(57)【要約】【課題】電極間に印加する電圧を制御することにより、透過領域及び不透過領域を変化させることができる光制御装置を得る。【解決手段】液晶層３と、液晶層３を挟むように設けられる一対の電極１，２と、一対の電極１，２間に印加する電圧を制御するための電圧制御手段７とを備え、一対の電極１，２の内の少なくとも一方の電極が、一対の電極１，２の電極間距離を変化させるように立体的に変化した電極面２ａを有し、電圧制御手段７で、一対の電極１，２間に印加する電圧を制御することにより、液晶層３の透過領域を変化させることができることを特徴としている。【選択図】図１
2010038974.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層と、
前記液晶層を挟むように設けられる一対の電極と、
前記一対の電極間に印加する電圧を制御するための電圧制御手段とを備え、
前記一対の電極の内の少なくとも一方の電極が、前記一対の電極の電極間距離を変化させるように立体的に変化した電極面を有し、前記電圧制御手段で、前記一対の電極間に印加する電圧を制御することにより、前記液晶層の透過領域を変化させることができることを特徴とする光制御装置。
【請求項２】
前記電極面を有する電極が、基板上に設けられた下地層の表面上に形成されており、前記下地層の前記表面が前記電極面の形状に対応する形状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光制御装置。
【請求項３】
前記電極面が、一方端において電極間距離が長く、他方端において電極間距離が短くなる傾斜面の形状を有することを特徴とする請求項１または２に記載の光制御装置。
【請求項４】
前記電極面が、球面形状を有することを特徴とする請求項１または２に記載の光制御装置。
【請求項５】
前記一対の電極のうちの少なくとも一方の電極が分割して設けられており、分割された電極単位で、印加する電圧を制御可能であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、西日対策、プライバシー保護などの目的で使用するシャッターや、窓、扉、壁などの間仕切りなどの用途で用いることができる液晶素子を用いた光制御装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶素子は、一般に表示素子として用いられており、視野角を制御するため、電極を分割し、分割した電極に選択的に電圧を印加することなどが提案されている（特許文献１〜４など）。電極を分割し、分割した電極に選択的に電圧を印加するものであるため、製造工程が複雑で、また電極構造や配線が複雑になるなどの問題がある。
【０００３】
一方、液晶素子を用いたシャッターとしては、光を透過するオン状態と、光を不透過にするオフ状態で実現するものは知られているが、透過状態と不透過状態を可変的に変化させて制御するものについては十分に検討されていない。
【０００４】
このように透過状態と不透過状態を連続的に制御することができれば、西日対策、プライバシー保護などに用いるシャッターや、窓、扉、壁などの間仕切りに応用することが可能である。
【特許文献１】特開平９−７３０７７号公報
【特許文献２】特開２００７−２７９２２４号公報
【特許文献３】特開平９−６１７７９号公報
【特許文献４】特開平８−６２５８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、電極間に印加する電圧を制御することにより、透過領域及び不透過領域を変化させることができる液晶素子を用いた光制御装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、液晶層と、液晶層を挟むように設けられる一対の電極と、一対の電極間に印加する電圧を制御するための電圧制御手段とを備え、一対の電極の内の少なくとも一方の電極が、一対の電極の電極間距離を変化させるように立体的に変化した電極面を有し、電圧制御手段で、一対の電極間に印加する電圧を制御することにより、液晶層の透過領域を変化させることができることを特徴としている。
【０００７】
本発明においては、一対の電極のうちの少なくとも一方の電極が、一対の電極の電極間距離を変化させるように立体的に変化した電極面を有している。液晶においては、電界の印加により、液晶の配向度を変化させ、光の透過状態と、光の散乱による不透過状態とを制御することができる。すなわち、電界の印加がない場合、液晶はランダムに配向するため、光は乱反射し、不透過の状態となる。また、電圧を印加すると、液晶は一定方向に配向し、透過状態となる。
【０００８】
後述するように、電極間距離が短いと、相対的に低い電圧でも透過状態とすることができる。電極間距離が長くなると、透過状態にするのに相対的に高い電圧を印加する必要がある。本発明においては、上記のように立体的に変化した電極面を有しているので、電極間距離が相対的に短い部分と、電極間距離が相対的に長い部分とが存在している。印加する電圧が低い場合、電極間距離の短い部分を透過領域とすることができる。相対的に印加する電圧を高くしていくと、電極間距離の長い部分も透過領域となっていく。従って、電圧制御手段で、一対の電極間に印加する電圧を制御することにより、液晶層の透過領域を変化させることができる。
【０００９】
従って、本発明によれば、電極間に印加する電圧を制御することにより、透過領域及び不透過領域を変化させることができる。
【００１０】
本発明においては、電極面を有する電極が、基板上に設けられた下地層の表面上に形成されており、下地層の表面が電極面の形状に対応する形状に形成されていることが好ましい。これにより、基板上に下地層を設け、この下地層の表面を電極面形状に対応する形状に形成して、所望の電極面形状を有する電極を容易に作製することができる。
【００１１】
下地層を形成する材料としては、特に限定されるものではないが、透光性を有する紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂などを用いることができる。このような樹脂を用い、型を押し付けて表面の形状を作製するスタンプ法などにより、下地層の表面を所望の形状に成形することができる。
【００１２】
本発明における電極面の形状としては、例えば、複数のストライプ状の凸部が該ストライプの延びる方向と略垂直な方向に連続して形成された形状が挙げられる。このような電極面形状のものを用いることにより、液晶素子を透過する光の透過量や視野角を制御することができ、西日対策、プライバシー保護などを目的としたシャッターなどに用いることができる。
【００１３】
ストライプ状の凸部の形状としては、円柱の外周面形状や凸部先端に平坦面が形成された形状などが挙げられる。
【００１４】
本発明において、電極面は、一方端において電極間距離が長く、他方端において電極間距離が短くなる傾斜面の形状であってもよい。このような傾斜面の形状を有する電極面の場合、印加する電圧を低くすると、電極間距離が短い他方端の部分に透過領域が形成され、電極間距離が長い部分においては不透過領域となる。印加電圧を高くしていくと、徐々に電極間距離の長い部分が透過領域となり、最終的には全体を透過領域にすることができる。
【００１５】
本発明において、電極面は、球面形状を有していてもよい。電極面が球面形状を有する場合、電極面の中心が電極間距離の最も短い部分となるので、印加電圧を上げていくと、電極面の中心から同心円状に透過領域が拡がるような液晶シャッターを実現することができる。
【００１６】
本発明においては、一対の電極のうちの少なくとも一方の電極が分割して設けられていてもよい。このように分割された電極は、電極単位で印加電圧を制御可能にすることが好ましい。これにより、分割された電極単位で、それぞれ別個に電極内で、あるいは電極相互間で透過領域及び不透過領域を制御することができる。
【００１７】
本発明において用いる液晶は、特に限定されるものではないが、高分子分散型液晶、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ  Ｈｏｓｔ）型液晶、ＰＣ（Ｐｈａｓｅ  ｃｈａｎｇｅ）型液晶などが好ましく用いられる。高分子分散型液晶は、高分子マトリックス中に液晶滴を分散させたもの、あるいは高分子マトリックス中に液晶の連続相が形成されたものであれば特に限定されるものではない。高分子マトリックスを形成する単官能のモノマーとしては、シクロヘキシルアクリレート（Ｔｇ：１６℃）、ジシクロペンテニロキシエチルアクリレート（Ｔｇ：１２℃）、テトラヒドロフルフリールアクリレート（Ｔｇ：６０℃）、ジシクロペンテニルアクリレート（Ｔｇ：９５℃）、イソボルニルアクリレート（Ｔｇ：９０〜１００℃）、ｔ−ブチルアミノエチルメタクリレート（Ｔｇ：３３℃）、ジシクロペンテニロキシエチルメタクリレート（Ｔｇ：３０℃）、ステアリルメタクリレート（Ｔｇ：３８℃）、グリシジルメタクリレート（Ｔｇ：４１℃）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（Ｔｇ：５５℃）、シクロヘキシルメタクリレート（Ｔｇ：６６℃）、イソボルニルメタクリレート（Ｔｇ：１７０℃）などが挙げられる。
【００１８】
多官能モノマーとしては、ネオペンチルグリコールジアクリレート（Ｔｇ：７０℃）、ビスフェノールＡジエトキシジアクリレート（Ｔｇ：７５℃）、トリプロピレングリコールジアクリレート（Ｔｇ：９０℃）、プロポキシトリメチロールプロパントリアクリレート（Ｔｇ：１２０℃）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｔｇ：＞２５０℃）、トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｔｇ：＞２５０℃）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（Ｔｇ：＞２５０℃）などが挙げられる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、電極間に印加する電圧を制御することにより、透過領域及び不透過領域を変化させることができる。
【００２０】
従って、本発明の光制御装置は、西日対策、プライバシー保護などの目的で使用するシャッターや、窓、扉、壁などの間仕切りなどに用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明を具体的な実施形態により説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００２２】
＜印加電圧と透過率の関係＞
印加電圧によって、高分子分散型液晶層の透過率が変化することを確認するため、以下のようにして高分子分散型液晶素子を作製し、印加電圧を変化させて透過率を測定した。
【００２３】
ガラス基板の上に、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）を用いて透明電極を形成し、表面に透明電極を形成した一対のガラス基板を準備した。
【００２４】
イソボルニルアクリレートと、液晶（メルク社製、商品名「ＺＬＩ−１８４０」）と、光重合開始剤としての１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア１８４」）とを、体積比で５０：５０：１の割合となるように混合し、混合した樹脂を、一方の透明電極を形成した基板上に塗布した後、他方の透明電極を形成した基板で挟み、スペーサーを用いて透明電極間距離が３０μｍとなるように挟んだ。
【００２５】
次に、ＬＥＤ光源（松下電工社製ＵＪ２０、ピーク波長：３６５ｎｍ）を用いて、樹脂に紫外線を照射した（紫外線照度：２８０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間４０秒）。これにより、樹脂を硬化させ、高分子分散型液晶素子を作製した。
【００２６】
得られた高分子分散型液晶素子を用いて、印加電圧と透過率との関係を調べた。高分子分散型液晶素子に電圧を印加する駆動電源としては、電圧可変の直流電源を用いた。また、透過率の測定は、日立社製の分光光度計（Ｕ４１００）を用いた。透過率は、波長５００ｎｍにおける透過率を測定した。
【００２７】
測定結果を表１に示す。また、電圧と透過率との関係を図５に示す。
【００２８】
【表１】
2010038974.tif 000003
【００２９】
表１及び図５に示すように、印加電圧が高くなるにつれ、透過率が向上していることがわかる。波長５００ｎｍの透過率が３５％までの場合、透過光によって文字は認識できず、透過率３５％〜４０％の間では、透過光によって僅かに文字が認識できる程度であり、透過率が４０％以上になると文字が明確に認識できた。
【００３０】
従って、印加電圧を変化させることにより、高分子分散型液晶素子の透過領域及び不透過領域を制御できることがわかる。また、電極間距離が短くなると、同じ電圧を印加しても、液晶に印加される電界強度は高くなる。従って、電極間距離を変えることによっても、透過領域と非透過領域を変化させることができる。
【００３１】
本発明においては、一対の電極のうちの少なくとも一方の電極が、電極間距離を変化させるように立体的に変化した電極面を有している。このため、このような電極面の立体的な形状の変化によって電極間距離を変化させて、透過領域及び不透過領域を形成することができるとともに、印加する電圧を制御することによって、高分子分散型液晶層の透過領域及び不透過領域を変化させることができる。
【００３２】
（第１の実施形態）
図１は、本発明に従う第１の実施形態の光制御装置を示す断面図である。図１に示すように、ガラス基板などからなる透明基板１の上には、ＩＴＯなどからなる透明電極１が形成されている。透明電極１は、基板４の平坦な表面上に形成されているので、その電極面１ａは平坦な面形状を有している。
【００３３】
また、ガラス基板などからなる透明基板５の上には、下地層６が形成されている。下地層６は、透明樹脂から形成されており、紫外線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂から形成されている。下地層６の表面６ａは、複数のストライプ状の凸部が連続して形成されている。複数のストライプ状凸部は、該ストライプの延びる方向と略垂直な方向に連続して形成されている。
【００３４】
下地層６の表面６ａ上には、ＩＴＯなどからなる透明電極２が形成されている。透明電極２は、下地層６の表面６ａ上に形成されているので、表面６ａに対応する形状の電極面２ａを有している。
【００３５】
図２は、電極面２ａを示す平面図である。図２に示すように、電極面２ａは、ストライプ状の凸部２ｂが、該ストライプの延びる方向と略垂直な方向に連続して形成されている。ストライプ状の凸部２ｂは、円柱の外周面形状を有している。
【００３６】
図１を参照して、電極面２ａの凸部２ｂの先端と、ベース部２ｃとの間の距離は、２０μｍとなるように形成されている。また、ベース部２ｃ間の間隔は、４０μｍとなるように形成されている。
【００３７】
透明電極１ａと透明電極２ａの間には、液晶層３が挟まれるように設けられている。透明電極１の電極面１ａと、透明電極２の電極面２ａのベース部２ｃとの間の距離は、３０μｍとなるように基板４と基板５が組み合わされている。
【００３８】
透明電極１及び透明電極２には、電圧制御手段７が接続されている。この電圧制御手段７は、透明電極１と透明電極２の間に印加する電圧を可変的に制御することができる。電圧制御手段７としては、電圧可変の直流電源を用いている。
【００３９】
液晶層３は、上記の＜印加電圧と透過率の関係＞において作製したのと同様にして作製することができる。
【００４０】
図６〜図８は、透明電極１及び２の間に印加する電圧を変化させたときの透過領域８及び不透過領域９の変化を示す断面図である。
【００４１】
図６は、透明電極１及び２の間に比較的低い電圧を印加しているときの状態を示している。図６に示すように、相対的に低い電圧を印加しているときにおいては、透明電極１と透明電極２の間の距離が最も短い部分である凸部２ｂの先端部分において透過領域８が形成されており、その他の部分は不透過領域９となっている。従って、透明電極１と透明電極２の間の、凸部２ｂの先端部分の狭い領域にのみ透過領域８が形成されており、光制御装置１０の基板４及び基板５に対し垂直方向である矢印Ａの方向の光は透過することができるが、基板４及び５に対し斜め方向である矢印Ｂ及び矢印Ｃの方向の光は透過できずに遮蔽される。
【００４２】
図７は、本実施形態の光制御装置１０に、中程度の電圧を印加したときの状態を示している。図７に示すように、電圧が高くなると、透明電極２の凸部２ｂの先端を中心としてより広い領域に透過領域８が形成される。このため、基板４及び５に対し斜め方向である矢印Ｂ及び矢印Ｃの方向の光が透過されやすくなる。
【００４３】
図８は、光制御装置１０に、相対的に高い電圧が印加されたときの状態を示している。図８に示すように、透明電極１及び２の間に相対的に高い電圧を印加すると、透明電極２の凸部２ｂの先端を中心としてより広い領域に透過領域８が形成され、不透過領域９は、透明電極１との間の電極間距離が最も長いベース部２ｃの部分にのみ形成された状態となる。
【００４４】
このような状態においては、基板４及び５に対し斜め方向である矢印Ｂ及び矢印Ｃの方向の光がさらに透過されやすくなる。
【００４５】
以上のように、本実施形態の光制御装置においては、印加電圧を相対的に低くすることにより、斜め方向の光を遮蔽することができ、西日対策や、プライバシー保護などの目的で使用するブラインドシャッターなどに適用できることがわかる。
【００４６】
従って、窓、扉、壁などの間仕切りなどに用いて、ブラインドシャッター機能を付与することができる。
【００４７】
（第２の実施形態）
図３は、本発明に従う第２の実施形態の光制御装置を示す断面図である。
【００４８】
本実施形態においても、透明電極２の電極面２ａに、ストライプ状の凸部２ｂが形成されている。しかしながら、本実施形態の凸部２ｂは、凸部２ｂの先端に平坦面が形成されている。従って、断面形状が、台形の外周部の形状を有している。
【００４９】
図４は、本実施形態の電極面２ａを示す平面図である。凸部２ｂの先端には平坦面が形成されており、このような平坦面が形成されたストライプ状の凸部が、該ストライプの延びる方向と略垂直な方向に連続して形成されている。
【００５０】
電極面２ａにおいて、凸部２ｂの先端部と、ベース部２ｃとの間の高さは、２０μｍとなるように形成されている。また、ベース部２ｃ間の間隔は４０μｍとなるように形成されている。また、凸部２ｂの平坦面の幅は、２０μｍとなるように形成されている。
【００５１】
本実施形態においては、透明電極１の電極面１ａと、透明電極２のベース部２ｃとの間の距離が、３０μｍとなるように基板４と基板５が組み合わされている。
【００５２】
なお、液晶層３は、第１の実施形態と同様にして形成されている。
【００５３】
図９及び図１０は、本実施形態の液晶層に印加する電圧を変化させたときの透過領域８及び不透過領域９の状態を示す断面図である。
【００５４】
図９は、光制御装置１０の透明電極１及び２の間に、相対的に低い電圧を印加したときの状態を示している。
【００５５】
図９に示すように、印加する電圧が相対的に低い場合、透明電極２の凸部２ｂの平坦面に相当する領域の部分のみに透過領域８が形成され、その他の部分は非透過領域９となる。凸部２ｂの先端に平坦面が形成されているので、本実施形態においては、印加する電圧が相対的に低い場合であっても、第１の実施形態に比べ、より広い領域を、透過領域８とすることができる。
【００５６】
図９に示す状態では、基板４及び５に対し垂直な方向である矢印Ａの方向の光は透過されやすいが、矢印Ｂ及びＣの斜め方向の光は透過されにくい状態となっている。
【００５７】
図１０は、本実施形態の光制御装置１０に、相対的に高い電圧を印加したときの状態を示す断面図である。
【００５８】
図１０に示すように、図９の状態に比べ、より広い領域に透過領域８が形成されており、不透過領域９は、透明電極２のベース部２ｃに対応する部分にのみ形成されている。
【００５９】
図１０に示す状態では、斜め方向である矢印Ｂ及び矢印Ｃの方向の光も透過されやすい状態となっている。
【００６０】
さらに印加する電圧を高くすると、さらに透過領域８が広がり、最終的には不透過領域９が存在しない状態となる。このような状態となれば、斜め方向である矢印Ｂ及び矢印Ｃの方向の光をさらに透過させやすくすることができる。
【００６１】
従って、本実施形態の光制御装置に対して、印加する電圧を相対的に低くすることにより、斜め方向の光の透過を制限することができ、印加する電圧を高くすることにより、斜め方向の光を透過させやすくすることができる。このため、第１の実施形態の光制御装置と同様に、西日対策、プライバシー保護などの目的のブラインドシャッターとして用いることができ、窓、扉、壁などの間仕切りに用いて、ブラインドシャッター機能を付与することができる。
【００６２】
（第３の実施形態）
図１１は、本発明に従う第３の実施形態の光制御装置を示す断面図である。
【００６３】
本実施形態においては、基板５側に設ける透明電極を、透明電極１１、１２及び１３に分割して形成している。透明電極１１、１２及び１３は、基板５上に設けた下地層６の表面６ａ上に形成されている。従って、下地層６の表面６ａに対応した形状となるように透明電極１１、１２及び１３が形成されている。
【００６４】
透明電極１１と透明電極１２の間、透明電極１２と透明電極１３の間の部分をエッチングなどで除去することにより、透明電極１１、透明電極１２及び透明電極１３を分割して形成することができる。
【００６５】
図１２は、透明電極１１、１２及び１３を示す平面図である。
【００６６】
透明電極１１、１２及び１３に形成する凸部は、第１の実施形態と同様の寸法形状を有している。
【００６７】
透明電極１１、１２及び１３と対向する電極１は、第１の実施形態と同様の電極であり、共通電極として設けられている。
【００６８】
透明電極１１、１２及び１３は、それぞれ別の電圧制御手段に接続されており、これらの電極に印加する電圧はそれぞれ別に制御することができる。
【００６９】
従って、本実施形態においては、分割された透明電極１１、１２及び１３のそれぞれに対し、独立して印加電圧を制御することができる。
【００７０】
従って、例えば、透明電極１１、１２及び１３のいずれかに対応する部分の全体を透過領域とし、その他の部分を不透過領域とすることができるとともに、それぞれの透明電極内において、透過領域及び不透過領域の形成を制御することもできる。
【００７１】
（第４の実施形態）
図１３は、本実施形態に従う第４の実施形態の光制御装置を示す断面図である。
【００７２】
本実施形態においては、基板４の上に下地層６を形成し、下地層６の上に、透明電極１５を形成している。基板４と対向する基板５の上には、直接透明電極１４が形成されている。
【００７３】
本実施形態において、下地層６の表面６ａは、上方から下方に向かって徐々に基板４から遠ざかるように傾斜している傾斜面を形成している。
【００７４】
傾斜面である下地層６の表面６ａの上に、透明電極１５が形成されている。従って、透明電極１５の電極面１５ａは、下地層６の表面６ａと同様の傾斜面を形成している。このため、上方端１５ｃにおいて透明電極１４との電極間距離が長く、下方端１５ｂにおいて透明電極１４との電極間距離が短くなる傾斜面の形状を有している。
【００７５】
図１４は、本実施形態の透過領域８及び不透過領域９を示す断面図である。
【００７６】
図１４に示すように、下方端１５ｂにおいて、透明電極１４との電極間距離が短く、上方端１５ｃにおいて、透明電極１４との電極間距離が長くなっているので、相対的に電圧が低い状態においては、下方端１５ｂの近傍に透過領域８が形成され、印加電圧が高くなるにつれて、透過領域８が上方に拡がっていく。印加電圧をさらに高めると、光制御装置全体を透過領域８とすることができるようになる。
【００７７】
従って、本実施形態の光制御装置は、印加電圧により、透過領域を広げたり狭くしたりすることができ、例えば、窓、扉、壁などの間仕切りにおいて、シャッターなどとして用いることができる。
【００７８】
（第５の実施形態）
図１５は、本発明に従う第５の実施形態の光制御装置を示す断面図である。
【００７９】
本実施形態においては、基板４の上に、透明電極１６が直接形成されている。従って、透明電極１６の電極面１６ａは平坦な面として形成されている。
【００８０】
透明電極１６と対向する透明電極１７は、基板５上の下地層６の表面６ａ上に形成されている。下地層６の表面６ａは、球面形状を有している。従って、透明電極１７の電極面１７ａは、球面形状を有している。
【００８１】
電極面１７ａの中心部１７ｂは、透明電極１６に最も近い部分であり、電極間距離が最も短い部分である。電極面１７ａの周縁部１７ｃに近づくにつれて、電極間距離が徐々に長くなっている。
【００８２】
本実施形態において、透明電極１６と透明電極１７の間に電圧を印加すると、相対的に電圧が低い場合、中心部１７ｂの付近のみが透過領域となり、電圧を高めていくと、中心部１７ｂを中心として、図１６の平面図に示すように、透過領域８が同心円状に拡がっていく。
【００８３】
従って、本実施形態の光制御装置は、印加電圧を制御することにより、液晶層の透過領域を同心円状に変化させることができる。従って、窓、扉、壁などの間仕切りにおいて、シャッターなどとして用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明に従う第１の実施形態の光制御装置を示す断面図。
【図２】図１に示す光制御装置における透明電極の電極面を示す平面図。
【図３】本発明に従う第２の実施形態の光制御装置を示す断面図。
【図４】図３に示す光制御装置における透明電極の電極面を示す平面図。
【図５】液晶層の電圧と透過率の関係を示す図。
【図６】図１に示す実施形態において、印加電圧を変化させたときの状態を説明するための断面図。
【図７】図１に示す実施形態において、印加電圧を変化させたときの状態を説明するための断面図。
【図８】図１に示す実施形態において、印加電圧を変化させたときの状態を説明するための断面図。
【図９】第２の実施形態において、印加電圧を変化させたときの状態を説明するための断面図。
【図１０】第２の実施形態において、印加電圧を変化させたときの状態を説明するための断面図。
【図１１】本発明に従う第３の実施形態の光制御装置を示す断面図。
【図１２】図１１に示す実施形態における分割した透明電極を示す平面図。
【図１３】本発明に従う第４の実施形態の光制御装置を示す断面図。
【図１４】図１３に示す実施形態における透過領域及び不透過領域を示す断面図。
【図１５】本発明に従う第５の実施形態の光制御装置を示す断面図。
【図１６】図１５に示す実施形態の光制御装置の透過領域を示す平面図。
【符号の説明】
【００８５】
１，２…透明電極
１ａ，２ａ…透明電極の電極面
２ｂ…透明電極のストライプ状凸部
２ｃ…透明電極のベース部
３…液晶層
４，５…基板
６…下地層
６ａ…下地層の表面
８…透過領域
９…不透過領域
１０…光制御装置
１１，１２，１３…分割した透明電極
１４，１５…透明電極
１４ａ，１５ａ…電極面
１５ｂ…透明電極の下方端
１５ｃ…透明電極の上方端
１６，１７…透明電極
１６ａ，１７ａ…電極面
１７ｂ…電極面の中心部
１７ｃ…電極面の周縁部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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