(57)【要約】【課題】溶液製膜法によるフィルム生成時に、加熱温度を上げて脱溶媒時間の短縮を行っても、フィルムの品質が低下しない添加剤を提供する。【解決手段】本発明は、下記一般式（１）    【化１】2010053299.tif 000006（Ｒ１及びＲ２は、それぞれ水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、ｍは１〜６の数を表し、ｎは３〜５００の数を表し、Ａは炭素数２〜４のアルキレン基を表す。ただし、（ＡＯ）ｎ中のオキシエチレン基の割合は２０〜９０質量％である。）で表されるポリエーテル化合物であって、該化合物の重量平均分子量が１，０００〜１００，０００であることを特徴とする溶液製膜法用の平滑剤である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
2010053299.tif 000005
（Ｒ１及びＲ２は、それぞれ水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、ｍは１〜６の数を表し、ｎは３〜５００の数を表し、Ａは炭素数２〜４のアルキレン基を表す。ただし、（ＡＯ）ｎ中のオキシエチレン基の割合は２０〜９０質量％である。）
で表されるポリエーテル化合物であって、該化合物の重量平均分子量が１，０００〜１００，０００であることを特徴とする溶液製膜法用の平滑剤。
【請求項２】
Ｒ１及びＲ２の両方又はいずれか一方が水素原子であることを特徴とする請求項１に記載の溶液製膜法用の平滑剤。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の溶液製膜法用の平滑剤を含有することを特徴とするドープ。
【請求項４】
請求項３に記載のドープを乾燥して得られるフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶剤に溶解させた樹脂を乾燥させて成膜する際、乾燥速度を早めても得られる膜の品質を低下させない平滑剤に関するものであり、特に液晶表示装置の偏光板の保護フィルム、位相差フィルム、配向フィルム等の平滑剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
樹脂フィルムを製造する場合いくつかの方法があり、代表的な方法として、溶押出成型法、カレンダー法、溶融製膜法等の方法が知られている。これらの中でも、材料となる樹脂を溶媒に溶解させた溶液（ドープ）を、平滑なドラムやベルト上に流延して付着させ、その後加熱によって溶媒を除去してフィルムを製造する溶液製膜法は、溶剤を揮発させながらフィルムを製造することにより材料の樹脂分子がランダムな方向に向き、フィルムで複屈折が発生しないため、液晶表示装置の偏光板の保護フィルム及び位相差フィルム等の製造法として用いられている。また、溶融押出成型法等に比べて樹脂にかける熱量が低く、熱安定剤等の添加量を低減でき、更に透明性の高いフィルムを成型できる等の利点も持っているため、非常に品質の良いフィルムが得られるという特徴を持っている（例えば、特許文献１、２を参照）。
【０００３】
しかし溶液製膜法は脱溶媒が必要なため、他のフィルム製造方法と比べてフィルムの成型までに時間がかかり生産性に劣ることが大きな欠点であった。生産性を上げるためには、脱溶媒の時間を短縮することが必要であるが、脱溶媒時の加熱温度を上げると、得られるフィルムの表面に凹凸が生じ、フィルムの品質が低下するため加熱温度を上げることができず、脱溶媒の時間を短縮することは困難であった。
【０００４】
【特許文献１】特開平０９−００１５６８号公報
【特許文献２】特開２０００−０５６１２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従って、本発明が解決しようとする課題は、溶液製膜法によるフィルム生成時に、加熱温度を上げて脱溶媒時間の短縮を行っても、フィルムの品質が低下しない添加剤を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
そこで本発明者等は鋭意検討し、溶液製膜法における脱溶媒時に、加熱温度を上げても得られるフィルムの品質が低下しない添加剤を見出し、本発明に至った。即ち、本発明は、下記一般式（１）
【０００７】
【化１】
2010053299.tif 000002
【０００８】
（Ｒ１及びＲ２は、それぞれ水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、ｍは１〜６の数を表し、ｎは３〜５００の数を表し、Ａは炭素数２〜４のアルキレン基を表す。ただし、（ＡＯ）ｎ中のオキシエチレン基の割合は２０〜９０質量％である。）で表されるポリエーテル化合物であって、該化合物の重量平均分子量が１，０００〜１００，０００であることを特徴とする溶液製膜法用の平滑剤である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の効果は溶液製膜法によるフィルム生成時に、加熱温度を上げて脱溶媒時間の短縮を行っても、フィルムの品質が低下しない添加剤を提供したことにある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明は、下記一般式（１）
【００１１】
【化２】
2010053299.tif 000003
【００１２】
（Ｒ１及びＲ２は、それぞれ水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、ｍは１〜６の数を表し、ｎは３〜５００の数を表し、Ａは炭素数２〜４のアルキレン基を表す。ただし、（ＡＯ）ｎ中のオキシエチレン基の割合は２０〜９０質量％である。）で表されるポリエーテル化合物であって、該化合物の重量平均分子量が１，０００〜１００，０００であることを特徴とする溶液製膜法用の平滑剤である。
【００１３】
Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表すが、炭素数１〜１０の炭化水素基とは、Ｒ１−（ＯＨ）ｍで表されるアルコール化合物から水酸基を取り除いた基である。こうしたアルコール化合物としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、２級ブタノール、ターシャリブタノール、ペンタノール、イソペンタノール、２級ペンタノール、ネオペンタノール、ターシャリペンタノール、ヘキサノール、２級ヘキサノール、ヘプタノール、２級ヘプタノール、オクタノール、２―エチルヘキサノール、２級オクタノール、ノナノール、２級ノナノール、デカノール、２級デカノール、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノール、エチルフェノール、プロピルフェノール、ターシャリブチルフェノール等の１価のアルコール；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、イソプレングリコール（３−メチル−１，３−ブタンジオール）、１，２−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，２−オクタンジオール、オクタンジオール（２−エチル−１，３−ヘキサンジオール）、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、１，２−デカンジオール等の２価のアルコール；グリセリン、１，２，３−ブタントリオール、１，２，４−ブタントリオール、２−メチル−１，２，３−プロパントリオール、１，２，３−ペンタントリオール、１，２，４−ペンタントリオール、１，３，５−ペンタントリオール、２，３，４−ペンタントリオール、２−メチル−２，３，４−ブタントリオール、トリメチロールエタン、２，３，４−ヘキサントリオール、２−エチル−１，２，３−ブタントリオール、トリメチロールプロパン、４−プロピル−３，４，５−ヘプタントリオール、ペンタメチルグリセリン等の３価のアルコール；ペンタエリスリトール、１，２，３，４−ペンタンテトロール、２，３，４，５−ヘキサンテトロール、１，２，４，５−ペンタンテトロール、１，３，４，５−ヘキサンテトロール、ジグリセリン、ジトリメチロールプロパン、ソルビタン等の４価のアルコール；アドニトール、アラビトール、キシリトール、トリグレセリン等の５価のアルコール；ジペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、イジトール、タロース、アロース等の６価のアルコールが挙げられる。
【００１４】
これらのアルコール化合物の価数はｍの値に対応しているが、価数が大きいと粘度が大きくなり取り扱いが困難になる場合があるので、１〜３価のアルコール（ｍの値が１〜３）が好ましく、１又は２価のアルコール（ｍの値が１又は２）がより好ましく、１価のアルコール（ｍの値が１）が更に好ましい。また、Ｒ１の炭素数が大きすぎると平滑剤としての効果が得られない場合があるので、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜６が好ましく、水素原子又は炭素数１〜４がより好ましい。なお、Ｒ１が水素原子の場合のｍの値は１である。
【００１５】
Ｒ２は、水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。こうした炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ターシャリブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、イソペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基等のアルケニル基；フェニル基、トルイル基、キシリル基等のアリール基が挙げられる。これらの中でも、Ｒ２の炭素数が大きすぎると平滑剤としての効果が得られない場合があるので、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基がより好ましく、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基が更に好ましい。なお、Ｒ２はｍ個存在するが、ｍ個のＲ２は同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１及びＲ２は上記のように、それぞれ水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基であるが、平滑剤としての性能が良好なことから、Ｒ１及びＲ２の両方又はいずれか一方が水素原子であることが好ましい。
【００１６】
一般式（１）中のＡは、炭素数２〜４のアルキレン基を表す。こうしたアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、メチルエチレン基、ブチレン基、１−メチルプロピレン基、２−メチルプロピレン基等が挙げられる。また、ｎはＡＯで表されるオキシアルキレン基の重合度であり３〜５００の数を表すが、好ましくは５〜３００であり、より好ましくは１０〜２００である。重合度が３未満の場合は平滑剤としての効果が現れず、５００を超えると製造が困難になる場合や製品粘度が高くなりすぎて取り扱いが困難になる場合がある。
【００１７】
ここで、Ａで表されるアルキレン基は分子中にｎ個存在するが、（ＡＯ）ｎ中のオキシエチレン基の割合は２０〜９０質量％でなければならない。つまり残りの１０〜８０質量％の基は炭素数３又は４のオキシアルキレン基となる。平滑剤としての性能が良好なことから、オキシエチレン基の割合は２５〜８０質量％が好ましく、３０〜７０質量％がより好ましい。オキシエチレン基の割合が２０質量％未満又は９０質量％を超えると平滑剤として良好な性能を発揮できない。
【００１８】
一般式（１）中の（ＡＯ）ｎで表される基には、上記のようにオキシエチレン基とそれ以外の１種又は２種以上の基が混在している。これらのオキシアルキレン基は、例えば、エチレンオキシドやプロピレンオキシド、ブチレンオキシド等のアルキレンオキシドをアルコール化合物等に公知の方法で付加重合することによって製造することができる。これらはランダム共重合体、ブロック共重合体又はランダム共重合体とブロック共重合体の混合物等であってよい。
【００１９】
更に、一般式（１）で表される化合物の重量平均分子量は１，０００〜１００，０００でなければならず、２，０００〜５０，０００が好ましく、２，０００〜１０，０００がより好ましい。重量平均分子量が１，０００未満になると、平滑剤として良好な性能を発揮できず、重量平均分子量が１００，０００を超えると、粘度が高すぎて取り扱いが困難になる場合や平滑剤として良好な性能を発揮できない場合がある。
本発明の溶液製膜法用の平滑剤は、樹脂等を溶剤に溶解してフィルムを製造するときに使用するものであり、その使用量は、樹脂及び溶剤の合計量に対して０．１〜５質量％、好ましくは０．２〜３質量％になるように添加すればよい。添加量が少なすぎると平滑剤としての効果が発揮されない場合があり、添加量が多すぎると樹脂の物性を悪化させる場合がある。
【００２０】
本発明のドープとは、本発明の溶液製膜法用の平滑剤と、樹脂等のフィルム基材及び溶剤を含有した溶液である。
フィルム基材としては樹脂（ポリマー）が好ましく、有機高分子で溶剤に溶解又は分散するものであれば任意の樹脂を使用することができる。このような樹脂としては、例えば、二酢酸セルロースや三酢酸セルロース等のセルロースエステルポリマー、ポリカーボネート、ポリアリレート、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリノルボルネン、ポリアクリロニトリル、ポリオレフィン、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、スチレン系樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂又はこれらの樹脂の混合物等が挙げられる。これらの中でも、平滑剤の効果が大きいことから、セルロースエステルポリマー、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、スチレン系樹脂が好ましい。また、樹脂のように高分子ではなくても、有機溶剤に溶解させてから流延、乾燥させてフィルム状の薄膜を形成できるものであればフィルム基材として使用できる。こうしたものとしては、例えば、蛍光剤、有機色素等が挙げられる。
【００２１】
ドープに用いることのできる溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の炭化水素類；メチレンクロライド、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノール、ジエチレングリコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、プロパノール、イソ−プロパノール、１−ブタノール、ｔ−ブタノール、２−メチル−２−ブタノール、２−メトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ペンチル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、プロピレングリコールモノエチルアセテート、２−エトキシ−エチルアセテート等のエステル類；テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４ージオキサン、１，３−ジオキソラン、アニソール、フェネトール等のエーテル類が挙げられる。樹脂の溶解性や溶剤の除去性等のバランスがよいことから、これらの中でも、アルコール類、ケトン類、エステル類が好ましく、エステル類がより好ましい。
【００２２】
フィルム基材と溶剤は任意の割合で混合すればよいが、好ましくはフィルム基材１００質量部に対して溶剤を５０〜８００質量部、より好ましくは１００〜５００質量部の割合で混合すればよい。溶剤の量が少ないと薄膜を形成することが困難になる場合があり、溶剤量が多すぎると膜が薄くなりすぎる場合や、蒸発させる溶剤量が多すぎて乾燥時に余分なエネルギーや時間がかかる場合がある。
【００２３】
各成分を混合してドープを製造する方法は特に限定されないが、例えば、溶剤に樹脂及び平滑剤を添加して混合する方法や、平滑剤を溶剤に溶解した後樹脂を添加して混合する方法等が挙げられる。混合時には加温してもしなくてもよく、各成分が均一に溶解するまで混合すればよい。
本発明のドープには、本発明の効果を阻害しない範囲内であれば、公知の添加剤を必要に応じて添加することができる。こうした添加剤としては、例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、微粒子粉体、離型剤、光学特性調整剤等が挙げられる。
【００２４】
可塑剤としては、例えば、リン酸エステルやカルボン酸エステルが用いられるが、リン酸エステルとしては、例えば、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルフォスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルフォスフェート、オクチルジフェニルフォスフェート、ジフェニルビフェニルフォスフェート、トリオクチルフォスフェート、トリブチルフォスフェート等が挙げられる。カルボン酸エステルとしては、例えば、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）、ジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリメチルトリメリテート、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等が挙げられる。これらの可塑剤の中でも、トリフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート、ジエチルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、トリメチルトリメリテートが好ましい。また、可塑剤の添加量は、フィルム基材に対して０．１〜２０質量％が好ましく、５〜１６質量％がより好ましい。
【００２５】
紫外線吸収剤としては、例えば、２,４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２,２'−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２,２'−ジ−ヒドロキシ−４,４'−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤；２（２'−ヒドロキシ−３'−ｔｅｒｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−５'−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−３',５'−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−３',５'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−５'−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤；フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート等のサリチル酸エステル系紫外線吸収剤が挙げられる。これらの紫外線吸収剤の中でも、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２,２'−ジ−ヒドロキシ−４,４'−メトキシベンゾフェノン、２（２'−ヒドロキシ−３'−ｔｅｒｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−５'−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−３',５'−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−３',５'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾールが好ましい。また、紫外線吸収剤の添加量は、フィルム基材に対して０．００１〜５質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。
【００２６】
劣化防止剤としては、例えば、ｔ−ブチルアミン、トリフェニルアミン、トリベンジルアミン、グアニジン化合物、上記のベンゾフェノン系紫外線吸収剤やベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が挙げられる。劣化防止剤の添加量は、フィルム基材に対して０．００１〜５％が好ましく、０．０１〜１％がより好ましい。
【００２７】
微粒子分体としては、例えば、シリカ、カオリン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナ等が挙げられる。微粒子分体の粒子径は、数平均粒径として０．０１〜１００μｍが好ましく、０．１〜１０μｍが特に好ましい。またその添加量は、フィルム基材に対して、０．００１〜５質量％であることが好ましく、０．０１〜１質量％であることがより好ましい。
【００２８】
離型剤としては、例えば、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられ、その添加量は、フィルム基材に対して０．００２〜２質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。ただし、界面活性剤を添加する場合は、本発明の平滑剤を阻害しないように注意することが必要である。
【００２９】
光学特性調整剤としては、例えば、芳香族化合物であればよく、二つ以上の芳香環を有するものが好ましい。芳香環としては、５員環、６員環、７員環等の芳香族炭化水素環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−トリアジン環等の芳香族ヘテロ環が挙げられる。これらの芳香族化合物の分子量は３００〜８００であることが好ましく、沸点は２６０℃以上であることが好ましい。また、光学特性調整剤の配合量は、フィルム基材に対して１０〜１，０００ｐｐｍが好ましく、５０〜５００ｐｐｍが更に好ましい。
【００３０】
本発明のフィルムは、本発明のドープから成型されるフィルムである。成型方法は公知の方法を用いればよく、例えば、ドープを広い板の上に薄く広げて、加温や減圧により溶剤を揮発させてフィルムを得ればよい。ドープを薄く広げる方法としては、流延ダイを使用する方法の他、スピンコート、スプレーコート等を使用してもよい。
フィルムを作成する時間は溶剤の揮発時間によって決まるが、本発明のドープは、本発明の平滑剤が入っていない通常のドープと比較して、高温で溶剤を揮発させても得られるフィルムの品質が低下しない。具体的な温度は使用する樹脂及び溶剤によって決まるが、本発明の平滑剤が入っていない通常のドープで使用する乾燥温度より１０℃以上乾燥温度を上げることができる。
【００３１】
本発明の溶液製膜法用の平滑剤は、樹脂を溶剤に溶解してフィルムを製造する用途であればいずれの用途に使用してもよいが、高度な品質が要求される半導体や液晶パネル等に使われるフィルムの製造に使用するのが好ましい。具体的な用途としては、例えば、半導体用のレジスト、液晶パネルの拡散板や偏光板、カラーフィルター、冷陰極蛍光管等が挙げられる。
【実施例】
【００３２】
以下本発明を実施例により、具体的に説明する。尚、以下の実施例等において％は特に記載が無い限り質量基準である。
スチレン−無水マレイン酸のコポリマー（スチレン／無水マレイン酸＝２／１（質量比）、ランダム重合、重量平均分子量３，０５０）を１０質量％になるように、プロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＧＭＥＡ）に加えて混合した。この溶液に下記の表１にある平滑剤を１質量％になるように溶解し、均一になるまで混合して試験用のドープを得た。得られたドープは、ガラスプレート上に０．０５ｍｍの厚さになるようにバーコーターで塗布した後、定温に暖めたブロックヒーター上に載せて乾燥させ、フィルムを作成した。乾燥までの時間は目視で判断した。
また、ガラスプレート上に生成したフィルム（５×１０ｃｍ）の表面を目視で観察してその状態を下記の基準で評価した。評価基準において、５又は４であれば工業的に使用が可能であるが、評価が３以下のものは工業的な使用が困難になる。
【００３３】
＜評価基準＞
５：平滑な塗膜面であり凹凸がみられない
４：微小な凸部が３箇所以下であり、注意して見ないとわからない
３：微小な凸部が４箇所以上あり、目視でも見てもはっきりわかる
２：大きな凸部がみられる
１：大きな凹凸がみられる
【００３４】
【表１】
2010053299.tif 000004
【００３５】
ＥＯはエチレンオキシド、ＰＯはプロピレンオキシドを表す。
表中、オキシエチレン基の割合は、オキシアルキレン基中のオキシエチレン基の割合を表す。
プルロニック型の構造は、ＨＯ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｘ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｙ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ＸＨ  （ｘ、ｙは１以上の整数）。
比較例６〜１０は平滑剤無添加。
【００３６】
以上のようにブロックヒーターの温度によって乾燥までの時間が変化する。また、平滑剤無添加のものは４０℃程度でないときれいに成膜することができない。