【事件の表示】
　特許第６７６０９４２号発明「塩化水素の製造方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６７６０９４２号の請求項１〜２に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許第６７６０９４２号（以下，「本件特許」という。）の請求項１〜２に係る特許についての出願（以下，「本願」という。）は，２０１６年（平成２８年）７月２５日（優先権主張平成２７年８月１０日）を国際出願日とする出願であって，令和２年９月７日に特許権の設定登録がされ，同年９月２３日に特許掲載公報が発行されたものである。
　その後，令和３年３月１６日に，本件特許の請求項１〜２に係る特許に対して，特許異議申立人である大矢真紀子（以下「申立人」という。）により特許異議の申立てがされたものである。
第２　本件発明
　本件特許の請求項１〜２に係る発明は，本件特許の願書に添付した特許請求の範囲の請求項１〜２に記載された事項により特定される以下のとおりのものである（以下，順に「本件発明１」〜「本件発明２」といい，これらを総合して「本件発明」という。また，本件特許の願書に添付した明細書を「本件明細書」という。下線は，当審が付したものである。以下同様）。
「【請求項１】
　ｐＨが３以上５以下の無機塩化物水溶液を電気分解して塩素と水素を得る電気分解工程と、
　前記電気分解工程で得られた塩素と水素を、塩素に対して水素をモル比で過剰量用いて１０００℃以上１５００℃以下で反応させて、粗塩化水素を得る反応工程と、
　前記反応工程で得られた粗塩化水素を脱水する脱水工程と、　前記脱水工程で得られた、脱水された粗塩化水素を圧縮して液化し、その液状の粗塩化水素を蒸留により精製する蒸留工程と、を備え
、
　前記脱水工程は、前記反応工程で得られた粗塩化水素を水に吸収させて塩酸とし、その塩酸から放散させた塩化水素を脱水する工程であ
 【請求項２】
　前記反応工程で反応させる塩素と水素のモル比が１：１．２５〜１：１．６である請求項１に記載の塩化水素の製造方法。」
第３　申立理由の概要
　申立人は，証拠方法として，下記２の甲第１〜４号証（以下，順に「甲１」〜「甲４」という。）を提出して，以下の申立理由１により，本件特許の請求項１〜２に係る特許を取り消すべきものである旨主張している。
１　申立理由１（進歩性）
　本件発明１〜２は，甲１に記載された発明及び甲２〜４に記載された事項に基いて，その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下，「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであり，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができないものであるから，本件特許の請求項１〜２に係る特許は，同法１１３条２号に該当する。
２　証拠方法
・甲１　「ソーダ技術ハンドブック　２００９」，日本ソーダ工業会発行，発行日：２００９年（平成２１年）６月３０日，表紙，ｐ．２９６〜２９９，奥付ページ，写し
・甲２　特表２０１３−５４５７０４号公報
・甲３　欧州特許出願公開第２４８１８３７号明細書及び訳文
・甲４　特開平５−１０５４０８号公報
第４　当審の判断
　以下に述べるように，特許異議申立書に記載した特許異議の申立ての理由によっては，本件特許の請求項１〜２に係る特許を取り消すことはできない。
１　申立理由１（進歩性）について
（１）甲１〜４の記載事項，甲１に記載された発明
ア　甲１（ソーダ技術ハンドブック　２００９）の記載事項
　本願の優先日前に頒布された刊行物である甲１には，以下の記載がある。
（ア）「
」
（イ）「
」
（ウ）「
」
（エ）「
」
（オ）「
」
イ　甲１に記載された発明
　上記ア（オ）に摘記した「（２）塩化水素の高純度化」の項目の「高純度塩化水素の製造は、
前項の高純度塩酸と同様に、まず合成塩酸
　そして，上記ア（ア）〜（オ）の記載事項を総合勘案し，特に，「（２）塩化水素の高純度化」及び図4.25に着目すると，甲１には，次の発明が記載されていると認められる。
「Ｈ２とＣｌ２から塩化水素を得る工程と，上記塩化水素を吸収水に吸収させることにより合成塩酸とし，上記合成塩酸を放散させて高純度の塩化水素ガスを生成させ，次に，加熱に伴う蒸気圧分の水蒸気や塩化水素に同伴するミストを除去・精製する乾燥工程と，乾燥させた塩化水素ガスを圧縮・液化させて液体塩化水素を得，その後，蒸留を行い，液体塩化水素に含まれていた不純物をさらに除去・高度精製し，高純度液体塩化水素を生産する工程とを備える，高純度液体塩化水素製造プロセス。」（以下，「甲１発明」という。）
ウ　甲２（特表２０１３−５４５７０４号公報）の記載事項
　本願の優先日前に頒布された刊行物である甲２には，以下の記載がある。
（ア）「【請求項１】 
　原料である粗水素と粗塩素を９９.９９９％以上の純度でそれぞれ精製する段階；
　
前記精製された水素と塩素を１,２００ないし１,４００℃の範囲の温度で反応させて塩化水素を合成するが、前記水素は塩素に比べてモル比で過剰に投入する段階
　前記塩化水素を圧縮させて液状に変換する段階；及び　分別蒸留を通して塩化水素の精製及び余剰水素を分離する段階とを含む高純度塩化水素の製造方法。」
（イ）「【０００５】
　塩化水素の合成は、通常塩水の電気分解により生成された粗塩素（crude Ｃｌ２）と粗水素（crude Ｈ２）を１，２００〜１，３００℃の高温で反応させて行われる。
【化１】
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】 
　
前記化１によって得られたＨＣｌガスを冷却して水に吸収させると、３５〜３７％の塩酸が生産される。従来の無水塩酸の製造は、前記塩酸を用いた湿式法により行われる。つまり、３５〜３７％の塩酸を蒸発管で加熱させ、塩化水素ガスを発生させ、これを脱水・乾燥・精製冷却させた後、圧縮冷却をして液化塩化水素を製造する。このような従来の製造方法は、高温で塩酸を取り扱うことにより、装置のメンテナンスコストが非常にかかり、多量のスチームを使用することにより、エネルギーコストも余分に必要となる問題点を抱えている。
【０００７】
　
［化１］で生成されたＨＣｌガスをすぐ圧縮して冷却させることができれば、一層手軽に無水塩化水素を生産することができるだろう。
　
前記不純物の中で、塩化水素の圧縮及び液化工程の妨げになるのは水分と酸素であり、
【０００８】 
　しかし、半導体製造工程などに使用される高純度塩化水素（９９.９９９％以上）の製造のためには、水分と酸素だけでなく、他の不純物も除去しなければならず、特に、炭酸ガスは、一旦塩化水素ガスと混ざると、分離がほとんど不可能なため、前記のように生産性及びコスト面で不利な湿式法に依存せざるを得なかった。 
　本発明は、前述したような問題点を解決するためのもので、高純度の塩化水素を製造するにおいて、
塩酸から始まる既存の湿式工程に代替できる
【課題を解決するための手段】
【０００９】 
　本発明は、前記目的を達成するために、原料である粗水素と粗塩素を９９.９９９％以上の純度でそれぞれ精製する段階；前記精製された水素と塩素を１,２００ないし１,４００℃の範囲の温度で反応させて塩化水素を合成するが、前記水素は塩素に対してモル比で過剰に投入する段階；前記塩化水素を圧縮させて液状に変換する段階；及び分別蒸留を通して塩化水素の精製及び余剰水素を分離する段階とを含む高純度塩化水素の製造方法を提供する。　前記本発明の高純度塩化水素の製造方法で、前記水素の精製は、塩水の電気分解工程により生じる粗水素を触媒及び吸着剤を使用して水分と酸素を除去し、前記塩素の精製は、粗塩素ガスを１次吸着で水分を除去し、１次低温蒸留で金属成分を除去した後、２次低温蒸留でガス成分を除去する過程からなる。」
（ウ）「【００３０】
　本発明の高純度塩化水素製造システムにおいて、原料である塩素と水素は、ＦＣＶ（流量比例制御弁）によって調節される。前記水素と塩素の反応において、水素は塩素に対して過量で添加することが望ましい。
水素と塩素の反応で塩化水素を製造する反応は、理論上１:１のｍｏｌ比（モル比）で反応させなければいけないが、未反応出発物質として塩素が残存する場合、塩化水素との分離が容易ではなく、塩素の毒性のために反応システムの損傷を招く恐れがある。したがって、水素と塩素の反応時に前記水素は、塩素に対して理論量比１０ｍｏｌ％ないし２０ｍｏｌ％の範囲で過量になるようにすることが望ましい。
エ　甲３（欧州特許出願公開第２４８１８３７号明細書）の記載事項
　本願の優先日前に頒布された刊行物である甲３には，以下の記載がある。
　（なお，当審訳は，申立人が甲３に付した訳文に基づく。）
（ア）「[0001]　The present　invention　relates　to　methods　of　producing　a　chlorine　gas,　an　aqueous　alkali　metal　hypochlorite　solution　and　liquid　chlorine.　More　specifically,　the　present　invention　relates　to　a　method　of　producing　a　chlorine　gas　and　liquid　chlorine　having　a　lower　bromine　content　than　that　obtained　in　the　conventional　chlor-alkali　processes　(particularly　membrane　and　mercury　based　processes).」
（当審訳：[0001]本発明は，塩素ガス，アルカリ金属次亜塩素酸水溶液および液体塩素を製造する方法に関する。より具体的には，本発明は，従来の塩素アルカリプロセス（特に膜および水銀ベースのプロセス）で得られるものよりも低い臭素含有量を有する塩素ガスおよび液体塩素を製造する方法に関する。）
（イ）「[0002]　Conventionally,　an　electrolysis　of　an　alkali　metal　chloride　solution,　typically　sodium　chloride　and　potassium　chloride　solution,　denoted　also　as　brine,　has　been　performed　for　the　purpose　of　producing　chlorine,　sodium　or　potassium　hydroxide,　and　hydrogen.　Since　the　raw　material　in　such　processes　usually　contains　alkali　metal　bromides　as　impurities,　chlorine　generated　therefrom　is　contaminated　with　bromine.　The　bromine　impurity　in　chlorine　is　less　and　less　tolerated,　especially　in　water　treatment　applications.　This　is　because,　in　certain　water　treatment　processes,　bromine　is　at　least　partially　converted　to　alkali　metal　bromate　which　is　a　known　health　hazard.　Another　application　which　requires　chlorine　with　low　bromine　content　is　the　production　of　various　chlorinated　organic　compounds.」
（当審訳：[0002]従来，アルカリ金属塩化物溶液，典型的には塩化ナトリウムおよび塩化カリウム溶液（ブラインとも呼ばれる）の電気分解は，塩素，水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム，および水素を製造する目的で行われてきた。このような工程の原料には，通常，不純物としてアルカリ金属臭化物が含まれているため，そこから発生する塩素は臭素で汚染されています。塩素中の臭素不純物は，特に水処理用途では，ますます許容されなくなります。これは，特定の水処理プロセスでは，臭素が少なくとも部分的にアルカリ金属臭素酸塩に変換されるためです。これは，既知の健康被害です。低臭素含有量の塩素を必要とする別の用途は，さまざまな塩素化有機化合物の製造です。）
（ウ）「[0007]　The　present　invention　is　directed　towards　the　provision　of　a　method　of　producing　chlorine　with　low　bromine　content.　The　present　invention　relates　to　a　method　for　producing　a　chlorine　gas,　which　method　includes　the　steps　of
　　(a)electrolyzing　brine　to　produce　gaseous　chlorine,　alkali
　　metal　hydroxide　and　hydrogen,
　　(b)separating　gaseous　chlorine　from　the　electrolyte　
　　(anolyte　in　the　case　of　the　membrane　process),・・・」
（当審注；「・・・」は記載の省略を表す。以下同様。）
（当審訳：[0007]本発明は，低臭素含有量の塩素を製造する方法の提供に向けられている。本発明は，塩素ガスを製造するための方法に関する。
　　（ａ）ブラインを電気分解して，ガス状の塩素，アルカリ金属水酸化物
　　　，および水素を生成します。
　　（ｂ）電解質（膜プロセスの場合は陽極液）からガス状塩素を分離しま
　　　す。・・・）
（エ）「[0014]　Without　being　bound　by　any　particular　theory,　it　is　believed　that　the　main　sources　of　elemental　bromine　are　chemical　reactions　taking　place　in　the　depleted　brine　treatment　loop　rather　than　the　electrochemical　cells..　It　is　further　believed　that　the　content　of　bromine　in　the　main　chlorine　product　can　be　further　minimized　by　adjusting　the　pH　of　the　electrolyte　(anolyte　in　the　case　of　the　membrane　process).　While　the　general　operating　pH　range　in　the　electrolyzers　is　typically　about　3.1　to　about　5.5,　it　is　preferred　to　adjust　the　pH　upward　to　the　range　about　3.5　to　about　5.5,　most　preferably　about　3.9　to　about　5.5.・・・」
（当審訳：[0014]特定の理論に拘束されることなく，元素の臭素の主な供給源は，電気化学セルではなく，枯渇したブライン処理ループで発生する化学反応であると考えられています。さらに，主塩素生成物中の臭素の含有量は，電解質（膜プロセスの場合は陽極液）のｐＨを調整することによってさらに最小限に抑えることができると考えられています。電解槽の一般的な動作のｐＨ範囲は，典型的には約３．１から約５．５であるが，ｐＨを約３．５から約５．５，最も好ましくは約３．９から約５．５の範囲に上方に調整することが好ましい。・・・）
オ　甲４（特開平５−１０５４０８号公報）の記載事項
　本願の優先日前に頒布された刊行物である甲４には，以下の記載がある。
（ア）「【請求項２】　水素ガスと塩素ガスとの混合ガスを反応させて塩酸を生成する合成法において、
水素ガスの供給量を理論上必要とされる供給量の１．２倍〜１．５倍程度とすることを特徴とする塩酸の合成方法。」
（イ）「【０００３】この塩酸は、工業的には例えば水素ガスと塩素ガスとの混合ガスを反応させる合成法や、芳香族炭化水素の塩素化反応を利用した副生塩酸法などの方法により生成されるが、副生塩酸法は副生塩酸の純度が低いことから、高純度の塩酸を得るためには通常合成法が採用されている。この合成法により塩酸を生成する装置としては、混合ガスを燃焼させる燃焼部と加熱反応により生成した塩化水素ガスを吸収液に吸収させる吸収・冷却部とを上下に設けて一体構造とした、いわゆる１塔型合成装置と、これらを別々に設けて別体構造とした、いわゆる２塔型合成装置とがあり、通常いずれの装置においても水素ガスと塩素ガスとの反応温度を１０００℃付近に設定して運転している。」
（ウ）「【０００９】
【作用】水素ガスと塩素ガスとを、例えば各々反応前に冷却して、塩酸を生成するために理論上必要とされる体積比で例えば１塔型合成装置の燃焼部の燃焼室内に供給し、この混合ガスを燃焼バ−ナで加熱して、反応温度を例えば８００℃付近で反応させるか、あるいは
水素ガスの供給量を理論上必要とされる供給量の１．２倍〜１．５倍程度に設定して、反応温度を１０００℃程度で反応させることにより、フリ−塩素の含有量が少ない塩酸を生成することができる。
（エ）「【００２４】
【表１】
」
（２）本件発明１と甲１発明との対比と判断
ア　本件発明１について
　本件発明１と甲１発明とを対比する。
（ア）甲１発明における「Ｃｌ２」，「Ｈ２」は，それぞれ，本件発明１における「塩素」，「水素」に相当する。甲１発明における「Ｈ２とＣｌ２から塩化水素を得る工程」の段階の「塩化水素」は，上記（１）イの工程順のとおり，その後の工程における操作（蒸留等）において高度精製する前の粗い塩化水素であるという意味で，「粗」な「塩化水素」であるから，「粗塩化水素」であるといえる。また，上記塩化水素を得る工程においては，Ｈ２とＣｌ２から塩化水素を得ているのであるから，Ｈ２とＣｌ２との間に何らかの反応が起こっていることは自明であり，上記工程は「反応工程」であるといえる。
（イ）よって，甲１発明における「Ｈ２とＣｌ２から塩化水素を得る工程」は，本件発明１における上記「反応工程」と，「塩素と水素から，粗塩化水素を得る反応工程」である限りで共通する。
（ウ）甲１発明における「吸収水」，「合成塩酸」は，それぞれ，本件発明１における「水」，「塩酸」に相当する。甲１発明における「
上記塩化水素
（エ）よって，甲１発明における「上記塩化水素を吸収水に吸収させることにより合成塩酸とし，上記合成塩酸を放散させて高純度の塩化水素ガスを生成させ，次に，加熱に伴う蒸気圧分の水蒸気や塩化水素に同伴するミストを除去・精製する乾燥工程」は，本件発明１における上記「脱水工程」に相当する。
（オ）甲１発明の「乾燥させた塩化水素ガスを圧縮・液化させて液体塩化水素を得」との段階における「乾燥させた塩化水素ガス」は，上記（ア），（ウ）と同様に検討すると，「脱水された粗塩化水素ガス」であるといえ，また，上記「液体塩化水素」は，その後の蒸留において高度精製する前の粗い塩化水素であるという意味で，「粗」な「塩化水素」であるから，「液状の粗塩化水素」であるといえる。
（カ）よって，甲１発明における「乾燥させた塩化水素ガスを圧縮・液化させて液体塩化水素を得，その後，蒸留を行い，液体塩化水素に含まれていた不純物をさらに除去・高度精製し，高純度液体塩化水素を生産する工程」は，本件発明１における上記「蒸留工程」に相当する。
（キ）甲１発明における「高純度液体塩化水素製造プロセス」は，本件発明１における「塩化水素の製造方法」に相当する。
（ク）以上によれば，本件発明１と甲１発明とは，次の点で一致する。
［一致点］
　塩素と水素から，粗塩化水素を得る反応工程と，
　前記反応工程で得られた粗塩化水素を脱水する脱水工程と，
　前記脱水工程で得られた，脱水された粗塩化水素を圧縮して液化し，その液状の粗塩化水素を蒸留により精製する蒸留工程と，
を備え，
　前記脱水工程は，前記反応工程で得られた粗塩化水素を水に吸収させて塩酸とし，その塩酸から放散させた塩化水素を脱水する工程である塩化水素の製造方法である点。
（ケ）一方で，本件発明１と甲１発明とは，以下の点で相違する。
［相違点１］
　反応工程について，本件発明１では，「塩素と水素を、塩素に対して水素をモル比で過剰量用いて１０００℃以上１５００℃以下で反応させて、粗塩化水素を得る」のに対して，甲１発明では，「塩素と水素から，粗塩化水素を得る」反応であるものの，上記反応の具体的な条件は特定されておらず，塩素に対する水素のモル比及び反応温度が，本件発明１の上記モル比及び温度の範囲内であるかどうか不明である点。
［相違点２］
　本件発明１では，上記反応工程の前に，「ｐＨが３以上５以下の無機塩化物水溶液を電気分解して塩素と水素を得る電気分解工程」を備えており，かつ，反応工程において反応させる塩素と水素が「前記電気分解工程により得られた」ものであるのに対して，甲１発明では，上記電気分解工程について何も特定されておらず，反応工程の前に，前記電気分解工程を備えるかどうか不明であり，更に，反応工程において反応させる塩素と水素が「前記電気分解工程により得られた」ものであるかどうか不明である点。
（コ）事案に鑑みて，まず上記［相違点１］について検討する。
ａ　甲１発明への甲２の記載事項の適用について
　上記（１）ウ（ア）のとおり，甲２の【請求項１】には，「前記精製された水素と塩素を１,２００ないし１,４００℃の範囲の温度で反応させて塩化水素を合成するが、前記水素は塩素に比べてモル比で過剰に投入する段階」が記載されている。
　しかしながら，以下（ａ）〜（ｂ）のとおり，甲１発明へ甲２の記載事項の適用することを阻害する要因が存在しており，甲１発明において，反応工程を「塩素と水素を、塩素に対して水素をモル比で過剰量用いて１０００℃以上１５００℃以下で反応させて、粗塩化水素を得る」ようにすることが，甲２の記載事項から動機付けられるとはいえない。
 
（ａ）上記（１）ウ　（イ）のとおり，甲２には，「従来の無水塩酸の製造は、前記塩酸を用いた湿式法により行われる。つまり、３５〜３７％の塩酸を蒸発管で加熱させ、塩化水素ガスを発生させ、これを脱水・乾燥・精製冷却させた後、圧縮冷却をして液化塩化水素を製造する。このような従来の製造方法は、高温で塩酸を取り扱うことにより、装置のメンテナンスコストが非常にかかり、多量のスチームを使用することにより、エネルギーコストも余分に必要となる問題点を抱えている。」（【０００６】）と記載されている。
（ｂ）ここで，上記（１）イのとおり，甲１発明は，「
Ｈ２とＣｌ２から塩化水素を得る工程と，上記塩化水素を吸収水に吸収させることにより合成塩酸とし，上記合成塩酸を放散させて高純度の塩化水素ガスを生成させ，次に，加熱に伴う蒸気圧分の水蒸気や塩化水素に同伴するミストを除去・精製する乾燥工程と，乾燥させた塩化水素ガスを圧縮・液化させて液体塩化水素を得
ｂ　甲３の記載事項について
　甲３には，粗塩化水素を得る反応工程における塩素に対する水素のモル比及び温度について，何も記載されておらず，甲１発明において，反応工程を「塩素と水素を、塩素に対して水素をモル比で過剰量用いて１０００℃以上１５００℃以下で反応させて、粗塩化水素を得る」ようにすることが，甲３の記載事項から動機付けられるとはいえない。
ｃ　甲１発明への甲４の記載事項の適用について
　上記（１）オ（ウ）のとおり，甲４に「【作用】水素ガスと塩素ガスとを、例えば各々反応前に冷却して、塩酸を生成するために理論上必要とされる体積比で例えば１塔型合成装置の燃焼部の燃焼室内に供給し、この混合ガスを燃焼バ−ナで加熱して、反応温度を例えば８００℃付近で反応させるか、あるいは
水素ガスの供給量を理論上必要とされる供給量の１．２倍〜１．５倍程度に設定して、反応温度を１０００℃程度で反応させることにより、フリ−塩素の含有量が少ない塩酸を生成することができる。
　しかしながら，以下（ａ）〜（ｃ）のとおり，本件発明１は，甲１発明及び甲２〜４の記載事項からは，当業者が予測することができない格別顕著な効果を奏するものであり，甲１発明において，甲４の記載事項を考慮して，反応工程について，「塩素と水素を、塩素に対して水素をモル比で過剰量用いて１０００℃以上１５００℃以下で反応させて、粗塩化水素を得る」と特定することを，当業者が容易に想到することができたということはできない。
（ａ）上記相違点の事項に関連する効果について，甲２〜４の記載事項を確認すると，以下（ｂ）のとおりである。
（ｂ）上記（１）ウ（ウ）のとおり，甲２には，「水素と塩素の反応で塩化水素を製造する反応は、理論上１:１のｍｏｌ比（モル比）で反応させなければいけないが、未反応出発物質として塩素が残存する場合、塩化水素との分離が容易ではなく、塩素の毒性のために反応システムの損傷を招く恐れがある。したがって、水素と塩素の反応時に前記水素は、塩素に対して理論量比１０ｍｏｌ％ないし２０ｍｏｌ％の範囲で過量になるようにすることが望ましい。」（【００３０】）と記載されている。甲３には，粗塩化水素を得る反応工程における塩素に対する水素のモル比及び温度について，何も記載されておらず，したがって，上記モル比及び温度の各数値範囲を特定することにより奏される効果についても何も記載されていない。甲４には，上記ｃのとおり，フリ−塩素の含有量が少ない塩酸を生成することができることが記載されている（【０００９】）。
（ｃ）その一方で，本件明細書等の【００１５】，【００１７】，【実施例】の記載からすると，本件発明１は，「塩素と水素を、塩素に対して水素をモル比で過剰量用いて１０００℃以上１５００℃以下で反応させて、粗塩化水素を得る」ことによって，二酸化炭素の濃度を低くすることができるという，甲２〜４の上記効果から予測できない有利な効果を奏するものといえる。
（サ）以上のとおり，上記［相違点１］について，甲２〜甲４の記載事項を参照しても，当業者が容易に想到することができたとはいえないから，上記［相違点２］について検討するまでもなく，本件発明１は，甲１発明及び甲２〜４に記載された事項に基いて，当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
イ　本件発明２について
　本件発明２は，本件発明１を引用するものであるが，上記ア（サ）で述べたとおり，本件発明１が，甲１発明及び甲２〜４に記載された事項に基いて，当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない以上，本件発明２についても同様に，甲１発明及び甲２〜４に記載された事項に基いて，当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
（３）まとめ
　以上のとおり，本件発明１〜２は，甲１に記載された発明及び甲２〜４に記載された事項に基いて，当業者が容易に発明をすることができたものとはいえないから，同発明に係る特許が，特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるとはいえない。
第５　むすび
　以上のとおり，特許異議申立書に記載した特許異議申立ての理由によっては，本件特許の請求項１〜２に係る特許を取り消すことはできない。
　また，他に請求項１〜２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって，結論のとおり決定する。
【異議決定日】
令和３年７月１２日（２０２１．７．１２）