(57)【要約】【課題】透明性、転写性、打ち抜き適正などに優れ、薄肉・大画面化が図られた導光板に適用可能な多層光学シートを提供する。【解決手段】芳香族ポリカーボネート樹脂組成物からなる基材層と、その少なくとも片面に積層された表層とを有する、厚さ０．１〜１ｍｍ、かつ、全光線透過率９１．０％以上の多層光学シートであって、（ａ）前記芳香族ポリカーボネート樹脂組成物が、粘度平均分子量１７，０００〜２３，０００の芳香族ポリカーボネートと、その１００質量部に対して、酸化防止剤０．０１〜１質量部を含有すること、及び（ｂ）前記表層の厚さが２０〜１００μｍであり、かつ該表層を構成する透明樹脂における、温度２８０℃及びせん断速度１００ｓ-1の条件で測定したキャピラリー粘度が３００Ｐａ・ｓ以下であること、を特徴とする多層光学シートである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族ポリカーボネート樹脂組成物からなる基材層と、その少なくとも片面に積層された表層とを有する、厚さ０．１〜１．１ｍｍ、かつ、全光線透過率９１．０％以上の多層光学シートであって、
（ａ）前記芳香族ポリカーボネート樹脂組成物が、粘度平均分子量１７，０００〜２３，０００の芳香族ポリカーボネートと、その１００質量部に対して、酸化防止剤０．０１〜１質量部を含有すること、及び
（ｂ）前記表層の厚さが２０〜１００μｍであり、かつ該表層を構成する透明樹脂における、温度２８０℃及びせん断速度１００ｓ-1の条件で測定したキャピラリー粘度が３００Ｐａ・ｓ以下であること、
を特徴とする多層光学シート。
【請求項２】
前記基材層及び表層を共押出して得られる請求項１記載の多層光学シート。
【請求項３】
前記芳香族ポリカーボネート樹脂組成物が、前記芳香族ポリカーボネート１００質量部に対して、さらに熱可塑性アクリル系樹脂０．０１〜１質量部を含有する請求項１又は２記載の多層光学シート。
【請求項４】
前記透明樹脂がアクリル系樹脂又は芳香族ポリカーボネートである請求項１〜３のいずれかに記載の多層光学シート。
【請求項５】
前記表層に、熱転写による凹凸パターンが形成されている請求項１〜４のいずれかに記載の多層光学シート。
【請求項６】
転写用金型の凹凸パターン深さを１００％としたとき、転写された多層光学シートの凹凸パターンの対応する高さが９０％以上である請求項５記載の多層光学シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に導光板に用いられる多層光学シートに関する。さらに詳しくは、特定の熱可塑性樹脂を特定の条件下で押出成形し、シートの固体構造における高次構造、層構成を制御することにより得られる、透明性、導光性、転写性に優れた多層光学シートに関する。
【０００２】
近年、携帯電話、携帯音楽プレイヤー、ノートパソコンなどモバイル電子機器の普及に伴い、これら製品機器の薄型化・画面拡大化が図られてきている。ＬＥＤ光源の薄型化技術の発展と共にこれに搭載される液晶ディスプレイ用バックライトもまた薄型化・画面拡大化の検討が活発に行われている。バックライトを構成する部材の中でも導光板が製品サイズを支配することから、導光板の薄型化と画面拡大化の検討が重視されてきている。
具体的には、既に厚さ０．８ｍｍであったものが０．６〜０．４ｍｍに薄肉化され、最近では０．３ｍｍ以下の０．２ｍｍへとさらなる薄肉化が進められている。これら薄肉化はＬＥＤ光源の薄肉化に伴うものである。一方、画面サイズは１．８〜２．８インチ程度であったものが、近々３〜３．５インチへと拡大しつつある。さらには、ノートパソコンにおいてもＣＣＦＬ光源からのＬＥＤ光源化が進み、１２インチクラスの画面サイズについても厚さ０．４〜０．６ｍｍの導光板採用への検討が試みられている。
モバイル機器用のバックライトに用いられる導光板はポリカーボネート樹脂製のものが主流である。これらは主として射出成形法によりポリカーボネート樹脂を板状に成形すると同時にその表面にバックライトを均一発光させる目的で光学設計された微細な凹凸が形成される。
【０００３】
特許文献１〜５には、ポリカーボネート樹脂層にアクリル樹脂層を積層してなるポリカーボネート樹脂積層体が開示されており、表面硬度、透明性、耐衝撃性、耐候性などに優れるとされている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２１９３３０号公報
【特許文献２】特開２００５−２２５０１８号公報
【特許文献３】特開２００６−１０３１６９号公報
【特許文献４】特開２００７−１６０８９２号公報
【特許文献５】特開２００７−２３７７００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、本発明者らは、上記特許文献１〜５記載の発明において用いられている芳香族ポリカーボネートは、粘度平均分子量が大きすぎるため、透明性に劣ることを見出した。
本発明はかかる問題を解決するためになされたものであり、透明性、転写性、打ち抜き適正などに優れ、薄肉・大画面化が図られた導光板に適用可能な多層光学シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、かかる課題を解決するために鋭意研究したところ、特定の粘度分子量を有する芳香族ポリカーボネート樹脂と、特定のキャピラリー粘度を有する透明樹脂を用いて、それぞれ特定の膜厚の層を形成させて積層体とすることで、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成した。
【０００７】
すなわち、本発明は、
１．芳香族ポリカーボネート樹脂組成物からなる基材層と、その少なくとも片面に積層された表層とを有する、厚さ０．１〜１．１ｍｍ、かつ、全光線透過率９１．０％以上の多層光学シートであって、
（ａ）前記芳香族ポリカーボネート樹脂組成物が、粘度平均分子量１７，０００〜２３，０００の芳香族ポリカーボネートと、その１００質量部に対して、酸化防止剤０．０１〜１質量部を含有すること、及び
（ｂ）前記表層の厚さが２０〜１００μｍであり、かつ該表層を構成する透明樹脂における、温度２８０℃及びせん断速度１００ｓ-1の条件で測定したキャピラリー粘度が３００Ｐａ・ｓ以下であること、
を特徴とする多層光学シート。
２．前記基材層及び表層を共押出して得られる上記１記載の多層光学シート、
３．前記芳香族ポリカーボネート樹脂組成物が、前記芳香族ポリカーボネート１００質量部に対して、さらに熱可塑性アクリル系樹脂０．０１〜１質量部を含有する上記１又は２記載の多層光学シート、
４．前記透明樹脂がアクリル系樹脂又は芳香族ポリカーボネートである上記１〜３のいずれかに記載の多層光学シート、
５．前記表層に、熱転写による凹凸パターンが形成されている上記１〜４のいずれかに記載の多層光学シート、及び
６．転写用金型の凹凸パターン深さを１００％としたとき、転写された多層光学シートの凹凸パターンの対応する高さが９０％以上である上記５記載の多層光学シート、
を提供するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、透明性、転写性、打ち抜き適正などに優れ、薄肉・大画面化が図られた導光板に適用可能な多層光学シートを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の多層光学シートは、芳香族ポリカーボネート樹脂組成物からなる基材層と、その少なくとも片面に積層された表層とを有する、厚さ０．１〜１．１ｍｍ、かつ、全光線透過率９１．０％以上の多層光学シートであって、
（ａ）前記芳香族ポリカーボネート樹脂組成物が、粘度平均分子量１７，０００〜２３，０００の芳香族ポリカーボネートと、その１００質量部に対して、酸化防止剤０．０１〜１質量部を含有すること、及び
（ｂ）前記表層の厚さが２０〜１００μｍであり、かつ該表層を構成する透明樹脂における、温度２８０℃及びせん断速度１００ｓ-1の条件で測定したキャピラリー粘度が３００Ｐａ・ｓ以下であること、
を特徴とする。
本発明の多層光学シートは、芳香族ポリカーボネートをベース樹脂として酸化防止剤を含有する芳香族ポリカーボネート樹脂組成物からなる基材層を有するため、シート成形時の黄変の低減が図られ、導光板にした際の輝度の向上が図られる。
【００１０】
また、本発明における芳香族ポリカーボネート樹脂組成物は、一般的な芳香族ポリカーボネート樹脂に比べ、３８０〜４５０ｎｍ付近の青色の可視光の透過率が高く、黄色度が低いため、本発明の多層光学シートは、基材層の材料として青色系色素（または顔料）を含有する必要がなく、従って、導光板の輝度特性の低下がない。青色系色素（または顔料）を含有させた場合、その配合量にもよるが、輝度数が１０％のオーダーで低下する。
【００１１】
（芳香族ポリカーボネート）
上記芳香族ポリカーボネートとしては、光学透明性、機械強度、耐熱性の観点から、粘度平均分子量１７，０００〜２３，０００のものであればよい。通常、２価フェノールとカーボネート前駆体との反応により製造される種々の芳香族ポリカーボネートを用いることができる。
【００１２】
２価フェノールとしては、様々なものが挙げられるが、特に、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド及びビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトンなどが挙げられる。これらの２価フェノールは、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
特に、好ましい２価フェノールとしては、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系、特にビスフェノールＡ又はビスフェノールＡを主原料としたものである。
【００１３】
カーボネート前駆体としては、例えばカルボニルハライド、カルボニルエステル及びハロホルメートなど、具体的にはホスゲン、２価フェノールのジハロホーメート、ジフェニルカーボネート、ジメチルカーボネート及びジエチルカーボネートなどが挙げられる。
【００１４】
また、芳香族ポリカーボネートは、分岐構造を有していてもよく、分岐剤としては、例えば１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、α，α’，α”−トリス（４−ビドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、フロログリシン、トリメリット酸及びイサチンビス（ｏ−クレゾール）などが挙げられる。
【００１５】
芳香族ポリカーボネートの粘度平均分子量は、１７，０００〜２３，０００であり、１７，０００〜２０，０００であると好ましい。粘度平均分子量が２３,０００を超えると、押出成形条件にもよるが、基材層が黄変したり、レターデーション値が大きくなりやすい。
また、本発明の多層光学シートの表面に、ロールエンボス成形またはプレス成形により数〜数百μｍの微細な凹凸パターン（プリズムやドット、ドーム状の凸レンズ）を形成することで、導光板が製造されるが、粘度平均分子量が２０，０００以下であると、この際の熱転写性が改善される。さらに、粘度平均分子量が１７，０００以上であると、製品強度が改善し、肉厚を０．３ｍｍ以下の薄肉にした場合であっても、製品強度が維持され、割れにくくなる傾向がある。
【００１６】
（芳香族ポリカーボネート樹脂組成物）
本発明の多層光学シートに基材層を形成する芳香族ポリカーボネート樹脂組成物は、芳香族ポリカーボネート１００質量部に対し酸化防止剤０．０１〜１質量部、好ましくは０．０５〜０．５質量部含有する。
酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤及びヒンダードフェノール系酸化防止剤、などが挙げられる。
【００１７】
リン系酸化防止剤としては、亜リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸及びこれらのエステル並びに第３級ホスフィンなどが例示される。
中でも、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸、トリオルガノホスフェート化合物及びアシッドホスフェート化合物が好ましい。
なお、アシッドホスフェート化合物における有機基は、一置換、二置換及びこれらの混合物のいずれも含む。
下記の例示化合物においても同様にいずれをも含むものとする。
【００１８】
トリオルガノホスフェート化合物としては、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリデシルホスフェート、トリドデシルホスフェート、トリラウリルホスフェート、トリステアリルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート及びトリブトキシエチルホスフェートなどが挙げられる。
中でも、トリアルキルホスフェートが好ましい。
トリアルキルホスフェートにおけるアルキル基の炭素数は、好ましくは１〜２２、より好ましくは１〜４である。
特に好ましいトリアルキルホスフェートはトリメチルホスフェートである。
【００１９】
アシッドホスフェート化合物としては、メチルアシッドホスフェート、エチルアシッドホスフェート、ブチルアシッドホスフェート、ブトキシエチルアシッドホスフェート、オクチルアシッドホスフェート、デシルアシッドホスフェート、ラウリルアシッドホスフェート、ステアリルアシッドホスフェート、オレイルアシッドホスフェート、ベヘニルアシッドホスフェート、フェニルアシッドホスフェート、ノニルフェニルアシッドホスフェート、シクロヘキシルアシッドホスフェート、フェノキシエチルアシッドホスフェート、アルコキシポリエチレングリコールアシッドホスフェート及びビスフェノールＡアシッドホスフェートなどが挙げられる。
中でも、炭素数１０以上の長鎖ジアルキルアシッドホスフェートが熱安定性の向上に有効であり、該アシッドホスフェート自体の安定性が高いことから好ましい。
【００２０】
ホスファイト化合物としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、トリス（ジエチルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−イソ−プロピルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｎ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−ｔｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス｛２，４−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェニル｝ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールＡペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト及びジシクロヘキシルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。
【００２１】
更に、他のホスファイト化合物としては、二価フェノール類と反応し環状構造を有するものも使用できる。
例えば、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト及び２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイトなどが挙げられる。
【００２２】
ホスホナイト化合物としては、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイトなどが挙げられ、テトラキス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトが好ましく、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトがより好ましい。
ホスホナイト化合物は、上記アルキル基が２以上置換したアリール基を有するホスファイト化合物と併用可能であり好ましい。
【００２３】
ホスホネイト化合物としては、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル及びベンゼンホスホン酸ジプロピルなどが挙げられる。
【００２４】
第３級ホスフィンとしては、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリアミルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジブチルフェニルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジフェニルオクチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ−ｐ−トリルホスフィン、トリナフチルホスフィン及びジフェニルベンジルホスフィンなどが挙げられる。
特に好ましい第３級ホスフィンは、トリフェニルホスフィンである。
【００２５】
好ましいリン系酸化防止剤としては、トリオルガノホスフェート化合物、アシッドホスフェート化合物及び一般式（１）で表されるホスファイト化合物である。
中でも、トリオルガノホスフェート化合物を配合することが好ましい。
【００２６】
【化１】
2010049078.tif 000002
（式中、Ｒ及びＲ’は炭素数６〜３０のアルキル基又は炭素数６〜３０のアリール基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【００２７】
上記のように、ホスホナイト化合物としては、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイトが好ましく、該ホスホナイトを主成分とする安定剤は、Ｓａｎｄｏｓｔａｂ  Ｐ−ＥＰＱ（商標、Ｃｌａｒｉａｎｔ社製）及びＩｒｇａｆｏｓ  Ｐ−ＥＰＱ（商標、ＣＩＢＡ  ＳＰＥＣＩＡＬＴＹ  ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ社製）として市販されておりいずれも利用できる。
【００２８】
また、一般式（１）の中でも好ましいホスファイト化合物としては、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、およびビス｛２，４−ビス（１−メチル−１フェニルエチル）フェニル｝ペンタエリスリトールジホスファイトである。
【００２９】
ヒンダードフェノール酸化防止剤としては、通常、樹脂に配合される各種の化合物が使用できる。
ヒンダードフェノール化合物としては、例えば、α−トコフェロール、ブチルヒドロキシトルエン、ナピルアルコール、ビタミンＥ、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−ジメチレン−ビス（６−α−メチル−ベンジル−ｐ−クレゾール）、２，２’−エチリデン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−ブチリデン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリエチレングリコールビス−３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート、１，６−へキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ビス［２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）フェニル］テレフタレート、３，９−ビス｛２−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１，−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、４，４’−ジ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−トリ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２−チオジエチレンビス−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−��ドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス２［３（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチルイソシアヌレート、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）アセチルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、テトラキス［メチレン−３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］メタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）ベンゼン及びトリス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）イソシアヌレートなどが挙げられる。
【００３０】
中でも、テトラキス［メチレン−３−（３−ｔｅｒｔブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］メタン、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート及び３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンが好ましく利用される。
特に、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンが好ましい。
ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、単独で又は２種以上を組合せて使用することができる。
【００３１】
リン系酸化防止剤及びヒンダードフェノール系酸化防止剤はいずれかが配合されることが好ましい。
中でも、リン系酸化防止剤を配合することが好ましく、トリオルガノホスフェート化合物を配合することがより好ましい。
【００３２】
このような芳香族ポリカーボネート樹脂組成物は、芳香族ポリカーボネートに酸化防止剤を添加した組成物に、さらに熱可塑性アクリル系樹脂を微量添加することで、分光特性がさらに向上する。熱可塑性アクリル系樹脂の配合量は、芳香族ポリカーボネート１００質量部に対して０．０１〜１質量部であると好ましく、０．０５〜０．５質量部であるとより好ましい。熱可塑性アクリル系樹脂の配合量が０．０１質量部以上であると、多層光学シートの透明性が向上し、１質量部以下であると、他の所望物性を損なうことなく透明性を保持することができる。
【００３３】
熱可塑性アクリル系樹脂としてはアクリル酸、アクリル酸エステル、アクリロニトリル及びその誘導体のモノマー単位から選ばれる少なくとも一種を繰り返し単位とする重合体であり、単独重合体又はスチレン、ブタジエン等との共重合体でもよい。具体的にはポリアクリル酸、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリアクリロニトリル、アクリル酸エチル−アクリル酸−２−クロロエチル共重合体、アクリル酸−ｎ−ブチル−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体などが挙げられる。これらの中でも、特に、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）を好適に用いることができる。ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）としては公知のものを使用することができるが、通常、過酸化物、アゾ系の重合開始剤の存在下、メタクリル酸メチルモノマーを塊状重合して製造されたものが好ましい。
熱可塑性アクリル系樹脂は、分子量が２００〜１０万であることが好ましく、さらに好ましくは２万〜６万である。分子量が２００〜１０万であることにより、成形時に、芳香族ポリカーボネートと熱可塑性アクリル系樹脂間の相分離が速くなりすぎることがないので、光学シートにおいて十分な透明性を得ることができる。
【００３４】
（透明樹脂）
本発明の多層光学シートが有する表層（転写層）を構成する透明樹脂としては、２８０℃、せん断速度１００ｓ-1でのキャピラリー粘度が３００Ｐａ・ｓ以下、好ましくは２００Ｐａ・ｓ以下のものが用いられる。透明樹脂の上記キャピラリー粘度が３００Ｐａ・ｓを超えると、転写ロールを用いて表層に凹凸形状を形成しても、転写率が低く、十分な高さ（深さ）を有する凹凸形状が得られない。透明樹脂の具体例としては、粘度平均分子量１３，０００〜１６，０００の芳香族ポリカーボネートやアクリル系樹脂（ゴム成分共重合体含む）が好適であり、アクリル系樹脂（ゴム成分共重合体含む）がより好ましい。透明樹脂として用いられる芳香族ポリカーボネートとしては、上述と同様のものが用いられる。
アクリル系樹脂としては、市販のアクリル樹脂が活用でき、透明性、耐熱性の観点から例えば三菱レイヨン株式会社製アクリペットや住友化学株式会社製スミペックスなどが好適に利用できる。また表層を耐衝撃性アクリル樹脂とすることで、本発明の多層光学シートの打ち抜き加工時の割れ、切粉などによる不良が低減できる。透明樹脂の耐衝撃強さ（ＪＩＳ  Ｋ７１１０）としては２ｋＪ／ｍ2以上が好ましく、より好ましくは３ｋＪ／ｍ2以上である。耐熱性としては荷重撓み温度（ＪＩＳ  Ｋ７１９１、荷重１．８０ＭＰａ）８０℃以上が好ましく、より好ましくは９０℃以上である。
【００３５】
これら表層（転写層）を構成する透明樹脂には、太陽光集光レンズ用のフレネルレンズのような用途の場合には耐光性向上の観点から、紫外線吸収剤を含有させても良い。
【００３６】
（シート特性）
本発明の多層光学シートの厚さは、０．１〜１．１ｍｍであり、好ましくは０．２〜１．０ｍｍである。多層光学シートの厚さが０．１ｍｍ未満であると、強度が著しく低下し、割れやすいものとなり、１．１ｍｍを超えると光線透過率が低下する。
また、本発明の多層光学シートの全光線透過率は９１．０％以上である。全光線透過率の上限については特に制限はないが、工業的入手性の観点から、通常９５％程度である。全光線透過率が９１．０％未満であると輝度が低下する。
本発明の多層光学シートは、複屈折（位相差；波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値）が１５０ｎｍ以下であると好ましい。一般に射出成形品は、射出成形時の剪断による分子配向したまま金型内で冷却され、その分子配向が凍結されるめ残留応力歪が大きくなる傾向があり、金型のゲート付近と反ゲート末端では、残留応力歪の度合いが不均一となる。通常、ゲート周辺部の残留応力歪が大きくなるため、レターデション値はより大きな計測値を示す傾向にある。一方、押出成形によるシートは、押出成形時の条件、材料の粘度（粘度平均分子量に依存する）にもよるが、レターデション値を低くすることが可能であり、レターデーションのシート製品内の分布も均一化が容易である。このため、射出成形による導光板よりもより表示品位の高い導光板を得ることができる。レターデーション値が１５０ｎｍ以下であると、液晶パネルを搭載した場合の表示品位が良好であり、好ましくは１００ｎｍ以下、さらに好ましくは５０ｎｍ以下である。
【００３７】
（製造方法）
芳香族ポリカーボネート樹脂組成物からなる基材層と、透明樹脂からなる表層とを共押出して本発明の多層光学シートを製造する方法としては、上記芳香族ポリカーボネート樹脂組成物と、上記透明樹脂層とをシート状に溶融押し出しする成形工程と、溶融押し出しされたシート状体を急冷する冷却工程と、必要に応じて、冷却されたシート状体を、５０℃以上、前記芳香族ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度以下で熱処理する熱処理工程による方法が挙げられる。
前記冷却工程は、冷却水が流下するスリットにシート状体を通過させることにより、前記シート状体を冷却することができる。また、前記熱処理工程は、鏡面を有する金属製エンドレスベルトおよび／または金属ロールで、前記シート状体の表裏面を挟持して加熱することより、実施することができる。
押出成形法としては、通常一般に用いられる３本ロールを備えたシート成形機でも成形条件を選定することにより、導光板に利用可能な多層光学シートの製造が可能である。しかしながら、特に芳香族ポリカーボネート系樹脂１００質量部及び酸化防止剤０．０１〜１質量部を含有する芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を原料として押出シート成形を行う場合には上記の溶融押し出しされたシート状体をガラス転移温度以下に急冷する冷却工程が重要であり、このような冷却工程を具備する押出成形装置を適用した方が、効率よく、より光学的に透明度が高い多層光学シートを得ることができる。
冷却温度はガラス転移温度以下とすることが肝要であり、好ましくは１４０℃以下、さらに好ましくは１２０℃以下である。冷却温度をガラス転移温度以下とすることにより、光学シートの厚み０．１〜１ｍｍにおける全光線透過率を９１．０％以上とすることができる。冷却温度の下限は樹脂の組成の違い、ガラス転移温度等にも依存するが５０℃程度である。５０℃以上とすることにより、成形された光学シートにおける残留ひずみを少なくして光学的等方性を確保することができる。冷却は、通常、複数のロールを用いて行なわれる。
【００３８】
また、冷却されたシート状体を、５０℃以上、前記ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度以下で熱処理する熱処理工程により、前述の急冷過程による残留歪を一旦開放し、賦形することで、皺がなく、均一、肉厚で、レターデーション値が低い多層光学シートを得ることができる。
これらの工程を具備する製造法としては、弾性ロール法またはスチールベルト法などが挙げられ、これらを具備した押出成形機の適用がより好ましい。
スチールベルト法は、例えば特許公開公報２００４−２３０５９８号公報にて開示されている製造法が挙げられる。
この製造法においては、複数のロールに巻装され、加熱ロール部により加熱された無端ベルトに、成形されたシートを密着して走行させ、次いで同シートを前記無端ベルト及びロール間で面状又は線状圧接した後、同シートを前記無端ベルトから剥離させるシートの製造方法であって、同シートの無端ベルトとは反対側から、加熱された同シートを走行中に保温及び／又は加熱する（図１参照）。保温及び／又は加熱は、保温板、熱風吹き出し、赤外線により行なわれる。
図１において、１はテンションロール、２は加熱ロール、３は冷却ロール、４は挾圧ロール、５は無端ベルト、６はシート供給ロール、７はテンションロール、８は加熱装置である。Ｓは凹凸形状を転写する前のシートを、ｄは挾圧ロール４と無端ベルト５との間で挟圧されるシートの長さを示す。
【００３９】
弾性ロール法としては、例えば、特許公開公報２００４−１５５１０１号に開示されている方法が挙げられる。
この製造法においては、押出機にＴ型ダイを取り付けてシートを形成させ、このシートを第一挟圧ロール、第二挟圧ロール、第三挟圧ロールに通し、複数の移送ロールを直線状に並べてシートを製造し、引取りロールを通して製造する方法である（図２参照）。
図２において、２１は押出機、２２、２３、２５は挟圧ロール、２４は引取りロール、２６ａ、２６ｂ、２６ｃは移送ロールである。
【００４０】
これらの製造工程を具備した押出成形機を適用することで、芳香族ポリカーボネート系樹脂１００質量部及び酸化防止剤０．０１〜１質量部を含有する芳香族ポリカーボネート樹脂組成物の溶融状態から冷却過程で起こる相分離を抑制することが可能となる。この相分離ドメインが２００ｎｍを超えると可視光領域の波長の光を散乱が生じ、導光板に要求される導光性能が低下し、無駄な散乱光が増加するために、輝度特性が低下する。相分離ドメインサイズは２００未満が好ましく、より好ましくは１００ｎｍ以下、さらに好ましくは５０ｎｍ以下である。
このような相分離の観測は、上記芳香族ポリカーボネート樹脂組成物が熱可塑性アクリル系樹脂を含む場合には、透過型電子顕微鏡を用いることで可能であり、芳香族ポリカーボネートリッチ相が熱可塑性アクリル系樹脂リッチ相に比べて、オスミウム酸に染色され難いために生じるコントラストにより観察が可能である。
通常、比重がほぼ同等の完全非相溶性を示す２成分系高分子対の場合には、配合比率と相分離ドメインのコントラスト比率はほぼ一致する。例えば、芳香族ポリカーボネート系樹脂１００質量部であり、熱可塑性アクリル系樹脂０．１質量部ならば、１０００：１の面積比率の２相に分離したその形態画像が得られる。
【００４１】
しかしながら、芳香族ポリカーボネート１００質量部及び熱可塑性アクリル系樹脂０．０１〜１質量部を含有する芳香族ポリカーボネート樹脂組成物からなる高分子対の場合には、半相溶性を示すことが知られており、熱可塑性アクリル系樹脂の分子量及び成形時の凍結条件を選ぶことで、可視光散乱を生じないより小さなドメインサイズに制御できる。本系においては、非平衡系の自己組織化による散逸構造として良く知られたスピノーダル分解過程（濃度揺らぎにより相分離が進行する過程）であり、この揺らぎの初期状態の構造を凍結することで、光学的に透明な光学シートの成形が可能である。また、押出成形の適用により射出成形時よりも剪断による相分離の助長がないことから、それよりもさらに微細なミクロ相分離ドメインのサイズに制御可能であり、光学的により透明な樹脂基材を得ることができる。
本系の場合には、芳香族ポリカーボネート系樹脂マトリックスに比較して、熱可塑性アクリル系樹脂が微量に配合された系なので、透過型電子顕微鏡による観察像は、上記コントラストが曖昧となり、明確な濃度差の相分離ドメインを示さず、モザイク状のあたかも熱可塑性アクリル系樹脂分子の希薄な雲が芳香族ポリカーボネート系樹脂マトリックスの海に漂っているような状態となり、１００ｎｍ以下のドメインサイズの相が画像全体に広がって観測される。即ち、配合比率と相分離ドメインのコントラスト比率は一致しない。
【００４２】
以上の特性、組成、製造により得られた本発明の多層光学シートは、その表面に微細な凹凸を形成することで、配光制御が可能となり、凹凸形状としてはドット形状、凸レンズ、凹レンズ、Ｖ溝プリズム、三角錘、四角錘などの多角錘などが挙げられる。
導光板ならば、凹凸形状にグラデーション（濃淡）を付与すれば良い。
通常の拡散シート、再帰性反射板ならば均一なパターンを形成すれば良い。
また、直下型バックライトで用いられる拡散シートの場合には光源上の光源影から光源間までの距離の間に凹凸形状の濃淡を形成することで、輝度の均一化を図ることができる。
このような凹凸の形成法としては、ロールエンボス法、真空プレス成形法、ベルト転写法などが挙げられる。中でもベルト状の薄板ステンレスの表面にニッケルめっき箔に微細な凹凸を形成した金型を製作し、上下で回転する金型ベルトの間で樹脂フィルムを同期搬送しながら加熱、加圧転写、剥離の各工程を連続して行う手段を備えた装置を適用することが好ましい。この工程では真空引き、昇温、降温のための時間が不要で、高い生産性で大面積への転写を行うことができる（図３参照）。
図３において、３１は加熱ロール、３２は凹凸を形成させるための転写ロール、３３は予備加熱ロール、３４は冷却ロール、３５は搬送ロール、３６はエンドレスベルトである。左側の矢印は凹凸形状を転写する前の多層光学シート、右側の矢印は転写後の多層光学シート、すなわち、導光板等の成形体を示す。
【００４３】
この他、微細な凹凸形状が形成された金型を用いてアクリル系紫外線硬化樹脂を本発明の光学シートに押し当てながら紫外線で硬化させるリソグラフィー法や、白色インキを用いたスクリーン印刷法になどが適用できる。
前記シート成形と表面に凹凸形成する工程を同時に行うことを特徴とする成形体の製造方法により、導光板等の成形体を製造することもできる。このような同時工程を備える製造装置としては、例えば、東芝機械株式会社製連続押出エンボス成形機ＳＰＵ−０３０２６Ｗが好適に利用できる（図４参照）。
【実施例】
【００４４】
以下、実施例及び比較例により、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。
【００４５】
実施例および比較例で使用された配合材料等は以下の通りである。
＜配合材料＞
（１）芳香族ポリカーボネート（ＰＣ１）
タフロンＦＮ１７００Ａ〔出光興産株式会社製のビスフェノールＡポリカーボネート樹脂、粘度平均分子量：１７，５００、キャピラリー粘度：２８０℃、１００ｓ-1、３９０Ｐａ・ｓ〕
（２）芳香族ポリカーボネート（ＰＣ２）
タフロンＦＮ１９００Ａ〔出光興産株式会社製のビスフェノールＡポリカーボネート樹脂、粘度平均分子量：１９，５００、キャピラリー粘度：２８０℃、１００ｓ-1、７８０Ｐａ・ｓ〕
（３）芳香族ポリカーボネート（ＰＣ３）
タフロンＦＮ２２００Ａ〔出光興産株式会社製のビスフェノールＡポリカーボネート樹脂、粘度平均分子量：２２，５００、キャピラリー粘度：２８０℃、１００ｓ-1、１３００Ｐａ・ｓ〕
（４）芳香族ポリカーボネート（ＰＣ４）
タフロンＦＮ１５００Ａ〔出光興産株式会社製のビスフェノールＡポリカーボネート樹脂、粘度平均分子量：１４，５００、キャピラリー粘度：２８０℃、１００ｓ-1、２５０Ｐａ・ｓ〕
（５）芳香族ポリカーボネート（ＰＣ５）
タフロンＦＮ２６００Ａ〔出光興産株式会社製のビスフェノールＡポリカーボネート樹脂、粘度平均分子量：２６，５００、キャピラリー粘度：２８０℃、１００ｓ-1、２５００Ｐａ・ｓ〕
（６）芳香族ポリカーボネート（ＰＣ６）
タフロンＦＤ１４００〔出光興産株式会社製のビスフェノールＡポリカーボネート樹脂、粘度平均分子量：１３，０００、キャピラリー粘度：２８０℃、１００ｓ-1、１５０Ｐａ・ｓ〕
（７）リン系酸化防止剤
アデガスタブＰＥＰ３６〔株式会社ＡＤＥＫＡ製のビス（２，６−ジーｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールホスファイト〕
（８）熱可塑性アクリル系樹脂
ダイアナールＢＲ８３〔三菱レイヨン株式会社製、分子量：２５，０００、屈折率１．４９０、分子量は、オストワルド型粘度管を用いて２５℃におけるクロロホルム溶液の極限粘度［η］を測定し、次の関係式により平均重合度ＰＡを求めて計算した。ｌｏｇＰＡ＝１．６１３ｌｏｇ（［η］×１０4／８．２９）〕
（９）アクリル樹脂（ＰＭＭＡ１）
アクリペットＩＲ  Ｓ４０４〔三菱レイヨン株式会社製、キャピラリー粘度：２８０℃、１００ｓ-1、２００Ｐａ・ｓ〕
（１０）アクリル樹脂（ＰＭＭＡ２）
アクリペットＩＲ  Ｈ３０〔三菱レイヨン株式会社製：２８０℃、１００ｓ-1、４５０Ｐａ・ｓ〕
【００４６】
＜多層光学シート押出成形＞
図２に示す装置を設けた押出機により多層光学シートを製造した。スクリュウ直径６５ｍｍ、Ｔ型ダイの幅が６５０ｍｍの押出機２１、直径３００ｍｍの第一挟圧ロール２２を使用した。第二挟圧ロール２３及び第三挟圧ロール２５は、いずれも直径３００ｍｍの金属ロールを使用した。移送ロール２６ａ、２６ｂ及び２６ｃは、直径７０ｍｍの金属ロール３個が直線状に並んだものを使用した。なお、最初の移送ロール２６ａから最終の移送ロール２６ｃ間の合計距離は３ｍとした。
【００４７】
＜評価方法＞
（１）全光線透過率
スガ試験機株式会社製のヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準拠して測定した。
（２）転写率
実施例１〜８および比較例１〜６で得られた各光学シートについて、以下に示す転写率を測定した。
転写率（％）＝［転写した光学シートの三角錘の平均高さ（μｍ）/スタンパーにおける三角錘の平均深さ（５０μｍ）］×１００
（３）打ち抜き性
トムソン刃を用い１００ｋｇ／ｃｍ2のプレス圧で３インチ（７．６２ｃｍ）の導光板を打ち抜いたとき、端部の割れ、ヒゲ、切り粉の発生有無を目視にて判定した。判定基準を以下に示す。
○：問題なし
×：端部割れ
【００４８】
実施例１
上記芳香族ポリカーボネート（ＰＣ１）にリン系酸化防止剤ＰＥＰ３６（株式会社ＡＤＥＫＡ製）を表１に示す割合で添加、２６０℃で溶融混練し、基材層材料を得た。また芳香族ポリカーボネート（ＰＣ４）に同じくリン系酸化防止材（ＰＥＰ３６）および熱可塑性ポリアクリル系樹脂（ＢＲ８３）をそれぞれ表１に示す割合で添加し２６０℃で溶融混練し、表層材料を得た。これら材料をＨＩＴＺ産機テクノ製単軸押出機のメイン６５ｍｍφ、サブ２５ｍｍφを用い、それぞれで基材層、表層用樹脂を押出し、水平３本ロールで冷却固化し基材層、表層がそれぞれ３５０、５０μｍ厚みの２種２層の光学シートを得た。ロール冷却の際、第２ロール上に形成された平均深さ５０μｍの三角錐プリズム形状を表層へと転写した。転写後のシートに対し、打ち抜き試験を実施し、打ち抜き適性を判断した。
【００４９】
実施例２
ＰＣ１に熱可塑性ポリアクリル系樹脂（ＢＲ８３）を添加して基材層材料とした以外は実施例１と同様にして多層光学シートを作製し、全光線透過率、転写率及び打ち抜き性を評価した。
【００５０】
実施例３
ＰＣ１に代えてＰＣ２を用いて基材層材料を得た以外は実施例２と同様にして多層光学シートを作製し、全光線透過率、転写率及び打ち抜き性を評価した。
【００５１】
実施例４
ＰＣ１に代えてＰＣ３を用いて基材層材料を得た以外は実施例２と同様にして多層光学シートを作製し、全光線透過率、転写率及び打ち抜き性を評価した。
【００５２】
実施例５
基材層の厚みを９００μｍ、表層の厚みを１００μｍとした以外は実施例２と同様にして多層光学シートを作製し、全光線透過率、転写率及び打ち抜き性を評価した。
【００５３】
実施例６
表層材料として、三菱レイヨン製アクリル樹脂  アクリペットＩＲ  Ｓ４０４を用いた以外は実施例１と同様にして多層光学シートを作製し、全光線透過率、転写率及び打ち抜き性を評価した。
【００５４】
実施例７
ＰＣ４に代えて芳香族ポリカーボネート（ＰＣ６）を用いて表層材料を得た以外は実施例１と同様にして多層光学シートを作製し、全光線透過率、転写率及び打ち抜き性を評価した。
【００５５】
実施例８
基材層の厚さを３００μｍとし、基材層の両面に三菱レイヨン製アクリル樹脂  アクリペットＩＲ  Ｓ４０４を用いて厚さ５０μｍの表層をそれぞれ設けた以外は実施例１と同様にして、２種３層の多層光学シートを作製し、全光線透過率、転写率及び打ち抜き性を評価した。
【００５６】
比較例１
芳香族ポリカーボネート（ＰＣ１）にリン系酸化防止剤（ＰＥＰ３６）と熱可塑性ポリアクリル系樹脂（ＢＲ８３）を表１に示す割合で添加、２６０℃で溶融混練した。この材料をＨＩＴＺ産機テクノ製６５ｍｍφ単軸押出機を用い、上記材料を押出し、水平３本ロールで冷却固化し、厚みが３５０μｍの光学シートを得た。ロール冷却の際、第２ロール上に形成された深さ５０μの三角錐プリズム形状を転写した。転写後の単層光学シートについて、全光線透過率、転写率及び打ち抜き性を評価した。
【００５７】
比較例２
表層材料としてアクリル樹脂（ＰＭＭＡ２）を用いた以外は、実施例２と同様にして光学シートを作製し、全光線透過率、転写率及び打ち抜き性を評価した。
【００５８】
比較例３
ＰＣ１に代えてＰＣ４を用いて基材層材料を得て、表層材料としてアクリル樹脂（ＰＭＭＡ１）を用いた以外は、実施例２と同様にして光学シートを作製し、全光線透過率、転写率及び打ち抜き性を評価した。
【００５９】
比較例４
ＰＣ４に代えてＰＣ５を用いた以外は、比較例３と同様にして光学シートを作製し、全光線透過率、転写率及び打ち抜き性を評価した。
【００６０】
比較例５
基材層の厚さを４５μｍ、表層の厚さを５μｍ、総厚みを５０μｍとし、表層材料としてアクリル樹脂（ＰＭＭＡ１）を用いた以外は比較例２と同様にして光学シートを作製し、全光線透過率、転写率及び打ち抜き性を評価した。
【００６１】
比較例６
基材層の厚さを１０８０μｍ、表層の厚さを１２０μｍ、総厚みを１２００μｍとし、表層材料としてアクリル樹脂（ＰＭＭＡ１）を用いた以外は比較例２と同様にして光学シートを作製し、全光線透過率、転写率及び打ち抜き性を評価した。
表１に実施例１〜８及び比較例１〜６における基材層材料及び表層材料の配合比率、基材層及び表層の厚み、成形条件並びに光学シート特性を示す。
【００６２】
【表１】
2010049078.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００６３】
本発明の多層光学シートは、高い光学透明性（導光性、色調）、複屈折性、転写性に優れるため、ＬＥＤを光源とする肉厚１ｍｍ以下の薄肉のバックライトの導光板用の光学シート及び成形体（導光板）として有用である。この他、用途に応じて表面に形成する凹凸パターンを最適化することにより、再帰性反射シート、拡散シート、輝度向上プリズムシートの基材として好適である。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】スチールベルト法による転写工程を示す模式図である。
【図２】挟圧ロール法による転写工程を示す図である。
【図３】ベルト転写法による転写工程を示す模式図である
【図４】シート成形と凹凸パターンを形成させる工程を同時に行う製造装置の模式図である。
【符号の説明】
【００６５】
１：テンションロール
２：加熱ロール
３：冷却ロール
４：挾圧ロール
５：無端ベルト
６：シート供給ロール
７：テンションロール
８：加熱装置
Ｓ：凹凸形状を転写する前のシート
ｄ：挾圧ロールと無端ベルトにより挟圧されるシートの長さ
２１：押出機
２２：挟圧ロール
２３：挟圧ロール
２４：引取りロール
２５：挟圧ロール
２６ａ：移送ロール
２６ｂ：移送ロール
２６ｃ：移送ロール
３１：加熱ロール
３２：凹凸を形成させるための転写ロール
３３：予備加熱ロール
３４：冷却ロール
３５：搬送ロール
３６：エンドレスベルト
【図１】
2010049078.tif 000004
【図２】
2010049078.tif 000005
【図３】
2010049078.tif 000006
【図４】
2010049078.tif 000007