(57)【要約】【課題】装置スループットを低下させることなく、基板とキャリアとの摩擦によって基板に帯電した静電気を基板処理前に除電する基板除電制御システムを提供することを目的とする。【解決手段】ＥＦＥＭ１内に除電装置３とＦＦＵ４を設けることにより、ＥＦＥＭ１内での基板搬送中に除電することができるため、装置スループットを低下させることなく基板処理前に除電することが可能となる。さらに、処理室８へ搬送されるまでの時間であるＥＦＥＭ内滞在時間の確認と、除電装置３の出力およびＦＦＵ４風量の制御とを装置コントローラ９が制御することで、ＥＦＥＭ内滞在時間内に除電処理が完了するように除電装置３の出力とＦＦＵ４風量とを制御することが可能となり、確実かつ逆帯電を抑制しながら基板処理前に除電することが可能となる。【選択図】図１
2010140975.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して製造処理を行う処理室と、
製造処理前の前記基板を格納するキャリアと、
前記キャリアと前記処理室との間に設けられる準備室と、
前記準備室に配置される除電装置と、
前記準備室に配置される送風装置と、
除電処理の際に前記除電装置と送風装置との動作を制御する装置コントローラと
を有することを特徴とする基板除電装置。
【請求項２】
前記装置コントローラは、前記処理室の空き状況から前記基板の前記準備室での滞在時間を求め、前記滞在時間より前記基板の除電時間を決定することを特徴とする請求項１記載の基板除電装置。
【請求項３】
前記装置コントローラは、前記処理室の空き状況から前記基板の前記準備室での滞在時間を求め、前記滞在時間内に除電が完了するように前記除電装置の出力および前記送風装置の風量を制御することを特徴とする請求項１記載の基板除電装置。
【請求項４】
前記装置コントローラは、前記基板の除電終了時において前記基板除電装置の出力をあらかじめ定めた所定の値に低下させることを特徴とする請求項３記載の基板除電装置。
【請求項５】
基板に対して製造処理を行う処理室の前面に除電装置と送風装置とを備える準備室が設けられた製造装置にて前記基板の除電処理を行う際に、
前記除電装置の出力と前記送風装置の風力と除電時間との関係を求める工程と、
前記処理室の空き状況から前記基板の前記準備室での滞在時間を求める工程と、
前記滞在時間内に除電が完了する前記除電装置の出力と前記送風装置の風力とを求める工程と、
前記除電装置の出力と前記送風装置の風力とを前記求めた値に制御して除電処理を行う工程と
を有することを特徴とする基板除電方法。
【請求項６】
前記除電処理に必要な時間が経過した後に、前記除電装置の出力と前記送風装置の風力とをあらかじめ定めた所定の値に低下させる工程をさらに有することを特徴とする請求項５記載の基板除電方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を処理して製造を行う装置における基板除電装置および基板除電方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、半導体製造工程では静電気力による微粒子吸着（ＥＳＡ：Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ  Ａｔｔｒａｃｔｉｏｎ）や放電による静電破壊（ＥＳＤ：Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ  Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ）といった静電気に起因する問題を抱えており、製品の歩留まりを低下させる要因となっている。これらの問題を解決するために、基板上の静電気を除電する制御技術が非常に重要であると言える。
【０００３】
これらの課題対策方法である従来の基板の除電に用いる制御方法を、図９を用いて説明する。
図９は従来の基板の除電に用いられる制御装置の構成を示す図である。
【０００４】
図９に示すように、処理基板１０１を載置するステージ２０１内部には、基板１０１の表面電位を変えるための電極３０１が設けられている。電極３０１は高圧電源４０１に接続され、高圧電源４０１はコントローラ７０１に接続されている。さらに、基板１０１の表面電位を測定する表面電位計５０１が設けられ、ステージ２０１の上方には除電装置６０１が設けられている。表面電位計５０１および除電装置６０１は、コントローラ７０１に接続されている。このステージ２０１を有する製造装置において基板１０１に所望の処理が行われた後、表面電位計５０１によって基板１０１の表面電位を測定し、この測定結果に基づき、コントローラ７０１によって電極３０１の電圧および除電装置６０１の出力を制御して、基板１０１の表面電位を所定の値に制御していた（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２０００−１９５９３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、処理室内のステージ２０１上で基板１０１表面の帯電量を表面電位計５０１で測定してから、その測定値に応じて除電方法を制御する方式では、製造処理前後でしか静電気を除去することができない。これに対して、静電気の発生要因として、装置の基板搬送ロボットがキャリアから装置処理室へ基板１０１を搬送する際における、基板１０１とキャリアとの摩擦が挙げられる。５０Ｖの帯電でも静電破壊が起こり得ると言われているのに対し、このときの摩擦による帯電量は７００Ｖ〜１８００Ｖ（キャリアごとの固有値）であることが分かっており、処理前の基板搬送の段階での基板１０１の帯電対策が必要であった。
【０００６】
ただし、処理前に除電の工程を組み込むと、装置スループットを低下させてしまうという課題も生じる。
本発明は、前記従来技術の問題を解決することに指向するものであり、装置スループットを低下させることなく、基板とキャリアとの摩擦によって基板に帯電した静電気を基板処理前に除電する基板除電制御システムを提供することを目的とする。
【０００７】
なお、ＥＦＥＭとは、Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ  Ｆｒｏｎｔ  Ｅｎｄ  Ｍｏｄｕｌｅの略で、プロセス装置前面モジュールのことである。これは、真空でウエーハの処理を行うプロセス装置の前面にあり、クリーンな環境で以下に述べるＦＯＵＰとプロセス装置間におけるウエーハの受け渡しを行う装置のことをいい、基板をキャリアから投入口を通じて投入した際に、処理室の手前で基板を一時的に保持する、いわゆる準備室のことである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の基板除電装置は、基板に対して製造処理を行う処理室と、製造処理前の前記基板を格納するキャリアと、前記キャリアと前記処理室との間に設けられる準備室と、前記準備室に配置される除電装置と、前記準備室に配置される送風装置と、除電処理の際に前記除電装置と送風装置との動作を制御する装置コントローラとを有することを特徴とする。
【０００９】
また、前記装置コントローラは、前記処理室の空き状況から前記基板の前記準備室での滞在時間を求め、前記滞在時間より前記基板の除電時間を決定することを特徴とする。
また、前記装置コントローラは、前記処理室の空き状況から前記基板の前記準備室での滞在時間を求め、前記滞在時間内に除電が完了するように前記除電装置の出力および前記送風装置の風量を制御することを特徴とする。
【００１０】
また、前記装置コントローラは、前記基板の除電終了時において前記基板除電装置の出力をあらかじめ定めた所定の値に低下させることを特徴とする。
さらに、本発明の基板除電方法は、基板に対して製造処理を行う処理室の前面に除電装置と送風装置とを備える準備室が設けられた製造装置にて前記基板の除電処理を行う際に、前記除電装置の出力と前記送風装置の風力と除電時間との関係を求める工程と、前記処理室の空き状況から前記基板の前記準備室での滞在時間を求める工程と、前記滞在時間内に除電が完了する前記除電装置の出力と前記送風装置の風力とを求める工程と、前記除電装置の出力と前記送風装置の風力とを前記求めた値に制御して除電処理を行う工程とを有することを特徴とする。
【００１１】
また、前記除電処理に必要な時間が経過した後に、前記除電装置の出力と前記送風装置の風力とをあらかじめ定めた所定の値に低下させる工程をさらに有することを特徴とする。
【００１２】
以上により、装置スループットを低下させることなく、基板とキャリアとの摩擦によって基板に帯電した静電気を基板処理前に除電することができる。
【発明の効果】
【００１３】
以上のように、本発明の基板除電装置および基板除電方法は、ＥＦＥＭ内に除電装置とＦＦＵを設けることにより、ＥＦＥＭ内での基板搬送中に除電することができるため、装置スループットを低下させることなく基板処理前に除電することが可能となる。さらに、処理室へ搬送されるまでの時間であるＥＦＥＭ内滞在時間の確認と、除電装置の出力およびＦＦＵ風量の制御とを装置コントローラが制御することで、ＥＦＥＭ内滞在時間内に除電処理が完了するように除電装置の出力とＦＦＵ風量とを制御することが可能となり、確実に基板処理前に除電することが可能となる。また、除電装置の出力とＦＦＵ風量とに対応した除電時間をあらかじめ求めておくことにより、除電が完了する除電時間が経過した時点で除電装置の出力とＥＦＥＭ内のＦＦＵ風量とを低下させることができるため、基板に帯電した静電気を完全に除電し、かつ逆帯電を最小限に抑えることが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の基板除電システムについて、図面を参照しながら説明する。
まず、本発明の基板除電システムの概略を述べる。装置のＥＦＥＭ部分に除電装置およびＦＦＵ（Ｆａｎ  Ｆｉｌｔｅｒ  Ｕｎｉｔ）を搭載し、ＥＦＥＭ部分にて、キャリア内基板を装置処理室内に搬送するタイミングで除電を行う。この構成により、ＥＦＥＭ内での基板搬送中に除電することができるため、装置スループットを低下させることなく基板処理前に除電することが可能となる。
【００１５】
その制御方法は以下の通りである。まずキャリア内基板を装置処理室内に搬送する際、装置コントローラが、処理室の空き状況を確認し、ＥＦＥＭ内で待機することなく処理室へ直接基板を投入できるかどうかを判断する。
【００１６】
処理室へ直接基板を投入できる場合、その基板の除電時間（ＥＦＥＭ内滞在時間）が短いため、多くの製造装置において、通常の除電装置の出力では除電時間が不足し、基板上の静電気を完全に除電することができないので、通常の除電装置の出力では除電時間が不足する場合は、装置コントローラが、除電装置の出力を所定の値（高出力）に切り替える指令を出す。
【００１７】
また、キャリアから処理室に直接基板が搬送されるときの搬送時間（基板のＥＦＥＭ滞在時間）をｔ１とした場合、除電装置の出力が高い状態かつｔ１以内で除電が完了できる場合は、あらかじめ登録しておいた除電完了時間ｔ４（ｔ４＜ｔ１）に達した時点で除電装置の出力を所定の値（通常出力よりも低出力）に切り替えて逆帯電を最小限にする。
【００１８】
除電装置の出力が高い状態かつｔ１以内で除電が完了できない場合、ＥＦＥＭ内のＦＦＵ風力（風量）を所定の値（強風力）に切り替える。
ＦＦＵ風力が強風力状態で、除電が完了するｔ３に達した時点で風力を通常値、除電装置の出力を最小値に切り替える。
【００１９】
処理室へ直接基板を投入できない場合、除電装置は通常の出力のままで、除電が完了するｔ２に達した時点で除電装置の出力を最小値に切り替え、処理室が空いた時点で基板を投入する。
【００２０】
このように、ＥＦＥＭ滞在時間と除電時間から除電装置の出力とＦＦＵの風量とを制御することにより、確実に基板処理前に除電すると共に逆帯電を最小限に抑えることが可能になる。
【００２１】
次に、本発明の基板除電システムの具体的な構成について図１〜図８を用いて説明する。
図１は本発明の基板除電装置の構成を示す模式断面図である。
【００２２】
図１に示すように、ＦＯＵＰと呼ばれるキャリアから処理室に基板を搬送するＥＦＥＭ１（図１において点線で囲まれた部分）内部には基板搬送用のロボット２があり、その上方には基板表面の帯電を除電する除電装置３、最上部にはＦＦＵ４が設けられている。装置ロードポート５に設置されたキャリア６内の基板７は、基板搬送用のロボット２によって処理室８に搬送される。搬送用のロボット２、除電装置３、ＦＦＵ４、処理室８は、装置制御コントローラ９に接続されている。
【００２３】
なお、ここでＦＯＵＰとは「Ｆｒｏｎｔ−Ｏｐｅｎｉｎｇ  Ｕｎｉｆｉｅｄ  Ｐｏｄ」の略であり、キャリア（ウエーハキャリア）の一種で、いわゆる正面開口式カセット一体型搬送、保管箱のことである。本実施形態においては、ＦＯＵＰは、基板を２５枚格納することができる。
【００２４】
また、ＦＦＵとは「Ｆａｎ  Ｆｉｌｔｅｒ  Ｕｎｉｔ」の略であり、ファン・フィルター一体型クリーン機器のことである。具体的には、ファンの風をフィルターを通して送り込むことで、装置内部をクリーンにするための機器である。
【００２５】
ここで、ＦＦＵの直下に除電装置を設置した。このようにすることで、ＦＦＵのダウンフローが除電装置によるウエーハへのイオン照射を促進し、ウエーハの除電時間を短縮できる。
【００２６】
また、本実施形態においては、基板７を一度に５枚収納することができる処理室８を例に説明する。
この図１の構成を有する製造装置において、キャリア６内の基板７を、基板搬送用のロボット２によって処理室８に搬送する間に、ＥＦＥＭ１内において除電装置３によって基板７の除電を実行する。
【００２７】
このように、処理前の基板搬送時間を利用して除電することにより、装置スループットを低下させることなく基板７の除電を完了することができる。
次に、上記除電方法を用いた場合の除電の様子を図３，図４を用いて説明する。
【００２８】
図３は、除電時間と帯電量の関係を示す図であり、上記除電方法を用いた場合の除電時間と基板帯電量の推移を示すグラフである。図４は、Ｓｌｏｔ位置ごとの基板のＥＦＥＭ滞在時間を示す図であり、ある装置における、キャリア６内の基板７を、基板搬送用のロボット２によって処理室８に搬送するときのＥＦＥＭ１滞在時間（除電装置３により除電できる時間）を示すグラフ図である。なお、ここで測定条件は、除電装置出力は通常出力（印加電圧はパルスＡＣ±７０００Ｖ）、ＦＦＵ風速は毎秒０．３ｍ（０．３ｍ／ｓ）、基板帯電量は−７００Ｖである。
【００２９】
図３に示すように、上記条件で除電を行った場合には、除電を完了するまでには２２秒を要する。ただし、帯電量が０Ｖになった以降も除電装置の出力を継続すると＋側に逆帯電することとなる。
【００３０】
図４は、基板のＳｌｏｔ位置とＥＦＥＭ滞在時間との関係を表すグラフ図である。なお、ここで、Ｓｌｏｔとはキャリア内のウエーハの位置を表す単位である。本実施形態の場合、ＦＯＵＰには２５枚のウエーハが入るので、１〜２５Ｓｌｏｔあり、一番下が１Ｓｌｏｔで一番上が２５Ｓｌｏｔである。通常、基板はＳｌｏｔの若い番号から順番に処理される。
【００３１】
図４に示すように、ＥＦＥＭ１滞在時間（除電装置３により除電できる時間）が基板のＳｌｏｔ位置ごとに異なっている。１〜５Ｓｌｏｔでは８〜９秒で、６Ｓｌｏｔ目以降は３８秒以上である。これは、処理室８が空いているかどうかによってキャリア６内の基板７を直接処理室８に投入するかＥＦＥＭ１で待機するかが変わるためである。以上より、本装置においては、１〜５Ｓｌｏｔでは除電時間が不足し、６Ｓｌｏｔ以降は逆帯電してしまうことになる。
【００３２】
ここで、１〜５Ｓｌｏｔでは除電時間が不足し、６Ｓｌｏｔ以降が逆帯電するのは、処理室８の基板を一度に５枚まで収納できることが原因である。１〜５Ｓｌｏｔの場合は基板投入口からすぐに処理室８に基板が投入されることになるが、６Ｓｌｏｔ以降では既に処理室８はウエーハで満たされることになるのでＥＦＥＭ１内で待たされることになる。すなわち、１〜５ＳｌｏｔにおいてはＥＦＥＭ１内で基板の待ち時間はほとんどないが、６Ｓｌｏｔ以降ではＥＦＥＭ１である時間待たされることになる。この場合、１〜５ＳｌｏｔではＥＦＥＭ１内で待つ時間がほとんどないために除電時間が不足し、６Ｓｌｏｔ以降はＥＦＥＭ１内で待つ時間が長すぎるために、ＥＦＥＭ１内での除電時間が長くなりすぎて逆帯電してしまうのである。
【００３３】
図５は、除電装置の出力と除電完了時間の関係を示す図、図６は、ＦＦＵの風量と除電完了時間の関係を示す図、図７は除電装置の出力を変化させた時の除電時間と帯電量との関係を示す図であり、除電が完了（基板の帯電量が０Ｖ）した時点で除電装置３の出力を変化（通常時よりも低出力）させたときの除電時間と帯電量を示すグラフである。
【００３４】
なお、図５において測定条件は、除電装置出力はパルスＡＣ±４０００Ｖ〜２２０００Ｖ、ＦＦＵ風力は０．３ｍ／ｓ、基板帯電量は−１８００Ｖ、−７００Ｖ、−  ４００Ｖとした。
【００３５】
また、図６において測定条件は、除電装置出力は通常出力（印加電圧：パルスＡＣ±７０００Ｖ）、ＦＦＵ風速は０．２ｍ／ｓ〜０．３ｍ／ｓ、基板帯電量は−１８００Ｖ、−７００Ｖ、−４００Ｖとした。
【００３６】
図７において除電装置出力は印加電圧をパルスＡＣ±７０００Ｖ、パルスＡＣ±１４０００Ｖとし、ＦＦＵ風速を０．３ｍ／ｓ、基板帯電量を−７００Ｖとした。
図５、６に示すように、除電装置３の出力が大きいほど、ＦＦＵ４の風量が大きいほど、除電完了時間が短く、１〜５ＳｌｏｔのようにＥＦＥＭ１滞在時間が８〜９秒の場合でも除電を完了することが可能になる。また、図７に示すように、除電完了後に除電装置３の出力を小さくすることにより逆帯電を抑制できる。
【００３７】
この特徴を利用して図２に示すような制御方法を用いることで逆帯電を抑制しながら、ＥＦＥＭ１内で除電を完了させることができる。図２は本発明の基板除電装置における制御フローを示す図である。
【００３８】
図２に示すように、まず、キャリア６内の基板７を装置処理室８に搬送する際、装置制御コントローラ９は、処理室８の空き状況を確認し（ステップ１）、キャリア６からＥＦＥＭ１内で待機することなく処理室８へ基板７を投入できるかどうかを確認する（ステップ２）。
【００３９】
キャリア６からＥＦＥＭ１内で待機することなく処理室８へ基板７を投入できる場合は以下のような制御をする。
キャリア６からＥＦＥＭ１内で待機することなく処理室８へ基板７が搬送されるときの搬送時間（基板７のＥＦＥＭ１内滞在時間）をｔ１とした場合、除電装置３の出力が通常状態かつｔ１以内で除電が完了できるかどうか確認し（ステップ３）、ｔ１以内で除電が完了できない場合、装置制御コントローラ９は、除電装置３の出力をあらかじめ定めた所定の値（通常時よりも高出力）に変更する指令を出す（ステップ４）。除電装置３の出力が通常状態かつｔ１以内で除電が完了できる場合は、除電装置３の出力は通常出力のままに保持して除電処理を行い（ステップ５）、装置制御コントローラ９は、除電が完了する時間（ｔ２）が経過したことを確認し（ステップ６）、除電装置３の出力をあらかじめ定めた所定の値（通常時よりも低出力）に変更する指令を出す（ステップ７）。
【００４０】
除電装置３の出力を高出力状態にしてもｔ１以内に除電が完了するかどうかを確認し（ステップ８）、できない場合は、装置制御コントローラ９は、ＦＦＵ４の風量をあらかじめ定めた所定の値（通常時よりも高風力）に変更する指令を出して除電処理を行う（ステップ９）。そして、除電が完了する時間（ｔ３）が経過したことを確認し（ステップ１０）、装置制御コントローラ９が除電装置３の出力を所定の値（通常時よりも低出力）に変更する指令を出す（ステップ７）。また、除電装置３の出力が高出力状態でｔ１以内に除電が完了することができる場合は、装置制御コントローラ９は、ＦＦＵ４の風量を通常の風量に保持したまま除電処理を行い、除電が完了する時間（ｔ４）が経過したことを確認し（ステップ１１）、装置制御コントローラ９が除電装置３の出力をあらかじめ定めた所定の値（通常時よりも低出力）に変更する指令を出す（ステップ７）。その後、処理室８に基板７を投入できるようになるまでそのまま待機し（ステップ１２）、投入可能になった時点で処理室８に基板７を投入する（ステップ１３）。
【００４１】
キャリア６からＥＦＥＭ１内で待機することなく処理室８へ基板７を投入できない場合（ステップ２のＮＯ）、除電装置３の出力は通常出力のままで除電処理を行い（ステップ５）、装置制御コントローラ９は、除電が完了する時間（ｔ２）で、除電装置３の出力をあらかじめ定めた所定の値（通常時よりも低出力）に変更する指令を出す（ステップ７）。そして、処理室８が空いた時点で、基板７を投入する。
なお、ｔ１〜ｔ４は装置ごとの固有値で、あらかじめ装置に登録しておく。
【００４２】
ｔ１：キャリア６→処理室８へ直接搬送するときの基板７のＥＦＥＭ１滞在時間
ｔ２：除電装置３通常出力、ＦＦＵ４通常風力のときの除電完了時間
ｔ３：除電装置３高出力、ＦＦＵ４強風力のときの除電完了時間
ｔ４：除電装置３高出力、ＦＦＵ４通常風力のときの除電完了時間
図８は、除電装置の出力およびＦＦＵの風力を変化させることの効果を示す図であり、上記除電制御の導入前後（導入前は除電装置３およびＦＦＵ４が常時通常出力）でのＳｌｏｔ位置ごとの基板上の平均パーティクル数を示すグラフ図である。なお、ここで測定条件として粒径が０．１２μｍ以上のパーティクルを測定した。
【００４３】
図８に示すように、上記除電制御を導入することで、ほぼ全てのＳｌｏｔにおいて基板に付着するパーティクル数を減少させる効果が見られる。
以上の説明のように、ＥＦＥＭ内に除電装置とＦＦＵを設けることにより、ＥＦＥＭ内での基板搬送中に除電することができるため、装置スループットを低下させることなく基板処理前に除電することが可能となる。また、処理室へ搬送されるまでの時間であるＥＦＥＭ内滞在時間の確認と、除電装置の出力およびＥＦＥＭ内のＦＦＵ風量の制御とを装置コントローラが制御することで、ＥＦＥＭ内滞在時間内に除電処理が完了するように除電装置の出力とＥＦＥＭ内のＦＦＵ風量とを制御することが可能となり、確実に基板処理前に除電することが可能となる。さらに、除電装置の出力とＥＦＥＭ内のＦＦＵ風量とに対応した除電時間をあらかじめ求めておくことにより、除電が完了する除電時間が経過した時点で除電装置の出力とＥＦＥＭ内のＦＦＵ風量とを低下させることができるため、基板に帯電した静電気を完全に除電し、かつ逆帯電を最小限に抑えることが可能になる。
【００４４】
なお、本発明でいう基板は、液晶表示装置を構成するガラス基板または半導体基板等に限られるものではなく、搬送ロボット等にて搬送される板状体であれば、特に限定されるものではない。
【００４５】
また、本発明は、成膜装置、露光装置、配向膜形成装置、ラビング装置、シール形成装置、貼り合わせ装置または分断装置等に用いることができ、ＥＦＥＭを搭載する装置であれば特に限定されるものではない。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明は、装置スループットを低下させることなく、基板とキャリアとの摩擦によって基板に帯電した静電気を基板処理前に除電することができ、基板を処理して製造を行う装置における基板除電装置および基板除電方法等に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の基板除電装置の構成を示す模式断面図
【図２】本発明の基板除電装置における制御フローを示す図
【図３】除電時間と帯電量の関係を示す図
【図４】Ｓｌｏｔ位置ごとの基板のＥＦＥＭ滞在時間を示す図
【図５】除電装置の出力と除電完了時間の関係を示す図
【図６】ＦＦＵの風量と除電完了時間の関係を示す図
【図７】除電装置の出力を変化させた時の除電時間と帯電量との関係を示す図
【図８】除電装置の出力およびＦＦＵの風力を変化させることの効果を示す図
【図９】従来の基板の除電に用いられる制御装置の構成を示す図
【符号の説明】
【００４８】
１    ＥＦＥＭ
２    ロボット
３    除電装置
４    ＦＦＵ
５    ロードポート
６    キャリア
７    基板
８    処理室
９    装置コントローラ
１０１    基板
２０１    ステージ
３０１    電極
４０１    高圧電源
５０１    表面電位計
６０１    除電装置
７０１    コントローラ
【図１】
2010140975.tif 000003
【図２】
2010140975.tif 000004
【図３】
2010140975.tif 000005
【図４】
2010140975.tif 000006
【図５】
2010140975.tif 000007
【図６】
2010140975.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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