(57)【要約】【課題】浮上ステージの表面の汚れ等が欠陥として検出されることを抑制するために浮上ステージに溝部を設けた光学検査装置において、被検査基板の浮上精度を向上させることができる光学検査装置を提供する。【解決手段】光透過性を有する被検査基板１を浮上させる浮上ステージ２と、浮上ステージ２上に浮上している被検査基板１を搬送する搬送機構３と、浮上ステージ２上に浮上搬送されている被検査基板１の表面に照明光を照射する照明光学系４と、照明光学系４が照射した照明光の被検査基板１からの反射光を捉える撮像光学系５と、を備え、被検査基板１を透過した照明光学系４からの照明光が照射される浮上ステージ２上の領域に対応して、両端に壁面６ａを有する溝部６が浮上ステージ２に形成されている。【選択図】図１
2010281651.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性を有する被検査基板を浮上させる浮上ステージと、
前記浮上ステージ上に浮上している前記被検査基板を搬送する搬送機構と、
前記浮上ステージ上に浮上搬送されている前記被検査基板の表面に照明光を照射する照明光学系と、
前記照明光学系が照射した前記照明光の前記被検査基板からの反射光を捉える撮像光学系と、を備え、
前記被検査基板を透過した前記照明光が照射される前記浮上ステージ上の領域に対応して形成された溝部が、前記溝部の形成方向に垂直かつ相対向する２面を有する
ことを特徴とする光学検査装置。
【請求項２】
光透過性を有する被検査基板を浮上させる浮上ステージと、
前記浮上ステージ上に浮上している前記被検査基板を搬送する搬送機構と、
前記浮上ステージ上に浮上搬送されている前記被検査基板の表面に照明光を照射する照明光学系と、
前記照明光学系が照射した前記照明光の前記被検査基板からの反射光を捉える撮像光学系と、を備え、
前記被検査基板を透過した前記照明光が照射される前記浮上ステージ上の領域に対応して溝部が形成されており、前記溝部の形成方向における前記被検査基板が通過する領域の両端付近に封止部材が嵌合している
ことを特徴とする光学検査装置。
【請求項３】
前記溝部の底側に、気体が噴出する噴出穴が設けられていることを特徴とする請求項１もしくは２のいずれかに記載の光学検査装置。
【請求項４】
前記噴出穴は、前記撮像光学系の撮像視野から外れる位置に配置されていることを特徴とする請求項３記載の光学検査装置。
【請求項５】
前記溝部の底側に、気体が噴出する噴出穴と気体を吸引する吸着穴が設けられていることを特徴とする請求項１もしくは２のいずれかに記載の光学検査装置。
【請求項６】
前記噴出穴および前記吸着穴は、前記撮像光学系の撮像視野から外れる位置に配置されていることを特徴とする請求項５記載の光学検査装置。
【請求項７】
光透過性を有する被検査基板を浮上させる浮上ステージと、
前記浮上ステージ上に浮上している前記被検査基板を搬送する搬送機構と、
前記浮上ステージ上に浮上搬送されている前記被検査基板の表面に照明光を照射する照明光学系と、
前記照明光学系が照射した前記照明光の前記被検査基板からの反射光を捉える撮像光学系と、を備え、
前記被検査基板を透過した前記照明光が照射される前記浮上ステージ上の領域に対応して溝部が形成されており、前記溝部の形成方向における前記被検査基板が通過する領域に低反射部材または高反射部材が嵌合している
ことを特徴とする光学検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や液晶パネルや有機ＥＬパネル等に使用されるディスプレイ基板の上に作成されたパターンの形状検査等、光透過性を有する基板の検査に用いる光学検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光学検査装置における基板搬送方式は、全面吸着ステージ方式やローラー搬送方式が一般的である。全面吸着ステージ方式では、吸着ステージ上に被検査基板の全面を吸着保持し、吸着ステージまたは検査用カメラを移動させて、被検査基板の全面検査を実施する。ローラ搬送方式では、ローラーの回転により被検査基板を搬送して、被検査基板の全面検査を実施する。
【０００３】
しかしながら、全面吸着ステージ方式では、被検査基板の上側から照明光を照射して被検査基板の撮像を実施する場合、基板材料がガラス等の光を透過する材料であれば、被検査基板を下側から吸着保持する吸着ステージからの反射光も撮像することになり、吸着ステージの表面の汚れや傷、加工上発生する表面のムラ等も欠陥として検出してしまうため、吸着ステージの表面の汚れ等の管理に膨大な作業が必要となる。また、吸着ステージの表面の高さばらつきが、撮像光学系の被写界深度の範囲に収まらないと、焦点の合った画像を撮像できないことから、厳しい被写界深度が要求される高精度な検査を全面吸着ステージ方式によって実施する場合、吸着ステージの全面にわたり非常に高い精度で高さばらつきを抑制する必要がある。そのため、吸着ステージが大型化するとともに高さばらつきを抑制することが困難となることから、昨今の基板サイズの拡大にともない、全面吸着ステージ方式を大型基板の高精度検査に対応させることが困難となっている。ローラー搬送方式も同様に、高い精度でローラーの高さばらつきを抑制することが困難であることから、大型基板の高精度検査への対応は困難である。
【０００４】
さらに、全面吸着ステージ方式やローラー搬送方式では、吸着ステージやローラーが基板に接触することによる帯電の影響も問題となる。すなわち、全面吸着ステージ方式やローラー搬送方式では、帯電によってトランジスタ等の回路部が破壊されるおそれがある。
【０００５】
以上の問題から、被検査基板を空気で浮上させて搬送する浮上搬送方式が提案されている。例えば特許文献１には、空気を噴出して被検査基板を浮上させる浮上ブロックを検査部の検査領域に配置した光学検査装置が提案されている。このように検査部の検査領域に浮上ブロックを配置することで、検査領域において被検査基板を高い平面度に矯正できる。しかしながら、検査部の検査領域に浮上ブロックを配置した場合、全面吸着ステージ方式と同様に浮上ブロックの表面の汚れ等も欠陥として検出してしまうため、浮上ブロックの表面の汚れ等の管理に膨大な作業が必要となる。
【０００６】
そこで、被検査基板を浮上させる浮上ステージにギャップ部を設けることで、浮上ステージの表面の汚れ等が欠陥として検出されることを抑制した光学検査装置が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。以下、浮上ステージにギャップ部を設けた従来の光学検査装置について、図面を交えて説明する。図１０（ａ）は従来の光学検査装置の浮上ステージを上方から見た図、図１０（ｂ）は従来の光学検査装置の浮上ステージを側方から見た断面図、図１０（ｃ）は従来の光学検査装置の浮上ステージを正面から見た図である。
【０００７】
図１０（ａ）〜（ｃ）に示すように、光透過性を有する被検査基板１０１を浮上させる浮上ステージ１０２には、ギャップ部１０３を除き、空気を噴出する噴出穴１０４と、空気を吸引する吸着穴１０５が千鳥状に配置されている。噴出穴１０４は噴出用配管１０６に連通しており、吸着穴１０５は吸着用配管１０７に連通している。噴出穴１０４から空気を噴出させる噴出圧力と、吸着穴１０５へ空気を引き込む吸引圧力を調節することで、被検査基板１０１の浮上高さを一定に保つことができる。
【０００８】
搬送機構１０８は、浮上ステージ１０２上に浮上している被検査基板１０１を吸着等で固定し搬送する。照明光学系１０９は、浮上ステージ１０２上に浮上搬送されている被検査基板１０１に線状の照明光を照射する。撮像光学系１１０は、照明光学系１０９によって線状の照明光が照射された被検査基板１０１上の領域の画像を撮像する。
【０００９】
ギャップ部１０３は、被検査基板１０１を透過した照明光学系１０９からの線状の照明光が照射される浮上ステージ１０２上の領域に設けられている。このギャップ部１０３を、例えば撮像光学系１１０の焦点深度よりも深く形成することで、撮像光学系１１０においてギャップ部１０３からの反射光が結合することを防止して、浮上ステージ１０２の表面の汚れ等が欠陥として検出されることを抑制することができる。あるいは、ギャップ部１０３の断面形状を、ギャップ部１０３からの反射光の撮像光学系１１０への入射光量が抑制される形状にするか、または、ギャップ部１０３の表面に反射率の低い物質、例えば艶消しの黒色塗料を塗布することで、浮上ステージ１０２の表面の汚れ等が欠陥として検出されることを抑制してもよい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００４−３３１２６５号公報
【特許文献２】特開２００４−３３３１９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
以上説明したように、浮上ステージにギャップ部を設けることで、浮上ステージの表面の汚れ等が欠陥として検出されることを抑制した光学検査装置が、従来より提案されている。しかしながら、この光学検査装置では、ギャップ部により浮上精度が低下することが、高精度な検査において問題となっている。
【００１２】
すなわち、図１０（ｂ）に示すように、ギャップ部１０３の底面が、浮上ステージ１０２の表面より低くなっているため、高精度な浮上高さが求められる撮像光学系１１０の下部での浮上精度が低下するという問題がある。さらに、ギャップ部１０３の両端が開放され、外部との空気の入れ替えが可能な状態となっていると、浮上のための気流がギャップ部１０３の両端から漏れ出て、更に浮上精度が低下する。
【００１３】
また、図１１に示すように、浮上ステージ１０２よりも横幅が小さいサイズの被検査基板１０１を搬送する場合、ギャップ部１０３からの気流の漏れ量がさらに大きくなり、基板端において浮上精度が極端に悪化する。
【００１４】
本発明は、上記課題に鑑み、浮上ステージの表面の汚れ等が欠陥として検出されることを抑制するために浮上ステージに溝部を設けた光学検査装置において、被検査基板の浮上精度を向上させることができる光学検査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の請求項１記載の光学検査装置は、光透過性を有する被検査基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージ上に浮上している前記被検査基板を搬送する搬送機構と、前記浮上ステージ上に浮上搬送されている前記被検査基板の表面に照明光を照射する照明光学系と、前記照明光学系が照射した前記照明光の前記被検査基板からの反射光を捉える撮像光学系と、を備え、前記被検査基板を透過した前記照明光が照射される前記浮上ステージ上の領域に対応して形成された溝部が、前記溝部の形成方向に垂直かつ相対向する２面を有することを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の請求項２記載の光学検査装置は、光透過性を有する被検査基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージ上に浮上している前記被検査基板を搬送する搬送機構と、前記浮上ステージ上に浮上搬送されている前記被検査基板の表面に照明光を照射する照明光学系と、前記照明光学系が照射した前記照明光の前記被検査基板からの反射光を捉える撮像光学系と、を備え、前記被検査基板を透過した前記照明光が照射される前記浮上ステージ上の領域に対応して溝部が形成されており、前記溝部の形成方向における前記被検査基板が通過する領域の両端付近に封止部材が嵌合していることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の請求項３記載の光学検査装置は、請求項１もしくは２のいずれかに記載の光学検査装置であって、前記溝部の底側に、気体が噴出する噴出穴が設けられていることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の請求項４記載の光学検査装置は、請求項３記載の光学検査装置であって、前記噴出穴は、前記撮像光学系の撮像視野から外れる位置に配置されていることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の請求項５記載の光学検査装置は、請求項１もしくは２のいずれかに記載の光学検査装置であって、前記溝部の底側に、気体が噴出する噴出穴と気体を吸引する吸着穴が設けられていることを特徴とする。
【００２０】
また、本発明の請求項６記載の光学検査装置は、請求項５記載の光学検査装置であって、前記噴出穴および前記吸着穴は、前記撮像光学系の撮像視野から外れる位置に配置されていることを特徴とする。
【００２１】
また、本発明の請求項７記載の光学検査装置は、光透過性を有する被検査基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージ上に浮上している前記被検査基板を搬送する搬送機構と、前記浮上ステージ上に浮上搬送されている前記被検査基板の表面に照明光を照射する照明光学系と、前記照明光学系が照射した前記照明光の前記被検査基板からの反射光を捉える撮像光学系と、を備え、前記被検査基板を透過した前記照明光が照射される前記浮上ステージ上の領域に対応して溝部が形成されており、前記溝部の形成方向における前記被検査基板が通過する領域に低反射部材または高反射部材が嵌合していることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の好ましい形態によれば、浮上ステージの表面の汚れ等が欠陥として検出されることを抑制するために浮上ステージに溝部を設けた光学検査装置において、被検査基板の浮上精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施の形態１における光学検査装置の部分を示す図であって、（ａ）は上方から見た図、（ｂ）は側方から見た断面図、（ｃ）は正面から見た図
【図２】本発明の実施の形態１における溝部の他例を示す図
【図３】本発明の実施の形態２における光学検査装置の部分を示す図であって、（ａ）は上方から見た図、（ｂ）は側方から見た断面図、（ｃ）は正面から見た図
【図４】本発明の実施の形態２の光学検査装置において浮上ステージよりも横幅の小さい被検査基板を検査する時の様子を示す図であって、（ａ）は上方から見た図、（ｂ）は側方から見た断面図、（ｃ）は正面から見た図
【図５】本発明の実施の形態３における光学検査装置の部分を示す図であって、（ａ）は上方から見た図、（ｂ）は側方から見た断面図、（ｃ）は正面から見た図
【図６】本発明の実施の形態４における光学検査装置の部分を示す図であって、（ａ）は上方から見た図、（ｂ）は側方から見た断面図、（ｃ）は正面から見た図
【図７】本発明の実施の形態５における光学検査装置の部分を示す図であって、（ａ）は上方から見た図、（ｂ）は側方から見た断面図、（ｃ）は正面から見た図
【図８】本発明の実施の形態６における光学検査装置の部分を示す図であって、（ａ）は上方から見た図、（ｂ）は側方から見た断面図、（ｃ）は正面から見た図
【図９】本発明の実施の形態７における光学検査装置の部分を示す図であって、（ａ）は上方から見た図、（ｂ）は側方から見た断面図、（ｃ）は正面から見た図
【図１０】従来の光学検査装置の部分を示す図であって、（ａ）は上方から見た図、（ｂ）は側方から見た断面図、（ｃ）は正面から見た図
【図１１】従来の光学検査装置において浮上ステージよりも横幅の小さい被検査基板を検査する時の様子を示す図
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の光学検査装置に係る各実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、先行して説明した部材に対応する部材には同一符号を付して、適宜説明を省略する。
【００２５】
（実施の形態１）
図１は本発明の実施の形態１における光学検査装置の部分を示す図であり、図１（ａ）は浮上ステージを上方から見た図、図１（ｂ）は浮上ステージを側方から見た断面図、図１（ｃ）は浮上ステージを正面から見た図である。
【００２６】
この光学検査装置は、図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、光透過性を有する被検査基板１を浮上させる浮上ステージ２と、浮上ステージ２上に浮上している被検査基板１を吸着等で固定し搬送する搬送機構３と、浮上ステージ２上に浮上搬送されている被検査基板１の表面に照明光を照射する照明光学系４と、照明光学系４が照射した照明光の被検査基板１からの反射光を捉える撮像光学系５と、を備える。また、被検査基板１を透過した照明光学系４からの照明光が照射される浮上ステージ２上の領域に対応して、両端に壁面６ａを有する溝部６が浮上ステージ２に形成されている。
【００２７】
以下、この光学検査装置について、詳細に説明する。なお、撮像光学系５により撮影された画像を処理して、被検査基板１の検査のための判定処理を行う画像処理系については、既知の技術を適用することが可能であるので、ここでは説明は省略する。同様に、搬送機構３や各種の移動機構、及びそれらを駆動するための制御系等についても、既知の技術を適用することが可能であるので、ここでは説明は省略する。
【００２８】
図１に示すように、浮上ステージ２には、溝部６を除き、空気を噴出する噴出穴７と、空気を吸引する吸着穴８が全面に配置されている。噴出穴７は噴出用配管９に連通しており、噴出用配管９へ空気を供給することで、噴出穴７から空気が噴出し、その噴出した空気により被検査基板１が浮上する。一方、吸着穴８は吸着用配管１０に連通しており、吸着用配管１０から空気を吸引することで、吸着穴８から空気が吸引される。吸着穴８は、被検査基板１の浮上量を抑えるために空気を吸引する。すなわち、噴出穴７から空気を噴出させる噴出圧力と、吸着穴８へ空気を引き込む吸引圧力を調節することで、被検査基板１の浮上高さを一定に保つことができる。
【００２９】
ここでは、噴出穴７と吸着穴８を千鳥状に配置している。このように噴出穴７と吸着穴８を均等に配置することが、被検査基板１の浮上高さを一定に保つ上で好適である。また、噴出用配管９と吸着用配管１０は、例えば、被検査基板１の搬送方向に沿って噴出穴７と吸着穴８が交互に並置された列ごとに設けてもよい。なお、噴出穴７から噴出させ、吸着穴８から吸引する気体は空気に限定されるものではない。
【００３０】
照明光学系４は、例えば被検査基板１の搬送方向に直交する方向に長い線状の照明光を照射する構成としてもよいし、被検査基板１の搬送方向に直交する方向に照明光を走査させる構成としてもよい。または、被検査基板１の搬送方向に直交する方向に照明光が走査されるように照明光学系４を移動させる構成としてもよい。同様に、撮像光学系５としてラインセンサを用いてもよいし、被検査基板１の搬送方向に直交する方向に撮像光学系５の有効視野を走査させる構成としてもよいし、被検査基板１の搬送方向に直交する方向に撮像光学系５の有効視野が走査されるように撮像光学系５を移動させる構成としてもよい。
【００３１】
溝部６は、浮上ステージ２の表面の汚れ等が欠陥として検出されることを抑制するために浮上ステージ２に設けられている。例えば、溝部６を撮像光学系５の焦点深度よりも深く形成することで、撮像光学系５において溝部６からの反射光が結合することを防止して、浮上ステージ２の表面からの反射光の影響を抑制してもよい。
【００３２】
また、溝部６は、浮上ステージ２の両端まで形成されておらず、両端に壁面６ａを有する。つまり、溝部６の両端は開放されておらず、これにより被検査基板１の浮上のための気流の溝部６からの漏れ量を抑制することができ、被検査基板１の浮上精度を向上させることができる。また、溝部６の幅は、撮像光学系５の有効視野１１よりも全ての方向で大きくするのが好適である。
【００３３】
なお、浮上ステージ２の両端の溝部６が形成されていない領域では反射光が発生しうるため、その領域の検査は実施できないことを考慮すると、浮上ステージ２の両端の溝部６が形成されていない領域を可能な限り小さくすることが望ましいが、一方で、溝部６に被検査基板１の端が重なる場合、溝部６の被検査基板１が重ならない領域から気流が漏れるため、浮上ステージ２の両端の溝部６が形成されていない領域は、被検査基板１の位置や大きさのばらつきによっても被検査基板１の端が溝部６に重ならない程度に大きい必要がある。
【００３４】
また、図１（ｂ）には、断面形状が四角形の溝部６を示しているが、その断面形状は特に限定されるものではなく、例えば半円形状や三角形状であってもよい。また、溝部６からの反射光の撮像光学系５への入射光量が抑制されるように、溝部６の断面形状を傾斜させてもよい。例えば、被検査基板１に対して垂直方向から照明光を照射している場合、図２に示すように溝部６の断面形状の角度を４５度にすれば、撮像光学系５への入射光量を減らすことができる。また、溝部６の表面に反射率の低い物質、例えば艶消しの黒色塗料を塗布したり、溝部６の表面を荒らすことで、浮上ステージ２の表面の汚れ等が欠陥として検出されることを抑制してもよい。なお、溝部６は、例えば掘り込み加工等により形成することができる。
【００３５】
（実施の形態２）
以下、本発明の実施の形態２における光学検査装置について、前述した実施の形態１と異なる点を説明する。図３は本発明の実施の形態２における光学検査装置の部分を示す図であり、図３（ａ）は浮上ステージを上方から見た図、図３（ｂ）は浮上ステージを側方から見た断面図、図３（ｃ）は浮上ステージを正面から見た図である。
【００３６】
この実施の形態２における光学検査装置は、溝部６における、被検査基板１が通過する領域の端付近に封止部材１２が嵌合している点で前述した実施の形態１と異なる。このようにすれば、浮上ステージ２の両端まで溝部６が形成されており、溝部６の両端が開放されている場合であっても、封止部材１２により溝部６の両端を封止することができ、前述した実施の形態１と同様に、被検査基板１の浮上のための気流の溝部６からの漏れ量を抑制することができ、被検査基板１の浮上精度を向上させることができる。
【００３７】
さらに、本実施の形態２によれば、図４に示すように、浮上ステージ２よりも横幅が小さい被検査基板１を搬送する場合であっても、その被検査基板１の横幅に合わせて、その被検査基板１が通過する領域の端付近に封止部材１２を嵌合させることで、被検査基板１の浮上のための気流の溝部６からの漏れ量を抑制することができ、被検査基板１の浮上精度を向上させることができる。
【００３８】
なお、封止部材１２の溝方向の長さ、および封止部材１２を嵌合させる位置は、被検査基板１に封止部材１２が可能な限り重ならないようにしつつ、被検査基板１の位置や大きさのばらつきによっても、１対の封止部材１２の間の部分に被検査基板１の端が重ならないように設定するのが好適である。
【００３９】
さらに、被検査基板１が通過しない領域に存在する噴出穴７および吸着穴８において、空気の噴出および吸引を行わないようにすれば、浮上精度の更なる向上を期待することができる。
【００４０】
（実施の形態３）
以下、本発明の実施の形態３における光学検査装置について、前述した実施の形態１および２と異なる点を説明する。図５は本発明の実施の形態３における光学検査装置の部分を示す図であり、図５（ａ）は浮上ステージを上方から見た図、図５（ｂ）は浮上ステージを側方から見た断面図、図５（ｃ）は浮上ステージを正面から見た図である。
【００４１】
この実施の形態３における光学検査装置は、溝部６の底側に噴出穴７が設けられている点で前述した実施の形態１および２と異なる。なお、前述した実施の形態１および２では、搬送機構３を被検査基板１の一方の端部に対してのみ設けたが、図５に示すように、両側にそれぞれ設けてもよい。
【００４２】
この実施の形態３のように、溝部６の底側に噴出穴７を設けることで、溝部６の底面が浮上ステージ２の表面よりも低いことによる被検査基板１の落ち込みを、溝部６に設けた噴出穴７からの気流によって被検査基板１を吹き上げることで防ぐことが可能となり、浮上精度を更に向上させることができる。
【００４３】
（実施の形態４）
以下、本発明の実施の形態４における光学検査装置について、前述した実施の形態１ないし３と異なる点を説明する。図６は本発明の実施の形態４における光学検査装置の部分を示す図であり、図６（ａ）は浮上ステージを上方から見た図、図６（ｂ）は浮上ステージを側方から見た断面図、図６（ｃ）は浮上ステージを正面から見た図である。
【００４４】
この実施の形態４における光学検査装置は、溝部６の底側に噴出穴７と吸着穴８が設けられている点で前述した実施の形態１ないし３と異なる。このようにすれば、溝部６の底面が浮上ステージ２の表面よりも低いことによる被検査基板１の落ち込みを、溝部６に設けた噴出穴７からの気流によって被検査基板１を吹き上げることで防ぎつつ、溝部６に設けた吸着穴８への空気の吸引によって浮上高さを一定に保つことが可能となり、浮上精度を更に向上させることができる。
【００４５】
（実施の形態５）
以下、本発明の実施の形態５における光学検査装置について、前述した実施の形態３と異なる点を説明する。図７は本発明の実施の形態５における光学検査装置の部分を示す図であり、図７（ａ）は浮上ステージを上方から見た図、図７（ｂ）は浮上ステージを側方から見た断面図、図７（ｃ）は浮上ステージを正面から見た図である。
【００４６】
この実施の形態５における光学検査装置は、溝部６の底側の噴出穴７が、撮像光学系５の有効視野１１から外れる位置に配置されている点で前述した実施の形態３と異なる。このようにすれば、前述した実施の形態３と同様に浮上精度を向上させることができる上、噴出穴７の穴のエッジ部が欠陥として誤検出されることを防ぐことができる。すなわち、穴のエッジ部は加工痕として光りやすく、一般に、そのエッジ部の反射を抑制することは困難であるため、撮像光学系の有効視野内に噴出穴が入ると、噴出穴の穴のエッジ部を欠陥として誤検出する可能性があるが、本実施の形態５によれば、撮像光学系５の有効視野１１から外れる位置に噴出穴７を配置することで、撮像光学系５に噴出穴７の穴のエッジ部からの反射光が入射することを防ぐことができる。
【００４７】
（実施の形態６）
以下、本発明の実施の形態６における光学検査装置について、前述した実施の形態４と異なる点を説明する。図８は本発明の実施の形態６における光学検査装置の部分を示す図であり、図８（ａ）は浮上ステージを上方から見た図、図８（ｂ）は浮上ステージを側方から見た断面図、図８（ｃ）は浮上ステージを正面から見た図である。
【００４８】
この実施の形態６における光学検査装置は、溝部６の底側の噴出穴７および吸着穴８が、撮像光学系５の有効視野１１から外れる位置に配置されている点で前述した実施の形態４と異なる。このようにすれば、前述した実施の形態４と同様に浮上精度を向上させることができる上、前述した実施の形態５と同様に、噴出穴７および吸着穴８の穴のエッジ部が欠陥として誤検出されることを防ぐことができる。
【００４９】
（実施の形態７）
以下、本発明の実施の形態７における光学検査装置について、前述した実施の形態１および２と異なる点を説明する。図９は本発明の実施の形態７における光学検査装置の部分を示す図であり、図９（ａ）は浮上ステージを上方から見た図、図９（ｂ）は浮上ステージを側方から見た断面図、図９（ｃ）は浮上ステージを正面から見た図である。
【００５０】
この実施の形態７における光学検査装置は、溝部６における、被検査基板１が通過する領域に低反射部材１３が嵌合している点で前述した実施の形態１および２と異なる。このようにすれば、浮上ステージ２からの反射光の撮像光学系５への入射光量を低減することができる。また、低反射部材１３の高さを、浮上ステージ２の表面よりも低く、かつ被検査基板１に接触しない限界の高さまで高くすることで、浮上精度の低下を抑えることができる。低反射部材としては、例えば黒アルマイト処理した部材や、ラシャ材、マックロン等の光吸収塗料を塗布した部材等が好適である。
【００５１】
なお、低反射部材に代えて、鏡面のような高反射部材を溝部６に嵌合させることで、被検査基板１の透過検査も可能となる。具体的には、照明光学系４より出射された照明光は、被検査基板１を通過して高反射部材料に照射され、その高反射部材で反射した光が、再び被検査基板１を通過して、撮像光学系５へ入射することになる。よって、被検査基板１上の、本来、光を透過すべき場所に存在する光を遮る欠陥や、本来、光を遮るべき場所に存在する光を透過する欠陥を検出することが可能となる。このように、低反射部材に代えて高反射部材を溝部６に嵌合させることで、浮上ステージを作り直すことなく、簡単に、より多くの光学検査を実施することが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明にかかる光学検査装置は、浮上ステージの表面の汚れ等が欠陥として検出されることを抑制するために浮上ステージに溝部を設けた光学検査装置において、被検査基板の浮上精度を向上させることができ、ＰＤＰ、液晶パネル、有機ＥＬパネル等に使用されるディスプレイ基板の検査だけでなく、光透過性を有する基板のあらゆる検査にも有用である。
【符号の説明】
【００５３】
１、１０１      被検査基板
２、１０２      浮上ステージ
３、１０８      搬送機構
４、１０９      照明光学系
５、１１０      撮像光学系
６      溝部
６ａ    壁面
７、１０４      噴出穴
８、１０５      吸着穴
９、１０６      噴出用配管
１０、１０７      吸着用配管
１１      有効視野
１２      封止部材
１３      低反射部材
１０３      ギャップ部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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