(57)【要約】【課題】表示品質を向上させることができる電気光学装置を提供する。【解決手段】紫外線硬化型のシール材１４を介して貼り合わされた一対の基板１２，１３と、一対の基板１２，１３に形成された表示領域１９と、表示領域１９を囲むように配置された紫外線４１を遮光する遮光部１８ａと、遮光部１８ａの外側にシール材１４の一部と平面的に重なるように配置されていると共に、紫外線４１の一部を透過する開口部を有する半透過部１８ｂと、を有する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、
前記一対の基板に設けられた表示領域と、
前記表示領域の周辺に配置され前記一対の基板のうちのいずれか一方の基板に設けられた第１遮光膜と、
前記表示領域と前記第１遮光膜との境界より外側に離間して配置された光硬化型のシール材と、
前記第１遮光膜の外側において前記シール材の少なくとも一部と平面的に重なるように配置され開口部が設けられた第２遮光膜と、
を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置であって、
前記第２遮光膜は、前記一対の基板のうちの他方の基板に形成された駆動回路の少なくとも一部の領域と平面的に重なるように形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の電気光学装置であって、
前記第２遮光膜と同一の遮光膜から同時にパターニングして形成されたアライメントマークを有し、
前記アライメントマークには、前記第２遮光膜の開口部と同一の平面形状を有する開口部が設けられていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
前記第１遮光膜の一部は、前記シール材と平面的に重なっていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項２乃至請求項４のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
前記駆動回路は、走査線駆動回路、信号線駆動回路及び検査用駆動回路のうち少なくとも１つを含むことを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シール材を硬化させることにより一対の基板が貼り合わされた電気光学装置及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記電気光学装置の一つとして、シール材を介して一対の基板の間に液晶層が挟持された構造の液晶装置がある。シール材としては、例えば、熱を加えることによって硬化させる熱硬化型シール材がある。しかし、一対の基板を介してシール材を加熱すると、熱硬化が始まる前の加熱初期段階でシール材の粘度が低下することにより、基板間に位置ずれが生じ易いという問題がある。それゆえに、短時間で硬化させることができるという特徴から光硬化型のシール材を用いることがある。
【０００３】
一方、光硬化型のシール材を用いると、位置ずれは減少するものの、シール材の周辺に形成されている遮光膜がシール材を硬化させるための光（例えば、紫外線）を遮断することになり、シール材の硬化が不十分であるという問題がある。そこで、例えば、特許文献１に記載のように、遮光膜にスリット（開口部）を設けることによって、シール材を硬化させるための光の透過量を増やす技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−８９２３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、スリットを有する遮光膜でシール材を覆うため、紫外線の量が不十分であり、確実に硬化させることが難しい。更に、表示領域とスリットを有する遮光膜とが隣接しているため表示領域から光漏れが発生し、表示品質が低下するという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例に係る電気光学装置は、一対の基板と、前記一対の基板に設けられた表示領域と、前記表示領域の周辺に配置され前記一対の基板のうちのいずれか一方の基板に設けられた第１遮光膜と、前記表示領域と前記第１遮光膜との境界より外側に離間して配置された光硬化型のシール材と、前記第１遮光膜の外側において前記シール材の少なくとも一部と平面的に重なるように配置され開口部が設けられた第２遮光膜と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、シール材の少なくとも一部と平面的に重なる領域に開口部を有する第２遮光膜が形成されているので、一対の基板を貼り合わせる際、光が全て照射されるシール材の領域に加えて、第２遮光膜の領域にも開口部によって光の一部が照射される。よって、シール材を硬化させる部分を多くすることが可能となり、一対の基板をより確実に貼り合わせることができる。加えて、シール材の一部と平面的に一部が重なるように第２遮光膜を配置してもシール材を硬化させることが可能となるので、シール材を表示領域側に近づけて配置することができ、狭額縁化を実現することができる。また、表示する際、表示領域の周辺は第１遮光膜によって遮光されているので、表示領域から光が漏れることを抑えることができ、表示品質を向上させることが可能な電気光学装置を提供することができる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例に係る電気光学装置において、前記第２遮光膜は、前記一対の基板のうちの他方の基板に形成された駆動回路の少なくとも一部の領域と平面的に重なるように形成されていることが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、第２遮光膜が駆動回路の少なくとも一部と平面的に重なって形成されているので、表示する際、一方の基板側から入射した入射光によって駆動回路等が誤動作する等の悪影響を受けることを抑えることができる。また、開口部を有する第２遮光膜によって、一対の基板を貼り合わせる際に照射する光によってシール材を硬化させることができる。
【００１１】
［適用例３］上記適用例に係る電気光学装置において、前記第２遮光膜と同一の遮光膜から同時にパターニングして形成されたアライメントマークを有し、前記アライメントマークには、前記第２遮光膜の開口部と同一の平面形状を有する開口部が設けられていることが好ましい。
【００１２】
この構成によれば、アライメントマークが第２遮光膜と同一の遮光膜で構成されているので、アライメントマークがシール材と平面的に重なる領域に形成された場合でも、アライメントマークが光を透過しない遮光膜だけで形成される場合と比較して、シール材を硬化する領域を広くすることが可能となる。よって、より確実に一対の基板を貼り合わせることができる。
【００１３】
［適用例４］上記適用例に係る電気光学装置において、前記第１遮光膜の一部は、前記シール材と平面的に重なっていることが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、シール材と平面的に重なる領域まで第１遮光膜が形成されているので、シール材の位置がずれた場合でも、表示させるための光が開口部を有する第２遮光膜から表示領域に漏れることを防ぐことができる。よって、表示品質を向上させることができる。また、第１遮光膜をシール材と駆動回路とが平面的に重なる領域に設けることにより、駆動回路の誤動作を防ぐことができる。
【００１５】
［適用例５］上記適用例に係る電気光学装置において、前記駆動回路は、走査線駆動回路、信号線駆動回路及び検査用駆動回路のうち少なくとも１つを含むことが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、走査線駆動回路、信号線駆動回路及び検査用駆動回路のうち少なくとも１つを含み、その駆動回路と平面的に重なるように遮光膜が配置されているので、表示する際、光源からの光が直接駆動回路を照射することを防ぐことが可能となり、駆動回路の誤動作を防ぐことができる。
【００１７】
［適用例６］本適用例に係る電子機器は、上記したいずれか一項に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする。
【００１８】
この構成によれば、表示品質が高く狭額縁化が可能な電気光学装置を備えた電気機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】液晶装置の構造を示す模式平面図。
【図２】図１に示す液晶装置のＡ−Ａ'線に沿う模式断面図。
【図３】液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図。
【図４】第１実施形態に係る液晶装置の構造のうち主にシール材と遮光膜との平面的な配置関係を示す模式平面図。
【図５】図４に示す液晶装置のＢ−Ｂ'線に沿う模式断面図。
【図６】一対の基板（素子基板、対向基板）を貼り合わせる方法を示す工程図。
【図７】第２実施形態に係る液晶装置の構造のうち主にシール材と遮光膜との平面的な配置関係を示す模式平面図。
【図８】図７に示す液晶装置のＣ−Ｃ'線に沿う模式断面図。
【図９】液晶装置を備えた電子機器の一例として液晶プロジェクターの構成を示す模式図。
【図１０】液晶装置の構造の変形例を示す模式平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
＜液晶装置の構成＞
図１は、電気光学装置としての液晶装置の構造を示す模式平面図である。図２は、図１に示す液晶装置のＡ−Ａ'線に沿う模式断面図である。以下、液晶装置の構造を、図１及び図２を参照しながら説明する。
【００２１】
図１及び図２に示すように、液晶装置１１は、例えば、薄膜トランジスター（以下、「ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子」と称する。）を画素のスイッチング素子として用いたＴＦＴアクティブマトリクス方式の液晶装置である。液晶装置１１は、一対の基板を構成する素子基板１２（他方の基板）と対向基板１３（一方の基板）とが、平面視略矩形状枠のシール材１４を介して貼り合わされている。
【００２２】
素子基板１２及び対向基板１３は、例えば、ガラスや石英などの透光性材料からなる。液晶装置１１は、このシール材１４に囲まれた領域内に液晶層１５が封入された構成になっている。なお、液晶層１５を注入及び封止するために、液晶注入口１６と封止材１７が設けられている。
【００２３】
液晶層１５としては、例えば、正の誘電率異方性を有する液晶材料が用いられる。液晶装置１１は、シール材１４の内周近傍に沿って遮光性材料からなる平面視矩形枠状の遮光膜１８が形成されており、この遮光膜１８の内側の領域が表示領域１９となっている。
【００２４】
遮光膜１８は、例えば、遮光性材料であるアルミ（Ａｌ）で形成されており、対向基板１３側の表示領域１９の外周を区画するように設けられている。なお、遮光膜１８の詳細やシール材１４等との平面的な配置関係については、図４及び図５を用いて後述する。
【００２５】
表示領域１９内には、画素領域２１がマトリクス状に設けられている。画素領域２１は、表示領域１９の最小表示単位となる１画素を構成している。シール材１４の外側の領域には、信号線駆動回路２２及び外部接続端子２３が素子基板１２の一辺（図１における下側）に沿って形成されている。
【００２６】
また、シール材１４の内側の領域には、この一辺に隣接する二辺に沿って駆動回路の一つである走査線駆動回路２４がそれぞれ形成されている。素子基板１２の残る一辺（図１における上側）には、駆動回路の一つである検査回路２５が形成されている。対向基板１３側に形成された遮光膜１８は、素子基板１２上に形成された走査線駆動回路２４及び検査回路２５に対向する位置に形成されている。加えて、遮光膜１８は、表示する際、光源からの光が漏れて表示領域１９に入り込まないような領域幅を有して形成されている。
【００２７】
一方、対向基板１３の各角部（例えば、シール材１４のコーナー部の４箇所）には、素子基板１２と対向基板１３との間の電気的導通をとるための上下導通端子２６が配設されている。
【００２８】
また、図２に示すように、素子基板１２の液晶層１５側には、複数の画素電極２７が形成されており、これら画素電極２７を覆うように第１配向膜２８が形成されている。画素電極２７は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料からなる導電膜である。一方、対向基板１３の液晶層１５側には、遮光膜（ＢＭ）（図示せず）が形成され、その上に平面ベタ状の共通電極３１が形成されている。そして、共通電極３１上には、第２配向膜３２が形成されている。共通電極３１は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる導電膜である。なお、上記した液晶装置１１の構成において、絶縁膜として機能する層間絶縁膜などの記載は、図面を含めて省略している。
【００２９】
図３は、液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。以下、液晶装置の電気的な構成を、図３を参照しながら説明する。
【００３０】
図３に示すように、液晶装置１１は、表示領域１９を構成する複数の画素領域２１を有している。各画素領域２１には、それぞれ画素電極２７が配置されている。また、画素領域２１には、ＴＦＴ素子３３が形成されている。
【００３１】
ＴＦＴ素子３３は、画素電極２７へ通電制御を行うスイッチング素子である。ＴＦＴ素子３３のソース側には、信号線３４が電気的に接続されている。各信号線３４には、例えば、信号線駆動回路２２（図１参照）から画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎが供給されるようになっている。
【００３２】
また、ＴＦＴ素子３３のゲート側には、走査線３５が電気的に接続されている。走査線３５には、例えば、走査線駆動回路２４（図１参照）から所定のタイミングでパルス的に走査信号Ｇ１，Ｇ２，…，Ｇｍが供給されるようになっている。また、ＴＦＴ素子３３のドレイン側には、画素電極２７が電気的に接続されている。
【００３３】
走査線３５から供給された走査信号Ｇ１，Ｇ２，…，Ｇｍにより、スイッチング素子であるＴＦＴ素子３３が一定期間だけオン状態となることで、信号線３４から供給された画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎが、画素電極２７を介して画素領域２１に所定のタイミングで書き込まれるようになっている。
【００３４】
画素領域２１に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎは、画素電極２７と共通電極３１（図２参照）との間で形成される液晶容量で一定期間保持される。なお、保持された画像信号Ｓ１，Ｓ２，…，Ｓｎがリークするのを防止するために、画素電極２７と容量線３６との間に蓄積容量３７が形成されている。
【００３５】
このように、液晶に電圧信号が印加されると、印加された電圧レベルにより、液晶分子の配向状態が変化する。これにより、液晶に入射した光が変調されて、画像光が生成されるようになっている。
【００３６】
（第１実施形態）
＜シール材と遮光膜との平面的な配置関係＞
図４は、液晶装置の構造のうち主にシール材と遮光膜との平面的な配置関係を示す模式平面図である。図５は、図４に示す液晶装置のＢ−Ｂ'線に沿う模式断面図である。以下、液晶装置のシール材と遮光膜との平面的な配置関係について、図４及び図５を参照しながら説明する。なお、図４及び図５は、素子基板及び対向基板に形成されている画素電極、共通電極、配向膜等の図示及び説明を省略している。
【００３７】
図４及び図５に示すように、液晶装置１１を構成する素子基板１２において表示領域１９の周囲に、駆動回路（例えば、走査線駆動回路２４、検査回路２５）が形成されている。一方、液晶装置１１を構成する対向基板１３において表示領域１９の周囲に遮光膜１８が形成されている。
【００３８】
遮光膜１８は、一対の基板１２，１３の周縁近傍に形成されたシール材１４に、平面的に一部が重なるように配置されている。言い換えれば、シール材１４は、その一部が遮光膜１８と平面的に重なる位置に配置されている。
【００３９】
遮光膜１８において、平面的にシール材１４と重ならない領域が、光を遮断する第１遮光膜としての遮光部１８ａとなる。また、遮光膜１８において、平面的にシール材１４と重なる領域が、光の一部を透過する第２遮光膜としての半透過部１８ｂとなる。具体的には、半透過部１８ｂは、光の一部が透過できるように、遮光膜１８に複数の開口部１８ｃが形成されている。
【００４０】
開口部１８ｃの形状は、特に限定されるものではなく、スリット形状などの矩形状でもよいし、丸形状でもよい。開口部１８ｃが複数形成されていることにより、紫外線４１の透過量を増やすことが可能となる。開口部１８ｃは、例えば、フォトリソグラフィー技術及びエッチング技術を用いて形成することができる。
【００４１】
また、遮光膜１８は、液晶装置１１が液晶プロジェクターのライトバルブとして用いられた際、光源からの光が駆動回路（２４，２５）に照射して誤動作を生じさせないように、平面的に駆動回路（２４，２５）の領域を覆って形成されている。更に、遮光膜１８は、光源からの光が表示領域１９に迷光や斜め光として漏れて表示品質を低下させないよう、表示領域１９の周囲、言い換えれば、シール材１４の内側の全周に亘って形成されている。光源からの光は、例えば、対向基板１３側から素子基板１２側に向かって照射される。
【００４２】
以上のように、遮光膜１８において、シール材１４と平面的に重ならない領域が光を遮光し（遮光部１８ａ）、シール材１４と平面的に重なる領域が光の一部を透過する（半透過部１８ｂ）。よって、素子基板１２と対向基板１３とを貼り合わせる際、対向基板１３側から紫外線４１を照射した場合、シール材１４と遮光膜１８の一部とが平面的に重なっていたとしても、その部分が半透過部１８ｂとなっているので、シール材１４を硬化させることが可能となる。これにより、素子基板１２と対向基板１３とを、より確実に貼り合わせることができる。また、液晶装置１１をライトバルブとして用いた場合、シール材１４より表示領域１９側にある遮光膜１８の遮光部１８ａによって、光源からの光が表示領域１９内に入り込み表示品質に悪影響を及ぼすことを防ぐことができる。
【００４３】
＜一対の基板の貼り合わせ方法＞
図６は、一対の基板（素子基板、対向基板）を貼り合わせる方法を示す工程図である。以下、一対の基板の貼り合わせ方法を、図６を参照しながら説明する。
【００４４】
ステップＳ１１では、素子基板１２にシール材１４を塗布する。シール材１４を塗布する方法としては、例えば、ディスペンサー（図示せず）が用いられる。シール材１４は、例えば、紫外線硬化型樹脂である。具体的には、素子基板１２とディスペンサーとの相対的な位置関係を変化させて、素子基板１２における表示領域１９の周縁部に（表示領域１９を囲むように）シール材１４を塗布する。
【００４５】
ステップＳ１２では、素子基板１２と対向基板１３とを貼り合わせる。具体的には、素子基板１２に塗布されたシール材１４を介して互いを貼り合わせる。
【００４６】
ステップＳ１３では、シール材１４に紫外線（ＵＶ）４１を照射する。具体的には、紫外線４１を対向基板１３側から照射する。平面的に見て（対向基板１３側から見て）遮光膜１８と重ならないシール材１４の領域には、照射された紫外線４１の量がほぼ低下せずにそのまま照射される。よって、その領域のシール材１４が硬化する。
【００４７】
また、平面的に見て遮光膜１８と重なるシール材１４の領域には、遮光膜１８における半透過部１８ｂが形成されているので、紫外線４１の透過量が低下して照射される。よって、紫外線４１が全く照射されない場合と比較して、シール材１４を硬化させることが可能となる。これにより、シール材１４を硬化させる領域を増やすことが可能となり、素子基板１２と対向基板１３とを確実に貼り合わせることができる。
【００４８】
なお、シール材１４の表示領域１９側には、遮光膜１８の遮光部１８ａが形成されているので、液晶装置１１をライトバルブとして用いた際、光源からの光がシール材１４の周辺から迷光や斜め光として表示領域１９に入り込むことを防ぐことができる。
【００４９】
以上詳述したように、第１実施形態によれば、以下に示す効果が得られる。
【００５０】
（１）第１実施形態によれば、遮光膜１８において、シール材１４と平面的に重なる部分を半透過部１８ｂとしたので、この領域のシール材１４に紫外線４１の一部を照射させることが可能となる。これにより、シール材１４と平面的に重なる領域が全て遮光部１８ａである場合と比較して、一対の基板１２，１３を確実に貼り合わせることができる。更に、遮光部１８ａ及び半透過部１８ｂが駆動回路（２４，２５）と平面的に重なる領域に設けられているので、表示の際、光源からの光に起因する駆動回路（２４，２５）が誤動作を起こすことを抑えることができる。
【００５１】
（２）第１実施形態によれば、シール材１４より表示領域１９側に配置された遮光部１８ａによって、光源からの光が迷光や斜め光となって表示領域１９に入り込むことを防ぐことができる。これにより、表示品質を向上させることができる。
【００５２】
（３）第１実施形態によれば、遮光膜１８にかかるようにシール材１４を配置しても、シール材１４を硬化させることができるので、シール材１４の位置を表示領域１９側に近づけることが可能となり、その結果、狭額縁化を実現することができる。
【００５３】
（第２実施形態）
＜シール材と遮光膜との平面的な配置関係＞
図７は、第２実施形態の液晶装置の構造のうち主にシール材と遮光膜との平面的な配置関係を示す模式平面図である。図８は、図７に示す液晶装置のＣ−Ｃ'線に沿う模式断面図である。以下、液晶装置の構造におけるシール材と遮光膜との平面的な配置関係について、図７及び図８を参照しながら説明する。なお、第２実施形態の液晶装置５１は、平面的にシール材１４と遮光膜１８の遮光部１８ａが一部重なって配置されている部分が、第１実施形態と異なっている。以下、第１実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。
【００５４】
図７及び図８に示すように、液晶装置５１を構成する対向基板１３において表示領域１９の周囲に遮光膜１８が形成されている。シール材１４は、その一部が平面的に遮光膜１８に重なる位置まで表示領域１９側に近づけて配置されている。
【００５５】
遮光膜１８において、平面的にシール材１４と重なっている領域のうち一部分が半透過部１８ｂである。それ以外の遮光膜１８は、遮光部１８ａとなる。つまり、第２実施形態の遮光膜１８は、平面的にシール材１４と重なっている領域にも光（紫外線４１等）を遮光する遮光部１８ａが形成されている。
【００５６】
具体的には、半透過部１８ｂは、上記したように、紫外線４１の一部が透過できるように、遮光膜１８に複数の開口部１８ｃが形成されている。なお、遮光部１８ａ及び半透過部１８ｂを有する遮光膜１８は、平面的に駆動回路（２４，２５）を覆うように形成されている。特に、遮光部１８ａを駆動回路（２４，２５）と平面的に重なるように設けることにより、駆動回路（２４，２５）の誤動作を防ぐことができる。
【００５７】
以上のように、遮光膜１８において、シール材１４と平面的に重ならない領域が紫外線４１を遮光し（遮光部１８ａ）、更に、シール材１４と平面的に重なる領域の一部も紫外線４１を遮光する（遮光部１８ａ）。また、遮光膜１８において、シール材１４にかかる領域のうち残りの部分が、紫外線４１の一部を透過する領域（半透過部１８ｂ）となる。
【００５８】
これによれば、素子基板１２と対向基板１３とを貼り合わせる際、シール材１４に遮光膜１８の遮光部１８ａの一部が平面的に重なっていたとしても、それ以外の遮光膜１８の部分が半透過部１８ｂになっているので、遮光膜１８とシール材１４との重なる領域が全て遮光部１８ａである場合と比較して、シール材１４を硬化させる領域を多くすることが可能となる。よって、素子基板１２と対向基板１３とを、確実に貼り合わせることができる。
【００５９】
以上詳述したように、第２実施形態によれば、上記した第１実施形態の（２）、（３）の効果に加えて、以下に示す効果が得られる。
【００６０】
（４）第２実施形態によれば、シール材１４と平面的に重なる領域に遮光部１８ａが含まれている場合でも、それ以外の遮光膜１８とシール材１４との重なっている領域が半透過部１８ｂなので、シール材１４と平面的に重なっている遮光膜１８が全て遮光部１８ａである場合と比較して、シール材１４を硬化させる領域を多くすることが可能となる。その結果、シール材１４を介して一対の基板１２，１３を確実に貼り合わせることができる。
【００６１】
（５）第２実施形態によれば、シール材１４の領域に遮光部１８ａが入り込んで形成されているので、シール材１４を塗布する際、シール材１４の位置がずれた場合でも、表示領域１９への光漏れ等の不具合が生じることを防ぐことができる。
【００６２】
（６）第２実施形態によれば、シール材１４の領域において、素子基板１２に形成された駆動回路（２４，２５）と平面的に重なる領域に遮光部１８ａを設けた場合、表示する際の駆動回路（２４，２５）に光が照射されることを防ぐことができる。よって、第１実施形態と比べて、より駆動回路（２４，２５）が誤動作を起こすことを抑えることができる。
【００６３】
（第３実施形態）
＜電子機器＞
図９は、上記した液晶装置を備えた電子機器の一例として液晶プロジェクターの構成を示す模式図である。以下、液晶装置を備えた液晶プロジェクターの構成を、図９を参照しながら説明する。
【００６４】
図９に示すように、液晶プロジェクター１０１は、上記した液晶装置１１を含む液晶モジュールを３つ配置し、それぞれＲＧＢ用のライトバルブ１１１Ｒ，１１１Ｇ，１１１Ｂとして用いた構造となっている。
【００６５】
詳しくは、メタルハイドロランプ等の白色光源のランプユニット１１２から投射光が発せられると、３枚のミラー１１３及び２枚のダイクロイックミラー１１４によって、ＲＧＢの三原色に対応する光成分Ｒ，Ｇ，Ｂに分けられ、各色に対応するライトバルブ１１１Ｒ，１１１Ｇ，１１１Ｂにそれぞれ導かれる。特に光成分Ｂは、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ１１５、リレーレンズ１１６、出射レンズ１１７からなるリレーレンズ系１１８を介して導かれる。
【００６６】
ライトバルブ１１１Ｒ，１１１Ｇ，１１１Ｂによりそれぞれ変調された三原色に対応する光成分Ｒ，Ｇ，Ｂは、ダイクロイックプリズム１１９により再度合成された後、投射レンズ１２０を介して、スクリーン１２１にカラー画像として投射される。
【００６７】
このような構成の液晶プロジェクター１０１は、上記した液晶装置１１を含む液晶モジュールを介すことによって、コントラストが向上する等、高品位な表示を行うことができる。なお、上記した液晶装置１１は、上記した液晶プロジェクター１０１の他、高精細ＥＶＦ（Electric View Finder）、携帯電話機、モバイルコンピューター、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、テレビ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。
【００６８】
以上詳述したように、第３実施形態によれば、以下に示す効果が得られる。
【００６９】
（７）第３実施形態によれば、上記した第１実施形態及び第２実施形態の液晶装置１１，５１を備えているので、一対の基板１２，１３を確実に貼り合わせることが可能となると共に、投射光が迷光や斜め光となって表示領域１９に入りこむことを防ぐことが可能となり、表示品質の高い画像を形成する電子機器を提供することができる。加えて、狭額縁化が可能な液晶装置１１，５１を備えた電気機器を提供することができる。
【００７０】
なお、実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。
【００７１】
（変形例１）
上記したように、半透過部１８ｂを、例えば、駆動回路（走査線駆動回路２４、検査回路２５）を覆うように表示領域１９の周囲に形成することに限定されず、例えば、図１０に示すように、シール材１４における透過領域６２に形成されたアライメントマーク６３に用いるようにしてもよい。図１０は、液晶装置の構造を示す模式平面図である。具体的には、液晶装置６１において、半透過部１８ｂをパターニングして形成すると同時に同一の遮光膜からアライメントマーク６３を形成する。アライメントマーク６３を複数の開口部１８ｃを有する半透過部１８ｂで形成することにより、アライメントマーク６３とシール材１４とが平面的に重なった場合でも、アライメントマーク６３と重なる部分のシール材１４に紫外線４１の一部を照射することが可能となり、その部分のシール材１４を硬化させることができる。上記したように、半透過部１８ｂは、遮光部１８ａと隣接して設けられていてもよいし、このように、遮光部１８ａと分離して設けられていてもよい。
【００７２】
（変形例２）
上記したように、液晶装置１１，５１，６１は、駆動回路（２４，２５）がシール材１４より内側（表示領域１９側）に配置されていることに限定されず、シール材１４より外側に配置される構成でもよい。
【００７３】
（変形例３）
上記したように、素子基板１２に形成された駆動回路（２４，２５）と平面的に重なるように、対向基板１３に遮光膜１８（１８ａ，１８ｂ）を形成していたが、駆動回路（２４，２５）が配置されていなくても、表示領域１９の周囲に遮光膜１８（遮光部１８ａ）を設けることが望ましい。これによれば、上記したように、光源（ランプユニット１１２）からの投射光が迷光や斜め光となって表示領域１９に入り込むことを防ぐことができ、表示品質を向上させることができる。
【００７４】
（変形例４）
上記した実施形態は、電気光学装置として液晶装置１１，５１，６１に適用することに限定されず、例えば、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイなどに適用するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００７５】
１１，５１，６１…電気光学装置として液晶装置、１２…一対の基板を構成する素子基板、１３…一対の基板を構成する対向基板、１４…シール材、１５…液晶層、１６…液晶注入口、１７…封止材、１８…遮光膜、１８ａ…第１遮光膜としての遮光部、１８ｂ…第２遮光膜としての半透過部、１８ｃ…開口部、１９…表示領域、２１…画素領域、２２…信号線駆動回路、２３…外部接続端子、２４…駆動回路の一つである走査線駆動回路、２５…駆動回路の一つである検査回路、２６…上下導通端子、２７…画素電極、２８…第１配向膜、３１…共通電極、３２…第２配向膜、３３…ＴＦＴ素子、３４…信号線、３５…走査線、３６…容量線、３７…蓄積容量、４１…紫外線、６２…透過領域、６３…アライメントマーク、１０１…電子機器としての液晶プロジェクター、１１１Ｒ，１１１Ｇ，１１１Ｂ…ライトバルブ、１１２…白色光源のランプユニット、１１３…ミラー、１１４…ダイクロイックミラー、１１５…入射レンズ、１１６…リレーレンズ、１１７…出射レンズ、１１８…リレーレンズ系、１１９…ダイクロイックプリズム、１２０…投射レンズ、１２１…スクリーン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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