(57)【要約】【課題】可能な限り簡素な構成にて、ディスプレイフィルターとして必要な特性（電磁波遮蔽等）を維持しつつ、透過率と明所コントラスト、視野角の３者を両立可能なディスプレイ用フィルターを提供する。【解決手段】電磁波遮蔽部材の一方の面に複数の凸レンズを有する集光部が形成され、該電磁波遮蔽部材の他方の面に、凸レンズの光軸位置に開口部を、開口部以外に遮光部を有する光吸収部が形成された構造を含むディスプレイ用フィルターであって、該ディスプレイ用フィルターが透明基材を１枚のみ含み、反射防止層、集光部、電磁波遮蔽部材、光吸収部、粘着部の順で積層されていることを特徴とするディスプレイ用フィルター【選択図】図１
2010181601.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波遮蔽部材の一方の面に複数の凸レンズを有する集光部が形成され、該電磁波遮蔽部材の他方の面に、前記凸レンズの光軸位置に開口部を、該開口部以外に遮光部を有する光吸収部が形成された構造を含むディスプレイ用フィルターであって、透明基材を１枚のみ有し、反射防止層、集光部、電磁波遮蔽部材、光吸収部、粘着部がこの順で積層されていることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項２】
前記反射防止層が、前記凸レンズの形状に追随した凸部形状を有する請求項１に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項３】
前記凸部形状が、次の範囲である請求項２に記載のディスプレイ用フィルター。
０．０５＜（Ｚ１／Ｙ１）＜０．１５
ここで、凸部形状とはディスプレイフィルター表面の凸レンズの形状に追随した形状を指し、Ｙ１は透明基材面に平行な方向の凸部形状の最大長さ（Ｘ１）に直交する方向の凸部形状の最大長さを示し、Ｚ１は前記凸レンズの最大厚みと反射防止層の厚みの合計厚みを示す。
【請求項４】
前記凸部形状が、次の範囲にある請求項２または３に記載のディスプレイ用フィルター。
１．０≦（Ｘ１／Ｙ１）≦１．５
ここで、Ｘ１は透明基材面に平行な方向の凸部形状の最大長さ、Ｙ１はＸ１に直交する方向の凸部形状の最大長さを示す。
【請求項５】
前記光吸収部の面積１００％に占める前記開口部の面積割合が、４０％以上７０％以下である請求項１から４のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項６】
前記開口部の形状が、次の範囲にある請求項１から５のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
１．３≦（Ｘ２／Ｙ２）
ここで、Ｘ２は透明基材面に平行な方向の開口部の最大長さ、Ｙ２は透明基材面に平行でかつＸ２に対して垂直な方向の開口部の最大長さを示す。
【請求項７】
前記凸部形状と前記開口部の形状が、次の範囲にある請求項２から６のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
１．３≦（Ｘ２／Ｙ２）／（Ｘ１／Ｙ１）
ここで、Ｘ１は透明基材面に平行な方向の凸部形状の最大長さ、Ｙ１はＸ１に直交する方向の凸部形状の最大長さ、Ｘ２は透明基材面に平行な方向の開口部の最大長さ、Ｙ２は透明基材面に平行でかつＸ２に対して垂直な方向の開口部の最大長さ、を示す。
【請求項８】
前記透明基材面に平行な方向の凸部形状の最大長さＸ１が、４０μｍ以上７５μｍ以下である請求項２から７のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項９】
電磁波遮蔽部材の一方の面に複数の凸レンズを有する集光部が形成され、該電磁波遮蔽部材の他方の面に、前記凸レンズの光軸位置に開口部を、該開口部以外に遮光部を有する光吸収部が形成された構造を含むディスプレイ用フィルターの製造方法であって、集光部上に反射防止層をウェットコーティングにより形成することを特徴とするディスプレイ用フィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はディスプレイの前面に設置し、ディスプレイの性能、特にディスプレイに外光が当たった時のコントラスト低下等による画質の低下を防止する機能を有し，さらに映り込み防止（防眩性），電磁波遮蔽，防汚，耐傷，近赤外光遮蔽等の機能を有するディスプレイ用フィルターに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、薄型で大画面のディスプレイが急速に市場を広げている。薄型、大画面のディスプレイとしては液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、リアプロジェクションテレビなどがある。さらに次世代のディスプレイとして，有機ＥＬディスプレイ又はＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ：電界放出ディスプレイ）の研究も進んでいる。いずれのディスプレイも技術の進展はめざましく、それぞれの方式の欠点は年を追うごとに解消されているが、明るい室内でのコントラスト（明所コントラスト）が低いという欠点はプラズマディスプレイにおいて改善の余地が大きい。コントラストは白表示と黒表示の明るさの比で表される。外光が存在しない場合のコントラスト（暗所コントラスト）は自発光型であるプラズマディスプレイ、有機ＥＬ、ＦＥＤなどのディスプレイが高い。これは発光を停止することにより完全な黒表示が可能なためである。
【０００３】
一方、明所コントラストは液晶ディスプレイの方が高い。ディスプレイ内部にカラーフィルター及び偏光板などの光を吸収する光学部材を備えており、ディスプレイ内部に入射した外光が再度ディスプレイ表面から出射されることはほとんどないためである。プラズマディスプレイや有機ＥＬ、ＦＥＤでは、一般にディスプレイ内部にカラーフィルターや偏光板はなく、入射した外光がディスプレイ内部に入り込み、内部の電極などで反射されて再度ディスプレイ表面から出射されることにより、完全な黒表示ができないため明所コントラストが低くなる。
【０００４】
近年では，光線制御部材と呼ばれる外光によるコントラストの低下を抑制、または視野角を制御する機能を有する部材として、光吸収部がストライプ状に複数配列された部材や，遮光部とレンズ部を組み合わせた部材が提案されており、さらにそれを含むディスプレイ用フィルター，またはそれらを使用したディスプレイも提案されている。（特許文献１，２、３）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−０６６２０６号公報
【特許文献２】特開２００６−１７１７１２号公報
【特許文献３】特開２００６−２５３３３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら，前述の光線制御部材を使用する場合には、発光源側からの光透過率の低下による輝度低下が課題であった。また、外光によるコントラストの低下を抑制するにあたり、プラズマディスプレイ等のディスプレイパネルの持つ広い視野角を可能な限り損なわないことが必要とされる。さらに、ディスプレイ用フィルターには低コスト化が求められている中、従来技術の光線制御部材はアスペクト比が２を超えるような高アスペクト比を必要とするため、複雑な製造プロセスを必要としている。したがって、本発明の課題は次の２点に集約される。第一課題は、ディスプレイパネルの輝度を低下、視野角を縮小させることなく明所でのコントラストを高めることである。第二課題は、簡素な構成にて、ディスプレイフィルターとして必要な特性（電磁波遮蔽等）を維持しつつ、上記課題を達成することである。これら課題に対して，従来技術では次のような対策を行っている。
【０００７】
特許文献１の提案では、ストライプ状の２枚の光線制御部材をストライプが直行するように組み合わせて明所でのコントラストを高めると共に、発光源側からの出射光の一部を光吸収部表面にて屈折させて，光透過率を高めることを目指しているが，その効果は不十分であり、また視野角が大きく制限されてしまう。さらに本発明の手法についても着想に至っていない。特許文献２の提案では、本発明者らが確認したところ特許明細書に記載の手法ではコントラストの向上には効果があるが、光透過率に対しては不十分であった。また、本発明の手法についても着想に至っていない。特許文献３の提案について、本発明者らが確認したところ特許明細書に記載の手法ではコントラストの向上には効果があるが、光透過率に対しては不十分であった。また、本発明の手法についても着想に至っていない。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は，以下本発明によって達成することができる。即ち以下である。
（１）電磁波遮蔽部材の一方の面に複数の凸レンズを有する集光部が形成され、該電磁波遮蔽部材の他方の面に、前記凸レンズの光軸位置に開口部を、該開口部以外に遮光部を有する光吸収部が形成された構造を含むディスプレイ用フィルターであって、透明基材を１枚のみ有し、反射防止層、集光部、電磁波遮蔽部材、光吸収部、粘着部がこの順で積層されていることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
（２）前記反射防止層が、前記凸レンズの形状に追随した凸部形状を有する（１）に記載のディスプレイ用フィルター。
（３）前記凸部形状が、次の範囲である（２）に記載のディスプレイ用フィルター。
【０００９】
０．０５＜（Ｚ１／Ｙ１）＜０．１５
ここで、凸部形状とはディスプレイフィルター表面の凸レンズの形状に追随した形状を指し、Ｙ１は透明基材面に平行な方向の凸部形状の最大長さ（Ｘ１）に直交する方向の凸部形状の最大長さを示し、Ｚ１は前記凸レンズの最大厚みと反射防止層の厚みの合計厚みを示す。
（４）前記凸部形状が、次の範囲にある（２）または（３）に記載のディスプレイ用フィルター。
【００１０】
１．０≦（Ｘ１／Ｙ１）≦１．５
ここで、Ｘ１は透明基材面に平行な方向の凸部形状の最大長さ、Ｙ１はＸ１に直交する方向の凸部形状の最大長さを示す。
（５）前記光吸収部の面積１００％に占める前記開口部の面積割合が、４０％以上７０％以下である（１）から（４）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
（６）前記開口部の形状が、次の範囲にある（１）から（５）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【００１１】
１．３≦（Ｘ２／Ｙ２）
ここで、Ｘ２は透明基材面に平行な方向の開口部の最大長さ、Ｙ２は透明基材面に平行でかつＸ２に対して垂直な方向の開口部の長さを示す。
（７）前記凸部形状と前記開口部の形状が、次の範囲にある（２）から（６）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
１．３≦（Ｘ２／Ｙ２）／（Ｘ１／Ｙ１）
ここで、Ｘ１は透明基材面に平行な方向の凸部形状の最大長さ、Ｙ１はＸ１に直交する方向の凸部形状の最大長さ、Ｘ２は透明基材面に平行な方向の開口部の最大長さ、Ｙ２は透明基材面に平行でかつＸ２に対して垂直な方向の開口部の長さ、を示す。
（８）前記透明基材面に平行な方向の凸部形状の最大長さＸ１が、４０μｍ以上７５μｍ以下である（２）から（７）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
（９）電磁波遮蔽部材の一方の面に複数の凸レンズを有する集光部が形成され、該電磁波遮蔽部材の他方の面に、前記凸レンズの光軸位置に開口部を、該開口部以外に遮光部を有する光吸収部が形成された構造を含むディスプレイ用フィルターの製造方法であって、集光部上に反射防止層をウェットコーティングにより形成することを特徴とするディスプレイ用フィルターの製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
電磁波遮蔽、映り込み防止などのディスプレイフィルターとして必要な特性を維持しつつ、簡素な構成にて、ディスプレイパネルの輝度を低下、視野角を縮小させることなく明所でのコントラストを高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明のディスプレイ用フィルターの断面図の例
【図２】本発明のディスプレイ用フィルターの集光部を視認側から見た形状と、反射防止層と集光部の断面図の例
【図３】本発明のディスプレイ用フィルターの光吸収部を発光源側から見た形状
【図４】本発明のディスプレイ用フィルターの断面図の例
【図５】本発明のディスプレイ用フィルターの集光部を視認側から見た形状と、光吸収部を発光源側から見た形状の例
【図６】本発明のディスプレイ用フィルターの製造方法の例
【図７】本発明のディスプレイ用フィルターの製造方法の例
【図８】実施例で使用した集光部形成用のモールドの形状の例
【図９】本発明で使用した露光方法の概念図
【図１０】比較例のディスプレイ用フィルターの断面図
【図１１】比較例のディスプレイ用フィルターの断面図
【図１２】比較例のディスプレイ用フィルターの断面図
【図１３】比較例のディスプレイ用フィルターの断面図
【図１４】比較例のディスプレイ用フィルターの断面図
【図１５】比較例のディスプレイ用フィルターの断面図
【図１６】比較例のディスプレイ用フィルターの光線制御部材の表面形状
【図１７】比較例のディスプレイ用フィルターの光線制御部材の断面形状
【図１８】比較例のディスプレイ用フィルターの断面形状
【発明を実施するための形態】
【００１４】
具体的な形態を説明する前に、本発明のメカニズムについて説明する。まず，公知技術に関して，前述の第一から第二課題が達成できない理由を考察する。
【００１５】
特許文献１の光線制御部材は光線透過方向に沿って厚い光吸収部を設けることにより，視認側からある角度を持って入射した光線（外光）が光透過部を通過する前に光吸収部に入射するか，光線制御部材表面に入射するとき，光吸収部に入ることによって吸収されることよるものと考えられる。一方で、プラズマパネルディスプレイなどの表示パネルから出射する光は、その光量分布（発光パターン）がほぼ一様なランベルト分布となって放射状に出射される。特許文献１の光線制御部材は発光源からの光の透過方向に沿って光吸収部が存在すると、発光源から光線制御部材に入射可能な光の入射角が制限されるため大幅なロスが生じ、同時に視認側の視野角も制限を受ける。そのため、明所でのコントラストを高めようとすると、光透過率の低下と視野角の縮小が発生し、前述の第一課題を達成することができない。さらに、光の透過方向に沿って光吸収部を設ける必要があることからアスペクト比の高い成型体を必要とし、またディスプレイフィルターとして機能するためにするためには反射防止部材、電磁波遮蔽部材、近赤外光遮蔽部材を必要とするため貼り合わせを必要とし、第二の課題も達成することもできない。
【００１６】
特許文献２、特許文献３にて、視認側から入射する外光を遮蔽する光線制御機能を発現する原理は，発光源側に集光部としてレンズを用い、そのレンズにより集光することにより光路を狭め、光路を狭めた部分以外のところに光吸収部を設けることによって、外光の吸収と発光源からの光透過を両立しようとするものである。確かにこの構造は、発行源側からの入射光がほぼ平行な（入射光の進行方向が光線制御部材の法線方向とほぼ等しい）場合には、良好に光を集束でき、高い光透過率を得ると共に、光吸収部により外光を遮蔽することができる。しかしながら、前述のようにプラズマパネルディスプレイなどの発光源から出射する光は、その光量分布（発光パターン）がほぼ一様なランベルト分布となっているため、このような放射状の光を良好に集光することが困難である。よって、特許文献２、特許文献３の技術では、発光源側から光線制御部材に入射される光の多くは、光吸収層で吸収されるか、レンズ表面で散乱されることになり、光線制御部材からの出射光量が低下し、その結果光線制御部材の透過率が低くなり、第一の課題を達成することができない。以上の結果、公知技術では第一、第二課題のすべてを達成することはできない。
【００１７】
次に、本発明が前述の第一課題と第二課題を解決可能な理由を述べる。本発明ではプラズマパネルディスプレイなどの表示パネルから出射する光の特性、すなわち放射光状の光に適合させるため、ディスプレイの視認側に凸レンズを有する集光部を設けることにより、視認側正面方向の輝度を高め、発光源側を平坦にして広い入射角が得られた。次いで凸レンズの反対面に、凸レンズの光軸位置と中心が一致した開口部を、それ以外に遮光部を有する光吸収部を形成することにより、広い視野角を確保しながら外光を遮蔽することを達成した。また、集光部の凸レンズ表面に反射防止層を形成し、それをディスプレイフィルターの表面に用いることにより、反射防止部材の機能を前記集光部に統合した。さらに、凸レンズ表面に反射防止層を形成した集光部を電磁波遮蔽部材の一方の面に、もう一方の面に前記光吸収部を設け、反射防止層、集光部、電磁波遮蔽部材、光吸収部、粘着部の順で積層することにより、反射防止または映り込み防止フィルム、電磁波遮蔽フィルム、光線制御部材の３枚を必要とする機能を１枚の透明基材上に形成することができる。これにより、透明基材の削減によるコストの大幅削減と、複数の透明基材による吸収と、基材界面での反射に起因する光透過率の低下を減少させることができ、前述の第一、第二課題を同時に達成することができた。この１枚の透明基材は、反射防止層、集光部、電磁波遮蔽部材、光吸収部等のどの部材に用いられてもよいが、好ましいのは電磁波遮蔽部材である。
【００１８】
以下、本発明の実施の形態について具体的に述べる。図１は本発明のディスプレイ用フィルターの１例である。従って、必ずしもこれに限定されない。図１は、ディスプレイ用フィルター１が、ディスプレイパネルのガラス１２の上に、粘着部１０の一方の面を介して貼り付けられている状態を示す。断面図中では、上方が視認側（電磁波遮蔽部材に対して集光部側から見る）、下方が発光源側（電磁波遮蔽部材に対して粘着部側から見る）に設置されていることを示す。
ここでディスプレイ用フィルターとは、プラズマパネルディスプレイ等のディスプレイパネルのガラス表面、もしくはその前面に空間を持って設置されたガラス表面に貼り付けられ、電磁波遮蔽、近赤外光遮蔽、色相調整、反射防止、防汚、耐傷、帯電防止、加えて明所コントラスト向上、視野角制御等の機能を有するフィルターを指す。ディスプレイ用フィルター１は透明基材５の一方の面に電気導電部４がメッシュ状に形成された電磁波遮蔽部材６、その上に複数の凸レンズ１１を有する集光部３が、さらに凸レンズ１１の表面に反射防止層２が凸レンズの凹凸形状に追随して形成されている。この集光部を有する面がディスプレイの視認側にある。ここで、反射防止層が凸レンズの形状に追随したとは、反射防止層の最表層側表面（反射防止層の集光部を有する側とは反対の表面）が、凸レンズの形状に追随していることを意味し、その結果として、反射防止層は凸レンズの形状に追随した凸部形状を有することとなる。なお、反射防止層の厚さが凸レンズの大きさに比べ十分大きい場合には、反射防止層の最表層側表面（反射防止層の集光部を有する側とは反対の表面）は平坦になり、もはや凸部形状は認識されなくなる。
【００１９】
また、電磁波遮蔽部材６の他方の面の前記凸レンズ１１の光軸位置に開口部７を、開口部以外に遮光部８を有する光吸収部８が形成されて、さらに光吸収部９に粘着部１０が接している。ここで凸レンズとは，正の焦点距離をもつレンズであり，連続する曲面を形成している範囲を指す。凸レンズには片凸，両凸の種類があるが，製造適性の観点から、片凸レンズが好ましい。さらに、その形状には球面，または双曲線面，楕円面、正弦曲線面などの非球面などがあるが，そのいずれでも良く，凸レンズの成型の観点から好ましくは球面，または楕円面である。また、集光部とは電磁波遮蔽部材の表面に形成された凸レンズを含む成型体を指す。次いで、電磁波遮蔽部材とは、ディスプレイパネルの発光源から発生する電磁波を遮蔽するための部材を意味し、透明基材上に電気導電部を有する部材を指す。さらに、光軸とは凸レンズを通過する光束の代表となる仮想的な光線であり、凸レンズの回転対称軸を指す。
【００２０】
図２は図１に示した本発明のディスプレイ用フィルター１を、図１中の観察方向１から見た模式図と、凸部形状の最大長さ（Ｘ１）に直交する方向で、凸部形状の最大長さを示す位置での断面（ａ−ａ’断面）の図である。模式図では、複数の凸レンズ１１が平面充填された集光部３が形成されており、電磁波遮蔽部材の電気導電部４が集光部３を通して見えている。また、断面図では、複数の凸レンズ１１の表面に反射防止層２が形成されている。ここで、凸部形状とはディスプレイフィルター表面の凸レンズに起因する凹凸を指し、この凹凸は凸レンズとその表面に凸レンズに追随して形成された反射防止層からなる。反射防止層の厚さは凸レンズの大きさに比べ十分に小さいため、凸部形状の大きさと凸レンズの大きさは略同等である。また、平面充填とは充填の一種で、平面内を多角形などで隙間なく敷き詰める操作を指す。凸レンズ１１と凸レンズ１１の間には若干の隙間を設けることもできるが、発光源側からの光透過率を確保する観点から、集光部がある面の透明基材の面積に対して凸部形状の占める割合が７５％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
【００２１】
集光部３は、発光源側からディスプレイフィルターに入る入射光を効率よく視認側に導き，かつ面内のコントラストを均一にし、さらに画面表面に発生する周期的なムラ、模様をなくすため、発光源側に形成される開口部の大きさを均一にする必要がある。このため、集光部３に形成される複数の凸レンズ１１の形状は単一形状であることが好ましい。ここで単一形状とは、同じ寸法を持つ１種類の多角形などであることを指す。
【００２２】
集光部を構成する凸レンズの大きさは、輝度を高める観点からは大きいほどよく、一方、モワレの観点からは小さいほどよい。そのため、透明基材に平行な方向での凸レンズの最大長さは４０μｍより大きいことが望ましく、４５μｍよりも大きいことがより望ましい。また、７５μｍより小さいことが望ましく、７０μｍより小さいことがより望ましい。
【００２３】
凸部形状の断面形状は輝度、明所コントラスト、視野角、映り込み防止の観点から、次の範囲が望ましい。
０．０５＜（Ｚ１／Ｙ１）＜０．１５
ここでＹ１は図２中のａ−ａ’断面において、透明基材に平行な方向の凸部形状の最大長さを示し、Ｚ１は凸レンズの最大厚みと反射防止層の厚みの合計厚みであり、図２中のａ−ａ’断面において、Ｙ１と直交する方向の凸レンズと反射防止層との最大長さに対応する。Ｚ１／Ｙ１が０．０５よりも小さい場合には、輝度、明所コントラスト比、および映り込み防止機能が低下し、０．１５よりも大きい場合には、視野角の縮小、ギラツキの悪化が発生する。
【００２４】
凸部形状の視認側から見た形状は視野角の観点から正多角形、もしくは正多角形をやや扁平にした形状がよく、次の範囲が望ましい。
１．０≦（Ｘ１／Ｙ１）≦１．５
ここで、Ｘ１は透明基材に平行な方向での凸部形状の最大長さ、Ｙ１は図２中のａ−ａ’断面において、透明基材に平行な方向の凸部形状の最大長さを示す。また、本発明のディスプレイ用フィルターは、Ｘ１の方向がディスプレイパネルの設置時に水平になる方向に平行になるように貼り付けて使用する。Ｘ１は凸レンズの最大長さであるので、（Ｘ１／Ｙ１）の最小値は１になる。また、（Ｘ１／Ｙ１）が１．５よりも大きい場合には、モワレが発生しやすくなる。電気導電部４は、透明基材５の表面にメッシュ状の形状で形成されることが好ましい、このメッシュの厚みは小さい方が好ましく、メッシュの厚みは１０μｍ以下が好ましく、６μｍ以下がより好ましく、特に３μｍ以下が好ましい。メッシュの厚みが、上記範囲を超えて大きくなると電気導電部表面の凹凸が大きくなり平滑性が低下するので集光部の成型性が悪化する。メッシュの厚みの下限は電磁波遮蔽性能の観点から０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましい。メッシュの線幅及び線間隔（ピッチ）は、開口率が７０％以上となるように設計されるのが好ましいが、線幅としては５〜４０μｍが好ましく、線間隔（ピッチ）は１００〜５００μｍの範囲が好ましい。
【００２５】
図３は、図１に示した本発明のディスプレイ用フィルター中の光吸収部９を図１中の観察方向２から見た模式図である。凸レンズの光軸位置に、開口部７が形成され、それ以外の部分に遮光部８が形成されている。さらに、電磁波遮蔽部４のメッシュが開口部７から透明基材５を通して見えている。遮光部の光学濃度には好ましい範囲があり、１．０以上であることが好ましく、１．５以上であることがより好ましい。光学濃度が１．０よりも低いと、外光の遮蔽が不十分になりコントラスト比が低下する。光学濃度は高い分には問題ないが、実現上は３程度が上限である。ここで、光学濃度とは反射濃度、または反射絶対濃度を差す。これは、光のエネルギーの物体内外での伝達において、出射と入射の光束の比率を無次元数であらわしたもので、次の式で表される。
Ｄ＝−ｌｏｇ１０Ｒ、  Ｒ＝（Ｉ’／Ｉ）
Ｄ：反射絶対濃度、Ｒ：反射率  Ｉ：入射光の強度、Ｉ’：反射光の強度
本発明では、ＪＩＳ  Ｂ９６２２：２０００の反射光学濃度測定に基づく光学系で測定を行ったもの指す。
【００２６】
光吸収部に占める遮光部と開口部の面積比には好ましい範囲があり、光吸収部の面積１００％に占める開口部の面積割合が、４０％以上７０％未満であることが好ましく、４５％以上６５％未満がより好ましい。開口部の面積割合がこれよりも低くなると、コントラスト比は向上するが輝度が低下し、開口率がこれよりも高くなると、輝度は向上するが、コントラスト比は低下する。
開口部の形状には望ましい範囲があり、次の範囲が望ましい。
１．３≦（Ｘ２／Ｙ２）
ここで、Ｘ２は透明基材面に平行な方向の開口部の最大長さ、Ｙ２は透明基材面に平行でＸ２に対して垂直な方向の開口部の長さを示す。（Ｘ２／Ｙ２）が１．３よりも小さいと視野角が縮小しする。
【００２７】
さらに、開口部の形状は次の範囲がより望ましい。
１．３≦（Ｘ２／Ｙ２）≦５
（Ｘ２／Ｙ２）が５よりも大きいとモワレの悪化、垂直方向視野角の縮小、輝度の低下が発生する。
【００２８】
図４は本発明のディスプレイ用フィルターの他の例の断面図である。この構成では、図１に対し、電磁波遮蔽部材の向きが逆転しており、光吸収部９が電磁波遮蔽部材６の電気導電部４のメッシュ上に形成されている。
【００２９】
図５は、本発明のディスプレイ用フィルターの他の例であり、図１に示した本発明のディスプレイ用フィルター１を、図１中の観察方向１と観察方向２から見た模式図である。凸レンズの光軸位置に、凸レンズ１１と開口部７が形成され、それ以外の部分に遮光部８を有する光吸収部が形成されている。ここでいう「異なる形状」とは、凸レンズと開口部の形状が相似でないこと、すなわち平行移動、原点を中心とする鏡映、原点を中心とする回転、および、原点を中心とする拡大・縮小を有限回組合せることにより、一致することができない形状であることを意味する。
【００３０】
凸レンズの形状と開口部の形状の組み合わせとしては、（Ｘ２／Ｙ２）と（Ｘ１／Ｙ１）の値が同じでもよいが、より望ましくは次の範囲である。
１．３≦（Ｘ２／Ｙ２）／（Ｘ１／Ｙ１）
ここで、Ｘ１は透明基材面に平行な方向の凸部形状の最大長さ、Ｙ１は透明基材面に平行でＸ１に直交する方向の凸部形状の最大長さ、Ｘ２は透明基材面に平行な方向の開口部の最大長さ、Ｙ２は透明基材面に平行でＸ１に対して垂直な方向の開口部の長さを示す。
（Ｘ２／Ｙ２）／（Ｘ１／Ｙ１）の値が、１．３よりも小さいと視野角が縮小する。
さらに、凸レンズの形状と開口部の形状の組み合わせは次の範囲がより望ましい。
１．３≦（Ｘ２／Ｙ２）／（Ｘ１／Ｙ１）≦２．５
（Ｘ２／Ｙ２）／（Ｘ１／Ｙ１）の値が、２．５よりも大きいとモワレが悪化する。
以下発明を要素毎に説明する。
【００３１】
（１）集光部
集光部には，紫外線や電子線等の電離放射線で硬化する樹脂、オリゴマー、モノマーおよびこれらの混合体、または熱硬化性組成物等の硬化性樹脂を用いることができる。特に電離放射線硬化組成物は、硬化速度が早く生産性に優れ、かつ被覆する場合の塗布組成物およびそれに使用する溶剤などに対する耐久性に優れるので好ましい。電離放射線硬化組成物としては、例えば、電離放射線硬化性の樹脂、オリゴマー、モノマー、及びこれらの混合体を含むことができ、上記の樹脂、オリゴマー、モノマーとしては、分子内にエチレン性不飽和二重結合を有するものが好ましい。電離放射線硬化組成物として好ましく用いられる、上記の分子内にエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、具体的には１〜３個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、４個以上のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物などを挙げることができるが、成型体の精度、耐傷性などを考慮するとその主成分として多官能アクリレートを用いるのが好ましい。
【００３２】
このような多官能アクリレートとしては、１分子中に３（より好ましくは４、更に好ましくは５）個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体もしくはオリゴマー、プレポリマーが好ましく用いられる（但し、本明細書において「・・・（メタ）アクリ・・・」とは、「・・・アクリ・・・又は・・・メタアクリ・・・」を略して表示したものである。）。このような化合物としては、１分子中に３個以上のアルコール性水酸基を有する多価アルコールの前記水酸基が、３個以上の（メタ）アクリル酸のエステル化物となっている化合物などを挙げることができる。
【００３３】
具体的な例としてはペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらは、１種または２種以上を混合して使用することができる。これらの１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体、オリゴマー、プレポリマーの使用割合は集光部形成材料に対して５０〜９０質量％が好ましく、より好ましくは５０〜８０質量％である。
【００３４】
集光部形成材料としては、上記化合物以外に、剛直性を緩和させたり、硬化時の収縮を緩和させたり、塗液の粘度を調整する目的で、１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体を併用するのが好ましい。１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。１分子中に２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、下記（ａ）〜（ｆ）の（メタ）アクリレート等を用いることができる。
【００３５】
すなわち、（ａ）炭素数２〜１２のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートなど、
（ｂ）ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリレート酸ジエステル類：ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなど、
（ｃ）多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートなど、
（ｄ）ビスフェノールＡあるいはビスフェノールＡの水素化物のエチレンオキシド及びプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類：２，２’−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（４−アクリロキシプロポキシフェニル）プロパンなど、
（ｅ）ジイソシアネート化合物と２個以上のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、更にアルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる分子内に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレート類など、および、
（ｆ）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる分子内に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート類など。
【００３６】
分子内に１個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−及びｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−、ｓｅｃ−、およびｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−３−メチルピロリドン、Ｎ−ビニル−５−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上混合して使用してもよい。これらの１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、集光部形成材料に対して１０〜４０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜４０質量％である。
【００３７】
集光部形成材料に好ましく用いられる電離放射線硬化組成物を硬化するために用いる電離放射線としては、例えば紫外線を用いる場合などは、電離放射線硬化組成物に従来公知の光重合開始剤を含有させるのが好ましい。光重合開始剤は、ラジカル種を発生するものから選んで用いられる。光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルサルファイド、アルキル化ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド、２−ヒドロキシ−３−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロペンアミニウムクロリド一水塩、２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２ーヒドロキシ−３−（３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈ−チオキサンテン−２−イロキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパナミニウムクロリド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオサイド、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２−ビイミダゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアンスラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、メチルフェニルグリオキシエステル、η５−シクロペンタジエニル−η６−クメニル−アイアン（１＋）−ヘキサフルオロフォスフェイト（１−）、ジフェニルスルフィド誘導体、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ベンジルメトキシエチルアセタール、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニルプロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、ナフタレンスルフォニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイルおよびエオシン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組み合わせなどが挙げられる。本発明では、これらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、溶媒を除いた有機成分全量中、好ましくは０．０５〜２０質量％、さらに好ましくは、０．１〜２０質量％である。光重合開始剤の添加量をこの範囲内とすることにより、良好な光感度を得ることができる。
【００３８】
光重合開始剤と共に増感剤を使用し、感度を向上させたり、反応に有効な波長範囲を拡大したりすることができる。増感剤の具体例としては、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノフェニルビニレン）イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニルビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどが挙げられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用することができる。なお、増感剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤を添加する場合、その添加量は溶媒を除いた有機成分全量中、好ましくは０．０５〜２０質量％、より好ましくは０．１〜２０質量％である。増感剤の添加量をこの範囲内とすることにより、露光部の残存率を保ちつつ良好な光感度を得ることができる。
【００３９】
また、集光部形成材料には、改質剤を含有させることができる。改質剤として、塗布性改良剤、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、無機系粒子、有機系粒子、有機系潤滑剤、有機高分子化合物、紫外線吸収剤、光安定剤、染料、顔料，屈折率調節剤あるいは安定剤などを用いることができ、これらは活性線または熱による反応を損なわない範囲内で構成する塗布層の組成物成分として使用され、用途に応じて特性を改良することができる。本発明の集光部形成材料として、市販されている多官能アクリル系硬化塗料を用いることができる。かかる硬化塗料としては三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、大日本インキ化学工業株式会社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ”シリーズなど）、東亜合成化学工業株式会社；（商品名“アロニックス”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど）、ＪＳＲ株式会社；（商品名“デソライト”シリーズ）などの製品を利用することができる。
【００４０】
（２）光吸収部
本発明の光吸収部は、開口部と遮光部を形成することにより作られる。この遮光部の形成方法としては光硬化性粘着剤とトナー、転写フィルムを使用した方法や、光可溶化型の感光剤を使用した方法を用いることができるが、特に光可溶化型の感光剤を使用した方法は、形状のコントロールや微細な構造の形成に優れるので好ましい。遮光部を光可溶化型の感光剤を使用して製作する方法には、光可溶性感光剤に遮光材料を添加して作成する方法と、非遮光層と遮光層の２層から形成する方法の２通りがあるが、遮光部の形状、および遮光部の光学濃度の観点から、後者が好ましい。以下、遮光部を非遮光層と遮光層の２層から形成する方法について述べる。
【００４１】
非遮光層は光透過性の樹脂層であり、光可溶化型の感光剤（樹脂成分）を使用できる。光可溶化型の感光剤としては主成分となる高分子とその高分子の溶媒に対する溶解性を抑制する作用を有し、さらに光を照射することにより溶解抑制効果を消失する物質との混合物または両者の結合体を用いることができる。例えば、ｏ−ナフトキノンジアジドとアルカリ可溶性樹脂との混合物および両者をエステル結合したものは光可溶化型の感光剤として用いることができる。中でも、アルカリ可溶性樹脂としてフェノールノボラック樹脂を用いた系は上記の目的に非常に適している。この他、ジアゾメルドラム酸とフェノールノボラック樹脂の混合物、ジアゾメドンとポリビニルフェノールとの混合物、ｏ−ニトロベンジルカルボン酸エステルとアクリル酸−メチルメタクリレート共重合体との混合物、およびポリｏ−ニトロベンジルメタクリレート等が適している。また、感光性ポリイミドのうち、光可溶性ポリイミドとしては、ポリアミド酸に光分解性の感光基をエステル結合で導入したもの（例えば、特開平１−６１７４７号公報）、ポリアミド酸にナフトキノンジアジド化合物を添加したもの（例えば高分子学会予稿集４０巻３号８２１（１９９１））などがあげられる。
【００４２】
遮光層としては、樹脂中に黒色着色材料を分散または樹脂自身を染料により染色した薄膜が使用できる。樹脂中に分散される黒色着色料としては光吸収能の高いカーボン粉や、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉなど金属酸化物の微粒子、Ｒ、Ｇ、Ｂ各色の顔料を混合して全体として広い波長域を遮光できるように調合したものなどが使用できる。また、黒色染料を樹脂中に分散することでもできる。
遮光層中に含まれる樹脂としては特に限定されないが、好ましくは２００℃以上でも軟化することのないアクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、および耐熱性樹脂として知られるポリイミド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂などが適している。アクリル樹脂としては、例えば主たる樹脂成分としてポリエステル、エポキシ、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピラン樹脂、シリコーン樹脂等の低分子量ポリマーまたはオリゴマーにアクリル酸、メタクリル酸またはそのエステル基を導入したいわゆるプレポリマーに、架橋剤として単分子中に２つ以上アクリル酸基、メタクリル酸基またはそのエステル基を有する多官能反応物を添加する系等があげられる。この場合、必要に応じて反応開始剤として熱または光によってラジカルを発生するラジカル発生剤を添加することは有効である。メラミン樹脂としてはフェノール樹脂、アルキッド樹脂等ＯＨ基を有するポリマーに架橋剤としてメチロール化メラミンを添加し、また、開始剤として光または熱による酸発生剤を加えた系も有効である。
【００４３】
遮光層の厚さは、０．３〜３０μｍであることが好ましく、塗布性、パターン解像度、光学濃度などから最適値を決めることができる。樹脂の他、必要に応じて、分散剤、チクソトロピー性付与剤、消泡剤、レベリング剤、希釈剤、可塑化剤、酸化防止剤、金属不活性化剤、カップリング剤、充填剤、導電性粒子、撥液性付与材料などの添加剤を配合しても良い。
【００４４】
（３）透明基材
本発明のディスプレイ用フィルターに使用する透明基材としてプラスチックフィルムが用いられる。かかるプラスチックフィルムとしては特に限定されず、ポリエステル、ポリオレフィン、環状ポリオレフィン、ポリアミド、トリアセチルセルロース、アクリル、ポリウレタンなどから構成されるプラスチックフィルムを好ましく用いることができるが、特にポリエステルフィルムが好ましい。ポリエステルフィルムのポリエステルとしては特に限定されないが、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートおよびポリプロピレンナフタレートなどが挙げられ、これらの２種以上が混合されたものであってもよい。また、これらと他のジカルボン酸成分やジオール成分が共重合されたポリエステルであってもよいが、この場合は、結晶配向が完了したフィルムにおいて、その結晶化度が好ましくは２５％以上６０％以下、より好ましくは３０％以上６０％以下、更に好ましくは３５％以上５５％以下のプラスチックフィルムであることが好ましい。結晶化度が２５％未満の場合には、寸法安定性や機械的強度が不十分となりやすく、６０％超では柔軟性が不足して取り扱いに難がある。なお結晶化度は、密度勾配法（ＪＩＳ−Ｋ７１１２（１９８０））やラマンスペクトル分析法により得ることができる。
【００４５】
また、プラスチックフィルムとして、上述したポリエステルを使用する場合には、その極限粘度（ＪＩＳ  Ｋ７３６７−５（２０００）に従い、２５℃のｏ−クロロフェノール中で測定）は、０．４〜１．２ｄｌ／ｇが好ましく、より好ましくは０．５〜０．８ｄｌ／ｇである。また、本発明で用いられるプラスチックフィルムは、２層以上の積層構造の複合体フィルムであっても良い。複合体フィルムとしては、例えば、内層部に実質的に粒子を含有せず、表層部に粒子を含有させた層を設けた複合体フィルムを挙げることができ、内層部と表層部が化学的に異種のポリマーであっても同種のポリマーであっても良い。本発明の目的用途であるディスプレイ用に用いる場合には、プラスチックフィルム中には粒子などを含有しない方が、内部散乱などがなく透明性などの光学特性の点から好ましい。プラスチックフィルムの厚みは、特に限定するものでは無いが機械的強度やハンドリング性などの点から、好ましくは１０〜５００μｍ、より好ましくは２０〜３００μｍ、特に好ましくは５０〜２００μｍである。
【００４６】
さらに、透明基材であるプラスチックフィルムは、複合体フィルムとして、共押出による２層、３層などの積層体、または、例えば易滑性、帯電防止性などのコーティング層、特に透明コーティング層を設けてもよい。
【００４７】
プラスチックフィルム中には本発明の効果を阻害しない範囲内で各種の添加剤や樹脂組成物、架橋剤などを含有しても良い。例えば酸化防止剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、有機、無機の粒子（例えば例えばシリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、カーボンブラック、ゼオライト、酸化チタン、金属微粉末など）、顔料、染料、帯電防止剤、核剤、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ゴム系樹脂、ワックス組成物、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、メチロール化、アルキロール化された尿素系架橋剤、アクリルアミド、ポリアミド、エポキシ樹脂、イソシアネート化合物、アジリジン化合物、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤などを挙げることができる。
【００４８】
本発明に用いられるプラスチックフィルムは、前述した光吸収部、後述する光学機能層、電気導電部、近赤外線遮蔽層との密着性（接着強度）を強化するための下引き層（プライマー層）を設けておくのが好ましい。下引き層はプラスチックフィルムの製膜中に塗布するインラインコーティング法によるのが経済性の点から好ましく、ポリエステル共重合体、アクリル共重合体、各種ウレタン、メラミン、ポリアミド、エポキシなどから選択することができ、これらを架橋剤などを添加して接着性向上や耐溶剤性向上などの特性を賦与することができる。
【００４９】
特に本発明のディスプレイ用フィルターをプラズマディスプレイ用として使用する場合には、色補正や近赤外カット機能を有する染料を用いるためにプラスチックフィルムには紫外線カット機能を有するのが好ましく、紫外線吸収剤を含有させるのが好ましい。紫外線吸収剤としては、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、およびベンゾオキサジノン系化合物、環状イミノエステル系化合物、トリアジン系化合物などを好ましく例示することができるが、３８０ｎｍ〜３９０ｎｍでの紫外線カット性、色相などの点からベンゾオキサジノン系化合物が最も好ましい。これらの化合物は１種で用いても良いし、２種以上併用しても良い。またＨＡＬＳ（ヒンダードアミン系光安定剤）や酸化防止剤などの安定剤の併用はより好ましい。紫外線吸収剤として好ましい材料であるベンゾオキサジノン系化合物の例としては、２−ｐ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（ｐ−ベイゾイルフェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（２−ナフチル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−２´−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２´−（２，６−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）などを例示することができる。これら紫外線吸収剤として働く化合物の含有量は、プラスチックフィルム中に０．５〜５質量％であることが好ましく、より好ましくは１〜５質量％含有させるのが好ましい。
【００５０】
また、本発明のディスプレイ用フィルターに更に優れた耐光性を付与するため、プラスチックフィルム中には紫外線吸収剤とともにシアノアクリレート系４量体化合物を併用することが好ましい。シアノアクリレート系４量体化合物はプラスチックフィルム中に０．０５〜２質量％含有させることが好ましい。シアノアクリレート系４量体化合物とは、シアノアクリレートの４量体を基本とする化合物であり、例えば１，３−ビス（２´シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイルオキシ）−２、２−ビス−（２´シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイルオキシメチルプロパン）などを例示することができる。シアノアクリレート系４量体化合物と紫外線吸収剤を併用する場合には、前述の紫外線吸収剤はプラスチックフィルム中に０．３〜３質量％含有するのが好適である。上記の紫外線吸収剤添加による本発明のディスプレイ用フィルターに用いるプラスチックフィルムは、波長３８０ｎｍでの透過率が５％以下であることが好ましく、より好ましくは３％以下であり、これにより本発明のディスプレイ用フィルターを特にプラズマディスプレイ用部材に適用した場合、紫外線からプラスチックフィルムや染料色素などを保護することができる。
【００５１】
（４）粘着部
本発明のディスプレイ用フィルターは、透明基材に対して該光吸収部側の最外部に、粘着部を有する。粘着部には、近赤外線遮蔽機能、色相調整機能、屈折率調節機能、屈折率調節機能、可視光透過率調整機能を付与することができる。粘着部には、接着材あるいは粘着材を用いることができる。粘着材としては、アクリル、シリコーン、ウレタン、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルなどが挙げられる。接着材としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン、ポリ−１、３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート  、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂などが挙げられる。
【００５２】
ディスプレイ用フィルターをディスプレイに貼り付けるための粘着部Ａに、ディスプレイを衝撃から保護するための衝撃緩和機能を付与することは好ましい態様である。粘着部Ａに衝撃緩和機能を付与するには、粘着部Ａの厚みを５０μｍ以上にすることが好ましく、１００μｍ以上にすることが好ましい。上限の厚みは、粘着部Ａのコーティング適性を考慮して２０００μｍ以下が好ましい。
【００５３】
近赤外線遮蔽機能は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲における光線透過率の最大値が１５％以下となるように調整するのが好ましい。近赤外線遮蔽機能は、プラスチックフィルムに近赤外線吸収色素や顔料を混練することによって付与してもよいし、近赤外線遮蔽層を新たに設けてもよい。あるいは、粘着部に近赤外線遮蔽機能を持たせてもよい。近赤外線遮蔽機能は、近赤外線吸収色素や顔料を用いることによって、あるいは導電性薄膜のような金属の自由電子によって近赤外線を反射する層を設けることによって付与することができる。本発明においては、近赤外線吸収色素や顔料を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成した近赤外線遮蔽層を用いること、あるいは粘着部に上記近赤外線吸収色素や顔料を含有させる態様が好ましく用いられる。近赤外線吸収色素としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の色素が挙げられる。
【００５４】
色相調整機能は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。更に、白色度を向上させるために波長４８０〜５００ｎｍに吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。色相調整機能は、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を新たに設けてもよいし、上述の近赤外線遮蔽層あるいは粘着部に色素を含有させてもよい。
【００５５】
屈折率調節機能は、ディスプレイ用フィルターをディスプレイのガラスに貼り合せる際に、部材間での光散乱等による光学ロスを低減するため、あるいは集光部表面での屈折角を調節するために屈折率を適宜調節する機能である。これに用いる材料は、低屈折率側では、含フッ素ポリマー、（メタ）アクリル酸の部分フッ素化アルキルエステルまたは完全フッ素化アルキルエステル、含フッ素シリコーン等の有機系材料で構成することができる。また、高屈折率側では、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートなどを重合硬化させたもの、あるいはシリコーン系、メラミン系、エポキシ系の架橋性樹脂原料を架橋硬化させたもの等の有機系材料、酸化インジウムを主成分としこれに二酸化チタンなどを少量含ませたもの、あるいはＡｌ２Ｏ３  、ＭｇＯ、ＴｉＯ２等で構成することができる。可視光透過率調整機能は、可視光の透過率を調整するための機能であり、染料や顔料を含有させて調整することができる。
【００５６】
（５）反射防止層
反射防止層は、凸レンズ上に設けた反射防止機能を有する層を指すものであり、ディスプレイの画像表示に影響を与える蛍光灯などの外光の反射や映り込みを防止するものである。また反射防止層は併せて防眩、耐傷、防汚機能を有する層を有してもよい。これらの層はこれらの機能を有する単一層であっても複数層で構成されていてもよい。反射防止層は、表面の視感反射率が５％以下であることが好ましく、４％以下がより好ましく、特に以上３％以下であることが好ましい。また、視感反射率に下限は特になく、０％であることが最も好ましいが、視感反射率は０．０５％程度であれば十分である。ここで視感反射率は、分光光度計等を使用して可視領域波長（３８０〜７８０ｎｍ）の反射率を測定し、ＣＩＥ１９３１システムに準じて計算された視感反射率（Ｙ）である。
【００５７】
このような反射防止層としては、高屈折率層と低屈折率層とを低屈折率層が視認側になるように２層以上積層したものを用いることが好ましい。このような構成は複数回のコーティングにて高屈折率層と低屈折率層を積層してもよいが、フッ素処理工程を経たシリカ粒子由来の低屈折率層と、高屈折率層とを混合した１液の塗料組成物を１回塗布後乾燥工程にて２層に分離させる方法を使用しても良い。高屈折率層の屈折率は１．５〜１．７の範囲が好ましく、特に１．５５〜１．６９の範囲が好ましい。低屈折率層の屈折率は１．２５〜１．４９の範囲が好ましく、特に１．３〜１．４５の範囲が好ましい。高屈折率層を形成する材料としては、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートなどを重合硬化させたもの、あるいはシリコーン系、メラミン系、エポキシ系の架橋性樹脂原料を架橋硬化させたもの等の有機系材料、酸化インジウムを主成分としこれに二酸化チタンなどを少量含ませたもの、あるいはＡｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＴｉＯ２等の無機系材料が挙げられる。これらの中でも、有機系材料が好ましく用いられる。
【００５８】
以下に本発明の高屈折率層の好ましい態様を説明する。本発明において、高屈折率層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂、含リン系樹脂、含スルフィド樹脂、含ハロゲン樹脂などの樹脂成分を単体または混合系で用いることが出来るが、特に、硬度と耐久性などの点から、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂を用いるのが好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点から、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂が好ましい。特に、（メタ）アクリレート系樹脂は、活性エネルギー線照射によって容易にラジカル重合が起こり、形成される膜の耐溶剤性や硬度が向上するので好ましい。かかる（メタ）アクリレート系樹脂として、例えばペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌール酸エステルトリ（メタ）アクリレート等の３官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５９】
高屈折率層には、更にカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する（メタ）アクリレート化合物（モノマー）を使用することができる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとして、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジフェニル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸（メタ）アクリル酸エステル、２−スルホエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。
【００６０】
高屈折率層には、塗布した樹脂成分の硬化を進めるために開始剤を含有させてもよい。該開始剤としては、塗布した樹脂成分を、ラジカル反応、アニオン反応、カチオン反応等による重合および／または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものであり、各種光重合開始剤が使用可能である。かかる光重合開始剤としては、具体的には、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド類や、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体や、ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゼンジアゾニウム塩等のジアゾ化合物や、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−クロロアントラキノン等の芳香族カルボニル化合物や、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、Ｄ−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステルや、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物や、９−フェニルアクリジン、９−ｐ−メトキシフェニルアクリジン、９−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体や、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、９−メチルベンズフェナジン、１０−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘導体や、６，４’，４”−トリメトキシ−２、３−ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体や、２，４，５−トリフェニルイミダゾイル二量体、２−ニトロフルオレン、２，４，６−トリフェニルピリリウム四弗化ホウ素塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、３，３’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン等が挙げられる。
【００６１】
また、高屈折率層には、上記開始剤の酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。このようなアミン化合物としては、例えば、脂肪族アミン化合物や、芳香族アミン化合物等の不揮発性のものであれば、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が適切である。また、高屈折率層には、金属酸化物微粒子を含有させてもよい。これによって帯電防止効果が得られる。金属酸化物微粒子としては錫含有酸化アンチモン（ＡＴＯ）粒子、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が好ましく、より好ましくは錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、錫含有酸化アンチモン（ＡＴＯ）粒子である。
かかる金属酸化物粒子は、平均粒子径（ＢＥＴ法により測定される非表面積（ＪＩＳ  Ｒ１６２６：１９９６年）に基づく球相当径分布から計算される算術平均粒子径（ＪＩＳ  Ｚ８８１９−１：１９９９年およびＺ８８１９−２：２００１年））が０．５μｍ以下の粒子が好適に使用されるが、より好ましくは０．００１〜０．３μｍ、更に好ましくは０．００５〜０．２μｍの粒子径のものが用いられる。該平均粒子径が０．５μｍを超える場合、高屈折率層の透明性を低下させることがある。また該平均粒子系は小さい程好ましいものの、０．００１μｍ未満の場合は、該粒子が凝集し易くヘイズ値が増大する場合がある。なお金属酸化物粒子の含有量は、高屈折率層を構成する樹脂成分１００質量％に対して０．１〜２０質量％の範囲が好ましい。更に、高屈折率層には、重合禁止剤、硬化触媒、酸化防止剤、分散剤等の各種添加剤を含有することができる。高屈折率層の厚みは、０．０１〜２０μｍの範囲が好ましく、０．０１〜１０μｍの範囲がより好ましい。
【００６２】
反射防止層を構成する低屈折率層は、含フッ素ポリマー、（メタ）アクリル酸の部分フッ素化アルキルエステルまたは完全フッ素化アルキルエステル、含フッ素シリコーン等の有機系材料、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＳｉＯ２等の無機系材料で構成することができる。以下に低屈折率層の好ましい態様を例示する。低屈折率層の１つの好ましい態様として、ＭｇＦ２やＳｉＯ２等の薄膜を真空蒸着法やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法により形成する方法、或いはＳｉＯ２ゾルを含むゾル液からＳｉＯ２ゲル膜を形成する方法等が挙げられる。低屈折率層の他の好ましい態様として、シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする構成を採用することができる。なお、ここで言う「結合」とは、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。かかる多官能性シラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの３官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性フッ素含有シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましい。上記多官能性シラン化合物として、多官能性フッ素非含有シラン化合物を用いることができる。かかる多官能性フッ素非含有シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシシプロピルトリメトキシシランなどの３官能性シラン化合物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどの４官能性シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点からビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランが、より好ましい。
【００６３】
また、上述のシリカ系微粒子としては、平均粒子径１ｎｍ〜２００ｎｍのシリカ系微粒子であることが好ましく、特に好ましくは、平均粒子径１ｎｍ〜７０ｎｍである。平均粒子径が１ｎｍを下回ると、マトリックス材料との結合が不十分となり、硬度が低下することがある。一方、平均粒子径が２００ｎｍを越えると、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙の発生が少なくなり、低屈折率化の効果が十分発現しないことがある。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が挙げられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第３２７２１１１号公報に開示されている方法によって製造でき、微粒子内部の空洞の占める体積、すなわち微粒子の空隙率としては、５％以上が好ましく、３０％以上がさらに好ましい。空隙率は、例えば、水銀ポロシメーター（商品名：ボアサイザー９３２０−ＰＣ２、（株）島津製作所製）を用いて測定することができる。また、該微粒子自体の屈折率は、１．２０〜１．４０であるのが好ましく、１．２０〜１．３５であるのがより好ましい。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に開示されているものや、特許第３２７２１１１号公報等の市販されているものを挙げることができる。低屈折率層の厚みは、０．０１〜１μｍの範囲が好ましく、０．０２〜０．５μｍの範囲がより好ましい。
【００６４】
本発明において、反射防止層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。シリコーン系レベリング剤としては、ポリジメチルシロキサンを基本骨格とし、ポリオキシアルキレン基が付加されたものが好ましく、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。またハードコート層上にさらに積層膜を設ける場合には、接着性を阻害しないアクリル系レベリング剤を適用するのが好ましい。このようなレベリング剤としては「ＡＲＵＦＯＮ−ＵＰ１０００シリーズ、ＵＨ２０００シリーズ、ＵＣ３０００シリーズ（商品名）：東亜合成化学（株）製）などを好ましく用いることができる。レベリング剤の添加量はハードコート形成組成物総量に対し、０．０１〜５質量％の範囲とするのが望ましい。
【００６５】
（６）電磁波遮蔽部材、電気導電部
電磁波遮蔽部材は、ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽するための部材であり、金属薄膜、導電性メッシュ等、電気導電性酸化物、電気導電性ポリマーからなる電気導電部を透明基材上に設けることにより得られる。電気導電部の表面抵抗値は、低い方が好ましく、１０Ω／□以下が好ましく、５Ω／□以下がより好ましく、特に３Ω／□以下が好ましい。面抵抗の下限値は０．０１Ω／□程度である。電磁波遮蔽部材の面抵抗値は、４端子法により測定することができる。
本発明において、電気導電部として導電性メッシュが好ましく用いられる。導電性メッシュは、スパッタ法や真空蒸着法等によって形成された金属薄膜あるいは導電性フィラーと樹脂バインダーからなる電気導電部に比べて、低い面抵抗値が得られるという利点がある。特に、導電性フィラーと樹脂バインダーからなる電気導電部では面抵抗値が得られにくいため、スパッタ法や真空蒸着法等によって金属薄膜を形成するためには大がかりな装置が必要であり、高い生産性が得られないという問題がある。
【００６６】
また、導電性メッシュ上に集光部、または光吸収部を形成する場合は、成型性、塗工性の観点からは、導電性メッシュの厚みは小さい方が好ましく、導電性メッシュの厚みは１０μｍ以下が好ましく、６μｍ以下がより好ましく、特に３μｍ以下が好ましい。導電性メッシュの厚みが、１０μｍを超えて大きくなると電気導電部表面の凹凸が大きくなり平滑性が低下するので成型性、塗工性が悪化する。導電性メッシュの厚みの下限は電磁波遮蔽性能の観点から０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましい。導電性メッシュの線幅及び線間隔（ピッチ）は、開口率が７０％以上となるように設計されるが、線幅としては５〜４０μｍが好ましく、線間隔（ピッチ）は１００〜５００μｍの範囲が好ましい。
【００６７】
上記観点から本発明の電気導電部に好適な導電性メッシュの形成方法として、１）金属薄膜をエッチング加工する方法、２）印刷でプラスチックフィルム等の基材上に直接に導電性メッシュを形成する方法、３）感光性銀塩を用いる方法、４）印刷パターン上に金属膜積層後に現像する方法、及び５）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法が挙げられる。
【００６８】
本発明に用いることができる導電性メッシュのメッシュパターンとしては、格子状パターン、５角形以上の多角形からなるパターン、円形パターン、あるいはこれらの複合パターンが挙げられ、更にランダムパターンも好ましく用いられる。本発明において、導電性メッシュは黒化処理するのが好ましい。黒化処理は、酸化処理や黒色印刷により行うことができる。例えば、特開平１０−４１６８２号、特開２０００−９４８４号、２００５−３１７７０３号公報等に記載の方法を用いることができる。黒化処理は、導電性メッシュの視認側の表面と両側面を行うのが好ましく、更に導電性メッシュの両面及び両側面を黒化処理するのが好ましい。
【００６９】
（７）製造方法
次に、本発明のディスプレイ用フィルターの製造方法の１例について説明するが、この方法に限定されない。本発明のディスプレイ用フィルターの製造方法の１例は次の４工程からなる。
１．電磁波遮蔽部材の一方の面に集光部を形成する工程
２．電磁波遮蔽部材のもう一方の面に遮光層および非遮光層を形成する工程
３．光吸収部を形成する工程
４．反射防止層を塗工する工程
５．粘着部を形成する工程
図６、７に基づいて、上記４工程を説明する。
１．の工程は、いわゆる２Ｐ法を用いて成型を行う。まず、図６−Ａに示す電磁波遮蔽部材１３を準備する。これは透明基材１４の一方の面に電気導電部１５が設けられたものであり、複数のメーカーから入手可能なものである。次いで、図６−Ｂにて電磁波遮蔽部材の電気導電部１５を有する面に集光部形成材料１６を塗工し、これを図６−Ｃのモールド１７に圧接し、図６−Ｄにてモールド１７で基材側からＵＶ光１８を照射することにより、集光部形成材料１６を硬化させ、硬化後、モールド１７から剥離して図６−Ｅの集光部１９を得る。モールド１７は機械加工、電鋳加工、エッチング、ＰＤＭＳ法等により製作することができる。また、モールドからの離型性確保のため、適宜表面処理を行ってもよい。この工程で得られた集光部の厚みは、集光部形成材料の供給量、モールドの圧接圧力とモールド上での透明基材の張力により調節する。
【００７０】
２．の工程は、塗工、乾燥プロセス（ウェットコーティングプロセス）を用いて行う。図６−Ｆに示す様に、集光部１９が一方の面に形成された電磁波遮蔽部材１３の他方の面に、遮光層２０を塗工、乾燥する。次いで図６−Ｇに示すように、非遮光層２１を遮光層２０の上に塗工、乾燥する。塗工、乾燥プロセスとしては、「コーティング」、加工技術研究会  編、（株）加工技術研究会（２００２）に記載の方法を参照できる。遮光層および非遮光層形成工程の塗工装置としては、正確な塗工量が得られるように、例えば、各種ブレードコーター、ロールコーター、バーコーター、ロッドブレードコーター、カーテンコーター、グラビアコーター、エクストルージョン（米国特許２６８１２９４号明細書記載）方式を用いたコーター等の各種塗工装置を適宜選択して用いる。特に塗工精度の観点から、エクストルージョン方式を用いたコーターが好ましい。乾燥装置としては、熱風、または赤外線を用いた乾燥装置を適宜選択して用いる。
【００７１】
３．の工程は、２．の工程で形成した遮光層および非遮光層にフォトレジストの露光、現像プロセスを用いて行う。この工程では凸レンズの光軸に対して傾斜させた光を含むＵＶ光を露光することにより、凸レンズの形状と異なる形状の開口部を形成する。その方法の１つを図７に示す。集光部１９側から遮光層２０および非遮光層２１に向けて、図７−Hの垂直な平行ＵＶ光２２を、次いで図７−Ｉ、Ｊのように光軸に対して傾斜させた平行ＵＶ光２２を露光することにより達成される。この時、凸レンズの光軸に対する傾斜角度、傾斜方向、露光ステップ数、各ステップでの露光量の配分により、開口部の形状を自由に制御することができる。また、他の方法としては、光軸に平行な成分と傾斜した成分を含むＵＶ光を１回で露光することもできる。大面積の露光を行う場合は、搬送しながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することもできる。次いで、紫外光の露光後、遮光層および非遮光層形成工程に対して有機溶剤、またはアルカリ水溶液で感光性樹脂層の現像処理を行うことにより、図７−Ｋに示すように、集光部１９の焦点位置に開口部２３が形成され、光吸収部２４が完成する。現像処理は、露光部分と未露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して現像を行うが、この場合、浸漬法やスプレー法、ブラシ法で行う。現像処理に用いる現像液は、水を主成分とすることがコストや環境負荷の面においても好ましい。アルカリ水溶液としては水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、水酸化カルシウム水溶液などの無機アルカリ水溶液や、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどのアミン化合物からなる有機アルカリ水溶液を使用してもよい。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０５〜５質量％、より好ましくは０．１〜１質量％である。アルカリ濃度が低すぎれば可溶部が除去されず、アルカリ濃度が高すぎれば、遮光部を剥離させるおそれがあり良くない。また、現像時の現像温度は、２０〜４０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００７２】
４．の工程は、図７に示すように３．の工程で形成した集光部１９の表面に反射防止層２５を設ける。反射防止層は、前述のウェットコーティングプロセス、またはＣＶＤ、スパッタリング、真空蒸着等のドライコーティングプロセスにて形成可能だが、製造時のコストの面からウェットコーティングプロセスが望ましい。
【００７３】
５．の工程は、まず４．の工程で形成した非遮光層２１表面に粘着部２６を設ける。この方法は、粘着フィルムの貼り合わせでも、粘着材料の塗工・乾燥プロセスでもよい。
【００７４】
（８）特性の測定方法および効果の評価方法
本発明における特性の測定方法および効果の評価方法は次のとおりである。
（８−１）形状測定
＜凸部形状の形状測定＞
株式会社キーエンス製レーザー顕微鏡ＶＫ８７００を使用し、超深度測定モードにて倍率２００倍にて観察を行い、そのデータから画像解析モードにてＸ１（透明基材面に平行な方向での凸部形状の最大長さ）、Ｙ１（透明基材面に平行で、Ｘ１に対して垂直な方向の凸部形状の長さ）、およびＺ１（凸レンズの最大厚みと反射防止層の厚みの合計厚み）を求めた。１０個の凸部形状について測定を行い、その平均値を代表値とし、これを元にＺ１／Ｙ１、Ｘ１／Ｙ１を求めた。さらに１０個の凸部形状について本装置の面積計算モードにて面積を求めた。この面積計算モードでは上記装置を用いて得られた３次元画像に対し、高さ方向の閾値を定めて、それを超える部分の投影面積を画像処理によって算出するものである。
【００７５】
＜遮光部、開口部の形状測定＞
株式会社キーエンス製レーザー顕微鏡ＶＫ８７００を使用し、超深度測定モードにて倍率２００倍にて観察を行い、そのデータから画像解析モードにてＸ２（透明基材面に平行な方向の開口部の最大長さ）およびＹ２（透明基材面に平行でＸ１に対して垂直な方向の開口部の最大長さ）を計測した。１０個の開口部について測定を行い、その平均値を代表値とし、これを元にＸ２／Ｙ２と（Ｘ２／Ｙ２）／（Ｘ１／Ｙ１）を求めた。さらに１０個の開口部について面積計算モードにて面積を求めた。
【００７６】
＜開口部の面積の割合の算出＞
開口部の面積の割合（開口部の開口率）は、前述の凸部形状、開口部の形状測定にて得た開口部の面積を、同様にして求めた凸部形状の面積で除することにより算出した。
【００７７】
（８−２）機能評価  
松下電器産業（株）製のプラズマディスプレイテレビ「４２ＰＸ−２０」の前面フィルターを取り外し、上記で作製したディスプレイ用フィルターを反射防止層が視認側をむく方向でディスプレイパネルに貼り付け、筐体の外部電極と導通が取れるように組み立て、官能評価による機能評価を実施した。なお、本評価は当該機種のみではなく、プラズマパネルディスプレイであれば、同様の結果を得ることが可能である。
【００７８】
＜明所コントラストの評価＞
天井付近に設置された室内照明灯に対してプラズマディスプレイの表示画面が約４０度の角度となるようにプラズマディスプレイを設置した。室内照明灯によるディスプレイ表面の照度は、水平面が約１６８ｌｘ、垂直面が約２００ｌｘであった。観察者は、ディスプレイから１．５ｍ離れた位置で、画像を観察した。製品の前面フィルター（ブランク）を基準として、４段階採点方式で実施し、１０人の評価結果から、最大値と最小値を各１つずつ除いた、８人分の評価点を平均して評価結果を数値化した。その結果を表１に示す。
０点  製品の前面フィルターと同等、もしくはそれ以下
１点  製品の前面フィルターに対してわずか差があるが、効果不十分
２点  製品の前面フィルターに対して差があり、良好
３点  製品の前面フィルターに対して大きな差があり、非常に良好
また、上記各評価値の中間にあるものを下位の点数に０．５点を加えて評価した。評価結果が１．５点以上のものを合格とした。
【００７９】
＜画面輝度の評価＞
製品の前面フィルター（ブランク）を基準として、４段階採点方式で実施し、１０人の評価結果から、最大値と最小値を各１つずつ除いた、８人分の評価点を平均して評価結果を数値化した。
０点  製品の前面フィルターより非常に暗く感じる
１点  製品の前面フィルターより暗く感じる
２点  製品の前面フィルターとほぼ同等
３点  製品の前面フィルターより明るい
また、上記各評価値の中間にあるものを下位の点数に０．５点を加えて評価した。評価結果が１．５点以上のものを合格とした。
【００８０】
＜視野角の評価＞
製品の前面フィルター（ブランク）を基準として、４段階採点方式で実施し、１０人の評価結果から、最大値と最小値を各１つずつ除いた、８人分の評価点を平均して評価結果を数値化した。
０点  製品の前面フィルターよりかなり視野角を狭く感じる
１点  製品の前面フィルターより視野角を狭く感じる
２点  製品の前面フィルターよりわずかに視野角を狭く感じる
３点  製品の前面フィルターと同等以上
また、上記各評価値の中間にあるものを下位の点数に０．５点を加えて評価した。評価結果が１．５点以上のものを合格とした。
【００８１】
＜モワレの評価＞
製品の前面フィルター（ブランク）を基準として、４段階採点方式で実施し、１０人の評価結果から、最大値と最小値を各１つずつ除いた、８人分の評価点を平均して評価結果を数値化した。
０点  強くモワレ感じ、不快感がある
１点  モワレを感じる
２点  わずかにモワレを感じるが、ほとんど気にならない
３点  現行製品と同等、もしくは全くモワレを感じない。
【００８２】
＜防眩性評価＞
作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ２）を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で４段階評価した。
０点  蛍光灯がほとんどぼけない
１点  蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる
２点  蛍光灯の輪郭がわずかにわかる
・  蛍光灯の輪郭が全くわからない。
【００８３】
（８−３）特性評価
＜電磁波遮蔽性評価＞
電磁波遮蔽性はアドバンテスト法を用い、周波数１０から１０００ＭＨｚで測定を行う。得られた測定値により、以下のように評価をする。シールド効果は以下の式で表される。
ＳＥ＝２０ｌｏｇ１０（Ｅｂ／Ｅａ）
ＳＥ：シールド効果（ｄＢ）
Ｅｂ：入射電界強度（ｖ／ｍ）
Ｅａ：伝導電界強度（ｖ／ｍ）
評価：
０点：１０ｄＢ以下（ほとんど効果無し）
１点：１０超〜３０ｄＢ未満（最小限度のシールド効果を示す）
２点：３０以上〜６０ｄＢ未満（平均的なシールド性能を示す）
３点：６０ｄＢ以上（良好なシールド性能を示す）
【実施例】
【００８４】
次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。
１．材料の調合
＜集光部形成材料の調合＞
下記材料を混合、脱泡し、集光部形成材料を得た。
（集光部材料処方）
アロニックスＭ−４０２（商品名  東亞合成株式会社）７０質量部
アロニックスＭ−３５０（商品名  東亞合成株式会社）３０質量部
ＥＳＡＣＵＲＥ  ＫＩＰ１５０（商品名  Ｌａｍｂｅｒｔｉ製）３質量部
混合は、アロニックスＭ−４０２、ＥＳＡＣＵＲＥ  ＫＩＰ１５０を７０℃に加温して低粘度化して、アロニックスＭ−４０２をホモミキサー（特殊機化工業株式会社製）で攪拌しながら他材料を徐々に添加し、混合した。次いで脱泡は混合・脱泡装置（商品名  あわとり練太郎  株式会社シンキー製）を使用し、１５００ｒｐｍで５分間脱泡した。
【００８５】
＜遮光層形成材料の調合＞
下記材料を混合し、遮光層形成材料を得た。
（遮光層形成材料処方）
ビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂（Ｒ−１４０ｐ、三井化学株式会社製）５０質量部
カーボンブラック（ＭＡ−８、三菱マテリアル株式会社製）３０質量部
トルエン２０質量部
混合は、各材料を秤量して上記の順で容器に添加後、さらにジルコニアビーズを入れ、ボールミルにて３時間程度混合、分散を行った。
【００８６】
＜非遮光層形成材料の調合＞
下記材料を混合、非遮光層形成材料を得た。
（非遮光層形成材料処方）
ｏ−ナフトキノンジアジド／フェノールノボラック系ポジ型感光剤（ＳＲＣ３００Ａ、ローム・アンド・ハース・ジャパン株式会社）９０質量部
シンナー”Ｃ（商品名  ローム・アンド・ハース・ジャパン株式会社）１０質量部
混合は、各材料を秤量して上記の順に添加し、マグネチックスターラーにて１０分程度攪拌を行い、目視にて泡が確認されなくなるまで静置脱泡した。
【００８７】
＜高屈折率層形成材料の調合＞
下記材料を混合、高屈折率層形成材料を得た。
（高屈折率層形成材料処方）
オプスターＴＵ４００５（ＪＳＲ株式会社製）９０質量部
イソプロピルアルコール１０質量部
＜低屈折率層形成材料の調合＞
下記の要領で、低屈折率層形成材料を得た。
中空シリカであるスルーリアＴＲ−１１３（触媒化成工業株式会社製）２０ｇにメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２．２ｇと５質量％蟻酸水溶液０．９ｇを撹拌しながら加え、ついで、２−ペルフルオロオクチルエチルアクリレート４．６ｇ及び２，２−アゾビスイソブチロニトリル０．１ｇを加えた後、３０分間７０℃にて加熱撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを３３３ｇ加え希釈した。
【００８８】
＜反射防止層形成材料の調合＞
上記高屈折率層形成材料と低屈折率層形成材料をそれぞれ質量比にて４：６となるように混合し、これを反射防止層形成材料とした。
【００８９】
２．集光部形成モールドの成型
図５の形状の集光部に対応し、図８の形状を持つ構造Ａのモールドを、グラビア製版に用いる銅エッチング法を用いて製作した。具体的には、最初に金属ロール上に銅薄膜をメッキにて形成し、その表面をバフ研磨して、鏡面ロールを作成した。次いで、フォトポリマーを表面に塗工し、その表面にレーザー露光機にてパターン形成を行い、現像処理を行った。現像処理後、エッチングを行い、銅薄膜の表面に凹部を形成した。最後に表面にクロムメッキ処理を行った。
（構造  Ａ）
集光部の形状（表面）：多角形（六角形）の平面充填
集光部の形状（断面）：楕円形（凸レンズに対応）
集光部の大きさ（平面）：ｘ１＝６２μｍ（透明基材面に平行な方向の最大長さ）：ｙ１＝５２μｍ（透明基材面に平行で、かつｘ１に対して垂直な最大長さ）。（ここで、ｘ１はモールドの、透明基材面に平行な方向の最大長さ、ｙ１はモールドの、透明基材面に平行でかつｘ１に対して垂直な最大長さ。以下同じ。）
集光部の大きさ（断面）：ｄ＝７μｍ（ｙ１を含む断面での楕円形の短軸の長さ）
レンズ間の隙間：ｅ＝５μｍ。       
【００９０】
３．ディスプレイ用フィルターの製造方法
＜集光部の形成＞
前述の集光部形成材料と、前述の構造Ａを持つモールド、および電磁波遮蔽部材として厚さ１２０μｍの電磁波遮蔽部材（日立化成株式会社製  線幅１０μｍ、ピッチ３００μｍ）を用い、電磁波遮蔽部材の電気導電部を有する面に厚み２５μｍの厚さになるように前述の集光部形成材料をエクストルージョン方式のコーティングダイを用いて供給した。次いで、前述の構造Ａを持つモールドに、集光部形成材料の付着した面を圧接した。このとき、圧接部の面圧が１ｋｇ／ｃｍ２になるように圧接ロールの圧接圧力を調節した。さらに、モールド上で透明基材側から紫外線を照射して硬化させた。紫外線の照射には、アイグラフィックス社製超高圧水銀灯を用いて、透明基材を透過した状態で積算照射強度が６００ｍＪ／ｃｍ２（アイグラフィックス社製紫外線光量計ＵＶＰＦ−３６にて計測）となるようにランプ出力を制御した。
【００９１】
＜遮光層の形成＞
前述の遮光層形成材料を、エクストルージョン方式を用いたコーターにて、透明基材の集光部と反対面に湿潤状態で膜厚約１０μｍ塗工し、次いで熱風乾燥することにより非遮光層を形成した。これにより得られた感光性樹脂層の総厚みは２μｍであった。
【００９２】
＜非遮光層の形成＞
前述の非遮光層形成材料を、エクストルージョン方式を用いたコーターにて、遮光層上に湿潤状態で膜厚約１５μｍ塗工し、次いで熱風乾燥することにより非遮光層を形成した。これにより得られた感光性樹脂層の総厚みは１μｍであった。
【００９３】
＜光吸収部の形成＞
前述の製造方法にて得られた非遮光層に、ウシオ電機株式会社製紫外線照射装置（商品名  マルチライト  ２５０Ｗ）を使用し、次の露光１から露光３の３回の露光（露光条件Ａ）を行った。
（露光条件Ａ）
露光１
露光量（集光部と遮光部を通った状態での測定）３０ｍＪ／ｃｍ２ 
サンプルと平行ＵＶ光の角度（図９中角度１）６０度
露光２
露光量（集光部と遮光部を通った状態での測定）１０ｍＪ／ｃｍ２ 
サンプルと平行ＵＶ光の角度（図９中角度２）９０度
露光３
露光量（集光部と遮光部を通った状態での測定）３０ｍＪ／ｃｍ２ 
サンプルと平行ＵＶ光の角度（図９中角度３）１２０度
ここでサンプルと平行ＵＶ光の角度とは図１４に示す関係にある。即ち、サンプルと平行ＵＶ光の角度とは、凸レンズの光軸方向と透明基材に平行な面にて凸レンズの最大長さを示す方向がなす角度を意味している。上記露光量は、コニカミノルタ株式会社製  紫外線強度計ＵＭ−１０にて計測にて、平行ＵＶ光を露光後、２５℃の０．５％水酸化ナトリウム水溶液にて３０秒間現像処理を行った後、水洗して遮光部と開口部からなる光吸収部を得た。
【００９４】
＜反射防止層の形成＞
前述の製造方法にて光吸収部を形成した後、集光部の表面に前述の反射防止層形成材料をグラビアコーターにて、湿潤膜厚が約１０μｍになるように塗工し、次いで１００℃にて１分間乾燥し、さらに紫外線を照射して硬化させ、反射防止層を形成した。紫外線の照射には、アイグラフィックス社製超高圧水銀灯を用いて、積算照射強度が８００ｍＪ／ｃｍ２（アイグラフィックス社製紫外線光量計ＵＶＰＦ−３６にて計測）となるようにランプ出力を制御した。
【００９５】
＜粘着部の形成＞
光吸収部表面にエクストルージョン方式を用いたコーターにてアクリル系粘着材を厚みが３０μｍになるように粘着部を塗布し粘着部を形成した。
【００９６】
＜実施例２＞
構造Ｂのモールドを使用した以外は、実施例１と同様にして図１の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
（構造  Ｂ）
集光部の形状（表面）：多角形（六角形）の平面充填
集光部の形状（断面）：楕円形（凸レンズに対応）
集光部の大きさ（平面）：ｘ１＝６２μｍ（透明基材面に平行な方向の最大長さ）、
：ｙ１＝５２μｍ（透明基材面に平行で、かつｘ１に対して垂直な最大長さ）
集光部の大きさ（断面）：ｄ＝５μｍ（ｙ１を含む断面での楕円形の短軸の最大長さ）
レンズ間の隙間：ｅ＝５μｍ。
【００９７】
＜実施例３＞
構造Ｃのモールドを使用した以外は、実施例１と同様にして図１の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
（構造  Ｃ）
集光部の形状（表面）：多角形（六角形）の平面充填
集光部の形状（断面）：楕円形（凸レンズに対応）
集光部の大きさ（平面）：ｘ１＝６２μｍ（透明基材面に平行な方向の最大長さ）
：ｙ１＝５２μｍ（透明基材面に平行で、かつｘ１に対して垂直な最大長さ）
集光部の大きさ（断面）：ｄ＝４μｍ（ｙ１を含む断面での楕円形の短軸の最大長さ）
レンズ間の隙間：ｅ＝５μｍ。
【００９８】
＜実施例４＞
構造Ｄのモールドを使用した以外は、実施例１と同様にして図１の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
（構造  Ｄ）
集光部の形状（表面）：多角形（六角形）の平面充填
集光部の形状（断面）：楕円形（凸レンズに対応）
集光部の大きさ（平面）：ｘ１＝６２μｍ（透明基材面に平行な方向の最大長さ）
：ｙ１＝５２μｍ（透明基材面に平行で、かつｘ１に対して垂直な最大長さ）
集光部の大きさ（断面）：ｄ＝９μｍ（ｙ１を含む断面での楕円形の短軸の長さ）
レンズ間の隙間：ｅ＝５μｍ。
【００９９】
＜実施例５＞
構造Ｅのモールドを使用した以外は、実施例１と同様にして図１の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
（構造  Ｅ）
集光部の形状（表面）：多角形（六角形）の平面充填
集光部の形状（断面）：楕円形（凸レンズに対応）
集光部の大きさ（平面）：ｘ１＝６２μｍ（透明基材面に平行な方向の最大長さ）
：ｙ１＝５２μｍ（透明基材面に平行で、かつｘ１に対して垂直な最大長さ）
集光部の大きさ（断面）：ｄ＝１０μｍ（ｙ１を含む断面での楕円形の短軸の長さ）
レンズ間の隙間：ｅ＝５μｍ。
【０１００】
＜実施例６＞
構造Ｆのモールドを使用した以外は、実施例１と同様にして図１の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
（構造  Ｆ）
集光部の形状（表面）：多角形（六角形）の平面充填
集光部の形状（断面）：楕円形（凸レンズに対応）
集光部の大きさ（平面）：ｘ１＝５２μｍ（透明基材面に平行な方向の最大長さ）
：ｙ１＝５２μｍ（透明基材面に平行で、かつｘ１に対して垂直な最大長さ）
集光部の大きさ（断面）：ｄ＝７μｍ（ｙ１を含む断面での楕円形の短軸の長さ）
レンズ間の隙間：ｅ＝５μｍ。
【０１０１】
＜実施例７＞
構造Ｇのモールドを使用した以外は、実施例１と同様にして図１の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
（構造  Ｇ）
集光部の形状（表面）：多角形（六角形）の平面充填
集光部の形状（断面）：楕円形（凸レンズに対応）
集光部の大きさ（平面）：ｘ１＝７２μｍ（透明基材面に平行な方向の最大長さ）
：ｙ１＝５２μｍ（透明基材面に平行で、かつｘ１に対して垂直な最大長さ）
集光部の大きさ（断面）：ｄ＝７μｍ（ｙ１を含む断面での楕円形の短軸の長さ）
レンズ間の隙間：ｅ＝５μｍ。
【０１０２】
＜実施例８＞
構造Ｈのモールドを使用した以外は、実施例１と同様にして図１の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
（構造  Ｈ）
集光部の形状（表面）：多角形（六角形）の平面充填
集光部の形状（断面）：楕円形（凸レンズに対応）
集光部の大きさ（平面）：ｘ１＝８２μｍ（透明基材面に平行な方向の最大長さ）
：ｙ１＝５２μｍ（透明基材面に平行で、かつｘ１に対して垂直な最大長さ）
集光部の大きさ（断面）：ｄ＝７μｍ（ｙ１を含む断面での楕円形の短軸の長さ）
レンズ間の隙間：ｅ＝５μｍ。
【０１０３】
＜実施例９＞
光吸収部の形成工程にて、次の露光条件Ｂにて露光を行う以外は実施例１と同様にして図１の構造を持つディスプレイ用フィルターを得た。
（露光条件Ｂ）
露光１
露光量（集光部と遮光部を通った状態での測定）１５ｍＪ／ｃｍ２ 
サンプルと平行ＵＶ光の角度（図９中角度１）４０度
露光２
露光量（集光部と遮光部を通った状態での測定）４５ｍＪ／ｃｍ２ 
サンプルと平行ＵＶ光の角度（図９中角度２）９０度
露光３
露光量（集光部と遮光部を通った状態での測定）１５ｍＪ／ｃｍ２ 
サンプルと平行ＵＶ光の角度（図９中角度３）１６０度。
【０１０４】
＜実施例１０＞
光吸収部の形成工程にて、次の露光条件Ｃにて露光を行う以外は実施例１と同様にして図１の構造を持つディスプレイ用フィルターを得た。
（露光条件Ｃ）
露光１
露光量（集光部と遮光部を通った状態での測定）２５ｍＪ／ｃｍ２ 
サンプルと平行ＵＶ光の角度（図９中角度１）４０度
露光２
露光量（集光部と遮光部を通った状態での測定）２０ｍＪ／ｃｍ２ 
サンプルと平行ＵＶ光の角度（図９中角度２）９０度
露光３
露光量（集光部と遮光部を通った状態での測定）２５ｍＪ／ｃｍ２ 
サンプルと平行ＵＶ光の角度（図９中角度３）１６０度。
【０１０５】
＜実施例１１＞
集光部材料処方Ｂを使用した以外は、実施例６と同様にして図１の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
（集光部材料処方Ｂ）
ディフェンサＯＰ４０（商品名  ＤＩＣ株式会社製）９７質量部
ＥＳＡＣＵＲＥ  ＫＩＰ１５０（商品名  Ｌａｍｂｅｒｔｉ製）３質量部。
【０１０６】
＜実施例１２＞
集光部材料処方Ｂを使用した以外は、実施例７と同様にして図１の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
【０１０７】
＜実施例１３＞
集光部材料処方Ｂを使用した以外は、実施例８と同様にして図１の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
【０１０８】
＜実施例１４＞
構造Ｆのモールドを使用し、集光部材料処方Ｂを使用し、露光条件Ｄを使用した以外は、実施例１と同様にして図１の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
（露光条件Ｄ）
露光１
露光量（集光部と遮光部を通った状態での測定）２０ｍＪ／ｃｍ２ 
サンプルと平行ＵＶ光の角度（図９中角度１）６０度
露光２
露光量（集光部と遮光部を通った状態での測定）３０ｍＪ／ｃｍ２ 
サンプルと平行ＵＶ光の角度（図９中角度２）９０度
露光３
露光量（集光部と遮光部を通った状態での測定）２０ｍＪ／ｃｍ２ 
サンプルと平行ＵＶ光の角度（図９中角度３）１２０度。
【０１０９】
＜比較例１＞
集光部形成工程を行わず、集光部の表面に凸レンズを設けない以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターの制作を行った。しかし、この方法では、紫外光が全面に照射されるため、吸収部を形成することができず、図１０の構造を持つディスプレイ用フィルターが得られた。
【０１１０】
＜比較例２＞
反射防止層を形成しない以外は、実施例１と同様にして図１１の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
【０１１１】
＜比較例３＞
遮光層の形成、非遮光層の形成、光吸収部の形成を行わない以外は、実施例１と同様にして図１２の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
【０１１２】
＜比較例４＞
電磁波遮蔽部材の代わりに１２０μｍのＰＥＴフィルム（東レ株式会社製  Ｔ−６０）を使用した以外は、実施例１と同様にして図１３の構造をもつディスプレイ用フィルターを得た。
【０１１３】
＜比較例５＞
前述の実施例１のディスプレイ用フィルターの製造方法と同様にして集光部、遮光層、非遮光層、光吸収部までを製作後、集光部を強粘着テープにて除去し、再度、同一面に集光部を形成することにより、光吸収部の開口部と集光部の凸レンズの光軸が一致しない形状を製作した以外は、実施例１と同様にして図１４の構造を持つディスプレイ用フィルターを得た。
【０１１４】
＜比較例６＞
前述の実施例１と同様に集光部、遮光層、非遮光層、光吸収部の順で形成した後、光吸収部の表面に反射防止層を形成し、集光部の表面に粘着部を形成して、図１５の構造を持つディスプレイ用フィルターを得た。
【０１１５】
＜比較例７＞
反射防止フィルム（高強度クリアタイプ  Ｒｅａｌｏｏｋ  ９１００  日油株式会社製）、電磁波遮蔽フィルム（日立化成工業株式会社製）、光線制御部材（内製）を用い、反射防止フィルムの反射防止層の反対面と、電磁波遮蔽フィルムの電気導電部とは反対面にアクリル系粘着材を厚みが５０μｍになるように粘着部を積層して、これら３つのフィルムを貼り合わせることにより、図１８の構造をもつディスプレイ用フィルター２９を得た。光線制御部材は図１６、１７の表面、断面形状を有し、その製造方法は以下に示す光透過部の成型と光吸収部の充填からなる。
（光透過部の製造方法）
透明基材２６に厚み７５μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製  Ｔ−６０）を、光透過部形成材料に電離放射線硬化性組成物（ＪＳＲ（株）製の「デソライトＺ７５２８」）を用い、図１６、１７に示すような、溝がストライプ状に平行に複数形成された長尺シート状の光透過部２７を製造した。溝の形状とサイズ等を以下に示す。
溝の断面形状：矩形
溝の高さｈ：１５μｍ
溝の幅ｗ：５μｍ
溝のピッチｐ：１３μｍ
（光吸収部の充填方法）
光吸収部のマトリクス構成材料として電離放射線硬化性組成物（ＪＳＲ（株）製の「デソライトＺ７５２８」）１００質量部を用い、これを７０℃に加温して低粘度化し、ミキサーで攪拌しながらカーボンブラック１０質量部を徐々に添加しながら分散させ、光吸収部材料を作成した。この光吸収部材料をワイピング法により前述の光透過部の溝に充填した後、電離放射線を照射して硬化させ、光吸収部２８を形成した。これにより図１６，１７の構造をもつ光線制御部材を製造した。
【０１１６】
上記の様にして製作したディスプレイ用フィルターについて、その構成、形状測定結果、およびディスプレイとしての評価（モワレ、輝度、コントラスト、視野角、防眩性、電磁波遮蔽性）を行った。この結果を表１から３にまとめた。表３の結果から、本発明の実施例は簡素な構造にてモワレ、コントラスト、輝度、視野角、防眩性、電磁波遮蔽性のすべて合格していることがわかる。（Ｚ１／Ｙ１）の値が、本発明の好ましい範囲より小さい実施例３のディスプレイ用フィルターは、防眩性が実施例１のディスプレイ用フィルターなどと比べてやや劣っていたが、許容できる範囲であった。（Ｚ１／Ｙ１）の値が、本発明の好ましい範囲より大きく、開口部の面積の割合が本発明の好ましい範囲より小さい実施例５のディスプレイ用フィルターは、防眩性と画面輝度が実施例１のディスプレイ用フィルターなどと比べてやや劣っていたが、許容できる範囲であった。（Ｘ１／Ｙ１）の値と、Ｘ１の値が本発明の好ましい範囲より大きい実施例８のディスプレイ用フィルターは、モワレが実施例１のディスプレイ用フィルターなどと比べてやや劣っていたが、許容できる範囲であった。（Ｘ１／Ｙ１）の値、Ｘ１の値、および開口部の面積の割合の値が本発明の好ましい範囲より大きい実施例１３のディスプレイ用フィルターは、モワレと明所コントラストが実施例１のディスプレイ用フィルターなどと比べてやや劣っていたが、許容できる範囲であった。（Ｘ２／Ｙ２）の値、（Ｘ２／Ｙ２）／（Ｘ１／Ｙ１）の値が本発明の好ましい範囲より小さい実施例１３のディスプレイ用フィルターは、視野角が実施例１のディスプレイ用フィルターなどと比べてやや劣っていたが、許容できる範囲であった。
【０１１７】
【表１】
2010181601.tif 000003
【０１１８】
【表２】
2010181601.tif 000004
【０１１９】
【表３】
2010181601.tif 000005
【産業上の利用可能性】
【０１２０】
本発明のディスプレイ用フィルターは、プラズマディスプレイ、ＦＥＤや有機ＥＬなどの自発光型ディスプレイに使用することができる。
【符号の説明】
【０１２１】
１、３２  ディスプレイ用フィルター
２、２５、３３       反射防止層
３、１９  集光部
４、１５、３５  電気導電部
５、１４、２６       透明基材
６、１３、３１  電磁波遮蔽部材
７、２３  開口部
８  遮光部
９、２４、２８  光吸収部
１０、３４  粘着部
１１  凸レンズ
１２  ディスプレイパネルのガラス
１６  集光部形成材料
１７  モールド
１８  ＵＶ光
２０  遮光層
２１  非遮光層
２２  平行ＵＶ光
２７  光透過部
２９  光線制御部材
３０  反射防止部材
【図１６】
2010181601.tif 000006
【図１】
2010181601.tif 000007
【図２】
2010181601.tif 000008
【図３】
2010181601.tif 000009
【図４】
2010181601.tif 000010
【図５】
2010181601.tif 000011
【図６】
2010181601.tif 000012
【図７】
2010181601.tif 000013
【図８】
2010181601.tif 000014
【図９】
2010181601.tif 000015
【図１０】
2010181601.tif 000016
【図１１】
2010181601.tif 000017
【図１２】
2010181601.tif 000018
【図１３】
2010181601.tif 000019
【図１４】
2010181601.tif 000020
【図１５】
2010181601.tif 000021
【図１７】
2010181601.tif 000022
【図１８】
2010181601.tif 000023