(57)【要約】【課題】目盛幅よりも小さい刻み幅単位でも、可動部の位置を簡易に且つ精度よく検出することができるリニアスケールを提供する。【解決手段】リニアスケールは、定盤に設けられ目盛を有するスケールテープと、テーブルに設けられ目盛との位置関係に応じた信号を取得するスケールヘッドと、を備えている。このリニアスケールでは、スケールヘッドで取得された信号に基づいてカウントする複数のカウンタ部が設けられ、これらカウンタ部のカウント計数Ｎ１，Ｎ２が互いにオフセットするようにカウント初期値Ｉ１，Ｉ２が設定されている。そして、目盛幅よりも小さい刻み幅単位の位置Ｐｂ，Ｐｄが、カウント計数Ｎ２が基準数の整数倍のときに検出される。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定部又は可動部の一方に設けられ、目盛を有するスケール本体と、
前記固定部又は前記可動部の他方に設けられ、前記目盛との位置関係に応じた信号を取得するスケールヘッドと、
前記スケールヘッドで取得された前記信号に基づいてカウントすると共に、カウント計数が互いにオフセットするようにカウント初期値が設定された複数のカウンタ部と、
前記複数のカウンタ部のうち一のカウンタ部のカウント計数が基準数の整数倍のとき、当該一のカウンタ部のカウント計数及び前記カウント初期値に基づいて、前記可動部の位置を検出する検出部と、を備えたことを特徴とするリニアスケール。
【請求項２】
前記複数のカウンタ部は、
前記カウント初期値に０が設定された第１カウンタ部と、前記カウント初期値にオフセット数が設定された１又は２以上の第２カウンタ部と、を含んで構成されており、
前記検出部は、
前記第１カウンタ部のカウント計数が前記基準数の整数倍のとき、そのカウント計数に基づいて前記位置を目盛幅単位で検出し、
前記第２カウンタ部のカウント計数が前記基準数の整数倍のとき、そのカウント計数に基づいて前記位置を目盛幅単位で検出すると共に、当該第２カウンタ部の前記オフセット数に対応する長さに基づいて、検出した前記位置を修正することを特徴とする請求項１記載のリニアスケール。
【請求項３】
前記カウント初期値は、可変に構成されていることを特徴とする請求項１又は２記載のリニアスケール。  
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可動部の位置を検出するためのリニアスケールに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のリニアスケールとしては、固定部又は可動部の一方に設けられ、目盛を有するスケール本体と、固定部又は可動部の他方に設けられ、目盛との位置関係に応じた信号を取得するスケールヘッドと、を備えたものが知られている（例えば、下記特許文献１参照）。このようなリニアスケールでは、スケールヘッドで取得された信号に基づいてカウンタ部がカウントし、このカウントによるカウント計数に基づいて検出部が可動部の位置を検出する。
【特許文献１】特開平５−２４８８５０号公報
【特許文献２】特開２００５−２６３３３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上述のリニアスケールでは、例えば目盛幅よりも小さい刻み幅単位で可動部の位置を検出しようとすると、場合によっては、カウント計数に含まれる誤差が大きくなってしまい、可動部の位置の検出精度が低下してしまうおそれがある。この点、上述のリニアスケールにおいては、微小な刻み幅単位で可動部の位置を検出すべく、微小な目盛幅の目盛を別途用いることも考えられる（例えば、上記特許文献２参照）。しかし、この場合、リニアスケールのハードウェア上の変更が必要となってしまう。また、目盛幅を小さくするのには、構造上限界がある
【０００４】
そこで、本発明は、目盛幅よりも小さい刻み幅単位でも、可動部の位置を簡易に且つ精度よく検出することができるリニアスケールを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため、本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、通常、リニアスケールでは、カウンタ部のカウント計数が基準数の整数倍のときには、カウント計数の誤差が抑制され、可動部の位置が目盛幅単位で精度よく検出されるという知見を得た。そこで、目盛幅よりも小さい刻み幅単位で可動部の位置が検出されたときにカウント計数が基準数の整数倍であれば、かかる位置をハードウェア上の変更を要さずに簡易に、且つ精度よく検出できることに想到し、本発明を完成させるに至った。
【０００６】
すなわち、本発明に係るリニアスケールは、固定部又は可動部の一方に設けられ、目盛を有するスケール本体と、固定部又は可動部の他方に設けられ、目盛との位置関係に応じた信号を取得するスケールヘッドと、スケールヘッドで取得された信号に基づいてカウントすると共に、カウント計数が互いにオフセットするようにカウント初期値が設定された複数のカウンタ部と、複数のカウンタ部のうち一のカウンタ部のカウント計数が基準数の整数倍のとき、当該一のカウンタ部のカウント計数及びカウント初期値に基づいて、可動部の位置を検出する検出部と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
このリニアスケールでは、例えば図４に示すように、複数のカウンタ部が設けられ、これらカウンタ部のカウント計数Ｎ１，Ｎ２が互いにオフセットするようにカウント初期値Ｉ１，Ｉ２が設定される。そのため、カウント初期値Ｉ１，Ｉ２を適宜設定することで、カウント計数Ｎ１が基準数（４０００）の整数倍のときの可動部３の位置Ｐａ，Ｐｃが、目盛幅単位で位置されると共に、カウント計数Ｎ２が基準数の整数倍のときの可動部３の位置Ｐｂ，Ｐｄが、目盛間に位置されることとなる。つまり、目盛幅よりも小さい刻み幅単位での位置Ｐｂ，Ｐｄを、カウント計数Ｎ２が基準数の整数倍のときに検出することが可能となる。従って、目盛幅よりも小さい刻み幅単位でも、ハードウェア上の変更を要さずに簡易に且つ精度よく検出することができる。
【０００８】
ここで、上記作用効果を好適に奏する構成としては、具体的には、複数のカウンタ部は、カウント初期値に０が設定された第１カウンタ部と、カウント初期値にオフセット数が設定された１又は２以上の第２カウンタ部と、を含んで構成されており、検出部は、第１カウンタ部のカウント計数が基準数の整数倍のとき、そのカウント計数に基づいて位置を目盛幅単位で検出し、第２カウンタ部のカウント計数が基準数の整数倍のとき、そのカウント計数に基づいて位置を目盛幅単位で検出すると共に、当該第２カウンタ部のオフセット数に対応する長さに基づいて、検出した位置を修正する構成が挙げられる。
【０００９】
また、カウント初期値は、可変に構成されていることが好ましい。この場合、可動部の位置を所望な刻み幅単位で検出することが可能となる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、目盛幅よりも小さい刻み幅単位でも、可動部の位置を簡易に且つ精度よく検出することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下において同一又は相当要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１２】
図１は本発明の一実施形態に係るリニアスケールを含むステージ装置を示す概略図である。図１に例示する本実施形態のステージ装置１は、例えば半導体や液晶等の被加工物Ｍの加工用に用いられるものである。このステージ装置１は、定盤（固定部）２、テーブル（可動部）３、及び加工装置４を備えている。
【００１３】
テーブル３は、エアベアリング等の案内手段（不図示）により、定盤２の盤面２ａ上にてＸ方向（水平方向の一方向）に移動可能に取り付けられている。このテーブル３は、例えば永久磁石等の固定子と電磁コイル等の可動子とからなる非接触型のアクチュエータ５により駆動され、盤面２ａ上をＸ方向に移動される。
【００１４】
加工装置４は、テーブル３上に載置された被加工物Ｍにレーザ光を照射し、被加工物Ｍに対し穴開け加工や切断加工を行う。この加工装置４では、上記アクチュエータ５と同様なアクチュエータ６によって、レーザ光の照射位置がＸ方向に移動される。
【００１５】
ここで、ステージ装置１は、テーブル３の位置を検出するためのリニアスケール１０を備えている。リニアスケール１０は、定盤２の盤面２ａに設けられたスケールテープ（スケール本体）１１と、テーブル３における盤面２ａ側に設けられたスケールヘッド１２とを含んで構成されている。
【００１６】
スケールテープ１１は、例えば１ｍ〜６ｍの長さの長尺状を呈しており、その長手方向がＸ方向と一致するように配置されている。このスケールテープ１１は、凸部が２０μｍ間隔で規則的に並設されてなる目盛１３、すなわち、２０μｍの目盛幅の目盛１３を有している。
【００１７】
図２は、図１のリニアスケールのスケールヘッドを示す概略図である。図２に示すように、スケールヘッド１２では、例えばＬＥＤ等の発光部１４，１５が、目盛１３の目盛幅に応じた距離離間してＸ方向に並設されている。各発光部１４，１５から照射されたレーザ光Ｌ１１，Ｌ２１は、フィルタ１６，１７を介して目盛１３にそれぞれ照射される。このレーザ光Ｌ１１，Ｌ２１の反射光Ｌ１２，Ｌ２２は、例えばフォトダイオード等の受光部Ａ，Ｂによってフィルタ２０，２１を介してそれぞれ受光される。
【００１８】
これにより、反射光Ｌ１２の光強度に関する信号であってレーザ光Ｌ１１の目盛１３上の反射位置に伴い目盛幅周期で変化するｓｉｎ信号２２が、受光部Ａから出力される。これと共に、反射光Ｌ２２の光強度に関する信号であってレーザ光Ｌ１１の目盛１３上の反射位置に伴い目盛幅周期で変化するｃｏｓ信号２３が、受光部Ｂから出力される。そして、これら信号２２，２３が変換部２５によりデジタル変換されて、目盛１３との位置関係に応じたデジタル信号としてのＡ／Ｂ相信号２６がスケールヘッド１２から出力される。
【００１９】
図１に戻り、ステージ装置１は、アクチュエータ５の駆動を制御するテーブル用コントローラ３１と、アクチュエータ６の駆動を制御する加工用コントローラ４１と、を備えている。
【００２０】
テーブル用コントローラ３１は、位置検出ユニット３３、ＰＩ制御部３４及びドライバ３５を有している。位置検出ユニット３３は、上記リニアスケール１０を構成するものであり、スケールヘッド１２から出力されるＡ／Ｂ相信号２６に基づきテーブル３の位置を位置情報Ｄ１として検出する。ＰＩ制御部３４は、ユーザから入力された移動位置指令Ｋ１と、位置検出ユニット３３の位置情報Ｄ１とに基づいてＰＩ制御を実行する。ドライバ３５は、ＰＩ制御部３４の出力に応じた電流値をアクチュエータ５に供給する。
【００２１】
この位置検出ユニット３３は、目盛幅単位でテーブル３の位置を検出するものであり、カウンタ部３６と検出部３７とを含んでいる。カウンタ部３６は、Ａ／Ｂ相信号２６のパルス数をカウント（カウントアップ／カウントダウン）し、そのカウントした計数をカウント計数としてメモリーする。このカウンタ部３６では、カウント初期値に０が設定されている。検出部３７は、カウンタ部３６のカウント計数に基づいて、位置情報Ｄ１を演算し検出する。
【００２２】
加工用コントローラ４１は、上記テーブル用コントローラ３１と同様に、位置検出ユニット４３、ＰＩ制御部４４及びドライバ４５を有している。位置検出ユニット４３、上記リニアスケール１０を構成するものであり、スケールヘッド１２から出力されるＡ／Ｂ相信号２６に基づきテーブル３の位置を位置情報Ｄ２として検出する。ＰＩ制御部４４は、ユーザから入力された加工位置指令Ｋ２と、位置検出ユニット４３の位置情報Ｄ２とに基づいてＰＩ制御を実行する。ドライバ４５は、ＰＩ制御部４４の出力に応じた電流値をアクチュエータ６に供給する。
【００２３】
この位置検出ユニット４３は、加工装置４によって目盛１３の目盛幅よりも小さいレベルの精密なレーザ加工を実行すべく、目盛１３の目盛幅よりも小さい刻み幅単位でテーブル３の位置を検出する。ここでは、１／２目盛（つまり、１０μｍ）単位でテーブル３の位置を検出する（詳しくは後述）。位置検出ユニット４３は、基準カウンタ部（第１カウンタ部）４６と、オフセットカウンタ部（オフセットカウンタ部）４７と、検出部４８とを含んでいる。カウンタ部４６，４７のそれぞれは、Ａ／Ｂ相信号２６のパルス数をカウントし、そのカウントした計数をカウント計数としてメモリーする。
【００２４】
基準カウンタ部４６は、カウント初期値に０が設定されている。オフセットカウンタ部４７は、カウント初期値にオフセット数（ここでは、２０００）が設定されている。つまり、カウンタ部４６，４７は、カウント計数が互いにオフセットする（ずれる）ようにカウント初期値が設定されている。このカウント初期値は、可変に構成されており、ユーザにより所望に設定可能となっている。検出部４８は、カウンタ部４６，４７のカウント計数及びカウント初期値に基づいて、位置情報Ｄ２を演算し検出する。
【００２５】
次に、説明したリニアスケール１０による位置検出について説明する。
【００２６】
まず、リニアスケール１０による位置検出の原理について説明する。リニアスケール１０のスケールヘッド１２では、上述したように、目盛幅周期で変化するｓｉｎ信号２２が受光部Ａから出力され、目盛幅周期で変化するｃｏｓ信号２３が受光部Ｂから出力される。
【００２７】
これらの信号２２，２３を縦軸及び横軸とするグラフ化すると、テーブル３の位置にあっては、図３の曲線５１に示すように、理論的には、円形のリサージュ曲線（互いに直交する二つの単振動を合成して得られる軌跡）上の角度（位置）として表される。つまり、目盛１３の１目盛が、信号２２，２３の逆正接（ａｒｃｔａｎ）を求めてなるリサージュ曲線の３６０°で表される。
【００２８】
そこで、リニアスケール１０では、上述したように、変換部２５により信号２２，２３をデジタル変換してＡ／Ｂ相信号２６を生成する。そして、このＡ／Ｂ相信号２６のパルスの数を、リサージュ曲線の角度に相当するものとしてカウンタ部３６，４６，４７でカウントする。ここでは、目盛１３の１目盛の分解能（基準数）を４０００（すなわち、カウント計数４０００で２０μｍ）としている。これにより、カウント計数に基づくことで、リサージュ曲線上の角度が求められることなり、テーブル３の位置が求められるのである。
【００２９】
次に、リニアスケール１０による位置検出に関し、テーブル用コントローラ３１の位置検出ユニット３３の処理と、加工用コントローラ４１の位置検出ユニット３３の処理と、のそれぞれついて具体的に説明する。なお、以下においては、説明の便宜上好ましいとして、テーブル３の原点位置（目盛１３が０の位置）を始点とし一定速度ＶでＸ方向の正方向に移動する際の、テーブル３の位置検出を例示して説明する。
【００３０】
［テーブル用コントローラ］
テーブル３を移動させると、かかる移動に伴ってＡ／Ｂ相信号２６のパルスの数がカウンタ部３６でカウントされ、カウント計数が増加する。そして、目盛幅に対応する基準数である４０００にカウント計数が達したとき、信号が検出部３７に出力される。これと共に、検出部３７において、カウント計数に基づいてテーブル３が１目盛（２０μｍ）変位したと判断され、テーブル３の位置を２０μｍとする位置情報Ｄ１が出力される。
【００３１】
続いて、テーブル３のさらなる移動に伴って、Ａ／Ｂ相信号２６のパルスの数がカウンタ部３６で引き続きカウントされ、カウント計数が増加する。そして、カウント計数が８０００に達したとき、信号が検出部３７に出力されると共に、検出部３７にてテーブル３が２目盛（４０μｍ）変位したと判断されて、テーブル３の位置を４０μｍとする位置情報Ｄ１が出力される。
【００３２】
その後、テーブル３のさらなる移動に伴ってカウンタ部３６で引き続きカウントされ、カウンタ部３６のカウント計数が基準数（４０００）の整数倍のとき、検出部３７によって、テーブル３の位置がカウント計数に基づき目盛幅単位で検出される。
【００３３】
［加工用コントローラ］
位置検出ユニット４３は、上述したように、１／２目盛（１０μｍ）単位でテーブル３の位置を検出する。具体的には、以下の処理を実行する。
【００３４】
まず、位置検出の前処理として、オフセットカウンタ部４７のカウント初期値にオフセット数を予め設定する。ここでは、オフセットカウンタ部４７のカウント初期値を０に仮設定した状態で、テーブル３を外部測定器等で測定しながら原点位置から移動させ、１０μｍの位置に移動させる。そして、このときのカウント計数（ここでは、２０００）をメモリーする。その後、テーブル３を原点位置に戻し、オフセットカウンタ部４７のカウント初期値に、メモリーしたオフセット数である２０００を設定する（図４（ａ）参照）。
【００３５】
続いて、テーブル３を移動させると、かかる移動に伴ってＡ／Ｂ相信号２６のパルスの数がカウンタ部４６，４７でカウントされる。そして、カウント計数Ｎ１が基準数の整数倍のとき、基準カウンタ部４６のカウント計数Ｎ１及び初期値Ｉ２に基づいてテーブル３の位置情報Ｄ２が検出されると共に、カウント計数Ｎ２が基準数の整数倍のとき、オフセットカウンタ部４７のカウント計数Ｎ２及び初期値Ｉ２に基づいてテーブル３の位置情報Ｄ２が検出され出力される。その後、これらの出力が交互に繰り返される。
【００３６】
より具体的には、テーブル３の移動に伴って、Ａ／Ｂ相信号２６のパルスの数がカウンタ部４６，４７でそれぞれカウントされ、これらカウンタ部４６，４７にてカウント計数がそれぞれ増加する。そして、図４（ｂ）に示すように、オフセットカウンタ部４７のカウント計数Ｎ２が４０００（カウント計数Ｎ１が２０００）に達したとき、オフセットカウンタ部４７から信号が検出部４８に出力される。これと共に、検出部４８において、テーブル３が「オフセット数に相当する距離」（１０μｍ）変位したと判断され、テーブル３の位置を１０μｍとする位置情報Ｄ２が出力される。
【００３７】
続いて、テーブル３のさらなる移動に伴って、Ａ／Ｂ相信号２６のパルスの数がカウンタ部４６，４７で引き続きカウントされ、これらカウンタ部４６，４７にてカウント計数がそれぞれ増加する。そして、図４（ｃ）に示すように、基準カウンタ部４６のカウント計数Ｎ１が４０００（カウント計数Ｎ２が６０００）に達したとき、基準カウンタ部４６から信号が検出部４８に出力される。これと共に、検出部４８において、テーブル３が「１目盛」（２０μｍ）変位したと判断され、テーブル３の位置を２０μｍとする位置情報Ｄ２が出力される。
【００３８】
また、図４（ｄ）に示すように、オフセットカウンタ部４７のカウント計数Ｎ２が８０００（カウント計数Ｎ１が６０００）に達したとき、オフセットカウンタ部４７から信号が検出部４８に出力される。これと共に、検出部４８において、テーブル３が「１目盛＋オフセット数に対応する長さ」（３０μｍ）変位したと判断され、テーブル３の位置を３０μｍとする位置情報Ｄ２が出力される。
【００３９】
すなわち、テーブル３の移動に伴いカウンタ部４６，４７でカウントされ、基準カウンタ部４６のカウント計数Ｎ１が「基準数×Ｎ」（Ｎ＝１，２，・・・）のとき、このカウント計数Ｎ１に基づきテーブル３の位置が目盛幅単位で検出され出力される。具体的には、「目盛幅×Ｎ」とするテーブル３の位置が出力される。一方、オフセットカウンタ部４７のカウント計数Ｎ２が「基準数×Ｎ」のとき、このカウント計数Ｎ２に基づきテーブル３の位置が目盛幅単位で検出されると共に、この検出した位置が、オフセット数に対応する長さに基づき修正され出力される。具体的には、「目盛幅×（Ｎ−１）＋オフセット数に対応する長さ」とするテーブル３の位置が出力される。
【００４０】
ところで、一般的なリニアスケールでは、その光学的又は電気的なばらつき等や、スケールテープ１１及びスケールヘッド１２間のアライメントの影響で、リサージュ曲線が真円を保てずに歪んでしまうことがある（図３の曲線５２参照）。このようにリサージュ曲線が歪むと、カウント計数に単純に基づいてテーブル３の位置を検出する従来のリニアスケールの場合、次の問題がある。例えば、カウント計数が基準数の整数倍のときではテーブル３の位置を目盛幅単位で精度よく検出できるものの、それ以外のカウント計数のときでは、当該カウント計数に含まれる誤差が大きくなってしまい、テーブル３の位置検出精度が低下してしまう。
【００４１】
図５は、従来のリニアスケールのカウント計数の標準偏差を示すグラフである。図中において、σ１０μｍは、テーブル３の位置が１０μｍのときのカウント計数の標準偏差を示しており、このカウント計数は、リサージュ曲線の１８０°に対応している。σ２０μｍは、テーブル３の位置が目盛幅である２０μｍのときのカウント計数の標準偏差を示しており、このカウント計数は、リサージュ曲線の３６０°に対応している。σ３０μｍは、テーブル３の位置が３０μｍのときのカウント計数の標準偏差を示しており、このカウント計数は、リサージュ曲線の５４０°に対応している。図５に示すように、目盛幅（２０μｍ）では、カウント計数のばらつきが低いものとなる一方、それ以外では、カウント計数のばらつきが大きくなっている。これにより、カウント計数が基準数の整数倍のときには、テーブル３の位置を精度よく検出でき、それ以外のカウント計数のときでは、テーブル３の位置検出精度が低下するということが確認できる。
【００４２】
この点、本実施形態のリニアスケール１０では、上述したように、位置検出ユニット４３にて複数のカウンタ部４６，４７が設けられ、これらカウンタ部４６，４７のカウント計数が互いにオフセットがするようカウント初期値Ｉ１，Ｉ２が設定されている。これにより、カウント計数Ｎ２が基準数の整数倍のとき、１／２目盛幅（目盛幅よりも小さい刻み幅）単位の位置Ｐｂ，Ｐｄが検出される。よって、カウント計数のばらつきを抑制して位置Ｐｂ，Ｐｄを検出でき、１／２目盛幅単位のテーブル３の位置Ｐｂ，Ｐｄを、ハードウェア上の変更を要さずに簡易に且つ精度よく検出することができる。
【００４３】
なお、本実施形態では、上述したように、カウント初期値Ｉ１，Ｉ２が可変に構成されている。よって、本実施形態においては、カウント初期値Ｉ２に１／２目盛に対応するオフセット数を設定したが、これに限定されるものではない。例えば、１／３目盛や１／４目盛等の長さに対応するような所望なオフセット数をカウント初期値Ｉ２に設定することで、テーブル３の位置を所望な刻み幅単位で検出することができる。
【００４４】
ちなみに、本実施形態においては、一定速度ＶでＸ方向の正方向にテーブル３が移動する場合を例示して説明したが、移動速度は変化するものであってもよく、移動方向は、Ｘ方向の負方向であっても、正負の方向が変化するものであってもよい。
【００４５】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、スケールテープ１１を定盤２に設け、スケールヘッド１２をテーブル３に設けたが、スケールテープ１１をテーブル３に設け、スケールヘッド１２を定盤２に設けてもよい。
【００４６】
また、上記実施形態のスケールヘッド１２では、レーザ光Ｌ１１，Ｌ２１の反射光Ｌ１２，Ｌ２２を受光するように受光部Ａ，Ｂを構成したが、レーザ光Ｌ１１，Ｌ２１の透過光を受光するように受光部Ａ，Ｂを構成してもよい。また、リニアスケール１０を光学式としたが、磁気式としてもよい。
【００４７】
また、上記実施形態では、テーブル３を外部測定器等で測定しながら原点位置から所定位置に移動させ、このときのカウント計数をオフセット数としたが、これに限定されるものではない。例えば、１／２目盛に対応するオフセット数を求める場合、テーブル３を一定速度で移動させたときのカウント計数の変化を観察し、変化の時間バラツキが最も小さい位置のカウント計数をオフセット数としてもよい。これは、カウント計数が、１目盛間において１／２目盛に集まるようにばらつき易いためである。
【００４８】
なお、加工用コントローラ４１の位置検出ユニット４３は、カウント計数が互いにオフセットするようにカウント初期値が設定されていれば、３つ以上のカウンタ部を有していてもよい。同様に、テーブル用コントローラ３１の位置検出ユニット３３は、２つのカウンタ部を有していてもよく、カウンタ部を３つ以上有していてもよい。また、上記実施形態では、リニアスケール１０をステージ装置１に適用したが、本発明のリニアスケールは、種々の装置に適用可能なものである。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の一実施形態に係るリニアスケールを含むステージ装置を示す概略図である。
【図２】図１のリニアスケールのスケールヘッドを示す概略図である。
【図３】図１のリニアスケールの位置検出の原理について説明するためのリサージュ曲線を示す図である。
【図４】図１のリニアスケールの位置検出の処理を説明するための図である。
【図５】（ａ）は、従来のリニアスケールについてのカウント計数の標準偏差を示すグラフであり、（ｂ）は（ａ）に関するリサージュ曲線を示す図である。
【符号の説明】
【００５０】
２…定盤（固定部）、３…テーブル（可動部）、１０…リニアスケール、１１…スケールテープ（スケール本体）、１２…スケールヘッド、１３…目盛、４６…基準カウンタ部（第１カウンタ部）、４７…オフセットカウンタ部（第２カウンタ部）、Ｉ１，Ｉ２…カウント初期値、Ｋ１，Ｋ２…カウント計数。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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