(57)【要約】【課題】撹拌不良を防ぐことができる自動分析装置の提供。【解決手段】反応容器６２は、サンプルと試薬とが分注される。反応ディスク６１は、反応容器６２を撹拌位置に移動させる。撮影機１０８は、反応容器６２の内底面を含む撮影領域ＦＲを撮影し、撮影領域ＦＲに関する画像のデータを生成する。画像処理部１１０は、生成された画像を画像処理して、撹拌位置に移動された反応容器６２の内底面の位置を特定する。【選択図】      図３
2010281600.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルと試薬とが吐出される反応容器と、
前記反応容器を所定位置に移動させる反応ディスクと、
前記所定位置に移動された反応容器の内底面の位置を特定する特定部と、
を具備する自動分析装置。
【請求項２】
前記反応容器に吐出された前記サンプルと前記試薬とを撹拌するための撹拌子と、
前記撹拌子を上下動可能に支持する支持機構と、
前記内底面の位置に基づいて前記下降開始位置から前記反応容器内への前記撹拌子の下降量を決定し、前記決定された下降量に従って前記撹拌子を下降させる制御部と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１記載の自動分析装置。
【請求項３】
前記所定位置に前記反応容器が停止された場合に、前記内底面を含む撮影領域を撮影し、画像のデータを生成する撮影部をさらに備え、
前記特定部は、前記生成された画像のデータを画像処理して、前記内底面の位置を特定する、
ことを特徴とする請求項２記載の自動分析装置。
【請求項４】
前記内底面を含む照射領域に向けて光を発生する光源と、
前記光源から発生され前記照射領域を透過した光を検出し、前記検出された光の強度に応じた強度を有する検出信号を生成する検出器と、をさらに備え、
前記特定部は、前記生成された検出信号に基づいて前記内底面の位置を特定する、
ことを特徴とする請求項２記載の自動分析装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記試薬の液量、前記試薬の種類、又は前記サンプルの測定項目に応じて前記下降量を制御する、ことを特徴とする請求項２記載の自動分析装置。
【請求項６】
前記反応容器に吐出された前記サンプルと前記試薬とを撹拌するための撹拌子と、
前記撹拌子を上下動可能に支持する支持機構と、
前記内底面の位置と前記撹拌子の先端の位置との間の距離に従って前記撹拌子を下降又は停止させる制御部と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１記載の自動分析装置。
【請求項７】
前記撹拌子が前記反応容器内へ下降中、前記内底面を含む撮影領域を撮影し、画像のデータを生成する撮影部をさらに備え、
前記特定部は、前記生成された画像のデータを画像処理して、前記内底面の位置と前記撹拌子の先端の位置とを特定する、
ことを特徴とする請求項６記載の自動分析装置。
【請求項８】
前記撹拌子が前記反応容器内へ下降中、前記内底面と前記撹拌子とを含む照射領域に向けて光を発生する光源と、
前記光源から発生され前記照射領域を透過した光を検出し、前記検出された光の強度に応じた強度を有する検出信号を生成する検出器と、をさらに備え、
前記特定部は、前記生成された検出信号に基づいて前記内底面の位置と前記撹拌子の先端の位置とを特定する、
ことを特徴とする請求項６記載の自動分析装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記撹拌子の下降中において、前記撹拌子の先端が前記内底面に近づくにつれて前記撹拌子の下降速度を遅くする、ことを特徴とする請求項２又は６記載の自動分析装置。
【請求項１０】
前記特定された内底面の位置のデータを記憶する記憶部をさらに備える請求項１から９のうち何れか１項に記載の自動分析装置。
【請求項１１】
前記特定された内底面の位置を表示する表示部をさらに備える請求項１から９のうち何れか１項に記載の自動分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反応容器中のサンプルと試薬とを撹拌子で撹拌する自動分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
自動分析装置は、生化学検査項目や免疫血清検査項目を対象とし、サンプルとこのサンプルの検査項目に該当する試薬とを反応容器に分注する。反応容器に分注されたサンプルと試薬との混合液は、撹拌子により撹拌される。撹拌の方法としては、様々な技術がある。例えば、モータの先端部に取り付けられた撹拌子を反応容器内に挿入して回転させることにより混合液を撹拌する。また、特許文献１に記載されている方法は、両面に圧電素子が貼り付けられた金属性の撹拌子を、反応容器内に挿入して振動させることにより混合液を撹拌する。また、特許文献２に記載されている方法は、音波発生体に設けられた撹拌子を反応容器内に挿入し、音波発生体から音波を発生させることにより混合液を撹拌する。
【０００３】
一般に、反応容器内での撹拌子の高さによって混合液の撹拌効率が異なる。具体的には、撹拌子が反応容器の内底面に接触せず、内底面に近ければ近いほど混合液を良く撹拌できる。しかしながら、撹拌子の下降量は、容器自体の形状や回転ディスクの水平度誤差によって反応容器毎にその底面の位置がばらつく。また、待機位置（下降開始位置）から反応容器内への撹拌子の下降量は、個々の反応容器の底面位置に応じて変化させることができず一定である。従って全ての反応容器について、撹拌子をその内底面に近づけることは難しい。このため混合液を良く撹拌することができない。すなわち、サンプルと試薬との反応が不均一になり、十分な測定精度が得られない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３１３５６０５号公報
【特許文献２】特開２００５―２５７４０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、撹拌不良を防ぐことができる自動分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１局面に係る自動分析装置は、サンプルと試薬とが分注される反応容器と、前記反応容器を所定位置に移動させる反応ディスクと、前記所定位置に移動された反応容器の内底面の位置を特定する特定部と、を具備する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、撹拌不良を防ぐことができる自動分析装置の提供が実現する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本実施形態に係る自動分析装置１の構成を示す図。
【図２】図１の分析部の概略構成を示す図。
【図３】本発明の第１実施例に係る自動分析装置１の撹拌系の主要部構成を図。
【図４】図３の圧電体への印加電圧の周波数、電圧値、液体内での撹拌子の位置、混合液の種類、及び混合液の液量に応じて異なる混合液の撹拌性能を示す図。
【図５】図３の撹拌系により実行される下降制御処理の典型的な流れを示す図。
【図６】図５のステップＳＡ２とステップＳＡ３との処理を説明するための図。
【図７】図３の撹拌アーム制御部の制御に係る、測定項目、試薬名、液量Ｖ［μＬ］、撹拌子の制御方式、電圧Ｅ［Ｖ］、周波数ｆ［Ｈｚ］、撹拌子の内底面からの高さ（所定値）［ｍｍ］との一覧を示す図。
【図８】第１実施例の変形例に係る撹拌系の主要部構成を示す図。
【図９】図８の撹拌系により実行される下降制御処理の典型的な流れを示す図。
【図１０】図８のステップＳＢ３とステップＳＢ４との処理を説明するための図。
【図１１】本発明の第２実施例に係る撹拌系の主要部構成を示す図。
【図１２】図１１の検出信号処理部による反応容器の内底面の位置と撹拌子先端の位置との特定処理について説明するための図。
【図１３】本発明の第３実施例に係る撹拌系の主要部構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態に係わる自動分析装置を説明する。
【００１０】
図１は、本実施形態に係る自動分析装置１の構成を示す図である。図１に示すように、自動分析装置１は、分析部１０、データ処理部２０、出力部３０、操作部４０、及びシステム制御部５０を備える。
【００１１】
分析部１０は、血清や尿などのサンプルを検査項目毎に試薬を用いて測定し、サンプルに関する測定データを生成する。分析部１０は、分析機構１１と分析機構制御部１２と分析機構駆動部１３とを備える。
【００１２】
図２は、分析機構１１の概略構成を示す図である。図２に示すように、分析機構１１は、反応ディスク６１を有する。反応ディスク６１は、円周上に複数配置された反応容器６２を回転可能に保持する。反応容器６２は、反応ディスク６１内の恒温槽に収容されている。反応ディスク６１は、分析サイクル毎に所定角度θ回転し、停止する。これにより反応容器６２が所定角度θだけ回転される。
【００１３】
また、分析機構１１は、サンプル容器６３、ディスクサンプラ６４、第１試薬容器６５、及び第１試薬庫６７を有する。サンプル容器６３は、標準試料や被検試料等のサンプルを収容する。ディスクサンプラ６４は、サンプル容器６３を回動可能に保持する。第１試薬容器６５は、サンプルに含まれる各検査項目の成分と反応する第１試薬を収容する。第１試薬庫６７は、第１試薬容器６５を着脱可能且つ回動可能に保持する。
【００１４】
また、分析機構１１は、第２試薬容器６９と第２試薬庫７１とを有する。第２試薬容器６９は、第１試薬に対応する第２試薬を収容する。第２試薬庫７１は、第２試薬容器６９を着脱可能且つ回動可能に保持する。
【００１５】
さらに、分析機構１１は、サンプルプローブ７３、第１試薬プローブ７５、第２試薬プローブ７７、サンプルアーム７９、第１試薬アーム８１、及び第２試薬アーム８３を有する。サンプルプローブ７３は、サンプルアーム７９の先端に取り付けられている。サンプルアーム７９は、サンプルプローブ７３を回動可能及び上下動可能に支持している。サンプルプローブ７３は、サンプル分注ポンプ（図示せず）により、ディスクサンプラ６４上のサンプル吸引位置にあるサンプル容器６３からサンプルを吸引し、反応ディスク６１上のサンプル吐出位置にある反応容器６２にサンプルを吐出する。第１試薬プローブ７５は、第１試薬アーム８１の先端に取り付けられている。第１試薬アーム８１は、第１試薬プローブ７５を回動可能及び上下動可能に支持している。第１試薬プローブ７５は、第１試薬分注ポンプ（図示せず）により、第１試薬庫６７上の第１試薬吸引位置にある第１試薬容器６５から第１試薬を吸引し、反応ディスク６１上の第１試薬吐出位置にある反応容器６２に第１試薬を吐出する。第２試薬プローブ７７は、第２試薬アーム８３の先端に取り付けられている。第２試薬アーム８３は、第２試薬プローブ７７を回動可能及び上下動可能に支持している。第２試薬プローブ７７は、第２試薬分注ポンプ（図示せず）により、第２試薬庫７１上の第２試薬吸引位置にある第２試薬容器６９から第２試薬を吸引し、反応ディスク６７上の第２試薬吐出位置にある反応容器６２に第２試薬を吐出する。
【００１６】
また分析機構１１は、撹拌機構１００、測光機構８５、及び洗浄機構８７を有する。撹拌機構１００は、撹拌アーム１０２を有する。撹拌アーム１０２の先端には、撹拌子１０４が設けられている。撹拌アーム１０２は、撹拌子１０４を回動及び上下動可能に支持する。撹拌アーム１０２は、反応ディスク６１上の撹拌位置に反応容器６２が停止されると、撹拌子１０２を待機位置（下降開始位置）から下降させ、反応容器６２内に進入させる。そして撹拌子１０４の先端が反応容器６２の内底面の近傍まで到達させると撹拌アーム１０２は、撹拌子１０４を停止させる。そして撹拌子１０４は、振動し、反応容器３内のサンプル及び第１試薬の混合液や、サンプル、第１試薬、及び第２試薬の混合液を撹拌する。撹拌後、撹拌アーム１０３は、撹拌子１０４を待機位置まで上昇させる。
【００１７】
反応容器６２の内底面の位置は、容器自体の形状にばらつきがあることや、反応ディスク６１の水平度誤差等により、一つ一つ異なる。本実施形態に係る自動分析装置１の撹拌系は、撹拌子１０４を下降させるたびに、撹拌位置に配置された反応容器６２の内底面の位置を検出し、検出された内底面の位置に応じて撹拌子の下降量を制御する。これにより撹拌系は、個々の反応容器６２の内底面の位置のばらつきによらず、常に反応容器６２の内底面ぎりぎりまで撹拌子１０４を下降させることができる。このような撹拌系の構成や下降制御方法の詳細については後述する。
【００１８】
測光機構８５は、反応ディスク６１により回転されている反応容器６２に光を照射し、サンプルを含む混合液を透過した光を吸光度に変換してサンプルデータを生成する。そして、測光機構８５は、生成されたサンプルデータをデータ処理部２０に出力する。
【００１９】
洗浄機構８７は、支持機構と洗浄ノズルと乾燥ノズルとを有する。支持機構は、洗浄ノズルと乾燥ノズルとをそれぞれ上下移動可能に支持する。洗浄ノズルは、洗浄ポンプにより、反応ディスク６１上の洗浄位置にある反応容器６２から混合液を吸引し、反応容器６２内を洗浄する。乾燥ノズルは、反応ディスク６１上の乾燥位置にある反応容器６２内を乾燥する。
【００２０】
分析機構制御部１２は、分析機構駆動部１３に制御信号を供給して、制御信号に応じた駆動信号を供給させる。具体的には、分析機構制御部１２からの制御信号に従って分析機構駆動部１３は、反応ディスク６１、ディスクサンプラ６４、第１試薬庫６７、及び第２試薬庫７１をそれぞれ所定のタイミングで所定角度θだけ回転する。また、分析機構駆動部１３は、分析機構制御部１２からの制御信号に従って、サンプルアーム７９、第１試薬アーム８１、及び第２試薬アーム８３をそれぞれ回動させたり上下動させたりする。また、分析機構駆動部１３は、分析機構制御部１２からの制御信号に従って、撹拌アーム１０２や洗浄ノズルをそれぞれ上下動させる。
【００２１】
また、分析機構駆動部１３は、分析機構制御部１２からの制御信号に従って、サンプル分注ポンプを駆動して、サンプルプローブ７３にサンプルを吸引させたり、吐出させたりする。また、分析機構駆動部１３は、分析機構制御部１２からの制御信号に従って第１試薬分注ポンプを駆動して、第１試薬プローブ７５に第１試薬を吸引させたり、吐出させたりする。また、分析機構駆動部１３は、分析機構制御部１２からの制御信号に従って第２試薬分注ポンプを駆動して、第２試薬プローブ７７に第２試薬を吸引させたり、吐出させたりする。また、分析機構駆動部１３は、分析機構制御部１２からの制御信号に従って撹拌子１０４を振動させ、反応容器６２内の混合液を撹拌させる。また、分析機構駆動部１３は、分析機構制御部１２からの制御信号に従って洗浄ポンプを駆動して、洗浄ノズルに混合液を吸引させたり、洗浄液を吐出させたり、洗浄液を吸引させたりする。また、分析機構駆動部１３は、分析機構制御部１２からの制御信号に従って乾燥ポンプを駆動して、反応容器６２内を乾燥させる。
【００２２】
データ処理部２０は、分析部１０により生成された種々のデータを演算したり、記憶したりする。データ処理部２０は、演算部２１と記憶部２２とを有する。演算部２１は、測光機構８５により生成された各検査項目の測定データに基づいて検量線を作成し、作成された検量線のデータを記憶部２２に記憶させるとともに、出力部３０に供給する。また、演算部２１は、作成された検量線のデータを利用して測定データから検査項目成分の濃度や活性値等の分析データを生成し、生成された分析データを記憶部２２に記憶させるとともに、出力部３０に供給する。記憶部２２は、ハードディスク等の記憶媒体を備える。記憶部２２は、演算部２１により生成された検量線のデータを検査項目毎に記憶したり、各検査項目の分析データをサンプル毎に保存したりする。また、記憶部２１は、撹拌系により生成された反応容器６２の内底面の位置のデータをログとして記憶する。
【００２３】
出力部３０は、データ処理部２０で作成された検量線や生成された分析データを種々の態様で出力する。具体的には、出力部３０は、印刷部３１と表示部３２とを備える。印刷部３１としては、プリンタ等の出力デバイスが利用可能である。このプリンタは、データ処理部２０から出力された検量線や分析データ、内底面位置等をプリンタ用紙に所定のレイアウトで印刷する。表示部３２としては、例えばＣＲＴ（cathode-ray tube）ディスプレイや、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（electro luminescence）ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の表示デバイスが適宜利用可能である。これら表示デバイスは、データ処理部２０から出力された検量線や分析データ、内底面位置を表示したり、各検査項目に関するサンプルの液量、第１試薬の液量、第２試薬の液量、測光ビームの波長等の分析条件を設定するための分析条件設定画面、被検体ＩＤや被検体名等を設定するための被検体情報設定画面、サンプル毎の検査項目を選択するための測定項目選択画面等を表示したりする。
【００２４】
操作部４０は、各検査項目の分析条件の入力や、各種コマンド信号の入力などを行う。具体的には、操作部４０は、キーボード、マウス、各種ボタン、タッチキーパネル等の入力デバイスを備える。操作部４０は、ユーザからの指示に従って入力デバイスを介して、サンプル毎に測定する検査項目、各検査項目の分析機構条件、被検体情報（例えば、被検体ＩＤや被検体名等）等を入力する。
【００２５】
システム制御部５０は、自動分析装置１が備える各部を統括して制御する。具体的には、システム制御部５０は、ＣＰＵ（central processing unit）と記憶回路とを備え、操作部４０から供給される操作信号、サンプル毎に測定する検査項目、各検査項目の分析条件、被検体情報に基づいて各部を制御する。
【００２６】
次に本発明に特有な撹拌系の詳細を第１実施例、第２実施例、及び第３実施例に分けて説明する。
【００２７】
（第１実施例）
図３は、本発明の第１実施例に係る自動分析装置１の撹拌系の主要部構成を図である。図３に示すように、反応容器６２は、反応ディスク６１の恒温槽１０６内の温水に浸されている。反応容器６２は、ガラスやプラスチックのような透明な部材により形成される。反応ディスク６１上の撹拌位置においては、撹拌子１０４が撹拌アーム１０２により上下動可能に支持されている。撹拌位置における恒温槽１０６の側面には、撮影機１０８が取り付けられている。撮影機１０８としては、例えば、ＣＣＤ（charge-coupled device）等の光学的撮影機が利用可能である。撮影機１０８は、反応ディスク６１の撹拌位置にある反応容器６２の底を撮影できる位置に固定されている。撮影機１０８は、所定のタイミングで定点撮影し、撹拌位置にある反応容器６２の底を含む撮影領域ＦＲを撮影し、撮影された撮影領域ＦＲに関する画像のデータを生成する。この所定のタイミングは、撹拌子１０４を下降させる前であり、例えば、反応容器６２が撹拌位置に停止されたときである。生成された画像のデータは、画像処理部１１０に供給される。
【００２８】
画像処理部１１０は、撮影機１０８により生成された画像のデータに２値化等の画像処理をして、反応容器６２の内底面の位置を特定する。より具体的には、画像処理部１１０は、撹拌子１０４の待機位置ＨＰと内底面との間の距離（以下、待機位置―内底面距離と呼ぶことにする）を特定する。内底面の位置のデータは、撹拌アーム駆動制御部１１２と記憶部２２とに供給される。
【００２９】
撹拌アーム制御部１１２は、画像処理部１１０により特定された反応容器６２の内底面の位置に基づいて、待機位置ＨＰから反応容器６２内への撹拌子１０４の下降量を決定する。そして撹拌アーム制御部１１２は、決定された下降量に応じた駆動制御信号を撹拌アーム駆動部１１４に供給する。
【００３０】
撹拌アーム駆動部１１４は、撹拌アーム制御部１１２により供給された制御信号に応じて撹拌アーム１０２に装備されるモータに駆動信号を供給してモータを駆動させ、撹拌アーム制御部１１２により決定された下降量だけ撹拌子１０４を待機位置ＨＰから下降させる。
【００３１】
撹拌子１０４の撹拌アーム１０２側の端部には、バイモルフピエゾ圧電体等の圧電体１１６が取り付けられている。この圧電体１１６は、例えば、撹拌アーム１０２の内部に埋設されている。圧電体１１６には、電圧印加部１１８が接続されている。
【００３２】
電圧印加部１１８は、電圧制御部１２０からの電圧制御信号に応じた電圧を圧電体１１６に印加し、圧電効果により圧電体１１６を振動させる。圧電体１１６が振動されることにより、圧電体１１６に取り付けられた撹拌子１０４も振動する。撹拌子１０４の振動の振動数は、印加電圧の周波数に応じて変化する。電圧制御部１２０は、撹拌子１０４が所定の振動数で振動するように、電圧印加部１１８を制御して、この所定の振動数に対応する周波数を有する電圧を圧電体１１６に印加させる。また、撹拌子１０４の振動の振れ幅は、印加電圧の強度（電圧値）に応じて変化する。電圧制御部１２０は、撹拌子１０４が所定の振れ幅で振動するように、電圧印加部１１８を制御して、この所定の振れ幅に対応する電圧値を有する電圧を圧電体１１６に印加させる。
【００３３】
図４は、圧電体１１６への印加電圧の周波数、電圧値、液体内での撹拌子１０４の位置、混合液の種類、及び混合液の液量に応じて異なる混合液の撹拌性能を示す図である。図４に示すように、撹拌子１０４の位置が比較的低い場合における撹拌性能は、混合液の種類や液量によらず、撹拌子１０４の高さが高い場合における撹拌性能に比して良好である。これは、反応容器６２内における撹拌子１０４の位置が低いほど、すなわち、撹拌子１０４が混合液内部に深く侵入するほど、混合液がよくかき混ぜられるからである。
【００３４】
なお、撹拌アーム制御部１１２と電圧制御部１２０とは、図１の分析機構制御部１２に含まれる構成要素の１つである。また、撹拌アーム駆動部１１４と電圧印加部１１８とは、それぞれ、図１の分析機構駆動部１３に含まれる構成要素の１つである。
【００３５】
記憶部２２は、画像処理部１１０により特定された内底面の位置や待機位置―内底面距離のデータをログとして記憶する。表示部３２は、記憶部２２により記憶されている内底面の位置や待機位置―内底面距離のデータを読み出して、表示デバイスに表示する。
【００３６】
次に第１実施例に係る撹拌系の動作例について説明する。反応容器６２が反応ディスク６１により撹拌位置に停止されると撹拌系は、撹拌子１０４の下降制御処理を開始する。図５は、撹拌系により実行される下降制御処理の典型的な流れを示す図である。なお、ステップＳＡ１の開始時において撹拌子１０４の先端は、待機位置ＨＰに位置しているとする。
【００３７】
反応容器６２が反応ディスク６１により撹拌位置に配置されると、撮影機１０８は、この反応容器６２の内底面を含む撮影領域ＦＲを撮影し、画像のデータを生成する（ステップＳＡ１）。撮影機１０８は、所定の拡大率で撮影するものとする。生成された画像のデータは、撮影機１０８により画像処理部１１０に供給される。
【００３８】
撮影機１０８により画像のデータが供給されると、画像処理部１１０は、生成された画像のデータを画像処理し、画像処理後の画像上における反応容器の内底面の位置を特定する（ステップＳＡ２）。特定された内底面の位置のデータは、記憶部２２に記憶される。なお画像処理としては、例えば、２値化処理が利用可能である。そして、画像上における内底面の位置を特定すると画像処理部１１０は、待機位置ＨＰと反応容器６２の内底面との間の距離（待機位置―内底面距離）を算出する（ステップＳＡ３）。算出された待機位置―内底面距離のデータは、記憶部２２に記憶される。また、待機位置―内底面距離のデータは、撹拌アーム制御部１１２に供給される。
【００３９】
ここで、図６を参照しながらステップＳＡ２とステップＳＡ３との処理について詳細に説明する。図６は、ステップＳＡ２において２値化された画像の一例を示す図である。図６に示すように、２値化画像のｘ方向は反応容器６２の径方向、ｙ方向は反応容器６２の高さ方向に規定されているものとする。上述のように撮影機１０８は、恒温槽１０６の側面に固定されている。また、恒温槽１０６自体も不動である。従って、画像上のある座標とそれに対応する実空間上の位置とは、常に一致していると仮定できる。ここで、ｙ方向に関する撮影機１０８のレンズの略中心位置を撮影基準位置ＲＰと呼ぶことにする。なお撮影基準位置ＲＰは、典型的には、反応容器６２の内底面よりも高い位置に位置決めされる。また撮影機１０８は、ｘ方向に関する画像上の略中心位置に撹拌子１０４が描出されるように恒温槽１０６に固定されている。
【００４０】
撮影機１０８により生成された画像を２値化処理すると、図６のような２値化画像が得られる。この２値化処理における閾値は、反応容器６２と他の物質（例えば、混合液）とを判別可能な画素値である。この閾値は、予め設定されているものとする。次に２値化画像から反応容器に関する画素領域Ｒ１（以下、反応容器領域と呼ぶことにする）を特定する。そして特定された反応容器領域Ｒ１の内側（画像の中心側）の縁部であって、ｘ方向に略平行な縁部Ｅ１を内底面として特定する。なお、２値化処理のみで反応容器領域Ｒ１が特定できない場合、さらに領域成長処理等の他の画像処理をしても良い。
【００４１】
次に２値化画像上における撮影基準位置ＲＰと内底面Ｅ１との間の距離Ｈｃを算出する。それから、算出された距離Ｈｃに基づいて待機位置―内底面距離を算出する。例えば、距離Ｈｃに画像拡大率を乗じることにより、実空間上における撮影基準位置ＲＰと反応容器６２の内底面との間の距離を算出し、この算出された距離に待機位置ＨＰと撮影基準位置ＲＰとの間隔を加算することにより、待機位置と内底面との間の距離を算出する。なお、待機位置ＨＰと撮影基準位置ＲＰとの間の距離は、不動であり、画像処理部１１０に予め設定されているものとする。
【００４２】
画像処理部１１０により待機位置―内底面距離が算出されると、撹拌アーム制御部１１２は、この待機位置―内底面距離に従って、待機位置ＨＰから反応容器６２内への撹拌子１０４の下降量を決定する（ステップＳＡ４）。下降量は、待機位置―内底面距離に所定値を減算して決定される。この所定値は、内底面から撹拌時における撹拌子先端の停止予定位置までの距離である。所定値Ｔ１としては、撹拌精度を考慮すると、０ｍｍ＜Ｔ１≦１ｍｍが望ましい。
【００４３】
なお、この所定値Ｔ１は、例えば、測定項目の試薬ごとに設定されていてもよい。図７は、測定項目、試薬名、液量Ｖ［μＬ］、撹拌子の制御方式、電圧Ｅ［Ｖ］、周波数ｆ［Ｈｚ］、撹拌子の内底面からの高さ（所定値）［ｍｍ］との一覧を示す図である。このように測定項目等に応じて所定値Ｔ１を決定する仕様にする場合、撹拌子アーム制御部１１２は、この一覧のデータをテーブルとして記憶しておく。そして例えば、測定項目や試薬名を入力し、これら入力にテーブル上で関連付けられた撹拌子高さ（所定値Ｔ１）を出力し、出力された所定値Ｔ１に従って下降量を決定する。例えば、「Ａ社○○○Ｒ１」という名称の試薬を測光する場合、撹拌アーム制御部１１２は、所定値Ｔ１「０．５」に基づいて下降量を決定する。なお、撹拌子１０４の下降量は、試薬に応じて決定されるのみでなく、例えば、測定項目や使用する液体の種類、使用する液体の液量に応じて決定するとしてもよい。
【００４４】
下降量が決定されると撹拌子アーム制御部１１２は、この下降量に従って撹拌子アーム駆動部１１４に撹拌子を下降させる（ステップＳＡ５）。これにより、ステップＳＡ４において決定された下降量だけ撹拌子１０４を待機位置から下降させることができる。従って、撹拌子１０４を個々の反応容器６２の内底面の位置に応じて下降させるこができ、撹拌子１０４を内底面ぎりぎりまで下降させることができる。
【００４５】
なお、撹拌子１０４の下降速度は、一定であっても可変であってもよい。この速度の制御方式は、ユーザにより操作部４０を介して任意に設定可能である。撹拌アーム制御部１１２は、設定された速度の制御方式に応じて撹拌アーム駆動部１１４を制御することで、撹拌子１０４の下降速度を制御できる。撹拌子１０４の下降速度が遅ければ、より精度良く撹拌子１０４を所望の高さで停止させることができる。従って、撹拌子アーム制御部１１２は、撹拌アーム駆動部１１４を制御して、撹拌子１０４の先端が内底面に近づくにつれて撹拌子１０４の下降速度を遅くするとよい。このように下降速度を遅くすることで、撹拌子１０４の高さ位置の検出精度を向上させることができ、結果的に撹拌精度を向上させることができる。
【００４６】
以上で撹拌系による撹拌子の下降制御処理が終了する。この下降制御処理が終了すると、電圧印加部１１８は、電圧制御部１２０による制御のもと、圧電体１１６に所定の周波数と電圧値とを有する電圧を圧電体に印加することにより、撹拌子１０４を振動させ、混合液を撹拌する。撹拌子１０４は、内底面ぎりぎりまで接近しているので、混合液をよくかき混ぜることができる。従って、混合液は、撹拌不良をおこすことはない。また、このような撹拌不良のない混合液を用いて測光することで、測定精度も向上する。
【００４７】
なお、圧電体１１６に印加される電圧の周波数や電圧値を、測定項目の試薬ごとに変化させてもよい。このように試薬に応じて周波数や電圧値を変化させる場合、例えば、図７に示すテーブルを電圧制御部１２０も記憶している。そして電圧制御部１２０は、そして例えば、測定項目や試薬名を入力し、これら入力にテーブル上で関連付けられた周波数や電圧値を出力し、出力された周波数や電圧値に応じた電圧制御信号を電圧印加部１１８に供給する。このような電圧制御信号の供給を受けた電圧印加部１１８は、入力された測定項目や試薬名に対応する周波数や電圧値を有する電圧を圧電体１１６に印加する。例えば、「Ａ社○○○Ｒ１」という名称の試薬を測光する場合、電圧印加部１１８は、電圧値「１０Ｖ」と周波数「１００Ｈｚ」とを有する電圧を圧電体１１６に印加する。なお、撹拌子１０４の電圧値や周波数は、試薬に応じて決定されるのみでなく、例えば、測定項目や使用する液体の種類、使用する液体の液量に応じて決定するとしてもよい。また、電圧制御部１２０は、制御方式に応じて電圧値や周波数を変化させてもよい。
【００４８】
なお、記憶部２２に記憶されている内底面の位置のデータは、メンテナンス時において活用される。例えば、オペレータが表示部３２に表示された内底面の位置のログを検討することで、ばらつきの大きい反応容器６２を発見したり、反応ディスク６１の異常を発見したりすることができる。このような撹拌不良の原因の発見により、オペレータは、撹拌不良の対策を講ずることができる。すなわち、内底面の位置のデータをログとして記憶したり、これら内底面の位置を表示したりすることで、撹拌不良を防止することができる。
【００４９】
上記構成によれば、第１実施例に係る自動分析装置１は、撹拌毎に反応容器６２の内底面の位置を特定し、特定された内底面の位置に基づいて下降量を決定する。そして自動分析装置１は、決定された下降量だけ撹拌子１０４を待機位置から下降させ、混合液を撹拌させる。このように自動分析装置１は、撹拌毎に異なる内定面位置に応じて下降量を決定するので、内底面位置のばらつきによらず、常に良好な撹拌精度を実現することができる。また自動分析装置１は、内底面の位置のデータをログとして記憶しておくことで、オペレータによる撹拌不良の原因の発見を支援することができる。かくして第１実施例によれば、撹拌不良を防ぐことができる自動分析装置の提供が実現する。
【００５０】
なお、上記第１実施例に係る撹拌アーム制御部１１２は、画像処理部１１０により算出された実空間上の待機位置―内底面距離に従って、下降量を決定するとした。しかしながら第１実施例は、これに限定する必要はない。例えば、撹拌アーム制御部１１２は、画像上における反応容器６２の内底面の位置を入力とし、待機位置ＨＰからの撹拌子１０４の下降量を出力とするテーブルを記憶している。そして撹拌アーム制御部１１２は、画像処理部１１０により画像上における内底面の位置が特定されると、特定された内底面の位置をこのテーブルに入力し、下降量を出力する。そして出力した下降量に従って撹拌アーム駆動部１１４を制御して撹拌子１０４を下降させる。
【００５１】
（変形例）
第１実施例に係る撹拌系は、撹拌子１０４を下降させる前に下降量を決定するとした。しかしながら撹拌子１０４の下降制御方法は、これに限定する必要はない。例えば、撹拌子１０４を下降させていき、撹拌子１０４の先端が内底面ぎりぎりに近づいたら撹拌子１０４を停止させてもよい。以下、このような下降制御方法を実現する変形例に係る撹拌系の構成や動作について説明する。なお以下の説明において、第１実施例と略同一の機能を有する構成要素については、同一符号を付し、必要な場合にのみ重複説明する。
【００５２】
図８は、変形例に係る撹拌系の主要部構成を示す図である。撮影機１２２は、撹拌子１０４が下降している間、所定の時間間隔をおいて撮影領域ＦＲを撮影し、撮影された撮影領域ＦＲに関する画像のデータを生成する。生成された各画像のデータは、画像処理部１２４に供給される。なお、撮影機１２２の固定場所は、第１実施形態に係る撮影機１０８と同様である。
【００５３】
画像処理部１２４は、撮影機１２２により生成された各画像のデータを２値化等の画像処理をして、反応容器６２の内底面の位置と撹拌子１０４の先端の位置とを特定する。そして画像処理部１２４は、特定された内底面の位置と撹拌子先端の位置との間の距離（以下、撹拌子先端―内底面距離と呼ぶことにする）を算出する。内底面の位置や撹拌子先端―内底面距離に関するデータは、撹拌アーム制御部１２６と記憶部２２に供給される。
【００５４】
撹拌アーム制御部１２６は、反応容器６２が撹拌位置に停止されると、撹拌子１０４を反応容器６２内へ向けて下降させるための駆動制御信号を撹拌アーム駆動部１１４に供給する。そして撹拌アーム制御部１２６は、撹拌子１０４の下降中、画像処理部１２４から供給される距離と予め設定された閾値との大小関係を比較する。そして撹拌アーム制御部１２６は、距離が閾値以上であると判定した場合、撹拌アーム駆動部１１４に駆動制御信号を供給し続け、距離が閾値以下であると判定した場合、撹拌アーム駆動部１１４への駆動制御信号の供給を停止する。
【００５５】
撹拌アーム駆動部１１４は、撹拌アーム制御部１２６からの駆動制御信号に応じて撹拌アーム１０２に装備されるモータに駆動信号を供給してモータを駆動させ、撹拌アーム制御部１２６に従う下降量だけ撹拌子１０４を下降する。
【００５６】
次に第１実施例の変形例に係る撹拌系の動作例について説明する。反応容器６２が反応ディスク６１により撹拌位置に停止されると、撹拌系は、撹拌子１０４の下降制御処理を開始する。図９は、変形例に係る撹拌系により実行される下降制御処理の典型的な流れを示す図である。なお、ステップＳＢ１の開始時において撹拌子１０４の先端は、待機位置ＨＰに位置しているとする。
【００５７】
反応容器６２が反応ディスク６１により撹拌位置に停止されると、撹拌アーム制御部１２６は、撹拌アーム駆動部１１４に駆動制御信号を供給し、待機位置ＨＰからの撹拌子１０４の下降を開始する（ステップＳＢ１）。
【００５８】
撹拌子１０４の下降が開始されると、撮影機１２２は、反応容器６２の内底面を含む撮影領域ＦＲを所定の時間間隔おきに撮影し、画像のデータを生成する（ステップＳＢ２）。なお撮影機１２２は、撹拌子１０４が下降を開始した直後から撮影する必要はない。例えば、撹拌子１０４が画像に描出され始める時から撮影が開始されればよい。生成された画像のデータは、撮影機１２２により画像処理部１２４に供給される。
【００５９】
撮影機１２２により画像のデータが生成されると、画像処理部１２４は、生成された画像のデータを２値化し、２値化画像上における反応容器６２の内底面の位置と撹拌子１０４の先端の位置とを特定する（ステップＳＢ３）。そして画像処理部１２４は、撹拌子先端―内底面距離を算出する（ステップＳＢ４）。算出された撹拌子先端―内底面距離のデータは、撹拌アーム制御部１２６に供給される。
【００６０】
ここで、図１０を参照しながらステップＳＢ３とステップＳＢ４との処理について詳細に説明する。図１０は、ステップＳＢ２において生成された２値化画像の一例を示す図である。まず２値化画像から反応容器領域Ｒ１を特定し、そして第１実施形態と同様の方法で、反応容器領域Ｒ１の内底面Ｅ１を特定する。次に、撹拌子に関する画素領域Ｒ２（以下、撹拌子領域と呼ぶことにする）を特定する。撹拌子領域Ｒ２は、撮影機１２２と撹拌子１０４との位置関係に従って特定される。すなわち撹拌子領域Ｒ２は、ｘ方向に関する２値化画像の略中心に位置し、且つｙ方向の最上部から２値化画像の内部へ直線状に伸びる、という事実を利用して特定される。それから撹拌子領域Ｒ２の先端を特定する。撹拌子領域Ｒ２の先端は、例えば、上記の撮影機１２２と撹拌子１０４との位置関係を利用して特定される。
【００６１】
次に２値化画像上における撮影基準位置ＲＰと内底面位置ＢＰとの間の距離Ｈｃを算出する。次に２値化画像上における撮影基準位置ＲＰと撹拌子先端位置ＥＰとの距離Ｈｓを算出する。そして距離Ｈｃと距離Ｈｓとの差分Ｇを算出する。算出された差分Ｇは、撹拌子先端―内底面距離である。
【００６２】
画像処理部１２４により撹拌子先端―内底面距離Ｇが算出されると、撹拌アーム制御部１２６は、距離Ｇと閾値とを比較する（ステップＳＢ５）。閾値は、ステップＳＡ４の所定値Ｔ１と同一、すなわち、内底面から撹拌時における撹拌子１０４の先端の停止予定位置までの距離である。距離が閾値よりも大きいということは、撹拌子１０４の先端が内底面から十分に接近していないということであり、撹拌子１０４をさらに下降すべきである。一方、距離が閾値と等しい又は閾値よりも小さいということは、撹拌子１０４の先端が内底面に十分に接近しているということであり、撹拌子１０４を停止すべきである。
【００６３】
距離Ｇが閾値より大きいと判定すると（ステップＳＢ５：ＮＯ）撹拌アーム制御部１２６は、撹拌アーム駆動部１１４に駆動制御信号を供給し続けることにより、撹拌子１０４を下降させ続ける。そして再びステップＳＢ２〜ステップＳＢ５が繰り返される。
【００６４】
距離Ｇが閾値以下であると判定すると（ステップＳＢ５：ＹＥＳ）撹拌アーム制御部１２６は、撹拌アーム駆動部１１４への駆動制御信号の供給を停止する（ステップＳＢ６）。駆動制御信号の供給が停止されることにより撹拌子１０４は、停止する。このように、撹拌子先端―内底面距離Ｇの大きさに応じて撹拌子１０４を下降させ続けるか停止させるかを判定することにより、撹拌子１０４を内底面ぎりぎりまで下降させることができる。
【００６５】
以上で変形例に係る撹拌系による撹拌子１０４の下降制御処理が終了する。この下降制御処理が終了すると、電圧印加部１１８は、撹拌子１０４を振動させ、混合液を撹拌する。撹拌子１０４は、内底面ぎりぎりまで接近しているので、混合液をよくかき混ぜることができる。従って、混合液は、撹拌不良をおこすことはなく、ひいては測定精度も向上する。かくして第１実施例の変形例によれば、撹拌不良を防ぐことができる自動分析装置の提供が実現する。
【００６６】
（第２実施例）
図１１は、本発明の第２実施例に係る撹拌系の主要部構成を示す図である。図１１に示すように、撹拌位置における恒温槽１０６の側面の一方側には光源１２８が、恒温槽１０６を挟んで光源１２８に対抗する側には検出器１３０が固定されている。光源１２８は、ビーム状の光を発生する。光源１２８は、発生された光が反応容器６２の底を透過する位置に固定されている。検出器１３０は、複数の検出素子から構成される。個々の検出素子は、光を検出し、検出した光の強度に応じた検出信号を生成する。生成された検出信号は、検出信号処理部１３２に供給される。検出器１３０は、光源１２８から発生された光を検出可能な位置に取り付けられる。このような光源１２８と検出器１３０との位置関係により、検出器１３０は、光源１２８から発生され反応容器６２の底を含む照射領域ＲＲを透過した光を検出する。
【００６７】
撹拌子１０４は、強い遮光性を有する部材により形成される。従って光は、撹拌子１０４を透過できない。混合液の遮光性は、種類によって程度が異なる。しかし何れの混合液にしても、光は、その強度を減衰させながら混合液を透過する。反応容器６２は、ガラスやプラスチックのような透明な部材により形成され、弱い遮光性を有する。従って光は、その強度を減衰させながら反応容器６２を透過する。
【００６８】
検出信号処理部１３２は、検出器１３０により生成された検出信号に基づいて反応容器６２の内底面の位置や撹拌子１０４の先端の位置を特定する。そして検出信号処理部１３２は、第１実施例のように、特定された待機位置―内底面距離を算出したり、変形例のように、撹拌子先端―内底面距離を算出したりする。内底面の位置や待機位置―内底面距離、撹拌子先端―内底面距離のデータは、記憶部２２と撹拌アーム制御部１３４とに供給される。
【００６９】
撹拌アーム制御部１３４は、第１実施例のように、待機位置―内底面距離に従って待機位置ＨＰからの撹拌子１０４の下降量を決定する。そして撹拌アーム制御部１３４は、決定された下降量に従って撹拌アーム駆動部１１４を制御して、この下降量だけ撹拌子１０４を下降させる。また、撹拌アーム制御部１３４は、変形例のように、撹拌子先端―内底面距離と閾値とを比較する。そして撹拌アーム制御部１３４は、撹拌子先端―内底面距離が閾値以上であると判定した場合、撹拌アーム駆動部１１４を制御して撹拌子１０４を下降させ続け、撹拌子先端―内底面距離が閾値以下であると判定した場合、撹拌アーム駆動部１１４を制御して撹拌子１０４の下降を停止させる。
【００７０】
次に、図１２を参照しながら、検出信号処理部１３０による反応容器６２の内底面の位置と撹拌子先端の位置との特定処理について説明する。図１２に示すように、検出器１３０を構成する複数の検出素子１３１は、縦方向に沿って１列に配列されている。検出素子１３１の数は、位置検出精度を高めるためには、多ければ多いほど良い。最上部の検出素子１３１ａは反応容器６２の内底面より高く、最下部の検出素子１３１ｂは反応容器６２の内底面より低くなるように検出器１３０は恒温槽１０６に固定されている。ここで、最上部にある検出素子１３１ａの位置を検出器基準位置ＤＰと呼ぶことにする。この検出器基準位置ＤＰが撹拌子先端位置や内底面位置を特定するための基準となる。
【００７１】
各検出素子１３１は、光源から発生され反応容器６２等を透過した光を検出し、検出された光の強度に応じた検出信号を生成し、生成された検出信号処理部１３０に供給する。検出信号処理部１３０は、供給された検出信号の強度と閾値とを比較する。閾値よりも大きい強度を有する検出信号を検出した検出素子１３１はＯＮ状態、閾値よりも小さい強度を有する検出信号を検出した検出素子１３１はＯＦＦ状態に設定される。
【００７２】
閾値の値は、反応容器６２の底部６２ａを透過した光に由来する検出信号と反応容器６２の筒部６２ｂ（底部以外）を透過した光に由来する検出信号とを分別可能な値に設定される。つまり、反応容器６２の遮光性は弱いので、筒部６２ｂを透過した光に由来する検出信号の強度は、閾値よりも高い。底部６２ａを透過する光は、筒部６２ｂを透過する光に比して、より長く反応容器６２を透過する。従って、底部６２ａを透過した光に由来する検出信号の強度は、筒部６２ｂを透過した光に由来する検出信号の強度よりも低く、閾値よりも低い。また撹拌子１０４の遮光性は強いので、撹拌子１０４と同じ高さにある検出素子１３１により生成される検出信号の強度は、閾値よりも低い。
【００７３】
このような閾値判定によりＯＮ状態又はＯＦＦ状態が設定されると、反応容器６２の内底面位置ＢＰと撹拌子先端位置ＥＰとが特定される。反応容器６２の外底面の位置は、ＯＮ状態にある検出素子１３１のうち下部の検出素子１３１の位置に対応する。内底面の位置ＢＰは、この下部の検出素子１３１のうち最上部にある検出素子１３１の位置に対応する。一方、撹拌子１０４の位置は、ＯＮ状態にある検出素子１３１のうち上方の検出素子１３１の位置に対応する。撹拌子先端の位置ＥＰは、この上方の検出素子１３１のうち最下部にある検出素子１３１の位置に対応する。
【００７４】
内底面位置ＢＰを特定するため、検出器基準位置ＤＰと内底面に対応する検出素子１３１との間の距離Ｈｃを算出する。また、撹拌子先端ＥＰの位置を特定するため、検出器基準位置ＤＰと撹拌子先端ＥＰに対応する検出素子１３１との間の距離Ｈｓを算出する。そして撹拌子先端―内底面距離として、距離Ｈｃと距離Ｈｓとの差分Ｇを算出する。なお、各検出素子１３１は不動であり、検出信号処理部１３２は、各検出素子１３１の位置のデータを記憶しているものとする。
【００７５】
このようにして内底面位置ＢＰが算出されると、撹拌子アーム制御部１３４は、第１実施例と同様に、待機位置ＨＰから反応容器６２への撹拌子１０４の下降量を決定し、決定された下降量だけ撹拌子１０４を下降する。また撹拌子先端―内底面距離が算出されると、第１実施例の変形例と同様に、撹拌子１０４の下降を制御する。
【００７６】
上記構成によれば、第２実施例に係る自動分析装置１は、光源１２８と光源１２８から発生される光を検出器１３０とを有し、検出器１３０により生成される検出信号の強度に基づいて反応容器６２の内底面の位置や撹拌子１０４の先端の位置を特定する。そして実施例１や変形例と同様に、特定された内底面の位置や撹拌子１０４の先端に従って撹拌子１０４の下降を制御する。かくして第２実施例によれば、撹拌不良を防ぐことができる自動分析装置の提供が実現する。
【００７７】
なお、上記第２実施例に係る撹拌アーム制御部１３４は、検出信号処理部１３２により算出された待機位置―内底面距離に従って、下降量を決定するとした。しかしながら第２実施例は、これに限定する必要はない。例えば、撹拌アーム制御部１３４は、検出素子１３１の位置を入力とし、待機位置ＨＰからの撹拌子１０４の下降量を出力とするテーブルを記憶している。そして撹拌アーム制御部１３４は、検出信号処理部１３２により内底面位置に対応する検出素子１３１の位置が特定されると、特定された検出素子１３１の位置をこのテーブルに入力し、下降量を出力する。そして出力した下降量に従って撹拌アーム駆動部１１４を制御して撹拌子１０４を下降させる。
【００７８】
（第３実施例）
図１３は、本発明の第３実施例に係る撹拌系の主要部構成を示す図である。図１３に示すように、撹拌位置における恒温槽１０６の底面には、距離測定器１３６が固定されている。距離測定器１３６は、光や超音波を利用した距離測定器である。距離測定器１３６は、恒温槽１０６の底面を測定基準位置ＭＰとし、この測定基準位置ＭＰと反応容器６２の外底面との間の距離（以下、外底面―恒温槽底面距離と呼ぶことにする）を測定する。測定された外底面―恒温槽底面距離のデータは、測定信号処理部１３８に供給される。
【００７９】
測定信号処理部１３８は、測定器１３６により測定された外底面―恒温槽底面距離に従って、反応容器６２の内底面の位置（待機位置―内底面距離）を特定する。具体的には、測定信号処理部１３８は、まず、外底面―恒温槽底面距離に反応容器６２の底の厚さを加算して、反応容器６２の内底面と恒温槽１０６の底面との間の距離（以下、内底面―恒温槽底面距離と呼ぶことにする）を算出する。そして算出された内底面―恒温槽底面距離を、測定基準位置ＭＰと待機位置ＨＰとの間の距離から減算することにより、内底面の位置、すなわち待機位置―内底面距離を算出する。特定された内底面の位置のデータは、記憶部２２と撹拌アーム制御部１１２に供給される。
【００８０】
上記構成によれば、第３実施例に係る自動分析装置１は、光や超音波を利用した距離測定器１３６を有し、反応容器６２の外底面と恒温槽１０６の底面との間の距離を測定する。そして測定された距離に基づいて反応容器の内底面の位置を特定する。そして実施例１と同様に、特定された内底面の位置に従って撹拌子１０４の下降を制御する。かくして第３実施例によれば、撹拌不良を防ぐことができる自動分析装置の提供が実現する。
【００８１】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００８２】
以上本発明によれば、撹拌不良を防ぐことができる自動分析装置の提供を実現することができる。
【符号の説明】
【００８３】
２２…記憶部、３２…表示部、６２…反応管、１０２…撹拌アーム、１０４…撹拌子、１０６…恒温槽、１０８…撮影機、１１０…画像処理部、１１２…撹拌アーム制御部、１１４…撹拌アーム駆動部、１１６…圧電体、１１８…電圧印加部、１２０…電圧制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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