(57)【要約】      （修正有）【課題】少なくとも、下側の泡の数および大きさが減少されるような方法およびフロートバス装置を提供する。【解決手段】バス底部レンガ３から作られたフロートバス底部２と、金属底部壁１４を有する金属ケーシング１２とを具備し、前記バス底部レンガ３と前記金属底部壁１４の間には、間隙空間１０が形成されるフロートバス装置１において、溶融槽でガラスを溶融し、ガラス溶融物を液状のメタルバス５上に注ぎ、ガラスリボン８に成形することを含む、板ガラスの製造方法であって、前記間隙空間１０を、少なくとも１つの領域において、少なくとも一時的に、Ｈ２含有ガスで満たす。【選択図】図２
2010053031.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バス底部レンガ（３）から作られたフロートバス底部（２）と、金属底部壁（１４）を有する金属ケーシング（１２）とを具備し、前記バス底部レンガ（３）と前記金属底部壁（１４）の間には、間隙空間（１０）が形成されるフロートバス装置（１）において、溶融槽でガラスを溶融し、ガラス溶融物を液状のメタルバス（５）上に注ぎ、ガラスリボン（８）に成形することを含む、板ガラスの製造方法であって、前記間隙空間（１０）を、少なくとも１つの領域において、少なくとも一時的に、Ｈ２含有ガスで満たすことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記間隙空間（１０）における前記ガスの所定の組成を、前記ガスの少なくとも１つの成分の供給によって調整または維持することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記間隙空間（１０）にある前記ガスの前記組成を測定することを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
任意の或る領域が、フロートバスの１つの区域（１０１ないし１０８）を含むことを特徴とすることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１に記載の方法。
【請求項５】
前記ガスが５体積％ないし１４体積％のＨ２を含むことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１に記載の方法。
【請求項６】
前記フォーミングガスは、＞１２体積％ないし１４体積％のＨ２を含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記メタルバス（５）の上方の空間に導入される前記ガスと同じガスを用いることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１に記載の方法。
【請求項８】
前記ガスを、前記金属底部壁（１４）の少なくとも１つの位置で供給し、前記金属底部壁（１４）の少なくとも１つの他の位置から排出することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１に記載の方法。
【請求項９】
前記ガスは、アルゴン、窒素および／またはヘリウムのような不活性ガスを含み、あるいは、これらのガスの少なくとも１つからなること特徴とする請求項１ないし８のいずれか１に記載の方法。
【請求項１０】
バス底部レンガ（３）から構成され、かつ外側で金属底部壁(１４)を有する金属ケーシングにより囲まれたフロートバスタンク（７）を有し、前記バス底部レンガ（３）と前記金属底部壁（１４）の間には、間隙空間（１０）が形成され、前記金属底部壁（１４）は、短管が装着された少なくとも１つの孔（１５）を有するフロートバス装置であって、少なくとも１つの短管（２０）が、ガスリザーバ（３０）に接続され、かつ、Ｈ２含有ガスを供給するための機構（３２）に接続されていることを特徴とするフロートバス装置。
【請求項１１】
前記ガスリザーバ（３０）は、フォーミングガスリザーバであることを特徴とする請求項１０に記載のフロートバス装置。
【請求項１２】
少なくとも１つの短管（２０）が、吸引手段(３６)に接続されていることを特徴とする請求項１０または１１に記載のフロートバス装置。
【請求項１３】
前記短管（２０）は、中心孔（２２）を有し、この中心孔の外側に位置する出口は閉じられていることを特徴とする請求項１０ないし１２のいずれか１に記載のフロートバス装置。
【請求項１４】
前記短管（２０）は、ガスを供給および／または排出するための少なくとも１つの接続手段（２３）を有し、この接続手段（２３）は、前記短管(２０)の側方に設けられていることを特徴とする請求項１０ないし１３のいずれか１に記載のフロートバス装置。
【請求項１５】
前記短管（２０）は、ガス測定手段（３８）に接続されていることを特徴とする請求項１０ないし１４のいずれか１に記載のフロートバス装置。
【請求項１６】
前記短管（２０）は、少なくとも部分的に、冷却ジャケット（２５）を含むことを特徴とする請求項１０ないし１５のいずれか１に記載のフロートバス装置。
【請求項１７】
前記短管（２０）は、温度測定手段（４２）に接続されている少なくとも１つの熱電対（４０）を有することを特徴とする請求項１０ないし１６のいずれか１に記載のフロートバス装置。
【請求項１８】
前記バス底部レンガ（３）はスペーサ（１６）に載っていることを特徴とする請求項１０ないし１７のいずれか１に記載のフロートバス装置。
【請求項１９】
請求項１ないし９のいずれか１に記載の方法で製造される板ガラス。
【請求項２０】
表面が研磨されていることを特徴とする請求項１９に記載の板ガラス。
【請求項２１】
ＬＣＤディスプレイスクリーンのための請求項１９または２０に記載の板ガラスの使用。
【請求項２２】
安全技術用途のための請求項１９または２０に記載の板ガラスの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の前提部分に記載の板ガラスの製造方法に関する。本発明は、請求項１０の前提部分に記載のフロートバス装置にも関する。本発明は、更に、請求項１９に記載の板ガラスおよび請求項２１に記載の板ガラスの使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
フロート法による板ガラス、いわゆるフロートガラスの製造は、前世紀以来知られており、実質的に、ピルキントン社の基本的な保護権（特許文献１、特許文献２）に基づいている。
【０００３】
フロート法では、溝によって作業槽から導かれる液状ガラスを、溶融金属、一般的にはスズからなるバス上に流す。ガラスの流量は、可動ダンパーによって調節され、ダンパーの調整によって、特に、ガラスの厚みも調整される。ガラスの流れ方向に見てダンパーの後方には、スパウトのリップがある。スパウトのリップからは、ガラス溶融物が連続的にメタルバスに流れる。そこでは、ガラス溶融物が、寸法安定性のあるガラスリボンに成形されて、固化する。続いて、固化したガラスリボンは、メタルバスから除去される。この目的のために、フロートバスタンクの後方には、リフト機構が設けられている。
【０００４】
この方法で製造され、通常は１．５ｍｍより小さい厚みを有するフロートガラスは、薄ガラス基板として、フラットパネルディスプレイ、例えば、プラズマディスプレイパネル（PDP=Plasma Display Panel）、電界放出ディスプレイ（FED=Field Emission Display）、ＴＦＴ液晶ディスプレイ（TFT=Thin Film Transistor）、ＳＴＮ液晶ディスプレイ（STN=Super Twisted Nematic）、プラズマ支援液晶ディスプレイ（PALC=Plasma Assisted Liquid Crystal）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ）等の製造のために、または薄膜太陽電池の製造のために用いられる。
【０００５】
フラットパネルディスプレイでは、ディスプレイのタイプに従って、２つのガラスシートの間に、液晶化合物の薄い層が挿入されるか、裏面ガラスシートの前面および前面ガラスシートの裏面に誘電層が形成される。これらの誘電層から、セルが成形され、セルには、蛍光物質が入れられる。
【０００６】
この場合に重要であるのは、特にディスプレイスクリーンの寸法が大きい場合に、妨害的な、色の混じり（Farbverfaelschungen）または類似性のずれ（Aehnlichkeitsabweichungen）が生じないように、液晶層の厚みまたは誘電層の厚みが正確に維持されることである。現在では約３０μｍの層の厚みが、ますます小さくなり、ディスプレイスクリーンがますます大きくなるので、この条件の重要性が増大する。
【０００７】
液状金属、特にスズの酸化を防止するために、フロートバスチャンバが、常に、通常５〜８体積％の水素を含むフォーミングガスでフラッシングされる。
【０００８】
図１に部分断面図で概略が示されている、フロートバス装置１のフロートバスタンク７の底部２は、通常、耐火材料からなるバス底部レンガ３から構成されている。バス底部レンガは、金属底部壁１４を有する気密の冷却された金属ボックスまたは金属ケーシング１２中に保持される。バス底部レンガ３上には、メタルバス５があって、メタルバス５には、ガラスリボン８が浮かんでいる。金属底部壁１４とバス底部レンガ３との間には、数ミリの間隙空間１０がある。最初にタンクにスズが満たされるとき、液状のスズが、レンガ目地４の中へ、冷却された金属底部壁１４まで押し進む。そこでは、スズは、例えば、スズプラグ６の形態で、固化する。
【０００９】
成形の初めには、ガラスの粘性が低いので、ガラスの下方でのガスの生成により、下部が開いた泡がガラスの中に押し込まれる。固化工程では、開放泡が保たれ、望ましくないガラス欠陥を形成する。
【００１０】
例えばＬＣＤディスプレイ使用のための、無アルカリ特殊ガラスは、今日では、フロート法でも製造される。ガラス上に付着される小型の電子構造の故に、最小の表面欠陥でも問題を生じる。下面の開放した泡の直径は、典型的には、５０μｍ未満であり、深さは、１０μｍ未満である。研磨によって、開放泡を除去することができる。この仕上げ加工は、かなりのコストをも意味する。
【００１１】
特許文献３は、ガラスから漏れる水であって、スズ中の余りに高い水素濃度によってスズの中に溶解されない、ガラスから漏出する水の相互作用の結果として、ガラスの下部に泡が生成することを記載する。ガラスからの水の拡散は、ガラス中の電界強度によって影響を受ける。ＴｉＯ２、酸化エルビウムまたはネオジムの添加によって、電界強度が高められ、これによって、水の拡散が減少される。このことは、欠陥の形成の減少をもたらす。
【００１２】
特許文献４は、フロートバスの熱い領域でフォーミングガラスの水素濃度を３体積％未満に調整することによって、特許文献３に記載の泡の形成を阻止する方法を記載する。この方法により、スズ中の水素濃度は、ガラスからの水素がスズ中に溶解し得、かくして、泡の形成が阻止されるまで、低下される。
【００１３】
特許文献５、特許文献６および特許文献７は、底部領域に真空を形成して、過剰のガスを底部領域から吸引することができるようにした方法を記載する。
【００１４】
特許文献５によると、耐火レンガが、金属ケーシングに強固に螺着され、および／またはセメント層に埋め込まれる。メタルバスの表面の下方に減圧を作り出すために、金属ケーシングを通ってセメントまで延びる複数の管が設けられている。これらの管は、セメント層が設けられていない場合には特に、耐火レンガの中にまで達し得る。
【００１５】
これらの管によって吸引されるガスを、分析装置に供給することもできる。
【００１６】
これに対し、特許文献６には、バス底部レンガと金属ケーシングとの間に、間隙空間があって、この間隙空間からガスが吸引される。金属ケーシングには、吸引の目的のために適切な複数の短管が設けられている。これらの短管は、真空パイプに接続されている。ガラスリボンの下面における泡の問題は、間隙空間の真空化によって満足に解決することができないことが、明らかになった。減圧を印加することによって、空気が、従って酸素が、場合によっては、フロートバスタンクの縁部領域を介して間隙空間へ吸引される。間隙空間は、かくして、状況によってはスズバスと接触する。
【００１７】
特許文献７によると、この間隙空間は、同様に、吸引圧力に晒され、メタルバスの上方の空間から間隙空間への保護ガス雰囲気の直接的な流入が、密封によって阻止される。一方では保護ガス雰囲気が超過圧下にあり、他方では、ブロックとシェルとの間の空間に吸引圧力が維持され、吸引圧力の維持は、この空間と保護ガス雰囲気との開いた結合の密封によって支持されるので、十分な圧力低下が生じる。それ故に、バス中のガス状の成分が、ブロックの表面へ、ならびにこれらのブロックの間のギャップを通っておよびブロック自体の多孔性材料を通って排出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１８】
【特許文献１】US 3,083,551
【特許文献２】DE 147 19 50
【特許文献３】US 2004/0110625 A1
【特許文献４】US 2004/0107732 A1
【特許文献５】DE-OS 1496018
【特許文献６】US 3,334,983
【特許文献７】DE-PS 1496021
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
本発明の課題は、少なくとも、下側の泡の数および大きさが減少されるような方法およびフロートバス装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
この課題は、板ガラス、特にＴＦＴガラスを製造するための方法において、バス底部レンガと金属ケーシングとの間の間隙空間が、少なくとも１つの領域において、少なくとも一時的に、Ｈ２含有ガスで充填されることによって、解決される。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】従来の技術に係るフロートバス底部の部分断面図を示す。
【図２】本発明に係るフロートバス底部の部分断面図を示す。
【図３】短管を有するフロートバス底部の拡大部分断面図を示す。
【図４】本発明に係るフロートバス底部の他の態様を示す。
【図５】本発明に係るフロートバス底部の更に他の態様を示す。
【図６】フロートバスの平面図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
フロートバスの底部領域で、特に、フロートバスの作動開始前に、吸引によってのみでは完全に除去されることはない長続きする空気溜め従って酸素溜めが形成されることが推測される。水素成分を有するガスを上記空間に導入することが、酸素を結合し、これによって、酸素溜めを除去する。それ故に、スズバスへの酸素の連続的な供給、そこでの酸化およびガラス中の泡形成が阻止される。更に、フロートバスの側壁を越えての空気の後流(Nachstroemen)が阻止される。
【００２３】
泡の形成が、水素を含むガスを間隙空間に充填することによって、著しく減少されることができることが明らかになった。Ｈ２含有ガスは、フォーミングガスとも呼ばれる。Ｈ２含有ガスを、外部から導入することが好ましい。ガスが、制御されて供給され、かつ吸引されることが特に好ましい。
【００２４】
Ｈ２含有ガスが、泡の形成が最も強く生じる個々の領域にのみ、導入されれば十分であり得る。
【００２５】
フロートバスは、異なる温度範囲を有するので、ガスを、少なくとも熱い領域に導入することが好ましい。任意の或る領域が、１つのいわゆるフロートバスの区域を含むことが好ましい。フロートバスの区域は、ベイと呼ばれる。
【００２６】
Ｈ２含有ガスを、常に間隙空間に保持することが好ましい。超過圧によって、ガスは、側壁を越えて外側へ流出することができる。このことによって、空気の流入が阻止される。
【００２７】
間隙空間の種々の領域における個々の条件に従って、間隙空間がフロートバス装置の作動時間中の限定された時間のみにＨ２含有ガスで充填されるように、Ｈ２含有ガスを、Ｈ２を含まないガスに切り替えることは、有利である。
【００２８】
例えば、間隙空間の個々の領域における含水量が増大するか、余りに高いときは、例えば、Ｈ２を含まないガスによって、例えば、窒素のみでこれらの領域をフラッシングし、続いて、再度Ｈ２含有ガスを導入することは有利である。
【００２９】
他の不活性ガスとしては、単独でまたは例えば窒素との組合せで用いることができるアルゴンおよび／またはヘリウムが適切である。これらのガスは、水素と共にまたは水素なしに用いることができる。
【００３０】
間隙空間における変化を検知することができるようにするために、間隙空間におけるガスの組成、または間隙空間から排出されるガスの組成を測定することができる。
【００３１】
このことは、例えば、含水量が高い場合に、Ｈ２を含まないガスに切り替え、あるいは、ガスの成分を、例えば水素成分（含有量）に適合させる機会を提供する。
【００３２】
間隙空間におけるフォーミングガスの所定の組成を、ガスの少なくとも１つの成分の供給および／または排出によって調整しかつ維持することは好ましい。例えば、既にガスが充填された間隙空間に、Ｈ２成分を増大させるために、しばらく水素のみを導入することができる。他の個所で、ガスの同じ量を吸引することができる。その目的は、間隙空間における圧力を余り大きく上げないようにするたである。
【００３３】
５体積％ないし８体積％のＨ２を有する通常のフォーミングガスを用いることが好ましい。より高いＨ２成分が、泡の形成に関する結果を改善することが明らかになった。従って、５体積％ないし１４体積％、特に＞１２体積％ないし１４体積％のＨ２成分が好ましい。
【００３４】
このガスの代わりに、メタルバスの上方の空間に導入されるのと同じガスを用いることが好ましい。間隙空間のフロートバスへのガスの供給のために、共通のガスリザーバを使うことができる。このことによって、方法は、安価に実行することができる。
【００３５】
間隙空間をフラッシングするために、他の態様では、ガスが、金属底部壁の少なくとも１つの位置に供給され、金属底部壁の少なくとも１つの他の位置から排出される。
【００３６】
フラッシングのために、例えば５０ないし１００ｌ／ｈのガスが間隙空間に導入される。
【００３７】
板ガラスを製造工程の終わりで研磨工程に供することが好ましい。開放泡が全然ないこと、あるいは、せいぜい少数の小さなまたは極めて小さな開放泡によって特徴づけられる、本発明に係る方法によって提供される表面の高質故に、研磨を、最大１０μｍの材料の除去に限定することができる。
【００３８】
本方法は、ホウケイ酸塩ガラス、無アルカリガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、リチウムアルミノケイ酸塩ガラスおよびガラスセラミックのための前駆体ガラスの製造のために、特に適切である。
【００３９】
本方法は、以下の組成（以下の全てのデータは、酸化物をベースにした重量％）、すなわち、ＳｉＯ２  ７０〜８５，Ｂ２Ｏ３  ７〜１３，Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ＋Ｌｉ２Ｏ  ３〜８，ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ  ０〜３，Ａｌ２Ｏ３  ２〜７の組成を有する、例えば耐火用途のための、ホウケイ酸塩ガラスを製造するために、
ＳｉＯ２  ５０〜７０，Ｂ２Ｏ３  ≦１５，Ａｌ２Ｏ３  １０〜２５，ＭｇＯ  ０〜１０，ＣａＯ  ０〜１２，ＳｒＯ  ０〜１２，ＢａＯ  ０〜１５およびＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｉＯ＋ＢａＯ  ８〜２６，ＺｎＯ  ０〜１０，ＺｒＯ２  ０〜５，ＴｉＯ２  ０〜５，ＳｎＯ２  ０〜２の組成を有する無アルカリアルミノ（ホウ）ケイ酸塩ガラスを製造するために、
例えば、ディスプレイガラス、特に、ＳｉＯ２  ＞５５〜６５，Ｂ２Ｏ３  ５〜１１，Ａｌ２Ｏ３  ＞１４〜２５，ＭｇＯ  ０〜８，ＣａＯ  ０〜８，ＳｒＯ  ０〜８，ＢａＯ  ≦１０およびＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ８〜２１，ＺｎＯ  ０〜５，ＺｒＯ２  ０〜２，ＴｉＯ２  ０〜３，ＳｎＯ２  ０〜２の組成、
殊にＳｉＯ２  ＞５８〜６５，Ｂ２Ｏ３  ＞６〜１０．５，Ａｌ２Ｏ３  ＞１４〜２５，ＭｇＯ  ０〜＜３，ＣａＯ  ０〜９，ＢａＯ  ＞３〜８およびＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ  ８〜１８，ＺｎＯ  ０〜＜２，Ａｓ２Ｏ３不含有、Ｓｂ２Ｏ３不含有という組成を有し、好ましくはＺｎ酸化物不含有、Ｃｅ酸化物不含有、Ｔｉ酸化物不含有であるディスプレイガラスの製造のために、特に適切である。
【００４０】
本方法は、更に、
例えば、ＳｉＯ２  ５５〜６９、Ａｌ２Ｏ３  １９〜２５，Ｌｉ２Ｏ  ３〜５，Ｎａ２Ｏ  ０〜１．５，Ｋ２Ｏ  ０〜１．５，ΣＮａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ  ０．２〜２，ＭｇＯ  ０．１〜２．２，ＣａＯ  ０〜１５，ＳｒＯ  ０〜１．５，ＢａＯ  ０〜２．５，ΣＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ６未満，ＺｎＯ  ０〜１．５，ＴｉＯ２  １〜５，ＺｒＯ２  １〜２．５，ＳｎＯ２  ０から１未満，ΣＴｉＯ２＋ＳｒＯ２＋ＳｎＯ２  ２．５〜５，Ｐ２Ｏ５  ０〜３の組成を有し、
あるいは、以下の組成、すなわち、
ＳｉＯ２                          ５５〜６９
Ａｌ２Ｏ３                        １９〜２５
Ｌｉ２Ｏ                          ３．２〜５
Ｎａ２Ｏ                          ０〜１．５
Ｋ２Ｏ                            ０〜１．５
ＭｇＯ                            ０〜２．２
ＣａＯ                            ０〜２．０
ＳｒＯ                            ０〜２．０
ＢａＯ                            ０〜２．５
ＺｎＯ                            ０〜＜１．５
ＴｉＯ２                          ０〜３
ＺｒＯ２                          １〜２．５
ＳｎＯ２                          ０．１〜＜１
ΣＴｉＯ２＋ＺｒＯ２＋ＳｎＯ２      ２．５〜５
Ｐ２Ｏ５                            ０〜３
Ｆ                                ０〜１
Ｂ２Ｏ３                            ０〜２
Ｎｄ２Ｏ３                          ０．０１〜０．６
を有する、ガラスセラミック用の種々の未加工ガラス（Guenglass）を、
あるいは、ＳｉＯ２  ５５〜７５、Ａｌ２Ｏ３  １５〜３０，Ｌｉ２Ｏ  ２．５〜６，ΣＮａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ  ６未満，ΣＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ６未満，Ｂ２Ｏ３  ０から４未満，ΣＴｉＯ２＋ＺｒＯ２  ２未満の組成を有するガラスセラミック用の前駆体ガラスを、
あるいは、ＳｉＯ２  ６０〜７２，Ａｌ２Ｏ３  １８〜２８，Ｌｉ２Ｏ  ３〜６，ΣＮａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ  ０．２〜２，ΣＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ６未満，ＺｎＯ  ０〜１．５，Ｂ２Ｏ３  ０から４未満，ＳｎＯ  ０．１〜１．５，ΣＴｉＯ２＋ＺｒＯ２  ２未満，Ｐ２Ｏ５  ０〜３，Ｆ  ０〜２の組成を有するガラスセラミック用の前駆体ガラスを、
製造するために、特に適切である。
【００４１】
本発明に係る方法によって製造され得る他の好ましいガラスは、少なくとも５５重量％、好ましくは少なくとも６０重量％、特に好ましくは少なくとも６４重量％のＳｉＯ２を有するアルミノケイ酸塩ガラスである。ＳｉＯ２の上限は７０重量％であり、特に６８重量％未満であり、６７重量％以下が特に好ましい。Ｂ２Ｏ３は、ガラスに、０重量％から、特に少なくとも０．０５重量％の量で含まれ、０．１重量％の最少含量は特に好ましい。ガラス中のＢ２Ｏ３の最大含量は、２重量％であり、１．５重量％が好ましい。
【００４２】
Ａｌ２Ｏ３は、上記ガラスに、少なくとも１８重量％、特に少なくとも１９重量％、好ましくは少なくとも２０重量％の量で含まれ、最大量は、２５重量％、特に２４．５重量％であり、２４重量％が特に好ましい。
【００４３】
Ｌｉ２Ｏは、上記ガラスに、３ないし高々５重量％の量で含まれ、３．２５重量％、特に３．５重量％の最小量は好ましい。Ｌｉ２Ｏの最大量は、最大５重量％、特に最大４．８重量％であり、最大４．７５重量％、特に４．６重量％の上限は、特に好ましい。ガラス中のＮａ２ＯおよびＫ２Ｏの含量は、０ないし最大３重量％であり、Ｎａ２Ｏに関しては、最大１．５重量％の、好ましくは最大１重量％の上限が好ましい。Ｋ２Ｏに関しては、好ましい最大量は、１．５重量％、特に１重量％である。ガラス中のアルカリ金属酸化物Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの合計は、０重量％および高々３重量％であり、０．２５重量％、特に０．５重量％の最小量および３重量％、特に２．７５重量％、好ましくは高々２．５重量％の最大量は、なお適切である。
【００４４】
上記ガラス中のＣａＯおよびＳｒＯの含量は、それぞれ独立に、０ないし最大２重量％である。ガラス中のＳｒＯおよびＣａＯの好ましい最小量は、それぞれ独立に、０．１重量％であり、ＳｒＯおよびＣａＯの好ましい最大量は、それぞれ独立に、２重量％、好ましくは１．５重量％である。ＴｉＯ２およびＺｒＯ２は、ガラスに、それぞれ、０ないし最大３重量％および１ないし最大２．５重量％の量で含まれる。ＴｉＯ２に関しては、０．５重量％の、好ましくは０．８重量％の最小量および２．７５重量％の、特に２．５重量％の最大量が、好ましい。ＺｒＯ２に関しては、１．５重量％の、しかし特に１．５重量％の最小量は、好ましく、２．２５重量％、特に２重量％の最大量も好ましい。ＳｎＯ２は、ガラスに、０．１ないし最大１重量％の量で含まれており、０．１５重量％、好ましくは０．１８重量％の最小量および０．９重量％、特に０．８重量％の最大量は、好ましい。ガラス中の酸化物ＴｉＯ２、ＺｒＯ２およびＳｎＯ２の合計は、２．５重量％および高々５重量％であり、３重量％、特に３．２５重量％の最小量および４．９重量％、特に４．８重量％の最大量は好ましい。
【００４５】
ガラスは、ＭｇＯおよび／またはＢａＯの含量を有する。ＭｇＯの含量が０ないし２，２重量％であり、ＢａＯの含量が、独立に、０ないし２．５重量％であることは好ましく、その際、０．０５重量％の最小量、特に０．１重量％の最小量および２重量％の最大量は好ましい。更に、ガラスは、ＺｎＯおよび／またはＰ２Ｏ５の含量を含み、ＺｎＯの含量が０ないし＜１．５重量％であり、Ｐ２Ｏ５の含量が独立に０ないし３重量％であることは適切である。０．０５重量％のＺｎＯの最小量、特に、０．１重量％の最小量、１重量％の、特に０．７５重量％の最大量は好ましい。Ｐ２Ｏ５に関しては、０．５重量％の最小量、特に、１重量％の最小量および２．５重量％、特に２重量％の最大量は、好ましい。ガラスは、０．０１ないし０．６重量％の含量で、Ｎｄ２Ｏ３を含み、最小量としては、０．５５重量％が好ましく、０．１重量％が特に好ましい。最大量としては、０．５５重量％が好ましく、０．５重量％が特に好ましい。
【００４６】
板ガラスの好ましい使用は、ＬＣＤ用途のためであり、特に、ＬＣＤディスプレイスクリーンのためである。
【００４７】
フロートバス装置は、少なくとも１つの短管が、ガスリザーバに接続されており、Ｈ２含有ガスを供給するための手段に接続されていることを特徴とする。
【００４８】
ガスリザーバがフォーミングガスリザーバであることは好ましい。
【００４９】
間隙空間のフラッシングを実行することができるようにするために、少なくとも１つの短管が、吸引手段に接続されている。
【００５０】
短管が中心孔を有することは好ましい。中心孔の、外側に位置している出口は、閉じられている。まず、短管を形成する金属部材は、金属底部壁の下側に溶接され、続いて穿孔される。このことによって、穿孔の際に、液状スズの流出に対する最大限の保護が保証される。
【００５１】
このようにして形成された中心孔は、続いて、外側に位置している端部で、例えばプラグによって閉じられる。
【００５２】
ガスを供給および／または排出するための接続手段が、短管の側方に設けられていることは好ましい。短管のこの形態は、液状スズの最大限の流出保護が、ガスの供給における高い柔軟性の故に、達成されるという利点を有する。
【００５３】
短管が装着されている領域が、別の領域で冷却された金属底部壁よりも高い温度を有することを阻止するために、短管に、冷却媒体が供給されることができる冷却ジャケットが備えられていることは好ましい。
【００５４】
短管の温度をモニタすることができるために、短管が、温度測定手段に接続されている少なくとも１つの熱電対を有することは好ましい。
【００５５】
バス底部レンガが、数ミリの厚みを有するスペーサに載っていることは好ましい。その目的は、かくして、レンガの上面における所定の高さを調整するためである。
【００５６】
本発明に係わる方法で製造された板ガラスが、研磨された表面を有することは好ましい。
【００５７】
板ガラスの好ましい使用は、ＬＣＤディスプレイスクリーンのためであり、および、安全技術の用途のため、例えば、耐火のために、防弾の用途のために、あるいは、熱的にまたは化学的にプレストレスを付与されたフロートガラスの使用のためである。
【００５８】
以下、図面を参照して、本発明の典型的な態様を詳述する。図２には、フロートバス底部２の部分断面図が示されている。この部分断面図は、図１の図とは、バス底部レンガ３の角部がスペーサ１６に載っている点で、異なっている。スペーサ１６は、バス底部レンガの表面における、従ってスズバス自体における凹凸を調整するために用いられる。その上、この構造は、フロートバスの熱収支に関する利点を有する。更に、スペーサによって、金属底部壁１４との所定の間隔従ってまた間隙空間１０の所定の容量が定められる。金属底部壁１４には、複数の孔１５があけられている。これらの孔を通って、間隙空間１０が外から出入り可能である。外側には、複数の短管（Rohrstutzen）２０が溶接されている。これらの短管を通って、ガス、特に、Ｈ２含有ガスを、間隙空間１０に導入することができる。
【００５９】
図３は、このような短管の拡大図を示す。短管２０は、まず、金属底部壁１４の下側に溶接される。続いて、中心孔２２があけられ、同時に、孔１５も形成される。中心孔２２の、出口側端部には、プラグ２４の形態の閉鎖要素が設けられている。
【００６０】
接続手段２３が、短管２０から側方に延びている。
【００６１】
短管２０は、上方領域に、冷却ジャケット２５を有する。冷却ジャケットには、詳細に示さない冷却媒体が流される。更に、短管２０には、熱電対４０が挿入されている。熱電対は、温度測定手段４２に接続されている。短管２０の冷却によって達成されることが意図される効果は、スズが溶融点を上回らないように、温度が、金属底部壁１４への接続領域で、余りに強く上昇しないことである。間隙空間１０の領域でのスズの液化が回避されるべきであるのは、特に、孔１５がスズによって塞がれないためである。
【００６２】
図４には、例えば２つの短管２０が示されている他の態様が示されている。２つの短管２０は、それぞれ１つの弁３５が設けられているガス導管３３および３４を介して、供給手段、例えばポンプ３２に接続されている。このポンプ３２は、ガスリザーバ３０に接続されている。矢印は、ガスが間隙空間１０に導入されることを示す。
【００６３】
図５には、間隙空間のフラッシングが行なわれる他の態様が示されている。左の領域では、短管２０が、同様に弁３５を有するガス導管３３を介して、供給ポンプ３２に接続されている。供給ポンプは、ガスリザーバ３０に接続されている。右側では、短管２０が、同様に弁３５が設けられているガス導管３４を介して、吸引手段３６に接続されている。吸引手段によって、間隙空間１０から、前もって導入されたガスが再度吸引される。
【００６４】
間隙空間１０におけるガスの組成をモニタすることができるようにするために、ガス導管３４がガス測定手段３８、例えば質量分析計に接続されていてもよい。間隙空間１０からガスサンプルを取り出し、ガスサンプルを、適切な測定器で分析することも可能である。このためには、金属底部壁１４に追加の開口部が設けられていてもよい。
【００６５】
図６には、フロートバス７の平面図が示されている。フロートバスは、８つの区域に、すなわち、ベイ１０１ないし１０８に区分されている。ベイ１０２ないし１０４には、夫々３つの孔１５が設けられており、これらの孔には短管が接続され得る。より少ないかより多い接続機構すなわち孔および短管が設けられていてもよい。同様に、すべてのベイまたは追加のベイがこのような接続機構を有してもよい。
【符号の説明】
【００６６】
１…フロートバス装置
２…フロートバス底部
３…バス底部レンガ
４…レンガ目地
５…メタルバス
６…スズ・プラグ゜
７…フロートバスタンク
８…ガラスリボン
１０…間隙空間
１２…金属ケーシング
１４…金属底部壁
１５…孔
１６…スペーサ
２０…短管
２２…中心孔
２３…接続手段
２４…閉鎖要素
２５…冷却ジャケット
３０…ガスリザーバ
３２…供給手段
３３…ガス導管
３４…ガス導管
３５…弁
３６…吸引手段
３８…ガス測定手段
４０…熱電対
４２…温度測定手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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