(57)【要約】【課題】安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供すること。【解決手段】（Ａ１）５０重量％粒子径が２．０〜２０．０μｍ、かつ平均厚さが０．１〜１．０μｍの範囲にあるフレーク状アルミニウム粉末、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能（メタ）アクリレート、および（Ｅ）光重合開始剤を含有することを特徴とする、感光性ペースト組成物、ならびに該組成物を用いたパターン形成方法【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ１）５０重量％粒子径が２．０〜２０．０μｍ、かつ
平均厚さが０．１〜１．０μｍの範囲にあるフレーク状アルミニウム粉末、
（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｄ）多官能（メタ）アクリレート、および
（Ｅ）光重合開始剤
を含有することを特徴とする、感光性ペースト組成物。
【請求項２】
前記フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）の５０重量％粒子径が、２．０〜１５．０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項３】
前記フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）の５０重量％粒子径が、２．０〜７．０μｍであることを特徴とする請求項２に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項４】
さらに、（Ｂ）５０重量％粒子径が０．２〜５．０μｍの範囲にあるガラス粉末を含有することを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項５】
請求項４に記載の感光性ペースト組成物であって、
前記ガラス粉末（Ｂ）の少なくとも一部が（Ｂ１）軟化点が３５０〜７００℃の範囲にあるガラス粉末であり、かつ前記ガラス粉末（Ｂ１）の含有量が、前記組成物全体に対して、１．０〜２５重量％の範囲にあることを特徴とする、感光性ペースト組成物。
【請求項６】
さらに、（Ａ２）５０重量％粒子径が１．０〜２０．０μｍの範囲にある球状アルミニウム粉末を含有していることを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項７】
前記フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）が、貴金属コートおよび貴金属メッキの何れか一方または双方の処理がなされた粉末であり、前記貴金属が、金、銀、白金およびこれらの合金からなる群から選択される少なくとも１種の金属であることを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項８】
前記フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）および前記球状アルミニウム粉末（Ａ２）の何れか一方または双方の粉末が、貴金属コートおよび貴金属メッキの何れか一方または双方の処理がなされた粉末であり、前記貴金属が、金、銀、白金およびこれらの合金からなる群から選択される少なくとも１種の金属であることを特徴とする、請求項６に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項９】
請求項１に記載の感光性ペースト組成物からなる感光性ペースト層を基板上に形成する工程、該感光性ペースト層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、パターンの潜像が形成された感光性ペースト層を現像処理してパターンを形成する工程、および該パターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とする、パターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性ペースト組成物およびパターン形成方法に関する。さらに詳しくは、フラットパネルディスプレイなどのディスプレイパネル、電子部品の高度実装材料および太陽電池の部材を製造する際に、高感度かつ高精度のパターンを形成することが可能な感光性ペースト組成物および該組成物を用いたパターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、回路基板やディスプレイパネルにおけるパターン加工に対して、高密度化および高精細化の要求が高まっている。このような要求が高まっているディスプレイパネルの中でも、特にプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）やフィールドエミッションディスプレイ（以下「ＦＥＤ」ともいう。）などのフラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」ともいう。）が注目されている。
【０００３】
図１は交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。図１において、１０１および１０２は対向配置されたガラス基板、１０３および１１１は隔壁であり、ガラス基板１０１、ガラス基板１０２、背面隔壁１０３および前面隔壁１１１によりセルが区画形成されている。１０４はガラス基板１０１に固定された透明電極であり、１０５は透明電極１０４の抵抗を下げる目的で該透明電極１０４上に形成されたバス電極であり、１０６はガラス基板１０２に固定されたアドレス電極である。１０７はセル内に保持された蛍光物質であり、１０８は透明電極１０４およびバス電極１０５を被覆するようガラス基板１０１の表面に形成された誘電体層であり、１０９はアドレス電極１０６を被覆するようガラス基板１０２の表面に形成された誘電体層であり、１１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護層である。
【０００４】
上述の構成を有するＰＤＰや図２に示されるＦＥＤに代表されるＦＰＤにおいては、パネルの大型化および高精細化が進んでおり、それに伴ってパターン加工技術の向上が要望されている。しかしながら、パネルの大型化および高精細化に伴い、パターン精度の要求が非常に厳しくなり、従来の工法であるスクリーン印刷法では、前記要求に対応できないという問題がある。
【０００５】
そこで現在では、フォトリソグラフィー法によるパターン形成が主に用いられている。例えば電極を製造する場合には、感光性銀ペーストを用いたフォトリソグラフィー法により、スクリーン印刷法では対応できなかった問題である、大型および高精細なパターン形成が可能となっている。
【０００６】
しかしながら、銀は貴金属であるため高価である。このため、感光性銀ペースト自体も高価な導電性ペーストになっている。また、感光性銀ペーストの欠陥として、高温多湿環境下でマイグレーションを起こしやすく、銀表面において硫化が発生するという性質が挙げられる。
【０００７】
上記のように、近年のパターン精度およびコストダウンに対する要求から、安価でかつ高精細なパターンを、セラミック、シリコンおよびガラス基板上に形成可能な無機粒子含有感光性樹脂材料が望まれている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明者らは、銀に代わる材料として、安価な材料であるアルミニウム粉末に着目して
感光性樹脂材料の検討に取り組んだ。
【０００９】
アルミニウム粉末に関しては、大まかに形状の異なる２種のアルミニウム粉末があり、１つは球状アルミニウム粉末、もう１つはフレーク状アルミニウム粉末がある。球状アルミニウム粉末については主に粉末同士が点接触でしか接触しないのに対し、フレーク状アルミニウム粉末では主に粉末同士が面接触となる。ここで、面接触が生じやすいフレーク状アルミニウム粉末の方が良導電性を示す。
【００１０】
しかしながら、フォトリソグラフィー法においては、例えば２００〜４５０ｎｍの紫外光を感光性樹脂材料に照射することによって、カチオン重合またはラジカル重合により、該樹脂材料中の重合性モノマーが重合・硬化するものである。このため、隠蔽率の高いアルミニウム粉末を含有した感光性樹脂材料では、紫外光の透過率の低さが問題となる。特に、隠蔽率の高いフレーク状アルミニウム粉末を用いると、紫外光の透過率が低下し、感光性樹脂材料からなる塗膜が充分に硬化しないという問題がある。
【００１１】
本発明は、上記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものである。すなわち、本発明は、安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、前記感光性ペースト組成物を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討を行った。その結果、特定の粒子径および平均厚さを有するフレーク状アルミニウム粉末を用いることで、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１３】
本発明の上記目的は、第1に、
（Ａ１）５０重量％粒子径が２．０〜２０．０μｍ、かつ平均厚さが０．１〜１．０μｍの範囲にあるフレーク状アルミニウム粉末、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能（メタ）アクリレート、および（Ｅ）光重合開始剤を含有することを特徴とする、感光性ペースト組成物によって達成される。
【００１４】
本発明の上記目的は、第２に、
前記フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）の５０重量％粒子径が２．０〜１５．０μｍであることを特徴とする前記第１に記載の感光性ペースト組成物によって達成される。
【００１５】
本発明の上記目的は、第３に、
前記フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）の５０重量％粒子径が２．０〜７．０μｍであることを特徴とする前記第２に記載の感光性ペースト組成物によって達成される。
【００１６】
本発明の上記目的は、第４に、
さらに、（Ｂ）５０重量％粒子径が０．２〜５．０μｍの範囲にあるガラス粉末を含有することを特徴とする前記第1に記載の感光性ペースト組成物によって達成される。
【００１７】
本発明の上記目的は、第５に、
前記ガラス粉末（Ｂ）の少なくとも一部が（Ｂ１）軟化点が３５０〜７００℃の範囲にあるガラス粉末であり、かつ前記ガラス粉末（Ｂ１）の含有量が、前記組成物全体に対して、１．０〜２５重量％の範囲にあることを特徴とする、前記第４に記載の感光性ペースト組成物によって達成される。
【００１８】
本発明の上記目的は、第６に、
さらに、（Ａ２）５０重量％粒子径が１．０〜２０．０μｍの範囲にある球状アルミニウム粉末を含有していることを特徴とする、前記第１に記載の感光性ペースト組成物によって達成される。。
【００１９】
本発明の上記目的は、第７に、
前記フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）が、貴金属コートおよび貴金属メッキの何れか一方または双方の処理がなされた粉末であり、前記貴金属が、金、銀、白金およびこれらの合金からなる群から選択される少なくとも１種の金属であることを特徴とする、前記第１に記載の感光性ペースト組成物によって達成される。。
【００２０】
本発明の上記目的は、第８に、
前記フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）および前記球状アルミニウム粉末（Ａ２）の何れか一方または双方の粉末が、貴金属コートおよび貴金属メッキの何れか一方または双方の処理がなされた粉末であり、前記貴金属が、金、銀、白金およびこれらの合金からなる群から選択される少なくとも１種の金属であることを特徴とする、前記第６に記載の感光性ペースト組成物によって達成される。
【００２１】
本発明の上記目的は、第９に、
前記感光性ペースト組成物からなる感光性ペースト層を基板上に形成する工程、該感光性ペースト層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、パターンの潜像が形成された感光性ペースト層を現像処理してパターンを形成する工程、および該パターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とする、パターン形成方法によって達成される。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の感光性ペースト組成物は、安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンを形成することができるので、ＦＰＤの配線を構成する部材の形成、電子部品の高度実装材料の部材の形成、および太陽電池の部材の形成に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１は、交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。
【図２】図２は、一般的なＦＥＤの断面形状を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明に係る感光性ペースト組成物およびパターン形成方法について、詳細に説明する。なお、以下では、前記感光性ペースト組成物を用いて形成される、露光前の層を「感光性ペースト層」ともいう。
【００２５】
〔感光性ペースト組成物〕
本発明に係る感光性ペースト組成物は、以下に説明するアルミニウム粉末（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）および光重合開始剤（Ｅ）を含有する。また、前記感光性ペースト組成物には、ガラス粉末（Ｂ）や添加剤を配合してもよい。
【００２６】
＜アルミニウム粉末（Ａ）＞
アルミニウム粉末（Ａ）としては、フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）が用いられる。また、アルミニウム粉末（Ａ）として、フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）とともに、球状アルミニウム粉末（Ａ２）を用いてもよい。
【００２７】
≪フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）≫
フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）は、５０重量％粒子径（以下「Ｄ５０」ともいう
。）が２．０〜２０．０μｍ、好ましくは２．０〜１５．０μｍ、より好ましくは２．０〜７．０μｍであり；平均厚さが０．１〜１．０μｍ、好ましくは０．１〜０．９μｍ、より好ましくは０．１〜０．８μｍの範囲にある。
【００２８】
Ｄ５０または平均厚さが上記範囲を上回るフレーク状アルミニウム粉末を用いると、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。また、Ｄ５０または平均厚さが上記範囲を下回るフレーク状アルミニウム粉末を用いると、該粉末同士が、膜中で面接触傾向ではなく点接触傾向になるため、低抵抗のパターンを形成することが困難になることがある。
【００２９】
なお、本発明において、５０重量％粒子径（Ｄ５０）は、レーザー回折法により、後述する実施例での測定条件下で測定される値である。また、平均厚さは、ＳＥＭ観察により、後述する実施例での測定条件下で測定される値である。
【００３０】
また、フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）のアスペクト比（フレーク状アルミニウム粉末の最大粒径を、平均厚さで割ったもの）は、通常は４０〜２００、好ましくは４５〜１８０、特に好ましくは５０〜１６０である。
【００３１】
フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）は、上記要件（Ｄ５０および平均厚さ）を満足するフレーク状アルミニウム粉末であれば特に限定されないが、例えば、純アルミニウム、アルミニウム合金およびアルミニウム化合物（但し、酸化アルミニウムを除く。以下同じ。）のフレーク状粉末；貴金属コートおよび貴金属メッキの何れか一方または双方の処理がなされた該フレーク状粉末；脂肪酸により包接された該フレーク状粉末が挙げられる。例えばＦＰＤの配線を構成する電極を形成する場合には、前記例示のフレーク状粉末が好適に用いられるが、特に、ＪＩＳ  Ｋ  ５９０６に記載の方法に従って測定されるリーフィング価が小さい（またはリーフィング価がない）、ノンリーフィング型のフレーク状粉末が好適に用いられる。また、前記例示のフレーク状粉末は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３２】
上記貴金属コートおよび貴金属メッキで用いられる貴金属としては、例えば、金、銀、白金、これらの合金が挙げられる。これらの貴金属は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、この貴金属コートおよび貴金属メッキは、従来公知の方法に従って行うことができる。
【００３３】
上記脂肪酸としては、例えば、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ぺラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトイル酸、マルガリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセレン酸、ネルボン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸が挙げられる。これらの脂肪酸の中では、オレイン酸は効率的にアルミニウム粉末を包接および／または修飾することができる。オレイン酸などの脂肪酸を用いて、上記フレーク状粉末を包接および／または修飾することで、ノンリーフィング型のフレーク状粉末を容易に得ることができる。そして、このようなノンリーフィング型のフレーク状アルミニウム粉末を用いることで、感光性ペースト層中に該アルミニウム粉末をより均一に分散することが可能となる。このため、このようにして得られる感光性ペースト層は露光光を反射することなく（すなわち、透過率が向上する）、良好にパターン形成することができる。
【００３４】
≪球状アルミニウム粉末（Ａ２）≫
本発明において、フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）とともに、球状アルミニウム粉末（Ａ２）を用いてもよい。球状アルミニウム粉末（Ａ２）は、５０重量％粒子径（Ｄ５
０）が１．０〜２０．０μｍ、好ましくは１．５〜１８．０μｍ、さらに好ましくは２．０〜１５．０μｍの範囲にある。なお、本発明において球状アルミニウム粉末（Ａ２）の形状とは、フレーク状（燐片状）以外の形状を意味し、特に限定はされない。
【００３５】
Ｄ５０が上記範囲を上回る球状アルミニウム粉末を用いると、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。また、Ｄ５０が上記範囲を下回る球状アルミニウム粉末を用いると、歩留りが悪く、安価にパターンを形成することが困難になることがある。
【００３６】
球状アルミニウム粉末（Ａ２）としては、上記要件（Ｄ５０）を満足する球状アルミニウム粉末であれば特に限定されないが、例えば、純アルミニウム、アルミニウム合金およびアルミニウム化合物の球状粉末；貴金属コートおよび貴金属メッキの何れか一方または双方の処理がなされた該球状粉末が挙げられる。例えば、ＦＰＤの配線を構成する電極を形成する場合には、前記例示の球状粉末が好適に用いられるが、特に純アルミニウムが好適に用いられる。また、前記例示の球状粉末は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３７】
上記貴金属コートおよび貴金属メッキで用いられる貴金属としては、例えば、金、銀、白金、これらの合金が挙げられる。これらの貴金属は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３８】
≪構成比≫
本発明に係る感光性ペースト組成物において、アルミニウム粉末（Ａ）の含有量は、該組成物全体に対して、好ましくは１０〜６０重量％、より好ましくは１５〜５０重量％、さらに好ましくは２０〜４０重量％の範囲にある。アルミニウム粉末（Ａ）の含有量が前記範囲にあると、導電性に優れたパターンを形成することができる。
【００３９】
なお、アルミニウム粉末（Ａ）の含有量とは、フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）のみ用いられる場合には、その固形分換算での含有量を指し；フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）と球状アルミニウム粉末（Ａ２）とが用いられる場合には、該粉末（Ａ１）と該粉末（Ａ２）との固形分換算での含有量の合計（（Ａ１）＋（Ａ２））を指す。
【００４０】
また、フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）とともに球状アルミニウム粉末（Ａ２）を用いてもよく、球状アルミニウム粉末（Ａ２）に対するフレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）の固形分換算での重量比（（Ａ１）／（Ａ２））は、好ましくは１００／０〜５０／５０、より好ましくは１００／０〜６０／４０、さらに好ましくは１００／０〜７０／３０の範囲にある。固形分換算での重量比（（Ａ１）／（Ａ２））が前記範囲にあると、導電性に優れたパターンを形成することができる。
【００４１】
また、本発明に係る感光性ペースト組成物において、アルミニウム粉末（Ａ）とともに、他の金属粉末（例えば、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｍｏおよびこれらの化合物（但し、ガラス粉末（Ｂ）を除く。）の粉末。）を、該アルミニウム粉末（Ａ）１００重量部に対して、２５重量部以内で用いてもよい。
【００４２】
＜ガラス粉末（Ｂ）＞
本発明において、ガラス粉末（Ｂ）を用いることが好ましい。ガラス粉末（Ｂ）は、本発明に係る感光性ペースト組成物を用いて形成されるパターンの用途（例えば、ＦＰＤの部材、電子部品の部材など。）に応じて適宜選択することができる。
【００４３】
ガラス粉末（Ｂ）の好適な具体例としては、
１．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物
（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
５．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物
（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
６．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2系）、
７．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウムの混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系）、
８．酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウムの混合物
（Ｐ2Ｏ5−Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3系）、
９．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
１０．酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタンの混合物（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＴｉＯ2系）、
１１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ系）、
１２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ−ＣａＯ系）、
１３．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウムの混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ−ＣａＯ−Ａｌ2Ｏ3系）、
１４．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
１５．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化ナトリウムの混合物
（Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｎａ2Ｏ系）、
が挙げられる。これらの中では、環境に配慮した無鉛ガラスが特に好ましい。
【００４４】
ガラス粉末（Ｂ）は、アルミニウムの標準電極電位よりも低い標準電極電位を有する金属の酸化物（以下「特定金属酸化物」ともいう。）を１０〜５０重量％、特に２０〜５０重量％含有することが好ましい。
【００４５】
特定金属酸化物の含有量が上記範囲にあるガラス粉末を用いることにより、電極パターンの抵抗値を低くすることができる。また、基板との密着性に優れた電極パターンを得ることができる。これは、アルミニウム粉末（Ａ）の表面に酸化によるアルミナ（融点：２０２０℃）の形成が抑えられ、硬化パターンを焼成する際にアルミニウム粉末（Ａ）同士の結着が促進されるためであると考えられる。
【００４６】
なお、標準電極電位とは、ある電気化学反応について、標準状態（反応に関与する全ての化学種の活量が１。）かつ平衡状態となっているときの電極電位である。その値は標準水素電極と測定対象の電極とを組み合わせて作製した電池の標準状態における起電力を測定することにより得られる。従って、上記特定金属酸化物は、Ｌｉ、Ｒｂ、Ｋ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｃａ、Ｎａ、ＭｇおよびＢｅからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物であることが好ましい。具体的には、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏ、ＢａＯ、ＣａＯなどが
挙げられる。
【００４７】
ガラス粉末（Ｂ）の平均粒子径は、パターンの形状を考慮して適宜選択される。ガラス粉末（Ｂ）の５０重量％粒子径（Ｄ５０）は、好ましくは０．２〜５．０μｍ、より好ましくは０．２〜４．０μｍ、さらに好ましくは０．５〜３．８μｍの範囲にある。また、ガラス粉末（Ｂ）の１０重量％粒子径（Ｄ１０）は０．０５〜０．５μｍの範囲にあることが好ましく、９０重量％粒子径（Ｄ９０）は１０〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。ガラス粉末（Ｂ）の平均粒子径（Ｄ５０、Ｄ１０、Ｄ９０）が前記範囲にあると、露
光工程において、露光光が感光性ペースト層の底部まで充分到達し、高精細なパターンを形成することができる。
【００４８】
なお、本発明において、５０重量％粒子径（Ｄ５０）、１０重量％粒子径（Ｄ１０）および９０重量％粒子径（Ｄ９０）は、レーザー回折法により、後述する実施例での測定条件下で測定される値である。
【００４９】
また、例えばＦＰＤの配線を構成する電極を形成する場合には、ガラス粉末（Ｂ）として、（Ｂ１）軟化点が好ましくは３５０〜７００℃、より好ましくは４００〜６２０℃の範囲にあるガラス粉末（以下「ガラス粉末（Ｂ１）」ともいう。）を用いることが好ましい。
【００５０】
軟化点が上記範囲を下回るガラス粉末を用いると、感光性ペースト層を露光・現像して形成されるパターンを焼成する工程において、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）などの有機物質が完全に分解除去されない段階で該ガラス粉末が溶融してしまうため、電極中に該有機物質の一部が残留することがある。その結果、前記電極が着色されて、その光透過率が低下することがある。一方、軟化点が上記範囲を上回るガラス粉末を用いると、感光性ペースト層を露光・現像して形成されるパターンを焼成する工程において、その温度条件が非常に高くなるため、ガラス基板に歪みなどが発生することがある。
【００５１】
なお、本発明において、ガラス粉末（Ｂ）の軟化点は、ＤＳＣ測定により、後述する実施例での測定条件下で測定される値である。
【００５２】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、ガラス粉末（Ｂ）の含有量は、該組成物全体に対して、好ましくは０．５〜３５重量％、より好ましくは１．０〜２５重量％、さらに好ましくは１．５〜２０重量％の範囲にある。
【００５３】
特に、ガラス粉末（Ｂ）の少なくとも一部がガラス粉末（Ｂ１）であることが好ましく、該ガラス粉末（Ｂ１）の含有量は、感光性ペースト組成物全体に対して、好ましくは１．０〜２５重量％、より好ましくは１．５〜２０重量％の範囲にある。ガラス粉末（Ｂ１）の含有量が前記範囲にあると、ＦＰＤの配線を構成する電極などの部材を形成する場合に好適である。
【００５４】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）＞
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）は、アルカリ可溶性であれば特に限定されない。なお、本発明において「アルカリ可溶性」とは、目的とする現像処理が可能な程度に、アルカリ性の現像液に溶解する性質をいう。
【００５５】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）としては、以下のアルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）との共重合体が好ましい。この共重合の際に、有機溶剤としては、特別に限定されるものではないが、後述の感光性ペースト組成物のための有機溶剤として例示されたものを用いることができる。
【００５６】
≪アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）≫
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）としては、例えば、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲ
ンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α−ヒドロキシメチル）アクリレートなどの水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類などの、アルカリ可溶性官能基と不飽和結合とを有するモノマーが挙げられる。
【００５７】
これらのモノマー（Ｃ１）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、これらのモノマー（Ｃ１）の中では、（メタ）アクリル酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルが好ましい。
【００５８】
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）を共重合することにより、樹脂にアルカリ可溶性を付与することができる。このアルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）由来の構成単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の全構成単位中、通常は５〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、より好ましくは１５〜７０重量％である。
【００５９】
≪（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）≫
（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）としては、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と共重合可能な（メタ）アクリル酸誘導体であれば特に限定されない。例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどの、上記モノマー（Ｃ１）以外の（メタ）アクリレート類が挙げられる。
【００６０】
これらのモノマー（Ｃ２）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６１】
また、本発明では、（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の代わりに、あるいは（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）とともに、例えば、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどから得られるポリマーの一方の鎖末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーを用いてもよい。
【００６２】
≪ラジカル重合開始剤≫
上記共重合の際、ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、ビニル単量体の重合に用いられるラジカル重合開始剤を用いることができる。
【００６３】
ラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル、２，
２'−アゾビス（２−メチルブチルニトリル）、２，２'−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１'−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、ジメチル
−２，２'−アゾビスイソブチレート、４，４'−アゾビス（４−シアノバレリック酸）などのアゾ化合物；ｔ−ブチルパーオキシビバレート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート、クミルパーオキシ２−エチルヘキサノエートなどのパーオキシエステル類
の有機過酸化物が挙げられる。
【００６４】
これらのラジカル重合開始剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、これらのラジカル重合開始剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー１００重量部に対して、通常は０．１〜１０重量部程度である。
【００６５】
≪連鎖移動剤≫
上記共重合の際、連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤としては、例えば、α−メチルスチレンダイマー、ｔ−ドデシルメルカプタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタンが挙げられる。
【００６６】
これらの連鎖移動剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、これらの連鎖移動剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー１００重量部に対して、通常は０．１〜１０重量部程度である。
【００６７】
≪アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の物性≫
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量（以下「Ｍｗ」ともいう。）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値で、好ましくは５０００〜１０００００、より好ましくは１００００〜８００００である。Ｍｗは、上記モノマーの共重合割合、連鎖移動剤、重合温度などの条件を適宜選択することにより制御することができる。Ｍｗが前記範囲を上回ると、現像後の膜荒れが発生しやすくなる。また、Ｍｗが前記範囲を下回ると、未露光部の現像液に対する溶解性が低下し、パターンの解像度が低下する場合がある。
【００６８】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは０〜１２０℃、より好ましくは１０〜１００℃である。ガラス転移温度が前記範囲を下回ると、塗膜にタックを生じやすく、ハンドリングがしにくい傾向にある。また、ガラス転移温度が前記範囲を上回ると、感光性ペースト層とガラス基板などの支持体との密着性が悪くなり、後述する転写フィルムを用いる場合には、該ペースト層を転写できないことがある。なお、ガラス転移温度は、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）および（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の量を変更することによって適宜調節することができる。
【００６９】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の酸価は、好ましくは２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは３０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇである。酸価が前記範囲を下回ると未露光部をアルカリ現像液で速やかに除去しにくく、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。また、酸価が前記範囲を上回ると、露光光によって硬化した部分もアルカリ現像液に浸食されやすくなり、高精細なパターンを形成することが困難になることがある。
【００７０】
本発明に係る感光性ペースト組成物は、５〜９０重量％の感光性樹脂成分と９５〜１０重量％の無機粒子とからなることが好ましい。なお、感光性樹脂成分とは、感光性ペースト組成物から無機粒子を除いた部分、すなわち感光性機能を有する有機成分全体をいい、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）および光重合開始剤（Ｅ）などが含まれる。また、無機粒子には、フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）および球状アルミニウム粉末（Ａ２）などのアルミニウム粉末（Ａ）、ガラス粉末（Ｂ）などが含まれる。
【００７１】
＜多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）＞
本発明に係る感光性ペースト組成物には、感光性成分が含まれる。前記感光性成分としては、一般的に光不溶化型の成分と光可溶化型の成分とがある。
【００７２】
光不溶化型の成分としては、（ｉ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する感光性モノマーまたはオリゴマー、（ｉｉ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機ハロゲン化合物などの感光性化合物、（ｉｉｉ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物などのいわゆるジアゾ樹脂といわれるものなどがある。
【００７３】
光可溶化型の成分としては、（ｉｖ）ジアゾ化合物と無機酸や有機酸との錯体、（ｖ）キノンジアゾ類、（ｖｉ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結合させたもの（例えば、フェノール樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル。）などがある。
【００７４】
本発明においては、上記の全ての成分を用いることができるが、上記無機粒子と混合して簡便に用いることができる点で、上記（ｉ）感光性モノマーまたはオリゴマーに分類される、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）が必須成分として用いられる。
【００７５】
多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）としては、例えば、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、２，５−ヘキサンジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート類；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ（プロピレンオキサイド）変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリ（メタ）アクリレート、ベンジルメルカプタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの３官能以上の（メタ）アクリレート類；
上記化合物中の芳香族環に結合した水素原子のうち、１〜５個が塩素原子または臭素原子に置換されたモノマーが挙げられる。これらの多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７６】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）の含有量は、露光光に対する感度の点から、上記感光性樹脂成分全体に対して、好ましくは１０重量％以上、より好ましくは１５〜６０重量％の範囲にある。多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）の含有量が前記範囲を上回ると、焼成後の部材（例えば、ディスプレイパネル用部材）の形状が劣化することがある。
【００７７】
また、本発明の目的を損なわない範囲で、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）とともに、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどを用いてもよい。
【００７８】
＜光重合開始剤（Ｅ）＞
光重合開始剤（Ｅ）としては、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。また、露光感度を向上させるために、光重合開始剤（Ｅ）とともに増感剤を用いてもよい。
【００７９】
光重合開始剤（Ｅ）としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４’−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、カンファーキノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２，２'−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなど
のカルボニル化合物；
ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド系化合物；
ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンゾチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン；
エオシンやメチレンブルーなどの光還元性の色素と、アスコルビン酸やトリエタノールアミンなどの還元剤との組み合せが挙げられる。これらの光重合開始剤（Ｅ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８０】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、光重合開始剤（Ｅ）の含有量は、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）１００重量部に対して、好ましくは１〜５０重量部、より好ましくは２〜４０重量部の範囲にある。光重合開始剤（Ｅ）の含有量が前記範囲を上回ると、焼成後の部材（例えば、ディスプレイパネル用部材）の形状が劣化することがある。
【００８１】
≪増感剤≫
増感剤としては、例えば、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シク
ロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールが挙げられる。
【００８２】
これらの増感剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なお、増感剤の中には光重合開始剤としても用いられるものもあり、光重合開始剤との組み合せにより、増感剤であるか光重合開始剤であるかが決定される。
【００８３】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、増感剤の含有量は、上記無機粒子１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜１５重量部、より好ましくは０．０５〜１０重量部の範囲にある。増感剤の含有量が前記範囲を下回ると、光感度を向上させる効果が発揮されないことがあり、増感剤の含有量が前記範囲を上回ると、露光部の残存率が小さくなり過ぎることがある。
【００８４】
＜添加剤＞
本発明に係る感光性ペースト組成物には、さらに、紫外線吸収剤、重合禁止剤、酸化防止剤、有機溶媒、密着助剤、溶解促進剤などの添加剤を添加することができる。また、必要な場合には、増感助剤、可塑剤、増粘剤、分散剤、無機粒子およびアルカリ可溶性樹脂の沈降防止剤、ならびにレベリング剤などの添加剤を添加してもよい。
【００８５】
≪紫外線吸収剤≫
本発明に係る感光性ペースト組成物には、紫外線吸収剤を添加してもよい。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度のパターンが得られる。紫外線吸収剤としては、有機系染料または無機系顔料を用いることができ、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高い紫外線吸収係数を有する有機系染料または無機系顔料が好ましく用いられる。
【００８６】
有機系染料としては、例えば、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料が挙げられ；無機系顔料としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムが挙げられる。これらの中では、ＦＰＤの配線を構成する電極を形成する場合には、その信頼性の観点から、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムなどの無機系顔料がより好ましい。
【００８７】
無機系顔料は、ガラス粉末（Ｂ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜５重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部の範囲となる量で添加することができる。無機系顔料の添加量が前記範囲を下回ると、紫外線吸収剤の添加効果が小さく、所望の効果が得られないことがある。また、無機系顔料の添加量が前記範囲を上回ると、紫外線吸収剤の添加効果が大きく、感光性ペースト層の底部まで露光光が届かなくなり、パターンを形成できなくなることや成膜強度を保てないことがある。
【００８８】
≪重合禁止剤≫
本発明に係る感光性ペースト組成物には、保存時の熱安定性を向上させるために、重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールが挙げられる。
【００８９】
重合禁止剤は、感光性ペースト組成物全体に対して、好ましくは０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる。
【００９０】
≪酸化防止剤≫
本発明に係る感光性ペースト組成物には、保存時におけるアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の酸化を防ぐために、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトが挙げられる。
【００９１】
酸化防止剤は、感光性ペースト組成物全体に対して、好ましくは０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる。
【００９２】
≪有機溶媒≫
本発明に係る感光性ペースト組成物には、その粘度を調整するために、有機溶媒を加えてもよい。有機溶媒としては、例えば、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピネニルアセテート、リモネン、カルベオール、カルビニルアセテート、シトロネロール、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸が挙げられる。これらの有機溶媒は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９３】
有機溶媒は、感光性ペースト組成物全体に対して、好ましくは１５〜４０重量％の範囲となる量で添加することができる。
【００９４】
≪密着助剤≫
本発明に係る感光性ペースト組成物には、感光性ペースト層とガラス基板などの支持体との密着性を向上させるために、密着助剤を添加してもよい。密着助剤としては、シラン化合物が好適に用いられる。
【００９５】
シラン化合物としては、例えば、ｎ−プロピルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルメトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デシルジエチルメトキシシラン、ｎ−
ヘキサデシルジエチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルメトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルメトキシシラン、
ｎ−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルエトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルエトキシシラン、
【００９６】
ｎ−プロピルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジメチルプロポキシシラン、ｎ−プロピルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−デシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルプロポキシシラン、
ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジメトキシシラン、ｎ−デシルメチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジメトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジメトキシシラン、
【００９７】
ｎ−プロピルメチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジエトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジエトキシシラン、ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンメチルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−デシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジプロポキシシラン、
【００９８】
ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−イコサントリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−イコサントリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ｎ−イコサントリプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス−［３−（ト
リメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンが挙げられる。これらのシラン化合物は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９９】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、密着助剤の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．０５〜１５重量部、より好ましくは０．１〜１０重量部の範囲にある。
【０１００】
≪溶解促進剤≫
本発明に係る感光性ペースト組成物には、後述する現像液への充分な溶解性を発現させる目的で、溶解促進剤を添加してもよい。溶解促進剤としては、界面活性剤が好ましく用いられる。このような界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、脂肪酸が挙げられる。
【０１０１】
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、ＢＭ  ＣＨＩＭＩＥ社製「ＢＭ−１０００」、「ＢＭ−１１００」；大日本インキ化学工業（株）製「メガファックＦ１４２Ｄ」、「同Ｆ１７２」、「同Ｆ１７３」、「同Ｆ１８３」；住友スリーエム（株）製「フロラードＦＣ−１３５」、「同ＦＣ−１７０Ｃ」、「同ＦＣ−４３０」、「同ＦＣ−４３１」；旭硝子（株）製「サーフロンＳ−１１２」、「同Ｓ−１１３」、「同Ｓ−１３１」、「同Ｓ−１４１」、「同Ｓ−１４５」、「同Ｓ−３８２」、「同ＳＣ−１０１」、「同ＳＣ−１０２」、「同ＳＣ−１０３」、「同ＳＣ−１０４」、「同ＳＣ−１０５」、「同ＳＣ−１０６」が挙げられる。
【０１０２】
シリコーン系界面活性剤の市販品としては、例えば、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製「ＳＨ−２８ＰＡ」、「ＳＨ−１９０」、「ＳＨ−１９３」、「ＳＺ−６０３２」、「ＳＦ−８４２８」、「ＤＣ−５７」、「ＤＣ−１９０」；信越化学工業（株）製「ＫＰ３４１」；新秋田化成（株）製「エフトップＥＦ３０１」、「同ＥＦ３０３」、「同ＥＦ３５２」が挙げられる。
【０１０３】
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル類などのポリオキシアルキレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類が挙げられる。
【０１０４】
ノニオン系界面活性剤の市販品としては、例えば、花王（株）製「エマルゲンＡ−６０」、「Ａ−９０」、「Ａ−５５０」、「Ｂ−６６」、「ＰＰ−９９」；共栄社化学（株）製「（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７」、「同Ｎｏ．９０」が挙げられる。
【０１０５】
脂肪酸としては、例えば、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ぺラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトイル酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセレン酸、ネルボン酸、セ
ロチン酸、モンタン酸、メリシン酸が挙げられる。
【０１０６】
これらの界面活性剤の中では、現像時に未露光部の除去が容易であることから、ノニオン系界面活性剤が好ましく、ポリオキシアルキレンアリールエーテル類がより好ましく、該ポリオキシアルキレンアリールエーテル類の中では、下記式（１）で表される化合物が特に好ましい。
【０１０７】
【化１】
2010114075.tif 000002
【０１０８】
上記式（１）中、Ｒ1は炭素数１〜５のアルキル基、好ましくはメチル基であり；ｐは１
〜５の整数であり；ｓは１〜５の整数、好ましくは２であり；ｔは１〜１００の整数、好ましくは１０〜２０の整数である。
【０１０９】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、溶解促進剤の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜２０重量部、より好ましくは０．０１〜１５重量部、特に好ましくは０．１〜１０重量部の範囲にある。溶解促進剤の含有量が前記範囲にあると、後述する現像液への溶解性に優れた感光性ペースト組成物が得られる。
【０１１０】
＜感光性ペースト組成物の調製＞
本発明に係る感光性ペースト組成物は、フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）などのアルミニウム粉末（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）および光重合開始剤（Ｅ）と、必要に応じて用いられる球状アルミニウム粉末（Ａ２）、ガラス粉末（Ｂ）および有機溶媒などの添加剤とを所定の組成比となるように調合した後、３本ロールや混練機で均質に混合分散して調製される。
【０１１１】
本発明に係る感光性ペースト組成物の粘度は、上記無機粒子、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加量によって適宜調整することができるが、１００〜５０００００ｃｐｓ（センチ・ポイズ）の範囲にあることが好ましい。
【０１１２】
上記感光性ペースト組成物は、上記感光性ペースト組成物からなる感光性ペースト層を基板上に形成する工程（感光性ペースト層形成工程）で得られる感光性ペースト層において、膜厚５μｍで波長３６５ｎｍの光に対する透過率が０．１％以上となることが好ましい。膜厚５μｍで波長３６５ｎｍの光に対する透過率が０．１％未満となる場合、フォトリソグラフィー法によるパターン形成は困難となることがある。
【０１１３】
〔パターン形成方法〕
本発明に係るパターン形成方法は、上記感光性ペースト組成物からなる感光性ペースト層を基板上に形成する工程（感光性ペースト層形成工程）、該感光性ペースト層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程（露光工程）、パターンの潜像が形成された感光性ペースト層を現像処理してパターンを形成する工程（現像工程）、および該パターンを焼成処理する工程（焼成工程）を含むことを特徴とする。
【０１１４】
＜感光性ペースト層形成工程＞
本工程では、上記感光性ペースト組成物からなる感光性ペースト層を基板上に形成する。感光性ペースト層の形成方法としては、例えば、（ｉ）上記感光性ペースト組成物を基板上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて形成する方法、（ii）上記感光性ペースト組成物を支持フィルム上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて得られる感光性ペースト層を有する転写フィルムを用いて、基板上に該ペースト層を転写する方法などが挙げられる。
【０１１５】
（ｉ）上記感光性ペースト組成物を基板上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例えば２０μｍ以上）、かつ均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコータによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法、スクリーン印刷装置によるスクリーン印刷法が挙げられる。
【０１１６】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における有機溶媒の残存割合が２重量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、乾燥温度が５０〜１５０℃、乾燥時間が０．５〜６０分程度である。
【０１１７】
上記のようにして形成された感光性ペースト層の膜厚は、好ましくは３〜３００μｍ、より好ましくは５〜２００μｍである。なお、感光性ペースト組成物の塗布をｎ回繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す。）の感光性ペースト層を有する積層体を形成してもよい。
【０１１８】
（ii）上記感光性ペースト層を有する転写フィルムを用いた転写工程の一例を以下に示す。基板と感光性ペースト層とが接するように、基板と転写フィルムとを重ね合わせ、該転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、該ペースト層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板上に感光性ペースト層が転写されて密着した状態となる。
【０１１９】
上記支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースが挙げられる。
【０１２０】
転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が１０〜２００℃、加熱ローラによるロール圧が０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０ｍ／分で
ある。また、上記基板は予熱されていてもよく、その予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。
【０１２１】
本発明で用いられる基板としては、例えば、ガラス、セラミック、シリコーン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材が挙げられる。これらの中では、耐熱性を有するガラス基板を用いることが好ましい。
【０１２２】
＜露光工程＞
本工程では、上記感光性ペースト層形成工程により基板上に感光性ペースト層を形成した後、露光装置を用いて露光を行う。具体的には、感光性ペースト層に、露光用マスクを介して、紫外線などの露光光を選択的に照射して、該ペースト層にパターンの潜像を形成する。
【０１２３】
露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法を採用することができる。フォトマスクの露光パターンは、目的によって異なるが、例えば１０〜５００μｍ幅のストライプまたは格子である。
【０１２４】
また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー光、Ａｒイオンレーザーなどで直接描画する方法を用いてもよい。
【０１２５】
露光装置としては、平行光露光機、散乱光露光機、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機などを用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性ペースト層を形成した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【０１２６】
露光光としては、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光が挙げられるが、これらの中では紫外線が好ましい。紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが挙げられる。これらの中では超高圧水銀灯が好適である。
【０１２７】
露光条件は、塗布厚みによって異なるが、例えば１〜１００ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧
水銀灯を用いて０．０５〜１分間露光を行う。この場合、波長フィルターを用いて露光光の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、パターン形成性を向上させることができる。具体的には、ｉ線（３６５ｎｍ）の光をカットするフィルター、あるいは、ｉ線およびｈ線（４０５ｎｍ）の光をカットするフィルターを用いて、パターン形成性を向上させることができる。
【０１２８】
＜現像工程＞
本工程では、上記露光後、露光部と非露光部との現像液に対する溶解度差を利用して、感光性ペースト層を現像してパターンを形成する。現像方法（例えば、浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法など）および現像処理条件（例えば、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度など）などは、感光性ペースト層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい。
【０１２９】
現像工程で用いられる現像液としては、感光性ペースト層中の有機成分を溶解可能な有機溶媒が使用できる。また、前記有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光性ペースト層中にカルボキシル基などの酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。
【０１３０】
上記感光性ペースト層には、フレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）、球状アルミニウム粉末（Ａ２）、ガラス粉末（Ｂ）などの無機粒子が含まれている。このような無機粒子はアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）により均一に分散されているため、該樹脂（Ｃ）を現像液で溶解して洗浄することにより、該無機粒子も同時に除去される。
【０１３１】
上記アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチル
アミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンが挙げられる。
【０１３２】
上記アルカリ水溶液のアルカリ濃度は、通常は０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部（未露光部）が除去されず、アルカリ濃度が高すぎると、パターンを剥離させ、あるいは非可溶部（露光部）を腐食するおそれがある。
【０１３３】
また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【０１３４】
上記アルカリ水溶液には、ノニオン系界面活性剤や有機溶媒などの添加剤が含有されていてもよい。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常は水洗処理が施される。
【０１３５】
＜焼成工程＞
本工程では、現像工程により形成されたパターンに含まれる有機物質を焼失させるために、焼成炉にて該パターンを焼成処理する。
【０１３６】
焼成雰囲気は、感光性ペースト組成物や基板の種類によって異なるが、空気、オゾン、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【０１３７】
焼成処理条件は、パターン中の有機物質が焼失されることが必要であるため、通常は、焼成温度が３００〜１０００℃、焼成時間が１０〜９０分間程度である。例えば、ガラス基板上にパターンを形成する場合は、焼成温度が３５０〜６００℃、焼成時間が１０〜６０分程度である。
【０１３８】
＜加熱工程＞
上記感光性ペースト層形成、露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥または予備反応の目的で、５０〜３００℃の加熱工程を導入してもよい。
【０１３９】
〔ＦＰＤ用部材などの製造〕
上記工程を含む本発明に係るパターン形成方法を用いることにより、ディスプレイパネル（ＦＰＤなど）の配線を構成する部材（電極など）、電子部品の高度実装材料の部材（回路パターンなど）、および太陽電池の部材（配線パターンなど）を形成することができる。特に、本発明に係るパターン形成方法を用いることにより、ＰＤＰなどのＦＰＤを好適に製造することができる。
【実施例】
【０１４０】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。なお、実施例および比較例における「部」および「％」は、特に断りのない限り、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
【０１４１】
まず、物性の測定方法および評価方法について説明する。
【０１４２】
〔粒度分布（５０重量％粒子径（Ｄ５０））の測定〕
アルミニウム粉末およびガラス粉末の５０重量％粒子径（Ｄ５０）は、回折式粒度分布測定装置（島津製作所（株）製「ＳＡＬＤ−２０００Ｊ」）により測定した。
【０１４３】
〔粉末の平均厚さの測定〕
アルミニウム粉末の平均厚さは、電子顕微鏡装置（ＳＥＭ）（日立テクノロジー(株)製「Ｓ−４３００」）により１００個実測した平均値である。
【０１４４】
〔フレーク状粉末のアスペクト比の算出〕
フレーク状粉末のアスペクト比は、フレーク状アルミニウム粉末の最大粒径を、平均厚さで割ったものとする。フレーク状アルミニウム粉末の最大粒径は、上記の回折式粒度分布測定装置（島津製作所（株）製「ＳＡＬＤ−２０００Ｊ」）により測定し、平均厚さは、上記の電子顕微鏡装置（ＳＥＭ）（日立テクノロジー(株)製「Ｓ−４３００」）により実測した。
【０１４５】
〔軟化点〕
ガラス粉末の軟化点は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）（ＴＡ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ製「２９１０、モジュレイテッドＤＳＣ」）により測定した。
【０１４６】
〔重量平均分子量（Ｍｗ）および重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）〕
アルカリ可溶性樹脂のＭｗおよびＭｗ／Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー（株）製「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」）により測定したポリスチレン換算の値である。なお、ＧＰＣ測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー（株）製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」を用い、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒、測定温度４０℃の条件で行った。
【０１４７】
〔体積抵抗率〕
下記実施例および比較例で得られた感光性ペースト組成物を、ガラス基板上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を焼成することにより、該ガラス基板上に膜厚５μｍの焼成膜を形成した。次に、ＮＰＳ社製の「Ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ  Ｐｒｏｃｃｅｓｓｏｒ  ＭｏｄｅｌΣ−５」を用いて、前記焼成膜の体積抵抗率（μΩ・ｃｍ）を測定した。
【０１４８】
〔現像後および焼成後のパターンの評価〕
下記実施例および比較例で得られた現像後および焼成後の試験片を切断して、パターン切断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察して、パターンの幅および高さを計測し、それぞれを下記基準で評価した。なお、所望の規格は、パターンの幅が１００μｍ、高さが５μｍ、間隔が１００μｍである。
Ａ：所望の規格のもの。
Ｂ：所望の規格から±５％以内のもの。
Ｃ：所望の規格から±５％を超えて±２０％以内のもの。
Ｄ：所望の規格から±２０％を超えるもの。
【０１４９】
〔焼成後のパターン密着性評価〕
下記実施例および比較例で得られた焼成後の試験片を用いて、パターンと支持体であるガラス基板との密着性評価を、以下のように行った。なお、所望の規格は、パターンの幅が１００μｍ、高さが５μｍ、間隔１００μｍである。
【０１５０】
加熱ローラを用いて、セロテープ（登録商標）（ニチバン社製）を、ガラス基板のパターン形成面に熱圧着した。熱圧着条件は、加熱ローラの表面温度を２３℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、ガラス基板の
パターン形成面にセロテープ（登録商標）が転写されて、ガラス基板とセロテープ（登録商標）とが密着した状態となった。このセロテープ（登録商標）をガラス基板より剥離することで、パターンの密着性を評価した。
○：パターン剥れなし。
×：パターン剥れあり。
【０１５１】
〔現像時の露光感度評価方法〕
下記実施例および比較例のパターン現像時において、パターン剥れが無いかどうかを観察して、パターン剥れが起きない最低露光量を露光感度として、それぞれを下記基準で評価した。
Ａ：１００ｍＪ／ｃｍ2でパターン剥れが発生しないもの。
Ｂ：１００ｍＪ／ｃｍ2でパターン剥れが発生するが、３００ｍＪ／ｃｍ2ではパターン剥れ発生しないもの。
Ｃ：３００ｍＪ／ｃｍ2でもパターン剥れが発生するもの。
【０１５２】
〔焼成後のパターンエッジ直線性評価〕
下記実施例および比較例で得られた焼成後の試験片を用いて、パターンのエッジを走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察して、パターンのエッジ直線性を計測し、それぞれを下記基準で評価した。
Ａ：エッジの直線性が良好。
Ｂ：エッジの直線性に少しガタツキあり。
Ｃ：エッジの直線性にガタツキ多く直線性不良。
【０１５３】
以下、本発明の感光性ペースト組成物の調製および該感光性ペースト組成物を用いたパターン形成についての実施例を記載する。
【０１５４】
下記実施例および比較例において、アルミニウム粉末として用いられたアルミニウム粉末Ａ−１〜Ａ−１４およびこれらを構成するフレーク状アルミニウム粉末（Ａ１）と球状アルミニウム粉末（Ａ２）とを、表１−１および表１−２に示す。ここで、アルミニウム粉末Ａ−１〜Ａ−８に用いたフレーク状アルミニウム粉末は、オレイン酸を用いて包接処理されたものである。アルミニウム粉末Ａ−１〜Ａ−８は、ＪＩＳ  Ｋ  ５９０６に記載の方法に従って測定したところ、リーフィング価がないことを確認した。
【０１５５】
また、下記実施例および比較例において用いられたガラス粉末（Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａ
ｌ2Ｏ3系）を、ガラス粉末Ｂ１−１〜Ｂ１−３として、表２に示す。
【０１５６】
さらに、感光性樹脂成分として用いられる感光性樹脂成分（１）〜（３）とその組成については、表３に示す。
【０１５７】
〔アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の合成〕
〔合成例１〕アルカリ可溶性樹脂（Ｃ−１）の合成
ｎ−ブチルメタクリレート４０部、２−エチルヘキシルメタクリレート３０部、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル１５部、メタクリル酸１５部、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）１．０部、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）（堺化学工業（株）製）２部、ジヒドロターピネオール１５０部を攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、これらが均一になるまで攪拌した。
【０１５８】
次に、上記モノマーを８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合させた後、室温まで冷却して、ＳＨ基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ｃ−１）の３９．５重量％溶液（以下「アルカリ可溶性樹脂溶液（Ｃ−１）」ともいう。）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（Ｃ−１）の重合率は９８％であり、重量平均分子量は２００００（Ｍｗ／Ｍｎ  １．８）であった。
【０１５９】
〔合成例２〕アルカリ可溶性樹脂（Ｃ−２）の合成
ｎ−ブチルメタクリレート４０部、２−エチルヘキシルメタクリレート３０部、メタク
リル酸２−ヒドロキシエチル１５部、メタクリル酸１５部、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）１．０部、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）（堺化学工業（株）製）２部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１５０部を攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、これらが均一になるまで攪拌した。
【０１６０】
次に、上記モノマーを８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合させた後、室温まで冷却して、ＳＨ基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ｃ−２）の３９．５重量％溶液（以下「アルカリ可溶性樹脂溶液（Ｃ−２）」ともいう。）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（Ｃ−２）の重合率は９８％であり、重量平均分子量は１８０００（Ｍｗ／Ｍｎ  １．７）であった。
【０１６１】
【表１】
2010114075.tif 000003
【０１６２】
【表２】
2010114075.tif 000004
【０１６３】
【表３】
2010114075.tif 000005
【０１６４】
［実施例１］
表１−１に示すアルミニウム粉末Ａ―１（２０ｇ）、表２に示すガラス粉末Ｂ１−１（１５ｇ）および表３に示す感光性樹脂成分（１）（６５ｇ）を混練機で混練して、感光性ペースト組成物（以下「感光性ペースト」ともいう。）を調製した。この感光性ペーストを用いて、上記測定方法に従い、体積抵抗率を測定した。結果を表４に示す。
【０１６５】
３２５メッシュのスクリーンを用いて、上記感光性ペーストをガラス基板（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×１．８ｍｍ）上に１００ｍｍ角の大きさでベタに印刷し、８０℃で２０分間保持して乾燥し、感光性ペースト層を形成した。なお、感光性ペースト層の膜厚は、１０μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１６６】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅１００μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、２５ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、感光性ペースト層を上面から紫外線露
光した。露光量は３００ｍＪ／ｃｍ2であった。
【０１６７】
次に、露光後の感光性ペースト層に、２３℃に保持した０．５％炭酸ナトリウム水溶液をシャワーで６０秒間かけ、該感光性ペースト層を現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、未露光部を除去して、ガラス基板上に格子状の硬化パターンを形成した。上記評価方法に従い、この現像後の硬化パターンを評価した。結果を表４に示す。
【０１６８】
次に、得られた硬化パターンを５８０℃で３０分間焼成して、電極パターンを形成した。上記評価方法に従い、この焼成後の電極パターンを評価した。焼成後の電極パターンの膜厚は、５μｍ±１μｍの範囲にあった。結果を表４に示す。
【０１６９】
［実施例２〜１４］
実施例１において、表４および表５に示す組成の感光性ペースト組成物を調製したこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板上に感光性ペースト層、硬化パターンおよび電極パターンを順次形成した。
【０１７０】
上記感光性ペーストを用いて、上記測定方法に従い、体積抵抗率を測定した。また、上記評価方法に従い、硬化パターンおよび電極パターンを評価した。結果を表４および表５に示す。なお、実施例２〜１４の何れにおいても、焼成後の電極パターンの膜厚は、５μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１７１】
［実施例１５］
表１−１に示すアルミニウム粉末Ａ―１（１６ｇ）、表２に示すガラス粉末Ｂ１−２（２ｇ）および表３に示す感光性樹脂成分（３）（８２ｇ）を混練機で混練して、感光性ペースト組成物（以下「感光性ペースト」ともいう。）を調製した。
【０１７２】
支持フィルムとして、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（以下「ＰＥＴ」ともいう。）フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ５０μｍ）を２枚用意した。
【０１７３】
次に、ロールコータを用いて、上記感光性ペーストを一方の支持フィルム上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を８０℃で１０分間乾燥して有機溶媒を除去することにより、膜厚１０μｍ±１μｍの感光性ペースト層を形成した。
【０１７４】
次に、もう一方の支持フィルムを上記感光性ペースト層と貼り合せて、これらを加熱ローラにより熱圧着した。熱圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を速度０．５ｍ／分とした。このようにして、感光性
ペースト層（膜厚１０μｍ±１μｍ）を有する転写フィルムを作製した。この転写フィルムを用いてガラス基板上に感光性ペースト層を転写し、該層を焼成して、上述の体積抵抗率の測定方法に従い、体積抵抗率を測定した。結果を表５に示す。
【０１７５】
次に、転写フィルムから一方の支持フィルムを剥離して、ガラス基板（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×１．８ｍｍ）表面と上記感光性ペースト層とが接するように、該転写フィルムと該ガラス基板とを重ね合わせた。次に、転写フィルムから残りの支持フィルムを剥離した。次に、感光性ペースト層とガラス基板とを加熱ローラにより熱圧着した。熱圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度
を０．５ｍ／分とした。
【０１７６】
これにより、ガラス基板上に感光性ペースト層が転写されて、ガラス基板と感光性ペースト層とが密着した状態となった。この感光性ペースト層の膜厚を測定したところ、１０μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１７７】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅１００μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、２５ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、感光性ペースト層を上面から紫外線露
光した。露光量は３００ｍＪ／ｃｍ2であった。
【０１７８】
次に、露光後の感光性ペースト層に、２３℃に保持した０．５％炭酸ナトリウム水溶液をシャワーで６０秒間かけることにより、該感光性ペースト層を現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、未露光部を除去して、ガラス基板上に格子状の露光パターンを形成した。上記評価方法に従い、この現像後の露光パターンを評価した。結果を表５に示す。
【０１７９】
次に、得られた露光パターンを５８０℃で３０分間焼成して、電極パターンを形成した。焼成後の電極パターンの膜厚は、５μｍ±１μｍの範囲にあった。上記評価方法に従い、この焼成後の電極パターンを評価した。結果を表５に示す。
【０１８０】
［実施例１６および１７］
実施例１５において、表５に示す組成の感光性ペースト組成物を調製したこと以外は実施例１５と同様にして、ガラス基板上に感光性ペースト層、硬化パターンおよび電極パターンを順次形成した。
【０１８１】
実施例１５と同様に、体積抵抗率を測定した。また、上記評価方法に従い、硬化パターンおよび電極パターンを評価した。結果を表５に示す。なお、実施例１６および１７の何れにおいても、焼成後の電極パターンの膜厚は、５μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１８２】
［実施例１８］
実施例１において、表１−１に示すアルミニウム粉末Ａ−２（すなわち、フレーク状アルミニウム粉末）に金メッキ処理がなされた粉末（メッキ膜厚：１００ｎｍ）（３０ｇ）、表２に示すガラス粉末Ｂ１−２（５ｇ）および表３に示す感光性樹脂成分（１）（６５ｇ）を混練機で混練して、感光性ペースト組成物を調製したこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板上に感光性ペースト層、硬化パターンおよび電極パターンを順次形成した。
【０１８３】
上記感光性ペースト組成物を用いて、上記測定方法に従い、体積抵抗率を測定した。また、上記評価方法に従い、上記硬化パターンおよび電極パターンを評価した。結果を表５に示す。なお、実施例１８の焼成後の電極パターンの膜厚は、５μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１８４】
【表４】
2010114075.tif 000006
【０１８５】
【表５】
2010114075.tif 000007
【０１８６】
［比較例１〜３］
実施例１において、表６に示す組成の感光性ペースト組成物を調製したこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板上に感光性ペースト層、硬化パターンおよび電極パターンを順次形成した。
【０１８７】
上記感光性ペースト組成物を用いて、上記測定方法に従い、体積抵抗率を測定した。また、上記評価方法に従い、硬化パターンおよび電極パターンを評価した。結果を表６に示す。
【０１８８】
［比較例４］
実施例１５において、表６に示す組成の感光性ペースト組成物を調製したこと以外は実施例１５と同様にして、ガラス基板上に感光性ペースト層、硬化パターンおよび電極パターンを順次形成した。
【０１８９】
実施例１５と同様に，体積抵抗率を測定した。また、上記評価方法に従い、硬化パターンおよび電極パターンを評価した。結果を表６に示す。
【０１９０】
【表６】
2010114075.tif 000008
【０１９１】
［実施例１９］
表１−１に示すアルミニウム粉末Ａ−１（３０ｇ）、表２に示すガラス粉末Ｂ１−１（５ｇ）および表３に示す感光性樹脂成分（１）（６５ｇ）を混練機で混練して、感光性ペーストを調製した。この感光性ペーストを用いて、上記測定方法に従い、以下のようにして露光感度およびパターンエッジ直線性を測定した。
【０１９２】
３２５メッシュのスクリーンを用いて、上記感光性ペーストをガラス基板（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×１．８ｍｍ）上に１００ｍｍ角の大きさでベタに印刷し、８０℃で２０分間保持して乾燥し、感光性ペースト層を形成した。なお、感光性ペースト層の膜厚は、１０μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１９３】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅１００μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、２５ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、露光量を変量して、感光性ペースト層
を上面から紫外線露光した。
【０１９４】
次に、露光後の感光性ペースト層に、２３℃に保持した０．５％炭酸ナトリウム水溶液をシャワーで６０秒間かけ、該感光性ペースト層を現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、未露光部を除去して、ガラス基板上に格子状の硬化パターンを形成し、パターン剥れを観察した。結果を表７に示す。
【０１９５】
次に、得られた硬化パターンを５８０℃で３０分間焼成して、電極パターンを形成した。上記評価方法に従い、この焼成後の電極パターンのパターンエッジ直線性を評価した。結果を表７に示す。本評価では露光量を３００ｍＪ／ｃｍ2で行った。焼成後の電極パタ
ーンの膜厚は、５μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１９６】
［実施例２０〜２４］
実施例１９において、表７に示す組成の感光性ペースト組成物を調製したこと以外は実施例１９と同様にして、露光感度およびパターンエッジ直線性を測定した。結果を表７に示す。
【０１９７】
［比較例５〜６］
実施例１９において、表７に示す組成の感光性ペースト組成物を調製したこと以外は実施例１９と同様にして、露光感度およびパターンエッジ直線性を測定した。結果を表７に
示す。
【０１９８】
【表７】
2010114075.tif 000009
【符号の説明】
【０１９９】
１０１  ガラス基板
１０２  ガラス基板
１０３  背面隔壁
１０４  透明電極
１０５  バス電極
１０６  アドレス電極
１０７  蛍光物質
１０８  誘電体層
１０９  誘電体層
１１０  保護層
１１１  前面隔壁
２０１  ガラス基板
２０２  ガラス基板
２０３  絶縁層
２０４  透明電極
２０５  エミッタ
２０６  カソード電極
２０７  蛍光体
２０８  ゲート
２０９  スペーサ
【図１】
2010114075.tif 000010
【図２】
2010114075.tif 000011