(57)【要約】【課題】フレキシブルかつ高封止性および高光取り出し効率を有する発光素子用封止フィルムを提供する。【解決手段】透光性フィルム１の表面に有機層２と無機層３とを積層した多層膜４を備えた発光素子用封止フィルムＡに関する。隣り合う層の屈折率の差が０．０５以下である。かつ、多層膜４のうち透光性フィルム１に接する層の屈折率が、他方の層の屈折率よりも低いことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性フィルムの表面に有機層と無機層とを積層した多層膜を備えた発光素子用封止フィルムにおいて、隣り合う層の屈折率の差が０．０５以下であり、かつ、多層膜のうち透光性フィルムに接する層の屈折率が、他方の層の屈折率よりも低いことを特徴とする発光素子用封止フィルム。
【請求項２】
有機層が、樹脂相中に、樹脂相を形成する樹脂の屈折率より高い屈折率の粒子を分散して形成されていることを特徴とする請求項１に記載の発光素子用封止フィルム。
【請求項３】
有機層が、樹脂相中に中空の粒子を分散して形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載の発光素子用封止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子、有機ＥＬ素子（有機エレクトロルミネッセンス素子）などの透明基材として用いられる発光素子用封止フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子、有機ＥＬ素子などへの透明基材として、重くて割れ易いガラス基材に代わって、軽量化、形状の自由度が高いこと等の特徴がある透明プラスチック等のフィルム基材が採用され始めている。
【０００３】
しかしながら、透明プラスチック等のフィルム基材はガラス基材に対して封止性が劣るという問題がある。フィルム基材の封止性が劣ると水分や酸素が素子内部に浸入し、発光素子を劣化させてしまう。そこで、透明性を維持しつつも高い封止性を確保するために、近年、有機層／無機層の交互積層構造を有するバリア膜を真空蒸着法によりフィルム基材上に作製する技術が提案されている（特許文献１参照）。
【０００４】
しかしながら、これらの有機層／無機層の交互積層構造を有する封止フィルムでは、各層の屈折率差のため、光の多層干渉による着色の影響が無視できない。この着色を低減するために、有機層の屈折率と無機層の屈折率との差を少なくする技術も提案されている（特許文献２参照）が、これら封止フィルムを有機ＥＬ素子用として用いた場合、有機層／無機層の積層部分による光取り出し効率の低下が問題となる。
【特許文献１】米国特許第６４１３６４５号明細書
【特許文献２】特開２００３−２０３７７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このように、フィルム基材を用いた有機ＥＬ素子ができれば、ガラス基材を用いたものよりも軽量化が図れるが、フィルム基材はガラス基材に比べて封止性が低いため、有機層／無機層の積層構造からなるバリア層を設置して封止性を向上させる技術が提案されている。一方で、有機層／無機層の交互積層構造により有機ＥＬ素子の光取り出し効率が低下する問題があった。
【０００６】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、フレキシブルかつ高封止性および高光取り出し効率を有する発光素子用封止フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の請求項１に係る発光素子用封止フィルムＡは、透光性フィルム１の表面に有機層２と無機層３とを積層した多層膜４を備えた発光素子用封止フィルムＡにおいて、隣り合う層の屈折率の差が０．０５以下であり、かつ、多層膜４のうち透光性フィルム１に接する層の屈折率が、他方の層の屈折率よりも低いことを特徴とするものである。
【０００８】
本発明の請求項２に係る発光素子用封止フィルムＡは、請求項１において、有機層２が、樹脂相中に、樹脂相を形成する樹脂の屈折率より高い屈折率の粒子を分散して形成されていることを特徴とするものである。
【０００９】
本発明の請求項３に係る発光素子用封止フィルムＡは、請求項１又は２において、有機層２が、樹脂相中に中空の粒子を分散して形成されていることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１０】
請求項１の発明では、樹脂製の透光性フィルム１を基材として用いることにより、ガラス基材よりも可撓しやすくなって、フレキシブルに形成することができるものである。また、有機層／無機層の積層構造からなる多層膜４を備えることにより、ガスバリア性を高くすることができ、透光性フィルム１単体よりも高封止性を具備することができるものである。さらに、有機層と無機層の光学設計を行うことにより、高光取り出し効率で長期的に安定な光学特性を実現することができるものである。
【００１１】
請求項２の発明では、有機層２を屈折率の高い粒子と樹脂との混合系で形成することにより更なる高封止性を実現することができる。
【００１２】
請求項３の発明では、中空粒子を使用することにより、この中空粒子と同形状の中実粒子を使用する場合よりもより発光素子用封止フィルムの光透過率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００１４】
本発明の発光素子用封止フィルムＡは、透光性フィルム１の表面に有機層２と無機層３とを積層して形成した多層膜４を封止層として備えるものである。
【００１５】
透光性フィルム１は透明な可撓性支持基材として用いられるものであって、透明で、且つ、可撓性を有するプラスチック基材であれば、特に限定なく用いることができ、前記各層を保持できる基板であれば、例えば、発光素子の使用目的等に応じて適宜選択することができる。透光性フィルム１を構成する材料としては、具体的に、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィルンコポリマー、フルオレン環変性カーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂が挙げられる。これらの樹脂のうち、好ましい例としては、ポリエステル樹脂で特にポリエチルナフタレート樹脂（ＰＥＮ）、ポリアリレート樹脂（ＰＡｒ）、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ）等の化合物からなるフィルムが挙げられる。また、透光性フィルム１の厚みは可撓性や透光性や強度などの物性を損なわない範囲であればよく、例えば、０．０１〜１ｍｍとするのが好ましい。
【００１６】
有機層２は、無機層３の脆性および封止性を向上させるために、無機層３と隣接して１層以上設けられており、本発明において無機層３と有機層２とは交互に積層されていることが好ましい。また、有機層２の屈折率は上記透光性フィルムの屈折率以上であり、かつ後述の陽極材料の屈折率以下であることが好ましい。前述のとおり、本発明で好ましく用いられる透光性フィルム１の材料のポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）の屈折率は約１．６５であり、一般的にボトムエミッション型有機ＥＬ素子で用いられる陽極材料のＩＴＯの屈折率は２．００以下であるため、有機層２を構成する材料の屈折率は１．６５〜２．００であることが好ましい。有機層２の厚みについては特に限定されないが、１０ｎｍ〜５０００ｎｍが好ましい。有機層２の厚みが薄すぎると、厚みの均一性を得ることが困難となるため、無機層３の構造欠陥を効率よく有機層２で埋めることができずに、封止性の向上は見られなくなることがある。逆に、有機層２の厚みが厚すぎると、曲げ等の外力により有機層２にクラックが発生し易くなるため封止性が低下してしまう不具合が発生することがある。有機層２を形成させるための方法としては、有機物を塗布または蒸着で積層した後、紫外線硬化させる方法、蒸着、プラズマＣＶＤ等による真空成膜法等を挙げることができる。塗布方式で作製する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができる。
【００１７】
有機層２は、例えばポリイミド樹脂やビスフェノール型エポキシ樹脂など屈折率１．６５〜２．００を満たす材料で形成することができる。また、有機層２は樹脂相（マトリックス）中に、この樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有する一種又は複数種の粒子を分散して形成することができる。この場合、樹脂としては特に制限されず、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂など適宜の材料を用いることができる。また高い屈折率を有する粒子としてはＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3など可視光の吸収が低く、かつ高屈折の材料が好ましい。この粒子の粒子径は０．００１μｍ〜１００μｍの範囲が好ましく、粒径が前記範囲より大きいと有機層２の平坦化が困難になるおそれがある。粒子の屈折率は樹脂の屈折率よりも０．０１以上高くすることができる。また、有機層２中の樹脂の全量に対して粒子を５〜９５質量％配合することができる。
【００１８】
有機層２に分散させる粒子として中空のものを用いることができる。この場合、同形状の中空でない粒子（中実粒子）を用いる場合に比べて、発光素子用封止フィルムの光透過率を向上させることができる。中空の粒子としては粒径が０．００１〜１００μｍの範囲でＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3など可視光の吸収が低い材料からなるものを用いることが好ましい。尚、粒径が前記範囲より大きいと有機層２の平坦化が困難になるおそれがある。粒子の屈折率は樹脂の屈折率よりも０．０１以上高くすることができる。また、有機層２中の樹脂の全量に対して粒子を５〜９５質量％配合することができる。
【００１９】
無機層３は、無機物を含有し、透光性フィルム１の封止性能を改善する層である。無機層に含まれる無機物の成分は特に限定されないが、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｅ、Ｔａ等から選ばれる１種以上を含む酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物などを用いることができる。本発明における無機層３は、屈折率の点では上記透光性フィルム１の屈折率以上であり、かつ後述の陽極材料の屈折率以下であることが好ましい。本発明で好ましく用いられる透光性フィルム１の材料のポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）の屈折率は約１．６５であり、一般的にボトムエミッション型有機ＥＬ素子で用いられる陽極材料のＩＴＯの屈折率は約２．００である。このため、無機層３を構成する材料の屈折率は１．６５〜２．００であることが好ましい。例えば、無機層３としては透光性フィルム１に近い方ではＡｌ２Ｏ３（屈折率ｎ＝１．７５）であることが好ましく、その外側の無機層３はＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９０）であることが好ましい。本発明における無機層３は目的とする薄膜を形成できる方法であればいかなる方法により形成してもよく、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などが適している。無機層の厚みは特に限定されないが、厚すぎると曲げ応力によるクラックのおそれがあり、薄すぎると膜が島状に分布するため、いずれも水蒸気バリア性が低下する傾向がある。このため、各無機層３の厚みは５ｎｍ〜１０００ｎｍが好ましい。本発明では、無機層３が二層以上形成されていることが好ましい。その場合、各無機層３は各々が同じ組成でも別の組成でもよく、制限はない。
【００２０】
そして、本発明の発光素子用封止フィルムＡは、透光性フィルム１の表面に少なくとも一層の無機層３と少なくとも一層の有機層２とを積層した多層膜４を封止層として設けて形成されている。無機層３と有機層２の数の上限は特に限定はないが、１０層以下にすることができる。また、隣り合う有機層２と無機層３の屈折率の差が０．０５以下である。この場合、隣り合う有機層２と無機層３の屈折率の差は無いことが好ましいので、この差の下限は０である。また、多層膜４のうち透光性フィルム１に接する層の屈折率は他方の層の屈折率より低く設定する。つまり、多層膜４を構成する有機層２と無機層３のうち、透光性フィルム１に接する層の屈折率を最も低くするものである。
【００２１】
本発明の発光素子用封止フィルムＡは上述のように構成されることにより、光の多層干渉が抑制され、このような多層干渉により任意の波長で光が強めあったり弱めあったりして偏りを生じることにより均一なスペクトルが得られなくなるなどといった光学特性の悪化が生じることがない。また、発光素子としてボトムエミッション型有機ＥＬ素子を形成する場合、陽極（透明導電膜）として形成するＩＴＯなど酸化物半導体（陽極材料）と上記透光性フィルム１の屈折率の差が大きく、透光性フィルム１の表面に陽極を直接形成すると、この層界面での屈折率差が大きくなり、スネルの法則により、全反射の起こる臨界角が低下して光取り出し効率の低下を招く。そこで、本発明では、有機層２と無機層３とを積層した多層膜４の屈折率を上述のように設計し、多層膜４上に陽極を形成することにより、各層間での屈折率の差を極力小さくすることで、光取り出し効率の向上を図るものである。
【００２２】
尚、本発明において、透光性フィルム１、有機層２、無機層３の各屈折率は使用する材料の種類や組成などを変えることにより設計することができる。また、本発明の効果を損なわない限りその他の層、例えば紫外線吸収層や反射防止層などを有していても良い。また、本発明の屈折率の値は特に指定が無ければ６３３ｎｍの波長の光に対する値を示す。各層の屈折率はプリズムカプラ、透過反射屈折率測定計、アッベ屈折計を用いて測定できる。
【実施例】
【００２３】
以下本発明を実施例によって具体的に説明する。
【００２４】
（実施例）
透光性フィルム１としては、厚み１２０μｍのＰＥＮフィルムを用いた。フィルムの両面にコロナ放電処理、ＵＶ照射処理を行った。前記コロナ放電処理により、放電自体の物理的表面改質と、極性官能基生成による化学的表面改質によって透光性フィルム１の表面の濡れ性が著しく向上し、更に前記ＵＶ照射による表面処理によって透光性フィルム１の表面改質と洗浄とがなされる。
【００２５】
この透光性フィルム１の片面に多層膜４として、有機層２ａ、無機層３ａ、有機層２ｂ、有機層２ｃ、無機層３ｂを順番に積層して形成した。
【００２６】
有機層２ａは透光性フィルム１の表面に接して形成される層である。ＴｉＯ２球状粒子１ｇ、イミド系樹脂９ｇをホモジナイザーにて混合・攪拌し、ＴｉＯ２球状粒子をイミド樹脂中に分散させた後、スピンコートにより塗布して２００℃にて１０分間加熱硬化させることによって、厚み５００ｎｍの有機層２ａを形成した。有機層２ａの屈折率は１．７１であった。尚、ＴｉＯ２球状粒子はアナターゼ型で屈折率２．５、粒子径２０〜３０ｎｍのものを用いた。イミド系樹脂はオプトメイト社製の品番ＨＲＩ６７２で、屈折率がｎＤ＝１．６７のものを用いた。
【００２７】
無機層３ａはＡｌ２Ｏ３で形成される層である。ターゲットとしてＡｌをセットし、放電電源としてパルス印加方式の直流電源を用意した。スパッタリング装置への有機層２ａを形成した透光性フィルム１の準備が終了後、真空チャンバーの扉を閉めて真空ポンプを起動し、真空引きを開始した。到達圧力が４×１０−４Ｐａになったところで、放電ガスとしてアルゴンを導入して放電電源をＯＮし、放電電力５ｋＷ、成膜圧力０．３ＰａでＡｌターゲット上にプラズマを発生させ、５分間プレスパッタを行った。この後、反応ガスとして酸素を導入した。放電が安定してから、一定時間Ａｌ２Ｏ３の成膜を行った。成膜終了後、真空チャンバーを大気圧に戻して有機層２ａの表面に厚み１００ｎｍのＡｌ２Ｏ３層を成膜したフィルムを取り出した。この無機層３ａの屈折率は１．７５であった。
【００２８】
有機層２ｂは無機層３ａの表面に形成される層である。ＴｉＯ２球状粒子４ｇ、イミド系樹脂６ｇをホモジナイザーにて混合・攪拌し、ＴｉＯ２球状粒子をイミド系樹脂中に分散させた後、上記の無機層３ａ上にスピンコートにより塗布して２００℃にて１０分間加熱硬化させることによって、厚み５００ｎｍの有機層２ｂを形成した。有機層２ｂの屈折率は１．８０であった。ＴｉＯ２球状粒子とイミド系樹脂とは上記と同様のものを用いた。
【００２９】
有機層２ｃは有機層２ｂの表面に形成される層である。ＴｉＯ２球状粒子５ｇ、イミド系樹脂５ｇをホモジナイザーにて混合・攪拌し、ＴｉＯ２球状粒子をイミド系樹脂中に分散させた後、上記の有機層２ｂ上にスピンコートにより塗布して２００℃にて１０分間加熱硬化させることによって、厚み３００ｎｍの有機層２ｃを形成した。有機層２ｃの屈折率は１．８５であった。
【００３０】
無機層３ｂは有機層２ｃの表面に形成されるＺｎＯの層である。この無機層３ｂは、ターゲットをＺｎに変更する以外は上記のＡｌ２Ｏ３の無機層３ａと同様にしてＺｎＯを成膜した。無機層３ｂの屈折率は１．９０であった。
【００３１】
（実施例２）
実施例１において使用したＴｉＯ2粒子（アナターゼ型、屈折率２．５、粒子径２０〜３０ｎｍ）に代えて、中空ＴｉＯ2粒子（アナターゼ型、屈折率２．５、粒子径２０〜３０ｎｍ）を使用した。有機層２ａの屈折率は１．７１、有機層２ｂの屈折率は１．８０、有機層２ｃの屈折率は１．９０であった。それ以外は実施例１と同様の方法で、透光性フィルム１の片面に多層膜４として、有機層２ａ、無機層３ａ、有機層２ｂ、有機層２ｃ、無機層３ｂを順番に積層して形成した。
【００３２】
（実施例３）
実施例１と同様の透光性フィルム１の片面に多層膜４として、有機層２ａ、有機層２ｂ、無機層３ａ、有機層２ｃ、有機層２ｄ、有機層２ｅを順番に積層して形成した。
【００３３】
有機層２ａは透光性フィルム１の表面に接して形成される層である。ＴｉＯ２球状粒子０．２ｇ、ポリイミド樹脂１０ｇをホモジナイザーにて混合・攪拌し、ＴｉＯ２球状粒子をポリイミド樹脂中に分散させた後、スピンコートにより塗布して２００℃にて１０分間加熱硬化させることによって、厚み５００ｎｍの有機層２ａを形成した。有機層２ａの屈折率は１．６６であった。尚、ＴｉＯ２球状粒子は実施例１の場合と同一のものを用いた。ポリイミド樹脂はオプトメイト社製の品番ＨＲＩ５９２で、屈折率がｎＤ＝１．５９のものを用いた。
【００３４】
有機層２ｂは有機層２ａの上に形成される層である。ＴｉＯ２球状粒子０．４ｇ、ポリイミド樹脂１０ｇをホモジナイザーにて混合・攪拌し、ＴｉＯ２球状粒子をポリイミド樹脂中に分散させた後、上記の無機層３ａ上にスピンコートにより塗布して２００℃にて１０分間加熱硬化させることによって、厚み５００ｎｍの有機層２ｂを形成した。有機層２ｂの屈折率は１．７１であった。ＴｉＯ２球状粒子とポリイミド樹脂とは上記と同様のものを用いた。
【００３５】
無機層３ａはＡｌ２Ｏ３で形成される層であり、実施例１における無機層３ａと同様にして形成した。
【００３６】
有機層２ｃは無機層３ａの表面に形成される層である。ＴｉＯ２球状粒子０．５ｇ、ポリイミド樹脂１０ｇをホモジナイザーにて混合・攪拌し、ＴｉＯ２球状粒子をポリイミド樹脂中に分散させた後、上記の無機層３ａ上にスピンコートにより塗布して２００℃にて１０分間加熱硬化させることによって、厚み３００ｎｍの有機層２ｃを形成した。有機層２ｃの屈折率は１．８０であった。ＴｉＯ２球状粒子とポリイミド樹脂とは上記と同様のものを用いた。
【００３７】
有機層２ｄは有機層２ｃの表面に形成される層である。ＴｉＯ２球状粒子０．６ｇ、ポリイミド樹脂１０ｇをホモジナイザーにて混合・攪拌し、ＴｉＯ２球状粒子をポリイミド樹脂中に分散させた後、上記の有機層２ｃ上にスピンコートにより塗布して２００℃にて１０分間加熱硬化させることによって、厚み２００ｎｍの有機層２ｄを形成した。有機層２ｄの屈折率は１．８５であった。ＴｉＯ２球状粒子とポリイミド樹脂とは上記と同様のものを用いた。
【００３８】
有機層２ｅは有機層２ｄの表面に形成される層である。ＴｉＯ２球状粒子０．７ｇ、ポリイミド樹脂１０ｇをホモジナイザーにて混合・攪拌し、ＴｉＯ２球状粒子をポリイミド樹脂中に分散させた後、上記の有機層２ｄ上にスピンコートにより塗布して２００℃にて１０分間加熱硬化させることによって、厚み２００ｎｍの有機層２ｅを形成した。有機層２ｅの屈折率は１．９０であった。ＴｉＯ２球状粒子とポリイミド樹脂とは上記と同様のものを用いた。
【００３９】
（実施例４）
実施例１において、有機層２ａと有機層２ｂを形成するにあたり、ＴｉＯ2粒子に代えて、ＺｒＯ2粒子（アナターゼ型、屈折率２．２、粒子径約２０ｎｍ）を使用した。有機層２ａの屈折率は１．７１、有機層２ｂの屈折率は１．８０であった。それ以外は実施例１と同様の方法で、透光性フィルム１の片面に多層膜４として、有機層２ａ、無機層３ａ、有機層２ｂ、有機層２ｃ、無機層３ｂを順番に積層して形成した。
【００４０】
（比較例１）
透光性フィルム１の表面に有機層２ｃ、ＺｎＯの無機層３ｂ、有機層２ｂ、有機層２ａ、Ａｌ２Ｏ３の無機層３ａの順で多層膜４を形成した以外は実施例１と同様に行った。
【００４１】
上記の実施例及び比較例の発光素子用封止フィルムＡを用いて、発光素子として有機ＥＬ素子を形成した。
【００４２】
まず、ＩＴＯ（スズドープ酸化物インジウム）ターゲット（東ソー製）を用いて、上記封止フィルムＡの多層膜４（封止層）側にスパッタを行い、１５０ｎｍのＩＴＯ層を形成した。得られたＩＴＯ層付封止フィルムを、Ａｒ雰囲気下２００℃で１時間アニール処理を行い、シート抵抗２０Ω／□の透明電極層（陽極層）１０を形成した。
【００４３】
次に、透明電極層付封止フィルムを純水で１０分間超音波洗浄をした後、乾燥し、その後ＵＶ−０３処理を１０分間行った。この後、この透明電極層付封止フィルムを真空蒸着装置にセットし、ホール輸送層１１として、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（１−ナフチル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＮＰＢ）（ｅＲａｙ製）を陽極層１０上に４０ｎｍ形成した。次に、電子輸送層１２、発光層１３としてアルミニウム−トリス（８−ヒドロキシキノリン）（Ａｌｑ）（ｅＲａｙ製）をホール輸送層１１上に６０ｎｍ形成した。更にその上に電子注入層１４としてＬｉＦ（高純度化学製）を１ｎｍ形成した。そして最後に、電子注入層１４上にＡｌ（高純度化学製）を８０ｎｍの膜厚で真空蒸着し、陰極層１５を形成した。この後、これらの各層を蒸着して形成した封止フィルムを露点−８０℃以下のドライ窒素雰囲気のグローブボックスに大気に暴露することなく搬送した。
【００４４】
一方、ガラス製の封止キャップ１６に吸水剤（ダイニック製）を貼り付けると共に封止キャップ１６の外周部に紫外線硬化樹脂製のシール剤を塗布したものを予め用意した。そして、グローブボックス内で封止フィルムＡと封止キャップ１６をシール剤で張り合わせ、紫外線照射してシール剤を硬化させることによって、図２に示すように、封止キャップ１６で各層を封止した有機ＥＬ発光素子を得た。
【００４５】
上記のようにして得られた有機ＥＬ発光素子の特性は、ＤＣ電源（ケースレイ製）を用い、素子内部に流れる電流を１０ｍＡ／ｃｍ２に固定し、輝度計（トプコン製）を用いて素子の特性評価を行った。正面輝度［電流効率（ｃｄ／Ａ）ともに、１０°ごとの角度方位を−８０°〜＋８０°まで測定し、全光束［電力効率ｌｍ／Ｗ］を算出した。下記に結果を以下の表１に示す。比較例１の電流効率（ｃｄ／Ａ）及び電力効率（ｌｍ／Ｗ）を基準にして、各実施例１の正面及び全方位の光取出し効率向上倍率を計算すると、実施例１では約１．３倍、実施例２では約１．４倍、実施例３では約１．４倍、実施例４では約１．３倍となった。
【００４６】
【表１】
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【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の実施の形態の一例を示す断面図である。
【図２】有機ＥＬ素子の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１  透光性フィルム
２  有機層
３  無機層
４  多層膜
【図１】
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【図２】
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