(57)【要約】【課題】  液晶表示装置（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）などに代表される高精細かつ大画面ディスプレイ等の表示面における視認性を高めるために、より高い反射防止機能を有する反射防止フィルムを提供する。【解決手段】  透光性基材の一方の面にバックコート層を形成し構成された基材フィルムのバックコート層面に対する屈折率が、波長５３０ｎｍ〜５８０ｎｍにおいて最小値を示し、かつ、反射率の最小値が、０．５％〜４．０％であり、さらに、基材フィルムにおいてバックコート層を形成した面とは他方の面に反射防止層を備える反射防止フィルムを得る。【選択図】  図１
2010107543.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基材の一方の面にバックコート層を形成し構成された基材フィルムの前記バックコート層面に対する反射率が、波長５３０ｎｍ〜５８０ｎｍにおいて最小値を示し、かつ、前記反射率の最小値が、０．５％〜４．０％であり、さらに、前記基材フィルムにおいてバックコート層を形成した面とは他方の面に反射防止層を備える反射防止フィルム。
【請求項２】
前記バックコート層の屈折率が、１．３〜１．６でありかつ前記透光性基材の屈折率よりも低い、請求項１記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記バックコート層の光学膜厚が、１３０ｎｍ〜１５０ｎｍである、請求項１乃至請求項２いずれかに記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルムに関し、特に、反射防止性能に優れる反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）などに代表される高精細かつ大画面ディスプレイの開発が急速に進んでいる。ディスプレイの表示面には、その視認性を高めるために、画面への蛍光灯など外光の映り込みを防止するため反射防止機能を有する反射防止フィルムを表面に配置する必要がある。
このような反射防止フィルムは、少なくとも最表面に低屈折率層を設け、光学干渉によって反射防止を行う。また、より高い反射防止機能を達成するために、例えば、高屈折率層および低屈折率層の２層を設ける構成や、中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層の３層を設ける構成をはじめとする、複数層による光学干渉によって反射防止性能を発現する反射防止フィルムが提案されている（特許文献１など）。
反射防止フィルムの作製方法としては、ディスプレイ表面に無機金属を蒸着またはスパッタリングする、いわゆるドライコーティング法や低屈折率材料などを溶液や分散液などの液状で基材に塗布し、乾燥させ、必要に応じて硬化させて製造するウエットコーティング法などが知られている。近年のディスプレイの大型化に伴い、Ｒｏｌｌ−ｔｏ−Ｒｏｌｌ（ロールツウロール）で安価にかつ大型化にも対応しやすいウエットコーティング法が主流になりつつある。
ウエットコーティング法による反射防止フィルムにおいて、より高い反射防止性能を達成するために、従来、様々な工夫がなされてきた。例えば、低屈折率層として弗素含有材料を用いること（特許文献２など）や、反射防止層の層構成を最適化すること（特許文献３など）などが提案されている。このように、従来では、反射防止層が設けられる面に対してのみ着目され、その材料や層構成の改良がなされていた。
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−３００９０２号公報
【特許文献２】特開２００４−３５４７４０号公報
【特許文献３】特開２００５−２７５２２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、近年の反射防止フィルムの、高品質化に伴うより高い反射防止性能の要求や需要増加伴う大量生産に対応するには、従来技術では、限界があり対応しきれなくなっているのが現状である。
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、より高い反射防止機能を有する反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の目的は、下記構成の反射防止フィルムにより達成される。
（１）透光性基材の一方の面にバックコート層を形成し構成された基材フィルムのバックコート層面に対する反射率が、波長５３０ｎｍ〜５８０ｎｍにおいて最小値を示し、かつ、反射率の最小値が、０．５％〜４．０％であり、さらに、基材フィルムにおいてバックコート層を形成した面とは他方の面に反射防止層を備える反射防止フィルム。
（２）バックコート層の屈折率が、１．３〜１．６でありかつ透光性基材の屈折率よりも低い、（１）に記載の反射防止フィルム。
（３）バックコート層の光学膜厚が、１３０ｎｍ〜１５０ｎｍである、（１）乃至（２）いずれかに記載の反射防止フィルム。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、反射防止フィルムの低視感度反射率化を達成することができ、より高い反射防止性能を有する反射防止フィルムを提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の反射防止フィルムは、透光性基材の一方の面にバックコート層を形成し、バックコート層面に対する反射率が波長５３０ｎｍ〜５８０ｎｍにおいて最小値を示し、反射率の最小値が０．５％〜４．０％である基材フィルムを用いることで、反射防止フィルムの低視感度反射率化を達成することができ、より高い反射防止性能を発現することが可能となる。また、前記バックコート層の屈折率が、１．３〜１．６でありかつ前記透光性基材の屈折率よりも低いことが好ましい。そして、バックコート層の光学膜厚が、１３０ｎｍ〜１５０ｎｍであることがより好ましい。
ここで、反射率の最小値とは、反射スペクトルを測定したときの、反射率の最も小さい値をいう。また、バックコート層面に対する反射率の最小値が、波長５３０ｎｍ〜５８０ｎｍの範囲において示せばよい。バックコート層面に対する反射率の最小値が、波長５３０ｎｍよりも小さい波長、または波長５８０ｎｍよりも大きい波長にて示すと、反射防止層の視感度反射率の値が高くなる。また、バックコート層面に対する反射率の最小値が、４．０％よりも大きいと、反射防止層の視感度反射率の値が高くなる。
本発明において、バックコート層面に対する反射率とは、基材フィルムにおけるバックコート層面に対する他方の面を、例えば、やすりなどで粗面化してさらに黒インクなどを塗布することで、基材フィルムにおけるバックコート層面に対する他方の面からの反射の影響をなくし、バックコート層面のみの反射について測定したものをいう。
一方、本発明において、反射防止層面に対する反射率とは、反射防止フィルムのバックコート層面を、例えば、ガラスなどの基板上に粘着剤などで貼合し、基板の反射防止フィルムが貼合されていない面に黒テープなどを貼り付け、反射防止層面に対して他方の面からの反射の影響を加味した反射について測定したものをいう。
本発明において、光学膜厚とは、各層の物理膜厚ｄと屈折率ｎを掛け合わせたｎ×ｄの値のことをいう。
【０００９】
以下、図に基づいて本発明の実施形態について説明する。
図１は、本発明に係る反射防止フィルムの一実施形態の層構成を模式的に示した図である。
本実施形態の反射防止フィルム１０は、透光性基材１２上にバックコート層１１を形成し構成された基材フィルム１３と、基材フィルム１３においてバックコート層１１を形成した面とは他方の面に形成された反射防止層１４を備えている。
〈基材フィルム〉
本発明の反射防止フィルム１０を構成する基材フィルム１３は、透光性基材１２上にバックコート層１１を形成して構成される。
【００１０】
また、基材フィルム１３のバックコート層面に対する反射率が、波長５３０ｎｍ〜５８０ｎｍにおいて最小値を示し、かつ、反射率の最小値が、０．５％〜４．０％である。
【００１１】
基材フィルム１３を構成する、バックコート層１１や透光性基材１２の屈折率や厚さなどを調整することにより、基材フィルム１３のバックコート層１１に対する反射率の最小値を、波長５３０ｎｍ〜５８０ｎｍの範囲にて、０．５％〜４．０％とすることができる。
〈透光性基材〉
本発明の反射防止フィルム１０を構成する透光性基材１２は、透光性を有する材料で形成されていれば特に限定されない。例えば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂などの材料を、フィルム状またはシート状に加工したものを用いることができる。中でも、ディスプレイ前面に適用されても耐える、熱的、機械的形態安定性を有し、さらに、経済性の面から、ポリエステル系樹脂であることが好ましい。透光性基材１２に用いられるポリエステル系樹脂は特に制限されるものではなく、公知のポリエステル系樹脂を使用することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレートなどが挙げられる。中でも、コストや機械的強度の観点から、ポリエチレンテレフタレートを用いることが好ましい。
また、透光性基材１２をフィルム状またはシート状に加工する方法としては、押し出し成形、カレンダー成形、圧縮成形、射出成形、上記樹脂を溶剤に溶解させてキャスティングする方法などが挙げられる。上記材料には、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤などの添加剤が添加されていてもよい。
透光性基材１２の厚さは、１０μm〜５００μｍであることが好ましく、５０μm〜２００μｍであることがより好ましい。透光性基材１２の厚さが薄すぎる場合には、ハンドリング性が不良となる。一方、透光性基材１２の厚さが厚すぎる場合にはコスト面で問題があるだけでなく、ロール状に巻き取って保存した場合に巻き癖による平面性不良が発生しやすくなる
〈バックコート層〉
本発明の反射防止フィルム１０を構成するバックコート層１１は、透光性基材１２上に形成される。
バックコート層１１の屈折率は、透光性基材１２の屈折率よりも低く、さらに１．３〜１．６であることが好ましい。
【００１２】
また、バックコート層１１の光学膜厚は１３０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましい。
【００１３】
なお、バックコート層１１は、光学的機能のみならず、機能性フィルムやガラス基材などの他媒体との密着性を高める機能や、易滑機能をも有している。
【００１４】
バックコート層１１は、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂の何れかひとつを含むことが好ましい。
ポリエステル樹脂とは、主鎖にエステル結合を有するポリマーの総称である。ポリエステル樹脂は、一般に、ポリカルボン酸とポリオールとの反応で得られ、ポリカルボン酸としては、例えば、フマル酸、アジピン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などを用いることができる。中でも、テレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸が好ましく用いることができる。スルホイソフタル酸ナトリウムなどを共重合させたものは、水溶性または水分散性のポリエステル樹脂として使用できるので好ましい。
【００１５】
ポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４ブタンジオール、１，６ヘキサンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリエステルポリオールなどを用いることができる。
【００１６】
ポリウレタン樹脂とは、主鎖にウレタン結合を有するポリマーの総称である。ポリウレタン樹脂は、一般に、ポリイソシアネートとポリオールとの反応によって得られ、ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートなどを、ポリオールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ヘキサントリオールなどを用いることができる。
【００１７】
アクリル樹脂とは、アクリル酸、メタクリル酸およびこれらの誘導体を成分とするポリマーの総称である。アクリル樹脂としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、アクリロニトリル、ヒドロキシルアクリレートなどを主成分として、これらと共重合可能なモノマーを共重合させたポリマーを用いることができる。
また、バックコート層１１には、屈折率の調整のため、シリカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化錫、酸化インジウム、などを主成分とする無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有してもよい。微粒子の平均粒径は、０．０１μm〜１．０μm、好ましくは０．０１μm〜０．５μmであることが好ましい。平均粒径が１．０μmを超えるとフィルム表面が粗面化し、フィルムの透明性が低下する傾向や、微粒子の脱落が発生しやすくなる傾向があり、０．０１μmより小さいと分散が困難となる。
バックコート層１１に上記微粒子を２種類以上配合しても良く、同種の粒子で直径の異なるものを配合してもよい。いずれにしても、微粒子全体の平均粒径が上記の範囲を満足することが好ましい。
さらに、上記微粒子は易滑機能付与を兼ねることが好ましい。すなわち、バックコート層１１の表面より粒子の一部を突出させることで、バックコート層１１の表面に適度な突起を形成するのが好ましい。
【００１８】
バックコート層１１を透光性基材１２上に形成する方法としては、特に制限はないが、生産性や生産コストの面より、ウエットコーティング法が好ましい。ウエットコーティング法としては公知の方法を用いることができ、例えば、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、リバースコート、グラビアコートなどの塗工法、またはグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法などを用いることができる。また、透光性基材１２とバックコート層１１を同時にインラインで製膜してもよい。例えば、透光性基材１２がポリエチレンテレフタレートフィルムの場合、ポリエチレンテレフタレートフィルムを延伸やキャストし製膜するときに、同時にその表面にバックコート層を形成させることができる。この方法は広く行われている公知の方法であり、製膜されたものを市販品として容易に入手できる。
〈反射防止層〉
本発明の反射防止フィルム１０を構成する反射防止層１４は、基材フィルム１３のバックコート層１１を形成した面とは他方の面に形成される。
【００１９】
反射防止層１４は、複数層より構成されることが好ましい。反射防止層１４の構成は特に限定されないが、例えば、基材フィルム１３面から、
（１）ハードコート層／低屈折率層
（２）プライマー層／ハードコート層／低屈折率層
（３）ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
（４）プライマー層／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
（５）ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
（６）プライマー層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
などが挙げられる。
プライマー層、ハードコート層、高屈折率層、中屈折率層および低屈折率層は、反射防止フィルムに要求される特性によって設計する層構成が異なり、各層の厚さや屈折率を設計層構成に応じて適宜設定する。
プライマー層の屈折率は、プライマー層上に形成するハードコート層および透光性基材１２の屈折率と、ｎＦ≦ｎＰ≦ｎＢ  または、ｎＦ≧ｎＰ≧ｎＢ、かつ｜ｎＰ−ｎＢ｜≦０．１の関係を満たすことが好ましい。なお、透光性基材１２の屈折率をｎＢ、プライマー層の屈折率をｎＰ、ハードコート層の屈折率をｎＦとする。また、プライマー層は、基材フィルム１３とハードコート層の接着性や易滑性の向上機能を有する。上記関係を満たすことができれば、樹脂材料のみで形成してもよいし、樹脂材料と無機微粒子などのフィラーとの混合材料で形成してもよい。
樹脂としては、上記バックコート層１１と同様のものでも良いし、硬度が必要な場合は電離放射線硬化型樹脂を用いても良い。
また、プライマー層には、屈折率の調整または易滑性付与のため、シリカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化錫、酸化インジウム、などを主成分とする無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有してもよい。微粒子の平均粒径は、０．０１μm〜１．０μm、好ましくは０．０１μm〜０．５μmであることが好ましい。平均粒径が１．０μmを超えるとプライマー層表面が粗面化し、プライマー層の透明性が低下する傾向や、微粒子の脱落が発生しやすくなる傾向があり、０．０１μmより小さいと分散が困難となる。
また、プライマー層の厚さは８０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましい。
プライマー層を透光性基材１２上に形成する方法としては、特に制限はないが、生産性や生産コストの面より、ウエットコーティング法が好ましい。ウエットコーティング法としては公知の方法を用いることができ、例えば、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、リバースコート、グラビアコートなどの塗工法、またはグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法などを用いることができる。また、透光性基材１２とプライマー層を同時にインラインで製膜してもよい。例えば、透光性基材１２がポリエチレンテレフタレートフィルムの場合、ポリエチレンテレフタレートフィルムを延伸やキャストし製膜するときに、同時にその表面にプライマー層を形成させることができる。この方法は広く行われている公知の方法であり、製膜されたものを市販品として容易に入手できる。
ハードコート層は、屈折率が１．５１〜１．７５であることが好ましい。
なお、設計する反射防止層の層構成により要求される屈折率は異なる。例えば、反射防止層の層構成を、プライマー層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層とするときは、ハードコート層の屈折率は１．５０〜１．５４であることが好ましい。
ハードコート層の屈折率が上記範囲になるのであれば、樹脂材料のみで形成してもよいし、樹脂材料と無機微粒子などのフィラーとの混合材料で形成してもよい。例えば、無機微粒子としては、シリカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウムなどが挙げられる。
また、ハードコート層の厚さは９００ｎｍ〜５０００ｎｍであることが好ましい。
【００２０】
ハードコート層に用いられる樹脂としては、特に表面硬度が高い電離放射線硬化型樹脂が好ましい。その電離放射線硬化型樹脂としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、チオール基などを有するモノマー、プレポリマー、オリゴマー、ポリマーなどが用いられる。上記樹脂は、単独でも２種類以上を組み合わせても用いることができる。また、上記樹脂として、ハードコート層の生産性および硬化後の硬度の観点より、多官能樹脂を用いることが好ましく、さらに、分子中に水素結合を形成するような結合基や官能基を多く有していると、透光性基材との密着性が向上するので好ましい。また、ビスフェノールＡ変性（メタ）アクリレートなどの高屈折率タイプの樹脂を用いてもよい。
【００２１】
上記多官能樹脂としては、不飽和基を２つ以上有する多官能アクリル系樹脂モノマーとして、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサントリメタクリレート；ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどのポリウレタンポリアクリレート；ポリエステルポリアクリレートなどの多価アルコールと（メタ）アクリル酸とから生成されるエステル類、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノンなどのビニルベンゼンおよびその誘導体などが挙げられる。これらは、単独で用いてもよいが、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、耐擦傷性をより高める観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートから選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。上記において「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレートおよび／またはメタクリレート」を意味するものである。
【００２２】
ハードコート層に含まれる電離放射線硬化型樹脂を硬化させる際に、紫外線照射を行う場合には、ハードコート層の塗布液に光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、べンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物などが用いられる。これらは単独でも２種以上を組み合わせても使用することは可能である。光重合開始剤の使用量は特に限定されないが、用いる電離放射線硬化型樹脂モノマーの重量に対し１〜１５重量％である。
【００２３】
ハードコート層を構成するその他の成分として、屈折率を大きく変化させない程度に重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤およびレベリング剤などの添加剤を適宜添加してもよい。また、ウエットコーティング法で製膜後乾燥させる限りは、任意量の溶媒を添加することができる。分散系を壊さず、電離放射線硬化型樹脂を溶解させることが可能であれば、公知の有機溶媒を適宜選択し用いることができる。
低屈折率層は、屈折率が１．３５〜１．４５であることが好ましい。
低屈折率層の屈折率を好ましい範囲に調整する材料としては、シリカ、フッ素系樹脂、中空状のシリカ粒子などが考えられる。中でも、屈折率と反射防止層の耐擦傷性の観点から、中空状のシリカ粒子を用いることが好ましい。
また、低屈折率層の厚さは９０ｎｍ〜１１０ｎｍであることが好ましい。
低屈折率層は、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、チオール基などを有するモノマー、プレポリマー、オリゴマー、ポリマーなどの電離放射線硬化型樹脂を用いて形成することができる。上記樹脂は、単独でも２種類以上を組み合わせても用いることができる。また、上記樹脂としては、低屈折率層の生産性および硬化後の硬度の観点より、多官能樹脂を用いることが好ましい。上記多官能樹脂としては、前述のハードコート層に用いた不飽和基を２つ以上有する多官能アクリル系樹脂モノマーと同様のものが使用できる。
低屈折率層に含まれる電離放射線硬化型樹脂を硬化させる際に、紫外線照射を行う場合には、低屈折率層の塗布液に、前述のハードコート層で用いた光重合開始剤を同様にして添加すればよい。
低屈折率層には、屈折率を大きく変化させない程度に重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤およびレベリング剤などの添加剤を添加してもよい。また、強度と防汚性を向上させるために、シリコーン系、フッ素系の添加剤を屈折率を大きく変化させない程度に添加してもよい。また、ウエットコーティング法で製膜後乾燥させる限りは、任意量の溶媒を添加することができる。分散系を壊さず、電離放射線硬化型樹脂を溶解させることが可能であれば、低屈折率層形成用塗布液に溶媒を含有させることも可能である。なお、溶媒は、公知の有機溶媒を適宜選択し用いることができる。
高屈折率層は、屈折率が１．６０〜１．９５であることが好ましい。
なお、設計する反射防止層の層構成により要求される屈折率は異なるため、例えば、反射防止層の層構成を、プライマー層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層とするときは、高屈折率層の屈折率は１．７５〜１．９５であることが好ましい。
高屈折率層の屈折率を好ましい範囲に調整するために、無機微粒子を含むことが好ましい。例えば、無機微粒子としては、シリカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウムなどが挙げられる。中でも、酸化チタンが好ましく、特に、光触媒作用が弱く、かつ屈折率も高いルチル構造の酸化チタン微粒子を用いることが好ましい。例えば、アナターゼ構造の酸化チタン微粒子は、光触媒作用があり、紫外線の照射によりこの層を構成する樹脂成分や基材などの有機物を分解してしまう恐れがあるからである。無機微粒子は、単独または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、高屈折率層の厚さは７０ｎｍ〜１７０ｎｍであることが好ましい。
なお、設計する反射防止層の層構成により要求される層の厚さは異なるため、例えば、反射防止層の層構成を、プライマー層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層とするときは、高屈折率層の厚さは１４０ｎｍ〜１５５ｎｍであることが好ましい。
高屈折率層に用いられるその他材料としては、屈折率を上記範囲に調整できるものであれば、制限はなく、例えば、前述のハードコート層と同様に、多官能基もしくは単官能基の（メタ）アクリレートモノマーまたはアクリレートオリゴマー、光重合開始剤、有機溶媒や酸化防止剤、光安定剤などを用いることができる。
【００２４】
中屈折率層は、積層する高屈折率層より屈折率が低く、低屈折率層より屈折率が高い層であればよく、その構成は、前述のハードコート層や高屈折率層などの材料を適宜選択して用いることが可能である。
なお、中屈折率層の厚さは、他の層や中屈折率層の屈折率の関係もあるが、８０ｎｍ〜９５ｎｍであることが好ましい。
なお、反射防止層１４を構成する各層の形成方法としては、特に制限はないが、生産性や生産コストの面より、ウエットコーティング法が好ましい。ウエットコーティング法としては公知の方法を用いることができ、例えば、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、リバースコート、グラビアコートなどの塗工法、またはグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法などを用いることができる。
【００２５】
本発明の反射防止フィルム１０は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）および陰極管表示装置（ＣＲＴ）を代表する各種の表示装置の表示面に貼合して使用することができ、表示装置の視認性を向上させることができる。
【実施例】
【００２６】
以下、実施例に基づき本発明をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。また、以下において、特に断らない限り「部」は「重量部」を表す。
各例の基材フィルムおよび反射防止フィルムの特性は、以下の方法で評価した。
〈層の厚さおよび屈折率〉
反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子株式会社製）を用いて、基材フィルムを構成するバックコート層および反射防止フィルムを構成する各層の厚さおよび屈折率を測定した。
〈バックコート層面に対する反射率〉
基材フィルムにおいてバックコート層が形成されていない面を紙やすりで削り、さらに、黒の油性フェルトペンで黒く塗りつぶした後、分光反射率測定装置“ＭＣＰＤ−３０００”（大塚電子株式会社製）により、波長３００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲について、バックコート層面に対する反射率を測定した。
〈反射防止層面に対する反射率〉
反射防止フィルムにおいて反射防止層が形成されていない面、つまりバックコート層が形成されている面と厚さ２ｍｍのガラス板を粘着剤にて貼合し、測定用サンプルを作製した。作製したサンプルにおいて、反射防止フィルムが貼合されていないガラス板面に黒色テープを貼り付け、分光反射率測定装置“ＭＣＰＤ−３０００”（大塚電子株式会社製）により、波長３００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲について、反射防止層面に対する反射率を測定した。そして、測定した反射率からＪＩＳ−Ｚ−８７０１に従いＤ６５光源における視感度反射率を算出した。
〈全光線透過率〉
濁度計“ＮＤＨ−２０００”（日本電色工業株式会社製）を用いて、反射防止フィルムの全光線透過率を測定した。
（実施例１）
基材フィルムとして、一方の面にポリエステル系樹脂からなるシリカ含有バックコート層が形成され、他方の面には、屈折率が１．５９、厚さが８７ｎｍの易接着層が形成された、厚さが１００μm、屈折率が１．６６のポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。なお、バックコート層の屈折率は１．５５、厚さは８６ｎｍ、光学膜厚は１３３．３ｎｍであった。また、基材フィルムにおいて反射防止層を形成しない面の反射率、いわゆるバックコート層面に対する反射率を測定した結果、反射率の最小値は、波長５５０ｎｍにおいて３．１％であった。
次に、基材フィルムにおいて上記測定したバックコート層とは他方の面に、反射防止層を下記のとおりに形成し、評価用反射防止フィルムを得た。
まず、
“ＤＰＨＡ−４０Ｈ”（ウレタンアクリレートオリゴマー、日本化薬株式会社製）６．８部、
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）０．９部、
“ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７”（光重合開始剤、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）０．２３部、
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）４．８部、
およびプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）２７部
を配合し、塗布液を作製した。
この塗布液を、マイクログラビアコータ（株式会社康井精機製）を用い、基材フィルム上に塗布し、その後乾燥させ塗布膜を得た。続いて、この塗布膜に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２の線量で照射し硬化させ、厚さ３．０μｍのハードコート層を形成した。なお、ハードコート層の屈折率は１．５２であった。
次に、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）０．３３部、
“セルナックス  ＣＸ−Ｚ２１０ＩＰ  Ｆ２”（アンチモン酸亜鉛分散液、日産化学工業株式会社製）２．０部、
“ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７”（光重合開始剤、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）０．０２部、
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）２．５部、
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）５部、
およびプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）５部
を配合し、塗布液を作製した。
この塗布液を、マイクログラビアコータ（株式会社康井精機製）を用い、上記で形成したハードコート層上に塗布し、その後乾燥させ塗布膜を得た。続いて、この塗布膜に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２の線量で照射し硬化させ、厚さ８８ｎｍの中屈折率層を形成した。なお、中屈折率層の屈折率は１．６０であった。
次に、
“ＴＴＯ−５１Ａ”（酸化チタン微粒子、石原産業株式会社製）１０部、
“Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８０”（分散剤、ビックケミー株式会社製）１．０部、
アセチルアセトン５．０部
およびプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）５１部
を混合した組成物を入れた容器に、攪拌分散用のビーズとして直径０．３ｍｍのジルコニアビーズを入れ、ペイントシェーカーで３時間分散した後、ジルコニアビーズを取り除き分散液を作製した。
そして、
上記で作製した分散液２．５部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）０．１２部、
“ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７”（光重合開始剤、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）０．０１部、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）５．０部、
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）０．３部
およびプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）４．３部
を配合し、塗布液を作製した。
この塗布液を、マイクログラビアコータ（株式会社康井精機製）を用い、上記で形成した中屈折率層上に塗布し、その後乾燥させ塗布膜を得た。続いて、この塗布膜に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２の線量で照射し硬化させ、厚さ１４７ｎｍの高屈折率層を形成した。なお、高屈折率層の屈折率は１．８３であった。
最後に、
“ＥＬＣＯＭ  Ｐ−特殊品”（中空シリカ微粒子、日揮触媒化成株式会社製）２．７部、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）０．１３部、
ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート（ＨＰＮＧＤＡ）０．０５部、
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）０．２６部、
“Ｘ−２２−２４４５”（信越化学工業株式会社製）０．０１部
“ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７”（光重合開始剤、チバスペシャルティケミカルズ株式会社製）０．０２部、
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）１７．５部、
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）９．８部、
およびプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）９．９部
を配合し、塗布液を作製した。
この塗布液を、マイクログラビアコータ（株式会社康井精機製）を用い、上記で形成した高屈折率層上に塗布し、その後乾燥させ塗布膜を得た。続いて、この塗布膜に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２の線量で照射し硬化させ、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成した。なお、低屈折率層の屈折率は１．３７であった。このようにして、実施例１の評価用反射防止フィルムを作製した。
（比較例１）
基材フィルムを、バックコート層の屈折率が１．５９、厚さが８３ｎｍ、光学膜厚が１３２．０ｎｍ、バックコート層面に対する反射率の最小値が波長５３０ｎｍにおいて４．５％であるものに変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例１の評価用反射防止フィルムを作製した。
（比較例２）
基材フィルムを、バックコート層の屈折率が１．５０、厚さが５２ｎｍ、光学膜厚が７８ｎｍ、バックコート層面に対する反射率の最小値が波長３００ｎｍにおいて２．０％であるものに変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例２の評価用反射防止フィルムを作製した。
表１に諸特性の評価結果を示す。
【００２７】
【表１】
2010107543.tif 000003
【００２８】
表１に示すように、実施例１の反射防止フィルムは、バックコート層面に対する反射率が本発明の規定範囲に属さない比較例１乃至比較例２の反射防止フィルムに比較して、反射防止層面の視感度反射率が０．１％も低く、かつ、全光線透過率も１．０％も高い。つまり、実施例１の反射防止フィルムは、より高い反射防止性能を有することがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の反射防止フィルムの層構成の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
【００３０】
１０  反射防止フィルム
１１  バックコート層
１２  透光性基材
１３  基材フィルム
１４  反射防止層
【図１】
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