(57)【要約】【課題】本発明は、マスクパターンを保護した状態でフォトマスクからペリクルを外した後に残ったグルーを取り除くことができるペリクル・グルーの除去装置及びその方法を提供することを目的とするものである。【解決手段】本発明は、フォトマスクのペリクル跡に残るグルーの内側にマスクパターンを覆うように被せるカバーと、前記カバー内に流体を送る手段と、前記グルーに洗浄液をかける手段とからなり、流体圧により前記カバー内に洗浄液が浸入しないことを特徴とするペリクル・グルーの除去装置の構成とした。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスクのペリクル跡に残るグルーの内側にマスクパターンを覆うように被せるカバーと、前記カバー内に流体を送る手段と、前記グルーに洗浄液をかける手段とからなり、流体圧により前記カバー内に洗浄液が浸入しないことを特徴とするペリクル・グルーの除去装置。
【請求項２】
カバーを二重にし、その間隙に洗浄液を流してグルーに導くことを特徴とする請求項１に記載のペリクル・グルーの除去装置。
【請求項３】
洗浄液をかけながらグルーを擦り落とすためのブラシを備えることを特徴とする請求項１に記載のペリクル・グルーの除去装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載のペリクル・グルーの除去装置を使用して、フォトマスクのペリクル跡に残るグルーを除去する際に、流体圧により洗浄液からマスクパターンを保護することを特徴とするペリクル・グルーの除去方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスクからペリクルを外した後に残ったグルーを取り除くためのペリクル・グルーの除去装置及びその方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトマスクは、電子部品の内部回路を光学的な転写によって作製するための原板であり、石英ガラス等の透明な基板上にクロム等で回路パターンを描画する。半導体素子の製造工程において、フォトレジストを塗布したウエハを露光する場合などに用いる。
【０００３】
ペリクルは、フォトマスクに貼り付ける防塵用のカバーであり、マスクパターンを囲むフレームの表面に保護膜を張り、粘着質のグルーでフォトマスクに貼り付けることで、マスクパターン上に異物が付着するのを防止する。
【０００４】
フォトマスクを使用する際にペリクルは取り去るが、グルーの一部はフォトマスク上に付着したまま残ってしまうので、フォトマスクを再利用する場合には洗浄して完全に除去しておく必要がある。
【０００５】
特許文献１に記載されているように、粘着材残留痕の残ったフォトマスクを洗浄液に浸漬して、粘着材残留痕を除去するフォトマスクの洗浄方法およびそれに用いられる洗浄液の発明も公開されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載の発明は、粘着材残留痕の残ったフォトマスクを洗浄液に浸漬するため、粘着材残留痕を除去するだけでなく、マスクパターンが洗浄液によりダメージを受ける可能性がある。
【０００７】
そこで、本発明は、マスクパターンを保護した状態でフォトマスクからペリクルを外した後に残ったグルーを取り除くことができるペリクル・グルーの除去装置及びその方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明は、フォトマスクのペリクル跡に残るグルーの内側にマスクパターンを覆うように被せるカバーと、前記カバー内に流体を送る手段と、前記グルーに洗浄液をかける手段とからなり、流体圧により前記カバー内に洗浄液が浸入しないことを特徴とするペリクル・グルーの除去装置の構成とした。
【発明の効果】
【０００９】
本発明は、マスクパターン上にカバーを被せて流体を送り続け、流体圧により洗浄液の浸入を防ぐことで、マスクパターンにダメージを与えることなく、フォトマスク上に残ったグルーを取り除くことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の洗浄対象となるフォトマスクを示す図である。
【図２】本発明の洗浄対象となるフォトマスクからペリクルを剥がした状態を示す図である。
【図３】本発明の実施例１に係るペリクル・グルーの除去装置の斜視図である。
【図４】本発明の実施例１に係るペリクル・グルーの除去装置でグルーを除去する状況を示す図である。
【図５】本発明の実施例１に係るペリクル・グルーの除去装置の断面図である。
【図６】本発明の実施例２に係るペリクル・グルーの除去装置の斜視図である。
【図７】本発明の実施例２に係るペリクル・グルーの除去装置の断面図である。
【図８】本発明の実施例３に係るペリクル・グルーの除去装置の平面図である。
【図９】本発明の実施例３に係るペリクル・グルーの除去装置の正面図である。
【図１０】本発明の実施例３に係るペリクル・グルーの除去装置の側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明において、実施例１に係るペリクル・グルーの除去装置は、フォトマスクのペリクル跡に残るグルーの内側にマスクパターンを覆うように被せるカバーと、前記カバー内に流体を送る手段と、前記グルーに洗浄液をかける手段とからなり、流体圧により前記カバー内に洗浄液が浸入しないことを特徴とする。
【００１２】
また、実施例２に係るペリクル・グルーの除去装置は、実施例１に係るペリクル・グルーの除去装置におけるカバーを二重にし、その間隙に洗浄液を流してグルーに導くことを特徴とする。
【００１３】
また、実施例３に係るペリクル・グルーの除去装置は、実施例１に係るペリクル・グルーの除去装置が、洗浄液をかけながらグルーを擦り落とすためのブラシを備えることを特徴とする。
【００１４】
また、ペリクル・グルーの除去方法は、実施例１〜３のいずれかに係るペリクル・グルーの除去装置を使用して、フォトマスクのペリクル跡に残るグルーを除去する際に、流体圧により洗浄液からマスクパターンを保護することを特徴とする。
【実施例１】
【００１５】
図１は、本発明の洗浄対象となるフォトマスクを示す図である。図２は、本発明の洗浄対象となるフォトマスクからペリクルを剥がした状態を示す図である。
【００１６】
フォトマスク２のマスクパターン２ａが作製された面には、マスクパターン２ａを保護するためのペリクル３が取り付けられる。ペリクル３はフレーム３ａに保護膜３ｂを張ったもので、グルー４でフォトマスク２に接着する。
【００１７】
フォトマスク２からペリクル３を剥がすと、マスクパターン２ａの周り及びフレーム３ａの接着箇所にはグルー４が残るので、フォトマスク２上のグルー４は洗浄液５等を用いて除去する。
【００１８】
グルー４は、熱可塑性の粘着材であり、熱を加えると柔らかくなる。フォトマスク２を温め、ペリクル３を冷やすことで、ペリクル３側に残るグルー４を多くし、フォトマスク２側に残るグルー４を少なくすることができる。
【００１９】
図３は、本発明の実施例１に係るペリクル・グルーの除去装置の斜視図である。図４は、本発明の実施例１に係るペリクル・グルーの除去装置でグルーを除去する状況を示す図である。図５は、本発明の実施例１に係るペリクル・グルーの除去装置の断面図である。
【００２０】
ペリクル３を外したフォトマスク２は、マスクパターン２ａが作製されており且つグルー４が付着した面を上に向け、四隅を保持具９で固定する等して水平に保持した状態で、ペリクル・グルーの除去装置１を設置する。
【００２１】
ペリクル・グルーの除去装置１は、カバー６とチューブ８等からなり、カバー６にはカバー６内に流体７ａを送る手段として流体注入口７を設け、チューブ８にはグルー４に洗浄液５をかける手段として複数の噴出口８ａを設ける。
【００２２】
カバー６は、樹脂等を下面が空いた箱型に成形したもので、フォトマスク２のペリクル３跡に残るグルー４の内側にマスクパターン２ａを覆うように被せる。上面に空けた流体注入口７に流体７ａを供給する管を取り付け、カバー６内に注入することができる。
【００２３】
尚、カバー６の下面の縁は、四方いずれもマスクパターン２ａとグルー４の間となるように維持する。また、カバー６は、フォトマスク２に載せるだけで密着している必要はなく、僅かな隙間であれば存在しても構わない。
【００２４】
チューブ８は、洗浄液５が流れる管であり、カバー６の側面に水平に取り付ける。下向きに洗浄液５を出すための噴出口８ａを複数空け、一端には洗浄液５を供給する管を接続し、他端には余分な洗浄液５を排出する管を接続する。
【００２５】
尚、図３及び図４はカバー６の側面のうち１つだけにチューブ８を設置しているが、グルー４はカバー６の外側を囲むように付着しているので、各側面にチューブ８を設置しても良いし、側面を一周するように配置しても良い。
【００２６】
流体注入口７から流体７ａを注入しカバー６内に充填させた状態で、チューブ８に洗浄液５を流して噴出口８ａからフォトマスク２上のグルー４に噴き付ける。剥離したグルー４は洗浄液５と共にフォトマスク２の外へ流す。
【００２７】
流体７ａの注入を続けると、カバー６内の流体７ａが縁の隙間から外へ漏れるので、流体圧により洗浄液５を押し流す。流体７ａにはグルー４にかけた洗浄液５がカバー６内に浸み入るのを抑えるのに必要な圧力を掛けておく。
【００２８】
流体７ａは、フォトマスク２のマスクパターン２ａに接するので、マスクパターン２ａに被害を与えるものでなければ良く、窒素やクリーンエア等の気体の他に、純水等の液体を用いることもできる。
【００２９】
洗浄液５には、硫酸系の液体などを使用するが、グルー４の成分によってはキシレンやトルエン等が有効な場合もある。即ち、グルー４を出来るだけ綺麗に除去することができるものを使用する。
【００３０】
洗浄液５がマスクパターン２ａに接触する可能性がないことから、マスクパターン２ａに被害を与えるか否かに関わらず、グルー４を効果的に除去できる洗浄液５を使用することができる。
【実施例２】
【００３１】
図６は、本発明の実施例２に係るペリクル・グルーの除去装置の斜視図である。図７は、本発明の実施例２に係るペリクル・グルーの除去装置の断面図である。
【００３２】
ペリクル・グルーの除去装置１ａは、カバー６とカバー１０等からなり、カバー６にはカバー６内に流体７ａを送る手段として流体注入口７を設け、カバー１０にはグルー４に洗浄液５をかける手段として液体注入口１０ａ及び液体排出口１０ｂを設ける。
【００３３】
カバー１０は、カバー６を一回り大きくした形状であり、カバー６の上に被せたときに、カバー６とカバー１０の間に間隙を確保する。尚、カバー６の流体注入口７を外に出すために上面中央を空けるので、上面端から側面にかけての間隙となる。
【００３４】
カバー１０の上面には間隙に洗浄液５を送るための液体注入口１０ａを空け、洗浄液５を供給する管を接続する。尚、液体注入口１０ａは複数でも良い。また、カバー１０の下面の縁はカバー６の縁よりも高くし、間隙の出口として液体排出口１０ｂを空ける。
【００３５】
カバー６の縁がグルー４の内側に載置されることから、間隙を流れる洗浄液５はグルー４にかかり、剥離したグルー４と共に液体排出口１０ｂからフォトマスク２の外へ流れ出ていく。
【００３６】
カバー６とカバー１０の二重構造とすることで、その間隙に洗浄液５の流路を形成することができ、チューブ８等を配設しなくても、同じ素材の成形により、洗浄液５をグルー４の位置に導くことが可能となる。
【実施例３】
【００３７】
図８は、本発明の実施例３に係るペリクル・グルーの除去装置の平面図である。図９は、本発明の実施例３に係るペリクル・グルーの除去装置の正面図である。図１０は、本発明の実施例３に係るペリクル・グルーの除去装置の側面図である。
【００３８】
ペリクル・グルーの除去装置１ｂは、洗浄液５をかけながらブラシ１４又はブラシ１４ａで擦り落とす手段を備える。尚、ブラシ１４及びブラシ１４ａはアクチュエータ等の駆動装置を用いてグルー４に沿って移動させる。
【００３９】
まず、グルー４にかけた洗浄液５はフォトマスク２の外へ流れ落ちるので、使用済みの洗浄液５を一時的に溜めておく容器１７を用意し、溜まった洗浄液５を排出するためのドレーン１７ｂも付ける。
【００４０】
容器１７内にフォトマスク２を置くためのステージ１７ａを設置し、保持具９を用いてステージ１７ａから浮かせた状態で、マスクパターン２ａを上に向けてフォトマスク２を水平に載置する。
【００４１】
フォトマスク２に被せるカバー６は、昇降用シャフト１６ａを介して支持台１６から吊し、昇降用シャフト１６ａにより垂直に上下移動させることが可能な状態で、フォトマスク２の上方に保持する。
【００４２】
カバー６の上面中央から上方に昇降用シャフト１６ａを延ばしているので、流体注入口７はカバー６の上面四隅に空け、各流体注入口７にカバー６内に流体７ａを供給する管を接続する。
【００４３】
容器１７の外側には、容器１７の側壁に沿ってレール１２、レール１２ａ、レール１２ｂ及びレール１２ｃを敷き、レール１２には移送台１１、レール１２ａには移送台１１ａ、レール１２ｂには移送台１１ｂ、レール１２ｃには移送台１１ｃを設置する。
【００４４】
即ち、移送台１１はレール１２上をスライド移動することができ、移送台１１ａはレール１２ａ上をスライド移動することができ、移送台１１ｂはレール１２ｂ上をスライド移動することができ、移送台１１ｃはレール１２ｃ上をスライド移動することができる。
【００４５】
移送台１１及び移送台１１ｂからは上下方向に移動可能なスライドアーム１３が中央に向かって水平に延び、移送台１１ａ及び移送台１１ｃからは上下方向に移動可能なスライドアーム１３ａが中央に向かって水平に延びる。
【００４６】
スライドアーム１３の先端にはブラシ１４とその両脇にノズル１５が設けられ、両側のノズル１５から中央のブラシ１４に向けて洗浄液５が噴射される。尚、ブラシ１４はグルー４を洗浄できるサイズである。
【００４７】
スライドアーム１３ａの先端にはブラシ１４とブラシ１４ａが併設され、ブラシ１４の両脇及びブラシ１４ａの両脇にノズル１５が設けられる。尚、ブラシ１４ａはグルー４を含めフォトマスク２の端付近を洗浄できる大きめのサイズである。
【００４８】
尚、ブラシ１４の上部にはモータが備えられ、ブラシ１４を電動で回転させることができる。同様に、ブラシ１４ａの上部にはモータが備えられ、ブラシ１４ａを電動で回転させることができる。また、各ノズル１５には洗浄液５を供給するための管が接続される。
【００４９】
洗浄を開始する際は、昇降用シャフト１６ａによりカバー６を降下させ、マスクパターン２ａを覆うようにフォトマスク２に被せ、流体注入口７から流体７ａを供給してカバー６内に充填させる。
【００５０】
スライドアーム１３又はスライドアーム１３ａでブラシ１４又はブラシ１４ａの高さを調整し、移送台１１〜１１ｃをレール１２〜１２ｃに沿って水平移動させることでグルー４を洗浄することができる。
【００５１】
移送台１１〜１１ｃにより四方のグルー４を除去することができるが、スライドアーム１３とスライドアーム１３ａは交差する場合があるので、移送台１１及び１１ｂと移送台１１ａ及び１１ｃとは高さを変えて潜れるようにすることが望ましい。
【００５２】
また、洗浄液５をかけながらブラシ１４、１４ａで擦り落とす手段に代えて、レーザーを照射してグルー４を剥離したり、洗浄液５で溶解したグルー４を布で拭き取ったり、水圧でグルー４を削ぎ落としたりする手段を採用することも可能である。
【００５３】
尚、使用するレーザーとしては、ＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）固体レーザー、ＣＯ２（二酸化炭素）ガスレーザー、ＫｒＦ（フッ化クリプトン）ガスレーザー、ＡｒＦ（フッ化アルゴン）ガスレーザー、半導体レーザーなどがある。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
実施例１〜３のいずれかに係るペリクル・グルーの除去装置を使用した方法は、フォトマスクのペリクル跡に残るグルーを除去する際に、流体圧により洗浄液からマスクパターンを保護することができる。
【符号の説明】
【００５５】
１        ペリクル・グルーの除去装置
１ａ      ペリクル・グルーの除去装置
１ｂ      ペリクル・グルーの除去装置
２        フォトマスク
２ａ      マスクパターン
３        ペリクル
３ａ      フレーム
３ｂ      保護膜
４        グルー
５        洗浄液
６        カバー
７        流体注入口
７ａ      流体
８        チューブ
８ａ      噴出口
９        保持具
１０        カバー
１０ａ      液体注入口
１０ｂ      液体排出口
１１        移送台
１１ａ      移送台
１１ｂ      移送台
１１ｃ      移送台
１２        レール
１２ａ      レール
１２ｂ      レール
１２ｃ      レール
１３        スライドアーム
１３ａ      スライドアーム
１４        ブラシ
１４ａ      ブラシ
１５        ノズル
１６        支持台
１６ａ      昇降用シャフト
１７        容器
１７ａ      ステージ
１７ｂ      ドレーン
【先行技術文献】
【特許文献】
【００５６】
【特許文献１】特開２００２−１３１８９０号公報
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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