(57)【要約】【課題】還元水の生成及び霧化を行い、霧化された還元水を還元水ミストとして散布することができる還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器を提供する。【解決手段】酸性成分が水中でイオン化して発生した陽イオンを還元して得られた還元成分が溶解された還元水を生成するための水を取得する水取得部３と、水取得部３により取得された水から還元水を生成する還元水生成ユニットＵと、還元水生成ユニットＵにより生成された還元水を霧化させる還元水霧化部６と、還元水霧化部６により霧化された還元水を還元水ミストとして散布する散布部７と、からなる還元水ミスト散布装置１を内蔵する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸性成分が水中でイオン化して発生した陽イオンを還元して得られた還元成分が溶解された還元水を生成するための水を取得する水取得部と、
前記水取得部により取得された前記水から前記還元水を生成する還元水生成ユニットと、
前記還元水生成ユニットにより生成された前記還元水を霧化させる還元水霧化部と、
前記還元水霧化部により霧化された前記還元水を還元水ミストとして髪へ散布する散布部と、
からなる還元水ミスト散布装置を内蔵することを特徴とする還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項２】
前記水取得部が、冷媒ガスを高温高圧に圧縮した後放熱させて冷媒液とする放熱部と、前記冷媒液を減圧した後気化させて前記冷媒ガスとする冷却部と、を備えており、
前記冷却部による冷却により空気中の水分を結露させて前記水を取得することを特徴とする請求項１に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項３】
前記水取得部が、冷却面による冷却により、空気中の水分を結露させて前記水を取得するペルチェ素子を備えることを特徴とする請求項１に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項４】
前記水取得部が、空気中の水分を吸着する吸着剤と、前記吸着剤を加熱して前記吸着剤に吸着された前記水分を脱離させるヒーターと、を備えることを特徴とする請求項１に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項５】
前記還元水生成ユニットは、
水中で酸性成分を発生させ、前記水中で発生した前記酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する酸性水溶液生成部と、
前記酸性水溶液に含まれる前記陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する還元成分生成部と、
前記還元成分生成部により生成された前記還元成分を水中で溶解させて、前記還元成分が溶解された還元水を生成する還元水生成部と、
を備えており、
前記酸性水溶液生成部は、
前記酸性水溶液を生成するための水又は前記酸性水溶液を貯留するとともに、外壁に貫通孔が形成された貯留部と、
前記貯留部内に貯留された前記水又は前記酸性水溶液と接する第１の電極と、前記外壁の前記貫通孔と連通する貫通孔を有する絶縁スペーサと、前記第１の電極との間に前記絶縁スペーサを挟持する第２の電極と、前記第１の電極及び前記第２の電極へ高電圧を印加して、前記絶縁スペーサの前記貫通孔で沿面放電を行って、前記酸性成分の原料を生成するための高電圧印加部と、からなる放電部と、
前記絶縁スペーサの前記貫通孔へ送風を導入して、前記沿面放電が行われている前記貫通孔で前記酸性成分の原料を生成させ、前記貫通孔で生成された前記酸性成分の原料を前記貯留部に貯留された前記水へ溶解させて前記酸性成分を発生させる送風部と、
を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項６】
前記外壁が前記絶縁スペーサとして用いられており、前記外壁の貫通孔が前記絶縁スペーサの貫通孔として用いられていることを特徴とする請求項５に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項７】
前記外壁が前記第１の電極として用いられていることを特徴とする請求項５に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項８】
前記陽イオンは水素イオンであり、
前記還元成分生成部は、
水素よりもイオン化傾向が大きな元素で構成され、前記酸性水溶液に含まれる前記水素イオンを還元して、前記還元成分として水素分子を生成する還元物質と、
前記水素分子の生成量を調節する調節部と、
を備えることを特徴とする請求項５乃至請求項７のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項９】
前記還元物質は、前記調節部へ着脱可能にされていることを特徴とする請求項８に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項１０】
前記還元物質は、前記調節部により前記酸性水溶液に浸される範囲が調節可能にされていることを特徴とする請求項８に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項１１】
前記還元水生成ユニットは、前記水取得部により取得された前記水を電気分解する陽極及び陰極を備えており、前記陰極において水素水を前記還元水として生成することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項１２】
前記還元水霧化部が、前記還元水に超音波を放射して霧化させる超音波放射素子を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項１３】
前記還元水霧化部が、表面弾性波を発生して、前記表面弾性波により前記還元水を霧化させる表面弾性波発生部を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項１４】
前記還元水霧化部が、高電圧が印加されることで発生する高電界により前記還元水を霧化させる静電霧化部を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項１５】
前記還元水霧化部が、前記還元水を加圧する加圧部と、前記加圧部により加圧された前記還元水を射出するための小孔と、を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【請求項１６】
外部の空気を吸入して加熱した後、加熱された前記空気を送風として導入するヘアドライヤとして構成されており、
前記散布部は、前記還元水を前記送風と平行な方向へ散布することを特徴とする請求項１乃至請求項１５のいずれか一項に記載の還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、還元成分が溶解された還元水を還元水ミストとして散布できる還元水ミスト散布装置を内蔵したヘアケア機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、髪にマイナスイオンを吹き付けて、髪のトリートメントを行うことができるヘアケア機器が使用されている。
【０００３】
特許文献１には、この種のヘアケア機器としてヘアドライヤが例示されている。このようなヘアドライヤは、髪を温風で乾燥させるとともに、髪にマイナスイオンを吹き付けて髪のトリートメントを行うことができる。このようなヘアドライヤを使用することにより、髪をコーティングすることができる。
【特許文献１】特開２００２−１９１４２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、髪のトリートメントを行う際には、髪をコーティングすることの他に、髪に艶や潤いを与えること、髪の酸化を防止すること、育毛や発毛の促進を行うこと、が所望される。そのためには、ヘアケア機器が、抗酸化作用を有する水素水等の還元水を髪に散布できることが望ましい。また、還元水を髪に散布するには、還元水を還元水ミストとして散布できることが望ましい。
【０００５】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、還元水の生成及び霧化を行い、霧化された還元水を還元水ミストとして散布することができる還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一局面に係る還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器は、酸性成分が水中でイオン化して発生した陽イオンを還元して得られた還元成分が溶解された還元水を生成するための水を取得する水取得部と、前記水取得部により取得された前記水から前記還元水を生成する還元水生成ユニットと、前記還元水生成ユニットにより生成された前記還元水を霧化させる還元水霧化部と、前記還元水霧化部により霧化された前記還元水を還元水ミストとして髪へ散布する散布部と、からなる還元水ミスト散布装置を内蔵することを特徴とする（請求項１）。
【０００７】
この構成によれば、ヘアケア機器が、水から還元成分が溶解された還元水を生成し、生成した還元水を霧化し、霧化した還元水を散布する一連の処理を行える。
【０００８】
また、還元水を、人の髪や皮膚の隅々まで散布することができるので、髪に艶や潤いを与えること、髪の酸化を防止すること、育毛や発毛の促進を行うことが実現できる。また、パーマ液や毛染め液が塗布されて電子を奪われて酸化してダメージを負った髪が還元されるので、髪のダメージが回復する。
【０００９】
尚、この構成において、水の取得、還元水の生成、還元水の霧化、及び、還元水の散布という各々の処理が行われるタイミングは、例えば以下のタイミングが挙げられる。
【００１０】
すなわち、水の取得、還元水の生成、還元水の霧化、及び、還元水の散布が同時に行われることが挙げられる。また、水の取得と還元水の生成とが同時に行われ、その後、還元水の霧化及び散布が行われることも挙げられる。また、水の取得が行われ、その後、還元水の生成、還元水の霧化、及び、還元水の散布が同時に行われることが挙げられる。
【００１１】
上記構成において、前記水取得部が、冷媒ガスを高温高圧に圧縮した後放熱させて冷媒液とする放熱部と、前記冷媒液を減圧した後気化させて前記冷媒ガスとする冷却部と、を備えており、前記冷却部による冷却により空気中の水分を結露させて前記水を取得する構成とすることができる（請求項２）。
【００１２】
この構成によれば、冷却部による冷却効果により空気中の水分を結露させて水を取得する。そのため、ユーザが還元水を生成するための水を装置へ補充する必要がない。
【００１３】
上記構成において、前記水取得部が、冷却面による冷却により、空気中の水分を結露させて前記水を取得するペルチェ素子を備える構成とすることができる（請求項３）。
【００１４】
この構成によれば、装置の体積が小さく、騒音や振動が生じないペルチェ素子で水を取得できるので、水取得部をコンパクトにすることができるとともに、水取得に騒音や振動が生じない。
【００１５】
上記構成において、前記水取得部が、空気中の水分を吸着する吸着剤と、前記吸着剤を加熱して前記吸着剤に吸着された前記水分を脱離させるヒーターと、を備える構成とすることができる（請求項４）。
【００１６】
この構成によれば、吸着剤が空気中の水分を吸着し、吸着剤に吸着された水分が、還元水の生成のために使用されるので、還元水を生成するための水を、装置に通電しなくても空気中から取得できるので、消費電力の抑制を図ることができる。
【００１７】
上記構成において、前記還元水生成ユニットは、水中で酸性成分を発生させ、前記水中で発生した前記酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する酸性水溶液生成部と、前記酸性水溶液に含まれる前記陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する還元成分生成部と、前記還元成分生成部により生成された前記還元成分を水中で溶解させて、前記還元成分が溶解された還元水を生成する還元水生成部と、を備えており、前記酸性水溶液生成部は、前記酸性水溶液を生成するための水又は前記酸性水溶液を貯留するとともに、外壁に貫通孔が形成された貯留部と、前記貯留部内に貯留された前記水又は前記酸性水溶液と接する第１の電極と、前記外壁の前記貫通孔と連通する貫通孔を有する絶縁スペーサと、前記第１の電極との間に前記絶縁スペーサを挟持する第２の電極と、前記第１の電極及び前記第２の電極へ高電圧を印加して、前記絶縁スペーサの前記貫通孔で沿面放電を行って、前記酸性成分の原料を生成するための高電圧印加部と、からなる放電部と、前記絶縁スペーサの前記貫通孔へ送風を導入して、前記沿面放電が行われている前記貫通孔で前記酸性成分の原料を生成させ、前記貫通孔で生成された前記酸性成分の原料を前記貯留部に貯留された前記水へ溶解させて前記酸性成分を発生させる送風部と、を備える構成とすることができる（請求項５）。
【００１８】
この構成によれば、酸性水溶液生成部が、水中で酸性成分を発生させ、前記水中で発生した前記酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する。この酸性水溶液生成部では、放電部が、第１の電極及び第２の電極へ高電圧を印加して絶縁スペースの貫通孔で沿面放電を行う。また、送風部が絶縁スペースの貫通孔へ送風を導入して、貯留部外部から、絶縁スペーサの貫通孔を通過して貯留部内部の水へ行き渡る泡を大量に発生させる。これにより、絶縁スペーサの貫通孔において酸性成分の原料が大量に生成される。
【００１９】
そして、この絶縁スペーサの貫通孔で生成された酸性成分の原料が、送風部による送風により、外壁の貫通孔を通じて貯留部へ導入され、貯留部に貯留された水へ溶解されて酸性成分とされる。水へ溶解された酸性成分は、水中でイオン化して陽イオン及び陰イオンとなり、その結果、貯留部に貯留されている水が陽イオンの濃度が高い酸性水溶液とされる。
【００２０】
また、この構成によれば、還元成分生成部は、酸性水溶液に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する。また、還元水生成部は、還元成分生成部により生成された還元成分を水に溶解させて、還元成分が溶解された還元水を生成する。
【００２１】
そのため、酸性水溶液を生成する処理、前記処理により生成された酸性水溶液に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する処理、前記処理により生成された還元成分を水に溶解させる処理を順次行えば、還元水が発生するので、還元水を簡便に発生させることができる。また、酸性水溶液生成部において、放電部が、絶縁スペーサが有する貫通孔が、貯留部に形成された外壁の貫通孔と連通した状態で配置されているので、放電部と貯留部とをコンパクトに一体形成できるので、装置全体をコンパクトにすることができる。
【００２２】
上記構成において、前記外壁が前記絶縁スペーサとして用いられており、前記外壁の貫通孔が前記絶縁スペーサの貫通孔として用いられている構成とすることができる（請求項６）。また、前記外壁が前記第１の電極として用いられている構成とすることもできる（請求項７）。これらの構成によれば、酸性水溶液生成部の部品点数が減少する。
【００２３】
上記構成において、前記陽イオンは水素イオンであり、前記還元成分生成部は、水素よりもイオン化傾向が大きな元素で構成され、前記酸性水溶液に含まれる前記水素イオンを還元して、前記還元成分として水素分子を生成する還元物質と、前記水素分子の生成量を調節する調節部と、を備える構成とすることができる（請求項８）。
【００２４】
この構成によれば、還元成分生成部において、水素よりもイオン化傾向が大きな元素で構成され、酸性水溶液に含まれる陽イオンを還元して、還元成分として水素分子を生成する還元物質が使用され、水素分子の生成量を還元量を調節する調節部を備える。
【００２５】
そのため、還元水ミスト散布装置は、酸性水溶液に高濃度で含まれる水素イオンを容易に還元して水素分子を生成することができる。また、高濃度で含まれる水素イオンを基に生成される水素分子の生成量を任意かつ容易に調節することができるので、還元水として、幅広い水素濃度を有する水素水を容易に発生させることができる。
【００２６】
上記構成において、前記還元物質は、前記調節部へ着脱可能にされている構成とすることができる（請求項９）。この構成によれば、還元物質が水素イオンを還元して、還元物質の体積が減少した際には、体積が減少した還元物質を調節部から取り外して、新たな還元物質を調節部へ取り付けることができる。
【００２７】
上記構成において、前記還元物質は、前記調節部により前記酸性水溶液に浸される範囲が調節可能にされている構成とすることができる（請求項１０）。この構成によれば、還元物質が酸性水溶液に浸される範囲を調節して、水素分子の生成量を自在に調節できる。
【００２８】
上記構成において、前記還元水生成ユニットは、前記水取得部により取得された前記水を電気分解する陽極及び陰極を備えており、前記陰極において水素水を前記還元水として生成する構成とすることができる（請求項１１）。
【００２９】
この構成によれば、陽極及び陰極に、酸性水溶液生成部、還元成分生成部、及び、還元水生成部の機能が集約されているので、還元水生成ユニットの構造が簡易となり、かつ、小型化を図ることができる。また、陽極及び陰極により水を電気分解することで、水素水が還元水として生成されるので、還元成分を生成するための還元物質が不要となるので、ユーザが還元物質を補充する必要がなくなる。
【００３０】
上記構成において、前記還元水霧化部が、前記還元水に超音波を放射して霧化させる超音波放射素子を備える構成とすることができる（請求項１２）。この構成によれば、粒径がナノメートルサイズの液滴を散布することができる。
【００３１】
上記構成において、前記還元水霧化部が、表面弾性波を発生して、前記表面弾性波により前記還元水を霧化させる表面弾性波発生部を備える構成とすることができる（請求項１３）。この構成によれば、表面弾性波が伝播する振動面を、還元水の水面と同じ高さに位置させることができるので、装置をコンパクトにすることができる。
【００３２】
上記構成において、前記還元水霧化部が、高電圧が印加されることで発生する高電界により前記還元水を霧化させる静電霧化部を備える構成とすることができる（請求項１４）。この構成によれば、粒径がナノメートルサイズの液滴を大量に散布することができる。
【００３３】
上記構成において、前記還元水霧化部が、前記還元水を加圧する加圧部と、前記加圧部により加圧された前記還元水を射出するための小孔と、を備える構成とすることができる（請求項１５）。この構成によれば、還元水を大量に霧化させることができる。
【００３４】
上記構成において、外部の空気を吸入して加熱した後、加熱された前記空気を送風として導入するヘアドライヤとして構成されており、前記散布部は、前記還元水を前記送風と平行な方向へ散布する構成とすることができる（請求項１６）。この構成によれば、還元水が散布される方向が、送風と同じ方向とされるので、大量の還元水をピンポイントで髪に散布することができる。
【発明の効果】
【００３５】
本発明によれば、ヘアケア機器が、水から還元成分が溶解された還元水を生成し、生成した還元水を霧化し、霧化した還元水を散布する一連の処理を行える。
【００３６】
また、還元水を、人の髪や皮膚の隅々まで散布することができるので、髪に艶や潤いを与えること、髪の酸化を防止すること、育毛や発毛の促進を行うことが実現できる。また、パーマ液や毛染め液が塗布されて電子を奪われて酸化してダメージを負った髪が還元されるので、髪のダメージが回復する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
以下、本発明の一実施形態に係る還元水ミスト散布装置内蔵型ヘアケア機器について説明する。図１は、本発明の一実施形態に係るヘアケア機器に内蔵される還元水ミスト散布装置の機能構成の一例を示すブロック図である。図１に示す還元水ミスト散布装置１は、ヘアケア機器Ｘに内蔵されており、還元水生成ユニットＵと、水取得部３と、還元水霧化部６と、散布部７と、を備える。
【００３８】
還元水ミスト散布装置１において、水取得部３は、後述する酸性成分が水中でイオン化して発生した陽イオンを還元して得られた還元成分が溶解された還元水を生成するための水を取得する。そのため、ユーザが還元水を生成するための水を補充する必要がなくなる。また、還元水霧化部６が、還元水生成ユニットＵにより生成された還元水を霧化させ、その後、散布部７が、還元水霧化部６により霧化された還元水を還元水ミストとして散布する。そのため、還元水を髪の奥深くまで散布することができる。
【００３９】
また、還元水ミスト散布装置１において、還元水生成ユニットＵは、水取得部３により取得された水から還元水を生成する。このような還元水生成ユニットＵは、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５を備える。
【００４０】
還元水生成ユニットＵにおいて、酸性水溶液生成部２は、水中で酸性成分を発生させ、水中で発生した酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する。ここに、酸性成分は、過酸化水素や硝酸が挙げられ、これら過酸化水素や硝酸が水に溶解すれば、少なくとも、陽イオンとして水素イオンが発生する。
【００４１】
また、還元成分生成部４は、酸性水溶液に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する。すなわち、酸性成分は酸性水溶液内においてはイオン化するため、酸性水溶液は少なくとも酸性成分から発生した陽イオンを含んでいる。ここに、酸性成分から発生した陽イオンは、酸性成分が過酸化水素や硝酸である際には水素イオンである。この場合、還元成分生成部４は、酸性水溶液に溶解されることによりイオン化した過酸化水素や硝酸から発生した水素イオンに電子を与えて還元し、還元成分として水素分子を生成する。
【００４２】
また、還元水生成部５は、還元成分生成部４により生成された還元成分を水に溶解させて、還元成分が溶解された還元水を生成する。ここに、還元水は、本実施形態では水素水である。
【００４３】
図２は、還元水ミスト散布装置の具体的構成の一例を示す図である。以下、図２に示す還元水ミスト散布装置１は、本明細書において、「具体的構成例１」とされる。
【００４４】
尚、以下に示す具体的構成例１〜３は、主として水取得部３の種々の構成例を示している。また、以下に示す具体的構成例４は、主として酸性水溶液生成部２の構成例を示している。また、以下に示す具体的構成例５〜８は、主として還元水霧化部の種々の構成例を示している。また、以下に示す具体的構成例９〜１１は、主として還元水ミスト散布装置１が内蔵されたヘアケア機器の種々の構成例を示している。
【００４５】
［具体的構成例１］
図２に示す還元水ミスト散布装置１において、水取得部３は、冷媒ガスを高温高圧に圧縮した後放熱させて冷媒液とする放熱部３４と、冷媒液を減圧した後気化させて冷媒ガスとする冷却部３７と、を備える。すなわち、水取得部３は、放熱部３４及び冷却部３７を有した熱交換器を備える。
【００４６】
このような水取得部３において、放熱部３４及び冷却部３７は、冷凍サイクル部Ｆに備えられている。そして、放熱部３４は、冷媒ガスを高温高圧に圧縮する圧縮器３５と、高温高圧とされた冷媒ガスを放熱することで冷却して冷媒液とする凝縮器３６とを備える。
【００４７】
また、冷却部３７は、乾燥器Ｄにより乾燥された冷媒液を減圧して気化しやすくする膨張弁３０と、減圧された冷媒液を気化させて冷媒ガスとする蒸発器３１と、蒸発器３１に当接して設けられた熱伝導部材３２と、熱伝導部材３２に当接して設けられた結露水発生部３３と、を備える。
【００４８】
このような冷却部３７において、結露水発生部３３、熱伝導部材３２、及び、蒸発器３１は、熱的に接続されており、蒸発器３１による冷却の効果が、熱伝導部材３２を通じて結露水発生部３３に及ぶ。その結果、結露水発生部３３が冷却され、結露水発生部３３の周囲の空気が冷却されて結露水発生部３３の表面に結露水（以下、単に「水」という）Ｗが付着する。尚、結露水発生部３３と熱伝導部材３２とは一体形成されていてよい。また、結露水発生部３３に熱伝導部材３２が固着されていてもよい。また、結露水発生部３３に熱伝導部材３２が接触していてもよい。いずれの場合も、結露水発生部３３と熱伝導部材３２とで熱を高効率でやり取りできる構成が好ましい。
【００４９】
このような冷却部３７により結露水発生部３３に発生した水Ｗは、水タンクＴに流入し、酸性水溶液生成部２に吸い上げられる。酸性水溶液生成部２に吸い上げられた水Ｗは、還元水生成ユニットＵ、つまり、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５により還元水Ｍ３とされる。そして、還元水Ｍ３は、還元水霧化部６により霧化され、散布部７として構成されている送風ファンによる送風により還元水ミストとして散布される。
【００５０】
このような水取得手段３によれば、冷却部３７の冷却効果により空気中の水分を結露させて水を取得するため、ユーザが酸性水溶液を生成するための水を補充する必要がない。
【００５１】
図３は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例２を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。
【００５２】
［具体的構成例２］
図３に示す還元水ミスト散布装置１において、水取得部３は、冷却面４０による冷却により、空気中の水分を結露させて水を取得するペルチェ素子３８を備える。
【００５３】
ペルチェ素子３８は、前記冷却面４０及び放熱面４２を備える。そして、冷却面４０には結露水発生部３３が取り付けられている。尚、冷却面４０と結露水発生部３３とは熱的に接続されていればよい。一方、放熱面４２には放熱フィン４３が取り付けられている。
【００５４】
このような水取得部３において、ペルチェ素子用電源４１によりペルチェ素子３８が通電された際には、ペルチェ素子３８の冷却面４０が冷却され、その冷却効果が結露水発生部３３に及ぶ。そのため、結露水発生部３３も冷却されて、結露水発生部３３の周囲の空気が冷却されて結露水発生部３３の表面に水Ｗが付着する。一方、ペルチェ素子３８の放熱面４２からは熱が発生するが、その熱は放熱フィン４３により放熱される。
【００５５】
このようなペルチェ素子３８により結露水発生部３３に発生した水Ｗは、水タンクＴに流入し、酸性水溶液発生部２に吸い上げられる。酸性水溶液生成部２に吸い上げられた水Ｗは、還元水生成ユニットＵ、つまり、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５、により還元水Ｍ３とされる。還元水Ｍ３は還元水霧化部６により霧化される。還元水霧化部６により霧化された還元水Ｍ３は、散布部７として構成されている送風ファンによる送風により還元水ミストとして散布される。
【００５６】
このような水取得部３によれば、装置の体積が小さく、騒音や振動が生じないペルチェ素子３８で水を取得できるので、水取得部３をコンパクトにすることができるとともに、水取得に騒音や振動が生じない。
【００５７】
図４は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例３を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。
【００５８】
［具体的構成例３］
図４に示す還元水ミスト散布装置１において、水取得部３は、空気中の水分を吸着する吸着剤４５と、吸着剤４５を加熱して吸着剤４５に吸着された水分を脱離させるヒーター４９と、を備える。ここに、吸着剤４５は、例えば、ゼオライトが好適である。
【００５９】
このような水取得部３において、ハウジング５１内の下部には、ポリプロピレン等の硬質素材からなる水タンクＴが設けられており、この水タンクＴの上開口Ｔａを吸着体４４で閉塞している。
【００６０】
吸着体４４は、主体となる吸着材４５と、吸着剤４５の裏面側に配設された網等の通水性がある硬質の裏板４６と、吸着剤４５の表面側に配設された透湿性且つ非透水性のフィルム４７とで構成されている。そして、裏板４６は、水タンクＴの上開口Ｔａに設けられた受け部４８に支持されており、裏板４６上に吸着材４５が充填され、上開口Ｔａの上端がフィルム４７でシールされている。また、吸着体４４内には、ヒーター４９が設けられている。
【００６１】
また、吸着体４４には水搬送部５０が嵌挿されており、水搬送部５０の下端部が、水タンクＴの下部に位置しており、水搬送部５０の上端部がハウジング５１の上部に位置している。
【００６２】
このような水搬送部５０は、棒状の形状とされており、水タンクＴに溜まった水を先端（上端）に毛細管現象で搬送するための細い孔を形成したもの又は多孔質の材料で形成されている。
【００６３】
このような水取得部３において、空気中の水分が破線矢印で示すように、フィルム４７を介して吸着材４５に吸着される。このように空気中の水分が吸着した吸着剤４５から水分を脱離させるには、ヒーター４９に通電する。そして、ヒーター４９により熱せられた吸着剤４５からは、水分が脱離する。吸着材４５から脱離した水は裏板４６から水タンクＴ内に流れて溜まる。一方、吸着剤４５に水分を吸着させるには、ヒーター４９への通電を停止する。
【００６４】
このようにして水タンクＴに溜まった水Ｗは、水搬送部５０における毛細管現象により、酸性水溶液生成部２へ送られる。酸性水溶液生成部２に送られた水Ｗは、還元水生成ユニットＵ、つまり、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５により還元水Ｍ３とされる。還元水Ｍ３は還元水霧化部６により霧化される。還元水霧化部６により霧化された還元水Ｍ３は、散布部７として構成されている送風ファンによる送風により還元水ミストとして散布される。
【００６５】
この構成によれば、吸着剤４５が空気中の水分を吸着し、吸着剤４５に吸着された水分が、還元水の生成のために使用されるので、還元水を生成するための水を、装置に通電しなくても空気中から取得できるので、消費電力の抑制を図ることができる。
【００６６】
図５は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例４を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。
【００６７】
［具体的構成例４］
以下、「上流」、「下流」との記載は、送風部２６から導入される送風に対する上流、下流をそれぞれ示すものとする。
【００６８】
図５に示す還元水ミスト散布装置１において、酸性水溶液生成部２は、貯留部２０、放電部２５、及び、送風部２６を備える。このような酸性水溶液生成部２において、貯留部２０は、図１に示す水取得部３としても設けられており、酸性水溶液Ｍ１の原料となる水、又は、酸性水溶液Ｍ１を貯留する。このような貯留部２０は、放電部２５の下流側に密着して配置されるタンクであり、その内部空間が、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａと連通している。
【００６９】
また、酸性水溶液生成部２において、放電部２５は、貯留部２０と一体形成されており、微小な貫通孔２１ａを有する絶縁スペーサ２１と、絶縁スペーサ２１の上流側に配置された上流側電極（第２の電極）２２と、絶縁スペーサ２１の下流側に配置された下流側電極（第１の電極）２３と、上流側電極２２及び下流側電極２３へ高電圧を印加して、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａで沿面放電を行って、貫通孔２１ａで酸性成分の原料を生成するための高電圧印加部２４と、を備える。尚、上流側電極２２及び下流側電極２３は、金属等の導体で構成されている。
【００７０】
また、放電部２５において、絶縁スペーサ２１が、貯留部２０内に貯留されている水又は酸性水溶液Ｍ１と接しており、貯留部２０と外部空間とを隔てる外壁とされている。そして、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａが、外壁における貫通孔とされている。
【００７１】
尚、放電部は、以下に示す構成であってもよい。つまり、下流側電極（第１の電極）２３が、貯留部２０内に貯留されている水又は酸性水溶液Ｍ１と接しており、貯留部２０と外部空間とを隔てる外壁とされている。そして、下流側電極２３には、外壁における自図示しない貫通孔が形成されている。このような貫通孔には、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａが連通している。このような構成も、以下に示す効果を得ることができる。
【００７２】
このような放電部２５において、絶縁スペーサ２１はセラミックスボード等の不導体で構成されており、上流側電極２２及び下流側電極２３で挟持された構成とされている。尚、絶縁スペーサ２１が有する貫通孔２１ａの孔径は、数十μｍ〜数ｍｍ程度、好ましくは、数１００μｍである。尚、前記貫通孔２１ａは、数１００μｍ程度と非常に微小径に設けているため、空気の流通を確保しながらも、貯留部２０に貯留されている水が貫通孔２１ａに侵入することを、表面張力により防止できる。
【００７３】
また、上流側電極２２及び下流側電極２３は、高電圧印加部２４に接続されている。上流側電極２２及び下流側電極２３は、高電圧印加部２４により、マイクロプラズマ放電用の高電圧が印加される。これにより、上流側電極２２及び下流側電極２３に挟持された絶縁スペーサ２１が有する貫通孔２１ａで沿面放電が生じる。
【００７４】
また、酸性水溶液生成部２において、送風部２６は、放電部２５の上流側に位置して設けられており、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａへ送風を導入する。これにより、貯留部２０の外部から、貫通孔２１ａを通過して貯留部２０の内部に貯留されている水へ行き渡る泡Ｂを大量に発生させることができ、放電部２５の放電により沿面放電が生じている貫通孔２１ａにおいて酸性成分の原料が大量に生成される。
【００７５】
そして、この貫通孔２１ａで大量に生成された酸性成分の原料が、送風部２６による送風により、貫通部２１ａと連通して配置された貯留部２０へ導入されて、貯留部２０に貯留された水へ溶解される。
【００７６】
ここに、酸性成分の原料は、酸性成分が先述した過酸化水素や硝酸である場合には、スーパーオキサイドラジカル、ヒドロキシラジカル、窒素酸化物、硝酸イオンが挙げられる。このような酸性成分の原料が、貯留部２０に貯留されている水の中に溶け込んで過酸化水素や硝酸が発生する。
【００７７】
つまり、スーパーオキサイドラジカル、ヒドロキシラジカルが水に溶け込んで過酸化水素が発生して、貯留部２０に貯留されている水が、過酸化水素が溶解された水に変質する。また、窒素酸化物、硝酸イオンが水に溶け込んで硝酸が発生して、貯留部２０に貯留されている水が、硝酸が溶解された水に変質する。そして、貯留部２０に貯留されている水は、過酸化水素や硝酸が溶解された水に変質した際には、過酸化水素や硝酸が、陽イオン及び陰イオンにイオン化することにより、少なくとも陽イオンとして水素イオンが含まれた水となる。
【００７８】
このような酸性水溶液生成部２によれば、放電部２５が、貯留部２０の上流側において、絶縁スペーサ２１が有する貫通孔２１ａが貯留部２０と連通した状態で配置されているので、放電部２５と貯留部２０とをコンパクトに一体形成できるので、装置全体をコンパクトにすることができる。
【００７９】
また、酸性成分の原料が、放電部２５及び送風部２６により貯留部２０内の水に高濃度で溶解されるため、陽イオンが高濃度に含まれた酸性水溶液Ｍ１を生成することができる。
【００８０】
尚、先述した酸性水溶液生成部２において、下流側電極２３が、貯留部２０と外部空間とを隔てる外壁とされている。また、絶縁スペーサ２１が、貯留部２０と外部空間とを隔てる外壁とされており、絶縁スペーサ２１の貫通孔２１ａが、前記外壁の貫通孔とされている。
【００８１】
また、図５に示す還元水ミスト散布装置１において、還元成分生成部４は、水素よりもイオン化傾向が大きな元素で構成され、酸性水溶液Ｍ１に含まれる水素イオンを還元して、還元成分として水素分子を生成する還元物質４Ａと、水素分子の生成量を調節する調節部４Ｂと、を備える。
【００８２】
このような還元成分生成部４において、還元物質４Ａは、本実施形態では亜鉛である。尚、還元物質４Ａは亜鉛以外にも、水素よりもイオン化傾向が大きい元素で構成された物質が挙げられる。また、調節部４Ｂは、還元物質４Ａが着脱可能に取り付けられており、還元物質４Ａが酸性水溶液Ｍ１に浸される範囲を調節する機能を有する。尚、調節部４Ｂは、本実施形態では、貯留部２０の内部空間において上下に移動することが可能な調節棒である。しかしながら、調節部４Ｂは、貯留部２０の内部空間において上下に移動する構成には限られない。
【００８３】
つまり、調節部４Ｂは、還元物質４Ａが酸性水溶液Ｍ１に浸される範囲を調節できる機構が挙げられる。例えば、調節部４Ｂを回転させて還元物質４Ａの酸性水溶液Ｍ１の液面に対する角度を調節することにより、還元物質４Ａが酸性水溶液Ｍ１に浸される範囲が調節されてもよい。また、調節部４Ｂの回転が、手動ではなくモータの回転により行われてもよい。
【００８４】
このような還元成分生成部４において、還元物質（亜鉛）４Ａは、調節部（調節棒）４Ｂが貯留部２０の内部空間において上下に移動することに伴って、酸性水溶液Ｍ１に浸される範囲が大小する。
【００８５】
還元物質（亜鉛）４Ａにおいて、酸性水溶液Ｍ１に浸された範囲が、酸性水溶液Ｍ１に含まれる水素イオンを還元する。すなわち、還元物質（亜鉛）４Ａにおいて、酸性水溶液Ｍ１に浸された範囲が、酸性成分が酸性水溶液Ｍ１においてイオン化して発生した水素イオンへ電子を与え、自らは亜鉛イオンとなる。その結果、水素イオンが電子を受け取って水素原子となり、水素原子が２つづつ結合して水素分子となる。
【００８６】
このような還元成分生成部４によれば、酸性水溶液Ｍ１に高濃度で含まれる水素イオンを容易に還元して、還元成分Ｍ２として水素分子を生成することができる。また、高濃度で含まれる水素イオンを基に生成される水素分子の生成量を任意かつ容易に調節することができるので、還元水Ｍ３として、幅広い水素濃度を有する水素水を容易に発生させることができる。
【００８７】
また、図５に示す還元水ミスト散布装置１において、貯留部２０において還元物質４Ａの略真上に相当する位置からは還元成分供給管Ｔが導出されており、この還元成分供給管Ｔを介して還元水生成部５が接続されている。ここに、還元成分Ｍ２である水素分子は空気よりも比重が非常に小さいので還元物質４Ａの略真上に上昇するから、還元成分供給管Ｔが、先述したように、還元物質４Ａの略真上から導出されている。
【００８８】
還元成分供給管Ｔにはポンプ８Ａが設けられており、このポンプ８Ａが還元成分Ｍ２を還元水生成部５へ送り出す。これにより、還元成分Ｍ２が還元水生成部５へ導入されて還元水Ｍ３が生成される。
【００８９】
また、図５に示す還元水ミスト散布装置１において、還元水生成部５からは還元水供給管９が導出されており、この還元水供給管９を介して還元水霧化部６が接続されている。還元水供給管９にはポンプ８Ｂが設けられており、このポンプ８Ｂが還元水Ｍ３を還元水霧化部６へ送り出す。還元水霧化部６は、ポンプ８Ｂにより還元水生成部５から送り出された還元水Ｍ３をミスト状に霧化する。還元水霧化部６により霧化された還元水Ｍ３は、散布部７により還元水ミストとして散布される。
【００９０】
このような還元水発生装置１によれば、酸性水溶液Ｍ１を生成する処理、前記処理により生成された酸性水溶液Ｍ１に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する処理、前記処理により生成された還元成分を水に溶解させる処理を順次行えば、還元水Ｍ３が発生するので、還元水Ｍ３を簡便に発生させることができる。
【００９１】
図６は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例５を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。
【００９２】
［具体的構成例５］
図６に示す還元水ミスト散布装置１において、還元水霧化部６は、表面弾性波を発生して、表面弾性波により還元水Ｍ３を霧化させる表面弾性波発生部６４を備える。このような表面弾性波発生部６４は、基板６１の一表面の一端に設けられ、高周波電源が接続された振動子から構成されている。このような表面弾性波発生部６４では、振動子が振動した際には、その振動波が基板６１の前記一表面上を表面弾性波となって伝播する。
【００９３】
一方、基板６１の前記一表面の他端には凹状の水溜め部２０が設けられており、水溜め部２０には、水溜め部２０に水Ｗが溜まった状態で水Ｗに浸される陽極５３及び陰極５４が設けられている。この陽極５３及び陰極５４は、水溜め部２０に溜まった水Ｗを電気分解して陰極５４側に還元水（ここでは水素水）Ｍ３を生成する機能を有している。つまり、陽極５３及び陰極５４は、先述した、還元水生成ユニットＵ、つまり、酸性水溶液生成部２、還元成分生成部４、及び、還元水生成部５の機能を１つに集約したものである。
【００９４】
また、このような還元水発生装置１において、水取得部３は、ペルチェ素子３８で構成されており、ペルチェ素子３８へ通電した際には、ペルチェ素子３８の冷却部４０による冷却効果により空気中の水分を結露させて水Ｗを取得する。そして、取得された液体Ｗは毛細管５２を毛細管現象により移動して、基板６１上の水溜め部２０へと送られる。
【００９５】
このような還元水発生装置１によれば、ペルチェ素子３８への通電により取得された水Ｗは、陽極５３及び陰極５４により電気分解されて、陰極５４側で還元水Ｍ３（ここでは水素水）となる。そして、還元水Ｍ３は、表面弾性波発生部６４により発生され基板６１上に伝播される表面弾性波によって霧化され還元水ミストとなり、散布部７として構成されている送風ファンによって還元水ミストとして散布される。
【００９６】
このような還元水ミスト散布装置１によれば、表面弾性波が伝播する振動面を、還元水Ｍ３の水面と同じ高さに位置させることができるので、装置１をコンパクトにすることができる。
【００９７】
尚、このような還元水ミスト散布装置１において、水取得部３は、ペルチェ素子３８への通電により水Ｗを取得する構成には限定されない。例えば、具体的構成例１に例示する熱交換器の冷却部を使用する構成、及び、具体的構成例２に例示する吸着剤４５による水分吸着効果を使用する構成が挙げられる。
【００９８】
図７は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例６を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。
【００９９】
［具体的構成例６］
図７に示す還元水ミスト散布装置１において、還元水霧化部６は、還元水Ｍ３に超音波を放射して霧化させる超音波放射素子６０を備える。このような超音波放射素子６０は、基板６１、断熱層６２、及び、発熱体６３を備える。
【０１００】
超音波放射素子６０において、基板６１は例えばシリコン基板からなる。また、断熱層６２は、基板６１の厚み方向の一表面側に形成されており、基板６１に比べて熱伝導率が十分に小さな多孔質シリコン層からなる。また、発熱層６３は、断熱層６２上に形成され、断熱層６２よりも熱伝導率及び導電率が大きな金属薄膜（例えば、金薄膜） からなる。
【０１０１】
このような超音波放射素子６０において、発熱体６３ への交流電流の通電に伴う発熱体６３と媒体（例えば、空気）との熱交換により、超音波が発生する。
【０１０２】
このような超音波放射素子６０により、還元水生成部５により生成された還元水Ｍ３に対して、超音波が放射される。これにより、還元水Ｍ３の液面が順次霧化される。その結果、粒径がナノメートルサイズの液滴が大量に生じるので、このような大量の液滴を散布部７が還元水ミストとして散布することができる。
【０１０３】
図８は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例７を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。
【０１０４】
［具体的構成例７］
図８に示す還元水ミスト散布装置１において、還元水霧化部６は、放電電極６５及び対向電極６６と、放電電極６５に還元水Ｍ３を供給する還元水供給管６７と、放電電極６５に高電圧を印加する高電圧印加部６８と、を備える。
【０１０５】
このような還元水霧化部６において、還元水送水管６７に流入した還元水Ｍ３は、還元水供給管６７を通り放電電極６５の先端部６５ａまで送られる。
【０１０６】
このように放電電極６５に還元水Ｍ３が供給された状態で、高電圧印加部６８により放電電極６５と対向電極６６との間に高電圧が印加された際には、放電電極６５と対向電極６６との間に電界が発生するとともに、放電電極６５の先端部６５ａに供給された還元水Ｍ３に電荷が蓄えられる。
【０１０７】
その結果、放電電極６５の先端部６５ａに供給された還元水Ｍ３と対向電極６６との間にクーロン力が働き、還元水Ｍ３の液面が局所的に錐状に盛り上がる。このように還元水Ｍ３の液面が局所的に錐状に盛り上がった箇所がテーラーコーンＴである。
【０１０８】
このようにテーラーコーンＴが形成されると、該テーラーコーンＴの先端に電荷が集中してテーラーコーンＴの先端における電界強度が大きくなり、テーラーコーンＴの先端に生じるクーロン力が大きくなる。すると、更にテーラーコーンＴが成長する。
【０１０９】
このようにテーラーコーンＴが成長し該テーラーコーンＴの先端に電荷が集中して電荷の密度が高密度となると、テーラーコーンＴの先端部分の還元水Ｍ３が大きなエネルギー（高密度となった電荷の反発力）を受け、表面張力を超えて分裂・飛散（レイリー分裂）を繰り返す。その結果、ナノメートルサイズの粒径を有する還元水Ｍ３が大量に発生する。
【０１１０】
このような還元水ミスト散布装置１によれば、粒径がナノメートルサイズの液滴を、散布部７により、還元水ミストとして大量に散布することができる。尚、図８に示す還元水ミスト散布装置１において、放電電極６５及び対向電極６６で静電霧化部が構成されているが、対向電極６６が必ず設けられていなければならないことはなく、放電電極６５のみで静電霧化部が構成されていてもよい。この場合でも、放電電極６５において放電が生じて、静電霧化された還元水Ｍ３が、図示しない筐体方向などに向かって散布される。
【０１１１】
図９及び図１０は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例８を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。
【０１１２】
［具体的構成例８］
図９は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例８を示す図であり、図９（ａ）は還元水ミスト散布装置を上方視した場合を示す図、図９（ｂ）は還元水ミスト散布装置の側面図である。
【０１１３】
図９に示す還元水ミスト散布装置１において、還元水霧化部６は、還元水Ｍ３を加圧する加圧部（ポンプ）１７と、ポンプ１７により加圧された還元水Ｍ３を射出するための小孔１８と、を備える。
【０１１４】
図９に示す還元水ミスト散布装置１において、ペルチェ素子３８に通電した際には、ペルチェ素子３８の冷却面４０による冷却効果により、冷却面４０の周囲の空気中の水分が結露されて結露水（水Ｗ）とされる。このような水Ｗは、毛細管現象により、毛細管９２を通じて基板６１上の水溜め部２０へと送られる。水溜め部２０へ送られた水Ｗは、陽極５３及び陰極５４からなる電気分解手段９０により電気分解されて、水素水が還元水Ｍ３として生成される。生成された還元水Ｍ３は、毛細管現象により、毛細管９２を通じてポンプ１７へと送られる。
【０１１５】
ポンプ１７へ送られた還元水Ｍ３は加圧され、加圧水管９３を通じて小孔１８へ達し、小孔１８から還元水ミストとして散布される。つまり、図９に示す還元水ミスト散布装置１において、ポンプ１７及び小孔１８が、還元水霧化部６及び散布部７とされている。
【０１１６】
このような還元水ミスト散布装置１によれば、還元水Ｍ３を大量に霧化させることができる。
【０１１７】
図１０は、ポンプ（加圧部）１７の動作を説明するための図であり、図１０（ａ）は還元水Ｍ３の吸入時の動作を説明するための図、図１０（ｂ）は還元水Ｍ３の排出時の動作を説明するための図、をそれぞれ示す。
【０１１８】
図１０に示すポンプ１７において、圧電素子７０の上下面に、電極７６及び７７が取り付けられており、電極７６及び７７には交流電源が接続されている。このような電極７６及び７７へ電圧が印加された際には、圧電素子７０の厚み方向に電界が発生する。
【０１１９】
このような電界の方向が、図１０（ｂ）に示すように、圧電素子７０の分極の方向と同じ方向である場合には、圧電素子７０がその厚み方向へ伸び、径方向へ縮む。その結果、駆動ダイヤフラム７２のたわみが減少する。一方、電界の方向が、図１０（ａ）に示すように、圧電素子７０の分極の方向と逆の方向である場合には、圧電素子がその径方向へ伸び、厚み方向へ縮む。その結果、駆動ダイヤフラム７２のたわみが増加する。
【０１２０】
ここに、電界の方向を、圧電素子７０の分極の方向と同じ方向、又は、逆の方向とするには、電極７６及び７７のプラス又はマイナスの極性を交互に入れ替える。尚、電極７６及び７７には交流電源が接続されているので、極性が自動的に入れ替わる。
【０１２１】
このように、電界の方向を、圧電素子７０の分極の方向と同じ方向、又は、逆の方向へ交互に入れ替えることで、駆動ダイヤフラム７２が、その厚み方向へ振動する。この駆動ダイヤフラム７２の振動が、図示しない被駆動ダイヤフラムに伝達される。その結果、空間７３の体積が変動する。
【０１２２】
空間７３の体積が、図１０（ａ）に示すように増加した際には、空間７３の内部の圧力が低下するので、吸入管７５内部の弁が開き、還元水Ｍ３を吸入する。一方、空間７３の体積が、図１０（ｂ）に示すように減少した際には、空間７３の内部の圧力が増加するので、排出管７４内部の弁が開き、還元水Ｍ３を排出する。
【０１２３】
このように、圧電素子７０において生じる電界の方向を入れ替えることにより、吸入管７５を通じて還元水Ｍ３を吸入すること、及び、排出管７４を通じて還元水Ｍ３を排出すること、が繰り返されるので、図９に示す還元水ミスト散布装置１において、水溜め部２０に溜まった水を電気分解することより生じた還元水Ｍを加圧して、加圧水管９３へ排出することができる。
【０１２４】
図１１は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例９を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。
【０１２５】
［具体的構成例９］
図１１に示す還元水ミスト散布装置１は、ヘアケア機器の１つであるヘアドライヤＸ１に内蔵された構成とされている。ヘアドライヤＸ１は、外部の空気を吸入する吸入口８２及び加熱された空気を吐出する吐出口８３を備え、外部の空気を吸入して加熱した後、加熱された空気を、図中矢印に示す送風として導入する。また、還元水ミスト散布装置１において、散布部７は、還元水Ｍ３を送風と平行な方向へ散布するよう構成されている。
【０１２６】
このような還元水ミスト散布装置１によれば、ヘアドライヤＸ１による送風と平行して、還元水Ｍ３が還元水ミストとして散布されるので、高濃度かつ大量の還元水が、人の髪に散布されるという効果が奏される。
【０１２７】
図１２は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例１０を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。
【０１２８】
［具体的構成例１０］
図１２に示す還元水ミスト散布装置１は、ヘアケア機器の１つであるヘアアイロンＸ２に内蔵された構成とされている。ヘアアイロンＸ２は、人の髪と接触し、接触した髪を加熱する一対のアイロン板８４Ａ，８４Ｂを備える。このようなヘアアイロンＸ２は、一対のアイロン板８４Ａ，８４Ｂによって髪を加熱させながら、還元水Ｍ３を還元水ミストとして髪に散布することができる。
【０１２９】
図１３は、還元水ミスト散布装置の具体的構成例１１を示す図である。尚、図２に示す還元水ミスト散布装置１と同一の要素は、図２に示す符号と同一の符号が付される。また、説明が省略される。
【０１３０】
［具体的構成例１１］
図１３に示す還元水ミスト散布装置１は、ヘアケア機器の１つであるヘアブラシＸ３に内蔵された構成とされている。ヘアブラシＸ３は、人の髪を梳かすブラシ８５を備える。このようなヘアブラシＸ６は、ブラシ８５により人の髪を梳かしながら、還元水Ｍ３を還元水ミストとして髪に散布することができる。
【０１３１】
尚、ヘアドライヤＸ１、ヘアアイロンＸ２、及び、ヘアブラシＸ３は、先述した具体的構成例５に示す還元水ミスト散布装置１（図６参照）、又は、先述した具体的構成例８に示す還元水ミスト散布装置１（図９参照）を内蔵することが好適である。このようなコンパクトな還元水ミスト散布装置１を内蔵することで、ヘアケア機器の小型化及び軽量化が図られるからである。
【図面の簡単な説明】
【０１３２】
【図１】還元水ミスト散布装置の機能構成の一例を示すブロック図である。
【図２】還元水ミスト散布装置の具体的構成例１を示す図である。
【図３】還元水ミスト散布装置の具体的構成例２を示す図である。
【図４】還元水ミスト散布装置の具体的構成例３を示す図である。
【図５】還元水ミスト散布装置の具体的構成例４を示す図である。
【図６】還元水ミスト散布装置の具体的構成例５を示す図である。
【図７】還元水ミスト散布装置の具体的構成例６を示す図である。
【図８】還元水ミスト散布装置の具体的構成例７を示す図である。
【図９】還元水ミスト散布装置の具体的構成例８を示す図である。
【図１０】ポンプ（加圧部）の動作を説明するための図である。
【図１１】還元水ミスト散布装置の具体的構成例９を示す図である。
【図１２】還元水ミスト散布装置の具体的構成例１０を示す図である。
【図１３】還元水ミスト散布装置の具体的構成例１１を示す図である。
【符号の説明】
【０１３３】
Ｘ，Ｘ１〜Ｘ３    ヘアケア機器
Ｕ    還元水生成ユニット
１    還元水ミスト散布装置
２    酸性水溶液生成部
３    水取得部
４    還元成分生成部
４Ａ  還元物質
４Ｂ  調節部
５    還元水生成部
６    還元水霧化部
７    散布部
１７  ポンプ
１８  小孔
２０  貯留部
２５  放電部
２１  絶縁スペーサ
２１ａ  貫通孔
２２  上流側電極
２３  下流側電極
２４  高電圧印加部
２６  送風部
３４  放熱部
３７  冷却部
３８  ペルチェ素子
４０  冷却面
４５  吸着剤
４９  ヒーター
５３  陽極
５４  陰極
６０  超音波放射素子
６４  表面弾性波発生部
６５  放電電極
６６  対向電極
Ｍ１  酸性水溶液
Ｍ２  還元成分
Ｍ３  還元水
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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