(57)【要約】【課題】故障箇所が容易に特定できる半導体装置、及び半導体装置の不良解析方法を提供する。【解決手段】Ｎグループにグループ分けされた２Ｎ個以上の一定の形状を有する抵抗パターンを備えた半導体装置であって、各グループの抵抗パターンはそのグループの他の抵抗パターンとの間に他のグループの（Ｎ−１）個の抵抗パターンが介在するように、各グループの抵抗パターンが順番に等ピッチで平行に配置され、各グループの抵抗パターンはグループ内の他の抵抗パターンと直列に接続され、直列に接続された各グループの抵抗パターンがさらに他のグループの抵抗パターンと直列に接続される。直列に接続された抵抗パターンの両端とグループ間にそれぞれ測定用パッドを設ける。どの抵抗パターンに異常があるか故障解析装置によっても概略の位置しかわからない場合においても各グループの抵抗値を測定することにより不良の存在する抵抗パターンが特定できる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎ（Ｎは２以上の整数）グループにグループ分けされた２Ｎ個以上の一定の形状を有する抵抗パターンを備えた半導体装置であって、
前記各グループの各抵抗パターンは当該グループ内の他の抵抗パターンとの間に他のグループの（Ｎ−１）個の抵抗パターンが介在するように、各グループの抵抗パターンが順番に等ピッチで平行に配置され、
前記各グループの抵抗パターンはグループ内の他の抵抗パターンと直列に接続され、前記直列に接続された各グループの抵抗パターンがさらに他のグループの抵抗パターンとグループ間配線を介して直列に接続され、
前記各グループの抵抗パターンが直列に接続されたその両端と、前記各グループ間配線と、にそれぞれ接続された複数の測定用パッドを有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記グループ間配線が、前記等ピットで平行に配置された２Ｎ個以上の抵抗パターンの外側で前記抵抗パターンと平行に前記抵抗パターンの一端の側から他端の側へ配線されていることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記グループ内の抵抗パターン間の接続は、前記抵抗パターンと同一方向に延在する平行配線と直交する方向に延在する直交配線とを用いて行われ、前記各グループの直交配線が抵抗パターンの両端においてそれぞれ同一直線上に配線され、グループの異なる直交配線が互いに重ならないように位置をずらして配線されていることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体装置。
【請求項４】
前記各抵抗パターンの端の位置が前記抵抗パターンに直交する方向に揃っていることを特徴とする請求項１乃至３いずれか１項記載の半導体装置。
【請求項５】
前記抵抗パターン間のピッチが最小ピッチで配置されていることを特徴とする請求項１乃至４いずれか１項記載の半導体装置。
【請求項６】
前記グループ間配線と他のグループ間配線との間隔、及びグループ間配線と抵抗パターンとの間隔が、抵抗パターン間の間隔より大きいことを特徴とする請求項１乃至５記載の半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至６いずれか１項記載の半導体装置の不良解析方法であって、
前記測定用パッドから前記直列に接続された抵抗パターンの抵抗値を測定するステップと、
前記測定した抵抗値が異常であった場合には、故障解析装置によって異常個所の概略の位置を特定するステップと、
前記測定した抵抗値と前記故障解析装置によって求めた異常個所の概略の位置から異常のある抵抗パターンを特定するステップとを有する半導体装置の不良解析方法。
【請求項８】
前記直列に接続された抵抗の抵抗値を測定するステップが、前記直列に接続された抵抗パターンの両端に設けられた測定用パッドからＮグループの抵抗パターンがすべて直列に接続された抵抗値を求めるステップと、
その抵抗値に異常があった場合に、各グループ毎の抵抗値を測定し、異常がどのグループの抵抗パターンにあったか解析するステップと、を有することを特徴とする請求項７記載の半導体装置の不良解析方法。
【請求項９】
前記同一グループに属する他の抵抗パターンとの距離が前記故障解析装置の故障位置の解析精度より大きくなるように、グループの数Ｎが決められていることを特徴とする請求項７又は８記載の半導体装置の不良解析方法。
【請求項１０】
前記直列に接続された抵抗の抵抗値を測定するステップにおいて、抵抗値が異常に低かった場合は、
前記グループ間配線を切断し、切断した後に各グループの抵抗パターンに接続された測定用パッド間で抵抗値を測定し、短絡箇所を特定することを特徴とする請求項７乃至９いずれか１項記載の半導体装置の不良解析方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置及びその不良解析方法に関する。特に、複数の直列に接続された抵抗パターンを有する半導体装置、及びその不良箇所の特定を容易にする不良解析方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より半導体製造プロセスの開発、改良のため、一定のパターンを形成したＴＥＧ（Test Element Group）と呼ばれるテスト用の半導体装置を試作し、評価することが行われる。出来上がったＴＥＧの特性を評価したり、故障解析装置による故障解析が行われ、半導体製造プロセスや回路設計にフィードバックがかけられ、半導体製造プロセスや回路設計の最適化が行われる。
【０００３】
図１は、従来の抵抗パターン評価用ＴＥＧ配線パターンの平面図である。図１において、測定用パッド１０１と測定用パッド１０２の間の抵抗パターン領域１０７には、多数の抵抗パターン１０８が配置され、それらの抵抗パターン１０８の間を抵抗パターン間配線１２０で接続し、全体として、測定用パッド１０１と測定用パッド１０２との間には、多数の抵抗パターン１０８が直列に接続されていることになる。抵抗パターン領域１０７には、評価しようとするパターンによって、上層配線や下層配線、拡散抵抗、多数のコンタクトを上層配線と下層配線で直列に接続したコンタクト配線など、様々なパターンが形成される。なお、ここでは、これらの評価用パターンを総称して抵抗パターンとしているが、評価用パターンが配線そのものである場合には、抵抗値はかなり低い値になる。
【０００４】
なお、従来のＴＥＧやＴＥＧを用いた故障解析方法が以下の特許文献１乃至３に記載されている。
【０００５】
特許文献１には、櫛型部分が噛合って配線された第一、第二の櫛型配線パターンと、第一、第二の櫛型配線パターンとは別層に配線された配線パターンであって、第一、第二の櫛型配線パターンとは直交する方向に伸びる第三の櫛型配線パターンを設け、上記第二の櫛型配線パターンと第三の櫛型配線パターンとを複数のビアで接続された半導体装置を用いて、第一の櫛型配線パターンと第三の櫛型配線パターンとの間に電圧を印加し、第一の櫛型配線パターンから第二の櫛型配線パターンを経由して第三の櫛型配線パターンに流れる電流のルートを検査することで、第一の櫛型配線パターンと第二の櫛型配線パターンとのショート箇所を絞りこむことが記載されている。
【０００６】
また、特許文献２には、実配線パターンの間に複数のダミー配線パターンを微細なピッチで配置し、上記実配線パターン間の距離をＯＢＩＲＣＨ法によるパターン解析を行うことができる程度に離して配置することにより、ＯＢＩＲＣＨ法によっては、不良箇所の特定が困難な微細ピッチ配線における不良の解析を行うことが記載されている。
【０００７】
さらに、特許文献３には、両端に端子が設けられた複数の配線について、同一配線の端子間及び異なる配線の端子間の配線抵抗を測定し、配線抵抗値に基づいて隣接する配線間が短絡しているか否か判断し、配線抵抗値に基づいて短絡推定位置を推定し、さらに、短絡推定位置を観測する半導体装置の不良解析システム及び不良解析方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−３０３１６２号公報
【特許文献２】特開２００５−１９１２４９号公報
【特許文献３】特開２００３−１９４８８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
以下の分析は本発明において与えられる。図１の配線パターンが形成されたＴＥＧを用いた評価方法について説明する。まず、最初に、測定用パッド１０１と測定用パッド１０２との間の抵抗値を測定し、抵抗値に異常があるか否かがまず検査される。抵抗値の測定は、通常は、半導体ウェハの状態でプローバを用いて測定用パッド１０１、１０２に深針を当てて評価を行う。またはこれらのＴＥＧを試作用のパッケージに組み立て、測定用パッド１０１、１０２を試作用パッケージの外部端子に接続し、外部端子から抵抗値を測定しても良い。
【００１０】
測定した抵抗値が異常に大きい、または異常に小さい場合には、ＴＥＧパターンのどこかにオープン、又はショートの異常があると考えられるので、抵抗パターン領域１０７中のどこに不良があるのか、エミッションやオバークの解析方法による周知の故障解析装置によって不良箇所を特定しようとする。故障箇所が特定できた場合には、この場所の断面観察等を行うことで故障原因箇所の分析を行う。
【００１１】
しかし、半導体プロセスの微細化に伴い、不良解析装置が識別できるエミッションの発光箇所やオバークの反応箇所より、微細化が進んでしまったために、不良箇所の絞込みが困難になっている。例えば、図２に示すように、不良解析装置が示すエミッションの発光箇所やオバークの反応箇所１３０が抵抗パターンのピッチより大きいため、異常反応箇所１３０のうちどの抵抗パターンに不良が存在するのか特定できない。従って、不良解析が困難になってきている。
【００１２】
一方、特許文献１に記載されている櫛型抵抗パターンでは、そもそも抵抗パターンの抵抗値の測定を行うことができない。また、特許文献２や特許文献３では、測定しようとする抵抗パターン以外に多数のダミー配線、配線を設けなければならず、面積効率が悪い。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の１つの側面による半導体装置は、Ｎ（Ｎは２以上の整数）グループにグループ分けされた２Ｎ個以上の一定の形状を有する抵抗パターンを備えた半導体装置であって、前記各グループの各抵抗パターンは当該グループ内の他の抵抗パターンとの間に他のグループの（Ｎ−１）個の抵抗パターンが介在するように各グループの抵抗パターンが順番に等ピッチで平行に配置され、前記各グループの抵抗パターンはグループ内の他の抵抗パターンと直列に接続され、前記直列に接続された各グループの抵抗パターンがさらに他のグループの抵抗パターンとグループ間配線を介して直列に接続され、前記各グループの抵抗パターンが直列に接続されたその両端と、前記各グループ間配線と、にそれぞれ接続された複数の測定用パッドを有する。
【００１４】
また、本発明の他の側面による半導体装置の解析方法は、上記半導体装置について、前記測定用パッドから前記直列に接続された抵抗パターンの抵抗値を測定するステップと、前記測定した抵抗値が異常であった場合には故障解析装置によって異常個所の概略の位置を特定するステップと、前記測定した抵抗値と前記故障解析装置によって求めた異常個所の概略の位置から異常のある抵抗パターンを特定するステップとを有する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、複数の抵抗パターンを効率に配置配線することにより、少ない面積で、抵抗値の評価を行う事が可能で、かつ、抵抗値に異常があった場合に、異常のある抵抗パターンを比較的容易に特定できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】従来の抵抗パターン評価用ＴＥＧ配線パターンの平面図である。
【図２】従来の抵抗パターン評価用ＴＥＧ配線パターンにおいて、故障解析装置により観測される異常反応箇所を模式的に示した図面である。
【図３】本発明の一実施例による半導体装置の配線パターンを示す平面図である。
【図４】本発明の一実施例による半導体装置の配線パターンにおいて、故障解析装置により観測される異常反応箇所を模式的に示した図面である。
【図５】本発明の一実施例による半導体装置における配線パターンの部分拡大図である。
【図６】本発明の別な実施例による半導体装置の配線パターンを示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の実施形態について、必要に応じて図面を参照して説明する。なお、実施形態の説明において引用する図面及び図面の符号は実施形態の一例として示すものであり、それにより本発明による実施形態のバリエーションを制限するものではない。
【００１８】
本発明の一実施形態の半導体装置は、例えば、図３、図６に示すように、Ｎ（Ｎは２以上の整数）グループにグループ分けされた２Ｎ個以上の一定の形状を有する抵抗パターン８を備えた半導体装置であって、各グループの各抵抗パターン８は当該グループ内の他の抵抗パターンとの間に他のグループの（Ｎ−１）個の抵抗パターンが介在するように、各グループの抵抗パターンが順番に等ピッチで平行に配置され、各グループの抵抗パターン８はグループ内の他の抵抗パターンと直列に接続され、直列に接続された各グループの抵抗パターンがさらに他のグループの抵抗パターンとグループ間配線１１を介して直列に接続され、各グループの抵抗パターンが直列に接続されたその両端と、各グループ間配線と、にそれぞれ接続された複数の測定用パッド（１、２、３〜６、３Ａ〜６Ａ）を有する。上記構成によれば、直列に接続された抵抗パターンの両端に測定パッド（１、２）が設けられているので、全体の直列抵抗を測定することにより、いずれかの抵抗パターンに不良が存在するか否か測定できる。さらに、各グループ間配線１１にも測定パッド（３、４、５、６）が設けられているので、不良がどのグループに存在するのかも測定できる。たとえ、図４に示すように故障解析装置の解像度により、故障が存在する抵抗パターンが一つに絞りきれない場合も、故障解析装置の解像度の範囲内に同じグループの抵抗パターンが複数存在しない限り、抵抗値の測定から求めた不良が存在するグループと、故障解析装置から求めた概略の位置から不良が存在する抵抗パターンが特定できる。なお、本発明の実施形態において、抵抗パターンは、上層配線や下層配線、拡散抵抗、多数のコンタクトを上層配線と下層配線で直列に接続したコンタクト配線など、様々な抵抗パターンが考えられる。また、抵抗パターンは、最低限測定用パッド間の接続がオープンであるか否かが測定できればよく、抵抗パターンが配線そのものである場合など、抵抗値がゼロに近いパターンも含まれる。
【００１９】
さらに、本発明の一実施形態の半導体装置は、例えば、図３、図６に示すように、グループ間配線１１が、等ピットで平行に配置された２Ｎ個以上の抵抗パターン８の外側で抵抗パターンと平行に抵抗パターンの一端の側から他端の側へ配線されている。すなわち、グループ間配線が抵抗パターン領域に設けられた抵抗パターンの外側で、抵抗パターンの一端の側から他端の側へ配線されているので、グループ間配線の途中に容易に測定用パッドが設けられる。
【００２０】
さらに、本発明の一実施形態の半導体装置は、図３、図５、図６に示すように、グループ内の抵抗パターン８間の接続は、抵抗パターン８と同一方向に延在する平行配線９と直交する方向に延在する直交配線１０とを用いて行われ、各グループの直交配線１０が抵抗パターンの両端においてそれぞれ同一直線上に配線され、グループの異なる直交配線１０が互いに重ならないように位置をずらして配線されている。従って、直交配線１０に接続される平行配線９の端の位置は、グループ内では統一されており、グループ毎に異なっている。従って、故障箇所が特定できた後、故障箇所の断面観察等を行う際に、容易にどのグループの抵抗パターンの断面観察を行っているのか識別することができる。
【００２１】
さらに、本発明の一実施形態の半導体装置は、図３、図６に示すように、各抵抗パターンの端の位置が前記抵抗パターンに直交する方向に揃っている。したがって、容易に不良解析を行うことができる。
【００２２】
さらに、本発明の一実施形態の半導体装置は、図３、図６に示す抵抗パターン８間のピッチが最小ピッチで配置されているものとしてもよい。例えば、抵抗パターン間のショート不良を解析する等のためには、最小ピッチで配置することが必要である。
【００２３】
さらに、本発明の一実施形態の半導体装置は、例えば図６に示すように、グループ間配線と他のグループ間配線との間隔（図６のＳ２Ｂ）、及びグループ間配線と抵抗パターンとの間隔（Ｓ２Ａ）が、抵抗パターン間の間隔（Ｓ１）より大きい。抵抗パターン間のショート不良が発見された場合、グループ間の配線を測定用パッド（３Ａ〜６Ａ）の前後で切断し（例えば、図６の１２Ａ〜１２Ｈ）、ショート不良が存在する抵抗パターンを特定することが必要になる場合がある。グループ間配線と他のグループ間配線や抵抗パターンとの間隔を大きくすることにより、ＦＩＢ装置等により比較的容易に配線を切断することができる。
【００２４】
さらに、本発明の一実施形態による半導体装置の不良解析方法は、上記半導体装置（例えば、図３、図６に記載の半導体装置）において、測定用パッド（１〜６、３Ａ〜６Ａ）から直列に接続された抵抗パターン８の抵抗値を測定するステップと、測定した抵抗値が異常であった場合には故障解析装置によって異常個所の概略の位置（例えば図４の１３０）を特定するステップと、測定した抵抗値と故障解析装置によって求めた異常個所の概略の位置（１３０）から異常のある抵抗パターンを特定するステップとを有する。測定用パッドから測定した抵抗値により、不良がどのグループに存在するか絞ることができる。したがって、故障解析装置によって異常個所の概略の位置がわかれば、不良が存在する抵抗パターンを特定することができる。
【００２５】
さらに、本発明の一実施形態による半導体装置の不良解析方法は、図３、図６を参照すると、上記直列に接続された抵抗の抵抗値を測定するステップが、直列に接続された抵抗パターン８の両端に設けられた測定用パッド（１、２）からＮグループの抵抗パターンがすべて直列に接続された抵抗値を求めるステップと、その抵抗値に異常があった場合に各グループ毎の抵抗値を測定し、異常がどのグループの抵抗パターンにあったか解析するステップと、を有する。抵抗パターンはすべて直列に接続されているので、その両端の抵抗値を測定すれば、いずれかの抵抗パターンに不良が存在すれば、測定値の異常となって現れる。測定値に異常があれば、各グループ間にも測定用パッド（３〜６、３Ａ〜６Ａ）が設けられているので、各グループ毎の直列抵抗値を測定することができ、不良抵抗パターンが存在するグループが特定できる。
【００２６】
さらに、本発明の一実施形態による半導体装置の不良解析方法は、図４を参照すると、同一グループに属する他の抵抗パターンとの距離が故障解析装置の故障位置の解析精度（例えば、図４における異常反応箇所１３０の大きさ）より大きくなるように、グループの数Ｎが決められている。エミッションやオバークの解析方法による故障解析装置から求めた異常反応箇所が解析精度の問題から特定の抵抗パターンまで絞り込めない場合であっても、異常反応箇所に同一グループの抵抗パターンが含まれていなければ、グループ毎の直列抵抗の測定値より、不良が存在する抵抗パターンの特定が可能である。従って、抵抗パターンのグループの数は、抵抗パターンのピッチと、故障解析装置における故障位置の解析精度に合わせて決めればよい。上記実施形態によれば、故障解析装置の解析精度を超えるピッチに配置された抵抗パターンの不良解析を比較的容易に行うことができる。
【００２７】
さらに、本発明の一実施形態による半導体装置の不良解析方法は、図６を参照して、直列に接続された抵抗の抵抗値を測定するステップにおいて、抵抗値が異常に低かった場合は、グループ間配線を切断し、切断した後に各グループの抵抗パターンに接続された測定用パッド間で抵抗値を測定し、短絡箇所を特定する。例えば、抵抗パターンが配線そのものである場合など、抵抗パターンの抵抗値が低く、しかも抵抗パターン間の短絡不良が存在する場合、直列に接続された抵抗パターンの抵抗値を測定することからは、不良箇所を絞り込むことが困難な場合がある。このような場合は、グループ間配線をＦＩＢなどで切断した後に、抵抗値を測定することにより、ショート不良が発生しているグループを特定することが可能である。以下、実施例に即し、図面を参照して詳しく説明する。
【実施例１】
【００２８】
図３は、本発明の実施例１による半導体装置の配線パターンを示す平面図である。まず、図３を用いて実施例１の半導体装置について、その構成を説明する。図３は、半導体チップの表面に設けられる配線パターン（９、１０、１１）、測定用パッド（１〜６）と抵抗パターン８のみを模式的に表した平面図である。測定用パッド（１〜６）は、半導体ウェハまたは半導体チップの状態でプローバの深針により抵抗値等を測定するためのパッドである。また、半導体チップがパッケージに組み立てられる場合には、測定用パッドに対してワイヤボンディングなどでパッケージの外部端子に接続される。
【００２９】
抵抗パターン８は、抵抗パターン領域７の中に設けられる。抵抗パターン８は、上層配線や下層配線、拡散抵抗、多数のコンタクトを上層配線と下層配線で直列に接続したコンタクト配線など、様々な抵抗パターンが考えられる。抵抗パターン領域７にどのような抵抗パターンを設けるかは任意に選択できる。また、抵抗パターンは、最低限測定用パッド間の接続がオープンであるか否かが測定できればよく、抵抗パターンが配線そのものである場合など、抵抗値がゼロに近いパターンも含まれる。抵抗パターンは概略矩形の形状をしており、各抵抗パターンの形状は同一形状に統一されている。
【００３０】
図３では、抵抗パターンはグループ１〜５の５つのグループに分けられ、グループ１〜５の順番に等ピッチで配置されている。抵抗パターン８を配置するピッチは、任意に選択できるが、半導体プロセスのパターン加工精度を評価する様な場合には、最小ピッチで配置される。また、抵抗パターンは両端の位置が抵抗パターン領域の端にそろえて、規則的に配置されている。
【００３１】
抵抗パターン８は、各グループ毎に抵抗パターン８の長辺に平行な方向に延在する平行配線９と抵抗パターン８の長辺に対して直交する方向に延在する直交配線１０によって、直列に接続されている。直列に接続された各グループの抵抗パターン８は、抵抗パターン８の長辺方向に延在するグループ間配線１１を介してさらに他のグループの抵抗パターン８と直列に接続されており、その両端には、測定用パッド１と測定用パッド２が接続されている。さらに、グループ間配線１１は、抵抗パターン領域の外側で、抵抗パターンの一端から他端の方向へ抵抗パターンと平行に配線されており、各グループ間配線にも、測定用パッド（３〜６）が設けられている。
【００３２】
次に、実施例１の半導体装置を用いた不良解析方法について説明する。まず最初に測定用パッド１と測定用パッド２との間の抵抗値を測定する。もし、抵抗値が無限大となった場合には、いずれかの抵抗パターン８にオープン不良が存在すると考えられる。しかし、単純な外観検査等では、どの抵抗パターン８にオープン不良が存在するのか解析が困難な場合が多い。測定用パッド１と測定用パッド２との間の抵抗値に異常があった場合には、後で故障解析する場合に備えて、グループ間配線１１に設けられた測定用パッド３〜６にも深針を当てて、各グループ毎に直列接続された抵抗パターン８の抵抗値を求めておいてもよい。各グループ毎の抵抗値を測定することによって、オープン不良であれば、オープン不良が存在するグループの抵抗値が無限大となることから、オープン不良が存在するグループが特定できる。
【００３３】
次に、エミッションやオバークの解析方法による周知の故障解析装置により、故障箇所の解析を行う。図４に故障解析装置により確認できた異常反応箇所１３０を示す。異常反応箇所１３０には、グループ３の抵抗パターン８とグループ４の抵抗パターン、グループ５の抵抗パターンが含まれている。従って、故障解析装置による解析だけでは、不良が存在する抵抗パターンがこのグループ３〜５の抵抗パターンのうち、どのバターンに不良が存在するのか特定できない。この段階でまだ、グループ毎の抵抗値の測定が行われていない場合には、グループ毎の抵抗値の測定を行う。
【００３４】
次に、故障解析装置により求めた異常反応箇所の位置と、グループ毎の抵抗値の測定結果を総合することにより、オープン不良等が存在する抵抗パターンが特定できる。例えば、図４の例では、故障解析装置による解析のみからは、異常反応箇所１３０に含まれるグループ３〜５のいずれにオープン不良が存在するのか特定することはできないが、グループ毎の抵抗値の測定から、不良が存在するグループが特定できる。従って、抵抗値の測定結果による不良が存在するグループと、故障解析装置による概略位置の特定により、不良が発生している抵抗パターンが特定できる。
【００３５】
不良が存在するであろう抵抗パターンが特定できた場合は、その抵抗パターンについて、既知の方法により断面解析を行い、さらにその不良が発生した原因を究明する。原因を究明した結果は、同様な不良が発生しないように製造プロセスの改良や、半導体集積回路の回路設計やマスクレイアウト設計基準の改良に反映させることができる。
【００３６】
また、抵抗パターンをグループ分けして配置配線するグループの数Ｎは以下のようにして決定することができる。
【００３７】
Ｎ−１≧Δ／Ｌ          式（１）
【００３８】
なお、上記式（１）において、Δはエミッション解析やオバーク解析での異常個所の測定精度であり、Ｌは抵抗パターン８の列間のピッチである。例えば、測定精度を１μｍ、抵抗パターンのピッチを０．３μｍとすると、上記式（１）より、Ｎ−１≧３．３となるので、Ｎは２以上の整数であるから、Ｎ＝５となる。したがって、上記の例では、５つのグループに分ければよいことが分かる。
【００３９】
次に、図５は、実施例１における抵抗パターン８とグルーブ内配線（９、１０）の拡大図である。グループ内の抵抗パターンを直列に接続する配線は、抵抗パターン８の長辺に平行な平行配線９と抵抗パターン８と直交する方法に伸びる直交配線１０により接続される。平行配線９は上層配線により配線が行われ、直交配線は下層配線により配線が行われる。ここで、図３も参照すると、同一グループ間の抵抗パターン８を接続する直交配線１０は、同一直線上に配線されている。例えば、図３において、グループ１の直交配線は、
グループ１直交配線配線位置２１上に配線されている。同様に、グループ２〜５の直交配線は、それぞれ、グループ２〜５直交配線配線位置２２〜２５上に配線されている。この様に配線すると、直交配線１０へは平行配線９を介して接続されるので、平行配線９の端の位置がグループ毎に段階的に異なる位置になる。従って、断面解析を行う際に、どのグループの抵抗パターンの断面の解析を行っているのか、平行配線９の端の位置や、直交配線１０の位置によって容易に識別できるので、後工程での解析が容易になるという利点を有する。
【実施例２】
【００４０】
図６は、本発明の実施例２による半導体装置の配線パターンを示す平面図である。図６は、実施例１の図３とは、グループ間配線１１Ａと抵抗パターン８の間隔Ｓ２Ａ、及びグループ間配線１１Ａ間の間隔Ｓ２Ｂが、抵抗パターン８間の間隔Ｓ１より広く配線されている。グループ間配線の配線位置の変更に伴い、測定用パッド３Ａ〜６Ａの位置が変更になっているが、それ以外は、実施例１の平面図として示した図３と同一である。実施例１と実質的に同一である部分は、図１と同一符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００４１】
実施例２は、グループ間配線を他の配線や抵抗パターンから離して配線されているので、ＦＩＢ装置などを利用してグループ間配線を容易に切断することができる。抵抗パターン８が単なる金属配線などの低インピーダンスの抵抗パターンである場合は、オープンであるか否かの判定は比較的容易にできるが、配線間がショートしているか否かの判定は、抵抗値を測定しただけでは、差異がでないので困難である。その場合には、グループ間配線の任意の部分を切断して抵抗値の測定を行うことでショートの場合も比較的容易に不良解析を行うことができる。図６中の１２Ａ〜ＨはＦＩＢ装置等を用いて配線を切断する候補となる箇所である。いずれの場所も近傍に他の配線がないので、ＦＩＢ装置等を用いて比較的容易に配線の切断を行うことができる。
【００４２】
なお、抵抗パターン８とグループ間配線１１間の間隔Ｓ２Ａ、グループ間配線１１同士の間隔Ｓ２Ｂは、特に限定されないが、１μｍ以上あることが望ましい。
【００４３】
なお、本発明の半導体装置は、プロセス評価用のＴＥＧとして好適であるが、プロセス評価用のＴＥＧに限られるものではない。たとえば、プロセス評価用のＴＥＧ以外の用途の半導体装置であっても、上記説明した抵抗パターン、配線パターン、端子パッドを有していれば、本発明による不良解析方法を実施することができる。
【００４４】
以上、本発明を実施例に即して説明したが、本発明は上記実施例の構成にのみ制限されるものでなく、本発明の範囲内で当業者であればなし得るであろう各種変形、修正を含むことは勿論である。
【符号の説明】
【００４５】
１〜６、１Ａ〜６Ａ、１０１、１０２：測定用パッド
７、１０７：抵抗パターン領域
８、１０８：抵抗パターン
９：グループ内配線(平行配線:上層配線)
１０：グループ内配線（直交配線:下層配線）
１１、１１Ａ：グループ間配線
１２Ａ〜Ｈ：切断候補箇所
２１：グループ１直交配線配線位置
２２：グループ２直交配線配線位置
２３：グループ３直交配線配線位置
２４：グループ４直交配線配線位置
２５：グループ５直交配線配線位置
１２０：抵抗パターン間配線
１３０：（故障解析装置による）異常反応個所
Ｓ１：抵抗パターン間の間隔
Ｓ２：グループ間配線とグループ間配線との間隔、及び抵抗パターンとグループ間配線との間隔
【図１】
2010182932.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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