(57)【要約】【課題】反射干渉ムラを少なくし、外観特性に優れると共に反射防止性能を高く得ることができる反射防止フィルムを提供する。【解決手段】ポリエステルフィルム１の表面に表面側易接着層２及びハードコート層３をこの順に設けると共に、前記ポリエステルフィルム１の裏面に裏面側易接着層４を設けて形成された反射防止フィルムに関する。ハードコート層３の屈折率が１．５８〜１．８５である。裏面側易接着層４の光学膜厚が１１０〜１７０ｎｍである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルフィルムの表面に表面側易接着層及びハードコート層をこの順に設けると共に、前記ポリエステルフィルムの裏面に裏面側易接着層を設けて形成された反射防止フィルムにおいて、ハードコート層の屈折率が１．５８〜１．８５であると共に、裏面側易接着層の光学膜厚が１１０〜１７０ｎｍであることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
裏面側易接着層の屈折率が１．４５〜１．６５であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
ポリエステルフィルムの反射率が４％以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
表面側易接着層の膜厚が５〜８０ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
表面側易接着層の屈折率が１．５８〜１．７５であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる少なくとも一つの酸化物が高屈折率粒子としてハードコート層に含有されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
ハードコート層が帯電防止性を有していることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
インジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる少なくとも一つの酸化物が導電性ナノ粒子としてハードコート層に含有されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
ハードコート層のシート抵抗が１０15Ω／□以下であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１０】
ハードコート層の表面に屈折率が１．３０〜１．４５の低屈折率層が設けられていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１１】
低屈折率層の表面に防汚層が設けられていることを特徴とする請求項１０に記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ（ＣＲＴディスプレイ、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等）の表示画面表面、窓、ショーウィンドウ等住建部材表面に適用される反射防止フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ポリエステルフィルム、特に、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの２軸延伸フィルムは、優れた機械的特性、耐熱性、耐薬品性等を有するため、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、ラミネート用フィルム、ディスプレイなどの表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として広く用いられている。特に、ディスプレイ用途に関しては液晶表示装置の部材であるプリズムレンズシート、タッチパネル、バックライト等のベースフィルムや、テレビの反射防止フィルムのベースフィルム、プラズマテレビの前面光学フィルターに用いられる反射防止フィルム、近赤外線カットフィルム、電磁波シールドフィルムのベースフィルム等の用途がある。
【０００３】
このような反射防止フィルムなどの光学フィルムに用いられるベースフィルムは、高透過性とともに、コート層との易接着性が求められる。すなわち、ベースフィルムには、光学フィルムとしての性能を確保したり機能を高めたりするために、例えば、表面保護のために設けられるハードコート層を形成するためのハードコート層材料、粘着材料、反射防止処理材料及びその他コーティング材料が適用されるが、このようなコーティング材料に対する優れた易接着性が要求される場合がある。
【０００４】
しかしながら、通常のポリエステルフィルムは結晶性が高く、一般的に上記コーティング材料などとの密着性を確保するのは困難であった。従って、例えば、ハードコート層との易接着性を確保するためには、ポリエステルフィルムの表面へ易接着層を塗設する方法が、コロナ処理、フレーム処理等気相表面処理方法、プライマー等塗布による化学的表面処理方法等が用いられている。特に、ディスプレイ用途に用いられるＰＥＴフィルムは高い透明性及び密着性が要求されるため、ナノメートルオーダーの膜厚の易接着層が塗設されたタイプを用いるのが一般的であった（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
このような易接着層が塗設されたポリエステルフィルムを用いた場合、前述の通り高い透明性及びハードコート層との密着性を確保することができ、また、ポリエステルフィルムの耐ブロッキング性を向上させることができる。
【０００６】
しかしながら、反射防止フィルム等の光学フィルムに用いる場合、易接着層とポリエステルフィルムの間、また易接着層とハードコートフィルムの間の屈折率ミスマッチのため、界面反射が増大し、反射率増大の不具合を生じていた。加えて、ハードコート層と反対側に位置する易接着層についても同様に、易接着層とポリエステルフィルムとの間、易接着層と構成層（粘着層など）との間での界面反射が増大し、反射率増大の不具合を生じていた。
【特許文献１】特開平９−２２０７９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、反射干渉ムラを少なくし、外観特性に優れると共に反射防止性能を高く得ることができる反射防止フィルムを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の請求項１に係る反射防止フィルムは、ポリエステルフィルム１の表面に表面側易接着層２及びハードコート層３をこの順に設けると共に、前記ポリエステルフィルム１の裏面に裏面側易接着層４を設けて形成された反射防止フィルムにおいて、ハードコート層３の屈折率が１．５８〜１．８５であると共に、裏面側易接着層４の光学膜厚が１１０〜１７０ｎｍであることを特徴とするものである。
【０００９】
請求項２に係る発明は、請求項１において、裏面側易接着層４の屈折率が１．４５〜１．６５であることを特徴とするものである。
【００１０】
請求項３に係る発明は、請求項１又は２において、ポリエステルフィルム１の反射率が４％以上であることを特徴とするものである。
【００１１】
請求項４に係る発明は、請求項１乃至３のいずれか１項において、表面側易接着層２の膜厚が５〜８０ｎｍであることを特徴とするものである。
【００１２】
請求項５に係る発明は、請求項１乃至４のいずれか１項において、表面側易接着層２の屈折率が１．５８〜１．７５であることを特徴とするものである。
【００１３】
請求項６に係る発明は、請求項１乃至５のいずれか１項において、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる少なくとも一つの酸化物が高屈折率粒子としてハードコート層３に含有されていることを特徴とするものである。
【００１４】
請求項７に係る発明は、請求項１乃至６のいずれか１項において、ハードコート層３が帯電防止性を有していることを特徴とするものである。
【００１５】
請求項８に係る発明は、請求項１乃至７のいずれか１項において、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる少なくとも一つの酸化物が導電性ナノ粒子としてハードコート層３に含有されていることを特徴とするものである。
【００１６】
請求項９に係る発明は、請求項１乃至８のいずれか１項において、ハードコート層３のシート抵抗が１０15Ω／□以下であることを特徴とするものである。
【００１７】
請求項１０に係る発明は、請求項１乃至９のいずれか１項において、ハードコート層３の表面に屈折率が１．３０〜１．４５の低屈折率層５が設けられていることを特徴とするものである。
【００１８】
請求項１１に係る発明は、請求項１０において、低屈折率層５の表面に防汚層６が設けられていることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の請求項１に係る反射防止フィルムによれば、反射干渉ムラを少なくし、外観特性に優れると共に反射防止性能を高く得ることができるものである。
【００２０】
請求項２に係る発明によれば、界面反射を低減し、反射防止性能をさらに高く得ることができるものである。
【００２１】
請求項３に係る発明によれば、反射干渉ムラを少なくし、外観特性をさらに向上させると共に、反射防止性能をさらに高く得ることができるものである。
【００２２】
請求項４に係る発明によれば、ポリエステルフィルムとハードコート層の密着性を確保しつつ、反射率の増大及び干渉ムラの悪化を防止することができるものである。
【００２３】
請求項５に係る発明によれば、表面側易接着層の屈折率とポリエステルフィルム及びハードコート層の屈折率との差が小さくなることによって、反射防止フィルムとしての反射率の増大及び干渉ムラの悪化を防止することができるものである。
【００２４】
請求項６に係る発明によれば、ハードコート層の屈折率を増大させることができ、ハードコート層による反射干渉ムラを少なくすることができ、外観特性に優れると共に、ハードコート層の表面に低屈折率層を設ける場合に反射防止性能を高く得ることができるものである。
【００２５】
請求項７に係る発明によれば、ハードコート層が静電気等により帯電するのを防止し、埃を付着させにくくすることができるものである。
【００２６】
請求項８に係る発明によれば、導電性ナノ粒子によりハードコート層に導電性を付与することができ、帯電防止性を有するハードコート層を容易に設けることができるものである。
【００２７】
請求項９に係る発明によれば、ハードコート層の帯電防止性を向上させることができるものである。
【００２８】
請求項１０に係る発明によれば、ハードコート層よりも屈折率の小さい低屈折率層で光の反射をさらに低減することができ、反射防止性能をさらに高く得ることができるものである。
【００２９】
請求項１１に係る発明によれば、指紋付着などによる汚染を少なくし、かつその除去性を高めることができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
【００３１】
図１は本発明に係る反射防止フィルムの一例を示す断面図である。図１（ａ）に示す反射防止フィルムは、透明基材としてポリエステルフィルム１が用いられる。ポリエステルフィルム１の表裏両面にはそれぞれ表面側易接着層２、裏面側易接着層４が設けられている。表面側易接着層２の表面にはさらにハードコート層３が設けられている。図１（ｂ）は、上記反射防止フィルムを粘着層などの構成層７に貼り付けた状態を示す断面図である。
【００３２】
図２は本発明に係る反射防止フィルムの他の一例を示す断面図である。図２（ａ）に示す反射防止フィルムは、ハードコート層３の表面に低屈折率層５が設けられている。図２（ｂ）は、最表面に低屈折率層５が設けられた反射防止フィルムを粘着層などの構成層７に貼り付けた状態を示す断面図である。
【００３３】
図３は本発明に係る反射防止フィルムの他の一例を示す断面図である。図３（ａ）に示す反射防止フィルムは、低屈折率層５の表面に防汚層６が設けられている。図３（ｂ）は、最表面に防汚層６が設けられた反射防止フィルムを粘着層などの構成層７に貼り付けた状態を示す断面図である。
【００３４】
本発明で用いるポリエステルフィルム１は、ポリエステルとして、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタリンジカルボン酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸成分と、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオール等のグリコール成分とから構成される芳香族ポリエステルが好ましく、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタリンジカルボキシレートが好ましい。また、上記に例示した複数の成分等の共重合ポリエステルであってもよい。
【００３５】
上記ポリエステルフィルム１には、製膜時のフィルムの巻き取り性や、ハードコート層３や粘着剤等を塗設する際のフィルムの搬送性等を良くするため、必要に応じて、滑剤としての有機または無機の微粒子を含有させることができる。かかる微粒子としては、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、架橋アクリル樹脂微粒子、架橋ポリスチレン樹脂微粒子、尿素樹脂微粒子、メラミン樹脂微粒子、架橋シリコーン樹脂微粒子等が例示される。また、微粒子以外にも着色剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、他の樹脂等も透明性を損なわない範囲で任意に含有させることができる。
【００３６】
本発明におけるポリエステルフィルム１はヘイズが３％以下、好ましくは１．５％以下であることが好ましい。ヘイズが３％を超えると各種ディスプレイ用途において視認性を損なうなど光学用途として適さないことがある。この観点において、ヘイズが３％以下の高い透明性を保持しながら、ロール状態での耐ブロッキング性、易滑性、ハードコート層３との密着性を向上させるために、ナノメートルオーダーの表面側易接着層２がコーティングされたポリエステルフィルム１が従来から一般的に用いられる。しかしながら、このような表面側易接着層２がコーティングされたポリエステルフィルム１を用いた場合、表面側易接着層２の屈折率はポリエステルフィルム１の屈折率と異なるのが一般的である。
【００３７】
まず裏面側易接着層４については、ポリエステルフィルム１との界面、またその反対側に粘着層や他のアクリル系樹脂膜などの構成層７を設けた場合、その構成層７との界面、合計２種類の界面反射が存在し、反射率を増大させる原因となっている。この課題を解決するためには、裏面側易接着層４の屈折率がポリエステルフィルム１の屈折率と構成層７の屈折率との中間の値を取ることが望ましく、かつ、その光学膜厚が１４０ｎｍのときに最も反射率を低減することが可能である。具体的には、裏面側易接着層の屈折率は１．４５〜１．６５であることが好ましい。これにより、界面反射を低減し、反射防止性能をさらに高く得ることができるものである。通常、構成層７には粘着層や他のアクリル系樹脂膜（屈折率ｎ＝１．４５〜１．６５）を設けることが多く、例えば、粘着層（ｎ＝１．５４）を設けた場合、ポリエステルフィルム１がＰＥＴフィルム（ｎ＝１．６９）のとき、裏面側易接着層４の屈折率が１．６２、光学膜厚が１４０ｎｍ（実膜厚８６ｎｍ）のときに最も反射率を低減することができる。なお、以下において単に「膜厚」といえば、実膜厚（物理膜厚）を意味するものとする。
【００３８】
次に表面側易接着層２については、ハードコート層３との屈折率の差が大きい場合、表面側易接着層２及びハードコート層３の膜厚ムラ等の原因により、外観干渉ムラを発生する等の課題があった。ポリエステルフィルム１の表面に表面側易接着層２を設け、さらにこの表面側易接着層２の表面に屈折率が１．５８〜１．８５のハードコート層３を設けると、光学的にはハードコート層３／表面側易接着層２及び表面側易接着層２／ポリエステルフィルム１の界面で反射を生じ、反射防止フィルムの反射率特性及び干渉ムラ特性を悪化させるおそれがある。この反射を抑制するには表面側易接着層２による光学的な悪影響を除外する必要がある。表面側易接着層２が設けられたポリエステルフィルム１の反射率は、使用する表面側易接着層２の屈折率がポリエステルフィルム１の屈折率（ＰＥＴフィルムの場合、ｎ＝１．６９）よりも小さくなるにつれ、かつ表面側易接着層２の膜厚が１００ｎｍに近づく程小さくなる。逆に表面側易接着層２の光学的悪影響を除外した場合、反射率はポリエステルフィルム１単体の６．５％に近づいていく。本発明ではこのような課題に鑑みて、使用するポリエステルフィルム１として、ハードコート層３と接する側の表面側易接着層２が設けられたポリエステルフィルムの反射率が４％以上（上限は９％）であるフィルムを使用し、表面側易接着層２の悪影響を除外したことを特徴とする。このように、ポリエステルフィルム１の反射率が４％以上であると、反射干渉ムラを少なくし、外観特性をさらに向上させると共に、反射防止性能をさらに高く得ることができるものである。
【００３９】
表面側易接着層２が設けられたポリエステルフィルム１の反射率を上げるためには、表面側易接着層２の膜厚を５〜８０ｎｍに制御することが好ましい。これにより、ポリエステルフィルム１とハードコート層３の密着性を確保しつつ、反射率の増大及び干渉ムラの悪化を防止することができるものである。しかし、表面側易接着層２の膜厚が５ｎｍ未満であると、表面側易接着層２を形成する材料でポリエステルフィルム１の表面全体を均質に被覆することができないおそれがあり、ポリエステルフィルム１とハードコート層３との間で安定した密着性を確保することが困難となるおそれがある。逆に表面側易接着層２の膜厚が８０ｎｍを超えると、表面側易接着層２での反射が大きくなり、反射防止フィルムとしての反射率の増大、干渉ムラの悪化等の課題が生じるおそれがある。また表面側易接着層２が設けられたポリエステルフィルム１の反射率を上げるためには、表面側易接着層２の屈折率を１．５８〜１．７５にすることが好ましい。これにより、表面側易接着層２の屈折率とポリエステルフィルム１及びハードコート層３の屈折率との差が小さくなることによって、反射防止フィルムとしての反射率の増大及び干渉ムラの悪化を防止することができるものである。しかし、表面側易接着層２の屈折率が１．５８未満であったり又は１．７５を超えたりすると、ハードコート層３の屈折率とポリエステルフィルム１の屈折率との差が大きくなり、反射防止フィルムとしての反射率の増大、干渉ムラの悪化等の課題を生じるおそれがある。
【００４０】
また、本発明で用いるポリエステルフィルム１の厚みは、特に限定されるものではないが、５０〜２００μｍが好ましい。
【００４１】
本発明において、ハードコート層３は、透明プラスチック基材であるポリエステルフィルム１よりも硬度の高い被膜であって、ポリエステルフィルム１の表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、ポリエステルフィルム１の屈曲による低屈折率層５（後述）のクラック発生を抑制して反射防止フィルムの機械的強度を改善するものである。
【００４２】
本発明において、ハードコート層３の鉛筆硬度はＨ以上、より好ましくは２Ｈ以上にするのが好ましいが、ハードコート層３の硬度を向上させるためには、反応性硬化型樹脂、すなわち、熱硬化型樹脂と電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方をハードコート材料（ハードコート層３を形成するための組成物）として用いてハードコート層３を形成するのが好ましい。
【００４３】
前記熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を使用することができ、これらの熱硬化性樹脂に必要に応じて架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤を加えて使用することもできる。熱硬化性樹脂を用いてハードコート層３を形成する場合は、表面側易接着層２を介して、熱硬化性樹脂をポリエステルフィルム１の表面に塗布した後、加熱により乾燥硬化させるようにするのが好ましい。
【００４４】
また、前記電離放射線硬化型樹脂としては、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー、プレポリマー、及び反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものを使用することができる。さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開始剤を配合することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などを例示することができる。また、光重合開始剤に加えて光増感剤を用いてもよい。光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、チオキサントンなどを例示することができる。光重合反応する紫外線硬化型樹脂を用いてハードコート層３を形成する場合は、表面側易接着層２を介して、紫外線硬化型樹脂をポリエステルフィルム１の表面に塗布し乾燥した後、紫外線照射により硬化させるようにするのが好ましい。
【００４５】
ハードコート層３はポリエステルフィルム１と屈折率が近似していることが好ましい。反射率低減の理由から実用的には１．５８〜１．８５が好ましい。また、ハードコート層３の膜厚は１〜２μｍ以上あれば十分な強度が得られる。
【００４６】
以上の成分からなるハードコート層３の屈折率は通常１．４９〜１．５２程度であるが、本発明ではハードコート層３に高屈折率粒子を含有させて屈折率を増大させて反射防止性能を高めるために、ハードコート層３の材料中に高屈折率粒子、すなわち高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子を添加することができる。本発明において高屈折率粒子とは、屈折率が１．６〜２．５で粒径が０．５〜２００ｎｍのものをいう。ポリエステルフィルム１を基材（ベース）とする反射防止フィルムにおいて、低反射率化のためのハードコート層３の好ましい屈折率は１．５８〜１．８５であり、本発明ではこの屈折率を有するハードコート層３を形成するために、高屈折率粒子の配合量をハードコート層３に対して５〜７０体積％となるように調整することができる。前記高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子としては、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる一つあるいは二つ以上の酸化物の粒子を用いることができ、具体的には、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ２（屈折率２．３〜２．７）、ＣｅＯ２（屈折率１．９５）、Ｓｂ２Ｏ５（屈折率１．７１）、ＳｎＯ２、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ２Ｏ３（屈折率１．８７）、Ｌａ２Ｏ３（屈折率１．９５）、ＺｒＯ２（屈折率２．０５）、Ａｌ２Ｏ３（屈折率１．６３）等の微粉末が挙げられる。このような酸化物を高屈折率粒子としてハードコート層３に含有させることによって、ハードコート層３の屈折率を増大させることができ、ハードコート層３による反射干渉ムラを少なくすることができ、外観特性に優れると共に、ハードコート層３の表面に低屈折率層５を設ける場合に反射防止性能を高く得ることができるものである。
【００４７】
さらに、ハードコート層３が帯電防止性を有しているのが好ましく、これにより、ハードコート層３が静電気等により帯電するのを防止し、反射防止フィルムに埃を付着させにくくすることができるものである。ハードコート層３に帯電防止性を付与するためにはハードコート層３に導電性ナノ粒子を含有させればよく、これはハードコート層３の材料中に導電性ナノ粒子、すなわち導電性の金属や金属酸化物で粒径が０．５〜２００ｎｍの超微粒子を添加することにより可能となる。導電性ナノ粒子としては、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる一つあるいは二つ以上の酸化物の粒子を用いるのが好ましく、具体的には、酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化錫（ＳｎＯ２）、アンチモン／錫酸化物（ＡＴＯ）、鉛／チタン酸化物（ＰＴＯ）、アンチモン酸化物（Ｓｂ２Ｏ５）の超微粒子を用いるのが好ましい。このような酸化物を導電性ナノ粒子としてハードコート層３に含有させることによって、ハードコート層３に導電性を付与することができ、帯電防止性を有するハードコート層３を容易に設けることができるものである。
【００４８】
さらに、前記高屈折率粒子と導電性ナノ粒子を凝集なく併用することにより、高屈折率かつ帯電防止性に優れたハードコート層３を得ることが可能となる。具体的には、ハードコート層３のシート抵抗は１０１５Ω／□以下であることが好ましく、これにより、ハードコート層３の帯電防止性を向上させることができるものである。なお、ハードコート層３のシート抵抗は小さいほど帯電防止性が向上するので、特に、下限は設定されないが、シート抵抗を小さくするのには限界があるために、ハードコート層３のシート抵抗は実質的に１０６Ω／□以上となる。また、ハードコート層３のシート抵抗値は導電性ナノ粒子の配合量等によって調整することができ、例えば、導電性ナノ粒子の配合量をハードコート層３の全量に対して５〜７０質量％となるように調整することができる。
【００４９】
また、図２に示すように、ハードコート層３の表面に低屈折率層５を形成するための低屈折率コーティング剤を塗工するなどして低屈折率層５を形成する前に、ハードコート層３の表面処理を行うことが好ましい。この表面処理を行うことによりハードコート層３と低屈折率層５とのぬれ性、密着性を向上させることが可能となる。表面処理法としてはポリエステルフィルム１に施す表面改質処理と同様であって、プラズマ放電処理、コロナ処理、フレーム処理のような物理的表面処理とカップリング剤、酸、アルカリによる化学的表面処理が用いられる。
【００５０】
本発明において、低屈折率層５はポリエステルフィルム１及びハードコート層３よりも屈折率の小さい層であって、ハードコート層３の表面に低屈折率コーティング剤を塗工するなどして形成することができる。この低屈折率層５は、屈折率が１．３０〜１．４５であることが好ましく、１．３０〜１．４０であることがさらに好ましい。これにより、ハードコート層３よりも屈折率の小さい低屈折率層５で光の反射をさらに低減することができ、反射防止性能をさらに高く得ることができるものである。低屈折率層５の厚みｄは低屈折率層５の屈折率をｎ、入射する光の波長をλとすると、ｎｄ＝λ／４であることが好ましい。具体的には、低屈折率層５の厚みは５０〜４００ｎｍであることが好ましく、５０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。
【００５１】
低屈折率コーティング剤は、バインダー材料自身が低屈折率である場合と、バインダー材料に低屈折率の微粒子を含有して調製する場合がある。バインダー材料はシリコンアルコキシド系であっても、飽和炭化水素、ポリエーテルを主鎖として有するポリマー（ＵＶ硬化型樹脂、熱硬化型樹脂）であっても良い。その中にフッ素原子を含む単位を含有しても良い。
【００５２】
シリコンアルコキシドの好ましい例は、ＲmＳｉ（ＯＲ´）nで表される化合物であり、ここでＲ、Ｒ´は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは４であり、ｍ及びｎはそれぞれ整数である。さらに具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等及びそれらを基本骨格とするオリゴマーやポリマー、また少なくとも２種類以上の共重合体が挙げられる。
【００５３】
上記珪素アルコキシドの加水分解は、上記珪素アルコキシドを適当な溶媒中に溶解して行う。使用する溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のアルコール、ケトン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、あるいはこれらの混合物が挙げられる。上記アルコキシドは上記溶媒中に、該アルコキシドが１００％加水分解及び縮合したとして生じるＳｉＯ２換算で０．１％以上、好ましくは０．１〜１０質量％になるように溶解する。ＳｉＯ２ゾルの濃度が０．１質量％未満であると形成されるゾル膜が所望の特性が十分に発揮できず、一方、１０質量％を越えると透明均質膜の形成が困難となる。また、本発明においては、以上の固形分以内であるならば、有機物や無機物バインダーを併用することも可能である。
【００５４】
この溶液に加水分解に必要な量以上の水を加え、１５〜３５℃、好ましくは２２〜２８℃の温度で、０．５〜１０時間、好ましくは２〜５時間撹拌を行う。上記加水分解においては、触媒を用いることが好ましく、これらの触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸又は酢酸等の酸が好ましく、これらの酸を約０．００１〜２０．０Ｎ、好ましくは０．００５〜５．０Ｎ程度の水溶液として加え、該水溶液中の水分を加水分解用の水分とすることができる。以上のようにして得られたＳｉＯ２ゾルは、無色透明な液体であり、ポットライフが約１ケ月の安定な溶液であり、基材に対して濡れ性が良く、塗布適性に優れている。
【００５５】
本発明においては、上記のＳｉＯ２ゾルに反応性有機珪素化合物又はその部分加水分解物を添加する。該反応性有機珪素化合物としては、前記の反応性有機珪素化合物の他に、熱又は電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量５０００以下の有機珪素化合物が好ましい材料として挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、あるいはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。具体的な化合物を例示すれば下記の通りである。
【００５６】
【化１】
2010032734.tif 000003
【００５７】
飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダー材料のポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。
【００５８】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダー材料のポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果、反応性を示すものであってもよい。
【００５９】
上記バインダー材料のポリマーの重合反応および架橋反応に使用する重合開始剤は、熱重合開始剤よりも光重合開始剤の方が好ましい。光重合開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
【００６０】
バインダー材料は反応性有機珪素化合物であることが好ましい。低屈折率微粒子に中空シリカを用いた場合、反応性有機珪素化合物をバインダー材料に用いれば、中空シリカ粒子とのぬれ性、分散性が良好である。反応性有機珪素化合物としては、熱又は電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量５０００以下の有機珪素化合物が好ましい材料として挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、あるいはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。具体的な化合物を例示すれば下記の通りである。
【００６１】
【化２】
2010032734.tif 000004
【００６２】
その他の化合物しては、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシシラン化合物が挙げられる。
【００６３】
さらに低屈折率層５に防汚性を付与するために、バインダー材料の一部を撥水、撥油性材料に置き換えても良い。撥水、撥油性材料は一般にワックス系の材料等が挙げられるが、特に、含フッ素化合物を含有することが望ましい。フッ素化合物を含有したときの効果は、低屈折率層５の表面が汚れから保護され、また付着した汚れ、指紋等の除去性に優れる。さらに表面の摩擦抵抗を低減でき、耐摩耗性向上の効果も期待できる。
【００６４】
低屈折率層５の屈折率を低減するには、上記バインダー材料に低屈折率微粒子（屈折率：１．２０〜１．４５）を添加することにより実現できる。低屈折率微粒子の平均粒子径は０．５〜２００ｎｍであることが好ましい。なお、低屈折率微粒子の平均粒子径は、液温度２５℃の低屈折率微粒子の分散液について、例えば、大塚電子（株）製濃厚系粒径アナライザー「ＦＰＡＲ１０００」を用いて測定することができる。そして低屈折率微粒子の平均粒子径が２００ｎｍよりも大きくなると、得られる低屈折率層５においてレイリー散乱によって光が乱反射され、低屈折率層５が白っぽく見え、そのヘイズ値が増大することがある。逆に低屈折率微粒子の平均粒子径が０．５ｎｍよりも小さくなると、低屈折率微粒子の分散性が低下し、低屈折率コーティング剤の液中で凝集を生じてしまう。また、低屈折率微粒子の添加量は低屈折率層５の全量に対して２０〜９９体積％であることが好ましい。２０体積％未満であると、低屈折率化の効果が少なく、微粒子の添加量が多いほど低屈折率化の効果が大きい。
【００６５】
本発明に係る反射防止フィルムをディスプレイ等の最表面に配置して使用する場合、実使用に耐えうる表面硬度、耐摩耗性が必要となる。このような場合は低屈折率層５として高い膜硬度が必要となる。しかしながら一般的に粒子充填複合材料は粒径の等しい（完全な単分散の）球状微粒子を最密充填したときの、微粒子の最大体積分率は、Horsfieldの充填モデルによると、０．７４となり、幾何学的な関係から、必然的に２４体積％粒子間間隙が生じてしまう。従って、理想的には低屈折率層５に２４体積％のバインダー材料を添加したとき（７６体積％の低屈折率微粒子）、低屈折率微粒子間の空隙は全てバインダー材料で置換され、高充填かつ非常に緻密な低屈折率層５の薄膜が得られることになる。しかしながら実際には、微粒子は粒度分布を持っており、また、低屈折率微粒子／バインダー材料の界面のぬれ性不足、ナノサイズの粒子径のため、低屈折率コーティング剤の液中または溶剤乾燥過程で凝集等を生じている。従って、実際には、低屈折率微粒子の添加量が７０体積％以上の領域では低屈折率層５中で、低屈折率微粒子の充填不良を生じ、低屈折率微粒子間にバインダー材料の未充填に起因する空隙を生じることになる。
【００６６】
この低屈折率微粒子の高充填領域で生じた低屈折率層５内でのバインダー材料の未充填部分は、薄膜の強度、耐摩耗性能を著しく低下させる。従って、低屈折率微粒子の添加による低屈折率層５の屈折率低減手法は、７０体積％以上の低屈折率微粒子の高充填領域では、耐摩耗性と完全にトレードオフの関係になり、実用上利用困難である。
【００６７】
低屈折率微粒子としては、屈折率が１．５以下であることが望ましい。具体的にはシリカ微粒子、中空シリカ微粒子、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等のフッ化物微粒子が好ましい。これら微粒子を１種類もしくは２種類以上混合して使用する。これら低屈折率微粒子をバインダー材料の樹脂等に相溶性を持たせるため表面処理を施して分散させる。
【００６８】
低屈折率層５中に含有される低屈折率微粒子が１種類以上の低屈折率微粒子から構成されており、低屈折率微粒子として少なくとも中空シリカゾルを含有することが好ましい。本発明において、中空粒子とは外殻によって包囲された空洞を有する微粒子である。また、中空粒子自体の屈折率は１．２０〜１．４５であることが好ましく、この中空粒子の屈折率は特開２００１−２３３６１１号公報に開示されている方法によって測定することができる。また、中空粒子の平均粒子径は０．５〜２００ｎｍであることが好ましい。中空粒子の外殻を構成する材料は、シリカのほか、金属酸化物であることも好ましい。中空粒子は、その平均粒子径に比べて外殻の厚みが薄いものを用いるのが好ましく、また、低屈折率層５中に占める中空シリカ微粒子（内部の空洞も含む）の体積が多いこと（４０体積％以上）が好ましい。このような中空粒子は、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に開示されており、そこに開示されている中空粒子を、低屈折率コーティング剤を調製する際に使用することができる。
【００６９】
中空粒子の外殻を構成する材料を具体的に挙げると、ＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、ＴｉＯ２、ＴｉＯｘ、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ａｌ２Ｏ３等の単独材料又はこれらの材料のいずれかの組み合わせの混合物の形態の材料である。また、これらの材料のいずれかの組み合わせの複合酸化物であってもよい。なお、ＳｉＯｘは、酸化雰囲気中で焼成した場合に、ＳｉＯ２となるものが好ましい。
【００７０】
前記低屈折率コーティング剤は液相法（ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、リバースコーティング法、トランスファーロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キャストコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等）により表面処理を行ったハードコート層３上に塗工されることが好ましい。塗工後加熱乾燥により塗膜中の溶剤を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い、塗膜を硬化させて低屈折率層５を形成することができる。
【００７１】
本発明では、反射防止フィルムの防汚性、指紋除去性をさらに向上させるためには、低屈折率層５の表面に防汚層６を設けて、この防汚層６で低屈折率層５をコーティングするのが好ましい。防汚層６の厚みは光学特性に影響を与えないため、３０ｎｍ以下にするのが好ましい。また、防汚層６の形成処理は、シリコーン系またはフッ素含有化合物を被覆し、低屈折率層５の表面と化学的に結合させるようにして行う。また、防汚層６を形成する材料としては、アルコキシシラノ基を有するフッ素化合物、反応性シリコーンオイル等基材との反応性を有するものが耐摩耗性、耐薬品性、耐経時劣化性を向上することができて好ましい。
【００７２】
防汚層６を形成するための防汚材料としては、例えば、ＧＥ東芝シリコーン製長鎖フルオロアルキルシランコーティング剤「ＸＣ９８−Ｂ２４７２」を用い、これを希釈溶剤ＩＰＡ（イソプロパノール）を用いて、固形分０．２質量％まで希釈し、この混合液を膜厚１５ｎｍとなるようにワイヤーバーコーター＃１０番で低屈折率層５の表面に塗布した後、１２０℃、１５分間乾燥させることによって、防汚層６を形成することができる。また、防汚層６の性能評価としては、指紋拭き取り性を挙げることができる。すなわち、防汚層６に指紋を付着させ、表面を汚した直後に、キムワイプ（十条キンバリー（株）製）で５０往復して拭取る。拭取った部分にセロハンテープ（「ＣＴ２４」，ニチバン（株）製）を貼り付けて剥がし、４０ｃｍの距離より目視で観察し、汚れの除去度を評価することができる。
【実施例】
【００７３】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。
【００７４】
ポリエステルフィルム（透明基板フィルム）１としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績（株）製「Ａ１５４４−１〜４（１００μｍフィルム厚、表面側易接着層２：光学膜厚５１ｎｍ、屈折率１．６０、裏面側易接着層４：光学膜厚９７〜１６２ｎｍ、屈折率１．５６）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績（株）製「Ａ４３００（１００μｍフィルム厚、表面側易接着層２：光学膜厚１００ｎｍ、屈折率１．５６、裏面側易接着層２：光学膜厚１００ｎｍ、屈折率１．５６）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム（株）製「Ｏ３００Ｓ３６Ｕ５３Ｃ（１００μｍフィルム厚、表面側易接着層２：光学膜厚９０ｎｍ、屈折率１．５９、裏面側易接着層４：光学膜厚１５０ｎｍ、屈折率１．５９）を用いた。
【００７５】
ハードコート層３は、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業（株）製「セイカビームＰＥＴ−ＨＣ１５」有効成分（固形分）６０質量％）中に各種ナノ粒子を分散させてハードコート材料を調製し、このハードコート材料（混合液）を表面側易接着層２を介してワイヤーバーコーター＃１０番でポリエステルフィルム１の表面に塗布し、８０℃、１分間乾燥させた後、ＵＶ照射（６００ｍＪ／ｃｍ２）により硬化させて形成した。上記各種ナノ粒子のうち、高屈折率粒子としては、テイカ（株）製酸化チタン粒子「７６０Ｔ」（分散溶剤：トルエン、固形分４８質量％）を用いた。また、上記各種ナノ粒子のうち、導電性ナノ粒子としては、触媒化成工業（株）製ＡＴＯ粒子「ＥＬＣＯＭ  Ｐ−特殊品Ａ」（分散溶剤：ＭＥＫ／トルエン（４／１）、固形分３０質量％）を用いた。なお、下記［表１］に実施例１〜６及び比較例１、２（後述）のハードコート層３中の酸化チタン粒子及びＡＴＯ粒子の配合量（いずれも質量％）、ハードコート層３の屈折率を示す。
【００７６】
低屈折率層５は低屈折率コーティング剤をハードコート層３の表面に塗布して形成した。低屈折率コーティング剤は、次のようにして調製した。まずテトラエトキシシラン２０８質量部にメタノール３５６質量部を加え、さらに水１８質量部及び０．０１Ｎの塩酸水溶液１８質量部を加え、これをディスパーで混合し、混合液を得、この混合液を２５℃恒温槽中で２時間攪拌して重量平均分子量を８５０に調整したシリコーンレジン（Ａ）として使用し、次に、低屈折率微粒子として以下の低屈折率ナノ粒子（１）（２）をシリコーンレジン（Ａ）に加え、低屈折率ナノ粒子／シリコーンレジンが縮合固形物換算で所望の体積比となるように配合し、その後、全固形分が１質量％となるようにメタノールで希釈することによって、低屈折率コーティング剤を調製し、低屈折率コーティング剤を膜厚１００ｎｍとなるようにワイヤーバーコーター＃１０番で上記ハードコート層３の表面に塗布した後、１２０℃、１５分間乾燥させて低屈折率層５を形成した。低屈折率ナノ粒子（１）としては、中空シリカＩＰＡ（イソプロパノール）分散ゾル（スルーリアＣＳ−６０ＩＰＡ、固形分２０質量％、触媒化成工業（株）製）を用いた。また、低屈折率ナノ粒子（２）としては、オルガノシリカゾル（ＩＰＡ−ＳＴ、固形分３０質量％、日産化学（株）製）を用いた。なお、下記［表１］に実施例１〜６及び比較例１、２（後述）の低屈折率層５中の「ＣＳ−６０ＩＰＡ」及び「ＩＰＡ−ＳＴ」の配合量（いずれも体積％）を示す。
【００７７】
構成層７としては、粘着フィルム（巴川製紙（株）製、ノンキャリアＴＤ０６Ａ、粘着層厚み２５μｍ）を用いた。
【００７８】
（実施例１）
ＰＥＴフィルム「Ａ１５４４−２」上に、酸化チタン粒子「７６０Ｔ」を３０質量％分散させたハードコート材料をコーティングし、膜厚３μｍのハードコート層３を得た。その上にシリコーンレジン（Ａ）マトリックスに対しトータル量の４０体積％の「ＣＳ−６０ＩＰＡ」を分散させた低屈折率コーティング剤を、膜厚１００ｎｍとなるようにワイヤーバーコーターでコーティングした。この後、１２０℃、１５分の条件で硬化させて低屈折率層５を設けることによって、図２のような反射防止フィルムを製造した。
【００７９】
（実施例２）
ＰＥＴフィルムに「Ａ１５４４−３」を使用した以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【００８０】
（実施例３）
ＰＥＴフィルムに「Ａ１５４４−４」を使用した以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【００８１】
（実施例４）
中空シリカ粒子（ＣＳ−６０ＩＰＡ）が６０体積％配合された低屈折率コーティング剤を用いた以外は、実施例２と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【００８２】
（実施例５）
実施例２にて製造した反射防止フィルムの低屈折率層５の上に防汚材料（ダイキン工業（株）製防汚材料「オプツールＤＳＸ」）を膜厚約１５ｎｍとなるようにワイヤーバーコーターでコーティングした。この後、１２０℃、１５分の条件で硬化させて防汚層６を設けることによって、図３のような反射防止フィルムを製造した。
【００８３】
（実施例６）
ＰＥＴフィルムに「Ｏ３００Ｓ３６Ｕ５３Ｃ」を使用した以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【００８４】
（比較例１）
ＰＥＴフィルム「Ａ１５４４−１」上に、酸化チタン粒子「７６０Ｔ」を３０質量％分散させたハードコート材料をコーティングし、膜厚３μｍのハードコート層３を得た。その上にシリコーンレジン（Ａ）マトリックスに対しトータル量の４０体積％の「ＣＳ−６０ＩＰＡ」を分散させた低屈折率コーティング剤を、膜厚１００ｎｍとなるようにワイヤーバーコーターでコーティングした。この後、１２０℃、１５分の条件で硬化させて低屈折率層５を設けることによって、反射防止フィルムを製造した。
【００８５】
（比較例２）
ＰＥＴフィルムに「Ａ４３００」を用いた以外は、実施例１と同様にして、反射防止フィルムを製造した。
【００８６】
下記［表１］に実施例１〜６及び比較例１、２の反射防止フィルム（サンプル）の評価結果を示す。なお、各評価方法は以下の通りである。
【００８７】
外観干渉ムラ：Ａ４サイズのサンプル裏面を黒塗りした後、３波長蛍光灯下で外観特性を目視観察した。
【００８８】
平均視感反射率：（株）日立ハイテクノロジーズ製分光光度計「Ｕ−４１００」を用い、ＪＩＳ  Ｒ−３１０６  に基づき、サンプル裏面を黒塗りした後に、５度の正反射で測定した。
【００８９】
密着性（クロスカットテープ試験）：サンプルについてＪＩＳ  Ｄ０２０２−１９８８に準拠して碁盤目テープ剥離試験を行った。セロハンテープ（「ＣＴ２４」，ニチバン（株）製）を用い、指の腹でサンプルに密着させた後剥離した。判定は１００マスの内、剥離しないマス目の数で表し、剥離しない場合を１００／１００、完全に剥離する場合を０／１００として表す。
【００９０】
指紋拭取り性：サンプルに人の指で実際に指紋を付着させ、ＢＥＭＣＯＴ（旭化成製、Ｍ−３）を使用して数回拭取りを行った。そして拭き取ったときの状態を目視で観察した。
【００９１】
【表１】
2010032734.tif 000005
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本発明に係る反射防止フィルムの一例を示す断面図である。
【図２】本発明に係る反射防止フィルムの他の一例を示す断面図である。
【図３】本発明に係る反射防止フィルムの他の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００９３】
１  ポリエステルフィルム
２  表面側易接着層
３  ハードコート層
４  裏面側易接着層
５  低屈折率層
６  防汚層
【図１】
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【図２】
2010032734.tif 000007
【図３】
2010032734.tif 000008