(57)【要約】      （修正有）【課題】透過モードにおいて作動するように設計される液晶フラットスクリーンを、エネルギ消費が少ない反射モードで作動することができるようにする。【解決手段】厚さｅ１を備えた液晶層３と反射器９との間に、厚さｅ２、幅ｌの着色フィルタ２を備え、着色フィルタと反射器の間に、厚さｅ３、屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ２からなる層１３と、反射器の外方に厚さｅ４を有する偏向子８を備え、次の関係を満足する。ｅ１／２＋ｅ２+ｅ３＋ｅ４＜ｎｘｌ/４またはｅ１／２＋ｅ３＋ｅ４＜ｎｘｌ/４【選択図】図３
2010049271.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１透明閉じ込め手段と第２透明閉じ込め手段との間に閉じ込められた厚さｅ1を備えた液晶層（３）を含んでおり、前記第１透明閉じ込め手段が前記スクリーン上に到達する入射光を受光する外方面、および前記液晶に電界を印加するのに使用される第１透明電極（６）を支持する内方面を備えており、前記第２透明閉じ込め手段が前記第２透明閉じ込め手段を通過する光を反射する反射器（９）を支持するための外方面、および前記液晶への電界の印加用第２電極（７）を支持する内方面を備えている反射モードにおいて作動する液晶フラットスクリーンにおいて、以下の代替物の１つ、すなわち、
−前記前記第２透明閉じ込め手段が厚さｅ2を備えた着色フィルタ（２）を形成しかつ幅ｌを備えた要素のモザイクから構成される、それらの内方および外方面間の層、厚さｅ3および屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2（１３）からなる層および厚さｅ4を有する偏光子（８）を形成する層を含んでおり、前記パラメータｅ1，ｅ2，ｅ3，ｅ4をおよびｌが
ｅ1／２＋ｅ2＋ｅ3＋ｅ4＜ｎｘｌ／４
であるように選ばれるか、または、
−前記第１透明閉じ込め手段が幅ｌを備えた要素のモザイクから構成される着色フィルタを形成する、それらの内方および外方面間の層を含み、そして前記第２透明閉じ込め手段が厚さｅ3および屈折率ｎを有するそれらの内方および外方面間のガラスまたはＳｉＯ2層および厚さｅ4を有する偏光子（８）を形成する層を含んでおり、前記パラメータｅ1，ｅ3，ｅ4をおよびｌが
ｅ1／２＋ｅ3＋ｅ4＜ｎｘｌ／４
であるように選ばれる、
ことを有することを特徴とする液晶フラットスクリーン。
【請求項２】
前記反射器（９）が金属フィルムであることを特徴とする請求項１に記載の液晶フラットスクリーン。
【請求項３】
前記第２透明閉じ込め手段の前記偏光子（８）を形成する前記層がプラスチックから作られることを特徴とする請求項１に記載の液晶フラットスクリーン。
【請求項４】
前記第１透明閉じ込め手段がガラス帯片（４）およびそれらの内方および外方面間に偏光子（５）を形成する層を含んでいることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶フラットスクリーン。
【請求項５】
前記第１透明閉じ込め手段の偏光子（５）を形成する層がプラスチック材料から作られることを特徴とする請求項４に記載の液晶フラットスクリーン。
【請求項６】
前記第１透明閉じ込め手段または前記第２透明閉じ込め手段がこれらの透明閉じ込め手段によって支持された前記透明電極と関連付けられる能動マトリクスを支持することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶フラットスクリーン。
【請求項７】
第１透明閉じ込め手段と第２透明閉じ込め手段との間に閉じ込められる液晶層（３）を含んでいる液晶フラットスクリーンを製造するための液晶フラットスクリーン製造方法において、この方法が、以下の段階、すなわち、
−支持体（１０）に向かい合っている第１透明閉じ込め手段を含んでいる構造を作り、この第１透明閉じ込め手段が前記スクリーンに入射する光を受光する前記構造に対して外方の外方面を備および前記液晶への電界の印加用の第１透明電極（６）を支持する前記構造に対する内面を備え、前記第１閉じ込め手段に向かい合っている前記支持体の部分が屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2から作られ、かつ厚さｅ2を有する着色フィルタ（２）を形成しかつ幅ｌを備えた要素のモザイクから構成される層を支持し、前記着色フィルタ（２）を形成する層が前記液晶への電界の印加用の第２の透明電極（７）を支持し、厚さｅ1を有する液晶（３）からなる層が前記第１透明閉じ込め手段と前記着色フィルタ（２）を形成する層との間に閉じ込められており、
−前記着色フィルタ（２）を形成する層に隣接した厚さｅ1をかつ屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2層（１３）のみを保持するように前記支持体（１０）を薄くし、
−前記ガラス層またはＳｉＯ2層（１３）の自由面上に厚さｅ4を有する偏光子（８）を形成する層を膠着し、前記パラメータｅ1，ｅ2，ｅ3，ｅ4をおよびｌが
ｅ1／２＋ｅ2＋ｅ3＋ｅ4＜ｎｘｌ／４
であるように選ばれ、
前記着色フィルタ（２）を形成する層、ガラスまたはＳｉＯ2層（１３）および前記偏光子（８）を形成する層が前記第１透明閉じ込め手段を形成し、
−前記偏光子（８）を形成する層の自由面上の前記第２透明閉じ込め手段を通過する光を反射するような反射器（９）の配置、
の段階を含むことを特徴とする液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項８】
構造製造段階の間中、使用される前記第１透明閉じ込め手段がガラス帯片（４）およびそれらの内方および外方面の間に偏光子（５）を形成する層を含んでいる閉じ込め手段であることを特徴とする請求項７に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項９】
構造製造段階の間中、使用される前記第１透明閉じ込め手段がガラス帯片（４）のみを含み、前記方法が、支持体（１０）を薄くする段階に続いて、前記構造の外方面上に、前記第１透明閉じ込め手段の前記ガラス帯片（４）上に偏光子（５）を配置することからなっている追加の段階を含んでいることを特徴とする請求項７に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項１０】
前記支持体（１０）が、研削、機械−化学研磨および化学的攻撃から選ばれた方法によって薄くされることを特徴とする請求項７に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項１１】
構造製造段階の間中、使用される支持体（１０）がストッパ層（１２）によって前記支持体の残部（１１）から分離された厚さｅ3をかつ屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2層（１３）を含んでおり、前記支持体を薄くする段階がまず前記支持体の残部（１１）を除去しかつ次いでストッパ層（１２）を除去することを特徴とする請求項７に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項１２】
前記支持体の残部（１１）が化学攻撃によって除去されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項１３】
前記ストッパ層（１２）がエッチングによって除去されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項１４】
構造製造段階の間中、使用される支持体が分離層によって前記支持体の残部から分離された厚さｅ3をかつ屈折率ｎを有する前記ガラスまたはＳｉＯ2層を含んでおり、前記支持体を薄くする段階が前記分離層まで前記支持体の残部を除去することからなっていることを特徴とする請求項７に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項１５】
構造製造段階の間中、前記第１閉じ込め手段が厚い基板の部分を形成し、前記方法がその場合また前記第１閉じ込め手段のみを保持するためにこの厚い基板を薄くするための段階を含んでいることを特徴とする請求項７に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項１６】
構造製造段階の間中、能動マトリクスが前記第１透明電極または前記第２透明電極と関連付けられることを特徴とする請求項７〜１５のいずれか１項に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項１７】
第１透明閉じ込め手段と第２透明閉じ込め手段との間に閉じ込められる液晶層を含んでいる液晶フラットスクリーンを製造するための液晶フラットスクリーン製造方法において、この方法が、以下の段階、すなわち、
−構造の製造が前記第１透明閉じ込め手段および互いに向かい合っている支持体を含んでおり、前記第１透明閉じ込め手段が前記スクリーンに入射する光を受光する前記構造に対して外方の面を、そして幅ｌからなる要素のモザイクから構成される着色フィルタを形成する層を支持する前記構造に対する内方の面を備え、着色フィルタを形成する層が前記液晶への電界の印加用の第１透明電極を支持し、前記第１透明閉じ込め手段に向かい合っている前記支持体の部分が屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2から作られかつ前記液晶への電界の印加用の第２の透明電極を支持し、厚さｅ1を有する液晶層が前記第２透明閉じ込め手段と着色フィルタを形成する層との間に閉じ込められており、
−前記第２透明電極を支持する厚さｅ3をかつ屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2層のみを保持するように前記支持体を薄くし、
−前記ガラス層またはＳｉＯ2層の自由面上に厚さｅ4を有する偏光子を形成する層を膠着し、前記パラメータｅ1，ｅ2，ｅ3，ｅ4をおよびｌが
ｅ1／２＋ｅ3＋ｅ4＜ｎｘｌ／４
であるように選ばれ、
ガラスまたはＳｉＯ2層および前記偏光子を形成する層が前記第２透明閉じ込め手段を形成し、
−反射器の配置が前記偏光子を形成する層の自由面上の前記第２透明閉じ込め手段を通過する光を反射するように設計される、
段階を含むことを特徴とする液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項１８】
構造製造段階の間中、使用される前記第１透明閉じ込め手段が、着色フィルタを形成する前記層、ガラス帯片およびそれらの内方および外方面の間に偏光子を形成する層を含んでいる閉じ込め手段であることを特徴とする請求項１７に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項１９】
構造製造段階の間中、使用される前記第１透明閉じ込め手段がガラス帯片および着色フィルタを形成する前記層のみを含み、前記方法が、支持体を薄くする段階に続いて、前記構造の外方面上に、前記第１透明閉じ込め手段の前記ガラス帯片上に偏光子を配置することからなっている追加の段階を含んでいることを特徴とする請求項１７に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項２０】
前記支持体が、研削、機械−化学研磨および化学的攻撃から選ばれた方法を使用して薄くされることを特徴とする請求項１７に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項２１】
構造製造段階の間中、使用される支持体がストッパ層によって前記構造の残部から分離されている厚さｅ3をかつ屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2層を含んでおり、前記支持体を薄くする段階がまず前記支持体の残部を除去しかつ次いでストッパ層を除去することを特徴とする請求項１７に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項２２】
前記支持体の残部が化学攻撃によって除去されることを特徴とする請求項２１に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項２３】
前記ストッパ層がエッチングによって除去されることを特徴とする請求項２１に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項２４】
構造製造段階の間中、使用される支持体が分離層によって前記支持体の残部から分離された厚さｅ3をかつ屈折率ｎを有する前記ガラスまたはＳｉＯ2層を含んでおり、前記支持体を薄くする段階が前記分離層まで前記支持体の残部を除去することからなっていることを特徴とする請求項１７に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項２５】
構造製造段階の間中、前記第１閉じ込め手段が厚い基板の部分を形成し、前記方法が次いで前記第１閉じ込め手段のみを保持するためにこの固定基板を薄くするための段階を含んでいることを特徴とする請求項１７に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【請求項２６】
構造製造段階の間中、能動マトリクスが前記第１透明電極または前記第２透明電極と関連付けられることを特徴とする請求項１７〜２５のいずれか１項に記載の液晶フラットスクリーン製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射モードにおいて作動するフラット液晶スクリーンに関する。本発明は、また、かかるフラットスクリーンの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
将来の携帯可能な装置（例えば、携帯電話、スマートカードまたは将来の個人アシスタント）は増大する数の機能を含んでいる。これらの装置は、例えば、将来の個人アシスタントのように、多数の技術的積み木（ブリック）を使用して構成される。これらの技術的積み木（ブリック）は液晶スクリーン、運転装置、マイクロプロセッサ、およびバッテリを含んでいる。スクリーンは最大の表面積を占有する構成要素でありかつ装置へのそれらの一体化は重要な点である。
【０００３】
これらの目的はそれらのコストを減少するか、またはそれらが種々の機能を実行することができるという条件のみで大量生産において開発され得る。現在では、ほとんどの能動マトリクスフラットスクリーンは、無視できないエネルギ消費を要求する、透過モードにおいて作動する。他の技術がこの問題を解決するために開発された。これらの技術は反射モードで作動するスクリーンを製造することができるが、それらは透過スクリーンに使用される技術より非常に複雑である。
【０００４】
それゆえ、フラットスクリーンにより克服されるような挑戦の１つは、公知の反射スクリーンのコストより低いコストで、消費のより少ないスクリーンを作ることである。
【０００５】
そのうえ、ほとんどのフラット液晶スクリーンはガラス支持体上に作られる。ガラスは多くの利点（大きさ、コスト等）を有している。しかしながら、それは１つの主要な欠点を有し、それは衝撃抵抗である。この型の支持体上に作られる構成要素またはデバイスはそれらが携帯可能な装置に一体化され得るように追加の保護装置を必要とする。これらの構成要素の一体化が最大にされるために、最終の支持体上にこれらの構成要素を一体化することが有用である。多くの場合に、この支持体は好都合にはプラスチックから作られることができる。この場合に、例えば、ガラスと比較して低い重量および良好な衝撃抵抗と低製造コストを組み合わせるプラスチック支持体上にスクリーンを得ることがとくに関心がある。この応用は新世代携帯電話にとくに魅力的である。これらの液晶および能動マトリクススクリーンはそれら自体通常プラスチックから作られる偏光子（ポーラライザ）の使用を必要とする。好都合には、能動的機能（光の偏光）かつまた受動的機能（柔軟なかつ堅固な機械的支持）にそれらを使用することができるために非常に関心がある。
【０００６】
そのうえ、携帯可能な装置、例えば、スマートカードかつまた個人アシスタントに関して、また、構成要素が重量および柔軟性の問題を解決するために（スマートカードと同様な厚さを有するように）薄くすべきことが必要である。
【０００７】
他の分野において、種々の技術が一方の支持体から他方の支持体へ層を搬送するのに知られている。例えば、ティー・ハマグチ等により、ＩＥＤＭＰｒｏｃ．１９８５の６８６ページに公表された技術がある。これらの技術はそれらが第１の基板（例えば、ＳＯＩ型基板）から作られる層を他の層へ搬送するのに使用されえるので非常に有用である。しかしながら、それらは処理過程の間で第１の基板が破壊されるという消費を伴う。そのうえ、それらは、埋め込まれた酸化シリコンの層の存在により、化学エッチングを停止するためのストッパ層として使用されることができる薄いフィルムの均一な搬送を行なうのに使用されることができない。
【０００８】
他の技術がより最近プラスチック基板上にＴＦＴトランジスタ（ガラス基板上にポリシリコンから作られた）を搬送するために提案された。この主題についてのさらに他の情報は、エス・ウツノミヤ等による、ＩＤＳ Ｐｒｏｃ．２０００，９１６ページの論文またはヨーロツパ特許出願ＥＰ−Ａ−０ ９２４ ７６９に認められることができる。これらの方法は、構成要素がこの層上に作られた後、他の層上に分離かつ搬送できる、基板（通常、アモルファスシリコン）上の分離層の作成に基礎を置いている。この場合に、分離（または剥離）は光（代表的にはレーザ型ビーム）による照射によって得られる。しかしながら、この型の照射は大きな表面に関しては制御するのが難しい。均一でない照明は均一の剥離を生じ、それは表面フィルムを劣化し得る。これは無視できない技術的困難を生じる。
【０００９】
マイクロエレクトロニクス構成要素のすべてまたは幾つかを収容するかまたは収容しない薄い材料の層を搬送する方法の使用を含んでいる、考え得る種々の搬送方法がある。これらの方法は、１または幾つかのガスの種類の導入から出発している材料に埋め込まれた脆い層の作成に基礎が置かれている。この主題についてのさらに他の情報はフランス特許出願ＦＲ−Ａ−２６８１４７２（アメリカ合衆国特許５３７４５６４に対応する）、フランス特許出願ＦＲ−Ａ−２７４８８５１（アメリカ合衆国特許６０２０２５２に対応する）、フランス特許出願ＦＲ−Ａ―２７４８８５０（アメリカ合衆国特許６１９０９８８に対応する）およびフランス特許出願ＦＲ−Ａ−２７７３２６１に付与されている。これらの方法は、最初の基板からフィルム全体を取り外してそれを支持体上に搬送するために通常使用される。得られた薄いフィルムは次いで基板の部分を含んでいる。これらのフィルムは電子または光学構成要素を作るための能動層として使用されることができる。これらの方法の主要な利点は、それらが異なる支持体上の単結晶基板の薄いフィルムを得るのに使用され得るということである。これらのフィルムは構成要素のすべてまたは部分を収容することができる。
【発明の概要】
【００１０】
本発明の第１の目的は、エネルギ消費が少ないように反射モードで作動することができるように、通常透過モードにおいて差動するように設計される、液晶フラットスクリーンを変換することからなっている。かくして、これらのスクリーンが透過モードにおいて好ましくは作動するけれども、反射モードにおいて「捻れネマティック」、「スーパー捻れネマティック」、「垂直に整列した」または「平面内スイッチング」型の能動マトリクスフラットスクリーンを使用することができる。
【００１１】
１つの特別な実施の形態において、本発明は、また、スクリーンがその最終支持体により容易に一体化されることができるように柔軟で、堅固で安価な支持体上にスクリーンを得るのに使用され得る。
【００１２】
それゆえ、本発明の目的は、第１透明閉じ込め手段と第２透明閉じ込め手段との間に閉じ込められた厚さｅ1を備えた液晶層を含んでおり、前記第１透明閉じ込め手段が前記スクリーン上に到達する入射光を受光する外方面、および前記液晶に電界を印加するのに使用される第１透明電極を支持する内方面を備えており、前記第２透明閉じ込め手段が前記第２透明閉じ込め手段を通過する光を反射する反射器を支持するための外方面、および前記液晶への電界の印加用第２透明電極を支持する内方面を備えている反射モードにおいて作動する液晶フラットスクリーンであり、以下の代替物の１つ、すなわち、
−前記前記第２透明閉じ込め手段が厚さｅ2を備えた着色フィルタを形成しかつ幅ｌを備えた要素のモザイクから構成される、それらの内方および外方面間の層、厚さｅ3および屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2からなる層および厚さｅ4を有する偏光子を形成する層を含んでおり、前記パラメータｅ1，ｅ2，ｅ3，ｅ4をおよび１が
ｅ1／２＋ｅ2＋ｅ3＋ｅ4＜ｎｘｌ／４
であるように選ばれるか、または、
−前記第１透明閉じ込め手段が幅ｌを備えた要素のモザイクから構成される着色フィルタを形成する、それらの内方および外方面間の層を含み、そして前記第２透明閉じ込め手段が厚さｅ3および屈折率ｎを有するそれらの内方および外方面間のガラスまたはＳｉＯ2層を含み、そして厚さｅ4を有する偏光子を形成する層を含んでおり、前記パラメータｅ1，ｅ3，ｅ4をおよびｌが
ｅ1／２＋ｅ3＋ｅ4＜ｎｘｌ／４
であるように選ばれることを特徴とする。
【００１３】
反射器は金属フィルムにすることができる。
【００１４】
好都合には、第２透明閉じ込め手段の前記偏光子を形成する層がプラスチックから作られる。
【００１５】
好ましくは、第１透明閉じ込め手段がガラス帯片およびそれらの内方および外方面間に偏光子を形成する層を含んでいる。偏光子を形成するこの層がプラスチック材料から作られることもできる。
【００１６】
好都合には、第１透明閉じ込め手段または第２透明閉じ込め手段はこれらの透明閉じ込め手段によって支持された透明電極と関連付けられる能動マトリクスを支持する。
【００１７】
本発明の他の目的は、第１透明閉じ込め手段と第２透明閉じ込め手段との間に閉じ込められる液晶層を含んでいる液晶フラットスクリーンを製造するための液晶フラットスクリーン製造方法において、この方法が、以下の段階、すなわち、
−支持体に向かい合っている第１透明閉じ込め手段を含んでいる構造を作り、この第１透明閉じ込め手段が前記スクリーンに入射する光を受光する前記構造に対して外方の外方面および前記液晶への電界の印加用の第１透明電極を支持する前記構造に対する内面を備え、第１の閉じ込め手段と向かい合った前記支持体の部分が屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2から作られかつ厚さｅ2を有する着色フィルタを形成しかつ幅ｌを備えた要素のモザイクから構成される層を支持し、着色フィルタを形成する層が前記液晶への電界の印加用の第２の透明電極を支持し、厚さｅ1を有する液晶からなる層が前記第１透明閉じ込め手段と前記着色フィルタを形成する層との間に閉じ込められており、
−前記着色フィルタを形成する層に隣接した厚さｅ1をかつ屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2層のみを保持するように前記支持体を薄くし、
−前記ガラス層またはＳｉＯ2層の自由面上に厚さｅ4を有する偏光子を形成する層を膠着し、前記パラメータｅ1，ｅ2，ｅ3，ｅ4をおよびｌが
ｅ1／２＋ｅ2＋ｅ3＋ｅ4＜ｎｘｌ／４
であるように選ばれ、
前記着色フィルタを形成する層、ガラスまたはＳｉＯ2層および前記偏光子を形成する層が前記第２透明閉じ込め手段を形成し、
−前記偏光子を形成する層の自由面上の前記第２透明閉じ込め手段を通過する光を反射するような反射器の配置の段階を含んでいる。
【００１８】
第１の変形実施形態によれば、構造製造段階中、使用される第１透明閉じ込め手段はガラス帯片と偏光子を形成する層とをその内面と外面との間に有する閉じ込め手段である。第２の変形実施の形態によれば、構造段階中、使用される第１透明閉じ込め手段は、ガラス帯片のみを有し、処理は構造体を薄くする段階の後に構造の外面上で第１透明閉じ込め手段のガラス帯片に偏光子を配置する追加の段階からなる。
【００１９】
支持体は、研削、機械−化学研磨および化学的攻撃から選ばれた方法によって薄くされることができる。
【００２０】
１つの変形の実施の形態によれば、構造製造段階の間中、使用される支持体はストッパ層によって前記支持体の残部から分離された厚さｅ3をかつ屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2層を含んでおり、前記支持体を薄くする段階がまず前記支持体の残部を除去しかつ次いでストッパ層を除去する。支持体の残部は化学的攻撃によって除去されることができる。ストッパ層はエッチングによって除去されることができる。
【００２１】
他の変形の実施の形態によれば、構造製造段階の間中、使用される支持体が分離層によって前記支持体の残部から分離された厚さｅ3をかつ屈折率ｎを有する前記ガラスまたはＳｉＯ2層を含んでおり、前記支持体を薄くする段階が前記分離まで前記支持体の残部を除去することからなっている。
【００２２】
構造製造段階の間中前記第１閉じ込め手段が厚い基板の部分を形成するならば、前記方法はその場合また前記第１閉じ込め手段のみを保持するためにこの厚い基板を薄くするための段階を含むことができる。
【００２３】
好都合には、構造製造段階の間中、能動マトリクスが前記第１透明電極または前記第２透明電極と関連付けられる。
【００２４】
本発明の他の目的は、第１透明閉じ込め手段と第２透明閉じ込め手段との間に閉じ込められる液晶層を含んでいる液晶フラットスクリーンを製造するための液晶フラットスクリーン製造方法において、この方法が、以下の段階、すなわち、
−構造の製造が前記第１透明閉じ込め手段および互いに向かい合っている支持体を含んでおり、前記第１透明閉じ込め手段が前記スクリーンに入射する光を受光する前記構造に対して外方の面を、そして幅ｌからなる要素のモザイクから構成される着色フィルタを形成する層を支持する前記構造に対する内方の面を備え、着色フィルタを形成する層が前記液晶への電界の印加用の第１透明電極を支持し、前記第１透明閉じ込め手段に向かい合っている前記支持体の部分が屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2から作られかつ前記液晶への電界の印加用の第２の透明電極を支持し、厚さｅ1を有する液晶層が前記第２透明閉じ込め手段と着色フィルタを形成する層との間に閉じ込められており、
−前記第２透明電極を支持する厚さｅ3をかつ屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2層のみを保持するように前記支持体を薄くし、
−前記ガラス層またはＳｉＯ2層の自由面上に厚さｅ4を有する偏光子を形成する層を膠着し、前記パラメータｅ1，ｅ2，ｅ3，ｅ4をおよびｌが
ｅ1／２＋ｅ3＋ｅ4＜ｎｘｌ／４
であるように選ばれ、
ガラスまたはＳｉＯ2層および前記偏光子を形成する層が前記第２透明閉じ込め手段を形成し、
−反射器の配置が前記偏光子を形成する層の自由面上の前記第２透明閉じ込め手段を通過する光を反射するように設計される、段階を含んでいる。
【００２５】
第１の変形実施形態によれば、構造段階中、使用される第１透明閉じ込め手段は、着色層、ガラス帯片、偏光子を形成する層からなる閉じ込め手段であり、その内面から外面に向かって順次作動するものである。第２の変形実施形態によれば、使用される第１透明閉じ込め手段はガラス帯片と着色層を形成する層のみを有し、処理は支持体を薄くする段階の後に構造物の外面であり、第１閉じ込め手段のガラス帯片上に、偏光子を配置する追加の段階からなる。
【００２６】
前記構造は、研削、機械−化学研磨およびエッチングから選ばれた方法によって薄くされることができる。
【００２７】
１つの変形の実施の形態によれば、構造製造段階の間中使用される支持体はストッパ層によって前記構造の残部から分離されている厚さｅ3をかつ屈折率ｎを有するガラスまたはＳｉＯ2層を含んでおり、前記支持体を薄くする段階がまず前記支持体の残部を除去しかつ次いでストッパ層を除去する。前記支持体の残部は化学攻撃によって除去されることができる。前記ストッパ層はエッチングによって除去されることができる。
【００２８】
第１の変形の実施の形態によれば、構造製造段階の間中使用される支持体は分離層によって前記支持体の残部から分離された厚さｅ3をかつ屈折率ｎを有する前記ガラスまたはＳｉＯ2層を含んでおり、前記支持体を薄くする段階は前記分離層まで前記支持体の残部を除去することからなっている。
【００２９】
構造製造段階の間中前記第１閉じ込め手段が厚い基板の部分を形成するならば、前記方法はその場合前記第１閉じ込め手段のみを保持するためにこの固定基板を薄くするための段階を含んでいる。
【００３０】
好都合には、構造製造段階の間中、能動マトリクスが前記第１透明電極または前記第２透明電極と関連付けられる。
【００３１】
本発明は添付図面によって同時に引き起こされる非限定の例として以下に付与される説明を読んだ後より良好に理解されそして他の利点および特別な特徴も明らかとなる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明による液晶フラットスクリーンを作るのに使用される積層された構造の断面図である。
【図２】より進んだ実施の形態において図１の構造を示す図である。
【図３】本発明による液晶フラットスクリーンを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
本発明はフラットスクリーンを形成する非常に薄い部品（スクリーンおよびアドレス回路）の少なくとも１つをサンプリングし、そしてそれは堅固なガラス支持体上に作られ、そして次いでそれらを反射偏光子、言い換えれば金属フィルムから通常構成された薄い反射層と関連付けられた偏光子上に直接搬送することからなっている。結果は、まず着色フィルタから数十マイクロメータにそれ自体配置された液晶層から構成される画像平面と、次いで反射平面との間の非常に小さい距離である。この近接は、幾つかの幾何学的制約が考慮されるならば、裸眼で目視し得るあらゆる視差から得られる光学系を自由にする。
【００３４】
図１は本発明によるフラット液晶スクリーンを作るのに使用される積層された構造の断面図である。
【００３５】
この構造は第１層１２および第２層１３を支持するガラスパネル１１を含んでいる支持体１０上に形成される。ガラスパネル１１は、例えば、液晶スクリーンを製造するのに使用されるのと同様な大きなパネルであってもよい。それはコーニングによって製造される１７３７ガラスパネルであってもよい。層１２はストッパ層として使用されるパネル１１上に堆積される。この層１２はアモルファスまたは多結晶シリコンから作られることができかつそれは厚さ３００ｎｍにすることができる。これらの材料はＬＰＣＶＤによって堆積されることができる。幾つかの場合に、中間層が、付着を容易にするために、層１２が堆積される前にパネル１１上に堆積され得る。この中間層は、例えば、酸化シリコンの層であってもよい。
【００３６】
層１３は層１２上に堆積される。例えば、それは例えば０．５μｍから５μｍに変化する厚さを有する酸化シリコンの層であってもよい。層１３の性質はパネル１１の性質と同様である。
【００３７】
液晶スクリーンは標準の基板を作るのに使用される方法と正確に同一の方法において支持体１０上に形成される。この支持体型上ですべての制御回路を作るのが好都合である。代表的には、この技術は４００°Ｃを超える温度を伴わない。
【００３８】
得られた構造は幅ｌを有する要素のモザイクから構成される、支持体１０上に重畳された厚さｅ3を有する着色フィルタ２、液晶層３、ガラス帯片４および偏光子を形成しかつ結合によって固定される層５を含んでいる。ガラス帯片４は液晶側に１組の電極６を支持している。着色フィルタ２は液晶側に１組の電極７を支持している。
【００３９】
いったん構造が作られると、支持体１０は薄くされる。この薄くすることは、研削、機械研磨、機械−化学研磨、湿式または乾式化学攻撃から選ばれた技術を、単独でまたはこれらの技術の組み合わせで使用して達成され得る。例えば、パネル１１は約８０μｍの厚さに研削されることができかつ薄くすることはＨＦの溶液を使用して継続され得る。攻撃は、例えば、「スピンエッチャ」を使用することによって、薄くされるべき面に制限されることができるか、または構造の前方および側部は保護されることができる。
【００４０】
いったんパネル１１が除去されると、エッチングはＨＦ溶液によっては攻撃されないシリコン層１２上で停止する。その層は次いでエッチング（ＴＭＡＨ，ＫＯＨまたはその他）によって除去されることができる。ＴＭＡＨはＳｉＯ2による良好な攻撃選択性を有するので魅力的である。図２に示される構造が得られる。
【００４１】
１つの変形の実施の形態において、偏光子を形成する層５は支持体１０が薄くされた後膠着され得る。
【００４２】
図３は偏光子を形成する層８が層１３の自由面上に膠着された後かつ反射器９が層８の自由面上に固定された後に得られたフラットスクリーンを示しており、そして装置はその場合に反射モードにおいて差動することができる。
【００４３】
目視可能な視差作用を有しないための条件は以下の関係、すなわち、
ｅ1／２＋ｅ2＋ｅ3＋ｅ4＜ｎｘｌ／４
によって表されることができ、
ここで、ｅ1は液晶層３の厚さ、
ｅ2は着色カラー２の厚さ
ｅ3は層１３の厚さ
ｅ4は層８の厚さ
ｎは層１３の屈折率
ｌは着色フィルタ２要素の幅
である。
【００４４】
偏光子を形成する層８の厚さｅ4は５μｍにすることができる。着色カラー２の厚さｅ2は１μｍにすることができかつ要素の幅ｌは５０μｍにすることができる。着色カラー２はほぼ０．１μｍの厚さのＩＴＯから作られる透明電極７を支持することができる。液晶層３の厚さｅ1は５μｍにすることができる。
【００４５】
これらの条件により、層１３の屈折率ｎが１．４に等しいならば、層１３の厚さｅ3は９μｍより少なくなければならない。
【図１】
2010049271.tif 000003
【図２】
2010049271.tif 000004
【図３】
2010049271.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月24日(2009.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射モードで作動する液晶フラットディスプレイの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
将来の携帯可能な装置（例えば、次世代の携帯電話、スマートカードまたは個人アシスタント）は増大する数の機能を含んでいる。これらの装置は、例えば、次世代の個人アシスタントのように、多数の技術的ブリック（bricks）を使用して構成される。これらの技術的ブリックには、液晶ディスプレイ、オペレーティングシステム、マイクロプロセッサ、およびバッテリがある。液晶ディスプレイは、最大の表面積を占めるコンポーネントであり、また、システムへの該液晶ディスプレイの一体化は重要な点である。
【０００３】
これらの対象物は、それらのコストが低減すれば、或いはそれらが種々の機能を実行可能であれば、大量生産で作られうるにすぎない。現在では、ほとんどの能動マトリクス型のフラットディスプレイは、無視できないエネルギ消費を必要とする透過モードで作動する。この問題を解決するために他の諸技術が開発されてきた。これらの技術は、反射モードで作動するディスプレイを製造することができるが、該技術は、透過モードのディスプレイに使用される技術より非常に複雑である。
【０００４】
従って、フラットディスプレイにより克服されるべき課題の１つは、公知の反射型ディスプレイのコストより低いコストで、消費のより少ないディスプレイを作ることである。
【０００５】
更に、ほとんどの液晶フラットディスプレイはガラス支持体上に作られる。ガラスは多くの利点（大きさ、コスト等）を有している。しかしながら、ガラスは１つの大きな欠点を有し、それは耐衝撃性である。この型の支持体上に作られるコンポーネントまたはデバイスは、それらが携帯可能なシステムに一体化され得るように追加の保護装置を必要とする。これらのコンポーネントの一体化が最大化されるためには、最終の支持体上にこれらのコンポーネントを一体化することが有効である。多くの場合、この支持体は好都合にはプラスチックから作られることができる。この場合、例えば、ガラスと比較して軽い重量および良好な耐衝撃性を低い製造コストと組み合わせたプラスチックの支持体上にディスプレイを得ることが特に興味深いことである。この応用は、新世代の携帯電話に対してとくに魅力的である。これらの液晶および能動マトリクスディスプレイは、偏光子（ポーラライザ）の使用を必要とし、該偏光子自体は通常プラスチックから作られる。これらは、好都合なことに、能動的機能（光の偏光）および受動的機能（柔軟なかつ堅固な機械的支持）に使用しうることが非常に面白い。
【０００６】
そのうえ、例えばスマートカードである携帯可能なシステムについても、また個人アシスタントについても、コンポーネントは、重量および柔軟性の問題を解決するために（スマートカードと同様な厚さを有するように）薄くすべきことが必要である。
【０００７】
他の分野において、種々の技術が一方の支持体から他方の支持体へ層を搬送するのに知られている。例えば、ティー・ハマグチ等により、ＩＥＤＭＰｒｏｃ．１９８５の６８６ページに公表された技術がある。これらの技術は、第１の基板（例えば、ＳＯＩ型基板）から作られる層を他の層へ搬送するのに使用されうるので非常に有用である。しかしながら、これらの技術は、処理工程中に第１の基板が破壊されるという減失を伴う。そのうえ、これらの技術は、酸化シリコンの埋込層の存在により、化学エッチングを停止するためのストッパ層として使用される能力のある薄いフィルムの一様な搬送を行なうのに使用されることができない。
【０００８】
他の技術が、最近になって、プラスチック基板上に（ガラス基板上にポリシリコンから作られた）ＴＦＴトランジスタを搬送するために提案された。この主題についてのさらに他の情報は、エス・ウツノミヤ等による、ＩＤＳ Ｐｒｏｃ．２０００，９１６ページの論文またはヨーロツパ特許出願ＥＰ−Ａ−０ ９２４ ７６９に認められることができる。これらの方法は、基板（通常、アモルファスシリコン）上の分離層の作成に基礎を置いており、該分離層は、コンポーネントがこの層上に作られた後、他の基板上への分離および搬送を可能にする。この場合、分離（または剥離）は、光（代表的にはレーザ型ビーム）による照射によって得られる。しかしながら、この型の照射は大きな表面に関しては制御するのが難しい。不均一な照明は、表面フィルムを劣化し得る均一の剥離を生じさせるに違いない。これは無視できない技術的困難を生じさせる。
【０００９】
マイクロ電子コンポーネントのすべてまたは幾つかを含むか含まない薄い材料の層を搬送する方法の使用を含め、考え得る種々の搬送方法が存在する。これらの方法は、１または幾つかのガスの種類の導入から出発している材料に埋め込まれた脆い層の作成に基礎が置かれている。この主題についてのさらに他の情報はフランス特許出願ＦＲ−Ａ−２６８１４７２（アメリカ合衆国特許５３７４５６４に対応する）、フランス特許出願ＦＲ−Ａ−２７４８８５１（アメリカ合衆国特許６０２０２５２に対応する）、フランス特許出願ＦＲ−Ａ―２７４８８５０（アメリカ合衆国特許６１９０９８８に対応する）およびフランス特許出願ＦＲ−Ａ−２７７３２６１に与えられている。これらの方法は、最初の基板からフィルム全体を取り外してそれを支持体上に搬送するために通常使用される。得られた薄いフィルムは次いで基板の一部を含んでいる。これらのフィルムは電子または光学コンポーネントを作るための能動層として使用されることができる。これらの方法の主要な利点は、それらが異なる支持体上の単結晶基板の薄いフィルムを得るのに使用され得るということである。これらのフィルムはコンポーネントのすべてまたは一部を収容することができる。
【発明の概要】
【００１０】
本発明の第１の目的は、通常透過モードで作動するように設計される液晶フラットディスプレイを変換して、該液晶フラットディスプレイをエネルギ消費が少ないように反射モードで作動可能とすることである。かくして、「ツイステッドネマティック」、「スーパーツイステッドネマティック」、「垂直配向」または「面内切替」型の能動マトリクスフラットディスプレイを反射モードで使用することができるが、これらのディスプレイは透過モードで好ましくは作動する。
【００１１】
特定の一実施形態において、本発明は、ディスプレイをその最終支持体により容易に一体化できるように、柔軟で、堅固で安価な支持体上にディスプレイを得るのに使用することもできる。
【００１２】
本発明の目的は、第１透明閉じ込め手段と第２透明閉じ込め手段との間に閉じ込められる液晶層を含んでいる液晶フラットディスプレイを製造するための製造方法において、
支持体に向かい合う前記第１透明閉じ込め手段を含む構造を作るステップであって、該第１透明閉じ込め手段が、前記液晶フラットディスプレイに入射する光を受光する、前記構造に対して外方にある外方面と、前記液晶層への電界の印加用の第１透明電極を支持する、前記構造に対して内方にある内方面とを備え、前記第１透明閉じ込め手段に向かい合うところにある前記支持体の層部分が、屈折率ｎのガラスまたはＳｉＯ2から作られていると共に、厚さｅ2の着色フィルタを形成しかつ幅ｌを有する諸要素のモザイクから構成される層を支持しており、前記着色フィルタを形成する前記層が前記液晶への電界の印加用の第２透明電極を支持し、厚さｅ1の前記液晶層が前記第１透明閉じ込め手段と前記着色フィルタを形成する前記層との間に閉じ込められているステップと、
前記着色フィルタを形成する前記層に隣接した前記層部分である厚さｅ３および屈折率ｎのガラスまたはＳｉＯ2層のみを残すように前記支持体を薄くするステップと、
前記ガラスまたはＳｉＯ2層の自由面上に厚さｅ4を有する偏光子を形成する層を膠着するステップであって、前記パラメータｅ1，ｅ2，ｅ3，ｅ4をおよびｌが
ｅ1／２＋ｅ2＋ｅ3＋ｅ4＜ｎ×ｌ／４
であるように選ばれ、前記着色フィルタを形成する前記層、前記ガラスまたはＳｉＯ2層および前記偏光子を形成する前記層が前記第２透明閉じ込め手段を形成するステップと、
前記偏光子を形成する前記層の自由面上の前記第２透明閉じ込め手段を通る光を反射するような反射器を配置するステップと、
を含むことを特徴とする液晶フラットディスプレイの製造方法を提供することである。
【００１３】
第１の変形実施形態によれば、前記構造を作るステップの間、使用される第１透明閉じ込め手段は、ガラスストリップと偏光子を形成する層とをその内面と外面との間に有する閉じ込め手段である。第２の変形実施形態によれば、前記構造を作るステップの間、使用される第１透明閉じ込め手段は、ガラスストリップのみを有し、プロセスは、支持体を薄くするステップの後に、構造の外面上で第１透明閉じ込め手段のガラスストリップに偏光子を配置する追加のステップを含んでいる。
【００１４】
支持体は、研削、機械−化学研磨および化学エッチングから選ばれた方法によって薄くされることができる。
【００１５】
一変形実施形態によれば、前記構造を作るステップの間、使用される支持体はストッパ層によって前記支持体の残部から分離された厚さｅ3および屈折率ｎのガラスまたはＳｉＯ2層を含んでおり、前記支持体を薄くするステップは、まず前記支持体の前記残部を除去し、次いでストッパ層を除去する。前記支持体の前記残部は化学エッチングによって除去されることができる。ストッパ層は化学エッチングによって除去されることができる。
【００１６】
他の変形実施形態によれば、前記構造を作るステップの間、使用される支持体は、分離層によって前記支持体の残部から分離された厚さｅ3および屈折率ｎの前記ガラスまたはＳｉＯ2層を含んでおり、前記支持体を薄くするステップは、前記分離層まで前記支持体の前記残部を除去することからなっている。
【００１７】
前記構造を作るステップの間、前記第１透明閉じ込め手段が厚い基板の一部を形成するならば、前記製造方法は、前記第１透明閉じ込め手段のみを残すためにこの厚い基板を薄くするためのステップを含むことができる。
【００１８】
前記構造を作るステップの間、能動マトリクスが前記第１透明電極または前記第２透明電極と関連付けられていることが有利である。
【００１９】
本発明の他の目的は、第１透明閉じ込め手段と第２透明閉じ込め手段との間に閉じ込められる液晶層を含んでいる液晶フラットディスプレイを製造するための製造方法において、
互いに向かい合う前記第１透明閉じ込め手段と支持体を含む構造とを作るステップであって、前記第１透明閉じ込め手段が、前記液晶フラットディスプレイに入射する光を受光する、前記構造に対して外方にある外方面と、幅ｌからなる諸要素のモザイクから構成される着色フィルタを形成する層を支持する、前記構造に対して内方にある内方面とを備え、前記着色フィルタを形成する前記層が前記液晶層への電界の印加用の第１透明電極を支持し、前記第１透明閉じ込め手段に向かい合うところにある前記支持体の層部分が、屈折率ｎのガラスまたはＳｉＯ2から作られていると共に、前記液晶層への電界の印加用の第２透明電極を支持しており、厚さｅ1を有する液晶層が前記第２透明閉じ込め手段と前記着色フィルタを形成する前記層との間に閉じ込められているステップと、
前記第２透明電極を支持する厚さｅ3および屈折率ｎのガラスまたはＳｉＯ2層のみを残すように前記支持体を薄くするステップと、
前記ガラスまたはＳｉＯ2層の自由面上に厚さｅ4の偏光子を形成する層を膠着するステップであって、前記パラメータｅ1，ｅ3，ｅ4およびｌが
ｅ1／２＋ｅ3＋ｅ4＜ｎ×ｌ／４
であるように選ばれ、前記ガラスまたはＳｉＯ2層および前記偏光子を形成する前記層が前記第２透明閉じ込め手段を形成するステップと、
反射器の配置が前記偏光子を形成する層の自由面上の前記第２透明閉じ込め手段を通過する光を反射するように設計されるステップと、
を含んでいることを特徴とする液晶フラットディスプレイの製造方法を提供することである。
【００２０】
第１の変形実施形態によれば、前記構造を作るステップの間、使用される前記第１透明閉じ込め手段は、該第１透明閉じ込め手段の内方面から出発して外方面に向かい順に、前記着色フィルタを形成する前記層と、ガラスストリップと、偏光子を形成する層とを含んでいる閉じ込め手段である。第２の変形実施形態によれば、前記構造を作るステップの間、使用される前記第１透明閉じ込め手段は、前記ガラスストリップと前記着色フィルタを形成する前記層とのみを含み、前記製造方法が、前記支持体を薄くするステップに続いて、前記構造の外方面上に、前記第１透明閉じ込め手段の前記ガラスストリップ上に偏光子を配置することからなる追加のステップを含んでいる。
【００２１】
前記構造は、研削、機械−化学研磨およびエッチングから選ばれた方法を用いて薄くすることができる。
【００２２】
一変形実施形態によれば、前記構造を作るステップの間に使用される支持体は、ストッパ層によって前記構造の残部から分離されている厚さｅ3および屈折率ｎのガラスまたはＳｉＯ2層を含んでおり、前記支持体を薄くするステップがまず前記支持体の残部を除去し次いでストッパ層を除去する。前記支持体の前記残部は化学エッチングによって除去されることができる。前記ストッパ層は化学エッチングによって除去されることができる。
【００２３】
第１の変形実施形態によれば、前記構造を作るステップの間、使用される支持体は、分離層によって前記支持体の残部から分離された厚さｅ3および屈折率ｎの前記ガラスまたはＳｉＯ2層を含んでおり、前記支持体を薄くするステップは前記分離層まで前記支持体の前記残部を除去することからなっている。
【００２４】
前記構造を作るステップの間に、前記第１透明閉じ込め手段が厚い基板の部分を形成するならば、前記製造方法は、前記第１透明閉じ込め手段のみを残すためにこの固定基板を薄くするためのステップを含んでいてよい。
【００２５】
前記構造を作るステップの間に、能動マトリクスが前記第１透明電極または前記第２透明電極と関連付けられていることが好ましい。
【００２６】
添付図面に付随して非限定的な例として以下に記載の説明を読んだ後、本発明は、より良く理解され、そして他の利点および特別な特徴も明らかとなろう。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明による液晶フラットディスプレイを作るのに使用される積層構造の断面図である。
【図２】より進化した実施形態で図１の積層構造を示す図である。
【図３】本発明による液晶フラットディスプレイを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本発明は、堅固なガラス支持体上に形成されて、液晶フラットディスプレイを形成する、非常に薄い部品（ディスプレイおよびアドレス指定回路）の少なくとも１つをサンプリングし、次いでそれらを反射偏光子、言い換えれば金属フィルムから通常構成された薄い反射層と関連付けられた偏光子上に直接搬送することからなっている。結果は、着色フィルタから数十マイクロメータにそれ自体配置された液晶層から構成される画像平面と、反射平面との間の距離が非常に小さいことである。この小さな距離は、幾つかの幾何学的制約が遵守されていれば、裸眼で目視し得るあらゆる視差効果から、得られた光学系を解放する。
【００２９】
図１は、本発明による液晶フラットディスプレイを作るのに使用されうる積層構造の断面図である。
【００３０】
この構造は、第１層（ストッパ層）１２および第２層（ガラスまたはＳｉＯ2層）１３を支持するガラスパネル（支持体の残部）１１を含む支持体１０上に形成される。ガラスパネル１１は、例えば、液晶フラットディスプレイを製造するのに使用されるのと同様な大きなパネルであってもよい。このガラスパネルは、コーニング社によって製造される１７３７ガラスパネルでよい。第１層１２は、パネル１１上に堆積され、ストッパ層として使用されるであろう。この第１層１２は、アモルファスまたは多結晶シリコンから作られることができると共に、厚さ３００ｎｍにすることができる。これらの材料は低圧化学蒸着法（ＬＰＣＶＤ）によって付着されることができる。場合によっては、付着を容易にするために、第１層１２が堆積される前にパネル１１上に中間層を堆積させてもよい。この中間層は、例えば、酸化シリコンの層でよい。
【００３１】
第２層１３は第１層１２上に堆積される。例えば、それは例えば０.５μｍから５μｍまで変化する厚さを有する酸化シリコンの層でよい。第２層１３の性質はパネル１１の性質と同様である。
【００３２】
液晶フラットディスプレイは、標準の基板を作るのに使用される方法と正確に同一の方法で支持体１０上に形成される。この支持体型上ですべての制御回路を作るのが好都合である。代表的には、この技術は４００°Ｃを超える温度を必要としない。
【００３３】
得られた構造は、幅ｌ（エル）を有する諸要素のモザイクから構成される、支持体１０上に重畳された厚さｅ3の着色フィルタ２、液晶層３、ガラスストリップ４および偏光子を形成し結合によって固定される層５を含んでいる。ガラスストリップ４は液晶側に１組の電極（第１透明電極）６を支持している。着色フィルタ２は液晶側に１組の電極（第２透明電極）７を支持している。
【００３４】
いったん構造が作られると、支持体１０は薄くされる。この薄化は、研削、機械研磨、機械−化学研磨、湿式または乾式化学エッチングから選ばれた技術を、単独でまたはこれらの技術の組み合わせで使用して達成され得る。例えば、パネル１１は、約８０μｍの厚さに研削されることができ、また、薄化はＨＦの溶液を使用して続行し得る。化学エッチングは、例えば「スピンエッチャ」を使用することによって、薄くするべき面に制限することができ、あるいは構造の前面および側面は保護されることができる。
【００３５】
いったんパネル１１が除去されたら、エッチングは、ＨＦ溶液によって腐食されないシリコン層すなわち第１層１２上で停止する。その層は、次いでエッチング（ＴＭＡＨ，ＫＯＨまたはその他）によって除去されることができる。ＴＭＡＨは、ＳｉＯ2による良好な腐食選択性を有するので魅力的である。図２に示された構造が得られる。
【００３６】
一変形実施形態において、偏光子を形成する層５は、支持体１０が薄くされた後、膠着され得る。
【００３７】
図３は、偏光子を形成する層８が第２層１３の自由面上に膠着された後かつ反射器９が層８の自由面上に固定された後に得られた液晶フラットディスプレイを示しており、そして装置はその場合に反射モードで作動することができる。
【００３８】
目視可能な視差効果を有しないための条件は以下の関係、すなわち、
ｅ1／２＋ｅ2＋ｅ3＋ｅ4＜ｎ×ｌ／４
によって表されることができ、
ここで、ｅ1は液晶層３の厚さ、
ｅ2は着色フィルタ２の厚さ
ｅ3は第２層１３の厚さ
ｅ4は偏光子を形成する層８の厚さ
ｎは第２層１３の屈折率
ｌは諸要素のモザイクの幅
である。
【００３９】
偏光子を形成する層８の厚さｅ4は、５μmにすることができる。着色フィルム２の厚さｅ2は１μmにすることができ、そして諸要素のモザイクの幅ｌは５０μmにすることができる。着色フィルム２は、ほぼ０.１μmの厚さのＩＴＯから作られる透明電極７を支持することができる。液晶層３の厚さｅ1は５μmにすることができる。
【００４０】
これらの条件により、第２層１３の屈折率ｎが１.４に等しければ、第２層１３の厚さｅ3は９μm未満でなければならない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１透明閉じ込め手段と第２透明閉じ込め手段との間に閉じ込められる液晶層（３）を含む液晶フラットディスプレイを製造するための製造方法において、
支持体（１０）に向かい合う前記第１透明閉じ込め手段を含む構造を作るステップであって、該第１透明閉じ込め手段が、前記液晶フラットディスプレイに入射する光を受光する、前記構造に対して外方にある外方面と、前記液晶層（３）への電界の印加用の第１透明電極（６）を支持する、前記構造に対して内方にある内方面とを備え、前記第１透明閉じ込め手段に向かい合うところにある前記支持体の層部分が、屈折率ｎのガラスから作られていると共に、厚さｅ2の着色フィルタ（２）を形成しかつ幅ｌを有する諸要素のモザイクから構成される層を支持しており、前記着色フィルタ（２）を形成する前記層が前記液晶層への電界の印加用の第２透明電極（７）を支持し、厚さｅ1の前記液晶層（３）が前記第１透明閉じ込め手段と前記着色フィルタ（２）を形成する前記層との間に閉じ込められているステップと、
前記着色フィルタ（２）を形成する前記層に隣接した前記層部分である厚さｅ３および屈折率ｎのガラス層（１３）のみが残るように前記支持体（１０）を薄くするステップと、
前記ガラス層（１３）の自由面上に厚さｅ4を有する偏光子（８）を形成する層を膠着するステップであって、前記パラメータｅ1，ｅ2，ｅ3，ｅ4をおよびｌが
ｅ1／２＋ｅ2＋ｅ3＋ｅ4＜ｎ×ｌ／４
であるように選ばれ、前記着色フィルタ（２）を形成する前記層、前記ガラス層（１３）および前記偏光子（８）を形成する前記層が前記第２透明閉じ込め手段を形成するステップと、
前記偏光子（８）を形成する前記層の自由面上の前記第２透明閉じ込め手段を通る光を反射するような反射器（９）を配置するステップと、
を含むことを特徴とする液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項２】
前記構造を作るステップの間、使用される前記第１透明閉じ込め手段は、該第１透明閉じ込め手段の内方面および外方面の間に、ガラスストリップ（４）と、前記偏光子（５）を形成する前記層とを含む閉じ込め手段であることを特徴とする請求項１に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項３】
前記構造を作るステップの間、使用される前記第１透明閉じ込め手段は、前記ガラスストリップ（４）のみを含み、前記製造方法が、前記支持体（１０）を薄くするステップに続いて、前記構造の外方面上に、前記第１透明閉じ込め手段の前記ガラスストリップ（４）上に前記偏光子（５）を配置することからなっている追加のステップを含んでいることを特徴とする請求項１に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項４】
前記支持体（１０）が、研削、機械−化学研磨および化学エッチングから選ばれた方法によって薄くされることを特徴とする請求項１に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項５】
前記構造を作るステップの間、使用される前記支持体（１０）は、ストッパ層（１２）によって前記支持体の残部（１１）から分離された厚さｅ3および屈折率ｎの前記ガラス層（１３）を含んでおり、前記支持体を薄くするステップがまず前記支持体の前記残部（１１）を除去し次いで前記ストッパ層（１２）を除去することを特徴とする請求項１に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項６】
前記支持体の前記残部（１１）が化学エッチングによって除去されることを特徴とする請求項５に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項７】
前記ストッパ層（１２）が化学エッチングによって除去されることを特徴とする請求項５に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項８】
前記構造を作るステップの間、使用される前記支持体は、分離層によって前記支持体の残部から分離された厚さｅ3および屈折率ｎの前記ガラス層を含んでおり、前記支持体を薄くするステップが前記分離層まで前記支持体の前記残部を除去することからなることを特徴とする請求項１に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項９】
前記構造を作るステップの間、前記第１透明閉じ込め手段は厚い基板の一部を形成しており、前記製造方法は、その後、前記第１透明閉じ込め手段のみが残るように前記厚い基板を薄くするステップを含んでいる、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項１０】
第１透明閉じ込め手段と第２透明閉じ込め手段との間に閉じ込められる液晶層を含んでいる液晶フラットディスプレイを製造するための製造方法において、
互いに向かい合う前記第１透明閉じ込め手段と支持体を含む構造とを作るステップであって、前記第１透明閉じ込め手段が、前記液晶フラットディスプレイに入射する光を受光する、前記構造に対して外方にある外方面と、幅ｌからなる諸要素のモザイクから構成される着色フィルタを形成する層を支持する、前記構造に対して内方にある内方面とを備え、前記着色フィルタを形成する前記層が前記液晶層への電界の印加用の第１透明電極を支持し、前記第１透明閉じ込め手段に向かい合うところにある前記支持体の層部分が、屈折率ｎのガラスから作られていると共に、前記液晶層への電界の印加用の第２透明電極を支持しており、厚さｅ1を有する前記液晶層が前記第２透明閉じ込め手段と前記着色フィルタを形成する前記層との間に閉じ込められているステップと、
前記第２透明電極を支持する厚さｅ3および屈折率ｎのガラス層のみが残るように前記支持体を薄くするステップと、
前記ガラス層の自由面上に厚さｅ4の偏光子を形成する層を膠着するステップであって、前記パラメータｅ1，ｅ3，ｅ4およびｌが
ｅ1／２＋ｅ3＋ｅ4＜ｎ×ｌ／４
であるように選ばれ、前記ガラス層および前記偏光子を形成する前記層が前記第２透明閉じ込め手段を形成するステップと、
反射器の配置が前記偏光子を形成する層の自由面上の前記第２透明閉じ込め手段を通る光を反射するように設計されるステップと、
を含むことを特徴とする液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項１１】
前記構造を作るステップの間、使用される前記第１透明閉じ込め手段は、該第１透明閉じ込め手段の内方面および外方面の間に、前記着色フィルタを形成する前記層と、ガラスストリップと、偏光子を形成する層とを含んでいる閉じ込め手段であることを特徴とする請求項１０に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項１２】
前記構造を作るステップの間、使用される前記第１透明閉じ込め手段は、前記ガラスストリップと前記着色フィルタを形成する前記層とのみを含み、前記製造方法が、前記支持体を薄くするステップに続いて、前記構造の外方面上に、前記第１透明閉じ込め手段の前記ガラスストリップ上に偏光子を配置することからなる追加のステップを含んでいることを特徴とする請求項１０に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項１３】
前記支持体は、研削、機械−化学研磨および化学エッチングから選ばれた方法を使用して薄くされることを特徴とする請求項１０に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項１４】
前記構造を作るステップの間、使用される前記支持体は、ストッパ層によって前記構造の残部から分離されている厚さｅ3および屈折率ｎのガラス層を含んでおり、前記支持体を薄くするステップがまず前記支持体の前記残部を除去し次いで前記ストッパ層を除去することを特徴とする請求項１０に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項１５】
前記支持体の前記残部が化学エッチングによって除去されることを特徴とする請求項１４に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項１６】
前記ストッパ層が化学エッチングによって除去されることを特徴とする請求項１４に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項１７】
前記構造を作るステップの間、使用される前記支持体は、分離層によって前記支持体の残部から分離された厚さｅ3および屈折率ｎの前記ガラス層を含んでおり、前記支持体を薄くするステップは、前記分離層まで前記支持体の前記残部を除去することからなることを特徴とする請求項１０に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。
【請求項１８】
前記構造を作るステップの間、前記第１透明閉じ込め手段は厚い基板の一部を形成しており、前記製造方法は、その後、前記第１透明閉じ込め手段のみが残るように前記厚い基板を薄くするステップを含んでいることを特徴とする請求項１０に記載の液晶フラットディスプレイの製造方法。