(57)【要約】      （修正有）【課題】反射防止機能を備え、かつ硬度が十分に高く耐傷性が確保された透光性部材の製造方法、透光性部材、およびその透光性部材を備えた時計を提供する。【解決手段】透光性部材１０の製造方法は、透光性を有する基材１１の表面の少なくとも一部に反射防止層１２を形成するスパッタリング工程を備え、前記スパッタリング工程が、窒化ケイ素からなる高屈折率層１２Ｃと、酸化ケイ素からなる低屈折率層１２Ｂ、１２Ｄとを交互に積層する工程であり、前記スパッタリング工程において、窒化ケイ素を主成分とする材質からなるターゲットにより高屈折率層１２Ｃを形成し、酸化ケイ素を主成分とする材質からなるターゲットにより低屈折率層１２Ｂ、１２Ｄを形成する。【選択図】図１
2010243162.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性を有する基材を備える透光性部材の製造方法であって、
前記基材の表面の少なくとも一部に反射防止層を形成するスパッタリング工程を備え、
前記スパッタリング工程が、窒化ケイ素からなる高屈折率層と、酸化ケイ素からなる低屈折率層とを交互に積層する工程であり、
前記スパッタリング工程において、
窒化ケイ素を主成分とする材質からなるターゲットにより高屈折率層を形成し、
酸化ケイ素を主成分とする材質からなるターゲットにより低屈折率層を形成する
ことを特徴とする透光性部材の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の透光性部材の製造方法において、
前記スパッタリング工程では、
前記窒化ケイ素からなる高屈折率層を形成する際に、不活性ガス雰囲気下で高周波スパッタリングを行い、
前記酸化ケイ素からなる低屈折率層を形成する際に、酸素ガスと不活性ガスからなる混合ガス雰囲気下で高周波スパッタリングを行う
ことを特徴とする透光性部材の製造方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２における透光性部材の製造方法において、
前記反射防止層は、その最表面から１５０ｎｍの深さまでの範囲における窒化ケイ素の含有量が３０〜５０ｖｏｌ％である
ことを特徴とする透光性部材の製造方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかに記載の透光性部材の製造方法において、
該透光性部材の表面硬度が、２４０００Ｎ／ｍｍ２以上である
ことを特徴とする透光性部材の製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の透光性部材の製造方法において、
該透光性部材の表面硬度が、３００００Ｎ／ｍｍ２以上である
ことを特徴とする透光性部材の製造方法。
【請求項６】
請求項１から５までのいずれかに記載の透光性部材の製造方法において、
前記透光性部材は、時計用カバー部材とされ、
前記反射防止層は、前記カバー部材の内側の部分および外側の部分のうち、少なくとも外側の部分に形成される
ことを特徴とする透光性部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、時計用カバーガラス等に用いられる透光性部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、時刻表示などの視認性を高めるため、カバーガラス（風防）と呼ばれる透光性部材に反射防止層を形成することが知られている。この反射防止層は、屈折率の異なる無機物層が数層〜数十層積層されて構成されることが一般的であり、カバーガラスのように高い硬度が求められる場合には、光透過率が高いうえ低屈折率でかつ比較的硬度が高いＳｉＯ２が反射防止層の最表層に成膜されることが多い。例えば、時計用カバーガラスの表面に、ＳｉＯ２を最表層および最下層とし、ＳｉＯ２層とＳｉ３Ｎ４層とが交互に積層された反射防止層を形成する技術が開示されている（特許文献１参照）。また、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなる層を最表層とし、窒化ケイ素からなる層を時計用カバーガラスの表面に形成してなる時計用風防ガラスも開示されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２７１４８０号公報
【特許文献２】特開２００６−２７５５２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
酸化ケイ素層と窒化ケイ素層が交互に積層されてなる反射防止層を備えたカバーガラスは、確かに初期の製造ロットに限れば優れた反射防止性や耐傷性を発揮する。しかしながら、同じシリコンターゲットを用いて、反射防止層を備えたカバーガラスを量産すると次第に反射防止性や耐傷性が低下することがわかってきた。それ故、反射防止層を形成する際のスパッタリング条件を変更したり、あるいはシリコンターゲットをかなりの頻度で交換やクリーニングせざるを得ず、製造コスト的に問題となる。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、スパッタリングにより連続生産を行っても、反射防止性や耐傷性の低下をきたすことのない透光性部材の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、同じシリコンターゲットを用いて反射防止層を備えたカバーガラスの連続生産を行うと、シリコンターゲットの表面が次第に変質してしまうことを見出した。そして、ターゲットの材質としてシリコンではなくセラミックスを用いることでこの問題を解決できることがわかってきた。本発明は、以上の知見をもとに完成されたものである。
【０００７】
本発明は、透光性を有する基材を備える透光性部材の製造方法であって、前記基材の表面の少なくとも一部に反射防止層を形成するスパッタリング工程を備え、前記スパッタリング工程が、窒化ケイ素からなる高屈折率層と、酸化ケイ素からなる低屈折率層とを交互に積層する工程であり、前記スパッタリング工程において、窒化ケイ素を主成分とする材質からなるターゲットにより高屈折率層を形成し、酸化ケイ素を主成分とする材質からなるターゲットにより低屈折率層を形成することを特徴とする。
ここで、透光性部材としては、例えば、時計用カバー部材や計器用カバー部材あるいは眼鏡レンズ等の硬質で透明な部材が挙げられる。透光性部材の基材としては、サファイアガラス、石英ガラス、およびソーダガラス等が挙げられる。
【０００８】
本発明の透光性部材の製造方法によれば、スパッタリング工程において、窒化ケイ素（例えばＳｉ３Ｎ４）を主成分とする材質からなるターゲットにより窒化ケイ素からなる高屈折率層を形成し、酸化ケイ素（例えばＳｉＯ２）を主成分とする材質からなるターゲットにより酸化ケイ素からなる低屈折率層を形成している。すなわち、高屈折率層と低屈折率層を各々別のターゲットにより形成しており、さらに、ターゲット自体も材質がシリコンではなくセラミックスであるので、ターゲット自体の変質が生じない。それ故、同一ターゲットによるスパッタリングで透光性部材の連続生産を行っても、得られる透光性部材の反射防止性や耐傷性がほとんど変化しない。結果として、反射防止性に優れ、硬度が十分に高く耐傷性が確保された透光性部材を長時間に渡って安定して製造できる。
【０００９】
本発明では、前記スパッタリング工程では、前記窒化ケイ素からなる高屈折率層を形成する際に、不活性ガス雰囲気下で高周波スパッタリングを行い、前記酸化ケイ素からなる低屈折率層を形成する際に、酸素ガスと不活性ガスからなる混合ガス雰囲気下で高周波スパッタリングを行うことが好ましい。
【００１０】
この構成の発明によれば、窒化ケイ素からなる高屈折率層を形成する際に、不活性ガス雰囲気下で高周波スパッタリングを行い、前記酸化ケイ素からなる低屈折率層を形成する際に、酸素ガスと不活性ガスからなる混合ガス雰囲気下で高周波スパッタリングを行う。それ故、セラミックス製のターゲットに導電性がなくとも安定してスパッタリングを行うことができ、ターゲット自体の損傷もないので、反射防止性に優れ、硬度が十分に高く耐傷性が確保された透光性部材をより長時間に渡って安定して製造できる。
【００１１】
本発明では、前記反射防止層は、その最表面から１５０ｎｍの深さまでの範囲における窒化ケイ素の含有量が３０〜５０ｖｏｌ％であることが好ましい。
この構成の発明によれば、所定の反射防止層が基材上に形成され、反射防止層の最表面から１５０ｎｍの深さまでの範囲における窒化ケイ素の含有量が３０ｖｏｌ％以上であるので、より硬度の高い反射防止層を基材上に安定して形成できる。また、最表面から１５０ｎｍの深さまでの範囲における窒化ケイ素の含有量が５０ｖｏｌ％以下であるので、反射防止効果にも優れている。前記反射防止層の最表面から１５０ｎｍの深さまでの範囲における窒化ケイ素の含有量が４０〜５０ｖｏｌ％であると、反射防止効果を維持したまま、反射防止層の耐傷性をさらに向上させることが可能となるのでより好ましい。
この発明では、このように硬度が高く、反射防止効果にも優れた透光性部材を長時間に渡って安定して製造できる。
【００１２】
また、酸化ケイ素からなる最表層の層厚は７０〜１１０ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは７５〜１０５ｎｍである。また、最表層に隣接する窒化ケイ素層の層厚は５０〜１１５ｎｍであることが好ましく、より好ましくは５５〜１１０ｎｍである。これらの各層の層厚が前記した範囲をはずれると反射防止層の反射率が高くなる傾向にある。
【００１３】
本発明では、該透光性部材の表面硬度が、２４０００Ｎ／ｍｍ２以上であることが好ましく、３００００Ｎ／ｍｍ２以上であることがより好ましい。ここで、表面硬度は、ナノインデンターを使用して求められる（ＩＳＯ１４５７７に準拠）。試験荷重は１．２２５ｍＮである。
この構成の発明によれば、製造される透光性部材の表面硬度が、２４０００Ｎ／ｍｍ２以上であるので、十分な耐傷性を発揮することができ、例えば、時計用のカバーガラスとして優れている。また、該透光性部材の表面硬度が、３００００Ｎ／ｍｍ２以上であるとさらに優れた耐傷性を発揮することができる。
【００１４】
本発明では、前記透光性部材は、時計用カバー部材とされ、前記反射防止層は、前記カバー部材の内側の部分および外側の部分のうち、少なくとも外側の部分に形成されることが好ましい。
この構成の発明によれば、カバー部材の外側から入射する光の反射を入射側で防止できるため、カバー部材の内側である射出側の部分に反射防止層が形成された場合よりも良好な反射防止効果を発揮できる。また、この透光性部材をカバー部材として備えた時計を提供できる。
【発明の効果】
【００１５】
このような本発明によれば、優れた反射防止機能と耐傷性とを併せ持つ透光性部材をスパッタリングにより安定して製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施形態に係るカバーガラスの断面を示す模式図。
【図２】本実施形態に係るカバーガラスを備えた時計の断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の一実施形態を詳細に説明する。本実施形態において製造される透光性部材は、時計用カバーガラス（以下、単に「カバーガラス」ともいう。）であり、図１には、透光性部材１０の断面図が示されている。図１において、透光性部材１０は、透明な基材１１と、その上に形成された反射防止層１２とを備えている。
【００１８】
〔基材１１の材質〕
基材１１の材質は無機酸化物であり、例えばサファイアガラス、石英ガラス、ソーダガラス等が挙げられる。時計用カバーガラスの材質としては、硬度や透明性の観点より特にサファイアガラスが好ましい。
【００１９】
〔反射防止層１２の構成〕
反射防止層１２は、基材１１の上に形成され、屈折率の異なる無機薄膜を交互に積層して得られる多層膜である。図１に示す透光性部材１０では、反射防止層１２は、１２Ａ（高屈折率層）、１２Ｂ（低屈折率層）、１２Ｃ（高屈折率層）、１２Ｄ（低屈折率層）の４層から構成されている。
ここで、高屈折率層１２Ａ、１２Ｃは、窒化ケイ素（ＳiＮx）により形成され、低屈折率層１２Ｂ、１２Ｄは酸化ケイ素（ＳiＯ２）により形成されている。また、反射防止層１２の最表面から１５０ｎｍの深さまでの範囲における窒化ケイ素の含有量が３０〜５０ｖｏｌ％となっている。透光性部材１０の表面硬度は、ナノインデンターを使用したＩＳＯ１４５７７準拠の測定値で２４０００Ｎ／ｍｍ２以上である。
【００２０】
また、酸化ケイ素からなる最表層（低屈折率層１２Ｄ）の層厚は７０〜１１０ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは７５〜１０５ｎｍである。また、最表層に隣接する窒化ケイ素層（高屈折率層１２Ｃ）の層厚は５０〜１１５ｎｍであることが好ましく、より好ましくは５５〜１１０ｎｍである。前記した層厚の範囲をはずれると反射防止層の反射率が高くなる傾向にある。
なお、反射防止層１２は、４層である必要はなく、５層以上でもよい。反射防止効果を高める観点からは積層数が多い方が好ましい。ただし、あまり積層数が多くなると、透光性や生産性の観点より問題が生ずるおそれもあるので、好ましくは９層までの範囲である。
【００２１】
〔反射防止層１２の形成工程〕
基材１１の表面に上述した反射防止層１２を形成する際には、スパッタリング法が用いられる。スパッタリング法としては、無機薄膜形成の際に用いられる通常の方法が適用できるが、本実施形態では、窒化ケイ素（例えばＳｉ３Ｎ４）を主成分とする材質からなるターゲットにより窒化ケイ素からなる高屈折率層１２Ａ、１２Ｃを形成し、酸化ケイ素（例えばＳｉＯ２）を主成分とする材質からなるターゲットにより酸化ケイ素からなる低屈折率層１２Ｂ、１２Ｄを形成する。この際、高屈折率層を形成する際には、Ａｒガスや窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で高周波スパッタリングを行う。また、低屈折率層を形成する際には、酸素ガスと不活性ガスからなる混合ガス雰囲気下で高周波スパッタリングを行う。
基材１１の上に前記した４層からなる反射防止層１２が形成されることにより、透光性部材１０が製造される。
【００２２】
ここで、前記したスパッタリングを行う際には、基材１１を１００℃以上に加熱する加熱工程を備えることが、反射防止層の硬度や密着性の向上の観点より好ましい。
また、反射防止層１２をスパッタリングにより形成する前に、基材１１に対して表面の付着物を除去する逆スパッタリング工程を備えると、基材１１の表面を清浄にすることができるので、基材１１と反射防止層１２との密着性向上の観点より好ましい。
【００２３】
〔時計の構成〕
図２には、前記したスパタッタリングにより得られた透光性部材１０を備えた時計の断面図を示す。
図２に示すように、本実施形態の時計１００において、透光性部材１０は、時計体（ムーブメント）１０３を収容するケース１０４に、カバーガラス１０２として設けられる。ケース１０４には裏蓋１０５が設けられている。
ここで、本実施形態のカバーガラス１０２の体表面部は、前面部１０２Ａ、後面部１０２Ｂ、および側面部１０２Ｃからなる。前面部１０２Ａは、カバーガラス１０２の外側の部分に相当する。後面部１０２Ｂは、カバーガラス１０２の内側の部分に相当し、文字板１０６および指針１０７に対向する。
本実施形態においては、カバーガラス１０２の前面部１０２Ａに、前述の反射防止層１２が位置している。
【００２４】
上述の実施形態によれば以下の効果を奏する。
（１）透光性部材１０は、透明な基材１１と、反射防止層１２とを含んで構成されている。そして、窒化ケイ素からなるターゲットを用いた高周波スパッタリングにより高屈折率層１２Ａ、１２Ｃが形成される。また、同様に、酸化ケイ素からなるターゲットを用いた高周波スパッタリングにより低屈折率層１２Ｂ、１２Ｄが形成される。すなわち、ターゲットの材質がセラミックスであり、リアクティブスパッタリングではないので、ターゲット自体の変質が生じない。それ故、スパッタリングによる反射防止層１２の形成を大量の基材１１に対して連続的に行っても、反射防止層１２の物性が変化しない。従って、反射防止性に優れ、硬度が十分に高く耐傷性が確保された透光性部材１０を長時間に渡って安定して製造できる。
【００２５】
（２）反射防止層１２は、高屈折率層１２Ａ、１２Ｃと低屈折率層１２Ｂ、１２Ｄとが交互に積層されて形成されており、反射防止層１２の最表面から１５０ｎｍの深さまでの範囲における窒化ケイ素の含有量が３０ｖｏｌ％以上となっている。従って、反射防止層１２の表面が非常に硬度の高い層となる。また、反射防止層１２の最表面から１５０ｎｍの深さまでの範囲における窒化ケイ素の含有量が５０ｖｏｌ％以下であるので、反射防止効果にも優れている。また、反射防止層１２の最表面から１５０ｎｍの深さまでの範囲における窒化ケイ素の含有量が４０ｖｏｌ％以上であると、反射防止効果を維持したまま、反射防止層の耐傷性をさらに向上させることが可能となる。本実施形態では、このように硬度が高く、反射防止効果にも優れた透光性部材を長時間に渡って安定して製造できる。
【００２６】
（３）透光性部材１０の表面硬度を、２４０００Ｎ／ｍｍ２以上とすることができるので、十分な耐傷性を発揮することができ、腕時計や携帯情報機器などの大量かつ安定した生産に有効である。また、表面硬度の設定値を、３００００Ｎ／ｍｍ２以上とするとさらに優れた耐傷性を発揮することができる。
【００２７】
（４）時計１００において、透光性部材１０が、カバーガラス１０２としてケース１０４に設けられているので、透光性部材１０の反射防止機能によって情報の視認性が向上する。さらに、カバーガラス１０２が耐傷性にも優れているので、長期間にわたってカバーガラス１０２自体の透明性および反射防止性を維持できる。
【００２８】
本発明は、以上述べた実施形態には限定されず、本発明の目的を達成できる範囲で種々の改良および変形を行うことが可能である。
前記実施形態では、透光性部材１０の製造方法が時計の風防としてのカバーガラス１０２の製造に適用された例を示した。しかし、本発明の製造方法が適用される透光性部材は、風防としてのカバーガラスに限定されない。機械式時計などでは、裏蓋が設けられる位置にカバー部材としての透光性部材が設けられ、この透光性部材を介して時計体の内部の機構を視認可能なシースルーバック仕様とされていることがある。このような場合、この透光性部材の製造方法として本発明を適用できる。
なお、透光性部材の基材としては、高硬度のサファイアガラスが好適であるが、このほか、石英ガラス、ソーダガラス等の使用も検討してよい。
【００２９】
本発明の製造方法で得られた透光性部材は、時計に使用されるカバー部材に限らず、携帯電話、携帯情報機器、計測機器、デジタルカメラ、プリンタ、ダイビングコンピュータ、脈拍計等の各種機器における情報表示部のカバー部材として好適に使用できる。
なお、本発明の製造方法で得られた透光性部材は、カバー部材には限定されない。本発明に係る反射防止層は、透光性部材の基材において硬度確保、反射防止機能および耐擦傷性が要求される任意の箇所に形成される。
【実施例】
【００３０】
以下に、実施例および比較例により、本発明をより詳細に説明する。具体的には、時計用カバーガラスの基材として一般的なサファイアガラスを用い、その表面に所定の反射防止層を形成した後、各種の評価を行った。
【００３１】
〔実施例１〕
基材としてのサファイアガラスを２０枚用意して、以下のような実験を行った。
（基材の前処理）
サファイアガラスを１２０℃の熱濃硫酸に１０分間浸漬した後、純水でよく洗浄し、１２０℃に設定されたオーブンで、大気中３０分間乾燥した。次に、このサファイアガラスをスパッタ装置内部に載置した後、１２０℃に加熱しながら装置内部を１０−６Ｔｏｒｒの圧力とした。続いて、装置内にＡｒガスを導入し、０．８ｍＴｏｒｒで逆スパッタしてサファイアガラス表面をクリーニングした。
【００３２】
（反射防止層形成工程）
Ｓｉ３Ｎ４をターゲットとして高周波スパッタリングにより高屈折率層を形成し、ＳｉＯ２をターゲットとして高周波スパッタリングにより低屈折率層を形成することにより、図１に示すような反射防止層（４層）をサファイアガラス製基材の表面に形成した。そして、１枚ごとに基材を差し替えて、反射防止層が形成されたサファイアガラスを連続して２０枚製造した。スパッタリング条件は、２０枚の基材について全て同じであり、具体的には以下の通りである。
【００３３】
高屈折率層：窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）
Ａｒガス：２７０ｓｃｃｍ
窒素ガス：１００ｓｃｃｍ
ガス圧  ：０．６０Ｐａ
スパッタリングパワー：ＲＦ２．５ｋＷ
低屈折率層：酸化ケイ素（ＳｉＯ２）
Ａｒガス：１９０ｓｃｃｍ
０２ガス：５０ｓｃｃｍ
ガス圧  ：０．４Ｐａ
スパッタリングパワー：ＲＦ２．５ｋＷ
得られた反射防止層の具体的な層構成は、２０枚とも以下の通りである。
ＳｉＯ２(88ｎｍ)/ＳｉＮｘ(91ｎｍ)/ＳｉＯ２(12ｎｍ)/ＳｉＮｘ(27ｎｍ)//基材
【００３４】
〔比較例１〕
反射防止層形成工程を以下のように変更した以外は、反射防止層の具体的な層構成を含め実施例１と同様である。
（反射防止層形成工程）
シリコンターゲットを用い、直流リアクティブスパッタリングにより高屈折率層と低屈折率層を基材の表面に交互に形成した。そして、１枚ごとに基材を差し替えて、反射防止層が形成されたサファイアガラスを連続して２０枚製造した。スパッタリング条件は、２０枚の基材について全て同じであり、具体的には以下の通りである。
【００３５】
高屈折率層：窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）
Ａｒガス：２７０ｓｃｃｍ
窒素ガス：１００ｓｃｃｍ
ガス圧  ：０．６０Ｐａ
スパッタリングパワー：ＤＣ２．５ｋＷ
低屈折率層：酸化ケイ素（ＳｉＯ２）
Ａｒガス：１９０ｓｃｃｍ
０２ガス：５０ｓｃｃｍ
ガス圧  ：０．４Ｐａ
スパッタリングパワー：ＤＣ２．５ｋＷ
【００３６】
〔評価項目および評価方法〕
前記で得られた各基材のうち、１枚目と２０枚目について、以下の評価を行い、結果を表１に示した。なお、サファイアガラス単体についても参考例として示した。
（１）反射率（％）
基材表面に対して９０°の入射角で入射する標準光の反射率を求め、この反射率と、入射角９０°の場合の視感感度とを可視光領域の各波長において掛け合わせた値の積算値に基づいて算出した。
【００３７】
（２）落砂試験前後の光線透過率差（△Ｔ％）
まず、次のような落砂試験を行う。水平面に対してカバーガラスを４５°の傾斜角度で配置する。この際、反射防止層が形成された側が上面側になるようにカバーガラスを配置する。そして、水平面から１ｍの高さより、防汚層に向かって砂を落下させる。この後、カバーガラスを洗浄し、試験前におけるカバーガラスの光線透過率と、試験後におけるカバーガラスの光線透過率との差△Ｔ％に基づいて、傷の付きづらさを評価した。
ここで、使用する砂の材質は、黒色炭化ケイ素インゴットおよび緑色炭化ケイ素インゴットを粉砕、分級して製造されたカーボランダムである。この試験では、中心粒径が６００〜８５０μｍのカーボランダム＃２４を８００ｃｍ３使用した。
【００３８】
（３）表面硬度（Ｎ／ｍｍ２）
ナノインデンターを使用して、試験荷重１．２２５ｍＮにおける、基材の反射防止層側の表面硬度を測定した（ＩＳＯ１４５７７に準拠）。
【００３９】
【表１】
2010243162.tif 000003
【００４０】
〔評価結果〕
表１に示すように、実施例１では、製造した１枚目の基材と２０枚目の基材はともに、反射率、落砂試験前後の光線透過率差（△Ｔ％）、および表面硬度のいずれの値もほぼ同じである。一方、比較例１においても、製造した１枚目については、上述の各物性値はいずれも実施例１と同様である。しかしながら、比較例１では、２０枚目に製造した基板の各物性値が大きくなっている。すなわち、反射率や△Ｔ％が非常に大きくなっている。また、表面硬度の低下も著しい。
上述の結果から、比較例１のスパッタリングでは、スパッタ時間が長くなるにつれて、反射防止膜の構造が変化しているものと考えられる。それに対して、実施例１のスパッタリングでは、スパッタ時間を長くしても同一構造の反射防止膜を安定して基材上に形成できているものと思われる。
【００４１】
〔確認実験〕
セラミックスターゲットを用いてスパッタリングを行った場合（実施例１の条件）と、シリコンターゲットを用いてリアクティブスパッタリングを行った場合（比較例１の条件）とで、得られる窒化ケイ素層や酸化ケイ素層の構造や物性がどの程度異なるかについてさらに確認を行った。
具体的には、各々の条件について、サファイア基材を替えながら酸化ケイ素単層膜と窒化ケイ素単層膜を各々連続して基材表面に形成した。その後、得られた単層膜の屈折率および表面硬度（ビッカース硬度  Ｈｖ）を測定した。なお、屈折率は、波長５５０ｎｍでエリプソメータにより測定した値である。単層膜を形成すること以外のスパッタリング条件（成膜条件）は、実施例１または比較例１と同じである。
【００４２】
【表２】
2010243162.tif 000004
【００４３】
表２の結果より、酸化ケイ素単層膜については、実施例１の成膜条件でも比較例１の成膜条件でも、屈折率と硬度は各基材（１枚目〜３枚目）ともほとんど変わっていないことがわかった。すなわち、基材の１枚目から３枚目に至るまで、基材上に形成された酸化ケイ素単層膜の構造には特に変化が起こっていないものと思われる。一方、窒化ケイ素単層膜を比較例１の成膜条件で形成したものについては、基材の１枚目から３枚目にかけて屈折率と硬度の低下が著しい。それ故、基材上に形成された窒化ケイ素単層膜の構造には大きな変化が起こっているものと思われる。これに対して、窒化ケイ素単層膜を実施例１の成膜条件で形成したものについては、基材の１枚目から３枚目にかけて屈折率と硬度がほとんど変化していない。
以上の確認実験より、前記した実施例１と比較例１の結果の違いは、窒化ケイ素層の構造変化の有無によるものと思われる。
【符号の説明】
【００４４】
１０…透光性部材、１１…基材、１２…反射防止層、１２Ａ，１２Ｃ…高屈折率層、１２Ｂ，１２Ｄ…低屈折率層、１００…時計、１０２…カバーガラス、１０２Ａ…前面部、１０２Ｂ…後面部、１０２Ｃ…側面部、１０４…ケース、１０５…裏蓋、１０６…文字板、１０７…指針
【図１】
2010243162.tif 000005
【図２】
2010243162.tif 000006