(57)【要約】【課題】被処理物が大型化してもノズル装置の重量増大を抑え、かつ処理の均一性を確保する。【解決手段】ノズル装置３の溝形成部材１１の主面に複数の溝形成部１３ｆを第１方向に分割して設定する。各溝形成部１３ｆにツリー溝部４１と開口溝部４２を含む溝４０を形成する。開口溝部４２を溝形成部材１１の先端面に開口させる。隣接する開口溝部４２どうしを連通部４９を介して連通させる。【選択図】図１
2010082494.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物に処理ガスを供給し、又は処理済みのガスを吸引するノズル装置において、
第１方向に複数の溝形成部に分割された主面と、前記主面と交差して前記第１方向に延びる先端面とを有する板状の溝形成部材と、
前記主面を覆う被覆部材と、
を備え、前記各溝形成部に前記処理ガス又は処理済みガスの通路となる溝が形成され、前記溝が、前記先端面に近づくにしたがって第１方向に広がるよう枝分かれするツリー状のツリー溝部と、前記ツリー溝部の末端を連ねるよう前記第１方向に延び、かつ前記先端面に達する開口溝部と、を含み、隣接する２つの溝形成部の開口溝部どうしが互いに連通し、かつ該開口溝部どうしの連通部が前記先端面に達していることを特徴とする表面処理用ノズル装置。
【請求項２】
前記溝形成部材が、前記第１方向に複数の別体の分割板に分割され、隣接する分割板の分割端面どうしが突き合わされ、各分割板が１つの前記溝形成部を有し、かつ各分割板の開口溝部の分割端面側の端部が分割端面に達して前記連通部を構成していることを特徴とする請求項１に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項３】
各開口溝部における前記先端面と直交する方向の中間部には、第１方向に延びる凸条にて形成された絞り部が設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項４】
前記連通部が前記絞り部より前記先端面側に設けられていることを特徴とする請求項３に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項５】
前記複数の溝形成部の前記第１方向の合計長さと対応する長さを有して、前記溝形成部材の先端面及び前記被覆部材の先端面に被さる一体物の先端板を、更に備え、
前記先端板には、第１方向に延び、かつ複数の溝形成部の開口溝部に連なるスリットが形成されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項６】
各々前記第１方向に延び、かつ互いに平行に並べられた一対のスリット画成板と、これらスリット画成板と交差するようにしてこれらスリット画成板の長手方向の両端部にそれぞれ分離可能に設けられた一対の端板とを、更に備え、
前記スリット画成板の一方が、前記溝形成部材の先端面に被さり、前記スリット画成板の他方が、前記被覆部材の先端面に被さり、前記一対のスリット画成板どうしの間に、前記第１方向に延びて複数の溝形成部の開口溝部に連なるスリットが形成され、前記一対の端板により前記スリットの長手方向の両端部が画成されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項７】
各々前記第１方向に延び、かつ互いに平行に並べられた第１、第２のスリット画成板を、更に備え、
前記第１スリット画成板が、前記溝形成部材の先端面に被さり、前記第２スリット画成板が、前記被覆部材の先端面に被さり、前記第１、第２スリット画成板どうしの間に、前記第１方向に延びて複数の溝形成部の開口溝部に連なるスリットが形成され、前記第１、第２スリット画成板の何れか一方の長手方向の端部には他方のスリット画成板に突き当たる凸部が設けられていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項８】
前記スリットの幅が、前記開口溝部の深さより小さいことを特徴とする請求項５〜７の何れか１項に記載の表面処理用ノズル装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理物に処理ガスを吹き付けたり、処理済みのガスを被処理物の近傍から吸引したりするノズル装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば特許文献１では、プラズマ表面処理装置の電極を覆う誘電体の板にツリー状の溝が設けられている。ツリー状溝は、１つの溝部から２つ（複数）の溝部が枝分かれし、枝分かれした各溝部が更に２つ（複数）に枝分かれし、この枝分かれが複数次にわたって繰り返され、全体としてツリー状（トーナメント表状）になっている。ツリー状溝の下側には、最終次の枝分かれ溝部の全てを連ね、かつ誘電体板の下端に開口する開口溝が形成されている。上記誘電体板の上記ツリー状溝及び開口溝が形成された面に他の誘電体板が重ねられている。これにより、上記ツリー状溝及び開口溝が処理ガスの通路になっている。処理ガスは、上記ツリー状溝の枝に沿って拡散された後、上記開口溝に経て吹き出される。これにより、処理ガスの吹き出し幅を大きくできる。この処理ガスが被処理物に接触し、表面処理がなされる。
【特許文献１】特開２００４−１２７８５３号公報
【特許文献２】特開２００２−７５６９２号公報
【特許文献３】実開平５−８９４５１号公報（図３（ｂ））
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
近年、例えばフラットパネルディスプレイ等の分野では被処理物が大型化する傾向にある。大型の被処理物に対応するために、処理ガスの吹き出し幅を更に大きくすることが求められている。上掲特許文献１の装置においては、ツリー状溝の枝分かれの段数を増やすと、処理ガスの吹き出し幅を大きくできる。一方、ツリー状溝の枝分かれの段数を増やすには、溝形成板の高さを大きくしなければならず、そうすると、重量が増大する。
そこで、例えば溝形成板を複数に分割し、分割した板ごとにツリー状溝を設けたり、１つの溝形成板に複数のツリー状溝を長手方向に並べて形成したりすることが考えられる。しかし、そうすると、板と板の継ぎ目や複数のツリー状溝どうしの間に対応する箇所で処理抜けが生じやすく、処理の均一性が低下するおそれがある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決するため、本発明は、被処理物に処理ガスを供給し、又は処理済みのガスを吸引するノズル装置において、
第１方向に複数の溝形成部に分割された主面と、前記主面と交差して前記第１方向に延びる先端面とを有する板状の溝形成部材と、
前記主面を覆う被覆部材と、
を備え、前記各溝形成部に前記処理ガス又は処理済みガスの通路となる溝が形成され、前記溝が、前記先端面に近づくにしたがって第１方向に広がるよう枝分かれするツリー状のツリー溝部と、前記ツリー溝部の末端を連ねるよう前記第１方向に延び、かつ前記先端面に達する開口溝部と、を含み、隣接する２つの溝形成部の開口溝部どうしが互いに連通し、かつ該開口溝部どうしの連通部が前記先端面に達していることを特徴とする。
この特徴構成によれば、複数のツリー溝部が第１方向に複数並んで配置される。したがって、被処理物が大型化しても容易に対応できる。しかも、各ツリー状溝の枝分かれの段数を少なく設定できる。よって、溝形成部材の先端面と直交する方向の寸法を小さく抑えることができ、溝形成部材の重量が過度に増大するのを防止できる。加えて、隣接する２つの溝形成部を通る処理ガスが前記連通部で合流し、該連通部から噴き出される。したがって、被処理物の表面における前記隣接する溝形成部どうし間に対応する箇所にも処理ガスを確実に吹き付けることができる。或いは、前記隣接する溝形成部に対応する箇所上から処理済みガスを確実に吸引することができる。これにより、前記隣接する溝形成部に対応する箇所での処理抜けを防止でき、処理の均一性を確保できる。
ツリー状溝の枝分かれの段数は１以上が好ましい。
【０００５】
前記溝形成部材が、前記第１方向に複数の別体の分割板に分割され、隣接する分割板の分割端面どうしが突き合わされ、各分割板が１つの前記溝形成部を有し、かつ各分割板の開口溝部の分割端面側の端部が分割端面に達して前記連通部を構成していることが好ましい。
各分割板の溝形成部にはツリー溝部が設けられる。したがって、溝形成部材全体として、複数のツリー溝部が第１方向に並んで配置される。そうすることで、各分割板の先端面と直交する方向の寸法を小さく抑えることができる。よって、各分割板の重量を軽減でき、ひいては溝形成部材全体の重量を軽減できる。しかも、前記連通部によって隣接する分割板どうしの継ぎ目に対応する被処理箇所での処理抜けを防止でき、処理の均一性を確保できる。
前記溝形成部材が、全体として一体物であってもよく、この一体物の溝形成部材に複数のツリー溝部が第１方向に並んで配置され、隣接するツリー溝部にそれぞれ対応する開口溝部どうしが連通していてもよい。
【０００６】
各開口溝部における前記先端面と直交する方向の中間部には、第１方向に延びる凸条にて形成された絞り部が設けられていることが好ましい。
これによって、ツリー溝部の末端が、複数、第１方向に離間して配置されていても、開口溝部を通過するガスを第１方向に均質化でき、処理の均一性を一層高めることができる。
【０００７】
前記連通部は、少なくとも前記絞り部より前記先端面側に設けられていることが好ましい。
前記連通部が、前記絞り部より前記先端面側だけでなく、前記絞り部より前記先端面側とは反対側にも設けられていてもよく、前記連通部内にも前記絞り部が配置されるようにしてもよい。
【０００８】
前記複数の溝形成部の前記第１方向の合計長さと対応する長さを有して、前記溝形成部材の先端面及び前記被覆部材の先端面に被さる一体物の先端板を、更に備え、
前記先端板には、第１方向に延び、かつ複数の溝形成部の開口溝部に連なるスリットが形成されていることが好ましい。
前記先端板が第１方向に分割されず継ぎ目が無い構造になるため、そのような先端板の継ぎ目に起因する処理の不均一が生じることがない。したがって、処理の均一性をより高めることができる。
【０００９】
各々前記第１方向に延び、かつ互いに平行に並べられた一対のスリット画成板と、これらスリット画成板と交差するようにしてこれらスリット画成板の長手方向の両端部にそれぞれ分離可能に設けられた一対の端板とを、更に備え、
前記スリット画成板の一方が、前記溝形成部材の先端面に被さり、前記スリット画成板の他方が、前記被覆部材の先端面に被さり、前記一対のスリット画成板どうしの間に、前記第１方向に延びて複数の溝形成部の開口溝部に連なるスリットが形成され、前記一対の端板により前記スリットの長手方向の両端部が画成されていることが好ましい。
これにより、前記スリットを処理ガスの吹き出し口又は処理済みガスの吸引口として提供できる。隣接するスリット画成板の間隔を調節することによって、スリットの幅を調節できる。
【００１０】
各々前記第１方向に延び、かつ互いに平行に並べられた第１、第２のスリット画成板を、更に備え、
前記第１スリット画成板が、前記溝形成部材の先端面に被さり、前記第２スリット画成板が、前記被覆部材の先端面に被さり、前記第１、第２スリット画成板どうしの間に、前記第１方向に延びて複数の溝形成部の開口溝部に連なるスリットが形成され、前記第１、第２スリット画成板の何れか一方の長手方向の端部には他方のスリット画成板に突き当たる凸部が設けられていることが好ましい。
前記凸部の突き当てによって、第１、第２スリット画成板を正確かつ容易に位置決めできる。これにより、先端板の組み立てを容易化でき、かつスリットの幅を正確に設定できる。
【００１１】
前記スリットの幅が、前記開口溝部の深さより小さいことが好ましい。
これにより、スリットに絞り機能を持たせることができる。したがって、吹き出しガス流又は吸引ガス流を第１方向に一層均質化でき、処理の均一性を一層高めることができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、溝形成部材ひいてはノズル装置の重量増大を抑えることができ、かつ隣接する溝形成部どうしの間に対応する箇所の処理抜けを防止して処理の均一性を確保できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態を説明する。
図１〜図８は、本発明の第１実施形態を示したものである。図８に示すように、表面処理装置１は、被処理物配置部２と、ノズル装置３を備えている。配置部２は、ステージやコンベアで構成されている。配置部２上に被処理物９が配置されている。被処理物９は、例えばフラットパネルディスプレイ用のガラス基板や半導体ウェハで構成されているが、これに限定されるものではない。表面処理の内容として、エッチング、成膜、洗浄、撥水化、親水化等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１４】
配置部２上の被処理物９は、図示しない移動機構又は配置部２に組み込まれた移動機構によって、ノズル装置３に対し図８の紙面と直交する方向（後記第２方向）に相対移動されるようになっている。被処理物９が移動するのに限られず、ノズル装置３が移動されるようになっていてもよい。相対移動は、１回のみの片道移動でもよく、往復移動でもよく、往復移動を複数回反復してもよい。
【００１５】
図８に示すように、表面処理装置１には処理ガス源４が備えられている。処理ガス源４は、処理内容に応じた処理ガスをノズル装置３に供給する。例えば、シリコンのエッチングの場合、処理ガスは、フッ素系反応成分及び酸化性反応成分を含む。フッ素系反応成分として、ＨＦ、ＣＯＦ２、Ｆ２等が挙げられる。酸化性反応成分として、Ｏ３、Ｏラジカル等が挙げられる。酸化性反応成分としてのＯ３は、オゾナイザーにより生成できる。Ｏラジカル等の酸化性反応成分は、酸素を含む酸素系原料ガスをプラズマ化することによって生成できる。
【００１６】
ＨＦ、ＣＯＦ２等のフッ素系反応成分は、Ｈ２Ｏを添加したフッ素系原料を一対の電極間でプラズマ化（分解、励起、活性化、イオン化を含む）することにより生成できる。フッ素系原料としては、パーフルオロカーボン（ＰＦＣ）、ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）、ＳＦ６、ＮＦ３、ＸｅＦ２等が挙げられる。ＰＦＣとしては、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｆ６、Ｃ３Ｆ８等が挙げられる。ＨＦＣとしては、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｈ２Ｆ２、ＣＨ３Ｆ等が挙げられる。Ｈ２Ｏに代えてＯＨ含有化合物を用いてもよい。ＯＨ基含有化合物としては、過酸化水素水、アルコール等が挙げられる。上記フッ素系原料は、希釈ガスで希釈したうえでプラズマ化してもよい。希釈ガスとしては、Ａｒ、Ｈｅ等の希ガスの他、Ｎ２等が挙げられる。
【００１７】
上記プラズマ化は大気圧近傍下で行なうことが好ましい。大気圧近傍とは、１．０１３×１０４〜５０．６６３×１０４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０４〜１０．６６４×１０４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０４〜１０．３９７×１０４Ｐａがより好ましい。
【００１８】
図８に示すように、処理ガス源４から共通供給路４ａが延びている。共通供給路４ａは、分配器４ｂを介して２つ（複数）の個別供給路４ｃに分岐されている。これら個別供給路４ｃがノズル装置３へ延びている。
【００１９】
ノズル装置３は、被処理物配置部２の上方に配置されている。ノズル装置３は、水平な第１方向（図８において左右）に延びている。ノズル装置３の第１方向の長さは、被処理物９の第１方向の長さと略同じか少し大きい。
【００２０】
図８に示すように、ノズル装置３の上端部には、２つ（複数）のヘッダ部３０が上に突出するように設けられている。これらヘッダ部３０は、互いにノズル装置３の長手方向（第１方向）に離れている。各ヘッダ部３０は、３つのヘッダ路３１，３２，３３を有している。３つのヘッダ路３１〜３３は、第１方向に間隔を置いて並べられている。供給ヘッダ路３１は、ヘッダ部３０の中央部に配置されている。裏側吸引ヘッダ路３２は、供給ヘッダ路３１より第１方向の外側（他方のヘッダ部３０側とは反対側）に配置されている。表側吸引ヘッダ路３３は、供給ヘッダ路３１より第１方向の内側（他方のヘッダ部３０側）に配置されている。
【００２１】
各ヘッダ部３０の表側面（図８において紙面手前）には、供給ヘッダ路３１に連なる供給ポート３４と、裏側吸引ヘッダ路３２に連なる裏側吸引ポート３５と、表側吸引ヘッダ路３３に連なる表側吸引ポート３６とが設けられている。
【００２２】
２つの個別供給路４ｃ，４ｃのうち１つが、２つのヘッダ部３０，３０のうち一方の供給ポート３４に連なっている。他の個別供給路４ｃが、他方のヘッダ部３０の供給ポート３４に連なっている。
【００２３】
２つの裏側吸引ポート３５，３５からそれぞれ裏側個別吸引路５ａが延びている。これら裏側個別吸引路５ａは、裏側合流器５ｂで合流している。裏側合流器５ｂから裏側共通吸引路５ｃが延びている。
【００２４】
２つの表側吸引ポート３６，３６からそれぞれ表側個別吸引路５ｄが延びている。これら表側個別吸引路５ｄは、表側合流器５ｅで合流している。表側合流器５ｅから表側共通吸引路５ｆが延びている。裏側共通吸引路５ｃと表側共通吸引路５ｆは、互いに合流している。合流後の共通吸引路５ｇが吸引ポンプを含むガス吸引手段５に連なっている。図示は省略するが、吸引手段５には排ガスの除害設備が付設されている。
【００２５】
ノズル装置３の構造を更に詳述する。
図４及び図５に示すように、ノズル装置３は、第１、第２の溝形成部材１１，１２と、外壁部材２１，２２を備えている。ノズル構成部材１１，１２，２１，２２は、それぞれ長手方向を第１方向に向け、幅方向を上下に向け、厚さ方向を第１方向と直交する水平な第２方向（図４において左右）に向けた板状になっている。
【００２６】
板状部材１１，１２，２１，２２の材質には特に限定がなく、樹脂やセラミックス等の絶縁体でもよく金属でもよいが、処理ガスに対する耐性を有していることが好ましい。例えば、処理ガスが、フッ化水素等のフッ素系反応成分を含む場合、溝形成部材１１，１２の材質として、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）等のフッ素系樹脂を用いるのが好ましい。溝形成部材１１，１２の材質として、アルミナ等のセラミックスを用いてもよい。
外壁部材２１，２２は、例えばアルミニウム等の金属で構成されている。
【００２７】
板状部材１１，１２，２１，２２を第２方向（図８の紙面直交方向）から見た輪郭形状及び大きさは、互いに等しい。これら板状部材１１，１２，２１，２２が、裏側（図４の左側、図８の紙面奥側）から裏側外壁部材２１、第１溝形成部材１１、第２溝形成部材１２、表側外壁部材２２の順に第２方向に重ねられ、軸線を第２方向に向けた複数本のボルト（図示省略）にて連結されている。板状部材１１，１２，２１，２２の下端面（先端面）は、互いに面一になっている。
【００２８】
図４に示すように、上記供給ヘッダ路３１は、第１溝形成部材１１と第２溝形成部材１２と表側外壁部材２２を貫いている。表側外壁部材２２の表側面に上記供給ポート３４が設けられている。供給ヘッダ路３１の奥端部（供給ポート３４との接続部とは反対側）が裏側外壁部材２１によって塞がれている。
【００２９】
図示は省略するが、同様にして、上記吸引ヘッダ路３２，３３は、第１溝形成部材１１と第２溝形成部材１２と表側外壁部材２２を貫いている。表側外壁部材２２の表側面に上記吸引ポート３５，３６が設けられている。吸引ヘッダ路３２，３３の奥端部が裏側外壁部材２１によって塞がれている。
【００３０】
図１及び図２に示すように、第１溝形成部材１１は、長手方向（第１方向）に２つ（複数）の分割板１３，１３に分割されている。分割板１３，１３は、互いに別体になっている。言い換えると、第１溝形成部材１１の第２溝形成部材１２を向く表側の主面が、２つの面１３ｆ，１３ｆに分割されている。第１溝形成部材１１の外壁部材２１を向く裏側の主面が、２つの面１３ｒ，１３ｒに分割されている。
以下、２つの分割板１３，１３を互いに区別するときは、図１において左側の分割板１３には符号にＡを付し、右側の分割板１３には符号にＢを付す。
【００３１】
図１及び図２に示すように、分割板１３Ａと分割板１３Ｂは、互いに左右にほぼ反転させた形状になっている。隣接する２つの分割板１３，１３の側端面（分割端面）１３ｅ，１３ｅどうしが互いに突き合わされている。各分割板１３の上端部を上記ヘッダ路３１，３２，３３が貫通している。
【００３２】
図１に示すように、各分割板１３の表側の面１３ｆは「供給溝形成部」を構成する。溝形成部１３ｆには処理ガス供給溝４０が形成されている。供給溝４０の上端部は、供給ヘッダ路３１に連なっている。供給溝４０は、ツリー溝部４１と、開口溝部４２とを含む。
【００３３】
ツリー溝部４１は、下方（先端）に向かいながら第１方向に広がるよう枝分かれし、ツリー状（トーナメント表状）になっている。詳述すると、ツリー溝部４１は、供給ヘッダ路３１から１条の状態で下方へ延び、２つ（複数）の一次分岐溝４１ａに分岐している。これら分岐溝４１ａは、互いの分岐部から離間するよう第１方向に延び、先端が下方に折曲している。各一次分岐溝４１ａの先端から２つ（複数）の二次分岐溝４１ｂが第１方向の両側に分岐している。各二次分岐溝４１ｂの先端は下方に折曲し、この二次分岐溝４１ｂの先端から２つの三次分岐溝４１ｃが第１方向の両側に分岐している。各三次分岐溝４１ｃの先端は、下方に折曲し、この三次分岐溝４１ｃの先端から２つ（複数）の最終次分岐溝４１ｅが第１方向の両側に分岐している。最終次分岐溝４１ｅの先端は、下方に折曲している。
【００３４】
最終次分岐溝４１ｅの下側に開口溝部４２が設けられている。開口溝部４２は、分割板１３の長手方向（第１方向）に延びている。開口溝部４２に各最終次分岐溝４１ｅの先端部（ツリー溝部４１の末端）が連なっている。図４に示すように、開口溝部４２は、分割板１３の下端面（先端面）に達している。
【００３５】
図１に示すように、開口溝部４２の端面１３ｅ側の端部の上側部分は、端面１３ｅの近傍に位置し、かつ端面１３ｅに達していない。
一方、図１及び図５に示すように、開口溝部４２の端面１３ｅ側の端部の下側部分は、端面１３ｅに達している。開口溝部４２の端面１３ｅ側の端部の上側部分と端面１３ｅとの間には、上下に延びる細い表側隔壁１３ｇが形成されている。隔壁１３ｇは、分割板１３の下端面には達していない。
【００３６】
隣接する２つの分割板１３Ａ，１３Ｂの開口溝部４２が、それぞれ端面１３ｅに達することにより、これら分割板１３Ａ，１３Ｂの開口溝部４２，４２どうしが連通している。２つの分割板１３Ａ，１３Ｂの隔壁１３ｇ，１３ｇの面一をなす下端縁と溝形成部材１１の下端面との間に、開口溝部４２，４２どうしの連通部４９が形成されている。連通部４９は、溝形成部材１１の下端面（先端面）に達している。互いに連通する開口溝部４２，４２の第１方向の合計長さは、被処理物９の同方向の寸法と略等しいか若干大きい。
【００３７】
図４に示すように、各分割板１３の表側面１３ｆに第２溝形成部材１２が被さることにより、供給溝４０の面１３ｆ側の開口が塞がれている。これにより、供給溝４０が供給ヘッダ路３１に連なるガス路になっている。
第２溝形成部材１２は、第１溝形成部材１１の表側の主面を覆う被覆部材を構成する。
【００３８】
図１及び図４に示すように、開口溝部４２の上下方向（溝形成部材の先端面と直交する方向）の中間部の内面には、凸条４７が形成されている。凸条４７は、分割板１３の長手方向（第１方向）に延びている。凸条４７の長手方向の両端部は、開口溝部４２の長手方向の端縁に達している。凸条４７は、隔壁１３ｇの下端部より上に位置し、凸条４７の端面１３ｅ側の端部が隔壁１３ｇに連なっている。凸条４７の突出高さ（第２方向の寸法）は、開口溝部４２の深さ（第２方向の寸法）より小さい。凸条４７と溝形成部材１２との間には、狭い隙間からなる絞り部４８が形成されている。絞り部４８は、分割板１３の長手方向（第１方向）に延びている。
【００３９】
図２に示すように、各分割板１３の裏側の面１３ｒは「裏側吸引溝形成部」を構成する。溝形成部１３ｒには裏側吸引溝５０が形成されている。裏側吸引溝５０の上端部は、吸引ヘッダ路３２に連なっている。裏側吸引溝５０は、ツリー溝部５１と、開口溝部５２とを含む。
【００４０】
ツリー溝部５１は、下方（先端）に向かいながら第１方向に広がるよう枝分かれし、ツリー状になっている。詳述すると、ツリー溝部５１は、裏側吸引ヘッダ路３２から１条の状態で下方へ延び、複数（ここでは８つ）の分岐溝５１ｅに分岐している。これら分岐溝５１ｅは、互いに分割板１３の長手方向（第１方向）に間隔を置いて配置され、それぞれ下方へ延びている。
【００４１】
分岐溝５１ｅの下側に開口溝部５２が設けられている。開口溝部５２は、分割板１３の長手方向（第１方向）に延びている。開口溝部５２に各分岐溝５１ｅの先端部（ツリー溝部５１の末端）が連なっている。図４に示すように、開口溝部５２は、分割板１３の下端面（先端面）に達している。
【００４２】
図２及び図５に示すように、開口溝部５２の端面１３ｅ側の端部の上側部分は、端面１３ｅの近傍に位置し、かつ端面１３ｅに達していない。一方、開口溝部５２の端面１３ｅ側の端部の下側部分は、端面１３ｅに達している。開口溝部５２の端面１３ｅ側の端部の上側部分と端面１３ｅとの間には、上下に延びる細い裏側隔壁１３ｈが形成されている。隔壁１３ｈは、分割板１３の下端面には達していない。
【００４３】
隣接する２つの分割板１３Ａ，１３Ｂの開口溝部５２が、それぞれ端面１３ｅに達することにより、これら分割板１３Ａ，１３Ｂの開口溝部５２，５２どうしが連通している。これら分割板１３Ａ，１３Ｂの隔壁１３ｈ，１３ｈの面一をなす下端縁と溝形成部材１１の下端面との間に、開口溝部５２，５２どうしの連通部５９が形成されている。連通部５９は、溝形成部材１１の下端面（先端面）に達している。互いに連通する開口溝部５２，５２の合計長さは、上記開口溝部４２，４２の合計長さと略等しい。
【００４４】
図４に示すように、各分割板１３の裏側面１３ｒに裏側外壁部材２１が被さることにより、裏側吸引溝５０の面１３ｒ側の開口が塞がれている。これにより、裏側吸引溝５０が、裏側吸引ヘッダ路３２に連なるガス路になっている。
裏側外壁部材２１は、第１溝形成部材１１の裏側の主面を覆う被覆部材を構成する。
【００４５】
図２及び図４に示すように、開口溝部５２の上下方向の中間部の内面には、凸条５７が形成されている。凸条５７は、分割板１３の長手方向（第１方向）に延びている。凸条５７の長手方向の両端部は、開口溝部５２の長手方向の端縁に達している。凸条５７は、隔壁１３ｈの下端部より上に位置し、凸条５７の端面１３ｅ側の端部が隔壁１３ｈに連なっている。凸条５７の突出高さ（第２方向の寸法）は、裏側吸引溝５０の深さ（第２方向の寸法）より小さい。凸条５７と外壁部材２１との間には、狭い隙間からなる絞り部５８が形成されている。絞り部５８は、分割板１３の長手方向（第１方向）に延びている。
【００４６】
図３に示すように、第２溝形成部材１２は、長手方向（第１方向）に２つ（複数）の分割板１４，１４に分割されている。これら分割板１４，１４は、互いに別体になっている。言い換えると、第２溝形成部材１２の表側外壁部材２２を向く表側の主面が、２つの面１４ｆ，１４ｆに分割されている。
以下、２つの分割板１４，１４を互いに区別するときは、図３において左側の分割板１４には符号にＡを付し、右側の分割板１４には符号にＢを付す。
図３に示すように、分割板１４Ａと分割板１４Ｂは、互いに左右にほぼ反転させた形状になっている。
【００４７】
隣接する２つの分割板１４，１４の側端面（分割端面）１４ｅ，１４ｅが互いに突き合わされている。図５に示すように、分割板１４，１４どうしの継ぎ目は、分割板１３，１３どうしの継ぎ目と第１方向の同一位置に配置されている。
【００４８】
図３に示すように、各分割板１４の上端部を上記ヘッダ路３１，３２，３３が貫通している。
【００４９】
各分割板１４の表側の面１４ｆは「表側吸引溝形成部」を構成する。表側面１４ｆには表側吸引溝６０が形成されている。表側吸引溝６０の上端部は、吸引ヘッダ路３３に連なっている。表側吸引溝６０は、上記裏側吸引溝５０と同様の構造を有し、ツリー溝部６１と、開口溝部６２とを含む。
【００５０】
ツリー溝部６１は、下方（先端）に向かいながら第１方向に広がるよう枝分かれし、ツリー状になっている。詳述すると、ツリー溝部６１は、表側吸引ヘッダ路３３から１条の状態で下方へ延び、複数（ここでは８つ）の分岐溝６１ｅに分岐している。これら分岐溝６１ｅは、互いに分割板１４の長手方向（第１方向）に間隔を置いて配置され、それぞれ下方へ延びている。
【００５１】
分岐溝６１ｅの下側に開口溝部６２が設けられている。開口溝部６２は、分割板１４の長手方向（第１方向）に延びている。開口溝部６２に各分岐溝６１ｅの先端部（ツリー溝部６１の末端）が連なっている。図４に示すように、開口溝部６２は、分割板１４の下端面（先端面）に達している。
【００５２】
図３及び図５に示すように、開口溝部６２の端面１４ｅ側の端部の上側部分は、端面１４ｅの近傍に位置し、かつ端面１４ｅに達していない。一方、開口溝部６２の端面１４ｅ側の端部の下側部分は、端面１４ｅに達している。開口溝部６２の端面１４ｅ側の端部の上側部分と端面１４ｅとの間には、上下に延びる細い隔壁１４ｇが形成されている。隔壁１４ｇは、分割板１４の下端面に達していない。
【００５３】
隣接する２つの分割板１４Ａ，１４Ｂの開口溝部６２が、それぞれ端面１４ｅに達することにより、これら分割板１４Ａ，１４Ｂの開口溝部６２，６２どうしが連通している。これら分割板１４Ａ，１４Ｂの隔壁１４ｇ，１４ｇの面一をなす下端縁と溝形成部材１２の下端面との間に、開口溝部６２，６２どうしの連通部６９が形成されている。連通部６９は、溝形成部材１２の下端面（先端面）に達している。互いに連通する開口溝部６２，６２の合計長さは、上記開口溝部４２，４２の合計長さと略等しい。
【００５４】
図４に示すように、各分割板１４の表側面１４ｆに表側外壁部材２２が被さることにより、各分割板１４の表側吸引溝６０の面１４ｆ側の開口が塞がれている。これにより、表側吸引溝６０が、表側吸引ヘッダ路３３に連なるガス路になっている。
表側外壁部材２１は、第２溝形成部材１２の表側の主面を覆う被覆部材を構成する。
【００５５】
図３及び図４に示すように、開口溝部６２の上下方向の中間部の内面には、凸条６７が形成されている。凸条６７は、分割板１４の長手方向（第１方向）に延びている。凸条６７の長手方向の両端部は、開口溝部６２の長手方向の端縁に達している。凸条６７は、隔壁１４ｇの下端部より上に位置し、凸条６７の端面１４ｅ側の端部が隔壁１４ｇに連なっている。凸条６７の突出高さ（第２方向の寸法）は、表側吸引溝６０の深さ（第２方向の寸法）より小さい。凸条６７と表側外壁部材２２との間には、狭い隙間からなる絞り部６８が形成されている。絞り部６８は、分割板１４の長手方向（第１方向）に延びている。
【００５６】
図４に示すように、ノズル装置３の第２方向の中央部に上記供給溝４０が配置されている。この供給溝４０の裏側（図４において左側）に上記裏側吸引溝５０が配置され、表側（図４において右側）に上記表側吸引溝６０が配置されている。図５に示すように、これら溝４０，５０，６０は平面視で平行に並んでいる。
【００５７】
図８に示すように、ノズル装置３は、先端板７０を更に備えている。図４及び図６に示すように、先端板７０は、長手方向を第１方向に向け、幅方向を第２方向に向けた平板状になっている。先端板７０の材質には特に限定がなく、樹脂やセラミックス等の絶縁体でもよく金属でもよいが、処理ガスに対する耐性を有していることが好ましい。ここでは、先端板７０は、アルミナのセラミックスで構成されている。先端板７０は、全体が一体物になっている。
【００５８】
図４に示すように、先端板７０は、板状積層部材１１，１２，２１，２２の面一をなす下端面（先端面）に被せられている。図示は省略するが、先端板７０は、複数本のボルトで各部材１１，１２，２１，２２に固定されている。上記図示省略のボルトは、頭部を上に向けて部材１１，１２，２１，２２に通され、脚部が先端板７０にねじ込まれている。上記ボルト用の雌ネジ孔が先端板７０の上面から厚さ方向の途中まで形成されている。雌ネジ孔は、先端板７０の下面には達していない。
【００５９】
図６に示すように、先端板７０には、３つのスリット７１〜７３が形成されている。スリット７１〜７３は、それぞれ先端板７０の長手方向（第１方向）に直線状に延び、互いに先端板７０の幅方向（第２方向）に間隔を置いて平行に配置されている。先端板７０の幅方向（第２方向）の中央部に供給スリット７１が配置されている。この供給スリット７１の裏側（図６において左側）に裏側吸引スリット７２が配置され、表側（図６において右側）に表側吸引スリット７３が配置されている。各スリット７１〜７３の長さは、上記開口溝部４２，４２の合計長さとほぼ等しい。
【００６０】
図４〜図６に示すように、中央の供給スリット７１は、２つ（複数）の分割板１３，１３の開口溝部４２，４２に跨り、かつこれら開口溝部４２，４２の下端の開口に連なっている。供給スリット７１の長手方向の中央部は、連通部４９に連なっている。供給スリット７１の幅（第２方向の寸法）は、開口溝部４２の深さ（第２方向の寸法）より小さい。
【００６１】
同様に、裏側吸引スリット７２は、２つ（複数）の分割板１３，１３の開口溝部５２，５２に跨り、かつこれら開口溝部５２，５２の下端の開口に連なっている。裏側吸引スリット７２の長手方向の中央部は、連通部５９に連なっている。裏側吸引スリット７２の幅（第２方向の寸法）は、開口溝部５２の深さ（第２方向の寸法）より小さい。
【００６２】
表側吸引スリット７３は、２つ（複数）の分割板１４，１４の開口溝部６２，６２に跨り、かつこれら開口溝部６２，６２の下端の開口に連なっている。表側吸引スリット７３の長手方向の中央部は、連通部６９に連なっている。表側吸引スリット７３の幅（第２方向の寸法）は、開口溝部６２の深さ（第２方向の寸法）より小さい。
【００６３】
図１に示すように、各分割板１３の表側面１３ｆには、一対の囲み溝８２，８３が、供給溝４０の上側部及び第１方向の両側部（供給溝４０の下端部を除く部分）を囲むように形成されている。一方の囲み溝８２は、分割板１３の長手方向（第１方向）の中央より第１方向の外側（他方の分割板１３側とは反対側）に配置されている。囲み溝８２の上端部が裏側吸引ヘッダ路３２に連なっている。他方の囲み溝８３は、分割板１３の長手方向（第１方向）の中央より第１方向の内側（他方の分割板１３の側）に配置されている。囲み溝８３の上端部が表側吸引ヘッダ路３３に連なっている。
【００６４】
図７に示すように、第１溝形成部材１１に被覆部材としての第２溝形成部材１２が被さることにより、囲み溝８２の面１３ｆ側の開口が塞がれている。これにより、囲み溝８２が裏側吸引ヘッダ路３２に連なるガス路になっている。同様にして、囲み溝８３の面１３ｆ側の開口が第２溝形成部材１２（被覆部材）にて塞がれ、囲み溝８３が表側吸引ヘッダ路３３に連なるガス路になっている。
【００６５】
上記構成の表面処理装置１によって被処理物９を表面処理する方法を説明する。
処理ガス源４から処理ガスが共通供給路４ａに送出される。処理ガスは、分配器４ｂで２つ（複数）の個別供給路４ｃ，４ｃに分流され、ノズル装置３の２つ（複数）の供給ポート３４，３４にそれぞれ導入される。各供給ポート３４に導入後の処理ガスは、供給ヘッダ路３１を通り、ツリー溝部４１内に入り込む。この処理ガスが、一次分岐溝４１ａ、二次分岐溝４１ｂ、三次分岐溝４１ｃ、最終次分岐溝４１ｅの順に流れて行くことにより、第１方向に拡散される。更に、処理ガスは、各最終次分岐溝４１ｅの下端（ツリー溝部４１の末端）から開口溝部４２に送出される。この開口溝部４２の凸条４７より上側部分において、各分岐溝４１ｅからの処理ガスが互いに混合される。続いて、処理ガスは、絞り部４８を通過しながら絞られ、その後、凸条４７より下側の開口溝部４２に流出して膨張する。これにより、処理ガスを第１方向に十分に均質化できる。
【００６６】
分割板１３Ａの開口溝部４２の凸条４７より下側部分に入った処理ガスの分割板１３Ｂ寄りの部分と、分割板１３Ｂの開口溝部４２の凸条４７より下側部分に入った処理ガスの分割板１３Ａ寄りの部分とは、それぞれ連通部４９に流入して互いに合流する。
【００６７】
更に、処理ガスは、供給スリット７１を通過しながら絞られる。これにより、処理ガスを第１方向に一層均質化できる。特に、第１方向の中央部において、連通部４９で合流した処理ガスが供給スリット７１で絞られることにより、確実に均質化できる。そして、処理ガスが供給スリット７１から下方へ噴き出される。
【００６８】
併行して、配置部２上に配置された被処理物９が、ノズル装置３の下方を横切るように第２方向に移動される。この被処理物９に処理ガスが吹き付けられ、被処理物９が表面処理される。供給スリット７１が被処理物９の第１方向の寸法に対応する長さを有し、処理ガスを供給スリット７１の長手方向の全域から吹き出すことができるため、被処理物９の第１方向の全体に処理ガスを一度に吹き付けることができる。よって、被処理物９が大型であっても確実に表面処理することができる。しかも、処理ガスが第１方向に均質になっているため、被処理物９を均一に表面処理できる。特に、処理ガスを連通部４９で合流させたうえで吹き出すため、被処理物９の表面の分割板１３，１３の継ぎ目に対応する箇所の処理抜けを防止でき、処理の均一性を十分に確保できる。加えて、先端板７０が第１方向に分割されておらず、ノズル装置３の底面に第２方向（被処理物９の相対移動方向）に延びる継ぎ目がないため、そのような継ぎ目に起因する処理の不均一が生じることはない。したがって、表面処理の均一性を一層高めることができる。
【００６９】
処理ガスの供給と併行して、吸引手段５を駆動する。これにより、ノズル装置３と被処理物９との間の処理済みのガスや雰囲気ガスが、吸引スリット７２，７３に吸い込まれる。
裏側吸引スリット７２及び開口溝部５２が開口溝部４２及び供給スリット７１と同様の構造になっているため、上記噴出時と同様の作用により、裏側吸引スリット７２から吸い込まれるガスの流通状態を第１方向に均一化できる。同じく、表側吸引スリット７３及び開口溝部６２が開口溝部４２及び供給スリット７１と同様の構造になっているため、表側吸引スリット７３から吸い込まれるガスの流通状態を第１方向に均一化できる。これにより、表面処理の均一性を一層高めることができる。
【００７０】
各開口溝部５２に入り込んだガスは、その後、複数の分岐溝５１ｅを経てツリー溝部５１で合流し、裏側吸引ヘッダ路３２、裏側吸引ポート３５を経て、裏側個別吸引路５ａに送出される。２つの裏側個別吸引路５ａからのガスは、裏側合流器５ｂで合流し、裏側共通吸引路５ｃ、共通吸引路５ｇを経て、吸引手段５に吸引される。同様に、各開口溝部６２に入り込んだガスは、分岐溝６１ｅ、表側吸引ヘッダ路３３、表側吸引ポート３６、表側個別吸引路５ｄを順次経て、表側合流器５ｅで合流し、更に、表側共通吸引路５ｆ、共通吸引路５ｇを経て、吸引手段５に吸引される。吸引ガスは、吸引手段５に付設された除害設備で除害処理を施されたうえで排気される。
【００７１】
ここで、各供給溝４０内を通過中の処理ガスの一部が溝形成部材１１，１２の間を伝って外部に漏れようとすることも想定される。このような漏れガス流は、途中で囲み溝８２又は８３の何れかに捕捉される。囲み溝８２には、裏側吸引ヘッダ路３２、裏側吸引ポート３５、及び管路５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｇを介して吸引手段５の吸引圧が導入されている。したがって、囲み溝８２に入り込んだ漏れガスは、上記吸引圧導入路３２，３５，５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｇを順次経て、吸引手段５に送られ、除害処理を施されたうえで排気される。同様に、囲み溝８３には、表側吸引ヘッダ路３３、表側吸引ポート３６、及び管路５ｄ，５ｅ，５ｆ，５ｇを介して吸引手段５の吸引圧が導入されている。したがって、囲み溝８３に入り込んだ漏れガスは、上記吸引圧導入路３３，３６，５ｄ，５ｅ，５ｆ，５ｇを順次経て、吸引手段５に送られ、除害処理を施されたうえで排気される。
【００７２】
したがって、供給溝４０から処理ガスの一部が漏れたとしても、この漏れガスがノズル装置３の周辺の雰囲気ガス中に漏れるのを防止できる。これにより、雰囲気ガスの汚染や周辺の装置の腐食を防止できる。
【００７３】
ノズル装置３は、被処理物９の大型化に対応し、ツリー溝部４１，５１，６１をそれぞれ２つ（複数）に分割して第１方向に並べたものである。これによって、ノズル装置全体で各ツリー溝部４１，５１，６１を１つだけ設けて大型の被処理物に対応させるよりもツリー溝部４１，５１，６１の分岐の段数を少なくできる。したがって、溝形成部材１１，１２の高さ（上下方向の寸法）を小さくできる。この結果、ノズル装置３の重量が過大になるのを回避できる。
【００７４】
溝形成部材１１，１２に溝４０，５０，６０，８２，８３を形成する方法としては、切削加工による方法の他、溝４０，５０，６０，８２，８３の型を用いた真空成形法又は射出成形法を適用してもよい。真空成形法や射出成形法によれば、部材重量を低減でき、製造コストを削減できる。
【００７５】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において、既述の実施形態と重複する構成に関しては図面に同一符号を付して説明を省略する。
図９は、先端板７０の変形例（第２実施形態）を示したものである。この先端板７０は、４つ（複数）のスリット画成板７４と、一対の端板７５とを備えている。これら板７４，７５は、例えばアルミナ等のセラミックスで構成されている。６つの板７４，７５は、各々別体になっており、互いに分離可能になっている。
【００７６】
各スリット画成板７４は、第１方向に延び、かつ幅方向を第２方向に向けた長尺の平板状になっている。４つのスリット画成板７４が、第２方向に間隔を置いて平行に並べられている。
【００７７】
４つのスリット画成板７４は、板状積層部材１１，１２，２１，２２にそれぞれ一対一に対応している。各スリット画成板７４は、対応する部材１１，１２，２１，２２の下面（先端面）に被さっている。第１溝形成部材１１に対応するスリット画成板７４は、２つ（複数）の分割板１３，１３に跨っている。第２溝形成部材１２に対応するスリット画成板７４は、２つ（複数）の分割板１４，１４に跨っている。
【００７８】
第１溝形成部材１１と第２溝形成部材１２に対応する２つ（一対）のスリット画成板７４，７４どうしの間に供給スリット７１が形成されている。裏側外壁部材２１と第１溝形成部材１１に対応する２つ（一対）のスリット画成板７４，７４どうしの間に裏側吸引スリット７２が形成されている。第２溝形成部材１２と表側外壁部材２２に対応する２つ（一対）のスリット画成板７４，７４どうしの間に表側吸引スリット７３が形成されている。
【００７９】
図示は省略するが、各スリット画成板７４は、対応する部材１１，１２，２１，２２にボルトで固定されている。上記ボルトは、頭部を上（図９の紙面奥側）に向けて各部材１１，１２，２１，２２に通され、脚部がスリット画成板７４にねじ込まれている。上記ボルト用の雌ネジ孔がスリット画成板７４の上面から厚さ方向の途中まで形成されている。雌ネジ孔は、スリット画成板７４の下面には達していない。
【００８０】
一対の端板７５は、ノズル装置３の底面（先端面）の第１方向の両端部に配置され、それぞれ第２方向に延びる平板状になっている。各端板７５は、板状積層部材１１，１２，２１，２２に跨るようにして、これら部材１１，１２，２１，２２の長手方向の端部に被さり、かつ４つのスリット画成板７４の端面に突き当てられている。これら端板７５によって、スリット７１，７２，７３の長手方向の両端部が塞がれている。
【００８１】
図示は省略するが、各端板７５は、部材１１，１２，２１，２２にボルトで固定されている。端板７５の固定用ボルトは、頭部を上（図９の紙面奥側）に向けて各部材１１，１２，２１，２２に通され、脚部が端板７５にねじ込まれている。上記ボルト用の雌ネジ孔が端板７５の上面から厚さ方向の途中まで形成されている。雌ネジ孔は、端板７５の下面には達していない。
【００８２】
第２実施形態によれば、スリット画成板７４どうしの間隔を調節することにより、スリット７１，７２，７３の開口幅を調節することができる。
【００８３】
図１０は、図９の先端板７０を更に変形した第３実施形態を示したものである。第３実施形態では、４つのスリット画成板７４のうち、表側外壁部材２２に対応するものを除く３つのスリット画成板７４の長手方向の両端部に、それぞれ隣りのスリット画成板７４に突出する凸部７６が設けられている。各凸部７６は、隣りのスリット画成板７４に突き当てられている。凸部７６によってスリット７１，７２，７３の延び方向の端部が画成されている。
【００８４】
供給溝４０を有する第１溝形成部材１１の下端面（先端面）に被さるスリット画成板７４を特許請求の範囲の「第１スリット画成板」としたとき、供給溝４０の被覆部材としての第２溝形成部材１２の下端面（先端面）に被さるスリット画成板７４は「第２スリット画成板」を構成する。
裏側吸引溝５０を有する第１溝形成部材１１の下端面（先端面）に被さるスリット画成板７４を特許請求の範囲の「第１スリット画成板」としたとき、裏側外壁部材２１の下端面（先端面）に被さるスリット画成板７４は「第２スリット画成板」を構成する。
表側吸引溝６０を有する溝形成部材１２の下端面（先端面）に被さるスリット画成板７４を特許請求の範囲の「第１スリット画成板」としたとき、表側外壁部材２２の下端面（先端面）に被さるスリット画成板７４は「第２スリット画成板」を構成する。
【００８５】
第３実施形態によれば、凸部７６の突き当てによってスリット画成板７４どうしを第２方向に正確かつ容易に位置決めできる。凸部７６の突出量によって、スリット７１〜７３の開口幅を設定することができる。
【００８６】
第１実施形態（図１〜図８）では、１つの噴出路（４０，７１）及び該噴出路を挟む一対の吸引路（５０，７２；６０，７３）からなる噴出吸引構造１０の数が１つだけであったが、ノズル装置３が噴出吸引構造１０を複数有していてもよい。
図１１及び図１２に示すように、第４実施形態では噴出吸引構造１０が３つ（複数）設けられている。３つの噴出吸引構造１０は、第２方向に並べられている。
【００８７】
図１１に示すように、第４実施形態のノズル装置３は、裏側（図１１において左側）から、裏側外壁部材２１、第１溝形成部材１１、第２溝形成部材１２、中壁部材２３、第１溝形成部材１１、第２溝形成部材１２、中壁部材２３、第１溝形成部材１１、第２溝形成部材１２、表側外壁部材２２の順に第２方向に積層されている。各噴出吸引構造１０は、第１、第２溝形成部材１１，１２を１つずつ有している。互いに重ねられた溝形成部材１１，１２の第２方向の両側に壁部材２１，２３（又は２３，２２）が設けられている。
【００８８】
詳細な図示は省略するが、溝形成部材１１，１２が、それぞれ第１方向に２つ（複数）の分割板１３又は１４に分割され、各分割板１３，１４に溝４０，５０又は６０が設けられている点は、第１実施形態と同じである。
【００８９】
中壁部材２３は、外壁部材２１，２２と同一の材料（例えばアルミニウム等の金属）で構成され、外壁部材２１，２２と略同じ形状になっている。中壁部材２３によって、該中壁部材２３の裏側（図１１において左側）の噴出吸引構造１０の表側吸引溝６０の面１４ｆ側の開口が塞がれ、かつ該中壁部材２３の表側（図１１において右側）の噴出吸引構造１０の裏側吸引溝５０の面１３ｒ側の開口が塞がれている。
【００９０】
ノズル装置３の裏側外壁部材２１を除く板状積層部材１１，１２，２３，１１，１２，２３，１１，１２，２２の上端部には、これら部材を貫通するようにしてヘッダ路３１，３２，３３が形成されている（図１１においては供給ヘッダ路３１のみ図示）。図示は省略するが、ヘッダ部３０が、ノズル装置３の上端部の第１方向に離れて２組（複数組）設けられている点は第１実施形態（図８）と同じである。
【００９１】
供給ヘッダ路３１に各噴出吸引構造１０の供給溝４０の上端部が連なっている。詳細な図示は省略するが、同様にして、裏側吸引ヘッダ路３２に各噴出吸引構造１０の裏側吸引溝５０の上端部が連なっている。表側吸引ヘッダ路３３に各噴出吸引構造１０の表側吸引溝６０の上端部が連なっている。
【００９２】
図１２に示すように、各板状積層部材２１，１１，１２，２３，１１，１２，２３，１１，１２，２２の下端面（先端面）にはスリット画成板７４が被せられている。最も表側（図１２において右端）以外のスリット画成板７４の両端部には、第３実施形態（図１０）と同様に凸部７６が設けられ、これら凸部７６が、隣りのスリット画成板７４に突き当てられている。
【００９３】
供給ヘッダ路３１に導入された処理ガスは、３つの噴出吸引構造１０，１０，１０の供給溝４０，４０，４０に分配され、３つの供給スリット７１，７１，７１からそれぞれ噴き出され、被処理物９の表面処理に供される。
【００９４】
処理済みのガスは、当該ガスが噴き出された供給スリット７１の直近の両側の（すなわち同じ噴出吸引構造１０内の）吸引スリット７２，７３からそれぞれ吸引される。各噴出吸引構造１０の吸引スリット７２，７３に吸引されたガスは、これら吸引スリット７２，７３に連なる吸引溝５０，６０を通り、表側吸引ヘッダ路３３で合流し、管路５ａ〜５ｇを経て吸引手段５から吸引排気される。
【００９５】
図１３に示すように、裏側共通吸引路５ｃには流量制御弁５ｖが設けられている。表側共通吸引路５ｆには流量制御弁５ｕが設けられている。これら流量制御弁５ｖ，５ｕを互いに独立して制御することにより、吸引路７２，５０による吸引流量と吸引路７３，６０による吸引流量を個別に調節できる。特に、隣り合う２つの噴出吸引構造１０，１０の隣り合う吸引スリット７２，７３からの吸引流量を個別に調節できる。
【００９６】
図１４及び図１５は、本発明の第６実施形態を示したものである。この実施形態では溝形成部材１１，１２がそれぞれ３つ（奇数個）の分割板１３，１４に分割されている（分割板１３のみ破線で図示）。各分割板１３にヘッダ部３０及び溝４０，５０が形成され、各分割板１４に表側吸引溝６０が形成されている点、隣接する開口溝部４２，４２どうし、開口溝部５２，５２どうし、開口溝部６２，６２どうしがそれぞれ連通している点は既述の実施形態と同様である。
【００９７】
処理ガス源４から延びる共通供給路４ａが、分配器４ｂを介して３つの個別供給路４ｃに分岐し、これら個別供給路４ｃが３つ分割板１３の供給ヘッダ路３１に一対一に連なっている。
【００９８】
図１５に示すように、第６実施形態の分配器４ｂは、ボディ９１と、蓋９４と、仕切り板９５を備えている。ボディ９１は、処理ガスに対し耐性を有していれば、樹脂でもよく、金属でもよい。ここでは、ボディ９１の材質として、例えばポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）が用いられている。
【００９９】
ボディ９１には、一側面（図１５において上面）から内部へ延びる導入孔９２と、上記一側面と直交する側面（図１５において右面）から内部へ延びる太い分配孔９３とが形成されている。導入孔９２の開口端に導入ポート９７が設けられ、この導入ポート９７に共通供給路４ａが接続されている。
【０１００】
分配孔９３の開口端が蓋９４にて塞がれている。蓋９４は、ボディ９１と同じ材質で構成されているが、処理ガスに対し耐性を有していればボディ９１とは異なる材質であってもよい。
【０１０１】
分配孔９３の内部に仕切り板９５が設けられている。仕切り板９５は、長手方向を分配孔９３の軸線に向けた平板状になっている。仕切り板９５は、ボディ９１と同じ材質で構成されているが、処理ガスに対し耐性を有していればボディ９１とは異なる材質であってもよい。仕切り板９５の基端部（図１５において右）は、蓋９４の内面に形成された保持凹部９４ｅに嵌め込まれて支持されている。仕切り板９５の先端部（図１５において左）は、分配孔９３の奥端のテーパ部９３ｅに挿入されて支持されている。仕切り板９５によって分配孔９３の内部が２つの半割り室９３ａ，９３ｂに仕切られている。上記導入孔９２が、上流側半割り室９３ａに連なっている。
【０１０２】
仕切り板９５には、３つ（複数ないしは奇数個）の連通孔９５ａ，９５ｂ，９５ｃが形成されている。各連通孔９５ａ〜９５ｃを介して２つの半割り室９３ａ，９３ｂが連通している。３つの連通孔９５ａ〜９５ｃは、仕切り板９５の長手方向（分配孔９３の軸線方向）に間隔を置いて配置されている。中央の連通孔９５ａは、両端の連通孔９５ｂ，９５ｃより大きい。
【０１０３】
ボディ９１の分配孔９３を挟んで導入孔９２側とは反対側の部分には、３つ（複数ないしは奇数個）の導出孔９６ａ，９６ｂ，９６ｃが形成されている。これら導出孔９６ａ〜９６ｃは、分配孔９３の軸線方向に間隔を置いて配置されている。各導出孔９６ａ〜９６ｃは、下流側半割り室９３ｂからボディ９１の外面へ貫通している。仕切り板９５と直交する方向から見て、導出孔９６ａと連通孔９５ａとが一対一に対応し、導出孔９６ｂと連通孔９５ｂとが一対一に対応し、導出孔９６ｃと連通孔９５ｃとが一対一に対応している。
【０１０４】
各導出孔９６ａ，９６ｂ，９６ｃに導出ポート９８を介して個別供給路４ｃが接続されている。図１４に示すように、中央の導出孔９６ａに対応する個別供給路４ｃが、ノズル装置３の３つのヘッダ部３０のうち中央のヘッダ部３０の供給ポート３４に接続されている。両端の導出孔９６ｂ，９６ｃに対応する個別供給路４ｃ，４ｃが、両端のヘッダ部３０，３０の供給ポート３４，３４にそれぞれ接続されている。
【０１０５】
処理ガス源４からの処理ガスは、共通供給路４ａ、導入ポート９７、導入孔９２を順次経て、上流側半割り室９３ａに導入され、上流側半割り室９３ａ内に拡散する。次いで、処理ガスは、上流側半割り室９３ａから各連通孔９５ａ，９５ｂ，９５ｃを通って下流側半割り室９３ｂに入り、下流側半割り室９３ｂ内に拡散しながら、各導出孔９６ａ，９６ｂ，９６ｃを経て、それぞれ対応する個別供給路４ｃに導出される。これにより、処理ガスを３つ（奇数個）のヘッダ部３０のポート３４に分配できる。
【０１０６】
仕切り板９５の連通孔９５ａ〜９５ｃの大きさを調節することにより、各噴出吸引構造１０への処理ガス流量を調節できる。この実施形態では、仕切り板９５の中央の連通孔９５ａが比較的大きいため、中央の噴出吸引構造１０からの処理ガスの噴出流量を両端の噴出吸引構造１０からの処理ガスの噴出流量より大きくできる。
【０１０７】
仕切り板９５の中央の連通孔９５ａを両端の連通孔９５ｂ，９５ｃより小さくしてもよく、３つの連通孔９５ａ〜９５ｃを同じ大きさにしてもよい。仕切り板９５に形成する連通孔の数は、３つに限られず、２つでもよく、４つ以上でもよい。仕切り板９５を、多数の連通孔を有する多孔板で構成してもよい。
【０１０８】
図示は省略するが、３つの裏側吸引ポート３５からの３つの裏側個別吸引路５ａは、図１５に示す分配器４ｂと同様の構造の裏側合流器５ｂに接続されて合流されている。同じく、３つの表側個別吸引路５ｄは、図１５に示す分配器４ｂと同様の構造の表側合流器５ｅに接続されて合流されている。
【０１０９】
図１６は、本発明の第７実施形態を示したものである。この実施形態では、ノズル装置３に一対の電極６，６が組み込まれている。一方の電極６は、電源７に接続され、他方の電極６は電気的に接地されている。これら電極６，６の間に板状部材１１，１２が挟まれている。板状部材１１，１２は、例えばアルミナ等のセラミックスで構成されており、電極６の放電を安定化させるための固体誘電体層として提供されている。既述の実施形態と同様に、溝形成部材１１の板状部材１２との当接面１３ｆにツリー溝部４１及び開口溝部４２を含む供給溝４０が形成されている。板状部材１２は、供給溝４０の面１３ｆ側の開口を塞ぐ被覆部材になっている。溝形成部材１１の上記面１３ｆ側とは反対側の面に一方の電極６が宛がわれている。被覆部材１２の溝形成部材１１側とは反対側の面に他方の電極６が宛がわれている。
【０１１０】
処理ガス源４の処理ガスが供給溝４０内に導入される。併行して、電源７からの電圧供給によって電極６，６間に電界が印加され、大気圧グロー放電が生成される。これにより、処理ガスが、供給溝４０内を流通する過程でプラズマ化され、反応成分が生成される。このプラズマ化された処理ガスが供給スリット７１から噴き出され、被処理物９に吹き付けられる。この処理ガスの反応成分が被処理物９に接触することにより、被処理物９を表面処理できる。
【０１１１】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨の範囲内で種々の改変をなすことができる。
例えば、溝形成部材１１が分割板１３に分割されていなくてもよい。言い換えると、溝形成部材１１を構成する複数の分割板１３が一体に連なっていてもよい。一体物の溝形成部材１１の表側面に複数の溝形成部１３ｆが第１方向に並んで設定され、各溝形成部１３ｆに供給溝４０が形成され、かつ隣接する供給溝４０の開口溝部４２どうしが連通してもよい。一体物の溝形成部材１１の裏面に複数の溝形成部１３ｒが第１方向に並んで設定され、各溝形成部１３ｒに裏側吸引溝５０が形成され、かつ隣接する裏側吸引溝５０の開口溝部５２どうしが連通してもよい。
同様に、溝形成部材１２が分割板１４に分割されていなくてもよい。言い換えると、溝形成部材１２を構成する複数の分割板１４が一体に連なっていてもよい。一体物の溝形成部材１２の表側面に複数の溝形成部１４ｆが第１方向に並んで設定され、各溝形成部１４ｆに裏側吸引溝５０が形成され、かつ隣接する裏側吸引溝５０の開口溝部５２どうしが連通してもよい。
【０１１２】
溝形成部材１１，１２は、それぞれ２つの分割板１３，１４（図１〜図３等）又は３つの分割板１３，１４（図１４）に分割されているのに限られず、４つ以上の分割板１３，１４に分割されていてもよい。溝形成部材１１，１２に分割設定する溝形成領域１３ｆ，１３ｒ，１４ｆの数は、２つ又は３つに限られず、４つ以上でもよい。
【０１１３】
ノズル装置３の噴出吸引構造１０の並設数は、１つ（図６等）又は３つ（図１２）に限られず、２つでもよく、４つ以上でもよい。
【０１１４】
ツリー溝部４１は、溝形成部材１１の下端面（先端面）に近づくにしたがって第１方向に広がるよう枝分かれしていればよく、１つの幹路から分かれる枝路の数は２つに限られず、３つ以上でもよい。また、枝分かれの段数は適宜、設定できる。ツリー溝部５１，６１についても同様である。
【０１１５】
ノズル装置３をフード状のカバーで覆い、上記カバーとノズル装置３との間の空間に吸引手段を接続してもよい。これによって、処理ガスがノズル装置３の外側に漏れたとしても、上記空間から上記吸引手段に吸引して排気できる。したがって、雰囲気ガスの汚染や周辺装置の腐食を一層確実に防止でき、安全性を一層高めることができる。
ノズル装置３は、処理ガスの噴出路４０，７１だけを有し、吸引路５０，７２；６０，７３が省略されていてもよく、吸引路５０，７２；６０；７３だけを有し、噴出路４０，７１が省略されていてもよい。
隔壁１３ｇを省略し、隣接する開口溝部４２，４２の高さ方向の全体が互いに直接連通するようにしてもよい。
凸条４７，５７，６７が被覆部材に設けられていてもよい。
【０１１６】
複数の実施形態を互いに組み合わせてもよい。例えば、第１実施形態（図８）においても、吸引路５ｃ，５ｆに第４実施形態（図１３）と同様の流量制御弁５ｖ，５ｕを設け、吸引スリット７２，７３からの吸引流量を個別に制御することにしてもよい。
第４実施形態の先端板７０は、第１実施形態（図６）と同様に全体が一体物になっていてもよく、第２実施形態（図９）と同様にスリット画成板７４に凸部７６が設けられていなくてもよい。
【実施例１】
【０１１７】
図１４に示すように、溝形成部材１１，１２が第１方向に３つの分割板１３，１４に分割されており、かつ噴出吸引構造１０が第２方向に３つ並設された装置を用いて、シリコンのエッチングを行なった。各分割板１３，１４の開口溝部４２，５２，６２の第１方向の長さは７２０ｍｍであった。スリット７１，７２，７３の第１方向の長さは、２１６０ｍｍであった。処理ガスとして、ＨＦ含有ガス（フッ素系反応ガス）とＯ３含有ガス（酸化性ガス）の混合ガスを用いた。ＨＦ含有ガスは、ＣＦ４（フッ素系原料）をＡｒで希釈し、かつＨ２Ｏを添加し、更にプラズマ生成装置でプラズマ化することにより生成した。各ガス成分の流量は以下の通りとした。
ＣＦ４    ３．２ｓｌｍ
Ａｒ      ２９ｓｌｍ
Ｈ２Ｏ添加後のフッ素系原料ガス（ＣＦ４＋Ａｒ）の露点    １８℃
上記プラズマ生成装置のプラズマ放電条件は以下の通りとした。
電極間間隔    ３ｍｍ
電極間電圧    Ｖｐｐ＝１２ｋＶ
周波数        ３０ｋＨｚ
Ｏ３含有ガスは、Ｏ２（酸素系原料）を原料にし、オゾナイザーにて生成した。Ｏ２流量及びＯ３生成量は以下の通りとした。
Ｏ２      １７５ｇ/ｍ３
Ｏ３含有ガス中のＯ３濃度    約８ｖｏｌ％
【０１１８】
被処理物９をノズル装置３に対し第２方向に相対移動（スキャン）させながら、上記処理ガスをノズル装置３から被処理物９に吹き付けた。移動速度は４ｍ／ｍｉｎとした。そして、シリコンのエッチングレートを被処理物９の表面上の第１方向に離れた測定ポイントごとに測定した。
【０１１９】
また、比較例１として、隔壁１３ｇ，１３ｈ，１４ｇが溝形成部材１１，１２の下端面（先端面）まで達し、隣接する開口溝部４２，５２，６２どうしがそれぞれ連通していない点を除き、実施例１と同一構成の装置を用い、実施例１と同一条件でシリコンのエッチングを行ない、エッチングレートを測定した。
【０１２０】
比較例２として、比較例１と同様に隣接する開口溝部４２，５２，６２どうしがそれぞれ連通していない点に加え、先端板７０が長手方向（第１方向）のちょうど中央部で２つに分割されている点が実施例１と異なり、それ以外は実施例１と同一構成の装置を用い、実施例１と同一条件でシリコンのエッチングを行ない、エッチングレートを測定した。
【０１２１】
実施例１と比較例１、２の結果を図１７に示す。図の縦軸は、被処理物９をノズル装置３に対し第２方向に１回、片道移動させたとき（１スキャンあたり）のシリコンのエッチング量である。図の横軸は、被処理物９の表面上の第１方向の位置であり、０［ｍｍ］のポイントが供給スリット７１の長手方向の中央部に対応する。−３６０［ｍｍ］及び３６０［ｍｍ］の各ポイントが、分割板１３，１４の継ぎ目に対応する位置である。
【０１２２】
開口溝部４２，５２，６２どうしが連通していない場合（比較例１）、分割板１３，１４の継ぎ目に対応する位置（図１７の横軸の±３６０ｍｍ）のエッチングレートが局所的に低下した。これに対し、開口溝部４２，５２，６２どうしが連通している場合（実施例１）、エッチングレートが分割板１３，１４の継ぎ目に対応する位置でも低下せず、第１方向にほぼ均一にできることが確認された。しかも、比較例１よりも全体的にエッチングレートが向上した。実施例１の平均エッチングレートは、１スキャンあたり１８．６ｎｍであった。
【０１２３】
また、先端板７０に継ぎ目がある場合（比較例２）、当該継ぎ目に対応する箇所（図１７の横軸の０ｍｍ）のエッチングレートが他の箇所に比べ局所的に高くなった。これは、上記継ぎ目に処理ガスが流れ込み、被処理物９の表面上の継ぎ目に対応する箇所の反応成分の濃度が局所的に高くなるためと考えられる。
これに対し、実施例１によれば、エッチングレートが局所的に高くなる箇所は現れず、上述した通り、全体的に均一で良好なエッチングレートが得られた。
【実施例２】
【０１２４】
実施例２では実施例１と同様の装置を用いて同一条件でエッチングを行ない、エッチングレートを測定した。
比較例３として、凸条４７，５７，６７が無く、開口溝部４２，５２，６２の途中でガスが絞られない点を除き、実施例１と同様の装置を用い、実施例１と同様にして、シリコンのエッチングを行ない、エッチングレートを測定した。実施例２と比較例１の結果を図１８に示す。同図の横軸の０［ｍｍ］は、ノズル装置３の３つの分割板１３のうち図１４の左側に相当する分割板１３の第１方向のちょうど中央部に対応する。同図から明らかなように、絞り部４８，５８，６８が無い場合（比較例３）、エッチングレートのばらつきが大きかった。これに対し、絞り部４８，５８，６８が設けられている場合（実施例２）、エッチングレートをほぼ一様にでき、しかも全体的に高くできることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１２５】
本発明は、例えばフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）や半導体ウェハの製造に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る表面処理装置のノズル装置の主に第１溝形成部材を、図４のI-I線に沿って矢視した正面図である。
【図２】上記ノズル装置の主に第１溝形成部材を、図４のII-II線に沿って矢視した背面図である。
【図３】上記ノズル装置の主に第２溝形成部材を、図４のIII-III線に沿って矢視した正面図である。
【図４】図１のIV-IV線に沿う、上記ノズル装置の側面断面図である。
【図５】図４のV-V線に沿う、上記ノズル装置の平面断面図である。
【図６】図４のVI-VI線に沿う、上記ノズル装置の底面図である。
【図７】図１のVII-VII線に沿って上記ノズル装置の一部を拡大して示す平面断面図である。
【図８】上記表面処理装置の概略構成を示す解説正面図である。
【図９】本発明の第２実施形態を示し、ノズル装置の底面図である。
【図１０】本発明の第３実施形態を示し、ノズル装置の底面図である。
【図１１】本発明の第４実施形態を示し、ノズル装置の側面断面図である。
【図１２】上記第４実施形態のノズル装置の底面図である。
【図１３】上記第４実施形態の表面処理装置の概略構成を示す解説正面図である。
【図１４】本発明の第５実施形態の表面処理装置の概略構成を示す解説正面図である。
【図１５】上記第５実施形態の分配器の詳細構造を示す断面図である。
【図１６】本発明の第６実施形態の表面処理装置の概略構成を示す側面断面図である。
【図１７】実施例１の結果を比較例１、２と併せて示すグラフである。
【図１８】実施例２と比較例３の結果を示すグラフである。
【符号の説明】
【０１２７】
１      表面処理装置
２      被処理物配置部
３      ノズル装置
４      処理ガス源
５      ガス吸引手段
９      被処理物
１０    噴出吸引構造
１１    第１溝形成部材
１２    第２溝形成部材（供給溝用被覆部材）
１３    分割板
１３ｆ  供給溝形成部
１３ｒ  裏側吸引溝形成部
１３ｅ  分割端面
１３ｇ  隔壁
１３ｈ  隔壁
１４    分割板
１４ｆ  表側吸引溝形成部
１４ｅ  分割端面
１４ｇ  隔壁
２１    裏側壁部材（裏側吸引溝用被覆部材）
２２    表側壁部材（表側吸引溝用被覆部材）
２３    中壁部材（被覆部材）
３０    ヘッダ部
３１    供給ヘッダ路
３２    裏側吸引ヘッダ路
３３    表側吸引ヘッダ路
４０    供給溝
４１    ツリー溝部
４２    開口溝部
４７    凸条
４８    絞り部
４９    連通部
５０    裏側吸引溝
５１    ツリー溝部
５２    開口溝部
５７    凸条
５８    絞り部
５９    連通部
６０    表側吸引溝
６１    ツリー溝部
６２    開口溝部
６７    凸条
６８    絞り部
６９    連通部
７０    先端板
７１    供給スリット
７２    裏側吸引スリット
７３    表側吸引スリット
７４    スリット画成板
７５    端板
７６    凸部
８２    囲み溝
８３    囲み溝
【図１】
2010082494.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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