(57)【要約】【課題】各種配線の形成不良を簡単に検出し得る検査用端子を備えた電気光学装置を提供すること。【解決手段】本発明の電気光学装置１０は、ビデオ信号選択用スイッチング素子３６と、走査信号選択素子３５と、複数の外部信号接続用端子３９及び複数の検査用端子と、を備え、複数のビデオ信号供給配線のそれぞれには検査用スイッチング素子３７が接続され、複数の検査用スイッチング素子３７は、ドライバーＩＣ実装領域Ｄｒの隙間に形成され、入力端子側が互いに並列に接続されて第１検査用端子Ｔ１に接続され、制御端子側が互いに並列に接続されて第２検査用端子Ｔ２に接続され、複数の色選択信号供給配線４２はそれぞれ複数の第３検査用端子Ｔ３に接続されており、複数の走査信号供給配線４３はそれぞれ複数の第４検査用端子Ｔ４に接続されている。【選択図】図３
2010243524.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のゲート線、複数のソース線、前記ゲート線と前記ソース線との交差部に対応して
設けられた画素駆動用スイッチング素子が設けられてなるアレイ基板と、
前記アレイ基板の周辺部に形成された、
複数のドライバーＩＣ実装端子と、
前記ドライバーＩＣ実装端子の入力端子側に接続された複数の外部信号接続用端子と、
前記ドライバーＩＣ実装端子の出力端子側のうち、ビデオ信号出力端子に接続された複
数のビデオ信号供給配線と、色選択用信号出力端子に接続された複数の色選択信号供給配
線と、走査信号出力端子に接続された複数の走査信号供給配線と、
前記複数のソース線に接続されており、任意のソース線を前記複数のビデオ信号供給配
線の１つと選択的に接続するビデオ信号選択用スイッチング素子と、
前記複数のゲート線に接続されており、任意のゲート線を前記複数の走査信号供給配線
の１つと選択的に接続する走査信号選択素子と、
複数の検査用端子と、
を備えた電気光学装置において、
前記複数のビデオ信号供給配線のそれぞれには検査用スイッチング素子が接続され、
複数の前記検査用スイッチング素子は、入力端子側が互いに並列に接続されて第１検査
用端子に接続され、制御端子側が互いに並列に接続されて第２検査用端子に接続され、
前記複数の色選択信号供給配線はそれぞれ複数の第３検査用端子に接続されており、
前記複数の走査信号供給配線はそれぞれ複数の第４検査用端子に接続されており、
前記検査用スイッチング素子は、前記ドライバーＩＣ実装領域の隙間に形成されている
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第１検査用端子及び第２検査用端子は、それぞれ分岐されて外部信号接続用端子に
隣接して設けられた接続端子に接続されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光
学装置。
【請求項３】
前記ビデオ信号選択用スイッチング素子、前記走査信号選択素子、複数の前記検査用ス
イッチング素子は低温ポリシリコン薄膜トランジスターで形成されていることを特徴とす
る請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パーソナルコンピューター、携帯電話機、携帯情報端末等の電子機器の表示
装置に使用される電気光学装置に関する。詳しくは、本発明は、各種配線の形成不良を簡
単に検出し得る検査用端子を備えた電気光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、表示装置としては、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ、
フィールドエミッション型表示装置等の電気光学装置が多く使用されている。従来の電気
光学装置の画素駆動用スイッチング素子としての薄膜トランジスター（ＴＦＴ：Thin Fil
m Transistor）は、半導体層としてアモルファスシリコン（以下、「ａ−Ｓｉ」という。
）を用いたものと、ポリシリコン（以下、「ｐ−Ｓｉ」という。）を用いたものとが知ら
れている。また、ｐ−Ｓｉを用いたＴＦＴには、高温下で製造されるものと、低温下で製
造されるものとがある。
【０００３】
低温下で製造されるｐ−Ｓｉを用いたＴＦＴ（以下、「ＬＴＰＳ−ＴＦＴ」という）は
、透明ガラス基板上に成膜したａ−Ｓｉをエキシマレーザーアニール（ＥＬＡ）等により
多結晶化して製造されるものである。このＬＴＰＳ−ＴＦＴは、４００℃〜６００℃とい
う低温下で製造できるため、ガラス基板上に画素駆動用ＴＦＴだけでなくドライバー回路
等も同時に作り込むことができる。しかも、ｐ−Ｓｉはａ−Ｓｉに比してキャリア移動度
が高いという性質を有するため、ＴＦＴを小型化することができるので、狭額縁化を図り
つつ、高応答速度、高解像度の電気光学装置を作製し得るというメリットを有する。
【０００４】
従来のＬＴＰＳ−ＴＦＴを使用した電気光学装置のうち、ドライバーＩＣが外付けであ
る表示装置は、下記特許文献１に開示されているように、表示領域の両側に走査線ドライ
バーＩＣが内蔵されているため、外部との接続の端子数は数十本と少なく、端子ピッチが
荒いため，アレイ基板の検査、組み上がったパネルの検査も比較的容易であった。そのた
め、ドライバーＩＣの実装機種（ＣＯＧ：Chip on glass機種）の場合、ドライバーＩＣ
実装端子の横に検査用端子を設け、この検査用端子に検査用信号及び検査用電源を入力す
れば、容易に電気光学装置の検査は可能である（下記特許文献２及び３参照）。
【０００５】
このような従来のドライバーＩＣ実装端子の横に検査用端子を形成した電気光学装置と
しての液晶表示装置の一例を図４を用いて説明する。なお、図４は下記特許文献２に開示
されている液晶表示装置のアレイ基板における張り出し部の拡大平面図である。このアレ
イ基板の張り出し部５０には、信号線５１や外部信号接続用端子５２が形成されている。
それぞれの信号線５１は、対向するカラーフィルター基板側に備えられたストライプ状の
カラーフィルター層によって規定される、例えば赤（Ｒ）サブ画素、緑（Ｇ）サブ画素、
青（Ｂ）サブ画素等のいずれかに対応しているとともに、ドライバーＩＣ５３との接続端
子部５４を越えて実装領域５５の内部まで延在されている。そして、複数の信号線５１は
、対応するサブ画素の色ごとに端部位置５６ｒ、５６ｇ、５６ｂを異ならせてある。例え
ば、図４に示す信号線５１は、Ｒサブ画素に対応した信号線５１Ｒが最も長く延在され、
次いで、Ｂサブ画素に対応した信号線５１Ｂが長く延在されており、更に、Ｇサブ画素に
対応した信号線５１Ｇが最も短く延在されている。
【０００６】
このように、対応するサブ画素の色ごとに端部位置を異ならせることにより、検査治具
の接触位置によって、表示させる色を変えることができる。例えば、図４に示す構成例で
は、すべての引回し配線に電流を供給しながら、Ｒサブ画素に対応した信号線５１Ｒの端
部位置５６ｒに合わせて検査治具を接触させると、Ｒサブ画素のみが点灯するために、表
示面は赤表示となる。また、すべての引回し配線に電流を供給し、Ｂサブ画素に対応した
信号線５１Ｂの端部位置５６ｂに合わせて検査治具を接触させると、Ｒサブ画素及びＢサ
ブ画素が点灯するために、表示面は紫色表示となる。また、すべての引回し配線に電流を
供給し、Ｇサブ画素に対応した信号線５１Ｇの端部位置５６ｇに合わせて検査治具を接触
させると、Ｒサブ画素、Ｇサブ画素、Ｂサブ画素すべてが点灯するために、表示面は白表
示となる。したがって、図４に開示されている端子配置によれば、信号線における断線や
ショートの有無等を判断しやすくすることができるとともに、より詳細な検査結果を得る
ことができるという効果を奏するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−０４６６４９号公報
【特許文献２】特開２００７−０５７６４１号公報
【特許文献３】特開２００７−１４７９４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、近年の電気光学装置の小型化、高精細化に伴い、ドライバーＩＣの接続
端子部の幅及び接続端子部間のピッチも狭くなってきていることから、検査用プローブの
コストが高くなり、場合によっては高精度の検査用プローブのアライメントが必要となる
ことがあった。そのため、電気光学装置の検査に要する時間及びコストが増大し、また、
検査用プローブのアライメントを取るための装置が必要となる場合があるという問題点が
存在していた。
【０００９】
本発明は、このような従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、検査用
端子の数を減少させて検査用端子の幅を広くし、検査用プローブとして安価なフレキシブ
ル配線基板（ＦＰＣ：Flexible Printed Circuit）を使用することができるようにすると
共に、全ての信号線における断線やショートの有無等を判断し易くした検査用端子を備え
た電気光学装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明の電気光学装置は、
複数のゲート線、複数のソース線、前記ゲート線と前記ソース線との交差部に対応して設
けられた画素駆動用スイッチング素子が設けられてなるアレイ基板と、
前記アレイ基板の周辺部に形成された、
複数のドライバーＩＣ実装端子と、
前記ドライバーＩＣ実装端子の入力端子側に接続された複数の外部信号接続用端子と、
前記ドライバーＩＣ実装端子の出力端子側のうち、ビデオ信号出力端子に接続された複
数のビデオ信号供給配線と、色選択用信号出力端子に接続された複数の色選択信号供給配
線と、走査信号出力端子に接続された複数の走査信号供給配線と、
前記複数のソース線に接続されており、任意のソース線を前記複数のビデオ信号供給配
線の１つと選択的に接続するビデオ信号選択用スイッチング素子と、
前記複数のゲート線に接続されており、任意のゲート線を前記複数の走査信号供給配線
の１つと選択的に接続する走査信号選択素子と、
複数の検査用端子と、
を備えた電気光学装置において、
前記複数のビデオ信号供給配線のそれぞれには検査用スイッチング素子が接続され、
複数の前記検査用スイッチング素子は、入力端子側が互いに並列に接続されて第１検査
用端子に接続され、制御端子側が互いに並列に接続されて第２検査用端子に接続され、
前記複数の色選択信号供給配線はそれぞれ複数の第３検査用端子に接続されており、
前記複数の走査信号供給配線はそれぞれ複数の第４検査用端子に接続されており、
前記検査用スイッチング素子は、前記ドライバーＩＣ実装領域の隙間に形成されている
ことを特徴とする。
【００１１】
液晶表示装置、ＥＬ表示装置、プラズマ表示装置等の電気光学装置においては、ビデオ
信号が供給される複数のビデオ信号供給配線と、色選択用信号が供給される複数の色選択
信号供給配線と、走査信号が供給される複数の走査信号供給配線と、を備えている。これ
らの配線は、ドライバーＩＣ実装端子の出力端子側に接続されている。また、これらの配
線は、それぞれビデオ信号選択用スイッチング素子ないし走査信号選択素子によって任意
のソース線の１つないし任意のゲート線の１つに接続されることにより、所定の画像表示
が行われる。なお、ビデオ信号選択用スイッチング素子はソース回路ないし水平ドライバ
ー回路と称されることがあり、走査信号選択素子はゲート回路ないし垂直ドライバー回路
と称されることがある。
【００１２】
電気光学装置においては、例えば光の３原色である赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の
３色のサブ画素（サブピクセルともいう）で単位画素（１ピクセルともいう）を形成して
いるものが多い。そのため、通常、複数の色選択信号供給配線はＲ、Ｇ、Ｂの何れかを選
択するための３本の配線からなる。また、ビデオ信号供給配線は少なくとも電気光学装置
の行方向の単位画素数だけ存在するので、ビデオ信号選択用スイッチング素子は少なくと
も電気光学装置の行方向の単位画素数だけ形成されている。また、複数のゲート線は少な
くとも電気光学装置の列方向の画素数だけ存在するが、通常はシフトレジスタからなる走
査信号選択素子で順次所定のゲート線を選択して走査信号を供給するようにしているので
、走査信号供給配線の数はゲート線の数よりも大幅に少ない。
【００１３】
そして、本発明の電気光学装置においては、複数のビデオ信号供給配線のそれぞれには
検査用スイッチング素子が接続され、複数の前記検査用スイッチング素子は、入力端子側
が互いに並列に接続されて第１検査用端子に接続され、制御端子側が互いに並列に接続さ
れて第２検査用端子に接続されている。そのため複数の検査用スイッチング素子は１つの
端子である第２検査用端子に入力される制御信号によって一律に制御することができる。
そのため、本発明の電気光学装置においては、少なくとも電気光学装置の行方向の単位画
素数だけ形成されている複数のビデオ信号供給配線は、第２検査用端子に入力される制御
信号によって，一律に１つの端子である第１検査用端子に接続ないし遮断することができ
る。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置では、複数の色選択信号供給配線はそれぞれ複数の第３検
査用端子に接続されており、複数の走査信号供給配線はそれぞれ複数の第４検査用端子に
接続されているので、第３検査用端子及び第４検査用端子に入力した制御信号によって任
意の色のサブ画素列及び任意の行のゲート線を選択することができる。そのため、本発明
の電気光学装置によれば、非常に少ない本数の検査用端子のみで、任意の列毎に、任意の
色毎に、かつ任意の行毎に発色の度合いを検査することができるようになる。なお、検査
用端子からは同時に電源及びコモン信号も供給することが好ましい。
【００１５】
しかも、本発明の電気光学装置においては、検査用スイッチング素子は、前記ドライバ
ーＩＣ実装領域の隙間に形成されている。ドライバーＩＣの端子は、接続を容易にするた
めにドライバーＩＣの周辺部に配置されているため、ドライバーＩＣ実装端子もドライバ
ーＩＣの形状に合わせて配置されているため、ドライバーＩＣ実装領域の中央部には隙間
が存在している。そのため、本発明の電気光学装置においては、特に検査用スイッチング
素子を形成するための余分なスペースを必要としないため、表示領域を最大限に大きくす
ることができるようになる。加えて、本発明の電気光学装置では、検査用スイッチング素
子をドライバーＩＣ実装領域の隙間に形成したため、ドライバーＩＣ実装領域に接続され
ている複数のビデオ信号供給配線の断線をも検出することができるようになる。
【００１６】
また、本発明の電気光学装置では、検査用端子の数が少ないため、検査用端子の幅及び
検査用端子間のピッチを大きくすることができる。そのため、本発明の電気光学装置によ
れば、パネル検査時の検査用プローブとして安価でサイズの大きいＦＰＣを使用すること
ができ、しかも、検査用プローブのアライメント及び交換が簡単であり、メンテナンスも
容易であり、また、製造時のアレイ基板検査も従来通りの比較的安価なプローブで行うこ
とができるようになる。なお、本発明の電気光学装置は、液晶表示装置、ＥＬ表示装置、
プラズマ表示装置、フィールドエミッション表示装置等、種々のマトリクス型の表示装置
に対して等しく適用可能である。
【００１７】
また、本発明の電気光学装置においては、前記第１検査用端子及び第２検査用端子は、
それぞれ分岐されて外部信号接続用端子に隣接して設けられた接続端子に接続されている
ことが好ましい。
【００１８】
本発明の電気光学装置では、複数の検査用スイッチング素子は、通常の画像表示時には
フローティング状態となるので、ビデオ信号が検査用スイッチング素子を介してリークす
る可能性がある。しかしながら、本発明の電気光学装置においては、外部信号接続用端子
に隣接して第１検査用端子及び第２検査用端子に対応する接続端子を形成したため、通常
の画像表示時に検査用スイッチング素子に常にオフ状態となる固定電圧を印加しておくこ
とができる。そのため、本発明の電気光学装置によれば、ビデオ信号のリークを少なくす
ることができ、良好な表示画質の電気光学装置が得られる。
【００１９】
また、本発明の電気光学装置においては、前記画素駆動用スイッチング素子、前記ビデ
オ信号選択用スイッチング素子、前記走査信号選択素子、複数の前記検査用スイッチング
素子はＬＴＰＳ−ＴＦＴで形成されていることが好ましい。
【００２０】
ｐ−Ｓｉはａ−Ｓｉに比してキャリア移動度が高いため、ＴＦＴを小型化することがで
きるので、各種スイッチング素子等を狭い面積内に形成することができ、画素駆動用スイ
ッチング素子と同時に形成することができる。そのため、本発明の電気光学装置によれば
、特に工程数を増加させることなく、狭額縁化を図りつつ、高応答速度、高解像度の電気
光学装置を作製することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１Ａは本実施形態にかかる液晶表示装置の概略構成をカラーフィルター基板を透視して示す概略平面図であり、図１Ｂは図１ＡのＩＢ−ＩＢ線の概略断面図である。
【図２】ＬＴＰＳ−ＴＦＴを用いた液晶表示装置のアレイ基板の１サブ画素分の表示領域の概略断面図である。
【図３】本実施形態の液晶表示装置の拡大平面図である。
【図４】従来の電気光学装置のアレイ基板における張り出し部の拡大平面図である
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、実施形態及び図面を参照して本発明の実施形態を、電気光学装置の一例としてＬ
ＴＰＳ−ＴＦＴを用いた液晶表示装置の場合を例にとり説明する。なお、以下に示す実施
形態は本発明をここに記載したものに限定することを意図するものではない。本発明は、
特許請求の範囲に示した技術的思想を逸脱することがない限り、ＥＬ表示装置、プラズマ
表示装置、フィールドエミッション型表示装置等の周知の電気光学装置に対しても適用可
能である。なお、この明細書における説明のために用いられた各図面においては、各層や
各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせ
て表示しており、必ずしも実際の寸法に比例して表示されているものではない。
【００２３】
この実施形態の液晶表示装置１０は、デュアルトップゲート型のＬＴＰＳ−ＴＦＴを用
いたＴＮモードの透過型液晶表示装置であり、その要部構成を図１を用いて説明する。な
お、図１Ａは本実施形態にかかる液晶表示装置の概略構成をカラーフィルター基板を透視
して示す概略平面図であり、図１Ｂは図１ＡのＩＢ−ＩＢ線の概略断面図である。
【００２４】
この実施形態の液晶表示装置１０は、アレイ基板ＡＲ及びカラーフィルター基板ＣＦで
液晶ＬＣを狭持している。アレイ基板ＡＲには、図１Ａに示すように、第１透明基板１１
の表面に、画素電極やＴＦＴ等が形成された表示領域１２と、表示領域１２の周囲に位置
して引き回し配線が形成された周縁領域１３と、図１Ａにおいて第１透明基板１１の表面
の上・左・右端部にそれぞれ位置して周辺回路が形成された回路形成領域１４と、第１透
明基板１１の下端部に位置する外部回路実装用端子領域１５とが形成されている。
【００２５】
表示領域１２には、マトリクス状に配置されて表示領域１２を各サブ画素に区画する複
数本の走査線及び信号線や、走査線と信号線の交差部近傍に配置されたスイッチング素子
としてのデュアルトップゲート型のＬＴＰＳ−ＴＦＴや、このＴＦＴと電気的に接続され
た画素電極等が積層配置されている。これら積層構造物の具体例については後述するが、
図１Ｂではこれらを模式的に第１構造物１６として示してある。また、周縁領域１３には
、走査線や信号線を、回路形成領域１４に形成されるＩＣドライバー回路等に接続するた
めの引き回し配線等が形成されている。
【００２６】
一方、カラーフィルター基板ＣＦは、図１Ｂに示すように、ガラス等の透明材料からな
る第２透明基板１７の上にカラーフィルター層とブラックマトリクス等の遮光部材を有し
ている。カラーフィルター層には各サブ画素に対応した着色層が設けられており、アレイ
基板ＡＲの画素電極と対向するように配置されている。遮光部材は少なくともアレイ基板
ＡＲのＴＦＴ、走査線及び信号線に対応する位置に配置されている。第２透明基板１７に
は更にＩＴＯないしＩＺＯ等の透明導電性材料からなる対向電極（共通電極）がアレイ基
板ＡＲの表示領域１２と対面するように配置されている。これらカラーフィルター層等の
具体的な構成は省略するが、図１Ｂではこれらを模式的に第２構造物１８として示してあ
る。
【００２７】
そして、アレイ基板ＡＲとカラーフィルター基板ＣＦとが、例えばエポキシ樹脂等の熱
硬化性樹脂や光硬化性樹脂等からなるシール材１９で貼り合わされ、液晶注入口（図示省
略）から両基板間に液晶ＬＣが注入されて実施形態の液晶表示装置１０が得られる。ここ
でデュアルトップゲート型のＬＴＰＳ−ＴＦＴを用いた液晶表示装置の一サブ画素分の具
体例を図２を用いて説明する。なお、図２はＬＴＰＳ−ＴＦＴを用いた液晶表示装置のア
レイ基板の１サブ画素分の表示領域の概略断面図である。
【００２８】
液晶表示装置１０のアレイ基板は、第１透明基板１１と、ＬＴＰＳ−ＴＦＴへのバック
ライトや迷光の入射を防止するための遮光膜２２と、遮光膜２２及び第１透明基板１１の
露出された表面を被覆するバッファ絶縁膜２３と、このバッファ絶縁膜２３の表面に形成
されたＬＴＰＳ層２４と、このＬＴＰＳ層２４及びバッファ絶縁膜２３の表面を被覆する
ゲート絶縁膜２５と、このゲート絶縁膜２５の表面に形成された一対のゲート電極Ｇと、
ソース電極Ｓと、ドレイン電極Ｄと、画素電極２６と、を有している。
【００２９】
一対のゲート電極Ｇ及びゲート絶縁膜２５の表面は画素電極２７で被覆され、このゲー
ト絶縁膜２５の表面にはゲート線（図示省略）やソース線２８等の金属配線が形成されて
いる。これら金属配線は、例えばアルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム合金、モリブデン
（Ｍｏ）等の不透明な金属で形成される。そして、画素電極２７及びゲート絶縁膜２５に
はＬＴＰＳ層２４のソース領域を露出させる第１コンタクトホール２９が設けられており
、ソース線２８の一部はこの第１コンタクトホール２９を経てソース領域と接続されてい
る。このソース線２８のソース領域との接続部分がソース電極Ｓを構成する。同様に、画
素電極２７及びゲート絶縁膜２５にはＬＴＰＳ層２４のドレイン領域を露出させる第２コ
ンタクトホール３０が形成されており、ソース線２８と同一の材料で同時に孤立パターン
となるように形成された金属配線がこの第２コンタクトホール３０を経てドレイン領域と
接続されている。この金属配線のドレイン領域との接続部分がドレイン電極Ｄを構成する
。
【００３０】
また、ソース線２８、ソース電極Ｓ、ドレイン電極Ｄ、及び画素電極２７の露出された
表面は更にパッシベーション膜３１で被覆されている。このパッシベーション膜３１は、
画素電極２７の表面に形成された金属配線等の保護及びＬＴＰＳ−ＴＦＴのチャネル領域
の耐湿性保証のために設けられている。材料としては、例えば窒化ケイ素や酸化ケイ素等
が採用されるが、耐湿性保証の観点やエッチングの容易さ等から特に窒化ケイ素が多く用
いられている。
【００３１】
パッシベーション膜３１の表面は更に層間樹脂膜３２で被覆されている。この層間樹脂
膜３２は、画素電極２６を形成する前の基板表面の平坦化及びソース線２８と画素電極２
６との間の寄生容量を抑制するために設けられるものであり、例えばアクリルやシロキサ
ン等の感光性樹脂等で形成されている。画素電極２６は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）又
はＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透明導電性材料により層間樹脂膜３２の表面に形成
されており、パッシベーション膜３１及び層間樹脂膜３２に形成された第３コンタクトホ
ール３３を経てドレイン電極Ｄと電気的に接続されている。なお、参照符号３４はゲート
電極Ｇと同層に形成された補助容量線を示している。
【００３２】
この液晶表示装置１０の各サブ画素は、画素電極２６と図示省略したカラーフィルター
基板ＣＦに形成されている共通電極との間に形成された電界によって液晶ＬＣの配向状態
を変化させることにより、対応するカラーフィルター層によって定まる色で発色すること
になる。
【００３３】
なお、上述のＬＴＰＳ−ＴＦＴや、ゲート線、ソース線２８等の形成時に同時に、表示
領域１２の周囲の周縁領域１３には引き回し配線が、回路形成領域１４には各種ドライバ
ー回路等が、外部回路実装用端子領域１５には、ドライバーＩＣ用端子、外部信号接続用
端子、検査用端子等が形成されるが、これらの製造工程は周知であるので、詳細な説明は
省略する。
【００３４】
次に、実施形態の液晶表示装置１０の回路形成領域１４及び外部回路実装用端子領域１
５の具体例について図３を用いて説明する。なお、図３は本実施形態の液晶表示装置の拡
大平面図である。本実施形態の液晶表示装置１０では、各サブ画素は、カラーフィルター
基板ＣＦに列方向にストライプ状に形成された例えばＲ、Ｇ、Ｂの３色のカラーフィルタ
ー層と対向配置するように、マトリクス状に配置されている。図３において、Ｒ、Ｇ、Ｂ
の参照符号が付与されている箇所がそれぞれ赤のサブ画素、緑のサブ画素及び青のサブ画
素を示す。
【００３５】
それぞれのサブ画素の列に沿ってソース線２８が形成されており、また、それぞれのサ
ブ画素の行に沿ってゲート線（図示省略）が形成されており、隣接するＲ、Ｇ、Ｂの３サ
ブ画素で単位画素（１画素）を形成している。なお、本明細書においては、それぞれのソ
ース線２８に連なるＲのサブ画素の列、Ｇのサブ画素の列及びＢのサブ画素の列を「サブ
画素列」と称し、単位画素の列を「単位画素列」と称する。
【００３６】
回路形成領域１４には任意のゲート線の一つを選択するための走査信号選択素子（垂直
ドライバー）３５が形成されているが、図３においては左側のみに走査信号選択素子３５
を設けた例を示してある。また、外部回路実装用端子領域１５には、ビデオ信号選択用ス
イッチング素子（水平ドライバー）３６と、検査用スイッチング素子３７と、ドライバー
ＩＣ実装端子３８と、外部信号接続用端子３９と、検査用端子Ｔ１〜Ｔ４が形成されてい
る。このうち、検査用スイッチング素子３７は、ドライバーＩＣ装領域Ｄｒの隙間、すな
わち、周囲がドライバーＩＣ実装端子３８で囲まれている隙間に形成されている。なお、
走査信号選択素子３５、ビデオ信号選択用スイッチング素子３６及び検査用スイッチング
素子３７は、いずれもＬＴＰＳ−ＴＦＴで形成されている。
【００３７】
ビデオ信号選択用スイッチング素子３６は、それぞれのソース線２８に個別に例えばド
レイン電極が接続されている複数個のＴＦＴ４０を備え、これらの複数個のＴＦＴ４０は
、単位画素列毎にソース電極が並列接続され、それぞれビデオ信号供給配線４１によって
対応するドライバーＩＣ実装端子３８に接続されている。これらのビデオ信号供給配線４
１は、少なくとも液晶表示装置１０の行方向の単位画素数だけ存在する。
【００３８】
また、これらの複数個のＴＦＴ４０は、同色のサブ画素列毎にゲート電極が並列に接続
され、それぞれ色選択信号供給配線４２によって対応するドライバーＩＣ実装端子３８に
接続されている。これらの色選択信号供給配線４２は、ここではＲ、Ｇ、Ｂに対応する３
本設けられているが、用いるカラーフィルター層の種類により多くしたり少なくしたりす
ることができる。なお、ＴＦＴ４０におけるソース電極が本発明のビデオ信号選択用スイ
ッチング素子３６の入力端子側に対応し、ゲート電極が制御端子側に対応する。
【００３９】
更に、この実施形態の液晶表示装置１０では、ビデオ信号供給配線４１毎に検査用スイ
ッチング素子３７が接続されている。これらの検査用スイッチング素子３７はＬＴＰＳ−
ＴＦＴからなり、ドレイン電極がそれぞれビデオ信号供給配線４１に接続されていると共
に、ソース電極は互いに並列に接続されて第１検査用端子Ｔ１に接続され、ゲート電極は
互いに並列に接続されて第２検査用端子Ｔ２に接続されている。これらの検査用スイッチ
ング素子３７と第１検査用端子Ｔ１及び第２検査用端子Ｔ２との間を結ぶ配線は、いずれ
もドライバーＩＣ実装領域Ｄｒの隙間を通されている。
【００４０】
なお、検査用スイッチング素子３７におけるソース電極が本発明の検査用スイッチング
素子３７の入力端子側に対応し、ゲート電極が制御端子側に対応する。また、第１検査用
端子Ｔ１及び第２検査用端子Ｔ２は分岐されて外部信号接続用端子３９側にも対応する端
子ｔ１及びｔ２が形成されているが、これは、通常の表示時に全ての検査用スイッチング
素子３７に固定電位を与えて信号の漏れを抑制するためである。
【００４１】
また、複数の色選択信号供給配線４２は、分岐されてそれぞれ第３検査用端子Ｔ３に接
続されている。なお、コモン配線ＣｏｍはドライバーＩＣ実装端子３８の対応する端子に
接続されていると共に、分岐されてコモン配線用検査用端子Ｔcomに接続されている。ま
た、走査信号選択素子３５からは、電源線及び走査信号を供給するための複数の走査信号
供給配線４３がドライバーＩＣ実装端子３８の対応する端子に接続されていると共に、分
岐されてそれぞれ複数の第４検査用端子Ｔ４に接続されている。
【００４２】
製造時の検査は以下のようにして行う。なお、ドライバーＩＣ実装端子３８にはドライ
バーＩＣが配置されていないものとする。先ず、第１検査用端子Ｔ１〜第４検査用端子Ｔ
４及びコモン配線用検査用端子Ｔcomに検査用信号供給回路に接続されたＦＰＣ（図示省
略）を接続する。そして、電源線及びコモン配線に所定の信号を印加しておく。この状態
で第１検査用端子Ｔ１に所定の検査用データ信号を入力し、第２検査用端子Ｔ２に検査用
スイッチング素子３７を全てオン状態とする信号を入力する。
【００４３】
また、第３検査用端子Ｔ３からは、所定の色のサブ画素に接続されているビデオ信号選
択用スイッチング素子３６のＴＦＴ４０をオン状態とする信号を入力し、更に、第４検査
用端子Ｔ４から走査信号選択素子３５には所定の位置のゲート線を選択する信号を入力す
る。そうすると、第３検査用端子Ｔ３に入力された色選択信号によって選択された色のサ
ブ画素列（例えばＲのサブ画素列とする）のうち、走査信号選択素子３５によって選択さ
れた所定のゲート線に対応するサブ画素の行が同一色（Ｒ）で発色する。この状態で走査
信号選択素子３５によって選択する行を順次変化させると、表示領域１２全体のＲのサブ
画素の発色状態を検査することができる。
【００４４】
この検査を、第３検査用端子Ｔ３から入力する信号を適宜に変更して検査する色を変え
ることによって、表示領域１２の全てのサブ画素の発色状態を検査することができ、また
、同時に２色ないし３色のサブ画素が発色するようにして検査することも可能である。
【００４５】
なお、通常の画像表示時には、第１検査用端子Ｔ１及び第２検査用端子Ｔ２に何等の信
号も印加しないと、検査用スイッチング素子３７がフローティング状態となって電位が安
定しなくなるので、外部信号接続用端子ｔ１及びｔ２から検査用スイッチング素子３７を
オフ状態とする一定の固定電位を印加するようにする。このような構成を採用すると、検
査用スイッチング素子３７が常にオフ状態となされているため、ドライバーＩＣから供給
されるビデオ信号が検査用スイッチング素子３７を経て漏れることによって劣化すること
が少なくなる。
【００４６】
上述したように、本実施形態の液晶表示装置１０によれば、全てのサブ画素の発色状態
を検査するための検査用端子数を非常に少なくすることができるため、端子の太さ及び端
子間ピッチを大きくすることができる。そのため、検査用プローブとして安価でサイズの
大きいＦＰＣを使用することができ、しかも、検査用プローブのアライメント及び交換が
簡単となり、メンテナンスも容易となる。更に、検査時には、特別の検査用治具を必要と
しないため、従来どおりの比較的安価な装置で行うことができるようになる。
【００４７】
しかも、本発明の液晶表示装置１０においては、検査用スイッチング素子３７も、検査
用スイッチング素子３７と第１検査用端子Ｔ１及び第２検査用端子Ｔ２とを結ぶ配線も、
共にドライバーＩＣ実装領域Ｄｒの隙間に形成されている。そのため、本発明の液晶表示
装置１０によれば、特に検査用スイッチング素子３７や、検査用スイッチング素子３７と
第１検査用端子Ｔ１及び第２検査用端子Ｔ２とを結ぶ配線を形成するための余分かスペー
スが不要となり、表示領域１２を最大限に大きくすることができるようになる。加えて、
本発明の液晶表示装置１０によれば、ビデオ信号供給配線４１の間に検査用スイッチング
素子が存在しないため、ドライバーＩＣ実装領域Ｄｒに接続されている複数のビデオ信号
供給配線４１の断線をも検出することができるようになる。
【符号の説明】
【００４８】
１０…液晶表示装置  １１…透明基板  １２…表示領域  １３…周縁領域  １４…回路
形成領域  １５…外部回路実装用端子領域  １６…構造物  １７…透明基板  １８…構造
物  １９…シール材  ２２…遮光膜  ２３…バッファ絶縁膜  ２４…ＬＴＰＳ層  ２５…
ゲート絶縁膜  ２６…画素電極  ２７…画素電極  ２８…ソース線  ２９…第１コンタク
トホール  ３０…第２コンタクトホール  ３１…パッシベーション膜  ３２…層間樹脂膜
３３…第３コンタクトホール  ３４…補助容量線  ３５…走査信号選択素子  ３６…ビ
デオ信号選択用スイッチング素子  ３７…検査用スイッチング素子  ３８…ドライバーＩ
Ｃ実装端子  ３９…外部信号接続用端子  ４１…ビデオ信号供給配線  ４２…色選択信号
供給配線  ４３…走査信号供給配線  ＡＲ…アレイ基板  ＣＦ…カラーフィルター基板  
Ｃｏｍ…コモン配線  ＬＣ…液晶  Ｔ１〜Ｔ４…第１〜第４検査用端子  Ｔcom…コモン
配線用検査用端子  Ｄｒ…ドライバーＩＣ実装領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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