(57)【要約】【課題】反射光の色味を低減し、色ムラの発生を抑え、さらに、透過型液晶ディスプレイ表面に設け黒表示させた際の青色味を帯びることを選択的に抑制しより最適な黒色表示をおこなうことができる反射防止フィルムを提供することを課題とする。【解決手段】透明基材上に、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルムであって、視感平均反射率が０．５％以上１．５％以下の範囲内であり、可視光領域における分光反射率の最大値と最小値の差が０．２％以上０．９％以下の範囲内であり、視感平均光透過率吸収損失が０．５％以上３．０％以下の範囲内であり、且つ、可視光領域における光透過率吸収損失の最大値と最小値の差が０．５％以上４．０％以下の範囲内であり、且つ、反射防止フィルムの波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍでの光透過率吸収損失がＱ４５０＞Ｑ５５０＞Ｑ６５０を満たすことを特徴とする反射防止フィルムとした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも一方の面に、該透明基材側から順に、ハードコート層と、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムであって、
前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以上１．５％以下の範囲内であり、且つ、
前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値と最小値の差が０．２％以上０．９％以下の範囲内であり、且つ、
前記反射防止フィルムの視感平均光透過率吸収損失が０．５％以上３．０％以下の範囲内であり、且つ、
前記反射防止フィルムの可視光領域における各波長での光透過率吸収損失の最大値を前記反射防止フィルムの可視光領域における各波長での光透過率吸収損失の最小値で引いた値が０．５％以上４．０％以下の範囲内であり、且つ、
前記反射防止フィルムの波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍでの光透過率吸収損失がＱ４５０＞Ｑ５５０＞Ｑ６５０（Ｑ４５０：波長４５０ｎｍにおける光透過率吸収損失／Ｑ５５０：波長５５０ｎｍにおける光透過率吸収損失／Ｑ６５０：波長６５０ｎｍにおける光透過率吸収損失）を満たす
ことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記ハードコート層の屈折率ｎｈと前記透明基材の屈折率ｎｂとは  ０＜｜ｎｈ−ｎｂ｜≦０．０５  を満たし、且つ、
前記帯電防止層の屈折率ｎａと前記ハードコート層の屈折率ｎｈとは  ０．０１≦（ｎａ−ｎｈ）≦０．０５  を満たし、且つ、
前記帯電防止層の光学膜厚が２３０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下であり、且つ、
前記低屈折率層の光学膜厚が１１５ｎｍ以上１３５ｎｍ以下である
ことを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記反射防止フィルムのヘイズが０．５％以下の範囲内であり、且つ、前記反射防止フィルムの平行光線透過率が９４．０％以上９６．５％以下の範囲内であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗が１．０×１０６Ω／□以上１．０×１０１１Ω／□以下の範囲内であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記反射防止フィルムの低屈折率層表面でのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０．００≦ａ＊≦３．００であり、且つ、−３．００≦ｂ＊≦３．００を満たすことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記帯電防止層が、酸化亜鉛系の導電性粒子を含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の反射防止フィルムと、当該反射防止フィルムの低屈折率層非形成面に偏光層、第２の透明基材を順に備える偏光板。
【請求項８】
請求項７記載の偏光板、液晶セル、第２の偏光板、バックライトユニットをこの順に備えることを特徴とする透過型液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窓やディスプレイなどの表面に外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、さらには、透過型液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。これに対し、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能であるために、反射防止層形成用の塗液を用いた湿式成膜法による反射防止膜の生産が注目されている。
【０００４】
また、これらの反射防止層がフィルム状の透明基材上に設けられている場合には、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル多官能化合物の重合体からなるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている。このハードコート層はアクリル樹脂の特性により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有するが、絶縁性が高いために帯電しやすく、ハードコート層を設けた製品表面への埃等の付着による汚れや、ディスプレイ製造工程において、帯電することにより障害が発生するといった問題を抱えている。
【０００５】
そこで、反射防止フィルムに帯電防止機能を付与するため、ハードコート層に導電剤を添加する方法や、基材とハードコート層の間、もしくは、ハードコート層と反射防止層の間に帯電防止層を設ける方法がなされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−２０２３８９号公報
【特許文献２】特開２００５−１９９７０７号公報
【特許文献３】特開２００６−１６４４７号公報
【特許文献４】特開平１１−９２７５０号公報
【特許文献５】特開２００４−４１４９号公報
【特許文献６】特開２００５−１７３２１６号公報
【特許文献７】特開２００５−２９７２７１号公報
【特許文献８】特開２００６−１５４７５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ハードコート層に導電性物質を添加する方法では、良好な導電性を発現させるためには、多量の導電性物質を添加する必要があり、その結果、材料コストの向上、ハードコート層の強度低下といった問題が発生することがあった。一方、帯電防止層を新たに設ける方法では、一般的に屈折率の高い帯電防止層を層間に積層しなければならず、それによる色味の発生や、色ムラが発生することがあった。特に、帯電防止層、低屈折率層（反射防止層）を湿式成膜法で形成する際には、形成される帯電防止層、低屈折率層の面内での膜厚のバラツキを反映して、反射防止フィルムの色ムラが確認されるという問題があった。
【０００８】
また、透明基材側から順に、ハードコート層と、帯電防止層、低屈折率層（反射防止層）を備える反射防止フィルムにあっては、透明基材の低屈折率層非形成面に順に偏光層、第２の透明基材を設けて偏光板化することにより、透過型液晶ディスプレイ表面に設けて使用される。ここで、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコールを偏光層として用いた偏光板を備える透過型液晶ディスプレイにあっては、ディスプレイを黒表示とした際に青色の光モレが発生し、黒表示が青色味を帯びてしまうという問題があった。
【０００９】
そこで本発明にあっては、透明基材上に、ハードコート層と、帯電防止層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルムにおいて、帯電防止機能、反射防止機能を有するだけでなく、反射光の色味を低減し、色ムラの発生を抑え、さらに、この反射防止フィルム、あるいは反射防止フィルムを用いた偏光板を透過型液晶ディスプレイ表面に設けて黒表示した際に画面が青色味を帯びる問題を、透過光線を選択することで抑制し、より最適な黒色表示をおこなうことができる反射防止フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために請求項１にかかる発明としては、透明基材の少なくとも一方の面に、該透明基材側から順に、ハードコート層と、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムであって、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以上１．５％以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値と最小値の差が０．２％以上０．９％以下の範囲内であり、且つ、前記反射防止フィルムの視感平均光透過率吸収損失が０．５％以上３．０％以下の範囲内であり、且つ、前記反射防止フィルムの可視光領域における各波長での光透過率吸収損失の最大値を前記反射防止フィルムの可視光領域における各波長での光透過率吸収損失の最小値で引いた値が０．５％以上４．０％以下の範囲内であり、且つ、前記反射防止フィルムの波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍでの光透過率吸収損失がＱ４５０＞Ｑ５５０＞Ｑ６５０（Ｑ４５０：波長４５０ｎｍにおける光透過率吸収損失／Ｑ５５０：波長５５０ｎｍにおける光透過率吸収損失／Ｑ６５０：波長６５０ｎｍにおける光透過率吸収損失）を満たすことを特徴とする反射防止フィルムとした。
【００１１】
また、請求項２にかかる発明としては、前記ハードコート層の屈折率ｎｈと前記透明基材の屈折率ｎｂとは  ０＜｜ｎｈ−ｎｂ｜≦０．０５  を満たし、且つ、前記帯電防止層の屈折率ｎａと前記ハードコート層の屈折率ｎｈとは  ０．０１≦（ｎａ−ｎｈ）≦０．０５  を満たし、且つ、且つ、前記帯電防止層の光学膜厚が２３０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１１５ｎｍ以上１３５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルムとした。
【００１２】
また、請求項３にかかる発明としては、前記反射防止フィルムのヘイズが０．５％以下の範囲内であり、且つ、前記反射防止フィルムの平行光線透過率が９４．０％以上９６．５％以下の範囲内であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の反射防止フィルムとした。
【００１３】
また、請求項４にかかる発明としては、前記反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗が１．０×１０６Ω／□以上１．０×１０１１Ω／□以下の範囲内であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
【００１４】
また、請求項５にかかる発明としては、前記反射防止フィルムの低屈折率層表面でのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０．００≦ａ＊≦３．００であり、且つ、−３．００≦ｂ＊≦３．００を満たすことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
【００１５】
また、請求項６にかかる発明としては、前記帯電防止層が、酸化亜鉛系の導電性粒子を含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
【００１６】
また、請求項７にかかる発明としては、請求項１乃至６のいずれかに記載の反射防止フィルムと、当該反射防止フィルムの低屈折率層非形成面に偏光層、第２の透明基材を順に備える偏光板とした。
【００１７】
また、請求項８にかかる発明としては、請求項７記載の偏光板、液晶セル、第２の偏光板、バックライトユニットをこの順に備えることを特徴とする透過型液晶ディスプレイとした。
【発明の効果】
【００１８】
上記構成の反射防止フィルムとすることにより、透明基材上に、ハードコート層と、帯電防止層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルムにおいて、帯電防止機能、反射防止機能を有するだけでなく、反射光の色味を低減し、色ムラの発生を抑えることができた。さらに、本発明の反射防止フィルムを透過型液晶ディスプレイ表面に設けることにより、ディスプレイを黒表示とした際に画面が青色味を帯びる問題を透過光線を選択することで抑制し、より最適な黒色表示をおこなうことができる反射防止フィルムを提供することができた。また、明所でのコントラスト、暗所でのコントラストに優れた反射防止フィルムとすることができた、
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１は本発明の反射防止フィルムの断面模式図である。
【図２】図２は本発明の反射防止フィルムを用いた本発明の偏光板の断面模式図である。
【図３】図３は本発明の反射防止フィルムを備える本発明の透過型液晶ディスプレイの断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下に本発明の反射防止フィルムについて説明する。
【００２１】
図１に本発明の反射防止フィルムの断面模式図を示した。図１に示した本発明の反射防止フィルム（１）は、第１の透明基材（１１）の少なくとも一方の面上に、ハードコート層（１２）、帯電防止層（１３）、低屈折率層（１４）を順に備える。
【００２２】
本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層（１４）と帯電防止層（１３）の光学干渉により反射防止機能が発現する。すなわち、帯電防止層（１３）は高屈折率層として機能する。
【００２３】
本発明の反射防止フィルムにおいて帯電防止層（１３）を形成するにあっては、導電性材料を含む塗液を用い、湿式成膜法によりハードコート層上に帯電防止層形成用塗液を塗布することにより形成される。同様に、低屈折率層（１４）を形成するにあっては低屈折率材料を含む塗液を用い、湿式成膜法により帯電防止層上に低屈折率層形成用塗液を塗布することにより形成される。
【００２４】
本発明の反射防止フィルムにあっては、（ａ）低屈折率層側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以上１．５％以下の範囲内であり、（ｂ）低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値と最小値の差が０．２％以上０．９％以下の範囲内であり、（ｃ）反射防止フィルムの視感平均光透過率吸収損失が０．５％以上３．０％以下の範囲内であり、（ｄ）反射防止フィルムの可視光領域における各波長での光透過率吸収損失の最大値を前記反射防止フィルムの可視光領域における各波長での光透過率吸収損失の最小値で引いた値が０．５％以上４．０％以下の範囲内であり、（ｅ）反射防止フィルムの波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍでの光透過率吸収損失がＱ４５０＞Ｑ５５０＞Ｑ６５０（Ｑ４５０：波長４５０ｎｍにおける光透過率吸収損失／Ｑ５５０：波長５５０ｎｍにおける光透過率吸収損失／Ｑ６５０：波長６５０ｎｍにおける光透過率吸収損失）を満たすことを特徴とする。
【００２５】
本発明の反射防止フィルムにあっては、要件（ａ）〜（ｅ）のすべてを満たすことにより、優れた反射防止機能を有し、かつ反射光の色味を低減し、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムとすることができ、さらに、この反射防止フィルムを透過型液晶ディスプレイ表面に設けディスプレイを黒表示とした際に画面が青色味を帯びる問題を透過光線を選択することで抑制し、より最適な黒色表示をおこなうことができる反射防止フィルムとすることができる。
【００２６】
本発明の反射防止フィルムにあっては、（ａ）低屈折率層側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以上１．５％以下の範囲内であり、且つ、（ｂ）低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値と最小値の差が０．２％以上０．９％以下の範囲内であることを特徴とする。
【００２７】
本発明における低屈折率層側の反射防止フィルム表面の分光反射率曲線は、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層が設けられていない側の透明基材表面に艶消し黒色塗料を塗布したうえで、分光光度計により測定される。本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線は、光源としてＣ光源を用い、光源及び受光器の入出射角を反射防止フィルム表面に対して垂直方向から５度に設定し、２度視野の条件下で正反射方向の分光反射率を測定することにより求められる。視感平均反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。
【００２８】
本発明の反射防止フィルムは、（ａ）低屈折率層側の反射防止フィルムにおける視感平均反射率が０．５％以上１．５％以下であることを特徴とする。視感平均反射率が１．５％を超えるような場合にあっては、ディスプレイ表面に設けるのに十分な反射防止機能を有する反射防止フィルムとすることができない。一方、視感平均反射率が０．５％を下回るような場合にあっては、（ｂ）波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値と最小値の差を０．９％以下とすることが困難になる。
【００２９】
また、本発明の反射防止フィルムは、（ｂ）低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ−Ｂ）が０．２％以上０．９％以下の範囲内であることを特徴とする。本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線は、波長４００ｎｍから７００ｎｍの間で、波長が大きくなるにつれ緩やかに減少し、極小値を境に緩やかに増加する分光反射率曲線となる。
【００３０】
本発明の反射防止フィルムの波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線は、要件（ａ）、（ｂ）を満たすことにより、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲の間で緩やかに変化し非常に平坦な曲線とすることができる。分光反射率曲線をＵ字型で非常に緩やかに変化する曲線とすることにより、反射色相が無色に近いだけでなく、色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。
【００３１】
帯電防止層、低屈折率層を塗液を用いた湿式成膜法により形成する場合にあっては、真空装置が必要となる乾式成膜により帯電防止層、低屈折率層を形成する場合と比較して、大幅に製造コストを下げることが可能となる。帯電防止層、低屈折率層を湿式成膜法により形成する場合にあっては、低コストで反射防止フィルムを提供することが可能となる。
【００３２】
しかしながら、蒸着法やスパッタリング法といった乾式成膜法で帯電防止層、低屈折率層を形成する場合と比較して、塗液を用いた湿式成膜法により帯電防止層、反射防止層を形成する場合にあっては、形成される帯電防止層、反射防止層の膜厚が面内で微量変動する傾向にある。反射防止フィルムは、低屈折率層と帯電防止層の光学干渉により反射防止機能が発現するため、帯電防止層、反射防止層の膜厚が面内で微量変動した場合には、反射防止フィルムは面内で色ムラとして確認される。
【００３３】
本発明にあっては、反射防止フィルムの分光反射率曲線を非常に緩やかに変化する曲線とすることにより、形成される反射防止層、帯電防止層の微小な膜厚の変動による色ムラを抑制することができる。すなわち、本発明の反射防止フィルムは、湿式成膜法により形成される帯電防止層、反射防止層が面内で微小の膜厚ムラが発生しても、色ムラとして認識されにくい反射防止フィルムとすることができる。分光反射率曲線の波長に対する反射率の変化量が大きい場合には、帯電防止層及び低屈折率層の膜厚の変動により分光反射率曲線が変化した際に、色味が変化しやすいため、色ムラとして認識されやすくなる。
【００３４】
低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ−Ｂ）が０．９％を超える場合にあっては、その分光反射率曲線は急峻な変化を伴うこととなる。したがって、反射色相が大きくなるだけでなく、帯電防止層、反射防止層の膜厚変動による色ムラが確認されることとなる。
【００３５】
また、低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ−Ｂ）は小さい方が好ましいが、分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ−Ｂ）が０．５％を下回る反射防止フィルムを、低屈折率層と帯電防止層の２層の光学干渉から実現することは困難である。
【００３６】
本発明にあっては、（ａ）低屈折率層側の反射防止フィルムにおける視感平均反射率が０．５％以上１．５％以下であり、（ｂ）低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ−Ｂ）を０．９％以下とすることにより、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲の間で分光反射率が緩やかに変化し、分光反射率曲線を非常に平坦な曲線でとすることができる。
【００３７】
本発明の反射防止フィルムにあっては、その分光反射率曲線が比視感度の高い波長５５０ｎｍ付近においてほぼ平坦であるため、反射色相が無色に近いだけでなく、色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。反射色相が無色であり、且つ、色ムラのない反射防止フィルムとするには、比視感度が高い波長５５０ｎｍ付近の分光反射率曲線は極力平坦であることが要求される。
【００３８】
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、分光反射率曲線の低波長側（４００ｎｍ〜４５０ｎｍ付近）の立ち下がり部分と高波長側（６００〜７００ｎｍ付近）の立ち上がり部分の変化量を小さくすることができ、反射色相が無色に近いだけでなく、色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。特に、低波長側（４００ｎｍ〜４５０ｎｍ付近）の波長側の立ち下がり部分の変化量を小さくすることができ、反射色相が無色に近いだけでなく、青色の色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。
【００３９】
反射防止フィルムにあっては、視感反射率が低いほど高い反射防止性能を有する反射防止フィルムとすることができる。しかしながら、高い反射防止性能を得ようとした場合には、反射光の色味を低減すること、及び反射防止フィルムの色ムラの発生を抑えることは困難となる。すなわち、本発明にあっては視感反射率を０．５％以上１．５％以下とし、波長４００ｎｍから７００ｎｍでの分光反射率の最大値と最小値の差が０．２％以上０．９％以下の範囲内とすることにより反射光の色味を低減し、さらには色ムラの発生を抑制することに成功した。言い換えると、低屈折率層側の波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線を緩やかに変化し平坦なＵ字型の曲線とすることにより、反射光の色味を低減し、さらには湿式成膜法によって形成される低屈折率層及び帯電防止層の微小な膜厚変動によって発生する色ムラが確認されにくい反射防止フィルムとすることができた。
【００４０】
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、（ｃ）前記反射防止フィルムの視感平均光透過率吸収損失が０．５％以上３．０％以下の範囲内であり、且つ、（ｄ）反射防止フィルムの可視光領域における各波長での光透過率吸収損失の最大値を前記反射防止フィルムの可視光領域における各波長での光透過率吸収損失の最小値で引いた値が０．５％以上４．０％以下の範囲内であり、且つ、（ｅ）反射防止フィルムの波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍでの光透過率吸収損失がＱ４５０＞Ｑ５５０＞Ｑ６５０（Ｑ４５０：波長４５０ｎｍにおける光透過率吸収損失／Ｑ５５０：波長５５０ｎｍにおける光透過率吸収損失／Ｑ６５０：波長６５０ｎｍにおける光透過率吸収損失）であることを特徴とする。本発明の反射防止フィルムにあっては要件（ｃ）〜（ｅ）の要件を満たす反射防止フィルムとすることにより、この反射防止フィルムを透過型液晶ディスプレイ表面に設け、ディスプレイを黒表示とした際に画面が青色味を帯びる問題を透過光線を選択することで抑制し、より最適な黒色表示をおこなうことができる反射防止フィルムとすることができる。
【００４１】
本発明の反射防止フィルムにあっては、（ｃ）前記反射防止フィルムの視感平均光透過率吸収損失が０．５％以上３．０％以下の範囲内であることを特徴とする。
【００４２】
本発明の各波長λでの光透過率吸収損失Ｑλは下記式（式１）により求められる。
Ｑλ＝１００−Ｈ−Ｔ−Ｒ                            ・・・（式１）
Ｑλ：光透過率吸収損失（％）
Ｈ：ヘイズ（％）
Ｔ：分光透過率（％）
Ｒ：両面反射率（％）
【００４３】
ここで、両面反射率Ｒとは、表面反射率Ｒｓと裏面反射率Ｒｂの両方の反射率を合計したものである。反射防止フィルムの反射率の測定にあっては、裏面に黒色塗料等を塗布し、サンドペーパー等で粗面化して黒色塗料等を塗布することにより裏面反射をキャンセルした状態でおこなわれ、この方法により表面反射率Ｒｓのみが測定される。ここで、この裏面反射をキャンセルせずに（粗面化や黒色塗料の塗布を行わずに）分光反射率を測定することにより（各波長での）両面反射率Ｒ（Ｒｓ＋Ｒｂ）を測定することができる。なお、（式１）からも明らかなとおり、本発明における光透過率吸収損失とは散乱による損失ではなく、光吸収による損失である。
【００４４】
なお、反射防止フィルムのヘイズ（Ｈ）はＪＩＳ  Ｋ  ７１０５（１９８１）によって求めることができる。反射防止フィルムの分光透過率および各波長での両面反射率Ｒは、光源としてＣ光源として用い、光源及び受光器の入出射角を反射防止フィルム表面に対して垂直方向から５°に設定し、２°視野の条件下で、直進透過方向及び正反射方向の分光反射率を測定することにより求められる。視感平均光透過率吸収損失Ｑは、可視光の各波長の光透過率吸収損失Ｑλを比視感度により校正し、平均した値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。
【００４５】
本発明の反射防止フィルムにあっては、視感平均光透過率吸収損失を０．５％以上３．０％以下の範囲内とすることにより明所でのコントラスト、暗所でのコントラストに優れたディスプレイを提供することができる反射防止フィルムとすることができる。反射防止フィルムの光透過率吸収損失が０．５％に満たない場合にあっては、ディスプレイを黒表示した際の光モレを十分に防ぐことができず、暗所で黒画像を表示させた際の輝度（黒輝度）が高くなってしまい、暗所コントラストが低下してしまう。一方、反射防止フィルムの光透過率吸収損失が３．０％を超える場合にあっては、暗所において、ディスプレイの黒輝度を低下可能であるが、白画像を表示させた際の輝度（白輝度）が低くなってしまい逆にコントラストが低下する場合がある。
【００４６】
本発明の反射防止フィルムにあっては、（ｄ）反射防止フィルムの可視光領域における各波長での光透過率吸収損失の最大値を前記反射防止フィルムの可視光領域における各波長での光透過率吸収損失の最小値で引いた値が０．５％以上４．０％以下の範囲内であることを特徴とする。各波長での光透過率吸収損失の最大値から最小値を引いた値を０．５％以上４．０％以下の範囲内とすることにより、可視光領域にわたって反射防止フィルムの光透過率吸収損失は緩やかな波長依存性を示すこととなり、この反射防止フィルムをディスプレイ表面に設けた際に、色再現性のよい反射防止フィルムとすることができる。
可視光領域での各波長での光透過率吸収損失の最大値から最小値を引いた値が４％を超える場合にあっては、反射防止フィルムは可視光領域にわたって特定の大きな光吸収波長を備えることとなり、これを用いたディスプレイでは、画面を白表示した際に色味のある画像となってしまう。一方、可視光領域での各波長での光透過率吸収損失の最大値から最小値を引いた値が０．５％に満たない場合には、この反射防止フィルムを透過型液晶ディスプレイ表面に設けても、画面を黒表示させた際に、その画面が青色味を帯びるという問題を抑制することができなくなってしまう。なお、本発明の光透過率吸収損失の最大値および最小値の対象となる可視光領域とは４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲内である。
【００４７】
本発明の反射防止フィルムにあっては、（ｅ）反射防止フィルムの波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍでの光透過率吸収損失がＱ４５０＞Ｑ５５０＞Ｑ６５０（Ｑ４５０：波長４５０ｎｍにおける光透過率吸収損失／Ｑ５５０：波長５５０ｎｍにおける光透過率吸収損失／Ｑ６５０：波長６５０ｎｍにおける光透過率吸収損失）であることを特徴とする。（２）各波長での光透過率吸収損失の最大値から最小値を引いた値を０．５％以上４．０％以下の範囲内とし、さらに、（３）反射防止フィルムの波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍでの光透過率吸収損失がＱ４５０＞Ｑ５５０＞Ｑ６５０を満たすことにより、本発明の反射防止フィルムは短波長側で緩やかな光吸収を備えることができる。
【００４８】
そして、本発明の反射防止フィルムは短波長側で緩やかな光吸収を備えることにより、偏光層としてヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコールを用いた偏光板を構成要素とした透過型液晶ディスプレイ表面を黒表示させた際に画面が青色味を帯びるという問題を、この反射防止フィルムを観察者側に設けることで、選択的に抑制して解決し、より最適な黒色表示をおこなうことができる反射防止フィルムとすることができる。すなわち、１組の（ヨウ素延伸ポリビニルアルコールを用いた）偏光板について、その偏光方向を直交させた際に生じる青色の光モレを本発明の反射防止フィルムによって選択的に吸収することができるため、この反射防止フィルムを液晶ディスプレイ表面に設ければ、ディスプレイを黒表示させた際に画面が青色味を帯びるという問題選択的に抑制することができる。
【００４９】
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層の屈折率と前記透明基材の屈折率の差が前記透明基材の屈折率の０．０５以下の範囲内にあり、且つ、前記帯電防止層の屈折率と前記ハードコート層の屈折率の屈折率差が０．０１以上０．０５以下の範囲内にあり、且つ、前記帯電防止層の光学膜厚が２３０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１１５ｎｍ以上１３５ｎｍ以下であることが好ましい。
ハードコート層の屈折率と前記透明基材の屈折率の差が前記透明基材の屈折率の０．０５以下の範囲内にあり、とは、前記ハードコート層の屈折率ｎｈと前記透明基材の屈折率ｎｂとは  ０＜｜ｎｈ−ｎｂ｜≦０．０５  を満たすものである。
前記帯電防止層の屈折率と前記ハードコート層の屈折率の屈折率差が０．０１以上０．０５以下の範囲内にあり、とは、前記帯電防止層の屈折率ｎａと前記ハードコート層の屈折率ｎｈとは  ０．０１≦（ｎａ−ｎｈ）≦０．０５  を満たすものである。
【００５０】
本発明にあっては、透明基材とハードコート層の屈折率差、及び、ハードコート層と帯電防止層の屈折率差を上記範囲内とし、帯電防止層の光学膜厚と低屈折率層の光学膜厚を上記範囲内とすることにより、容易に（ａ）低屈折率層側の反射防止フィルムにおける視感平均反射率が０．５％以上１．５％以下であり、（ｂ）低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ−Ｂ）が０．２％以上０．９％以下の範囲内であることを満たす反射防止フィルムとすることができ、分光反射率曲線をＵ字型で非常に緩やかな曲線とし、反射色相が無色に近く、色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。
【００５１】
なお、本発明において、ハードコート層及び帯電防止層の屈折率は、ベッケ線法などによる直接測定法あるいは分光光度計や分光エリプソメーターによる光学薄膜シミュレーション法により求めることができる。
【００５２】
本発明の反射防止フィルムにあっては、透明基材とハードコート層の屈折率差は０．０５以内であることが好ましい。ハードコート層の屈折率と前記透明基材の屈折率の屈折率差が、０．０５を超える場合にあっては、層間の光の干渉による干渉縞が発生してしまう。
【００５３】
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層と帯電防止層の屈折率差は０．０１以上０．０５以下であることが好ましい。ハードコート層の屈折率が帯電防止層の屈折率よりも低く、その差が０．０１以上０．０５以内であることによって、帯電防止層が高屈折率層として機能し、反射防止フィルムの色ムラの発生や反射光の着色を防ぐことができる。ハードコート層と帯電防止層の屈折率差が０．０５を超える場合にあっては、層間の光の干渉によって、分光反射率の最大値と最小値の差を０．２％以上０．９％以下の範囲内とすることが困難となる。一方、ハードコート層と帯電防止層の屈折率差が０．０１未満となる場合にあっては、ハードコート層と帯電防止層の屈折率がほとんど同じことから、帯電防止層が高屈折率層として機能しなくなってしまい、光反射率曲線をＵ字型で非常に緩やかな曲線とすることが困難となる。
【００５４】
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、前記帯電防止層の光学膜厚が２３０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１１５ｎｍ以上１３５ｎｍ以下であることが好ましい。
【００５５】
本発明の反射防止フィルムにあっては、λ＝５００ｎｍとしたときに帯電防止層の光学膜厚がλ／２付近、低屈折率層がλ／４付近となるように設計される。λ＝５００ｎｍとして帯電防止層をλ／２付近、低屈折率層をλ／４付近とすることにより、このように設計された反射防止フィルムから得られる分光反射率曲線を、波長が大きくなるにつれ緩やかに減少し極小値を境に緩やかに増加する非常に平坦な曲線とすることができる。
【００５６】
本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線は図２に示したように、極小値を基準として短波長方向への上昇カーブが長波長方向への上昇カーブと比較して急峻な傾向を示す。このとき、分光反射率曲線の極小値を基準としたときの短波長方向への急峻な上昇カーブは、帯電防止層、反射防止層の膜厚ムラが発生したときの色ムラの発生原因となる。本発明にあっては、分光反射率曲線の極小値を５００ｎｍ近傍とすることにより、反射色相が小さく、分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ−Ｂ）がを０．９％以下とすることができ、短波長方向への急峻な上昇カーブによる色ムラの発生を抑制することができた。
【００５７】
例えば、比視感度が高い波長（λ）５５０ｎｍの光を基準として低屈折率層の膜厚をλ／４、帯電防止層の膜厚をλ／２とした場合にあっては、短波長方向への上昇カーブが大きくなり、波長４００ｎｍにおける反射率が高くなる。したがって、分光反射率の最大値と最小値の差を０．９％以内とすることは困難となり、また、低屈折率層、帯電防止層の微小な膜厚変動によって青色の色ムラが発生しやすくなる。
【００５８】
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止フィルムのヘイズが０．５％以下の範囲内であり、且つ、前記反射防止フィルムの平行光線透過率が９４．０％以上９６．５％以下の範囲内であることが好ましい。
【００５９】
本発明の反射防止フィルムのヘイズを０．５％以下とすることにより、明所コントラストの高い反射防止フィルムとすることができる。ヘイズが０．５％を超える場合には、散乱による透過損失があるため、液晶ディスプレイを暗所において黒表示させた際の光モレを見かけ上抑制することが可能となるが、明所における黒表示の際にはその散乱によって黒表示が白ボケしてコントラストが低下してしまう。なお、反射防止フィルムのヘイズはＪＩＳ  Ｋ  ７１０５（１９８１）によって求めることができる。
【００６０】
反射防止フィルムの平行光線透過率を９４．０％以上９６．５％以下とすることにより、この反射防止フィルムを用いた液晶ディスプレイのコントラストを良好なものとすることができる。反射防止フィルムの平行光線透過率が９４．０％に満たない場合にあっては、ディスプレイを白表示した際の白輝度が低下し、コントラストが低下してしまう。さらには、低屈折率層を設けて平行光線透過率を向上させた分をキャンセルしてしまうこととなる。一方、裏面反射等を考慮すると平行光線透過率を９６．５％を超える反射防止フィルムを作製することは実質的に困難であり、本発明の反射防止フィルムにあっては平行光線透過率９６．５％以下であることを特徴とする。なお、反射防止フィルムの平行光線透過率はＪＩＳ  Ｋ  ７１０５（１９８１）によって求めることができる。
【００６１】
また、本発明の反射防止フィルムが備える低屈折率層の表面における表面抵抗が１．０×１０６Ω／□以上１．０×１０１１Ω／□以下の範囲内であることが好ましい。本発明の反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗を上記範囲内とすることにより、反射防止フィルムに帯電防止機能を付与することができ、ディスプレイ表面に反射防止フィルムを設けた際に埃等の付着汚れが発生を防ぐことができる。また、ディスプレイ表面の帯電がディスプレイ内部に影響することを防ぐことができる。低屈折率層表面における表面抵抗が１．０×１０１１（Ω／□）を超える場合にあっては十分な帯電防止性を有する反射防止フィルムとすることができなくなってしまう。一方、低屈折率層表面における表面抵抗が１．０×１０６（Ω／□）を下回る場合、この状態とするためには帯電防止層において導電性粒子をバインダマトリックス中に多量に添加する必要があり、不経済であり、また、光学特性がディスプレイ用途の反射防止フィルムとしての特性を満たせず、本発明内で調整不可能なものとなってしまうことがある。反射防止フィルム帯電防止機能を付与し表面抵抗を上記範囲内とすることは、ハードコート層に導電性材料を添加することにより実現できる。
【００６２】
また、本発明の反射防止フィルムは、前記低屈折率層を形成した側の反射防止フィルム表面、すなわち低屈折率層表面でのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０．００≦ａ＊≦３．００且つ−３．００≦ｂ＊≦３．００であることが好ましい。低屈折率層側の反射防止フィルム表面でのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相を上記範囲内とすることにより、色味のない反射防止フィルムとすることができ、ディスプレイ表面にさらに好適に用いることができる。
【００６３】
反射色相は、ａ＊、ｂ＊が０に近いほど無色に近い。しかしながら、−３．００≦ａ＊＜０．００は比視感度の高い緑色の領域であり、観察者にとって色味が認識されやすい傾向にある。したがって、本発明の反射防止フィルムにあっては、０．００≦ａ＊≦３．００且つ−３．００≦ｂ＊≦３．００とすることが好ましい。
【００６４】
なお、本発明の反射防止フィルムの反射色相は、ハードコート層、低屈折率層が設けられていない側の透明基材表面に艶消し黒色塗料を塗布したうえで、分光光度計により測定される。光源としてＣ光源として用い、光源及び受光器の入出射角を反射防止フィルム表面に対して垂直方向から５°に設定し、２°視野の条件下で、正反射方向の分光反射率を測定することにより求められる。
【００６５】
また、本発明の反射防止フィルムは、帯電防止層に含まれる導電性材料が、酸化亜鉛系の粒子を含むことが好ましい。酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）といった酸化亜鉛系の導電性粒子は、可視光領域における各波長での光透過率吸収損失について、波長が長くなるにつれ減少する傾向を示す。したがって、酸化亜鉛系の導電性粒子を用いることにより、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍでの光透過率吸収損失がＱ４５０＞Ｑ５５０＞Ｑ６５０を満たす反射防止フィルムを容易に製造することができる。また、酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）といった酸化亜鉛系の導電性粒子は、反射防止フィルムに帯電防止機能を付与することができる。
【００６６】
次に、本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板について示す。図２に本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板の断面模式図を示した。本発明にかかる偏光板２は２つの透明基材間に偏光層が狭持された構造をとる。本発明の反射防止フィルムは透明基材の一方の面にハードコート層、帯電防止層及び低屈折率層を備えている。本発明の偏光板２にあっては、反射防止フィルム１を構成する第１の透明基材１１の他方の面に、偏光層２３、第２の透明基材２２を順に備える。すなわち、反射防止フィルム１を構成する第１の透明基材１１が、偏光層２３を狭持するための透明基材を兼ねる構造となっている。
【００６７】
次に、本発明の反射防止フィルムを用いた透過型液晶ディスプレイについて示す。
図３に本発明の反射防止フィルムを備える透過型液晶ディスプレイの断面模式図を示した。図３に示した本発明に係る透過型液晶ディスプレイにおいては、バックライトユニット５、第２の偏光板４、液晶セル３、本発明の偏光板である、反射防止フィルム１を含む第１の偏光板２をこの順に備えている。このとき、反射防止フィルム側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
【００６８】
バックライトユニットは、光源と光拡散板を備える（図示せず）。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている（図示せず）。第２の偏光板４は第３の透明基材４１と第４の透明基材４２との間に第２の偏光層４３を狭持した構造となっている。第１の偏光板２と第２の偏光板４は液晶セル３を挟むように設けられる。
【００６９】
また、本発明の透過型液晶ディスプレイにあっては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の透過型液晶ディスプレイはこれらに限定されるものではない。
【００７０】
以下に、本発明の反射防止フィルムの製造方法について説明する。
【００７１】
本発明の反射防止フィルムにおける透明基材としては、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。中でも、トリアセチルセルロースにあっては、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから液晶ディスプレイに対し好適に用いることができる。
【００７２】
なお、透明基材の厚みは２５μｍ以上２００μｍ以下の範囲内にあることが好ましく、さらには、４０μｍ以上８０μｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００７３】
さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。
【００７４】
次に、透明基材上に設けられるハードコート層の形成方法について説明する。
【００７５】
ハードコート層は、電離放射線硬化型材料を含むハードコート層形成用塗液を透明基材上に塗布し、透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥をおこない、その後、紫外線、電子線といった電離放射線を照射することにより電離放射線硬化型材料の硬化反応をおこなうことにより、ハードコート層とすることができる。ハードコート層形成用塗液の塗布方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いることができる。
【００７６】
ハードコート層を形成するための電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００７７】
なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。
【００７８】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００７９】
前記２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００８０】
前記３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００８１】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ等、日本合成化学社製、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６４０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂ等、新中村化学社製、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、ＵＡ−１００Ｈ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ等、ダイセルユーシービー社製、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９等、根上工業社製、ＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＢ、ＵＮ−３２２０ＨＣ、ＵＮ−３２２０ＨＳ等を挙げることができるがこの限りではない。
【００８２】
また、ハードコート層形成用塗液を紫外線により硬化させる場合にあっては、ハードコート層形成用塗液に光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００重量部に対して０．１重量部以上１０重量部以下、好ましくは１重量部以上７重量部以下、更に好ましくは１重量部以上５重量部以下である。
【００８３】
さらに、ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。
【００８４】
中でも、ハードコート形成用塗液の溶媒にあっては、透明基材を溶解するような溶媒を含むことが好ましい。ハードコート層形成用塗液が透明基材を溶解する溶媒を含むことにより形成されるハードコート層と透明基材との密着性を向上させることができる。
【００８５】
また、ハードコート層形成用塗液にはその他添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、塗液には、形成後のハードコート層を備える反射防止フィルムのカールを防止することを目的として、熱可塑性樹脂を添加してもよい。なお、ハードコート層形成用塗液には、ヘイズを０．５％以下とし明所コントラストの高い画像を得るために、平均粒子径が１００ｎｍを超える粒子は含まない方がよい。
【００８６】
形成されるハードコート層の層厚としては、３μｍ以上１５μｍ以下の範囲内であることが好ましい。ハードコート層の層厚が３μｍに満たない場合、反射防止フィルムの表面硬度が不十分となり、耐擦傷性が低くなってしまう。一方、ハードコート層の層厚が１５μｍを超える場合、ハードコート層の硬化収縮によるカールが大きくなり、反射防止フィルムを偏光板とする際に支障が発生したり、ハードコート層にクラックが発生するなどの問題が発生する。
以上により、透明基材上にハードコート層は形成される。
【００８７】
次に、ハードコート層上に設けられる帯電防止層の形成方法について説明する。
ハードコート層上に帯電防止層を形成する前に酸処理、アルカリ処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等の表面処理をおこなっても良い。これら表面処理をおこなうことにより、ハードコート層と帯電防止層との密着性をさらに向上させることができる。
【００８８】
特に、帯電防止層の形成に、ケイ素アルコキシド等の金属アルコキシドをバインダマトリックス形成材料として用いる場合にあっては、ハードコート層上に帯電防止層を形成する前にアルカリ処理をおこなうことが好ましい。ハードコート層にアルカリ処理を行うことにより、ハードコート層と帯電防止層との密着性を向上させることができ、反射防止フィルムの耐擦傷性をさらに向上させることができる。
【００８９】
本発明の帯電防止層にあっては、導電性粒子とバインダマトリックス形成材料を含む塗液を塗布し、ハードコート層上に塗膜を形成することにより形成することができる。このとき塗布方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
【００９０】
導電性粒子としては、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＡＺＯ）、酸化亜鉛−酸化ガリウム（ＧＺＯ）、酸化インジウム−酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化アンチモン−酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化タングステン等の導電性を有する金属酸化物粒子を用いることができる。
【００９１】
金属酸化物粒子としては、特に、酸化亜鉛系の粒子を好適に用いることができる。酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）といった酸化亜鉛系の導電性粒子は、可視光領域における各波長での光透過率吸収損失について波長が長くなるにつれ減少する傾向を示す。したがって、酸化亜鉛系の導電性無機粒子を用いることにより、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍでの光透過率吸収損失がＱ４５０＞Ｑ５５０＞Ｑ６５０を満たす反射防止フィルムを容易に作製することができる。
【００９２】
本発明の帯電防止層を形成する導電性粒子としては、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の粒子であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、ハードコート層が白くなって反射防止フィルムの可視光透過率が低下する傾向にある。また、粒径が１００ｎｍを超える場合、反射防止フィルムのヘイズが上昇し、ヘイズを０．５％以下とすることが困難となる。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、導電性が低下し、反射防止フィルムの表面抵抗が大きくなったり、粒子が凝集して帯電防止層内での粒子の分散が不均一になるなどの問題が生じることがある。これらの粒子は、各々単独で用いても、材質やサイズの異なる複数種類を組み合わせて用いてもよい。
【００９３】
また、帯電防止層に導電性ポリマーを添加してもよい。電子電導型の導電性ポリマーとしてはポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（１，６−ヘプタジイン）、ポリビフェニレン（ポリパラフェニレン）、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ（２，５−フェニレン）及びこれらの誘導体から選ばれる１種または２種以上の混合物を用いることができる。
【００９４】
これらの導電性ポリマーは比較的少ない添加量で導電性を発現でき、いずれも、可視域全域に吸収を有し、特定の吸収ピークを持たず好適に用いることができる。
【００９５】
バインダマトリックス形成材料としては、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。好ましくは、一般式（１）ＲｘＳｉ（ＯＲ´）４−ｘ（ただし、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
【００９６】
一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式（Ｉ）で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得ることができる。
【００９７】
ケイ素アルコキシドの加水分解物としては、一般式（１）ＲｘＳｉ（ＯＲ´）４−ｘ（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）に、さらに、一般式（２）Ｒ´´ｙＳｉ（ＯＲ´）４−ｙ（ただし、式中Ｒ´´は反応性官能基を示し、ｙは１≦ｙ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を加えることができる。このとき、Ｒ´´に用いられる反応性官能基としてはエポキシ基またはグリシドキシ基を好適に用いることができる。一般式（２）で表されるケイ素アルコキシドの割合は、全ケイ素アルコキシドに対して０．５ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下含まれることが好ましく、更には、４ｍｏｌ％以上１２ｍｏｌ％以下であることが好ましい。反応性官能基を含む一般式（２）で表されるケイ素アルコキシドを用いることにより、耐候性を向上させることができる。
【００９８】
また、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料を用いることもできる。電離放射線硬化型材料としては、ハードコート層形成用塗液のときと同様にアクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、ハードコート層形成用塗液で挙げたアクリル系材料を用いることができ、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、必要に応じて光重合開始剤が添加される。光重合開始剤についても、ハードコート層形成用塗液で挙げた材料を用いることができる。
【００９９】
帯電防止層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、帯電防止剤、防汚剤、撥水剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。
【０１００】
バインダマトリックス形成材料としてケイ素アルコキシドの加水分解物を用いた場合には、ケイ素アルコキシドの加水分解物と導電性粒子とを含む帯電防止層形成用塗液をハードコート層を形成した透明基材上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜に対し乾燥・加熱し、ケイ素アルコキシドの脱水縮合反応をおこなうことによって、帯電防止層を形成することができる。また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、電離放射線硬化型材料と導電性粒子とを含む帯電防止層形成用塗液をハードコート層を形成した透明基材上に塗布して透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥をおこない、その後、紫外線、電子線といった電離放射線を照射することにより電離放射線硬化型材料の硬化反応をおこなうことによって、帯電防止層を形成することができる。
【０１０１】
なお、本発明の反射防止フィルムにあっては、帯電防止層形成用塗液のバインダマトリックス形成材料として導電性ポリマー等の導電性材料を用いることにより、導電性粒子を用いることなく帯電防止層を形成することも可能である。
【０１０２】
本発明の反射防止フィルムの帯電防止層は、帯電防止層の屈折率（ｎ）と帯電防止層の層厚（ｄ）をかけることにより得られる帯電防止層の光学膜厚（ｎｄ）が可視光波長の１／２となるように設けられる。このとき、帯電防止層の光学膜厚は２３０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。帯電防止層の光学膜厚を２３０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下の範囲内とし、λ＝５００ｎｍとしたときλ／２付近となるように帯電防止層の光学膜厚を設計することにより、反射色相を小さくすることができる。また、帯電防止低屈折率層は湿式塗布法により形成されるために多少の膜厚の変動があるが、光学膜厚をこの範囲に調整することで、帯電防止層の膜厚変動による色ムラの発生の少ない反射防止フィルムとすることができる。
以上により、ハードコート層上に帯電防止層が形成される。
【０１０３】
次に、帯電防止層上に形成される低屈折率層の形成方法について説明する。
本発明の低屈折率層にあっては、低屈折率粒子とバインダマトリックス形成材料を含む低屈折率層形成用塗液を帯電防止層上に塗布して塗膜を形成し、これを硬化させる湿式成膜法により形成することができる。このとき塗布方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
【０１０４】
低屈折率粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折率材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。
【０１０５】
本発明の低屈折率層に用いられる低屈折率粒子としては、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、低屈折率粒子が凝集して、低屈折率層における低屈折率粒子の分散が不均一になるなどの問題が生じる。
【０１０６】
バインダマトリックス形成材料としては、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができ、好ましくは一般式（１）ＲｘＳｉ（ＯＲ）４−ｘ（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
このような、一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドとしては、帯電防止層形成用塗液で挙げた材料を用いることができる。
【０１０７】
さらには、低屈折率層形成用塗液のバインダマトリックス形成材料は、一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドに、一般式（３）Ｒ´ｚＳｉ（ＯＲ）４−ｚ（但し、式中Ｒ´はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、ｚは１≦ｚ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含ませることができる。これにより反射防止フィルムの低屈折率層表面に防汚性を付与することができ、さらに、低屈折率層の屈折率をさらに低下させることができる。
【０１０８】
一般式（３）で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【０１０９】
低屈折率層形成用塗布液のバインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料を用いることもできる。電離放射線硬化型材料としては、ハードコート層形成用塗液、帯電防止層形成用塗液のときと同様にアクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、ハードコート層形成用塗液で挙げたアクリル系材料を用いることができ、ハードコート層形成用塗液、帯電防止層形成用塗液のときと同様に、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【０１１０】
バインダマトリックス形成材料としてケイ素アルコキシドの加水分解物を用いた場合には、ケイ素アルコキシドの加水分解物と低屈折率粒子とを含む塗液をハードコート層及び帯電防止層が形成された透明基材上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜に対し乾燥・加熱し、ケイ素アルコキシドの脱水縮合反応をおこなうことにより低屈折率層を形成することができる。また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、電離放射線硬化型材料と低屈折率粒子とを含む塗液をハードコート層及び帯電防止層が形成された透明基材上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥をおこない、その後、紫外線、電子線といった電離放射線を照射することにより電離放射線硬化型材料の硬化反応をおこなって低屈折率層を形成することができる。
【０１１１】
低屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。
【０１１２】
また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、必要に応じて光重合開始剤が添加する。用いることのできる光重合開始剤としては、ハードコート層形成用塗液で挙げた材料を用いることができる。また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いる場合にあっても、低屈折率層表面に防汚性を発現する材料を添加することが好ましい。防汚性を発現する材料としては、フッ素系材料、シリコーン系材料を用いることができる。
【０１１３】
なお、本発明の反射防止フィルムにあっては、低屈折率層形成用塗液のバインダマトリックス形成材料として屈折率の低いフッ素系電離放射線硬化型材料などの低屈折率材料を用いることにより、低屈折率粒子を用いることなく低屈折率層を形成することも可能である。
【０１１４】
本発明の反射防止フィルムの低屈折率層は、低屈折率層の屈折率（ｎ）と低屈折率層の層厚（ｄ）をかけることにより得られる低屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）が可視光波長の１／４となるように設けられる。このとき、低屈折率層の光学膜厚は１１５ｎｍ以上１３５ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。低屈折率層の光学膜厚を１１５ｎｍ以上１３５ｎｍ以下の範囲内とし、λ＝５００ｎｍとしたときλ／４付近となるように低屈折率層の光学膜厚を設計することにより、反射色相を小さくすることができる。また、低屈折率層は湿式塗布法により形成されるために多少の膜厚の変動があるが、光学膜厚をこの範囲に調整することで、低屈折率層の膜厚変動による色ムラの発生の少ない反射防止フィルムとすることができる。
以上により、本発明の反射防止フィルムは形成される。
【０１１５】
なお、本発明の反射防止フィルムには、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層の他に、必要に応じて、防汚性能、電磁波シールド性能、赤外線吸収性能、紫外線吸収性能、色補正性能等を有する機能層が設けられる。これらの機能層としては、防汚層、電磁波遮蔽層、赤外線吸収層、紫外線吸収層、色補正層等が挙げられる。なお、これらの機能層は単層であってもかまわないし、複数の層であってもかまわない。機能層は、１層で複数の機能を有していても構わない。また、これらの機能層は、各層間に設けても良いし、反射防止フィルム表面に設けても良い。また、本発明にあっては、各種層間の接着性向上のために、各層間にプライマー層や接着層等を設けても良い。
本発明の反射防止フィルムにあっては、低屈折率層が形成されている側の反対側の透明基材側の面（他方の面）に偏光層と第２の透明基材を設けることにより、偏光板とすることができる。偏光層としては、例えば、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いることができる。また、第２の透明基材としては、本発明の反射防止フィルムに透明基材として用いる基材を選択することができ、トリアセチルセルロースからなるフィルムを好適に用いることができる。
【０１１６】
また、本発明の反射防止フィルムを構成要素の一部として用いた偏光板は、透過型液晶ディスプレイの一部を構成することができる。このとき、当該偏光板は、観察者側から、当該偏光板、液晶セル、第２の偏光板、バックライトユニットの順で配置される。すなわち、観察側に低屈折率層が最表面となるように設けられる。本発明の反射防止フィルム、あるいは本発明の偏光板を透過型液晶ディスプレイ表面に設けることにより、透過型液晶ディスプレイに優れた帯電防止機能、反射防止機能を与え、さらには、反射光の色味を低減した透過型液晶ディスプレイとすることができる。
【実施例】
【０１１７】
（実施例１）
＜透明基材＞
透明基材として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用意した。
＜偏光板＞
ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコールを偏光層とし、これを２枚の厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（第１及び第２の透明基材）で狭持した偏光板を用意した。
【０１１８】
＜ハードコート層の形成＞
電離放射線硬化型材料としてジペンタエリスリトールトリアクリレート１０重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート１０重量部、ウレタンアクリレート（共栄社化学株式会社製ＵＡ−３０６Ｔ）３０重量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバジャパン株式会社製（光重合開始剤）２．５重量部、溶媒としてメチルエチルケトン２５重量部、酢酸ブチル２５重量部を混合してハードコート層形成用塗液を調整した。得られたハードコート層形成用塗液を透明基材であるトリアセチルセルロースフィルム及び偏光板の一方の面（第１の透明基材）上にワイヤーバーコーターにより塗布した。その後、ハードコート層形成用塗液を塗布したトリアセチルセルロースフィルム及び偏光板をオーブンで８０℃１分乾燥をおこない、乾燥後、メタルハイドランプを用い、１２０Ｗの出力で２０ｃｍの距離から１０秒間紫外線照射をおこなうことによりハードコート層を形成した。いずれも、得られたハードコート層の膜厚は５μｍであり、屈折率は１．５２であった。
【０１１９】
＜帯電防止層の形成＞
有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランを原料とし、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解させることより、テトラエトキシシランの重合体を含む溶液を得た。この溶液に、導電性微粒子として一次粒子径が３０ｎｍのガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）粒子分散液（固形分比３０重量％、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）分散媒）、を混合し、さらにイソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中にテトラエトキシシランの重合体２．５重量部、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）粒子２．５重量部を含む帯電防止層形成用塗液を得た。得られた帯電防止層形成用塗液を透明基材及び偏光板上に形成されたハードコート層上にワイヤーバーコーターにて塗布し、オーブンで１２０℃１分間加熱乾燥をおこない、帯電防止層を形成した。いずれも、得られた帯電防止層の膜厚は１６３ｎｍであり、屈折率は１．５３であり、光学膜厚は２５０ｎｍであった。
【０１２０】
＜低屈折率層の形成＞
有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランと１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシランをｍｏｌ比で９５：５となるように混合したものを用い、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解させることより、有機ケイ素化合物の重合体を含む溶液を得た。この溶液に、内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液（一次粒子径３０ｎｍ／固形分２０重量％）を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中に有機ケイ素化合物２．０重量部、低屈折率シリカ微粒子２．０重量部を含む低屈折率層形成用塗液を得た。得られた低屈折率層形成用塗液を透明基材及び偏光板上に形成された帯電防止層上にワイヤーバーコーターにて塗布し、オーブンで１２０℃で１分間加熱乾燥をおこない、低屈折率層を形成した。いずれも、得られた低屈折率層の膜厚は９１ｎｍであり、屈折率は１．３７であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。
【０１２１】
以上により、透明基材、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルム、および第２の透明基材、偏光層、第１の透明基材からなる偏光板上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を順に備える偏光板を作製した。
【０１２２】
（実施例２）
＜透明基材＞
（実施例１）と同様に、透明基材として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用意した。
＜偏光板＞
（実施例１）と同様に、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコールを偏光層とし、これを２枚の厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（第１及び第２の透明基材）で狭持した偏光板を用意した。
【０１２３】
＜ハードコート層の形成＞
（実施例１）と同様にして、透明基材及び偏光板の一方の面（第１の透明基材）上にハードコート層を形成した。いずれも、得られたハードコート層の膜厚は５μｍであり、屈折率は１．５２であった。
【０１２４】
＜帯電防止層の形成＞
（実施例１）と同様にして、透明基材及び偏光板上に形成されたハードコート層上にそれぞれ帯電防止層を形成した。いずれも、得られた帯電防止層の膜厚は１６３ｎｍであり、屈折率は１．５３であり、光学膜厚は２５０ｎｍであった。
【０１２５】
＜低屈折率層の形成＞
有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランと１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシランをｍｏｌ比で９５：５となるように混合したものを用い、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解させることより、有機ケイ素化合物の重合体を含む溶液を得た。この溶液に、内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液（一次粒子径３０ｎｍ／固形分２０重量％）を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中に有機ケイ素化合物１．８重量部、低屈折率シリカ微粒子２．２重量部を含む低屈折率層形成用塗液を得た。得られた低屈折率層形成用塗液を透明基材及び偏光板上に形成された帯電防止層上にワイヤーバーコーターにて塗布し、オーブンで１２０℃で１分間加熱乾燥をおこない、低屈折率層を形成した。いずれも、得られた低屈折率層の膜厚は９４ｎｍであり、屈折率は１．３３であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。
【０１２６】
以上により、透明基材、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルム、および第２の透明基材、偏光層、第１の透明基材からなる偏光板上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を順に備える偏光板を作製した。
【０１２７】
（実施例３）
＜透明基材＞
（実施例１）と同様に、透明基材として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用意した。
＜偏光板＞
（実施例１）と同様に、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコールを偏光層とし、これを２枚の厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（第１及び第２の透明基材）で狭持した偏光板を用意した。
【０１２８】
＜ハードコート層の形成＞
（実施例１）と同様にして、透明基材及び偏光板の一方の面（第１の透明基材）上にハードコート層を形成した。いずれも、得られたハードコート層の膜厚は５μｍであり、屈折率は１．５２であった。
【０１２９】
＜帯電防止層の形成＞
有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランを原料とし、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解させることより、テトラエトキシシランの重合体を含む溶液を得た。この溶液に、導電性微粒子として一次粒子径が３０ｎｍのアルミドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）微粒子分散液（固形分比３０重量％、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）分散媒）を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中にテトラエトキシシランの重合体２．０重量部、アルミニウム酸化亜鉛粒子３．０重量部を含む帯電防止層形成用塗液を得た。得られた帯電防止層形成用塗液を透明基材及び偏光板上に形成されたハードコート層上にワイヤーバーコーターにて塗布し、オーブンで１２０℃１分間加熱乾燥をおこない、帯電防止層を形成した。いずれも、得られた帯電防止層の膜厚は１３４ｎｍであり、屈折率は１．５４であり、光学膜厚は２６０ｎｍであった。
【０１３０】
＜低屈折率層の形成＞
（実施例１）と同様にして、透明基材及び偏光板上に形成された帯電防止層上にそれぞれ低屈折率層を形成した。いずれも、得られた低屈折率層の膜厚は９１ｎｍであり、屈折率は１．３７であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。
【０１３１】
以上により、透明基材、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルム、および第２の透明基材、偏光層、第１の透明基材からなる偏光板上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を順に備える偏光板を作製した。
【０１３２】
（比較例１）
＜偏光板＞
（実施例１）と同様に、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコールを偏光層とし、これを２枚の厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（第１及び第２の透明基材）で狭持した偏光板を用意した。
【０１３３】
＜ハードコート層の形成＞
（実施例１）と同様にして、偏光板の一方の面（第１の透明基材）上にハードコート層を形成した。得られたハードコート層の膜厚は５μｍであり、屈折率は１．５２であった。
【０１３４】
以上により、第２の透明基材、偏光層、第１の透明基材からなる偏光板上にハードコート層を備える偏光板を作製した。
【０１３５】
（比較例２）
＜透明基材＞
（実施例１）と同様に、透明基材として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用意した。
＜偏光板＞
（実施例１）と同様に、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコールを偏光層とし、これを２枚の厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（第１及び第２の透明基材）で狭持した偏光板を用意した。
【０１３６】
＜ハードコート層の形成＞
（実施例１）と同様にして、透明基材及び偏光板の一方の面（第１の透明基材）上にハードコート層を形成した。いずれも、得られたハードコート層の膜厚は５μｍであり、屈折率は１．５２であった。
【０１３７】
＜低屈折率層の形成＞
（実施例１）と同様にして、透明基材及び偏光板上に形成されたハードコート層上にそれぞれ低屈折率層を形成した。いずれも、得られた低屈折率層の膜厚は９１ｎｍであり、屈折率は１．３７であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。
【０１３８】
以上により、透明基材、ハードコート層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルム、および第２の透明基材、偏光層、第１の透明基材からなる偏光板上にハードコート層、低屈折率層を順に備える偏光板を作製した。
【０１３９】
（比較例３）
＜透明基材＞
（実施例１）と同様に、透明基材として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用意した。
＜偏光板＞
（実施例１）と同様に、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコールを偏光層とし、これを２枚の厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（第１及び第２の透明基材）で狭持した偏光板を用意した。
【０１４０】
＜帯電防止ハードコート層の形成＞
電離放射線硬化型材料としてジペンタエリスリトールトリアクリレート１０重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート１０重量部、ウレタンアクリレート（共栄社化学株式会社製ＵＡ−３０６Ｔ）３０重量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバジャパン株式会社製（光重合開始剤）２．５重量部、一次粒子径が８ｎｍのアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）微粒子１２重量部、溶媒としてメチルエチルケトン５０重量部、酢酸ブチル５０重量部を混合して帯電防止ハードコート層形成用塗液を調整した。得られた帯電防止ハードコート層形成用塗液を透明基材であるトリアセチルセルロースフィルム及び偏光板の一方の面（第１の透明基材）上にワイヤーバーコーターにより塗布した。その後、帯電防止ハードコート層形成用塗液を塗布したトリアセチルセルロースフィルム及び偏光板をオーブンで８０℃１分乾燥をおこない、乾燥後、メタルハイドランプを用い、１２０Ｗの出力で２０ｃｍの距離から１０秒間紫外線照射をおこなうことにより帯電防止ハードコート層を形成した。いずれも、得られた帯電防止ハードコート層の膜厚は５μｍであり、屈折率は１．５８であった。
【０１４１】
＜低屈折率層の形成＞
（実施例１）と同様にして、透明基材及び偏光板上に形成された帯電防止ハードコート層上にそれぞれ低屈折率層を形成した。いずれも、得られた低屈折率層の膜厚は９１ｎｍであり、屈折率は１．３７であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。
【０１４２】
以上により、透明基材、帯電防止ハードコート層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルム、および第２の透明基材、偏光層、第１の透明基材からなる偏光板上に帯電防止ハードコート層、低屈折率層を順に備える偏光板を作製した。
【０１４３】
（比較例４）
＜透明基材＞
（実施例１）と同様に、透明基材として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用意した。
＜偏光板＞
（実施例１）と同様に、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコールを偏光層とし、これを２枚の厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（第１及び第２の透明基材）で狭持した偏光板を用意した。
【０１４４】
＜ハードコート層の形成＞
（実施例１）と同様にして、透明基材及び偏光板の一方の面（第１の透明基材）上にハードコート層を形成した。いずれも、得られたハードコート層の膜厚は５μｍであり、屈折率は１．５２であった。
【０１４５】
＜帯電防止層の形成＞
一次粒子径が３０ｎｍのガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）粒子分散液（固形分比３０重量％、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）分散媒）１６．７重量部、電離放射線硬化型材料としてジペンタエリスリトールトリアクリレート５．０重量部を用意し、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）０．２５重量部を用意し、溶媒としてメチルイソブチルケトン７８．３重量部を用意し、これらを混合して帯電防止層形成用塗液を調整した。
得られた帯電防止層形成用塗液を透明基材及び偏光板上に形成されたハードコート層上にワイヤーバーコーターにより塗布し、塗膜を形成した。その後、透明基材及び偏光板上に形成された塗膜について、オーブンで乾燥をおこない、乾燥後、コンベア式紫外線硬化装置により露光量５００ｍＪ／ｃｍ２で硬化して帯電防止層を形成した。いずれも、得られた帯電防止層の膜厚は７８ｎｍであり、屈折率は１．６０であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。
【０１４６】
＜低屈折率層の形成＞
（実施例１）と同様にして、透明基材及び偏光板上に形成された帯電防止層上にそれぞれ低屈折率層を形成した。いずれも、得られた低屈折率層の膜厚は９１ｎｍであり、屈折率は１．３７であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。
【０１４７】
以上により、透明基材、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルム、および第２の透明基材、偏光層、第１の透明基材からなる偏光板上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を順に備える偏光板を作製した。
【０１４８】
（比較例５）
＜透明基材＞
（実施例１）と同様に、透明基材として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用意した。
＜偏光板＞
（実施例１）と同様に、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコールを偏光層とし、これを２枚の厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（第１及び第２の透明基材）で狭持した偏光板を用意した。
【０１４９】
＜ハードコート層の形成＞
（実施例１）と同様にして、透明基材及び偏光板の一方の面（第１の透明基材）上にハードコート層を形成した。いずれも、得られたハードコート層の膜厚は５μｍであり、屈折率は１．５２であった。
【０１５０】
＜帯電防止層の形成＞
有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランを原料とし、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解させることより、テトラエトキシシランの重合体を含む溶液を得た。この溶液に、一次粒子径が２０ｎｍの５酸化アンチモン微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中にテトラエトキシシランの重合体２．５重量部、５酸化アンチモン微粒子２．５重量部を含む帯電防止層形成用塗液を得た。一方、ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルム及び偏光板を、５０℃１．５Ｎ−ＮａＯＨ水溶液に２分間浸漬してアルカリ処理をおこない、水洗後、０．５重量％のＨ２ＳＯ４水溶液に室温で３０秒浸漬してアルカリを中和し、水洗、乾燥処理をおこなった。得られた帯電防止層形成用塗液をアルカリ処理したハードコート層上にワイヤーバーコーターにて塗布し、オーブンで１２０℃１分間加熱乾燥をおこない、帯電防止層を形成した。いずれも、得られた帯電防止層の膜厚は１８０ｎｍであり、屈折率は１．５５であり、光学膜厚は２７９ｎｍであった。
【０１５１】
＜低屈折率層の形成＞
（実施例１）と同様にして、透明基材及び偏光板上に形成された帯電防止層上にそれぞれ低屈折率層を形成した。いずれも、得られた低屈折率層の膜厚は９１ｎｍであり、屈折率は１．３７であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。
【０１５２】
以上により、透明基材、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルム、および第２の透明基材、偏光層、第１の透明基材からなる偏光板上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を順に備える偏光板を作製した。
【０１５３】
得られた反射防止フィルム及び偏光板について以下の測定をおこなった。
【０１５４】
（反射防止フィルムの各種特性の測定）
・視感平均反射率、反射色相の測定
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、測定した低屈折率層形成面についてＣ光源、２度視野の条件下での入射角５°における分光反射率から平均視感反射率（Ｙ％）、反射色相（ａ＊、ｂ＊）を算出した。また、比視感度は明所視標準比視感度を用いた。
【０１５５】
・分光反射率の測定
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。スプレー塗布後、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、Ｃ光源、２度視野の条件下で、低屈折率層形成面について入射角５°における分光反射率を測定した。
【０１５６】
・ヘイズ（Ｈ）、平行光線透過率の測定
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器（日本電色工業製、ＮＤＨ−２０００）を使用してヘイズ（Ｈ）、平行光線透過率を測定した。
【０１５７】
・視感平均光透過率吸収損失、各波長での光透過率吸収損失の測定
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルムについて、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、光源としてＣ光源として用い、光源及び受光器の入出射角を反射防止フィルム表面に対して垂直方向から５°に設定し、２°視野の条件下で、直進透過方向及び正反射方向の分光反射率、分光透過率を測定し、視感平均光透過率吸収損失（Ｑ）、各波長での光透過率吸収損失（Ｑ４５０：波長４５０ｎｍにおける光透過率吸収損失／Ｑ５５０：波長５５０ｎｍにおける光透過率吸収損失／Ｑ６５０：波長６５０ｎｍにおける光透過率吸収損失）を算出した。
このとき、各波長での光透過率吸収損失（Ｑ４５０、Ｑ５５０、Ｑ６５０）は式（１）により算出した。視感平均光透過率吸収損失（Ｑ）は、式（１）で求められた各波長の光透過率吸収損失を比視感度により校正した後、平均して求めた。また、比視感度は明所視標準比視感度を用いた。
Ｑλ＝１００−Ｈ−Ｔ−Ｒ                    ・・・（式１）
Ｑλ：光透過率吸収損失（％）
Ｈ：ヘイズ（％）
Ｔ：分光透過率（％）
Ｒ：両面反射率（％）
【０１５８】
・表面抵抗の測定
ＪＩＳ  Ｋ６９１１に準拠して高抵抗抵抗率計（株式会社ダイアインスツルメンツ製ハイレスターＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて、反射防止フィルムの表面抵抗の測定をおこなった。
【０１５９】
（偏光板の各種特性の測定）
・平行視感平均透過率、直交視感平均透過率、直交色相の測定
実施例及び比較例で得られた偏光板と、実施例１等で最初に用意したものと同様の、ハードコート層、反射防止層を設けていない偏光板（第２の偏光板）を偏光軸が平行となるように粘着層を介し配置し、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、光源としてＣ光源を用い、光源及び受光器の入出射角を反射防止フィルム表面に対して垂直方向に設定し、２°視野の条件下で、直進透過方向の分光透過率を測定し、平行視感平均透過率を算出した。
また、実施例及び比較例で得られた偏光板と、ハードコート層、反射防止層を設けていない偏光板（第２の偏光板）を偏光軸が直交となるように粘着層を介し配置し、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、光源としてＣ光源を用い、光源及び受光器の入出射角を反射防止フィルム表面に対して垂直方向に設定し、２°視野の条件下で、直進透過方向の分光透過率を測定し、直交視感平均透過率、直交色相を算出した。
【０１６０】
なお、（実施例）において、ハードコート層の膜厚は触針式の膜厚計により求めた。また、帯電防止層と低屈折率層の膜厚については、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察をおこなうことにより測定した。また、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層の屈折率、光学膜厚については、得られた分光反射率について光学シミュレーションをおこなうことにより求めた。
【０１６１】
測定結果を（表１）に示す。
【０１６２】
【表１】
2010181871.tif 000003
【０１６３】
（色ムラの評価）
（実施例１）〜（実施例３）及び（比較例２）〜（比較例５）で得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、反射防止フィルムを目視で観察し、色ムラの発生を観察した。
評価の結果、（実施例１）〜（実施例３）の反射防止フィルムにあっては、暗い環境下では色ムラは確認されず、明るい環境下でも色ムラが見えにくい色ムラのない反射防止フィルムであることが確認された。
また、（比較例２）、（比較例３）の反射防止フィルムにあっては、暗い環境下で色ムラは確認されず、明るい環境下で色ムラが確認できるが許容範囲内であった。
また、（比較例４）の反射防止フィルムにあっては、暗い環境下でも色ムラがはっきりと確認され、色ムラのある反射防止フィルムであった。
また、（比較例５）の反射防止フィルムにあっては、明るい環境下で色ムラが確認され、色ムラのある反射防止フィルムであった。
【０１６４】
（コントラストの評価）
また、（実施例１）〜（実施例３）及び（比較例２）、（比較例３）、（比較例４）、（比較例５）で得られた反射防止フィルムを透過型液晶ディスプレイ（ＢＵＦＦＡＬＯ社製ＦＴＤ−Ｗ２０２３ＡＤＳＲ）表面に粘着層を介して、反射防止層が最表面となるように貼りあわせた。
貼りあわせた透過型液晶ディスプレイについて、室内の照明を切り替えることにより、明所（２００ｌｕｘ）、暗所（０ｌｕｘ）での条件化で黒表示及び白表示をおこない輝度を測定してコントラストの評価をおこなった。このとき、（比較例２）の反射防止フィルムを透過型液晶ディスプレイ表面に貼りあわせたものを評価基準（リファレンス）とした。
評価の結果、（実施例１）〜（実施例３）の反射防止フィルムを貼りあわせた透過型液晶ディスプレイにあっては、（比較例２）の反射防止フィルムを貼りあわせた透過型液晶ディスプレイと比較して、暗所における黒表示時の輝度（黒輝度）が低下していることから、暗所コントラストが向上していることが確認された。
一方、（比較例３）の反射防止フィルムを貼りあわせた透過型液晶ディスプレイにあっては、（比較例２）の反射防止フィルムを貼りあわせた透過型液晶ディスプレイと比較して、暗所における黒輝度が低下しているものの、暗所及び明所における白表示時の輝度（白輝度）も低下しており、明所コントラスト、暗所コントラストともに低下していることが確認された。また比較例４および５の反射防止フィルムを貼りあわせた透過型液晶ディスプレイにあっては、（比較例２）の反射防止フィルムを貼りあわせた透過型液晶ディスプレイと比較して、明所コントラスト、暗所コントラストともにあきらかな向上は確認できなかった。
【０１６５】
（実施例１）〜（実施例３）の反射防止フィルムにあっては、十分な反射防止性能、十分な帯電防止性能を有するだけでなく、反射光の色味を低減し、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムとすることができた。
【０１６６】
また、（実施例１）〜（実施例３）の偏光板の直交色相（ｂ＊）の結果から、本発明の偏光板にあっては（比較例１）〜（比較例５）と比較して、１組の偏光板をその偏光軸が直交になるように配置して黒表示とした際に画面が青色味を帯びる問題を透過光線を選択することで抑制し、より最適な黒色表示をおこなうことができる偏光板であることが確認された。
【符号の説明】
【０１６７】
１      反射防止フィルム
１１    第１の透明基材
１２    ハードコート層
１３    帯電防止層
１４    低屈折率層
２      偏光板
２２    第２の透明基材
２３    偏光層
３      液晶セル
４      第２の偏光板
４１    第３の透明基材
４２    第４の透明基材
４３    第２の偏光層
５      バックライトユニット
【図１】
2010181871.tif 000004
【図２】
2010181871.tif 000005
【図３】
2010181871.tif 000006