(57)【要約】【課題】厚さにばらつきのある各平行平板の積層の仕方を工夫することにより、最終的に得られる光学素子の接合面の位置ズレを抑えて、各光学素子におけるビームシフト精度を容易に確保することができる光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】複数枚の平行平板を積層して切断し、さらに積層分割体をさらに積み上げて切断することにより、複数の光学素子を形成する。平行平板の積層工程では、各切断面に対する前記接合面の位置ズレが、いずれの切断位置においても所定範囲内に収まるように、厚さが前記基準値以上または前記基準値よりも大きいランクに属する前記平行平板と厚さが前記基準値未満または前記基準値以下のランクに属する前記平行平板とを選択して積層する。【選択図】図２
2010140038.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚の透明媒質からなる平行平板を接着剤を介して積層することにより、積層体を形成する第１の工程と、
所定の傾斜角度で、かつ、所定のピッチで積層体を切断することにより、複数の積層分割体を形成する第２の工程と、
複数の前記積層分割体を積み上げて前記第２の工程での切断面に垂直で、かつ前記平行平板が積層されている方向に所定のピッチで切断することにより、透明媒質の貼り合わせからなる複数の光学素子を形成する第３の工程とを有する光学素子の製造方法であって、
前記第３の工程では、前記第３の工程におけるいずれかの切断面が前記平行平板の境界である接合面に対して所定の位置関係を満たすように決められた切断基準位置を基準に、所定のピッチで前記積層分割体を切断し、
複数の前記平行平板を前記平行平板の厚さと厚さの基準値との差に応じて複数のランクに区分けする前工程の後、
前記第１の工程では、前記第３の工程での各切断面に対する前記接合面の位置ズレが、いずれの切断位置においても所定範囲内に収まるように、厚さが前記基準値以上または前記基準値よりも大きいランクに属する前記平行平板と厚さが前記基準値未満または前記基準値以下のランクに属する前記平行平板とを選択して積層することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】
各ランクには、各ランクが許容する前記平行平板の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値が対応付けられており、かつ、上記整数値が、厚さが前記基準値以上または前記基準値よりも大きい前記平行平板が属するランクと、厚さが前記基準値未満または前記基準値以下の前記平行平板が属するランクとで互いに逆符号となっている場合に、
前記第１の工程では、積層されるそれぞれの前記平行平板に対応する整数値の累積値が、どの前記平行平板までの累積値をとっても所定範囲内に収まるように、前記複数のランクから前記平行平板を選択して積層することを特徴とする請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記複数のランクには、それぞれのランクが許容する前記平行平板の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値がそれぞれ対応付けられており、かつ、上記整数値が、厚さが基準値以上または基準値よりも大きい前記平行平板が属するランクと、厚さが基準値未満または基準値以下の前記平行平板が属するランクとで互いに逆符号となっている場合に、
前記第１の工程では、連続して積層される所定枚数の前記平行平板が属する各ランクに対応する整数値の平均値が、連続して積層される所定枚数の前記平行平板の異なる組み合わせごとに所定範囲内に収まるように、前記複数のランクから前記平行平板を選択して積層することを特徴とする請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】
厚さが前記基準値以上または前記基準値よりも大きい前記平行平板が属する複数のランクの中で、許容される前記平行平板の厚さの最小値が最も小さいランクは、第１の整数値に対応付けられている一方、他のランクのそれぞれは、各ランクが許容する前記平行平板の厚さの最小値の小さいほうから順に、第１の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第１の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値に対応付けられており、
厚さが前記基準値未満または前記基準値以下の前記平行平板が属する複数のランクの中で、許容される前記平行平板の厚さの最小値が最も大きいランクは、第１の整数値と絶対値が異なる第２の整数値に対応付けられている一方、他のランクのそれぞれは、各ランクが許容する前記平行平板の厚さの最小値の大きいほうから順に、第２の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第２の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値に対応付けられていることを特徴とする請求項２または３に記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記複数のランクには、それぞれのランクが許容する前記平行平板の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値が対応付けられており、かつ、上記整数値が、厚さが基準値から所定範囲内に収まる前記平行平板が属するランクについては０であり、このランク以外のランクであって、厚さが基準値よりも大きい前記平行平板が属するランクと、厚さが基準値よりも小さい前記平行平板が属するランクとで互いに逆符号の整数値となっている場合に、
前記第１の工程では、積層されるそれぞれの前記平行平板に対応する整数値の累積値が、どの前記平行平板までの累積値をとっても所定範囲内に収まるように、前記複数のランクから前記平行平板を選択して積層することを特徴とする請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
前記複数のランクには、それぞれのランクが許容する前記平行平板の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値が対応付けられており、かつ、上記整数値が、厚さが基準値から所定範囲内に収まる前記平行平板が属するランクについては０であり、このランク以外のランクであって、厚さが基準値よりも大きい前記平行平板が属するランクと、厚さが基準値よりも小さい前記平行平板が属するランクとで互いに逆符号の整数値となっている場合に、
前記第１の工程では、連続して積層される所定枚数の前記平行平板が属するそれぞれのランクに対応する整数値の平均値が、連続して積層される所定枚数の前記平行平板の異なる組み合わせごとに所定範囲内に収まるように、前記複数のランクから前記平行平板を選択して積層することを特徴とする請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項７】
整数値０のランク以外のランクであって、厚さが前記基準値よりも大きい平行平板が属する複数のランクの中で、許容される前記平行平板の厚さの最小値が最も小さいランクは、第１の整数値に対応付けられている一方、他のランクのそれぞれは、各ランクが許容する前記平行平板の厚さの最小値の小さいほうから順に、第１の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第１の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値に対応付けられており、
整数値０のランク以外のランクであって、厚さが基準値よりも小さい前記平行平板が属する複数のランクの中で、許容される前記平行平板の厚さの最小値が最も大きいランクは、第１の整数値と絶対値が異なる第２の整数値に対応付けられている一方、他のランクのそれぞれは、各ランクが許容する前記平行平板の厚さの最小値の大きいほうから順に、第２の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第２の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値に対応付けられていることを特徴とする請求項５または６に記載の光学素子の製造方法。
【請求項８】
前記第１の工程では、整数値の符号が異なるランクに属する前記平行平板を交互に積層することを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項９】
前記第１の工程では、整数値の絶対値が同じランクに属する前記平行平板を交互に積層することを特徴とする請求項８に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１０】
前記第１の工程で積層する平行平板の枚数が偶数である場合、
前記第１の工程では、整数値の符号が正のランクに属する前記平行平板と、整数値の符号が負のランクに属する前記平行平板とを同じ枚数ずつ積層することを特徴とする請求項２から９のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１１】
前記第１の工程で積層する平行平板の枚数が奇数である場合、
前記第１の工程では、整数値の符号が正のランクに属する前記平行平板と、整数値の符号が負のランクに属する前記平行平板とを同じ枚数ずつ積層するとともに、整数値が０のランクに属する前記平行平板を奇数枚積層することを特徴とする請求項５から７のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１２】
前記第３の工程にて複数の前記積層分割体を所定のピッチで切断する際の切断基準位置は、それぞれの前記積層分割体における切断ピッチをとる方向の中央または略中央の位置であることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１３】
それぞれの前記平行平板の表面に光学薄膜を形成する第４の工程をさらに有しており、
前記第４の工程は、前記第１の工程の前に行われることを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１４】
それぞれの前記積層分割体において、前記第２の工程での切断時に切断面となった面の少なくとも１つを研磨する第５の工程をさらに有しており、
前記第５の工程は、前記第３の工程の前に行われることを特徴とする請求項１から１３のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１５】
前記第３の工程では、複数の前記積層分割体を積み上げて所定のピッチで切断した後、その切断時に切断面となった面の少なくとも１つを研磨することを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の透明な平行平板の積層および切断を繰り返すことによって、複数の透明媒質の貼り合わせからなる光学素子を製造する光学素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、光ピックアップに用いられるプリズムの製法として、例えば特許文献１に開示された製法がある。この製法について、本発明の製法における製造工程を示す図２（ａ）〜図２（ｅ）を援用して簡単に説明すると、まず、図２（ａ）に示すように、ビームスプリット用光学薄膜を施した複数の平行平板１１を、光学用接着剤（例えば紫外線硬化型接着剤）を用いて階段状に積層し、積層体１を形成する。そして、積層体１を４５度の角度で切断する。これにより、図２（ｂ）に示すように、複数の積層分割体１２が形成される。
【０００３】
続いて、図２（ｃ）に示すように、複数の積層分割体１２を再度上方に積み上げて仮接合または補助板等で固定し、これらを垂直方向に切断する。そして、仮接合部を遊離することにより、図２（ｄ）に示すように、２つの透明媒質の貼り合わせからなる複数の棒状体１３が形成される。最後に、図２（ｅ）に示すように、各棒状体１３を長尺方向に垂直な面で切断することにより、個々のキューブ型のプリズム１４を得る。なお、仮接合部の遊離は、他の段階（例えば図２（ｅ）での切断の後）に行われてもよい。
【０００４】
この製法によれば、比較的安価な板状の硝材（平行平板１１）を使用することができることに加えて、一連の加工工程で多量のプリズム１４を得ることができる。つまり、低いコストでプリズム１４を大量生産することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−１４３２６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、各平行平板１１の厚さには、通常、ばらつきがあるが、特許文献１の製法では、図２（ａ）の工程にて、厚さのばらつきを何ら考慮せずに各平行平板１１を積層している。また、図２（ｃ）の工程では、複数の積層分割体１２を積み上げたものを例えばワイヤーソーで切断することになるが、ワイヤーソーのワイヤーのピッチは一定であり、容易には変更、調整することができない。このため、図２（ａ）の複数の平行平板１１を積層する時点で各平行平板１１の厚さに偏りがあると、図２（ｃ）の工程での切断時に、２つの透明媒質（平行平板１１・１１）の接合面２１の位置が、ワイヤーソーの両端でずれる。
【０００７】
例えば、各平行平板１１が厚さの薄いものに偏っていると、最右端の切断位置にワイヤーを合わせて積層分割体１２を所定ピッチで切断した場合には、図２３（ｂ）に示す最右端のプリズム１４と図２３（ａ）に示す最左端のプリズム１４とで、各接合面２１の位置は図２３（ａ）と図２３（ｂ）に示すようにずれる。逆に、各平行平板１１が厚さの厚いものに偏っていると、最右端の切断位置にワイヤーを合わせて積層分割体１２を所定ピッチで切断した場合には、図２３（ｄ）に示す最右端のプリズム１４と図２３（ｃ）に示す最左端のプリズム１４とで、各接合面２１の位置は図２３（ｃ）と図２３（ｄ）に示すようにずれる。その結果、プリズム１４を光ピックアップに適用した場合に、図２４に示すように、プリズム１４によっては、プリズム１４の入射面中心に入射した光が接合面２１に形成された光学薄膜で反射して出射される際に、出射光の位置が出射面中心からシフトするビームシフトが起こる。
【０００８】
つまり、上述した特許文献１の製法では、厚さのばらつきを考慮せずに各平行平板１１を積層して切断するため、厚さの厚いものばかり、または薄いものばかりに厚さが偏って各平行平板１１が積層され、切断される可能性がある。その場合、最終的に得られる各プリズム１４において接合面の位置ズレが生じ、各プリズム１４においてビームシフト精度を確保することが困難になる。
【０００９】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、厚さにばらつきのある各平行平板の積層の仕方を工夫することにより、最終的に得られる光学素子の接合面の位置ズレを抑えて、各光学素子におけるビームシフト精度を容易に確保することができる光学素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の光学素子の製造方法は、複数枚の透明媒質からなる平行平板を接着剤を介して積層することにより、積層体を形成する第１の工程と、所定の傾斜角度で、かつ、所定のピッチで積層体を切断することにより、複数の積層分割体を形成する第２の工程と、複数の前記積層分割体を積み上げて前記第２の工程での切断面に垂直で、かつ前記平行平板が積層されている方向に所定のピッチで切断することにより、透明媒質の貼り合わせからなる複数の光学素子を形成する第３の工程とを有する光学素子の製造方法であって、前記第３の工程では、前記第３の工程におけるいずれかの切断面が前記平行平板の境界である接合面に対して所定の位置関係を満たすように決められた切断基準位置を基準に、所定のピッチで前記積層分割体を切断し、複数の前記平行平板を前記平行平板の厚さと厚さの基準値との差に応じて複数のランクに区分けする前工程の後、前記第１の工程では、前記第３の工程での各切断面に対する前記接合面の位置ズレが、いずれの切断位置においても所定範囲内に収まるように、厚さが前記基準値以上または前記基準値よりも大きいランクに属する前記平行平板と厚さが前記基準値未満または前記基準値以下のランクに属する前記平行平板とを選択して積層することを特徴としている。
【００１１】
本発明の光学素子の製造方法において、各ランクには、各ランクが許容する平行平板の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値が対応付けられており、かつ、上記整数値が、厚さが基準値以上または基準値よりも大きい平行平板が属するランクと、厚さが基準値未満または基準値以下の平行平板が属するランクとで互いに逆符号となっている場合に、上記第１の工程では、積層される各平行平板に対応する整数値の累積値が、どの平行平板までの累積値をとっても所定範囲内に収まるように、各ランクから平行平板を選択して積層するようにしてもよい。
【００１２】
本発明の光学素子の製造方法において、各ランクには、各ランクが許容する平行平板の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値が対応付けられており、かつ、上記整数値が、厚さが基準値以上または基準値よりも大きい平行平板が属するランクと、厚さが基準値未満または基準値以下の平行平板が属するランクとで互いに逆符号となっている場合に、上記第１の工程では、連続して積層される所定枚数の平行平板が属する各ランクに対応する整数値の平均値が、連続して積層される所定枚数の平行平板の異なる組み合わせごとに所定範囲内に収まるように、各ランクから平行平板を選択して積層するようにしてもよい。
【００１３】
本発明の光学素子の製造方法において、厚さが基準値以上または基準値よりも大きい平行平板が属する複数のランクの中で、許容される平行平板の厚さの最小値が最も小さいランクは、第１の整数値（例えば１）に対応付けられている一方、他のランクのそれぞれは、各ランクが許容する平行平板の厚さの最小値の小さいほうから順に、第１の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第１の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値（例えば２、３、・・・）に対応付けられており、厚さが基準値未満または基準値以下の平行平板が属する複数のランクの中で、許容される平行平板の厚さの最小値が最も大きいランクは、第１の整数値と絶対値が異なる第２の整数値（例えば−１）に対応付けられている一方、他のランクのそれぞれは、各ランクが許容する平行平板の厚さの最小値の大きいほうから順に、第２の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第２の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値（例えば−２、−３、・・・）に対応付けられていてもよい。
【００１４】
本発明の光学素子の製造方法において、各ランクには、各ランクが許容する平行平板の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値が対応付けられており、かつ、上記整数値が、厚さが基準値から所定範囲内に収まる平行平板が属するランクについては０であり、このランクよりも外側のランクであって、厚さが基準値よりも大きい平行平板が属するランクと、厚さが基準値よりも小さい平行平板が属するランクとで互いに逆符号の整数値となっている場合に、上記第１の工程では、積層される各平行平板に対応する整数値の累積値が、どの平行平板までの累積値をとっても所定範囲内に収まるように、各ランクから平行平板を選択して積層するようにしてもよい。
【００１５】
本発明の光学素子の製造方法において、各ランクには、各ランクが許容する平行平板の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値が対応付けられており、かつ、上記整数値が、厚さが基準値から所定範囲内に収まる平行平板が属するランクについては０であり、このランクよりも外側のランクであって、厚さが基準値よりも大きい平行平板が属するランクと、厚さが基準値よりも小さい平行平板が属するランクとで互いに逆符号の整数値となっている場合に、上記第１の工程では、連続して積層される所定枚数の平行平板が属する各ランクに対応する整数値の平均値が、連続して積層される所定枚数の平行平板の異なる組み合わせごとに所定範囲内に収まるように、各ランクから平行平板を選択して積層するようにしてもよい。
【００１６】
本発明の光学素子の製造方法において、整数値０のランクよりも外側のランクであって、厚さが基準値よりも大きい平行平板が属する複数のランクの中で、許容される平行平板の厚さの最小値が最も小さいランクは、第１の整数値（例えば１）に対応付けられている一方、他のランクのそれぞれは、各ランクが許容する平行平板の厚さの最小値の小さいほうから順に、第１の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第１の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値（例えば２、３、・・・）に対応付けられており、整数値０のランクよりも外側のランクであって、厚さが基準値よりも小さい平行平板が属する複数のランクの中で、許容される平行平板の厚さの最小値が最も大きいランクは、第１の整数値と絶対値が異なる第２の整数値（例えば−１）に対応付けられている一方、他のランクのそれぞれは、各ランクが許容する平行平板の厚さの最小値の大きいほうから順に、第２の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第２の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値（例えば−２、−３、・・・）に対応付けられていてもよい。
【００１７】
本発明の光学素子の製造方法において、上記第１の工程では、整数値の符号が異なるランクに属する平行平板を交互に積層するようにしてもよい。
【００１８】
本発明の光学素子の製造方法において、上記第１の工程では、整数値の絶対値が同じランクに属する平行平板を交互に積層するようにしてもよい。
【００１９】
本発明の光学素子の製造方法において、前記第１の工程で積層する平行平板の枚数が偶数である場合、上記第１の工程では、整数値の符号が正のランクに属する平行平板と、整数値の符号が負のランクに属する平行平板とを同じ枚数ずつ積層するようにしてもよい。
【００２０】
本発明の光学素子の製造方法において、前記第１の工程で積層する平行平板の枚数が奇数である場合、上記第１の工程では、整数値の符号が正のランクに属する平行平板と、整数値の符号が負のランクに属する平行平板とを同じ枚数ずつ積層するとともに、整数値が０のランクに属する平行平板を奇数枚積層するようにしてもよい。
【００２１】
本発明の光学素子の製造方法において、上記第３の工程にて複数の積層分割体を所定のピッチで切断する際の切断基準位置は、各積層分割体における切断ピッチをとる方向の中央または略中央の位置であることが望ましい。
【００２２】
本発明の光学素子の製造方法は、各平行平板の表面に光学薄膜を形成する第４の工程をさらに有していてもよい。ただし、上記第４の工程は、上記第１の工程の前に行われる。
【００２３】
本発明の光学素子の製造方法は、各積層分割体において、第２の工程での切断時に切断面となった面の少なくとも１つを研磨する第５の工程をさらに有していてもよい。ただし、上記第５の工程は、上記第３の工程の前に行われる。
【００２４】
本発明の光学素子の製造方法において、上記第３の工程では、複数の積層分割体を積み上げて所定のピッチで切断した後、その切断時に切断面となった面の少なくとも１つを研磨するようにしてもよい。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、第１の工程では、ｎが採り得るどの値をとっても（例えば、ｍ＝１１の場合は、ｎは１〜１０や２〜９などのどの値をとっても）、前記第３の工程での各切断面に対する前記接合面の位置ズレが、いずれの切断位置においても所定範囲内（例えば接合面の位置ズレ規格内）に収まるように、厚さが基準値以上または基準値よりも大きいランクに属する平行平板と、厚さが基準値未満または基準値以下のランクに属する平行平板を複数のランクに区分けされた平行平板の中から選択して積層する。このような積層の仕方としては、例えば、前者の平行平板と後者の平行平板とを交互に積層したり、あるいは前者の平行平板を連続して所定枚数積層し、その上に後者の平行平板を所定枚数積層する、などがある。
【００２６】
このように大きく分けて２種類の平行平板を複数ランクの中から選択して積層することにより、第３の工程では、各積層分割体の切断すべき部位を、所定ピッチの各切断位置のそれぞれに近づけた状態で、各積層分割体を切断することができる。その結果、所定ピッチで切断されて得られる光学素子ごとに、接合面の位置ズレを抑えることが可能となる。
【００２７】
このとき、本発明の製法によって製造された光学素子を例えば光ピックアップに適用する場合には、一方の透明媒質の接合面に光学薄膜（例えば偏光分離膜）が形成されるが、接合面の位置精度は、光学素子に入射して光学薄膜で反射された光がその進行方向（光軸方向）に対して垂直方向にシフトするビームシフトの精度に直接影響を与える。したがって、接合面の位置ズレを抑えることができる上述した本発明の製法によれば、得られる光学素子ごとにビームシフト精度を容易に確保できることになる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施の一形態に係る光学素子の製造方法における各工程の流れを示すフローチャートである。
【図２】（ａ）〜（ｅ）は、上記製造方法における製造工程を示す説明図である。
【図３】複数の平行平板のランク分けおよび各ランクへの整数値の対応付けの一例を示す説明図である。
【図４】２つの透明媒質の接合面の位置とワイヤーによる切断位置との関係を示す説明図である。
【図５】実施例１のシミュレーション結果を示す説明図である。
【図６】実施例２のシミュレーション結果を示す説明図である。
【図７】実施例３のシミュレーション結果を示す説明図である。
【図８】実施例４のシミュレーション結果を示す説明図である。
【図９】実施例５のシミュレーション結果を示す説明図である。
【図１０】複数の平行平板のランク分けおよび各ランクへの整数値の対応付けの他の例を示す説明図である。
【図１１】実施例６のシミュレーション結果を示す説明図である。
【図１２】実施例７のシミュレーション結果を示す説明図である。
【図１３】実施例８のシミュレーション結果を示す説明図である。
【図１４】実施例９のシミュレーション結果を示す説明図である。
【図１５】実施例１０のシミュレーション結果を示す説明図である。
【図１６】実施例１１のシミュレーション結果を示す説明図である。
【図１７】実施例１２のシミュレーション結果を示す説明図である。
【図１８】実施例１３のシミュレーション結果を示す説明図である。
【図１９】複数の平行平板のランク分けおよび各ランクへの整数値の対応付けのさらに他の例を示す説明図である。
【図２０】複数の平行平板のランク分けおよび各ランクへの整数値の対応付けのさらに他の例を示す説明図である。
【図２１】複数の平行平板のランク分けおよび各ランクへの整数値の対応付けのさらに他の例を示す説明図である。
【図２２】複数の平行平板のランク分けおよび各ランクへの整数値の対応付けのさらに他の例を示す説明図である。
【図２３】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）、（ｄ）は、プリズムにおける接合面の位置ズレの例をそれぞれ示す説明図である。
【図２４】接合面の位置ズレによりビームシフトが起こる様子を模式的に示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。
【００３０】
（１．製造方法の流れ）
まず、本発明の光学素子の製造方法の大まかな流れについて、図１および図２（ａ）〜図２（ｅ）に基づいて説明する。
【００３１】
まず、図２（ａ）に示す、透明媒質（例えばガラス）からなる平行平板１１の表面に、光学薄膜を形成する（Ｓ１：薄膜形成工程、第４の工程）。この光学薄膜は、例えば入射光をその偏光状態に応じて透過または反射させる偏光分離膜とすることができる。次に、透光性を有する第１の接着剤（例えば紫外線硬化型接着剤）を介して、複数の平行平板１１を階段状に積層し、積層体１を形成する（Ｓ２：積層工程、第１の工程）。なお、Ｓ２の積層工程の詳細については後述する。
【００３２】
次に、この積層体１を、平行平板１１における光学薄膜を形成した面または接着剤を塗布した面に対して所定の傾斜角度（例えば４５度）で、かつ、所定のピッチで切断することにより、図２（ｂ）に示す複数の積層分割体１２を形成する（Ｓ３：切断工程、第２の工程）。そして、各積層分割体１２において、Ｓ３での切断時に切断面となった面の少なくとも１つ（表裏面の少なくとも一方）を研磨する（Ｓ４：研磨工程、第５の工程）。
【００３３】
続いて、図２（ｃ）に示すように、複数の積層分割体１２を再度上方に積み上げ（Ｓ５：積層工程、第３の工程）、これらを所定のピッチで垂直方向に切断する（Ｓ６：切断工程、第３の工程）。なお、Ｓ５では、複数の積層分割体１２を第２の接着剤で仮接合するか、補助板等に固定しておく。また、Ｓ６での切断ピッチは、最終的に得られる光学素子１個につき、透明媒質の貼り合わせ部分（接合面２１）が１つとなるような切断ピッチであってもよいし、複数となるような切断ピッチであってもよい。その後、Ｓ６での切断時に切断面となった面の少なくとも１つ（表裏面の少なくとも一方）を研磨する（Ｓ７：研磨工程、第３の工程）。
【００３４】
次に、仮接合部を遊離し（第２の接着剤の溶解や補助板等による固定の解除を行い）、図２（ｄ）に示すように、透明媒質の貼り合わせからなる複数の棒状体１３を形成する（Ｓ８：仮接合部遊離工程、第３の工程）。なお、仮接合部の遊離は、次のＳ９の後に行ってもよい。そして、最後に、図２（ｅ）に示すように、各棒状体１３を長尺方向に垂直な面で所定のピッチで切断することにより、複数の透明媒質の貼り合わせからなる複数の光学素子としてのキューブ型のプリズム１４を得る（Ｓ９：切断工程、第３の工程）。
【００３５】
以上の製法によれば、積層、切断、研磨等の各工程を繰り返す一連の加工工程で多量のプリズム１４を得ることができる。また、Ｓ２の積層工程の前に、各平行平板１１の表面に光学薄膜を形成しておくことにより、上述した各工程を経て最終的に得られる光学素子として、上記光学薄膜の光学性能を持つプリズム１４を得ることができる。特に、上記光学薄膜を偏光分離膜とすることにより、最終的に得られるプリズム１４を、光ピックアップの偏光分離素子として用いることが可能となる。なお、上記の光学薄膜は、入射光をその波長に応じて選択的に透過または反射させる薄膜であってもよく、また、透過光量と反射光量との比が１対１となるような光学薄膜であってもよい。
【００３６】
また、Ｓ４の研磨工程では、各積層分割体１２において、第３の切断工程での切断時に切断面となった面の少なくとも１つを研磨している。同様に、Ｓ７の研磨工程においても、複数の積層分割体１２を積み上げて所定のピッチで切断した後、その切断時に切断面となった面の少なくとも１つを研磨している。なお、切断面であっても光学素子における光学面として使用されない面については、研磨することを必ずしも要しない。
【００３７】
（２．Ｓ２の詳細について）
次に、上述したＳ２の積層工程の詳細について説明する。なお、ここでは、ｍを２以上の自然数、ｎをｍ以下の自然数とし、Ｓ２ではｍ枚の平行平板を積層して積層体１を形成するものとする。
【００３８】
Ｓ２では、ｎが所定区間内でどの値をとっても、Ｓ６での積層分割体１２の切断面に対して垂直な方向における、切断基準位置からの平行平板１１のｎ枚分の長さと、上記切断基準位置からｎ番目の切断位置までの距離との差が所定範囲内に収まるように、厚さと基準値との差に応じて区分けされた複数のランクの中から、厚さが基準値以上の平行平板１１と、厚さが基準値未満の平行平板１１とを選択して積層する。このような積層の仕方の具体例を、具体例１および２として以下に説明する。
【００３９】
なお、以下での説明の便宜上、厚さが基準値以上の平行平板１１を平行平板１１ａとも称し、厚さが基準値未満の平行平板１１を平行平板１１ｂとも称する。なお、この定義では、厚さが基準値に等しい平行平板１１は、平行平板１１ａとなるが、平行平板１１ｂに入れてもよい。つまり、厚さが基準値よりも大きい平行平板１１を平行平板１１ａとし、厚さが基準値以下の平行平板１１を平行平板１１ｂとしてもよい。
【００４０】
（２−１．具体例１）
まず、具体例１では、厚さと基準値との差に応じて平行平板１１を区分けする際の区分数（ランクの数）を４つとし、この４つのランクの中から平行平板１１ａ・１１ｂを選択して積層する場合について説明する。
【００４１】
なお、具体例１では、図３に示すように、外形サイズが４ｍｍ角の完成品（プリズム１４）を製造する場合に、用いる平行平板１１の厚さの基準値を２．８２８ｍｍとし、この基準値を境界にして各平行平板１１を４つのランクに区分けした。また、各ランクの寸法区分（各ランクが許容する平行平板１１の厚さの最大値と最小値との差）を０．０１ｍｍとし、要求される接合面２１の位置ズレ規格（精度）を０．０５ｍｍとした。なお、接合面２１の位置ズレ規格は、光ピックアップにおけるビームシフト精度（プリズム１４の入射面中心に入射した光が接合面２１に形成された光学薄膜で反射して出射される際に、出射光の位置が出射面中心からどれだけシフトしているかを示す値（絶対値））に対応している。
【００４２】
したがって、具体例１では、複数の平行平板１１は、各厚さに応じて、厚さと基準値との差が−０．０２以上−０．０１未満、−０．０１以上０．００未満、０．００以上＋０．０１未満、＋０．０１以上＋０．０２未満、の４つのランクのいずれかに区分けされていることになる。なお、各ランクにおける厚さと基準値との差の最小値をとる平行平板１１は、１つ下のランクに入れてもよい。つまり、複数の平行平板１１は、各厚さに応じて、厚さと基準値との差が−０．０２よりも大きく−０．０１以下、−０．０１よりも大きく０．００以下、０．００よりも大きく＋０．０１以下、＋０．０１よりも大きく＋０．０２以下、の４つのランクのいずれかに区分けされていてもよい。なお、上記した厚さと基準値との差を示す数値の単位は、全てｍｍである。このことは以下でも同様である。
【００４３】
また、具体例１では、各ランクに、各ランクが許容する平行平板１１の厚さの最小値（または最大値）の大きいほうから順に、２、１、−１、−２という整数値が対応付けられている。つまり、各ランクには、各ランクが許容する平行平板１１の厚さの最小値（または最大値）の大きいほうから順に、単調に減少する整数値であって、平行平板１１ａと平行平板１１ｂとで互いに逆符号となる整数値が対応付けられている。
【００４４】
なお、具体例１では、各ランクに、各ランクが許容する平行平板１１の厚さの最小値（または最大値）の大きいほうから順に、−２、−１、１、２という整数値が対応付けられていてもよい。つまり、各ランクには、各ランクが許容する平行平板１１の厚さの最小値（または最大値）の大きいほうから順に、単調に増加する整数値であって、平行平板１１ａと平行平板１１ｂとで互いに逆符号となる整数値が対応付けられていてもよい。
【００４５】
以下、具体例１の実施例を、実施例１〜５として以下に説明する。実施例１〜５（実施例２を除く）では、各ランクから合計で１１枚の平行平板１１を選択して積層した場合の接合面２１の位置ズレをシミュレーションによって評価した。なお、実施例２では、積層する平行平板１１の枚数を１０枚として同様にシミュレーションを行った。
【００４６】
なお、図４に示すように、各ランクから選択した平行平板１１の厚さをｔ１、ｔ２、・・・とすると、本実施形態では、積層体１を４５度の角度で切断して複数の積層分割体１２を形成し、それを積み上げたものを今度は垂直に切断しているので、積層分割体１２の切断面に対して垂直方向における各光学素子の長さは、Ｔ１＝√２・ｔ１、Ｔ２＝√２・ｔ２、・・・となる。よって、ワイヤー間距離（ワイヤーのピッチ）をＬとすると、ワイヤーの切断位置ごとに、差分Ｄ１＝Ｔ１−Ｌ、差分Ｄ２＝（Ｔ１＋Ｔ２）−２Ｌ、・・・を計算することにより、光学素子の接合面２１の位置ズレを評価することができる。
【００４７】
なお、ここでは、計算を簡単にするために、例えば、第１の接着剤の厚さ、ワイヤーの厚さ（太さ）、ワイヤーによる切断しろ、研磨しろについては、考慮しないものとした。その代わり、上記差分Ｄ１、Ｄ２、・・・の絶対値が接合面２１の位置ズレ規格（０．０５ｍｍ）の８０％以内（絶対値で０．０４ｍｍ以内）に収まっていれば問題ないものとして評価した。
【００４８】
図５〜図９は、それぞれ実施例１〜５のシミュレーション結果を示している。なお、図中の整数値累積ΣＡは、各平行平板１１が属するランクに対応する整数値Ａの切断基準位置（ワイヤー入れ基準位置）からの累積値を示す。また、移動平均は、連続して積層される所定枚数（ここでは例として自身とその前後の３枚）の平行平板１１が属する各ランクに対応する整数値Ａの平均値を指す。また、平行平板１１の厚さを示す板厚ｔは、そのランクの中で全くのランダムな値となるように、ランダム関数を用いて得られた値とした。
【００４９】
また、図中の長さＴは、Ｓ６での積層分割体１２の切断面に対して垂直な方向における、切断基準位置からの各平行平板１１の長さ（上記のＴ１、Ｔ２、・・・）を示し、積算ΣＴは、切断基準位置からの平行平板１１のｎ枚分の長さ（積算値）を示す。また、積算ワイヤー距離ΣＬは、切断基準位置からｎ番目の切断位置までの距離（ｎ・Ｌ）を示す。なお、実施例１〜５では、切断基準位置は、ワイヤーを入れる複数の切断位置の中で最も端の位置としている。また、差分Ｄは、各切断位置における積算ΣＴと積算ΣＬとの差を示すが、ＡＢＳ−ＭＡＸは、差分Ｄの最大値（Ｄ−ＭＡＸ）と差分Ｄの最小値（Ｄ−ＭＩＮ）とのうちで絶対値の大きいほうの値を指す。
【００５０】
実施例１では、図５に示すように、整数値が「−１」と「１」とで交互となるように、対応するランクに属する平行平板１１を積層した場合のＡＢＳ−ＭＡＸをシミュレーションで求めた。実施例１では、ＡＢＳ−ＭＡＸは０．０１１（ｍｍ）であり、接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内の目標を余裕を持ってクリアしている。なお、平行平板１１の厚さｔのランダム値を変えて同様のシミュレーションを行ったところ、１００％に近い確率で、ＡＢＳ−ＭＡＸが接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内に収まる結果が得られた。したがって、実施例１のような平行平板１１の積層の仕方は、実際には（各積層分割体１２をワイヤーで切断して最終的に１個の光学素子を得た場合には）、各光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを規格内に抑える効果が極めて高いと言える。
【００５１】
実施例２では、図６に示すように、整数値が「−２」と「２」とで交互となるように、対応するランクに属する平行平板１１を積層した場合のＡＢＳ−ＭＡＸをシミュレーションで求めた。実施例２では、ＡＢＳ−ＭＡＸは０．０２２（ｍｍ）であり、接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内の目標をクリアしている。なお、平行平板１１の厚さｔのランダム値を変えて同様のシミュレーションを行ったところ、９３％の確率で、ＡＢＳ−ＭＡＸが接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内に収まる結果が得られた。したがって、実施例２のような平行平板１１の積層の仕方についても、実際には、各光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを規格内に抑える効果が高いと言える。
【００５２】
実施例３では、図７に示すように、整数値「−１」が５つ連続し、続けて整数値「１」が６つ連続するように、対応するランクに属する平行平板１１を積層した場合のＡＢＳ−ＭＡＸをシミュレーションで求めた。実施例３では、ＡＢＳ−ＭＡＸは０．０２６（ｍｍ）であり、接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内の目標クリアしている。なお、平行平板１１の厚さｔのランダム値を変えて同様のシミュレーションを行ったところ、９１％の確率で、ＡＢＳ−ＭＡＸが接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内に収まる結果が得られた。したがって、実施例３のような平行平板１１の積層の仕方についても、実際には、各光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを規格内に抑える効果が高いと言える。
【００５３】
実施例４では、図８に示すように、整数値「２」、「−１」、「−１」が交互になるように、対応するランクに属する平行平板１１を積層した場合のＡＢＳ−ＭＡＸをシミュレーションで求めた。実施例４では、ＡＢＳ−ＭＡＸは０．０１９（ｍｍ）であり、接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内の目標を余裕を持ってクリアしている。なお、平行平板１１の厚さｔのランダム値を変えて同様のシミュレーションを行ったところ、８９％の確率で、ＡＢＳ−ＭＡＸが接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内に収まる結果が得られた。したがって、実施例４のような平行平板１１の積層の仕方についても、実際には、各光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを規格内に抑える効果が高いと言える。
【００５４】
実施例５では、図９に示すように、整数値「−１」、「２」、「−２」、「１」が交互になるように、対応するランクに属する平行平板１１を積層した場合のＡＢＳ−ＭＡＸをシミュレーションで求めた。実施例５では、ＡＢＳ−ＭＡＸは０．０２９（ｍｍ）であり、接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内の目標をクリアしている。なお、平行平板１１の厚さｔのランダム値を変えて同様のシミュレーションを行ったところ、９０％の確率で、ＡＢＳ−ＭＡＸが接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内に収まる結果が得られた。したがって、実施例５のような平行平板１１の積層の仕方についても、実際には、各光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを規格内に抑える効果が高いと言える。
【００５５】
（２−２．具体例２）
具体例２では、厚さと基準値との差に応じて平行平板１１を区分けする際の区分数（ランクの数）を５つとし、この５つのランクの中から平行平板１１ａ・１１ｂを選択して積層する場合について説明する。
【００５６】
なお、具体例２では、図１０に示すように、外形サイズが４ｍｍ角の完成品を製造する場合に、用いる平行平板１１の厚さの基準値を２．８２８ｍｍとし、この基準値が中心値となるランクが存在するように各平行平板１１を５つのランクに区分けした。また、各ランクの寸法区分を０．００８ｍｍとし、要求される接合面２１の位置ズレ規格（精度）を０．０５ｍｍとした。
【００５７】
したがって、具体例２では、複数の平行平板１１は、各厚さに応じて、厚さと基準値との差が−０．０２以上−０．０１２未満、−０．０１２以上−０．００４未満、−０．００４以上＋０．００４未満、＋０．００４以上＋０．０１２未満、＋０．０１２以上＋０．０２未満、の５つのランクのいずれかに区分けされていることになる。なお、各ランクにおける厚さと基準値との差の最小値をとる平行平板１１は、１つ下のランクに入れてもよい。つまり、複数の平行平板１１は、各厚さに応じて、厚さと基準値との差が−０．０２よりも大きく−０．０１２以下、−０．０１２よりも大きく−０．００４以下、−０．００４よりも大きく＋０．００４以下、＋０．００４よりも大きく＋０．０１２以下、＋０．０１２よりも大きく＋０．０２以下、の５つのランクのいずれかに区分けされていてもよい。
【００５８】
また、具体例２では、各ランクに、各ランクが許容する平行平板１１の厚さの最小値（または最大値）の大きいほうから順に、２、１、０、−１、−２という整数値が対応付けられている。つまり、各ランクには、各ランクが許容する平行平板１１の厚さの最小値（または最大値）の大きいほうから順に、単調に減少する整数値が対応付けられている。しかも、上記整数値は、厚さが基準値から所定範囲内（ここでは±０．００４以内）に収まる平行平板１１が属するランクについては０であり、このランクよりも外側のランクであって、厚さが基準値よりも大きい平行平板１１ａが属するランクと、厚さが基準値よりも小さい平行平板１１ｂが属するランクとで互いに逆符号の整数値となっている。
【００５９】
なお、具体例２では、各ランクに、各ランクが許容する平行平板１１の厚さの最小値（または最大値）の大きいほうから順に、−２、−１、０、１、２という整数値が対応付けられていてもよい。つまり、各ランクが許容する平行平板１１の厚さの最小値（または最大値）の大きいほうから順に、単調に増加する整数値が対応付けられていてもよい。ただし、上記整数値は、厚さが基準値から所定範囲内に収まる平行平板１１が属するランクについては０であり、このランクよりも外側のランクであって、厚さが基準値よりも大きい平行平板１１ａが属するランクと、厚さが基準値よりも小さい平行平板１１ｂが属するランクとで互いに逆符号の整数値である。
【００６０】
以下、具体例２の実施例を、実施例６〜１３として以下に説明する。実施例６〜１３（実施例８を除く）では、各ランクから合計で１１枚の平行平板１１を選択して積層し、接合面２１の位置ズレをシミュレーションによって評価した。なお、実施例８では、積層する平行平板１１の枚数を１０枚として同様にシミュレーションを行った。図１１〜図１８は、それぞれ実施例６〜１３のシミュレーション結果を示している。
【００６１】
実施例６では、図１１に示すように、整数値が「０」が連続するように、対応するランクに属する平行平板１１を積層した場合のＡＢＳ−ＭＡＸをシミュレーションで求めた。ただし、この場合でも（同じランクに属する平行平板１１が選択されていても）、結果として、厚さが基準値（２．８２８ｍｍ）以上の平行平板１１ａとそれよりも小さい平行平板１１ｂとが選択されている点は、他の実施例と同じである。実施例６では、ＡＢＳ−ＭＡＸは０．０１７（ｍｍ）であり、接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内の目標を余裕を持ってクリアしている。なお、平行平板１１の厚さｔのランダム値を変えて同様のシミュレーションを行ったところ、１００％に近い確率で、ＡＢＳ−ＭＡＸが接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内に収まる結果が得られた。したがって、実施例６のような平行平板１１の積層の仕方は、実際には、各光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを規格内に抑える効果が極めて高いと言える。
【００６２】
実施例７では、図１２に示すように、整数値が「−１」と「１」とで交互になるように、対応するランクに属する平行平板１１を積層した場合のＡＢＳ−ＭＡＸをシミュレーションで求めた。実施例７では、ＡＢＳ−ＭＡＸは０．０２６（ｍｍ）であり、接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内の目標をクリアしている。なお、平行平板１１の厚さｔのランダム値を変えて同様のシミュレーションを行ったところ、９９％の確率で、ＡＢＳ−ＭＡＸが接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内に収まる結果が得られた。したがって、実施例７のような平行平板１１の積層の仕方についても、実際には、各光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを規格内に抑える効果が極めて高いと言える。
【００６３】
実施例８では、図１３に示すように、整数値が「−２」と「２」とで交互になるように、対応するランクに属する平行平板１１を積層した場合のＡＢＳ−ＭＡＸをシミュレーションで求めた。実施例８では、ＡＢＳ−ＭＡＸは０．０３４（ｍｍ）であり、接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内の目標をクリアしている。なお、平行平板１１の厚さｔのランダム値を変えて同様のシミュレーションを行ったところ、９５％の確率で、ＡＢＳ−ＭＡＸが接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内に収まる結果が得られた。したがって、実施例８のような平行平板１１の積層の仕方についても、実際には、各光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを規格内に抑える効果が極めて高いと言える。
【００６４】
実施例９では、図１４に示すように、整数値「２」、「−１」、「−１」が交互になるように、対応するランクに属する平行平板１１を積層した場合のＡＢＳ−ＭＡＸをシミュレーションで求めた。実施例９では、ＡＢＳ−ＭＡＸは０．０２２（ｍｍ）であり、接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内の目標をクリアしている。なお、平行平板１１の厚さｔのランダム値を変えて同様のシミュレーションを行ったところ、９９％の確率で、ＡＢＳ−ＭＡＸが接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内に収まる結果が得られた。したがって、実施例９のような平行平板１１の積層の仕方についても、実際には、各光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを規格内に抑える効果が極めて高いと言える。
【００６５】
実施例１０では、図１５に示すように、整数値「−１」、「２」、「−２」、「１」が交互になるように、対応するランクに属する平行平板１１を積層した場合のＡＢＳ−ＭＡＸをシミュレーションで求めた。実施例１０では、ＡＢＳ−ＭＡＸは０．０２１（ｍｍ）であり、接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内の目標をクリアしている。なお、平行平板１１の厚さｔのランダム値を変えて同様のシミュレーションを行ったところ、９８％の確率で、ＡＢＳ−ＭＡＸが接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内に収まる結果が得られた。したがって、実施例１０のような平行平板１１の積層の仕方についても、実際には、各光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを規格内に抑える効果が極めて高いと言える。
【００６６】
実施例１１では、図１６に示すように、整数値「−２」、「２」、「−１」、「１」が交互になるように、対応するランクに属する平行平板１１を積層し、かつ、最も外側に整数値「０」に対応するランクに属する平行平板１１を積層した場合のＡＢＳ−ＭＡＸをシミュレーションで求めた。実施例１１では、ＡＢＳ−ＭＡＸは０．０２９（ｍｍ）であり、接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内の目標をクリアしている。なお、平行平板１１の厚さｔのランダム値を変えて同様のシミュレーションを行ったところ、８８％の確率で、ＡＢＳ−ＭＡＸが接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内に収まる結果が得られた。したがって、実施例１１のような平行平板１１の積層の仕方についても、実際には、各光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを規格内に抑える効果が高いと言える。
【００６７】
実施例１２では、図１７に示すように、整数値「−１」、「１」、「−１」、「１」、「−１」のランクの平行平板１１が整数値「０」のランクの平行平板１１に対して対称となって積層されるように、各平行平板１１を積層した場合のＡＢＳ−ＭＡＸをシミュレーションで求めた。実施例１２では、ＡＢＳ−ＭＡＸは０．０１４（ｍｍ）であり、接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内の目標をクリアしている。なお、平行平板１１の厚さｔのランダム値を変えて同様のシミュレーションを行ったところ、１００％に近い確率で、ＡＢＳ−ＭＡＸが接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内に収まる結果が得られた。したがって、実施例１１のような平行平板１１の積層の仕方についても、実際には、各光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを規格内に抑える効果が極めて高いと言える。
【００６８】
実施例１３では、図１８に示すように、整数値「２」、「−２」、「２」、「−１」、「−１」のランクの平行平板１１が整数値「０」のランクの平行平板１１に対して対称となって積層されるように、各平行平板１１を積層した場合のＡＢＳ−ＭＡＸをシミュレーションで求めた。実施例１３では、ＡＢＳ−ＭＡＸは０．０３１（ｍｍ）であり、接合面２１の位置ズレ規格の８０％以内の目標をクリアしている。なお、平行平板１１の厚さｔのランダム値を変えて同様のシミュレーションを行ったところ、ＡＢＳ−ＭＡＸが接合面２１の位置ズレ規格の８０％を越える場合が、上記した各実施例に比べると多いことがわかった。しかし、実施例１３のような積層の仕方でも、平行平板１１の板厚ｔを適切に選択することによって、各光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを規格内に抑える効果はあると言える。
【００６９】
なお、以上では、複数の平行平板１１のその厚さに応じた区分け（ランク分け）や、各ランクへの整数値の対応付けがＳ２の積層工程の時点で既に行われているものとして説明したが、これらの区分けや対応付けが行われていない場合には、そのような区分け工程や対応付け工程をＳ２（積層工程）の前またはＳ１（薄膜形成工程）の前に行うようにしてもよい。
【００７０】
（３．効果）
上述した具体例１・２の積層方法では、積算ΣＴ（平行平板１１のｎ枚分の長さ）と積算ワイヤー距離ΣＬ（切断基準位置からｎ番目の切断位置までの距離）との差分Ｄが、ｎがどの値をとっても所定範囲内に収まるように、複数のランクの中から平行平板１１ａ・１１ｂを選択して積層している。つまり、１１枚の平行平板１１を積層する場合はｎが１〜１０の中でどの値をとっても、１０枚の平行平板１１を積層する場合はｎが１〜９の中でどの値をとっても、接合面２１の位置ズレ規格である０．０５ｍｍ以内に差分Ｄが収まるように、平行平板１１ａ・１１ｂを選択して積層している。なお、１１枚の平行平板１１を積層する場合は、ｎが採り得る値の範囲を２〜９とし、両端の光学素子を廃棄するようにしてもよい。また、１１枚の平行平板１１を積層する場合であって、Ｓ６での切断基準位置を、後述するように切断ピッチをとる方向の真ん中に位置させる場合は、ｎの採り得る値の範囲は、１〜５であってもよい。
【００７１】
このような積層方法により、Ｓ６の切断工程では、各積層分割体１２の切断すべき部位を、所定ピッチの各切断位置のそれぞれに近づけた状態で、各積層分割体１２を切断することができる。したがって、所定ピッチで切断されて得られる光学素子ごとに、接合面２１の位置ズレを抑えることが可能となる。その結果、本発明の製法によって製造された光学素子を光ピックアップに適用した場合に、得られる光学素子ごとにビームシフト精度を容易に確保することができる。
【００７２】
特に、厚さが基準値以上または基準値よりも大きい平行平板１１ａと、厚さが基準値未満または基準値以下の平行平板１１ｂとを複数のランクの中から選択して積層するので、これらの平行平板１１ａ・１１ｂの積層によって、接合面２１の位置ズレのプラス方向またはマイナス方向の増大を確実に減少させることが可能となり、接合面２１の位置ズレを抑える上記の効果を確実なものとすることができる。
【００７３】
また、本発明によれば、各平行平板１１の厚さのばらつきを利用して接合面２１の位置ズレを抑えることができるので、調達する平行平板１１の単品の公差を広げて、光学素子の製造コストを低減することも可能となる。
【００７４】
また、上述した具体例１において、各ランクには、各ランクが許容する平行平板１１の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値Ａが対応付けられており、かつ、整数値Ａが、厚さが基準値以上または基準値よりも大きい平行平板１１ａが属するランクと、厚さが基準値未満または基準値以下の平行平板１１ｂが属するランクとで互いに逆符号となっている場合に、積層される各平行平板１１に対応する整数値Ａのｎが採り得る値の範囲（例えば１〜１０）における累積値（整数値累積ΣＡ）が、どの平行平板１１までの累積値をとっても所定範囲内（例えば−５以上５以下の範囲内）に収まるように、各ランクから平行平板１１を選択して積層している。なお、上記の所定範囲は、例えば、要求される接合面２１の位置ズレ規格や、各ランクの幅（寸法区分）などに応じて適宜設定されればよい。
【００７５】
また、上述した具体例２において、各ランクには、各ランクが許容する平行平板１１の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値Ａが対応付けられており、かつ、整数値Ａが、厚さが基準値から所定範囲内に収まる平行平板１１が属するランクについては０であり、このランクよりも外側のランクであって、厚さが基準値よりも大きい平行平板１１ａが属するランクと、厚さが基準値よりも小さい平行平板１１ｂが属するランクとで互いに逆符号の整数値となっている場合に、積層される各平行平板１１に対応する整数値Ａのｎが採り得る値の範囲（例えば１〜１０）における累積値（整数値累積ΣＡ）が、どの平行平板１１までの累積値をとっても所定範囲内（例えば−２以上２以下の範囲内）に収まるように、各ランクから平行平板１１を選択して積層している。
【００７６】
このような具体例１または２の積層方法を採用することにより、Ｓ６の切断工程では、各積層分割体１２の切断すべき部位を、所定ピッチの各切断位置のそれぞれに確実に近づけた状態で、各積層分割体１２を切断することができる。その結果、所定ピッチで切断されて得られる光学素子ごとに、接合面２１の位置ズレを確実に抑えることができ、得られる光学素子ごとにビームシフト精度を容易にかつ確実に確保することができる。
【００７７】
また、上述した具体例１においては、整数値Ａの移動平均が所定範囲内（例えば−１以上１以下の範囲内）で推移していることから、具体例１の積層方法は、以下のように表現することもできる。すなわち、各ランクに、各ランクが許容する平行平板１１の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値Ａが対応付けられており、かつ、整数値Ａが、厚さが基準値以上または基準値よりも大きい平行平板１１ａが属するランクと、厚さが基準値未満または基準値以下の平行平板１１ｂが属するランクとで互いに逆符号となっている場合に、Ｓ２の積層工程では、連続して積層される所定枚数（例えば３枚）の平行平板１１が属する各ランクに対応する整数値Ａの平均値が、連続して積層される所定枚数の平行平板１１のｎが採り得る値の範囲（例えば１〜１０）での異なる組み合わせごとに所定範囲内に収まるように、各ランクから平行平板１１を選択して積層する。
【００７８】
また、上述した具体例２においては、整数値Ａの移動平均が所定範囲内（例えば−１以上１以下の範囲内）で推移していることから、具体例２の積層方法は、以下のように表現することもできる。すなわち、各ランクに、各ランクが許容する平行平板１１の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値Ａが対応付けられており、かつ、整数値Ａが、厚さが基準値から所定範囲内に収まる平行平板１１が属するランクについては０であり、このランクよりも外側のランクであって、厚さが基準値よりも大きい平行平板１１ａが属するランクと、厚さが基準値よりも小さい平行平板１１ｂが属するランクとで互いに逆符号の整数値となっている場合に、Ｓ２の積層工程では、連続して積層される所定枚数（例えば３枚）の平行平板１１が属する各ランクに対応する整数値Ａの平均値が、連続して積層される所定枚数の平行平板１１のｎが採り得る値の範囲（例えば１〜１０）での異なる組み合わせごとに所定範囲内に収まるように、各ランクから平行平板１１を選択して積層する。
【００７９】
このような具体例１または２の積層の仕方であっても、各積層分割体１２の切断すべき部位を、所定ピッチの各切断位置のそれぞれに確実に近づけた状態で、各積層分割体１２を切断することができると言えるので、接合面２１の位置ズレを確実に抑えて、ビームシフト精度を容易にかつ確実に確保することができると言える。
【００８０】
また、具体例１では、厚さが基準値以上の平行平板１１ａが属する２つランクの中で、許容される平行平板１１ａの厚さの最小値が最も小さいランク（厚さと基準値との差が０．００以上＋０．０１未満のランク）は、第１の整数値（例えば１）に対応付けられている。そして、他のランク（厚さと基準値との差が＋０．０１以上＋０．０２未満のランク）は、第１の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第１の整数値の絶対値から所定値（例えば１）だけ増大した整数値（例えば２）に対応付けられている。なお、区分数が４以上で上記他のランクが複数存在する場合には、他のランクは、各ランクが許容する平行平板１１ａの厚さの最小値の小さいほうから順に、第１の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第１の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値に対応付けられていればよい。
【００８１】
同様に、厚さが基準値よりも小さい平行平板１１ｂが属する２つのランクの中で、許容される平行平板１１ｂの厚さの最小値が最も大きいランク（厚さと基準値との差が−０．０１以上＋０．００未満のランク）は、第１の整数値と絶対値が異なる第２の整数値（例えば−１）に対応付けられている。そして、他のランク（厚さと基準値との差が−０．０２以上−０．０１未満のランク）は、第２の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第２の整数値の絶対値から所定値（例えば１）だけ増大した整数値（例えば−２）に対応付けられている。なお、区分数が４以上で上記他のランクが複数存在する場合には、他のランクは、各ランクが許容する平行平板１１ｂの厚さの最小値の大きいほうから順に、第２の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第２の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値に対応付けられていればよい。
【００８２】
また、具体例２では、整数値０のランクよりも外側のランクであって、厚さが基準値よりも大きい平行平板１１ａが属する複数のランクの中で、許容される平行平板１１ａの厚さの最小値が最も小さいランク（厚さと基準値との差が＋０．００４以上＋０．０１２未満のランク）は、第１の整数値（例えば１）に対応付けられており、他のランク（厚さと基準値との差が＋０．０１２以上＋０．０２未満のランク）は、第１の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第１の整数値の絶対値から所定値（例えば１）だけ増大した整数値（例えば２）に対応付けられている。なお、区分数が５以上で上記他のランクが複数存在する場合には、他のランクは、各ランクが許容する平行平板１１ａの厚さの最小値の小さいほうから順に、第１の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第１の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値に対応付けられていればよい。
【００８３】
同様に、整数値０のランクよりも外側のランクであって、厚さが基準値よりも小さい平行平板１１ｂが属する複数のランクの中で、許容される平行平板１１ｂの厚さの最小値が最も大きいランク（厚さと基準値との差が−０．０１２以上−０．００４未満のランク）は、第１の整数値と絶対値が異なる第２の整数値（例えば−１）に対応付けられており、他のランク（厚さと基準値との差が−０．０２以上−０．０１２未満のランク）は、第２の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第２の整数値の絶対値から所定値（例えば１）だけ増大した整数値（例えば−２）に対応付けられている。なお、区分数が５以上で上記他のランクが複数存在する場合には、他のランクは、各ランクが許容する平行平板１１ｂの厚さの最小値の大きいほうから順に、第２の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第２の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値に対応付けられていればよい。
【００８４】
このように各ランクに整数値が対応付けられていることにより、平行平板１１ａ・１１ｂの積層状態を、整数値が並ぶ順序、整数値の符号および絶対値を見るだけで容易に把握することが可能となる。また、上記のような整数値の対応付けにより、整数値累積ΣＡや整数値の移動平均に基づく上述した接合面２１の位置ズレ評価を容易に行うことが可能となる。
【００８５】
また、具体例１では、平行平板１１ａが属するランクが正の整数値に対応付けられており、平行平板１１ｂが属するランクが負の整数値に対応付けられているので、正負の整数値があるかどうかで、平行平板１１ａ・１１ｂの両者を用いて積層しているかどうかを即座にかつ容易に判断することができる。一方、具体例２では、例えば奇数枚の平行平板１１を用いて光学素子を得る場合に、奇数枚のうちの１枚を整数値０のランクに属する平行平板１１とすることで、整数値が正のランクに属する平行平板１１の枚数と、整数値が負のランクに属する平行平板１１の枚数とを揃えて、接合面２１の位置ズレをバランスよく抑えることができる。
【００８６】
また、実施例１、２、５、７、８、１０では、整数値の符号が異なるランクに属する平行平板１１を交互に積層している。このような積層の仕方は、接合面２１の位置ズレをキャンセルする方向に働くので、最終的に得られる光学素子ごとに、接合面２１の位置ズレを確実に抑えることができる。特に、実施例１、２、７、８のように、整数値の絶対値が同じランクに属する平行平板１１を交互に積層することにより、その効果を確実に得ることができる。
【００８７】
また、実施例２、８では、平行平板１１を積層する枚数を１０枚の偶数枚とし、整数値の符号が正のランクに属する平行平板１１と、整数値の符号が負のランクに属する平行平板１１とを同じ枚数ずつ積層している。これにより、積層する平行平板１１の枚数が偶数枚のときは、接合面２１の位置ズレの平均を極力小さい値にすることができる。また、例えば、整数値の符号が正のランクに属する平行平板１１と、整数値の符号が負のランクに属する平行平板１１とを交互に積層すれば、最終的に得られる光学素子ごとに接合面２１の位置ズレをバランスよく抑えることが可能となる。
【００８８】
また、実施例１１、１２では、平行平板１１を積層する枚数を１１枚の奇数枚とし、整数値の符号が正のランクに属する平行平板と、整数値の符号が負のランクに属する平行平板とを同じ枚数ずつ積層するとともに、整数値が０のランクに属する平行平板を１枚積層している。これにより、積層する平行平板１１の枚数が奇数枚のときは、接合面２１の位置ズレの平均を極力小さい値にすることができる。また、奇数枚のうちの１枚を整数値が０のランクに属する平行平板１１とすることで、整数値の符号が正のランクに属する平行平板１１の枚数と、整数値の符号が負のランクに属する平行平板１１の枚数とを揃えることができ、例えばこれらを交互に積層することで、接合面２１の位置ズレをバランスよく抑えることが可能となる。なお、平行平板１１を積層する枚数が奇数枚のとき、整数値が０のランクに属する平行平板１１の枚数は１枚には限定されず、３枚以上の奇数枚であってもよい。
【００８９】
（４．切断基準位置の他の例について）
以上の各実施例１〜１３では、Ｓ６の切断工程における、複数の積層分割体１２を所定のピッチで切断する際の切断基準位置を、複数の切断位置の中で、各積層分割体１２における切断ピッチをとる方向（切断面に垂直方向）の最も端の位置としているが、例えば端から２番目の位置であってもよく、真ん中の位置であってもよい。
【００９０】
特に、積層する平行平板１１の枚数ｍが奇数の場合は、上記方向における中央の位置であることが望ましく、積層する平行平板１１の枚数ｍが偶数の場合は、上記方向における略中央の位置であることが望ましい。各積層分割体１２における上記方向の長さを一定とすれば、上記方向の中央位置または略中央位置に切断基準位置をとった場合は、上記方向の一端部に切断基準位置をとった場合に比べて、切断基準位置から最も離れた端部における誤差（接合面２１の位置ズレ量）の累積を半分（枚数ｍが奇数の場合）または略半分（枚数ｍが偶数の場合）に抑えることができる。これにより、最終的に得られる光学素子ごとに接合面２１の位置ズレを抑えられる効果が高くなる。
【００９１】
（５．区分けの他の例について）
ところで、複数の平行平板１１をその厚さに応じて複数の区分に区分けする際、接合面２１の位置ズレ量やビームシフト精度の顧客要求規格の例えば±１／５の値を、厚さと基準値との差の最大値（上限値）または最小値（下限値）とし、その最大値と最小値との間を複数の区分に区分けしてもよい。
【００９２】
例えば、図１９は、顧客要求規格が０．０５ｍｍであり、区分数を４つとした場合、図２０は、顧客要求規格が０．０５ｍｍであり、区分数を５つとした場合の複数の平行平板１１の区分けの例をそれぞれ示している。図１９および図２０では、顧客要求規格が０．０５ｍｍであるので、その±１／５の値である±０．０１０（ｍｍ）を、厚さと基準値との差の上限値および下限値とし、その間を複数の区分に区分けしている。
【００９３】
また、図２１は、顧客要求規格が０．１０ｍｍであり、区分数を４つとした場合、図２２は、顧客要求規格が０．１０ｍｍであり、区分数を５つとした場合の複数の平行平板１１の区分けの例をそれぞれ示している。図２１および図２２では、顧客要求規格が０．１０ｍｍであるので、その±１／５の値である±０．０２０（ｍｍ）を、厚さと基準値との差の上限値および下限値とし、その間を複数の区分に区分けしている。
【００９４】
このように区分けされた各ランクから平行平板１１を選択して積層することで、ワイヤーソーの切断位置に対する接合面２１の位置ズレ量が、顧客要求規格の６０％程度またはそれ以下に収まり、顧客要求規格を超えることが非常に少なくなることが、上記各実施例１〜１３と同様のシミュレーションからわかった。
【００９５】
なお、区分数は、４区分から６区分程度が妥当であるが、特に限定されることはない。また、区分数は、奇数個でも複数個であってもよいが、奇数個のほうが、平行平板１１の積層枚数が奇数枚のときでも複数枚のときでも容易に対応できる点で便利である。つまり、区分数が奇数個の場合、上述した具体例２で示したように真ん中の区分（整数値０のランク）の平行平板１１を１つ入れるか入れないかで、平行平板１１の積層枚数が奇数枚のとき、複数枚のときの両者に柔軟に対応することができる。
【符号の説明】
【００９６】
１  積層体
１１  平行平板
１２  積層分割体
１４  プリズム（光学素子）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【手続補正書】
【提出日】平成22年2月2日(2010.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚の透明媒質からなる平行平板を接着剤を介して積層することにより、積層体を形成する第１の工程と、
所定の傾斜角度で、かつ、所定のピッチで積層体を切断することにより、複数の積層分割体を形成する第２の工程と、
複数の前記積層分割体を積み上げて前記第２の工程での切断面に垂直で、かつ前記平行平板が積層されている方向に所定のピッチで切断することにより、透明媒質の貼り合わせからなる複数の光学素子を形成する第３の工程とを有する光学素子の製造方法であって、
前記第３の工程では、前記第３の工程におけるいずれかの切断面が前記平行平板の境界である接合面に対して所定の位置関係を満たすように決められた切断基準位置を基準に、複数の接合面を含む所定のピッチで前記積層分割体を切断し、
複数の前記平行平板を前記平行平板の厚さと厚さの基準値との差に応じて複数のランクに区分けする前工程の後、
前記第１の工程では、前記第３の工程での各切断面に対する前記接合面の前記所定のピッチを取る方向の位置ズレが、いずれの切断位置においても所定範囲内に収まるように、厚さが前記基準値以上または前記基準値よりも大きいランクに属する前記平行平板と厚さが前記基準値未満または前記基準値以下のランクに属する前記平行平板とを選択して積層することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】
各ランクには、各ランクが許容する前記平行平板の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値が対応付けられており、かつ、上記整数値が、厚さが前記基準値以上または前記基準値よりも大きい前記平行平板が属するランクと、厚さが前記基準値未満または前記基準値以下の前記平行平板が属するランクとで互いに逆符号となっている場合に、
前記第１の工程では、積層されるそれぞれの前記平行平板に対応する整数値の累積値が、どの前記平行平板までの累積値をとっても所定範囲内に収まるように、前記複数のランクから前記平行平板を選択して積層することを特徴とする請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記複数のランクには、それぞれのランクが許容する前記平行平板の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値がそれぞれ対応付けられており、かつ、上記整数値が、厚さが基準値以上または基準値よりも大きい前記平行平板が属するランクと、厚さが基準値未満または基準値以下の前記平行平板が属するランクとで互いに逆符号となっている場合に、
前記第１の工程では、連続して積層される所定枚数の前記平行平板が属する各ランクに対応する整数値の平均値が、連続して積層される所定枚数の前記平行平板の異なる組み合わせごとに所定範囲内に収まるように、前記複数のランクから前記平行平板を選択して積層することを特徴とする請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】
厚さが前記基準値以上または前記基準値よりも大きい前記平行平板が属する複数のランクの中で、許容される前記平行平板の厚さの最小値が最も小さいランクは、第１の整数値に対応付けられている一方、他のランクのそれぞれは、各ランクが許容する前記平行平板の厚さの最小値の小さいほうから順に、第１の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第１の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値に対応付けられており、
厚さが前記基準値未満または前記基準値以下の前記平行平板が属する複数のランクの中で、許容される前記平行平板の厚さの最小値が最も大きいランクは、第１の整数値と絶対値が異なる第２の整数値に対応付けられている一方、他のランクのそれぞれは、各ランクが許容する前記平行平板の厚さの最小値の大きいほうから順に、第２の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第２の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値に対応付けられていることを特徴とする請求項２または３に記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記複数のランクには、それぞれのランクが許容する前記平行平板の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値が対応付けられており、かつ、上記整数値が、厚さが基準値から所定範囲内に収まる前記平行平板が属するランクについては０であり、このランク以外のランクであって、厚さが基準値よりも大きい前記平行平板が属するランクと、厚さが基準値よりも小さい前記平行平板が属するランクとで互いに逆符号の整数値となっている場合に、
前記第１の工程では、積層されるそれぞれの前記平行平板に対応する整数値の累積値が、どの前記平行平板までの累積値をとっても所定範囲内に収まるように、前記複数のランクから前記平行平板を選択して積層することを特徴とする請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
前記複数のランクには、それぞれのランクが許容する前記平行平板の厚さの最大値または最小値の大きいほうから順に、単調に減少または増加する整数値が対応付けられており、かつ、上記整数値が、厚さが基準値から所定範囲内に収まる前記平行平板が属するランクについては０であり、このランク以外のランクであって、厚さが基準値よりも大きい前記平行平板が属するランクと、厚さが基準値よりも小さい前記平行平板が属するランクとで互いに逆符号の整数値となっている場合に、
前記第１の工程では、連続して積層される所定枚数の前記平行平板が属するそれぞれのランクに対応する整数値の平均値が、連続して積層される所定枚数の前記平行平板の異なる組み合わせごとに所定範囲内に収まるように、前記複数のランクから前記平行平板を選択して積層することを特徴とする請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項７】
整数値０のランク以外のランクであって、厚さが前記基準値よりも大きい平行平板が属する複数のランクの中で、許容される前記平行平板の厚さの最小値が最も小さいランクは、第１の整数値に対応付けられている一方、他のランクのそれぞれは、各ランクが許容する前記平行平板の厚さの最小値の小さいほうから順に、第１の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第１の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値に対応付けられており、
整数値０のランク以外のランクであって、厚さが基準値よりも小さい前記平行平板が属する複数のランクの中で、許容される前記平行平板の厚さの最小値が最も大きいランクは、第１の整数値と絶対値が異なる第２の整数値に対応付けられている一方、他のランクのそれぞれは、各ランクが許容する前記平行平板の厚さの最小値の大きいほうから順に、第２の整数値と同符号で、かつ、その絶対値が第２の整数値の絶対値から所定値ずつ増大するような整数値に対応付けられていることを特徴とする請求項５または６に記載の光学素子の製造方法。
【請求項８】
前記第１の工程では、整数値の符号が異なるランクに属する前記平行平板を交互に積層することを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項９】
前記第１の工程では、整数値の絶対値が同じランクに属する前記平行平板を交互に積層することを特徴とする請求項８に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１０】
前記第１の工程で積層する平行平板の枚数が偶数である場合、
前記第１の工程では、整数値の符号が正のランクに属する前記平行平板と、整数値の符号が負のランクに属する前記平行平板とを同じ枚数ずつ積層することを特徴とする請求項２から９のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１１】
前記第１の工程で積層する平行平板の枚数が奇数である場合、
前記第１の工程では、整数値の符号が正のランクに属する前記平行平板と、整数値の符号が負のランクに属する前記平行平板とを同じ枚数ずつ積層するとともに、整数値が０のランクに属する前記平行平板を奇数枚積層することを特徴とする請求項５から７のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１２】
前記第３の工程にて複数の前記積層分割体を所定のピッチで切断する際の切断基準位置は、それぞれの前記積層分割体における切断ピッチをとる方向の中央または略中央の位置であることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１３】
それぞれの前記平行平板の表面に光学薄膜を形成する第４の工程をさらに有しており、
前記第４の工程は、前記第１の工程の前に行われることを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１４】
それぞれの前記積層分割体において、前記第２の工程での切断時に切断面となった面の少なくとも１つを研磨する第５の工程をさらに有しており、
前記第５の工程は、前記第３の工程の前に行われることを特徴とする請求項１から１３のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１５】
前記第３の工程では、複数の前記積層分割体を積み上げて所定のピッチで切断した後、その切断時に切断面となった面の少なくとも１つを研磨することを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の光学素子の製造方法は、複数枚の透明媒質からなる平行平板を接着剤を介して積層することにより、積層体を形成する第１の工程と、所定の傾斜角度で、かつ、所定のピッチで積層体を切断することにより、複数の積層分割体を形成する第２の工程と、複数の前記積層分割体を積み上げて前記第２の工程での切断面に垂直で、かつ前記平行平板が積層されている方向に所定のピッチで切断することにより、透明媒質の貼り合わせからなる複数の光学素子を形成する第３の工程とを有する光学素子の製造方法であって、前記第３の工程では、前記第３の工程におけるいずれかの切断面が前記平行平板の境界である接合面に対して所定の位置関係を満たすように決められた切断基準位置を基準に、複数の接合面を含む所定のピッチで前記積層分割体を切断し、複数の前記平行平板を前記平行平板の厚さと厚さの基準値との差に応じて複数のランクに区分けする前工程の後、前記第１の工程では、前記第３の工程での各切断面に対する前記接合面の前記所定のピッチを取る方向の位置ズレが、いずれの切断位置においても所定範囲内に収まるように、厚さが前記基準値以上または前記基準値よりも大きいランクに属する前記平行平板と厚さが前記基準値未満または前記基準値以下のランクに属する前記平行平板とを選択して積層することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明によれば、第１の工程では、前記第３の工程での各切断面に対する前記接合面の位置ズレが、いずれの切断位置においても所定範囲内（例えば接合面の位置ズレ規格内）に収まるように、厚さが基準値以上または基準値よりも大きいランクに属する平行平板と、厚さが基準値未満または基準値以下のランクに属する平行平板を複数のランクに区分けされた平行平板の中から選択して積層する。このような積層の仕方としては、例えば、前者の平行平板と後者の平行平板とを交互に積層したり、あるいは前者の平行平板を連続して所定枚数積層し、その上に後者の平行平板を所定枚数積層する、などがある。