(57)【要約】【課題】本発明は、被処理物の搬送情報と、処理室の使用状況に関する情報と、に基づいて被処理物が収納された処理容器を選択的にポート部に供給することで、処理室の使用効率を向上させることができる被処理物の処理方法、処理装置および半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】搬送情報に基づいて、ポート部に載置された収納容器から被処理物を所定の処理室へ搬送し、前記処理室において前記被処理物の処理を行う被処理物の処理方法であって、前記搬送情報は、前記被処理物ごと、または前記処理容器ごとに予め定められており、前記搬送情報と、前記処理室の使用状況に関する情報と、に基づいて、前記被処理物が収納された収納容器を選択的に前記ポート部に供給すること、を特徴とする被処理物の処理方法が提供される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送情報に基づいて、ポート部に載置された収納容器から被処理物を所定の処理室へ搬送し、前記処理室において前記被処理物の処理を行う被処理物の処理方法であって、
前記搬送情報は、前記被処理物ごと、または前記処理容器ごとに予め定められており、
前記搬送情報と、前記処理室の使用状況に関する情報と、に基づいて、前記被処理物が収納された収納容器を選択的に前記ポート部に供給すること、を特徴とする被処理物の処理方法。
【請求項２】
複数の前記処理室のうち、一部のものが使用されておらず、前記使用されていない処理室を対象に含む前記搬送情報を有する前記被処理物、または前記処理容器がある場合には、生産の優先度に基づいて、前記収納容器を選択的に前記ポート部に供給すること、を特徴とする請求項１記載の被処理物の処理方法。
【請求項３】
前記搬送情報に、すでに使用されている処理室が対象として含まれている場合には、前記使用されていない処理室のみを使用するように変更が行われること、を特徴とする請求項２記載の被処理物の処理方法。
【請求項４】
複数の前記処理室のうち、一部のものが使用されておらず、前記使用されていない処理室を対象に含む前記搬送情報を有する前記被処理物、または前記処理容器がない場合には、前記使用されていない処理室の数と、使用されていないポート部の数と、に基づいて、前記収納容器の前記使用されていないポート部への供給の可否が判定されること、を特徴とする請求項１記載の被処理物の処理方法。
【請求項５】
前記使用されていない処理室の数が、前記使用されていないポート部の数以上である場合には、前記被処理物が収納された収納容器を前記ポート部に供給しないという判定がなされること、を特徴とする請求項４記載の被処理物の処理方法。
【請求項６】
前記使用されていない処理室の数が、前記使用されていないポート部の数未満である場合には、前記被処理物が収納された収納容器を生産の優先度に基づいて前記ポート部に供給するという判定がなされること、を特徴とする請求項４記載の被処理物の処理方法。
【請求項７】
複数の前記処理室のうち、一部のものが品質検査の状態にある場合には、複数の前記ポート部のうち少なくとも１箇所には前記被処理物が収納された収納容器を供給しないようにすること、を特徴とする請求項１記載の被処理物の処理方法。
【請求項８】
前記品質検査の状態にある処理室を対象に含む前記搬送情報を有する前記被処理物、または前記処理容器を前記ポート部に供給しないようにすること、を特徴とする請求項７記載の被処理物の処理方法。
【請求項９】
被処理物を処理する複数の処理室と、
前記被処理物を収納する収納容器を載置する複数のポート部と、
搬送情報に基づいて、前記処理室と前記収納容器との間における前記被処理物の搬送を行う搬送手段と、
前記被処理物が収納された収納容器を前記ポート部に供給する供給手段と、
請求項１〜８のいずれか１つに記載の被処理物の処理方法による処理が行われるように前記供給手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする処理装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１つに記載の被処理物の処理方法によりウェーハを処理すること、を特徴とする半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理物の処理方法、処理装置および半導体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造工程には、半導体ウェーハ表面にパターンを形成する工程、検査工程、洗浄工程、熱処理工程、不純物導入工程、拡散工程、平坦化工程などの複数の工程があり、これらの工程において種々の処理が行われている。例えば、半導体ウェーハ表面にパターンを形成する工程においては、成膜、エッチング、レジスト除去などの種々の処理が行われている。
【０００３】
そして、これらの処理を行う処理装置として、複数の処理室（チャンバ）を備えるマルチチャンバ処理装置（以下、単に「処理装置」と称す。）が広く用いられている。この処理装置は、複数の処理室を備え、一台の装置内で内容の異なる一連の処理を連続的に行うことができる。また、一台の装置内で内容が同じ処理を複数の処理室で並列して行うこともできる。
【０００４】
このような処理装置においては、複数ある処理室を効率よく使用することで装置のスループットを上げることが重要となる。そのため、処理内容を異にする複数の被処理物を極力並行して処理することで、空き状態となる処理室（使用されていない処理室）が生じることを抑制する技術が提案されている（特許文献１を参照）。
【０００５】
ここで、処理装置には半導体ウェーハを収納する処理容器であるフープ（FOUP；Front Open Unified Pod)を載置するためのポート部が複数設けられている。ところがこのポート部の設置数は有限であるため、処理室の使用状況によっては処理内容を異にする複数の被処理物を並行して処理するようにしてもかえって処理室の使用効率を低下させてしまう場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−８７４６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、被処理物の搬送情報と、処理室の使用状況に関する情報と、に基づいて被処理物が収納された処理容器を選択的にポート部に供給することで、処理室の使用効率を向上させることができる被処理物の処理方法、処理装置および半導体装置の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様によれば、搬送情報に基づいて、ポート部に載置された収納容器から被処理物を所定の処理室へ搬送し、前記処理室において前記被処理物の処理を行う被処理物の処理方法であって、前記搬送情報は、前記被処理物ごと、または前記処理容器ごとに予め定められており、前記搬送情報と、前記処理室の使用状況に関する情報と、に基づいて、前記被処理物が収納された収納容器を選択的に前記ポート部に供給すること、を特徴とする被処理物の処理方法が提供される。
【０００９】
また、本発明の他の一態様によれば、被処理物を処理する複数の処理室と、前記被処理物を収納する収納容器を載置する複数のポート部と、搬送情報に基づいて、前記処理室と前記収納容器との間における前記被処理物の搬送を行う搬送手段と、前記被処理物が収納された収納容器を前記ポート部に供給する供給手段と、上記の被処理物の処理方法による処理が行われるように前記供給手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする処理装置が提供される。
【００１０】
さらにまた、本発明の他の一態様によれば、上記の被処理物の処理方法によりウェーハを処理すること、を特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、被処理物の搬送情報と、処理室の使用状況に関する情報と、に基づいて被処理物が収納された処理容器を選択的にポート部に供給することで、処理室の使用効率を向上させることができる被処理物の処理方法、処理装置および半導体装置の製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本実施の形態に係る処理装置を例示するための模式図である。
【図２】処理室の使用効率が低下する場合を例示するための模式図である。
【図３】処理室の使用効率が低下する場合を例示するための模式図である。
【図４】処理室の使用効率が低下する場合を例示するための模式図である。
【図５】空いているポート部を予備のポート部とできる場合を例示するための模式図である。
【図６】本実施の形態に係る被処理物の処理方法を例示するためのフローチャートである。
【図７】空き処理室の数と空きポート部の数に基づいた供給の可否判定を例示するための模式図である。
【図８】空き処理室の数と空きポート部の数に基づいた供給の可否判定を例示するための模式図である。
【図９】品質検査の状態にある処理室がある場合の供給を例示するための模式図である。
【図１０】装置優先度を例示するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について例示をする。尚、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
【００１４】
図１は、本実施の形態に係る処理装置を例示するための模式図である。      
なお、本実施の形態に係る処理装置の一例として、半導体ウェーハ（以下、単にウェーハと称する）を処理するための処理装置を例に取り説明をする。      
図１に示すように、処理装置１は、ウェーハ（被処理物）の処理を行うための複数の処理室２〜４と、ウェーハを収納する処理容器であるフープ（FOUP；Front Open Unified Pod)Ｆを載置するための複数のポート部５、６を備えている。また、処理室２〜４とポート部５、６とは搬送室７を介して連結されている。搬送室７は気密状態を保持可能とされ、処理室２〜４やポート部５、６との連結部には図示しないゲートバルブが設けられている。
【００１５】
また、搬送室７の内部には図示しない搬送手段が設けられ、処理室２〜４に設けられた図示しない載置台とフープＦとの間におけるウェーハの搬送が行えるようになっている。また、図示しない搬送手段は、予め定められた搬送情報に基づいて、ウェーハの搬送を行うようになっている。なお、搬送情報に関しては後述する。    
搬送室７の形状は矩形に限定されるわけではなく、適宜変更することができる。例えば、搬送室７の形状を６角形などの多角形として、各辺の部分に処理室やポート部などを設けるようにすることができる。
【００１６】
また、処理室２〜４には図示しない各種の装置（例えば、ガス供給手段、排気手段、プラズマ発生手段、加熱手段など）が必要に応じて適宜設けられている。    
処理室２〜４における処理は内容が異なるものであってもよいし、内容が同じものであってもよい。例えば、成膜処理やエッチング処理などのように各処理室毎に処理の内容を変えて一連の処理を連続的に行うようにしてもよいし、複数の処理室における処理内容を同じにすることで同じ処理を複数の処理室で並列して行うようにすることもできる。また、処理内容が同一の複数の処理室と処理内容が異なる処理室とを併設することもできるし、配設数なども適宜変更することができる。なお、図１に例示をしたものでは、処理室２、３における処理内容を同一とし、処理室２、３と処理室４における処理内容を異なるものとしている。
【００１７】
また、処理装置１の近傍には、処理前のウェーハが収納されたフープＦを保管する待機場所１００が設けられている。また、待機場所１００にある処理前のウェーハが収納されたフープＦをポート部に供給するための供給手段１０が設けられている。
【００１８】
また、処理装置１には制御手段８が設けられ、各部動作や処理条件などの制御が行えるようになっている。例えば、各処理工程の処理情報に基づいて処理室における処理条件などが制御できるようになっている。また、搬送情報に基づいて処理室とフープＦとの間におけるウェーハの搬送が制御できるようになっている。また、供給手段１０を制御して待機場所１００にあるフープＦをポート部に供給することができるようになっている。
【００１９】
ここで、搬送情報には、対象となるウェーハ（被処理物）が処理される処理室、すなわち搬送先に関する情報が含まれている。また、各処理工程における処理情報と関係づけされている。また、搬送情報はウェーハ（被処理物）毎に設けられていてもよいし、フープＦ（収納容器）毎に設けられていてもよい。
【００２０】
表１に処理情報と搬送情報の設定例を例示する。      
【表１】
2010225982.tif 000003
ここで、表中の「○」は使用される処理室であることを表し、「×」は使用されない処理室であることを表している。
【００２１】
表１に例示をしたものの場合、処理情報α（例えば、エッチング処理に関する情報）による処理を行う場合には、処理室２、３が使用され、使用される処理室２、３の組合せが搬送情報Ａ〜Ｃにより設定される。また、処理情報β（例えば、成膜処理に関する情報）による処理を行う場合には、処理室４のみが使用され、これが搬送情報Ｄにより設定される。そのため、同じ処理を行う場合においても、搬送情報を選択することで使用する処理室やその組合せを変更することができるようになっている。また、制御手段８に入力されている処理情報や搬送情報を選択することでそれらを設定し、設定された処理情報や搬送情報に基づいて制御手段８が各部の制御を行うようにすることができる。なお、図示しない入力手段から処理情報や搬送情報を制御手段８に入力することでそれらを設定するようにすることもできるし、図示しない通信手段を介して外部の生産管理手段などから処理情報や搬送情報を制御手段８に入力することでそれらを設定することもできる。
【００２２】
この場合、処理室７の内部に設けられている図示しない搬送手段は、搬送情報に基づいてウェーハを所定の処理室へ順次搬送し、処理を終えたウェーハを処理室から元のフープＦの元の場所へ搬送することができるようになっている。        
また、１つのフープＦにおける処理が終了した場合には、図示しない搬出手段により当該フープＦがポート部から搬出される。そして、待機場所１００に集積されているフープＦが供給手段１０によりポート部に供給されるようになっている。
【００２３】
ここで、処理装置１に設置できるポート部の数は有限である。例えば、図１に例示をしたものの場合にはポート部の数は２箇所とされている。そのため、ポート部に供給され処理を行うものの組み合わせによっては処理室が使用されず、処理室の使用効率が低下する場合がある。
【００２４】
図２は、処理室の使用効率が低下する場合を例示するための模式図である。    
図２（ａ）に示すように、１つのフープＦにおける処理が終了してポート部６が空いた場合、処理の優先度のみで次に供給するものを選択すると処理室が使用されず、処理室の使用効率が低下する場合がある。例えば、図２（ｂ）に示すように、処理室４を使用するウェーハが待機場所にない場合に、処理室２、３を使用するウェーハを収納したフープＦをポート部６に供給してしまうと処理室４が使用されなくなってしまう。この場合、どちらかのフープＦにおける処理が終了しない限りは、処理室４を使用するウェーハを収納したフープＦをポート部に供給することができない。そのため、どちらかのフープＦにおける処理が終了してポート部が空くまでは、処理室４には使えないことになる。
【００２５】
一般的には、１つのフープＦには２５枚程度のウェーハが入れられており、すべての処理が終わるまでには相当程度の時間を要する。そのため、なるべく多くの処理室を使用するような組合せを選択しないと処理装置１の稼動率が見かけ上低下することにもなる。
【００２６】
本発明者の得た知見によれば、ポート部が空いた場合には、処理の優先度のみで次に供給されるものを選択するのではなく、なるべく多くの処理室を使用するような組合せとなるようなものがストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）に搬送されてくるまでは、ポート部にフープＦを供給しないようにした方がかえって処理室の使用効率の低下を抑制することができる。
なお、「ストッカ」とは工程フローにおける論理的な概念である。そのため、本明細書において例示をする実施の形態においては、物理的な概念である「待機場所」に適宜置き換えて例示をするようにしている。
【００２７】
図３も、処理室の使用効率が低下する場合を例示するための模式図である。    
図３（ａ）に示すような組合せで処理が行われ、例えば、処理室２におけるウェーハの処理数が規定の値に達した場合には処理室２の品質検査が行われる。ここで、処理室の品質検査においては、検査用のウェーハに所定の処理を施し、処理後のウェーハを測定するようにしている。そのため、品質検査が終了するまでは処理室２における製品の処理が禁止されることになる。  
また、ポート部５に載置されているフープＦにおける処理が終了した場合には、図示しない搬出手段により当該フープＦが搬出され、図３（ｂ）に示すようにポート部５が空いた状態となる。
【００２８】
このような場合、図３（ｃ）に示すように、使用可能な処理室３において処理可能なウェーハが収納されたフープＦをポート部５に供給してしまうと検査用のウェーハが収納されたフープＦを供給するポート部がなくなってしまう。そのため、どちらかのフープＦにおける処理が終了してポート部が空くまでは、処理室２の品質検査を行うことができず処理室２が使えないことになる。この場合、前述したように、１つのフープＦにおける処理が終了するまでには相当程度の時間を要し、その間は処理室２が使えないことになるので、処理装置１の稼動率が見かけ上低下する。
【００２９】
本発明者の得た知見によれば、処理室の品質検査が必要となった場合には、品質検査を優先して行い、当該処理室を早期に処理が行える状態に復帰させた方がかえって処理室の使用効率の低下を抑制することができる。
【００３０】
図４も、処理室の使用効率が低下する場合を例示するための模式図である。    
図４に例示をする処理装置１ａは、３つのポート部を備えている。すなわち、ポート部９をさらに備えている。    
図４（ａ）に示すように、それぞれの処理室において処理を行うウェーハが収納されたフープＦがそれぞれのポート部に載置されている場合、１つのフープＦにおける処理が終了すると当該フープＦが図示しない搬出手段により排出される。例えば、図４（ｂ）に示すように、ポート部６に載置されていたフープＦにおける処理が終了すると、このフープＦが排出される。そして、図４（ｃ）に示すように、フープＦが排出されたポート部６に、処理室３において処理を行うウェーハが収納されたフープＦが供給され、処理室３の使用が再開される。
【００３１】
このような場合、フープＦが排出されて次のフープＦが供給されるまでの間は処理室３が使用されないことになる。また、装置内段取り時間(フープＦの位置決めや真空引きなど)の分だけ処理室３が使用されないことになる。  
この場合、少なくとも１つのポート部が空いた状態においてなるべく多くの処理室を使用するような組合せとし、空いているポート部を予備のポート部とできれば、この予備のポート部に次のフープＦを予め供給しておくことができる。
【００３２】
図５は、空いているポート部を予備のポート部とできる場合を例示するための模式図である。      
図５（ａ）に示すように、ポート部６が空いた状態においてすべての処理室を使用するような組合せとすれば、ポート部６を予備のポート部として活用することができる。そして、例えば、図５（ｂ）に示すように、ポート部５に供給されているフープＦにおける処理が終了する前に処理室２、３において処理を行うウェーハが収納されたフープＦをポート部６に予め供給しておくようにする。このようにすれば、図５（ｃ）に示すように、ポート部５に載置されているフープＦにおける処理が終了した場合には、引き続きポート部６に載置されているフープＦにおける処理を行うことができる。そのため、処理室が使用されていない時間を少なくすることができるので、処理室の使用効率の低下を抑制することができる。なお、処理室２、３において処理を行うものよりも処理室４において処理を行うものの方が先に処理が終了することが予測できる場合には、処理室４において処理を行うウェーハが収納されたフープＦをポート部６に予め供給しておくようにすればよい。
【００３３】
図６は、本実施の形態に係る被処理物の処理方法を例示するためのフローチャートである。      
まず、処理装置に関する情報を取得する（ステップＳ１）。    
この場合、処理装置に設けられた処理室の状態、すなわち処理室が使用されているか否か、処理室が品質検査の状態にあるか否かの情報を取得する。
【００３４】
そして、処理室がすべて使用されていない場合には、生産の優先度に基づいて処理順番を決める（ステップＳ２）。      
例えば、早期に生産を完了させる必要があるものを優先して処理するようにする。
【００３５】
また、処理室がすべて使用されている場合にも、生産の優先度に基づいて処理順番を決める（ステップＳ３）。    
この場合、ポート部に載置されているフープＦが複数あり、それぞれが異なる処理室を使用している場合には、先に処理が終わることで使用されなくなる処理室を未処理ウェーハの数や残処理時間などから予測して、使用されなくなる処理室を使用するものを優先的に割り付けるようにすることが好ましい。
【００３６】
また、一部の処理室が使用されておらず、使用されていない処理室（以下、空き処理室と称する）をも使用するウェーハ（被処理物）がストッカ（本実施の形態でいう待機場所）にある場合には、当該ウェーハ（被処理物）に関する生産の優先度に基づいて、フープＦ（処理容器）をポート部に供給するようにする（ステップＳ４）。
【００３７】
すなわち、複数の処理室のうち、一部のものが使用されておらず、使用されていない処理室を対象に含む搬送情報を有するウェーハ（被処理物）、またはフープＦ（処理容器）がある場合には、生産の優先度に基づいて、フープＦ（処理容器）を選択的にポート部に供給するようにする。    
この場合、空き処理室を使用するウェーハ（被処理物）が複数ロットある場合には、各ロット間における生産の優先度で供給順番を決める。
【００３８】
そして、他のウェーハ（被処理物）が既に使用している処理室をも使用するものであれば、空き処理室のみを使用するように変更する（ステップＳ４−１）。    
すなわち、搬送情報に、すでに使用されている処理室が対象として含まれている場合には、使用されていない処理室のみを使用するように変更する。
【００３９】
この場合、空き処理室のみを使用する搬送情報が有効である場合には、当該処理室のみを使用する搬送情報に変更することで空き処理室のみを使用するようにする（ステップＳ４−１−１）。すなわち、使用されていない処理室のみを対象に含む搬送情報に変更することで使用されていない処理室のみを使用するようにする。
【００４０】
また、ストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）にあるウェーハ（被処理物）などの搬送情報を確認することが可能である場合であって、空き処理室のみを使用するウェーハ（被処理物）がある場合には、当該ウェーハ（被処理物）を優先して処理させることで空き処理室のみを使用するようにする（ステップＳ４−１−２）。すなわち、使用されていない処理室のみを対象に含む搬送情報を有するウェーハ（被処理物）、またはフープＦ（処理容器）を優先してポート部に供給するように変更することで使用されていない処理室のみを使用するようにする。
【００４１】
一方、一部の処理室が使用されておらず、空き処理室を使用するウェーハ（被処理物）がない場合には、空き処理室の数と空きポート部の数に基づいて供給の可否判断を行う（ステップＳ５）。すなわち、複数の処理室のうち、一部のものが使用されておらず、使用されていない処理室を対象に含む搬送情報を有するウェーハ（被処理物）、またはフープＦ（処理容器）がない場合には、使用されていない処理室の数と、使用されていないポート部の数と、に基づいて、フープＦ（収納容器）の使用されていないポート部への供給の可否が判定される。
【００４２】
この場合、空き処理室を使用するウェーハが収納されたフープＦがストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）になく、空き処理室の数≧空きポート部の数となるような場合には、ストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）にあるフープＦの供給を行わないようにする（ステップＳ５−１）。すなわち、使用されていない処理室の数が、使用されていないポート部の数以上である場合には、ストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）にあるウェーハ（被処理物）が収納されたフープＦ（収納容器）をポート部に供給しないという判定がなされる。
【００４３】
一方、空き処理室の数＜空きポート部の数となる場合には、ストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）に集積されたフープＦを生産の優先度に基づいて供給するようにする（ステップＳ５−２）。
すなわち、使用されていない処理室の数が、使用されていないポート部の数未満である場合には、ストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）にあるウェーハ（被処理物）が収納されたフープＦ（収納容器）を生産の優先度に基づいてポート部に供給するという判定がなされる。
【００４４】
図７は、空き処理室の数と空きポート部の数に基づいた供給の可否判定を例示するための模式図である。なお、図中のフープＦ内に記載された「Ｄ」は、前述した「搬送情報Ｄ」をそれぞれ表している。すなわち、それぞれのフープＦ内には「搬送情報Ｄ」に基づいて処理が行われるウェーハが収納されていることを表している。また、図７（ａ）において処理装置１ａの外部に並べられたフープＦは、待機場所１００に集積されたフープＦを表しており、優先度は生産の優先度を表している。
【００４５】
図７（ａ）に示すように、空き処理室を使用するウェーハが収納されたフープＦがストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）になく、空き処理室の数≧空きポート部の数となる場合には（図７（ａ）の場合は空き処理室の数＝空きポート部の数）、供給不可と判定してストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）に集積されたフープＦを空きポート部に供給しないようにする。    
本発明者の得た知見によれば、空き処理室を使用するウェーハが収納されたフープＦがストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）にない場合であっても、空き処理室の数が多い場合には空き処理室を使用するウェーハが収納されたフープＦがストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）に搬送されてくる可能性が高い。そのため、図７（ｂ）に示すように、搬送されてくるであろうフープＦを待つために空きポート部を空けておいた方がかえって処理室の使用効率の低下を抑制することができる。
【００４６】
すなわち、すでに使用中の処理室を使用するウェーハが収納されたフープＦを選択する着工ルールにおいて、空き処理室を使用するウェーハが収納されたフープＦがストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）になく、空き処理室の数≧空きポート部の数となる場合には、予備ポート部に対して供給を行わないようにする（空きポート部にフープＦを供給しないようにする）。なお、空き処理室を使用するウェーハが収納されたフープＦがストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）に搬送されてきた場合には、前述したステップＳ４のような供給が行われる。
【００４７】
図８も、空き処理室の数と空きポート部の数に基づいた供給の可否判定を例示するための模式図である。なお、図中のフープＦ内に記載された「Ａ」は、前述した「搬送情報Ａ」をそれぞれ表している。すなわち、それぞれのフープＦ内には「搬送情報Ａ」に基づいて処理が行われるウェーハが収納されていることを表している。また、図８（ａ）において処理装置１ａの外部に並べられたフープＦは、待機場所１００に集積されたフープＦを表しており、優先度は生産の優先度を表している。
また、図８（ａ）に示すように、空き処理室を使用するウェーハが収納されたフープＦがストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）になく、空き処理室の数＜空きポート部の数となる場合には、ストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）に集積されたフープＦを優先度に基づいて空きポート部に供給するようにする。この場合、図８（ｂ）に示すように１箇所の空きポート部にフープＦを供給すれば、図７（ａ）において例示をしたものと同じ条件（空き処理室の数≧空きポート部の数）となるので、残りの空きポート部にはフープＦが供給されないことになる。そのため、空き処理室を使用するウェーハが収納されたフープＦがストッカ（本実施の形態でいう待機場所１００）に搬送されてくるのを待つことになる。    
また、一部の処理室が品質検査の状態にある場合には、品質検査用のウェーハを処理するために、空きポート部のうち、少なくとも１箇所にはフープＦを供給しないようにする（ステップＳ６）。すなわち、複数の処理室のうち、一部のものが品質検査の状態にある場合には、複数のポート部のうち少なくとも１箇所にはウェーハ（被処理物）が収納されたフープＦ（収納容器）を供給しないようにする。    
このように、少なくとも１箇所の空きポート部を確保するようにすれば、品質検査を優先して行えるようになるので、品質検査の対象となった処理室を早期に生産に復帰させることができる。そのため、処理室の使用効率を向上させることができる。
【００４８】
この場合、いずれかのポート部に品質検査用のウェーハが収納されたフープＦが既に供給されている場合には、すべての空きポート部に対してフープＦを供給することもできる。ただし、品質検査の状態にある処理室を使用対象に含む搬送情報を有するフープＦなどは空きポート部に供給しないようにする（ステップＳ６−１）。すなわち、品質検査の状態にある処理室を対象に含む搬送情報を有するウェーハ（被処理物）、またはフープＦ（処理容器）をポート部に供給しないようにする。
【００４９】
図９は、品質検査の状態にある処理室がある場合の供給を例示するための模式図である。なお、図中のフープＦ内に記載された「Ａ」、「Ｄ」は、前述した「搬送情報Ａ」、「搬送情報Ｄ」をそれぞれ表している。すなわち、それぞれのフープＦ内には「搬送情報Ａ」、「搬送情報Ｄ」に基づいて処理が行われるウェーハが収納されていることを表している。図中のフープＦ内に記載された「Ｔ」は品質検査用のウェーハが収納されていることを表している。また、処理装置１の外部に並べられたフープＦは、待機場所１００に集積されたフープＦを表している。また、処理室２に記載された「×」印は、処理室が品質検査の状態にあることを表している。
【００５０】
図９（ａ）に示すように、処理室２が品質検査の状態にある場合には、品質検査用のウェーハを処理するために、「空きポート部の数−１」以上のフープＦを供給しないようにする。例えば、「Ａ」のフープＦ、「Ｄ」のフープＦのうちいずれかを空きポート部に供給するようにする。この場合、「搬送情報Ａ」によれば、品質検査の状態にある処理室２と、空き状態にある処理室３とが使用対象となっているので、「Ａ」のフープＦを空きポート部に供給して処理室３を使用するようにすれば、処理室２が復帰した際に（品質検査が終了した際に）処理室２が使われず使用効率が低下するおそれがある。
【００５１】
そのため、図９（ｂ）に示すように、処理室４のみを使用対象とする「搬送情報Ｄ」を有する「Ｄ」のフープＦを一方の空きポート部（ポート部６）に供給するようにする。また、他方の空きポート部（ポート部５）には品質検査用のウェーハが入れられているフープＦを供給するようにする。
【００５２】
そして、処理室２の品質検査が終了し、その結果が合格の場合には、処理室２を使用することができるようになる。その場合は、図９（ｃ）に示すように、品質検査用のウェーハが収納されているフープＦを搬出する。その後、図９（ｄ）に示すように、「Ａ」のフープＦをポート部５に供給し、処理室２、３を使用した処理を行うようにする。  
このようにすれば、品質検査を優先して行うことができるので、品質検査が必要となった処理室を早期に生産が行える状態に復帰させることができる。その結果、品質検査を後回しにする場合に比べて処理室の使用効率を向上させることができる。
【００５３】
また、処理装置が複数台ある場合には装置優先度に基づいて作業（ロット）を割り付けることができる。    
装置優先度は、例えば、作業数（例えば、未処理ウェーハの数や作業工数など）、最終完工時刻（処理が完了した実際の予定時刻）または予想最終完工時刻（処理が完了する予定時刻）などにより決定することができる。この場合、「作業数」、「最終完工時刻または予想最終完工時刻」の順に判定がなされ、最も優先度の高い処理装置に作業（ロット）を割り付けるようにすることができる。    
図１０は、装置優先度を例示するための模式図である。      
なお、装置名の下に記載された時刻は最終完工時刻または予想最終完工時刻を表し、実線の枠で囲まれたものは最終完工時刻、破線の枠で囲まれたものは予想最終完工時刻を表している。また、図中のフープＦ内に記載された「Ａ」、「Ｄ」は、前述した「搬送情報Ａ」、「搬送情報Ｄ」をそれぞれ表している。すなわち、それぞれのフープＦ内には「搬送情報Ａ」、「搬送情報Ｄ」に基づいて処理が行われるウェーハが収納されていることを表している。また、装置優先度の数値が低いほど装置優先度が高いものとされ、先に作業（ロット）が割り付けられるものとしている。
【００５４】
この場合、例えば、まず作業数（例えば、未処理ウェーハの数や作業工数など）により装置優先度が判定される。そして、作業数が少ないほど装置優先度が高いと判定される。例えば、作業が既に終了している装置Ｘ１、Ｘ２の方が作業中の装置Ｘ３〜Ｘ５より装置優先度が高いと判定される。また、作業数が少ない装置Ｘ３の方が装置Ｘ４、Ｘ５より装置優先度が高いと判定される。
【００５５】
次に、最終完工時刻または予想最終完工時刻により装置優先度が判定される。そして、完工時刻が早いほど装置優先度が高いと判定される。例えば、装置Ｘ２より装置Ｘ１の方が先に作業が終了しているので装置優先度が高いと判定される。また、同程度の作業数の装置Ｘ４、Ｘ５では、先に作業が終了する予定の装置Ｘ４の方が装置優先度が高いと判定される。    
このように、装置優先度に基づいて作業（ロット）を割り付けるようにすれば、使用がされない処理室となる時間を抑制することができるので処理室の使用効率を向上させることができる。
なお、装置優先度に基づく割り付けを「作業数」、「最終完工時刻または予想最終完工時刻」の順に判定する場合を例示したがこれに限定されるわけではない。例えば、「作業工数」のみ、「最終完工時刻または予想最終完工時刻」のみで割り付け順を判定することもできる。
【００５６】
次に、本実施の形態に係る半導体装置の製造方法について例示をする。半導体装置の製造は、成膜・レジスト塗布・露光・現像・エッチング・レジスト除去などによりウェーハ表面にパターンを形成する工程、検査工程、洗浄工程、熱処理工程、不純物導入工程、拡散工程、平坦化工程などの複数の工程を繰り返すことにより行われる。
【００５７】
本実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、前述した本実施の形態に係る被処理物の処理方法や処理装置を、例えば、成膜・レジスト塗布・エッチング・レジスト除去などに用いるものである。本実施の形態によれば、処理室の使用効率を向上させることができるので生産効率を向上させることができる。また、設備の効率化を図ることができるので、設備コストを抑制することもできる。    
なお、前述した本実施の形態に係る被処理物の処理方法や処理装置以外は、既知の各工程の技術を適用できるのでその説明は省略する。
【００５８】
なお、本実施の形態に係る処理方法は、半導体装置の製造方法に限定されるわけではない。例えば、液晶ディスプレイ・プラズマディスプレイ・表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（ＳＥＤ）などのフラットパネルディスプレイなどの他の電子デバイス、機械部品、電気部品、電子部品、光学部品などの製造のように、内容の異なる一連の処理を複数の処理室を用いて連続的に行うものや、内容が同じ処理を複数の処理室を用いて並列して行うものなどにも適用させることができる。
【００５９】
以上、本実施の形態について例示をした。しかし、本発明はこれらの記述に限定されるものではない。
【００６０】
前述の実施の形態に関して、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。  
例えば、処理装置１、１ａなどが備える各要素の形状、寸法、材質、配置などは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。  
また、前述した各実施の形態が備える各要素は、可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。
【符号の説明】
【００６１】
１  処理装置、１ａ  処理装置、２〜４  処理室、５  ポート部、６  ポート部、７      搬送室、８  制御手段、９  ポート部、１０  供給手段、１００  待機場所、Ａ  搬送情報，Ｄ  搬送情報、Ｆ  フープ、α  処理情報、β  処理情報
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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