(57)【要約】【課題】発光時における輝度ムラや、発光色ムラの発生を低減すること。【解決手段】電気光学装置１００によれば、発光画素Ｐａの長手方向（Ｙ軸方向）において、画素電極１０の開口部の端部から最寄りの凹部Ｃｏの端部までの間隙Ｇ２が、直径Ｆの１／２以上の長さ確保されているため、開口部へのコーヒーリングｕの重なりを低減することができる。よって、出射光の輝度や、色調を決定付ける画素電極１０の開口部と重なる部分の有機ＥＬ層１５の層厚を均一化することができるため、輝度ムラや、発光色ムラを低減することができる。【選択図】図１
2010177154.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の方向に配列された複数の発光画素を備えた電気光学装置であって、
前記複数の発光画素は隔壁によって互いに区画されており、
前記複数の発光画素の各々は、画素電極と、共通電極と、前記画素電極と前記共通電極との間に配置された電気光学層と、前記画素電極と前記電気光学層とが接触する領域を区画する絶縁層と、を有する発光素子を備え、
前記隔壁によって少なくとも一部が規定された凹部は、前記第１の方向と交差する第２の方向の長さが、前記第１の方向の長さよりも長く形成されてなり、
前記第２の方向において、前記凹部の端部から、最寄りの前記画素電極の開口部までの間隙が、前記画素電極の開口部の長さの１／２以上確保されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第１の方向においても、前記凹部の端部から、最寄りの前記画素電極の開口部までの間隙が、前記画素電極の開口部の長さの１／２以上確保されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第２の方向において、前記凹部の端部から、最寄りの前記画素電極の開口部までの間隙が、前記画素電極の開口部の長さの３倍以上確保されていることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記第１の方向における前記複数の発光画素からなる配列の前後には、ダミー画素が形成され、
前記ダミー画素も、前記隔壁によって区画されており、
前記ダミー画素には前記電気光学層を構成する層のうち、少なくとも1つの層が形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記第１の方向に配列された前記複数の発光画素を含む第１画素行と、
前記第１画素行の前記第２の方向側に配置された前記第１画素行と同様の配列を有する第２画素行と、を備え、
前記第１の方向における前記第１画素行の前記発光画素と、前記第２画素行の前記発光画素との位置は、前記第１画素行における前記発光画素の配置ピッチの略半ピッチ分シフトしていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記画素電極の開口部は、略円形に設けられ、
平面視において前記複数の発光画素の各々の形状は、略同一半径の２つの半円間を直線で結んだトラック形状をなし、
前記２つの半円の中心を結ぶ線分が、前記第２の方向に沿った線分から傾斜するように、前記複数の発光画素の各々は前記隔壁によって区画されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記複数の発光画素の各々には、前記発光素子が複数配置されるとともに、前記凹部には前記複数の発光素子が前記第２の方向において間隙を持って配置されており、
前記複数の発光画素のうち第１発光画素に形成された前記複数の発光素子と、前記複数の発光画素のうち第２発光画素に形成された前記複数の発光素子とは、前記第１の方向に沿ってそれぞれ配列をなしていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記電気光学層は、前記凹部に液滴吐出法によって塗布した液状体を乾燥させて形成した有機ＥＬ層であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の電気光学装置と、
前記電気光学装置の前記発光画素が出射する光を所定の位置に集光させる光学部材とを、少なくとも備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項１０】
第１の方向に配列された複数の発光画素を備えた電気光学装置の製造方法であって、
前記複数の発光画素は隔壁によって互いに区画され、
前記複数の発光画素の各々は、画素電極と、共通電極と、前記画素電極と前記共通電極との間に配置された電気光学層と、前記画素電極と前記電気光学層とが接触する領域を区画する絶縁層と、を有する発光素子を備え、前記隔壁によって少なくとも一部が規定された凹部は、前記第１の方向と交差する第２の方向の長さが、前記第１の方向の長さよりも長く形成されてなり、
前記第２の方向において、前記凹部の端部から、最寄りの前記画素電極の開口部までの間隙が、前記画素電極の開口部の長さの１／２以上確保されてなり、
前記電気光学層を形成する工程は、
前記電気光学層を構成する溶質を溶解または分散した溶液を前記凹部に液滴吐出法によって塗布する工程と、
前記溶質を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、その製造方法、および当該電気光学装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料が拡散または溶解した溶液（以降、「液状体」という）をインクジェット法により隔壁（バンク）に囲まれた凹部に吐出、および乾燥させて、発光画素を形成した電気光学装置が知られている。
例えば、特許文献１には、複数の上記発光画素を表示領域内にマトリックス状に配置するとともに、その周囲にも発光に寄与しないダミー画素を形成したダミー画素領域を備えた有機ＥＬ表示装置が開示されている。
【０００３】
図１１（ａ）は従来の発光装置の平面図であり、（ｂ）は断面図である。
図１１（ａ）は、電子写真方式プリンタの露光ヘッドに用いられる従来の電気光学装置としての発光装置５００の平面図である。
発光装置５００は、特許文献１と同様な画素構造を備えたライン状の発光装置である。発光装置５００は、Ｘ軸方向に細長い長方形をなしており、ハッチングで示されるように、当該長方形の長手方向に沿って配列された複数の発光画素Ｐａを備えている。発光画素Ｐａは、隔壁２０により区画された領域と平面視において重なる領域であり、内部に画素電極１０と共通電極２３と、画素電極１０と共通電極２３とに挟まれた有機ＥＬ層（電気光学層）１５を含む発光素子を備えている。
複数の発光画素Ｐａは、長方形の短辺の略中央において、Ｘ軸に沿って所定のピッチで配列（以降、「発光画素行」ともいう）されており、発光画素行の周囲には、二重の同心円で示される複数のダミー画素Ｐｄが形成されている。
発光装置５００は、複数の発光画素Ｐａが放射する光を、紙面の奥行き方向（Ｚ軸（＋）方向）に出射するボトムエミッション型の発光装置である。
【０００４】
図１１（ｂ）は、図１１（ａ）のｑ−ｑ断面を示している。
発光装置５００は、透明な基板１の上層に、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）を含む素子層６、絶縁層７、画素電極１０、隔壁２０、有機ＥＬ層１５、共通電極２３などを積層した構成を有している。
有機ＥＬ層１５は、平面的に円形の画素電極１０を囲う台形状の隔壁２０によって区画された凹部Ｃｏに配置され、インクジェット法で凹部Ｃｏに吐出された液状体を乾燥させることによって形成されていた。
また、発光画素行を囲う複数のダミー画素Ｐｄにおいても、隔壁２０に囲まれた凹部Ｃｏに同一の条件で、液状体を吐出し、有機ＥＬ層１５を形成していた。
これにより、発光装置５００では、複数の発光画素Ｐａにおける液状体の溶媒分子分圧の均一化を図り、発光素子行の端部と中央部とで乾燥速度を均一化することにより、有機ＥＬ層１５の層厚を均一にすることができるとしている。換言すれば、発光画素行の周囲をダミー画素Ｐｄで囲うことにより、当該画素行を構成する複数の発光画素Ｐａ間における液状体の乾燥速度を均一化し、発光画素Ｐａ間での有機ＥＬ層１５の層厚の均一化を図っていた。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−２２２６９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
図１２は、従来の発光画素における有機ＥＬ層の層厚を示すグラフであり、横軸は画素電極１０の開口部の長さ（直径）Ｗを示し、縦軸は有機ＥＬ層１５の層厚ｔを示している。
従来の発光装置５００では、１つの発光画素Ｐａ内における有機ＥＬ層１５の層厚を均一にすることは困難であった。詳しくは、グラフｉに示す通り、画素電極１０の開口部を示す直径Ｆの周縁部と重なる有機ＥＬ層１５の層厚が、中心部の層厚よりも厚くなっていた。換言すれば、出射光の輝度や、色調を決定することになる、開口部と重なる部分の有機ＥＬ層１５の層厚にバラつきがあった。
これは、いわゆるコーヒーの染み現象によるものであり、凹部Ｃｏに吐出された液滴状の液状体が乾燥する際に、析出物が周縁部に厚く積層（コーヒーリング）される現象に起因している。詳しくは、画素電極１０の開口部の端部から、凹部Ｃｏの端部までの間隙Ｇ１が、開口部の長さＦ（直径）の半分にも満たないため、開口部にコーヒーリングが重なってしまっていた。
つまり、従来の発光装置５００では、画素内（１つの画素電極上）において有機ＥＬ層１５の層厚を均一にすることは困難であるため、発光時における輝度ムラや、発光色ムラが発生してしまうという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例又は形態として実現することが可能である。
【０００８】
（適用例）
第１の方向に配列された複数の発光画素を備えた電気光学装置であって、複数の発光画素は隔壁によって互いに区画されており、複数の発光画素の各々は、画素電極と、共通電極と、画素電極と共通電極との間に配置された電気光学層と、画素電極と電気光学層とが接触する領域を区画する絶縁層と、を有する発光素子を備え、隔壁によって少なくとも一部が規定された凹部は、第１の方向と交差する第２の方向の長さが、第１の方向の長さよりも長く形成されてなり、第２の方向において、凹部の端部から、最寄りの画素電極の開口部までの間隙が、画素電極の開口部の長さの１／２以上確保されていることを特徴とする電気光学装置。
【０００９】
この電気光学装置によれば、第１の方向と交差する第２の方向の長さが、第１の方向の長さよりも長く、かつ、第２の方向における端部から、最寄りの開口部の端部までの間隙が、開口部の長さの１／２以上確保された凹部に、電気光学層を形成することになる。
ここで、電気光学層として、例えば、液滴吐出法による有機ＥＬ層を凹部に形成する場合、凹部の周縁部には、コーヒーの染み現象による厚い部分（コーヒーリング）が形成されることになるが、第２の方向における開口部の位置は、凹部の端部から開口部の長さの１／２以上離れているため、開口部にコーヒーリングが重なることを避けることができる。よって、図１１（ｂ）に示される、凹部Ｃｏの端部から最寄りの画素電極の開口部の端部までの間隙Ｇ１が、開口部の長さの１／２よりも短かったため、コーヒーリングの影響により、有機ＥＬ層の層厚にバラつきがあった従来の電気光学装置よりも、有機ＥＬ層の層厚を均一にすることができる。
従って、電気光学層の層厚を均一にすることが可能な電気光学装置を提供することができる。さらに、層厚の均一化により、輝度ムラや、発光色ムラを低減することもできる。
【００１０】
また、第１の方向においても、凹部の端部から、最寄りの画素電極の開口部までの間隙が、画素電極の開口部の長さの１／２以上確保されていることが好ましい。
また、第２の方向において、凹部の端部から、最寄りの画素電極の開口部までの間隙が、画素電極の開口部の長さの３倍以上確保されていることが好ましい。
また、第１の方向における複数の発光画素からなる配列の前後には、ダミー画素が形成され、ダミー画素も、隔壁によって区画されており、ダミー画素には電気光学層を構成する層のうち、少なくとも1つの層が形成されることが好ましい。
なお、本発明において、ダミー画素とは、画素において発光素子から出射された発光光が、表示装置の表示またはプリンタヘッドの光源または照明装置の光源等に利用されない画素、または光を発しない画素を指す。これに対して表示画素とは、画素において発光素子から出射された発光光が、表示装置の表示またはプリンタヘッドの光源または照明装置の光源等に利用される画素を指す。
また、第１の方向に配列された複数の発光画素を含む第１画素行と、第１画素行の第２の方向側に配置された第１画素行と同様の配列を有する第２画素行と、を備え、第１の方向における第１画素行の発光画素と、第２画素行の発光画素との位置は、第１画素行における発光画素の配置ピッチの略半ピッチ分シフトしていることが好ましい。
【００１１】
また、画素電極の開口部は、略円形に設けられ、平面視において複数の発光画素の各々の形状は、略同一半径の２つの半円間を直線で結んだトラック形状をなし、２つの半円の中心を結ぶ線分が、第２の方向に沿った線分から傾斜するように、複数の発光画素の各々は隔壁によって区画されていることが好ましい。
また、複数の発光画素の各々には、発光素子が複数配置されるとともに、凹部には複数の発光素子が第２の方向において間隙を持って配置されており、複数の発光画素のうち第１発光画素に形成された複数の発光素子と、複数の発光画素のうち第２発光画素に形成された複数の発光素子とは、第１の方向に沿ってそれぞれ配列をなしていることが好ましい。また、電気光学層は、凹部に液滴吐出法によって塗布した液状体を乾燥させて形成した有機ＥＬ層であることが好ましい。
【００１２】
上記記載の電気光学装置と、電気光学装置の発光画素が出射する光を所定の位置に集光させる光学部材とを、少なくとも備えたことを特徴とする電子機器。
【００１３】
第１の方向に配列された複数の発光画素を備えた電気光学装置の製造方法であって、複数の発光画素は隔壁によって互いに区画され、複数の発光画素の各々は、画素電極と、共通電極と、画素電極と共通電極との間に配置された電気光学層と、画素電極と電気光学層とが接触する領域を区画する絶縁層と、を有する発光素子を備え、隔壁によって少なくとも一部が規定された凹部は、第１の方向と交差する第２の方向の長さが、第１の方向の長さよりも長く形成されてなり、第２の方向において、凹部の端部から、最寄りの画素電極の開口部までの間隙が、画素電極の開口部の長さの１／２以上確保されてなり、電気光学層を形成する工程は、電気光学層を構成する溶質を溶解または分散した溶液を凹部に液滴吐出法によって塗布する工程と、溶質を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００１５】
（実施形態１）
「電気光学装置の概要」
図１は、本実施形態に係る電気光学装置の平面図である。図２は、露光ヘッドの概要を示す斜視図である。
まず、本発明の実施形態１に係る電気光学装置としての発光装置１００の概要について説明する。なお、図１１で説明した従来の発光装置５００と同一の部位については、同一の番号を附して説明する。
発光装置１００は、電子写真方式プリンタの露光ヘッドの光源として用いられる発光装置であり、図２に示すように、円柱状の感光ドラム７１におけるＸ軸方向（円柱の高さ方向）の側面に沿って配置された露光ヘッド２００に搭載される。
発光装置１００は、ボトムエミション型の発光装置であり、複数の発光画素Ｐａから図１における紙面の奥行き方向（Ｚ軸（＋）方向）に光を出射する。詳しくは、発光画素Ｐａにおいて画素電極１０のハッチングで示された円形の領域と平面的に重なる位置から光を出射する。
図２の露光ヘッド２００は、発光装置１００、レンズアレイ１８０などから構成されており、発光装置１００から出射される光の焦点をレンズアレイ１８０によって感光ドラム７１の感光体からなる表面（感光面）に合せ、感光面をライン状に照射する。
【００１６】
ここで、感光ドラム７１は、回転軸７９を中心にして矢印方向に回転するため、発光装置１００は、当該回転に同期して、画像信号に応じた輝度で各発光画素を点灯させることにより、感光ドラム７１の感光面を順次露光する。
また、以降の説明において、発光装置１００から捕らえて、感光ドラム７１の回転方向に相当するＹ軸方向のことを「副走査方向」とも表現する。また、副走査方向と交差する方向（Ｘ軸方向）のことを「主走査方向」ともいう。なお、このような露光ヘッド２００や感光ドラム７１を備えた電子機器としてのプリンタの詳細については後述する。
【００１７】
図１に戻る。
発光装置１００は、細長い長方形をなしており、その長手方向（Ｘ軸方向）沿って複数の発光画素Ｐａが配列されている。なお、Ｘ軸方向が第１の方向に相当し、Ｙ軸方向（短手方向）が第２の方向に相当している。また、複数の発光画素Ｐａからなる発光画素行のＸ軸方向における前後には、ダミー画素Ｐｄが１つずつ形成されている。なお、ダミー画素Ｐｄの数は、前後にそれぞれ１つ以上形成されていれば良い。また、Ｙ軸方向に細長いトラック形状をなした発光画素Ｐａの中央には、ハッチングで示すように、画素電極１０が配置されている。
なお、図１は、発光装置１００を光の出射面の反対側から見た平面図であるため、本来、画素電極１０は観察されないが、説明を容易にするために、図１では、透過図として画素電極１０の発光領域と平面的に重なる部分、換言すると画素電極１０と有機ＥＬ層１５とが接触する領域（以後、画素電極の開口部ともいう）を図示している。
図１において、発光画素Ｐａおよびダミー画素Ｐｄの形状は、略同一半径の２つの半円間を直線で結んだ形状、換言すれば、Ｙ軸方向に細長いトラック形状に示されている。この形状は、各画素を区画する隔壁の輪郭（平面形状）を示しており、発光画素Ｐａから出射される光は、画素電極１０の開口部と平面的に重なる領域から出射されることになる。
また、発光画素Ｐａおよびダミー画素Ｐｄは、Ｘ軸方向に等間隔に配置されている。詳しくは、画素ピッチｍで配列されている。画素ピッチｍは、例えば、約０．０４２ｍｍに設定されている。
【００１８】
「画素回路」
図３は、画素回路、および駆動回路を示す回路図である。
ここでは、発光装置１００の画素回路、および駆動回路の概要について説明する。
図１の発光画素Ｐａの各々には、図３の画素回路４が形成されている。
画素回路４は、画素を選択するためのスイッチング素子ＴＲ１と、有機ＥＬ層１５に電流を流すための駆動用のスイッチング素子ＴＲ２と、保持容量Ｃなどから構成されている。また、スイッチング素子ＴＲ１、および駆動用のスイッチング素子ＴＲ２は、ＴＦＴとして構成されている。
スイッチング素子ＴＲ１のゲート端子には、走査線駆動回路１７からの走査線ＳＬが接続されており、ソース端子には、データ線駆動回路１８からのデータ線ＤＬが接続されている。スイッチング素子ＴＲ１のドレイン端子には、駆動用のスイッチング素子ＴＲ２のゲート端子と、保持容量Ｃの一端が接続されている。
駆動用のスイッチング素子ＴＲ２のソース端子と、保持容量Ｃの他端とは、高電源電位が供給されているＶＤＤラインに接続されている。そして、駆動用のスイッチング素子ＴＲ２のドレイン端子は、画素電極１０に接続されている。
また、画素電極１０と、共通電極２３との間には、有機ＥＬ層１５が配置されている。また、共通電極２３は、陰極線（グラウンドレベル）に接続されている。
【００１９】
走査線駆動回路１７、およびデータ線駆動回路１８には、外部機器（図示せず）から画像信号に基づいたタイミング信号、および画像内容を規定したデータ信号が供給される。
走査線駆動回路１７は、シフトレジスタや出力バッファ（いずれも図示せず）を含んで構成され、外部機器からのタイミング信号に基づき、走査線ＳＬに走査信号を供給する。なお、タイミング信号は、感光ドラム７１の回転と同期している。
また、ここでは、画素行が１行の構成となっているが、Ｙ軸方向に複数の画素行が並んで形成される構成であっても良く、この場合は、複数の走査線ＳＬに順次走査信号が供給されることになる。
データ線駆動回路１８は、シフトレジスタやラッチ回路（いずれも図示せず）を含んで構成され、外部機器からのタイミング信号、およびデータ信号に基づき、複数のデータ線ＤＬに画像信号に規定された輝度に応じたデータ信号を供給する。
【００２０】
このような画素回路４において、走査信号によってスイッチング素子ＴＲ１が選択されると、当該ＴＦＴはオンし、データ信号が駆動用のスイッチング素子ＴＲ２に供給される。これにより、駆動用のスイッチング素子ＴＲ２がオンし、ＶＤＤラインから有機ＥＬ層１５にデータ信号の電圧に応じた電流が流れ、発光層から光が放射される。
また、駆動用のスイッチング素子ＴＲ２がオンするのと並行して、保持容量Ｃにデータ信号が保持されるため、保持容量Ｃの容量に応じた時間、発光が維持される。
なお、上述の画素回路は、有機ＥＬ層１５を発光させるための最も基本的な回路構成の一例であり、この回路構成に限定するものではなく、有機ＥＬ層１５を効率的に発光させることが可能な回路構成であれば、適宜、変更を加えた回路構成を用いることであっても良い。
【００２１】
「発光装置の構成」
図４（ａ）は図１のｓ−ｓ断面を示す断面図であり、（ｂ）は図１のｕ−ｕ断面を示す断面図である。
ここでは、発光装置１００のより詳細な構成について説明する。
発光装置１００は、基板１、素子層６、絶縁層７、画素電極１０、隔壁２０、有機ＥＬ層１５、共通電極２３などから構成されている。
本実施形態では、断面方向において発光装置１００の光の出射側を下側、その反対側を上側として説明する。
基板１は、ガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）などの透明な材質から構成されている。
素子層６には、図３で説明した画素回路４が形成されており、ゲート絶縁膜２、絶縁層３、配線層５などを含んで構成されている。詳しくは、基板１上に、非晶質シリコンや、多結晶シリコンなどからなる半導体層が形成され、その上に、ゲート絶縁膜２、および絶縁層３が積層されている。また、絶縁層３の上層には、走査線ＳＬおよびデータ線ＤＬなどの各種配線が形成された配線層５が形成されている。
また、図４（ａ）に示すように、スイッチング素子ＴＲ１や、駆動用のスイッチング素子ＴＲ２は、隔壁２０に重なるように配置されており、素子層６において画素電極１０の開口部と重なる部分は、透明に形成されている。
【００２２】
絶縁層７は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物などの透明な絶縁材料から構成されている。なお、前述のゲート絶縁膜２や、絶縁層３も同様な材質から構成されており、絶縁層３のことを「第１層間絶縁膜」、絶縁層７のことを「第２層間絶縁膜」ともいう。
絶縁層７の上には、画素電極１０が形成されている。画素電極１０と駆動用のスイッチング素子ＴＲ２のドレイン端子との間には、絶縁層３，７を貫通するコンタクトホールを介して、当該間を電気的に接続するための配線が形成されている。
画素電極１０は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）や、ＺｎＯなどの透明電極から構成された透明電極である。
また、画素電極１０の開口部を除く上層には、例えば、ＳｉＯ2からなる絶縁層８が形成されており、有機ＥＬ層１５に電位を印加可能な有効画素領域を規定している。換言すれば、絶縁層８は、画素電極１０と有機ＥＬ層１５とが接触する領域（画素電極の開口部）を区画している。
また、画素電極１０の開口部は、図１に示すように略円形となっており、寸法は、直径Ｆに設定されている。直径Ｆは、例えば、約２５μｍに設定されている。なお、開口部の形状は、円形に限定するものではなく、例えば、正方形や、長方形であっても良い。
【００２３】
隔壁２０は、黒色の樹脂などの絶縁材料からなる断面が台形状のバンクであり、各画素を区画している。材料としては、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素系樹脂などを用いることができ、光硬化性であることが好ましい。
隔壁２０は、１μｍ程度の高さ（厚さ）に形成され、その表面は液状体に対する撥液性を有している。なお、撥液性は、隔壁２０の材質自体が撥液性を有していることであっても良いし、後加工によって、撥液性を付与することであっても良い。また、隔壁２０は、光学的には、ブラックマトリックスの機能を有している。
発光画素Ｐａの平面形状は、図１で説明した通り、隔壁２０によって、Ｙ軸方向に長く、Ｘ軸方向に短いトラック形状に区画されている。
【００２４】
ここで、平面的に隔壁２０に囲まれた（規定された）凹形状の部分を凹部Ｃｏと定義している。凹部Ｃｏとは、図４（ａ）断面において、画素電極１０が形成された面を底面として、両端の隔壁２０の傾斜面を側面とし、両端の隔壁２０の天面を結ぶ線分によって囲まれた台形部を指している。また、凹部Ｃｏのサイズは、当該台形の底面におけるＸ軸、およびＹ軸方向の寸法を用いて表す。また凹部Ｃｏの端部とは、凹部Ｃｏの底面の端部を指すものとする。
凹部Ｃｏの長手方向（Ｙ軸方向）の長さＬａは、画素電極１０の開口部の直径Ｆよりも長く設定されている。詳しくは、長さＬａは、直径Ｆの約４倍の長さに設定されている。なお、長さＬａは、画素電極１０の開口部の端部から最寄りの凹部Ｃｏの端部までの間隙Ｇ２が、直径Ｆの半分（Ｗ／２）以上確保される長さであれば良い。ちなみに、図４（ａ）の場合、間隙Ｇ２は直径Ｆの１．５倍の長さ確保されている。
つまり、長さＬａは、直径Ｆの４倍に限定するものではなく、２倍以上（間隙Ｇ２がＷ／２以上）の長さであれば良く、好適には、７倍以上（間隙Ｇ２がＷの３倍以上）であることが好ましい。
【００２５】
また、図４（ｂ）に示すように、凹部Ｃｏの短手方向（Ｘ軸方向）の幅Ｌｂも、画素電極１０の開口部の直径Ｆよりも長く設定されている。詳しくは、幅Ｌｂは、直径Ｆの約２倍の長さに設定されている。
なお、幅Ｌｂは、画素電極１０の開口部の端部から最寄りの凹部Ｃｏの端部までの間隙Ｇ３が、直径Ｆの半分（Ｗ／２）以上確保される長さ、つまり、直径Ｆの２倍以上であることが好ましいが、１．５倍以上の長さであれば良い。
また、ここまでの説明では、画素電極１０の開口部の位置が、発光画素Ｐａの略中央部に配置されているものとして説明したが、これに限定するものではない。間隙Ｇ２および間隙Ｇ３が上述したいずれかの寸法を満たしていれば、画素電極１０の開口部の位置が発光画素Ｐａ内において平面的に偏心していても良い。
【００２６】
有機ＥＬ層１５は、正孔注入層や、発光層などを含む複数層から形成された有機ＥＬ発光層である。なお、有機ＥＬ層１５の形成方法については、後述する。
共通電極２３は、Ｍｇ−Ａｇ合金（例えば重量比１０：１）などの導電性および反射性を兼ね備えた仕事関数の低い材料から構成された反射層、兼電極であり、有機ＥＬ層１５および隔壁２０を覆って形成されている。
また、共通電極２３の上層を熱硬化型のエポキシ樹脂で充填し、封止しても良い。有機ＥＬ層１５は、水分を嫌うため、封止することによって、信頼性を向上させることができる。また、エポキシ樹脂を接着剤として、ガラスや金属などからなる封止基板をさらに備える構成であっても良い。この構成によれば、より防湿性を高めることができる。
このような構成の発光装置１００において、有機ＥＬ層１５に駆動電流が流れると、有機ＥＬ層１５は発光し、光を放射する。有機ＥＬ層１５から放射される光のうち、画素電極１０側に進む光は、画素電極１０を透過して、図４（ａ）の白矢印で示されるように、基板１からＺ軸（＋）方向に出射される。また、共通電極２３側に進む光は、共通電極２３で反射され、有機ＥＬ層１５を介して、画素電極１０を透過し、白矢印で示される光に合成されて、基板１からＺ軸（＋）方向に出射される。
【００２７】
「有機ＥＬ層の形成方法」
図５（ａ）は液状体の塗布工程の一態様を示す断面図であり、（ｂ）は乾燥工程後の有機ＥＬ層を示す断面図である。図５（ａ），（ｂ）ともに、図４（ａ）に対応している。
ここでは、有機ＥＬ層の形成方法について説明する。
有機ＥＬ層１５は、正孔注入層１１、中間層１２、発光層１３を含む複数の有機膜層からなり、画素電極１０側からこの順に積層されている。
これらの有機膜層は液滴吐出法（インクジェット法）を用いて成膜されており、この成膜工程は、「塗布工程」と「乾燥工程」とに大別される。
【００２８】
まず、「塗布工程」では、発光画素Ｐａおよびダミー画素Ｐｄに対して液状体が塗布される。詳しくは、図１の左端のダミー画素Ｐｄから、発光画素行の各発光画素Ｐａ、そして右端のダミー画素Ｐｄまで、順番に液状体が塗布される。また、液状体の吐出量は、液滴吐出装置によって、全ての発光画素Ｐａにおいて、略一定になるように制御されている。
図５（ａ）は、正孔注入層１１を形成するための液状体ｄを１つの発光画素Ｐａの凹部Ｃｏに塗布した状態を示している。
液滴吐出装置（図示せず）の吐出ヘッド３００から吐出された液状体ｄの液滴は、凹部Ｃｏに着弾し、図５（ａ）に示すように、凹部Ｃｏにおいて凸状に充填（塗布）される。なお、液状体ｄが凸状となるのは、隔壁２０が液状体に対して撥液性を有しているためであり、液状体ｄは、その表面張力によって水滴状の膨らみを持って凹部Ｃｏに満たされることになる。
このようにして、発光装置１００の発光画素Ｐａおよびダミー画素Ｐｄに液状体が塗布されると「乾燥工程」が行われる。なお、液状体の塗布は、インクジェット法に限定するものではなく、凹部Ｃｏに液状体を塗布可能な方法であれば良い。例えば、ジェットディスペンサ法や、ニードルディスペンサ法などのディスペンサ法、またはスピンコート法を用いることもできる。
【００２９】
「乾燥工程」では、塗布された液状体の溶媒成分を除去し、乾燥した有機膜層を形成する。詳しくは、液状体が塗布された状態の発光装置１００を加熱し、溶媒成分を蒸発させることにより液状体を乾燥させて、有機膜層を形成する。
加熱方法は、各画素を均一に加熱可能な加熱方法であれば良く、発光装置１００をホットプレート上に載せて加熱する方法や、発光装置１００の上方から赤外線ランプを照射する方法などを採用することができる。また、これらの方法を組み合せても良い。または、減圧環境や、真空環境において乾燥を行っても良い。このような方法によれば、より効率的に乾燥を行うことができる。
【００３０】
このようにして、図５（ｂ）に示すような正孔注入層１１が成膜される。
続いて、成膜された正孔注入層１１の上層に、中間層１２の液状体を用いて、同様に「塗布工程」および「乾燥工程」を行い、中間層１２を成膜する。
最後に、成膜された中間層１２の上層に、発光層１３の液状体を用いて、同様に「塗布工程」および「乾燥工程」を行い、発光層１３を成膜する。
この状態が、図５（ｂ）に示されており、正孔注入層１１、中間層１２、発光層１３の３層構造からなる有機ＥＬ層１５が形成されている。なお、中間層１２は、正孔注入層１１と発光層１３との間に設けられ、発光層１３に対する正孔の輸送性（注入性）を向上させると共に、発光層から正孔注入層に電子が浸入することを抑制するために設けられている。つまり、発光層１３における正孔と電子との結合による発光の効率を改善するものである。また、これらの積層構造に限定するものではなく、正孔注入層１１と発光層１３との２層構造であっても良い。あるいは、正孔注入層１１と、発光層１３と、ＬｉＦ（フッ化リチウム）などからなる電子注入層との３層構造であっても良い。
【００３１】
上述した「塗布工程」で用いられる液状体は、溶剤などの溶媒に、それぞれの有機膜層の材料（溶質）を溶解または分散した溶液であり、以下に、好適な各有機膜層の材料を挙げる。
正孔注入層１１の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を加えた混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）や、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。
中間層１２の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なトリフェニルアミン系ポリマーを含んだものが挙げられる。
【００３２】
発光層１３の材料としては、蛍光または燐光を発光する発光材料を用いることが好ましい。例えば、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）等のポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン（ＰＭＰＳ）等を用いることができる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクドリン等低分子材料をドープしてもよい。
また、本実施形態では、好適な事例として、上記材料の中から発光波長帯域が赤色に対応した材料を用いて発光層１３を構成している。つまり、各発光画素Ｐａからは、赤色光が出射される構成となっている。また、赤色に限定されず、単色であれば良く、例えば、青色や、緑色に対応した材料を用いることもできる。
特に、赤色に対応した材料を用いた場合には、他の色調に比べて発光寿命が長いことが知られている。
また、発光層１３が赤色に対応している場合、図２の感光ドラム７１の表面（感光面）には、赤色の波長領域を感知する感光体が塗布、または貼り付けられている。
【００３３】
「有機ＥＬ層の層厚分布」
図６（ａ），（ｂ）は発光画素における有機ＥＬ層の層厚を示すグラフであり、図１２に対応している。
ここでは、上記成膜工程によって形成された有機ＥＬ層１５の層厚分布について説明する。
図６（ａ）のグラフｊは、図４（ａ）（図５（ｂ））における有機ＥＬ層１５の層厚分布を示しており、横軸は凹部Ｃｏの長さＬａを示し、縦軸は有機ＥＬ層１５の層厚ｔを示している。
グラフｊにおいて、長さＬａの両端外側における層厚ｔの立上がりは、隔壁２０の形状を示している。また、隔壁２０の内側における凸形状は、乾燥工程において形成されたコーヒーリングｕを示している。
【００３４】
コーヒーリングｕは、いわゆるコーヒーの染み現象に起因したものであり、液状体の乾燥にともない、凹部Ｃｏの周縁部（隔壁２０の内周縁）に析出物が厚く堆積されて形成されたものである。
なお、コーヒーの染み現象とは、液体乾燥時の溶質の自発的な輸送現象である。詳しくは、液滴の乾燥にともない、液体の中心から外側に向かう微小な対流が生じ、溶質が外側に向かって移動し、周縁部に厚く堆積される現象を指す。
また、乾燥工程における乾燥が、発光装置１００全体においては基板１（図１）の外周に近い部分から始まり、また、発光画素Ｐａにおいては画素の周縁部から始まることも、上記対流を助長させているものと考察される。
ここで、図６（ａ）に示すように、画素電極１０の開口部を示す直径Ｆは、両端のコーヒーリングｕ間における平坦で一定の層厚となっている領域に位置している。つまり、発光画素Ｐａの長手方向（Ｙ軸方向）において、画素電極１０に重なる有機ＥＬ層１５の厚さは略平坦となっている。
【００３５】
図６（ｂ）のグラフｋは、図４（ｂ）における有機ＥＬ層１５の層厚分布を示しており、横軸は凹部Ｃｏの幅Ｌｂを示し、縦軸は有機ＥＬ層１５の層厚ｔを示している。
グラフｋにおいて、幅Ｌｂの両端外側における層厚ｔの立上がりは、隔壁２０の形状を示している。また、隔壁２０の内側における凸形状は、乾燥工程において形成されたコーヒーリングｕを示している。
ここで、図６（ｂ）に示すように、画素電極１０の開口部を示す直径Ｆは、両端のコーヒーリングｕ間における平坦で略一定の層厚となっている領域に位置している。つまり、発光画素Ｐａの短手方向（Ｘ軸方向）において、画素電極１０に重なる有機ＥＬ層１５の厚さは略平坦となっている。
【００３６】
上述した通り、本実施形態に係る発光装置１００によれば、以下の効果を得ることができる。
発光装置１００によれば、発光画素Ｐａの長手方向（Ｙ軸方向）において、画素電極１０の開口部の端部から最寄りの凹部Ｃｏの端部までの間隙Ｇ２が、直径Ｆの１／２以上の長さ確保されているため、開口部へのコーヒーリングｕの重なりを低減することができる。
特に、間隙Ｇ２を直径Ｆ以上の長さ確保した場合、コーヒーリングｕの重なりを略回避することが可能となり、間隙Ｇ２を直径Ｆの１．５倍以上の長さ確保した場合には、図６（ａ）で説明した通り、平坦で一定の層厚の有機ＥＬ層１５領域に開口部を形成することができる。
よって、出射光の輝度や、色調を決定付ける画素電極１０の開口部と重なる部分の有機ＥＬ層１５の層厚を均一化することができる。
従って、有機ＥＬ層１５の層厚を均一にすることが可能な発光装置１００を提供することができる。さらに、層厚の均一化により、輝度ムラや、発光色ムラを低減することもできる。
【００３７】
さらに、発光画素Ｐａの短手方向（Ｘ軸方向）においても、画素電極１０の開口部の端部から最寄りの凹部Ｃｏの端部までの間隙Ｇ３が、直径Ｆの１／２以上の長さ確保されているため、開口部へのコーヒーリングｕの重なりを低減することができる。
また、間隙Ｇ３の長さを、図１１（ｂ）の従来の電気光学装置における間隙Ｇ１の長さよりも長く確保しているため、発光装置１００によれば、従来の電気光学装置よりも、有機ＥＬ層１５の層厚を均一にすることができる。
【００３８】
Ｘ軸方向においては、複数の発光画素Ｐａからなる発光画素行の前後に、ダミー画素Ｐｄが１つずつ形成されている。また、Ｙ軸方向においては、当該方向を長手方向としたトラック状の発光画素Ｐａの中央部に画素電極１０の開口部が形成されている。
これらの構成によれば、乾燥工程において、複数の発光画素Ｐａにおける液状体の溶媒分子分圧が均一化されるため、乾燥速度が均一化され、発光画素Ｐａ間における有機ＥＬ層１５の層厚を均一にすることができる。詳しくは、Ｘ軸方向においては、発光画素行の周囲がダミー画素Ｐｄで囲まれており、Ｙ軸方向においては、画素電極１０の開口部がトラック状の発光画素Ｐａの間隙部（図４（ａ）の間隙Ｇ２部）に囲まれているため、各開口部における液状体の溶媒分子分圧が均一化される。
【００３９】
（実施形態２）
図７は、実施形態２に係る発光装置の平面図であり、図１に対応している。
以下、本発明の実施形態２に係る電気光学装置としての発光装置１１０について説明する。
本実施形態における発光装置１１０は、副走査方向（Ｙ軸方向）に画素行を２段（行）備えていることが、実施形態１の発光装置１００と異なる。
ここでは、実施形態１における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附している。
【００４０】
発光装置１１０は、図７に示すように、Ｙ軸方向の上段（Ｙ軸（＋）側）に、実施形態１の発光装置１００と同様の画素行（第１画素行）を備えている。詳しくは、発光画素行および発光画素行の前後に配置されたダミー画素Ｐｄを含む第１画素行を備えている。
また、第１画素行の各画素は、基準線１１１を起点として、発光装置１００と同じ画素ピッチｍでＸ軸方向に配列している。なお、画素ピッチｍは、例えば、約０．０４２ｍｍに設定されている。なお、基準線１１１は、図７において、第１画素行において最も左側（Ｘ軸（−）側）に位置し、発光画素行の始点となる発光画素Ｐａの中心を通り、Ｙ軸と平行な線分である。
【００４１】
また、第１画素行の下段（Ｙ軸（−）側）にも、同様の画素行（第２画素行）が配置されている。
第２画素行は、基準線１１１から画素ピッチｍの約半分（ｍ／２）、Ｘ軸（＋）方向にシフトした基準線１１２を起点として、画素ピッチｍでＸ軸方向に配列している。換言すれば、主走査方向における第１画素行の発光画素と、第２画素行の発光画素との位置は、画素ピッチｍの約半分、主走査方向にシフトして配置されている。
また、発光装置１１０では、画素行を２段備えているため、それに伴い、基板１のサイズが大きくなっている。
また、図３の画素回路においては、第１画素行と同じ画素回路が、第２画素行にも形成されている。発光装置１１０を点灯駆動する場合には、走査線駆動回路１７によって、第１画素行、第２画素行の順番に走査信号が供給され、感光ドラム７１の回転に同期して、交互に点灯駆動される。
【００４２】
上述した通り、本実施形態に係る発光装置１１０によれば、実施形態１の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
図２で説明した通り、発光装置１１０は、感光ドラム７１の回転に同期して、点灯駆動されるため、感光ドラム７１の水平方向（Ｘ軸方向）における１つの感光行に対して、第１画素行により光を照射した後、感光ドラム７１を１画素行分回転させて、第２画素行による照射を行えば、１つの感光行に対して２倍の解像度による露光を行うことができる。
例えば、画素ピッチｍが、約０．０４２ｍｍである場合には、１つの画素行における水平解像度は、約６００ｄｐｉであるが、主走査方向に画素ピッチが半分シフトしてレイアウトされた第１画素行と第２画素行とで、時系列に照射することにより、約１２００ｄｐｉの水平解像度による露光を行うことができる。
従って、高解像度の発光装置１１０を提供することができる。
【００４３】
（実施形態３）
図８は、実施形態３に係る発光装置の平面図であり、図１に対応している。
以下、本発明の実施形態３に係る電気光学装置としての発光装置１２０について説明する。
本実施形態における発光装置１２０は、各画素の長手方向がＹ軸に対して傾斜していることが、実施形態１の発光装置１００と異なる。
ここでは、上記各実施形態における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附している。
【００４４】
図８に示すように、発光装置１２０の発光画素Ｐａおよびダミー画素Ｐｄは、その長手方向がＹ軸に対して傾斜して配置されている。詳しくは、発光画素Ｐａは、Ｙ軸に対して平行な基準線１１１に対して、その長手方向が角度θ傾いた状態で配置されている。なお、発光画素Ｐａの長手方向とは、トラック形状における両端部の２つの半円の中心を結ぶ線分のことであり、当該線分が基準線１１１に対して角度θ傾いている。
また、他の発光画素Ｐａ、およびダミー画素Ｐｄも同じ傾きを持って配置されている。この点以外の構成は、実施形態１の発光装置１００と同様である。
また、基板１のサイズは、幅（Ｙ軸方向の長さ）については、実施形態１の発光装置１００と同じであり、画素行は、寸法Ｌａの中に納まっている。また、長さ（Ｘ軸方向の長さ）については、画素行が傾いた分、発光装置１００よりも長くなっている。
【００４５】
ここで、角度θを３０°とした場合について説明する。
前述したように、Ｙ軸方向における発光画素Ｐａの寸法は、寸法Ｌａとなっているが、その長手方向の長さＬｃは、寸法Ｌａよりも長くなっている。詳しくは、発光画素Ｐａが３０°の角度で傾斜しているため、長さＬｃは、三角関数から、寸法Ｌａの約１．１５倍の長さとなっている。
なお、角度θは、３０°に限定するものではなく、基準線１１１に対して傾斜していれば良い。例えば、実施形態２のように、画素行を複数段形成する場合には、１０〜４５°度の範囲内であれば、レイアウト（設計）し易くなる。
【００４６】
上述した通り、本実施形態に係る発光装置１２０によれば、実施形態１の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
発光画素Ｐａを斜めに配置することによって、副走査方向の寸法Ｌａに対して、相対的に長手方向の長さＬｃを長くすることができるため、その分、画素電極１０の開口部にコーヒーリングｕが重なることを低減することができる。
換言すれば、副走査方向の寸法Ｌａを短く構成した場合でも、発光画素Ｐａを斜めに配置することによって、画素電極１０の開口部へのコーヒーリングｕの影響を抑制することができる。
従って、コンパクトな発光装置１２０を提供することができる。
【００４７】
（実施形態４）
図９は、実施形態４に係る発光装置の平面図であり、図１に対応している。
以下、本発明の実施形態４に係る電気光学装置としての発光装置１３０について説明する。
本実施形態における発光装置１３０は、１つの発光画素内に複数の画素電極１０が形成されていることが、実施形態１の発光装置１００と異なる。
ここでは、上記各実施形態における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附している。
【００４８】
図９に示すように、発光装置１３０の発光画素Ｐａには、Ｙ軸方向に並んだ２つの画素電極１０が形成されている。詳しくは、１つの発光画素Ｐａ内に、副走査方向に隣り合う２つの画素電極１０が形成されている。
上段（Ｙ軸（＋）側）における複数の画素電極１０からなる電極行を第１電極行とし、下段の（Ｙ軸（−）側）の同様な電極行を第２電極行としたときに、Ｙ軸方向における２つの電極行の座標は同じに設定されている。また、Ｘ軸方向の画素ピッチは、実施形態１の発光装置１００と同様である。
つまり、副走査方向において、同一の電極行とみなすことが可能な２段の画素電極行が形成されている。
【００４９】
ここで、第１電極行における画素電極１０の開口部の端部から発光画素Ｐａ（凹部Ｃｏ）の端部までの間隙Ｇ２は、実施形態１の発光装置１００と同様に設定されている。また、第２電極行における画素電極１０の開口部の端部から発光画素Ｐａの端部までの間隙Ｇ２も、同様である。
また、第１電極行と第２電極行との間隔は、双方の画素電極１０同士が干渉しないような間隔となっていれば良い。換言すれば、第１電極行の画素電極１０と、第２電極行の画素電極１０とが独立して点灯可能に配置されていれば良い。
また、１つの発光画素Ｐａ内に形成される画素電極１０は２つに限定するものではなく、両端の画素電極１０からの間隙Ｇ２が確保されていれば、数量はいくつであっても良い。
【００５０】
上述した通り、本実施形態に係る発光装置１３０によれば、実施形態１の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
発光装置１３０には、副走査方向において、同一の電極行とみなすことが可能な２段の画素電極行が形成されているため、例えば、第１電極行に発光しない欠陥画素があった場合でも、第２電極行によって露光を行うことができる。
また、有機ＥＬには発光寿命があるため、第１電極行の寿命が尽きた場合、第２電極行を用いて露光を行うことができる。
つまり、スペアの電極行を備えた使い勝手の良い発光装置１３０を提供することができる。
【００５１】
（電子機器）
図１０は、上述の発光装置を露光ヘッドの光源として備えた電子機器としてのプリンタを示す模式断面図である。
以下、電子写真方式のプリンタ３００の構成について、図１０を中心に、適宜、図２を交えながら説明する。
プリンタ３００は、上述の発光装置１００〜１３０のいずれかを光源とした４つの露光ヘッド２００Ｋ，２００Ｃ，２００Ｍ，２００Ｙと、これらの露光ヘッドに対応する４個の感光ドラム（像担持体）７１Ｋ，７１Ｃ，７１Ｍ，７１Ｙとを備えた、タンデム型の電子写真方式プリンタである。
なお、以降の説明において、発光装置１００〜１３０を総称する場合には、発光装置１００と表現する。また、４つの露光ヘッドを総称する場合、または、代表として説明する場合には、露光ヘッド２００という表現を用いることがある。感光ドラム７１という表現も、同様の意味で用いる場合がある。
【００５２】
図２に示すように、露光ヘッド２００は、円柱状の感光ドラム７１と平行に、これと対向した状態で用いられる。換言すれば、感光ドラム７１の回転軸７９と平行に、かつ、露光ヘッド２００から出射される光が、回転軸７９を照射するように配置されている。
光学部材としてのレンズアレイ１８０は、セルフォック（登録商標）レンズであり、発光装置１００から入射する光を、感光ドラム７１の表面で集光し、露光（描画）する。
【００５３】
図１０に戻る。
プリンタ３００は、駆動ローラ９１と従動ローラ９２とテンションローラ９３とを備え、これらの各ローラに中間転写ベルト９０を、矢印方向（反時計方向）に循環駆動するよう張架したものである。
この中間転写ベルト９０に対して、感光ドラム７１Ｋ，７１Ｃ，７１Ｍ，７１Ｙが所定間隔で配置されている。これら感光ドラム７１Ｋ，７１Ｃ，７１Ｍ，７１Ｙは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。
なお、上記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。
また、これら符号（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の意味は、他の部材についても同様である。感光ドラム７１は、中間転写ベルト９０の駆動と同期して、それぞれが矢印方向（時計方向）に回転駆動するようになっている。
【００５４】
感光ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光ドラム７１の外周面を一様に帯電させる帯電手段（コロナ帯電器）７２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この帯電手段７２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）によって一様に帯電させられた外周面を感光ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同期して順次ライン走査する露光ヘッド２００（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
また、露光ヘッド２００（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で形成された静電潜像に現像剤としてのトナーを付与して可視像（トナー像）とする現像装置７４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、現像装置７４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー像を一次転写対象としての中間転写ベルト９０に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ７５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
また、転写された後に感光ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置７６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）がそれぞれ設けられている。
【００５５】
また、露光ヘッド２００（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の主発光波長と、感光ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。
現像装置７４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いている。そして、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触させるか、または押圧せしめることにより、感光ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像する。
【００５６】
このような４色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ７５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト９０上に順次一次転写される。
そして、中間転写ベルト９０上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ６６において「紙」等の記録媒体Ｒに二次転写され、更に、定着部である定着ローラ対６１を通ることで記録媒体Ｒ上に定着される。その後、記録媒体Ｒは、排紙ローラ対６２によって装置上部に形成された排紙トレイ６８上に排出される。
【００５７】
また、給紙カセット６３は、複数枚の記録媒体Ｒを保持するための着脱自在に設けられた用紙ホルダであり、ピックアップローラ６４は給紙カセット６３から記録媒体Ｒを一枚ずつ給送するためのローラ部材である。
ゲートローラ対６５は、二次転写部としての二次転写ローラ６６への記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するためのローラ部材である。
また、クリーニングブレード６７は、二次転写後に中間転写ベルト９０の表面に残留しているトナーを除去するためのクリーニング部材である。
【００５８】
上述したように、プリンタ３００は、露光ヘッド２００の光源として、輝度ムラや、発光色ムラが低減された発光装置１００を備えている。
従って、プリンタ３００によれば、均一な露光による高品位な画像を得ることができる。
【００５９】
また、電子機器としてはプリンタに限定するものではなく、各種照明装置や、表示装置などにも適用することができる。
また、表示装置に適用する場合には、発光装置１００の画素行を複数段形成してマトリックス状の表示エリアを構成するとともに、画素行における発光色を赤、緑、青の繰り返しパターンとする。これにより、フルカラーの有機ＥＬパネルを構成することができる。
この有機ＥＬパネルは、例えば、携帯電話、カーナビゲーションシステム用の表示装置や、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）、モバイルコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。
これらの電子機器によれば、輝度ムラや、発光色ムラが低減された高品位の表示を得ることができる。
【００６０】
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。
【００６１】
（変形例１）
図１３は、変形例１に係る発光装置の断面図であり、図４（ａ）に対応している。
実施形態１の発光装置１００では、ボトムエミション型を採用していたが、トップエミッション型であっても良い。
図１３は、発光装置１００をトップエミション型で構成する場合における図１のｓ−ｓ断面を示している。なお、この場合、図１は基板１側からの透過平面図となる。
なお、実施形態１における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附して説明する。
【００６２】
トップエミション型の発光装置は、基板１、反射層３０、素子層６、絶縁層７、画素電極１０、隔壁２０、有機ＥＬ層１５、共通電極３３、封止層３５などから構成されている。この構成は、発光装置の厚さ方向（Ｚ軸方向）の構成が、図４（ａ）のボトムエミッション型の構成と、略反転しており、トップエミション型の場合、白抜きの矢印で示すように、発光画素Ｐａの凹部Ｃｏ側から光を出射する。
トップエミッション型において固有な構成部位は、反射層３０、共通電極３３、および封止層３５であり、他の構成部位は、実施形態１での説明と略同様である。
反射層３０は、ＡｌやＡｇ、またはそれらの合金などから構成された全反射膜である。また、凹部Ｃｏ側から光を出射する構成であるため、基板１も透明である必要はなく、金属を用いても良い。
共通電極３３は、ＭｇＡｇなどの金属を、光が透過できる程度にごく薄く成膜した金属薄膜層から構成されており、ハーフミラーとしての光学作用を有している。
封止層３５は、ＳｉＯ2や、Ｓｉ3Ｎ4などの透明で、かつ、水分を遮断する機能を有する封止層であり、有機ＥＬ層１５に水分が浸入することを防止するガスバリア層である。
【００６３】
このような構成において、有機ＥＬ層１５から放射される光のうち、共通電極３３側に進む光は、その大半が共通電極３３を透過して、白矢印で示されるように、封止層３５からＺ軸（＋）方向に出射される。また、画素電極１０側に進む光は、反射層３０で反射され、有機ＥＬ層１５を介して、白矢印で示される光に合成されて、封止層３５からＺ軸（＋）方向に出射される。また、共通電極３３で反射された光も、反射層３０との間で反射を繰り返し、その多くが、封止層３５から出射されることになる。
また、その他の長さＬａ、間隙Ｇ２などの寸法関係は、Ｚ軸方向が反転していることを除いて、実施形態１での説明と同じである。
上述した通り、本変形例に係るトップエミション型の発光装置であっても、実施形態１の発光装置１００と同様の作用効果を得ることができる。また、他の各実施形態の構成も適用が可能であり、同様の作用効果を得ることができる。
【００６４】
（変形例２）
図１を用いて説明する。
図１の発光装置１００において、各発光画素Ｐａにさらに光センサを設けた構成であっても良い。詳しくは、発光画素Ｐａの画素電極１０の隣（例えば、間隙Ｇ２部）に、フォトダイオードを形成する。なお、光センサは、フォトダイオードに限定するものではなく、例えば、フォトトランジスタや、ＣｄＳ（硫化カドミウム）セルを用いた光センサであっても良い。
これらの構成によれば、当該画素が出射した光の反射光を検知することできるため、例えば、スキャナーのスキャンヘッド（発光兼、受光装置）に発光装置１００を適用することができる。
【００６５】
（変形例３）
図７を用いて説明する。
図７の発光装置１１０では、画素行は第１画素行と第２画素行との２行構成であるものとして説明したが、第１画素行と第２画素行との２行からなる構成を１つの発光ユニットとして、この発光ユニットを複数段、副走査方向に配列する構成であっても良い。発光ユニット数は、例えば、３〜５ユニットとすることが好ましい。
前述した通り、主走査方向に画素ピッチが半分シフトしてレイアウトされた第１画素行と第２画素行とによる構成によって、水平解像度を倍にすることができるため、上記構成によれば、高解像度の発光ユニットが、副走査方向に複数段、配列されることになる。
よって、変形例３に係る発光装置によれば、副走査方向において、同一の画素ピッチの発光ユニットが複数段形成されているため、例えば、第１発光ユニットに発光しない欠陥画素があった場合でも、第２発光ユニット、または第３発光ユニットによって露光を行うことができる。
また、有機ＥＬには発光寿命があるため、第１発光ユニットの寿命が尽きた場合、第２発光ユニット、または第３発光ユニットを用いて露光を行うことができる。
従って、使い勝手が良く、長寿命の発光装置を提供することができる。また、複数の発光ユニットのうち、最低１つのユニットに画素欠陥がなければ、発光装置として使用することが可能であるため、製造歩留りを高めることができる。換言すれば、製造歩留りが高いことから、製造コストを抑制することができる。
【００６６】
また、ここまでは、副走査方向に沿って長手方向を配置した図７の画素レイアウトを前提として説明したが、各画素行は図８のように、副走査方向と長手方向とが傾きを持って配置された構成であっても良い。
また、一つの発光画素Ｐａ内に配置される画素電極数も、１つに限定するものではなく、図９で説明したように、複数個配置されていても良い。
このように、上記各実施形態および変形例を組み合せた構成であっても、各実施形態および変形例と同様の作用効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】実施形態１に係る電気光学装置の平面図。
【図２】露光ヘッドの概要を示す斜視図。
【図３】画素回路、および駆動回路を示す回路図。
【図４】（ａ）図１のｓ−ｓ断面を示す断面図、（ｂ）ｕ−ｕ断面を示す断面図。
【図５】（ａ）液状体の塗布工程の一態様を示す断面図、（ｂ）乾燥工程後の有機ＥＬ層を示す断面図。
【図６】（ａ）図１のｓ−ｓ断面における有機ＥＬ層の層厚を示すグラフ、（ｂ）ｕ−ｕ断面における有機ＥＬ層の層厚を示すグラフ図。
【図７】実施形態２に係る発光装置の平面図。
【図８】実施形態３に係る発光装置の平面図。
【図９】実施形態４に係る発光装置の平面図。
【図１０】電子機器としてのプリンタを示す模式断面図。
【図１１】（ａ）従来の発光装置の平面図、（ｂ）断面図。
【図１２】従来の発光画素における有機ＥＬ層の層厚を示すグラフ図。
【図１３】変形例１に係る発光装置の断面図。
【符号の説明】
【００６８】
１…基板、１０…画素電極（開口部）、１５…有機ＥＬ層、２０…隔壁、１００〜１３０…電気光学装置としての発光装置、１８０…光学部材としてのレンズアレイ、２００…露光ヘッド、３００…電子機器としてのプリンタ、Ｃｏ…凹部、Ｐａ…発光画素、Ｐｄ…ダミー画素。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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