(57)【要約】【課題】安価で、優れたラジカル消去剤、チロシナーゼ阻害剤およびそれらを含む皮膚外用剤が提供される。【解決手段】新規なラジカル消去剤、チロシナーゼ阻害剤を含む皮膚外用剤【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アミノ安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、及びジヒドロキシ安息香酸からなる群から選択される１以上の安息香酸を有効成分として含有するチロシナーゼ阻害剤。
【請求項２】
請求項１に記載のチロシナーゼ阻害剤を含む皮膚外用剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はしわ、肌荒れの原因となるラジカルを消去する化合物を含むラジカル消去剤、しみ、そばかすの原因となるチロシナーゼの作用を阻害する阻害剤、およびこれらラジカル消去剤、チロシナーゼ阻害剤を含む皮膚外用剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
しわが生成する原理は、加齢、紫外線などによってできた活性酸素（ラジカル）によって、真皮の線維芽細胞が減少し、線維芽細胞がコラーゲンを合成できなくなり、新陳代謝により、コラーゲンが分解減少して、しわが形成される。ラジカル消去剤としてはコウジ酸（特許文献１）、アルブチン（特許文献２）などが知られている。
【０００３】
一方、生体内におけるチロシナーゼの役割は、以下のようなものである。皮膚の基底層におけるメラノサイトにおいて、紫外線の刺激を受けたメラノサイトがチロシナーゼを生成し、チロシンから３，４−ジヒドロキシドーパキノン（ＤＯＰＡ）さらに、ＤＯＰＡキノンへの変換を触媒し、複数の経路を経て、最終的にメラニンを生成し、真皮を紫外線から保護する。基底層において、常にメラニンの新陳代謝が繰り返されているが、加齢とともに新陳代謝のバランスがくずれ、しみやそばかすとなって皮膚に沈着した状態になる。しみやそばかすの生成は美容上好ましくないため、メラニンの新陳代謝をコントロールすることは非常に重要である。現在、チロシナーゼの阻害剤としてコウジ酸（特許文献３）、アルブチン（特許文献４）、Ｌ−システイン（特許文献５）、アスコルビン酸（特許文献６）などが知られている。また、植物の抽出物にもチロシナーゼ阻害活性があるものが報告されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−１５５２８３号公報
【特許文献２】特許第３４４２２２２号公報
【特許文献３】特開昭５６−７７１０号公報
【特許文献４】特開昭６３−１７４９１０号公報
【特許文献５】特開昭５９−１２８３２０号公報
【特許文献６】特開昭５１−９５１４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のように、しわの生成に関与する活性酸素などのラジカルを消去できるラジカル消去剤及びメラノサイトに働いて優れたチロシナーゼ阻害活性を示すチロシナーゼ阻害剤のいずれについても、活性を有するいくつかの物質が知られているが、原料の入手が困難な場合があったり、その製造に制約があったりし、また、植物由来原料の場合には原料間の含有量も一定でなく、性能も不安定で十分とは言えないものであった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、従来その構造は知られている化合物の中から、ラジカル消去活性またはチロシナーゼ阻害活性を有する化合物を見出すべく探索を行った結果、コレカルシフェロール、バニリン酸、レゾルシノール、バニリルアルコール、マルトール、ナリンゲニン、アントラニル酸、カプサイシン、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）スルフィド、２，６−ビス[（２−ヒドロキシ−メチルフェニルメチル）−メチル]−４−メチルフェノール、α,α'-ビス（４−ヒドロキシフェニル）１,4-ジイソプロピルベンゼン、クマル酸、バルビツル酸が、優れたラジカル消去活性を示すことを見いだした。
【０００７】
また、ピロガロール、レゾルシノール、ナリンギン、ナリンゲニン、リボフラビン、テストステロン、イソメントール、メントール、ピリドキシン、４，６−ジヒドロキシ−５−ニトロピリミジン、アミノ安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、ジヒドロキシ安息香酸、フェニチルアルコール、ウリジン、アデノシン、グアノシン、クロロゲン酸、４−クロマノール、バルビツル酸、３，６−ジヒドロキシベンゾノルボルネン、カフェイン酸、クマル酸、エスクリン、５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン、β−コレスタノール、ニコチン酸が、優れたチロシナーゼ阻害活性を示すことを見いだした。
【０００８】
即ち、本発明は次の（１）〜（４）を提供する。
（１）コレカルシフェロール、バニリン酸、レゾルシノール、バニリルアルコール、マルトール、ナリンゲニン、アントラニル酸、カプサイシン、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）スルフィド、２，６−ビス[（２−ヒドロキシ−メチルフェニル）−メチ
ル]−４−メチルフェノール、α,α'-ビス（４−ヒドロキシフェニル）１,4-ジイソプロピルベンゼン、クマル酸、バルビツル酸から選択される一種以上の化合物を有効成分として含有するラジカル消去剤。
（２）上記（１）に記載のラジカル消去剤を含む皮膚外用剤。
（３）ピロガロール、レゾルシノール、ナリンギン、ナリンゲニン、リボフラビン、テストステロン、イソメントール、メントール、ピリドキシン、４，６−ジヒドロキシ−５−ニトロピリミジン、アミノ安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、ジヒドロキシ安息香酸、フェニチルアルコール、ウリジン、アデノシン、グアノシン、クロロゲン酸、４−クロマノール、バルビツル酸、３，６−ジヒドロキシベンゾノルボルネン、カフェイン酸、クマル酸、エスクリン、５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン、β−コレスタノール、ニコチン酸から選択される一種以上の化合物を有効成分として含有するチロシナーゼ阻害剤。
（４）上記（３）に記載のチロシナーゼ阻害剤を含む皮膚外用剤。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、安価で、優れたラジカル消去剤、チロシナーゼ阻害剤およびそれらを含む皮膚外用剤が提供される。
【００１０】
本発明のラジカル消去剤およびそれらを含む皮膚外用剤は、しわの原因となるラジカルの消去剤として、極めて有効に利用できる。また、チロシナーゼ阻害剤およびそれらを含む皮膚外用剤はしみ、そばかすの原因となるチロシナーゼの阻害剤として極めて有効に利用できる。そして、有効成分の入手が容易であり、かつ安価に安定した活性の有効成分を入手できる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明について更に、詳しく説明する。
本発明のラジカル消去剤はコレカルシフェロール、バニリン酸、レゾルシノール、バニリルアルコール、マルトール、ナリンゲニン、アントラニル酸、カプサイシン、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）スルフィド、２，６−ビス[（２−ヒドロキシ−メ
チルフェニルメチル）−メチル]−４−メチルフェノール、α,α'-ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）１,4-ジイソプロピルベンゼン、クマル酸、バルビツル酸を有効成分とする
。
【００１２】
コレカルシフェロールは、以下の化学式：
【化１】
2010280735.tif 000002
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００１３】
バニリン酸は、以下の化学式：
【化２】
2010280735.tif 000003
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００１４】
レゾルシノールは、以下の化学式：
【化３】
2010280735.tif 000004
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００１５】
バニリルアルコールは、以下の化学式：
【化４】
2010280735.tif 000005
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００１６】
マルトールは、以下の化学式：
【化５】
2010280735.tif 000006
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００１７】
ナリンゲニンは、以下の化学式：
【化６】
2010280735.tif 000007
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００１８】
アントラニル酸は、以下の化学式：
【化７】
2010280735.tif 000008
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００１９】
カプサイシンは、以下の化学式：
【化８】
2010280735.tif 000009
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００２０】
ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）スルフィドは、以下の化学式：
【化９】
2010280735.tif 000010
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００２１】
２，６−ビス[（２−ヒドロキシ−メチルフェニル）メチル]−４−メチルフェノールは、以下の化学式：
【化１０】
2010280735.tif 000011
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００２２】
α,α'-ビス（４−ヒドロキシフェニル）１,4-ジイソプロピルベンゼンは、以下の化
学式：
【化１１】
2010280735.tif 000012
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００２３】
クマル酸は、例えば、以下の化学式：
【化１２】
2010280735.tif 000013
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。クマル酸には、数種の位置及び立体異性体が存在するが、その中でトランス−メタ−クマル酸、トランス−オルト−クマル酸、及びトランス−パラ−クマル酸が特に高いラジカル消去活性を有する。
【００２４】
バルビツル酸は、以下の化学式：
【化１３】
2010280735.tif 000014
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００２５】
ラジカル消去活性は、例えば、ラジカルを放出する１，１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジル（DPPH）の517nmの吸収をラジカル消去剤を加え、吸収の減少を観察すること
によって測定することができる。また、強力なラジカル消去剤である（Ｒ）−（＋）−６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−カルボン酸（Trolox）エタノール溶液の値を100%のコントロールとすることができる。計算式は次の通りである。
ラジカル消去活性(%)＝(ΔDPPH-ΔSample)/ (ΔDPPH-ΔTrolox)×100
【００２６】
上記の計算において、ラジカル消去活性が10％以上である場合に、皮膚外用剤に有効成分として用いた場合に効果的であるが、20％以上が好ましく、40％以上がより好ましく、70％以上が更に好ましい。皮膚外用剤に含有させる場合には、上記の化合物を単独、または組み合わせて、場合によっては従来用いられている他のラジカル消去剤と組み合わせると共に、配合量を適宜調整して、効果を更に高めることができる。
【００２７】
本発明のチロシナーゼ阻害剤はピロガロール、レゾルシノール、ナリンギン、ナリンゲニン、リボフラビン、テストステロン、イソメントール、メントール、ピリドキシン、４，６−ジヒドロキシ−５−ニトロピリミジン、アミノ安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、ジヒドロキシ安息香酸、フェニチルアルコール、ウリジン、アデノシン、グアノシン、クロロゲン酸、４−クロマノール、バルビツル酸、３，６−ジヒドロキシベンゾノルボルネン、カフェイン酸、クマル酸、エスクリン、５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン、β−コレスタノール、ニコチン酸を有効成分とする。
【００２８】
ピロガロールは、以下の化学式：
【化１４】
2010280735.tif 000015
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００２９】
ナリンギンは、以下の化学式：
【化１５】
2010280735.tif 000016
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００３０】
リボフラビンは、以下の化学式：
【化１６】
2010280735.tif 000017
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００３１】
テストステロンは、以下の化学式：
【化１７】
2010280735.tif 000018
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００３２】
イソメントールは、以下の化学式：
【化１８】
2010280735.tif 000019
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００３３】
メントールは、以下の化学式：
【化１９】
2010280735.tif 000020
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００３４】
ピリドキシンは、以下の化学式：
【化２０】
2010280735.tif 000021
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００３５】
４，６−ジヒドロキシ−５−ニトロピリミジンは、以下の化学式：
【化２１】
2010280735.tif 000022
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００３６】
アミノ安息香酸は、例えば以下の化学式：
【化２２】
2010280735.tif 000023
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。アミノ安息香酸には２−アミノ安息香酸、３−アミノ安息香酸、４−アミノ安息香酸の３種の位置異性体が存在するが、いずれもほぼ同様のチロシナーゼ阻害活性を有するこ
とが認められた。
【００３７】
ヒドロキシ安息香酸は、安息香酸に水酸基が１個結合した構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。ヒドロキシ安息香酸のうち、特に高いチロシナーゼ阻害活性が認められたものは２−ヒドロキシ安息香酸である。
【００３８】
ジヒドロキシ安息香酸は、例えば以下の化学式：
【化２３】
2010280735.tif 000024
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。ジヒドロキシ安息香酸のうち、特に高いチロシナーゼ阻害活性が認められたものは２，５−ジヒドロキシ安息香酸である。
【００３９】
フェニチルアルコールは、以下の化学式：
【化２４】
2010280735.tif 000025
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。フェニチルアルコールのうち、特に高いチロシナーゼ阻害活性が認められたものはDL-1-フェニルエチルアルコールである。
【００４０】
ウリジンは、以下の化学式：
【化２５】
2010280735.tif 000026
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００４１】
アデノシンは、以下の化学式：
【化２６】
2010280735.tif 000027
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００４２】
グアノシンは、以下の化学式：
【化２７】
2010280735.tif 000028
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００４３】
クロロゲン酸は、以下の化学式：
【化２８】
2010280735.tif 000029
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００４４】
４−クロマノールは、以下の化学式：
【化２９】
2010280735.tif 000030
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００４５】
３，６−ジヒドロキシベンゾノルボルネンは、以下の化学式：
【化３０】
2010280735.tif 000031
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００４６】
カフェイン酸は、以下の化学式：
【化３１】
2010280735.tif 000032
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００４７】
エスクリンは、以下の化学式：
【化３２】
2010280735.tif 000033
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００４８】
５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノンは、以下の化学式：
【化３３】
2010280735.tif 000034
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００４９】
β−コレスタノールは、以下の化学式：
【化３４】
2010280735.tif 000035
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００５０】
ニコチン酸は、以下の化学式：
【化３５】
2010280735.tif 000036
で示される構造を有する化合物であり、例えば東京化成社製の製品を使用することができる。
【００５１】
チロシナーゼ阻害活性は、例えば、チロシナーゼによる酵素的な酸化反応により、L-プロリンと１，２−ヒドロキシベンゼンから合成される４−Ｎ−プロリル−Ｏ−キノンの吸収525nmをチロシナーゼ阻害剤を加えることにより、吸収の減少を観察することによって
測定することができる。計算式は次の通りである。
チロシナーゼ阻害活性(%)
＝(Δ4-N-Prolyl-O-quinone-ΔSample)/ Δ4-N-Prolyl-O-quinone×100
【００５２】
上記の計算において、チロシナーゼ阻害活性が10％以上である場合に、皮膚外用剤に有効成分として用いた場合に効果的であるが、30％以上が好ましく、50％以上がより好ましく、90％以上が更に好ましい。皮膚外用剤に含有させる場合には、上記の化合物を単独、または組み合わせて、場合によっては従来用いられている他のチロシナーゼ阻害剤と組み合わせると共に、配合量を適宜調整して、効果を更に高めることができる。
【００５３】
尚、上記の化合物において異性体が存在するものは、特に記載しない限り、いずれの異
性体を用いても良く、任意の組み合わせで用いることもできる。また、光学異性体が存在するものにおいては、D-体、L-体、ラセミ混合物のいずれを用いることもできる。
【００５４】
上記の化合物のうち、レゾルシノール、ナリンゲニン、バルビツル酸、クマル酸は、ラジカル消去活性及びチロシナーゼ阻害活性の双方を有しており、従って皮膚外用剤に含有させた場合にしわの形成予防、しみ、そばかすの予防のために特に好ましい。
【００５５】
本発明のラジカル消去剤を含む皮膚外用剤およびチロシナーゼ阻害剤を含む皮膚外用剤は、特に限定されず、例えば、ローション、乳液、クレンジングクリーム、栄養クリーム、メイクアップベースクリーム、ファンデーション、ボディローション、ハンドクリーム、レッグクリーム、洗顔料、ボディシャンプー等として用いることができる。また、その形態も特に限定されず、ローション状、液状、クリーム状、ジェル状、乳液状、固形状等の形態で用いることができる。
【００５６】
これら皮膚外用剤には、ラジカル消去剤及びチロシナーゼ阻害剤の効力を高めるのに有効な任意の助剤を適宜配合することができる。例えば、流動パラフィン、ワセリン等の炭化水素類、カルナバワックス、モクロウ等のロウ類、オリーブ油、ホホバ油等の油脂類、オクタデシルパルミテート、ネオペンチルグリコールジイソオクタネート等のエステル類、ステアリン酸、パルミチン酸等の高級脂肪酸類、セチルアルコール、ステアリルアルコール等の高級アルコール類、ノニオン、アニオン、カチオン、両性の界面活性剤、天然あるいは合成の香料や色素、パラベン類、グルコン酸クロルヘキシジン等の高級アルコール類、クエン酸塩、酢酸塩等のｐＨ調節剤、及び各種目的に応じた薬効成分などを適宜配合し得る。また、ラジカル消去剤及びチロシナーゼ阻害剤の活性を阻害しない範囲で通常化粧品及び医薬品等の皮膚外用剤に含まれる各種の成分を適宜配合することができる。
【００５７】
本発明のラジカル消去剤及びチロシナーゼ阻害剤の配合量は、ラジカル消去剤及びチロシナーゼ阻害剤の使用形態に応じて適宜調整される。
【００５８】
皮膚外用剤として用いる場合は、ラジカル消去剤及びチロシナーゼ阻害剤は外用剤全体の0.001〜20重量％、好ましくは、0.002〜10重量％の範囲で配合することが好ましい。
【実施例】
【００５９】
以下、実施例を示し、本発明を具体的説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。
【００６０】
実施例１
コレカルシフェロールのラジカル消去活性について、1,1-ジフェニル-2-ピクリルヒド
ラジル（DPPH）を用いた方法で測定した。東京化成社製コレカルシフェロールはエタノール（100mM、0.2ml）に溶解した。引き続いて、100mMのトリス-塩酸緩衝液（pH7.4、0.8ml）と0.5mMのナカライ社製DPPHのエタノール溶液を（1ml）を加え、反応液を暗中、25℃で20分間撹拌した。DPPHのラジカル消去能力は517nmでの吸収を100mMのシグマ社製（Ｒ）−（＋）−６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−カルボン酸（Trolox）エタノール溶液と比較して、測定した。対照(Trolox)の値を100%阻害、入れていないものを0%阻害として、相対的にそれぞれの化合物のラジカル消去活性を計算した。その結果、ラジカル消去活性は26%であった。
【００６１】
実施例２〜１５
以下実施例１と同様の方法で種々の化合物のラジカル消去活性を測定した。また、従来ラジカル消去活性を有することが報告されているコウジ酸及びアルブチンについても同様にして測定した（比較例１及び２）。結果を表１に示す。
【００６２】
【表１】
2010280735.tif 000037
【００６３】
表１の結果から明らかなように、本発明の化合物はコウジ酸及びアルブチンに匹敵するラジカル消去活性を示した。
【００６４】
実施例１６
ピロガロールのチロシナーゼ阻害活性について、プロリンを用いた方法で測定した。pH7.5の0.1Mリン酸緩衝液に溶解した0.749MのL-プロリン40μl、0.037Mの１，２−ジヒドロキシベンゼン40μl、10mMピロガロール溶液を1.41mlを吸光度用キュベット中で撹拌した
。ついで、350mg/mlのチロシナーゼ（マッシュルーム由来、SIGMA）溶液を10μl加え、撹拌下、吸光度の変化を10秒間525nmで測定した。その結果、チロシナーゼ阻害活性は94%であった。
【００６５】
実施例１７〜４６
以下実施例１６と同様の方法で種々の化合物のチロシナーゼ阻害活性を測定した。また、従来チロシナーゼ阻害活性を有することが報告されているコウジ酸及びアルブチンについても同様にして測定した（比較例３及び４）。結果を表２に示す。
【００６６】
【表２】
2010280735.tif 000038
【００６７】
表２の結果から明らかなように、本発明の化合物はコウジ酸及びアルブチンに匹敵するチロシナーゼ阻害活性を示した。