【事件の表示】
　特許第６３６７８１２号発明「ゼオライト材料の後処理」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６３６７８１２号の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１〜１７〕、〔１８〜２５〕について訂正することを認める。
　特許第６３６７８１２号の請求項１、２、４〜１１、１３、１４、１６、１７に係る特許を維持する。
　特許第６３６７８１２号の請求項１８、１９、２１、２４、２５に係る特許を取り消す。
　特許第６３６７８１２号の請求項３、１２、１５、２０、２２、２３に係る特許異議の申立てを却下する。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本件特許第６３６７８１２号は、２０１３年（平成２５年）１０月９日（パリ条約による優先権主張　外国庁受理２０１２年１０月１８日　（ＥＰ）欧州特許庁）を国際出願日とする出願であって、平成３０年７月１３日にその特許権の設定登録がされ、平成３０年８月１日に特許掲載公報が発行された。その特許についての特許異議の申立ての経緯は、次のとおりである。
平成３１年　２月　１日付け：特許異議申立人松永健太郎（以下「特許異議申立人１」という。）による請求項１〜２５に係る特許に対する特許異議の申立て
平成３１年　２月　１日付け：特許異議申立人小海善史（以下「特許異議申立人２」という。）による請求項１〜２５に係る特許に対する特許異議の申立て
平成３１年　３月２８日付け：取消理由通知書
令和　１年　７月　１日付け：特許権者による意見書及び訂正請求書の提出
令和　１年　９月　６日付け：特許異議申立人１による意見書の提出
令和　１年１１月２６日付け：取消理由通知書（決定の予告）
令和　２年　２月２６日付け：特許権者による意見書及び訂正請求書の提出
令和　２年　４月　７日付け：特許異議申立人１による意見書の提出
令和　２年　６月　３日付け：特許権者に対する審尋
令和　２年　６月３０日付け：上記審尋に対する特許権者による回答書
令和　２年　７月１４日　　：特許権者に対する合議体からの問い合わせ（応対記録あり）
令和　２年　８月　４日付け：特許権者による訂正案の提出（応対記録に添付あり）
令和　２年　８月　４日　　：上記訂正案に対する合議体の回答（応対記録あり）
　なお、令和１年７月１日及び令和２年２月２６日になされた訂正請求について、期間を指定して特許異議申立人２に意見を求めたが、意見書等の提出はなされなかった。
第２．訂正請求について
１．訂正の内容
　令和２年２月２６日付け訂正請求書における訂正請求（以下、「本件訂正請求」といい、本件訂正請求による訂正を「本件訂正」という。」）は、次の訂正事項１〜２５からなる（下線部は訂正箇所を示す。）。
　なお、令和１年７月１日付けの訂正請求は、特許法第１２０条の５第７項の規定により取り下げられたものとみなす。
訂正事項１
　請求項１について、「（ｉ）ゼオライト材料の骨格構造がＹＯ２及びＸ２Ｏ３を含み、Ｙが４価元素であり、Ｘが３価元素であり、ＹがＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｇｅ及びそれらの２つ以上の組合せからなる群から選択され、ＸがＡｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｆｅ及びそれらの２つ以上の組合せからなる群から選択される、ゼオライト材料を準備する工程と、」との記載を、「（ｉ）ゼオライト材料の骨格構造がＹＯ２及びＸ２Ｏ３を含み
、Ｙ
Ｓｉであり
Ａｌであ
を含み、
ここで（ｉ）におけるゼオライト材料を準備する工程が、（１）種結晶並びにＹＯ２の少なくとも１つの源及びＸ２Ｏ３の少なくとも１つの源を含む混合物を調製する工程と、（２）（１）において調製した混合物からゼオライト材料を結晶化する工程とを含む、有機鋳型を用いない合成方法を行うことを含み、（１）において用いる種結晶が（ｉ）において準備されるゼオライト材料の骨格構造を有するゼオライト材料を含み、及び更に
（ｉｉ）の（ａ）において、水溶液によるゼオライト材料の処理の後に、ゼオライト材料を懸濁液から分離し、そして分離したゼオライト材料を、７５℃未満の範囲の温度で洗浄するステップにかけ、
訂正事項２
　請求項３を削除する。
訂正事項３
　請求項４が引用する請求項を、「請求項１から３のいずれか一項」から、「請求項１
又は２
訂正事項４
　請求項５が引用する請求項を、「請求項１から４のいずれか一項」から、「請求項１
、２及び４
訂正事項５
　請求項６が引用する請求項を、「請求項１から５のいずれか一項」から、「請求項１
、２、４及び５
訂正事項６
　請求項７が引用する請求項を、「請求項１から６のいずれか一項」から、「請求項１
、２、４
訂正事項７
　請求項８が引用する請求項を、「請求項１から７のいずれか一項」から、「請求項１
、２、４
訂正事項８
　請求項９が引用する請求項を、「請求項１から８のいずれか一項」から、「請求項１
、２、４
訂正事項９
　請求項１０が引用する請求項を、「請求項１から９のいずれか一項」から、「請求項１
、２、４
訂正事項１０
　請求項１１が引用する請求項を、「請求項１から１０のいずれか一項」から、「請求項１
、２、４
訂正事項１１
　請求項１２を削除する。
訂正事項１２
　請求項１３が引用する請求項を、「請求項１から１２のいずれか一項」から、「請求項１
、２、４
１１
訂正事項１３
　請求項１５を削除する。
訂正事項１４
　請求項１６が引用する請求項を、「請求項１から１５のいずれか一項」から、「請求項１
、２、４
１１、１３及び１４
訂正事項１５
　請求項１７が引用する請求項を、「請求項１から１６のいずれか一項」から、「請求項１
、２、４
１１、１３、１４及び
訂正事項１６
　請求項１８について、「Ｙが４価元素であり、Ｘが３価元素であり、ＹがＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｇｅ及びそれらの２つ以上の組合せからなる群から選択され、ＸがＡｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｆｅ及びそれらの２つ以上の組合せからなる群から選択される、ＹＯ２及びＸ２Ｏ３を含む骨格構造を有し、」との記載を、「
Ｙ
ｉであり
ｌである
及びＢＥＡ骨格構造を有し、
れ、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比が１２：１から４０：１の範囲であり、水取込み量が最大限でも２０質量％である、
訂正事項１７
　請求項１９について、「ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比が２０：１〜６０：１の範囲」から、「ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比が２０：１〜
４０
訂正事項１８
　請求項２０を削除する。
訂正事項１９
　請求項２１が引用する請求項を、「請求項１８又は２０」から、「請求項１
８
訂正事項２０
　請求項２２を削除する。
訂正事項２１
　請求項２３を削除する。
訂正事項２２
　請求項２４について、「ＹがＳｉであり、ＸがＡｌであり、ゼオライト材料が脱アルミニウム化ゼオライトベータである」という記載を、「
ゼ
、１９及び２１
訂正事項２３
　請求項２５が引用する請求項を、「請求項１８から２４のいずれか一項」から、「請求項１８
、１９、２１
一群の請求項について
　訂正前の請求項１の記載を請求項２〜１７が引用し、訂正前の請求項１８の記載を請求項１９〜２５が引用する関係にあるから、訂正前の請求項１〜１７に係る発明は一群の請求項であり、訂正前の請求項１８〜２５に係る発明は一群の請求項である。
　したがって、請求項１に係る訂正事項１及び請求項１８に係る訂正事項１６を含む本件訂正請求は、これらの一群の請求項それぞれについて請求したものと認められる。
２．訂正の判断
（１）訂正事項１について
　訂正事項１は、請求項１に記載された「ゼオライト材料の後処理の方法」の発明において、ゼオライトの骨格構造を構成するＹＯ２及びＸ２Ｏ３の構成元素であるＹ及びＸをＳｉ及びＡｌに限定し、「
ここで（ｉ）におけるゼオライト材料を準備する工程が、（１）種結晶並びにＹＯ２の少なくとも１つの源及びＸ２Ｏ３の少なくとも１つの源を含む混合物を調製する工程と、（２）（１）において調製した混合物からゼオライト材料を結晶化する工程とを含む、有機鋳型を用いない合成方法を行うことを含み、（１）において用いる種結晶が（ｉ）において準備されるゼオライト材料の骨格構造を有するゼオライト材料
（ｉｉ）の（ａ）において、水溶液によるゼオライト材料の処理の後に、ゼオライト材料を懸濁液から分離し、そして分離したゼオライト材料を、７５℃未満の範囲の温度で洗浄するステップ
　そして、ゼオライトの骨格構造を構成するＹＯ２及びＸ２Ｏ３の構成元素であるＹがＳｉ、ＸがＡｌであることは訂正前の特許請求の範囲の請求項１２に、ゼオライト材料を準備する工程の具体的な工程は訂正前の特許請求の範囲の請求項１５にそれぞれ記載されており、さらに（ｉｉ）の（ａ）において水溶液による処理後のゼオライトを洗浄するステップについては本件明細書の段落００３８に「本発明によれば、ゼオライト材料は、好ましくはろ過法により懸濁液から分離する。上述のように、工程（ａ）の後に、好ましくは分離されたゼオライト材料を７５℃未満の温度での洗浄工程及び／又は乾燥及び／又は焼成にかけることができる。」と記載されているから、いずれも願書に添付した特許請求の範囲又は明細書に記載した事項の範囲内においてしたものである。
　さらに、訂正事項１は、発明のカテゴリーや対象、目的を変更するものではなく、また、当該訂正事項により、訂正前の特許請求の範囲には含まれないとされていた発明が訂正後の特許請求の範囲に含まれることとなるという事情は認められないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
（２）訂正事項２、１１、１３、１８、２０、２１について
　訂正事項２、１１、１３、１８、２０、２１は、いずれも請求項を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、願書に添付した特許請求の範囲又は明細書に記載した事項の範囲内においてしたものであって、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
（３）訂正事項３〜１０、１２、１４、１５、１９、２３について
　訂正事項３〜１０、１２、１４、１５、１９、２３は、いずれも上記（２）で検討した請求項を削除する訂正事項にともない、削除した請求項を引用する請求項から削除するものであり、選択的引用請求項の一部を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、当該訂正事項は、選択的引用請求項の一部を削除するものであるから、願書に添付した特許請求の範囲又は明細書に記載した事項の範囲内においてしたものである。
　さらに、引用する請求項を削除することにより、訂正前の特許請求の範囲には含まれないとされていた発明が訂正後の特許請求の範囲に含まれることとなるという事情は認められないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
（４）訂正事項１６について
　訂正事項１６は、請求項１８に記載された「ゼオライト材料」の発明において、ゼオライトの骨格構造を構成するＹＯ２及びＸ２Ｏ３の構成元素であるＹ及びＸをＳｉ及びＡｌに限定し、骨格構造がＢＥＡであることを限定し、さらにＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比及び水取込み量を所定の範囲に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、ゼオライトの骨格構造を構成するＹＯ２及びＸ２Ｏ３の構成元素であるＹがＳｉ、ＸがＡｌであることは訂正前の特許請求の範囲の請求項２２に記載されているものであり、骨格構造がＢＥＡであることは本件明細書の段落００８７に「好ましくは、ゼオライト材料は、ＬＥＶ、ＣＨＡ、ＭＦＩ、ＭＷＷ、ＢＥＡ骨格構造を有し、骨格構造は、好ましくはＢＥＡであり、ゼオライト材料はより好ましくはゼオライトベータである。」と記載されており、さらにＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比は本件明細書の段落００７８に「したがって、本発明は、（ａ）による少なくとも１回の処理とそれに続く（ｂ）による処理の後に、ゼオライト材料が好ましくは少なくとも１２：１の合成後に増加したＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比を有し、より好ましくは増加したモル比が１２：１〜６０：１の範囲にある、Ｙが４価元素であり、Ｘが３価元素である、ＹＯ２及びＸ２Ｏ３を含む骨格構造を有するゼオライト材料に関する。・・・（ａ）による少なくとも１回のさらなる処理を適用する場合、ゼオライト材料は、好ましくは２０：１〜６０：１、より好ましくは２０：１〜４０：１の範囲のＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比を有する。」（「・・・」は省略を示す。）と、水取込み量は訂正前の特許請求の範囲の請求項２０にそれぞれ記載されているから、いずれも願書に添付した特許請求の範囲又は明細書に記載した事項の範囲内においてしたものである。
　さらに、訂正事項１６は、発明のカテゴリーや対象、目的を変更するものではなく、また、当該訂正事項により、訂正前の特許請求の範囲には含まれないとされていた発明が訂正後の特許請求の範囲に含まれることとなるという事情は認められないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
（５）訂正事項１７について
　訂正事項１７は、請求項１９に記載されていた「ゼオライト材料」の発明において、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比の上限を６０：１から４０：１に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比の範囲が１２：１〜４０：１であることは本件明細書の段落００７８にＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比は本件明細書の段落００７８に「したがって、本発明は、（ａ）による少なくとも１回の処理とそれに続く（ｂ）による処理の後に、ゼオライト材料が好ましくは少なくとも１２：１の合成後に増加したＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比を有し、より好ましくは増加したモル比が１２：１〜６０：１の範囲にある、Ｙが４価元素であり、Ｘが３価元素である、ＹＯ２及びＸ２Ｏ３を含む骨格構造を有するゼオライト材料に関する。・・・（ａ）による少なくとも１回のさらなる処理を適用する場合、ゼオライト材料は、好ましくは２０：１〜６０：１、より好ましくは２０：１〜４０：１の範囲のＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比を有する。」（「・・・」は省略を示す。）と記載されているから、願書に添付した特許請求の範囲又は明細書に記載した事項の範囲内においてしたものである。
　さらに、訂正事項１７は、発明のカテゴリーや対象、目的を変更するものではなく、また、当該訂正事項により、訂正前の特許請求の範囲には含まれないとされていた発明が訂正後の特許請求の範囲に含まれることとなるという事情は認められないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
（６）訂正事項２２について
　訂正事項２２において、訂正前の請求項２４における「ＹがＳｉであり、ＸがＡｌであり、ゼオライト材料が」という記載の「ＹがＳｉであり、ＸがＡｌであり、」との記載を削除することについては、請求項２４が直接又は間接的に引用する請求項１８に係る訂正事項１６としてＹがＳｉでありＸがＡｌであると限定されたことに伴い記載を簡潔にしたものであり、明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。また、請求項２４が引用する請求項を「請求項１８、１９及び２１のいずれか一項」に訂正することは、選択的引用請求項の一部を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、当該訂正事項は、明瞭でない記載の釈明及び選択的引用請求項の一部を削除するものであるから、願書に添付した特許請求の範囲又は明細書に記載した事項の範囲内においてしたものである。
　さらに、明瞭でない記載の釈明及び引用する請求項を削除により、訂正前の特許請求の範囲には含まれないとされていた発明が訂正後の特許請求の範囲に含まれることとなるという事情は認められないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
（７）独立特許要件について
　特許異議申立ては、全ての請求項１〜２５についてされているので、一群の請求項〔１〜１７〕〔１８〜２５〕に係る訂正事項１〜２３に関して、特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する同法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
３．まとめ
　以上のとおり、本件訂正請求は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号及び第３号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第９項において準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合するので、訂正後の請求項１〜２５について訂正することを認める。
第３．本件発明について
　本件特許の請求項１、２、４〜１１、１３、１４、１６〜１９、２１、２４、２５に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」、「本件発明２」、「本件発明４」〜「本件発明１１」、「本件発明１３」、「本件発明１４」、「本件発明１６」〜「本件発明１９」、「本件発明２１」、「本件発明２４」、「本件発明２５」という。）は、訂正特許請求の範囲に記載された次の事項により特定されるものである（下線部は訂正箇所を示す。）。
【請求項１】
　ゼオライト材料の後処理の方法であって、
　（ｉ）ゼオライト材料の骨格構造がＹＯ２及びＸ２Ｏ３を含み
、Ｙ
Ｓｉであり
Ａｌであ
を含み、
　
ここで（ｉ）におけるゼオライト材料を準備する工程が、
　
（１）種結晶並びにＹＯ２の少なくとも１つの源及びＸ２Ｏ３の少なくとも１つの源を含む混合物を調製する工程と、
　
（２）（１）において調製した混合物からゼオライト材料を結晶化する工程と
を含む、
　
有機鋳型を用いない合成方法を行うことを含み、
　
（１）において用いる種結晶が（ｉ）において準備されるゼオライト材料の骨格構造を有するゼオライト材料を含み、及び更に
　（ｉｉ）（ｉ）において準備したゼオライト材料を、
　　（ａ）最大限でも５のｐＨを有する、有機酸及び／又は無機酸を含む水溶液により、及び３５℃〜１００℃の範囲の温度で処理する工程と、
　　（ｂ）（ａ）から得られたゼオライト材料を、５．５〜８の範囲のｐＨ及び少なくとも７５℃の温度を有し、かつ、少なくとも９０質量％の水を含む液体水性系により処理する工程と
　を含む方法で処理する工程とを含み、
　
（ｉｉ）の（ａ）において、水溶液によるゼオライト材料の処理の後に、ゼオライト材料を懸濁液から分離し、そして分離したゼオライト材料を、７５℃未満の範囲の温度で洗浄するステップにかけ、
　（ａ）における水溶液のｐＨ及び（ｂ）における液体水性系のｐＨをｐＨ感受性ガラス電極を用いて測定する、方法。
【請求項２】
　（ｉｉ）による方法が、
　（ａ）ゼオライト材料を最大限でも５のｐＨを有する水溶液により処理する工程と、
　（ｂ）（ａ）から得られたゼオライト材料を５．５〜８の範囲のｐＨ及び少なくとも７５℃の温度を有する液体水性系により処理する工程と、
　（ａ）（ｂ）から得られたゼオライト材料を最大限でも５のｐＨを有する水溶液により処理する工程と
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
　削除
【請求項４】
　（ａ）において、水溶液が、シュウ酸、酢酸、クエン酸、メタンスルホン酸及びそれらの２つ以上の混合物からなる群から選択される有機酸、及び／又は、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸及びそれらの２つ以上の混合物からなる群から選択される無機酸を含む、請求項１
又は２
【請求項５】
　（ａ）において、水溶液が０〜５の範囲のｐＨを有する、請求項１
、２及び４
【請求項６】
　（ａ）において、ゼオライト材料を水溶液により１０分〜１２時間の範囲の期間にわたり処理する、請求項１
、２、４及び
【請求項７】
　（ｂ）において、ゼオライト材料を液体水性系により８０℃〜１８０℃の範囲の温度で処理する、請求項１
、２、４
【請求項８】
　（ｂ）において、ゼオライト材料を液体水性系により０．５時間〜２４時間の範囲の期間にわたり処理する、請求項１
、２、４
【請求項９】
　（ｂ）において、ゼオライト材料に対する液体水性系の質量比が２０：１〜２：１の範囲にある、請求項１
、２、４
【請求項１０】
　（ｂ）において、液体水性系が少なくとも９９質量％の水を含む、請求項１
、２、４
【請求項１１】
　（ｉｉ）において（ｂ）の後に、ゼオライト材料を乾燥及び／又は焼成処理する、請求項１
、２、４
【請求項１２】
　削除
【請求項１３】
　（ａ）による水溶液及び／又は（ｂ）による液体水性系が少なくとも１種の有機酸の少なくとも１種の塩及び／又は少なくとも１種の無機酸の少なくとも１種の塩を含む、請求項１
、２、４
１１
【請求項１４】
　少なくとも１種の塩がアンモニウム塩であり、（ｉ）において準備されるゼオライト材料がそのナトリウム型として準備される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
　削除
【請求項１６】
　（ｉ）において準備するゼオライト材料がＬＥＶ、ＣＨＡ、ＭＦＩ、ＭＷＷ、ＢＥＡ骨格構造を有する、請求項１
、２、４
１１、１３及び１４
【請求項１７】
　（ｉ）においても（ｉｉ）においても（ｉｉ）の後においても、ゼオライト材料を蒸気処理にかけない、請求項１
、２、４
１１、１３、１４及び
【請求項１８】
　
Ｙ
ｉであり
ｌであ
及び
　
ＢＥＡ骨格構造を有し、
　３７３０ｃｍ−１〜３７５０ｃｍ−１の範囲に極大を有する第１の吸収帯と、３６００ｃｍ−１〜３７００ｃｍ−１の範囲に極大を有する第２の吸収帯とを示し、
　第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比が０．１〜０．９の範囲にある、ＩＲスペクトルによって特徴づけら
れ、
　
ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比が少なくとも１２：１から４０：１の範囲であり、
　
水取込み量が最大限でも２０質量％である、
【請求項１９】
　ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比が２０：１〜
４０
【請求項２０】
　削除
【請求項２１】
　ＩＲスペクトルが３７３０ｃｍ−１〜３７５０ｃｍ−１の範囲に極大を有する第１の吸収帯と、３６００ｃｍ−１〜３７００ｃｍ−１の範囲に極大を有する第２の吸収帯とを示し、第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比が０．２〜０．８の範囲にある、請求項１
８に
【請求項２２】
　削除
【請求項２３】
　削除
【請求項２４】
　
ゼ
、１９及び２１の
【請求項２５】
　触媒工程における触媒として請求項１８
、１９、２１及び
第４．取消理由について
１．令和１年１１月２６日付け取消理由について
（１）取消理由の概要
　令和１年１１月２６日付け取消理由通知書（決定の予告）における取消理由の概要は、以下のとおりである。
理由１（サポート要件）
　シラノールネストに帰される吸収帯の極大がみられる範囲はゼオライト材料の構造等により変化するものであるであるといえ、ＹがＳｉであり、ＸがＡｌであるＢＥＡ型ゼオライト以外の全てのゼオライト材料について、３７３０ｃｍ−１〜３７５０ｃｍ−１の吸収帯が表面シラノール基に起因し、３６００ｃｍ−１〜３７００ｃｍ−１の吸収帯がシラノールネスト等の内部欠陥に起因するものであるとは必ずしもいえないため、ＹがＳｉであり、ＸがＡｌであるＢＥＡ型ゼオライト以外のゼオライト材料については、「３７３０ｃｍ−１〜３７５０ｃｍ−１の範囲に極大を有する第１の吸収帯」のピーク高さに対する「３６００ｃｍ−１〜３７００ｃｍ−１の範囲に極大を有する第２の吸収帯」のピーク高さの比が０．１〜０．９の範囲内であることが、必ずしも低い内部欠陥濃度を意味しないから、令和１年７月１日付け訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲における請求項１８、２１に記載された、前記ピーク高さの比が所定の範囲内であるゼオライト材料の全てが課題を解決するものであるとはいえず、令和１年７月１日付け訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲における請求項１８、１９、２１、２３〜２５に係る発明は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない。
理由２（明確性）
（Ａ）令和１年７月１日付け訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲における請求項３〜１１、１３、１４、１６、１７に係る発明ついては、（ａ）における洗浄するステップの後に、さらに「５．５〜８の範囲のｐＨ及び７５℃未満の範囲の温度を有する液体水性系による処理」をすることについて、本件明細書の記載を参酌してもその技術的意義を把握することができず、その技術的意義が不明である。
（Ｂ）令和１年７月１日付け訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲における請求項１８、１９、２１、２３〜２５に係る発明における「第１の吸収帯のピーク高さ」及び「第２の吸収帯のピーク高さ」を求める際について、本件明細書にはＩＲスペクトルのベースライン補正を行うことが記載されている（段落００９５参照。）が、本件明細書には当該ＩＲスペクトルのベースライン補正を行う具体的な方法について記載されておらず、ベースラインの引き方には複数の方法があることが当業者に周知であって、ベースラインの引き方によりピーク高さが異なることが自明であることから、当業者が技術常識を考慮しても、「第１の吸収帯のピーク高さ」及び「第２の吸収帯のピーク高さ」を一意に決定することはできず、その結果令和１年７月１日付け訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲における請求項１８、２０に記載された「第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比」を一意に決定することができない。
理由３（新規性）
　令和１年７月１日付け訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲における請求項１８、１９、２１、２３〜２５に係る発明は、特許異議申立人１が甲第２号証として提示し、また、特許異議申立人２が甲第１号証として提示した文献である'Infrared spectroscopic study of the acid properties of dealuminated BEA zeolites'（J.P. Marques et al., Microporous and Mesoporous Materials, ２００３年, vol.60, pp.251-262）（以下、「引用文献１」という。）に記載されている発明であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきものである。
（２）取消理由に対する当審の判断
ア．理由１（サポート要件）について
　本件訂正請求により、本件発明１８は、「ＹがＳｉであり、ＸがＡｌである」こと、及び「ＢＥＡ骨格構造」を有することが限定され、３７３０ｃｍ−１〜３７５０ｃｍ−１の吸収帯が表面シラノール基に起因し、３６００ｃｍ−１〜３７００ｃｍ−１の吸収帯がシラノールネスト等の内部欠陥に起因するものとなったため、第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さが０．１〜０．９の範囲にあることが、低い内部欠陥濃度を有することを意味するものとなったものである。
　してみると、本件発明１８、１９、２１、２４、２５は、課題を解決するものであるから、上記理由１は理由がない。
イ．理由２（明確性）について
（ア）（Ａ）について
　本件訂正請求により、令和１年７月１日付け訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲における請求項３は削除され、本件発明１、２、４〜１１、１３、１４、１６、１７は、いずれも（ａ）における洗浄するステップの後に、さらに「５．５〜８の範囲のｐＨ及び７５℃未満の範囲の温度を有する液体水性系による処理」をすることを特定事項として有しないこととなったから、上記理由２は理由がない。
（イ）（Ｂ）について
　本件訂正請求においては、本件発明１８及び２１における「第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比」については訂正されていない。
　そこで、令和２年２月２６日付け意見書における特許権者の主張について検討する。
ａ．特許権者の主張について
　上記意見書における特許権者の主張は、要するに、以下のとおりである。
（ｉ）ベースライン補正は、オムニック　ソフトウェア　プログラムを使用することによって行われる。
（ｉｉ）ベースライン補正は、乙第５号証として提出する米国特許明細書２０１３／００５３６０９号（特に段落００７２）に記載された方法に従って実施することが可能である。
（ｉｉｉ）どのような補正ベースライン補正が適用されたとしても、第２の吸収帯のピーク高さの第１の吸収帯のピーク高さに対する割合は同じであり、本件発明１８は、第２の吸収帯のピーク高さの第１の吸収帯のピーク高さに対する割合に関するものであるから、各ピーク高さの値自体は関与しない。
ｂ．特許異議申立人の主張について
　上記特許権者の主張に対する、令和２年４月７日付け意見書における特許異議申立人１の主張は、要するに、以下のとおりである。
（ｉｖ）ベースライン補正方法を変更することにより、本件発明１８におけるピーク高さの比は変動し得るものである。
（ｖ）本件発明で用いられるベースラインの補正方法が、特許権者が提出した乙第５号証に記載された方法であるとの根拠は、本件明細書等に記載されていない。
ｃ．当審の判断
　上記特許権者及び特許異議申立人１の主張を踏まえ、ベースラインの補正方法について再度検討する。
　特許権者は、上記のとおり、ベースライン補正は「オムニック　ソフトウェア　プログラム」を使用することによって行われると主張しているが、当該ソフトウェアのベースライン補正の方法、及び当該ベースライン補正の適用条件等について依然として不明であるため、特許権者の当該主張のみでベースライン補正の方法が明確であり、本件発明１８の第１の吸収帯及び第２の吸収帯のピーク高さを一意に決定することができるとは認められない。
　そして、乙第５号証には、ベースライン補正を行うことは記載されているが、当該ベースライン補正の方法は具体的には記載されていないため、乙第５号証を参考にしても本件発明１８におけるベースライン補正が、当業者に周知である一般的なベースライン補正とどのように異なるものであるかを理解することができないから、上記特許権者の主張のうち（ｉ）及び（ｉｉ）は採用しない。
　さらに、ベースライン補正の一般的な方法において、ベースライン補正の方法により第２の吸収帯のピーク高さの第１の吸収帯のピーク高さに対する割合が変化することは、下記の令和１年９月６日付け特許異議申立人１による意見書の第４頁に示された拡大図１及び拡大図２の記載から明らかであるから、上記特許権者の主張のうち（ｉｉｉ）も採用しない。
「
」（令和１年９月６日付けの特許異議申立人１の意見書第４頁から引用）
ｄ．訂正案について
　特許権者は、令和２年６月３０日付け回答書及び令和２年８月４日付けファクシミリ（応対記録に添付あり）で、それぞれ訂正案を提示していることから、当該訂正案について検討する。
　上記二つの訂正案は、共に、本件発明１８における「３７３０ｃｍ−１〜３７５０ｃｍ−１の範囲に極大を有する第１の吸収帯と、３６００ｃｍ−１〜３７００ｃｍ−１の範囲に極大を有する第２の吸収帯とを示し、第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比が０．１〜０．９の範囲にある、ＩＲスペクトル」との記載を、「３７３０ｃｍ−１〜３７５０ｃｍ−１の範囲に極大を有する第１の吸収帯と、３６００ｃｍ−１〜３７００ｃｍ−１の範囲に極大を有する第２の吸収帯とを示し、第１の吸収帯のピーク高さ
は、
さよりも高い
　しかしながら、前記訂正は、ＩＲスペクトルに関する記載から「第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比が０．１〜０．９」を削除することで、当該ピーク高さの比が０超０．１未満及び０．９超１未満の範囲が新たに訂正後の本件発明１８に含まれるものとなることから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものとはいえないし、誤記の訂正、明瞭でない記載の釈明及び他の請求の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすることを目的とするものでもない。さらに、訂正前の特許請求の範囲に含まれないとされていた発明が訂正後の特許請求の範囲に含まれることとなるものであり、実質上特許請求の範囲を拡張するものである。
　してみると、訂正案の訂正は、特許法第１２０条の５第２項但し書き第１号〜第４号に掲げる事項を目的とするものではなく、同条第９項において準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものでもない。
　したがって、特許権者の提示する上記二つの訂正案の訂正は認められないから、理由２の（Ｂ）は解消しない。
ｅ．まとめ
　以上の検討より、本件発明１８、１９、２１、２４、２５に対する上記理由２の（Ｂ）は、特許権者の主張を考慮しても解消したとは認められないため、本件発明１８、１９、２１、２４、２５に係る特許は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから、特許法第１１３条第４号に該当し、取り消されるべきものである。
ウ．理由３（新規性）について
（ア）本件発明
　本件発明１８、１９、２１、２４、２５は、前記第３のとおりである。
　ただし、上記イ．（イ）で指摘した理由により、本件発明１８及び２１における「第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比」を求める際のベースライン補正の方法は任意であると解釈して、新規性及び進歩性に係る判断を行う。
（イ）特許異議申立人が提出した証拠の記載事項
ａ．引用文献１
　引用文献１には、以下の記載がある。（和訳は、特許異議申立人１及び特許異議申立人２が提出した抄訳を参考にして、当審が作成した。また、「・・・」は記載の省略を表す。以下同様。）
（ａ１）
「HBEA zeolite has been shown to be a good acid catalyst for many industrial reactions such as isobutane alkylation with n-butene [1], aromatic alkylation such as cumene synthesis [2,3], selective synthesis of various organic compounds [4,5]: cis-4-tert-butylcyclohexanol from Meerwein Pondorff Verley reduction of 4-tert-butylcyclohexanone [6], p-acetylanisole from anisole acetylation with acetic anhydride [5,7].」（第２５１頁左下欄第２行〜右下欄第５行） 
（和訳）ＨＢＥＡゼオライトは多くの工業反応、例えばｎ−ブテンとのイソブタンアルキル化［１」、クメン合成等の芳香族アルキル化［２、３］、種々の有機化合物の選択的合成［４、５］：４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノンノのメールワイン・ポンドルフ・バーレー還元からのシス−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノール合成［６］、無水酢酸とのアニソールアセチル化からのｐ−アセチルアニソール合成［５、７］等にとって良好な酸触媒となっている。
（ａ２）
「2. Experimental
  2.1. Preparation of dealuminated samples The parent sample (Cal) results from the calcination under dry air flow up to 550 ℃ of a NH4-BEA sample supplied by Zeolyst International (CP814E). Chemical and 29Si NMR analysis of the NH4-BEA sample showed total and framework Si:Al ratios of 12.5 and 15.5, respectively.」
（第２５２頁右欄第３７〜４４行） 
（和訳）２．実験 
　２．１　脱アルミニウム化サンプルの作製 
　親サンプル（Ｃａｌ）は、ゼオリスト・インターナショナル社（ＣＰ８１４Ｅ）により提供されたＮＨ４−ＢＥＡサンプルを５５０℃までの乾燥空気流のもと、焼成して得られた。ＮＨ４−ＢＥＡサンプルの化学分析及び２９ＳｉＮＭＲ分析により、全体及び骨格のＳｉ：Ａｌ比がそれぞれ１２．５及び１５．５であることがわかった。 
  
（ａ３）
「
」（第２５３頁左欄上部） 
（和訳）表１　HBEAサンプルの処理と命名 
サンプル　　処理方法 
Cal 　　　　NH4 BEA(Zeolyst)の焼成 
St500(3) 　 蒸気処理、93.3 kPa 水、500℃、3時間 
St500(6)　　蒸気処理、93.3 kPa 水、500℃、6時間 
St700(3)　　蒸気処理、93.3 kPa 水、700℃、3時間 
Ac30(0.5) 　酸浸出、HCl、1 N、30℃、0.5時間 
Ac30(2) 　　酸浸出、HCl、1 N、30℃、2時間 
Ac30(4) 　　酸浸出、HCl、1 N、30℃、4時間 
Ac100(4)　　酸浸出、HCl、1 N、100℃、4時間 
HFS75(10) 　(NH4)2SiF6、75℃、Dth=10% 
HFS75(150)　(NH4)2SiF6、75℃、Dth=150% 
HFS75(435)　(NH4)2SiF6、75℃、Dth=435% 
HFS25(300)　(NH4)2SiF6、25℃、Dth=300% 
Dth：追加された(NH4)2SiF6の量と完全な脱アルミニウム化のために必要な量の比
（ａ４）
「The steamed samples, St (Table 1), were prepared by treatment of the sample Cal at 500 or 700 ℃ under a water-air mixture flow (Pwater = 93.3 kPa) for 3 or 6 h.
 The acid treatment was carried out under stirring at temperatures of 30 and 100 ℃, with a HCl concentration of 1 N and an acid solution to zeolite ratio of 10 cm3g-1. After the treatment, the zeolite samples were recovered by filtration, washed with a large amount of warm deionized water (70-80 ℃) and then oven-dried at 120 ℃ for 24 h.
 The ammonium hexaflurosilicate dealuminated samples, HFS (Table 1), were prepared according to the method developed by Breck et al. [29,30]. The quantity of (NH4)2SiF6 added corresponds to 0.10, 1.5, 3.0 and 4.35 times the stoechiometric amount required for the complete dealumination of the sample: Dth = 10%, 150%, 300% and 450%, respectively.
 The nomenclature and the chemical formulae of the samples are presented in Tables 1 and 2.」（第２５３頁左欄第１行〜右欄第８行） 
（和訳）蒸気処理されたサンプルであるＳｔ（表１）は、サンプルＣａｌを５００℃又は７００℃で、水と空気の混合流（Ｐwater＝９３．３ｋＰａ）のもと、３時間又は６時間処理して作製された。
　酸処理は、１Ｎの濃度のＨＣｌを用い、酸溶液とゼオライトの比を１０ｃｍ3ｇ-1とし、３０℃及び１００℃の温度で撹拌しながら実施した。処理後、ゼオライトのサンプルは濾過により回収し、大量の温かい脱イオン水（７０〜８０℃）で洗浄し、１２０℃で２４時間炉乾燥した。
　ヘキサフルオロケイ酸アンモニウムの脱アルミニウム化サンプルであるＨＦＳ（表１）は、Ｂｒｅｃｋら［２９，３０］により開発された方法で作製した。追加された（ＮＨ4）2ＳｉＦ6の量は、サンプルの完全な脱アルミニウム化に必要な化学量論的な量の０．１０倍、１．５倍、３．０倍、４．３５倍に相当する：それぞれ、Ｄth＝１０％、１５０％、３００％及び４５０％である。
（ａ５）
「
」（第２５３頁下部）
（和訳）表２　HBEAサンプルの単位セル組成
サンプル　　単位セル式　　　　　　　　　 Si/Al 　　　　NEFAL
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 全体　骨格
Cal 　　　　Na0.06H1.8Al1.9Si62.1O128　　12.5　　33　　3.1
St500(3)　　Na0.06H1.7Al1.7Si62.3O128　　12.5　　36　　3.3
St500(6)　　Na0.06H1.5Al1.6Si62.4O128　　12.5　　40　　3.4
St700(3)　　Na0.06H0.5Al0.6Si63.4O128　　12.5　 110　　4.4
Ac30(0.5) 　H1.7Al1.7Si62.1(OH)0.6O127　 30.0　　36　　0.4
Ac30(2) 　　H1.7Al1.7Si62.1(OH)0.8O127　 35.0　　37　　0.1
Ac30(4) 　　H1.7Al1.7Si62.1(OH)0.8O127　 37.0　　37　　0.0
Ac100(4)　　H0.8Al0.8Si62.1(OH)4.5O124　 82.0　　82　　0.0
HFS75(10) 　H1.7Al1.7Si62.3O128　　　　　12.6　　37
HFS75(150)　H1.6Al1.6Si62.4O128　　　　　26.4　　40
HFS75(435)　H0.9Al0.9Si63.1O128　　　　　37.3　　70
HFS25(300)　H1.2Al1.2Si62.8O128　　　　　29.2　　51
  
（ａ６）
「
」（第２５４頁下部）
（和訳）表３　サンプル物理化学的特徴
サンプル　空隙体積　　　　　　　構造　　　　　　　　　 酸度
　　　　　マイクロ空隙 メソ空隙 相対的 結晶子　結晶子　ブレン ルイス
　　　　　 (cm３/g)　　(cm３/g) 結晶度 サイズｂサイズｃステッド
　　　　　　　　　　　　　　　　　(%)　　(nm)　　(nm)　(μmol/g)
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 (μmol/g)
Cal 　　　　0.176　　　　0.510　　96　　11.7　　 18.5　  315　　340
St500(3)　　0.160　　　　0.501　　　　　　　　　　　　　222　　173
St500(6)　　0.165　　　　0.517　 100　　11.2　　 20.4　 205　　182
St700(3)　　0.140　　　　0.554　　　　　　　　　　　　　 96　　100
Ac30(0.5) 　0.177　　　　0.527　　93　　11.7　　 18.9　 259　　132
Ac30(2)　　 0.175　　　　0.487　　　　　　　　　　　　　207　　 76
Ac30(4)　　 0.178　　　　0.489　　94　　11.7　　 17.7　 188　　 51
Ac100(4)　　0.169　　　　0.560　　91　　11.7　　 18.1　　84　　　8
HFS75(10)　 0.168　　　　0.544　　　　　　　　　　　　　300　　191
HFS75(150)　0.148　　　　0.540　　　　　　　　　　　　　276　　 67
HFS75(435)　0.119　　　　0.366　　　　　　　　　　　　　163　　 46
HFS25(300)　0.158　　　　0.459　　84　　11.8　　 19.6　 218　　 38
（ａ７）
「3.2. Characterization by IR spectroscopy
 3.2.1. Hydroxyl groups
　Four bands can be clearly distinguished in the spectrum of Cal in the spectral range of hydroxyl stretching modes (Fig. 1(a)): the most intense at 3745 cm-1 which is asymmetric corresponds to different silanol groups as shown later by introduction of pyridine. The band at 3607 cm-1 corresponds to the bridging hydroxyl groups (Si-(OH)-Al). The bands at 3662 and 3782 cm-1 are commonly assigned to two kinds of AlOH groups in which Al atoms belong to EFAL species [15,33] or are tricoordinated Al atoms linked to the framework by two O atoms [9], respectively. Moreover, there is a broad absorption band in the 3700-3300 cm-1 region, which could correspond to hydrogen bonded OH groups [15,18-20,34,35].」（第２５５頁右欄第９行〜第２５６頁左欄第７行）
（和訳）３．２　赤外分光法による評価
３．２．１　ヒドロキシル基
　ヒドロキシル伸縮モードのスペクトル域におけるＣａｌのスペクトルにおいて４つの帯域を明確に判別することができ（図１（ａ））、その中で３７４５ｃｍ-1の帯域が非対称で最も強く、下記のようにピリジンの導入により様々なシラノール基に対応する。３６０７ｃｍ-1の帯域は、共に２種のＡｌＯＨ基に割り当てられ、そのうちＡｌ原子はＥＦＡＬ種に属するか［１５、３３］、又は２つのＯ原子によってそれぞれ骨格に接続する３配位Ａｌ原子［９］である。また、３７００から３３００ｃｍ-1の領域において幅広い吸収バンドがあり、これは水素結合したＯＨ基に対応しうる［１５、１８〜２０、３４、３５］。
（ａ８）
「
  
」（第２５５頁右欄下部） 
（和訳）図１　活性化されたサンプルのヒドロキシ領域における赤外スペクトル：Cal (a), St500(3) (b), St700(3) (c), Ac30(0.5) (d), Ac30(2) (e), Ac100(4) (f), HFS75(10) (g), HFS75(435) (h).
　ここで、上記（ａ５）に記載されたＳｉ／Ａｌ（全体）の比は、２を掛けることでＳｉＯ2：Ａｌ2Ｏ3比に換算できるから、ＨＦＳ７５（１０）サンプルは２５．２のＳｉＯ2：Ａｌ2Ｏ3比を有するといえる。
　次に、上記（ａ８）に示されるＨＦＳ７５（１０）サンプルのＩＲスペクトル（記号「ｇ」が付されたもの）について、以下のように、３８００〜３８５０ｃｍ-１付近の吸光度を基準とするベースラインを設定する。
「
」（特許異議申立人２が提示した甲第３号証第３頁から引用）
　そして、ＨＦＳ７５（１０）サンプルのＩＲスペクトルについて、上記ベースラインを基準として、３７３０ｃｍ-１〜３７５０ｃｍ-１の範囲に極大を有する第１の吸収帯のピーク高さ（３７３５ｃｍ-１付近のピーク高さ）に対する、３６００ｃｍ-１〜３７００ｃｍ-１の範囲に極大を有する第２の吸収帯のピーク高さ（３６０７ｃｍ-１付近のピーク高さ）の比を求めると、約０．３６となる。
　そうすると、上記（ａ２）には、ＮＨ4−ＢＥＡゼオライトを焼成して得られるゼオライトが記載されており、上記（ａ３）及び（ａ４）には、当該ゼオライトを（ＮＨ4）2ＳｉＦ6で処理することにより得られた脱アルミニウム化されたゼオライトが記載されていることから、引用文献１には、脱アルミニウム化されたゼオライトに関し、
「ＮＨ4−ＢＥＡゼオライトを焼成して得られるゼオライトを、（ＮＨ4）2ＳｉＦ6で処理することにより得られた、脱アルミニウム化されたゼオライトであって、ＳｉＯ2：Ａｌ2Ｏ3比が２５．２であり、ＩＲスペクトルにおいて３７３０ｃｍ-１〜３７５０ｃｍ-１の範囲に極大を有する第１の吸収帯のピーク高さに対する、３６００ｃｍ-１〜３７００ｃｍ-１の範囲に極大を有する第２の吸収帯のピーク高さの比が約０．３６である、ゼオライト。」の発明（以下、「引用発明１ｃ」という。）が記載されていると認める。
（ウ）対比・判断
ａ．本件発明１８について
　本件発明１８と引用発明１ｃを対比する。
　引用発明１ｃの「ＮＨ4−ＢＥＡ」はＳｉＯ2及びＡｌ2Ｏ3骨格構造からなるＢＥＡ型のゼオライトであるから、本件発明１８における「ＹがＳｉであり、ＸがＡｌである、ＹＯ２及びＸ２Ｏ３を含む骨格構造を有し、ＢＥＡ骨格構造を有」する「ゼオライト材料」に相当する。そして、引用発明１ｃの「ＳｉＯ2：Ａｌ2Ｏ3比が２５．２」であることは、ＳｉＯ2：Ａｌ2Ｏ3のモル比が２５．２：１であることであるから、本件発明１８における「ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比が１２：１から４０：１の範囲」であることを満足する。また、本件発明１ｃの「ＩＲスペクトルにおいて３７３０ｃｍ-１〜３７５０ｃｍ-１の範囲に極大を有する第１の吸収帯のピーク高さに対する、３６００ｃｍ-１〜３７００ｃｍ-１の範囲に極大を有する第２の吸収帯のピーク高さの比が約０．３６」であることは、本件発明１８における「３７３０ｃｍ-１〜３７５０ｃｍ-１の範囲に極大を有する第１の吸収帯と、３６００ｃｍ-１〜３７００ｃｍ-１の範囲に極大を有する第２の吸収帯とを示し、第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比が０．１〜０．９の範囲にある、ＩＲスペクトル」であることを満足する。
　そうすると、本件発明１８と引用発明１ｃの一致点及び相違点は以下のとおりである。
（一致点）
「ＹがＳｉであり、ＸがＡｌである、ＹＯ２及びＸ２Ｏ３を含む骨格構造を有し、及び
　ＢＥＡ骨格構造を有し、
　３７３０ｃｍ-１〜３７５０ｃｍ-１の範囲に極大を有する第１の吸収帯と、３６００ｃｍ-１〜３７００ｃｍ-１の範囲に極大を有する第２の吸収帯とを示し、
　第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比が０．１〜０．９の範囲にある、ＩＲスペクトルによって特徴づけられ
　ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比が１２：１から４０：１の範囲である、ゼオライト材料。」である点。
（相違点）
　本件発明１８は、「水取込み量が最大限でも２０質量％である」のに対し、引用発明１ｃは、水取込み量が不明である点。
　上記相違点について検討する。
　引用発明１ｃのゼオライトの水取込み量は不明であるが、ゼオライトは脱アルミニウム化により疎水性が高まることが周知であり、また、本件明細書において実施例として開示された、酸溶液による脱アルミニウム処理が行われたＢＥＡ型ゼオライトは、その後の液体水性系による処理の有無にもかかわらず、全て２０質量％以下の水取込み量を示しているから（比較例１及び実施例１〜４を参照。）、引用発明１ｃのゼオライトの水取込み量も２０質量％以下である蓋然性が高く、上記相違点は実質的な相違点ではない。
　してみると、本件発明１８は、引用発明１ｃと同一の発明であり、本件発明１８は、引用文献１に記載された発明である。
ｂ．本件発明１９、２１、２４について
　引用発明１ｃのゼオライトは、２５．２：１のＳｉＯ2：Ａｌ2Ｏ3モル比を有し、３７３０ｃｍ-１〜３７５０ｃｍ-１の範囲に極大を有する第１の吸収帯のピーク高さに対する、３６００ｃｍ-１〜３７００ｃｍ-１の範囲に極大を有する第２の吸収帯のピーク高さの比が約０．３６であり、ＳｉＯ2及びＡｌ2Ｏ3からなるＢＥＡ骨格構造を有する脱アルミニウム化ベータゼオライトであるから、本件発明１９、２１、２４と引用発明１ｃとの間に新たな相違点は存在しない。 
　よって、本件発明１９、２１、２４は、引用文献１に記載された発明である。
ｃ．本件発明２５について
　引用文献１には、ＨＢＥＡゼオライトは良好な酸触媒となること（上記（ａ１）を参照。）が記載されていることから、引用文献１には、引用発明１ｃの脱アルミニウム化されたＨＢＥＡゼオライトを触媒工程における触媒として使用することが記載されているといえる。
　よって、本件発明２５は、引用文献１に記載された発明である。
（エ）令和２年６月３０日付け回答書における特許権者の主張について
　本件発明１８、１９、２１、２４、２５に係る発明が、引用発明１ｃと同一の発明であるとの取消理由については、令和２年６月３日付けの特許権者への審尋において指摘した。
　これに対して、特許権者は、令和２年６月３０日付けで提出した回答書において、上記審尋において指摘した取消理由を解消するために訂正案を提示している。
　しかしながら、令和２年６月３０日付け回答書における訂正案の訂正が認められないことは、上記イ．（イ）のｄ．で検討したとおりである。
　そして、上記回答書における特許権者の主張は、同回答書で提示された訂正案に基くものであり、当該訂正案の訂正が認められないことは上記のとおりであるため、上記回答書における特許権者の主張は採用しない。
（オ）まとめ
　本件発明１８、１９、２１、２４、２５に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号の規定に違反してされたものであるから、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
第５．令和１年９月６日付けの特許異議申立人１が提出した意見書における理由について
　上記第４で検討したとおり、本件発明１８、１９、２１、２４、２５に係る特許は取り消されるべき理由が存在することから、以下では、本件発明１、２、４〜１１、１３、１４、１６、１７について、検討するものとする。
１．新規性及び進歩性について（令和１年９月６日付け意見書の第４頁下から５行目〜第６頁第１０行）
　上記意見書における特許異議申立人１の新規性及び進歩性に関する主張は、要するに、後処理工程（ｂ）を含む後処理は、引用文献１、及び特許異議申立人２が甲第２号証として提示した、'Dealumination of Zeolite Beta Catalyst Under Controlled Conditions for Enhancing its Activity in Acylation and Esterification' (R. Srivastava etal.,Catalysis Letters, ２００９年５月２３日, Vol. 130,pp.655-663)（以下、「引用文献２」という。）に記載されているから、本件発明１は引用文献１又は引用文献２に記載された発明であるというものである。
　ここで、本件発明１は、（ａ）最大限でも５のｐＨを有する、有機酸及び／又は無機酸を含む水溶液により、及び３５℃〜１００℃の範囲の温度で処理する工程、（ａ’）ゼオライト材料を懸濁液から分離して、そして分離したゼオライト材料を、７５℃未満の範囲で洗浄するステップ、及び（ｂ）５．５〜８の範囲のｐＨ及び少なくとも７５℃の温度を有し、かつ、少なくとも９０質量％の水を含む液体水性系により処理する工程を順番に行うものである。
　そして、引用文献１には、酸処理の後７０〜８０℃の脱イオン水で洗浄すること（上記第４．１．（２）ウ．（イ）ａ．の（ａ４）参照。）が記載されており、引用文献２には、酸処理後熱水で洗浄すること（第６５６頁右欄第９行〜第１３行参照。）が記載されており、引用文献１及び引用文献２の酸処理は、本件発明１における上記（ａ）の工程に相当し、引用文献１及び引用文献２の洗浄することは、本件発明１における上記（ｂ）の工程に相当するものであるが、酸処理と洗浄との間に本件発明１における上記（ａ’）のステップに相当する洗浄工程をさらに行うことは記載も示唆もされていない。
　してみると、本件発明１における（ａ）の工程、（ａ’）のステップ及び（ｂ）の工程を含む後処理工程は、引用文献１及び引用文献２に記載されておらず、また、引用文献１又は引用文献２に記載された発明に基いて、当業者が容易に想到することができたものともいえない。
　したがって、特許異議申立人１の上記主張は、採用しない。
２．付言について（令和１年９月６日付け意見書の第８頁第３０行〜第９頁第１４行）
　上記意見書における特許異議申立人１の付言は、要するに、本件発明１における「有機鋳型を用いない合成方法を行うことを含み」との記載は、合成過程の一部において有機鋳型を用いる合成方法を行うことを含むものであり、合成過程の一部において有機鋳型を用いる合成方法により得られるゼオライト材料を出発原料とした場合には、本件発明１の処理方法により、本件発明の課題が解決できると当業者が認識できないというものである。
　ここで、令和１年７月１日付けの特許権者による意見書において、以下のように主張している。（下線は、当審が付した。また、「・・・」は省略個所を示す。）
「この点に関しましては、引用文献１及び２の何れもが、最も近い技術ではないかと考えられます。・・・実際に、
これらの文献では、（高いＳｉ／Ａｌ比を有する）有機鋳型合成から得られたベータゼオライト材料は、酸処理に対して安定的であり、そして骨格構造の安定化のための処理を必要としないことが記載されています。
ＴＦ−ＢＥＡ（鋳型を使用せずに調製されたＢＥＡ）
「上述しましたように、訂正後の請求項１の発明は、引用文献１及び２とは
（ｉ）有機鋳型を用いない合成方法を介してゼオライト材料を準備する構成
「従いまして、このことは、
鋳型の不存在下に調製される出発材料の選択は、本発明のキーパラメーターでもあります。
　上記によると、本件発明１の（ｉ）におけるゼオライト材料を準備する工程は、有機鋳型を用いない方法によって行うことを特許権者は主張していると認められる。
　そして、本件明細書の段落００５１には、以下の記載がある。（下線は、当審が付した。）
「好ましくは、また特に、骨格構造ＢＥＡを有するゼオライト材料について、（ｉ）において準備するゼオライト材料は、
　（１）種結晶並びにＹＯ２の少なくとも１つの源（原料、ＹＯ２源）及びＸ２Ｏ３の少なくとも１つの源（原料、Ｘ２Ｏ３源）を含む混合物を調製する工程と、
　（２）（１）において調製した混合物からゼオライト材料を結晶化する工程と
を含む、
有機鋳型を用いない合成方法により得られ
（１）において用いる種結晶は（ｉ）において準備すべきゼオライト材料の骨格構造を有するゼオライト材料を含む。」
　上記記載によると、（ｉ）におけるゼオライト材料を準備する工程は、有機鋳型を用いない方法によって行われるものであり、当該記載に接した当業者は（ｉ）において準備するゼオライト材料は有機材料を用いない合成方法によって得られるものと理解するのが自然であり、合成過程の一部において有機鋳型を用いる合成方法によって得られるものであるとは理解しない。
　してみると、上記意見書における特許権者の主張、及び本件明細書の記載を参酌すれば、本件発明１は、合成過程の一部において有機鋳型を用いる合成方法を含むものではない。
　したがって、特許異議申立人１の付言における主張は採用しない。
第６．取消理由で採用しなかった特許異議申立ての理由について
　本件訂正前の請求項１〜１７に対する特許異議申立ての理由のうち、取消理由で採用しなかった申立ての理由について検討する。
１．特許異議申立人１による申立ての理由
　特許異議申立人１による、取消理由で採用しなかった申立ての理由は、以下のとおりである。
・特許法第３６条第６項第１号
　本件訂正前の請求項１には、ゼオライト材料の骨格構造が記載されていない。
・特許法第２９条第１項第３号及び同条第２項
　本件訂正前の請求項１、４、５、７、１０〜１４、１７は、特許異議申立人１が甲第３号証として提示した特開平５−９６１７５号公報（以下、「甲３文献」という。）に記載された発明であり、本件訂正前の請求項１〜１７は、甲３文献に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をできたものである。
（１）当審の判断
ア．特許法第３６条第６項第１号について
　本件発明１は、ゼオライト材料の骨格構造を特定事項として含むものではない。
　ここで、本件明細書の段落００７６には、以下の記載がある。
「好ましくは、本発明によれば、（ｉｉ）による方法は、ゼオライト材料の骨格構造からＸの少なくとも一部を除去するための処置である。（ｉ）により準備するゼオライト材料の組成によって、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比は、本発明の方法により少なくとも２０％、好ましくは、少なくとも２５％、少なくとも３０％、少なくとも３５％、少なくとも４０％、少なくとも４５％、少なくとも５０％などの少なくとも２５％増加する。驚くべきことに、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比が増加するが、本発明による一連の工程（ａ）及び（ｂ）によって、結晶化度の損失を示さないゼオライト材料を得ることができることが見いだされた。それと反対に、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比を増加させ、同時に結晶化度を増加させることが可能であることが見いだされた。」
　当該記載によれば、本件発明１における（ｉｉ）の工程は、ゼオライトの骨格構造からＸの少なくとも一部を除去するための処置であり、有機酸及び無機酸による処置は骨格構造によらずにゼオライトの骨格構造からＸの少なくとも一部を除去するものであるから、本件発明１における（ｉｉ）の工程はゼオライトの骨格構造によらず、その効果を奏することは当業者が認識できるものである。
　してみると、本件発明１においては、ゼオライトの骨格構造が課題を解決するための必須の手段であるとは認められず、本件発明１の記載は特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満足するものである。
　したがって、特許異議申立人１による上記特許法第３６条第６項第１号に関する主張は、採用しない。
イ．特許法第２９条第１項第３号及び同条第２項について
　甲３文献には、酸処理後に８０℃の温水で洗浄すること（段落００１８参照。）が記載されており、甲３文献の酸処理は、本件発明１における上記（ａ）の工程に相当し、甲３発明の洗浄することは、本件発明１における上記（ｂ）の工程に相当するものであるが、酸処理と洗浄との間に本件発明１における上記（ａ’）のステップに相当する洗浄工程をさらに行うことは記載も示唆もされていない。
　してみると、本件発明１における（ａ）の工程、（ａ’）のステップ及び（ｂ）の工程を含む後処理工程は、甲３文献に記載されておらず、また、甲３文献に記載された発明に基いて、当業者が容易に想到することができたものともいえない。
　したがって、特許異議申立人１による上記特許法第２９条第１項第３号及び同条第２項に関する主張は、採用しない。
２．特許異議申立人２による申立ての理由
　特許異議申立人２による、取消理由で採用しなかった申立ての理由は、以下のとおりである。
・特許法第２９条第１号第３号及び第２項
　本件訂正前の請求項１は、引用文献２に記載された発明であり、本件訂正前の請求項２〜１７は、引用文献２に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
・特許法第３６条第６項第１号
　本件明細書には、硝酸の実施例しかなく、シュウ酸等の有機酸について同様の効果が得られるかどうかは記載されていない。また、ＢＥＡ型ゼオライトの実施例しかない。
（１）当審の判断
ア．特許法第２９条第１項第３号及び同条第２項について
　引用文献２に、本件発明１における（ａ）の工程、（ａ’）のステップ及び（ｂ）の工程が記載されておらず、また、示唆もされていないことは、上記第５の１．で検討したとおりである。
　したがって、特許異議申立人２による上記特許法第２９条第１項第３号及び同条第２項に関する主張は、採用しない。
イ．特許法第３６条第６項第１号について
　上記１．（１）で検討したように、本件発明１における（ｉｉ）の工程は、ゼオライトの骨格構造からＸの少なくとも一部を除去するための処置であり、有機酸及び無機酸による処置によりゼオライトの骨格構造からＸの少なくとも一部を除去することができることから、シュウ酸等の有機酸について同様の効果が得られると当業者は認識できるものである。
　また、本件発明１には、ゼオライト材料の骨格構造については記載されていないが、ゼオライトの骨格構造が課題を解決するための必須の手段であるとは認められないことは、上記１．（１）のア．で検討したとおりである。そして、ＢＥＡ型以外のゼオライトの骨格構造については段落００８７に記載されている。
　したがって、特許異議申立人２による上記特許法第３６条第６項第１号に関する主張は、採用しない。
第７．むすび
　以上で検討したとおり、請求項１８、１９、２１、２４、２５に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号の規定に違反してされたものであり、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから、特許法第１１３条第２号及び第４号に該当し、取り消されるべきものである。
　また、請求項１、２、４〜１１、１３、１４、１６、１７に係る特許は、取消理由通知書に記載した取消理由又は特許異議申立書に記載された特許異議申立理由によっては、取り消すことはできない。さらに、他に請求項１、２、４〜１１、１３、１４、１６、１７に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　そして、請求項３、１２、１５、２０、２２、２３は、訂正により削除されたため、同請求項に係る特許に対する特許異議の申立てについては、対象となる請求項が存在しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
令和２年８月２５日（２０２０．８．２５）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　ゼオライト材料の後処理の方法であって、
　（ｉ）ゼオライト材料の骨格構造がＹＯ２及びＸ２Ｏ３を含み
、Ｙ
Ｓｉであり
Ａｌであ
を含み、
　
ここで（ｉ）におけるゼオライト材料を準備する工程が、
　
（１）種結晶並びにＹＯ２の少なくとも１つの源及びＸ２Ｏ３の少なくとも１つの源を含む混合物を調製する工程と、
　
（２）（１）において調製した混合物からゼオライト材料を結晶化する工程と
を含む、
　
有機鋳型を用いない合成方法を行うことを含み、
　
（１）において用いる種結晶が（ｉ）において準備されるゼオライト材料の骨格構造を有するゼオライト材料を含み、及び更に
　（ｉｉ）（ｉ）において準備したゼオライト材料を、
　（ａ）最大限でも５のｐＨを有する、有機酸及び／又は無機酸を含む水溶液により、及び３５℃〜１００℃の範囲の温度で処理する工程と、
　（ｂ）（ａ）から得られたゼオライト材料を、５．５〜８の範囲のｐＨ及び少なくとも７５℃の温度を有し、かつ、少なくとも９０質量％の水を含む液体水性系により処理する工程と
　を含む方法で処理する工程とを含み、
　
（ｉｉ）の（ａ）において、水溶液によるゼオライト材料の処理の後に、ゼオライト材料を懸濁液から分離し、そして分離したゼオライト材料を、７５℃未満の範囲の温度で洗浄するステップにかけ、
　（ａ）における水溶液のｐＨ及び（ｂ）における液体水性系のｐＨをｐＨ感受性ガラス電極を用いて測定する、方法。
　【請求項２】
　（ｉｉ）による方法が、
　（ａ）ゼオライト材料を最大限でも５のｐＨを有する水溶液により処理する工程と、
　（ｂ）（ａ）から得られたゼオライト材料を５．５〜８の範囲のｐＨ及び少なくとも７５℃の温度を有する液体水性系により処理する工程と、
　（ａ）（ｂ）から得られたゼオライト材料を最大限でも５のｐＨを有する水溶液により処理する工程と
を含む、請求項１に記載の方法。
　【請求項３】削除
　【請求項４】
　（ａ）において、水溶液が、シュウ酸、酢酸、クエン酸、メタンスルホン酸及びそれらの２つ以上の混合物からなる群から選択される有機酸、及び／又は、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸及びそれらの２つ以上の混合物からなる群から選択される無機酸を含む、請求項１
又は２
　【請求項５】
　（ａ）において、水溶液が０〜５の範囲のｐＨを有する、請求項１
、２及び４
　【請求項６】
　（ａ）において、ゼオライト材料を水溶液により１０分〜１２時間の範囲の期間にわたり処理する、請求項１
、２、４及び
　【請求項７】
　（ｂ）において、ゼオライト材料を液体水性系により８０℃〜１８０℃の範囲の温度で処理する、請求項１
、２、４
　【請求項８】
　（ｂ）において、ゼオライト材料を液体水性系により０．５時間〜２４時間の範囲の期間にわたり処理する、請求項１
、２、４
　【請求項９】
　（ｂ）において、ゼオライト材料に対する液体水性系の質量比が２０：１〜２：１の範囲にある、請求項１
、２、４
　【請求項１０】
　（ｂ）において、液体水性系が少なくとも９９質量％の水を含む、請求項１
、２、４
　【請求項１１】
　（ｉｉ）において（ｂ）の後に、ゼオライト材料を乾燥及び／又は焼成処理する、請求項１
、２、４
　【請求項１２】削除
　【請求項１３】
　（ａ）による水溶液及び／又は（ｂ）による液体水性系が少なくとも１種の有機酸の少なくとも１種の塩及び／又は少なくとも１種の無機酸の少なくとも１種の塩を含む、請求項１
、２、４
１１
　【請求項１４】
　少なくとも１種の塩がアンモニウム塩であり、（ｉ）において準備されるゼオライト材料がそのナトリウム型として準備される、請求項１３に記載の方法。
　【請求項１５】削除
　【請求項１６】
　（ｉ）において準備するゼオライト材料がＬＥＶ、ＣＨＡ、ＭＦＩ、ＭＷＷ、ＢＥＡ骨格構造を有する、請求項１
、２、４
１１、１３及び１４
　【請求項１７】
　（ｉ）においても（ｉｉ）においても（ｉｉ）の後においても、ゼオライト材料を蒸気処理にかけない、請求項１
、２、４
１１、１３、１４及び
　【請求項１８】
　
Ｙ
ｉであり
ｌである
及び
　
ＢＥＡ骨格構造を有し、
　３７３０ｃｍ−１〜３７５０ｃｍ−１の範囲に極大を有する第１の吸収帯と、３６００ｃｍ−１〜３７００ｃｍ−１の範囲に極大を有する第２の吸収帯とを示し、
　第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比が０．１〜０．９の範囲にある、ＩＲスペクトルによって特徴づけら
れ、
　
ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比が１２：１から４０：１の範囲であり、
　
水取込み量が最大限でも２０質量％である、
　【請求項１９】
　ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比が２０：１〜
４０
　【請求項２０】削除
　【請求項２１】
　ＩＲスペクトルが３７３０ｃｍ−１〜３７５０ｃｍ−１の範囲に極大を有する第１の吸収帯と、３６００ｃｍ−１〜３７００ｃｍ−１の範囲に極大を有する第２の吸収帯とを示し、第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比が０．２〜０．８の範囲にある、請求項１
８に
　【請求項２２】削除
　【請求項２３】削除
　【請求項２４】
　
ゼ
、１９及び２１の
　【請求項２５】
　触媒工程における触媒として請求項１８
、１９、２１及