(57)【要約】【課題】電磁波遮蔽性とハードコート性を有し、１枚のみの基材からなる、低コストのディスプレイ用フィルターにおいて、高いハードコート性を維持しながらカールを改良する。【解決手段】基材上に、導電性メッシュを含む導電層を有し、前記導電層上にハードコート層を有する、ディスプレイ用フィルターであって、該ディスプレイ用フィルターは、基材が１枚のみの構成を有し、前記ハードコート層が、ラジカル重合性官能基を有する化合物に由来する化合物とカチオン重合性官能基を有する化合物に由来する化合物を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、導電性メッシュを含む導電層を有し、前記導電層上にハードコート層を有する、ディスプレイ用フィルターであって、
該ディスプレイ用フィルターは、基材が１枚のみの構成を有し、
前記ハードコート層が、ラジカル重合性官能基を有する化合物に由来する化合物とカチオン重合性官能基を有する化合物に由来する化合物を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
【請求項２】
前記ハードコート層の厚みが、６〜２５μｍである、請求項１に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項３】
前記ハードコート層は、ラジカル重合性官能基を有する化合物及びカチオン重合性官能基を有する化合物を含む組成物を反応させて形成され、
該組成物において、前記ラジカル重合性官能基を有する化合物１００質量部に対する前記カチオン重合性官能基を有する化合物の含有量が１０〜１００質量部である、請求項１または２に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項４】
前記導電性メッシュの厚みが、０．５〜８μｍである、請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項５】
前記基材が、厚みが８０〜２００μｍのプラスチックフィルムである、請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波遮蔽性とハードコート性を有し、かつ１枚のみの基材からなる、低コストのディスプレイ用フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（以下、ＰＤＰ）などのディスプレイは、明瞭なフルカラー表示が可能な表示装置である。ディスプレイには、通常、外光の反射やギラツキの防止、ディスプレイから発生する電磁波の遮蔽、及びディスプレイの保護などを目的とした前面フィルター（ディスプレイ用フィルター）がディスプレイの視認側に配置される。特にＰＤＰはその構造や動作原理上、強度な電磁波が発生するため、人体や他の機器に与える影響が懸念されており、電磁波遮蔽機能、及び反射防止機能あるいは防眩機能が付与されたディスプレイ用フィルターが通常用いられている。
【０００３】
一般的なディスプレイ用フィルターは、反射防止機能、防眩機能等を有する光学機能性フィルムと、導電層（電磁波遮蔽層）が設けられたプラスチックフィルム（電磁波遮蔽フィルム）とを接着層を介して積層して形成されている。また、上記の光学機能性フィルムには、表面の耐擦傷性を上げるために、ハードコート層が基材フィルムと反射防止層や防眩層との間に設けられている。
【０００４】
近年、ディスプレイの低価格化に伴ってディスプレイ用フィルターの低価格化も余儀なくされており、上記のような２枚のフィルムからなるディスプレイ用フィルターに対して、基材（例えばプラスチックフィルム）を１枚のみにすることによって低価格化を図ることが提案されている。
【０００５】
１枚のみの基材からなるディスプレイ用フィルターの１つの構成として、基材上に形成された導電性メッシュを含む導電層上に直接に、ハードコート層、反射防止層、防眩層等の機能層を塗工形成する態様が提案されている（特許文献１〜３）。近年では、ディスプレイ用フィルターの導電層としては、電気抵抗が小さいこと、低コストで製造できること等から、導電性メッシュを含む導電層が一般的に用いられている。
【０００６】
また、上記特許文献１〜３には、ディスプレイ用フィルター表面の耐擦傷性を向上させるために、導電性メッシュを含む導電層上にハードコート層を直接に塗工形成することが記載されている。
【特許文献１】特開２００７−１４０２８２公報
【特許文献２】特開２００７−２４３１５８号公報
【特許文献３】ＷＯ２００８／０２９７０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述のように、導電性メッシュを含む導電層上にハードコート層を直接に塗工形成する場合、導電性メッシュ上に塗工されるハードコート層の塗工性や平滑性を確保するためには、ハードコート層の塗工量や厚みは、導電性メッシュの凹凸を十分に埋めることができる塗工量や厚みとすることが好ましく、従来のプラスチックフィルム基材上にハードコート層を設ける場合に比べて、塗工量や厚みを大きくする必要がある。
【０００８】
しかしながら、ハードコート層の塗工量や厚みを大きくすると、ディスプレイ用フィルターにカールが起こりやすくなると言う問題がある。更に、１枚のみの基材からなるディスプレイ用フィルターは、２枚以上の基材からなるディスプレイ用フィルターに比べてカール耐性が小さく、ハードコート層の厚塗りによる影響を受けやすいという問題がある。
【０００９】
従来から一般的に知られているハードコート性フィルムは、プラスチックフィルム上に直接にハードコート層が設けられており、ハードコート層の厚みも５μｍ程度で十分であり、カールの問題はあまり起こらなかった。
【００１０】
従って、本発明の目的は、電磁波遮蔽性とハードコート性を有し、１枚のみの基材からなる、低コストのディスプレイ用フィルターにおいて、高いハードコート性を維持しながらカールを改良することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
１）基材上に、導電性メッシュを含む導電層を有し、前記導電層上にハードコート層を有する、ディスプレイ用フィルターであって、
該ディスプレイ用フィルターは、基材が１枚のみの構成を有し、
前記ハードコート層が、ラジカル重合性官能基を有する化合物に由来する化合物とカチオン重合性官能基を有する化合物に由来する化合物を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
２）前記ハードコート層の厚みが、６〜２５μｍである、前記１）に記載のディスプレイ用フィルター。
３）前記ハードコート層は、ラジカル重合性官能基を有する化合物及びカチオン重合性官能基を有する化合物を含む組成物を反応させて形成され、
該組成物において、前記ラジカル重合性官能基を有する化合物１００質量部に対する前記カチオン重合性官能基を有する化合物の含有量が１０〜１００質量部である、前記１）または２）に記載のディスプレイ用フィルター。
４）前記導電性メッシュの厚みが、０．５〜８μｍである、前記１）〜３）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
５）前記基材が、厚みが８０〜２００μｍのプラスチックフィルムである、前記１）〜４）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、電磁波遮蔽性及び高いハードコート性を有し、かつカールが改良された、低コストのディスプレイ用フィルターを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明のディスプレイ用フィルターは、基材が１枚のみの構成を有し、前記基材上に、導電性メッシュを含む導電層を有し、該導電層上にハードコート層を有し、かつ前記ハードコート層は、ラジカル重合性官能基を有する化合物に由来する化合物とカチオン重合性官能基を有する化合物に由来する化合物とを含有する。つまり、本発明のディスプレイ用フィルターの特長の一つは、基材が１枚のみの構成を有する点である。なお、導電層上に形成されるハードコート層は、該導電層の導電性メッシュ部分を被覆するように積層されることが重要である。また導電性メッシュを含む導電層上にハードコート層が形成されるため、導電性メッシュの開口部にもハードコート層が存在することとなり、導電性メッシュの開口部については、基材上にハードコート層が積層された構成となる。
【００１４】
本発明は、ラジカル重合性官能基を有する化合物とカチオン重合性官能基を有する化合物とを含有した組成物を反応させてハードコート層を形成することによって、結果として得られるハードコート層はラジカル重合性官能基を有する化合物に由来する化合物とカチオン重合性官能基を有する化合物に由来する化合物とを含有し、高いハードコート性を維持しながら、カールが抑制されることを見いだした。
【００１５】
本発明において、ハードコート層がラジカル重合性官能基を有する化合物に由来する化合物とカチオン重合性官能基を有する化合物に由来する化合物を含有するとは、ハードコート層がラジカル重合性官能基を有する化合物に由来する化合物とカチオン重合性官能基を有する化合物に由来する化合物を含有する態様、並びにハードコート層が１分子中にラジカル重合性官能基とカチオン重合性官能基を併せ持つ化合物に由来する化合物を含有する態様の両方を意味する。つまり本発明において、ラジカル重合性官能基を有する化合物とカチオン重合性官能基を有する化合物を含む組成物を反応させてハードコート層を形成するとは、ラジカル重合性官能基を有する化合物とカチオン重合性官能基を有する化合物を含む組成物を反応させてハードコート層を形成する態様、並びに１分子中にラジカル重合性官能基とカチオン重合性官能基を併せ持つ化合物を含む組成物を反応させてハードコート層を形成する態様の両方を意味する。
【００１６】
上記のラジカル重合性官能基を有する化合物は、ラジカル重合性官能基として、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和重合性官能基を有する化合物である。上記のラジカル重合性官能基の数は、１分子当たり３個以上が好ましく、４個以上がより好ましい。上限は１０個以下が好ましい。
【００１７】
本発明にかかるラジカル重合性官能基を有する化合物としては、ラジカル重合性モノマーあるいはラジカル重合性オリゴマーが好ましい。
【００１８】
ラジカル重合性モノマーの例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレートなどが挙げられる。
【００１９】
ラジカル重合性オリゴマーとしては、ウレタンアクリレートオリゴマーを好ましく用いることができる。
【００２０】
ウレタンアクリレートオリゴマーは、例えばポリオール化合物とポリイソシアネート化合物の反応によって得られたウレタンオリゴマーのイソシアネート基にアクリレート化合物を反応させることによって得られる。
【００２１】
ポリオール化合物の具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリシクロデカンジメチロール、シクロヘキサンジメチロール、トリメチロールプロパン、グリセリン、１、 ３-プロパンジオール、１、 ４-ブタンジオール、１、 ３-ブタンジオール、２、 ３-ブタンジオール、１、 ５-ペンタンジオール、２、 ４-ペンタンジオール、１、 ２-ヘキサンジオール、１、 ６-ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリプロピレングリコール、１、 ９-ノナンジオール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノールＡポリエトキシグリコール、ポリカーボネートポリオール、ペンタエリスルトール、ソルビトール、スクロース、クオドロールなポリブタジエンポリオール、水添ポリブタジエンポリオール、水添ダイマージオールペンタエリトリトール等；トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスルトール、ソルビトール、スクロース、クオドロール等の３価以上の水酸基を含有する化合物を、エチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオキシド（ＰＯ）、ブチレンオキシド、テトラヒドロフランなどの環状エーテル化合物で変性することにより得られるポリエーテルポリオール；カプロラクトンで変性することにより得られるポリカプロラクトンポリオール；２塩基酸とジオールからなるポリエステルで変性することにより得られるポリエステルポリオール；及びこれらの二種以上の混合物を挙げることができる。
【００２２】
より具体的には、ＥＯ変性トリメチロールプロパン、ＰＯ変性トリメチロールプロパン、テトラヒドロフラン変性トリメチロールプロパン、カプロラクトン変性トリメチロールプロパン、ＥＯ変性グリセリン、ＰＯ変性グリセリン、テトラヒドロフラン変性グリセリン、カプロラクトン変性グリセリン、ＥＯ変性ペンタエリスリトール、ＰＯ変性ペンタエリスリトール、テトラヒドロフラン変性ペンタエリスリトール、カプロラクトン変性ペンタエリスリトール、ＥＯ変性ソルビトール、ＰＯ変性ソルビトール、カプロラクトン変性ソルビトール、ＥＯ変性スクロース、ＰＯ変性スクロース、ＥＯ変性スクロース、ＥＯ変性クオドール等及びこれらの二種以上の混合物を挙げることができる。
【００２３】
ポリイソシアネート化合物の具体例としては、２、 ４-トリレンジイソシアネート、２、 ６-トリレンジイソシアネート、４、 ４-ジフェニルメタンジイソシアネート、ｍ-キシリレンジイソシアネート、ｐ-キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ビフェニレンジイソシアネート、１、 ５-ナフチレンジイソシアネート、ｏ-トリジンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、４、 ４’-メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１、 ３-（イソシアナートメチル）シクロヘキサン、およびこれらのビュレット化物、イソシアヌレート化物等の重縮合物、及びこれらの二種以上の混合物を挙げることができる。特に好ましくは、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート及びイソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート化物等が挙げられる。
【００２４】
ウレタンオリゴマーのイソシアネート基をアクリレート変性するために用いるアクリレート化合物としては、アクリレート基もしくはメタクリレート基と、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、もしくはアミド基等のイソシアネート基と反応しうる官能基とを有する化合物が挙げられる。例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートのカプロラクトン変性物、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸等のカルボキシル基含有（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のアミノ基含有（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールプロパン（メタ）アクリルアミドなどのアミド基含有（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２５】
ウレタンアクリレートオリゴマーは市販品を使用することができる。例えば、新中村化学社製のＵ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ等、ダイセルユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９等、根上工業社製のＵＮ−９０００Ｈ、ＵＮ−３３２０ＨＡ、ＵＮ−３３２０ＨＢ、ＵＮ−３３２０ＨＣ、ＵＮ−３３２０ＨＳ、ＵＮ−９０１Ｔ等、サートマー社製のＣＮ９２９、ＣＮ９６８、ＣＮ９８９、ＣＮ９０１０、ＣＮ９７５を挙げることができる。
【００２６】
本発明にかかるカチオン重合性官能基を有する化合物としては、カチオン重合によって重合可能な官能基、例えば、環状エーテル基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサシクロペンチル基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、オキソラン基など）、ビニルエーテル基、ビニル基、チイラン基、チエタン基、ビシクロオルソエステル基、スピロオルソカーボネート基等を３個以上有する化合物、あるいはラクトン類、環状アセタール構造、環状カーボネート構造、及び環状イミノエーテル構造を有する化合物等が挙げられ、これらのカチオン重合性官能基を有するモノマーあるいはオリゴマーが好ましく用いられる。
【００２７】
上記したカチオン重合性官能基の中でも、硬化速度や硬化物の機械的特性の観点から、エポキシ基、オキセタニル基、及びビニルエーテル基のいずれかの官能基が好ましく、これらの官能基を有するモノマーあるいはオリゴマーが好ましい。
【００２８】
エポキシ基を有する化合物としては、芳香族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。
【００２９】
芳香族エポキシ化合物としては、フェニルグリシジルエーテルなどの単官能エポキシ化合物や、少なくとも１個の芳香族を有する多価フェノールまたはそのアルキレンオキサイド付加物等が挙げられる。例えば、ビスフェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール化合物またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド（例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等）付加物とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、ノボラック型エポキシ樹脂類（例えば、フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂等）、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル等が挙げられる。具体的には、ジャパンエポキシレジン社製のエピコート８２８、８０６、１００１、ナガセケムテック社製のデナコールＥＸ−２０１等を用いることができる。
【００３０】
脂環式エポキシ化合物としては、シクロヘキセンオキシド基、トリシクロデセンオキシド基、シクロペンテンオキシド基等を有する化合物が代表的であり、例えば、４−ビニルシクロヘキセンモノエポキサイド、ノルボルネンモノエポキサイド、リモネンモノエポキサイド、リモネンジオキサイド、ビニルシクロヘキセンジエポキシド、３，４−エポキシシクロへキシルメチル−３，４−エポキシシクロへキサンカーボキシレート、２，２−ビス［４−（２，３−エポキシプロポキシ）シクロヘキシル］ヘキサフルオロプロパン、エチレングリコールジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、２−（３，４−エポキシシクロへキシル５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−ｍ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチレン）アジペート３，４−エポキシシクロヘキサンメタノールのε−カプロラクトン付加物と多価アルコール（ＧＲ、ＴＭＰ、ＰＥ、ＤＰＥ、ヘキサペンタエリスリトール）のエステル化物
等が挙げられる。具体的にはダイセル化学工業社製のＢＨＰＥ−３１５０、セロキサイド２０２１、２０８０、３０００、エポリードＧＴ３００、ＧＴ４００ダウ・ケミカル社製のＵＶＲ−６１１０、６１０５、６１２８、ＥＲＬＸ−４３６０等を用いることができる。
【００３１】
脂肪族エポキシ化合物としては、例えば１，４−ブタンジオールジクリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールモノグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグルコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグルコールモノグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グルセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル等が挙げられる。具体的には、脂環式エポキシ化合物としては、例えば、ナガセケムテック社製のデナコールＥＸ−６１１、デナコールＥＸ−５１２、デナコールＥＸ−４１１、デナコールＥＸ−３１３、デナコールＥＸ−３２１、デナコールＥＸ−９１１等を用いることができる。
【００３２】
オキセタニル基を有する化合物としては、３―エチル―３−（ヒドロキシメチル）オキセタン、３―エチル―３−［（フェノキシ）メチル］オキセタン、３―エチル―３−（シクロヘキシロキ）シメチルオキセタン、３―エチル―３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−｛［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ］メチル｝オキセタン、１，３−ビス［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ］ベンゼンおよび１，４−ビス｛［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシメチル］ベンゼン、ＥＯ変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＦビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリメチロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールトリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル等が挙げられる。具体的には、東亞合成社製のアロンオキセタンＯＸＴ−１０１、ＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸＴ−２１２等を用いることができる。
【００３３】
ビニルエーテル基を有する化合物としては、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、アリルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、９−ヒドロキシノニルビニルエーテル、４−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、エチレングリゴールジビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルグリコール、ネオペンチルグリコールモノビニルグリコール、グリセロールジビニルエーテル、グリセロールトリビニルエーテル、ジグリセロールトリビニルエーテル、ソルビトールテトラビニルエーテル、１，４−ブタンジオールジビニルエーテル、ノナンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ビスフェノールＡジビニルエーテル、テトラブロモビスフェノールＡジビニルエーテル、ビスフェノールＦジビニルエーテル、１，４−ベンゼンジメタノールジビニルエーテル、Ｎ−ｍ−クロロフェニルジエタノールアミンジビニルエーテル、ｍ−フェニレンビス（エチレングリコール）ジビニルエーテルなどが挙げられる。
【００３４】
本発明にかかるハードコート層を形成するために反応させる組成物（ラジカル重合性官能基を有する化合物（Ａ）とカチオン重合性官能基を有する化合物（Ｂ）を含有する組成物）において、ラジカル重合性官能基を有する化合物（Ａ）１００質量部に対する、カチオン重合性官能基を有する化合物（Ｂ）の含有量は１０〜１００質量部の範囲が好ましく、１５〜８０質量部の範囲がより好ましい。上記の含有比率は、高いハードコート性を維持しながらカール性を改良するのに好適である。
【００３５】
本発明は、前述したように、ハードコート層が、１分子中にラジカル重合性官能基とカチオン重合性官能基を併せ持つ化合物に由来する化合物を含有する態様を含む。かかる１分子中にラジカル重合性官能基とカチオン重合性官能基を併せ持つ化合物としては、ラジカル重合性官能基とカチオン重合性官能基の両方を有するモノマー、あるいはオリゴマーを使用することもできる。かかるモノマーあるいはオリゴマーとして、例えば、日本触媒社製のＶＥＥＡ、ＶＥＥＭ、ナガセケムテック社製デナコールＥＸ−１１１、日油社製のブレンマーＧ、共栄社化学社製のライトエステルＧ、ライトエステルＴＨＦ、ライトアクリレートＴＨＦ−Ａ等が挙げられる。
【００３６】
また、本発明にかかるハードコート層は、１分子中にラジカル重合性官能基とカチオン重合性官能基を併せ持つ化合物と組み合わせて、ラジカル重合性官能基を有する化合物あるいはカチオン重合性官能基を有する化合物を含有する組成物を反応させて形成することができる。特に、ハードコート層を形成するために反応させる組成物として、１分子中にラジカル重合性官能基とカチオン重合性官能基を併せ持つ化合物を用いる場合は、ラジカル重合性官能基を有する化合物と組み合わせて用いることが好ましい。この場合、ハードコート層を形成するために反応させる組成物（ラジカル重合性官能基を有する化合物（Ａ）と１分子中にラジカル重合性官能基とカチオン重合性官能基を併せ持つ化合物（Ｃ）を含有する組成物）において、ラジカル重合性官能基を有する化合物（Ａ）１００質量部に対する１分子中にラジカル重合性官能基とカチオン重合性官能基を併せ持つ化合物（Ｃ）の含有量は、２０〜２００質量部の範囲が好ましく、４０〜１６０質量部の範囲が好ましい。
【００３７】
本発明のハードコート層を形成するために反応させる組成物には、更にラジカル重合開始剤を含有することが好ましい。ラジカル重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。
【００３８】
本発明のハードコート層を形成するために反応させる組成物には、更にカチオン重合開始剤を含有することが好ましい。カチオン重合開始剤としては、例えば、アリールジアゾニウム塩、アリールヨウドニウム塩、アリールハロニウム塩、アリールスルホニウム塩などのオニウム塩、鉄−アレン錯体、チタノセン錯体、アリールシラノール−アルミニウム錯体などの有機金属錯体などが挙げられる。
【００３９】
本発明のハードコート層を形成するために反応させる組成物には、更に、熱重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。
【００４０】
ハードコート層を形成するために反応させる組成物における、ラジカル重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性官能基を有する化合物１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部の範囲が適当である。同様に、カチオン重合開始剤の含有量は、カチオン重合性官能基を有する化合物１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部の範囲が適当である。また、熱重合性開始剤の含有量は、ラジカル重合性官能基を有する化合物とカチオン重合性官能基を有する化合物の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部の範囲が適当である。
【００４１】
ハードコート層を形成するために反応させる組成物に、１分子中にラジカル重合性官能基とカチオン重合性官能基を併せ持つ化合物を含有させる場合は、ラジカル重合開始剤とカチオン重合開始剤の合計含有量は、１分子中にラジカル重合性官能基とカチオン重合性官能基を併せ持つ化合物１００質量部に対して０．０１〜１０質量部の範囲が適当である。
【００４２】
本発明において、ハードコート層（つまりハードコート層を形成するために反応させる組成物）中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤、及び帯電防止剤などを用いることができる。また、帯電防止性付与、アンチグレア性付与や屈折率調整のために、金属酸化物微粒子や有機物微粒子を添加しても良い。
【００４３】
本発明において、ハードコート層を形成するために用いる組成物を反応させて、ハードコート層を形成するためには、該組成物を反応させることで硬化させればよく、その方法としては、公知の方法、例えば、紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射する方法、熱硬化方法を用いることができる。
【００４４】
活性エネルギー線を照射する方法としては、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性エネルギー線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行うと、効率よく硬化させることができる。またさらに、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、ハードコート層の塗布層中に重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。
【００４５】
熱硬化方法としては、熱源としてスチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて、少なくとも１４０℃以上に加温された空気や不活性ガスを、スリットノズルを用いて、基材やハードコート層塗膜に吹きあてることにより加熱する方法が挙げられる。中でも２００℃以上に加温された空気を用いることが好ましく、さらに好ましくは２００℃以上に加温された窒素を用いることが、硬化速度を早める点で好ましい。
【００４６】
本発明において、ハードコート層を形成するための組成物を反応（硬化）させてハードコート層を形成する方法としては、紫外線を照射して硬化させる方法が、比較的簡単な装置で高い生産性が得られるので好ましい。
【００４７】
本発明において、ハードコート層は導電層上に形成され、さらに具体的には、ハードコート層は導電性メッシュを含む導電層の導電性メッシュ部分を被覆するように配置されるが、上記の被覆方法として、導電層上にハードコート層（つまりハードコート層を形成するための組成物）を直接に塗工するのが好ましい。
【００４８】
ハードコート層を形成するために反応させる組成物の塗工に用いられる塗工方式（塗布方式）としては、ディップコーティング法、スピンコート法、スリットダイコート法、グラビアコート法、リーバースコート法、ロッドコート法、バーコート法、スプレー法、ロールコーティング法等の公知のウェットコーティング法を用いることができる。
【００４９】
ハードコート層（ハードコート層を形成するための組成物）の塗工に用いられる塗工液は、重合性化合物や必要に応じて添加される各種添加剤を溶解するため、あるいは、塗工液の粘度を調整するために、有機溶媒を含有するのが好ましい。ここで言うところの有機溶媒には、ハードコート層を構成することとなる液状の重合性モノマーは含まれない。
【００５０】
ハードコート層を形成するために反応させる組成物（塗工液）に含有する有機溶媒の量は、塗工液１００質量％に対して５〜７０質量％の範囲が好ましく、１０〜６０質量％の範囲が好ましい。これによって、ハードコート層を構成することとなる重合性化合物等の成分を十分に溶解することができ、また、塗工に適した粘度に調整することができる。
【００５１】
上記の有機溶媒としては、大気圧下沸点１００〜１８０℃の有機溶媒と大気圧下沸点１００℃未満の有機溶媒を混合して用いることが好ましい。大気圧下沸点１００〜１８０℃の有機溶媒を含むことにより、重合性化合物の相溶性が増し、硬化塗膜の透明性が向上する。また、塗液の塗布性が良くなり、表面が平坦な被膜を得ることができる。さらに、大気圧下沸点１００℃未満の有機溶媒を含むことによって、被膜形成時に、有機溶媒が有効に揮発し、硬度の高い被膜を得ることができる。すなわち、表面が平坦で、かつ、硬度の高い被膜を得ることができる。
【００５２】
大気圧下沸点１００〜１８０℃の有機溶媒としては、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル等のエーテル類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、イソブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等のアセテート類、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン等のケトン類、ブタノール、イソブチルアルコール、ペンタノ−ル、４−メチル−２−ペンタノール、３−メチル−２−ブタノール、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。これらは単独あるいは混合して用いてもかまわない。これらのうち、特に好ましい有機溶媒の例は、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジアセトンアルコール等である。
【００５３】
大気圧下沸点１００℃未満の有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール、メチルエチルケトン等があげられる。これらは単独あるいは混合して用いてもかまわない。
【００５４】
本発明において、導電性メッシュを含む導電層を被覆するように積層された、ハードコート層の厚みは、後述する導電性メッシュを含む導電層の厚みより大きいのが好ましく、導電層の厚み１００％に対してハードコート層の厚みは１３０％以上が好ましく、１５０％以上がより好ましい。上限は４００％程度である。導電層の厚みに対してハードコート層の厚みを大きくすることによって、ハードコート層の良好な塗工性を確保することができ、また、導電性メッシュの凹凸を埋めて平滑なハードコート層を得ることができる。ここで、ハードコート層の厚みとは、塗工、乾燥、硬化後の厚みである。
【００５５】
ハードコート層の厚みとしては、具体的には、６μｍ以上が好ましく、８μｍ以上がより好ましく、特に１０μｍ以上が好ましい。ハードコート層の厚みの上限は、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、１８μｍ以下が好ましい。
【００５６】
上述したように、ハードコート層の厚みを導電層の厚みより十分に大きくして、導電性メッシュの凹凸を埋めることによって、ハードコート層表面の平滑性が向上する。ハードコート層表面の平滑性は、中心線平均粗さＲａ値で表すことができ、ハードコート層表面の中心線平均粗さＲａ値としては、３００ｎｍ以下が好ましく、２００ｎｍ以下がより好ましい。ハードコート層表面のＲａ値を３００ｎｍ以下にすることによって、透明性がより高くなり、また、後述する極薄膜の低屈折率層をハードコート層上に塗工形成するときの良好な塗工性を確保することができる。従って、ハードコート層上に塗工形成された低屈折率層表面の中心線平均粗さＲａ値も３００ｎｍ以下であることが好ましい。ハードコート層表面及び低屈折率層表面のＲａ値の下限は１０ｎｍ程度である。ここで、中心線平均粗さＲａ値は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９８２年）の規定に従って測定することができる。
【００５７】
上述のように、ハードコート層の厚みを６μｍ以上にすると、ディスプレイ用フィルターにカールが発生しやすくなるが、前述した本発明のハードコート層を用いることによって、カールの発生を抑制することができる。
【００５８】
導電性メッシュ及びハードコート層の厚みは、走査型電子顕微鏡によるディスプレイ用フィルターの拡大断面写真から求めることができる。
【００５９】
本発明のディスプレイ用フィルターは、ハードコート層の上に反射防止層を設けることができる。反射防止層は、通常、高屈折率層と低屈折率層を順にハードコート層上に積層させることにより形成されるが、生産性を向上させる目的で、低屈折率層を直接ハードコート上に積層させることも可能である。
【００６０】
高屈折率層の屈折率は、１．５５以上が好ましく、１．６以上がより好ましく、屈折率の上限は２．０程度である。
【００６１】
係る高屈折率層としては、金属酸化物微粒子や高屈折率化合物を含有する硬化性樹脂組成物が好ましい。上記金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いても良いし、複数併用しても良い。また上記金属酸化物微粒子の屈折率は１．６以上が好ましく、１．７以上がより好ましい。屈折率の上限は３以下が好ましく、２．８以下がより好ましい。
【００６２】
上記金属酸化物微粒子の平均一次粒子径は１５０ｎｍ未満のものが好ましく、更に好ましくは、平均一次粒子径が３〜１００ｎｍのものである。なお、本発明の平均一次粒子径とは、金属酸化物微粒子が単独で存在した場合の粒子径を示し、最も頻度の高い粒子径を示すものをいう。金属酸化物微粒子の平均一次粒子径は、動的光散乱法を用いて測定することができる。具体的には、日機装株式会社製「ナノトラック」を用いて測定することができる。
【００６３】
上記高屈折率化合物としては、フッ素以外のハロゲン原子を含む樹脂（例えば臭素原子を含む樹脂、塩素原子を含む樹脂、ヨウ素原子を含む樹脂）、硫黄原子を含む樹脂、窒素原子を含む樹脂、燐原子を含む樹脂、芳香族環を含む樹脂（例えばフルオレン骨格を含む樹脂、フェニル基を含む樹脂等）が挙げられる。これらの樹脂は透明性を有するものであれば良く、公知または市販のものを使用することができ、また他の樹脂との併用も可能である。
【００６４】
フッ素以外のハロゲン原子、例えば臭素原子、塩素原子を含む樹脂としては、臭素化アクリル樹脂、臭素化ウレタン樹脂、臭素化ポリエステル樹脂、臭素化ポリエーテル樹脂、臭素化エポキシ樹脂、臭素化スピロアセタール樹脂、臭素化ポリブタジエン樹脂、臭素化ポリチオールポリエン樹脂、塩素化アクリル樹脂、塩素化ウレタン樹脂、塩素化ポリエステル樹脂、塩素化ポリエーテル樹脂、塩素化エポキシ樹脂等を用いることができる。臭素原子を含む樹脂の原料成分としては、例えばアクリレートのフェニル基のオルト・パラ位をブロモ化した化合物を用いることができる。これは、市販品としては例えば第一工業製薬社製のＢＲ−４２を用いることができる。その他の市販品としては第一工業製薬社製のＢＲ−４２Ｍ、ＢＲ−３０Ｍ、ＢＲ−３１等、ダイセル・サイテック社製のＲＤＸ５１０２７等を用いることができる。また塩素原子を含む樹脂としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレートのベンジルクロライド塩などを用いることができ、これらを２種以上混合して用いてもよい。
【００６５】
硫黄原子を含む樹脂としては、例えばＳ，Ｓ’−エチレンビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−（チオジエチレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［チオビス（ジエチレンスルフィド）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−（オキシジエチレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）等を用いることができる。ここでチオ（メタ）アクリレートとはチオメタクリレートおよびチオアクリレートを示す。
これらの中でもＳ，Ｓ’−エチレンビス（チオメタクリレート）、Ｓ，Ｓ’−（チオジエチレン）ビス（チオメタクリレート）が好適に用いられる。Ｓ，Ｓ’−エチレンビス（チオメタクリレート）は、１，２−エタンジチオールとアルカリ金属化合物とを反応させて得られる１，２−エタンジチオールのアルカリ金属塩とメタクリロイルクロリドとを非極性有機溶媒中で反応させる方法等により製造することができる。またＳ，Ｓ’−（チオジエチレン）ビス（チオメタクリレート）は日本触媒社製の商品名Ｓ２ＥＧとして市販されているものを用いることができる。
【００６６】
また硫黄原子と芳香族環を含む樹脂としては、例えばＳ,Ｓ’−（チオジ−ｐ−フェニレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３−クロロベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３,５−ジクロロベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３−ブロモベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３,５−ジブロモベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３−メチルベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３,５−ジメチルベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３−メチルベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）等を用いることができる。これらの中でもＳ，Ｓ’−（チオジ−ｐ−フェニレン）ビス（チオメタクリレート）（住友精化社製ＭＰＳＭＡ）が好適に用いられるが、これは４,４’−チオジベンゼンチオールとアルカリ金属化合物とを反応させて得られる４,４’−チオジベンゼンチオールのアルカリ金属塩とメタクリロイルクロリドとを非極性有機溶媒中で反応させる方法等により製造することができる。
【００６７】
芳香族環を含む樹脂としては、９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。例えば新中村化学社製９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ）、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート（ＮＫエステル４０１Ｐ）、ヒドロキシエチル化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＬＥＮ−１０）、ＪＦＥケミカル社製９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（ＢＣＦ）、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ）、大阪ガスケミカル社製ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＥＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート（ＢＰＥＦ−Ａ）、オグソールＰＧシリーズ、オグソールＥＧシリーズ、オグソールＥＡシリーズ、オグソールＥＡ−Ｆシリーズ、長瀬産業社製オンコートＥＸシリーズ、共栄社化学社製ＨＩＣ−Ｇシリーズ、ＡＤＥＫＡ社製ＲＦ（Ｘ）シリーズ等を用いることができる。
【００６８】
上記高屈折率化合物は、アクリル基やエポキシ基等の重合性官能基を含む重合性モノマーまたは重合性オリゴマーであることがより好ましい。
【００６９】
高屈折率層の厚みは、０．０２〜２μｍの範囲が好ましく、０．０５〜１μｍの範囲がより好ましく、特に０．０７〜０．５μｍの範囲がより好ましい。
【００７０】
低屈折率層の屈折率は、１．４５以下が好ましく、１．４０以下がより好ましく、特に１．３８以下が好ましい。低屈折率層の屈折率の下限は、１．２程度である。
【００７１】
係る低屈折率層としては、含フッ素ポリマー、（メタ）アクリル酸の部分あるいは完全フッ素化アルキルエステル、含フッ素シリコーン等の有機系材料、または、ＭｇＦ2 、ＣａＦ2 、ＳｉＯ2 等の無機系材料で構成することができる。以下に低屈折率層の好ましい態様を例示する。
【００７２】
低屈折率層の１つの好ましい態様として、ＭｇＦ2やＳｉＯ2等の薄膜を真空蒸着法やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法により形成する方法、或いはＳｉＯ2ゾルを含むゾル液からＳｉＯ2ゲル膜を形成する方法等が挙げられる。
【００７３】
低屈折率層の他の好ましい態様として、シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする構成を採用することができる。なお、ここで言う「結合」とは、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。
【００７４】
かかる多官能性シラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの３官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性フッ素含有シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましい。
【００７５】
かかる多官能性フッ素非含有シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシシプロピルトリメトキシシランなどの３官能性シラン化合物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどの４官能性シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点からビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランが、より好ましい。
【００７６】
また、上述のシリカ系微粒子としては、平均粒子径１ｎｍ〜２００ｎｍのシリカ系微粒子であることが好ましく、特に好ましくは、平均粒子径１ｎｍ〜７０ｎｍである。平均粒子径が１ｎｍを下回ると、マトリックス材料との結合が不十分となり、硬度が低下することがある。一方、平均粒子径が２００ｎｍを越えると、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙の発生が少なくなり、低屈折率化の効果が十分発現しないことがある。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。
【００７７】
かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が挙げられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第３２７２１１１号公報に開示されている方法によって製造でき、微粒子内部の空洞の占める体積、すなわち微粒子の空隙率としては、５％以上が好ましく、３０％以上がさらに好ましい。空隙率は、例えば、水銀ポロシメーター（商品名：ボアサイザー９３２０−ＰＣ２、（株）島津製作所製）を用いて測定することができる。また、該微粒子自体の屈折率は、１．２０〜１．４０であるのが好ましく、１．２０〜１．３５であるのがより好ましい。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に開示されているものや、特許第３２７２１１１号公報等の一般に市販されているものを挙げることができる。
【００７８】
低屈折率層の厚みは、０．０１〜０．４μｍの範囲が好ましく、０．０２〜０．２μｍの範囲がより好ましい。
【００７９】
本発明において、ハードコート層上に低屈折率層を積層して、反射防止機能を高めるためには、ハードコート層を高屈折率化するのが好ましい。この場合、ハードコート層の屈折率は１．５５以上が好ましく、１．６以上がより好ましい。ハードコート層の屈折率の上限は２程度である。
【００８０】
ハードコート層を高屈折率化するためには、前述の高屈折率層に用いられる、金属酸化物微粒子や高屈折率化合物をハードコート層に含有させることが好ましい。
【００８１】
本発明において、ハードコート層に防眩機能を付与することができる。この場合、ハードコート層に、平均粒子径が１〜１０μｍ程度の有機粒子や無機粒子を含有させて、防眩機能を付与することができる。
【００８２】
本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、基材に対してハードコート層を有する側の最表面は、耐擦傷性が高いことが好ましい。本発明のハードコート層は、高い耐擦傷性を維持しながらカールを改良するという特長を有する。上記の耐擦傷性は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）で定義される鉛筆硬度で表すことができる。
【００８３】
発明のディスプレイ用フィルターにおいて、基材に対してハードコート層を有する側の最表面の鉛筆硬度は、Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。
【００８４】
本発明における導電層は、ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽するための層であり、導電性メッシュを含む。導電層の表面抵抗値は、低い方が好ましく、３Ω／□以下が好ましく、１Ω／□以下がより好ましく、特に０．５Ω／□以下が好ましい。表面抵抗の下限値は特に限定されないが０．０１Ω／□程度である。導電層の表面抵抗値は、４端子法により測定することができる。なお、導電性メッシュを含む導電層とは、導電層が導電性メッシュのみから構成されても構わないし、導電層の一部が導電性メッシュであり、他部分が導電性メッシュ以外の導電層であっても構わない。導電層の一部が導電性メッシュであり、他部分が導電性メッシュ以外の導電層とは、例えば長方形状にカットされたディスプレイ用フィルターにおいて、導電層の平面方向における中心部（二本の対角線の交点）を含めた大部分が導電性メッシュであり、四辺のみメッシュ化されていない金属層とした態様などを挙げることができる。
【００８５】
導電性メッシュの厚みは、ハードコート層（ハードコート層を形成するための組成物）を塗工形成するという観点から、８μｍ以下が好ましく、６μｍ以下が好ましく、特に４μｍ以下が好ましい。導電性メッシュの厚みの下限は、高い電磁波遮蔽性能を確保するという観点から０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上が好ましい。
【００８６】
導電性メッシュを含む導電層を形成する方法は、公知の方法を用いることができる。例えば、１）透明基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法。２）基材上にパターン状に印刷された触媒インク層に金属メッキを施こす方法、３）導電性繊維を用いる方法、４）基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法、５）基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にエッチングによりパターニングする方法、６）感光性銀塩を用いる方法、及び７）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００８７】
上記の導電性メッシュの製造方法について詳細に説明する。
【００８８】
１）基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法は、基材上に導電性インキを、スクリーン印刷、グラビア印刷等の公知の印刷法によりパターン状に印刷する方法である。
【００８９】
２）基材上にパターン状に印刷された触媒インク層に金属メッキを施こす方法は、例えば、パラジウムコロイド含有ペーストからなる触媒インクを用いてパターン状に印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施して導電性メッシュパターンを形成する方法である。
【００９０】
３）導電性繊維を用いる方法は、導電性繊維からなる編布を接着剤または粘着材を介して貼り合わせる方法である。
【００９１】
４）基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法は、基材上に金属箔（銅、アルミニウム、又はニッケル等）を接着剤または粘着材を介して貼り合わせた後、この金属箔をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属箔をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属箔上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。
【００９２】
５）基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にエッチングによりパターニングする方法は、基材上に金属薄膜（銅、アルミニウム、銀、金、パラジウム、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金などからなる金属）を、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の気相製膜法、あるいはメッキ法によって形成し、この金属薄膜をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。この方法では、接着剤や粘着剤を介さずに、基材上に金属薄膜を形成することが好ましい。
【００９３】
６）感光性銀塩を用いる方法は、ハロゲン化銀などの銀塩乳剤層を透明基材上にコーティングし、フォトマスク露光あるいはレーザー露光の後、現像処理して銀のメッシュを形成する方法がある。形成された銀メッシュはさらに銅、ニッケルなどの金属でメッキするのが好ましい。この方法は、ＷＯ２００４／７８１０号公報、特開２００４−２２１５６４号公報、特開２００６−１２９３５号公報などに記載されており、参照することができる。
【００９４】
７）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法は、上記５）と同様の方法で基材上に形成された金属薄膜をレーザーアブレーション方式で、金属薄膜のメッシュパターンを作製する方法である。
【００９５】
レーザーアブレーションとは、レーザー光を吸収する固体表面へエネルギー密度の高いレーザー光を照射した場合、照射された部分の分子間の結合が切断され、蒸発することにより、照射された部分の固体表面が削られる現象である。この現象を利用することで固体表面を加工することが出来る。レーザー光は直進性、集光性が高い為、アブレーションに用いるレーザー光の波長の約３倍程度の微細な面積を選択的に加工することが可能であり、レーザーアブレーション法により高い加工精度を得ることが出来る。
【００９６】
かかるアブレーションに用いるレーザーは金属が吸収する波長のあらゆるレーザーを用いることが出来る。例えばガスレーザー、半導体レーザー、エキシマレーザー、または半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーを用いることが出来る。また、これら固体レーザーと非線形光学結晶を組み合わせることにより得られる第二高調波光源（ＳＨＧ）、第三高調波光源（ＴＨＧ）、第四高調波光源（ＦＨＧ）を用いることが出来る。
【００９７】
かかる固体レーザーの中でも、プラスチックフィルムを加工しないという観点から、波長が２５４ｎｍから５３３ｎｍの紫外線レーザーを用いることが好ましい。中でも好ましくはＮｄ：ＹＡＧ（ネオジウム：イットリウム・アルミニウム・ガーネット） などの固体レーザーのＳＨＧ（波長５３３ｎｍ）、さらに好ましくはＮｄ：ＹＡＧ などの固体レーザーのＴＨＧ（波長３５５ｎｍ）の紫外線レーザーを用いることが好ましい。
【００９８】
かかるレーザーの発振方式としてはあらゆる方式のレーザーを用いることが出来るが，加工精度の点からパルスレーザーを用い，さらに望ましくはパルス幅がｎｓ以下のＱスイッチ方式のパルスレーザーを用いることが好ましい。
【００９９】
金属薄膜の上（視認側）に更に０．０１〜０．１μｍの金属酸化物層を形成した後に、金属薄膜と金属酸化物層とをレーザーアブレーションすることも好ましい。金属酸化物としては銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタン、錫などの金属酸化物を用いることができるが、価格や膜の安定性などの点から銅酸化物が好ましい。金属酸化物の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解および電解めっき法等を用いることができる。
【０１００】
上記した導電性メッシュの製造方法の中でも、厚みが比較的小さい導電性メッシュ（例えば厚みが８μｍ以下の導電性メッシュ）を容易に製造することができ、かつ高い電磁波シールド性を確保できるという観点から、上記の２）、５）、６）及び７）の製造方法が好ましく用いられる。
【０１０１】
また、ハードコート層の塗工性、及びハードコート層と導電層との密着性の観点からは、上記の２）、５）及び７）の製造方法で製造された導電性メッシュが好ましく用いられる。特に、上記５）の製造方法は、ハードコート層の塗工性が良好であり、かつ導電性メッシュの製造コストが低いことから、特に好ましく用いられる。
【０１０２】
上記５）の製造方法について、更に詳細に説明する。
【０１０３】
基材上に金属薄膜を形成する方法としては、気相製膜法が好ましい。上記の気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられるが、これらの中でも、スパッタリング及び真空蒸着が好ましい。金属薄膜を形成するための金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタンなどの金属の内、１種または２種以上を組合せた合金あるいは多層のものを使用することができる。これらの中でも、良好な電磁波シールド性が得られ、メッシュパターン加工が容易で、かつ低価格であるなどの点から、銅が好ましく用いられる。
【０１０４】
また、金属薄膜の金属として銅を用いる場合は、基材と銅薄膜との間に、５〜１００ｎｍの厚みのニッケル薄膜を用いるのが好ましい。これによって、基材と銅薄膜の接着性が向上する。
【０１０５】
金属薄膜上にレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィーが好ましく用いられる。かかるフォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジスト層を積層し、該レジスト層をメッシュパターン状に露光し、現像してレジストパターンを形成し、次いで、金属薄膜をエッチングしてメッシュパターン化し、メッシュ上のレジスト層を剥離除去する方法である。
【０１０６】
感光性レジスト層としては、露光部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に露光部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。感光性レジスト層は金属薄膜上に直接に塗工して積層してもよいし、あるいはフォトレジストからなるフィルムを貼り合わせてもよい。フォトレジスト層を露光する方法としては、フォトマスクを介して紫外線等で露光する方法、もしくはレーザーを用いて直接に走査露光する方法を用いることができる。
【０１０７】
エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、レジストパターンで保護された金属部分以外の金属をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。
【０１０８】
基材上に導電性メッシュのみが設けられた、導電性メッシュフィルムのヘイズ値は、６％以下が好ましく、特に５％以下が好ましい。導電性メッシュフィルムのヘイズ値は、導電性メッシュの線幅や線ピッチによっても多少変わってくるが、導電性メッシュの製造方法に大きく左右される。上記した２）、５）、６）、及び７）の導電性メッシュの製造方法で作成された導電性メッシュフィルムは、ヘイズ値が６％以下、更には５％以下を実現することができる。導電性メッシュフィルムのヘイズ値の下限は特に限定されず、低いほど好ましいが、現実的な下限は１％程度である。ここで、ヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００年）に従って測定することができる。
【０１０９】
上記のヘイズ値が低い導電性メッシュを用いることによって、導電性メッシュ上にハードコート層を塗工形成した後のヘイズ値も低く抑えることができ、高い透明性を確保することができる。導電性メッシュ上にハードコート層を塗工形成後、あるいはハードコート層上に更に反射防止層を塗工形成後のヘイズ値としては、５％以下が好ましく、４％以下がより好ましい。導電性メッシュ上にハードコート層及び低屈折率層を塗工形成した後のヘイズ値の下限は特に限定されず、低いほど好ましいが、現実的な下限は０．５％程度である。
【０１１０】
本発明において、導電性メッシュは黒化処理するのが好ましい。黒化処理は、酸化処理や黒色印刷により行うことができる。例えば、特開平１０−４１６８２号、特開２０００−９４８４号、２００５−３１７７０３号公報等に記載の方法を用いることができる。黒化処理は、導電性メッシュの視認側の表面と両側面を行うのが好ましく、更に導電性メッシュの両面及び両側面を黒化処理するのが好ましい。
【０１１１】
黒化処理はディスプレイ用フィルターを実際にディスプレイへ装着したときの高コントラストを目的に、導電性メッシュ自体の輝度を抑えるため導電性メッシュ製造時に酸化処理、黒色印刷や黒化メッキ等の処理を行い、反射輝度を低下させるものである。
【０１１２】
本発明において、ディスプレイ用フィルターを連続生産ラインで効率よく製造するためには、導電性メッシュは連続メッシュであることが好ましい。連続メッシュとは、例えば、長尺ロール状の基材に導電性メッシュを形成するときに、基材の長尺方向に導電性メッシュが連続的に途切れることなく形成された状態を言う。このような連続メッシュは、ハードコート層を塗工するのに好適である。
【０１１３】
導電性メッシュのメッシュパターンとしては、例えば、正方形、長方形、菱形等からなる格子状メッシュパターン、三角形、５角形以上の多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。これらの中でも、生産性や製品管理の容易性から格子状メッシュパターンが好ましく、特に正方形からなる格子状メッシュパターンが好ましい。
【０１１４】
本発明に係る導電性メッシュは、その線幅が、３〜３０μｍの範囲が適当であり、４〜２０μｍの範囲が好ましい。導電性メッシュの線ピッチは、５０〜５００μｍの範囲が適当であり、８０〜３００μｍの範囲が好ましい。ここで、導電性メッシュの線ピッチとは、導電性メッシュを構成する細線で囲まれた１つの開口部とこの開口部と少なくとも１辺（細線）を共有し隣接する開口部との重心間の距離である。導電性メッシュのメッシュパターンが正方形の格子状パターンの場合、線ピッチは隣接する細線間の距離となる。
【０１１５】
本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる基材としては、プラスチックフィルムが好ましい。かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。またプラスチックフィルムとしては、複数の層を積層した積層フィルムを用いることもできる。
【０１１６】
プラスチックフィルムの厚みとしては、コスト、加工性、及びディスプレイ用フィルターの剛性を確保するという観点から、８０〜２００μｍの範囲が好ましく、９０〜１８０μｍの範囲が特に好ましい。本発明にかかるディスプレイ用フィルターは、１枚のみの基材で構成され、１枚のみの基材として上記のプラスチックフィルムを用いるのが好ましい。
【０１１７】
本発明に用いられるプラスチックフィルムは、前述した導電層あるいは後述する近赤外線遮蔽層等との密着性（接着強度）を強化するためのプライマー層（下引き層、易接着層）を設けておくのが好ましい。
【０１１８】
係るプライマー層は、水溶性樹脂もしくは水分散性樹脂を用いたものが一般的に知られており、本発明においても好ましく用いられる。水溶性樹脂もしくは水分散性樹脂としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が用いられる。プライマー層には、更に架橋剤を含有させるのが好ましく、架橋剤としては、例えば、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、メラミン化合物等が挙げられる。プライマー層の厚みは、１０〜５００ｎｍの範囲が一般的であり、好ましくは２０〜３００ｎｍの範囲である。プライマー層は、プラスチックフィルムを製造した後、製膜しても良いし、プラスチックフィルムの製造時にインラインで製膜しても良い。
【０１１９】
さらに、本発明において、基材としてプラスチックフィルムを用いる場合は、後述する近赤外線遮蔽層や色調調整層などに含まれる染料や色素の光劣化を防止するために、紫外線遮蔽機能を有するプラスチックフィルムを使用することが好ましい。一般的に紫外線遮蔽機能は染料や色素を含有する層より視認者側へ設けられるため紫外線吸収剤を含有するプラスチックフィルムを使用することが最も好ましい態様である。紫外線吸収剤は、フィルム製膜前の溶融工程で熱可塑性樹脂中に練込むことが好ましい。紫外線吸収剤としては、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、およびベンゾオキサジノン系化合物、環状イミノエステル系化合物等が挙げられ、特に好ましくは３８０ｎｍ〜３９０ｎｍにおける紫外線遮蔽性、色調などの点からベンゾオキサジノン系化合物が好適に使用される。これらの化合物は１種で用いても良いし、２種以上併用しても良い。またＨＡＬＳ（ヒンダードアミン系光安定剤）や酸化防止剤などの安定剤の併用はより好ましい。紫外線吸収剤の含有量は、プラスチックフィルムの全成分中０．１〜５質量％であることが好ましく、０．２〜３質量％であることがさらに好ましい。紫外線遮蔽性は波長３８０ｎｍ以下における透過率が３％以下であるのが好ましく、これにより紫外線から染料や色素を保護することができる。
【０１２０】
本発明のディスプレイ用フィルターには、更に近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能などの機能を有する光線吸収層を設けることが好ましい。
【０１２１】
近赤外線遮蔽機能を有する近赤外線遮蔽層は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲における光線透過率の最大値が２０％以下となるように調整するのが好ましい。近赤外線遮蔽機能は、基材（プラスチックフィルム）やハードコート層、あるいは後述する接着層に近赤外線吸収剤を混錬、分散することによって付与してもよいし、近赤外線遮蔽層を新たに設けてもよい。近赤外線遮蔽機能は、近赤外線吸収剤を用いることによって付与することができる。本発明においては、近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成した近赤外線遮蔽層を用いること、あるいはハードコート層や接着層に上記近赤外線吸収剤を含有させる態様が好ましく用いられる。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。
【０１２２】
上記した近赤外線遮蔽層を新たに設ける場合の本発明のディスプレイ用フィルターは、基材と導電層との間、もしくは基材に対して導電層とは反対面に塗工形成して設けることができる。
【０１２３】
近赤外線遮蔽機能を基材より視認側に付与する場合は、耐光性に優れる無機系近赤外線吸収剤を用いるのが好ましい。
【０１２４】
色調調整機能を有する色調調整層は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。更に、白色度を向上させるために波長４８０〜５００ｎｍに吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。色調調整機能は、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を新たに設けてもよいし、上述の近赤外線遮蔽層、ハードコート層あるいは接着層に色素を含有させてもよい。
【０１２５】
可視光透過率調整機能は、可視光の透過率を調整するための機能であり、染料や顔料を含有させて調整することができる。可視光透過率調整機能は、基材（プラスチックフィルム）、近赤外線遮蔽層、ハードコート層、あるいは接着層に付与してもよいし、新たに透過率調整層を設けてもよい。
【０１２６】
上述した色調調整機能を有する層及び可視光透過率調整機能を有する層をそれぞれ新たに本発明のディスプレイ用フィルターに設ける場合、これらの層は基材と導電層との間、もしくは基材に対して導電層とは反対面に設けることができる。
【０１２７】
本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイに直接、あるいはガラス板、アクリル板、ポリカーボネート板等の公知の高剛性基板を介して装着することができる。ディスプレイ用フィルターには、ディスプレイあるいは高剛性基板に貼り付けるための接着層を設けるのが好ましい。上記の高剛性基板は、通常、０．５〜５ｍｍの厚みを有する基板であって、かかる高剛性基板は、本発明のディスプレイ用フィルターを構成する１枚のみの基材には含まれない。
【０１２８】
接着層には、前述したように近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与することができる。また、接着層に、ディスプレイを衝撃から保護するための衝撃緩和機能を付与することは好ましい態様である。接着層に衝撃緩和機能を付与するには、接着層の厚みを１００μｍ以上にすることが好ましく、３００μｍ以上がより好ましい。上限の厚みは、接着層のコーティング適性を考慮して３０００μｍ以下が好ましい。
【０１２９】
接着層には、公知の接着材あるいは粘着材を用いることができる。粘着材としては、アクリル、シリコーン、ウレタン、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルなどが挙げられる。接着材としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン、ポリ−１、３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート 、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂などが挙げられる。
【０１３０】
また本発明のディスプレイ用フィルターは、基材が１枚のみの構成を有する。ここでディスプレイ用フィルターの構成が、基材が１枚のみの構成とは、例えば、接着層／基材／導電層／防眩性ハードコート層、接着層／近赤外線遮蔽層／基材／導電層／防眩性ハードコート層、接着層／近赤外線遮蔽層／基材／導電層／ハードコート層／反射防止層、などを挙げることができ、ハードコート層として基材付き（フィルム付き）ハードコート層を用いた構成（例えば、接着層／基材／導電層／基材付きハードコート層／反射防止層、など）のような構成を意図するものではない。ディスプレイ用フィルターの構成を基材が１枚のみとすることで、原材料コストや生産コストの低減が図られる。
【実施例】
【０１３１】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
＜評価＞
１）カール性；導電層上にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層を積層したサンプルを１５×１５ｃｍサイズに切断して得られた試験片を５枚用意した。次に、５枚の試験片をハードコート層に対して低屈折率層側を上にして（導電層側を下にして）水平面上に置き、２３℃、５０％（ＲＨ）の条件下で１０分間放置後、それぞれの試験片について、水平面から最も浮き上がった部分の水平面との距離を測定した。得られたデータを平均したものをカール値とし、下記の基準で評価した。
【０１３２】
○；カール値が５ｍｍ未満
△；カール値が５ｍｍ以上１０ｍｍ未満
×；カール値が１０ｍｍ以上
２）鉛筆硬度；導電層上にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層を積層したサンプルを１０×１０ｃｍサイズに切断して得られた試験片を５枚用意した。５枚の試験片をハードコート層に対して低屈折率層側を上にして（導電層側を下にして）水平面上に置き、２３℃、５０％（ＲＨ）の条件下で１時間放置後、次に、それぞれの試験片について、低屈折率層表面から鉛筆硬度（ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）で定義される鉛筆硬度）を測定し、平均した。得られた鉛筆硬度を下記の基準で評価した。
【０１３３】
○；２Ｈ以上
△；Ｈ以上２Ｈ未満
×；Ｈ未満
（実施例１）
以下の要領で、本発明のディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電性メッシュを有する導電層の作製＞
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製  ルミラー（登録商標））に、パラジウムコロイド含有ペーストを、線幅２０μｍ、線ピッチ３００μｍの格子状メッシュパターンにグラビア印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して、無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施して厚みが７μｍの導電性メッシュを有する導電層を形成した。
＜ハードコート層の塗工＞
上記の導電層上に、下記のハードコート層を形成するための組成物（塗工液）をマイクログラビアコーターで塗工し、８０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、厚み１０μｍのハードコート層を設けた。
【０１３４】
＜ハードコート層形成組成物＞
ラジカル重合性モノマー                                            ２０質量部
（ペンタエリスリトールトリアクリレート  共栄社化学社製ＰＥ−３Ａ）
ラジカル重合性オリゴマー                                          ２０質量部
（ウレタンアクリレートオリゴマー  根上工業社製ＵＮ−３３２０ＨＡ）
カチオン重合性モノマー                                            １０質量部
（ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル  ナガセケムテックス社製デナコールＥＸ−４１１）
ラジカル重合開始剤                                                  ２質量部
（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン  チバスペシャリティケミカルズ社製  イルガキュア１８４）
カチオン重合開始剤                                                  １質量部
（アリールスルホニウム塩誘導体  ＡＤＥＫＡ社製ＳＰ−１５０）
表面改質剤                                                          １質量部
（フッ素系界面活性剤  大日本インキ化学工業社製メガファックＭＣＦ−３５０）
メチルイソブチルケトン                                            ４０質量部
イソプロピルアルコール                                              ６質量部
＜反射防止層の塗工＞
上記のハードコート層上に、下記の高屈折率層と低屈折率層を順次塗工した。  
＜高屈折率層＞
錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）６質量部、多官能アクリレート２質量部、メタノール１８質量部とポリプロピレングリコールモノエチルエーテル５４質量部、イソプロピルアルコール２０質量部の混合物を攪拌して塗膜屈折率１．６７の高屈折率塗料を調製した。この塗料をハードコート層上にマイクログラビアコーターを用いて塗工し、８０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して、塗工層を硬化させ、厚さ約０．１μｍの高屈折率層を形成した。
＜低屈折率層＞
一次粒子径５０ｎｍの外殻を有する中空シリカ粒子（空隙率４０％）１４４質量部、イソプロピルアルコール５６０質量部からなるシリカスラリーを準備し、メチルトリメトキシシラン２１９質量部、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン１５８質量部、上述シリカスラリー７０４質量部、ポリプロピレングリコールモノエチルエーテル７１３質量部を攪拌混合し、燐酸１質量部と水１３０質量部を配合して、３０℃±１０℃で攪拌しながら６０分加水分解し、さらに温度を８０℃±５℃に上げて６０分攪拌しながら重合し、シリカ粒子含有ポリマーを得た。
【０１３５】
次に、このシリカ粒子含有ポリマー１２００質量部、イソプロピルアルコール５２４４質量部を攪拌混合した後、硬化触媒としてアセトキシアルミニウムを１５質量部添加して再度攪拌混合し、屈折率１．３５の塗料を調整した。
【０１３６】
この塗料を高屈折率層上に小径グラビアコーターで塗工し、１３０℃で乾燥、硬化して、厚さ約０．１μｍの低屈折率層を形成した。
（実施例２）
実施例１のハードコート層を形成するための組成物（塗工液）を以下のハードコート層を形成するための組成物（塗工液）に変更する以外は、実施例１と同様にして作製した。
【０１３７】
＜ハードコート層形成組成物＞
ラジカル重合性モノマー                                            ３０質量部
（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート  共栄社化学社製ＤＰＥ−６Ａ）
カチオン重合性モノマー                                            ２０質量部
（３−エチル３−｛［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ］メチル｝オキセタン  東亞合成社製ＯＸＴ−２２１）
ラジカル重合開始剤                                                  ２質量部
（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン  チバスペシャリティケミカルズ社製  イルガキュア１８４）
カチオン重合開始剤                                                  １質量部
（アリールスルホニウム塩誘導体  ＡＤＥＫＡ社製ＳＰ−１５０）
表面改質剤                                                          １質量部
（フッ素系界面活性剤  大日本インキ化学工業社製メガファックＭＣＦ−３５０）
メチルイソブチルケトン                                            ４０質量部
イソプロピルアルコール                                              ６質量部
（比較例１）
実施例１のハードコート層を形成するための組成物（塗工液）を以下のハードコート層を形成するための組成物（塗工液）に変更する以外は、実施例１と同様にして作製した。
【０１３８】
＜ハードコート層形成組成物＞
ラジカル重合性モノマー                                            ２５質量部
（ペンタエリスリトールトリアクリレート  共栄社化学社製ＰＥ−３Ａ）
ラジカル重合性オリゴマー                                          ２５質量部
（ウレタンアクリレートオリゴマー  根上工業社製ＵＮ−３３２０ＨＡ）
ラジカル重合開始剤                                                  ２質量部
（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン  チバスペシャリティケミカルズ社製  イルガキュア１８４）
表面改質剤                                                          １質量部
（フッ素系界面活性剤  大日本インキ化学工業社製メガファックＭＣＦ−３５０）
メチルイソブチルケトン                                            ４０質量部
イソプロピルアルコール                                              ６質量部
（比較例２）
実施例１のハードコート層を形成するための組成物（塗工液）を以下のハードコート層を形成するための組成物（塗工液）に変更する以外は、実施例１と同様にして作製した。
【０１３９】
＜ハードコート層形成組成物＞
カチオン重合性モノマー                                            ５０質量部
（ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル  ナガセケムテックス社製デナコールＥＸ−４１１）
カチオン重合開始剤                                                  １質量部
（アリールスルホニウム塩誘導体  ＡＤＥＫＡ社製ＳＰ−１５０）
表面改質剤                                                          １質量部
（フッ素系界面活性剤  大日本インキ化学工業社製メガファックＭＣＦ−３５０）
メチルイソブチルケトン                                            ４０質量部
イソプロピルアルコール                                              ６質量部
（実施例３）
以下の要領で、本発明のディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電性メッシュを有する導電層の作製＞
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製  ルミラー（登録商標））の片方の面に、スパッタリング法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成し、更にその上に、厚みが３μｍの銅層を真空蒸着法により形成した。次いで、この銅層の表面にアルカリ現像型高感度ポジ型レジストフィルムを積層し、波長４０５ｎｍ半導体レーザーを用いて露光し、炭酸ナトリウムを１質量％含有する現像液を用いて現像処理を行った。次いで、塩化第２鉄溶液によりエッチング処理を行った後、３質量％水酸化ナトリウム水溶液で処理してレジスト層を剥離して、線幅１０μｍ、線ピッチ２５０μｍ、厚みが３μｍの連続メッシュパターンからなる導電性メッシュを形成した。次いで、酸化処理剤（メルテックス（株）製  エンプレート  ＭＢ―４３８Ａ／Ｂ／純水＝８／１３／７９の割合で調整）を用いて、導電性メッシュを黒化処理した。
＜ハードコート層の塗工＞
上記の導電層上に、実施例１と同じハードコート層を形成するための組成物（塗工液）をマイクログラビアコーターで塗工し、８０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、厚み７μｍのハードコート層を設けた。
＜反射防止層の塗工＞
上記のハードコート層上に、実施例１と同様にして高屈折率層と低屈折率層を順次塗工した。  
（実施例４）
実施例３のハードコート層を形成するための組成物（塗工液）を、実施例２のハードコート層を形成するための組成物（塗工液）に変更する以外は、実施例３と同様にして作製した。
（比較例３）
実施例３のハードコート層を形成するための組成物（塗工液）を、比較例１のハードコート層を形成するための組成物（塗工液）に変更する以外は、実施例３と同様にして作製した。
（比較例４）
実施例３のハードコート層を形成するための組成物（塗工液）を、比較例２のハードコート層を形成するための組成物（塗工液）に変更する以外は、実施例３と同様にして作製した。
＜評価＞
上記のようにして得られたサンプルについて、カール性と鉛筆硬度を評価した。その結果を表１に示す。
【０１４０】
【表１】
2010032853.tif 000002
【０１４１】
表１の結果より、本発明の実施例はいずれも、高い鉛筆高度を維持しながら、カール性が改良されていることがわかる。
【０１４２】
これに対して、比較例１と比較例３は、鉛筆高度は高いが、カール性が悪化している。比較例２と比較例４は、カール性は良好であるが、鉛筆高度が低下している。