(57)【要約】【課題】  多階調のハーフ露光をした後、現像して得られる感光性材料膜の形状不良の発生を未然に防ぐ。【解決手段】  基板の上に形成した未感光の感光性材料膜を露光、現像して、前記基板の上に、厚さが２通り以上の前記感光性材料膜を形成する工程を有する表示装置の製造方法であって、当該工程は、前記感光性材料膜を露光するときに、ＣＡＤで作成されたレイアウトデータに基づいて、当該感光性材料膜を、完全に感光させる領域と、全く感光させない領域と、前記完全に感光させる領域に対する露光条件とは異なる条件で露光するハーフ露光領域とに分け、前記ハーフ露光領域は、感光させる厚さと感光させない厚さの比が異なる複数の露光条件のうちのいずれかを選択して露光し、前記レイアウトデータは、前記ハーフ露光領域を示す図形が当該領域に対する露光条件と対応した文字情報を有するパターンで塗りつぶされている表示装置の製造方法。【選択図】        図６（ａ）
2010243555.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に形成した未感光の感光性材料膜を露光、現像して、前記基板の上に、厚さが２通り以上の前記感光性材料膜を形成する工程を有する表示装置の製造方法であって、
当該工程は、前記未感光の感光性材料膜を露光するときに、ＣＡＤ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ａｉｄｅｄ  Ｄｅｓｉｇｎ）で作成されたレイアウトデータに基づいて、当該未感光の感光性材料膜を、完全に感光させる領域と、全く感光させない領域と、前記完全に感光させる領域に対する露光条件とは異なる条件で露光するハーフ露光領域とに分け、
前記ハーフ露光領域は、感光させる厚さと感光させない厚さの比が異なる複数の露光条件のうちのいずれかを選択して露光し、
前記レイアウトデータは、前記ハーフ露光領域を示す図形が当該領域に対する露光条件と対応した文字情報を有するパターンで塗りつぶされていることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記ハーフ露光領域は、前記基板に複数存在し、
前記未感光の感光性材料膜を露光するときの前記複数の前記ハーフ露光領域に対する露光条件は２通り以上であり、かつ、個々の前記ハーフ露光領域は前記複数の露光条件のうちのいずれか１つの露光条件で露光し、
前記未感光の感光性材料膜を露光、現像した後に得られる前記感光性材料膜の厚さを３通り以上にすることを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記厚さが２通り以上の前記感光性材料膜は、前記基板の上に形成された絶縁層の上に形成し、
当該感光性材料膜を形成した後、
当該感光性材料膜をマスクにして前記絶縁層をエッチングするとともに、前記感光性材料膜の灰化処理を行って、前記絶縁層の表面に段差を形成することを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記厚さが２通り以上の前記感光性材料膜は、前記基板の上に形成された絶縁層の上に形成し、
当該感光性材料膜を形成した後、
当該感光性材料膜をマスクにして前記絶縁層をエッチングする工程と、前記感光性材料膜の灰化処理を行う工程とを繰り返し、前記絶縁層の表面に段差を形成することを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
当該表示装置の製造方法は、前記基板の上に第１の絶縁層を形成する工程と、前記第１の絶縁層の上に第１の電極および前記第１の電極を覆う第２の絶縁層を形成する工程と、前記第２の絶縁層の上に第２の電極を形成する工程を有し、
前記厚さが２通り以上の前記感光性材料膜を形成する工程は、前記第１の絶縁層を形成する工程と、前記第１の電極および前記第２の絶縁層を形成する工程との間で行うことを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記未感光の感光性材料膜の露光は、前記レイアウトデータに基づいて作成されたフォトマスクを有する露光装置を用いて行うことを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記未感光の感光性材料膜の露光は、１度に露光可能な領域が前記未感光の感光性材料膜の露光対象領域よりも小さい光学系と、
当該光学系を走査して前記未感光の感光性材料膜の露光対象領域の全体を露光する過程で、前記１度に露光可能な領域と前記感光性材料膜との位置関係および前記レイアウトデータに基づいて、前記感光性材料膜に照射する光の強度または光の照射時間あるいはその両方を制御する制御手段を有する露光装置を用いて行うことを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置の製造方法に関し、特に、液晶表示装置の製造方法に適用して有効な技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、表示装置には、一対の基板の間に液晶材料を封入した液晶表示パネルを有する液晶表示装置がある。このとき、一対の基板のうちの一方の基板は、たとえば、複数の走査信号線、複数の映像信号線、複数のＴＦＴ素子（アクティブ素子）、およびＴＦＴ素子に接続された画素電極などを有し、一般に、ＴＦＴ基板、アクティブマトリクス基板などと呼ばれている。
【０００３】
前記ＴＦＴ基板の製造方法では、通常、ガラス基板などの絶縁基板の上に形成した未感光の感光性材料膜を露光、現像する工程を複数回有する。
【０００４】
また、近年のＴＦＴ基板の製造方法では、感光性材料膜の露光、現像をする工程の回数を減らすために、たとえば、ハーフ露光と呼ばれる露光技術を用いることがある。
【０００５】
ハーフ露光というのは、１つの感光性材料膜を露光するときに、完全に感光させる領域と、全く感光させない領域の他に、たとえば、感光性材料膜の表面から所定の深さまでを感光させる領域を設ける露光方法である。このとき、感光性材料膜の表面から所定の深さまで感光させるには、たとえば、照射する光の強度または光の照射時間あるいはその両方を、完全に感光させる領域に対する値よりも小さな値にする。このようにすると、現像した後で得られる感光性材料膜は、たとえば、厚さを２通りにすることができる。
【０００６】
このとき、現像した後で得られる厚さが２通りの感光性材料膜は、たとえば、当該感光性材料膜のうちの最も薄い部分が無くなるまで感光性材料膜の全体を薄くすると、感光性材料膜の平面形状が変化する。そのため、たとえば、現像した直後に得られる感光性材料膜をマスクにして第１の被エッチング膜をエッチングした後、当該感光性材料膜を薄くして、第２の被エッチング膜をエッチングするというようなことが可能になり、感光性材料膜を露光、現像する工程の回数を減らすことができる。
【０００７】
また、ハーフ露光は、近年、多階調化、すなわち、感光させる厚さと感光させない厚さとの比を多段階で制御することが可能になってきており、１回の露光、現像で、厚さが３通り以上の感光性材料膜を形成することが可能になってきている（たとえば、特許文献１を参照）。
【０００８】
このような多階調のハーフ露光を用いると、たとえば、半透過型と呼ばれる液晶表示パネルの反射領域における光の反射効率を高めるために反射領域の光反射層を形成する面に設ける凹凸を形成するときに、感光性材料膜の露光、現像を１回にすることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】米国特許第７２８６１５５号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、感光性材料膜の露光は、通常、ＣＡＤ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ａｉｄｅｄ  Ｄｅｓｉｇｎ）などで作成されたレイアウトデータに基づいて行われる。
【００１１】
ＣＡＤで作成されたレイアウトデータは、たとえば、感光性材料膜のうちの、どの領域を露光するかを示す図形データからなる。この図形データは、たとえば、位置を特定する相対座標や図形を特定する寸法などからなる数値データである。
【００１２】
また、ＣＡＤで作成したレイアウトデータは、たとえば、コンピュータのディスプレイなどに表示して可視化させることができる。
【００１３】
感光性材料膜の露光が、たとえば、完全に感光させるか、全く感光させないかの２つに限定されている場合、ＣＡＤを用いたレイアウトデータの作成は、たとえば、完全に感光させる領域を指定する図形を描画し、当該図形の内部領域を、白色以外の所定のパターンで塗りつぶす。このようにすると、たとえば、所定のパターンで塗りつぶされた図形の位置、形状、寸法を見ることで、作成されたレイアウトデータの検査、検証を容易にすることができる。
【００１４】
これに対し、ハーフ露光を行う場合、１つの感光性材料膜を露光するときに感光させる領域は、照射する光の強度または光の照射時間などの露光条件が異なる領域が存在する。そのため、ＣＡＤを用いてレイアウトデータを作成するときには、どの領域（図形）を、どの露光条件で露光するかがわかるように、たとえば、完全に感光させる領域を示す図形の塗りつぶしパターンと、所定の深さまで感光させる領域を示す図形の塗りつぶしパターンを異なるパターンにする必要がある。
【００１５】
しかしながら、従来のＣＡＤを用いたレイアウトデータの作成方法では、図形の塗りつぶしに使用するパターンが、たとえば、単位面積あたりのドット（点）の数が異なるパターンや、線の太さや間隔が異なる平行斜線群のパターンなどの、いわゆる汎用のパターンである。そのため、全く感光させない領域を除く他の領域の露光条件が２通り以上の場合、たとえば、対応表などを用意して、塗りつぶしパターンと露光条件との対応関係を明確にする必要がある。
【００１６】
また、塗りつぶしパターンと露光条件との対応関係は、通常、任意であり、たとえば、レイアウトデータを作成する人によって異なることもある。
【００１７】
またさらに、多階調のハーフ露光を用い、１回の露光、現像で、厚さが３通り以上の感光性材料膜を形成する場合は、図形の塗りつぶしパターンが３種類以上必要になる。
【００１８】
したがって、多階調のハーフ露光を行う際に使用する従来のレイアウトデータは、たとえば、可視化して検査、検証するときに、図形の塗りつぶしのパターンと露光条件との対応関係を誤りやすい。そのため、たとえば、誤りがあるレイアウトデータを正しいレイアウトデータとしてしまう可能性が高い。その結果、レイアウトデータに基づいて露光した後、現像して得られる感光性材料膜が形状不良になる可能性が高くなるという問題があった。
【００１９】
本発明の目的は、多階調のハーフ露光をした後、現像して得られる感光性材料膜の形状不良の発生を未然に防ぐことが可能な技術を提供することにある。
【００２０】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面によって明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概略を説明すれば、以下の通りである。
【００２２】
（１）基板の上に形成した未感光の感光性材料膜を露光、現像して、前記基板の上に、厚さが２通り以上の前記感光性材料膜を形成する工程を有する表示装置の製造方法であって、当該工程は、前記未感光の感光性材料膜を露光するときに、ＣＡＤで作成されたレイアウトデータに基づいて、当該未感光の感光性材料膜を、完全に感光させる領域と、全く感光させない領域と、前記完全に感光させる領域に対する露光条件とは異なる条件で露光するハーフ露光領域とに分け、前記ハーフ露光領域は、感光させる厚さと感光させない厚さの比が異なる複数の露光条件のうちのいずれかを選択して露光し、前記レイアウトデータは、前記ハーフ露光領域を示す図形が当該領域に対する露光条件と対応した文字情報を有するパターンで塗りつぶされている表示装置の製造方法。
【００２３】
（２）前記（１）の表示装置の製造方法において、前記ハーフ露光領域は、前記基板に複数存在し、前記未感光の感光性材料膜を露光するときの前記複数の前記ハーフ露光領域に対する露光条件は２通り以上であり、かつ、個々の前記ハーフ露光領域は前記複数の露光条件のうちのいずれか１つの露光条件で露光し、前記未感光の感光性材料膜を露光、現像した後に得られる前記感光性材料膜の厚さを３通り以上にする表示装置の製造方法。
【００２４】
（３）前記（１）の表示装置の製造方法において、前記厚さが２通り以上の前記感光性材料膜は、前記基板の上に形成された絶縁層の上に形成し、当該感光性材料膜を形成した後、当該感光性材料膜をマスクにして前記絶縁層をエッチングするとともに、前記感光性材料膜の灰化処理を行って、前記絶縁層の表面に段差を形成する表示装置の製造方法。
【００２５】
（４）前記（１）の表示装置の製造方法において、前記厚さが２通り以上の前記感光性材料膜は、前記基板の上に形成された絶縁層の上に形成し、当該感光性材料膜を形成した後、当該感光性材料膜をマスクにして前記絶縁層をエッチングする工程と、前記感光性材料膜の灰化処理を行う工程とを繰り返し、前記絶縁層の表面に段差を形成する表示装置の製造方法。
【００２６】
（５）前記（１）の表示装置の製造方法において、当該表示装置の製造方法は、前記基板の上に第１の絶縁層を形成する工程と、前記第１の絶縁層の上に第１の電極および前記第１の電極を覆う第２の絶縁層を形成する工程と、前記第２の絶縁層の上に第２の電極を形成する工程を有し、前記厚さが２通り以上の前記感光性材料膜を形成する工程は、前記第１の絶縁層を形成する工程と、前記第１の電極および前記第２の絶縁層を形成する工程との間で行う表示装置の製造方法。
【００２７】
（６）前記（１）の表示装置の製造方法において、前記未感光の感光性材料膜の露光は、前記レイアウトデータに基づいて作成されたフォトマスクを有する露光装置を用いて行う表示装置の製造方法。
【００２８】
（７）前記（１）の表示装置の製造方法において、前記未感光の感光性材料膜の露光は、１度に露光可能な領域が前記未感光の感光性材料膜の露光対象領域よりも小さい光学系と、当該光学系を走査して前記未感光の感光性材料膜の露光対象領域の全体を露光する過程で、前記１度に露光可能な領域と前記感光性材料膜との位置関係および前記レイアウトデータに基づいて、前記感光性材料膜に照射する光の強度または光の照射時間あるいはその両方を制御する制御手段を有する露光装置を用いて行う表示装置の製造方法。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の表示装置の製造方法によれば、多階調のハーフ露光を行うときに使用するレイアウトデータを可視化したときに、ハーフ露光を行う領域（図形）が、当該領域に対する露光条件を示す文字情報を有するパターンで塗りつぶされている。そのため、たとえば、当該レイアウトデータを可視化して検査、検証するときに、図形と露光条件との対応関係を容易に理解でき、レイアウトデータの誤りを見落とす可能性を減らすことができる。したがって、本発明の表示装置の製造方法は、多階調のハーフ露光をした後、現像して得られる感光性材料膜の形状不良の発生を未然に防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明に関わる表示装置の製造方法で形成される絶縁層の概略構成の一例を示す模式断面図である。
【図２（ａ）】絶縁基板の上に絶縁膜および未感光の感光性材料膜を形成した直後の模式断面図である。
【図２（ｂ）】感光性材料膜の露光方法を説明するための模式断面図である。
【図２（ｃ）】露光した感光性材料膜を現像して得られる感光性材料膜の断面構成を示す模式断面図である。
【図２（ｄ）】絶縁膜に対して第１段階のエッチングをした直後の断面構成の一例を示す模式断面図である。
【図２（ｅ）】感光性材料膜に対して第１段階の灰化処理をした直後の断面構成の一例を示す模式断面図である。
【図２（ｆ）】絶縁膜に対して第２段階のエッチングをした直後の断面構成の一例を示す模式断面図である。
【図３（ａ）】厚さが５通りの絶縁層を形成する際に使用する従来のレイアウトデータを可視化したときの構成の一例を示す模式図である。
【図３（ｂ）】図３（ａ）に示したレイアウトデータの構造の一例を示す模式図である。
【図３（ｃ）】図形の塗りつぶしパターンとハーフ露光の階調との対応表の一例を示す模式図である。
【図４】厚さが５通りの絶縁層を形成する際に使用する従来のレイアウトデータを可視化したときの構成の別の例を示す模式図である。
【図５】本発明による一実施例の感光性材料膜の露光方法の原理を示す模式図である。
【図６（ａ）】図５に示した対応関係にしたがってレイアウトデータを可視化したときの構成の一例を示す模式図である。
【図６（ｂ）】図６（ａ）に示したレイアウトデータの構造の一例を示す模式図である。
【図７（ａ）】液晶表示パネルのＴＦＴ基板における１つの画素の平面構成の一例を示す模式平面図である。
【図７（ｂ）】図７（ａ）のＬ−Ｌ’線における液晶表示パネルの断面構成の一例を示す模式断面図である。
【図８（ａ）】感光性材料膜の露光に使用するレイアウトデータの作成方法の第１段階の一例を説明するための模式図である。
【図８（ｂ）】感光性材料膜の露光に使用するレイアウトデータの作成方法の第２段階の一例を説明するための模式図である。
【図８（ｃ）】第２段階が終了した時点でのレイアウトデータの一例を示す模式図である。
【図８（ｄ）】第２段階の変形例を説明するための模式図である。
【図８（ｅ）】最終的に得られるレイアウトデータの一例を示す模式図である。
【図８（ｆ）】図８（ｅ）のレイアウトデータの構造の一例を示す模式図である。
【図９（ａ）】第４の絶縁層の上に未感光の感光性材料膜を形成した直後の断面構成の一例を示す模式断面図である。
【図９（ｂ）】感光性材料膜を露光したときの感光した部分と感光していない部分との関係を示す模式断面図である。
【図９（ｃ）】現像後に得られる感光性材料膜の断面形状の一例を示す模式断面図である。
【図９（ｄ）】感光性材料膜をマスクにしてエッチングをした直後の第４の絶縁層の断面構成の一例を示す模式断面図である。
【図９（ｅ）】加熱処理を施したあとの第４の絶縁層の断面構成の一例を示す模式断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明について、図面を参照して実施の形態（実施例）とともに詳細に説明する。
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【００３２】
図１は、本発明に関わる表示装置の製造方法で形成される絶縁層の概略構成の一例を示す模式断面図である。
【００３３】
本発明は、たとえば、絶縁基板または下地絶縁層などの平坦な面の上に、厚さが３通り以上の絶縁層を形成する工程を有する表示装置の製造方法に関する。本明細書では、厚さが３通り以上の絶縁層の形成方法の一例として、たとえば、図１に示すように、絶縁基板１の表面に、厚さが５通りの絶縁層２を形成する場合を挙げる。
【００３４】
このとき、絶縁層２は、絶縁基板１の第１の領域Ａ１の上に形成された第１の部分２ａが最も厚く、第２の領域Ａ２の上に形成された第２の部分２ｂ、第３の領域Ａ３の上に形成された第３の部分２ｃ、第４の領域Ａ４の上に形成された第４の部分２ｄ、第５の領域Ａ５の上に形成された第５の部分２ｅの順に薄くなっていく。また、絶縁基板１の第６の領域２ｆの上には、絶縁層２が形成されていない。
【００３５】
このような絶縁層２を効率よく形成する方法としては、たとえば、ハーフ露光技術を用い、下記のような手順で形成する方法が知られている。
【００３６】
図２（ａ）乃至図２（ｆ）は、図１に示した厚さが５通りの絶縁層の形成方法の一例を説明するための模式断面図である。
図２（ａ）は、絶縁基板の上に絶縁膜および未感光の感光性材料膜を形成した直後の模式断面図である。図２（ｂ）は、感光性材料膜の露光方法を説明するための模式断面図である。図２（ｃ）は、露光した感光性材料膜を現像して得られる感光性材料膜の断面構成を示す模式断面図である。図２（ｄ）は、絶縁膜に対して第１段階のエッチングをした直後の断面構成の一例を示す模式断面図である。図２（ｅ）は、感光性材料膜に対して第１段階の灰化処理をした直後の断面構成の一例を示す模式断面図である。図２（ｄ）は、絶縁膜に対して第２段階のエッチングをした直後の断面構成の一例を示す模式断面図である。
【００３７】
厚さが５通りの絶縁層２を形成するときには、まず、図２（ａ）に示すように、絶縁基板１の上に、厚さｄ１の絶縁膜２’、および厚さｄ６の未感光の感光性材料膜３’を形成する。このとき、絶縁膜２’は、たとえば、ＣＶＤ法などの成膜法を用いて、絶縁基板１のすべての領域Ａ１〜Ａ６における厚さが概ねｄ１になるように形成する。また、未感光の感光性材料膜３’は、たとえば、印刷法またはスピンコート法などを用いて、絶縁基板１のすべての領域Ａ１〜Ａ６における厚さが概ねｄ６になるように形成する。またこのとき、感光性材料膜３’は、ポジ型の感光性材料を用いて形成する。
【００３８】
次に、未感光の感光性材料膜３’を露光する。このとき、感光性材料膜３’の露光は、たとえば、図２（ｂ）に示すように、絶縁基板１の第２の領域Ａ２にある部分から第６の領域Ａ６にある部分のそれぞれに、光４Ａ〜４Ｅを照射し、網掛けをした部分を感光させる。このとき、感光性材料膜３’の露光には、多階調のハーフ露光技術を用いる。
【００３９】
すなわち、絶縁基板１のうちの第５の領域Ａ５に照射する光４Ｄは、たとえば、感光性材料膜３’のうちの第６の領域Ａ６にある部分が光４Ｅにより完全に感光する時間で、第５の領域Ａ５にある部分が表面から約０．８ｄ６の深さまで感光するような強度にする。また、絶縁基板１のうちの第４の領域Ａ４に照射する光４Ｃは、たとえば、感光性材料膜３’のうちの第６の領域Ａ６にある部分が光４Ｅにより完全に感光する時間で、第４の領域Ａ４にある部分が表面から約０．６ｄ６の深さまで感光するような強度にする。また、絶縁基板１のうちの第３の領域Ａ３に照射する光４Ｂは、たとえば、感光性材料膜３’のうちの第６の領域Ａ６にある部分が光４Ｅにより完全に感光する時間で、第３の領域Ａ３にある部分が表面から約０．４ｄ６の深さまで感光するような強度にする。また、絶縁基板１のうちの第２の領域Ａ２に照射する光４Ａは、たとえば、感光性材料膜３’のうちの第６の領域Ａ６にある部分が光４Ｅにより完全に感光する時間で、第２の領域Ａ２にある部分は表面から約０．２ｄ６の深さまで感光するような強度にする。
【００４０】
なお、感光性材料膜３’のうちの、絶縁基板１の第２の領域Ａ２にある部分から第６の領域Ａ６にある部分のそれぞれを光４Ａ〜４Ｅで感光させるときには、これに限らず、たとえば、光４Ａ〜４Ｅの強度を等しくし、照射する時間を変えてもよい。
【００４１】
このように、多階調のハーフ露光技術を用いて感光性材料膜３’を露光した後、現像すると、たとえば、図２（ｃ）に示すように、厚さが５通りの感光性材料膜３が得られる。このとき、感光性材料膜３は、第１の領域Ａ１にある部分の厚さ、第２の領域Ａ２にある部分の厚さ、第３の領域Ａ３にある部分の厚さ、第４の領域Ａ４にある部分の厚さ、第５の領域Ａ５にある部分の厚さの関係が、図１に示した絶縁層２における厚さの関係と同じ関係になる。また、第６の領域Ａ６には感光性材料膜３が形成されない。
【００４２】
上記の手順で厚さが５通りの感光性材料膜３を形成したら、次に、図２（ｄ）に示すように、当該感光性材料膜３をマスクにして絶縁膜２’に対して第１段階のエッチングを行う。第１段階のエッチングで除去されるのは、絶縁膜２’のうちの、第６の領域Ａ６にある部分だけである。また、第１段階のエッチングは、たとえば、絶縁膜２’の厚さｄ１の約１／５の厚さ（約０．２ｄ１）だけ薄くなるような条件で行う。
【００４３】
次に、たとえば、図２（ｅ）に示すように、厚さが５通りの感光性材料膜３の全体を、最も薄い部分（第５の領域Ａ５にある部分）の厚さに相当する量だけ薄くし、厚さが４通りの感光性材料膜３を形成する。感光性材料膜３の全体を薄くするには、たとえば、Ｏ_{ ２ }アッシングなどの灰化処理を行えばよい。
【００４４】
次に、たとえば、図２（ｆ）に示すように、厚さが４通りの感光性材料膜３をマスクにして絶縁層２’に対して第２段階のエッチングを行う。第２段階のエッチングで除去されるのは、絶縁膜２’のうちの、第５の領域Ａ５にある部分と第６の領域Ａ６にある部分だけである。また、第２段階のエッチングは、たとえば、それぞれの部分が、絶縁膜２’の厚さｄ１の約１／５の厚さ（約０．２ｄ１）だけ薄くなるような条件で行う。
【００４５】
その後、同様の手順で、感光性材料膜３に対する灰化処理、絶縁層２’のエッチングを繰り返すことで、図１に示したような厚さが５段階の絶縁層２を形成することができる。
【００４６】
なお、絶縁膜２’のエッチングをドライエッチングで行う場合は、たとえば、絶縁膜２’のエッチングと感光性材料膜３の灰化処理とを同時に行うこともできる。その場合は、たとえば、絶縁層２’が厚さ０．２ｄ１だけエッチングされる時間で、感光性材料膜３が厚さ０．２ｄ６だけ薄くなるように、絶縁膜２’のエッチングの速度と感光性材料膜３を薄くする速度を調節すればよい。
【００４７】
このように、多階調のハーフ露光技術を用いると、厚さが５通りの絶縁層２を形成するときの、感光性材料膜３’を露光、現像する工程を１回にでき、絶縁層２を効率よく形成することができる。
【００４８】
図３（ａ）乃至図３（ｃ）、および図４は、従来の多階調のハーフ露光技術を用いた絶縁層の形成方法で生じる問題の一例を説明するための模式図である。
図３（ａ）は、厚さが５通りの絶縁層を形成する際に使用する従来のレイアウトデータを可視化したときの構成の一例を示す模式図である。図３（ｂ）は、図３（ａ）に示したレイアウトデータの構造の一例を示す模式図である。図３（ｃ）は、図形の塗りつぶしパターンとハーフ露光の階調との対応表の一例を示す模式図である。
図４は、厚さが５通りの絶縁層を形成する際に使用する従来のレイアウトデータを可視化したときの構成の別の例を示す模式図である。
【００４９】
図１に示したような厚さが５通りの絶縁層２は、多階調のハーフ露光技術を用いると効率よく形成できることは、前述の通りである。
【００５０】
ところで、図２（ｂ）に示したように、多階調のハーフ露光技術を用いて感光性材料膜３’を露光するときには、通常、ＣＡＤなどで作成したレイアウトデータに基づいて、露光する領域と露光量（たとえば、光４Ａ〜４Ｅの強度や照射時間など）との対応関係を設定する。
【００５１】
ＣＡＤでレイアウトデータを作成するときには、通常、ディスプレイに表示されるシートの上に所定の形状および寸法の図形を描いて作成する。このとき、ディスプレイ上には、たとえば、図３（ａ）に示したようなレイアウトデータが表示される。
【００５２】
なお、図３（ａ）は、図１に示した厚さが５通りの絶縁層２を形成する際に行う感光性材料膜３’の露光で使用するレイアウトデータを可視化した例である。
【００５３】
このとき、第１の領域Ａ１、第２の領域Ａ２、第３の領域Ａ３、第４の領域Ａ４、第５の領域Ａ５、および第６の領域Ａ６は、それぞれ、露光条件が異なる。そのため、レイアウトデータを作成するときには、図３（ａ）に示したように、第１の領域Ａ１から第５の領域Ａ５のそれぞれを、異なるパターンで塗りつぶして露光条件が異なることを表す。
【００５４】
またこのとき、実際のレイアウトデータは、たとえば、図３（ｂ）に示すような構造になっており、各領域を表現する図形の種類、位置、寸法、および塗りつぶしのパターンを指定する情報が記述されている。
【００５５】
なお、図３（ｂ）において、ＦＮは図形番号であり、Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３，Ｆ４，Ｆ５は、それぞれ、第１の領域Ａ１、第２の領域Ａ２、第３の領域Ａ３、第４の領域Ａ４、第５の領域Ａ５に付す図形番号である。
【００５６】
また、図３（ｂ）において、ＦＴは図形の種類であり、Ｒｅｃｔは、それぞれの図形Ｆ１〜Ｆ５が長方形であることを表している。
【００５７】
また、図３（ｂ）において、ＦＬＩは図形の位置および寸法を指定する情報であり、図形の種類ＦＴが長方形（Ｒｅｃｔ）の場合、当該情報ＦＬＩは、たとえば、左上の頂点の座標、ｙ方向の寸法、およびｘ方向の寸法を有する。
【００５８】
また、図３（ｂ）において、ＰＰは塗りつぶしパターンであり、図形Ｆ１〜Ｆ５を、それぞれ、塗りつぶしパターンＰＰ１〜ＰＰ５で塗りつぶすことを表している。
【００５９】
また、図３（ａ）に示したレイアウトデータにおける各領域Ａ１〜Ａ５の塗りつぶしパターンＰＰ１〜ＰＰ５は、いわゆる汎用の塗りつぶしパターンであり、当該レイアウトデータを見ただけでは、領域Ａ１〜Ａ６のそれぞれを、どの露光条件で露光するかはわからない。そのため、従来のレイアウトデータの作成方法では、作成前、または作成後に、たとえば、図３（ｃ）に示すような、塗りつぶしパターンＰＰ１〜ＰＰ５と露光条件との対応関係を示す表を用意する必要がある。
【００６０】
なお、図３（ｃ）において、ＰＰは塗りつぶしパターンである。また、図３（ｃ）において、ＰＰＩＭＧは可視化した塗りつぶしパターンである。
【００６１】
また、図３（ｃ）において、ＥＸＴは露光条件であり、０は全く感光させない（光を照射しない）ことを意味し、Ｆｕｌｌは完全に感光させることを意味する。また、露光条件ＥＸＴのＨａｌｆ１〜Ｈａｌｆ４は、それぞれ、ハーフ露光を行うことを意味する。このとき、Ｈａｌｆ１は、たとえば、図２（ｂ）に示した第５の領域Ａ５のように、感光性材料膜３’のうちの第６の領域Ａ６にある部分が光４Ｅにより完全に感光する時間で、第５の領域Ａ５にある部分が表面から約０．８ｄ６の深さまで感光するような強度の光４Ｄで露光することを意味する。また、Ｈａｌｆ２は、たとえば、図２（ｂ）に示した第４の領域Ａ４のように、感光性材料膜３’のうちの第６の領域Ａ６にある部分が光４Ｅにより完全に感光する時間で、第４の領域Ａ４にある部分が表面から約０．６ｄ６の深さまで感光するような強度の光４Ｃで露光することを意味する。また、Ｈａｌｆ３は、たとえば、図２（ｄ）に示した第３の領域Ａ３のように、感光性材料膜３’のうちの第６の領域Ａ６にある部分が光４Ｅにより完全に感光する時間で、第３の領域Ａ３にある部分が表面から約０．４ｄ６の深さまで感光するような強度の光４Ｂで露光することをにする。また、Ｈａｌｆ４は、たとえば、図２（ｄ）に示した第２の領域Ａ２のように、感光性材料膜３’のうちの第６の領域Ａ６にある部分が光４Ｅにより完全に感光する時間で、第２の領域Ａ２にある部分が表面から深さ０．２ｄ６の深さまで感光するような強度の光４Ａで露光することを意味する。
【００６２】
すなわち、ハーフ露光技術を用いて感光性材料膜３’を露光するときに用いるレイアウトデータの検査をするときには、従来、たとえば、図３（ａ）のように可視化したレイアウトデータと、図３（ｃ）に示した表とを照合しながら行う必要があった。
【００６３】
また、従来のレイアウトデータで使用している塗りつぶしパターンＰＰは、汎用のパターンであり、露光条件ＥＸＴのうちの、Ｈａｌｆ１〜Ｈａｌｆ４と塗りつぶしパターンＰＰとの対応関係は任意である。すなわち、従来のＣＡＤでレイアウトデータを作成するときには、第２の領域Ａ２から第５の領域Ａ５までの４つの領域（図形）の塗りつぶしパターンを、たとえば、図４に示すような組み合わせにすることも考えられる。そして、このような組み合わせでレイアウトデータを作成した場合は、このレイアウトデータにおける塗りつぶしパターンＰＰと露光条件ＥＸＴとの対応関係を示した表を用意しなければならない。
【００６４】
また、従来のＣＡＤに用意されている汎用の塗りつぶしパターンには、さらに多くの種類があり、Ｈａｌｆ１〜Ｈａｌｆ４の露光条件に対してどの塗りつぶしパターンを使用するかの任意性が非常に高い。
【００６５】
また、たとえば、液晶表示パネルのＴＦＴ基板（アクティブマトリクス基板）を形成するときに使用するレイアウトデータは、通常、非常に多数の図形で構成されており、複雑な形状の図形が含まれていることも多い。
【００６６】
そのため、ハーフ露光技術を用いて感光性材料膜３’を露光するときに用いるレイアウトデータは、従来、たとえば、検査時に、図形（光を照射する領域）と露光条件との対応関係の誤りを見落とす可能性が高い。
【００６７】
またさらに、図３（ａ）や図４に示した例では、ハーフ露光の露光条件がＨａｌｆ１〜Ｈａｌｆ４の４通りであるが、今後、ハーフ露光の露光条件の種類がさらに多くなることも予想される。その場合、ハーフ露光の露光条件と塗りつぶしパターンとの対応関係の組み合わせの数が増え、レイアウトデータの検査時に誤りを見落とす可能性が高くなると考えられる。
【実施例】
【００６８】
図５は、本発明による一実施例の感光性材料膜の露光方法の原理を示す模式図である。
【００６９】
本実施例の感光性材料膜の露光方法について、まず、その原理を、図１に示したような厚さが５通りの絶縁層２を形成するときに行う感光性材料膜の露光方法を挙げて説明する。
【００７０】
図１に示したような厚さが５通りの絶縁層２を効率よく形成するには、前述のように、ハーフ露光技術を用いて厚さが５通りの感光性材料膜３を形成すればよい。このとき、未感光の感光性材料膜３’の露光に使用する従来のレイアウトデータでは、ハーフ露光の露光条件ＥＸＴ（Ｈａｌｆ１〜Ｈａｌｆ４）と塗りつぶしパターンとの対応関係が、たとえば、図３（ｃ）のようになっている。そのため、ディスプレイに表示された（可視化された）レイアウトデータを見ただけでは、図形の塗りつぶしパターンと露光条件との対応関係がわかりづらい。
【００７１】
これに対し、本実施例では、ハーフ露光の露光条件ＥＸＴ（Ｈａｌｆ１〜Ｈａｌｆ４）と塗りつぶしパターンとの対応関係を、たとえば、図５に示すような関係にする。すなわち、本実施例では、ハーフ露光の露光条件ＥＸＴ（Ｈａｌｆ１〜Ｈａｌｆ４）で露光する領域を示す図形の塗りつぶしパターンを、それぞれの露光条件を示す文字情報を含むパターンにする。
【００７２】
従来のＣＡＤには、通常、図５に示したような文字情報を含む塗りつぶしパターンは用意されていない。しかしながら、レイアウトデータの作成に用いるＣＡＤは、たとえば、汎用のコンピュータと、当該コンピュータに組み込まれたプログラム（ソフトウエア）とからなる。また、従来のＣＡＤに用意されている塗りつぶしパターンは、たとえば、点の配置間隔や、線の太さおよび間隔などの情報で構成されている。そのため、文字情報を含む塗りつぶしパターンは、たとえば、点や線の代わりに文字を指定したパターンをプログラムに追加することで、比較的容易に用意することができる。
【００７３】
またこのとき、文字情報を含む塗りつぶしパターンは、他の汎用の塗りつぶしパターンと区別するために、たとえば、図５に示したように、汎用の塗りつぶしパターンとは異なるルールの値を割り当てることが望ましい。
【００７４】
図６（ａ）および図６（ｂ）は、図５に示した対応関係にしたがって作成したレイアウトデータの一例を示す模式図である。
図６（ａ）は、図５に示した対応関係にしたがってレイアウトデータを可視化したときの構成の一例を示す模式図である。図６（ｂ）は、図６（ａ）に示したレイアウトデータの構造の一例を示す模式図である。
【００７５】
図３（ａ）に示したようなレイアウトデータを、本実施例の塗りつぶしパターンを用いて作成すると、図６（ａ）のようになる。このとき、第２の領域Ａ２を示す図形は、Ｈと４の２つの文字でなる塗りつぶしパターンＰＰＨ４で塗りつぶされている。そのため、図５に示したような対応関係の表が無くても、第２の領域Ａ２をＨａｌｆ４の露光条件で露光すればよいことが容易にわかる。また、第３の領域Ａ３から第５の領域Ａ５のそれぞれについても、同様に、図６（ａ）を見るだけで、Ｈａｌｆ３、Ｈａｌｆ２、Ｈａｌｆ１の露光条件で露光すればよいことが容易にわかる。
【００７６】
また、実際のレイアウトデータは、たとえば、図６（ｂ）に示すような構造になっており、各領域を表現する図形の種類、位置、寸法、および塗りつぶしのパターンを指定する情報が記述されている。
【００７７】
ＣＡＤで作成したレイアウトデータに基づいて未感光の感光性材料膜３’を露光するときには、通常、図６（ｂ）に示したような構造のデータを所定の条件で変換して得られるデータに基づいて、フォトマスクを作成したり、感光性材料膜３’の光を照射する位置および領域を特定する。
【００７８】
このとき、ハーフ露光の露光条件（Ｈａｌｆ１〜Ｈａｌｆ４）で露光する領域に対する塗りつぶしパターンの値を、他の汎用の塗りつぶしパターンの値とは異なるルールにしておくと、たとえば、所定の条件で変換するときに、塗りつぶしパターンの値のルールに基づいて、各領域（図形）の露光条件を自動的に特定することが容易になる。
【００７９】
このように、本実施例の感光性材料膜の露光方法では、当該露光に使用するレイアウトデータを可視化するときに、ハーフ露光をする領域（図形）が露光条件を示す文字情報を含む塗りつぶしパターンで塗りつぶされるようにすることで、たとえば、レイアウトデータの検査時における図形と露光条件との対応関係の誤りの見落としを低減する。
【００８０】
そのため、本実施例の感光性材料膜の露光方法では、誤りのあるレイアウトデータに基づいた露光による、現像後に得られる感光性材料膜３の形状不良や、たとえば、感光性材料膜３をマスクにしたエッチングで得られる導電層や絶縁層などの形状不良を低減することができる。
【００８１】
以下に、本実施例の感光性材料膜の露光方法の適用が望まれる液晶表示パネルの概略構成および適用例の一例を説明する。
【００８２】
図７（ａ）および図７（ｂ）は、本実施例の感光性材料膜の露光方法の適用が望まれる液晶表示パネルの概略構成の一例を示す模式図である。
図７（ａ）は、液晶表示パネルのＴＦＴ基板における１つの画素の平面構成の一例を示す模式平面図である。図７（ｂ）は、図７（ａ）のＬ−Ｌ’線における液晶表示パネルの断面構成の一例を示す模式断面図である。
【００８３】
本実施例の感光性材料膜の露光方法は、たとえば、半透過型の液晶表示パネルに用いるＴＦＴ基板（アクティブマトリクス基板）を製造するときに適用することができる。
【００８４】
半透過型の液晶表示パネルは、たとえば、携帯電話端末などの携帯型電子機器の液晶ディスプレイに用いられており、１つの画素（サブ画素）が、バックライトからの光の透過量を制御する透過領域と、外光の反射量を制御する反射領域とを有する。
【００８５】
このとき、液晶表示パネルにおける１つの画素は、たとえば、図７（ａ）および図７（ｂ）に示すような構成になっている。
【００８６】
ＴＦＴ基板は、ガラス基板などの第１の絶縁基板５の第１の面（液晶材料６と対向する面）の上に、下地膜７、ＴＦＴ素子の半導体層８、第１の絶縁層９、走査信号線１０、第２の絶縁層１１、映像信号線１２、ＴＦＴ素子のドレイン電極１３、第３の絶縁層１４、第４の絶縁層１５、共通電極１６、光反射層１７（反射電極）、第５の絶縁層１８、画素電極１９、および第１の配向膜２０が形成されている。
【００８７】
また、ＴＦＴ基板は、第１の絶縁基板５の第１の面とは反対側の第２の面に、第１の偏光板２１が貼り付けられている。
【００８８】
対向基板は、ガラス基板などの第２の絶縁基板２２の第１の面（液晶材料６と対向する面）の上に、ブラックマトリクス２３、カラーフィルタ２４、平坦化膜２５、第２の配向膜２６が形成されている。
【００８９】
また、対向基板は、第２の絶縁基板２２の第１の面とは反対側の第２の面に、第２の偏光板２７が貼り付けられている。
【００９０】
このような構成の画素は、光反射層が配置されている領域ＲＡが反射領域であり、光反射層が無い領域ＴＡが透過領域である。
【００９１】
このとき、反射領域ＲＡは、たとえば、光の反射効率を高めるために、第４の絶縁層１５の表面、すなわち共通電極１６および光反射層１７を形成する面に凹凸（起伏）を設けている。そして、第４の絶縁層１５の表面にこのような凹凸を設けるときには、本実施例の感光性材料膜の露光方法を適用することが望まれる。
【００９２】
図８（ａ）乃至図８（ｆ）、および図９（ａ）乃至図９（ｅ）は、本実施例の感光性材料膜の露光方法を適用して第４の絶縁層の表面に凹凸を形成する方法の一例を説明するための模式図である。
図８（ａ）は、感光性材料膜の露光に使用するレイアウトデータの作成方法の第１段階の一例を説明するための模式図である。図８（ｂ）は、感光性材料膜の露光に使用するレイアウトデータの作成方法の第２段階の一例を説明するための模式図である。図８（ｃ）は、第２段階が終了した時点でのレイアウトデータの一例を示す模式図である。図８（ｄ）は、第２段階の変形例を説明するための模式図である。図８（ｅ）は、最終的に得られるレイアウトデータの一例を示す模式図である。図８（ｆ）は、図８（ｅ）のレイアウトデータの構造の一例を示す模式図である。
図９（ａ）は、第４の絶縁層の上に未感光の感光性材料膜を形成した直後の断面構成の一例を示す模式断面図である。図９（ｂ）は、感光性材料膜を露光したときの感光した部分と感光していない部分との関係を示す模式断面図である。図９（ｃ）は、現像後に得られる感光性材料膜の断面形状の一例を示す模式断面図である。図９（ｄ）は、感光性材料膜をマスクにしてエッチングをした直後の第４の絶縁層の断面構成の一例を示す模式断面図である。図９（ｅ）は、加熱処理を施したあとの第４の絶縁層の断面構成の一例を示す模式断面図である。
【００９３】
第４の絶縁層１５の表面のうちの、反射領域ＲＡの表面に凹凸を設けるときには、表面が平坦な第４の絶縁層１５を形成した後、ハーフ露光技術を用いて形成された感光性材料膜３をマスクにしたエッチングを行って形成する。
【００９４】
このとき、感光性材料膜３’の露光に使用するレイアウトデータは、下記のような要領で作成する。
【００９５】
まず、図８（ａ）に示すように、凹凸の頂上部分にする第１の領域Ａ１を示す図形を描画する。このとき、第１の領域Ａ１を示す図形は、たとえば、四角形を選択する。
【００９６】
次に、第１の領域Ａ１の周囲に、Ｈａｌｆ４の露光条件で露光する第２の領域Ａ２を示す図形を描画する。このとき、第２の領域２Ａを示す図形は、たとえば、任意の多角形（境界線）を選択し、図８（ｂ）に示すように、点Ｐ２１、点Ｐ２２、点Ｐ２３、点Ｐ２４、点Ｐ２５、点Ｐ２６、点Ｐ２７、点Ｐ２８、点Ｐ２９、点Ｐ２１０を指定して、各点を頂点とする１０角形を描画する。このとき、作成する図形の塗りつぶしパターンとして、たとえば、図５に示した露光条件Ｈａｌｆ４と対応するパターンＰＰＨ４を選択しておくと、描画された図形は、たとえば、図８に示すように、Ｈと４の２つの文字でなる塗りつぶしパターンで塗りつぶされる。
【００９７】
なお、第２の領域Ａ２を示す図形を描画するときには、たとえば、図８（ｄ）に示すように、点Ｐ２１、点Ｐ２２、点Ｐ２３、点Ｐ２４、点Ｐ２５、点Ｐ２６、点Ｐ２７、点Ｐ２８、点Ｐ２９、点Ｐ２５を指定してもよいことはもちろんである。
【００９８】
この後、第２の領域Ａ２を示す図形と同じ要領で、第３の領域Ａ３から第５の領域Ａ５を示す図形を描画すると、たとえば、図８（ｅ）に示すようなレイアウトデータが得られる。なお、図８（ｅ）に示したレイアウトデータは、たとえば、ディスプレイに表示された可視化されたレイアウトデータであり、実際のレイアウトデータは、たとえば、図８（ｆ）に示したような構造になっている。図８（ｆ）において、図形の種類ＦＴのＢｏｕｎｄａｒｙは、境界線（任意の多角形）であることを示す値であり、図形の種類ＦＴがＢｏｕｎｄａｒｙである図形の位置や寸法を示す情報ＦＬＩは、それぞれの頂点の座標で与えられる。
【００９９】
また、図８（ｅ）には、第４の絶縁層１５の表面に設ける複数の凹凸のうちの１つの凸部とその周囲のレイアウトデータのみを示している。すなわち、実際のレイアウトデータでは、１つの反射領域ＲＡに、図８（ｅ）に示したようなデータがマトリクス状に並んでいる。
【０１００】
上記の手順でレイアウトデータを作成したら、次に、当該レイアウトデータに基づいてたハーフ露光を行い、感光性材料膜３を形成する。
【０１０１】
感光性材料膜３を形成するときには、まず、図９（ａ）に示すように、第４の絶縁層１５の表面に未感光のポジ型感光性材料膜３’を形成する。
【０１０２】
次に、図９（ｂ）に示すように、上記の手順で作成したレイアウトデータに基づいて、感光性材料膜３’を露光する。感光性材料膜３’を露光するときには、前述の、図１に示した絶縁層２を形成するときに行う感光性材料膜３’の露光方法と同様の方法で行えばよい。また、感光性材料膜３’の露光は、フォトマスクを使用する露光装置で行ってもよいし、フォトマスクを使用しない露光装置で行ってもよい。
【０１０３】
フォトマスクを使用する露光装置で感光性材料膜３’を露光するときには、上記の手順で作成したレイアウトデータに基づいて、たとえば、第１の領域Ａ１から第６の領域Ａ６のそれぞれの領域における光の透過量が段階的に変化するフォトマスクを作成し、当該フォトマスクを用いて露光すればよい。
【０１０４】
また、フォトマスクを使用しない露光装置は、たとえば、１度に露光可能な領域が未感光の感光性材料膜３’の露光対象領域よりも小さい光学系と、当該光学系を走査して感光性材料膜３’の露光対象領域の全体を露光する過程で、１度に露光可能な領域と感光性材料膜３’との位置関係およびレイアウトデータに基づいて、感光性材料膜３’に照射する光の強度または光の照射時間あるいはその両方を制御する制御手段を有する。そのため、フォトマスクを使用しない露光機で感光性材料膜３’を露光するときには、たとえば、上記の手順で作成したレイアウトデータにおける座標や寸法値を感光性材料膜３’の露光対象領域の実寸と対応する形式に変換した露光データを作成し、当該露光データを用いて露光すればよい。
【０１０５】
次に、露光した感光性材料膜３’を現像すると、たとえば、図９（ｃ）に示すように、中央部分が最も厚く、外周に近づくにつれて段階的に薄くなっていく感光性材料膜３が得られる。
【０１０６】
次に、上記の手順で得られた感光性材料膜３をマスクにして第４の絶縁層１５のエッチングをすると、たとえば、図９（ｄ）に示すように、第４の絶縁層１５の表面に階段状の凸部が形成される。このとき、第４の絶縁層１５の表面の階段状の凹凸は、第４の絶縁層１５のエッチングと感光性材料膜３の灰化処理とを交互に行って形成してもよいし、第４の絶縁層１５のエッチングと感光性材料膜３の灰化処理とを同時に行いながら形成してもよい。
【０１０７】
次に、加熱処理などで第４の絶縁層１５の表面を軟化させると、たとえば、図９（ｅ）に示すように、第４の絶縁層１５の表面が、階段状の凹凸から、なだらかな変化をする凹凸に変形する。
【０１０８】
なお、図９（ａ）乃至図９（ｅ）には、図８（ｅ）に示した１つの凸部に対するレイアウトデータで形成される第４の絶縁層１５の１つ凸部の断面構成のみを示している。しかしながら、感光性材料膜３’の露光に使用するレイアウトデータは、前述のように、図８（ｅ）に示したレイアウトデータがマトリクス状に配置されている。そのため、第４の絶縁層１５の表面には、図９（ｅ）に示したような断面が連続して並んだ、なだらかな起伏を有する凹凸が形成される。
【０１０９】
このとき、感光性材料膜３’の露光に使用するレイアウトデータは、ディスプレイなどに表示して可視化すると、図８（ｅ）に示したようになる。そのため、たとえば、当該レイアウトデータの検査時に、露光条件がＨａｌｆ１〜Ｈａｌｆ４の領域を示す図形における塗りつぶしパターンに誤りがある場合、その誤りを容易に見つけることができる。したがって、レイアウトデータの誤りによる、第４の絶縁層１５の表面に形成される凹凸の形状不良を未然に防ぐことができる。
【０１１０】
以上説明したように、本実施例の感光性材料膜の露光方法によれば、レイアウトデータにおける図形の塗りつぶしパターンの誤りの見落としを容易に防ぐことができる。そのため、当該レイアウトデータに基づいて作成される感光性材料膜３の形状不良や、当該感光性材料膜３をマスクにしたエッチングで得られる導電層や絶縁層の形状不良を未然に防ぐができる。
【０１１１】
以上、本発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々変更可能であることはもちろんである。
【０１１２】
たとえば、前記実施例では、全く感光させない露光条件および完全に感光させる露光条件の他に設ける露光条件（Ｈａｌｆ１〜Ｈａｌｆ４）と対応させる塗りつぶしパターンを、文字Ｈと露光条件を示す数字とからなるパターンにしているが、当該塗りつぶしパターンは、これに限らず、別の文字からなるパターンであってもよいことはもちろんである。
【０１１３】
また、前記実施例では、全く感光させない露光条件と、完全に感光させる露光条件の他に、４通りの露光条件Ｈａｌｆ１〜Ｈａｌｆ４を設けた場合を挙げているが、全く感光させない露光条件と完全に感光させる露光条件の他に設ける露光条件は、これに限らず、３通りまたは５通り以上であってもよいことはもちろんである。
【０１１４】
また、前記実施例では、ポジ型の感光性材料膜３’を用いた場合を挙げているが、感光性材料膜は、これに限らず、ネガ型であってもよいことはもちろんである。
【０１１５】
また、前記実施例では、半透過型の液晶表示装置（液晶表示パネル）の製造方法に本発明を適用する場合を例に挙げたが、本発明は、これに限らず、透過型や反射型の液晶表示装置の製造方法にも適用できることはもちろんである。またさらに、本発明は、液晶表示装置の製造方法に限らず、同様の手順で製造される表示装置、たとえば、有機ＥＬを用いる自発光型の表示装置（表示パネル）の製造方法などにも適用できることはもちろんである。
【符号の説明】
【０１１６】
１  絶縁基板
２  絶縁層
２’  絶縁膜
３  （現像後に得られる）感光性材料膜
３’  （未感光の）感光性材料膜
４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄ，４Ｅ  光
５  第１の絶縁基板
６  液晶材料
７  下地膜
８  半導体層
９  第１の絶縁層
１０  走査信号線
１１  第２の絶縁層
１２  映像信号線
１３  ドレイン電極
１４  第３の絶縁層
１５  第４の絶縁層
１６  共通電極
１７  光反射層
１８  第５の絶縁層
１９  画素電極
２０  第１の配向膜
２１  第１の偏光板
２２  第２の絶縁基板
２３  ブラックマトリクス
２４  カラーフィルタ
２５  平坦化膜
２６  第２の配向膜
２７  第２の偏光板
【図１】
2010243555.tif 000003
【図２（ａ）】
2010243555.tif 000004
【図２（ｂ）】
2010243555.tif 000005
【図２（ｃ）】
2010243555.tif 000006
【図２（ｄ）】
2010243555.tif 000007
【図２（ｅ）】
2010243555.tif 000008
【図２（ｆ）】
2010243555.tif 000009
【図３（ａ）】
2010243555.tif 000010
【図３（ｂ）】
2010243555.tif 000011
【図３（ｃ）】
2010243555.tif 000012
【図４】
2010243555.tif 000013
【図５】
2010243555.tif 000014
【図６（ａ）】
2010243555.tif 000015
【図６（ｂ）】
2010243555.tif 000016
【図７（ａ）】
2010243555.tif 000017
【図７（ｂ）】
2010243555.tif 000018
【図８（ａ）】
2010243555.tif 000019
【図８（ｂ）】
2010243555.tif 000020
【図８（ｃ）】
2010243555.tif 000021
【図８（ｄ）】
2010243555.tif 000022
【図８（ｅ）】
2010243555.tif 000023
【図８（ｆ）】
2010243555.tif 000024
【図９（ａ）】
2010243555.tif 000025
【図９（ｂ）】
2010243555.tif 000026
【図９（ｃ）】
2010243555.tif 000027
【図９（ｄ）】
2010243555.tif 000028
【図９（ｅ）】
2010243555.tif 000029