(57)【要約】      （修正有）【課題】ＴＦＴアレイの検査において、パネルの内部での位置誤差を補正し、ピクセル座標の位置精度の向上を図る。【解決手段】パネルのピクセルを、パネルの縦方向および横方向の両方向に対して交互に異なる電位状態とし、この電位状態のパネルを電子線走査して走査画像を取得し、得られた走査画像のチェッカパターンを用いることによって、検出信号データをピクセルに割り付ける際の位置ずれを防いで、ピクセル位置の座標精度を向上させる。ピクセル位置検出工程において、チェッカパターンの電位分布で得られる走査画像のチェッカパターンとピクセル配列との対応関係から両者の位置関係を求め、この位置関係に基づいて走査画像の走査位置をピクセルの座標に割り付ける。【選択図】図１
2010276463.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビームをＴＦＴアレイ上で二次元的に走査して、表面電位の走査画像を形成し、当該走査画像からＴＦＴアレイの欠陥検査を行うＴＦＴアレイの検査方法であって、
ＴＦＴアレイに検査信号を印加して当該ＴＦＴアレイに二次元的な所定パターンの電位分布を形成する検査信号印加工程と、
前記検査信号を印加したＴＦＴアレイに荷電粒子ビームを二次元的に走査して表面電位の走査画像を形成する走査工程と、
前記走査画像から各ピクセルの位置を検出するピクセル位置検出工程と、
前記各ピクセルの信号強度を検出する信号強度検出工程と、
前記信号強度をデータ処理することによって欠陥ピクセルを抽出するデータ処理工程とを備え、
前記検査信号印加工程は、二次元配列される複数のピクセルの内で隣接するピクセル間において、互いに相対的に高い電位と低い電位とを交互に印加する検査信号を印加し、ＴＦＴアレイに相対的に高い電位と低い電位がチェッカパターンで配置される電位分布を形成し、
前記ピクセル位置検出工程は、前記チェッカパターンの電位分布で得られる走査画像のチェッカパターンとピクセル配列との対応関係から両者の位置関係を求め、当該位置関係に基づいて走査画像の走査位置をピクセルの座標に割り付けることを特徴とする、ＴＦＴアレイの検査方法。
【請求項２】
前記走査工程は、一ピクセルに対して複数個の荷電粒子ビームを照射し、
前記ピクセル位置検出工程は、前記チェッカパターンの各格子部分において、当該格子部に含まれる複数個の走査位置の重心の位置座標を算出し、
算出した重心の配列とピクセル配列とを比較して、ピクセルに対する重心の位置ずれを求め、求めた位置ずれに基づいて重心の位置座標を補正し、
前記補正した重心座標を前記チェッカ部分に対応するピクセルの位置座標としてピクセル位置を算出することを特徴とする、請求項１に記載のＴＦＴアレイの検査方法。
【請求項３】
前記走査工程は、複数の走査領域において隣接する走査領域の境界で重複走査し、
前記ピクセル位置検出工程は、前記重複走査で取得された境界を挟んで隣接する２つの走査領域のチェッカパターンを照合し、一致するチェッカパターンに基づいて境界部分のピクセル位置を検出することを特徴とする、請求項１又は２に記載のＴＦＴアレイの検査方法。
【請求項４】
前記走査工程は、検査領域を複数の走査領域に分割して走査すると共に、隣接する走査領域の境界を重複走査することを特徴とする、請求項３に記載のＴＦＴアレイの検査方法。
【請求項５】
荷電粒子ビームをＴＦＴアレイ上で二次元的に走査して、表面電位の走査画像を形成し、当該走査画像からＴＦＴアレイの欠陥検査を行うＴＦＴアレイの検査装置であって、
ＴＦＴアレイに検査信号を印加して当該ＴＦＴアレイに二次元的な所定パターンの電位分布を形成する検査信号印加部と、
前記検査信号を印加したＴＦＴアレイに荷電粒子ビームを二次元的に走査して表面電位の走査画像を形成する荷電粒子ビーム源および走査制御部と、
前記荷電粒子ビームの走査によってＴＦＴ基板から放出される二次電子の検出信号を検出する検出器と、
前記検出信号で得られる走査画像から各ピクセルの位置を検出するピクセル位置検出部と、
前記各ピクセルの信号強度を検出する信号強度検出部と、
前記信号強度をデータ処理することによって欠陥ピクセルを抽出するデータ処理部とを備え、
前記検査信号印加部は、二次元配列される複数のピクセルの内で隣接するピクセル間において、互いに相対的に高い電位と低い電位とを交互に印加する検査信号を印加し、ＴＦＴアレイに相対的に高い電位と低い電位がチェッカパターンで配置される電位分布を形成し、
前記ピクセル位置検出部は、前記チェッカパターンの電位分布で得られる走査画像のチェッカパターンとピクセル配列との対応関係から両者の位置関係を求め、当該位置関係に基づいて走査画像の走査位置をピクセルの座標に割り付けることを特徴とする、ＴＦＴアレイの検査装置。
【請求項６】
前記荷電粒子ビーム源および前記走査制御部は、一ピクセルに対して複数個の荷電粒子ビームを照射し、
前記ピクセル位置検出部は、前記チェッカパターンの各格子部分において、当該格子部に含まれる複数個の走査位置の重心の位置座標を算出し、
算出した重心の配列とピクセル配列とを比較して、ピクセルに対する重心の位置ずれを求め、求めた位置ずれに基づいて重心の位置座標を補正し、
前記補正した重心座標を前記チェッカ部分に対応するピクセルの位置座標としてピクセル位置を算出することを特徴とする、請求項５に記載のＴＦＴアレイの検査装置。
【請求項７】
前記荷電粒子ビーム源および前記走査制御部は、複数の走査領域において隣接する走査領域の境界で重複走査し、
前記ピクセル位置検出部は、前記重複走査で取得された境界を挟んで隣接する２つの走査領域のチェッカパターンを照合し、一致するチェッカパターンに基づいて境界部分のピクセル位置を検出することを特徴とする、請求項５又は６に記載のＴＦＴアレイの検査装置。
【請求項８】
前記荷電粒子ビーム源および前記走査制御部は、検査領域を複数の走査領域に分割して走査すると共に、隣接する走査領域の境界において重複走査することを特徴とする、請求項７に記載のＴＦＴアレイの検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶基板等の製造過程等で行われるＴＦＴアレイ検査に関し、特に、ＴＦＴアレイ検査装置およびＴＦＴアレイ検査において検出信号から欠陥を検出する際の信号処理に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶基板や有機ＥＬ基板等のＴＦＴアレイが形成された半導体基板の製造過程では、製造過程中にＴＦＴアレイ検査工程を含み、このＴＦＴアレイ検査工程において、ＴＦＴアレイの欠陥検査が行われている。
【０００３】
ＴＦＴアレイは、例えば液晶表示装置の画素電極を選択するスイッチング素子として用いられる。ＴＦＴアレイを備える基板は、例えば、走査線として機能する複数本のゲートラインが平行に配設されると共に、信号線として記載する複数本のソースラインがゲートラインに直交して配設され、両ラインが交差する部分の近傍にＴＦＴ（Thin film transistor）が配設され、このＴＦＴに画素電極が接続される。
【０００４】
液晶表示装置は、上記したＴＦＴアレイが設けられた基板と対向基板との間に液晶層を挟むことで構成され、対向基板が備える対向電極と画素電極との間に画素容量が形成される。画素電極には、上記の画素容量以外に付加容量（Ｃｓ）が接続される。この付加容量（Ｃｓ）の一方は画素電極に接続され、他方は共通ラインあるいはゲートラインに接続される。共通ラインに接続される構成のＴＦＴアレイはCs on Com型ＴＦＴアレイと呼ばれ、ゲートラインに接続される構成のＴＦＴアレイはCs on Gate型ＴＦＴアレイと呼ばれる。
【０００５】
このＴＦＴアレイにおいて、走査線（ゲートライン）や信号線（ソースライン）の断線、走査線（ゲートライン）と信号線（ソースライン）の短絡、画素を駆動するＴＦＴの特性不良による画素欠陥等の欠陥検査は、例えば、対向電極を接地し、ゲートラインの全部あるいは一部に、例えば、−１５Ｖ〜＋１５Ｖの直流電圧を所定間隔で印加し、ソースラインの全部あるいは一部に検査信号を印加することによって行っている。（例えば、特許文献１の従来技術。）
【０００６】
ＴＦＴアレイ検査装置は、ＴＦＴアレイに上記した検査用の駆動信号を入力し、そのときのアレイ電極の電圧状態を検出することで欠陥検出を行うことができる。
【０００７】
製造プロセス中に生じるおそれがあるＴＦＴアレイの欠陥として、例えば、ピクセルとソースラインとの間に短絡欠陥（Ｓ−ＤＳshort）、ピクセルとゲートラインとの間に短絡欠陥（Ｇ−ＤＳshort）、ソースラインとゲートラインとの間に短絡欠陥（Ｓ−Ｇshort）、ピクセルとＴＦＴとの間の断線（Ｄ−open）等の各ピクセルにおける欠陥の他に、横方向で隣接するピクセル間の欠陥（横ＰＰと呼ばれる）、縦方向で隣接するピクセル間の欠陥（縦ＰＰと呼ばれる）、隣接するソースライン間の短絡（ＳＳshortと呼ばれる）、隣接するゲートライン間の短絡（ＧＧshortと呼ばれる）隣接欠陥等の隣接するピクセル間で生じる隣接欠陥が知られている。
【０００８】
ＴＦＴアレイ検査では、アレイ電極の電圧状態の検出は、検査信号を印加して駆動したピクセルのアレイ電極に電子線を照射し、アレイ電極から放出された二次電子をフォトマルチプライヤ等の検出器で検出してアナログ信号に変換し、これによってアレイ電極の電圧状態の検出し、画像処理によって欠陥を検出する。この欠陥検出において、検出信号のデータをピクセルに割り付けすることによって各ピクセルの特定を行う。
【０００９】
従来、検出信号データのピクセルへの割り付けは、検出信号から得られたデータを、座標から算出したピクセルに対応付けることで行っている。
【００１０】
図１３は、検出信号データのピクセルへの割り付けを説明するための説明図である。図１３において、基板１００上には複数のパネル１０１が設けられる。なお、図１３（ａ）では１つのパネル１０１のみを示している。パネル１０１には、複数のピクセル１０２が格子状に配列され、各ピクセルはアレイ電極およびアレイ電極に信号を印加するためのＴＦＴ素子を備えている。
【００１１】
ＴＦＴアレイを検査する際に、基板１００に設けられたアライメントマーク１０４を指標として基板を位置決めした後、電子線を基板１００上に走査し、各ピクセル１０２に対して電子線を照射している。図１３は１つのピクセルに対して電子線の照射点を１点とする場合を示している。
【００１２】
図１３（ｂ）は電子線の走査で得られた検出信号データを示し、図１３（ｃ）はピクセル配列を示している。検出信号データのピクセルへの割り付けは、走査に従って検出信号データは各ピクセルから順に取得されるものと仮定し、基板１００上の座標から算出したピクセルに検出信号データを対応付けることで行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開平５−３０７１９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
従来、アレイ検査の欠陥検出の精度を低下させる一要因としてピクセルの位置誤算が知られている。従来、基板に対するパネルの位置を補正することによって、ピクセルの位置誤算を低減させることが行われている。基板に対するパネルの位置補正として、電子銃に関する補正と、基板上のパネルの補正が知られている。
【００１５】
電子銃に関する補正として、例えば、予め電子線を走査してスキャンマップを求め、このスキャンマップから電子線の照射の位置ずれを求め、求めた位置ずれを校正する補正、複数の電子銃で走査する際に生じる各電子銃間の位置ずれの補正、パネルを複数のパスによって走査する際に生じる各走査間の位置ずれの補正等がある。
【００１６】
また、基板上のパネルの補正として、基板に設けたアライメントマークおよび基板のパネルのコーナを基準として行うパネルを単位とする補正がある。
【００１７】
ピクセルの位置誤算として、上記したパネルの外部での位置誤差に他に、磁場や基板などの外乱や基板の形状欠陥などの影響により生じるパネルの内部での位置誤差がある。
【００１８】
図１４は、電子線の照射位置がピクセルに対して位置ずれした場合を示している。ここでは、１ピクセルに対して電子線の照射点が１点である場合を示している。
【００１９】
図１４（ａ）は電子線が位置ずれなく照射され、照射位置１０３が対象とするピクセル１０２内に照射された状態を示している。一方、図１４（ｂ）は電子線が位置ずれして照射され、照射位置１０３が対象とするピクセル１０２からずれて照射された状態を示している。
【００２０】
従来の検出信号データのピクセルへの割り付けでは、電子線が位置ずれした場合にこの位置ずれを補正することができないため、検出信号データは本来割り付けられるべきピクセルと異なるピクセルに割り付けられることになる。図１４（ｃ）の検出信号データは、位置ずれによって図１４（ｄ）に示すように本来割り付けられるべきピクセルの隣のピクセルに割り付けられることになる。
【００２１】
従来の位置誤差の補正では、このようなパネルの内部での位置誤差を補正することはできないという問題がある。
【００２２】
本発明は、上記課題を解決するものであり、ＴＦＴアレイの検査において、パネルの内部での位置誤差を補正することを目的とし、ピクセル座標の位置精度を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明は、パネルのピクセルを、パネルの縦方向および横方向の両方向に対して交互に異なる電位状態とし、この電位状態のパネルを電子線走査して走査画像を取得し、得られた走査画像のチェッカパターンを用いることによって、検出信号データをピクセルに割り付ける際の位置ずれを防いで、ピクセル位置の座標精度を向上させる。
【００２４】
また、走査画像のチェッカパターンを用いると共に重複走査を行うことによって、パス間や電子銃間、あるいはフレーム間に生じる位置ずれに対しても補正を行うことができる。
【００２５】
ＴＦＴアレイ検査方法の形態およびＴＦＴアレイ検査装置の形態とすることができる。
【００２６】
本発明のＴＦＴアレイの検査方法の形態は、荷電粒子ビームをＴＦＴアレイ上で二次元的に走査して、表面電位の走査画像を形成し、この走査画像からＴＦＴアレイの欠陥検査を行うＴＦＴアレイの検査方法である。
【００２７】
本発明のＴＦＴアレイの検査方法は、ＴＦＴアレイに検査信号を印加してこのＴＦＴアレイに二次元的な所定パターンの電位分布を形成する検査信号印加工程と、検査信号を印加したＴＦＴアレイに荷電粒子ビームを二次元的に走査して表面電位の走査画像を形成する走査工程と、走査画像から各ピクセルの位置を検出するピクセル位置検出工程と、各ピクセルの信号強度を検出する信号強度検出工程と、信号強度をデータ処理することによって欠陥ピクセルを抽出するデータ処理工程とを備える。
【００２８】
本発明の検査信号印加工程は、二次元配列される複数のピクセルの内で隣接するピクセル間において、互いに相対的に高い電位と低い電位とを交互に印加する検査信号を印加し、ＴＦＴアレイに相対的に高い電位と低い電位がチェッカパターンで配置される電位分布を形成する。
【００２９】
このチェッカパターンの電位分布によれば、走査方向および走査方向と直交する方向（縦方向および横方向）において、隣り合うピクセルは互いに異なる電位となるため、電子線にピクセルに対する照射位置の位置ずれ量が１ピクセル程度である場合には、このチェッカパターンを照合させることによって位置ずれを補正することができる。
【００３０】
本発明のピクセル位置検出工程は、チェッカパターンの電位分布で得られる走査画像のチェッカパターンとピクセル配列との対応関係から両者の位置関係を求め、この位置関係に基づいて走査画像の走査位置をピクセルの座標に割り付ける。
【００３１】
本発明は、チェッカパターンによる特性を利用することによってピクセルの座標の位置ずれを補正して、正しいピクセルに対して検出信号データの割り付けを行う。
【００３２】
また、本発明のＴＦＴアレイの検査方法は、１ピクセルに対する電子線の照射位置を複数点とすることができ走査に適用することができる。
【００３３】
１ピクセルに対して複数の照射位置を有する場合には、本発明の走査工程は、一ピクセルに対して複数個の荷電粒子ビームを照射する、また。本発明のピクセル位置検出工程は、チェッカパターンの各格子部分において、当該格子部に含まれる複数個の走査位置の重心の位置座標を算出し、算出した重心の配列とピクセル配列とを比較して、ピクセルに対する重心の位置ずれを求める。求めた位置ずれに基づいて重心の位置座標を補正し、補正した重心座標をチェッカ部分に対応するピクセルの位置座標としてピクセル位置を算出する。
【００３４】
さらに、本発明のＴＦＴアレイの検査方法は、パネル内部の位置ずれ補正に限らず、パネル外部の位置ずれにも適用することができる。例えば、複数の電子銃を用いて電子線走査を行う際に、電子銃間の位置ずれによって生じる走査位置とピクセル座標との位置ずれ、検査領域を複数の走査領域に分け複数のパスによって走査する場合に生じる走査位置とピクセル座標との位置ずれに対して、これらの境界のつなぎ部分に適用することによって位置ずれを補正することができる。
【００３５】
この適用では、本発明の走査工程は、複数の走査領域において隣接する走査領域の境界で重複走査し、本発明のピクセル位置検出工程は、重複走査で取得された境界を挟んで隣接する２つの走査領域のチェッカパターンを照合し、一致するチェッカパターンに基づいて境界部分のピクセル位置を検出する。この走査工程は、複数のパスによって走査する場合には、検査領域を複数の走査領域に分割して走査すると共に、隣接する走査領域の境界を重複走査する。
【００３６】
本発明のＴＦＴアレイの検査装置の形態は、荷電粒子ビームをＴＦＴアレイ上で二次元的に走査して、表面電位の走査画像を形成し、この走査画像からＴＦＴアレイの欠陥検査を行うＴＦＴアレイの検査装置である。
【００３７】
本発明のＴＦＴアレイの検査装置は、ＴＦＴアレイに検査信号を印加して当該ＴＦＴアレイに二次元的な所定パターンの電位分布を形成する検査信号印加部と、検査信号を印加したＴＦＴアレイに荷電粒子ビームを二次元的に走査して表面電位の走査画像を形成する荷電粒子ビーム源および走査制御部と、荷電粒子ビームの走査によってＴＦＴ基板から放出される二次電子の検出信号を検出する検出器と、検出信号で得られる走査画像から各ピクセルの位置を検出するピクセル位置検出部と、各ピクセルの信号強度を検出する信号強度検出部と、信号強度をデータ処理することによって欠陥ピクセルを抽出するデータ処理部とを備える。
【００３８】
本発明の検査信号印加部は、二次元配列される複数のピクセルの内で隣接するピクセル間において、互いに相対的に高い電位と低い電位とを交互に印加する検査信号を印加し、ＴＦＴアレイに相対的に高い電位と低い電位がチェッカパターンで配置される電位分布を形成する。本発明のピクセル位置検出部は、チェッカパターンの電位分布で得られる走査画像のチェッカパターンとピクセル配列との対応関係から両者の位置関係を求め、この位置関係に基づいて走査画像の走査位置をピクセルの座標に割り付ける。
【００３９】
本発明の荷電粒子ビーム源および走査制御部は、一ピクセルに対して複数個の荷電粒子ビームを照射し、本発明のピクセル位置検出部は、チェッカパターンの各格子部分において、当該格子部に含まれる複数個の走査位置の重心の位置座標を算出し、算出した重心の配列とピクセル配列とを比較して、ピクセルに対する重心の位置ずれを求め、求めた位置ずれに基づいて重心の位置座標を補正し、補正した重心座標をチェッカ部分に対応するピクセルの位置座標としてピクセル位置を算出する。
【００４０】
また、パネル内部の位置ずれ補正に限らず、パネル外部の位置ずれにも適用する場合には、本発明の荷電粒子ビーム源および走査制御部は、複数の走査領域において隣接する走査領域の境界で重複走査し、本発明のピクセル位置検出部は、重複走査で取得された境界を挟んで隣接する２つの走査領域のチェッカパターンを照合し、一致するチェッカパターンに基づいて境界部分のピクセル位置を検出する。
【００４１】
複数のパスによって走査する場合には、本発明の荷電粒子ビーム源および走査制御部は、検査領域を複数の走査領域に分割して走査すると共に、隣接する走査領域の境界において重複走査する。
【００４２】
本発明のＴＦＴアレイ検査方法およびＴＦＴアレイ検査装置によれば、アレイ検査においてピクセルの位置の座標精度を向上させることができ、また、パス間や電子銃間、あるいはフレーム間において走査が分離される場合であっても、ピクセルの位置の座標を高い精度で算出することができる。
【００４３】
また、ピクセル内に複数の照射点を有する場合には、ピクセルの位置の算出に用いて重心を利用し、重心の周辺の検出信号データを用いて欠陥検出を行うことによって、欠陥の検出精度を向上させることができる。
【００４４】
ピクセルの位置精度が高まることによって、生産ラインでの欠陥検出精度が向上し、リペアによる歩留まりが向上する。
【００４５】
また、本発明のＴＦＴアレイ検査において、ピクセルの位置検出はＴＦＴアレイ検査による欠陥検出と並行処理が可能であるため、検査タクトに影響することなく行うことができる。
【発明の効果】
【００４６】
本発明によれば、ＴＦＴアレイの検査において、パネルの内部での位置誤差を補正することができ、ピクセル座標の位置精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明のＴＦＴアレイ検査においてピクセルの位置を算出する工程を説明するためのフローチャートである。
【図２】本発明のＴＦＴアレイ検査においてピクセルの位置を算出する工程を説明するための説明図である。
【図３】本発明のＴＦＴアレイ検査装置の一例を説明するための概略図である。
【図４】本発明のＴＦＴアレイ検査において１ピクセルに対して複数点への照射する例を説明するための図である。
【図５】本発明のＴＦＴアレイ検査において１ピクセルに対して複数点への照射する例を説明するための図である。
【図６】本発明の重複画像を用いた走査画像のつなぎ合わせを説明するための図である。
【図７】本発明の重複画像を用いた走査画像のつなぎ合わせを説明するための図である。
【図８】本発明の重複画像を用いた走査画像のつなぎ合わせを説明するための図である。
【図９】本発明の重複画像を用いた走査画像のつなぎ合わせを説明するための図である。
【図１０】本発明のＴＦＴアレイにおいて１ピクセル当たり複数照射点を照射する走査例を説明するための図である。
【図１１】チェッカパターンの電位分布を形成するための検査信号を示す図である。
【図１２】チェッカパターンの検査信号を印加されたピクセルの電圧状態を示す図である。
【図１３】従来の検出信号データのピクセルへの割り付けを説明するための説明図である。
【図１４】従来の電子線の照射位置がピクセルに対して位置ずれした場合を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００４８】
以下、本発明の実施の形態について、図を参照しながら詳細に説明する。
図１、図２は、本発明のＴＦＴアレイ検査において、ピクセルの位置を算出する工程を説明するためのフローチャート、および説明図である。
【００４９】
はじめに、検査信号印加工程によって、ＴＦＴアレイに検査信号を印加してＴＦＴアレイに二次元的な所定パターンの電位分布を形成する。この検査信号印加工程では、二次元配列される複数のピクセルの内で隣接するピクセル間において、互いに相対的に高い電位と低い電位とを交互に印加する検査信号を印加し、ＴＦＴアレイに相対的に高い電位と低い電位がチェッカパターンで配置される電位分布を形成する。
【００５０】
この検査信号の印加は、例えば、プローバフレームに設けたプロープピンを基板に配設した電極に接触させることで行うことができる(S1)。
【００５１】
検査信号印加工程によってＴＦＴアレイにチェッカパターンの電位分布を形成した状態で、電子銃から電子線を照射して基板上を走査し、電子線が照射された基板から放出される二次電子を検出器で検出し、検出信号を取得する。
【００５２】
図２（ａ）は検出信号を説明するための信号図である。ここでは、二つの電位状態にあるピクセルを走査して得られる検出信号を示している。この検出信号の信号強度は、基板上の電位に応じた値となる。パネルに印加される検査信号は、互いに隣接するピクセルに異なる電圧を印加するため、ＴＦＴアレイにはチェッカパターンによる電位分布が形成される。これにより、検出信号はチェッカパターンに対応して交互に電圧が高低となる信号強度が検出される（S2）。
【００５３】
S2の工程で検出した検出信号に基づいて走査画像を形成する。走査画像は、ＴＦＴアレイに印加した検査信号によって形成された表面電位分布を表しており、パネル上に形成されているチェッカパターンの電位分布に応じてチェッカパターンの画像となる。チェッカパターンは、ピクセル単位で隣接するピクセルに対して互いに異なる電圧が印加されているため、チェッカパターンの画像は、各ピクセルに対応したチェッカパターンを形成することになる。
【００５４】
図２（ｂ）は、図２（ａ）の検出信号から形成される走査画像例を示している。ここでは、検出信号の信号強度が高い部分を白地で示し、検出信号の信号強度が低い部分を灰色で示し、チェッカパターンの走査画像が形成される（S3）。
【００５５】
走査画像とピクセルと対応関係にあるため、走査画像の検出点の座標を求めることによって、ピクセルの位置を算出することができる。走査画像の検出点の座標は、電子線の走査制御から取得することができ、例えば、電子線の照射位置の座標から取得することができる。このとき、１ピクセル内に電子線を複数箇所に照射する多点打ちを行う場合には、ピクセル内の検出点の重心を求め、この重心をピクセルの位置座標として算出する。
【００５６】
図２（ｂ）において、走査画像２０中のチェッカパターン２１の各格子部分において、各検出点３０を繋いで座標パターン３１を形成する。検出点３０の座標に位置ずれがある場合には、形成された座標パターン３１は歪みを含んだ形状となる。図２（ｂ）、（ｃ）ではｘ方向（横方向、図中の左右方向）およびにｙ方向（縦方向、図中の上下方向）に位置ずれがある場合を示している(S4)。
【００５７】
S4の工程で算出した検出点の座標あるいは重心の座標を用いて、これらの各座標の位置ずれを補正する。この補正は、例えば、各検出点間の間隔を求め、これらの間隔の平均を算出し、算出した平均間隔に基づいて各検出点の位置を補正する。図５（ｄ）は、座標パターン３１を補正して得られる補正座標パターン３２の例を示している（S5）。
【００５８】
S4の工程で算出し、S5の工程で補正した検出点の座標あるいは重心の座標を対応するピクセル４０の位置としてする。図２（ｅ）は、補正座標パターン３２の格子点を各ピクセル４０の位置座標として算出する例を示している（S6）。
【００５９】
ＴＦＴアレイの欠陥検出は、S6の工程で算出した各ピクセルについて、信号強度検出工程によって検出信号の信号強度を検出し、データ処理工程によって信号強度をデータ処理することによって欠陥ピクセルを抽出する。
【００６０】
図３は、本発明のＴＦＴアレイ検査装置の一例を説明するための概略図である。
【００６１】
ＴＦＴアレイ検査装置１は、基板７の電位状態を検出する構成として、電子ビーム等の荷電粒子ビームを基板７のＴＦＴアレイに照射する荷電粒子ビーム源２と、この荷電粒子ビームをＴＦＴアレイ上で走査させるための走査制御部４と、荷電粒子ビームの照射によってＴＦＴアレイから放出される二次電子を検出する検出器３を備える。
【００６２】
走査制御部４は、基板７上のＴＦＴアレイの検査位置を走査するために、ステージ６や荷電粒子ビーム源２を制御する。ステージ６は、載置する基板７をＸＹ方向に移動し、また、荷電粒子ビーム源２は基板７に照射する電子線をＸＹ方向に振ることで、荷電粒子ビームの照射位置を走査する。この走査による荷電粒子ビームの走査位置が検出位置となる。
【００６３】
ＴＦＴ基板の電圧印加状態を検出する機構は種々の構成とすることができる。例えば、荷電粒子ビームとして電子線を用いる場合には、基板７上に電子線を照射する電子線源を配置し、照射された電子線によって基板７から放出される二次電子を検出する二次電子検出器を設ける。電子線が照射されたＴＦＴアレイは、印加された検査信号による電位状態に応じた量の二次電子を放出するため、この二次電子の検出信号強度からＴＦＴアレイの電位状態を検出することができる。
【００６４】
また、ＴＦＴアレイ検査装置１は、基板７のＴＦＴアレイに検査信号を印加して所定の電位パターンを形成するための検査信号印加部の構成として、アレイ検査用の検査信号を生成して印加する検査信号生成部１０と、検査信号生成部１０で生成した検査信号を基板７のＴＦＴアレイに供給するプローバ５を備える。
【００６５】
プローバ５は、プローブピン（図示していない）が設けられたプローバフレームを備える。プローバ５は、基板７上への載置動作等によってプローブピンを基板７に形成した電極に接触させ、ＴＦＴアレイに検査信号を供給する。
【００６６】
さらに、ＴＦＴアレイ検査装置１は、検出器３で検出した検出信号に基づいて走査画像を形成し、走査画像から各ピクセルの信号強度を検出する信号強度検出部１１と、信号強度検出部１１で検出した信号強度を信号処理することによって走査画像に対するピクセルの位置を検出するピクセル位置検出部１２と、走査画像の取得データからピクセルの信号強度を算出するピクセル強度算出部１３と、ピクセルの信号強度に基づいて欠陥を抽出する欠陥抽出部１４とを備える。
【００６７】
信号強度検出部１１は、検出器３で検出した検出信号を、検査信号生成部１０の検査信号と同期することによって走査画像を形成する。欠陥抽出部１４は、ピクセル強度算出部１３で得た各ピクセルの信号強度を閾値と比較し、比較結果に基づいてピクセルの欠陥判定を行い、欠陥ピクセルを抽出する。
【００６８】
欠陥抽出に用いる閾値は記憶部（図示していない）に記憶しておき、記憶部から読み出した閾値を比較部（図示していない）で比較する構成とすることができる。この構成は、信号強度と比較をソフトウエアによるデータ比較で行う他、比較回路をハードウエアで構成することもできる。
【００６９】
なお、上記したＴＦＴアレイ検査装置の構成は一例であり、この構成に限られるものではない。
【００７０】
前記の説明では、１ピクセルに対して照射点（検出点）が１点である例を用いて説明している。以下では、１ピクセルに対して照射点（検出点）が複数点である例について図４，５を用いて説明する。１ピクセルに対して照射点（検出点）が複数点ある場合には、これらの照射点の重心を算出し、この重心を用いてピクセルの位置を算出する。
【００７１】
図４（ａ）は１ピクセル当たり４点の照射点の電子線を照射することで４検出点から検出信号を取得する例を示している。
【００７２】
このＴＦＴアレイに対してチェッカパターンの検査信号を印加し、この検査信号の印加で形成される電位状態を１ピクセル当たり４点に電子線を照射し、取得される検出信号から走査画像を形成すると、図４（ａ）のチェッカパターンの走査画像が得られる。図４（ａ）中の○は高電位のピクセルから得られる走査画像の検出点を示し、●は低電位のピクセルから得られる走査画像の検出点を示している。
【００７３】
ここで、隣接する同電位の４つの検出点は同一のピクセルから検出される検出点である。本発明では、これらの４つの検出点の重心を算出し、算出した重心の位置をピクセルの位置とする。図４（ｂ）中の斜線を施した点Ｇ１１〜Ｇ４３は、それぞれ隣接する４つの検出点から算出した重心を示している。重心Ｇ１１〜Ｇ４３を、ｘ方向（横方向、図中の左右方向）およびにｙ方向（縦方向、図中の上下方向）に繋ぐことによって、重心から得られるピクセルの位置配列を求めることができる。図４（ｂ）中の破線はこの重心の配列を示している。破線で示される重心の配列の位置ずれは、検出点の位置の位置ずれを反映している。
【００７４】
ピクセルはパネル内においてｘ方向およびｙ方向に整列配置されている。そのため、算出された重心配列がｘ方向あるいはｙ方向から位置ずれしている場合には、重心の位置が位置ずれしていることを示している。
【００７５】
そのため、位置ずれを含む重心の配列に基づいてピクセルの位置を定めた場合には、得られたピクセル位置は位置ずれを含むことになる。
【００７６】
このピクセルの位置ずれを解消するために、本発明は重心の位置ずれを補正する。重心の位置ずれの補正は、例えば、各重心間の間隔の平均を算出し、この平均間隔に基づいて各重心がｘ方向およびｙ方向で格子状に配列されるように重心の位置を補正する演算によって行うことができる。基準位置は、例えば、全ピクセルの重心の平均位置に定めることができる。
【００７７】
なお、上記した重心の位置ずれの補正方法は一例であり、上記補正方法に限られるものではない。
【００７８】
図５（ａ）は補正前の重心配列を補正後に重心配列を示している。図中の一点鎖線は補正前の重心配列を示し、図中の実線は補正後の重心配列を示している。補正後の重心配列に基づいてピクセルの位置を定めることによって、位置ずれを補正したピクセル位置を求めることができる。図５（ｂ）は補正後の重心配列（破線で示す）に基づいて定めたピクセル配列を示している。
【００７９】
次に、パス間や電子銃間、あるいはフレーム間において走査が分離される場合に生じる位置ずれの補正について説明する。
【００８０】
ＴＦＴアレイ検査において広い面積のパネルを検査する際に、検査領域を複数の走査領域に分割して走査する場合がある。このような分割した走査領域の走査では、例えば、各走査領域に対して一つの電子銃を用いて走査範囲を移動させることで走査する場合や、複数の走査領域に対して複数の電子銃を設け、各電子銃によって走査領域を走査する場合がある。
【００８１】
上記のように、検査領域を複数の走査範囲に分割して走査する場合には、各走査範囲で得られた走査画像をつなぎ合わせてパネル全体の走査画像を形成する必要がある。この走査画像の結合では、走査画像の境界部分において走査画像を位置合わせする必要があるが、検出信号にずれが生じた場合には、ピクセルの端部の画像が欠損するおそれがある。このようにピクセルの画像の欠損部分が発生すると、パネル全体の走査画像を形成した際にピクセルの抜けが生じ、欠陥検出の誤りが生じる要因となる。
【００８２】
また、パネルへの検査信号の印加を複数のプローバフレームを用いて行う場合についても、各プローバフレームで得られる走査画像のつなぎ合わせにおいても同様の問題が生じる。
【００８３】
このような問題に対して、隣接する走査範囲の境界部分を挟んで重複走査することによって、ピクセルの端部の画像欠損を解消する。この重複走査で得られる走査画像をつなぎ合わせるには、重複部分を確認する必要がある。
【００８４】
しかしながら、従来用いられている検査信号は、パネル全体を高電圧あるいは低電圧の電位状態とする電位パターンを形成するものであるため、重複画像から隣接する走査範囲の境界部分を識別することは困難であり、重複走査を行うことによって隣接する走査範囲の結合を行うことは困難となっている。
【００８５】
本発明は、隣接するピクセルが互いに異なる電位状態となるチェッカパターンを用いることによって、隣接する走査範囲で取得した重複範囲から同一のピクセルを識別し、これによって走査範囲から有効範囲を抽出し、過不足の無い全走査画像を形成する。
【００８６】
以下に図６〜図９を用いて、重複画像を用いた走査画像のつなぎ合わせについて説明する。図６，図７は、図中の左方の走査範囲において端部のピクセルの走査画像の一部に欠損が生じた場合を示し、図８，図９は、図中の右方の走査範囲において端部のピクセルの走査画像の一部に欠損が生じた場合を示している。なお、ここでは、走査画像の欠損は一ピクセルの範囲内である場合を示している。
【００８７】
はじめに、図６，図７を用いて、図中の左方の走査範囲において端部のピクセルの走査画像の一部に欠損が生じた場合について説明する。
【００８８】
図６（ａ）は、境界Ｃを挟んで図中の左方に位置する正常走査範囲Ａと図中の右方に位置する正常走査範囲Ｂを示している。走査範囲に位置ずれが生じていない場合には、境界Ｃの左方の領域については正常走査範囲Ａによって走査画像を取得し、境界Ｃの右方の領域については正常走査範囲Ｂによって走査画像を取得する。
【００８９】
図６（ｂ）は、走査範囲が図中の左方方向に位置ずれした状態を示している。この場合には、走査範囲ａと走査範囲ｂの境界Ｄは正常時の境界Ｃから図中の左方に位置ずれし、正常走査範囲Ａの端部のピクセルにおける走査画像に欠損部分Ｅが生じ、一方、正常走査範囲Ｂの端部のピクセルにおける走査画像に過剰部分Ｆが生じる。この欠損部分Ｅおよび過剰部分Ｆは同一のピクセル部分であり、この走査範囲ａ，ｂで得られた検出信号をピクセルに割り当てると、一ピクセル分ずれることになり、誤った欠陥検出を行う要因となる。
【００９０】
そこで、走査範囲ａと走査範囲ｂの双方に重複走査範囲を設け、得られた走査画像から一致するピクセルのラインを抽出し、この一致ラインを指標として隣接する走査範囲を結合することによって、過不足のない走査範囲を形成する。
【００９１】
図６（ｃ）は重複走査範囲を示している。正常走査範囲Ａについては、走査範囲ａに追加して隣接する走査範囲Ｂ側に重複する重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＡを設ける。一方、正常走査範囲Ｂについては、走査範囲ｂに追加して隣接する走査範囲Ａ側に重複する重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＢを設ける。ここでは、重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＡおよび重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＢは、２ピクセル分の幅を設定している。この重複走査範囲の幅は、走査範囲に想定されるずれる量に応じて定めることができる。ここでは、走査範囲のずれ量として１ピクセル分を想定した場合の例を示している。
【００９２】
図６（ｃ）において、重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＡは３列のピクセルラインＯＡ１，ＯＡ２，ＯＡ３を含み、重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＢ３列のピクセルラインＯＢ１，ＯＢ２，ＯＢ３を含んでいる。こられのピクセルラインの内で、ピクセルラインＯＡ１とピクセルラインＯＢ１とは同一のピクセルラインＧに対応している。
【００９３】
同一ピクセルラインであるか否かは、走査画像がチェッカパターンであることに基づいて、同じ検出信号の信号強度を表すピクセルの並びを抽出することによって識別することができる。図６（ｃ）で抽出した同一のピクセルラインＧに基づいて、走査範囲ａと走査範囲ｂの有効領域を設定し、隣接する有効領域を結合する。
【００９４】
図７（ａ）において、走査範囲ａに対してピクセルラインＧを含む走査範囲を有効領域αとし、走査範囲ｂに対してピクセルラインＧを除いた走査範囲を有効領域βとして設定する。
【００９５】
このとき、重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＡの内で、ピクセルラインＧに含まれるピクセルラインＯＡ１を除いたピクセルラインＯＡ２とピクセルラインＯＡ３の検出データを破棄し、重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＢおよびピクセルラインＧの検出データを破棄する。なお、重複走査範囲で抽出されたピクセルラインの検出データを何れの有効領域に組み込むかは任意に設定することができる。
【００９６】
図７（ｂ）は有効領域αと有効領域βの検出データを組み合わせることによって、結合した走査範囲を取得する状態を示している。重複走査範囲Ｇは一方の有効領域にのみ設定されているため、二重に設定されることはない。
【００９７】
次に、図８，図９を用いて、図中の右の走査範囲において端部のピクセルの走査画像の一部に欠損が生じた場合について説明する。
【００９８】
図８（ａ）は、境界Ｃを挟んで図中の左方の位置する正常走査範囲Ａと図中の右方の位置する正常走査範囲Ｂを示している。走査範囲に位置ずれが生じていない場合には、境界Ｃの左方の領域については正常走査範囲Ａによって走査画像を取得し、境界Ｃの右方の領域については正常走査範囲Ｂによって走査画像を取得する。
【００９９】
図８（ｂ）は、走査範囲が図中の右方方向に位置ずれした状態を示している。この場合には、走査範囲ａと走査範囲ｂの境界Ｄは正常時の境界Ｃから図中の右方に位置ずれし、正常走査範囲Ａの端部のピクセルにおける走査画像に過剰部分Ｆが生じ、一方、正常走査範囲Ｂの端部のピクセルにおける走査画像に欠損部分Ｅが生じる。この欠損部分Ｅおよび過剰部分Ｆは同一のピクセル部分であり、この走査範囲ａ，ｂで得られた検出信号をピクセルに割り当てると、一ピクセル分ずれることになり、誤った欠陥検出を行う要因となる。
【０１００】
そこで、走査範囲ａと走査範囲ｂの双方に重複走査範囲を設け、得られた走査画像から一致するピクセルのラインを抽出し、この一致ラインを指標として隣接する走査範囲を結合することによって、過不足のない走査範囲を形成する。
【０１０１】
図８（ｃ）は重複走査範囲を示している。正常走査範囲Ａについては、走査範囲ａに追加して隣接する走査範囲Ｂ側に重複する重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＡを設ける。一方、正常走査範囲Ｂについては、走査範囲ｂに追加して隣接する走査範囲Ａ側に重複する重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＢを設ける。ここでは、重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＡおよび重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＢは、２ピクセル分の幅を設定している。この重複走査範囲の幅は、走査範囲に想定されるずれる量に応じて定めることができる。ここでは、走査範囲のずれ量として１ピクセル分を想定した場合の例を示している。
【０１０２】
図８（ｃ）において、重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＡは３列のピクセルラインＯＡ１，ＯＡ２，ＯＡ３を含み、重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＢ３列のピクセルラインＯＢ１，ＯＢ２，ＯＢ３を含んでいる。こられのピクセルラインの内で、ピクセルラインＯＡ１とピクセルラインＯＢ１とは同一のピクセルラインＧに対応している。
【０１０３】
同一ピクセルラインであるか否かは、走査画像がチェッカパターンであることに基づいて、同じ検出信号の信号強度を表すピクセルの並びを抽出することによって識別することができる。図８（ｃ）で抽出した同一のピクセルラインＧに基づいて、走査範囲ａと走査範囲ｂの有効領域を設定し、隣接する有効領域を結合する。
【０１０４】
図９（ａ）において、走査範囲ａに対してピクセルラインＧを含む走査範囲を有効領域αとし、走査範囲ｂに対してピクセルラインＧを除いた走査範囲を有効領域βとして設定する。
【０１０５】
このとき、重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＡの内で、ピクセルラインＧに含まれるピクセルラインＯＡ１を除いたピクセルラインＯＡ２とピクセルラインＯＡ３の検出データを破棄し、重複走査範囲（オーバラップエリア）ＯＢおよびピクセルラインＧの検出データを破棄する。なお、重複走査範囲で抽出されたピクセルラインの検出データを何れの有効領域に組み込むかは任意に設定することができる。
【０１０６】
図９（ｂ）は有効領域αと有効領域βの検出データを組み合わせることによって、結合した走査範囲を取得する状態を示している。重複走査範囲Ｇは一方の有効領域にのみ設定されているため、二重に設定されることはない。
【０１０７】
本発明のＴＦＴアレイ検査は、走査画像の取得において、１ピクセル当たりに照射する電子線の照射点数を増やし、ピクセルの境界に跨ることなくピクセルの中心側を照射することができる照射点の個数を増やすことで、走査画像の位置分解能を高めることができる。
【０１０８】
以下、図１０を用いて１ピクセル当たり複数照射点を照射する走査例を説明する。図１０（ａ）〜（ｄ）は、１ピクセル当たり９箇所の照射点を照射する走査例を示し、図１０（ａ），（ｃ）において、Ｐaは正常なピクセルの走査画像を示し、Ｐb（斜線を施したピクセル）は欠陥ピクセルの走査画像を示している。また、図１０（ｂ），（ｄ）は取得データの信号強度を表し、欠陥ピクセルで得られる信号強度を正常なピクセルで得られる信号強度よりも大きく表している。
【０１０９】
また、図１０（ｅ）〜（ｈ）は、１ピクセル当たり４箇所の照射点を照射する走査例を示し、図１０（ｅ），（ｆ）において、Ｐaは正常なピクセルの走査画像を示し、Ｐb（斜線を施したピクセル）は欠陥ピクセルの走査画像を示している。また、図１０（ｂ），（ｄ）は取得データの信号強度を表し、欠陥ピクセルで得られる信号強度を正常なピクセルで得られる信号強度よりも大きく表している。
【０１１０】
図１０（ａ）〜（ｄ）において、１ピクセルの内側の照射領域に９個の照射点を照射する場合において、照射位置に位置ずれが生じると、照射領域に照射される９個の照射点の内で、縁側に配列される照射点は隣接するピクセルと跨るため、信号強度の誤差要因となる。一方、中心側に配列される照射点は、照射位置に位置ずれが生じた場合であっても隣接するピクセルと跨ることはなく、信号強度の誤差要因とならない。なお、ここでは、照射位置に位置ずれは１ビームピッチ以下である場合を想定している。
【０１１１】
本発明は、算出した重心の周囲にある照射位置から得られた検出信号を用いてピクセルの信号強度を算出することによって、位置ずれが生じた場合であっても隣接するピクセルに跨らない照射点の個数を確保することで、Ｓ／Ｎ比を向上させることができる。例えば、１ピクセル当たり９点の照射点を照射する場合には、最も位置ずれが大きい場合であっても、ピクセル内に４個の照射点を確保することができる。中心側に配置される複数の照射点（ここでは４個の照射点）で得られる取得データを用いてピクセルの検出信号を求めることによって、照射位置に位置ずれが生じた場合であっても、隣接するピクセルと跨ることによる誤差要因を避ける。
【０１１２】
図１０（ａ）はピクセルに対して照射位置が位置ずれしていない場合の走査画像例と取得データ例を示している。この場合には、１ピクセルの内に９個の照射点が照射される。
【０１１３】
照射位置に位置ずれが生じない場合には、ピクセルの重心の周囲にある照射点は、ピクセル内の９個の照射点となり、これらの検出信号の信号強度を用いることでＳ／Ｎを向上させることができる。これは、ノイズ成分の多くは照射点を単位として発生し、ピクセル内に照射する全照射点について同時にノイズが発生することは少なく、多くは１照射点のノイズであるため、ピクセル内の照射点の検出信号の信号強度を用いて平均化することによってノイズ成分の比率を低下させてＳ／Ｎ比を向上させることができる。
【０１１４】
図１０（ｃ）はピクセルに対して照射位置が位置ずれした場合の走査画像例と取得データ例を示している。照射位置に位置ずれが生じた場合には、１ピクセル当たりに照射される９個の照射点の内で、縁側にある照射点は隣接するピクセルと跨るため、信号強度の誤差要因となる。一方、中心側にある４点の照射点は、照射位置に位置ずれが生じた場合であっても隣接するピクセルと跨ることはなく、信号強度の誤差要因とならない。なお、ここでは、照射位置に位置ずれは１ビームピッチ以下である場合を想定している。
【０１１５】
したがって、走査画像において、１ピクセル当たりに照射する照射点の点数を増加させ、算出した重心の周囲にある照射点から得られる取得データを用いることによって、照射位置に位置ずれの有無に係わらず、誤差要因とならない取得データを取得することができる。
【０１１６】
図１０（ｂ）に示す、照射位置に位置ずれがない場合の信号強度例では、欠陥ピクセルＰbで検出される取得データの信号強度は、欠陥を表すレベルが連続して現れるため、ノイズによって発生するピーク値と識別することができる。
【０１１７】
また、図１０（ｄ）に示す、照射位置に位置ずれがある場合の信号強度例においても、欠陥ピクセルＰbで検出される取得データの信号強度は、欠陥を表すレベルが連続して現れるため、図１０（ｂ）の場合と同様に、ノイズによって発生するピーク値と識別することができる。
【０１１８】
一方、図１０（ｅ）〜図１０（ｈ）は１ピクセル当たり４照射点の例を示している。図１０（ｅ）は１ピクセル内に４照射点が照射される場合を示し、図１０（ｆ）はピクセルに対して照射位置が位置ずれして、ピクセルの信号強度を表す照射点が１点のみである場合を示している。
【０１１９】
図１０（ｇ）に示すように、１ピクセル内に４照射点が照射される場合には、欠陥ピクセルでは所定レベル以上の信号強度が連続して現れるため、ピーク的に発生するノイズ分と容易に識別することができる。これに対して、図１０（ｈ）に示すように、１ピクセル内に１照射点のみ照射され場合には、欠陥ピクセルでは所定レベル以上の信号強度が連続して現れないため、ピーク的に発生するノイズ分と識別することは困難である。
【０１２０】
ビームピッチを小さくすることによって、走査画像の位置分解能を高めることができるが、ビームピッチを小さくすると１ピクセル当たりの照射点数が増加して全体の検査時間が長時間化するため、ビームピッチを小さくすることができない。上記したように複数フレームの走査画像を積分する方法では、１ピクセルについて、１ピクセル当たりの照射点にフレーム数を乗じた回数分のビーム照射を行う必要があるため、検査時間が長時間化する。例えば、１ピクセルについて４点の照射を行い、２０フレーム分の走査画像を得るためには、１ピクセル当たり８０照射点（＝４照射点×２０フレーム）に電子線を照射する必要がある。
【０１２１】
図１０（ａ）〜図１０（ｄ）に示したように１ピクセル内の照射点を増やし、重心の周囲にある照射点の検出信号の信号強度を用いることによって、図１０（ｅ）〜図１０（ｈ）に示したように１ピクセル内の照射点が少ない場合と比較して、Ｓ／Ｎを向上させることができる効果の他に、走査時間を短縮して検査時間を短縮させることができるという効果を奏することができる。
【０１２２】
図１１はチェッカパターンの電位分布を形成するの検査信号であり、図１２（ａ），（ｂ）は図１１で示す検査信号を印加してピクセルを駆動した際に発生するピクセル（ＩＴＯ）の電圧状態を示している。
【０１２３】
図１１（ａ），（ｂ）はゲート信号を示し、図１１（ｃ），（ｄ）はソース信号を示している。図１１（ａ），（ｂ）のゲート信号と図１１（ｃ），（ｄ）のソース信号との組み合わせによって、ＴＦＴアレイのピクセルに正電圧（ここでは１０ｖ）と負電圧（ここでは−１０ｖ）を交互に市松パターンで印加し、図１２（ａ）、（ｂ）に示すように、ピクセルに異なる電圧（ここでは１０ｖおよび−１０Ｖ）を交互に印加して駆動し、隣接するピクセルを互いに異なる電位状態とする。
【０１２４】
本発明の形態によれば、複数回の走査で取得した複数フレームの走査画像を加算することなく、１回の走査で取得した走査画像をもとに欠陥検出を行うことができるため、検査時間を短縮することができる。例えば、１ピクセル当たりの照射点数を４点とし、合計２０フレーム分の走査画像を取得する場合には、１ピクセルについて８０点の照射を行う必要があるが、本発明によれば、１ピクセル当たりの照射点数を９点として２フレーム分の走査画像を取得することによって、１ピクセルの照射点数を１８点に減少させることができ、走査に要する時間については約１８／８０に短縮することができる。
【０１２５】
また、本発明の形態によれば、１ピクセル当たりの照射点数を増加させることによって、ピクセルサイズよりも小さな欠陥を検出することができ、また、欠陥部分の形状についても検出することができる。
【０１２６】
また、本発明の形態によれば、ピクセル位置の座標誤差を低減して欠陥位置の位置精度を向上させることによって、欠陥部位のサイズが実際のサイズよりも膨張して検出したり、逆に縮小して検出するなどの欠陥の検出精度の低下を抑制することができる。
【０１２７】
また、本発明の形態によれば、１ピクセル当たりの照射点数を増加させることによって、取得データのデータ数を増加させて、耐ノイズ性を向上させることができる。
【産業上の利用可能性】
【０１２８】
本発明は、液晶製造装置におけるＴＦＴアレイ検査工程の他、有機ＥＬや種々の半導体基板が備えるＴＦＴアレイの欠陥検査に適用することができる。
【符号の説明】
【０１２９】
１…アレイ検査装置、２…荷電粒子ビーム源、３…検出器、４…走査制御部、５…プローバ、６…ステージ、７…基板、１０…検査信号生成部、１１…信号強度検出部、１２…ピクセル位置検出部、１３…ピクセル強度算出部、１４…欠陥抽出部、２０…走査画像、２１…チェッカパターン、３０…検出点、３１…座標パターン、３２…補正座標パターン、４０…ピクセル、１００…基板、１０１…パネル、１０２…ピクセル、１０３…照射位置、１０４…アライメントマーク。
【図１】
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【図３】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図２】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１４】
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