【事件の表示】
　特許第６６６３０７９号発明「金被覆銀平板状粒子、金被覆銀平板状粒子分散液及びその製造方法、塗布膜、並びに、反射防止光学部材」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６６６３０７９号の明細書、特許請求の範囲を、令和３年２月１２日付けの訂正請求書に添付された訂正明細書、令和３年５月１４日付け手続補正書に添付された補正後の訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１−１３〕について訂正することを認める。
　特許第６６６３０７９号の請求項１−５、１１に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許第６６６３０７９号（以下、「本件特許」という。）の請求項１〜１３に係る特許についての出願（以下、「本願」という。）は、２０１８年（平成３０年）３月６日（優先権主張２０１７年３月３１日、日本国）を国際出願日とする特願２０１９−５０９１１０号であって、令和２年２月１７日にその特許権の設定登録がされ、同年３月１１日に特許掲載公報が発行され、その後、本件特許について、同年９月１０日付けで、特許異議申立人金山愼一（以下、「申立人」という。）により、請求項１〜５、１１に係る特許について特許異議の申立てがなされ、同年１２月１４日付けで取消理由が通知され、特許権者から令和３年２月１２日に意見書が提出されるとともに、訂正請求書が提出され（以下、「本件訂正請求書」といい、本件訂正請求書による訂正請求を「本件訂正請求」という。）、同年４月１２日付けで訂正拒絶理由通知書が通知され、特許権者により同年５月１４日に意見書が提出されるとともに、本件訂正請求書に対して手続補正がなされ、申立人により同年７月１日に意見書が提出されたものである。
第２　訂正の適否についての判断
１　本件訂正請求書に対する補正の適否
（１）補正の内容
　令和３年５月１４日になされた手続補正は、本件訂正請求書を補正するものであって、そのうち、「７．請求の理由」「（２）訂正事項」に係る補正は以下のとおりである。
　ア　訂正請求書の「７．請求の理由」「（２）訂正事項」の「ア　訂正事項１」に、
「特許請求の範囲の請求項１に「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり」と記載されているのを、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが
０．４
０．１以上１．４以下
「特許請求の範囲の請求項１に「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり」と記載されているのを、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが
０．４
０．２以上１．４以下
　イ　訂正請求書の「７　請求の理由」「（２）訂正事項」の「イ　訂正事項２」に、
「特許請求の範囲の請求項２に「平均厚みの比が０．０２以上」と記載されているのを、「平均厚みの比が
０．１以上１．４以下
「特許請求の範囲の請求項２に「平均厚みの比が０．０２以上」と記載されているのを、「平均厚みの比が
０．２以上１．４以下
　ウ　なお、前記ア〜イの補正に合わせて「訂正特許請求の範囲」も補正後のものが添付されている。
（２）補正の適否
　上記（１）ア、イの補正は、請求項１及び請求項２の「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」の範囲を減縮する、実質的に審理対象の拡張変更を伴わない補正であるから、訂正請求書の要旨を変更するものには該当しない。
　したがって、上記（１）ア、イの補正を認める。
２　訂正請求の趣旨及び訂正の内容
（１）訂正請求の趣旨
　令和３年５月１４日付け手続補正書により補正された本件訂正請求による訂正（以下「本件訂正」という。）は、「特許第６６６３０７９号の明細書、及び特許請求の範囲を、本件訂正請求書に添付した訂正明細書（以下、単に「訂正明細書」という。）、及び令和３年５月１４日付け手続補正書に添付された補正後の訂正特許請求の範囲（以下、単に「補正後の訂正特許請求の範囲」という。）のとおり、訂正後の請求項１〜１３について訂正することを求める」というものであり、その訂正の内容は、下記（２）のとおりである。なお、当該第２の２では、下線は訂正した箇所を表す。
（２）訂正の内容
　ア　訂正事項１
　特許請求の範囲の請求項１に「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり」と記載されているのを、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが
０．４
０．２以上１．４以下
　イ　訂正事項２
　特許請求の範囲の請求項２に「平均厚みの比が０．０２以上」と記載されているのを、「平均厚みの比が
０．２以上１．４以下
　ウ　訂正事項３
　願書に添付した明細書の段落【０１９８】の表２において、表中に記載される「実施例１〜実施例１８」及び「比較例１〜比較例６」に関する事項のうち、
「実施例７〜実施例１１」及び「比較例５」に関する事項を削除
　エ　訂正事項４
　願書に添付した明細書の段落【０１７９】において、「［実施例２〜１４、比較例５〜６］」と記載されているのを、「［実施例２〜
６、１２〜１４
６
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１４
Ｃ６
　オ　訂正事項５
　願書に添付した明細書の段落【０１８８】において、「分散液Ｂ１〜Ｂ１８、及び分散液Ｃ１〜Ｃ６」と記載されているのを「分散液Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８
Ｃ４、Ｃ６
　願書に添付した明細書の段落【０１８９】において、「分散液Ｂ１〜Ｂ１８、及び分散液Ｃ１〜Ｃ６」と記載されているのを「分散液Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８
Ｃ４、Ｃ６
　願書に添付した明細書の段落【０１９２】、【０１９４】、及び【０１９５】において、「分散液Ｂ１〜Ｂ１８、及び分散液Ｃ１〜Ｃ６」と記載されているのを「分散液Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８、
Ｃ４、Ｃ６
　願書に添付した明細書の段落【０１９５】において、「分散液Ｂ１〜Ｂ１３（当審注：Ｂ１３はＢ１８の誤記と認められる。）、及び分散液Ｃ１〜Ｃ６」と記載されているのを「分散液Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８、
Ｃ４、Ｃ６
　カ　訂正事項６
　願書に添付した明細書の段落【０１９９】において、「実施例１〜１８で作製した分散液Ｂ１〜Ｂ１８」と記載されているのを、「実施例１〜
６、１２〜１８
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８
　キ　訂正事項７
　願書に添付した明細書の段落【０２１８】の表４において、表中に記載される「実施例１９〜実施例３８」及び「比較例７〜比較例９」に関する事項のうち、
「実施例２５〜実施例２９」及び「比較例１１」に関する事項を削除
　ク　訂正事項８
　願書に添付した明細書の段落【０２０４】において、「［実施例２０〜３１、３６〜３８、比較例７〜１２］」と記載されているのを、「［実施例２０〜
２４、３０
１０、１２
　「実施例１９において、分散液Ｂ１に換えて、分散液Ｂ２〜Ｂ１４、Ｂ１７〜１８及び分散液Ｃ１〜Ｃ６のいずれかの分散液を用いた以外は、実施例１９と同様にして、塗布液Ｂ２〜Ｂ１３、１４〜１６及び塗布液Ｃ１〜Ｃ６を調製した。」と記載されているのを、「実施例１９において、分散液Ｂ１に換えて、分散液Ｂ２〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１６
Ｃ４、Ｃ６
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１６
　「実施例１９と同様にして塗布膜Ｂ１〜Ｂ１３、１８〜２０及び塗布膜Ｃ１〜Ｃ６を形成した。」と記載されているのを、「実施例１９と同様にして塗布膜Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１３、Ｂ１８〜Ｂ２０
Ｃ４、Ｃ６
　ケ　訂正事項９
　願書に添付した明細書の段落【０２１８】の表４において、表中に「塗布液Ｎｏ．」と記載されている箇所を
「分散液Ｎｏ．」に訂正
　コ　訂正事項１０
　願書に添付した明細書の段落【０２０５】において、「分散液Ｂ１に換えて分散液Ｂ３を用い、」と記載されているのを、「分散液Ｂ１に換えて分散液
Ｂ６
　段落【０２１８】の表４中、実施例３２に用いる分散液の表示を「Ｂ３」から
「Ｂ６」
　サ　訂正事項１１
　願書に添付した明細書の段落【０２０６】において、「実施例１９において、特定有機成分１（１−（５−メチルウレイドフェニル）−５−メルカプトテトラゾール）に換えて、」と記載されているのを、「実施例１９において、
分散液Ｂ１に換えて分散液Ｂ６を用い、
　段落【０２１８】の表４中、実施例３３、３４及び３５のそれぞれにおいて、「Ｂ３」と記載されている箇所を
「Ｂ６」
　シ　訂正事項１２
　願書に添付した明細書の段落【０２１０】において、「塗布膜Ｂ１〜Ｂ２０「及び塗布膜Ｃ１〜Ｃ６」と記載され、段落【０２１５】において、「塗布膜Ｂ１〜Ｂ２０及び塗布膜Ｃ１〜Ｃ６」と記載されているのを、いずれも、「塗布膜Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ２０
Ｃ４、Ｃ６
　ス　訂正事項１３
　願書に添付した明細書の段落【０２２１】において、「塗布膜Ｂ１〜Ｂ２０」と記載されるのを、「塗布膜Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ２０
　セ　訂正事項１４
　願書に添付した明細書の段落【０２２５】において、「実施例１６で作製した塗布液Ｂ３を、」と記載されるのを、「実施例
２１
３　当審の判断
　ア　訂正事項１について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項１に係る訂正は、請求項１に記載の「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」を「０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下」から「０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下」に限定し、かつ、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」を「０．０２以上」から「０．２以上１．４以下」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項１に係る訂正は、請求項１に記載の「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」及び「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」を限定するものであるから、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　本件特許の明細書には、以下の記載がある。
「【０１９８】
【表２】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　上記【０１９８】の表２には、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」である金被覆層の主平面厚み（Ａ）が０．４ｎｍである金被覆銀平板状粒子（実施例１、６）、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」である金被覆層の厚み比［Ａ／Ｂ］が０．２である金被覆銀平板状粒子（実施例１６）、及び、同［Ａ／Ｂ］が１．４である金被覆銀平板状粒子（実施例１２）が記載されている。
　したがって、訂正事項１に係る訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入するものではなく、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものである。
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項１に係る訂正は、上記（ア）に示したとおり、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当するが、本件は、訂正前の請求項１〜５、１１のみに対して特許異議の申立てがされているので、訂正事項１について、訂正後の請求項１〜５、１１に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
　一方、特許異議の申立てがされていない請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、訂正後の請求項１を間接的に引用する発明であり、請求項１の訂正に連動して訂正がなされているので独立特許要件が課されることになる。
　したがって、訂正後の請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明が、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて、検討を行う。
（エ−１）本件訂正後発明
　訂正後の請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、訂正後の請求項１を間接的に引用する発明であり、訂正後の請求項１に係る発明は、補正後の訂正特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるものと認められるところ、その請求項１の記載は以下のとおりのものである。
「銀平板状粒子と金被覆層とを有し、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である、金被覆銀平板状粒子。」
（エ−２）特許法第３６条第４項第１号に規定する実施可能要件について
　上記２（２）アに記載したとおり、訂正事項１は請求項１の記載の訂正であるから、令和３年４月１２日付けの訂正拒絶理由通知書の「第２　訂正の適否についての当審の判断」の「（１）訂正事項１について」の「エ　特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて」の「（イ）特許法第３６条第４項第１号に規定する実施可能要件について」（６頁８行〜２３行）で説明した訂正拒絶理由が解消しているかを検討する。
　特許権者は、訂正事項３及び訂正事項７により、本件特許の明細書における実施例及び比較例に関する事項のうち、「実施例７〜実施例１１」、「比較例５」、「実施例２５〜実施例２９」、「比較例１１」に関する事項を削除するとともに、上記訂正拒絶理由通知書に対し、特許権者が手続補正と同時に提出した意見書において、「詳細には、本件特許明細書の段落【０１９８】に記載される表２において、実施例７と比較例５、実施例８と実施例１０、実施例９と実施例１１は、錯誤により不適切な実験結果が記載されてしまっていたため、分散液の作製条件が同一となっており、これらの実施例及び比較例の存在は、表２の記載が意図する事項（即ち、分散液の種類とそれにより得られる金被覆銀平板状粒子の形状）に齟齬を来し、表２の記載を不明瞭にするものであることから、表２から実施例７〜実施例１１及び比較例５に関する事項を削除した。」（３頁）と説明しているから、当該削除の合理的理由を説明していると認められる。
　また、本件訂正後の明細書の段落【０１６９】〜【０１７８】において、訂正後の請求項１に係る発明の金被覆銀平板状粒子の作製方法が詳細に説明されており、段落【０１９８】の表２に記載の各実施例及び比較例についても、粒子の分散液の作製条件の変動と、得られる金被覆銀平板状粒子における「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」及び「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」との相関が示されているといえるから、本件訂正の訂正明細書の発明の詳細な説明は、当業者が訂正後の請求項１に係る発明及びこれを引用する同請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明を実施することができる程度に、明確かつ十分に記載されたものといえる。
（エ−３）特許法第３６条第６項第１号に規定するサポート要件について
　令和３年４月１２日付けの訂正拒絶理由通知書の「第２　訂正の適否についての当審の判断」の「（１）訂正事項１について」の「エ　特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて」の「（ウ）特許法第３６条第６項第１号に規定するサポート要件について」（６頁２４行〜８頁１５行）で説明した訂正拒絶理由が解消しているかを検討する。
　令和２年１２月１４日付けの取消理由通知書の「第４　取消理由」の「３　特許法第３６条第６項第１号に規定するサポート要件について（職権で採用）」のア〜イ（２０頁７行〜２１頁１９行）に記載したとおり、本件特許に係る発明が解決しようとする課題（以下単に「課題」という。）は、「所望の粒子形状を保ったまま」「銀平板状粒子の全面（すなわち、粒子の主平面及び端面の全て）に対して均一かつ十分な金被覆」を行って、「酸化耐性に優れた金被覆銀平板状粒子及び金被覆銀平板状粒子を含む分散液」及び「酸化耐性に優れた塗布膜」を提供することであると認められる。
　上記課題に対して、訂正後の請求項１では、金被覆銀平板状粒子の「金被覆層」について次のように特定されている。
「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である」
　訂正明細書の【０１９８】の表２において、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」は「主平面厚み（Ａ）」の欄に、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」は「厚み比［Ａ／Ｂ］」の欄に示されている。
　表２の実施例１〜１８のうち、実施例１〜６、１２、１５〜１８で作製した分散液Ｂ１〜Ｂ６、Ｂ１２、Ｂ１５〜Ｂ１８が含む金被覆銀平板状粒子は、「主平面厚み（Ａ）」及び「厚み比［Ａ／Ｂ］」の値が両方とも訂正後の請求項１の数値範囲を満たし、該粒子を有する分散液Ｂ１〜Ｂ６、Ｂ１２、Ｂ１５〜Ｂ１８は実用上問題ない酸化耐性（評価レベルＡ、Ｂ）を有することが示されている。
（なお、実施例７〜１１、１３〜１４については、次の理由により除外した。
・実施例７、９〜１０で作製した分散液Ｂ７、Ｂ９〜Ｂ１０が含む金被覆銀平板状粒子は、「厚み比［Ａ／Ｂ］」の値が訂正後の請求項１の数値範囲を満たさず、訂正事項３により削除されている。
・実施例８、１１で作製した分散液Ｂ８、Ｂ１１が含む金被覆銀平板状粒子は、「主平面厚み（Ａ）」及び「厚み比［Ａ／Ｂ］」の値が両方とも訂正後の請求項１の数値範囲を満たすが、訂正事項３により削除されている。
・実施例１３、１４で作製した分散液Ｂ１３〜Ｂ１４が含む金被覆銀平板状粒子は、「主平面厚み（Ａ）」及び「厚み比［Ａ／Ｂ］」の値が両方とも訂正後の請求項１の数値範囲を満たさない。）
　ここで、訂正後の請求項１の「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」の下限値「０．２」に注目すると、表２の実施例１〜６、１２、１５〜１８で最も「厚み比［Ａ／Ｂ］」の値が小さいのは実施例１６でその値は「０．２」であるから、金被覆銀平板状粒子の金被覆層が、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が０．２以上１．４以下の場合には、課題を解決し得ることが確認できる。
　したがって、訂正後の請求項１に係る発明は、実施例の記載に基いて課題を解決し得るものであり、本件訂正明細書に開示された発明の範囲を超えるものではなく、発明の詳細な説明に記載されたものである。訂正後の請求項１を直接的又は間接的に引用する訂正後の請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明についても同様である。
　なお、令和３年７月１日付けの申立人による意見書の５〜１３頁の「訂正後の請求項１及びこれを引用する請求項６〜１０、１２〜１３には、サポート要件違反がある」との主張は、以下の点で採用することができない。
・同意見書の６〜７頁の「ア　訂正後の【表２】において、金被覆銀平板状粒子が記載されている唯一の比較例である比較例６は、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、」及び「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である、」の双方を満たさないものであること」及び同意見書の７〜８頁の「イ　【表２】には、比較例が１つしかなく、しかもその端面厚みが極端な厚みであること」での主張は、訂正後の明細書（【表２】）では、実施例のすべてが「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、」及び「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である、」の双方を満たし、唯一の比較例であり端面厚みが１０．１ｎｍと極端に厚い比較例６は「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、」及び「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である、」の双方を満たさないものとなった結果、本件明細書の記載からは、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」や「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が酸化耐性の評価にどのような影響を与えるのかを読み取ることはできないというものである。
　しかし、訂正後の請求項１に係る発明は、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、」及び「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である、」の双方の特定事項を満たすことで、実用上問題のない酸化耐性を有する金被覆銀平板状粒子を提供する発明であるから、それぞれの特定事項の一方のみを満たすことが酸化耐性に与える影響を読み取る必要があるとは認められない。
　よって、この主張は採用できない。
・同意見書の８〜１０頁の「ウ　厚さの比と酸化耐性の評価の関係が不明であり、しかも、実施例１４・比較例６と実施例５・実施例１６とでは、厚さの比の増減が酸化耐性の評価に与える影響が異なっていること」での主張は、実施例１４・比較例６と実施例５・実施例１６とでは、粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比の増減が酸化耐性の評価に与える影響が逆になっていること、実施例１４と実施例５は、いずれも粒子の端面における金被覆層の平均厚みが１．０〜１．１ｎｍとほぼ同じであるが、粒子の主平面における金被覆層の平均厚み及び酸化耐性の評価は、実施例１４は０．１１ｎｍ、「Ｂ」であるのに対し、実施例５は０．６ｎｍ、「Ｂ」となっており、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みを変化させても酸化耐性が向上しない結果となっていることから、粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が、課題を解決する手段とはなり得ないというものである。
　しかし、本件明細書の表２には、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、」と「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である、」の双方を満たす実施例では、実用上問題のない酸化耐性である「Ａ」又は「Ｂ」を有する金被覆銀平板状粒子が得られているから、一方の特定事項だけでなく双方の特定事項を満たすことが、課題を解決する手段であることがわかり、課題を解決する手段を検討する際に、一方のみの特定事項と酸化耐性が相関していることを示す必要があるとはいえない。
　また、本件明細書の【０１９４】〜【０１９６】の「（３）酸化耐性（耐Ｈ２Ｏ２性）評価」の記載から、「Ｈ２Ｏ２の含有量が０質量％の評価用サンプルと３質量％の評価用サンプルとの吸収ピーク強度　ＡＭ（Ａｂｓ．Ｍａｘ）（０％）及びＡＭ（３％）を求め、その強度比：ＡＭ（３％）／ＡＭ（０％）」が「０．７以上０．９未満」の範囲内であれば酸化耐性の評価は「Ｂ」である。すなわち、その強度比には幅があるため、実施例１４と実施例５の酸化耐性の評価が同じ「Ｂ」であるからといって、強度比が同一であり酸化耐性が向上しない結果になっているとはいうことはできない。
　よって、この主張は採用できない。
・同意見書の１０頁の「エ　訂正後の請求項１の全範囲において、酸化耐性の評価「Ｂ」以上が得られることを本件明細書から理解することはできないこと」での主張は、実施例５と実施例１６の「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」と酸化耐性の評価を比較することから、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」を増加させることにより、酸化耐性が悪化するということを前提とできるとき、実施例１（主平面の平均厚み：０．４ｎｍ、厚み比０．４、酸化耐性「Ｂ」）の厚み比を１．４まで増加させると、酸化耐性が「Ｃ」まで悪化する可能性があるため、訂正後の請求項１の全範囲（「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、」及び「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である、」）において、実用上問題のない酸化耐性である「Ｂ」以上が得られることを本件明細書から理解することはできないというものである。
　しかし、訂正後の請求項１に係る発明は、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、」及び「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である、」の双方の特定事項を満たすことで、実用上問題のない酸化耐性を有する金被覆銀平板状粒子を提供する発明であり、一方の特定事項と酸化耐性が相関性を有することは不明であるから、実施例５と実施例１６の比較から上記前提が成り立つとは認められない。
　また、当該前提が成り立つとしても、実施例１の粒子の主平面における金被覆層の平均厚みはそのままで、粒子の端面における金被覆層の平均厚みだけを１．０ｎｍから０．２８ｎｍに減少させる（「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」を０．４から１．４に増加させる）ことが可能であるとも認められない。
　よって、この主張は採用できない。
・同意見書の１０〜１１頁の「オ　【表２】に記載されていない要因が存在すること」での主張は、実施例７と比較例５、実施例８と実施例１０、実施例９と実施例１１は、粒子分散液の作製条件が完全に同一であるにもかかわらず、得られた金被覆銀平板状粒子の形状が異なっていることから、表２には、粒子分散液の作製条件や金被覆銀平板状粒子の物性や構造が十分に記載されていない可能性があるので、本件明細書の実施例、比較例の金被覆銀平板状粒子の酸化耐性の評価には、これらの表２に記載されていない金被覆銀平板状粒子の物性や構造等が影響を与えている可能性があるというものである。
　しかし、申立人は、表２に記載されていない作製条件及び物性値が存在することについて具体的な根拠を示していないため、そのような作製条件及び物性値が存在し、酸化耐性の評価に影響を与えているとは認められない。
　よって、この主張は採用できない。
・同意見書の１１〜１２頁の「カ　金原子の配置に分布があったり、配置構造に差異があったりすることが考えられること」での主張は、金原子の直径は０．２８８ｎｍ（原子半径：１．４４Å）である（甲１５）のに対し、実施例１４や比較例６の粒子の主平面における金被覆層の厚さは０．１ｎｍであり、金原子の直径の約３分の１であることから、実施例１４や比較例６では、金原子が粒子の主平面を一様に覆う被膜を形成しているわけではなく、金原子が付着している箇所と付着していない箇所が存在することは明らかであって、その平均の厚みが０．１ｎｍであるとしても、金原子の配置に分布があったり、配置構造に差異があったりすることが想定され、その分布や配置構造の差異が、酸化耐性の評価に影響を与えたことは十分に考えられること、そして、そのような表２には記載されていない金原子の配置の分布や配置構造などの要因を度外視して、訂正後の請求項１の全範囲（「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、」及び「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である、」）において、実用上問題のない酸化耐性である「Ｂ」以上が得られることを本件明細書から理解することはできないというものである。
　これに対し、金の原子半径は１．４４Åであるから（申立人が同意見書に添付した甲第１５号証：岩波理化学辞典第３版増補版、玉虫文一他編、株式会社岩波書店、１９８６年７月１５日第３版増補版第７刷発行の「金」の項を参照）、金原子の直径は１．４４×２＝２．８８Å＝０．２８８ｎｍであり、０．２８８ｎｍより厚さが小さい金被覆層は、金原子が部分的に配置されていないように分布している可能性は存在する。
　しかしながら、本件明細書の表２からは、厚みの平均値が特定事項の数値範囲内であれば、酸化耐性の評価が実用上問題のない程度の金被覆銀平板状粒子といえることがわかるから、金原子の配置の分布や配置構造が酸化耐性の評価に与える影響について考慮する必要があるとは認められない。
　よって、この主張は採用できない。
（エ−４）小括
　よって、（エ−１）〜（エ−３）の検討の結果、訂正後の請求項１を間接的に引用する訂正後の請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明が、特許出願の際に独立して特許を受けることができないとする理由は発見できない。
　イ　訂正事項２について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項２に係る訂正は、請求項２に記載の「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」を「０．０２以上」から「０．２以上１．４以下」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項２に係る訂正は、請求項２に記載の「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」を限定するものであるから、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　上記ア（ウ）と同様に、訂正事項２に係る訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入するものではなく、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものである。
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項２に係る訂正は、上記（ア）に示したとおり、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当するが、本件は、訂正前の請求項１〜５、１１のみに対して特許異議の申立てがされているので、訂正事項２について、訂正後の請求項２〜５、１１に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
　一方、特許異議の申立てがされていない請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、訂正後の請求項２を間接的に引用する発明であり、独立特許要件が課されることになる。
　したがって、訂正後の請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明が、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて、検討を行う。
（エ−１）本件訂正後発明
　訂正後の請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、訂正後の請求項２を間接的に引用する発明であり、訂正後の請求項２に係る発明は、訂正特許請求の範囲の請求項２に記載された事項により特定されるものと認められるところ、その請求項２の記載は以下のとおりのものである。
「主平面における金被覆層の平均厚みが０．７ｎｍ以上１．５ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である、請求項１に記載の金被覆銀平板状粒子。」　
（エ−２）特許法第３６条第４項第１号に規定する実施可能要件について
　上記ア（エ−２）で検討したように、本件特許の明細書の発明の詳細な説明は、当業者が訂正後の請求項２に係る発明及びこれを引用する同請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明を実施することができる程度に、明確かつ十分に記載されたものである。
（エ−３）特許法第３６条第６項第１号に規定するサポート要件について
　上記ア（エ−３）で検討したように、訂正後の請求項１に係る発明は、本件訂正明細書に開示された発明の範囲を超えるものではなく、発明の詳細な説明に記載されたものである。訂正後の請求項２を直接的又は間接的に引用する訂正後の請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明についても同様である。
　よって、（エ−１）〜（エ−３）の検討の結果、訂正後の請求項２を間接的に引用する訂正後の請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものである。
　ウ　訂正事項３について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項３に係る訂正は、明細書の段落【０１９８】の表２において、実施例７と比較例５、実施例８と実施例１０、実施例９と実施例１１は、それぞれ、分散液の作製条件が同一となっているにもかかわらず「酸化耐性」及び「粒子生産性」の評価が異なっており、これらの実施例及び比較例の存在は、表２の記載が意図する事項（即ち、分散液の種類とそれにより得られる金被覆銀平板状粒子の形状と効果）に齟齬を来し、表２の記載を不明瞭にするものであるから、表２において実施例７〜１１及び比較例５に関する事項を削除する訂正であって、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項３に係る訂正は、表２から実施例７〜１１及び比較例５に関する事項を削除する訂正であり、請求項に記載された事項の解釈に影響を与えるものではないから、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　訂正事項３に係る訂正は、表２から実施例７〜１１及び比較例５に関する事項を削除する訂正であり、当該削除により新たな技術事項が明細書中に導入されるものではないから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものである。
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項３に係る訂正は、上記（ア）に示したとおり、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当するから、訂正事項３について、訂正後の請求項１〜１３に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
（オ）申立人の主張について
　申立人は、令和３年７月１日付けの意見書の４〜５頁において、「訂正前の段落【０１９８】の表２は、実施例７と比較例５、実施例８と実施例１０、実施例９と実施例１１は、それぞれ粒子分散液の作製条件が完全に同一であるのもかからず、得られた金被覆銀平板状粒子の形状（粒子の主平面における金被覆層の平均厚み（Ａ）、及び、粒子の端面における金被覆層の平均厚み（Ｂ）（さらには、粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比（Ａ／Ｂ））が異なっており、本件明細書の実施例、比較例の分散液は、【表２】に記載されていない粒子分散液の作製条件を異ならせて作製されたものであり、これらの分散液で得られた金被覆銀平板状粒子も、【表２】に記載されていない物性や構造の点でも、異なっている（金粒子の積層態様等）ことを理解できる内容であった。
　ところが、訂正後の段落【０１９８】の表２では、実施例７〜１１、比較例５が削除されており（訂正事項３）、本件明細書の実施例、比較例の分散液が、【表２】に記載されていない粒子分散液の作製条件を異ならせて作製されたものであり、これらの分散液で得られた金被覆銀平板状粒子も、【表２】に記載されていない物性や構造の点でも、異なっている（金粒子の積層態様等）ことが覆い隠されている。
　よって、訂正事項３は、明瞭でない記載の釈明を目的とするものではなく、また、新たな技術的事項を導入するものであって、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものでもない。」と主張している。
　これに対し、上記アの（エ−３）で記載したとおり、表２には記載されていない製造条件や物性が存在する可能性は否定できないものの、それらが存在するとも認められないから、「本件明細書の実施例、比較例の分散液は、【表２】に記載されていない粒子分散液の作製条件を異ならせて作製されたものであり、これらの分散液で得られた金被覆銀平板状粒子も、【表２】に記載されていない物性や構造の点でも、異なっている（金粒子の積層態様等）」とは認められない。
　エ　訂正事項４について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項４に係る訂正は、上記訂正事項３に係る訂正に伴い、明細書の段落【０１７９】の記載から、表２において削除された実施例７〜１１及び比較例５及びこれらに使用された分散液に関する部分を削除して、表２と当該段落の記載との整合を図るための訂正であるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項４に係る訂正は、上記訂正事項３に係る訂正に伴い、明細書の段落【０１７９】の記載から、表２において削除された実施例７〜１１及び比較例５に対応する事項を削除するものであり、請求項に記載された事項の解釈に影響を与えるものではないから、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　訂正事項４に係る訂正は、上記訂正事項３に係る訂正に伴い、明細書の段落【０１７９】の記載から、表２中において削除された実施例７〜１１及び比較例５に対応する事項を削除するものであり、当該削除により新たな技術事項が明細書中に導入されるものではないから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものである。
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項４に係る訂正は、上記（ア）に示したとおり、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当するから、訂正事項４について、訂正後の請求項１〜１３に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
　オ　訂正事項５について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項５に係る訂正は、上記訂正事項３に係る訂正に伴い、明細書の段落【０１８８】、【０１８９】、【０１９２】、【０１９４】、及び【０１９５】の記載から、表２において削除された実施例７〜１１及び比較例５に使用された分散液に関する部分を削除して、表２と当該段落の記載との整合を図るための訂正であるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項５に係る訂正は、上記訂正事項３に係る訂正に伴い、明細書の段落【０１８８】、【０１８９】、【０１９２】、【０１９４】、及び【０１９５】の記載から、表２において削除された実施例７〜１１及び比較例５に対応する事項を削除するものであり、請求項に記載された事項の解釈に影響を与えるものではないから、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　訂正事項５に係る訂正は、上記訂正事項３に係る訂正に伴い、明細書の段落【０１８８】、【０１８９】、【０１９２】、【０１９４】、及び【０１９５】の記載から、表２において削除された実施例７〜１１及び比較例５に対応する事項を削除するものであり、当該削除により新たな技術事項が明細書中に導入されるものではないから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものである。
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項５に係る訂正は、上記（ア）に示したとおり、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当するから、訂正事項５について、訂正後の請求項１〜１３に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
　カ　訂正事項６について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項６に係る訂正は、上記訂正事項３に係る訂正に伴い、明細書の段落【０１９９】の記載から、表２において削除された実施例７〜１１及び比較例５に使用された分散液に関する部分を削除して、表２と当該段落の記載との整合を図るための訂正であるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項６に係る訂正は、上記訂正事項３に係る訂正に伴い、明細書の段落【０１９９】の記載から、表２において削除された実施例７〜１１及び比較例５に対応する事項を削除するものであり、請求項に記載された事項の解釈に影響を与えるものではないから、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　訂正事項６に係る訂正は、上記訂正事項３に係る訂正に伴い、明細書の段落【０１９９】の記載から、表２において削除された実施例７〜１１及び比較例５に対応する事項を削除するものであり、当該削除により新たな技術事項が明細書中に導入されるものではないから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものである。
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項６に係る訂正は、上記（ア）に示したとおり、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当するから、訂正事項６について、訂正後の請求項１〜１３に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
　キ　訂正事項７について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項７に係る訂正は、明細書の段落【０２１８】の表４において、実施例７と比較例５、実施例８と実施例１０、実施例９と実施例１１において作製した分散液（すなわち、分散液Ｂ７〜Ｂ１１、分散液Ｃ５）を使用した実施例２５〜２９及び比較例１１の存在は、表４の記載が意図する事項（即ち、分散液の種類とそれにより得られる金被覆銀平板状粒子の形状と効果）に齟齬を来すものであるところ、表４から実施例２５〜２９及び比較例１１に関する事項を削除する訂正事項７は、上記齟齬を解消するものであるので、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項７に係る訂正は、明細書の段落【０２１８】の表４から実施例２５〜実施例２９及び比較例１１に関する事項を削除するものであり、請求項に記載された事項の解釈に影響を与えるものではないから、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　訂正事項７に係る訂正は、明細書の段落【０２１８】の表４から実施例２５〜実施例２９及び比較例１１に関する事項を削除するものであり、当該削除により新たな技術事項が明細書中に導入されるものではないから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものである。
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項７に係る訂正は、上記（ア）に示したとおり、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当するから、訂正事項７について、訂正後の請求項１〜１３に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
　ク　訂正事項８について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項８に係る訂正は、上記訂正事項７に係る訂正に伴い、明細書の段落【０２０４】の記載から、表４において削除された実施例２５〜実施例２９及び比較例１１に関する分散液、塗布液、塗布膜に関する部分を削除して、表４と当該段落の記載との整合を図るための訂正であるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項８に係る訂正は、上記訂正事項７に係る訂正に伴い、明細書の段落【０２０４】の記載から、表４において削除された実施例２５〜実施例２９及び比較例１１に対応する事項を削除するものであり、請求項に記載された事項の解釈に影響を与えるものではないから、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　訂正事項８に係る訂正は、上記訂正事項７に係る訂正に伴い、明細書の段落【０２０４】の記載から、表４において削除された実施例２５〜実施例２９及び比較例１１に対応する事項を削除するものであり、当該削除により新たな技術事項が明細書中に導入されるものではないから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものである。
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項８に係る訂正は、上記（ア）に示したとおり、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当するから、訂正事項８について、訂正後の請求項１〜１３に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
　ケ　訂正事項９について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項９に係る訂正は、明細書の段落【０２１８】の表４において、表中に「塗布液Ｎｏ．」と記載されている箇所を「分散液Ｎｏ．」に訂正するものであり、誤記又は誤訳の訂正を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項９に係る訂正は、特許請求の範囲に記載された事項の解釈に影響を与えるものではなく、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　表４において「塗布液Ｎｏ．」を表題とする欄は、「使用した粒子分散液」中の一項目であり、この「使用した粒子分散液」中の「錯化剤」、「端面吸着剤」、「Ａｇ濃度」、「Ａｕ濃度」の値と、表２に記載される各分散液の「粒子分散液の作製条件」中の「錯化剤」、「端面吸着剤」、「Ａｇ濃度」、「Ａｕ濃度」の値は、表４の「塗布液Ｎｏ．」と表２の「分散液Ｎｏ．」が同じ表示のもので一致しているから、表４の「塗布液Ｎｏ．」とある箇所は「分散液Ｎｏ．」と記載すべき誤記であることが明らかである。
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項９に係る訂正は、上記アに示したとおり、誤記又は誤訳の訂正を目的とするものに該当するが、本件は、訂正前の請求項１〜５、１１のみに対して特許異議の申立てがされているので、訂正事項９について、訂正後の請求項１〜５、１１に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
　一方、特許異議の申立てがされていない請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、訂正後の請求項１を間接的に引用する発明であり、独立特許要件が課されることになる。
　ここで、上記ア（エ）の（エ−２）〜（エ−３）で検討したように、本件特許の明細書の発明の詳細な説明は、当業者が訂正後の請求項１に係る発明及びこれを引用する同請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明を実施することができる程度に、明確かつ十分に記載されたものであり、訂正後の請求項１に係る発明及びこれを間接的に引用する同請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、本件訂正明細書に開示された発明の範囲を超えるものではなく、発明の詳細な説明に記載されたものであるから、訂正後の請求項１を間接的に引用する訂正後の請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものである。
　コ　訂正事項１０について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項１０に係る訂正は、明細書の段落【０２０５】において、「分散液Ｂ１に換えて分散液Ｂ３を用い、」と記載されているのを、「分散液Ｂ１に換えて分散液Ｂ６を用い、」に訂正し、段落【０２１８】の表４中、実施例３２に用いる分散液の表示を「Ｂ３」から「Ｂ６」に訂正するものであり、誤記又は誤訳の訂正を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項１０に係る訂正は、特許請求の範囲に記載された事項の解釈に影響を与えるものではなく、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　訂正前の本件特許の明細書には、以下のように記載されている。
「【０２０５】
［実施例３２］
　実施例１９において、分散液Ｂ１に換えて分散液Ｂ３を用い、かつ特定有機成分１を用いなかった以外は、実施例１９と同様にして、塗布液Ｂ１４を調製した。
　次いで、得られた塗布液を用いて、実施例１９と同様にして塗布膜Ｂ１４を形成した。」
「【０２１８】
【表４】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　上記ケ（ウ）で説明したとおり、表４の「塗布液Ｎｏ．」は「分散液Ｎｏ．」の誤記と認められるから、表４には、実施例３２において分散液Ｂ３を用いること、及び、当該実施例３２の「使用した粒子分散液」中の「錯化剤」の「種類」はＮａＳＯ３であり、「還元電位［Ｖ］」は０．１１Ｖであり、「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は３０ｍｍｏｌ／Ｌであり、「端面吸着剤」の「種類」はＣＴＡＣであり、「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は０．４６ｍｍｏｌ／Ｌであり、「Ａｇ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は４．５ｍｍｏｌ／Ｌであり、「Ａｕ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は２．８８ｍｍｏｌ／Ｌであることが示されているといえる。
　一方、表４によると、分散液Ｂ３を用いた実施例２１の「使用した粒子分散液」中の「錯化剤」の「種類」はＮａＳＯ３であり、「還元電位［Ｖ］」は０．１１Ｖであり、「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］は１５ｍｍｏｌ／Ｌであり、「端面吸着剤」の「種類」はＣＴＡＣであり、「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は０．４６ｍｍｏｌ／Ｌであり、「Ａｇ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は４．５ｍｍｏｌ／Ｌであり、「Ａｕ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は２．８８ｍｍｏｌ／Ｌであり、分散液Ｂ６を用いた実施例２４の「使用した粒子分散液」中の「錯化剤」の「種類」はＮａＳＯ３であり、「還元電位［Ｖ］」は０．１１Ｖであり、「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は３０ｍｍｏｌ／Ｌであり、「端面吸着剤」の「種類」はＣＴＡＣであり、「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は０．４６ｍｍｏｌ／Ｌであり、「Ａｇ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は４．５ｍｍｏｌ／Ｌであり、「Ａｕ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は２．８８ｍｍｏｌ／Ｌであることから、実施例３２で用いるのは分散液Ｂ３ではなく、「使用した粒子分散液」中の「錯化剤」の「種類」、「還元電位［Ｖ］」及び「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」、「端面吸着剤」の「種類」及び「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」、「Ａｇ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」、「Ａｕ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」の全てが同じである分散液Ｂ６であることが明らかである。
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項１０に係る訂正は、上記アに示したとおり、誤記又は誤訳の訂正を目的とするものに該当するが、本件は、訂正前の請求項１〜５、１１のみに対して特許異議の申立てがされているので、訂正事項１０について、訂正後の請求項１〜５、１１に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
　一方、特許異議の申立てがされていない請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、訂正後の請求項１を間接的に引用する発明であり、独立特許要件が課されることになる。
　ここで、上記ア（エ）の（エ−２）〜（エ−３）で検討したように、本件特許の明細書の発明の詳細な説明は、当業者が訂正後の請求項１に係る発明及びこれを引用する同請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明を実施することができる程度に、明確かつ十分に記載されたものであり、訂正後の請求項１に係る発明及びこれを間接的に引用する同請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、本件訂正明細書に開示された発明の範囲を超えるものではなく、発明の詳細な説明に記載されたものであるから、訂正後の請求項１を間接的に引用する訂正後の請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものである。
　サ　訂正事項１１について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項１１に係る訂正は、明細書の段落【０２０６】において、「実施例１９において、特定有機成分１（１−（５−メチルウレイドフェニル）−５−メルカプトテトラゾール）に換えて、」と記載されているのを、「実施例１９において、分散液Ｂ１に換えて分散液Ｂ６を用い、特定有機成分１（１−（５−メチルウレイドフェニル）−５−メルカプトテトラゾール）に換えて、」に訂正し、段落【０２１８】の表４中、実施例３３、３４及び３５のそれぞれにおいて、「Ｂ３」と記載されている箇所を「Ｂ６」に訂正するものであり、誤記又は誤訳の訂正を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項１１に係る訂正は、特許請求の範囲に記載された事項の解釈に影響を与えるものではなく、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　上記ケ（ウ）で説明したとおり、表４の「塗布液Ｎｏ．」は「分散液Ｎｏ．」の誤記と認められるから、表４には、実施例３３〜３５において分散液Ｂ３を用いること、及び、当該実施例３３〜３５の「使用した粒子分散液」中の「錯化剤」の「種類」はＮａＳＯ３であり、「還元電位［Ｖ］」は０．１１Ｖであり、「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は３０ｍｍｏｌ／Ｌであり、「端面吸着剤」の「種類」はＣＴＡＣであり、「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は０．４６ｍｍｏｌ／Ｌであり、「Ａｇ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は４．５ｍｍｏｌ／Ｌであり、「Ａｕ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は２．８８ｍｍｏｌ／Ｌであることが示されているといえる。
　一方、表４によると、分散液Ｂ３を用いた実施例２１の「使用した粒子分散液」中の「錯化剤」の「種類」はＮａＳＯ３であり、「還元電位［Ｖ］」は０．１１Ｖであり、「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］は１５ｍｍｏｌ／Ｌであり、「端面吸着剤」の「種類」はＣＴＡＣであり、「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は０．４６ｍｍｏｌ／Ｌであり、「Ａｇ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は４．５ｍｍｏｌ／Ｌであり、「Ａｕ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は２．８８ｍｍｏｌ／Ｌであり、分散液Ｂ６を用いた実施例２４の「使用した粒子分散液」中の「錯化剤」の「種類」はＮａＳＯ３であり、「還元電位［Ｖ］」は０．１１Ｖであり、「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は３０ｍｍｏｌ／Ｌであり、「端面吸着剤」の「種類」はＣＴＡＣであり、「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は０．４６ｍｍｏｌ／Ｌであり、「Ａｇ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は４．５ｍｍｏｌ／Ｌであり、「Ａｕ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」は２．８８ｍｍｏｌ／Ｌであることから、実施例３３〜３５で用いるのは分散液Ｂ３ではなく、「使用した粒子分散液」中の「錯化剤」の「種類」、「還元電位［Ｖ］」及び「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」、「端面吸着剤」の「種類」及び「添加量［ｍｍｏｌ／Ｌ］」、「Ａｇ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」、「Ａｕ濃度［ｍｍｏｌ／Ｌ］」の全てが同じである分散液Ｂ６であるといえ、実施例１９において、「分散液Ｂ１に換えて分散液Ｂ６を用い」ていることも明らかである。
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項１１に係る訂正は、上記アに示したとおり、誤記又は誤訳の訂正を目的とするものに該当するが、本件は、訂正前の請求項１〜５、１１のみに対して特許異議の申立てがされているので、訂正事項１１について、訂正後の請求項１〜５、１１に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
　一方、特許異議の申立てがされていない請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、訂正後の請求項１を間接的に引用する発明であり、独立特許要件が課されることになる。
　ここで、上記ア（エ）の（エ−２）〜（エ−３）で検討したように、本件特許の明細書の発明の詳細な説明は、当業者が訂正後の請求項１に係る発明及びこれを引用する同請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明を実施することができる程度に、明確かつ十分に記載されたものであり、訂正後の請求項１に係る発明及びこれを間接的に引用する同請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、本件訂正明細書に開示された発明の範囲を超えるものではなく、発明の詳細な説明に記載されたものであるから、訂正後の請求項１を間接的に引用する訂正後の請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものである。
　シ　訂正事項１２について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項１２に係る訂正は、上記訂正事項７に係る訂正に伴い、明細書の段落【０２１０】及び【０２１５】の記載から、表４中から削除された実施例２５〜実施例２９及び比較例１１に関する塗布膜に関する部分を削除して、表４と当該段落の記載との整合を図るための訂正であるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項１２に係る訂正は、上記訂正事項７に係る訂正に伴い、明細書の段落【０２１０】及び【０２１５】の記載から、表４中から削除された実施例２５〜実施例２９及び比較例１１に対応する事項を削除するものであり、請求項に記載された事項の解釈に影響を与えるものではないから、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　訂正事項１２に係る訂正は、上記訂正事項７に係る訂正に伴い、明細書の段落【０２１０】及び【０２１５】の記載から、表４において削除された実施例２５〜実施例２９及び比較例１１に対応する事項を削除するものであり、当該削除により新たな技術事項が明細書中に導入されるものではないから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものである。
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項１２に係る訂正は、上記（ア）に示したとおり、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当するから、訂正事項１２について、訂正後の請求項１〜１３に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
　ス　訂正事項１３について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項１３に係る訂正は、上記訂正事項７に係る訂正に伴い、明細書の段落【０２２１】の記載から、表４において削除された実施例２５〜実施例２９に関する塗布膜に関する部分を削除して、表４と当該段落の記載との整合を図るための訂正であるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項１３に係る訂正は、上記訂正事項７に係る訂正に伴い、明細書の段落【０２２１】の記載から、表４において削除された実施例２５〜実施例２９に対応する事項を削除するものであり、請求項に記載された事項の解釈に影響を与えるものではないから、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　訂正事項１３に係る訂正は、上記訂正事項７に係る訂正に伴い、明細書の段落【０２２１】の記載から、表４において削除された実施例２５〜実施例２９に対応する事項を削除するものであり、当該削除により新たな技術事項が明細書中に導入されるものではないから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものである。
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項１３に係る訂正は、上記（ア）に示したとおり、明瞭でない記載の釈明を目的とするものに該当するから、訂正事項１３について、訂正後の請求項１〜１３に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
　セ　訂正事項１４について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項１４に係る訂正は、明細書の段落【０２２５】において、「実施例１６で作製した塗布液Ｂ３を、」と記載されるのを、「実施例２１で作製した塗布液Ｂ３を、」に訂正するものであり、誤記又は誤訳の訂正を目的とするものに該当する。
（イ）訂正が、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないかについて
　訂正事項１４に係る訂正は、特許請求の範囲に記載された事項の解釈に影響を与えるものではなく、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでないことは明らかである。
（ウ）訂正が願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるかについて
　訂正前の本件特許の明細書には、以下のように記載されている（なお、「…」は記載の省略を表し、下線は当審が付したものである。）。
「【０１８１】
［実施例１６］
　実施例４において、銀平板状粒子分散液ａの調製においてメチルヒドロキノン水溶液を添加する前に、反応容器中の液から３３．１Ｌを抜き取ったこと以外は、実施例４と同様にして
分散液Ｂ１６を得た。
「【０２０４】
［実施例２０〜３１、３６〜３８、比較例７〜１２］
　実施例１９において、分散液Ｂ１に換えて、分散液Ｂ２〜Ｂ１４、Ｂ１７〜１８及び分散液Ｃ１〜Ｃ６のいずれかの分散液を用いた以外は、実施例１９と同様にして、塗布液Ｂ２〜Ｂ１３、１４〜１６及び塗布液Ｃ１〜Ｃ６を調製した。
　次いで、得られた各塗布液を用いて、実施例１９と同様にして塗布膜Ｂ１〜Ｂ１３、１８〜２０及び塗布膜Ｃ１〜Ｃ６を形成した。」
「【０２２２】
［３−１]　反射防止フィルム（反射防止光学部材）の作製
[実施例３９]
　
実施例２１で作製した塗布液Ｂ３を用いて、
…
【０２２３】
１．反射防止フィルムの作製
　透明基材である易接着層付ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（Ｕ４０３、膜厚７５μｍ、東レ（株）製）の一面上に、下記のハードコート層用塗布液を、ワイヤーバーを用いて、乾燥後の平均厚みが４μｍになるように塗布し、１６５℃で２分間加熱乾燥、固化して、ハードコート層を形成した。
【０２２４】
　ハードコート層を形成した上に、下記の高屈折率層用塗布液を、ワイヤーバーを用いて、乾燥後の平均厚みが２３ｎｍになるように塗布し、１３５℃で２分間加熱乾燥、固化して、高屈折率層を形成した。
【０２２５】
　高屈折率層を形成した上に、
実施例１６で作製した塗布液Ｂ３
【０２２６】
　形成した金属微粒子含有層の上に、下記の低屈折率層用塗布液を、ワイヤーバーを用いて、乾燥後の平均厚みが７０ｎｍになるように塗布し、６０℃で１分間加熱乾燥し、酸素濃度０．１％以下となるように窒素パージしながら、メタルハライド（Ｍ０４−Ｌ４１）ＵＶランプ（アイグラフィックス製）を用いて、照射量２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布膜を硬化させ、低屈折率層（誘電体層）を形成した。
【０２２７】
　以上の工程により、透明基材／ハードコート層／高屈折率層／
金属微粒子含有層
　摘記した段落【０１８１】の記載から、実施例１６で作製したのは分散液Ｂ１６であり、摘記した段落【０２０４】の記載と上記（１０）ウで摘記した【０２１８】の表４から、実施例２１で作製したのは塗布液Ｂ３であることがわかる。
　さらに、段落【０２２５】と同様に、実施例３９についての段落【０２２２】の「実施例２１で作製した塗布液Ｂ３を用いて、」の記載からも、段落【０２２５】の「
実施例１６
実施例２１
（エ）特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて
　訂正事項１４に係る訂正は、上記（ア）に示したとおり、誤記又は誤訳の訂正を目的とするものに該当するが、本件は、訂正前の請求項１〜５、１１のみに対して特許異議の申立てがされているので、訂正事項１４について、訂正後の請求項１〜５、１１に係る発明は特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項の独立特許要件は課されない。
　一方、特許異議の申立てがされていない請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、訂正後の請求項１を間接的に引用する発明であり、独立特許要件が課されることになる。
　ここで、上記ア（エ）の（エ−２）〜（エ−３）で検討したように、本件特許の明細書の発明の詳細な説明は、当業者が訂正後の請求項１に係る発明及びこれを引用する同請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明を実施することができる程度に、明確かつ十分に記載されたものであり、訂正後の請求項１に係る発明及びこれを間接的に引用する同請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、本件訂正明細書に開示された発明の範囲を超えるものではなく、発明の詳細な説明に記載されたものであるから、訂正後の請求項１を間接的に引用する訂正後の請求項６〜１０、１２〜１３に係る発明は、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものである。
　ソ　一群の請求項について
　本件訂正前の請求項１〜１３について、請求項２〜１３は請求項１を直接又は間接的に引用しているものであって、訂正事項１によって記載が訂正される請求項１に連動して訂正されるものであるから、本件訂正前の請求項１〜１３は、一群の請求項であるところ、本件訂正請求は、上記一群の請求項についてされたものであるから、特許法第１２０条の５第４項の規定に適合する。
　タ　小括
　以上のとおりであるから、令和３年２月１２日に特許権者によって請求され、同年５月１４日に補正された本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号、第２号、第３号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第９項において準用する同法第１２６条第５項、第６項、第７項の規定に適合するので、訂正後の請求項〔１−１３〕について訂正することを認める。
第３　本件発明
　上記第２で検討したとおり、本件訂正は適法になされたものであるから、本件訂正後の請求項１〜５、１１に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」〜「本件発明５」、「本件発明１１」といい、総称して「本件発明」という。）は、令和３年５月１４日付け手続補正書に添付された訂正特許請求の範囲の請求項１〜５、１１に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。なお、第３において、下線は訂正された箇所を表す。
「【請求項１】
　銀平板状粒子と金被覆層とを有し、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが
０．４
０．２以上１．４以下
【請求項２】
　主平面における金被覆層の平均厚みが０．７ｎｍ以上１．５ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が
０．２以上１．４以下
【請求項３】
　アスペクト比が、２〜８０である請求項１又は請求項２に記載の金被覆銀平板状粒子。
【請求項４】
　請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の金被覆銀平板状粒子と分散媒体とを含む金被覆銀平板状粒子分散液。
【請求項５】
　銀濃度が２ｍｍｏｌ／Ｌ以上である請求項４に記載の金被覆銀平板状粒子分散液。」
「【請求項１１】
　請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の金被覆銀平板状粒子を含む塗布膜。」
第４　申立理由の概要
１　申立人は、証拠方法として、インターネットから取得された甲第４〜６号証を除き、いずれも本願の優先日前に、日本国内又は外国において頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった、下記甲第１〜１４号証を提出して、以下の申立理由１〜２により、本件訂正前の請求項１〜５、１１に係る特許は取り消されるべきものである旨主張している。
（１）申立理由１（新規性、進歩性）
　ア　申立理由１−１
　本件訂正前の請求項１、３〜５に係る発明は、甲第２号証に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号に該当し特許を受けることができないものであるか、同発明に基いて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、取り消されるべきものである（取消理由として不採用）。
　イ　申立理由１−２
　本件訂正前の請求項１、３〜５に係る発明は、甲第３号証（実施例１）に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号に該当し特許を受けることができないものであるか、同発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、取り消されるべきものである（取消理由として不採用）。
　ウ　申立理由１−３
　本件訂正前の請求項１、３〜５に係る発明は、甲第３号証（実施例１１の金被覆銀ナノプレート懸濁液Ｃ２）に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号に該当し特許を受けることができないものであるか、同発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、取り消されるべきものである（取消理由として一部採用）。
（２）申立理由２（進歩性）
　ア　申立理由２−１
　本件訂正前の請求項２、１１に係る発明は、甲第２号証に記載された発明及び甲第３号証〜甲第１４号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、取り消されるべきものである（取消理由として不採用）。
　イ　申立理由２−２
　本件訂正前の請求項２、１１に係る発明は、甲第３号証（実施例１）に記載された発明及び甲第２号証、甲第４号証〜甲第１４号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、取り消されるべきものである（取消理由として不採用）。
　ウ　申立理由２−３
　本件訂正前の請求項２、１１に係る発明は、甲第３号証（実施例１１の金被覆銀ナノプレート懸濁液Ｃ２）に記載された発明及び甲第２号証、甲第４号証〜甲第１４号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、同発明に係る特許は、取り消されるべきものである（取消理由として一部採用）。
２　証拠方法
　　　甲第１号証：特許第６６６３０７９号公報（本件特許）
　　　甲第２号証：H.LIU外５名，“Core/Shell Nanostructures: Etching-Free Epitaxial Growth of Gold on Silver Nanostructures for High Chemical Stability and Plasmonic Activity”，Advanced Functional Materials, 2015, Vol. 25, p. 5435-5443
　　　甲第３号証：特許第５９６０３７４号公報
　　　甲第４号証：Wayback Machineによるアーカイブされたウェブサイト「大日本塗料株式会社　ナノ粒子シリーズ」
（https://www.dnt.co.jp/technology/new-business/particle/）
　　　甲第５号証：Ｗｅｂチラシ「マルチカラー金属ナノ粒子　銀ナノプレート」（https://www.dnt.co.jp/technology/new-business/particle/pdf/silver_nanoplates.pdf）
　　　甲第６号証：Ｗｅｂチラシ「マルチカラー金属ナノ粒子　銀ナノプレート」（https://azscience.jp/pdf/news/recommended/product01/SilverNano-plateOrganicSolvent.pdf）
　　　甲第７号証：小林敏勝、「表面プラズモンによる発色と塗料への展開」、日本画像学会誌、２０１１、第５０巻第６号、ｐ．５５６−５６２
　　　甲第８号証：小林敏勝、「貴金属ナノ粒子の塗料用色材への応用」、表面科学、２００５、Vol. 26、No.2、p.107-111
　　　甲第９号証：特開２０１７−１１９８２７号公報
　　　甲第１０号証：特開２０１１−２５２２１３号公報
　　　甲第１１号証：特開２０１１−２１９８０７号公報
　　　甲第１２号証：特開２０１１−２２１１４９号公報
　　　甲第１３号証：特開２０１１−２５３０９３号公報
　　　甲第１４号証：C.GAO外６名, “Highly Stable Silver Nanoplates for Surface Plasmon Resonance Biosensing”, Angew. Chem. Int. Ed., 2012, Vol.51, p. 5629-5633
　　
　なお、上記甲第１号証〜甲第１４号証をそれぞれ「甲１」〜「甲１４」ということがある。
第５　取消理由の概要
１　甲３を主たる引用文献とする新規性、進歩性について（申立理由１−３の一部を採用）
　本件訂正前の請求項１、３〜５に係る発明は、甲３に記載された発明であるか、甲３に記載された発明に基いて、当業者が容易に想到できたものである。
２　甲３を主たる引用文献とする進歩性について（申立理由２−３の一部を採用）
　本件訂正前の請求項２に係る発明は、甲３に記載された発明に基いて、当業者が容易に想到できたものである。また、本件訂正前の請求項１１に係る発明は、甲３に記載された発明及び甲６〜甲９に記載された事項に基いて、当業者が容易に想到できたものである。
３　サポート要件について（職権で採用）
　本件訂正前の請求項１〜５、１１に係る発明は、本件明細書に開示された発明の範囲を超えているので、発明の詳細な説明に記載されたものであるとはいえない。
４　実施可能要件について（職権で採用）
　本件訂正前の明細書の発明の詳細な説明には、本件訂正前の請求項１〜５、１１に係る発明について、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとはいえない。
第６　当審の判断
１　取消理由について
（１）取消理由１（甲３を主たる引用文献とする新規性、進歩性）、取消理由２（甲３を主たる引用文献とする進歩性）について
　ア　甲３に記載された事項と発明
　甲３には、以下の事項が記載されている（なお、「…」は記載の省略を表し、下線は当審が付したものである。以下同様。）。
「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　金被覆銀ナノプレートの懸濁液であって、
　０μＭより多く５０μＭ以下の水溶性高分子を含み、
　ｐＨが１０以下であることを特徴とする、懸濁液。
【請求項２】
　前記金被覆銀ナノプレート上の金の厚みの平均が、１．０ｎｍ以下である、請求項１に記載の懸濁液。…」
「【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金で被覆された銀ナノプレート（以下、金被覆銀ナノプレートともいう）の懸濁液に関する。
【背景技術】
【０００２】
銀ナノプレートは、光との相互作用（局在表面プラズモン共鳴：ＬＳＰＲ）により光を吸収するため、その懸濁液はナノプレートの形状に応じて色を示すことが知られている。更に、銀ナノプレートの大きさや形状を制御することにより、吸収する光を変化させること、すなわち色を変化させることができることも知られている。
この性質を利用して、銀ナノプレートは、被験物質の検出試薬の標識（例えば、目的タンパク質の検出に用いられる抗体の標識）として用いられている。
一方、銀ナノプレートは酸化により溶解してその形状が変化する。この酸化による銀ナノプレートの形状変化は、意図していた色の変化を引き起こし得る。
そこで、
銀ナノプレートを酸化に対して安定化するため、銀ナノプレートの表面を金で被覆することが行われている
また、被験物質に対する特異的結合物質を担持した着色ラテックス粒子の懸濁液を用いた診断薬が知られている。ラテックス粒子径０．０２〜２μｍのポリスチレン粒子などが知られており、有機色素によって赤色や青色に着色されている（特許文献２及び特許文献３）。…」
「【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
金被覆銀ナノプレートを標識として用いる検出技術の分野では、被験物質の検出感度を高めることが望まれている。一方、銀ナノプレートの懸濁液は酸化に弱いため、被験物質の検出のために応用できる用途が限られていた。そして、被験物質に対する特異的結合物質を担持した金被覆銀ナノプレートの懸濁液を安定化するために水溶性高分子を添加することがあるが、これを多量に添加すると、該金被覆銀ナノプレートによる被験物質の検出感度が低下する。したがって、本発明は、金被覆銀ナノプレートの安定な懸濁液であって、種々の被験物質の検出のために応用することができ、種々の検出手段に適合させることができ、かつ被験物質の検出感度の高い懸濁液を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、金被覆銀ナノプレートと検出試薬との複合体の形成条件と得られた複合体を用いて行った被験物質検出の結果について鋭意検討したところ、金被覆銀ナノプレートの懸濁液の物性及び組成を特定のものとすることで、該懸濁液の安定性を保持しつつ、被験物質の検出感度も高めることができることを見出した。また、本発明者等は、金被覆銀ナノプレートが、種々の被験物質に対する特異的結合物質を担持することができること、及び、種々の検出手段に適合し得ることも見出し、本発明を完成した。
【０００７】
すなわち、本発明は、以下に示す懸濁液、該懸濁液を使用して被験物質を検出する方法、及び、該懸濁液を含み該方法に使用するためのキットを提供するものである。
〔１〕金被覆銀ナノプレートの懸濁液であって、
０〜５０μＭの水溶性高分子を含み、
ｐＨが１０以下であることを特徴とする、懸濁液。
〔２〕前記金被覆銀ナノプレート上の金の厚みの平均が、１．０ｎｍ以下である、前記〔１〕に記載の懸濁液。…
【発明の効果】
【０００８】
本発明の金被覆銀ナノプレートの懸濁液は、安定な懸濁液として調製され、種々の被験物質を高い感度で検出するために応用することができ、また、種々の検出手段に応用することができる。したがって、本発明の懸濁液を用いることにより、多様な被験物質の検出において正確な判定が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】…
【図１０】イムノクロマト試験の手順を示す図である。…
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を更に詳細に説明する。
本発明の金被覆銀ナノプレート懸濁液は、０〜５０μＭの水溶性高分子を含み、ｐＨが１０以下であることを特徴とする。
【００１１】
本発明の金被覆銀ナノプレートとは、銀ナノプレート（コア）の表面に金の被覆（シェル）を有するものをいう。
本発明では、被験物質の検出技術分野で着色標識として用いられている銀ナノプレートを特に制限なく用いることができるが、以下に好ましい態様を詳述する。
銀ナノプレートとは、銀から製造されたナノプレート（板）をいう。
銀ナノプレートの主面の最大長さとなる粒子径
三角形の場合は最大辺の長さに相当する
【００１２】
銀ナノプレートの厚さは、プラズモン吸収することができるものであれば特に制限されず、一般的には４０ｎｍ以下であり、好ましくは５〜２０ｎｍである。
銀ナノプレートの形状は、プラズモン吸収することができるものであれば特に制限されず、意図する色に応じた形状を採用することができる。具体例としては三角形状、五角形状、六角形状等の多角形状や、角がカーブ状となった円形状等の形状があげられる。…
【００１３】
銀ナノプレートの表面を被覆する金の厚さは、銀ナノプレートの発色性能に影響を与えない限り特に制限されないが、厚みの平均が、好ましくは１．０ｎｍ以下、より好ましくは０．７ｎｍ以下である。
金の被覆の厚さが１．０ｎｍ以下であると、銀ナノプレートのプラズモン吸収を維持しつつ、銀ナノプレートの酸化を抑制することができる。
金の厚さの下限は、銀ナノプレート表面の金による被覆という目的を達成できるものであれば特に制限されないが、厚みの平均が、好ましくは０．１ｎｍ以上又は０．３ｎｍである。なお、
本発明における金の厚みの平均とは、高角散乱環状暗視野走査透過顕微鏡法（ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ）を用いて測定された、銀ナノプレート表面の金の厚みより算出すれば良い。
【００１４】
また、銀ナノプレートが金で被覆されていることは、金被覆銀ナノプレート懸濁液中の金及び銀濃度を測定することによっても確認できる。具体的には、以下の手順に示すように、懸濁液を遠心分離後、上澄み液を除去し、得られた沈殿物を、除去した上澄み液と同量の超純水で再度懸濁する。そして、その懸濁液に王水を添加後、煮沸して、得られた溶液を、ＩＣＰ発光分析装置を用いて分析する。
    １．金被覆銀ナノプレート懸濁液を遠心分離（２５，０００ｒｐｍ、２
        ６，０００ｇ）後、上澄み液を除去し、得られた沈殿物を、除去し
        た上澄み液と同量の超純水で再度懸濁する。
    ２．上記工程１で得られた懸濁液に王水を添加後、５分間煮沸して、金
        及び銀を王水中へ溶解させる。
    ３．上記工程２で得られた溶液を、ＩＣＰ発光分析装置を用いて測定す
        る。
　なお、各金属の濃度は、任意濃度の標準サンプルを上述と同様に測定することで作成した検量線より算出する。
　得られた各金属の濃度から、金と銀の比率が明らかとなり、銀ナノプレート表面が金で被覆されていること、そして、その金の厚さを確認することができる。例えば、三角形の銀ナノプレート上の金の厚さは、以下のようにして算出することができる。
１．ＩＣＰ発光分析結果（例）
      金濃度：銀濃度＝１：４
２．銀ナノプレートの体積（形状：正三角形、高さ：３０ｎｍ、厚さ８ｎ
      ｍの場合）
      式：（三角形の面積）×（厚さ）
      ＝（３０ｎｍ×（３０×２÷√３）ｎｍ÷２）×８ｎｍ
      ＝４１５７ｎｍ3（＝４１５７×１０-21ｃｍ3）
３．銀の比重
      １０．５１ｇ／ｃｍ3
４．三角形の銀ナノプレートの質量
      式：（三角形の銀ナノプレートの体積）×（銀の比重）
      ＝（４１５７×１０-21ｃｍ3）×１０．５１ｇ／ｃｍ3
      ＝４．３７×１０-17ｇ
５．三角形の銀ナノプレートに被覆している金の質量（Ｘ）
      １：４＝Ｘ：４．３７×１０-17ｇ
          Ｘ＝１．０９×１０-17ｇ
６．金の比重
      １９．３２ｇ／ｃｍ3
７．三角形の銀ナノプレートに被覆している金の体積
      式：（金の質量）÷（金の比重）
      ＝１．０９×１０-17ｇ ÷ １９．３２ｇ／ｃｍ3
      ＝５．６４×１０-19ｃｍ3（＝５６４ｎｍ3）
　８．三角形の銀ナノプレートの表面積
      式：（三角形の面積）＋（粒子側面の面積）
      ＝（３０×（６０÷√３）÷２）×２＋（８×（６０÷√３））×３
      ＝１８７１ｎｍ2
　９．三角形の銀ナノプレートに被覆している金の厚さ
      式：（三角形の銀ナノプレートに被覆している金の体積）
            ÷（三角形の銀ナノプレートの表面積）
      ＝５６４ｎｍ3÷１８７１ｎｍ2
      ＝０．３０ｎｍ（＝３．０Å）
　このように、ＩＣＰ発光分析装置を用いた分析の結果、金濃度と銀濃度の比率が１：４であることがわかった場合には、金被覆処理を施した銀ナノプレート（形状：正三角形、高さ：３０ｎｍ、厚さ８ｎｍの粒子の場合）の表面の金の厚さは、０．３０ｎｍであると計算できる。これは、金原子が一層から二層被覆していることを意味している。」
「【００１６】
　
本発明の金被覆銀ナノプレートの懸濁液（以下、本発明の懸濁液ともいう）では、固体の金被覆銀ナノプレートが液体の分散媒中に懸濁している。
【００１７】
　
本発明の懸濁液の銀含有率は、懸濁液の総質量に対して、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは１〜０．００００１５質量％、特に好ましくは０．１〜０．００００１５質量％である
「【００５５】
試験例１
　実施例及び比較例の各懸濁液を下記手順のイムノクロマト試験に用いて、試験結果を評価した。
（１）イムノクロマト試験に使用する展開液の作製（金被覆銀ナノプレートへの特異的結合物質の担持（検出試薬の標識））
　５ｍＭのＰＢＳ（−）緩衝液中における濃度５０μｇ／ｍＬのＢ型肝炎ウイルス抗原（ＨＢｓ抗原）に対する抗体（品名：Ｇｏａｔ  ａｎｔｉ  ＨＢｓＡｇ、製造元：Ａｒｉｓｔａ  Ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．）（イムノクロマト法における検出抗体）の溶液０．２ｍＬと、金被覆銀ナノプレート懸濁液（懸濁液Ａ１、Ｂ１、Ｆ１、Ｇ１、Ｉ１，Ｊ１、Ｋ１、Ｎ１、Ｐ１、Ｄ１、Ｈ１、Ｌ１、又はＴ１）１．８ｍＬを混合し、得られた混合物を室温下で３０分間振とうした。次いで、遠心分離（２５０００ｒｐｍ、４℃、１０分間）を行い、抗体−金被覆銀ナノプレート複合体を沈殿させ、上澄み液１．８５ｍＬを除去した。その後、抗体−金被覆銀ナノプレート複合体を、４．９μＭのＢＳＡを含有する１．８５ｍＬの５ｍＭ  ＰＢＳ（−）緩衝液を添加して再分散させ、紫外可視分光光度計 Ａｇｉｌｅｎｔ  ８４５３（アジレント・テクノロジー株式会社製）を使用して消光度（Ｅｘｔｉｎｃｔｉｏｎ）２．０になるように調整し、展開液を作製した。…
【００５７】
（２）イムノクロマト試験
図１０に示す手順により、Ｂ型肝炎ウイルス抗原（ＨＢｓ抗原）を被験物質としたイムノクロマト試験を、抗ＨＢｓ抗原抗体（捕獲抗体）を直線状（図１０の検出ライン）に固定化したイムノクロマト試験紙を用いて行った。
　イムノクロマト試験紙はイムノクロマト試験紙の受託作製会社（有限会社バイオデバイステクノロジー）より購入したものを使用した。捕獲抗体を直線状に固定する際、捕獲抗体を５ｍＭ  ＰＢＳ（−）緩衝液で濃度１ｇ／ｍＬに調整したものを使用した。
　第１展開液（図１０（ａ）で用いる展開液）は、５ｍＭのＰＢＳ（−）緩衝液中におけるＨＢｓ抗原（品名：ＨＢｓＡｇ  Ｐｒｏｔｅｉｎ（Ｓｕｂｔｙｐｅ  ａｄｒ）、製造元：Ｆｉｔｚｇｅｒａｌｄ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｉｎｃ．）の溶液であった。第１展開液として、ＨＢｓ抗原の濃度が０．６０μＭ、０．０６μＭ、０．００６μＭ、０．０００６μＭ又は０Ｍ（ブランク）の溶液を用意した。
　第２展開液は５ｍＭのＰＢＳ（−）緩衝液であった。
　第３展開液（図１０（ｃ）で用いた展開液）は、上述の展開液Ａ１、Ｂ１、Ｆ１、Ｇ１、Ｉ１，Ｊ１、Ｋ１、Ｎ１、Ｐ１、Ｄ１、Ｈ１、Ｌ１又はＴ１であった。
【００５８】
　具体的な試験手順は以下のとおりであった。
　イムノクロマト試験紙に、第１展開液１５μＬを展開させた（図１０（ａ））。第１展開液の展開により、ＨＢｓ抗原が試験紙の検出ライン上に固定化された捕獲抗体によって捕獲される（図１０（ｂ））。
　次いで、第２展開液３０μＬを展開させて、イムノクロマト試験紙上の余剰抗原の洗浄を行った。
　最後に、第３展開液６０μＬを展開させた（図１０（ｃ））。第３展開液の展開により、試験紙の検出ライン上で捕獲されたＨＢｓ抗原へ検出抗体（抗体−金被覆銀ナノプレート複合体）が結合する（図１０（ｄ））。
　同一の手順をＨＢｓ濃度の異なる各第１展開液を用いて繰り返した。」
「【００６３】
実施例１１
１．金属微粒子懸濁液の作製
１−１．銀ナノプレートの作製
１−１−１．銀ナノプレートの種粒子の作製
　２．５ｍＭのクエン酸ナトリウム水溶液２０ｍＬに、０．５ｇ／Ｌの分子量７０，０００ポリスチレンスルホン酸水溶液１ｍＬと、１０ｍＭの水素化ホウ素ナトリウム水溶液１．２ｍＬとを添加し、次いで、２０ｍＬ／ｍｉｎで攪拌しながら、０．５ｍＭの硝酸銀水溶液５０ｍＬを添加した。得られた溶液をインキュベーター（３０℃）中に６０分間静置し、銀ナノプレートの種粒子の水懸濁液を作製した。
【００６４】
１−１−２．銀ナノプレート懸濁液Ａ２の作製
　超純水２００ｍｌに、１０ｍＭのアスコルビン酸水溶液４．５ｍＬを添加し、上述の銀ナノプレートの種粒子の水懸濁液１２ｍｌを添加した。得られた溶液に、０．５ｍＭの硝酸銀水溶液１２０ｍＬを３０ｍＬ／ｍｉｎで攪拌しながら添加した。硝酸銀水溶液の添加が終了した４分後に攪拌を停止し、２５ｍＭのクエン酸ナトリウム水溶液２０ｍｌを添加し、得られた溶液を大気雰囲気下のインキュベーター（３０℃）中に１００時間静置し、プレート状銀ナノ粒子の水懸濁液である銀ナノプレート懸濁液Ａ２を調製した。」
「【００６６】
１−１−４．銀ナノプレート懸濁液Ｃ２の作製
　上記銀ナノプレートの種粒子の水懸濁液の添加量を１２ｍｌから２ｍｌに変更した以外は、銀ナノプレート懸濁液Ａ２の調製と同様にして、プレート状銀ナノ粒子の水懸濁液である銀ナノプレート懸濁液Ｃ２を調製した。
【００６７】
１−２．金被覆銀ナノプレートの作製
１−２−１．金被覆銀ナノプレート懸濁液Ａ２の作製
　上記銀ナノプレート懸濁液Ａ２の１２０ｍｌに、０．１２５ｍＭのポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）（分子量：４０，０００）の水溶液９．１ｍｌを添加し、０．５Ｍのアスコルビン酸水溶液１．６ｍｌを添加した後、０．４２ｍＭの塩化金酸水溶液９．６ｍｌを０．５ｍＬ／ｍｉｎで攪拌しながら添加した。得られた溶液をインキュベーター（３０℃）中に２４時間静置し、金被覆銀ナノプレート懸濁液Ａ２を調製した。
【００６８】
　金被覆銀ナノプレート懸濁液Ａ２の主要分散媒は水であった。
　金被覆銀ナノプレート懸濁液Ａ２に含まれる金被覆銀ナノプレートを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察したところ、主面の最大長（粒子径）の平均が１８ｎｍの三角形状を含む多角形状、円形状であるプレートの混合物であり、厚さの平均は８ｎｍであった。なお、金被覆銀ナノプレートの主面の最大長（粒子径）の平均は、ＳＥＭ画像（株式会社日立製作所製の走査電子顕微鏡ＳＵ−７０で撮影）中の任意の金被覆銀ナノプレート１００個の最大長（粒子径）を測定した計１００点のデータの内、上下１０％を除いた８０点の平均値を用いた（後述の金被覆銀ナノプレート懸濁液Ｂ２及びＣも同様）。そして、金被覆銀ナノプレート懸濁液Ａ２に含まれる金被覆銀ナノプレートにおける金の厚さは、高角散乱環状暗視野走査透過顕微鏡法（ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ）によれば、平均０．２５ｎｍであった。なお、金の厚みの平均は、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ像から任意の金被覆銀ナノプレート粒子１０個について、各粒子の任意の部位１０点について、金の厚みを測定した計１００点のデータの内、上下１０％を除いた８０点の平均値を用いた（後述の金被覆銀ナノプレート懸濁液Ｂ２及びＣも同様）。
　また、金被覆銀ナノプレート懸濁液Ａ２における金の濃度は０．０５６ｍｇ／Ｌ、銀の濃度は０．２２６ｍｇ／Ｌであり、以下の計算方法により算出された金の厚さは０．２１ｎｍであった。
　１．ＩＣＰ発光分析結果
      金濃度：銀濃度＝０．０５６（ｍｇ／Ｌ）：０．２２６（ｍｇ／Ｌ）
                    ＝１：４．０４
　２．銀ナノプレートの体積（形状：正三角形、粒子径：１８ｎｍ、厚さ８
      ｎｍ）
      式：（三角形の面積）×（厚さ）
        ＝（１８ｎｍ×（１８√３／２）ｎｍ÷２）×８ｎｍ
        ＝１１２２ｎｍ3（＝１１２２×１０-21ｃｍ3）
　３．銀の比重
      １０．５１ｇ／ｃｍ3
　４．三角形の銀ナノプレートの質量
      式：（正三角形の銀ナノプレートの体積）×（銀の比重）
        ＝（１１２２×１０-21ｃｍ3）×１０．５１ｇ／ｃｍ3
        ＝１．１８×１０-17ｇ
　５．三角形の銀ナノプレートに被覆している金の質量（Ｘ）
      １：４．０４＝Ｘ：１．１８×１０-17ｇ
                Ｘ＝０．２９×１０-17ｇ
　６．金の比重
      １９．３２ｇ／ｃｍ3
　７．三角形の銀ナノプレートに被覆している金の体積
      式：（金の質量） ÷（金の比重）
        ＝０．２９×１０-17ｇ ÷ １９．３２ｇ／ｃｍ3
        ＝１．５１×１０-19ｃｍ3（＝１５１ｎｍ3）
　８．三角形の銀ナノプレートの表面積
      式：（三角面の面積）＋（粒子側面の面積）
        ＝（１８ｎｍ×（１８√３／２）ｎｍ ÷２）×２）
            ＋（８ｎｍ×１８ｎｍ×３）
        ＝７１３ｎｍ2
　９．三角形の銀ナノプレートに被覆している金の厚さ
      式：（正三角形の銀ナノプレートに被覆している金の体積）
            ÷（正三角形の銀ナノプレートの表面積）
        ＝１５１ｎｍ3÷７１３ｎｍ2
        ＝０．２１ｎｍ
　なお、金の濃度および銀の濃度は、以下の手順で分析した（後述の金被覆銀ナノプレート懸濁液Ｂ２及びＣも同様）。
    １．０．５ｍＬの金被覆銀ナノプレート懸濁液Ａ２を遠心分離（２５，
        ０００ｒｐｍ、２６，０００ｇ）後、上澄み液を除去し、得られた
        沈殿物を、除去した上澄み液と同量の超純水で再度懸濁した。
    ２．上記工程１で得られた懸濁液に王水１５ｍＬを添加後、５分間煮沸
        して、金及び銀を王水中へ溶解させた。
    ３．上記工程２で得られた溶液を、ＩＣＰ発光分析装置（株式会社島津
        製作所製、ＩＣＰＳ−７５１０）を用いて測定した。
　金被覆銀ナノプレート懸濁液Ａ２におけるポリスチレンスルホン酸の濃度は０．９８ｎＭであった。
　金被覆銀ナノプレート懸濁液Ａ２におけるＰＶＰの濃度は８．１μＭであった。
　金被覆銀ナノプレート懸濁液Ａ２のｐＨは、室温下（２０℃）で４．０であった。ｐＨ測定は株式会社堀場製作所のｔｗｉｎｐＨメータ Ｂ−２１２（ガラス電極法）を用いた（以下、同様）。
金被覆銀ナノプレート懸濁液Ａ２の銀含有率は、懸濁液の総質量に対して０．００１６質量％であった。」
「【００７１】
１−２−３．
金被覆銀ナノプレート懸濁液Ｃ２
　上記銀ナノプレート懸濁液Ｃ２の１２０ｍｌに、０．１２５ｍＭのＰＶＰ（分子量：４０，０００）の水溶液９．１ｍｌを添加し、０．５Ｍのアスコルビン酸水溶液１．６ｍｌを添加した後、０．４２ｍＭの塩化金酸水溶液９．６ｍｌを０．５ｍＬ／ｍｉｎで攪拌しながら添加した。得られた溶液をインキュベーター（３０℃）中に２４時間静置し、金被覆銀ナノプレート懸濁液Ｃ２を調製した。
【００７２】
　金被覆銀ナノプレート懸濁液Ｃ２の主要分散媒は水であった。
　
金被覆銀ナノプレート懸濁液Ｃ２に含まれる金被覆銀ナノプレートをＳＥＭにより観察したところ、主面の最大長（粒子径）の平均が５０ｎｍの三角形状を含む多角形状、円形状であるプレートの混合物であり、厚さの平均は１０ｎｍであった。そして、金被覆銀ナノプレート懸濁液Ｂ２（当審注：「Ｃ２」の誤記と認められる）に含まれる金被覆銀ナノプレートにおける金の厚さの平均は、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭによれば、０．４５ｎｍであった。
　また、
金被覆銀ナノプレート懸濁液Ｃ２における
銀の濃度は０．１８６ｍｇ／Ｌであり、上述のＩＣＰ発光分析結果に基づいた計算方法により算出された金の厚さは０．４１ｎｍであった。
「【図１０】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　上記請求項１、【００７１】〜【００７２】の記載によれば、甲３には、次の金被覆銀ナノプレートが記載されているものと認められる（以下「甲３発明Ｂ」という。）。
「銀ナノプレートとその表面を被覆する金を有する金被覆銀ナノプレートであって、主面の最大長（粒子径）の平均が５０ｎｍの三角形状を含む多角形状、円形状であるプレートの混合物であり、厚さの平均は１０ｎｍであり、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭによる金の厚さの平均は、０．４５ｎｍであり、ＩＣＰ発光分析結果に基づいた計算方法により算出された金の厚さは０．４１ｎｍである、金被覆銀ナノプレート。」
　また、上記請求項１、【００１６】、【００７１】〜【００７２】の記載によれば、甲３には、次の懸濁液が記載されているものと認められる（以下「甲３発明Ｃ」という）。
「甲３発明Ｂの金被覆銀ナノプレートが分散媒中に懸濁している金被覆銀ナノプレート懸濁液。」
　イ　本件発明１と甲３発明Ｂの対比
　甲３発明Ｂの「銀ナノプレート」、「銀ナノプレート」の「表面を被覆する金」、「金被覆銀ナノプレート」は、本件発明１の「銀平板状粒子」、「金被覆層」、「金被覆銀平板状粒子」に相当するから、本件発明１と甲３発明Ｂの一致点と相違点は次のとおりとなる。
〈一致点〉
　「銀平板状粒子と金被覆層とを有する金被覆銀平板状粒子。」
〈相違点１〉
　本件発明１の金被覆銀平板状粒子は、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である」のに対し、甲３発明Ｂの金被覆銀ナノプレートは、「主面の最大長（粒子径）の平均が５０ｎｍの三角形状を含む多角形状、円形状であるプレートの混合物であり、厚さの平均は１０ｎｍであり、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭによる金の厚さの平均は、０．４５ｎｍであり、ＩＣＰ発光分析結果に基づいた計算方法により算出された金の厚さは０．４１ｎｍである」ものの、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」や「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」は特定されていない点。
　ウ　相違点１についての判断
（ア）一般的に、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭで主平面と端面を有する平板状粒子を観察する際、粒子は端面を底にして垂直に立っている状態ではなく主平面を底とした状態になっていることが多いと考えられる。
　よって、甲３発明Ｂの金被覆銀ナノプレートのＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ像は、金被覆銀ナノプレートを主平面側から観察したものと認められる。そして、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ（High-angle Annular Dark Field Scanning TEMのこと）は、試料に電子プローブを走査し、試料を透過した電子のうち高角に散乱したものを環状の検出器で検出し、検出した電子強度をプローブ位置の関数として二次元マッピングする方法であるから、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭを用いて測定された金の厚みとは、上記二次元マッピングから読み取れる厚さ、すなわち、金被覆銀ナノプレートの端面における金の厚みを意味していると解される。また、甲３の【００１４】の記載から、ＩＣＰ発光分析を用いて算出された金の厚みは、金被覆銀ナノプレートの主平面と端面の金被覆層の厚みが一律と仮定したときの金の厚みである。
　ここで、甲３の【００６８】の「８．」を参考に、甲３発明Ｂの三角形の最大辺の長さに相当する主面の最大長（粒子径）の平均が５０ｎｍで、厚さの平均は１０ｎｍである三角形の銀ナノプレートの主平面の面積、端面の面積、全体の表面積を計算すると、以下のとおりとなる。
・主平面の面積（上面及び下面の合計面積）
　＝（５０ｎｍ×（５０√３／２）ｎｍ ÷２）×２）
　＝２１６５ｎｍ2
・端面の面積（三面の合計面積）
　＝（１０ｎｍ×５０ｎｍ×３）
　＝１５００ｎｍ2
・全体の表面積
　＝（主平面の面積）＋（端面の面積）
　＝２１６５ｎｍ2＋１５００ｎｍ2
　＝３６６５ｎｍ2
　ここで、主平面における金の厚さをＸ（ｎｍ）、端面における金の厚さをＹ（ｎｍ）とすると、三角形の銀ナノプレートに被覆している金の体積は、以下のとおりとなる。
・三角形の銀ナノプレートに被覆している金の体積
主平面の面積×Ｘ＋端面の面積×Ｙ
＝２１６５ｎｍ2×Ｘｎｍ＋１５００ｎｍ2×Ｙｎｍ　…　（式１）
　一方、ＩＣＰ発光分析結果に基づいた計算方法により算出された金の厚さは、０．４１ｎｍであるから、三角形の銀ナノプレートに被覆している金の体積は、以下のとおりとなる。
・三角形の銀ナノプレートに被覆している金の体積
　全体の表面積×金の厚さ
＝３６６５ｎｍ2×０．４１ｎｍ
＝１０５２．６５ｎｍ3　…　（式２）
・上述のとおり、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭを用いて測定された金の厚みとは、金被覆銀ナノプレートの端面における金の厚みを意味していると解されるから、Ｙ＝０．４５ｎｍと考えることができる。
（イ）したがって、（式１）＝（式２）の関係にＹ＝０．４５ｎｍを代入するとＸ＝０．１７４ｎｍとなるから、甲３発明Ｂの金被覆銀ナノプレートの形状が全て正三角形であると仮定すると、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」が０．１７４ｎｍであり、かつ「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が約０．３８７（＝０．１７４／０．４５）と算出され、本件発明１の「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下」であることと相違するから、上記相違点１は実質的な相違点である。
（ウ）相違点１について、甲３の請求項２には、「前記金被覆銀ナノプレート上の金の厚みの平均が、１．０ｎｍ以下である、請求項１に記載の懸濁液。」と記載があり、当該数値範囲に関して甲３の【００１３】には、「銀ナノプレートの表面を被覆する金の厚さは、銀ナノプレートの発色性能に影響を与えない限り特に制限されないが、厚みの平均が、好ましくは１．０ｎｍ以下、より好ましくは０．７ｎｍ以下である。金の被覆の厚さが１．０ｎｍ以下であると、銀ナノプレートのプラズモン吸収を維持しつつ、銀ナノプレートの酸化を抑制することができる。」と記載されているから、甲３発明Ｂにおいて、銀ナノプレートの酸化を抑制するため、銀ナノプレートの表面に設ける金被覆層の厚さを上限１．０ｎｍとして増やすことは、当業者であれば容易になし得ることである。
（エ）しかしながら、本件発明１は、「金被覆銀平板状粒子」において、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下」かつ「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下」とすることによって、「酸化耐性に優れた金被覆銀平板状粒子及び金被覆銀平板状粒子を含む分散液」及び「酸化耐性に優れた塗布膜」を提供することができるという効果を奏するものであり（本件明細書の【０００７】参照のこと。）、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」に着目して、「０．２以上１．４以下」という特定の数値範囲とする技術思想について、甲３に記載されていないし、その他の甲号証にも記載されていない。
（オ）したがって、甲３発明Ｂにおいて、相違点１に係る本件発明１の構成とすること、すなわち、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みを上限１．０ｎｍとすること自体は、上記（ウ）で検討したように、甲３の記載に基いて当業者が容易になし得ることであるといえたとしても、金被覆銀平板状粒子の酸化耐性を向上させるために、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」に着目して、「０．２以上１．４以下」という特定の数値範囲とすることは、甲３やその他の甲号証にも記載されていないから、本件発明１は、甲３発明Ｂと同一ではなく、また、甲３発明Ｂとその他の甲号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
（カ）なお、申立人は、令和３年７月１日付けの意見書１６頁〜２４頁の「第４　無効理由３について」において、本件発明１の「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」は、酸化耐性にどのような影響を与えるか不明なパラメータであるから、これを所定の数値範囲に限定することに臨界的異議はなく、これをどのような値とするかは設計事項にすぎない、と主張している。
　しかしながら、本件発明１の「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」は、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」と共に所定の数値範囲に限定することで、酸化耐性に優れた金被覆銀平板状粒子及び金被覆銀平板状粒子を含む分散液を提供できることができるものである。そして、上記（オ）で検討したように、主平面と端面の金被覆層の厚みの比に着目し、所定の数値範囲に限定することは、単なる設計事項ということはできないので、上記主張は採用できない。
　エ　本件発明２〜３、１１について
　本件発明２〜３、１１は、本件発明１を引用することにより本件発明１の特定事項を備えているので、上記イ〜ウの検討と同様に、甲３発明Ｂとは、少なくとも相違点１において相違している。したがって、本件発明２〜３、１１は、甲３発明Ｂと同一ではない。
　また、本件発明２〜３、１１は、本件発明１と同様に、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」を「０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下」とすることに加えて、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」を「０．２以上１．４以下」という特定の数値範囲とすることによって、金被覆銀平板状粒子の酸化耐性を向上させることができるという効果を奏するものであるから、本件発明２〜３、１１は、これら各発明における新たな特定事項について検討するまでもなく、また、甲３発明Ｂとその他の甲号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　オ　本件発明４と甲３発明Ｃの対比
　本件発明４は、「請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の金被覆銀平板状粒子と分散媒体とを含む金被覆銀平板状粒子分散液。」というものである。
　甲３発明Ｃの「銀ナノプレート」、「銀ナノプレート」を被覆する「金」、「金被覆銀ナノプレート」は、本件発明４が引用する本件発明１の「銀平板状粒子」、「金被覆層」、「金被覆銀平板状粒子」に相当し、甲３発明Ｃの「分散媒」、「金被覆銀ナノプレート懸濁液」は、本件発明４の「分散媒体」、「金被覆銀平板状粒子分散液」に相当するから、本件発明４と甲３発明Ｃの一致点と相違点は次のとおりとなる。
〈一致点〉
　「銀平板状粒子と金被覆層とを有する金被覆銀平板状粒子と分散媒体とを含む金被覆銀平板状粒子分散液。」
〈相違点２〉
　本件発明４の金被覆銀平板状粒子は、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である」のに対し、甲３発明Ｃの金被覆銀ナノプレートは、「主面の最大長（粒子径）の平均が５０ｎｍの三角形状を含む多角形状、円形状であるプレートの混合物であり、厚さの平均は１０ｎｍであり、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭによる金の厚さの平均は、０．４５ｎｍであり、ＩＣＰ発光分析結果に基づいた計算方法により算出された金の厚さは０．４１ｎｍである」ものの、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」や「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」は特定されていない点。
　上記相違点２は、相違点１と実質的に同じ内容であるから、上記ウで検討したのと同様の理由により、相違点２は実質的な相違点であり、また、本件発明４は、相違点２に係る特定事項とすること、すなわち、「金被覆銀平板状粒子」において、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下」かつ「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下」とすることによって、「酸化耐性に優れた金被覆銀平板状粒子及び金被覆銀平板状粒子を含む分散液」及び「酸化耐性に優れた塗布膜」を提供することができるという効果を奏するものであるから、本件発明４は、甲３発明Ｃと同一ではなく、また、甲３発明Ｃとその他の甲号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　カ　本件発明５について
　本件発明５は、本件発明４を引用することにより本件発明４の特定事項を備えているので、上記オの検討と同様に、甲３発明Ｃとは、少なくとも相違点２において相違している。したがって、本件発明５は、甲３発明Ｃと同一ではない。
　また、本件発明５は、本件発明４と同様に、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」を「０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下」とすることに加えて、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」を「０．２以上１．４以下」という特定の数値範囲として、金被覆銀平板状粒子の酸化耐性を向上させることができるという効果を奏するものであるから、本件発明５は、本件発明５における新たな特定事項について検討するまでもなく、甲３発明Ｃとその他の甲号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
（２）取消理由３（サポート要件）について
　ア　取消理由の概要
　訂正前の請求項１に係る発明及びこれを引用する本件訂正前の請求項２〜５、１１に係る発明は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから、その特許は取り消されるべきものである。
　イ　取消理由３の詳細
　取消理由３の詳細は以下のとおりである。
（ア）本件発明が解決しようとする課題について、本件明細書には次の記載がある。
「【０００２】
　可視光に対する反射防止膜、増反射膜、赤外線遮蔽（断熱）膜等の光学部材用途、インク、塗料等の着色剤、被検物質の検出試薬への応用などの種々の目的に応じて、銀、金等の貴金属粒子が用いられている。
　また、
銀粒子に対しては酸化に対する安定性を向上させるため、粒子表面を金被覆することが行なわれている。
【０００３】
　例えば、特開２０１６−１０９５５０号公報には、銀ナノプレートが有する表面プラズモン共鳴（ＳＰＲ）を利用して被検物資の検出試薬の標識などを用途として、銀ナノプレートの表面に金を被覆させた粒子及び水溶性高分子を含み、ｐＨ６以下とした懸濁液が開示される。この懸濁液は、凍結や凍結乾燥に対して安定であるとされている。
　特許第５６３６０８号公報（当審注：「特許第５６３６
２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
　しかし、本発明者の検討によれば、
特開２０１６−１０９５５０号公報に記載される技術では、銀平板状粒子の全面（すなわち、粒子の主平面及び端面の全て）に対して均一かつ十分な金被覆が成しえない場合がある
【０００５】
　また、
特許第５６３６０８号公報に記載される銀平板状銀粒子に対する金被覆処理は、
所望の粒子形状を保ったまま粒子全面に均一に金被覆がなされない場合がある。このため、粒子全面に対してより均一な金被覆が行える技術が望まれる。
【０００６】
　銀平板状粒子における不均一な金被覆は、金被覆に要求される酸化耐性の向上を十分に達成しえない。
【０００７】
　本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、
酸化耐性に優れた金被覆銀平板状粒子及び金被覆銀平板状粒子を含む分散液を提供すること
　また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、
酸化耐性に優れた塗布膜…を提供すること
（イ）上記（ア）の記載によれば、本件発明が解決しようとする課題（以下単に「課題」という。）は、「所望の粒子形状を保ったまま」「銀平板状粒子の全面（すなわち、粒子の主平面及び端面の全て）に対して均一かつ十分な金被覆」を行って、「酸化耐性に優れた金被覆銀平板状粒子及び金被覆銀平板状粒子を含む分散液」及び「酸化耐性に優れた塗布膜」を提供することであると認められる。
（ウ）上記課題に対して、訂正前の請求項１に係る発明では「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が下限値のみで規定されており、上限値が規定されていないため、訂正前の請求項１に係る発明の「金被覆銀平板状粒子」は、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が非常に大きい場合も含み得るものである。
（エ）そして、訂正前の請求項１に係る発明の金被覆銀平板状粒子の「金被覆層」について、訂正前の本件明細書には次の記載がある。
「【００２５】
　特定平板状粒子は、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する主平面における金被覆層の厚みの比が０．０２以上である。
酸化耐性及び平板状粒子の光学的特性保持の観点から
「【００２７】
　金被覆層の平均厚みは、粒子断面方向のＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ（High-angle Annular Dark Field Scanning TEM）像を撮影し、その撮影画像中で輝度の高い金被覆層の厚みを、主平面及び端面のそれぞれについて、１粒子中５点をＩｍａｇｅＪ（アメリカ国立衛生研究所（NIH：National Institutes of Health)により提供）などの画像解析ツールによって測定し、計２０個の粒子について得られた主平面及び端面それぞれの厚みを算術平均することで得られる。
【００２８】
　
粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する主平面における金被覆層の厚みの比は０．０２以上であり、０．１以上が好ましく、０．３以上がより好ましい。上記厚みの比の上限は、特に限定されないが、１０以下であることが好ましい。 金被覆層の厚みの比が０．０２以上であると優れた酸化耐性が発揮される。
【００２９】
　上記の厚みの比は、粒子の主平面における金被覆の平均厚み（Ａ）を、粒子の端面における金被覆の平均厚み（Ｂ）で除して算出した値（Ａ／Ｂ）である。」
「【００６０】
　本開示の製造方法は、従来は困難であった銀平板状粒子の端面においても均一な金被覆層を形成でき、かつ分散液の生産性も高い。さらに、本開示の製造方法により、銀濃度の高い分散液を製造することができる。」
「【００８２】
　〜銀平板状粒子の端面吸着剤〜
　本開示の製造方法においては、銀平板状粒子製造工程の後であって、金被覆処理工程の前に、銀平板状粒子製造工程により得た銀平板状粒子分散液に、銀平板状粒子の端面吸着剤を添加することが好ましい。端面吸着剤を用いることにより、後述する金被覆処理工程において、銀平板状粒子の端面における金被覆層の形成を促進しうることから、銀平板状粒子の主平面及び端面の双方に、より均一な金被覆層を形成することができる。
【００８３】
　端面吸着剤とは、銀平板状粒子の端面に生じる｛１１１｝面に対して選択的に吸着性することで、端面における金被覆層の形成性向上に寄与する化合物を意味する。より詳細には、本開示における銀平板状粒子は、｛１１１｝面を主平面とし、端面は｛１１１｝面と｛１００｝面との交互層として構成される平板状粒子であることから、端面吸着剤は、銀平板状粒子の端面における｛１１１｝面に対して選択的に吸着性することで、端面における金被覆層の形成性向上に寄与する。
【００８４】
　図２に、主平面（｛１１１｝面）及び端面（｛１１１｝面と｛１００｝面との交互層）で構成される銀平板状粒子の概略について、六角形状を有する銀平板状粒子の一例を用いて示す。図２に示すように、本例の六角形状を有する銀平板状粒子は、六角形状の２つの主平面が｛１１１｝面で構成され（すなわち、図中に現れていない側の主平面も｛１１１｝面である。）、２つの主平面間を繋ぐ端面に｛１１１｝面と｛１００｝面とが交互層として現れる構成を有している。なお、図２に示される銀平板状粒子は、本開示における銀平板状粒子の一例であり、本開示における銀平板状粒子は、図２に示される特定の形状に限定されない。なお、銀平板状粒子における結晶面に関しては、文献「Adv.Func.Mater.2008.18. 2005-2016」の記載も参照される。
【００８５】
　端面吸着剤としては、例えば、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム（ＣＴＡＢ）、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム（ＣＴＡＣ）、水酸化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム（ＣＴＡＯＨ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）等が挙げられる。（各化合物名に付随する括弧内は略称である。） これらの端面吸着剤はアミン構造を有しており、このアミン構造を介して銀平板状粒子の端面における｛１１１｝面に端面吸着剤が選択に吸着することで、端面における金被覆層の形成性が向上すると考えている。」
「【００９２】
　〜特定錯化剤〜 
　金被覆処理液は、金イオンとの形成錯体の還元電位が０．５Ｖ以下となる錯化剤（特定錯化剤）を少なくとも１種含む。特定錯化剤としては、金イオンとの形成錯体の還元電位が０．５Ｖ以下となる化合物であれば特に限定されない。特定錯化剤の使用は、金還元の還元電位を下げること、すなわち、金被覆処理において、ゆっくりと金を還元させることができ、均一な金被覆に寄与する。」
「【実施例】
【０１６８】
　以下に実施例を挙げて本発明の一実施形態を更に具体的に説明する。本発明の範囲は、以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りの無い限り、「％」及び「部」は質量基準である。
【０１６９】
［１−１] 金被覆銀平板状粒子（特定平板状粒子）及びこれを含む分散液の作製
［実施例１］
（１）銀平板状粒子分散液ａの作製
　ＮＴＫＲ−４製の反応容器（日本金属工業（株）製）にイオン交換水１３Ｌを計量し、ＳＵＳ３１６Ｌ製のシャフトにＮＴＫＲ−４製のプロペラ４枚及びＮＴＫＲ−４製のパドル４枚を取り付けたアジターを備えるチャンバーを用いて撹拌しながら、１０ｇ／Ｌのクエン酸三ナトリウム（無水物）水溶液１．０Ｌを添加して３５℃に保温した。８．０ｇ／Ｌのポリスチレンスルホン酸水溶液０．６８Ｌを添加し、更に０．０４Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を用いて２３ｇ／Ｌに調製した水素化ホウ素ナトリウム水溶液０．０４１Ｌを添加した。０．１０ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液１３Ｌを５．０Ｌ／ｍｉｎで添加した。
【０１７０】
　反応容器に、１０ｇ／Ｌのクエン酸三ナトリウム（無水物）水溶液１．０Ｌとイオン交換水１１Ｌを添加して、更に８０ｇ／Ｌのヒドロキノンスルホン酸カリウム水溶液０．６８Ｌを添加した。撹拌を８００ｒｐｍ（rotations per minute、以下同じ。）に上げて、０．１０ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液８．１Ｌを０．９５Ｌ／ｍｉｎで添加した後、３０℃に降温した。
【０１７１】
　さらに反応容器に、４４ｇ／Ｌのメチルヒドロキノン水溶液８．０Ｌを添加し、次いで、後述する４０℃のゼラチン水溶液を全量添加した。撹拌を１２００ｒｐｍに上げて、さらに反応容器に、後述する亜硫酸銀白色沈殿物混合液を全量添加した。
【０１７２】
　調製液のｐＨ変化が止まった段階で、さらに反応容器に、１ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液５．０Ｌを０．３３Ｌ／ｍｉｎで添加した。その後、さらに反応容器に、２．０ｇ／Ｌの１−（メタスルホフェニル）−５−メルカプトテトラゾールナトリウム水溶液（ＮａＯＨとクエン酸（無水物）とを用いてｐＨ＝７．０±１．０に調節して溶解した）０．１８Ｌを添加し、更に７０ｇ／Ｌの１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン（ＮａＯＨで水溶液をアルカリ性に調節して溶解した）０．０７８Ｌを添加した。
　このようにして銀平板状粒子分散液ａを調製した。
　銀平板状粒子分散液ａが含む銀平板状粒子は、平均厚みが８．３ｎｍ、平均粒子径（平均円相当径）が１２１．２ｎｍの平板状粒子であり、アスペクト比は１４．６であった。測定方法は、既述のとおりである。
【０１７３】
〜ゼラチン水溶液の調製〜
　ＳＵＳ３１６Ｌ製の溶解タンクにイオン交換水１６．７Ｌを計量した。ＳＵＳ３１６Ｌ製のアジターで低速撹拌を行いながら、脱イオン処理を施したアルカリ処理牛骨ゼラチン（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）重量平均分子量：２０万）１．４ｋｇを添加した。更に、この溶解タンクに、脱イオン処理、蛋白質分解酵素処理、及び過酸化水素を用いた酸化処理を施したアルカリ処理牛骨ゼラチン（ＧＰＣ重量平均分子量：２．１万）０．９１ｋｇを添加した。その後４０℃に昇温し、ゼラチンの膨潤と溶解を同時に行って完全に溶解させた。
【０１７４】
〜亜硫酸銀白色沈殿物混合液の調製〜
　ＳＵＳ３１６Ｌ製の溶解タンクにイオン交換水８．２Ｌを計量し、１００ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液８．２Ｌを添加した。ＳＵＳ３１６Ｌ製のアジターで高速撹拌を行いながら、この溶解タンクに、１４０ｇ／Ｌの亜硫酸ナトリウム水溶液２．７Ｌを短時間で添加して、亜硫酸銀の白色沈澱物を含む混合液を調製した。この亜硫酸銀白色沈殿物混合液は、使用する直前に調製した。
【０１７５】
（２）端面吸着剤の添加
　次いで、上記で得た銀平板状粒子分散液ａ １３０．４ｇに対し、５０ｍＭの塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム（ＣＴＡＣ）１３．６ｇを添加し、銀平板状粒子分散液Ａを得た。
【０１７６】
（３）金被覆処理（特定平板状粒子を含む分散液の作製）
　水 ２６６．３ｇ、０．５ｍｏｌ／Ｌアスコルビン酸（還元剤） １７７ｇ、及び、下記の金還元液Ｂ１ ６０８ｇを、反応容器に順次添加し、５分間攪拌した後、１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を用いて、ｐＨを１０以上となるように調整して、金被覆処理液Ｂ１を得た。
　次いで、この反応容器内の金被覆処理液Ｂ１に、上記で得た銀平板状粒子分散液Ａ（銀濃度：０．５質量％≒４６ｍｍｏｌ／Ｌ）１４４ｇを添加し、６０℃で４時間攪拌した。
　以上により、銀平板状粒子を金被覆した特定平板状粒子を含む分散液（分散液ｂ）を得た。
【０１７７】
〜金還元液の調製〜
　容器に、水　１８．２ｇ、０．０１２ｍｏｌ／Ｌの塩化金酸４水和物（水溶性金化合物）　３５３．６ｇ、０．２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム（ｐＨ調整剤）　１５．６ｇ、及び、０．１ｍｏｌ／Ｌのチオ硫酸ナトリウム（錯化剤）　２２０．６ｇを、軽く撹拌しながら順次添加し、金還元液Ｂ１を得た。
【０１７８】
（４）脱塩処理及び再分散処理
　上記で得た特定平板状粒子を含む分散液ｂを遠沈管に８００ｇ採取して、１ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨおよび０．５ｍｏｌ／Ｌの硫酸のうち少なくとも一方を用いて２５℃でｐＨ＝９．２±０．２に調整した。遠心分離機（日立工機（株）製ｈｉｍａｃＣＲ２２ＧＩＩＩ、アングルローターＲ９Ａ）を用いて、３５℃に設定して９０００ｒｐｍで６０分間の遠心分離操作を行った後、上澄液を７８４ｇ捨てた。沈殿した銀平板状粒子に０．２ｍｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液を加えて合計４００ｇとし、撹拌棒を用いて手撹拌して粗分散液にした。これと同様の操作で２４本分の粗分散液を調製して合計９６００ｇとし、ＳＵＳ３１６Ｌ製のタンクに添加して混合した。更に、このタンクに、界面活性剤であるＰｌｕｒｏｎｉｃ３１Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）の１０ｇ／Ｌ溶液（メタノール：イオン交換水＝１：１（体積比）の混合液で希釈）を１０ｍＬ添加した。プライミクス（株）製オートミクサー２０型（撹拌部はホモミクサーＭＡＲＫＩＩ）を用いて、タンク中の粗分散液と界面活性剤の混合物に９０００ｒｐｍで１２０分間のバッチ式分散処理を施した。分散中の液温は５０℃に保った。分散後、２５℃に降温してから、プロファイルＩＩフィルター（日本ポール（株）製、製品型式ＭＣＹ１００１Ｙ０３０Ｈ１３）を用いてシングルパスの濾過を行った。
　このようにして、特定平板状粒子を含む分散液ｂに脱塩処理及び再分散処理を施し、特定平板状粒子を含む完成品である分散液Ｂ１を得た。
　分散液Ｂ１に含まれる特定平板状粒子は、平均厚みが９．１ｎｍ、平均厚みが（平均円相当径）が１２３．２ｎｍの平板状粒子であり、アスペクト比は１３．５であり、変動係数は１９．６％であった。測定方法は、既述のとおりである。
【０１７９】
［実施例２〜１４、比較例５〜６］
　
実施例１において、錯体化剤の種類及び量、端面吸着剤の量、銀平板状粒子分散液Ａの量、及び塩化金酸４水和物の量を調整して、下記表２に記載の錯体化剤の種類及び量、端面吸着剤の量、銀濃度及び金濃度となるようにした以外は、実施例１と同様にして、分散液Ｂ２〜Ｂ１４及び分散液Ｃ５〜Ｃ６を得た。
【０１８０】
［実施例１５］
　実施例４において、銀平板状粒子分散液ａの調製において加える亜硫酸銀白色沈殿物混合液の調製の際、１００ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液の添加量を２．７Ｌとしたことに加え、錯体化剤の種類及び量、端面吸着剤の量、銀平板状粒子分散液Ａの量、及び塩化金酸４水和物の量を調整して、下記表２に記載の錯体化剤の種類及び量、端面吸着剤の量、銀濃度及び金濃度となるようにした以外は、実施例４と同様にして分散液Ｂ１５を得た。
【０１８１】
［実施例１６］
　実施例４において、銀平板状粒子分散液ａの調製においてメチルヒドロキノン水溶液を添加する前に、反応容器中の液から３３．１Ｌを抜き取ったこと以外は、実施例４と同様にして分散液Ｂ１６を得た。
【０１８２】
［実施例１７］
　実施例４において、金被覆処理液の調製において、水 ２６６．３ｇの代わりに、水１３６．３ｇ、およびｐＨ緩衝材として５質量％のグリシン水溶液を１３０ｇ用いたこと以外は、実施例４と同様にして分散液Ｂ１７を得た。
【０１８３】
［実施例１８］
　実施例４において、銀平板状粒子分散液と、金被覆処理液を混合する際に、以下のマイクロミキサーを用いたこと以外は、実施例４と同様にして分散液Ｂ１８を得た。
　具体的には、銀平板状粒子分散液と、金被覆処理液を、富士テクノ社製プランジャーポンプで、それぞれ８ｍＬ／ｍｉｎ、３２ｍＬ／ｍｉｎで送液し、ＥＹＥＬＡ社製Ｔ字型リアクター（内径０．５ｍｍ）を用いて混合した。各プランジャーポンプとリアクターは、長さ５００ｍｍ、内径２ｍｍのテフロン（登録商標）チューブで連結し、リアクターから受け容器までは長さ２００ｍｍ、内径２ｍｍのテフロン（登録商標）チューブで連結した。また、水浴を用いてリアクターを６０℃に加熱した。回収した液は、６０℃で４時間攪拌した。
【０１８４】
［比較例１］
　特開２０１６−１０９５５０号公報の段落番号００３２及び００３３に記載の方法に順じ、銀濃度を、銀平板状粒子分散液ａと同じ４６ｍｍｏｌ／Ｌとするために、各材料の添加量を２６０倍とし、銀平板状粒子を作製しようとしたところ、沈殿物が生じ、銀平板粒子が作製できなかった。この結果は、銀濃度が高いため、クエン酸ナトリウムの分散力では、十分に粒子の保護コロイド性が発現しなかったためであると推定した。
　このため、比較例１については、金被覆処理も実施できなかった。
【０１８５】
［比較例２］
　実施例１において調製した銀平板状粒子分散液ａに対して、端面端面吸着剤の添加及び金被覆処理を行なわずに、「（４）脱塩処理及び再分散処理」と同様の処理を行なった以外は、実施例１と同様にして作製した銀平板状粒子の分散液を分散液Ｃ２として用いた。
【０１８６】
［比較例３］
　実施例１において錯化剤を用いなかった以外は、実施例１と同様にして、金被覆銀平板状粒子分散液である分散液Ｃ３を得た。
【０１８７】
［比較例４］
　実施例１において、錯化剤をヨウ化カリウムに変更した以外は、実施例１と同様にしてて、金被覆銀平板状粒子分散液である分散液Ｃ４を得た。
【０１８８】
　
上記にて得た分散液Ｂ１〜Ｂ１８、及び分散液Ｃ１〜Ｃ６について、金被覆処理に用いた錯化剤の種類、金との形成錯体の還元電位（Ｖ）、分散液中の量（ｍｍｏｌ／Ｌ）、分散液中の銀濃度（ｍｍｏｌ／Ｌ）、及び、分散液中の金濃度（ｍｍｏｌ／Ｌ）を、表２に示す
【０１８９】
［１−２] 測定及び評価（Ｉ）
（１）金被覆状態の確認
　分散液Ｂ１〜Ｂ１８及び分散液Ｃ１〜Ｃ６に含まれる金被覆銀平板状粒子について、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡：Ｓ−５２００、（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて確認した。結果を表２に示す。
【０１９０】
　また、図８には、実施例７で得られた金被覆銀平板状粒子における平坦な金被覆層の形成状態を示す。図８は、実施例７で得られた金被覆銀平板状粒子に対するエネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＳ）の測定結果に基づき作製された図である。図８中、（ａ）は銀平板状粒子１０１を単独で示し、（ｂ）は金被覆層１０２を単独で示し、（ｃ）は銀平板状粒子１０１の表面全体に金被覆層１０２が存在する金被覆銀平板状粒子１００を示す。
【０１９１】
　金被覆状態の確認結果が「平坦」であった他の金被覆銀平板状粒子についても、実施例７で得られた金被覆銀平板状粒子と同様の金被覆状態であった。
【０１９２】
（２）金被覆層の平均厚み及び厚み比の測定
　分散液Ｂ１〜Ｂ１８及び分散液Ｃ１〜Ｃ６に含まれる金被覆銀平板状粒子について、主平面の平均厚み（Ａ）及び端面の平均厚み（Ｂ）を測定し、厚み比（Ａ／Ｂ）を算出した。厚みの測定方法の詳細は、以下の通りである。結果を表１（当審注：「表２」の誤記と認められる。）に示す。
【０１９３】
（測定方法）
　粒子断面方向のＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ（High-angle Annular Dark Field Scanning TEM)像を撮影し、その撮影画像中で輝度の高い金被覆層の厚みを、主平面及び端面のそれぞれについて、１粒子中５点を画像解析ツールとしてＩｍａｇｅＪを用いて測定し、計２０個の粒子の厚みを算術平均することで、主平面の平均厚み（Ａ）、端面の平均厚み（Ｂ）、及び厚み比Ａ／Ｂをそれぞれ算出した。
【０１９４】
（３）酸化耐性（耐Ｈ２Ｏ２性）評価
　分散液Ｂ１〜Ｂ１８及び分散液Ｃ１〜Ｃ６の酸化耐性（耐Ｈ２Ｏ２性）について、以下の評価方法及び評価基準により評価した。評価レベルＡ又はＢが実用上問題ない酸化耐性であると評価する。結果を表２に示す。
【０１９５】
（評価方法）
　Ｈ２Ｏ２の含有量が、０質量％の液、及び、３質量％の液を、それぞれ４ｍＬづつ計１９個に小分けし、そこに分散液Ｂ１〜Ｂ１８及び分散液Ｃ１〜Ｃ６の各分散液を、２０μＬづつ添加して、評価用サンプルを調製した。
　各評価用サンプルを２ｈｒ経過させた後、各評価用サンプルの液分光吸収を分光機（Ｕ−４０００形分光光度計 日立ハイテクノロジーズ社製）にて測定した。
　分散液Ｂ１〜Ｂ１３及び分散液Ｃ１〜Ｃ６のそれぞれについて、Ｈ２Ｏ２の含有量が０質量％の評価用サンプルと３質量％の評価用サンプルとの吸収ピーク強度 ＡＭ（Ａｂｓ．Ｍａｘ）（０％）及びＡＭ（３％）を求め、その強度比：ＡＭ（３％）／ＡＭ（０％）から、下記評価基準Ａ〜Ｅに基づいて、酸化耐性（耐Ｈ２Ｏ２性）を判定した。
【０１９６】
（評価基準）
Ａ：強度比が０．９以上１．０以下
Ｂ：強度比が０．７以上０．９未満
Ｃ：強度比が０．５以上０．７未満
Ｄ：強度比が０．３以上０．５未満
Ｅ：強度比が０以上０．３未満
【０１９７】
３．粒子生産性の評価
　得られた各分散液について、銀濃度（ｍｍｏｌ／Ｌ）を分散液の作製時間（ｈｒ）で割ることにより、粒子の生産性（ｍｍｏｌ／Ｌ・ｈｒ）を求めた。評価基準は以下のとおりである。この評価に優れるほど、短時間に高濃度の金被覆銀平板状粒子を含む分散液が得られ、生産性が高い。
　結果を表２に示す。
（評価基準）
Ａ：生産性が、２．５ｍｍｏｌ／Ｌ・ｈｒ以上
Ｂ：生産性が、０．５ｍｍｏｌ／Ｌ・ｈｒ以上２．５ｍｍｏｌ／Ｌ・ｈｒ未満
Ｃ：生産性が、０．５ｍｍｏｌ／Ｌ・ｈｒ未満
【０１９８】
【表２】
【０１９９】
　
表２に示すように、実施例１〜１８で作製した分散液Ｂ１〜Ｂ１８が含む特定平板状粒子は、いずれも、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚み（Ｂ）に対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚み（Ａ）の比（Ａ／Ｂ）が０．０２以上であることが確認された。これらの分散液は、いずれも優れた酸化耐性（耐Ｈ２Ｏ２性）を示す
（オ）訂正前の本件明細書の【０１９８】の【表２】には、実施例１〜１２、１４〜１８で作製した分散液Ｂ１〜Ｂ１２、Ｂ１４〜Ｂ１８が含む金被覆銀平板状粒子は、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みである「主平面厚み（Ａ）」が０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みである「端面厚み（Ｂ）」に対する「主平面厚み（Ａ）」の比である「厚み比［Ａ／Ｂ］」が０．１以上１．６以下であり、該粒子を有する分散液Ｂ１〜Ｂ１２、Ｂ１４〜Ｂ１８は実用上問題ない酸化耐性（評価レベルＡ、Ｂ）を有することが示されている。
　したがって、金被覆銀平板状粒子の金被覆層が、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が０．１以上１．６以下の場合には、上記イに記載した課題を解決し得ることが確認できる。
（カ）そこで、金被覆銀平板状粒子の金被覆層が、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が実施例の上記数値範囲０．１以上１．６以下を超える場合でも、上記課題が解決し得るかについて検討する。
　金被覆銀平板状粒子の金被覆層において、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が実施例の数値を超えて非常に大きい、仮に１００であるとき、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが、粒子の端面における金被覆層の平均厚みの１００倍になるから、金被覆によって銀平板状粒子の粒子形状は大きく変化する。この場合、金被覆前の銀平板状粒子の粒子形状を保ったまま、銀平板状粒子の全面（粒子の主平面と端面の全て）に対して均一な金被覆がされているといえるのか不明であり、均一な金被覆の結果である酸化耐性も不明である。
　なお、訂正前の本件明細書の【００２８】には、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」の上限値について、「特に限定されないが、１０以下であることが好ましい。」との記載があるが、上限値を１０以下に設定する理由は説明されておらず課題との関係は不明である。
　したがって、金被覆銀平板状粒子の金被覆層が、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が実施例の数値範囲０．１以上１．６以下を超える場合には、酸化耐性が優れたものになるということはできない。
（キ）以上の検討から、金被覆銀平板状粒子の金被覆層が、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が０．１以上１．６以下である実施例の記載に基づいて、金被覆銀平板状粒子の金被覆層が、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が非常に大きい訂正前の請求項１に係る発明の場合にまで、上記課題を解決し得るということはできない。
　よって、訂正前の請求項１に係る発明及びこれを引用する訂正前の請求項２〜５、１１に係る発明は、本件明細書に開示された発明の範囲を超えているので、発明の詳細な説明に記載されたものであるとはいえない。
　よって、訂正前の請求項１に係る発明及びこれを引用する本件訂正前の請求項２〜５、１１に係る発明は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから、その特許は取り消されるべきものである。
　ウ　判断
（ア）本件訂正によって、本件発明１は、金被覆銀平板状粒子の「金被覆層」について、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である」と特定されたことにより、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」の上限値が規定され、「０．２以上１．４以下」とされたため、本件発明１の「金被覆銀平板状粒子」は、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が非常に大きい場合は含まないものとなった。
（イ）そして、本件訂正によって、本件明細書の上記エで摘記した記載のうち、【０１７９】、【０１８８】、【０１８９】、【０１９２】、【０１９４】、【０１９５】、【０１９８】、【０１９９】は、下記のように訂正された。
「【０１７９】
［実施例２〜６、１２〜１４、比較例６］
　実施例１において、錯体化剤の種類及び量、端面吸着剤の量、銀平板状粒子分散液Ａの量、及び塩化金酸４水和物の量を調整して、下記表２に記載の錯体化剤の種類及び量、端面吸着剤の量、銀濃度及び金濃度となるようにした以外は、実施例１と同様にして、分散液Ｂ２〜Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１４及び分散液Ｃ６を得た。」
「【０１８８】
　上記にて得た分散液Ｂ１〜Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８、及び分散液Ｃ１〜Ｃ４、Ｃ６について、金被覆処理に用いた錯化剤の種類、金との形成錯体の還元電位（Ｖ）、分散液中の量（ｍｍｏｌ／Ｌ）、分散液中の銀濃度（ｍｍｏｌ／Ｌ）、及び、分散液中の金濃度（ｍｍｏｌ／Ｌ）を、表２に示す。なお、比較例３の欄に記載の錯化剤種「−（Ｃｌ）」は、塩化金酸４水和物に由来するリガンドを示している。
【０１８９】
［１−２] 測定及び評価（Ｉ）
（１）金被覆状態の確認
　分散液Ｂ１〜Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８及び分散液Ｃ１〜Ｃ４、Ｃ６に含まれる金被覆銀平板状粒子について、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡：Ｓ−５２００、（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて確認した。結果を表２に示す。」
「【０１９２】
（２）金被覆層の平均厚み及び厚み比の測定
　分散液Ｂ１〜Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８及び分散液Ｃ１〜Ｃ４、Ｃ６に含まれる金被覆銀平板状粒子について、主平面の平均厚み（Ａ）及び端面の平均厚み（Ｂ）を測定し、厚み比（Ａ／Ｂ）を算出した。厚みの測定方法の詳細は、以下の通りである。結果を表１（当審注：「表２」の誤記と認められる。）に示す。」
「【０１９４】
（３）酸化耐性（耐Ｈ２Ｏ２性）評価
　分散液Ｂ１〜Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８及び分散液Ｃ１〜Ｃ４、Ｃ６の酸化耐性（耐Ｈ２Ｏ２性）について、以下の評価方法及び評価基準により評価した。評価レベルＡ又はＢが実用上問題ない酸化耐性であると評価する。結果を表２に示す。
【０１９５】
（評価方法）
　Ｈ２Ｏ２の含有量が、０質量％の液、及び、３質量％の液を、それぞれ４ｍＬづつ計１９個に小分けし、そこに分散液Ｂ１〜Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８及び分散液Ｃ１〜Ｃ４、Ｃ６の各分散液を、２０μＬづつ添加して、評価用サンプルを調製した。
　各評価用サンプルを２ｈｒ経過させた後、各評価用サンプルの液分光吸収を分光機（Ｕ−４０００形分光光度計 日立ハイテクノロジーズ社製）にて測定した。
　分散液Ｂ１〜Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８及び分散液Ｃ１〜Ｃ４、Ｃ６のそれぞれについて、Ｈ２Ｏ２の含有量が０質量％の評価用サンプルと３質量％の評価用サンプルとの吸収ピーク強度 ＡＭ（Ａｂｓ．Ｍａｘ）（０％）及びＡＭ（３％）を求め、その強度比：ＡＭ（３％）／ＡＭ（０％）から、下記評価基準Ａ〜Ｅに基づいて、酸化耐性（耐Ｈ２Ｏ２性）を判定した。」
「【０１９８】
【表２】
【０１９９】
　表２に示すように、実施例１〜６、１２〜１８で作製した分散液Ｂ１〜Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８が含む特定平板状粒子は、いずれも、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚み（Ｂ）に対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚み（Ａ）の比（Ａ／Ｂ）が０．０２以上であることが確認された。これらの分散液は、いずれも優れた酸化耐性（耐Ｈ２Ｏ２性）を示すことが分かる。」
（ウ）訂正後の本件明細書の【０１９８】の【表２】において、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」は「主平面厚み（Ａ）」、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」は「厚み比［Ａ／Ｂ］」の欄に示されている。
　そして、同【表２】に記載の実施例１〜６、１２〜１８のうち、実施例１〜６、１２、１５〜１８で作製した分散液Ｂ１〜Ｂ６、Ｂ１２、Ｂ１５〜Ｂ１８が含む金被覆銀平板状粒子は、「主平面厚み（Ａ）」及び「厚み比［Ａ／Ｂ］」の値が両方とも本件発明１の数値範囲を満たし、該粒子を有する分散液Ｂ１〜Ｂ６、Ｂ１２、Ｂ１５〜Ｂ１８は実用上問題ない酸化耐性（評価レベルＡ、Ｂ）を有することが示されている。
（なお、実施例１３〜１４については、下記理由により除外した。
・実施例１３で作製した分散液Ｂ１３が含む金被覆銀平板状粒子は、「主平面厚み（Ａ）」及び「厚み比［Ａ／Ｂ］」の値が両方とも本件発明１の数値範囲を満たさない。
・実施例１４で作製した分散液Ｂ１４が含む金被覆銀平板状粒子は、「主平面厚み（Ａ）」の値が本件発明１の数値範囲を満たさない。）
　ここで、表２の実施例１〜６、１２、１５〜１８の「主平面厚み（Ａ）」及び「厚み比［Ａ／Ｂ］」の値から、金被覆銀平板状粒子の金被覆層が、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が０．２以上１．４以下の場合には、課題を解決し得ることが確認できる。
（エ）上記（ア）で説明したとおり、本件訂正によって「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」の上限値が規定され、「０．２以上１．４以下」とされたため、本件発明１は、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が上記カに記載の数値範囲である金被覆銀平板状粒子に限定された。
（オ）したがって、本件発明１は、上記課題を解決し得るものであるということができるので、上記アに記載したサポート要件に係る取消理由は解消した。
（３）取消理由４（実施可能要件）について
　ア　取消理由４の内容は以下のとおりである。
　本件訂正前の請求項１に係る発明は、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．０２以上」との発明特定事項を含む金被覆銀平板状粒子である。
　本件訂正前の本件明細書の【０１７９】の記載から、実施例２〜１４、比較例５〜６は、実施例１において、錯化剤の種類及び量、端面吸着剤の量、銀平板状粒子分散液Ａの量、及び塩化金酸４水和物の量を調整して、表２に記載の錯化剤の種類及び量、端面吸着剤の量、銀濃度及び金濃度となるようにした以外は、実施例１と同様の方法で、分散液Ｂ２〜Ｂ１４及び分散液Ｃ５〜Ｃ６を得たものと認められる。
　そして、表２より、実施例７〜１１、比較例５〜６は、錯化剤としてＮａＳＯ３、錯化剤の添加量を１５ｍｍｏｌ／Ｌ、端面吸着剤の種類をＣＴＡＣ、銀濃度を４．５ｍｍｏｌ／Ｌ、金濃度を２．２８ｍｍｏｌ／Ｌとし、端面吸着剤の量のみが異なる作製条件で粒子分散液を製造したものである。なかでも、実施例７と比較例５は、端面吸着剤の量がどちらも０ｍｍｏｌ／Ｌで、表２に記載の粒子分散液の作製条件は完全に同一であるが、実施例７では、本件訂正前の請求項１に係る発明の規定を満たし実用上問題ない酸化耐性の金被覆銀平板状粒子が得られるのに対し、比較例５では、本件訂正前の請求項１に係る発明の規定を満たさず、酸化耐性に問題がある金被覆銀平板状粒子が得られている。また、実施例８と実施例１０、実施例９と実施例１１も、粒子分散液の作製条件が完全に同一にもかかわらず、得られた金被覆銀平板状粒子の形状（粒子の主平面における金被覆層の平均厚み、及び、粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比）が異なっている。さらに、本件訂正前の本件明細書の【００８２】〜【００８３】において説明される端面吸着剤の添加効果も表２から確認できず、本件明細書の実施例から本件訂正前の請求項１に係る発明の金被覆銀平板状粒子を製造するために必要な条件を把握することができない。
　したがって、本件訂正前の本件明細書の発明の詳細な説明には、本件訂正前の請求項１に係る発明について、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているとはいえない。
　また、上記本件訂正前の請求項１に係る発明を直接又は間接的に引用する本件訂正前の請求項２〜５、１１に係る発明についても同様である。
　よって、本件訂正前の請求項１に係る発明及びこれを直接又は間接的に引用する本件訂正前の請求項２〜５、１１に係る発明は、発明の詳細な説明の記載が特許法第３６条第４項第１号に適合するものではないから、その特許は取り消されるべきものである。
　イ　本件訂正によって、本件明細書における実施例及び比較例に関する事項のうち、上記アの取消理由の根拠であった「実施例７〜実施例１１」、「比較例５」、「実施例２５〜実施例２９」、「比較例１１」に関する事項が削除された。また、特許権者は、令和３年５月１４日に提出した意見書の３頁において、「実施例７と比較例５、実施例８と実施例１０、実施例９と実施例１１は、錯誤により不適切な実験結果が記載されてしまっていたため、分散液の作製条件が同一となっており、これらの実施例及び比較例の存在は、表２の記載が意図する事項（即ち、分散液の種類とそれにより得られる金被覆銀平板状粒子の形状）に齟齬を来し、表２の記載を不明瞭にするものであることから、表２から実施例７〜実施例１１及び比較例５に関する事項を削除した。」と記載して、当該削除の合理的理由を説明したため、上記アの取消理由は解消した。
　ウ　本件発明の実施可能要件について、申立人は、令和３年７月１日付けの意見書の１３〜１６頁において、
（ア）訂正により削除されたとはいえ、実施例７と比較例５、実施例８と実施例１０、実施例９と実施例１１は、それぞれ粒子分散液の作製条件が完全に同一であるにもかかわらず、得られた金被覆銀平板状粒子の形状（粒子の主平面における金被覆層の平均厚み（Ａ)、及び、粒子の端面における金被覆層の平均厚み（Ｂ）（さらには、粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比（Ａ／Ｂ））が異なっているのであるから、本件明細書の実施例、比較例の分散液は、【表２】に記載されていない粒子分散液の作製条件を異ならせて作製されたものであることは明らかであり、本件明細書にその開示がないことに照らせば、実施可能要件違反があるというべきである、
（イ）主平面の金被覆層の厚みを測定する方法について、本件明細書には、
「【０１９３】
（測定方法）
　粒子断面方向のＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ（High-angle Annular Dark Field Scanning TEM)像を撮影し、その撮影画像中で輝度の高い金被覆層の厚みを、主平面及び端面のそれぞれについて、１粒子中５点を画像解析ツールとしてＩｍａｇｅＪを用いて測定し、計２０個の粒子の厚みを算術平均することで、主平面の平均厚み（Ａ）、端面の平均厚み（Ｂ）、及び厚み比Ａ／Ｂをそれぞれ算出した。」
として、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ像を用いた測定方法が記載されているものの、本件発明の金被覆銀平板状粒子のようなアスペクト比の高い平板状粒子を自然に端面を底にして垂直に立たせることは困難であるため、主平面の金被覆層の平均厚みを測定することは一般的な技術範囲を超えた「当業者が想定し得ない特別な方法」によってなされたと考えられるから、本件明細書は記載が不足しており、実施可能要件違反があるというべきである、
と主張しているので、これらの主張について検討する。
　エ　上記イのとおり、申立人の（ア）の主張の根拠である実施例７〜実施例１１及び比較例５は、合理的理由に基づいて本件訂正により削除され、上記第２の３ア（エ−３）において検討したとおり、表２に記載されていない作製条件及び物性値が存在することについて具体的な根拠も申立人により提示されていないから、本件発明において【表２】に記載されていない粒子分散液の作製条件が存在すると認めることはできない。
　オ　さらに、本件発明の金被覆銀平板状粒子のようなアスペクト比の高い平板状粒子であっても、端面を底にして垂直に立った状態であり、主平面の金被覆層の厚みが測定できる粒子が全く存在しないとはいえないから、本件明細書の【０１９３】に記載された測定方法に基いて、主平面の金被覆層の平均厚みを算出することは、当業者であれば通常なし得ることと認められるので、申立人の上記ウの主張は採用できない。
（４）小括
　したがって、取消理由１〜４はすべて解消された。
２　取消理由として採用しなかった申立理由について
　上記「第４　申立理由の概要」に記載した申立理由のうち、取消理由として採用しなかったものは、申立理由１−１（甲２を主たる引用文献とする新規性、進歩性）、申立理由１−２（甲３の実施例１を主たる引用文献とする新規性、進歩性）、申立理由２−１（甲２を主たる引用文献とする進歩性）、申立理由２−２（甲３の実施例１を主たる引用文献とする進歩性）である。
（１）申立理由１−１（甲２を主たる引用文献とする新規性、進歩性）及び申立理由２−１（甲２を主たる引用文献とする進歩性）について
　ア　甲２に記載された事項と発明
　甲２には、「Core/Shell Nanostructures: Etching-Free Epitaxial Growth of Gold on Silver Nanostructures for High Chemical Stability and Plasmonic Activity（当審訳：高い化学的安定性とプラズモン活性のための、銀ナノ構造上での金のエッチングなしのエピタキシャル成長）」（論文の名称）に関して、次の記載がある。
「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」（５４３６頁右欄４行〜５４３７頁左欄２８行）
（当審訳：2. 結果と考察
2.1. Ag@Auコア／シェルナノ結晶のプラズモニック特性の理論的研究
この研究では、Agコアと厚いAuシェルを備えたAg@Auコア／シェルナノ結晶が、対応するAuのプラズモニック特性と 同等であり、ナノ結晶がAgのようなプラズモニック特性を提供するために高い異方性が重要であると推論した。ナノ結晶が、バンド間遷移の領域からスペクトルの長波長ヘシフトした LSPRバンドによるAgのようなプラズモン特性を実現するには、高い異方性が重要である。Ag@Auコア／シェルナノ結晶のプラズモニック特性、特にナノプレートの優れたプラズモニック特性を評価するために、FEMを使用して、理論的観点からナノ結晶の消光効率と局所電場分布をシミュレーションした（図1)。
　結果（図lb、d)は、Ag@Auコア／シェルナノプレートのプラズモニック性特が純粋なAuナノプレートのプラズモニック特性と同等であることを最初に確認した。これは、ナノ結晶の消光効率と局所電場増強の両方が非常に近いためである。Ag@Auコア／シェルナノプレートは、誘電体コアの材料が異なるため、純粋なAuに比べてLSPRバンドのレッドシフトを示し、Agコアが全体的なプラズモン特性にわずかに影響を与える可能性があることを示した。したがって、Ag@Auコア／シェルナノプレートは、Auの厚いシェルが表面に成長した場合、純粋なAuナノプレートと同等のプラズモニック特性となる。
　Ag@Auコア／シェルナノ結晶の異方性に依存するプラズモニック特性の調査では、Agナノスフィアが等方性形状の典型的なプラズモニックナノ粒子として選択され、波長410nmで強いLSPR バンドを示した（図1a)。しかし、対応するAg@Auコア／シェルのLSPRバンドは、波長 510nmで大幅に減衰した強度を示した。さらに、Ag@Auコア／シェルナノスフィアは、それぞれの共嗚波長において、Agナノスフィアと比較して、近接して電界強度が劇的に低下した（図1c)。したがって、等方性Ag@Auコア／シェルナノ結晶は、LSPRとバンド間遷移のカップリングにより、Agの対応するナノ結晶よりもプラズモン特性がはるかに劣っているといえる。明らかに対照的に、Ag@Auコア／シェルナノプレートは、600nm以上の波長でみられるようなAgナノプレートとほぼ同じ強度のLSPRバンドを示し（図1b)、驚くべきことに異方性Ag@Auナノ構造が事実上AgのLSPRを維持できることを示唆している。Ag@Auコア／シェルナノプレートの近くの電場は、Agナノプレートの電場に比べて弱くなったが、有意ではない（図1d)。したがって、Ag@Auコア／シェルナノ結晶のプラズモニック特性は、形状の異方性に大きく依存し、異方性のAg@Auコア／シェルナノプレートは、顕著なプラズモニック特性と安定性を組み合わせた利点を持っている。）
「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」（５４３６頁）
（当審訳：図1. FEMでシミュレーションしたAg@Auコア／シェルナノ構造のプラズモニック特性
a)  Agナノスフィアと比較したAg@AuナノスフィアのLSPR消光特性
b)  AgおよびAuナノプレートと比較したAg@AuナノプレートのLSPR消光特性。
Ag、Au、およびAg@Auナノ結晶の全体的なサイズは各比較で同じだが、Auシェルの厚さはすべてのAg@Auコア／シェルナノ構造で8nmに固定されていた。挿人図は、Ag@Auコア／シェルナノ構造の形状モデルを概略的に示している。長さの単位：nm。
c)  それぞれの共鳴波長で照射されたAgおよびAg@Auナノスフィアの近傍における電界強度の分布。
d)  それぞれの共鳴波長で照射されたAg、Ag@Au、およびAuナノプレートの近傍における電界強度の分布。）
「       
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」（５４３８頁右欄下から２７行〜下から７行）
（当審訳：Agナノプレート上のAuのエピタキシャル成長の速度が位置選択性を示したことは注目すべきである（図3e)。シェル厚さが増加するAg@Auコア／シェルナノプレートの成長中間体がTEMで観察され、コーナーファセット（角面）よりもAgナノプレートの側面で優先的にAuが成長することが明らかに示された。典型的なエピタキシャル成長後、Au層の厚さは、Agナノプレートの側面で約8nmと測定されたが、角と基部面ではわずか約2nmであった。このように亜硫酸塩は、ナノ結晶の{111}面に限定してキャッピング剤として機能し、Auの成長を抑制しながら、{100}面の大部分を占めるAgナノプレートの側面でのAuの急速な成長を促進する一方で、角および通常は{111}面で構成される基本面でのAuの成長を抑制した。その結果、Ag@Auコア／シェルナノプレートは、切頭三角形のナノプレートとして得られた。Ag@Auコア／シェルナノプレートの他のいくつかの形状はTEMで時折観察でき、これらの角では、Auの大幅な成長が見られる。これは、ナノプレート上でのAuの大幅な成長に加えて、角に{100}面の大きな割合を占めるナノプレートが異なる結晶構造を持つことが原因である可能性が考えられる。）
「      
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」（５４４１頁右欄下から１１行〜５４４２頁左欄１５行）
（当審訳：4. 実験セクション
　銀ナノプレート（シード）の合成：銀ナノプレートは、マーキンと協働者により報告された手順に微修正を加えたものに従って合成を行った。典型的には、0.2mLの硝酸銀(O.lM)、12mLのクエン酸三ナトリウム(0.75M)及び0.48mLの過酸化水素水(O.lM)を200mLの水に溶解した。次に、1.2mLのNaBH4(0.1M)を激しく撹拌された溶液中に投入する。30分後、得られた液は、さらなる精製を行わずに、銀ナノプレートの貯蔵液として使用される。
　金の成長液の調製：4.72mLの水の中に、40μLの塩化金酸(0.25M)、240μLの水酸化ナトリウム(0.2M)、そして、3.00mLの亜硫酸ナトリウム(O.OlM)が順次加えられる。使用前に、溶液は一晩静かに放置する。
　切頂三角形状のAg@Auコア／シェルナノプレートの合成：典型的な合成では、銀ナノプレートは、40mLの貯蔵液から遠心分離され、2mLの水の中で再分散される。2.55mLの水、lmLのPVP(5wt%、Mw 40000)、200μLのL-AA(0.5M)、200μLの水酸化ナトリウム(0.5M)、50μLの亜硫酸ナトリウム(O.lM)及び4mLの金の成長液をガラス小瓶で混合することにより溶液が調製され、銀ナノプレートの溶液と混合すると、シードの成長が始まる。そして、30℃で12時間静かな状態で反応が進む。最後に、Ag@Auナノプレートは遠心分離により集められ、水で洗われる。特筆すべきことは、反応時間は、反応温度を60℃に上げることにより、1時間まで大幅に短縮することができ、大量生産のためのAg@Auナノプレートの迅速な合成を促進する。（図S8、サポート情報）)
　イ　当審の判断
　上記アの記載によれば、甲２には、次の金被覆銀ナノプレートが記載されているものと認められる（以下、「甲２発明」という。）。
「AgナノプレートのコアとAu層のシェルを有する、Ag@Auコア／シェルナノプレート。」
　本件発明１と甲２発明を対比する。
　甲２発明の「Agナノプレートのコア」、「Au層のシェル」、「Ag@Auコア／シェルナノプレート」は、本件発明１の「銀平板状粒子」、「金被覆層」、「金被覆銀平板状粒子」に相当するから、本件発明１と甲２発明は、「銀平板状粒子と金被覆層とを有する金被覆銀平板状粒子。」である点で一致しているが、甲２発明の「Ag@Auコア／シェルナノプレート」は、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」や「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」が特定されていない点で本件発明１と相違している（以下、「相違点３」という）。
　相違点３について検討する。
　甲２には、金被覆銀平板状粒子の酸化耐性を向上させるために、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」及び「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」を特定の数値範囲とすることについて、記載も示唆もされていない。特に、上記目的のために、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」に着目して、「０．２以上１．４以下」という特定の数値範囲とすることは、甲２やその他の甲号証にも記載されていないから、甲２発明において、相違点３に係る本件発明１の構成とすることは、動機付けがなく、当業者が容易になし得ることであるとはいえない。
　したがって、本件発明１は甲２発明と同一ではないし、甲２発明とその他の甲号証に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　また、本件発明１を引用することによって、本件発明１の特定事項を備えている、本件発明２〜５、１１についても、同様の理由で、甲２発明と同一ではないし、甲２発明とその他の甲号証に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　ウ　申立人の主張
　申立人は、意見書の２〜３頁において、「甲第２号証の図１はシミュレーションの結果ではあるものの、具体的な寸法を有する銀ナノプレートが具体的な厚さを有することが記載されており、しかも、金被覆銀ナノプレートに関して、4. Experimental Sectionでは金被覆の手法が明確に記載されており、2. Result and Discussionでは多くの電子顕微鏡像を列挙し、金被覆銀ナノプレートが調製されたことが記載されている。このことから、シミュレーションの図表は単なる想像のレベルのものではなく、金被覆銀ナノプレートに係る技術思想として具体化されたものであって、本件発明に対する公知発明としての適格を有する」と主張している。
　しかしながら、甲２の図１はシミュレーションの結果であって、実際に図１のｂに記載の厚さの金被覆を有する銀ナノプレートが形成されているとはいえない。また、シミュレーションの結果を実際に製造したものと比較してシミュレーションの再現性が検証されているわけでもない。そのため、製造方法が記載されているからといって、図１のｂに記載された金被覆を有する銀ナノプレートを、甲２に記載された発明として認定することはできないから、申立人の主張は採用できない。
（２）申立理由１−２（甲３の実施例１を主たる引用文献とする新規性、進歩性）及び申立理由２−２（甲３の実施例１を主たる引用文献とする進歩性）について
　ア　甲３に記載された事項と発明
　甲３には、上記１（１）アに摘記した記載に加えて、次の記載がある。
「【実施例】
【００３３】
実施例１
（１）銀ナノプレートの種粒子の作製
　２．５ｍＭのクエン酸ナトリウム水溶液２０ｍＬに、０．５ｇ／Ｌの分子量７０，０００ポリスチレンスルホン酸水溶液１ｍＬと、１０ｍＭの水素化ホウ素ナトリウム水溶液１．２ｍＬとを添加し、次いで、２０ｍＬ／ｍｉｎで攪拌しながら、０．５ｍＭの硝酸銀水溶液５０ｍＬを添加した。得られた溶液をインキュベーター（３０℃）中で６０分間静置し、銀ナノプレートの種粒子の水懸濁液を作製した。作製した水懸濁液（原液）の光学特性を図３に示す。光学特性の測定は、株式会社島津製作所製の紫外可視近赤外分光光度計ＭＰＣ３１００ＵＶ−３１００ＰＣを用い、光路長：１ｃｍ及び測定波長：１９０−１３００ｎｍの条件下で行われた。最大吸収を示す波長は球状銀ナノ粒子のＬＳＰＲである３９６ｎｍ（消光度３．３）であった。なお、本発明の消光度とは懸濁液を分光光度計で測定した際の吸光度の値である。また、ＳＥＭ観察写真を図４に示す。ＳＥＭ観察写真の解析には株式会社日立製作所製の走査電子顕微鏡ＳＵ−７０を用いた。粒子径は主に３ｎｍ以上、１０ｎｍ未満のプレート状粒子であった。
【００３４】
（２）銀ナノプレートの作製（マゼンタ）
　超純水２００ｍＬに、１０ｍＭのアスコルビン酸水溶液４．５ｍＬを添加し、更に（１）で作製した銀ナノプレート種粒子水懸濁液４ｍＬを添加した。得られた溶液に、０．５ｍＭの硝酸銀水溶液１２０ｍＬを３０ｍＬ／ｍｉｎで攪拌しながら添加した。硝酸銀水溶液の添加が終了した４分後に攪拌を停止し、２５ｍＭのクエン酸ナトリウム水溶液２０ｍＬを添加し、得られた溶液を大気雰囲気下のインキュベーター（３０℃）中で１００時間静置し、銀ナノプレートの水懸濁液ａを作製した。調製した懸濁液を超純水で４倍容に希釈した水懸濁液の光学特性を図５に示す。最大吸収を示す波長は５２６ｎｍ（消光度１．１）であった。光学特性の測定は、株式会社島津製作所製の紫外可視近赤外分光光度計ＭＰＣ３１００ＵＶ−３１００ＰＣを用い、光路長：１ｃｍ及び測定波長：１９０−１３００ｎｍの条件下で行われた。水懸濁液ａ中の銀ナノプレートをＳＥＭにより観察したところ、銀ナノプレートの平均粒子径は３１ｎｍであり、平均厚さは８ｎｍでアスペクト比は３．８であった。ＳＥＭ観察写真の解析には株式会社日立製作所製の走査電子顕微鏡ＳＵ−７０を用いた。
【００３５】
（３）金被覆銀ナノプレートの作製
　（２）で作製した銀ナノプレート水懸濁液１２０ｍＬに、０．１２５ｍＭのポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）（分子量：４０，０００）の水溶液９．１ｍＬを添加し、０．５Ｍのアスコルビン酸水溶液１．６ｍＬを添加した後、０．１４ｍＭの塩化金酸水溶液９．６ｍＬを０．５ｍＬ／ｍｉｎで攪拌しながら添加した。得られた溶液をインキュベーター（３０℃）中に２４時間静置し、
銀ナノプレートの表面が金で被覆された金被覆銀ナノプレートの水懸濁液（以下、懸濁液Ａ１）
　懸濁液Ａ１の主要分散媒は水であった。
　
懸濁液Ａ１に含まれる金被覆銀ナノプレートは、主面の最大長（粒子径）の平均が３１ｎｍの三角形状を含む多角形状、円形状であるプレートの混合物であり、厚さの平均は８ｎｍであった。また、懸濁液Ａ１に含まれる金被覆銀ナノプレートにおける金の厚さの平均は０．３０ｎｍであった。
　懸濁液Ａ１におけるポリスチレンスルホン酸（本発明における水溶性高分子に該当）の濃度は０．９８ｎＭであった。
　懸濁液Ａ１におけるＰＶＰ（本発明における水溶性高分子に該当）の濃度は８．１μＭであった。なお、
金の厚みの平均は、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ像から任意の金被覆ナノプレート粒子１０個について、各粒子の任意の部位１０点について、金の厚みを測定した計１００点のデータの内、上下１０％を除いた８０点の平均値を用いた
　上記請求項１、【００３５】の記載によれば、甲３には、次の金被覆銀ナノプレートが記載されているものと認められる（以下「甲３発明Ａ」という。）。
「銀ナノプレートとその表面を被覆する金を有する金被覆銀ナノプレートであって、主面の最大長（粒子径）の平均が３１ｎｍの三角形状を含む多角形状、円形状であるプレートの混合物であり、厚さの平均は８ｎｍであり、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭによる金の厚さの平均は、０．３０ｎｍである、金被覆銀ナノプレート。」
　イ　本件発明１と甲３発明Ａの対比
　甲３発明Ａの「銀ナノプレート」、「銀ナノプレート」の「表面を被覆する金」、「金被覆銀ナノプレート」は、本件発明１の「銀平板状粒子」、「金被覆層」、「金被覆銀平板状粒子」に相当するから、本件発明１と甲３発明Ａの一致点と相違点は次のとおりとなる。
〈一致点〉
　「銀平板状粒子と金被覆層とを有する金被覆銀平板状粒子。」
〈相違点４〉
　本件発明１の金被覆銀平板状粒子は、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．４ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．２以上１．４以下である」のに対し、甲３発明Ａの「金被覆銀ナノプレート」は、「主面の最大長（粒子径）の平均が３１ｎｍの三角形状を含む多角形状、円形状であるプレートの混合物であり、厚さの平均は８ｎｍであり、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭによる金の厚さの平均は、０．３０ｎｍである」ものの、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」や「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」は特定されていない点。
　ウ　相違点４についての判断
　上記１（１）ウ（ア）で検討したとおり、甲３のＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭを用いて測定された金の厚みとは、金被覆銀ナノプレートの端面における金の厚みを意味していると解されるから、甲３発明Ａの「粒子の端面における金被覆層の平均厚み」は０．３０ｎｍといえるものの、甲３発明Ａにおいて、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」や「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」は不明であるから、上記相違点４は実質的な相違点である。
　そして、甲３には、金被覆銀平板状粒子の酸化耐性を向上させるために、「粒子の主平面における金被覆層の平均厚み」及び「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」を特定の数値範囲とすることについて、記載も示唆もされていない。特に、上記目的のために、「粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比」に着目して、「０．２以上１．４以下」という特定の数値範囲とすることは、甲３やその他の甲号証にも記載されていないから、甲３発明Ａにおいて、相違点４に係る本件発明１の構成とすることは、動機付けがなく、当業者が容易になし得ることであるとはいえない。
　したがって、本件発明１は甲３発明Ａと同一ではないし、甲３発明Ａとその他の甲号証に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　また、本件発明１を引用することによって、本件発明１の特定事項を備えている、本件発明２〜５、１１についても、同様の理由で、甲３発明Ａと同一ではないし、甲３発明Ａとその他の甲号証に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
３　意見書の主張について
　申立人により提出された令和３年７月１日付けの意見書の主張は、以下のとおり採用できないものである。
（ア）「（１）　申立理由１−１、申立理由１−２について」（２〜３頁）の主張については、上記２（１）を参照されたい。
（イ）「第２　訂正について」「１　訂正事項３は、明瞭でない記載の釈明を目的とするものではなく、また、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものでもないこと」（４〜５頁）の主張については、上記第２の３ウ（オ）を参照されたい。
（ウ）「第２　訂正について」「２　独立特許要件を満たさないこと」（５〜１３頁）の主張については、上記第２の３ア（エ−３）を参照されたい。
（エ）「第３　実施可能要件について」（１３〜１６頁）の主張については、上記１（３）ウ〜オを参照されたい。
（オ）「第４　無効理由３について」（１６〜２４頁）の主張については、上記１（１）ウ（カ）を参照されたい。
第７　まとめ
　以上のとおりであるから、本件補正による補正及び本件訂正請求による訂正は適法なものである。
　そして、特許異議申立書に記載した申立理由、及び取消理由通知書に記載した取消理由によっては、本件訂正後の請求項１〜５、１１に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件訂正後の請求項１〜５、１１に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
令和３年９月１３日（２０２１．９．１３）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
金被覆銀平板状粒子、金被覆銀平板状粒子分散液及びその製造方法、塗布膜、並びに、反射防止光学部材
　【技術分野】
　【０００１】
　本開示は、金被覆銀平板状粒子、金被覆銀平板状粒子分散液及びその製造方法、塗布膜、並びに、反射防止光学部材に関する。
　【背景技術】
　【０００２】
　可視光に対する反射防止膜、増反射膜、赤外線遮蔽（断熱）膜等の光学部材用途、インク、塗料等の着色剤、被検物質の検出試薬への応用などの種々の目的に応じて、銀、金等の貴金属粒子が用いられている。
　また、銀粒子に対しては酸化に対する安定性を向上させるため、粒子表面を金被覆することが行なわれている。
　【０００３】
　例えば、特開２０１６−１０９５５０号公報には、銀ナノプレートが有する表面プラズモン共鳴（ＳＰＲ）を利用して被検物資の検出試薬の標識などを用途として、銀ナノプレートの表面に金を被覆させた粒子及び水溶性高分子を含み、ｐＨ６以下とした懸濁液が開示される。この懸濁液は、凍結や凍結乾燥に対して安定であるとされている。
　特許第５６３６０８号公報には、耐光性改良を目的として、銀平板状銀粒子の表面及び表面から２〜４原子層まで、銀より貴な金属を１０−３原子％〜５原子％含有させる技術が開示されている。
　【発明の概要】
　【発明が解決しようとする課題】
　【０００４】
　しかし、本発明者の検討によれば、特開２０１６−１０９５５０号公報に記載される技術では、銀平板状粒子の全面（すなわち、粒子の主平面及び端面の全て）に対して均一かつ十分な金被覆が成しえない場合があること、具体的には金の球状粒子や銀平板状粒子に球状粒子が複数付着した形状の粒子が発生してしまう場合があることが判明した。特に、高濃度な銀平板状粒子の分散液に対して金被覆処理が望まれる場合には、特開２０１６−１０９５５０号公報に記載される技術では、そもそも、高濃度な銀平板状粒子の分散液を作製しようとすると、粒子が凝集し沈降してしまい、高濃度な銀平板状粒子の分散液は作製できず、金被覆処理は行えない。
　【０００５】
　また、特許第５６３６０８号公報に記載される銀平板状銀粒子に対する金被覆処理は、塩化金酸を用いた銀と金とのガルバニック置換による処理であり、金被覆の際に銀平板状粒子の端部の形状変化を伴うことがあり、所望の粒子形状を保ったまま粒子全面に均一に金被覆がなされない場合がある。このため、粒子全面に対してより均一な金被覆が行える技術が望まれる。
　【０００６】
　銀平板状粒子における不均一な金被覆は、金被覆に要求される酸化耐性の向上を十分に達成しえない。
　【０００７】
　本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、酸化耐性に優れた金被覆銀平板状粒子及び金被覆銀平板状粒子を含む分散液を提供することである。
　本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、酸化耐性に優れた金被覆銀平板状粒子含む分散液を高い生産性で製造しうる製造方法を提供することである。
　また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、酸化耐性に優れた塗布膜、及び、この塗布膜を用いた酸化耐性に優れた反射防止光学部材を提供することである。
　【課題を解決するための手段】
　【０００８】
　課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
　＜１＞　銀平板状粒子と金被覆層とを有し、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．０２以上である、金被覆銀平板状粒子。
　＜２＞　主平面における金被覆層の平均厚みが０．７ｎｍ以上１．５ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．０２以上である、＜１＞に記載の金被覆銀平板状粒子。
　＜３＞　アスペクト比が、２〜８０である＜１＞又は＜２＞に記載の金被覆銀平板状粒子。
　【０００９】
　＜４＞　　＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の金被覆銀平板状粒子と分散媒体とを含む金被覆銀平板状粒子分散液。
　＜５＞　銀濃度が２ｍｍｏｌ／Ｌ以上である＜４＞に記載の金被覆銀平板状粒子分散液。
　＜６＞　更に、銀イオンとの溶解度積ｐＫｓｐが１４以上であり、かつ還元電位が７００ｍＶ未満である有機成分を含む＜４＞又は＜５＞に記載の金被覆銀平板状粒子分散液。
　【００１０】
　＜７＞　銀平板状粒子製造工程と金被覆処理工程と有し、＜４＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の金被覆銀平板状粒子分散液を得る製造方法であり、銀平板状粒子製造工程は、水、銀塩、分散剤及び還元剤を含む混合液を作製する工程と、混合液を作製する工程で得た混合液中に、固体状態の他の銀塩を混在させる工程と、を含み、銀平板状粒子分散液を得る工程であり、かつ、金被覆処理工程は、水、金塩、及び金イオンとの形成錯体の還元電位が０．５Ｖ以下となる錯化剤を含む金被覆処理液と、銀平板状粒子製造工程で得た銀平板状粒子分散液と、を混合して、金被覆銀平板状粒子分散液を得る工程である、金被覆銀平板状粒子分散液の製造方法。
　【００１１】
　＜８＞　金被覆処理工程の前において、銀平板状粒子製造工程により得た銀平板状粒子分散液に、銀平板状粒子の端面吸着剤を添加する＜７＞に記載の金被覆銀平板状粒子分散液の製造方法。
　＜９＞　金被覆処理工程において、金塩の添加量に対する金イオンとの形成錯体の還元電位が０．５Ｖ以下となる錯化剤の添加量は、ｍｏｌ比率で、２．５以上１０以下の範囲となる量である、＜７＞又は＜８＞に記載の金被覆銀平板状粒子分散液の製造方法。
　＜１０＞　金被覆処理工程の後に、金被覆銀平板状粒子分散液に、銀イオンとの溶解度積ｐＫｓｐが１４以上であり、かつ還元電位が７００ｍＶ未満である有機成分を添加する、＜７＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の金被覆銀平板状粒子分散液の製造方法。
　【００１２】
　＜１１＞　＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の金被覆銀平板状粒子を含む塗布膜。
　＜１２＞　更に、銀イオンとの溶解度積ｐＫｓｐが１４以上であり、かつ還元電位が７００ｍＶ未満である有機成分を含む、＜１１＞に記載の塗布膜。
　＜１３＞　可視光の入射光の反射を防止する反射防止光学部材であり、
　透明基材と、＜１１＞又は＜１２＞に記載の塗布膜である金属微粒子含有層と、誘電体層とをこの順に積層してなる積層構造を有し、金被覆銀平板状粒子の主平面が、金属微粒子含有層の表面に対して０°〜３０°の範囲で面配向し、金属微粒子含有層中において、複数の金被覆銀平板状粒子は導電路を形成することなく配置され、誘電体層の厚みが、入射光が誘電体層の表面側から積層構造へ入射する場合の誘電体層の表面における反射光を、誘電体層と金属微粒子含有層との界面における反射光と干渉させて打ち消すことができる厚みである、反射防止光学部材。
　【発明の効果】
　【００１３】
　本発明の一実施形態によれば、酸化耐性に優れた金被覆銀平板状粒子及び金被覆銀平板状粒子を含む分散液を提供することができる。
　本発明の他の実施形態によれば、酸化耐性に優れた金被覆銀平板状粒子含む分散液を高い生産性で製造しうる製造方法を提供することができる。
　また、本発明の他の実施形態によれば、酸化耐性に優れた塗布膜、及び、この塗布膜を用いた反射防止光学部材を提供することができる。
　【図面の簡単な説明】
　【００１４】
　【図１Ａ】金被覆銀平板状粒子の形状の一例を示す概略図である。
　【図１Ｂ】金被覆銀平板状粒子の他の形状の一例を示す概略図である。
　【図２】銀平板状粒子における主平面（｛１１１｝面）及び端面（｛１１１｝面と｛１００｝面との交互層）の構成例を示す概略図である。
　【図３】反射防止光学部材の実施形態の一例を示す概略図である。
　【図４】反射防止光学部材において、金被覆銀平板状粒子を含む金属微粒子含有層の存在状態を示した概略断面図であって、金被覆銀平板状粒子を含む金属微粒子含有層（基材の平面とも平行）と特定平板状粒子の主平面（円相当径Ｄを決定する面）とのなす角度（θ）を説明する図である。
　【図５Ａ】金属微粒子含有層における金被覆銀平板状粒子の分布状態（１００％孤立）を示す図である。
　【図５Ｂ】金属微粒子含有層における金被覆銀平板状粒子の分布状態（５０％孤立）を示す図である。
　【図５Ｃ】金属微粒子含有層における金被覆銀平板状粒子の分布状態（１０％孤立）を示す図である。
　【図５Ｄ】金属微粒子含有層における金被覆銀平板状粒子の分布状態（２％孤立）を示す図である
　【図６】本開示の反射防止光学部材において、金被覆銀平板状粒子を含む金属微粒子含有層の存在状態の一例を示した概略断面図である。
　【図７】本開示の反射防止光学部材において、金被覆銀平板状粒子を含む金属微粒子含有層の存在状態の他の一例を示した概略断面図である。
　【図８】実施例７で得られた金被覆銀平板状粒子における金被覆層の形成状態を示す図である。
　【発明を実施するための形態】
　【００１５】
　本開示の内容について詳細に説明する。
　以下に記載する説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
　【００１６】
　本開示において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。本明細書に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
　【００１７】
　また、本開示において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に相当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する複数の物質の合計量を意味する。
　【００１８】
　本開示において、好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
　【００１９】
［金被覆平板状粒子及び金被覆平板状粒子分散液］
　本開示の金被覆銀平板状粒子は、銀平板状粒子と金被覆層を有し、粒子の主平面における金被覆の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が０．０２以上である。本開示の金被覆銀平板状粒子は銀平板状粒子を金被覆処理して、その表面に金被覆銀層を形成した粒子である。
　また、本開示の金被覆銀平板状粒子分散液は、上記の金被覆銀平板状粒子と分散媒体とを含む分散液である。
　【００２０】
　以下では、本開示の金被覆銀平板状粒子は、適宜「特定平板状粒子」と称し、本開示の金被覆銀平板状粒子分散液は、適宜「特定粒子分散液」と称して説明する。
　【００２１】
（特定平板状粒子）
　本開示の特定平板状粒子は、銀平板状粒子と金被覆層とを有し、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みを０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下とし、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比を０．０２以上としたことにより、従来に比して優れた酸化耐性を発揮しうる。
　【００２２】
　ここで、粒子が「平板状」であるとは、粒子の形状が、対向する２つの主平面と、２つの主平面間を繋ぐ端面と、を有することを意味する。平板状粒子の「主平面」とは、平板状粒子の厚み方向に垂直な１組の平行な面を意味する。
　【００２３】
　なお、本明細書における「酸化耐性」は、液体中における酸化耐性、及び、空気中における酸化耐性（例えば、耐オゾン性、耐二酸化窒素性、組成物中に含まれる他組成物に起因し、紫外線や高温高湿条件により促進される酸化耐性）の両方を包含する。
　【００２４】
　特定平板状粒子は、銀平板状粒子に金被覆処理を行なって金被覆層を形成した粒子であり、金被覆層を有することは、例えば、オージェ光電子分光法（Ａｕｇｅｒ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＡＥＳ）、Ｘ線光電子分光法（Ｘ−ｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＸＰＳ）、エネルギー分散型Ｘ線分光法（Ｅｎｅｒｇｙ　Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ　Ｘ−ｒａｙ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＥＤＳ）、飛行時間型二次イオン質量分析法（Ｔｉｍｅ−ｏｆ−Ｆｌｉｇｈｔ　Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ　Ｉｏｎ　Ｍａｓｓ　Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ：ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）等により検出することができる。
　【００２５】
　特定平板状粒子は、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する主平面における金被覆層の厚みの比が０．０２以上である。酸化耐性及び平板状粒子の光学的特性保持の観点からは、特定平板状粒子は、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが０．７ｎｍ以上１．５ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する主平面における金被覆層の厚みの比が０．０２以上であることが、より好ましい。
　【００２６】
　金被覆層の粒子主平面における平均厚みは、０．１ｎｍ以上２ｎｍ以下であり、０．４ｎｍ以上１．８ｎｍ以下が好ましく、０．７ｎｍ以上１．５ｎｍ以下が更に好ましい。
　【００２７】
　金被覆層の平均厚みは、粒子断面方向のＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ（Ｈｉｇｈ−ａｎｇｌｅ　Ａｎｎｕｌａｒ　Ｄａｒｋ　Ｆｉｅｌｄ　Ｓｃａｎｎｉｎｇ　ＴＥＭ）像を撮影し、その撮影画像中で輝度の高い金被覆層の厚みを、主平面及び端面のそれぞれについて、１粒子中５点をＩｍａｇｅＪ（アメリカ国立衛生研究所（ＮＩＨ：Ｎａｔｉｏｎａｌ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅｓ　ｏｆ　Ｈｅａｌｔｈ）により提供）などの画像解析ツールによって測定し、計２０個の粒子について得られた主平面及び端面それぞれの厚みを算術平均することで得られる。
　【００２８】
　粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する主平面における金被覆層の厚みの比は０．０２以上であり、０．１以上が好ましく、０．３以上がより好ましい。上記厚みの比の上限は、特に限定されないが、１０以下であることが好ましい。
　金被覆層の厚みの比が０．０２以上であると優れた酸化耐性が発揮される。
　【００２９】
　上記の厚みの比は、粒子の主平面における金被覆の平均厚み（Ａ）を、粒子の端面における金被覆の平均厚み（Ｂ）で除して算出した値（Ａ／Ｂ）である。
　【００３０】
　特定平板状粒子は、後述する本開示の金被覆銀平板状粒子分散液の製造方法を用い、銀平板状粒子製造工程にて銀平板状粒子分散液を得て、次いで、得られた銀平板状粒子分散液に対して金被覆処理工程にて金被覆処理を行って得たものであることが好ましい。
　【００３１】
　以下、平板状粒子である、本開示に係る特定平板状粒子の形状等について説明する。
　【００３２】
＜形状＞
　平板状粒子の形状は、平板状であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。特定平板状粒子の形状は、金被覆前の銀平板状粒子の形状を反映する。
　【００３３】
　平板状粒子の形状としては、例えば、三角形状、四角形状、六角形状、八角形状、円形状などの形状を有する粒子が挙げられる。中でも、可視光透過率が高い点で、六角形状以上の多角形状及び円形状であることがより好ましい。
　【００３４】
　円形状の平板状粒子としては、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で、平板状粒子を主平面の上方から観察した際に、角が無く、丸い形状であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
　【００３５】
　六角形状の平板状粒子としては、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で、状粒子を主平面の上方から観察した際に、六角形状であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、六角形状は、角が鋭角のものでも、鈍っているものでもよいが、可視光域の吸収を軽減し得る点で、角が鈍っているものであることが好ましい。角の鈍りの程度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
　【００３６】
＜平均粒子径（平均円相当径）及び変動係数＞
　平板状粒子において、平均円相当径とは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で平板状粒子を観察して得た像から任意に選んだ個数の粒子の主平面の直径（最大長さ）の平均値を意味する。
　円相当径は、個々の平板状粒子の投影面積と等しい面積を有する円の直径で表される。個々の特定平板状粒子の投影面積は、電子顕微鏡写真上での面積を測定し、撮影倍率で補正する公知の方法により得ることができる。
　本明細書における平板状粒子の平均粒子径（平均円相当径）は、２００個の平板状粒子の円相当径Ｄの粒径分布（粒度分布）が得られ、算術平均を計算することにより得られる。平板状粒子の粒度分布における変動係数は、粒度分布における標準偏差を前述の平均粒子径（平均円相当径））で割った値（％）として求めることができる。
　【００３７】
　特定平板状粒子の平均円相当径としては、１０ｎｍ〜５，０００ｎｍが好ましく、３０ｎｍ〜１，０００ｎｍがより好ましい。
　【００３８】
　特定平板状粒子の粒度分布における変動係数は、３０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。
　【００３９】
　特定平板状粒子の粒度分布における変動係数は、例えば、平均粒子径の算出に用いた２００個の平板状粒子の粒子径の分布範囲をプロットし、粒度分布の標準偏差を求め、主平面直径（最大長さ）の平均値（平均粒子径）で割った値（％）である
　【００４０】
＜粒子の平均厚み＞
　平板状粒子の厚みは、平板状粒子の主平面間距離に相当し、例えば、図１Ａ及び図１Ｂにａとして示す距離である。
　平板状粒子の厚みは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定することができる。
　ＡＦＭによる平均粒子厚みの測定方法としては、例えば、ガラス基板に平板状粒子を含有する粒子分散液を滴下し、乾燥させて、粒子１個の厚みを測定する方法などが挙げられる。
　【００４１】
　特定平板状粒子の平均厚みは、３ｎｍ〜５０ｎｍが好ましく、４ｎｍ〜４０ｎｍより好ましく、５ｎｍ〜３５ｎｍが特に好ましい。
　【００４２】
＜アスペクト比＞
　平板状粒子において、アスペクト比とは、平板状粒子の平均粒子径を平板状粒子の平均粒子厚みで除算した値を意味する。例えば、平板状粒子が円形状である場合、アスペクト比は、図１Ａに示す直径Ｄを厚みａで除算した値（Ｄ／ａ）である。平板状粒子が六角形状である場合、アスペクト比は、図１Ｂに示すように六角形状の平板状粒子の平面の面積を同面積の円で近似したときの直径Ｄ（円相当径Ｄ）を厚みａで除算した値（Ｄ／ａ）である。
　【００４３】
　特定平板状粒子のアスペクト比は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
　特定平板状粒子のアスペクト比は、２〜８０であることが好ましく、４〜６０がより好ましく、１０〜４０がさらに好ましい。
　また、金被覆性及び平板状粒子の光学的特性保持の観点からは、金被覆される前の銀平板状粒子のアスペクト比は、２〜８０であることが好ましく、４〜６０がより好ましく、１０〜４０さらに好ましい。
　【００４４】
（特定粒子分散液）
　本開示の金被覆銀平板状粒子分散液（特定粒子分散液）は、上記の特定平板状粒子と分散媒体とを含む分散液である。
　【００４５】
　特定粒子分散液が含む特定平板状粒子については、特定平板状粒子に関して既述した事項と同一の事項が適用される。
　【００４６】
　特定粒子分散液が含む分散媒体としては、特定平板状粒子（分散質）を分散可能な液状成分（媒体）であればよく、水及びその他の水性成分を含むことが好ましい。
　【００４７】
　特定粒子分散液は、特定平板状粒子の製造工程が終了した後において特定平板状粒子が分散したままの状態の液であってもよいし、製造後に単離した特定平板状粒子を任意の分散媒体に分散させた液であってもよい。
　【００４８】
　特定粒子分散液の銀濃度は、２ｍｍｏｌ／Ｌ以上であることが好ましく、３ｍｍｏｌ／Ｌ〜１０００ｍｍｏｌ／Ｌがより好ましく、４ｍｍｏｌ／Ｌ〜５００ｍｍｏｌ／Ｌが更に好ましい。特定粒子分散液の銀濃度が２ｍｍｏｌ／Ｌ以上であると、特定粒子分散液の生産性をより高くでき、例えば、塗膜化する際に他の組成物と特定粒子分散液とを混合する場合の総固形分濃度を制限しない傾向となる。また、特定粒子分散液の銀濃度が高すぎない（例えば１０００ｍｍｏｌ／Ｌ以下）ことで、特定粒子分散液の粘度の上昇が抑制され、ハンドリング性、秤量精度などを低下させず、粒子の分散性安定性を維持できる傾向にある。
　【００４９】
　特定粒子分散液の銀濃度は、誘導結合プラズマ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ　Ｃｏｕｐｌｅｄ　Ｐｌａｓｍａ、略称：ＩＣＰ）発光分光分析法により測定することができる。
　【００５０】
　特定粒子分散液には、特定平板状粒子の他、目的に応じて選択した種々の他の成分を含有させてもよい。
　【００５１】
　酸化耐性をより向上させる観点からは、特定粒子分散液は、銀イオンとの溶解度積ｐＫｓｐが１４以上であり、かつ還元電位が７００ｍＶ未満である有機成分（以下、特定有機成分」とも称する。）を含むことが好ましい。
　【００５２】
　特定有機成分の銀イオンとの溶解度積Ｋｓｐは「坂口喜堅・菊池真一，日本写真学会誌，１３，１２６，（１９５１）」と「Ａ．Ｐａｉｌｌｉｏｆｅｔ　ａｎｄ　Ｊ．Ｐｏｕｒａｄｉｅｒ，Ｂｕｌｌ．Ｓｏｃ．ｃｈｉｍ．Ｆｒａｎｃｅ，１９８２，Ｉ−４４５（１９８２）」を参照して測定した値である。なお、ｐＫｓｐ＝−ｌｏｇ１０Ｋｓｐである。
　特定有機成分の還元電位は「電気化学測定法」（１９８４年，藤嶋昭ら著）ｐｐ．１５０−１６７に記載のサイクリックボルタメトリー測定を参照して測定した値である。
　【００５３】
　特定有機成分としては、例えば、１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール−５−チオール、５−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−２−チオール、５−フェニル１，３，４−オキアジアゾール−２−チオール、１−（５−メチルウレイドフェニル）−５−メルカプトテトラゾール、Ｎ−（３−（５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール−１−イル）フェニル）−３−（メチル（ピロリジン−１−イル）アミノプロパンアミド）等が挙げられる。
　【００５４】
　特定粒子分散液に、特定有機成分を含有させる場合の添加量としては、酸化耐性の向上及び粒子の凝集抑制の観点から、特定粒子分散液中の銀の質量に対して、１質量％〜６５質量％が好ましく、５質量％〜３９質量％がより好ましく、７質量％〜２６質量％が更に好ましい。
　【００５５】
　特定粒子分散液は、目的に応じて選択した他の成分を、さらに含有させてもよい。他の成分の例としては、高分子化合物、界面活性剤、金属酸化物粒子等の無機粒子、各種の水溶性溶媒、酸化防止剤、硫化防止剤、腐食防止剤、粘度調整剤、防腐剤などが挙げられる。
　【００５６】
　また、特定粒子分散液の好適な製造方法の一態様は、後述する金被覆平板状粒子分散液の製造方法であり、この製造方法により得られた分散液において、特定平板状粒子と共に含まれる成分は、本開示の特定粒子分散液が含有しうる成分の一態様である。
　【００５７】
　以上説明した、本開示の特定平板状粒子及びその分散液の適用用途は特に限定されず、例えば、反射防止膜、増反射膜、赤外線遮蔽膜等の光学部材、遮熱シート、断熱シート等の建築用部材、インク、塗料等の着色剤又は装飾剤、被検物質の検出試薬、抗菌剤などの種々の用途が挙げられる。
　【００５８】
［金被覆平板状粒子分散液の製造方法］
　本開示の金被覆銀平板状粒子の製造方法は、銀平板状粒子製造工程と金被覆処理工程と有し、上記の特定粒子分散液を得る製造方法であり、銀平板状粒子製造工程は、水、銀塩、分散剤及び還元剤を含む混合液を作製する工程と、混合液を作製する工程で得た混合液中に、固体状態の他の銀塩を混在させる工程と、を含み、銀平板状粒子分散液を得る工程であり、かつ、金被覆処理工程は、水、金、及び金との形成錯体の還元電位が０．５Ｖ以下となる錯化剤を含む金被覆処理液を、銀平板状粒子分散液に添加して、金被覆銀平板状粒子分散液を得る工程である。
　【００５９】
　本開示の製造方法は、銀平板状粒子製造工程及び金被覆処理工程以外の他の工程を有していてもよい。他の工程としては、遠心分離及び再分散工程、限外濾過工程、溶剤置換工程、乾燥濃縮工程等が挙げられる。
　【００６０】
　本開示の製造方法は、従来は困難であった銀平板状粒子の端面においても均一な金被覆層を形成でき、かつ分散液の生産性も高い。さらに、本開示の製造方法により、銀濃度の高い分散液を製造することができる。
　【００６１】
（銀平板状粒子製造工程）
　銀平板状粒子製造工程は、少なくとも、水、銀塩、分散剤及び還元剤を含む混合液を作製する工程（以下、混合液作製工程と称する。）と、混合液作製工程で得た混合液中に、固体状態の他の銀塩を混在させる工程（以下、混在工程と称する。）と、を含み、銀平板状粒子分散液を得る工程である。
　【００６２】
＜混合液作製工程＞
　混合液作製工程は、水中に、銀塩、分散剤及び還元剤を含む混合液を作製する工程である。
　混合液作製工程において、水中の銀塩に由来する銀イオンが還元剤により還元されて、核となる銀粒子が形成され、成長する。
　混合液作製工程において、（ｉ）水に分散剤及び還元剤を添加した水溶液を作製し、該水溶液に所定の割合で銀塩水溶液を添加する、（ｉｉ）水に分散剤及び銀塩を添加した水溶液を作製し、該水溶液に所定の割合で還元剤水溶液を添加する、又は、（ｉｉｉ）水に分散剤を添加した水溶液を作製し、この水溶液に所定の割合で銀塩水溶液及び還元剤水溶液を添加する、ことにより銀粒子を得ることが好ましい。
　【００６３】
〜混合液の溶媒〜
　混合液の溶媒としては、水を含む溶媒であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、水を７０質量％以上含む溶媒が好ましく、水を９０％以上含む溶媒であることがより好ましい。水以外の溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール類、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）などのグリコール類、アセトニトリル、アセトン等が挙げられる。
　【００６４】
〜混合液作製工程で使用する銀塩〜
　混合液作製工程で使用する銀塩としては、水に溶解するものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。銀塩としては、例えば、硝酸銀、過塩素酸銀、等が挙げられる。これらの銀塩は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
　混合液における銀塩の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、混合液１００質量部に対して、０．０００１質量部〜１０質量部が好ましく、０．０００５質量部〜１質量部がより好ましく、０．００１質量部〜０．１質量部が特に好ましい。
　【００６５】
　混合液作製工程における混合液の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０℃〜１００℃が好ましく、２０℃〜７０℃がより好ましく、３０℃〜６０℃が特に好ましい。
　【００６６】
　混合液の温度が、０℃以上であると、溶液が固まり難く、１００℃以下であると、銀粒子の粒子サイズが揃い易くなる。一方、混合液の温度が、上記の特に好ましい範囲内であると、粒子サイズの均一性の点で有利である。
　【００６７】
＜混在工程＞
　混在工程は、混合液作製工程で作製した混合液中に、固体状態の他の銀塩を混在させる工程である。すなわち、混在工程において、少なくとも１回以上、他の銀塩が固体状態で存在する。
　【００６８】
　ここで、混合液中に「混在させる」とは、混合液の外で生成された固体状態の他の銀塩が、混合液に添加されて混合液中に混在することのみならず、固体状態の他の銀塩が、混合液中で生成して、混合液中に混在することも含む。
　他の銀塩が「固体状態」であるとは、他の銀塩における銀イオンの濃度と、他の銀塩におけるリガンドの濃度との積が、銀イオンとリガンドとの溶解度積（Ｋｓｐ）よりも大きく、水に溶解しないことを意味する。
　混在工程では、混合液作製工程で作製された混合液に、水、分散剤、還元剤、銀塩、リガンド及びｐＨ調整剤の少なくとも１種が、任意の量、タイミング、又は混合比で添加されて、銀粒子が成長する。
　混在工程を経ることにより、所定の形状の銀平板状粒子を簡便に製造することができる。
　【００６９】
　他の銀塩を固体状態で存在させるために、銀塩を含む銀塩含有水溶液と、銀塩含有水溶液における銀イオンと結合して固体状態の他の銀塩（銀塩固体物）を生成するリガンドを含むリガンド含有水溶液との混合により生成された他の銀塩（銀塩固体物）の分散液を混合液（反応釜）に添加してもよく、リガンド含有水溶液を混合液（反応釜）に添加した後、銀塩含有水溶液を混合液（反応釜）に添加し、混合液（反応釜）中で他の銀塩（銀塩固体物）を生成してもよく、混合液（反応釜）に他の銀塩（銀塩固体物）粉末を添加してもよく、混合液（反応釜）に他の銀塩（銀塩固体物）粉末の水分散液を添加してもよい。
　これらの中でも、固体状態の他の銀塩（銀塩固体物）の分散液を添加する態様、すなわち、銀塩含有水溶液とリガンド含有水溶液との混合により生成された他の銀塩（銀塩固体物）の分散液を混合液（反応釜）に添加する態様、混合液（反応釜）に他の銀塩（銀塩固体物）粉末の水分散液を添加する態様、が好ましい。
　【００７０】
　混在工程において、添加された他の銀塩（銀塩固体物）から銀イオンが放出され、銀イオンが還元剤により還元されることにより、混合液作製工程で生成された銀粒子が成長する。混在工程の最後には、添加された他の銀塩（銀塩固体物）がなくなっていることが好ましい。
　【００７１】
　混合液中に溶解している銀イオンの濃度は、リガンドとの溶解度積で決められる。よって、混合液中に、高濃度で銀塩が含まれていても、混合液中に溶解している銀イオン濃度が低ければ、ゆっくりと還元反応が進み、銀イオン濃度分布が少ない状態で反応を行うことができる。
　【００７２】
　混在工程における混合液の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０℃〜１００℃が好ましく、２０℃〜７０℃がより好ましく、３０℃〜６０℃が特に好ましい。
　混合液の温度が、０℃以上であると、溶液が固まり難く、１００℃以下であると、銀粒子の粒子サイズが揃い易くなる。一方、混合液の温度が、上記の特に好ましい範囲内であると、粒子サイズの均一性の点で有利である。
　【００７３】
〜固体状態の他の銀塩〜
　固体状態の他の銀塩としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、亜硫酸銀、塩化銀、酸化銀、等が挙げられる。
　固体状態の他の銀塩（銀塩固体物）の濃度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１ｍｍｏｌ／Ｌ〜１０，０００ｍｍｏｌ／Ｌが好ましく、２ｍｍｏｌ／Ｌ〜５，０００ｍｍｏｌ／Ｌがより好ましく、５ｍｍｏｌ／Ｌ〜２，０００ｍｍｏｌ／Ｌが特に好ましい。
　濃度が、１ｍｍｏｌ／Ｌ以上であると、固体状態が良好に維持され、１０，０００ｍｍｏｌ／Ｌ以下であると、銀粒子の粒子サイズが揃い易くなる。一方、濃度が上記の特に好ましい範囲内であると、粒子サイズの均一性及び生産性の点で有利である。
　銀塩固体物は、沈殿していてもよく、分散していてもよい。
　【００７４】
　固体状態の銀塩の溶解度積としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０−３０以上１０−３以下が好ましく、１０−２０以上１０−５以下がより好ましく、１０−１５以上１０−５以下が特に好ましい。
　溶解度積（Ｋｓｐ）が、１０−３０以上であると（ｐＫｓｐが３０を超えると）、難溶性の銀塩固体物が生成し難くなり、還元反応が進行し易い、１０−３以下であると（ｐＫｓｐが３未満であると）、銀塩固体物を得るために、リガンドの添加量を抑制できる傾向となる。
　【００７５】
　〜リガンド〜
　リガンドとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＣＮ−、ＳＣＮ−、ＳｅＣＮ−、ＳＯ３２−、Ｓ２−、ＯＨ−、ＣｒＯ４２−、ＣＨ３ＣＯＯ−、ＰＯ４３−、ＣＯ３２−、シュウ酸、ベンゾトリアゾール、ベンゾイミダゾール、ジメチルジチオカルバミド酸、等が挙げられる。
　下記の表１に、各リガンドと銀イオンとのｐＫｓｐを示す（ｐＫｓｐ＝−ｌｏｇ（Ｋｓｐ））。
　【００７６】
　【表１】
　【００７７】
　なお、混合液作製工程から混在工程まで、同じ容器で連続して製造してもよく、途中で他の容器に移し替えて製造してもよい。
　混在工程は、複数の工程に分割されていてもよい。
　【００７８】
　固体状態の他の銀塩を混在させた混合液における銀濃度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２ｍｍｏｌ／Ｌ超が好ましく、１０ｍｍｏｌ／Ｌ超がより好ましい。
　銀濃度が、２ｍｍｏｌ／Ｌを超えると、生産性がより向上する。一方、銀濃度が上記のより好ましい範囲内であると、生産性の点で有利である。
　なお、「銀濃度」とは、混合液中の銀イオンと、析出した銀とを両方足した銀の濃度値である。また、この銀濃度は、混在工程時において固体状態の他の銀塩を混在させた混合液における銀の濃度であって、混在工程後に実施される遠心分離、限外濾過、などによって濃厚化したときの濃度ではない。
　【００７９】
〜混合液作製工程及び混在工程で使用する分散剤〜
　混在工程で使用する分散剤としては、水に溶解するものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゼラチン、クエン酸ナトリウム、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミン、ポリカルボン酸、ポリアクリル酸などが挙げられる。これらの分散剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
　【００８０】
　中でも、凝集防止の点で、ゼラチン等の高分子分散剤を含むことが好ましい。
　分散剤を、２種以上を含む場合、分散剤におけるゼラチン等の高分子分散剤の含有量が１質量％以上であることが好ましい。ゼラチン等の高分子分散剤の含有量が１質量％未満であると、分散性が低下し、凝集してしまうことがある。
　分散剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、全銀塩１００質量部に対して、０．００００１質量部〜１０，０００質量部が好ましく、０．０００１質量部〜５，０００質量部がより好ましく、０．００１質量部〜１，０００質量部が特に好ましい。
　分散剤の含有量が、０．００００１質量部以上であると、凝集を抑制し易く、１０，０００質量部以下であると、銀粒子の粒子サイズが揃い易い。一方、分散剤の含有量が、上記の特に好ましい範囲内であると、凝集防止の点で有利である。
　【００８１】
〜混合液作製工程及び混在工程で使用する還元剤〜
　還元剤としては、水に溶解するものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、ハイドロ（ヒドロ）キノンスルホン酸又はその塩、アスコルビン酸又はその塩、ジメチルアミノボラン、などが挙げられる。これらの還元剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
　還元剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、混合液１００質量部に対して、０．０００１質量部〜１００質量部が好ましく、０．０００５質量部〜５０質量部がより好ましく、０．００１質量部〜１０質量部が特に好ましい。
　還元剤の含有量が、０．０００１質量部以上であると、還元反応が進み易く、１００質量部以下であると、銀粒子の粒子サイズが揃い易い。一方、還元剤の含有量が上記の特に好ましい範囲内であると、平板化率及び銀粒子のサイズ分布の点で有利である。
　【００８２】
〜銀平板状粒子の端面吸着剤〜
　本開示の製造方法においては、銀平板状粒子製造工程の後であって、金被覆処理工程の前に、銀平板状粒子製造工程により得た銀平板状粒子分散液に、銀平板状粒子の端面吸着剤を添加することが好ましい。端面吸着剤を用いることにより、後述する金被覆処理工程において、銀平板状粒子の端面における金被覆層の形成を促進しうることから、銀平板状粒子の主平面及び端面の双方に、より均一な金被覆層を形成することができる。
　【００８３】
　端面吸着剤とは、銀平板状粒子の端面に生じる｛１１１｝面に対して選択的に吸着性することで、端面における金被覆層の形成性向上に寄与する化合物を意味する。より詳細には、本開示における銀平板状粒子は、｛１１１｝面を主平面とし、端面は｛１１１｝面と｛１００｝面との交互層として構成される平板状粒子であることから、端面吸着剤は、銀平板状粒子の端面における｛１１１｝面に対して選択的に吸着性することで、端面における金被覆層の形成性向上に寄与する。
　【００８４】
　図２に、主平面（｛１１１｝面）及び端面（｛１１１｝面と｛１００｝面との交互層）で構成される銀平板状粒子の概略について、六角形状を有する銀平板状粒子の一例を用いて示す。図２に示すように、本例の六角形状を有する銀平板状粒子は、六角形状の２つの主平面が｛１１１｝面で構成され（すなわち、図中に現れていない側の主平面も｛１１１｝面である。）、２つの主平面間を繋ぐ端面に｛１１１｝面と｛１００｝面とが交互層として現れる構成を有している。なお、図２に示される銀平板状粒子は、本開示における銀平板状粒子の一例であり、本開示における銀平板状粒子は、図２に示される特定の形状に限定されない。なお、銀平板状粒子における結晶面に関しては、文献「Ａｄｖ．Ｆｕｎｃ．Ｍａｔｅｒ．２００８．１８．２００５−２０１６」の記載も参照される。
　【００８５】
　端面吸着剤としては、例えば、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム（ＣＴＡＢ）、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム（ＣＴＡＣ）、水酸化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム（ＣＴＡＯＨ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）等が挙げられる。（各化合物名に付随する括弧内は略称である。）
　これらの端面吸着剤はアミン構造を有しており、このアミン構造を介して銀平板状粒子の端面における｛１１１｝面に端面吸着剤が選択に吸着することで、端面における金被覆層の形成性が向上すると考えている。
　【００８６】
　銀平板状粒子分散液に対する端面吸着剤の添加量としては、粒子端面への吸着性の観点から、銀濃度に対するｍｏｌ比で、１ｍｏｌ％〜５０ｍｏｌ％となる量が好ましく、より好ましくは４ｍｏｌ％〜３０ｍｏｌ％であり、さらに好ましくは６ｍｏｌ％〜２０ｍｏｌ％である。
　【００８７】
　端面吸着剤は、後述の金被覆処理工程において、金被覆処理液と混合する前に、銀平板状粒子製造工程により得た銀平板状粒子分散液に添加されることが好ましいが、金被覆処理工程に用いる所定の金被覆処理液に別途添加してもよい。
　【００８８】
（金被覆処理工程）
　金被覆処理工程は、水、金塩、及び金イオンとの形成錯体の還元電位が０．５Ｖ以下となる錯化剤（以下、「特定錯化剤」とも称する。）を含む金被覆処理液（以下、単に「金被覆処理液」とも称する。）に、上記の銀平板状粒子製造工程により得られた銀平板状粒子分散液を混合して、特定平板状粒子の分散液を得る工程である。
　【００８９】
＜金被覆処理液＞
　金被覆処理液は、水、金塩、及び特定錯化剤を含み、還元剤、ｐＨ緩衝剤及びｐＨ調整剤を含むことが好ましく、更に、錯体安定化剤、分散剤等の他の成分を含んでいてもよい。
　【００９０】
〜金塩〜
　金被覆処理液が含む金塩としては、水溶性金塩化合物の少なくとも１種であることが好ましい。水溶性金塩化合物はとしては、例えば、シアン化金（Ｉ）カリウム、シアン化金（ＩＩ）カリウム、亜硫酸金（Ｉ）ナトリウム、塩化金（ＩＩＩ）酸ナトリウム、塩化金（ＩＩＩ）酸カリウム等が挙げられ、安定性、供給性、価格の観点からは、塩化金（ＩＩＩ）酸ナトリウムが特に好ましい。
　【００９１】
　金被覆処理液における金塩の添加量は、銀濃度に対する金のｍｏｌ比で、金被覆層の形成性の観点から、１ｍｏｌ％〜２００ｍｏｌ％が好ましく、５ｍｏｌ％〜１５０ｍｏｌ％がより好ましく、１０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。
　水溶性金塩化合物は、金被覆処理液における金の添加量が上記の範囲になるように用いることが好ましい。
　【００９２】
〜特定錯化剤〜
　金被覆処理液は、金イオンとの形成錯体の還元電位が０．５Ｖ以下となる錯化剤（特定錯化剤）を少なくとも１種含む。特定錯化剤としては、金イオンとの形成錯体の還元電位が０．５Ｖ以下となる化合物であれば特に限定されない。特定錯化剤の使用は、金還元の還元電位を下げること、すなわち、金被覆処理において、ゆっくりと金を還元させることができ、均一な金被覆に寄与する。
　【００９３】
　特定錯化剤を用いることで形成される、還元電位（Ｅ０　ｖｓ　ＮＨＥ、以下同じ。）が０．５Ｖ以下の金錯体の例としては、Ａｕ（ＣＮ）２−（Ｅ０＝−０．６０）、Ａｕ（ＣｙＳ）３−（Ｅ０＝−０．１４）、Ａｕ（ＳＯ３）２３−（Ｅ０＝０．１１）、Ａｕ（Ｓ２Ｏ３）２３−（Ｅ０＝０．１５）、Ａｕ（ｔｈ）２＋（Ｅ０＝０．３８）、Ａｕ（ＯＨ）２−（Ｅ０＝０．４０）等が挙げられる。（ここで、ｔｈはチオ尿素イオンを示し、ＣｙＳはシステインイオンを示す。）特定錯化剤としては、このような金錯体を生成させる化合物を用いればよい。
　【００９４】
　特定錯化剤としては、例えば、シアン塩（シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化アンモウム等）、チオ硫酸、チオ硫酸塩（チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等）、亜硫酸塩（亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム等）、チオ尿素等が挙げられる。これらの中でも、錯体安定性及び環境負荷の観点からは、亜硫酸ナトリウム又はチオ硫酸ナトリウムが好ましい。
　【００９５】
　金被覆処理液において、金の添加量に対する特定錯化剤の添加量としては、均一な金被覆層の形成性、錯体安定性の観点から、金に対するｍｏｌ比率で、２．５以上１０以下の範囲となる量であることが好ましく、より好ましくは３．５以上８以下である。
　【００９６】
　金及び特定錯化剤は、予め、水、水溶性金化合物及び特定錯化剤を含む混合液（以下、「金還元液」とも称する。）を調製し、この金還元液を用いて金被覆処理液を調製することで、金被覆処理液に含まれることが好ましい。金還元液は、更に、他の成分（例えば、ｐＨ調整剤、錯体安定化剤、分散剤等を含んでいてもよい。
　【００９７】
〜水〜
　金被覆処理液は、水を主溶媒として含む。ここで、主溶媒とは、金被覆処理液中における含有量が６０質量％以上となる溶媒を意味する。
　金被覆処理液における水の含有量に特に制限はないが、８０質量％以上含まれることが好ましく、９０質量％〜９９．９質量％がよりが好ましい。
　金被覆処理液は、水以外の溶媒を含んでいてもよい。
　【００９８】
〜還元剤〜
　金被覆処理液は、還元剤の少なくとも１種を含むことが好ましい。
　還元剤としては、金被覆処理に適用可能であり、水に溶解する還元剤であれば、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
　還元剤としては、例えば、アスコルビン酸又はその塩、水素化ホウ素ナトリウム、ハイドロ（ヒドロ）キノンスルホン酸又はその塩、ジメチルアミノボラン等が挙げられる。
　【００９９】
　金被覆処理液における還元剤の含有量としては、金濃度に対するｍｏｌ比で、５ｍｍｏｌ／Ｌ〜１００ｍｍｏｌ／Ｌが好ましく、１０ｍｍｏｌ／Ｌ〜５０ｍｍｏｌ／Ｌがよりが好ましく、２０ｍｍｏｌ／Ｌ〜４０ｍｍｏｌ／Ｌが更に好ましい。
　【０１００】
〜その他の成分〜
　金被覆処理液は、水、金塩、及び特定錯化剤以外のその他の成分を含んでもよい。
　その他の成分の例としては、グリシン、アラニン等のアミノ酸；Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）グリシン、Ｎ−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−３−アミノプロパンスルホン酸、Ｎ−シクロヘキシル−２−アミノエタンスルホン酸等のグッド緩衝剤などの酸解離定数が８以上のｐＨ緩衝剤；水酸化ナトリウム等のｐＨ調整剤；錯体安定化剤；分散剤；等が挙げられ、これらの成分の１種又は２種以上を任意に選択して用いることができる。
　【０１０１】
〜金被覆処理液の調製〜
　金被覆処理液の調製は、金被覆処理液に含まれる各成分を混合して調製すればよい。
　好ましくは、予め、水、水溶性金塩化合物及び特定錯化剤を含む混合液（金還元液）を調製し、この金還元液と、水、還元剤、及びその他の任意成分と、を混合して、金被覆処理液を調製する態様である。
　還元剤等の金還元液以外の成分は、そのまま用いてもよいし、水等の任意の溶媒に溶解した溶液の形態に調製してから用いてもよい。
　【０１０２】
　金被覆処理液の調製に適用される混合方法は、特に限定されず、攪拌等の公知の混合方法を用いればよい。
　【０１０３】
　金被覆処理液のｐＨは５．５以上であることが好ましく、金被覆処理液が高ｐＨであると金被覆処理がより安定する傾向がある。このため、金被覆処理液は、ｐＨ調整剤を用いて、例えばｐＨ１０以上に調整されることが好ましい。また、ｐＨ緩衝剤を用いて、調整したｐＨが反応に伴い変化することを抑制してもよい。
　【０１０４】
〜金被覆処理〜
　金被覆処理工程における金被覆処理は、金被覆処理液と、銀平板状粒子製造工程で得た銀平板状粒子分散液と、を混合することにより行なう。銀平板状粒子製造工程で得た銀平板状粒子分散液に対して、本開示に係る金被覆処理液を用いて金被覆処理を行なうことで、銀平板状粒子の主平面及び端面の双方に均一な金被覆層が形成される。
　【０１０５】
　金被覆処理液と銀平板状粒子分散液との混合態様は、特に限定されず、金被覆処理液と銀平板状粒子分散液とを一度に混合してもよく、金被覆処理液に銀平板状粒子分散液を少しずつ添加しながら混合してもよく、銀平板状粒子分散液に金被覆処理液を少しずつ添加しながら混合してもよい。混合は、任意の攪拌手段を用いて攪拌しながら行なうことが好ましい。
　【０１０６】
　金被覆性の観点からは、金被覆処理液に銀平板状粒子分散液を一度に混合する態様が好ましい。
　【０１０７】
　金被覆処理液に銀平板状粒子分散液を一度に混合する具体的な混合手段としては、特に限定されず、一般的なバッチ式混合機を用いてもよいし、マイクロミキサーを用いてもよい。市販されているマイクロミキサーとしては、例えば、インターディジタルチャンネル構造体を備えるマイクロミキサー、インスティチュート・フュール・マイクロテクニック・マインツ（ＩＭＭ）社製「シングルミキサー」及び「キャタピラーミキサー」；ミクログラス社製「ミクログラスリアクター」；ＣＰＣシステムス社製「サイトス」；（株）山武製「ＹＭ−１型ミキサー及びＹＭ−２型ミキサー」；（株）島津ジーエルシー製「ミキシングティー及びティー（Ｔ字型コネクタ、Ｙ字型コネクタ）」；マイクロ化学技研（株）製「ＩＭＴチップリアクター」；東レエンジニアリング（株）製「マイクロ・ハイ・ミキサー」；中心衝突型ミキサー（Ｋ−Ｍ型）等が挙げられ、いずれも本開示の特定平板状粒子の製造に使用することができる。
　【０１０８】
　混合する際の金被覆処理液の液温度としては、１０℃〜８０℃程度が好ましい。また、銀平板状粒子分散液の液温度としては、２５℃〜８０℃程度が好ましい。
　金被覆処理液に銀平板状粒子分散液を混合した後の混合液は、加熱処理することが好ましい。加熱温度としては、２５℃〜８０℃が好ましく、３０℃〜７０℃がより好ましい。加熱時間としては、０．５ｈｒ〜８ｈｒが好ましく、１ｈｒ〜６ｈｒがより好ましい。
　加熱処理は任意の攪拌手段を用いて攪拌しながら行なうことが好ましい。
　【０１０９】
　金被覆処理工程を経て得られた特定平板状粒子の分散液は、そのまま使用に供してもよいし、更に、目的に応じた他の成分を添加してから使用に供してもよい。
　【０１１０】
　酸化耐性をより向上させる観点からは、金被覆処理工程の後に、金被覆銀平板状粒子分散液に、銀イオンとの溶解度積ｐＫｓｐが１４以上であり、かつ還元電位が７００ｍＶ未満である有機成分（特定有機成分）を添加することが好ましい。
　特定有機成分及び分散液における含有量の詳細は、本開示の特定粒子分散液の説明において既述した事項と同一の事項が適用される。
　【０１１１】
［塗布膜］
　本開示の塗布膜は、既述した本開示の特定平板状粒子を含む塗布膜であり、本開示の特定平板状粒子を含むことから優れた酸化耐性を奏する。
　【０１１２】
　本開示の塗布膜は、特定平板状粒子を含み、かつ塗布形成された膜であれば、特に限定されないが、好ましい形成態様は、本開示の特定粒子分散液に、所望とする塗布膜の用途及び性状によって選択した成分を含有させて調製した塗布液により形成する態様である。
　【０１１３】
　本開示の塗布膜は、酸化耐性に優れた特定平板状粒子が膜中に分散されていることにより、耐オゾン性などの優れた耐久性を発揮する。このため、本開示の塗布膜は、屋外用途などの耐候性を要求される部材にも好ましく適用される。
　【０１１４】
　本開示の塗布膜は、銀イオンとの溶解度積ｐＫｓｐが１４以上であり、かつ還元電位が７００ｍＶ未満である有機成分（特定有機成分）を含むことが好ましい。すなわち、本開示の塗布膜は、特定有機成分を含む塗布液により形成されることが好ましい。
　特定有機成分の詳細は、本開示の特定粒子分散液の説明にて既述した事項と同一の事項が適用される。
　塗布膜における特定有機成分の含有量としては、酸化耐性及び特定平板状粒子の凝集抑制の観点から、特定粒子分散液中の銀の質量に対して、１質量％〜６５質量％が好ましく、５質量％〜３９質量％がより好ましく、７質量％〜２６質量％が更に好ましい。
　【０１１５】
　塗布膜形成用の塗布液は、特定粒子分散液、特定有機成分の他、所望とする塗布膜に用いうる他の成分を用いて調製することが好ましい。他の成分の例としては、合成高分子、天然高分子など高分子化合物、金属酸化物粒子等の無機粒子、界面活性剤、水、アルコール、グリコール等の溶媒、酸化防止剤、硫化防止剤、腐食防止剤、粘度調整剤、防腐剤などが挙げられ、塗布膜の用途に応じて適宜選択すればよい。
　【０１１６】
　塗布方法としては、公知の塗布方法が適用でき、例えば、ディップコーター、ダイコーター、スリットコーター、バーコーター、グラビアコーター等による塗布方法、ラングミュア・プロジェット膜（ＬＢ膜）法、自己組織化法、スプレー塗布などの塗布方法が挙げられる。
　【０１１７】
　塗布膜の厚み、性状等については、塗布膜の用途に応じて適宜設定すればよい。
　例えば、反射防止光学部材に適用した場合の厚み、透過率などの各性状については、後述する本開示の反射防止光学部材の項にて説明する事項とすることができる。
　【０１１８】
［反射防止光学部材］
　本開示の反射防止光学部材は、可視光の入射光の反射を防止する反射防止光学部材であり、透明基材と、本開示の塗布膜である金属微粒子含有層と、誘電体層とをこの順に積層してなる積層構造を有し、金被覆銀平板状粒子の主平面が、金属微粒子含有層の表面に対して０°〜３０°の範囲で面配向し、金属微粒子含有層中において、複数の金被覆銀平板状粒子は導電路を形成することなく配置され、誘電体層の厚みが、入射光が誘電体層の表面側から積層構造へ入射する場合の誘電体層の表面における反射光を、誘電体層と金属微粒子含有層と界面における反射光と干渉させて打ち消すことができる厚みである、反射防止光学部材である。
　【０１１９】
　以下、本開示の反射防止光学部材の実施形態について、図面を参照しながら説明する。参照する図面は、反射防止光学部材の一例を示すが、本開示の反射防止光学部材は、これに限定されるものではない。各図面において同一の符号を用いて示される構成要素は、同一の構成要素であることを意味する。
　【０１２０】
　図３は、本開示の反射防止光学部材の一実施形態である反射防止光学部材１の構成を示す断面模式図である。図３に示すように、反射防止光学部材１は、所定波長の入射光の反射を防止する、所定の媒質中で用いられる反射防止光学部材であって、媒質の屈折率ｎ０より大きい第１の屈折率ｎ１を有する透明基材１０と、複数の金被覆銀平板状粒子（特定平板状粒子）２０を含有する金属微粒子含有層１２と、媒質の屈折率ｎ０より大きい第２の屈折率ｎ２を有する誘電体層１４とをこの順に積層してなる積層構造を有している。
　【０１２１】
　金属微粒子含有層１２中に含まれる複数の特定平板状粒子２０の主平面が、金属微粒子含有層の表面に対して０°〜３０°の範囲で面配向しており、図３に示すように、金属微粒子含有層１２において、複数の特定平板状粒子２０が導電路を形成することなく配置されている。
　また、誘電体層１４の厚み１４ａは、入射光が誘電体層１４の表面側から積層構造へ入射する場合の誘電体層１４の表面における反射光ＬＲ１が、誘電体層１４と金属微粒子含有層１２との界面における反射光ＬＲ２と干渉して打ち消される厚みである。
　【０１２２】
　本開示の反射防止光学部材は、反射防止機能を付与したい窓ガラスや、液晶ディスプレイ等の表面に貼付されて用いられる反射防止フィルム（フィルム状の反射防止光学部材）であってもよいし、表面に反射防止光学機能が付与されてなるレンズ等であってもよい。
　【０１２３】
　所定の媒質とは、反射防止光学部材が用いられる空間を満たす媒質であり、空気（ｎ０＝１）、水（ｎ０＝１．３３）等、概ね１．４以下である。しかしながら、反射防止光学部材の用途により所定の媒質は異なるものであり、本開示において、この所定の媒質は何ら限定されるものではない。従って、各層の屈折率は使用用途（使用空間の媒質）によって適宜設定される。
　【０１２４】
　所定波長の入射光とは、反射を防止したい波長の光であり、目的に応じて任意に設定することができるが、例えば、液晶ディスプレイ等の反射防止に用いる場合には、目の視感度のある可視光（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）とする。
　また、反射防止効果としては、例えば、液晶ディスプレイ等の反射防止に用いる場合には、反射率０．５％以下の波長域が１００ｎｍ以上の範囲に亘っていることが好ましい。
　以下、本開示の光学部材の各要素についてより詳細に説明する。
　【０１２５】
＜透明基材＞
　透明基材１０としては、所定の媒質の屈折率ｎ０より大きい第１の屈折率ｎ１を有する所定波長の入射光に対し光学的に透明なものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、反射防止をしたい波長が可視光域である場合には。透明基材としては、可視光線透過率が７０％以上のもの、好ましくは８０％以上のもの、反射防止をしたい波長が近赤外域である場合には、近赤外線域の透過率が高いものを用いればよい。
　【０１２６】
　第１の屈折率ｎ１は所定の媒質の屈折率ｎ０より大きければよいが、屈折率差が大きいほど、透明基材に光が入射する際の反射は大きくなり、反射防止の必要性が高まることから、屈折率差は所定の媒質の屈折率の１２％以上、特には２０％以上である場合に、より本開示の反射防止光学部材の構成において効果的である。特に所定の媒質が空気でありｎ０＝１である場合には、屈折率差が大きくなることから、本開示の反射防止光学部材の構成において効果的である。また、透明基材の屈折率としては、１．８未満であることが好ましい。
　【０１２７】
　透明基材１０としては、その形状、構造、大きさ、材料などについては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
　透明基材の形状としては、例えば、フィルム状、平板状などが挙げられる。透明基材の構造は、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、大きさは、用途に応じて定めればよい。
　透明基材の材料としては、例えば、ガラス、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４−メチルペンテン−１、ポリブテン−１等のポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリエーテルサルフォン系樹脂、ポリエチレンサルファイド系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、セルロースアセテート等のセルロース系樹脂などからなるフィルム又はこれらの積層フィルムが挙げられる。これらの中でも、特にトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、又はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好適である。
　【０１２８】
　透明基材１０が平板状あるいはフィルム状である場合、その厚みに、特に制限はなく、反射防止の使用目的に応じて適宜選択することができる。フィルム状である場合、通常は１０μｍ〜５００μｍ程度である。透明基材１０の厚みは１０μｍ〜１００μｍであることが好ましく、２０μｍ〜７５μｍであることがより好ましく、３５μｍ〜７５μｍであることが特に好ましい。透明基材１０の厚みが厚いほど、接着故障が起き難くなる傾向にある。また、透明基材１０の厚みが薄いほど、反射防止膜として建材や自動車の窓ガラスに貼り合わせる際、材料としての腰が強過ぎず、施工し易くなる傾向にある。更に、透明基材１０が十分に薄いほど、透過率が増加し、原材料費を抑制できる傾向にある。
　【０１２９】
＜金属微粒子含有層＞
　金属微粒子含有層１２は、既述の本開示の塗布膜を金属微粒子含有層に適用して構成したものであり、特定平板状粒子及びその他の成分を含有して構成される。
　金属微粒子含有層１２は、バインダ２８中に複数の特定平板状粒子２０が含有されてなる層である。金属微粒子含有層１２においては、特定平板状粒子は、平面視において、層中にランダム（すなわち、非周期的に）に配置されている。
　【０１３０】
　特定平板状粒子２０としては、特定平板状粒子に関して既述した事項と同一の事項が適用される。
　【０１３１】
　上述の角度θが０°〜３０°の範囲で面配向している特定平板状粒子２０は、金属微粒子含有層１２に含有される特定平板状粒子２０の６０個数％以上であることが好ましく、７０個数％以上であることがより好ましく、９０個数％以上であることが更に好ましい。
　金属微粒子含有層１２は、本開示の反射防止光学部材の効果を損なわない限りにおいて、特定平板状粒子２０以外の金属微粒子を含有してもよいが、金属微粒子含有層１２に含まれる複数の金属微粒子の総数の６０個数％以上が、特定平板状粒子２０であり、６５個数％以上、さらには７０個数％以上が、特定平板状粒子２０であることが好ましい。特定平板状粒子２０の割合が、６０個数％以上であると、酸化耐性をより確保できる傾向となる。
　【０１３２】
　また、特定平板状粒子２０は、金属微粒子含有層１２の一方の表面に偏析されていることが好ましい。
　【０１３３】
〜面配向〜
　金属微粒子含有層１２中において、特定平板状粒子２０の主面は金属微粒子含有層１２の表面に対して０°〜３０°の範囲で面配向している。すなわち、図４において、金属微粒子含有層１２の表面と、特定平板状粒子２０の主平面（円相当径Ｄを決める面）又は主平面の延長線とのなす角度（±θ）が０°〜３０°である。角度（±θ）が０°〜２０°の範囲で面配向していることがより好ましく、０°〜１０°の範囲で面配向していることが特に好ましい。反射防止光学部材の断面を観察した際、特定平板状粒子２０は、図４に示す傾角（±θ）が小さい状態で配向していることがより好ましい。θが±３０°を超えると、反射防止光学部材における可視光線の吸収が増加してしまう傾向がある。
　【０１３４】
　また、上述の角度θが０°〜±３０°の範囲で面配向している特定平板状粒子２０が、全特定平板状粒子２０の５０個数％以上であることが好ましく、７０個数％以上であることがより好ましく、９０個数％以上であることがさらに好ましい。
　【０１３５】
　金属微粒子含有層の一方の表面に対して特定平板状粒子の主平面が面配向しているかどうかは、例えば、適当な断面切片を作製し、この切片における金属微粒子含有層及び特定平板状粒子を観察して評価する方法を採ることができる。具体的には、ミクロトーム、集束イオンビーム（ＦＩＢ）を用いて反射防止光学部材の断面サンプル又は断面切片サンプルを作製し、これを、各種顕微鏡（例えば、電界放射型走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等）を用いて観察して得た画像から評価する方法などが挙げられる。
　【０１３６】
　上述の通り作製した断面サンプルまたは断面切片サンプルの観察方法としては、サンプルにおいて金属微粒子含有層の一方の表面に対して特定平板状粒子の主平面が面配向しているかどうかを確認し得るものであれば、特に制限はないが、例えば、ＦＥ−ＳＥＭ、ＴＥＭなどを用いる方法が挙げられる。断面サンプルの場合は、ＦＥ−ＳＥＭにより、断面切片サンプルの場合は、ＴＥＭにより観察を行ってもよい。ＦＥ−ＳＥＭで評価する場合は、特定平板状粒子の形状と傾角（図４中の±θ）が明瞭に判断できる空間分解能を有することが好ましい。
　【０１３７】
　特定平板状粒子２０の分布状態としては、複数の特定平板状粒子により導電路が形成されていなければ特に制限はない。
　図５Ａ〜図５Ｄは、金属微粒子含有層１２における特定平板状粒子２０の分布状態を模式的に示した平面図である。図中白抜き部分が特定平板状粒子２０である。図５Ａでは複数の特定平板状粒子２０が面方向において全て（１００％）孤立して分布されている。図５Ｂは複数の特定平板状粒子２０のうち５０％が孤立し、他の５０％が隣接粒子と接触して部分的な連結状態２４で分布している状態を示す。図５Ｃは複数の特定平板状粒子２０のうち１０％のみが孤立して存在し、他は隣接粒子と接触して部分的な連結状態２４で分布している状態を示す。図５Ａに示すように、特定平板状粒子２０は互いに孤立していることが最も好ましいが、１０％以上が孤立して配置されていれば十分に反射防止効果を得ることができる。他方、図５Ｄは複数の特定平板状粒子２０のうち２％のみが孤立した場合の特定平板状粒子の分布を示すものであり、図５Ｄにおいては、画像中の一端から他端へ特定平板状粒子２０が連結して導電路２６が形成されている。このように導電路２６が形成されると、特定平板状粒子による可視光域波長の吸収率が上昇し、反射率も増加する。従って、本開示の反射防止用部材においては、図５Ａ〜図５Ｃに示すように、少なくとも特定平板状粒子２０により導電路が形成されてない状態である。
　【０１３８】
　なお、導電路形成の有無についてはＳＥＭで観察した２．５μｍ×２．５μｍの領域において、領域の一端から対向する他端まで、特定平板状粒子が連続して繋がっている場合に導電路が形成されているとし、途中で特定平板状粒子が離れている場合には導電路が形成されていないと判断するものとする。
　【０１３９】
〜金属微粒子含有層の厚み、粒子の存在範囲〜
　図６及び図７は、本開示の反射防止光学部材において、特定平板状粒子２０の金属微粒子含有層２８における存在状態を示した概略断面図である。
　【０１４０】
　本開示の反射防止光学部材において金属微粒子含有層１２の厚みｄは、塗布厚みを下げるほど、特定平板状粒子の面配向の角度範囲が０°に近づきやすくなり、可視光線の吸収を減らすことができることから１００ｎｍ以下であることが好ましく、３〜５０ｎｍであることがより好ましく、５ｎｍ〜４０ｎｍであることが特に好ましい。
　【０１４１】
　金属微粒子含有層１２の塗布膜厚みｄが特定平板状粒子の平均円相当径Ｄに対し、ｄ＞Ｄ／２の場合、特定平板状粒子の８０個数％以上が、金属微粒子含有層の表面からｄ／２の範囲に存在することが好ましく、ｄ／３の範囲に存在することがより好ましく、特定平板状粒子の６０個数％以上が金属微粒子含有層の一方の表面に露出していることが更に好ましい。特定平板状粒子が金属微粒子含有層の表面からｄ／２の範囲に存在するとは、特定平板状粒子の少なくとも一部が金属微粒子含有層の表面からｄ／２の範囲に含まれていることを意味する。
　図６は、金属微粒子含有層の厚みｄがｄ＞Ｄ／２である場合を表した模式図であり、特に特定平板状粒子の８０個数％以上がｆの範囲に含まれており、ｆ＜ｄ／２であることを表した図である。
　【０１４２】
　また、特定平板状粒子が金属微粒子含有層の一方の表面に露出しているとは、特定平板状粒子の一方の表面の一部が、誘電体層との界面位置となっていることを意味する。図７は特定平板状粒子の一方の表面が誘電体層との界面に一致している場合を示す図である。
　【０１４３】
　ここで、金属微粒子含有層中の特定平板状粒子の存在分布は、例えば、反射防止光学部材断面をＳＥＭ観察した画像より測定することができる。
　【０１４４】
　本開示の反射防止光学部材では、金属微粒子含有層の厚みｄは、特定平板状粒子の平均円相当径Ｄに対し、ｄ＜Ｄ／２の場合が好ましく、より好ましくはｄ＜Ｄ／４であり、ｄ＜Ｄ／８がさらに好ましい。金属微粒子含有層の塗布厚みを下げるほど、特定平板状粒子の面配向の角度範囲が０°に近づきやすくなり、可視光線の吸収を減らすことができるため好ましい。
　【０１４５】
　金属微粒子含有層における特定平板状粒子のプラズモン共鳴波長λは、所定の波長である反射防止したい波長より長波である限り制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、熱線を遮蔽等の観点からは、７００ｎｍ〜２，５００ｎｍであることが好ましい。
　【０１４６】
〜ヘイズ値（透明性）〜
　金属微粒子含有層１２は、へイズ値（％）が、０．１％〜１０．０％が好ましく、０．１％〜５％がより好ましく、０．１％〜３％がさらに好ましい。
　ヘイズ値は、ヘイズメーター（ＮＤＨ−５０００、日本電色工業株式会社製）を用いて測定した値である。
　【０１４７】
〜特定平板状粒子の面積率〜
　反射防止光学部材を上から見た時の基材の面積Ｘ（金属微粒子含有層に対して垂直方向から見たときの金属微粒子含有層の全投影面積Ｘ）に対する特定平板状粒子の面積の合計値Ｙの割合である面積率〔（Ｙ／Ｘ）×１００〕としては、５％以上が好ましく、１０％以上７０％未満がより好ましい。面積率が、５％以上であれば十分な反射防止効果が得られる。面積率が７０％未満であれば、導電路が形成せず、可視光の吸収と反射を抑制して透過率の低下を抑制することができる。
　【０１４８】
　広い波長域で低反射率とするために、面積率は特定平板状粒子の厚みＴと誘電体層の屈折率ｎ２に応じて最適な値とすることが好ましい。金属微粒子が全て特定平板状粒子であり、所定の媒質が空気（ｎ０＝１）である場合について検討する。例えば、特定平板状粒子の厚みが４ｎｍ、誘電体層の屈折率が１．４の時には、面積率は４０％以上７０％未満が好ましく、５０％以上６５％未満がより好ましい。また、例えば特定平板状粒子の厚みが８ｎｍ、誘電体層の屈折率が１．４である場合には、面積率は５％以上、４０％未満が好ましく、６％以上３０％未満がより好ましい。また、例えば、特定平板状粒子の厚みが１８ｎｍ、誘電体層の屈折率が１．４である場合には、面積率は５％以上３０％未満が好ましく、５％以上２５％未満がより好ましい。
　【０１４９】
　ここで、面積率は、例えば反射防止光学部材を上からＳＥＭ観察で得られた画像や、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）観察で得られた画像を画像処理することにより測定することができる。
　【０１５０】
〜粒子の配列〜
　金属微粒子含有層における特定平板状粒子の配列は均一であることが好ましい。ここで言う配列の均一とは、各粒子に対する最近接粒子までの距離（最近接粒子間距離）を粒子の中心間距離で数値化した際、各々の粒子の最近接粒子間距離の変動係数（＝標準偏差÷平均値）が小さいことを指す。最近接粒子間距離の変動係数は小さいほど好ましく、好ましくは３０％以下、より好ましくは２０％以下、より好ましくは１０％以下、理想的には０％である。最近接粒子間距離の変動係数が大きい場合には、金属微粒子含有層内で特定平板状粒子の粗密や粒子間の凝集が生じ、ヘイズが悪化する傾向がある。最近接粒子間距離は金属微粒子含有層塗布面をＳＥＭなどで観察することにより測定が可能である。
　【０１５１】
　また、金属微粒子含有層と誘電体層との境界は同様にＳＥＭなどで観察して決定することができ、金属微粒子含有層の厚みｄを決定することができる。なお、金属微粒子含有層に含まれるポリマーと同じ種類のポリマーを用いて、金属微粒子含有層の上に誘電体層を形成する場合であっても、通常はＳＥＭ観察した画像によって金属微粒子含有層との境界を判別できることができ、金属微粒子含有層の厚みｄを決定することができる。なお、境界が明確でない場合には、最も基材から離れて位置されている平板状粒子の表面を境界とみなす。
　【０１５２】
〜バインダ〜
　金属微粒子含有層１２におけるバインダ２８は、ポリマーを含むことが好ましく、透明ポリマーを含むことがより好ましい。ポリマーとしては、例えば、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、（飽和）ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゼラチンやセルロース等の天然高分子等の高分子などが挙げられる。その中でも、主ポリマーがポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、（飽和）ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂であることが好ましく、ポリエステル樹脂およびポリウレタン樹脂であることが特定平板状粒子の８０個数％以上を金属微粒子含有層の表面からｄ／２の範囲に存在させやすい観点からより好ましい。
　【０１５３】
　ポリエステル樹脂の中でも、飽和ポリエステル樹脂であることが二重結合を含まないために優れた耐候性を付与できる観点からより特に好ましい。また、分子末端に水酸基またはカルボキシル基を持つことが、水溶性・水分散性の硬化剤等で硬化させることで、高い硬度、耐久性及び耐熱性を得られる観点から、より好ましい。
　【０１５４】
　ポリマーとしては、商業的に入手できるものを好ましく用いることもでき、例えば、互応化学工業（株）製の水溶性ポリエステル樹脂である、プラスコートＺ−６８７などを挙げることができる。
　また、本明細書中、金属微粒子含有層に含まれる主ポリマーとは、金属微粒子含有層に含まれるポリマーの５０質量％以上を占めるポリマー成分のことを意味する。
　【０１５５】
　金属微粒子含有層に含まれる特定平板状粒子に対するポリエステル樹脂及びポリウレタン樹脂の含有量は、１質量％〜１００００質量％であることが好ましく、１０質量％〜１０００質量％であることがより好ましく、２０質量％〜５００質量％であることが特に好ましい。
　バインダの屈折率ｎは、１．４〜１．７であることが好ましい。
　【０１５６】
〜特定有機成分〜
　金属微粒子含有層１２は、既述の銀イオンとの溶解度積ｐＫｓｐが１４以上であり、かつ還元電位が７００ｍＶ未満である有機成分（特定有機成分）を含むことが好ましい。
　特定有機成分の詳細は、本開示の特定粒子分散液の説明にて既述した事項と同一の事項が適用される。
　【０１５７】
〜他の添加剤〜
　金属微粒子含有層１２は、他の添加剤を含有していてよく、例えば、酸化防止剤、界面活性剤、金属酸化物粒子等の無機粒子、各種の水溶性溶媒、硫化防止剤、腐食防止剤、粘度調整剤、防腐剤などが例示される。
　【０１５８】
＜誘電体層＞
　誘電体層１４の厚み１４ａは、既述の通り、誘電体層１４の表面からの入射光の誘電体層１４における反射光ＬＲ１が、入射光Ｌの金属微粒子含有層１２における反射光ＬＲ２と干渉して打ち消される厚みである。ここで、「反射光ＬＲ１が、入射光Ｌの金属微粒子含有層１２における反射光ＬＲ２と干渉して打ち消される」とは、反射光ＬＲ１と反射光ＬＲ２とが互いに干渉して全体としての反射光を低減することを意味し、完全に反射光がなくなる場合に限定されるものではない。
　誘電体層１４は、低屈折率層として構成してもよい。
　【０１５９】
　誘電体層１４の厚み１４ａは４００ｎｍ以下であることが好ましく、誘電体層の厚みは、所定波長をλとしたとき光路長λ／４以下の厚みであることがより好ましい。
原理的には誘電体層１４の厚みとしては、光路長λ／８が最適であるが、金属微粒子含有層の条件によって、λ／１６〜λ／４程度の範囲で最適値は変化するため、層構成に応じて適宜設定すればよい。
　誘電体層１４は、所定の媒質の屈折率より大きい第２の屈折率を有するものであればその構成材料は特に制限されない。例えば、バインダ、マット剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤及び界面活性剤を含有し、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。バインダとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂などが挙げられる。
　【０１６０】
〜その他の層及びその他の成分〜
　本開示の反射防止光学部材は、上記各層以外の他の層を備えていてもよい。他の層としては、赤外線吸収化合物含有層、赤外線吸収化合物含有層、粘着剤層、ハードコート層、紫外線吸収剤が含まれている層などが挙げられる。
　本開示の反射防止光学部材は、反射防止能の向上の観点から、高屈折率層を更に有していてもよい。
　また、本開示の反射防止光学部材は、熱線を遮蔽等の観点から、少なくとも１種の金属酸化物粒子を含有していてもよい。
　【０１６１】
　その他の層及びその他の成分としては、例えば、特開２０１５−１２９９０９号公報の段落００７５〜段落００８０に記載の、粘着剤層、ハードコート層、バックコート層、紫外線吸収剤が含まれている層、金属酸化物粒子に関する事項が、本開示の反射防止光学部材においても同様に適用することができる。
　【０１６２】
　本開示の反射防止光学部材の一態様として、金属微粒子含有層、誘電体層、ハードコート層、及び粘着層を有する反射防止光学部材を例に、各層の形成方法について説明する。
　【０１６３】
−１．金属微粒子含有層の形成方法−
　金属微粒子含有層１２の形成方法は、本開示の塗布膜が金属微粒子含有層として形成されるものであれば、特に制限はない。例えば、透明基材の表面上に、本開示の特定分散液及びその他の任意成分を用いて調製した塗布液を、ディップコーター、ダイコーター、スリットコーター、バーコーター、グラビアコーター等により塗布する方法、ラングミュア・プロジェット膜（ＬＢ膜）法、自己組織化法、スプレー塗布などの方法で面配向させる方法が挙げられる。
　【０１６４】
　なお、面配向を促進するために、特定平板状粒子を含む塗布液を塗布後、カレンダーローラー、ラミローラーなどの圧着ローラーを通してもよい。
　【０１６５】
−２．誘電体層の形成方法−
　誘電体層１４は、塗布により形成することが好ましい。このときの塗布方法としては、特に限定はなく、公知の方法を用いることができ、例えば、紫外線吸収剤を含有する分散液を、ディップコーター、ダイコーター、スリットコーター、バーコーター、グラビアコータ一等により塗布する方法などが挙げられる。
　【０１６６】
−３．ハードコート層の形成方法−
　ハードコート層は、塗布により形成することが好ましい。このときの塗布方法としては、特に限定はなく、公知の方法を用いることができ、例えば、紫外線吸収剤を含有する分散液を、ディップコーター、ダイコーター、スリットコーター、バーコーター、グラビアコーター等により塗布する方法などが挙げられる。
　【０１６７】
−４．粘着層の形成方法−
　粘着層は、塗布により形成することが好ましい。例えば、透明基材、金属微粒子含有層、紫外線吸収層などの下層の表面上に積層することができる。このときの塗布方法としては、特に限定はなく、公知の方法を用いることができる。
　粘着剤を予め離型フィルム上に塗工及び乾燥させたフィルムを作製しておいて、当該フィルムの粘着剤面と本発明の反射防止構造表面とをラミネートすることにより、ドライな状態のままの粘着剤層を積層することが可能である。このときのラミネートの方法としては、特に限定はなく、公知の方法を用いることができる。
　【実施例】
　【０１６８】
　以下に実施例を挙げて本発明の一実施形態を更に具体的に説明する。本発明の範囲は、以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りの無い限り、「％」及び「部」は質量基準である。
　【０１６９】
　［１−１］　金被覆銀平板状粒子（特定平板状粒子）及びこれを含む分散液の作製
［実施例１］
　（１）銀平板状粒子分散液ａの作製
　ＮＴＫＲ−４製の反応容器（日本金属工業（株）製）にイオン交換水１３Ｌを計量し、ＳＵＳ３１６Ｌ製のシャフトにＮＴＫＲ−４製のプロペラ４枚及びＮＴＫＲ−４製のパドル４枚を取り付けたアジターを備えるチャンバーを用いて撹拌しながら、１０ｇ／Ｌのクエン酸三ナトリウム（無水物）水溶液１．０Ｌを添加して３５℃に保温した。８．０ｇ／Ｌのポリスチレンスルホン酸水溶液０．６８Ｌを添加し、更に０．０４Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を用いて２３ｇ／Ｌに調製した水素化ホウ素ナトリウム水溶液０．０４１Ｌを添加した。０．１０ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液１３Ｌを５．０Ｌ／ｍｉｎで添加した。
　【０１７０】
　反応容器に、１０ｇ／Ｌのクエン酸三ナトリウム（無水物）水溶液１．０Ｌとイオン交換水１１Ｌを添加して、更に８０ｇ／Ｌのヒドロキノンスルホン酸カリウム水溶液０．６８Ｌを添加した。撹拌を８００ｒｐｍ（ｒｏｔａｔｉｏｎｓ　ｐｅｒ　ｍｉｎｕｔｅ、以下同じ。）に上げて、０．１０ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液８．１Ｌを０．９５Ｌ／ｍｉｎで添加した後、３０℃に降温した。
　【０１７１】
　さらに反応容器に、４４ｇ／Ｌのメチルヒドロキノン水溶液８．０Ｌを添加し、次いで、後述する４０℃のゼラチン水溶液を全量添加した。撹拌を１２００ｒｐｍに上げて、さらに反応容器に、後述する亜硫酸銀白色沈殿物混合液を全量添加した。
　【０１７２】
　調製液のｐＨ変化が止まった段階で、さらに反応容器に、１ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液５．０Ｌを０．３３Ｌ／ｍｉｎで添加した。その後、さらに反応容器に、２．０ｇ／Ｌの１−（メタスルホフェニル）−５−メルカプトテトラゾールナトリウム水溶液（ＮａＯＨとクエン酸（無水物）とを用いてｐＨ＝７．０±１．０に調節して溶解した）０．１８Ｌを添加し、更に７０ｇ／Ｌの１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン（ＮａＯＨで水溶液をアルカリ性に調節して溶解した）０．０７８Ｌを添加した。
　このようにして銀平板状粒子分散液ａを調製した。
　銀平板状粒子分散液ａが含む銀平板状粒子は、平均厚みが８．３ｎｍ、平均粒子径（平均円相当径）が１２１．２ｎｍの平板状粒子であり、アスペクト比は１４．６であった。測定方法は、既述のとおりである。
　【０１７３】
〜ゼラチン水溶液の調製〜
　ＳＵＳ３１６Ｌ製の溶解タンクにイオン交換水１６．７Ｌを計量した。ＳＵＳ３１６Ｌ製のアジターで低速撹拌を行いながら、脱イオン処理を施したアルカリ処理牛骨ゼラチン（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）重量平均分子量：２０万）１．４ｋｇを添加した。更に、この溶解タンクに、脱イオン処理、蛋白質分解酵素処理、及び過酸化水素を用いた酸化処理を施したアルカリ処理牛骨ゼラチン（ＧＰＣ重量平均分子量：２．１万）０．９１ｋｇを添加した。その後４０℃に昇温し、ゼラチンの膨潤と溶解を同時に行って完全に溶解させた。
　【０１７４】
〜亜硫酸銀白色沈殿物混合液の調製〜
　ＳＵＳ３１６Ｌ製の溶解タンクにイオン交換水８．２Ｌを計量し、１００ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液８．２Ｌを添加した。ＳＵＳ３１６Ｌ製のアジターで高速撹拌を行いながら、この溶解タンクに、１４０ｇ／Ｌの亜硫酸ナトリウム水溶液２．７Ｌを短時間で添加して、亜硫酸銀の白色沈澱物を含む混合液を調製した。この亜硫酸銀白色沈殿物混合液は、使用する直前に調製した。
　【０１７５】
　（２）端面吸着剤の添加
　次いで、上記で得た銀平板状粒子分散液ａ　１３０．４ｇに対し、５０ｍＭの塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム（ＣＴＡＣ）１３．６ｇを添加し、銀平板状粒子分散液Ａを得た。
　【０１７６】
　（３）金被覆処理（特定平板状粒子を含む分散液の作製）
　水　２６６．３ｇ、０．５ｍｏｌ／Ｌアスコルビン酸（還元剤）　１７７ｇ、及び、下記の金還元液Ｂ１　６０８ｇを、反応容器に順次添加し、５分間攪拌した後、１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を用いて、ｐＨを１０以上となるように調整して、金被覆処理液Ｂ１を得た。
　次いで、この反応容器内の金被覆処理液Ｂ１に、上記で得た銀平板状粒子分散液Ａ（銀濃度：０．５質量％≒４６ｍｍｏｌ／Ｌ）１４４ｇを添加し、６０℃で４時間攪拌した。
　以上により、銀平板状粒子を金被覆した特定平板状粒子を含む分散液（分散液ｂ）を得た。
　【０１７７】
〜金還元液の調製〜
　容器に、水　１８．２ｇ、０．０１２ｍｏｌ／Ｌの塩化金酸４水和物（水溶性金化合物）　３５３．６ｇ、０．２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム（ｐＨ調整剤）　１５．６ｇ、及び、０．１ｍｏｌ／Ｌのチオ硫酸ナトリウム（錯化剤）　２２０．６ｇを、軽く撹拌しながら順次添加し、金還元液Ｂ１を得た。
　【０１７８】
　（４）脱塩処理及び再分散処理
　上記で得た特定平板状粒子を含む分散液ｂを遠沈管に８００ｇ採取して、１ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨおよび０．５ｍｏｌ／Ｌの硫酸のうち少なくとも一方を用いて２５℃でｐＨ＝９．２±０．２に調整した。遠心分離機（日立工機（株）製ｈｉｍａｃＣＲ２２ＧＩＩＩ、アングルローターＲ９Ａ）を用いて、３５℃に設定して９０００ｒｐｍで６０分間の遠心分離操作を行った後、上澄液を７８４ｇ捨てた。沈殿した銀平板状粒子に０．２ｍｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液を加えて合計４００ｇとし、撹拌棒を用いて手撹拌して粗分散液にした。これと同様の操作で２４本分の粗分散液を調製して合計９６００ｇとし、ＳＵＳ３１６Ｌ製のタンクに添加して混合した。更に、このタンクに、界面活性剤であるＰｌｕｒｏｎｉｃ３１Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）の１０ｇ／Ｌ溶液（メタノール：イオン交換水＝１：１（体積比）の混合液で希釈）を１０ｍＬ添加した。プライミクス（株）製オートミクサー２０型（撹拌部はホモミクサーＭＡＲＫＩＩ）を用いて、タンク中の粗分散液と界面活性剤の混合物に９０００ｒｐｍで１２０分間のバッチ式分散処理を施した。分散中の液温は５０℃に保った。分散後、２５℃に降温してから、プロファイルＩＩフィルター（日本ポール（株）製、製品型式ＭＣＹ１００１Ｙ０３０Ｈ１３）を用いてシングルパスの濾過を行った。
　このようにして、特定平板状粒子を含む分散液ｂに脱塩処理及び再分散処理を施し、特定平板状粒子を含む完成品である分散液Ｂ１を得た。
　分散液Ｂ１に含まれる特定平板状粒子は、平均厚みが９．１ｎｍ、平均厚みが（平均円相当径）が１２３．２ｎｍの平板状粒子であり、アスペクト比は１３．５であり、変動係数は１９．６％であった。測定方法は、既述のとおりである。
　【０１７９】
［実施例２〜
６、１２〜１４
６
　実施例１において、錯体化剤の種類及び量、端面吸着剤の量、銀平板状粒子分散液Ａの量、及び塩化金酸４水和物の量を調整して、下記表２に記載の錯体化剤の種類及び量、端面吸着剤の量、銀濃度及び金濃度となるようにした以外は、実施例１と同様にして、分散液Ｂ２〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１４
Ｃ６
　【０１８０】
［実施例１５］
　実施例４において、銀平板状粒子分散液ａの調製において加える亜硫酸銀白色沈殿物混合液の調製の際、１００ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液の添加量を２．７Ｌとしたことに加え、錯体化剤の種類及び量、端面吸着剤の量、銀平板状粒子分散液Ａの量、及び塩化金酸４水和物の量を調整して、下記表２に記載の錯体化剤の種類及び量、端面吸着剤の量、銀濃度及び金濃度となるようにした以外は、実施例４と同様にして分散液Ｂ１５を得た。
　【０１８１】
［実施例１６］
　実施例４において、銀平板状粒子分散液ａの調製においてメチルヒドロキノン水溶液を添加する前に、反応容器中の液から３３．１Ｌを抜き取ったこと以外は、実施例４と同様にして分散液Ｂ１６を得た。
　【０１８２】
［実施例１７］
　実施例４において、金被覆処理液の調製において、水　２６６．３ｇの代わりに、水１３６．３ｇ、およびｐＨ緩衝材として５質量％のグリシン水溶液を１３０ｇ用いたこと以外は、実施例４と同様にして分散液Ｂ１７を得た。
　【０１８３】
［実施例１８］
　実施例４において、銀平板状粒子分散液と、金被覆処理液を混合する際に、以下のマイクロミキサーを用いたこと以外は、実施例４と同様にして分散液Ｂ１８を得た。
　具体的には、銀平板状粒子分散液と、金被覆処理液を、富士テクノ社製プランジャーポンプで、それぞれ８ｍＬ／ｍｉｎ、３２ｍＬ／ｍｉｎで送液し、ＥＹＥＬＡ社製Ｔ字型リアクター（内径０．５ｍｍ）を用いて混合した。各プランジャーポンプとリアクターは、長さ５００ｍｍ、内径２ｍｍのテフロン（登録商標）チューブで連結し、リアクターから受け容器までは長さ２００ｍｍ、内径２ｍｍのテフロン（登録商標）チューブで連結した。また、水浴を用いてリアクターを６０℃に加熱した。回収した液は、６０℃で４時間攪拌した。
　【０１８４】
［比較例１］
　特開２０１６−１０９５５０号公報の段落番号００３２及び００３３に記載の方法に順じ、銀濃度を、銀平板状粒子分散液ａと同じ４６ｍｍｏｌ／Ｌとするために、各材料の添加量を２６０倍とし、銀平板状粒子を作製しようとしたところ、沈殿物が生じ、銀平板粒子が作製できなかった。この結果は、銀濃度が高いため、クエン酸ナトリウムの分散力では、十分に粒子の保護コロイド性が発現しなかったためであると推定した。
　このため、比較例１については、金被覆処理も実施できなかった。
　【０１８５】
［比較例２］
　実施例１において調製した銀平板状粒子分散液ａに対して、端面端面吸着剤の添加及び金被覆処理を行なわずに、「（４）脱塩処理及び再分散処理」と同様の処理を行なった以外は、実施例１と同様にして作製した銀平板状粒子の分散液を分散液Ｃ２として用いた。
　【０１８６】
［比較例３］
　実施例１において錯化剤を用いなかった以外は、実施例１と同様にして、金被覆銀平板状粒子分散液である分散液Ｃ３を得た。
　【０１８７】
［比較例４］
　実施例１において、錯化剤をヨウ化カリウムに変更した以外は、実施例１と同様にしてて、金被覆銀平板状粒子分散液である分散液Ｃ４を得た。
　【０１８８】
　上記にて得た分散液Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８
Ｃ４、Ｃ６
　【０１８９】
　［１−２］　測定及び評価（Ｉ）
　（１）金被覆状態の確認
　分散液Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８
Ｃ４、Ｃ６
　【０１９０】
　また、図８には、実施例７で得られた金被覆銀平板状粒子における平坦な金被覆層の形成状態を示す。図８は、実施例７で得られた金被覆銀平板状粒子に対するエネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＳ）の測定結果に基づき作製された図である。図８中、（ａ）は銀平板状粒子１０１を単独で示し、（ｂ）は金被覆層１０２を単独で示し、（ｃ）は銀平板状粒子１０１の表面全体に金被覆層１０２が存在する金被覆銀平板状粒子１００を示す。
　【０１９１】
　金被覆状態の確認結果が「平坦」であった他の金被覆銀平板状粒子についても、実施例７で得られた金被覆銀平板状粒子と同様の金被覆状態であった。
　【０１９２】
　（２）金被覆層の平均厚み及び厚み比の測定
　分散液Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８
Ｃ４、Ｃ６
　【０１９３】
（測定方法）
　粒子断面方向のＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ（Ｈｉｇｈ−ａｎｇｌｅ　Ａｎｎｕｌａｒ　Ｄａｒｋ　Ｆｉｅｌｄ　Ｓｃａｎｎｉｎｇ　ＴＥＭ）像を撮影し、その撮影画像中で輝度の高い金被覆層の厚みを、主平面及び端面のそれぞれについて、１粒子中５点を画像解析ツールとしてＩｍａｇｅＪを用いて測定し、計２０個の粒子の厚みを算術平均することで、主平面の平均厚み（Ａ）、端面の平均厚み（Ｂ）、及び厚み比Ａ／Ｂをそれぞれ算出した。
　【０１９４】
　（３）酸化耐性（耐Ｈ２Ｏ２性）評価
　分散液Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８
Ｃ４、Ｃ６
　【０１９５】
（評価方法）
　Ｈ２Ｏ２の含有量が、０質量％の液、及び、３質量％の液を、それぞれ４ｍＬづつ計１９個に小分けし、そこに分散液Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８
Ｃ４、Ｃ６
　各評価用サンプルを２ｈｒ経過させた後、各評価用サンプルの液分光吸収を分光機（Ｕ−４０００形分光光度計　日立ハイテクノロジーズ社製）にて測定した。
　分散液Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８
Ｃ４、Ｃ６
　【０１９６】
（評価基準）
　Ａ：強度比が０．９以上１．０以下
　Ｂ：強度比が０．７以上０．９未満
　Ｃ：強度比が０．５以上０．７未満
　Ｄ：強度比が０．３以上０．５未満
　Ｅ：強度比が０以上０．３未満
　【０１９７】
　３．粒子生産性の評価
　得られた各分散液について、銀濃度（ｍｍｏｌ／Ｌ）を分散液の作製時間（ｈｒ）で割ることにより、粒子の生産性（ｍｍｏｌ／Ｌ・ｈｒ）を求めた。評価基準は以下のとおりである。この評価に優れるほど、短時間に高濃度の金被覆銀平板状粒子を含む分散液が得られ、生産性が高い。
　結果を表２に示す。
（評価基準）
　Ａ：生産性が、２．５ｍｍｏｌ／Ｌ・ｈｒ以上
　Ｂ：生産性が、０．５ｍｍｏｌ／Ｌ・ｈｒ以上２．５ｍｍｏｌ／Ｌ・ｈｒ未満
　Ｃ：生産性が、０．５ｍｍｏｌ／Ｌ・ｈｒ未満
　【０１９８】
　【表２】
　【０１９９】
　表２に示すように、実施例１〜
６、１２〜１８
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１８
　【０２００】
　さらに、表２には、銀濃度を高くすることによって、優れた酸化耐性を有する特定平板状粒子を高い生産性で製造できることが示されており（例えば、実施例２〜実施例４を参照）、本開示の製造方法は、酸化耐性（耐Ｈ２Ｏ２性）と粒子生産性との両立も可能な製造方法であることも分かる。
　【０２０１】
　［２−１］　塗布膜の作製
［実施例１９］
＜塗布液Ｂ１の調製＞
　下記表３に示す組成１にて、塗布液Ｂ１を調製した。
　【０２０２】
　【表３】
　【０２０３】
＜塗布膜の形成＞
　透明基材である易接着層付ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（Ｕ４０３、膜厚７５μｍ、東レ（株）製）の表面上に、塗布液Ｂ１を、ワイヤーバーを用いて、乾燥後の平均厚みが３０ｎｍになるように塗布した。その後、１３０℃で１分間加熱し、乾燥、固化し、塗布膜Ｂ１を形成した。
　【０２０４】
［実施例２０〜
２４、３０
１０、１２
　実施例１９において、分散液Ｂ１に換えて、分散液Ｂ２〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１６
Ｃ４、Ｃ６
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１６
　次いで、得られた各塗布液を用いて、実施例１９と同様にして塗布膜Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ１３、Ｂ１８〜Ｂ２０
Ｃ４、Ｃ６
　【０２０５】
［実施例３２］
　実施例１９において、分散液Ｂ１に換えて分散液
Ｂ６
　次いで、得られた塗布液を用いて、実施例１９と同様にして塗布膜Ｂ１４を形成した。
　【０２０６】
［実施例３３〜３５］
　実施例１９において、
分散液Ｂ１に換えて分散液Ｂ６を用い、
　次いで、得られた各塗布液を用いて、実施例１９と同様にして、塗布膜Ｂ１５〜Ｂ１７を形成した。
　【０２０７】
　［２−２］　測定及び評価（ＩＩ）
　上記にて作製した塗布膜について、以下に示す測定及び評価を行った。
　【０２０８】
　（１）有機成分の還元電位値（ｍＶ）の測定
　特定有機成分１及び有機成分２〜４の還元電位値（ｍＶ）は、「電気化学測定法」（１９８４年，藤嶋昭ら著）ｐｐ．１５０−１６７に記載のサイクリックボルタメトリー測定を参照して測定した。測定値を表４に示す。
　【０２０９】
　（２）有機成分のｐＫｓｐ値測定
　特定有機成分１及び有機成分２〜４の銀イオンとの溶解度積Ｋｓｐは、「坂口喜堅・菊池真一，日本写真学会誌，１３，１２６，（１９５１）」と「ａ．ｐａｉｌｌｉｏｆｅｔ　ａｎｄ　ｊ．ｐｏｕｒａｄｉｅｒ，ｂｕｌｌ．ｓｏｃ．ｃｈｉｍ．ｆｒａｎｃｅ，１９８２，ｉ−４４５（１９８２）」を参照して測定した。なお、ｐＫｓｐ＝−ｌｏｇ１０Ｋｓｐである。測定値を表４に示す。
　【０２１０】
　（３）酸化耐性（耐オゾン性）評価
　塗布膜Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ２０
Ｃ４、Ｃ６
　【０２１１】
（評価方法）
　３ｍｍ厚の青板ガラスに、実施例及び比較例にて形成した各塗布膜を、透明基材が青板ガラス側となるようにして粘着フィルム（ＰＤ−Ｓ１：パナック（株）製）を介して貼り合わせたサンプルを２セット作製した。
　そのうちの１セットの各サンプルの塗布膜について、下記の表面反射率の測定方法により平均反射率（曝露試験前）を算出した。なお、ここでは、青板ガラスの塗布膜の貼付面と反対の面に黒インキを塗って反射率を測定した。
　【０２１２】
−表面反射率の測定方法−
　実施例及び比較例の各塗布膜について、塗布膜の貼付面とは逆の面（透明基材の裏面）に黒インキ（シャチハタ製　Ａｒｔｌｉｎｅ＿ＫＲ−２０＿ｂｌａｃｋ）を塗り、裏面の可視光領域の反射を除き、紫外可視近赤外分光計（Ｖ５６０、日本分光（株）製）を用い、塗布膜側から光を入射角５°で入射した際の正反射測定を実施した。
　【０２１３】
　他方の１セットの各サンプルを、腐食試験機ＧＳ−ＦＤ（スガ試験機（株）製）において、４０℃８０％ＲＨ、オゾン濃度１０ｐｐｍの環境下に１２０時間曝露した。
　この曝露後の各サンプルの反射防止フィルムについて、上記と同様にして表面反射率の測定を行って平均反射率（曝露試験後）を算出した。
　上記のようにして得た曝露試験前の平均反射率と曝露試験後の平均反射率との差を求め、下記の基準で評価した。結果は表４に示す。
　【０２１４】
（評価基準）
　Ａ：差が０．２％以下
　Ｂ：差が０．２％超０．４％以下
　Ｃ：差が０．４％超０．６％以下
　Ｄ：差が０．６％超１．０％以下
　Ｅ：差が２．０％超
　【０２１５】
　（４）ヘイズ値（％）の測定
　塗布膜Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ２０
Ｃ４、Ｃ６
　なお、反射防止光学部材用途においては、ヘイズ値（％）が０．１％〜３％であることが好ましい。
　【０２１６】
　（５）面配向（°）の測定
　面配向（°）は、既述の方法により測定した。測定方法は以下の通りである。結果は表４に示す。
　なお、本開示の反射防止光学部材が構成される場合においては、特定平板状粒子の主平面は、塗布膜（金属微粒子含有層）の表面に対して０°〜３０°の範囲で面配向される。
　【０２１７】
（測定条件）
　各実施例及び比較例の塗布膜について、集束イオンビーム（ＦＥＩ社製Ｎｏｖａ２００型ＦＩＢ−ＳＥＭ複合機）を用いて断面切片サンプルを作製した。
　得られた各断面切片サンプルについて、日立ハイテクノロジー社製ＨＤ２３００型ＳＴＥＭ装置を用いて観察して画像を得た。
　得られた画像を用いて、透明基材と塗布膜との境界から０°を決め、計３０個の粒子の面配向角度を算術平均することで面配向（°）の値を得た。
　【０２１８】
　【表４】
　【０２１９】
　表４に示す特定有機成分１及び有機成分２〜４の詳細を、下記表５に示す。
　【０２２０】
　【表５】
　【０２２１】
　表４に示すように、実施例で作製した塗布膜Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ２０
　また、実施例の分散液を作製した製造方法によれば、特定平板状子を高濃度で含む分散液を高い生産性で製造できることが分かる。
　また、実施例で作製した塗布膜Ｂ１〜
Ｂ６、Ｂ１２〜Ｂ２０
　【０２２２】
　［３−１］　反射防止フィルム（反射防止光学部材）の作製
［実施例３９］
　実施例２１で作製した塗布液Ｂ３を用いて、以下のとおり反射防止フィルム（反射防止光学部材）を作製した。本実施例で作製した反射防止フィルムは、透明基材／ハードコート層／高屈折率層／金属微粒子含有層（特定平版状粒子を含有する層）／低屈折率層（本開示における誘電体層）からなる構成を有する。
　なお、以下に示す反射防止光学部材の作製に用いた、ハードコート層用塗布液、高屈折率層用塗布液、及び低屈折層用塗布液の各塗布液の詳細は、反射防止光学部材の作製の説明の後に示す。
　【０２２３】
　１．反射防止フィルムの作製
　透明基材である易接着層付ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（Ｕ４０３、膜厚７５μｍ、東レ（株）製）の一面上に、下記のハードコート層用塗布液を、ワイヤーバーを用いて、乾燥後の平均厚みが４μｍになるように塗布し、１６５℃で２分間加熱乾燥、固化して、ハードコート層を形成した。
　【０２２４】
　ハードコート層を形成した上に、下記の高屈折率層用塗布液を、ワイヤーバーを用いて、乾燥後の平均厚みが２３ｎｍになるように塗布し、１３５℃で２分間加熱乾燥、固化して、高屈折率層を形成した。
　【０２２５】
　高屈折率層を形成した上に、実施例
２１
　【０２２６】
　形成した金属微粒子含有層の上に、下記の低屈折率層用塗布液を、ワイヤーバーを用いて、乾燥後の平均厚みが７０ｎｍになるように塗布し、６０℃で１分間加熱乾燥し、酸素濃度０．１％以下となるように窒素パージしながら、メタルハライド（Ｍ０４−Ｌ４１）ＵＶランプ（アイグラフィックス製）を用いて、照射量２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布膜を硬化させ、低屈折率層（誘電体層）を形成した。
　【０２２７】
　以上の工程により、透明基材／ハードコート層／高屈折率層／金属微粒子含有層／低屈折層（誘電体層）からなる構成を有する反射防止フィルムを得た。
　【０２２８】
　２．ハードコート層用塗布液、高屈折率層用の塗布液、及び低屈折率層用塗布液の調製
　（１）ハードコート層用塗布液の調製
　下記表６に示す組成Ａを混合して、ハードコート層形成用塗布液を調製した。
　【表６】
　【０２２９】
　（２）高屈折率層用塗布液の調製
　下記表７に示す組成Ｂを混合して、高屈折率層用塗布液を調製した。
　【表７】
　【０２３０】
　（３）低屈折率層用塗布液の調製
　下記表８に示す組成Ｃを混合して、低屈折率層用塗布液を調製した。
　【表８】
　【化１】
　【０２３１】
　［３−１］　測定及び評価（ＩＩＩ）
　（１）ヘイズ値（％）の測定
　上記にて形成した金属微粒子含有層のヘイズ値を、ヘイズメーター（ＮＤＨ−５０００、日本電色工業株式会社製）を用いて測定したところ、０．６％であった。
　このヘイズ値は、反射防止フィルムが備える金属微粒子層として好適なヘイズ値（０．１％〜３％）の範囲内である。
　【０２３２】
　（２）表面反射率の測定及び評価
　上記にて得られた反射防止フィルムの表面反射率を、下の評価方法及び評価基準により評価した。結果は、評価レベルＡ（０．５％未満）であり、本実施例の反射防止フィルムは、優れた反射防止能を有することが確認された。
　【０２３３】
（評価方法）
　反射防止フィルムの低屈折率層とは逆の面（透明基材の裏面）に黒インキ（シャチハタ製　Ａｒｔｌｉｎｅ＿ＫＲ−２０＿ｂｌａｃｋ）を塗り、裏面の可視光領域の反射を除き、紫外可視近赤外分光計（Ｖ５６０、日本分光製）を用い、低屈折率層側から光を入射角５°で入射した際の正反射測定を実施した。波長４５０ｎｍから６５０ｎｍにおける反射率を測定して平均値（以下において「平均反射率」という。）を算出し、以下の基準で評価した。
　【０２３４】
（評価基準）
　Ａ：０．５％未満
　Ｂ：０．５％以上、１．０％未満
　Ｃ：１．０％以上、２．０％未満
　Ｄ：２．０％以上
　【０２３５】
　（３）酸化耐性（耐オゾン性）評価
　上記にて得られた反射防止フィルムの酸化耐性（耐オゾン性）について、既述の「［２−２］　測定及び評価（ＩＩ）　（３）酸化耐性（耐オゾン性）評価」と同様にして評価した。結果は、評価レベルＡ（差が０．２％以下）であり、本実施例の反射防止フィルムは、優れた酸化耐性を有することが確認された。
　【符号の説明】
　【０２３６】
Ｄ　　　粒子の主平面の円相当径
ａ　　　粒子の厚み
１　　　反射防止光学部材
１０　　透明基材
１２　　金属微粒子含有層
１４　　誘電体層
１４ａ　誘電体層の厚み
ｄ　　　金属微粒子含有層の厚み
２０　　金被覆銀平板状粒子
２４　　粒子の部分的な連結状態
２６　　導電路
２８　　バインダ
θ　　　金属微粒子含有層と金被覆銀平板状粒子の主平面とがなす角度
ｆ　　　８０個数％以上の金被覆銀平板状粒子が含まれる範囲
１００　金被覆銀平板状粒子
１０１　銀平板状粒子
１０２　金被覆層
　【０２３７】
　２０１７年３月３１日に出願された日本国特許出願２０１７−０７１８４９の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
　本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　銀平板状粒子と金被覆層とを有し、粒子の主平面における金被覆層の平均厚みが
０．４
０．２以上１．４以下
　【請求項２】
　主平面における金被覆層の平均厚みが０．７ｎｍ以上１．５ｎｍ以下であり、かつ粒子の端面における金被覆層の平均厚みに対する粒子の主平面における金被覆層の平均厚みの比が
０．２以上１．４以下
　【請求項３】
　アスペクト比が、２〜８０である請求項１又は請求項２に記載の金被覆銀平板状粒子。
　【請求項４】
　請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の金被覆銀平板状粒子と分散媒体とを含む金被覆銀平板状粒子分散液。
　【請求項５】
　銀濃度が２ｍｍｏｌ／Ｌ以上である請求項４に記載の金被覆銀平板状粒子分散液。
　【請求項６】
　更に、銀イオンとの溶解度積ｐＫｓｐが１４以上であり、かつ還元電位が７００ｍＶ未満である有機成分を含む請求項４又は請求項５に記載の金被覆銀平板状粒子分散液。
　【請求項７】
　銀平板状粒子製造工程と金被覆処理工程とを有し、請求項４〜請求項６のいずれか１項に記載の金被覆銀平板状粒子分散液を得る製造方法であり、
　銀平板状粒子製造工程は、水、銀塩、分散剤及び還元剤を含む混合液を作製する工程と、混合液を作製する工程で得た混合液中に、固体状態の他の銀塩を混在させる工程と、を含み、銀平板状粒子分散液を得る工程であり、かつ、
　金被覆処理工程は、水、金塩、及び金イオンとの形成錯体の還元電位が０．５Ｖ以下となる錯化剤を含む金被覆処理液と、銀平板状粒子製造工程で得た銀平板状粒子分散液と、を混合して、金被覆銀平板状粒子分散液を得る工程である、
　金被覆銀平板状粒子分散液の製造方法。
　【請求項８】
　金被覆処理工程の前において、銀平板状粒子製造工程により得た銀平板状粒子分散液に、銀平板状粒子の端面吸着剤を添加する、請求項７に記載の金被覆銀平板状粒子分散液の製造方法。
　【請求項９】
　金被覆処理工程において、金塩の添加量に対する金イオンとの形成錯体の還元電位が０．５Ｖ以下となる錯化剤の添加量は、ｍｏｌ比率で、２．５以上１０以下の範囲となる量である、請求項７又は請求項８に記載の金被覆銀平板状粒子分散液の製造方法。
　【請求項１０】
　金被覆処理工程の後に、金被覆銀平板状粒子分散液に、銀イオンとの溶解度積ｐＫｓｐが１４以上であり、かつ還元電位が７００ｍＶ未満である有機成分を添加する、請求項７〜請求項９のいずれか１項に記載の金被覆銀平板状粒子分散液の製造方法。
　【請求項１１】
　請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の金被覆銀平板状粒子を含む塗布膜。
　【請求項１２】
　更に、銀イオンとの溶解度積ｐＫｓｐが１４以上であり、かつ還元電位が７００ｍＶ未満である有機成分を含む、請求項１１に記載の塗布膜。
　【請求項１３】
　可視光の入射光の反射を防止する反射防止光学部材であり、透明基材と、請求項１１又は請求項１２に記載の塗布膜である金属微粒子含有層と、誘電体層とをこの順に積層してなる積層構造を有し、金被覆銀平板状粒子の主平面が、金属微粒子含有層の表面に対して０°〜３０°の範囲で面配向し、金属微粒子含有層中において、複数の金被覆銀平板状粒子は導電路を形成することなく配置され、誘電体層の厚みが、入射光が誘電体層の表面側から積層構造へ入射する場合の誘電体層の表面における反射光を、誘電体層と金属微粒子含有層との界面における反射光と干渉させて打ち消すことができる厚みである、反射防止光学部材。