(57)【要約】【課題】透明支持体と、前記透明支持体面に対して配向した液晶性化合物からなる光学異方性層を少なくとも一層有する光学補償シートが適用された液晶表示装置の諧調反転を悪化させることなく、コントラストを高めることを目的とする。【解決手段】液晶性化合物の配向方向を均一にする。配向は、光配向膜や斜方蒸着による無機配向膜によるか、乾燥段階での風向制御、温度制御などの組合せにより配向規制力を付与することで、均一に液晶性化合物を配向させる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、液晶性化合物からなる光学異方性層を少なくとも一層有する光学補償シートであって、下記一般式（１）で表されるフィルムコントラスト値が４０００以上であることを特徴とする光学補償シート。
式（１）：フィルムコントラスト値＝（平行ニコル状態の２枚の偏光板の間に配置された前記光学補償シートの最大輝度）／（クロスニコル状態の２枚の偏光板の間に配置された前記光学補償シートの最小輝度）
【請求項２】
微小領域における前記液晶性化合物の配向軸分布の半値幅が３．０°以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項３】
前記液晶性化合物がハイブリッド配向していることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学補償シート。
【請求項４】
前記液晶性化合物がディスコティック液晶であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学補償シート。
【請求項５】
前記液晶性化合物の支持体側の液晶ダイレクタチルト角が４０°〜７５°であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学補償シート。
【請求項６】
前記液晶性化合物の支持体側の液晶ダイレクタチルト角が０°〜２０°であり、空気界面側の液晶ダイレクタチルト角が３０°〜９０°であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学補償シート。
【請求項７】
前記透明支持体と前記光学異方性の間に光配向膜を有し、該光配向膜の配向規制力により前記液晶性化合物が配向していることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学補償シート。
【請求項８】
前記透明支持体と前記光学異方性の間に、斜方蒸着により形成された無機配向膜を有し、該無機配向膜の配向規制力により前記液晶性化合物が配向していることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学補償シート。
【請求項９】
前記光学異方性層の厚みが２．０μｍ以上であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の光学補償シート。
【請求項１０】
配向膜を有する支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布する塗工工程、該塗布した組成物層を前記液晶性化合物が液晶相を形成する温度で保持して該液晶性化合物を所定の配向状態に配向させる熱処理工程、前記液晶性化合物の配向状態を固定する固定化工程とを含む、請求項１〜９のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法であって、前記液晶性化合物の配向状態を固定化する前に、前記組成物層の空気界面側へ外力による配向規制力を付与する工程を有することを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【請求項１１】
前記空気界面側への外力による配向規制力の付与が、一定の方向に均一な３．０ｍ／ｓ以上の均一な風を吹きつけることによることを特徴とする請求項１０に記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項１２】
配向膜を有する支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布する塗工工程、前記塗布した組成物層を前記液晶性化合物が液晶相を形成する温度で保持して該液晶性化合物を所定の配向状態に配向させる熱処理工程、前記液晶性化合物の配向状態を固定する固定化工程とを含む、請求項１〜９のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法であって、前記液晶性化合物の配向状態を固定化する前に、前記組成物層に対して磁場を印加する工程を含むことを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【請求項１３】
配向膜を有する支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布する塗工工程、前記塗布した組成物層を前記液晶性化合物が液晶相を形成する温度で保持して該液晶性化合物を所定の配向状態に配向させる熱処理工程、前記液晶性化合物の配向状態を固定する固定化工程とを含む、請求項１〜９のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法であって、前記液晶性化合物の配向状態を固定化する前に、前記支持体の搬送方向に対して１０℃／ｍ以上の温度差を生じさせる工程を含むことを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【請求項１４】
配向膜を有する支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布する塗工工程、前記塗布した組成物層を前記液晶性化合物が液晶相を形成する温度で保持して該液晶性化合物を所定の配向状態に配向させる熱処理工程、前記液晶性化合物の配向状態を固定する固定化工程とを含む、請求項１〜９のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法であって、前記液晶性化合物の配向状態を固定化する時の温度が４０℃以下であることを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【請求項１５】
配向膜を有する支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布する塗工工程、前記塗布した組成物層を前記液晶性化合物が液晶相を形成する温度で保持して該液晶性化合物を所定の配向状態に配向させる熱処理工程、前記液晶性化合物の配向状態を固定する固定化工程とを含む、請求項１〜９のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法であって、前記熱処理工程は前記組成物のネマチック−等方相転移温度Ｔｉｓｏ以上の温度であるＴ１で少なくとも２０秒保持する第一の熱処理工程と、前記第一の熱処理工程の後にＴｉｓｏ未満の温度であるＴ２で熱処理を行う第二の熱処理工程とを含むことを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【請求項１６】
配向膜を有する支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布する塗工工程、前記塗布した組成物層を前記液晶性化合物が液晶相を形成する温度で保持して該液晶性化合物を所定の配向状態に配向させる熱処理工程、前記液晶性化合物の配向状態を固定する固定化工程とを含む、請求項１〜９のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法であって、前記熱処理工程が、前記液晶性化合物の円盤面を実質的に水平に配向させる工程；そして、前記液晶性化合物と前記配向膜との距離に伴って前記液晶性化合物の配向方向を変化させる工程をこの順序で実施することを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【請求項１７】
請求項１〜９のいずれかに記載の光学補償シートを有することを特徴とする偏光板。
【請求項１８】
請求項１７に記載の偏光板を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１９】
前記光学補償シートを含まない構成の液晶表示装置における電圧−透過率曲線で、白輝度に対する透過率が１％〜１０％の範囲内の電圧を黒電圧に設定し、
前記光学補償シートのレターデーション及び前記偏光板の偏光子と前記光学補償シートとの貼り合せ角度が、前記黒電圧における黒輝度を最小とするものであることを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に適用される光学補償シート及びその製造方法、並びに該光学補償シートを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）は、液晶セル及びそのセルを挟持する１対の偏光板を有する。前記偏光板は、一般的にセルロースアセテートからなる保護フィルム及び偏光膜を有し、例えば、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。
液晶セルを通り抜けた偏光の位相差が原因で、様々な視野角から見た映像の歪を補償する目的で、上記保護フィルムに隣接して一枚以上の位相差フィルムを配置することがある。この位相差フィルムは、光学補償シートとも呼ばれ、偏光膜に直接貼り付けることで偏光板の保護フィルムを兼ねることも可能である。
【０００３】
液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、ＴＮ（ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードが提案されている。
【０００４】
特許文献１には、ＴＮモード液晶表示装置の特徴である、斜め方向から見た場合のコントラスト低下と、階調表示で明るさが逆転する階調反転を改善する技術として、セルロースアセテートフィルム上にディスコティック液晶からなる層を有する光学補償シートを適用した液晶表示装置が記載されている。
【０００５】
上記技術では、ある程度のコントラストの改善が可能となるが、ＴＮモード液晶セルの液晶分子応答速度が高速になり、テレビなどの動画へもＴＮモード液晶セルが適用されるようになると、より高いコントラストが要求されるようになってきた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平８−５０２０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
視認側でコントラスト値を高めるためには、液晶セル中の液晶分子の配向性を高めるか、赤、緑、青各色のフィルターの散乱成分を抑える必要がある。
しかし、液晶表示装置に光学補償シートを適用する場合には、該光学補償シートの光学特性を変更することでコントラスト特性を改善することも可能である。
【０００８】
特許文献１に記載のような、セルロースアセテートフィルムを支持体とし、その上にディスコティック液晶を塗布し、液晶を配向させたまま固定化した光学補償シートの場合、固定させる液晶の配向方向が均一でないと、コントラストに影響することが判明した。
【０００９】
前記液晶の配向方向を均一にするためには、液晶の配向性が重要な要因であるのはもちろんであるが、液晶が配向する光学異方性層の界面からの外力による働きかけと内部制御の２通りで可能となる。外力の場合、支持体側からでは配向膜による配向規制力での働きかけ、空気界面側では乾燥段階での風速、風向制御による。また内部では、界面活性剤や添加剤により、液晶分子への働きかけができる。これらを組み合わせることにより、均一配向がより高まるものになる。
【００１０】
本発明は、上記の観点でなされたものであり、透明支持体上に、液晶性化合物を配向させたまま固定化した光学異方性層を有する光学補償シートにおいて、該液晶性化合物の配向方向が均一で、液晶表示装置に用いた場合には階調反転を悪化させることなくコントラストを向上させることができる光学補償シートを提供することを目的とする。また、本発明の他の目的は、該光学補償シートの製造方法、該光学補償シートを用いた偏光板及び液晶表示装置の提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
[１]
透明支持体上に、液晶性化合物からなる光学異方性層を少なくとも一層有する光学補償シートであって、下記一般式（１）で表されるフィルムコントラスト値が４０００以上であることを特徴とする光学補償シート。
式（１）：フィルムコントラスト値＝（平行ニコル状態の２枚の偏光板の間に配置された前記光学補償シートの最大輝度）／（クロスニコル状態の２枚の偏光板の間に配置された前記光学補償シートの最小輝度）
【００１２】
[２]
微小領域における前記液晶性化合物の配向軸分布の半値幅が３．０°以下であることを特徴とする[１]に記載の光学補償シート。
[３]
前記液晶性化合物がハイブリッド配向していることを特徴とする[１]又は[２]に記載の光学補償シート。
[４]
前記液晶性化合物がディスコティック液晶であることを特徴とする[１]〜[３]のいずれかに記載の光学補償シート。
[５]
前記液晶性化合物の支持体側の液晶ダイレクタチルト角が４０°〜７５°であることを特徴とする[１]〜[４]のいずれかに記載の光学補償シート。
[６]
前記液晶性化合物の支持体側の液晶ダイレクタチルト角が０°〜２０°であり、空気界面側の液晶ダイレクタチルト角が３０°〜９０°であることを特徴とする[１]〜[４]のいずれかに記載の光学補償シート。
[７]
前記透明支持体と前記光学異方性の間に光配向膜を有し、該光配向膜の配向規制力により前記液晶性化合物が配向していることを特徴とする[１]〜[６]のいずれかに記載の光学補償シート。
[８]
前記透明支持体と前記光学異方性の間に、斜方蒸着により形成された無機配向膜を有し、該無機配向膜の配向規制力により前記液晶性化合物が配向していることを特徴とする[１]〜[６]のいずれかに記載の光学補償シート。
[９]
前記光学異方性層の厚みが２．０μｍ以上であることを特徴とする[１]〜[８]のいずれかに記載の光学補償シート。
[１０]
配向膜を有する支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布する塗工工程、該塗布した組成物層を前記液晶性化合物が液晶相を形成する温度で保持して該液晶性化合物を所定の配向状態に配向させる熱処理工程、前記液晶性化合物の配向状態を固定する固定化工程とを含む、[１]〜[９]のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法であって、前記液晶性化合物の配向状態を固定化する前に、前記組成物層の空気界面側へ外力による配向規制力を付与する工程を有することを特徴とする光学補償シートの製造方法。
[１１]
前記空気界面側への外力による配向規制力の付与が、一定の方向に３．０ｍ／ｓ以上の均一な風を吹きつけることによることを特徴とする[１０]に記載の光学補償シートの製造方法。
[１２]
配向膜を有する支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布する塗工工程、前記塗布した組成物を前記液晶性化合物が液晶相を形成する温度で保持して該液晶性化合物を所定の配向状態に配向させる熱処理工程、前記液晶性化合物の配向状態を固定する固定化工程とを含む、[１]〜[９]のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法であって、前記液晶性化合物の配向状態を固定化する前に、前記組成物層に対して磁場を印加する工程を含むことを特徴とする光学補償シートの製造方法。
[１３]
配向膜を有する支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布する塗工工程、前記塗布した組成物層を前記液晶性化合物が液晶相を形成する温度で保持して該液晶性化合物を所定の配向状態に配向させる熱処理工程、前記液晶性化合物の配向状態を固定する固定化工程とを含む、[１]〜[９]のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法であって、前記液晶性化合物の配向状態を固定化する前に、前記支持体の搬送方向に対して１０℃／ｍ以上の温度差を生じさせる工程を含むことを特徴とする光学補償シートの製造方法。
[１４]
配向膜を有する支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布する塗工工程、前記塗布した組成物層を前記液晶性化合物が液晶相を形成する温度で保持して該液晶性化合物を所定の配向状態に配向させる熱処理工程、前記液晶性化合物の配向状態を固定する固定化工程とを含む、[１]〜[９]のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法であって、前記液晶性化合物の配向状態を固定化する時の温度が４０℃以下であることを特徴とする光学補償シートの製造方法。
[１５]
配向膜を有する支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布する塗工工程、前記塗布した組成物層を前記液晶性化合物が液晶相を形成する温度で保持して該液晶性化合物を所定の配向状態に配向させる熱処理工程、前記液晶性化合物の配向状態を固定する固定化工程とを含む、[１]〜[９]のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法であって、前記熱処理工程は前記組成物のネマチック−等方相転移温度Ｔｉｓｏ以上の温度であるＴ１で少なくとも２０秒保持する第一の熱処理工程と、前記第一の熱処理工程の後にＴｉｓｏ未満の温度であるＴ２で熱処理を行う第二の熱処理工程とを含むことを特徴とする光学補償シートの製造方法。
[１６]
配向膜を有する支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布する塗工工程、前記塗布した組成物層を前記液晶性化合物が液晶相を形成する温度で保持して該液晶性化合物を所定の配向状態に配向させる熱処理工程、前記液晶性化合物の配向状態を固定する固定化工程とを含む、[１]〜[９]のいずれかに記載の光学補償シートの製造方法であって、前記熱処理工程が、前記液晶性化合物の円盤面を実質的に水平に配向させる工程；そして、前記液晶性化合物と前記配向膜との距離に伴って前記液晶性化合物の配向方向を変化させる工程をこの順序で実施することを特徴とする光学補償シートの製造方法。
[１７]
[１]〜[９]のいずれかに記載の光学補償シートを有することを特徴とする偏光板。
[１８]
[１７]に記載の偏光板を含むことを特徴とする液晶表示装置。
[１９]
前記光学補償シートを含まない構成の液晶表示装置における電圧−透過率曲線で、白輝度に対する透過率が１％〜１０％の範囲内の電圧を黒電圧に設定し、
前記光学補償シートのレターデーション及び前記偏光板の偏光子と前記光学補償シートとの貼り合せ角度が、前記黒電圧における黒輝度を最小とするものであることを特徴とする[１８]に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、液晶表示装置の液晶セルを改良せず、該液晶表示装置に用いる光学補償シートとして特定の性質を有するものを用いる、又は該光学補償シートの製造過程を変更することで、階調反転を悪化させることなく、コントラストを高めることが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明について、詳細に説明する。
＜光学補償シート＞  
本発明の光学補償シートは、液晶性化合物からなる光学異方性層を少なくとも一層有する光学補償シートで、下記一般式（１）で表されるフィルムコントラスト値が４０００以上である。
式（１）：フィルムコントラスト値＝（平行ニコル状態の２枚の偏光板の間に配置された前記光学補償シートの最大輝度）／（クロスニコル状態の２枚の偏光板の間に配置された前記光学補償シートの最小輝度）
上記式（１）で表されるフィルムコントラスト値は、光学異方性層の液晶性化合物の配向の均一度合いを示し、液晶性化合物の配向が均一なほどフィルムコントラスト値は高くなる。フィルムコントラスト値が４０００以上の光学補償シートは、液晶性化合物の配向の均一度合いが高く、該光学補償シートを液晶表示装置に用いた場合に、階調反転を悪化させることなく、コントラストを高めることができる。
上記フィルムコントラスト値は、好ましくは５０００以上であり、より好ましくは７０００以上であり、更に好ましくは９０００以上である。
液晶性化合物の配向が均一とは、光学異方性層の微小領域における前記液晶性化合物の配向軸分布の半値幅が小さいことを意味する。ここで、「微小領域」とは、μｍオーダーで囲まれる狭い領域であって、具体的には、０．１μｍ〜５００μｍ四方程度の領域である。偏光顕微鏡で４００倍の倍率で測定できる他、高分解能の測定装置（例えば、名菱テクニカ株式会社製「LCA-LU4A」）を用いて測定できる領域である。
微小領域における液晶性化合物の配向軸分布は、３．０°以下であることが好ましく、２．７°以下であることがより好ましく、２．２°以下であることが更に好ましく、１．７°以下であることが更に好ましく、１．２°以下であることが特に好ましい。
【００１５】
本発明の光学補償シートの一態様においては、セルロースアセテートフィルムなどのポリマーフィルムを支持体とし、その上にディスコティック液晶を塗布し、該液晶を配向させたまま固定化することにより形成することができる。
ディスコティック液晶を均一に配向させるために、例えば、該液晶塗布前に、上記支持体上に配向膜を塗布し、配向膜表面をラビング処理し、該ラビング処理された表面に前記液晶を塗布し配向させることが好ましい。ラビング処理した表面に液晶が塗布されると、ラビング処理された表面から液晶に対して配向規制力が働き、液晶が所定の方向に配向する。
なお、「配向規制力」とは、上記のように、液晶性化合物を所定の方向に配向させるよう液晶性化合物に対して直接又は間接的に働く力や作用を意味する。この配向としては、外部から与える外力（熱、光、電場、磁場、風力など）や、配向膜や他の添加剤との相互作用が挙げられる。この配向規制力を均一に液晶性化合物に与えることにより、該液晶性化合物を均一に配向させることができ、フィルムコントラスト値が高い光学補償シートを得ることができる。
以下、本発明の光学補償シート及びその製造方法について詳述する。
【００１６】
＜透明支持体＞
本発明に用いる透明支持体は、具体的には、光透過率が８０％以上である透明なポリマーフィルムであることが好ましい。透明支持体として使用可能なポリマーフィルムとしては、セルロースエステル（例：セルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、環状ポリオレフィン系ポリマー、環状ポリオレフィン系コポリマー、ノルボルネン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等からなるポリマーフィルムが挙げられる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、ア−トン（登録商標）、及びゼオネックス（登録商標）、アペル（登録商標）など）を用いてもよい。また、セルロースエステルからなるフィルムが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルからなるフィルムが更に好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。特に、炭素原子数が２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）又は４（セルロースブチレート）が好ましい。そして、これらセルロースエステルの中でも、セルロースアセテートからなるフィルムが特に好ましい。また、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いることもできる。
【００１７】
なお、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、国際公開ＷＯ００／２６７０５号パンフレットに記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、本発明において、透明支持体として用いることもできる。
【００１８】
前記光学補償シートを、偏光板の保護フィルムとして使用する場合は、ポリマーフィルムとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度は、５７．０〜６２．０％であることが更に好ましい。ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。
酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算によって求められる。
セルロースアセテートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることが更に好ましい。また、セルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。
具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜４０であることが好ましく、１．０〜１．６５であることが更に好ましく、１．０〜１．６であることが特に好ましい。
【００１９】
セルロースアセテートでは、セルロースの２位、３位及び６位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。
透明支持体として用いるポリマーフィルムでは、セルロースの６位置換度が、２位、３位に比べて同程度又は多い方が好ましい。
２位、３位及び６位の置換度の合計に対する６位の置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましく、３１〜４０％であることがより好ましく、３２〜４０％であることが特に好ましい。また、６位の置換度は０．８８以上であることが好ましい。なお、各位置の置換度は、ＮＭＲによって測定することできる。
６位置換度が高いセルロースアセテートは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号［００４３］〜「００４４」に記載の合成例１、段落番号［００４８］〜［００４９］に記載の合成例２、及び段落番号［００５１］〜［００５２］に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【００２０】
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは、各々、面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。透明支持体においては、Ｒｅは５〜１００ｎｍであることが好ましく、Ｒｔｈは３０〜１００ｎｍであることが好ましい。更に、液晶セルだけでなく偏光板に含まれる位相差まで補償しようとする場合には、Ｒｅは５０〜１００ｎｍであることが好ましく、Ｒｔｈは４０〜８０ｎｍであることが好ましい。
【００２１】
＜配向膜＞
本発明の光学補償シートは、液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成された光学異方性層を、前記透明支持体上に形成するために、予め透明支持体上に配向膜を形成することができる。
配向膜上の光学異方性層は、配向膜を有する支持体上に液晶性化合物を含む組成物を塗布する塗工工程、該塗布した組成物層（以下、「液晶化合物層」とも言う）を前記液晶性化合物が液晶相を形成する温度で保持して該液晶性化合物を所定の配向状態に配向させる熱処理工程、前記液晶性化合物の配向状態を固定する固定化工程を含む各種の工程を経て作製することができる。
配向膜は、通常であれば、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを用いるが、本発明の場合には、コントラストを向上させるため、より均一に配向規制力を作用させる目的で、高配向規制力配向膜、光配向、水平配向経由ハイブリッド均一配向、磁場配向、斜方蒸着配向、Iso温度経由ハイブリッド均一配向、風向による配向促進、低い重合温度による配向促進、及び温度差による配向促進の少なくともいずれかの手段を行うことが好ましい。また、光学異方性層の膜厚を２．０μｍ以上とすることで、配向を均一にすることもできる。
【００２２】
以下に、本発明に特有の、液晶性化合物の配向規制力を付与する手段を具体的に記載する。
【００２３】
＜高配向規制力配向膜＞
高配向規制力配向膜は、微小領域における液晶性化合物の配向軸分布を小さくできる配向膜である。そのようなものであれば特に限定されないが、高配向規制力配向膜の形成に用いられる材料としては。例えば、特開２００２−９８８３６号公報段落番号［００１４］〜［００１６］、に記載のコポリマー化合物を用いることが好ましく、特に［００２４］〜［００２９］、及び［０１７３］〜［００１８０］に記載のコポリマー化合物を用いることがより好ましい。また、特開２００５−９９２２８号公報段落番号［０００７］〜［００１２］に記載のコポリマー化合物を用いることが好ましく、特に［００１６］〜［００２０］に記載のコポリマー化合物を用いることがより好ましい。上記２つの公開公報に記載のコポリマー化合物は、配向膜と光学異方性層との密着性を改良する観点から各コポリマーの構成単位が、ビニル基などの重合性基で置換されていることが更に好ましい。
【００２４】
＜光配向膜＞
光配向膜とは、光の照射により配向機能を発現させる膜をいう。光配向膜の形成に用いられる材料としては、光配向機能を発現させる光配向性基を有する化合物が好ましく、例えば、アゾ基等の光異性化する光配向基を有する化合物、シンナモイル基、クマリン基、カルコン基等の光二量化する光配向基を有する化合物が好適である。また、ベンゾフェノン基等の光架橋により配向機能を発現させる化合物やポリイミド樹脂等の光分解により配向機能を発現させる化合物も好ましい例としてあげることができる。
【００２５】
光配向膜は、透明支持体上に、光配向膜用の材料、例えば、光配向性基を有する化合物を含有する組成物を適用することで形成することができる。該組成物を塗布液として調製し、基板等の表面に塗布・乾燥して形成するのが好ましい。具体的には、前記光配向性基を有する化合物等を、適当な溶媒に溶解又は分散させて塗布液を調製し、該塗布液を、透明支持体上に塗布・乾燥して、形成するのが好ましい。塗布液は、公知の方法（例、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施することができる。
光配向膜の厚さは、０．０１〜２μｍが好ましく、０．０１〜０．１５μｍが更に好ましい。
【００２６】
光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡＧレーザー）、発光ダイオード、陰極線管などを挙げることができる。光照射は非偏光でも偏光でもよく、偏光を用いる場合は直線偏光を用いることが好ましい。更に、フィルターや波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
【００２７】
＜水平配向経由ハイブリッド均一配向＞
この方法としては、特開2004-177813に記載の技術がある。光学異方性層に適用される液晶性化合物を短時間で均一に配向させるために、光学異方性層形成用の組成物に液晶性化合物の水平配向を促進させる添加剤（水平配向剤）を加え、一度該液晶性化合物を水平に配向させてから、更に加熱してハイブリッド配向を得るものである。これらの工程は、液晶性化合物の配向状態を固定化する前に、行うことが好ましい。水平配向剤は、特開2004-177813に記載のものを適用することが可能である。ハイブリッド配向については後述する。
また、水平配向以降の工程は外部からのエネルギー（熱、光、電場、磁場）を加えることによって達成する。
【００２８】
外部からのエネルギーは、熱であることが好ましい。加熱温度は、液晶性化合物を実質的に水平に配向させる工程における加熱温度よりも高い温度であることが好ましい。加熱温度は、液晶性化合物を実質的に水平に配向させる工程における加熱温度よりも５℃以上高い温度であることが更に好ましく、１０℃以上高い温度であることが最も好ましい。
【００２９】
＜斜方蒸着による配向膜＞
この方法としては、特開平7-134213に記載の技術がある。無機物斜方蒸着膜（無機配向膜）の代表的なものはＳｉＯ斜方蒸着膜で、特開平7-134213の図６の様な連続斜方蒸着機を用いるとロール状シートの製造ができるが、一般の連続蒸着機は図６の（ｂ）の偏向角度ｙが０゜であるのに対し、０゜＜ｙ＜９０゜の範囲にある連続蒸着機を用いることが好ましい。また、図６の（ａ）に示す最小蒸着角度ｘは、１０゜＜ｘ＜８８゜の範囲にある。こうした蒸着機を用いることにより、面内光軸方向がロールの長手方向に対しある角度ｙ（０゜＜ｙ＜９０゜）をなすディスコティック液晶からなる層を形成させる能力を有するロール状シートを作成することができる。なお、この斜方蒸着により支持体面から蒸着源方向に向かって棒状蒸着粒子が成長形成されるが、蒸着角度θ（シート面状のある点における法線とその点から蒸着源までを結ぶ線のなす角度）が約６５〜８８゜においては、ディスコティック液晶はその蒸着粒子カラムの方向とディスコティック液晶の光学軸がほぼ直行する方向に配向し、蒸着角度θが約２０゜〜６５゜においては、蒸着カラムの方向とディスコティック液晶の光学軸が概略一致する方向に配向する。
【００３０】
また、斜方蒸着による配向膜としては、上記無機配向膜以外に有機配向膜が挙げられる。有機配向膜としては代表的なものとしてフッ素化ポリイミド膜がある。これはフッ素化ポリアミック酸（例えば、日立化成製ＬＱ１８００）を基盤面に塗布し２００℃から３００℃で焼成後ラビングすることにより、斜め配向の角度を調整することができる。例えば、、特開平7-134213の図７において、ロール状シートの長手方向に対して面内光軸方向が角度ｙ（０゜＜ｙ＜９０゜）をなすように作成することが好ましく、同図７の様にロールの搬送方向に対してラビング方向が角度ｙをなすようなラビング工程を採用すれば良い。なお、このラビング工程においてロールの搬送速度に対し、ラビングロールの回転速度は十分速いものとする。
【００３１】
＜Iso温度経由ハイブリッド均一配向＞
この方法は、構造が異なり、ネマチック−等方相転移温度がそれぞれ異なる温度の２種以上の液晶性化合物が塗工された透明支持体に対して熱処理を行う熱処理工程を含むもので、この熱処理工程は、液晶性化合物を含む組成物のネマチック−等方相転移温度Ｔｉｓｏ以上の温度であるＴ１で保持する第一の熱処理工程と、前記第一の熱処理工程の後にＴｉｓｏ未満の温度であるＴ２で熱処理を行う第二の熱処理工程とを含む製造方法である。これらの熱処理工程は液晶性化合物の配向状態を固定化する前に行うことが好ましい。
【００３２】
この方法は、ネマチック液晶モノマーを液晶相温度にてハイブリッド配向させ、ハイブリッド配向したネマチック液晶モノマーを重合させて固定化すれば、溶媒除去後も加熱により液晶相、等方相の状態をとることができることに着目している。特に等方相では液晶がランダムに動き回る状態であるため粘度を低くでき、レベリングによりムラが改善されやすくなる。
【００３３】
前記熱処理工程としては、第一の熱処理工程と、第二の熱処理工程を含み、必要に応じて第三の熱処理工程を含んでもよい。
【００３４】
−第一の熱処理工程−
前記第一の熱処理工程では、前記液晶組成物のネマチック−等方相転移温度Ｔｉｓｏ以上の温度であるＴ１による第一の熱処理を行う。
前記Ｔ１が前記液晶組成物のネマチック−等方相転移温度Ｔｉｓｏ以上の温度であると、ムラと配向欠陥がない光学補償シートを生産性よく製造することが可能となる。
前記Ｔ１としては、前記Ｔｉｓｏ以上の温度であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記Ｔ１の上限としては、液晶組成物の熱重合温度以下であることが好ましい。熱重合温度以上の温度であると、加熱処理中に重合反応により固定化されてしまうため好ましくない。
【００３５】
前記Ｔ１の温度による熱処理状態を保持する保持時間としては、少なくとも２０秒であり、３０秒以上が好ましく、６０秒以上がより好ましい。
前記保持時間が２０秒以上であると、ムラと配向欠陥を抑制することができる。
前記保持時間の上限としては、大きくとも１２０秒であることが好ましい。
前記保持時間が１２０秒を超えると、生産性が低下する。
【００３６】
前記第一の熱処理工程における熱処理手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、恒温槽、加熱ロール等が挙げられる。
【００３７】
−第二の熱処理工程−
前記第二の熱処理工程では、前記Ｔｉｓｏ未満の温度であるＴ２での熱処理を行う。
【００３８】
前記Ｔ２としては、Ｔｉｓｏ未満の温度であればよく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、室温とすることもできるが、前記Ｔｉｓｏよりも１℃以上低い温度であることが好ましい。
前記Ｔ２が、前記Ｔｉｓｏとの差が１℃未満であると、温度の振れがあった時に液晶性化合物の配向を阻害する可能性がある。
【００３９】
前記Ｔ２の温度による熱処理状態を保持する保持時間の下限としては、少なくとも２０秒であることが好ましい。
前記保持時間が２０秒以上であると、配向欠陥を特に抑制することができる。
前記保持時間の上限としては、１２０秒以下であることが好ましい。
前記保持時間が１２０秒を超えると、生産性が低下する。
【００４０】
前記第二の熱処理工程における熱処理手段としては、前記Ｔ２の温度による熱処理ができるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、恒温層、加熱ロール等が挙げられる。
【００４１】
−第三の熱処理工程−
更に、第二の熱処理工程に次いで、第三の熱処理工程における熱処理を行うこともできる。
前記第三の熱処理工程としては、前記Ｔ２未満の温度であるＴ３による熱処理を行うことが好ましい。
【００４２】
前記Ｔ３としては、Ｔ２未満の温度であればよく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、室温とすることもできるが、ネマチック相をとる温度であることが好ましい。カラムナー相、クリスタル相温度となると配向を乱す可能性があり好ましくない。
【００４３】
前記Ｔ３の温度による熱処理状態を保持する保持時間の下限としては、少なくとも１０秒であることが好ましい。
前記保持時間が１０秒以上であると、所望の配向状態に制御することができる。
前記保持時間の上限としては、６０秒以下であることが好ましい。
前記保持時間が６０秒を超えると、生産性が低下する。
【００４４】
前記第三の熱処理手段としては、前記Ｔ３の温度による熱処理ができるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、恒温層、加熱ロール等が挙げられる。
【００４５】
＜磁場配向＞
この方法は、光学異方性層を形成する液晶性化合物を塗布した後に配向させる工程と同時又は配向させる工程後（ただし、液晶性化合物の配向状態を固定化する前）に、磁場を印加するもので、特開２００５−３１６１７５に記載がある。磁場は、磁場方向のチルト角と液晶性化合物層の空気側界面における液晶性化合物の平均チルト角との差が、１０度未満、好ましくは７°未満、更に好ましくは５°未満、最も好ましくは３°未満となる方向で印加すると好ましい。
従って、磁場を印加する前に、液晶性化合物層の空気側界面における液晶性化合物の平均チルト角を測定する。ただし、製品の生産においては、予備実験を実施して、液晶性化合物の平均チルト角を測定しておく（それにより、配向工程と同時又は配向工程の直後に、磁場を印加できる）ことが好ましい。
【００４６】
磁場強度は、０．１テスラ以上であることが好ましく、１．０テスラ以上であることが更に好ましい。上限としては、ハイブリッド配向を保つ観点から、２０テスラ以下が好ましい。
磁場印加における温度は、配向工程における加熱温度（配向温度）と同様であって、液晶性化合物の液晶転移温度以上の温度であることが好ましい。
【００４７】
磁場の印加は、永久磁石又は電磁石を用いて実施できる。
複数の磁石を束にして用いて、広いフイルム面全体に対して同時に磁場を印加してもよい。また、一定方向に磁場を生じさせた領域内でフイルムを搬送することにより、磁場を印加することもできる。
【００４８】
＜乾燥段階での風向による配向促進＞
液晶性化合物の配向状態を固定化する前に、液晶性化合物はネマチック相の状態で空気界面にフィルム法線方向から傾斜した方向からから風を吹きつけることで、空気界面側の液晶分子に風方向に配向規制力を付与させることができる。それにより、配向膜側で揺らいでいる配向を空気界面側から強制的に均一に配向させることが可能となる。風速は３．０ｍ／ｓ以上であることが好ましく、５．０ｍ／ｓ以上であることがより好ましく、１０．０ｍ／ｓ以上であることが更に好ましい。風速の上限としては、光学異方性層の風ムラを悪化させない点から、２０．０ｍ／ｓ以下が好ましい。
【００４９】
＜低い重合温度による配向促進＞
液晶性化合物のオーダーパラメータ（配向秩序度）は低温になるほど高くでき、すなわち、ゆらぎの小さい配向状態をとらせることができる。液晶性化合物の配向状態を固定化する前にこのゆらぎの少ない低音で重合させ、その後、固定化することで均一な配向を実現できる。重合温度は６０℃以下であることが好ましく、４０℃以下であることが更に好ましい。下限としては、膜強度の観点から、１０℃以上であることが好ましい。
【００５０】
＜温度差による配向促進＞
液晶性化合物の配向状態を固定化する前に、温度の高低差をつけると、温度勾配のある部分で液晶性化合物が配向する。例えば、ロールtoロールで連続生産する場合には、最初の低温の領域を設け、フィルムの進行方向に向かって高い温度の領域を設けるなどの条件で配向させることができる。より均一に配向させるために、温度勾配は、５°／ｃｍ以上であることが好ましく、１０℃／ｃｍ以上であることがより好ましい。ただし、温度勾配が大きすぎるとフィルムにしわが入る要因となるため、５０℃／ｃｍ以下であることが好ましい。
【００５１】
＜光学異方性層＞
本発明の光学補償シートは、液晶性化合物を含有する液晶組成物から形成された光学異方性層を、前記透明支持体上に有する。なお、前記光学異方性層は、予め透明支持体上に配向膜を形成し、該配向膜上に形成されることが好ましい。
また、別の基材に形成した液晶性化合物層を、粘着剤等を用いて、透明支持体上に転写することで、本発明の光学補償シート付き偏光板を作製することも可能である。その際、光学異方性層を仮に支持する支持体は、透明でなくてもよく、被転写支持体が透明支持体であればよい。
【００５２】
光学異方性層の形成に用いる液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物及びディスコティック液晶性化合物が挙げられる。棒状液晶性化合物及びディスコティック液晶性化合物は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、更に、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。
【００５３】
［棒状液晶性化合物］
本発明に使用可能な棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性化合物については、季刊化学総説第２２巻「液晶の化学（１９９４）日本化学会編」の第４章、第７章、及び第１１章、及び液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
【００５４】
本発明に用いる棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基又はエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基が更に好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。
【００５５】
＜ディスコティック液晶性化合物（円盤状液晶性化合物）＞
ディスコティック液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
【００５６】
前記ディスコティック液晶性化合物には、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、又は置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造の、液晶性を示す化合物も含まれる。分子又は分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。
ディスコティック液晶性化合物から光学異方性層を形成した場合、最終的に光学異方性層に含まれる化合物は、もはや液晶性を示す必要はない。
ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【００５７】
また、本発明では、下記一般式（Ｉ）で表されるディスコティック液晶性化合物を用いるのが特に好ましい。
【化１】
2010231198.tif 000002
【００５８】
式中、Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表す。
【００５９】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３がメチンの場合、メチンの水素原子は置換基で置き換わってもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子及びシアノ基を好ましい例として挙げることができる。これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基が更に好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がより好ましい。
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、化合物の合成の容易さ及びコストの点において、いずれもメチンであることがより好ましく、メチンは無置換であることが更に好ましい。
【００６０】
Ｌ１、Ｌ２及びＬ３は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表す。
Ｌ１、Ｌ２及びＬ３が二価の連結基の場合、それぞれ独立に、−Ｏ−，−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ７−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、二価の環状基及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ７は炭素原子数１〜７のアルキル基又は水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基又は水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基又は水素原子であることが更に好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
【００６１】
Ｌ１、Ｌ２及びＬ３における二価の環状基とは、少なくとも１種類の環状構造を有する二価の連結基（以下、環状基と呼ぶことがある）である。環状基は５員環、６員環、又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることが更に好ましく、６員環であることが最も好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよい。芳香族環としては、ベンゼン環及びナフタレン環が好ましい例として挙げられる。脂肪族環としては、シクロヘキサン環が好ましい例として挙げられる。複素環としては、ピリジン環及びピリミジン環が好ましい例として挙げられる。環状基は、芳香族環及び複素環がより好ましい。なお、本発明における２価の環状基は、環状構造のみ（但し、置換基を含む）からなる２価の連結基であることがより好ましい（以下、同じ）。
【００６２】
Ｌ１、Ｌ２及びＬ３で表される二価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基及びナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。
【００６３】
Ｌ１、Ｌ２及びＬ３で表される二価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（好ましくは、フッ素原子、塩素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数が２〜１６アルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。
【００６４】
Ｌ１、Ｌ２及びＬ３としては、単結合、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−二価の環状基−、＊−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−、＊−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−二価の環状基−、＊−Ｃ≡Ｃ−二価の環状基−、＊−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−、＊−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−、＊−二価の環状基−ＣＨ＝ＣＨ−及び＊−二価の環状基−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。特に、単結合、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−二価の環状基−及び＊−Ｃ≡Ｃ−二価の環状基−が好ましく、単結合が最も好ましい。ここで、＊は一般式（Ｉ）中のＹ１１、Ｙ１２及びＹ１３を含む６員環側に結合する位置を表す。
【００６５】
一般式（Ｉ）中、Ｈ１、Ｈ２及びＨ３は、それぞれ独立に一般式（Ｉ−Ａ）又は（Ｉ−Ｂ）の基を表す。
【００６６】
【化２】
2010231198.tif 000003
【００６７】
一般式（Ｉ−Ａ）中、ＹＡ１及びＹＡ２は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ１〜Ｌ３側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ３側と結合する位置を表す。
【００６８】
【化３】
2010231198.tif 000004
【００６９】
一般式（Ｉ−Ｂ）中、ＹＢ１及びＹＢ２は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ１〜Ｌ３側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ３側と結合する位置を表す。
【００７０】
一般式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に下記一般式（Ｉ−Ｒ）を表す。
【００７１】
一般式（Ｉ−Ｒ）
＊−（−Ｌ１０１−Ｑ２）ｎ１−Ｌ１０２−Ｌ１０３−Ｑ１
一般式（Ｉ−Ｒ）中、＊は、一般式（Ｉ）におけるＨ１〜Ｈ３側と結合する位置を表す。
Ｌ１０１は単結合又は二価の連結基を表す。Ｌ２１が二価の連結基の場合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ７−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ７は炭素原子数１〜７のアルキル基又は水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基又は水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基又は水素原子であることが更に好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
【００７２】
Ｌ１０１は単結合、＊＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−及び＊＊＊−Ｃ≡Ｃ−（ここで、＊＊＊は一般式（ＤＩ−Ｒ）中の＊側を表す）のいずれかが好ましく、単結合がより好ましい。
【００７３】
Ｑ２は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基（環状基）を表す。このような環状基としては、５員環、６員環、又は７員環を有する環状基が好ましく、５員環又は６員環を有する環状基がより好ましく、６員環を有する環状基が更に好ましい。上記環状基に含まれる環状構造は、縮合環であっても良い。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよい。芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環が好ましい例として挙げられる。脂肪族環としては、シクロヘキサン環が好ましい例として挙げられる。複素環としては、ピリジン環及びピリミジン環が好ましい例として挙げられる。
【００７４】
上記Ｑ２のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイルナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。これらの中でも、特に、１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基及び１，４−シクロへキシレン基が好ましい。
【００７５】
Ｑ２は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が更に好ましい。
【００７６】
ｎ１は、０〜４の整数を表す。ｎ１としては、１〜３の整数が好ましく、１若しくは２が更に好ましい。
【００７７】
Ｌ１０２は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊＊−ＮＨ−、＊＊−ＳＯ２−、＊＊−ＣＨ２−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、＊＊はＱ２側と結合する位置を表す。
Ｌ１０２は、好ましくは、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ２−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊＊−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ２−である。Ｌ１０２が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００７８】
Ｌ１０３は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。これらの置換基に置換されることにより、本発明の液晶性化合物から液晶性組成物を調製する際に、使用する溶媒に対する溶解性を向上させることができる。
【００７９】
Ｌ１０３は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群より選ばれることが好ましい。Ｌ１０３は、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することがより好ましい。更に、Ｌ１０３は、−ＣＨ２−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ２−を２〜１２個含有することが更に好ましい。
【００８０】
Ｑ１は重合性基又は水素原子を表す。本発明の光学補償シートは位相差の大きさが熱により変化しないものが好ましいので、Ｑ１は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。すなわち、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００８１】
【化４】
2010231198.tif 000005
【００８２】
更に、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基又は開環重合性基が好ましい。
【００８３】
重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。
【００８４】
【化５】
2010231198.tif 000006
【００８５】
式（Ｍ−３）、（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、水素原子又はメチル基が好ましい。
上記式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中、（Ｍ−１）又は（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。
【００８６】
開環重合性基は、環状エーテル基が好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基がより好ましい。
【００８７】
前記式（Ｉ）の化合物の中でも、下記一般式（Ｉ’）で表される化合物がより好ましい。
【００８８】
【化６】
2010231198.tif 000007
【００８９】
一般式（ＤＩ）中、Ｙ１１、Ｙ１２及びＹ１３は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、メチンが好ましく、メチンは無置換であるのが好ましい。
【００９０】
Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に下記一般式（Ｉ’−Ａ）、下記一般式（Ｉ’−Ｂ）又は下記一般式（Ｉ’−Ｃ）を表す。固有複屈折の波長分散性を小さくしようとする場合、一般式（Ｉ’−Ａ）又は一般式（Ｉ’−Ｃ）が好ましく、一般式（Ｉ’−Ａ）がより好ましい。Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、同一であることが好ましい。
【００９１】
【化７】
2010231198.tif 000008
【００９２】
一般式（Ｉ’−Ａ）中、Ａ１１、Ａ１２、Ａ１３、Ａ１４、Ａ１５及びＡ１６は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。
Ａ１１及びＡ１２は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ１３、Ａ１４、Ａ１５及びＡ１６は、それらのうち、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましい。更に、メチンは無置換であることが好ましい。
Ａ１１、Ａ１２、Ａ１３、Ａ１４、Ａ１５又はＡ１６がメチンの場合の置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が更に好ましい。
Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【００９３】
【化８】
2010231198.tif 000009
【００９４】
一般式（Ｉ’−Ｂ）中、Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３、Ａ２４、Ａ２５及びＡ２６は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。
Ａ２１及びＡ２２は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ２３、Ａ２４、Ａ２５及びＡ２６は、それらのうち、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましい。
Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３、Ａ２４、Ａ２５又はＡ２６がメチンの場合の置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が更に好ましい。
Ｘ２は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【００９５】
【化９】
2010231198.tif 000010
【００９６】
一般式（Ｉ’−Ｃ）中、Ａ３１、Ａ３２、Ａ３３、Ａ３４、Ａ３５及びＡ３６は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。
Ａ３１及びＡ３２は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ３３、Ａ３４、Ａ３５及びＡ３６は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましい。
Ａ３１、Ａ３２、Ａ３３、Ａ３４、Ａ３５又はＡ３６がメチンの場合、メチンは置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が更に好ましい。
Ｘ３は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【００９７】
一般式（Ｉ’−Ａ）中のＬ１１、一般式（Ｉ’−Ｂ）中のＬ２１、一般式（Ｉ’−Ｃ）中のＬ３１はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−である。特に、小さい固有複屈折の波長分散性が期待できる、一般式（ＤＩ−Ａ）中のＬ１１は、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−が特に好ましく、この中でも−ＣＯ−Ｏ−が、より高温でディスコティックネマチック相を発現できるため、好ましい。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００９８】
一般式（Ｉ’−Ａ）中のＬ１２、一般式（Ｉ’−Ｂ）中のＬ２２、一般式（Ｉ’−Ｃ）中のＬ３２はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、カルボキシル基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましく、特にハロゲン原子、メチル基、エチル基が好ましい。
【００９９】
Ｌ１２、Ｌ２２、Ｌ３２はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群より選ばれることが好ましい。
【０１００】
Ｌ１２、Ｌ２２、Ｌ３２はそれぞれ独立して、炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数２〜１４であることがより好ましい。炭素数２〜１４が好ましく、−ＣＨ２−を１〜１６個有することがより好ましく、−ＣＨ２−を２〜１２個有することが更に好ましい。
【０１０１】
Ｌ１２、Ｌ２２、Ｌ３２を構成する炭素数は、液晶の相転移温度と化合物の溶媒への溶解性に影響を及ぼす。一般的に炭素数は多くなるほど、ディスコティックネマチック相（ＮＤ相）から等方性液体への転移温度が低下する傾向にある。また、溶媒への溶解性は、一般的に炭素数は多くなるほど向上する傾向にある。
【０１０２】
一般式（Ｉ’−Ａ）中のＱ１１、一般式（Ｉ’−Ｂ）中のＱ２１、一般式（Ｉ’−Ｃ）中のＱ３１はそれぞれ独立して重合性基又は水素原子を表す。また、Ｑ１１、Ｑ２１、Ｑ３１は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。すなわち、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。Ｑ１１、Ｑ２１、Ｑ３１が表す重合性基の具体例は、それぞれ、前記一般式（Ｉ−Ｒ）における重合性基Ｑ１で挙げたものと同じであり、好ましい範囲も同じである。Ｑ１１、Ｑ２１、Ｑ３１は互いに同じでも異なってよいが、同じ場合が好ましい。
【０１０３】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例には、特開２００６-７６９９２号公報の［００５２］の［化１３］〜［化４３］に記載の例示化合物、並びに特開２００７−２２２０号公報の［００４０］の［化１３］〜［００６３］の［化３６］に記載の例示化合物が含まれる。但し、これらの化合物に限定されるものではない。
【０１０４】
上記化合物は、種々の方法により合成することができ、例えば、特開２００７−２２２０号公報の［００６４］〜［００７０］に記載の方法により合成することができる。
【０１０５】
本発明で用いる液晶性化合物は、良好なモノドメイン性を示す液晶相を発現することが望ましい。モノドメイン性を良好なものとすることにより、得られる構造が、ポリドメインとなり、ドメイン同士の境界に配向欠陥が生じ、光を散乱するようになるのを効果的に防ぐことができる。更に、良好なモノドメイン性を示すと、位相差板がより高い光透過率を有するため好ましい。
【０１０６】
本発明で用いる液晶性化合物が発現する液晶相としては、カラムナー相、及びディスコティックネマチック相（ＮＤ相）を挙げることができる。これらの液晶相の中では、良好なモノドメイン性を示し、かつ、ハイブリッド配向が可能なディスコティックネマチック相（ＮＤ相）が特に好ましい。
【０１０７】
本発明で用いる液晶性化合物は異方性の波長分散性が小さいほどよい。具体的には液晶性化合物が発現する位相差（波長λにおける液晶層の面内レターデーション値（ｎｍ））をＲｅ（λ）としたとき、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（６５０）が１．２５未満であることが好ましく、１．２０以下であることがより好ましく、１．１５以下であることが特に好ましい。
【０１０８】
本発明で用いる液晶性化合物は、支持体上に設けられた配向膜上で配向させるために、等方性転移温度Ｔｉｓｏが、１００〜１８０℃であることが好ましく、１００〜１６５℃であることがより好ましく、１００〜１５０℃であることが特に好ましい。
【０１０９】
ハイブリッド配向では、本発明の液晶性化合物の物理的な対称軸と、光学異方性層の面との角度、すなわち傾斜角が、第２の光学異方性層の深さ（すなわち、光学異方性層に垂直な方向でかつ偏光膜の面からの距離）の増加と共に増加又は減少している。
傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、又は、増加及び減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加又は減少していればよい。しかしながら、傾斜角は連続的に変化することが好ましい。
【０１１０】
一般に、ディスコティック液晶性化合物の物理的な対称軸の平均方向は、ディスコティック液晶性化合物、又は配向膜の種類を選択することにより調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック液晶性化合物の物理的な対称軸方向は、一般にディスコティック液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。
ディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー、ポリマー及び低分子化合物などを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に液晶性化合物と添加剤との選択により調整できる。
【０１１１】
本発明の液晶性化合物と共に使用する可塑剤、重合性モノマーは、本発明の液晶性化合物と相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角に変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないものが採用される。
【０１１２】
界面活性剤は、フッ素系化合物が好ましい。フッ素系界面活性剤は、例えば、下記構造式に示す化合物を用いることができる。
【０１１３】
【化１０】
2010231198.tif 000011
【０１１４】
本発明では、前記光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．２〜５μｍであることがより好ましい。液晶性化合物の配向を均一にする観点から、光学異方性層の厚さは２．０μｍ以上が好ましく、２．３〜３．０μｍであることがより好ましい。
【０１１５】
配向膜界面で生じた不均一な配向は、配向膜から離れるに従って液晶秩序度により揃っていくので、膜厚を増加させることでより揃いやすくすることができる。膜厚を増加させたときにレターデーションを調整するためには光学異方性層の屈折率異方性を小さくする必要がある。その手段としては、屈折率異方性の小さい液晶性化合物を使用する手段、非液晶性化合物を添加する手段、液晶オーダーパラメータが低くなる高温で重合する手段が考えられるが、液晶のゆらぎを抑制する観点から、屈折率異方性の小さい液晶性化合物を使用することが好ましい。
【０１１６】
本発明では、１種類の液晶性化合物を用いてもよいし、複数種類の化合物を組み合わせて用いることが好ましい。本発明では、ディスコティック液晶性化合物と、棒状液晶性化合物との組み合わせも好ましい。
【０１１７】
＜配向膜側チルト角制御＞
従来の円盤状液晶性化合物の配向制御は、配向膜側の液晶ダイレクタのチルト角（配向膜の面と液晶性化合物のダイレクタの方向）が高く、空気界面側の液晶ダイレクタのチルト角（空気界面と液晶性化合物のダイレクタの方向）が低い状態が一般的である。ここに、円盤状液晶化合物のダイレクタは、円盤面に垂直である。しかし、配向膜側チルト角が垂直に近い場合には、配向膜近傍の液晶分子の方位角配向規制力を強めることが難しい。配向膜側チルト角を減少させることで方位角方向の配向規制力を強めることができ、均一な配向が可能となる。配向膜側チルト角は４０°〜７５°が好ましく、５０°〜７０°が好ましい。配向膜側のチルト角制御は、例えば斜方蒸着配向膜の蒸着角度を変える等の公知の方法を使用することができる。
【０１１８】
＜配向膜側から空気界面側への距離に従ってダイレクタ角度が増加する設計＞
配向膜と液晶との配向規制力を向上させるために配向膜側のチルト角を減少させることが好ましいが、配向膜側チルトも空気界面側のチルト角も低いと、一軸傾斜配向に近くなるため下階調反転特性が悪化する。下階調反転性能と両立させるために、配向膜側のチルト角を低くして、空気界面側のチルト角を高くすることが好ましい。配向膜側チルト角は０°〜２０°が好ましい。空気界面側のチルト角は３０°〜９０°が好ましく、６０〜９０°がより好ましい。
配向膜側の液晶ダイレクタのチルト角を低くする手段としては、例えば斜方蒸着配向膜の蒸着角度を変える等の公知の方法を使用することができる。また、空気界面の液晶ダイレクタのチルト角を９０°近傍にするためには、例えば、特開２００５−１２８０５０公報に記載の方法等を用いることができる。また、高配向規制力配向膜を用いることで配向膜側のチルト角を低くできる。また、特開２００６−１１３５０号公報の段落番号［００１０］〜[００１６]、[００４２]〜[００６３]に記載の例示化合物、並びに、特開２００６−１９５１４０号公報の段落番号[０２０９]〜[０２３８]に記載の例示化合物を添加することで配向膜側のチルト角を低くすることができる。
【０１１９】
＜偏光板＞
本発明は、本発明の光学補償シートと、偏光膜とを少なくとも有する偏光板にも関する。
偏光膜と、本発明の光学補償シートとは、粘着剤又は接着剤を利用して貼合することができる。粘着剤又は接着剤としては、透明性に優れた材料であるのが好ましい。接着剤の例には、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤、イソシアネート系接着剤、ゴム系接着剤等が含まれる。粘着剤の例には、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、イソシアネート系、ゴム系等の粘着剤が含まれる。
なお、偏光膜と本発明の光学補償シートとの間に介在させる接着層は、薄いほうが好ましく、例えば、厚み１０μｍ以下程度が好ましく、更に５μｍ以下程度がより好ましい。
【０１２０】
偏光膜には、例えば、ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素にて染色し、延伸を行うことによって得られる偏光膜などが用いられる。
偏光膜の他方の表面にも保護フィルムが貼り付けられているのが好ましく、かかる保護フィルムとしては、セルロースアシレートフィルムや環状ポリオレフィン系ポリマーフィルム等が用いられる。
【０１２１】
＜液晶表示装置＞
本発明の光学補償シート及び偏光板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような、様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。
【０１２２】
＜ＴＮモード液晶表示装置＞
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０１２３】
＜液晶セルの駆動電圧との関係＞
黒表示時に、液晶セルの駆動電圧を下げると階調反転がより起こらない方向に向かう。このときに、本発明のような、液晶性化合物を透明支持体に塗布した形態の光学補償シートに求められる仕様として、光学異方性層のＲｅ値を大きくすることが必要となる。
従来の光学補償シートでは、光学異方性層のＲｅ値を大きくするとコントラストが反比例して下がる傾向にあった。
本発明のフィルムを用いると、光学異方性層に含まれる液晶分子が均一に配向するため、光学異方性層のＲｅ値をある程度保ったまま、コントラストを下がらずに維持することが可能となっている。
【０１２４】
＜位相差とダイレクタのチルト角の測定方法＞
前述の通り、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はと液晶性化合物におけるダイレクタのチルト角は、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、又は測定値をプログラム等で変換して測定するかできる。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と、平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値とを基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出される。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値は、その符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出される。
なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の数式（Ｉ）及び式（ＩＩ）よりＲｔｈを算出することもできる。
【０１２５】
【数１】
2010231198.tif 000012
【０１２６】
式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
また、ｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表し、ｄは膜厚を表す。
【０１２７】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と、平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出される。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学補償シートのカタログの値を使用することができる。
また、平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学補償シートの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲは、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【０１２８】
＜配向軸分布の測定方法＞
液晶層を持つ光学補償シートを、偏光板をクロスニコルにした偏光顕微鏡を用いて、４００倍の倍率でステージの角度を０．５度ずつ回転させながら、最も暗くなるステージの角度を中心に±１０度の範囲でデジタルカメラで撮影する。その後、デジタルカメラ写真で撮影された画像の回転・平行移動処理を行うことにより、画像の位置を画素単位で正確に合わせる。その後、各画素ごとに最も暗くなった角度を記録し、横軸に角度を縦軸にその角度で最も暗くなった画素数をプロットしたヒストグラムを作成し、その半値幅を求める。
なお、偏光顕微鏡としては公知のものを用いることができ、例えば、ニコン製エクリプスE600POLを用いることができる。また、上記の画像の回転・平行移動処理は市販のプログラムを用いて行うことが可能である。
【０１２９】
＜フィルムコントラスト値の測定方法＞
テーブル上に、下から順に直下型蛍光管バックライト光源、上側偏光板、試料、下側偏光板を各面が水平になるように設置する。この時、試料と上側偏光板は回転可能とする。光源から出射し、上側偏光板、試料、下側偏光板と順に透過した光を垂直方向からＢＭ−５Ａ（ＴＯＰＣＯＮ製）を用いて輝度を測定した。測定は、まず試料のない状態で上側偏光板を回転させて最も輝度が暗くなる位置に合わせる（クロスニコルの状態）。試料を挿入し、クロスニコル下で試料を回転させて最小となる輝度を測定する。次に上側偏光板と下側偏光板の２枚の偏光板を平行ニコル配置にして、試料を回転させて最大となる輝度を測定する。フィルムコントラストは、（平行ニコル下における最大輝度）／（クロスニコル下における最小輝度）で求めた。
【０１３０】
＜フィルム面状の評価方法＞
シャーカステン上に偏光板をクロスニコルで配置し、その中に正面から見て最も暗くなる位置に試料を配置した。斜め方向から見た際にムラの見え方で下記のとおり判断した。
○：ムラがまったく見えない
△：ムラが弱く見える
×：ムラが強く見える
【０１３１】
＜表示性能の評価方法＞
次に、２５℃６０％ＲＨに制御された部屋で１週間放置した液晶表示装置を測定機（ＢＭ−５Ａ、ＴＯＰＣＯＮ社製）を用いて、黒表示（Ｌ０）及び白表示（Ｌ７）の輝度を測定し、正面コントラスト（Ｌ７／Ｌ０）を算出した。
また、正面輝度がＬ７の１／７になるＬ１及び２／７になるＬ２の各階調において下方向で輝度が反転する角度を下階調反転角度として測定した。
また、視野角色味評価として、正面から６０°視角を傾けたときのｕ’ｖ’空間上での距離をΔＣｕ’ｖ’で算出した。（ｕ’ｖ’：ＣＩＥＬＡＢ空間における色座標）
ΔＣｕ’ｖ’＝（（ｕ’（正面）−ｕ’（６０°））２＋（ｖ’（正面）−ｖ’（６０°））２）０．５。全方位角におけるΔＣｕ’ｖ’の最大量について
◎：ΔＣｕ’ｖ’が、０．０４未満
○：ΔＣｕ’ｖ’が、０．０４〜０．１０
△：ΔＣｕ’ｖ’が、０．１０〜０．２０
×：ΔＣｕ’ｖ’が、０．２０を超える
【０１３２】
また、視野角コントラスト（視野角ＣＲ）評価として、視野角80°での上下左右のコントラスト値の合計を算出して下記のとおり評価した。
◎：上下左右視野角コントラスト値の合計が１００以上
○：上下左右視野角コントラスト値の合計が５０〜１００
△：上下左右視野角コントラスト値の合計が３０〜５０
【実施例】
【０１３３】
＜実施例１＞
＜光学補償シートの作製＞
（支持体Ｓ−１の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、内層用及び外層用セルロースアセテート溶液（ドープ）を調製した。
【０１３４】
【表１】
2010231198.tif 000013
【０１３５】
【化１１】
2010231198.tif 000014
【０１３６】
得られた内層用ドープ及び外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフィルムＳ−１について、光学特性を測定した。
【０１３７】
得られたセルロースアセテートフィルムの幅は１３４０ｍｍであり、厚さは８０μｍであった。Ｒｅは６ｎｍで、Ｒｔｈは９０ｎｍであった。
【０１３８】
＜配向膜の作製＞
作製した支持体Ｓ−１上に、傾斜角２０゜、膜厚約４００オングストロームのＳｉＯ斜方蒸着膜を形成した。
【０１３９】
＜光学異方性層の塗設＞
下記の組成物を、２７０質量部のメチルエチルケトンに溶解して塗布液を調製した。
【０１４０】
（光学異方性層形成用組成物）
下記に示す液晶性化合物（１）                                ９０．０質量部
下記に示す液晶性化合物（２）                                １０．０質量部
下記フルオロ脂肪族基含有ポリマー１                          ０．８質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）      ３．０質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）            １．０質量部
【０１４１】
【化１２】
2010231198.tif 000015
【０１４２】
調製した塗布液を、♯２．８ワイヤーバーを用いて前記配向膜の表面に塗布した。塗布量は４．８ｍＬ／ｍ2であった。その後、１２０℃の恒温槽中で３００秒間加熱し、ディ
スコティック液晶性化合物を配向させた。次に、８０℃で１６０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線照射し架橋反応を進行させて、ディスコティック液晶性化合物を重合させて、光学異方性層を形成し、光学補償シートC-1を作製した。光学異方性層の膜厚は
０．８μｍ、レタデーション（５５０ｎm）は４５ｎｍであった。また、配向膜側の液晶
ダイレクタ角度は７０°、空気界面側の液晶ダイレクタ角度は１５°であった。
【０１４３】
＜偏光板の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて直線偏光膜を作製した。その後、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）に鹸化処理を行い、ビニルアルコール系接着剤を用いて直線偏光膜の片側に貼り付けた。更にこの直線偏光膜の他方の面には、作製した光学補償シートＣ−１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、支持体Ｓ−１の裏面（光学異方性層が形成されていない側の表面）を前記直線偏光膜の表面側にして貼り付け偏光板P-1を作製した。このとき、支
持体Ｓ−１の搬送方向が偏光子の吸収軸と平行になるようにした。
【０１４４】
＜ＴＮモード液晶表示装置の作製＞
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＬ２２１６Ｗ  エイサー社製）に設けられている一対の偏光板（上側偏光板、及び下側偏光板）を剥がし、代わりに、作製した偏光板Ｐ−１を、偏光子の吸収軸は元の液晶表示装置と同様にして、光学補償シートＣ−１が液晶セル側となるように粘着剤を介してとしてセルの両面に貼り付けた。
【０１４５】
＜比較例１＞
【０１４６】
＜配向膜の作製＞
実施例１で作成した支持体Ｓ−１上に鹸化処理を施し、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍＬ／ｍ２塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に９０℃の温風で１５０秒乾燥し、配向膜を作製した。乾燥後の配向膜の厚みは、１．１μｍであった。
【０１４７】
【表２】
2010231198.tif 000016
【０１４８】
【化１３】
2010231198.tif 000017
【０１４９】
＜配向処理＞
配向膜を塗設した支持体Ｓ−１に対して、搬送方向に対して平行に配向するように配向膜設置表面にラビング処理を施した。ラビングロールは４５０ｒｐｍで回転させた。
【０１５０】
＜光学異方性層の塗設＞
実施例１と同様にして光学異方性層を形成し、作成した偏光板を適用したＴＮモード液晶表示装置を作成した。
光学異方性層の膜厚は０．８μｍ、レタデーション（５５０ｎm）は４３ｎｍであった
。また、配向膜側の液晶ダイレクタ角度は８５°、空気界面側の液晶ダイレクタ角度は１５°であった。
【０１５１】
＜実施例２＞
実施例１で作成した支持体Ｓ−１上に、下記光配向化合物をシクロヘキサノンの１ｗｔ％溶液で塗布して１００ｎｍの光配向膜層を形成した。形成した光配向膜層に対して、法線方向から４５°傾斜した方向から１６０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、非偏光の紫外線を５分間照射した。その後、実施例１と同様にして光学異方性層塗布して光学補償シートを作製し、偏光板を作製した。
【０１５２】
【化１４】
2010231198.tif 000018
【０１５３】
＜実施例３＞
比較例１において光学異方性層を下記のとおり作製した以外は、比較例１と同様にして光学補償シート、偏光板を作製した。
【０１５４】
＜光学異方性層の作製＞
（光学異方性層の塗布液組成）
下記の組成物を、９７質量部のメチルエチルケトンに溶解して塗布液を調製した。
下記のディスコティック液晶性化合物                    ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製                        ４．０６質量部
下記フルオロ脂肪族基含有ポリマー２                      ０．５６質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  １．３５質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        ０．４５質量部
【０１５５】
【化１５】
2010231198.tif 000019
【０１５６】
調製した塗布液を、♯５．０ワイヤーバーを用いて前記配向膜の表面に塗布した。塗布量は８．６ｍＬ／ｍ2であった。その後、１３０℃の恒温槽中で３００秒間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、８０℃で１６０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線照射し架橋反応を進行させて、ディスコティック液晶性化合物を重合させて、光学異方性層を形成し、光学補償シートC-1を作製した。光学異方性層の膜厚は２．５μｍ、レタデーション（５５０ｎｍ）は４５ｎｍであった。
【０１５７】
＜実施例４＞
比較例１において、１２０℃での加熱時に、ラビング方向に沿った方向から塗布膜面に１２．０ｍ／ｓで均一な風を吹きつけたこと以外は比較例１と同様にして、光学補償シート、偏光板を作製した。
【０１５８】
＜実施例５＞
比較例１において、紫外線照射前に、液晶性化合物の円盤面の傾斜方向と同一方向に４０°傾斜した方向から磁場を印加した。磁場の強度は０．７テスラになるように調整した。それ以外は比較例１と同様にして、光学補償シート、偏光板を作製した。
【０１５９】
＜実施例６＞
比較例１において、光学異方性層を塗布した後、１４０℃の恒温槽中で２００秒間加熱した後、１２０℃の恒温槽中で１００秒間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。この時、ディスコティック液晶は１４０℃恒温槽中では等方相を示しており、１２０℃恒温槽中ではネマチック相を示していた。それ以外は比較例１と同様にして、光学補償シート、偏光板を作製した。なお、本実施例に用いた光学異方性層形成用組成物（ディスコティック液晶性化合物を含む液晶性化合物）のネマチック−等方相転移温度Ｔｉｓｏは１２３℃である。
【０１６０】
＜実施例７＞
メチルエチルケトン９５ｇ に、下記の円盤状液晶性化合物４１．０１ｇ、エチレンオ
キサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０ 、大阪有機化学（
株）製）４．０６ｇ、下記の１，３，５−トリアジン化合物１．８５ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５ｇ及び増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５ｇを溶解して塗布液を調製した。
【０１６１】
【化１６】
2010231198.tif 000020
【０１６２】
比較例１において、配向膜への配向処理の後、上記塗布液を配向膜上に、塗布液を＃４のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１２０℃の恒温槽中で３０秒間加熱し、円盤状液晶性化合物を配向させた。なお、１２０℃の状態で、高圧水銀灯を用いて２ＪのＵＶ光を照射し、円盤状液晶性化合物を重合させ、配向状態を確認したところ、液晶性化合物は水平配向となっていた。
次に、上記のように１２０℃の恒温槽中で３０秒間加熱した後、８０℃に温度を変更し、高圧水銀灯を用いて２ＪのＵＶ光を照射し、円盤状液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成して、光学補償シートを作製した。液晶性化合物はハイブリッド配向しており、光学異方性層のＲｅは４３ｎｍであった。
【０１６３】
＜実施例８＞
比較例１において、光学異方性層を塗布した後、１２０℃の恒温槽中で３００秒間加熱した後、２ｃｍの間隔で配置された１２０℃のロール、８０℃のロール上にフィルムを通し、その後すぐに８０℃で１６０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線照射し架橋反応を進行させて、ディスコティック液晶性化合物を重合させて、光学異方性層を形成した。それ以外は比較例１と同様にして、光学補償シート、偏光板を作製した。
【０１６４】
＜実施例９＞
比較例１において、光学異方性層の塗布、加熱処理後に、３０℃で１６０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線照射し架橋反応を進行させて、ディスコティック液晶性化合物を重合させたこと以外は比較例１と同様にして、光学補償シート、偏光板を作製した。
【０１６５】
＜実施例１０＞
実施例２における光学異方性層を塗布した後、紫外線照射前に、液晶性化合物の円盤面の傾斜方向と同一方向に４０°傾斜した方向から磁場を印加した。磁場の強度は０．７テスラになるように調整した。それ以外は実施例１と同様にして、光学補償シート、偏光板を作製した。
【０１６６】
＜実施例１１＞
実施例２における光学異方性層を塗布した後、実施例５と同様の磁場を印加したほかは実施例１と同様にして、光学補償シート、偏光板を作製した。
【０１６７】
＜実施例１２＞
実施例２における光学異方性層を塗布した後、実施例６と同様の熱処理を加えたほかは、実施例１と同様にして、光学補償シート、偏光板を作製した。
【０１６８】
＜実施例１３＞
実施例２における光配向化合物塗布した後、実施例７と同様の水平配向処理を加えたほかは、実施例１と同様にして、光学補償シート、偏光板を作製した。
【０１６９】
＜実施例１４＞
実施例２における光学異方性層を塗布した後、実施例８と同様な方法で光学異方性層を形成した。それ以外は実施例１と同様にして、光学補償シート、偏光板を作製した。
【０１７０】
＜実施例１５＞
実施例２における光学異方性層を塗布した後、実施例９と同様な方法で光学異方性層を形成した。それ以外は実施例１と同様にして、光学補償シート、偏光板を作製した。
【０１７１】
＜実施例１６＞
実施例１における無機配向膜の斜方蒸着角度を４５°にした以外は実施例１と同様にして光学補償シート、偏光板を作製した。
光学異方性層の配向膜側の液晶ダイレクタ角度は４５°、空気界面側の液晶ダイレクタ角度は１５℃であった。
【０１７２】
＜実施例１７＞
実施例１における無機配向膜の斜方蒸着角度を８５°として配向膜を作製した。
光学異方性塗布液として、メチルエチルケトン９５ｇに、下記の円盤状液晶性化合物４１．０１ｇ、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６ｇ、下記の配向制御剤  １．００ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５ｇ及び増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５ｇを溶解して塗布液を調製した。
【０１７３】
【化１７】
2010231198.tif 000021
【０１７４】
調製した塗布液を、♯３．２ワイヤーバーを用いて前記配向膜の表面に塗布した。その後、１３０℃の恒温槽中で３００秒間加熱し、円盤状液晶性化合物を配向させた。次に、８０℃で１６０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線照射し架橋反応を進行させて、ディスコティック液晶性化合物を重合させて、光学異方性層を形成し、光学補償シートを作製した。光学異方性層の膜厚は１．４μｍであった。レタデーション（５５０ｎｍ）は４５ｎｍ、配向膜側の液晶ダイレクタ角度は５°、空気界面側の液晶ダイレクタは９０°であった。
【０１７５】
＜実施例１８＞
（黒電圧調整したパネルとの組合せで正面コントラスト上昇分を階調反転改良に回した設計）
実施例１で使用した液晶表示装置で光学補償フィルムを含まない構成において、白輝度に対する透過率３％になるように黒電圧を設定した。実施例１において、ラビング方向を支持体Ｓ−１の搬送方向から４°ずらして処理し、光学異方性層を♯２．８ワイヤーバーで塗布したこと以外は実施例１と同様にして、光学補償シート、偏光板を作製した。実施例１と同様にして液晶表示装置に偏光板を貼り付けた。ここで、このとき、支持体Ｓ−１の搬送方向と偏光子の吸収軸の角度（貼り合せ角度）を、黒表示（Ｌ０）の輝度が最も暗くなるように設定した。
【０１７６】
＜実施例１９＞
＜配向膜の作製＞
実施例１で作製した支持体Ｓ−１上に鹸化処理を施し、下記の組成の配向膜形成用塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ2塗布し、１００℃の温風で１２０秒乾燥した。配向膜の厚さは１．２μｍであった。次に、搬送方向に対して平行に配向するように配向膜表面にラビング処理を施した。ラビングロールは４００ｒｐｍで回転させた。
【０１７７】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の配向膜用ポリマー                                    ４０質量部
・水                                                      ７００質量部
・メタノール                                              ３００質量部
・トリエチルアミン                                          ２０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１７８】
【化１８】
2010231198.tif 000022
【０１７９】
＜光学異方性層の塗設＞
配向膜のラビング処理面に、下記表に示した組成の光学異方性層用塗布液を＃２．８ワイヤーバーで塗布した。その後、１３０℃の恒温槽中で１２０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。次に、８０℃で１６０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、４０秒紫外線照射し架橋反応を進行させて、ディスコティック液晶化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。
【０１８０】
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルエチルケトン                                          ２７０質量部
・下記Ａ１のディスコティック液晶性化合物                      １００質量部
・下記Ｂ１の空気界面配向制御剤                                １．０質量部
・光開始剤  イルガキュア９０７  チバ・ジャパン（株）製        ３．０質量部
・増感剤  カヤキュア  ＤＥＴＸ  日本化薬製                    １．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１８１】
【化１９】
2010231198.tif 000023
【０１８２】
作製した光学異方性層の膜厚は０．８μｍ、レタデーション（５５０ｎｍ）は４４ｎｍであった。また、配向膜側の液晶ダイレクタ角度は１５°、空気界面側ダイレクタ角度は７０°であった。
なお、実施例１−１９及び比較例１の光学異方性層の液晶性化合物はハイブリッド配向していた。
【０１８３】
実施例１−１９及び比較例１の偏光板及び液晶表示装置について、前述の方法で、光学異方性層の液晶性化合物の配向軸分布の半値幅、フィルムコントラスト値、正面コントラスト、フィルム面状、視野角色味、視野角ＣＲ、及び階調反転角度を測定、評価した。また、製造コスト（生産の歩留まり（見積もり））については下記の基準で評価した。の性能評価結果を下記表３に示す
。
製造コスト（生産の歩留まり（見積り））の基準：
◎：歩留まり９０％以上
○：歩留まり８０〜９０％
△：歩留まり６０〜８０％
【０１８４】
【表３】
2010231198.tif 000024