(57)【要約】【課題】最表面層におけるシワ・ムラが抑制されると共に、該最表面層の機械的強度が高く、長期に亘る繰り返し使用による電気特性及び画像特性の劣化が抑制され、安定した画像が得られる電子写真感光体を提供すること。【解決手段】導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を少なくとも有し、最表面層が、下記一般式（Ｉ）で示される化合物の少なくとも１種と、電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物の少なくとも１種と、を含む組成物の硬化物からなる層である電子写真感光体〔一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送性を有するｎ価の有機基を、Ｒは水素原子又はアルキル基を、Ｌは２価の有機基を、ｎは１以上の整数を、ｊは０又は１を示す。〕。2010231077.tif 000043【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を少なくとも有し、
最表面層が、下記一般式（Ｉ）で示される化合物の少なくとも１種と、電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物の少なくとも１種と、を含む組成物の硬化物からなる層であることを特徴とする電子写真感光体。
【化１】
2010231077.tif 000041
〔一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送性を有するｎ価の有機基を示し、Ｒは水素原子又はアルキル基を示し、Ｌは２価の有機基を示し、ｎは１以上の整数を示し、ｊは０又は１を示す。〕
【請求項２】
前記電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物が、下記一般式（Ａ）で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【化２】
2010231077.tif 000042
〔一般式（Ａ）中、Ａｒ１１及びＡｒ１２はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ｘ１は芳香族環構造を有する２価の炭化水素基又は芳香族環構造を有する２価のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。Ｘ２及びＸ３はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリーレン基を示す。Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に枝分かれ若しくは環構造を含んでもよい２価の炭化水素基又は枝分かれ若しくは環構造を含んでもよい２価のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。ｍ１及びｍ３はそれぞれ独立に０又は１を示し、ｍ２は１以上の数を示す。Ｒ’は、１価の炭化水素基又は１価のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。〕
【請求項３】
前記一般式（１）中のＲがメチル基であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電手段、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像する現像手段、及び、前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するトナー除去手段からなる群より選ばれる少なくとも一種の手段と、を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、を備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置は、一般的には、次の如き構成及びプロセスを有するものである。
即ち、電子写真感光体表面を帯電手段で所定の極性及び電位に帯電させ、帯電後の電子写真感光体表面を、像露光により選択的に除電することにより静電潜像を形成させた後、現像手段で該静電潜像にトナーを付着させることにより、潜像をトナー像として現像し、トナー像を転写手段で被転写媒体に転写させることにより、画像形成物として排出させるといったものである。
【０００３】
近年、電子写真感光体は、高速かつ高印字品質が得られるという利点を有することから、複写機及びレーザービームプリンター等の分野においての利用が多くなってきている。
これら画像形成装置において用いられる電子写真感光体としては、従来からのセレン、セレンーテルル合金、セレンーヒ素合金、硫化カドミウム等無機光導電材料を用いた電子写真感光体（無機感光体）が知られており、近年では、安価で製造性及び廃棄性の点で優れた利点を有する有機光導電材料を用いた電子写真感光体（有機感光体）が主流を占めるようになってきている。
【０００４】
一方、帯電方式としては、従来はコロナ放電器を使用したコロナ帯電方式が用いられてきた。また、近年は、低オゾン及び低電力などの利点を有する接触帯電方式が実用化され、盛んに用いられるようになってきている。この接触帯電方式は、帯電用部材として導電性部材を感光体表面に接触、又は近接させ、該帯電部材に電圧を印加することにより、感光体表面を帯電させるものである。また、帯電部材に印加する方式としては、直流電圧のみを印加する直流方式と、直流電圧に交流電圧を重畳して印加する交流重畳方式とがある。この接触帯電方式では、装置の小型化が図れ、かつ、オゾンなどのガスの発生が少ないという利点を有している。
更に、転写方式としては、直接紙に転写する方式が主流であったが、転写される紙の自由度が広がることから、近年では中間転写体を用いて転写する方式が盛んに用いられている。
【０００５】
上述のような流れから、接触帯電方式の使用による感光体の劣化・磨耗、また、接触帯電方式や中間転写体の使用による感光体の傷・突き刺さりの発生が問題となってきており、これらを抑制するために、電子写真感光体の表面に保護層を設けて強度を向上させることが提案されている。
保護層を形成する材料系としては、以下のものが提案されている
即ち、例えば、特許文献１には導電粉をフェノール樹脂に分散したものが提案されている。特許文献２には、有機―無機ハイブリッド材料によるものが提案されている。特許文献３には、連鎖重合性材料によるものが提案されている。特許文献４には、アクリル系材料によるものが提案されている。
また、特許文献５には、放射線架橋剤と電荷輸送物質からなり、放射線架橋されたものが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第３２８７６７８号公報
【特許文献２】特開平１２−０１９７４９号公報
【特許文献３】特開２００５−２３４５４６号公報
【特許文献４】特開２０００−６６４２４号公報
【特許文献５】特開２００４−２４００７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、最表面層の機械的強度が高く、濃度ムラ及びゴーストを長期に亘り抑制しうる電子写真感光体を提供することである。
また、本発明の他の課題は、上記電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジ、及び画像形成装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を少なくとも有し、最表面層が、下記一般式（Ｉ）で示される化合物の少なくとも１種と、電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物の少なくとも１種と、を含む組成物の硬化物からなる層であることを特徴とする電子写真感光体である。
【０００９】
【化１】
2010231077.tif 000002
【００１０】
上記一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送性を有するｎ価の有機基を示し、Ｒは水素原子又はアルキル基を示し、Ｌは２価の有機基を示し、ｎは１以上の整数を示し、ｊは０又は１を示す。
【００１１】
請求項２に係る発明は、前記電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物が、下記一般式（Ａ）で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体である。
【００１２】
【化２】
2010231077.tif 000003
【００１３】
上記一般式（Ａ）中、Ａｒ１１及びＡｒ１２はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ｘ１は芳香族環構造を有する２価の炭化水素基又は芳香族環構造を有する２価のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。Ｘ２及びＸ３はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリーレン基を示す。Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に枝分かれ若しくは環構造を含んでもよい２価の炭化水素基又は枝分かれ若しくは環構造を含んでもよい２価のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。ｍ１及びｍ３はそれぞれ独立に０又は１を示し、ｍ２は１以上の数を示す。Ｒ’は、１価の炭化水素基又は１価のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。
【００１４】
請求項３に係る発明は、一般式（１）中のＲがメチル基であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体である。
【００１５】
請求項４に係る発明は、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電手段、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像する現像手段、及び、前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するトナー除去手段からなる群より選ばれる少なくとも一種の手段と、を備えることを特徴とするプロセスカートリッジである。
【００１６】
請求項５に係る発明は、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、を備えることを特徴とする画像形成装置である。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１に係る発明によれば、電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物を用いない場合に比べて、最表面層の機械的強度が高く、濃度ムラ及びゴーストを長期に亘り抑制しうる電子写真感光体が提供される。
【００１８】
請求項２に係る発明によれば、一般式（Ａ）で表される構造を有していない場合に比べて、最表面層の機械的強度が高く、より効果的に、濃度ムラ及びゴーストを長期に亘り抑制しうる電子写真感光体が提供される。
【００１９】
請求項３に係る発明によれば、一般式（Ａ）中のＲがメチル基である構成を有していない場合に比べて、最表面層の機械的強度が高く、より効果的に、濃度ムラ及びゴーストを長期に亘り抑制しうる電子写真感光体が提供される。
【００２０】
請求項４に係る発明によれば、本構成を有さない場合に比べて、長期に亘り安定した画像が得られるプロセスカートリッジが提供される。
【００２１】
請求項５に係る発明によれば、本構成を有さない場合に比べて、長期に亘り安定した画像が得られる画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図２】実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図３】実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図４】実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図５】他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図６】（Ａ）乃至（Ｃ）はそれぞれゴースト評価の基準を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
〔電子写真感光体〕
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を少なくとも有し、最表面層が、後述する一般式（Ｉ）で示される化合物の少なくとも１種と、電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物の少なくとも１種と、を含む組成物の硬化物からなる層であることを特徴とする電子写真感光体である。
【００２４】
本実施形態に係る電子写真感光体では、上記構成とすることで、最表面層の機械的強度が高く、濃度ムラ及びゴーストを長期に亘り抑制しうるため、長期に亘り安定した画像が得られる。
この理由は定かではないが、以下のように推測される。
即ち、感光体の最表面層を、（メタ）アクリロイル基を有する電荷輸送材料を硬化させてなる硬化物から形成する場合、感光層のダメージを低減させるため、熱などの低いエネルギーで当該電荷輸送材料を硬化させることが好ましい。しかしながら、このような低いエネルギーで硬化させてなる硬化物であっても、電荷トラップが形成されてしまい、濃度ムラや、ゴーストと呼ばれる画像欠陥が発生してしまうことがある。
本実施形態においては、（メタ）アクリロイル基を有する電荷輸送材料である一般式（Ｉ）で示される化合物と、重合開始剤として機能する電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物と、を組み合わせた組成物を用いている。このように両者が電荷輸送能を有する化合物であると共に、同様の性能を有することに起因して相溶性にも優れることから、硬化物においては、電荷輸送能が局所的に低下してしまう領域が形成され難いと考えられる。そのため、硬化物に電化トラップが形成されることが抑制されて、結果として、このような硬化物を最表面層とすることで、濃度ムラ及びゴーストを長期に亘り抑制しうる感光体が得られるものと考えられる。
【００２５】
本実施形態に係る電子写真感光体では、前述の通り、一般式（Ｉ）で表される化合物と電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物とを含む組成物の硬化物からなる最表面層を有するものであるが、当該最表面層は電子写真感光体自体の最上面を形成しているものが望ましく、特に保護層として機能する層、又は、電荷輸送層として機能する層として設けられることが望ましい。
【００２６】
最表面層が保護層として機能する層の場合、導電性基体上に、感光層、及び最表面層として保護層を有し、該保護層が一般式（Ｉ）で表される化合物と電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物とを含む組成物の硬化物で構成される形態が挙げられる。
一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層として電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が一般式（Ｉ）で表される化合物と電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物とを含む組成物の硬化物で構成される形態が挙げられる。
【００２７】
以下、最表面層が保護層として機能する層の場合の、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
図１は、実施形態に係る電子写真用感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図２乃至図３はそれぞれ他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。
【００２８】
図１に示す電子写真感光体７Ａは、いわゆる機能分離型感光体（又は積層型感光体）であり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、電荷輸送層３、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ａにおいては、電荷発生層２及び電荷輸送層３により感光層が構成されている。
【００２９】
図２に示す電子写真感光体７Ｂは、図１に示す電子写真感光体７Ａと同様に電荷発生層２と電荷輸送層３とに機能が分離された機能分離型感光体である。また、図３に示す電子写真感光体７Ｃは、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層（単層型感光層６（電荷発生／電荷輸送層））に含有するものである。
【００３０】
図２に示す電子写真感光体７Ｂにおいては、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に、電荷輸送層３、電荷発生層２、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ｂにおいては、電荷輸送層３及び電荷発生層２により感光層が構成されている。
また、図３に示す電子写真感光体７Ｃにおいては、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に単層型感光層６、保護層５が順次形成された構造を有するものである。
【００３１】
そして、上記図１乃至図３に示す電子写真感光体７Ａ乃至７Ｃにおいて、保護層５が、導電性基体２から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記所定の構成となっている。
なお、図１乃至図３に示す電子写真感光体において、下引層１は設けてもよいし、設けなくてもよい。
【００３２】
以下、代表例として図１に示す電子写真感光体７Ａに基づいて、各要素について説明する。
【００３３】
＜導電性基体＞
導電性基体４としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、及び金属ベルトが挙げられる。また、導電性基体４としては、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等も挙げられる。
ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００３４】
電子写真感光体７Ａがレーザープリンターに使用される場合、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、導電性基体４の表面は、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化することが望ましい。Ｒａが０．０４μｍ未満であると、鏡面に近くなるので干渉防止効果が不十分となる傾向があり、Ｒａが０．５μｍを越えると、被膜を形成しても画質が粗くなる傾向がある。なお、非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要なく、導電性基体４表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。
【００３５】
粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、又は回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。
【００３６】
また、他の粗面化の方法としては、導電性基体４表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も望ましく用いられる。
【００３７】
ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが望ましい。
【００３８】
陽極酸化膜の膜厚については、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。この膜厚が０．３μｍ未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる傾向がある。他方、１５μｍを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く傾向にある。
【００３９】
また、導電性基体４には、酸性水溶液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調整する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲が望ましい。処理温度は４２℃以上４８℃以下が望ましいが、処理温度を高く保つことにより、当該処理温度の範囲よりも低い場合に比べ一層速く、かつ厚い被膜が形成される。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。０．３μｍ未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる傾向がある。他方、１５μｍを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く傾向がある。
【００４０】
ベーマイト処理は、９０℃以上１００℃以下の純水中に５分間以上６０分間以下浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分間以上６０分間以下接触させることにより行われる。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が望ましい。これを更にアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の他種に比べ被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００４１】
＜下引層＞
下引層１は、例えば、結着樹脂に無機粒子を含有して構成される。
無機粒子としては、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ω・ｃｍ以上１０１１Ω・ｃｍ以下のものが望ましく用いられる。これは、下引層１はリーク耐性、キャリアブロック性獲得のために適切な抵抗を得ることが必要であるためである。なお、上記範囲の下限よりも無機粒子の抵抗値が低いと十分なリーク耐性が得られず、この範囲の上限よりも高いと残留電位上昇を引き起こしてしまう懸念がある。
【００４２】
中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子（導電性金属酸化物）を用いるのが望ましく、特に、酸化亜鉛は望ましく用いられる。
【００４３】
また、無機粒子は表面処理を行ったものでもよく、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものなど２種以上混合して用いてもよい。
無機粒子の体積平均粒径は５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（望ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）の範囲であることが望ましい。
【００４４】
また、無機粒子としては、ＢＥＴ法による比表面積が１０ｍ２／ｇ以上のものが望ましく用いられる。比表面積値が１０ｍ２／ｇ未満のものは帯電性低下を招きやすく、良好な電子写真特性を得にくい傾向がある。
【００４５】
更に、無機粒子と共にアクセプター性化合物を含有させることで電気特性の長期安定性、キャリアブロック性に優れた下引層が得られる。
アクセプター性化合物としては、所望の特性が得られるものならばいかなるものでも使用可能であるが、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。更に、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。
【００４６】
これらのアクセプター性化合物の含有量は所望の特性が得られる範囲であれば任意に設定してもよいが、望ましくは、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下の範囲で含有される。更に、電荷蓄積防止と無機粒子凝集の防止との観点から、無機粒子に対して０．０５質量％以上１０質量％以下で含有されることが望ましい。無機粒子の凝集は、導電路形成にバラツキが生じやすくなり、繰り返し使用時に残留電位の上昇など維持性の悪化を招きやすくなるだけでなく、黒点などの画質欠陥も引き起こしやすくなる。
【００４７】
アクセプター化合物は、下引層形成用塗布液に添加するだけでもよいし、無機粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。
無機粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【００４８】
乾式法にて表面処理を施す場合には、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによってバラツキが生じることなく処理される。添加又は噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。溶剤の沸点以上の温度で噴霧すると、バラツキが生じることなく攪拌される前に溶剤が蒸発し、アクセプター化合物が局部的にかたまってしまいバラツキのない処理ができにくい欠点があり、望ましくない。添加又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施される。
【００４９】
また、湿式法としては、無機粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、アクセプター化合物を添加し攪拌又は分散した後、溶剤除去することでバラツキが生じることなく処理される。溶剤除去方法はろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施される。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分を除去することもでき、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。
【００５０】
また、無機粒子にはアクセプター化合物を付与する前に表面処理を施してもよい。表面処理剤としては、所望の特性が得られるものであればよく、公知の材料から選択される。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤は良好な電子写真特性を与えるため望ましく用いられる。更にアミノ基を有するシランカップリング剤は下引層１に良好なブロッキング性を与えるため望ましく用いられる。
【００５１】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、所望の電子写真感光体特性を得られるものであればいかなるものを用いてもよいが、具体的例としては、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５２】
また、シランカップリング剤は２種以上混合して使用してもよい。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いてもよいシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５３】
また、これらの表面処理剤を用いた表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用可能であるが、乾式法又は湿式法を用いることがよい。また、アクセプター化合物の付与と、カップリング剤等の表面処理剤による表面処理と、を同時に行ってもよい。
【００５４】
下引層１中の無機粒子に対するシランカップリング剤の量は所望の電子写真特性が得られる量であれば任意に設定されるが、分散性向上の観点から、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が望ましい。
【００５５】
また、下引層１には結着樹脂が含有されてもよい。
下引層１に含有される結着樹脂としては、良好な膜が形成されるもので、かつ、所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものでも使用可能であるが、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いられる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が望ましく用いられる。これらを２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００５６】
下引層形成用塗布液中の、表面にアクセプター化合物を付与させた無機粒子（アクセプター性を付与した金属酸化物）と結着樹脂、又は、無機粒子と結着樹脂との比率は所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で任意に設定される。
【００５７】
また、下引層１中には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を用いてもよい。
添加物としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層形成用塗布液に添加してもよい。
【００５８】
添加剤としてのシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
また、ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００５９】
チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００６０】
アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００６１】
これらの化合物は単独に若しくは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いてもよい。
【００６２】
下引層形成用塗布液を調製するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択される。
溶媒として、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いられる。
【００６３】
また、これらの溶剤は単独又は２種以上混合して用いてもよい。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤として結着樹脂を溶かし得る溶剤であれば、いかなるものでも使用される。
【００６４】
下引層形成用塗布液を調製する際の無機粒子の分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法を用いられる。
更に、下引層１を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
【００６５】
このようにして得られた下引層形成用塗布液を用い、導電性基体上に下引層１が成膜される。
【００６６】
また、下引層１は、ビッカース硬度が３５以上とされていることが望ましい。
更に、下引層１は、所望の特性が得られるのであれば、いかなる厚さに設定されるが、厚さ１５μｍ以上が望ましく、更に望ましくは１５μｍ以上５０μｍ以下とされていることが望ましい。
下引層１の厚さが１５μｍ未満であるときには、充分な耐リーク性能を得ることができず、また５０μｍ以上であるときには長期使用した場合に残留電位が残りやすくなるため画像濃度異常を招きやすい欠点がある。
【００６７】
また、下引層１の表面粗さ（十点平均粗さ）はモアレ像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整される。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等を用いられる。
【００６８】
ここで、下引層１は、結着樹脂、及び無機粒子である導電性金属酸化物を含み、且つ、厚み２０μｍにおける波長９５０ｎｍの光に対する光透過率が４０％以下（望ましくは１０％以上３５％以下、より望ましくは１５％以上３０％以下）であることがよい。
【００６９】
なお、上記の下引層の光透過率は次のようにして測定される。引き層形成用塗布液を、ガラスプレート上に乾燥後の厚さが２０μｍとなるように塗布し、乾燥後、分光光度計を用いて波長９５０ｎｍでの膜の光透過率を測定する。光度計による光透過率は、分光光度計として装置名「Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ（Ｕ−２０００）」、日立社製を用いる。
【００７０】
この下引層の光透過率は、前述の下引層形成用塗布液を調製する際に用いる、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等による無機粒子の分散時の分散時間を調整することで、制御される。分散時間は、特に限定しないが、５分から１０００時間の任意の時間が望ましく、更には３０分から１０時間がより望ましい。分散時間を長くすると、光透過率は低下する傾向にある。
【００７１】
また、表面粗さ調整のために下引層表面を研磨してもよい。
研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等を用いられる。
【００７２】
下引層１は、導電性基体４上に塗布した前述の下引層形成用塗布液を乾燥させることで得られるが、通常、乾燥は、溶剤を蒸発させうる、製膜可能な温度で行われる。
【００７３】
＜電荷発生層＞
電荷発生層２は、電荷発生材料及び結着樹脂を含有する層である。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。これらの中でも、近赤外域のレーザー露光に対応させるためには、電荷発生材料として、金属フタロシアニン顔料、及び無金属フタロシアニン顔料を用いることが望ましく、特に、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報、特開平５−４３８２３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより望ましい。また、近紫外域のレーザー露光に対応させるためには、電荷発生材料として、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン等を用いることがより望ましい。
電荷発生材料としては、３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合に対応させるためには無機顔料が望ましく、７００ｎｍ以下８００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合に対応させるためには、金属フタロシアニン顔料、及び無金属フタロシアニン顔料が望ましい。
【００７４】
また、電荷発生材料としては、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を用いることが望ましい。このヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、従来のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とは異なるものであり、より優れた分散性が得られるため望ましい。このように、分光吸収スペクトルの最大ピーク波長を従来のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料よりも短波長側にシフトさせることにより、顔料粒子の結晶配列が好適に制御された微細なヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料となり、電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性、十分な感度、帯電性及び暗減衰特性が得られる。
【００７５】
また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが望ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより望ましく、一方、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましく、５０ｍ２／ｇ以上であることがより望ましく、５５ｍ２／ｇ以上１２０ｍ２／ｇ以下であることが特に望ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所社製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープII２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
【００７６】
平均粒径が０．２０μｍより大きい場合、又は比表面積値が４５ｍ２／ｇ未満である場合は、顔料粒子が粗大化しているか、又は顔料粒子の凝集体が形成されており、電子写真感光体の材料として用いた場合の分散性や、感度、帯電性及び暗減衰特性といった特性に欠陥が生じやすい傾向にあり、それにより画質欠陥を生じやすい傾向にある。
【００７７】
また、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが望ましく、１．０μｍ以下であることがより望ましく、より望ましくは０．３μｍ以下である。かかる最大粒径が上記範囲を超えると、微小黒点が発生しやすい傾向にある。
【００７８】
更に、電子写真感光体が蛍光灯などに暴露されたことに起因する濃度ムラをより確実に抑制する観点から、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、比表面積値が４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましい。
【００７９】
また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°及び２８．３°に回折ピークを有するものであることが望ましい。
【００８０】
また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、２５℃から４００℃まで昇温したときの熱質量減少率が２．０％以上４．０％以下であることが望ましく、２．５％以上３．８％以下であることがより望ましい。なお、熱質量減少率は熱天秤等により測定される。上記熱質量減少率が４．０％を超えると、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料に含有される不純物が電子写真感光体に影響を及ぼし、感度特性、繰り返し使用時における電位の安定性や画像品質の低下が生じる傾向にある。また、２．０％未満であると、感度の低下が生じる傾向にある。これは、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が結晶中に微量含有する溶剤分子との相互作用によって増感作用を示すことに起因すると考えられる。
上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を電子写真感光体の電荷発生材料として用いた場合には、感光体の最適な感度や優れた光電特性が得られる点、及び感光層に含まれる結着樹脂中への分散性に優れているので画質特性に優れる点で特に有効である。
【００８１】
ここで、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の平均粒径及びＢＥＴ比表面積を規定することによって，初期のカブリや黒点の発生を抑えられることが知られてきたが、長期使用によりカブリや黒点が発生するという問題があった。これに対し、後述する所定の最表面層（一般式（Ｉ）で表される化合物と電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物とを含む組成物の硬化物で構成される最表面層）を組み合わせることによって、従来の保護層及び電荷発生層の組み合わせで問題となっていた長期間の使用によるカブリや黒点の発生を抑えることが可能となる。これは、長期使用によって発生する膜磨耗や帯電能力の低下が、上記の最表面層を使用することによって抑制されるためであると考えられる。また、電気特性改善（残留電位低減）に効果がある電荷輸送層の薄膜化に対しても、従来感光体では発生してしまうカブリや黒点の抑制も実現される。
【００８２】
電荷発生層２に使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが望ましい。ここで、「絶縁性」とは、ここで、「絶縁性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
【００８３】
電荷発生層２は、上述の電荷発生材料及び結着樹脂を所定の溶剤中に分散した電荷発生層形成用塗布液を用いて形成される。
【００８４】
分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【００８５】
また、電荷発生材料及び結着樹脂を溶剤中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いられる。これらの分散方法により、分散による電荷発生材料の結晶型の変化が防止される。
更にこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、望ましくは０．３μｍ以下、更に望ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【００８６】
また、電荷発生層２を形成する際には、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
【００８７】
このようにして得られる電荷発生層２の膜厚は、望ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、更に望ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下である。
【００８８】
＜電荷輸送層＞
電荷輸送層３は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して、又は高分子電荷輸送材を含有して形成される。
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物や、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。
【００８９】
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が望ましい。
【００９０】
【化３】
2010231077.tif 000004
【００９１】
上記構造式（ａ−１）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を示す。ａ１は１又は２を示す。Ａｒ０１及びＡｒ０２は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ２）＝Ｃ（Ｒ３）（Ｒ４）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６）を示し、Ｒ２乃至Ｒ６は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。
ここで、上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、又は炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
【００９２】
【化４】
2010231077.tif 000005
【００９３】
上記構造式（ａ−２）中、Ｒ７及びＲ７’は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。Ｒ８、Ｒ８’、Ｒ９、及びＲ９’は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ１０）＝Ｃ（Ｒ１１）（Ｒ１２）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１３）（Ｒ１４）を示し、Ｒ１０乃至Ｒ１４は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。ａ２及びａ３は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
【００９４】
ここで、前記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１３）（Ｒ１４）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度、保護層との接着性、前画像の履歴が残ることで生じる残像（以下「ゴースト」と言う場合がある）などの観点で優れ望ましい。
【００９５】
電荷輸送層３に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は質量比で１０：１から１：５までが望ましい。
【００９６】
特に、結着樹脂としては、特に限定しないが、粘度平均分子量５００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂、及び粘度平均分子量５００００以上８００００以下のポリアリレート樹脂の少なくとも１種が良好な成膜が得やすいことから望ましい。
【００９７】
また、電荷輸送材料として高分子電荷輸送材を用いてもよい。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものを用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、他種に比べ高い電荷輸送性を有しており、特に望ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも成膜可能であるが、前述の結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【００９８】
電荷輸送層３は、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。
電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独又は２種以上混合して用いられる。また、上記各構成材料の分散方法としては、公知の方法が使用される。
【００９９】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層２の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０１００】
電荷輸送層３の膜厚は、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下である。
【０１０１】
＜保護層＞
保護層５は、電子写真感光体７Ａにおける最表面層であり、最表面の磨耗、傷などに対する耐性を持たせ、且つ、トナーの転写効率を上げるために設けられる層である。
【０１０２】
保護層５は最表面層であるため、下記一般式（Ｉ）で示される化合物の少なくとも１種と、電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物の少なくとも１種と、を含む組成物の硬化物からなる層である。
【０１０３】
【化５】
2010231077.tif 000006
【０１０４】
上記一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送性を有するｎ価の有機基を示し、Ｒは水素原子又はアルキル基を示し、Ｌは２価の有機基を示し、ｎは１以上の整数を示し、ｊは０又は１を示す。
【０１０５】
（一般式（Ｉ）で示される化合物）
まず、一般式（Ｉ）で示される化合物について説明する。
一般式（Ｉ）におけるＦは正孔輸送性を有するｎ価の有機基であるが、この有機基としては、アリールアミン誘導体から誘導される有機基、つまり、アリールアミン誘導体からｎ個の水素原子を除いて得られた有機基が挙げられる。アリールアミン誘導体の中でも、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体などのアリールアミン誘導体に由来するｎ価の有機基が望ましい。
【０１０６】
一般式（Ｉ）におけるｎは１以上の整数を表すが、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜（硬化物）が得られるといった観点から、望ましくは２以上、更に望ましくは４以上である。また、ｎの上限値としては、塗布液の安定性、電気特性の点から、２０が望ましく、１０がより望ましい。
ｎを上記の望ましい範囲とすることで、特に、ブレードクリーナーを用いた際の電子写真感光体の回転トルクが低減され、ブレードへのダメージの抑制や、電子写真感光体の磨耗が抑制される。この詳細は不明であるが、反応性官能基の数が増すことで、架橋密度の高い硬化膜が得られ、電子写真感光体の極表面の分子運動が抑制されてブレード部材表面分子との相互作用が弱まるためと推測される。
【０１０７】
また、一般式（Ｉ）におけるＲは水素原子又はアルキル基表す。このアルキル基としては、炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基が望ましい。
中でも、Ｒはメチル基であることが望ましい。つまり、一般式（Ｉ）で示される化合物において、括弧内の置換基の末端がメタクリロイル基であることが望ましい。この理由は必ずしも明らかになっていないが、本発明者らは以下のように考えている。
通常、硬化反応には反応性の高いアクリル基が用いられることが多いが、一般式（Ｉ）で示される化合物のように、かさ高い電荷輸送材料の置換基として反応性の高いアクリル基を用いた場合、不均一な硬化反応がおきやすくなりミクロ（若しくはマクロ）的な海島構造ができやすくなると考えられる。このような海島構造は電子分野以外では特に問題となることは少ないが、電子写真感光体として用いた場合には、最表面層のムラ・シワ、濃度ムラなどの問題を生じる。そのため、Ｒはメチル基であることが望ましい。
なお、このような海島構造の形成は一つの電荷輸送骨格（一般式（Ｉ）におけるＦ）に複数の官能基がついている場合は、特に顕著になると考えられる。
【０１０８】
また、一般式（Ｉ）におけるＬは２価の有機基を表すが、この２価の有機基としては、炭素数２以上のアルキレン基を含む有機基であることが望ましい、また、ｊが１であることが電気特性上、機械強度上、望ましい。このような構造が望ましい理由は必ずしも明らかになっていないが、本発明者らは以下のように考えている。
一般式（Ｉ）で表される化合物のように、ラジカル重合性の置換基を重合させる場合、重合時に生成するラジカルが電荷輸送骨格（一般式（Ｉ）におけるＦに移動しやすい構造であると、生成したラジカルが電荷輸送の機能を劣化させてしまうため、電気特性の悪化を招いてしまうと考えられる。また、機械強度については、かさ高い電荷輸送骨格と重合部位とが近くリジッドであると重合性部位同士が動きずらくなり、反応する確率が著しく低下してしまうと考えられる。このような理由から、Ｌが炭素数２以上のアルキレン基を含み、ｊが１であることが望ましいと考えられる。
【０１０９】
ここで、Ｌが炭素数２以上のアルキレン基を含む有機基である場合、この有機基は炭素数２以上のアルキレン基のみから構成されていてもよいし、炭素数２以上のアルキレン基と、アルケニレン、アルキニレン、エーテル、チオエーテル、エステル、アリーレン（例えば、フェニレン）などの２価の基とを組み合わせたものであってもよい。また、アルキレン基の炭素数の上限値は、強度の点から、２０であることが望ましく、１０であることがより望ましい。
【０１１０】
一般式（Ｉ）で示される化合物は、下記一般式（II）で示される化合物であることが望ましい。
一般式（II）で示される化合物は、特に、電荷移動度、酸化などに対する安定性等に優れる。
【０１１１】
【化６】
2010231077.tif 000007
【０１１２】
上記一般式（II）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（Ｌ）ｊ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ）＝ＣＨ２を示し、５つのｃはそれぞれ独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄの総数は１以上である。また、Ｒは、水素原子、又は炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基を示す。
【０１１３】
一般式（II）におけるＤの総数は、一般式（Ｉ）におけるｎに相当し、前述のように、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜（硬化物）が得られるといった観点から、望ましくは２以上であり、更に望ましくは４以上である。
また、Ｒは、前述のように、メチル基であることが望ましい。
【０１１４】
一般式（II）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
ここで、置換アリール基における置換基としては、Ｄ：−（Ｌ）ｊ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ）＝ＣＨ２以外のものとして、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子等が挙げられる。
Ａｒ１乃至Ａｒ４としては、下記構造式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記構造式（１）乃至（７）は、各Ａｒ１乃至Ａｒ４に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ」と共に示す。ここで、「−（Ｄ）Ｃ」は前記一般式（II）における「−（Ｄ）Ｃ」と同義であり、このまし例も同様である。
【０１１５】
【化７】
2010231077.tif 000008
【０１１６】
上記構造式（１）中、Ｒ０１は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表す。
上記構造式（２）及び（３）中、Ｒ０２乃至Ｒ０４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。また、ｍは１以上３以下の整数を表す
上記構造式（７）中、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表す。
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記構造式（８）又は（９）で表されるものが望ましい。
【０１１７】
【化８】
2010231077.tif 000009
【０１１８】
上記構造式（８）及び（９）中、Ｒ０５及びＲ０６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｑはそれぞれ１以上３以下の整数を表す。
【０１１９】
また、前記構造式（７）中、Ｚ’は２価の有機連結基を示すが、下記構造下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれかで表されるものが望ましい。また、ｐは０又は１を表す。
【０１２０】
【化９】
2010231077.tif 000010
【０１２１】
上記構造式（１０）乃至（１７）中、Ｒ０７及びＲ０８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｒ及びｓはそれぞれ独立に１以上１０以下の整数を表し、ｔはそれぞれ１以上３以下の整数を表す。
【０１２２】
前記構造式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【０１２３】
【化１０】
2010231077.tif 000011
【０１２４】
また、一般式（II）中、Ａｒ５は、ｋが０の時は置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基と同様のものが挙げられる。また、Ａｒ５は、ｋが１の時は置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基から所定の位置の水素原子を１つ除いたアリーレン基が挙げられる。
【０１２５】
以下に、一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例を示す。なお、一般式（Ｉ）で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
まず、一般式（Ｉ）におけるｎが１である化合物の具体例（化合物ｉ−１乃至ｉ−１３）を示すが、これらに限られるものではない。
【０１２６】
【化１１】
2010231077.tif 000012
【０１２７】
【化１２】
2010231077.tif 000013
【０１２８】
【化１３】
2010231077.tif 000014
【０１２９】
以下に、一般式（Ｉ）におけるｎが２である化合物の具体例（化合物ii−１乃至ii−２３）を示すが、これらに限られるものではない。
【０１３０】
【化１４】
2010231077.tif 000015
【０１３１】
【化１５】
2010231077.tif 000016
【０１３２】
【化１６】
2010231077.tif 000017
【０１３３】
【化１７】
2010231077.tif 000018
【０１３４】
【化１８】
2010231077.tif 000019
【０１３５】
次に、一般式（Ｉ）におけるｎが３である化合物の具体例（化合物iii−１乃至iii−１１）を示すが、これらに限られるものではない。
【０１３６】
【化１９】
2010231077.tif 000020
【０１３７】
【化２０】
2010231077.tif 000021
【０１３８】
【化２１】
2010231077.tif 000022
【０１３９】
次に、一般式（Ｉ）におけるｎが４である化合物の具体例（化合物iv−１乃至iv−１８）、一般式（Ｉ）におけるｎが５である化合物の具体例（化合物ｖ−１）、一般式（Ｉ）におけるｎが６である化合物の具体例（化合物vi−１乃至vi−２）を示す。
【０１４０】
【化２２】
2010231077.tif 000023
【０１４１】
【化２３】
2010231077.tif 000024
【０１４２】
【化２４】
2010231077.tif 000025
【０１４３】
【化２５】
2010231077.tif 000026
【０１４４】
【化２６】
2010231077.tif 000027
【０１４５】
上記化合物ｉ−１乃至vi−２において、Ｍｅはメチル基を、Ｐｒはｎ−プロピル基、Ｂｕはｎ-ブチル基をそれぞれ示す。また、単結合の結合手は記載されているが、末端の置換基が記載されていないものはメチル基を示す。更に、二重結合の結合手は記載されているが、末端の置換基が記載されていないものは＝ＣＨ２基を示す。
【０１４６】
一般式（Ｉ）におけるｎが４以上である化合物は、後述する化合物iv−４の合成経路、及び化合物iv−１７合成経路と同様にして合成される。
以下、前記した化合物iv−４の合成経路、及び化合物iv−１７合成経路を、一般式（Ｉ）におけるｎが４以上である化合物の合成の一例として示す。
なお、下記合成経路中のＭｅはメチル基を示す。また、単結合の結合手は記載されているが、末端の置換基が記載されていないものはメチル基を示す。更に、二重結合の結合手は記載されているが、末端の置換基が記載されていないものは＝ＣＨ２基を示す。
【０１４７】
【化２７】
2010231077.tif 000028
【０１４８】
【化２８】
2010231077.tif 000029
【０１４９】
本実施態様において、一般式（Ｉ）で表される化合物としては、前述のように、ｎが２以上である化合物が用いられることが望ましく、ｎが４以上である化合物が用いられることがより望ましい。
また、一般式（Ｉ）で表される化合物として、ｎが４以上である化合物と、ｎが１乃至３である化合物と、を併用してもよい。この併用により、電荷輸送性能を低下させることなく、硬化物の強度を調整しうる。
一般式（Ｉ）で表される化合物として、ｎが４以上である化合物と、ｎが１乃至３である化合物と、を併用する場合、一般式（Ｉ）で表される化合物の総含有量に対して、ｎが４以上である化合物が５質量％以上とすることが望ましく、２０質量％以上とすることがより望ましい。
【０１５０】
一般式（Ｉ）で表される化合物の総含有量は、保護層５を形成する際に用いられる組成物に対して１０質量％以上が望ましく、より望ましくは２０質量％以上、更に望ましくは３０質量％以上である。
この範囲とすることで、電気特性に優れ、硬化物の厚膜化が可能となる。
【０１５１】
また、本実施態様においては、一般式（Ｉ）で表される化合物と、反応性基を有さない公知の電荷輸送材料とを併用してもよい。反応性基を有さない公知の電荷輸送材料は、電荷輸送を担わない反応性基を有さないため、実質的に電荷輸送材料の成分濃度を高め、電気特性を更に改善することに有効である。
この公知の電荷輸送材料としては、前述の電荷輸送層３を構成する電荷輸送材料として挙げられたものが用いられる。
【０１５２】
（電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物）
次に、本実施態様において用いられる電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物について説明する。
この電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物において、「電荷輸送能を有する化合物」とは、Ｔｉｍｅ ｏｆ Ｆｌｉｇｈｔ法によりキャリア輸送が観測される化合物を意味する。具体的には、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物や、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の構造を有しているものが望ましく、特に、電気特性の安定性、耐久性、下地とのマッチングなどの点から、トリアリールアミン骨格を有することが望ましい。
また、電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物中のアゾ基は、少なくとも１つがその分子中にあればよいが、一般式（Ｉ）で示される化合物との開始効率、および相溶性の点から、１個〜２個のアゾ基を有することが望ましい。
【０１５３】
本実施態様においては、電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物が下記一般式（Ａ）で表される化合物であることが望ましい。
【０１５４】
【化２９】
2010231077.tif 000030
【０１５５】
上記一般式（Ａ）中、Ａｒ１１及びＡｒ１２はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ｘ１は芳香族環構造を有する２価の炭化水素基又は芳香族環構造を有する２価のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。Ｘ２及びＸ３はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリーレン基を示す。Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に枝分かれ若しくは環構造を含んでもよい２価の炭化水素基又は枝分かれ若しくは環構造を含んでもよい２価のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。ｍ１及びｍ３はそれぞれ独立に０又は１を示し、ｍ２は１以上の数を示す。Ｒ’は、１価の炭化水素基又は１価のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。
【０１５６】
Ａｒ１１及びＡｒ１２はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示すが、炭素数６以上１６以下の置換又は未置換のアリール基が望ましい。該アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ピレニル基等が挙げられる。また、これらのアリール基に導入される置換基としては、メチル基、エチル基、メトキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【０１５７】
Ｘ１は芳香族環構造を有する２価の炭化水素基又は芳香族環構造を有する２価のヘテロ原子含有炭化水素基を示すが、この炭化水素基及びヘテロ原子含有炭化水素基はいずれも炭素数６以上２０以下であることが望ましい。また、ヘテロ原子含有炭化水素中のヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子等が挙げられる。Ｘ１の具体例としては、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、ナフチレン基、メチレンジフェニル基、シクロヘキシレデンジフェニル基、オキシジフェニル基、チオジフェニル基等が挙げられる。また、Ｘ１で表される炭化水素基及びヘテロ原子含有炭化水素基は、置換基を有していてもよく、この置換基としては、メチル基、エチル基、メトキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
Ｘ１としては、特に電荷輸送性、化学的安定性の点で、置換又は未置換ビフェニレン基が望ましく、３，３’−置換ビフェニレン基がより望ましい。
【０１５８】
Ｘ２及びＸ３はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリーレン基を示すが、炭素数６以上１８以下の置換又は未置換のアリーレン基が望ましい。該アリーレン基の具体的には、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。また、これらのアリーレン基に導入される置換基としては、メチル基、エチル基、メトキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【０１５９】
Ｌ１は２価の炭化水素基又は２価のヘテロ原子含有炭化水素基を示すが、この炭化水素基及びヘテロ原子含有炭化水素基は、枝分れ若しくは環構造を含んでもよく、望ましい炭素数は、１以上２０以下である。このヘテロ原子含有炭化水素中のヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。また、特に機械的特性の点で、Ｌ１は、エステル結合を含み、且つ、炭素数が２０以下であるものが望ましく、特に、エステル結合とアルキレン基及び／又はフェニレン基とが組み合わされたものがより望ましい。
Ｌ１の具体例としては、以下のものが挙げられる。
【０１６０】
【化３０】
2010231077.tif 000031
【０１６１】
また、Ｌ２はそれぞれ独立に２価の炭化水素基又は２価のヘテロ原子含有炭化水素基を示すが、この炭化水素基及びヘテロ原子含有炭化水素基は、枝分れ若しくは環構造を含んでもよく、望ましい炭素数は、１以上２０以下である。このヘテロ原子含有炭化水素中のヘテロ原子としては、窒素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。また、特に電気特性、重合開始能力の面から、Ｌ２は、アルキレン基か、シアノ基を含むものが望ましく、特に、炭素数１以上２０以下のものがより望ましい。
Ｌ２の具体例としては、以下のものが挙げられる。
【０１６２】
【化３１】
2010231077.tif 000032
【０１６３】
Ｒ’は１価の炭化水素基又はヘテロ原子含有炭化水素基を示し、この炭化水素基及びヘテロ原子含有炭化水素基の望ましい炭素数は、１以上２０以下である。特に、電気特性、重合開始能力の面から、Ｒ’としては、アルキレン基、エステル基、シアノ基、カルボキシル基をその構造内に含むものが望ましい。
Ｒ’の具体例としては、以下のものが挙げられる。
【０１６４】
【化３２】
2010231077.tif 000033
【０１６５】
ｍ１及びｍ３はそれぞれ独立に０又は１を示し、また、ｍ２は１以上の数を示す。
このｍ２としては、電気特性、強度の点から１以上１０００以下が望ましく、５以上５００以下が更に望ましい。このように、ｍ２は２以上であり、一般式（Ａ）で表される化合物がポリマーとなっている場合、混合物となることから、このｍ２は平均値を表すこともある。
【０１６６】
一般式（Ａ）で示される化合物の具体例（化合物Ａ−１乃至Ａ−１３）を以下に示すが、これに限定されるものではない。
【０１６７】
【表１】
2010231077.tif 000034
【０１６８】
【表２】
2010231077.tif 000035
【０１６９】
一般式（Ａ）で表される化合物は、下記化合物Ａ−６の合成経路と同様にして合成される。
以下、前記した化合物Ａ−６の合成経路を、一般式（Ａ）で表される化合物の合成の一例として示す。
なお、下記合成経路において、化合物Ａ−６中のｍ２は５〜１００の数である。
【０１７０】
【化３３】
2010231077.tif 000036
【０１７１】
一般式（Ａ）で表される化合物と、一般式（Ｉ）で表される化合物と、の好適な組み合わせは、以下の通りである。
類似の骨格を有するもの同士の組み合わせがこのましいく、特に、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物同士の組み合わせが好ましい。
【０１７２】
一般式（Ａ）で表される化合物は、１種を単独で用いてもよいが、複数種を混合して用いてもよい。
また、一般式（Ａ）で表される化合物は、以下に示すような熱重合開始剤と併用してもよい。
併用可能な熱重合開始剤としては特に限定されないが、保護層５の形成時における感光層中の感光材料のダメージを抑制するために、１０時間半減期温度が４０℃以上１１０℃以下のものが望ましい。
【０１７３】
併用可能な熱重合開始剤の市販品としては、Ｖ−３０（１０時間半減期温度：１０４℃）、Ｖ−４０（同：８８℃）、Ｖ−５９（同：６７℃）、Ｖ−６０１（同：６６℃）、Ｖ−６５（同：５１℃）、Ｖ−７０（同：３０℃）、ＶＦ−０９６（同：９６℃）、Ｖａｍ−１１０（同：１１１℃）、Ｖａｍ−１１１（同：１１１℃）（以上、和光純薬工業製）、ＯＴＡＺＯ−１５（同：６１℃）、ＯＴＡＺＯ−３０、ＡＩＢＭ（同：６５℃）、ＡＭＢＮ（同：６７℃）、ＡＤＶＮ（同：５２℃）、ＡＣＶＡ（同：６８℃）（以上、大塚化学社製）等のアゾ系開始剤；
パーテトラＡ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーヘキサＶ、パーヘキサ２２、パーヘキサＭＣ、パーブチルＨ，パークミルＨ、パークミルＰ、パーメンタＨ、パーオクタＨ、パーブチルＣ、パーブチルＤ、パーヘキシルＤ、パーロイルＩＢ、パーロイル３５５、パーロイルＬ、パーロイルＳＡ、ナイパーＢＷ、ナイパーＢＭＴ−Ｋ４０／Ｍ、パーロイルＩＰＰ、パーロイルＮＰＰ、パーロイルＴＣＰ、パーロイルＯＰＰ、パーロイルＳＢＰ、パークミルＮＤ、パーオクタＮＤ、パーヘキシルＮＤ、パーブチルＮＤ、パーブチルＮＨＰ、パーヘキシルＰＶ、パーブチルＰＶ、パーヘキサ２５０、パーオクタＯ、パーヘキシルＯ、パーブチルＯ、パーブチルＬ、パーブチル３５５、パーヘキシルＩ、パーブチルＩ、パーブチルＥ、パーヘキサ２５Ｚ、パーブチルＡ、パーへヘキシルＺ、パーブチルＺＴ、パーブチルＺ（以上、日油化学社製）、カヤケタールＡＭ−Ｃ５５、トリゴノックス３６−Ｃ７５、ラウロックス、パーカドックスＬ−Ｗ７５、パーカドックスＣＨ−５０Ｌ、トリゴノックスＴＭＢＨ、カヤクメンＨ、カヤブチルＨ−７０、ペルカドックスＢＣ−ＦＦ、カヤヘキサＡＤ、パーカドックス１４、カヤブチルＣ、カヤブチルＤ、カヤヘキサＹＤ−Ｅ８５、パーカドックス１２−ＸＬ２５、パーカドックス１２−ＥＢ２０、トリゴノックス２２−Ｎ７０、トリゴノックス２２−７０Ｅ、トリゴノックスＤ−Ｔ５０、トリゴノックス４２３−Ｃ７０、カヤエステルＣＮＤ−Ｃ７０、カヤエステルＣＮＤ−Ｗ５０、トリゴノックス２３−Ｃ７０、トリゴノックス２３−Ｗ５０Ｎ、トリゴノックス２５７−Ｃ７０、カヤエステルＰ−７０、カヤエステルＴＭＰＯ−７０、トリゴノックス１２１、カヤエステルＯ、カヤエステルＨＴＰ−６５Ｗ、カヤエステルＡＮ、トリゴノックス４２、トリゴノックスＦ−Ｃ５０、カヤブチルＢ、カヤカルボンＥＨ−Ｃ７０、カヤカルボンＥＨ−Ｗ６０、カヤカルボンＩ−２０、カヤカルボンＢＩＣ−７５、トリゴノックス１１７、カヤレン６−７０（以上、化薬アクゾ社製）、ルペロックス  ＬＰ（同：６４℃）、ルペロックス  ６１０（同：３７℃）、ルペロックス  １８８（同：３８℃）、ルペロックス  ８４４（同：４４℃）、ルペロックス  ２５９（同：４６℃）、ルペロックス  １０（同：４８℃）、ルペロックス  ７０１（同：５３℃）、ルペロックス  １１（同：５８℃）、ルペロックス  ２６（同：７７℃）、ルペロックス  ８０（同：８２℃）、ルペロックス  ７（同：１０２℃）、ルペロックス  ２７０（同：１０２℃）、ルペロックス  Ｐ（同：１０４℃）、ルペロックス  ５４６（同：４６℃）、ルペロックス  ５５４（同：５５℃）、ルペロックス  ５７５（同：７５℃）、ルペロックス  ＴＡＮＰＯ（同：９６℃）、ルペロックス  ５５５（同：１００℃）、ルペロックス  ５７０（同：９６℃）、ルペロックス  ＴＡＰ（同：１００℃）、ルペロックス  ＴＢＩＣ（同：９９℃）、ルペロックス  ＴＢＥＣ（同：１００℃）、ルペロックス  ＪＷ（同：１００℃）、ルペロックス  ＴＡＩＣ（同：９６℃）、ルペロックス  ＴＡＥＣ（同：９９℃）、ルペロックス  ＤＣ（同：１１７℃）、ルペロックス  １０１（同：１２０℃）、ルペロックス  Ｆ（同：１１６℃）、ルペロッ���ス  ＤＩ（同：１２９℃）、ルペロックス  １３０（同：１３１℃）、ルペロックス  ２２０（同：１０７℃）、ルペロックス  ２３０（同：１０９℃）、ルペロックス  ２３３（同：１１４℃）、ルペロックス  ５３１（同：９３℃）（以上、アルケマ吉富社製）などが挙げられる。
【０１７４】
一般式（Ａ）で表される化合物は、組成物中の反応性化合物（一般式（Ｉ）で表される化合物やその他のモノマー、オリゴマーなど）に対して０．１質量％以上１０００質量％以下含有することが望ましく、１質量％以上５００質量％以下含有することがより望ましく、２質量以上２００質量％以下含有することが更に望ましい。
また、一般式（Ａ）で表される化合物と上述のような熱重合開始剤とを併用する場合、その総量としては、組成物中の反応性化合物（一般式（Ｉ）で表される化合物やその他のモノマー、オリゴマーなど）に対して０．０１質量％以上１０質量％以下含有することが望ましく、０．０５質量％以上５質量％以下含有することがより望ましく、０．１質量以上２質量％以下含有することが更に望ましい。
【０１７５】
以下、保護層５を形成するために用いる組成物を構成する他の成分について説明する。
前述の一般式（Ｉ）で示される化合物、及び電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物以外に、組成物には、該組成物の粘度、膜の強度、かとう性、平滑性、クリーニング性などの制御を目的とし、電荷輸送能を持たないラジカル重合性のモノマー、オリゴマー等を添加しうる。
１官能のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等が挙げられる。
【０１７６】
２官能のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３‐プロパンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート、トリシクロデカンメタノールジメタクリレート等が挙げられる。
【０１７７】
３官能以上のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ付加トリアクリレート、グリセリンＰＯ付加トリアクリレート、トリスアクロイルオキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化イソシアヌルトリアクリレートが挙げられる。
【０１７８】
また、ラジカル重合性のオリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。
【０１７９】
電荷輸送能を持たないラジカル重合性のモノマー、オリゴマーは、組成物の全固形分に対して０質量以上５０質量％以下含有することが望ましく、０質量以上４０質量％以下含有することがより望ましく、０質量以上３０質量％以下含有することが更に望ましい。
【０１８０】
保護層５を形成するために用いる組成物には、製膜性向上のために、界面活性剤を添加してもよい。
この界面活性剤としては、フッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造、炭素−炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造、アルキレンオキサイド構造、炭素−炭素三重結合及び水酸基を有する構造のうち１種以上の構造を分子内に含む界面活性剤などが挙げられる。
【０１８１】
界面活性剤の含有量は、組成物の固形分量に対して、望ましくは０．００１質量％以上１０質量％以下、より望ましくは０．０１質量％以上５質量％以下である。
【０１８２】
保護層５を形成するために用いる組成物には、放電生成ガスを吸着しすぎないように、添加することで放電生成ガスによる酸化を効果的に抑制する目的から、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの他の熱硬化性樹脂を添加してもよい。
【０１８３】
また、保護層５を形成するために用いる組成物には、更に、膜の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、カップリング剤、ハードコート剤、含フッ素化合物を添加してもよい。これらの添加剤として具体的には、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が用いられる。
また、市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−８２３９（以上、信越シリコーン社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が用いられる。
更に、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の含フッ素化合物を加えてもよい。
シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。この使用量を超えると、架橋膜の成膜性に問題が生じる場合がある。
【０１８４】
また、保護層５を形成するために用いる組成物には、保護層の放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長などや、粒子分散性、粘度コントロールの目的で、熱可塑性樹脂を加えてもよい。
ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋ等）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などがあげられる。特に、電気特性の点でポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が望ましい。当該樹脂の重量平均分子量は２，０００以上１００，０００以下が望ましく、５，０００以上５０，０００以下がより望ましい。樹脂の分子量が２，０００未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、１００，０００を超えると溶解度が低下して添加量が制限され、更には塗布時に製膜不良を招く傾向にある。また、当該樹脂の添加量は１質量％以上４０質量％以下が望ましく、１質量％以上３０質量％以下がより望ましく、５質量％以上２０質量％以下が更に望ましい。当該樹脂の添加量が１質量％未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、４０質量％を超えると高温高湿下（例えば２８℃、８５％ＲＨ）での画像ボケが発生しやすくなる。
【０１８５】
保護層５を形成するために用いる組成物には、保護層の帯電装置で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、酸化防止剤を添加することが望ましい。感光体表面の機械的強度を高め、感光体が長寿命になると、感光体が酸化性ガスに長い時間接触することになるため、従来より強い酸化耐性が要求される。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系又はヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。
【０１８６】
更に、保護層５を形成するために用いる組成物には、保護層の残留電位を下げる目的、又は強度を向上させる目的で、各種粒子を添加してもよい。
粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、望ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、又はエステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。保護層５中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、保護層５の全固形分全量を基準として、０．１質量％以上５０質量％以下、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より望ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、更に十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状が改善される。すなわち、強固な架橋構造中にバラツキが生じることなくに取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性が維持される。
保護層５中のシリコーン粒子の含有量は、保護層５の全固形分全量を基準として、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上１０質量％以下である。
【０１８７】
また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集  ｐ８９”に示される如く、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ２−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１．３．５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
【０１８８】
また、保護層５を形成するために用いる組成物には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層の透明性の点で０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が望ましい。
【０１８９】
保護層５を形成するために用いる組成物は、保護層形成用塗布液として調製されることが望ましく、この保護層形成用塗布液は、無溶媒であってもよいし、必要に応じて、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の溶剤を含有していてもよい。
かかる溶剤は１種を単独で又は２種以上を混合して使用可能であるが、望ましくは沸点が１００度以下のものである。溶剤としては、特に、少なくとも１種以上の水酸基を持つ溶剤（例えば、アルコール類等）を用いることが望ましい。
【０１９０】
保護層５を形成するために用いる組成物からなる保護層形成用塗布液は、電荷輸送層３の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法により塗布され、必要に応じて、例えば、温度１００度以上１７０度以下で加熱して硬化させることで、硬化物が得られる。その結果、この硬化物からなる保護層（最表面層）５が得られる。
なお、保護層形成用塗布液の硬化中の酸素濃度は１％以下が望ましく、１０００ｐｐｍ以下がより望ましく、５００ｐｐｍ以下が更に望ましい。
【０１９１】
なお、この保護層形成用塗布液は、感光体用途以外にも、例えば、蛍光発色性塗料、ガラス表面、プラスチック表面などの帯電防止膜等に利用される。この塗布液を用いると、下層に対する密着性に優れた皮膜が形成され、長期にわたる繰り返し使用による性能劣化が抑制される。
【０１９２】
以上、電子写真感光体として機能分離型の例を説明したが、図２に示されるような単層型感光層６（電荷発生／電荷輸送層）中の電荷発生材料の含有量は、１０質量％以上８５質量％以下程度、望ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。また、電荷輸送材料の含有量は５質量％以上５０質量％以下とすることが望ましい。単層型感光層６（電荷発生／電荷輸送層）の形成方法は、電荷発生層２や電荷輸送層３の形成方法と同様である。単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）６の膜厚は５μｍ以上５０μｍ以下程度が望ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下とするのが更に望ましい。
【０１９３】
また、上述の実施形態では、一般式（Ｉ）で示される化合物と電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物とを含有する組成物の硬化物からなる最表面層が保護層５である形態を説明したが、保護層５がない層構成の場合には、その層構成において最表面に位置する電荷輸送層が該最表面層となる。
【０１９４】
〔画像形成装置／プロセスカートリッジ〕
図４は、実施形態に係る画像形成装置１００を示す概略構成図である。
図４に示される画像形成装置１００は、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置（静電潜像形成手段）９と、転写装置（転写手段）４０と、中間転写体５０と、を備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光可能な位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。
【０１９５】
図４におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置（帯電手段）８、現像装置（現像手段）１１、及びクリーニング装置１３を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材）を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。
【０１９６】
また、図４では、クリーニング装置１３として、潤滑材１４を感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）を備え、また、クリーニングをアシストする繊維状部材１３３（平ブラシ状）を用いた例を示してあるが、これらは必要に応じて使用される。
【０１９７】
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１９８】
なお、図示しないが、画像の安定性を高める目的で、電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。
【０１９９】
露光装置９としては、例えば、感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、所望の像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下近傍に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビーム出力が可能なタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。
【０２００】
現像装置１１としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤等を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。
【０２０１】
以下、現像装置１１に使用されるトナーについて説明する。
かかるトナーとしては、平均形状係数（形状係数＝ＭＬ２／Ａ×π／４×１００の個数平均、ここでＭＬはトナー粒子の最大長を表し、Ａはトナー粒子の投影面積を表す）が１００以上１５０以下であることが望ましく、１００以上１４０以下であることがより望ましい。更に、トナーとしては、体積平均粒子径が２μｍ以上１２μｍ以下であることが望ましく、３μｍ以上１２μｍ以下であることがより望ましく、３μｍ以上９μｍ以下であることが更に望ましい。この如く平均形状係数及び体積平均粒子径を満たすトナーを用いることにより、他のトナーと比べ、高い現像、転写性、及び高画質の画像が得られる。
【０２０２】
トナーは、上記平均形状係数及び体積平均粒子径を満足する範囲のものであれば特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。
【０２０３】
また、上記方法で得られたトナーをコアにして、更に凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法を使用してもよい。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。
【０２０４】
トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤及び離型剤からなり、必要であれば、シリカや帯電制御剤を含有して構成される。
【０２０５】
トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体及び共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。
【０２０６】
特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等が挙げられる。更に、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等が挙げられる。
【０２０７】
また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルコイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして例示される。
【０２０８】
離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示される。
【０２０９】
また、帯電制御剤としては、公知のものが使用されるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤が用いられ得る。湿式製法でトナーを製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減の点で水に溶解しにくい素材を使用することが望ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナー及び磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。
【０２１０】
現像装置１１に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はＶブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添することも可能である。
【０２１１】
現像装置１１に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の如く脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の如く植物系ワックス、ミツロウの如く動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の如く鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用される。これらは、１種を単独で、又は２種以上を併用して使用される。但し、体積平均粒径としては０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲が望ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は望ましくは０．０５質量％以上２．０質量％以下、より望ましくは０．１質量％以上１．５質量％以下の範囲である。
【０２１２】
現像装置１１に用いるトナーには、電子写真感光体表面の付着物、劣化物除去の目的等で、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えてもよい。
【０２１３】
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。
【０２１４】
また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも望ましく使用される。
【０２１５】
有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等が挙げられる。
【０２１６】
粒子径としては、体積平均粒子径で望ましくは５ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、より望ましくは５ｎｍ以上８００ｎｍ以下、更に望ましくは５ｎｍ以上７００ｎｍ以下でのものが使用される。体積平均粒子径が、上記下限値未満であると、研磨能力に欠ける傾向があり、他方、上記上限値を超えると、電子写真感光体表面に傷を発生しやすくなる傾向がある。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が０．６質量％以上であることが望ましい。
【０２１７】
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性、帯電制御等のため、１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機酸化物を用い、更に付着力低減や帯電制御のため、それより大径の無機酸化物を添加することが望ましい。これらの無機酸化物粒子は公知のものを使用してもよいが、精密な帯電制御を行なうためにはシリカと酸化チタンを併用することが望ましい。また、小径無機粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性を上げる効果が大きくなる。更に、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも放電生成物を除去するために望ましい。
【０２１８】
また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉、又はそれらの表面に樹脂コーティングを施したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、任意に設定される。
【０２１９】
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０２２０】
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いられる。
【０２２１】
画像形成装置１００は、上述した各装置の他に、例えば、感光体７に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。
【０２２２】
図５は、他の実施形態に係る画像形成装置１２０を示す概略断面図である。
図５に示される画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式のフルカラー画像形成装置である。
画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０２２３】
タンデム型の画像形成装置に本発明の電子写真感光体を用いた場合、４本の感光体の電気特性が安定することから、より長期に渡ってカラーバランスの優れた画質が得られる。
【０２２４】
また、本実施形態に係る画像形成装置（プロセスカートリッジ）において、現像装置（現像手段）は、電子写真感光体の移動方向（回転方向）に対して逆方向に移動（回転）する現像剤保持体である現像ローラを有することが望ましい。ここで、現像ローラは表面に現像剤を保持する円筒状の現像スリーブを有しており、また、現像装置はこの現像スリーブに供給する現像剤の量を規制する規制部材を有する構成のものが挙げられる。現像装置の現像ローラを電子写真感光体の回転方向に対して逆方向に移動（回転）させることで、現像ローラと電子写真感光体との間に留まるトナーで電子写真感光体表面が摺擦される。また、電子写真感光体上に残留したトナーをクリーニングする際に、例えば、球形に近い形状のトナーのクリーニング性を高めるためにブレード等の押し当て圧を高めることなどによって、電子写真感光体表面が強く摺擦される。
【０２２５】
これらの摺擦により、従来知られていた電子写真感光体は強くダメージを受け、磨耗、傷、或いは、トナーのフィルミングなどが発生しやすく、画像劣化を発生していたが、本発明の特定の電荷輸送性材料（特に、反応性官能基の数を増やし、高濃度に含有させた架橋密度の高い硬化膜が得られる材料）の架橋物によって高められ、且つ、電気特性に優れるため厚膜化した電子写真感光体表面を形成することで、長期に渡って高画質を維持することが可能となった。かかる放電生成物の堆積が極めて長期間抑制されると考えられる。
また、本実施形態の画像形成装置においては、放電生成物の堆積をより長期に亘って抑制する観点から、現像スリーブと感光体との間隔を２００μｍ以上６００μｍ以下とすることが望ましく、３００μｍ以上５００μｍ以下とすることがより望ましい。また、同様の観点から、現像スリーブと上述の現像剤量を規制する規制部材である規制ブレードとの間隔を３００μｍ以上１０００μｍ以下とすることが望ましく、４００μｍ以上７５０μｍ以下とすることがより望ましい。
更に、放電生成物の堆積をより長期に亘って抑制する観点から、現像ロール表面の移動速度の絶対値を、感光体表面の移動速度の絶対値（プロセススピード）の１．５倍以上２．５倍以下とすることが望ましく、１．７倍以上２．０倍以下とすることがより望ましい。
【０２２６】
また、本実施形態に係る画像形成装置（プロセスカートリッジ）において、現像装置（現像手段）は、磁性体を有する現像剤保持体を備え、磁性キャリア及びトナーを含む２成分系現像剤で静電潜像を現像するものであることが望ましい。この構成では、一成分系現像剤、特に非磁性一成分現像剤の場合に比べ、カラー画像でよりきれいな画質が得られ、更に高水準で高画質化及び高寿命化が実現される。
【実施例】
【０２２７】
以下、実施例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。当業者は、高分子合成化学および電子写真技術の公知の知見から、以下の実施例に変更を加えることが可能である。
【０２２８】
〔合成例１：４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸クロリド）の合成〕
塩化チオニル１４０ｍｌを氷冷し、４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）４８ｇを徐々に加えた。得られた混合物を３０℃で６時間加熱し、過剰の塩化チオニルを減圧下で留去した。残留物をクロロホルムより再結晶化して２２ｇの４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸クロリド）結晶を得た。
【０２２９】
〔合成例２：電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物（化合物Ａ−６）の合成〕
Ｎ，Ｎ’−ビス（ｐ，ｍ−ジメチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス［ｐ−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン１００ｇ、エチレングリコール２００ｇ、およびテトラブトキシチタン２ｇを、窒素気流下で４時間加熱還流した。その後、反応容器内の圧力を徐々に１ｍｍＨｇまで減圧しながら過剰のエチレングリコールを留去しつつ２２５℃に加熱し、そのまま、４時間反応を続けた。その後、室温まで冷却し、反応液に塩化メチレンを加え不溶分を溶解させ、メタノールに再沈殿することにより、両末端にヒドロキシ基を有するプレポリマー９０ｇを得た。得られたプレポリマーの重量平均分子量は２５０００であった。
上記プレポリマー４０ｇとトリエチルアミン０．５ｇとをジクロロメタン１２０ｍｌに溶解し、０℃以下に冷却した。ここに、合成例１で得られた４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸クロリド）１２ｇをジクロロメタン４０ｍｌに溶解した溶液を滴下した。得られた混合物を室温で１時間反応させた後に３０℃で５時間反応させた。その後、溶媒を留去し、反応生成物にテトラヒドロフランを加えて溶解させた溶液をメタノールに滴下し、１時間撹拌した後に沈降した固体を濾別した。この再沈殿操作をさらに２回繰り返した。残った化合物を乾燥して、電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物（化合物Ａ−６）３４ｇを得た。
【０２３０】
〔合成例３：電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物（化合物Ａ−１０）の合成〕
Ｎ，Ｎ’−ビス（ｐ，ｍ−ジメチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス［ｐ−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］−［３，３’−ジメチル−１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン１００ｇ、エチレングリコール２００ｇ、およびテトラブトキシチタン５ｇを、窒素気流下で３時間加熱還流した。その後、反応容器内の圧力を徐々に１ｍｍＨｇまで減圧しながら過剰のエチレングリコールを留去しつつ２２５℃に加熱し、そのまま、４時間反応を続けた。その後、室温まで冷却し、反応液に塩化メチレンを加え不溶分を溶解させ、メタノールに再沈殿することにより、両末端にヒドロキシ基を有するプレポリマー９２ｇを得た。得られたプレポリマーの重量平均分子量は３００００であった。
上記プレポリマー４０ｇとトリエチルアミン０．５ｇとをジクロロメタン１２０ｍｌに溶解し、０℃以下に冷却した。ここに、合成例１で得られた４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸クロリド）１０ｇをジクロロメタン４０ｍｌに溶解した溶液を滴下した。混合物を室温で１時間反応させた後に３０℃で５時間反応させた。その後、溶媒を留去し、反応生成物にテトラヒドロフランを加えて溶解させた溶液をメタノールに滴下し、１時間撹拌した後に沈降した固体を濾別した。この再沈殿操作をさらに２回繰り返した。残った化合物を乾燥して、電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物（化合物Ａ−１０）３５ｇを得た。
【０２３１】
［実施例１］
（下引層の作製）
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学社製）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤で表面処理を施した酸化亜鉛を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛１１０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．６質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛を濾別し、更に６０℃で減圧乾燥を行い、アリザリンを付与させた酸化亜鉛を得た。
【０２３２】
このアリザリンを付与させた酸化亜鉛：６０質量部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート  スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）：１３．５質量部と、ブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）：１５質量部と、をメチルエチルケトン８５質量部に混合した液３８質量部とメチルエチルケトン：２５質量部とを混合し、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
【０２３３】
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部、及びシリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）：４０質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い、厚さ１９μｍの下引層を得た。
【０２３４】
（電荷発生層の作製）
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、及びｎ−酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５質量部、及びメチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温（２５℃）で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０２３５】
（電荷輸送層の作製）
一般式（Ｉ）で表される化合物（化合物ｉ−１）５５質量部、及び電荷輸送能を有し且つアゾ基を有する化合物（一般式（Ａ）で表される化合物；化合物Ａ−６）４５質量部を、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６００質量部に溶解し、更にフッ素系界面活性剤（商品名ＫＬ−６００：共栄社化学社製）１質量部を溶解させ電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、酸素濃度約１００ｐｐｍの雰囲気下で１５０℃、４５分加熱し、厚さ２０μｍの電荷輸送層（最表面層）を形成した。
以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体１とする。
【０２３６】
［評価］
−画質評価−
上述のようにして作製した電子写真感光体を富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ-ＩＩ  Ｃ７５００（カラー・モノクロ複合機）に装着し、１０℃、１５％ＲＨの環境下において、画像評価テスト（１）を行った。
その後、同環境にて５％ハーフトーン画像を連続して１万枚印刷した。１万枚印刷後、同環境で画像評価テスト（２）を行った。
更に、その後、画像形成装置を２７℃、８０％ＲＨの環境下に２４時間放置し、その後、同環境下で画質評価テスト（３）を行った。
画質評価テスト（１）、（２）、及び（３）では、以下に示す、濃度ムラ、スジ、画像流れ、及びゴーストについて評価した。
なお、画像形成テストには、富士ゼロックス製  Ｐ紙（Ａ４サイズ、横送り）を用いた。
評価結果は、表３に示す。
【０２３７】
（濃度ムラ評価）
濃度ムラ評価は５％ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：部分的にムラの発生あり。
Ｃ：画質上問題となるムラ発生。
【０２３８】
（スジ評価）
スジ評価は５％ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：部分的にスジの発生あり。
Ｃ：画質上問題となるスジ発生。
【０２３９】
（画像流れの評価）
また、上記テストとともに画像流れの評価も以下のような要領で行った。
画像流れは５％ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：連続的にプリントテストしている時は問題ないが、２４時間放置後に発生。
Ｃ：連続的にプリントテストしている時にも発生。
【０２４０】
（ゴースト評価）
ゴーストは、除電光を強制的に切った状態で（感光体の除電を行わない状態で）、図６（Ａ）に示したＧと黒領域を有するパターンのチャートをプリントし、黒領域部分にＧの文字の現れ具合を目視にて評価した。
Ａ：図６（Ａ）のように良好乃至軽微である。
Ｂ：図６（Ｂ）のように若干目立つ程度である
Ｃ：図６（Ｃ）のようにはっきり確認されることを示す。
【０２４１】
（表面観察）
また、画質評価テスト（１）、（２）、及び（３）における各評価後の電子写真感光体表面を観察し、以下のように評価した。
Ａ：２０倍に拡大しても傷、付着ともに見らせず良好。
Ｂ：２０倍に拡大するとわずかな傷、若しくは付着物が見られる
Ｃ：肉眼でも傷、若しくは付着物が見られる。
【０２４２】
［実施例２乃至１３、比較例１］
下記表３、表４に従って、電荷輸送層形成用塗布液を構成する各材料とその配合量を変えた以外は、実施例１と同様にして感光体２乃至１３、Ｃ１を作製し、実施例１と同様の方法で評価を行った。その結果を表５、表６に示した。
なお、表３には実施例１における各材料、その配合量を併記した。
【０２４３】
【表３】
2010231077.tif 000037
【０２４４】
【表４】
2010231077.tif 000038
【０２４５】
なお、表３、表４中の「ＣＴＭ−１」、「ＤＡ−１」、「ＰＣ（Ｚ）」、及び「ＡＩＢＮ」について、以下に説明する。
・ＣＴＭ−１：Ｎ，Ｎ’―ジフェニル−Ｎ，Ｎ’―ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１’〕ビフェニル−４，４’―ジアミン
・ＤＡ−１：エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート
・ＰＣ（Ｚ）：ビスフェノール（Ｚ）ポリカーボネート（粘度平均分子量４万、三菱瓦斯化学工業社製）
・ＡＩＢＮ：アゾビスイソブチルニトリル（大塚化学社製の熱重合開始剤）
【０２４６】
［実施例１４］
電荷発生層までは実施例１と同様に作製した。
その後、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４５質量部、及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万）５５質量部を、クロルベンゼン８００質量部に加えて溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃、４５分の乾燥を行って膜厚が１５μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２４７】
続いて、実施例１で用いた電荷輸送層形成用塗布液を、上記電荷輸送層上にスプレー塗布により塗布した後、酸素濃度約１００ｐｐｍの雰囲気下で１５０℃、４５分加熱し、厚さ５μｍの保護層（最表面層）を形成した。
以上のような方法で、電子写真感光体を得た。この感光体を感光体１４とする。
この感光体１４について、実施例１と同様の方法で評価を行った。その結果を表６に示した。
【０２４８】
［比較例２］
電荷発生層までは実施例１と同様に作製した。
その後、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１’〕ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＣＴＭ−１）４５質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート（ＰＣ（Ｚ）、粘度平均分子量４万、三菱瓦斯化学工業社製）６０質量部とを、ＴＨＦ８００質量部に溶解させ電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３５℃、４５分加熱し膜厚２０μｕｍの電荷輸送層を形成した。
この方法で得られた電子写真感光体を感光体Ｃ２とする。
この感光体Ｃ２について、実施例１と同様の方法で評価を行った。その結果を表６に示した。
【０２４９】
【表５】
2010231077.tif 000039
【０２５０】
【表６】
2010231077.tif 000040
【０２５１】
表５及び表６から以下のようなことが分かる。
即ち、実施例の感光体を備えた画像形成装置では、印刷初期の画質評価テスト（１）から印刷を繰り返した後の画質評価テスト（２）まで、濃度ムラ、スジ、画像流れ、及びゴーストのいずれもが良好であることが分かる。また、実施例の感光体の表面性状は、画質評価テスト（１）、及び画質評価テスト（２）のいずれの際であっても良好であることが分かる。更に、高温、高湿下に保存された後の画質評価テスト（３）の際にも、濃度ムラ、スジ、画像流れ、ゴースト、及び表面性状に実用上の問題は発生していなかった。
一方、比較例１は、印刷初期の画像評価テスト（１）、印刷を繰り返した後の画質評価テスト（２）、高温、高湿下に保存された後の画質評価テスト（３）のいずれにおいても、ゴーストが発生してしまい、実用上問題があることが分かる。
また、比較例２は、画質評価テスト（２）、画質評価テスト（３）の際に表面性状が劣っており、感光体の最表面層の機械的強度が低く、実用上問題があることが分かる。
【符号の説明】
【０２５２】
１  下引層
２  電荷発生層
３  電荷輸送層
４  導電性基体
５  保護層
６  単層型感光層
７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７  電子写真感光体
８  帯電装置
９  露光装置
１１  現像装置
１３  クリーニング装置
１４  潤滑材
４０  転写装置
５０  中間転写体
１００  画像形成装置
１２０  画像形成装置
３００  プロセスカートリッジ
【図１】
2010231077.tif 000044
【図２】
2010231077.tif 000045
【図３】
2010231077.tif 000046
【図４】
2010231077.tif 000047
【図５】
2010231077.tif 000048
【図６】
2010231077.tif 000049