(57)【要約】【課題】吸着パッドに詰まったスラッジを確実に排出する。【解決手段】支持部材（５３ａ）に支持されていて被加工物（２０）を吸着する吸着パッド（５１ａ）を洗浄する吸着パッド洗浄装置は、吸着パッドの内部から吸着パッドの吸着面（５２ａ）に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段（５８）と、吸着パッドの吸着面において吸着パッドの内側領域を該内側領域周りの外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部（３０）とを含む。また、チャックテーブル（１２ａ）は、被加工物を吸着する吸着パッドと、吸着パッドを支持する支持部材（５３ａ、５７）と、支持部材に形成されていて吸着パッドの内側領域周りに在る外側領域まで延びる外側領域通路（７１）と、洗浄液を外側領域通路に通して吸着パッドの吸着面に向かって供給する洗浄液供給手段と、を含む。【選択図】図２
2010114394.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持部材に支持されていて被加工物を吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄装置において、
前記吸着パッドの内部から前記吸着パッドの吸着面に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記吸着面における前記吸着パッドの内側領域を該内側領域周りの外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部とを具備する、吸着パッド洗浄装置。
【請求項２】
さらに、前記内側領域被覆部から前記吸着パッドの吸着面に向かって気体を供給する気体供給手段とを具備する、請求項１に記載の吸着パッド洗浄装置。
【請求項３】
支持部材に支持されていて被加工物を吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄装置において、
前記吸着パッドの内部から前記吸着パッドの吸着面に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記吸着面における前記吸着パッドの外側領域を該外側領域に囲まれる内側領域から封止可能に被覆する外側領域被覆部と、
前記外側領域被覆部により被覆された前記吸着パッドの前記外側領域に真空を適用する真空手段とを具備する、吸着パッド洗浄装置。
【請求項４】
さらに、前記吸着面における前記吸着パッドの前記内側領域を前記外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部を具備する、請求項３に記載の吸着パッド洗浄装置。
【請求項５】
支持部材に支持されていて被加工物を吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄装置において、
前記吸着面における前記吸着パッドの前記内側領域を該内側領域周りの外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部と、
前記内側領域被覆部から前記吸着パッドの吸着面に向かって気体を供給する気体供給手段とを具備する、吸着パッド洗浄装置。
【請求項６】
さらに、前記吸着パッドの内部から前記吸着パッドの吸着面に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段を具備する、請求項５に記載の吸着パッド洗浄装置。
【請求項７】
さらに、前記吸着面における前記吸着パッドの前記外側領域を前記内側領域から封止可能に被覆する外側領域被覆部と、
前記外側領域被覆手段により被覆された前記外側領域に真空を適用する真空手段とを具備する、請求項５または６に記載の吸着パッド洗浄装置。
【請求項８】
被加工物を吸着する吸着パッドと、
該吸着パッドを支持する支持部材と、
該支持部材に形成されていて前記吸着パッドの内側領域周りに位置する外側領域まで延びる外側領域通路と、
洗浄液を前記外側領域通路に通して前記外側領域における前記吸着パッドの吸着面に向かって供給する洗浄液供給手段と、を具備するチャックテーブル。
【請求項９】
さらに、前記支持部材に形成されていて前記吸着パッドの前記内側領域まで延びる内側領域通路を具備し、
前記洗浄液供給手段は、洗浄液を前記外側領域通路および前記内側領域通路に通して前記吸着パッドの吸着面に向かって供給する、請求項８に記載のチャックテーブル。
【請求項１０】
さらに、前記吸着パッドの前記外側領域と前記内側領域とを仕切る仕切手段を具備する、請求項９に記載のチャックテーブル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハを吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄装置および吸着パッドを備えたチャックテーブルに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造分野においてはウェーハが年々大型化する傾向にあり、また、実装密度を高めるためにウェーハの薄膜化が進んでいる。ウェーハを薄膜化するために、半導体ウェーハの裏面を研削するいわゆる裏面研削（バックグラインド）が行われる。例えば特許文献１には、真空の吸引力を利用したチャックにウェーハを吸着保持させてウェーハの裏面を研削する技術が開示されている。
【０００３】
図９は特許文献１に開示されるような従来技術におけるウェーハ研削装置の略図である。ウェーハの裏面を研削するときには、ウェーハ２０の表面２１には表面保護フィルム１１が貼付けられる。この表面保護フィルム１１は、表面２１に形成された回路パターン（図示しない）を保護する役目を果たす。また、従来技術におけるウェーハ研削装置の部分断面図である図１０から分かるように、ウェーハ２０の縁部には面取部２５が形成されている。このため、表面保護フィルム１１はウェーハ２０の縁部において面取部２５に沿って貼付けられる。
【０００４】
図１０に示されるように、ウェーハ２０はその裏面２２が上方を向くように、吸着パッド５１０に吸着保持される。吸着パッド５１０は通常は多孔質材料から形成されており、図示しない真空手段により真空を吸着面５２０に適用することでウェーハ２０が吸着パッド５１０に吸着保持される。そして、図９に実線矢印で示されるように、互いに回転する研削砥石２８０とウェーハ２０との接点に研削水が供給され、研削砥石２８０により、ウェーハ２０の裏面２２が研削されるようになる。
【特許文献１】特開２０００−２１９５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、表面保護フィルム１１はウェーハ２０の面取部２５に沿って貼付けられているので、ウェーハ２０の縁部においては隙間Ｇが表面保護フィルム１１と吸着パッド５１０との間に形成される。研削の進行により生じた研削屑は、研削水と共にスラッジＳとして隙間Ｇを通じて吸着パッド５１０内に流入し、スラッジＳが吸着パッド５１０内部で詰まるようになる。
【０００６】
一つのウェーハ２０の研削が終了すると、吸着パッド５１０の吸引作用を解除してウェーハ２０を吸着パッド５１０から取外す。そして、従来技術における吸着パッドの部分断面図である図１１に示されるように、吸着パッド５１０の中心における底面側から吸着面５２０に向かって洗浄液を供給する。これにより、洗浄液は半径方向に広がって吸着パッド５１０の吸着面５２０全体からから流出する。そして、洗浄液を供給しつつ、洗浄装置の回転砥石（図９、図１０および図１１には示さない）により吸着パッド５１０の吸着面５２０を微量だけ研削することにより吸着パッド５１０が洗浄される。
【０００７】
しかしながら、図１１における矢印の寸法から分かるように、洗浄液の流量は吸着パッド５１０の中心領域において大きいものの、吸着パッド５１０の外側領域においては小さくなる。また、前述したように吸着パッド５１０の外側領域にはスラッジＳが詰まっているので、洗浄液は吸着パッド５１０の外側領域には到達し難い場合もある。また、洗浄液の供給のみによってスラッジＳを吸着パッド５１０から完全に排出するためには、洗浄液の流量をかなり大きくする必要があり、経済的でない。
【０００８】
さらに、回転砥石は吸着パッド５１０の吸着面５２０に堆積したスラッジＳを除去できるものの、吸着パッド５１０内部に詰まったスラッジＳを除去することはできない。また、吸着パッド５１０の研削時には、回転砥石がスラッジＳを吸着パッド５１０内部に押込む場合があり、このような場合には、スラッジにより吸着パッド５１０が却って詰まることになる。
【０００９】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、吸着パッドに詰まったスラッジを確実に排出することのできる吸着パッド洗浄装置およびチャックテーブルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前述した目的を達成するために１番目の発明によれば、支持部材に支持されていて被加工物を吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄装置において、前記吸着パッドの内部から前記吸着パッドの吸着面に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記吸着面における前記吸着パッドの内側領域を該内側領域周りの外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部とを具備する、吸着パッド洗浄装置が提供される。
【００１１】
すなわち１番目の発明においては、内側領域被覆部が吸着パッドの内側領域を閉鎖しているので、洗浄液は吸着パッドの外側領域においてのみ流出する。このため、洗浄液は吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジを確実に排出できる。なお、内側領域被覆部と吸着パッドの吸着面との間に隙間があってもよい。
【００１２】
２番目の発明によれば、１番目の発明において、さらに、前記内側領域被覆部から前記吸着パッドの吸着面に向かって気体を供給する気体供給手段とを具備する。
すなわち２番目の発明においては、吸着パッドの内側領域に供給された洗浄液を気体が押出すことにより、吸着パッドの外側領域に供給される洗浄液の流量を増加させられる。従って、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジをさらに確実に排出できる。
【００１３】
３番目の発明によれば、支持部材に支持されていて被加工物を吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄装置において、前記吸着パッドの内部から前記吸着パッドの吸着面に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記吸着面における前記吸着パッドの外側領域を該外側領域に囲まれる内側領域から封止可能に被覆する外側領域被覆部と、前記外側領域被覆部により被覆された前記吸着パッドの前記外側領域に真空を適用する真空手段とを具備する、吸着パッド洗浄装置が提供される。
【００１４】
すなわち３番目の発明においては、真空手段によって洗浄液は吸着パッドの外側領域を通って吸引される。このため、洗浄液は吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジを確実に排出できる。
【００１５】
４番目の発明によれば、３番目の発明において、さらに、前記吸着面における前記吸着パッドの前記内側領域を前記外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部を具備する。
すなわち４番目の発明においては、内側領域被覆部が吸着パッドの内側領域を閉鎖しているので、真空手段による吸引の効果をさらに高めることができる。
【００１６】
５番目の発明によれば、支持部材に支持されていて被加工物を吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄装置において、前記吸着面における前記吸着パッドの前記内側領域を該内側領域周りの外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部と、前記内側領域被覆部から前記吸着パッドの吸着面に向かって気体を供給する気体供給手段とを具備する、吸着パッド洗浄装置が提供される。
【００１７】
すなわち５番目の発明においては、気体供給手段から供給された気体は吸着パッドの内側領域を通って外側領域から流出するようになる。このため、気体は吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジを確実に排出できる。なお、内側領域被覆部と吸着パッドの吸着面との間に隙間があってもよい。また、気体の代わりに、洗浄液を内側領域被覆部から供給するようにしてもよい。
【００１８】
６番目の発明によれば、５番目の発明において、さらに、前記吸着パッドの内部から前記吸着パッドの吸着面に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段を具備する。
すなわち６番目の発明においては、洗浄液が気体と一緒に吸着パッドの外側領域から流出する。このため、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジをさらに確実に排出できる。
【００１９】
７番目の発明によれば、５番目または６番目の発明において、さらに、前記吸着面における前記吸着パッドの前記外側領域を前記内側領域から封止可能に被覆する外側領域被覆部と、前記外側領域被覆手段により被覆された前記外側領域に真空を適用する真空手段とを具備する。
すなわち７番目の発明においては、真空手段により気体および／または洗浄液が吸引されるので、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジをさらに確実に排出できる。
【００２０】
８番目の発明によれば、被加工物を吸着する吸着パッドと、該吸着パッドを支持する支持部材と、該支持部材に形成されていて前記吸着パッドの内側領域周りに位置する外側領域まで延びる外側領域通路と、洗浄液を前記外側領域通路に通して前記外側領域における前記吸着パッドの吸着面に向かって供給する洗浄液供給手段と、を具備するチャックテーブルが提供される。
【００２１】
すなわち８番目の発明においては、洗浄液を吸着パッドの外側領域に直接的に供給しているので、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジを確実に排出できる。
【００２２】
９番目の発明によれば、８番目の発明において、さらに、前記支持部材に形成されていて前記吸着パッドの前記内側領域まで延びる内側領域通路を具備し、前記洗浄液供給手段は、洗浄液を前記外側領域通路および前記内側領域通路に通して前記吸着パッドの吸着面に向かって供給する。
すなわち９番目の発明においては、吸着パッドの内側領域に供給される洗浄液の量が不足するのを避けられる。また、洗浄液供給手段が外側領域通路における洗浄液の流量を内側領域通路における流量よりも大きくし、それにより、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジをより確実に排出できる。
【００２３】
１０番目の発明によれば、９番目の発明において、さらに、前記吸着パッドの前記外側領域と前記内側領域とを仕切る仕切手段を具備する。
すなわち１０番目の発明においては、吸着パッドの外側領域における洗浄液の流量が低下するのを避けることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態を説明する。以下の図面において同様の部材には同様の参照符号が付けられている。理解を容易にするために、これら図面は縮尺を適宜変更している。
図１は本発明の第一の実施形態に基づく吸着パッド洗浄装置を含むウェーハ処理装置の頂面図である。ウェーハ処理装置１０には、複数の回路パターン（図示しない）が形成された表面２１が表面保護フィルム１１により保護されている複数のウェーハ２０がカセット１１ａにより供給されるものとする。
【００２５】
図１に示されるウェーハ処理装置１０は、四つのチャックテーブル１２ａ〜１２ｄを備えていて矢印Ａ方向にインデックス回転するターンテーブル１３と、チャックテーブル１２ａ〜１２ｄのそれぞれの吸着パッド５１ａ〜５１ｄを洗浄する吸着パッド洗浄装置１８と、ウェーハ２０を搬送する搬送ロボット１５とを主に含んでいる。
【００２６】
さらに、図１に示されるように、ウェーハ処理装置１０においては、粗研削ユニット４１、仕上研削ユニット４２および研磨ユニット４３がターンテーブル１３の回転方向Ａに沿って順番に配置されている。なお、粗研削ユニット４１は粗研削砥石（図示しない）によりウェーハ２０の裏面２２を粗研削し、仕上研削ユニット４２は仕上研削砥石（図示しない）により裏面２２を仕上研削し、研磨ユニット４３は研磨布を備えた研磨ヘッド（図示しない）により裏面２２を研磨する。
【００２７】
図２（ａ）および図２（ｂ）はそれぞれ図１に示される吸着パッド洗浄装置の頂面図および側断面図である。これら図面には、チャックテーブル１２ａが代表して示されているが、他のチャックテーブル１２ｂ〜１２ｄも同様の構成である。図２（ｂ）に示されるように、チャックテーブル１２ａは、凹部を備えた枠体５３ａと、枠体５３ａの凹部に嵌込まれて支持される吸着パッド５１ａとを主に含んでいる。
【００２８】
図２（ｂ）に示されるように、吸着パッド５１ａの吸着面５２ａは枠体５３ａの上面と同一平面になっており、吸着パッド５１ａの下面と枠体５３ａとの間には隙間５５ａが形成されている。図２（ｂ）に示されるように、吸着パッド５１ａはその中心を含む内側領域Ｚ１と、内側領域Ｚ１周りに環状に広がる外側領域Ｚ２とを含んでいる。内側領域Ｚ１の半径は、吸着パッド５１ａの半径の約５０％から９０％であるものとする。
【００２９】
なお、吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１および外側領域Ｚ２は多孔質材料、例えば多孔性のアルミナから形成されている。枠体５３ａは中実材料、例えば緻密なアルミナから形成されている。
【００３０】
また、図２（ｂ）に示されるように、中心通路５６ａが枠体５３ａの中心から隙間５５ａまで延びている。中心通路５６ａは第一真空手段５９に接続されており、第一真空手段５９が起動すると、吸着パッド５１ａの吸着面５２ａに真空が適用されるようになる。
【００３１】
図２（ｂ）に示されるように、中心通路５６ａは、洗浄液を供給する洗浄液供給手段５８にも接続されている。後述するように、中心通路５６ａは洗浄液供給手段５８から洗浄液を吸着面５２ａに供給するときにも使用される。
【００３２】
図２（ａ）および図２（ｂ）においては、吸着パッド洗浄装置１８は、吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１を封止可能に被覆する内側領域被覆部３０を含んでいる。図示されるように、内側領域被覆部３０は、枠体５３ａの外形に概ね等しい外形を有する蓋部３１と、蓋部３１の中心から上方に延びる連結部３２を含む。連結部３２は吸着パッド洗浄装置１８の本体に連結されていて、内側領域被覆部３０は所望の位置まで水平方向および鉛直方向に移動される。
【００３３】
蓋部３１の下面には、枠体５３ａの上面に載置する複数、例えば三つの脚部３３が設けられている。図２（ｂ）に示されるように、脚部３３が枠体５３ａに載置されると、蓋部３１と枠体５３ａとの間には、脚部３３の高さに応じた隙間が形成される。なお、脚部３３の数は限定されるものではなく脚部３３が一つのみであってもよい。しかしながら、そのような場合であっても、蓋部３１と枠体５３ａとの間に隙間が形成されることが必要とされる。
【００３４】
さらに、蓋部３１の下面には、封止部材３５が内側領域Ｚ１と外側領域Ｚ２との間の環状の境界線に沿って延びている。封止部材３５は、弾性体、例えばエラストマから形成されている。また、封止部材３５は脚部３３よりもわずかながら高く形成されている。従って、図２（ｂ）に示されるように脚部３３が枠体５３ａに載置されると、封止部材３５は吸着パッド５１ａの吸着面５２ａに接触し、封止部材３５により囲まれた領域（内側領域Ｚ１に対応する）を外部から封止するようになる。
【００３５】
また、封止部材３５は弾性体から形成されているので、封止部材３５が吸着面５２ａを損傷させることはない。この目的のために、図２（ｂ）に示されるように封止部材３５の断面は三角形であるのが好ましい。
【００３６】
以下、図１、図２（ａ）および図２（ｂ）を参照しつつ、本発明のウェーハ処理装置１０の動作について説明する。はじめに、搬送ロボット１５によって、カセット１１ａから一つのウェーハ２０が取出されて、チャックテーブル１２ａまで搬送される。
【００３７】
次いで、第一真空手段５９を起動させて、チャックテーブル１２ａの吸着パッド５１ａに真空が適用される。そして、ウェーハ２０はその裏面２２が上方を向いた状態でチャックテーブル１２ａに吸引保持される。次いで、ターンテーブル１３がインデックス回転し、チャックテーブル１２ａは粗研削ユニット４１まで移動される。このとき、別のチャックテーブル１２ｄには別のウェーハ２０が搬送ロボット１５により搬送され、同様な処理が順次行われる。しかしながら、このことは公知であるので説明を省略する。
【００３８】
粗研削ユニット４１においてはウェーハ２０の裏面２２が粗研削砥石（図示しない）により公知の手法で粗研削される。次いで、ターンテーブル１３がインデックス回転して、チャックテーブル１２ａは粗研削ユニット４１から仕上研削ユニット４２まで移動される。仕上研削ユニット４２においては、ウェーハ２０の裏面２２は仕上研削砥石（図示しない）により公知の手法で仕上研削される。
【００３９】
次いで、研磨ユニット４３においては、研磨布からスラリーを吐出しつつ、ウェーハ２０の裏面２２に対してウェットポリッシュが行われる。ウェットポリッシュの終了後には、第一真空手段５９は停止され、それにより、チャックテーブル１２ａの保持作用が解除される。そして、搬送ロボット１５によってウェーハ２０がチャックテーブル１２ａからカセット１１ｂまで搬送される。
【００４０】
前述した一連の工程が終了すると、ターンテーブル１３がさらにインデックス回転して、チャックテーブル１２ａは図１に示される位置まで帰還する。図１に示されるこの位置においては、前述した研削作用および研磨作用により生じたスラッジが隙間Ｇを通じて吸着パッド５１ａ内に進入し、吸着パッド５１ａの外側領域に部分的に詰まっている（図１０を参照されたい）。
【００４１】
本発明においては、新たなウェーハ２０が載置される前に、チャックテーブル１２ａの吸着パッド５１ａは、第一の実施形態における吸着パッド洗浄装置１８によって洗浄される。吸着パッド洗浄装置１８による洗浄作用は他の吸着パッド５１ｂ〜５１ｄでも同様であるが、以下においては、吸着パッド洗浄装置１８による吸着パッド５１ａの洗浄作用を代表して説明する。
【００４２】
吸着パッド５１ａを洗浄するときには、吸着パッド洗浄装置１８を起動して、蓋部３１を吸着パッド５１ａ上に位置決めする。これにより、脚部３３および封止部材３５がそれぞれ枠体５３ａおよび吸着面５２ａ上に載置され、従って、吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１が蓋部３１により閉鎖されるようになる。その結果、内側領域Ｚ１に対応する吸着面５２ａと蓋部３１との間には空間Ａ１が形成される。
【００４３】
次いで、洗浄液供給手段５８から洗浄液を中心通路５６ａに供給する。これにより、洗浄液は吸着パッド５１ａの隙間５５ａを通って吸着パッド５１ａの半径方向に広がり、次いで吸着パッド５１ａの吸着面５２ａ全体から流出する。前述したように、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２にはスラッジが詰まっているものの、そのようなスラッジは外側領域Ｚ２を通過する洗浄液によって吸着面５２ａから押出され、蓋部３１と枠体５３ａとの間を通って排出される。
【００４４】
また、洗浄液の一部は、内側領域Ｚ１において吸着面５２ａから流出する。しかしながら、蓋部３１と吸着面５２ａとの間の空間Ａ１が蓋部３１および封止部材３５により閉鎖されているので、空間Ａ１に流出した洗浄液およびスラッジは、空間Ａ１と吸着パッド５１ａとの間で循環し、最終的には蓋部３１と枠体５３ａとの間を通って排出される。つまり、一旦、空間Ａ１に流出した洗浄液も最終的には吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２におけるスラッジを排出するのに寄与する。このような構成であるので、本発明においては、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に詰まったスラッジを確実に排出できるのが分かるであろう。
【００４５】
図３（ａ）および図３（ｂ）は本発明の第二の実施形態に基づく吸着パッド洗浄装置のそれぞれ頂面図および側断面図である。これら図面に示されるように、第二の実施形態においては、貫通孔３６が封止部材３５の内側において蓋部３１に形成されている。図３（ａ）から分かるように、貫通孔３６はチャックテーブル１２ａの中心通路５６ａから偏心した位置に形成されている。そして、貫通孔３６は、気体、例えば不活性ガスを供給する気体供給手段３９に接続されている。
【００４６】
第二の実施形態および後述する実施形態における吸着パッド洗浄装置１８は第一の実施形態の場合と同じタイミングで使用される。このとき、気体が気体供給手段３９から空間Ａ１に供給される。なお、このときには、洗浄液供給手段５８および第一真空手段５９は動作していない。
【００４７】
次いで、空間Ａ１内の気体は吸着面５２ａから吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１内に進入し、半径方向外側に広がる。そして、気体は外側領域Ｚ２に対応する吸着面５２ａから流出し、蓋部３１と枠体５３ａとの間を通って排出される。従って、前述した実施形態と同様に、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジを確実に排出できるのが分かるであろう。なお、内側領域被覆部３０が吸着面５２ａに概ね接触していて空間Ａ１が存在しない場合でも、第二の実施形態の内側領域被覆部３０を適用することが可能である。
【００４８】
また、気体供給手段３９に加えて、洗浄液供給手段５８を起動してもよい。このような場合には、気体が吸着面５２ａに吹付けけられるので、洗浄液は内側領域Ｚ１の吸着面５２ａから空間Ａ１に進入し難くなる。そして、このことによって低下した吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１に供給される洗浄液の流量は、外側領域Ｚ２に供給される洗浄液の流量に加算される。すなわち吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に供給される洗浄液の流量が増すので、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジをより確実に排出できる。
【００４９】
さらに、洗浄液供給手段５８の駆動時には、洗浄液供給手段５８からの洗浄液は吸着面５２ａの中心部分において最も多量に流出する。この点に関し、図３（ａ）および図３（ｂ）から分かるように、第二の実施形態においては貫通孔３６が中心通路５６ａから偏心している。このため、洗浄液供給手段５８からの洗浄液と気体供給手段３９からの気体とが空間Ａ１内で直接的に衝突することはない。このような構成であるので、より効率的にスラッジが排出されるのが分かるであろう。なお、図３（ａ）および図３（ｂ）においては単一の貫通孔３６が示されているが、気体供給手段３９に接続された複数の貫通孔３６を備える構成であってもよい。
【００５０】
図４（ａ）および図４（ｂ）は本発明の第三の実施形態に基づく吸着パッド洗浄装置のそれぞれ頂面図および側断面図である。第三の実施形態においては、吸着パッド洗浄装置１８は吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２（図２（ａ）を参照されたい）を封止可能に被覆する外側領域被覆部６０を含んでいる。
【００５１】
図４（ａ）および図４（ｂ）に示されるように、外側領域被覆部６０は断面Ｌ字形状の環状部材６２と、この環状部材６２に挿入された筒体６１とから主に構成されている。筒体６１の直径は、前述した吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１の直径に概ね等しい。図示されるように、これら筒体６１および環状部材６２の底端面には、弾性体、例えばエラストマから形成された環状の封止部材６５、６６がそれぞれ取付けられている。
【００５２】
図４（ｂ）から分かるように、外側領域被覆部６０をチャックテーブル１２ａ上に配置すると、環状部材６２の封止部材６６が枠体５３ａの頂面に載置されると共に、筒体６１の封止部材６５が吸着パッド５１ａの吸着面５２ａ上に載置される。これにより、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２は外側領域被覆部６０によって被覆される。そして、筒体６１と環状部材６２との間には外側領域Ｚ２に対応した環状空間Ａ２が形成される。
【００５３】
さらに、図４（ａ）に示されるように、環状部材６２の頂面には複数の貫通孔６４が等間隔で周方向に形成されている。図示されるように、貫通孔６４は第二真空手段６９に接続されており、第二真空手段６９が起動すると、筒体６１と環状部材６２との間の環状空間Ａ２に真空が適用されるようになる。
【００５４】
第三の実施形態において吸着パッド５１ａを洗浄するときには、洗浄液が洗浄液供給手段５８から吸着パッド５１ａに供給されると共に第二真空手段６９によって真空が環状空間Ａ２に適用される。なお、第一真空手段５９は動作していない。
【００５５】
洗浄液供給手段５８からの洗浄液は吸着パッド５１ａの隙間５５ａを通って吸着パッド５１ａの半径方向に広がる。次いで、洗浄液は外側領域Ｚ２において吸着面５２ａから環状空間Ａ２を通って第二真空手段６９に吸引される。このように、洗浄液が吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２を通過するので、前述した実施形態と同様に、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジを確実に排出できるのが分かるであろう。
【００５６】
なお、第三の実施形態においては、洗浄液の一部が内側領域Ｚ１における吸着面５２ａから流出して、筒体６１内にわずかながら蓄積するのが好ましい。これにより、内側領域Ｚ１における吸着面５２ａも洗浄することができる。この目的のために、洗浄液供給手段５８による洗浄液の供給作用は、第二真空手段６９による洗浄液およびスラッジの吸引作用よりも強力にするのが好ましい。
【００５７】
図５（ａ）および図５（ｂ）は本発明の第四の実施形態に基づく洗浄装置のそれぞれ頂面図および側断面図である。これら図面に示されるように、第四の実施形態は筒体６１の底端部に蓋部６７が設けられている点において、第三の実施形態とは異なる。このような構成であるので、第四の実施形態においては、内側領域Ｚ１に対応する空間Ａ３が蓋部６７と吸着面５２ａとの間に形成される。図５（ｂ）から分かるように、空間Ａ３の高さは封止部材６５の高さに概ね等しい。
【００５８】
内側領域Ｚ１における吸着面５２ａは露出しておらず、また、封止部材６５が筒体６１の底端部に取付けられているので、蓋部６７により形成される閉鎖空間Ａ３はかなり小さい。従って、第二真空手段６９による吸引の効果を高められ、その結果、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に詰まったスラッジをより確実に排出することが可能となる。
【００５９】
さらに、図６（ａ）および図６（ｂ）は本発明の第五の実施形態に基づく洗浄装置のそれぞれ頂面図および側断面図である。これら図面に示されるように、第五の実施形態は蓋部６７に貫通孔６８が形成されていると共に、貫通孔６８が気体供給手段３９に接続されている点において、第四の実施形態とは異なる。
【００６０】
第五の実施形態においては、吸着パッド５１ａの洗浄時に、気体、例えば不活性ガスが気体供給手段３９から空間Ａ３に供給される。これにより、洗浄液供給手段５８から空間Ａ３に流出した洗浄液が気体によって吸着パッド５１ａ内部に押戻され、半径方向に広がって環状空間Ａ２を通って吸引される。第五の実施形態においては、吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１に供給された洗浄液を気体が押出すことにより、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に供給される洗浄液の流量を増加させられる。それゆえ、より効率的にスラッジが排出されるのが分かるであろう。
【００６１】
なお、図６（ａ）および図６（ｂ）においては単一の貫通孔６８が示されているが、気体供給手段３９に接続された複数の貫通孔６８を備える構成であってもよい。また、第五の実施形態において気体供給手段３９のみを起動してもよい。この場合には、第二の実施形態と同様な効果が得られる。
【００６２】
ところで、前述した第一から第五の実施形態においては、吸着パッド洗浄装置１８の内側領域被覆部３０または外側領域被覆部６０等を準備して、既存のチャックテーブル１２ａ〜１２ｄに単に配置すればよい。言い換えれば、これら第一から第五の実施形態においてはチャックテーブル１２ａ〜１２ｄを新たに作成する必要はなく、従って、製造費用を抑えることが可能となる。
【００６３】
ただし、本発明の他の実施形態においては、新たな構成のチャックテーブル１２ａ〜１２ｄを用いて、吸着パッドに詰まったスラッジを排出するようにしてもよい。図７は本発明の他の実施形態に基づくチャックテーブルの側断面図である。図７および後述する図８には、チャックテーブル１２ａを代表して示しているが、他のチャックテーブル１２ｃ〜１２ｄも同様の構成である。
【００６４】
図７に示されるチャックテーブル１２ａの枠体５３ａはテーブルベース５７上に載置されている。テーブルベース５７の下面には中心通路７０が形成されており、洗浄液供給手段５８および第一真空手段５９に接続されている。図示されるように、中心通路７０は、テーブルベース５７内において半径方向外側に延びる複数の外側領域通路７１に分岐している。
【００６５】
これら外側領域通路７１は、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に対応する部分において枠体５３ａの隙間５５ａに接続する。図７においては外側領域通路７１は吸着パッド５１ａの外周面近傍まで延びているが、外側領域通路７１は外側領域Ｚ２に対応する部分であれば、隙間５５ａのどの部分に接続されていてもよい。
【００６６】
図７に示される実施形態において吸着パッド５１ａを洗浄するときには、第一真空手段５９を停止させつつ、洗浄液供給手段５８を起動する。洗浄液供給手段５８からの洗浄液は外側領域通路７１を通って半径方向外側に流れ、次いで、外側領域Ｚ２における吸着面５２ａから流出する。さらに、一部の洗浄液は、隙間５５ａを通って半径方向内側に流れつつ、内側領域Ｚ１における吸着面５２ａから流出する。
【００６７】
本発明の他の実施形態においては、洗浄液を外側領域通路７１に通して吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に直接的に供給している。従って、図７における矢印の寸法から分かるように、吸着面５２ａから流出する洗浄液の流量は、吸着パッド５１ａの外周面近傍で最も大きく、吸着パッド５１ａの中心付近において最も小さい。このように洗浄液の流量が吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２おいて最大となるので、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に詰まったスラッジを確実に排出することが可能となる。
【００６８】
さらに、図８は本発明のさらに他の実施形態に基づくチャックテーブルの側断面図である。図８に示されるテーブルベース５７には、半径方向外側に延びる複数の外側領域通路７１に分岐する中心通路７０が形成されている。さらに、テーブルベース５７には、内側領域Ｚ１に対応する隙間５５ａに接続する内側領域通路７２が、中心通路７０に隣接して形成されている。これら中心通路７０および内側領域通路７２は、洗浄液供給手段５８および第一真空手段５９の両方に接続されている。
【００６９】
図８に示される実施形態において吸着パッド５１ａを洗浄するときには、第一真空手段５９を停止させつつ、洗浄液供給手段５８を起動する。洗浄液供給手段５８からの洗浄液は中心通路７０および外側領域通路７１を通って吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に供給されると共に、内側領域通路７２を通って吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１に供給される。従って、吸着パッド５２ａの内側領域Ｚ１に供給される洗浄液の量が不足することはない。それゆえ、スラッジが吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１に詰まっている場合であっても、そのようなスラッジを排出することが可能になる。
【００７０】
また、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に詰まったスラッジを排出するのが困難である場合には、洗浄液供給手段５８によって外側領域通路７１に供給される洗浄液の流量を内側領域通路７２に供給される流量よりも増大させることも可能である。このような構成であるので吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に詰まったスラッジを確実に排出できるのが分かるであろう。
【００７１】
さらに、図８に示されるように、環状突起７５が内側領域Ｚ１と外側領域Ｚ２との間の境界線に沿って延びている。この環状突起７５は、吸着パッド５１ａ内部において内側領域Ｚ１と外側領域Ｚ２とを仕切る。図示されるように、環状突起７５の先端は吸着パッド５１ａの吸着面５２ａよりもわずかながら低い。また、環状突起７５は中実材料、例えば緻密なアルミナから形成されている。
【００７２】
このような環状突起７５が備えられている場合には、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に供給された洗浄液は、内側領域Ｚ１にほとんど流れることなしに、外側領域Ｚ２における吸着面５２ａから流出する。言い換えれば、この場合には、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２における洗浄液の流量が低下することはなく、従って、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に詰まったスラッジをより確実に排出できる。
【００７３】
なお、複数の実施形態について説明したが、前述した実施形態のいくつかを適宜組み合わせることは本発明の範囲に含まれる。また、気体供給手段３９から気体の代わりに、液体、例えば洗浄液を供給してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の第一の実施形態に基づく吸着パッド洗浄装置を含むウェーハ処理装置の頂面図である。
【図２】（ａ）図１に示される吸着パッド洗浄装置の頂面図である。（ｂ）図１に示される吸着パッド洗浄装置の側断面図である。
【図３】（ａ）本発明の第二の実施形態に基づく洗浄装置の頂面図である。（ｂ）図３（ａ）に示される吸着パッド洗浄装置の側断面図である。
【図４】（ａ）本発明の第三の実施形態に基づく洗浄装置の頂面図である。（ｂ）図４（ａ）に示される吸着パッド洗浄装置の側断面図である。
【図５】（ａ）本発明の第四の実施形態に基づく洗浄装置の頂面図である。（ｂ）図５（ａ）に示される吸着パッド洗浄装置の側断面図である。
【図６】（ａ）本発明の第五の実施形態に基づく洗浄装置の頂面図である。（ｂ）図６（ａ）に示される吸着パッド洗浄装置の側断面図である。
【図７】本発明の他の実施形態に基づくチャックテーブルの側断面図である。
【図８】本発明のさらに他の実施形態に基づくチャックテーブルの側断面図である。
【図９】従来技術におけるウェーハ研削装置の略図である。
【図１０】従来技術におけるウェーハ研削装置の部分断面図である。
【図１１】従来技術における吸着パッドの部分断面図である。
【符号の説明】
【００７５】
１０    ウェーハ処理装置
１１    表面保護フィルム
１１ａ、１１ｂ    カセット
１２ａ〜１２ｄ    チャックテーブル
１３    ターンテーブル
１５    搬送ロボット
１８    吸着パッド洗浄装置
２０    ウェーハ
３０    内側領域被覆部
３１    蓋部
３２    連結部
３３    脚部
３５    封止部材
３６    貫通孔
３９    気体供給手段
４１    粗研削ユニット
４２    仕上研削ユニット
４３    研磨ユニット
５１ａ〜５１ｄ    吸着パッド
５２ａ    吸着面
５３ａ    枠体（支持手段）
５５ａ    隙間
５６ａ    中心通路
５７    テーブルベース（支持手段）
５８    洗浄液供給手段
５９    第一真空手段
６０    外側領域被覆部
６１    筒体
６２    環状部材
６４    貫通孔
６５、６６    封止部材
６７    蓋部
６８    貫通孔
６９    第二真空手段
７０    中心通路
７１    外側領域通路
７２    内側領域通路
７５    環状突起（仕切手段）
Ｚ１    内側領域
Ｚ２    外側領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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