(57)【要約】【課題】グライドヘッドの浮上量を今以上に下げることなく、現状のグライド検査では検出できないような微小サイズの欠陥をも精度良く検出することが可能な磁気ディスクのグライド検査方法を提供する。【解決手段】本発明は、磁気ディスク上を浮上飛行するグライドヘッドを用いて、磁気ディスクのグライド検査をする方法であって、上記グライドヘッドに装着されるスライダーサイズが、長さ０．７５〜０．９５ｍｍ、幅０．６〜０．８ｍｍ、厚さ０．２０〜０．２６ｍｍのものを用いてグライド検査を行う。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスク上を浮上飛行するグライドヘッドを用いて、磁気ディスクのグライド検査をする方法であって、
前記グライドヘッドに装着されるスライダーサイズが、長さ０．７５〜０．９５ｍｍ、幅０．６〜０．８ｍｍ、厚さ０．２０〜０．２６ｍｍのものを用いて検査を行うことを特徴とする磁気ディスクのグライド検査方法。
【請求項２】
前記スライダーの質量が、０．６ｍｇ以下であることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスクのグライド検査方法。
【請求項３】
前記グライドヘッドは、該グライドヘッドに取り付けられたピエゾ素子からの出力電圧の大きさによって欠陥検出を行うことを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ディスクのグライド検査方法。
【請求項４】
検査される磁気ディスクの表面は鏡面であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の磁気ディスクのグライド検査方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の磁気ディスクのグライド検査方法を用いて、直径０．２５μｍ〜１μｍの凸状欠陥、直径１８μｍから２２μｍの凹状欠陥を検出する磁気ディスクのグライド検査工程を含むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスクドライブ（HDD）などの磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクのグライド検査方法及び磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の情報処理の大容量化に伴い、各種の情報記録技術が開発されている。特に磁気記録技術を用いたＨＤＤ（ハードディスクドライブ）の面記録密度は年率１００％程度の割合で増加し続けている。最近では、ＨＤＤ等に用いられる２．５インチ径磁気ディスクにして、１枚当り２５０Ｇバイトを超える情報記録容量が求められるようになってきており、このような所要に応えるためには１平方インチ当り４００Ｇビットを超える情報記録密度を実現することが求められる。
【０００３】
ところで、磁気ディスクの出荷までの工程は、ディスク基板製造工程、成膜工程、検査工程という順次一連の製造工程を経て完成し梱包され市場に出荷される。この検査工程には、通常、グライド検査工程と信号品質検査工程などが含まれる。
このグライド検査工程とは、磁気ディスクがハードディスクドライブに搭載されたときに、磁気ヘッドの浮上飛行が妨げられないよう、磁気ディスク上の凹凸や異物等を検査し、許容範囲外の磁気ディスクを排除する工程のことである。この検査工程を経ることにより、安定した品質を備える磁気ディスク製品が完成し、市場に供給される。グライド検査には、グライド検査用途に製造されたグライドヘッドが用いられる。このようなグライドヘッドとしては、例えば特許文献１に開示されたよなグライドヘッドを用いることが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−１９０１０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
現在グライド検査で主流となっているヘッドスライダー（一般にＰｉｃｏスライダーとも呼ばれている）は、長さ１．２５ｍｍ、幅１ｍｍ、厚さ０．３ｍｍ、質量１．５ｍｇのものであるが、直径１μｍ前後の凸欠陥は検出可能である。しかし、近年の飛躍的な高記録密度化の要請に伴い、ドライブが安定的に動作するためには、ドライブに搭載される磁気ディスクにおいても、現在検出できないような微小サイズの欠陥、例えば直径０．２５〜１μｍ程度の凸欠陥や、直径２０μｍ前後の凹欠陥等の有無が問題となっている。
【０００６】
グライド検査の欠陥検出感度は、グライドヘッドの浮上量を下げることで改善することは可能である。しかし、磁気ディスクの量産工場内で、多数のグライドヘッドの浮上量をすべて一定の高さに管理することは非常に困難である。しかも、グライドヘッドの浮上量を下げることによって、ヘッド汚れの発生、磁気ディスク表面の傷付きの確率が高くなるので、今以上にグライドヘッドの浮上量を下げることにより欠陥検出感度を改善することは非常に困難である。
【０００７】
本発明は以上の課題に鑑みなされたものであって、その目的とするところは、グライドヘッドの浮上量を今以上に下げることなく、現状のグライド検査では検出できないような微小サイズの欠陥をも精度良く検出することが可能な磁気ディスクのグライド検査方法、及び該グライド検査方法を用いてグライド検査を行う工程を含む磁気ディスクの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、本発明を完成した。
すなわち、本発明は以下の構成を有する発明である。
（構成１）
磁気ディスク上を浮上飛行するグライドヘッドを用いて、磁気ディスクのグライド検査をする方法であって、前記グライドヘッドに装着されるスライダーサイズが、長さ０．７５〜０．９５ｍｍ、幅０．６〜０．８ｍｍ、厚さ０．２０〜０．２６ｍｍのものを用いて検査を行うことを特徴とする磁気ディスクのグライド検査方法。
【０００９】
（構成２）
前記スライダーの質量が、０．６ｍｇ以下であることを特徴とする構成１に記載の磁気ディスクのグライド検査方法。
【００１０】
（構成３）
前記グライドヘッドは、該グライドヘッドに取り付けられたピエゾ素子からの出力電圧の大きさによって欠陥検出を行うことを特徴とする構成１又は２に記載の磁気ディスクのグライド検査方法。
【００１１】
（構成４）
検査される磁気ディスクの表面は鏡面であることを特徴とする構成１乃至３のいずれか一項に記載の磁気ディスクのグライド検査方法。
【００１２】
（構成５）
構成１乃至４のいずれか一項に記載の磁気ディスクのグライド検査方法を用いて、直径０．２５μｍ〜１μｍの凸状欠陥、直径１８μｍから２２μｍの凹状欠陥を検出する磁気ディスクのグライド検査工程を含むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の磁気ディスクのグライド検査方法によれば、グライドヘッドの浮上量を今以上に下げることなく、現状のグライド検査では検出できないような微小サイズの欠陥、例えば直径０．２５μｍ〜１μｍ程度の凸状欠陥や、直径２０μｍ前後の凹状欠陥をも精度良く検出することができ、安定的なグライド検査を実現することが可能である。
【００１４】
また、本発明の磁気ディスクのグライド検査方法を適用することにより、磁気ディスク表面の微小欠陥に対する厳しい要求に対応できるような磁気ディスクを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に使用されるヘッドスライダーと従来使用されているヘッドスライダーとのサイズ、質量の比較を示す図表である。
【図２】本発明と従来（比較例）での欠陥検出感度比較の結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態を詳述する。
本発明に係る磁気ディスクのグライド検査方法は、構成１にあるように、磁気ディスク上を浮上飛行するグライドヘッドを用いて、磁気ディスクのグライド検査をする方法であって、前記グライドヘッドに装着されるスライダーサイズが、長さ０．７５〜０．９５ｍｍ、幅０．６〜０．８ｍｍ、厚さ０．２０〜０．２６ｍｍのものを用いて検査を行うことを特徴としている。
【００１７】
本発明は、グライドヘッドの浮上を下げるのではなく、グライドヘッドに装着されるスライダーサイズを従来のものよりも小型化することによって欠陥検出感度の改善を行い、現状のグライド検査では検出できないような微小サイズの欠陥、例えば直径０．２５μｍ〜１μｍ程度の凸状欠陥や、直径２０μｍ前後の凹状欠陥をも精度良く検出可能とするものである。
【００１８】
グライド検査は、グライドヘッドに取り付けられているピエゾ素子からの出力電圧の大きさによって欠陥判定を行うため、このピエゾ素子からの出力が大きいグライドヘッドであるほど欠陥検出感度が高いということになる。
【００１９】
ところで、ピエゾ素子の出力電圧は、グライドヘッドのスライダーの振動速度にＶに依存する。ここで、スライダーの質量をＭとし、欠陥質量をｍ、欠陥の速度をｖとすれば、本発明者は、運動量保存の法則によってＭＶ＝ｍｖが成立することに着目した。つまり、上記スライダーの振動速度Ｖは、ｍｖ／Ｍに依存することになる。したがって、グライドヘッドのスライダーサイズを小型化し、スライダー質量Ｍが小さいほど、ピエゾ素子からの出力電圧が高くなり、欠陥検出速度が向上するため、より高感度のグライド検査が可能となり、現状のグライド検査では検出できないような微小サイズの欠陥、例えば直径０．２５μｍ〜１μｍ程度の凸状欠陥をも精度良く検出可能となる。また、すべての触針式測定器に共通な要素として、そのプローブが小さいほど凹欠陥測定の分解能が向上する。従って、グライド検査においても、そのスライダーサイズを小さくすることにより、凹欠陥検出感度も向上する。
【００２０】
図１は、本発明に用いるスライダーサイズと質量の一例を、従来のスライダーサイズと質量と対比して示したものである。同図（ａ）中の長さ、幅、厚さは、同図（ｂ）に示すものを表わしている。また、同図（ａ）中の長さ、幅、厚さは、すべてｍｍ単位、質量はｍｇで示している。
【００２１】
ここで、一例として、たとえば欠陥質量ｍを１０ｍｇ、欠陥速度ｖを１００ｍ／ｓとしたときの、スライダーの振動速度Ｖを求める。従来のスライダーの場合、スライダーの振動速度Ｖは６６６ｍ／ｓ（＝１０×１００／１．５）であるのに対し、本発明のスライダーの場合、スライダーの振動速度Ｖは２０００ｍ／ｓ（＝１０×１００／０．５）である。ヘッドスライダーサイズを小型化し、質量を小さくすることで、スライダー振動速度が増加し、ピエゾ素子からの出力電圧が増加して、欠陥検出感度を大幅に改善できるものと考えられる。
【００２２】
図１は、本発明に用いるスライダーサイズと質量の一例を示したものであり、本発明においては、長さ０．７５〜０．９５ｍｍ、幅０．６〜０．８ｍｍ、厚さ０．２０〜０．２６ｍｍのスライダーが好適である。また、スライダーの質量は、０．６ｍｇ以下であることが好適である。
【００２３】
また、本発明に用いるスライダーの材質としては、とくに小型サイズのものを高精度で製造可能である観点から、例えば、鉄および鉄合金（含むステンレス）等が好ましく用いられる。
【００２４】
また、本発明は、表面が鏡面である磁気ディスクのグライド検査において微小欠陥を精度良く検出でき、顕著な作用効果を得ることができるので、検査される磁気ディスクの表面は鏡面であることが特に好適である。
【００２５】
本発明によるグライド検査を行う磁気ディスクは、磁気ディスク用基板の上に少なくとも磁性層、保護層等を形成して製造される。
磁気ディスク用基板としては、ガラス基板が好ましい。ガラス基板を構成するガラスは、アモルファスのアルミノシリケートガラスとすることが好ましい。このようなガラス基板は表面を鏡面研磨することにより平滑な鏡面に仕上げることができる。このようなアルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ2が５８重量％以上７５重量％以下、Ａｌ2Ｏ3が５重量％以上２３重量％以下、Ｌｉ2Ｏが３重量％以上１０重量％以下、Ｎａ2Ｏが４重量％以上１３重量％以下を主成分として含有するアルミノシリケートガラス（ただし、リン酸化物を含まないアルミノシリケートガラス）を用いることができる。例えば、ＳｉＯ2 が６２重量％以上７５重量％以下、Ａｌ2Ｏ3が５重量％以上１５重量％以下、Ｌｉ2 Ｏが４重量％以上１０重量％以下、Ｎａ2 Ｏが４重量％以上１２重量％以下、ＺｒＯ2が５．５重量％以上１５重量％以下を主成分として含有するとともに、Ｎａ2Ｏ／ＺｒＯ2 の重量比が０．５以上２．０以下、Ａｌ2Ｏ3 ／ＺｒＯ2 の重量比が０．４以上２．５以下であるリン酸化物を含まないアモルファスのアルミノシリケートガラスとすることができる。
【００２６】
磁気ディスク用ガラス基板は、少なくともガラス基板の鏡面研磨処理と洗浄処理により、ガラス基板の表面は、最大粗さＲｍａｘが６ｎｍ以下である鏡面とされることが好ましい。このような鏡面状態は、鏡面研磨処理と洗浄処理をこの順で行うことにより実現することができる。
【００２７】
なお、洗浄処理工程の後に、化学強化処理を施してもよい。化学強化処理の方法としては、例えば、ガラス転移点の温度を超えない温度領域、例えば摂氏３００度以上４００度以下の温度で、イオン交換を行う低温型イオン交換法などが好ましい。
【００２８】
磁気ディスク用基板上に形成する磁性層の材料としては、異方性磁界の大きな六方晶系であるＣｏＰｔ系強磁性合金を用いることができる。磁性層の形成方法としてはスパッタリング法、例えばＤＣマグネトロンスパッタリング法によりガラス基板の上に磁性層を成膜する方法を用いることができる。またガラス基板と磁性層との間に、下地層を介挿することにより磁性層の磁性グレインの配向方向や磁性グレインの大きさを制御することができる。例えば，Ｃｒ系合金など立方晶系下地層を用いることにより、例えば磁性層の磁化容易方向を磁気ディスク面に沿って配向させることができる。この場合、面内磁気記録方式の磁気ディスクが製造される。また、例えば、ＲｕやＴｉを含む六方晶系下地層を用いることにより、例えば磁性層の磁化容易方向を磁気ディスク面の法線に沿って配向させることができる。この場合、垂直磁気記録方式の磁気ディスクが製造される。下地層は磁性層同様にスパッタリング法により形成することができる。
【００２９】
また、磁性層の上には、保護層を形成することができる。保護層としてはアモルファスの水素化炭素系保護層が好適である。例えばプラズマＣＶＤ法により保護層を形成することができる。保護層の膜厚としては、４０オングストロームから８０オングストローム程度が好ましい。
【００３０】
また、保護層の上にさらに潤滑層を形成しても良い。潤滑層としては、パーフルオロポリエーテル化合物の主鎖の末端に官能基を有する潤滑剤、とりわけ極性官能基として水酸基を末端に備えるパーフルオロポリエーテル化合物を主成分とすることが好ましい。潤滑層の膜厚は５オングストロームから１５オングストローム程度とすることが好ましい。潤滑層はディップ法により塗布形成することができる。
【実施例】
【００３１】
以下、実施例により本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。
（ディスク基板製造工程）
まず、溶融ガラスから上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスにより直径６６ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍの円盤状のアルミノシリケートガラスからなるガラス基板を得、これに粗ラッピング工程（粗研削工程）、形状加工工程、精ラッピング工程（精研削工程）、端面鏡面加工工程、第１研磨工程、第２研磨工程を順次施すとともに、次いで化学強化を施すことにより、磁気ディスク用ガラス基板を製造した。このガラス基板は、主表面、端面ともに鏡面研磨加工されている。
【００３２】
上記化学強化及びその後の洗浄を終えたガラス基板表面の目視検査及び精密検査を実施した結果、ガラス基板表面に付着物による突起や、傷等の欠陥は発見されなかった。また、上記工程を経て得られたガラス基板の主表面の表面粗さを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて測定したところ、Ｒｍａｘ＝４．５ｎｍ、Ｒａ＝０．３ｎｍの鏡面を持つ磁気ディスク用ガラス基板を得た。また、ガラス基板の外径は６５ｍｍ、内径は２０ｍｍ、板厚は０．６３５ｍｍであった。
【００３３】
（成膜工程）
次に、得られた磁気ディスク用ガラス基板上に枚葉式スパッタリング装置を用いて、Ｔｉ系の付着層、Ｆｅ系の軟磁性層、ＮｉＷの第１下地層、Ｒｕの第２下地層、ＣｏＣｒＰｔ磁性層を順次成膜し、次いでプラズマＣＶＤ法により炭素系保護層を形成した。さらに、保護層の上に、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤をディップ法により塗布して潤滑層を形成した。この磁気ディスクは垂直磁気記録方式用の磁気ディスクである。得られた磁気ディスクの主表面の表面粗さを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて測定したところ、Ｒｍａｘ＝４．６ｎｍ、Ｒａ＝０．３ｎｍの鏡面であることを確認した。
【００３４】
（グライド検査工程）
ヘッドスライダーとして、図１（ａ）に示すサイズと質量を有する本発明のスライダーと従来のスライダーをそれぞれ２個ずつ用いて、これらスライダーを装着したグライドヘッドと上記した検査用の磁気ディスクを用いて、グライド検査を行った。検査機には、日立電子エンジニアリング株式会社製の磁気ディスクテストシステムＲＱ７８００（商品名）を用いた。また、グライドヘッドの浮上量は、１０ｎｍに設定した。
【００３５】
上記磁気ディスクを検査した結果、図２の結果を得た。図２は、本発明と従来（比較例）のヘッドスライダーでの欠陥検出感度比較の結果を示す図である。
図２の結果から、本発明によれば、欠陥検出感度（Ｓ／Ｎ比）が向上し、しかも測定に用いた２個の同じスライダーでのばらつきも非常に少ないことが分かる。すなわち、グライドヘッドの浮上はとくに下げることなく、現状のグライド検査では検出できないような微小サイズの欠陥を検出でき、しかも精度良く検出することが可能である。これに対し、従来例では、本発明より欠陥検出感度（Ｓ／Ｎ比）が低く、また測定に用いた２個の同じスライダーでのばらつきも大きく、精度の良い検査が必ずしも行えない。
【図１】
2010231859.tif 000002
【図２】
2010231859.tif 000003