(57)【要約】【課題】  前面基板の電極がクロム、銅、クロム電極の場合、従来からガラス基板に直接電極が形成されているためクロムの鏡面反射が非常に大きくなり、明室コントラストを劣化させる原因となっている。【解決手段】  表示面側のガラス基板に酸化クロム、クロム、銅、クロムの順で積層膜を形成させる際に、酸化クロム膜を酸素分圧２０％以上の雰囲気で、反応性スパッタリングにより成膜する。更に、脱酸素雰囲気で基板加熱温度を２５０℃以上とし、この状態を２０分以上継続させるようにする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示面側のガラス基板に酸化クロム、クロム、銅、クロムの順で積層膜を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記酸化クロム膜が、酸素分圧２０％以上の雰囲気で、反応性スパッタリングにより成膜されることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記ガラス基板上に前記酸化クロム膜を成膜した後、脱酸素雰囲気で基板を加熱処理し、その後にクロム、銅、クロムの順で積層させることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記脱酸素雰囲気が窒素雰囲気であることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記脱酸素雰囲気での基板加熱温度を２５０℃以上としたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記基板加熱温度を２５０℃以上とした状態を２０分以上継続させたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造法に関し、パネルの外光反射を抑制し、かつ環境負荷の小さいプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
まず、一般的なプラズマディスプレイパネル(以下、ＰＤＰと称す)の構造について説明する。図１はＰＤＰのパネル構造を示す要部拡大分解斜視図である。
【０００３】
図１において、ＰＤＰ１は前面基板構造体２と背面基板構造体３とを有している。前面基板構造体２はＰＤＰ１の表示面（前面２ａ）側に配置され、前面基板（第１ガラス基板）５の背面（内面）側にはＰＤＰ１の表示電極であるＸ電極（表示維持電極）６と、Ｙ電極（表示走査電極）７とがそれぞれ複数形成されている。表示電極対は透明電極とバス電極等で構成され、透明電極はＩＴＯ、バス電極は銀やクロム、銅、クロム積層膜などが用いられる。これらの電極群（Ｘ電極６、Ｙ電極７）は、順に積層される誘電体層８および保護膜９で被覆されている。Ｘ電極６およびＹ電極７は、ＰＤＰ１の画像表示領域においては、全面にわたって誘電体層８に被覆され、端部は、誘電体層８から露出している。
【０００４】
背面基板構造体３はＰＤＰ１の背面（背面３ｂ）側に配置され、背面基板（第２ガラス基板）１０の表面（内面）側にはＰＤＰ１のアドレス電極１１が複数形成され、誘電体層１３、隔壁１４、蛍光体層１５（赤１５ｒ、緑１５ｇ、青１５ｂ）が形成されており、表示電極とアドレス電極が交差するように対向して重ね合わされ、その間に放電空間４を有している。つまり、前面基板構造体２と背面基板構造体３とは放電空間４を介して対向配置されている。そして、Ｘ電極６、Ｙ電極７とアドレス電極１１とが交差する部分に放電セル１２が形成されている。
【０００５】
ＰＤＰパネルは白い蛍光体粉末の発光を利用して表示するため、パネル自身の外光反射があり、コントラストや画質が低下しやすい。この外光反射を抑制するための方法として、下記特許文献１に開示されているような黒色遮光膜等が使用されている。また、表示電極は、銀やクロム、銅、クロムのようなメタル電極が一般的であり、表示面からパネルを観察した際に、銀やクロム等による外光反射が生じ、この表示電極による外光反射も抑制する必要がある。例えば、銀電極の下層に黒色顔料層を設けることで外光反射を抑制することができる。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１６２９５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
コスト低減や性能向上のために透明電極であるＩＴＯ電極の無いパネルが開発されているが、前面基板の電極がクロム、銅、クロム電極の場合、ガラス基板に直接電極が形成されているとクロムによる外光反射が非常に大きくなり、明室コントラストの劣化の原因となっている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するために本発明は、表示面側のガラス基板に酸化クロム、クロム、銅、クロムの順で積層膜を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記酸化クロム膜が、酸素分圧２０％以上の雰囲気で、反応性スパッタリングにより成膜する。
【０００９】
更に、脱酸素雰囲気で基板加熱温度を２５０℃以上とし、この状態を２０分以上継続させるようにして製造する。
【発明の効果】
【００１０】
パネルの外光反射を低減させると共に、環境汚染として問題となる六価クロムの発生を抑えたプラズマディスプレイパネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を適用可能な実施の形態を図面を用いて説明する。以下の説明では、本発明の実施形態を説明するものであり、本発明が以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１２】
電極からの反射を低減する酸化クロム、クロム積層膜の反射率は、酸化クロムの反応性スパッタリングの放電ガスの酸素分圧によって変化する。そこで、酸素分圧を変えて酸化クロム膜（膜厚５００Å）を形成し、その上にクロム積層膜５００Å以上形成したときの波長５５０ｎｍの光の反射率を測定した。酸素分圧０、２０、３０、４０、６０％の酸化クロム、クロム積層膜の反射率は、それぞれ、４９．３、２１．４、１５．６、１５．７、７．１％であった。従って、反射率低減のために、少なくとも酸素分圧２０％以上が必要である。
【００１３】
上記のように、酸素分圧を高くすると反射率は低下する傾向にあるが、酸素分圧２０％以上では、酸化クロム膜中に六価クロムが生成される。酸化クロム膜を脱酸素雰囲気で加熱すると六価クロムが減少することを見出し、以下に示す測定により脱酸素雰囲気加熱温度と酸化クロム膜中六価クロム濃度との関係を明らかにした。
【００１４】
すなわち、酸素分圧を２０％に設定し、ガラス基板上に反応性スパッタリングにより成膜した酸化クロム膜（膜厚５００Å）を熱処理温度と雰囲気を変えて２０分間加熱した後に、六価クロム濃度を測定した。
【００１５】
加熱処理無し、窒素雰囲気１５０℃熱処理、窒素雰囲気２００℃熱処理、窒素雰囲気２５０℃熱処理のサンプルでの酸化クロム膜中の六価クロム濃度はそれぞれ、７０２９ｐｐｍ、２３２３ｐｐｍ、１０４３ｐｐｍ、７７３ｐｐｍであった。窒素雰囲気で熱処理すると膜中六価クロム濃度が減少し、温度が高くなるほど膜中六価クロム濃度が減少することが明らかとなった。窒素雰囲気加熱処理なしの膜中六価クロム濃度が７０２９ｐｐｍに対し、２５０℃窒素雰囲気加熱処理では膜中六価クロム濃度が７７３ｐｐｍとなり、約１／１０の値となった。少量の水素ガスを添加した窒素ガス中での熱処理や窒素雰囲気２５０℃以上で２０分間以上とすることにより、更に膜中六価クロム濃度が減少した。
【００１６】
逆に、大気中（酸化雰囲気）で２５０℃加熱を行った場合、酸化クロム膜中の六価クロム濃度は１２２８５ｐｐｍとなり、加熱処理なしのサンプル７０２９ｐｐｍを大きく上回る結果となった。以上より、脱酸素雰囲気での加熱では酸化クロム膜中の六価クロム濃度が減少し、酸化雰囲気中での過熱では酸化クロム膜中の六価クロム濃度が増加することが分かった。
【００１７】
そこで、本発明では図２に示すプロセスフローにより、図３に示すＰＤＰを製造した。ここで、図３は図１での矢印Ａの方向からの基板断面図を示す。まず、前面基板５を洗浄(工程１)した後、前面基板５にクロムターゲットを用い、酸素２０％、アルゴン８０％の放電ガスで反応性スパッタリングを行い、酸化クロム膜３０を約５００Å成膜する(工程２)。酸化クロム膜３０を基盤上に成膜後、２５０℃窒素雰囲気で２０分間熱処理する(工程３)。その後、酸化クロム膜３０の上にクロム膜３１を５００Å、銅膜３２を３μm、クロム膜３１を１０００Å順次スパッタリングにより成膜し(工程４)、フォトエッチングにより図３のような積層膜によるバス電極を形成する(工程５)。その他の工程は従来と同じように誘電体層８、保護層９などを形成する（工程６、工程７）。そして、従来と同様の工程８から工程１３によりアドレス電極１１、誘電体層１３、隔壁１４、蛍光体層１５などを形成した背面基板とを組み合わせて、封止、排気、ガス封入を順次行いＰＤＰパネルを製造する。
【００１８】
本発明によれば、バス電極表面の反射率が１／２以下となり、明るい環境でのコントラストや表示品質が向上した。また、酸化クロム膜中の六価クロム濃度は、２５０℃窒素雰囲気で加熱処理することにより加熱処理なし基板に比べ約１／１０の値となり、環境基準以下となった。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】ＰＤＰのパネル構造を示す要部拡大分解斜視図である。
【図２】本発明の一実施の形態であるプロセスフロー図である。
【図３】本発明によるＰＤＰの前面基板の断面図である。
【符号の説明】
【００２０】
１  ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）
５  前面基板（第１ガラス基板）
６  Ｘ電極（表示維持電極）
７  Ｙ電極（表示走査電極）
８  誘電体層Ａ
９  保護層
３０  酸化クロム層
３１  クロム層
３２  銅層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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