(57)【要約】【課題】様々な種類のゴム材料を適用可能であり、しかも、内部構造に自由度をもたせてゴム成形品を製造する。【解決手段】未架橋状態にある粉末状ゴム７による層８を形成する層形成工程と、前記粉末状ゴム７を架橋させる架橋工程とを、交互に行うことでゴム成形品を製造する。架橋工程では、層状にある粉末状ゴム７の架橋反応を開始させ、当該粉末状ゴム７の層８において架橋を完全に終えない状態で当該架橋反応を終了させ不完全層を形成する。不完全層を形成した前記架橋工程の次に行う層形成工程では、当該不完全層の上に未架橋状態にある粉末状ゴム７による層８を形成する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
未架橋状態にある粉末状ゴムによる層を形成する層形成工程と、前記粉末状ゴムを架橋させる架橋工程とを、交互に行うことでゴム成形品を製造する方法であって、
前記架橋工程では、層状にある前記粉末状ゴムの架橋反応を開始させ、当該粉末状ゴムの層において架橋を完全に終えない状態で当該架橋反応を終了させ不完全層を形成し、
前記不完全層を形成した前記架橋工程の次に行う前記層形成工程では、当該不完全層の上に未架橋状態にある粉末状ゴムによる層を形成する、
ゴム成形品の製造方法。
【請求項２】
前記架橋工程では、前記粉末状ゴムの層にレーザを照射して発生する熱により当該粉末状ゴムを架橋させる、請求項１に記載のゴム成形品の製造方法。
【請求項３】
前記架橋工程では、レーザを透過させる板部材によって前記粉末状ゴムの層を押圧しつつ、レーザを、当該板部材を透過させて当該層に照射する、請求項２に記載のゴム成形品の製造方法。
【請求項４】
前記層形成工程で用いるための未架橋状態にある粉末状ゴムを製造する準備工程を更に備え、
前記準備工程では、未加硫状態のゴム塊を冷凍粉砕することで、未架橋状態にある粉末状ゴムを製造する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のゴム成形品の製造方法。
【請求項５】
未架橋状態にある粉末状ゴムを溜めると共に当該粉末状ゴムを作業領域に層状として供給する供給機構と、
前記作業領域において層状となった前記粉末状ゴムを架橋反応させる作用を与える反応用機構と、
前記供給機構が前記粉末状ゴムを前記作業領域に供給するための動作、及び、前記反応用機構による前記粉末状ゴムの架橋反応のタイミングを制御する制御装置と、
を備える、積層造形装置。
【請求項６】
前記制御装置は、未架橋状態にある前記粉末状ゴムを前記作業領域に層状として供給するための供給動作と、当該粉末状ゴムを架橋させる架橋動作とを、交互に行う制御を実行し、
前記架橋動作では、層状にある前記粉末状ゴムの架橋反応を開始させ、当該粉末状ゴムの層において架橋を完全に終えない状態で当該架橋反応を終了させ不完全層を形成し、
前記不完全層を形成した前記架橋動作の次に行う前記供給動作では、前記不完全層の上を前記作業領域として、当該作業領域に未架橋状態にある粉末状ゴムによる層を形成する、
請求項５に記載の積層造形装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ゴム成形品の製造方法、及びこの製造方法を実行するための積層造形装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ゴムはポリマー間を架橋（加硫）することで弾性を有する。なお、架橋には様々な種類があり、熱の他に紫外線又は水分等で架橋するゴム材料が知られている。例えばオイルシール等の工業用ゴムの場合、熱によるラジカル反応が利用される。工業用ゴムの製造方法として、金型内で未架橋状態のゴム材料を加圧しながら加熱するコンプレッション成形が一般的に用いられる。コンプレッション成形は、基本的にバルク構造を有するゴム成形品に適用可能であるが、例えばトラス等の複雑な内部構造を備えたゴム成形品に適用不可能である。
【０００３】
近年、開発が進められている３Ｄプリンタは、様々な樹脂材料による成形品の製造に用いられる。特許文献１には、光硬化性の樹脂を用いた場合の造形装置が開示されている。
【０００４】
ゴムの場合においても、紫外線によって架橋する液状シリコンゴムが知られている。そこで、液状シリコンゴムを用いて３Ｄプリンタにより成形品を得ることが可能となる。この場合、液状シリコンゴムを層状に塗布し、紫外線照射により架橋させる。液状シリコンゴムを層状に塗布する工程と、紫外線照射の工程とを交互に行うことで、複雑な内部構造を備えたゴム成形品を得ることが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−２９０４７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来、ゴム成形品を前記のような積層造形装置（３Ｄプリンタ）によって製造するためには、専用となる紫外線架橋型の液状シリコンゴムを用いる方法しかない。工業用ゴムのように、成形品を例えば高温となる環境で用いる場合、シリコンゴムは相応しくない。このため、高温で用いられるような工業用ゴムの製造装置として、従来の積層造形装置を適用することができない。様々な種類のゴム（例えば、ＮＢＲ、ＦＫＭ，ＥＰＤＭ）によって成形品を得るための方法は、前記のように金型を用いたコンプレッション成形となる。しかし、この場合、複雑な内部構造を備えたゴム成形品を得ることができない。
【０００７】
そこで、本発明は、様々な種類のゴム材料を適用可能であり、しかも、内部構造に自由度をもたせてゴム成形品を製造することが可能となる製造方法、及びこの製造方法を実行するための積層造形装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、未架橋状態にある粉末状ゴムによる層を形成する層形成工程と、前記粉末状ゴムを架橋させる架橋工程とを、交互に行うことでゴム成形品を製造する方法であって、前記架橋工程では、層状にある前記粉末状ゴムの架橋反応を開始させ、当該粉末状ゴムの層において架橋を完全に終えない状態で当該架橋反応を終了させ不完全層を形成し、前記不完全層を形成した前記架橋工程の次に行う前記層形成工程では、当該不完全層の上に未架橋状態にある粉末状ゴムによる層を形成する。
【０００９】
この製造方法によれば、層形成工程と架橋工程とが交互に行われるため、内部構造に自由度をもたせてゴム成形品を製造することが可能となる。そして、未架橋状態にあるゴム材料を粉末状とし、その粉末状ゴムによって層が形成される。このため、様々な種類の粉末状ゴムを適用することが可能である。
【００１０】
また、前記架橋工程では、前記粉末状ゴムの層にレーザを照射して発生する熱により当該粉末状ゴムを架橋させるのが好ましい。この場合、熱架橋型のゴム材料が使用される。レーザを用いることから、その出力の調整が比較的容易である。このため、粉末状ゴムの層において架橋を完全に終えない状態で架橋反応を終了させ不完全層を形成する作業を行い易い。
また、レーザを用いる製造方法において、前記架橋工程では、レーザを透過させる板部材によって前記粉末状ゴムの層を押圧しつつ、レーザを、当該板部材を透過させて当該層に照射するのが好ましい。この場合、板部材によって、各層の膜厚を一定にすることが容易となる。
【００１１】
また、前記ゴム成形品の製造方法は、前記層形成工程で用いるための未架橋状態にある粉末状ゴムを製造する準備工程を更に備え、前記準備工程では、未加硫状態のゴム塊を冷凍粉砕することで、未架橋状態にある粉末状ゴムを製造するのが好ましい。この準備工程によれば、様々な種類のゴム材料を粉末状にすることが容易となる。
【００１２】
また、本発明の積層造形装置は、未架橋状態にある粉末状ゴムを溜めると共に当該粉末状ゴムを作業領域に層状として供給する供給機構と、前記作業領域において層状となった前記粉末状ゴムを架橋反応させる作用を与える反応用機構と、前記供給機構が前記粉末状ゴムを前記作業領域に供給するための動作、及び、前記反応用機構による前記粉末状ゴムの架橋反応のタイミングを制御する制御装置と、を備える。
【００１３】
この積層造形装置によれば、未架橋状態にある粉末状ゴムによる層を形成する層形成工程と、前記粉末状ゴムを架橋させる架橋工程とを、交互に行うことでゴム成形品を製造することが可能となる。
【００１４】
また、前記制御装置は、未架橋状態にある前記粉末状ゴムを前記作業領域に層状として供給するための供給動作と、当該粉末状ゴムを架橋させる架橋動作とを、交互に行う制御を実行し、前記架橋動作では、層状にある前記粉末状ゴムの架橋反応を開始させ、当該粉末状ゴムの層において架橋を完全に終えない状態で当該架橋反応を終了させ不完全層を形成し、前記不完全層を形成した前記架橋動作の次に行う前記供給動作では、前記不完全層の上を前記作業領域として、当該作業領域に未架橋状態にある粉末状ゴムによる層を形成するのが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、様々な種類のゴム材料を適用可能であり、しかも、内部構造に自由度をもたせてゴム成形品を製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】積層造形装置の概略構成を示す説明図である。
【図２】ゴム成形品の製造方法の説明図である。
【図３】ゴム成形品の製造方法の説明図である。
【図４】ゴム成形品の製造方法の説明図である。
【図５】ゴム成形品の製造方法の説明図である。
【図６】作業領域に供給された粉末状ゴムの平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
図１は、積層造形装置１０の概略構成を示す説明図である。積層造形装置１０は、ゴム成形品を積層造形によって製造する。積層造形装置１０によって行われる製造方法は、未架橋状態（未反応）にある粉末状ゴム７による層８を形成する層形成工程と、この粉末状ゴム７を架橋させる架橋工程とを含み、これら層形成工程と架橋工程とが交互に行われる。なお、本実施形態で採用される粉末状ゴム７は、ＦＥＰＭ（四フッ化エチレン−プロピレンゴム）である。なお、採用可能となる粉末状ゴム７は、ＮＢＲ、ＦＫＭ、ＥＰＤＭなど、その他のゴム材料であってもよく、一般的に工業用ゴムに用いられる材料（架橋により弾性を有するゴム）とすることができる。粉末状ゴム７には架橋剤が含まれている。
【００１８】
積層造形装置１０は、供給機構１２と、反応用機構１３と、制御装置１４とを備える。本実施形態の積層造形装置１０は、板部材２３を更に備える。更に、積層造形装置１０は、ステージ装置１５を備える。ステージ装置１５は、ステージ板１６と、ステージ板１６を上下方向に移動させる第一のアクチュエータ１７と、ステージ板１６の移動をガイドするガイド部材１８とを有する。ステージ板１６、アクチュエータ１７、及びガイド部材１８は、ベース１９に搭載されている。ベース１９は、図外のアクチュエータによって水平面に沿って移動可能である。ステージ板１６の上方が、材料となる粉末状ゴム７が供給される作業領域９となる。第一層目となる粉末状ゴム７が供給される作業領域９は、図１に示されるように、ステージ板１６上となる。第二層目以降の粉末状ゴム７が供給される作業領域９は、一つ前の粉末状ゴム７の層８（後述する不完全層６、図４参照）の上となる。粉末状ゴム７が層状として作業領域９に供給され、この粉末状ゴム７によって不完全層６が得られると、ステージ板１６が、不完全層６の厚さと同じ寸法について、降下する。
【００１９】
供給機構１２は、未架橋状態にある粉末状ゴム７を溜める貯留部（タンク）１１を有する。貯留部１１には粉末状となった未架橋状態の粉末状ゴム７が多数溜められている。未架橋状態の粉末状ゴム７は、未架橋状態のゴム塊を冷凍粉砕することで製造される。本実施形態の供給機構１２は、貯留部１１内のエアを加圧するポンプ等の加圧装置２０と、貯留部１１から延びる供給チューブ２１と、供給チューブ２１の先端に繋がる吐出ヘッド２２とを有する。吐出ヘッド２２は、前記作業領域９を図外のアクチュエータによって通過する動作を行う。この動作は、吐出ヘッド２２が移動することで行われてもよいし、前記ベース１９が移動することで行われてもよい。加圧装置２０は、制御装置１４によって制御され、所定のタイミングで貯留部１１内を加圧する。貯留部１１内が加圧されると、貯留部１１の粉末状ゴム７は供給チューブ２１を経て、吐出ヘッド２２から作業領域９へ吐出される。この加圧と吐出ヘッド２２の動作とが同時に行われることで、粉末状ゴム７は、作業領域９に層状となって供給される。以上より、供給機構１２は、未架橋状態にある粉末状ゴム７を溜めると共に、貯留部１１の粉末状ゴム７を作業領域９に層状として供給する。
【００２０】
反応用機構１３は、未架橋状態の粉末状ゴム７を架橋反応させるための装置である。本実施形態では、粉末状ゴム７は熱架橋型のゴム材料（ＦＥＰＭ）であり、加熱されることで架橋反応が開始される。そこで、本実施形態の反応用機構１３は、レーザを照射して対象を加熱するレーザ装置であり、特に、レーザの照射部の温度を計測しながらレーザ出力を調整可能な温度検出型のレーザ装置である。レーザ装置は、作業領域９の全体を走査するようにレーザを照射することができる。このために、本実施形態では、前記ベース１９が水平面に沿って二次元的に移動する。これにより作業領域９の全体にわたってレーザが照射される。なお、レーザを照射する照射ヘッドが水平面に沿って移動する構成であってもよい。レーザの照射の位置、照射の開始、及び照射の終了は、制御装置１４によって制御される。このように、反応用機構（レーザ装置）１３は、作業領域９において層状となった粉末状ゴム７を架橋反応させる作用を与える。本実施形態では、架橋反応させる作用として、レーザによる熱が、粉末状ゴム７の層に与えられる。
【００２１】
板部材２３は、下面が平坦状の部材であり、この下面は、作業領域９よりも広い又は同じ面積を有する。板部材２３は、前記レーザを透過させる。本実施形態の板部材２３はガラス製である。板部材２３は、図外のアクチュエータによって、作業領域９と、この作業領域９から離れた退避領域との間を移動可能である。更に、板部材２３は、図外のアクチュエータによって、作業領域９に供給された粉末状ゴム７の層８を上から押圧する。この押圧の際、反応用機構１３からのレーザは板部材２３を透過し、粉末状ゴム７の層８に照射される。これにより、粉末状ゴム７は加熱され板部材２３によって加圧された状態で架橋が進む。
【００２２】
制御装置１４は、コンピュータ装置により構成される。制御装置１４には所定のコンピュータプログラムが記憶されている。このコンピュータプログラムにしたがって、制御装置１４は供給機構１２及び反応用機構１３に規定の動作を実行させる。制御装置１４は、供給機構１２が粉末状ゴム７を作業領域９に供給するための動作、及び、反応用機構１３による前記粉末状ゴム７の架橋反応のタイミングを制御する。
【００２３】
以上の構成を備えた積層造形装置１０によって行われるゴム成形品の製造方法について説明する。図２から図５は、この製造方法を順に説明する説明図である。製造方法には、層形成工程（図２、図４参照）と架橋工程（図３、図５参照）とが含まれ、これら層形成工程と架橋工程とが交互に行われる。層形成工程では、未架橋状態（未反応）にある粉末状ゴム７による層８が作業領域９に形成される。架橋工程では、作業領域９の粉末状ゴム７を架橋させる。
【００２４】
〔第一層目〕
供給機構１２（図１参照）によって、図２に示されるように、ステージ板１６の上に、未架橋状態にある粉末状ゴム７が層状に供給される。層８の厚さが一定となるように粉末状ゴム７が供給される。
【００２５】
図３に示されるように、層８の上に板部材２３が設けられ、板部材２３が層８を押圧する。この状態で、反応用機構１３（レーザ装置、図１参照）は層８の各部に対してレーザＬを照射する。これにより、層８に含まれる各部の粉末状ゴム７は架橋反応を開始する。ただし、反応用機構１３は、層８の各部に対して、粉末状ゴム７の架橋反応が完了するまでの熱量を与えない。このために、レーザＬの照射部Ｌａの温度を計測しながらレーザ出力が調整される。これにより、層８を、架橋反応が不完全で終わっている不完全層６とする。
【００２６】
〔第二層目〕
不完全層６が形成されると、板部材２３を退避位置へ移動させる。ステージ板１６が降下し、不完全層６の上が、第二層目のための作業領域９となる。そして、供給機構１２（図１参照）によって、図４に示されるように、作業領域９となる不完全層６の上に、未架橋状態にある粉末状ゴム７が層状に供給される。これにより、不完全層６の上に未架橋状態にある粉末状ゴム７による第二層目となる層８が形成される。
【００２７】
図５に示されるように、この層８の上に板部材２３が設けられ、板部材２３が層８を押圧する。そして、反応用機構１３（レーザ装置、図１参照）は層８の各部に対してレーザＬを照射する。これにより、第二層目（層８）に含まれる各部の粉末状ゴム７は架橋反応を開始する。更に、第一層目である前記不完全層６が再び加熱され、この不完全層６に含まれている粉末状ゴム７の未架橋部分が架橋する。ここでも、第一層目の場合と同様、反応用機構１３は、第二層目の層８の各部に対して、粉末状ゴム７の架橋反応が完了するまでの熱量を与えない。このために、レーザＬの照射部Ｌａの温度を計測しながらレーザ出力が調整される。これにより、第二層目となる層８を、架橋反応が不完全で終わっている不完全層６とする。第一層目の不完全層６は、架橋が完了した完全層となる。第一層目の不完全層６と第二層目の層８とにおいて架橋反応が進むことから、第一層目と第二層目とが一体化する。
【００２８】
第二層目の不完全層６が形成されると、板部材２３を退避位置へ移動させる。ステージ板１６が降下し、第二層目の不完全層６の上が、第三層目のための作業領域９となる。以下、第二層目の場合と同様に、未架橋状態にある粉末状ゴム７による層８を形成する層形成工程と、この粉末状ゴム７を架橋させる架橋工程とが交互に行われる。これにより、積層造形が進められ、所望の構成のゴム成形品が得られる。
【００２９】
このように層形成工程と架橋工程とを交互に行う製造方法は、制御装置１４の制御によって実現される。つまり、制御装置１４は、供給機構１２が粉末状ゴム７を作業領域９に供給するための動作を制御し、また、反応用機構１３による粉末状ゴム７の架橋反応のタイミングを制御する。具体的に説明すると、制御装置１４は、未架橋状態（未反応）にある粉末状ゴム７を作業領域９に層状として供給するための供給動作の制御を行う。制御装置１４は、粉末状ゴム７を架橋させる架橋動作の制御を行う。更に、制御装置１４は、前記供給動作と前記架橋動作とを、交互に行う制御を実行する。供給動作として、所定のタイミングで、吐出ヘッド２２とステージ板１６とを相対的に移動させながら、加圧装置２０によって貯留部１１を加圧し、吐出ヘッド２２から粉末状ゴム７を吐出する。架橋動作として、所定のタイミングで、粉末状ゴム７の層８に対してレーザの照射を開始する。また、架橋動作では、層状にある粉末状ゴム７の架橋反応を開始させ、粉末状ゴム７の層８において架橋を完全に終えない状態でこの架橋反応を終了させ不完全層６を形成する。そして、この不完全層６を形成した架橋動作の次に行う前記供給動作では、不完全層６の上を作業領域９として、この作業領域９に未架橋状態にある粉末状ゴム７による層８を形成する。
【００３０】
製造するゴム成形品内に例えばトラスを構成する場合、各層８において部分的にゴムが存在しない欠損部が必要となる。前記のとおり、作業領域９には、面状となって粉末状ゴム７が供給される。そこで、トラスを構成するために、各層８の形成の際、前記欠損部に相当する部分に粉末状ゴム７を供給しないように供給機構１２を制御してもよいが、次の手段とするのが好ましい。すなわち、作業領域９には、面状となって粉末状ゴム７が供給される。前記欠損部に相当する部分に、反応用機構１３（レーザ装置）からのレーザを照射しない。レーザを照射していない非照射領域２５（図６において、塗りつぶしされている領域）の粉末状ゴム７は架橋しない。なお、図６は、作業領域９に供給された粉末状ゴム７の平面図である。これに対してレーザを照射した照射領域２６の粉末状ゴム７は架橋が開始される。非照射領域２５では、粉末状ゴム７は粉末状のままとなる。そこで、積層造形によりゴム成形品が得られた段階で、又は、その途中の段階で、粉末状のままである非照射領域の粉末状ゴム７を、例えばエアブロー等で除去すればよい。
【００３１】
以上のように、本実施形態の積層造形装置１０によれば、未架橋状態（未反応）にある粉末状ゴム７による層８を形成する層形成工程と、この粉末状ゴム７を架橋させる架橋工程とを、交互に行うことでゴム成形品を製造することが可能となる。このような層形成工程と架橋工程とを含む本実施形態のゴム成形品の製造方法は、次のとおりである。すなわち、架橋工程では、層状にある粉末状ゴム７の架橋反応を開始させ、粉末状ゴム７の層８において架橋を完全に終えない状態で架橋反応を終了させ不完全層６を形成する。不完全層６を形成した架橋工程の次に行う層形成工程では、当該不完全層６の上に未架橋状態にある粉末状ゴム７による層８を形成する。
【００３２】
この製造方法によれば、層形成工程と架橋工程とが交互に行われるため、例えば、図６により説明したように、内部構造に自由度をもたせてゴム成形品を製造することが可能となる。そして、前記製造方法では、紫外線によって架橋する液状シリコンゴムの他に、熱によって架橋するＮＢＲ、ＦＫＭ，ＥＰＤＭ等のように従来広く用いられている材料の適用が可能となる。このようなゴム材料を未架橋状態のまま粉末状とし、その粉末状ゴム７によって層８が形成される。そして、層状となった粉末状ゴム７を加硫すればよい。以上より、本実施形態の製造方法によれば、様々な種類のゴム材料（粉末状ゴム）を適用することが可能である。
【００３３】
また、本実施形態では、熱架橋型のゴム材料が使用される。そこで、架橋工程では、粉末状ゴム７の層８にレーザを照射して発生する熱により粉末状ゴム７を架橋させる。レーザを用いることから、その出力の調整が比較的容易である。このため、粉末状ゴム７の層８において架橋を完全に終えない状態で架橋反応を終了させ不完全層６を形成する作業を行い易い。
【００３４】
本実施形態の製造方法では、架橋工程において、層状とした粉末状ゴム７に対して、架橋が完了するまでの熱量を与えない。そして、上（第二層目）の層８を架橋するために再び熱が与えられることで、下の層（第一層目）は架橋が完了する。前記のように、上の層に対して架橋を開始する際、下の層に未反応部分が残されているため、上の層の架橋反応に併せて下の層の架橋反応も生じ、上下の層間は一体化される。
【００３５】
層状とした粉末状ゴム７を不完全層６とするために、制御装置１４は反応用機構１３（レーザ装置）を制御する。具体的に説明すると、制御装置１４によって、層８に対してレーザＬを当てている時間及び速度の一方又は双方を制御することにより、層８における架橋の進捗が調整される。
【００３６】
また、架橋工程では、板部材２３によって粉末状ゴム７の層８を押圧しつつ、レーザＬを、板部材２３を透過させて層８に照射する。このように、レーザＬを照射しながら板部材２３が粉末状ゴム７の層８を押圧することで、粉末状ゴム７は、粉の形態のまま架橋されず、シート状となる。また、板部材２３によって、各層８の膜厚を一定にすることが容易となる。
【００３７】
本実施形態の製造方法で用いられる材料、つまり、未架橋状態にある粉末状ゴム７は、粉末状（粉体状）である。そこで、本実施形態の製造方法は、層形成工程で用いるための未架橋状態にある粉末状ゴム７を製造する準備工程を更に備える。この準備工程では、未加硫状態のゴム塊を冷凍粉砕することで、未架橋状態にある粉末状ゴム７が製造される。この準備工程により、様々な種類のゴム材料を、粉末状にすることが容易となる。未架橋状態のゴム塊を例えば液体窒素等によって冷凍し、その後、粉末状に粉砕することが可能であれば、材料とするゴムの種類は、ＦＥＰＭ以外であってもよく、様々な種類のゴム材料が採用される。また、冷凍によって未架橋状態のゴム塊となり、このゴム塊を粉砕することで、粉末状ゴム７を製造してもよい。
【００３８】
以上より、本実施形態の積層造形装置１０、及びこの積層造形装置１０が行うゴム成形品の製造方法によれば、様々な種類のゴム材料を適用可能であり、しかも、積層造形によることで、内部構造に自由度をもたせてゴム成形品（例えば、誘電エラストマー構造体）を製造することが可能となる。本実施形態によれば、小ロット生産に対応することができ、また、複雑な形状を有する製品の成形に効果的である。
【００３９】
前記実施形態では、反応用機構１３がレーザ装置である場合について説明したが、その他であってもよい。また、粉末状ゴム７は熱架橋型以外であってもよい。例えば紫外線架橋型の粉末状ゴム７であってもよい。この場合、反応用機構１３は紫外線照射装置である。また、供給機構１２が貯留部１１及び吐出ヘッド２２等を備える構成である場合について説明したが、他の構成であってもよい。前記実施形態では、反応用機構１３が、レーザの照射部の温度を計測しながらレーザ出力を調整可能な温度検出型のレーザ装置である場合について説明したが、温度の計測は、レーザ装置と別であるセンサによって行われてもよい。
【００４０】
今回開示した実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の権利範囲は、上述の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲の範囲に記載された構成と均等の範囲内でのすべての変更が含まれる。
【符号の説明】
【００４１】
６：不完全層            ７：粉末状ゴム            ８：層
９：作業領域            １０：積層造形装置        １２：供給機構
１３：反応用機構        １４：制御装置            ２３：板部材
Ｌ：レーザ
【図１】
2020023062.tif 000003
【図２】
2020023062.tif 000004
【図３】
2020023062.tif 000005
【図４】
2020023062.tif 000006
【図５】
2020023062.tif 000007
【図６】
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