(57)【要約】【課題】モアレの発生を低減することができるパターン露光方法、導電膜の製造方法及び導電膜を提供する。【解決手段】感光材料に対し７０〜２００μｍのプロキシミティギャップを隔てて配置されたフォトマスクを介して、プロキシミティ露光を行い、マスクパターンを搬送方向に周期的な周期パターンとして感光材料に露光することで導電膜１０を得る。導電膜１０は、複数の導電性の金属細線にて構成された導電部１２と複数の開口部１４とを有する導電膜１０において、第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの側部は、第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの設計幅Ｗｃを示す仮想線ｍから開口部１４に向かって張り出し、且つ、張出し量が設計幅Ｗｃの１／２５〜１／６である張出し部２６が形成された形状を有する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状もしくはシート状の感光材料を連続搬送し、この感光材料に対し７０〜２００μｍのプロキシミティギャップを隔てて配置されたフォトマスクを介して、プロキシミティ露光を行い、該フォトマスクに設けられたマスクパターンを、搬送方向に周期的な周期パターンとして前記感光材料に露光することを特徴とするパターン露光方法。
【請求項２】
請求項１記載のパターン露光方法において、
前記周期パターンは、複数の交差部を有するメッシュパターンであって、
前記露光によって、前記感光材料に潜像として形成される前記交差部間の線状パターンの側部は、前記線状パターンの設計幅を示す仮想線から外方に張り出し、且つ、張出し量が設計幅の１／２５〜１／６である張出し部が潜像として形成された形状を有することを特徴とするパターン露光方法。
【請求項３】
帯状もしくはシート状の感光材料を連続搬送する工程と、
連続搬送される前記感光材料に対し、７０〜２００μｍのプロキシミティギャップを隔てて配置されたフォトマスクを介して、プロキシミティ露光を行い、該フォトマスクに設けられたマスクパターンを、搬送方向に周期的な周期パターンとして前記感光材料に露光する露光工程と、
露光された前記感光材料を現像して金属銀部を形成する金属銀部形成工程とを有することを特徴とする導電膜の製造方法。
【請求項４】
請求項３記載の導電膜の製造方法において、
前記周期パターンは、複数の交差部を有するメッシュパターンであって、
前記露光によって、前記感光材料に潜像として形成される前記交差部間の線状パターンの側部は、前記線状パターンの設計幅を示す仮想線から外方に張り出し、且つ、張出し量が設計幅の１／２５〜１／６である張出し部が潜像として形成された形状を有することを特徴とする導電膜の製造方法。
【請求項５】
請求項３記載の導電膜の製造方法において、
前記金属銀部にめっきを施すめっき工程をさらに有することを特徴とする導電膜の製造方法。
【請求項６】
複数の導電性の金属細線にて構成された導電部と複数の開口部とを有する導電膜において、
前記金属細線の側部は、前記金属細線の設計幅を示す仮想線から前記開口部に向かって張り出し、且つ、張出し量が設計幅の１／２５〜１／６である張出し部が形成された形状を有することを特徴とする導電膜。
【請求項７】
請求項６記載の導電膜において、
前記導電部と前記開口部の組み合わせ形状がメッシュ形状であって、
前記導電部は、複数の導電性の金属細線にて構成された複数の交差部を有するメッシュパターンに形成されたことを特徴とする導電膜。
【請求項８】
請求項６又は７記載の導電膜において、
前記張出し量は、前記金属細線の設計幅を示す仮想線から張出し部の頂部に向かって法線を引いた場合に、該法線における前記張出し部の頂部までの長さであることを特徴とする導電膜。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれか１項に記載の導電膜において、
前記張出し部は、アスペクト比（縦／横比）が１／５〜３／２である２以上の凸部を有することを特徴とする導電膜。
【請求項１０】
請求項６〜９のいずれか１項に記載の導電膜において、
張出し部は、前記金属細線１００μｍ当たり５個以上あることを特徴とする導電膜。
【請求項１１】
請求項６記載の導電膜において、
前記金属細線の側面に、該金属細線の延在方向に沿って少なくとも２つの前記凸部が連続して形成されていることを特徴とする導電膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン露光方法、導電膜の製造方法及び導電膜に関し、さらに詳しくは、プロキシミティ露光によって感光材料に周期パターンを露光するパターン露光方法、該パターン露光方法を用いて導電膜を製造する導電膜の製造方法、及び導電膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、様々な製造方法による導電膜が検討されている。この中で、ハロゲン化銀乳剤を塗布し、導電性のための銀の導電部と、透明性の確保のための開口部からなるようにパターン露光して、導電膜として製造される銀塩方式の導電膜がある（例えば、特許文献１、２参照）。この銀塩方式の導電膜の製造工程では、感光材料を連続搬送し、この感光材料に対し５００μｍ以下のプロキシミティギャップを隔てて配置されたフォトマスクを介して、プロキシミティ露光を行い、該フォトマスクに設けられたマスクパターンを、搬送方向に周期的な周期パターンとして感光材料に露光することが知られている（例えば、特許文献３、４参照）。また導電膜としては、印刷方式による製造方法も知られている（例えば、特許文献５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２２１５６４号公報
【特許文献２】特開２００４−２２１５６５号公報
【特許文献３】特開２００７−０７２１７１号公報
【特許文献４】特開２００７−１０２２００号公報
【特許文献５】特開２００８−２８３０４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上述の特許文献３では、プロキシミティギャップを５０〜５５０μｍまで変化させた際の光回折による光強度分布のシミュレーションが行われている（段落［０１２６］参照）。このシミュレーション結果から、プロキシミティギャップが大きくなるほど光強度分布が広がってしまうことが分かる。特許文献３では、プロキシミティギャップＬｇが小さいほど露光品質に有利であるとの知見に基づいて、プロキシミティギャップＬｇを５０μｍに設定するようにしている。
【０００５】
しかしながら、上記特許文献３では、プロキシミティギャップを５０〜５５０μｍまで変化させた際の光回折による光強度分布のシミュレーションが行われたが、実際の導電膜の製造においては、プロキシミティギャップを５０μｍに設定して行っただけであり、５０μｍ以外では行われなかった。
【０００６】
一方、銀塩方式の導電膜では、得られる導電膜に起因したモアレの発生が問題になっている。
【０００７】
本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、モアレの発生が低減された導電膜を製造できるパターン露光方法及び導電膜の製造方法を提供することを目的とする。
【０００８】
また、本発明の他の目的は、モアレの発生が低減された導電膜を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、鋭意検討を行った結果、導電膜のメッシュパターンの側壁部形状により、モアレが低減できることを見出し、さらに検討を重ねた。その結果、導電膜のメッシュパターンの側壁部形状とプロキシミティギャップとの間にモアレ低減の相関関係があることを見出した。すなわち、従来は、実際の導電膜の製造において、プロキシミティギャップを５０μｍに設定して行っただけであったが、上述の検討においては、５０μｍと異なるプロキシミティギャップに設定して導電膜を製造し、モアレ低減の効果を確認した。その結果、プロキシミティギャップを７０〜２００μｍとすることでモアレが生じにくい導電膜が得られることがわかった。本発明は、上述の知見に基づいて完成されたものである。
【００１０】
［１］  すなわち、第１の本発明に係るパターン露光方法は、帯状もしくはシート状の感光材料を連続搬送し、この感光材料に対し、７０〜２００μｍのプロキシミティギャップを隔てて配置されたフォトマスクを介して、プロキシミティ露光を行い、該フォトマスクに設けられたマスクパターンを、搬送方向に周期的な周期パターンとして前記感光材料に露光することを特徴とする。
［２］  第１の本発明において、前記周期パターンは、複数の交差部を有するメッシュパターンであって、前記露光によって、前記感光材料に潜像として形成される前記交差部間の線状パターンの側部は、前記線状パターンの設計幅を示す仮想線から外方に張り出し、且つ、張出し量が設計幅の１／２５〜１／６である張出し部が潜像として形成された形状を有することを特徴とする。
［３］  第２の本発明に係る導電膜の製造方法は、帯状もしくはシート状の感光材料を連続搬送する工程と、連続搬送される前記感光材料に対し、７０〜２００μｍのプロキシミティギャップを隔てて配置されたフォトマスクを介して、プロキシミティ露光を行い、該フォトマスクに設けられたマスクパターンを、搬送方向に周期的な周期パターンとして前記感光材料に露光する露光工程と、露光された前記感光材料を現像して金属銀部を形成する金属銀部形成工程とを有することを特徴とする。
［４］  第２の本発明において、前記周期パターンは、複数の交差部を有するメッシュパターンであって、前記露光によって、前記感光材料に潜像として形成される前記交差部間の線状パターンの側部は、前記線状パターンの設計幅を示す仮想線から外方に張り出し、且つ、張出し量が設計幅の１／２５〜１／６である張出し部が潜像として形成された形状を有することを特徴とする。
［５］  第２の本発明において、前記金属銀部にめっきを施すめっき工程をさらに有することを特徴とする。
［６］  第３の本発明に係る導電膜は、複数の導電性の金属細線にて構成された導電部と複数の開口部とを有する導電膜において、前記金属細線の側部は、前記金属細線の設計幅を示す仮想線から前記開口部に向かって張り出し、且つ、張出し量が設計幅の１／２５〜１／６である張出し部が形成された形状を有することを特徴とする。
［７］  第３の本発明において、前記導電部と前記開口部の組み合わせ形状がメッシュ形状であって、前記導電部は、複数の導電性の金属細線にて構成された複数の交差部を有するメッシュパターンに形成されたことを特徴とする。
［８］  第３の本発明において、前記張出し量は、前記金属細線の設計幅を示す仮想線から張出し部の頂部に向かって法線を引いた場合に、該法線における前記張出し部の頂部までの長さであることを特徴とする。
［９］  第３の本発明において、前記張出し部は、アスペクト比（縦／横比）が１／５〜３／２である２以上の凸部を有することを特徴とする。
［１０］  第３の本発明において、張出し部は、前記金属細線１００μｍ当たり５個以上あることを特徴とする。
［１１］  第３の本発明において、前記金属細線の側面に、該金属細線の延在方向に沿って、少なくとも２つの前記凸部が連続して形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
以上説明したように、本発明に係るパターン露光方法及び導電膜の製造方法によれば、モアレの発生が低減された導電膜を製造することができる。
また、本発明に係る導電膜によれば、モアレの発生を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本実施の形態に係る導電膜を一部省略して示す平面図である。
【図２】本実施の形態に係る導電膜を一部省略して示す断面図である。
【図３】本実施の形態に係る導電膜の交差部及び交差部間の金属細線を拡大して示す平面図である。
【図４】図４Ａは金属細線の側部（張出し部）を示す説明図であり、図４Ｂは張出し部に含まれる凸部を示す説明図である。
【図５】図５Ａは金属細線を設計幅どおりに形成した導電膜を一部省略して示す平面図であり、図５Ｂはその透過光の積分量を示す特性図である。
【図６】図６Ａは銀塩感光層が塗布された感光材料を用意した状態を示す工程図であり、図６Ｂは銀塩感光層に対して、メッシュパターンの形成に必要な露光を行っている状態を示す工程図であり、図６Ｃは現像処理を行った状態を示す工程図であり、図６Ｄはメッシュパターンに従った金属銀部を形成した状態を示す工程図である。
【図７】本実施の形態に係る製造方法で使用される露光装置を示す構成図である。
【図８】マスク保持部を一部省略して示す概略構成図である。
【図９】露光装置による露光方法を示す動作概念図である。
【図１０】露光装置による露光工程を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明に係るパターン露光方法、導電膜の製造方法及び導電膜の実施の形態例を図１〜図１０を参照しながら説明する。
【００１４】
先ず、本実施の形態に係る導電膜１０は、図１に示すように、複数の導電部１２と複数の開口部１４とを有し、導電部１２と開口部１４の組み合わせ形状がメッシュ形状Ｍとなっている。ここで、メッシュ形状Ｍとは、１つの開口部１４と、該１つの開口部１４を囲む４つの導電部１２の組み合わせ形状をいう。なお、導電部１２と開口部１４の組み合わせ形状がメッシュ形状Ｍだけでなく、ストライプ形状としてもよい。ストライプ形状は、例えば後述する複数の第１金属細線１２ａだけが配列された形状や、複数の第２金属細線１２ｂだけが配列された形状、あるいは、水平方向に延びる複数の金属配線が垂直方向に配列された形状、垂直方向に延びる複数の金属配線が水平方向に配列された形状等が考えられる。
【００１５】
この導電膜１０は、図２に示すように、透明フイルム基材１６と、該透明フイルム基材１６上に形成された導電部１２及び開口部１４を備える。なお、本実施の形態に係る導電膜は、車両のデフロスタ（霜取り装置）、窓ガラス等の一部として使用可能で、電流を流すことで発熱し発熱シートとしても機能し、また、タッチパネル用電極、無機ＥＬ素子、有機ＥＬ素子あるいは太陽電池の電極、又はプリント基板としても使用することができる。
【００１６】
そして、図１に示すように、この導電膜１０の導電部１２は、一方向（図１においてｘ方向）に第１ピッチＬ１で並ぶ複数の第１金属細線１２ａと、他方向（図１においてｙ方向）に第２ピッチＬ２で並ぶ複数の第２金属細線１２ｂとがそれぞれ交差して形成された金属メッシュパターン２２を有する。なお、第１ピッチＬ１及び第２ピッチＬ２は、１００μｍ以上６０００μｍ以下から選択可能である。また、第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの線幅ｄは、２００μｍ以下から選択可能である。もちろん、透明性を向上させたい場合は、５０μｍ以下から選択してもよく、下限値は２μｍである。
【００１７】
第１ピッチＬ１という表現は、全ての第１金属細線１２ａが一定間隔で並ぶことを示すが、一部の第１金属細線１２ａについて、第１ピッチＬ１の長さを変えてもよい。この場合、隣り合う第１金属細線１２ａの間隔と表現した方が適切となる。これは、第２金属細線１２ｂについても同様である。従って、隣り合う第１金属細線１２ａの間隔並びに隣り合う第２金属細線１２ｂの間隔は、１００μｍ以上６０００μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは、１５０μｍ以上１０００μｍ以下である。
【００１８】
つまり、導電部１２は、複数の第１金属細線１２ａと複数の第２金属細線１２ｂにて構成された多数の格子の交点（交差部２４）を有する金属メッシュパターン２２を有する。さらに、図３に拡大して示すように、交差部２４間の第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの側面に、開口部１４に向かって張り出し、且つ、図４Ａに示すように、張出し量ｄａが設計幅Ｗｃの１／２５〜１／６である張出し部２６が形成されている。
【００１９】
ここで、設計幅Ｗｃとは、複数の第１金属細線１２ａと複数の第２金属細線１２ｂの目標とする線幅である。目標とする線幅は、主にフォトマスクの光が透過するスリットの幅により制御され、スリットの幅以外に感光材料の種類、現像処理、めっき処理等を総合して設定される。張出し部２６は、第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの１００μｍ当たり５個以上あること（片側のみ）が好ましく、１０個以上あることが好ましい。張出し部２６の個数は、両側においてほぼ同じであるので、片側が５個である場合には、両側では１０個となる。張出し部２６の個数が少ない場合には、モアレ抑止効果が不十分となる傾向がある。張出し部２６の個数の上限値は５０個である。
【００２０】
張出し量ｄａは、図４Ａに示すように、第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの設計幅Ｗｃを示す仮想線ｍから張出し部２６の頂部２６ａに向かって法線を引いた場合に、該法線の基点２８から張出し部２６の頂部２６ａまでの長さ（最大長さ）である。つまり、張出し部２６は、設計幅Ｗｃを示す仮想線ｍよりも開口部１４に向かって張り出す部分を示し、アスペクト比（縦／横比）が１／５〜３／２である２以上の凸部３０を有する。凸部３０のアスペクト比は、図４Ｂに示すように、当該凸部３０の両側に存する第１凹部３２ａ及び第２凹部３２ｂの底部を結んだ線分の長さをＬｘ、該線分から当該凸部３０の頂部３０ａにかけて法線を引いた場合に、該法線の起点３４と凸部３０の頂部３０ａ間の長さをＬｙとしたとき、Ｌｙ／Ｌｘをいう。この張出し量ｄａは、本発明では主にプロキシミティギャップＬｇにより制御され、感光材料の種類、現像処理、めっき処理などを調整することでその形状を制御することができる。
【００２１】
特に、本実施の形態では、第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの側面に、一方の交差部２４から他方の交差部２４に向かって、少なくとも２つの凸部３０が連続して形成されている。この場合、例えば第１金属細線１２ａの一方の側面に形成される凸部３０の配列ピッチ、第１金属細線１２ａの他方の側面に形成される凸部３０の配列ピッチはいずれも一定ではなく、それぞれランダムに配列された形態となっている。これは第２金属細線１２ｂにおいても同様である。
【００２２】
また、各交差部２４においても、図３に示すように、それぞれ４つの角部３６（第１金属細線１２ａの側面と第２金属細線１２ｂの側面とが交わる部分）から開口部１４に向かって張り出し、且つ、１以上の凸部や凹部を有する張出し部２６が形成されている。各角部３６に形成される張出し部２６の形状は一定ではなく、１以上の凸部や、あるいは１以上の凹部がランダムに形成された形状となっている。
【００２３】
ここで、図５Ａに示すように、金属メッシュパターン２２を構成する第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂを設計幅Ｗｃどおりに形成して、開口部１４を透過する光の積分量をフイルムの一方の側面に投影させたときの分布をみたとき、交差部２４以外の部分については、例えば仮想線Ａ及びＢに示すように、導電部１２が同じ割合で分布しているため、図５Ｂに示すように、積分量はほぼ一定の値を示す。交差部２４については、２つの導電部１２が１つにまとまることから、その分、透過光の積分量が増えている（図５Ｂ参照）。しかも、積分量の増加部分が、交差部２４の配列に従って、ある空間周波数をもって配列した形となっている。
【００２４】
このような特性を有する導電膜を用いて光学フィルタを構成し、さらに、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）等に設置した場合、ＰＤＰの画素配列の空間周波数と上述した積分量の増加部分の空間周波数（透過光の空間周波数）の差周波に起因してモアレが生じることになる。
【００２５】
一方、本実施の形態では、交差部２４間の第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの側壁形状が、開口部１４に向かって張り出す張出し部２６を有し、さらに、張出し部２６に複数の凹凸がランダムに配列された形成された形状となっていることから、交差部２４以外の部分についての透過光の積分量はほぼ一定値ではなく、ランダムに形成された前記複数の凹凸に応じて様々に変化することとなる。しかも、各交差部２４の４つの角部３６についても凹凸がランダムに形成された形状となっていることから、交差部２４の透過光の積分量も場所によって変化することとなる。このようなことから、交差部２４以外の透過光の積分量と、交差部２４の透過光の積分量との間に規則性がなくなり、上述した積分量の増加部分が、ある空間周波数をもって配列される、ということが緩和されることとなる。その結果、導電部１２と開口部１４との組み合わせによる金属メッシュパターン２２があたかも消滅したようになり、これにより、モアレの発生の低減につながる。
【００２６】
次に、上述した導電膜１０を製造するための本実施の形態に係る導電膜の２つの製造方法（第１製造方法及び第２製造方法）について図６Ａ〜図６Ｄを参照しながら説明する。なお、第２製造方法は図示を省略してある。
【００２７】
第１製造方法は、透明フイルム基材１６上に設けられた銀塩感光層を露光し、現像、定着することによって形成された金属銀部にて金属メッシュパターン２２を形成する。
【００２８】
具体的には、図６Ａに示すように、ハロゲン化銀４０（例えば臭化銀粒子、塩臭化銀粒子や沃臭化銀粒子）をゼラチン４２に混ぜてなる銀塩感光層４４が塗布された感光材料を用意する。なお、図６Ａ〜図６Ｄでは、ハロゲン化銀４０を「粒々」として表記してあるが、あくまでも本発明の理解を助けるために誇張して示したものであって、大きさや濃度等を示したものではない。
【００２９】
その後、図６Ｂに示すように、銀塩感光層４４に対して、後に第１金属細線１２ａとなる第１線状パターン４６ａ及び後に第２金属細線１２ｂとなる第２線状パターン４６ｂの形成に必要な露光を行う。ハロゲン化銀４０は、光エネルギーを受けると感光して「潜像」と称される微小な銀核を生成し、第１線状パターン４６ａ及び第２線状パターン４６ｂ（金属メッシュパターン２２ａ）の潜像が形成される。この露光においては、後述するように、例えば図７に示すプロキシミティ露光装置（露光装置１００）が用いられる。
【００３０】
金属メッシュパターン２２ａの潜像を肉眼で観察できる可視化された画像にするために、図６Ｃに示すように、現像処理を行う。具体的には、金属メッシュパターン２２ａの潜像が形成された銀塩感光層４４を現像液（アルカリ性溶液と酸性溶液のどちらもあるが通常はアルカリ性溶液が多い）にて現像処理する。この現像処理とは、ハロゲン化銀粒子ないし現像液から供給された銀イオンが現像液中の現像主薬と呼ばれる還元剤により潜像銀核を触媒核として金属銀に還元されて、その結果として潜像銀核が増幅されて可視化された銀画像（現像銀４８）を形成する。
【００３１】
現像処理を終えたあとに銀塩感光層４４中には光に感光できるハロゲン化銀４０が残存するのでこれを除去するために図６Ｄに示すように定着処理液（酸性溶液とアルカリ性溶液のどちらもあるが通常は酸性溶液が多い）により定着を行う。
【００３２】
この定着処理を行うことによって、露光された部位には金属銀部５０が形成され、露光されていない部位にはゼラチン４２のみが残存し、開口部１４となる。すなわち、透明フイルム基材１６上に金属銀部５０（導電部１２）と開口部１４との組み合わせが形成されることになる。この段階で、金属銀部５０による金属メッシュパターン２２としてもよい。その後、めっき処理を行って、金属銀部５０にめっきを施すようにして、金属銀部５０とめっきとによる金属メッシュパターン２２としてもよい。
【００３３】
そして、銀塩感光層４４に対する露光にて使用されるフォトマスクとしては、後述するように、第１線状パターン４６ａ及び第２線状パターン４６ｂの潜像を形成するためのマスクパターンを有するフォトマスクが使用される。
【００３４】
次に、第２製造方法は、先ず、例えば透明フイルム基材上に形成された銅箔上にフォトレジスト膜を形成した感光材料を用意し、その後、感光材料のフォトレジスト膜に対して、後に第１金属細線となる第１線状パターンと後に第２金属細線となる第２線状パターンの形成に必要な露光を行う。フォトレジスト膜は光が照射された部分が硬化するネガ型のフォトレジスト膜を使用している。この段階で、金属メッシュパターンに沿ったメッシュパターンが形成される。これらの露光においても、後述する露光装置１００が用いられる。
【００３５】
その後、露光済みのフォトレジスト膜を現像処理して、メッシュパターンに従ったレジストパターンを形成し、その後、レジストパターンから露出する銅箔をエッチングすることによって、金属メッシュパターンを形成する。
【００３６】
この場合も、フォトレジスト膜に対する露光にて使用されるフォトマスクとして、フォトレジスト膜に第１線状パターン及び第２線状パターンを形成するためのマスクパターンを有するフォトマスクが使用される。
【００３７】
ここで、本実施の形態に係る製造方法の露光工程で使用されるプロキシミティ露光装置（以下、露光装置１００と記す）について図７〜図１０を参照しながら説明する。
【００３８】
この露光装置１００は、図７に示すように、長尺の感光材料１０２を供給するワーク供給部１０４と、感光材料１０２に第１線状パターン４６ａ及び第２線状パターン４６ｂによるメッシュパターン２２ａの潜像を形成する露光部１０６と、露光済みの感光材料１０２を巻き取るワーク巻取り部１０８と、複数本の感光材料１０２を連続して処理する際に、先に処理を終えた感光材料１０２の後端と、後続の感光材料１０２の先端とが接合されるワーク接合部１１０と、これらを統括的に制御する制御部１１２を備えている。
【００３９】
長尺の感光材料１０２は、透明フイルム基材１６として、厚さｔ１＝１００μｍ、幅Ｗ０＝６５０〜７５０ｍｍの透明なＰＥＴフイルムが使用され、該ＰＥＴフイルムの一方の面に銀塩感光層４４（第１製造方法に対応）、又は銅箔及びフォトレジスト膜（第２製造方法に対応）が形成されており、１００〜１０００ｍの長さのものがロール状に巻かれてワーク供給部１０４にセットされる。
【００４０】
ワーク供給部１０４にセットされた感光材料１０２は、先端が引き出されて複数のローラに掛けられ、ワーク巻取り部１０８の巻取り用リール１１４に係止される。そして、搬送手段である巻取り用リール１１４及び露光ローラ１１６及び図示しない複数の駆動ローラが、モータ群１１８によって巻取り方向に回転されることにより、感光材料１０２は、ワーク供給部１０４からワーク巻取り部１０８に向かうワーク搬送方向Ｆに搬送される。この感光材料１０２のワーク搬送速度Ｖは、例えば、４ｍ／分であるが、このワーク搬送速度Ｖは銀塩感光層４４（又はフォトレジスト膜）の感度や露光光源のパワーに応じて最適値が設計される。
【００４１】
露光部１０６は、露光ローラ１１６の外周に配置されるフォトマスク１２０と、このフォトマスク１２０に光を照射する露光光源である照明部１２２とから構成されている。フォトマスク１２０は、例えば、厚みｔ２＝４．５ｍｍ、ワーク搬送方向Ｆのマスク長さＬａ＝２００ｍｍ、ワーク搬送方向Ｆに直交するマスク幅Ｗａ＝８００ｍｍの透明なソーダガラスで形成されたマスク基板と、該マスク基板の一方の面に形成されるマスクパターンとからなる。
【００４２】
マスクパターンは、例えば黒色の遮光パターンに、マスクパターンの形状のスリットを形成して光が透過できるようにしたものである。また、マスクパターンは、上述した金属メッシュパターン２２と同形状、同寸法であり、ワーク幅方向に沿ってクロム蒸着によりマスク基板上に形成されている。
【００４３】
フォトマスク１２０は、図８に示すマスク保持部１３０によって保持されている。マスク保持部１３０は、フォトマスク１２０を保持する保持枠１３２と、この保持枠１３２に保持されたフォトマスク１２０が、感光材料１０２との間にプロキシミティギャップＬｇを隔てて対面される露光位置と、感光材料１０２からプロキシミティギャップＬｇ以上離されて隙間が形成される退避位置（図８中、二点鎖線で示す）との間で保持枠１３２を移動自在に支持する支持部１３４と、保持枠１３２を露光位置と退避位置との間で移動させる駆動部であるアクチュエータ１３６とから構成されている。
【００４４】
保持枠１３２は、フォトマスク１２０の外周を前後から挟み込んで保持する。保持枠１３２には、背面側から螺合されてフォトマスク１２０に当接する調節ネジ１３８が幅方向に複数箇所設けられている。これらの調節ネジ１３８は、プロキシミティギャップＬｇの幅方向微小ひずみに対する微調整を行う調整部であり、保持枠１３２への締め込み量を加減することによってフォトマスク１２０が調節ネジ１３８に押され、保持枠１３２内で移動して全幅でギャップが同じになるように、プロキシミティギャップＬｇが調整される。
【００４５】
支持部１３４は、保持枠１３２に取り付けられるスライドガイド１４０と、このスライドガイド１４０をスライド自在に支持するスライドレール１４２等からなり、保持枠１３２を露光位置と退避位置との間でスライド自在に支持する。アクチュエータ１３６は、保持枠１３２をスライドレール１４２上でスライドさせて露光位置と退避位置とに移動させる。プロキシミティギャップＬｇは、スライドレール１４２上の露光位置を決めるストッパの微調整により決定される。
【００４６】
アクチュエータ１３６は、支持部１３４に取り付けられ、移動子１４４がスライドガイド１４０に接続され、制御部１１２によって制御される。支持部１３４には、露光位置へ移動した際の位置再現性の高い高精度なものが用いられているため、保持枠１３２の移動によってプロキシミティギャップＬｇがずれることはない。
【００４７】
一方、照明部１２２は、図９に示すように、レーザ出力装置１４６と、このレーザ出力装置１４６から出力されたレーザ光１４７をコリメートして平行光にするコリメートレンズ１４８と、レーザ光１４７を反射する反射ミラー１５０と、走査手段であるポリゴンミラー１５２及び図示しないモータとから構成されている。
【００４８】
レーザ出力装置１４６は、例えば、出力６０ｍＷのシングルモード半導体レーザ出力装置であり、銀塩感光層４４に合わせて波長が例えば４０５ｎｍのレーザ光１４７を出力する。コリメートレンズ１４８は、例えば焦点距離３ｍｍであり、入力されたレーザ光１４７を長軸＝３．６ｍｍ、短軸＝１．２ｍｍの楕円形の射影形状を有する平行光に変換する。このレーザ光１４７は、長軸がワーク搬送方向Ｆに、短軸がワーク幅方向に沿うように、フォトマスク１２０に照射される。
【００４９】
次に、露光装置１００によってメッシュパターン２２ａの潜像を露光する方法について図９を参照しながら説明する。
【００５０】
先ず、長尺の感光材料１０２は、図９中、矢印Ｆで示すワーク搬送方向に搬送され、この搬送中に照明部１２２からフォトマスク１２０にレーザ光１４７が照射される。フォトマスク１２０に照射されたレーザ光１４７は、マスクパターンのスリットを通って感光材料１０２に達し、周期長さが例えば４２４μｍの周期パターンが搬送方向に沿って露光される。感光材料１０２とフォトマスク１２０との間には、例えば７０〜２００μｍのプロキシミティギャップＬｇが設けられており、周期長さ分のワーク搬送に同期させてプロキシミティ露光を行うことにより、所定の周期パターンが露光される。本発明では、７０〜２００μｍのプロキシミティギャップＬｇが設けられていることで、交差部２４間の第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの側面に、開口部１４に向かって張出し部２６が形成され、それがモアレ防止に有効である。張出し部２６は、感光材料の種類、現像処理、めっき処理などを調整することでその形状を最適化することができる。
【００５１】
さらに、銀塩感光層を有する感光材料を使用する場合、金属銀部５０にめっきすることが好ましい。めっきにより張出し部２６が太って強調されることで、モアレ防止の効果が大きくなる。
【００５２】
本実施の形態は、感光材料１０２を停止させずに連続搬送しながら、該マスクパターンが設けられたフォトマスク１２０を静止させた状態で、フォトマスク１２０の少なくとも１周期分のマスクパターンの全域をカバーする露光領域に周期的（例えば４２４μｍの送りにあわせた周期）にプロキシミティ露光する。レーザ光１４７の１走査により、感光材料１０２には、ワーク搬送方向Ｆに周期パターン１２８ａに対応するメッシュパターン２２ａが露光される。その間に、感光材料１０２はワーク搬送方向Ｆに周期長さ分搬送されているので、感光材料１０２上のすでに周期パターンに対応したパターンが露光された部分の上から、この部分がフォトマスク１２０を通過するときに、同じパターンがフォトマスク１２０越しに重ね露光される。このときのワーク搬送速度Ｖと露光周期Ｔとが同期されていれば、潜像に重ねて露光がなされるため、周期パターンに対応したパターンに乱れは生じない。これを順次繰り返していくことにより、１つの周期パターンに対して多重露光がなされることになる。
【００５３】
次に、上述した露光装置１００による露光工程の概要について、図７の構成図及び図１０のフローチャートを参照しながら説明する。
【００５４】
先ず、図１０のステップＳ１において、感光材料１０２をワーク供給部１０４にセットする。感光材料１０２は、未露光の銀塩感光層４４（又はフォトレジスト膜）が塗布された厚み＝１００μｍ、幅＝６５０〜７５０ｍｍの長尺フイルムからなり、１００〜１０００ｍの感光材料１０２がリールに巻かれてワーク供給部１０４にセットされる。一方、ワーク巻取り部１０８には巻取り用リール１１４がセットされ、感光材料１０２の先端が係止される。
【００５５】
この状態で、ステップＳ２において、照明部１２２は、レーザ出力装置１４６をオフ状態にしたまま、ポリゴンミラー１５２を回転する。
【００５６】
その後、ステップＳ３において、照明部１２２は、ポリゴンミラー１５２の回転数が設定された回転数に達したかを判別する。
【００５７】
ポリゴンミラー１５２の回転数が設定された回転数に達した段階で、次のステップＳ４に進み、感光材料１０２の搬送を開始する。
【００５８】
その後、ステップＳ５において、ワーク搬送速度Ｖが設定された速度に達したかを判別する。上述のように、ズレの無い多重露光を行うには、露光周期Ｔとワーク搬送速度Ｖとの間に一定の同期関係が必要である。また、露光周期Ｔとワーク搬送速度Ｖとを同期させるには、ポリゴンミラー１５２の回転数ωとワーク搬送速度Ｖとを同期させるのが最も簡単である。ワーク搬送速度Ｖと露光周期Ｔとの同期は、基準のクロックとして外部に例えば水晶発振器１７０（図７参照）を設け、制御部１１２は、このクロックを参照してすべての速度が所望の一定速度になるように制御する。これによって正確な同期を取ることができる。ポリゴンミラー１５２のスキャン開始信号は、ポリゴンミラー１５２によってスキャンされるレーザ光１４７をフォトダイオード等の光検出器によって検出した信号を使うか、もしくはポリゴンミラー１５２の制御信号で１面に１回出力されるパルス信号の立ち上がりを利用する。
【００５９】
ポリゴンミラー１５２の回転数ωとワーク搬送速度Ｖとが規定の条件（設定された速度）に達したら、次のステップＳ６に進み、照明部１２２のレーザ出力装置１４６は、レーザ光１４７を出力する。
【００６０】
なお、ポリゴンミラー１５２の回転数ωとワーク搬送速度Ｖとが同期してから露光を開始するのは、露光が適切に行われた部分とＮＧ部分との識別を容易にするためである。ポリゴンミラー１５２の回転数ωとワーク搬送速度Ｖとが非同期の状態で露光を行ってもメッシュパターン２２ａの潜像は露光形成されるので、一見、良品のように見える場合も考えられ、目視による外観検査によりＮＧ部分を抜き取る場合、ヒューマンエラーが必ず発生し、ＮＧ混入のリスクを伴う。そのため、予め同期状態に達したかどうかを制御部１１２でモニタしておき、非同期状態ではレーザ出力装置１４６を動作させず、露光しなければ、必ずＮＧと認識することができる。従って、運転スタート／ストップの非同期帯では自動的にレーザ光１４７を出力しないようになっている。
【００６１】
そして、ステップＳ７において、フォトマスク１２０を介して感光材料１０２にメッシュパターン２２ａの潜像を露光形成する。この露光は、上述したように複数回の多重露光によって行われる。
【００６２】
上述のステップＳ７での露光処理は、制御部１１２からエンド信号が出力されるまで繰り返される（ステップＳ８）。
【００６３】
露光済みの感光材料１０２は、ワーク巻取り部１０８に巻き取られる。ワーク供給部１０４の感光材料１０２が無くなると、ワーク供給部１０４から制御部１１２にエンド信号が入力され（ステップＳ８）、次のステップＳ９において、感光材料１０２の搬送が停止され、次いで、ステップＳ１０において、ワーク接合部１１０にて感光材料１０２の端末がカットされ、ワーク供給部１０４にセットされる新しい感光材料１０２の先端とテープ接合される。
【００６４】
感光材料１０２の接合後、再びワーク搬送が開始されるが、接合部分が露光ローラ１１６を通過する際にマスク保持部１３０がフォトマスク１２０を退避位置に移動させるので、フォトマスク１２０と感光材料１０２の接合部分とが接触して損傷することはない。接合部分の通過後は、フォトマスク１２０は再現よく露光位置に復帰され、所定のプロキシミティギャップＬｇが設定される。なお、この接合部分の通過時にも、レーザ出力装置１４６をオフ状態にしておくことが好ましい。
【００６５】
ワーク搬送によって接合部分がワーク巻取り部１０８で巻き取られたら、一旦停止して、巻き取り終端部を固定し、カットして、巻き終わった端末を端末テープ止めする。巻き取られた製品を取り出し、新たに巻取り用リール１１４を供給してチャックした後、カットした感光材料１０２の先端を巻取り用リール１１４に係止する。露光工程が以上で一巡し、この繰り返しによって製品が生産される。
【００６６】
なお、上述の例は、１軸送り出し及び巻き取りを例に取って説明したが、送り出し、巻き取りをそれぞれ２軸にして、切り替え時間を稼ぐ構成としてもよいし、リザーバー等を構成して完全に無停止切換えを行うように構成すればロスは最小にできる。
【００６７】
露光工程で露光された感光材料１０２は、その後、現像工程に搬送され、現像されて金属銀部５０による金属メッシュパターン２２が形成され、本実施の形態に係る導電膜１０が完成する。
【００６８】
上述の本実施の形態においては、帯状もしくはシート状の感光材料１０２を連続搬送し、この感光材料１０２に対し７０〜２００μｍのプロキシミティギャップを隔てて配置されたフォトマスク１２０を介して、プロキシミティ露光を行い、該フォトマスク１２０に設けられたマスクパターンを、搬送方向に周期的な周期パターンとして感光材料１０２に露光するようにしたので、感光材料１０２に潜像として形成される交差部２４間の第１線状パターン４６ａ及び第２線状パターン４６ｂの側部は、第１線状パターン４６ａ及び第２線状パターン４６ｂの設計幅Ｗｃを示す仮想線から外方に張り出し、且つ、張出し量が設計幅Ｗｃの１／２５〜１／６である張出し部２６が潜像として形成された形状を有することとなる。従って、現像工程を経て導電膜１０としたとき、交差部２４間の第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの側部は、第１金属細線１２ａ及び第２金属細線１２ｂの設計幅Ｗｃを示す仮想線ｍから開口部１４に向かって張り出し、且つ、張出し量ｄａが設計幅ｗｃの１／２５〜１／６であって、アスペクト比（Ｌｙ／Ｌｘ）が１／５〜３／２の２以上の凸部３０を有する張出し部２６が形成されることになる。
【００６９】
すなわち、本実施の形態に係るパターン露光方法及び導電膜の製造方法においては、モアレの発生が低減された導電膜１０を製造することができる。
【００７０】
次に、本実施の形態に係る導電膜１０において、特に好ましい態様であるハロゲン化銀写真感光材料を用いる導電膜１０の作製方法を中心にして述べる。
【００７１】
本実施の形態に係る導電膜１０は、上述したように、透明フイルム基材１６上に感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料１０２を露光し、現像処理を施すことによって露光部及び未露光部に、それぞれ金属銀部５０（導電部１２）及び開口部１４を形成することで製造することができる。
【００７２】
本実施の形態に係る導電膜１０の形成方法は、感光材料１０２と現像処理の形態によって、次の３通りの形態が含まれる。
（１）  物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を化学現像又は熱現像して金属銀部５０を該感光材料１０２上に形成させる態様。
（２）  物理現像核をハロゲン化銀乳剤層中に含む感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を溶解物理現像して金属銀部５０を該感光材料１０２上に形成させる態様。
（３）  物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料と、物理現像核を含む非感光性層を有する受像シートを重ね合わせて拡散転写現像して金属銀部５０を非感光性受像シート上に形成させる態様。
【００７３】
上記（１）の態様は、一体型黒白現像タイプであり、感光材料１０２上に電磁波シールドフイルムや光透過性導電膜等の透光性導電性膜が形成される。得られる現像銀は化学現像銀又は熱現像銀であり、高比表面のフィラメントである点で後続するめっき又は物理現像過程で活性が高い。
【００７４】
上記（２）の態様は、露光部では、物理現像核近縁のハロゲン化銀粒子が溶解されて現像核上に沈積することによって感光材料１０２上に透光性電磁波シールド膜や光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。これも一体型黒白現像タイプである。現像作用が、物理現像核上への析出であるので高活性であるが、現像銀は比表面は小さい球形である。
【００７５】
上記（３）の態様は、未露光部においてハロゲン化銀粒子が溶解されて拡散して受像シート上の現像核上に沈積することによって受像シート上に電磁波シールドフイルムや光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。いわゆるセパレートタイプであって、受像シートを感光材料１０２から剥離して用いる態様である。
【００７６】
いずれの態様もネガ型現像処理及び反転現像処理のいずれの現像を選択することもできる（拡散転写方式の場合は、感光材料１０２としてオートポジ型感光材料を用いることによってネガ型現像処理が可能となる）。
【００７７】
ここでいう化学現像、熱現像、溶解物理現像、拡散転写現像は、当業界で通常用いられている用語どおりの意味であり、写真化学の一般教科書、例えば菊地真一著「写真化学」（共立出版社、１９５５年刊行）、Ｃ．Ｅ．Ｋ．Ｍｅｅｓ編「Ｔｈｅ  Ｔｈｅｏｒｙ  ｏｆ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ，  ４ｔｈ  ｅｄ．」（Ｍｃｍｉｌｌａｎ社、１９７７年刊行）に解説されている。
【００７８】
（感光材料１０２）
［透明フイルム基材１６］
本実施の形態の製造方法に用いられる透明フイルム基材１６としては、プラスチックフイルム等を用いることができる。
【００７９】
本実施の形態においては、透光性、耐熱性、取り扱い易さ及び価格の点から、上記プラスチックフイルムはポリエチレンテレフタレートフイルム又はトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）であることが好ましい。
【００８０】
窓ガラス用の透明発熱体では透光性が要求されるため、透明フイルム基材１６の透光性は高いことが望ましい。この場合におけるプラスチックフイルムの全可視光透過率は７０％以上が好ましく、さらに好ましくは８５％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。また、本実施の形態では、前記プラスチックフイルムとして本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。
【００８１】
透明フイルム基材１６の厚みは、例えば、０．００１ｍｍ（１．０μｍ）〜２．０ｍｍから選択可能であるが、５〜３５０μｍであることが好ましい。５〜３５０μｍの範囲であれば、所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。また、上述したように、ロールに巻き付けた際の重量や接着、変形等を考慮した場合、透明フイルム基材１６の厚みは２００μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは２０μｍ以上１８０μｍ以下、最も好ましくは５０μｍ以上１２０μｍ以下である。
【００８２】
［保護層］
用いられる感光材料１０２は、後述する乳剤層上に保護層を設けていてもよい。本実施の形態において「保護層」とは、ゼラチンや高分子ポリマーといったバインダからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために感光性を有する乳剤層に形成される。
【００８３】
［乳剤層］
本実施の形態の製造方法に用いられる感光材料１０２は、透明フイルム基材１６上に、光センサとして銀塩を含む乳剤層（銀塩感光層４４）を有することが好ましい。本実施の形態における乳剤層には、銀塩のほか、必要に応じて、染料、バインダ、溶媒等を含有することができる。
【００８４】
本実施の形態で用いられる銀塩としては、ハロゲン化銀等の無機銀塩が好ましく、特に銀塩がハロゲン化銀写真感光材料用ハロゲン化銀粒子の形で用いられるのが好ましい。ハロゲン化銀は、光センサとしての特性に優れている。
【００８５】
乳剤層には、銀塩粒子を均一に分散させ、且つ、乳剤層と支持体との密着を補助する目的でバインダを用いることができる。本発明において、上記バインダとしては、非水溶性ポリマー及び水溶性ポリマーのいずれもバインダとして用いることができるが、水溶性ポリマーを用いることが好ましい。
【００８６】
上記バインダとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリサッカライド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。
【００８７】
乳剤層中に含有されるバインダの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。
【００８８】
上記乳剤層の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。
【００８９】
本発明の乳剤層に用いられる溶媒の含有量は、前記乳剤層に含まれる銀塩、バインダ等の合計の質量に対して３０〜９０質量％の範囲であり、５０〜８０質量％の範囲であることが好ましい。
【００９０】
［金属銀部５０］
金属銀部５０の厚さは、透明フイルム基材１６上に塗布される銀塩感光層４４の塗布厚みに応じて適宜決定することができる。金属銀部５０の厚さは、０．００１ｍｍ〜０．２ｍｍから選択可能であるが、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、０．０１〜９μｍであることがさらに好ましく、０．０５〜５μｍであることが最も好ましい。また、金属銀部５０はパターン状であることが好ましい。金属銀部５０は１層でもよく、２層以上の重層構成であってもよい。金属銀部５０がパターン状であり、且つ、２層以上の重層構成である場合、異なる波長に感光できるように、異なる感色性を付与することができる。これにより、露光波長を変えて露光すると、各層において異なるパターンを形成することができる。
【００９１】
［メッシュパターン２２］
メッシュパターン２２を構成する導電部１２の線幅は、２００μｍ（０．２ｍｍ）以下から選択可能であるが、透明発熱体の材料としての用途である場合、５μｍ以上５０μｍ以下が好ましい。さらに好ましくは５μｍ以上３０μｍ以下、最も好ましくは１０μｍ以上２５μｍ以下である。線間隔は５０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、さらに好ましくは２００μｍ以上４００μｍ以下、最も好ましくは２５０μｍ以上３５０μｍ以下である。また、導電部は、アース接続等の目的においては、線幅は２０μｍより広い部分を有していてもよい。
【００９２】
メッシュパターン２２の開口部１４は、導電膜１０のうち導電部１２以外の透光性を有する部分である。開口部１４の透過率は、透明フイルム基材１６の光吸収及び反射の寄与を除いた３８０〜７８０ｎｍの波長領域における透過率の最小値で示される透過率が９０％以上、好ましくは９５％以上、さらに好ましくは９７％以上であり、さらにより好ましくは９８％以上であり、最も好ましくは９９％以上である。
【００９３】
メッシュパターン２２の開口率は、可視光透過率の点から８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。開口率とは、メッシュパターン２２を構成する導電部１２を除いた開口部１４が全体に対して占める割合であり、例えば、線幅１５μｍ、ピッチ３００μｍの正方形の格子状メッシュの開口率は、９０％である。
【００９４】
また、メッシュパターン２２は、３ｍ以上連続していることが導電膜１０の生産性を高く維持するのに好都合である。メッシュパターン２２の連続数が多いほどその効果は大きく、従って、例えば透明発熱体を生産する場合のロスが低減できる優れた態様であるといえる。
【００９５】
連続して焼き付けられるメッシュパターン２２の升目（メッシュ形状Ｍ）が多いと、ロール状にした場合にロール径が大きくなる、ロールの重量が重くなる、ロールの中心部の圧力が強くなり接着や変形等の問題を生じ易くなる等の理由で２０００ｍ以下であることが好ましい。好ましくは３ｍ以上、より好ましくは１００ｍ以上１０００ｍ以下、さらに好ましくは２００ｍ以上８００ｍ以下、最も好ましくは３００ｍ以上５００ｍ以下である。
【００９６】
［接着剤層］
本実施の形態に係る導電膜１０は、窓ガラス等に接着剤層を介して貼着するようにしてもよい。
【００９７】
次に、導電性フイルム作製の各工程について説明する。
【００９８】
［露光］
上述した露光装置１００にて露光を行うことが好ましい。なお、露光装置１００については、詳述したので、ここではその説明を省略する。
【００９９】
［現像処理］
本実施の形態では、乳剤層を露光した後、さらに現像処理が行われる。現像処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。
【０１００】
本実施の形態における現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。本実施の形態における定着処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
【０１０１】
現像、定着処理を施した感光材料は、水洗処理や安定化処理を施されるのが好ましい。
【０１０２】
現像処理後の露光部に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。
【０１０３】
［物理現像及びめっき処理］
本実施の形態では、前記露光及び現像処理により形成された金属銀部５０の導電性を高める目的で、金属銀部５０にさらに導電性金属粒子を担持させるための物理現像及び／又はめっき処理を行ってもよい。本実施の形態では物理現像又はめっき処理のいずれか一方のみで導電性金属粒子を金属銀部５０に担持させることが可能であるが、さらに物理現像とめっき処理とを組み合わせて導電性金属粒子を金属銀部５０に担持させることもできる。
【０１０４】
メッシュパターン２２を構成する導電部１２は、透明発熱体の用途としては、薄いほど窓ガラスの視野角が広がるため好ましく、発熱効率の点で薄膜化が要求される。このような観点から、導電性金属粒子からなる層の厚さは、９μｍ未満であることが好ましく、０．１μｍ以上５μｍ未満であることがより好ましく、０．１μｍ以上３μｍ未満であることがさらに好ましい。
【０１０５】
本実施の形態では、上述した銀塩感光層４４の塗布厚みをコントロールすることにより所望の厚さの金属銀部５０を形成し、さらに物理現像及び／又はめっき処理により導電性金属粒子からなる層の厚みを自在にコントロールできるため、５μｍ未満、好ましくは３μｍ未満の厚みを有する導電膜１０であっても容易に形成することができる。
【０１０６】
なお、従来のエッチングを用いた方法では、金属薄膜の大部分をエッチングで除去、廃棄する必要があったが、本実施の形態では必要な量だけの導電性金属を含むパターンを透明フイルム基材１６上に設けることができるため、必要最低限の金属量だけを用いればよく、製造コストの削減及び金属廃棄物の量の削減という両面から利点がある。
【実施例】
【０１０７】
以下に、本発明の実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１０８】
（ハロゲン化銀感光材料）
水媒体中のＡｇ６０ｇに対してゼラチン１０.０ｇを含む、球相当径平均０．1μｍの沃臭塩化銀粒子（Ｉ＝０．２モル％、Ｂｒ＝４０モル％）を含有する乳剤を調製した。
【０１０９】
また、この乳剤中にはＫ3Ｒｈ2Ｂｒ9及びＫ2ＩｒＣｌ6を濃度が１０-7（モル／モル銀）になるように添加し、臭化銀粒子にＲｈイオンとＩｒイオンをドープした。この乳剤にＮａ2ＰｄＣｌ4を添加し、さらに塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを用いて金硫黄増感を行った後、ゼラチン硬膜剤と共に、銀の塗布量が１ｇ／ｍ2となるようにポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）上に塗布した。この際、Ａｇ／ゼラチン体積比は１／２とした。
【０１１０】
幅３０ｃｍのＰＥＴ支持体に２５ｃｍの幅で２０ｍ分塗布を行い、塗布の中央部２４ｃｍを残すように両端を３ｃｍずつ切り落としてロール状のハロゲン化銀感光材料を得た。
【０１１１】
（露光）
ハロゲン化銀感光材料の露光は、上述した露光装置１００を用いて行った。すなわち、連続搬送されるハロゲン化銀感光材料に対し、所定のプロキシミティギャップを隔てて配置されたフォトマスク１２０を介して、プロキシミティ露光を行った。露光の波長は４００ｎｍで、ビーム形は１２μｍの略正方形、及びレーザ光源の出力は１００μＪであった。
【０１１２】
露光のパターン（メッシュパターン２２）は１２μｍの升目（メッシュ形状Ｍ）が４５度の格子状にピッチが３００μｍ間隔で幅２４ｃｍ長さ１０ｍ連続するように行った。
【０１１３】
（現像処理）
・現像液１Ｌ処方
ハイドロキノン                        ２０  ｇ
亜硫酸ナトリウム                      ５０  ｇ
炭酸カリウム                          ４０  ｇ
エチレンジアミン・四酢酸                ２  ｇ
臭化カリウム                            ３  ｇ
ポリエチレングリコール２０００          １  ｇ
水酸化カリウム                          ４  ｇ
ｐＨ                            １０．３に調整
・定着液１Ｌ処方
チオ硫酸アンモニウム液（７５％）    ３００  ｍｌ
亜硫酸アンモニウム・１水塩            ２５  ｇ
１，３−ジアミノプロパン・四酢酸        ８  ｇ
酢酸                                    ５  ｇ
アンモニア水（２７％）                  １  ｇ
ｐＨ                              ６．２に調整
【０１１４】
上記処理剤を用いて露光済み感材を、富士フイルム社製自動現像機  ＦＧ−７１０ＰＴＳを用いて処理条件：現像３５℃  ３０秒、定着３４℃  ２３秒、水洗  流水（５Ｌ/分）の２０秒処理で行って導電膜の各試料を得た。
【０１１５】
ランニング条件として、感材の処理量を１００ｍ2／日で現像液の補充を５００ｍｌ／ｍ2、定着液を６４０ｍｌ／ｍ2で３日間行った。
【０１１６】
(比較例１〜３)
ここで、下記表１に示すように、比較例１は、プロキシミティ露光のプロキシミティギャップＬｇを３０μｍとし、比較例２は５０μｍ、比較例３は２２０μｍとした。
【０１１７】
（実施例１〜５）
下記表１に示すように、実施例１は、プロキシミティ露光のプロキシミティギャップＬｇを７０μｍとし、実施例２は１００μｍ、実施例３は１５０μｍ、実施例４は１８０μｍ、実施例５は２００μｍとした。
【０１１８】
［評価］
（金属細線の張出し量の設計幅に対する比率）
導電膜１０の金属細線を上面から見た画像を撮像装置にて取り込み、画像認識ソフトを使用して金属細線の最大幅Ｗｍを測定し、設計幅Ｗｃと下記式に基づいて、金属細線の張出し量の設計幅に対する比率を算出した。
比率＝｛（Ｗｍ−Ｗｃ）／２｝／Ｗｃ
【０１１９】
（金属細線のパターンぼけの有無）
形成された金属細線の平均幅が設計幅よりも小さい場合に、パターンぼけ「有り」とし、金属細線の平均幅が設計幅よりも大きい場合に、パターンぼけ「なし」とした。
【０１２０】
（モアレの評価）
表面の電磁波シールドフイルムを外した松下電器製ＰＤＰ（ＴＨ−４２ＰＸ３００）を準備し、その上に得られた導電膜１０を設置するための回転盤を配置する。回転盤は厚さ５ｍｍのガラスでできており、ＰＤＰ前面板を模している。さらに、角度目盛がついており、設置した導電膜１０のバイアス角がわかるようになっている。ＰＤＰに電源を入れ、ＰＤＰのＨＤＭＩ端子とパターンジェネレータ（ＡＳＴＲＯＶＧ８２８Ｄ）を接続する。パターンジェネレータから出力値最大の白色２５５信号をＰＤＰへ送る。導電膜１０が撓まないようにテープで回転盤の上に固定する。部屋を暗室にし、回転盤をバイアス角−４５°〜＋４５°の間で回転し、モアレの目視観察・評価を行った。モアレの視認性はＰＤＰの正面から観察距離１．５ｍで行い、モアレが顕在化しなかった場合を◎、モアレが問題のないレベルでほんの少し見られた場合を○、モアレが顕在化した場合を×として、各バイアス角度を評価した。総合評点として、◎となる角度範囲が２０°以上の場合をＡ、◎となる角度範囲が１０°以上２０°未満の場合はＢ、◎となる角度範囲が１０°未満の場合はＣ、◎となる角度範囲が無く、×となる角度範囲が１０°未満の場合はＤ、◎となる角度範囲が無く、×となる角度範囲が１０°以上ある場合をＥとした。
【０１２１】
（評価結果）
評価結果を以下の表１に示す。
【０１２２】
【表１】
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【０１２３】
張出し部個数とは、金属細線１００μｍにおける片側のみの個数である。１ｃｍ2の導電膜から５箇所の金属細線１００μｍを決め、その金属細線１００μｍにおける片側のみの個数を数えてその平均値から求めることができる。なお、比較例１において、張出し部個数が「なし」となっているのは、張出し量の設計幅に対する比率が１／４０であり、張出し部２６が無視できる程度に小さいことを示している。
【０１２４】
表１に示すように、比較例１、２及び実施例１〜５は、いずれもパターンぼけがなかったが、比較例３は、露光量が少なく、パターンぼけを生じていた。
【０１２５】
また、金属細線の張出し量の設計幅に対する比率については、比較例１は１／４０、比較例２は１／３０であった。実施例１〜５は、いずれも１／２５〜１／６の範囲に入っていた。なお、比較例３は、パターンぼけが顕著で、比率を求めることはできなかった。
【０１２６】
モアレについては、実施例２が「Ａ」の評価であって、ほとんどモアレが顕在していなかった。実施例１、３〜５は「Ｂ」の評価であり、実施例２ほどではないが、ほとんどモアレが顕在していなかった。一方、比較例１及び３は共に「Ｅ」の評価で、モアレが顕著であった。比較例２は、モアレは顕著でなかったが、実施例１、３〜５ほどではなかった。
【０１２７】
なお、実施例１〜５においては、いずれも張出し部にアスペクト比が１／５〜３／２である複数の凸部がランダムに配列されているのが確認された。
【０１２８】
なお、本発明に係るパターン露光方法、導電膜の製造方法及び導電膜は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。
【符号の説明】
【０１２９】
１０…導電膜                          １２…導電部
１２ａ…第１金属細線                  １２ｂ…第２金属細線
１４…開口部                          １６…透明フイルム基材
２２…金属メッシュパターン            ２４…交差部
２６…張出し部                        ２６ａ…頂部
３０…凸部                            ３６…角部
４４…銀塩感光層                      ４６ａ…第１線状パターン
４６ｂ…第２線状パターン              ５０…金属銀部
１００…露光装置                      １０２…感光材料
１２０…フォトマスク                  Ｌｇ…プロキシミティギャップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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