(57)【要約】      （修正有）【課題】複屈折率（△ｎ）が大きく、耐熱性及び耐湿性に優れ、逆波長分散性を有する位相差フィルムの提供。【解決手段】位相差層が、例えば下記式で表される重合性液晶化合物を有する重合性組成物の硬化物を含有する位相差フィルム。2020086397.tif 000064【選択図】図１
2020086397.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
位相差層を有する位相差フィルムであって、前記位相差層が、下記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の硬化物を含有する、位相差フィルム。
【化１】
2020086397.tif 000061
（一般式（１）中、Ｑ１は、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基を表すが、当該芳香環は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良く、
Ｑ２は水素原子、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルケニル基、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基、又は−（Ｌ６−Ａ５）ｑ−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２を表し、当該アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、及び芳香環はそれぞれ、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良く、当該アルキル基は当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−に置き換えられていても良く、Ｌ６は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ａ５は、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基、ベンゼン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−２，７−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表し、Ｌ７は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｒｓｐ２は、炭素原子数１以上２０以下のアルキレン基又は単結合を表し、当該アルキレン基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、Ｚ２は、重合性官能基を表す。ｑは０以上４以下の整数を表し、化合物内にＬ６及びＡ５が複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
前記置換基Ｅは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基を表し、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子によって置換されていても良く、或いは、前記置換基Ｅは、−ＬＥ−ＲｓｐＥ−ＺＥで表される基を表しても良く、ここでＬＥ、ＲｓｐＥ及びＺＥは、それぞれ、前記Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ前記Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２と同一であっても異なっていても良い。化合物内に置換基Ｅが複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。化合物内に複数存在するＱ１及びＱ２は、各々同一であっても異なっていても良く、また、Ｑ１とＱ２は結合して環を構成していても良い。＊は、重合性官能基を有する１価の基との結合位置を示す。）
【請求項２】
前記重合性組成物に含まれる重合性液晶化合物の合計１００質量％中、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物の含有量が、６０質量％以上である、請求項１に記載の位相差フィルム。
【請求項３】
下記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含有する重合性組成物を成膜する工程と、
前記成膜された前記重合性組成物中の前記重合性液晶化合物を少なくとも配向させる工程と、
前記配向させる工程の後に、前記重合性液晶化合物を少なくとも重合する工程とを有する方法により、位相差層を形成する、位相差フィルムの製造方法。
【化２】
2020086397.tif 000062
（一般式（１）中、Ｑ１は、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基を表すが、当該芳香環は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良く、
Ｑ２は水素原子、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルケニル基、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基、又は−（Ｌ６−Ａ５）ｑ−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２を表し、当該アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、及び芳香環はそれぞれ、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良く、当該アルキル基は当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−に置き換えられていても良く、Ｌ６は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ａ５は、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基、ベンゼン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−２，７−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表し、Ｌ７は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｒｓｐ２は、炭素原子数１以上２０以下のアルキレン基又は単結合を表し、当該アルキレン基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、Ｚ２は、重合性官能基を表す。ｑは０以上４以下の整数を表し、化合物内にＬ６及びＡ５が複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
前記置換基Ｅは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基を表し、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子によって置換されていても良く、或いは、前記置換基Ｅは、−ＬＥ−ＲｓｐＥ−ＺＥで表される基を表しても良く、ここでＬＥ、ＲｓｐＥ及びＺＥは、それぞれ、前記Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ前記Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２と同一であっても異なっていても良い。化合物内に置換基Ｅが複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。化合物内に複数存在するＱ１及びＱ２は、各々同一であっても異なっていても良く、また、Ｑ１とＱ２は結合して環を構成していても良い。＊は、重合性官能基を有する１価の基との結合位置を示す。）
【請求項４】
前記重合性組成物に含まれる重合性液晶化合物の合計１００質量％中、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物の含有量が、６０質量％以上である、請求項３に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項５】
位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、
前記位相差層が、下記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の硬化物を含有する、
位相差層の転写に供する転写用積層体。
【化３】
2020086397.tif 000063
（一般式（１）中、Ｑ１は、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基を表すが、当該芳香環は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良く、
Ｑ２は水素原子、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルケニル基、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基、又は−（Ｌ６−Ａ５）ｑ−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２を表し、当該アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、及び芳香環はそれぞれ、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良く、当該アルキル基は当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−に置き換えられていても良く、Ｌ６は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ａ５は、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基、ベンゼン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−２，７−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表し、Ｌ７は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｒｓｐ２は、炭素原子数１以上２０以下のアルキレン基又は単結合を表し、当該アルキレン基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、Ｚ２は、重合性官能基を表す。ｑは０以上４以下の整数を表し、化合物内にＬ６及びＡ５が複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
前記置換基Ｅは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基を表し、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子によって置換されていても良く、或いは、前記置換基Ｅは、−ＬＥ−ＲｓｐＥ−ＺＥで表される基を表しても良く、ここでＬＥ、ＲｓｐＥ及びＺＥは、それぞれ、前記Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ前記Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２と同一であっても異なっていても良い。化合物内に置換基Ｅが複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。化合物内に複数存在するＱ１及びＱ２は、各々同一であっても異なっていても良く、また、Ｑ１とＱ２は結合して環を構成していても良い。＊は、重合性官能基を有する１価の基との結合位置を示す。）
【請求項６】
前記重合性組成物に含まれる重合性液晶化合物の合計１００質量％中、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物の含有量が、６０質量％以上である、請求項５に記載の転写用積層体。
【請求項７】
請求項１又は２に記載の位相差フィルム上に、偏光板を備える、光学部材。
【請求項８】
請求項５又は６に記載の転写用積層体を準備する工程と、
少なくとも偏光板を含む被転写体と、前記転写用積層体の前記位相差層とを対向させ、前記被転写体上に前記転写用積層体を転写する転写工程と、
前記被転写体上に転写された前記転写用積層体から、前記支持体を剥離する剥離工程と
を有する、光学部材の製造方法。
【請求項９】
請求項１若しくは２に記載の位相差フィルム、又は請求項７に記載の光学部材を備える表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置や発光表示装置等の表示装置に関して、位相差フィルムや偏光板等の光学部材をパネル面に配置する構成が提案されている。
例えば有機発光表示装置等の発光表示装置においては、発光層の光を効率よく利用するため、反射性に優れた金属電極が設けられている。一方、当該金属電極を用いることにより、外光反射が大きくなる。そのため、発光表示装置においては、当該外光反射を抑制することを目的として、視認側に、直線偏光を円偏光に変換する１／４波長板と偏光子からなる円偏光板を用いることが知られている。
【０００３】
位相差フィルムには、前記１／４波長板の他、直線偏光の偏光振動面を９０度変換する１／２波長板等がある。これらの位相差フィルムは、ある特定の単色光に対しては正確に光線波長の１／４λ又は１／２λの位相差に変換可能なものである。しかしながら、従来の位相差フィルムには、位相差フィルムを通過して出力される偏光が有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。これは位相差フィルムを構成する材料が位相差について波長分散性を有し、可視光域の光線が混在する白色光に対して各波長ごとの偏光状態に分布が生じることに起因する。この問題を防ぐためには、各波長において設計した位相差になるよう、波長分散性を制御する必要があり、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差フィルム、いわゆる逆波長分散性を有する位相差フィルムが求められている。
【０００４】
位相差フィルムは、フィルムを延伸して製造する方法や、例えば、配向処理した支持体上に、重合性液晶化合物を含む重合性組成物を塗布し、溶剤を乾燥させ、液晶化合物を配向させた後、紫外線又は熱により重合させることによって製造する方法が挙げられる。
逆波長分散性を有する位相差フィルムとしては、例えば、２枚の位相差層を配向軸の方向にそれぞれ角度を付けて積層する方法が提案されている（特許文献１及び２）。しかし、このような積層体では、２枚の位相差層が必要であり、且つ２枚の位相差層を積層する際の製造上の煩雑さや位相差フィルムの膜厚が厚くなるなどの課題があった。
【０００５】
携帯型情報端末の高機能化及び普及に伴い、表示装置の厚みを薄くすることが求められてきており、その結果、構成部材である位相差フィルムの薄膜化も求められている。
そのため、１層で逆波長分散性を有する位相差層を構成することができるように、複屈折率（△ｎ）の波長分散性を小さく若しくは逆にする特性を実現する、逆波長分散性の液晶化合物を用いた位相差フィルムの開発が行われてきている（例えば特許文献３〜４）。なお、位相差フィルムに対する入射光の波長λを横軸に取り、その複屈折率（△ｎ＝異常光に対する屈折率ｎｅ−常光に対する屈折率ｎ０）を縦軸にプロットして得たグラフの傾きが正（右肩上がり）である場合、その複屈折率の波長分散は逆である、又はその位相差フィルム乃至その位相差フィルムを構成する材料の液晶化合物は逆波長分散性である、と一般的に言われている。
【０００６】
しかしながら、例えば特許文献３〜４の化合物など、従来の逆波長分散性を有する液晶化合物は複屈折率（△ｎ）が小さいため、所望の位相差（Ｒｅ（λ）＝複屈折率△ｎ（λ）×膜厚ｄ）を得るためには、膜厚を厚くする必要があった。
また、例えば１／４波長板において、理想的な逆波長分散性が得られれば、可視光域全ての波長で円偏光に変換できるため、完全な外光の反射防止が可能になる。しかしながら、従来の逆波長分散性を有する液晶化合物は、逆波長分散性が不十分であり、理想的な逆波長分散性に近付けることが望まれている。
【０００７】
特許文献５には、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることが出来る重合性化合物として、化合物の主鎖に組み込まれている１個の４価のベンゼン環基に、２つの側鎖を有する構造が開示されている。特許文献５の重合性化合物自体は、液晶性を有しないことが示されており（特許文献５の表１）、特許文献５の重合性化合物に従来の逆波長分散性液晶化合物を混合することによって、逆波長分散性となる光学フィルムが示されているが、その逆波長分散性は理想的な逆波長分散性とは隔たりが大きいものである。
【０００８】
一方、特許文献６には、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムとして、ヒドラゾン骨格を有する特定の置換基によって置換されたヒドロキノンに由来する部分構造を有する重合性化合物から得られる光学フィルムが開示されている。
特許文献７には、紫外光を照射した場合に、変色や基材からの剥離が生じにくい光学異方体として、化合物の主鎖の１個の３価のベンゼン環基Ｍに１つの側鎖を有し、３価のベンゼン環基Ｍの主鎖方向の２つの置換基のうち、一方の置換基には１つの環構造を有し、もう一方の置換基には２つの環構造を有することを特徴とした重合性化合物を含有する重合性組成物を用いた光学異方体が開示されている。
特許文献８には、ムラが少ない光学異方体として、化合物の主鎖に組み込まれている１個の芳香環若しくは脂肪族環又はアルキレン基が、１つ又は２つの側鎖を有していても良い重合性化合物を含有する重合性組成物を用いた光学異方体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平１０−６８８１６号公報
【特許文献２】特開２００１−４８３７号公報
【特許文献３】特表２０１０−５２２８９３号公報
【特許文献４】特許第５９６２７６０号公報
【特許文献５】国際公開２０１４／０６１７０９号公報
【特許文献６】特開２０１７−１２０４４８号公報
【特許文献７】国際公開２０１６／１３６５３３号公報
【特許文献８】国際公開２０１６／１０４３１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
更に、本発明者らは、逆波長分散性を有する従来の位相差フィルムが、高温高湿環境下において変色する場合があることを知見した。
【００１１】
本開示の実施形態は、前述のような実情を鑑み、複屈折率（△ｎ）が大きく、耐熱性及び耐湿性に優れ、逆波長分散性を有する位相差層を有する位相差フィルム及びその製造方法、複屈折率（△ｎ）が大きく、耐熱性及び耐湿性に優れ、逆波長分散性を有する位相差層を転写可能な転写用積層体、前記位相差フィルムを有する光学部材及びその製造方法、並びに、表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本開示の１実施形態は、位相差層を有する位相差フィルムであって、前記位相差層が、下記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の硬化物を含有する、位相差フィルムを提供する。
【００１３】
【化１】
2020086397.tif 000003
（一般式（１）中、Ｑ１は、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基を表すが、当該芳香環は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良く、
Ｑ２は水素原子、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルケニル基、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基、又は−（Ｌ６−Ａ５）ｑ−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２を表し、当該アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、及び芳香環はそれぞれ、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良く、当該アルキル基は当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−に置き換えられていても良く、Ｌ６は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ａ５は、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基、ベンゼン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−２，７−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表し、Ｌ７は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｒｓｐ２は、炭素原子数１以上２０以下のアルキレン基又は単結合を表し、当該アルキレン基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、Ｚ２は、重合性官能基を表す。ｑは０以上４以下の整数を表し、化合物内にＬ６及びＡ５が複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
前記置換基Ｅは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基を表し、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子によって置換されていても良く、或いは、前記置換基Ｅは、−ＬＥ−ＲｓｐＥ−ＺＥで表される基を表しても良く、ここでＬＥ、ＲｓｐＥ及びＺＥは、それぞれ、前記Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ前記Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２と同一であっても異なっていても良い。化合物内に置換基Ｅが複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。化合物内に複数存在するＱ１及びＱ２は、各々同一であっても異なっていても良く、また、Ｑ１とＱ２は結合して環を構成していても良い。＊は、重合性官能基を有する１価の基との結合位置を示す。）
【００１４】
本開示の１実施形態は、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含有する重合性組成物を成膜する工程と、
前記成膜された前記重合性組成物中の前記重合性液晶化合物を少なくとも配向させる工程と、
前記配向させる工程の後に、前記重合性液晶化合物を少なくとも重合する工程とを有する方法により、位相差層を形成する、位相差フィルムの製造方法を提供する。
【００１５】
本開示の１実施形態は、位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、
前記位相差層が、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の硬化物を含有する、
位相差層の転写に供する転写用積層体を提供する。
【００１６】
本開示の１実施形態は、前記本開示の１実施形態の位相差フィルム上に、偏光板を備える光学部材を提供する。
【００１７】
本開示の１実施形態は、前記本開示の１実施形態の転写用積層体を準備する工程と、
少なくとも偏光板を含む被転写体と、前記転写用積層体の前記位相差層とを対向させ、前記被転写体上に前記転写用積層体を転写する転写工程と、
前記被転写体上に転写された前記転写用積層体から、前記支持体を剥離する剥離工程と
を有する、光学部材の製造方法を提供する。
【００１８】
また、本開示の１実施形態は、前記本開示の１実施形態の位相差フィルム又は、前記本開示の１実施形態の光学部材を備える表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００１９】
本開示の実施形態によれば、複屈折率（△ｎ）が大きく、耐熱性及び耐湿性に優れ、逆波長分散性を有する位相差層を有する位相差フィルム及びその製造方法、複屈折率（△ｎ）が大きく、耐熱性及び耐湿性に優れ、逆波長分散性を有する位相差層を転写可能な転写用積層体、前記位相差フィルムを有する光学部材及びその製造方法、並びに、表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１は、位相差フィルムの１実施形態を示す模式断面図である。
【図２】図２は、位相差フィルムの１実施形態を示す模式断面図である。
【図３】図３は、位相差フィルムの１実施形態を示す模式断面図である。
【図４】図４は、転写用積層体の１実施形態を示す模式断面図である。
【図５】図５は、転写用積層体の１実施形態を示す模式断面図である。
【図６】図６は、転写用積層体の１実施形態を示す模式断面図である。
【図７】図７は、光学部材の１実施形態を示す模式断面図である。
【図８】図８は、表示装置の１実施形態を示す模式断面図である。
【００２１】
以下、本開示の実施の形態や実施例などを、図面等を参照しながら説明する。但し、本開示は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態や実施例等の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。また、説明の便宜上、上方又は下方という語句を用いて説明する場合があるが、上下方向が逆転してもよい。本明細書において、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に（又は下に）」あるとする場合、特段の限定がない限り、これは他の構成の直上（又は直下）にある場合のみでなく、他の構成の上方（又は下方）にある場合を含み、すなわち、他の構成の上方（又は下方）において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。
【００２２】
本開示において、配向規制力とは、位相差層中の液晶性成分を特定方向に配列させる作用をいう。
本開示において、（メタ）アクリルとは、アクリル及びメタクリルの各々を表し、（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル及びメタクリロイルの各々を表し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの各々を表す。
本開示において、有機基とは、少なくとも１つの炭素原子を含む官能基の総称を表す。
また、本明細書において「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではなく、「フィルム面（板面、シート面）」とは、対象となるフィルム状（板状、シート状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるフィルム状部材（板状部材、シート状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。
【００２３】
Ａ．位相差フィルム
本開示の位相差フィルムは、位相差層を有する位相差フィルムであって、前記位相差層が、下記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の硬化物を含有する。本開示の位相差フィルムは、更に、配向膜、基材等のその他の構成を有していても良い。
【００２４】
【化２】
2020086397.tif 000004
（一般式（１）中、Ｑ１は、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基を表すが、当該芳香環は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良く、
Ｑ２は水素原子、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルケニル基、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基、又は−（Ｌ６−Ａ５）ｑ−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２を表し、当該アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、及び芳香環はそれぞれ、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良く、当該アルキル基は当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−に置き換えられていても良く、Ｌ６は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ａ５は、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基、ベンゼン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−２，７−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表し、Ｌ７は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｒｓｐ２は、炭素原子数１以上２０以下のアルキレン基又は単結合を表し、当該アルキレン基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、Ｚ２は、重合性官能基を表す。ｑは０以上４以下の整数を表し、化合物内にＬ６及びＡ５が複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
前記置換基Ｅは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基を表し、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子によって置換されていても良く、或いは、前記置換基Ｅは、−ＬＥ−ＲｓｐＥ−ＺＥで表される基を表しても良く、ここでＬＥ、ＲｓｐＥ及びＺＥは、それぞれ、前記Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ前記Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２と同一であっても異なっていても良い。化合物内に置換基Ｅが複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。化合物内に複数存在するＱ１及びＱ２は、各々同一であっても異なっていても良く、また、Ｑ１とＱ２は結合して環を構成していても良い。＊は、重合性官能基を有する１価の基との結合位置を示す。）
【００２５】
位相差フィルムの層構成について図を参照して説明する。図１〜図３は、各々本開示の位相差フィルムの１実施形態を示す。図１の例に示される位相差フィルム１０は、基材２上に配向膜３と位相差層１がこの順に積層されている位相差フィルムである。図２の例に示される位相差フィルム１０’は、位相差層１のみからなる位相差フィルムである。また図３の例に示される位相差フィルム１０”は、基材２’上に直接位相差層１が形成されている。図３の例に示される位相差フィルム１０”には基材２’の位相差層１側表面に配向規制力を発現する手段が付されていてもよい。
【００２６】
従来の逆波長分散性を有する位相差フィルムは、上述したように複屈折率（△ｎ）が小さいため、所望の位相差（Ｒｅ（λ）＝複屈折率△ｎ（λ）×膜厚ｄ）を得るためには膜厚を厚くする必要があるという問題がある。また、従来の逆波長分散性を有する位相差フィルムは、高温高湿環境下において変色する場合がある。本発明者らは、ヒドロキノン骨格のベンゼン環に側鎖となる置換基を導入した液晶化合物を用いた従来の位相差フィルムが、高温高湿環境下で変色しやすいことを知見した。ヒドロキノン骨格のベンゼン環に側鎖となる置換基を導入した液晶化合物を用いた従来の位相差フィルムは、製造中間体として用いたヒドロキノン、又は液晶化合物が分解することにより生じるヒドロキノン誘導体が混入しやすく、混入したヒドロキノン又はその誘導体の一部が、高温高湿環境下で酸化してベンゾキノン又はその誘導体となり、キンヒドロン型錯体が形成されることで、位相差フィルムが着色すると推定される。
それに対し、本開示の位相差フィルムは、位相差層が、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の硬化物を含有することにより、逆波長分散性を有しながら、複屈折率（△ｎ）が大きく、高温高湿下での変色が抑制されたものである。本開示の位相差フィルムが有する位相差層においては、重合性液晶化合物に由来する前記一般式（１）で表される構造によって配向性が高く、更に前記一般式（１）で表される構造中のビフェニレン基の２つのベンゼン環にそれぞれ１つずつ、合計２つの側鎖を有するため、逆波長分散性を有しながら、複屈折率（△ｎ）が大きい位相差層となる。また、本開示の位相差フィルムが有する位相差層は、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基により、良好な逆波長分散性を示すため、従来のヒドロキノン骨格を有する逆波長分散性液晶化合物の使用量が低減される。それにより、ヒドロキノン及びその誘導体の混入が抑制されて、高温高湿環境下での変色が抑制されると考えられる。
また、本開示の位相差フィルムが有する位相差層は、重合性組成物中の重合性液晶化合物が有する重合性基が重合した構造を有することにより、耐久性に優れる。
【００２７】
１．位相差層
本開示の実施形態の位相差層は、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の硬化物を含有するものである。本開示の実施形態の位相差層は、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の硬化物からなるものであることが好ましい。
【００２８】
（重合性組成物）
本開示の実施形態の重合性組成物は、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物（以下、本開示の重合性液晶化合物という場合がある）を含むものであるが、更に、光重合開始剤を含有することが好ましい。
また、本開示の実施形態の重合性組成物は、位相差や逆波長分散性を調整する点や、配向性、溶解性、相転移温度を調整する点から、更に、本開示の重合性液晶化合物とは異なるその他の重合性液晶化合物（以下、その他の重合性液晶化合物という場合がある）を含有していても良く、また、効果を損なわない範囲で更に他の成分を含有してもよいものである。以下、本開示の実施形態の重合性組成物を構成する各成分について順に説明する。
【００２９】
（１）一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物
本開示の実施形態の重合性組成物は、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含むことにより、逆波長分散性を有しながら、複屈折率（△ｎ）が大きく、高温高湿下での変色が抑制された、耐熱性及び耐湿性に優れる位相差層を形成可能である。
また、本開示の実施形態においては、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物の使用量を少量としても、所望の逆波長分散性を有する位相差層を得ることが可能であり、より薄膜の位相差層を得ることができる。
また、本開示の実施形態においては、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を、その他の重合性液晶化合物に少量添加することにより、所望の逆波長分散性を有する材料の位相差を調整することが可能である。
【００３０】
前記一般式（１）中、Ｑ１は、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基を表すが、当該芳香環は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良く、或いは、Ｑ１はＱ２と結合して環を構成していても良い。
Ｑ１が、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基を表す場合、前記芳香環は、芳香族炭化水素環、及び芳香族複素環のいずれであっても良い。この場合、Ｑ１は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素原子数２以上３０以下の有機基を表す。前記芳香環としては、下記の式（Ｑ−１）から式（Ｑ−２２）から選ばれる基が好ましい。
Ｑ１は、波長分散性が良好になる点から、炭素原子の１つ以上がヘテロ原子に置換されている、芳香族複素環を有する有機基であることが好ましく、波長分散性が良好で、高い複屈折を示すようになる点から、５員環と６員環の縮合環である芳香族複素環を有する有機基であることが更に好ましい。５員環と６員環の縮合環である芳香族複素環としては、例えば下記の式（Ｑ−１０）、式（Ｑ−１１）、式（Ｑ−２１）及び式（Ｑ−２２）から選ばれる基の炭素原子の１つ以上がヘテロ原子に置換されている芳香族複素環が好ましい。
【００３１】
【化３】
2020086397.tif 000005
【００３２】
これらの基は任意の位置に結合手を有している。Ｑａは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲＱａ−（式中、ＲＱａは水素原子又は炭素原子数１以上８以下のアルキル基を表す。）又は−ＣＯ−を表すが、これらの基中の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良く、−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲＱａ−（式中、ＲＱａは水素原子又は炭素原子数１以上８以下のアルキル基を表す。）−ＳＯ−、又は−ＳＯ２−又は−ＣＯ−に置き換えられても良い（但し、酸素原子同士が直接結合する場合を除く。）。これらの環に結合する１つ以上の水素原子は、置換基Ｅによって置換されていても良い。前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。前記アルキル基の炭素原子数は、１以上４以下が好ましく、１又は２がより好ましく、１が更に好ましい。
【００３３】
前記式（Ｑ−１）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−１−１）から式（Ｑ−１−８）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【００３４】
【化４】
2020086397.tif 000006
【００３５】
前記式（Ｑ−７）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−７−１）から式（Ｑ−７−７）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【００３６】
【化５】
2020086397.tif 000007
【００３７】
式（Ｑ−１０）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−１０−１）から式（Ｑ−１０−９）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【００３８】
【化６】
2020086397.tif 000008
（式中、ＲＱは水素原子又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基を表す。）
【００３９】
式（Ｑ−１１）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−１１−１）から式（Ｑ−１１−１２）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【００４０】
【化７】
2020086397.tif 000009
（式中、ＲＱは水素原子又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基を表す。）
【００４１】
式（Ｑ−１３）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−１３−１）から式（Ｑ−１３−１９）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【００４２】
【化８】
2020086397.tif 000010
（式中、ＲＱは水素原子又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基を表す。）
【００４３】
式（Ｑ−１４）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−１４−１）から式（Ｑ−１４−１０）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【００４４】
【化９】
2020086397.tif 000011
（式中、ＲＱは水素原子又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基を表す。）
【００４５】
式（Ｑ−１５）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−１５−１）から式（Ｑ−１５−４）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【００４６】
【化１０】
2020086397.tif 000012
（式中、ＲＱは水素原子又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基を表す。）
【００４７】
式（Ｑ−１６）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−１６−１）から式（Ｑ−１６−１６）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【００４８】
【化１１】
2020086397.tif 000013
（式中、ＲＱは水素原子又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基を表す。）
【００４９】
式（Ｑ−１７）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−１７−１）から式（Ｑ−１７−４）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【００５０】
【化１２】
2020086397.tif 000014
（式中、ＲＱは水素原子又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基を表す。）
【００５１】
式（Ｑ−１８）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−１８−１）から式（Ｑ−１８−６）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【００５２】
【化１３】
2020086397.tif 000015
（式中、ＲＱは水素原子又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基を表す。）
【００５３】
式（Ｑ−１９）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−１９−１）から式（Ｑ−１９−６）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【００５４】
【化１４】
2020086397.tif 000016
（式中、ＲＱは水素原子又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基を表す。）
【００５５】
式（Ｑ−２０）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−２０−１）から式（Ｑ−２０−９）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【００５６】
【化１５】
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（式中、ＲＱは水素原子又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基を表す。）
【００５７】
式（Ｑ−２１）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−２１−１）及び式（Ｑ−２１−３）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
式（Ｑ−２２）で表される基としては、中でも、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い下記の式（Ｑ−２２−１）及び式（Ｑ−２２−３）から選ばれる基が好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【００５８】
【化１６】
2020086397.tif 000018
【００５９】
Ｑ１に含まれる芳香環は、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い前記の式（Ｑ−１−１）、式（Ｑ−７−１）、式（Ｑ−７−２）、式（Ｑ−７−７）、式（Ｑ−８）、式（Ｑ−１０−２）、式（Ｑ−１０−３）、式（Ｑ−１０−４）、式（Ｑ−１０−５）、式（Ｑ−１０−６）、式（Ｑ−１０−７）、式（Ｑ−１０−８）、式（Ｑ−１０−９）、式（Ｑ−１１−２）、式（Ｑ−１１−３）、式（Ｑ−１１−４）、式（Ｑ−１１−５）、式（Ｑ−１１−６）、式（Ｑ−１１−７）、式（Ｑ−１１−８）、式（Ｑ−１１−９）、式（Ｑ−１１−１０）、式（Ｑ−１１−１１）、式（Ｑ−１１−１２）、式（Ｑ−２１−１）、式（Ｑ−２１−２）、式（Ｑ−２２−１）、及び式（Ｑ−２２−２）から選ばれる基を表すことがより好ましく、無置換又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されても良い前記の式（Ｑ−１０−２）、式（Ｑ−１０−３）、式（Ｑ−１０−４）、式（Ｑ−１０−５）、式（Ｑ−１０−６）、式（Ｑ−１０−７）、式（Ｑ−１０−８）、及び式（Ｑ−１０−９）、式（Ｑ−２１−１）、式（Ｑ−２１−２）、式（Ｑ−２２−１）、及び式（Ｑ−２２−２）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。
【００６０】
前記置換基Ｅは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基を表し、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子によって置換されていても良く、或いは、前記置換基Ｅは、−ＬＥ−ＲｓｐＥ−ＺＥで表される基を表しても良く、ここでＬＥ、ＲｓｐＥ及びＺＥは、それぞれ後述するＬ７、Ｒｓｐ２及びＺ２で定義されるものと同一のものを表すが、それぞれ後述するＬ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２と同一であっても異なっていても良く、化合物内に置換基Ｅが複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。また、好ましいＬＥ、ＲｓｐＥ及びＺＥは、それぞれ後述するＬ７、Ｒｓｐ２及びＺ２として好ましいものと同様である。
【００６１】
Ｑ１に含まれる芳香環が前記置換基Ｅによって置換されている場合の当該置換基Ｅとしては、耐湿熱性を向上する点から、−Ｏ−を含まないものが好ましく、中でも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基を表す置換基ＥＱであることが好ましく、置換基ＥＱにおいて、当該アルキル基は直鎖状又は分岐状のいずれでもよく、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−に置き換えられていても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。前記置換基ＥＱとしては、より好ましくは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基を表し、当該アルキル基は直鎖状又は分岐状のいずれでもよく、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−に置き換えられていても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。
【００６２】
さらに、Ｑ１は下記の式（Ｑ−１０−２）、式（Ｑ−１０−２ａ）、式（Ｑ−１０−３）、式（Ｑ−１０−３ａ）、式（Ｑ−１０−３ｂ）、式（Ｑ−１０−６）、式（Ｑ−１０−６ａ）、式（Ｑ−１０−６ｂ）、式（Ｑ−１０−６ｃ）、式（Ｑ−１０−６ｄ）、式（Ｑ−１０−７）、式（Ｑ−１０−７ａ）、式（Ｑ−１０−７ｂ）、式（Ｑ−１０−７ｃ）、式（Ｑ−１０−７ｄ）、式（Ｑ−１０−７ｅ）、式（Ｑ−１０−７ｆ）、式（Ｑ−１０−９）、式（Ｑ−１０−９ａ）、式（Ｑ−１０−９ｂ）、式（Ｑ−２１−１）、式（Ｑ−２１−２）、式（Ｑ−２２−１）及び式（Ｑ−２２−２）から選ばれる基を表すことが特に好ましく、中でも、耐湿熱性の観点から、式（Ｑ−１０−３）、式（Ｑ−１０−３ａ）、式（Ｑ−１０−３ｂ）、式（Ｑ−１０−７）、式（Ｑ−１０−７ａ）、式（Ｑ−１０−７ｅ）、式（Ｑ−１０−７ｆ）、式（Ｑ−１０−９）、式（Ｑ−１０−９ａ）、式（Ｑ−２１−１）、式（Ｑ−２１−２）、式（Ｑ−２２−１）及び式（Ｑ−２２−２）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。
なお、化合物内に含まれる複数のＱ１は、同一であっても異なっていても良い。
【００６３】
【化１７】
2020086397.tif 000019
【００６４】
Ｑ２は、水素原子、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルケニル基、芳香環（芳香族炭化水素環、及び芳香族複素環のいずれであっても良い）を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基、又は−（Ｌ６−Ａ５）ｑ−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２を表すか、或いはＱ１と結合して環を構成する。当該アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、及び芳香環はそれぞれ、無置換であるか又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、当該アルキル基は当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−に置き換えられていても良い。
Ｌ６は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表す。
Ａ５は、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基、ベンゼン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−２，７−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表す。
Ｌ７は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表す。
Ｒｓｐ２は、炭素原子数１以上２０以下のアルキレン基又は単結合を表し、当該アルキレン基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良い。
Ｚ２は、重合性官能基を表す。
ｑは０以上４以下の整数を表し、Ｌ６及びＡ５がそれぞれ複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
【００６５】
Ｌ６としては、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−又は単結合を表すことが特に好ましい。化合物内にＬ６が複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
【００６６】
Ａ５としては、重合性液晶化合物の液晶性を向上させ、配向性を向上させることが容易になる点から、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基、ベンゼン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基であることが好ましく、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基、ベンゼン−１，４−ジイル基又はナフタレン−２，６−ジイル基であることがより好ましく、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基又はベンゼン−１，４−ジイル基であることがより更に好ましく、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いベンゼン−１，４−ジイル基であることが特に好ましい。化合物内にＡ５が複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
【００６７】
−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２で表される基において、Ｌ７としては、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、又は単結合を表すことがより好ましい。なお、化合物内にＬ７が複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
【００６８】
Ｒｓｐ２としては、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、好ましくは、炭素原子数１以上１２以下のアルキレン基又は単結合を表し、当該アルキレン基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−置き換えられていても良く、より好ましくは、炭素原子数１以上１２以下のアルキレン基又は単結合を表し、より更に好ましくは、炭素原子数２以上１０以下のアルキレン基を表す。なお、化合物内にＲｓｐ２が複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
【００６９】
Ｚ２は重合性官能基を表す。当該重合性官能基としては、従来の重合性液晶化合物に使用される基を制限なく適用可能である。
当該重合性官能基は、それぞれ独立して下記式（Ｚ−１）から式（Ｚ−８）から選ばれる基を表すことが好ましい。なお、下記式（Ｚ−１）から式（Ｚ−８）において、＊（アスタリスク）はＲｓｐ２との結合位置を示す。
【００７０】
【化１８】
2020086397.tif 000020
（式（Ｚ−１）〜（Ｚ−８）中、Ｒｚはそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、又はトリフルオロメチル基である。）
【００７１】
重合方法として紫外線重合を行う場合には、Ｚ２は、式（Ｚ−１）、式（Ｚ−２）、式（Ｚ−３）、式（Ｚ−５）、式（Ｚ−７）が好ましく、式（Ｚ−１）、式（Ｚ−３）、式（Ｚ−７）がより好ましく、式（Ｚ−１）がさらに好ましく、式（Ｚ−１）において、Ｒｚが水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である場合が特に好ましい。
【００７２】
Ｑ２に含まれるアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基又は芳香環が、前記置換基Ｅによって置換されている場合の当該置換基Ｅとしては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましく、当該アルキル基は直鎖状又は分岐状のいずれでもよく、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。
Ｑ２における置換基Ｅとしては中でも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１以上２０以下の直鎖状又は分岐状アルキル基であることが好ましく、更に、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ヒドロキシル基、又は、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１以上２０以下の直鎖状又は分岐状アルキル基であることが好ましい。
【００７３】
中でも、Ｑ２は、好ましくは、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルケニル基、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基、又は−（Ｌ６−Ａ５）ｑ−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２を表し、当該アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、及び芳香環はそれぞれ、無置換であるか又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、当該アルキル基は当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−に置き換えられても良く、当該シクロアルキル基及びシクロアルケニル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−に置き換えられていても良い。
Ｑ２は、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、Ｑ２が、ヘテロ原子を含まない構造であることが、複屈折の点から好ましい。また、Ｑ２が、ヘテロ原子をより多く含む構造であること、中でも、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されている構造を有する場合には、化合物の溶剤溶解性が向上し、組み合わせる基材の選択肢も増える点から好ましい。また、Ｑ２が、−（Ｌ６−Ａ５）ｑ−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２であることが、膜の硬化度が向上することにより耐久性が向上する点から好ましい。
無置換の炭素原子数１以上２０以下のアルキル基若しくは当該のアルキル基中の１個の−ＣＨ２−が−ＣＨ＝ＣＨ−に置き換えられたアルケニル基若しくは当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−が−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられたアルキニル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルケニル基、当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良い前記アルキル基、芳香環を有する炭素原子数２以上３０以下の有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基、１−メチルペンチル基、ｎ−ヘプチル基、１−エチルペンチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、３，７−ジメチルオクチル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブチニル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロオクテニル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、ベンジル基等が挙げられる。
【００７４】
中でもＱ２は、複屈折、溶剤溶解性、又は耐久性の点から、好ましくは、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルケニル基、又は−（Ｌ６−Ａ５）ｑ−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２を表し、当該アルキル基、シクロアルキル基及びシクロアルケニル基はそれぞれ、無置換であるか又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良く、当該アルキル基は当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−に置き換えられても良く、当該シクロアルキル基及びシクロアルケニル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−に置き換えられていても良い。Ｑ２は、より好ましくは、炭素原子数１以上２０以下の直鎖状若しくは分岐状アルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルキル基、又は−（Ｌ６−Ａ５）ｑ−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２を表し、当該アルキル基は当該シクロアルキル基によって置換されていても良く、当該アルキル基及びシクロアルキル基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基及びシクロアルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−に置き換えられても良い。Ｑ２は、より更に好ましくは、炭素原子数１以上１２以下の直鎖状若しくは分岐状アルキル基、炭素原子数３以上１２以下のシクロアルキル基、又は−（Ｌ６−Ａ５）ｑ−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２を表し、当該アルキル基は当該シクロアルキル基によって置換されていても良く、当該アルキル基及びシクロアルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々−Ｏ−に置き換えられても良い。
ｑは０以上４以下の整数を表すが、０以上２以下の整数を表すことがより好ましく、０又は１を表すことがさらに好ましく、０を表すことが特に好ましい。
【００７５】
中でもＱ２は、複屈折、及び溶剤溶解性の点から、水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数２以上２０以下の直鎖状若しくは分岐状アルキル基又は炭素原子数３以上１２以下のシクロアルキル基、或いは、当該シクロアルキル基によって置換されていても良い前記アルキル基であることが好ましく、水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数２以上２０以下の直鎖状若しくは分岐状アルキル基であることがより好ましく、水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数２以上２０以下の直鎖状アルキル基であることがより更に好ましい。
Ｑ２における炭素原子数は、４以上であることが好ましく、１２以下であることが更に好ましい。
なお、化合物内に含まれる複数のＱ２は、同一であっても異なっていても良い。
【００７６】
Ｑ１とＱ２は結合して環を構成していても良いが、その場合、Ｑ１とＱ２が結合している窒素原子又は炭素原子と一緒に形成している環としては、芳香環を有し炭素原子数が２以上３０以下である環が挙げられ、炭素原子数は、２以上１８以下であることがより好ましく、２以上１４以下であることがより更に好ましい。中でも、−ＮＱ１Ｑ２で表される環状基は、無置換であるか１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良い下記の式（ＱＱ−１）から式（ＱＱ−２２）から選ばれる基を表すことが好ましい。
【００７７】
【化１９】
2020086397.tif 000021
【００７８】
式（ＱＱ−１）から式（ＱＱ−２２）から選ばれる基中の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良く、−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲＱａ−（式中、ＲＱａは水素原子又は炭素原子数１以上８以下のアルキル基を表す。）−ＳＯ−、又は−ＳＯ２−又は−ＣＯ−に置き換えられても良い（但し、酸素原子同士が直接結合する場合を除く。）。これらの環に結合する１つ以上の水素原子は、前記置換基Ｅによって置換されていても良い。前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。前記アルキル基の炭素原子数は、１以上４以下が好ましく、１又は２がより好ましく、１が更に好ましい。
【００７９】
Ｑ１及びＱ２に含まれるπ電子の総数は、波長分散特性、液晶性、及び合成の容易さの観点から、４以上２４以下であることが好ましく、更に４以上２０以下であることが好ましい。
【００８０】
前記一般式（１）中のビフェニレン基の２つのベンゼン環が有する−ＣＨ＝Ｎ−ＮＱ１Ｑ２で表される基は、それぞれ下記の式（Ｄ−１）から式（Ｄ−３３）から選ばれる基を表すことが、原料が入手しやすく、溶解性が良好で高い複屈折率を示す点から、特に好ましく、更に耐湿熱性の点から、下記の式（Ｄ−１）〜式（Ｄ−１９）、式（Ｄ−２５）、式（Ｄ−２６）、式（Ｄ−２８）及び式（Ｄ−３０）〜式（Ｄ−３３）から選ばれる基を表すことがより好ましい。
【００８１】
【化２０】
2020086397.tif 000022
【００８２】
【化２１】
2020086397.tif 000023
【００８３】
前記一般式（１）中のビフェニレン基の２つのベンゼン環が有する−ＣＨ＝Ｎ−ＮＱ１Ｑ２で表される基の置換位置は、下記式（Ｃｏ−１）又は下記式（Ｃｏ−２）で表される置換位置であることが好ましい。なお、下記式（Ｃｏ−１）及び下記式（Ｃｏ−２）においては、−ＣＨ＝Ｎ−ＮＱ１Ｑ２で表される基を、Ｄ１又はＤ２と表す。
【００８４】
【化２２】
2020086397.tif 000024
【００８５】
前記一般式（１）において、＊は、重合性官能基を有する１価の基との結合位置を示す。中でも、＊は、下記一般式（２）で表される１価の基との結合位置を示すことが好ましい。すなわち、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物は、＊で示す結合位置において、下記一般式（２）で表される１価の基が結合した重合性液晶化合物であることが好ましい。なお、重合性液晶化合物が下記一般式（２）で表される１価の基を２つ有する場合、化合物内に複数存在する下記一般式（２）で表される１価の基中のＬ１、Ａ１、Ｌ３、Ａ３、Ｒ１及びｍ１は、各々同一であっても異なっていても良い。
【００８６】
一般式（２）
−Ｌ１−Ａ１−（Ｌ３−Ａ３）ｍ１−Ｒ１
（一般式（２）中、Ｌ１は−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−、−ＣＨ２−、−ＣＦ２−、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−ＣＨ２−又は単結合を表し、
Ｌ３は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、
Ａ１は、無置換であるか又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表し、
Ａ３は、無置換であるか又は１つ以上の前記置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基、ベンゼン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−２，７−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表し、
Ｒ１は、下記一般式（Ｒ−１）から選ばれる基を表し、
一般式（Ｒ−１）：  −Ｌ５−Ｒｓｐ１−Ｚ１
ここでＬ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１は、それぞれ、前記Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２で定義されるものと同一のものを表すが、−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２で表される基と同一であっても異なっていても良い。
ｍ１は１以上４以下の整数を表し、Ｌ３及びＡ３がそれぞれ複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。）
【００８７】
Ｌ１としては、液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、−ＣＯ−、−ＣＨ２−、−ＣＦ２−、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−又は単結合を表すことが好ましく、−ＣＯ−、−ＣＨ２−、−ＣＦ２−、−ＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、又は単結合を表すことがより好ましく、−ＣＯ−、−ＣＨ２−、−ＣＦ２−又は単結合を表すことがさらに好ましく、−ＣＯ−、−ＣＨ２−又は単結合を表すことがさらにより好ましい。
【００８８】
Ｌ３としては、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−又は単結合を表すことが特に好ましい。前記の好ましいＬ３においても、Ｌ３が複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
【００８９】
本開示の重合性液晶化合物は、ビフェニレン基に近接するＡ１に脂環式炭化水素基を導入することにより、溶解性を向上することができる。
Ａ１としては、中でも、重合性液晶化合物の液晶性を向上させ、配向性を向上させることが容易になる点から、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，３−ジイル基又はシクロヘプタン−１，４−ジイル基であることが好ましく、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良い、シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることがより好ましい。
【００９０】
Ａ３としては、中でも、重合性液晶化合物の液晶性を向上させ、配向性を向上させることが容易になる点から、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基、ベンゼン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基であることが好ましく、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基、ベンゼン−１，４−ジイル基又はナフタレン−２，６−ジイル基であることがより好ましく、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いシクロヘキサン−１，４−ジイル基又はベンゼン−１，４−ジイル基であることがより更に好ましく、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｅによって置換されていても良いベンゼン−１，４−ジイル基であることが特に好ましい。前記の好ましいＡ３においても、Ａ３が複数存在する場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
【００９１】
Ａ１及びＡ３における脂環式炭化水素基は、Ｌ１、Ｌ３又はＬ５と結合する炭素原子の立体配置の相違に基づく、シス型、トランス型の立体異性体が存在する場合があり、シス型であってもトランス型であっても、あるいはシス型とトランス型の異性体混合物であってもよいが、配向性が良好であることから、トランス型あるいはシス型であるのが好ましく、トランス型がより好ましい。
【００９２】
Ａ１及びＡ３において置換されていても良い置換基Ｅは、好ましくは、フッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基を表し、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられていても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子によって置換されていても良く、より好ましくは、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基を表し、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−に置き換えられていても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子によって置換されていても良く、より更に好ましくは、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子がフッ素原子に置換されていても良い炭素原子数１以上１２以下のアルキル基若しくはアルコキシ基を表し、中でも、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１以上８以下の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。
Ｒ１が結合しているＡ３に置換されていても良い置換基Ｅとしては、前記−ＬＥ−ＲｓｐＥ−ＺＥで表される基も好ましい。
【００９３】
ｍ１としては、液晶性及び配向性の点から、１以上３以下の整数であることが好ましく、１又は２であることがさらに好ましい。また、化合物内にｍ１が複数存在する場合、複数のｍ１は同じ値であることが好ましい。
【００９４】
Ｒ１は、下記一般式（Ｒ−１）から選ばれる基を表し、
一般式（Ｒ−１）：  −Ｌ５−Ｒｓｐ１−Ｚ１
ここでＬ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１は、それぞれ、前記Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２で定義されるものと同一のものを表し、前記Ｌ７、Ｒｓｐ２、及びＺ２において好ましいものが、Ｌ５、Ｒｓｐ１、及びＺ１においても好ましい。また、Ｒ１は−Ｌ７−Ｒｓｐ２−Ｚ２で表される基と同一であっても異なっていても良い。
【００９５】
前記一般式（２）で表される１価の基Ｌｃ１：−Ｌ１−Ａ１−（Ｌ３−Ａ３）ｍ１−Ｒ１の具体例としては、これらに限定されるものではないが、下記Ｌｃ−１〜Ｌｃ−１７２で表される基が挙げられる。なお、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物が有する２つの前記Ｌｃ１は、互いに同一であっても異なっていても良い。
【００９６】
【表１】
2020086397.tif 000025
【００９７】
【表２】
2020086397.tif 000026
【００９８】
【表３】
2020086397.tif 000027
【００９９】
【表４】
2020086397.tif 000028
【０１００】
【表５】
2020086397.tif 000029
【０１０１】
【表６】
2020086397.tif 000030
【０１０２】
前記Ｌｃ−１〜Ｌｃ−１７２で表される基において、Ｌ３におけるｍは、１又は２を表し、２が好ましい。Ｒｓｐ１におけるｎは、１以上２０以下を表すが、中でも２以上であることが好ましく、更に４以上であることが好ましく、一方で、１２以下であることが好ましく、更に１０以下であることが好ましい。
また、Ｚ１において、式（Ｚ−１）中のＲｚとしては、それぞれ独立して、中でも水素原子、又はメチル基であることが好ましく、更に水素原子であることが好ましい。
【０１０３】
前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物としては、例えば、下記化合物（ｉ）〜化合物(lxiv)が挙げられる。なお、下記表７及び表８において、Ｃｏｒｅは、前記一般式（１）中のビフェニレン基の２つのベンゼン環が有する−ＣＨ＝Ｎ−ＮＱ１Ｑ２で表される基の置換位置を表し、Ｄ１及びＤ２はそれぞれ−ＣＨ＝Ｎ−ＮＱ１Ｑ２で表される基を表し、Ｃｏｒｅにおける式（Ｃｏ−１）及び式（Ｃｏ−２）と対応している。また、下記表７及び表８に示す本開示の重合性液晶化合物は、１分子内に前記一般式（２）で表される１価の基を２つ有するため、下記表７及び表８において、一方をＬｃ１と表し、もう一方をＬｃ２と表す。
【０１０４】
【表７】
2020086397.tif 000031
【０１０５】
【表８】
2020086397.tif 000032
【０１０６】
更に、表７〜表８の化合物（ｉ）〜化合物(lxiv)の代表的な構造式を下記に例示するが、これらに限定されるものではない。
【０１０７】
【化２３】
2020086397.tif 000033
【０１０８】
【化２４】
2020086397.tif 000034
【０１０９】
【化２５】
2020086397.tif 000035
【０１１０】
【化２６】
2020086397.tif 000036
【０１１１】
【化２７】
2020086397.tif 000037
【０１１２】
【化２８】
2020086397.tif 000038
【０１１３】
本開示の重合性液晶化合物は、例えば、以下の製法で製造することができる。製法としては例えば、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ  ｄｅｒ  Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ、Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、新実験化学講座等に記載されている公知の有機合成反応（例えば、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応、ダフ反応など）を、その構造に応じて適宜組み合わせることにより、製造することができる。以下、製造方法の例を示すが、本開示はこれらの構造や製造方法に限定されるものではない。
【０１１４】
例えば、本開示の重合性液晶化合物が、前記一般式（１）の＊において前記一般式（２）で表される１価の基と結合し、前記一般式（２）中のＬ１が−ＣＯ−である化合物の場合、例えば下記のように製造することができる。
まず、式（ｉｐ−１）で表される化合物（４，４’−ジヒドロキシビフェニル）を準備し、ダフ反応等によって所望の位置にアルデヒド基を導入した式（ｉｐ−２）で表される中間体Ａを製造する。
【０１１５】
【化２９】
2020086397.tif 000039
【０１１６】
次に、式（ｉｐ−２）で表される中間体Ａと、ＨＯＯＣ−Ａ１−（Ｌ３−Ａ３）ｍ１−Ｒ１で表される中間体Ｂ（Ａ１、Ｌ３、Ａ３、Ｒ１、及びｍ１は上記と同一の意味を表す）とを、縮合反応等によって反応させることにより、式（ｉｐ−３）で表される中間体Ｃを得て、更に、得られた式（ｉｐ−３）で表される中間体Ｃと、ＨＯＯＣ−Ａ１−（Ｌ３−Ａ３）ｍ１−Ｒ１で表される中間体Ｄ（Ａ１、Ｌ３、Ａ３、Ｒ１、及びｍ１は上記と同一の意味を表し、各々前記中間体Ｂ中の各符号と同一でも異なっていても良い）とを反応させることにより、式（ｉｐ−４）で表される中間体Ｅを得る。前記中間体Ｂと中間体Ｄの構造が同じ場合には、中間体Ａに中間体Ｂを反応させることにより中間体Ｅを得ることができる。
【０１１７】
【化３０】
2020086397.tif 000040
【０１１８】
【化３１】
2020086397.tif 000041
【０１１９】
次いで、式（ｉｐ−４）で表される中間体Ｅに、例えばＱ１−ＮＱ２−ＮＨ２で表される中間体Ｆを反応させることにより、式（１−ｅｘ１）で表される化合物を得ることができる。
【０１２０】
【化３２】
2020086397.tif 000042
【０１２１】
また、前記式（ｉｐ−２）で表される中間体Ａは、置換基の種類や置換位置等によって、例えば３，４−メチレンジオキシフェノール（東京化成工業（株）製）又はその誘導体に、ダフ反応を行ってアルデヒド基を導入し、鈴木−宮浦カップリング反応を行うことにより得てもよい。
【０１２２】
また、例えば、式（ｉｐ−２）で表される中間体Ａに、側鎖部分となる−ＣＨ＝Ｎ−ＮＱ１Ｑ２で表される基を予め導入した中間体Ｇを得た後、当該中間体Ｇに、ＨＯＯＣ−Ａ１−（Ｌ３−Ａ３）ｍ１−Ｒ１で表される中間体Ｂ（Ａ１、Ｌ３、Ａ３、Ｒ１、及びｍ１は上記と同一の意味を表す）を反応させることにより、式（１−ｅｘ１）で表される化合物を得てもよい。
【０１２３】
また製造に用いられる各中間体は、適宜市販品を用いてもよいし、従来公知の方法で適宜合成することができる。
【０１２４】
本開示において、重合性液晶化合物の構造は、重合性組成物からは、核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）、熱分解型ガスクロマトグラフ質量分析法（Ｐｙ−ＧＣ−ＭＳ）、及びマトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析法（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦＭＳ）等を適宜組み合わせて解析することができる。位相差フィルムからは、赤外分光法（ＩＲ）、Ｘ線光電分光法（ＸＰＳ：X-ray Photoelectron Spectroscopy）、及び核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）等を適宜組み合わせて、位相差フィルムに含まれる重合性液晶化合物に由来する構造を解析することができる。なお、位相差フィルムをＮＭＲにより分析する場合、ＮＭＲ測定用の試料としては、例えば、位相差フィルムから採取した位相差層の材料をそのまま用いることができ、或いは、位相差フィルムから採取した位相差層の材料を凍結粉砕し、溶媒抽出により精製したものを重溶媒に溶解させて試料溶液とすることもできる。
【０１２５】
本開示の重合性液晶化合物は、配向性が良好であり、複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有する重合性液晶化合物である。例えば後述の実施例１に示す方法により、本開示の重合性液晶化合物と光重合開始剤のみを含む重合性組成物を調製し、硬化膜（位相差層）を形成し、当該硬化膜の複屈折率（△ｎ）を測定した場合に、０．０７５以上であることが好ましく、更に０．０８以上であることが好ましい。
【０１２６】
また、本開示の重合性液晶化合物は、逆波長分散性が良好であり、理想的な逆波長分散性に近付けるために、本開示の重合性液晶化合物と光重合開始剤のみを含む重合性組成物を調製し、硬化膜（位相差層）を形成し、位相差値を測定した場合に、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が、０．５０以上０．９５未満の範囲内にあることが好ましく、更に０．５５以上０．９３未満の範囲内にあることが好ましく、より更に０．６０以上０．９０未満の範囲内にあることが好ましく、特に０．６０以上０．８３以下の範囲内にあることが好ましく、０．６０以上０．８０未満の範囲内にあっても良い。また、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が、１超過であることが好ましく、更に１．０２以上１．１以下の範囲内にあることが好ましい。
位相差値の測定法としては、例えば、後述の実施例１に示す方法で、水平配向膜上に位相差層を形成し、位相差層及び水平配向膜を粘着付きガラスに転写したサンプルを用いて、位相差値を測定する方法が挙げられる。
また、以下の試験法により位相差値を測定しても、同様の結果を得ることができる。
［試験法］
前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物１００質量部と２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン４質量部をシクロペンタノン９００質量部に溶解させた重合性組成物を、ラビング処理後ポリイミド配向膜付ガラスの配向膜上に、硬化後の膜厚が１μｍになるように塗布して成膜し、乾燥させた後に、紫外線を照射量４００ｍＪ／ｃｍ２で照射することにより位相差層を形成し、位相差測定装置（例えば、製品名：ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器（株）製）により波長４５０ｎｍに対する面内位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍに対する面内位相差Ｒｅ（５５０）を測定する。
ここで、前記ラビング処理後ポリイミド配向膜付ガラスとしては、市販品を用いてもよく、例えば、株式会社イーエッチシー製の製品名「配向処理ガラス基板」を用いることができる。当該配向処理ガラス基板は、日立化成株式会社製ポリイミドＬＸ−１４００が塗布されラビング処理されている。
【０１２７】
本開示において、位相差層の位相差は、自動複屈折測定装置（例えば、王子計測機器株式会社製、商品名：ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）により測定することができる。測定光を位相差層表面に対して垂直あるいは斜めから入射して、その光学位相差と測定光の入射角度のチャートから位相差層の位相差を増減させる異方性や、液晶の垂直（厚さ）方向の配向性の程度を確認することができる。
【０１２８】
また、本開示の重合性液晶化合物は、使用可能な基材の選択肢が広がる点から、固体−液晶相転移温度が２５℃以上２００℃以下であることが好ましく、３０℃以上１８０℃以下であることが更に好ましく、３０℃以上１５０℃以下であることがより更に好ましい。固体−液晶相転移温度が低いと、液晶を配向させる工程での負荷が軽減されたり、高温に弱い基材への利用が可能となる。
ここで、固体−液晶相転移温度とは、液晶化合物が固体から液晶に変化する温度を意味する。本開示において固体−液晶相転移温度は、温度調節ステージを備えた偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって昇温時において確認する。すなわち、偏光顕微鏡観察において、昇温時、固体が融解して液状になり、かつ偏光顕微鏡のクロスニコル観察（偏光板が直交状態）において明視野となった点を固体−液晶相転移温度と特定することができる。
【０１２９】
また、本開示の重合性液晶化合物は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、及びシクロヘキサノンからなる群から選択される少なくとも１種の溶剤に１０質量％以上溶解することが、使用可能な基材の選択肢が広がる点から好ましく、更に２０質量％以上溶解することが好ましい。
【０１３０】
複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有する重合性組成物が得られる点、及び耐湿熱性を向上する点から、前記重合性組成物に含まれる重合性液晶化合物の合計１００質量％中、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物の含有量は、６０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることがより更に好ましい。前記重合性組成物に含まれる重合性液晶化合物が、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物のみであってもよい。
【０１３１】
また、複屈折率（△ｎ）が大きく、逆波長分散性を有する重合性組成物が得られる点、及び耐湿熱性を向上する点から、前記重合性組成物の固形分１００質量部中、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物の含有量は、５５質量部以上であることが好ましく、６５質量部以上であることがより好ましく、７５質量部以上であることがより更に好ましい。一方、後述する光重合開始剤等の他の成分を十分に含有する点から、前記重合性組成物の固形分１００質量部中、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物の含有量は、９９．９質量部以下であることが好ましく、９９質量部以下であることがより好ましく、９８質量部以下であることがより更に好ましい。
なお、前記重合性組成物において、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、本開示において固形分とは溶剤を除く全ての成分をいい、例えば、重合性液晶化合物等が液状であっても固形分に含まれるものとする。
【０１３２】
（２）光重合開始剤
本実施形態において光重合開始剤は、従来公知の物の中から適宜選択して用いることができる。このような光重合開始剤の具体例としては、例えば、チオキサントン等を含む芳香族ケトン類、α−アミノアルキルフェノン類、α−ヒドロキシケトン類、アシルフォスフィンオキサイド類、オキシムエステル類、芳香族オニウム塩類、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、及びアルキルアミン化合物等が好適に挙げられ、中でも、塗膜の内部まで硬化し耐久性が向上するため、アシルフォスフィンオキサイド系重合開始剤、α−アミノアルキルフェノン系重合開始剤、α−ヒドロキシケトン系重合開始剤、及びオキシムエステル系重合開始剤よりなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。
【０１３３】
アシルフォスフィンオキサイド系重合開始剤としては、例えばビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニル−フォスフィンオキサイド（例えば、商品名：イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社製）、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド（商品名：Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ：ＢＡＳＦ社製等）等が挙げられる。
【０１３４】
また、α−アミノアルキルフェノン系重合開始剤としては、例えば、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（例えばイルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン（例えばイルガキュア３６９、ＢＡＳＦ社製）、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル]−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（イルガキュア３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
【０１３５】
また、α−ヒドロキシケトン系重合開始剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−１−｛４−〔４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル〕−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（例えば、商品名：イルガキュア１２７、ＢＡＳＦ社製等）、２−ヒドロキシ−４’−ヒドロキシエトキシ−２−メチルプロピオフェノン（例えば、商品名：イルガキュア２９５９、ＢＡＳＦ社製等）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（例えば、商品名：イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ社製等）、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン｝（例えば、商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ  ＯＮＥ、Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製等）等が挙げられる。
【０１３６】
オキシムエステル系重合開始剤としては、１．２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（商品名：イルガキュアＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ製）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（ｏ−アセチルオキシム）（商品名：イルガキュアＯＸＥ−０２、ＢＡＳＦ製）、メタノン，エタノン，１−［９−エチル−６−（１，３−ジオキソラン，４−（２−メトキシフェノキシ）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（ｏ−アセチルオキシム）（商品名ＡＤＥＫＡ  ＯＰＴ−Ｎ−１９１９、ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
【０１３７】
本実施形態において光重合開始剤は、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
本実施形態において光重合開始剤の含有割合は、重合性組成物の固形分１００質量部に対して、０．１質量部以上１０質量部以下であることが好ましく、１質量部以上８質量部以下であることがより好ましい。重合性成分の硬化を促進する点からは、重合性組成物に含まれる重合性成分１００質量部に対して、０．１質量部以上１０質量部以下であることが好ましく、１質量部以上８質量部以下であることがより好ましい。なお、重合性成分とは、重合性基を有する化合物をいう。
【０１３８】
（３）その他の重合性液晶化合物
本開示に用いられる重合性組成物は、重合性液晶化合物として、前述した前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物とは異なるその他の重合性液晶化合物を含有していても良い。前記その他の重合性液晶化合物としては、従来公知のものの中から適宜選択して用いることができる。位相差フィルムに対する入射光の波長λを横軸に取り、その複屈折率を縦軸にプロットして得たグラフの傾きが負（右肩下がり）である一般的な正常分散（正分散）の重合性液晶化合物であっても良いし、逆波長分散性の重合性液晶化合物であっても良いし、波長分散性を実質的に示さない（フラット分散又は低波長分散）重合性液晶化合物であっても良い。前記その他の重合性液晶化合物として、例えば、逆波長分散性を示す化合物の例としては、特許第５４６３６６６号、特許第４１８６９８１号、特許第５９６２７６０号、及び特許第５８２６７５９号に記載の重合性液晶化合物が挙げられる。フラット分散性を示す化合物の例としては、例えば、Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas(1996),115(6),321-328に記載の化合物などが挙げられる。
【０１３９】
本実施形態においては、本開示の重合性液晶化合物との組み合わせにおいて配向しやすいことから、前記その他の重合性液晶化合物としては、棒状メソゲンの少なくとも一方の末端に重合性官能基を有する重合性液晶化合物であることが好ましく、棒状メソゲンの両末端に重合性官能基を有する重合性液晶化合物であることがより好ましい。１分子中に重合性官能基を２つ以上有する重合性液晶化合物は、塗膜の硬度や耐久性を向上させることができる。
前記その他の重合性液晶化合物としては、例えば、下記一般式（ＩＩ−１）で表される重合性液晶化合物、及び下記一般式（ＩＩ−２）で表される重合性液晶化合物が挙げられる。
【０１４０】
【化３３】
2020086397.tif 000043
（式中、Ｚ１０、及びＺ２０は各々独立して重合性官能基を表し、Ｒｓｐ１０、及びＲｓｐ２０は各々独立して単結合又は炭素原子数１以上２０以下のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｌ１０、Ｌ２０及びＬ３０は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ａ１０、及びＡ２０は各々独立して、ベンゼン−１，４−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ１０、及びＡ２０は各々独立して無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、Ｒは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１以上２０以下の直鎖又は分岐アルキル基を表し、ｓ１及びｓ２は０、１、２、３又は４を表すが、ｓ１及びｓ２がそれぞれ独立に２、３又は４を表す場合、２個、３個あるいは４個存在するＡ２０、Ｌ１０はそれぞれ同一であっても異なっていても良い。）
【０１４１】
前記その他の重合性液晶化合物が有する重合性官能基としては、本開示の重合性液晶化合物で説明したＺ１等と同様のものが挙げられる。重合性液晶化合物が有する重合性官能基としては、例えば、オキシラン環、オキセタン環等の環状エーテル含有基、エチレン性二重結合含有基等が挙げられるが、中でも光硬化性を示し、取り扱い性に優れる点から、エチレン性二重結合含有基であることが好ましい。環状エーテル基としては、例えば、グリシジル基が挙げられる。また、エチレン性二重結合含有基としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基であることが好ましい。
【０１４２】
本実施形態において、前記その他の重合性液晶化合物は、配向性の点から、中でも、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物、及び下記一般式（ＩＶ）で表される化合物より選択される１種以上の化合物が好ましい。
【０１４３】
【化３４】
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（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ２１は、水素原子又はメチル基を、Ｒ２２は、−（ＣＨ２）ｐ−、又は−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｐ’−で表される基を表す。Ｌ２３は、直接結合、又は、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、若しくは−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される連結基を、Ａｒ３は、ベンゼン−１，４−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａｒ３は無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、複数あるＬ２３及びＡｒ３はそれぞれ同一であっても異なっていても良い。Ｒ２３は、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＮＯ２、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｒ２４、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ２４、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＨＯ、−ＳＯ３Ｈ、−ＮＲ２４２、−Ｒ２５、又は−ＯＲ２５を、Ｒ２４は、水素原子又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基を表し、Ｒ２５は、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を表す。ｂは２以上４以下の整数、ｐ及びｐ’はそれぞれ独立に２以上１０以下の整数である。
【０１４４】
【化３５】
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（一般式（ＩＶ）中、Ｒ３１及びＲ３２は各々独立に、水素原子又はメチル基を、Ｒ３３は、−（ＣＨ２）ｑ−、又は−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｑ’−で表される基を、Ｒ３４は、−（ＣＨ２）ｒ−、又は−（ＯＣ２Ｈ４）ｒ’−で表される基を表す。Ｌ３４は、直接結合、又は、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、若しくは−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される連結基を、Ａｒ４は、ベンゼン−１，４−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａｒ４は無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、複数あるＬ３４及びＡｒ４はそれぞれ同一であっても異なっていても良い。ｃは２以上５以下の整数、ｑ、ｑ’、ｒ及びｒ’はそれぞれ独立に２以上１０以下の整数である。）
【０１４５】
一般式（ＩＩＩ）におけるｐ、ｐ’、一般式（ＩＶ）におけるｑ、ｑ’、ｒ及びｒ’は配向性の点から、２以上８以下であることが好ましく、２以上６以下であることがより好ましく、２以上５以下であることがより更に好ましい。
また、Ａｒ３及びＡｒ４はそれぞれ、ベンゼン−１，４−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、中でもベンゼン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、又はシクロヘキサン−１，４−ジイル基がより好ましい。Ａｒ３及びＡｒ４が有してもよい置換基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基が挙げられるが、より好ましくは炭素原子数１以上５以下のアルキル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
また、一般式（ＩＩＩ）におけるＲ２４及びＲ２５における炭素原子数１以上６以下のアルキル基は、直鎖、分岐、若しくは環状のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基及びｎ−ヘキシル基等の直鎖アルキル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、２−メチルブチル基等の分岐アルキル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等のシクロアルキル基等が挙げられる。Ｒ２４は、中でも、水素原子又は炭素原子数１以上５以下のアルキル基であることが好ましく、更に、水素原子又は炭素原子数１以上３以下のアルキル基であることが好ましい。Ｒ２５は、中でも、炭素原子数１以上５以下のアルキル基であることが好ましく、更に、炭素原子数１以上３以下のアルキル基であることが好ましい。
Ｒ２３は、中でも配向性の点から、−Ｃｌ、−ＣＮ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＮＯ２、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｒ２５、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ２４、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＨＯ、−ＳＯ３Ｈ、−ＮＲ２４２、−Ｒ２５、又は−ＯＲ２５であることが好ましく、−Ｃｌ、−ＣＮ、−ＯＣＦ３又は−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ２４、−Ｒ２５、又は−ＯＲ２５であることがより好ましい。
【０１４６】
前記その他の重合性液晶化合物に含まれるメソゲン構造としては、下記化学式（Ｖ−１）〜（Ｖ−６）で表される部分構造が、好ましく用いられ、中でも、環構造を３つ以上含む下記化学式（Ｖ−１）、（Ｖ−２）、（Ｖ−４）、（Ｖ−５）、及び（Ｖ−６）よりなる群から選択される少なくとも１種で表される部分構造が、好ましく用いられる。下記化学式（Ｖ−１）〜（Ｖ−６）で表される部分構造におけるフェニレン基やナフチレン基における水素原子は、炭素数１以上３以下のアルキル基や、ハロゲン原子によって置換されていても良い。
【０１４７】
【化３６】
2020086397.tif 000046
【０１４８】
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物、及び一般式（ＩＶ）で表される化合物の好適な具体例としては、下記化学式（１）〜（２２）に示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１４９】
【化３７】
2020086397.tif 000047
（ｇは２〜５の整数である。）
【０１５０】
【化３８】
2020086397.tif 000048
【０１５１】
前記重合性組成物に含まれる本開示の重合性液晶化合物は、前述のように逆波長分散性が非常に良好であるため、重合性組成物に更に幅広い波長分散性を示す化合物を添加しても、重合性組成物の硬化物の位相差値は逆波長分散性を示しやすい。本開示の重合性液晶化合物は、前述のように位相差値を測定した場合に、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が比較的小さくなる傾向がある。そのため、重合性組成物が前記その他の重合性液晶化合物を更に含有する場合は、当該重合性組成物の硬化物における波長４５０ｎｍに対する面内位相差（Ｒｅ（４５０））と波長５５０ｎｍに対する面内位相差（Ｒｅ（５５０））との比の値（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））が、当該重合性組成物に含まれる本開示の重合性液晶化合物のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）よりも大きくなるような重合性液晶化合物を更に含有することが、理想的な波長分散性に調整する点から好ましい。前記その他の重合性液晶化合物としては、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が、０．６以上１．２未満であるものから選択することができるが、０．８以上１．２未満であるものから選択することが好ましく、０．９以上１．２未満であるものから選択することがより更に好ましい。なお、本開示において重合性液晶化合物の位相差値とは、重合性液晶化合物と光重合開始剤のみを含む重合性組成物の硬化膜（位相差層）の位相差値であり、前述した位相差値の測定法と同様の方法により測定することができる。
【０１５２】
また、本実施形態において、前記その他の重合性液晶化合物は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、及びシクロヘキサノンからなる群から選択される少なくとも１種の溶剤に２０質量％以上溶解することが、重合性組成物の溶剤溶解性が向上する点から好ましい。重合性組成物の溶剤溶解性が向上すると、当該重合性組成物を用いて塗膜を形成する際に、均一な塗膜を形成しやすく、溶剤を乾燥させるための製造工程や製造装置の負荷が軽減される点、使用可能な基材の選択肢が広がる点、及び組成物としての液晶相転移温度が広がって、配向時のプロセスマージンが広がり、配向性がより均一に良好になる点から好ましい。
【０１５３】
本実施形態において、前記その他の重合性液晶化合物は、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
前記重合性組成物が前記その他の重合性液晶化合物を含有する場合、前記その他の重合性液晶化合物の含有割合は、所望の位相差等を調整するために適宜調整されれば良く、限定されるものではないが、重合性組成物の固形分１００質量部に対して、４５質量部以下であることが好ましく、３５質量部以下であることがより好ましく、２５質量部以下であることがより更に好ましい。
また、前記その他の重合性液晶化合物の含有割合は、所望の位相差等を調整するために適宜調整されれば良いが、前記重合性組成物に含まれる重合性液晶化合物の合計１００質量％中、４０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以下であることがより更に好ましい。
【０１５４】
（４）その他の成分
前記重合性組成物は、効果を損なわない範囲で更に他の成分を含有してもよい。具体的には、他の成分としてレベリング剤、酸化防止剤、光安定化剤や、塗工性の観点から溶剤等を含有してもよい。また、単独では液晶性を示さないが本開示の重合性液晶化合物と共に用いることで位相差や逆波長分散性、相転移温度、硬度、耐久性を調整可能な重合性化合物を含有してもよい。これらは従来公知の材料を適宜選択して用いればよい。
【０１５５】
前記重合性組成物は、塗膜の硬度や耐久性を向上させるためには、１分子中に重合性官能基を２つ以上有する重合性化合物を、更に含有することが好ましい。１分子中に重合性官能基を２つ以上有する重合性化合物としては前述のような重合性液晶化合物の他、液晶性を有しない重合性化合物を用いることができる。
１分子中に重合性官能基を２つ以上有する重合性化合物としては、所謂多官能モノマーを用いることもでき、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ等で変性したものが挙げられる。架橋反応が進行し、塗膜の耐久性が向上するため、ペンタエリスリトールトリアクリレート(ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリアクリラート（ＴＭＰＴＡ）等の１分子中に重合性官能基を３つ以上有する重合性化合物が好ましい。
本実施形態において液晶性を有しない重合性化合物を用いる場合、その含有割合は、重合性組成物の固形分１００質量部に対して４０質量部以下とすることが好ましく、３０質量部以下とすることがより好ましく、２０質量部以下とすることがより更に好ましい。
本実施形態において、液晶性を有しない重合性化合物としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、及びシクロヘキサノンからなる群から選択される少なくとも１種の溶剤に２０質量％以上溶解することが、重合性組成物の溶剤溶解性が向上し、当該重合性組成物を用いて塗膜を形成する際に、均一な塗膜を形成しやすく、溶剤を乾燥させるための製造工程や製造装置の負荷が軽減される点、使用可能な基材の選択肢が広がる点から好ましい。
【０１５６】
レベリング剤としては、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を用いることが好ましい。レベリング剤の具体例としては、例えば、特開２０１０−１２２３２５号公報に記載のＤＩＣ（株）製のメガファックシリーズ、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＴＳＦシリーズ及び（株）ネオス製のフタージェントシリーズ等が挙げられる。本実施形態においてレベリング剤を用いる場合、その含有割合は、重合性組成物の固形分１００質量部に対して０．００１質量部以上５質量部以下とすることが好ましい。
【０１５７】
前記重合性組成物は、塗工性の点から、必要に応じて溶剤を含んでいてもよい。溶剤としては、重合性組成物に含まれる各成分を溶解乃至分散し得る従来公知の溶剤の中から適宜選択すればよい。具体的には、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶剤、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ-メチルピロリドン等のアミド系溶剤、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。中でも、ケトン系溶剤が好ましく、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、及びシクロヘキサノンからなる群から選択される少なくとも１種の溶剤がより好ましい。
なお、本実施形態において溶剤は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて混合溶剤として用いることができる。
【０１５８】
なお、前記位相差層が含有する前記重合性組成物の硬化物においては、光重合開始剤など、前記重合性液晶化合物が有する重合性官能基を反応させるために光照射した際に、全てが分解する可能性がある成分は、含まれていない場合もある。
【０１５９】
また、前記重合性組成物の硬化物に含まれるヒドロキノン、ベンゾキノン及びこれらの誘導体の合計含有量は、０．２５質量％以下であることが好ましく、更に０．２０質量％以下であることが好ましく、更に０．１５質量％以下であることが好ましく、更に０．１０質量％以下であることが好ましく、更に０．０１質量％以下であることが好ましい。
また、前記位相差層においても、ヒドロキノン、ベンゾキノン及びこれらの誘導体の合計含有量は、０．２５質量％以下であることが好ましく、更に０．２０質量％以下であることが好ましく、更に０．１５質量％以下であることが好ましく、更に０．１０質量％以下であることが好ましく、更に０．０１質量％以下であることが好ましい。
また、前記重合性組成物に含まれるヒドロキノン、ベンゾキノン及びこれらの誘導体の合計含有量は、前記重合性組成物の全固形分１００質量％中、０．２５質量％以下であることが好ましく、更に０．２０質量％以下であることが好ましく、更に０．１５質量％以下であることが好ましく、更に０．１０質量％以下であることが好ましく、更に０．０１質量％以下であることが好ましい。
なお、ヒドロキノンの誘導体とは、ヒドロキノンのベンゼン環上の少なくとも１つの水素原子が有機基によって置換された化合物をいい、ベンゾキノンの誘導体とは、ベンゾキノンのベンゼン環上の少なくとも１つの水素原子が有機基によって置換された化合物をいう。また、本開示において、位相差層に含まれるヒドロキノン、ベンゾキノン及びこれらの誘導体には、キンヒドロン型錯体を形成しているものも含むものとする。
ヒドロキノン、ベンゾキノン及びこれらの誘導体（以下、単にヒドロキノン等という場合がある）は、前記重合性組成物を用いて位相差層を形成する過程で除去されずに残留する。そのため、前記重合性組成物の硬化物乃至前記位相差層に含まれるヒドロキノン等の含有割合（質量％）は、硬化する前の前記重合性組成物に含まれる全固形分のうち、位相差層を形成する過程で分解しない成分の合計１００質量％中のヒドロキノン等の含有割合（質量％）と同じになる。典型的には、硬化する前の前記重合性組成物に含まれる光重合開始剤以外の固形分の合計１００質量％中のヒドロキノン等の含有割合（質量％）が、前記重合性組成物の硬化物乃至前記位相差層に含まれるヒドロキノン等の含有割合（質量％）と同じになる。
硬化する前の前記重合性組成物に含まれるヒドロキノン等の含有割合（質量％）は、ＮＭＲにより求めることができる。
【０１６０】
（位相差層の特性）
本開示の位相差フィルムが有する前記位相差層においては、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基、及び更に含まれていても良い重合性液晶化合物が有するメソゲン基が、フィルム面に対して実質的に水平配向した状態で、硬化しているものであることが好ましい。前記重合性組成物の硬化物には、本開示の重合性液晶化合物の重合性官能基の少なくとも一部が重合した構造が含まれる。このような重合性液晶化合物の重合性官能基の少なくとも一部が重合した構造が含まれることから、本実施形態の位相差層は、耐久性が向上している位相差層である。
【０１６１】
前記位相差層の厚みは、用途に応じて適宜設定すればよい。
本開示の位相差フィルムを、例えば、広帯域１／４波長板とする場合には、得られる位相差フィルムのＲｅ（５５０）を１１３ｎｍ以上１６３ｎｍ以下、好ましくは１３５ｎｍ以上１４０ｎｍ以下、特に好ましくは約１３７．５ｎｍ程度に膜厚を調整すればよく、１／２波長板とする場合には、得られる光学フィルムのＲｅ（５５０）を２５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下、好ましくは２７３ｎｍ以上２７７ｎｍ以下、特に好ましくは約２７５ｎｍ程度となるように、膜厚を調整すればよい。
【０１６２】
なお、前記位相差層の厚みは、重合性組成物の塗布量や重合性液晶化合物の濃度を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように調整することができる。得られる位相差層の位相差値（リタデーション値、Ｒｅ（λ））は、下記式のように決定されることから、所望のＲｅ（λ）を得るためには、膜厚ｄを調整すればよい。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×△ｎ（λ）
（式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、△ｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す。）
前記位相差層の厚みは、中でも、０．１μｍ以上５μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以上３μｍ以下であることがより好ましい。
本開示においては、前記位相差層の複屈折率（△ｎ）が大きいため、従来よりも薄膜で位相差を実現することが可能である。
【０１６３】
本開示の位相差フィルムの波長分散特性は、例えば、前記位相差層の形成に用いた重合性組成物に含まれる本開示の重合性液晶化合物と、前記その他の重合性液晶化合物の含有量によって、任意に決定することができる。位相差層において本開示の重合性液晶化合物の含有量を増加させると、逆波長分散特性が増加する傾向を示す。
また、前記位相差層を理想的な逆波長分散性とする観点から、前記位相差層の位相差値は、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が、０．６以上０．９５未満の範囲内にあることが好ましく、更に０．６以上０．９０未満の範囲内にあることが好ましい。また、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が、１以上であることが好ましく、更に１．０２以上１．１以下の範囲内にあることが好ましい。
【０１６４】
また、前記位相差層は、前記重合性組成物の硬化物を含有することにより、複屈折率（△ｎ）が増大されたものである。前記位相差層の複屈折率（△ｎ）は、０．０７５以上であることが好ましく、更に０．０８以上であることが好ましい。
【０１６５】
また、前記位相差層は、前記重合性組成物の硬化物を含有することにより、耐熱性及び耐湿性に優れ、高温高湿環境下での着色乃至変色が抑制されたものである。前記位相差層は、例えば、８５℃、湿度９５％ＲＨの環境下で２００時間静置する耐湿熱性試験前後において、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度図でのａ値の差（△ａ）を、好ましくは３未満とすることができ、より好ましくは１以下とすることができ、ｂ値の差（△ｂ）を、好ましくは４未満とすることができ、より好ましくは２以下とすることができる。
【０１６６】
２．配向膜
本開示の位相差フィルムは、更に配向膜を有していても良い。本明細書において配向膜とは、位相差層に含まれる液晶性成分を一定方向に配列させるための層をいう。
本開示の実施形態に用いられる配向膜としては、前記本開示の実施形態の重合性組成物が水平配向しやすいことから、水平配向膜を用いることが好ましい。
水平配向膜は、塗膜として設けることで、位相差層に含まれる液晶性成分のメソゲン基の長軸を該水平配向膜面（フィルム面）に対して実質的に水平に配向させる膜であればよい。
水平配向膜としては、従来公知のもの適宜選択して用いることができ、例えば、ラビング法、光配向法、賦形法等により配向規制力を付与した配向膜等を挙げることができ、中でも、ラビング法、光配向法又は賦形法により配向規制力を付与した水平配向膜が好ましい。
【０１６７】
ラビング法により配向規制力を付与する場合、水平配向膜には、ラビングにより配向規制力を発現するポリマーが用いられる。当該ポリマーとしては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミド及びこれらの誘導体が挙げられ、中でも、ポリイミド及びポリビニルアルコールが好ましい。
【０１６８】
ラビング法による水平配向膜の形成方法は、従来公知の方法から適宜選択すればよい。例えば、前記透明基材上に、上記ポリマーを含む塗膜を形成した後、公知のラビングローラ等を用いてラビングすることにより、水平配向膜を得ることができる。
【０１６９】
水平配向膜を光配向法により形成する場合、配向膜用組成物として、偏光を照射することにより配向規制力を発現する光配向性材料を含有する光配向性組成物が用いられる。当該光配向性材料としては、光二量化型材料であっても、光異性化型材料であってもよい。具体的には、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、または、シンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマー等が挙げられ、中でも、シンナメート及びクマリンのうち少なくとも一方を有するポリマー、並びにこれらの誘導体が好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例として、例えば、特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報、ＷＯ２０１０／１５０７４８号公報、特開２０１５−１５１５４８号公報、及び特許第５６２６４９３号に記載された化合物を挙げることができる。
【０１７０】
光配向法による光配向膜の形成方法は、従来公知の方法から適宜選択すればよい。例えば、前記透明基材上に、前記光配向性組成物を均一に塗布し、偏光を照射し、次いで、塗膜全面に光照射することにより、光配向膜を得ることができる。
【０１７１】
また、水平配向膜を賦型法により形成する場合、配向膜用組成物は、所望の微細凹凸形状を賦型可能なものの中から適宜選択して用いればよく、例えば、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等を含有する賦型用組成物を用いることができる。中でも、配向膜の形成が容易である点から紫外線硬化性樹脂が用いられることが好ましい。紫外線硬化性樹脂の具体例としては、例えば、上記重合性モノマー、重合性オリゴマーの他、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレート等が挙げられ、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１７２】
賦型法による水平配向膜の形成方法は、従来公知の方法から適宜選択すればよい。例えば、前記透明基材上に、前記賦型用組成物を均一に塗布し、所望の微細凹凸形状が形成された金型上に、塗膜を接触させた後、加圧し、紫外線を照射することにより、所望の微細凹凸形状が付与された配向膜を得ることができる。
【０１７３】
また、前記水平配向膜としては、パターニング処理がされ、配向性能を有する部位がパターン状に配置されたものであっても良い。パターニング処理がされた水平配向膜としては、公知のものを用いることができ、特に限定はされないが、例えば、マスクラビングによりパターニング処理がされたラビング配向膜、マスク露光によりパターニング処理がされた光配向膜、配向膜を印刷等でパターニング処理した配向膜等が挙げられる。
【０１７４】
水平配向膜の厚さは、前記重合性液晶化合物を水平方向に配向できればよく、適宜設定することができ、特に限定はされないが、通常、１ｎｍ以上であり、６０ｎｍ以上であることが好ましく、薄膜化の観点から、１５μｍ以下が挙げられ、１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以下であることがより好ましく、０．３μｍ以下であることがより更に好ましい。
【０１７５】
３．基材
本開示の位相差フィルムは、更に基材を有していても良い。本実施形態において基材は、ガラス基材、金属箔、樹脂基材等が挙げられる。中でも、基材は透明性を有することが好ましく、従来公知の透明基材の中から適宜選択することができる。透明基材としては、ガラス基材の他、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ乳酸等のポリエステル系樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂を用いて形成された透明樹脂基材が挙げられる。
【０１７６】
前記透明基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基材の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【０１７７】
また、ロールトゥロール方式で位相差層を形成する場合には、透明基材は、ロール状に巻き取ることができる可撓性を有するフレキシブル材であることが好ましい。
このようなフレキシブル材としては、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類などを例示することができる。なかでも本実施形態においてはセルロース誘導体やポリエチレンテレフタレートを用いることが好ましい。セルロース誘導体は特に光学的等方性に優れるため、光学的特性に優れたものとすることができるからである。また、ポリエチレンテレフタレートは、透明性が高く、機械的特性に優れる点から好ましい。
【０１７８】
本実施形態に用いられる基材の厚みは、位相差フィルムの用途等に応じて、必要な自己支持性を付与できる範囲内であれば特に限定されないが、通常、１０μｍ以上１０００μｍ以下程度の範囲内である。
中でも、基材の厚みは、２５μｍ以上１２５μｍ以下の範囲内が好ましく、中でも３０μｍ以上１００μｍ以下の範囲内が好ましい。厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、長尺状の位相差フィルムを形成した後、裁断加工し、枚葉の位相差フィルムとする際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。
【０１７９】
本実施形態に用いられる基材の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。
例えば、本実施形態に用いられる配向膜が紫外性硬化性樹脂を含有するものである場合、透明基材と当該紫外線硬化性樹脂の接着性を向上させるためのプライマー層を基材上に形成してもよい。このプライマー層は、基材および紫外線硬化性樹脂との双方に接着性を有し、可視光学的に透明であり、紫外線を通過させるものであればよく、例えば、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体系、ウレタン系のもの等を適宜選択して使用することができる。
【０１８０】
また、基材上にアンカーコート層を積層しても良い。当該アンカーコート層によって基材の強度を向上させることができる。アンカーコート材料としては、金属アルコキシド、特に金属シリコンアルコキシドゾルを用いることができる。金属アルコキシドは、通常アルコール系の溶液として用いられる。アンカーコート層は、均一で、かつ柔軟性のある膜が必要なため、アンカーコート層の厚みは０．０４μｍ以上２μｍ以下程度が好ましく、０．０５μｍ以上０．２μｍ以下程度がより好ましい。
前記基材がアンカーコート層を有する場合には、基材とアンカーコート層の間に更にバインダー層を積層したり、アンカーコート層に基材との密着性を強化する材料を含有させることにより、基材とアンカーコート層の密着性を向上させてもよい。前記バインダー層の形成に用いるバインダー材料は、基材とアンカーコート層との密着性を向上できるものを特に制限なく使用することができる。バインダー材料としては、たとえば、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ジルコニウムカップリング剤等を例示できる。
【０１８１】
４．位相差フィルムの製造方法
本開示の実施形態の位相差フィルムの製造方法は、
前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含有する重合性組成物を成膜する工程（成膜工程）と、
前記成膜された前記重合性組成物中の前記重合性液晶化合物を少なくとも配向させる工程（配向工程）と、
前記配向させる工程の後に、前記重合性液晶化合物を少なくとも重合する工程（重合工程）とを有する方法により、位相差層を形成する。
本開示の実施形態の位相差フィルムの製造方法に用いられる重合性組成物としては、前述した重合性組成物と同様のものを用いることができるので、ここでの説明を省略する。
【０１８２】
（１）成膜工程
重合性組成物を成膜する成膜工程では、例えば、支持体上に、重合性組成物を均一に塗布して、重合性組成物を成膜する。
当該成膜工程では、重合性組成物の塗布量や重合性組成物中の各成分の含有割合を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように膜厚を調整することができる。
ここでの支持体上としては、前記基材上であっても良いし、前記配向膜を備えた基材の配向膜上であってもよい。
【０１８３】
塗布方法は、所望の厚みで精度良く成膜できる方法であればよく、適宜選択すればよい。例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法などが挙げられる。
【０１８４】
（２）配向工程
次いで、前記成膜された前記重合性組成物中の前記重合性液晶化合物を少なくとも配向させる。成膜された重合性組成物中の前記重合性液晶化合物が、配向可能な温度に調整し、加熱する。当該加熱処理により、本開示の重合性液晶化合物の配向性を有する主鎖部分と、必要に応じて更に含まれるその他の重合性液晶化合物とを配向させて乾燥することができ、前記配向状態を維持した状態で固定化することができる。
配向可能な温度は、重合性組成物中の各物質に応じて異なるため、適宜調整する必要がある。例えば、６０℃以上２００℃以下の範囲内で行うことが好ましく、更に６０℃以上１５０℃以下の範囲内で行うことが好ましい。
加熱手段としては、公知の加熱、乾燥手段を適宜選択して用いることができる。
また、加熱時間は、適宜選択されれば良いが、例えば、１０秒以上２時間以内、好ましくは２０秒以上３０分以内の範囲内で選択される。
【０１８５】
（３）重合工程
前記配向工程の後に、前記重合性液晶化合物を少なくとも重合する。前記配向工程において、本開示の重合性液晶化合物、及び更に含まれていても良い重合性液晶化合物の配向状態を維持した状態で固定化された塗膜に、例えば光照射することにより、重合性液晶化合物及び液晶性を有しない重合性化合物を重合することができ、前記重合性組成物の硬化物からなる位相差層を得ることができる。
光照射としては、紫外線照射が好適に用いられる。紫外線照射は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線を使用することができる。エネルギー線源の照射量は、適宜選択されれば良く、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、例えば１０ｍＪ／ｃｍ２以上１００００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内であることが好ましい。
【０１８６】
５．用途
本開示の位相差フィルムは、例えば反射防止用１／４波長板して好適に用いられ、後述するような各種表示装置用の光学部材に好適に用いられる。
【０１８７】
Ｂ．転写用積層体
本開示の転写用積層体は、位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、
前記位相差層が、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の硬化物を含有する、
位相差層の転写に供する転写用積層体である。
【０１８８】
本実施形態の転写用積層体が有する位相差層は、前記一般式（１）で表される構造を含むメソゲン基を有する重合性液晶化合物を含有する重合性組成物を含有するものであるため、複屈折率（△ｎ）が大きく、耐熱性及び耐湿性に優れ、逆波長分散性を有する。本実施形態の転写用積層体において、前記位相差層は、前記重合性組成物の硬化物からなるものであることが好ましい。
本実施形態の転写用積層体によれば、他の任意の光学部材等に、例えば、基材を含まない薄膜の、本開示の位相差層を転写することができる。
本実施形態の転写用積層体によれば、例えば、図２の例に示される位相差層１のみからなる位相差フィルム１０や、図５の例に示されるような、基材は含まず配向膜２３と位相差層２１とが積層された積層体２６からなる位相差フィルムを、提供することができる。すなわち、前記位相差層を少なくとも剥離可能であれば、転写用積層体の転写に供する位相差層には、配向膜等が積層されていても良い。
以下、このような転写用積層体の構成について説明するが、前記本開示の実施形態の重合性組成物については前述のとおりであるため、ここでの説明は省略する。
【０１８９】
転写用積層体の層構成について図を参照して説明する。図４及び図５は、各々本開示の転写用積層体の１実施形態を示す。
図４の例に示される転写用積層体２０の１実施形態は、位相差層１１と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体１５として第二の基材１２上に配向膜１３が積層された積層体を備えている。図４の例に示される転写用積層体２０においては、第二の基材１２と配向膜１３との界面の剥離強度が、配向膜１３と位相差層１１との界面の剥離強度よりも大きくなっていることにより、配向膜１３と位相差層１１との界面１７で剥離されやすい。そのため、被転写体上に転写された転写用積層体２０から、第二の基材１２上に配向膜１３が積層された積層体を、剥離可能な支持体１５として剥離することができ、位相差層１１のみを、位相差層を含む転写層１６として転写することができる。
図５の例に示される転写用積層体３０の１実施形態は、位相差層２１と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体２５として第二の基材２２を備え、位相差層２１と第二の基材２２との間に更に配向膜２３を備えている。図５の例に示される転写用積層体３０においては、第二の基材２２と配向膜２３との界面の剥離強度が、配向膜２３と位相差層２１との界面の剥離強度よりも小さくなっていることにより、第二の基材２２と配向膜２３との界面２７で剥離されやすい。そのため、被転写体上に転写された転写用積層体３０から、第二の基材２２を、剥離可能な支持体２５として剥離することができ、位相差層２１と配向膜２３との積層体を、位相差層を含む転写層２６として転写することができる。
【０１９０】
例えば、第二の基材と配向膜との剥離強度が配向膜と位相差層との剥離強度よりも大きいか小さいかは、位相差層の剥離を行って、いずれの界面で剥離しているかで確認することができる。いずれの界面で剥離しているかは、例えば、ＩＲ等により分析可能である。
【０１９１】
また、図６の例に示される転写用積層体４０の１実施形態は、位相差層３１と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体３５として第二の基材３２を備えている。被転写体上に転写された前記転写用積層体４０からは、第二の基材３２を剥離可能な支持体３５として剥離することができ、位相差層３１のみを、位相差層を含む転写層３６として転写することができる。
【０１９２】
以下、本実施形態について説明するが、位相差層については前記「Ａ．位相差フィルム」で述べた位相差層と同様のものとすることができるのでここでの説明を省略する。
また、配向膜及び基材も前記「Ａ．位相差フィルム」で述べた配向膜及び基材と同様のものを用いることができるが、剥離強度を調整する方法としては、例えば下記の方法を挙げることができる。
【０１９３】
図４の例に示される転写用積層体２０を得るために、第二の基材１２と配向膜１３との剥離強度が、配向膜１３と位相差層１１との剥離強度よりも大きくするには、例えば、配向膜形成用組成物に含まれる溶剤を、第二の基材を溶解可能なものとする方法を用いることができる。当該第二の基材としては樹脂基材を用いることが好ましく、また、基材表面に接着性が向上するための表面処理を行っても良い。このような場合、樹脂基材および配向膜の密着性を向上させることができる。
また、基材と配向膜との剥離強度が配向膜と位相差層との剥離強度よりも大きくなるよう、配向膜と位相差層との剥離強度を小さくするために、配向膜の耐溶剤性を比較的高くすることも好ましい。配向膜の耐溶剤性が比較的高い場合には、配向膜上に重合性組成物を塗布して位相差層を形成する際に、重合性組成物中の溶剤に配向膜が溶解しにくくなるため、配向膜および位相差層の密着性を低くすることができる。
【０１９４】
一方、図５の例に示される転写用積層体３０を得るために、第二の基材２２と配向膜２３との剥離強度が、配向膜２３と位相差層２１との剥離強度よりも小さくするためには、例えば、基材の表面に離型処理が施されていてもよく、あるいは離型層が形成されていてもよい。これにより、基材の剥離性を高めることができ、基材および配向層の剥離強度を配向層および位相差層の剥離強度よりも小さくすることができる。
離型処理としては、例えばフッ素処理、シリコーン処理等の表面処理が挙げられる。
離型層の材料としては、例えばフッ素系離型剤、シリコーン系離型剤、ワックス系離型剤等が挙げられる。離型層の形成方法としては、例えば離型剤をディップコート、スプレーコート、ロールコート等の塗布法により塗布する方法が挙げられる。
また、図６の例に示される転写用積層体４０を得るためにも、必要に応じて、基材の表面に離型処理が施されていてもよく、あるいは離型層が形成されていてもよい。
【０１９５】
転写用積層体に用いられる基材は、可撓性を有していてもよく有さなくてもよいが、基材を剥離しやすいことから、可撓性を有することが好ましい。
転写用積層体に用いられる基材の厚みは、充分な自己支持強度と、本実施形態の転写用積層体の製造および転写工程に適応出来るだけの可撓性との兼合いから、通常、上記材料のシートの場合、２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内であることが好ましい。
【０１９６】
本開示の転写用積層体から提供できる位相差層は、前記位相差フィルムと同様の用途に好適に用いられ、前記位相差層を各種表示装置用の光学部材に転写することができ、薄膜の光学部材を提供するために好適に用いられる。
【０１９７】
Ｃ．光学部材
本開示の光学部材は、前記本開示の位相差フィルム上に、偏光板を備えるものである。
【０１９８】
本実施形態の光学部材を、図を参照して説明する。図７は、光学部材の１実施形態を示す模式断面図である。
図７の光学部材６０の例では、前記本開示の位相差フィルム１０上に、偏光板５０が配置されている。位相差フィルム１０と偏光板５０との間には、必要に応じて粘着層（接着層）を有していてもよい（図示せず）。
【０１９９】
本実施形態において偏光板は、特定方向に振動する光のみを通過させる板状ものであり、従来公知の偏光板の中から適宜選択して用いることができる。例えば、沃素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。
また、本実施形態において粘着層（接着層）用の粘着剤又は接着剤としては、従来公知のものの中から適宜選択すればよく、感圧接着剤（粘着剤）、２液硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、熱溶融型接着剤等、いずれの接着形態のもの好適に用いることができる。
【０２００】
本実施形態の光学部材には、偏光板の他にも、公知の光学部材が備える他の層を更に有していても良い。当該他の層としては、例えば、前記本実施形態の位相差層とは異なる他の位相差層の他、反射防止層、拡散層、防眩層、帯電防止層、保護フィルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０２０１】
本実施形態の光学部材は、例えば、外光反射を抑制する光学部材や、各種表示装置用の広視野角偏光板として好適に用いることができる。
【０２０２】
本開示の光学部材の製造方法は、特に限定されることなく、前記本開示の位相差フィルム上に、偏光板を積層する方法を適宜選択して用いることができる。例えば、前記本開示の位相差フィルム上に、偏光板を、粘着層乃至接着層を介して積層する製造方法等が挙げられる。
【０２０３】
また、本開示の１実施形態の光学部材の製造方法としては、
前記本開示の転写用積層体を準備する転写用積層体準備工程と、
少なくとも偏光板を含む被転写体と、前記転写用積層体の前記位相差層とを対向させ、前記被転写体上に前記転写用積層体を転写する転写工程と、
前記被転写体上に転写された前記転写用積層体から、前記支持体を剥離する剥離工程とを有する、光学部材の製造方法が挙げられる。
【０２０４】
前記転写用積層体を用いた本開示の１実施形態の光学部材の製造方法によれば、偏光板と、前記本開示の位相差フィルムのうち前記位相差層のみを備えた光学部材を得ることができる。
本開示の１実施形態の光学部材の製造方法に用いる転写用積層体は、前記「Ｂ．転写用積層体」で説明したものと同様のものとすることができるので、ここでの説明を省略する。
また、本開示の１実施形態の光学部材の製造方法に用いる被転写体は、典型的には、接着層と偏光板とを有する被転写体が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、前述した本開示の１実施形態における光学部材が有していても良い他の層と同様の層を、更に有していても良い。
【０２０５】
Ｄ．表示装置
本開示に係る表示装置は、前記本実施形態の位相差フィルム、又は前記本実施形態の光学部材を備えることを特徴とする。
表示装置としては、例えば、発光表示装置、液晶表示装置等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０２０６】
中でも、前記本実施形態の位相差フィルム又は前記本実施形態の光学部材を備えるため、特に、透明電極層と、発光層と、電極層とをこの順に有する有機発光表示装置等の発光表示装置において外光反射を抑制しながら、視野角が向上するという効果を有する。
【０２０７】
１実施形態である発光表示装置の例を、図を参照して説明する。図８は、光学部材の１実施形態を示す模式断面図である。
図８の有機発光表示装置１００の例では、前記位相差フィルム１０の出光面側に、偏光板５０が配置され、反対側の面には、透明電極層７１と、発光層７２と、電極層７３とをこの順に有している。
発光層７２としては、例えば、透明電極層７１側から順に正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層の順に積層する構成等が挙げられる。本実施形態において、透明電極層、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層、電極層、及びその他の構成は、公知のものを適宜用いることができる。このようにして作製された発光表示装置は、例えば、パッシブ駆動方式の有機ＥＬディスプレイにもアクティブ駆動方式の有機ＥＬディスプレイにも適用可能である。
なお、本実施形態の表示装置は、上記構成に限定されるものではなく、適宜選択した公知の構成とすることができる。
【実施例】
【０２０８】
以下、各製造例により製造した各化合物は、日本電子（株）製ＪＥＯＬ  ＪＮＭ−ＬＡ４００ＷＢを用いて、１Ｈ ＮＭＲ測定により、化学構造を確認した。
また、製造した各液晶性化合物の相転移温度は、温度調節ステージを備えた偏光顕微鏡（オリンパス製、ＢＸ５１）によるテクスチャー観察によって昇温時において確認した。Ｃは結晶、Ｎはネマチック相、Ｉは等方性液体を表す。例えば「Ｃ  １３０  Ｎ  １８０  Ｉ」は、１３０℃で結晶からネマチック相に転移し、１８０℃でネマチック相から等方性液体へ転移したことを示す。
【０２０９】
［製造例１：式（１−１）で表される化合物１の製造］
まず、５００ｍＬナスフラスコ中、式（１−１−１）で表される４，４’−ジヒドロキシビフェニル  ２７ｇ（１５０ｍｍｏｌ）、ヘキサメチレンテトラミン４６ｇ（３３０ｍｍｏｌ）をトリフルオロ酢酸３２０ｍｌに溶解し、１１０℃で３時間反応を行った。反応終了後、氷浴下で４規定塩酸３Ｌを添加し終夜で撹拌した。撹拌終了後、沈殿物をろ過した。得られた粗体に水（１Ｌ）を加え、１時間撹拌し懸濁精製した。沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、式（１−１−２）で表される中間体１を７．５ｇ（２１ｍｍｏｌ、収率２１％）得た。
【０２１０】
シクロヘキサンジカルボン酸  １７２ｇ（１．０ｍｏｌ）、６−（４−ヒドロキシフェニル)ヘキシルアクリレート  ５３ｇ（２００ｍｍｏｌ、ＤＫＳＨ製）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）  ０．９８ｇ（８．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１Ｌ）懸濁液に、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）  ４３ｇ（２１０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５０ｍＬ）溶液を滴下した。滴下終了後、１２時間撹拌し、沈殿物をろ過した後、炭酸水素ナトリウム水溶液、１Ｎ塩酸で洗浄し、溶媒を留去した。得られた粗体をオープンカラムクロマトグラフィにより精製することで式（１−１−３）で表されるカルボン酸誘導体１を合成した。
【０２１１】
次に、上記で得られた式（１−１−２）で表される中間体１  ７．０ｇ（２９ｍｍｏｌ）、式（１−１−３）で表されるカルボン酸誘導体１  ３２ｇ（７６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）  ０．１４ｇ（１．２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（７０ｍＬ）懸濁液に、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）  １９ｇ（９０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１４ｍＬ）溶液を滴下した。滴下終了後、１２時間撹拌し、沈殿物をろ過した後、溶媒を留去した。得られた粗体にクロロホルム（７０ｍＬ）を加え、１時間撹拌し懸濁精製した。沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、式（１−１−４）で表される中間体２を２３ｇ（２２ｍｍｏｌ、収率７５％）で得た。
【０２１２】
２−ヒドラジノベンゾチアゾール  ５．０ｇ（３０ｍｍｏｌ）、水酸化カリウム  ２．５ｇ（４５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（９０ｍＬ）に添加し、８０℃で加熱した。所定の温度に到達したのち、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル  ９．２ｇ（３６ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、４時間撹拌した。反応終了後、水  １０ｍｌを加え抽出し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、式（１−１−５）で表される中間体３を３．０ｇ（１２ｍｍｏｌ、収率４０％）得た。
【０２１３】
上記で得られた式（１−１−４）で表される中間体２  ２．０ｇ（１．９ｍｍｏｌ）、１２規定塩酸  １５ｍｇをテトラヒドロフラン  １０ｍＬに溶解し、式（１−１−５）で表される中間体３  １．２ｇ（５．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍＬ）溶液を滴下した。滴下終了後、１２時間撹拌したのち、メタノール５０ｍｌに滴下した。生成した沈殿物をろ過した後、溶媒を留去した。得られた粗体にメタノール（２０ｍＬ）を加え、１時間撹拌し懸濁精製した。沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、式（１−１）で表される化合物１を１．４ｇ（０．９４ｍｍｏｌ、収率４９％）で得た。
【０２１４】
＜化合物１＞
相転移温度（昇温時）：Ｃ  １３０  Ｎ  １８０  Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ；  δｐｐｍ）  ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０−７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５−７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５−６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５−６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０−２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５−２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５−１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５−１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
【０２１５】
【化３９】
2020086397.tif 000049
【０２１６】
［製造例２：式（１−２）で表される化合物２の製造］
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシルの代わりに１-ブロモ−２−（２−メトキシエトキシ）エタンを等モル量用いて、式（１−２−５）で表される中間体４を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１−２）で表される化合物２を１．２ｇ（０．７７ｍｍｏｌ、収率４０％）得た。
【０２１７】
＜化合物２＞
相転移温度（昇温時）：Ｃ  １１６  Ｎ  ２０５  Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ；  δｐｐｍ）  ：８．３９（ｓ，２Ｈ），８．１３（ｓ，２Ｈ），７．７０−７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５−７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５−６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５−６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．５３（ｔ，４Ｈ），４．１８（ｔ，４Ｈ），４．０２−３．８５（ｍ，８Ｈ），３．６５（ｔ，４Ｈ），３．５１（ｔ，４Ｈ），３．３２（ｓ，４Ｈ），２．７０−２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５−２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５−１．３０（ｍ，２０Ｈ）．
【０２１８】
【化４０】
2020086397.tif 000050
【０２１９】
［製造例３：式（１−３）で表される化合物３の製造］
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシルの代わりに１−［２−（２−ブロモエトキシ）エトキシ］プロパンを等モル量用いて、式（１−３−５）で表される中間体５を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１−３）で表される化合物３を２．４４ｇ（１．５４ｍｍｏｌ、収率８０％）得た。
【０２２０】
＜化合物３＞
相転移温度（昇温時）：Ｃ  ９８．２    Ｎ  １０８．０  Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ；  δｐｐｍ）  ：８．３９（ｓ，２Ｈ），８．１３（ｓ，２Ｈ），７．６５−７．６０（ｍ，４Ｈ），７．２６−７．２１（ｍ，６Ｈ），７．００−６．８８（ｍ，１０Ｈ），６．３８（ｄｄ，２Ｈ），６．１６−６．１４（ｄ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．５３（ｔ，４Ｈ），４．１８（ｔ，４Ｈ），３．９５−３．９２（ｍ，８Ｈ），３．６４（ｔ，４Ｈ），３．６４−３．４４（ｍ，８Ｈ），２．７０−２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５−２．３５（ｍ，８Ｈ），１．７４−１．７２（ｍ，１６Ｈ），１．５５−１．４３（ｍ，８Ｈ），１．３１−１．２２（ｍ，４Ｈ），０．８２（ｔ，６Ｈ）．
【０２２１】
【化４１】
2020086397.tif 000051
【０２２２】
［製造例４：式（１−４）で表される化合物４の製造］
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシルの代わりに１−（２−ブロモエトキシ）ブタンを等モル量用いて、式（１−４−５）で表される中間体６を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１−４）で表される化合物４を１．３３ｇ（０．８７ｍｍｏｌ、収率４３％）得た。
【０２２３】
＜化合物４＞
相転移温度（昇温時）：Ｃ  １２２  Ｎ  １６７  Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ；  δｐｐｍ）  ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．７０−７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５−７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５−６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５−６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），３．６５−３．５０（ｍ，８Ｈ）２．７０−２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５−２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５−１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５−１．３０（ｍ，１２Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）
【０２２４】
【化４２】
2020086397.tif 000052
【０２２５】
［製造例５：式（１−５）で表される化合物５の製造］
エチレングリコール  ２０ｍｌに２−アミノ−６−エトキシベンゾチアゾール  ４．３ｇ（２４ｍｍｏｌ）を添加した。氷浴下で、ヒドラジン−１水和物  ３．６ｇ（７１ｍｍｏｌ）、１２規定塩酸１．９ｇ（５５ｍｍｏｌ）を適下し、１３０℃で５時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却したのち、水  ３００ｍｌを加え、沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、中間体７を３．１ｇ（１６ｍｍｏｌ、収率６８％）で得た。
【０２２６】
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、２−ヒドラジノベンゾチアゾールの代わりに前記中間体７を用いて、式（１−５−５）で表される中間体８を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１−５）で表される化合物５を１．３ｇ（０．８３ｍｍｏｌ、収率４３％）得た。
【０２２７】
＜化合物５＞
相転移温度（昇温時）：Ｃ  １４７  Ｎ  ２４１  Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ；  δｐｐｍ）  ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．５２（ｄ，２Ｈ），７．２１（ｄ，２Ｈ），７．０５−６．７５（ｍ，１２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５−６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），３．６５（ｔ，４Ｈ），２．７０−２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５−２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５−１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５−１．３０（ｍ，２６Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
【０２２８】
【化４３】
2020086397.tif 000053
【０２２９】
［製造例６：式（１−６）で表される化合物６の製造］
製造例１の製造において、中間体３を得る工程にて、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシルの代わりに１−（２−ブロモエトキシ）ブタンを等モル量用い、２−ヒドラジノベンゾチアゾールの代わりに、前記製造例５と同様の方法により得た前記中間体７を用いて、式（１−６−５）で表される中間体９を得た以外は、製造例１と同様にして、式（１−６）で表される化合物６を１．６ｇ（０．９８ｍｍｏｌ、収率５１％）得た。
【０２３０】
＜化合物６＞
相転移温度（昇温時）：Ｃ  １３１．１  Ｎ  ２３２．０  Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ；  δｐｐｍ）  ：８．４１（ｓ，２Ｈ），８．１１（ｓ，２Ｈ），７．５２（ｄｄ，２Ｈ），７．５０（ｄ，２Ｈ），７．２２（ｄ，２Ｈ），６．９８−６．７９（ｍ，１２Ｈ），６．４３（ｄｄ，２Ｈ），６．１６−６．１４（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．４７（ｔ，４Ｈ），４．１９（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），３．６６（ｔ，４Ｈ），３．５０−３．４６（ｔ，４Ｈ），２．７０−２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５−２．３５（ｍ，８Ｈ），１．８０−１．２７（ｍ，３９Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
【０２３１】
【化４４】
2020086397.tif 000054
【０２３２】
［製造例７：式（１−７）で表される化合物７の製造］
製造例１の製造において、式（１−１−５）で表される中間体３の代わりに式（１−７−５）で表される中間体１０（カルバゾール−９−アミン）を用いた以外は、製造例１と同様にして、式（１−７）で表される化合物７を０．２ｇ（０．１４ｍｍｏｌ、収率  ７％）得た。なお、前記中間体１０（カルバゾール-９−アミン）は、国際公開２００５／０３５４９６号公報の実施例４と同様の方法により合成した。
【０２３３】
＜化合物７＞
相転移温度（昇温時）：Ｃ  １５０  Ｎ  ２００  Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ；  δｐｐｍ）  ：８．３３（ｓ，２Ｈ），８．１１（ｓ，２Ｈ），８．０９（ｄ，４Ｈ），７．６９（ｄｄ，２Ｈ），７．４６−７．１８（ｍ，１４Ｈ），６．９７−６．８８（ｍ，８Ｈ），６．４３（ｄｄ，２Ｈ），６．１６−６．０９（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９４（ｔ，４Ｈ），２．７３−２．５６（ｍ，４Ｈ），２．４５−２．３５（ｍ，８Ｈ），１．７９−１．４７（ｍ，２２Ｈ）．
【０２３４】
【化４５】
2020086397.tif 000055
【０２３５】
［製造例８：式（１−８）で表される化合物８の製造］
２−ブロモ−５−ヒドロキシベンズアルデヒド  ２１ｇ（１１０ｍｍｏｌ）、２−ホルミル−４−メトキシフェニルボロン酸  ２０ｇ（１１０ｍｍｏｌ）をトルエン：エタノール＝３：１（４００ｍＬ）に溶解させ、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液  １００ｍｌを添加し、６０℃で加熱した。所定の温度に到達したのち、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム（０）  ２．４ｇ（２．１ｍｍｏｌ）を添加し、８０℃で加熱した。所定の温度に到達したのち、１０時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却し、不溶分をろ過し、有機層を抽出、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、中間体１１を１１ｇ（４４ｍｍｏｌ、収率４２％）得た。
製造例１において、式（１−１−２）で表される中間体１の代わりに、前記中間体１１と式（１−１−３）で表されるカルボン酸誘導体１とを用いて、中間体１２を得て、製造例１において、式（１−１−４）で表される中間体２の代わりに、前記中間体１２を用いた以外は、製造例１と同様にして、式（１−８）で表される化合物８を１．１ｇ（０．７４ｍｍｏｌ、収率３９％）得た。
【０２３６】
＜化合物８＞
相転移温度（昇温時）：Ｃ  １６５  Ｎ  １８０  Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ；  δｐｐｍ）  ：８．３９（ｓ，２Ｈ），７．９２（ｓ，２Ｈ），７．７０−７．６０（ｍ，４Ｈ），７．３５−７．２０（ｍ，６Ｈ），７．０５−６．８５（ｍ，１０Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．２５−６．１０（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），４．３４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），３．９７（ｔ，４Ｈ），２．７０−２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５−２．３５（ｍ，８Ｈ），１．９５−１．６５（ｍ，２０Ｈ），１．５５−１．３０（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，６Ｈ）．
【０２３７】
【化４６】
2020086397.tif 000056
【０２３８】
［比較製造例１：式（Ｃ１−１）で表される比較化合物１の製造］
特許第５９６２７６０号の実施例４の化合物４の合成を参考にして、下記式（Ｃ１−１）で表される比較化合物１を合成した。
【０２３９】
【化４７】
2020086397.tif 000057
【０２４０】
［比較製造例２：式（Ｃ１−２）で表される比較化合物２の製造］
４−ヨードフェノール  ２４ｇ（１１０ｍｍｏｌ）、２−ホルミル−４−メトキシフェニルボロン酸  ２０ｇ（１１０ｍｍｏｌ）をトルエン：エタノール＝８：１（４００ｍＬ）に溶解させ、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液  １００ｍｌを添加し、６０℃で加熱した。所定の温度に到達したのち、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）  ２．４ｇ（２．１ｍｍｏｌ）を添加し、８０℃で加熱した。所定の温度に到達したのち、５時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却し、不溶分をろ過し、有機層を抽出、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、中間体１３を２１ｇ（９９ｍｍｏｌ、収率９０％）得た。
製造例１において、式（１−１−２）で表される中間体１の代わりに、前記中間体１３と式（１−１−３）で表されるカルボン酸誘導体１とを用いて、中間体１４を得て、製造例１において、式（１−１−４）で表される中間体２の代わりに、前記中間体１４を用いた以外は、製造例１と同様にして、式（Ｃ１−２）で表される比較化合物２を１．９ｇ（１．５ｍｍｏｌ、収率８１％）得た。
【０２４１】
＜比較化合物２＞
相転移温度（昇温時）：Ｃ  １１５  Ｎ  ２００  Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ；  δｐｐｍ）  ：８．３９（ｓ，１Ｈ），８．１０（ｓ，１Ｈ）,７．７０（ｄｄ,２Ｈ）,７．５８−７．５３（ｍ,２Ｈ）,７．３１−７．２２（ｍ,５Ｈ）,７．０７−６．８９（ｍ,９Ｈ）,６．４３（ｄｄ,２Ｈ）,６．１６−６．１０（ｍ,２Ｈ）,５．８３（ｄｄ,２Ｈ）,４．１８（ｔ,４Ｈ）,３．９３（ｔ,４Ｈ）,３．７２（ｔ,２Ｈ）２．７０−２．５５（ｍ，４Ｈ），２．４５−２．３５（ｍ，８Ｈ），１．７７−１．４３（ｍ，２４Ｈ），１．３３−１．３２（ｍ,６Ｈ）,０．８７（ｔ，３Ｈ）．
【０２４２】
【化４８】
2020086397.tif 000058
【０２４３】
［実施例１］
（１）重合性組成物の製造
重合性液晶化合物（式（１−１）で表される化合物１）１００質量部、光重合開始剤（２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン：チバスペシャルティケミカルズ製、イルガキュア９０７）４質量部をシクロペンタノン４００質量部に溶解させ重合性組成物１を製造した。
【０２４４】
（２）位相差フィルム乃至転写用積層体の製造
（２−１）光配向膜用組成物の調製
特許第５６２６４９３号の合成例４の記載に従って光配向性モノマー４を得て、特許第５６２６４９３号の製造例１の記載に従って、光配向性モノマー４とヒドロキシエチルメタクリレートを共重合した共重合体１を得た。
下記に示す組成の光配向膜用組成物を調製した。
・共重合体１：０．１質量部
・ヘキサメトキシメチルメラミン（ＨＭＭ）：０．０１質量部
・ｐ−トルエンスルホン酸１水和物（ＰＴＳＡ）：０．００１５質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）：２．１質量部
【０２４５】
（２−２）水平配向膜の形成
ＰＥＴ基板（東洋紡（株）製、Ｅ５１００、厚さ３８μｍ）の片面上に、前記光配向膜用組成物を、硬化後の膜厚が０．２μｍとなるようにバーコートにより塗布し、１２０℃のオーブンで１分間加熱して乾燥及び熱硬化を行い、硬化塗膜を形成した。その後、この硬化塗膜表面にＨｇ−Ｘｅランプおよびグランテーラープリズムを用いて３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線を基板法線から垂直方向に露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で照射することで、水平配向膜を形成した。
【０２４６】
（２−３）位相差フィルム乃至転写用積層体の作製
形成した水平配向膜上に、前記重合性組成物１を、硬化後の膜厚が２μｍになるように塗布し、重合性組成物を成膜した。その後、表９に示す乾燥温度で、１２０秒間オーブン中で乾燥させた後に、Ｆｕｓｉｏｎ社製のＨバルブを用いて紫外線（ＵＶ）を照射量４００ｍＪ／ｃｍ２で照射して位相差層を形成して位相差フィルム乃至転写用積層体を得た。
【０２４７】
［実施例２〜１０、比較例１〜３］
（１）重合性組成物の製造
実施例１において、重合性液晶化合物の種類及び添加量を下記表９に従って変更した以外は、実施例１と同様にして、重合性組成物２〜１０、及び比較重合性組成物１〜３を得た。なお、表９において、化合物２〜８は、製造例２〜８で得られた化合物２〜８であり、比較化合物１、２は、比較製造例１、２で得られた比較化合物１、２であり、化合物Ｂは、下記化学式で表される重合性液晶化合物Ｂ−１である。また、表９において、各重合性液晶化合物の含有量（質量％）とは、重合性液晶化合物の合計１００質量％中の含有量（質量％）である。
【０２４８】
【化４９】
2020086397.tif 000059
【０２４９】
（２）位相差フィルム乃至転写用積層体の製造
実施例１において、重合性組成物１の代わりに、重合性組成物２〜１０及び比較重合性組成物１〜３を用いて成膜し、乾燥温度を下記表９に従って変更した以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム乃至転写用積層体２〜１０及び比較位相差フィルム乃至転写用積層体１〜３を得た。
【０２５０】
［評価］
＜ヒドロキノン等の含有量の測定＞
各実施例及び各比較例で得た重合性組成物を、核磁気共鳴スペクトル測定用重水素化クロロホルム又は核磁気共鳴スペクトル測定用重水素化ジメチルスルホキシドに溶解して試料溶液とし、１Ｈ ＮＭＲ測定を行った。ＮＭＲ測定で得られたシグナルの積分値から、重合性組成物の全固形分中のヒドロキノン、ベンゾキノン及びこれらの誘導体の合計（ヒドロキノン等）の含有量を算出した。算出した全固形分中のヒドロキノン等の含有量を、重合性組成物に含まれる光重合開始剤以外の固形分、すなわち、重合性組成物に配合した重合性液晶化合物の合計１００質量％に対する、ヒドロキノン等の含有割合（質量％）に換算し、各実施例及び各比較例で形成した位相差層に含まれるヒドロキノン等の含有量とした。
【０２５１】
＜位相差（波長分散性）＞
各実施例及び各比較例で得られた位相差フィルムのＰＥＴ基板を剥離して、位相差層及び水平配向膜を粘着付きガラスに転写し、サンプルを作製した。
位相差測定装置（王子計測機器（株）製、ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）により、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍに対する位相差層の面内位相差Ｒｅを測定した。
測定した位相差を用いて以下のように算出されるｘ、ｙ値から波長分散を評価した。
ｘ＝（４５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ）／（５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ）
ｙ＝（６５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ）／（５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ）
（波長分散性の評価基準）
Ａ：０．６≦ｘ＜０．９０、１＜ｙ    ・・・逆波長分散性
Ｂ：０．９０≦ｘ＜０．９５、１＜ｙ    ・・・逆波長分散性
Ｃ：０．９５≦ｘ＜１、１＜ｙ  
Ｄ：１≦ｘ、１≧ｙ    ・・・正常分散性
【０２５２】
＜複屈折＞
位相差Ｒｅ（λ）＝複屈折率△ｎ（λ）×膜厚ｄという関係があることから、５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅと膜厚ｄから、５５０ｎｍにおける複屈折率△ｎを評価した。
（複屈折率の評価基準）
Ａ：△ｎ≧０．０８
Ｂ：０．０７５≦△ｎ＜０．０８
Ｃ：０．０７５＞△ｎ
【０２５３】
＜耐湿熱性＞
Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度図におけるａ値及びｂ値を、紫外可視近赤外分光光度計（日本分光社製、Ｖ−７１００）を用いて測定し、放置前のａ値及びｂ値とした。次いで、サンプルを８５℃、湿度９５％ＲＨの環境下に２００時間静置する耐湿熱性試験を行った後に、上記と同様にしてａ値、ｂ値を測定し、耐湿熱性試験後のａ値及びｂ値とし、下記の色相変化式により、△ａ、△ｂを求め、耐湿熱性を評価した。なお、サンプルとしては、前記位相差の測定で用いたサンプルと同様のものを作製して用いた。
色相変化式
△ａ＝｜耐湿熱性試験後のａ値−放置前のａ値｜
△ｂ＝｜耐湿熱性試験後のｂ値−放置前のｂ値｜
（耐湿熱性の評価基準）
Ａ：△ａ≦１、△ｂ≦２
Ｂ：１＜△ａ＜３、２＜△ｂ＜４
Ｃ：３≦△ａ、４≦△ｂ
【０２５４】
【表９】
2020086397.tif 000060
【０２５５】
また、実施例１〜８で得られた位相差フィルムを用いて、前記位相差の測定で用いたサンプルと同様のサンプルを作製した。作製したサンプルについて、フーリエ変換赤外分光光度計（日本分光（株）製、ＦＴ／ＩＲ４２００）、ガリウムプリズム、回転ステージを用いて、入射角を４０°とし、配向方向を０°として回転試料台を回転させる条件でＩＲ測定を行い、ヒドラジン骨格由来の１１９０ｃｍ−１付近のピーク強度（Ａ１）と、ビフェニレン骨格由来の１２４４ｃｍ−１付近のピーク強度（Ａ２）との強度比（Ａ１／Ａ２）を求めた。各サンプルで前記強度比（Ａ１／Ａ２）は約０．５であった。これにより、実施例１〜８で得られた位相差フィルムが有する位相差層に、ビフェニレン基の２つのベンゼン環上に各々ヒドラジン骨格を含む側鎖を有する部分構造が含まれることを確認することができた。
【符号の説明】
【０２５６】
１      位相差層
２、２’      基材
３      配向膜
１０、１０’、１０”    位相差フィルム
１１、２１、３１      位相差層
１２、２２、３２      第二の基材
１３、２３、３３      配向膜
１５、２５、３５      剥離可能な支持体
１６、２６、３６      位相差層を含む転写層
１７    配向膜と位相差層との界面
２７    第二の基材と配向膜との界面
２０、３０、４０    転写用積層体
５０    偏光板
６０    光学部材
７１    透明電極層
７２    発光層
７３    電極層
１００  発光表示装置
【図１】
2020086397.tif 000065
【図２】
2020086397.tif 000066
【図３】
2020086397.tif 000067
【図４】
2020086397.tif 000068
【図５】
2020086397.tif 000069
【図６】
2020086397.tif 000070
【図７】
2020086397.tif 000071
【図８】
2020086397.tif 000072