(57)【要約】【課題】ワークが柔軟性のある場合にもワークと液滴吐出ヘッドとが衝突することなく、ワークに液滴を吐出できる装置を提供する。【解決手段】液滴吐出装置１であって、液滴を基板９に吐出する液滴吐出ヘッド２４と、基板９が載置される載置板３と、載置板３を浮上させて移動するステージ２と、を有し、載置板３はステージ２上に供給され、ステージ２は液滴吐出ヘッド２４と対向する場所に基板９を移動し、液滴吐出ヘッド２４が基板９に液滴を吐出する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液滴を基板に吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記基板が載置される載置板と、
前記載置板を浮上させて移動する移動部と、を有し、
前記載置板は前記移動部に供給され、前記移動部は前記液滴吐出ヘッドと対向する場所に前記基板を移動し、前記液滴吐出ヘッドが前記基板に前記液滴を吐出することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴吐出装置であって、
前記載置板は可撓性を有し、
前記基板と前記液滴吐出ヘッドとの間隔を調整する間隔調整部を備えることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項３】
請求項２に記載の液滴吐出装置であって、
前記載置板は吸着部を有し、前記吸着部は前記基板を前記載置板に吸着させることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項４】
請求項３に記載の液滴吐出装置であって、
前記吸着部が前記基板を吸着する場所は、前記液滴が前記基板に着弾する予定の場所以外の場所であることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
請求項４に記載の液滴吐出装置であって、
前記載置板はＮ極とＳ極との磁極が配列された着磁部を有し、
前記移動部には複数の磁極が配列された磁場発生部を有し、
前記磁場発生部は前記磁極におけるＮ極とＳ極との配列を切り換えて前記載置板を移動させることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項６】
請求項５に記載の液滴吐出装置であって、
前記間隔調整部は前記載置板の上面、下面及び対向する一対の側面に沿って流体を流動させて前記載置板の位置を制御することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項７】
請求項６に記載の液滴吐出装置であって、
前記載置板及び前記基板には位置合わせマークが配置され、
前記位置合わせマークの位置を検出するマーク検出部と、
前記載置板の前記位置合わせマークと前記基板の前記位置合わせマークとの相対位置を記憶する記憶部とを有することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項８】
液滴吐出ヘッドが吐出する液滴を受ける基板が載置される載置板であって、
前記載置板は可撓性を有し、
前記基板を前記載置板に吸着させる吸着部を有することを特徴とする載置板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出装置及び載置板にかかわり、特に基板を移動する装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ワークに対して液滴を吐出する装置として、インクジェット式の液滴吐出装置が知られている。この液滴吐出装置が特許文献１に紹介されている。これによると液滴吐出装置は、基板等のワークを載置してワークを一方向に移動させるテーブルと、テーブルの上方位置において、テーブルの移動方向と直交する方向に配置されるガイドレールに沿って移動するキャリッジとを備えている。キャリッジはインクジェットヘッド（以下、液滴吐出ヘッドと称す）を配置し、ワークに対して液滴を吐出していた。
【０００３】
ワークを液滴吐出装置に給材するとき、ロボットを使用することがある。そして、ロボットアームにワークを載せて、ロボットはテーブルの上にワークを移動する。テーブルには複数のリフトアップピンが配置され、リフトアップピンが上昇している。ロボットはロボットアームがリフトピンと干渉しない位置に移動して、リフトアップピンの上にワークを載置する。そして、ロボットがロボットアームをテーブル上から移動する。次に、液滴吐出装置はリフトアップピンを下降させることにより、ワークをテーブル上に載置していた。
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２２７３０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ワークが柔軟性のある基板の場合には、ワークはロボットのロボットアーム上にて変形する。そして、ワークをリフトアップピンに載せるとき、ワークは変形した状態でリフトアップピン上に載置される。リフトアップピンを下降するとき、ワークは変形したままテーブル上に載置される。ワークがテーブル上で平坦に載置されないとき、ワークと液滴吐出ヘッドとが衝突することにより、液滴吐出ヘッドが損傷を受ける可能性がある。そして、ワークが柔軟性のある場合にもワークと液滴吐出ヘッドとが衝突することなく、ワークに液滴を吐出できる装置が望まれていた。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］
本適用例にかかる液滴吐出装置であって、液滴を基板に吐出する液滴吐出ヘッドと、前記基板が載置される載置板と、前記載置板を浮上させて移動する移動部と、を有し、前記載置板は前記移動部に供給され、前記移動部は前記液滴吐出ヘッドと対向する場所に前記基板を移動し、前記液滴吐出ヘッドが前記基板に前記液滴を吐出することを特徴とする。
【０００８】
この液滴吐出装置によれば、基板が載置板に載置される。載置板は移動部に供給される。そして、載置板が移動されることにより、液滴吐出ヘッドと対向する場所に基板が移動される。そして、液滴吐出ヘッドは基板に液滴を吐出する。基板が柔軟性を有するとき、基板は載置板に載置されることにより平面を形成することができる。従って、液滴吐出ヘッドと基板とを平行に移動させることにより、液滴吐出ヘッドと基板との間隔を所定の間隔に維持して液滴を基板に吐出することができる。
【０００９】
［適用例２］
上記適用例にかかる液滴吐出装置において、前記載置板は可撓性を有し、前記基板と前記液滴吐出ヘッドとの間隔を調整する間隔調整部を備えることを特徴とする。
【００１０】
この液滴吐出装置によれば、間隔調整部が基板と液滴吐出ヘッドとの間隔を調整する。そして、基板が載置された載置板は可撓性がある。従って、載置板が変形する為、間隔調整部は基板を液滴吐出ヘッドの方向へ移動し易くすることができる。
【００１１】
［適用例３］
上記適用例にかかる液滴吐出装置において、前記載置板は吸着部を有し、前記吸着部は前記基板を前記載置板に吸着させることを特徴とする。
【００１２】
この液滴吐出装置によれば、吸着部が基板を吸着する為、基板と載置板との相対位置を変えずに載置板を移動することができる。
【００１３】
［適用例４］
上記適用例にかかる液滴吐出装置において、前記吸着部が前記基板を吸着する場所は、前記液滴が前記基板に着弾する予定の場所以外の場所であることを特徴とする。
【００１４】
この液滴吐出装置によれば、基板が吸着により変形するときにも、液滴が着弾する場所には影響を及ばさないようにすることができる。
【００１５】
［適用例５］
上記適用例にかかる液滴吐出装置において、前記載置板はＮ極とＳ極との磁極が配列された着磁部を有し、前記移動部には複数の磁極が配列された磁場発生部を有し、前記磁場発生部は前記磁極におけるＮ極とＳ極との配列を切り換えて前記載置板を移動させることを特徴とする。
【００１６】
この液滴吐出装置によれば、磁場発生部の磁極におけるＮ極とＳ極の配列を切り換えることにより、着磁部のＮ極及びＳ極と引力もしくは斥力を働かせることができる。従って、磁場発生部を制御することにより載置板を所定の方向に移動することができる。
【００１７】
［適用例６］
上記適用例にかかる液滴吐出装置において、前記間隔調整部は前記載置板の上面、下面及び対向する一対の側面に沿って流体を流動させて前記載置板の位置を制御することを特徴とする。
【００１８】
この液滴吐出装置によれば、流体を用いて載置板の上下方向および側面の位置を制御している。そして、載置板は流体に囲まれている為、載置板には摩擦抵抗を小さくすることができる。従って、載置板を移動し易くすることができる。
【００１９】
［適用例７］
上記適用例にかかる液滴吐出装置において、前記載置板及び前記基板には位置合わせマークが配置され、前記位置合わせマークの位置を検出するマーク検出部と、前記載置板の前記位置合わせマークと前記基板の前記位置合わせマークとの相対位置を記憶する記憶部とを有することを特徴とする。
【００２０】
この液滴吐出装置によれば、マーク検出部は載置板の位置合わせマークを検出する。そして、マーク検出部は載置板の位置合わせマークの位置情報を用いて基板位置合わせマークを検出する。次に、記憶部は載置板の位置合わせマークと検出した基板の位置合わせマークとの相対位置を記憶する。載置板の位置合わせマークと基板の位置合わせマークとの相対位置は基板の製造履歴により変わることがある。そして、同じ製造履歴の基板では、載置板の位置合わせマークと基板の位置合わせマークとの相対位置が同じ相対位置であることが多い。従って、製造履歴の基板を続けて製造するとき、記憶した位置合わせマークの情報を用いることにより、マーク検出部は基板位置合わせマークを検索し易くすることができる。
【００２１】
［適用例８］
本適用例にかかる載置板は、液滴吐出ヘッドが吐出する液滴を受ける基板が載置される載置板であって、前記載置板は可撓性を有し、前記基板を前記載置板に吸着させる吸着部を有することを特徴とする。
【００２２】
この載置板によれば、吸着部が基板を吸着する為、基板と載置板との相対位置を変えずに載置板を移動することができる。そして、基板が載置された載置板は可撓性を有している。従って、基板と液滴吐出ヘッドとの間隔を調整するとき、載置板を変形できる為、基板を液滴吐出ヘッドの方向へ移動し易くすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、具体化した実施形態について図面に従って説明する。尚、以下の説明に用いた各図においては、各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００２４】
（実施形態）
本実施形態における特徴的な液滴吐出装置と液滴吐出装置を用いて描画する方法の特徴的な例について図１〜図１２に従って説明する。液滴吐出装置に関しては様々な種類の装置があるが、インクジェット法を用いた装置が好ましい。インクジェット法は微小液滴の吐出が可能であるため、微細加工に適している。
【００２５】
図１は、液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図である。図１に示すように、液滴吐出装置１は主にステージ２、載置板３及び吐出ユニット４から構成されている。ステージ２は一方向に長い略直方体状に形成されている。このステージ２の長手方向をＹ方向とし、重力方向と逆の方向をＺ方向とする。そして、Ｙ方向及びＺ方向と直交する方向をＸ方向とする。
【００２６】
ステージ２は第１ステージ５、第２ステージ６及び第３ステージ７を備えている。そして、第１ステージ５、第２ステージ６及び第３ステージ７がＹ方向に配列されている。第１ステージ５の上面５ａは平坦に形成されている。上面５ａには載置板３が配置され、載置板３は上面５ａを移動可能になっている。載置板３は可撓性のある材料により矩形の板状に形成されている。載置板３の材料としては、樹脂、金属、ガラス等を採用することができる。載置板３の厚みは特に限定されないが、可撓性がある厚みに設定するのが良い。本実施形態では、例えば、厚みが２ｍｍのアルミニウム板を採用している。
【００２７】
上面５ａのＹ方向においてＸ方向両側には一対の第１載置板ガイド８が配置されている。第１載置板ガイド８はＹ方向に延在して配置されている。従って、載置板３は第１載置板ガイド８に沿って移動することによりＹ方向にのみ移動可能になっている。
【００２８】
載置板３及びステージ２は直動機構を形成している。この直動機構は、例えば、Ｙ方向に延びるリニアモータを備えた直動機構である。載置板３に磁石が配列して配置され、ステージ２には電磁石が配列して配置されている。そして、この直動機構に所定のステップ数に相対する駆動信号がリニアモータに入力されると、リニアモータが前進または後退して、載置板３が同ステップ数に相当する分だけ、Ｙ方向に所定の速度で往動または復動する。この動作により載置板３がＹ方向に走査するようになっている。載置板３が移動するＹ方向を主走査方向とする。
【００２９】
第１載置板ガイド８において載置板３と対向する内側面８ａは平坦に形成されている。そして、上面５ａの図中右側には第１載置板ガイド８が配置されていない。この場所に載置板３を移動することにより、載置板３はＸ方向及びＹ方向に移動することができる。従って、載置板３を移動し易くなる為、載置板３を上面５ａから分離し易くすることができる。第１ステージ５のＸ方向及びＹ方向の長さは載置板３の長さより長く形成されている。従って、上面５ａからはみ出すことなく載置板３を第１ステージ５上に載置することができる。
【００３０】
載置板３の上側に形成された載置面３ａにはワークとしての基板９が載置される。基板９は薄く柔軟なシートであり、例えば、樹脂製のシート、金属シート、セラミック製のシート、ガラス製のシート等が該当する。基板９は載置面３ａと接して配置される。載置面３ａは平坦に形成されている。そして、載置面３ａに載置された基板９の上面９ａは平坦になる。
【００３１】
第１ステージ５のＹ方向には第２ステージ６が配置されている。第２ステージ６上には一対の第２載置板ガイド１０が配置されている。第２載置板ガイド１０は第１載置板ガイド８と同様に主走査方向に延在して形成されている。そして、載置板３は第２載置板ガイド１０に沿って主走査方向に移動可能になっている。
【００３２】
第２ステージ６のＹ方向には第３ステージ７が配置されている。第３ステージ７上には一対の第３載置板ガイド１１が配置されている。第３載置板ガイド１１は第１載置板ガイド８と同様に主走査方向に延在して形成されている。そして、載置板３は第３載置板ガイド１１に沿って主走査方向に移動可能になっている。
【００３３】
第３ステージ７の図中左側には主走査位置検出装置１２が配置されている。主走査位置検出装置１２はレーザ光１３を載置板３に向けて照射する。そして、載置板３が反射するレーザ光１３を主走査位置検出装置１２が受光する。主走査位置検出装置１２は、反射したレーザ光１３の位相を検出することにより主走査位置検出装置１２と載置板３との距離を検出することができる。
【００３４】
第３ステージ７のＸ方向両側には一対の支持台１４が立設されている。その一対の支持台１４にはＸ方向に延在する架橋部材１５及び案内部材１６が架設されている。架橋部材１５には一対の撮像装置１７が配置されている。そして、第３ステージ７上に載置板３が位置するときに撮像装置１７は基板９を撮像することが可能になっている。撮像装置１７は落射照明装置とオートフォーカス装置とを備えている。従って、撮像装置１７は基板９を鮮明に撮像することが可能になっている。
【００３５】
案内部材１６の上側には、吐出する機能液を供給可能に収容する収容タンク１８が配設されている。一方、その案内部材１６の下側にはＸ方向に延びる案内レール１９がＸ方向全幅にわたり凸設されている。そして、案内レール１９に沿って略直方体形状に形成されたキャリッジ２０が配置されている。キャリッジ２０は直動機構を備え、Ｘ方向に走査可能となっている。この直動機構は、例えば、リニアモータを採用することができる。キャリッジ２０が走査するＸ方向を副走査方向とする。
【００３６】
案内部材１６とキャリッジ２０との間には副走査位置検出装置２３が配置されている。副走査位置検出装置２３は等間隔にマークが配置されたスケールとマークを検出する検出器等から構成されている。検出器がマークを検出することにより検出器の位置を認識する。従って、副走査位置検出装置２３はキャリッジ２０のＸ方向の場所を検出することができる。
【００３７】
キャリッジ２０の下面には、液滴吐出ヘッド２４が凸設されている。ステージ２及び載置板３が基板９をＹ方向に走査する。キャリッジ２０が液滴吐出ヘッド２４をＸ方向に走査する。そして、液滴吐出ヘッド２４は基板９上の所望の場所に機能液を吐出して塗布することが可能になっている。
【００３８】
キャリッジ２０の図中右側には一対のヘッド間隔検出装置２５が配置されている。ヘッド間隔検出装置２５はヘッド間隔検出装置２５と基板９との間隔を非接触で検出する装置である。ヘッド間隔検出装置２５は光学式センサ、静電容量式センサ、磁気センサ等を用いることができる。本実施形態では、例えば、光学式センサを採用している。この光学センサは発光素子及びラインセンサを備えている。ラインセンサは受光素子が直線上に配列されたセンサである。ヘッド間隔検出装置２５が基板９に光線を照射する。そして、基板９の表面で乱反射する光の場所をラインセンサが検出する。そして、ヘッド間隔検出装置２５は基板９の表面の場所を検出する。
【００３９】
図２（ａ）は、キャリッジを示す模式平面図である。図２（ａ）に示すようにキャリッジ２０には９個の液滴吐出ヘッド２４が配置され、液滴吐出ヘッド２４の下面には、それぞれノズルプレート２６が備えられている。そのノズルプレート２６には、それぞれ複数のノズル２７がＸ方向に所定の間隔で配列されている。
【００４０】
図２（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの構造を示す要部模式断面図である。図２（ｂ）に示すように、ノズルプレート２６の上側であってノズル２７と相対する場所には、キャビティ２８が形成されている。そして、キャビティ２８には収容タンク１８に貯留されている液状体としての機能液２９が供給される。キャビティ２８の上側には、上下方向に振動して、キャビティ２８内の容積を拡大縮小する振動板３０と、上下方向に伸縮して振動板３０を振動させる圧電素子３１が配置されている。圧電素子３１が上下方向に伸縮して振動板３０を振動し、振動板３０がキャビティ２８内の容積を拡大縮小する。それにより、キャビティ２８内に供給された機能液２９はノズル２７を通って吐出されるようになっている。
【００４１】
液滴吐出ヘッド２４は、機能液２９を液滴３２にして吐出する。そして、液滴吐出ヘッド２４が圧電素子３１を制御駆動するためのノズル駆動信号を受けると、圧電素子３１が伸張して、振動板３０がキャビティ２８内の容積を縮小する。その結果、液滴吐出ヘッド２４のノズル２７からは、縮小した容積分の機能液２９が液滴３２となって吐出される。
【００４２】
図３（ａ）は、第１ステージを示す模式断面図であり、図１におけるＡ−Ａ’線から見た図である。図２（ａ）に示すように、第１ステージ５は本体５ｂを有し、本体５ｂの下側には空洞部５ｃが形成されている。そして、空洞部５ｃに圧空発生装置３３が配置されている。圧空発生装置３３はエアーコンプレッサ、アキュムレータ、バルブ、エアーフィルタ等からなり、圧縮空気を供給する機能を備えている。
【００４３】
本体５ｂの内部には配管３４が形成されている。配管３４の一方は圧空発生装置３３と接続されている。配管３４の他方は多数に分岐して第１ステージ５の上面５ａ及び第１載置板ガイド８の内側面８ａと接続されている。圧空発生装置３３を駆動して配管３４に圧縮空気を供給するとき、配管３４内を圧縮空気が流動する。そして、上面５ａに形成された配管３４から流体としての圧縮空気が流出する。第１ステージ５の上面５ａに載置板３が位置するとき、上面５ａと載置板３との間を空気が流れることにより載置板３は上面５ａから浮上する。従って、上面５ａと載置板３との間の摩擦が小さくなる。つまり、第１ステージ５と載置板３とによりエアースライドテーブルが形成される。第１載置板ガイド８の内側面８ａにおいても同様に圧縮空気が流出する。従って、基板９の側面と内側面８ａとの間における摩擦が小さくなる。尚、第１ステージ５と第３ステージ７とは同様の構造になっている。従って、載置板３が第３ステージ７に移動するとき、載置板３と第３ステージ７とによりエアースライドテーブルが形成される。
【００４４】
本体５ｂの内部には多数のエアーシリンダ３５が配置されている。エアーシリンダ３５はロッド及びバネ等を有している。エアーシリンダ３５に空気を供給するとき、ロッドが上方向に伸張する。エアーシリンダ３５から空気を流出するとき、バネによりロッドが下方向に収縮する。そして、エアーシリンダ３５と対向する場所に載置板３が位置するとき、載置板３はロッドにより持ち上げられる。そして、載置板３は上面５ａから離される。載置板３を上面５ａから離すことにより載置板３と上面５ａとの間に空間を形成することができる。例えば、ロボットの手部にフォークを配置する。そして、フォークを載置板３と上面５ａとの間の空間に挿入することにより、載置板３を第１ステージ５から除材し易くすることができる。載置板３を下降させるときエアーシリンダ３５から空気を流出させる。そして、バネによりロッドを収縮させて、載置板３を下降させる。そして、載置板３が上面５ａに載置される。
【００４５】
第１ステージ５の上面５ａにおいてＸ方向両側には磁場発生部としての第１電磁石モジュール３６が配置されている。この第１電磁石モジュール３６は、ステージ２のＹ方向に延在して配置されている。そして、第１電磁石モジュール３６は載置板３のＸ方向両端と対向する場所に配置され、載置板３に対して磁力を及ぼすことが可能になっている。
【００４６】
図３（ｂ）は、第２ステージを示す模式断面図であり、図１におけるＢ−Ｂ’線から見た図である。図３（ｂ）に示すように、第２ステージ６は基台６ａを有し、基台６ａの下側には空洞部６ｂが形成されている。そして、空洞部６ｂには圧空発生装置３３が配置されている。基台６ａの上には昇降装置３７が配置され、昇降装置３７の上には固定ステージ６ｃが配置されている。昇降装置３７は固定ステージ６ｃを昇降させる装置である。昇降装置３７はＺ方向に移動する直動機構を備えている。直動機構は特に限定されないが、油圧シリンダを用いる方法、ボールネジとステッピングモータとを組み合わせる方法及びボールネジとサーボモータとを組み合わせる方法等を用いることができる。
【００４７】
固定ステージ６ｃには配管３４が形成されている。配管３４は圧空発生装置３３と接続されている。圧空発生装置３３を駆動して配管３４に圧縮空気を供給するとき、配管３４内を圧縮空気が流動する。そして、固定ステージ６ｃが昇降するときにも配管３４から圧縮空気が洩れないようになっている。配管３４は固定ステージ６ｃの上面６ｄに接続されている。さらに、配管３４は載置板３の側面と対向する第２載置板ガイド１０の内側面１０ａに接続されている。さらに、配管３４は載置板３の載置面３ａと対向する第２載置板ガイド１０の下向面１０ｂに接続されている。配管３４から圧縮空気を流出するとき、載置板３と固定ステージ６ｃの上面６ｄ、第２載置板ガイド１０の内側面１０ａ及び第２載置板ガイド１０の下向面１０ｂとの間を圧縮空気が流動する。そして、載置板３の下側、上側、側面側を圧縮空気が流動する。従って、載置板３はＸ方向及びＹ方向の位置が規制される。その状態にて昇降装置３７を駆動して固定ステージ６ｃを昇降させることにより基板９と液滴吐出ヘッド２４との間隔を調整することができる。尚、昇降装置３７はＸ方向両側に配置されている。従って、キャリッジ２０の位置する場所が図中左側及び右側の両方の場所において基板９と液滴吐出ヘッド２４との間隔を調整することができる。
【００４８】
第２ステージ６の上面６ｄにおいてＸ方向両側には磁場発生部としての第２電磁石モジュール５７が配置されている。この第２電磁石モジュール５７は、ステージ２のＹ方向に延在して配置されている。そして、第２電磁石モジュール５７は載置板３のＸ方向両端と対向する場所に配置され、載置板３に対して磁力を及ぼすことが可能になっている。
【００４９】
図４は、載置板を示す模式図である。図４（ａ）及び図４（ｂ）は、載置板を示す模式断面図であり、図４（ｃ）は、載置板を示す模式平面図である。図４（ａ）に示すように、載置板３は図中右側に吸引口３８を備えている。吸引口３８は円筒形の孔であり、載置板３の内部の空気を吸引するための口である。吸引口３８と接続して弁部３９が形成されている。弁部３９は鋼球３９ａとバネ３９ｂとを有している。バネ３９ｂが鋼球３９ａを吸引口３８に加勢することにより吸引口３８における空気の流れを遮断している。
【００５０】
弁部３９と接続してタンク４０が形成されている。タンク４０には空洞が成形され、空気が少し流入しても気圧が変化し難くなっている。タンク４０の内部には図示しない柱が配置され、タンク４０内が負圧になるとき、タンク４０の容積が変化し難いようになっている。タンク４０と接続して配管４３が形成されている。配管４３は多数に分岐して載置面３ａに接続されている。載置面３ａ上に基板９が載置されるとき、載置面３ａに形成された配管４３は基板９により遮蔽される。そして、配管４３の気圧を負圧にすることにより基板９を載置面３ａに吸着させる。つまり、載置板３は真空チャック機能を備えている。そして、弁部３９、タンク４０及び配管４３等により吸着部が形成されている。
【００５１】
載置板３の図中左側には反射部４４が配置されている。反射部４４は三角プリズムを有している。そして、主走査位置検出装置１２が照射するレーザ光１３は三角プリズムを照射する。三角プリズムは光を入射する方向に反射する機能を備えている。従って、主走査位置検出装置１２が照射するレーザ光１３を主走査位置検出装置１２に反射する機能を反射部４４が備えている。
【００５２】
図４（ｂ）は、載置板３の内部から空気を吸引するときの様子を示している。載置板３の載置面３ａに基板９が載置され、載置面３ａの配管４３が基板９によって遮蔽されている。そして、吸引口３８に吸引ソケット４５が挿入されている。吸引ソケット４５は筒状に形成され、軸の中心には押圧部材４５ａが配置されている。そして、吸引ソケット４５を吸引口３８に挿入するとき、押圧部材４５ａが鋼球３９ａを図中左方向へ押すようになっている。そして、鋼球３９ａが吸引口３８と離れるので、タンク４０内の空気が弁部３９を通過して吸引ソケット４５へ流動することが可能になる。吸引ソケット４５は図示しない真空ポンプと接続されている。そして、真空ポンプを駆動することにより、タンク４０及び配管４３内の空気を吸引する。
【００５３】
次に、吸引ソケット４５を吸引口３８から抜き取る。鋼球３９ａは吸引口３８に加勢させているので、鋼球３９ａは吸引口３８に押圧される。そして、弁部３９において空気の流動を遮断する。配管４３内は負圧の状態が維持されるので、基板９は載置面３ａに吸着されたまま維持される。
【００５４】
図４（ｃ）に示すように、載置板３の図中右側には５個の吸引口３８及び弁部３９が配置されている。吸引口３８及び弁部３９の個数は特に限定されず１個以上あれば良い。吸引口３８の個数が多い方が効率良く載置板３の内部から空気を吸引することができる。弁部３９は１個のタンク４０に接続されている。タンク４０を広くすることにより体積を大きくするのが好ましい。体積を大きくすることにより空気が漏洩しても基板９の吸着力が下がり難くすることができる。タンク４０の図中左側に基板９が配置されている。基板９には描画領域９ｂと非描画領域９ｃとが設定されている。描画領域９ｂは基板９の中央に位置し、機能液２９が塗布される場所である。非描画領域９ｃは基板９の周辺に位置し、機能液２９が塗布されない場所である。そして、載置面３ａに形成される配管４３は非描画領域９ｃと対向する場所に配置されている。つまり、配管４３により基板９が吸着される場所は、液滴３２が着弾する予定の場所以外の場所となっている。
【００５５】
載置面３ａの図中左側には一対の位置合わせマーク３ｂが配置されている。位置合わせマーク３ｂは基板９を配置する予定の場所以外の場所に形成される。位置合わせマーク３ｂの間隔は離れている方が載置板３の姿勢を精度良く検出することができる。従って、位置合わせマーク３ｂの間隔は離して配置されるのが好ましい。
【００５６】
図５は、載置板及びステージのリニアモータを説明するための模式図である。図５（ａ）は、載置板の模式平面図であり、図５（ｂ）は、載置板の模式側面図である。図５（ａ）及び図５（ｂ）に示すように、載置面３ａの反対側の面を裏面３ｃとする。裏面３ｃには一対の着磁部４６が配置されている。着磁部４６は載置板３のＸ方向の両側に配置され、Ｙ方向の全幅に延在して配置されている。裏面３ｃは平坦に形成され、裏面３ｃと着磁部４６の面とは同一面になっている。そして、載置面３ａと裏面３ｃとは略平行に形成されている。
【００５７】
図５（ｃ）は、着磁部を示す要部拡大図である。図５（ｃ）に示すように、着磁部４６は複数の磁石４６ａが配列して形成されている。各磁石４６ａはＹ方向にＮ極４６ｂとＳ極４６ｃとが位置するように着磁されている。そして、隣接する磁極が同じ極となるように配置されている。着磁部４６の材料には磁性体が用いられ、アルニコ磁石、フェライト磁石、サマリウムコバルト磁石、ネオジム磁石等を用いることができる。本実施形態では、例えば、サマリウムコバルト磁石を採用している。着磁部４６には磁性体の粉末を樹脂にて成形したものを用いても良い。
【００５８】
図５（ｄ）及び図５（ｅ）はステージの電磁石を説明するための模式図である。図５（ｄ）はＹ方向から見た模式断面図である。図５（ｅ）は図５（ｄ）のＣ−Ｃ方向から見た模式断面図である。図５（ｄ）及び図５（ｅ）に示すように、第１ステージ５の上面５ａ側には第１電磁石モジュール３６が配置されている。第１電磁石モジュール３６はＹ方向に複数の電磁石３６ａが配列して配置されている。Ｙ方向において１つの磁石４６ａが占める長さ４６ｄの範囲に３個の電磁石３６ａが配置されている。電磁石３６ａはヨークとコイル等により構成されている。そして、コイルに電流を流すことによりＺ方向にＮ極及びＳ極の磁場を形成する。例えば、着磁部４６に近い方をＮ極にして着磁部４６と離れた方をＳ極にすることができる。そして、コイルに流す電流の方向を切り換えることによりＮ極とＳ極とが形成される場所を切り換えることができる。
【００５９】
そして、第１電磁石モジュール３６は着磁部４６側のＮ極とＳ極との配列を切り換えて載置板３を移動させる。例えば、磁石４６ａのＮ極４６ｂとＳ極４６ｃとの中間に位置する電磁石３６ａを第１電磁石３６ｂとする。そして、第１電磁石３６ｂの着磁部４６側をＮ極となるようにコイルに通電する。このとき、第１電磁石３６ｂは磁石４６ａのＳ極４６ｃとの間で引力が発生する。そして、第１電磁石３６ｂは磁石４６ａのＮ極４６ｂとの間で斥力が発生する。従って、着磁部４６は図中右側へ移動する。次に、第１電磁石３６ｂのコイルの通電を停止する。そして、通電するコイルを順次切り換える。その結果、載置板３を移動することが可能になる。
【００６０】
第１電磁石モジュール３６と同様の第２電磁石モジュールが第２ステージ６に配置されている。さらに、第１電磁石モジュール３６と同様の第３電磁石モジュールが第３ステージ７に配置されている。そして、載置板３は第１ステージ５、第２ステージ６及び第３ステージ７上を移動することが可能になっている。
【００６１】
図６は、液滴吐出装置の電気制御ブロック図である。図６において、液滴吐出装置１の制御部としての制御装置４７はプロセッサとして各種の演算処理を行うＣＰＵ（演算処理装置）４８と各種情報を記憶する記憶部としてのメモリ４９とを有する。
【００６２】
主走査駆動装置５０、主走査位置検出装置１２、副走査駆動装置５１、副走査位置検出装置２３、昇降装置３７、ヘッド間隔検出装置２５は、入出力インターフェース５２及びデータバス５３を介してＣＰＵ４８に接続されている。さらに、ヘッド駆動回路５４、撮像装置１７、入力装置５５、表示装置５６も入出力インターフェース５２及びデータバス５３を介してＣＰＵ４８に接続されている。
【００６３】
主走査駆動装置５０は第１電磁石モジュール３６、第２電磁石モジュール５７、第３電磁石モジュール５８を駆動する装置である。そして、主走査駆動装置５０は載置板３の移動を制御する。主走査位置検出装置１２は載置板３の主走査方向の位置を検出する装置である。副走査駆動装置５１はキャリッジ２０の移動を制御する装置である。そして、副走査位置検出装置２３はキャリッジ２０の位置を検出する装置である。
【００６４】
ヘッド駆動回路５４は液滴吐出ヘッド２４を駆動する回路である。そして、ＣＰＵ４８が指示する駆動電圧、吐出数、吐出間隔等の吐出条件に従って、ヘッド駆動回路５４は液滴吐出ヘッド２４を駆動する。
【００６５】
入力装置５５は液滴３２を吐出する各種吐出条件や吐出パターンを入力する装置である。例えば、基板９に液滴３２を吐出する座標を図示しない外部装置から受信し、入力する装置である。表示装置５６は吐出条件や作業状況を表示する装置である。表示装置５６に表示される情報を基に入力装置５５を用いて操作者が入力操作を行う。
【００６６】
メモリ４９は、ＲＡＭ、ＲＯＭ等といった半導体メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭといった外部記憶装置を含む概念である。機能的には、液滴吐出装置１における動作の制御手順が記述されたプログラムソフト５９を記憶する記憶領域がメモリ４９に設定される。さらに、基板９に吐出する吐出位置の座標データである描画パターンデータ６０を記憶するための記憶領域もメモリ４９に設定される。さらに、圧電素子３１を駆動する駆動信号データ６２を記憶するための記憶領域もメモリ４９に設定される。さらに、基板９と液滴吐出ヘッド２４の間隔やヘッド間隔検出装置２５と液滴吐出ヘッド２４との間隔のデータであるヘッド間隔データ６３を記憶するための記憶領域もメモリ４９に設定される。他にも、基板９の位置合わせマーク３ｂの座標や基板９上に塗布される位置合わせマークの座標を示す基板位置データ６４を記憶するための記憶領域もメモリ４９に設定される。他にも、ＣＰＵ４８のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機能する記憶領域やその他各種の記憶領域がメモリ４９に設定される。
【００６７】
ＣＰＵ４８はメモリ４９内に記憶されたプログラムソフト５９に従って動作する。そして、ＣＰＵ４８は基板９の所定の位置に機能液２９を液滴３２にして吐出するための制御を行うものである。具体的な機能実現部として、液滴吐出ヘッド２４において液滴３２を吐出するための演算を行う吐出演算部６５等を有する。
【００６８】
吐出演算部６５を詳しく分割すれば、吐出演算部６５は基板９を主走査方向（Ｙ方向）へ所定の速度で走査移動させるための制御をする主走査制御部６６を有する。主走査制御部６６は主走査位置検出装置１２を駆動して載置板３の位置及び移動速度を検出する。次に、主走査駆動装置５０を駆動して載置板３の移動と停止とを制御する。
【００６９】
さらに、吐出演算部６５は液滴吐出ヘッド２４を副走査方向（Ｘ方向）へ所定の副走査移動量で移動させるための制御をする副走査制御部６７を有する。副走査制御部６７は副走査位置検出装置２３を駆動してキャリッジ２０の位置と移動速度とを検出する。次に、キャリッジ２０の位置及び速度の情報を用いて副走査駆動装置５１がキャリッジ２０の移動を制御する。そして、液滴吐出ヘッド２４を基板９に対して移動及び停止することが可能になっている。
【００７０】
さらに、吐出演算部６５は液滴吐出ヘッド２４内に複数あるノズル２７の内、どのノズル２７を作動させて液滴３２を吐出するかを制御するための演算を行う吐出制御部６８等といった各種の機能演算部を有する。吐出演算部６５の他にも、ヘッド間隔制御部６９を有する。ヘッド間隔制御部６９はヘッド間隔検出装置２５を駆動させて、基板９と液滴吐出ヘッド２４との間隔を検出する。そして、ヘッド間隔制御部６９は昇降装置３７を駆動させて、基板９と液滴吐出ヘッド２４との間隔を所定の間隔にする。ヘッド間隔制御部６９及び昇降装置３７等により間隔調整部が構成されている。さらに、ＣＰＵ４８は描画位置演算部７０を有する。描画位置演算部７０は撮像装置１７を駆動して位置合わせマーク３ｂを検出させる。マーク検出部は描画位置演算部７０及び撮像装置１７等により構成される。そして、描画位置演算部７０は、位置合わせマーク３ｂの位置に対応して描画パターンデータ６０を変換する演算部である。
【００７１】
（描画方法）
次に、上述した液滴吐出装置１を用いた描画方法の例を説明する。１例として反射板を製造する方法の例を図７〜図１２を用いて説明する。図７は反射板を示す模式図である。図８は、反射板を製造する製造工程を示すフローチャートである。
【００７２】
図７（ａ）は、反射板を示す模式平面図である。図７（ｂ）は、反射板を示す模式側面図である。図７（ａ）及び図７（ｂ）に示すように反射板７１は基板９を備えている。基板９上には半球状に形成された凸部７２が形成されている。反射板７１に光が照射されるとき、光の一部は凸部７２を照射する。そして、光が凸部７２において乱反射するようになっている。反射板７１は、例えば、プロジェクタ等の投影装置のスクリーンに用いることができる。凸部７２は塗布と乾燥とを３回繰り返して形成される。凸部７２のＸ方向両側には位置合わせマーク７３が描画されている。この位置合わせマーク７３は凸部７２を位置精度良く形成するために用いられる。
【００７３】
次に、図８を用いて、反射板７１を製造する製造工程を説明する。ステップＳ１は基板配置工程に相当する。この工程は、載置板に基板を載置した後、吸引チャックを用いて基板を載置板に固定する工程である。次にステップＳ２に移行する。ステップＳ２は表面改質工程に相当し、基板の一部を親液性にする工程である。次にステップＳ３に移行する。ステップＳ３は第１給材工程に相当し、基板が配置された載置板を液滴吐出装置に給材する工程である。次にステップＳ４に移行する。ステップＳ４は第１位置検出工程に相当し、載置板に配置された位置合わせマークの場所を検出する工程である。次にステップＳ５に移行する。ステップＳ５は、マーク描画工程に相当し、基板上に位置合わせマークを描画する工程である。次にステップＳ６に移行する。ステップＳ６は、第１マーク位置記憶工程に相当し、基板上に描画した位置合わせマークの位置データをメモリに記憶する工程である。次にステップＳ７に移行する。ステップＳ７は、第１本体描画工程に相当し、描画パターンを基板に描画する工程である。次にステップＳ８に移行する。ステップＳ８は、第１除材工程に相当し、載置板を液滴吐出装置から除去する工程である。次にステップＳ９に移行する。ステップＳ３〜ステップＳ８を合わせてステップＳ３１の第１塗布工程とする。ステップＳ９は、第１乾燥工程に相当し、基板上に描画された描画パターンを乾燥する工程である。次にステップＳ１０に移行する。
【００７４】
ステップＳ１０は第２給材工程に相当し、基板が配置された載置板を液滴吐出装置に給材する工程である。次にステップＳ１１に移行する。ステップＳ１１は、第１マーク位置再生工程に相当し、載置板上に配置された位置合わせマークの位置データと基板上に描画した位置合わせマークの位置データとをメモリから再生する工程である。次にステップＳ１２に移行する。ステップＳ１２は第２位置検出工程に相当し、基板に描画された位置合わせマークの場所を検出する工程である。次にステップＳ１３に移行する。ステップＳ１３は、第２マーク位置記憶工程に相当し、基板上に検出した位置合わせマークの位置データをメモリに記憶する工程である。次にステップＳ１４に移行する。ステップＳ１４は、第２本体描画工程に相当し、描画パターンを基板に描画する工程である。次にステップＳ１５に移行する。ステップＳ１５は、第２除材工程に相当し、載置板を液滴吐出装置から除去する工程である。次にステップＳ１６に移行する。ステップＳ１０〜ステップＳ１５を合わせてステップＳ３２の第２塗布工程とする。ステップＳ１６は、第２乾燥工程に相当し、基板上に描画された描画パターンを乾燥する工程である。次にステップＳ１７に移行する。
【００７５】
ステップＳ１７は第３給材工程に相当し、基板が配置された載置板を液滴吐出装置に給材する工程である。次にステップＳ１８に移行する。ステップＳ１８は、第２マーク位置再生工程に相当し、載置板上に配置された位置合わせマークの位置データと基板上に描画した位置合わせマークの位置データをメモリから再生する工程である。次にステップＳ１９に移行する。ステップＳ１９は第３位置検出工程に相当し、基板に描画された位置合わせマークの場所を検出する工程である。次にステップＳ２０に移行する。ステップＳ２０は、第３本体描画工程に相当し、描画パターンを基板に描画する工程である。次にステップＳ２１に移行する。ステップＳ２１は、第３除材工程に相当し、載置板を液滴吐出装置から除去する工程である。次にステップＳ２２に移行する。ステップＳ１７〜ステップＳ２１を合わせてステップＳ３３の第３塗布工程とする。ステップＳ２２は、第３乾燥工程に相当し、基板上に描画された描画パターンを乾燥する工程である。次にステップＳ２３に移行する。ステップＳ２３は、基板除材工程に相当し、載置板から基板を剥離して分離する工程である。以上により反射板７１を製造する製造工程を終了する。
【００７６】
次に、図９〜図１２の反射板を製造する製造方法を説明するための模式図を用いて、図８に示したステップと対応させて、製造方法を詳細に説明する。
【００７７】
図９（ａ）及び図９（ｂ）はステップＳ１の基板配置工程に対応する図である。図９（ａ）に示すように基板９の材料であるシート７４がリール７５に巻き取られている。作業者は作業台７６上に載置板３を配置する。次に、作業者はシート７４をリール７５から引き出して載置板３に載せる。続いて、図９（ｂ）に示すように作業者は真空ポンプ７７を用意する。真空ポンプ７７にはバルブ７７ａを介して吸引ソケット４５が接続されている。そして、作業者は真空ポンプ７７を作動させた後、吸引ソケット４５を載置板３に挿入する。次に、作業者はバルブ７７ａを開いて載置板３内の空気を吸引する。次に、作業者はバルブ７７ａを閉じた後、載置板３から吸引ソケット４５を引き抜く。載置板３の内部は減圧された状態を維持するので、シート７４は載置面３ａに吸着した状態を保持する。続いて、作業者は短刀を用いてシート７４を所定の大きさに裁断することにより基板９を形成する。
【００７８】
図９（ｃ）はステップＳ２の表面改質工程に対応する図である。図９（ｃ）に示すように、ステップＳ２において、紫外線を照射する。基板９には予め撥液膜が形成されている。この膜は、例えば、フッ素を含む材料を溶媒に溶かしてシート７４に塗布した後乾燥することにより形成される。次に、基板９と重ねてマスク７８を配置する。マスク７８には描画パターンと同じ形状に紫外線を透過する場所と紫外線を遮蔽する場所とが形成されている。続いて、紫外線ランプ７９から紫外線８０を発光させる。そして、紫外線８０をマスク７８に照射する。その結果、描画パターンの同じ形状に紫外線８０が基板９に照射される。紫外線８０が照射された場所では撥液膜の撥液性が改質されて親液性になる。
【００７９】
図９（ｄ）はステップＳ３の第１給材工程に対応する図である。図９（ｄ）に示すように、ステップＳ３において、基板９が載置された載置板３を第１ステージ５上に供給する。第１ステージ５からは空気が流出しているので載置板３は第１ステージ５上を移動し易くなっている。尚、キャリッジ２０には複数の液滴吐出ヘッド２４が配置されているが、説明を解り易くするために図中の液滴吐出ヘッド２４の数は１個のみ記載し、他は省略してある。
【００８０】
図１０（ａ）及び図１０（ｂ）はステップＳ４の第１位置検出工程に対応する図である。図１０（ａ）に示すように、ステップＳ４において、載置板３をＹ方向に移動させる。主走査制御部６６は主走査位置検出装置１２を駆動して載置板３のＹ方向の位置を検出する。そして、主走査制御部６６は載置板３を所定の場所に移動させる。次に、図１０（ｂ）に示すように、描画位置演算部７０は撮像装置１７を駆動して位置合わせマーク３ｂを撮像する。このとき、撮像装置１７の撮像エリア８３に位置合わせマーク３ｂが入るように主走査制御部６６は載置板３を移動させる。続いて、描画位置演算部７０は撮像装置１７が撮像した画像を用いて撮像エリア８３における位置合わせマーク３ｂの位置座標を演算する。続いて、主走査位置検出装置１２が載置板３の位置を検出する。次に、描画位置演算部７０は主走査位置検出装置１２が検出した載置板３の位置情報と撮像エリア８３の位置合わせマーク３ｂの位置情報とを用いて位置合わせマーク３ｂの座標を演算する。そして、位置合わせマーク３ｂの座標データを基板位置データ６４としてメモリ４９に記憶する。
【００８１】
図１０（ｃ）〜図１１（ａ）はステップＳ５のマーク描画工程〜ステップＳ８の第１除材工程に対応する図である。図１０（ｃ）に示すように、ステップＳ５において、位置合わせマーク７３を描画する。載置板３をＹ方向に走査し、キャリッジ２０をＸ方向に走査する。そして、描画する場所と対向する場所に液滴吐出ヘッド２４が位置するとき、ノズル２７から液滴３２を吐出して描画する。このとき、ヘッド間隔制御部６９はヘッド間隔検出装置２５を駆動して液滴吐出ヘッド２４と基板９との間隔を検出する。次に、ヘッド間隔制御部６９は昇降装置３７を駆動することにより、載置板３をＺ方向に移動させる。そして、液滴吐出ヘッド２４と基板９との間隔が所定の間隔になるように制御する。
【００８２】
ステップＳ６の第１マーク位置記憶工程では、描画した位置合わせマーク７３の座標データを基板位置データ６４としてメモリ４９に記憶する。次に、ステップＳ７の第１本体描画工程では、凸部７２を形成する予定の場所に液滴３２を吐出する。このときにも、載置板３とキャリッジ２０とを走査させて液滴３２を吐出する。その結果、図１１（ａ）に示すように、基板９上に機能液２９が凸状に塗布される。ステップＳ８の第１除材工程では載置板３を液滴吐出装置１から除去する。このとき、第１ステージ５が備えるエアーシリンダ３５を伸張させることにより載置板３を上面５ａから持ち上げる。次に、図示しないロボットを用いて載置板３を移動させる。
【００８３】
図１１（ｂ）〜図１１（ｄ）はステップＳ９の第１乾燥工程に対応する図である。図１１（ｂ）に示すように、ステップＳ９において、基板９が載置された載置板３を乾燥装置８４の内部に配置する。乾燥装置８４は乾燥室８５を備えている。乾燥室８５は載置台８６を備え、載置板３をこの載置台８６に配置する。乾燥室８５は図中上側の供給管８７及び供給バルブ８８を介して乾燥気体供給部８９と接続されている。さらに、乾燥室８５は図中下側の排気管９０及び排気バルブ９１を介して排気部９２と接続されている。そして、乾燥気体供給部８９から供給される乾燥気体９３が供給バルブ８８及び供給管８７を介して乾燥室８５に供給される。乾燥気体供給部８９と排気部９２とを制御することにより、乾燥室８５の気圧を制御することができる。そして、基板９を減圧乾燥することが可能になっている。次に、乾燥気体９３は基板９に塗布された機能液２９に沿って流動する。このとき、機能液２９に含まれる溶媒及び分散媒を乾燥気体９３中に蒸発させて除去することにより、機能液２９を乾燥させる。そして、機能液２９が乾燥することにより、機能液２９の材料からなる膜が形成される。次に、溶媒及び分散媒を含んだ乾燥気体９３は排気管９０及び排気バルブ９１を通過して、排気部９２により図示しない処理装置に排気される。
【００８４】
その結果、図１１（ｃ）及び図１１（ｄ）に示すように、基板９上に第１中間凸状体９４が形成される。第１中間凸状体９４は凸部７２が未完成状態のものであり、第１中間凸状体９４は凸部７２に比べて高さが低くなっている。
【００８５】
ステップＳ１０の第２給材工程では、図９（ｄ）に示すように、再度、基板９が載置された載置板３を第１ステージ５上に供給する。次に、ステップＳ１１の第１マーク位置再生工程において、描画位置演算部７０はメモリ４９の基板位置データ６４から載置板３の位置合わせマーク３ｂ及び基板９上の位置合わせマーク７３の位置座標データを再生する。
【００８６】
次に、ステップＳ１２の第２位置検出工程では、図１０（ａ）及び図１０（ｂ）に示すように、描画位置演算部７０が撮像装置１７を駆動して位置合わせマーク３ｂを撮像する。このとき、ステップＳ１１において再生した位置合わせマーク３ｂの位置座標データを用いる。従って、短時間で位置合わせマーク３ｂを撮像する場所に移動させることができる。続いて、描画位置演算部７０は撮像装置１７が撮像した画像を用いて撮像エリア８３における位置合わせマーク３ｂの位置座標を演算する。そして、位置合わせマーク３ｂの位置を検出する。
【００８７】
図１２（ａ）及び図１２（ｂ）はステップＳ１２の第２位置検出工程に対応する図である。図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示すように、主走査制御部６６が載置板３をＹ方向に移動させる。そして、検出した位置合わせマーク３ｂの位置情報を用いて撮像装置１７が位置合わせマーク７３を撮像できる場所に載置板３を移動させる。このとき、ステップＳ１１において再生した基板９上の位置合わせマーク７３の位置座標データを用いる。従って、短時間で位置合わせマーク７３を撮像する場所に移動させることができる。
【００８８】
次に、描画位置演算部７０は撮像装置１７を駆動して位置合わせマーク７３を撮像する。このとき、撮像装置１７の撮像エリア８３に位置合わせマーク７３が入るように主走査制御部６６は載置板３を移動させる。続いて、描画位置演算部７０は撮像装置１７が撮像した画像を用いて撮像エリア８３における位置合わせマーク７３の位置座標を演算する。次に、主走査位置検出装置１２が載置板３の位置を検出する。続いて、描画位置演算部７０は主走査位置検出装置１２が検出した載置板３の位置データと撮像エリア８３の位置合わせマーク７３の位置データを用いて位置合わせマーク７３の座標を演算する。そして、ステップＳ１３の第２マーク位置記憶工程において位置合わせマーク７３の座標データを基板位置データ６４としてメモリ４９に記憶する。
【００８９】
ステップＳ１４の第２本体描画工程において、第１中間凸状体９４に重ねて液滴３２を吐出する。従って、第１中間凸状体９４上に機能液２９が塗布される。このとき、位置合わせマーク７３を基準位置にして、描画位置演算部７０は描画パターンを演算する。従って、ステップＳ９の第１乾燥工程において載置板３の位置合わせマーク３ｂと位置合わせマーク７３との相対位置が変動するときにも、液滴吐出ヘッド２４が位置精度良く液滴３２を吐出して描画することができる。
【００９０】
ステップＳ１５の第２除材工程では、ステップＳ８の第１除材工程と同様の方法を用いて載置板３を液滴吐出装置１から移動する。そして、ステップＳ１６の第２乾燥工程では、ステップＳ９の第１乾燥工程と同様の方法を用いて機能液２９を乾燥させる。その結果、図１２（ｃ）に示すように、基板９上に第２中間凸状体９５が形成される。第２中間凸状体９５は第１中間凸状体９４と同じ場所に形成され、第１中間凸状体９４より高さ９６が高く形成されている。
【００９１】
ステップＳ１７の第３給材工程では、再度、基板９が載置された載置板３を第１ステージ５上に供給する。次に、ステップＳ１８の第２マーク位置再生工程では、描画位置演算部７０がメモリ４９の基板位置データ６４から載置板３の位置合わせマーク３ｂ及び基板９上の位置合わせマーク７３の位置データを再生する。
【００９２】
ステップＳ１９の第３位置検出工程では、ステップＳ１２の第２位置検出工程と同様の方法を用いて載置板３の位置合わせマーク３ｂの位置を検出した後、位置合わせマーク７３の位置を検出する。このとき、ステップＳ１８で再生した載置板３の位置合わせマーク３ｂ及び基板９上の位置合わせマーク７３の位置座標データを用いる為、短時間で位置合わせマーク３ｂ及び位置合わせマーク７３の位置を検出することができる。
【００９３】
ステップＳ２０の第３本体描画工程では、ステップＳ１４の第２本体描画工程と同様の方法を用いて描画する。そして、第２中間凸状体９５と重ねて液滴３２を吐出する。従って、第２中間凸状体９５上に機能液２９が塗布される。このとき、位置合わせマーク７３を基準位置にして、描画位置演算部７０は描画パターンを演算する。従って、ステップＳ１６の第２乾燥工程において載置板３の位置合わせマーク３ｂと位置合わせマーク７３との相対位置が変動するときにも、液滴吐出ヘッド２４が位置精度良く液滴３２を吐出して描画することができる。
【００９４】
ステップＳ２１の第３除材工程では、ステップＳ８の第１除材工程と同様の方法を用いて載置板３を液滴吐出装置１から移動する。そして、ステップＳ２２の第３乾燥工程では、ステップＳ９の第１乾燥工程と同様の方法を用いて機能液２９を乾燥させる。その結果、図１２（ｄ）に示すように、基板９上に凸部７２が形成される。凸部７２は第２中間凸状体９５と同じ場所に形成され、第２中間凸状体９５より高さ９６が高く形成されている。以上の製造工程により反射板７１が完成する。
【００９５】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、基板９が載置板３に載置される。載置板３は第１ステージ５上に供給される。そして、載置板３が移動されることにより、液滴吐出ヘッド２４と対向する場所に基板９が移動される。そして、液滴吐出ヘッド２４は基板９に液滴３２を吐出する。基板９が柔軟性を有するとき、基板９が柔軟であるときにも、基板９は載置板３上に載置されることにより平面を形成することができる。従って、液滴吐出ヘッド２４と基板９とを平行に移動させることにより、液滴吐出ヘッド２４と基板９との間隔を所定の間隔に維持して液滴３２を基板９に吐出することができる。
【００９６】
（２）本実施形態によれば、ヘッド間隔制御部６９が昇降装置３７を駆動して基板９と液滴吐出ヘッド２４との間隔を調整する。そして、基板９が載置された載置板３は可撓性がある。従って、載置板３が変形する為、基板９を液滴吐出ヘッド２４の方向へ移動し易くすることができる。
【００９７】
（３）本実施形態によれば、配管４３内を負圧にして配管４３が基板９を吸着している。従って、基板９と載置板３との相対位置を変えずに載置板３を移動することができる。
【００９８】
（４）本実施形態によれば、非描画領域９ｃにおいて配管４３が基板９を吸着している。従って、基板９が吸着されて変形するときにも、液滴３２が着弾する描画領域９ｂには影響を及ばさないようにすることができる。
【００９９】
（５）本実施形態によれば、載置板３は着磁部４６を備え、第１ステージ５は第１電磁石モジュール３６を備えている。第１電磁石モジュール３６の磁極におけるＮ極とＳ極の配列を切り換えることにより、着磁部４６のＮ極及びＳ極と引力もしくは斥力を働かせることができる。そして、第２ステージ６及び第３ステージ７も同様の構造を備えている。従って、載置板３を主走査方向に移動することができる。
【０１００】
（６）本実施形態によれば、第２ステージ６において配管３４から空気を流出して載置板３の上下方向および側面の位置を制御している。そして、載置板３は流体に囲まれている為、載置板３には摩擦抵抗を小さくすることができる。従って、載置板３が通る場所を規制するとともに、載置板３を移動し易くすることができる。
【０１０１】
（７）本実施形態によれば、描画位置演算部７０は載置板３の位置合わせマーク３ｂを検出する。そして、描画位置演算部７０は載置板３の位置合わせマーク３ｂの位置情報を用いて位置合わせマーク７３を検出する。次に、メモリ４９は載置板３の位置合わせマーク３ｂと検出した基板９の位置合わせマーク７３との相対位置を記憶する。載置板３の位置合わせマーク３ｂと基板９の位置合わせマーク７３との相対位置は基板９の製造履歴により変わることがある。そして、同じ製造履歴の基板９では、載置板３の位置合わせマーク３ｂと基板９の位置合わせマーク７３との相対位置が同じであることが多い。従って、製造履歴が同じ基板９を続けて製造するとき、記憶した位置合わせマーク７３の情報を用いることにより、描画位置演算部７０は基板９上で位置合わせマーク７３の場所を検出し易くすることができる。
【０１０２】
（８）本実施形態によれば、載置板３がステージ２の可動テーブルの機能を兼ねている。ステージ２が可動テーブルを備えて、可動テーブルの上に載置板３を載置する方法もある。この場合に比べて、可動テーブルが不要なので、液滴吐出装置１は省資源な装置にすることができる。さらに、液滴吐出装置１は可動テーブルを介さずに載置板３を直接移動する為、可動テーブルを備える場合に比べて第１電磁石モジュール３６は少ない電力で載置板３を移動することができる。従って、省資源な装置にすることができる。第１電磁石モジュール３６は消費電力を少なくできるので、第１電磁石モジュール３６が発生する熱量を少なくすることができる。そして、第２電磁石モジュール５７及び第３電磁石モジュール５８も同様に発生する熱量を少なくすることができる。その結果、温度調整をし易くすることができる。
【０１０３】
（９）本実施形態によれば、基板９を載置板３に載置したまま塗布工程と乾燥工程とを行っている。従って、基板９を操作性良く移動することができる。さらに、基板９を載置板３から剥離する回数が少ない為、剥離するときに基板９に張力が加わって基板９が伸びることを防止することができる。
【０１０４】
（１０）本実施形態によれば、基板９は載置板３に載置された状態で第１ステージ５上に載置される。従って、基板９に柔軟性があるときにも載置板３により平板状に維持することができる。従って、基板９を液滴吐出装置１に載置し易くすることができる。
【０１０５】
尚、本実施形態は上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変更や改良を加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
（変形例１）
前記実施形態では、載置板３の内部に配管４３を配置した。そして、配管４３内を負圧にして基板９を載置面３ａに吸着させた。基板９を載置面３ａに吸着させる方法はこの方法に限らない。載置面３ａに粘着膜を配置しても良い。そして、粘着膜により基板９を載置板３に固定しても良い。載置板３の内部に配管４３を配置する必要がないので、生産性良く載置板３を製造することができる。
【０１０６】
（変形例２）
前記実施形態では、第１電磁石モジュール３６及び着磁部４６によりリニアモータを形成した。載置板３を移動させる方法はこれに限らない。ステージ２に直線状の超音波モータを配置しても良い。他にも、ステージ２に直動機構を配置して、直動機構の可動部が載置板３を移動するようにしても良い。この直動機構には、ボールネジとサーボモータとの組合せや、ボールネジとステップモータとの組合せ等を用いることができる。他にもリニアモータを用いることができる。
【０１０７】
（変形例３）
前記実施形態では、キャリッジ２０が１台だけ配置されたが、キャリッジ２０を複数配置しても良い。そして、案内レール１９に沿って複数のキャリッジ２０を移動させるようにしても良い。液滴吐出ヘッド２４の個数が多いときには、キャリッジ毎に液滴吐出ヘッド２４を保守することにより保守し易い装置にすることができる。
【０１０８】
（変形例４）
前記実施形態ではＸ方向に移動するキャリッジ２０が配置された。キャリッジ２０を案内部材１６に固定しても良い。そして、キャリッジ２０を長く形成して、液滴吐出ヘッド２４を描画領域９ｂのＸ方向の幅より長い範囲に配置しても良い。この場合には、キャリッジ２０を移動することなく、描画領域９ｂの総ての場所に液滴３２を吐出することができる。従って、簡便な構成の装置にすることができる。
【０１０９】
（変形例５）
前記実施形態では位置合わせマーク３ｂは円形であり、位置合わせマーク７３は十字であったが、マークの形状はこれに限らない。多角形や二重円等図形から特定の点を検索可能な図形であれば良い。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図。
【図２】（ａ）は、キャリッジを示す模式平面図、（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの構造を示す要部模式断面図。
【図３】（ａ）は、第１ステージを示す模式断面図、（ｂ）は、第２ステージを示す模式断面図。
【図４】（ａ）及び（ｂ）は、載置板を示す模式断面図、（ｃ）は、載置板を示す模式平面図。
【図５】（ａ）は、載置板の模式平面図、（ｂ）は、載置板の模式側面図、（ｃ）は、着磁部を示す要部拡大図、（ｄ）及び（ｅ）はステージの電磁石を説明するための模式図。
【図６】液滴吐出装置の電気制御ブロック図。
【図７】（ａ）は、反射板を示す模式平面図、（ｂ）は、反射板を示す模式側面図。
【図８】反射板を製造する製造工程を示すフローチャート。
【図９】反射板を製造する製造方法を説明するための模式図。
【図１０】反射板を製造する製造方法を説明するための模式図。
【図１１】反射板を製造する製造方法を説明するための模式図。
【図１２】反射板を製造する製造方法を説明するための模式図。
【符号の説明】
【０１１１】
２…ステージ、３ｂ，７３…位置合わせマーク、３…載置板、５…第１ステージ、６…第２ステージ、７…第３ステージ、９…基板、１７…マーク検出部としての撮像装置、２４…液滴吐出ヘッド、３２…液滴、３６…磁場発生部としての第１電磁石モジュール、３７…間隔調整部としての昇降装置、３９…吸着部としての弁部、４０…吸着部としてのタンク、４３…吸着部としての配管、４６…着磁部、６９…間隔調整部としてのヘッド間隔制御部、７０…マーク検出部としての描画位置演算部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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