(57)【要約】【課題】、実際に描画を行わずに、高精度にＤＡＣアンプのセトリング特性を評価することが可能なＤＡＣアンプの評価方法およびＤＡＣアンプの評価装置を提供する。【解決手段】ＤＡＣアンプの評価装置は、パネル部１と、ネック部２と、これらを連結するファンネル部３とからなる外囲器４を備えており、ネック部１にはカソード５が設けられていて、カソード５からパネル部１の内表面に塗布された蛍光体６に向けて放出された電子ビーム９を、垂直偏向板７と水平偏向板８で偏向する。垂直偏向板７にはＤＡＣアンプ１１の出力電圧が印加される。また、オフセット偏向板１０に所定のオフセット電圧を印加することにより、観測したい電圧範囲の調整が行なわれる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビーム描画装置で荷電粒子ビームを偏向する偏向器に使用されるＤＡＣアンプの評価方法であって、
カソードより電子ビームを放出し、その放出方向に配置された垂直偏向板と水平偏向板によって前記電子ビームの軌道を偏向して蛍光面に照射する陰極線管を用い、前記垂直偏向板に前記ＤＡＣアンプの出力電圧を印加して前記ＤＡＣアンプの出力波形を測定することを特徴とするＤＡＣアンプの評価方法。
【請求項２】
前記放出方向に別の垂直偏向板を配置し、この垂直偏向板に所定のオフセット電圧を印加して、観測したい電圧範囲の調整を行うことを特徴とする請求項１に記載のＤＡＣアンプの評価方法。
【請求項３】
前記荷電粒子ビームは電子ビームであることを特徴とする請求項１または２に記載のＤＡＣアンプの評価方法。
【請求項４】
パネル部と、ネック部と、これらを連結するファンネル部とからなる外囲器を備えており、前記ネック部にはカソードが設けられていて、前記カソードから前記パネル部の内表面に塗布された蛍光体に向けて放出された電子ビームを、前記ネック部と前記ファンネル部の接合部付近に配置された垂直偏向板と水平偏向板で偏向する陰極線管を有し、
前記垂直偏向板には、荷電粒子ビーム描画装置で荷電粒子ビームを偏向する偏向器に使用されるＤＡＣアンプの出力電圧が印加されるように構成されていることを特徴とするＤＡＣアンプの評価装置。
【請求項５】
前記垂直偏向板に隣接してさらに別の垂直偏向板が配置されており、この垂直偏向板に所定のオフセット電圧を印加して、観測したい電圧範囲の調整が行なわれるように構成されていることを特徴とする請求項４に記載のＤＡＣアンプの評価装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＤＡＣアンプの評価方法およびＤＡＣアンプの評価装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体装置の集積度の増加に伴い個々の素子の寸法は微小化が進み、各素子を構成する配線やゲートなどの幅も微細化されている。
【０００３】
この微細化を支えているフォトリソグラフィ技術には、加工や処理を受ける基板の表面にレジスト組成物を塗布してレジスト膜を形成する工程、光や電子線を照射して所定のレジストパターンを露光することによりレジストパターン潜像を形成する工程、必要に応じて加熱処理する工程、次いでこれを現像して所望の微細パターンを形成する工程、および、この微細パターンをマスクとして基板に対してエッチングなどの加工を行う工程が含まれる。
【０００４】
フォトリソグラフィ技術においては、露光光の波長が解像可能な配線パターン等の幅と比例関係にある。したがって、パターンの微細化を図る手段の一つとして、上記のレジストパターン潜像を形成する際に使用される露光光の短波長化が進められている。また、より高解像度の露光技術として、電子線リソグラフィ技術の開発も進められている。電子線リソグラフィ技術は、利用する電子線が荷電粒子線であるために本質的に優れた解像度を有している。また、焦点深度を大きく確保することができるため、高い段差上でも寸法変動を抑制できるという利点を有しており、ＤＲＡＭを代表とする最先端デバイスの開発に適用されている他、一部ＡＳＩＣの生産にも用いられている。さらに、ウェハにＬＳＩパターンを転写する際の原版となるマスクまたはレティクルの製造現場では、電子線リソグラフィ技術が広く一般に使われている。
【０００５】
特許文献１には、電子線リソグラフィ技術に使用される可変成形型電子ビーム描画装置が開示されている。こうした装置における描画データは、ＣＡＤシステムを用いて設計された半導体集積回路などの設計データ（ＣＡＤデータ）に、補正や図形パターンの分割などの処理を施すことによって作成される。例えば、図形パターンの分割処理は、電子ビームのサイズにより規定される最大ショットサイズ単位で行われ、併せて、分割された各ショットの座標位置、サイズおよび照射時間が設定される。そして、描画する図形パターンの形状や大きさに応じてショットが成形されるように、描画データが作成される。
【０００６】
電子ビームで描画する際には、パターン図形に応じて準備された寸法と形状のショットが成形偏向器により形成される。具体的には、電子銃から出射された電子ビームは、第１の成形アパーチャで矩形状に成形された後、成形偏向器で第２の成形アパーチャ上に投影されて、そのビーム形状と寸法を変化させる。その後、電子ビームは、対物偏向器により偏向されて、ステージ上に載置されたマスクに照射される。
【０００７】
このような電子ビーム描画装置において、上記偏向器に用いられる制御回路には、デジタルデータをアナログデータに変換するＤＡ（Ｄｉｇｉｔａｌ  ｔｏ  Ａｎａｌｏｇ）変換器と、その出力を増幅するアンプから構成されるＤＡＣ（Ｄｉｇｉｔａｌ  ｔｏ  Ａｎａｌｏｇ  Ｃｏｎｖｅｒｔｅｒ）アンプとが用いられている。電子ビーム描画のスループットを向上するには、高速且つ高精度に電子ビームを偏向することが必要であるため、ＤＡＣアンプで偏向器を目標とする偏向位置に整定するためのセトリング時間（整定時間）の短縮が要求されている。例えば、電圧が２５０Ｖ変化したときに、目標電圧から±５００μＶの範囲に５μ秒以内で整定する性能が要求される。ここで、ＤＡＣアンプの調整や評価の際には、ＤＡＣアンプの出力波形が精度よく測定できることが重要になる。しかし、例えば、オシロスコープの入力感度を５００μＶ／ＤＩＶに設定すると、オシロスコープの入力回路が飽和して正確な波形測定ができないという問題があった。
【０００８】
上記問題に対しては、例えば、スイッチまたはダイオードを用いて、観測したい電圧範囲のみがオシロスコープに入力されるようにすることによって、オシロスコープのダイナミックレンジを有効に使う方法が考えられる。しかし、この場合、スイッチやダイオードの特性が観測波形に反映されてしまうといった問題が生じる。具体的には、スイッチを用いた場合、スイッチの動特性が大きく影響する。また、ダイオードを用いた場合、ＤＡＣアンプの出力電圧が上記観測したい電圧範囲外から観測したい電圧範囲内に変動した際のダイオードのリカバリ特性が大きく影響する。こうした影響が観測波形に反映されることによって、ＤＡＣアンプの真の出力波形とは異なる波形を観測してしまうことになる。
【０００９】
一方、オシロスコープの感度をＤＡＣアンプの出力振幅が飽和しない程度まで下げ、この状態で波形を取り込んだ後、データをＡ／Ｄ変換して拡大表示させる方法も考えられる。しかし、この場合には、拡大表示することによって、オシロスコープ固有の歪みが観測波形に現れてしまうという問題がある。こうした歪みは、高速で精度のよい標準パルスを用いてある程度まで補正可能であるが、標準パルスの波形と、測定するパルスの波形とが同一でないために完全に補正することはできない。
【００１０】
こうしたことから、ＤＡＣアンプの最終的な精度評価は、実際に描画した結果を用いて行われてきた。しかし、この方法では、結果が得られるまで時間がかかる上に、評価のために電子ビーム描画装置を占有しなければならないという問題があった。
【００１１】
そこで、二つの制御回路に逆位相となる偏向データを入力し、これらの出力側を抵抗加算して、その中点にプローブなどの接続手段を接続し、ショットキーダイオードで特異信号をクリップした上で、オシロスコープにより測定する手法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開平９−２９３６７０号公報
【特許文献２】特開２００４−２５９８１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、この方法では、相対的な評価しかできず、二つのＤＡＣアンプの内でどちらが問題のあるＤＡＣアンプかを特定することができない。また、近年、ＤＡＣアンプの高速化やばらつきの低下に伴い、より高精度の測定が要求され、プローブなどを含む測定装置側のインダクタンスの影響が無視できなくなるという問題が発生している。
【００１４】
本発明は、こうした問題に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、実際に描画を行わずに、高精度にＤＡＣアンプのセトリング特性を評価することが可能なＤＡＣアンプの評価方法およびＤＡＣアンプの評価装置を提供することにある。
【００１５】
本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の第１の態様は、荷電粒子ビーム描画装置で荷電粒子ビームを偏向する偏向器に使用されるＤＡＣアンプの評価方法であって、
カソードより電子ビームを放出し、その放出方向に配置された垂直偏向板と水平偏向板によって電子ビームの軌道を偏向して蛍光面に照射する陰極線管を用い、垂直偏向板にＤＡＣアンプの出力電圧を印加してＤＡＣアンプの出力波形を測定することを特徴とするＤＡＣアンプの評価方法に関する。
【００１７】
本発明の第１の態様では、放出方向に別の垂直偏向板を配置し、この垂直偏向板に所定のオフセット電圧を印加して、観測したい電圧範囲の調整を行うことが好ましい。
【００１８】
本発明の第１の態様では、荷電粒子ビームを電子ビームとすることができる。
【００１９】
本発明の第２の態様は、パネル部と、ネック部と、これらを連結するファンネル部とからなる外囲器を備えており、ネック部にはカソードが設けられていて、カソードからパネル部の内表面に塗布された蛍光体に向けて放出された電子ビームを、ネック部とファンネル部の接合部付近に配置された垂直偏向板と水平偏向板で偏向する陰極線管を有し、
垂直偏向板に、荷電粒子ビーム描画装置で荷電粒子ビームを偏向する偏向器に使用されるＤＡＣアンプの出力電圧が印加されるように構成されていることを特徴とするＤＡＣアンプの評価装置に関する。
【００２０】
本発明の第２の態様では、垂直偏向板に隣接してさらに別の垂直偏向板が配置されており、この垂直偏向板に所定のオフセット電圧を印加して、観測したい電圧範囲の調整が行なわれるように構成されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の第１の態様によれば、実際に描画を行わずに、高精度にＤＡＣアンプのセトリング特性を評価することができる。
【００２２】
本発明の第２の態様によれば、実際に描画を行わずに、高精度にＤＡＣアンプのセトリング特性を評価することが可能なＤＡＣアンプの評価装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本実施の形態におけるＤＡＣアンプの評価装置の構成図である。
【図２】本実施の形態による電子ビーム描画装置の構成図である。
【図３】ＤＡＣアンプに入出力される信号の回路図である。
【図４】本実施の形態によるＤＡＣアンプの評価装置の部分ブロック回路図である。
【図５】（ａ）および（ｂ）は、各信号のタイミングと、パネル部に表示される波形とをそれぞれ模式的に示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
図２は、本実施の形態による電子ビーム描画装置の構成図である。
【００２５】
電子ビーム描画装置は、描画部１００を備えており、描画部１００は電子鏡筒１０２を備えている。電子鏡筒１０２の内部には、電子銃１１０から出射された電子ビーム１１２を第１の成形アパーチャ１２０に照射するための照明レンズ１１４が配置されている。
【００２６】
照明レンズ１１４と第１の成形アパーチャ１２０の間には、ブランキング（ＢＬＫ）偏向器１１６と、ブランキング（ＢＬＫ）アパーチャ１１８とが設けられている。ブランキングＯＮ時（非描画期間）には、ブランキング偏向器１１６で偏向された電子ビーム１１２が、ブランキングアパーチャ１１８でカットされる。
【００２７】
電子ビーム１１２は、矩形の開口を有する第１の成形アパーチャ１２０を透過することで、その断面形状が矩形に成形される。成形された電子ビーム１１２は、投影レンズ１２２で第２の成形アパーチャ１２６上に投影される。第２の成形アパーチャ１２６と第１の成形アパーチャ１２０の間には、成形偏向器１２４が設けられており、成形偏向器１２４によって、第２の成形アパーチャ１２６上の第１の成形アパーチャ像の位置が制御される。この制御により、第１の成形アパーチャ像と第２の成形アパーチャ１２６の開口との重なり具合が変化する。したがって、電子ビーム１１２の形状と寸法を制御することができる。
【００２８】
第２の成形アパーチャ１２６を透過した電子ビーム１１２の焦点は、対物レンズ１２８で描画室１０４内の試料１４２に合わせられる。試料１４２は、描画室１０４内でＸ方向（図２で紙面に平行な方向）とＹ方向（図２で紙面に垂直な方向）に連続移動するＸＹステージ１４０上に載置される。ＸＹステージ１４０がＸ方向に連続移動することで、試料１４２上の描画領域を仮想的に分割したストライプ領域の描画が行われる。また、このストライプ領域の描画終了後にＸＹステージ１４０がＹ方向に移動し、さらに、ＸＹステージ１４０が逆向きのＸ方向に連続移動することで、次のストライプ領域の描画が行われる。
【００２９】
試料１４２と第２の成形アパーチャ１２６の間には、対物偏向器１３０が配置されており、対物偏向器１３０によって、試料１４２上での電子ビーム１１２の照射位置が決定される。
【００３０】
電子ビーム描画装置は、制御部２００を備えている。制御部２００は、電子ビーム描画装置の各種制御を行う制御計算機２０２を備えている。制御計算機２０２には、複数のパターンデータを記憶する記憶装置２０４と、記憶装置２０４から読み出されたパターンデータを分散し展開することで、各ショットの描画データを生成するパターンデータ処理回路２０６とが接続されている。
【００３１】
パターンデータ処理回路２０６には、ブランキング（ＢＬＫ）偏向制御回路２１０、成形偏向制御回路２２０および位置偏向制御回路２３０がそれぞれバスを介して接続している。これらの偏向制御回路２１０、２２０、２３０には、各ショットの描画データがそれぞれ送られる。そして、各偏向制御回路２１０、２２０、２３０は、受け取った描画データから偏向器制御用のデジタル信号を生成する。
【００３２】
ブランキング偏向制御回路２１０は、ブランキングＯＮ（非描画期間）と、ブランキングＯＦＦ（描画期間）とを制御するものである。ＢＬＫ（ブランキング）偏向制御回路２１０は、パターンデータ処理回路２０６からブランキングＯＮとブランキングＯＦＦの時間幅情報を受信し、この時間幅情報からタイミングパルス信号を生成してＢＬＫ（ブランキング）アンプ２１４に送る。ＢＬＫアンプ２１４は、受信したタイミングパルス信号を、ブランキング偏向器１１６の駆動可能な振幅まで増幅した後にブランキング偏向器１１６に送る。
【００３３】
ビーム形状およびサイズを制御する成形偏向制御回路２２０は、成形偏向器１２４の制御用デジタル信号を複数のＤＡＣアンプ２２２に同期をとりながら送る。各ＤＡＣアンプ２２２は、受信したデジタル信号をＤＡ変換し、ＤＡ変換後のアナログ信号を増幅した後、増幅したアナログ信号を対応する成形偏向器１２４の電極に送る。
【００３４】
試料１４２上で電子ビーム１１２の照射位置を制御する位置偏向制御回路２３０は、対物偏向器１３０の制御用のデジタル信号を、複数のＤＡＣアンプ２３２に同期をとりながら送信する。各ＤＡＣアンプ２３２は、受信したデジタル信号をＤＡ変換し、ＤＡ変換後のアナログ信号を増幅した後、増幅したアナログ信号を対応する対物偏向器１３０に送る。
【００３５】
図３は、ＤＡＣアンプに入出力される信号の回路図である。尚、以下では、図１のＤＡＣアンプ２３２を例にとり説明するが、ＤＡＣアンプ２２２についても同様である。
【００３６】
ＤＡＣアンプ２３２は、デジタル部３０１、ＤＡＣ（ＤＡコンバータ）３０２およびアナログ部３０３を備えている。デジタル部３０１には、位置偏向制御回路２３０からのデジタルデータが入力される。例えば、１６ビット（Ｈｘ８０００〜７ＦＦＦ）のデジタルデータがデジタル部３０１にパラレル入力される。入力されたデジタルデータは、例えば、ＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ  Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｇａｔｅ  Ａｒｒａｙ）によって構成されるロジック部３０４により所定の処理（例えば、補正処理等）が施される。
【００３７】
ロジック部３０４から出力されたデジタルデータは、ＤＡＣ３０２に入力されてアナログデータに変換される。次いで、アナログデータは、アナログ部３０３に入力される。アナログ部３０３は、アンプ回路によって構成されており、このアンプ回路によってアナログデータが増幅される。増幅されたアナログデータは、図２の位置偏向器１３０に出力されて位置偏向器１３０が制御される。
【００３８】
偏向器に用いられる制御回路のセトリング時間を測定するには、ＤＡＣアンプの分解能、すなわち、１ＬＳＢに相当する電圧以下の精度を有していて、さらに、上記制御回路と同等以上の速度で動作可能な回路が必要となる。しかし、オシロスコープを用いた従来法により電圧変化直後の波形を測定しようとすると、上述したように、オシロスコープ自身の持つアンプ特性を観測する結果となってしまうなどの問題があった。
【００３９】
そこで、本発明者は、鋭意研究した結果、以下に述べるＤＡＣアンプの評価方法を見出した。
【００４０】
本実施の形態においては、アナログ・オシロスコープに使用される陰極線管（ＣＲＴ；Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）を用いて、ＤＡＣアンプの評価を行う。具体的には、陰極線管の垂直偏向板にＤＡＣアンプからの信号を入力し、電子ビームを陰極線管の蛍光面で水平方向に走査させて波形を測定する。このとき、垂直偏向板に隣接させてオフセット偏向板を設けることにより、観測したい電圧範囲のみの波形を観測することが可能となる。
【００４１】
図１は、本実施の形態におけるＤＡＣアンプの評価装置の構成図である。この図に示すように、ＤＡＣアンプの評価装置は、ガラス等で構成されて、パネル部１と、ネック部２と、これらを連結するファンネル部３とからなる外囲器４を有する。ネック部２にはカソード５が設けられており、電子ビーム９は、カソード５からパネル部１の内表面に塗布された蛍光体６に向けて放出される。ネック部２とファンネル部３の接合部付近には、電子ビーム９を垂直方向に偏向させる垂直偏向板７と、水平方向に偏向させる水平偏向板８とが設けられており、これらによって、電子ビーム９は上下左右に偏向された後に蛍光体６に衝突してその部分を発光させる。
【００４２】
本実施の形態の特徴の１つは、ＤＡＣアンプ１１から出力された電圧を垂直偏向板７に印加する点にある。具体的には、ＤＡＣアンプ１１が電子ビーム描画装置で使用される際に、ＤＡＣアンプ１１と偏向器（図示せず）を接続するケーブルと同じものを用いて、ＤＡＣアンプ１１と垂直偏向板７を接続する。このようにすることにより、オシロスコープを用いた従来法において、ＤＡＣアンプと偏向板との間に存在し、測定に悪影響を及ぼしていたアッテネータやアンプなどの非線形要素を含む素子や部品をなくすことができる。すなわち、これらに起因して生じる波形の歪みや飽和、ノイズの影響を低減することができる。また、電子ビーム９に対するＤＡＣアンプ１１の動作は、電子ビーム描画装置におけるＤＡＣアンプ１１の動作に類似したものとなるので、実際の動作に近いところでの測定が可能となる。
【００４３】
図４に、本実施の形態によるＤＡＣアンプの評価装置の部分ブロック回路図である。ＤＡＣアンプ１１からの出力信号は、垂直偏向板７に直接伝わる。そして、垂直偏向板７に印加された電圧に応じて、図１でパネル部１の内表面に塗布された蛍光体６に電子ビーム９が衝突してできる点（輝点）が動く。また、ＤＡＣアンプ１１からの出力信号は、ＥＮＢ（Ｅｎａｂｌｅ）信号がアクティブのときに、エッジ検出器１２、鋸波発生器１３および増幅器１４を経て、水平偏向板８に伝わる。これにより、パネル部１での水平軸方向への掃引、すなわち、輝点をパネル部１上で水平方向に動かす動作が開始される。
【００４４】
水平偏向板８に鋸波電圧を加え、垂直偏向板７にＤＡＣアンプ１１の出力電圧を加え、これらの信号周期を同期させることにより、１回目の鋸波によってパネル部１の水平方向で左から右に向かって波形が掃引されると、２回目以降もＤＡＣアンプ１１の出力信号の同一場所から掃引が開始される。図５は、各信号のタイミングと、パネル部１に表示される波形とを模式的に示したものである。図５（ａ）に示すＥＮＢ信号のエッジが、図４のエッジ検出器１２で検出されると、水平偏向板８に印加される鋸波の立ち上がりが開始する。そして、この鋸波の信号周期とＤＡＣアンプ１１の出力信号とを同期させることにより、図５（ｂ）に示すような波形１５がパネル部１で観測される。ここで、図５（ｂ）では、図５（ａ）に示すＤＡＣアンプ１１の出力信号で範囲Ａの波形のみを拡大して映し出している。
【００４５】
パネル部１に表示される波形の垂直軸感度は、ＤＡＣアンプ１１の出力電圧と、カソード５から放出された後に垂直偏向板７で偏向されてパネル部１の表面で結像するまでの電子ビーム９の移動距離とで決まる。後者は、垂直偏向板７の幅（電子ビーム９の放出方向の長さ、以下同じ）と、対向する２枚の垂直偏向板７の間の距離とで変えられる。また、カソード５、パネル部１および垂直偏向板７との位置関係によっても変えられる。したがって、これらを調整することにより、観測したいＤＡＣアンプ１１の出力電圧範囲が、パネル部１上で垂直方向の画面に収まるようにすることができる。例えば、ＤＡＣアンプ１１のＬＳＢ（Ｌｅａｓｔ  Ｓｉｇｎｉｆｉｃａｎｔ  Ｂｉｔ）に相当する出力電圧の４倍を垂直方向のフルスケールとすると、画面の垂直方向に４等分された１つの目盛間が±１ＬＳＢに相当する。したがって、観測された波形がこの範囲に整定された時間を±１ＬＳＢに整定された時間とすることができる。
【００４６】
しかしながら、上記調整のみでは、パネル部１に設定された大きさで結像されるのは、ＤＡＣアンプ１１の出力の０Ｖ付近の波形のみである。ＤＡＣアンプ１１に出力し得る電圧範囲の内の所望の電圧範囲を観測するためには、図１に示すように、垂直偏向板７に隣接させてオフセット偏向板１０を設けることが好ましい。これにより、観測したい電圧範囲のみの波形を観測することが可能となる。具体的には、観測したいＤＡＣアンプ１１の出力電圧範囲に対して、その中心電圧がパネル部１の中央に位置するように、オフセット偏向板１０に所定のオフセット電圧をかける。例えば、中心電圧が２５０Ｖである場合、垂直偏向板７に２５０Ｖの電圧をかけたときの電子ビーム９の垂直軸ポジションがパネル部１の中央になるように、オフセット偏向板１０に−２５０Ｖの電圧をかける。但し、オフセット偏向板１０の幅および対向する２枚のオフセット偏向板１０の間の距離は、垂直偏向板７と同じとする。尚、図１では、カソード５に近い側に垂直偏向板７を配置し、遠い側にオフセット偏向板１０を配置しているが、これらを逆にして配置してもよい。
【００４７】
本実施の形態によれば、観測したい電圧範囲にＤＡＣアンプ１１の出力電圧がないとき、電子ビーム９はパネル部１の上または下に偏向され、パネル部１の表面には結像しない。一方、ＤＡＣ１１アンプの出力電圧が上記電圧範囲に入ると、電子ビーム９は、パネル部１に衝突してその部分の蛍光体６を発光させる。このとき、観測された波形に対し、観測前にＤＡＣアンプ１１の出力電圧が上記電圧範囲からどれだけずれていたかは影響しない。したがって、従来のオシロスコープを用いた測定のように、オシロスコープ内部の増幅器が飽和するなどの影響で、実際の波形とは異なった波形が表示されるなどの問題を解消することができる。すなわち、飽和の影響なく、測定したい範囲の波形のみをパネル部１に大きく映し出すことができる。したがって、本実施の形態によれば、実際に描画を行わずに、高精度にＤＡＣアンプ１１のセトリング特性を評価することが可能になる。
【００４８】
尚、本発明は上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々変形して実施することができる。例えば、上記実施の形態では電子ビームを用いたが、本発明はこれに限られるものではなく、イオンビームなどの他の荷電粒子ビームを用いた場合にも適用可能である。
【符号の説明】
【００４９】
１    パネル部
２    ネック部
３    ファンネル部
４    外囲器
５    カソード
６    蛍光体
７    垂直偏向板
８    水平偏向板
９    電子ビーム
１０    オフセット偏向板
１１    ＤＡＣアンプ
１２    エッジ検出器
１３    鋸波発生器
１４    増幅器
１５    波形
１００    描画部
１０２    電子鏡筒
１０４    描画室
１１０    電子銃
１１２    電子ビーム
１１４    照明レンズ
１１６    ＢＬＫ偏向器
１１８    ＢＬＫアパーチャ
１２０    第１の成形アパーチャ
１２２    投影レンズ
１２４    成形偏向器
１２６    第２の成形アパーチャ
１２８    対物レンズ
１３０    対物偏向器
１４０    ＸＹステージ
１４２    試料
２００    制御部
２０２    制御計算機
２０４    記憶装置
２０６    パターンデータ処理回路
２１０    ＢＬＫ偏向制御回路
２１４    ＢＬＫアンプ
２２０    成形偏向制御回路
２３０    位置偏向制御回路
２２２、２３２    ＤＡＣアンプ
３０１    デジタル部
３０２    ＤＡＣ
３０３    アナログ部
３０４    ロジック部
【図１】
2010177580.tif 000003
【図２】
2010177580.tif 000004
【図３】
2010177580.tif 000005
【図４】
2010177580.tif 000006
【図５】
2010177580.tif 000007