(57)【要約】【課題】の提供。【解決手段】下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩ）でそれぞれ表される構造単位を含むポリマーと液晶性化合物とを含む光学異方性層作製用組成物：2010217709.tif 000032Ｒ０は水素原子等、Ｌは２価の連結基、ｎは１以上１８以下の整数、Ｒ１０は水素原子等またはメチル基を表し、Ｙは‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐等、ｒは１以上６以下の整数、Ｒ２０は水素原子等、Ｚは‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐等、Ｒは炭素数１以上２０以下のアルキル基を表す。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、及び（ＩＩ）でそれぞれ表される構造単位を含むポリマーと液晶性化合物とを含む光学異方性層作製用組成物：
【化１】
2010217709.tif 000028
一般式（Ｉ）中、Ｒ0は水素原子またはメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表し；
一般式（ＩＩ）中、Ｒ10は水素原子またはメチル基を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子、‐（Ｃ＝Ｏ）‐、‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐、または‐Ｎ（Ｒ12）‐を表し、ｒは１以上６以下の整数を表し、Ｒ12は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し；
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ20は水素原子またはメチル基を表し、Ｚは酸素原子、硫黄原子、‐（Ｃ＝Ｏ）‐、‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐、または‐Ｎ（Ｒ22）‐を表し、Ｒは炭素数１以上２０以下のアルキル基を表し、Ｒ22は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）におけるＬが下記一般式（Ｉ−１）である請求項１に記載の組成物：
【化２】
2010217709.tif 000029
式中、Ｘは酸素原子、硫黄原子、‐（Ｃ＝Ｏ）‐、‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐、または‐Ｎ（Ｒ2）‐を表し、ｍは１以上６以下の整数を表し、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。
【請求項３】
前記ポリマーが有する全構造単位に対する前記一般式（Ｉ）で表される構造単位のモル％が２０％以上４０％以下である請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
前記ポリマーが有する全構造単位に対する前記一般式（ＩＩＩ）で表される構造単位のモル％が１０％以上２０％以下である請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリマーが、前記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）でそれぞれ表される構造単位のみからなる請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記ポリマーが下記式（Ｘ）で表されるポリマーである請求項１に記載の組成物：
【化３】
2010217709.tif 000030
ただし、ｘ、ｙ、ｚは構造単位のポリマー中でのモル比を百分率で示し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００、２０≦ｘ≦４０、かつ１０≦ｚ≦２０である。
【請求項７】
前記ポリマーが下記式（ＸＩ）で表されるポリマーである請求項１に記載の組成物。
【化４】
2010217709.tif 000031
【請求項８】
液晶性化合物が棒状液晶性化合物である請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
２００℃以上の沸点を有する溶媒を含む請求項１〜８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
インクジェット法のインクとして用いられる請求項１〜９のいずれか一項に記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学異方性層作製用組成物に関する。より詳しくは、本発明はフルオロ脂肪族基含有ポリマーと液晶性化合物とを含む光学異方性層作製用組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタ用途に用いられる液晶表示装置用基板などの、ブラックマトリックスが設けられた基板に液晶性化合物を含む組成物からなる光学異方性層を設ける場合（例えば特許文献１参照）、ブラックマトリックスが当該光学異方性層に与える影響を考慮することが不可欠である。特に、光学異方性層をインクジェット方式で設ける場合において、光学異方性層形成用組成物のブラックマトリックスを有する基板に対する打滴特性を液晶性化合物分子の配向性とともに考慮する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特願２００７−２３３３７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、ブラックマトリックスが設けられた基板に液晶性化合物を含む組成物からなる光学異方性層を設ける際に適した特性を有する光学異方性層作製用組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、フルオロ脂肪族基含有ポリマーを液晶性化合物とともに含有する光学異方性層作製用組成物が液晶性分子の適正な配向性とともに、優れた打滴特性を有することを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は下記（１）〜（１０）を提供するものである。
（１）下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、及び（ＩＩ）でそれぞれ表される構造単位を含むポリマーと液晶性化合物とを含む光学異方性層作製用組成物：
【０００６】
【化１】
2010217709.tif 000002
【０００７】
一般式（Ｉ）中、Ｒ0は水素原子またはメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表し；
一般式（ＩＩ）中、Ｒ10は水素原子またはメチル基を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子、‐（Ｃ＝Ｏ）‐、‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐、または‐Ｎ（Ｒ12）‐を表し、ｒは１以上６以下の整数を表し、Ｒ12は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し；
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ20は水素原子またはメチル基を表し、Ｚは酸素原子、硫黄原子、‐（Ｃ＝Ｏ）‐、‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐、または‐Ｎ（Ｒ22）‐を表し、Ｒは炭素数１以上２０以下のアルキル基を表し、Ｒ22は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。
（２）前記一般式（Ｉ）におけるＬが下記一般式（Ｉ−１）である（１）に記載の組成物：
【０００８】
【化２】
2010217709.tif 000003
【０００９】
式中、Ｘは酸素原子、硫黄原子、‐（Ｃ＝Ｏ）‐、‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐、または‐Ｎ（Ｒ2）‐を表し、ｍは１以上６以下の整数を表し、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。
（３）前記ポリマーが有する全構造単位に対する前記一般式（Ｉ）で表される構造単位のモル％が２０％以上４０％以下である（１）又は（２）に記載の組成物。
（４）前記ポリマーが有する全構造単位に対する前記一般式（ＩＩＩ）で表される構造単位のモル％が１０％以上２０％以下である（１）〜（３）のいずれか一項に記載の組成物。
（５）前記ポリマーが、前記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）でそれぞれ表される構造単位のみからなる（１）〜（４）のいずれか一項に記載の組成物。
（６）前記ポリマーが下記式（Ｘ）で表されるポリマーである（１）に記載の組成物：
【００１０】
【化３】
2010217709.tif 000004
【００１１】
ただし、ｘ、ｙ、ｚは構造単位のポリマー中でのモル比を百分率で示し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００、２０≦ｘ≦４０、かつ１０≦ｚ≦２０である。
（７）前記ポリマーが下記式（ＸＩ）で表されるポリマーである（１）に記載の組成物。
【００１２】
【化４】
2010217709.tif 000005
【００１３】
（８）液晶性化合物が棒状液晶性化合物である（１）〜（７）のいずれか一項に記載の組成物。
（９）２００℃以上の沸点を有する溶媒を含む（１）〜（８）のいずれか一項に記載の組成物。
（１０）インクジェット法のインクとして用いられる（１）〜（９）のいずれか一項に記載の組成物。
【発明の効果】
【００１４】
本発明により、特にブラックマトリックスが形成された基板に光学異方性層を形成する際に有用な光学異方性層作製用組成物が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施例で用いたインクジェット法のシステム構成の１例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１７】
【数１】
2010217709.tif 000006
【００１８】
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２  −  ｎｚ）  ｘ  ｄ        −−−  式（２）
注記：
上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
式におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
【００１９】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記の測定において、平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００２０】
また、Ｒｔｈの符号は面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋２０°傾斜した方向から波長５５０ｎｍの光を入射させて測定した位相差がＲｅを超える場合を正とし、Ｒｅを下回る場合を負とする。但し、｜Ｒｔｈ／Ｒｅ｜が９以上の試料では、回転自由台座付きの偏光顕微鏡を用いて、面内の進相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した状態で、偏光板の検板を用いて決定できる試料の遅相軸がフィルム平面に平行にある場合を正とし、また遅相軸がフィルムの厚み方向にある場合を負とする。
本明細書におけるλは、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ６１１±５ｎｍ、５４５±５ｎｍ、４３５±５ｎｍを指し、特に色に関する記載がなければ５４５±５ｎｍ又は５９０±５ｎｍを指す。
【００２１】
本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±５％以内の差であることを意味する。さらに、Ｒｅが０でないとは、Ｒｅの絶対値が５ｎｍ以上であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域の任意の波長を指す。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００〜７００ｎｍの光のことをいう。
【００２２】
［ポリマー］
本発明の光学異方性層作製用組成物に含まれるポリマーは一般式（Ｉ）で表される構造単位、一般式（ＩＩ）で表される構造単位、及び一般式（ＩＩＩ）で表される構造単位でそれぞれ表される構造単位を含む。上記一般式（Ｉ）で表される構造単位としては２種以上が含まれていてもよいが、製造の容易性などから１種であることが好ましい。一般式（Ｉ）で表される構造単位としては２種以上が含まれていてもよいが、製造の容易性などから１種であることが好ましい。一般式（ＩＩ）で表される構造単位、及び一般式（ＩＩＩ）で表される構造単位についても同様である。
【００２３】
一般式（Ｉ）において、Ｒ0は水素原子またはメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。
また、Ｌは２価の連結基を表し、特に下記一般式（Ｉ−１）で表される連結基であることが好ましい。
【００２４】
【化５】
2010217709.tif 000007
【００２５】
一般式（Ｉ−１）において、Ｘは酸素原子、硫黄原子、‐（Ｃ＝Ｏ）‐、‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐、または‐Ｎ（Ｒ2）‐（Ｒ2は水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）を表し、酸素原子、‐（Ｃ＝Ｏ）‐、又は‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐であることが好ましく、‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐であることがより好ましい。
【００２６】
ｍは１以上６以下の整数を表し、１以上４以下であることが好ましく、１以上３以下であることがより好ましく、１以上２以下であることがさらに好ましい。
【００２７】
一般式（Ｉ）において、ｎは１以上１８以下の整数を表し、１以上１０以下であることが好ましく、１以上８以下であることがより好ましく、１以上６以下であることがさらに好ましい。
【００２８】
一般式（ＩＩ）において、Ｒ10は水素原子またはメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。Ｙは酸素原子、硫黄原子、‐（Ｃ＝Ｏ）‐、‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐、または‐Ｎ（Ｒ12）‐（Ｒ12は水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）を表し、酸素原子、‐（Ｃ＝Ｏ）‐、又は‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐であることが好ましく、‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐であることがより好ましい。ｒは１以上６以下の整数を表し、１以上４以下であることがより好ましく、１以上３以下であることがさらに好ましい。
【００２９】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ20は水素原子またはメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。Ｚは酸素原子、硫黄原子、‐（Ｃ＝Ｏ）‐、‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐、または‐Ｎ（Ｒ22）‐（Ｒ2は水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）を表し、酸素原子、‐（Ｃ＝Ｏ）‐、又は‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐であることが好ましく、‐（Ｃ＝Ｏ）-Ｏ‐であることがより好ましい。Ｒは炭素数１以上２０以下のアルキル基を表す。Ｒが示すアルキル基は、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、又は環状アルキル基のいずれであってもよいが、直鎖アルキル基、又は分岐アルキル基であることが好ましい。Ｒが示すアルキル基の炭素数としては、１以上１５以下であってもよく、１以上１０以下であってもよく、１以上５以下であってもよい。
【００３０】
本発明の光学異方性層作製用組成物に含まれるポリマーは一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）でそれぞれ表される構造単位以外の構造単位を含んでいてもよいが、一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）でそれぞれ表される構造単位のみからなることが好ましい。
【００３１】
前記ポリマーにおける、一般式（Ｉ）で表される構造単位の前記ポリマーが有する全構造単位に対するモル％は、１０％以上５５％以下程度であればよいが、２０％以上５０％以下程度であることが好ましく、２０％以上４０％以下であることがさらに好ましい。
【００３２】
前記ポリマーにおける、一般式（ＩＩＩ）で表される構造単位の前記ポリマーが有する全構造単位に対するモル％は、５％以上２５％以下程度であればよいが、１０％以上２０％以下であることが好ましい。
【００３３】
前記ポリマーにおける、一般式（ＩＩ）で表される構造単位の前記ポリマーが有する全構造単位に対するモル％は、３５％以上６５％以下程度であればよいが、４０％以上６００％以下であることが好ましい。
【００３４】
前記ポリマーの分子量は、重量平均分子量（Mw）において２０００〜１０００００が好ましく、５０００〜５００００がより好ましい。
また、ポリマーにおいて各構造単位は、各構造単位が由来するモノマーがランダム共重合で結合していてもよく、ブロック共重合で結合していてもよく、両者が混在していてもよい。これらの中ではランダム共重合で結合したものが好ましい。
また、上記式（Ｘ）及び式（ＸＩ）の記載は各構造単位が由来するモノマーがブロック共重合している構造を意図するものではなく、ランダム共重合で結合していてもよく、ブロック共重合で結合していてもよく、両者が混在していてもよい。記式（Ｘ）及び式（ＸＩ）で表されるポリマーにおいては、各構造単位が由来するモノマーがランダム共重合で結合している構造がより好ましい。
【００３５】
前記ポリマーは前記構造単位に対応するモノマーを用いて、公知慣用の方法で製造することができる。市販のポリマーを用いてもよい。
市販のポリマーとしては例えばAvecia社「ソルスパース２００００」等を用いることができる。
【００３６】
前記ポリマーは、光学異方性層作製用組成物の固形分の全質量に対し、０．１〜２０質量％で含まれていればよく、１〜１０質量％で含まれていることが好ましく、１〜５質量％で含まれていることがより好ましく、２〜３質量％で含まれていることがさらに好ましい。
【００３７】
［液晶性化合物］
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井  正男  著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の液晶性化合物の混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、１液晶分子中の反応性基が２以上ある液晶性化合物を用いることも好ましい。
【００３８】
液晶性化合物が重合条件の異なる２種類以上の反応性基を有することもまた好ましい。この場合、条件を選択して複数種類の反応性基の一部種類のみを重合させることにより、未反応の反応性基を有する高分子を含む光学異方性層を作製することが可能となる。用いる重合条件としては重合固定化に用いる電離放射線の波長域でもよいし、用いる重合機構の違いでもよいが、好ましくは用いる開始剤の種類によって制御可能な、ラジカル性の反応基とカチオン性の反応基の組み合わせがよい。前記ラジカル性の反応性基がアクリル基および／またはメタクリル基であり、かつ前記カチオン性基がビニルエーテル基、オキセタン基および／またはエポキシ基である組み合わせが反応性を制御しやすく特に好ましい。
【００３９】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶性化合物である。
一般式（Ｉ）：Ｑ1−Ｌ1−Ａ1−Ｌ3−Ｍ−Ｌ4−Ａ2−Ｌ2−Ｑ2
式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表す。Ａ1およびＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、反応性基である。反応性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応または縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。
【００４０】
【化６】
2010217709.tif 000008
【００４１】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−Ｏ−、およびＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ2は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子である。前記式（Ｉ）中、Ｑ1−Ｌ1およびＱ2−Ｌ2−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−およびＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【００４２】
Ａ1およびＡ2は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２のアルキレン基、アルケニレン基、およびアルキニレン基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（II）で表される基が好ましい。
一般式（II）：−（−Ｗ1−Ｌ5）n−Ｗ2−
式中、Ｗ1およびＷ2は各々独立して、二価の環状アルキレン基もしくは環状アルケニレン基、二価のアリール基または二価のヘテロ環基を表し、Ｌ5は単結合または連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２または３を表す。
【００４３】
Ｗ1およびＷ2としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体およびシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1およびＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
前記一般式（II）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【００４４】
【化７】
2010217709.tif 000009
【００４５】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報（ＷＯ９７／００６００）に記載の方法で合成することができる。
【００４６】
【化８】
2010217709.tif 000010
【００４７】
【化９】
2010217709.tif 000011
【００４８】
【化１０】
2010217709.tif 000012
【００４９】
【化１１】
2010217709.tif 000013
【００５０】
【化１２】
2010217709.tif 000014
【００５１】
【化１３】
2010217709.tif 000015
【００５２】
（その他の添加剤）
本発明の光学異方性層作製用組成物は、液晶性化合物に導入した反応性基の重合反応のための重合開始剤を含んでいてもよい。液晶性化合物に導入した反応性基の重合反応はおもに、液晶性化合物の配向状態を維持して固定させるために行われる。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合のいずれでも構わない。ラジカル光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。カチオン光重合開始剤の例には、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示する事ができ、有機スルフォニウム塩系、が好ましく、トリフェニルスルフォニウム塩が特に好ましい。これら化合物の対イオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロフォスフェートなどが好ましく用いられる。
【００５３】
光重合開始剤の使用量は、本発明の光学異方性層作製用組成物の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。なお、液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、２５〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、２０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、４０〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素などの不活性ガス雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００５４】
また、本発明の光学異方性層作製用組成物は、特開２００７−１２１９８６号公報の［００６８］〜［００７２］に記載の一般式（１）〜（３）で表される化合物および下記一般式（４）のモノマーを用いた含フッ素ホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させるための水平配向剤として含んでいてもよい。
【００５５】
【化１４】
2010217709.tif 000016
【００５６】
式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子を表し、Ｚは水素原子またはフッ素原子を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは１以上１２以下の整数を表す。一般式（４）を含む含フッ素ポリマー以外にも、塗布におけるムラ改良ポリマーとして特開２００５−２０６６３８号公報および特開２００６−９１２０５号公報に記載の化合物を水平配向剤として用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
水平配向剤の添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１）〜（４）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【００５７】
本発明の光学異方性層作製用組成物はさらに溶媒を含んでいてもよい。
溶媒の例としては、７６０ｍｍＨｇ（１０１．３ｋＰａ）で１６０℃以上の沸点を有する化合物で構成される溶媒を好ましくあげることができる。該常温下で１６０℃以上の沸点を有する有機溶剤としては、特開２０００−３１０７０６[００３１]〜[００３７]に記載の高沸点溶媒やアルキレングリコールアセテート、アルキレングリコールジアセテート等が挙げられ、中でもジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、１，３−ブタンジオールジアセテート、ジプロピレングリコール−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレンカーボネート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコール−ｎ−ブチルエーテルアセテート等を特に好ましく例示することができる。
【００５８】
（ブラックマトリックス）
本発明の光学異方性層作製用組成物により光学異方性層を設けるのに適した基板として、ブラックマトリックスが設けられた基板が挙げられる。
基板の支持体としては透明支持体であればよく、表面に酸化ケイ素皮膜を有するナトリウムガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、或いは、プラスチックフィルム等を用いることができる。
【００５９】
このような支持体上にブラックマトリックスは公知のカラーフィルタ用ブラックマトリクスと同様の素材、方法により作製することができる。例えば、特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００２１］〜［００７４］や、特開２００４−２４００３９号公報の段落番号［００１２］〜［００２１］に記載のブラックマトリクスや、特開２００６−１７９８０号公報の段落番号［００１５］〜［００２０］や、特開２００６−１０８７５号公報の段落番号［０００９］〜［００４４］に記載のインクジェット用ブラックマトリクスなどが挙げられる。
前記公知の作製方法の中でも、コスト削減の観点からブラックマトリックス作製材料としては感光性樹脂転写材料を用いることが好ましい。感光性樹脂転写材料は、仮支持体上に少なくとも遮光性を有する樹脂層を設けたものであり、基板に圧着して、該遮光性を有する樹脂層を該基板に転写することができる。
【００６０】
感光性樹脂転写材料は、特開平５−７２７２４号公報に記載されている感光性樹脂転写材料、すなわち一体型となったフィルムを用いて形成することが好ましい。該一体型フィルムの構成の例としては、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂層（本発明において「感光性樹脂層」とは光照射により硬化しうる樹脂をいい、それが遮光性を有するときには「遮光性を有する樹脂層」ともいい、目的の色に着色されているときには「着色樹脂層」ともいう。）／保護フィルムを、この順に積層した構成が挙げられる。
感光性樹脂転写材料を構成する仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、保護フィルムや、転写材料の作製方法については、特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００２３］〜［００６６］に記載のものが好適なものとして挙げられる。
【００６１】
また、前記ブラックマトリックスは、インクジェットインクの混色を防ぐために、撥インク処理を施してもよい。該撥インク処理については、例えば、（１）撥インク性物質をブラックマトリックスに練りこむ方法（例えば、特開２００５−３６１６０号公報参照）、（２）撥インク層を新たに設ける方法（例えば、特開平５−２４１０１１号公報参照）、（３）プラズマ処理により撥インク性を付与する方法（例えば、特開２００２−６２４２０号公報参照）、（４）ブラックマトリックスの壁上面に撥インク材料を塗布する方法（例えば、特開平１０−１２３５００号公報参照）、などが挙げられ、特に（３）基板上に形成されたブラックマトリックスにプラズマによる撥インク化処理を施す方法が好ましい。
【００６２】
本発明の光学異方性層作製用組成物は特にフッ素プラズマ処理が施されたブラックマトリックス又は及びフッ素を含む撥インク材料が塗布されたブラックマトリックスが設けられた基板に、インクジェット法にて打滴される際に優れた特性を有する。
【００６３】
（インクジェット方法）
インクジェット方法については、特開２００８−７６６９０号公報に記載の方法を参照することができる。
最適な駆動条件を決定するには、以下の手順に従う。
以下、ピエゾによるオンデマンド方式であっても、熱駆動方式であっても、静電方式であっても同様の方法が適用可能である。
【００６４】
基板上でのインク着弾径は１０〜５００μｍの間にあることが好適であり、着弾径はインク滴の大きさと、インクの基板への濡れ性により決定される。インク滴の基板への接触角は０〜８０度、飛翔インク滴の直径は５〜２５０μmであることが好ましく、このときのノズル径は１５〜１００μｍであることが好ましい。
【実施例】
【００６５】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【００６６】
（実施例１）
（隔壁作製用黒色感光性組成物の製法）
黒色感光性組成物Ｋ１は、まず表１に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ＲＰＭ、１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４'−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３'−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ＲＰＭ３０分間攪拌することによって得られる。なお、表１に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。
【００６７】
＜Ｋ顔料分散物１＞
・カーボンブラック（デグッサ社製 Ｎｉｐｅｘ３５） １３．１％
・分散剤（下記化合物１） ０．６５％
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万） ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７９．５３％
【００６８】
【化１５】
2010217709.tif 000017
【００６９】
＜バインダ２＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万） ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３％
＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ） ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２４％
＜界面活性剤１＞
・下記構造物１ ３０％
・メチルエチルケトン ７０％
【００７０】
【化１６】
2010217709.tif 000018
【００７１】
【表１】
2010217709.tif 000019
【００７２】
（遮光性隔壁の形成）
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、上記表１に記載の組成よりなる黒色感光性組成物Ｋ１を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業（株）製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークして膜厚４.０μｍの黒色感光層Ｋ１を得た。
【００７３】
超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と黒色感光層Ｋ１の間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
【００７４】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、黒色感光層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）にて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、大気下にて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ2にてポスト露光を行って光学濃度３．９の黒色隔壁（ブラックマトリックス：ＢＭ）を得た。ガラス基板表面には、この黒色隔壁により隔てられた微細領域が形成された。
【００７５】
(撥インク化プラズマ処理)
隔壁を形成した基板に、カソードカップリング方式平行平板型プラズマ処理装置を用いて以下の条件にて撥インク化プラズマ処理を行った
（条件）
使用ガス  ＣＦ4
ガス流量  80ｓｃｃｍ
圧力      40Ｐａ
ＲＦパワー  50Ｗ
処理時間  30sec
【００７６】
（配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
配向層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）        ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製） １．４８
蒸留水 ５２．１
メタノール ４３．２１
──────────────────────────────────――
【００７７】
（配向層の作製）
上記で得られた配向層用塗布液をピエゾ方式のヘッドを用いて、上記撥インク化プラズマ処理後の基板の遮光性隔壁に囲まれた凹部に打滴、乾燥した。配向層は１．６μｍであった。続いて、形成した配向層をラビング処理した。
【００７８】
（インクの作製）
光学異方性層用塗布液として下記の溶質１及び溶質２を、固形分濃度を33質量％となるように、かつ、全固形分重量に対する界面活性剤の割合が下記表２に示す割合となるようにして1,3−ブチレングリコールジアセテート（１，３−ＢＧＤＡ）に溶解して用いた。溶質２（界面活性剤）はそれぞれ表２に示すものを用いた、
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
溶質１
(a)棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２８．７２
(b)カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）３．３６
(c)４，４'−アゾキシジアニソール ０．０３
(d)光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３４
(a)：(b)：(c)：(d)＝30：3.5：0.03：1.5
溶質２
界面活性剤
高沸点溶媒
１，３−ＢＧＤＡ
─────────────────────────────────────
【００７９】
【化１７】
2010217709.tif 000020
【００８０】
【化１８】
2010217709.tif 000021
【００８１】
（光学異方性層の作製）
上記で得られた各光学異方性層用塗布液をピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれた配向層ＡＬ−１を有する凹部に打滴し、９５℃２分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した。さらに熟成後直ちにこの層に対して、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において、偏光板の透過軸が透明支持体のＴＤ方向となるようにして偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）して光学異方性層を固定化し、光学異方性層を形成した。なお、打滴量は、乾燥後の画素内の平均膜厚が2.0μｍになるように調整した。
【００８２】
（画素内及びブラックマトリックス隔壁への濡れ性の評価）
協和界面科学社製DropMaster（DM500）を用い、接触角を用い下記の基準で評価した。
画素内濡れ適性
○  ０°〜３０°
△  ３１°〜９０°
×  ９１°〜１８０°
ブラックマトリックス濡れ適性
○  ５１°〜１８０°
×  ０°〜５０°
【００８３】
各光学異方性層用塗布液をサンプル瓶に入れ、２５℃で２４時間放置し、析出を観察することにより、下記の基準で溶解性を確認した。
○…２日間析出せず
△…２日後析出
×…１日後析出
【００８４】
以上の評価の結果をまとめて表２に示す。
なお、表において、Ｆモノマー、コモノマー、ＯＨモノマーはその合成時の重量比が記載されている。
また、「固形分中の界面活性剤の割合」は質量％を示す。
【００８５】
【表２】
2010217709.tif 000022
【００８６】
（平坦性評価）
得られた位相差制御層の表面のプロファイルを、ＫＥＹＥＮＣＥ社製ＶＫ８５００で測定した。結果を表３に示す
【００８７】
【表３】
2010217709.tif 000023
【００８８】
表３より、界面活性剤２を含む組成物を用いて作製した位相差制御層が界面活性剤４を含む組成物を用いて作製した位相差制御層より平坦であることがわかる。
＜実施例１のカラーフィルタの作製。＞
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ１として用いた。
ＬＣ−１−１はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成した。ＬＣ−１−２はＥＰ１３８８５３８Ａ１，ｐａｇｅ２１に記載の方法により合成した。
【００８９】
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（質量％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン） ２８．６２
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン） ３．４０
４，４'−アゾキシジアニソール                                   ０．５２
界面活性剤２                                                    ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２）                                    １．３６
１，３ＢＧＤＡ                                                ６６．０
──────────────────────────────────――
【００９０】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ１として用いた。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（質量％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２８．３８
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）３．３４
４，４'−アゾキシジアニソール                                  ０．２７
界面活性剤２                                                   ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２）                                   １．３４
１，３ＢＧＤＡ                                               ６６．５７
──────────────────────────────────――
【００９１】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ１として用いた。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（質量％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２８．７２
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）３．３６
４，４'−アゾキシジアニソール                                  ０．０３
界面活性剤２                                                   ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２）                                   １．３４
１，３ＢＧＤＡ                                               ６６．４５
─────────────────────────────────────
【００９２】
Ｒ用光学異方性層Ｒ−１として、上記で得られた光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｒ１をピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれた、ポリイミドを塗布して形成された配向層を有する凹部（レッド画素部）に打滴し、９５℃２分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した。打滴量は、乾燥後の画素中央部の高さが3.2μｍになるように調整した。さらに熟成後直ちにこの層に対して、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において、偏光板の透過軸が透明支持体のＴＤ方向となるようにして偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）して光学異方性層を固定化し、光学異方性層を形成した。同様にグリーン画素部に光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｇ１を打滴しＧ用光学異方性層Ｇ−１、ブルー画素部に光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｂ１を打滴しＢ用光学異方性層Ｂ−１を作製した。Ｒ−１、Ｇ−１、Ｂ−１の光学異方性層の膜厚はそれぞれ2.8μｍ、2.75μｍ、2.3μｍであった。
【００９３】
本実施例では、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素に対応する部分に、搬送速度、駆動周波数を制御し、所望するＲ、Ｇ、Ｂに対応する凹部に各光学異方性層用塗布液を打滴した。
【００９４】
−顔料分散液の調製−
ブロム化フタロシアニングリーン（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ３６、商品名：Ｒｉｏｎｏｌ Ｇｒｅｅｎ ６ＹＫ、東洋インキ製造（株）製）に分散剤（上記化合物１）及び溶剤（１，３−ブタンジオールジアセテート）（以下１，３−ＢＧＤＡと略す。）を下記の表４に示す如く配合し、プレミキシングの後、モーターミルＭ−５０（アイガー・ジャパン社製）で、直径０．６５ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％で用い、周速９ｍ／ｓで２５時間分散し、Ｇ用顔料分散液（Ｇ１）を調製した。Ｇ用顔料分散液（Ｇ１）において、顔料及びその他の成分を表４に示す如く配合した以外はＧ用顔料分散液（Ｇ１）と同様にして、Ｇ用顔料分散液（Ｇ２）、Ｒ用顔料分散液（Ｒ１）、（Ｒ２）、Ｂ用顔料分散液（Ｂ１）、（Ｂ２）を調製した。尚、日機装社製ナノトラックＵＰＡ−ＥＸ１５０を用いて、この顔料分散液の数平均粒径を測定した。
【００９５】
【表４】
2010217709.tif 000024
【００９６】
次いで、下記表５に示す処方のとおり、溶剤、モノマー、バインダー、界面活性剤成分を混合して、２５℃で３０分間攪拌したのち、不溶物が無いことを確認し、モノマー溶液を調製した。
次に、Ｇ用顔料分散液（Ｇ１）、Ｇ用顔料分散液（Ｇ２）を撹拌しながら、前記モノマー液をゆっくりと添加し、２５℃で３０分間撹拌し、Ｇ用インクジェットインク（インクＧ−ＩＪ）を調製した。
以下同様に、Ｒ用インクジェットインク（インクＲ−ＩＪ）、Ｂ用インクジェットインク（インクＢ−ＩＪ）各色インクを調製した。
【００９７】
用いた素材の詳細を示す。
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．２５４（商品名：Ｉｒｇａｐｈｏｒ Ｒｅｄ Ｂ−ＣＦ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．１７７（商品名：Ｃｒｏｍｏｐｈｔａｌ Ｒｅｄ Ａ２Ｂ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株） 製）
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．１５０ （商品名：Ｂａｙｐｌａｓｔ Ｙｅｌｌｏｗ ５ＧＮ ０１、バイエル株式会社製）
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｂ．１５：６（商品名：Ｒｉｏｎｏｌ Ｂｌｕｅ ＥＳ、東洋インキ製造（株）製）
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｖ．２３（商品名：Ｈｏｓｔａｐｅｒｍ Ｖｉｏｌｅｔ ＲＬ−ＮＦ、 クラリアントジャパン（株）製）
・１，３−ＢＧＤＡ（１，３−ブタンジオールジアセテート；沸点２３２℃）
・ＤＰＨＡ（日本化薬(株)製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）
・界面活性剤：前記界面活性剤１の欄に示した構造物１
【００９８】
【表５】
2010217709.tif 000025
【００９９】
−インクジェット方式による画素部の形成―
本実施例では上記で作製したインクジェットインクＲ−ＩＪ、Ｇ−ＩＪ、Ｂ−ＩＪを用い、それぞれ、レッド画素部、グリーン画素部、ブルー画素部、の光学異方性層上にインクの打滴を以下の形態で行った。
図１に示すヘッド部１００は３色のインクジェットヘッドとしてDimatix社製ＳＸ−３を３個具備し、吐出制御装置２００は専用のピエゾ駆動回路およびステージ制御専用回路を用いた。ＳＸ−３はオンデマンド型ピエゾ駆動のヘッドであって、一つのヘッドに１２８のノズルが５０８μｍの間隔で配置されている。
ピエゾを駆動するにあたり、電圧の中心値を５０Ｖ、パルス幅を８マイクロ秒として、前述の飛翔形状観察及び吐出量計測により、各々のノズルからの吐出量の差が２％以内となるようにノズルごとの電圧を調整した。
吐出量の中心値は８ｎｇ／滴であった。
【０１００】
上記工程で製作した基板を載置する基板台４００は専用自動２次元移動ステージ上に置かれたアルミ製の板であって、移動ステージに固定されている。
ヘッドと基板の間隔は５００μｍに調整されており、ヘッドのピエゾが駆動されてからインク滴が形成され、基板に着弾するまでの時間は約６３μ秒であった。
基板上の画素のサイズは、Ｘ方向が３００μｍ、Ｙ方向が１００μｍであって、Ｘ方向に対してヘッドを５３．８度傾けることにより、Ｙ方向の見かけ上のノズル間隔が３００μｍとなるように調整した。
ピエゾは連続打滴する場合の駆動周波数を１０ＫＨｚに設定されており、基板を８．２ｃｍ／秒の等速度で移動させて画素のＸ方向２７０μｍの区間内に３３滴２６４ｎｇを打滴した。
【０１０１】
更に、基板を移動させて複数の凹部に上記条件でインクを打滴した。
この後、ホットプレートで１００℃２分間加熱乾燥させた後、２３０℃オーブン中で３０分ベークすることで隔壁、画素ともに完全に硬化させカラーフィルタを作製した。
【０１０２】
（位相差測定）
ファイバ型分光計を用いた平行ニコル法により、任意の波長λにおける面内レターデーションＲｅ（０）及び遅相軸を回転軸として±４０度サンプルを傾斜させたときのレターデーションＲｅ（４０）、Ｒｅ（−４０）を測定した。Ｒ、Ｇ、Ｂに対してλはそれぞれ６１１ｎｍ、５４５ｎｍ、４３５ｎｍのレターデーションを測定した。本発明の光学異方性層の位相差は、あらかじめ測定した光学異方性層のない基板の透過率データで較正を行うことにより、光学異方性層の位相差のみを求めた。位相差測定結果を表６に示す。
【０１０３】
【表６】
2010217709.tif 000026
【０１０４】
＜比較例１のカラーフィルタの作製＞
Ｒ用光学異方性層塗布液、Ｇ用光学異方性層Ｇ−１塗布液、Ｂ用光学異方性層塗布液それぞれにおいて界面活性剤２の代わりに界面活性剤４を用いた以外は、実施例１と同様にして、比較例１のカラーフィルタを作製した。
（ムラの評価）
得られた実施例１のカラーフィルタおよび比較例１のカラーフィルタを、偏光顕微鏡で、基板の遅送軸の方向に偏光板の透過軸方向にあわせて、クロスニコル下で観察した。実施例１のカラーフィルタにおいては、各画素からの光漏れはなかったが比較例１のカラーフィルタにおいては光漏れが発生していた。
【０１０５】
（実施例２：ＶＡ−ＬＣＤの作製）
（透明電極の形成）
上で作製した実施例１のカラーフィルタ上に透明電極膜（膜厚２０００Å）をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。
【０１０６】
（配向層の形成及び液晶セル形成）
更にその上にポリイミドの配向膜を設けた。次に粒子径５μｍのガラスビーズを散布した。さらにカラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置に、スペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板を対向基板と１０ｋｇ／ｃｍの圧力で貼り合わせた。次いで、貼り合わされたガラス基板を１５０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。この液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。
【０１０７】
（ＶＡ−ＬＣＤの作製）
カラー液晶表示装置用冷陰極管バックライトとしては、ＢａＭｇ2Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ，Ｍｎと、ＬａＰＯ4：Ｃｅ，Ｔｂとを重量比５０：５０で混合した蛍光体を緑色（Ｇ）、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕを赤色（Ｒ）、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕを青色（Ｂ）として、任意の色調を持つ白色の三波長蛍光ランプを作製した。このバックライト上に上記偏光板を付与した液晶セルを設置し、実施例２のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
（比較例２：ＶＡ−ＬＣＤの作製）
実施例１のカラーフィルタの代わりに比較例１のカラーフィルタを用いた以外は実施例２と同様にして、比較例２のカラーフィルタを作製した。
【０１０８】
（ＶＡ−ＬＣＤの評価）
作製した液晶表示装置の視野角特性を視野角測定装置（ＥＺ Ｃｏｎｔｒａｓｔ １６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）で測定した。実施例及び比較例について、黒表示（電圧無印加）時におけるパネル正面より右斜め上４５度方向について、目視で色の変化を評価した。
結果を表７に示す。
【０１０９】
【表７】
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【符号の説明】
【０１１０】
１００ ヘッド部
１０１、１０２、１０３ インクジェットヘッド
１１０ 顕微鏡カメラ
２００ 制御部
３００ 基板
４００ 基板台
５００ ヘッドメンテナンスステーション
【図１】
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