(57)【要約】【課題】物体上での液体の残留を抑制できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面からの露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と、第１面の周囲の少なくとも一部において、投影光学系の光軸に対する放射方向外方を向くように配置され、第２面に第１液体を供給する第１供給口とを備え、基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、及び第２面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の第２液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光光を射出する射出面を有する光学系と、
前記射出面からの前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、
前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と、
前記第１面の周囲の少なくとも一部において、前記光学系の光軸に対する放射方向外方を向くように配置され、前記第２面に第１液体を供給する第１供給口と、を備え、
基板の露光の少なくとも一部において、前記射出面、前記第１面、及び前記第２面に前記基板の表面が対向し、
前記射出面と基板の表面との間の第２液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光する露光装置。
【請求項２】
前記第１供給口は、前記第１液体が前記第２面上を放射方向外方に流れるように、前記第１液体を供給する請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１供給口は、前記射出面と物体との間に前記第２液体が保持されている状態で、前記射出面と実質的に平行な所定面内の第１方向に前記物体が移動するときの移動条件に応じて前記第１液体を供給する請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
前記物体の移動条件に応じて、前記第１供給口からの前記第１液体の供給条件を調整する調整装置を備える請求項３記載の露光装置。
【請求項５】
前記移動条件は、前記第１方向に関する前記物体の移動速度を含み、
前記供給条件は、前記第１供給口から前記第１方向とほぼ平行に供給される前記第１液体の流速を含む請求項３又は４記載の露光装置。
【請求項６】
前記第１供給口から供給される前記第１液体の流速は、前記物体の移動速度以上である請求項５記載の露光装置。
【請求項７】
前記第２面の少なくとも一部は、前記第１面より上方に配置される請求項１〜６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項８】
前記第２面の少なくとも一部は、放射方向外方に向かって上方に傾斜する請求項１〜７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項９】
前記第１面と前記第２面とは実質的に平行である請求項１〜７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第２面は、前記第１液体に対して親液性である請求項１〜９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１１】
前記光路に前記第２液体を供給する第２供給口を備える請求項１〜１０のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１２】
前記第１面の逆方向を向き、少なくとも一部が前記射出面と対向するように前記光路の周囲に配置される第３面を有し、
前記第２供給口は、前記射出面と前記第３面との間に前記第２液体を供給する請求項１１記載の露光装置。
【請求項１３】
前記第１供給口からの前記第１液体の供給は、前記第２供給口からの前記第２液体の供給と並行して行われる請求項１１又は１２記載の露光装置。
【請求項１４】
前記第２供給口から供給された前記第２液体の少なくとも一部によって、前記射出面と物体との間の前記露光光の光路が前記第２液体で満たされるように、前記射出面、前記第１面、及び前記第２面の少なくとも一部と前記物体の表面との間に液浸空間が形成され、
前記第１供給口は、前記液浸空間に配置された状態で、前記第１液体を供給する請求項１１〜１３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第１液体と前記第２液体とは同じ種類の液体である請求項１〜１４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１６】
前記第１供給口は、前記光路を囲むように形成されたスリット開口を含む請求項１〜１５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１７】
前記第１供給口は、前記光路の周囲に所定間隔で複数配置される請求項１〜１６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１８】
前記光軸に対する放射方向に関して前記第２面の外側に配置され、前記第２面上の液体の少なくとも一部を回収する回収部を備える請求項１〜１７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１９】
前記回収部は、前記第２面上の液体の少なくとも一部を回収可能な回収口と、前記回収口に配置された多孔部材とを有する請求項１８記載の露光装置。
【請求項２０】
前記回収部は、前記第２面と交差するように配置された第４面を有する請求項１８又は１９記載の露光装置。
【請求項２１】
前記第２面の外側のエッジと前記第４面との間に第１間隙が形成され、
前記回収部は、前記第２面から前記第１間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収する請求項２０記載の露光装置。
【請求項２２】
前記第４面の少なくとも一部は、前記第２面の外側のエッジよりも下方に、前記光軸を向くように配置される請求項２０又は２１記載の露光装置。
【請求項２３】
前記回収部は、前記第２面の周縁領域の下方において上方を向くように配置された凹部を有する請求項１８〜２２のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２４】
前記回収部は、前記凹部に流入した前記液体の少なくとも一部を回収する請求項２３記載の露光装置。
【請求項２５】
請求項１〜２４のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２６】
光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面、及び前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と基板とを対向させることと、
前記第１面の周囲の少なくとも一部において、前記光学系の光軸に対する放射方向外方を向くように配置された第１供給口から前記第２面に第１液体を供給することと、
前記第１供給口と異なる第２供給口から第２液体を供給して、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第２液体で満たされるように、前記射出面、前記第１面、及び前記第２面の少なくとも一部と前記基板の表面との間に前記第２液体で液浸空間を形成することと、
前記射出面と前記基板との間の前記第２液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光することと、を含む露光方法。
【請求項２７】
光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面、及び前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と基板とを対向させることと、
前記第２面に第１液体を供給することによって、前記第１面の周囲の少なくとも一部に前記光学系の光軸に対する放射方向外方に向かって液体の流れを形成することと、
前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が第２液体で満たされるように、前記射出面、前記第１面、及び前記第２面の少なくとも一部と前記基板の表面との間に前記第２液体で液浸空間を形成することと、
前記射出面と前記基板との間の前記第２液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光することと、を含み、
前記光学系の光軸に対する放射方向外方に向かって流れる前記液体の面と前記基板表面との間には気体空間が存在する露光方法。
【請求項２８】
前記光学系の光軸に対する前記放射方向外方に向かって流れる前記液体は、前記第１液体と前記第２液体を含む請求項２７記載の露光方法。
【請求項２９】
前記第１液体と前記第２液体は、同じ種類の液体である請求項２６〜２８のいずれか一項記載の露光方法。
【請求項３０】
請求項２６〜２９のいずれか一項記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項３１】
光学系の射出面からの露光光で基板を露光する露光装置に搭載される液浸部材であって、
前記射出面からの前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、
前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と、
前記第１面の周囲の少なくとも一部において、前記光学系の光軸に対する放射方向外方を向くように配置され、前記第２面に第１液体を供給する第１供給口と、
前記露光光の光路に第２液体を供給する第２供給口と、
を備えた液浸部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光方法、液浸部材、及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、液体を介して投影光学系から射出される露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００５／２５９２３４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液浸露光装置において、液浸領域が形成されている物体（基板）を高速で移動した場合、液体が漏出したり、物体上に液体（膜、滴等）が残留したりする可能性がある。その結果、露光不良が発生したり、不良デバイスが発生したりする可能性がある。一方、液体を良好に保持するために、物体の移動速度を低くした場合、スループットが低下する可能性がある。
【０００５】
本発明の態様は、物体上での液体の残留を抑制できる露光装置、露光方法、及び液浸部材を提供することを目的とする。また本発明の態様は、スループットの低下を抑制しつつ、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面からの露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と、第１面の周囲の少なくとも一部において、投影光学系の光軸に対する放射方向外方を向くように配置され、第２面に第１液体を供給する第１供給口と、を備え、基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、及び第２面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の第２液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する露光装置が提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、第１の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面、及び第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と基板とを対向させることと、第１面の周囲の少なくとも一部において、光学系の光軸に対する放射方向外方を向くように配置された第１供給口から第２面に第１液体を供給することと、第１供給口と異なる第２供給口から第２液体を供給して、射出面と基板との間の露光光の光路が前記第２液体で満たされるように、射出面、第１面、及び第２面の少なくとも一部と基板の表面との間に第２液体で液浸空間を形成することと、射出面と基板との間の第２液体を介して射出面からの露光光で基板を露光することと、を含む露光方法が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面、及び第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と基板とを対向させることと、第２面に第１液体を供給することによって、第１面の周囲の少なくとも一部に光学系の光軸に対する放射方向外方を向かって液体の流れを形成することと、射出面と基板との間の露光光の光路が第２液体で満たされるように、射出面、第１面、及び第２面の少なくとも一部と基板の表面との間に第２液体で液浸空間を形成することと、射出面と前記基板との間の第２液体を介して射出面からの露光光で基板を露光することと、を含み、光学系の光軸に対する放射方向外方に向かって流れる液体の面と基板表面との間には気体空間が存在する露光方法が提供される。
【００１０】
本発明の第５の態様に従えば、第３又は第４の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１１】
本発明の第６の態様に従えば、光学系の射出面からの露光光で基板を露光する露光装置に搭載される液浸部材であって、射出面からの露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と、第１面の周囲の少なくとも一部において、光学系の光軸に対する放射方向外方を向くように配置され、第２面に第１液体を供給する第１供給口と、露光光の光路に第２液体を供給する第２供給口とを備えた液浸部材が提供される。
【００１２】
本発明の態様によれば、スループットの低下を抑制しつつ、露光不良の発生を抑制できる。また本発明の態様によれば、スループットの低下を抑制しつつ、不良デバイスの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第１実施形態に係る露光装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】第１実施形態に係る露光装置の一部を拡大した図である。
【図３】第１実施形態に係る液浸部材を上方から見た図である。
【図４】第１実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。
【図５】第１実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。
【図６】比較例に係る液浸部材を示す模式図である。
【図７】第１実施形態に係る液浸部材を示す模式図である。
【図８】第２実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。
【図９】第２実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。
【図１０】第３実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。
【図１１】第３実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。
【図１２】第３実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。
【図１３】第３実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。
【図１４】第４実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。
【図１５】第５実施形態に係る液浸部材を示す側面図である。
【図１６】第５実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。
【図１７】マイクロデバイスの製造工程の一例を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１５】
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体を介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。なお、後述するように、本実施形態においては、液体として、第１液体ＬＱ１と第２液体ＬＱ２とが使用され、露光光ＥＬは、第２液体ＬＱ２を介して基板Ｐに照射される。
【００１６】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、マスクステージ１及び基板ステージ２の位置を光学的に計測する干渉計システム３と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が第２液体ＬＱ２で満たされるように液浸空間ＬＳを形成可能な液浸部材４と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置５とを備えている。
【００１７】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
【００１８】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された多層膜とを含む。多層膜は、少なくとも感光膜を含む複数の膜が積層された膜である。感光膜は、感光材で形成された膜である。また、多層膜が、例えば反射防止膜、及び感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
【００１９】
照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を、均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。
【００２０】
マスクステージ１は、マスクＭをリリース可能に保持するマスク保持部６を有し、マスクＭを保持した状態で、第１定盤７のガイド面８上を移動可能である。マスクステージ１は、駆動システム９の作動により、照明領域ＩＲに対して、マスクＭを保持して移動可能である。駆動システム９は、マスクステージ１に配置された可動子９Ａと、第１定盤７に配置された固定子９Ｂとを有する平面モータを含む。マスクステージ１を移動可能な平面モータは、例えば米国特許第６４５２２９２号明細書に開示されている。マスクステージ１は、駆動システム９の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００２１】
投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。投影光学系ＰＬの複数の光学素子は、保持部材（鏡筒）１０に保持されている。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸはＺ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
【００２２】
投影光学系ＰＬは、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する射出面１１を有する。投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子１２が射出面１１を有する。投影領域ＰＲは、射出面１１から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１１は、−Ｚ方向（下方）を向いており、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面１１は、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。
【００２３】
本実施形態において、投影光学系ＰＬの像面近傍の光軸ＡＸ、すなわち、終端光学素子１２の光軸ＡＸは、Ｚ軸とほぼ平行である。なお、終端光学素子１２と隣り合う光学素子で規定される光軸を終端光学素子１２の光軸とみなしてもよい。また、本実施形態において、投影光学系ＰＬの像面は、Ｘ軸とＹ軸とを含むＸＹ平面とほぼ平行である。また、本実施形態において、像面は、ほぼ水平である。ただし、像面はＸＹ平面と平行でなくてもよいし、曲面であってもよい。
【００２４】
基板ステージ２は、基板Ｐをリリース可能に保持する基板保持部１３を有し、第２定盤１４のガイド面１５上を移動可能である。基板ステージ２は、駆動システム１６の作動により、投影領域ＰＲに対して、基板Ｐを保持して移動可能である。駆動システム１６は、基板ステージ２に配置された可動子１６Ａと、第２定盤１４に配置された固定子１６Ｂとを有する平面モータを含む。基板ステージ２を移動可能な平面モータは、例えば米国特許第６４５２２９２号明細書に開示されている。基板ステージ２は、駆動システム１６の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００２５】
基板ステージ２は、基板保持部１３の周囲に配置され、射出面１１と対向可能な上面１７を有する。本実施形態において、基板ステージ２は、米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号明細書等に開示されているような、基板保持部１３の周囲の少なくとも一部に配置され、プレート部材Ｔの下面をリリース可能に保持するプレート部材保持部１８を有する。本実施形態において、基板ステージ２の上面１７は、プレート部材Ｔの上面を含む。上面１７は、平坦である。
【００２６】
本実施形態において、基板保持部１３は、基板Ｐの表面とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持可能である。プレート部材保持部１８は、プレート部材Ｔの上面１７とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、プレート部材Ｔを保持可能である。
【００２７】
干渉計システム３は、ＸＹ平面内におけるマスクステージ１（マスクＭ）の位置を光学的に計測可能な第１干渉計ユニット３Ａと、ＸＹ平面内における基板ステージ２（基板Ｐ）の位置を光学的に計測可能な第２干渉計ユニット３Ｂとを有する。基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置５は、干渉計システム３の計測結果に基づいて、駆動システム９，１６を作動し、マスクステージ１（マスクＭ）及び基板ステージ２（基板Ｐ）の位置制御を実行する。
【００２８】
液浸部材４は、露光光ＥＬの光路の周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、液浸部材４の少なくとも一部は、終端光学素子１２の周囲の少なくとも一部に配置される。液浸部材４は、射出面１１と対向する位置に配置された物体の表面と対向可能な下面２０を有する。液浸部材４は、射出面１１と、射出面１１と対向する位置に配置された物体との間の露光光ＥＬの光路が第２液体ＬＱ２で満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。第２液体ＬＱ２が下面２０の少なくとも一部と物体の表面（上面）との間に保持されて、液浸空間ＬＳが形成される。
【００２９】
液浸空間ＬＳは、第２液体ＬＱ２で満たされた部分（空間、領域）である。本実施形態において、物体は、基板ステージ２（プレート部材Ｔ）、及び基板ステージ２に保持された基板Ｐの少なくとも一方を含む。基板Ｐの露光中、液浸部材４は、終端光学素子１２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路が第２液体ＬＱ２で満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。
【００３０】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。基板Ｐの露光時、制御装置５は、マスクステージ１及び基板ステージ２を制御して、マスクＭ及び基板Ｐを、光軸ＡＸ（露光光ＥＬの光路）と交差するＸＹ平面内の所定の走査方向に移動する。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置５は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの第２液体ＬＱ２とを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐは露光光ＥＬで露光される。
【００３１】
次に、図２〜図５を参照して、液浸部材４について説明する。図２は、液浸部材４の近傍を示す側断面図、図３は、液浸部材４を上方から見た図、図４は、液浸部材４を下方から見た図、図５は、図２の一部を拡大した図である。
【００３２】
本実施形態において、液浸部材４は、環状の部材である。液浸部材４の少なくとも一部は、露光光ＥＬの一部の光路及び終端光学素子１２の周囲に配置されている。図３及び図４に示すように、本実施形態において、ＸＹ平面内における液浸部材４の外形は、円形である。なお、液浸部材４の外形が、他の形状（例えば、矩形）でもよい。
【００３３】
本実施形態において、液浸部材４は、少なくとも一部が射出面１１と対向するように配置されたプレート部４１と、少なくとも一部が終端光学素子１２の周囲に配置される本体部４２とを有する。
【００３４】
液浸部材４は、投影光学系ＰＬの射出面１１から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置された第１面２１と、第１面２１の周囲の少なくとも一部に配置された第２面２２と、第１面２１の周囲の少なくとも一部において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側を向くように(放射方向外方を向くように)配置され、第２面２２に第１液体ＬＱ１を供給する第１供給口５１とを備えている。本実施形態において、液浸部材４の下面２０は、第１面２１及び第２面２２を含む。
【００３５】
また、本実施形態において、液浸部材４は、射出面１１から射出される露光光ＥＬの光路Ｋに第２液体ＬＱ２を供給する第２供給口５２を備えている。
【００３６】
本実施形態において、第１液体ＬＱ１と第２液体ＬＱ２とは、同じ種類の液体である。本実施形態においては、第１液体ＬＱ１及び第２液体ＬＱ２として、水（純水）を用いる。以下の説明において、第１液体ＬＱ１及び第２液体ＬＱ２を総称して適宜、液体ＬＱ、と称する。
【００３７】
本実施形態において、第１面２１は、射出面１１から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置されている。第２面２２は、第１面２１の周囲に配置されている。本実施形態において、ＸＹ平面内における第１面２１及び第２面２２の外形は、円形である。また、ＸＹ平面内における第２面２２の内側のエッジ２２Ｅ１も、円形である。本実施形態において、第１面２１の少なくとも一部は、プレート部４１に配置され、第２面２２は、本体部４２に配置されている。
【００３８】
また、液浸部材４は、第１面２１の逆方向を向き、少なくとも一部が射出面１１と対向するように露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される第３面２３を有する。第３面２３は、プレート部４１に配置されている。
【００３９】
液浸部材４のプレート部４１は、射出面１１から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口４３を有する。第１面２１及び第３面２３は、開口４３の周囲に配置されている。基板Ｐの露光中、射出面１１から射出された露光光ＥＬは、開口４３を介して、基板Ｐの表面に照射される。図３及び図４に示すように、本実施形態において、開口４３は、基板Ｐの走査方向（Ｙ軸方向）と交差するＸ軸方向に長い。
【００４０】
射出面１１、第１面２１、及び第２面２２は、液浸部材４の下方に配置された物体の表面（上面）と対向可能である。基板Ｐの露光の少なくとも一部において、射出面１１、第１面２１、及び第２面２２は、基板Ｐの表面と対向する。なお、第１面２１と基板Ｐの表面とが対向している状態は、第１面２１と基板Ｐの表面との間に第２液体ＬＱ２が存在している状態を含む。また、第２面２２と基板Ｐとが対向している状態は、第２面２２と基板Ｐとの間に液体ＬＱの流れ（後述の液体面ＬＱＳ）が形成されている状態を含む。
【００４１】
第１面２１は、間隙Ｇ１を介して、物体の表面（基板Ｐの表面、プレート部材Ｔの上面等）と対向可能である。第２面２２は、間隙Ｇ２を介して、物体の表面と対向可能である。第３面２３は、間隙Ｇ３を介して、射出面１１と対向する。本実施形態において、第２面２２は、第１面２１より上方に配置される。本実施形態において、間隙Ｇ２は、間隙Ｇ１より大きい。
【００４２】
本実施形態において、第１面２１は、ＸＹ平面とほぼ平行である。第２面２２は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。すなわち、第２面２２は、第１面２１に対して傾斜している。また、第３面２３は、第１面２１とほぼ平行である。本実施形態において、第３面２３と射出面１１とは、ほぼ平行である。
【００４３】
液浸部材４の本体部４２は、終端光学素子１２の側面１２Ｆの少なくとも一部と間隙Ｇ４を介して対向する内側面４４と、保持部材１０の下面１０Ｕと間隙Ｇ５を介して対向する上面４５とを有する。側面１２Ｆは、射出面１１と異なる面であり、露光光ＥＬが通過しない面である。側面１２Ｆは、射出面１１の周囲に配置されている。なお、内側面４４の少なくとも一部が保持部材１０の一部と対向していてもよい。あるいは、上面４５の少なくとも一部が終端光学素子１２の一部と対向していてもよい。
【００４４】
第１供給口５１は、第１液体ＬＱ１が第２面２２上を光軸ＡＸに対する放射方向において外側に流れるように、第１液体ＬＱ１を供給する。第１供給口５１は、第１液体ＬＱ１が第２面２２と接触しながら第２面２２に沿って光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に流れるように、第１液体ＬＱ１を供給する。
【００４５】
本実施形態において、第１供給口５１は、第１面２１の外形を規定する外側エッジ２１Ｅと第２面２２の内側のエッジ２２Ｅ１との間に配置されている。すなわち、本実施形態において、第１供給口５１は、第１面２１より上方に配置され、第２面２２より下方に配置されている。
【００４６】
本実施形態において、第１供給口５１は、露光光ＥＬの光路を囲むように形成されたスリット開口である。第１供給口５１は、第２面２２の内側のエッジ２２Ｅ１に沿うように配置されている。Ｚ軸方向に関する第１供給口５１のサイズ（スリット幅）ＧＳは、十分に小さい。第１供給口５１のサイズＧＳは、例えば基板Ｐの露光中における間隙Ｇ１より小さい。
【００４７】
第２供給口５２は、液浸部材４と終端光学素子１２との間隙に第２液体ＬＱ２を供給する。本実施形態においては、第２供給口５２は、射出面１１から射出される露光光ＥＬの光路Ｋに面するように、液浸部材４の所定部位に配置されている。本実施形態において、第２供給口５２は、射出面１１と第３面２３との間に第２液体ＬＱ２を供給する。本実施形態において、第２供給口５２は、内側面４４に配置されている。図３に示すように、本実施形態においては、第２供給口５２は、開口４３（露光光ＥＬの光路）に対して＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに配置されている。なお、第２供給口５２が、開口４３（露光光ＥＬの光路）に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置されてもよい。また、第２供給口５２の数は、２つに限られない。第２供給口５２は、露光光ＥＬの光路の周囲において、３箇所以上の位置に配置されてもよい。
【００４８】
第２供給口５２からの第２液体ＬＱ２は、射出面１１から射出される露光光ＥＬの光路に供給される。これにより、露光光ＥＬの光路が第２液体ＬＱ２で満たされる。また、基板Ｐの露光の少なくとも一部において、射出面１１、第１面２１、及び第２面２２に基板Ｐの表面が対向する。基板Ｐの露光の少なくとも一部において、第２供給口５２から射出面１１と第３面２３との間に供給された第２液体ＬＱ２の少なくとも一部は、開口４３を介して、第１面２１と基板Ｐの表面との間に供給され、射出面１１と基板Ｐの表面との間の露光光ＥＬの光路が第２液体ＬＱ２で満たされる。また、第２液体ＬＱ２の少なくとも一部は、第１面２１と基板Ｐの表面との間に保持される。基板Ｐは、射出面１１と基板Ｐの表面との間の第２液体ＬＱ２を介して、射出面１１からの露光光ＥＬで露光される。
【００４９】
本実施形態において、第１面２１と物体との間に保持された第２液体ＬＱ２によって、液浸空間ＬＳの一部が形成される。本実施形態においては、基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているときに、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域が第２液体ＬＱ２で覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。
【００５０】
以下、簡単のため、射出面１１、第１面２１、及び第２面２２と対向する位置に基板Ｐが配置され、液浸部材４と基板Ｐとの間に第２液体ＬＱ２が保持されて液浸空間ＬＳが形成される場合を例にして説明する。なお、上述のように、射出面１１及び液浸部材４と他の部材（基板ステージ２のプレート部材Ｔ等）との間に液浸空間ＬＳを形成することができる。
【００５１】
本実施形態においては、第２供給口５２から供給された第２液体ＬＱ２の少なくとも一部によって、射出面１１と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路が第２液体ＬＱ２で満たされるように、射出面１１、第１面２１、及び第２面２２の少なくとも一部と基板Ｐの表面との間に液浸空間ＬＳが形成される。
【００５２】
図２、図５においては、液浸空間ＬＳの第２液体ＬＱ２の気液界面（メニスカス、エッジ）ＬＧは、第２面２２と基板Ｐの表面との間に形成されている。すなわち、第１供給口５１が、第２供給口５２から供給された第２液体ＬＱ２によって形成される液浸空間ＬＳの第２液体ＬＱ２と接触するように、液浸空間ＬＳが形成されている。図２，図５においては、第１供給口５１が液浸空間ＬＳの第２液体ＬＱ２に浸かった状態で、第１供給口５１から第２面２２に第１液体ＬＱ１が供給されている。
【００５３】
第２面２２は、第１液体ＬＱ１に対して親液性であることが望ましい。本実施形態において、第１液体ＬＱ１に対する第２面２２の接触角は、９０度以下である。本実施形態において、第２面２２は、チタン製であり、第１液体ＬＱ１に対して親液性（親水性）である。本実施形態においては、第２面２２は、第２面２２と対向する物体（例えば基板Ｐ）の表面よりも親液性であることが望ましい。なお、液浸部材４の下面２０の少なくとも一部に、第１液体ＬＱ１に対して親液性の材料で形成された膜を形成して、第２面２２を第１液体ＬＱ１に対して親液性にしてもよい。また、第２面２２は第１液体ＬＱ１に対して親液性でなくてもよい。
【００５４】
本実施形態において、第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１の供給は、第２供給口５２からの第２液体ＬＱ２の供給と並行して行われる。すなわち、第２液体ＬＱ２の液浸空間ＬＳが形成された状態で第１供給口５１から第２面２２に第１液体ＬＱ１が供給され、その第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１は、第２面２２上を光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって流れる。また、液浸空間ＬＳの第２液体ＬＱ２の少なくとも一部は、第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１とともに、第２面２２上を放射方向に関して外側に流れる。これにより、光軸ＡＸに対する放射方向に関して液浸空間ＬＳの界面ＬＧの外側では、液体ＬＱ（第１液体ＬＱ１及び第２液体ＬＱ２の少なくとも一方）が、基板Ｐ（物体）の表面と接触することなしに、第２面２２上を光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって流れる。すなわち、光軸ＡＸに対する放射方向に関して液浸空間ＬＳの界面ＬＧの外側には、第２面２２上を流れる液体ＬＱの表面（液体面ＬＱＳ）と、それに対向する基板Ｐ（物体）の表面との間に気体空間が存在する。
【００５５】
また、液浸部材４は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して第２面２２の外側に配置され、第２面２２上の液体ＬＱ（第１液体ＬＱ１及び第２液体ＬＱ２の少なくとも一方）の少なくとも一部を回収する回収部６０を備えている。回収部６０は、第１供給口５１から供給され、第２面２２上を流れた第１液体ＬＱ１、及び第１液体ＬＱ１とともに第２面２２上を流れた第２液体ＬＱ２を回収可能である。
【００５６】
本実施形態において、回収部６０は、第２面２２と交差するように配置された第４面２４を有する。第２面２２の外側のエッジ２２Ｅ２と第４面２４との間に間隙Ｇ６が形成されている。回収部６０は、第２面２２から間隙Ｇ６に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。
【００５７】
また、本実施形態においては、第４面２４の少なくとも一部は、第２面２２の外側のエッジ２２Ｅ２よりも下方（−Ｚ側）に、光軸ＡＸを向くように配置されている。本実施形態において、第４面２４は、光軸ＡＸとほぼ平行に配置されている。
【００５８】
また、本実施形態においては、回収部６０は、第４面２４の下端に接続され、第２面２２の周縁領域と間隙Ｇ７を介して対向するように配置された第５面２５を有する。第５面２５は、第２面２２の周縁領域の下方において上方（＋Ｚ方向）を向くように配置されている。
【００５９】
本実施形態においては、第４面２４は、第２面２２の周囲に環状に配置されている。また、ＸＹ平面内において、第５面２５は、環状である。
【００６０】
本実施形態においては、第２面２２の外側のエッジ２２Ｅ２と第４面２４との間の間隙Ｇ６が、第２面２２上の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な回収部６０の回収口６１を構成する。本実施形態においては、ＸＹ平面内における回収口６１の形状は、環状である。なお、ＸＹ平面内において、回収口６１が、露光光ＥＬの光路の周囲に所定間隔で複数配置されていてもよい。なお、本実施形態において、回収口６１近傍から基板Ｐ（物体）の表面への液体ＬＱの落下を防止する第５面２５が設けられているが、第５面２５を省いてもよい。
【００６１】
図２に示すように、第１供給口５１は、供給流路７０を介して、第１液体供給装置７１と接続されている。供給流路７０は、液浸部材４の内部流路７２、及びその内部流路７２と第１液体供給装置７１とを接続する供給管の流路７３を含む。第１液体供給装置７１は、クリーンで温度調整された第１液体ＬＱ１を第１供給口５１に供給することができる。
【００６２】
本実施形態において、内部流路７２の流入口７４は、液浸部材４の上面４５に配置されている。第１液体供給装置７１からの第１液体ＬＱ１は、流入口７４を介して内部流路７２に流入する。内部流路７２は、流入口７４から放射方向に関して内側に（放射方向内方に）延びる第１部分７２Ａと、第１部分７２Ａと接続され、少なくとも一部が屈曲する第２部分７２Ｂと、第２部分７２Ｂと第１供給口５１とを結ぶように、第２部分７２Ｂの下端から放射方向に関して外側に延びる第３部分７２Ｃとを有する。本実施形態において、第１部分７２Ａ，第２部分７２Ｂ，及び第３部分７２Ｃを含む内部流路７２は、光軸ＡＸを囲むように形成されている。
【００６３】
第３部分７２Ｃは、第１面２１の逆方向（＋Ｚ方向）を向く第６面２６と、第６面２６と間隙Ｇ８を介して対向する第７面２７との間に形成されている。本実施形態において、第６面２６と第７面２７とは、ＸＹ平面とほぼ平行であり、間隙Ｇ８と、サイズＧＳとは、ほぼ等しい。
【００６４】
なお、第６面２６と第７面２７とが、第２面２２に合わせて、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。例えば、第６面２６と第７面２７とが光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜してもよい。また、第６面２６と第７面２７とが平行でなくてもよい。例えば、サイズＧＳが、間隙Ｇ８より小さくなるように、第６面２６及び第７面２７の一方に対して他方の角度が定められていてもよい。
【００６５】
流入口７４より内部流路７２に流入した第１液体ＬＱ１は、第１部分７２Ａにおいて、光軸ＡＸを囲むように拡がって流れ、第２部分７２Ｂを介して、第３部分７２Ｃに流入する。第３部分７２Ｃに流入した第１液体ＬＱ１は、その第３部分７２Ｃを放射方向に関して外側に向かって流れ、第１供給口５１に供給される。第１供給口５１は、第１液体ＬＱ１が第２面２２上を放射方向に関して外側に流れるように、第３部分７２Ｃからの第１液体ＬＱ１を第２面２２に供給する。第１供給口５１は、第２面２２のほぼ全部の領域が第１液体ＬＱ１で濡れるように、第２面２２に第１液体ＬＱ１を供給する。
【００６６】
また、図２に示すように、第２供給口５２は、供給流路８０を介して、第２液体供給装置８１と接続されている。供給流路８０は、液浸部材４の内部流路８２、及びその内部流路８２と第２液体供給装置８１とを接続する供給管の流路８３を含む。第２液体供給装置８１は、クリーンで温度調整された第２液体ＬＱ２を第２供給口５２に供給することができる。
【００６７】
また、図２に示すように、回収口６１は、回収流路９０を介して、液体回収装置９１と接続されている。本実施形態において、回収流路９０は、液浸部材４の内部流路９２、及びその内部流路９２と液体回収装置９１とを接続する回収管の流路９３を含む。内部流路９２の少なくとも一部は、第４面２４と、第４面２４と間隙Ｇ９を介して対向する第８面２８との間に形成されている。液体回収装置９１は、真空システム（真空源と回収口６１との接続状態を制御するバルブなど）を含み、回収口６１から液体ＬＱを吸引して回収することができる。
【００６８】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。
【００６９】
まず、制御装置５は、第１面２１及び第２面２２と基板Ｐの表面（あるいは基板ステージ２の上面１７）とを対向させる。第１面２１と基板Ｐの表面とは、間隙Ｇ１を介して対向し、第２面２２と基板Ｐの表面とは間隙Ｇ２を介して対向する。
【００７０】
制御装置５は、第１面２１及び第２面２２と基板Ｐの表面とを対向させた状態で、第２液体供給装置８１から第２液体ＬＱ２を送出する。
【００７１】
第２液体供給装置８１から送出された第２液体ＬＱ２は、第２供給口５２より、射出面１１と第３面２３との間に供給され、射出面１１から射出される露光光ＥＬの光路に供給される。これにより、露光光ＥＬの光路は、液体ＬＱで満たされる。
【００７２】
また、第２供給口５２から供給された第２液体ＬＱ２の少なくとも一部は、開口４３を介して、第１面２１と基板Ｐの表面との間に供給され、第１面２１と基板Ｐの表面との間に保持される。また、第２液体ＬＱ２の少なくとも一部は、第２面２２と基板Ｐの表面との間に保持される。これにより、第２供給口５２から供給された第２液体ＬＱ２によって、射出面１１と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路が第２液体ＬＱ２で満たされるように、射出面１１、第１面２１、及び第２面２２の少なくとも一部と基板Ｐの表面との間に液浸空間ＬＳが形成される。
【００７３】
また、制御装置５は、第１液体供給装置７１から第１液体ＬＱ１を送出する。また、制御装置５は、液体回収装置９１を作動する。第１液体供給装置７１から送出された第１液体ＬＱ１は、供給流路７０を介して、第１供給口５１に供給される。第１供給口５１は、第２面２２に第１液体ＬＱ１を供給する。
【００７４】
制御装置５は、第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１の供給と、第２供給口５２からの第２液体ＬＱ２の供給とが並行して行われるように、第１液体供給装置７１及び第２液体供給装置８１を制御する。すなわち、制御装置５は、第２供給口５２からの第２液体ＬＱ２で液浸空間ＬＳが形成された状態で第１供給口５１から第１液体ＬＱ１を供給する。
【００７５】
第１供給口５１から第１液体ＬＱ１が供給されると、その第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１が第２面２２上を放射方向に関して外側に流れるとともに、液浸空間ＬＳの第２液体ＬＱ２の少なくとも一部が第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１とともに第２面２２上を放射方向に関して外側に向かって流れる。制御装置５は、第２面２２上を流れる液体ＬＱの表面（液体面ＬＱＳ）と基板Ｐ（物体）の表面との間に気体空間が形成されるように第１供給口５１から第１液体ＬＱ１を供給する。これにより、光軸ＡＸの放射方向に関して第１面２１の外側（液浸空間ＬＳの界面ＬＧの外側）には、光軸ＡＸの放射方向において外側に向かって流れる液体ＬＱの液体面ＬＱＳが形成される。第２面２２上を放射方向に関して外側に流れた液体ＬＱ（第１，第２液体ＬＱ１，ＬＱ２）は、回収部６０に回収される。第２面２２上を流れた液体ＬＱの少なくとも一部は回収口６１より回収される。
【００７６】
制御装置５は、第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１の供給と、第２供給口５２からの第２液体ＬＱ２の供給と、回収部６０（回収口６１）による液体ＬＱの回収とを並行して行って、第２面２２上に液体ＬＱを流しながら、射出面１１と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路が第２液体ＬＱ２で満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。
【００７７】
制御装置５は、第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１の供給と並行して、第２供給口５２からの第２液体ＬＱ２の供給を実行し、第２液体ＬＱ２で基板Ｐの表面の一部が局所的に覆われるように液浸空間ＬＳを形成した状態で、基板Ｐの露光を開始する。
【００７８】
制御装置５は、照明系ＩＬより露光光ＥＬを射出して、マスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬの射出面１１から射出される。制御装置５は、射出面１１と基板Ｐとの間の第２液体ＬＱ２を介して、射出面１１からの露光光ＥＬで基板Ｐを露光する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐが露光光ＥＬで露光される。基板Ｐの露光中にも、第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１の供給と、第２供給口５２からの第２液体ＬＱ２の供給とが並行して行われる。
【００７９】
上述のように、本実施形態の露光装置ＥＸは、走査型露光装置であり、基板Ｐの露光の少なくとも一部において、射出面１１と基板Ｐとの間に第２液体ＬＱ２が保持されている状態で（液浸空間ＬＳが形成されている状態で）、基板ＰがＸＹ平面内の所定方向に移動される。例えば、基板Ｐに対する露光光ＥＬの照射中（スキャン露光中）においては、基板Ｐは、終端光学素子１２及び液浸部材４に対してＹ軸方向に移動する。また、基板Ｐ上の複数のショット領域を順次露光する場合において、第１ショット領域の露光後、次の第２ショット領域を露光する場合、基板Ｐは、終端光学素子１２及び液浸部材４に対して、例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内におけるＸ軸に対する傾斜方向に移動（ステップ移動）する。また、スキャン露光中の移動、及びステップ移動に限られず、基板Ｐは、射出面１１との間に第２液体ＬＱ２を保持した状態で、様々な移動条件で移動する可能性がある。
【００８０】
基板Ｐの移動条件は、ＸＹ平面内における所定方向（例えば−Ｙ方向）に関する移動速度、加速度（減速度）、及び移動距離（ＸＹ平面内における第１位置から第２位置へ移動するときの移動距離）の少なくとも一つを含む。
【００８１】
本実施形態においては、第１供給口５１から第１液体ＬＱ１が、光軸ＡＸに対する放射方向において外側に向かって第２面２２上を流れているので、例えば、基板Ｐを高速、あるいは高加速度で移動した場合にも、液浸部材４と基板Ｐとの間の空間から第２液体ＬＱ２が漏出したり、基板Ｐ上に第２液体ＬＱ２（膜、滴等）が残留したりすることを抑制できる。
【００８２】
図６は、比較例に係る液浸部材４００を使用した場合の液浸空間Ｌｓの挙動を示す模式図である。液浸部材４００には、第１供給口（５１）が設けられてない。終端光学素子１２及び液浸部材４００と基板ｐの表面との間に液体Ｌｑが保持された状態で、基板Ｐが−Ｙ方向に高速で移動した場合、液浸空間Ｌｓを形成する液体Ｌｑの少なくとも一部が、基板ｐ上において膜となる可能性が高くなる。すなわち、図６に示す比較例においては、基板ｐの−Ｙ方向への移動により、光軸ＡＸに対する放射方向に関する、液体Ｌｑの気液界面Ｌｇの上端（気液界面Ｌｇと液浸部材４００の下面４２０との交点）の位置ＰＪ１と気液界面Ｌｇの下端（気液界面Ｌｇと基板ｐの表面との交点）の位置ＰＪ２との距離（ずれ量）ＬＪが大きくなる可能性がある。その結果、液体Ｌｑが、液浸部材４００と基板Ｐの表面との間の空間から漏出したり、膜、滴等となって基板ｐ上に残留したりする可能性が高くなる。
【００８３】
図７は、本実施形態に係る液浸部材４を使用した場合の液浸空間ＬＳの挙動を説明するための模式図である。光軸ＡＸに対する放射方向において外側を向いている第１供給口５１が設けられており、光軸ＡＸに対する放射方向において外側に向かって第２面２２上を液体ＬＱが流れているので、液浸空間ＬＳを形成する第２液体ＬＱ２の少なくとも一部が、液浸部材４と基板Ｐの表面との間の空間から漏出したり、膜、滴等となって基板Ｐ上に残留したりすることを抑制される。すなわち、光軸ＡＸに対する放射方向において界面ＬＧの外側には、光軸ＡＸに対する放射方向において外側に向かって流れる液体ＬＱの液体面ＬＱＳが形成されており、その液体面ＬＱＳと対向する基板Ｐの表面に第２液体ＬＱ２が残留することが抑制できる。例えば、基板Ｐが−Ｙ方向へ移動することによって、第２液体ＬＱ２の気液界面ＬＧの下端の位置ＰＪ２が−Ｙ方向へ移動しても、第２面２２上を第１液体ＬＱ１が−Ｙ方向に流れており、第２面２２上を流れる液体ＬＱ上に形成されている気液界面ＬＧの上端の位置ＰＪ１も−Ｙ方向にスムースに変位するので、第２液体ＬＱ２の気液界面ＬＧの上端の位置ＰＪ１と気液界面ＬＧの下端の位置ＰＪ２との距離（ずれ量）ＬＪが大きくなることを抑制することができる。したがって、基板Ｐが移動した場合でも、基板Ｐ上において第２液体ＬＱ２が薄膜化することが抑制される。したがって、第２液体ＬＱ２の漏出、残留等の発生を抑制することができる。
【００８４】
なお、本実施形態においては、第２面２２に形成される液体ＬＱの流れの速度は、その液体ＬＱの流れ（液体面ＬＱＳ）と対向する基板Ｐ（物体）の移動速度よりも大きい。ただし、基板Ｐ（物体）の移動速度と同等、もしくは基板Ｐ（物体）の移動速度より小さくてもよい。
【００８５】
なお、基板Ｐが移動するときの移動条件に応じて、第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１の供給条件を調整してもよい。
【００８６】
例えば、ＸＹ平面内の所定方向（例えばＹ軸方向）に関する基板Ｐの移動速度に応じて、第１供給口５１から供給される第１液体ＬＱ１の流速を調整する。
【００８７】
例えば、基板Ｐが−Ｙ方向に高速で移動する場合、第１供給口５１から−Ｙ方向に供給する第１液体ＬＱ１の流速を高くする。例えば、第１液体供給装置７１から送出される単位時間当たりの第１液体ＬＱ１の供給量を調整することによって、第１液体ＬＱ１の流速を調整することができる。基板Ｐの移動速度に応じて、第１液体ＬＱ１の流速が調整されることによって、位置ＰＪ１と位置ＰＪ２とのずれ量ＬＪを小さくすることができる。
【００８８】
また、ＸＹ平面内の所定方向（例えばＹ軸方向）に関する基板Ｐの加速度に応じて、第１供給口５１からＹ軸方向とほぼ平行に供給される第１液体ＬＱ１の流速を調整することができる。例えば、基板Ｐが−Ｙ方向に高加速度で移動する場合、第１供給口５１から−Ｙ方向に供給する第１液体ＬＱ１の流速を高くする。こうすることによっても、ずれ量ＬＪを小さくすることができる。
【００８９】
また、ＸＹ平面内の所定方向（例えばＹ軸方向）に関する基板Ｐの直線移動距離に応じて、第１供給口５１からＹ軸方向とほぼ平行に供給される第１液体ＬＱ１の流速を調整することができる。
【００９０】
このように、基板Ｐの移動条件に応じて、基板Ｐの移動方向と同方向（−Ｙ方向）への第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１の供給条件を調整することによって、位置ＰＪ１と位置ＰＪ２とのずれ量ＬＪを小さくすることができ、第２液体ＬＱ２の漏出、残留等の発生を抑制することができる。
【００９１】
なお、上述の説明では、基板Ｐ上に第２液体ＬＱ２の液浸空間ＬＳが形成されている場合について説明したが、基板ステージ２（プレート部材Ｔ）上、あるいは基板ステージ２（プレート部材Ｔ）と基板Ｐとに跨るように第２液体ＬＱ２の液浸空間ＬＳが形成されている場合も同様である。
【００９２】
以上説明したように、本実施形態によれば、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側を向くように配置され、液浸部材４の第２面２２に第１液体ＬＱ１を供給する第１供給口５１を設けたので、第２液体ＬＱ２が漏出したり、第２面２２と対向する物体（基板Ｐ等）の表面に第２液体ＬＱ２が残留したりすることを抑制できる。また、本実施形態によれば、液浸部材４の第２面２２に光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって流れる液体ＬＱの液体面ＬＱＳが形成されるので、第２液体ＬＱ２が漏出したり、第２面２２と対向する物体（基板Ｐ等）の表面に第２液体ＬＱ２が残留したりすることを抑制できる。したがって、スループットの低下を抑制しつつ、露光不良の発生を抑制できる。
【００９３】
また、本実施形態によれば、回収部６０が第４面２４を有するので、第２面２２からの液体ＬＱの漏出を抑制しつつ、その第２面２２からの液体ＬＱを回収口６１から良好に回収することができる。また、第５面２５が設けられているので、第２面２２の周縁領域の液体ＬＱが基板Ｐ上等に落下することを抑制することができる。なお、回収口６１にメッシュ等の多孔部材を配置してもよい。
【００９４】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【００９５】
第２実施形態においては、第２面２２が上方に向かって傾斜していない。
【００９６】
図８は、第２実施形態に係る液浸部材４Ｂの一例を示す図である。図８において、液浸部材４Ｂは、第１面２１と第２面２２Ｂとを有する。本実施形態において、第１面２１と第２面２２Ｂとはほぼ平行である。第２面２２Ｂは、ＸＹ平面とほぼ平行であり、第１液体ＬＱ１に対して親液性である。本実施形態においても、第１供給口５１から供給される第１液体ＬＱ１を用いて、液浸空間ＬＳの第２液体ＬＱ２の漏出、残留等の発生を抑制することができる。
【００９７】
また、図９に示す液浸部材４Ｃのように、第２面２２Ｃが、光軸ＡＸの放射方向に関して外側に向かって下方に傾斜していてもよい。
【００９８】
また、図８及び図９の例においては、第５面（２５Ｂ，２５Ｃ）が第２面（２２Ｂ，２２Ｃ）の周縁と近接しているので、第５面と第２面との間に回収口（６１Ｂ，６１Ｃ）が形成される。すなわち、第２面（２２Ｂ、２２Ｃ）からの液体ＬＱを回収する回収口（６１Ｂ，６１Ｃ）は光軸ＡＸに面していてもよい。すなわち、第２面（２２Ｂ，２２Ｃ）からの液体ＬＱを回収する回収口は、第１実施形態のように下方（−Ｚ方向）を向いていなくてもよい。
【００９９】
＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１００】
図１０は、第３実施形態に係る液浸部材４Ｄの一例を示す図である。図１０において、液浸部材４Ｄは、第２面２２上の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収部６０Ｄを備えている。本実施形態において、回収部６０Ｄは、第２面２２の周縁領域の下方において、上方を向くように配置された凹部６２を有する。凹部６２は、第４面２４の下端と、第５面２５と、第４面２４と対向するように配置された第９面２９とで規定されている。ＸＹ平面内において、凹部６２は、環状である。
【０１０１】
凹部６２が設けられているので、第２面２２上の液体ＬＱが漏出したり、基板Ｐ上に落下したりすることが抑制される。
【０１０２】
図１１に示す回収部６０Ｅは、図１０に示した回収部６０Ｄの変形例である。図１１において、回収部６０Ｅは、第９面２９Ｅの上端と第２面２２との間の回収口６１Ｅを有する。また、凹部６２Ｅの内側に、第２面２２上から凹部６２Ｅに流入した液体ＬＱを排出する排出口６００Ｅを備えている。凹部６２Ｅは、液体ＬＱを貯めることができる。第２面２２上の液体ＬＱは、回収口６１Ｅを介して凹部６２Ｅに流入する。回収部６０Ｅは、凹部６２Ｅに流入した液体ＬＱの少なくとも一部を、その凹部６２Ｅに配置されている排出口６００Ｅより排出する。図１１に示す例では、回収口６１Ｅは、光軸ＡＸに向いており、排出口６００Ｅは、上方を向く第５面２５Ｅに配置されている。排出口６００Ｅは、回収流路９０Ｅを介して、液体回収装置９１Ｅに接続されている。液体回収装置９１Ｅは、凹部６２Ｅに流入した液体ＬＱの少なくとも一部を、排出口６００Ｅ及び回収流路９０Ｅを介して回収する。
【０１０３】
図１２に示す回収部６０Ｆは、図１１に示した回収部６０Ｅの変形例である。図１２において、回収部６０Ｆは、凹部６２Ｆの内側に配置され、第２面２２上の液体ＬＱの少なくとも一部を排出可能な排出口６００Ｆと、排出口６００Ｆに配置された多孔部材６４Ｆとを備えている。排出口６００Ｆは、回収流路９０Ｆを介して、液体回収装置９１Ｆと接続されている。
【０１０４】
制御装置５は、液体回収装置９１Ｆを制御して、多孔部材６４Ｆの上面側空間から下面側空間へ液体ＬＱのみが通過するように、多孔部材６４Ｆの上面側の空間の圧力と下面側の空間の圧力との差を制御することができる。制御装置５は、多孔部材６４Ｆの上面側から下面側へ液体ＬＱのみが通過するように、液体回収装置９１Ｆを制御して、多孔部材６４Ｆの上面側の空間の圧力と下面側の空間の圧力との差を制御するすなわち、制御装置５は、多孔部材６４Ｆの孔を介して、第２面２２からの液体ＬＱのみを回収し、気体は多孔部材６４Ｆの孔を通過しないように調整する。多孔部材６４Ｆの一側と他側との圧力差を調整して、多孔部材６４Ｆの一側から他側へ液体ＬＱのみを通過させる技術は、例えば米国特許第７２９２３１３号明細書等に開示されている。
【０１０５】
なお、図１１及び図１２の実施形態において、凹部（６２Ｅ，６２Ｆ）から液体ＬＱを回収（排出）しているが、凹部（６２Ｅ，６２Ｆ）の上方の間隙Ｇ６を回収口として併用してもよい。
【０１０６】
図１３に示す回収部６０Ｇは、第１実施形態の回収部６０の変形例である。図１３において、回収部６０Ｇは、第２面２２の周囲に配置され、下方（−Ｚ方向）を向いている回収口６１Ｇと、回収口６１Ｇに配置された多孔部材６４Ｇとを有する。回収部６０Ｇは、光軸ＡＸの放射方向において回収口６１Ｇの外側に、回収口６１Ｇよりも下方（−Ｚ方向）に延びる面（壁）を有していない。本実施形態において、多孔部材６４Ｇは、多孔部材６４Ｇの下面と第２面２２とがほぼ同一平面内に配置されるように、回収口６１Ｇに配置されている。回収口６１Ｇは、回収流路９０Ｇを介して、液体回収装置９１Ｇと接続されている。回収流路９０Ｇは、液浸部材４Ｇの内部流路９２Ｇと、その内部流路９２Ｇと液体回収装置９１Ｇとを接続する回収管の流路９３Ｇとを含む。液体回収装置９１Ｇが作動されることによって、多孔部材６４Ｇの下面に接触した第２面２２からの液体ＬＱは、その多孔部材６４Ｇの孔を介して、内部流路９２Ｇに流入し、液体回収装置９１Ｇに回収される。
【０１０７】
なお、図１３に示す回収部６０Ｇにおいて、多孔部材６４Ｇを省略してもよい。
【０１０８】
また、第３実施形態においても、第２実施形態のように第２面２２がＸＹ平面と平行、あるいは光軸ＡＸに対する放射方向において外側に向かって下方（−Ｚ方向）に傾斜していてもよい。
【０１０９】
＜第４実施形態＞
次に、第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１１０】
図１４は、第４実施形態に係る液浸部材４Ｈの一例を示す図である。上述の第１〜第３実施形態においては、第１面２１及び第２面２２が液体ＬＱを回収不可能である場合を例にして説明した。第４実施形態においては、第２面２２Ｈが、液体ＬＱを回収可能である。
【０１１１】
本実施形態において、第２面２２Ｈは、多孔部材６４Ｈの下面を含む。本実施形態においては、第２面２２Ｈが、光軸ＡＸの放射方向において第１供給口５１の外側に配置された非回収面２２ＨＡと、多孔部材６４Ｈの下面で構成される回収面２２ＨＢとを含む。本実施形態においては、回収面２２ＨＢの面積が非回収面２２ＨＡの面積よりも大きい。すなわち、光軸ＡＸに対する放射方向において、回収面２２ＨＢは、非回収面２２ＨＡよりも長い。液浸部材４Ｈは、液体ＬＱを回収可能な回収口６１Ｈを有する。多孔部材６４Ｈは、回収口６１Ｈに配置されている。回収口６１Ｈは、回収流路９０Ｈを介して、液体回収装置９１Ｈと接続されている。回収流路９０Ｈは、液浸部材４Ｈの内部流路９２Ｈと、その内部流路９２Ｈと液体回収装置９１Ｈとを接続する回収管の流路９３Ｈとを含む。
【０１１２】
多孔部材６４Ｈの下面は、基板Ｐの表面と対向可能である。多孔部材６４Ｈの上面は、内部流路９２Ｈに面している。
【０１１３】
第１供給口５１から、多孔部材６４Ｈの下面を含む第２面２２Ｈに第１液体ＬＱ１を供給することによって、光軸ＡＸの放射方向において外側に向かって第２面２２Ｈ上に液体ＬＱを流すことができる。本実施形態においても、第２液体ＬＱ２の漏出、残留等の発生を抑制することができる。
【０１１４】
なお、第４実施形態において、光軸ＡＸの放射方向において、液体ＬＱの流れ（液体面ＬＱＳ）が所定の長さで形成されるように、多孔部材６４Ｈの第１供給口５１に近い部分と第１供給口５１から遠い部分とで吸引力（多孔部材６４Ｈの上面と下面との圧力差）を異ならせてもよい。例えば、光軸ＡＸの放射方向において外側に向かって多孔部材６４Ｈの吸引力が段階的に、あるいは連続的に強くなるようにしてもよい。
【０１１５】
なお、第４実施形態において、第２面２２Ｈが非回収面２２ＨＡを含まなくてもよい。
【０１１６】
また、第４実施形態においても、上述の各実施形態で説明した回収部の構成の少なくとも一部を併用することができる。
【０１１７】
また、第４実施形態においても、第２実施形態のように第２面２２ＨがＸＹ平面と平行、あるいは光軸ＡＸに対する放射方向において外側に向かって下方（−Ｚ方向）に傾斜していてもよい。
【０１１８】
なお、上述の第２〜第４実施形態においても、液浸部材の下方での物体（基板Ｐ）の移動条件に応じて第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１の供給条件を調整してもよい。
【０１１９】
また、上述の第１〜第４実施形態において、第１供給口５１から供給される第１液体ＬＱ１の流速は、光軸ＡＸに対するすべての放射方向において同じでなくてもよい。すなわち、光軸ＡＸに対する放射方向のうちの第１方向には第１流速で第１液体ＬＱ１を供給し、第２方向には第１流速と異なる第２流速で第１液体ＬＱ１を供給してもよい。
【０１２０】
＜第５実施形態＞
次に、第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１２１】
図１５は、第５実施形態に係る液浸部材４Ｊの一例を示す側面図であり、一部は断面を示している。図１６は、図１５に示す液浸部材４Ｊを下方から見た図である。
【０１２２】
図１５及び図１６において、液浸部材４Ｊは、第１面２１と、第２面２２と、第２面２２に第１液体ＬＱ１を供給する複数の第１供給口５１Ｊとを備えている。本実施形態において、複数の第１供給口５１Ｊは、露光光ＥＬの光路の周囲に所定間隔で配置されている。本実施形態において、複数の第１供給口５１Ｊのそれぞれは、円形である。なお、第１供給口５１Ｊの形状が、円形以外の他の形状（例えば矩形、スリット状）でもよい。また、複数の第１供給口５１Ｊそれぞれの形状が異なってもよい。
【０１２３】
本実施形態において、液浸部材４Ｊは、光軸ＡＸに対する放射方向において、外側を向くように配置された第１０面３０を有する。第１０面３０は、第１面２１の外側エッジ２１Ｅと第２面２２の内側のエッジ２２Ｅ１との間に形成されている。第１面２１と第１０面３０とがなす角度は、ほぼ９０度である。なお、角度は、９０度より小さくてもよいし、大きくてもよい。
【０１２４】
複数の第１供給口５１Ｊは、第１０面３０に所定間隔で配置されている。
【０１２５】
本実施形態において、複数の第１供給口５１Ｊのそれぞれは、ほぼ同じ流速で第１液体ＬＱ１を供給する。
【０１２６】
本実施形態においても、第２液体ＬＱ２の漏出、残留等の発生を抑制することができる。
【０１２７】
なお、本実施形態においても、上述の各実施形態と同様に、液浸部材４Ｊの下方での物体（基板Ｐ）の移動条件に応じて第１供給口５１Ｊからの第１液体ＬＱ１の供給条件を調整してもよい。また、複数の第１供給口５１Ｊのうち、一部の第１供給口５１Ｊから第１流速で第１液体ＬＱ１が供給され、別の一部の第１供給口５１Ｊから第１流速と異なる第２流速で第１液体ＬＱ１が供給されてもよい。また、複数の第１供給口５１Ｊのうち、一部の第１供給口５１Ｊからの第１液体ＬＱ１の供給を停止してもよい。例えば、基板Ｐの移動条件（移動速度、加速度、直線移動距離、移動方向等）に応じて、複数の第１供給口５１Ｊのそれぞれから供給される第１液体ＬＱ１の流速が異なってもよい。例えば、露光光ＥＬの光路に対して基板Ｐが−Ｙ方向に移動する場合、露光光ＥＬの光路に対して＋Ｙ側に配置されている第１供給口５１Ｊからの第１液体ＬＱ１の供給を停止してもよい。
【０１２８】
また、本実施形態において、第２面２２上において、光軸ＡＸに対するすべて放射方向に液体ＬＱの流れ（液体面ＬＱＳ）が形成されていなくてもよい。例えば、露光光ＥＬの光路に対してＹ方向の両側だけに液体ＬＱの流れ（液体面ＬＱＳ）を形成してもよい。
【０１２９】
なお、上述の第１〜第５実施形態において、第１供給口（５１，５１Ｊ）は、光軸ＡＸに対する放射方向において外側を向いているが、第２面２２上において光軸ＡＸに対する放射方向に液体ＬＱの流れ（液体面ＬＱＳ）が形成されるならば、第１供給口（５１，５１Ｊ）の向きは限定されない。
【０１３０】
また、上述の第１〜第５実施形態において、第２面２２（２２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｈ）上で液体ＬＱが流れることによって液体面ＬＱＳが形成されているが、第２面２２（２２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｈ）の少なくとも一部において第２面２２（２２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｈ）と液体ＬＱとの間に気体空間が存在してもよい。すなわち、光軸ＡＸの放射方向において液浸空間ＬＳの外側に、光軸ＡＸの放射方向において外側に向かって液体ＬＱの流れ（液体面ＬＱＳ）が形成されていればよい。
【０１３１】
なお、上述の第１〜第５実施形態において、第１面２１が、露光光ＥＬの光路の周囲の一部に配置されていてもよい。また、第２面２２（２２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｈ）が、第１面２１の周囲の一部に配置されていてもよい。
【０１３２】
なお、上述の各実施形態において、第２面２２（２２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｈ）の少なくとも一部が、第１面２１より下方に配置されてもよい。例えば、図９に示した液浸部材４Ｃのように、第２面２２Ｃが放射方向に関して外側に向かって下方に傾斜している場合において、その第２面２２Ｃの外側のエッジ（周縁領域）が、第１面２１より下方に配置されてもよい。
【０１３３】
なお、上述の各実施形態においては、第１面２１及び第２面２２（２２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｈ）のそれぞれは、ほぼ平坦であるが、第２面２２（２２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｈ）の少なくとも一部が、曲面を含んでいてもよい。また、第１面２１の少なくとも一部が、曲面を含んでいてもよい。また、第１面２１が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。また、第２面２２（２２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｈ）に、放射方向に長い溝が形成されていてもよい。また、第３面２３と第１面２１が平行でなくてもよい。
【０１３４】
なお、上述の各実施形態において、第２供給口５２は、射出面１１とプレート部４１の第３面２３との間に第２液体ＬＱ２を供給しているが、側面１２Ｆと内側面４４との間に供給してもよい。また、第２供給口５２が、終端光学素子１２の側面１２Ｆと対向するように配置されてもよい。また、第２供給口５２に加えて、あるいは第２供給口５２の代わりに第２液体ＬＱ２を供給する供給口を第１面２１に設けてもよい。
【０１３５】
なお、上述の各実施形態において、プレート部４１が省略されてもよい。例えば、射出面１１の周囲の少なくとも一部に第１面２１を設けてもよい。この場合、第１面２１が射出面１１と同じ高さ、あるいは射出面１１よりも上方（＋Ｚ側）に配置されてもよい。
【０１３６】
なお、上述の各実施形態においては、液浸部材４が投影光学系ＰＬ（終端光学素子１２）に対して可動であってもよい。
【０１３７】
また、上述の各実施形態においては、第１面２１，第２面２２，及び第１供給口５１が、同一の液浸部材４に配置されている場合を例にしたが、第１面２１と第２面２２とが別の部材に配置されてもよいし、第１面２１と第１供給口５１とが別の部材に配置されてもよいし、第２面２２と第１供給口５１とが別の部材に配置されてもよい。また、第２面２２が配置される部材と、回収部６０が配置される部材とが、別の部材でもよい。この場合、複数の部材の少なくとも一部が投影光学系ＰＬ（終端光学素子１２）に対して可動であってもよい。
【０１３８】
なお、上述の各実施形態においては、第２液体ＬＱ２で液浸空間ＬＳが形成されているが、第１液体ＬＱ１の一部が第２液体ＬＱ２に混じることによって、第１液体ＬＱ１と第２液体ＬＱ２とで液浸空間ＬＳが形成されてもよい。上述の各実施形態においては、第１液体ＬＱ１と第２液体ＬＱ２とが同じ液体なので、第１液体ＬＱ１が露光光ＥＬの光路中に存在しても構わない。
【０１３９】
なお、上述の各実施形態においては、第１液体ＬＱ１と第２液体ＬＱ２とが同じ液体である場合を例にして説明したが、異なる液体でもよい。例えば、第２液体ＬＱ２として、基板Ｐの露光に適した所定の物性の液体を使用し、第１液体ＬＱ１として、第２面２２に対する親液性が第２液体ＬＱ２より高い液体を使用してもよい。
【０１４０】
また、第１液体ＬＱ１は、第２液体ＬＱ２より質（クリーン度、透明度等）が低くてもよい。この場合は、第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１が、露光光ＥＬの光路上で第２液体ＬＱ２と混じらないように第１供給口５１の配置、第１供給口５１からの第１液体ＬＱ１の供給条件を設定するのが望ましい。
【０１４１】
なお、上述の各実施形態においては、第１供給口５１から供給される第１液体ＬＱ１の温度と、第２供給口５２から供給される第２液体ＬＱ２の温度とがほぼ同じになるように調整されているが、第１供給口５１から供給される第１液体ＬＱ１の温度と、第２供給口５２から供給される第２液体ＬＱ２の温度とが異なってもよい。また、内部流路７２を流れる第１液体ＬＱ１を用いて、液浸部材４の温度調整を行ってもよい。
【０１４２】
なお、上述の各実施形態において、液浸空間ＬＳの第２液体ＬＱ２の気液界面ＬＧの近傍に、気体を供給する気体供給口を設けてもよい。例えば、基板Ｐの表面と第２面２２との間にガスシールが形成されるように、気体供給口から気液界面ＬＧの近傍に気体を供給してもよい。気体供給口から供給された気体の力によって、液浸空間ＬＳの拡大が抑制される。これにより、また、気体供給口から供給された気体の力によって、第２液体ＬＱ２の漏出、残留等の発生が抑制される。
【０１４３】
なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１２の射出側（像面側）の光路が第２液体ＬＱ２で満たされているが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているように、終端光学素子１２の入射側（物体面側）の光路も液体で満たされる投影光学系を採用することもできる。なお、終端光学素子１２の入射側の光路に満たされる液体は、第２液体ＬＱ２と同じ種類の液体でもよいし、異なる種類の液体でもよい。
【０１４４】
なお、上述の各実施形態の第１，第２液体ＬＱ１，ＬＱ２として、水（純水）に限られず、例えばハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等を用いることも可能である。
【０１４５】
なお、上述の各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【０１４６】
露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【０１４７】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系ＰＬを用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系ＰＬを用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【０１４８】
また、露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６６１１３１６号明細書に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などでもよい。また、露光装置ＥＸは、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどでもよい。
【０１４９】
また、露光装置ＥＸは、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。この場合、各基板ステージ上、あるいは複数の基板ステージを跨ぐように液浸空間ＬＳを形成できる。
【０１５０】
更に、露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号明細書、米国特許出願公開第２００７／０１２７００６号明細書等に開示されているような、基板を保持する基板ステージと、基準マークが形成された基準部材及び／又は各種の光電センサを搭載し、露光対象の基板を保持しない計測ステージとを備えた露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸは、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。この場合、計測ステージ上、あるいは基板ステージと計測ステージとを跨ぐように液浸空間ＬＳを形成できる。
【０１５１】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【０１５２】
また、上述の各実施形態では、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光を発生する光源装置として、ＡｒＦエキシマレーザを用いてもよいが、例えば、米国特許第７０２３６１０号明細書に開示されているように、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザなどの固体レーザ光源、ファイバーアンプなどを有する光増幅部、及び波長変換部などを含み、波長１９３ｎｍのパルス光を出力する高調波発生装置を用いてもよい。さらに、上記実施形態では、前述の各照明領域ＩＲと、投影領域ＰＲがそれぞれ矩形状であるものとしたが、他の形状、例えば円弧状などでもよい。
【０１５３】
なお、上述の各実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。可変成形マスクは、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）等を含む。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。自発光型画像表示素子としては、例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）、無機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）、ＬＥＤディスプレイ、ＬＤディスプレイ、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Field Emission Display）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）等が挙げられる。
【０１５４】
上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法でもよい。このように投影光学系ＰＬを用いない場合であっても、露光光ＥＬはレンズ等の光学部材を介して基板Ｐに照射され、そのような光学部材と基板Ｐとの間の所定空間に液浸空間ＬＳが形成される。
【０１５５】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【０１５６】
以上のように、本実施形態の露光装置ＥＸは、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置ＥＸへの組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置ＥＸへの組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置ＥＸへの組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置ＥＸ全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置ＥＸの製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０１５７】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１７に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板Ｐを製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクＭのパターンを用いて露光光ＥＬで基板Ｐを露光すること、及び露光された基板Ｐを現像することを含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【０１５８】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【０１５９】
１…マスクステージ、２…基板ステージ、４…液浸部材、５…制御装置、１１…射出面、２１…第１面、２２…第２面、２３…第３面、２４…第４面、５１…第１供給口、５２…第２供給口、６０…回収部、６１…回収口、６２…凹部、６４…多孔部材、ＡＸ…光軸、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、Ｇ６…間隙、ＬＱ…液体、ＬＱ１…第１液体、ＬＱ２…第２液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板、ＰＬ…投影光学系
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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