(57)【要約】【課題】本発明は、画像保存性、特に画像耐光性に優れた高白紙光沢、高インク発色性、高インク吸収性を有するインクジェット記録材料を提供する。【解決手段】吸収性支持体上に、下塗り層、上塗り層、光沢発現層が順次塗布されたインクジェット記録材料において、少なくとも下塗り層が０．２ｇ／ｍ２以上のホウ素化合物を含有し、上塗り層がアルミナ水和物を主体とする無機超微粒子及びポリビニルアルコールを含有し、光沢発現層がコア部に紫外線吸収剤を含有せしめたコアシェル構造を有するポリマー微粒子を主体とする層であることを特徴とするインクジェット記録材料。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸収性支持体上に、下塗り層、上塗り層、光沢発現層が順次塗布されたインクジェット記録材料において、少なくとも下塗り層が０．２ｇ／ｍ２以上のホウ素化合物を含有し、上塗り層がアルミナ水和物を主体とする無機超微粒子及びポリビニルアルコールを含有し、光沢発現層がコア部に紫外線吸収剤を含有せしめたコアシェル構造を有するポリマー微粒子を主体とする層であることを特徴とするインクジェット記録材料。
【請求項２】
前記ポリマー微粒子のガラス転移点温度が４０℃以上であり、平均一次粒子径が１０〜２００ｎｍである請求項１記載のインクジェット記録材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は画像保存性、特に画像耐光性に優れた高白紙光沢、高インク発色性、高インク吸収性を有するインクジェット記録材料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
画像保存性、特に画像耐光性改良を目的に、紫外線吸収剤としてベンゾフェノン系或いはベンゾトリアゾール系エマルジョン、定着剤としてジシアンジアミド−ポリエチレンポリアミン共重合体を適用するインクジェット記録材料が提案されている（例えば、特許文献１）。又、画像保存性、特に画像耐光性向上のために紫外線吸収剤を含有せしめたポリマー微粒子を、記録材料の最上層面に積層化せしめた記録材料が提案されている（例えば、特許文献２）。しかしながら、これらの方法は白紙光沢が非常に低い所謂マット紙を得るための方法であり、紫外線吸収剤成分を最上層に留めておく工夫を施していないために、最上層に紫外線吸収剤成分を塗布しても、紫外線吸収剤成分が表面亀裂や粒子間空隙に大量に落ち込むために、充分な画像耐光性向上と白紙光沢の確保が困難である。
【０００３】
又、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤をビニルモノマーと共重合せしめたエマルジョン粒子をインク受理層に含有せしめた記録材料が提案されている（例えば、特許文献３）。しかしながら、この方法はインク受理層が膨潤することでインクを受理するタイプのインクジェット記録材料であり、インク吸収性やインク受理後の印刷部の擦過性に問題点がある。
【０００４】
従来の記録材料では、高白紙光沢、高インク発色性、高インク吸収性並びに良好な画像保存性という重要な性能を同時に満足するものではなかった。特に近年、インクジェット記録材料が銀塩写真の代替としても普及しており、上記性能は益々重要になってきている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−５９５２７号公報
【特許文献２】特開平１１−２９１６１２号公報
【特許文献３】特開２００２−２１２２３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、画像保存性、特に画像耐光性に優れた高白紙光沢、高インク発色性、高インク吸収性を有するインクジェット記録材料を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記目的は、吸収性支持体上に、下塗り層、上塗り層、光沢発現層が順次塗布されたインクジェット記録材料において、少なくとも下塗り層が０．２ｇ／ｍ２以上のホウ素化合物を含有し、上塗り層がアルミナ水和物を主体とする無機超微粒子及びポリビニルアルコールを含有し、光沢発現層がコア部に紫外線吸収剤を含有せしめたコアシェル構造を有するポリマー微粒子を主体とする層を設けることで達成された。
【０００８】
又、前記ポリマー微粒子のガラス転移点温度が４０℃以上であり、平均一次粒子径が１０〜２００ｎｍであることが好ましい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、画像保存性、特に画像耐光性に優れた高白紙光沢、高インク発色性、高インク吸収性を有するインクジェット記録材料の提供が可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を詳細に説明する。本発明において、支持体上に塗布される下塗り層には少なくとも０．２ｇ／ｍ２以上のホウ素化合物を含有する。この下塗り層に含有されるホウ素化合物と下塗り層上に塗布される上塗り層に含有されるポリビニルアルコールが架橋することで、亀裂のない上塗り層が形成される。但し、下塗り層に含有されるホウ素化合物が０．２ｇ／ｍ２未満であるとポリビニルアルコールとの架橋が充分に行われずに、上塗り層の塗布液を塗布、乾燥する過程で発生する乾燥収縮等の影響により上塗り層に亀裂が発生することとなり好ましくない。又、下塗り層に含有されるホウ素化合物の上限については特に限定されるものではないが、ホウ素化合物の溶解濃度や塗布操業性等を鑑み、５ｇ／ｍ２以下が好ましい範囲である。
【００１１】
本発明に用いられるホウ素化合物としては、例えば、ホウ砂、ホウ酸、ホウ酸塩（例えば、オルトホウ酸塩、ＩｎＢＯ３、ＳｃＢＯ３、ＹＢＯ３、ＬａＢＯ３、Ｍｇ３（ＢＯ３）２、Ｃｏ３（ＢＯ３）２、二ホウ酸塩（例えば、Ｍｇ２Ｂ２Ｏ５、Ｃｏ２Ｂ２Ｏ５）、メタホウ酸塩（例えば、ＬｉＢＯ２、Ｃａ（ＢＯ２）２、ＮａＢＯ２、ＫＢＯ２）、四ホウ酸塩（例えば、Ｎａ２Ｂ４Ｏ７・１０Ｈ２Ｏ）、五ホウ酸塩（例えば、ＫＢ５Ｏ８・４Ｈ２Ｏ、Ｃａ２Ｂ６Ｏ１１・７Ｈ２Ｏ、ＣｓＢ５Ｏ５）等を挙げることができる。中でも、速やかに架橋反応を起こすことができる点で、ホウ砂、ホウ酸、ホウ酸塩が好ましく、特にホウ砂、ホウ酸が好ましい。
【００１２】
本発明に用いられるポリビニルアルコールに関しては、完全又は部分ケン化のポリビニルアルコール或いはカチオン変性、シラノール変性等の変性ポリビニルアルコールを用いることができる。各種ポリビニルアルコールの中でも特に好ましいのは、ケン化度が８０％以上の部分又は完全ケン化したものであり、平均重合度２００〜５０００のものが好ましく用いられる。表面亀裂抑制の点から、平均重合度が２７００〜５０００の高重合度のものが特に好ましく用いられる。
【００１３】
本発明において上塗り層で用いられる無機超微粒子とは、平均粒子径が５００ｎｍ以下の無機微粒子のことであり、この平均粒子径とは、一次粒子が凝集していない場合は平均一次粒子径のことであり、一次粒子が凝集して二次粒子を形成している場合は平均二次粒子径のことをいう。無機超微粒子の例としては、例えば、特開平１−９７６７８号公報、特開平２−２７５５１０号公報、特開平３−２８１３８３号公報、特開平３−２８５８１４号公報、特開平３−２８５８１５号公報、特開平４−９２１８３号公報、特開平４−２６７１８０号公報、特開平４−２７５９１７号公報等に開示されているアルミナ水和物である擬ベーマイトゾル、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６１−１９３８９号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７４号公報、特開平５−５１４７０号公報等に記載されているようなコロイダルシリカ、特公平４−１９０３７号公報、特開昭６２−２８６７８７号公報に記載されているようなシリカ／アルミナハイブリッドゾル、特開平１０−１１９４２３号公報、特開平１０−２１７６０１号公報に記載されているような、気相法シリカを高速ホモジナイザーで分散したようなシリカゾル、特開平１０−１８１１９１号公報、特開平１０−２７２８３３号公報、特開２００１−１９９１５８号公報及び特開２００２−３３１７４７号公報に記載されているような、機械的に粉砕した湿式合成シリカ、その他にもヘクタイト、モンモリロナイト等のスメクタイト粘土、ジルコニアゾル、クロミアゾル、イットリアゾル、セリアゾル、酸化鉄ゾル、ジルコンゾル、酸化アンチモンゾル等を代表的なものとして挙げることができる。
【００１４】
本発明でいう平均一次粒子径とは、微粒子の電子顕微鏡観察により一定面積内に存在する１００個の一次粒子各々の投影面積に等しい円の直径を粒子の粒子径として平均粒子径を求めたものであり、平均二次粒子径とは、希薄分散液をレーザー回折・散乱法を用いた粒度分布計により測定して得られたものである。
【００１５】
又、下塗り層上の上塗り層にはアルミナ水和物を主体とする無機超微粒子を用いる。ここでいう主体とは全顔料の５０質量％以上のことであり、アルミナ水和物が選択されるのは、他の無機超微粒子と比較して白紙光沢、インク吸収性、インク発色性、表面亀裂抑制の点に優れるからである。
【００１６】
他の無機超微粒子、例えば、気相法シリカを主体とした場合には、アルミナ水和物と比して、表面亀裂が発生しやすくなることがあり、上塗り層上に均一な光沢発現層を塗布することが困難となることがある。
【００１７】
上塗り層に表面亀裂が発生すると、光沢発現層塗布液中のポリマー微粒子が表面亀裂内部に落ち込むために、ポリマー微粒子を上塗り層上に均一に留めておくことが困難となる。それにより少ない固形分塗布量で、白紙光沢発現効果や画像耐光性向上効果を得ることが困難になる。表面亀裂が発生した上塗り層上への光沢発現層の塗布でも、光沢発現層の塗布量を大幅に増加することで白紙光沢発現効果や画像耐光性向上効果が得られることもあるが、インク吸収性やインク発色性に重大な悪影響を及ぼすことがある。
【００１８】
又、上塗り層のアルミナ水和物の平均二次粒子径は５０〜５００ｎｍであることが好ましい。平均二次粒子径が５０ｎｍ未満であると、塗布乾燥後の上塗り層の細孔分布が小さくなりすぎ、インク吸収性に悪影響を与えることがあり、５００ｎｍを超えた場合には上塗り層表面の凹凸が大きくなりすぎてしまい、光沢発現層を塗布後の白紙光沢が乏しくなることがある。
【００１９】
又、上塗り層のアルミナ水和物の平均一次粒子径は３〜２５ｎｍであることが好ましい。平均一次粒子径が３ｎｍ未満であると、アルミナ水和物の比表面積が大きくなりすぎるために、塗層に表面亀裂が発生することがあり、２５ｎｍを超えた場合にはインク発色性に悪影響を与えることがある。
【００２０】
本発明に用いられるアルミナ水和物は、一般式Ａｌ２Ｏ３・ｎＨ２Ｏにより表すことができる。アルミナ水和物は組成や結晶形態の違いにより、ジプサイト、バイアライト、ノルストランダイト、ベーマイト、ベーマイトゲル（擬ベーマイト）、ジアスポア、無定形非晶質等に分類される。中でも、上記の式中、ｎの値が１である場合はベーマイト構造のアルミナ水和物を表し、ｎが１を超え３未満である場合は擬ベーマイト構造のアルミナ水和物を表し、ｎが３以上では非晶質構造のアルミナ水和物を表す。特に、本発明に好ましいアルミナ水和物は、少なくともｎが１を超え３未満の擬ベーマイト構造のアルミナ水和物である。
【００２１】
又、本発明のアルミナ水和物の液中への分散には種々の酸類を分散剤として添加しても構わない。このような酸類としては、硝酸、塩酸、臭化水素酸、酢酸、ギ酸、乳酸、アミド硫酸等が挙げられる。又、その他の分散剤として、塩化第二鉄、塩化アルミニウム、水溶性ポリ水酸化アルミニウム等を添加しても構わない。
【００２２】
本発明に用いられるアルミナ水和物の形状は、平板状、繊維状、針状、球状、棒状等のいずれでも良く、インク吸収性の観点から好ましい形状は平板状である。平板状のアルミナ水和物は、平均アスペクト比３〜８であり、好ましくは平均アスペクト比が３〜６である。アスペクト比は、粒子の「厚さ」に対する「直径」の比で表される。ここで粒子の直径とは、アルミナ水和物を電子顕微鏡で観察したときの粒子の投影面積に等しい円の直径を表す。
【００２３】
本発明に用いられるアルミナ水和物は、アルミニウムイソプロポキシド等のアルミニウムアルコキシドの加水分解、アルミニウム塩のアルカリによる中和、アルミン酸塩の加水分解等公知の方法によって製造することができる。又、アルミナ水和物の粒子径、細孔径、細孔容積、比表面積等の物性は、析出温度、熟成温度、熟成時間、液のｐＨ、液の濃度、共存化合物等の条件によって制御することができる。
【００２４】
アルコキシドからアルミナ水和物を得る方法としては、特開昭５７−８８０７４号公報、特開昭６２−５６３２１号公報、特開平４−２７５９１７号公報、特開平６−６４９１８号公報、特開平７−１０５３５号公報、特開平７−２６７６３３号公報等、米国特許第２，６５６，３２１号公報等に開示されている。これらのアルミニウムアルコキシドとしてはイソプロポキシド、２−ブトキシド等が挙げられる。
【００２５】
本発明のアルミナ水和物の比表面積は５０〜３００ｍ２／ｇが好ましい。更に好ましい比表面積としては１００〜２００ｍ２／ｇである。
【００２６】
本発明でいう比表面積はＢＥＴ法により測定される。ＢＥＴ法とは、気相吸着法による粉体の表面積測定法の一つであり、吸着等温線から１ｇの試料の持つ総表面積、即ち比表面積を求める方法である。通常吸着気体としては、窒素ガスが多く用いられ、吸着量を被吸着気体の圧、又は容積の変化から測定する方法が最も多く用いられている。多分子吸着の等温線を表すのに最も著名なものは、Ｂｒｕｎａｕｅｒ、Ｅｍｍｅｔｔ、Ｔｅｌｌｅｒの式であってＢＥＴ式と呼ばれ表面積決定に広く用いられている。ＢＥＴ式に基づいて吸着量を求め、吸着分子１個が表面で占める面積を掛けて、表面積が得られる。
【００２７】
本発明の光沢発現層はコア部に紫外線吸収剤を含有せしめたコアシェル構造を有するポリマー微粒子を主体とする。主体となるポリマー微粒子の含有比率としては光沢発現層の固形分成分の５０質量％以上である。
【００２８】
本発明でポリマー微粒子のコア部に含有される紫外線吸収剤は一般的な紫外線吸収剤であれば特に限定されるものではない。紫外線吸収剤として作用する骨格としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸系、シアノアクリレート系、トリアジン系等を挙げることができ、好ましくは、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系である。例えば、以下の通り例示することができる。
【００２９】
ベンゾフェノン系としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニル）メタン、２−ヒドロキシ−４−アクリロイルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メタクロイルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−メタクロイルオキシ）エトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−メチル−２−アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００３０】
ベンゾトリアゾール系としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２′−メチレンビス（４−ｔ−オクチル−６−ベンゾトリアゾール）フェノール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−アミノフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタイルイミドメチル）−５′−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（アクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−メチル−５′−（アクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（アクリロイルオキシエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−メチル−５′−（アクリロイルオキシエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（アクリロイルオキシブチル）フェニル］−５−メチルベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−カルボキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（アクリロイルオキシブチル）フェニル］−５−メチルベンゾトリアゾール、［２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−（アクリロイルオキシエトキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００３１】
サリチル酸系としては、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート等が挙げられる。
【００３２】
シアノアクリレート系としては、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３′−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３，３′−ジフェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等が挙げられる。
【００３３】
トリアジン系としては、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−ｓ−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシ−５−メチルフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。
【００３４】
上記の紫外線吸収剤は親水性に乏しいため、親水性樹脂からなるシェルにて紫外線吸収剤含有のコアを内包することで、紫外線吸収剤成分を親水性の光沢発現層塗布液中に均一に分散することが可能となる。これにより光沢発現層の紫外線吸収剤成分を上塗り層上に均一に形成することが可能となり、光沢発現層全面で均一な画像耐光性を得ることが可能となる。
【００３５】
又、シェル部は親水性の樹脂であれば特に限定されるものではないが、透明性、造膜性、安全性やガラス転移点温度、粒子径、分子量制御等の品質設計の点から、親水性化したアクリル樹脂が好ましく用いられる。
【００３６】
又、光沢発現層に用いられる前記ポリマー微粒子のガラス転移点温度は４０℃以上であることが好ましい。ガラス転移点温度が４０℃未満であると光沢発現層の塗布乾燥時にポリマー微粒子の造膜性が必要以上に高まることがあり、光沢発現層の細孔が小さくなりすぎることがありインク吸収性に悪影響を与えることがある。好ましいガラス転移点温度範囲としては４０℃〜２００℃の範囲である。
【００３７】
又、光沢発現層に用いられる前記ポリマー微粒子の平均一次粒子径は１０〜２００ｎｍであることが好ましい。この平均一次粒子径が１０ｎｍ未満であると光沢発現層の細孔が小さくなりすぎることがあり、インク吸収性に悪影響を与えることがある。又、２００ｎｍを超えた場合には光沢発現層の白紙光沢発現効果に悪影響を与えることがある。この平均一次粒子径の好ましい範囲としては２０〜１２０ｎｍである。
【００３８】
本発明はコア部に紫外線吸収剤を含有せしめたコアシェル構造を有するポリマー微粒子を光沢発現層に用い、紫外線吸収剤成分の分布を均一化させることで優れた画像耐光性を達成した。又、ポリマー微粒子のガラス転移点温度と平均一次粒子径を制御することで高い白紙光沢とインク吸収性を両立させることが可能である。
【００３９】
更に、これらの効果をより高めるために、下塗り層のホウ素化合物と上塗り層のポリビニルアルコールの架橋反応にて、表面亀裂のない上塗り層上に光沢発現層を塗布せしめ、ポリマー微粒子の上塗り層内への落ち込みを抑制することで、より優れた画像耐光性の獲得が可能である。
【００４０】
以上のように、本発明において紫外線吸収剤を含有する光沢発現層を最上層に塗布することによって、光沢発現層含有の紫外線吸収剤が極めて有効に機能することで優れた画像耐光性が得られるとともに白紙光沢、インク発色性、インク吸収性が優れたレベルで獲得可能である。
【００４１】
又、本発明の光沢発現層の塗布量は０．５〜５ｇ／ｍ２の範囲であることが好ましい。０．５ｇ／ｍ２未満であると、紫外線吸収剤の減少により画像耐光性が充分に得られないことがあり、５ｇ／ｍ２を超えた場合にはインク吸収性に悪影響を与える場合がある。より好ましい範囲は０．５〜２ｇ／ｍ２の範囲である。
【００４２】
以下に本発明に係わるインクジェット記録材料について、更に詳しく説明する。
【００４３】
本発明のインクジェット記録材料とは、吸収性支持体上の少なくとも片面に、下塗り層、上塗り層、光沢発現層が塗布されているものである。
【００４４】
本発明に用いる支持体は吸収性の支持体であれば特に限定されるものではないが、ＬＢＫＰ、ＮＢＫＰ等の化学パルプ、ＧＰ、ＰＧＷ、ＲＭＰ、ＴＭＰ、ＣＴＭＰ、ＣＭＰ、ＣＧＰ等の機械パルプ、ＤＩＰ等の古紙パルプ等の木材パルプと従来公知の顔料を主成分として、バインダー及びサイズ剤や定着剤、歩留まり向上剤、カチオン化剤、紙力増強剤等の各種添加剤を１種以上用いて混合し、長網抄紙機、円網抄紙機、ツインワイヤー抄紙機等の各種装置で製造された支持体が好ましく用いられる。更に支持体に、澱粉、ポリビニルアルコール等でのサイズプレスやアンカーコート層を設けても構わない。このような紙にそのまま本発明における塗層を設けても良いし、平坦化をコントロールする目的で、マシンカレンダー、ＴＧカレンダー、ソフトカレンダー等のカレンダー装置を使用しても良い。
【００４５】
本発明において、下塗り層、上塗り層、光沢発現層には、無機微粒子、バインダーの他に添加剤として、染料定着剤、顔料分散剤、増粘剤、流動性改良剤、粘度安定剤、ｐＨ調整剤、界面活性剤、消泡剤、抑泡剤、離型剤、発泡剤、浸透剤、着色染料、着色顔料、蛍光増白剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、防腐剤、防バイ剤、耐水化剤、湿潤紙力増強剤、乾燥紙力増強剤等を適宜配合することもできる。
【００４６】
本発明の下塗り層には、０．２ｇ／ｍ２以上のホウ素化合物を含有するが、その他に無機微粒子やバインダー等を適宜添加しても構わない。
【００４７】
本発明に用いられる無機微粒子としては、例えば、湿式合成シリカ、コロイダルシリカ、気相法シリカ、アルミナ水和物、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、カオリン、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、酸化スズゾル、酸化ニオブゾル、酸化セリウムゾル、酸化ランタンゾル、酸化ネオジミュームゾル、酸化イットリウムゾル、コロイダルアルミナ、擬ベーマイト、水酸化アルミニウム、アルミナ、リトポン、ゼオライト、加水ハロイサイト、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム等の公知の白色無機顔料や無機ゾル等を代表的なものとして挙げることができ、これらの無機微粒子の平均二次粒子径は１００μｍ以下のものが好ましく用いられる。又、前述した平均二次粒子径が５００ｎｍ以下の無機超微粒子も無機微粒子に含まれる。
【００４８】
下塗り層に無機微粒子を適用する場合としてはインク吸収性の点から湿式合成シリカを好ましく用いることができる。下塗り層に無機微粒子を適用する場合の配合量としては、下塗り層の総和に対して９０質量％以下、好ましくは４０〜８０質量％である。
【００４９】
湿式合成シリカは、製造方法によって沈降法シリカ、ゲル法シリカ、ゾル法シリカ等に分類される。沈降法シリカは珪酸ソーダと硫酸をアルカリ条件で反応させて製造され、粒子成長したシリカ粒子が凝集・沈降し、その後濾過、水洗、乾燥、粉砕・分級の行程を経て製品化される。この方法で製造されたシリカ二次粒子は緩やかな凝集粒子となり、比較的粉砕しやすい粒子が得られる。沈降法シリカとしては、例えば東ソー・シリカ株式会社からニップシールとして、株式会社トクヤマからトクシールとして市販されている。ゲル法シリカは珪酸ソーダと硫酸を酸性条件下で反応させて製造する。この場合、熟成中に小さなシリカ粒子が溶解し、大きな粒子の一次粒子間に一次粒子どうしを結合するように再析出するため、明確な一次粒子は消失し、内部空隙構造を有する比較的硬い凝集粒子を形成する。例えば、水澤化学工業株式会社からミズカシルとして、グレースジャパン株式会社からサイロジェットとして市販されている。ゾル法シリカは、コロイダルシリカとも呼ばれ、珪酸ソーダの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通して得られるシリカゾルを加熱熟成して得られ、例えば日産化学工業株式会社からスノーテックスとして市販されている。又、その他の方法として、アルコキシド加水分解法等により、コロイダルシリカを得る方法もある。
【００５０】
本発明に用いられるバインダーとしては、例えば、酸化澱粉、エーテル化澱粉、りん酸エステル化澱粉等の澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース誘導体、カゼイン、ゼラチン、大豆蛋白、プルラン、アラビアゴム、カラヤゴム、アルブミン等の天然高分子樹脂又はその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミン、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、無水マレイン酸樹脂やスチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体等の共役ジエン系共重合体ラテックス、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルの重合体又は共重合体等のアクリル系共重合体ラテックス、エチレン酢酸ビニル共重合体等のビニル系共重合体ラテックス、或いはこれらの各種共重合体のカルボキシ基等の官能基含有単量体による官能基変性共重合体ラテックス、メラミン樹脂、尿素樹脂等の熱硬化合成樹脂等の親水性バインダー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル酸エステル、メタクリル酸エステルの重合体又は共重合体樹脂、ポリウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール、アルキッド樹脂ラテックス等が挙げられ、これらを１種以上使用できるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５１】
本発明の下塗り層に無機微粒子を使用する際に必要なバインダーの配合量は、無機微粒子の総和に対して１０〜１００質量％、好ましくは２０〜７０質量％である。
【００５２】
次いで以下に本発明に係わる上塗り層について説明する。
【００５３】
本発明の上塗り層に用いられる顔料としては、請求項記載のアルミナ水和物が主体顔料となるが、その他の顔料として、好適な種々の無機微粒子を、インク吸収性、インク発色性、白紙光沢をコントロールする等の目的で適宜選択し、使用しても構わない。
【００５４】
これらの無機微粒子として、例えばインク吸収性向上を目的として、気相法シリカを表面亀裂やインク発色性に悪影響を与えない範囲で使用しても良い。
【００５５】
気相法シリカは、火炎加水分解法により製造される乾式法シリカの１種であり、乾式シリカとしては気相法シリカが一般的である。具体的には四塩化ケイ素を水素及び酸素と共に燃焼して作る方法が一般的に知られており、日本アエロジル（株）からアエロジル、トクヤマ（株）からレオロシールとして市販されている。
【００５６】
気相法シリカの平均一次粒子径は５〜３０ｎｍ、ＢＥＴ法による比表面積は８０〜４００ｍ２／ｇのものが好ましく用いられる。
【００５７】
又、シリカは通常、アニオン性であるので、カチオンポリマー存在下で水中に分散することが好ましい。カチオンポリマーは特に限定するものではないが、第１〜３級アミノ基や第４級アンモニウム基を分子中に有する、分子量が数万以下のポリアリルアミンやポリジメチルジアリルアンモニウム塩ポリマー等が好ましく用いられる。更に、平均粒子径や粒度分布をコントロールする目的で、シリカ分散液をビーズミル等の各種メディアミルや、高圧ホモジナイザー等の圧力式分散機や、超音波分散機、薄膜施回型分散機等を用いた処理を行っても構わない。
【００５８】
本発明の上塗り層にはポリビニルアルコールと共に、架橋剤（硬膜剤）を用いても構わない。架橋剤の具体的な例としては、ホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドの如きアルデヒド系化合物、ジアセチル、クロルペンタンジオンの如きケトン化合物、ビス（２−クロロエチル尿素）−２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン、米国特許第３，２８８，７７５号明細書記載の如き反応性のハロゲンを有する化合物、ジビニルスルホン、米国特許第３，６３５，７１８号明細書記載の如き反応性のオレフィンを持つ化合物、米国特許第２，７３２，３１６号明細書記載の如きＮ−メチロール化合物、米国特許第３，１０３，４３７号明細書記載の如きイソシアナート類、米国特許第３，０１７，２８０号明細書、米国特許２，９８３，６１１号明細書記載の如きアジリジン化合物類、米国特許第３，１００，７０４号明細書記載の如きカルボジイミド系化合物類、米国特許第３，０９１，５３７号明細書記載の如きエポキシ化合物、ムコクロル酸の如きハロゲンカルボキシアルデヒド類、ジヒドロキシジオキサンの如きジオキサン誘導体、クロム明ばん、硫酸ジルコニウム、ホウ酸及びホウ酸塩の如き無機架橋剤等があり、これらを１種又は２種以上組み合わせて用いることができる。これらの中でも、特にホウ酸又はホウ酸塩が好ましい。
【００５９】
本発明には染料インクに対する画像保存性を向上させる目的等でカチオン性化合物や各種水溶性金属化合物を適宜添加しても構わない。カチオン性ポリマーとしては、ポリエチレンイミン、ポリジアリルアミン、ポリアリルアミン、アルキルアミン重合物、特開昭５９−２０６９６号公報、特開昭５９−３３１７６号公報、特開昭５９−３３１７７号公報、特開昭５９−１５５０８８号公報、特開昭６０−１１３８９号公報、特開昭６０−４９９９０号公報、特開昭６０−８３８８２号公報、特開昭６０−１０９８９４号公報、特開昭６２−１９８４９３号公報、特開昭６３−４９４７８号公報、特開昭６３−１１５７８０号公報、特開昭６３−２８０６８１号公報、特開平１−４０３７１号公報、特開平６−２３４２６８号公報、特開平７−１２５４１１号公報、特開平１０−１９３７７６号公報等に記載された１〜３級アミノ基、４級アンモニウム塩基を有するポリマーが好ましく用いられる。これらのカチオンポリマーの分子量は１０，０００以下が好ましい。
【００６０】
これらのカチオン性ポリマーの使用量は無機微粒子に対して０．５〜２０質量％、好ましくは０．５〜１０質量％である。
【００６１】
上記の水溶性金属化合物としては、例えば水溶性の多価金属塩が挙げられる。カルシウム、バリウム、マンガン、銅、コバルト、ニッケル、アルミニウム、鉄、亜鉛、ジルコニウム、クロム、マグネシウム、タングステン、モリブデンから選ばれる金属の水溶性塩が挙げられる。具体的には例えば、酢酸カルシウム、塩化カルシウム、ギ酸カルシウム、酢酸バリウム、りん酸バリウム、塩化マンガン、酢酸マンガン、ギ酸マンガン二水和物、硫酸マンガンアンモニウム六水和物、塩化第二銅、塩化アンモニウム銅（II）二水和物、硫酸銅、塩化コバルト、チオシアン酸コバルト、硫酸コバルト、硫酸ニッケル六水和物、塩化ニッケル六水和物、酢酸ニッケル四水和物、硫酸ニッケルアンモニウム六水和物、アミド硫酸ニッケル四水和物、硫酸アルミニウム、亜硫酸アルミニウム、チオ硫酸アルミニウム、ポリ水酸化アルミニウム、硝酸アルミニウム九水和物、塩化アルミニウム六水和物、臭化第一鉄、塩化第一鉄、塩化第二鉄、硫酸第一鉄、硫酸第二鉄、臭化亜鉛、塩化亜鉛、硝酸亜鉛六水和物、硫酸亜鉛、酢酸ジルコニウム、塩化ジルコニウム、塩化酸化ジルコニウム八水和物、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、酢酸クロム、硫酸クロム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム六水和物、クエン酸マグネシウム九水和物、りんタングステン酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムタングステン、１２タングストりん酸ｎ水和物、１２タングスト珪酸２６水和物、塩化モリブデン、１２モリブドりん酸ｎ水和物等が挙げられ、中でも各種塩基度のポリ水酸化アルミニウムが好ましく用いられる。
【００６２】
次いで以下に本発明に係わる光沢発現層について説明する。
【００６３】
又、光沢発現層には本発明のコアシェル構造を有するポリマー微粒子以外の顔料として、コロイダルアルミナ、或いはコロイダルシリカ等が挙げられる。又、それ以外のものとしては、チタニアゾル（多木化学株式会社）、セリアチタニアゾル（触媒化成工業株式会社）、酸化アンチモンゾル（日産化学工業株式会社）、酸化セリウムゾル（多木化学株式会社）、酸化スズゾル（多木化学株式会社）、酸化ニオブゾル（多木化学株式会社）、酸化イットリウムゾル（多木化学株式会社）、酸化ランタンゾル（多木化学株式会社）、酸化ジルコニウムゾル（多木化学株式会社）等の無機ゾルが挙げられる。平均一次粒子径範囲としては１０〜１２０ｎｍの範囲のものが、白紙光沢発現性やインク吸収性、インク発色性の点から好ましく用いられる。
【００６４】
又、スチレン、アクリル、メタクリル等の有機ポリマーを主成分としたエマルジョン粒子やそれらの有機ポリマーを小さなコロイダルシリカ粒子で表面処理を行ったシリカ複合エマルジョン等のコロイド粒子が挙げられる。有機ポリマーを主成分としたエマルジョン粒子を用いる場合には、光沢発現層の塗布・乾燥時に溶融成膜しないようにＴｇが４０℃以上であるものが好ましく用いられる。平均一次粒子径範囲としては１０〜１２０ｎｍの範囲のものが、白紙光沢発現性やインク吸収性、インク発色性の点から好ましく用いられる。これらのものとしては、例えば、ニチゴー・モビニール株式会社製モビニール７９０、モビニール９７２、モビニール８０５５Ａ等の各種エマルジョンを適宜用いることも可能である。
【００６５】
本発明において、下塗り層、上塗り層及び光沢発現層は、支持体上に下塗り層、次いで上塗り層、次いで光沢発現層の塗液を順次塗布、乾燥して設ける。
【００６６】
本発明において、下塗り層、上塗り層及び光沢発現層を設ける際に、塗布する方法は特に限定されず、公知の塗布方法を用いることができる。例えば、エアーナイフコーター、カーテンコーター、スライドリップコーター、ダイコーター、ブレードコーター、ゲートロールコーター、バーコーター、ロッドコーター、ロールコーター、ビルブレードコーター、ショートドエルブレードコーター、サイズプレス等の各種装置により塗布することができる。
【００６７】
本発明において、塗液塗布後に乾燥する方法は特に限定されず、公知の乾燥方法を用いることができるが、特に熱風を吹きつける方法、赤外線を照射する方法等、加熱により乾燥する方法は、生産性が良く好ましく用いられる。
【００６８】
本発明において、下塗り層、上塗り層及び光沢発現層を塗布、乾燥後に白紙光沢や平滑性を更に向上させる目的で、カレンダー処理を行っても構わない。その際のカレンダー処理装置としては、グロスカレンダー、スーパーカレンダー、ソフトカレンダー等が挙げられる。又、公知のキャストコート法を用いて光沢面を形成することができる。
【実施例】
【００６９】
以下に本発明について、実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。又、実施例において示す「部」及び「％」は特に明示しない限り固形分の質量部及び質量％を示す。
【００７０】
＜支持体の作製＞
広葉樹晒クラフトパルプ（ＬＢＫＰ、濾水度３７０ｍｌｃｓｆ）８０部と針葉樹晒クラフトパルプ（ＮＢＫＰ、濾水度４００ｍｌｃｓｆ）２０部、タルク１３部、硫酸バンド３部、市販ロジンサイズ剤０．２部、カチオン澱粉０．３部を水に混合してなる固形分濃度１％のスラリーから、長網抄紙機にて坪量１００ｇ／ｍ２の原紙を抄造し、抄造時にサイズプレス装置で酸化澱粉を固形分で２ｇ／ｍ２付着させて支持体を製造した。
【００７１】
＜下塗り層塗布液１の調製＞
ホウ砂（四ホウ酸ナトリウム・十水和物）６部、ホウ酸（オルトホウ酸）６部、コロイダルシリカ（スノーテックス４０：日産化学工業社製）３０部及び湿式合成シリカ（ミズカシルＰ−７８Ａ：水澤化学工業株式会社製）１００部を固形分濃度２１％となるように水に分散して分散液を得た。その分散液にウレタンエマルジョンバインダー（ハイドランＷＬＳ２０７：ＤＩＣ株式会社製）を５０部、増粘剤（アルコガムＬ２８９ＨＶ：日本エヌエスシー株式会社）１部を添加し、固形分２２％になるように塗布液濃度を調節し、下塗り層塗布液１を得た。
【００７２】
＜下塗り層塗布液２の調製＞
ホウ砂（四ホウ酸ナトリウム・十水和物）２部、ホウ酸（オルトホウ酸）２部、コロイダルシリカ（スノーテックス４０：日産化学工業社製）３０部及び湿式合成シリカ（ミズカシルＰ−７８Ａ：水澤化学工業株式会社製）１００部を固形分濃度２１％となるように水に分散して分散液を得た。その分散液にウレタンエマルジョンバインダー（ハイドランＷＬＳ２０７：ＤＩＣ株式会社製）を５０部、増粘剤（アルコガムＬ２８９ＨＶ：日本エヌエスシー株式会社）１部を添加し、固形分２２％になるように塗布液濃度を調節し、下塗り層塗布液２を得た。
【００７３】
＜下塗り層塗布液３の調製＞
コロイダルシリカ（スノーテックス４０：日産化学工業社製）３０部及び湿式合成シリカ（ミズカシルＰ−７８Ａ：水澤化学工業株式会社製）１００部を固形分濃度２１％となるように水に分散して分散液を得た。その分散液にウレタンエマルジョンバインダー（ハイドランＷＬＳ２０７：ＤＩＣ株式会社製）５０部、増粘剤（アルコガムＬ２８９ＨＶ：日本エヌエスシー株式会社）１部を添加し、固形分２２％になるように塗布液濃度を調節し、下塗り層塗布液３を得た。
【００７４】
＜下塗り層塗布液４の調製＞
ホウ砂（四ホウ酸ナトリウム・十水和物）６部、ホウ酸（オルトホウ酸）６部、コロイダルシリカ（スノーテックス４０：日産化学工業社製）３０部及び湿式合成シリカ（ミズカシルＰ−７８Ａ：水澤化学工業株式会社製）１００部を固形分濃度２１％となるように水に分散して分散液を得た。その分散液にウレタンエマルジョンバインダー（ハイドランＷＬＳ２０７：ＤＩＣ株式会社製）５０部、増粘剤（アルコガムＬ２８９ＨＶ：日本エヌエスシー株式会社）１部、平均一次粒子径１１０ｎｍ、ガラス転移点温度４５℃でコア部にベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤を含有したコアシェル構造ポリマー微粒子（ＳＥ−２５３８Ｅ：大成ファインケミカル社製）１２部を添加し、固形分２２％になるように塗布液濃度を調節し、下塗り層塗布液４を得た。
【００７５】
＜上塗り層塗布液１の調製＞
アミド硫酸１．５部を分散剤とし、アルミナ水和物（ＤＩＳＰＥＲＡＬ  ＨＰ１４：サソールジャパン株式会社）１００部を固形分濃度２８％となるように水に分散して分散液を得た。その分散液に固形分濃度８％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ２３５：株式会社クラレ）を８部、ホウ酸（オルトホウ酸）を０．２部添加し、固形分２０％になるように塗布液濃度を調節し、上塗り層塗布液１を得た。
【００７６】
＜光沢発現層塗布液１の調製＞
平均一次粒子径１１０ｎｍ、ガラス転移点温度４５℃でコア部にベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤を含有したコアシェル構造ポリマー微粒子（ＳＥ−２５３８Ｅ：大成ファインケミカル社製）に水を添加し、固形分１．５％となるように塗布液濃度を調節し、光沢発現層塗布液１を得た。
【００７７】
＜光沢発現層塗布液２の調製＞
固形分を５％とする以外は、光沢発現層塗布液１と同様にし、光沢発現層塗布液２を得た。
【００７８】
＜光沢発現層塗布液３の調製＞
平均一次粒子径８５ｎｍのコロイダルシリカ（スノーテックスＺＬ：日産化学工業株式会社）に水を添加し、固形分５％となるように塗布液濃度を調節し、光沢発現層塗布液３を得た。
【００７９】
（実施例１）
支持体上に下塗り層塗布液１をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１０ｇ／ｍ２となるように塗布、乾燥し、ホウ素化合物量が０．６ｇ／ｍ２の下塗り層を設けた。次に下塗り層上に上塗り層塗布液１をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１５ｇ／ｍ２となるよう塗布、乾燥し、上塗り層を設けた。次に光沢発現層塗布液１をエアーナイフコーターで０．５ｇ／ｍ２となるよう塗布、乾燥し、光沢発現層を設けた。次に線圧１００ｋＮ／ｍ、速度２００ｍ／ｍｉｎの条件で光沢発現層面が金属ロール面に２回当たるようにソフトカレンダー処理を行い、実施例１のインクジェット記録材料を得た。
【００８０】
（実施例２）
支持体上に下塗り層塗布液１をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１０ｇ／ｍ２となるように塗布、乾燥し、ホウ素化合物量が０．６ｇ／ｍ２の下塗り層を設けた。次に下塗り層上に上塗り層塗布液１をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１５ｇ／ｍ２となるよう塗布、乾燥し、上塗り層を設けた。次に光沢発現層塗布液２をエアーナイフコーターで１．５ｇ／ｍ２となるよう塗布、乾燥し、光沢発現層を設けた。次に線圧１００ｋＮ／ｍ、速度２００ｍ／ｍｉｎの条件で光沢発現層面が金属ロール面に２回当たるようにソフトカレンダー処理を行い、実施例２のインクジェット記録材料を得た。
【００８１】
（実施例３）
支持体上に下塗り層塗布液２をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１０ｇ／ｍ２となるように塗布、乾燥し、ホウ素化合物量が０．２ｇ／ｍ２の下塗り層を設けた。次に下塗り層上に上塗り層塗布液１をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１５ｇ／ｍ２となるよう塗布、乾燥し、上塗り層を設けた。次に光沢発現層塗布液２をエアーナイフコーターで１．５ｇ／ｍ２となるよう塗布、乾燥し、光沢発現層を設けた。次に線圧１００ｋＮ／ｍ、速度２００ｍ／ｍｉｎの条件で光沢発現層面が金属ロール面に２回当たるようにソフトカレンダー処理を行い、実施例３のインクジェット記録材料を得た。
【００８２】
（比較例１）
支持体上に下塗り層塗布液３をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１０ｇ／ｍ２となるように塗布、乾燥し、ホウ素化合物量が０ｇ／ｍ２の下塗り層を設けた。次に下塗り層上に上塗り層塗布液１をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１５ｇ／ｍ２となるよう塗布、乾燥し、上塗り層を設けた。次に光沢発現層塗布液２をエアーナイフコーターで１．５ｇ／ｍ２となるよう塗布、乾燥し、光沢発現層を設けた。次に線圧１００ｋＮ／ｍ、速度２００ｍ／ｍｉｎの条件で光沢発現層面が金属ロール面に２回当たるようにソフトカレンダー処理を行い、比較例１のインクジェット記録材料を得た。
【００８３】
（比較例２）
支持体上に下塗り層塗布液２をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１０ｇ／ｍ２となるように塗布、乾燥し、ホウ素化合物量が０．２ｇ／ｍ２の下塗り層を設けた。次に下塗り層上に上塗り層塗布液１をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１５ｇ／ｍ２となるよう塗布、乾燥し、上塗り層を設けた。次に線圧１００ｋＮ／ｍ、速度２００ｍ／ｍｉｎの条件で上塗り層面が金属ロール面に２回当たるようにソフトカレンダー処理を行い、比較例２のインクジェット記録材料を得た。
【００８４】
（比較例３）
支持体上に下塗り層塗布液４をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１０ｇ／ｍ２となるように塗布、乾燥し、ホウ素化合物量が０．６ｇ／ｍ２の下塗り層を設けた。次に下塗り層上に上塗り層塗布液１をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１５ｇ／ｍ２となるよう塗布、乾燥し、上塗り層を設けた。次に線圧１００ｋＮ／ｍ、速度２００ｍ／ｍｉｎの条件で上塗り層面が金属ロール面に２回当たるようにソフトカレンダー処理を行い、比較例３のインクジェット記録材料を得た。
【００８５】
（比較例４）
支持体上に下塗り層塗布液１をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１０ｇ／ｍ２となるように塗布、乾燥し、ホウ素化合物量が０．６ｇ／ｍ２の下塗り層を設けた。次に下塗り層上に上塗り層塗布液１をエアーナイフコーターにて固形分塗布量１５ｇ／ｍ２となるよう塗布、乾燥し、上塗り層を設けた。次に光沢発現層塗布液３をエアーナイフコーターで１．５ｇ／ｍ２となるよう塗布、乾燥し、光沢発現層を設けた。次に線圧１００ｋＮ／ｍ、速度２００ｍ／ｍｉｎの条件で光沢発現層面が金属ロール面に２回当たるようにソフトカレンダー処理を行い、比較例４のインクジェット記録材料を得た。
【００８６】
以上のようにして、作製した実施例及び比較例のインクジェット記録材料について、下記の試験を行った。その結果を表１に示す。
【００８７】
＜白紙光沢＞
白紙光沢は、ＪＩＳ−Ｚ８７４１に準じて７５度鏡面光沢度（％）の測定を行った。
【００８８】
＜インク吸収性＞
セイコーエプソン（株）製「ＰＭ−Ｇ８２０（プリンタ設定：用紙種類＝ＥＰＳＯＮ写真用紙、印刷品質＝フォト、双方向印刷＝オン、カラー設定＝色補正なし）」を用いて画像を印刷し、インク吸収性について下記の基準で、総合的に評価を行った。尚、評価に用いた画像は黒、シアン、マゼンタ、イエロー、ブルー、レッド、グリーン各色のベタ印刷字及びその中に白抜き文字を設けたパターンからなる。
◎：倍率２５倍の顕微鏡観察で各色のベタ印刷部境界や白抜き文字部に滲みが観察され
ず問題なし。
○：倍率２５倍の顕微鏡観察で各色のベタ印刷部境界や白抜き文字部に僅かに滲みが観
察されるが実使用上問題なし。
△：目視観察で各色のベタ印刷部境界や白抜き文字部に僅かに滲みがあり実使用困難。
×：目視観察で各色のベタ印刷部境界や白抜き文字部に明確な滲みがあり実使用不可。
【００８９】
＜インク発色性＞
セイコーエプソン（株）製「ＰＭ−Ｇ８２０（プリンタ設定：用紙種類＝ＥＰＳＯＮ写真用紙、印刷品質＝フォト、双方向印刷＝オン、カラー設定＝色補正なし）」を用いて、シアン、マゼンタ、イエロー、ブラック各色のベタ印刷を行い、光学濃度をマクベス反射濃度計で測定し、各色の光学濃度の合計値を示した。数値が大きい方が、インク発色性が良いことを意味する。
【００９０】
＜表面亀裂観察＞
インク受理層表面のひび割れの有無は、作製したインクジェット記録材料の表面を倍率１００倍の顕微鏡観察により下記の基準で評価を行った。
◎：表面亀裂が観察されず問題なし。
○：大きさが小さく区画化されていない表面亀裂が僅かに観察されるが、実用上問題な
いレベル。
△：区画化された表面亀裂が散見されており、実使用困難レベル。
×：区画化された表面亀裂で全面が覆われており、実使用不可レベル。
【００９１】
＜画像耐光性＞
セイコーエプソン（株）製「ＰＭ−Ｇ８２０（プリンタ設定：用紙種類＝ＥＰＳＯＮ写真用紙、印刷品質＝フォト、双方向印刷＝オン、カラー設定＝色補正なし）」を用いて、シアン、マゼンタ、イエロー、ブラック各色を光学濃度（観測光源＝Ｄ５０、観測視野＝２°）が１．０となるように調整しベタ印刷を行い、２４時間放置乾燥した。その後、耐光性試験装置（ＡＴＬＡＳ  Ｃｉ４０００：Ｘｅｎｏｎ  Ｗｅａｔｈｅｒ−Ｏｍｅｔｅｒ：ブラックパネル＝６３℃、層内温度＝４０℃、層内湿度＝５５％、放射照度＝０．３９Ｗ／ｍ２、処理時間＝１２０時間）にて、印刷物の処理を行い各色の光学濃度残存率を計測算出し、最も低い残存率をそのインクジェット記録材料の代表値とした。尚、残存率代表値が大きければ画像耐光性は良好で、低ければ劣悪と判断できる。
【００９２】
【表１】
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【００９３】
表１の結果から明らかなように本発明の実施例１〜３のインクジェット記録材料は白紙光沢、インク吸収性、インク発色性に優れ、特に画像耐光性に優れたインクジェット記録材料であることがわかる。
【００９４】
比較例１は下塗り層にホウ素化合物が含有されていないため、著しい表面亀裂が発生している。このため白紙光沢が著しく低下するとともに、発生した亀裂内に光沢発現層中の紫外線吸収剤が落ち込んだために画像耐光性向上効果が殆ど得られなかった。
【００９５】
比較例２は光沢発現層が塗布されておらず、白紙光沢が充分でない上に画像耐光性も不充分であった。
【００９６】
比較例３は下塗り層に紫外線吸収剤成分が含有されており、塗布された紫外線吸収材料は実施例１とほぼ同等量ではあるのだが、紫外線吸収剤が最上層に分布していないために画像耐光性向上効果に乏しいものであった。
【００９７】
比較例４は光沢発現層がコロイダルシリカであり、白紙光沢やインク発色性は充分であるのだが、画像耐光性が不充分であり、ややインク吸収性にも乏しいものであった。