(57)【要約】【課題】優れた表面平滑性を有する機能性層を電磁波シールド層上に形成することが可能なディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】透明基材１１１上に形成されたパターン状の電磁波シールド層１１２上に、紫外線硬化型樹脂組成物を塗工し、得られた塗工層１１３に紫外線を照射することにより機能性層１１４を形成する工程を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、  前記透明基材１１１の走行下、透明な円筒状ローラー１２６により前記塗工層１１３を押圧するとともに、前記円筒状ローラー１２６の内部に設けられた紫外線発生源１２５からの紫外線を前記塗工層１１３に照射することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。【選択図】図２
2010231122.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に形成されたパターン状の電磁波シールド層上に、紫外線硬化型樹脂組成物を塗工し、得られた塗工層に紫外線を照射することにより機能性層を形成する工程を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、
前記透明基材の走行下、透明な円筒状ローラーにより前記塗工層を押圧するとともに、前記円筒状ローラーの内部に設けられた紫外線発生源からの紫外線を前記塗工層に照射することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項２】
前記透明基材の走行方向に向かって、前記塗工層の押圧部より前方部分には紫外線を照射しないことを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項３】
前記円筒状ローラーを、前記透明基材の走行速度と同期するように回転させることを特徴とする請求項１又は２に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項４】
前記機能性層が、ハードコート層であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項５】
前記紫外線硬化型樹脂組成物が、２５℃において３〜３５ｍＰａ・ｓの粘度を有する請求項１〜４のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項６】
前記紫外線の照射を、前記塗工層を７０〜１３０℃で５秒〜１５分間、加熱乾燥させた後に行うことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項７】
透明基材上に形成されたパターン状の電磁波シールド層上に、紫外線硬化型樹脂組成物を塗工し、得られた塗工層に紫外線を照射することにより機能性層を形成するディスプレイ用光学フィルタの製造装置であって、
前記透明基材を走行させる基材駆動手段と、
前記紫外線硬化型樹脂組成物を塗工する塗工手段と、
前記塗工層を押圧する透明な円筒状ローラーと、
前記円筒状ローラーの内部に設けられた紫外線発生源と、
を備えたことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ製造装置。
【請求項８】
前記透明基材の走行方向に向かって、前記塗工層の押圧部より前方部分には紫外線を照射しないように照射範囲を制限する紫外線遮蔽手段をさらに備えたことを特徴とする請求項７に記載のディスプレイ用光学フィルタ製造装置。
【請求項９】
前記円筒状ローラーの対向する位置に受圧ローラーをさらに備えたことを特徴とする請求項７又は８に記載のディスプレイ用光学フィルタ製造装置。
【請求項１０】
紫外線照射前に、塗工層を乾燥させる乾燥手段をさらに備えることを特徴とする請求項７〜９のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイなどのディスプレイの画像表示部に用いられ、電磁波シールド性、反射防止性及び耐傷付き性を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法、及び前記製造方法に用いられるディスプレイ用光学フィルタ製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイは、近年、大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射の恐れがある。
【０００３】
このため、ＰＤＰなどのディスプレイに用いられるフィルタとして、透明基材上に電磁波シールド層が形成されたものなどが知られている。電磁波シールド層には、例えば、（１）金属銀を含む透明導電薄膜、（２）金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、（３）銅箔等の金属箔に開口部を設けたメッシュ状の導電層、（４）導電性インクをメッシュ状に印刷した導電層などが用いられる。なかでも、開口部により高い光透過性が得られることから（２）〜（４）のメッシュ状の導電層が好適に用いられている。導電性のメッシュの部分によって電磁波がシールドされ、開口部によって光の透過が確保される。
【０００４】
さらに、従来のディスプレイ用光学フィルタには、耐傷付き性を付与するためのハードコート層、蛍光灯などの外部光源から照射された光線の反射を抑制して視認性を向上させるための反射防止層が積層される。さらに、赤外線を遮蔽するために、近赤外線遮蔽層が透明基材の一方の面に設けられたディスプレイ用光学フィルタなども提案されている。
【０００５】
例えば、特許文献１では、１枚の透明基材と、導電性メッシュと、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備えたディスプレイ用光学フィルタが開示されている。電磁波シールド層、ハードコート層、反射防止層及び近赤外線遮蔽層は、ディスプレイ用光学フィルタの用途に応じて積層して用いられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２００６／３０９６６０号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ディスプレイ用光学フィルタでは、高い電磁波シールド性が得られることから、透明基板上のメッシュ状の電磁波シールド層が利用者側となるように配置されるのが好ましい。メッシュ状の電磁波シールド層上にハードコート層、反射防止層や近赤外線吸収層などの他の機能性層を作製するには、未硬化の合成樹脂、及び必要に応じて微粒子などを含む塗工液をメッシュ状の電磁波シールド層上に直接塗工し、紫外線などの化学線の照射や加熱により硬化する方法が用いられている。しかしながら、このような方法では、優れた反射防止性を有するディスプレイ用光学フィルタが得られない問題があった。
【０００８】
優れた反射防止性を有するディスプレイ用光学フィルタを得るためには、メッシュ状の電磁波シールド層上に形成された他の機能性層が表面平滑性に優れている必要がある。しかしながら、このような機能性層は厚さが非常に薄いため塗工液を非常に均一な厚さで塗布するのが困難であるだけでなく、メッシュ状の電磁波シールド層の凸部よって他の機能性層表面に大きな凹凸を生じ、この凹凸が光を乱反射させるなどして、反射防止性が低下することが考えられる。
【０００９】
したがって、本発明は、優れた表面平滑性を有する機能性層を電磁波シールド層上に形成することが可能なディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本願発明は、透明基材上に形成されたパターン状の電磁波シールド層上に、紫外線硬化型樹脂組成物を塗工し、得られた塗工層に紫外線を照射することにより機能性層を形成する工程を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、
前記透明基材の走行下、透明な円筒状ローラーにより前記塗工層を押圧するとともに、前記円筒状ローラーの内部に設けられた紫外線発生源からの紫外線を前記塗工層に照射することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法により上記課題を解決する。
【００１１】
さらに、本願発明は、透明基材上に形成されたパターン状の電磁波シールド層上に、紫外線硬化型樹脂組成物を塗工し、得られた塗工層に紫外線を照射することにより機能性層を形成するディスプレイ用光学フィルタの製造装置であって、
前記透明基材を走行させる基材駆動手段と、
前記紫外線硬化型樹脂組成物を塗工する塗工手段と、
前記塗工層を押圧する透明な円筒状ローラーと、
前記円筒状ローラーの内部に設けられた紫外線発生源と、
を備えたことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ製造装置を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
上述した本願発明の方法によれば、メッシュ状の電磁波シールド層上に平滑化された表面を有する機能性層を形成することが可能となる。これにより、光の乱反射が抑制され、優れた反射防止性を有するディスプレイ用光学フィルタを製造することが可能となる。
【００１３】
さらに、機能性層の表面平滑化を行うために平滑化シートなどを用いた場合、このような平滑化シートは一般的に製造工程終了後に交換したり、廃棄する必要がある。しかしながら、本願発明では、平滑化シートに代えて透明な円筒状ローラーを用いることから、平滑化シートの交換工程がなく製造工程を簡略化することができ、さらに製造工程で発生する廃棄物を少なくすることができ、コスト的にも有利である。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造装置の概略側面図である。
【図２】本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造装置の紫外線照射部の要部構成を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本願発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法では、透明基材上に形成されたパターン状の電磁波シールド層上に、紫外線硬化型樹脂組成物を塗工し、得られた塗工層に紫外線を照射することにより機能性層を形成する工程を含む。
【００１６】
（製造装置）
ここで、図１に、本発明の方法に好適用いられるディスプレイ用光学フィルタ製造装置の模式図を示し、図２に前記装置の主要部（図１において破線で囲った部分）を拡大して示す模式図を示す。
【００１７】
前記装置は、透明基材１１１を移動させる、駆動ローラー１２２及び従動ローラー１２１からなる基材駆動手段と、紫外線硬化型樹脂組成物を塗工する塗工手段１２３と、塗工層１１３を押圧する透明な円筒状ローラー１２６と、前記円筒状ローラー１２６の内部に設けられた紫外線発生源１２５とを備える。
【００１８】
本発明の方法では前記装置を用いて、表面にパターン状の電磁波シールド層１１２が形成された透明基材１１１の走行下、電磁波シールド層１１２上に紫外線硬化型樹脂組成物をダイコーターなどの塗布手段１２３により塗工し、これにより得られた塗工層１１３を透明な円筒状ローラー１２６により押圧しながら、円筒状ローラー１２６の内部に設けられたＵＶランプなどの紫外線発生源１２５からの紫外線を塗工層１１３に照射する。このように紫外線照射を行うことにより、表面が平滑化され、均一な厚さを有する機能性層１１４を電磁波シールド層１１２上に形成することができる。
【００１９】
本発明では、透明基材の走行方向（矢印ａ）に向かって、円筒状ローラーによる塗工層が押圧される部分より前方部分には、紫外線が照射されないようにするのが好ましい。このように塗工層において押圧された部分、好ましくは押圧部のみに紫外線を照射することにより、完全に硬化される前に塗工層を押圧し、得られる機能性層の表面平滑性をさらに向上させることができる。
【００２０】
このように紫外線照射部位を制限するには、紫外線発生源の周囲又は内部に紫外線遮蔽手段を設けるのが好ましい。例えば、図１及び２に示すように、透明な円筒状ローラー１２６の周囲に紫外線遮蔽手段１２７を設けることができる。この他にも、塗工層の押圧部のみに紫外線が照射されるように開口部が設けられた中空円筒を円筒状ローラーの内部に設けることもできる。
【００２１】
円筒状ローラーは、透明基材の走行速度と同期するように回転させるのが好ましい。このように円筒状ローラー回転速度と透明基材の走行速度とを同じにすることにより、塗工層表面に係る摩擦による応力を最小限にすることができ、得られる機能性層の表面平滑性をさらに向上させることができる。したがって、円筒状ローラーには、これを回転駆動させる円筒状ローラー駆動手段を設けるのが好ましい。
【００２２】
また、図１及び２に示すように、透明基材１１１上の、円筒状ローラー１２６に対して対向する位置に受圧ローラー１２８を設けるのが好ましい。これにより円筒状ローラーの押圧により、透明基材１１１が変形するのを抑制することができる。この場合、受圧ローラー１２８も透明基材１１１の移動速度と同期するように回転させるのが好ましい。受圧ローラーは、ゴムなどの弾性材料からなるのが好ましい。
【００２３】
本発明に用いられる透明な円筒状ローラーとしては、紫外線が透過する材料からなる管であればよい。例えば、ガラス管などを用いるのが好ましい。具体的には、硼珪酸ガラス、アルミノ珪酸塩ガラス、シリカガラス、石英ガラスなどの耐熱ガラスからなるガラス管が好ましく用いられる。この他にも、メタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）等のアクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、ノルボルネン樹脂などの透明樹脂からなる円筒状ローラーを使用することもできる。
【００２４】
紫外線発生源としては、紫外線ランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、超低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯等を用いることができる。更に、半導体レーザーによる紫外線の発光方式や、光ファイバを用いてレーザー光を伝送して照射する方式のように紫外線を放射可能な各種の紫外線放射手段を適用することができる。
【００２５】
紫外線発生源として紫外線ランプなどを用いた場合、紫外線発生源と円筒状ローラーとの間に、紫外線発生源を保護するための透明な保護用中空円筒を設けてもよい。
【００２６】
また、円筒状ローラーの回転を円滑にしたり、紫外線発生源を保護するために、圧縮空気を装填することにより円筒状ローラーと紫外線発生源又は保護用中空円筒との間に僅かな空間を設けたり、紫外線発生源又は保護用中空円筒の外周面上にワックスなどを塗布してもよい。
【００２７】
本発明において、紫外線硬化型樹脂組成物の塗工手段としては、例えば、グラビアコーター、ロールコーター（サイズプレス、ゲートロールコーター等）、バーコーター、エアナイフコーター、ブレードコーター、ディッピング、バーコーター、ブレードコーター、ナイフコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スクイズコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーターなどを挙げることができる。
【００２８】
また、前記塗工により得られた塗工層上に紫外線を照射する前に、塗工層を乾燥させる乾燥手段を設けるのが好ましい。例えば、図１に示すように、紫外線硬化型樹脂組成物を塗工する塗工手段１２３と、塗工層を押圧する透明な円筒状ローラー１２６との間に、乾燥炉などの乾燥手段１２４を配置することができる。このような乾燥手段により、押圧する前に塗工層に含まれる溶剤などを除去することができ、気泡の発生がなく透明であり、より表面が平滑化された機能性層を成形することができる。
【００２９】
次に、上記のように構成された装置により、ディスプレイ用光学フィルタを製造する方法について説明する。
【００３０】
（機能性層）
本発明において、機能性層としては、電磁波シールド層上に形成された何らかの機能を示す紫外線硬化性樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。したがって、機能性層は、紫外線硬化型樹脂組成物を用いて形成される。
【００３１】
機能性層としては、近赤外線吸収層、ハードコート層、又は反射防止層などが挙げられる。ハードコート層は硬度が高く表面平滑性に優れる層を形成しにくく、したがって本願発明による効果を最も高く発揮できることから、機能性層はハードコート層であるのが好ましい。
【００３２】
なお、本発明において、ハードコート層とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を有するものをいう。
【００３３】
機能性層を形成するために使用される紫外線硬化型樹脂組成物は、紫外線硬化性樹脂のモノマー及び／又はオリゴマーと、光重合開始剤を含む。
【００３４】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２'−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレー��、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００３５】
上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）のうち、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００３６】
紫外線硬化型樹脂組成物に使用される光重合開始剤としては、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア（登録商標）１８４）が好ましい。
【００３７】
光重合開始剤の含有量は、紫外線硬化型樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００３８】
紫外線硬化型樹脂組成物は、さらにシリコーンオイルを含有するのが好ましい。これにより塗工性を向上させることが可能となる。前記シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、及びメチルハイドロジェンシリコーンオイルなどが好ましく挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
【００３９】
機能性層としてハードコート層を形成する場合には、紫外線硬化型樹脂組成物は紫外線硬化型樹脂のみを含んでいてもよいが、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤などの他の成分をさらに含んでいても良い。
【００４０】
紫外線硬化型樹脂組成物は、２５℃において１０〜５０００ｍＰａ・ｓ、特に５０〜５００ｍＰａ・ｓの粘度を有するのが好ましい。これにより、表面平滑性に優れる機能性層を得ることができる。また、紫外線硬化型樹脂組成物の固形分濃度は、１〜７０質量％、特に２０〜６０質量％とするのが好ましい。
【００４１】
紫外線硬化型樹脂組成物の粘度は、有機溶剤を用いて調整することができる。有機溶剤としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、アルコール系溶剤、セロソルブ系溶剤、石油系溶剤などが挙げられる。これらは、一種単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。
【００４２】
上述した紫外線硬化型樹脂組成物の塗工層上に紫外線を照射する前に、塗工層を乾燥さる場合、乾燥は、前記塗工層を、７０〜１３０℃、特に７５〜１２５℃で、５秒〜１５分間、特に５〜１５分間、加熱することにより行うのが好ましい。
【００４３】
紫外線硬化型樹脂組成物の塗工層を、透明な円筒状ローラーにより押圧しながら紫外線照射により硬化させる際に、塗工層に十分に紫外線照射を行うために、透明基材の走行速度は、１〜１０ｍ／分、特に１〜５ｍ／分とするのが好ましい。
【００４４】
このとき、紫外線発生源から塗工層表面に照射する紫外線のエネルギー密度は、５０〜８００ｍＪ／ｃｍ2、特に１００〜７００ｍＪ／ｃｍ2とするのが好ましい。
【００４５】
紫外線硬化型樹脂組成物の塗工層を透明な円筒状ローラーにより押圧するには、塗工層表面を１００〜５００ｇ／ｃｍ2、特に１００〜３００ｇｃｍ2の圧力で押圧するのが好ましい。塗工層表面に対する円筒状ローラー表面の距離を調整することにより、前記圧力を調整することができる。
【００４６】
機能性層としてハードコート層を形成する場合、ハードコート層の厚さは、通常は１〜５０μｍ、好ましくは５〜４０μｍ、特に好ましくは５〜３５μｍである。
【００４７】
本発明の方法では、上述の通りに、パターン状の電磁波シールド層を有する透明基材上に機能性層としてハードコート層を形成した場合、前記ハードコート層上に反射防止層を形成する工程を実施するのが好ましい。このように反射防止層を形成することによって、反射防止性をさらに向上させることができる。また、ハードコート層が表面平滑性に優れることから、このような反射防止層上に形成された反射防止層も表面平滑性に優れる。
【００４８】
反射防止層としては、屈折率の低い低屈折率層及び／又は屈折率の高い高屈折率層が挙げられる。反射防止層として、ハードコート層上に、（１）ハードコート層より屈折率の低い低屈折率層のみが形成されてもよく、（２）ハードコート層より屈折率の高い高屈折率層と、前記高屈折率層より屈折率の低い低屈折率層とがこの順で積層されて形成されてもよい。
【００４９】
低屈折率層を形成するには、合成樹脂、好ましくは紫外線硬化性樹脂のモノマー、オリゴマー、光重合開始剤の他、シリカ、フッ素樹脂、好ましくは中空シリカを含む塗工液が用いられる。
【００５０】
高屈折率層を形成するには、合成樹脂、好ましくは紫外線硬化性樹脂のモノマー、オリゴマー、光重合開始剤の他、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の金属酸化物微粒子を含む塗工液が用いられる。金属酸化物微粒子は、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。ＩＴＯ、特に平均粒径１０〜５０ｎｍのものが好ましい。
【００５１】
低屈折率層及び高屈折率層の形成に使用される塗工液は、それぞれ有機溶剤を含んでいてもよい。前記塗工液に使用される紫外線硬化性樹脂のモノマー、オリゴマー、光重合開始剤及び有機溶剤は、上述したものと同じものをそれぞれ使用できる。また、低屈折率層及び高屈折率層は、ハードコート層上に各塗工液を順次、塗工した後、紫外線照射することにより形成することができる。
【００５２】
低屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。また、低屈折率層の屈折率は、１．３５〜１．４５が好ましい。この屈折率が１．４５超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。
【００５３】
高屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍ、好ましくは２０〜２００ｎｍである。また、高屈折率層の屈折率は１．６４以上であるのが好適である。高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止層の表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００５４】
（透明基材）
本発明の方法に使用される透明基材としては、透明度及び可とう性を備え、その後の処理に耐えるものであれば特に制限はない。透明基材の材質としては、例えば、ガラス、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート）、アクリル樹脂（例、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、セルローストリアセテート、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる、これらの中で、加工処理（加熱、溶剤、折り曲げ）による劣化が少なく、透明性の高い材料であるＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが好ましい。なかでも、安価であり優れた耐久性を有することから、ＰＥＴであるのが好ましい。透明基材は、これらの材質からなるシート、フィルム、または板として用いられる。
【００５５】
本発明の方法では、透明基材は、シート状のものを使用することもでき、また枚葉化されたものを使用することもできるが、パターン状の電磁波シールド層上に機能性層、好ましくはハードコート層を形成する工程は、ロール・ツー・ロール（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ）方式を用いて行うのが好ましい。ロール・ツー・ロール方式は、例えば、パターン状の電磁波シールド層を有する透明基材が巻き取られたロールから、前記透明基材を連続的に引き出しつつ、前記透明基材上に上述した方法により機能性層を形成し、再度ロールに巻き取る方式などである。これにより、製造工程を簡略化でき、製造が容易で生産性に優れるディスプレイ用光学フィルタを製造することが可能となる。したがって、シート状の透明基材を使用するのが好ましい。
【００５６】
前記透明基材の厚さは、特に制限されないが、６〜２５０μｍ、特に６〜２００μｍ程度であるのが好ましい。
【００５７】
（電磁波シールド層）
透明基材上に形成されるパターン状の電磁波シールド層は、金属を含み導電性を有する。例えば、（１）銅などの金属からなるもの、（２）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたもの、等を挙げることができる。
【００５８】
前記（１）金属からなる電磁波シールド層において、前記金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００５９】
前記（１）の電磁波シールド層を作製するには、まず、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工などの方法を用いて透明基材上に前記金属からなる金属箔を形成し、その後、前記金属箔をエッチングして開口部を設けることによりパターン状にする方法など、公知の方法を用いて行えばよい。
【００６０】
前記（１）の電磁波シールド層を作製するには、上記方法の他にも、透明基材上に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去する方法を用いても良い。このような方法は、例えば、特開２００１−３３２８８９号公報などに記載されている。
【００６１】
（２）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させた電磁波シールド層において、前記導電性粒子としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。
【００６２】
バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００６３】
（２）の電磁波シールド層を作製するには、導電性粒子をバインダ樹脂に分散させた導電性インクを透明基材上にパターン状に印刷する方法を用いることができる。前記導電性インクは導電性粒子及びバインダ樹脂の他に、適度な粘度に調整するため、さらに溶剤を含んでいてもよい。導電性インクを透明基材上にパターン状に印刷するには、グラビア印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷など公知の方法を用いて行えばよい。その後、必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させて硬化させる。
【００６４】
電磁波シールド層としては、防眩性及び導電性に優れることから、上述したもののうち（１）の電磁波シールド層を用いるのが好ましい。
【００６５】
電磁波シールド層が有するパターン形状は、ストライプ状、メッシュ状であるのが好ましい。これらのパターンを有する電磁波シールド層は、パターン形成部分により導電性を確保でき、開口部によって光の透過を確保できるため好ましい。
【００６６】
電磁波シールド層におけるメッシュパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状などが挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。
【００６７】
メッシュ状の電磁波シールド層の線幅は、一般に５０μｍ以下、好ましくは５〜４５μｍ、特に５〜３０μｍである。線のピッチは２００μｍ以下が好ましい。また、開口率は５０〜９５％であることが好ましく、特に５５〜８０％である。なお、電磁波シールド層の開口率とは、当該電磁波シールド層の投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００６８】
電磁波シールド層をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を向上させたい場合は、電磁波シールド層上に金属メッキ層を形成することが好ましい。
【００６９】
金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。金属メッキ層の厚さは、０．０１〜５μｍとするのが好ましい。
【００７０】
また、電磁波シールド層に防眩性能を付与しても良い。この防眩化処理は、電磁波シールド層の表面に黒化処理を行って、黒化層を設けることにより行っても良い。例えば、酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等により行うことができる。
【００７１】
本発明の方法では、上述の通り、パターン状の電磁波シールド層を有する透明基材上に機能性層を形成した後、前記透明基材の電磁波シールド層を形成した面とは反対側の面上に、さらに第２の機能性層を形成する工程を実施するのが好ましい。
【００７２】
第２の機能性層は、透明基材の電磁波シールド層が形成された面とは反対側の面に形成され、何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。第２の機能性層としては、一般に、近赤外線吸収層又は透明粘着剤層、或いはこれらの組合せである。第２の機能性層として具体的には、（１）近赤外線吸収層のみからなるもの、（２）透明粘着剤層からなるもの、又は（３）近赤外線吸収層及び透明粘着剤層からなるもの（この順で透明基材上に設けられている）からなることが好ましい。
【００７３】
第２の機能性層として用いられる近赤外線吸収層（即ち、近赤外線遮蔽層）は、一般に、透明基材の表面に色素等を含む層を形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダとして合成樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥させることにより得られる。
【００７４】
色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。
【００７５】
バインダとしての合成樹脂の例としては、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、およびノルボルネン樹脂などが好ましく用いられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００７６】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。したがって、近赤外線吸収層形成用塗工液にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。また、光学特性に大きな影響を与えない限り、近赤外線吸収層形成用塗工液に、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤、色調補正用色素等を加えても良い。
【００７７】
近赤外線吸収層の厚さは、特に制限はないが、近赤外線の吸収性及び可視光透過性の点で、０．５〜５０μｍ程度が好ましい。
【００７８】
透明粘着剤層は、本発明のディスプレイ用光学フィルタをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。
【００７９】
透明粘着剤層における接着機能を有する樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。ＥＶＡなどを使用する場合、透明粘着剤層はさらに架橋剤を含んでいてもよい。
【００８０】
透明粘着剤層の厚さは、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。ディスプレイ用光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【００８１】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。透明粘着剤層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【００８２】
透明粘着剤層上には、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートなどからなる剥離シートをさらに設けるのが好ましい。
【００８３】
上述した本発明の方法によれば、高い表面平滑性を有する機能性層、好ましくはハードコート層を電磁波シールド層を有する透明基材上に形成することができる。このような機能性層は、表面粗さＲａが０．１μｍ以下、好ましくは０．０１〜０．１μｍ、より好ましくは０．０１〜０．０８μｍと高い表面平滑性を有し、これにより、光の乱反射を抑制し、反射防止性が優れるディスプレイ用光学フィルタが得られる。
【００８４】
なお、本発明において、機能性層の表面粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（１９９４）に従って、表面粗さ計（サーフコム４８０Ａ  株式会社東京精密製）を用いて測定することができる。
【００８５】
本発明の方法により製造されるディスプレイ用光学フィルタは、特に制限されないが、ディスプレイの画像表示ガラス板の表面に透明粘着層を介して貼合する等の手段を用いて、ディスプレイに適用できる。このようなディスプレイとしては、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどが挙げられる。
【実施例】
【００８６】
以下、本発明を実施例により説明する。本発明は、以下の実施例により制限されるものではない。
【００８７】
（実施例１）
１．メッシュ状の電磁波シールド層の形成
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ１００μｍ）上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で５μｍである。
【００８８】
その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してポリエチレンフィルムの全面にメッシュ状の電磁波シールド層を形成した。
【００８９】
このフィルム表面の電磁波シールド層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、平均厚さは４μｍ、平均線幅は２０μｍ、平均ピッチは２５４μｍ、開口率は７７％であった。
【００９０】
２．ハードコート層用塗料の調製
樹脂成分としてペンタエリスリトールトリアクリレート１００質量部に対して、重合開始剤（イルガキュア（登録商標）１８４（チバスペシャリティケミカル社製））５質量部を添加し、固形分Ａを得た。一方、２−プロパノールとシクロヘキサノンとを質量比７：３で混合することにより溶剤Ａを得た。固形分Ａと溶剤Ａとを質量比２：８で混合し、さらにシリコーンオイル（ＫＦ９６−２００ＣＳ  信越シリコーン）を０．０２質量％添加し、室温で１時間撹拌することにより、ハードコート層用塗料を調製した。ハードコート層用塗料の粘度は、２５℃で２０ｍＰａ・ｓであった。
【００９１】
３．ディスプレイ用光学フィルタの作製
フィルタの作製には、図１及び２に示す装置を用いて行った。
【００９２】
電磁波シールド層が形成された透明基材上１１１に、ハードコート層用塗料をダイコーター１２３により塗布した。これにより得られた塗工層を、乾燥炉１２４を通過させることにより８０℃で１分間、乾燥させた。次に、塗工層表面を、ガラス管１２６により２５０ｇ／ｃｍ2の圧力で押圧しながら、ガラス管１２６内部に設けられたＵＶランプ１２５から積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、ハードコート層（厚さ１０μｍ、表面粗さＲａ０．０３μｍ）を作製した。なお、透明基材の走行速度は４ｍ／分とした。
【００９３】
（比較例１）
ＵＶランプが内部に設けられたガラス管を使用せずに、単にＵＶランプのみを用いて塗工層上に紫外線を照射した以外は実施例１と同様にして、ハードコート層（厚さ１０μｍ、表面粗さＲａ０．２１μｍ）を作製し、ディスプレイ用光学フィルタを得た。
【００９４】
（比較例２）
ＵＶランプが内部に設けられたガラス管を使用せずに、塗工層上に、平滑化シート（ポリエチレンテレフタレートフィルム）をローラーを使用して積層した後、単にＵＶランプのみを用いて紫外線を照射した以外は実施例１と同様にして、ハードコート層（厚さ１０μｍ、表面粗さＲａ０．０３μｍ）を作製し、ディスプレイ用光学フィルタを得た。
【符号の説明】
【００９５】
１１１  透明基材、
１１２  電磁波シールド層、
１１３  塗工層、
１１４  機能性層、
１２１  従動ローラー、
１２２  駆動ローラー、
１２３  塗工手段、
１２４  乾燥手段、
１２５  紫外線発生源、
１２６  透明な円筒状ローラー、
１２７  紫外線遮蔽手段、
１２８  受圧ローラー、
ａ      透明基材の走行方向。
【図１】
2010231122.tif 000003
【図２】
2010231122.tif 000004