(57)【要約】【課題】基板に対して処理工程を行う処理装置及び基板を収納するカセットの仕様を大幅に変更することなく、基板に対する処理の処理効率を向上させる。【解決手段】基板収納領域を有するカセットＣに対して基板Ｐの受け渡しを行う基板移載装置であって、個別に載置された複数の基板を対向配置する対向配置手段２と、対向配置された複数の上記基板Ｐを纏めて単一の上記基板収納領域に収納する収納手段４とを備える。【選択図】図１
2010225652.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板収納領域を有するカセットに対して基板の受け渡しを行う基板移載装置であって、
個別に載置された複数の基板を対向配置する対向配置手段と、
対向配置された複数の前記基板を纏めて単一の前記基板収納領域に収納する収納手段と
を備えることを特徴とする基板移載装置。
【請求項２】
前記基板の一方側の面が処理対象面であり、前記基板の他方側の面が非処理対象面である場合に、
前記対向配置手段は、前記非処理対象面同士を対向させて前記基板を対向配置することを特徴とする請求項１記載の基板移載装置。
【請求項３】
前記対向配置手段は、水平姿勢から垂直姿勢まで前記基板を吸着支持して回動することによって前記基板を対向配置することを特徴とする請求項１または２記載の基板移載装置。
【請求項４】
前記収納手段は、各前記基板を吸着支持して前記対向配置手段から離間させ、さらに複数の前記基板を接近させることによって複数の前記基板を纏めることを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載の基板移載装置。
【請求項５】
前記収納手段が、纏められた複数の前記基板を単一の前記基板収納領域から取り出し可能とされると共に複数の前記基板を対向状態で離間可能とされ、
前記対向配置手段が、前記収納手段によって対向状態で離間された複数の前記基板を個別に載置可能とされていることを特徴とする請求項１〜４いずれかに記載の基板移載装置。
【請求項６】
前記収納手段が取り出した一纏まりの複数の前記基板間に気体を流し込む気体供給手段を備えることを特徴とする請求項５記載の基板移載装置。
【請求項７】
前記基板の面同士が接触することを抑制するスペーサを少なくともいずれかの前記基板に取り付けるスペーサ取付手段を備えることを特徴とする請求項１〜６いずれかに記載の基板移載装置。
【請求項８】
前記スペーサ取付手段は、前記基板の一辺における中央部に前記スペーサを取り付けることを特徴とする請求項７記載の基板移載装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板収納領域を有するカセットに対して上記基板の受け渡しを行う基板移載装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、製品の製造過程においてガラス基板を扱う工場等では、一般的に製品の製造過程において、ガラス基板に対して特定の処理（例えば熱処理）を行う工程を有している。
このようなガラス基板に対する処理工程における処理効率の向上は、多くの基板を同時に処理することによって達成することができる。
このため従来においては、ガラス基板を複数収納可能なカセットを用い、カセットに収納された複数のガラス基板に対して同時に処理を行うことによって処理効率の向上を図っている。例えばガラス基板に対して熱処理を行う熱処理炉に、複数枚のガラス基板を収納するカセットを入れ、当該カセットに収納された複数のガラス基板に対して同時に熱処理を行うことによって処理工程の処理効率の向上を図っている。
【０００３】
そして、このような複数のガラス基板への同時処理に用いられる上記カセットは、ガラス基板を収納可能なスロット（基板収納領域）を複数備えており、各スロットに一枚の基板を収納することによって複数のガラス基板を収納する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−７５１７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、近年は、製品の需要の拡大や多様化等により、上記処理効率のさらなる向上が求められている。
このような要望に応えるための方法としては、例えば上記処理工程における処理時間の短縮化やカセットの大型化が考えられる。
【０００６】
しかしながら、処理時間の短縮化は、既に様々な努力が行われているために大幅な短縮化が望めないことに加えて、処理工程を行う装置の仕様を大幅に変更する必要があり、仕様の変更に膨大な作業と費用が必要となる。
一方、カセットの大型化も、大型化されたカセットを搬入可能とするために処理工程を行う装置の仕様を大幅に変更する必要があり、膨大な作業と費用が必要となる。
【０００７】
なお、処理効率の向上は、ガラス基板を扱う工場のみにおける課題ではなく、カセットに収納された基板に対する処理を行う処理工程を有する工場全般における課題である。
【０００８】
本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、基板に対して処理工程を行う処理装置及び基板を収納するカセットの仕様を大幅に変更することなく、基板に対する処理の処理効率を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するための手段として、以下の構成を採用する。
【００１０】
第１の発明は、基板収納領域を有するカセットに対して基板の受け渡しを行う基板移載装置であって、個別に載置された複数の基板を対向配置する対向配置手段と、対向配置された複数の上記基板を纏めて単一の上記基板収納領域に収納する収納手段とを備えるという構成を採用する。
【００１１】
第２の発明は、上記第１の発明において、上記基板の一方側の面が処理対象面であり、上記基板の他方側の面が非処理対象面である場合に、上記対向配置手段が、上記非処理対象面同士を対向させて上記基板を対向配置するという構成を採用する。
【００１２】
第３の発明は、上記第１または第２の発明において、上記対向配置手段が、水平姿勢から垂直姿勢まで上記基板を吸着支持して回動することによって上記基板を対向配置するという構成を採用する。
【００１３】
第４の発明は、上記第１〜第３いずれかの発明において、上記収納手段が、各上記基板を吸着支持して上記対向配置手段から離間させ、さらに複数の上記基板を接近させることによって複数の上記基板を纏めるという構成を採用する。
【００１４】
第５の発明は、上記第１〜第４いずれかの発明において、上記収納手段が、纏められた複数の上記基板を単一の上記基板収納領域から取り出し可能とされると共に複数の上記基板を対向状態で離間可能とされ、上記対向配置手段が、上記収納手段によって対向状態で離間された複数の上記基板を個別に載置可能とされているという構成を採用する。
【００１５】
第６の発明は、上記第５の発明において、上記収納手段が取り出した一纏まりの複数の上記基板間に気体を流し込む気体供給手段を備えるという構成を採用する。
【００１６】
第７の発明は、上記第１〜第６いずれかの発明において、上記基板の面同士が接触することを抑制するスペーサを少なくともいずれかの上記基板に取り付けるスペーサ取付手段を備えるという構成を採用する。
【００１７】
第８の発明は、上記第７の発明において、上記スペーサ取付手段が、上記基板の一辺における中央部に上記スペーサを取り付けるという構成を採用する。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、対向配置手段によって、個別に載置された複数の基板が対向配置され、収納手段によって対向配置された複数の基板が纏められて単一の基板収納領域に収納される。つまり、本発明によれば、従来一枚の基板のみが収納されたカセットの各基板収納領域に対して、複数の基板を纏めて収納することができ、従来と同一サイズのカセットに対して従来の数倍の基板を収納させることができる。
このように従来と同一サイズのカセットに対して従来の数倍の基板を収納し、カセットに収納された基板に対して同時に処理を行うことによって、処理装置の仕様をほぼ変更することなく、従来の処理時間で数倍の基板を処理することが可能となり、この結果、処理効率が向上する。
したがって、本発明によれば、基板に対して処理工程を行う処理装置及び基板を収納するカセットの仕様を大幅に変更することなく、基板に対する処理の処理効率を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施形態における基板移載装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態における基板移載装置が備えるスペーサ取付装置の概略構成を示す模式図である。
【図３】本発明の一実施形態における基板移載装置からガラス基板が移載される熱処理用カセットの概略構成を示す図であり、
【図４】本発明の一実施形態における基板移載装置の機能構成を示す機能ブロック図である。
【図５】本発明の一実施形態における基板移載装置の動作を説明するための模式図である。
【図６】本発明の一実施形態における基板移載装置の動作を説明するための模式図である。
【図７】本発明の一実施形態における基板移載装置の動作を説明するための模式図である。
【図８】本発明の一実施形態における基板移載装置の動作を説明するための模式図である。
【図９】本発明の一実施形態における基板移載装置の動作を説明するための模式図である。
【図１０】２枚のガラス基板が一纏まりとされた様子を示す模式図である。
【図１１】本発明の一実施形態における基板移載装置の動作を説明するための模式図である。
【図１２】本発明の一実施形態における基板移載装置の動作を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、図面を参照して、本発明に係る基板移載装置の一実施形態について説明する。なお、以下の図面において、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。
【００２１】
図１は、本実施形態の基板移載装置Ｓ１の概略構成を示す斜視図である。本実施形態の基板移載装置Ｓ１は、熱処理用カセットＣ（カセット）に対してガラス基板Ｐの受け渡しを行うためのものであり、搬送ロボット１、対向配置装置２（対向配置手段）、スペーサ取付装置３（スペーサ取付手段）、収納装置４（収納手段）、エア供給装置５（気体供給手段）を備えている。
【００２２】
なお、熱処理用カセットＣに対して受け渡しが行われるガラス基板Ｐは、一方側の面が熱処理によって特性が変化される膜部材が形成された処理対象面であり、他方側の面が膜部材が形成されず、熱処理によっても特性が変化されない非処理対象面とされた基板である。
ガラス基板Ｐの処理対象面は、熱処理後の膜部材の損傷を防止するために、原則として触れることができない。しかしながら、処理対象面のうち、ガラス基板Ｐの周縁部は、膜部材の形成ばらつき等が大きく最終製品品質を確保できない領域であることから、接触可能な領域とされている。
【００２３】
搬送ロボット１は、不図示の搬送用カセットからガラス基板Ｐを取り出して対向配置装置２に渡すものであり、ハンド部１ａと、移動部１ｂと、ターンテーブル装置１ｃと、スライド装置１ｄとを備えている。
【００２４】
ハンド部１ａは、水平姿勢（処理対象面及び非処理対象面が水平とされる姿勢）で搬送用カセットに収納されたガラス基板Ｐを水平姿勢のまま支持するものである。
移動部１ｂは、ハンド部１ａを水平方向（Ｘ方向及びＹ方向）及び高さ方向（Ｚ方向）において移動させるものであり、ハンド部１ａに接続されるスカラーアームと、該スカラーアームを駆動するモータと、昇降機構とを備えている。
ターンテーブル装置１ｃは、ハンド部１ａ及び移動部１ｂを回動させることによって方向転換するものであり、移動部１ｂが設置されている。
スライド装置１ｄは、ターンテーブル装置１ｃごとハンド部１ａ及び移動部１ｂを一軸方向（Ｘ方向）に移動するものである。  
また、搬送ロボット１は、上記構成により、対向配置装置２からガラス基板Ｐを受け取り、搬送用カセットに収納することも可能に構成されている。
【００２５】
対向配置装置２は、搬送ロボット１から渡されて個別に載置された２枚（複数）のガラス基板Ｐを処理対象面同士が対向するように対向配置するものであり、２つの支持台２ａと、該支持台２ａを回動する駆動部２ｂとを備えている。
【００２６】
支持台２ａは、Ｘ方向に延在する３つのアーム部２ａ１〜２ａ３を備えており、各アーム部２ａ１〜２ａ３に設置された吸着パッドを介してガラス基板Ｐを真空吸着することによってガラス基板Ｐを吸着支持するものである。
なお、アーム部２ａ１，２ａ３は、ガラス基板Ｐの端部近傍を吸着支持する。また、アーム部２ａ２は、水平姿勢とされた場合のガラス基板Ｐの撓みを抑止するように、ガラス基板Ｐの中央部を吸着支持する。
また、各アーム部２ａ１〜２ａ３には、搬送ロボット１のハンド部１ａを挿入可能でハンド部１ａの高さよりも深い溝部が形成されている。そして、ガラス基板Ｐを支持するハンド部１ａを各アーム部２ａ１〜２ａ３に形成された溝部に挿入してからハンド部１ａを退避させることによって、支持台２ａ上にガラス基板Ｐが載置される。
また、ガラス基板Ｐは搬送カセットに、処理対象面が上向きとなる水平姿勢で収納されている。このため、ガラス基板Ｐは、各支持台２ａ上に処理対象面が上向きとなる水平姿勢で載置される。
【００２７】
駆動部２ｂは、支持台２ａをＸ−Ｚ面内において回動させることによって、支持台２ａに吸着支持されたガラス基板Ｐを水平姿勢から垂直姿勢（処理対象面及び非処理対象面が垂直とされた姿勢）とするものであり、一方の支持台２ａと他方の支持台２ａとを逆方向に互いに下方に向けて回動させることによって、２枚のガラス基板Ｐを非処理対象面を対向させて対向配置する。そして、駆動部２ｂは、不図示のモータや、該モータの動力を支持台２ａに伝達する連結ギアユニット等を備えている。
【００２８】
また、対向配置装置２は、上記構成によって、収納装置４によって熱処理用カセットＣから取り出すと共に対向状態で離間された２枚のガラス基板Ｐを、各支持台２ａ上に個別に載置可能に構成されている。
【００２９】
スペーサ取付装置３は、収納装置４によって後述のように纏められる２枚のガラス基板Ｐの面同士（本実施形態においては処理対象面同士）が接触することを防止するためのスペーサＳ（図２参照）をガラス基板Ｐの一辺における中央部に取り付けるための装置であり、搬送ロボット１の側方に配置されている。なお、スペーサ取付装置３の配置位置は一例であり、ガラス基板Ｐに対してスペーサＳを取付可能な位置に配置されていれば良い。
【００３０】
図２は、スペーサ取付装置３の概略構成を示す模式図である。
この図に示すように、スペーサ取付装置３は、支持柱３ａと、水平移動装置３ｂと、上下動装置３ｃと、吸着部３ｄと、マガジン装置３ｅと、センサ部３ｆとを備えている。
支持柱３ａは、設置面に対して固定される柱状部材であり、水平移動装置３ｂ、上下動装置３ｃ及び吸着部３ｄを支持するものである。
水平移動装置３ｂは、支持柱３ａの上部に取り付けられており、上下動装置３ｃを介して吸着部３ｄを水平方向（Ｘ方向）に移動させるものである。
上下動装置３ｃは、水平移動装置３ｂ及び吸着部３ｄに接続されており、吸着部３ｄを上下方向（Ｚ方向）に移動させるものである。
吸着部３ｄは、マガジン装置３ｅに収納されたスペーサＳを真空吸着することによって吸着支持するものである。
マガジン装置３ｅは、複数（例えば８０個）のスペーサＳを収納すると共に、収納するスペーサＳの１つを常に最上部に位置させるための送り出し機構を備えるものである。
センサ部３ｆは、マガジン装置３ｅに収納されるスペーサＳの数を検出するものであり、不図示の昇降機構によってマガジン装置３ｅに沿って上下方向（Ｚ方向）に移動可能とされている。
【００３１】
スペーサＳは、ガラス基板Ｐの厚さよりも僅かに幅の広い凹部を備える側面がコの字形状の部材であり、凹部がガラス基板Ｐの周縁部に嵌合されることによってガラス基板Ｐに取り付けられる。
そして、このようなスペーサＳは、スペーサ取付装置３によってガラス基板Ｐの一辺の中央部に取り付けられる。より詳細には、スペーサ取付装置３は、マガジン装置３ｅの最上部に位置されたスペーサＳに、水平移動装置３ｂ及び上下動装置３ｃを用いて吸着部３ｄを位置合わせする。そして、スペーサ取付装置３は、吸着部３ｄにてスペーサＳを吸着支持し、再度水平移動装置３ｂ及び上下動装置３ｃを用いて吸着部３ｄを移動させ、スペーサＳの凹部がガラス基板Ｐの周縁部に嵌合されるようにスペーサＳを移動させる。最後にスペーサ取付装置３は、ガラス基板Ｐの周縁部に嵌合されたスペーサＳから吸着部３ｄを解離させることによってガラス基板ＰにスペーサＳが取り付けられる。
なお、スペーサＳは、ガラス基板Ｐの傷つきを抑制するために、ガラス基板よりも柔らかい材料によって形成されていることが好ましい。
【００３２】
収納装置４は、対向配置装置２によって対向配置された２枚のガラス基板Ｐを纏めて、熱処理用カセットＣの単一のスロットＲ（図３参照）に収納するものであり、昇降装置４ａと、スライド装置４ｂと、ホルダ４ｃと、グリッパ装置４ｄと、吸着バー４ｅとを備えている。
【００３３】
昇降装置４ａは、対向配置装置２と熱処理用カセットＣとの上方においてスライド装置４ｂを昇降させるものである。
スライド装置４ｂは、対向配置装置２の上方から熱処理用カセットＣの上方までＸ方向に延在されており、ホルダ４ｃをＸ方向に移動可能なものであると共に上記昇降装置４ａによって昇降される。
ホルダ４ｃは、Ｙ方向に離間して配置される一対のグリッパ装置４ｄが設置されるものであり、スライド装置４ｂによってＸ方向に移動される。
グリッパ装置４ｄは、Ｘ方向に離間する一対の吸着バー４ｅを支持し、これらの吸着バー４ｅを接近させたり遠ざけたりするものである。なお、グリッパ装置４ｄ同士は、一方のグリッパ装置４ｄに支持される吸着バー４ｅと他方のグリッパ装置４ｄに支持される吸着バー４ｅとがガラス基板Ｐの接触可能な領域に接触可能なように離間されている。
吸着バー４ｅは、各グリッパ装置４ｂに対して、Ｘ方向に離間して一対設けられている。これらの吸着バー４ｅは、互いに対向する面側にガラス基板Ｐを吸着するための吸着パッドを備えている。そして、吸着バー４ｅは、グリッパ装置４ｄによってガラス基板Ｐに対して互いが近接されるように移動されてガラス基板Ｐの接触可能な領域に真空吸着し、これによってグリッパ装置４ｄを支持する。
【００３４】
このような構成を有する収納装置４は、昇降装置４ａ、スライド装置４ｂ及びグリッパ装置４ｄによって吸着バー４ｅの位置を移動させ、ガラス基板Ｐを吸着支持して対向配置装置２から離間させると共に、２枚のガラス基板を近接させることによって一つに纏め、さらには熱処理用カセットＣの単一のスロットＲに収容する。
また、収納装置４は、上記構成によって、熱処理用カセットＣのスロットＲに収容された一纏まりの２枚のガラス基板Ｐから取り出すと共に対向状態で離間可能に構成されている。
【００３５】
エア供給装置５は、収納装置４から取り出した一纏まりとされた２枚の基板の間に空気を流し込むものであり、収納装置４のホルダ４ｃの中央部に設置される噴出ノズル５ａ及び該噴出ノズル５ａに空気を送り込むための供給装置等を備えている。
【００３６】
図３は、熱処理用カセットＣの概略構成を示す図であり、（ａ）が平面図、（ｂ）が（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
この図に示すように、熱処理用カセットＣは、上方に向けて開口されていると共に、底部に形成された溝部Ｃ１と側部に形成された溝部Ｃ２とによって区画されることによって形成されたスロットＲ（基板収納領域）を複数備えている。
そして、各スロットＲを形成する溝部Ｃ１，Ｃ２の幅がスペーサＳを介して重ね合わされた２枚のガラス基板Ｐの厚みよりも十分に広く設定されており、ガラス基板Ｐの接触可能な領域の一部が上記溝部Ｃ１，Ｃ２に入り込むことによってスペーサＳを介して重ね合わされることによって一纏まりとされた２枚のガラス基板ＰがスロットＲに垂直状態で収容されて支持される。
なお、溝部Ｃ１，Ｃ２の深さは、ガラス基板Ｐの接触可能な領域の半分程度とされており、端部近傍を残してガラス基板Ｐの接触可能な領域の一部を吸着バー４ｅによって吸着支持したままでガラス基板Ｐを収納可能に設定されている。
【００３７】
また、本実施形態の基板移載装置Ｓ１は、基板移載装置Ｓ１の全体の動作を制御する制御部６（図４参照）を備えている。図４は、本実施形態の基板移載装置Ｓ１の機能構成を示す機能ブロック図である。この図に示すように、制御部６は、搬送ロボット１と、対向配置装置２と、スペーサ取付装置３と、収納装置４と、エア供給装置５とに対して電気的に接続されており、これらを制御することによって基板移載装置Ｓ１の全体の動作を制御する。
【００３８】
次に、このように構成された本実施形態の基板移載装置Ｓ１の動作について説明する。
なお、以下の説明においては、不図示の搬送カセットから熱処理用カセットＣにガラス基板Ｐを収納する動作について説明する。また、動作の開始時に、対向配置装置２の支持台２ａが水平とされ、収納装置４の吸着バー４ｅが対向配置装置２の上方に配置され、さらに熱処理用カセットＣが図１に示すように対向配置装置２の側方に配置された状態とする。
【００３９】
まず最初に、制御部６は、搬送ロボット１によって不図示の搬送カセットに水平姿勢で収納されたガラス基板Ｐを対向配置装置２の支持台２ａ上に搬送する。
具体的には、制御部６は、移動部１ｂ、ターンテーブル装置１ｃ、及びスライド装置１ｄによってハンド部１ａを水平状態で移動させ、搬送カセットに収納された複数のガラス基板Ｐのうち一枚をハンド部１ａによって支持した後、対向配置装置２の支持台２ａのいずれか一方にガラス基板Ｐを載置する。さらに制御部６は、同様に対向配置装置２の他方の支持台２ａにもガラス基板Ｐを載置する。この結果、図５に示すように、対向配置装置２の各支持台２ａにガラス基板Ｐが個別に載置される。
なお、搬送カセットにおいては、ガラス基板Ｐが処理対象面を上方に向けて収納されているため、支持台２ａに載置されるガラス基板Ｐは、処理対象面が上方を向いて載置されることとなる。
【００４０】
ここで制御部６は、ガラス基板Ｐを支持台２ａに載置する過程において、対向配置装置２の各支持台２ａに載置するガラス基板Ｐのうち、いずれか一方のガラス基板Ｐの一辺における中央部にスペーサ取付装置３によってスペーサＳを取り付ける。
なお、本実施形態の基板移載装置Ｓ１においては、図５に示すように、他のガラス基板Ｐ側の一辺における中央部にスペーサＳが取り付けられる。これによって、対向配置装置２によってガラス基板Ｐを水平姿勢とした際に、スペーサＳがガラス基板Ｐの上部辺に位置することとなる。
【００４１】
続いて、制御部６は、水平姿勢とされたガラス基板Ｐを対向配置装置２によって垂直姿勢とすることによって、各支持台２ａに個別に載置されたガラス基板Ｐを対向配置する。
具体的には、制御部６は、支持台２ａ上に載置されたガラス基板Ｐを各支持台２ａによって吸着支持する。続いて制御部６は、駆動部２ｂによって一方の支持台２ａと他方の支持台２ａとを逆方向に互いに下方に向けて回動させ、これによって、図６に示すように、２枚のガラス基板Ｐを非処理対象面同士を対向させて対向配置する。
【００４２】
続いて、制御部６は、対向配置されたガラス基板Ｐを収納装置４によって一纏めにすると共に熱処理用カセットＣの単一のスロットＲに収納する。
具体的には、制御部６は、収納装置４の昇降装置４ａを下降させることによって吸着バー４ｅを下降させると共にグリッパ装置４ｄによって吸着バー４ｅをガラス基板Ｐに近接させる。さらに制御部６は、図７に示すように対向配置装置２の支持台２ａによるガラス基板Ｐの吸着状態を破壊し、ガラス基板Ｐを吸着バー４ｅのみで吸着支持する。その後、制御部６は、図８に示すように吸着バー４ｅを上昇させる。
そして、制御部６は、グリッパ装置４ｄによって吸着バー４ｅ同士を近接させることによって、図９に示すように、２枚のガラス基板ＰをスペーサＳを介して貼り合わせ、これによって図１０に示すように２枚のガラス基板Ｐを一纏めとする。
その後、制御部６は、昇降装置４ａ及びスライド装置４ｂによって、図１１に示すようにガラス基板Ｐを熱処理用カセットＣの上方に移動し、さらに図１２に示すように一纏まりの２枚のガラス基板Ｐを熱処理用カセットＣの単一のスロットＲに収納する。
【００４３】
以上のような本実施形態の基板移載装置Ｓ１によれば、対向配置装置２によって、個別に載置された複数のガラス基板Ｐが対向配置され、収納装置４によって対向配置された複数のガラス基板Ｐが纏められて単一のスロットＲに収納される。つまり、本実施形態の基板移載装置Ｓ１によれば、従来一枚のガラス基板Ｐのみが収納されたスロットＲに対して、２枚のガラス基板Ｐを纏めて収納することができ、従来と同一サイズの熱処理用カセットＣに対して従来の２倍のガラス基板Ｐを収納させることができる。
このように従来と同一サイズの熱処理用カセットＣに対して従来の２倍のガラス基板Ｐを収納し、熱処理用カセットＣに収納されたガラス基板Ｐに対して同時に熱処理を行うことによって、熱処理炉の仕様をほぼ変更することなく、従来の処理時間で２倍のガラス基板Ｐを熱処理することが可能となり、この結果、処理効率が向上する。
したがって、本実施形態の基板移載装置Ｓ１によれば、ガラス基板Ｐに対して熱処理工程を行う熱処理炉及びガラス基板Ｐを収納する熱処理用カセットＣの仕様を大幅に変更することなく、ガラス基板Ｐに対する熱処理の処理効率を向上させることが可能となる。
【００４４】
また、本実施形態の基板移載装置Ｓ１においては、非処理対象面同士が対向されて２枚のガラス基板Ｐが対向配置されている。
つまり、一纏まりとされた際にガラス基板Ｐの処理対象面が外側を向くこととなり、処理対象面に対して熱を効率的に伝えることができ、効率的に熱処理を行うことが可能となる。
【００４５】
また、本実施形態の基板移載装置Ｓ１においては、スペーサＳを取り付けることによって、一纏まりとされた際にガラス基板Ｐの面同士が接触することが抑制される。
このため、熱処理後においてガラス基板Ｐ同士を離間させることが容易となる。
【００４６】
また、本実施形態の基板移載装置Ｓ１においては、スペーサＳをガラス基板Ｐの一辺の中央部に取り付けている。このため、図１０に示すように、スペーサＳが取り付けられた辺以外の辺をガラス基板Ｐを撓ませることによって接触させることができ、容易にスロットＲに対して一纏まりとされたガラス基板Ｐを収納することができる。
【００４７】
なお、熱処理用カセットＣから一纏まりの２枚のガラス基板Ｐを取り出し、ガラス基板Ｐ同士を離間させ、さらに搬送用カセットに戻す場合には、上述の動作を逆に行えば良い。
ただし、熱処理後のガラス基板Ｐ同士は、ガラス基板Ｐの間の空気が減少し、離間させ難くなる場合が考えられる。このため、本実施形態の基板移載装置Ｓ１は、収納装置４によって一纏まりのガラス基板Ｐを熱処理用カセットＣから対向配置装置２に搬送する過程において、エア供給装置５によってガラス基板Ｐの間に空気を供給する。これによって、容易にガラス基板Ｐ同士を離間させることが可能となる。
【００４８】
以上、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００４９】
例えば、上記実施形態においては、搬送カセットにガラス基板Ｐが水平姿勢で収納され、熱処理用カセットＣにガラス基板Ｐが垂直姿勢で収納される構成について説明した。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、搬送カセットにおいてガラス基板Ｐが垂直姿勢で収納される構成、及び、熱処理用カセットＣにおいてガラス基板Ｐが水平姿勢で収納される構成のいずれか若しくは両方の構成を採用することも可能である。
【００５０】
また、上記実施形態においては、本発明の基板としてガラス基板を用いる構成について説明した。
しかしながら、本発明は、これに限定されるものではなく、他の基板（例えば、太陽電池パネル）を本発明における基板として用いることもできる。
また、本発明における基板に対する処理は、熱処理に限られるものではなく、他の処理であっても良い。
【００５１】
また、上記実施形態においては、非処理対象面同士を対向させることによって２枚のガラス基板を対向させる構成について説明した。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、処理対象面の保護を図る目的等により、処理対象面同士を対向させることによって２枚のガラス基板を対向させても良い。
【００５２】
また、上記実施形態においては、本発明の基板が一方の面が処理対象面で他方の面が非処理対象面とされたガラス基板である構成について説明した。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、一方の面及び他方の面が処理対象面あるいは非処理対象面の基板を用いることもできる。
【００５３】
また、上記実施形態においては、２枚のガラス基板を一纏めとして単一のスロットＲに収納する構成について説明した。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、さらに複数の基板を一纏めとして単一のスロットＲに収納する構成を採用することもできる。
【００５４】
また、上記実施形態におけるスペーサＳの形状及び取付位置は一例であって、スペーサＳの形状及び取付位置を上記実施形態と変更することも可能である。
例えば、スペーサとして、ガラス基板Ｐの接触可能な領域に倣って枠形状とされたものを用いることもでき、このような場合には、ガラス基板Ｐを一纏めとした際に、ガラス基板Ｐが撓むことを抑制することができる。
【符号の説明】
【００５５】
Ｓ１……基板移載装置、２……対向配置装置（対向配置手段）、３……スペーサ取付装置（スペーサ取付手段）、４……収納装置（収納手段）、５……エア供給装置（気体供給手段）、Ｃ……熱処理用カセット（カセット）、Ｒ……スロット（基板収納領域）、Ｓ……スペーサ、Ｐ……ガラス基板（基板）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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