【事件の表示】
　特許第６４７６３４７号発明「反射防止フィルム」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６４７６３４７号の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１〜１８〕について訂正することを認める。
　特許第６４７６３４７号の請求項１ないし３、６ないし１０、１５ないし１８に係る特許を維持する。
　特許第６４７６３４７号の請求項４、５、１１ないし１４に係る特許についての特許異議の申立てを却下する。
【理　由】
第１ 手続等の経緯
　特許第６４７６３４７号（以下「本件特許」という。）の請求項１〜１８に係る特許についての出願は、２０１７年（平成２９年）３月９日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２０１６年３月９日、韓国、同２０１６年３月１１日、韓国、同２０１６年３月１４日、韓国、同２０１７年３月９日、韓国）を国際出願日とする出願であって、平成３１年２月８日にその特許権の設定登録がされ、平成３１年２月２７日に特許掲載公報が発行された。
　本件特許について、特許掲載公報の発行の日から６月以内である令和元年８月２７日に特許異議申立人　高石恵子（以下「特許異議申立人」という。）から全請求項に対して特許異議の申立てがされた。その後の手続等の経緯の概要は、以下のとおりである。
　
　令和元年１１月１９日付け：取消理由通知書
　令和２年　２月１９日付け：意見書（特許権者）
　令和２年　２月１９日付け：訂正請求書
　令和２年　４月２８日付け：意見書（特許異議申立人）
　令和２年　６月　９日付け：上申書（特許権者）
　令和２年　８月　７日付け：取消理由通知書（決定の予告）
　令和２年１１月２４日付け：上申書（特許権者）
　令和２年１２月２４日付け：意見書（特許権者）
　令和２年１２月２４日付け：訂正請求書（この訂正請求書による訂正の
                            請求を、以下「本件訂正請求」という。）
　令和３年　１月２８日付け：訂正拒絶理由通知書
　令和３年　３月２２日付け：意見書（特許権者）
　令和３年　３月２２日付け：手続補正書
　令和３年　５月１７日付け：意見書（特許異議申立人）
　
　なお、令和２年２月１９日付け訂正請求書による訂正の請求は、特許法１２０条の５第７項の規定により、取り下げられたものとみなす。
　
　
第２　本件訂正請求について
１　訂正の趣旨及び訂正の内容
（１）訂正の趣旨
　本件訂正請求の趣旨は、特許第６４７６３４７号の特許請求の範囲を、本訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲（令和３年３月２２日付け手続補正書による手続補正後のもの。以下同様。）のとおり、訂正後の請求項１〜１８について訂正することを求める、というものである。
　
（２）訂正の内容
　本件訂正請求において特許権者が求める訂正の内容は、以下のとおりである。なお、令和２年１２月２４日付け訂正請求書は、令和３年３月２２日付け手続補正書により補正されている。また、下線は当合議体が付したものであり、訂正箇所を示す。
　
　ア　訂正事項１
　特許請求の範囲の請求項１に「Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８〜０．１２５６ｎｍ−１の散乱ベクトル（ｑｍａｘ）で１個以上のピークを示す、反射防止フィルムであって、前記反射防止フィルムは、ハードコート層；およびバインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子を含む低屈折層；を含み」及び「反射防止フィルム。」と記載されているのを、それぞれ、「
ハ
む反射防止フィルムであって
Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８〜０．１２５６ｎｍ−１の散乱ベクトルで１つのピーク（ｑｍａｘ）を示し、及び、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光線波長帯領域で０．７％以下の平均反射率を示す、
　
　イ　訂正事項２
　特許請求の範囲の請求項１に「形成される」と記載されているのを、「形成され
ており、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面近くにソリッド状無機ナノ粒子が中空状無機ナノ粒子より多く分布しており
　
　ウ　訂正事項３
　特許請求の範囲の請求項１において、前記訂正事項２の記載の後に続けて、「
前記ソリッド状無機ナノ粒子が、前記中空状無機ナノ粒子に比べて０．５０ｇ／ｃｍ３以上高い密度を有し、前記中空状無機ナノ粒子の密度が１．５０ｇ／ｃｍ３〜３．５０ｇ／ｃｍ３であり、
　
　エ　訂正事項４
　特許請求の範囲の請求項１において、前記訂正事項３の記載の後に続けて、「
前記ソリッド状無機ナノ粒子が、１〜３０ｎｍの直径を有し、前記中空状無機ナノ粒子が、１０〜１００ｎｍの直径を有し、前記中空状無機ナノ粒子の直径は、前記ソリッド状無機ナノ粒子の直径よりも大きく、
　
　オ　訂正事項５
　特許請求の範囲の請求項１において、前記訂正事項４の記載の後に続けて、「
前記ソリッド状無機ナノ粒子および前記中空状無機ナノ粒子それぞれは、表面に（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）、およびチオール基（Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選択された１種以上の反応性官能基を含有し、
　
　カ　訂正事項６
　特許請求の範囲の請求項１において、前記訂正事項５の記載の後に続けて、「
前記バインダー樹脂が、光重合性化合物の（共）重合体および光反応性官能基を含む含フッ素化合物の間の架橋（共）重合体を含んでなり、前記光重合性化合物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサエチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、及びこれらの２種以上の混合物；またはウレタン変性アクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、エーテルアクリレートオリゴマー、デンドリティックアクリレートオリゴマー、及びこれらの２種以上の混合物よりなる群から選択され、
　
　キ　訂正事項７
　特許請求の範囲の請求項１において、前記訂正事項６の記載の後に続けて、「
前記低屈折層は、前記光重合性化合物１００重量部対比、前記中空状無機ナノ粒子１０〜４００重量部および前記ソリッド状無機ナノ粒子６３〜４００重量部を含み、
　
　ク　訂正事項８
　特許請求の範囲の請求項４を削除する。
　
　ケ　訂正事項９
　特許請求の範囲の請求項５を削除する。
　
　コ　訂正事項１０
　特許請求の範囲の請求項１１を削除する。
　
　サ　訂正事項１１
　特許請求の範囲の請求項１２を削除する。
　
　シ　訂正事項１２
　特許請求の範囲の請求項１３を削除する。
　
　ス　訂正事項１３
　特許請求の範囲の請求項１４を削除する。
　
　セ　訂正事項１４
　特許請求の範囲の請求項１５に「請求項１３」と記載されているのを、「請求項１」に訂正する。
　
　ソ　訂正事項１５
　特許請求の範囲の請求項１６に「請求項１３」と記載されているのを、「請求項１」に訂正する。
　
（３）本件訂正請求は、一群の請求項〔１〜１８〕に対して請求されたものである。
　
２　訂正の適否
（１）訂正事項１について
　訂正事項１による訂正は、[A]特許請求の範囲の請求項１冒頭の「Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８〜０．１２５６ｎｍ−１の散乱ベクトル（ｑｍａｘ）で１個以上のピークを示す」を、末尾の「反射防止フィルム。」の前に移動させて記載を明瞭にし、[B]本件特許の願書に添付した明細書の【０１７７】の記載に基づいて、 特許請求の範囲の請求項１に記載された「（ｑｍａｘ）」を「ピーク」の後に移動させて意味を明瞭にし、[C] 本件特許の願書に添付した【図１０】〜【図１５】の記載に基づいて、特許請求の範囲の請求項１に記載された「１個以上のピーク」を、「１つのピーク」と限定する、訂正である。
　したがって、訂正事項１による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とする訂正（[A]及び[B]）及び特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正（[C]）に該当する。
　また、訂正事項１による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　請求項２〜１８についてみても、同様である。
　
（２）訂正事項２について
　訂正事項２による訂正は、本件特許の願書に添付した明細書の【００３２】及び特許請求の範囲の【請求項５】の記載に基づいて、特許請求の範囲の請求項１に記載された「ハードコート層」及び「低屈折層」の間の「界面」近くに「ソリッド状無機ナノ粒子」が「中空状無機ナノ粒子」よりも多く分布すると限定する、訂正である。
　したがって、訂正事項２による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項２による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　請求項２〜１８についてみても、同様である。
　
（３）訂正事項３について
　訂正事項３による訂正は、本件特許の願書に添付した明細書の【０１２４】及び【０１２５】並びに特許請求の範囲の【請求項１１】の記載に基づいて、特許請求の範囲の請求項１に記載された「ソリッド状無機ナノ粒子」の密度及び「中空状無機ナノ粒子」の密度を限定する、訂正である。
　したがって、訂正事項３による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項３による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　請求項２〜１８についてみても、同様である。
　
（４）訂正事項４について
　訂正事項４による訂正は、本件特許の願書に添付した明細書の【００６１】〜【００６４】及び【０１５２】〜【０１６０】の記載に基づいて、特許請求の範囲の請求項１に記載された「ソリッド状無機ナノ粒子」の直径及び「中空状無機ナノ粒子」の直径を限定する、訂正である。
　したがって、訂正事項４による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項４による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　請求項２〜１８についてみても、同様である。
　
（５）訂正事項５について
　訂正事項５による訂正は、本件特許の願書に添付した明細書の【００６６】及び特許請求の範囲の【請求項１２】の記載に基づいて、特許請求の範囲の請求項１に記載された「ソリッド状無機ナノ粒子」及び「中空状無機ナノ粒子」それぞれが、表面に１種以上の反応性官能基を含有すると限定する、訂正である。
　したがって、訂正事項５による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項５による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　請求項２〜１８についてみても、同様である。
　
（６）訂正事項６について
　訂正事項６による訂正は、本件特許の願書に添付した明細書の【００６７】〜【００７３】及び【０１５２】〜【０１６０】の記載に基づいて、特許請求の範囲の請求項１に記載された「低屈折層」に含まれる「バインダー樹脂」の構成を具体的に限定する、訂正である。
　したがって、訂正事項６による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項６による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　請求項２〜１８についてみても、同様である。
　
（７）訂正事項７について
　訂正事項７による訂正は、本件特許の願書に添付した明細書の【００９５】〜【００９６】及び【０１５２】並びに特許請求の範囲の【請求項１４】の記載に基づいて、特許請求の範囲の請求項１に記載された「低屈折層」に含まれる「中空状無機ナノ粒子」の含有量及び「ソリッド状無機ナノ粒子」の含有量を限定する、訂正である。
　したがって、訂正事項７による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項７による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　請求項２〜１８についてみても、同様である。
　
（８）訂正事項８について
　訂正事項８による訂正は、特許請求の範囲の請求項４を削除する訂正である。
　したがって、訂正事項８による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項８による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
（９）訂正事項９について
　訂正事項９による訂正は、特許請求の範囲の請求項５を削除する訂正である。
　したがって、訂正事項９による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項９による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
（１０）訂正事項１０について
　訂正事項１０による訂正は、特許請求の範囲の請求項１１を削除する訂正である。
　したがって、訂正事項１０による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項１０による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
（１１）訂正事項１１について
　訂正事項１１による訂正は、特許請求の範囲の請求項１２を削除する訂正である。
　したがって、訂正事項１１による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項１１による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
（１２）訂正事項１２について
　訂正事項１２による訂正は、特許請求の範囲の請求項１３を削除する訂正である。
　したがって、訂正事項１２による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項１２による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
（１３）訂正事項１３について
　訂正事項１３による訂正は、特許請求の範囲の請求項１４を削除する訂正である。
　したがって、訂正事項１３による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項１３よる訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
（１４）訂正事項１４について
　訂正事項１４による訂正は、訂正事項１２による訂正で特許請求の範囲の請求項１３を削除することに伴って、これと整合するように請求項１５の記載を改める訂正である。
　したがって、訂正事項１４による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項１４による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
（１５）訂正事項１５について
　訂正事項１５による訂正は、訂正事項１２による訂正で特許請求の範囲の請求項１３を削除することに伴って、これと整合するように請求項１６の記載を改める訂正である。
　したがって、訂正事項１５による訂正は、特許法１２０条の５第２項ただし書３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とする訂正に該当する。
　また、訂正事項１５による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
（１６）小括
　以上のとおりであるから、本件訂正請求による訂正（訂正事項１〜１５による訂正）は、特許法１２０条の５第２項ただし書、同法同条９項において準用する同法１２６条５項及び６項の規定に適合する。
　よって、本件特許の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１〜１８〕について訂正することを認める。
　
　
第３　本件特許発明
　前記「第２」のとおり、本件訂正請求による訂正は認められた。
　したがって、本件特許の請求項１〜３、６〜１０及び１５〜１８に係る発明（以下、それぞれ、「本件特許発明１」〜「本件特許発明３」、「本件特許発明６」〜「本件特許発明１０」及び「本件特許発明１５」〜「本件特許発明１８」という。）は、本件訂正請求による訂正後の特許請求の範囲の請求項１〜３、６〜１０及び１５〜１８に記載された事項により特定される、次のとおりのものである。
　
「【請求項１】
　ハードコート層；およびバインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子を含む低屈折層；を含む反射防止フィルムであって、
　前記低屈折層は、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第１層と、前記中空状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第２層とを含み、
　前記ハードコート層と前記低屈折層との界面に前記第１層の一面が接し、
　前記第１層の他の一面上に前記第２層が形成されており、
　前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面近くにソリッド状無機ナノ粒子が中空状無機ナノ粒子より多く分布しており、
　前記ソリッド状無機ナノ粒子が、前記中空状無機ナノ粒子に比べて０．５０ｇ／ｃｍ３以上高い密度を有し、前記中空状無機ナノ粒子の密度が１．５０ｇ／ｃｍ３〜３．５０ｇ／ｃｍ３であり、
　前記ソリッド状無機ナノ粒子が、１〜３０ｎｍの直径を有し、前記中空状無機ナノ粒子が、１０〜１００ｎｍの直径を有し、前記中空状無機ナノ粒子の直径は、前記ソリッド状無機ナノ粒子の直径よりも大きく、
　前記ソリッド状無機ナノ粒子および前記中空状無機ナノ粒子それぞれは、表面に（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）、およびチオール基（Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選択された１種以上の反応性官能基を含有し、
　前記バインダー樹脂が、光重合性化合物の（共）重合体および光反応性官能基を含む含フッ素化合物の間の架橋（共）重合体を含んでなり、前記光重合性化合物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサエチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、及びこれらの２種以上の混合物；またはウレタン変性アクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、エーテルアクリレートオリゴマー、デンドリティックアクリレートオリゴマー、及びこれらの２種以上の混合物よりなる群から選択され、
　前記低屈折層は、前記光重合性化合物１００重量部対比、前記中空状無機ナノ粒子１０〜４００重量部および前記ソリッド状無機ナノ粒子６３〜４００重量部を含み、
　Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８〜０．１２５６ｎｍ−１の散乱ベクトルで１つのピーク（ｑｍａｘ）を示し、及び、
　３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光線波長帯領域で０．７％以下の平均反射率を示す、反射防止フィルム。
【請求項２】
　前記Ｘ線照射による小角散乱は、１ｃｍ×１ｃｍ（横×縦）の大きさの反射防止フィルムに対して、０．６３Å〜１．５４Åの波長のＸ線を４ｍの距離から照射して測定する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
　前記散乱ベクトルは、下記一般式１で定義される、請求項１に記載の反射防止フィルム：
［一般式１］
　ｑ＝４π　ｓｉｎθ／λ
　前記一般式１において、ｑは、散乱ベクトルであり、θは、散乱角度の１／２値であり、λは、照射されたＸ線の波長である。」
「【請求項６】
　前記中空状無機ナノ粒子全体中の３０体積％以上が、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体より、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面から前記低屈折層の厚さ方向により遠い距離に存在する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
　前記ハードコート層と前記低屈折層との界面から前記低屈折層全体厚さの３０％以内に前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が存在する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
　前記ハードコート層と前記低屈折層との界面から前記低屈折層全体厚さの３０％超過の領域に前記中空状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が存在する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
　前記低屈折層は、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第１層と、前記中空状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第２層とを含み、
　前記第１層が、第２層に比べて、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面により近く位置する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項１０】
　前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第１層は、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面から前記低屈折層全体厚さの５０％以内に位置する、請求項１に記載の反射防止フィルム。」
「【請求項１５】
　前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物はそれぞれ、２，０００〜２００，０００の重量平均分子量を有する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項１６】
　前記バインダー樹脂は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部に対して、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物を２０〜３００重量部含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項１７】
　前記ハードコート層は、光硬化性樹脂を含むバインダー樹脂および前記バインダー樹脂に分散した有機または無機微粒子；を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項１８】
　前記有機微粒子は、１〜１０μｍの粒径を有し、
　前記無機微粒子は、１ｎｍ〜５００ｎｍの粒径を有する、請求項１７に記載の反射防止フィルム。」
第４　取消しの理由の概要
　令和２年８月７日付け取消理由通知書により特許権者に通知した取消しの理由は、概略、次のとおりのものである。
　
１　進歩性
（１）本件特許の特許請求の範囲の請求項１〜１６及び１８に係る発明は、いずれも、その最先の優先権主張の日（以下「本件優先日」という）前に日本国内又は外国において電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明である、国際公開第２０１２／１４７５２７号（甲第２号証）に記載された発明及び周知技術に基づいて、本件優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１〜１６及び１８に係る特許は、特許法２９条の規定に違反してされたものである。
（２）本件特許の特許請求の範囲の請求項１〜１６及び１８に係る発明は、本件優先日前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である特開２０１３−１３０８６５号公報（甲第１３号証）に記載された発明及び周知技術に基づいて、本件優先日前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１〜１６及び１８に係る特許は、特許法２９条の規定に違反してされたものである。
　
２　委任省令要件・実施可能要件
　請求項１〜１６及び１８に係る特許は、発明の詳細な説明の記載が特許法３６条４項１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。
３　明確性要件
　請求項１〜１６及び１８に係る特許は、特許請求の範囲の記載が特許法３６条６項２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。
第５　当合議体の判断
１　進歩性（１）について
（１）引用文献の記載・引用発明
　ア　甲第２号証の記載
　取消しの理由で引用された甲第２号証（国際公開第２０１２／１４７５２７号）には、次の事項が記載されている。なお、下線（［0012］の「低屈折率層」の下線、［0050］の「ハードコート層」の下線を除く。）は当合議体が付した。
　
　（ア）「技術分野
［0001］本発明は、反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置に関する。
・・・（中略）・・・
発明が解決しようとする課題
［0007］本発明は、上記現状に鑑みて、充分な防汚性能と表面硬度と均一な表面とを有するとともに、低屈折率層の屈折率が充分に低い低屈折率層を備え、優れた反射防止性能を有する反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いてなる偏光板及び画像表示装置を提供することを目的とするものである。」
　
　（イ）「課題を解決するための手段
［0008］本発明は、光透過性基材の上にハードコート層が形成され、上記ハードコート層の上に低屈折率層が形成された反射防止フィルムであって、上記低屈折率層は、（メタ）アクリル樹脂、中空状シリカ微粒子、反応性シリカ微粒子及び防汚剤を含有し、かつ、上記低屈折率層中の反応性シリカ微粒子は、上記ハードコート層側の界面近傍及び／又は前記ハードコート層と反対側の界面近傍に偏在していることを特徴とする反射防止フィルムである。
・・・（中略）・・・
以下に、本発明を詳細に説明する。
［0011］本発明は、光透過性基材の上にハードコート層が形成され、上記ハードコート層の上に低屈折率層が形成された反射防止フィルムである。
本発明者らは、上記構成の反射防止フィルムについて鋭意検討した結果、ハードコート層に反応性シリカ微粒子を含有させ、更に、低屈折率層に反応性シリカ微粒子と中空状シリカ微粒子とを含有させることで、上記低屈折率層中の反応性シリカ微粒子がハードコート層と反対側界面近傍に偏在し、また、低屈折率層中の中空状シリカ微粒子が密に充填された状態となり、所望の効果を発揮することを見出し、本発明を完成するに至った。
以下、本発明の反射防止フィルムを構成する各層について詳細に説明する。
［0012］
低屈折率層
上記低屈折率層とは、本発明の反射防止フィルムを構成する光透過性基材やハードコート層等、低屈折率層以外の構成物の屈折率よりも低い屈折率であるものをいう。
本発明の反射防止フィルムにおいて、上記低屈折率層は、（メタ）アクリル樹脂、中空状シリカ微粒子、反応性シリカ微粒子及び防汚剤を含有するものである。
［0013］上記中空状シリカ微粒子は、低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げる役割を果たすものである。なお、本明細書において、「中空状シリカ微粒子」とは、内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体であり、シリカ微粒子本来の屈折率に比べて気体の占有率に比例して屈折率が低下するシリカ微粒子を意味する。
また、本発明においては、シリカ微粒子の形態、構造、凝集状態、上記低屈折率層を形成する際に用いられる後述する低屈折率層用組成物を用いて形成した塗膜の内部での分散状態により、内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能なシリカ微粒子も含まれる。
［0014］本発明の反射防止フィルムにおいて、上記中空状シリカ微粒子は、上記低屈折率層中で密に充填された状態で含有されている。このため、上記低屈折率層の表面の均一性が優れたものとなり、本発明の反射防止フィルムは、表面硬度に優れたものとなる。
なお、上記「密に充填された状態」とは、隣接する中空状シリカ微粒子間に後述する反応性シリカ微粒子が殆ど存在しておらず、最密充填構造に類似の状態を形成していることを意味する。
［0015］上記中空状シリカ微粒子が上記低屈折率層中で密に充填された状態で含有されるのは、後述するように上記低屈折率層に含まれる反応性シリカ微粒子が、低屈折率層のハードコート層側界面近傍又はハードコート層と反対側界面近傍に偏在しているからであると推測される。すなわち、上記低屈折率層は、中空状シリカ微粒子、反応性シリカ微粒子及び（メタ）アクリル樹脂のモノマー成分を含む組成物（以下、低屈折率層用組成物ともいう）を、ハードコート層上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥、硬化させることで形成される。上記塗膜を形成したとき、該塗膜に含まれる反応性シリカ微粒子は、後述するように上記ハードコート層側の界面近傍又はハードコート層の反対側の界面近傍に移動する。このため、形成した塗膜中において、隣接する中空状シリカ微粒子間に反応性シリカ微粒子が殆ど存在していないこととなり、その結果、形成する低屈折率層における中空状シリカ微粒子は、密に充填された状態になるものと推測される。
［0016］上記中空状シリカ微粒子の具体例としては特に限定されず、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましく挙げられる。中空状シリカ微粒子は、製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、有機系バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率が低くなるよう調整することが可能となる。
・・・（中略）・・・
［0018］上記中空状シリカ微粒子の平均粒子径としては、１０〜１００ｎｍであることが好ましい。中空状シリカ微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することができる。より好ましい下限は４０ｎｍ、より好ましい上限は８０ｎｍ、更に好ましい下限は４５ｎｍ、更に好ましい上限は７５ｎｍ、最も好ましい下限は５０ｎｍ、最も好ましい上限は７０ｎｍである。
なお、上記中空状シリカ微粒子の平均粒子径は、該中空状シリカ微粒子単独の場合、動的光散乱法により測定された値を意味する。一方、上記低屈折率層中の中空状シリカ微粒子の平均粒子径は、低屈折率層の断面をＳＴＥＭ等で観察し、任意の中空状シリカ微粒子３０個を選択してその断面の粒子径を測定し、その平均値として算出される値である。
［0019］また、上記中空状シリカ微粒子の空隙率としては、１．５〜８０．０％であることが好ましい。１．５％未満であると、低屈折率層の屈折率を充分に低くできず、本発明の反射防止フィルムの反射防止性能が不充分となることがある。８０．０％を超えると、上記中空状シリカ微粒子の強度が低下して低屈折率層全体の強度が不充分となることがある。上記中空状シリカ微粒子の空隙率は、より好ましい下限が６．４％、より好ましい上限が７６．４％であり、更に好ましい下限が２０．０％、更に好ましい上限が５５．０％である。この範囲の空隙率を有することで、低屈折率層を、充分に低屈折率化させることができるとともに、優れた強度を有するものとすることができる。
なお、上記中空状シリカ微粒子の空隙率は、中空状シリカ微粒子の断面ＳＴＥＭ観察等により、その直径及び空隙部分を除いた外殻部分の厚みを測定し、中空状シリカ微粒子が球体であるとして、中空状シリカ微粒子の空隙部分の体積、及び、空隙部分がないとしたときの中空状シリカ微粒子の体積を算出し、｛（中空状シリカ微粒子の空隙部分の体積）／（空隙部分がないとしたときの中空状シリカ微粒子の体積）｝×１００より算出することができる。
・・・（中略）・・・
［0021］また、
上記中空状シリカ微粒子は、低屈折率層に含まれる後述する（メタ）アクリル樹脂に対する配合比（中空状シリカ微粒子の含有量／（メタ）アクリル樹脂の含有量）が、０．９０〜１．６０であることが好ましい
上記配合比が１．６０を超えると、低屈折率層の表面の均一性が不充分となり、本発明の反射防止フィルムの表面硬度が不充分となることがある。上記配合比のより好ましい下限は１．００、より好ましい上限は１．５０である。この範囲内にあることで、より優れた反射防止性能と表面均一性及び表面硬度とを備えた反射防止フィルムとすることができる。また、低屈折率層の表面均一性が上がることにより、表面硬度（耐擦傷性）が向上する
［0022］本発明の反射防止フィルムにおいて、上記中空状シリカ微粒子は、低屈折率層の厚さ方向に２段に積層された最密充填構造であることが好ましい。このような状態で含有されていることで、本発明の反射防止フィルムの透明性、表面の均一性及び低屈折率性等を極めて優れたものとすることができる。
［0023］上記反応性シリカ微粒子は、低屈折率層の後述するハードコート層側の界面近傍及び／又は後述するハードコート層と反対側の界面近傍に偏在しており、該低屈折率層の屈折率を下げるとともに、その表面硬度を高くする役割を果たすものである。
上記反応性シリカ微粒子が低屈折率層のハードコート層側の界面近傍及び該ハードコート層と反対側の界面近傍に偏在している場合、表面硬度と防汚性とがともに優れたものができる。
また、上記反応性シリカ微粒子が低屈折率層のハードコート層側の界面近傍に偏在している場合、低屈折率層のハードコート層と反対側界面近傍に後述する防汚剤が偏在し、最表面に反応性シリカが存在する場合と比較して防汚剤の最表面での存在量が増えるため、本発明の反射防止フィルムの防汚性能が極めて優れたものとなる。一方、上記反応性シリカ微粒子が低屈折率層のハードコート層と反対側の界面近傍に偏在している場合、該反応性シリカ微粒子の偏在による低屈折率層の表面硬度の更なる向上が得られる。
また、上記低屈折率層中では上述のように中空状シリカ微粒子が密に充填された状態となっているため、低屈折率層の表面均一性が優れたものとなることによる表面硬度の向上も図ることができる。この結果、本発明の反射防止フィルムの耐擦傷性が優れたものとなる。
ここで、上記「ハードコート層側の界面近傍、又は、後述するハードコート層と反対側の界面近傍に偏在している」とは、上記低屈折率層中で、上記反応性シリカ微粒子が密に充填された状態にある上述した中空状シリカ微粒子の下方（ハードコート層側）又は上方（ハードコート層と反対側）に存在していることを意味する。より具体的には、上記低屈折率層の断面において、該低屈折率層の厚さを３等分し、上記ハードコート層側の界面から順に１／３領域、２／３領域、３／３領域としたとき、１／３領域に反応性シリカ微粒子の７０％以上が含まれている場合を、反応性シリカ微粒子がハードコート層側の界面近傍に偏在していると判断し、上記３／３領域に反応性シリカ微粒子の７０％以上が含まれている場合を、反応性シリカ微粒子がハードコート層と反対側の界面近傍に偏在していると判断する。そして、上記１／３領域と３／３領域とに上記反応性シリカ微粒子の合計７０％以上が偏在しており、かつ、１／３領域、３／３領域のそれぞれ偏在している反応性シリカ微粒子の量が、２／３領域に含まれる反応性シリカ微粒子の量よりも多い場合、上記反応性シリカ微粒子が低屈折率層のハードコート層側の界面近傍及び該ハードコート層と反対側の界面近傍に偏在していると判断する。
なお、このような反応性シリカ微粒子が偏在している状態は、本発明の反射防止フィルムを厚さ方向に切断した際の低屈折率層の断面顕微鏡観察（ＳＴＥＭ、ＴＥＭ）により容易に判別することができる。
［0024］上記反応性シリカ微粒子が上記低屈折率層中でハードコート層側界面近傍及び／又はハードコート層と反対側界面近傍に偏在している理由は明確ではない。しかしながら、例えば、後述するハードコート層が反応性シリカ微粒子を含有する場合、該ハードコート層中の反応性シリカ微粒子の添加量を調整することで、上記低屈折率層中の反応性シリカ微粒子の偏在を制御することが可能である。
すなわち、上記ハードコート層が反応性シリカ微粒子を含有しない場合、該ハードコート層上に低屈折率層を形成すると、低屈折率層の反応性シリカ微粒子をハードコート層側界面近傍に偏在させることができる。一方、上記ハードコート層が反応性シリカ微粒子を、ハードコート層を構成する樹脂成分１００質量部に対して２５質量部を超え、６０質量部以下の範囲で含有する場合、該ハードコート層上に低屈折率層を形成すると、低屈折率層の反応性シリカ微粒子をハードコート層と反対側界面近傍に偏在させることができる。更に、上記ハードコート層が反応性シリカ微粒子を、ハードコート層を構成する樹脂成分１００質量部に対して、１５〜２５質量部の範囲で含有する場合、上記低屈折率層の反応性シリカ微粒子を上記低屈折率層のハードコート層側界面近傍及びハードコート層と反対側界面近傍に偏在させることができる。
［0025］上記反応性シリカ微粒子としては、市販品を用いることもでき、例えば、ＭＩＢＫ−ＳＤＬ、ＭＩＢＫ−ＳＤＭＳ、ＭＩＢＫ−ＳＤ（以上、いずれも日産化学工業社製）、ＤＰ１０２１ＳＩＶ、ＤＰ１０３９ＳＩＶ、ＤＰ１１１７ＳＩＶ（以上、いずれも日揮触媒化成社製）等が挙げられる。
［0026］上記反応性シリカ微粒子の平均粒子径としては、１〜２５ｎｍであることが好ましい。１ｎｍ未満であると、凝集しやすく、充填度が低くなって得られる低屈折率層に充分な強度が得られないことがある。一方、２５ｎｍを超えると、低屈折率層に表面凹凸が形成され、充分な強度が得られないことがある。また、反射率の上昇を引き起こし、後述する防汚剤を含有することによる充分な防汚性を発現しにくくなる。
上記反応性シリカ微粒子の平均粒子径のより好ましい下限は５ｎｍ、より好ましい上限は２０ｎｍである。この範囲にあることで、本発明の反射防止フィルムの低反射率・高硬度を維持できる。
なお、本明細書において、上記反応性シリカ微粒子の平均粒子径は、ＢＥＴ法やＳＴＥＭなどの断面観察（３０個の平均値）により測定した値を意味する。
［0027］
上記低屈折率層における上記反応性シリカ微粒子の含有量としては、後述する（メタ）アクリル樹脂１００質量部に対して、５〜６０質量部であることが好ましい
６０質量部を超えると、上述した低屈折率層中で偏在した状態にない反応性シリカ微粒子量が増え、中空状シリカ微粒子が上述した密に充填された状態とならず、その結果、低屈折率層の表面の均一性が劣ることがあり、反射率の上昇を引き起こす可能性もある。上記反応性シリカ微粒子の含有量のより好ましい下限は１０質量部、より好ましい上限は５０質量部である。この範囲で反応性シリカ微粒子が含有されていることで、本発明の反射防止フィルムの表面硬度を極めて優れたものとすることができる
［0028］上記（メタ）アクリル樹脂は、上記低屈折率層において、上述した中空状シリカ微粒子や反応性シリカ微粒子のバインダー成分として機能するものである。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル」とは、アクリル又はメタクリルを意味する。
上記（メタ）アクリル樹脂としては、（メタ）アクリルモノマーの重合体又は共重合体が挙げられ、上記（メタ）アクリルモノマーとしては特に限定されないが、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート等が好適に挙げられる。
・・・（中略）・・・
［0043］上記低屈折率層用組成物は、溶剤を含有することが好ましい。
上記溶剤としては、なかでも、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）との混合溶剤であることが好ましい。このような混合溶剤を用いることで、含有する溶剤の乾燥時間が異なるため、上述した構造の低屈折率層を好適に形成することができる。
上記混合溶剤におけるＭＩＢＫと、ＰＧＭＥ又はＰＧＭＥＡとの混合比としては、好ましくは質量比で（ＭＩＢＫ／ＰＧＭＥ又はＰＧＭＥＡ）＝（９５／５）〜（３０／７０）である。上記範囲の混合比を満たすことで、特に好適に上述した構造の低屈折率層を形成することが可能となる。より好ましくは（８０／２０）〜（４０／６０）である。
・・・（中略）・・・
［0050］
ハードコート層
本発明の反射防止フィルムは、光透過性基材と低屈折率層との間にハードコート層を有する。
なお、本明細書において、「ハードコート層」とは、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で２Ｈ以上の硬度を示すものをいう。上記鉛筆硬度は、３Ｈ以上であることがより好ましい。また、上記ハードコート層の膜厚（硬化時）としては１〜３０μｍであることが好ましく、より好ましくは２〜１５μｍである。
・・・（中略）・・・
［0054］上記ハードコート層は、上記反応性シリカ微粒子と、樹脂とその他の任意成分とを含有するハードコート層用組成物により形成されてなるものが挙げられる。
上記樹脂としては、透明性のものが好適に用いられ、具体的には、紫外線若しくは電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂等が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
［0055］上記電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のモノマー、オリゴマー又はプレポリマー等が挙げられる。その他、上記低屈折率層で用いられた（メタ）アクリル樹脂がハードコート層にも用いられ、なかでも、官能基数が３以上の（メタ）アクリル樹脂が好ましい。
・・・（中略）・・・
発明の効果
［0077］本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層が、その表面近傍に偏在した反応性シリカ微粒子を有することにより表面硬度が優れたものとなる。また、従来の反射防止フィルムは、低屈折率層の表面に微小な凹凸が存在していたことが耐擦傷性に劣る原因の一つであったが、上記構造の低屈折率層は、中空状シリカ微粒子が密に充填された状態にあるため、極めて均一な表面を有する。このため、本発明の反射防止フィルムは、表面硬度に極めて優れたものとなる。更に、本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層が上記中空状シリカ微粒子と反応性シリカ微粒子で主に構成されるため、屈折率を充分に低いものとすることができ、優れた反射防止性能を有するものとすることができる。」
　
　（ウ）「発明を実施するための形態
［0079］本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。更に、特に断りの無い限り、各成分量は固形分量である。
・・・（中略）・・・
［0081］（ハードコート層用組成物（２）の調製）
下記に示す各成分を混合してハードコート層用組成物（２）を調製した。
ポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０、東亞合成社製、３官能）　５質量部
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ、日本合成社製、１０官能）　１１質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦ社製）　０．５質量部
メチルエチルケトン　１０質量部
なお、
ハードコート層用組成物（２）中のレベリング剤の固形分質量比は０．１０％であった
・・・（中略）・・・
［0084］（低屈折率層用組成物（２）の調製）
下記に示す成分を混合して低屈折率層用組成物（２）を調製した。
中空状シリカ微粒子（該中空状シリカ微粒子の固形分：２０質量％溶液；メチルイソブチルケトン、平均粒子径：６０ｎｍ、平均空隙率：２９．６％）　０．８質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）　０．１質量部
反応性シリカ微粒子（該反応性シリカ微粒子の固形分：３０質量％溶液；メチルイソブチルケトン、平均粒子径：１２ｎｍ）　０．１質量部
防汚剤（ＲＳ−７４、ＤＩＣ社製、２０質量％溶液；メチルエチルケトン）　０．０１質量部
防汚剤（ＴＵ２２２５、ＪＳＲ社製、１５質量％溶液；メチルイソブチルチルケトン）　０．０１質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７；ＢＡＳＦ社製）　０．０１質量部
ＭＩＢＫ　３質量部
ＰＧＭＥ  ２質量部
・・・（中略）・・・
［0094］
（実施例１）
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、ハードコート層用組成物（１）を湿潤重量３０ｇ／ｍ２（乾燥重量１５ｇ／ｍ２）塗布した。５０℃にて３０秒乾燥し、紫外線５０ｍＪ／ｃｍ２を照射してハードコート層を形成した。
次に、形成したハードコート層の上に、低屈折率層用組成物（１）を、乾燥（２５℃×３０秒−７０℃×３０秒）後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布した。そして、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行って硬化させて、反射防止フィルムを得た。
得られた反射防止フィルムの低屈折率層において、中空状シリカ微粒子の（メタ）アクリル樹脂に対する配合比（中空状シリカ微粒子の含有量／（メタ）アクリル樹脂の含有量）は１．６０であった。
・・・（中略）・・・
［0096］（実施例３）
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、ハードコート層用組成物（２）を湿潤重量３０ｇ／ｍ２（乾燥重量１５ｇ／ｍ２）塗布してハードコート層を形成し、次いで、形成したハードコート層の上に、低屈折率層用組成物（２）を用いて低屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た
・・・（中略）・・・
［0109］（評価）
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルムについて、以下に示す各評価を行った。結果を表１に示した。
［0110］（反射率の測定）
得られた各反射防止フィルムの裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、低屈折率層の面から、島津製作所製、分光反射率測定機「ＭＣＰ３１００」を用い、 
波長域３８０〜７８０ｎｍでの５°正反射Ｙ値
評価基準
○：５°正反射Ｙ値が、１．５％未満
×：５°正反射Ｙ値が、１．５％以上
［0111］（耐擦傷性）
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルムの低屈折率層の表面を、＃００００番のスチールウールを用いて、所定の摩擦荷重３００ｇ／ｃｍ２で１０往復摩擦し、その後の塗膜の剥がれの有無を目視し、結果を下記の基準にて評価した。
：傷なし
○：傷が僅かにある
×：傷あり
［0112］（防汚性）
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルムの表面に、指紋を付着させた後、日本製紙クレシア社製キムワイプ（登録商標）を、１５０ｇ／ｃｍ２荷重で３０往復させて拭き取り、拭き取り性（指紋の残り具合）を、黒テープを貼り、蛍光灯下で目視にて下記の基準にて評価した。
◎：指紋が残らない
○：指紋が僅かに残っている
×：指紋が残っている
［0113］
［表１］
（当合議体注：［表１］は、便宜上、時計回りに９０°回転したものである。）
［0114］（低屈折率層の断面観察）
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルムを厚さ方向に切断し、それぞれの断面をＳＴＥＭ（印加電圧：３０．０ｋＶ、倍率：２０万倍）で観察した。実施例１の結果を図１、実施例７の結果を図２、比較例１の結果を図３、比較例２の結果を図４にそれぞれ示した。なお、比較例１で得られた反射防止フィルムは、断面観察時に厚さ約１５０ｎｍのカーボンからなる蒸着層を形成した。また、図１〜４の右下には、１目盛が２０ｎｍのスケールを示している。
［0115］図１、２より、実施例１に係る反射防止フィルムは、低屈折率層のハードコート層と反対側の界面近傍に偏在した反応性シリカ微粒子が確認され、また、実施例７に係る反射防止フィルムは、低屈折率層のハードコート層側の界面近傍及び該ハードコート層と反対側の界面近傍に偏在した反応性シリカ微粒子が確認され、いずれも中空状シリカ微粒子が密に充填された状態にあり、低屈折率層の表面が極めて均一な状態であった。
また、図示しないが、
実施例３に係る反射防止フィルムは、低屈折率層のハードコート層側の界面近傍に偏在した反応性シリカ微粒子が確認され、中空状シリカ微粒子も密に充填された状態にあり、低屈折率層の表面が極めて均一な状態にあった
また、表１より、実施例に係る反射防止フィルムは、いずれも充分な防汚性、反射防止性能及び耐擦傷性を有していた。
実施例の結果より、耐擦傷性は、以下の場合に最も良好となることが分かった。
反応性シリカ微粒子が低屈折率層のハードコート層と反対側に偏在しており、かつ、偏在している反応性シリカ微粒子量が最適（（メタ）アクリル樹脂１００質量部に対して３０質量部以上）である場合。
ハードコート層にも反応性シリカ微粒子が含有されていることで、低屈折率層の下地となる層（光透過性基材及びハードコート層）全体の硬度が高い場合。
また、防汚性については、反応性シリカ微粒子が低屈折率層のハードコート層側に偏在している場合に最も良好となることが分かった。これは、低屈折率層の最表面に反応性シリカ微粒子がない分、防汚剤自身が低屈折率層の表面に出てきやすく、低屈折率層の最表面全体に防汚剤が存在しているためと推測される。」
　
　イ　引用発明
　前記（ア）〜（ウ）（特に（ウ））によると、甲第２号証には、実施例３に係る発明として、次の発明が記載されていると認められる（以下「引用発明２」という。）。
　
　「セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、ハードコート層用組成物（２）を湿潤重量３０ｇ／ｍ２（乾燥重量１５ｇ／ｍ２）塗布し、５０℃にて３０秒乾燥し、紫外線５０ｍＪ／ｃｍ２を照射してハードコート層を形成し、
　次いで、形成したハードコート層の上に、低屈折率層用組成物（２）を、乾燥（２５℃×３０秒−７０℃×３０秒）後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、そして、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行って硬化させて、低屈折率層を形成し、
　前記ハードコート層用組成物（２）は、
　ポリエステルアクリレート（アロニックスＭ−９０５０、東亞合成社製、３官能）　５質量部
　ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ、日本合成社製、１０官能）　１１質量部
　重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦ社製）　０．５質量部
　メチルエチルケトン　１０質量部
　ハードコート層用組成物（２）中のレベリング剤の固形分質量比は０．１０％、
　を混合して調製され、
　前記低屈折率層用組成物（２）は、
　中空状シリカ微粒子（該中空状シリカ微粒子の固形分：２０質量％溶液；メチルイソブチルケトン、平均粒子径：６０ｎｍ、平均空隙率：２９．６％）　０．８質量部
　ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）　０．１質量部
　反応性シリカ微粒子（該反応性シリカ微粒子の固形分：３０質量％溶液；メチルイソブチルケトン、平均粒子径：１２ｎｍ）　０．１質量部
　防汚剤（ＲＳ−７４、ＤＩＣ社製、２０質量％溶液；メチルエチルケトン）　０．０１質量部
　防汚剤（ＴＵ２２２５、ＪＳＲ社製、１５質量％溶液；メチルイソブチルチルケトン）　０．０１質量部
　重合開始剤（イルガキュア１２７；ＢＡＳＦ社製）　０．０１質量部
　ＭＩＢＫ　３質量部
　ＰＧＭＥ  ２質量部
　を混合して調製され、
　波長域３８０〜７８０ｎｍでの５°正反射Ｙ値が１．５％未満であり、
　低屈折率層のハードコート層側の界面近傍に偏在した反応性シリカ微粒子が確認され、中空状シリカ微粒子も密に充填された状態にあり、低屈折率層の表面が極めて均一な状態である、
　反射防止フィルム。」
　　
（２）本件特許発明１について
　ア　対比
　本件特許発明１と引用発明２とを対比する。
　（ア）引用発明２の「ハードコート層」は、その文言のとおり、本件特許発明１の「ハードコート層」に相当する。
　
　（イ）引用発明２の「低屈折率層」は、技術的にみて、本件特許発明１の「低屈折層」に相当する。
　また、引用発明２の「低屈折率層用組成物（２）」の構成（組成）からみて、「低屈折率層用組成物（２）」が硬化した樹脂は、低屈折率層のバインダー樹脂であるといえる。
　そうすると、引用発明２の「低屈折率層用組成物（２）」が硬化した樹脂は、本件特許発明１の「低屈折率層」の「バインダー樹脂」に相当する。
　
　（ウ）引用発明２の「中空状シリカ微粒子」は、平均粒子径が６０ｎｍであるから、無機ナノ粒子であるといえる。
　そうすると、引用発明２の「中空状シリカ微粒子」は、本件特許発明１の「中空状無機ナノ粒子」に相当する。
　
　（エ）引用発明２の「反応性シリカ微粒子」は、平均粒子径が１２ｎｍであるから、無機ナノ粒子であるといえる。また、甲第２号証［0025］に例示された「反応性シリカ微粒子」の商品名、及び「反応性シリカ微粒子」が「中空状シリカ微粒子」と区別され、対比されるものであることに鑑みると、引用発明２の「反応性シリカ微粒子」は、ソリッド状（中実状）であるといえる。
　そうすると、引用発明２の「反応性シリカ微粒子」は、本件特許発明１の「ソリッド状無機ナノ粒子」に相当する。
　
　（オ）前記（イ）及び引用発明２の「低屈折率層」の形成方法からみて、引用発明２の「中空状シリカ微粒子」及び「反応性シリカ微粒子」は、「低屈折率層用組成物（２）」が硬化した樹脂に分散しているといえる（甲第２号証［0028］冒頭の記載からも確認できる。）。
　
　（カ）前記（イ）〜（オ）により、引用発明２の「低屈折率層」は、本件特許発明１の「低屈折層」における、「バインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子を含む」という要件を満たしている。
　
　（キ）引用発明２の「反射防止フィルム」は、その文言のとおり、本件特許発明１の「反射防止フィルム」に相当する。また、前記（ア）〜（カ）及び引用発明２の構成からみて、引用発明２の「反射防止フィルム」は、本件特許発明１の「ハードコート層；およびバインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子を含む低屈折層；を含む」という要件を満たしている。
　
　（ク）前記（ウ）より、引用発明２の「中空状シリカ微粒子」は、本件特許発明１の「低屈折層」における、「前記中空状無機ナノ粒子が、１０〜１００ｎｍの直径を有し」という要件を満たしている。
　また、前記（エ）より、引用発明２の「反応性シリカ微粒子」は、本件特許発明１の「ソリッド状無機ナノ粒子が、１〜３０ｎｍの直径を有し」という要件を満たしている。
　さらに、前記（ウ）及び（エ）より、引用発明２の「中空状シリカ微粒子」及び「反応性シリカ微粒子」は、本件特許発明１の「前記中空状無機ナノ粒子の直径は、前記ソリッド状無機ナノ粒子の直径よりも大きく」という要件を満たしている。
　
　（ケ）引用発明２の「低屈折率層用組成物（２）」に含まれる「ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）」は、光重合性化合物である。また、引用発明２の「低屈折率層用組成物（２）」に含まれる「防汚剤（ＲＳ−７４、ＤＩＣ社製、２０質量％溶液；メチルエチルケトン）」は、ＵＶ反応型フッ素系化合物である(特開２０１３−２５４１１８号公報の【００８９】参照のこと。)。そうすると、引用発明２の「低屈折率層用組成物（２）」が硬化したものは、光重合性化合物の（共）重合体及び光反応性官能基を含む含フッ素化合物の間の架橋（共）重合体を含んでいるといえる。
　したがって、引用発明２の「低屈折率層用組成物（２）」が硬化したものは、本件特許発明１の「前記バインダー樹脂が、光重合性化合物の（共）重合体および光反応性官能基を含む含フッ素化合物の間の架橋（共）重合体を含んでなり、前記光重合性化合物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサエチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、及びこれらの２種以上の混合物；またはウレタン変性アクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、エーテルアクリレートオリゴマー、デンドリティックアクリレートオリゴマー、及びこれらの２種以上の混合物よりなる群から選択され」という要件を満たしている。
　
　（コ）引用発明２の「低屈折率層用組成物（２）」は、「中空状シリカ微粒子（該中空状シリカ微粒子の固形分：２０質量％溶液；メチルイソブチルケトン、平均粒子径：６０ｎｍ、平均空隙率：２９．６％）　０．８質量部」、「ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）　０．１質量部」、「反応性シリカ微粒子（該反応性シリカ微粒子の固形分：３０質量％溶液；メチルイソブチルケトン、平均粒子径：１２ｎｍ）　０．１質量部」を含んでいる。
　そうすると、引用発明２の「低屈折率層」は、光重合性化合物である「ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）」１００重量部対比、「中空状シリカ微粒子」１６０重量部、「反応性シリカ微粒子」３０重量部を含んでいるといえる。
　したがって、引用発明２の「低屈折率層」は、本件特許発明１の「低屈折層」における、「前記低屈折層は、前記光重合性化合物１００重量部対比、前記中空状無機ナノ粒子１０〜４００重量部」「を含」むという要件を満たしている。
　
　イ　一致点
　上記アによると、本件特許発明１と引用発明２は次の点で一致する。
　「ハードコート層；およびバインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子を含む低屈折層；を含む反射防止フィルムであって、
　前記ソリッド状無機ナノ粒子が、１〜３０ｎｍの直径を有し、前記中空状無機ナノ粒子が、１０〜１００ｎｍの直径を有し、前記中空状無機ナノ粒子の直径は、前記ソリッド状無機ナノ粒子の直径よりも大きく、
　前記バインダー樹脂が、光重合性化合物の（共）重合体および光反応性官能基を含む含フッ素化合物の間の架橋（共）重合体を含んでなり、前記光重合性化合物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサエチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、及びこれらの２種以上の混合物；またはウレタン変性アクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、エーテルアクリレートオリゴマー、デンドリティックアクリレートオリゴマー、及びこれらの２種以上の混合物よりなる群から選択され、
　前記低屈折層は、前記光重合性化合物１００重量部対比、前記中空状無機ナノ粒子１０〜４００重量部を含む、反射防止フィルム。」
　
　ウ　相違点
　他方、本件特許発明１と引用発明２は次の点で相違する。
（相違点１）
　本件特許発明１は、「前記低屈折層は、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第１層と、前記中空状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第２層とを含み、前記ハードコート層と前記低屈折層との界面に前記第１層の一面が接し、前記第１層の他の一面上に前記第２層が形成されており、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面近くにソリッド状無機ナノ粒子が中空状無機ナノ粒子より多く分布して」いるのに対し、引用発明２は、そのような構成を有するのかが明らかでない点。
　
（相違点２）
　本件特許発明１は、「前記ソリッド状無機ナノ粒子が、前記中空状無機ナノ粒子に比べて０．５０ｇ／ｃｍ３以上高い密度を有し、前記中空状無機ナノ粒子の密度が１．５０ｇ／ｃｍ３〜３．５０ｇ／ｃｍ３であ」るのに対し、引用発明２は、そのような構成を有するのかが明らかでない点。
　
（相違点３）
　本件特許発明１は、「前記ソリッド状無機ナノ粒子および前記中空状無機ナノ粒子それぞれは、表面に（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）、およびチオール基（Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選択された１種以上の反応性官能基を含有」するのに対し、引用発明２は、そのような構成を有するのかが明らかでない点。
　
（相違点４）
　「低屈折層」が、本件特許発明１は、「前記光重合性化合物１００重量部対比、」「前記ソリッド状無機ナノ粒子６３〜４００重量部を含」むのに対し、引用発明２は、「ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）」０．１質量部対比、「反応性シリカ微粒子」０．０３（＝０．１×０．３）質量部（「ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）」１００重量部対比、「反応性シリカ微粒子」３０重量部）を含む点。
　
（相違点５）
　本件特許発明１は、「Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８〜０．１２５６ｎｍ−１の散乱ベクトルで１つのピーク（ｑｍａｘ）を示す」のに対し、引用発明２は、そのような構成を有するのかが明らかでない点。
　
（相違点６）
　本件特許発明１は、「３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光線波長帯領域で０．７％以下の平均反射率を示す」のに対し、引用発明２は、そのような構成を有するのかが明らかでない点。
　
　エ　判断
　事案に鑑み、相違点３、相違点４及び相違点６について検討する。
　（ア）相違点３について
　引用発明２には、「中空状シリカ微粒子」が「反応性シリカ微粒子」と区別された上で、「反応性シリカ微粒子」がともに含まれている。
　そうすると、引用発明２において、その「中空状シリカ微粒子」の表面に反応性官能基を含有させようとする（反応性とする）動機付けはないといえる。
　したがって、引用発明２において、相違点３に係る本件特許発明１の構成を採用することは、当業者が容易になし得たことであるとはいえない。
（当合議体注：前記動機付けがない以上、特許異議申立人が提出した甲第６号証（国際公開第２０１２／１５７６８２号）及び甲第８号証（特開２００９−２４４３８２号公報）に記載された技術的事項が周知技術であったとしても、引用発明２において、相違点３に係る本件特許発明１の構成を採用することは、当業者が容易になし得たことであるとはいえない。）
　
　（イ）相違点４について
　甲第２号証の［0027］には、「上記低屈折率層における上記反応性シリカ微粒子の含有量としては、後述する（メタ）アクリル樹脂１００質量部に対して、５〜６０質量部であることが好ましい。・・・（中略）・・・６０質量部を超えると、上述した低屈折率層中で偏在した状態にない反応性シリカ微粒子量が増え、中空状シリカ微粒子が上述した密に充填された状態とならず、その結果、低屈折率層の表面の均一性が劣ることがあり、反射率の上昇を引き起こす可能性もある。上記反応性シリカ微粒子の含有量のより好ましい下限は１０質量部、より好ましい上限は５０質量部である。この範囲で反応性シリカ微粒子が含有されていることで、本発明の反射防止フィルムの表面硬度を極めて優れたものとすることができる」と記載されている。
　そうすると、引用発明２において、「反応性シリカ微粒子」を、「ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）」０．１質量部対比で０．０６質量部を超えて含有させようとする動機付けはないといえる。
　したがって、引用発明２において、相違点４に係る本件特許発明１の構成を採用することは、当業者が容易になし得たことであるとはいえない。
（当合議体注：前記動機付けがない以上、特許異議申立人が提出した甲第１４号証（特開２００７−７８７１１号公報）に記載された技術的事項が周知技術であったとしても、引用発明２において、相違点４に係る本件特許発明１の構成を採用することは、当業者が容易になし得たことであるとはいえない。）
　
　（ウ）相違点６について
　引用発明２と同様の構成を有する反射防止フィルムにおいて、相違点６に係る本件特許発明１の構成（「３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光線波長帯領域で０．７％以下の平均反射率を示す」）とする技術的事項は、特許異議申立人が提出した甲第１号証〜甲第１６号証に記載されていないし、当該技術的事項が公知又は周知であることを示す他の証拠を発見しない。
（当合議体注：特許異議申立人が提出した甲第１１号証（特開２０１３−２２８７４１号公報）には、平均反射率が０．７％以下の反射防止フィルムが記載されているが、甲第１１号証に記載された発明は、「反応性シリカ微粒子」のようなソリッド状（中実状）のシリカ微粒子を含んでおらず、引用発明２と同様の構成を有する反射防止フィルムとはいえない。）
　また、引用発明２のどの構成をどのように設計変更すれば、相違点６に係る本件特許発明１の構成となるのかを示す証拠も発見しない。
（当合議体注：平均反射率を低くするために、引用発明２において、「中空状シリカ微粒子」の含有量を多くすることが考えられる。しかしながら、甲第２号証の［0021］には、「上記中空状シリカ微粒子は、低屈折率層に含まれる後述する（メタ）アクリル樹脂に対する配合比（中空状シリカ微粒子の含有量／（メタ）アクリル樹脂の含有量）が、０．９０〜１．６０であることが好ましい。・・・（中略）・・・上記配合比が１．６０を超えると、低屈折率層の表面の均一性が不充分となり、本発明の反射防止フィルムの表面硬度が不充分となることがある。上記配合比のより好ましい下限は１．００、より好ましい上限は１．５０である。この範囲内にあることで、より優れた反射防止性能と表面均一性及び表面硬度とを備えた反射防止フィルムとすることができる。また、低屈折率層の表面均一性が上がることにより、表面硬度（耐擦傷性）が向上する」と記載されていて、引用発明２において、「中空状シリカ微粒子」を、「ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）」０．１質量部対比で０．１６質量部を超えて含有させようとする動機付けはないといえる。引用発明２では、この配合比がすでに１．６０であるから、「中空状シリカ微粒子」の含有量を多くすることはできない。また、引用発明２において、「中空状シリカ微粒子」の含有量を多くすれば、反射率が０．７％以下となるのかは不明であるし、仮に反射率が０．７％以下になるとしても、「中空状シリカ微粒子」の含有量をどの程度多くすればよいのかは不明である。さらに、引用発明２において、「中空状シリカ微粒子」の含有量を多くする設計変更をすれば、引用発明２の他の構成（例えば、「中空状シリカ微粒子」と「反応性シリカ微粒子」の配置（分布）状態、「低屈折率層用組成物（２）」の構成（組成）等）も変更されてしまうから、引用発明２において、そのような設計変更をする動機付けがあるともいえない。）
　したがって、引用発明２において、相違点６に係る本件特許発明１の構成を採用することは、当業者が容易になし得たことであるとはいえない。
　
　（エ）本件特許発明１は、前記相違点３、相違点４及び相違点６に係る本件特許発明１の構成を有することにより、「低い反射率および高い透光率を有しかつ、高い耐スクラッチ性および防汚性を同時に実現することができ、ディスプレイ装置の画面の鮮明度を高めることができる」（本件特許明細書【０１４８】）という効果を奏するものである。
　
　オ　小括
　したがって、本件特許発明１は、甲第２号証に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたということはできない。
　
（３）本件特許発明２、３、６〜１０及び１５〜１８について
　本件特許の特許請求の範囲の請求項２、３、６〜１０及び１５〜１８は、いずれも、請求項１を直接又は間接的に引用するものであって、本件特許発明２、３、６〜１０及び１５〜１８は、本件特許発明１の構成を全て具備し、これに限定を加えたものに該当する。そうすると、前記（２）のとおり、本件特許発明１が、甲第２号証に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない以上、本件特許発明２、３、６〜１０及び１５〜１８も、甲第２号証に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
　
２　進歩性（２）について
（１）引用文献の記載・引用発明
　ア　甲第１３号証の記載
　取消しの理由で引用された甲第１３号証（特開２０１３−１３０８６５号公報）には、次の事項が記載されている。なお、下線は当合議体が付した。
　
　（ア）「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、帯電防止反射防止フィルム、帯電防止反射防止フィルムの製造方法、偏光板
、及び画像表示装置に関する。
・・・（中略）・・・
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
　反射防止性と同時に帯電防止性とハードコート性に優れ、より高度な耐擦傷性、耐摩耗性、防汚性に優れる反射防止フィルを得るために、帯電防止ハードコート層の上に低屈折率層を設けた反射防止フィルムが考えられる。
　本発明者ら検討したところ、４級アンモニウム塩基を有する化合物を用いてハードコート層を形成した場合、帯電防止性に優れるものの、該ハードコート層上に、特許文献１及び２に記載されるような含フッ素化合物を含む組成物により低屈折率層を形成すると、耐擦傷性が悪化し、更に低屈折率層が白濁するという面状故障が生じることが分かった。
【０００７】
　このような状況に鑑み、本発明の目的は、反射防止性と帯電防止性に優れ、面状故障がなく、かつ耐擦傷性、耐磨耗性、防汚性に優れる帯電防止性反射防止フィルムを提供することである。
　また、本発明の別の目的は、該帯電防止性反射防止フィルムの製造方法、該帯電防止性反射防止フィルムを用いた偏光板、及び該帯電防止性反射防止フィルム又は該偏光板を有する画像表示装置を提供することである。」
　
　（イ）「【課題を解決するための手段】
【０００８】
　屈折率が低く、耐擦傷性、対磨耗性、防汚性に優れた低屈折率層を得る観点から、特定のフッ素ポリマー及びフッ素含有多官能モノマー等のフッ素化合物を、シリカ微粒子及び特定のシロキサン化合物を低屈折率層用組成物に用いることが好適である。上記課題を解決すべく本発明者らが検討したところ、４級アンモニウム塩基を有する化合物を含むハードコート層上に低屈折率層を形成する場合、低屈折率層用組成物の含フッ素化合物のうち、フッ素含有多官能モノマーとして分子内に−ＣＦ３基を多数有し表面自由エネルギーが低いモノマーが含まれると、ハードコート層との密着性が悪く耐擦傷性を悪化させ、また低屈折率層の塗膜に白濁が生じることが分かった。このメカニズムとしてはよく分かっていないが、構造的に非常に親水的な４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有するハードコート層に対して、耐擦傷性を良化させるために低屈折率層に添加するフッ素モノマーが非常に疎水的であると親和性が悪くなるためではないかと推測される。本発明者らは検討の結果、含フッ素モノマーとして−ＣＦ３基が４ 個以下であり、表面自由エネルギーが高く、かつ反応性官能基を多く有するモノマーを用いることで、耐擦傷性の悪化と白濁の抑制が図れることを見出した。
　即ち、本発明の上記課題は、下記手段により解決できる。
【０００９】
［１］
　支持体上に、４級アンモニウム塩基を有する化合物を少なくとも含有するハードコート層用組成物から形成されたハードコート層と、下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を少なくとも含有する低屈折率層用組成物から形成された低屈折率層とをこの順で有する帯電防止反射防止フィルム。
（ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
（ｂ）単独で成膜した際の表面自由エネルギーが２３ｍＮ／ｍ以上であり、分子内に有する−Ｃ Ｆ３基が４個以下であり、フッ素含率が３０％以上で、１分子中に反応性官能基を少なくとも３ つ以上有するフッ素含有多官能モノマー
（ｃ）平均粒子径が１０〜１００ｎｍの中空シリカ微粒子
（ｄ）ジメチルシロキサン骨格を有する化合物
［２］
　前記低屈折率層用組成物が、更に（ｅ）平均粒子径が４０〜１００ｎｍ の中実シリカ粒子を全固形分中０．１〜１０質量％含有する［１］に記載の帯電防止反射防止フィルム。
・・・（中略）・・・
【発明の効果】
【００１０】
　本発明によれば、帯電防止性に優れ、低反射率で塗膜が白濁という面状故障がなく、かつ高度な耐擦傷性、耐摩耗性、防汚性を有する反射防止フィルムを提供することができる。
　また、本発明によれば、該反射防止フィルムの製造方法、該反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該反射防止フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
　以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜 （数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」等も同様である。
　なお、本発明においては、「モノマーに相当する繰り返し単位」、及び「モノマーに由来する繰り返し単位」とは、モノマーの重合後に得られる成分が繰り返し単位となることを意味している。
【００１２】
　本発明の帯電防止反射防止フィルムは、支持体上に、４ 級アンモニウム塩基を有する化合物を少なくとも含有するハードコート層用組成物から形成されたハードコート層と、下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ） を少なくとも含有する低屈折率層用組成物から形成された低屈折率層とをこの順で有する。
（ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
（ｂ）単独で成膜した際の表面自由エネルギーが２３ｍＮ／ｍ以上であり、分子内に有する−Ｃ Ｆ３基の数が４個以下であり、フッ素含率が３０％ 以上で、１分子中に反応性官能基を少なくとも３つ以上有するフッ素含有多官能モノマー
（ｃ）平均粒子径が１０〜１００ｎｍの中空シリカ微粒子
（ｄ）ジメチルシロキサン骨格を有する化合物
【００１３】
　以下、本発明の帯電防止反射防止フィルムに用いる低屈折率層用組成物について説明する。
＜低屈折率層用組成物＞
（ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
　エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、フッ素系オレフィンの重合物である。該含フッ素重合体を低屈折率層用組成物に用いることにより、低屈折率で、防汚性、耐薬品性、耐水性等の基本性能を発現する低屈折率層が得られる。
　エチレン性不飽和基含有含フッ素化合物としては、側鎖に（メタ）アクリル基を有することが好ましい。これにより、（ｂ）成分であるフッ素含有多官能モノマーと共架橋化することができ、耐擦傷性が向上する。
【００１４】
　エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物と、水酸基含有含フッ素重合体とを反応させて得ることができる。即ち、この場合のエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、水酸基含有含フッ素重合体の水酸基が、エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物により変性されたものである。
・・・（中略）・・・
【００６３】
　
低屈折率層用組成物における（ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体の含有量は、特に制限されるものではないが、硬化塗膜の屈折率、耐擦傷性の観点から、組成物の全固形分に対して１０〜６０質量％であることが好ましく、１５〜５５質量％であることがより好ましく、２０〜５０質量％であることが更に好ましい。
【００６４】
（ｂ）フッ素含有多官能モノマー
　本発明に係る低屈折率層用組成物に用いられるフッ素含有多官能モノマーは、単独で成膜した際の表面自由エネルギーが２３ｍＮ／ｍ以上であり、分子内に有する−ＣＦ３基の数が４個以下であり、フッ素含率が３０％以上で、１分子中に反応性官能基を少なくとも３つ以上有する。
【００６５】
　フッ素含有多官能モノマーが、分子内に有する−ＣＦ３基の数が４個以下であり、単独で成膜した際の表面自由エネルギーが２３ｍＮ／ｍ以上であることにより、４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有するハードコート層との密着性が向上し、耐擦傷性が向上する。また、低屈折率層の塗膜の白濁も抑制できる。
　分子内に有する−ＣＦ３基の数は３個以下であることが好ましく、２個以下であることが更に好ましく、実質的に１個も有さないことが最も好ましい。低屈折率化を実現するためには分子中のフッ素含率を上げることが必要となるが、フッ素含率を上げる分子設計として−ＣＦ３基が分子中に４個より多く存在すると表面自由エネルギーが低くなりすぎるため好ましくない。−ＣＦ２−基を有効に用いながらフッ素含率を上げることが好ましい。
・・・（中略）・・・
【０１０２】
　
低屈折率層用組成物における（ｂ）フッ素含有多官能モノマーの含有量は、特に制限されるものではないが、耐擦傷性付与、面状故障を防ぐという観点から、組成物の全固形分に対して５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることがより好ましく、１０〜３０質量％であることが更に好ましい。
・・・（中略）・・・
【０１０４】
（ｃ）中空シリカ微粒子
　以下、本発明に係る低屈折率層用組成物に用いられる中空シリカ微粒子について説明する。
　本発明に係る低屈折率層用組成物は、低屈折率化と耐擦傷性の観点から、平均粒子径が１０〜１００ｎｍの中空シリカ微粒子を含有する。
　中空シリカ微粒子の空隙率は、低屈折率化と耐擦傷性の観点から、好ましくは１０〜８０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
【０１０５】
　中空シリカ微粒子の屈折率は、１．１０〜１．４０が好ましく、更に好ましくは１．１５〜１．３５、最もに好ましくは１．１５〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。
【０１０６】
　中空シリカ微粒子の製造方法は、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報や特開２００２ −７９６１６号公報に記載されている。特にシェルの内部に空洞を有している粒子で、そのシェルの細孔が閉塞されている粒子が特に好ましい。なお、これら中空シリカ微粒子の屈折率は特開２００２−７９６１６号公報に記載の方法で算出することができる。
【０１０７】
　本発明の帯電防止性反射防止フィルムにおいて、中空シリカ微粒子の塗設量は、１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ２〜８０ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１ ０ｍｇ／ｍ２〜６０ｍｇ／ｍ２である。この範囲であると、低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が得られ、黒締りなど外観や積分反射率も良好なものとすることができる。
【０１０８】
　中空シリカ微粒子の平均粒子径は、低屈折率化、耐擦傷性の改良効果、黒締りなどの外観、反射率などの観点から、１０〜１００ｎｍであり、好ましくは３０〜８０ｎｍであり、更に好ましくは４０〜６０ｎｍである。中空シリカ粒子はサイズ分布を有していてもよく、その変動係数は好ましくは６０％〜５％ 、更に好ましくは５０％〜１０％である。
　中空シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であってもよい。
　また、中空シリカ微粒子は粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカ微粒子の平均粒子径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
【０１０９】
　中空シリカ微粒子は、特開２００７−２９８９７４号の［０１０３］〜［０１０５］ に記載の方法により製造することができる。
【０１１０】
　
低屈折率層用組成物における（ｃ）中空シリカ微粒子の含有量は、低屈折率と耐擦傷性の観点から、組成物の全固形分に対して１０〜７０質量％であることが好ましく、２０〜５０質量％であることがより好ましく、３０〜５０質量％ であることが更に好ましい。
【０１１１】
（ｅ）中実シリカ微粒子
　本発明に係る低屈折率層用組成物には、平均粒子径４０〜１００ｎｍの中実シリカ微粒子を用いることもできる。該中実シリカ微粒子を用いることで、耐摩耗性等を向上させることができる。
　平均粒子径は、好ましくは４０〜９０ｎｍであり、更に好ましくは４０〜８０ｎｍである。平均粒子径は、電子顕微鏡写真から求めることができる。
　中実シリカ微粒子は、公知のものを使用することができ、また、その形状も球状に限らず、不定形の粒子であってもよい。
【０１１２】
　
低屈折率層用組成物における（ｅ）中実シリカ微粒子の含有量は、耐磨耗性、低屈折率化の観点から、組成物の全固形分に対して０．１〜１０質量％であり、２〜８質量％であることが好ましく、３〜６質量％であることがより好ましい
【０１１３】
［シリカ微粒子の表面処理方法］
　本発明に係る低屈折率層形成用組成物に用いる（ｃ）中空シリカ微粒子及び（ｅ）中実シリカ微粒子は、分散性を改良するために表面処理を行うことも好ましい。
　シリカ微粒子の表面は下記一般式（１０）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／ 又はその部分縮合物により処理がされているのが好ましく、処理の際に、酸触媒及び金属キレート化合物のいずれか、あるいは両者が使用されることが更に好ましい。
・・・（中略）・・・
【０１４１】
（ｄ）ジメチルシロキサン骨格を有する化合物
　以下、本発明に係る低屈折率層用組成物に用いられるジメチルシロキサン骨格を有する化合物について説明する。
　ジメチルシロキサン骨格を有する化合物を用いることで、表面滑り性を改善し、硬化塗膜の耐擦傷性を向上に効果があるとともに、防汚性を付与することができる。該化合物は、（メタ）アクリロイル基やビニル基等の反応性基を有することが好ましい。
・・・（中略）・・・
【０１６９】
　以下、本発明の帯電防止反射防止フィルムに用いるハードコート層用組成物について説明する。
＜ハードコート層用組成物＞
（４級アンモニウム塩基を有する化合物）
　本発明におけるハードコート層形成用組成物は、４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有する。
　４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型のカチオン化合物がより好ましく用いられる。
　高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、イオン伝導性が高い観点から、４級アンモニウム塩基含有ポリマーであることが好ましく、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で現される構造単位の少なくとも１ つの単位を有するポリマーが好ましい。
・・・（中略）・・・
【０２１９】
［帯電防止反射防止フィルム］
　以下、本発明の光学フィルムについて説明する。
　本発明の帯電防止反射フィルムは、透明支持体上に前記ハードコート層用組成物を用いて形成されたハードコート層（帯電防止ハードコート層）と、該ハードコート層上に前記低屈折率層用組成物を用いて形成された低屈折率層を有する。
　本発明の帯電防止性反射防止フィルムは、更に目的に応じて、必要な機能層を単独又は複数層設けてもよい
・・・（中略）・・・
【０２３０】
（帯電防止性反射防止フィルムの製造方法）
　本発明の帯電防止性反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
　まずハードコート層用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６− １２２８８９号公報参照） がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
【０２３１】
　塗布した後、乾燥、光照射してハードコート層用組成物から形成される層を硬化し、これによりハードコート層を形成することができる。必要に応じて、透明支持体上にあらかじめその他の層（防眩層など） を塗設しておき、その上にハードコート層を形成することも可能である。」
　
　（ウ）「【実施例】
【０２４２】
　以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０２４３】
［実施例１］
〔帯電防止性反射防止フィルムの作製〕
　下記に示す通りに、ハードコート層形成用の塗布液を調製し、透明支持体上に、ハードコート層及び低屈折率層を形成して、フィルム試料Ｎｏ．１〜３５を作製した。
【０２４４】
（（ａ）４級アンモニウム塩基を有する化合物の合成）
　イオン伝導性化合物を、特許第４６００６０５号の合成例１と同様に実施し、ＡＮ−１（３０％エタノール溶液）を合成した。
【０２４５】
（ハードコート層用塗布液の調製）
　下記表１に記載のハードコート層用塗布液ＨＣ−１の組成となるように各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して帯電防止性ハードコート層塗布液ＨＣ−１（固形分濃度５０質量％）とした。
　ハードコート層用塗布液ＨＣ−１と同様の方法で、各成分を下記表１のように混合して溶剤に溶解して表１記載の組成比率になるように調整し、固形分濃度５０質量％の帯電防止性ハードコート層用塗布液ＨＣ−２〜ＨＣ−７を作製した。帯電防止性ハードコート層用塗布液ＨＣ−２においては、４級アンモニウム塩化合物を用いなかった。また、帯電防止性ハードコート層用塗布液ＨＣ−６においては、レベリング剤を用いなかった。
【０２４６】
【
表１
【０２４７】
　それぞれ使用した化合物を以下に示す。
　
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
　ＡＮ−１：前記４ 級アンモニウム塩基を有する化合物ＡＮ−１
　ＰＥＴ３０：ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
　
Ｉｒｇ．１８４：光重合開始剤、イルガキュア１８４（チバ・ジャパン（株）製）
　
Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ 新中村化学工業（株）ＮＫエステル）
　ＤＱ１００：「ライトエステルＤＱ−１００」、４級アンモニウム塩系化合物、多官能モノマー、光重合開始剤含有ハードコート剤（共栄社化学（株）製）
　ＬＡＳ１２１１：「リオデュラスＬＡＳ−１２１１」、４ 級アンモニウム塩系化合物、多官能モノマー、光重合開始剤含有ハードコート剤（東洋インキ製造（株）製）
　ＵＶ−ＡＳ−１０２：「紫光ＵＶ−ＡＳ−１０２」、４級アンモニウム塩系化合物、多官能モノマー、光重合開始剤含有ハードコート剤（日本合成化薬（株）製）
　
ＦＰ１：下記式で示されるフッ素含有レベリング剤
【０２４８】
【化５０】
【０２４９】
　ＦＰ２：下記式で示されるフッ素含有レベリング剤
【０２５０】
【化５１】
【０２５１】
（ハードコート層の作製）
　
膜厚６０μｍの透明支持体としてのセルローストリアセテートフィルム（ＴＤＨ６０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記ハードコート層用塗布液ＨＣ−１をグラビアコーターを用いて塗布した。６０℃ で約２分間乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍの帯電防止性ハードコートフィルムＨＣ−１を形成した
【０２５２】
　
同様の方法で帯電防止性ハードコート層用塗布液ＨＣ−２〜ＨＣ−７を用いて帯電防止性ハードコートフィルムＨＣ−２〜ＨＣ−７を作製した
【０２５３】
　（低屈折率層用塗布液の調製）
（
エチレン性不飽和基を有する含フッ素重合体Ａ（メタアクリル変性フッ素重合体）
　まず、水酸基含有含フッ素重合体の合成を行った。内容積２．０リットルの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル４００ｇ、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）５３．２ｇ、エチルビニルエーテル３６．１ｇ、ヒドロキシエチルビニルエーテル４４．０ｇ、過酸化ラウロイル１．００ｇ、下記式（１０７）で表されるアゾ基含有ポリジメチルシロキサン（ＶＰＳ１００１（商品名）、和光純薬工業（株）製）６．０ｇ及びノニオン性反応性乳化剤（ＮＥ−３０（商品名）、旭電化工業（株）製）２０．０ｇ を仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
【０２５４】
【化５３】
【０２５５】
　ｙは１〜２００の数、ｚは１〜２０の数を示す。
【０２５６】
　次いでヘキサフルオロプロピレン１２０．０ｇを仕込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が６０℃に達した時点での圧力は５．３×１０５Ｐａを示した。その後、７０℃で２０時間攪拌下に反応を継続し、圧力が１．７×１０５Ｐａに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出してオートクレーブを開放し、固形分濃度２６．４％のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、５０℃ にて真空乾燥を行い２２０ｇの水酸基含有含フッ素重合体を得た。これを水酸基含有含フッ素重合体とする。使用した単量体と溶剤を表２に示す。
【０２５７】
【表２】
【０２５８】
　得られた水酸基含有含フッ素重合体に付き、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量を測定した。また、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲの両ＮＭＲ分析結果及び元素分析結果から、水酸基含有含フッ素重合体を構成する各単量体成分の割合を決定した。結果を表３に示す。
【０２５９】
【表３】
【０２６０】
　ＮＥ−３０は、下記式（１１０）において、ｎが９、ｍが１、ｕが３０であるノニオン性反応性乳化剤である。
【０２６１】
【化５４】
【０２６２】
　続いて、得られた水酸基含有含フッ素重合体を用いてエチレン性不飽和基含有フッ素重合体Ａ を合成した。電磁攪拌機、ガラス製冷却管及び温度計を備えた容量１リットルのセパラブルフラスコに、製造例１で得られた水酸基含有含フッ素重合体を５０.０ｇ、重合禁止剤として２，６− ジ−ｔ−ブチルメチルフェノール０．０１ｇ及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）３７０ｇ を仕込み、２０℃で水酸基含有含フッ素重合体がＭＩＢＫに溶解して、溶液が透明、均一になるまで攪拌を行った。
　次いで、この系に、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを１５．１ｇ添加し、溶液が均一になるまで攪拌した後、ジブチルチンジラウレート０．１ｇを添加して反応を開始し、系の温度を５５〜６５℃に保持し５時間攪拌を継続することにより、エチレン性不飽和基を有する含フッ素重合体ＡのＭＩＢＫ溶液を得た。
　この溶液をアルミ皿に２ｇ秤量後、１５０℃のホットプレート上で５分間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、１５．２質量％であった。使用した化合物、溶剤及び固形分含量を表４に示す。
【０２６３】
【表４】
【０２６４】
［内部に空孔を有する粒子の調製］
（分散液Ｂ−１の調製）
　
特開２００２−７９６１６号公報の調製例４から調製時の条件を変更して、内部に空洞を有するシリカ微粒子を作製した
終ステップで水分散液状態からメタノールに溶媒置換し、２０％シリカ分散液とし、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み約７ｎｍ、シリカ粒子の屈折率１．２５の粒子が得られた
これを分散液（Ａ−１）とする
【０２６５】
　
分散液（Ａ−１）の５００部に対してアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２０部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５部加え混合した後に、イオン交換水を９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加した。総液量がほぼ一定になるようにＭＥＫを添加しながら減圧蒸留により溶媒を置換した。最終的に固形分が２０％になるように調節して分散液Ｂ−１を調製した
【０２６６】
（低屈折率層用塗布液の調製）
　各成分を下記表５のように混合し、全溶剤中プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが２０質量％になるように添加した後メチルエチルケトンで希釈し、最終的に固形分濃度が５質量％にした。攪拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて１時間攪拌後、孔径０．５μｍのポリプロピレン製デプスフィルターでろ過し、各低屈折率層用塗布液を得た。なお、
表５において、各成分の添加量は「質量％」を表す
【０２６７】
【表５】
（当合議体注：【表５】は、便宜上、時計回りに９０°回転したものである。）
【０２６８】
　表５に示すフッ素モノマーの単独膜の表面自由エネルギーは、前述の方法に従って、セルローストリアセテートフィルム（ＴＤＨ６０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上にフッ素含有多官能モノマーの単独膜の試料を作製し、２５℃５０％ＲＨで２時間調湿した後に、水とヨウ化メチレンに対する接触角を測定して算出した。
【０２６９】
　以下、使用した化合物について説明する。
・
Ｂ−２：ＭＥＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製、コロイダルシリカ（平均粒子サイズ約１５ｎｍ）
・Ｂ−３：ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、日産化学工業（株）製、コロイダルシリカ（平均粒子サイズ約５０ｎｍ）
・Ｂ−４：ＭＥＫ−ＳＴ−ＺＬ、日産化学工業（株）製、コロイダルシリカ（平均粒子サイズ約８５ｎｍ）
・
ＳＩ−１：Ｒａｄ２６００、ＥＶＯＮＩＫ社製シリコーン変性アクリレート、数平均分子量：１６，０００
・
ＳＩ−２：Ｒａｄ２５００、ＥＶＯＮＩＫ社製シリコーン変性アクリレート、数平均分子量：１，５００
・
ＳＩ−３：サイラプレーンＦＭ−０７２５、下記式（２４）で示されるシリコーン化合物、チッソ社製、数平均分子量：１０，０００
【０２７０】
【化５５】
［式（２４）中、ｎは、化合物の数平均分子量が１０，０００となる整数である。］
・Ｆ−１：下記の化合物（前述のＸ−２２）
【０２７１】
【化５６】
【０２７２】
・
Ｆ−２：トリアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトール（下記構造）（ＬＩＮＣ３Ａ、共栄社化学製（ペンタエリスリトールテトラアクリレートを３５質量％含む））
【０２７３】
【化５７】
【０２７４】
・Ｆ−３：下記の化合物
【０２７５】
【化５８】
【０２７６】
・Ｆ−４：下記の化合物（前述のＸ−３１）
【０２７７】
【化５９】
【０２７８】
・Ｆ−５：下記の化合物（前述のＭ−１２）
【０２７９】
【化６０】
【０２８０】
・Ｆ−６：ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨ−Ｃ−（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）２Ｈ（ここで、“ＨＦＰＯ−”は、Ｆ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−においてｐの平均値が６〜７のもの）
・Ｆ−７：ＬＩＮＣ５Ａ（下記構造）（共栄社化学製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物）
【０２８１】
【化６１】
【０２８２】
・Ｆ−８：下記の化合物
【０２８３】
【化６２】
【０２８４】
・Ｆ−９：下記の化合物（前述のＦＭ−６）
【０２８５】
【化６３】
【０２８６】
・Ｆ−１０：下記の化合物（前述のＦＭ−１２）
【０２８７】
【化６４】
【０２８８】
・Ｆ−１１：下記の化合物（前述のＭＡ１４）
【化６５】
【０２８９】
・ＤＰＨＡ:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
・Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）ＮＫエステル）
・ＰＥＴ３０：ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
【０２９０】
・
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１２７：下記式（１６）で示される化合物、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製
【０２９１】
【化６６】
【０２９２】
（低屈折率層の作製）
　作製したハードコートフィルム試料ＨＣ１の上に低屈折率層形成用組成物Ｌｎ−１をグラビアコーターを用いて塗布し、反射防止フィルム試料Ｎｏ．１を得た。乾燥条件は６０℃、６０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。低屈折率層の膜厚は９５ｎｍとした。
【０２９３】
　
ハードコートフィルム試料、及び低屈折率層形成用組成物を表に示す組み合わせで使用した以外は反射防止フィルムＮｏ１と同様にしてそれぞれ反射防止フィルム試料Ｎｏ．２〜３５を得た。
【０２９４】
（反射防止フィルムの鹸化処理）
　作製した全ての反射防止フィルムに対して以下の処理を行った。１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した光学フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
　このようにして、
鹸化処理済みの反射防止フィルムを作製した
【０２９５】
（反射防止フィルムの評価）
　以下の方法により鹸化処理済みの反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表６に示す。
【０２９６】
（１）反射率
　反射防止フィルムの裏面に油性黒インキを塗った後、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、
３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５ °における出射角５ °の鏡面反射率を測定した
４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し（表６に「反射率」として記載）、反射防止性を評価した
【０２９７】
（２）ＳＷ（スチールウール）耐傷性試験
　ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなうことで、耐擦傷性の指標とした。
　　評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
　　こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００）
　　　試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。
　　移動距離（片道）：１３ｃｍ、
　　こすり速度：１３ｃｍ／秒、
　　荷重：５００ｇ／ｃｍ２、
　　先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復。
　こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察し、以下の基準で評価した。評価は上記テストを３回繰り返し、平均して５段階で評価した。
　　Ａ　：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
　　Ｂ　：非常に注意深く見ると僅かに傷が見える。
　　Ｃ　：弱い傷が見える。
　　Ｄ　：中程度の傷が見える。
　　Ｅ　：一目見ただけで分かる傷がある。
【０２９８】
（３）消しゴム耐摩耗性試験
　裏面に油性黒インキを塗ったガラス面上に反射防止フィルムを粘着剤で固定し、直径８ｍｍ、厚さ４ｍｍにくりぬいた消しゴム、ＭＯＮＯ（商品名、（株）トンボ鉛筆製）を擦り試験機のヘッドとして反射防止フィルムの表面に５００ｇ／ｃｍ２の荷重で垂直に上方から押し付けた後、２５℃６０ＲＨ％の条件下においてストローク長３．５ｃｍ、擦り速度１．８ｃｍ／ｓにて１００往復擦った後、付着した消しゴムを除去後、試料の擦り部を目視で確認し、表面の傷つき度合いを評価した。評価は上記テストを３回繰り返し、平均して４段階で評価した。
　　Ａ　：キズが視認されない。
　　Ｂ　：僅かにキズが認められる。
　　Ｃ　：はっきりとキズが認められる。
　　Ｄ　：擦りあと全面に強いキズが認められる。
【０２９９】
（４）表面抵抗値測定
　２０℃、１５％ＲＨ条件下に試料を２時間置いた後に超絶縁抵抗／微小電流計ＴＲ８６０１（（株）アドバンテスト製）を用いて測定し、表面抵抗値の常用対数（ｌｏｇＳＲ）で示した。ｌｏｇＳＲがより低い方が帯電防止性が良好であり、本発明においては１１．０未満であることが好ましい。
【０３００】
（５）白濁
　試料の裏側に油性黒インキを塗り、裏面の光反射を防止したＡ４サイズのサンプルを作製した。このサンプルを周囲が全て黒色の部屋で光を全て遮断し、太陽光源下で目視観察する事により以下の基準で評価した。
　　Ａ：注意深く見ても膜表面が白味がかっていることがわからない。
　　Ｂ：注意深く見ると膜表面がやや白味がかっているのがわかるが気にならない。
　　Ｃ：膜表面が白味を帯びており気になる。
　　Ｄ：一目見ただけで膜表面が白濁しているのがわかり非常に気になる。
【０３０１】
（６）白汚れ
　試料の裏側に油性黒インキを塗り、裏面の光反射を防止したＡ４サイズのサンプルを作製した。このサンプルの一部を木綿の布で拭いた後、周囲が全て黒色の部屋で光を全て遮断し、太陽光源下で目視観察する事により以下の基準で評価した。
　　Ａ：注意深く見ても拭き跡がわからない。
　　Ｂ：拭いたところの白味がなくなったのがうっすらと見える。
　　Ｃ：拭いたところの白味がなくなったのがはっきりと見える。
【０３０２】
（７）点状欠陥評価
　試料の裏側に油性黒インキを塗り、裏面の光反射を防止したサンプルを作製した。周囲が全て黒色の部屋で光を全て遮断し、三波長蛍光灯（ＦＬ２０ＳＳ・ＥＸ−Ｎ／１８（松下電器産業（株）製）の付いた電気スタンド（蛍光灯部に拡散シートを貼り拡散光とする）で試料面を照射し、３０ｍ２分の試料を目視観察する事により点状欠陥個数を数えた。
【０３０３】
（８）防汚性試験＜マジック拭き取り耐久性＞
　フィルムをガラス面上に粘着剤で固定し、２５℃６０ＲＨ％の条件下で黒マジック「マッキー極細（商品名：ＺＥＢＲＡ製）」のペン先（細）にて直径５ｍｍの円形を３周書き込み、５秒後に１０枚重ねに折り束ねたベンコット（商品名、旭化成（株））でベンコットの束がへこむ程度の荷重で５往復拭き取る。マジック後が拭き取りで消えなくなるまで前記の書き込みと拭き取りを前記条件で繰り返し、拭き取りできた回数により防汚性を評価する。
　消えなくなるまでの回数は５回以上であることが好ましく、１０回以上であることが更に好ましい。
【０３０４】
【表６】
【０３０５】
　また、いずれの実施例の光学フィルムにおいても、透明支持体として膜厚６０μｍのセルローストリアセテートフィルムの代わりに膜厚８０μｍのセルローストリアセテートフィルム（ＴＤＨ８０ＵＦ）、膜厚４０μｍのセルローストリアセテートフィルム（Ｔ４０ＵＺ）（以上、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）を用いた場合にも、本発明の実施例と同様の効果が得られた。」
　
　イ　引用発明
　前記（ア）〜（ウ）（特に（ウ））によると、甲第１３号証には、比較例に係る反射防止フィルム６（反射防止フィルム試料Ｎｏ．６）として、次の発明が記載されていると認められる（以下「引用発明１３」という。）。
「膜厚６０μｍの透明支持体としてのセルローストリアセテートフィルム（ＴＤＨ６０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、下記ハードコート層用塗布液ＨＣ−２をグラビアコーターを用いて塗布し、６０℃で約２分間乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコートフィルムＨＣ−２を形成し、
　作製したハードコートフィルムＨＣ−２の上に下記低屈折率層組成物をグラビアコーターを用いて塗布し、乾燥条件は６０℃ 、６０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２として、低屈折率層の膜厚が９５ｎｍの反射防止フィルム試料Ｎｏ６を得て、鹸化処理を行い、反射率が１．２０％である、反射防止フィルム。
　ここで、
　ハードコート層用塗布液ＨＣ−２は、多官能モノマー：Ａ−ＴＭＭＴ　９７％、Ｉｒｇ．１８４　３％、レベリング剤：ＦＰ１　０．１％、溶剤：ＭＥＫ／酢酸メチルからなり、
・Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ 新中村化学工業（株）ＮＫエステル）、
・Ｉｒｇ．１８４：光重合開始剤、イルガキュア１８４（チバ・ジャパン（株）製）、
・ＦＰ１：下記式で示されるフッ素含有レベリング剤、
・ＭＥＫ：メチルエチルケトン、
であり、
　低屈折率層組成物は、フッ素ポリマー：Ａ　２９％、フッ素モノマー：Ｆ−２　２５％、無機微粒子：Ｂ−１／Ｂ−２　３５％／５％、Ｉｒｇ．１２７　３％、シリコーン化合物：ＳＩ−１／ＳＩ−２／ＳＩ−３　１．５％／０．５％／１％からなり、各成分の添加量は「質量％」を表し、
・Ａ：エチレン性不飽和基を有する含フッ素重合体（メタアクリル変性フッ素重合体）、
・Ｆ−２：トリアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトール（下記構造）（ＬＩＮＣ３Ａ、共栄社化学製（ペンタエリスリトールテトラアクリレートを３５質量％含む））、
・Ｂ−１：特開２００２−７９６１６号公報の調製例４から調製時の条件を変更して、内部に空洞を有するシリカ微粒子を作製し、最終ステップで水分散液状態からメタノールに溶媒置換し、２０％シリカ分散液とし、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み約７ｎｍ、シリカ粒子の屈折率１．２５の粒子が得られ、これを分散液（Ａ−１）とし、分散液（Ａ−１）の５００部に対してアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２０部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５部加え混合した後に、イオン交換水を９部を加え、６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加し、総液量がほぼ一定になるようにＭＥＫを添加しながら減圧蒸留により溶媒を置換し、最終的に固形分が２０％になるように調節して調製した分散液、
・Ｂ−２：ＭＥＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製、コロイダルシリカ（平均粒子サイズ約１５ｎｍ）、
・Ｉｒｇ．１２７：下記式（１６）で示される化合物、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製、
・ＳＩ−１：Ｒａｄ２６００、ＥＶＯＮＩＫ社製シリコーン変性アクリレート、数平均分子量：１６，０００、
・ＳＩ−２：Ｒａｄ２５００、ＥＶＯＮＩＫ社製シリコーン変性アクリレート、数平均分子量：１，５００、
・ＳＩ−３：サイラプレーンＦＭ−０７２５、下記式（２４）で示されるシリコーン化合物、チッソ社製、数平均分子量：１０，０００、
［式（２４）中、ｎは、化合物の数平均分子量が１０，０００となる整数である。］、
である。」
　
（２）本件特許発明１について
　ア　対比
　本件特許発明１と引用発明１３とを対比する。
　（ア）引用発明１３の「ハードコートフィルムＨＣ−２」は、技術的にみて、本件特許発明１の「ハードコート層」に相当する。
　
　（イ）引用発明１３の「低屈折率層」は、技術的にみて、本件特許発明１の「低屈折層」に相当する。
　また、引用発明１３の「低屈折率層組成物」の構成（組成）からみて、「低屈折率層組成物」が光硬化した樹脂は、技術的にみて、低屈折率層のバインダー樹脂であるといえる。
　そうすると、引用発明１３の「低屈折率層組成物」が光硬化した樹脂は、本件特許発明１の「低屈折率層」の「バインダー樹脂」に相当する。
　（ウ）引用発明１３の「分散液」「Ｂ−１」の「内部に空洞を有するシリカ微粒子」は、「平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み約７ｎｍ」であるから、中空状の無機ナノ粒子であるといえる。
　そうすると、引用発明１３の「分散液」「Ｂ−１」の「内部に空洞を有するシリカ微粒子」は、本件特許発明１の「中空状無機ナノ粒子」に相当する。
　
　（エ）引用発明１３の「Ｂ−２」は、「ＭＥＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製、コロイダルシリカ（平均粒子サイズ約１５ｎｍ）」であるから、「Ｂ−２」のシリカ粒子は、無機ナノ粒子であるといえる。また、このコロイダルシリカの商品名、及びこのコロイダルシリカのシリカ粒子が「中空状シリカ微粒子」と区別され、対比されるものであることに鑑みると、引用発明１３の「Ｂ−２」のシリカ粒子は、中実状であるといえる。
　そうすると、引用発明１３の「Ｂ−２」のシリカ粒子は、本件特許発明１の「ソリッド状無機ナノ粒子」に相当する。
　（オ）引用発明１３の「低屈折率層」の形成方法からみて、引用発明１３の「分散液」「Ｂ−１」の「内部に空洞を有するシリカ微粒子」及び「Ｂ−２」のシリカ粒子は、「低屈折率層組成物」が光硬化した樹脂に分散しているといえる。
　（カ）前記（イ）〜（オ）により、引用発明１３の「低屈折率層」は、本件特許発明１の「低屈折層」における、「バインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子を含む」という要件を満たしている。
　（キ）引用発明１３の「反射防止フィルム」は、その文言のとおり、本件特許発明１の「反射防止フィルム」に相当する。また、前記（ア）〜（カ）及び引用発明１３の構成からみて、引用発明１３の「反射防止フィルム」は、本件特許発明１の「ハードコート層；およびバインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子を含む低屈折層；を含む」という要件を満たしている。
　（ク）前記（ウ）より、引用発明２の「中空状シリカ微粒子」は、本件特許発明１の「中空状無機ナノ粒子」における、「１０〜１００ｎｍの直径を有し」という要件を満たしている。
　また、前記（エ）より、引用発明２の「反応性シリカ微粒子」は、本件特許発明１の「ソリッド状無機ナノ粒子」における、「１〜３０ｎｍの直径を有し」という要件を満たしている。
　さらに、前記（ウ）及び（エ）より、引用発明２の「中空状シリカ微粒子」及び「反応性シリカ微粒子」は、本件特許発明１の「前記中空状無機ナノ粒子の直径は、前記ソリッド状無機ナノ粒子の直径よりも大きく」という要件を満たしている。
　
　イ　一致点
　上記アによると、本件特許発明１と引用発明１３は次の点で一致する。
　「ハードコート層；およびバインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した中空状無機ナノ粒子およびソリッド状無機ナノ粒子を含む低屈折層；を含む反射防止フィルムであって、
　前記ソリッド状無機ナノ粒子が、１〜３０ｎｍの直径を有し、前記中空状無機ナノ粒子が、１０〜１００ｎｍの直径を有し、前記中空状無機ナノ粒子の直径は、前記ソリッド状無機ナノ粒子の直径よりも大きい、反射防止フィルム。」
　
　ウ　相違点
　他方、本件特許発明１と引用発明１３は次の点で相違する。
（相違点Ａ）
　本件特許発明１は、「前記低屈折層は、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第１層と、前記中空状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第２層とを含み、前記ハードコート層と前記低屈折層との界面に前記第１層の一面が接し、前記第１層の他の一面上に前記第２層が形成されており、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面近くにソリッド状無機ナノ粒子が中空状無機ナノ粒子より多く分布して」いるのに対し、引用発明１３は、そのような構成を有するのかが明らかでない点。
　
（相違点Ｂ）
　本件特許発明１は、「前記ソリッド状無機ナノ粒子が、前記中空状無機ナノ粒子に比べて０．５０ｇ／ｃｍ３以上高い密度を有し、前記中空状無機ナノ粒子の密度が１．５０ｇ／ｃｍ３〜３．５０ｇ／ｃｍ３であ」るのに対し、引用発明２は、そのような構成を有するのかが明らかでない点。
　
（相違点Ｃ）
　本件特許発明１は、「前記ソリッド状無機ナノ粒子および前記中空状無機ナノ粒子それぞれは、表面に（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）、およびチオール基（Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選択された１種以上の反応性官能基を含有」するのに対し、引用発明２は、そのような構成を有するのかが明らかでない点。
　
（相違点Ｄ）
　本件特許発明１は、「前記バインダー樹脂が、光重合性化合物の（共）重合体および光反応性官能基を含む含フッ素化合物の間の架橋（共）重合体を含んでなり、前記光重合性化合物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサエチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、及びこれらの２種以上の混合物；またはウレタン変性アクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、エーテルアクリレートオリゴマー、デンドリティックアクリレートオリゴマー、及びこれらの２種以上の混合物よりなる群から選択され」るのに対し、引用発明１３は、そのような構成を有するのかが明らかでない点。
（相違点Ｅ）
　「低屈折層」が、本件特許発明１は、「前記光重合性化合物１００重量部対比、前記中空状無機ナノ粒子１０〜４００重量部および前記ソリッド状無機ナノ粒子６３〜４００重量部を含」むのに対し、引用発明１３は、そのような構成を有するのかが明らかでない点。
（相違点Ｆ）
　本件特許発明１は、「Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８〜０．１２５６ｎｍ−１の散乱ベクトルで１つのピーク（ｑｍａｘ）を示す」のに対し、引用発明２は、そのような構成を有するのかが明らかでない点。
　
（相違点Ｇ）
　本件特許発明１は、「３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光線波長帯領域で０．７％以下の平均反射率を示す」のに対し、引用発明２は、反射率が１．２０％である点。
　
　エ　判断
　事案に鑑み、相違点Ｃ、相違点Ｅ及び相違点Ｇについて検討する。
　（ア）相違点Ｃについて
　引用発明１３と同様の構成を有する反射防止フィルムにおいて、「Ｂ−２」のシリカ微粒子のような中実シリカ微粒子及び「Ｂ−１」の「内部に空洞を有するシリカ微粒子」のような中空状シリカ微粒子それぞれの表面に（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）、およびチオール基（Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選択された１種以上の反応性官能基を含有させることは、特許異議申立人が提出した甲第１号証〜甲第１６号証に記載されていないし、当該技術的事項が公知又は周知であることを示す他の証拠を発見しない。
（当合議体注：特許異議申立人が提出した甲第６号証（国際公開第２０１２／１５７６８２号）及び甲第８号証（特開２００９−２４４３８２号公報）のいずれにも、中実シリカ微粒子及び中空状シリカ微粒子それぞれの表面に特定の反応性官能基を含有させることは記載されていない。）
　したがって、引用発明１３において、相違点Ｃに係る本件特許発明１の構成を採用することは、当業者が容易になし得たことであるとはいえない。
　
（イ）相違点Ｅ及びＧについて
　技術的な関連性に鑑み、相違点Ｅ及び相違点Ｇを併せて検討する。
　ａ　甲第１３号証の「低屈折率層用組成物における（ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体の含有量は、特に制限されるものではないが、硬化塗膜の屈折率、耐擦傷性の観点から、組成物の全固形分に対して１０〜６０質量％であることが好ましく、１５〜５５質量％であることがより好ましく、２０〜５０質量％であることが更に好ましい」（【００６３】）、「低屈折率層用組成物における（ｂ）フッ素含有多官能モノマーの含有量は、特に制限されるものではないが、耐擦傷性付与、面状故障を防ぐという観点から、組成物の全固形分に対して５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることがより好ましく、１０〜３０質量％であることが更に好ましい」（【０１０２】）、「低屈折率層用組成物における（ｃ）中空シリカ微粒子の含有量は、低屈折率と耐擦傷性の観点から、組成物の全固形分に対して１０〜７０質量％であることが好ましく、２０〜５０質量％であることがより好ましく、３０〜５０質量％ であることが更に好ましい」（【０１１０】）及び「低屈折率層用組成物における（ｅ）中実シリカ微粒子の含有量は、耐磨耗性、低屈折率化の観点から、組成物の全固形分に対して０．１〜１０質量％であり、２〜８質量％であることが好ましく、３〜６質量％であることがより好ましい」（【０１１２】）という記載に接した当業者が、引用発明１３において、相違点Ｅに係る本件特許発明１の構成を具備するように設計変更を試みることは一応あり得るかもしれない。
　しかしながら、中実シリカ微粒子の含有量を相対的に大きくすると、低屈折率層の屈折率も大きくなり、ひいては反射防止フィルムの平均反射率も大きくなることは技術常識である。そうすると、前記のように設計変更された反射防止フィルムは、引用発明１３の「反射防止フィルム」の反射率（１．２０％）よりも大きな反射率を有することになり、相違点Ｇに係る本件特許発明１の構成を具備しないことになる。
　
　ｂ　また、引用発明１３（反射率１．２０％）と同様の構成を有する反射防止フィルムにおいて、相違点Ｇに係る本件特許発明１の構成（「３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光線波長帯領域で０．７％以下の平均反射率を示す」）とする技術的事項は、特許異議申立人が提出した甲第１号証〜甲第１６号証に記載されていないし、当該技術的事項が公知又は周知であることを示す他の証拠を発見しない。
（当合議体注：特許異議申立人が提出した甲第１１号証（特開２０１３−２２８７４１号公報）には、平均反射率が０．７％以下の反射防止フィルムが記載されているが、甲第１１号証に記載された発明は、「Ｂ−２」のシリカ微粒子のような中実シリカ微粒子を含んでおらず、引用発明１３と同様の構成を有する反射防止フィルムとはいえない。）
　また、引用発明１３のどの構成をどのように設計変更すれば、相違点Ｅを具備しつつも、相違点Ｇに係る本件特許発明１の構成を満たす「反射防止フィルム」に想到し得るのかを示す証拠も発見しない。
　例えば、平均反射率をさらに低くするために、引用発明１３において、「Ｂ−１」の「内部に空洞を有するシリカ微粒子」の含有量を多くすることも一応考えられる。しかしながら、引用発明１３において、「Ｂ−１」の「内部に空洞を有するシリカ微粒子」の含有量を多くすれば、反射率が０．７％以下となるのかは不明であるし、仮に反射率が０．７％以下になるとしても、「Ｂ−１」の「内部に空洞を有するシリカ微粒子」の含有量をどの程度多くすればよいのかは不明である。さらに、引用発明１３において、「Ｂ−１」の「内部に空洞を有するシリカ微粒子」の含有量を多くすれば、引用発明１３の他の構成（例えば、「Ｂ−１」の「内部に空洞を有するシリカ微粒子」と「Ｂ−２」のシリカ微粒子（中実シリカ微粒子）の配置（分布）状態、「低屈折率層組成物」の構成（組成）等）も変更されてしまい、変更後の引用発明１３が、後記（ウ）に示すような効果を奏するかは不明であるから、当業者がそのような設計変更をする動機付けがあるとまではいえない。
ｃ　前記ａ及びｂを総合すると、引用発明１３において、相違点Ｅ及びＧに係る本件特許発明１の構成を採用することは、当業者が容易になし得たことであるとはいえない。
（当合議体注：前記ａ及びｂの理由により、特許異議申立人が提出した甲第１４号証（特開２００７−７８７１１号公報）に記載された技術的事項が周知技術であったとしても、引用発明１３において、相違点Ｅ及びＧに係る本件特許発明１の構成を採用することは、当業者が容易になし得たことであるとはいえない。）
　（ウ）本件特許発明１は、前記相違点Ｃ、相違点Ｅ及び相違点Ｇに係る本件特許発明１の構成を有することにより、「低い反射率および高い透光率を有しかつ、高い耐スクラッチ性および防汚性を同時に実現することができ、ディスプレイ装置の画面の鮮明度を高めることができる」（本件特許明細書【０１４８】）という効果を奏するものである。
　オ　甲第１３号証に実施例又は比較例として記載された反射防止フィルムＮｏ７〜２８、３１〜３５を主引用発明としても、前述したのと同様である。
　
　カ　小括
　したがって、本件特許発明１は、甲第１３号証に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
　
（３）本件特許発明２、３、６〜１０及び１５〜１８について
　本件特許の特許請求の範囲の請求項２、３、６〜１０及び１５〜１８は、いずれも、請求項１を直接又は間接的に引用するものであって、本件特許発明２、３、６〜１０及び１５〜１８は、本件特許発明１の構成を全て具備し、これに限定を加えたものに該当する。そうすると、前記（２）のとおり、本件特許発明１が、甲第１３号証に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない以上、本件特許発明２、３、６〜１０及び１５〜１８も、甲第１３号証に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない
　
３　委任省令要件・実施可能要件について
（１）委任省令要件
　本件特許明細書の発明の詳細な説明の【０００９】、【００２０】〜【００２２】、【００３５】、【００３６】及び【０１７８】〜【０１８４】の記載から、当業者であれば、本件特許発明１〜３、６〜１０及び１５〜１８の「Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８〜０．１２５６ｎｍ−１の散乱ベクトルで１つのピーク（ｑｍａｘ）を示す」という発明特定事項と「低い反射率および高い透光率を有しかつ、高い耐スクラッチ性および防汚性を同時に実現する」（同明細書【０００９】)という発明が解決しようとする課題との関係を理解できる。
（当合議体注：前記発明特定事項により前記発明が解決しようとする課題を解決できるとする理由（いわゆる因果関係）まで本件特許明細書に記載する必要はない。また、本件特許明細書には、本件特許発明１〜３、６〜１０及び１５〜１８の発明特定事項ではない「散乱ベクトルのピークが０．１２５６ｎｍ−１を超える領域」における耐スクラッチ性及び防汚性低下のデータを示す必要はない。なお、本件特許明細書には、ｑｍａｘが（０．１２５６ｎｍ−１を超える）０．１２７ｎｍ−１（図１７との対比により、表２の比較例２のｑｍａｘの値「０．０１２７」は、「０．１２７」の誤記である。）、耐スクラッチ性及び防汚性が低下した比較例２が記載されている。）
　したがって、当業者が発明の技術上の意義を理解するために必要な事項が発明の詳細な説明に記載されている。
　
（２）実施可能要件
　本件特許明細書の発明の詳細な説明の【００４３】、【００４４】、【００９６】、【０１２２】〜【０１２４】、【０１２７】及び【０１７８】〜【０１８４】の記載から、当業者であれば、本件特許発明１〜３、６〜１０及び１５〜１８の「低屈折層」の「第１層」と「第２層」を相分離させることができることを理解できる。
　したがって、本件特許明細書の発明の詳細な説明の記載は、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものである。
　
４　明確性要件について
　ＴＥＭを用いて層の断面を観察することは、本件特許発明の技術分野において通常使用されている手法であるから、ＴＥＭを用いて層の断面を観察する際に通常生じる誤差、変動要因等は、特許明細書等にその解消方法についての記載がなくても、ＴＥＭを用いた手法に精通した当業者であれば解消できるものである。
　そうすると、ＴＥＭを用いて「低屈折層」の断面を観察することにより求められる「ソリッド状無機ナノ粒子」及び「中空状無機ナノ粒子」の体積割合の範囲を特定することができる。
　したがって、請求項１〜３、６〜１０及び１５〜１８に係る発明は、明確である。
第６　特許異議申立人の意見について
　令和３年５月１７日付け意見書における特許異議申立人の主張については、前記「第５　当合議体の判断」「１　進歩性（１）について 」「（２）」「エ」（ア）〜（エ）、「２　進歩性（２）について」「（２）」「エ」（ア）〜（ウ）、「３　委任省令要件・実施可能要件について」「（１）」及び「（２）」並びに「４　明確性要件について」において個別に述べたとおりであり、採用することができない。
第７　取消理由通知（決定の予告）において採用しなかった特許異議申立理由について
１　新規性について
　「第５　当合議体の判断」「２　進歩性（２）について」「（２）」及び「（３）」で検討したとおり、本件特許発明１〜３、６〜１０及び１５〜１８は、本件優先日前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である甲第１３号証に記載された発明であるとはいえない。
２　サポート要件について
　本件特許明細書の発明の詳細な説明の【００２０】〜【００２２】、【００３５】、【００３６】及び【０１７８】〜【０１８４】等の記載からみて、本件特許発明１〜３、６〜１０及び１５〜１８は、発明の詳細な説明において発明の課題（同【０００９】）が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものではない。
　したがって、本件特許発明１〜３、６〜１０及び１５〜１８は、発明の詳細な説明に記載されたものである。
第８　むすび
１　請求項１〜３、６〜１０及び１５〜１８に係る特許は、いずれも、特許異議申立書に記載した特許異議申立理由によっては取り消すことはできない。また、他に請求項１〜３、６〜１０及び１５〜１８に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
２　本件特許の請求項４、５及び１１〜１４は、本件訂正請求による訂正で削除された。これにより、特許異議申立人による特許異議の申立てについて、本件特許の請求項４，５及び１１〜１４に係る申立ては、申立ての対象が存在しないものとなったため、特許法第１２０条の８第１項で準用する同法第１３５条の規定により却下する。
３　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
令和３年７月１日（２０２１．７．１）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　
ハ
む反射防止フィルムであって
　前記低屈折層は、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第１層と、前記中空状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第２層とを含み、
　前記ハードコート層と前記低屈折層との界面に前記第１層の一面が接し、
　前記第１層の他の一面上に前記第２層が形成され
ており
　
前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面近くにソリッド状無機ナノ粒子が中空状無機ナノ粒子より多く分布しており、
　
前記ソリッド状無機ナノ粒子が、前記中空状無機ナノ粒子に比べて０．５０ｇ／ｃｍ３以上高い密度を有し、前記中空状無機ナノ粒子の密度が１．５０ｇ／ｃｍ３〜３．５０ｇ／ｃｍ３であり
　
前記ソリッド状無機ナノ粒子が、１〜３０ｎｍの直径を有し、前記中空状無機ナノ粒子が、１０〜１００ｎｍの直径を有し、前記中空状無機ナノ粒子の直径は、前記ソリッド状無機ナノ粒子の直径よりも大きく、
　
前記ソリッド状無機ナノ粒子および前記中空状無機ナノ粒子それぞれは、表面に（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）、およびチオール基（Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選択された１種以上の反応性官能基を含有し、
　
前記バインダー樹脂が、光重合性化合物の（共）重合体および光反応性官能基を含む含フッ素化合物の間の架橋（共）重合体を含んでなり、前記光重合性化合物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサエチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、及びこれらの２種以上の混合物；またはウレタン変性アクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、エーテルアクリレートオリゴマー、デンドリティックアクリレートオリゴマー、及びこれらの２種以上の混合物よりなる群から選択され、
　
前記低屈折層は、前記光重合性化合物１００重量部対比、前記中空状無機ナノ粒子１０〜４００重量部および前記ソリッド状無機ナノ粒子６３〜４００重量部を含み、
　
Ｘ線照射による小角散乱で定義される散乱ベクトルに対する散乱強度のｌｏｇ値のグラフにおいて、０．０７５８〜０．１２５６ｎｍ−１の散乱ベクトルで１つのピ一ク（ｑｍａｘ）を示し、及び、
　
３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光線波長帯領域で０．７％以下の平均反射率を示す、
　【請求項２】
　前記Ｘ線照射による小角散乱は、１ｃｍ×１ｃｍ（横×縦）の大きさの反射防止フィルムに対して、０．６３Å〜１．５４Åの波長のＸ線を４ｍの距離から照射して測定する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
　【請求項３】
　前記散乱ベクトルは、下記一般式１で定義される、請求項１に記載の反射防止フィルム：
［一般式１］
　ｑ＝４π　ｓｉｎθ／λ
　前記一般式１において、ｑは、散乱ベクトルであり、θは、散乱角度の１／２値であり、λは、照射されたＸ線の波長である。
　【請求項４】
　
（削除）
　【請求項５】
　
（削除）
　【請求項６】
　前記中空状無機ナノ粒子全体中の３０体積％以上が、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体より、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面から前記低屈折層の厚さ方向により遠い距離に存在する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
　【請求項７】
　前記ハードコート層と前記低屈折層との界面から前記低屈折層全体厚さの３０％以内に前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が存在する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
　【請求項８】
　前記ハードコート層と前記低屈折層との界面から前記低屈折層全体厚さの３０％超過の領域に前記中空状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が存在する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
　【請求項９】
　前記低屈折層は、前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第１層と、前記中空状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第２層とを含み、
　前記第１層が、第２層に比べて、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面により近く位置する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
　【請求項１０】
　前記ソリッド状無機ナノ粒子全体中の７０体積％以上が含まれている第１層は、前記ハードコート層および前記低屈折層の間の界面から前記低屈折層全体厚さの５０％以内に位置する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
　【請求項１１】
　
（削除）
　【請求項１２】
　
（削除）
　【請求項１３】
　
（削除）
　【請求項１４】
　
（削除）
　【請求項１５】
　前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物はそれぞれ、２，０００〜２００，０００の重量平均分子量を有する、
請求項１
　【請求項１６】
　前記バインダー樹脂は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部に対して、前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物を２０〜３００重量部含む、
請求項１
　【請求項１７】
　前記ハードコート層は、光硬化性樹脂を含むバインダー樹脂および前記バインダー樹脂に分散した有機または無機微粒子；を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
　【請求項１８】
　前記有機微粒子は、１〜１０μｍの粒径を有し、
　前記無機微粒子は、１ｎｍ〜５００ｎｍの粒径を有する、請求項１７に記載の反射防止フィルム。