(57)【要約】【課題】均一な配向処理を施すことが可能な液晶装置の製造方法、液晶装置の製造装置を提供すること。【解決手段】本適用例の液晶装置の製造方法は、一対の基板のうちの一方の基板としての対向基板２０に設けられた配向膜２２を回転ラビング処理する配向処理工程を備え、配向処理工程は、ラビング布２０５が捲回されたラビングローラー２０４に対して、ラビングローラー２０４の回転軸に沿った方向と、回転軸に対して交差する方向とに対向基板２０が複数配置され、ラビングローラー２０４の周上におけるラビング布２０５の継ぎ目２０５ｂと配置された対向基板２０の端部とが接触しないように、ラビングローラー２０４の回転速度とラビングローラー２０４に対する複数の対向基板２０が載置されたステージ２０１の相対的な移動速度とを制御する。【選択図】図８
2010281930.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板に挟持された液晶層と、前記一対の基板の少なくとも一方の基板上に設けられた配向膜とを有する液晶装置の製造方法であって、
前記一方の基板上に設けられた前記配向膜を回転ラビング処理する配向処理工程を備え、
前記配向処理工程は、ラビング布が捲回されたラビングローラーに対して、前記ラビングローラーの回転軸に沿った方向と、前記回転軸に対して交差する方向とに前記一方の基板が少なくとも１つ配置され、
前記ラビングローラーの周上における前記ラビング布の継ぎ目と配置された前記一方の基板の端部とが接触しないように、前記ラビングローラーの回転と前記ラビングローラーに対する前記一方の基板の相対的な移動とを制御することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
前記配向処理工程は、前記ラビングローラーが１回転する間に前記一方の基板の前記配向膜を回転ラビング処理することを特徴とする請求項１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項３】
前記配向処理工程は、前記ラビングローラーが１回転する間に複数の前記一方の基板の前記配向膜を回転ラビング処理することを特徴とする請求項１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項４】
前記ラビングローラーの周上における前記ラビング布の継ぎ目と配置された前記一方の基板の端部とが接触しないように、前記ラビングローラーの回転に対する前記一方の基板の移動開始時期、または前記一方の基板の移動に対する前記ラビングローラーの回転開始時期を制御することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項５】
第１の方向と、前記第１の方向に交差する方向とに所定の間隔を置いて設けられた複数の凹部を有するパレットを備え、
前記配向処理工程は、前記凹部が前記ラビングローラーの回転軸に沿った方向と、前記回転軸に対して交差する方向とに配列するように、前記ラビングローラーに対して前記パレットを相対的に位置決めして、前記凹部に載置された前記一方の基板に対して回転ラビング処理を施すことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項６】
一対の基板に挟持された液晶層と、前記一対の基板の少なくとも一方の基板上に設けられた配向膜とを有する液晶装置の製造装置であって、
前記一方の基板が載置されるステージと、
ラビング布が捲回されたラビングローラーと、
回転する前記ラビングローラーに対して、前記ラビング布と少なくとも前記配向膜とを接触させた状態で前記ステージを所定の方向に相対的に移動させる移動機構と、
前記ステージにおいて前記ラビングローラーの回転軸に沿った方向と、前記回転軸に対して交差する方向とに前記一方の基板が少なくとも１つ配置され、
前記ラビングローラーの周上における前記ラビング布の継ぎ目が前記ステージ上に配置された前記一方の基板の端部と接触しないように、前記ラビングローラーの回転と前記移動機構による前記ステージの移動とを制御する制御部と、を備えたことを特徴とする液晶装置の製造装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記ラビングローラーが１回転する間に、前記一方の基板に設けられた前記配向膜を回転ラビング処理するように、前記ラビングローラーの回転と前記ステージの移動とを制御することを特徴とする請求項６に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記ラビングローラーが１回転する間に、複数の前記一方の基板に設けられた前記配向膜を回転ラビング処理するように、前記ラビングローラーの回転と前記ステージの移動とを制御することを特徴とする請求項６に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項９】
前記ラビングローラーの周上における前記継ぎ目の位置を検出する検出機構を備え、
前記制御部は、前記検出機構の検出結果に基づいて前記ラビングローラーの回転に対する前記ステージの移動開始時期、または前記ステージの移動に対する前記ラビングローラーの回転開始時期を制御することを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項１０】
第１の方向と、前記第１の方向に交差する方向とに所定の間隔を置いて設けられた複数の凹部を有するパレットを備え、
前記パレットは、前記ステージ上において、前記凹部に載置された前記一方の基板が前記ラビングローラーの回転軸に沿った方向と、前記回転軸に対して交差する方向とに配列するように、前記ラビングローラーに対して相対的に位置決めされることを特徴とする請求項６乃至９のいずれか一項に記載の液晶装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置の製造方法、液晶装置の製造装置に関する。詳しくは、配向膜の配向処理に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記液晶装置の製造方法として、ラビング布が貼り付けられた回転ロールの一回転におけるラビング布と配向膜とが接触しない非接触周期が接触周期よりも長くなるように回転ロールにラビング布の周方向長さを調整して貼り付けているラビング配向処理方法が知られている（特許文献１）。
また、上記特許文献１には、上記回転ロールが高速回転に保持され、かつラビング布は、その周方向の長さまたはそのフィラメント密度を規定することにより配向膜の削れを抑制するように構成されたラビング配向処理装置が開示されている。
【０００３】
特許文献１のラビング配向処理方法によれば、ラビング時に回転ロールにおけるラビング布の継ぎ目によって発生する偏芯むらを視認できなくすると共に、配向膜の削れに起因する配向不良を解消できるとしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−８４２００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記従来のラビング配向処理方法およびラビング配向処理装置では、回転ロールにおけるラビング布の継ぎ目部分が、配向処理される基板等の端部などに接触した場合には、継ぎ目部分からラビング毛（上記フィラメントに相当）が抜け易く、異物となって基板上に飛散するおそれがあるという課題があった。また、飛散したラビング毛が付着した基板をラビングすることによって配向不良が生ずるおそれがあるという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例の液晶装置の製造方法は、一対の基板に挟持された液晶層と、前記一対の基板の少なくとも一方の基板上に設けられた配向膜とを有する液晶装置の製造方法であって、前記一方の基板に設けられた前記配向膜を回転ラビング処理する配向処理工程を備え、前記配向処理工程は、ラビング布が捲回されたラビングローラーに対して、前記ラビングローラーの回転軸に沿った方向と、前記回転軸に対して交差する方向とに前記一方の基板が少なくとも１つ配置され、前記ラビングローラーの周上における前記ラビング布の継ぎ目と配置された前記一方の基板の端部とが接触しないように、前記ラビングローラーの回転と前記ラビングローラーに対する前記一方の基板の相対的な移動とを制御することを特徴とする。
【０００８】
この方法によれば、ラビング布の継ぎ目と一方の基板の端部との接触が防止され、該接触に伴うラビング毛の抜けを低減できる。すなわち、ラビング毛の抜けを低減して、均一な回転ラビング処理が可能な液晶装置の製造方法を提供できる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記配向処理工程は、前記ラビングローラーが１回転する間に前記一方の基板の前記配向膜を回転ラビング処理することを特徴とする。
この方法によれば、一方の基板の大きさを基準にしてラビングローラーの回転を容易に制御して回転ラビング処理を施すことができる。
【００１０】
［適用例３］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記配向処理工程は、前記ラビングローラーが１回転する間に複数の前記一方の基板の前記配向膜を回転ラビング処理するとしてもよい。
この方法によれば、より高い生産性で回転ラビング処理を施すことができる。
【００１１】
［適用例４］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記ラビングローラーの周上における前記ラビング布の継ぎ目と配置された前記一方の基板の端部とが接触しないように、前記ラビングローラーの回転に対する前記一方の基板の移動開始時期、または前記一方の基板の移動に対する前記ラビングローラーの回転開始時期を制御することを特徴とする。
この方法によれば、ラビング布の継ぎ目が一方の基板の端部と接触しないように精度よく制御することができる。
【００１２】
［適用例５］上記適用例の液晶装置の製造方法において、第１の方向と、前記第１の方向に交差する方向とに所定の間隔を置いて設けられた複数の凹部を有するパレットを備え、前記配向処理工程は、前記凹部が前記ラビングローラーの回転軸に沿った方向と、前記回転軸に対して交差する方向とに配列するように、前記ラビングローラーに対して前記パレットを相対的に位置決めして、前記凹部に載置された前記一方の基板に対して回転ラビング処理を施すことを特徴とする。
この方法によれば、パレット上に複数の一方の基板を載置して一括して配向処理を施すことができると共に、複数の一方の基板の端部に対してラビング布の継ぎ目を接触させないようにして均一な回転ラビング処理を行うことができる。
【００１３】
［適用例６］本適用例の液晶装置の製造装置は、一対の基板に挟持された液晶層と、前記一対の基板の少なくとも一方の基板上に設けられた配向膜とを有する液晶装置の製造装置であって、前記一方の基板が載置されるステージと、ラビング布が捲回されたラビングローラーと、回転する前記ラビングローラーに対して、前記ラビング布と少なくとも前記配向膜とを接触させた状態で前記ステージを所定の方向に相対的に移動させる移動機構と、前記ステージにおいて前記ラビングローラーの回転軸に沿った方向と、前記回転軸に対して交差する方向とに前記一方の基板が少なくとも１つ配置され、前記ラビングローラーの周上における前記ラビング布の継ぎ目が前記ステージ上に配置された前記一方の基板の端部と接触しないように、前記ラビングローラーの回転と前記移動機構による前記ステージの移動とを制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。
【００１４】
この構成によれば、ラビング布の継ぎ目と一方の基板の端部との接触が防止され、該接触に伴うラビング毛の抜けを低減して、均一な回転ラビング処理を施すことが可能な液晶装置の製造装置を提供できる。
【００１５】
［適用例７］上記適用例の液晶装置の製造装置において、前記制御部は、前記ラビングローラーが１回転する間に、前記一方の基板に設けられた前記配向膜を回転ラビング処理するように、前記ラビングローラーの回転と前記ステージの移動とを制御する。
この構成によれば、一方の基板の大きさを基準にしてラビングローラーの回転を容易に制御して回転ラビング処理を施すことができる。
【００１６】
［適用例８］上記適用例の液晶装置の製造装置において、前記制御部は、前記ラビングローラーが１回転する間に、複数の前記一方の基板に設けられた前記配向膜を回転ラビング処理するように、前記ラビングローラーの回転と前記ステージの移動とを制御するとしてもよい。
この構成によれば、より高い生産性で回転ラビング処理を施すことができる。
【００１７】
［適用例９］上記適用例の液晶装置の製造装置において、前記ラビングローラーの周上における前記継ぎ目の位置を検出する検出機構を備え、前記制御部は、前記検出機構の検出結果に基づいて前記ラビングローラーの回転に対する前記ステージの移動開始時期、または前記ステージの移動に対する前記ラビングローラーの回転開始時期を制御する。
この構成によれば、ラビング布の継ぎ目が一方の基板の端部に接触しないように精度よく制御することができる。
【００１８】
［適用例１０］上記適用例の液晶装置の製造装置において、第１の方向と、前記第１の方向に交差する方向とに所定の間隔を置いて設けられた複数の凹部を有するパレットを備え、前記パレットは、前記ステージ上において、前記凹部に載置された前記一方の基板が前記ラビングローラーの回転軸に沿った方向と、前記回転軸に対して交差する方向とに配列するように、前記ラビングローラーに対して相対的に位置決めされることを特徴とする。
この構成によれば、パレット上に複数の一方の基板を載置して一括して配向処理を施すことができると共に、複数の一方の基板の端部に対してラビング布の継ぎ目を接触させないようにして均一な回転ラビング処理を行うことが可能な液晶装置の製造装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】（ａ）は液晶装置の構成を示す概略正面図、（ｂ）は（ａ）のＨ−Ｈ'線で切った断面図。
【図２】（ａ）および（ｂ）は液晶装置の光学設計条件を示す概略図。
【図３】マザー基板を示す概略平面図。
【図４】液晶装置の製造方法を示すフローチャート。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は液晶装置の製造装置としてのラビング装置の構成を示す模式図。
【図６】ラビング布の継ぎ目を示す概略断面図。
【図７】ラビング装置の機械的および電気的な構成を示すブロック図。
【図８】（ａ）実施例１のラビング方法を示す概略図、（ｂ）は実施例２のラビング方法を示す概略図。
【図９】変形例のラビング装置を示す概略平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。
【００２１】
まず、本実施形態の液晶装置の製造方法を適用可能な液晶装置について、図１〜図３を参照して説明する。図１（ａ）は液晶装置の構成を示す概略正面図、同図（ｂ）は同図（ａ）のＨ−Ｈ'線で切った断面図、図２（ａ）および（ｂ）は液晶装置の光学設計条件を示す概略図、図３はマザー基板を示す概略平面図である。
【００２２】
図１（ａ）および（ｂ）に示すように、液晶装置１００は、対向配置された一対の基板としての素子基板１０および対向基板２０と、素子基板１０と対向基板２０との間に挟持された液晶層４０とを備えている。素子基板１０および対向基板２０は、例えば透明な石英などの基板であり、例えば熱硬化型または紫外線硬化型の接着剤からなるシール材４２によって貼り合わされている。
【００２３】
液晶装置１００は、表示領域１０ａ内にマトリクス状に配置された複数の画素１０３を有する。素子基板１０上には画素１０３を構成する、例えばＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）などの透明電極からなる画素電極９と、画素電極９を駆動制御するスイッチング素子としての薄膜トランジスター（ＴＦＴ；Thin  Film  Transistor）３０とが設けられている。また、これら画素電極９などを覆うと共にラビングにより配向処理が施された例えばポリイミド樹脂などからなる配向膜１６が設けられている。
【００２４】
対向基板２０の液晶層４０に面する側には、ほぼ全面に例えばＩＴＯなどの透明電極からなる対向電極２１と、対向電極２１を覆うと共にラビングにより配向処理が施された例えばポリイミド樹脂などからなる配向膜２２が設けられている。
【００２５】
また、対向基板２０には、液晶層４０に向かって対向電極２１の下（図面では上方）に画素１０３を格子状に区画する遮光膜２３と、表示領域１０ａの周辺部に配置された遮光膜２４とが設けられている。遮光膜２３，２４は、例えば遮光性を有するＣｒなどの金属や金属酸化物などの無機化合物、あるいは遮光性を有する有機化合物が用いられている。
【００２６】
素子基板１０と対向基板２０とを接合するシール材４２は、額縁状に設けられた辺部の一部が欠落した注入口１０８を有している。素子基板１０と対向基板２０との隙間に注入口１０８から液晶が注入され、封止材１０９で封止されている。
【００２７】
素子基板１０は対向基板２０に比べて一回り大きく、対向基板２０から突出した一辺部には、データ線駆動回路１０１と、複数の外部接続端子１０２とが設けられている。
素子基板１０のシール材４２の内側には、表示領域１０ａを挟んで一対の走査線駆動回路１０４と、この間を繋ぐ配線１０５とが設けられている。対向基板２０の遮光膜２４は、平面的に走査線駆動回路１０４に重なるように設けられている。
【００２８】
素子基板１０と対向基板２０との間には、シール材４２の４つのコーナー部に上下導通材１０６が配設されており、同じく上下導通材１０６に対応して配設された上下導通端子１０７により、対向基板２０側の対向電極２１が素子基板１０側に電気的に導かれ、複数の外部接続端子１０２のうちの指定された端子に接続されている。
【００２９】
図２（ａ）に示すように、液晶装置１００の光学設計条件の１例としては、素子基板１０と対向基板２０およびこれらの基板に挟持された液晶層４０とを含む構成を液晶セル１２０とし、液晶セル１２０の一方の面側に配置された偏光板１２１と一方の面側に対して反対側の他方の面側に配置された偏光板１２２とを備える。例えば、偏光板１２２の背後に照明装置からの光が入射する場合、液晶セル１２０に対して偏光板１２１を上偏光板１２１と呼び、偏光板１２２を下偏光板１２２と呼ぶこととする。
【００３０】
図２（ｂ）に示すように、液晶セル１２０における素子基板１０のラビング方向と、対向基板２０のラビング方向とは直交している。すなわち、液晶層４０において液晶分子が９０度ツイストするように配向処理が施されている。これに対して上偏光板１２１の透過軸の方向は対向基板２０のラビング方向と平行となっており、下偏光板１２２の透過軸の方向は素子基板１０のラビング方向と平行となっている。
したがって、下偏光板１２２の背面側から入射した光は、まず下偏光板１２２により直線偏光に変換されて液晶セル１２０に入射する。液晶セル１２０に入射した直線偏光は、液晶層４０における液晶分子のツイストによって９０度旋光し、対向基板２０側から射出して上偏光板１２１を透過する。
ゆえに、液晶装置１００が非駆動状態のとき、表示領域１０ａの各画素１０３は光が透過する白表示状態となっている。このような光学設計に基づく表示モードをノーマリーホワイトという。
なお、液晶装置１００における表示モード（光学設計）は、これに限定されず、非駆動時に画素１０３が光を透過しないノーマリーブラックでもよい。
【００３１】
図３に示すように、上記液晶装置１００の製造方法としては、例えば複数個分の素子基板１０が面付けされたマザー基板１１０に対して対向基板２０を個々に貼り合わせ、その隙間に液晶を注入・封止してから、これを所定の位置で切断することにより、個々の液晶装置１００を取り出す方法が挙げられる。
【００３２】
マザー基板１１０は、例えば大きさが８インチのウェハ状であって、厚みが１．２ｍｍの石英基板である。四角形（長方形）の素子基板１０はマザー基板１１０の表面にマトリクス状に面付けされている。１つの素子基板１０の大きさは対角線の長さにしておよそ１インチ程度である。この場合の面付け数は４０個である。このような設計条件の下に、マザー基板１１０の表面に、前述した画素電極９およびＴＦＴ３０、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４、これらを繋ぐ配線等が形成されている。さらにこれらの構成要素を覆う配向膜１６は、各素子基板１０に対応して設定された膜形成領域内に設けられている。同様に対向基板２０側の対向電極２１を覆う配向膜２２は、上記膜形成領域に対応した領域に設けられている。
なお、ウェハ状とは、図３に示したように平面的に円形であることに限定されず、例えば円周の一部が切り欠かれたオリフラを有するものを含む概念である。
【００３３】
上記液晶装置１００において、対向基板２０側の配向膜２２は後述する本実施形態の液晶装置の製造装置および液晶装置の製造方法を適用した配向処理が施されている。詳細は、後述するがほぼ均一に配向処理が施されている。
【００３４】
＜液晶装置の製造方法＞
次に、液晶装置１００の製造方法について、図４〜図８を参照して説明する。図４は液晶装置の製造方法を示すフローチャート、図５（ａ）〜（ｃ）は液晶装置の製造装置としてのラビング装置の構成を示す模式図、図６はラビング布の継ぎ目を示す概略断面図。図７はラビング装置の機械的および電気的な構成を示すブロック図、図８（ａ）は実施例１のラビング方法を示す概略図、（ｂ）は実施例２のラビング方法を示す概略図である。
【００３５】
図４に示すように、本実施形態の液晶装置の製造方法は、マザー基板１１０に半導体素子であるＴＦＴ３０やこれに繋がる配線等を形成する素子形成工程（ステップＳ１）と、画素電極９を形成する画素電極形成工程（ステップＳ２）と、配向膜１６を形成して配向処理を施す配向処理工程（ステップＳ３）とを備えている。
【００３６】
また、対向基板２０に対向電極２１を形成する対向電極形成工程（ステップＳ４）と、配向膜２２を形成して配向処理を施す配向処理工程（ステップＳ５）とを備えている。
【００３７】
さらに、マザー基板１１０の素子基板１０ごとに対向基板２０を貼り合せて組み立てる組立工程（ステップＳ６）と、液晶注入・封止工程（ステップＳ７）とを備えている。
ステップＳ１、ステップＳ２、ステップＳ３、ステップＳ４、ステップＳ６、ステップＳ７はそれぞれ公知の製造方法を適用することができる。したがって、主にステップＳ５の配向処理工程について説明する。
【００３８】
図４の素子形成工程（ステップＳ１）では、マザー基板１１０の一方の表面に半導体素子であるＴＦＴ３０やＴＦＴ３０に接続する配線等を形成する。ＴＦＴ３０の形成方法としては、公知の形成方法を用いることができる。例えば、ＴＦＴ３０を構成する半導体層や絶縁膜は、それぞれを構成する材料を含む処理ガスに対して膜形成面を所定の圧力、温度などのもとで暴露して反応させる減圧ＣＶＤや常圧ＣＶＤを用いて形成することができる。
【００３９】
半導体層に接続される走査線や信号線などの配線の形成方法は、例えば低抵抗配線材料であるアルミなどの金属またはその化合物を蒸着法やスパッタ法により成膜し、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が挙げられる。そして、ステップＳ２へ進む。
【００４０】
図４の画素電極形成工程（ステップＳ２）では、透明導電膜であるＩＴＯを蒸着法やスパッタ法により成膜し、これをフォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることにより、所定の形状の画素電極９を画素１０３ごとに形成する。
図４の対向電極形成工程（ステップＳ４）も同様であり、遮光膜２３が設けられた対向基板２０にＩＴＯを成膜することにより、少なくとも表示領域１０ａ（図１参照）に対応した範囲に対向電極２１を形成する。そして、素子基板側はステップＳ３、対向基板側はステップＳ５へ進む。
【００４１】
図４の素子基板側の配向処理工程（ステップＳ３）では、まずマザー基板１１０に配向膜１６を形成する。マザー基板１１０に面付けされた素子基板１０ごとの膜形成領域に配向膜１６を形成する方法は、公知の方法を適用することができる。例えば配向膜形成材料を含む液状体を樹脂凸版を用いて転写するフレキソ印刷法や、該液状体を液滴としてインクジェットヘッドのノズルから膜形成領域に吐出する液滴吐出法などが挙げられる。各膜形成領域に塗布された液状体は、加熱乾燥され成膜される。次に成膜後の表面を回転ラビングすることにより、図２（ｂ）に示したように素子基板１０の短辺に沿った方向に配向処理を施す。より具体的には、図１（ａ）における素子基板１０の下方から上方に向けて回転ラビング処理を行う。
【００４２】
図４の対向基板側の配向処理工程（ステップＳ５）では、まず対向基板２０に配向膜２２を形成する。対向基板２０の膜形成領域に配向膜２２を形成する方法は、素子基板１０における配向膜１６の形成方法と同様な方法を採用することができる。次に成膜後の表面を回転ラビングすることにより、図２（ｂ）に示したように対向基板２０の長辺に沿った方向に配向処理を施す。より具体的には、図５に示すラビング装置２００を用いて図１（ａ）における対向基板２０の左側から右側に向けて回転ラビング処理を行う。
【００４３】
＜液晶装置の製造装置＞
ここで、本実施形態の液晶装置の製造装置としてのラビング装置について、図５を参照して説明する。
図５（ａ）に示すように、本実施形態のラビング装置２００は、液晶装置１００の一対の基板のうちの一方の基板としての対向基板２０が載置されるステージ２０１と、ラビング布が捲回され、所定の方向に回転するラビングローラー２０４と、回転するラビングローラー２０４に対して、ラビング布と少なくとも配向膜２２とを接触させた状態でステージ２０１を所定の方向に相対的に移動させる移動機構２０２と、これらを制御する制御部２１０とを備えている。
【００４４】
ステージ２０１の上面には平板状のパレット２０３が配置されている。図５（ｂ）はパレット２０３を上方から見た平面図であり、同図（ｃ）は同図（ｂ）のＡ−Ａ'線で切った概略断面図である。
図５（ｂ）および（ｃ）に示すように、パレット２０３は、例えばアルミニウムなどの板状部材を切削加工したものであり、その表面には対向基板２０の形状とその大きさに合わせて設けられた複数の凹部２０３ａと、凹部２０３ａごとにその底面中央付近に設けられた吸引口２０３ｂとを有している。
平面視で四角形の凹部２０３ａは、パレット２０３の短辺と長辺とに沿って複数配列しており、この場合、短辺に沿った縦方向（第１の方向）に５個、長辺に沿った横方向（第１の方向に交差する方向）に８個、合計４０個が設けられている。
また、図５（ｃ）に示すように、凹部２０３ａは、その底面に対向基板２０が載置されたときに、パレット２０３の表面から対向基板２０の表面がわずかに突出する深さで設けられている。各吸引口２０３ｂはパレット２０３の表面に対して背面側に設けられた気体流路２０３ｃに繋がっている。気体流路２０３ｃはパレット２０３がステージ２０１上に密着して配置されることにより、ステージ２０１の上面との間で密閉された空間を構成して、例えば真空ポンプなどの吸引手段（図示省略）に繋がっている。対向基板２０はパレット２０３の凹部２０３ａに収まるように配置され、吸引手段によって吸着固定される。
ラビングローラー２０４は回転軸２０４ａがパレット２０３の長辺方向に沿った方向に配設されている。言い換えれば、パレット２０３は、ステージ２０１上において、凹部２０３ａがラビングローラー２０４の回転軸２０４ａに沿った方向と、回転軸２０４ａに対して交差する方向とに配列するように、ラビングローラー２０４に対して相対的に位置決めされる。それゆえ、対向基板２０は、ステージ２０１上においてラビングローラー２０４の回転軸２０４ａに沿った方向と、回転軸２０４ａに対して交差（直交）する方向とに合計４０個配置される。
すなわち、マザー基板１１０に面付けされた素子基板１０の数と同数の対向基板２０をほぼ同時に回転ラビングして配向処理を施すことができるようになっている。回転ラビングによるラビング方向は、ラビングローラー２０４の回転軸２０４ａに直交するステージ２０１の移動方向であって、この場合は対向基板２０の長辺に沿った方向となる。
【００４５】
図６に示すように、ラビングローラー２０４の周上には、ラビング布２０５が捲きつけられ、両面テープなどの接着手段により固定されている。ラビング布２０５は、可撓性の基材に例えばレーヨンなどの繊維（ラビング毛）が植毛され所定の長さに切り揃えられたものである。また、ラビングローラー２０４をほぼ１周するように捲きつけられ、その周上で重なることによって凹凸が生じないように予めラビングローラー２０４の周長に応じた長さに切断されている。このため、その周上でわずかに隙間（数ミリ程度）を有している。以降、この隙間をラビング布２０５の継ぎ目２０５ｂと呼ぶ。
このようなラビングローラー２０４は、ラビング布２０５の損耗による交換を考慮して、予備を含め複数本用意され、後述する回転機構２０８（図７参照）に対して着脱可能な形態を備えている。
【００４６】
ラビング装置２００は、回転するラビングローラー２０４を臨む位置に検出機構としての光センサー２０６を備えている。光センサー２０６は、例えばレーザーセンサーであって、レーザー光を回転するラビングローラー２０４に向けて射出し、反射したレーザー光を受光することによって、ラビングローラー２０４に捲きつけられたラビング布２０５の表面の凹凸を検出することができる。このような光センサー２０６によれば、前述したラビング布２０５の損耗状態を検出可能であり、ラビング布２０５の継ぎ目２０５ｂの位置をも検出することが可能となっている。
【００４７】
図７に示すように、制御部２１０は、ラビングローラー２０４に取り付けられた、例えばサーボモーターなどの回転機構２０８を駆動制御して、ラビングローラー２０４を所定の方向に所定の回転速度（単位時間当たりの回転数）で回転させる。また、光センサー２０６からの検出情報に基づいてラビングローラー２０４の回転を制御することができる。
また、ステージ２０１に設けられた移動機構２０２を駆動制御して、ステージ２０１をラビングローラー２０４に対して所定の速度で相対的に移動させる。
【００４８】
本実施形態の制御部２１０は、上記各部の駆動制御に加えて、ラビングローラー２０４の周上におけるラビング布２０５の継ぎ目２０５ｂがステージ２０１上のパレット２０３に配置された対向基板２０の端部と接触しないように、ラビングローラー２０４の回転と移動機構２０２によるステージ２０１の移動とを制御する。また、ラビングローラー２０４の回転に対するステージ２０１の移動開始時期、またはステージ２０１の移動に対するラビングローラー２０４の回転開始時期を制御する。より具体的なラビング方法について実施例１および実施例２を挙げて説明する。
【００４９】
（実施例１）
図８（ａ）に示すように、実施例１のラビング方法は、回転するラビングローラー２０４に捲きつけられたラビング布２０５によって、対向基板２０の表面に設けられた配向膜２２を所定の方向に回転ラビング処理する方法であって、ラビングローラー２０４に対するステージ２０１の相対移動（矢印で示す）の方向に抗するようにラビングローラー２０４は回転している。該相対移動の方向においてパレット２０３上には、長辺方向が該相対移動の方向に沿うように５個の対向基板２０が配列している。すなわち、ステージ２０１の相対移動方向における凹部２０３ａの配置間隔Ｌ１に相当する配置間隔で５個の対向基板２０が並んでいる。
制御部２１０は、移動機構２０２を駆動制御して所定の移動速度でステージ２０１をラビングローラー２０４に向かって移動させる。一方で光センサー２０６の検出結果からラビングローラー２０４の周上におけるラビング布２０５の継ぎ目２０５ｂの位置を認識する。その上で、ラビングローラー２０４が１回転する間に、１つの対向基板２０における回転ラビング処理が終了するようにラビングローラー２０４の回転を制御する。さらには、ラビングローラー２０４の回転周期Ｌ２の間に、継ぎ目２０５ｂが対向基板２０の端部と接触しないように、ステージ２０１の移動開始タイミング（移動開始時期）またはラビングローラー２０４の回転開始タイミング（回転開始時期）を制御する。より具体的には、継ぎ目２０５ｂが最初にパレット２０３に接触する部位は、凹部２０３ａの縁部とし、パレット２０３がラビング布２０５と接触した状態でステージ２０１が相対移動方向に長さＬ１進む間に、ラビングローラー２０４が１回転する。そして、継ぎ目２０５ｂが次にパレット２０３に接触するのは対向基板２０間の隙間部分となる。このようにラビングローラー２０４の回転とステージ２０１の移動とを同期化する。同様にして残り４個の対向基板２０が回転ラビング処理される。
パレット２０３上における対向基板２０間の隙間は、継ぎ目２０５ｂの長さよりも長くなるように設定されており、ラビング布２０５の継ぎ目２０５ｂが回転ラビングにおいて配向膜２２と接触しないことはもちろんのこと、対向基板２０の端部と接触しない状態で配向処理が施される。
例えば、凹部２０３ａの配置間隔Ｌ１を２０ｍｍ、ステージ２０１の移動速度を１００ｍｍ／秒とすれば、ステージ２０１が２０ｍｍ移動するために要する時間は０．２秒となり、この間にラビングローラー２０４が１回転する。すなわちラビングローラー２０４の回転速度は、１秒間に５回転、１分に直すと３００ｒｐｍとなる。制御部２１０は、ラビングローラー２０４の回転速度を３００ｒｐｍとし、ステージ２０１の移動速度を１００ｍｍ／秒として、継ぎ目２０５ｂが対向基板２０の端部と接触しないように、ステージ２０１の移動開始タイミング（移動開始時期）またはラビングローラー２０４の回転開始タイミング（回転開始時期）を制御する。
【００５０】
（実施例２）
実施例２のラビング方法は、実施例１に対して制御部２１０が回転機構２０８を制御する方法が異なっている。具体的には、図８（ｂ）に示すように、制御部２１０は、ラビングローラー２０４が１回転する間（回転周期Ｌ３）に複数（この場合は、２つ）の対向基板２０における回転ラビング処理が終了するように、回転機構２０８と移動機構２０２とを制御する。言い換えれば、パレット２０３がラビング布２０５と接触して、ステージ２０１が相対移動方向に長さＬ１の２倍の距離移動する間に、ラビングローラー２０４が１回転する。さらには、ラビングローラー２０４の回転周期Ｌ３の間に、継ぎ目２０５ｂが対向基板２０の端部と接触しないように、ステージ２０１の移動開始タイミング（移動開始時期）またはラビングローラー２０４の回転開始タイミング（回転開始時期）を制御する。すなわち、継ぎ目２０５ｂがパレット２０３に最初に接する部位を起点として、配置間隔Ｌ１の整数倍（この場合は２倍）の長さでステージ２０１が移動する間に、ラビングローラー２０４を１回転させる。
例えば、凹部２０３ａの配置間隔Ｌ１を２０ｍｍ、ステージ２０１の移動速度を１００ｍｍ／秒とすれば、ステージ２０１が２０ｍｍの倍の４０ｍｍ移動するために要する時間は０．４秒となり、この間にラビングローラー２０４が１回転する。すなわちラビングローラー２０４の回転速度は、１秒間に２．５回転、１分に直すと１５０ｒｐｍとなる。
実施例１と同様にラビングローラー２０４の回転速度を３００ｒｐｍとしたときには、ステージ２０１の移動速度を２００ｍｍ／秒とすれば同じ効果が得られる。
【００５１】
実施例１および実施例２のラビング方法によれば、回転ラビング処理においてラビング布２０５の継ぎ目２０５ｂが対向基板２０の端部と接触しないので、継ぎ目２０５ｂの部分から接触によってラビング毛２０５ａが脱落することを防ぐことができる。言い換えれば、脱落したラビング毛に起因する配向処理不良を低減できる。
また、対向基板２０上の配向膜２２はラビング布２０５の継ぎ目２０５ｂが接触しない状態で配向処理が施される。つまり、継ぎ目２０５ｂが接触することでラビング方向において一定間隔で発生する配向処理むらが回避され、均一な配向処理が施される。
【００５２】
配向膜２２における配向処理密度は、ステージ２０１の移動速度とラビングローラー２０４の回転速度とに依存することが知られており、実施例１と実施例２とを比較した場合には、実施例１の方が高い配向処理密度が得られる。その一方でラビング布２０５のラビング毛２０５ａがある程度配向膜２２に押し付けられるように、対向基板２０に対するラビングローラー２０４の所謂押し込み量が規定されている。そのため、ラビングローラー２０４の回転速度をむやみに上げることは、対向基板２０との摩擦を増大させ配向膜２２にキズをつけてしまうおそれがある。したがって、所定の回転速度下では、実施例２の方が高い生産性で配向処理を施すことができるという利点がある。
【００５３】
なお、実施例１または実施例２のようなラビング方法を、マザー基板１１０における素子基板１０の配向膜１６の配向処理に適用することも可能である。すなわち、ステージ２０１上に少なくとも１枚のマザー基板１１０を載置して、ラビングローラー２０４が１回転する間に、少なくとも１枚のマザー基板１１０の回転ラビング処理を終了させる。ラビング布２０５の継ぎ目２０５ｂと配向処理を施す基板の端部とを接触させずに、安定した配向処理状態が得られるという観点からは複数の対向基板２０を回転ラビング処理する実施例１または実施例２の方が効果的であると言える。そして、ステップＳ６へ進む。
【００５４】
図４の組立工程（ステップＳ６）では、配向処理されたマザー基板１１０の素子基板１０ごとに同じく配向処理された対向基板２０を貼り付ける。貼付方法としては、例えばマザー基板１１０側においてシール材４２を印刷法や吐出法により素子基板１０ごとに額縁状に配置し、対向基板２０を所定の位置で圧接して熱硬化または紫外線硬化させる方法が挙げられる。そして、ステップＳ７へ進む。
【００５５】
図４の液晶注入・封止工程（ステップＳ７）では、対向基板２０が接合されたマザー基板１１０をチャンバー内に放置して減圧し、素子基板１０と対向基板２０との隙間を真空状態とする。注入口１０８を塞ぐように所定量の液晶を滴下した状態でチャンバー内を大気圧に戻す。これにより、液晶が上記隙間に真空注入される。液晶注入後、注入口１０８を封止材１０９を用いて封止する（図１（ａ）参照）。
【００５６】
このようにしてできあがったマザー基板１１０をスクライブ法やダイシング法あるいはレーザー照射により所定の位置で切断する。これにより、個々の液晶装置１００がマザー基板１１０から取り出される。
【００５７】
本実施形態の液晶装置１００は小型な表示装置であって、例えば投影型映像表示装置のライトバルブに用いられている。それゆえに、液晶装置１００の画素１０３は直接視認されずスクリーンなどに拡大投影されるため、わずかな配向処理むらに起因する表示むらも目立ってしまう。上記ステップＳ５の配向処理工程では、対向基板２０の配向膜２２はラビング布２０５の継ぎ目２０５ｂが接触しないように均一に回転ラビング処理が施されている。したがって、配向処理むらが目立ち難く、安定した表示品質が得られる液晶装置１００を実現している。
【００５８】
上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
【００５９】
（変形例１）上記実施形態における液晶装置１００の製造装置としてのラビング装置２００の構成は、これに限定されない。図９は変形例のラビング装置を示す概略平面図である。図９に示すように、液晶装置１００の製造装置としてのラビング装置２５０は、ラビング布が捲きつけられたラビングローラー２０４と、複数の対向基板２０を載置可能なパレット２０３を上面に備えたステージ２０１とを有する。ラビングローラー２０４に対するステージ２０１（パレット２０３）の相対的な配置は、上記実施形態のラビング装置２００と同じで回転軸２０４ａに沿った方向と直交する方向とに凹部２０３ａが配置されている。一方で、ラビングローラー２０４は座標軸２０４ｂに対して角度θで傾いた状態に配置されており、移動機構２０２は、座標軸２０４ｂに対して直交する方向に、同様に傾いたステージ２０１を移動させる構成となっている。したがって、凹部２０３ａに対向基板２０を載置すると、対向基板２０の長辺に対して角度θで回転ラビングが行われて配向処理が施される。すなわち、配向処理方向は上記実施形態のように長辺方向に沿った方向に行われることに限定されず、様々な角度に対応した配向処理を施すことができる。
【００６０】
（変形例２）上記実施形態の液晶装置１００の製造方法において、対向基板２０の配向膜２２に配向処理を施すラビング方法は、実施例１または実施例２に限定されない。例えば、ラビングローラー２０４とステージ２０１との相対移動において、ステージ２０１が長さＬ１移動する間にラビングローラー２０４が複数回回転するようにラビングローラー２０４の回転とステージ２０１の移動とを制御する。また、ラビング布２０５の継ぎ目２０５ｂが対向基板２０の端部と接触しないように、ステージ２０１の移動開始時期またはラビングローラー２０４の回転開始時期を制御する。
これによれば、継ぎ目２０５ｂが配向膜２２と接触することになるものの、継ぎ目２０５ｂ部分と対向基板２０の端部との接触が避けられ、接触に伴うラビング毛２０５ａの脱落に起因する配向処理不良は少なくとも低減できる。
【００６１】
（変形例３）上記実施形態の液晶装置１００の製造方法および製造装置において、ラビングローラー２０４におけるラビング布２０５の継ぎ目２０５ｂは、必ずしも１箇所に限定されない。例えば、ラビングローラー２０４の周上において半周ごとに１箇所としてもよい。ラビング布２０５は、一般的に反物として供給されており、効率的な利用を図ることができる。
【符号の説明】
【００６２】
２０…一対の基板のうちの一方の基板としての対向基板、２２…配向膜、４０…液晶層、１００…液晶装置、２００，２５０…液晶装置の製造装置としてのラビング装置、２０１…ステージ、２０２…移動機構、２０３…パレット、２０４…ラビングローラー、２０４ａ…回転軸、２０５…ラビング布、２０５ｂ…継ぎ目、２０６…検出機構としての光センサー、２０８…回転機構、２１０…制御部。
【図１】
2010281930.tif 000003
【図２】
2010281930.tif 000004
【図３】
2010281930.tif 000005
【図４】
2010281930.tif 000006
【図５】
2010281930.tif 000007
【図６】
2010281930.tif 000008
【図７】
2010281930.tif 000009
【図８】
2010281930.tif 000010
【図９】
2010281930.tif 000011