(57)【要約】【課題】表示品位に優れているとともに製造効率に優れた液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法を提供する。【解決手段】液晶表示パネルは、表示領域を有したアレイ基板と、表示領域を有し、アレイ基板に対向配置された対向基板２０と、表示領域から外れてアレイ基板及び対向基板に重ねられ、アレイ基板及び対向基板を接合し、一部にアレイ基板及び対向基板の周縁まで延出して形成された排出口を有した枠状のシール材６０と、滴下注入法により、アレイ基板、対向基板及びシール材で囲まれた領域に形成された液晶層と、を備えている。【選択図】      図６
2010038983.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域を有したアレイ基板と、
前記表示領域を有し、前記アレイ基板に対向配置された対向基板と、
前記表示領域から外れて前記アレイ基板及び対向基板に重ねられ、前記アレイ基板及び対向基板を接合し、一部に前記アレイ基板及び対向基板の周縁まで延出して形成された排出口を有した枠状のシール材と、
滴下注入法により、前記アレイ基板、対向基板及びシール材で囲まれた領域に形成された液晶層と、を備えている液晶表示パネル。
【請求項２】
前記シール材は、紫外線硬化型の樹脂で形成されている請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
表示領域を有したアレイ基板と、前記表示領域を有し、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、シール材と、前記アレイ基板、対向基板及びシール材で囲まれた領域に形成された液晶層と、を備えた液晶表示パネルの製造方法において、
第１分断予定線及び前記第１分断予定線に周縁が重なった前記アレイ基板を有した第１マザー基板と、第２分断予定線及び前記第２分断予定線に周縁が重なった前記対向基板を有した第２マザー基板と、を用意し、
前記シール材を前記表示領域から外れた前記アレイ基板又は対向基板上に枠状に塗布するとともに前記シール材を一部突出させて塗布し、前記第１分断予定線又は第２分断予定線を跨いで形成され前記シール材で囲まれた閉領域を一部突出させた凸パターンを有した枠状のシール材を形成し、
前記シール材で囲まれた前記アレイ基板又は対向基板上に液晶を滴下し、
前記シール材を介して前記第１マザー基板及び第２マザー基板を接合し、滴下された前記液晶により、前記アレイ基板、対向基板及びシール材で囲まれた領域に液晶が充填され、
接合された前記第１マザー基板及び第２マザー基板を前記第１分断予定線及び第２分断予定線に沿って分断するとともに、前記第１分断予定線及び第２分断予定線に重ねて前記凸パターンを切断し、
分断された前記第１マザー基板及び第２マザー基板から、前記液晶が充填された液晶セルを取出すとともに、切断された前記凸パターンに排出口を形成し、
前記液晶セルを加圧し、余剰の液晶を前記排出口から前記液晶セルの外部に排出させ、
前記余剰の液晶を排出させた後、前記排出口に封止材を塗布し、
前記封止材を硬化させる液晶表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記シール材は、紫外線硬化型の樹脂で形成されている請求項３に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項５】
前記封止材を塗布する際、前記液晶セルへの加圧を維持し、
前記封止材を塗布した後、前記液晶セルへの加圧を減少させて前記封止材を前記排出口内部に吸い込ませ、
前記封止材を前記排出口内部に吸い込ませた後、前記封止材を硬化させる請求項３に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、画像表示装置として液晶表示装置が用いられている。液晶表示装置は、液晶表示パネルを備えている。液晶表示パネルは、アレイ基板と、このアレイ基板に所定の隙間を置いて対向配置された対向基板と、これら両基板間に挟持された液晶層とを有している。
【０００３】
液晶表示装置は、薄型、軽量、低消費電力等の様々な特徴を有しているため、ＯＡ（オフィス−オートメーション）機器、情報端末、時計、及びテレビジョン受像機等の様々な分野に応用されている。特に、液晶表示装置は、スイッチング素子としてＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を備えることにより高速応答性が得られるため、携帯テレビやコンピュータ等、多量の情報を表示する電子機器の表示部に用いられている。
【０００４】
近年、情報量の増加に伴い、画像の高精細化や表示速度の高速化に対する要求が高まっている。画像の高精細化は、例えば、上述したＴＦＴが形成されたアレイ基板のアレイ構造を微細化することで実現されている。
【０００５】
一方、表示速度の高速化に関しては、従来の表示モードの代わりに、ネマチック液晶を用いたＯＣＢ（Optically Compensated Birefringence）モード、ＶＡＮ（Vertically Aligned Nematic）モード、ＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）モード、π配列モードや、スメクチック液晶を用いた界面安定型強誘電性液晶（Surface Stabilized Ferroelectric Liquid Crystal）モード及び反強誘電性液晶（ＡＦＬＣ）モードを採用することが検討されている。
【０００６】
これら表示モードは、優れた電気光学特性（高コントラスト、広視野角、高速応答）を得るため、厳密な液晶層の厚み（以下、セルギャップと称する）均一性管理が必要である。なお、液晶層は、例えば真空注入法により形成されている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００７−２４０５７６号公報
【特許文献２】特開２００７−２８６５７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
また、近年、液晶注入法として、量産に適した滴下注入法が頻繁に用いられている。滴下注入法では、液晶材料の利用効率が飛躍的に高められるため、製造原価低減に大きな効果を得ることができる。
【０００８】
しかしながら、滴下注入法では、真空注入法に比べて液晶材料の充填率のコントロールが難しい。すなわち、液晶材料の充填率が低すぎて表示領域内に泡が出たり、充填率が高すぎて余剰液晶によるセルギャップが局所的に厚くなってしまう。この場合、上記電気光学特性が局所的に異常となって視認性を悪化させてしまう。  
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、表示品位に優れているとともに製造効率に優れた液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の態様に係る液晶表示パネルは、
表示領域を有したアレイ基板と、
前記表示領域を有し、前記アレイ基板に対向配置された対向基板と、
前記表示領域から外れて前記アレイ基板及び対向基板に重ねられ、前記アレイ基板及び対向基板を接合し、一部に前記アレイ基板及び対向基板の周縁まで延出して形成された排出口を有した枠状のシール材と、
滴下注入法により、前記アレイ基板、対向基板及びシール材で囲まれた領域に形成された液晶層と、を備えている。
【００１０】
また、本発明の他の態様に係る液晶表示パネルの製造方法は、
表示領域を有したアレイ基板と、前記表示領域を有し、前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、シール材と、前記アレイ基板、対向基板及びシール材で囲まれた領域に形成された液晶層と、を備えた液晶表示パネルの製造方法において、
第１分断予定線及び前記第１分断予定線に周縁が重なった前記アレイ基板を有した第１マザーガラスと、第２分断予定線及び前記第２分断予定線に周縁が重なった前記対向基板を有した第２マザーガラスと、を用意し、
前記シール材を前記表示領域から外れた前記アレイ基板又は対向基板上に枠状に塗布するとともに前記シール材を一部突出させて塗布し、前記第１分断予定線又は第２分断予定線を跨いで形成され前記シール材で囲まれた閉領域を一部突出させた凸パターンを有した枠状のシール材を形成し、
前記シール材で囲まれた前記アレイ基板又は対向基板上に液晶を滴下し、
前記シール材を介して前記第１マザーガラス及び第２マザーガラスを接合し、滴下された前記液晶により、前記アレイ基板、対向基板及びシール材で囲まれた領域に液晶が充填され、
接合された前記第１マザーガラス及び第２マザーガラスを前記第１分断予定線及び第２分断予定線に沿って分断するとともに、前記第１分断予定線及び第２分断予定線に重ねて前記凸パターンを切断し、
分断された前記第１マザーガラス及び第２マザーガラスから、前記液晶が充填された液晶セルを取出すとともに、切断された前記凸パターンに排出口を形成し、
前記液晶セルを加圧し、余剰の液晶を前記排出口から前記液晶セルの外部に排出させ、
前記余剰の液晶を排出させた後、前記排出口に封止材を塗布し、
前記封止材を硬化させる。
【発明の効果】
【００１１】
この発明によれば、表示品位に優れているとともに製造効率に優れた液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面を参照しながらこの発明の実施の形態に係る液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法について詳細に説明する。ここでは、液晶表示パネルを備えた液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法について説明する。
【００１３】
図１乃至図３に示すように、液晶表示装置は、液晶表示パネル１、バックライトユニット２及びベゼル３を備えている。液晶表示パネル１は、アレイ基板１０、対向基板２０、カラーフィルタ４０、複数のスペーサ５０、シール材６０、液晶層７０、第１偏光板８０及び第２偏光板９０を有している。
【００１４】
アレイ基板１０及び対向基板２０は、矩形状に形成されている。アレイ基板１０及び対向基板２０は、各々の３辺がほぼ重なるように配置されている。アレイ基板１０の残る一辺において、アレイ基板１０は、対向基板２０よりも外側へ延出している。アレイ基板１０及び対向基板２０は、両基板が重なった矩形状の表示領域Ｒ１と、表示領域Ｒ１から外れた領域であるとともに、前記アレイ基板１０及び対向基板２０が重なった矩形枠状の重畳領域Ｒ２とを有している。
【００１５】
アレイ基板１０は、透明な絶縁基板としてガラス基板１１を有している。ガラス基板１１上には、ゲート絶縁膜１２が形成されている。表示領域Ｒ１において、ゲート絶縁膜１２上には、図示しない絶縁膜を挟んで複数の走査線１３及び複数の信号線１４が格子状に設けられている。隣合う２本の走査線１３及び隣合う２本の信号線１４は画素を区画している。ゲート絶縁膜１２、走査線１３及び信号線１４上には層間絶縁膜１５が形成されている。なお、層間絶縁膜１５は、重畳領域Ｒ２にも形成されている。
【００１６】
走査線１３及び信号線１４の各交差部近傍に、スイッチング素子として、例えばＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１６が設けられている。ＴＦＴ１６は、走査線１３の一部を延在したゲート電極１６ａ、ゲート絶縁膜１２を介してゲート電極１６ａと対向したチャネル層１６ｂ、このチャネル層１６ｂの一方の領域に接続されたソース電極１６ｃ及び他方の領域に接続されたドレイン電極１６ｄを有している。この実施の形態において、チャネル層１６ｂは、ポリシリコン（ｐ−Ｓｉ）で形成されている。ソース電極１６ｃは信号線１４に接続されている。ドレイン電極１６ｄは後述する画素電極１７に接続されている。
【００１７】
層間絶縁膜１５上には、複数の画素電極１７がマトリクス状に形成されている。画素電極１７は、ＩＴＯ（インジウム・ティン・オキサイド）等の透明な導電膜により形成されている。画素電極１７は、層間絶縁膜１５に形成されたコンタクトホールを介してドレイン電極１６ｄに接続されている。画素電極１７は、画素を形成している。
【００１８】
全てを図示しないが、画素電極１７が形成されたガラス基板１１上には、複数のスペーサ５０が所定の密度で形成されている。スペーサ５０は、柱状スペーサである。スペーサ５０が形成されたガラス基板１１上に、画素電極１７に重ねて配向膜１８が形成されている。
【００１９】
上記したように、ガラス基板１１上に上部構造体５が形成されている。上部構造体５は、上記したゲート絶縁膜１２、走査線１３、信号線１４、層間絶縁膜１５、ＴＦＴ１６、画素電極１７及び配向膜１８等を有している。
【００２０】
対向基板２０は、透明な絶縁基板としてガラス基板２１を有している。表示領域Ｒ１において、ガラス基板２１上に、走査線１３及び信号線１４に重なった遮光層３１が形成されている。遮光層３１は、マトリクス状の複数の開口部３２を形成している。
【００２１】
表示領域Ｒ１の外側である重畳領域Ｒ２において、ガラス基板２１上には、遮光層として矩形枠状の周辺遮光層３３が形成されている。周辺遮光層３３は、重畳領域Ｒ２の全周に亘って形成され、表示領域Ｒ１の外側と、ベゼル３の内側との間から漏れる光の遮光に寄与している。
【００２２】
ガラス基板２１、遮光層３１及び周辺遮光層３３上には、複数の赤色の着色層４０Ｒ、複数の緑色の着色層４０Ｇ及び複数の青色の着色層４０Ｂが配設されている。これらの着色層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂは、互いに隣接し、交互に並んで配設され、カラーフィルタ４０を形成している。着色層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂの周縁部は、遮光層３１に重なっている。
【００２３】
着色層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂ上には、ＩＴＯ等の透明な導電材料により対向電極２２が形成されている。対向電極２２上には、配向膜２３が形成されている。対向基板２０は、アレイ基板１０に対して反対側に表示面Ｓ１を有している。
【００２４】
アレイ基板１０及び対向基板２０は、スペーサ５０により所定の隙間を置いて対向配置されている。アレイ基板１０及び対向基板２０は、重畳領域Ｒ２に全周に亘って形成された枠状のシール材６０により互いに接合されている。シール材６０は、一部に、アレイ基板１０及び対向基板２０の周縁まで延出して形成された排出口６２を有している。排出口６２は、封止材６で封止されている。
【００２５】
液晶層７０は、滴下注入法により、アレイ基板１０、対向基板２０及びシール材６０で囲まれた領域に形成されている。アレイ基板１０及び対向基板２０は、液晶層７０を挟持している。第１偏光板８０は、アレイ基板１０の外面上に配置されている。第２偏光板９０は、対向基板２０の外面上に配置されている。このため、この実施の形態では、第２偏光板９０が表示面Ｓ１を含んでいる。
【００２６】
バックライトユニット２は、アレイ基板１０の外面側に配置されている。このバックライトユニット２は、第１偏光板８０に対向配置された導光板２ａと、この導光板の一側縁に対向配置された光源２ｂ及び反射板２ｃとを有している。導光板２ａは、第１偏光板８０と対向した光放出面Ｓ２を有している。
【００２７】
ベゼル３は枠状に形成され、表示面Ｓ１側であるとともに、表示領域Ｒ１の外側に配置されている。ベゼル３は、その内側の周縁が周辺遮光層３３と対向した領域を通るよう位置している。
【００２８】
次に、上記液晶表示装置の一層詳しい構成を、その製造方法と併せて説明する。  
図１乃至図３、及び図４に示すように、まず、透明な絶縁基板としてアレイ基板１０よりも寸法の大きい第１マザー基板としてのマザーガラス１１１を用意する。この実施の形態によれば、マザーガラス１１１は、アレイ基板１０を形成するため６つの矩形状のアレイ基板形成領域Ｒ６と、アレイ基板形成領域Ｒ６から外れた非有効領域Ｒ７とを有している。マザーガラス１１１は、アレイ基板形成領域Ｒ６の周縁に重なった第１分断予定線ｅ１を有している。
【００２９】
用意したマザーガラス１１１上には、成膜およびパターニングを繰り返す等、通常の製造工程により、ゲート絶縁膜１２、走査線１３、信号線１４、層間絶縁膜１５、ＴＦＴ１６、画素電極１７等を形成する。
【００３０】
次いで、スピンナを用い、例えば感光性アクリル性の透明樹脂（ＪＳＲ（株）製ＮＮ６００）をマザーガラス１１１上全面に塗布する。続いて、透明樹脂を９０℃で１０分、乾燥させる。次いで、所定のフォトマスクを用い、透明樹脂にパターニングを露光する。露光する際、透明樹脂には、波長を３６５ｎｍ、露光量を８０ｍＪ／ｃｍ２として紫外線を照射する。
【００３１】
次に、露光された透明樹脂をｐＨ＝１１．５のアルカリ水溶液で現像した後、２００℃で６０分、焼成し硬化させる。これにより、高さ４．５μｍの柱状のスペーサ５０が形成される。
【００３２】
その後、表示領域Ｒ１を含むマザーガラス１１１上全面に、配向膜材料としてＡＬ−３０４６（ＪＳＲ（株）製）を塗布することにより、厚さ８００Åの配向膜１８を形成する。なお、配向膜１８には、必要に応じて所定の配向処理（ラビング）が施される。  
これにより、マザーガラス１１１上に６個の上部構造体５が形成され、６個のアレイ基板１０が完成する。
【００３３】
図１乃至図３、及び図５に示すように、一方、対向基板２０の製造方法においては、まず、透明な絶縁基板として対向基板２０よりも寸法の大きい第２マザー基板としてのマザーガラス１２１を用意する。この実施の形態によれば、マザーガラス１２１は、対向基板２０を形成するため６つの矩形状の対向基板形成領域Ｒ８と、対向基板形成領域Ｒ８から外れた非有効領域Ｒ９とを有している。マザーガラス１２１は、対向基板形成領域Ｒ８の周縁に重なった第２分断予定線ｅ２を有している。
【００３４】
用意したマザーガラス１２１上には、遮光層３１および周辺遮光層３３を形成する。続いて、ガラス基板２１、遮光層３１および周辺遮光層３３上に、例えばフォトエッチング法を用いて着色層４０Ｒを形成する。その後、着色層４０Ｒと同様、例えばフォトエッチング法を用いて着色層４０Ｇおよび着色層４０Ｂを形成する。
【００３５】
続いて、スパッタ法により、着色層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂ上に膜厚５００ÅのＩＴＯ膜を成膜し、パターニングして対向電極２２を形成する。次に、表示領域Ｒ１を含むマザーガラス１２１上全面に、配向膜材料としてＡＬ−３０４６（ＪＳＲ（株）製）を塗布することにより、厚さ８００Åの配向膜２３を形成する。なお、配向膜２３には、必要に応じて所定の配向処理（ラビング）が施される。  
これにより、マザーガラス１２１を用いて、６個の対向基板２０が完成する。
【００３６】
次いで、図６に示すように、対向基板２０の重畳領域Ｒ２に全周に亘って、シール材６０を形成する材料として、例えば紫外線硬化型の樹脂を印刷法により塗布する。より詳しくは、上記樹脂を表示領域Ｒ１から外れた対向基板２０上に枠状に塗布するとともに上記樹脂を一部突出させて塗布する。これにより、第２分断予定線ｅ２を跨いで形成され上記樹脂で囲まれた閉領域を一部突出させた凸パターン６１を有した枠状のシール材６０が形成される。また、シール材６０を形成する際、アレイ基板１０から対向基板２０に電圧を印加するための電極転移材をシール材６０の周辺の図示しない電極転移電極上に形成した。
【００３７】
続いて、図示しない真空チャンバ内にマザーガラス１１１及びマザーガラス１２１を搬入する。そして、真空中で、シール材６０で囲まれた対向基板２０（マザーガラス１２１）上に、液晶を滴下する。液晶の滴下量は、内容積の最適狙い値に対して約２％多めにした。
【００３８】
図５乃至図７に示すように、その後、配向膜１８及び配向膜２３が対向するよう、マザーガラス１１１及びマザーガラス１２１を対向配置し、アレイ基板１０及び対向基板２０を複数のスペーサ５０により所定の隙間を保持して対向配置し、アレイ基板および対向基板の周縁部同士をシール材６０により貼り合せる。
【００３９】
その後、貼り合せられたアレイ基板１０および対向基板２０を真空チャンバ内から外部に搬出する。次いで、シール材６０に、外部より、露光量を３０００ｍＪ／ｃｍ２として紫外線を照射して硬化させ、さらに、１３０℃で１時間、熱硬化処理を施し、本硬化させた。これにより、シール材６０を介してマザーガラス１１１及びマザーガラス１２１を接合する。そして、滴下された液晶により、アレイ基板１０、対向基板２０及びシール材６０で囲まれた領域に液晶が充填される。
【００４０】
続いて、マザーガラス１１１を第１分断予定線ｅ１に沿って分割するとともに、マザーガラス１２１を第２分断予定線ｅ２に沿って分割する。分割する際、例えば、第１分断予定線ｅ１及び第２分断予定線ｅ２に沿ってスクライブラインを引いて分割する。これにより、マザーガラス１１１からアレイ基板１０が、マザーガラス１２１から対向基板２０がそれぞれ切出される。この際、第１分断予定線ｅ１及び第２分断予定線ｅ２に重ねて凸パターン６１を切断する。
【００４１】
これにより、図８及び図９に示すように、分断されたマザーガラス１１１及びマザーガラス１２１から、液晶が充填された液晶セルを６組取出すとともに、切断された凸パターン６１に排出口６２が形成される。
【００４２】
次いで、図１０及び図１１に示すように、加圧機構１００により、５ｋｇｆ／ｍｍ２で両基板外側から液晶セルを加圧し、液晶セルを加圧し、余剰の液晶を排出口６２から液晶セルの外部に排出させる。
【００４３】
その後、図１２に示すように、加圧状態を維持し、排出口６２に紫外線硬化型の封止材６を塗布する。封止材を塗布した後、液晶セルへの加圧を減少させて封止材６を排出口６２内部に吸い込ませる（図２）。ここでは、２ｋｇｆ／ｍｍ２に減圧させた。続いて、封止材６に、外部より、露光量を１０００ｍＪ／ｃｍ２として紫外線を照射し、封止材６を硬化させる。これにより、アレイ基板１０、対向基板２０及びシール材６０で囲まれた領域に液晶層７０が形成される。  
その後、液晶セル外部の液晶を洗い流すことにより、液晶表示パネル１が完成する。
【００４４】
次いで、アレイ基板１０の外面に第１偏光板８０を、対向基板２０の外面に第２偏光板９０をそれぞれ配置する。これにより、液晶表示パネル１がそれぞれ完成する。そして、液晶表示パネル１にバックライトユニット２およびベゼル３等を取付ける。図示しないが、対向基板２０から外れたアレイ基板１０上に、駆動回路を実装する。これによりモジュールに組立てられる。これにより、液晶表示装置がそれぞれ完成する。
【００４５】
ここで、本願発明者が上記のように形成された液晶表示装置を点灯評価したところ、セルギャップが全体的に非常に均一であり、優れた表示品位が得られたことを確認することができた。
【００４６】
以上のように構成された液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法によれば、シール材６０は、全周に亘って繋がって閉領域を形成するように塗布されている。液晶を注入する際、滴下注入法により、シール材６０で囲まれた領域内に充填することができる。このため、量産に適応させることができる。また、液晶の利用効率が飛躍的に高められるため、製造原価低減を図ることができる。
【００４７】
シール材６０は、一部突出させた凸パターン６１を有している。このため、マザーガラス１１１及びマザーガラス１２１を分断する際、凸パターン６１を切断し、排出口６２を形成することができる。排出口６２から余剰の液晶を排出できるため、セルギャップを全体的に均一にすることができる。これにより、良好な視認性を得ることができる。  
上記したことから、表示品位に優れているとともに製造効率に優れた液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法を得ることができる。
【００４８】
なお、この発明は上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化可能である。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。
【００４９】
例えば、シール材６０は、対向基板２０（マザーガラス１２１）上に限らず、アレイ基板１０（マザーガラス１１１）上に塗布しても良い。凸パターン６１の形状は、限定されるものではなく、種々変形可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】この発明の実施の形態に係る液晶表示パネルを備えた液晶表示装置を示す断面図。
【図２】図１に示した液晶表示パネルを示す概略平面図。
【図３】図１及び図２に示したアレイ基板の配線構造を示す概略平面図。
【図４】上記液晶表示装置の製造工程において、マザーガラス上に６枚のアレイ基板を形成した状態を示す平面図。
【図５】上記液晶表示装置の製造工程において、マザーガラス上に６枚の対向基板を形成した状態を示す平面図。
【図６】図５に続き、マザーガラスにシール材を塗布した状態を示す平面図。
【図７】図４及び図６に示した２枚のマザーガラスを、シール材を介して貼り合せた状態を示す平面図。
【図８】上記２枚のマザーガラスから取出した液晶セルを示す側面図。
【図９】図８に示した液晶セルを示す平面図。
【図１０】図８及び図９に示した液晶セルを加圧し、余剰の液晶を排出させた状態の液晶セル示す側面図。
【図１１】図１０に示した液晶セルを示す平面図。
【図１２】図１０及び図１１に続き、排出口に封止材を塗布した状態の液晶セルを示す平面図。
【符号の説明】
【００５１】
１…液晶表示パネル、２…バックライトユニット、３…ベゼル、６…封止材、１０…アレイ基板、１１…ガラス基板、１３…走査線、１４…信号線、１６…ＴＦＴ、１７…画素電極、２０…対向基板、２１…ガラス基板、２２…対向電極、４０…カラーフィルタ、４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂ…着色層、５０…スペーサ、６０…シール材、６１…凸パターン、６２…排出口、７０…液晶層、１１１…マザーガラス、１２１…マザーガラス、Ｒ１…表示領域、Ｒ２…重畳領域、ｅ１…第１分断予定線、ｅ２…第２分断予定線。
【図１】
2010038983.tif 000003
【図２】
2010038983.tif 000004
【図３】
2010038983.tif 000005
【図４】
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【図５】
2010038983.tif 000007
【図６】
2010038983.tif 000008
【図７】
2010038983.tif 000009
【図８】
2010038983.tif 000010
【図９】
2010038983.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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