(57)【要約】【課題】  ノズル先端に溶剤を吸引する動作と、吸引した溶剤や薬液を予備吐出する動作を、平面上同一の位置（待機位置において）行うことができる、薬液吐出用ノズルの待機ポット及び薬液塗布装置並びに薬液塗布方法を提供する。【解決手段】  基板に薬液を塗布する薬液塗布装置における薬液吐出用ノズルの待機ポット６０であって、待機状態のノズル５１を収納するノズル収納容器９１ａと、ノズル収納容器９１ａ内へ溶剤を供給する溶剤供給部と、ノズル収納容器９１ａから排出された溶剤又はノズル５１から吐出された薬液や溶剤を回収する回収ポット８１とを備え、ノズル収納容器９１ａは、供給された溶剤をノズル５１の先端部へ案内する内壁９４と、内壁９４の下端位置でノズルの薬液吐出口５３に対して平面視で重なる位置に開口し、回収ポット８１に連通する排液口９３とで構成される。【選択図】図３
2010082582.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に薬液を塗布する薬液塗布装置における薬液吐出用ノズルの待機ポットであって、
待機状態の前記ノズルを収納する収納容器と、
前記収納容器内へ溶剤を供給する溶剤供給手段と、
前記収納容器から排出された溶剤又は前記ノズルから吐出された薬液や溶剤を回収する回収手段とを備え、
前記収納容器は、前記供給された溶剤を前記ノズルの先端部へ案内する内壁と、前記内壁の下端位置で前記ノズルの薬液吐出口に対して平面視で重なる位置に開口し、前記回収手段に連通する排液口とを備えることを特徴とする薬液吐出用ノズルの待機ポット。
【請求項２】
請求項１に記載の薬液吐出用ノズルの待機ポットにおいて、
前記収納容器は、前記ノズルを受け入れる大径の上部開口と、小径の前記排液口とを備えることを特徴とする薬液吐出用ノズルの待機ポット。
【請求項３】
請求項２に記載の薬液吐出用ノズルの待機ポットにおいて、
前記収納容器は、前記大径の上部開口から前記小径の排液口に向かって次第に内径が小さくなる漏斗状の容器であることを特徴とする薬液吐出用ノズルの待機ポット。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の薬液吐出用ノズルの待機ポットにおいて、
前記収納容器の排液口は、その内径が前記ノズルの先端部よりも大きく、かつ、前記ノズルが収納された状態で、前記ノズルの先端部が前記排液口から下側に向かって突出する高さ位置に設けられている薬液吐出用ノズルの待機ポット。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の薬液吐出用ノズルの待機ポットにおいて、
前記溶剤供給手段は、前記収納容器に連通接続されていることを特徴とする薬液吐出用ノズルの待機ポット。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれかに記載の薬液吐出用ノズルの待機ポットにおいて、
前記溶剤供給手段は、前記収納容器の上部開口から溶剤を供給することを特徴とする薬液吐出用ノズルの待機ポット。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の薬液吐出用ノズルの待機ポットにおいて、
前記収納容器内に気体を供給する気体供給手段を備えたことを特徴とする薬液吐出用ノズルの待機ポット。
【請求項８】
基板に薬液を塗布する薬液塗布装置において、
基板を水平に支持し鉛直軸心周りに回転させる基板支持回転手段と、
薬液を吐出するノズルと、
前記ノズルに連通接続されて薬液を供給する薬液供給手段と、
前記ノズルに連通接続されて前記ノズルに吸引力を与える吸引手段と、
前記ノズルを基板の上方の薬液吐出位置と基板側方の待機位置との間で移動させるノズル移動手段と、
前記待機位置に設けられノズルを待機させておく待機ポットと、
制御手段とを備え、
前記待機ポットは、
待機状態の前記ノズルを収納する収納容器と、
前記収納容器内へ溶剤を供給する溶剤供給手段と、
前記収納容器から排出された溶剤又は前記ノズルから吐出された薬液や溶剤を回収する回収手段とを備え、
前記収納容器は、前記供給された溶剤を前記ノズルの先端部へ案内する内壁と、前記内壁の下端位置で前記ノズルの薬液吐出口に対して平面視で重なる位置に開口し、前記回収手段へ連通する排液口とを備え、
前記制御手段は、基板に薬液を吐出した後、前記ノズルを薬液吐出位置から待機位置に移動させて、前記ノズルを前記収納容器内に収納させ、前記ノズルが前記収納容器に収まった状態で、前記溶剤供給手段を作動させて前記収納容器内に溶剤を供給させ、前記ノズルの先端に案内された溶剤の一部を、前記吸引手段を作動させて前記ノズル内に吸引させ、一方、待機位置で予備吐出するときは、前記薬液供給手段を作動させて前記ノズル内の溶剤や薬液を前記回収手段に直接に吐出させることを特徴とする薬液塗布装置。
【請求項９】
基板に薬液を塗布する薬液塗布方法において、
基板に薬液を吐出した後に、ノズルを基板上方の薬液吐出位置から基板側方の待機位置に移動させて、待機位置にある収納容器内に収納し、前記ノズルの薬液吐出口を前記収納容器の下端にある排液口に対して平面視で重なる位置に配置させる工程と、
前記ノズルが前記収納容器内に収まった状態で前記収納容器内に溶剤を供給し、前記溶剤を前記ノズルの先端部に案内する工程と、
前記ノズルの先端部に案内された溶剤の一部を前記ノズルの内部に吸引する工程と、
基板に薬液を再び塗布する前に、ノズル内の溶剤や薬液を前記収納容器の排液口の下側にある回収手段に直接に吐出する工程と、
を備えたことを特徴とする薬液塗布方法。
【請求項１０】
基板に薬液を塗布する薬液塗布方法において、
基板に薬液を吐出した後に、ノズルに吸引力を与えて薬液の液面をノズル内で後退させる工程と、
基板に薬液を吐出した後に、ノズルを基板上方の薬液吐出位置から基板側方の待機位置に移動させて、待機位置にある収納容器内に収納し、前記ノズルの薬液吐出口を前記収納容器の下端にある排液口に対して平面視で重なる位置に配置させる工程と、
前記ノズルが前記収納容器内に収まった状態で前記収納容器内に溶剤を供給し、前記溶剤を前記ノズルの先端部に案内する工程と、
前記ノズルの先端部に案内された溶剤の一部を前記ノズルの内部に吸引する工程と、
基板に薬液を再び塗布する前に、ノズル内の溶剤や薬液を前記収納容器の排液口の下側にある回収手段に直接に吐出する工程と、
を備えたことを特徴とする薬液塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、フォトレジスト用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板など（以下、単に「基板」と称する）に対して、フォトレジスト、SOG（Spin on glass coating）液、SOD(Spin on dielectric coating)液、ポリイミド樹脂などの薬液を塗布する薬液吐出用ノズルの待機ポット及び薬液塗布装置並びに薬液塗布方法に係り、特に、基板上に薬液を供給するノズルのノズル先端における薬液の結晶化防止のための溶剤吸引の技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の装置として、回転可能に支持された基板に薬液を供給するノズルと、基板から側方に離れた位置に溶剤を貯留した貯留部と、そのさらに側方に離れた位置に予備吐出が行える待機位置と、基板上の薬液供給位置と待機位置との間をノズルが自由に移動することができる移動機構とを備えたものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このような構成の装置によれば、次のように一連の動作が進められる。
基板に薬液を供給後、ノズル内に気体を吸引する。続いて、溶剤を貯留する貯留部にノズルを移動し、貯留部に貯留する溶剤にノズル先端を浸漬させ、その状態でノズル内に溶剤を吸引する。溶剤を吸引したノズルを待機位置に移動して待機する。その後、再び塗布するときは待機位置で予備吐出が行われ、ノズル先端に吸引した溶剤と薬液が吐出される。
この一連の動作の中で、ノズル先端を貯留部の溶剤に浸漬させ、溶剤を吸引することにより、ノズル先端部の内壁と外壁を洗浄することができ、また、ノズル先端を溶剤で塞ぐことにより、薬液が乾燥し結晶化することを防止できる。
【特許文献１】特許第3993496号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
即ち、溶剤を貯留する貯留部を新たに設ける必要があり、そのためのスペースが必要となる。また、溶剤を吸引するためには、ノズルを溶剤の貯留部まで移動させる必要があるので、仮に同一ノズルを複数の塗布ユニットで共用する場合には、ノズルの移動制御のタイミングが難しくなる。つまり、溶剤の貯留部で溶剤を吸引し、待機位置で吸引した溶剤や薬液を排出する予備吐出をするという、この間の往復動作は、塗布ユニットの個数が少ないときは、この動作の頻度が少ないので、制御上の問題にはなりにくい。しかし、塗布ユニットの個数が増えて、この動作の頻度が多くなると、ノズルの移動制御が難しくなり、ノズルの移動に時間を要する分だけ、装置の稼働効率を低下させてしまう恐れがある。さらに、溶剤の貯留部にゴミが残った場合は、ゴミを溶剤と一緒に吸引してしまう恐れがある。
【０００５】
また仮に、貯留部へのノズル移動を省くために、溶剤の貯留部を待機位置に設けると、溶剤の貯留部の上方で予備吐出を行うことになり、吐出された薬液で溶剤を汚してしまうという問題が生じる。そのため、溶剤の貯留部の位置と予備吐出の待機位置を平面上同一の位置にするためには、この問題を解決する何らかの工夫が必要になる。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、ノズル先端に溶剤を吸引する動作と、吸引した溶剤や薬液を予備吐出する動作を、平面上同一の位置（待機位置）において行うことができる、薬液吐出用ノズルの待機ポット及び薬液塗布装置並びに薬液塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
即ち、請求項1に記載の発明は、基板に薬液を塗布する薬液塗布装置における薬液吐出用ノズルの待機ポットであって、待機状態の前記ノズルを収納する収納容器と、前記収納容器内へ溶剤を供給する溶剤供給手段と、前記収納容器から排出された溶剤又は前記ノズルから吐出された薬液や溶剤を回収する回収手段とを備え、前記収納容器は、前記供給された溶剤を前記ノズルの先端部へ案内する内壁と、前記内壁の下端位置で前記ノズルの薬液吐出口に対して平面視で重なる位置に開口し、前記回収手段に連通する排液口とを備えることを特徴とする。
【０００８】
［作用・効果］請求項1に記載の発明によれば、待機位置に設けられた待機ポットにある待機状態のノズルは、収納容器内に収められる。収納容器は、ノズルの薬液吐出口に対して平面視で重なる位置に、排液口を備える。この排液口は排液を回収する回収手段に連通接続する。そして、溶剤供給手段を作動させることにより収納容器内に溶剤が供給される。供給された溶剤は、収納容器の内壁によりノズル先端部へ案内されて流れる。ノズルの先端に沿って溶剤が流下する際に、ノズルの外壁で結晶化した薬液（例えば、フォトレジスト）が溶剤に溶解し、その他の汚れも含めて洗浄することができる。その後、ノズルの先端を浸した溶剤は、排液口から回収手段へ排出される。また、溶剤が流れている間に、ノズルに吸引力を与えることにより、溶剤の一部をノズル内に吸引することができる。また、待機状態のノズルから予備吐出するとき、収納容器には、ノズルの薬液吐出口に対して平面視で重なる位置に、排液口を備えているので、ノズルから吐出された薬液は、収納容器内を汚すことなく回収手段に、直接吐出することができる。以上のように、請求項１に記載の発明によれば、ノズル内への溶剤の吸引と、ノズルからの予備吐出とを同じ待機位置で行うことができる。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の薬液吐出用ノズルの待機ポットにおいて、前記収納容器は、前記ノズルを受け入れる大径の上部開口と、小径の前記排液口とを備えることを特徴とする。
【００１０】
［作用・効果］請求項２に記載の発明によれば、収納容器の上部開口を大径にすることで、ノズルを収納容器に納める際に入りやすくすることができる。また、収納容器の排液口を小径にすることで、収納容器内から排出される溶剤の排出速度を遅く調整することができる。これによって、排液口のある収納容器でも、その容器内に溶剤をある程度貯留することができる。またさらに、排出される溶剤の流路が狭められるので、ノズル先端部を溶剤で覆いやすくすることができる。これにより、溶剤をノズル内に吸引しやすくなる。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の薬液吐出用ノズルの待機ポットにおいて、  前記収納容器は、前記大径の上部開口から前記小径の排液口に向かって次第に内径が小さくなる漏斗状の容器であることを特徴とする。
【００１２】
［作用・効果］請求項３に記載の発明によれば、収納容器が大径の上部開口から小径の排液口に向かって次第に内径が小さくなる漏斗状の容器であることによって、大径の上部入口から小径の排液口へ、スムーズに溶剤を案内することができる。また、容積が排液口に向かうにつれて小さくなるため、少量の溶剤でノズルを溶剤に広範囲で浸すことができる。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の薬液吐出用ノズルの待機ポットにおいて、前記収納容器の排液口は、その内径が前記ノズルの先端部よりも大きく、かつ、前記ノズルが収納された状態で、前記ノズルの先端部が前記排液口から下側に向かって突出する高さ位置に設けられているものである。
【００１４】
［作用・効果］請求項４に記載の発明によれば、ノズルの先端部が収納容器の排液口から下側に向かって突出する高さ位置に設けられている。つまり、収納容器内から完全にノズルの薬液吐出口が出ていることで、予備吐出の際に収納容器内を薬液で汚すことを一層防止することができる。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の薬液吐出用ノズルの待機ポットにおいて、前記溶剤供給手段は、前記収納容器に連通接続されていることを特徴とする。
【００１６】
［作用・効果］請求項５に記載の発明によれば、溶剤供給手段と収納容器とが連通接続しており、溶剤を直接に収納容器内に供給することができる。
【００１７】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の薬液吐出用ノズルの待機ポットにおいて、前記溶剤供給手段は、前記収納容器の上部開口から溶剤を供給することを特徴とする。
【００１８】
［作用・効果］請求項６に記載の発明によれば、収納容器の上部開口から溶剤を収納容器内に供給することができる。
【００１９】
請求項７に記載の発明は、請求項１乃至６のいずれかに記載の薬液吐出用ノズルの待機ポットにおいて、前記収納容器内に気体を供給する気体供給手段を備えたことを特徴とする。
【００２０】
［作用・効果］請求項７に記載の発明によれば、ノズルと収納容器の内壁との隙間が狭い場合、溶剤がその隙間に残ってしまう可能性があり、待機状態が解かれ再び基板に薬液を塗布する場合に、例えば、ノズルについたままの溶剤の滴が、基板上に滴下してしまうなどの恐れがある。そのため、気体（例えば、窒素ガス）を収納容器内に供給することによって、その隙間に残った溶剤を吹き飛ばして除去することができる。
【００２１】
請求項８に記載の発明は、基板に薬液を塗布する薬液塗布装置において、基板を水平に支持し鉛直軸心周りに回転させる基板支持回転手段と、薬液を吐出するノズルと、前記ノズルに連通接続されて薬液を供給する薬液供給手段と、前記ノズルに連通接続されて前記ノズルに吸引力を与える吸引手段と、前記ノズルを基板の上方の薬液吐出位置と基板側方の待機位置との間で移動させるノズル移動手段と、前記待機位置に設けられノズルを待機させておく待機ポットと、制御手段とを備え、前記待機ポットは、待機状態の前記ノズルを収納する収納容器と、前記収納容器内へ溶剤を供給する溶剤供給手段と、前記収納容器から排出された溶剤又は前記ノズルから吐出された薬液や溶剤を回収する回収手段とを備え、前記収納容器は、前記供給された溶剤を前記ノズルの先端部へ案内する内壁と、前記内壁の下端位置で前記ノズルの薬液吐出口に対して平面視で重なる位置に開口し、前記回収手段へ連通する排液口とを備え、前記制御手段は、基板に薬液を吐出した後、前記ノズルを薬液吐出位置から待機位置に移動させて、前記ノズルを前記収納容器内に収納させ、前記ノズルが前記収納容器に収まった状態で、前記溶剤供給手段を作動させて前記収納容器内に溶剤を供給させ、前記ノズルの先端に案内された溶剤の一部を、前記吸引手段を作動させて前記ノズル内に吸引させ、一方、待機位置で予備吐出するときは、前記薬液供給手段を作動させて前記ノズル内の溶剤や薬液を前記回収手段に直接に吐出させることを特徴とする。
【００２２】
［作用・効果］請求項８に記載の発明によれば、基板上の薬液吐出位置において薬液を吐出したノズルは、ノズル移動手段により待機位置に設けられた待機ポットに移動される。待機状態のノズルは、収納容器内に収められる。収納容器には、ノズルの薬液吐出口に対して平面視で重なる位置に排液口を備える。この排液口は排液を回収する回収手段に連通接続する。そして、溶剤供給手段を作動させることにより収納容器内に溶剤が供給される。供給された溶剤は、収納容器の内壁によりノズル先端部へ案内されて流れる。ノズル先端に沿って溶剤が流下する際に、ノズルの外壁で結晶化した薬液が溶剤に溶解し、その他の汚れも含めて洗浄することができる。その後、ノズルの先端を浸した溶剤は、排液口から回収手段へ排出される。収納容器の内壁によりノズル先端部まで案内された溶剤の一部は、吸引手段を作動させることによりノズル内に吸引される。これにより、ノズル先端部の内壁で結晶化した薬液を溶解させ洗浄することができる。また、吸引した溶剤によってノズルの薬液吐出口を塞ぐので、薬液と外気との接触を避けることができ、薬液の結晶化を防止することができる。基板に薬液を再び塗布する前に、待機状態のノズルから予備吐出するとき、収納容器には、ノズルの薬液吐出口に対して平面視で重なる位置に排液口を備えているので、ノズルから吐出された薬液は、収納容器内を汚すことなく回収手段に、直接吐出することができる。
【００２３】
請求項９に記載の発明は、基板に薬液を塗布する薬液塗布方法において、基板に薬液を吐出した後に、ノズルを基板上方の薬液吐出位置から基板側方の待機位置に移動させて、待機位置にある収納容器内に収納し、前記ノズルの薬液吐出口を前記収納容器の下端にある排液口に対して平面視で重なる位置に配置させる工程と、前記ノズルが前記収納容器内に収まった状態で前記収納容器内に溶剤を供給し、前記溶剤を前記ノズルの先端部に案内する工程と、前記ノズルの先端部に案内された溶剤の一部を前記ノズルの内部に吸引する工程と、基板に薬液を再び塗布する前に、ノズル内の溶剤や薬液を前記収納容器の排液口の下側にある回収手段に直接に吐出する工程と、を備えたことを特徴とする。
【００２４】
［作用・効果］請求項９に記載の発明によれば、基板上の薬液吐出位置において薬液を吐出したノズルは、待機位置に移動されて収納容器内に収められる。このときノズルの薬液吐出口は、収納容器の下端にある排液口に対して平面視で重なる位置に配置される。この状態で収納容器内に溶剤が供給される。供給された溶剤は、収納容器の内壁によりノズル先端部へ案内されて流れる。ノズルの先端に沿って溶剤が流下する際に、ノズルの外壁で結晶化した薬液が溶剤に溶解し、その他の汚れも含めて洗浄することができる。その後、ノズルの先端を浸した溶剤は、排液口から回収手段へ排出される。ノズル先端部まで案内された溶剤の一部は、ノズル内に吸引される。これにより、ノズル先端部の内壁で結晶化した薬液を溶解させ洗浄することができる。また、吸引した溶剤によってノズルの薬液吐出口を塞ぐので、薬液と外気との接触を避けることができ、薬液の結晶化を防止することができる。基板に薬液を再び塗布する前に、待機状態のノズルから予備吐出するとき、ノズルの薬液吐出口は、収納容器の下端にある排液口に対して平面視で重なる位置に配置されているので、ノズルから吐出された薬液は、収納容器内を汚すことなく回収手段に、直接吐出することができる。
【００２５】
請求項１０に記載の発明は、基板に薬液を塗布する薬液塗布方法において、基板に薬液を吐出した後に、ノズルに吸引力を与えて薬液の液面をノズル内で後退させる工程と、基板に薬液を吐出した後に、ノズルを基板上方の薬液吐出位置から基板側方の待機位置に移動させて、待機位置にある収納容器内に収納し、前記ノズルの薬液吐出口を前記収納容器の下端にある排液口に対して平面視で重なる位置に配置させる工程と、前記ノズルが前記収納容器内に収まった状態で前記収納容器内に溶剤を供給し、前記溶剤を前記ノズルの先端部に案内する工程と、前記ノズルの先端部に案内された溶剤の一部を前記ノズルの内部に吸引する工程と、基板に薬液を再び塗布する前に、ノズル内の溶剤や薬液を前記収納容器の排液口の下側にある回収手段に直接に吐出する工程と、を備えたことを特徴とする。
【００２６】
［作用・効果］請求項１０に記載の発明によれば、基板に薬液を吐出した後に、ノズルに吸引力を与えて薬液の液面をノズル内で後退させるとともに、ノズルを待機位置に移動させて収納容器内に収納する。このときノズルの薬液吐出口は収納容器の下端にある排液口に対して平面視で重なる位置に配置される。この状態で収納容器内に溶剤が供給される。供給された溶剤は、収納容器の内壁によりノズル先端部へ案内されて流れる。ノズルの先端に沿って溶剤が流下する際に、ノズルの外壁で結晶化した薬液が溶剤に溶解し、その他の汚れも含めて洗浄することができる。その後、ノズルの先端を浸した溶剤は、排液口から回収手段へ排出される。ノズル先端部まで案内された溶剤の一部は、ノズル内に吸引される。これにより、ノズル先端部の内壁で結晶化した薬液を溶解させ洗浄することができる。また、吸引した溶剤によってノズルの薬液吐出口を塞ぐので、薬液と外気との接触を避けることができ、薬液の結晶化を防止することができる。なお、薬液と溶剤の間に気体の層があることで、薬液と溶剤とが混ざることを防ぐ。基板に薬液を再び塗布する前に、待機状態のノズルから予備吐出するとき、ノズルの薬液吐出口は、収納容器の下端にある排液口に対して平面視で重なる位置に配置されているので、ノズルから吐出された薬液は、収納容器内を汚すことなく回収手段に、直接吐出することができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、ノズルの待機位置にノズルを収納する収納容器と、この収納容器に溶剤を供給する溶剤供給手段と、収納容器から排出された溶剤、又はノズルから吐出された薬液や溶剤を回収する回収手段とを備え、収納容器は、供給された溶剤をノズルの先端部へ案内する内壁と、この内壁の下端位置でノズルの薬液吐出口に対して平面視で重なる位置に開口し、回収手段に連通する排液口とを備えるので、ノズル内への溶剤の吸引と、ノズルからの予備吐出とを同じ待機位置で行うことができる。また、収納容器の排液口は、ノズルの薬液吐出口に対して平面視で重なる位置にあるので、ノズルから予備吐出された薬液によって収納容器が汚れるということもない。    
【実施例１】
【００２８】
以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。図１は、本発明の実施例１に係る薬液塗布装置の概略構成図であり、図２は、その平面図であり、また、図３は、待機ポットの縦断面図である。
【００２９】
なお、この実施例１では、半導体ウエハ（以下、単に「基板」と呼ぶ）に薬液としての例えばフォトレジストを塗布する薬液塗布装置を例に採って説明する。
【００３０】
図１に示すように、この薬液塗布装置は、基板Ｗに処理を行う処理部１を備える。処理部１の側方に待機ポット６０が配設されている。待機ポット６０には、待機中のノズルブロック５０が載置される。この待機ポット６０にノズルブロック５０が載置されたときの位置を、待機位置Ｐ１とする。ノズルブロック５０は、ノズル移動機構４０によって把持され、基板の上方の薬液を吐出する薬液吐出位置Ｐ２に移動し、フォトレジストを吐出する。つまり、ノズル移動機構４０によって、ノズルブロック５０は、待機位置Ｐ１と薬液吐出位置Ｐ２との間を自由に移動することができるように構成される。なお、ノズルブロック５０には、薬液供給部１０によって、フォトレジストが供給され、待機ポット６０には、溶剤供給部２０によって、溶剤が供給されるように構成される。
なお、これらの動作に関する制御は、制御部８によって行われる。
【００３１】
［処理部１の構成］
処理部１は、電動モータ２の駆動によって鉛直方向軸心周りで回転する回転軸３を備える。回転軸３の上端には基板Wを水平姿勢で吸着支持するスピンチャック４が連結されて、回転軸３と一体で回転するようになっている。スピンチャック４の周囲には、薬液を塗布したときに、薬液の飛散を防止するためのカップ５が配設されている。なお、上述した電動モータ２、回転軸３及びスピンチャック４は、本発明における基板支持回転手段に相当する。
【００３２】
［薬液供給部１０の構成］
ノズルブロック５０には、薬液供給部１０からフォトレジストが供給されるようになっている。薬液供給部１０は、本発明における薬液供給手段に相当する。この薬液供給部１０は、フォトレジストを貯留している薬液タンク１１を備える。この薬液タンク１１は、薬液配管１８を介して、ノズルブロック５０に連通接続される。この薬液配管１８には、薬液タンク１１側から順に薬液ポンプ１２と、薬液開閉バルブ１３とが直列に接続されている。
【００３３】
なお、ノズルブロック５０と薬液開閉バルブ１３との間には、サックバックバルブ３０が介在されている。このサックバックバルブ３０は、加圧空気が供給されることで作動する。サックバックバルブ３０が作動すると、ノズルブロック５０側の薬液配管１８内に負圧が発生し、ノズル５１内の薬液の液面を引き戻すことができるようになっている。サックバックバルブ３０は、本発明における吸引手段に相当する。
【００３４】
［溶剤供給部２０の構成］
待機ポット６０内のノズル収納容器９１ａ（図３参照）には、溶剤供給部２０から、溶剤が供給されるようになっている。この溶剤供給部２０は、溶剤を貯留している溶剤タンク２１を備える。この溶剤タンク２１は、溶剤配管２８を介して、待機ポット６０の溶剤供給孔２４ａに連通接続される。この溶剤配管２８には、溶剤タンク２１側から順に溶剤ポンプ２２と、溶剤開閉バルブ２３とが直列に接続されている。溶剤供給部２０は、本発明における溶剤供給手段に相当する。
【００３５】
［制御部８］
制御部８は、電動モータ２の回転動作と、ノズル移動機構４０の移動動作と、サックバックバルブ３０の吸引動作と、薬液開閉バルブ１３及び溶剤開閉バルブ２３の開閉動作と、薬液ポンプ１２及び溶剤ポンプ２２の送り出し動作とを総括制御する。制御部８は、本発明における制御手段に相当する。
【００３６】
［ノズル移動機構４０の構成］
図２を参照して、ノズル移動機構４０の構成を説明する。
ノズル移動機構４０は、ノズルブロック５０を把持する把持部４１を備える。この把持部４１は第１移動部４２に搭載されている。第１移動部４２は、把持部４１を水平面内でＸ方向に移動させる。第１移動部４２の両端部は、鉛直方向（Ｚ方向）に移動する上下シリンダー４５を介在して一対のシリンダー支持ブロック４６に支持されている。一対のシリンダー支持ブロック４６は一対の第２移動部４３に搭載されている。第２移動部４３は、シリンダー支持ブロック４６を水平面内でＹ方向に移動させる。以上のように構成されたノズル移動機構４０により、ノズルブロック５０は、水平面内でX方向及びY方向に移動可能であるとともに、鉛直方向に移動可能になっている。ノズル移動機構４０は本発明におけるノズル移動手段に相当する。
【００３７】
また、図２に示すように、本実施例に係る薬液塗布装置は、ノズルブロック５０を複数個（この実施例では１０個）備えている。複数個のノズルブロック５０から構成されたものをノズルユニット２０１と呼ぶ。ノズルユニット２０１の複数個のノズルブロック５０は、それぞれに待機ポット６０、薬液供給部１０及び溶剤供給部２０を備える。上述のノズル移動機構４０は、複数個あるノズルブロック５０からいずれか１つのノズルブロック５０を把持して、薬液吐出位置P２に移動させ、また、フォトレジストを塗布した後、待機位置P1にノズルブロック５０を移動させるようになっている。
【００３８】
［ノズルブロック５０の構成］
ノズルブロック５０は、図３に示すように、ノズル５１と、それを支持するノズル支持ブロック５２とから構成されている。フォトレジストを供給する薬液配管１８は、ノズル支持ブロック５２内を介してノズル５１と連通接続している。
【００３９】
［待機ポット６０の構成］
待機ポット６０の構成を説明する。
待機ポット６０は、図３に示すように、溶剤供給容器７１と、その下側に設けられた、フォトレジストや溶剤を回収する回収ポット８１とから構成されている。
【００４０】
溶剤供給容器７１の内側には、ノズル５１を収納するノズル収納容器９１ａが備えられている。ノズル収納容器９１ａは、本発明における収納容器に相当する。また、待機ポット６０における溶剤供給孔２４は、溶剤供給容器７１に貫通して形成された溶剤供給孔２４ａと、ノズル収納容器９１ａに貫通して形成された溶剤供給孔２４ｂとが互いに連通接続して形成されている。溶剤配管２８より供給された溶剤は、溶剤供給孔２４ａを経て、溶剤供給孔２４ｂからノズル収納容器９１ａ内に供給される。
【００４１】
ノズル収納容器９１ａは、内側が漏斗状に形成されている。つまり、ノズル５１を収納できるような大きな上部開口９２を備え、ノズル５１の薬液吐出口５３に対して平面視で重なる位置に、その上部開口９２よりも小さい排液口９３を備え、上部開口９２から排液口９３に向かうにつれて内径が小さくなるように形成されている。
【００４２】
ノズル収納容器９１ａの排液口９３は、その内径がノズル５１の先端部よりも大きくなるように（ノズル５１の先端部の接触しないように）開口されている。さらに、ノズル収納容器９１ａの排液口９３は、ノズルブロック５０のノズル支持ブロック５２の下面が溶剤供給容器７１の上面に当接して待機ポット６０に載置されたとき、ノズル収納容器９１ａ内に収納されたノズル５１の先端部にある薬液吐出口５３が排液口９３から下側に突出する高さ位置に設けられている。
【００４３】
回収ポット８１は、ノズル５１ａから吐出されたレジストや溶剤を貯める、図示しない廃液タンクに廃液を排出する廃液排出孔８２を備え、その廃液排出孔８２が回収ポット８１の底面より高い位置に設けられていることにより、回収ポット８１内には、ノズル５１やノズル収納容器９１ａの排液口９３から出された、フォトレジストや溶剤などを貯留する排液貯留部８３が形成されている。回収ポット８１は、本発明における回収手段に相当する。
【００４４】
〔薬液塗布装置の動作〕
次に上述した薬液塗布装置の動作について、図４及び図５を参照して説明する。
なお、図４は動作を示すフローチャートであり、図５は待機ポット６０の縦断面図の一部を抜き出して、待機ポット６０内の動作の状態を表したものである。
【００４５】
ステップＳ１（ノズルブロックの待機位置への移動）：
基板Ｗ上にフォトレジストを吐出した後、ノズルブロック５０は、基板Ｗ上の薬液吐出位置Ｐ２から待機ポット６０の待機位置Ｐ１に、ノズル移動機構４０によって移動される。
【００４６】
ステップＳ２（溶剤の供給）：
待機位置に移動されたノズルブロック５０は、待機ポット６０のノズル収納容器９１ａ内にノズル５１が収まるように待機ポット６０に載置される。ノズル５１がノズル収納容器９１ａ内に収まった後、溶剤ポンプ２２によって溶剤タンク２１内から送り出された溶剤は、溶剤開閉バルブ２３を開くことで、溶剤配管２８、溶剤供給孔２４ａを経て、溶剤供給孔２４ｂよりノズル収納容器９１ａ内に供給される。供給された溶剤は、ノズル収納容器９１ａの内壁９４によりノズル５１の先端部へ案内されて流れる。そして、ノズル５１の先端に沿って溶剤が流下する際、溶剤はノズル５１の先端部で結晶化したフォトレジストを溶解してノズル５１を洗浄することができる（図５（ａ））。なお、ノズル収納容器９１ａ内に供給される溶剤が排液口９３から排出される量より多い場合、又は、排液口９３付近の内容量が小さい場合（例えば、本実施例のような上部開口９２から排液口９３に向うにつれて内径が小さくなる漏斗状の場合）は、ノズル５１の外壁をノズル５１の先端部から広範囲にわたり溶剤で浸してノズル５１の洗浄効果を高めることができる。さらに、それら両方を兼ね備える場合は、より一層広範囲にわたり浸すことができる。
【００４７】
ステップＳ３（吸引）：
ノズル収納容器９１ａ内に供給された溶剤は、ノズル収納容器９１ａの内壁９４によりノズル５１の先端部へ案内されて流れ、排液口９３から排出される。その際に、排液口９３によって溶剤の流れが規制されノズル５１の先端部に溶剤が集まり、ノズル５１の先端部を溶剤で覆いやすくする。ノズル５１の先端部が溶剤で覆われた状態で、サックバックバルブ３０を作動させて、ノズル５１に吸引力を与えることによって、ノズル５１内に溶剤を吸引する。すると、吸引された溶剤は、ノズル５１の先端部の内壁で結晶化したフォトレジストを溶解し、ノズル５１の先端部の内壁を洗浄する（図５（ｂ））。
【００４８】
ステップＳ４（溶剤供給停止）：
溶剤開閉バルブ２３を閉じることにより、溶剤の供給は停止される（図５（ｃ））。
【００４９】
なお、溶剤の供給停止は、溶剤の吸引後に限られず、所定量の溶剤を供給し、溶剤開閉バルブ２３を閉じることにより、溶剤の供給を停止させ、そして、供給された溶剤がノズル収納容器９１ａの排液口９３から排出してしまう前に、サックバックバルブ３０を作動させてノズル５１内に吸引させてもよい。
【００５０】
ステップＳ５（ノズルブロック待機）：
ノズル５１の先端部に溶剤を吸引した状態で、ノズルブロック５０は、次の吐出指令があるまで、待機ポット６０の待機位置で待機する（図５（ｃ））。このとき、ノズル５１の薬液吐出口５３が溶剤で塞がれるのでフォトレジストと外気との接触を避けられ、フォトレジストの変質を防止することができる。
【００５１】
また、待機ポット６０内の回収ポット８１の排液貯留部８３には、ノズル５１やノズル収納容器９１ａから出された、フォトレジストや溶剤が溜まっている。この排液貯留部８３中の溶剤が気化することで、回収ポット８１内に溶剤の雰囲気を作り出すことができる。それにより、ノズル５１の先端部に吸引した溶剤が外気中に気化することを妨げることができる。
【００５２】
ステップＳ６（予備吐出）：
再び、基板Ｗにフォトレジストを塗布するときに、待機状態のノズルブロック５０は、ステップＳ３の工程で吸引した溶剤と、フォトレジストとを待機ポット６０の回収ポット８１内に排出する（図５（ｄ））。このとき、ノズル５１の薬液吐出口５３が収納容器の排液口９３より下側に突出しているため、ノズル５１から吐出されたフォトレジストで、ノズル収納容器９１ａを汚すことなく予備吐出することができる。なお、予備吐出とは、ノズル５１内の古い薬液を所定量吐出して、新しい薬液をノズル５１の先端部まで満たし、次の吐出の際には、その新しい薬液で吐出を行えるようにすることをいう。
【００５３】
ステップＳ７（ノズルブロックの基板への移動、及び薬液の塗布）：
ノズルブロック５０を待機位置Ｐ１から基板Ｗ上の薬液吐出位置Ｐ２にノズル移動機構４０によって移動させる。そして、図示しない搬送機構により搬送された未処理の基板Ｗにフォトレジストを吐出する。
【００５４】
なお、上記実施例１は、次のように変形実施することが可能である。即ち、ステップＳ１の工程において、基板Ｗにフォトレジストを吐出した後、その状態でサックバックバルブ３０を作動させて、ノズル５１内のフォトレジストの液面を引き戻す。そして、ノズルブロック５０を基板Ｗ上の薬液吐出位置Ｐ２から待機位置Ｐ１にノズル移動機構４０によって移動させる。そして、待機ポット６０の待機位置において、予備吐出を行い、ノズル５１内のフォトレジストを吐出する。この動作の後に、ステップＳ２工程に進んでもよい。
【００５５】
また、ステップＳ５の工程におけるノズル５１の待機状態において、一定時間おきに予備吐出する場合は、その待機状態で予備吐出し、また、溶剤を供給して、その溶剤をノズル５１内に吸引することができるので、従来では、予備吐出ごとに、他の位置に配設された溶剤の貯留槽まで移動して、吸引していた動作を、本実施例では省くことができる    
【実施例２】
【００５６】
上述した実施例１では、基板Ｗにフォトレジストを吐出した後、ノズルブロック５０を待機ポット６０の待機位置に移動し、待機状態で溶剤が供給され、ノズル収納容器９１ａの内壁９４により溶剤がノズル５１先端部に向かって流れ、ノズル５１先端部に覆われた溶剤をノズル５１内に吸引した。つまり、フォトレジストの面に接するように溶剤を吸引させる薬液塗布装置の一連の動作について説明した。そこで実施例２では、溶剤を供給する前に１度、吸引動作を行いノズル５１内に空気を吸引させることで、フォトレジストと溶剤との間に空気の層を形成させる薬液塗布装置の一連の動作について説明する。
【００５７】
実施例２の構成は、実施例１と同じ構成からなっている。そのため、構成の説明は省略する。また、実施例２を図６及び図７を参照して説明する。なお、図６は動作を示すフローチャートであり、図７は待機ポットの縦断面図の一部を抜き出して、待機ポット内の動作の状態を表したものである。
【００５８】
ステップＳ１１（ノズルの待機位置への移動、及び吸引）：
基板Ｗ上にフォトレジストを吐出した後、薬液吐出位置Ｐ２にあるノズルブロック５０は、先ず、その状態でサックバックバルブ３０を作動させることにより、ノズル５１に吸引力を与え、ノズル５１内のフォトレジストの液面をノズル５１内に引き戻す。このとき、引き戻されてできた空間には、ノズル５１の先端部の周囲の空気が吸引される（図７（ａ１））。なお、この作業により、フォトレジストの液面がノズル５１内に引き戻されるので、ノズル５１からフォトレジストが垂れ落ちる「液だれ」を防ぐこともできる。その後、ノズル移動機構４０によって、ノズルブロック５０を薬液吐出位置Ｐ２から待機ポット６０の待機位置Ｐ１に移動させる。
【００５９】
なお、このステップＳ１は、先にノズル移動機構４０によって、ノズルブロック５０を薬液吐出位置Ｐ２から待機位置Ｐ１にある待機ポット６０に移動させた後、サックバックバルブ３０を作動させて、ノズル５１内に空気を吸引してもよい（図７（ａ２））。
【００６０】
また、薬液吐出位置Ｐ２にある状態でサックバックバルブ３０を作動させて、ノズル５１内に空気を吸引し、ノズル移動機構４０によって、ノズルブロック５０を薬液吐出位置Ｐ２から待機位置Ｐ１にある待機ポット６０に移動して、待機ポット６０に載置された状態で予備吐出し、再度、サックバックバルブ３０を作動させることで、ノズル５１内に周囲の空気を吸引してもよい。
【００６１】
ステップＳ１２（溶剤の供給）：
ノズルブロック５０をノズル移動機構４０によって、基板Ｗ上の薬液吐出位置Ｐ２から待機ポット６０の待機位置Ｐ１に移動させる移動動作と、サックバックバルブ３０を作動させ、ノズル５１内に空気を吸引させる吸引動作との後で、待機ポット６０に載置されたノズルブロック５０のノズル５１が収納されたノズル収納容器９１ａ内に、溶剤供給孔２４から溶剤が供給される。供給された溶剤は、漏斗状のノズル収納容器９１ａの内壁９４に沿ってノズル５１先端部に向かって流れる。この溶剤は、ノズル５１の薬液吐出口５３に対して平面視で重なる位置に設けられ、薬液吐出口５３を包含する形状より大きく開口された排液口９３から排出される。このとき、ノズル５１の外壁で結晶化したフォトレジストを溶解し、ノズル５１を洗浄することができる点は、実施例１と同様である図７（ｂ））。
【００６２】
ステップＳ１３（吸引）：
ノズル収納容器９１ａ内に供給された溶剤は、漏斗状のノズル収納容器９１ａの内壁９４に沿って流れ、排液口９３から排出されるが、その際、ノズル５１先端部を覆った溶剤は、サックバックバルブ３０を作動させることで、ノズル５１内に吸引される。すると、吸引した溶剤とフォトレジストとの間にステップＳ１１で吸引した空気の層が形成された状態になり、この空気の層によりノズル５１内のフォトレジストと溶剤の接触が避けられ、フォトレジストの変質を防止することができる（図７（ｃ））。
【００６３】
ステップＳ１４（溶剤供給停止）からステップ１７（（ノズルブロックを基板へ移動し薬液を塗布する）までの動作は、実施例１の場合と同様であるのでここでの説明は省略する。
【００６４】
本発明は、上述した各実施例に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００６５】
（１）上述した各実施例では、薬液塗布装置の待機ポット６０のノズル収納容器９１ａは、大径の上部開口９２から小径の排液口９３に向かって次第に内径が小さくなる漏斗状の容器であったが、単に大径の上部開口９２と、小径の排液口９３とを備えた容器であってもよい。例えば、図８に示すように、円筒状又は角筒状のノズル収納容器９１ｂの場合、単に、ノズル５１を収納できる大径の上部開口９２と、小径の排液口９３を備えておればよい。
【００６６】
（２）上述した各実施例では、ノズル収納容器９１ａに溶剤供給孔２４ｂが設けられ、その溶剤供給孔２４ｂに連通接続させ、溶剤を供給しているものであったが、図９に示すように、ノズル収納容器９１ｃの上から溶剤を供給するものであってもよい。例えば、図中、溶剤供給孔２４ａに溶剤供給ノズル２５が連通接続し、溶剤配管２８を流通して供給された溶剤は、溶剤供給孔２４ａを経て、溶剤供給ノズル２５からノズル収納容器９１ｃ内に流入する。
【００６７】
（３）上述した各実施例では、待機ポット６０のノズル収納容器９１ａは、漏斗状の容器であり、ノズル収納容器９１ａの内壁９４とノズル５１の外壁との隙間は、ある程度確保されているが、例えば、図１０に示すように、ノズル収納容器９１ｄの内壁９４とノズル５１の外壁との隙間を狭くしていった場合に、供給した溶剤がその隙間で表面張力によって流しきれず、残ってしまう恐れがある。このときに、気体の一例である窒素ガスを供給し、残った溶剤を吹き飛ばせるものを設けてもよい。具体的は、待機ポット６０の溶剤供給容器７１に、本発明の気体供給手段に相当する気体供給部１００から窒素ガスを供給するための構成を設ける。この気体供給部１００は、図１１に示すように、窒素ガス源（通常、この種の薬液塗布装置が設置されるクリーンルームに常備されている）を気体配管１０８を介して待機ポット６０の気体供給孔１０４に連通接続して構成されている。気体供給孔１０４は、溶剤供給容器７１に貫通して形成された気体供給孔１０４ａと、ノズル収納容器９１ｄに貫通して形成された気体供給孔１０４ｂとが互いに連通接続して形成されている。気体配管１０８には、制御部８によって開閉制御される気体開閉バルブ１０３が介在している。なお、本実施例では、窒素ガス源としてクリーンルームに常備されているガス源を用いたが、実施例装置に窒素ガスボンベを備えて、これを窒素ガス源として用いてもよい。
【００６８】
上述した構成によると、溶剤供給した後、気体開閉バルブ１０３を開き、窒素ガスを気体配管１０８及び気体供給孔１０４ａを経て、気体供給孔１０４ｂより、ノズル収納容器９１ｄ内に供給される。これにより、ノズル収納容器９１ｄに残っている溶剤を窒素ガスで吹き飛ばすことができる。
【００６９】
（４）上述した各実施例では、１組のノズル移動機構４０に対して、電動モータ２、回転軸３、スピンチャック４及びカップ５を備えた、１組の処理部１と、１組のノズルユニット２０１とから構成されたものであったが、図１２に示すように、１組のノズル移動機構４０に対して、複数組（図１２では３組）の処理部１と、それと同数組のノズルユニット２０１とから構成されるものであってもよい。
【００７０】
この場合、例えば、基板Ｗ０に対してフォトレジストを塗布するとき、把持部４１は、ノズル移動機構４０によって、基板Ｗ０の前に配置されたノズルユニット２０１の複数個（本変形例では１０個）のノズルブロック５０のいずれか１つを選択して把持し、基板Ｗ０上の薬液吐出位置に移動させて、薬液を塗布する。
【００７１】
基板Ｗ０にフォトレジストを塗布した後、引き続き、基板Ｗ１に塗布する場合、ノズルブロック５０を把持した把持部４１は、ノズルブロック５０を、元の待機ポット６０に戻し、基板Ｗ１の前に配置されたノズルユニット２０１の１０個のノズルブロック５０のいずれか１つを選択して把持し、基板Ｗ１上の薬液吐出位置に移動させて、薬液を塗布する。
【００７２】
（５）上述した各実施例では、１組のノズル移動機構４０に対して、１組の処理部１と、１組のノズルユニット２０１とから構成されたものであったが、図１３に示すように、１組のノズル移動機構４０に対して、複数組（図１３では３組）の処理部１と、１組のノズルユニット２０１とから構成されるものであってもよい。
【００７３】
この場合、ノズルユニット２０１は、ノズルユニット支持ブロック２０２に支持され、ノズルユニット２０１を支持したノズルユニット支持ブロック２０２は、第３移動部４４によって、第１移動部４２と平行に（Ｘ方向に）移動することができるようになっている。
【００７４】
例えば、基板Ｗ０に対してフォトレジストを塗布する場合、ノズルユニット２０１を支持したノズルユニット支持ブロック２０２は、第３移動部４４によって、基板Ｗ０の前に移動される（図中の二点鎖線を参照）。次に、第１移動部４２、第２移動部４３及び上下シリンダー４５によって、把持部４１は基板Ｗ０の前に移動される。続いて、把持部４１は、ノズルユニット２０１の複数個（本変形例では１０個）のノズルブロック５０のいずれか１つを選択して把持し、基板Ｗ０上の薬液吐出位置に移動させて、フォトレジストを吐出する。
【００７５】
基板Ｗ０にフォトレジストを塗布した後、引き続き、基板Ｗ１に塗布する場合、ノズルブロック５０を把持した把持部４１は、その把持した状態で基板Ｗ１上の薬液吐出位置に移動する。このとき、ノズルユニット２０１を支持したノズルユニット支持ブロック２０２は、把持部４１に連動して、基板Ｗ１の前に移動する。基板Ｗ１上の薬液吐出位置に移動されたノズルブロック５０は、フォトレジストを吐出する。
【００７６】
（６）上述した各実施例では、ノズル５１の薬液吐出口５３がノズル収納容器９１ａ、ｂ、ｃ、ｄの排液口９３より下側に突出するように構成していたが、これに限られるものではなく、ノズル５１の薬液吐出口５３と収納容器の排液口９３とを同じ高さ位置となるように構成してもよい。この場合でもノズル５１の薬液吐出口５３の下の位置に９１ａ、ｂ、ｃ、ｄの排液口９３が存在する構成ではないので、ノズル５１から吐出されたフォトレジストで、ノズル収納容器９１ａ、ｂ、ｃ、ｄを汚すことなく予備吐出することができる。この構成の場合、ノズル５１の薬液吐出口５３とノズル収納容器９１ａ、ｂ、ｃ、ｄの排液口とがより近い位置にあるため、サックバックバルブ３０を作動させて供給された溶剤をノズル５１内に吸引する場合、より確実に溶剤をノズル５１内に引き込むことができる。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明の実施例１に係る薬液塗布装置の概略構成図である。
【図２】実施例１に係る装置の薬液塗布処理部の概略構成を示した平面図である。
【図３】待機ポットの縦断面図である。
【図４】実施例１に係る装置の動作説明に供するフローチャートである。
【図５】実施例１に係る装置の動作説明に供する図である。
【図６】実施例２に係る装置の動作説明に供するフローチャートである。
【図７】実施例２に係る装置の動作説明に供する図である。
【図８】変形例に係る待機ポットの縦断面図である。
【図９】別の変形例に係る待機ポットの縦断面図である。
【図１０】更に別の変形例に係る待機ポットの縦断面図である。
【図１１】変形例に係る薬液塗布装置の概略構成図である。
【図１２】変形例に係る装置の薬液塗布処理部の概略構成を示した平面図である。
【図１３】別の実施例に係る装置の薬液塗布処理部の概略構成を示した平面図である。
【符号の説明】
【００７８】
Ｗ  …基板
１  …処理部
２  …電動モータ
３  …回転軸
４  …スピンチャック
８  …制御部
１０  …薬液供給部
２０  …溶剤供給部
２４ａ，２４ｂ  …溶剤供給孔
２５  …溶剤供給ノズル
３０  …サックバックバルブ
４０  …ノズル移動機構
５０  …ノズルブロック
５１  …ノズル
５３  …薬液吐出口
６０  …待機ポット
９１ａ〜９１ｄ  …ノズル収納容器
９２  …上部開口
９３  …排液口
９４  …内壁
１００  …気体供給部
１０４ａ，１０４ｂ  …気体供給孔
【図１】
2010082582.tif 000003
【図２】
2010082582.tif 000004
【図３】
2010082582.tif 000005
【図４】
2010082582.tif 000006
【図５】
2010082582.tif 000007
【図６】
2010082582.tif 000008
【図７】
2010082582.tif 000009
【図８】
2010082582.tif 000010
【図９】
2010082582.tif 000011
【図１０】
2010082582.tif 000012
【図１１】
2010082582.tif 000013
【図１２】
2010082582.tif 000014
【図１３】
2010082582.tif 000015