(57)【要約】【課題】複数の記録層を有する多層記録媒体を歩留まり良く製造することが可能な、光学式記録媒体の初期化方法及び初期化装置を提供すること。【解決手段】透明分離層によって隔てられた複数の記録層を有する光学式記録媒体を製造する中間工程として、記録層上に塗布した紫外線硬化樹脂にスタンパ基板を密着させた状態で紫外線を照射して樹脂を硬化させる透明分離層硬化工程と、前記スタンパ基板を剥離させて透明分離層を形成するスタンパ基板剥離工程と、初期化用光ビームを照射して記録層を初期化する初期化工程を有し、少なくとも１つの記録層の初期化工程を前記少なくとも１つの記録層の次に設けられる透明分離層の透明分離層硬化工程とスタンパ基板剥離工程の間に行うことによって、透明分離層へのダストの付着を抑制し、欠陥の少ない光学式記録媒体を製造することが可能となる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明分離層によって隔てられた複数の記録層を有する光学式記録媒体の初期化方法であって、記録層上に塗布した紫外線硬化樹脂にスタンパ基板を密着させた状態で紫外線を照射して樹脂を硬化させる透明分離層硬化工程と、前記スタンパ基板を剥離させて透明分離層を形成するスタンパ基板剥離工程と、初期化用光ビームを照射して記録層を初期化する初期化工程を有し、少なくとも１つの記録層の初期化工程を前記少なくとも１つの記録層の次に設けられる透明分離層の透明分離層硬化工程とスタンパ基板剥離工程の間に行うことを特徴とする、光学式記録媒体の初期化方法。
【請求項２】
前記初期化工程において、前記スタンパ基板の側から前記少なくとも１つの記録層に初期化用光ビームを照射して初期化することを特徴とする請求項１に記載の光学式記録媒体の初期化方法。
【請求項３】
前記スタンパ基板が前記初期化用光ビームに対して透明である請求項１に記載の光学式記録媒体の初期化方法。
【請求項４】
前記光学式記録媒体が、少なくとも、基板上に設けられた第１の記録層と、前記第１の記録層上に設けられた第１の透明分離層と、前記第１の透明分離層上に設けられた第２の記録層と、前記第２の記録層上に設けられた第２の透明分離層と、前記第２の透明分離層上に設けられた第３の記録層と、最も上部の記録層の上に設けられた保護膜を有することを特徴とする請求項１に記載の光学式記録媒体の初期化方法。
【請求項５】
前記第１および第２の記録層の初期化工程を前記第２の透明分離層の透明分離層硬化工程とスタンパ基板剥離工程の間に行うことを特徴とする請求項４記載の光学式記録媒体の製造方法。
【請求項６】
最も上部の記録層の初期化工程を前記保護膜の形成工程の後に行うことを特徴とする請求項５記載の光学式記録媒体の初期化方法。
【請求項７】
前記光学式記録媒体の最も薄い透明分離層の厚さが２０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学式記録媒体の初期化方法。
【請求項８】
前記記録層は、レーザー光等の照射によって、アモルファス状態と結晶状態の間で可逆的に変化することを特徴とする請求項１に記載の光学式記録媒体の初期化方法。
【請求項９】
光学式記録媒体の初期化装置であって、前記光学式記録媒体の記録層に光ビームを照射する光学ヘッドの光学系が前記スタンパ基板と透明分離層を通して集光したときに前記光ビームの収差が最小となるように設定されていることを特徴とする光学式記録媒体の初期化装置。
【請求項１０】
前記光学ヘッドが、前記スタンパ基板および透明分離層等の樹脂層を通して集光したときに光ビームの収差が最小となる前記樹脂層の厚さを変化させる光路補正手段を有することを特徴とする請求項９に記載の光学式記録媒体の初期化装置。
【請求項１１】
光路補正手段が液晶素子である請求項１０に記載の初期化装置。
【請求項１２】
光路補正手段がレンズである請求項１０に記載の初期化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザー光等の照射により情報の記録再生を行う記録層を備えた光学式記録媒体の初期化方法および初期化装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
大容量で高密度なメモリーとして光学式記録媒体が注目されており、現在、書換えが可能な消去型と呼ばれるものの開発が進められている。この消去型光学式記録媒体の一つとして、アモルファス状態と結晶状態の間で相変化する薄膜を記録層として用い、レーザー光の照射による熱エネルギーによって情報の記録及び消去を行うものがある。
【０００３】
この記録層用の相変化材料としては、Ｇｅ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｉｎ等を主成分とする合金膜、例えばＧｅＳｂＴｅ合金が知られている。情報の記録は記録層を部分的にアモルファス化して記録マークを形成して行う。情報の消去は、通常、この記録マークを結晶化することによって行う場合が多い。アモルファス化は記録層を融点以上に加熱した後に冷却することによって行われる。一方、結晶化は記録層を結晶化温度以上、融点以下の温度に加熱することによって行われる。また、記録層の成膜はスパッタリングによって行われるのが一般的であるが、このスパッタリングによって形成された前記相変化材料の薄膜は、ほとんどの場合アモルファス状態となる。したがって、情報を記録する前に予め記録層を結晶状態にしておく必要がある。この処理を初期化と呼ぶ。製造コスト低減のためには初期化に要する時間の短縮が求められる。そのためには、大きなビームスポットの光ビームを用いて、記録層の広い領域を同時に初期化する必要があり、初期化用光ビームとしては高出力を得やすい波長約８１０ｎｍのレーザー光が一般に用いられている。
【０００４】
また、最近では、各種情報機器の処理能力の向上に伴い、扱われる情報量が大きくなっている。そのために、より大容量かつ高速な記録再生が可能な記録媒体が求められている。この大容量化と高速化の手段として、短波長の光ビームで記録再生できるとともに、複数の記録層を備え、片側の面からそれぞれの記録層に情報を記録再生することのできる多層記録媒体の開発が進められている。図１０は、この多層記録媒体の一例の概略を示す断面図である。記録媒体１００は、ポリカーボネートからなる外径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍの基板１０１上に第１の記録層１０２、第２の記録層１０４、第３の記録層１０６を透明分離層１０３、１０５を介して設け、その上に紫外線硬化樹脂からなる保護膜１０７を形成したものである。保護膜１０７側から全ての記録層に対して情報の記録および再生が行われる。
【０００５】
前記透明分離層１０３、１０５は、前記記録層１０２、１０４上に塗布した紫外線硬化樹脂にポリカーボネートなどの樹脂からなるスタンパ基板を密着させた状態で、ｌ紫外線を照射して樹脂を硬化した後にスタンパ基板を剥離させて形成することができる（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
このような多層記録媒体の初期化方法としては、各記録層をその次に設ける透明分離層の形成直後に行う方法、例えば、図１０における記録媒体１００において、透明分離層１０３の形成直後に記録層１０２を初期化し、透明分離層１０５形成直後に記録層１０４を初期化、保護膜１０７形成後に記録層１０６を初期化する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００２−２６０３０７号公報
【特許文献２】特開２００３−１３２５９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、前記従来の初期化方法では、各透明分離層の表面が露出した状態で初期化の作業を行うため、前記透明分離層の表面への微小なダストの付着が避けられない。透明分離層の表面は次に形成する記録層に直接触れるために、付着したダストは、前記記録層における欠陥の原因となる。特に、波長の短いレーザー光で高密度に情報を記録する記録媒体では、小さな欠陥でも記録信号への影響が大きく、記録した情報の誤り率が高くなるため、この透明分離層へのダストの付着によって、製造時の歩留まりが低下するという問題があった。
【０００８】
本発明は上記従来の課題を解決するもので、複数の記録層を有する多層記録媒体を歩留まり良く製造することが可能な、光学式記録媒体の初期化方法及び初期化装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために本発明の初期化方法は、透明分離層によって隔てられた複数の記録層を有する光学式記録媒体を製造する中間工程として、記録層上に塗布した紫外線硬化樹脂にスタンパ基板を密着させた状態で紫外線を照射して樹脂を硬化させる透明分離層硬化工程と、前記スタンパ基板を剥離させて透明分離層を形成するスタンパ基板剥離工程と、初期化用光ビームを照射して記録層を初期化する初期化工程を有し、少なくとも１つの記録層の初期化工程を前記少なくとも１つの記録層の次に設けられる透明分離層の透明分離層硬化工程とスタンパ基板剥離工程の間に行うことを特徴とする。
【００１０】
これによって、透明分離層へのダストの付着を抑制し、欠陥の少ない光学式記録媒体を製造することが可能となる。
【００１１】
また、本発明の初期化装置は、初期化用光ビームを照射する光学ヘッドの光学系が前記スタンパ基板と透明分離層を通して集光したときに光ビームの収差が最小となるように設定されていることを特徴とする。
【００１２】
これによって、透明分離層の形成過程において、スタンパ基板が密着した状態で記録層の初期化を行い、透明分離層へのダストの付着を抑制し、欠陥の少ない光学式記録媒体を製造することが可能となる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の初期化方法および初期化装置によれば、初期化工程で生じる欠陥を低減し、複数の記録層を有する多層記録媒体を歩留まり良く製造することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００１５】
（実施の形態１）
図１は本発明の実施の形態１における光学式記録媒体の初期化装置の構成図であり、図１０で説明した３つの記録層を有する記録媒体１００の中間工程で、透明分離層１０３を形成するためのスタンパ基板１３１を密着させた状態のものを設置している。
【００１６】
図１０において、透明分離層１０３、１０５の厚さは、それぞれ約２５μｍ、２０μｍであり、保護膜１０７の厚さは、約５５μｍである。また、基板１０１および透明分離層１０３、１０５上には、深さ約２０ｎｍ、幅約０．２μｍ、ピッチ約０．３２μｍの溝によって形成され、記録再生時にレーザー光をトラッキングする案内溝（図示せず）が設けられている。
【００１７】
透明分離層１０３および１０５の形成方法を図６（ａ）〜（ｃ）および図７（ａ）〜（ｃ）に示す。図６（ｂ）および図７（ｂ）において、スタンパ基板１３１および１３３は、射出成型によって形成した外径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板であり、一方の面に深さ約２０ｎｍ、幅約０．２μｍ、ピッチ約０．３２μｍの溝が形成されている。
【００１８】
透明分離層１０３の形成において、まず、図６（ａ）のように記録層１０２上に紫外線硬化樹脂１３２を塗布する。次に、図６（ｂ）のようにスタンパ基板１３１の溝が形成された面を紫外線硬化樹脂１３２に密着させて、紫外線２０５を照射し、紫外線硬化樹脂１３２を硬化させる。その後、図６（ｃ）のように前記スタンパ基板１３１を前記紫外線硬化樹脂１３２から剥離させる。これによって、前記紫外線硬化樹脂１３２の表面に案内溝が形成され、図１０における透明分離層１０３となる。
【００１９】
前記透明分離層１０５も同様の方法で形成される。まず、図７（ａ）のように記録層１０４上に紫外線硬化樹脂１３２を塗布する。次に、図７（ｂ）のようにスタンパ基板１３３の溝が形成された面を紫外線硬化樹脂１３２に密着させて、紫外線２０５を照射し、紫外線硬化樹脂１３２を硬化させる。その後、図７（ｃ）のように前記スタンパ基板１３３を前記紫外線硬化樹脂１３２から剥離させる。これによって、前記紫外線硬化樹脂１３２の表面に案内溝が形成され、図１０における透明分離層１０５となる。
【００２０】
記録媒体１００のさらに詳細な構造を図１１に示す。図１１において、記録層１０２は、誘電体材料ＺｎＳ−ＳｉＯ２からなる保護層１１０、ＧｅＳｂＴｅ薄膜からなる相変化層１１１、ＺｎＳ−ＳｉＯ２からなる保護層１１２、Ａｇ合金薄膜からなる反射層１１３の多層薄膜で構成されている。また、記録層１０４および１０６は、それぞれ、ＺｎＳ−ＳｉＯ２からなる保護層１１４、１１９、ＧｅＳｂＴｅ薄膜からなる相変化層１１５、１２０、ＺｎＳ−ＳｉＯ２からなる保護層１１６、１２１、Ａｇ合金薄膜からなる反射層１１７、１２２、誘電体材料ＴｉＯ２からなる光透過率調整層１１８、１２３の多層薄膜で構成されている。
【００２１】
図１において、初期化装置１は、スピンドルモータ２、光学ヘッド３、前記光学ヘッド３を設置した移送台４、前記移送台を所望の位置に移動させる移動手段５、焦点位置制御回路６、コントローラ７から構成されている。
【００２２】
光学ヘッド３の構造を図２に示す。波長８１０ｎｍの半導体レーザからなる光源２１から出射された初期化用光ビーム２８はコリメータレンズ２２、ビームスプリッター２３、１／４波長板２４、対物レンズ２５を通して記録媒体に集光される。この集光された初期化用光ビーム２８は、ボイスコイル２６により対物レンズ２５の位置を調整することによって、記録媒体中の記録層に焦点を合わせられる。前記初期化用光ビーム２８の焦点位置でのスポット形状は、記録媒体の径方向に１００μｍ、周方向に１μｍの長さの長円形に成形されている。記録層から反射された初期化用光ビームは再び対物レンズ２５、１／４波長板２４を通り、ビームスプリッター２３で反射されてフォーカスエラー検出器２７に入射し、フォーカスエラー信号に変換される。前記フォーカスエラー信号は、図１における焦点位置制御回路６に出力される。
【００２３】
このとき、前記光学ヘッド３の光学系は、前記スタンパ基板１３１および前記透明分離層１０３を通して集光したときに、光ビームの収差が最小となるように設定されるのが好ましい。
【００２４】
コントローラ７は、スピンドルモータ２や移動手段５の駆動、初期化用光ビーム２８の強度設定に加え、焦点位置制御回路６を動作させ、初期化動作全体を制御する。焦点位置制御回路６は、図２におけるボイスコイル２６を駆動して、初期化用光ビーム２８の焦点位置を制御する。
【００２５】
図３は、本実施形態における初期化方法を含む光学式記録媒体の製造方法の概略を示すフローチャートであり、図６、図７および図１０を参照しながら説明する。最初に、Ｓ１で射出成型によって基板１０１を形成する。次に、Ｓ２で前記基板１０１上にスパッタリングによって第１の記録層１０２を形成する。その後、Ｓ３で前記第１の記録層１０２上に紫外線硬化樹脂１３２を塗布し、Ｓ４でスタンパ基板１３１の溝が形成された面を紫外線硬化樹脂１３２に密着させ、Ｓ５で紫外線２０５を照射して紫外線硬化樹脂１３２を硬化させる。次に、Ｓ６で第１の記録層１０２を初期化し、Ｓ７で前記スタンパ基板１３１を前記紫外線硬化樹脂１３２から剥離させて、第１の透明分離層１０３を形成する。
【００２６】
Ｓ８で前記第１の透明分離層１０３上にスパッタリングによって第２の記録層１０４を形成した後、Ｓ３〜Ｓ７と同様に、Ｓ９で前記第２の記録層１０４上に紫外線硬化樹脂１３２を塗布し、Ｓ１０でスタンパ基板１３３の溝が形成された面を紫外線硬化樹脂に密着させ、Ｓ１１で紫外線を照射して紫外線硬化樹脂１３２を硬化させ、Ｓ１２で前記第２の記録層１０４を初期化し、Ｓ１３でスタンパ基板１３３を紫外線硬化樹脂から剥離させて、第２の透明分離層１０５を形成する。
【００２７】
Ｓ１４で前記第２の透明分離層１０５上にスパッタリングによって第３の記録層１０６を形成した後、Ｓ１５でスピンコート法などにより保護膜１０７を形成し、Ｓ１６で前記第３の記録層１０６を初期化する。
【００２８】
図４は、図３における第１の記録層の初期化工程Ｓ６の内容を示すフローチャートであり、図１および図２を参照しながら説明する。コントローラ７は、最初に、Ｓ２０１で初期設定を行う。具体的には、記録媒体１００を装着したスピンドルモータ２を所定の速度で回転させて、移送台４を初期化開始位置に移動し、初期化用光ビーム２８の焦点が第１の記録層１０２に概ね合うように対物レンズ２６の位置を調整する。このときの記録層１０２の位置は、スタンパ基板１３１および前記透明分離層１０３の厚さから決まるもので、予め定められている。
【００２９】
次に、Ｓ２０２で初期化用光ビーム２８を発光させ、焦点位置制御回路６によって初期化用光ビーム２８の焦点を光軸方向に所定の距離、例えば±５μｍ移動させて、第１の記録層１０２を部分的に初期化する。
【００３０】
その後、Ｓ２０３で焦点位置制御回路６を動作させて、初期化用光ビーム２８の焦点を第１の記録層１０２のＳ２０２で部分的に初期化された場所に合わせる。そして、Ｓ２０４で初期化用光ビーム２８のフォーカス外れが発生したかどうかを検出し、フォーカス外れが発生した場合にはＳ２０７で初期化用光ビーム２８を消光し、スピンドルモータ２の回転を停止して、初期化動作を終了する。フォーカス外れがない場合にはＳ２０５で記録媒体１回転あたり例えば５０μｍの送りピッチで移送台４を記録媒体１００の径方向に移動させながら、記録層１０２の初期化を継続する。そして、Ｓ２０６で移送台４が初期化終了位置に達したかどうかを判定し、初期化終了位置に達していない場合にはＳ２０４からＳ２０６を繰り返す。初期化終了位置に達したと判定した場合にはＳ２０７で初期化用光ビーム２８を消光し、スピンドルモータ２の回転を停止して、初期化動作を終了する。
【００３１】
Ｓ１２およびＳ１６の内容は、図４で説明したＳ６の内容と同様であり、個別の説明は省略する。
【００３２】
以上の構成により、本実施形態の初期化方法および初期化装置によれば、透明分離層形成工程中に、スタンパ基板が密着した状態で記録層の初期化を行うので、透明分離層へのダストの付着を抑制し、欠陥の少ない光学式記録媒体を製造することが可能となる。
【００３３】
また、本実施形態と同じ構造の光学式記録媒体を、特許文献２記載の従来の方法、つまり、スタンパ基板１３１を剥離して透明分離層１０３の形成を完了した状態で記録層１０２を初期化し、スタンパ基板１３３を剥離して透明分離層１０５形成を完了した状態で記録層１０４を初期化した場合には、完成時の光学式記録媒体の径方向の反りが約０．７度であったのに対して、本実施形態では完成時の光学式記録媒体の径方向の反りが約０．３度に改善した。これは、以下の理由によるものと考えられる。光学式記録媒体の径方向の反りは、記録層が基板の片側にのみ配置された非対称な構造であり、この記録層における相変化層が初期化によってアモルファス状態から結晶状態に変化して収縮することによって生じる。しかし、記録層に対して基板と反対側にスタンパ基板を密着させた状態で初期化を行った場合、機械的強度が増すとともに構造の対称性も高くなるため、相変化層の面方向の収縮は抑制され、膜厚方向に振り向けられる。したがって、記録層の面方向の応力が低減し、その結果、光学式記録媒体の径方向の反りが低減したと考えられる。
【００３４】
なお、初期化用光ビームに対して、未初期化状態での反射率が十分高い記録層では、Ｓ２０２の部分初期化を省略して、以降の工程を行っても良い。
【００３５】
また、Ｓ２０３でフォーカス引き込みの成否を検出し、フォーカス引き込みができなかった場合にはＳ２０２の部分初期化以降を再度行っても良い。
【００３６】
（実施の形態２）
図５は本発明の実施の形態２における初期化方法を含む光学式記録媒体の製造方法の概略を示すフローチャートであり、図６、図７および図１０を参照しながら説明する。最初に、Ｓ１０１で射出成型によって基板１０１を形成する。次に、Ｓ１０２で前記基板１０１上にスパッタリングによって第１の記録層１０２を形成する。その後、Ｓ１０３で前記第１の記録層１０２上に紫外線硬化樹脂１３２を塗布し、Ｓ１０４でスタンパ基板１３１の溝が形成された面を紫外線硬化樹脂１３２に密着させ、Ｓ１０５で紫外線２０５を照射して紫外線硬化樹脂１３２を硬化させる。次に、Ｓ１０６で前記スタンパ基板１３１を前記紫外線硬化樹脂１３２から剥離させて、第１の透明分離層１０３を形成する。
【００３７】
Ｓ１０７で前記第１の透明分離層１０３上にスパッタリングによって第２の記録層１０４を形成した後、Ｓ１０８で前記第２の記録層１０４上に紫外線硬化樹脂を塗布し、Ｓ１０９でスタンパ基板の溝が形成された面を前記紫外線硬化樹脂に密着させ、Ｓ１１０で紫外線を照射して前記紫外線硬化樹脂を硬化させる。次に、Ｓ１１１で前記第１の記録層１０２を初期化し、Ｓ１１２で前記第２の記録層１０４を初期化する。その後、Ｓ１１３でスタンパ基板を前記紫外線硬化樹脂から剥離させて、第２の透明分離層１０５を形成する。
【００３８】
Ｓ１１４で前記第２の透明分離層１０５上にスパッタリングによって第３の記録層１０６を形成した後、Ｓ１１５でスピンコート法などにより保護膜１０７を形成し、Ｓ１１６で前記第３の記録層１０６を初期化する。
【００３９】
各記録層の初期化工程Ｓ１１１、Ｓ１１２およびＳ１１６の内容は、図４で説明した実施の形態１と同様であるが、第１の記録層の初期化工程Ｓ１１１の終了時、つまり図４におけるＳ２０７において、スピンドルモータ２の回転を停止しないことが好ましい。また、第２の記録層の初期化工程Ｓ１１２の開始時、つまり図４における初期設定Ｓ２０１において、初期化開始位置を第１の記録層の初期化終了位置と同じ半径位置とすることが好ましい。例えば、第１の記録層を内周から外周に向けて初期化した後、第２の記録層を外周から内周に向けて初期化することで、Ｓ１１１からＳ１１２への移行に要する時間が短縮できる。
【００４０】
図８はＳ１１１およびＳ１１２における初期化装置１１の構成図であり、図１０で説明した３つの記録層を有する記録媒体１００の中間工程で、透明分離層１０５を形成するためのスタンパ基板１３３を密着させた状態のものを設置している。記録媒体の形態および光学ヘッド８を除いて、図１で説明した実施の形態１における初期化装置１と同じ構成であり、同じ構成要素には同じ番号を付して説明は省略する。
【００４１】
光学ヘッド８の構造を図９に示す。波長８１０ｎｍの半導体レーザからなる光源２１から出射された初期化用光ビーム２８は、例えば液晶素子からなる光路補正手段２９、コリメータレンズ２２、ビームスプリッター２３、１／４波長板２４、対物レンズ２５を通して記録媒体に集光される。この集光された初期化用光ビーム２８は、ボイスコイル２６により対物レンズ２５の位置を調整することによって、記録媒体中の記録層に焦点を合わせられる。前記初期化用光ビーム２８の焦点位置でのスポット形状は、記録媒体の径方向に１００μｍ、周方向に１μｍの長さの長円形に成形されている。記録層から反射された初期化用光ビームは再び対物レンズ２５、１／４波長板２４を通り、ビームスプリッター２３で反射されてフォーカスエラー検出器２７に入射し、フォーカスエラー信号に変換される。前記フォーカスエラー信号は、図８における焦点位置制御回路６に出力される。
【００４２】
このとき、光路補正手段２９を調整することによって、スタンパ基板および透明分離層等の樹脂層を通して集光したときに光ビームの収差が最小となる前記樹脂層の厚さを変化させ、第１の記録層の初期化工程Ｓ１１１では、スタンパ基板１３３および透明分離層１０５、第２の記録層１０４、透明分離層１０３を通して集光したときに光ビームの収差が最小となるように設定し、第２の記録層の初期化工程Ｓ１１２では、スタンパ基板１３３および透明分離層１０５を通して集光したときに、光ビームの収差が最小となるように設定するのが好ましい。
【００４３】
以上の構成により、本実施形態の初期化方法および初期化装置によれば、透明分離層の形成過程において、スタンパ基板が密着した状態で記録層の初期化を行うので、透明分離層へのダストの付着を抑制し、欠陥の少ない光学式記録媒体を製造することが可能となる。さらに、第１の記録層と第２の記録層を連続して初期化することにより、初期化装置への光学式記録媒体の着脱や起動および停止に要する時間を短縮することができる。また、完成時の光学式記録媒体の径方向の反りも約０．３度で、良好であった。
【００４４】
なお、初期化用光ビームに対して、未初期化状態での反射率が十分高い記録層では、Ｓ２０２の部分初期化を省略して、以降の工程を行っても良い。
【００４５】
また、Ｓ２０３でフォーカス引き込みの成否を検出し、フォーカス引き込みができなかった場合にはＳ２０２の部分初期化以降を再度行っても良い。
【００４６】
また、本実施形態では、光路補正手段２９を液晶素子としたが、例えば圧電素子などによる可動機構を備えたレンズによって構成しても良いし、設置場所はコリメータレンズ２２とビームスプリッター２３の間でも良い。さらに、透明分離層１０３の厚さが、その有無による初期化用光ビーム２８のスポット形状の変化が初期化性能に影響を与えない程度である場合などは、前記光路補正手段２９を設けなくても良い。
【００４７】
前記実施の形態１および２において、初期化用光ビームの波長、対物レンズの開口数、スポット径は、初期化の対象となる記録媒体における記録層の光学特性、スタンパ基板の厚さ等に応じて、適宜設計できる。また、初期化を行う記録媒体の記録層の数は特に限定されるものではないが、３つ以上の記録層を備えた記録媒体に対して特に効果を発揮する。また、フォーカスサーボは、ナイフエッジ法、非点収差法などの一般的な方法で行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
本発明にかかる初期化方法および初期化装置は、レーザー光等の照射により情報の記録再生を行う記録層を有する光学式記録媒体を初期化するにあたって、透明分離層によって隔てられた複数の記録層を有する光学式記録媒体を製造する中間工程として、記録層上に塗布した紫外線硬化樹脂にスタンパ基板を密着させた状態で紫外線を照射して樹脂を硬化させる透明分離層硬化工程と、前記スタンパ基板を剥離させて透明分離層を形成するスタンパ基板剥離工程と、初期化用光ビームを照射して記録層を初期化する初期化工程を有し、少なくとも１つの記録層の初期化工程を前記少なくとも１つの記録層の次に設けられる透明分離層の透明分離層硬化工程とスタンパ基板剥離工程の間に行うものであり、透明分離層へのダストの付着を抑制し、欠陥の少ない光学式記録媒体を製造することができるという効果を有し、特に３つ以上の記録層を備えた多層記録媒体の初期化等に有用である。また、カード状など他の形状の記録媒体にも応用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の実施形態１における初期化装置を示す構成図
【図２】本発明の実施形態１における初期化装置の要部を示す構成図
【図３】本発明の実施形態１における初期化方法を含む光学式記録媒体の製造方法の概略を示すフローチャート
【図４】本発明の実施形態１および２における初期化方法の要部を示すフローチャート
【図５】本発明の実施形態２における初期化方法を含む光学式記録媒体の製造方法の概略を示すフローチャート
【図６】本発明の実施形態１および２における光学式記録媒体の第１の透明分離層の形成方法の説明図
【図７】本発明の実施形態１および２における光学式記録媒体の第２の透明分離層の形成方法の説明図
【図８】本発明の実施形態２における初期化装置を示す構成図
【図９】本発明の実施形態２における初期化装置の要部を示す構成図
【図１０】本発明の実施対象となる光学式記録媒体の一例を示す断面図
【図１１】本発明の実施対象となる光学式記録媒体の一例の詳細を示す断面図
【符号の説明】
【００５０】
１，１１    初期化装置
２    スピンドルモータ
３，８    初期化用光学ヘッド
４    移送台
５    移動手段
６    焦点位置制御回路
７    コントローラ
２１    光源
２２    コリメータレンズ
２３    ビームスプリッター
２４    １／４波長板
２５    対物レンズ
２６    ボイスコイル
２７    フォーカスエラー検出器
２８    初期化用光ビーム
２９    光路補正手段
１００    記録媒体
１０２，１０４，１０６    記録層
１０３，１０５    透明分離層
１０７    保護膜
１１１，１１５，１２０    相変化膜
１３１，１３３    スタンパ基板
１３２    紫外線硬化樹脂
２０５    紫外線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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