダメージを与えないこと、接着層の表面粗さを小さくできることなどから、スピンコート法を用いることが好ましい。
【００５８】
塗膜形成後、塗膜上に光透過性シートを載置する。光透過性シートの載置は、減圧雰囲気中で行うことが好ましい。減圧雰囲気としては、１気圧未満、好ましくは０．３気圧以下、より好ましくは０．１気圧以下である。減圧雰囲気中で光透過性シートを載置することにより、接着層中への気泡の混入を防ぐことができるので、気泡に起因するトラッキングサーボ不良を防ぐことができる。
【００５９】
光透過性シートを載置した後、紫外線照射により塗膜を硬化する。紫外線照射は、一般の高圧水銀ランプを用いて行えばよい。硬化は、減圧状態のままで行ってもよく、空気中に戻してから行ってもよい。減圧状態で硬化を行えば、硬化時の酸素阻害や湿度阻害を軽減できる。
【００６０】
なお、紫外線硬化により接着層を形成するに際して、紫外線照射エネルギー密度を１０００mW/cm2以下、特に６００mW/cm2以下とすることが好ましい。紫外線照射エネルギー密度をこの範囲内に設定すれば、接着層に接着される光透過性シート表面の最大うねりＷｔを小さくすることができ、例えば接着層の厚さを５μｍ以上とした場合でも、Ｗｔを十分に小さくすることが可能である。ただし、紫外線照射エネルギー密度が低すぎると、硬化に要する時間が長くなりすぎたり、硬化が不十分となったりするので、紫外線照射エネルギー密度は５mW/cm2以上とすることが好ましい。
【００６１】
光透過性シートの構成材料は、ポリカーボネート、ポリアリレートおよび環状ポリオレフィンの１種であることが好ましい。
【００６２】
本発明で用いるポリカーボネートは特に限定されず、例えば、一般的なビスフェノール型の芳香族ポリカーボネートを用いることができる。後述する流延法により製造されたポリカーボネートシートとしては、例えばピュアエース（帝人社製）が市販されている。
【００６３】
ポリアリレートは、２価のフェノールと芳香族ジカルボン酸とのポリエステルである。本発明で用いるポリアリレートは、非晶ポリアリレートであり、特に、ビスフェノールＡとテレフタル酸の縮重合物を用いることが好ましい。ポリアリレートは、ポリカーボネートと同様に芳香環を有するため複屈折を生じやすいが、ポリカーボネートに比べ耐熱性が高い。後述する流延法により製造されたポリアリレートシートとしては、例えばエルメック（鐘淵化学工業社製）が市販されている。
【００６４】
本発明で用いる環状ポリオレフィンは、光透過性に優れることが好ましい。光透過性に優れた環状ポリオレフィンとしては、ノルボルネン系化合物を出発物質とする非晶質環状ポリオレフィンが挙げられる。このものは、耐熱性にも優れる。本発明では、市販の環状ポリオレフィンを使用することができる。市販の環状ポリオレフィンとしては、例えばアートン（ＪＳＲ社製）、ゼオネクス（日本ゼオン社製）、アペル（三井化学社製）などが挙げられる。これらのうちアートンおよびゼオネクスはフィルムとして市販されている。アートンおよびゼオネクスは、ノルボルネン系モノマーを開環重合し、水素添加したものである。アートンは、ノルボルネン系モノマーの側鎖にエステル基をもたせているため、溶剤に容易に溶解できる。したがって、シート化する際に、後述する流延法を利用できる点で好ましい。また、有機材料に対する接着性が良好であるため、接着層に対する接着強度を高くできる点でも好ましい。また、帯電性が低いため、塵埃が付着しにくい点でも好ましい。
【００６５】
光透過性シートの製造方法は特に限定されないが、本発明で用いる光透過性シートは薄いため、通常の射出成形法により製造することは困難である。したがって、流延（ソルベントキャスト）法や溶融押し出し法など、樹脂をシート状に形成できる方法を利用することが好ましい。このうち特に好ましい方法は、流延法である。流延法は、例えば特公平３−７５９４４号公報に記載されている。同公報には、透明性、複屈折性、可撓性、表面精度、膜厚の均一さに優れたフレキシブルディスク基板が製造できる流延法が記載されており、本発明では、光透過性シートの製造にこの流延法を利用することが好ましい。この流延法では、以下の工程により光透過性シートを製造する。
【００６６】
（１）ポリカーボネートペレット等の樹脂ペレットを塩化メチレン、アクリロニトリル、メチルアクリレート等の溶媒に溶解し、（２）よく攪拌、脱泡、濾過した後、表面精度の高い金型上にダイより連続的に流し、（３）乾燥炉を通して溶媒を蒸発させ、連続的にロール状に巻き取る。
【００６７】
このような流延法で製造した光透過性シートは、一般的な溶融押し出し法で製造したものに比べ、シートにかかるテンションが小さいので、複屈折が小さくなる。これに対し溶融押し出し法で製造したシートでは、延伸方向に複屈折の分布が生じてしまう。また、上記流延法では、溶媒の蒸発速度を適切に制御することにより、表面状態に優れた、均一な厚さのシートが製造でき、また、溶融押し出し法により製造されたシートでみられる、ダイラインによる傷が生じない。また、流延法により製造したシートを用いれば、シート表面の最大うねりＷｔを小さくすることができ、例えば接着層の厚さを５μｍ以上とした場合でも、Ｗｔを十分に小さくすることが可能である。
【００６８】
なお、光透過性シートが流延法により製造されたかどうかは、複屈折のパターンが等方的であることによって確認でき、また、シート中の残存溶剤をガスクロマトグラフ分析などにより定性分析することによっても確認できる。
【実施例】
【００６９】
実施例１
以下の手順で、光記録ディスクサンプルを作製した。
【００７０】
グルーブを形成したディスク状支持基体（ポリカーボネート製、直径１２０mm、厚さ１．２mm）の表面に、Ａｌ98Ｐｄ1 Ｃｕ1 （原子比）からなる反射層をスパッタ法により形成した。グルーブ深さは、波長λ＝４０５nmにおける光路長で表してλ／６とした。ランド・グルーブ記録方式における記録トラックピッチは、０．３μｍとした。
【００７１】
次いで、反射層表面に、Ａｌ2 Ｏ3 ターゲットを用いてスパッタ法により厚さ２０nmの第２誘電体層を形成した。
【００７２】
次いで、第２誘電体層表面に、相変化材料からなる合金ターゲットを用い、スパッタ法により厚さ１２nmの記録層を形成した。記録層の組成（原子比）は、Ｓｂ74Ｔｅ18（Ｇｅ7 Ｉｎ1 ）とした。
【００７３】
次いで、記録層表面に、ＺｎＳ（８０モル％）−ＳｉＯ2 （２０モル％）ターゲットを用いてスパッタ法により厚さ１３０nmの第１誘電体層を形成した。
【００７４】
次いで、第１誘電体層表面に、紫外線硬化型樹脂（昭和高分子社製のＳＳＰ５０Ｕ１０、２５℃における粘度１，９００cP）をスピンコートにより塗布し、紫外線を照射することにより厚さ９７μｍの内部層を形成した。次いで、その上に紫外線硬化型樹脂（三菱レイヨン社製のＭＨ−７３６１）をスピンコートにより塗布し、紫外線を照射することにより厚さ３μｍの表面層を形成して、厚さ１００μｍの光透過層を得た。
【００７５】
このようにして作製した光記録ディスクサンプルの記録層を、バルクイレーザーで初期化（結晶化）した後、Dr.schenk 社製のBiref126P を用い、光透過層側から波長６３０nmのレーザー光を入射させて、情報記録領域（サンプルの半径２３〜５８mmの範囲）における光透過層の複屈折率を測定し、その絶対値の最大値、および最大値と最小値との差（分布幅）を求めた。結果を表１に示す。
【００７６】
また、このサンプルの光透過層の表面反射率を、以下の手順で測定した。まず、前記支持基体と同寸法のガラス基板の表面に、上記手順で光透過層を形成した後、ガラス基板から前記光透過層を剥離した。次いで、この光透過層の波長４０５nmにおける反射率を、（株）島津製作所分光光度計MPS-2000に付属する４５°絶対鏡面反射率測定装置を用いて測定した。結果を表１に示す。
【００７７】
次に、このサンプルを光記録媒体評価装置に載せ、
レーザー波長：４０５nm、
開口数ＮＡ：０．８５、
線速度：１１．４m/s 、
記録信号：１−７変調信号（最短信号長２Ｔ）
の条件で、ランドおよびグルーブに記録を行った。次いで、記録信号を再生し、ジッタを測定した。結果を表１に示す。なお、このジッタは、再生信号をタイムインターバルアナライザにより測定し、検出窓幅をＴｗとして
σ／Ｔｗ  （％）
により求めたクロックジッタである。このジッタが１３％以下であれば、エラーが許容範囲に収まるが、各種マージンを十分に確保するためには、このジッタが好ましくは１０％以下、より好ましくは９％以下であることが望ましい。
【００７８】
また、以下の方法で、フォーカス感度曲線のｐ−ｐ値に対するフォーカスエラー信号の残留エラー分の比率を測定した。まず、サンプルを測定装置に装填し、線速度１１．４m/s で回転させた。次いで、フォーカスサーボをかけずにサンプルと光ピックアップとの距離を変更しながらフォーカスエラー信号を検出し、サンプルの変位とフォーカスエラー信号出力との関係を示すフォーカス感度曲線を求めた。このフォーカス感度曲線は、通常、Ｓ字曲線と呼ばれるものであり、例えば１９８９年２月１０日にラジオ技術社から刊行された「光ディスク技術」の第８１ページに記載されている。このフォーカス感度曲線から、フォーカスエラー信号出力のｐ−ｐ値、すなわちプラス側出力のピーク値とマイナス側出力のピーク値との差を求めた。次いで、フォーカスサーボをかけ、さらにトラッキングサーボをかけて、フォーカスエラー信号の残留エラー成分の出力ｐ−ｐ値を計測した。なお、この測定では、ナイフエッジ法によりフォーカスサーボを行った。このようにして求めたフォーカス感度曲線のｐ−ｐ値をＦとし、フォーカスエラー信号の残留エラー成分のｐ−ｐ値をＲとし、Ｒ／Ｆを算出した。結果を表１に示す。
【００７９】
なお、フォーカス感度曲線のｐ−ｐ値に対するフォーカスエラー信号の残留エラー分の比率を求めるに際して用いるフォーカスサーボ方法は特に限定されず、ナイフエッジ法、非点収差法等のいずれであってもよい。
【００８０】
次に、このサンプルの光透過層をカッターナイフで平面寸法６０mm×１０mmの矩形に切り取って試験片とし、この試験片を用いて、JIS K7127-1989および本発明で限定する前記測定条件に基づき、オリエンテック社製のＴＲＭ−１００型テンシロンにより引張破壊強さ、引張破壊伸びおよび引張弾性率を測定した。結果を表１に示す。なお、試験片を切り出す際には、試験片に誘電体層、記録層、反射層等が付着していることがあったが、これらの層の付着は、引張破壊強さ、引張破壊伸びおよび引張弾性率の測定値に影響しなかった。
【００８１】
また、このサンプルについて、小野測器社製ＬＭ１２００により反り量および面振れ量の測定を行った。また、８０℃・８０％ＲＨの環境下で５０時間保存した後にも、同様な測定を行った。結果を表１に示す。
【００８２】
実施例２
紫外線硬化型樹脂（日本化薬社製のＢ８、２５℃における粘度５，０００cP）をスピンコートにより塗布し、紫外線を照射することにより厚さ１００μｍの光透過層としたほかは実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプルを作製した。このサンプルについて、実施例１と同様な測定を行った。結果を表１に示す。
【００８３】
実施例３
紫外線硬化型樹脂（昭和高分子社製のＳＳＰ５０Ｕ１４、２５℃における粘度４，０００cP）をスピンコートにより塗布し、紫外線を照射することにより厚さ１００μｍの光透過層としたほかは実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプルを作製した。このサンプルについて、実施例１と同様な測定を行った。結果を表１に示す。
【００８４】
比較例１
紫外線硬化型樹脂（昭和高分子社製のNo. ３０３−２、２５℃における粘度４，０００cP）をスピンコートにより塗布し、紫外線を照射することにより厚さ１００μｍの光透過層としたほかは実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプルを作製した。このサンプルについて、実施例１と同様な測定を行った。結果を表１に示す。
【００８５】
比較例２
紫外線硬化型樹脂（長瀬チバ社製のＴ６９５／ＵＲ７４０、２５℃における粘度２，１００cP）をスピンコートにより塗布し、紫外線を照射することにより厚さ１００μｍの光透過層としたほかは実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプルを作製した。このサンプルについて、実施例１と同様な測定を行った。結果を表１に示す。
【００８６】
比較例３
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製のＳＤ３１８、２５℃における粘度１４０cP）をスピンコートにより塗布し、紫外線を照射することにより厚さ１００μｍの光透過層としたほかは実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプルを作製した。このサンプルについて、実施例１と同様な測定を行った。結果を表１に示す。
【００８７】
比較例４
前記特開平８−１９４９６８号公報の実施例３に記載された紫外線硬化型樹脂を用意した。この紫外線硬化型樹脂は、
ＥＰＡ−１（日本化薬（株）製）  ２０重量部、
ＭＡＮＤＡ（日本化薬（株）製）  ４０重量部、
ＴＨＦ−Ａ（共栄油脂（株）製）  １０重量部、
Ｒ−５６１（日本化薬（株）製）  ３０重量部、
Darocur BP（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）  ３重量部、
ＤＭＢＩ（日本化薬（株）製）      １重量部、
Irgacure 651（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）  ３重量部
を含有するものであり、２５℃における粘度は６４cPである。光透過層の形成にこの紫外線硬化型樹脂を用いたほかは実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプルを作製した。紫外線照射エネルギー密度は２０００mW/cm2とした。ただし、この紫外線硬化型樹脂は粘度が低いため、厚さ５０μｍを超える光透過層は形成できなかったため、光透過層の厚さは５０μｍとした。このサンプルについて、実施例１と同様な測定を行った。結果を表１に示す。
【００８８】
【表１】
2010153036.tif 000003
【００８９】
表１から本発明の効果が明らかである。すなわち、引張破壊強さ、引張破壊伸びおよび引張弾性率が本発明で限定する範囲内にあるサンプルでは、複屈折率およびその分布幅が小さく、また、フォーカスエラーが少なく、ジッタが小さく、反り量および面振れ量が小さく、さらに、高温・高湿環境下での保存による反りおよび面振れの悪化も少ない。
【００９０】
これに対し、引張破壊強さ、引張破壊伸びおよび引張弾性率の少なくとも１つが本発明範囲を外れる場合、本発明の効果は実現していない。
【００９１】
なお、前記内部層を設けず、前記表面層を１００μｍの厚さに設けて光透過層としたほかは実施例１と同様にしてサンプルを作製し、このサンプルの光透過層の引張破壊強さを測定したところ、５０MPa 以上であった。
【００９２】
実施例４
サンプルNo. １
光透過層を以下の手順で形成したほかは実施例１と同様にして、光記録ディスクサンプルを作製した。
【００９３】
光透過層の形成に際しては、まず、第１誘電体層の表面に、ソニーケミカル社製の紫外線硬化型樹脂ＳＫ５１１０をスピンコートにより塗布し、樹脂層を形成した。次いで、真空中（０．１気圧以下）において、光透過性シートとしてポリカーボネートシート（厚さ１００μｍ、複屈折率１５nm）を樹脂層上に載置した。このポリカーボネートシートは、ピュアエース（帝人社製）であり、前記流延法により製造されたものである。このポリカーボネートは、ガラス転移点が１４５℃、分子量が約４０，０００である。この光透過性シートを載置した状態で、６０００rpm で１０秒間ディスクを回転させて、余分な樹脂を振り切った。次いで、空気中に戻した後、紫外線を照射して上記樹脂層を硬化し、厚さ１０３μｍの光透過層を得た。
【００９４】
なお、紫外線源にはアイグラフィック社製のＸｅフラッシュランプを用い、出力１２０J で８パスさせることにより紫外線を照射した。このとき、紫外線照射エネルギー密度は測定不可能（５０００mW/cm2超）であった。なお、照射エネルギー密度は、ETI Instrumentation Products社製のUVICURE PLUSにより測定した。
【００９５】
サンプルNo. ２
紫外線源としてウシオ電機社製の高圧水銀灯（３kWタイプ、照射エネルギー密度３００mJ/cm2）を用い、紫外線照射エネルギー密度を６００mW/cm2としたほかはサンプルNo. １と同様にして、光記録ディスクサンプルを作製した。
【００９６】
サンプルNo. ３
接着層の形成に用いる紫外線硬化型樹脂をナガセケムテックス社製のＴ６９５／ＵＲ６２１とし、紫外線源としてウシオ電機社製のマルチライト（２５０W タイプ）を用い、紫外線照射エネルギー密度を５０mW/cm2としたほかはサンプルNo. １と同様にして、光記録ディスクサンプルを作製した。
【００９７】
サンプルNo. ４
第１誘電体層表面に、紫外線硬化型樹脂（日本化薬社製のＢ８、２５℃における粘度５，０００cP）をスピンコートにより塗布し、紫外線を照射することにより厚さ１００μｍの光透過層としたほかはサンプルNo. １と同様にして、光記録ディスクサンプルを作製した。なお、紫外線照射条件は、サンプルNo. ２の接着層硬化条件と同じとした。
【００９８】
サンプルNo. ５（比較）
ＴＤＫ株式会社製のＤＶＤ−ＲＡＭ（片面２．６GBタイプ）であり、記録再生用レーザー光が、厚さ０．６mmのポリカーボネート基体を通して入射する構造である。
【００９９】
サンプルNo. ６（比較）
ＴＤＫ株式会社製のＤＶＤ−ＲＡＭ（両面５．２GBタイプ）であり、記録再生用レーザー光が、厚さ０．６mmのポリカーボネート基体を通して入射する構造である。
【０１００】
評価
上記各サンプルのレーザー光入射面について、ANSI B46.1に規定された粗さパラメータ（中心線平均粗さＲａ、最大粗さＲｔ、中心線うねりＷａおよび最大うねりＷｔ）を測定した。これらの粗さパラメータは、レーザー光入射面の半径４０mmの位置において測定した。測定方向は、サンプルの周方向に対する接線方向であり、測定長さは２０mmとした。この測定を５回繰り返して平均値を求めた。なお、最大うねりＷｔ測定の際の条件は、本発明で限定する前記測定条件とした。結果を表２に示す。
【０１０１】
また、上記各サンプルについて、線速度を低速から高速まで変えながら、フォーカス感度曲線のｐ−ｐ値（Ｆ）に対するフォーカスエラー信号の残留エラー分（Ｒ）の比率Ｒ／Ｆを測定し、Ｒ／Ｆが１０％を超えない最も速い線速度Ｖmax を求めた。結果を表２に示す。なお、サンプルNo. １〜４については測定条件を
レーザー波長：４０５nm、
開口数ＮＡ：０．８５
とし、サンプルNo. ５〜６については測定条件をＤＶＤ−ＲＡＭと同じに、すなわち
レーザー波長：６３５nm、
開口数ＮＡ：０．６０
とした。
【０１０２】
【表２】
2010153036.tif 000004
【０１０３】
表２から、まず、Ｖmax がサンプルによって異なることがわかる。また、Ｖmax は、ＲａおよびＲｔとは相関せず、ＷａおよびＷｔと相関することがわかる。図２に、横軸を線速度Ｖとし、縦軸を最大うねりＷｔとしたグラフを示す。図２には、上記各サンプルにおけるＶmax とＷｔとの関係をプロットし、また、
Ｗｔ＝１８４０ｅ-0.04V
で表される曲線を併記してある。
【０１０４】
図２にプロットしたＷｔをもつ各サンプルを、前記Ｒ／Ｆが１０％以下となるように使用するためには、使用線速度Ｖを各サンプルのＶmax より遅くする必要があるが、図２では、いずれのサンプルも
Ｗｔ＝１８４０ｅ-0.04V
で表される曲線より上側に存在する。したがって、
Ｗｔ≦１８４０ｅ-0.04V
を満足する線速度Ｖで使用した場合、いずれのサンプルにおいても前記Ｒ／Ｆは１０％以下となる。
【０１０５】
なお、図２において、市販のＤＶＤ−ＲＡＭであるサンプルNo. ５〜６は、サンプルNo. １に比べＷｔが著しく大きいにもかかわらず、サンプルNo. １よりＶmax が速い。そのため
Ｗｔ≦１８４０ｅ-0.04V
よって限定される線速度Ｖよりも大幅に速い線速度で使用することが可能である。その理由は、サンプルNo. ５〜６におけるＲ／Ｆの測定条件をＤＶＤ−ＲＡＭの再生条件と同じとしたからである。すなわち、サンプルNo. １〜４では、光入射面におけるビームスポット径が約１２０μｍであるため、Ｗｔの制御が有効であるが、サンプルNo. ５〜６では光入射面におけるビームスポット径が約４９０μｍと極めて大きいため、Ｗｔを制御する必要がない。
【図１】
2010153036.tif 000005
【図２】
2010153036.tif 000006