(57)【要約】【課題】簡易な構成で、複数種類の濃度の標準ガスを高速に生成できるガス生成装置と、当該ガス生成装置を備え、ガスセンサの評価を短時間で行うことができるセンサ評価システムを提供する。【解決手段】ガス生成部１０において、互いに直列に接続されたＮ個（２≦Ｎ）のガス混合部を備え、第１ガス混合部１１により、標準ガスラインＬ１から導入された標準ガスと希釈用ガスラインＬ２から導入された希釈用ガスとを混合して第１低濃度標準ガスを生成して、当該生成された第１低濃度標準ガスを第２ガス混合部１２及び／又はガス供給ラインＬ３に導入し、第Ｍガス混合部（２≦Ｍ≦Ｎ）により、第Ｍ−１ガス混合部から導入された第Ｍ−１低濃度標準ガスと希釈用ガスラインＬ２から導入された希釈用ガスとを混合して第Ｍ低濃度標準ガスを生成して、当該生成された第Ｍ低濃度標準ガスを第Ｍ＋１ガス混合部及び／又はガス供給ラインＬ３に導入するよう構成した。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに直列に接続されたＮ個（Ｎは、２≦Ｎを満たす何れか１つの整数）のガス混合部を備え、
前記Ｎ個のガス混合部のうちの第１ガス混合部は、標準ガスを前記ガス混合部に導入するための標準ガスラインと希釈用ガスを前記ガス混合部に導入するための希釈用ガスラインと前記ガス混合部により生成されたガスを外部に供給するためのガス供給ラインとに接続され、前記標準ガスラインから導入された標準ガスと、前記希釈用ガスラインから導入された希釈用ガスと、を混合して第１低濃度標準ガスを生成し、当該生成された第１低濃度標準ガスを前記Ｎ個のガス混合部のうちの第２ガス混合部及び／又は前記ガス供給ラインに導入し、
前記Ｎ個のガス混合部のうちの第Ｍガス混合部（Ｍは、２≦Ｍ≦Ｎを満たす全ての整数）は、前記希釈用ガスラインと前記ガス供給ラインとに接続され、前記Ｎ個のガス混合部のうちの第Ｍ−１ガス混合部から導入された第Ｍ−１低濃度標準ガスと、前記希釈用ガスラインから導入された希釈用ガスと、を混合して第Ｍ低濃度標準ガスを生成し、当該生成された第Ｍ低濃度標準ガスを前記Ｎ個のガス混合部のうちの第Ｍ＋１ガス混合部及び／又は前記ガス供給ラインに導入することを特徴とするガス生成装置。
【請求項２】
請求項１に記載のガス生成装置において、
第１〜第Ｎガス混合部の各ガス混合部により生成されたガスの濃度をそれぞれ測定するガス濃度測定手段と、
前記標準ガスラインから導入される標準ガスの流量、前記希釈用ガスラインから導入される希釈用ガスの流量及び前記第Ｍ−１ガス混合部から導入される第Ｍ−１低濃度標準ガスの流量のうちの少なくとも何れか１つを調整することによって、前記各ガス混合部により生成されるガスの濃度をそれぞれ調整するガス濃度調整手段と、
前記各ガス混合部により生成されるガスの濃度がそれぞれ所定の濃度になるよう、前記ガス濃度測定手段により測定されたガスの濃度に基づいて、前記ガス濃度調整手段に当該各ガス混合部により生成されるガスの濃度をそれぞれ調整させるガス濃度調整制御手段と、
を備えることを特徴とするガス生成装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のガス生成装置において、
前記ガス供給ラインにより供給されるガスを、第１〜第Ｎ低濃度標準ガスのうちの何れか１つに切り替える切替手段を備えることを特徴とするガス生成装置。
【請求項４】
ガスセンサを評価するセンサ評価システムにおいて、
請求項１〜３の何れか一項に記載のガス生成装置を備え、
前記ガス供給ラインは、前記ガス混合部により生成されたガスを前記ガスセンサに供給することを特徴とするセンサ評価システム。
【請求項５】
請求項４に記載のセンサ評価システムにおいて、
前記ガスセンサの温度を調整するセンサ温度調整手段と、
前記ガスセンサの温度が所定の温度になるよう、前記センサ温度調整手段に当該ガスセンサの温度を調整させるセンサ温度調整制御手段と、
を備えることを特徴とするセンサ評価システム。
【請求項６】
請求項４又は５に記載のセンサ評価システムにおいて、
前記希釈用ガスを加湿することにより、前記ガスセンサの湿度を調整するセンサ湿度調整手段と、
前記ガスセンサの湿度が所定の湿度になるよう、前記センサ湿度調整手段に当該ガスセンサの湿度を調整させるセンサ湿度調整制御手段と、
を備えることを特徴とするセンサ評価システム。
【請求項７】
請求項６に記載のセンサ評価システムにおいて、
前記各ガス混合部の温度をそれぞれ調整する混合部温度調整手段と、
前記各ガス混合部の温度が室温より高くなるよう、前記混合部温度調整手段に当該各ガス混合部の温度をそれぞれ調整させる混合部温度調整制御手段と、
前記標準ガスライン、前記希釈用ガスライン及び前記ガス供給ラインの各ラインの温度をそれぞれ調整するライン温度調整手段と、
前記各ラインの温度が室温より高くなるよう、前記ライン温度調整手段に当該各ラインの温度をそれぞれ調整させるライン温度調整制御手段と、
を備えることを特徴とするセンサ評価システム。
【請求項８】
請求項４〜７の何れか一項に記載のセンサ評価システムにおいて、
前記ガス供給ラインにより供給されるガスの流量を調整する供給ガス流量調整手段と、
前記ガスセンサに供給されるガスの流量が所定の流量になるよう、前記供給ガス流量調整手段に前記ガス供給ラインにより供給されるガスの流量を調整させる供給ガス流量調整制御手段と、
を備えることを特徴とするセンサ評価システム。
【請求項９】
請求項４〜８の何れか一項に記載のセンサ評価システムにおいて、
前記ガス供給ラインは、前記ガス混合部により生成されたガスを一度に複数の前記ガスセンサに供給可能となるよう、前記ガスセンサ側が複数に分岐していることを特徴とするセンサ評価システム。
【請求項１０】
ガスセンサを評価するセンサ評価システムにおいて、
請求項３に記載のガス生成装置と、
前記ガスセンサの温度を調整するセンサ温度調整手段と、
前記ガスセンサの温度が所定の温度になるよう、前記センサ温度調整手段に当該ガスセンサの温度を調整させるセンサ温度調整制御手段と、
前記希釈用ガスを加湿することにより、前記ガスセンサの湿度を調整するセンサ湿度調整手段と、
前記ガスセンサの湿度が所定の湿度になるよう、前記センサ湿度調整手段に当該ガスセンサの湿度を調整させるセンサ湿度調整制御手段と、
前記各ガス混合部の温度をそれぞれ調整する混合部温度調整手段と、
前記各ガス混合部の温度が室温より高くなるよう、前記混合部温度調整手段に当該各ガス混合部の温度をそれぞれ調整させる混合部温度調整制御手段と、
前記標準ガスライン、前記希釈用ガスライン及び前記ガス供給ラインの各ラインの温度をそれぞれ調整するライン温度調整手段と、
前記各ラインの温度が室温より高くなるよう、前記ライン温度調整手段に当該各ラインの温度をそれぞれ調整させるライン温度調整制御手段と、
前記ガス供給ラインにより供給されるガスの流量を調整する供給ガス流量調整手段と、
前記ガス供給ラインにより供給されるガスの流量が所定の流量になるよう、前記供給ガス流量調整手段に当該ガス供給ラインにより供給されるガスの流量を調整させる供給ガス流量調整制御手段と、
を備え、
前記ガス供給ラインは、前記ガス混合部により生成されたガスを一度に複数の前記ガスセンサに供給可能となるよう、前記ガスセンサ側が複数に分岐しており、
前記供給ガス流量調整手段は、前記複数のガスセンサの各々に供給されるガスの流量をそれぞれ調整し、
前記供給ガス流量調整制御手段は、前記複数のガスセンサの各々に供給されるガスの流量が所定の流量になるよう、前記供給ガス調整手段に前記分岐したガス供給ラインにより供給されるガスの流量をそれぞれ調整させることを特徴とするセンサ評価システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス生成装置及びセンサ評価システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、気体試料中の特定物質の検出や特定物質濃度の測定を行う際に使用されるガスセンサ等の機器が知られている。
【０００３】
ところで、このような機器を評価したり校正したりする際には、標準ガスが用いられる。特に、その機器が、微量ガスを検出可能な機器である場合や、微量ガス濃度を測定可能な機器である場合、ｐｐｂレベルやｐｐｔレベルといった低濃度の標準ガスが必要になる。そのため、例えば、市販の標準ガス等を更に希釈して低濃度の標準ガスを生成できるガス生成装置が提案されている（例えば、特許文献１及び２参照）。
【特許文献１】特開平０７−１５１６５２号公報
【特許文献２】特開平１０−１０４１３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１及び２記載の発明では、一度に１種類の濃度の標準ガスのみを生成するようになっている。したがって、例えば、ガスセンサ等の機器の検量線データを作成することにより当該機器を評価する場合など、複数種類の濃度の標準ガスが必要な場合には、各濃度の標準ガスを順次生成する必要があり、時間がかかるという問題がある。特に、低濃度の標準ガスを安定に生成させるには長い時間を要するため、複数種類の低濃度の標準ガスの生成には莫大な時間を要することとなってしまい、非常に非経済的、非効率的である。
【０００５】
本発明の課題は、簡易な構成で、複数種類の濃度の標準ガスを高速に生成できるガス生成装置と、当該ガス生成装置を備え、ガスセンサの評価を短時間で行うことができるセンサ評価システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、
ガス生成装置において、
互いに直列に接続されたＮ個（Ｎは、２≦Ｎを満たす何れか１つの整数）のガス混合部を備え、
前記Ｎ個のガス混合部のうちの第１ガス混合部は、標準ガスを前記ガス混合部に導入するための標準ガスラインと希釈用ガスを前記ガス混合部に導入するための希釈用ガスラインと前記ガス混合部により生成されたガスを外部に供給するためのガス供給ラインとに接続され、前記標準ガスラインから導入された標準ガスと、前記希釈用ガスラインから導入された希釈用ガスと、を混合して第１低濃度標準ガスを生成し、当該生成された第１低濃度標準ガスを前記Ｎ個のガス混合部のうちの第２ガス混合部及び／又は前記ガス供給ラインに導入し、
前記Ｎ個のガス混合部のうちの第Ｍガス混合部（Ｍは、２≦Ｍ≦Ｎを満たす全ての整数）は、前記希釈用ガスラインと前記ガス供給ラインとに接続され、前記Ｎ個のガス混合部のうちの第Ｍ−１ガス混合部から導入された第Ｍ−１低濃度標準ガスと、前記希釈用ガスラインから導入された希釈用ガスと、を混合して第Ｍ低濃度標準ガスを生成し、当該生成された第Ｍ低濃度標準ガスを前記Ｎ個のガス混合部のうちの第Ｍ＋１ガス混合部及び／又は前記ガス供給ラインに導入することを特徴とする。
【０００７】
請求項２に記載の発明は、
請求項１に記載のガス生成装置において、
第１〜第Ｎガス混合部の各ガス混合部により生成されたガスの濃度をそれぞれ測定するガス濃度測定手段と、
前記標準ガスラインから導入される標準ガスの流量、前記希釈用ガスラインから導入される希釈用ガスの流量及び前記第Ｍ−１ガス混合部から導入される第Ｍ−１低濃度標準ガスの流量のうちの少なくとも何れか１つを調整することによって、前記各ガス混合部により生成されるガスの濃度をそれぞれ調整するガス濃度調整手段と、
前記各ガス混合部により生成されるガスの濃度がそれぞれ所定の濃度になるよう、前記ガス濃度測定手段により測定されたガスの濃度に基づいて、前記ガス濃度調整手段に当該各ガス混合部により生成されるガスの濃度をそれぞれ調整させるガス濃度調整制御手段と、
を備えることを特徴とする。
【０００８】
請求項３に記載の発明は、
請求項１又は２に記載のガス生成装置において、
前記ガス供給ラインにより供給されるガスを、第１〜第Ｎ低濃度標準ガスのうちの何れか１つに切り替える切替手段を備えることを特徴とする。
【０００９】
請求項４に記載の発明は、
ガスセンサを評価するセンサ評価システムにおいて、
請求項１〜３の何れか一項に記載のガス生成装置を備え、
前記ガス供給ラインは、前記ガス混合部により生成されたガスを前記ガスセンサに供給することを特徴とする。
【００１０】
請求項５に記載の発明は、
請求項４に記載のセンサ評価システムにおいて、
前記ガスセンサの温度を調整するセンサ温度調整手段と、
前記ガスセンサの温度が所定の温度になるよう、前記センサ温度調整手段に当該ガスセンサの温度を調整させるセンサ温度調整制御手段と、
を備えることを特徴とする。
【００１１】
請求項６に記載の発明は、
請求項４又は５に記載のセンサ評価システムにおいて、
前記希釈用ガスを加湿することにより、前記ガスセンサの湿度を調整するセンサ湿度調整手段と、
前記ガスセンサの湿度が所定の湿度になるよう、前記センサ湿度調整手段に当該ガスセンサの湿度を調整させるセンサ湿度調整制御手段と、
を備えることを特徴とする。
【００１２】
請求項７に記載の発明は、
請求項６に記載のセンサ評価システムにおいて、
前記各ガス混合部の温度をそれぞれ調整する混合部温度調整手段と、
前記各ガス混合部の温度が室温より高くなるよう、前記混合部温度調整手段に当該各ガス混合部の温度をそれぞれ調整させる混合部温度調整制御手段と、
前記標準ガスライン、前記希釈用ガスライン及び前記ガス供給ラインの各ラインの温度をそれぞれ調整するライン温度調整手段と、
前記各ラインの温度が室温より高くなるよう、前記ライン温度調整手段に当該各ラインの温度をそれぞれ調整させるライン温度調整制御手段と、
を備えることを特徴とする。
【００１３】
請求項８に記載の発明は、
請求項４〜７の何れか一項に記載のセンサ評価システムにおいて、
前記ガス供給ラインにより供給されるガスの流量を調整する供給ガス流量調整手段と、
前記ガスセンサに供給されるガスの流量が所定の流量になるよう、前記供給ガス流量調整手段に前記ガス供給ラインにより供給されるガスの流量を調整させる供給ガス流量調整制御手段と、
を備えることを特徴とする。
【００１４】
請求項９に記載の発明は、
請求項４〜８の何れか一項に記載のセンサ評価システムにおいて、
前記ガス供給ラインは、前記ガス混合部により生成されたガスを一度に複数の前記ガスセンサに供給可能となるよう、前記ガスセンサ側が複数に分岐していることを特徴とする。
【００１５】
請求項１０に記載の発明は、
ガスセンサを評価するセンサ評価システムにおいて、
請求項３に記載のガス生成装置と、
前記ガスセンサの温度を調整するセンサ温度調整手段と、
前記ガスセンサの温度が所定の温度になるよう、前記センサ温度調整手段に当該ガスセンサの温度を調整させるセンサ温度調整制御手段と、
前記希釈用ガスを加湿することにより、前記ガスセンサの湿度を調整するセンサ湿度調整手段と、
前記ガスセンサの湿度が所定の湿度になるよう、前記センサ湿度調整手段に当該ガスセンサの湿度を調整させるセンサ湿度調整制御手段と、
前記各ガス混合部の温度をそれぞれ調整する混合部温度調整手段と、
前記各ガス混合部の温度が室温より高くなるよう、前記混合部温度調整手段に当該各ガス混合部の温度をそれぞれ調整させる混合部温度調整制御手段と、
前記標準ガスライン、前記希釈用ガスライン及び前記ガス供給ラインの各ラインの温度をそれぞれ調整するライン温度調整手段と、
前記各ラインの温度が室温より高くなるよう、前記ライン温度調整手段に当該各ラインの温度をそれぞれ調整させるライン温度調整制御手段と、
前記ガス供給ラインにより供給されるガスの流量を調整する供給ガス流量調整手段と、
前記ガス供給ラインにより供給されるガスの流量が所定の流量になるよう、前記供給ガス流量調整手段に当該ガス供給ラインにより供給されるガスの流量を調整させる供給ガス流量調整制御手段と、
を備え、
前記ガス供給ラインは、前記ガス混合部により生成されたガスを一度に複数の前記ガスセンサに供給可能となるよう、前記ガスセンサ側が複数に分岐しており、
前記供給ガス流量調整手段は、前記複数のガスセンサの各々に供給されるガスの流量をそれぞれ調整し、
前記供給ガス流量調整制御手段は、前記複数のガスセンサの各々に供給されるガスの流量が所定の流量になるよう、前記供給ガス調整手段に前記分岐したガス供給ラインにより供給されるガスの流量をそれぞれ調整させることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のガス生成装置によれば、互いに直列に接続されたＮ個（Ｎは、２≦Ｎを満たす何れか１つの整数）のガス混合部を備え、Ｎ個のガス混合部のうちの第１ガス混合部は、標準ガスラインから導入された標準ガスと、希釈用ガスラインから導入された希釈用ガスと、を混合して第１低濃度標準ガスを生成し、当該生成された第１低濃度標準ガスをＮ個のガス混合部のうちの第２ガス混合部及び／又はガス供給ラインに導入し、Ｎ個のガス混合部のうちの第Ｍガス混合部（Ｍは、２≦Ｍ≦Ｎを満たす全ての整数）は、Ｎ個のガス混合部のうちの第Ｍ−１ガス混合部から導入された第Ｍ−１低濃度標準ガスと、希釈用ガスラインから導入された希釈用ガスと、を混合して第Ｍ低濃度標準ガスを生成し、当該生成された第Ｍ低濃度標準ガスをＮ個のガス混合部のうちの第Ｍ＋１ガス混合部及び／又はガス供給ラインに導入するようになっている。
すなわち、互いに直列に接続された多段のガス混合部を備えているため、導入されたガスを希釈して生成した低濃度標準ガスを直ちに次段に導入することができ、そして、当該次段で当該導入された低濃度標準ガスを希釈して、より低濃度の低濃度標準ガスを生成できるため、任意濃度の複数の低濃度標準ガスを略同時に生成することができる。
したがって、順次希釈するだけの簡易な構成で、複数種類の濃度の標準ガスを高速に生成することができる。
【００１７】
また、本発明のセンサ評価システムによれば、本発明のガス生成装置を備え、ガス供給ラインは、ガス混合部により生成されたガスをガスセンサに供給するようになっている。
すなわち、本発明のガス生成装置により生成されたガスを用いてガスセンサを評価できるため、ガスセンサの評価を短時間で行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図を参照して、本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。なお、発明の範囲は、図示例に限定されない。
本実施形態では、希釈用ガスとして標準空気を例示し、また、Ｎ＝４の場合を例示して説明することとする。
【００１９】
図１は、本実施形態のセンサ評価システム１の構成を模式的に示す図であり、図２は、本実施形態のガス生成部１０の構成を模式的に示す図である。また、図３は、本実施形態のセンサ評価システム１の機能的構成を示すブロック図である。
【００２０】
センサ評価システム１は、例えば、ガス生成部１０により生成されたガス（低濃度標準ガス）を使用して、ガスセンサＳを評価するシステムである。
具体的には、センサ評価システム１は、例えば、図１及び図３に示すように、ガス生成部１０と、複数（本実施形態では３つ）のセンサ装着部３０と、第１マスフローコントローラ３１（以下「第１ＭＦＣ３１」という）と、標準ガス貯蔵部３１ａと、フィルタ３１ｂと、第２マスフローコントローラ３２（以下「第２ＭＦＣ３２」という）と、標準空気貯蔵部３２ａと、フィルタ３２ｂと、加湿部３２ｃと、真空ポンプ３３と、排気部３３ａと、システム用排気部３４と、センサ温度測定部３５と、センサ温度調整部３６と、センサ湿度測定部３７と、センサ湿度調整部３８と、混合部温度調整部３９と、ライン温度調整部４０と、供給ガス流量調整部４１と、バルブ・フローメータ制御部４２と、計測部４３と、データ処理部４４と、表示部４５と、操作部４６と、制御部５０と、標準ガスをガス生成部１０（ガス混合部）に導入するための標準ガスラインＬ１と、希釈用ガスをガス生成部１０（ガス混合部）に導入するための希釈用ガスラインＬ２と、ガス生成部１０（ガス混合部）により生成されたガスをガス生成部１０の外部（ガスセンサＳ）に供給するためのガス供給ラインＬ３と、流路を開閉する複数の開閉バルブと、流路を切り替える複数の切替バルブと、流量を検出して調整する複数のフローメータ（例えば、ニードルバルブ付きフローメータ等）と、等を備えて構成される。
【００２１】
ガス生成部１０は、例えば、図２及び図３に示すように、互いに直列に接続された４個のガス混合部（第１ガス混合部１１、第２ガス混合部１２、第３ガス混合部１３及び第４ガス混合部１４）と、生成部用排気部１５と、ガス濃度測定部１６と、ガス濃度調整部１７と、切替部１８と、等を備えて構成される。
ここで、本発明のガス生成装置は、ガス生成部１０と、制御部５０（ガス濃度調整制御プログラム５３５を実行したＣＰＵ５１、切替制御プログラム５３６を実行したＣＰＵ５１）と、等により構成される。
【００２２】
第１ガス混合部１１は、例えば、上流側の第１導入口１１ａが、第１３フローメータＦ１３を介して標準ガスラインＬ１と接続されており、上流側の第２導入口１１ｂが、第１フローメータＦ１を介して希釈用ガスラインＬ２と接続されている。また、第１ガス混合部１１は、例えば、下流側の第１流出口１１ｃが、第１切替バルブＶｂ１を介してガス供給ラインＬ３と接続されているとともに、生成部用排気部１５と接続されており、下流側の第２流出口１１ｄが、第６フローメータＦ６及び第５切替バルブＶｂ５を介して第２ガス混合部１２と接続され、かつ、第９フローメータＦ９を介して生成部用排気部１５と接続されている。
すなわち、第１ガス混合部１１は、標準ガスラインＬ１から導入された標準ガスと、希釈用ガスラインＬ２から導入された標準空気と、を混合することにより標準ガスを希釈して第１低濃度標準ガスを生成し、当該生成された第１低濃度標準ガスを第２ガス混合部１２及び／又はガス供給ラインＬ３に導入するようになっている。
【００２３】
ここで、第１切替バルブＶｂ１は、ガス供給ラインＬ３側と、生成部用排気部１５側と、に切り替わるようになっている。例えば、第１切替バルブＶｂ１がガス供給ラインＬ３側に切り替わると、第１流出口１１ｃから流出された第１低濃度標準ガスは、ガス供給ラインＬ３に導入される。また、第１切替バルブＶｂ１は、第１開閉バブルＶａ１、捕集管１６ａ及びエアーサンプラー１６ｂを介して生成部用排気部１５に接続され、かつ、第５開閉バルブＶａ５を介して生成部用排気部１５に接続されているため、第１切替バルブＶｂ１が生成部用排気部１５側に切り替わり、第１開閉バブルＶａ１が開いて第５開閉バルブＶａ５が閉まると、第１流出口１１ｃから流出された第１低濃度標準ガスは、エアーサンプラー１６ｂにより吸気されて捕集管１６ａに捕集される。また、第１切替バルブＶｂ１が生成部用排気部１５側に切り替わり、第１開閉バブルＶａ１が閉まり第５開閉バルブＶａ５が開くと、第１流出口１１ｃから流出された第１低濃度標準ガスは、生成部用排気部１５により排気される。
【００２４】
第２ガス混合部１２は、例えば、上流側の第１導入口１２ａが、第５切替バルブＶｂ５及び第６フローメータＦ６を介して第１ガス混合部１１と接続されており、上流側の第２導入口１２ｂが、第２フローメータＦ２を介して希釈用ガスラインＬ２と接続されている。また、第２ガス混合部１２は、例えば、下流側の第１流出口１２ｃが、第２切替バルブＶｂ２を介してガス供給ラインＬ３と接続されているとともに、生成部用排気部１５と接続されており、下流側の第２流出口１２ｄが、第７フローメータＦ７及び第６切替バルブＶｂ６を介して第３ガス混合部１３と接続され、かつ、第１０フローメータＦ１０を介して生成部用排気部１５と接続されている。
すなわち、第２ガス混合部１２は、第１ガス混合部１１から導入された第１低濃度標準ガスと、希釈用ガスラインＬ２から導入された標準空気と、を混合することにより第１低濃度標準ガスを希釈して第２低濃度標準ガスを生成し、当該生成された第２低濃度標準ガスを第３ガス混合部１３及び／又はガス供給ラインＬ３に導入するようになっている。
【００２５】
ここで、図２において、第２ガス混合部１２は、第５切替バルブＶｂ５及び第１４フローメータＦ１４を介して、第１ガス混合部１１と接続するとともに、標準ガスラインＬ１と接続しているが、本実施形態では、第１４フローメータＦ１４は、常時、閉まっているとともに、第５切替バルブＶｂ５は、常時、第１ガス混合部１１側に切り替わっていることとする。すなわち、本実施形態では、標準ガスラインＬ１から第２ガス混合部１２に標準ガスを導入しないこととする。なお、本実施例では使用しないが、標準ガスラインＬ１から第２ガス混合部１２に標準ガスを導入することもできる。これは、標準ガスあるいはガス生成部１０の前に導入した少なくとも一段のガス混合部からのガスを導入し、そのガス濃度より僅かに異なる一連のガスを生成して、ガス濃度の微妙な違いによるセンサ応答の違いなど、センサ応答の分解能を計測する場合などに有効である。
また、第２切替バルブＶｂ２は、ガス供給ラインＬ３側と、生成部用排気部１５側と、に切り替わるようになっている。例えば、第２切替バルブＶｂ２がガス供給ラインＬ３側に切り替わると、第１流出口１２ｃから流出された第２低濃度標準ガスは、ガス供給ラインＬ３に導入される。また、第２切替バルブＶｂ２は、第２開閉バブルＶａ２、捕集管１６ａ及びエアーサンプラー１６ｂを介して生成部用排気部１５に接続され、かつ、第６開閉バルブＶａ６を介して生成部用排気部１５に接続されているため、第２切替バルブＶｂ２が生成部用排気部１５側に切り替わり、第２開閉バブルＶａ２が開いて第６開閉バルブＶａ６が閉まると、第１流出口１２ｃから流出された第２低濃度標準ガスは、エアーサンプラー１６ｂにより吸気されて捕集管１６ａに捕集される。また、第２切替バルブＶｂ２が生成部用排気部１５側に切り替わり、第２開閉バブルＶａ２が閉まり第６開閉バルブＶａ６が開くと、第１流出口１２ｃから流出された第２低濃度標準ガスは、生成部用排気部１５により排気される。
【００２６】
第３ガス混合部１３は、例えば、上流側の第１導入口１３ａが、第６切替バルブＶｂ６及び第７フローメータＦ７を介して第２ガス混合部１２と接続されており、上流側の第２導入口１３ｂが、第３フローメータＦ３を介して希釈用ガスラインＬ２と接続されている。また、第３ガス混合部１３は、例えば、下流側の第１流出口１３ｃが、第３切替バルブＶｂ３を介してガス供給ラインＬ３と接続されているとともに、生成部用排気部１５と接続されており、下流側の第２流出口１３ｄが、第８フローメータＦ８及び第７切替バルブＶｂ７を介して第４ガス混合部１４と接続され、かつ、第１１フローメータＦ１１を介して生成部用排気部１５と接続されている。
すなわち、第３ガス混合部１３は、第２ガス混合部１２から導入された第２低濃度標準ガスと、希釈用ガスラインＬ２から導入された標準空気と、を混合することにより第２低濃度標準ガスを希釈して第３低濃度標準ガスを生成し、当該生成された第３低濃度標準ガスを第４ガス混合部１４及び／又はガス供給ラインＬ３に導入するようになっている。
【００２７】
ここで、図２において、第３ガス混合部１３は、第６切替バルブＶｂ６及び第１５フローメータＦ１５を介して、第２ガス混合部１２と接続するとともに、標準ガスラインＬ１と接続しているが、本実施形態では、第１５フローメータＦ１５は、常時、閉まっているとともに、第６切替バルブＶｂ６は、常時、第２ガス混合部１２側に切り替わっていることとする。すなわち、本実施形態では、標準ガスラインＬ１から第３ガス混合部１３に標準ガスを導入しないこととする。なお、本実施例では使用しないが、標準ガスラインＬ１から第３ガス混合部１３に標準ガスを導入することもできる。これは、標準ガスあるいはガス生成部１０の前に導入した少なくとも一段のガス混合部からのガスを導入し、そのガス濃度より僅かに異なる一連のガスを生成して、ガス濃度の微妙な違いによるセンサ応答の違いなど、センサ応答の分解能を計測する場合などに有効である。
また、第３切替バルブＶｂ３は、ガス供給ラインＬ３側と、生成部用排気部１５側と、に切り替わるようになっている。例えば、第３切替バルブＶｂ３がガス供給ラインＬ３側に切り替わると、第１流出口１３ｃから流出された第３低濃度標準ガスは、ガス供給ラインＬ３に導入される。また、第３切替バルブＶｂ３は、第３開閉バブルＶａ３、捕集管１６ａ及びエアーサンプラー１６ｂを介して生成部用排気部１５に接続され、かつ、第７開閉バルブＶａ７を介して生成部用排気部１５に接続されているため、第３切替バルブＶｂ３が生成部用排気部１５側に切り替わり、第３開閉バブルＶａ３が開いて第７開閉バルブＶａ７が閉まると、第１流出口１３ｃから流出された第３低濃度標準ガスは、エアーサンプラー１６ｂにより吸気されて捕集管１６ａに捕集される。また、第３切替バルブＶｂ３が生成部用排気部１５側に切り替わり、第３開閉バブルＶａ３が閉まり第７開閉バルブＶａ７が開くと、第１流出口１３ｃから流出された第３低濃度標準ガスは、生成部用排気部１５により排気される。
【００２８】
第４ガス混合部１４は、例えば、上流側の第１導入口１４ａが、第７切替バルブＶｂ７及び第８フローメータＦ８を介して第３ガス混合部１３と接続されており、上流側の第２導入口１４ｂが、第４フローメータＦ４を介して希釈用ガスラインＬ２と接続されている。また、第４ガス混合部１４は、例えば、下流側の第１流出口１４ｃが、第４切替バルブＶｂ４を介してガス供給ラインＬ３と接続されているとともに、生成部用排気部１５と接続されており、下流側の第２流出口１４ｄが、第１２フローメータＦ１２を介して生成部用排気部１５と接続されている。
すなわち、第４ガス混合部１４は、第３ガス混合部１３から導入された第３低濃度標準ガスと、希釈用ガスラインＬ２から導入された標準空気と、を混合することにより第３低濃度標準ガスを希釈して第４低濃度標準ガスを生成し、当該生成された第４低濃度標準ガスをガス供給ラインＬ３に導入するようになっている。
【００２９】
ここで、図２において、第４ガス混合部１４は、第７切替バルブＶｂ７及び第１６フローメータＦ１６を介して、第３ガス混合部１３と接続するとともに、標準ガスラインＬ１と接続しているが、本実施形態では、第１６フローメータＦ１６は、常時、閉まっているとともに、第７切替バルブＶｂ７は、常時、第３ガス混合部１３側に切り替わっていることとする。すなわち、本実施形態では、標準ガスラインＬ１から第４ガス混合部１４に標準ガスを導入しないこととする。なお、本実施例では使用しないが、標準ガスラインＬ１から第４ガス混合部１４に標準ガスを導入することもできる。これは、標準ガスあるいはガス生成部１０の前に導入した少なくとも一段のガス混合部からのガスを導入し、そのガス濃度より僅かに異なる一連のガスを生成して、ガス濃度の微妙な違いによるセンサ応答の違いなど、センサ応答の分解能を計測する場合などに有効である。
また、第４切替バルブＶｂ４は、ガス供給ラインＬ３側と、生成部用排気部１５側と、に切り替わるようになっている。例えば、第４切替バルブＶｂ４がガス供給ラインＬ３側に切り替わると、第１流出口１４ｃから流出された第４低濃度標準ガスは、ガス供給ラインＬ３に導入される。また、第４切替バルブＶｂ４は、第４開閉バブルＶａ４、捕集管１６ａ及びエアーサンプラー１６ｂを介して生成部用排気部１５に接続され、かつ、第８開閉バルブＶａ８を介して生成部用排気部１５に接続されているため、第４切替バルブＶｂ４が生成部用排気部１５側に切り替わり、第４開閉バブルＶａ４が開いて第８開閉バルブＶａ８が閉まると、第１流出口１４ｃから流出された第４低濃度標準ガスは、エアーサンプラー１６ｂにより吸気されて捕集管１６ａに捕集される。また、第４切替バルブＶｂ４が生成部用排気部１５側に切り替わり、第４開閉バブルＶａ４が閉まり第８開閉バルブＶａ８が開くと、第１流出口１４ｃから流出された第４低濃度標準ガスは、生成部用排気部１５により排気される。
【００３０】
生成部用排気部１５は、不要なガスをガス生成部１０（センサ評価システム１）の外部に排気する装置である。
生成部用排気部１５は、例えば、第９フローメータＦ９を介して第１ガス混合部１１と接続され、第１０フローメータＦ１０を介して第２ガス混合部１２と接続され、第１１フローメータＦ１１を介して第３ガス混合部１３と接続され、第１２フローメータＦ１２を介して第４ガス混合部１４と接続されている。また、生成部用排気部１５は、例えば、第５フローメータＦ５を介して希釈用ガスラインＬ２と接続され、かつ、第１７フローメータＦ１７を介して標準ガスラインＬ１と接続されている。
したがって、第１ガス混合部１１の第２流出口１１ｄから流出された第１低濃度標準ガスのうちの、第２ガス混合部１２に導入されない第１低濃度標準ガスは、生成部用排気部１５により排気されるようになっている。
また、第２ガス混合部１２の第２流出口１２ｄから流出された第２低濃度標準ガスのうちの、第３ガス混合部１３に導入されない第２低濃度標準ガスは、生成部用排気部１５により排気されるようになっている。
また、第３ガス混合部１３の第２流出口１３ｄから流出された第３低濃度標準ガスのうちの、第４ガス混合部１４に導入されない第３低濃度標準ガスは、生成部用排気部１５により排気されるようになっている。
また、第４ガス混合部１４の第２流出口１４ｄから流出された第４低濃度標準ガスは、生成部用排気部１５により排気されるようになっている。
また、希釈用ガスラインＬ２を通ってガス生成部１０に導入された標準空気のうちの、第１ガス混合部１１、第２ガス混合部１２、第３ガス混合部１３及び第４ガス混合部１４に導入されない標準空気は、生成部用排気部１５により排気されるようになっている。
【００３１】
さらに、生成部用排気部１５は、例えば、第１切替バルブＶｂ１を介して第１ガス混合部１１と接続され、第２切替バルブＶｂ２を介して第２ガス混合部１２と接続され、第３切替バルブＶｂ３を介して第３ガス混合部１３と接続され、第４切替バルブＶｂ４を介して第４ガス混合部１４と接続されている。
したがって、第１ガス混合部１１の第１流出口１１ｃから流出された第１低濃度標準ガスを、ガス供給ラインＬ３に導入しない場合や捕集管１６ａに捕集しない場合、当該第１低濃度標準ガスは、生成部用排気部１５により排気されるようになっている。
また、第２ガス混合部１２の第１流出口１２ｃから流出された第２低濃度標準ガスを、ガス供給ラインＬ３に導入しない場合や捕集管１６ａに捕集しない場合、当該第２低濃度標準ガスは、生成部用排気部１５により排気されるようになっている。
また、第３ガス混合部１３の第１流出口１３ｃから流出された第３低濃度標準ガスを、ガス供給ラインＬ３に導入しない場合や捕集管１６ａに捕集しない場合、当該第３低濃度標準ガスは、生成部用排気部１５により排気されるようになっている。
また、第４ガス混合部１４の第１流出口１４ｃから流出された第４低濃度標準ガスを、ガス供給ラインＬ３に導入しない場合や捕集管１６ａに捕集しない場合、当該第４低濃度標準ガスは、生成部用排気部１５により排気されるようになっている。
また、エアーサンプラー１６ｂから排出されたガスは、生成部用排気部１５により排気されるようになっている。
【００３２】
希釈用ガスラインＬ２は、例えば、第１８フローメータＦ１８を介してガス供給ラインＬ３と接続されている。
【００３３】
ガス濃度測定部１６は、例えば、高速液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ）等から構成され、例えば、ガス濃度測定手段として、ガス生成部１０が備える各ガス混合部（第１ガス混合部１１、第２ガス混合部１２、第３ガス混合部１３及び第４ガス混合部１４）により生成されたガスの濃度をそれぞれ測定し、当該測定結果を制御部５０に出力する。
具体的には、ガス濃度測定部１６は、例えば、濃度決定用検量線データ（例えば、特定物質のＨＰＬＣ面積（特定物質のピーク面積）と、特定物質の濃度と、の関係を表す検量線データ）を予め記憶しており、例えば、捕集管１６ａにより捕集されたガスを分析し、当該分析結果（特定物質のピーク面積）と、予め記憶された濃度決定用検量線データと、に基づいて、当該ガス中の特定物質の濃度を決定し、当該決定結果を測定結果として制御部５０に出力する。
そして、制御部５０に出力された測定結果は、例えば、ＲＡＭ５２等にガスの生成条件（各ガス（標準ガス、標準空気及び低濃度標準ガス）の流量や、各ガスの混合比など）とともに記憶され、ガスセンサＳの評価の際に、生成濃度検量線データ（ガスの生成条件（各ガス（標準ガス、標準空気及び低濃度標準ガス）の流量や、各ガスの混合比など）と、生成ガス濃度と、の関係を表す検量線データ）として使用される。
【００３４】
ガス濃度調整部１７は、例えば、標準ガスラインＬ１から導入される標準ガスの流量、希釈用ガスラインＬ２から導入される標準空気の流量及び第Ｍ−１ガス混合部（Ｍは、２≦Ｍ≦４を満たす全ての整数）から第Ｍガス混合部に導入される第Ｍ−１低濃度標準ガスの流量を調整することによって、各ガス混合部により生成されるガスの濃度をそれぞれ調整する。
【００３５】
具体的には、ガス濃度調整部１７は、例えば、第１ＭＦＣ３１等を制御して、標準ガスラインＬ１から第１ガス混合部１１に導入される標準ガスの流量を調整する。
また、ガス濃度調整部１７は、例えば、第２ＭＦＣ３２、第１フローメータＦ１、第２フローメータＦ２、第３フローメータＦ３、第４フローメータＦ４、第５フローメータＦ５等を制御して、希釈用ガスラインＬ２から各ガス混合部に導入される標準空気の流量を調整する。
また、ガス濃度調整部１７は、例えば、第６フローメータＦ６、第９フローメータＦ９等を制御して、第１ガス混合部１１から第２ガス混合部１２に導入される第１低濃度標準ガスの流量を調整する。
また、ガス濃度調整部１７は、例えば、第７フローメータＦ７、第１０フローメータＦ１０等を制御して、第２ガス混合部１２から第３ガス混合部１３に導入される第２低濃度標準ガスの流量を調整する。
また、ガス濃度調整部１７は、例えば、第８フローメータＦ８、第１１フローメータＦ１１等を制御して、第３ガス混合部１３から第４ガス混合部１４に導入される第３低濃度標準ガスの流量を調整する。
ここで、ガス濃度調整手段は、ガス濃度調整部１７と、第１ＭＦＣ３１と、第２ＭＦＣ３２と、第１フローメータＦ１と、第２フローメータＦ２と、第３フローメータＦ３と、第４フローメータＦ４と、第５フローメータＦ５と、第６フローメータＦ６と、第７フローメータＦ７と、第８フローメータＦ８と、第９フローメータＦ９と、第１０フローメータＦ１０と、第１１フローメータＦ１１と、等により構成される。
【００３６】
切替部１８は、例えば、第１切替バルブＶｂ１、第２切替バルブＶｂ２、第３切替バルブＶｂ３及び第４切替バルブＶｂ４を制御して、ガス供給ラインＬ３によりガスセンサＳに供給されるガスを、第１〜第４低濃度標準ガスのうちの何れか１つに切り替える。
【００３７】
具体的には、例えば、第１低濃度標準ガスをセンサ装着部３０に装着されたガスセンサＳに供給する場合、切替部１８は、第１切替バルブＶｂ１をガス供給ラインＬ３側に切り替えるとともに、第２切替バルブＶｂ２、第３切替バルブＶｂ３及び第４切替バルブＶｂ４を生成部用排気部１５側に切り替える。
また、例えば、第２低濃度標準ガスをセンサ装着部３０に装着されたガスセンサＳに供給する場合、切替部１８は、第２切替バルブＶｂ２をガス供給ラインＬ３側に切り替えるとともに、第１切替バルブＶｂ１、第３切替バルブＶｂ３及び第４切替バルブＶｂ４を生成部用排気部１５側に切り替える。
また、例えば、第３低濃度標準ガスをセンサ装着部３０に装着されたガスセンサＳに供給する場合、切替部１８は、第３切替バルブＶｂ３をガス供給ラインＬ３側に切り替えるとともに、第１切替バルブＶｂ１、第２切替バルブＶｂ２及び第４切替バルブＶｂ４を生成部用排気部１５側に切り替える。
また、例えば、第４低濃度標準ガスをセンサ装着部３０に装着されたガスセンサＳに供給する場合、切替部１８は、第４切替バルブＶｂ４をガス供給ラインＬ３側に切り替えるとともに、第１切替バルブＶｂ１、第２切替バルブＶｂ２及び第３切替バルブＶｂ３を生成部用排気部１５側に切り替える。
ここで、切替手段は、切替部１８と、第１切替バルブＶｂ１と、第２切替バルブＶｂ２と、第３切替バルブＶｂ３と、第４切替バルブＶｂ４と、等により構成される。
【００３８】
ガス生成部１０は、例えば、図１に示すように、ガス生成部１０に導入する標準ガスの流量を調整する第１ＭＦＣ３１と、標準ガスラインＬ１によって接続されている。
【００３９】
第１ＭＦＣ３１は、例えば、上流側が、標準ガス（例えば、市販の標準ガス）を貯蔵する標準ガス貯蔵部３１ａと、当該標準ガスを浄化するフィルタ３１ｂを介して接続されている。また、第１ＭＦＣ３１は、例えば、下流側が、第９開閉バルブＶａ９を介してガス生成部１０と接続され、かつ、第１０開閉バルブＶａ１０を介して真空ポンプ３３と接続されている。
したがって、例えば、第９開閉バブルＶａ９が開いて第１０開閉バルブＶａ１０が閉まっている場合、標準ガス貯蔵部３１ａに貯蔵された標準ガスは、フィルタ３１ｂを透過して第１ＭＦＣ３１に供給され、そして、第１ＭＦＣ３１で流量が調整されてから、標準ガスラインＬ１を通ってガス生成部１０に導入される。
【００４０】
また、ガス生成部１０は、ガス生成部１０に導入する標準空気の流量を調整する第２ＭＦＣ３２と、希釈用ガスラインＬ２によって接続されている。
【００４１】
第２ＭＦＣ３２は、例えば、上流側が、標準空気（例えば、市販の標準空気（乾燥空気））を貯蔵する標準ガス貯蔵部３２ａと、当該標準空気を浄化するフィルタ３２ｂを介して接続されている。また、第２ＭＦＣ３２は、例えば、下流側が、ガス生成部１０と、第２０フローメータＦ２０を介して接続されているとともに、第２１フローメータＦ２１、標準空気（乾燥空気）を加湿する加湿部３２ｃ及び第２２フローメータＦ２２を介して接続され、かつ、真空ポンプ３３と第１１開閉バルブＶａ１１を介して接続されている。
したがって、例えば、第２０フローメータＦ２０、第２１フローメータＦ２１及び第２２フローメータＦ２２が開いて第１１開閉バルブＶａ１１が閉まっている場合、標準空気貯蔵部３３ａに貯蔵された標準空気は、フィルタ３２ｂを透過して第２ＭＦＣ３２に供給され、そして、第２ＭＦＣ３２で流量が調整されてから、希釈用ガスラインＬ２を通ってガス生成部１０に導入されるが、ガス生成部１０に導入される標準空気は、第２０フローメータＦ２０を介して供給される乾燥空気と、第２１フローメータＦ２１、加湿部３２ｃ及び第２２フローメータＦ２２を介して供給される湿潤空気と、が混合したものからなっている。
【００４２】
ここで、加湿部３２ｃは、例えば、純水を貯蔵したタンク等から構成され、例えば、導入された気体を純水でバブリングし、当該バブリングにより発生した気体を排出できる構成となっている。
したがって、第２ＭＦＣ３２から加湿部３２ｃに導入された標準空気（乾燥空気）は、加湿部３２ｃにおいて純水でバブリングされることにより加湿され、湿潤空気になる。
【００４３】
また、ガス生成部１０は、例えば、標準ガスラインＬ１内を洗浄する真空ポンプ３３と接続されている。
【００４４】
真空ポンプ３３は、例えば、第１０開閉バルブＶａ１０を介して第１ＭＦＣ３１と接続され、第１０開閉バルブＶａ１０及び第９開閉バルブＶａ９を介してガス生成部１０と接続されている。また、真空ポンプ３３は、例えば、第２ＭＦＣ３２と第１１開閉バルブＶａ１１を介して接続され、かつ、ガス生成部１０と、第１１開閉バルブＶａ１１及び第２０フローメータＦ２０を介して接続されているとともに、第１１開閉バルブＶａ１１、第２１フローメータＦ２１、加湿部３２ｃ及び第２２フローメータＦ２２を介して接続されている。
したがって、例えば、第１０開閉バブルＶａ１０が開いて第９開閉バルブＶａ９及び第１１開閉バルブＶａ１１が閉まっている状態で、真空ポンプ３３を動作させた場合、標準ガス貯蔵部３１ａ、フィルタ３１ｂ及び第１ＭＦＣ３１の内部並びにこれらを接続するラインの内部のガスが排気部３３ａを介してセンサ評価システム１の外部に排気されて洗浄される。
また、例えば、第１１開閉バルブＶａ１１が開いて第１０開閉バルブＶａ１０、第２０フローメータＦ２０及び第２１フローメータＦ２１が閉まっている状態で、真空ポンプ３３を動作させた場合、標準空気貯蔵部３２ａ、フィルタ３２ｂ及び第２ＭＦＣ３２の内部並びにこれらを接続するラインの内部のガスが排気部３３ａを介してセンサ評価システム１の外部に排気されて洗浄される。
【００４５】
また、ガス生成部１０は、例えば、センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳとガス供給ラインＬ３によって接続されている。
【００４６】
センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳは、例えば、上流側が、第２３フローメータＦ２３と第２４フローメータＦ２４、第２５フローメータＦ２５又は第２６フローメータＦ２６とを介して、ガス生成部１０と接続されている。また、センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳは、下流側が、システム用排気装置３４と接続されている。
したがって、ガス生成部１０から供給されるガスは、ガス供給ラインＬ３を通ってセンサ装着部３０に装着されたガスセンサＳに供給されるが、ガス供給ラインＬ３を通っている間に、第２３フローメータＦ２３と、第２４フローメータＦ２４、第２５フローメータＦ２５又は第２６フローメータＦ２６と、で流量が調整されるようになっている。
なお、センサ装着部に装着するガスセンサは任意であり、その種類は問わない。例えば、電気化学式センサ、固体電解質式センサ、触媒燃焼式センサ、金属酸化物半導体式センサ、電界効果型トランジスタ式センサ、水晶振動子式センサ、電極式センサ、イオン感応性電界効果型トランジスタ（ＩＳＦＥＴ）式センサ、光学式センサ、弾性表面センサ、カンチレバー式センサ、或は酵素センサ等のバイオセンサ等が挙げられる。
【００４７】
ここで、ガス供給ラインＬ３は、ガス生成部１０が備える第１ガス混合部１１〜第４ガス混合部１４のうちの何れか１つにより生成されたガスを一度に複数のガスセンサＳに供給可能となるよう、ガスセンサＳ側（センサ装着部３０側）が複数に分岐している。
具体的には、例えば、ガス供給ラインＬ３のうちの、第２３開閉バルブＦ２３よりも下流側が、複数（本実施形態では３つ）に分岐している。そして、その分岐点と、センサ装着部３０と、の間の各流路には、それぞれ第２４フローメータＦ２４、第２５フローメータＦ２５、第２６フローメータＦ２６が設けられている。
【００４８】
また、ガス生成部１０は、例えば、不要なガスをセンサ評価システム１の外部に排気するシステム用排気部３４と接続されている。
【００４９】
システム用排気部３４は、例えば、センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳと接続されているとともに、第２７フローメータＦ２７を介して、ガス生成部１０と第２３フローメータＦ２３との間の流路と接続されている
したがって、センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳから排出されたガスは、システム用排気部３４により排気されるようになっている。
また、ガス生成部１０により生成されたガスのうちの、ガスセンサＳに供給されないガス（例えば、生成初期の濃度が安定しない時間帯に生成されたガスを含む）は、システム用排気部３４により排気されるようになっている。
【００５０】
センサ温度測定部３５は、例えば、各センサ装着部３０内に配置された温度センサ等から構成され、例えば、各センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳ（ガスセンサＳの内部）の温度をそれぞれ測定し、当該測定結果を制御部５０に出力する。
【００５１】
センサ温度調整部３６は、例えば、各センサ装着部３０内に配置されたヒータ（例えば、ヒータ膜やペルチェ素子など）等から構成され、例えば、センサ温度調整手段として、各センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳ（ガスセンサＳの内部）の温度をそれぞれ調整する。
【００５２】
センサ湿度測定部３７は、例えば、各センサ装着部３０内に配置された湿度計等から構成され、例えば、各センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳ（ガスセンサＳの内部）の湿度をそれぞれ測定し、当該測定結果を制御部５０に出力する。
【００５３】
センサ湿度調整部３８は、例えば、乾燥空気に、加湿部３２ｃにより加湿された湿潤空気を混合することによって、各センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳ（ガスセンサＳの内部）の湿度を調整する。
具体的には、センサ湿度調整部３８は、例えば、第２０フローメータＦ２０や第２１フローメータＦ２１、第２２フローメータＦ２２を制御して、ガス生成部１０に導入される標準空気を構成する乾燥空気と湿潤空気との混合比を調整することにより、ガスセンサＳの湿度を調整する。
ここで、センサ湿度調整手段は、例えば、加湿部３２ｃと、センサ湿度調整部３８と、第２０フローメータＦ２０と、第２１フローメータＦ２１と、第２２フローメータＦ２２と、等から構成される。
【００５４】
混合部温度調整部３９は、例えば、ガス生成部１０が備える各ガス混合部の近傍に配置されたリボンヒータ等から構成され、例えば、混合部温度調整手段として、各ガス混合部の温度をそれぞれ調整する。
【００５５】
ライン温度調整部４０は、例えば、センサ評価システム１が備える標準ガスラインＬ１、希釈用ガスラインＬ２及びガス供給ラインＬ３の各ラインに巻き付けられたリボンヒータ等から構成され、例えば、ライン温度調整手段として、各ラインの温度をそれぞれ調整する。
【００５６】
供給ガス流量調整部４１は、例えば、第２３フローメータＦ２３、第２４フローメータＦ２４、第２５フローメータＦ２５、第２６フローメータＦ２６、第２７フローメータＦ２７等を制御して、ガス供給ラインＬ３により供給されるガスの流量を調整する。
なお、センサ評価システム１に複数のガスセンサＳが装着されている場合、供給ガス流量調整部４１は、当該複数のガスセンサＳの各々に供給されるガスの流量をそれぞれ調整するようになっている。
ここで、供給ガス流量調整手段は、供給ガス流量調整部４１と、第２３フローメータＦ２３と、第２４フローメータＦ２４と、第２５フローメータＦ２５と、第２６フローメータＦ２６と、第２７フローメータＦ２７と、等により構成される。
【００５７】
バルブ・フローメータ制御部４２は、例えば、センサ評価システム１が備える各開閉バルブ、各切替バルブ及び各フローメータをそれぞれ制御する。
【００５８】
計測部４３は、例えば、センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳからの信号値を計測して、当該計測結果をデータ処理部４４に出力する。
【００５９】
データ処理部４４は、例えば、計測部４３から入力された計測結果を処理して、当該計測結果に基づく数値データ等を作成する。
ここで、数値データとは、例えば、ガスセンサＳに供給したガスの濃度と、当該ガスを供給した際のガスセンサＳからの信号値と、の関係を表す検量線データ等である。データ処理部４４は、ガスセンサＳに供給したガスの濃度として、例えば、ガス濃度測定部１６により測定されたガスの濃度を使用し、各ガスセンサＳの検量線データを作成するようになっている。
【００６０】
表示部４５は、例えば、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）パネル等から構成され、例えば、データ処理部４４により作成された数値データに基づく数値情報や、センサ評価システム１の操作方法に関する情報などが表示される。
【００６１】
操作部４６は、例えば、操作ボタン等から構成され、ユーザにより操作されると当該操作信号を制御部５０に出力する。また、操作部４６は、必要に応じてマウスやタッチパネル（表示部４５のＬＣＤパネル等と一体的に構成されたタッチパネル）などのポインティングデバイス等、その他の入力装置を備えるものとしても良い。
【００６２】
制御部５０は、例えば、センサ評価システム１を構成する各部の動作を集中制御する。
具体的には、制御部５０は、例えば、図３に示すように、ＣＰＵ（Central Processing Unit）５１と、ＲＡＭ（Random Access Memory）５２と、記憶部５３と、等を備えている。
【００６３】
ＣＰＵ５１は、例えば、記憶部５３に記憶されたセンサ評価システム１用の各種処理プログラムに従って各種の制御動作を行う。
【００６４】
ＲＡＭ５２は、例えば、ＣＰＵ５１によって実行される処理プログラムなどを展開するためのプログラム格納領域、入力データや上記処理プログラムが実行される際に生じる処理結果等を格納するデータ格納領域などを備える。
【００６５】
記憶部５３は、例えば、センサ評価システム１で実行可能なシステムプログラム、当該システムプログラムで実行可能な各種処理プログラム、これら各種処理プログラムを実行する際に使用されるデータ、ＣＰＵ５１によって演算処理された処理結果のデータ等を記憶する。なお、プログラムは、コンピュータが読み取り可能なプログラムコードの形で記憶部５３に記憶されている。
【００６６】
記憶部５３は、例えば、図３に示すように、センサ温度調整制御プログラム５３１と、センサ湿度調整制御プログラム５３２と、混合部温度調整制御プログラム５３３と、ライン温度調整制御プログラム５３４と、ガス濃度調整制御プログラム５３５と、切替制御プログラム５３６と、供給ガス流量調整制御プログラム５３７と、等を記憶している。
【００６７】
センサ温度調整制御プログラム５３１は、例えば、センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳの温度が所定の温度になるよう、センサ温度測定部３５により測定された当該ガスセンサＳの温度に基づいて、センサ温度調整部３６に当該ガスセンサＳの温度を調整させる機能を、ＣＰＵ５１に実現させる。
すなわち、ＣＰＵ５１は、センサ温度測定部３５により測定されたガスセンサＳの温度をセンサ温度調整部３６にフィードバックする。
ここで、所定の温度とは、予め設定された温度であり、例えば、ユーザによる操作部４６の操作によって適宜変更可能である。
ＣＰＵ５１は、かかるセンサ温度調整制御プログラム５３１を実行することによって、センサ温度調整制御手段として機能する。
【００６８】
センサ湿度調整制御プログラム５３２は、例えば、センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳの湿度が所定の湿度になるよう、センサ湿度測定部３７により測定された当該ガスセンサＳの湿度に基づいて、センサ湿度調整部３８に当該ガスセンサＳの湿度を調整させる機能を、ＣＰＵ５１に実現させる。
すなわち、ＣＰＵ５１は、センサ湿度測定部３７により測定されたガスセンサＳの湿度をセンサ湿度調整部３８にフィードバックする。
ここで、所定の湿度とは、予め設定された湿度であり、例えば、ユーザによる操作部４６の操作によって適宜変更可能である。
ＣＰＵ５１は、かかるセンサ湿度調整制御プログラム５３２を実行することによってセンサ湿度調整制御手段として機能する。
【００６９】
混合部温度調整制御プログラム５３３は、例えば、ガス生成部１０が備える各ガス混合部の温度が所定の温度（室温より高い温度）になるよう、混合部温度調整部３９に当該各ガス混合部の温度をそれぞれ調整させる機能を、ＣＰＵ５１に実現させる。
ここで、所定の温度（室温より高い温度）は、予め設定された温度であり、例えば、ユーザによる操作部４６の操作によって適宜変更可能である。
ＣＰＵ５１は、かかる混合部温度調整制御プログラム５３３を実行することによって、混合部温度調整制御手段として機能する。
【００７０】
ライン温度調整制御プログラム５３４は、例えば、センサ評価システム１が備える各ラインの温度が所定の温度（室温より高い温度）になるよう、ライン温度調整部４０に当該各ラインの温度をそれぞれ調整させる機能を、ＣＰＵ５１に実現させる。
ここで、所定の温度（室温より高い温度）は、予め設定された温度であり、例えば、ユーザによる操作部４６の操作によって適宜変更可能である。
ＣＰＵ５１は、かかるライン温度調整制御プログラム５３４を実行することによって、ライン温度調整制御手段として機能する。
【００７１】
ガス濃度調整制御プログラム５３５は、例えば、ガス生成部１０が備える各ガス混合部により生成されるガスの濃度がそれぞれ所定の濃度になるよう、ガス濃度調整部１７に当該各ガス混合部により生成されるガスの濃度をそれぞれ調整させる機能を、ＣＰＵ５１に実現させる。
ここで、所定の濃度とは、予め設定された濃度であり、例えば、ユーザによる操作部４６の操作によって適宜変更可能である。
【００７２】
具体的には、ＣＰＵ５１は、例えば、予め設定された所定の濃度に応じて、生成濃度検量線データ（ＲＡＭ５２等に記憶されているガスの生成条件と、生成ガス濃度と、の関係を表す検量線データ）基づいて、標準ガスの流量、標準空気の流量及び低濃度標準ガスの流量を算出し、当該算出された流量になるよう、ガス濃度調整部１７に、標準ガスの流量、標準空気の流量及び、標準ガスの流量及び低濃度標準ガスの流量を調整させる。
すなわち、ＣＰＵ５１は、“（第１低濃度標準ガスの濃度として予め設定された濃度）＝（第１ガス混合部１１に導入する標準ガスの濃度）×（第１ガス混合部１１に導入する標準ガスの流量）／（（第１ガス混合部１１に導入する標準ガスの流量）＋（第１ガス混合部１１に導入する標準空気の流量））”と、“（第Ｍ低濃度標準ガスの濃度として予め設定された濃度）＝（第Ｍガス混合部に導入する第Ｍ−１低濃度標準ガスの濃度）×（第Ｍガス混合部に導入する第Ｍ−１低濃度標準ガスの流量）／（（第Ｍガス混合部に導入する第Ｍ−１低濃度標準ガスの流量）＋（第Ｍガス混合部に導入する標準空気の流量））”と、を満たす標準ガスの流量、標準空気の流量及び低濃度標準ガスの流量を算出し、当該算出された流量になるよう、ガス濃度調整部１７に、標準ガスの流量、標準空気の流量及び低濃度標準ガスの流量を調整させる。ただし、実際の各低濃度標準ガスの設定濃度は生成濃度検量線データとの対応から一意的に決定されることになる。
ＣＰＵ５１は、かかるガス濃度調整制御プログラム５３５を実行することによってガス濃度調整制御手段として機能する。
【００７３】
切替制御プログラム５３６は、例えば、ガス供給ラインＬ３によりガスセンサＳに供給されるガスが第１〜第４低濃度標準ガスのうちの何れか１つになるよう、切替部１８に切替させる機能を、ＣＰＵ５１に実現させる。
すなわち、ＣＰＵ５１は、切替部１８により、ガスセンサＳに供給されるガスの種類を切り替えることによって、ガスセンサＳに供給されるガスの濃度を切り替える。
【００７４】
供給ガス流量調整制御プログラム５３７は、例えば、センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳに供給されるガスの流量が所定の流量になるよう、供給ガス流量調整部４１にガス供給ラインＬ３により供給されるガスの流量を調整させる機能を、ＣＰＵ５１に実現させる。
なお、センサ評価システム１に複数のガスセンサＳが装着されている場合、ＣＰＵ５１は、当該複数のガスセンサＳの各々に供給されるガスの流量が所定の流量になるよう、供給ガス調整部４１にガス供給ラインＬ３により供給されるガスの流量をそれぞれ調整させるようになっている。
ここで、所定の流量とは、例えば、予め設定された流量であり、例えば、ユーザによる操作部４６の操作によって適宜変更可能である。
ＣＰＵ５１は、かかる供給ガス流量調整制御プログラム５３７を実行することによって、供給ガス流量調整制御手段として機能する。
【００７５】
＜センサ評価処理＞
次に、本実施形態のセンサ評価システム１によるガスセンサＳの評価に関する処理について、図４のフローチャートを参照して説明する。
【００７６】
センサ評価システム１によるガスセンサＳの評価に際して、ユーザは、まず、センサ装着部３０にガスセンサＳを装着し、そして、操作部４６を操作してセンサ評価システム１内の洗浄を開始するよう指示する。
ユーザ（操作部４６）によりセンサ評価システム１内の洗浄を開始するよう指示されると、ＣＰＵ５１は、まず、センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳの温度の調整、ガス生成部１０が備える各ガス混合部の温度の調整、センサ評価システム１が備える各ラインの温度の調整を開始する（ステップＳ１）。そして、ＣＰＵ５１は、例えば、ガスセンサＳの評価（ステップＳ１０）が終了した時点で、これらの調整を終了するようになっている。
【００７７】
具体的には、ＣＰＵ５１は、センサ温度調整制御プログラム５３１を実行して、ガスセンサＳの温度が所定の温度（例えば、３０℃）になるよう、センサ温度調整部３６にガスセンサＳの温度を調整させる。
また、ＣＰＵ５１は、混合部温度調整制御プログラム５３３を実行して、各ガス混合部の温度が室温より高い所定の温度（例えば、３８℃）になるよう、混合部温度調整部３９に各ガス混合部の温度を調整させる。
また、ＣＰＵ５１は、ライン温度調整制御プログラム５３４を実行して、各ラインの温度が室温より高い所定の温度（例えば、３８℃）になるよう、ライン温度調整部４０に各ラインの温度を調整させる。
なお、各ガス混合部の温度の調整及び各ラインの温度の調整を、ステップＳ１で開始して、ステップＳ１０が終了した時点で終了するようにしたが、これに限ることはなく、例えば、常時（すなわち、センサ評価処理（図４）を実行していない間も）行うようにしても良い。これにより、センサ評価処理を実行していない間も、室温の変化によってセンサ評価システム１の内部に結露が生じるのを防ぐことができる。
【００７８】
次いで、ＣＰＵ５１は、第１ライン洗浄処理を所定時間（例えば、１時間）実行する（ステップＳ２）。
具体的には、ＣＰＵ５１は、例えば、標準空気貯蔵部３２ａ、フィルタ３２ｂ及び第２ＭＦＣ３２の内部並びにこれらを接続するラインの内部が洗浄されるよう、バルブ・フローメータ制御部４２に、例えば、各開閉バルブ及び各フローメータが全て閉まっている状態から、第１１開閉バルブＶａ１１を開けるよう指示するとともに、第２ＭＦＣ３２に適切な流量を設定して、第２ＭＦＣ３２や真空ポンプ３３に動作するよう指示する。
これにより、標準空気貯蔵部３２ａ、フィルタ３２ｂ及び第２ＭＦＣ３２の内部並びにこれらを接続するラインの内部のガスが排気部３３ａを介してセンサ評価システム１の外部に排気されて洗浄されるとともに、希釈用ガスラインＬ２における第２０フローメータＦ２０及び第２１フローメータＦ２１の直前までが標準空気で満たされる。
【００７９】
次いで、第１ライン洗浄処理の実行が終了すると、ＣＰＵ５１は、第１排気処理を所定時間（例えば、１時間）実行する（ステップＳ３）。
具体的には、ＣＰＵ５１は、例えば、標準空気が、各ガス混合部を経由して排気されるよう、バルブ・フローメータ制御部４２に、例えば、第１切替バルブＶｂ１〜第４切替バルブＶｂ４を生成部用排気部１５側に切り替え、第１１開閉バルブＶａ１１を閉めて、第２０フローメータＦ２０、第２７フローメータＦ２７、第１８フローメータＦ１８、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４、第６フローメータＦ６〜第８フローメータＦ８、第５開閉バルブＶａ５〜第８開閉バルブＶａ８を開けるよう指示する。
【００８０】
次いで、第１排気処理の実行が終了すると、ＣＰＵ５１は、第２排気処理を所定時間（例えば、１時間）実行する（ステップＳ４）。
具体的には、ＣＰＵ５１は、標準空気が、センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳを経由して排気されるよう、バルブ・フローメータ制御部４２に、例えば、第２７フローメータＦ２７を閉じて、第２１フローメータＦ２１〜第２６フローメータＦ２６を開けるよう指示する。
【００８１】
ここで、ＣＰＵ５１は、例えば、ステップＳ４において、ガスセンサＳに供給されるガスの流量の調整、ガスセンサＳの湿度の調整を開始し、例えば、ガスセンサＳの評価（ステップＳ１０）が終了した時点で、これらの調整を終了するようになっている。
具体的には、ＣＰＵ５１は、供給ガス流量調整制御プログラム５３７を実行して、ガスセンサＳに供給されるガスの流量が所定の流量（例えば、４０ｓｃｃｍ）になるよう、供給ガス流量調整部４１にガス供給ラインＬ３により供給されるガスの流量の調整を開始させる。すなわち、供給ガス流量調整部４１は、第２３フローメータＦ２３の流量として流量１２０ｓｃｃｍ、第１４フローメータＦ２４〜第１６フローメータＦ２６の流量として流量４０ｓｃｃｍを設定する。
また、ＣＰＵ５１は、センサ湿度調整制御プログラム５３２を実行して、ガスセンサＳの湿度が所定の湿度（例えば、９０％）になるよう、センサ湿度調整部３８にガスセンサＳの湿度を調整させる。
【００８２】
また、第１ライン洗浄処理の実行が終了すると、ＣＰＵ５１は、第２ライン洗浄処理を所定時間（例えば、１時間）実行する（ステップＳ５）。
具体的には、ＣＰＵ５１は、例えば、標準ガス貯蔵部３１ａ、フィルタ３１ｂ及び第１ＭＦＣ３１の内部並びにこれらを接続するラインの内部が洗浄されるよう、バルブ・フローメータ制御部４２に、第１１開閉バルブＶａ１１を閉めて、第１０開閉バルブＶａ１０を開けるよう指示するとともに、第１ＭＦＣ３１に適切な流量を設定して、第１ＭＦＣ３１に動作するよう指示する。
これにより、標準ガス貯蔵部３１ａ、フィルタ３１ｂ及び第１ＭＦＣ３１の内部並びにこれらを接続するラインの内部のガスが排気部３３ａを介してセンサ評価システム１の外部に排気されて洗浄されるとともに、供給ガスラインＬ１における第９開閉バルブＶａ９の直前までが標準ガスで満たされる。
【００８３】
次いで、第２ライン洗浄処理の実行が終了すると、ＣＰＵ５１は、例えば、バルブ・フローメータ制御部４２に、第１０開閉バルブＶａ１０を閉じて、第９開閉バルブＶａ９を開けるよう指示するとともに、真空ポンプ３３に動作を停止するよう指示し、例えば、第２排気処理の実行（ステップＳ４）と平行して、ガス生成部１０によるガスの生成を開始する（ステップＳ６）。
【００８４】
具体的には、ＣＰＵ５１は、ガス濃度調整制御プログラム５３５を実行して、各ガス混合部により生成されるガスの濃度が所定の濃度になるよう、ガス濃度調整部１７にガス混合部により生成されるガスの濃度を調整させる。
例えば、標準ガス貯蔵部３１ａに貯蔵されている標準ガスの濃度が１０００ｐｐｂであり、第１低濃度標準ガスの濃度（所定の濃度）として２００ｐｐｂ、第２低濃度標準ガスの濃度（所定の濃度）として４０ｐｐｂ、第３低濃度標準ガスの濃度（所定の濃度）として８ｐｐｂ、第４低濃度標準ガスの濃度（所定の濃度）として１．６ｐｐｂが設定されている場合、ＣＰＵ５１は、ガス濃度調整部１７に、第１ＭＦＣ３１の流量として流量５ｓｃｃｍ、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４の流量として流量２０ｓｃｃｍ、第６フローメータＦ６〜第８フローメータＦ８の流量として流量５ｓｃｃｍ、第９フローメータＦ９〜第１２フローメータＦ１２の流量として流量５ｓｃｃｍを設定させるとともに、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４の流量が２０ｓｃｃｍとなるよう、第２ＭＦＣ３２、第２０フローメータＦ２０〜第２２フローメータＦ２２、第５フローメータＦ５、第１８フローメータＦ１８等の流量を、例えば、ガスセンサＳの評価（ステップＳ１０）が終了するまで調整させる。したがって、後述するように、ステップＳ７で、第１８フローメータＦ１８は閉じられるが、この段階で、ガス濃度調整部１７は、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４の流量が２０ｓｃｃｍとなるよう、第２ＭＦＣ３２、第２０フローメータＦ２０〜第２２フローメータＦ２２、第５フローメータＦ５等の流量を再度調整する。
【００８５】
次いで、ガスの生成の開始から所定時間（生成された低濃度標準ガスの濃度が十分安定する時間（例えば、３時間））経過後、ＣＰＵ５１は、第２排気処理の実行（ステップＳ４）が終了したことを確認すると、バルブ・フローメータ制御部４２に、第１８フローメータＦ１８を閉じるよう指示し、各ガス混合部により生成されたガスを、捕集管１６ａにより捕集する（ステップＳ７）。
具体的には、ＣＰＵ５１は、各ガス混合部により生成されたガスが、捕集管１６ａに捕集されるよう、バルブ・フローメータ制御部４２に、例えば、第５開閉バルブＶａ５〜第８開閉バルブＶａ８を閉じて、第１開閉バルブＶａ１〜第４開閉バルブＶａ４を開けるよう指示する。
そして、ＣＰＵ５１は、エアーサンプラー１６ａ等に動作を開始するよう指示する。
【００８６】
次に、捕集開始から所定時間（例えば、３０分）が経過して、所定量（例えば、２０Ｌ）のガスが捕集管１６ａに捕集された後、ＣＰＵ５１は、各ガス混合部により生成されたガスが、生成部用排気部１５により排気されるよう、バルブ・フローメータ制御部４２に、例えば、第１開閉バルブＶａ１〜第４開閉バルブＶａ４を閉じて、第５開閉バルブＶａ５〜第８開閉バルブＶａ８を開けるよう指示する。
【００８７】
次いで、ＣＰＵ５１は、ガス濃度測定部１６に、各ガス混合部により生成されて捕集管１６ａに捕集されたガスの濃度をそれぞれ測定させて（ステップＳ８）、当該測定されたガスの濃度を各ガス混合部により生成されたガスの濃度としてＲＡＭ５２等に記憶させる（ステップＳ９）。
具体的には、ＣＰＵ５１は、第１ガス混合部１１により生成されたガスの濃度の測定値を第１低濃度標準ガスの濃度として記憶させ、第２ガス混合部１２により生成されたガスの濃度の測定値を第２低濃度標準ガスの濃度として記憶させ、第３ガス混合部１３により生成されたガスの濃度の測定値を第３低濃度標準ガスの濃度として記憶させ、第４ガス混合部１４により生成されたガスの濃度の測定値を第４低濃度標準ガスの濃度として記憶させる。これにより、ガス生成部１０により生成されたガスの濃度が規定される。
【００８８】
次いで、ＣＰＵ５１は、供給するガスの種類（供給するガスの濃度）を切り替えながら、ガスセンサＳの評価を行う（ステップＳ１０）。
【００８９】
具体的には、ＣＰＵ５１は、切替制御プログラム５３６を実行して、第４ガス混合部１４により生成されたガス（第４低濃度標準ガス）が、ガスセンサＳに供給されるよう、切替部１８に、例えば、第１切替バルブＶｂ１〜第３切替バルブＶｂ３を生成部用排気部１５側にしたまま、第４切替バルブＶｂ４をガス供給ラインＬ３側に切り替えよう指示するとともに、計測部４３に、ガスセンサＳからの信号値を計測するよう指示する。
【００９０】
次いで、ＣＰＵ５１は、切替制御プログラム５３６を実行して、第３ガス混合部１３により生成されたガス（第３低濃度標準ガス）が、ガスセンサＳに供給されるよう、切替部１８に、例えば、第１切替バルブＶｂ１、第２切替バルブＶｂ２を生成部用排気部１５側にしたまま、第４切替バルブＶｂ４を生成用排気部１５側に切り替えて、第３切替バルブＶｂ３をガス供給ラインＬ３側に切り替えるよう指示するとともに、計測部４３に、ガスセンサＳからの信号値を計測するよう指示する。
【００９１】
次いで、ＣＰＵ５１は、切替制御プログラム５３６を実行して、第２ガス混合部１２により生成されたガス（第２低濃度標準ガス）が、ガスセンサＳに供給されるよう、切替部１８に、例えば、第１切替バルブＶｂ１、第４切替バルブＶｂ４を生成部用排気部１５側にしたまま、第３切替バルブＶｂ３を生成用排気部１５側に切り替えて、第２切替バルブＶｂ２をガス供給ラインＬ３側に切り替えるよう指示するとともに、計測部４３に、ガスセンサＳからの信号値を計測するよう指示する。
【００９２】
次いで、ＣＰＵ５１は、切替制御プログラム５３６を実行して、第１ガス混合部１２により生成されたガス（第１低濃度標準ガス）が、ガスセンサＳに供給されるよう、切替部１８に、例えば、第３切替バルブＶｂ３、第４切替バルブＶｂ４を生成部用排気部１５側にしたまま、第２切替バルブＶｂ２を生成用排気部１５側に切り替えて、第１切替バルブＶｂ１をガス供給ラインＬ３側に切り替えるよう指示するとともに、計測部４３に、ガスセンサＳからの信号値を計測するよう指示する。
【００９３】
次いで、ＣＰＵ５１は、例えば、データ処理部４４に、計測部４３による計測結果を処理させて、当該計測結果に基づく数値データ（例えば、評価対象センサ（ガスセンサＳ）の検量線データなど）を作成させ、表示部４５に、当該数値データに基づく数値情報等を表示させ、本処理を終了する。
ここで、ガスセンサＳに供給するガスを切り替える度に、第２排気処理（標準空気を、センサ装着部３０に装着されたガスセンサＳを経由して排気する処理）を実行するようにしても良い。これにより、センサのベースラインを回復させ、初期状態へと戻すことができる。
また、ガスセンサＳの評価を繰り返し行う際も、ガスセンサＳの評価を繰り返し行う度に、第２排気処理を実行するようにしても良い。これにより、センサのベースラインを回復させ、初期状態へと戻すことができる。
また、各ガスセンサＳの温度や湿度を変化させて、評価を行うことにより、温度依存性や湿度依存性などガスセンサの環境試験を行うこともできる。
なお、上記したセンサ評価処理では、供給するガスの種類を第４低濃度標準ガス→第３低濃度標準ガス→第２低濃度標準ガス→第１低濃度標準ガスの順に低濃度標準ガスの種類を切り替えるようにしたが、低濃度標準ガスの種類の切り替え順は任意である。
【実施例１】
【００９４】
以下、具体的な実施例によって本発明を説明するが、発明はこれらに限定されるものではない。
【００９５】
本実施例では、標準ガスとしてホルムアルデヒドガス（濃度１０００ｐｐｂ）を用い、各ガス混合部により生成されたガスの濃度の実測値と、理論値と、を比較した。
【００９６】
まず、第１ＭＦＣ３１に流量５ｓｃｃｍを設定し、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４の流量として流量１０ｓｃｃｍを設定し、第６フローメータＦ６〜第８フローメータＦ８の流量として流量５ｓｃｃｍを設定して、ガス生成部１０にガスを生成させた。
次いで、各ガス混合部により生成されたガスを捕集管１６ａでそれぞれ捕集し、ＤＮＰＨ−ＨＰＬＣ法によりホルムアルデヒド濃度の測定をそれぞれ行った。その結果を図５に示す。
【００９７】
図５においては、黒菱形プロット（◆）でＤＮＰＨ−ＨＰＬＣ法により測定したホルムアルデヒド濃度の実測値を示し、白菱形プロット（◇）で、第１ＭＦＣ３１、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４、第６フローメータＦ６〜第８フローメータＦ８に設定した流量から算出されるホルムアルデヒド濃度の理論値を示す。
具体的には、第１ガス混合部１１により生成されるガス（第１低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“１０００ｐｐｂ×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋１０ｓｃｃｍ）”となり、第２ガス混合部１２により生成されるガス（第２低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“（第１低濃度標準ガスの濃度）×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋１０ｓｃｃｍ）”となり、第３ガス混合部１３により生成されるガス（第３低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“（第２低濃度標準ガスの濃度）×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋１０ｓｃｃｍ）”となり、第４ガス混合部１４により生成されるガス（第４低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“（第３低濃度標準ガスの濃度）×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋１０ｓｃｃｍ）”となる。
【００９８】
また、第１ＭＦＣ３１に流量５ｓｃｃｍを設定し、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４の流量として流量２０ｓｃｃｍを設定し、第６フローメータＦ６〜第８フローメータＦ８の流量として流量５ｓｃｃｍを設定して、ガス生成部１０にガスを生成させた。
次いで、各ガス混合部により生成されたガスを捕集管１６ａでそれぞれ捕集し、ＤＮＰＨ−ＨＰＬＣ法によりホルムアルデヒド濃度の測定をそれぞれ行った。その結果を図６に示す。
【００９９】
図６においては、黒四角プロット（■）でＤＮＰＨ−ＨＰＬＣ法により測定したホルムアルデヒド濃度の実測値を示し、白四角プロット（□）で、第１ＭＦＣ３１、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４、第６フローメータＦ６〜第８フローメータＦ８に設定した流量から算出されるホルムアルデヒド濃度の理論値を示す。
具体的には、第１ガス混合部１１により生成されるガス（第１低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“１０００ｐｐｂ×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋２０ｓｃｃｍ）”となり、第２ガス混合部１２により生成されるガス（第２低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“（第１低濃度標準ガスの濃度）×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋２０ｓｃｃｍ）”となり、第３ガス混合部１３により生成されるガス（第３低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“（第２低濃度標準ガスの濃度）×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋２０ｓｃｃｍ）”となり、第４ガス混合部１４により生成されるガス（第４低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“（第３低濃度標準ガスの濃度）×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋２０ｓｃｃｍ）”となる。
【０１００】
また、第１ＭＦＣ３１に流量５ｓｃｃｍを設定し、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４の流量として流量３０ｓｃｃｍを設定し、第６フローメータＦ６〜第８フローメータＦ８の流量として流量５ｓｃｃｍを設定して、ガス生成部１０にガスを生成させた。
次いで、各ガス混合部により生成されたガスを捕集管１６ａでそれぞれ捕集し、ＤＮＰＨ−ＨＰＬＣ法によりホルムアルデヒド濃度の測定をそれぞれ行った。その結果を図７に示す。
【０１０１】
図７においては、黒三角プロット（▲）でＤＮＰＨ−ＨＰＬＣ法により測定したホルムアルデヒド濃度の実測値を示し、白三角プロット（△）で、第１ＭＦＣ３１、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４、第６フローメータＦ６〜第８フローメータＦ８に設定した流量から算出されるホルムアルデヒド濃度の理論値を示す。
具体的には、第１ガス混合部１１により生成されるガス（第１低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“１０００ｐｐｂ×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋３０ｓｃｃｍ）”となり、第２ガス混合部１２により生成されるガス（第２低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“（第１低濃度標準ガスの濃度）×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋３０ｓｃｃｍ）”となり、第３ガス混合部１３により生成されるガス（第３低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“（第２低濃度標準ガスの濃度）×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋３０ｓｃｃｍ）”となり、第４ガス混合部１４により生成されるガス（第４低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“（第３低濃度標準ガスの濃度）×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋３０ｓｃｃｍ）となる。
【０１０２】
また、第１ＭＦＣ３１に流量５ｓｃｃｍを設定し、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４の流量として流量４０ｓｃｃｍを設定し、第６フローメータＦ６〜第８フローメータＦ８の流量として流量５ｓｃｃｍを設定して、ガス生成部１０にガスを生成させた。
次いで、各ガス混合部により生成されたガスを捕集管１６ａでそれぞれ捕集し、ＤＮＰＨ−ＨＰＬＣ法によりホルムアルデヒド濃度の測定をそれぞれ行った。その結果を図８に示す。
【０１０３】
図８においては、黒丸プロット（●）でＤＮＰＨ−ＨＰＬＣ法により測定したホルムアルデヒド濃度の実測値を示し、白丸プロット（○）で、第１ＭＦＣ３１、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４、第６フローメータＦ６〜第８フローメータＦ８に設定した流量から算出されるホルムアルデヒド濃度の理論値を示す。
具体的には、第１ガス混合部１１により生成されるガス（第１低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“１０００ｐｐｂ×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋４０ｓｃｃｍ）”となり、第２ガス混合部１２により生成されるガス（第２低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“（第１低濃度標準ガスの濃度）×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋４０ｓｃｃｍ）”となり、第３ガス混合部１３により生成されるガス（第３低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“（第２低濃度標準ガスの濃度）×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋４０ｓｃｃｍ）”となり、第４ガス混合部１４により生成されるガス（第４低濃度標準ガス）の濃度の理論値は、“（第３低濃度標準ガスの濃度）×５ｓｃｃｍ／（５ｓｃｃｍ＋４０ｓｃｃｍ）”となる。
【０１０４】
図５〜図８の結果から、標準ガスを希釈していくにつれて、すなわち、ガス混合部が後段になるにつれて、実測値が理論値からややずれていくものの、極低濃度領域においても、ほぼ理論値通りの濃度を有するガスを再現性良く生成できることが分かった。
【０１０５】
以上説明した本実施形態のガス生成装置（ガス生成部１０及び制御部５０）によれば、互いに直列に接続されたＮ個（Ｎは、２≦Ｎを満たす何れか１つの整数）のガス混合部を備え、Ｎ個のガス混合部のうちの第１ガス混合部１１は、標準ガスをガス混合部に導入するための標準ガスラインＬ１と希釈用ガスをガス混合部に導入するための希釈用ガスラインＬ２とガス混合部により生成されたガスを外部に供給するためのガス供給ラインＬ３とに接続され、標準ガスラインＬ１から導入された標準ガスと、希釈用ガスラインＬ２から導入された希釈用ガスと、を混合して第１低濃度標準ガスを生成し、当該生成された第１低濃度標準ガスを第２ガス混合部１２及び／又はガス供給ラインＬ３に導入し、Ｎ個のガス混合部のうちの第Ｍガス混合部（Ｍは、２≦Ｍ≦Ｎを満たす全ての整数）は、希釈用ガスラインＬ２とガス供給ラインとＬ３に接続され、Ｎ個のガス混合部のうちの第Ｍ−１ガス混合部から導入された第Ｍ−１低濃度標準ガスと、希釈用ガスラインＬ２から導入された希釈用ガスと、を混合して第Ｍ低濃度標準ガスを生成し、当該生成された第Ｍ低濃度標準ガスをＮ個のガス混合部のうちの第Ｍ＋１ガス混合部及び／又はガス供給ラインＬ３に導入するようになっている。
すなわち、互いに直列に接続された多段のガス混合部を備えているため、導入されたガスを希釈して生成した低濃度標準ガスを直ちに次段に導入することができ、そして、当該次段で当該導入された低濃度標準ガスを希釈して、より低濃度の低濃度標準ガスを生成できるため、任意濃度の複数の低濃度標準ガスを略同時に生成することができる。
したがって、順次希釈するだけの簡易な構成で、複数種類の濃度の標準ガスを高速に生成することができる。これは、センサの評価などにおいて、濃度の安定化に長時間を要する低濃度標準ガスを用いる場合、時間的、経済的に極めて有効である。
【０１０６】
また、以上説明した本実施形態のガス生成装置（ガス生成部１０及び制御部５０）によれば、ガス供給ラインＬ３により供給されるガスを、第１〜第Ｎ低濃度標準ガスのうちの何れか１つに切り替える切替部１８を備えている。
したがって、所望された濃度の標準ガスのみを供給することができ、また、複数種類の濃度の標準ガスを略同時に生成するので供給する標準ガスを次々に切り替えることができ、使い勝手が良い。
【０１０７】
以上説明した本発明のセンサ評価システム１によれば、ガス生成部１０を備え、ガス供給ラインＬ３は、ガス混合部により生成されたガスをガスセンサＳに供給するようになっている。
すなわち、ガス生成部１０により生成されたガスを用いてガスセンサＳを評価できるため、ガスセンサＳの評価を短時間で行うことができる。
【０１０８】
また、以上説明した本実施形態のセンサ評価システム１によれば、ガスセンサＳの温度を調整するセンサ温度調整部３６を備え、ガスセンサＳの温度が所定の温度になるよう、センサ温度調整部３６に当該ガスセンサＳの温度を調整させるようになっている。
したがって、ガスセンサＳを評価している間、ガスセンサＳ内の温度を一定に保つことができるため、ガスセンサＳの評価を安定して正確に行うことができる。また、ガスセンサＳ内の温度を任意の温度に保つことができるため、評価法の幅が広がると同時に、環境試験に用いることもできる。
【０１０９】
また、以上説明した本実施形態のセンサ評価システム１によれば、希釈用ガスを加湿することにより、ガスセンサＳの湿度を調整するセンサ湿度調整部３８を備え、ガスセンサＳの湿度が所定の湿度になるよう、センサ湿度調整部３８により当該ガスセンサＳの湿度を調整するようになっている。
したがって、ガスセンサＳを評価している間、ガスセンサＳ内の湿度を一定に保つことができるため、ガスセンサＳの評価を安定して正確に行うことができる。また、ガスセンサＳ内の湿度を任意の湿度に保つことができるため、評価法の幅が広がると同時に、環境試験に用いることもできる。
【０１１０】
また、以上説明した本実施形態のセンサ評価システム１によれば、各ガス混合部の温度をそれぞれ調整する混合部温度調整部３９を備え、各ガス混合部の温度が室温より高くなるよう、混合部温度調整部３９により当該各ガス混合部の温度をそれぞれ調整するようになっているとともに、標準ガスラインＬ１、希釈用ガスラインＬ２及びガス供給ラインＬ３の各ラインの温度をそれぞれ調整するライン温度調整部４０を備え、各ラインの温度が室温より高くなるよう、ライン温度調整部４０により当該各ラインの温度をそれぞれ調整するようになっている。
したがって、希釈用ガスを加湿すると、各ガス混合部内や各ライン内に結露が生じてしまう場合があるが、各ガス混合部や各ラインの温度を室温よりも高い温度に保つことができるため、当該結露を防止することができ、ガスセンサＳの評価を安定して正確に行うことができる。
【０１１１】
また、以上説明した本実施形態のセンサ評価システム１によれば、ガス供給ラインＬ３により供給されるガスの流量を調整する供給ガス流量調整部４１を備え、ガスセンサＳに供給されるガスの流量が所定の流量になるよう、供給ガス流量調整部４１によりガス供給ラインＬ３により供給されるガスの流量を調整するようになっている。
したがって、ガスセンサＳを評価している間、供給するガスの流量を一定に保つことができるため、ガスセンサＳの評価を安定して正確に行うことができる。また、供給するガスの流量を任意の流量に保つことができるため、評価法の幅が広がり、使い勝手が良い。
【０１１２】
また、以上説明した本実施形態のセンサ評価システム１によれば、ガス供給ラインＬ３は、第１ガス混合部１１〜第４ガス混合部１４のうちの何れか１つにより生成されたガスを一度に複数のガスセンサＳに供給可能となるよう、ガスセンサＳ側が複数に分岐している。
したがって、一度に複数のガスセンサＳを評価できるので効率が良い。
【０１１３】
なお、本発明は、上記した実施の形態のものに限るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【０１１４】
＜変形例１＞
ガス濃度調整制御プログラム５３５を実行したＣＰＵ５１は、予め設定された所定の濃度に基づいて、標準ガスの流量、標準空気の流量及び低濃度標準ガスの流量を算出し、当該算出された流量になるよう、ガス濃度調整部１７に調整させるようにしたが、これに限ることはなく、例えば、ガス濃度測定部１６により測定された低濃度標準ガスの濃度をガス濃度調整部１７にフィードバックするようにしても良い。
【０１１５】
すなわち、ＣＰＵ５１は、例えば、まず、予め設定された所定の濃度に基づいて、標準ガスの流量、標準空気の流量及び低濃度標準ガスの流量を算出し、当該算出された流量になるよう、ガス濃度調整部１７に調整させ、その後、各ガス混合部により生成される低濃度標準ガスの濃度がそれぞれ当該予め設定された所定の濃度に一致するよう、ガス濃度測定部１６により測定された低濃度標準ガスの濃度に基づいて、ガス濃度調整部１７に更に調整させるようにしても良い。
これにより、ガス濃度調整部１７によって、例えば、まず、標準ガスの流量、標準空気の流量及び低濃度標準ガスの流量が、算出された流量になるよう調整され、その後、標準ガスの流量、標準空気の流量及び低濃度標準ガスの流量のうちの少なくとも何れか１つが、測定された低濃度標準ガスの濃度に基づいて調整されることになる。
【０１１６】
この場合のガスセンサＳの評価処理については、例えば、図９のフローチャートに示すように、ガス濃度測定部１６による測定（ステップＳ８）の後、ＣＰＵ５１は、当該測定された第１〜第４低濃度標準ガスの濃度と、所定の濃度（予め設定された第１〜第４低濃度標準ガスの濃度）と、をそれぞれ比較して、低濃度標準ガスの濃度を調整する必要があるか否かを判断する（ステップＳ２１）。
【０１１７】
ステップＳ２１で、低濃度標準ガスの濃度を調整する必要があると判断すると（ステップＳ２１；Ｙｅｓ）、すなわち、ガス濃度測定部１６により測定された第１〜第４低濃度標準ガスの濃度のうちの何れか１つでも、予め設定された所定の濃度と一致しないものがある場合には、ＣＰＵ５１は、第１〜第４低濃度標準ガスの濃度の全てが予め設定された所定の濃度に一致するよう、ガス濃度調整部１７に標準ガスの流量、標準空気の流量及び低濃度標準ガスの流量のうちの少なくとも何れか１つを調整させ（ステップＳ２２）、ステップＳ８以降の処理を繰り返し行う。
【０１１８】
一方、ステップＳ２１で、低濃度標準ガスの濃度を調整する必要がないと判断すると（ステップＳ２１；Ｎｏ）、すなわち、ガス濃度測定部１６により測定された第１〜第４低濃度標準ガスの濃度の全てが、所定の濃度と一致する場合には、ＣＰＵ５１は、ステップＳ９の処理に移行する。
【０１１９】
以上説明した変形例１のセンサ評価システム１によれば、各ガス混合部により生成されたガスの濃度をそれぞれ測定するガス濃度測定部１６と、標準ガスラインＬ３から導入される標準ガスの流量、希釈用ガスラインＬ２から導入される標準空気の流量及び第Ｍ−１ガス混合部から導入される第Ｍ−１低濃度標準ガスの流量のうちの少なくとも何れか１つを調整することによって、各ガス混合部により生成される低濃度標準ガスの濃度をそれぞれ調整するガス濃度調整部１７と、を備え、各ガス混合部により生成される低濃度標準ガスの濃度がそれぞれ所定の濃度になるよう、ガス濃度測定部１６により測定された低濃度標準ガスの濃度に基づいて、ガス濃度調整部１７に当該各ガス混合部により生成される低濃度標準ガスの濃度をそれぞれ調整させるようになっている。
したがって、予め設定された所定の濃度を有する低濃度標準ガスを確実に生成することができる。
【０１２０】
なお、上記実施形態及び変形例１において、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４の流量として同一の流量を設定し、第６フローメータＦ６〜第８フローメータＦ８の流量として同一の流量を設定するようにしたが、第１フローメータＦ１〜第４フローメータＦ４の流量、第６フローメータＦ６〜第８フローメータＦ８の流量は、予め設定された所定の濃度（第１〜第４低濃度標準ガスの濃度）に従って調整されるのであれば、同一であっても良いし、異なっていても良い。
【０１２１】
また、上記実施形態及び変形例１において、第２４フローメータＦ２４〜第２６フローメータＦ２６の流量として同一の流量を設定するようにしたが、第２４フローメータＦ２４〜第２６フローメータＦ２６の流量は、予め設定された所定の流量に調整されるのであれば、同一であっても良いし、異なっていても良い。
【０１２２】
また、上記実施形態及び変形例１において、ガス供給ラインＬ３におけるガスセンサＳ側の分岐の数、すなわち、センサ評価システム１が備えるセンサ装着部３０の数は、３つに限ることはなく、１つであっても良いし、２つであっても良いし、４つ以上であっても良い。
【０１２３】
また、上記実施形態及び変形例１において、ガス生成部１０にガス濃度測定部１６を備えるようにしたが、ガス生成部１０は、ガス濃度測定部１６を備えていなくても良い。
この場合、生成された低濃度標準ガスの濃度の測定は、ガス生成部１０の外部（センサ評価システム１の内部も含むし、外部も含む）に備えられた外部装置（濃度測定装置）で行うと良い。外部装置で濃度を測定する場合、上記実施形態においては、当該外部装置により測定された濃度を用いてガスセンサＳの評価を行うと良い。また、変形例１においては、当該外部装置により測定された濃度をガス濃度調整部１７にフィードバックすると良い。
【０１２４】
また、上記実施形態及び変形例１において、センサ評価システム１に、生成部用排気部１５と、システム用排気部３４と、の２つの排気部を備えるようにしたが、これに限ることはなく、生成部用排気部１５とシステム用排気部３４とを一体化して、１つの排気部としても良い。
【０１２５】
また、上記実施形態及び変形例１において、室温よりも高い温度が予め設定されており、当該設定されている温度になるよう、各ガス混合部や各ラインの温度を調整するようにしたが、これに限ることはなく、例えば、センサ評価システム１に室温測定部を備えて、当該室温測定部により測定された室温よりも高い温度になるよう、各ガス混合部や各ラインの温度を調整するようにしても良い。
【０１２６】
また、上記実施形態及び変形例１において、希釈用ガスは、標準空気に限ることはなく、標準ガスを希釈できるガスであれば任意であり、例えば、標準空気のように、標準ガス中に含まれる特定物質（例えば、標準ガスがホルムアルデヒドガスである場合はホルムアルデヒド）を含まないガスが好ましい。
【０１２７】
また、上記実施形態及び変形例１において、ガス生成部１０が備えるガス混合部の数は、４つに限ることはなく、複数であれば任意である。すなわち、“Ｎ”は、“Ｎ＝４”に限ることはなく、“２≦Ｎ”を満たす何れか１つの整数であれば任意である。
【０１２８】
また、上記実施形態及び変形例１において、各ガス混合部により生成されたガスのうちから１種類のガスを選択してガス供給ラインＬ３によりガスセンサＳに供給するようにしたが、これに限ることはなく、例えば、Ｎ個のガス混合部により生成されたＮ種類のガスのうちの任意のＡ種類（Ａは、Ａ≦Ｎを満たす整数）を選択してＢ個（Ｂは任意の整数）のガスセンサＳに任意の組み合わせで供給するマトリックス型のガス供給ラインＬ３を構成するようにしても良い。
【０１２９】
また、上記実施形態及び変形例１において、各ガス混合部により生成されたガスをガスセンサＳに供給して、ガスセンサＳを評価するようにしたが、これに限ることはなく、例えば、第１８フローメータＦ１８を介して標準ガスをガスセンサＳに供給するとともに、各ガス混合部により生成されたガスをガスセンサＳに供給して、ガスセンサＳを評価するようにしても良い。
【図面の簡単な説明】
【０１３０】
【図１】本発明を適用した一実施形態のセンサ評価システムの構成を模式的に示す図である。
【図２】本発明を適用した一実施形態のセンサ評価システムが備えるガス生成部の構成を模式的に示す図である。
【図３】本発明を適用した一実施形態のセンサ評価システムの機能的構成を示すブロック図である。
【図４】本発明を適用した一実施形態のセンサ評価システムによるガスセンサの評価に関する処理について説明するためのフローチャートである。
【図５】各ガス混合部により生成されたガスの濃度の実測値と、理論値と、の比較結果を示す図である。
【図６】各ガス混合部により生成されたガスの濃度の実測値と、理論値と、の比較結果を示す図である。
【図７】各ガス混合部により生成されたガスの濃度の実測値と、理論値と、の比較結果を示す図である。
【図８】各ガス混合部により生成されたガスの濃度の実測値と、理論値と、の比較結果を示す図である。
【図９】変形例１のセンサ評価システムによるガスセンサの評価に関する処理について説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
【０１３１】
１  センサ評価システム
１０  ガス生成部（ガス生成装置）
１１  第１ガス混合部
１２  第２ガス混合部
１３  第３ガス混合部
１４  第４ガス混合部
１６  ガス濃度測定部（ガス濃度測定手段）
１７  ガス濃度調整部（ガス濃度調整手段）
１８  切替部（切替手段）
３１  第１ＭＦＣ（ガス濃度調整手段）
３２  第２ＭＦＣ（ガス濃度調整手段）
３２ｃ  加湿部（センサ湿度調整手段）
３６  センサ温度調整部（センサ温度調整手段）
３８  センサ湿度調整部（センサ湿度調整手段）
３９  混合部温度調整部（混合部温度調整手段）
４０  ライン温度調整部（ライン温度調整手段）
４１  供給ガス流量調整部（供給ガス流量調整手段）
５１  ＣＰＵ（ガス生成装置（ガス濃度調整制御手段）、センサ温度調整制御手段、センサ湿度調整制御手段、混合部温度調整制御手段、ライン温度調整制御手段、供給ガス流量調整制御手段）
５３１  センサ温度調整制御プログラム（センサ温度調整制御手段）
５３２  センサ湿度調整制御プログラム（センサ湿度調整制御手段）
５３３  混合部温度調整制御プログラム（混合部温度調整制御手段）
５３４  ライン温度調整制御プログラム（ライン温度調整制御手段）
５３５  ガス濃度調整制御プログラム（ガス生成装置（ガス濃度調整制御手段））
５３６  切替制御プログラム（ガス生成装置）
５３７  供給ガス流量調整制御プログラム（供給ガス流量調整制御手段）
Ｆ１  第１フローメータ（ガス濃度調整手段）
Ｆ２  第２フローメータ（ガス濃度調整手段）
Ｆ３  第３フローメータ（ガス濃度調整手段）
Ｆ４  第４フローメータ（ガス濃度調整手段）
Ｆ５  第５フローメータ（ガス濃度調整手段）
Ｆ６  第６フローメータ（ガス濃度調整手段）
Ｆ７  第７フローメータ（ガス濃度調整手段）
Ｆ８  第８フローメータ（ガス濃度調整手段）
Ｆ９  第９フローメータ（ガス濃度調整手段）
Ｆ１０  第１０フローメータ（ガス濃度調整手段）
Ｆ１１  第１１フローメータ（ガス濃度調整手段）
Ｆ２０  第２０開閉バルブ（センサ湿度調整手段）
Ｆ２１  第２１開閉バルブ（センサ湿度調整手段）
Ｆ２２  第２３フローメータ（センサ湿度調整手段）
Ｆ２３  第２３フローメータ（供給ガス流量調整手段）
Ｆ２４  第２４フローメータ（供給ガス流量調整手段）
Ｆ２５  第２５フローメータ（供給ガス流量調整手段）
Ｆ２６  第２６フローメータ（供給ガス流量調整手段）
Ｆ２７  第２７フローメータ（供給ガス流量調整手段）
Ｌ１  標準ガスライン
Ｌ２  希釈用ガスライン
Ｌ３  ガス供給ライン
Ｓ  ガスセンサ
Ｖｂ１  第１切替バルブ（切替手段）
Ｖｂ２  第２切替バルブ（切替手段）
Ｖｂ３  第３切替バルブ（切替手段）
Ｖｂ４  第４切替バルブ（切替手段）
【図１】
2010107337.tif 000003
【図２】
2010107337.tif 000004
【図３】
2010107337.tif 000005
【図４】
2010107337.tif 000006
【図５】
2010107337.tif 000007
【図６】
2010107337.tif 000008
【図７】
2010107337.tif 000009
【図８】
2010107337.tif 000010
【図９】
2010107337.tif 000011