(57)【要約】【課題】樹脂材料の収縮の影響により導波路間隔に個体差が含まれていても、切断作業のたびに切断ピッチを変更する必要がなく、一定の切断ピッチで切断しても、偏心の少ない複数の光導波路を効率よく製造可能な光導波路集合体、およびかかる光導波路集合体を切断して得られた光導波路を有する信頼性の高い光配線、光電気混載基板および電子機器を提供すること。【解決手段】光導波路集合体１は、Ｘ方向に延在し、Ｙ方向に並列した複数の帯状のコア部１３２〜１３６と、コア部に隣接する複数の帯状の側面クラッド部１５０とを有し、各側面クラッド部を切断して、複数の光導波路を製造し得るものであって、各側面クラッド部１５０は、Ｘ方向に進むにつれて幅が連続的に変化する変化部分と、Ｘ軸に平行な帯状の切断しろ１３１５〜１３６５とを有し、任意のＸ座標における側面クラッド部の幅から切断しろの幅を除いた長さの側面クラッド部間での比率が一定である。【選択図】図３
2010231091.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＸＹ平面上に、Ｘ方向に沿って延在するとともに、前記Ｘ方向に直交するＹ方向に並列するように設けられた複数の帯状のコア部と、
該複数のコア部の側面に隣接して設けられた複数の帯状のクラッド部とを有し、
固化時に収縮を伴う材料を固化させた固化物で構成され、前記複数のクラッド部の少なくとも１つを長手方向に沿って切断することにより、複数の光導波路を製造可能な光導波路集合体であって、
前記複数のクラッド部には、それぞれＸ方向に進むにつれて幅が連続的に変化している変化部分があり、かつ、前記複数のクラッド部には、前記ＸＹ平面のＸ軸に平行な帯状の切断しろが設けられており、
前記複数のクラッド部において、その任意のＸ座標における前記クラッド部の幅から前記切断しろの幅を除いた長さの前記複数のクラッド部間での互いの比率が、前記変化部分全体で一定になっていることを特徴とする光導波路集合体。
【請求項２】
前記複数の切断しろの幅は、互いに同じである請求項１に記載の光導波路集合体。
【請求項３】
前記複数の切断しろの幅は、当該光導波路集合体の切断に用いる切断手段の切断幅以上である請求項１または２に記載の光導波路集合体。
【請求項４】
前記切断しろの幅は、Ｘ方向の位置によらず一定である請求項１ないし３のいずれかに記載の光導波路集合体。
【請求項５】
前記複数の切断しろは、前記複数のクラッド部の全て、または、前記複数のクラッド部のうち、一定の周期で間欠的に設けられている請求項１ないし４のいずれかに記載の光導波路集合体。
【請求項６】
前記複数のコア部の形状および配置は、Ｘ軸に対して線対称の関係になっており、
前記固化前の前記複数のコア部のうち、Ｘ軸よりＹの正側に位置する１つのコア部について、該コア部を形作る２つの輪郭線のうちの前記Ｘ軸側に位置する輪郭線のＹ座標が、Ｘの関数ｆａ（Ｘ）で表わされ、かつ、前記Ｘ軸と反対側に位置する輪郭線のＹ座標が、Ｘの関数ｆｂ（Ｘ）で表わされるとき、
前記関数ｆａ（Ｘ）は下記式（１）を満たし、前記関数ｆｂ（Ｘ）は下記式（２）を満たす請求項１ないし５のいずれかに記載の光導波路集合体。
ｆａ（Ｘ）＞｛（Ｎ−１／２）Ｐ＋ＮＷ｝Ｒmax      （１）
ｆｂ（Ｘ）＜｛（Ｎ＋１／２）Ｐ＋ＮＷ｝Ｒmin      （２）
［上記式（１）および上記式（２）中、Ｎは前記１つのコア部を、Ｘ軸を起点として数えたときの配設順序であり、前記コア部の本数が奇数のときには、配設順序Ｎは、中心のコア部をＮ＝０として起算される整数で表わされ、前記コア部の本数が偶数のときには、配設順序Ｎは、最も内側のコア部をＮ＝０．５として起算される半整数で表わされる。また、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminは、前記複数のコア部間でそれぞれ同じである。また、Ｐは当該光導波路集合体を切断して得られる前記光導波路の幅の設定値である。また、Ｗは当該光導波路集合体の切断に用いる切断手段の切断幅である。また、ＲmaxおよびＲminは１以上の任意の実数であり、かつＲmax＞Ｒminである。］
【請求項７】
前記式（１）および前記式（２）中のＲmaxおよびＲminは、それぞれ前記固化時に収縮を伴う材料について、収縮後の寸法に対する収縮前の寸法の倍率であって、Ｒmaxは、前記倍率の個体差の範囲における最大値であり、Ｒminは、前記倍率の個体差の範囲における最小値である請求項６に記載の光導波路集合体。
【請求項８】
前記関数ｆａ（Ｘ）および前記関数ｆｂ（Ｘ）は、それぞれ正弦関数または余弦関数である請求項６または７に記載の光導波路集合体。
【請求項９】
前記関数ｆａ（Ｘ）は下記式（３−１）を満たし、前記関数ｆｂ（Ｘ）は下記式（４−１）を満たす請求項６ないし８のいずれかに記載の光導波路集合体。
ｆａ（Ｘ）＝Ａcos（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ−Ｃ／２      （３−１）
ｆｂ（Ｘ）＝Ａcos（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ＋Ｃ／２      （４−１）
［上記式（３−１）および上記式（４−１）中、Ａ、ＢおよびＬはそれぞれ任意の実数である。また、Ｃは任意の正の実数である。］
【請求項１０】
前記関数ｆａ（Ｘ）は下記式（３−２）を満たし、前記関数ｆｂ（Ｘ）は下記式（４−２）を満たす請求項６ないし８のいずれかに記載の光導波路集合体。
ｆａ（Ｘ）＝Ａsin（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ−Ｃ／２      （３−２）
ｆｂ（Ｘ）＝Ａsin（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ＋Ｃ／２      （４−２）
［上記式（３−２）および上記式（４−２）中、Ａ、ＢおよびＬはそれぞれ任意の実数である。また、Ｃは任意の正の実数である。］
【請求項１１】
前記式（３−１）、前記式（３−２）、前記式（４−１）および前記式（４−２）中、ＬおよびＣは前記複数のコア部間でそれぞれ同じであり、かつ、ＡおよびＢは前記複数のコア部間でそれぞれ互いに異なっている請求項９または１０に記載の光導波路集合体。
【請求項１２】
前記固化前の当該光導波路集合体についての前記式（３−１）、前記式（３−２）、前記式（４−１）および前記式（４−２）において、Ａは、下記式（５）を満たす請求項９ないし１１のいずれかに記載の光導波路集合体。
Ａ＝（Ｒmax−Ｒmin）（Ｐ＋Ｗ）Ｎ／２      （５）
［上記式（５）中、Ｎ、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminは、前記式（１）および前記式（２）におけるＮ、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminと同じである。］
【請求項１３】
前記固化前の当該光導波路集合体についての前記式（３−１）、前記式（３−２）、前記式（４−１）および前記式（４−２）において、Ｂは、下記式（６）を満たす請求項９ないし１２のいずれかに記載の光導波路集合体。
Ｂ＝（Ｒmax＋Ｒmin）（Ｐ＋Ｗ）Ｎ／２      （６）
［上記式（６）中、Ｎ、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminは、前記式（１）および前記式（２）におけるＮ、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminと同じである。］
【請求項１４】
前記Ｘ軸に沿って任意の間隔で配列された複数のアライメントマークを備える請求項１ないし１３のいずれかに記載の光導波路集合体。
【請求項１５】
前記複数のアライメントマークは、前記複数のコア部が集合してなる束の外側の双方にそれぞれ設けられており、
前記各アライメントマークは、それぞれ、前記束を挟んで対をなしている請求項１４に記載の光導波路集合体。
【請求項１６】
前記各アライメントマークは、前記コア部と同じ材料で構成されている請求項１４または１５に記載の光導波路集合体。
【請求項１７】
前記切断しろが設けられた前記クラッド部に、該クラッド部の幅の中点を結んだ中間線上に設けられたアライメントラインを有する請求項１ないし１６のいずれかに記載の光導波路集合体。
【請求項１８】
前記コア部は、第１のノルボルネン系材料を主材料として構成されており、前記クラッド部は、前記第１のノルボルネン系材料より低い光屈折率を有する第２のノルボルネン系材料を主材料として構成されている請求項１ないし１７のいずれかに記載の光導波路集合体。
【請求項１９】
請求項１ないし１８のいずれかに記載の光導波路集合体を、前記切断しろが設けられた前記帯状のクラッド部に沿って切断して得られた光導波路を備えたことを特徴とする光配線。
【請求項２０】
電気配線と、請求項１９に記載の光配線とを、基板上に混載してなることを特徴とする光電気混載基板。
【請求項２１】
請求項２０に記載の光電気混載基板を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路集合体、光配線、光電気混載基板および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
情報化の波とともに、大容量の情報を高速でやりとりできる広帯域回線（ブロードバンド）の普及が進んでいる。また、これらの広帯域回線に情報を伝送する装置として、ルータ装置、ＷＤＭ（Wavelength Division Multiplexing）装置等の伝送装置が用いられている。これらの伝送装置内では、光搬送波を使用してデータを移送する光通信技術が用いられており、光搬送波を一地点から他地点に導くための手段として、多数の光導波路が使用されている。
【０００３】
これらの光導波路は、線状のコア部と、その周囲を覆うように設けられたクラッド部とを有する帯状の部材である。このうち、コア部は、光搬送波に対して実質的に透明な材料で構成され、クラッド部は、コア部より屈折率が低い材料で構成されている。
【０００４】
このような光導波路では、コア部の一端から導入された光が、クラッド部との界面で反射しながら他端に搬送される。光導波路の入射側には、半導体レーザ等の発光素子が配置され、出射側には、フォトダイオード等の受光素子が配置される。発光素子から入射された光は光導波路を伝搬し、受光素子により受光され、受光した光の明滅パターンに基づいて通信を行う。
【０００５】
特許文献１には、複数の導波路コアが形成されたフレキシブルな積層型の光導波路フィルムが開示されている。このような光導波路フィルムは、マルチチャンネルであるため、伝送可能な情報量が多く、また、光導波路フィルムは透明な樹脂材料で構成されており、屈曲させても光通信が可能であるため、伝送装置内において実装空間の効率的な利用が可能になる。
【０００６】
また、このような光導波路フィルムのクラッド部を長手方向に沿って切断することで、光導波路フィルムを複数の帯状の光導波路に分離することができる。この切断には、等間隔に配置された複数枚のブレードソーを有するマルチブレードソーを用いることにより、複数のクラッド部を一度に切断することができるが、この際、導波路間隔と、ブレードソー同士の間隔とを一致させる必要がある。
【０００７】
図１７は、従来のマルチチャンネル型の光導波路フィルム９を、マルチブレードソーを用いて切断する方法を説明するための図であり、（ａ）は光導波路フィルム９の端部側から見た正面図、（ｂ）は上面図である。
【０００８】
光導波路フィルム９は、下方からクラッド層９０１、コア層９０３およびクラッド層９０２がこの順で積層された積層体で構成されている。このうち、コア層９０３には、平面視にて、等間隔に並列配置された複数の直線状のコア部９０４と、各コア部９０４に隣接するクラッド部９０５とが設けられている。
【０００９】
また、光導波路フィルム９の上方には、図１７（ａ）に示すように、等間隔に配置された複数枚のブレードソー７１を有するマルチブレードソー７が設けられている。各ブレードソー７１は、それぞれ平面視にて円形をなしており、その中心には回転軸７２が貫通している。
【００１０】
このようなマルチブレードソー７において、回転軸７２を回転させつつ、ブレードソー７１を光導波路フィルム９に押し当てる。なお、ブレードソー７１同士の間隔は、あらかじめクラッド部９０５のピッチに合わせて調整しておく。これにより、各クラッド部９０５に対応する位置で光導波路フィルム９が切断される。そして、図１７（ｂ）に矢印で示すようにブレードソー７１を光導波路フィルム９の各クラッド部９０５に沿って移動することにより、光導波路フィルム９は、複数の帯状の光導波路９０に一度に分離される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００７−８４７６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
ところが、光導波路フィルム９の原材料である樹脂材料は、製造過程において固化する際に収縮を伴う。その際の収縮率は、用いる樹脂材料の組成や原材料、製造時の環境等の要素により影響されるため、光導波路フィルム９の寸法には個体差が生じてしまう。
【００１３】
このため、このような個体差を含む光導波路フィルム９をマルチブレードソー７を用いて切断する場合、この寸法の個体差に合わせてその都度、ブレードソー７１同士の間隔を調整する必要が生じる。その結果、切断作業の作業効率が著しく低下する。
【００１４】
また、ブレードソー７１同士の間隔を調整しないままで複数の光導波路フィルム９を切断すると、個々の光導波路フィルム９では、寸法の個体差に応じてコア部９０４の位置がずれてしまう。その結果、個片化された複数の光導波路９０では、コア部９０４の偏心が生じ、光導波路９０の接続性が低下する。すなわち、コア部９０４の偏心に伴って、光導波路９０とその接続相手との接続部における光損失が増大する。
【００１５】
さらには、光導波路フィルム９では、外側に向かうにつれて個体差が累積的に大きくなるため、位置ずれが増幅されることとなる。その結果、外側に位置する光導波路９０では、ブレードソー７１の切断跡がコア部９０４に干渉してしまい、光導波路としての機能が損なわれる。
【００１６】
本発明の目的は、樹脂材料の収縮の影響により導波路間隔に個体差が含まれていても、切断作業のたびに切断ピッチを変更する必要がなく、一定の切断ピッチで切断しても、偏心の少ない複数の光導波路を効率よく製造可能な光導波路集合体、およびかかる光導波路集合体を切断して得られた光導波路を有する信頼性の高い光配線、光電気混載基板および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
このような目的は、下記（１）〜（２１）の本発明により達成される。
（１）  ＸＹ平面上に、Ｘ方向に沿って延在するとともに、前記Ｘ方向に直交するＹ方向に並列するように設けられた複数の帯状のコア部と、
該複数のコア部の側面に隣接して設けられた複数の帯状のクラッド部とを有し、
固化時に収縮を伴う材料を固化させた固化物で構成され、前記複数のクラッド部の少なくとも１つを長手方向に沿って切断することにより、複数の光導波路を製造可能な光導波路集合体であって、
前記複数のクラッド部には、それぞれＸ方向に進むにつれて幅が連続的に変化している変化部分があり、かつ、前記複数のクラッド部には、前記ＸＹ平面のＸ軸に平行な帯状の切断しろが設けられており、
前記複数のクラッド部において、その任意のＸ座標における前記クラッド部の幅から前記切断しろの幅を除いた長さの前記複数のクラッド部間での互いの比率が、前記変化部分全体で一定になっていることを特徴とする光導波路集合体。
【００１８】
（２）  前記複数の切断しろの幅は、互いに同じである上記（１）に記載の光導波路集合体。
【００１９】
（３）  前記複数の切断しろの幅は、当該光導波路集合体の切断に用いる切断手段の切断幅以上である上記（１）または（２）に記載の光導波路集合体。
【００２０】
（４）  前記切断しろの幅は、Ｘ方向の位置によらず一定である上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の光導波路集合体。
【００２１】
（５）  前記複数の切断しろは、前記複数のクラッド部の全て、または、前記複数のクラッド部のうち、一定の周期で間欠的に設けられている上記（１）ないし（４）のいずれかに記載の光導波路集合体。
【００２２】
（６）  前記複数のコア部の形状および配置は、Ｘ軸に対して線対称の関係になっており、
前記固化前の前記複数のコア部のうち、Ｘ軸よりＹの正側に位置する１つのコア部について、該コア部を形作る２つの輪郭線のうちの前記Ｘ軸側に位置する輪郭線のＹ座標が、Ｘの関数ｆａ（Ｘ）で表わされ、かつ、前記Ｘ軸と反対側に位置する輪郭線のＹ座標が、Ｘの関数ｆｂ（Ｘ）で表わされるとき、
前記関数ｆａ（Ｘ）は下記式（１）を満たし、前記関数ｆｂ（Ｘ）は下記式（２）を満たす上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の光導波路集合体。
ｆａ（Ｘ）＞｛（Ｎ−１／２）Ｐ＋ＮＷ｝Ｒmax      （１）
ｆｂ（Ｘ）＜｛（Ｎ＋１／２）Ｐ＋ＮＷ｝Ｒmin      （２）
［上記式（１）および上記式（２）中、Ｎは前記１つのコア部を、Ｘ軸を起点として数えたときの配設順序であり、前記コア部の本数が奇数のときには、配設順序Ｎは、中心のコア部をＮ＝０として起算される整数で表わされ、前記コア部の本数が偶数のときには、配設順序Ｎは、最も内側のコア部をＮ＝０．５として起算される半整数で表わされる。また、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminは、前記複数のコア部間でそれぞれ同じである。また、Ｐは当該光導波路集合体を切断して得られる前記光導波路の幅の設定値である。また、Ｗは当該光導波路集合体の切断に用いる切断手段の切断幅である。また、ＲmaxおよびＲminは１以上の任意の実数であり、かつＲmax＞Ｒminである。］
【００２３】
（７）  前記式（１）および前記式（２）中のＲmaxおよびＲminは、それぞれ前記固化時に収縮を伴う材料について、収縮後の寸法に対する収縮前の寸法の倍率であって、Ｒmaxは、前記倍率の個体差の範囲における最大値であり、Ｒminは、前記倍率の個体差の範囲における最小値である上記（６）に記載の光導波路集合体。
【００２４】
（８）  前記関数ｆａ（Ｘ）および前記関数ｆｂ（Ｘ）は、それぞれ正弦関数または余弦関数である上記（６）または（７）に記載の光導波路集合体。
【００２５】
（９）  前記関数ｆａ（Ｘ）は下記式（３−１）を満たし、前記関数ｆｂ（Ｘ）は下記式（４−１）を満たす上記（６）ないし（８）のいずれかに記載の光導波路集合体。
ｆａ（Ｘ）＝Ａcos（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ−Ｃ／２      （３−１）
ｆｂ（Ｘ）＝Ａcos（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ＋Ｃ／２      （４−１）
［上記式（３−１）および上記式（４−１）中、Ａ、ＢおよびＬはそれぞれ任意の実数である。また、Ｃは任意の正の実数である。］
【００２６】
（１０）  前記関数ｆａ（Ｘ）は下記式（３−２）を満たし、前記関数ｆｂ（Ｘ）は下記式（４−２）を満たす上記（６）ないし（８）のいずれかに記載の光導波路集合体。
ｆａ（Ｘ）＝Ａsin（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ−Ｃ／２      （３−２）
ｆｂ（Ｘ）＝Ａsin（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ＋Ｃ／２      （４−２）
［上記式（３−２）および上記式（４−２）中、Ａ、ＢおよびＬはそれぞれ任意の実数である。また、Ｃは任意の正の実数である。］
【００２７】
（１１）  前記式（３−１）、前記式（３−２）、前記式（４−１）および前記式（４−２）中、ＬおよびＣは前記複数のコア部間でそれぞれ同じであり、かつ、ＡおよびＢは前記複数のコア部間でそれぞれ互いに異なっている上記（９）または（１０）に記載の光導波路集合体。
【００２８】
（１２）  前記固化前の当該光導波路集合体についての前記式（３−１）、前記式（３−２）、前記式（４−１）および前記式（４−２）において、Ａは、下記式（５）を満たす上記（９）ないし（１１）のいずれかに記載の光導波路集合体。
Ａ＝（Ｒmax−Ｒmin）（Ｐ＋Ｗ）Ｎ／２      （５）
［上記式（５）中、Ｎ、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminは、前記式（１）および前記式（２）におけるＮ、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminと同じである。］
【００２９】
（１３）  前記固化前の当該光導波路集合体についての前記式（３−１）、前記式（３−２）、前記式（４−１）および前記式（４−２）において、Ｂは、下記式（６）を満たす上記（９）ないし（１２）のいずれかに記載の光導波路集合体。
Ｂ＝（Ｒmax＋Ｒmin）（Ｐ＋Ｗ）Ｎ／２      （６）
［上記式（６）中、Ｎ、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminは、前記式（１）および前記式（２）におけるＮ、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminと同じである。］
【００３０】
（１４）  前記Ｘ軸に沿って任意の間隔で配列された複数のアライメントマークを備える上記（１）ないし（１３）のいずれかに記載の光導波路集合体。
【００３１】
（１５）  前記複数のアライメントマークは、前記複数のコア部が集合してなる束の外側の双方にそれぞれ設けられており、
前記各アライメントマークは、それぞれ、前記束を挟んで対をなしている上記（１４）に記載の光導波路集合体。
【００３２】
（１６）  前記各アライメントマークは、前記コア部と同じ材料で構成されている上記（１４）または（１５）に記載の光導波路集合体。
【００３３】
（１７）  前記切断しろが設けられた前記クラッド部に、該クラッド部の幅の中点を結んだ中間線上に設けられたアライメントラインを有する上記（１）ないし（１６）のいずれかに記載の光導波路集合体。
【００３４】
（１８）  前記コア部は、第１のノルボルネン系材料を主材料として構成されており、前記クラッド部は、前記第１のノルボルネン系材料より低い光屈折率を有する第２のノルボルネン系材料を主材料として構成されている上記（１）ないし（１７）のいずれかに記載の光導波路集合体。
【００３５】
（１９）  上記（１）ないし（１８）のいずれかに記載の光導波路集合体を、前記切断しろが設けられた前記帯状のクラッド部に沿って切断して得られた光導波路を備えたことを特徴とする光配線。
【００３６】
（２０）  電気配線と、上記（１９）に記載の光配線とを、基板上に混載してなることを特徴とする光電気混載基板。
【００３７】
（２１）  上記（２０）に記載の光電気混載基板を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の効果】
【００３８】
本発明によれば、クラッド部が切断手段による切断幅以上の切断しろを予め含んでおり、かつ、複数のクラッド部同士の間では、任意のＸ座標において、クラッド部の幅から切断しろの幅を差し引いた長さの比率を一定に維持しつつ、この長さが連続的に変化している変化部分を有しているため、仮に光導波路集合体の寸法に個体差があったとしても、端部における偏心の発生を防止しつつ、複数の光導波路を効率よく製造可能な光導波路集合体が得られる。このような光導波路集合体を用いれば、コア部の偏心に伴う光損失が少なく、高品質な光通信が可能な光導波路が得られる。また、切断の際には、光導波路集合体の寸法に応じて、その都度切断ピッチを変更する必要がないため、切断ピッチを等間隔に固定したマルチブレードソーを用いたとしても、個体差を含んだ光導波路集合体を効率よく切断して個片化することができる。
【００３９】
また、本発明によれば、光導波路集合体を切断して製造された、高品質な光通信を可能にする光導波路を備えたことにより、信頼性の高い光配線、光電気混載基板および電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の光導波路集合体の第１実施形態を適用した光導波路フィルムを示す（一部切り欠いて示す）斜視図である。
【図２】図１に示す光導波路フィルムのコア層を示す概略平面図である。
【図３】本発明の光導波路集合体の第１実施形態を示すコア層の概略平面図である。
【図４】光導波路とアライメントパターンとの間の関係を示す図（断面図）である。
【図５】本発明の光導波路集合体の第１実施形態を示すコア層の概略平面図である。
【図６】光導波路フィルムの光導波路領域に形成され得る各コア部の他の構成例を示す図である。
【図７】光導波路フィルムの光導波路領域に形成され得る各コア部の他の構成例を示す図である。
【図８】本発明の光導波路集合体の第２実施形態を示すコア層の概略平面図である。
【図９】光導波路フィルムの製造工程例を模式的に示す断面図である。
【図１０】光導波路フィルムの製造工程例を模式的に示す断面図である。
【図１１】光導波路フィルムの製造工程例を模式的に示す断面図である。
【図１２】光導波路フィルムの製造工程例を模式的に示す断面図である。
【図１３】光導波路フィルムの製造工程例を模式的に示す断面図である。
【図１４】図５に示す光導波路フィルムを分離して複数の光導波路を製造する方法を説明するための図である。
【図１５】図５に示す光導波路フィルムを分離して複数の光導波路を製造する方法を説明するための図である。
【図１６】積層型光導波路フィルムの概略構造を示す断面図である。
【図１７】従来のマルチチャンネル型の光導波路フィルムを、マルチブレードソーを用いて切断する方法を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
以下、本発明の光導波路集合体、光配線、光電気混載基板および電子機器について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
【００４２】
（光導波路集合体の構造）
＜第１実施形態＞
まず、本発明の光導波路集合体の第１実施形態について説明する。
【００４３】
図１は、本発明の光導波路集合体の第１実施形態を適用した光導波路フィルムを示す（一部切り欠いて示す）斜視図、図２は、図１に示す光導波路フィルムのコア層を示す概略平面図、図３および図５は、本発明の光導波路集合体の第１実施形態を示すコア層の概略平面図である。なお、図２には、それぞれ矢印で示すように、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸が設定されている。また、以下の説明では、図２中、Ｙ軸の正方向を「上」、Ｙ軸の負方向を「下」とも言う。
【００４４】
図１に示す光導波路フィルム１０は、図１中Ｚ軸の正方向（紙面手前側）に向かってクラッド層１１（クラッド部）、コア層１３およびクラッド層１２（クラッド部）をこの順に積層してなる長尺状のものである。
【００４５】
そして、コア層１３は、図２に示すように、光導波路領域１３１と、これらの光導波路領域１３１の両側に隣接するアライメントパターン１７１、１７２とを有している。これらの光導波路領域１３１は、後に詳述するが、同一層内にＸ軸に沿って延在する並列配置された複数のコア部と、これらのコア部のそれぞれの側面を覆い、かつコア部よりも屈折率の低い側面クラッド部とを備えている。そして、最終的には、光導波路フィルム１０を、側面クラッド部に沿って切断して複数の部分に分離することにより、それぞれの部分が光導波路となる。すなわち、光導波路フィルム１０は、複数の光導波路を配列した光導波路集合体１を有するものである。
【００４６】
以下、光導波路フィルム１０の各部の構成について順次説明する。
まず、光導波路領域１３１について説明する
図３に示す光導波路領域１３１は、Ｘ軸に沿って延在する並列配置された５本のコア部１３２、１３３、１３４、１３５、１３６を有している。また、これらのコア部１３２〜１３６のそれぞれの側面は、各コア部１３２〜１３６よりも屈折率の低い側面クラッド部１５０で覆われている。
【００４７】
すなわち、図３に示す各コア部１３２〜１３６は、そのＺ軸の負側に位置するクラッド層１１、Ｚ軸の正側に位置するクラッド層１２、およびそれぞれの側方に位置する側面クラッド部１５０からなるクラッド部１６で囲まれている。なお、図３では、各コア部１３２〜１３６にドットを付している。
【００４８】
図２に示す光導波路集合体１は、一方の端面の各コア部１３２〜１３６に入射された光を、各コア部１３２〜１３６とクラッド部１６（各クラッド層１１、１２および各側面クラッド部１５０）との界面で全反射させ、出射側に伝搬することにより、他方の端面の各コア部１３２〜１３６から取り出すことができる。
【００４９】
ここで、各コア部１３２〜１３６は、Ｘ方向に対して垂直なＹ方向に等間隔で配設されている。また、これらのコア部１３２〜１３６のうち、任意の隣り合うコア部間のＹ方向間隔（以下、「導波路間隔」という。）、すなわち側面クラッド部１５０の幅は、所定の周期で変化するように設計されている。
【００５０】
さらに、各コア部１３２〜１３６のうち、中心に位置するコア部１３４は、Ｘ軸上にあって直線状をなしている。また、コア部１３４以外のコア部１３２、コア部１３３、コア部１３５およびコア部１３６は、Ｘ軸に対して線対称の関係になっている。具体的には、コア部１３２およびコア部１３３は、それぞれＸ軸より上方に位置している。一方、コア部１３５は、コア部１３３をＸ軸を介して下方に反転させた鏡像に相当するものであり、また、コア部１３６は、コア部１３２をＸ軸を介して下方に反転させた鏡像に相当するものである。したがって、本実施形態では、コア部１３２およびコア部１３３の形状が規定されれば、これらの鏡像であるコア部１３５およびコア部１３６の形状は自ずと規定される。
【００５１】
以下、このような各コア部１３２〜１３６についてさらに詳述するが、一部説明では、上述した理由から、Ｘ軸の上方（Ｘ軸よりＹの正側）に位置するコア部であるコア部１３３について代表に説明する。なお、光導波路集合体１は、後に詳述するが樹脂材料で構成されているため、固化する際に収縮を伴い、収縮の前後ではその形状および寸法がわずかに変化したものとなる。そこで、以下の説明では、各コア部１３２〜１３６の収縮前の状態について説明する。
【００５２】
コア部１３３は、平面視において、Ｘ軸に沿って延在しており、Ｘ軸側に位置する輪郭線１３３１と、Ｘ軸と反対側に位置する輪郭線１３３２とで挟まれた帯状の領域がコア部１３３である。
【００５３】
ここで、輪郭線１３３１のＹ座標が、Ｘの関数ｆａ（Ｘ）で表わされ、かつ、輪郭線１３３２のＹ座標が、Ｘの関数ｆｂ（Ｘ）で表わされるとき、関数ｆａ（Ｘ）は下記式（１）を満たし、関数ｆｂ（Ｘ）は下記式（２）を満たす。
ｆａ（Ｘ）＞｛（Ｎ−１／２）Ｐ＋ＮＷ｝Ｒmax      （１）
ｆｂ（Ｘ）＜｛（Ｎ＋１／２）Ｐ＋ＮＷ｝Ｒmin      （２）
［上記式（１）および上記式（２）中、Ｎは各コア部１３２〜１３６を、Ｘ軸を起点として数えたときの配設順序であり、各コア部１３２〜１３６の本数が奇数のときには、配設順序Ｎは、中心のコア部をＮ＝０として起算される整数で表わされ、各コア部１３２〜１３６の本数が偶数のときには、配設順序Ｎは、最もＸ軸に近いコア部をＮ＝０．５として起算される半整数で表わされる。また、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminは、前記複数のコア部間でそれぞれ同じである。このうち、Ｐは当該光導波路集合体を切断して得られる前記光導波路の幅の設定値である。また、Ｗは当該光導波路集合体の切断に用いる切断手段の切断幅である。また、ＲmaxおよびＲminは１以上の任意の実数であり、かつＲmax＞Ｒminである。］
【００５４】
ここで、このような５本のコア部１３２〜１３６を備える光導波路集合体１を分離して複数の光導波路を製造する場合、側面クラッド部１５０から外れないように切断することとなる。また、最も外側に位置するコア部１３２およびコア部１３６については、その外側に位置する余白を切り落とすための切断を行ってもよく、この場合、各コア部１３２〜１３６を個々に分離するためには、合計で６本の切断線に沿って切断する必要がある。
【００５５】
ところで、光導波路集合体１を切断する場合、切断ツールが通過する軌跡に「切断しろ」をあらかじめ設けておけば、仮に切断幅が厚い切断ツールを使用したとしても、それに応じた「切断しろ」を設けておくことにより、得られる光導波路の幅が左右されることはなくなる。図３に示す光導波路集合体１（本発明の光導波路集合体）は、光導波路集合体１を切断して複数の光導波路を製造する際に、複数の等幅の光導波路を少ない切断回数で効率よく製造することを目的としたものであり、前述した６本の切断線の位置に設けられた「切断しろ」に相当する領域を有するものである。
【００５６】
図３に示す光導波路集合体１は、コア部１３２の上方に設けられた切断しろ１３１５と、コア部１３２とコア部１３３との間に設けられた切断しろ１３２５と、コア部１３３とコア部１３４との間に設けられた切断しろ１３３５と、コア部１３４とコア部１３５との間に設けられた切断しろ１３４５と、コア部１３５とコア部１３６との間に設けられた切断しろ１３５５と、コア部１３６の下方に設けられた切断しろ１３６５とを有している。すなわち、これらの切断しろ１３１５〜１３６５は、いずれも側面クラッド部１５０中に設けられている。なお、これらの切断しろ１３１５〜１３６５を設けた結果、各側面クラッド部１５０は、その幅が、各切断しろの幅の分だけ拡張されたことになるのみで、外観上の変化は必要としない。すなわち、各切断しろ１３１５〜１３６５が側面クラッド部１５０と同じ材料からなる場合には、各切断しろ１３１５〜１３６５と側面クラッド部１５０との境界は視認できない。したがって、図３に破線で示す各切断しろ１３１５〜１３６５の輪郭線は、仮想的な線であれば足りる。
【００５７】
このような光導波路集合体１を切断する場合、一般には、図１７に示すようなマルチブレードソー７を用いて切断する。このマルチブレードソー７は、等間隔に配置された複数枚のブレードソー７１を有しており、各ブレードソー７１がそれぞれ光導波路集合体１の各切断しろ１３１５〜１３６５を切断することにより、１回の切断プロセスで光導波路集合体１を効率よく分離することができる。
【００５８】
ところが、従来、マルチブレードソー７を用いて光導波路集合体を分離する場合、その分離作業は容易ではなかった。その理由は、光導波路集合体を切断する工程は、樹脂材料が固化した後、すなわち樹脂材料の収縮後の工程であるため、収縮後の光導波路集合体が、樹脂材料の収縮率のバラツキに伴う寸法の個体差を含んだものになっているからである。すなわち、マルチブレードソー７を用いて収縮後の光導波路集合体の分離するにしても、前述した個体差に応じてその都度ブレードソー７１の間隔を調整する必要があり、光導波路の生産効率が著しく低下する。
【００５９】
また、生産効率を確保するべく、ブレードソー７１の間隔を調整することなく、光導波路集合体を切断しようとした場合には、光導波路集合体における導波路間隔と、ブレードソー７１の間隔とが一致していないため、切り出された光導波路は、コア部が偏心したものとなる。このような光導波路は、接続部において著しい光損失が発生し、通信品質の低下が避けられない。
【００６０】
そこで、本発明では、各コア部１３２〜１３６の間隔、すなわちこれらのコア部の間に位置する側面クラッド部１５０の幅（Ｙ方向の長さ）が、Ｘ方向に進むにつれて連続的に変化するように、各コア部１３２〜１３６の輪郭線の形状を、前述したＸの関数ｆａ（Ｘ）および関数ｆｂ（Ｘ）で規定することとした。これらの関数は、前述したように、側面クラッド部１５０の幅をＸ方向に進むにつれて連続的に変化させるという条件を満たし、かつ、複数の側面クラッド部１５０間で、任意のＸ座標における側面クラッド部１５０の幅から切断しろの幅を差し引いた長さの互いの比率は、前記変化においても一定に維持されるという条件を満たす関数であり、具体的には、三角関数、楕円関数、二次関数、三次関数、四次関数等の連続的に変化する曲線を含んだ関数である。このように側面クラッド部１５０の幅が連続的に変化している変化部分があれば、その変化部分のいずれかの位置で（任意のＸ座標において）、切り出そうとする光導波路の幅（ブレードソー７１の間隔）と、導波路間隔とが一致する。このため、この位置で光導波路集合体１をＸ軸と直交する方向に切断すれば、その切断面では、切り出そうとする光導波路の幅の中心にコア部が位置し、コア部の偏心が抑えられることとなる。その結果、光軸のずれが抑制され、光損失の少ない光導波路を製造することができる。
【００６１】
また、仮に光導波路集合体１の寸法に個体差があったとしても、光導波路集合体１を切断する位置をＸ軸に沿ってずらすことのみで、前記個体差を吸収することができる。すなわち、寸法の個体差を含む光導波路集合体１を分離して複数の光導波路を製造する場合でも、簡単な工程を経ることで、光損失の少ない光導波路を効率よく製造することができる。
【００６２】
なお、例えば光導波路集合体にｍ本のコア部がある場合、その導波路間隔の個数はｍ−１個である。したがって、ｍが３以上の整数であれば、導波路間隔（側面クラッド部１５０）が２つ以上存在し、光導波路集合体１は、前述したその効果を発揮し得るものとなる。
【００６３】
また、導波路間隔は２つ以上存在する場合、このうちの１つにおいて、切り出そうとする光導波路の幅と、導波路間隔とが一致しさえすれば、他の導波路間隔においても、この一致が得られる。これは、一般的に、樹脂材料が、材料全体においてほぼ均一に収縮するためである。したがって、光導波路集合体１を切断する場合には、少なくとも１カ所の導波路間隔と切り出そうとする光導波路の幅との一致を確認しさえすれば、その他の箇所についても前記一致が高い確率で期待できる。
【００６４】
一方、各コア部１３２〜１３６の輪郭線が、前述した関数で規定される曲線を描いていることにより、曲線の曲率によっては、この輪郭線とブレードソー７１の切断跡とが干渉するおそれがある。この干渉が生じると、光導波路集合体１を分離して得られた各光導波路は、側面にコア部が露出することになって、光導波路としての機能が損なわれるおそれがある。
【００６５】
そこで、本発明では、コア部１３３の輪郭線１３３１のＹ座標を表す関数ｆａ（Ｘ）が前述した式（１）の不等式を満たし、輪郭線１３３２のＹ座標を表す関数ｆｂ（Ｘ）が前述した式（２）の不等式を満たすことにより、各コア部のＸＹ平面上における位置は、前記不等式で規定される所定の領域に限定されることとなる。なお、式（１）の右辺および式（２）の右辺はいずれも定数となる。したがって、これらの式（１）および式（２）は、各コア部１３３に許される領域が、Ｘ軸に平行な帯状の領域に限定されることを意味する。そして、この限定の結果、例えば、コア部１３３とこれに隣り合うコア部１３２との間、および、コア部１３３とこれに隣り合うコア部１３４との間には、切断しろ１３２５および切断しろ１３３５が確保されることとなる。
【００６６】
なお、これらの切断しろ１３２５、１３３５は、いずれもＸ軸に平行な帯状の領域である。このため、マルチブレードソー７を用いて光導波路集合体１を分離する場合には、光導波路集合体１に対して、単にＸ軸と平行にマルチブレードソー７を相対的に移動させるのみで、切断跡がコア部１３３に干渉するのを確実に防止することができる。
【００６７】
さらに、これらの切断しろ１３２５、１３３５の幅は、ブレードソー７１の厚さ（前述した切断幅Ｗ）と同等以上に設定され、かつ、切断しろ１３２５の幅と切断しろ１３３５の幅は同じである。これらの関係は、すべての切断しろにおいて同様である。前述したように、複数の側面クラッド部１５０間で、任意のＸ座標において、側面クラッド部１５０の幅からブレードソー７１の厚さ（切断しろの幅）を差し引いた長さの互いの比率は、光導波路集合体１全体で一定に維持されているため、マルチブレードソー７を用いてこのような光導波路集合体１を分離した場合、得られる複数の光導波路では、いずれの光導波路の切断面においてもコア部の位置が同じになる。したがって、光導波路集合体１を用いることにより、コア部の偏心を抑えつつ、等幅の光導波路を複数本同時に製造することができる。
【００６８】
なお、式（１）および式（２）に含まれるＲmaxおよびＲminは、それぞれ光導波路集合体１を構成する樹脂材料について、収縮後の寸法に対する収縮前の寸法の倍率である。この倍率は、樹脂材料の収縮率（収縮に伴う寸法の減少率）から算出することができる。収縮率には、いくつかの定義が存在するが、いずれの定義方法においても収縮率の値には大差がないため、定義は限定されない。ここでは一例として、収縮率を１−（収縮後の寸法）／（収縮前の寸法）と定義する。この定義において、仮に、収縮前の寸法を１００とし、収縮後の寸法を９８とした場合には、収縮率は１−（９８／１００）で求められ、０．０２（２％）となる。そして、収縮後の寸法に対する収縮前の寸法の倍率は、この収縮率に１を足した値である１．０２として算出することができる。
【００６９】
ところで、この倍率を求めるための樹脂材料の収縮率は、前述したように、使用する樹脂材料の種類、製造環境（気温、湿度等）、製造時期、製造量等の条件により増減するおそれがある。この収縮率の増減を人為的に制御することは現実には困難であるため、個々の光導波路集合体１は、寸法の個体差を含んだものにならざるを得ない。しかしながら、この個体差に伴う寸法のバラツキ範囲は、ある一定の範囲内に収まっていることがほとんどであり、その範囲は経験的または理論的にかなりの精度で予測が可能である。そこで、この予測に基づいて倍率の上限値と下限値とをあらかじめ設定しておくことにより、仮に収縮率の増減に伴って光導波路集合体１の寸法に個体差が生じたとしても、その個体差が、最終的に得られる複数の光導波路の品質に影響を及ぼすのを避けることができる。
【００７０】
式（１）および式（２）では、この倍率の上限値を最大倍率Ｒmaxとし、下限値を最小倍率Ｒminとしているが、式（１）および式（２）が、このような樹脂材料の収縮率のバラツキを加味していることにより、仮に光導波路集合体１が寸法の個体差を含んでいたとしても、この光導波路集合体１から製造される複数の光導波路は、いずれもコア部の偏心をより確実に抑えられたものとなる。
【００７１】
ここで、上記式（１）および上記式（２）における最大倍率Ｒmaxおよび最小倍率Ｒminは、１以上の任意の実数とされるが、それぞれ好ましくは１〜１．０５の範囲内、より好ましくは１．０１〜１．０３程度の範囲内で適宜設定される。また、最大倍率Ｒmaxは、最小倍率Ｒminより大きな値に設定され、その差は、好ましくは０．０２〜０．０５程度とされる。なお、最大倍率Ｒmaxは、各コア部１３２〜１３６間で互いに異なっていてもよいが、本実施形態では同じに設定される。一方、最小倍率Ｒminも、各コア部１３２〜１３６間で互いに異なっていてもよいが、本実施形態では同じに設定される。
【００７２】
なお、前述したように、光導波路集合体１を構成する材料が樹脂材料のように固化時に収縮を伴う材料である場合、最大倍率Ｒmaxおよび最小倍率Ｒminを含む上記式（１）、（２）は、厳密には固化前の各コア部１３２〜１３６の形状を規定する式である。しかしながら、樹脂材料の収縮による光導波路集合体１の形状変化はごくわずかであるため、実質的には、収縮後の各コア部１３２〜１３６の形状も、収縮前とほぼ同じであるとみなすことができる。換言すれば、収縮後の各コア部１３２〜１３６の形状も、上記式（１）、（２）で規定して差し支えない。
【００７３】
また、上記式（１）および上記式（２）における配設順序Ｎは、前述したようにＸ軸に沿って並列配置された各コア部１３２〜１３６のそれぞれの順序であるため、各コア部において異なった値となる。本実施形態では、各コア部１３２〜１３６の本数は５本であるため、コア部１３３の配設順序Ｎは、コア部１３４の配設順序を０として起算した順序となる。例えば、コア部１３３の配設順序Ｎは１となり、コア部１３２の配設順序Ｎは２となる。
【００７４】
また、光導波路の幅Ｐは、光導波路集合体１をマルチブレードソー７を用いて分離して得られる複数の光導波路の幅に相当する値である。したがって、光導波路の幅Ｐは、マルチブレードソー７の隣り合うブレードソー７１の対向する面同士の離間距離と等しい値である。
【００７５】
一例として、光導波路の幅Ｐは、２００〜１００００μｍ程度とされる。
また、切断幅Ｗは、光導波路集合体１の切断に用いる切断ツールの切断幅に相当する値であり、いわゆるカーフである。例えば切断ツールとしてマルチブレードソー７を用いる場合には、ブレードソー７１の厚さがこれに相当する。
一例として、切断幅Ｗは、１０〜５００μｍ程度とされる。
【００７６】
以上説明したような式（１）および式（２）により、各コア部１３２〜１３６が占める領域と、各切断しろ１３１５〜１３６５が占める領域との干渉が防止され、これにより各コア部１３２〜１３６の偏心を抑えつつ、等幅の光導波路を効率よく製造することができる。
【００７７】
ところで、式（１）および式（２）では、コア部１３３の輪郭線１３３１の形状を関数ｆａ（Ｘ）で表わし、輪郭線１３３２の形状を関数ｆｂ（Ｘ）で表わしたが、以下では、これらの関数が三角関数である場合を例に説明する。この場合、関数ｆａ（Ｘ）および関数ｆｂ（Ｘ）は、以下の式（３−１）および式（４−１）で規定される。
ｆａ（Ｘ）＝Ａcos（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ−Ｃ／２      （３−１）
ｆｂ（Ｘ）＝Ａcos（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ＋Ｃ／２      （４−１）
［上記式（３−１）および上記式（４−１）中、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｌはそれぞれ任意の実数であって、Ａは振幅、Ｂはオフセット量、Ｃはコア部１３３の幅、Ｌは周期である。］
【００７８】
このような式（３−１）および式（４−１）により、コア部１３３の輪郭線１３３１、１３３２の形状が規定される。そして、上記式で規定される輪郭線１３３１、１３３２の形状は、いわゆる「余弦曲線」を描いている。なお、式（３−１）と式（４−１）との間で、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｌはそれぞれ同じ値である。
【００７９】
ここで、周期Ｌは、波型の余弦曲線における「波長」に相当するパラメータである。周期Ｌは、各コア部１３２〜１３６の間でそれぞれ異なっていてもよいが、好ましくは同じ値に設定される。
【００８０】
また、周期Ｌは、光導波路集合体１の長さに応じて適宜設定されるものの、一例としては、光導波路集合体１の長さが２００ｍｍ程度であれば、５〜１００ｍｍ程度であるのが好ましく、１０〜５０ｍｍ程度であるのがより好ましい。
【００８１】
一方、振幅Ａおよびオフセット量Ｂは、余弦曲線において波形やＸ軸からの距離を規定するパラメータであるが、これらは各コア部１３２〜１３６の間でそれぞれ異なった値に設定される。
【００８２】
振幅Ａは、余弦曲線における「波の高さ」に相当するパラメータであるが、この振幅Ａは、以下の式（５）で表わされる。
Ａ＝（Ｒmax−Ｒmin）（Ｐ＋Ｗ）Ｎ／２      （５）
［上記式（５）中、Ｎ、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminは、前記式（１）および前記式（２）におけるＮ、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminと同じである。］
【００８３】
オフセット量Ｂは、余弦曲線のＸ軸からの離間距離に相当するパラメータであるが、このオフセット量Ｂは、下記式（６）で表わされる。
Ｂ＝（Ｒmax＋Ｒmin）（Ｐ＋Ｗ）Ｎ／２      （６）
［上記式（６）中、Ｎ、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminは、前記式（１）および前記式（２）におけるＮ、Ｐ、Ｗ、ＲmaxおよびＲminと同じである。］
【００８４】
また、コア部の幅Ｃは、各コア部１３２〜１３６の幅であるが、これらは各コア部１３２〜１３６の間で同じ値に設定されるのが好ましい。
一例として、コア部の幅Ｃは、１０〜２００μｍ程度とされる。
【００８５】
各パラメータを以上のように設定することにより、各コア部１３２〜１３６は互いに干渉することなく、また、導波路間隔（側面クラッド部１５０の幅）がＸ方向に沿って連続的に変化したものにすることができる。これにより、各コア部１３２〜１３６は、それぞれを伝搬する光の独立性が確保され、チャンネル間の混信（クロストーク）等を防止し得るとともに、導波路間隔が連続的に変化することにより、光導波路集合体１（本発明の光導波路集合体）は、前述したような作用・効果を発揮し得るものとなる。
【００８６】
このような形状の各コア部１３２〜１３６において、その光軸の各点の接線の、Ｘ軸に対する傾斜角度（以下、省略して「傾斜角度」という。）は、Ｘ軸に対して連続的に（滑らかに）変化するように設計されることとなる。これにより、各コア部１３２〜１３６は、小さい曲率の屈曲部位を有しないので、この屈曲部位における光の漏出を抑制することができる。その結果、各コア部１３２〜１３６は、光伝搬特性に優れたものとなる。
【００８７】
具体的には、傾斜角度は、１°以下であるのが好ましく、０．０１°以上０．５°以下であるのがより好ましい。傾斜角度を前記範囲内に設定することにより、光の漏出を最小限に抑えることができる。また、入射側端面における光の入射角度および出射側端面における光の出射角度が、それぞれＸ軸に対して著しく傾くことが防止されるので、光導波路集合体１を分離して得られる光導波路は、これに接続される相手先との接続性が向上し、光接続損失を確実に抑制することができる。なお、上記傾斜角度は、前述した周期Ｌや振幅Ａ等に依存するため、これらのパラメータは、上記傾斜角度の好ましい範囲に応じて設定されることが好ましい。
【００８８】
なお、図５等に示す各コア部１３２〜１３６の曲率は、判別し易いように強調されているが、実際の光導波路フィルムでは、曲率が大きい場合、一見しただけでは傾斜しているように見えない可能性もある。
【００８９】
ところで、各コア部１３２〜１３６とクラッド部１６との界面で全反射を生じさせるためには、界面に屈折率差が存在する必要がある。各コア部１３２〜１３６の屈折率は、クラッド部１６の屈折率より高く、その差は、特に限定されないものの、０．５％以上であるのが好ましく、０．８％以上であるのがより好ましい。なお、屈折率差の上限値は、特に設定されなくてもよいが、好ましくは５．５％程度とされる。屈折率差が前記下限値未満であると光を伝搬する効果が低下する場合があり、また、前記上限値を超えても、光の伝搬効果のそれ以上の増大は期待できない。
【００９０】
なお、前記屈折率差とは、各コア部１３２〜１３６の屈折率をｎ１、クラッド部１６の屈折率をｎ２としたとき、次式（７）で表わされる。
屈折率差（％）＝｜ｎ１／ｎ２−１｜×１００      （７）
【００９１】
また、各コア部１３２〜１３６の横断面形状は、正方形または矩形（長方形）のような四角形をなしている。
【００９２】
各コア部１３２〜１３６の幅および高さは、特に限定されないが、それぞれ、１〜２００μｍ程度であるのが好ましく、５〜１００μｍ程度であるのがより好ましく、１０〜６０μｍ程度であるのがさらに好ましい。
【００９３】
このような各コア部１３２〜１３６およびクラッド部１６の各構成材料は、それぞれ上述したような屈折率差が生じる材料であれば特に限定されないが、具体的には、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料等が挙げられる。
【００９４】
本実施形態では、コア層１３において、各コア部１３２〜１３６および側面クラッド部１５０が同一のベース材料（基本成分）で構成されており、各コア部１３２〜１３６と側面クラッド部１５０との屈折率差は、それぞれの構成材料の化学構造の差異により発現している。
【００９５】
化学構造の差異により屈折率差を発現させるためには、各コア部１３２〜１３６および側面クラッド部１５０の各構成材料として、紫外線、電子線のような活性エネルギー線の照射により（あるいはさらに加熱することにより）屈折率が変化する材料を用いるのが好ましい。
【００９６】
このように屈折率が変化する材料としては、例えば、活性エネルギー線の照射や加熱により、少なくとも一部の結合が切断したり、少なくとも一部の官能基が脱離する等して、化学構造が変化し得る材料が挙げられる。
【００９７】
具体的には、ポリシラン（例：ポリメチルフェニルシラン）、ポリシラザン（例：ペルヒドロポリシラザン）等のシラン系樹脂や、前述したような構造変化を伴う材料のベースとなる樹脂としては、分子の側鎖または末端に官能基を有する以下の（１）〜（６）のような樹脂が挙げられる。（１）ノルボルネン型モノマーを付加（共）重合して得られるノルボルネン型モノマーの付加（共）重合体、（２）ノルボルネン型モノマーとエチレンやα−オレフィン類との付加共重合体、（３）ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、および必要に応じて他のモノマーとの付加共重合体、（４）ノルボルネン型モノマーの開環（共）重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂、（５）ノルボルネン型モノマーとエチレンやα−オレフィン類との開環共重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂、（６）ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、または他のモノマーとの開環共重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂等のノルボルネン系樹脂、その他、光硬化反応性モノマーを重合することにより得られるアクリル系樹脂、エポキシ樹脂。なお、これらの重合体としては、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体等が挙げられる。
【００９８】
また、これらの中でも特にノルボルネン系樹脂が好ましい。これらのノルボルネン系ポリマーは、例えば、開環メタセシス重合（ＲＯＭＰ）、ＲＯＭＰと水素化反応との組み合わせ、ラジカルまたはカチオンによる重合、カチオン性パラジウム重合開始剤を用いた重合、これ以外の重合開始剤（例えば、ニッケルや他の遷移金属の重合開始剤）を用いた重合等、公知のすべての重合方法で得ることができる。
【００９９】
一方、クラッド層１１および１２は、それぞれ、各コア部１３２〜１３６の下部および上部に位置するクラッド部を構成するものである。このような構成により、各コア部１３２〜１３６は、その外周をクラッド部１６に囲まれた導光路として機能する。
【０１００】
クラッド層１１、１２の平均厚さは、コア層１３の平均厚さ（各コア部１３２〜１３６の平均高さ）の０．１〜１．５倍程度であるのが好ましく、０．２〜１．２５倍程度であるのがより好ましく、具体的には、クラッド層１１、１２の平均厚さは、特に限定されないが、それぞれ、通常、１〜２００μｍ程度であるのが好ましく、５〜１００μｍ程度であるのがより好ましく、１０〜６０μｍ程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路集合体１が不要に大型化（厚膜化）するのを防止しつつ、クラッド層としての機能が好適に発揮される。
【０１０１】
また、クラッド層１１および１２の構成材料としては、例えば、前述したコア層１３の構成材料と同様の材料を用いることができるが、特にノルボルネン系ポリマーが好ましい。
【０１０２】
なお、本実施形態では、コア層１３の構成材料と、クラッド層１１、１２の構成材料との間で、両者の間の屈折率差を考慮して適宜異なる材料を選択して使用することが可能である。したがって、コア層１３とクラッド層１１、１２との境界において光を確実に全反射させるため、十分な屈折率差が生じるように材料を選択すればよい。これにより、光導波路集合体１の厚さ方向において十分な屈折率差が得られ、各コア部１３２〜１３６からクラッド層１１、１２に光が漏れ出るのを抑制することができる。その結果、各コア部１３２〜１３６を伝搬する光の減衰を抑制することができる。
【０１０３】
また、光の減衰を抑制する観点からは、コア層１３とクラッド層１１、１２との間の密着性が高いことが好ましい。したがって、クラッド層１１、１２の構成材料は、コア層１３の構成材料よりも屈折率が低く、かつコア層１３の構成材料と密着性が高いという条件を満たすものであれば、いかなる材料であってもよい。
【０１０４】
以上、光導波路領域１３１について説明したが、コア層１３には、このような光導波路領域１３１と同等の領域が複数個設けられていてもよい。
【０１０５】
また、光導波路フィルム１０には、前述したように、光導波路領域１３１の外縁に帯状のアライメントパターン１７１、１７２が設けられている。
【０１０６】
図４（Ａ）〜（Ｃ）は、光導波路集合体１とアライメントパターン１７１、１７２との間の関係を示す図である。図４（Ｃ）は、光導波路フィルム１０のコア層１３の一部上面を示す図であり、図４（Ａ）は、図４（Ｃ）のＳ１−Ｓ１線に沿った光導波路フィルム１０の断面を示す図であり、図４（Ｂ）は、図４（Ｃ）のＳ２−Ｓ２線に沿った光導波路フィルム１０の断面を示している。
【０１０７】
ここで、アライメントパターン１７１は、コア部１３２の外側の余白部分に設けられ、Ｘ方向に伸長する一対の平行なライン状パターン１７１ａ、１７１ｂを有している。
【０１０８】
一方、アライメントパターン１７２は、コア部１３６の外側の余白部分に設けられ、Ｘ方向に伸長する一対の平行なライン状パターン１７２ａ、１７２ｂを有している。
【０１０９】
これらのライン状パターン１７１ａ、１７１ｂ、１７２ａ、１７２ｂは、各コア部１３２〜１３６と同様の工程で形成することができる。また、光導波路フィルム１０に、複数の光導波路領域１３１が設けられている場合には、これらのアライメントパターン１７１、１７２が、各光導波路領域１３１を区画し、これらを分離する際の目印として使用される。
【０１１０】
また、一対のライン状パターン１７１ａ、１７１ｂの間には、Ｙ方向に伸長する線状のアライメントマーク１８１が複数形成されている。これらのアライメントマーク１８１は、等間隔または所定の間隔で配列している。
【０１１１】
一方、一対のライン状パターン１７２ａ、１７２ｂの間にも、Ｙ方向に伸長する線状のアライメントマーク１８２が複数形成されている。これらのアライメントマーク１８２も、等間隔または所定の間隔で配列している。
【０１１２】
このような各アライメントマーク１８１、１８２は、各コア部１３２〜１３６と同様の工程で形成することができる。
【０１１３】
これらのアライメントマーク１８１、１８２は、光導波路集合体１をＸ軸と直交する方向に切断する際の目印（基準マーク）として使用される。
【０１１４】
光導波路集合体１の切断位置は、目測または計測により、切り出そうとする光導波路の幅と、導波路間隔とが一致する位置を見出し、この位置で切断するようにしてもよいが、各アライメントマーク１８１、１８２からなる基準マークを利用することで、この切断を正確に行うことができる。このようにすれば、各コア部１３２〜１３６の偏心をより確実に防止することができる。
【０１１５】
また、各アライメントマーク１８１、１８２は、導波路間隔を把握するための基準として利用できる。すなわち、各アライメントマーク１８１、１８２を、各コア部１３２〜１３６と同じ層内に形成し、かつ同じ樹脂材料で構成することにより、各アライメントマーク１８１と導波路間隔との間に、不変な一定の位置関係を持たせることができる。これにより、例えば目測または計測等を行わず、樹脂材料の種類を特定するのみで、各アライメントマーク１８１、１８２に基づいて光導波路集合体１を切断したとしても、得られた光導波路集合体１では、切り出そうとする光導波路の幅と、導波路間隔とを一致させることができる。その結果、コア部の偏心の少ない光導波路をより簡単に製造することができる。
【０１１６】
なお、各アライメントマーク１８１は、図４に示すように、一対のライン状パターン１７１ａ、１７１ｂと分離しており、各アライメントマーク１８２も、図４に示すように、一対のライン状パターン１７２ａ、１７２ｂと分離しているが、これに限定されるものではない。例えば、アライメントマーク１８１は、ライン状パターン１７１ａ、１７１ｂの一方または双方と連続し、アライメントマーク１８２は、ライン状パターン１７２ａ、１７２ｂの一方または双方と連続していてもよい。
【０１１７】
また、各アライメントパターン１７１、１７２間の収縮を測定し、この測定結果に基づいて光導波路集合体１のＹ方向の収縮率を算出することができる。
【０１１８】
一方、光導波路集合体１のＸ方向の収縮率は、算出したＹ方向の収縮率と同等であるとみなすこともできるが、各アライメントマーク１８１間または各アライメントマーク１８２間の収縮を測定し、この測定結果に基づいて算出することもできる。
【０１１９】
なお、光導波路集合体１を製造する前には、光導波路集合体１の構成材料と同じ材料のテストピースを用意し、上述した方法と同様にして樹脂材料の収縮率をあらかじめ取得しておくのが好ましい。このようにすれば、式（１）および式（２）における最大倍率Ｒmax、最小倍率Ｒminをより正確に求めることができる。
【０１２０】
また、各アライメントマーク１８１、１８２は、平面視にてＹ方向に沿って引かれた単なる線であってもよいが、それぞれのアライメントマーク１８１、１８２を識別するために、これらのマーク近傍に番号や記号等が付されていてもよい。
【０１２１】
また、各コア部１３２〜１３６間には、それぞれアライメントラインが形成されている。具体的には、図５に示すように、光導波路フィルム１０は、コア部１３２とコア部１３３との間に設けられたアライメントライン１９１と、コア部１３３とコア部１３４との間に設けられたアライメントライン１９２と、コア部１３４とコア部１３５との間に設けられたアライメントライン１９３と、コア部１３５とコア部１３６との間に設けられたアライメントライン１９４とを有している。
【０１２２】
これらのアライメントライン１９１〜１９４は、各コア部１３２〜１３６と同様の工程で形成することができる（図４）。
【０１２３】
また、これらのアライメントライン１９１〜１９４は、導波路間隔の中点（側面クラッド部１５０の中点）を結んでなる中間線上に形成されている。
【０１２４】
これらのアライメントライン１９１〜１９４は、常に、側面クラッド部１５０の中間点を示しているため、マルチブレードソー７を用いて光導波路集合体１を分離する際には、光導波路集合体１の端面において、この中間点を切断の起点になるようにすれば、コア部の偏心の少ない光導波路を簡単に製造することができる。
【０１２５】
例えば、図５に示す切断線ＣＬ１および切断線ＣＬ２の位置において、隣り合うアライメントライン間の間隔ｍが、切り出そうとする光導波路の幅と一致したとすると、各切断線ＣＬ１、ＣＬ２と各アライメントライン１９１〜１９４との交点を起点として切断するようにすればよい。なお、この切断方法については、後に詳述する。
【０１２６】
図６は、光導波路領域１３１に形成され得る各コア部１３２〜１３６の他の構成例を示す図である。図６に示す光導波路集合体１’は、各コア部１３２〜１３６の平面視形状が異なる以外は、図５に示す光導波路集合体１と同様である。
【０１２７】
図６に示す各コア部１３２〜１３６は、その長手方向の一部がそれぞれＸ軸に平行な直線状になっている。すなわち、図６に示す各コア部１３２〜１３６は、直線状部分１３１１と、前述したような余弦曲線を描いている部分（曲線部分１３１２）とに分かれている。
【０１２８】
このような光導波路集合体１’においても、前述した光導波路集合体１と同様の作用・効果が得られる。
【０１２９】
また、この曲線部分１３１２は、少なくとも光導波路集合体１’の両端部に設けられていればよい。これにより、光導波路集合体１’は、曲線部分１３１２において、接続相手先との接続における光接続損失の抑制を図ることができ、一方、直線状部分１３１１においては、屈曲部分が存在しないので、クラッド部１６への光の漏出を最小限に抑制することができる。その結果、光導波路集合体１’から得られる光導波路は、光通信の品質をさらに高めることができる。
【０１３０】
また、図７は、光導波路領域１３１に形成され得る各コア部１３２〜１３６の他の構成例を示す図である。図７に示す光導波路集合体１”は、各コア部１３２〜１３６の平面視形状が異なる以外は、図５に示す光導波路集合体１と同様である。
【０１３１】
図７に示す光導波路集合体１”では、各コア部１３２〜１３６のうち、Ｘ軸の起点となる左側端部が、曲線部分の「谷」に相当する部位に一致している。これに対し、前述した図５に示す光導波路集合体１では、各コア部１３２〜１３６のうち、Ｘ軸の起点となる左側端部は、曲線部分の「山」に相当する部位に一致しており、この点が光導波路集合体１”との相違点である。
【０１３２】
すなわち、図７に示す光導波路集合体１”は、各コア部１３２〜１３６の輪郭線の形状を表す関数が、以下の式（３−３）および式（４−３）で規定される以外は、光導波路集合体１と同様である。
【０１３３】
以下の式（３−３）は、図７に示す光導波路集合体１”のコア部１３３の輪郭線１３３１の形状を表し、式（４−３）は、コア部１３３の輪郭線１３３２の形状を表す関数である。
ｆａ（Ｘ）＝−Ａcos（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ−Ｃ／２      （３−３）
ｆｂ（Ｘ）＝−Ａcos（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ＋Ｃ／２      （４−３）
［上記式（３−３）および上記式（４−３）中、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｌはそれぞれ任意の実数であって、Ａは振幅、Ｂはオフセット量、Ｃはコア部１３３の幅、Ｌは周期である。］
【０１３４】
このような式（３−３）および式（４−３）により、コア部１３３の輪郭線１３３１、１３３２の形状が規定される。そして、上記式で規定される輪郭線１３３１、１３３２の形状は、いわゆる「余弦曲線」を描いている。なお、式（３−３）と式（４−３）との間で、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｌはそれぞれ同じ値である。また、これらのＡ、Ｂ、Ｃ、Ｌは、前記式（３−１）および式（４−１）中のＡ、Ｂ、Ｃ、Ｌと同じパラメータである。
【０１３５】
なお、この光導波路集合体１”は、前述した光導波路集合体１を平行移動させたものと実質的には同等である。したがって、前述した光導波路集合体１と同様の作用・効果を奏する。
【０１３６】
以上のような光導波路集合体１’および光導波路集合体１”においても、前記光導波路集合体１と同様の作用・効果が得られる。
【０１３７】
また、図示しないが、上記関数ｆａ（Ｘ）および関数ｆｂ（Ｘ）は、下記の式（３−２）および式（４−２）で規定される「正弦曲線」であってもよい。
ｆａ（Ｘ）＝Ａsin（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ−Ｃ／２      （３−２）
ｆｂ（Ｘ）＝Ａsin（２πＸ／Ｌ）＋Ｂ＋Ｃ／２      （４−２）
［上記式（３−２）および上記式（４−２）中、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｌはそれぞれ任意の実数であって、Ａは振幅、Ｂはオフセット量、Ｃはコア部１３３の幅、Ｌは周期である。］
【０１３８】
このような式（３−２）および式（４−２）により、コア部１３３の輪郭線１３３１、１３３２の形状が規定される。なお、式（３−２）と式（４−２）との間で、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｌはそれぞれ同じ値である。また、これらのＡ、Ｂ、Ｃ、Ｌは、前記式（３−１）および式（４−１）中のＡ、Ｂ、Ｃ、Ｌと同じパラメータである。
【０１３９】
なお、この「正弦曲線」で規定される光導波路集合体は、前述した光導波路集合体１および光導波路集合体１”のような「余弦曲線」で規定される光導波路を平行移動させたものと実質的には同等である。したがって、前述した光導波路集合体１および光導波路集合体１”と同様の作用・効果を奏する。
【０１４０】
＜第２実施形態＞
次に、本発明の光導波路集合体の第２実施形態について説明する。
図８は、本発明の光導波路集合体の第２実施形態を示すコア層の概略平面図である。
【０１４１】
以下、第２実施形態について説明するが、前記第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
【０１４２】
本実施形態は、切断しろの配設パターンが異なる以外は、前記第１実施形態と同様である。
【０１４３】
図８に示す光導波路集合体１ａは、Ｘ軸に沿って延在する並列配置された１２本のコア部１３２ａ、１３３ａ、１３４ａ、１３５ａ、１３２ｂ、１３３ｂ、１３４ｂ、１３５ｂ、１３２ｃ、１３３ｃ、１３４ｃ、１３５ｃを有している。
【０１４４】
また、前記第１実施形態では、全ての隣り合うコア部の間に「切断しろ」を設けたが、本実施形態は、コア部４本毎に「切断しろ」を有している。なお、切断しろを設けた側面クラッド部１５０には、各アライメントライン１９１ａ、１９２ａ、１９３ａ、１９４ａが設けられている。そして、これらのアライメントライン１９１ａ〜１９４ａにより、１２本のコア部１３２ａ〜１３５ｃは、３つのコア部の束に分けられている。
【０１４５】
このように光導波路集合体１ａが、コア部４本毎に設けられた「切断しろ」を有していることにより、マルチブレードソー７を用いて光導波路集合体１ａを切断した場合には、光導波路集合体１ａが寸法における未知の個体差を含んでいたとしても、煩雑な作業を伴うことなく、４本のコア部を有するマルチチャンネルの光導波路を複数本同時に製造することができる。
【０１４６】
また、光導波路集合体１ａでは、側面クラッド部１５０の幅がＸ方向に進むにつれて連続的に変化しており、かつ、切断しろが設けられた複数の側面クラッド部１５０間では、任意のＸ座標において、側面クラッド部１５０の幅から切断しろの幅を差し引いた長さの互いの比率が、前記変化においても一定に維持されているため、Ｘ方向のいずれかの位置で、切り出そうとするマルチチャンネルの光導波路の幅と、前述したコア部の束の間隔とが一致する。なお、コア部の束の間隔は、隣り合うアライメントラインの間隔としてもよい。このため、この位置で光導波路集合体１ａをＸ軸と直交する方向に切断すれば、その切断面では、切り出そうとするマルチチャンネルの光導波路の幅に対して偏りなく４つのコア部が配置されることとなる。その結果、光軸のずれが抑制され、光損失の少ないマルチチャンネルの光導波路を製造することができる。
【０１４７】
なお、本実施形態では、３つのコア部の束のそれぞれを、１本の太いコア部に見立て、このコア部の輪郭線の形状を規定する関数が、前記第１実施形態における式（１）および式（２）を満たすようにすればよい。
【０１４８】
また、この場合の輪郭線の形状を規定する関数には、前記式（３−１）および式（４−１）、式（３−２）および式（４−２）、式（３−３）および式（４−３）を適用することができる。
【０１４９】
（光導波路フィルムの製造方法）
次に、光導波路フィルム１０の各種製造方法について説明する。以下に説明する製造方法は、特開２００６−３２３３１８号公報に記載されたものと同じである。
【０１５０】
図９（ａ）〜（ｂ）、図１０、図１１、図１２および図１３（ａ）〜（ｂ）を参照しつつ上記光導波路フィルム１０の製造方法を説明する。図９（ａ）〜（ｂ）、図１０、図１１、図１２および図１３（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ、光導波路フィルム１０の製造工程例を模式的に示す断面図である。なお、図１１および図１３では、各コア部１３２〜１３６のうち、コア部１３２とコア部１３３を代表に図示している。
【０１５１】
図９（ａ）および（ｂ）を参照すると、まず、支持基板１６１上に、層１１０を形成する。層１１０は、コア層形成用材料（ワニス）１００を塗布し硬化（固化）させる方法により形成される。
【０１５２】
具体的には、層１１０は、支持基板１６１上にコア層形成用材料１００を塗布して液状被膜を形成した後、この支持基板１６１を換気されたレベルテーブルに置いて、液状被膜表面の不均一な部分を水平化するとともに、溶媒を蒸発（脱溶媒）することにより形成する。層１１０を塗布法で形成する場合、例えば、ドクターブレード法、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法の方法が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。支持基板１６１には、たとえば、シリコン基板、二酸化ケイ素基板、ガラス基板、石英基板、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが用いられる。
【０１５３】
コア層形成用材料１００は、ポリマー１１５と、添加剤１２０（本実施形態では、少なくともモノマー、助触媒および触媒前駆体を含む）とで構成される光誘発熱現像性材料（ＰＩＴＤＭ）を含有し、活性放射線の照射および加熱により、ポリマー１１５中において、モノマーの反応が生じる材料である。
【０１５４】
そして、得られた層１１０中では、ポリマー（マトリックス）１１５は、いずれも、実質的に一様かつランダムに分配され、添加剤１２０は、ポリマー１１５内に実質的に一様かつランダムに分散されている。これにより、層１１０中には、添加剤１２０が実質的に一様かつ任意に分散されている。このような層１１０の平均厚さは、形成すべきコア層１３の厚さに応じて適宜設定され、特に限定されないが、５〜２００μｍ程度であるのが好ましく、１０〜１００μｍ程度であるのがより好ましく、１５〜６５μｍ程度であるのがさらに好ましい。
【０１５５】
ポリマー１１５には、透明性が十分に高く（無色透明であり）、かつ、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中で後述するようにモノマーが反応（重合反応や架橋反応）可能であり、モノマーが重合した後においても、十分な透明性を有するものが好適に用いられる。ここで、「相溶性を有する」とは、モノマーが少なくとも混和して、コア層形成用材料１００中や層１１０中においてポリマー１１５と相分離を起こさないことを言う。
【０１５６】
このようなポリマー１１５としては、例えば、ノルボルネン系樹脂やベンゾシクロブテン系樹脂の環状オレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾールが挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体など）用いることができる。これらの中でも、特に、ノルボルネン系樹脂（ノルボルネン系ポリマー）を主とするものが好ましい。ポリマー１１５としてノルボルネン系ポリマーを用いることにより、優れた光伝送性能や耐熱性を有するコア層１３を得ることができる。
【０１５７】
また、ノルボルネン系ポリマーは、高い疎水性を有するため、吸水による寸法変化を生じ難いコア層１３を得ることができる。
【０１５８】
ノルボルネン系ポリマーとしては、単独の繰り返し単位を有するもの（ホモポリマー）、２つ以上のノルボルネン系繰り返し単位を有するもの（コポリマー）のいずれであってもよい。
【０１５９】
比較的高い屈折率を有するノルボルネン系ポリマーとしては、アラルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。かかるノルボルネン系ポリマーは、特に高い屈折率を有する。
【０１６０】
アラルキルノルボルネンの繰り返し単位が有するアラルキル基（アリールアルキル基）としては、たとえば、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、ナフチルエチル基、ナフチルプロピル基、フルオレニルエチル基、フルオレニルプロピル基が挙げられるが、ベンジル基やフェニルエチル基が特に好ましい。
【０１６１】
かかる繰り返し単位を有するノルボルネン系ポリマーは、極めて高い屈折率を有するものであることから好ましい。
【０１６２】
また、ノルボルネン系ポリマーは、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーは、柔軟性が高いため、かかるノルボルネン系ポリマーを用いることにより、光導波路集合体１に高いフレキシビリティ（可撓性）を付与することができる。
【０１６３】
アルキルノルボルネンの繰り返し単位が有するアルキル基としては、たとえば、プロピル基、ブチル基、ベンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基が挙げられるが、ヘキシル基が特に好ましい。なお、これらのアルキル基は、直鎖状または分岐状のいずれであってもよい。
【０１６４】
ヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、ノルボルネン系ポリマー全体の屈折率が低下するのを防止し、かつ、高い柔軟性を保持することができる。
【０１６５】
ここで、光導波路集合体１は、たとえば、６００〜１５５０ｎｍ程度の波長領域の光を使用したデータ通信において好適に使用されるが、ヘキシル（アルキル）ノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーは、前述したような波長領域（特に、８５０ｎｍ付近の波長領域）の光に対する透過率が優れることから好ましい。
【０１６６】
このようなノルボルネン系ポリマーの好ましい具体例としては、ヘキシルノルボルネンのホモポリマー、フェニルエチルノルボルネンのホモポリマー、ベンジルノルボルネンのホモポリマー、ヘキシルノルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとベンジルノルボルネンとのコポリマーが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１６７】
本実施形態のコア層形成用材料１００は、添加剤１２０として、モノマー、助触媒（第１の物質）および触媒前駆体（第２の物質）を含んでいる。
【０１６８】
モノマーは、後述する活性放射線に照射により、活性放射線の照射領域において反応して反応物を形成し、この反応物の存在により、層１１０において照射領域と、活性放射線の未照射領域とにおいて、屈折率差を生じさせ得るような化合物である。
【０１６９】
この反応物としては、モノマーがポリマー（マトリックス）１１５中で重合して形成されたポリマー（重合体）、ポリマー１１５同士を架橋する架橋構造、および、ポリマー１１５に重合してポリマー１１５から分岐した分岐構造（ブランチポリマーや側鎖（ペンダントグループ））のうちの少なくとも１つが挙げられる。
【０１７０】
ここで、層１１０において、照射領域の屈折率が高くなることが望まれる場合には、比較的低い屈折率を有するポリマー１１５と、このポリマー１１５に対して高い屈折率を有するモノマーとが組み合わせて使用され、照射領域の屈折率が低くなることが望まれる場合には、比較的高い屈折率を有するポリマー１１５と、このポリマー１１５に対して低い屈折率を有するモノマーとが組み合わせて使用される。なお、屈折率が「高い」または「低い」とは、屈折率の絶対値を意味するものではなく、ある材料同士の相対的な関係を意味する。
【０１７１】
そして、モノマーの反応（反応物の生成）により、層１１０において照射領域の屈折率が低下する場合、当該部分が側面クラッド部１５０となり、照射領域の屈折率が上昇する場合、当該部分が各コア部１３２、１３３となる。
【０１７２】
このようなモノマーとしては、重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、たとえば、ノルボルネン系モノマー、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、スチレン系モノマーが挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１７３】
これらの中でも、モノマーとしては、ノルボルネン系モノマーを用いるのが好ましい。ノルボルネン系モノマーを用いることにより、光伝送性能に優れ、かつ、耐熱性および柔軟性に優れるコア層１３が得られる。
【０１７４】
また、モノマーには、上記のモノマーに代えて、または、上記のモノマーとともに架橋性モノマー（架橋剤）を用いることもできる。この架橋性モノマーは、後述する触媒前駆体の存在下で、架橋反応を生じ得る化合物である。
【０１７５】
架橋性モノマーを用いることにより、次のような利点がある。すなわち、架橋性モノマーは、より速く重合するので、コア層１３の形成に要する時間を短縮することができる。また、架橋性モノマーは、加熱しても蒸発し難いので、蒸気圧の上昇を抑えることができる。さらに、架橋性モノマーは、耐熱性に優れるため、コア層１３の耐熱性を向上させることができる。
【０１７６】
架橋性ノルボルネン系モノマーとしては、連続多環環系（fused multicyclic ring systems）の化合物と、連結多環環系（linked multicyclic ring systems）の化合物とがある。
【０１７７】
各種の架橋性ノルボルネン系モノマーの中でも、特に、ジメチルビス（ノルボルネンメトキシ）シラン（ＳｉＸ）が好ましい。ＳｉＸは、アルキルノルボルネンの繰り返し単位および／またはアラルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーに対して十分に低い屈折率を有する。このため、後述する活性放射線を照射する照射領域の屈折率を確実に低くして、側面クラッド部１５０とすることができる。また、各コア部１３２、１３３と側面クラッド部１５０との間における屈折率差を大きくすることができ、コア層１３の特性（光伝送性能）の向上を図ることができる。
【０１７８】
なお、以上のようなモノマーは、単独または任意に組み合わせて用いるようにしてもよい。
【０１７９】
触媒前駆体（第２の物質）は、前記のモノマーの反応（たとえば、重合反応、架橋反応）を開始させ得る物質であり、後述する活性放射線の照射により活性化した助触媒（第１の物質）の作用により、活性化温度が変化する物質である。
【０１８０】
この触媒前駆体（プロカタリスト：procatalyst）としては、活性放射線の照射に伴って活性化温度が変化（上昇または低下）するものであれば、いかなる化合物を用いてもよいが、特に、活性放射線の照射に伴って活性化温度が低下するものが好ましい。これにより、比較的低温による加熱処理でコア層１３を形成することができ、他の層に不要な熱が加わって、光導波路集合体１の特性（光伝送性能）が低下するのを防止することができる。
【０１８１】
また、活性化温度が低下した状態（活性潜在状態）において、触媒前駆体としては、その活性化温度が本来の活性化温度よりも１０〜８０℃程度（好ましくは、１０〜５０℃程度）低くなるものが好ましい。これにより、各コア部１３２、１３３と側面クラッド部１５０との間の屈折率差を確実に生じさせることができる。
【０１８２】
かかる触媒前駆体としては、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（ｉ−Ｐｒ）３）２およびＰｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（Ｃｙ）３）２のうちの少なくとも一方を含む（主とする）ものが好適である。
【０１８３】
なお、以下では、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（ｉ−Ｐｒ）３）２を「Ｐｄ５４５」と、また、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（Ｃｙ）３）２を「Ｐｄ７８５」と略すことがある。
【０１８４】
助触媒（第１の物質）は、活性放射線の照射によって活性化して、前記の触媒前駆体（プロカタリスト）の活性化温度（モノマーに反応を生じさせる温度）を変化させ得る物質である。
【０１８５】
この助触媒（コカタリスト：cocatalyst）としては、活性放射線の照射により、その分子構造が変化（反応または分解）して活性化する化合物であれば、いかなるものでも用いることができるが、特定波長の活性放射線の照射によって分解し、プロトンや他の陽イオンのカチオンと、触媒前駆体の脱離基に置換し得る弱配位アニオン（ＷＣＡ）とを発生する化合物（光開始剤）を含む（主とする）ものが好適に用いられる。
【０１８６】
弱配位アニオンとしては、たとえば、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸イオン（ＦＡＢＡ−）、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン（ＳｂＦ６−）が挙げられる。
【０１８７】
この助触媒（光酸発生剤または光塩基発生剤）としては、たとえば、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸塩やヘキサフルオロアンチモン酸塩の他、テトラキス（ベンタフルオロフェニル）ガリウム酸塩、アルミン酸塩類、アンチモン酸塩類、他のホウ酸塩類、ガリウム酸塩類、カルボラン類、ハロカルボラン類が挙げられる。
【０１８８】
コア層形成用材料（ワニス）１００中には、必要に応じて、増感剤を添加するようにしてもよい。
【０１８９】
増感剤は、活性放射線に対する助触媒の感度を増大して、助触媒の活性化（反応または分解）に要する時間やエネルギーを減少させる機能や、助触媒の活性化に適する波長に活性放射線の波長を変化させる機能を有するものである。
【０１９０】
このような増感剤としては、助触媒の感度や増感剤の吸収のピーク波長に応じて適宜選択され、特に限定されないが、たとえば、９，１０−ジブトキシアントラセン（ＣＡＳ番号第７６２７５−１４−４番）のようなアントラセン類、キサントン類、アントラキノン類、フェナントレン類、クリセン類、ベンツピレン類、フルオラセン類（fluoranthenes）、ルブレン類、ピレン類、インダンスリーン類、チオキサンテン−９−オン類（thioxanthen‐9‐ones）が挙げられ、これらを単独または混合物として用いられる。
【０１９１】
増感剤の具体例としては、２−イソプロピル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、４−イソプロピル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、フェノチアジン（phenothiazine）またはこれらの混合物が挙げられる。
【０１９２】
コア層形成用材料１００中の増感剤の合有量は、特に限定されないが、０．０１重量％以上であるのが好ましく、０．５重量％以上であるのがより好ましく、１重量％以上であるのがさらに好ましい。なお、上限値は、５重量％以下であるのが好ましい。
【０１９３】
さらに、コア層形成用材料１００中には、酸化防止剤を添加することができる。これにより、望ましくないフリーラジカルの発生や、ポリマー１１５の自然酸化を防止することができる。その結果、得られたコア層１３の特性の向上を図ることができる。
【０１９４】
コア層形成用材料（ワニス）１００の調製に用いる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）、ジエチレングリコールエチルエーテル（カルビトール）等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン、メシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等の硫黄化合物系溶媒等の各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。
【０１９５】
さて、支持基板１６１上に形成された液状被膜中から溶媒を除去（脱溶媒）する方法としては、たとえば、自然乾燥、加熱、減圧下での放置、不活性ガスの吹付け（プロー）などによる強制乾燥の方法が挙げられる。
【０１９６】
以上のようにして、支持基板１６１上には、コア層形成用材料１００のフィルム状の固化物（または硬化物）である層１１０が形成される。このとき、層（ＰＩＴＤＭの乾燥フィルム）１１０は、第１の屈折率を有している。この第１の屈折率は、層１１０中に一様に分散（分布）するポリマー１１５およびモノマーの作用による。
【０１９７】
次に、図１０に示されるように、開口（窓）１３７１が形成されたマスク（マスキング）１３７を用意し、このマスク１３７を介して、層１１０に対して活性放射線１３０を照射する。
【０１９８】
以下では、モノマーとして、ポリマー１１５より低い屈折率を有するものを用い、また、触媒前駆体として、活性放射線１３０の照射に伴って活性化温度が低下するものを用いる場合を一例に説明する。すなわち、ここで示す例では、活性放射線１３０の照射領域１２５が側面クラッド部１５０となる。したがって、ここで示す例では、マスク１３７には、形成すべき側面クラッド部１５０のパターンと等価な開口（窓）１３７１が形成される。この開口１３７１は、照射する活性放射線１３０が透過する透過部を形成するものである。
【０１９９】
マスク１３７は、予め形成（別途形成）されたもの（例えばプレート状のもの）でも、層１１０上に例えば気相成膜法や塗布法により形成されたものでもよい。
【０２００】
マスク１３７として好ましいものの例としては、石英ガラスやＰＥＴ基材等で作製されたフォトマスク、ステンシルマスク、気相成膜法（蒸着、スパッタリング等）により形成された金属薄膜等が挙げられるが、これらの中でもフォトマスクやステンシルマスクを用いるのが特に好ましい。微細なパターンを精度良く形成することができるとともに、ハンドリングがし易く、生産性の向上に有利であるからである。
【０２０１】
また、図１０においては、形成すべき側面クラッド部１５０のパターンと等価な開口（窓）１３７１は、活性放射線１３０の未照射領域１４０のパターンに沿ってマスクを部分的に除去したものを示したが、前記石英ガラスやＰＥＴ基材等で作製されたフォトマスクを用いる場合、該フォトマスク上に例えばクロム等の金属による遮蔽材で構成された活性放射線１３０の遮蔽部を設けたものを用いることもできる。このマスクでは、遮蔽部以外の部分が前記窓（透過部）となる。
【０２０２】
用いる活性放射線１３０は、助触媒に対して、光化学的な反応（変化）を生じさせ得るものであればよく、たとえば、可視光、紫外光、赤外光、レーザ光の他、電子線やＸ線を用いることもできる。これらの中でも、活性放射線１３０は、助触媒の種類、増感剤を含有する場合には、増感剤の種類等によって適宜選択され、特に限定されないが、波長２００〜４５０ｎｍの範囲にピーク波長を有するものであるのが好ましい。これにより、助触媒を比較的容易に活性化させることができる。
【０２０３】
また、活性放射線１３０の照射量は、０．１〜９Ｊ／ｃｍ２程度であるのが好ましく、０．２〜６Ｊ／ｃｍ２程度であるのがより好ましく、０．２〜３Ｊ／ｃｍ２程度であるのがさらに好ましい。これにより、助触媒を確実に活性化させることができる。
【０２０４】
前記マスク１３７の構成材料としては、照射する活性放射線１３０により適宜選定される。具体的には、マスク１３７の構成材料としては、活性放射線１３０を遮光し得る材料とされる。このような特性を有するものであれば、マスク１３７の材料自体は、公知のいずれのものも使用することができる。
【０２０５】
マスク１３７を介して、活性放射線１３０を層１１０に照射すると、活性放射線１３０が照射された照射領域１２５内に存在する助触媒（第１の物質：コカタリスト）は、活性放射線１３０の作用により反応（結合）または分解して、カチオン（プロトンまたは他の陽イオン）と、弱配位アニオン（ＷＣＡ）とを遊離（発生）する。
【０２０６】
そして、これらのカチオンや弱配位アニオンは、照射領域１２５内に存在する触媒前駆体（第２の物質：プロカタリスト）の分子構造に変化（分解）を生じさせ、これを活性潜在状態（潜在的活性状態）に変化させる。
【０２０７】
ここで、活性潜在状態（または潜在的活性状態）の触媒前駆体とは、本来の活性化温度より活性化温度が低下しているが、温度上昇がないと、すなわち、室温程度では、照射領域１２５内においてモノマーの反応を生じさせることができない状態にある触媒前駆体のことを言う。
【０２０８】
したがって、活性放射線１３０照射後においても、例えば−４０℃程度で、層１１０を保管すれば、モノマーの反応を生じさせることなく、その状態を維持することができる。このため、活性放射線１３０照射後の層１１０を複数用意しておき、これらに一括して加熱処理を施すことにより、コア層１３を得ることができ、利便性が高い。
【０２０９】
なお、活性放射線１３０として、レーザ光のように指向性の高い光を用いる場合には、マスク１３７の使用を省略してもよい。
【０２１０】
次に、層１１０に対して加熱処理（第１の加熱処理）を施す。これにより、照射領域１２５内では、活性潜在状態の触媒前駆体が活性化して（活性状態となって）、モノマーの反応（重合反応や架橋反応）が生じる。
【０２１１】
そして、モノマーの反応が進行すると、照射領域１２５内におけるモノマー濃度が徐々に低下する。これにより、照射領域１２５と未照射領域１４０との間には、モノマー濃度に差が生じ、これを解消すべく、未照射領域１４０からモノマーが拡散（モノマーディフュージョン）して照射領域１２５に集まってくる。
【０２１２】
その結果、照射領域１２５では、モノマーやその反応物（重合体、架橋構造や分岐構造）が増加し、当該領域の屈折率にモノマー由来の構造が大きく影響を及ぼすようになり、第１の屈折率より低い第２の屈折率へと低下する。なお、モノマーの重合体としては、主に付加（共）重合体が生成する。
【０２１３】
一方、未照射領域１４０では、当該領域から照射領域１２５にモノマーが拡散することにより、モノマー量が減少するため、当該領域の屈折率にポリマー１１５の影響が大きく現れるようになり、第１の屈折率より高い第３の屈折率へと上昇する。
【０２１４】
このようにして、照射領域１２５と未照射領域１４０との間に屈折率差（第２の屈折率＜第３の屈折率）が生じて、図１１に示すように、各コア部１３２、１３３（未照射領域１４０）と側面クラッド部１５０（照射領域１２５）とが形成される。
【０２１５】
上記加熱処理における加熱温度は、特に限定されないが、３０〜８０℃程度であるのが好ましく、４０〜６０℃程度であるのがより好ましい。また、加熱時間は、照射領域１２５内におけるモノマーの反応がほぼ完了するように設定するのが好ましく、具体的には、０．１〜２時間程度であるのが好ましく、０．１〜１時間程度であるのがより好ましい。
【０２１６】
次に、層１１０に対して第２の加熱処理を施す。これにより、未照射領域１４０および／または照射領域１２５に残存する触媒前駆体を、直接または助触媒の活性化を伴って、活性化させる（活性状態とする）ことにより、各照射領域１２５、１４０に残存するモノマーを反応させる。
【０２１７】
このように、各照射領域１２５、１４０に残存するモノマーを反応させることにより、得られる各コア部１３２、１３３および側面クラッド部１５０の安定化を図ることができる。
【０２１８】
この第２の加熱処理における加熱温度は、触媒前駆体または助触媒を活性化し得る温度であればよく、特に限定されないが、７０〜１００℃程度であるのが好ましく、８０〜９０℃程度であるのがより好ましい。
【０２１９】
また、加熱時間は、０．５〜２時間程度であるのが好ましく、０．５〜１時間程度であるのがより好ましい。
【０２２０】
次に、層１１０に対して第３の加熱処理を施す。これにより、得られるコア層１３に生じる内部応力の低減や、各コア部１３２、１３３および側面クラッド部１５０の更なる安定化を図ることができる。
【０２２１】
この第３の加熱処理における加熱温度は、第２の加熱処理における加熱温度より２０℃以上高く設定するのが好ましく、具体的には、９０〜１８０℃程度であるのが好ましく、１２０〜１６０℃程度であるのがより好ましい。また、加熱時間は、０．５〜２時間程度であるのが好ましく、０．５〜１時間程度であるのがより好ましい。
以上の工程を経て、コア層１３が得られる。
【０２２２】
なお、例えば、第２の加熱処理や第３の加熱処理を施す前の状態で、各コア部１３２、１３３と側面クラッド部１５０との間に十分な屈折率差が得られている場合等には、第２の加熱処理や第３の加熱処理を省略してもよい。
【０２２３】
次に、図１２に示すように、支持基板１６２上に、クラッド層１１（１２）を形成する。
【０２２４】
クラッド層１１（１２）の形成方法としては、クラッド材を含むワニス（クラッド層形成用材料）を塗布し硬化（固化）させる方法、硬化性を有するモノマー組成物を塗布し硬化（固化）させる方法等、いかなる方法でもよい。
【０２２５】
クラッド層１１（１２）を塗布法で形成する場合、例えば、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法等の方法が挙げられる。
支持基板１６２には、支持基板１６１と同様のものを用いることができる。
【０２２６】
クラッド層１１（１２）の構成材料としては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体、複合体（積層体）など）用いることができる。
【０２２７】
これらのうち、特に耐熱性に優れるという点で、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、またはそれらを含むもの（主とするもの）を用いるのが好ましく、特に、ノルボルネン系樹脂（ノルボルネン系ポリマー）を主とするものが好ましい。
【０２２８】
ノルボルネン系ポリマーは、耐熱性に優れるため、これをクラッド層１１（１２）の構成材料として使用する光導波路集合体１では、光導波路集合体１に導体層を形成する際、導体層を加工して配線を形成する際、光学素子を実装する等に加熱されたとしても、クラッド層１１（１２）が軟化して、変形するのを防止することができる。
【０２２９】
また、高い疎水性を有するため、吸水による寸法変化等を生じ難いクラッド層１１（１２）を得ることができる。
【０２３０】
また、ノルボルネン系ポリマーまたはその原料であるノルボルネン系モノマーは、比較的安価であり、入手が容易であることからも好ましい。
【０２３１】
さらに、クラッド層１１（１２）の材料として、ノルボルネン系ポリマーを主とするものを用いると、曲げ等の変形に対する耐性に優れ、繰り返し湾曲変形した場合でも、クラッド層１１、１２とコア層１３との層間剥離が生じ難く、クラッド層１１、１２の内部にマイクロクラックが発生することも防止される。しかも、コア層１３の構成材料として好適に用いられる材料と同種となるため、コア層１３との密着性がさらに高いものとなり、クラッド層１１（１２）とコア層１３との間での層間剥離を防止することができる。このようなことから、光導波路集合体１の光伝送性能が維持され、最終的に耐久性に優れた光導波路が得られる。
【０２３２】
また、クラッド層１１（１２）の材料としては、ノルボルネン系ポリマーの中でも特に付加（共）重合体が好ましい。このものは、透明性、耐熱性および可撓性に富むことからも好ましい。
【０２３３】
また、特に、ノルボルネン系ポリマーは、重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位や、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。
【０２３４】
重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、クラッド層１１（１２）において、ノルボルネン系ポリマーの少なくとも一部のものの重合性基同士を、直接または架橋剤を介して架橋させることができる。また、重合性基の種類、架橋剤の種類、コア層１３に用いるポリマーの種類等によっては、このノルボルネン系ポリマーとコア層１３に用いるポリマーとを架橋させることもできる。換言すれば、かかるノルボルネン系ポリマーは、その少なくとも一部のものが重合性基において架橋しているのが好ましい。
【０２３５】
その結果、クラッド層１１（１２）自体の強度や、クラッド層１１（１２）とコア層１３との密着性の更なる向上を図ることができる。
【０２３６】
このような重合性基を含むノルボルネンの繰り返し単位としては、エポキシ基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、（メタ）アクリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、および、アルコキシシリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位のうちの少なくとも１種が好適である。これらの重合性基は、各種重合性基の中でも、反応性が高いことから好ましい。
【０２３７】
また、このような重合性基を含むノルボルネンの繰り返し単位を、２種以上含むものを用いれば、架橋密度をさらに向上させることができ、前記効果がより顕著となる。
【０２３８】
一方、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、アリール基は、疎水性が極めて高いため、クラッド層１１（１２）の吸水による寸法変化等をより確実に防止することができる。また、アリール基は、脂溶性（親油性）に優れ、前述したようなコア層１３に用いられるポリマーとの親和性が高いため、クラッド層１１（１２）とコア層１３との間での層間剥離をより確実に防止することができ、より耐久性に優れた光導波路集合体１が得られる。
【０２３９】
さらに、ノルボルネン系ポリマーは、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。なお、アルキル基は、直鎖状または分岐状のいずれであってもよい。
【０２４０】
アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、ノルボルネン系ポリマーは、柔軟性が高くなるため、クラッド層１１、１２に高いフレキシビリティ（可撓性）を付与することができる。
【０２４１】
また、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーは、前述したような波長領域（特に、８５０ｎｍ付近の波長領域）の光に対する透過率が優れることからも好ましい。
【０２４２】
なお、クラッド層１１（１２）に用いるノルボルネン系ポリマーは、比較的屈折率の低いものが好適であるのに対して、アリール基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むと、一般に屈折率が高くなる傾向を示すが、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、屈折率の上昇を防止することもできる。
【０２４３】
ノルボルネン系ポリマーは、前述した特性に加えて、比較的低い屈折率のものであり、かかるノルボルネン系ポリマーを主材料としてクラッド層１１（１２）を構成することにより、光導波路集合体１の光伝送性能をより向上させることができる。
【０２４４】
なお、ノルボルネン系ポリマーが、（メタ）アクリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含む場合、（メタ）アクリル基同士は、加熱により比較的容易に架橋（重合）させることができるが、クラッド層形成用材料中に、ラジカル発生剤を混合することにより、（メタ）アクリル基同士の架橋反応を促進することができる。
【０２４５】
ラジカル発生剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１，１−ビス（ｔ−ブチルペロキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等が好適に用いられる。
【０２４６】
また、ノルボルネン系ポリマーが、エポキシ基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位や、アルコキシシリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含む場合、これらの重合性基同士を直接架橋させるためには、クラッド層形成用材料中に、前述した助触媒と同種の物質（光酸発生剤または光塩基発生剤）を混合しておき、この物質の作用により、エポキシ基やアルコキシシリル基を架橋させればよい。
【０２４７】
一方、エポキシ基同士、（メタ）アクリル基同士やアルコキシシリル基同士を架橋剤を介して架橋させるためには、さらに、クラッド層形成用材料中に、架橋剤として、各重合性基に対応する重合性基を少なくとも１つ有する化合物を混合するようにすればよい。
【０２４８】
エポキシ基を有する架橋剤としては、例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（γ−ＧＰＳ）、シリコーンエポキシ樹脂等が好適に用いられる。
【０２４９】
（メタ）アクリル基を有する架橋剤としては、例えば、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラントリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンジメタノールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート等が好適に用いられる。
【０２５０】
アルコキシシリル基を有する架橋剤としては、例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシランのようなシランカップリング剤等が好適に用いられる。
【０２５１】
これらの重合性基同士の架橋反応は、本工程の最終段階で行うようにしてもよいし、光導波路集合体１を得た後に行うようにしてもよい。
【０２５２】
また、クラッド層形成用材料中には、各種の添加剤を添加（混合）するようにしてもよい。
【０２５３】
たとえば、クラッド層形成用材料中には、前記コア層形成用材料で挙げたモノマー、触媒前駆体および助触媒を混合してもよい。これにより、クラッド層１１（１２）中において、前述したのと同様にして、モノマーを反応させて、クラッド層１１（１２）の屈折率を変化させることができる。
【０２５４】
特に、モノマーとしては、架橋性モノマーを含むものを用いると、クラッド層１１（１２）において、ノルボルネン系ポリマーの少なくとも一部のものを、架橋性モノマーを介して架橋させることができる。また、架橋剤の種類、コア層１３に用いるポリマーの種類等によっては、このノルボルネン系ポリマーとコア層１３に用いるポリマーとを架橋させることもできる。
【０２５５】
また、この場合、クラッド層１１（１２）中において、屈折率の差を設けることが要求されないので、助触媒を省略して、加熱により容易に活性化する触媒前駆体を用いることもできる。
【０２５６】
かかる触媒前駆体としては、例えば、［Ｐｄ（ＰＣｙ３）２（Ｏ２ＣＣＨ３）（ＮＣＣＨ３）］テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、［２−ｍｅｔｈａｌｌｙｌＰｄ（ＰＣｙ３）２］テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、［Ｐｄ（ＰＣｙ３）２Ｈ（ＮＣＣＨ３）］テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、［Ｐｄ（Ｐ（ｉＰｒ）３）２（ＯＣＯＣＨ３）（ＮＣＣＨ３）］テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
【０２５７】
その他の添加剤としては、前述したような酸化防止剤が挙げられる。酸化防止剤を混合することにより、クラッド材（ノルボルネン系ポリマー）の酸化による劣化を防止することができる。
以上のようにして、支持基板１６２上に、クラッド層１１（１２）が形成される。
【０２５８】
クラッド層１１、１２の平均厚さは、コア層１３の平均厚さの０．１〜１．５倍程度であるのが好ましく、０．３〜１．２５倍程度であるのがより好ましく、具体的には、クラッド層１１、１２の平均厚さは、特に限定されないが、それぞれ、通常、１〜２００μｍ程度であるのが好ましく、５〜１００μｍ程度であるのがより好ましく、１０〜６０μｍ程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路集合体１が不要に大型化（圧膜化）するのを防止しつつ、クラッド層としての機能が好適に発揮される。
【０２５９】
次に、支持基板１６１からコア層１３を剥離し、このコア層１３を、図１３（ａ）に示すように、クラッド層１１が形成された支持基板１６２と、クラッド層１２が形成された支持基板１６２とで挟持する。
【０２６０】
そして、図１３（ａ）中の矢印で示すように、クラッド層１２が形成された支持基板１６２の上面側から加圧し、クラッド層１１、１２とコア層１３とを圧着する。これにより、クラッド層１１、１２とコア層１３とが接合、一体化される。
【０２６１】
この圧着作業は、加熱下で行われるのが好ましい。加熱温度は、クラッド層１１、１２やコア層１３の構成材料等により適宜決定されるが、通常は、８０〜２００℃程度が好ましく、１２０〜１８０℃程度がより好ましい。
【０２６２】
次いで、クラッド層１１、１２から、それぞれ、支持基板１６２を剥離、除去する。これにより、図１３（ｂ）に示す光導波路集合体１が得られる。
【０２６３】
このような光導波路集合体１の好ましい例では、コア層１３において、各コア部１３２、１３３が第１のノルボルネン系材料を主材料として構成され、側面クラッド部１５０が第１のノルボルネン系材料より低い屈折率を有する第２のノルボルネン系材料を主材料として構成され、クラッド層１１、１２が、それぞれ、第１のノルボルネン系材料（コア層１３の各コア部１３２、１３３）より屈折率が低いノルボルネン系ポリマーを主材料として構成される。
【０２６４】
そして、第１のノルボルネン系材料と前記第２のノルボルネン系材料とは、いずれも、同一のノルボルネン系ポリマーを含有するが、このノルボルネン系ポリマーと異なる屈折率を有するノルボルネン系モノマーの反応物の含有量が異なることにより、互いに屈折率が異なっている。
【０２６５】
ノルボルネン系ポリマーは、透明性が高いため、かかる構成の光導波路集合体１では、高い光伝送性能が得られる。
【０２６６】
また、このような構成により、各コア部１３２、１３３と側面クラッド部１５０との間の高い密着性のみならず、コア層１３とクラッド層１１およびクラッド層１２との間の高い密着性が得られ、光導波路集合体１に曲げ等の変形が生じた場合でも、各コア部１３２、１３３と側面クラッド部１５０との剥離や、コア層１３とクラッド層１１、１２との層間剥離が生じ難く、各コア部１３２、１３３内や側面クラッド部１５０内にマイクロクラックが発生することも防止される。その結果、光導波路集合体１の光伝送性能が維持される。
【０２６７】
さらに、ノルボルネン系ポリマーは、高い耐熱性、高い疎水性を有するため、かかる構成の光導波路集合体１では、耐久性に優れたものとなる。
【０２６８】
また、光導波路集合体１に高い耐熱性や高い疎水性を付与することができるため、その特性の低下（劣化）を防止しつつ、前述したような各種の方法を採用して導体層を確実に形成することができる。特に、光の伝送に重要な各コア部１３２、１３３と重なるように、導体層を形成した場合でも、各コア部１３２、１３３の変質・劣化を防止することができる。
【０２６９】
また、以上のような製造方法によれば、簡単な処理で、しかも短時間に、所望の形状を有し、かつ、寸法精度の高い各コア部１３２〜１３６を有する光導波路集合体１を得ることができる。
【０２７０】
（光導波路の製造方法）
次に、光導波路フィルム１０を複数個に分離し、複数の光導波路２０を製造する方法について説明する。なお、以下では、光導波路フィルム１０を切断する切断手段として、マルチブレードソー７を用いた場合について説明する。
【０２７１】
図１４および図１５は、図５に示す光導波路フィルムを分離して複数の光導波路を製造する方法を説明するための図である。
【０２７２】
まず、光導波路フィルム１０の光導波路集合体１について、製造すべき光導波路２０の幅と、導波路間隔（側面クラッド部１５０の幅）とが一致する部分を、目測または計測により特定する。ここでは、一例として、前記一致が得られる位置が、図５に切断線ＣＬ１で示される位置と、切断線ＣＬ２で示される位置とである場合について説明する。
【０２７３】
次に、図１４（ａ）に示すように、これらの切断線ＣＬ１および切断線ＣＬ２に沿って光導波路フィルム１０を切断する。切断後の切断線ＣＬ１より右側の切断片、および、切断線ＣＬ２より左側の切断片は、それぞれ不要である。
【０２７４】
次いで、製造すべき光導波路２０の幅と、マルチブレードソー７の隣り合うブレードソー７１同士の間隔（対向する面同士の離間距離）とが一致するように、ブレードソー７１同士の間隔を調整する。一旦ブレードソー７１同士の間隔を調整した後は、製造すべき光導波路２０の幅が変わらない限り、このブレードソー７１同士の間隔は変更する必要はない。
【０２７５】
そして、光導波路フィルム１０の切断線ＣＬ１と各アライメントライン１９１、１９２との交点Ｑに、各ブレードソー７１が位置するように、光導波路フィルム１０とマルチブレードソー７の位置を合わせる。なお、製造すべき光導波路２０の幅と、導波路間隔とが一致しており、かつ、製造すべき光導波路２０の幅と、マルチブレードソー７の隣り合うブレードソー７１同士の間隔とが一致していることから、当然に、導波路間隔の中間線である各アライメントライン１９１、１９２の間隔は、ブレードソー７１同士の間隔と一致している。このため、１つの交点Ｑに対して１つのブレードソー７１の位置を合わせさえすれば、その他の交点Ｑとその他のブレードソー７１との位置合わせは、自然になされる。このようにすれば簡単に位置合わせを行うことができる。
【０２７６】
次いで、マルチブレードソー７により、光導波路フィルム１０を切断する。各ブレードソー７１は、切断線ＣＬ１と各アライメントライン１９１、１９２との交点Ｑを起点とし、Ｘ軸と平行に移動しつつ光導波路フィルム１０を切断する。その結果、図１５に示すように、光導波路フィルム１０を複数に分離することができ、複数の光導波路２０が同時に製造される。
【０２７７】
このようにして製造された光導波路２０は、長手方向の途中で各コア部１３２〜１３６が湾曲し、光導波路２０の幅に対して各コア部１３２〜１３６が偏心した部分を有しているものの、光導波路２０の両端面では、光導波路２０の幅の中央に各コア部１３２〜１３６の端面が露出している。光導波路２０では、その長手方向の途中で各コア部１３２〜１３６が湾曲していたとしても、光伝送特性にはほとんど影響がない。しかしながら、端面では、光導波路２０との接続相手先との接続性の観点から、各コア部１３２〜１３６に偏心があると、これにより光損失が生じ、接続性が低下するおそれがあるものの、図１５に示す光導波路２０は、端面における各コア部１３２〜１３６の偏心が抑えられているため、光損失の少ないものとなる。
【０２７８】
また、マルチブレードソー７が備える複数のブレードソー７１は、それぞれの厚さに個体差があるため、それによって切断幅がばらつくおそれがある。しかしながら、光導波路フィルム１０は、前述したように、それぞれが有する寸法の個体差を考慮したものになっているため、ブレードソー７１の厚さの個体差が光導波路フィルム１０の寸法の個体差の範囲内であれば、ブレードソー７１の厚さの個体差も吸収することができる。
【０２７９】
以上のような方法により、寸法における未知の個体差を含む光導波路フィルム１０を切断する場合でも、その都度個体差を計測してそれに合わせてブレードソー７１同士の間隔を調整する等の煩雑な作業を伴うことなく、コア部の偏心の少ない複数の光導波路２０を効率よく製造することができる。
【０２８０】
なお、図１４および図１５では、光導波路フィルム１０を５つの光導波路２０に個片化するにあたって、６枚のブレードソー７１を備えるマルチブレードソー７を用いた場合について図示しているが、６枚未満（例えば１枚または２枚）のブレードソー７１を用い、これを製造すべき光導波路２０の幅に合わせたピッチでＹ方向にずらしつつ光導波路フィルム１０を切断するようにしてもよい。この場合でも、ブレードソー７１をずらすピッチを、光導波路フィルム１０の寸法の個体差に応じてその都度変更することなく、すなわち前記ピッチを等間隔に固定したとしても、光導波路フィルム１０の切断を行うことができる。その結果、煩雑な作業を伴うことなく、コア部の偏心の少ない複数の光導波路２０を効率よく製造することができる。
【０２８１】
（積層型光導波路フィルムの構造）
図１６（ａ）および図１６（ｂ）は、積層型光導波路フィルムの概略構造を示す断面図である。
【０２８２】
図１６（ａ）に示す積層型光導波路フィルムは、上記光導波路集合体１と同じ構造を有する第１光導波路集合体１Ａおよび第２光導波路集合体１Ｂが接着層８を介して積層された構造を有している。第１光導波路集合体１Ａおよび第２光導波路集合体１Ｂの各々の製造方法は、上記光導波路集合体１の製造方法と同じである。
【０２８３】
また、図１６（ｂ）に示す積層型光導波路フィルムは、クラッド層（下部クラッド層）１１、コア層（下部コア層）１３、クラッド層（中間クラッド層）１２、コア層（上部コア層）１３およびクラッド層（上部クラッド層）１２がこの順に積層された構造を有している。よって、図１６（ｂ）に示す積層型光導波路フィルムは、実質的に２つの光導波路が積層された構造を有する。下部クラッド層１１、下部コア層１３および中間クラッド層１２からなる積層構造は、上記光導波路集合体１の製造方法と同様に形成される。その後、この積層構造上に上部コア層１３および上部クラッド層１２が、上記光導波路集合体１のコア層１３およびクラッド層１２と同じ工程で形成される。
【０２８４】
このようにして得られた積層型光導波路フィルムを、前述したような方法で複数の光導波路に分離する。これにより、コア部の偏心の少ない複数の積層型光導波路を効率よく製造することができる。
【０２８５】
以上、本発明の光導波路集合体を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を発揮し得る任意の構成と置換することができ、また、任意の構成が付加されていてもよい。
【０２８６】
例えば、前記実施形態では、アライメントマーク１８１とライン状パターン１７１ａ、１７１ｂとによりアライメントパターン１７１が構成されるが、これに限定されるものではなく、アライメントマークを表すパターンとライン状パターンを表すパターンとが完全に分離されていてもよい。
【０２８７】
また、このような本発明の光導波路集合体から得られた光導波路は、例えば光通信用の光配線として用いることができる。
【０２８８】
また、このような光導波路を備えた光配線（本発明の光配線）は、既存の電気配線とともに基板上に混載されることにより、いわゆる「光・電気混載基板」を構成することができる。かかる光・電気混載基板（本発明の光電気混載基板）では、例えば、光配線（光導波路のコア部）で伝送された光信号を、光デバイスにおいて電気信号に変換し、電気配線に伝達する。これにより、光配線の部分で、従来の電気配線よりも高速かつ大容量の情報伝送を可能にする。したがって、例えばＣＰＵやＬＳＩ等の演算装置とＲＡＭ等の記憶装置との間をつなぐバス等に、この光・電気混載基板を適用することにより、システム全体の性能を高めるとともに、電磁ノイズの発生を抑制することができる。
【０２８９】
なお、かかる光・電気混載基板は、例えば、携帯電話、ゲーム機、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等、大容量のデータを高速に伝送する電子機器類に搭載することが考えられる。このように光・電気混載基板を備えた電子機器（本発明の電子機器）は、内部の情報処理速度に優れた高い性能を発揮し得るものとなる。
【符号の説明】
【０２９０】
１、１’、１”、１ａ                    光導波路集合体
１０                                    光導波路フィルム
１１、１２                              クラッド層
１３                                    コア層
１３１                                  光導波路領域
１３２〜１３６                          コア部
１３２ａ〜１３５ｃ                      コア部
１３３１、１３３２                      輪郭線
１３１１                                直線状部分
１３１２                                曲線部分
１３１５〜１３６５                      切断しろ
１５０                                  側面クラッド部
１６                                    クラッド部
１７１、１７２                          アライメントパターン
１７１ａ、１７１ｂ、１７２ａ、１７２ｂ  ライン状パターン
１８１、１８２                          アライメントマーク
１９１〜１９４                          アライメントライン
１９１ａ〜１９４ａ                      アライメントライン
１００                                  コア層形成用材料（ワニス）
１１０                                  層
１１５                                  ポリマー
１２０                                  添加剤
１２５                                  照射領域
１３０                                  活性放射線（活性エネルギー線）
１３７                                  マスク
１３７１                                開口（窓）
１４０                                  未照射領域
１６１、１６２                          支持基板
２０                                    光導波路
１Ａ                                    第１光導波路集合体
１Ｂ                                    第２光導波路集合体
８                                      接着層
７                                      マルチブレードソー
７１                                    ブレードソー
７２                                    回転軸
９                                      光導波路フィルム
９０                                    光導波路
９０１、９０２                          クラッド層
９０３                                  コア層
９０４                                  コア部
９０５                                  クラッド部
ＣＬ１、ＣＬ２                          切断線
【図１】
2010231091.tif 000003
【図２】
2010231091.tif 000004
【図３】
2010231091.tif 000005
【図４】
2010231091.tif 000006
【図５】
2010231091.tif 000007
【図６】
2010231091.tif 000008
【図７】
2010231091.tif 000009
【図８】
2010231091.tif 000010
【図９】
2010231091.tif 000011
【図１０】
2010231091.tif 000012
【図１１】
2010231091.tif 000013
【図１２】
2010231091.tif 000014
【図１３】
2010231091.tif 000015
【図１４】
2010231091.tif 000016
【図１５】
2010231091.tif 000017
【図１６】
2010231091.tif 000018
【図１７】
2010231091.tif 000019