(57)【要約】      （修正有）【課題】単純な構成および容易な製法により高い光取り出し効率を実現できるＥＬ素子を提供する。【解決手段】ＥＬ素子２１の外界に向けて光が取り出される面より発光層２４ｃ側で、かつ光透過性電極２５の光出射側の面より視認側のいずれかの位置に、下記条件をいずれも満たす光学シートが設けられていることを特徴とするＥＬ素子。ａ．該光学シート内に入射する光のうち、該シート面の法線方向から入射する光に対する平行透過率をＴｏ、該シート両面を２枚の直角反射プリズム斜面で挟んだ状態で、該シートに対し４５°傾いた方向から入射する光に対する平行透過率をＴαとしたとき、Ｔα／Ｔｏの値は０．６以下。ｂ．該光学シートは、透明樹脂中に平均アスペクト比が２以上の扁平粒子が分散されている構成であり、かつ、シート面に垂直な２つの断面における粒子の長軸方向と該シート面方向とのなす小さい方の角度の平均値が３０°以内。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に対向する一対の電極と該電極の間に発光層を備え、前記一対の電極のうち少なくとも一方は光透過性電極であるＥＬ素子において、該ＥＬ素子の外界に向けて光が取り出される面より発光層側で、前記光透過性電極の光出射側の面より視認側の、いずれかの位置に下記条件ａ、ｂをいずれも満たす光学シートが設けられていることを特徴とするＥＬ素子。
ａ．該光学シート内に入射する光のうち、該シート面の法線方向から入射する光に対する平行透過率をＴｏとし、該シート両面を２枚の直角反射プリズム斜面で挟んだ状態で、該シートに対し４５°傾いた方向から入射する光に対する平行透過率をＴαとしたとき、Ｔα／Ｔｏの値は０．６以下である。
ｂ．該光学シートは、透明樹脂中に平均アスペクト比が２以上の扁平粒子が分散されている構成であり、かつ、シート面に垂直な２つの断面における粒子の長軸方向と該シート面方向とのなす小さい方の角度の平均値が３０°以内である。
【請求項２】
前記光透過性電極の光出射側の面から前記光学シートの視認側表面までの距離が、２００μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のＥＬ素子。
【請求項３】
前記扁平粒子の平均粒径が１０μｍ未満であり、該扁平粒子の平均アスペクト比が５以上であることを特徴とする請求項１または２に記載のＥＬ素子。
【請求項４】
前記扁平粒子の平均粒径が５μｍ以下であり、平均厚みが０．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のＥＬ素子。
【請求項５】
前記光学シート内に入射する光のうち、該シート面の法線に対し４０°傾斜した方向から入射する光に対する平行透過率をＴβとしたとき、Ｔβ／Ｔｏの値が０．６５以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のＥＬ素子。
【請求項６】
光学シートを構成する前記透明樹脂と前記扁平粒子との平均屈折率差が０．０６以上であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のＥＬ素子。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のＥＬ素子を用いることを特徴とするＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学シートが設けられたＥＬ素子及びそれを用いるＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報機器の多様化に伴って、消費電力が少なく、容積が小さい面発光素子のニーズが高まり、このような面発光素子の一つとしてエレクトロルミネッセンス素子（本願では、ＥＬ素子と略す）が注目されている。そして、このようなＥＬ素子は使用する材料によって無機ＥＬ素子と有機ＥＬ素子とに大別される。
【０００３】
ここで、無機ＥＬ素子は一般に発光部に高電界を作用させ、電子をこの高電界中で加速して発光中心に衝突させ、これにより発光中心を励起させて発光させるようになっている。一方、有機ＥＬ素子は電子注入電極とホール注入電極とからそれぞれ電子とホールとを発光層内で結合させて、有機材料を励起状態にし、この有機材料が励起状態から基底状態に戻るときに発光するようになっており、無機ＥＬ素子に比べて、低い電圧で駆動できるという利点がある。面で発光するという利点を活かして、薄型のディスプレイや照明用途としての展開が期待されている。
【０００４】
しかしながら、ＥＬ素子等の面発光素子を発光させた場合、高い屈折率を持つ発光層の内部で発せられた光は様々な方向に進行し、面発光素子の出射面等において全反射して面発光素子の内部に閉じ込められる光も多く存在する。一般に、面発光素子で発せられた光の２０％〜３０％しか面発光素子の外部に取り出すことができず、十分な明るさを得られないという問題があった。特に有機ＥＬ素子の場合、明るさを電流の大きさで補おうとすると素子の寿命が短くなるという問題もある。
【０００５】
このような問題に対し、拡散粒子を含有する層をＥＬ素子の光出射面側のいずれかの位置に設ける技術が従来より知られている。しかし単なる拡散層を設けるだけの構成では、十分な光取り出し効果が得られない上に、視認側正面に向かって出射される光に対しても散乱現象を起こすために正面輝度が低下するという問題が生じてしまう。このような課題に対し、ＥＬ素子から出射される光のうち、視認側正面に向かって出射される光に対して殆ど散乱を起こすことなく、臨界角以上の角度で進行する光に対して大きな散乱を与え、光取り出し効率を高めるような光学技術の開示がなされている（例えば、特許文献１〜５参照）。
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１には、そのような散乱特性を与える構成に関し、樹脂とその中に含まれている散乱体との屈折率の関係への言及はあるものの、複屈折性を有する樹脂あるいは散乱体の材質や、複屈折性散乱体個々の配向を揃える方法など、構成具現化の詳細な記述がなされていない。また、特許文献１では、散乱体形状が異方性を有する例として、細長い散乱体が拡散層の厚み方向に立つ様に配向されている構成を挙げているが、どのように配向させるかの記述がない上に、この構成をそのままＥＬ表示装置に適用すると、画素滲みが大きくなり呆けた画になってしまう。また、特許文献２および３には、臨界角以上の角度で進行する光に対して大きな散乱を与える構成の考え方として、厚み方向に屈折率分布を持つ構造、例えば住友化学製ルミスティのような視界制御特性を持つフィルムを挙げているが、屈折率分布の定義が不明である上に、ルミスティの類の視界制御フィルムは、空気から該フィルムに入射される角度に応じて散乱の大きさが異なるような仕組みであるため、これをＥＬ素子構造に適用しても臨界角以上の光に対して必ずしも有効に機能するとは限らず、むしろ臨界角範囲内の比較的高角入射光に対して大きく散乱し、正面輝度の低下をもたらしてしまう。特許文献４および５でも、臨界角以上の角度で進行する光に対して大きな散乱を与える構成の評価として、特許文献２および３で挙げている視界制御フィルムと同様に、空気から直接フィルムに入射される角度に応じて散乱特性がどう変化するかをみているに過ぎず、光取り出し効率として不十分である。また、特許文献４および５では、具体的構成としてホログラフィック拡散シートを挙げているが、製造方法自体が複雑である上に、これをＥＬ表示装置に適用しようとする場合、各画素ごとにこのような構造を発光素子の上に設けなければならず、非常にコスト高となる。
【０００７】
また、特許文献６および７には、いずれも雲母を二酸化チタンで被覆した粒子を含有する層をＥＬ素子の表面に設けた構成の開示があるが、該粒子の形状的特徴の記述がない上に、１０μｍ以上の粒径の粒子を使用しており、単なる拡散フィルムの光取り出し効果を超える機能は全く認められなかった。更に該構成では、ＥＬ表示装置として用いた場合、画像滲みの点で問題となるレベルであった。
【特許文献１】特許第４０８３８１２号
【特許文献２】特許第４１０４３３９号
【特許文献３】特開２００３−２０８９７４号公報
【特許文献４】特許第３７５０５６３号
【特許文献５】特開２００４−９５５４１号公報
【特許文献６】特開平９−２４５９６６号公報
【特許文献７】特開平１１−２１４１５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、単純な構成および容易な製法により高い光取り出し効率を実現できるＥＬ素子を提供することを第１の目的とし、そのＥＬ素子を用いて輝度が高く、画像滲みの少ないＥＬ表示装置を提供することを第２の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
【００１０】
１．基板上に対向する一対の電極と該電極の間に発光層を備え、前記一対の電極のうち少なくとも一方は光透過性電極であるＥＬ素子において、該ＥＬ素子の外界に向けて光が取り出される面より発光層側で、前記光透過性電極の光出射側の面より視認側の、いずれかの位置に下記条件ａ、ｂをいずれも満たす光学シートが設けられていることを特徴とするＥＬ素子。
【００１１】
ａ．該光学シート内に入射する光のうち、該シート面の法線方向から入射する光に対する平行透過率をＴｏとし、該シート両面を２枚の直角反射プリズム斜面で挟んだ状態で、該シートに対し４５°傾いた方向から入射する光に対する平行透過率をＴαとしたとき、Ｔα／Ｔｏの値は０．６以下である。
【００１２】
ｂ．該光学シートは、透明樹脂中に平均アスペクト比が２以上の扁平粒子が分散されている構成であり、かつ、シート面に垂直な２つの断面における粒子の長軸方向と該シート面方向とのなす小さい方の角度の平均値が３０°以内である。
【００１３】
２．前記光透過性電極の光出射側の面から前記光学シートの視認側表面までの距離が、２００μｍ以下であることを特徴とする前記１に記載のＥＬ素子。
【００１４】
３．前記扁平粒子の平均粒径が１０μｍ未満であり、該扁平粒子の平均アスペクト比が５以上であることを特徴とする前記１または２に記載のＥＬ素子。
【００１５】
４．前記扁平粒子の平均粒径が５μｍ以下であり、平均厚みが０．５μｍ以下であることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載のＥＬ素子。
【００１６】
５．前記光学シート内に入射する光のうち、該シート面の法線に対し４０°傾斜した方向から入射する光に対する平行透過率をＴβとしたとき、Ｔβ／Ｔｏの値が０．６５以上であることを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載のＥＬ素子。
【００１７】
６．光学シートを構成する前記透明樹脂と前記扁平粒子との平均屈折率差が０．０６以上であることを特徴とする前記１〜５のいずれか１項に記載のＥＬ素子。
【００１８】
７．前記１〜６のいずれか１項に記載のＥＬ素子を用いることを特徴とするＥＬ表示装置。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、単純な構成および容易な製法により高い光取り出し効率を実現できるＥＬ素子を提供することができる。更に、そのＥＬ素子を用いて輝度が高く、画像滲みの少ないＥＬ表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２１】
本発明のＥＬ素子は、基板上に対向する一対の電極と該電極の間に発光層を備え、前記一対の電極のうち少なくとも一方は光透過性電極であるＥＬ素子において、該ＥＬ素子の外界に向けて光が取り出される面より発光層側で、前記光透過性電極の光出射側の面より視認側の、いずれかの位置に下記条件ａ、ｂをいずれも満たす光学シートが設けられていることを特徴とし、かかる構成により、単純な構成および容易な製法でありながら高い光取り出し効率を実現できるＥＬ素子を提供するものである。
【００２２】
ａ．該光学シート内に入射する光のうち、該シート面の法線方向から入射する光に対する平行透過率をＴｏとし、該シート両面を２枚の直角反射プリズム斜面で挟んだ状態で、該シートに対し４５°傾いた方向から入射する光に対する平行透過率をＴαとしたとき、Ｔα／Ｔｏの値は０．６以下である。
【００２３】
ｂ．該光学シートは、透明樹脂中に平均アスペクト比が２以上の扁平粒子が分散されている構成であり、かつ、シート面に垂直な２つの断面における粒子の長軸方向と該シート面方向とのなす小さい方の角度の平均値が３０°以内である。
【００２４】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２５】
（本発明に係わる光学シートの散乱特性）
本発明の光学シートは、該シート内に入射する光のうち、該シート面の法線方向から入射する光に対する平行透過率をＴｏとし、該シート両面を２枚の直角三角プリズム斜面で挟んだ状態で、該シートに対し４５°傾いた方向から入射する光に対する平行透過率をＴαとしたとき、Ｔα／Ｔｏの値は０．６以下であることが特徴である。
【００２６】
ここで本発明に係わる光学シートの平行透過率Ｔｏ、Ｔαの値は、以下のような手法により測定する値である。即ち、予め有機ＥＬ素子より光学シート部を剥離して取り出しておき、これを図１．Ａに模式的に表す光学系、例えば日本電色工業社製ヘイズメータＮＤＨ２０００のような市販のヘイズメータにセットし、該光学シート面の法線方向より光を当て、直進出射されてくる透過光の割合、即ち平行透過率Ｔｏを測定する。次に、図１．Ｂに示すように市販の４５°直角反射プリズムを２つ用意し、三角柱の斜面間に該光学機能性層を接着層などを介して気泡が極力混入しないように貼り合わせた後、これを上記光学系にセットして該光学シートの法線から４５°傾斜した角度より光を当て、そのときの平行透過率測定値Ｔαを測定する。本発明に係わる光学シートは、Ｔα／Ｔｏの値が０．６以下であり、好ましくは０．００１以上０．５以下であることが光取り出し効果を高める点で好ましい。
【００２７】
また、本発明に係わる光学シートは、該光学シート内に入射する光のうち、該シート面の法線に対し４０°傾斜した方向から入射する光に対する平行透過率をＴβとしたとき、Ｔβ／Ｔｏの値が０．６５以上であることが光取り出し効果を高める点で好ましい。Ｔβの値は、図１Ａにおいて、光学シートを入射光に対して４０°傾斜した状態で測定したときに得られる平行透過率の値を意味する。Ｔβ／Ｔｏの値は０．６５以上０．９９以下が好ましく、０．７以上０．９９以下がより好ましい。
【００２８】
Ｔα／Ｔｏ及びＴβ／Ｔｏの値は、光学シートを構成している扁平粒子の厚みや粒径、シート内に含有される全散乱体数の中の扁平粒子数の割合、扁平粒子と透明樹脂との屈折率差、散乱体密度、該光学シートの厚みなどを適宜単独または組み合わせで変化させることにより、容易に制御できる。
【００２９】
（本発明に係わる光学シートの構成）
本発明に係わる光学シートは、透明樹脂中に扁平粒子が分散されている構成である。該シートに含有される扁平粒子の密度としては、個々の粒子の詳細な形状や、材質で決まってくる屈折率、更には粒子のバインダーとして機能する透明樹脂の屈折率などとの関係により、一概に適正範囲を語ることはできないが、体積比率にして０．０３％〜５０％の範囲であることが好ましく、０．１％〜３０％の範囲であることが更に好ましい。
【００３０】
該シートの厚みとしては、該シートに含有されている扁平粒子の厚み以上であれば特に制限はないが、概ね０．２μｍ以上１５０μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以上８０μｍ以下であることが更に好ましく、１μｍ以上４０μｍ以下であることが最も好ましい。
【００３１】
（本発明に用いられる扁平粒子）
本発明に用いられる扁平粒子は、粒子の立体形状に直交３次元座標系を当てはめたとき、少なくともいずれか一方向に短い特徴をもつ粒子であり、外見上、円盤を含む楕円盤状のもの、四角状あるいは六角状に代表される多角形平板状のもの、更には棒状のものなど種々の形状のものが用いられる。
【００３２】
本発明に係わる光学シートは、透明樹脂中に平均アスペクト比が２以上の扁平粒子が分散されている構成であることが特徴である。本発明においてアスペクト比とは、粒径と厚さの比（アスペクト比＝直径／厚さ）をいう。また、本発明でいう粒径とは、扁平粒子の表面を形成する平面あるいは曲面の中で最も広い面積を有する面（以下、主要面と称する）の外接面または内接面に対して垂直にその粒子を投影した場合の面積（投影面積）に等しい円の直径で表される。粒子の厚さとは、主要面に垂直な方向での粒子の厚さのうち最長のものとして定義する。
【００３３】
粒径と厚さは、粒子が固体の場合、以下の方法で求められる。予めＥＬ素子より剥離して取り出した光学シートから、バインダー樹脂を溶解等の方法により除去し、粒子のみを抽出する。これを支持体上に内部標準となる粒径既知のラテックスボールとともに塗布した試料を作成し、ある角度からカーボン蒸着法によりシャドーイングを施した後、通常のレプリカ法によってレプリカ試料を作成する。同試料の電子顕微鏡写真を撮影し、画像処理装置等を用いて個々の粒子の投影面積と厚さを求める。この場合、粒子の投影面積は内部標準の投影面積から、粒子の厚さは内部標準と粒子の影（シャドー）の長さから算出することができる。本発明において、アスペクト比、粒径、粒子厚さの平均値は、上記シャドーイング法を用いて粒子を任意に３００個以上測定し、それらの算術平均として求められる値をいう。また、粒子が気体あるいは液体の場合、光学シートを超薄膜切片状に連続的に切り出し、電子顕微鏡像の画像処理により立体化した後、上記粒径と厚みを求めることができる。
【００３４】
本発明において、扁平粒子の平均アスペクト比は２以上であるが、５以上であることが好ましい。また、本発明に用いられる扁平粒子の平均粒径は、１０μｍ未満が好ましく、０．１μｍ〜８μｍが更に好ましく、０．１μｍ〜５μｍが特に好ましい。本発明に用いられる扁平粒子の平均厚みは、２μｍ以下が好ましく、１μｍ以下が更に好ましく、０．５μｍ以下が最も好ましい。
【００３５】
本発明に用いられる扁平粒子は、無機物質、有機物質、有機／無機複合物のいずれであっても構わないし、その物質の状態が固体に限定されるものではなく、液体でも気体でも構わない。扁平粒子が液体の例としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略す）のような熱可塑性樹脂中に、常温で液体の状態を示しかつＰＥＴとの相溶性が低いＵＶ吸収化合物などを分散させ、ＰＥＴとともに溶融押出法にて製膜後、二軸延伸したシートなどが挙げられる。二軸延伸後の各ＵＶ吸収化合物からなる分散体は、周囲のＰＥＴに追随して面方向に形が伸びるため、扁平状の分散体となる。ＰＥＴとＵＶ吸収化合物の平均屈折率の差が０．０２以上異なるようにＵＶ吸収化合物の種類を選択するとともに延伸倍率を制御することにより、本発明の狙う散乱特性を示す光学シートを得ることができる。また、扁平粒子が気体の例としては、例えば、ＰＥＴ中に、ＰＥＴと平均屈折率が殆ど差がない無機粒子を添加し、先程と同様、ＰＥＴとともに溶融押出法にて製膜後、二軸延伸したシートなどが挙げられる。ＰＥＴを二軸延伸することにより、各無機粒子とＰＥＴとの界面を起点とした微細な空隙が形成され扁平粒子状になる。添加する無機粒子は、屈折率が分散媒のＰＥＴと近いものを選択しているため、光学的には何ら影響を及ぼさない。無機粒子のサイズや添加濃度、延伸倍率を制御することにより、本発明の狙う散乱特性を示す光学機能性フィルムを得ることができる。
【００３６】
次に、本発明に用いられる扁平粒子の具体例を示す。無機系の扁平粒子としては、マスコバイト（白雲母）、フロゴバイト（金雲母）、バイオタイト（黒雲母）、セリサイト（絹雲母）、フッ素金雲母（人造雲母）などの雲母（マイカ）類や、カオリン（クレー）、タルク（滑石）、モンモリロナイトなどの他、薄片状の、酸化アルミニウム・酸化チタン・酸化亜鉛・酸化ケイ素やこれらを複合したもの、平板状の炭酸カルシウムなど、更には、平板状に形状制御された塩化銀、臭化銀、沃化銀、沃臭化銀、臭塩化銀、沃塩化銀、沃臭塩化銀等のハロゲン化銀などが用いられる。
【００３７】
雲母類としては、例えば、山口雲母工業所製Ａ−１１、Ａ−２１、Ａ−４１、ＡＢ−２５Ｓ、ＳＹＡ−２１Ｒ、ＳＹＡ−４１Ｒ、ＳＪ−００５、ＳＪ−０１０、ＣＳ−３２５ＤＣ、Ｙ−１８００、Ｙ−２３００Ｘ、Ｙ−２４００、Ｙ−３０００、ＳＡ−３１０、ＳＡ−３５０、ＦＡ−４５０、ＮＣＣ−３２２、ＮＣＦ−３２２、ＴＭ−１０、ＴＭ−２０などや、コープケミカル社製ミクロマイカＭＫ−１００Ｆ、Ｓ１ＭＫ、ＭＫ−１００、ＭＫ−２００、ＭＫ−３００や、同社製ソフシマＭＥ−１００、同ＭＡＥ、同ＭＴＥ、同ＭＥＥ、同ＭＰＥなどが用いられる。
【００３８】
カオリン、タルクなどのスメクタイト類としては、例えば、山口雲母工業所製ＦＫ−５００Ｓ、ＦＫ−３００Ｓ、ＣＴ−３５などや、コープケミカル社製ルーセンタイトＳＷＮ、同ＳＷＦ、同ＳＡＮ、同ＳＡＮ３１６、同ＳＴＮ、同ＳＥＮ、同ＳＰＮなどが挙げられる。
【００３９】
薄片状の酸化アルミニウムとしては、例えば、キンセイマテック社製のセラフＹＦＡ００６１０、同０２０２５、同０２０５０、同０５０２５、同０５０７０、同０７０７０、同１００３０や、朝日化学工業社製ルクセレンＦＡＯなどが挙げられる。
【００４０】
薄片状の酸化チタンとしては、例えば、朝日化学工業社製ルクセレンシルクＤ、同Ｈ、同ＵＶ、ルクセレンＰＣ、同ＯＤＴなどが挙げられる。
【００４１】
薄片状の酸化亜鉛としては、例えば、朝日化学工業社製ルクセレンＦＺＴなどが挙げられる。
【００４２】
薄片状の酸化ケイ素としては、例えば、朝日化学工業社製ケミセレンや、日本板硝子社製ＳＧフレーク、ＴＳＧ９、ＴＳＧ３０、ＮＴＳ３０Ｋ３ＴＡ、ＮＰＴ３０Ｋ３ＴＡなどが挙げられる。
【００４３】
扁平状の炭酸カルシウムとしては、ニューライム社製の六角板状、円盤状、鱗片状のものなどが用いられる。
【００４４】
有機系の扁平粒子としては、例えば、特開平１１−１９９７０６号公報に開示されているような製造方法を用いて作られる、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリスルフィド系、ポリオレフィン系、フッ素樹脂系またはポリビニルアルコール系のものなどが用いられる。
【００４５】
扁平粒子の特殊形状として、棒状粒子が挙げられる。棒状粒子を用いる場合、その長軸は本発明に係わる光学シートの面方向に配向していることが重要であり、該シート面に垂直な方向から見た場合、個々の棒状粒子は特定の方向を向かず無配向になっていることが好ましい。また、単独に１つの棒状粒子として分散されている場合だけでなく、複数の棒状粒子が凝集して扁平な形状の粒子群を成しているものも好ましく用いられる。具体的には、上記、無機系、有機系、あるいはこれらの複合系いずれの扁平粒子においても、後述の粒子バインダーとして用いる各種樹脂との親和性を高めるため、公知の各種表面改質剤・手法を用いて表面処理することができる。
【００４６】
（本発明に用いられる透明樹脂）
本発明に用いられる透明樹脂は、可視光領域で実質的に透明な材料を用いることが好ましい。具体的には、例えばトリアセチルセルロースやセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートのようなセルロースエステル系樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、シクロオレフィンポリマー、架橋ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂などの非晶性熱可塑性樹脂や、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート、芳香族ポリエステル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂などの結晶性熱可塑性樹脂などを用いることができる。更には、上記熱可塑性樹脂の基材あるいはガラス基材上にアクリル系、エポキシ系、ウレタン系などの紫外線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂で構成された樹脂を先述の扁平粒子とともに塗布することも好ましい。
【００４７】
（透明樹脂と扁平粒子の屈折率の関係）
本発明に用いられる透明樹脂と扁平粒子との屈折率の関係は、平均屈折率として０．０２以上１．０以下の差があることが好ましい。ここで、平均屈折率とは、透明樹脂で言えば、本発明の光学シートを形成している樹脂部の面方向２軸の屈折率をＮｍｘ、Ｎｍｙとし、樹脂部の厚み方向の屈折率をＮｍｚとしたときの下記（１）式で定義されるＮｍａｖを意味し、扁平粒子で言えば、主要面に対する接面上の２軸の屈折率をＮｄｘ、Ｎｄｙとし、粒子の厚み方向の屈折率をＮｄｚとしたときの下記（２）式で定義されるＮｄａｖを意味している。
【００４８】
Ｎｍａｖ＝（Ｎｍｘ＋Ｎｍｙ＋Ｎｍｚ）／３    …  式（１）
Ｎｄａｖ＝（Ｎｄｘ＋Ｎｄｙ＋Ｎｄｚ）／３    …  式（２）
Δｎ＝｜Ｎｍａｖ−Ｎｄａｖ｜                …  式（３）
で定義されるΔｎは、０．０２以上１．０以下であることが好ましく、優れた散乱特性を得る上では、０．０４以上０．９以下がより好ましく、０．０６以上０．７以下が更に好ましい。Ｎｍｘ、Ｎｍｙ、Ｎｍｚは、それぞれの差が０．０２以下の実質的に光学的等方性を示すものであっても良いし、ＮｍｚがＮｍｘやＮｍｙより０．０５以上小さいまたは０．０５以上大きいものであっても良いが、ＮｍｘとＮｍｙの差は、好ましくは０．０５以下であり、更に好ましくは０．０２以下である。一方、Ｎｄｘ、Ｎｄｙ、Ｎｄｚは、それぞれの差が０．０２以下の実質的に光学的等方性を示すものであっても良いし、ＮｄｚがＮｄｘやＮｄｙより０．０５以上小さいまたは０．０５以上大きいものであっても良いが、ＮｄｘとＮｄｙの差は、好ましくは０．０５以下であり、更に好ましくは０．０２以下である。Ｎｍｘ，ＮｍｙとＮｄｘ，Ｎｄｙの関係は、式（３）で表されるΔｎが０．０２以上１．０以下の関係を満たす範囲であれば、特別制約を受けずに好ましく用いられるが、ＮｍｘまたはＮｍｙと、ＮｄｘまたはＮｄｙとの差は、好ましくは０．０３以下である。ＮｍｚとＮｄｚとの関係は、０．０５以上１．０以下であることが好ましい。
【００４９】
本発明に用いる光学シートの透明樹脂と扁平粒子の屈折率は、それらを構成する化合物のバルクの屈折率値を調べたり、市販のものであればメーカーのカタログ値より、概ね見当をつけることができる。また、実際の測定にあたっては、扁平粒子を含まない透明樹脂のシートを予め作製した後、これを例えば株式会社アタゴ製のアッベ屈折率計ＤＲ−Ｍ２などを用いて測定することができる。また、扁平粒子の屈折率は、ベッケ法を用いて測定することができる。即ち、屈折率の異なるいくつかの浸液を用意し、これに粒子を浸した際のベッケ線の有無を観察することにより、粒子の屈折率を決めることが可能である。
【００５０】
（扁平粒子の配向性）
本発明に係わる光学シート内における扁平粒子の配向性は、該シートの厚み方向と個々の扁平粒子の扁平方向が概ね平行になっていることが好ましい。換言すれば、該シート面に垂直な縦横２つの断面における粒子の長軸方向が、各断面の面方向に概ね平行であることが好ましい。ここで、シート面に垂直な断面における粒子の長軸方向とは、閉曲線または閉直線で囲まれる粒子断面において、外周の２点間の距離のうち最も長い２点を結んだ方向を意味するものとする。本発明に係わる光学シート内における扁平粒子の配向性は、シート面に垂直な縦横２つの断面における、粒子断面の長軸方向とシート面方向とのなす小さい方の角度の平均が３０°以内であることが特徴であり、２０°以内であることが好ましい。
【００５１】
上記好ましい配向性を実現させる方法としては、平均アスペクト比の高い扁平粒子を選択したり、シート形成時に高粘度の扁平粒子含有の溶液を用意し、この溶液をシート状に延ばす際にシートの面方向に強いせん断力が加わるようにしたり、あるいは塗布直後の溶剤を多量に含んでいる状態から乾燥固化するまでの時間を長めにするなど、種々の方法があり、適宜これらの方法を単独あるいは組合せて実現させることができる。逆に言えば、例えば溶剤とＵＶ硬化樹脂と扁平粒子を含んだ塗布液を、ワイヤーバーなどで塗布した後、直ちにＵＶ照射することにより、固化した層内において十分に安定配向していない扁平粒子を含んだシートを作製することが可能である。ワイヤーバー塗布においても、塗布後乾燥してＵＶ照射による固化までの時間を十分にとることにより、良好な配向性を得ることができる。また、スピンコート法は、扁平粒子の好ましい配向を形成しやすく、好ましい。
【００５２】
（本発明に係わる光学シートの製造方法）
本発明の光学シートの製造方法に特に制約はないが、目安として３０μｍ程度以上の厚みを有するシートを形成する上では、溶液流延法や溶融押出法などで製膜する方法、あるいはその製膜後、適宜延伸して薄膜化する方法などが好ましく用いられる。また、３０μｍ程度未満の厚みを有するシートを形成する場合には、蒸着法、キャスト法、グラビアコート、コンマコート、バーコート、ダイコート、リップコート、ロールコート、フローコート、プリントコート、ディップコート、スピンコート等の塗布法、印刷、インクジェット方式などによる製法が好ましく用いられる。特に扁平粒子の配向性を制御するには上記スピンコート法が好ましい。
【００５３】
（本発明に係わる光学シートの配置位置）
本発明に係わる光学シートの配置位置は、ＥＬ素子における、外界に向けて光が取り出される面より発光層側で、光透過性電極の光出射面側の面より視認側のいずれかの位置である。ここで、外界に向けて光が取り出される面とは、ＥＬ素子の最も視認側に位置する面を指す。ＥＬ素子の構成として、発光層からの光が光透過性電極を透過した後、透明基板を通り、視認側に達する構成の場合、該透明基板の光透過性電極がある面とは反対側の面に本発明の光学シートが設けられ、該光学シートの該透明基板とは反対側の面は外界空気層となっている構成は、本発明の範囲外である。即ち、本発明の光学シートは、その両面が一般的に屈折率１よりも大きい部材で挟まれていることが重要である。本発明の光学シートは該光透過性電極の視認側の面と該透明基板の該光透過性電極側の面との間に設けられていても構わない。
【００５４】
本発明のＥＬ素子を画像表示装置として用いる場合は、画像滲みに対する配慮が必要である。画像滲みを極力抑えるためには、外界に向けて光が取り出される面ではない位置、即ち、視認側最表面ではない位置に光学シートを配置することが好ましく、光透過性電極に比較的近い位置に設けることがより好ましい。この際の光透過性電極の視認側面から本発明の光学シートの視認側面までの距離の目安としては、０．２μｍ以上２００μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以上１００μｍ以下がより好ましく、１μｍ以上５０μｍ以下が最も好ましい。
【００５５】
《本発明のＥＬ素子の構成》
次に、本発明のＥＬ素子の構成について説明する。本発明の技術は、有機／無機いずれのＥＬ素子であっても適用可能であるが、ここでは、有機ＥＬ素子を代表として主に説明する。図２は、本発明のＥＬ素子の一例を模式的に示した断面図である。この図に示すＥＬ素子２１は、基板２２上に、陽極２３、有機層２４、および陰極２５をこの順に積層した構成になっている。このうち有機層２４は、陽極２３側から順に、例えば正孔注入層２４ａ、正孔輸送層２４ｂ、発光層２４ｃ、及び電子輸送層２４ｄを積層した構成となっている。以下においては、このような積層構成のＥＬ素子２１が、基板２２と反対側から光を取り出す所謂トップエミッション型の素子として構成されていることとし、この場合の各層の詳細を基板２２側から順に説明する。
【００５６】
＜基板＞
基板２２は、その片側の面側にＥＬ素子２１が配列形成される支持体であって、公知のものであって良く、例えば、石英、ガラス、金属箔、もしくは樹脂製のフィルムやシートなどが用いられるこの中でも石英やガラスが好ましく、樹脂製の場合には、その材質としてポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）に代表されるメタクリル樹脂類、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンナフタレート（ＰＢＮ）などのポリエステル類、もしくはポリカーボネート樹脂などが挙げられるが、透水性や透ガス性を抑える積層構造、表面処理を行うことが必要である。
【００５７】
＜陽極＞
陽極２３には、効率良く正孔を注入するために電極材料の真空準位からの仕事関数が大きいもの、例えばアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、モリブテン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）の金属及びその合金さらにはこれらの金属や合金の酸化物等、または、酸化スズ（ＳｎＯ２）とアンチモン（Ｓｂ）との合金、ＩＴＯ（インジウムチンオキシド）、ＩｎＺｎＯ（インジウ亜鉛オキシド）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）とアルミニウム（Ａｌ）との合金、さらにはこれらの金属や合金の酸化物等が、単独または混在させた状態で用いられる。
【００５８】
また、陽極２３は、光反射性に優れた第１層と、この上部に設けられた光透過性を有すると共に仕事関数の大きい第２層との積層構造であっても良い。
【００５９】
第１層は、アルミニウムを主成分とする合金からなる。その副成分は、主成分であるアルミニウムよりも相対的に仕事関数が小さい元素を少なくとも一つ含むものでも良い。このような副成分としては、ランタノイド系列元素が好ましい。ランタノイド系列元素の仕事関数は、大きくないが、これらの元素を含むことで陽極の安定性が向上し、かつ陽極のホール注入性も満足する。また副成分として、ランタノイド系列元素の他に、シリコン（Ｓｉ）、銅（Ｃｕ）などの元素を含んでも良い。
【００６０】
第１層を構成するアルミニウム合金層における副成分の含有量は、例えば、アルミニウムを安定化させるＮｄやＮｉ、Ｔｉ等であれば、合計で約１０質量％以下であることが好ましい。これにより、アルミニウム合金層においての反射率を維持しつつ、有機電界発光素子の製造プロセスにおいてアルミニウム合金層を安定的に保ち、さらに加工精度および化学的安定性も得ることができる。また、陽極２３の導電性および基板２２との密着性も改善することが出来る。
【００６１】
また第２層は、アルミニウム合金の酸化物、モリブデンの酸化物、ジルコニウムの酸化物、クロムの酸化物、およびタンタルの酸化物の少なくとも一つからなる層を例示できる。ここで、例えば、第２層が副成分としてランタノイド系元素を含むアルミニウム合金の酸化物層（自然酸化膜を含む）である場合、ランタノイド系元素の酸化物の透過率が高いため、これを含む第２層の透過率が良好となる。このため、第１層の表面において、高反射率を維持することが可能である。さらに、第２層は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電層であっても良い。これらの導電層は、陽極２３の電子注入特性を改善することができる。
【００６２】
また陽極２３は、基板２２と接する側に、陽極２３と基板２２との間の密着性を向上させるための導電層を設けて良い。このような導電層としては、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明導電層が挙げられる。
【００６３】
そして、このＥＬ素子２１を用いて構成される表示装置の駆動方式がアクティブマトリックス方式である場合には、陽極２３は画素毎にパターニングされ、基板２２に設けられた駆動用の薄膜トランジスタに接続された状態で設けられている。またこの場合、陽極２３の上には、ここでの図示を省略したが絶縁膜が設けられ、この絶縁膜の開口部から各画素の陽極１３の表面が露出されるように構成されていることとする。
【００６４】
＜正孔注入層／正孔輸送層＞
正孔注入層２４ａおよび正孔輸送層２４ｂは、それぞれ発光層２４ｃへの正孔注入効率を高めるためのものである。このような正孔注入層２４ａもしくは正孔輸送層２４ｂの材料としては、例えば、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキザゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマー、オリゴマーあるいはポリマーを用いることができる。
【００６５】
また、上記正孔注入層２４ａもしくは正孔輸送層２４ｂのさらに具体的な材料としては、α−ナフチルフェニルフェニレンジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、ヘキサシアノアザトリフェニレン、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）、７，７，８，８−テトラシアノ−２，３，５，６−テトラフルオロキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）、テトラシアノ４、４、４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラフェニル−４、４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２、２’−チエニルピロール）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６６】
＜発光層＞
発光層２４ｃは、陽極２３側から注入された正孔と、陰極２５側から注入された電子とが再結合して発光光を発生する領域である。このような発光層２４ｃは、炭素及び水素のみから構成される有機材料で形成された有機薄膜であっても良く、正孔輸送性を示す三級アミンを分子構造中に有する材料を用いて構成された層であっても良い。加えて、発光層２４ｃは、ドーパントとして、ベリレン誘導体、クマリン誘導体、ピラン系色素、トリフェニルアミン誘導体等の有機物質を微量含む混合有機薄膜であっても良い。この場合には発光層２４ｃを構成するホスト材料（主材料）と、ドーパントとなる材料との共蒸着によって、発光層２４ｃが形成される。また特に、正孔輸送性を示す三級アミンを分子構造中に有する材料のうち、分子間相互作用が小さく濃度消光しにくい特徴を有するものであれば、高濃度のドーピングが可能になり、最適なドーパントの１つとして機能する。
【００６７】
以上のような発光層２４ｃを構成する材料は、希望する色に応じて選択することが可能である。例えば、青色系統の発光光を得たい場合には、オキサジアゾール誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体などが用いられる。緑色系統の発光光を得たい場合には、青色系統の発光層にクマリン６などのクマリン誘導体、キナクリドン誘導体などの既知の緑色色素をドーピングした層が用いられる。赤色系統の発光光を得たい場合には、青色系統または緑色系統の発光層にニールレッド、ＤＣＭ１｛４−（ジシアノメチレン）−２−メチル−６（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン｝、ＤＣＪＴ｛４−（ジシアノメチレン）−２−ｔ−ブチル−６−（ジュロリジルスチリル）−ピラン｝などのピラン誘導体，スクアリリウム誘導体，ポルフィリン誘導体，クロリン誘導体，ユーロジリン誘導体などの既知の赤色色素をドーピングした層が用いられる。
【００６８】
尚、この発光層２４ｃは、赤色発光層、緑色発光層、青色発光層を積層させた白色発光層であっても良く、また接続層を介して発光層を複数積層させたタンデム構造であっても良い。さらに、発光層２４ｃは、電子輸送層を兼ねた電子輸送性発光層であることも可能であり、正孔輸送性の発光層であっても良い。
【００６９】
＜電子輸送層＞
電子輸送層２４ｄは、陰極２５から注入される電子を発光層２４ｃに輸送するためのものである。電子輸送層２４ｄの材料としては、例えば、キノリン、ペリレン、フェナントロリン、ビススチリル、ピラジン、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、フルオレノン、またはこれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。具体的には、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（略称Ａｌｑ３）、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、アントラセン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチルベン、１，１０−フェナントロリンまたはこれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。
【００７０】
尚、有機層２４は、このような層構造に限定されることはなく、少なくとも発光層２４ｃと、これに接して電子輸送層２４ｄが設けられていれば良く、その他必要に応じた積層構造を選択することができる。
【００７１】
また、発光層２４ｃは、正孔輸送性の発光層、電子輸送性の発光層、あるいは両電荷輸送性の発光層としてＥＬ素子２１に設けられていても良い。さらに、以上の有機層２４を構成する各層、例えば正孔注入層２４ａ、正孔輸送層２４ｂ、発光層２４ｃ、電子輸送層２４ｄは、それぞれが複数層からなる積層構造であっても良い。
【００７２】
＜陰極＞
次に、このような構成の有機層２４上に設けられる陰極２５は、例えば、有機層２４側から順に第１層２５ａ、第２層２５ｂを積層させた２層構造で構成されている。
【００７３】
第１層２５ａは、仕事関数が小さく、かつ光透過性の良好な材料を用いて構成される。このような材料としては、例えばリチウム（Ｌｉ）の酸化物である酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ）や、セシウム（Ｃｓ）の複合酸化物である炭酸セシウム（Ｃｓ２ＣＯ３）、さらにはこれらの酸化物及び複合酸化物の混合物を用いることができる。また、第１層２５ａは、このような材料に限定されることはなく、例えば、カルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）等のアルカリ土類金属、リチウム、セシウム等のアルカリ金属、さらにはインジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）等の仕事関数の小さい金属、さらにはこれらの金属の酸化物及び複合酸化物、フッ化物等を、単体でまたはこれらの金属および酸化物及び複合酸化物、フッ化の混合物や合金として安定性を高めて使用しても良い。
【００７４】
第２層２５ｂは、例えば、ＭｇＡｇなどの光透過性を有する層を用いた薄膜により構成されている。この第２層２５ｂは、さらに、アルミキノリン錯体、スチリルアミン誘導体、フタロシアニン誘導体等の有機発光材料を含有した混合層であっても良い。この場合には、さらに第３層としてＭｇＡｇのような光透過性を有する層を別途有していてもよい。
【００７５】
以上のような陰極２５は、このＥＬ素子２１を用いて構成される表示装置の駆動方式がアクティブマトリックス方式である場合、陰極２５は、有機層２４とここでの図示を省略した上述の絶縁膜とによって、陽極２３と絶縁された状態で基板２２上にベタ膜状に形成され、各画素の共通電極として用いられる。
【００７６】
尚、陰極２５は上記のような積層構造に限定されることはなく、作製されるデバイスの構造に応じて最適な組み合わせ、積層構造を取れば良いことは言うまでもない。例えば、上記実施形態の陰極２５の構成は、電極各層の機能分離、すなわち有機層２４への電子注入を促進させる無機層（第１層２５ａ）と、電極を司る無機層（第２層２５ｂ）とを分離した積層構造である。しかしながら、有機層２４への電子注入を促進させる無機層が、電極を司る無機層を兼ねても良く、これらの層を単層構造として構成しても良い。また、この単層構造上にＩＴＯなどの透明電極を形成した積層構造としても良い。
【００７７】
そして上記した構成のＥＬ素子２１に印加する電流は、通常、直流であるが、パルス電流や交流を用いてもよい。電流値、電圧値は、素子が破壊されない範囲内であれば特に制限はないが、有機電界発光素子の消費電力や寿命を考慮すると、なるべく小さい電気エネルギーで効率良く発光させることが望ましい。
【００７８】
さらに、ここでの図示は省略したが、このような構成のＥＬ素子２１は、大気中の水分や酸素等による有機材料の劣化を防止するため保護層（パッシベーション層）で覆われた状態で用いることが好ましい。保護膜には、窒化珪素（代表的には、Ｓｉ３Ｎ４）、酸化珪素（代表的には、ＳｉＯ２）膜、窒化酸化珪素（ＳｉＮｘＯｙ：組成比Ｘ＞Ｙ）膜、酸化窒化珪素（ＳｉＯｘＮｙ：組成比Ｘ＞Ｙ）膜、またはＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ  ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ）のような炭素を主成分とする薄膜、ＣＮ（Ｃａｒｂｏｎ  Ｎａｎｏｔｕｂｅ）膜等が用いられる。これらの膜は、単層または積層させた構成とすることが好ましい。なかでも、窒化物からなる保護層は膜質が緻密であり、ＥＬ素子２１に悪影響を及ぼす水分、酸素、その他不純物に対して極めて高いブロッキング効果を有するため好ましく用いられる。
【００７９】
尚、以上の実施形態においては、ＥＬ素子が上面発光型である場合を例示して本発明を詳細に説明した。しかしながら、本発明のＥＬ素子は、上面発光型への適用に限定されるものではなく、陽極と陰極との間に少なくとも発光層を有する有機層を挟持してなる構成に広く適用可能である。したがって、基板側から順に、陰極、有機層、陽極を順次積層した構成のものや、基板側に位置する電極（陰極または陽極としての下部電極）を透明材料で構成し、基板と反対側に位置する電極（陰極または陽極としての上部電極）を反射材料で構成することによって、下部電極側からのみ光を取り出すようにした、下面発光型のＥＬ素子にも適用可能である。
【００８０】
さらに、本発明のＥＬ素子とは、一対の電極（陽極と陰極）、およびその電極間に有機層が挟持されることによって形成される素子であれば良い。このため、一対の電極および有機層のみで構成されたものに限定されることはなく、本発明の効果を損なわない範囲で他の構成要素（例えば、無機化合物層や無機成分）が共存することを排除するものではない。
【００８１】
一方、高分子有機物から形成された高分子有機層の場合には、発光層２４ｃを中心に、陽極２３の方向に正孔輸送層だけ備わりうる。前記正孔輸送層２４ｂは、ポリエチレンジヒドロキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）や、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）などを使用し、インクジェットプリンティング法やスピンコーティング法により陽極２３の上部に形成され、前記高分子有機発光層は、ポリフェニルビニレン（ＰＰＶ）、可溶性ＰＰＶ、シアノ基付きＰＰＶ、ポリフルオレンなどを使用でき、インクジェットプリンティング法や、スピンコーティング法、またはレーザを利用した熱転写法などの一般的な方法でカラーパターンを形成できる。
【００８２】
無機電界発光素子の場合、発光層２４ｃは、ＺｎＳ、ＳｒＳ、ＣａＳ、ＣａＣａ２Ｓ４、ＳｒＣａ２Ｓ４、ＢａＡｌ２Ｓ４のようなアルカリ土類カルシウム硫化物、及びＭｎ、Ｃｅ、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｔｍ、Ｅｒ、Ｐｒ、Ｐｂなどを含む遷移金属、またはアルカリ稀土類金属のような発光中心原子から形成され、この発光層２４ｃを中心に、陽極２３との間及び陰極２５との間に絶縁層が形成される。
【００８３】
≪表示装置の概略構成≫
図３は実施形態の表示装置１０の一例を示す図であり、図３（Ａ）は概略構成図、図３（Ｂ）は画素回路の構成図である。ここでは、発光素子として図２で示したＥＬ素子２１を用いたアクティブマトリックス方式の表示装置に本発明を適用した実施形態を説明する。
【００８４】
図３（Ａ）に示すように、この表示装置１０の基板２上には、表示領域２ａとその周辺領域２ｂとが設定されている。表示領域２ａは、複数の走査線１１と複数の信号線１３とが縦横に配線されており、それぞれの交差部に対応して１つの画素ａが設けられた画素アレイ部として構成されている。これらの各画素ａに、ＥＬ素子２１が設けられている。また周辺領域２ｂには、走査線１１を走査駆動する走査線駆動回路ｂと、輝度情報に応じた映像信号（すなわち入力信号）を信号線１３に供給する信号線駆動回路ｃとが配置されている。
【００８５】
図３（Ｂ）に示すように、各画素ａに設けられる画素回路は、例えば各ＥＬ素子２１と、駆動トランジスタＴｒ１、書き込みトランジスタ（サンプリングトランジスタ）Ｔｒ２、および保持容量Ｃｓで構成されている。そして、走査線駆動回路ｂによる駆動によって、書き込みトランジスタＴｒ２を介して信号線１３から書き込まれた映像信号が保持容量Ｃｓに保持され、保持された信号量に応じた電流が駆動トランジスタＴｒ１から各ＥＬ素子２１に供給され、この電流値に応じた輝度でＥＬ素子２１が発光する。
【００８６】
尚、以上のような画素回路の構成は、あくまでも一例であり、必要に応じて画素回路内に容量素子を設けたり、さらに複数のトランジスタを設けて画素回路を構成しても良い。また、周辺領域２ｂには、画素回路の変更に応じて必要な駆動回路が追加される。
【００８７】
以上説明した表示装置１０は、封止された構成のモジュール形状のものをも含む。例えば、画素アレイ部である表示領域２ａを囲むようにシーリング部３が設けられ、このシーリング部３を接着剤として、透明なガラス等の対向部（封止基板）に貼り付けられ形成された表示モジュールが該当する。この透明な封止基板には、カラーフィルター、保護膜、遮光膜等が設けられてもよい。尚、表示領域２ａが形成された表示モジュールとしての基板２１には、外部から表示領域２ａ（画素アレイ部）への信号等を入出力するためのフレキシブルプリント基板が設けられていても良い。
【００８８】
以上説明した実施形態の構成によれば、素子特性の向上が図られたＥＬ素子２１を用いたことにより、表示装置１０における画質の向上を図ることが可能になる。特に、このＥＬ素子２１は、アクティブマトリックス型の表示装置１０に有利である上面発光型とした場合であっても、素子特性の向上が図られることから、この有機電界発光素子１を用いてアクティブマトリックス型の表示装置１０を構成することにより、画素開口が広い表示装置１０においての画質の向上を図ることが可能になる。
【００８９】
＜照明装置＞
本発明の面発光体を適用した照明装置について説明する。
【００９０】
本発明に関わるＥＬ素子は、照明用や露光光源のような一種のランプとして使用してもよいし、画像を投影するタイプのプロジェクション装置や、静止画像や動画像を直接視認するタイプの表示装置（ディスプレイ）として使用してもよい。動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は、単純マトリクス（パッシブマトリクス）方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。
【００９１】
本発明に用いられる白色のＥＬ素子においては、必要に応じ製膜時にメタルマスクやインクジェットプリンティング法等でパターニングを施してもよい。パターニングする場合は、電極のみをパターニングしてもよいし、電極と発光層をパターニングしてもよいし、素子全層をパターニングしてもよい。発光層に用いる発光ドーパントとしては特に制限はなく、例えば、液晶表示素子におけるバックライトであれば、ＣＦ（カラーフィルター）特性に対応した波長範囲に適合するように、白金錯体や公知の発光ドーパントの中から任意のものを選択し組み合わせて、白色化すればよい。
【００９２】
このように、本発明に関わる白色のＥＬ素子は、ＣＦ（カラーフィルター）と組み合わせて、また、ＣＦ（カラーフィルター）パターンに合わせ素子及び駆動トランジスタ回路を配置することで、有機ＥＬ素子から取り出される白色光をバックライトとして、青色フィルター、緑色フィルター、赤色フィルターを介して青色光、緑色光、赤色光を得ることで、低駆動電圧で長寿命のフルカラーの有機エレクトロルミネッセンスディスプレイができ、好ましい。
【００９３】
＜本発明に関わるＥＬ素子を適用した産業分野＞
本発明に関わるＥＬ素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。
【００９４】
以上説明した本発明に係る表示装置は、電子機器、例えば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラなど、電子機器に入力された映像信号、若しくは、電子機器内で生成した映像信号を、画像若しくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【００９５】
また、発光光源としては、例えば、家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特にカラーフィルターや光拡散板などと組み合わせた各種表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。
【００９６】
《トップエミッション型ＥＬ表示装置の実施形態》
次に、本発明に好ましく用いられるトップエミッション型ＥＬ表示装置の具体的実施形態の一例を述べる。
【００９７】
図４は、本実施形態のＥＬ表示装置の断面構造を示す模式断面図である。
【００９８】
図４においては、ＲＧＢの各画素領域のみを示しているが、実際には図３のように複数の画素領域が有機ＥＬ装置における実発光領域の全面に形成されているものとする。
【００９９】
本実施形態のＥＬ表示装置２０１は、カラーフィルター基板２０７に対してＥＬ素子の白色光を照射させるようになっている。従って、着色層２０８Ｒ，２０８Ｇ，２０８Ｂによって、カラー表示を行うようになっている。
【０１００】
次に、画素電極２２３及び陰極２５０によって挟持される低分子系発光機能層の構成について説明する。
【０１０１】
図４に示すように、発光層３００は、画素電極２２３から陰極２５０に向けて、正孔注入層３０１、正孔輸送層３０２、有機発光層３０３、電子注入層３０４が順次積層された構成となっている。
【０１０２】
ここで、正孔注入層３０１は、トリアリールアミン（ＡＴＰ）を含むものであり、正孔輸送層３０２は、ＴＰＤ（トリフェニルジアミン）系からなるものである。
【０１０３】
また、有機発光層３０３は、スチリルアミン系発光層（ホスト）とアントラセン系ドーパントとを含んで構成される青色の有機発光層や、スチリルアミン系発光層（ホスト）とルブレン系ドーパントを含んで構成される黄色の有機発光層等を含んで形成されている。
【０１０４】
また、電子注入層３０４は、アルミニウムキノリノール（Ａｌｑ３）層である。
【０１０５】
また、陰極２５０は、ＭｇＡｇ等の合金とＩＴＯとが積層されてなるものである。
【０１０６】
上記の各有機層３０１〜３０４の材料及びＬｉＦは、加熱ボート（るつぼ）を用いた真空蒸着法で順次形成される。また、陰極２５０の形成については、金属系材料については真空蒸着法を採用し、ＩＴＯ等の酸化物材料についてはＥＣＲスパッタ法やイオンプレーティング法、対向ターゲットスパッタ法等の高密度プラズマ成膜法を採用する。
【０１０７】
このようなＥＬ表示装置２０１においては、画素電極２２３を色毎にパターニングすれば、発光層３００及び陰極を形成し分ける必要がなく、高精度が要求されるマスク蒸着を行う必要がない。
【０１０８】
次に、陰極２５０の上方に形成される層膜について説明する。
【０１０９】
陰極２５０の上方には、電極保護層２５５が形成されている。当該電極保護層２５５は、ＥＣＲスパッタ法やイオンプレーティング法などの高密度プラズマ成膜法によって形成される。材質は透明性や密着性、耐水性を考慮して珪素酸窒化物などの珪素化合物が好ましい。また、形成前には酸素プラズマ処理によって密着性を向上させると電極との密着性が向上し、発光ムラが低減する。硬化前の有機緩衝層の浸透を防ぐことも目的としており、膜厚は１００ｎｍ以上が好ましい。
【０１１０】
また、電極保護層２５５の上方には、有機緩衝層２１０が形成されている。当該有機緩衝層２１０の硬化前の原料主成分としては、減圧真空下で塗布形成するために、流動性に優れかつ溶媒のような揮発成分を持たない有機化合物材料である必要があり、好ましくはエポキシ基を有する分子量３０００以下のエポキシモノマー／オリゴマーである（モノマーの定義：分子量１０００以下、オリゴマーの定義：分子量１０００〜３０００）。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシオリゴマーやビスフェノールＦ型エポキシオリゴマー、フェノールノボラック型エポキシオリゴマー、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキレートなどがあり、これらが単独もしくは複数組み合わされて用いられる。
【０１１１】
また、エポキシモノマー／オリゴマーと反応する硬化剤としては、電気絶縁性に優れかつ強靭で耐熱性に優れる硬化被膜を形成するものが良く、透明性に優れかつ硬化のばらつきの少ない付加重合型がよい。例えば、３−メチル−１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸、メチル−３，６−エンドメチレン−１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸、１，２，４，５−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物などの酸無水物系硬化剤が好ましい。これらの硬化は６０〜１００℃の範囲の加熱でおこなわれ、その硬化被膜は珪素酸窒化物との密着性に優れるエステル結合を持つ高分子となる。
【０１１２】
また、酸無水の開環を促進する硬化促進剤として芳香族アミンやアルコール類、アミノフェノールなどの比較的分子量の高いものを添加することで低温かつ短時間での硬化が可能となる。
【０１１３】
これらの原料ごとの粘度は１０００〜１００００ｍＰａ・ｓ（室温）が好ましい。理由は、塗布直後に有機発光層へ浸透してダークスポットと呼ばれる非発光領域を発生させず、かつ膜厚を３〜１０μｍ以下にするためである。この膜厚に抑えることで、カラーフィルター基板２０７を有機発光層３０３により近づけることができるため、隣接する着色層に光を漏らさずに、発光領域を広くとることができる。また、これらの原料を配合した緩衝層材料の粘度も、１０００ｍＰａ・ｓ以上（室温）でなければならない。これらの材料は、６０〜１００℃の範囲で加熱することで硬化させる。この時点の問題として、加熱直後に反応が開始されるまで一時的に粘度が低下する。この時に、有機緩衝層２１０を構成する材料が電極保護層２５５や陰極２５０を透過してＡｌｑ３に達することで、ダークスポットを発生する。そこで、ある程度まで硬化が進むまでは低温で放置し、ある程度高粘度化したところで温度を上げて完全硬化させる方がより好ましい。また、カチオン放出タイプの光重合開始剤を添加して加熱をする前に１０ｍＷ／ｃｍ２以下の低照度で部分的に硬化して粘度の低下を防いでも良い。しかし、光重合開始剤は着色するものが多いため、ボトムエミッション用途に限られる。
【０１１４】
また、ダークスポットを発生させないため、緩衝層材料の主成分（例えば７０質量％以上）は１０００ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましい。理由として、低粘度成分が多く混入されていると硬化する際の加熱により硬化前に有機発光層に浸透してダークスポットを発生させるためである。
【０１１５】
また、本実施形態においては、陰極２５０やガスバリア層２３０との密着性を向上させるシランカップリング剤が有機緩衝層２１０に含有されている。
【０１１６】
特に、低分子系の有機発光層３０３の場合には、有機緩衝層２１０の材料中にシランカップリング剤を混合、もしくは、シランカップリング剤による層を追加し、さらに陰極保護層を追加している。更に、シランカップリング剤単独による層は膜強度が脆い問題があるため、有機緩衝層２１０によって膜強度を補い、陰極保護層２５５のピンホールへの浸透をシランカップリング剤が防ぐように、有機緩衝層２１０の材料にシランカップリング剤を混合したほうが好ましい。
【０１１７】
シランカップリング剤は、ＳｉＯ２、ＳｉＯＮ、ＳｉＮとの共有結合が生じるので、陰極保護層やガスバリア層、ガラス基板などとの密着性が向上する（アルミなどの金属とも反応する。）。シランカップリング剤としてはエポキシシランが好ましい。エポキシシランは、緩衝層原料の硬化剤成分（酸無水物系硬化剤）とも反応するので好ましい。
【０１１８】
また、主剤／硬化剤／硬化促進剤の組成は４０〜４５／４０〜４５／１０〜２０であることが好ましい（低分子・高分子発光素子に共通）。このようにすると、未硬化成分が１０〜２０％（緩衝層原料内の未反応エポキシ基を１００％とした場合、硬化後の未反応エポキシ基残留比率：ＦＴＩＲのエポキシ基吸収ピーク強度差で比較可能）となり、未硬化成分による発光機能層への浸透による劣化を防止できる（２０％以下になると完全硬化と呼んでいる）。
【０１１９】
また、硬化剤基（酸無水、アミン）が、材料の組成として残留しており、未硬化比率は１０％前後（原料中のジカルボン酸無水物基を１００％とした場合、硬化後の未反応酸無水物基残留比率）である。この程度を完成した膜中に残留させると、硬化時の収縮が少なく、応力を緩和する柔軟性を持つため有機ＥＬ素子へのダメージを未然に防止することができるため好ましい。
【０１２０】
特に、粘度の低い原料が低分子発光素子の材料を溶かすため（例えばＡｌｑ３を溶かす虞がある）、低分子発光素子に対しては高粘度の原料を用いることが好ましい。一方、高分子発光素子の場合はこのようなことがない。各原料の分子量を上げて粘度をあげると改善することができる。低分子発光素子の場合の好ましい粘度（あるいは分子量）の範囲は、３０００ｍＰａ・ｓから８０００ｍＰａ・ｓ（室温時）の範囲であり、スクリーン印刷時の膜厚（５μｍ前後）と塗布面の平坦性を両立できる。
【０１２１】
なお、シランカップリング剤以外にも、イソシアネート化合物などの捕水剤、硬化時の収縮を防ぐ微粒子などの添加剤が有機緩衝層２１０に混入されていてもよい。
【０１２２】
また、有機緩衝層２１０の上方には、ガスバリア層２３０が形成されている。当該ガスバリア層２３０の形成方法としては、ＥＣＲスパッタ法やイオンプレーティング法などの高密度プラズマ成膜法が採用される。材質は透明性やガスバリア性、耐水性を考慮して珪素酸窒化物などの珪素化合物が好ましい。また、形成前には酸素プラズマ処理によって密着性を向上させると信頼性が向上する。膜厚は、２００ｎｍ以下では有機緩衝層の表面及び側面被覆が不足するため、３００ｎｍ以上が好ましい。
【実施例】
【０１２３】
以下に本発明の具体的実施例を述べるが、本発明は以下に限定されるものではない。
実施例１
＜ＥＬ表示装置１０１の作製＞  （比較例）
図４に示すＥＬ表示装置を参考に、前述の《トップエミッション型ＥＬ表示装置の実施形態》の項に記載した方法、手順にて作製した。即ち、まず、第１のガラス基板上に、陽極（画素電極）、正孔注入層、正孔輸送層、白色発光層（ＥＬ層）、電子注入層、陰極（ＩＴＯ）の順に積層し、その上に有機緩衝層、ガスバリア層を設けてＥＬ素子を形成する。一方、５００μｍの厚みを有する第２のガラス基板の片面に、特開２００８−４１３８１号公報の実施例１に準じて、ガラス基板上にブラックマトリクス形成後、Ｒ，Ｇ，Ｂ３種のカラーフィルターを１００μｍピッチで形成し、その上に透明平坦化層を設けた。
【０１２４】
カラーフィルター付きの第２のガラス基板のカラーフィルター層側の面、正確には透明平坦化層の表面を、積水化学製透明両面テープ、ダブルタックテープ＃５５１１（５μｍ）の接着剤を用いてＥＬ素子が形成されている第１の基板のガスバリア層上に貼り付け、図５に示すＥＬ表示装置１０１を得た。
【０１２５】
＜ＥＬ表示装置１０２の作製＞  （比較例）
次に、ＥＬ表示装置１０１の作製法において、カラーフィルター層上の透明平坦化層の上に、下記針状粒子を含有したＣ−１液をスピンコートし、磁場を与えてガラス基板の法線方向に針状粒子を配向させ、紫外線照射により硬化させて光学機能性層を設けた以外は、全て同じ方法により、ＥＬ表示装置１０２を作製した。このとき、光学シートの厚みは５μｍであり、図１Ａ，Ｂの装置にて測定した結果を基に求めたＴα／Ｔｏの値は０．４０であった。また、針状粒子の長軸方向の平均配向角は、８８°であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、１２μｍであった。
【０１２６】
（Ｃ−１液）
酸化チタンにより被覆した針状酸化鉄粒子（酸化鉄粒子；戸田工業製ＡＲ  長軸１８０ｎｍ、短軸２０ｎｍ、酸化チタン被覆率３０％）      …  体積比率  ５％
ＵＶ硬化樹脂（三菱化学製  ＵＶ２０００）        …  体積比率  ９５％
＜ＥＬ表示装置１０３の作製＞  （比較例）
ＥＬ表示装置１０１の作製法において、カラーフィルター層上の透明平坦化層の上に、下記扁平粒子を含有したＣ−２液をワイヤーバーで塗布し、直ちに紫外線照射により硬化させて光学シートを設けた以外は、全て同じ方法により、ＥＬ表示装置１０３を作製した。このとき、光学シートの厚みは５μｍであり、粒子の長軸方向の平均配向角は４５°であり、Ｔα／Ｔｏの値は０．７０であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、１２μｍであった。
【０１２７】
（Ｃ−２液）
板状アルミナ（朝日化学工業社製ルクセレンＦＡＯ、平均アスペクト比３．５、平均粒径１１．０μｍ）                                  …  体積比率  ５％
ＵＶ硬化樹脂（三菱化学製  ＵＶ２０００）        …  体積比率  ９５％
＜ＥＬ表示装置１０４の作製＞  （本発明）
ＥＬ表示装置１０３の作製法において、Ｃ−２液をスピンコートし、紫外線照射により硬化させて光学シートを設けた以外は、全て同じ方法により、ＥＬ表示装置１０４を作製した。このとき、光学シートの厚みは５μｍであり、スピンコート法で作製した結果、粒子の長軸方向の平均配向角は２５°であり、Ｔα／Ｔｏの値は０．６０であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、１２μｍであった。
【０１２８】
＜ＥＬ表示装置１０５〜１０８の作製＞  （本発明）
ＥＬ表示装置１０４の作製法において、スピンコートで使用する液の中に含まれる扁平粒子を、表１に記載してあるものに変更する以外は、全て同じ方法により、ＥＬ表示装置１０５〜１０８を作製した。このとき、光学シートの厚みはいずれも５μｍであり、粒子の長軸方向の平均配向角およびＴα／Ｔｏの値は表１に示す通りであった。
【０１２９】
ここで用いた合成雲母（ＭＫ−３００）はコープケミカル社製の商品であり、板状アルミナ（セラフ）はキンセイマテック社製のものである。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、いずれも１２μｍであった。
【０１３０】
＜ＥＬ表示装置１０９の作製＞  （比較例）
ＥＬ表示装置１０７の作製法において、光学シートを第２のガラス基板のカラーフィルターが設けられている面とは反対側の面（即ち視認側面）に設ける以外は、全て同じ方法により、ＥＬ表示装置１０９を作製した。このとき、光学シートの厚みは５μｍであり、粒子の長軸方向の平均配向角、およびＴα／Ｔｏの値はＥＬ表示装置１０７と同じであった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、５２０μｍであった。
【０１３１】
＜ＥＬ表示装置１１０の作製＞  （比較例）
ＥＬ表示装置１０７の作製法において、スピンコートから紫外線照射による硬化までの工程を、６回繰り返して行った以外は、全て同じ方法により、ＥＬ表示装置１１０を作製した。このとき、光学シートの厚みは３０μｍであり、粒子の長軸方向の平均配向角は１８°であり、Ｔα／Ｔｏの値は０．８０であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、３７μｍであった。
【０１３２】
＜ＥＬ表示装置１１１の作製＞  （本発明）
ＥＬ表示装置１０４の作製法において、Ｃ−２液をＣ−３液に変更してスピンコートし、紫外線照射により硬化させて光学シートを設けた以外は、全て同じ方法により、ＥＬ表示装置１１１を作製した。このとき、光学シートの厚みは５ｍであり、粒子の長軸方向の平均配向角は２０°であり、Ｔα／Ｔｏの値は０．５０であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、１２μｍであった。
【０１３３】
（Ｃ−３液）
平板炭酸カルシウム（ニューライム社製平板アラゴナイト、平均アスペクト比１０、平均粒径５．０μｍ）                                  …  体積比率  ５％
ＵＶ硬化樹脂（三菱化学製  ＵＶ１０００）…  層形成後の体積比率  ９５％
＜ＥＬ表示装置１１２の作製＞  （本発明）
ＥＬ表示装置の最表面（第２のガラス基板の視認側面）に市販のハードコートフィルムを有するＥＬ表示装置を下記方法により作製した。
【０１３４】
ＥＬ表示装置１０７の作製法において、カラーフィルターが片面に設けられている第２のガラス基板の厚みを１９０μｍとし、該ガラス基板のカラーフィルターが設けられている面とは反対側の面（即ち視認側面）に光学シートを設け、更に厚み１００μｍのハードコート層付きＴＡＣフィルム（日東電工製  ＡＨ２００（クリアパンサー））をその上に設けた以外は、全て同じ方法により、ハードコートフィルムを最表面に有するＥＬ表示装置１１２を作製した。  第２のガラス基板／ハードコート層付きＴＡＣフィルムの間に光学シートを設ける際には、光学シートの両面に積水化学製透明両面テープ、ダブルタックテープ＃５５１１（５μｍ）を貼った。このとき、光学シートの厚みは５μｍであり、粒子の長軸方向の平均配向角、およびＴα／Ｔｏの値はＥＬ表示装置１０７と同じであった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、２１０μｍであった。
【０１３５】
＜ＥＬ表示装置１１３の作製＞  （本発明）
ＥＬ表示装置１１２の作製法において、カラーフィルターが片面に設けられている第２のガラス基板の厚みを１７０μｍとする以外は、全て同じ方法により、ＥＬ表示装置１１３を作製した。このとき、光学シートの厚みは５μｍであり、粒子の長軸方向の平均配向角、およびＴα／Ｔｏの値はＥＬ表示装置１０７と同じであった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、１９０μｍであった。
【０１３６】
＜ＥＬ表示装置１１４の作製＞  （本発明）
ＥＬ表示装置１１２の作製法において、カラーフィルターが片面に設けられている第２のガラス基板の厚みを８０μｍとする以外は、全て同じ方法により、ＥＬ表示装置１１４を作製した。このとき、光学シートの厚みは５μｍであり、粒子の長軸方向の平均配向角、およびＴα／Ｔｏの値はＥＬ表示装置１０７と同じであった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、１００μｍであった。
【０１３７】
＜ＥＬ表示装置１１５の作製＞  （本発明）
下記ドープ液１００質量部を、インラインミキサー（東レ静止型管内混合機  Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分に混合し、次いでベルト流延装置を用い、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体上で、残留溶媒量が１１０％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体から剥離した。剥離の際に張力をかけて長手方向に延伸倍率が１．１倍となるように延伸し、次いで、テンターでウェブ両端部を把持し、幅手方向の延伸倍率が１．１倍となるように延伸した。延伸開始時の残留溶媒は３０％であった。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持し、幅方向の張力を緩和させた後幅保持を解放し、更に１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで３０分間搬送させて乾燥を行い、その後１８０℃で長手方向に１．２倍延伸して、膜厚４０μｍの光学シートＳ−１１５を作製した。
【０１３８】
〈ドープ組成〉
メチレンクロライド                                              ３００質量部
エタノール                                                        ４０質量部
セルロースエステル（セルロースアセテートプロピオネート；アセチル基置換度１．９、プロピオニル基置換度０．７、総アシル基置換度２．６）            １００質量部
芳香族末端エステル化合物（下記化合物）                          ５．５質量部
トリメチロールプロパントリス（３，４，５−トリメトキシベンゾエート）
５．５質量部
紫外線吸収剤（チヌビン１０９、チバ・ジャパン（株）製）          １．２質量部
紫外線吸収剤（チヌビン１７１、チバ・ジャパン（株）製）          ０．８質量部
扁平粒子（キンセイマテック社製セラフ０５０２５）
２質量部
【０１３９】
【化１】
2010114026.tif 000003
【０１４０】
ＥＬ表示装置１０１の作製法において、カラーフィルター付きの第２のガラス基板のカラーフィルター層側の面、正確には透明平坦化層の表面に、積水化学製透明両面テープ、ダブルタックテープ＃５５１１（５μｍ）を介して上記光学シートＳ−１１５を貼り付けたものを、第１の基板のガスバリア層上にダブルタックテープ＃５５１１（５μｍ）を介して貼り付けた以外は全て同じ方法により、ＥＬ表示装置１１５を作製した。この装置での、光学シートの厚みは４０μｍであり、粒子の長軸方向の平均配向角、およびＴα／Ｔｏの値は０．５であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、４７μｍであった。
【０１４１】
＜ＥＬ表示装置１１６の作製＞  （本発明）
（ペレット作製）
セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．２３、プロピオニル基置換度１．３１、数平均分子量７５０００）                            １００質量部
（メタ）アクリル系重合体Ａ                                      ５．５質量部
糖エステル化合物Ａ                                              ５．５質量部
トリメチロールプロパントリス（３，４，５−トリメトキシベンゾエート）
１質量部
ＩＲＧＡＮＯＸ−１０１０（チバ・ジャパン（株）製）                  １質量部
ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ（住友化学社製）                          ０．５質量部
（メタ）アクリル系重合体Ａ：特開２０００−１２８９１１号公報に記載の重合方法により塊状重合を行った。すなわち、攪拌機、窒素ガス導入管、温度計、投入口及び環流冷却管を備えたフラスコにモノマーとしてメチルアクリレートを投入し、窒素ガスを導入してフラスコ内を窒素ガスで置換したチオグリセロールを攪拌下添加した。
【０１４２】
チオグリセロール添加後、４時間重合を行い、内容物を室温に戻し、それにベンゾキノン５質量％テトラヒドロフラン溶液を２０質量部添加し、重合を停止させた。内容物をエバポレーターに移し、８０℃で減圧下、テトラヒドロフラン、残存モノマー及び残存チオグリセロールを除去し、分子量１０００の（メタ）アクリル系重合体Ａを得た。
【０１４３】
糖エステル化合物Ａ：下記糖エステル化合物
【０１４４】
【化２】
2010114026.tif 000004
【０１４５】
上記材料に、扁平粒子（キンセイマテック社製セラフ０５０２５）２質量部を加え、窒素ガスを封入したＶ型混合機で３０分混合した後、ストランドダイを取り付けた２軸押出し機（ＰＣＭ３０（株）池貝社製）を用いて２４０℃で溶融させ、長さ４ｍｍ、直径３ｍｍの円筒形のペレットを作製した。このとき、せん断速度は、２５（ｍｍ／ｓ）に設定した。得られたペレットを１００℃５時間乾燥させ、含水率１００ｐｐｍとし、幅３００ｍｍのＴダイを取り付けた単軸押出し機（ＧＴ−５０；（株）プラスチック工学研究所社製）に供給して押出し機及びＴダイを２５０℃に設定して製膜を行った。Ｔダイ表面にはハードクロムメッキを施し面粗度０．１Ｓの鏡面仕上げを行った。Ｔダイから出たフィルムは１１０℃に温度調整したクロムメッキ鏡面の第１冷却ロールに落下させた。
【０１４６】
第１冷却ロールに密着したフィルムは、第１冷却ロールの円周部分を中心角１０°搬送された後、弾性タッチロールで押圧した。このとき、フィルムの幅手２５０ｍｍの全面に対し、４Ｎ／ｍｍの圧力で接触した。押圧されたフィルムは第１冷却ロールの中心角１５０°の円周部分で接触した後、更に、第２冷却ロール（温度１１０℃）、第３冷却ロール（温度８０℃）の合計３本の冷却ロールに順に外接させて、冷却固化してフィルムとし、剥離ロールによって剥離した。その後、１８０℃で長手方向に１．２倍延伸して、膜厚４０μｍの光学シートＳ−１１６を作製した。この装置での、光学シートの厚みは４０μｍであり、粒子の長軸方向の平均配向角、およびＴα／Ｔｏの値は０．４７であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、４７μｍであった。
【０１４７】
《性能評価》
（正面輝度向上比）
ＥＬ表示素子１０１の正面輝度を１としたときの、ＥＬ表示素子１０２〜１１３の正面輝度を相対値で示す。測定は分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング製）を用いて、正面からの発光輝度（２°視野角正面輝度）を測定した。
【０１４８】
（画像滲み評価）
また、画素滲みは、デジタルカメラの撮像から目視により調べ、下記基準で評価した。
◎：画素滲みが全く認められず、シートが無い場合と同程度であった
○：画素滲みが殆ど認められず、シートが無い場合とほぼ同程度であった
△：画素滲みがわずかに認められ、シートが無い場合より若干劣化した
×：画像滲みが顕著に認められ、シートが無い場合から大幅に劣化した。
【０１４９】
（屈折率測定）
光学シートを構成する透明樹脂および扁平粒子の屈折率の測定は、本文記載の方法を用いた。測定波長はいずれも５８９ｎｍとした。
【０１５０】
【表１】
2010114026.tif 000005
【０１５１】
表１より、本発明のＥＬ表示装置は、光取り出し効果に優れ、また、画像滲みが生じにくい。また、粒径が１０μｍ未満の粒子や、平均アスペクト比が５以上の粒子を使用した場合や、Ｔβ／Ｔｏの値が０．６５以上の場合、更には、粒子と樹脂の平均屈折率差（Δｎ）が０．０６以上の場合、そして光透過性電極の視認側面から光学シートの視認側面までの距離が２００μｍ以下の場合、特に画像滲みを生じさせること無く正面輝度向上の効果が大きいことがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１５２】
【図１】本発明に係わる光学シートの光学特性を評価する際の光学系を示す模式図である。
【図２】本発明のＥＬ素子構成の実施形態の一例を示す模式図である。
【図３】実施形態のＥＬ表示装置の断面構成の一例を示す模式図である。
【図４】実施形態のＥＬ表示装置の回路構成の一例を示す模式図である。
【図５】実施例で作成したＥＬ表示装置の断面構成を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１５３】
２  基板
２ａ  表示領域
２ｂ  周辺領域
３  シーリング部
１０  表示装置
１１  走査線
１３  信号線
２１  ＥＬ素子
２２  基板
２３  陽極
２４  有機層
２４ａ  正孔注入層
２４ｂ  正孔輸送層
２４ｃ  発光層
２４ｄ  電子輸送層
２５  陰極
２５ａ  第１層
２５ｂ  第２層
２０１  ＥＬ表示装置
２０７  カラーフィルター基板
２０８Ｒ、２０８Ｇ、２０８Ｂ  着色層
２１０  有機緩衝層
２２３  画素電極
２３０  ガスバリア層
２５０  陰極
２５５  電極保護層
３００  発光層
３０１  正孔注入層
３０２  正孔輸送層
３０３  有機発光層
３０４  電子注入層
４０１  第１のガラス基板
４０２  陽極
４０３  ＥＬ発光層
４０４  陰極（ＩＴＯ）
４０５  ガスバリア層
４０６  接着層
４０７  光学シート
４０８  透明平坦化層
４０９  カラーフィルター
４１０  第２のガラス基板
【図１】
2010114026.tif 000006
【図２】
2010114026.tif 000007
【図３】
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【図４】
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【図５】
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