(57)【要約】【課題】凹部の開口幅に応じて所望の膜厚を有する機能層を形成可能な電気光学装置の製造方法、電気光学装置の製造装置を提供すること。【解決手段】本適用例の電気光学装置の製造方法は、蒸気圧が異なる複数種の溶媒からなる混合溶媒と機能層形成材料とを含む液状体を凹部としての膜形成領域Ａ，Ａ'内に吐出して充填する充填工程と、充填された液状体から混合溶媒を除去して機能層を成膜化する成膜工程とを備え、充填工程は、膜形成領域Ａ，Ａ'に充填された後の液状体の濃度を膜形成領域Ａ，Ａ'の開口幅Ｗ１，Ｗ２の大小に対応して異ならせるべく、第１液状体と第１液状体に対して機能層形成材料の濃度が高い第２液状体のうち少なくとも一方を用いて吐出し、第２液状体における混合溶媒に占める蒸気圧が低い方の溶媒の割合は、第１液状体における混合溶媒に占める蒸気圧が低い方の溶媒の割合に比べて高く設定する。【選択図】図１０
2010281862.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に設けられた複数の凹部と、前記凹部内に設けられた機能層とを有する電気光学装置の製造方法であって、
蒸気圧が異なる複数種の溶媒からなる混合溶媒と機能層形成材料とを含む液状体を前記凹部内に吐出して充填する充填工程と、
充填された前記液状体から前記混合溶媒を除去して前記機能層を成膜化する成膜工程とを備え、
前記充填工程は、前記凹部に充填された後の前記液状体の濃度を前記凹部の開口幅の大小に対応して異ならせるべく、第１液状体と前記第１液状体に対して前記機能層形成材料の濃度が高い第２液状体とのうち少なくとも一方を用いて吐出し、前記第２液状体における前記混合溶媒に占める蒸気圧が低い方の前記溶媒の割合は、前記第１液状体における前記混合溶媒に占める蒸気圧が低い方の前記溶媒の割合に比べて高いことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
基板と、前記基板上に設けられた複数の凹部と、前記凹部内に設けられた機能層とを有する電気光学装置の製造方法であって、
沸点が異なる複数種の溶媒からなる混合溶媒と機能層形成材料とを含む液状体を前記凹部内に吐出して充填する充填工程と、
充填された前記液状体から前記混合溶媒を除去して前記機能層を成膜化する成膜工程とを備え、
前記充填工程は、前記凹部に充填された後の前記液状体の濃度を前記凹部の開口幅の大小に対応して異ならせるべく、第１液状体と前記第１液状体に対して前記機能層形成材料の濃度が高い第２液状体とのうち少なくとも一方を用いて吐出し、前記第２液状体における前記混合溶媒に占める沸点が高い方の前記溶媒の割合は、前記第１液状体における前記混合溶媒に占める沸点が高い方の前記溶媒の割合に比べて高いことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記充填工程は、前記凹部の前記開口幅の大小に対応して、前記第１液状体と前記第２液状体とを前記凹部に対する吐出量を異ならせて吐出することを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記充填工程は、前記第１液状体と前記第２液状体とのうち前記吐出量が少ない方から先に前記凹部に吐出することを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記充填工程は、前記開口幅が相対的に大きい方の前記凹部に、前記第１液状体を吐出し、前記開口幅が相対的に小さい方の前記凹部に、前記第２液状体を吐出することを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記充填工程は、前記凹部に充填された前記液状体がメニスカスで膨らむ状態になるまで吐出することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記開口幅が異なる前記凹部が同一の前記基板上において設けられていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記機能層形成材料は、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層形成材料であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
基板と、前記基板上に設けられた複数の凹部と、前記凹部内に設けられた機能層とを有する電気光学装置の製造装置であって、
前記基板が載置されるステージと、
複数のノズルを有する吐出ヘッドと、
前記ステージと前記吐出ヘッドとを対向させた状態で所定の方向に相対移動させる移動機構と、
蒸気圧が異なる複数種の溶媒からなる混合溶媒と機能層形成材料とを含む液状体を前記吐出ヘッドに供給する液状体供給機構とを備え、
前記移動機構による前記ステージと前記吐出ヘッドとの前記相対移動の間に、前記ステージ上に載置された前記基板の前記凹部に充填された後の前記液状体の濃度を前記凹部の開口幅の大小に対応して異ならせるべく、前記吐出ヘッドの前記複数のノズルから第１液状体と前記第１液状体に対して前記機能層形成材料の濃度が高い第２液状体とのうち少なくとも一方を前記凹部に向けて吐出させ、前記第２液状体における前記混合溶媒に占める蒸気圧が低い方の前記溶媒の割合は、前記第１液状体における前記混合溶媒に占める蒸気圧が低い方の前記溶媒の割合に比べて高く設定されていることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【請求項１０】
基板と、前記基板上に設けられた複数の凹部と、前記凹部内に設けられた機能層とを有する電気光学装置の製造装置であって、
前記基板が載置されるステージと、
複数のノズルを有する吐出ヘッドと、
前記ステージと前記吐出ヘッドとを対向させた状態で所定の方向に相対移動させる移動機構と、
沸点が異なる複数種の溶媒からなる混合溶媒と機能層形成材料とを含む液状体を前記吐出ヘッドに供給する液状体供給機構とを備え、
前記移動機構による前記ステージと前記吐出ヘッドとの前記相対移動の間に、前記ステージ上に載置された前記基板の前記凹部に充填された後の前記液状体の濃度を前記凹部の開口幅の大小に対応して異ならせるべく、前記吐出ヘッドの前記複数のノズルから第１液状体と前記第１液状体に対して前記機能層形成材料の濃度が高い第２液状体とのうち少なくとも一方を前記凹部に向けて吐出させ、前記第２液状体における前記混合溶媒に占める沸点が高い方の前記溶媒の割合は、前記第２液状体における前記混合溶媒に占める沸点が高い方の前記溶媒の割合に比べて高く設定されていることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【請求項１１】
前記凹部の前記開口幅の大小に対応して、前記第１液状体と前記第２液状体とを前記凹部に対する吐出量を異ならせて、前記吐出ヘッドから吐出させることを特徴とする請求項９または１０に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１２】
前記第１液状体と前記第２液状体とのうち前記吐出量が少ない方から先に前記凹部に吐出させることを特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１３】
前記開口幅が相対的に大きい方の前記凹部に前記第１液状体を吐出させ、前記開口幅が相対的に小さい方の前記凹部に前記第２液状体を吐出させることを特徴とする請求項９または１０に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１４】
前記凹部に充填された前記液状体がメニスカスで膨らむ状態になるまで、前記吐出ヘッドから吐出させることを特徴とする請求項９乃至１３のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１５】
前記液状体供給機構は、前記第１液状体と前記第２液状体とをそれぞれ異なる前記吐出ヘッドに供給することを特徴とする請求項９乃至１４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１６】
前記吐出ヘッドは、前記複数のノズルからなるノズル列を少なくとも２列備え、
前記液状体供給機構は、前記第１液状体と前記第２液状体とをそれぞれ異なる前記ノズル列に供給することを特徴とする請求項９乃至１４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１７】
前記液状体供給機構は、前記機能層形成材料および前記複数種の溶媒がそれぞれ独立して貯留された貯留部と、前記液状体における前記機能層形成材料の濃度と前記混合溶媒における前記複数種の溶媒の割合とを調整する溶液調整部とを備えていることを特徴とする請求項９乃至１６のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電機光学装置の製造方法、電気光学装置の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記電気光学装置の製造方法として、有機エレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬと表示する）材料を含む組成物（液体）を複数の電極上に塗布することにより各電極上に有機ＥＬ層をそれぞれ形成する有機ＥＬ装置の製造方法が知られている（特許文献１）。
【０００３】
上記有機ＥＬ装置の製造方法では、隔壁で仕切られた画素領域にインクジェットヘッドから上記組成物を液滴として吐出し、吐出された組成物を乾燥させて電極上に有機ＥＬ層を形成している。組成物の塗布領域を複数の電極が形成された有効発光領域よりも大きくして、塗布後の組成物の周囲の環境や乾燥を均一にし、電極が設けられる画素ごとあるいは画素間で有機ＥＬ層の膜厚を均一化できるとしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−２２２６９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
有機ＥＬ層は、通常これを流れる電流量によってその発光輝度が決まるので、画素領域の平面的な大きさに係わらず有機ＥＬ層の膜厚は所望の値に対して一定であることが望まれる。
上記有機ＥＬ装置の製造方法を用いて形成される有機ＥＬ層の膜厚は、隔壁で仕切られた画素領域に充填された上記組成物の量とその濃度によって決まる。さらに充填される組成物の量には限界があり、隔壁で仕切られた画素領域の開口幅や深さ、隔壁に対する接触角によって規定される。
それゆえに、例えば、深さが同じで開口幅が異なる２種類の画素領域のそれぞれに上記組成物を吐出した場合には、開口幅が大きい方の画素領域に対する充填量が他方に比べて多くなる。したがって、乾燥後に開口幅が大きい方の画素領域に形成される有機ＥＬ層の膜厚が開口幅が小さい方に比べて厚くなるおそれがあるという課題がある。
また、上記組成物（液体）において溶質の溶解性または分散性、あるいは粘度や表面張力などの調整を目的として混合溶媒系を用いることがある。その際に溶媒種間での蒸気圧（沸点）が異なることがある。したがって、乾燥過程において蒸気圧が低い（沸点が高い）方の溶媒が残り易くなり、当該溶媒に対する溶質の割合が上記開口幅によって異なってしまう。すると、乾燥過程における溶媒の移動に起因して、乾燥後に画素領域内あるいは画素領域間において所望の膜厚が得られないおそれがある。このような有機ＥＬ層の形成状態は、画素ごとあるいは画素間の輝度ムラとなるという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例の電気光学装置の製造方法は、基板と、前記基板上に設けられた複数の凹部と、前記凹部内に設けられた機能層とを有する電気光学装置の製造方法であって、蒸気圧が異なる複数種の溶媒からなる混合溶媒と機能層形成材料とを含む液状体を前記凹部内に吐出して充填する充填工程と、充填された前記液状体から前記混合溶媒を除去して前記機能層を成膜化する成膜工程とを備え、前記充填工程は、前記凹部に充填された後の前記液状体の濃度を前記凹部の開口幅の大小に対応して異ならせるべく、第１液状体と前記第１液状体に対して前記機能層形成材料の濃度が高い第２液状体のうち少なくとも一方を用いて吐出し、前記第２液状体における前記混合溶媒に占める蒸気圧が低い方の前記溶媒の割合は、前記第１液状体における前記混合溶媒に占める蒸気圧が低い方の前記溶媒の割合に比べて高いことを特徴とする。
【０００８】
蒸気圧が異なる複数種の溶媒からなる混合溶媒を含む液状体の乾燥過程では蒸気圧が高い方の溶媒が先に蒸発して、蒸気圧が低い方の溶媒が残る。開口幅が異なる凹部のそれぞれにほぼ同程度の厚みの機能層を形成しようとして、凹部に充填された後の液状体の濃度を凹部の開口幅の大小に応じて異ならせたとしても、蒸気圧が低い方の溶媒に対する濃度の差が生じ、乾燥過程における溶媒の移動に起因する膜厚むらにおいて程度の差が生じてしまう。
この方法によれば、第１液状体に対して濃度が高い第２液状体における蒸気圧が低い溶媒の割合を第１液状体に比べて高く設定するので、乾燥過程における蒸気圧が低い方の溶媒に対する機能層形成材料の濃度の差を小さくすることができる。したがって、乾燥過程における溶媒の移動に起因する膜厚むらが抑制され、開口幅が異なる凹部ごとに、所望の膜厚を有する機能層を形成することができる。
【０００９】
［適用例２］本適用例の他の電気光学装置の製造方法は、基板と、前記基板上に設けられた複数の凹部と、前記凹部内に設けられた機能層とを有する電気光学装置の製造方法であって、沸点が異なる複数種の溶媒からなる混合溶媒と機能層形成材料とを含む液状体を前記凹部内に吐出して充填する充填工程と、充填された前記液状体から前記混合溶媒を除去して前記機能層を成膜化する成膜工程とを備え、前記充填工程は、前記凹部に充填された後の前記液状体の濃度を前記凹部の開口幅の大小に対応して異ならせるべく、第１液状体と前記第１液状体に対して前記機能層形成材料の濃度が高い第２液状体のうち少なくとも一方を用いて吐出し、前記第２液状体における前記混合溶媒に占める沸点が高い方の前記溶媒の割合は、前記第１液状体における前記混合溶媒に占める沸点が高い方の前記溶媒の割合に比べて高いことを特徴とする。
【００１０】
沸点が異なる複数種の溶媒からなる混合溶媒を含む液状体の乾燥過程では沸点が低い方の溶媒が先に蒸発して、沸点が高い方の溶媒が残る。開口幅が異なる凹部のそれぞれにほぼ同程度の厚みの機能層を形成しようとして、凹部に充填された後の液状体の濃度を凹部の開口幅の大小に応じて異ならせたとしても、沸点が高い方の溶媒に対する濃度の差が生じ、乾燥過程における溶媒の移動に起因する膜厚むらにおいて程度の差が生じてしまう。
この方法によれば、第１液状体に対して濃度が高い第２液状体における沸点が高い溶媒の割合を第１液状体に比べて高く設定するので、乾燥過程における沸点が高い方の溶媒に対する機能層形成材料の濃度の差を小さくすることができる。したがって、乾燥過程における溶媒の移動に起因する膜厚むらが抑制され、開口幅が異なる凹部ごとに、所望の膜厚を有する機能層を形成することができる。
【００１１】
［適用例３］上記適用例の電気光学装置の製造方法において、前記充填工程は、前記凹部の前記開口幅の大小に対応して、前記第１液状体と前記第２液状体とを前記凹部に対する吐出量を異ならせて吐出するとしてもよい。
この方法によれば、濃度が異なる液状体を吐出量を異ならせて凹部に吐出することにより、凹部に充填された後の液状体の濃度を凹部の開口幅の大小に対応して柔軟に調整することができる。
【００１２】
［適用例４］上記適用例の電気光学装置の製造方法において、前記充填工程は、前記第１液状体と前記第２液状体とのうち前記吐出量が少ない方から先に前記凹部に吐出することが好ましい。
この方法によれば、後から吐出量の少ない方を吐出する場合に比べて、凹部における異なる濃度の第１液状体と第２液状体とをむらなく混合させることができる。
【００１３】
［適用例５］上記適用例の電気光学装置の製造方法において、前記充填工程は、前記開口幅が相対的に大きい方の前記凹部に、前記第１液状体を吐出し、前記開口幅が相対的に小さい方の前記凹部に、前記第２液状体を吐出するとしてもよい。
この方法によれば、開口幅が異なる凹部間において単位面積当たりの機能層形成材料の塗布量を均衡させつつ、膜厚むらを低減できる。
【００１４】
［適用例６］上記適用例の電気光学装置の製造方法において、前記充填工程は、前記凹部に充填された前記液状体がメニスカスで膨らむ状態になるまで吐出することが好ましい。
この方法によれば、開口幅が異なる凹部ごとに液状体を十分に行き渡らせて、吐出むらに起因する膜厚むらをより低減することができる。
【００１５】
［適用例７］上記適用例の電気光学装置の製造方法において、前記開口幅が異なる前記凹部が同一の前記基板上において設けられているとしてもよい。
この方法によれば、同一の基板上に設けられた開口幅が異なる凹部のそれぞれにほぼ同程度の膜厚を有する機能層を形成することができる。
【００１６】
［適用例８］上記適用例の電気光学装置の製造方法において、前記機能層形成材料は、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層形成材料であることを特徴とする。
この方法によれば、凹部の開口幅が異なっていても、膜厚むらが抑制され、ほぼ同程度の厚みを有する発光層が形成されるので、発光層の膜厚の差や膜厚むらに起因する輝度ムラが低減された有機ＥＬ素子を有する電気光学装置を製造することができる。
【００１７】
［適用例９］本適用例の電気光学装置の製造装置は、基板と、前記基板上に設けられた複数の凹部と、前記凹部内に設けられた機能層とを有する電気光学装置の製造装置であって、前記基板が載置されるステージと、複数のノズルを有する吐出ヘッドと、前記ステージと前記吐出ヘッドとを対向させた状態で所定の方向に相対移動させる移動機構と、蒸気圧が異なる複数種の溶媒からなる混合溶媒と機能層形成材料とを含む液状体を前記吐出ヘッドに供給する液状体供給機構とを備え、前記移動機構による前記ステージと前記吐出ヘッドとの前記相対移動の間に、前記ステージ上に載置された前記基板の前記凹部に充填された後の前記液状体の濃度を前記凹部の開口幅の大小に対応して異ならせるべく、前記吐出ヘッドの前記複数のノズルから第１液状体と前記第１液状体に対して前記機能層形成材料の濃度が高い第２液状体とのうち少なくとも一方を前記凹部に向けて吐出させ、前記第２液状体における前記混合溶媒に占める蒸気圧が低い方の前記溶媒の割合は、前記第１液状体における前記混合溶媒に占める蒸気圧が低い方の前記溶媒の割合に比べて高く設定されていることを特徴とする。
【００１８】
［適用例１０］本適用例の他の電気光学装置の製造装置は、基板と、前記基板上に設けられた複数の凹部と、前記凹部内に設けられた機能層とを有する電気光学装置の製造装置であって、前記基板が載置されるステージと、複数のノズルを有する吐出ヘッドと、前記ステージと前記吐出ヘッドとを対向させた状態で所定の方向に相対移動させる移動機構と、沸点が異なる複数種の溶媒からなる混合溶媒と機能層形成材料とを含む液状体を前記吐出ヘッドに供給する液状体供給機構とを備え、前記移動機構による前記ステージと前記吐出ヘッドとの前記相対移動の間に、前記ステージ上に載置された前記基板の前記凹部に充填された後の前記液状体の濃度を前記凹部の開口幅の大小に対応して異ならせるべく、前記吐出ヘッドの前記複数のノズルから第１液状体と前記第１液状体に対して前記機能層形成材料の濃度が高い第２液状体とのうち少なくとも一方を前記凹部に向けて吐出させ、前記第２液状体における前記混合溶媒に占める沸点が高い方の前記溶媒の割合は、前記第２液状体における前記混合溶媒に占める沸点が高い方の前記溶媒の割合に比べて高く設定されていることを特徴とする。
【００１９】
これらの上記適用例の構成によれば、ノズルから凹部に吐出された液状体の混合溶媒の蒸発速度のむらに起因して生ずる機能層の膜厚むらが、凹部の開口幅の大小に応じて変動することが抑制される。したがって、異なる開口幅を有する凹部間における機能層の膜厚むらを低減し、所望の電気光学特性を有する電気光学装置を製造可能な製造装置を提供することができる。
【００２０】
［適用例１１］上記適用例の電気光学装置の製造装置において、前記凹部の前記開口幅の大小に対応して、前記第１液状体と前記第２液状体とを前記凹部に対する吐出量を異ならせて、前記吐出ヘッドから吐出させるとしてもよい。
この構成によれば、濃度が異なる液状体を吐出量を異ならせて吐出ヘッドから凹部に吐出することにより、凹部に充填された後の液状体の濃度を凹部の開口幅の大小に対応して柔軟に調整可能な電気光学装置の製造装置を提供することができる。
【００２１】
［適用例１２］上記適用例の電気光学装置の製造装置において、前記第１液状体と前記第２液状体とのうち前記吐出量が少ない方から先に前記凹部に吐出させることが好ましい。
この構成によれば、後から吐出量の少ない方を吐出する場合に比べて、濃度が異なる第１液状体と第２液状体とを凹部においてむらなく混合させることができる。
【００２２】
［適用例１３］上記適用例の電気光学装置の製造装置において、前記開口幅が相対的に大きい方の前記凹部に前記第１液状体を吐出させ、前記開口幅が相対的に小さい方の前記凹部に前記第２液状体を吐出させることが好ましい。
この構成によれば、開口幅が異なる凹部間における液状体の充填量の差に起因する機能層の膜厚の差や乾燥過程における溶媒の移動に起因する膜厚むらが抑制され、所望の電気光学特性を有する電気光学装置を歩留まりよく製造することができる。
【００２３】
［適用例１４］上記適用例の電気光学装置の製造装置において、前記凹部に充填された前記液状体がメニスカスで膨らむ状態になるまで、前記吐出ヘッドから吐出させることが好ましい。
この構成によれば、開口幅が異なる凹部ごとに液状体を十分に行き渡らせて、吐出むらに起因する膜厚むらを低減することができる。
【００２４】
［適用例１５］上記適用例の電気光学装置の製造装置において、前記液状体供給機構は、前記第１液状体と前記第２液状体とをそれぞれ異なる前記吐出ヘッドに供給するとしてもよい。
この構成によれば、凹部の開口幅が異なる基板に対して、吐出ヘッド単位で異なる濃度の液状体の塗布を実現でき、機能層の形成における高い自由度を備えた電気光学装置の製造装置を提供できる。
【００２５】
［適用例１６］上記適用例の電気光学装置の製造装置において、前記吐出ヘッドは、前記複数のノズルからなるノズル列を少なくとも２列備え、前記液状体供給機構は、前記第１液状体と前記第２液状体とをそれぞれ異なる前記ノズル列に供給するとしてもよい。
この構成によれば、ノズル列単位で異なる濃度の液状体の塗布を実現でき、より簡素な構成の電気光学装置の製造装置を提供できる。
【００２６】
［適用例１７］上記適用例の電気光学装置の製造装置において、前記液状体供給機構は、前記機能層形成材料および前記複数種の溶媒がそれぞれ独立して貯留された貯留部と、前記液状体における前記機能層形成材料の濃度と前記混合溶媒における前記複数種の溶媒の割合とを調整する溶液調整部とを備えているとしてもよい。
この構成によれば、凹部の開口幅の大小などの塗布条件の変化に対して、予め機能層形成材料の濃度や混合溶媒の組成を調整した液状体を用意する必要がなく、液状体の組成を柔軟に調整可能な電気光学装置の製造装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】有機ＥＬ装置を示す概略正面図。
【図２】有機ＥＬ装置の要部概略断面図。
【図３】有機ＥＬ装置の製造装置としての吐出装置の構成を示す概略斜視図。
【図４】（ａ）は吐出ヘッドの構造を示す概略斜視図、（ｂ）はノズルの配置状態を示す平面図。
【図５】ヘッドユニットにおける吐出ヘッドの配置を示す概略平面図。
【図６】液状体供給機構と吐出ヘッドとの関係を示す概略図。
【図７】吐出装置の制御系を示すブロック図。
【図８】マザー基板を示す概略平面図。
【図９】種々の膜形成領域の形状を示す概略平面図。
【図１０】膜形成領域における液状体の充填状態を示す概略断面図。
【図１１】有機ＥＬ装置の製造方法を示すフローチャート。
【図１２】（ａ）〜（ｄ）は有機ＥＬ装置の製造方法を示す概略断面図。
【図１３】（ｅ）〜（ｈ）は有機ＥＬ装置の製造方法を示す概略断面図。
【図１４】実施例１の液状体の吐出条件を示す表。
【図１５】実施例２の液状体の吐出条件を示す表。
【図１６】実施例３の液状体の吐出条件を示す表。
【図１７】比較例の液状体の吐出条件を示す表。
【図１８】（ａ）〜（ｃ）は膜形成領域に充填された液状体の乾燥過程における挙動を示す概略断面図。
【図１９】液晶装置の構成を示す要部分解斜視図。
【図２０】（ａ）〜（ｆ）は液晶装置の製造方法を示す概略断面図。
【図２１】（ａ）は変形例のマザー基板を示す概略平面図、（ｂ）は変形例の着色層を示す概略平面図。
【図２２】変形例の画素の配列を示す概略平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。
【００２９】
（実施形態１）
まず、本実施形態の電気光学装置の製造方法を適用する電気光学装置としての有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）装置について図１および図２を参照して説明する。図１は有機ＥＬ装置を示す概略正面図、図２は有機ＥＬ装置の要部概略断面図である。
【００３０】
＜電気光学装置＞
図１に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、３色の発光画素１０７を備えた素子基板１０１と、素子基板１０１に所定の間隔を置いて対向配置された封止基板１０２とを備えている。封止基板１０２は、複数の発光画素１０７が設けられた発光領域１０６を封着するように、高い気密性を有する封着剤を用いて素子基板１０１に接合されている。
【００３１】
発光画素１０７は、後述する発光素子としての有機ＥＬ素子１１２（図２参照）を備えるものであって、同色の発光が得られる発光画素１０７が、図面上の縦方向に配列した所謂ストライプ方式となっている。なお、実際には、発光画素１０７は微細なものであり、図示の都合上拡大して現している。
【００３２】
素子基板１０１は、封止基板１０２よりも一回り大きく、額縁状に張り出した部分には、発光画素１０７を駆動する２つの走査線駆動回路部１０３と１つのデータ線駆動回路部１０４が設けられている。走査線駆動回路部１０３、データ線駆動回路部１０４は、例えば、電気回路が集積されたＩＣとして素子基板１０１に実装してもよいし、当該駆動回路部１０３，１０４を素子基板１０１の表面に直接形成してもよい。
【００３３】
素子基板１０１の端子部１０１ａには、これらの駆動回路部１０３，１０４と外部駆動回路とを接続するための中継基板１０５が実装されている。中継基板１０５は、例えば、フレキシブル回路基板などを用いることができる。
【００３４】
図２に示すように、有機ＥＬ装置１００において、有機ＥＬ素子１１２は、画素電極としての陽極１３１と、陽極１３１を区画する隔壁部１３３と、陽極１３１上に形成された有機膜からなる発光層を含む機能層１３２とを有している。また、機能層１３２を介して陽極１３１と対向するように形成された共通電極としての陰極１３４を有している。
【００３５】
隔壁部１３３は、フェノールまたはポリイミドなどの絶縁性を有する感光性樹脂からなり、発光画素１０７を構成する陽極１３１の周囲を一部覆って、複数の陽極１３１をそれぞれ区画するように設けられている。
【００３６】
陽極１３１は、素子基板１０１上に形成されたＴＦＴ素子１０８の３端子のうちの１つに接続しており、例えば、透明電極材料であるＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）を厚さ１００ｎｍ程度に成膜した電極である。なお、図示省略したが、陽極１３１の下層（平坦化層１２８側）に、絶縁層を介してＡｌからなる反射層が設けられている。当該反射層は、機能層１３２における発光を封止基板１０２側に反射するものである。また、当該反射層はＡｌに限定されず、発光を反射する機能（反射面）を有していればよい。例えば、絶縁性の有機材料あるいは無機材料を用いて凹凸を有する反射面を形成する方法、陽極１３１自体を反射機能を有する導電材料で構成し、表面層にＩＴＯ膜を形成する方法などが挙げられる。
【００３７】
陰極１３４は、同じく、ＩＴＯなどの透明電極材料により形成されている。
【００３８】
本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、いわゆるトップエミッション型の構造となっており、陽極１３１と陰極１３４との間に駆動電流を流して機能層１３２で発光した光を上記反射層で反射させて封止基板１０２側から取り出す。したがって、封止基板１０２は透明なガラス等からなる基板を用いる。また、素子基板１０１は、透明基板および不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
【００３９】
素子基板１０１には、有機ＥＬ素子１１２を駆動する回路部１１１が設けられている。すなわち、素子基板１０１の表面にはＳｉＯ2を主体とする下地保護層１２１が下地として形成され、その上にはシリコン層１２２が形成されている。このシリコン層１２２の表面には、ＳｉＯ2および／またはＳｉＮを主体とするゲート絶縁層１２３が形成されている。
【００４０】
また、シリコン層１２２のうち、ゲート絶縁層１２３を挟んでゲート電極１２６と重なる領域がチャネル領域１２２ａとされている。なお、このゲート電極１２６は、図示しない走査線の一部である。一方、シリコン層１２２を覆い、ゲート電極１２６を形成したゲート絶縁層１２３の表面には、ＳｉＯ2を主体とする第１層間絶縁層１２７が形成されている。
【００４１】
また、シリコン層１２２のうち、チャネル領域１２２ａのソース側には、低濃度ソース領域および高濃度ソース領域１２２ｃが設けられる一方、チャネル領域１２２ａのドレイン側には低濃度ドレイン領域および高濃度ドレイン領域１２２ｂが設けられて、いわゆるＬＤＤ（Light  Doped  Drain）構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域１２２ｃは、ゲート絶縁層１２３と第１層間絶縁層１２７とにわたって開孔するコンタクトホール１２５ａを介して、ソース電極１２５に接続されている。このソース電極１２５は、電源線（図示せず）の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域１２２ｂは、ゲート絶縁層１２３と第１層間絶縁層１２７とにわたって開孔するコンタクトホール１２４ａを介して、ソース電極１２５と同一層からなるドレイン電極１２４に接続されている。
【００４２】
ソース電極１２５およびドレイン電極１２４が形成された第１層間絶縁層１２７の上層には、例えばアクリル系の樹脂成分を主体とする平坦化層１２８が形成されている。この平坦化層１２８は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、ＴＦＴ素子１０８やソース電極１２５、ドレイン電極１２４などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。
【００４３】
そして、陽極１３１が、この平坦化層１２８の表面上に形成されると共に、該平坦化層１２８に設けられたコンタクトホール１２８ａを介してドレイン電極１２４に接続されている。すなわち、陽極１３１は、ドレイン電極１２４を介して、シリコン層１２２の高濃度ドレイン領域１２２ｂに接続されている。陰極１３４は、ＧＮＤに接続されている。したがって、スイッチング素子としてのＴＦＴ素子１０８により、上記電源線から陽極１３１に供給され陰極１３４との間で流れる駆動電流を制御する。これにより、回路部１１１は、所望の有機ＥＬ素子１１２を発光させカラー表示を可能としている。
【００４４】
なお、有機ＥＬ素子１１２を駆動する回路部１１１の構成は、これに限定されるものではない。
【００４５】
機能層１３２は、正孔注入層、中間層、発光層を含む複数種の有機膜からなり、陽極１３１側からこの順で積層されている。本実施形態において、これらの有機膜は液滴吐出法（インクジェット法）を用いて成膜されている。
【００４６】
正孔注入層の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を加えた混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）や、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。
【００４７】
中間層は、正孔注入層と発光層との間に設けられ、発光層に対する正孔の輸送性（注入性）を向上させると共に、発光層から正孔注入層に電子が浸入することを抑制するために設けられている。すなわち、発光層における正孔と電子との結合による発光の効率を改善するものである。中間層の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なトリフェニルアミン系ポリマーを含んだものが挙げられる。
【００４８】
発光層の材料としては、例えば、赤色、緑色、青色の発光が得られるポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ＰＥＤＯＴ等のポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン（ＰＭＰＳ）等を用いることができる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクドリン等低分子材料をドープしてもよい。
【００４９】
このような有機ＥＬ素子１１２を有する素子基板１０１は、透明な熱硬化型エポキシ樹脂等を封着部材として用いた封着層１３５を介して透明な封止基板１０２と隙間なく封止されている。
【００５０】
本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、後述する製造方法を用いて製造されており、発光色ごとに所望の膜厚を有しているため、異なる発光色が得られる機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂにおいてそれぞれ所望の発光特性が得られる。
【００５１】
なお、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、トップエミッション型に限定されず、共通電極としての陰極１３４を反射機能を有する不透明なＡｌ等の導電材料を用いて成膜し、有機ＥＬ素子１１２の発光を陰極１３４で反射させて、素子基板１０１側から取り出すボトムエミッション型の構造としてもよい。
【００５２】
＜電気光学装置の製造装置＞
次に、本実施形態の電気光学装置としての有機ＥＬ装置の製造装置について、図３〜図７を参照して説明する。図３は有機ＥＬ装置の製造装置としての吐出装置の構成を示す概略斜視図、図４（ａ）は吐出ヘッドの構造を示す概略斜視図、同図（ｂ）はノズルの配置状態を示す平面図、図５はヘッドユニットにおける吐出ヘッドの配置を示す概略平面図、図６は液状体供給機構と吐出ヘッドとの関係を示す概略図、図７は吐出装置の制御系を示すブロック図である。
【００５３】
図３に示すように、本実施形態の吐出装置１０は、機能層形成材料を含む液状体を被吐出物である平板状のワークに吐出して、ワーク上に機能層形成材料からなる膜を形成するための製造装置である。ワークを主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させるワーク移動機構２０と、液状体を液滴として吐出可能な吐出ヘッド５０（図４参照）が複数搭載されたヘッドユニット９を主走査方向に直交する副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させるヘッド移動機構３０とを備えている。
【００５４】
ワーク移動機構２０は、一対のガイドレール２１と、一対のガイドレール２１に沿って移動する移動台２２と、移動台２２上に回転機構６を介して配設されたワークを載置するステージ５とを備えている。
移動台２２は、ガイドレール２１の内部に設けられたエアスライダーとリニアモーター（図示省略）により主走査方向（Ｙ軸方向）に移動する。移動台２２には、タイミング信号生成部としてのエンコーダー１２（図７参照）が設けられている。
エンコーダー１２は、移動台２２の主走査方向（Ｙ軸方向）への相対移動に伴って、ガイドレール２１に並設されたリニアスケール（図示省略）の目盛を読み取って、タイミング信号としてのエンコーダーパルスを生成する。なお、エンコーダー１２の配設は、これに限らず、例えば、移動台２２を回転軸に沿って主走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動するよう構成し、回転軸を回転させる駆動部を設けた場合には、エンコーダー１２を駆動部に設けてもよい。駆動部としては、サーボモーターなどが挙げられる。
ステージ５はワークを吸着固定可能であると共に、回転機構６によってワーク内の基準軸を正確に主走査方向（Ｙ軸方向）、副走査方向（Ｘ軸方向）に合わせることが可能となっている。
また、ワーク上において液状体が吐出される膜形成領域の配置に応じて、ワークを例えば９０度旋回させることも可能である。
【００５５】
ヘッド移動機構３０は、一対のガイドレール３１と、一対のガイドレール３１に沿って移動する移動台３２とを備えている。移動台３２には、回転機構７を介して吊設されたキャリッジ８が設けられている。
キャリッジ８には、複数の吐出ヘッド５０（図４参照）が搭載されたヘッドユニット９が取り付けられている。
また、キャリッジ８には、吐出ヘッド５０に液状体を供給するための液状体供給機構６０（図６および図７参照）と、複数の吐出ヘッド５０の電気的な駆動制御を行うためのヘッドドライバー４８（図７参照）とが設けられている。
移動台３２がキャリッジ８を副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させてヘッドユニット９をワークに対して対向配置する。
【００５６】
吐出装置１０は、上記構成の他にも、ヘッドユニット９に搭載された複数の吐出ヘッド５０のノズル目詰まり解消、ノズル面の異物や汚れの除去などのメンテナンスを行うメンテナンス機構（図示省略）が、複数の吐出ヘッド５０を臨む位置に配設されている。
また、吐出ヘッド５０ごとに吐出された液状体を受けて、その重量を計測する電子天秤などの計測器を有する重量計測機構（図示省略）とを備えている。重量計測機構により得られた結果から液状体の１滴あたりの重量あるいは体積を求めることができる。そして、これらの構成を統括的に制御する制御部４０を備えている。
【００５７】
図４（ａ）に示すように、吐出ヘッド５０は、所謂２連のものであり、２連の接続針５４を有する液状体の導入部５３と、導入部５３に積層されたヘッド基板５５と、ヘッド基板５５上に配置され内部に液状体のヘッド内流路が形成されたヘッド本体５６とを備えている。接続針５４は、前述した液状体供給機構６０に配管を経由して接続され、液状体をヘッド内流路に供給する。ヘッド基板５５には、フレキシブルフラットケーブル（図示省略）を介してヘッドドライバー４８（図７参照）に接続される２連のコネクター５８が設けられている。
【００５８】
ヘッド本体５６は、駆動手段としての圧電素子で構成されたキャビティを有する加圧部５７と、ノズル面５１ａに２つのノズル列５２ａ，５２ｂが相互に平行に形成されたノズルプレート５１とを有している。２つの接続針５４に対してそれぞれ異なる種類の液状体を供給すれば、２つのノズル列５２ａ，５２ｂからそれぞれ異なる種類の液状体を吐出可能となっている。言い換えれば、２つのノズル列５２ａ，５２ｂに対応した個別のヘッド内流路を有している。
【００５９】
図４（ｂ）に示すように、２つのノズル列５２ａ，５２ｂは、それぞれ複数（１８０個）のノズル５２がピッチＰ１でほぼ等間隔に並べられており、互いにピッチＰ１の半分のピッチＰ２ずれた状態でノズル面５１ａに配設されている。この場合、ピッチＰ１は、およそ１４１μｍである。よって、ノズル列５２ｃに直交する方向から見ると３６０個のノズル５２がおよそ７０．５μｍのノズルピッチで配列した状態となっている。また、ノズル５２の径は、およそ２７μｍである。
【００６０】
吐出ヘッド５０は、ヘッドドライバー４８から電気信号としての駆動信号が圧電素子に印加されると加圧部５７のキャビティの体積変動が起こり、これによるポンプ作用でキャビティに充填された液状体が加圧され、ノズル５２から液状体を液滴として吐出することができる。
【００６１】
吐出ヘッド５０における駆動手段は、圧電素子に限らない。アクチュエーターとしての振動板を静電吸着により変位させる電気機械変換素子や、液状体を加熱してノズル５２から液滴として吐出させる電気熱変換素子（サーマル方式）でもよい。
【００６２】
図５は、ヘッドユニットにおける吐出ヘッドの配置を示す概略平面図である。詳しくは、ワークに対向する側から見た図である。
【００６３】
図５に示すように、ヘッドユニット９は、複数の吐出ヘッド５０が配設されるヘッドプレート９ａを備えている。ヘッドプレート９ａには、３つの吐出ヘッド５０からなるヘッド群５０Ａと、同じく３つの吐出ヘッド５０からなるヘッド群５０Ｂの合計６個の吐出ヘッド５０が搭載されている。この場合、ヘッド群５０ＡのヘッドＲ１（吐出ヘッド５０）とヘッド群５０ＢのヘッドＲ２（吐出ヘッド５０）とは、同種の液状体を吐出する。他のヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様である。また、同種でもヘッドＲ１とヘッドＲ２とにおいて濃度を変えることも可能である。すなわち、機能層形成材料の種別と濃度を基準とすれば、少なくとも６種の異なる液状体を吐出可能な構成となっている。
【００６４】
１つの吐出ヘッド５０によって描画可能な描画幅をＬ0とし、これをノズル列５２ｃの有効長とする。以降、ノズル列５２ｃとは、３６０個のノズル５２から構成されるものを指す。
【００６５】
この場合、ヘッドＲ１とヘッドＲ２は、主走査方向（Ｙ軸方向）から見て隣り合うノズル列５２ｃが主走査方向と直交する副走査方向（Ｘ軸方向）に１ノズルピッチを置いて連続するように主走査方向に並列して配設されている。したがって、例えば、同種の液状体をヘッドＲ１とヘッドＲ２とに充填すれば、その有効な描画幅Ｌ1は、描画幅Ｌ0の２倍となる。ヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様に主走査方向（Ｙ軸方向）に並列して配置されている。
【００６６】
なお、吐出ヘッド５０に設けられるノズル列５２ｃは、２連に限らず、１連でもよい。また、ヘッドユニット９における吐出ヘッド５０の配置は、これに限定されるものではない。用いられる液状体の種類と濃度とを考慮し、吐出ヘッド５０の主走査方向への相対移動により同一の膜形成領域に同種の液状体を吐出可能とする配置が好ましい。また、メンテナンスや吐出される液状体の重量測定を考慮して異種の液状体を吐出する吐出ヘッド５０の群ごとに搭載されるヘッドユニット９を異ならせてもよい。
【００６７】
図６に示すように、液状体供給機構６０は、貯留部６１と、溶液調整部６２とを有している。貯留部６１は、液状体を構成する機能層形成材料や複数種の溶媒に対応した複数（この場合は、３つ）の貯留タンク６１ａ，６１ｂ，６１ｃを有している。言い換えれば、貯留タンク６１ａ，６１ｂ，６１ｃには、液状体を構成する機能層形成材料や溶媒が独立してそれぞれ貯留されている。溶液調整部６２は、３つの貯留タンク６１ａ，６１ｂ，６１ｃのそれぞれに流量調整バルブ６２ａを介して接続された撹拌部６２ｂを有している。
撹拌部６２ｂは、その内部に例えばマグネティックスターラーなどの攪拌手段を有している。撹拌部６２ｂは、三方バルブ６３を介して吐出ヘッド５０に繋がっており、攪拌された液状体を吐出ヘッド５０に送出できる。例えば、吐出ヘッド５０よりも位置エネルギー的に高い場所に配置され、吐出ヘッド５０と繋がるように三方バルブ６３を開くと、液状体は、自重により吐出ヘッド５０側に流れる。三方バルブ６３の一方は、ドレイン配管６４に繋がっており、貯留部６１から溶媒だけを撹拌部６２ｂに流し、ドレイン配管６４から排出することにより、溶液調整部６２をクリーニング可能となっている。
このような液状体供給機構６０は、少なくとも液状体の種類に対応して複数配設されている。なお、機能層形成材料が固体である場合には、所定の溶媒に所定の濃度で予め溶解あるいは分散させた溶液として貯留部６１に貯留することが望ましく、撹拌部６２ｂにおける攪拌および調合が容易となる。
【００６８】
次に吐出装置１０の制御系について説明する。図７に示すように、吐出装置１０の制御系は、吐出ヘッド５０、ワーク移動機構２０、ヘッド移動機構３０、液状体供給機構６０などを駆動する各種ドライバーを有する駆動部４６と、駆動部４６を含め吐出装置１０を統括的に制御する制御部４０とを備えている。
【００６９】
駆動部４６は、ワーク移動機構２０およびヘッド移動機構３０の各リニアモーターをそれぞれ駆動制御する移動用ドライバー４７と、吐出ヘッド５０を駆動制御するヘッドドライバー４８と、液状体供給機構６０を駆動制御する液状体供給用ドライバー４９とを備えている。この他にもメンテナンス機構を駆動制御するメンテナンス用ドライバーなどを備えているが図示省略した。
【００７０】
制御部４０は、ＣＰＵ４１と、ＲＯＭ４２と、ＲＡＭ４３と、Ｐ−ＣＯＮ４４とを備え、これらは互いにバス４５を介して接続されている。Ｐ−ＣＯＮ４４には、上位コンピューター１１が接続されている。ＲＯＭ４２は、ＣＰＵ４１で処理する制御プログラムなどを記憶する制御プログラム領域と、描画動作や機能回復処理などを行うための制御データなどを記憶する制御データ領域とを有している。
【００７１】
ＲＡＭ４３は、ワークに描画を行うための描画データを記憶する描画データ記憶部、ワークおよび吐出ヘッド５０（実際には、ノズル列５２ｃ）の位置データを記憶する位置データ記憶部などの各種記憶部を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。Ｐ−ＣＯＮ４４には、駆動部４６の各種ドライバーなどが接続されており、ＣＰＵ４１の機能を補うと共に、周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ４４は、上位コンピューター１１からの各種指令などをそのままあるいは加工してバス４５に取り込むと共に、ＣＰＵ４１と連動して、ＣＰＵ４１などからバス４５に出力されたデータや制御信号を、そのままあるいは加工して駆動部４６に出力する。
【００７２】
そして、ＣＰＵ４１は、ＲＯＭ４２内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して各種検出信号、各種指令、各種データなどを入力し、ＲＡＭ４３内の各種データなどを処理した後、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して駆動部４６などに各種の制御信号を出力することにより、吐出装置１０全体を制御している。例えば、ＣＰＵ４１は、吐出ヘッド５０、ワーク移動機構２０およびヘッド移動機構３０を制御して、ヘッドユニット９とワークとを対向配置させる。そして、ヘッドユニット９とワークとの相対移動に同期して、ヘッドユニット９に搭載された各吐出ヘッド５０の複数のノズル５２からワークに液状体を液滴として吐出するようにヘッドドライバー４８に制御信号を送出する。この場合、Ｙ軸方向へのワークの移動に同期して液状体を吐出することを主走査と呼び、Ｘ軸方向にヘッドユニット９を移動させることを副走査と呼ぶ。本実施形態の吐出装置１０は、主走査と副走査とを組み合わせて複数回繰り返すことにより液状体を吐出描画することができる。主走査は、吐出ヘッド５０に対して一方向へのワークの移動に限らず、ワークを往復させて行うこともできる。
【００７３】
エンコーダー１２は、ヘッドドライバー４８に電気的に接続され、主走査に伴ってエンコーダーパルスを生成する。主走査では、所定の移動速度で移動台２２を移動させるので、エンコーダーパルスが周期的に発生する。
【００７４】
例えば、主走査における移動台２２の移動速度を２００ｍｍ／ｓｅｃ、吐出ヘッド５０を駆動する駆動周波数（言い換えれば、連続して液滴を吐出する場合の吐出タイミング）を２０ｋＨｚとすると、主走査方向における液滴の吐出分解能は、移動速度を駆動周波数で除することにより得られるので、１０μｍとなる。すなわち、１０μｍのピッチで液滴をワーク上に配置することが可能である。実際の液滴の吐出タイミングは、周期的に発生するエンコーダーパルスをカウントして生成されるラッチ信号に基づいている。
【００７５】
上位コンピューター１１は、制御プログラムや制御データなどの制御情報を吐出装置１０に送出する。また、ワーク上の膜形成領域ごとに所定量の液状体を液滴として配置する吐出制御データとしての配置情報を生成する配置情報生成部の機能を有している。配置情報は、膜形成領域における液滴の吐出位置（言い換えれば、ワークとノズル５２との相対位置）、液滴の配置数（言い換えれば、ノズル５２ごとの吐出数）、主走査における複数のノズル５２のＯＮ／ＯＦＦ、吐出タイミングなどの情報を、例えば、ビットマップとして表したものである。
【００７６】
また、上位コンピューター１１は、液状体供給機構６０を駆動制御し、入力された液状体の組成情報に基づいて、各貯留タンク６１ａ，６１ｂ，６１ｃに配設された流量調整バルブ６２ａを開閉し、定められた量の機能層形成材料、各種溶媒を撹拌部６２ｂへ送り込み調合を行わせる。言い換えれば、液状体の組成を自在に調整することが可能となっている。
【００７７】
特に、本実施形態の吐出装置１０は、ステージ５上に載置されたワークの膜形成領域（凹部）に充填された後の液状体の濃度を膜形成領域（凹部）の開口幅の大小に対応して異ならせるべく、吐出ヘッド５０の複数のノズル５２から第１液状体と第１液状体に対して機能層形成材料の濃度が高い第２液状体とのうち少なくとも一方を膜形成領域（凹部）に向けて吐出させる。詳しくは、後述する電気光学装置の製造方法において説明する。
【００７８】
＜電気光学装置の製造方法＞
次に、本実施形態の電気光学装置の製造方法について有機ＥＬ装置１００の製造方法を例に図８〜図１７を参照して説明する。図８はマザー基板を示す概略平面図、図９は種々の膜形成領域の形状を示す概略平面図、図１０は膜形成領域における液状体の充填状態を示す概略断面図、図１１は有機ＥＬ装置の製造方法を示すフローチャート、図１２〜図１３は有機ＥＬ装置の製造方法を示す概略断面図である。
【００７９】
有機ＥＬ装置１００の実際の製造では、図８に示すようなマザー基板１１０を用いる。マザー基板１１０には、素子基板１０１がマトリクス状に多面付けされている。言い換えれば、マザー基板１１０上に前述した回路部１１１（図２参照）と有機ＥＬ素子１１２（図２参照）とを形成することにより発光画素１０７を構成し、効率よく有機ＥＬ装置１００を製造しようとするものである。
【００８０】
有機ＥＬ素子１１２は、図２に示すように隔壁部１３３により区画された陽極１３１上に発光層を含む機能層１３２と陰極１３４とを形成することにより得られる。図９に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置１００では、隔壁部１３３により区画された凹部としての膜形成領域Ａは、矩形状となっている。膜形成領域Ａ（凹部）の平面的な形状はこれに限定されず、図９に示すように、トラック状の膜形成領域Ａ１、円状の膜形成領域Ａ２、楕円状の膜形成領域Ａ３などが考えられる。このような膜形成領域Ａ，Ａ１，Ａ２，Ａ３の平面形状において、長手方向に対して直交する短手方向の幅を開口幅として定義する。
【００８１】
本実施形態では、前述した吐出装置１０を用いて膜形成領域Ａに機能層形成材料を含む液状体を塗布して乾燥することにより機能層１３２が成膜される。したがって、膜形成領域Ａにおいて所望の膜厚を有する機能層１３２を形成するには、膜形成領域Ａの平面積と膜厚との積による体積に相当する機能層形成材料（固形分）を液状体として膜形成領域Ａに塗布する必要があることは言うまでもない。
【００８２】
一方、膜形成領域Ａに塗布可能な液状体の量は、膜形成領域Ａの平面積や深さだけでは決まらない。図１０に示すように、例えば、隔壁部１３３により区画され、異なる開口幅（Ｗ１＜Ｗ２）の膜形成領域Ａと膜形成領域Ａ'とに同じ液状体を充填すると、隔壁部１３３の頭頂部に対する前進接触角θを越えて液状体を充填しようとしても、液状体は頭頂部へ溢れてしまう。したがって、充填後の液状体のメニスカス（盛り上がった液面）が安定した状態では、膜形成領域Ａの開口幅Ｗ１は膜形成領域Ａ'の開口幅Ｗ２よりも小さいため、膜形成領域Ａにおける液状体充填後の隔壁部１３３の頭頂部からの高さｈ１は、膜形成領域Ａ'における液状体充填後の隔壁部１３３の頭頂部からの高さｈ２よりも低くなる。それゆえに膜形成領域Ａに充填可能な液状体の量は、膜形成領域Ａ'に比べて少なくなる。よって、膜形成領域Ａと膜形成領域Ａ'とにほぼ同じ膜厚の膜を形成しようとする場合には、膜形成領域Ａ'に比べて開口幅Ｗ１が小さい膜形成領域Ａに濃度（容量比）が高い液状体を吐出する方法が考えられる。
なお、前進接触角θを下回る範囲で液状体を充填するときの量は、図１０に示すように隔壁部１３３の内壁面が基板面との間でなす傾斜角度によっても影響される。
【００８３】
本実施形態の有機ＥＬ装置１００の製造方法は、異なる濃度の液状体のうち少なくとも一方を用いて吐出し、膜形成領域Ａの開口幅に応じて充填後の液状体の濃度を異ならせるものである。
【００８４】
図１１に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置１００の製造方法は、隔壁部形成工程（ステップＳ１）と、隔壁部が形成された基板に表面処理を施す表面処理工程（ステップＳ２）と、正孔注入層形成工程（ステップＳ３）と、中間層形成工程（ステップＳ４）と、発光層形成工程（ステップＳ５）と、陰極形成工程（ステップＳ６）と、有機ＥＬ素子が形成された素子基板１０１と封止基板１０２とを接合する封止基板接合工程（ステップＳ７）とを少なくとも備えている。なお、素子基板１０１上に回路部１１１（図２参照）を形成する工程や回路部１１１に電気的に接続した陽極１３１を形成する工程は、公知の製造方法を用いればよく、本実施形態では詳細の説明は省略する。したがって、図１２（ａ）〜（ｄ）および図１３（ｅ）〜（ｈ）では、回路部１１１の図示を省略している。
【００８５】
図１１のステップＳ１は、隔壁部形成工程である。ステップＳ１では、図１２（ａ）に示すように、陽極１３１の周囲の一部を覆って陽極１３１ごとを区画するように隔壁部１３３を形成する。形成方法としては、例えば、陽極１３１が形成された素子基板１０１の表面に、感光性のフェノール樹脂またはポリイミド樹脂をおよそ１〜３μｍ程度の厚みで塗布する。塗布方法としては、転写法、スリットコート法などが挙げられる。そして、発光画素１０７の形状に対応したマスクを用いて露光し、現像することにより複数の隔壁部１３３を形成することができる。陽極１３１を隔壁部１３３により区画することで液状体が吐出される凹部としての膜形成領域Ａができあがる。そして、ステップＳ２へ進む。
【００８６】
図１１のステップＳ２は、表面処理工程である。ステップＳ２では、隔壁部１３３が形成された素子基板１０１の表面に親液処理と撥液処理とを施す。まず、酸素を処理ガスとするプラズマ処理を行い、主に無機材料からなる陽極１３１の表面に親液処理を施す。次に、ＣＦ4などのフッ素系ガスを処理ガスとするプラズマ処理を行い、有機材料からなる隔壁部１３３の表面にフッ素を導入して撥液処理を施す。そして、ステップＳ３へ進む。
【００８７】
図１１のステップＳ３は、正孔注入層形成工程である。ステップＳ３では、まず、図１２（ｂ）に示すように、正孔注入層形成材料を含む液状体７０を膜形成領域Ａに塗布する。液状体７０は、例えば、溶媒としてジエチレングリコールと水（純水）とを含んでおり、正孔注入層形成材料としてＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを容量比で０．５％程度含んだものを用いた。粘度がおよそ２０ｍＰａ・ｓ以下となるように溶媒の割合が調整されている。
液状体７０を塗布する方法としては、液状体（インク）を吐出ヘッド５０のノズル５２から吐出可能な吐出装置１０を用いる。吐出ヘッド５０とワークであるマザー基板１１０とを対向させ、吐出ヘッド５０から液状体７０を吐出する。吐出された液状体７０は、液滴として親液処理された陽極１３１に着弾して濡れ拡がる。また、乾燥後の正孔注入層の膜厚がおよそ５０〜７０ｎｍとなるように、膜形成領域Ａの面積と開口幅に応じた必要量を液滴として吐出した。そして乾燥工程へ進む。
【００８８】
乾燥工程では、素子基板１０１を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、液状体７０の溶媒成分を乾燥させて除去し、図１２（ｃ）に示すように膜形成領域Ａの陽極１３１上に正孔注入層１３２ａを形成する。なお、本実施形態では、各膜形成領域Ａに同一材料からなる正孔注入層１３２ａを形成したが、後に形成される発光層に対応して正孔注入層１３２ａの材料を発光色ごとに変えてもよい。そしてステップＳ４へ進む。
【００８９】
図１１のステップＳ４は、中間層形成工程である。ステップＳ４では、図１２（ｄ）に示すように、中間層形成材料を含む液状体８０を膜形成領域Ａに付与する。
液状体８０は、例えば、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを含み、中間層形成材料として、前述したトリフェニルアミン系ポリマーを容量比で０．１％程度含んだものを用いた。粘度はおよそ６ｍＰａ・ｓである。
液状体８０を塗布する方法としては、液状体７０を塗布する場合と同様に、吐出装置１０を用いる。乾燥後の中間層の膜厚がおよそ１０〜２０ｎｍとなるように、膜形成領域Ａの面積と開口幅に応じた必要量を液滴として吐出した。そして乾燥工程へ進む。
【００９０】
乾燥工程では、素子基板１０１を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、液状体８０の溶媒成分を乾燥させて除去し、図１３（ｅ）に示すように膜形成領域Ａの正孔注入層１３２ａ上に中間層１３２ｃを形成する。そしてステップＳ５へ進む。
【００９１】
図１１のステップＳ５は、発光層形成工程である。ステップＳ５では、図１３（ｆ）に示すように、発光層形成材料を含む液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂをそれぞれ対応する膜形成領域Ａに塗布する。
液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂは、複数種の溶媒からなる混合溶媒と発光層形成材料とを含んでおり、その濃度（容量比）は、膜形成領域Ａの開口幅に応じて所定の範囲内で調整されている。また、異なる濃度の液状体を用いる場合、濃度が高い方の液状体における混合溶媒に占める蒸気圧が低い方の溶媒の割合は、濃度が低い方の液状体における混合溶媒に占める蒸気圧が低い方の溶媒の割合に比べて高く設定されている。また、粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下となるように、混合溶媒を構成する溶媒の選択が行われている。
液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂを塗布する方法は、やはり吐出装置１０を用い、それぞれ異なる吐出ヘッド５０に充填されて吐出される。乾燥後の発光層の膜厚がおよそ８０ｎｍとなるように、膜形成領域Ａの面積と開口幅に応じた必要量を液滴として吐出した。充填された液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂが前進接触角θ以下の安定したメニスカスで膨らむ状態にまで吐出する。詳しくは後述する実施例において述べる。そして乾燥工程へ進む。
【００９２】
本実施形態における吐出された液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの乾燥工程は、一般的な加熱乾燥に比べて溶媒成分を比較的均一に乾燥可能な減圧乾燥法を用いている。膜形成領域Ａには満遍なく必要量の液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂが塗布されている。したがって、図１３（ｇ）に示すように、乾燥後に形成された発光層１３２ｒ，１３２ｇ，１３２ｂは膜形成領域Ａごとにほぼ一定の膜厚を有する。なお、減圧乾燥における乾燥条件は、液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの混合溶媒における溶媒の低い方の蒸気圧よりも高い圧力で乾燥を開始し、徐徐に減圧して乾燥させることが望ましい。急激に減圧して溶媒の突沸が起こることを避け、より均一な乾燥を実現する。そして、ステップＳ６へ進む。
【００９３】
図１１のステップＳ６は、陰極形成工程である。ステップＳ６では、図１３（ｈ）に示すように、隔壁部１３３と各機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂとを覆うように陰極１３４を形成する。これにより有機ＥＬ素子１１２が構成される。
陰極１３４の材料としては、ＩＴＯとＣａ、Ｂａ、Ａｌ等の金属やＬｉＦ等のフッ化物とを組み合わせて用いるのが好ましい。特に機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂに近い側に仕事関数が小さいＣａ、Ｂａ、ＬｉＦの膜を形成し、遠い側に仕事関数が大きいＩＴＯを形成するのが好ましい。また、陰極１３４の上にＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を積層してもよい。このようにすれば、陰極１３４の酸化を防止することができる。陰極１３４の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。特に機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂの熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。そして、ステップＳ７へ進む。
【００９４】
図１１のステップＳ７は、封止基板接合工程である。ステップＳ７では、有機ＥＬ素子１１２が形成された素子基板１０１に透明な封着層１３５を塗布して、透明な封止基板１０２と隙間なく封止する（図２参照）。さらに封止基板１０２の外周領域において水分や酸素等の進入を防ぐ接着層を設けて接合することが望ましい。
【００９５】
次に、上記発光層形成工程（ステップＳ５）における膜形成領域Ａの面積と開口幅に対応したより具体的な液状体の塗布の実施例と比較例について、図１４〜図１７を参照して説明する。図１４は実施例１の液状体の吐出条件を示す表、図１５は実施例２の液状体の吐出条件を示す表、図１６は実施例３の液状体の吐出条件を示す表、図１７は比較例の液状体の吐出条件を示す表である。
【００９６】
（実施例１）
実施例１の液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂは、例えばシクロヘキシルベンゼン、３−メチルビフェニル、３−メチルジフェニルエーテルなどの中から選ばれた溶媒Ａと、メシチレン、１，２，４−トリメチルベンゼン、クメンなどの中から選ばれた溶媒Ｂとの混合溶媒と、発光層形成材料として例えばＦ８ＢＴ（ポリジオクチルフルオレンベンゾチアジアゾール）とを含んでいる。
【００９７】
上記溶媒Ａは、２０℃における蒸気圧がおよそ５０Ｐａを示すものである。溶媒Ｂは、同じく２０℃における蒸気圧がおよそ２４０〜４３０Ｐａを示すものである。すなわち、溶媒Ａは溶媒Ｂに比べて蒸気圧が低い。
【００９８】
なお、これらの溶媒Ａおよび溶媒Ｂは非極性溶媒であるが、発光層形成材料によっては、極性溶媒を用いてもよい。例えば、溶媒Ａとしては、２０℃の蒸気圧がおよそ３Ｐａのジエチレングリコールや同じく蒸気圧が７Ｐａのエチレングリコールなどの極性溶媒が挙げられる。同じく溶媒Ｂとしては、蒸気圧が３００Ｐａの４−メチル−２−ペンタノールなどの極性溶媒が挙げられる。
【００９９】
図１４に示すように、発光画素１０７の解像度をＰＰＩ（ピクセルパーインチ）で表し、そのサイズを長辺と、短辺とに分けて長さ（μｍ）で示す。どのサイズのピクセルにもおよそ８０ｎｍの膜厚で発光層を形成するものとする。吐出ヘッド５０のノズル５２から吐出される１滴あたりの液滴量はおよそ１０ｐｌ（ピコリットル）となるように調整されている。膜形成領域Ａに充填される液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの量（以降、充填量と呼ぶ）は前述したように膜形成領域Ａの平面積と開口幅によって規定され、短辺の長さの２乗×長辺の長さに比例することが分かっている。
なお、実際には、隔壁部１３３の頭頂部に対する前進接触角θだけでなく隔壁部１３３の内壁面の傾斜角度の影響を受けるので、膜形成領域Ａにおいて安定したメニスカスで膨らむ状態となる範囲で充填量は調整可能である。
【０１００】
解像度が４５ＰＰＩの場合、乾燥後の発光層の膜厚を８０ｎｍとするとその体積は、３９５×１３２×０．０８≒４１６３μｍ3となる。一方前述したように膜形成領域Ａの充填量は、およそ９５０ｐｌとなったため、充填される液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの濃度を、４１６３÷９５００００×１００≒０．４４％とした。すなわち、濃度０．４４％の液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂを膜形成領域Ａに９５滴（または発）吐出する。このときの混合溶媒における溶媒Ａと溶媒Ｂの割合（％）は、２０：８０である。これに対して、解像度が６０ＰＰＩになると、短辺の長さすなわち開口幅が小さくなり、これに応じて液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの濃度を０．５９％に上昇させる。充填量はおよそ４００ｐｌであって、吐出数に置き直すと４０滴となる。このときの混合溶媒における溶媒Ａと溶媒Ｂの割合（％）は、３０：７０である。同様にして、解像度が９０ＰＰＩになると、短辺の長さすなわち開口幅がさらに小さくなり、これに応じて液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの濃度を０．８８％に上昇させる。充填量はおよそ１２０ｐｌであって、吐出数に置き直すと１２滴となる。このときの混合溶媒における溶媒Ａと溶媒Ｂの割合（％）は、４５：５５である。
【０１０１】
実施例１では、吐出装置１０の液状体供給機構６０を駆動制御し、発光画素１０７の解像度、すなわち膜形成領域Ａの大きさに対応して液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの濃度を調整した上で吐出ヘッド５０に送り込む。そして、濃度が調整された液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂが充填された吐出ヘッド５０から対応する膜形成領域Ａに吐出するものである。相対的に解像度が高い（高精細な）膜形成領域Ａに濃度が高い液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂを吐出し、相対的に解像度が低い（低精細な）膜形成領域Ａに濃度が低い液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂを吐出する。そして、濃度が高い方の液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂにおける蒸気圧が低い方の溶媒Ａの割合を濃度が低い方の液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂに比べて高く設定する。
【０１０２】
発光画素１０７の解像度が異なっていても、乾燥過程では、蒸気圧が高い方の溶媒Ｂが先に蒸発して、蒸気圧が低い方の溶媒Ａが残る。残った溶媒Ａに対する発光層形成材料の濃度の差は、混合溶媒に対する溶媒Ａの割合を例えば図１７に示す比較例のように一定の２０％とする場合に比べて小さくなる。
【０１０３】
実施例１では、解像度に応じて液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの濃度を調整したが、解像度の種類が多岐に渡る場合、液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの濃度調整を度々実施しなければならないという課題がある。次に説明する実施例２はこの点を改善した例である。
【０１０４】
（実施例２）
実施例２は、実施例１に対して濃度が異なる第１液状体と第２液状体の両方を用いて、充填後の液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの濃度を膜形成領域Ａの平面積と開口幅に応じて異ならせる方法である。よって、液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂにおける発光層形成材料の種類や混合溶媒を構成する溶媒の選択は、実施例１と同じである。
【０１０５】
実施例２では、例えば、図１５に示すように発光層形成材料の濃度が０．４％の第１液状体と同じく濃度が０．９％の第２液状体とを用いる。これらの濃度の設定は、解像度の高低に対応して実施例１で述べたように設定したものである。濃度が低い方の第１液状体における混合溶媒の組成は、例えば溶媒Ａが２０％、溶媒Ｂが８０％とする。これに対して発光層形成材料の濃度が高い方の第２液状体における混合溶媒の組成は、溶媒Ａが４５％、溶媒Ｂが５５％とする。すなわち、混合溶媒の組成は、実施例１と同様に解像度に対応して設定した。
【０１０６】
そして、発光画素１０７の解像度に応じて、例えば４５ＰＰＩでは、同一の膜形成領域Ａに対して第１液状体が充填された吐出ヘッド５０から８７滴、第２液状体が充填された吐出ヘッド５０から８滴吐出する。吐出数の合計は９５滴、それぞれの吐出量の合計すなわち充填量は９５０ｐｌとなって実施例１の場合と同じである。一方の膜形成領域Ａに充填された液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの濃度は、吐出された第１液状体および第２液状体における発光層形成材料の総量を総吐出数９５滴で割ったものと等しいから、０．４４％となって実施例１と同じ結果が得られる。ちなみに、解像度が６０ＰＰＩでは、第１液状体を２５滴、第２液状体を１５滴吐出する。これにより膜形成領域Ａに充填された液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの濃度は０．５９％となる。同様に解像度９０ＰＰＩでは、第１液状体を１滴、第２液状体を１１滴吐出する。これにより膜形成領域Ａに充填された液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの濃度は０．８８％となる。
【０１０７】
実施例２では、第１液状体に対して第２液状体における蒸気圧が低い方の溶媒Ａの割合が高く設定されているので、第１液状体と第２液状体の両方を用いて吐出しても、開口幅に応じた膜形成領域Ａの乾燥過程における溶媒Ａに対する溶質の濃度の差は、図１７に示した比較例に比べて小さくなる。
【０１０８】
また、濃度が異なる第１液状体と第２液状体との吐出数（吐出量）の割合を異ならせることにより、発光画素１０７の解像度に対して充填された液状体の濃度を柔軟に変化させることができる。すなわち、実施例１では発光色ごとに解像度に応じて濃度が異なる３種の液状体を用意したが、実施例２では、濃度が異なる第１液状体と第２液状体とを用いて、様々な解像度に対応できる。すなわち液状体の種類を増やさなくてもよい。
【０１０９】
（実施例３）
実施例３は、実施例２に対して、濃度が異なる一方の液状体の吐出量が他方の液状体の吐出量に比べて極端に少なくなってしまうことを改善したものである。液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂにおける発光層形成材料の種類や混合溶媒を構成する溶媒の選択は、実施例１と同じである。
【０１１０】
実施例３では、例えば、図１６に示すように発光層形成材料の濃度が実施例２よりも低い０．３％の第１液状体と同じく濃度が実施例２よりも高い１．０％の第２液状体とを用いる。濃度が低い方の第１液状体における混合溶媒の組成は、溶媒Ａが２０％、溶媒Ｂが８０％とする。これに対して発光層形成材料の濃度が高い方の第２液状体における混合溶媒の組成は、溶媒Ａが４５％、溶媒Ｂが５５％とする。
【０１１１】
そして、発光画素１０７の解像度に応じて、例えば４５ＰＰＩでは、同一の膜形成領域Ａに対して第１液状体が充填された吐出ヘッド５０から７６滴、第２液状体が充填された吐出ヘッド５０から１９滴吐出する。吐出数の合計は９５滴、充填量は９５０ｐｌとなって実施例１の場合と同じである。一方の膜形成領域Ａに充填された液状体の濃度は、吐出された第１液状体および第２液状体における発光層形成材料の総量を総吐出数９５滴で割ったものと等しいから、やはり０．４４％となって実施例１と同じ結果が得られる。ちなみに、解像度が６０ＰＰＩでは、第１液状体を２４滴、第２液状体を１６滴吐出する。これにより膜形成領域Ａに充填された液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの濃度は０．５９％となる。同様に解像度９０ＰＰＩでは、第１液状体を２滴、第２液状体を１０滴吐出する。これにより膜形成領域Ａに充填された液状体９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの濃度は０．８８％となる。
【０１１２】
解像度が９０ＰＰＩのように高精細になっても、最少の吐出数を２滴とすることができるので、１滴とした実施例２に比べて、液滴の吐出量ばらつきの影響を受け難くなる。
このように濃度が異なる第１液状体と第２液状体とにおける濃度差を論理的に導かれる場合に比べて大きくとることにより、実際の充填量のばらつきを小さくすることができる。なお、実施例２および実施例３では、濃度が異なる第１液状体と第２液状体とを同一の膜形成領域Ａに吐出する際には、吐出数が少ない方の液状体から先に吐出する。これにより、後から吐出数が多い方の液状体が吐出され、膜形成領域Ａにおける混合性がよくなる。
【０１１３】
図１８（ａ）〜（ｃ）は、膜形成領域に充填された液状体の乾燥過程における挙動を示す概略断面図である。なお、詳しくは膜形成領域Ａの長辺方向に沿った方向の概略断面図である。
【０１１４】
図１８（ａ）に示すように、膜形成領域Ａに充填された液状体は、減圧乾燥により混合溶媒の蒸発が進む。まず、蒸気圧が高い方の溶媒Ｂが蒸発してゆく。その一方で蒸発速度（乾燥速度）は、膜形成領域Ａの中央付近に比べて隔壁部１３３に近い側が速くなりやすいので、図１８（ｂ）に示すように、混合溶媒は蒸発する溶媒を補うように隔壁部１３３側に向かって移動する。溶媒Ｂが蒸発した後には蒸気圧が低い溶媒Ａが残るものの、蒸発が進むと、溶媒Ａの移動に伴って溶質も移動する。したがって、乾燥後には、図１８（ｃ）に示すように隔壁部１３３に近い側の膜厚が比較的に厚い発光層１３２ｒ，１３２ｇ，１３２ｂが得られる。
【０１１５】
例えば、図１７に示した比較例のように、濃度が異なる液状体において蒸気圧が低い方の溶媒Ａと高い方の溶媒Ｂとの割合を固定してしまうと、乾燥過程で溶媒Ａが残った場合の溶媒Ａに対する溶質の濃度の差が実施例１〜実施例３に比べて顕著になってしまう。それゆえに、高い濃度の液状体を吐出する解像度が高い膜形成領域Ａでは、溶媒Ａにおける溶質濃度の上昇によって液状体の粘度が上昇し、図１８（ｂ）に示したような混合溶媒の移動が起こり難くなる。言い換えれば、濃度が異なる液状体を吐出することに起因する乾燥過程の混合溶媒の挙動におけるばらつきが大きくなり、結果として開口幅が異なる膜形成領域Ａ内および膜形成領域Ａ間の膜厚むらが大きくなる。実施例１〜実施例３の液状体の吐出条件によれば、ねらいの膜厚８０μｍに対して膜厚むらを±１０％以内とすることができた。
【０１１６】
以上に述べた上記実施形態１によれば、以下の効果が得られる。
【０１１７】
上記吐出装置１０を用いた有機ＥＬ装置１００の製造方法によれば、液滴吐出法（インクジェット法）により成膜された発光層１３２ｒ，１３２ｇ，１３２ｂは、乾燥過程における膜厚むらが低減され、膜形成領域Ａの解像度が異なっていても、それぞれほぼ一定の膜厚が実現される。したがって、膜厚むらに起因する輝度むらが低減された有機ＥＬ素子１１２を製造することができる。
【０１１８】
このようにして製造された異なる発光が得られる有機ＥＬ素子１１２を備えた有機ＥＬ装置１００は、所望の発光特性が実現され、見映えのよいカラー表示が可能である。
【０１１９】
（実施形態２）
次に、他の電気光学装置の製造方法について液晶装置の製造方法を例に図１９および図２０を参照して説明する。図１９は液晶装置の構成を示す要部分解斜視図、図２０（ａ）〜（ｆ）は液晶装置の製造方法を示す概略断面図である。詳しくは、図２０（ａ）〜（ｆ）は、液晶装置のうち、対向基板側の製造方法を示すものである。
【０１２０】
＜他の電気光学装置としての液晶装置＞
図１９に示すように、本実施形態の液晶装置２００は、ＴＦＴ（Thin  Film  Transistor）透過型の液晶パネル２２０と、液晶パネル２２０を照明する照明装置２１６とを備えている。液晶パネル２２０は、３色の機能層としての着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂを有するカラーフィルター２０５を備えた対向基板２０１と、画素電極２１０に３端子のうちの１つが接続されたスイッチング素子としてのＴＦＴ素子２１１を有する素子基板２０８と、一対の基板２０１，２０８によって挟持された液晶（図示省略）とを備えている。また、液晶パネル２２０の外面側となる一対の基板２０１，２０８の表面には、透過する光を偏向させる上偏光板２１４と下偏光板２１５とが配設される。
【０１２１】
対向基板２０１は、透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に隔壁部２０４によってマトリクス状に区画された複数の膜形成領域に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、３色の着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂが形成されている。隔壁部２０４は、Ｃｒなどの遮光性を有する金属あるいはその酸化膜からなるブラックマトリクスと呼ばれる下層バンク２０２と、下層バンク２０２の上（図面では下向き）に形成された有機化合物からなる上層バンク２０３とにより構成されている。また、隔壁部２０４と着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂとを覆う平坦化層としてのオーバーコート層（ＯＣ層）２０６と、ＯＣ層２０６を覆うように形成されたＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）などの透明導電膜からなる対向電極２０７とを備えている。対向基板２０１におけるカラーフィルター２０５の製造方法は、上記実施形態１の吐出装置１０を用い吐出ヘッド５０から膜形成領域に着色層形成材料を含む液状体を吐出して乾燥させることにより着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂを成膜化する液滴吐出法（インクジェット法）を用いている。
【０１２２】
素子基板２０８は、同じく透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に絶縁膜２０９を介してマトリクス状に形成された画素電極２１０と、画素電極２１０に対応して形成された複数のＴＦＴ素子２１１とを有している。ＴＦＴ素子２１１の３端子のうち、画素電極２１０に接続されない他の２端子は、互いに絶縁された状態で画素電極２１０を囲むように格子状に配設された走査線２１２とデータ線２１３とに接続されている。
【０１２３】
照明装置２１６は、例えば光源として白色のＬＥＤ、ＥＬ、冷陰極管等を用い、これらの光源からの光を液晶パネル２２０に向かって出射することができる導光板や拡散板、反射板等の構成を備えたものであれば、どのようなものでもよい。
【０１２４】
本実施形態の液晶装置２００は、上記実施形態１の電気光学装置の製造方法を適用したカラーフィルター２０５の製造方法を用いて製造された着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂを有する対向基板２０１を備えているので、色むら等の表示不具合の少ない高い表示品質を有する。
【０１２５】
なお、液晶パネル２２０は、アクティブ素子としてＴＦＴ素子２１１を有したものに限らず、一方の基板にカラーフィルター２０５を備えるものであれば、画素を構成する一対の電極が他方の基板において配置される横電界方式の液晶装置でもよい。また、上下偏光板２１４，２１５は、視角依存性を改善する目的等で用いられる位相差フィルムなどの光学機能性フィルムと組み合わされたものでもよい。
【０１２６】
＜液晶装置の製造方法＞
次に、本実施形態の液晶装置２００の製造方法について図２０を参照して説明する。主に液晶装置２００の対向基板２０１側におけるカラーフィルター２０５の製造方法を例に説明する。
【０１２７】
まず、図２０（ａ）に示すように、対向基板２０１の表面に、膜形成領域Ａを区画するように隔壁部２０４を形成する（隔壁部形成工程）。形成方法としては、真空蒸着法やスパッタ法により、ＣｒやＡｌなどの金属膜または金属化合物の膜を対向基板２０１の表面に遮光性を有するように成膜する。そしてフォトリソグラフィ法により、感光性樹脂（フォトレジスト）を塗布して膜形成領域Ａが開口するように露光・現像・エッチングして下層バンク２０２を形成する。続いてフォトリソグラフィ法により、感光性の隔壁部形成材料をおよそ２μｍの厚みで塗布して露光・現像し、下層バンク２０２上に上層バンク２０３を形成する。隔壁部２０４は、下層バンク２０２と上層バンク２０３とからなる所謂二層バンク構造となっている。なお、隔壁部２０４は、これに限らず、遮光性を有する感光性の隔壁部形成材料を用いて形成した上層バンク２０３のみの一層構造としてもよい。
【０１２８】
次に、後の液状体の充填工程において、吐出された液状体が膜形成領域Ａに着弾して濡れ拡がるように、対向基板２０１の表面を親液処理する。また、吐出された液状体の一部が上層バンク２０３に着弾したとしても膜形成領域Ａ内に収まるように、上層バンク２０３の少なくとも頭頂部を撥液処理する。
【０１２９】
表面処理方法としては、隔壁部２０４が形成された対向基板２０１に対して、Ｏ2を処理ガスとするプラズマ処理とフッ素系ガスを処理ガスとするプラズマ処理とを行う。すなわち、膜形成領域Ａが親液処理され、その後感光性樹脂からなる上層バンク２０３の表面（壁面を含む）が撥液処理される。なお、上層バンク２０３を形成する材料自体が撥液性を有していれば後者の処理を省くこともできる。
【０１３０】
続いて、吐出装置１０のステージ５に表面処理されたワークである対向基板２０１を載置する。そして、図２０（ｂ）に示すように、対向基板２０１が載置されたステージ５と吐出ヘッド５０との主走査方向への相対移動に同期して、吐出ヘッド５０の複数のノズル５２から例えばＲ（赤）の着色層形成材料が含まれた液状体２３０Ｒを液滴として膜形成領域Ａに吐出する（充填工程）。他の液状体２３０Ｇ，２３０Ｂにおいても同様である。膜形成領域Ａの平面積と開口幅とに応じて、濃度が異なる第１液状体と第２液状体のうち少なくとも一方を用いて吐出ヘッド５０から吐出される。実際の吐出に際しては、上記実施形態１の実施例１〜実施例３に示した方法と同じ方法が採用できる。すなわち、濃度が高い第２液状体の混合溶媒における蒸気圧が低い方の溶媒の割合は、濃度が低い第１液状体の混合溶媒における蒸気圧が低い方の溶媒の割合に比べて高く設定される。また、充填された液状体２３０Ｒ，２３０Ｇ，２３０Ｂが安定したメニスカスで膨らむ状態にまで吐出される。これにより、図２０（ｃ）に示すように、必要量の液状体２３０Ｒ，２３０Ｇ，２３０Ｂが膜形成領域Ａごとに安定的に塗布される。
【０１３１】
次に、図２０（ｄ）に示すように、対向基板２０１に吐出された液状体２３０Ｒ，２３０Ｇ，２３０Ｂから溶媒成分を蒸発させて、着色層形成材料からなる着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂを成膜化する（成膜工程）。本実施形態では、液状体２３０Ｒ，２３０Ｇ，２３０Ｂに含まれる溶媒をほぼ一定速度で乾燥することが可能な減圧乾燥装置に対向基板２０１をセットして減圧乾燥し、Ｒ、Ｇ、Ｂ、３色の着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂを形成した。なお、１色の液状体を吐出して乾燥する工程を３回繰り返してもよい。
先の液状体の充填工程において、必要量の液状体２３０Ｒ，２３０Ｇ，２３０Ｂが膜形成領域Ａごとに安定的に塗布されているので、ほぼ一定の膜厚を有する着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂを形成することができる。なお、着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂの膜厚は、色ごとに設定すればよく、必ずしも３色が同一でなくてもよい。必要な膜厚の設定に基づいて、必要量の液状体２３０Ｒ，２３０Ｇ，２３０Ｂを対応する膜形成領域Ａに吐出すればよい。
【０１３２】
次に、図２０（ｅ）に示すように、着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂと上層バンク２０３とを覆うように平坦化層としてのＯＣ層２０６を形成する（平坦化層形成工程）。形成方法としては、スピンコート法、ロールコート法などによりアクリル系樹脂をコーティングして乾燥させる方法が挙げられる。また、感光性アクリル樹脂をコーティングしてから紫外光を照射して硬化させる方法も採用することができる。膜厚は、およそ１００ｎｍである。なお、着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂが形成された対向基板２０１の表面が比較的に平坦ならば、平坦化層形成工程を省いてもよい。
【０１３３】
次に、図２０（ｆ）に示すように、ＯＣ層２０６の上にＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）などからなる対向電極２０７を成膜する（対向電極成膜工程）。成膜方法としては、ＩＴＯなどの導電材料をターゲットとして真空中で蒸着あるいはスパッタする方法が挙げられる。膜厚は、およそ１０ｎｍである。形成された対向電極２０７は、適宜必要な形状（パターン）に加工される。なお、液晶装置２００の構成によっては、対向電極２０７を必要としない場合もある。
【０１３４】
このようなカラーフィルター２０５の製造方法によれば、上記実施形態１の電気光学装置の製造方法を適用して３色の着色層形成材料を含む液状体２３０Ｒ，２３０Ｇ，２３０Ｂを対応する膜形成領域Ａに吐出しているため、乾燥後の色むらが低減され、膜形成領域Ａの解像度が異なっていても、ほぼ一定の膜厚を有する着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂを形成することができる。すなわち、所望の光学特性を有するカラーフィルター２０５を製造することができる。
【０１３５】
液晶装置２００は、このようなカラーフィルター２０５を備えた対向基板２０１を用いて構成されているため、見映えのよいカラー表示が可能である。
【０１３６】
上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
【０１３７】
（変形例１）上記実施形態１において、濃度が異なる液状体における混合溶媒の組成を決める物理特性は蒸気圧に限定されない。沸点でもよい。例えば、上記溶媒Ａとして挙げられた各溶媒の沸点は、次のとおりである。シクロヘキシルベンゼン（２４０℃）、３−メチルビフェニル（２７２℃）、３−メチルジフェニルエーテル（２７４℃）、ジエチレングリコール（２４５℃）、エチレングリコール（１９８℃）。また上記溶媒Ｂとして挙げられた各溶媒の沸点は、次のとおりである。メシチレン（１６５℃）、１，２，４−トリメチルベンゼン（１６９℃）、クメン（１５３℃）、４−メチル−２−ペンタノール（１３０℃）。これによれば、溶媒Ａは、溶媒Ｂに比べて沸点が高い。すなわち、濃度が高い第２液状体の混合溶媒における沸点が高い方の溶媒Ａの割合は、濃度が低い第１液状体の混合溶媒における沸点が高い方の溶媒Ａの割合に比べて高く設定される、としても、蒸気圧の場合と同様な作用・効果が得られる。また、乾燥方法としては、減圧乾燥に限定されず、この場合、高い方の沸点よりも低い温度で乾燥を開始し、徐々に温度を上げて乾燥させることが望ましい。
【０１３８】
（変形例２）上記実施形態１において、マザー基板１１０における発光画素１０７の構成は、１つの解像度に限定されない。図２１（ａ）は変形例のマザー基板を示す概略平面図である。図２１（ａ）に示すように、変形例のマザー基板１５０は、例えば発光画素１０７Ａを有する素子基板１０１Ａと発光画素１０７Ｂを有する素子基板１０１Ｂとがマトリクス状に面付けされている。詳しくは、マザー基板１５０において素子基板１０１Ａを多面付けして余った領域に素子基板１０１Ａよりもサイズが小さい素子基板１０１Ｂを面付けしたものである。発光画素１０７Ａに対して発光画素１０７Ｂの解像度が高くなっている。
このようなマザー基板１５０であっても上記実施形態１の有機ＥＬ装置１００の製造方法を用いれば、解像度が異なる発光画素１０７Ａ，１０７Ｂにそれぞれ所望の発光特性が得られる有機ＥＬ素子１１２を形成することができる。
【０１３９】
（変形例３）上記実施形態１および上記実施形態２において、画素（ピクセル）のサイズは、Ｒ，Ｇ，Ｂ間で同一であることに限定されない。図２１（ｂ）は変形例の着色層を示す概略平面図である。図２１（ｂ）に示すように、例えば隔壁部２０４によって区画された着色層２０５Ｒ'，２０５Ｇ'，２０５Ｂ'は、互いに大きさが異なっている。視感度が最も高い着色層２０５Ｇ'の平面積が最も小さくなるように設定されている。このようにＲ，Ｇ，Ｂの各ピクセルサイズが異なっていても上記実施形態２のカラーフィルター２０５の製造方法を用いれば、所望の膜厚を有する着色層２０５Ｒ'，２０５Ｇ'，２０５Ｂ'を形成可能である。
【０１４０】
（変形例４）上記実施形態１および上記実施形態２において、ストライプ状に配置されたＲ，Ｇ，Ｂの各画素（ピクセル）は、１画素ごとに隔壁部により区画されることに限定されない。図２２は変形例の画素の配列を示す概略平面図である。例えば、図２２に示すように、隔壁部１３３（隔壁部２０４）は、同色の機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂ（着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂ）同士を複数（この変形例では４つずつ）区画するように設けてもよい。すなわち、膜形成領域Ａは、複数の画素分の機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂ（着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂ）を有し、ストライプ方向に長くなっている。これによって液状体を塗布する膜形成領域Ａの平面積を調整することが可能となる。言い換えれば、画素（ピクセル）のサイズが比較的に小さくなったとしても、複数の画素を区画するように隔壁部を設ければ、所定量の液状体を充填可能な状態にすることができる。
また、このように複数の画素分を含む膜形成領域Ａに液状体を充填する方法としては、吐出ヘッド５０を用いた液滴吐出法に限らず、ディスペンサー（定量吐出装置）を用いて液状体を連続的に吐出する方法を採用することができる。
【０１４１】
（変形例５）上記実施形態１および上記実施形態２において、Ｒ，Ｇ，Ｂの各画素（ピクセル）に形成される機能層１３２または着色層２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０５Ｂの膜厚は、Ｒ，Ｇ，Ｂ間でほぼ同一であることに限定されない。それぞれ所望の光学特性を得るために必要な膜厚を確保することが望ましい。
【０１４２】
（変形例６）上記実施形態１において有機ＥＬ装置１００の構成は、これに限定されない。例えば、封止基板１０２側にカラーフィルターを有し、素子基板１０１に白色発光が得られる有機ＥＬ素子１１２を形成する場合においても、上記有機ＥＬ装置１００の製造方法を適用することができる。
【０１４３】
（変形例７）上記実施形態１の電気光学装置の製造方法を適用する工程は、有機ＥＬ装置１００の発光層１３２ｒ，１３２ｇ，１３２ｂを形成する発光層形成工程に限定されない。例えば、機能層１３２を構成する正孔注入層１３２ａや中間層１３２ｃの形成においても適用可能である。
【０１４４】
（変形例８）上記実施形態１の電気光学装置の製造方法を適用可能なデバイスは、有機ＥＬ装置１００、液晶装置２００（カラーフィルター２０５）に限定されない。例えば、プラズマディスプレイやＳＥＤなどの表示装置、有機ＥＬ素子を備えた照明装置、あるいは所定の膜パターンが繰り返される有機半導体装置、金属配線基板などが挙げられる。
【符号の説明】
【０１４５】
５…ステージ、１０…電気光学装置の製造装置としての吐出装置、２０…移動機構としてのワーク移動機構、５０…吐出ヘッド、５２…ノズル、５２ａ，５２ｂ…ノズル列、６０…液状体供給機構、６１…貯留部、６２…溶液調整部、９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂ…液状体、１００…電気光学装置としての有機ＥＬ装置、１０１…基板としての素子基板、１１２…有機ＥＬ素子、１３２…機能層、２００…電気光学装置としての液晶装置、２０５Ｒ，２０５Ｇ，２０６Ｂ…機能層としての着色層、２３０Ｒ，２３０Ｇ，２３０Ｂ…液状体、Ａ，Ａ'，Ａ１，Ａ２，Ａ３…凹部としての膜形成領域、Ｗ１，Ｗ２…開口幅。
【図１】
2010281862.tif 000003
【図２】
2010281862.tif 000004
【図３】
2010281862.tif 000005
【図４】
2010281862.tif 000006
【図５】
2010281862.tif 000007
【図６】
2010281862.tif 000008
【図７】
2010281862.tif 000009
【図８】
2010281862.tif 000010
【図９】
2010281862.tif 000011
【図１０】
2010281862.tif 000012
【図１１】
2010281862.tif 000013
【図１２】
2010281862.tif 000014
【図１３】
2010281862.tif 000015
【図１４】
2010281862.tif 000016
【図１５】
2010281862.tif 000017
【図１６】
2010281862.tif 000018
【図１７】
2010281862.tif 000019
【図１８】
2010281862.tif 000020
【図１９】
2010281862.tif 000021
【図２０】
2010281862.tif 000022
【図２１】
2010281862.tif 000023
【図２２】
2010281862.tif 000024