(57)【要約】【課題】本発明は、ポリオレフィンとの相溶性が良好で、透明性が良好であり、内容物を汚染し難い成形体を作製できる成形用樹脂組成物の提供を目的とする。【解決手段】ポリオレフィン（Ａ）、および紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）を含み、前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、ベンゾフェノン骨格を有する単量体単位、および一般式（１）で示す単量体単位を有し、前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の重量平均分子量は、５，０００〜１００，０００であり、かつ前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）全体に占める重量平均分子量１，０００以下のポリマーは、１％以下である、成形用樹脂組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオレフィン（Ａ）、および紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）を含み、
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、ベンゾフェノン骨格を有する単量体単位、および下記一般式（１）で示す単量体単位を有し、
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の重量平均分子量は、５，０００〜１００，０００であり、かつ前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）全体に占める重量平均分子量１，０００以下のポリマーは、１％以下である、成形用樹脂組成物。
一般式（１）
【化１】
2020132850.tif 000009
（ただし、一般式（１）中、Ｒ１６は、水素原子又はメチル基を表す。Ｚは、炭素数が１０以上の炭化水素基を表す。
【請求項２】
前記一般式（１）のＺは、分岐構造の炭化水素基、または環状炭化水素基である、請求項１記載の成形用樹脂組成物。
【請求項３】
前記分岐構造の炭化水素基は、イソステアリル基であり、前記環状炭化水素基は、多環式炭化水素基である、請求項２に記載の成形用樹脂組成物。
【請求項４】
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）が、下記一般式（２）で示す単量体単位を含む、請求項１〜３いずれか１項に記載の成形用樹脂組成物。
一般式（２）
【化２】
2020132850.tif 000010
（ただし、一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキレン基、もしくは-Ｏ-Ｒ５を表し、Ｒ５は、炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ｒ３は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘ１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８の炭化水素基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を表す。）
【請求項５】
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）が、単量体単位中にベンゾフェノン骨格を有する単量体単位を０．１〜３０質量％含む、請求項１〜４いずれか１項に記載の成形用樹脂組成物。  
【請求項６】
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）が、単量体単位中に一般式（２）で示す単量体を１〜３０質量％含む、請求項４または５に記載の成形用樹脂組成物。        
【請求項７】
請求項１〜６いずれか１項に記載の成形用樹脂組成物を含む、成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線吸収性ポリマーを含有する成形用樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から樹脂成形体（以下、成形体という）は、医薬用薬剤や化粧品等の包装材料として使用されていた。医薬用薬剤や化粧品等の内容物は、紫外線で劣化しやすいため、紫外線吸収剤を配合すると、紫外線吸収剤が移行して内容物を汚染する場合があった。
そこで、特許文献１および２では、ポリオレフィン、および紫外線吸収剤を組み込んだ樹脂を含む組成物が開示されている。また、特許文献３では紫外線吸収モノマーを共重合した共重合体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−７２７２２号公報
【特許文献２】特開２００１−１１４８４２号公報
【特許文献３】特開２００５−００８７８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、ポリオレフィン製の成形体を作製する場合、紫外線吸収剤を組み込んだ樹脂は、ポリオレフィンとの相溶性が悪く、通常の混合では、成形体の強度が保持できなかった。また、紫外線吸収剤を分子に組み込んだ紫外線吸収ポリマーは、低分子量成分に起因するマイグレーションや臭気が問題となっていた。そのため従来の組成物は、ポリオレフィン中で樹脂を合成することでしか所望の相溶性を確保できない問題があった。
【０００５】
本発明は、ポリオレフィンとの相溶性が良好で、内容物の紫外線による劣化が少なく、かつ内容物を汚染し難い成形体を作製できる成形用樹脂組成物の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の成形用樹脂組成物は、ポリオレフィン（Ａ）、および紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）を含み、
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、ベンゾフェノン骨格を有する単量体単位、および下記一般式（１）で示す単量体単位を有し、
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の重量平均分子量は、５，０００〜１００，０００であり、かつ前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）全体に占める重量平均分子量１，０００以下のポリマーは、１％以下である。
【０００７】
一般式（１）
【化１】
2020132850.tif 000002
【０００８】
ただし、一般式（１）中、Ｒ１６は、水素原子又はメチル基を表す。Ｚは、炭素数が１０以上の炭化水素基を表す。
【発明の効果】
【０００９】
上記の本発明によれば、ポリオレフィンとの相溶性が良好で、内容物の紫外線による劣化が少なく、かつ内容物を汚染し難い成形体を作製できる成形用樹脂組成物を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本明細書の成形用樹脂組成物（以下、組成物という）は、ポリオレフィン（Ａ）、および特定構造の単量体単位を有する紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）（以下、ポリマー（Ｂ）ともいう）を含む。なお、単量体は、エチレン性不飽和基含有単量体である。
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、ポリオレフィン（Ａ）との相溶性が良好であるため、従来のようにポリオレフィン（Ａ）中でポリマーを合成せずに所望の相溶性が得られる。別途、合成した紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）とポリオレフィン（Ａ）を溶融混練し、所望の形状に成形し、成形体を作製できる。得られた成形体は、例えば、容器として作製すると機械強度が良好で、内容物の汚染を抑制できる。
【００１１】
＜ポリオレフィン（Ａ）＞
ポリオレフィン（Ａ）は、組成物の主原料であり、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１、およびポリ−４−メチルペンテン、ならびにこれらの共重合体が挙げられる。
ポリエチレンは、例えば、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレンが挙げられる。
ポリプロピレンは、例えば、結晶性または非晶性ポリプロピンが挙げられる。
これらの共重合体は、例えば、エチレン−プロピレンのランダム、ブロックあるいはグラフト共重合体、α−オレフィンとエチレンあるいはプロピレンの共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体およびエチレン−アクリル酸共重合体等が挙げられる。
これらの中でも結晶性または非晶性ポリプロピレン、エチレン−プロピレンのランダム、ブロックあるいはグラフト共重合体が好ましく、プロピレン−エチレンブロック共重合体がより好ましい。また安価で、比重が小さいために成形品を軽量化できる観点からはポリプロピレンが好ましい。
【００１２】
ポリオレフィン（Ａ）のメルトフローレイト（ＭＦＲ）は、１〜１００（ｇ／１０分）が好ましい。なお、ＭＦＲはＪＩＳＫ−７２１０に準拠して求めた数値である。
【００１３】
＜紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）＞
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、紫外線を吸収可能な樹脂である。また、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、樹脂であることで、成形体から内容物へのマイグレーションが抑制される。また、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、特定構造の単量体単位を有するためオレフィン（Ａ）と相溶性が良好であり、成形体は高い透明性が得られる。
【００１４】
より詳しく説明すると、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、ベンゾフェノン骨格を有する単量体単位、および下記一般式（１）で示す単量体単位を有する。紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、ベンゾフェノン骨格を有する単量体を使用しているため紫外線を吸収できる。特に２９０ｎｍ付近の透過率を抑える効果がある。なお、例えば、ベンゾフェノン骨格を有する単量体単位は、ベンゾフェノン骨格を有する単量体を重合して形成される、ポリマー（Ｂ）を構成する構造単位である。
【００１５】
ベンゾフェノン骨格を有する単量体は、ベンゾフェノン骨格とエチレン性不飽和二重結
合を有する化合物であれば、特に限定されない。
ベンゾフェノン骨格を有する単量体は、例えば、４−アクリロイルオキシベンゾフェノン、４−メタクリロイルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アクリロイルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メタクリロイルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−メチル−２−アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メタクリロイルオキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００１６】
ベンゾフェノン骨格を有する単量体は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【００１７】
ベンゾフェノン骨格を有する単量体は、ポリマー（Ｂ）を構成する単量体単位中、０．１〜３０質量％が好ましく、１〜３０質量％がより好ましい。適量含有すると他の物性の低下を抑制しつつ紫外線吸収性がより向上できる。
【００１８】
＜一般式（１）で示す単量体＞
一般式（１）
【化２】
2020132850.tif 000003
【００１９】
式中、Ｒ１６は、水素原子又はメチル基を表す。Ｚは、炭素数が１０以上の炭化水素基を表す。
一般式（１）で示す単量体のＺは、炭素数１０以上の炭化水素基であることで、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、長鎖の疎水性ユニットを有する。これにより紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、主鎖に長鎖の炭化水素鎖を有し、疎水性の高いポリオレフィン（Ａ）との親和性が向上することで両者の相溶性が向上する。なお、Ｚの炭素数の上限は、ベンゾフェノン骨格を有する単量体と共重合できればよく限定されないところ、強いて挙げれば２２以下が好ましく、２０以下がより好ましい。
【００２０】
一般式（１）中、Ｚの炭素数１０以上の炭化水素基は、直鎖構造、分岐構造、環状構造が挙げられる。
直鎖構造および分岐構造の炭化水素基は、例えば、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコシル基のアルキル基等が挙げられる。
直鎖構造および分岐構造の炭化水素基は、分岐構造が好ましく、イソステアリル基がより好ましい。なお、直鎖構造および分岐構造の炭化水素基の炭素数は、１４以上が好ましい。
【００２１】
環状構造の炭化水素基（環状炭化水素基ともいう）は、脂環式炭化水素基、多環式炭化水素基が挙げられる。
脂環式炭化水素基は、例えば、シクロドデシル基等が挙げられる。
多環式炭化水素基は、例えば、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、２−メチル−２−アダマンチル基、２−エチル−２−アダマンチル基等が挙げら
れる。これらの脂環式炭化水素基および多環式炭化水素基は、多環式炭化水素基が好ましく、ジシクロペンタニル基がより好ましい。
【００２２】
一般式（１）で示す単量体は、例えば、ラウリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−メチルー２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチルー２−アダマンチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、イソステアリル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートが好ましく、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートがさらに好ましい。
【００２３】
一般式（１）で示す単量体は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【００２４】
一般式（１）で示す単量体の含有量は、ポリマー（Ｂ）を構成する単量体単位中、３０〜９７質量％が好ましく、４０〜８０質量％がより好ましい。適量含有することで紫外線吸収性、およびポリオレフィン（Ａ）との相溶性が両立しやすい。
【００２５】
単量体単位として、さらに一般式（２）で示す単量体単位を有することが好ましい。これにより紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の紫外線吸収性がより向上する。
【００２６】
一般式（２）
【化３】
2020132850.tif 000004
【００２７】
式中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基を表す。Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキレン基、もしくは-Ｏ-Ｒ５を表し、Ｒ５は、炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ｒ３は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘ１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８の炭化水素基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を表す。
【００２８】
一般式（２）中、炭素数１〜８の炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の鎖式炭化水素基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の脂環式炭化水素基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００２９】
炭素数１〜６のアルキレン基は、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基等の直鎖状アルキレン基；プロピレン基、２−メチルトリメチレン基、２−メチルテトラメチレン基等の分枝鎖状アルキレン基等が挙げられる。また、上記炭素
数２又は３のアルキレン基は、例えば、これらの中から炭素数２又は３のものが挙げられる。
ハロゲン原子は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
炭素数１〜６のアルコキシ基は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘプトキシ基等が挙げられる。
【００３０】
一般式（２）で示す単量体は、例えば、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシメチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−[２−ヒドロキシ−５
−[２−(メタクリロイルオキシ)エチル]フェニル]−２H−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−３’−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−５’−（β−メタクリロイルオキシエトキシ）−３’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル〕−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００３１】
一般式（２）で示す単量体は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【００３２】
一般式（２）で示す単量体の含有量は、ポリマー（Ｂ）を構成する単量体単位中、１〜３０質量％が好ましく、５〜２５質量％がより好ましい。適量含有することで紫外線吸収性、およびポリオレフィン（Ａ）との相溶性を両立しやすい。
【００３３】
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、一般式（３）で示す単量体単位を有することが好ましい。これにより紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の光安定性がより向上する。
【００３４】
一般式（３）
【化４】
2020132850.tif 000005
【００３５】
式中、Ｒ9は水素原子またはシアノ基を表し、Ｒ10、Ｒ11はそれぞれ独立して水素原子
またはメチル基を表し、Ｒ12は水素原子または炭化水素基を表し、Ｙ１は酸素原子またはイミノ基を表す。
【００３６】
一般式（３）で示す単量体は、例えば、４−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ペンタメチルピペリジニルメタクリレート、ペンタメチルピペリジニルアクリレート、４−（メタ）アクリロイルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−シアノ−４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−クロトノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−クロトノイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等が挙げられる。
【００３７】
一般式（３）で示す単量体は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【００３８】
一般式（３）で示す単量体の含有量は、ポリマー（Ｂ）を構成する単量体単位中、１〜３０質量％が好ましく、５〜２５質量％がより好ましい。適量含有することで光安定性、およびポリオレフィン（Ａ）との相溶性がより向上する。
【００３９】
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、単量体単位に芳香族ビニル単量体を有することが好ましい。これにより、ポリオレフィン（Ａ）との相溶性がより向上する。芳香族ビニル単量体は、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、安息香酸ビニル、ビニルトルエン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えばｔ−Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン等が挙げられる。特に、単量体に芳香族ビニル単量体と多環式炭化水素基を併用することが好ましい。これにより、ポリオレフィン（Ａ）との相溶性がさらに向上する。
【００４０】
芳香族ビニル単量体は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【００４１】
芳香族ビニル単量体の含有量は、ポリマー（Ｂ）を構成する単量体単位中、１０〜８０質量％が好ましく、２０〜７０質量％がより好ましい。適量含有することでポリオレフィン（Ａ）との相溶性がより向上する。
【００４２】
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、単量体単位にその他単量体単位を含有できる。その他単量体は、これまでに例示した以外の単量体である。
【００４３】
その他単量体は、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、クロトン酸エステル、ビニルエステル、マレイン酸ジエステル、フマル酸ジエステル、イタコン酸ジエステル、（メタ）アクリルアミド、ビニルエーテル、ビニルアルコールのエステル、スチレン、（メタ）アクリロニトリル、酸性基含有モノマーが挙げられる。
【００４４】
（メタ）アクリル酸エステルは、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチル等が挙げられる。
【００４５】
クロトン酸エステルは、例えば、クロトン酸ブチル、及びクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。
【００４６】
ビニルエステルは、例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート等が挙げられる。マレイン酸ジエステルは、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、及びマレイン酸ジブチル等が挙げられる。
【００４７】
フマル酸ジエステルは、例えば、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、及びフマル酸ジブチル等が挙げられる。
【００４８】
イタコン酸ジエステルは、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル等が挙げられる。
【００４９】
（メタ）アクリルアミドは、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミド等が挙げられる。
【００５０】
ビニルエーテルは、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、及びメトキシエチルビニルエーテル等が挙げられる。
【００５１】
酸性基含有モノマーは、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸；マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸またはその酸無水物；３価以上の不飽和多価カルボン酸またはその酸無水物；こはく酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、こはく酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）等の２価以上の多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイロキシアルキル〕エステル；ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノメタクリレート等の両末端カルボキシポリマーのモノ（メタ）アクリレート類等を挙げられる。
【００５２】
その他単量体は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【００５３】
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の合成は、アニオン重合、リビングアニオン重合、カチオ
ン重合、リビングカチオン重合、フリーラジカル重合、及びリビングラジカル重合等が挙げられる。これらの中でもフリーラジカル重合、リビングラジカル重合が好ましい。
【００５４】
フリーラジカル重合は、重合開始剤を使用するのが好ましい。重合開始剤は、例えば、アゾ系化合物、過酸化物が好ましい。アゾ系化合物は、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２、２’−アゾビス（イソ酪酸メチル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリック酸）、２，２’−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）、または２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］等が挙げられる。過酸化物は、例えば、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシビバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、またはジアセチルパーオキシド等が挙げられる。
【００５５】
重合開始剤は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【００５６】
合成の反応温度は、４０〜１５０℃が好ましく、５０〜１１０℃がより好ましい。反応時間は、３〜３０時間が好ましく、５〜２０時間がより好ましい。
【００５７】
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の合成は、リビングラジカル重合が好ましい。これにより一般的なラジカル重合に起こる副反応が抑制され、更には、重合の成長が均一に起こる為、容易にブロックポリマーや分子量の揃った樹脂を合成できる。
【００５８】
リビングラジカル重合（以下、単に「リビング重合」という）は、例えば、可逆的付加開裂連鎖移動重合（以下、ＲＡＦＴ重合）、原子移動ラジカル重合（以下、ＡＴＲＰ）、ヨウ素化合物を用いたリビング重合、有機テルル化合物を用いたリビング重合（以下、ＴＥＲＰ）等の方法が挙げられる。これらの中でも反応操作が容易で重金属を含む化合物を必要としない点でＲＡＦＴ重合が好ましい。また、ＲＡＦＴ重合に使用するＲＡＦＴ剤は、紫外線を吸収する効果があるため、紫外線吸収性ポリマーの紫外線吸収性がより向上する。
【００５９】
ＲＡＦＴ剤は、連鎖移動効果、および重合開始効果を有する化合物であり、例えば、ジチオベンゾエート型、トリチオカーボネート型、ジチオカルバメート型、およびキサンテート型等、ならびにこれらの前駆体であるジスルフィド型が挙げられる。
ジチオベンゾエート型は、例えば、ジチオ安息香酸２−シアノ−２−プロピル、４−シアノ−４−（チオベンゾイルチオ）ペンタン酸、ベンゾジチオ酸２−フェニル−２−プロピル等が挙げられる。
トリチオカーボネート型は、例えば、４−［（２−カルボキシエチルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］−４−シアノペンタン酸、２−{［（２−カルボキシエチル）スルファニルチオカルボニル］スルファニル}プロパン酸、４−シアノ−４−［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］ペンタン酸、２−シアノ−２−[（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル]プロパン、２−［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸、４−シアノ−４−［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］ペンタン酸メチル、２−メチル−２−[(ドデシルスルファニルチオカルボニル)スルファニル]プロパン酸、Ｓ,Ｓ−ジベンジルトリチオ炭酸、トリチオ炭酸＝ビス［４−（アリルオキシカルボニル）ベンジル］、トリチオ炭酸＝ビス［４−（２,３−ジヒドロキシプロポキシカルボニル）ベンジル］、トリチオ炭酸＝ビス{４−［エチル−（２−アセチルオキシエチル）カルバモイル］ベンジル}、トリチオ炭酸ビス{４−［エチル−（２−ヒドロキシエチル）カルバモイル］ベンジル}、トリチオ炭酸＝ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシカルボニル）ベンジル］等が挙げられる。
ジチオカルバメート型は、例えば、４−クロロ−３,５−ジメチルピラゾ−ル−１−カルボジチオ酸２'−シアノブタン−２'−イル、３,５−ジメチルピラゾ−ル−１−カルボジチオ酸２'−シアノブタン−２'−イル、３,５−ジメチルピラゾ−ル−１−カルボジチオ酸シアノメチル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルジチオカルバミン酸シアノメチル等が挙げられる。
ジスルフィド型としては、ビス（ドデシルスルファニルチオカルボニル）ジスルフィド、ビス（チオベンゾイル）ジスルフィド等が挙げられる。これらはＡ−Ｂブロックポリマーの製造に好ましい。
【００６０】
これらの中でも、合成時の反応制御が容易なトリチオカーボネート型化合物が好ましく、４−シアノ−４−［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］ペンタン酸、２−シアノ−２−[（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル]プロパン、４−シアノ−４−［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］ペンタン酸メチル、トリチオ炭酸ビス{４−［エチル−（２−ヒドロキシエチル）カルバモイル］ベンジル}、ビス（ドデシルスルファニルチオカルボニル）ジスルフィドがより好ましい。
【００６１】
ＲＡＦＴ剤の使用量は、単量体１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。
【００６２】
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の合成には、有機溶剤を用いることが好ましい。有機溶剤は、例えば、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、トルエン、キシレン、アセトン、ヘキサン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、またはジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等が挙げられる。
【００６３】
有機溶剤は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【００６４】
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の重量平均分子量は、５，０００〜１００，０００が好ましく、６，０００〜５０，０００がより好ましい。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した数値である。
【００６５】
本明細書で紫外線吸収ポリマー（Ｂ）は、その全体に占める重量平均分子量１，０００以下の成分（ポリマー）が１％以下である。これにより、本明細書の組成物を使用して作成する成形体は、マイグレーションを抑制しつつ、良好な紫外線吸収効果が得られる。なお、重量平均分子量１，０００以下の成分の量は、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）をＧＰＣで測定して得られる重量平均分子量チャートを基に算出する。
【００６６】
紫外線吸収ポリマー（Ｂ）全体に占める重量平均分子量１，０００以下の成分を１％以下にする方法としては、例えば、（１）リビングラジカル重合を用いて、分子量分布がシャープなポリマーを合成して、重量平均分子量１，０００以下の成分を抑制する方法。（２）紫外線吸収ポリマー（Ｂ）溶液に貧溶媒を加えて分液し、重量平均分子量１，０００以下の成分を抑制する方法。（３）貧溶媒に紫外線吸収ポリマー（Ｂ）溶液を滴下して再沈殿後ろ過、乾燥を行い重量平均分子量１，０００以下の成分を抑制する方法等が挙げられる。なお、本明細書において紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）全体に占める重量平均分子量１，０００以下のポリマーを１％以下にする方法は、上記の方法に限定されないことは言うまでもない。
【００６７】
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の配合量は、ポリオレフィン（Ａ）１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましい。
【００６８】
本明細書の組成物は、ワックスを含有できる。
【００６９】
ワックスは、例えば、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス等が挙げられる。ワックスの融点は、５０〜１８０℃が好ましく、８０〜１７０℃がより好ましい。なお、ワックスの融点は、示差走査熱量計を用いて窒素雰囲気下で測定する。
【００７０】
ワックスの数平均分子量は、５００〜２５，０００が好ましく、１，０００〜１５，０００がより好ましい。なお、数平均分子量はＪＩＳ  Ｋ２２０７：１９９６（日本工業規格）に準拠して測定した数値である。
【００７１】
ワックスの配合量は、ポリオレフィン（Ａ）１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。
【００７２】
本明細書の組成物は、たとえば、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）を高濃度で配合したマスターバッチとして製造することが好ましい。マスターバッチは、例えば、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）とポリオレフィン（Ａ）を溶融混練し、ペレタイザーを使用してペレット状に製造できる。なお、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の凝集を防ぐため、予め、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）とワックスを溶融混練した分散体を作製した後、ポリオレフィン（Ａ）と共に、溶融混錬してマスターバッチを作製することが好ましい。ここで、分散体の作製は、ブレンドミキサーや３本ロールミル等を用いることが好ましい。
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、成形体が含む相当量を成形時に配合するよりも、一旦、マスターバッチとして着色成形用樹脂組成物に予備分散した後に、希釈樹脂の熱可塑性樹脂と配合（溶融混錬）して所望の成形体を製造すると、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）を成形体内に均一に分散しやすくなる。
組成物をマスターバッチとして作製する場合、ポリオレフィン（Ａ）１００質量部に対して、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）を１〜２００質量部配合することが好ましい。マスターバッチ（Ｘ）と、成形体の母材樹脂となる希釈用樹脂（Ｙ）との質量比は、Ｘ／Ｙ＝１０／１〜１／１００が好ましく、Ｘ／Ｙ＝１／５〜１／１００がより好ましい。この範囲にすると成形品は、良好な光特性が得やすい。
【００７３】
希釈用樹脂は、ポリオレフィンに限定されず、ポリオレフィン（Ａ）と相溶性の良い熱可塑性樹脂を適宜選択して使用できる。
【００７４】
溶融混練は、例えば単軸混練押出機、二軸混練押出機、タンデム式二軸混練押出機等を用が好ましい。溶融混錬温度は、ポリオレフィン（Ａ）の種類により異なるが、通常１５０〜２５０℃程度である。
【００７５】
本明細書の組成物は、さらに酸化防止剤、光安定剤、分散剤等を含むことができる。
【００７６】
本明細書の成形体は、組成物を含む。具体的には、組成物を成形して作製する。
成形方法は、例えば、押出成形、射出成形、ブロー成形等が挙げられる。押出成形は、例えばコンプレッション成形、パイプ押出成形、ラミネート成形、Ｔダイ成形、インフレーション成形、溶融紡糸等が挙げられる。
【００７７】
成形温度は、希釈樹脂の軟化点によるところ、通常１６０〜２４０℃である。
【００７８】
本明細書の成形体は、通常の押出成形よりも成形速度が速い高速押出成形（成形機スクリュー回転数：１５０ｒｐｍ程度）や、無剪断領域が長いコンプレッション成形で製造する場合にも配合のばらつきが生じ難い。特に射出成形の約１０倍の成形速度である高速コンプレッション成形（生産速度５００個／分以上、場合によっては７００〜９００個／分）においても成形品に配合のばらつきが生じ難く、内容物を汚染し難い。
【００７９】
本明細書の成形体の製造方法の１例としてコンプレッション成形の説明をする。まず、本発明の着色成形用樹脂組成物を溶融混合し、圧縮成型機に投入し、当該圧縮成型機内で剪断力を加えず、圧縮による押し出す力を加えることで成型品を得る工程を含む、成型品の製造方法である。ここで剪断力を加えず、圧縮による押し出す力を加えることは、着色成形用樹脂組成物には混合する力が加わっていない状態、すなわち無剪断領域に着色成形用樹脂組成物が存在している。なお本発明で成型品は型に樹脂を投入し物品を得るものである。また成形品は、プラスチックフィルムなど型を使用せずに得た物品と成型品を含むものである。
【００８０】
本明細書の成形品は、例えば、医療用薬剤、化粧品、食品用容器および包装材、雑貨、繊維製品、医薬品用容器、各種産業用被覆材、自動車用部品、家電製品、住宅等の建材、トイレタリー用品などの用途で幅広く使用できる。
【実施例】
【００８１】
以下、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、「質量部」は、「部」、「質量％」は「％」と記載する。
【００８２】
（分子量）
数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＲＩ検出器を装備したゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した。装置としてＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ（東ソー社製）を用い、分離カラムを２本直列に繋ぎ、両方の充填剤には「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＳＵＰＥＲ  ＨＺＭ−Ｎ」を２連でつなげて使用し、オーブン温度４０℃、溶離液としてＴＨＦ溶液を用い、流速０．３５ｍｌ/ｍｉｎで測定した。サンプルは１ｗｔ％の
上記溶離液からなる溶剤に溶解し、２０マイクロリットル注入した。分子量はいずれもポリスチレン換算値である。
【００８３】
実施例で使用したポリオレフィンを以下に示す。
（Ａ−１）ポリエチレン（サンテックＬＤ  Ｍ２２７０、ＭＦＲ＝７ｇ／１０ｍｉｎ、旭化成ケミカルズ社製）
（Ａ−２）ポリエチレン（ノバテックＵＪ７９０、ＭＦＲ＝５０ｇ／１０ｍｉｎ、日本ポリエチレン社製）
（Ａ−３）ポリプロピレン（ノバテックＰＰ  ＦＡ３ＥＢ、ＭＦＲ＝１０．５ｇ／１０ｍｉｎ、日本ポリプロ社製）
（Ａ−４）ポリプロピレン（プライムポリプロＪ２２６Ｔ、ＭＦＲ＝２０ｇ／１０ｍｉｎ、プライムポリマー社製）
（Ａ−５）ポリエチレン（エボリューＨ ＳＰ６５０５１Ｂ、ＭＦＲ＝ ０．４５ｇ／１０ｍｉｎ、プライムポリマー社製）
【００８４】
また実施例で使用したワックスを以下に示す。
（Ｄ−１）ポリエチレンワックス（サンワックス１３１−Ｐ  平均分子量３５００、融点１０５℃、三洋化成工業社製）
（Ｄ−２）ポリエチレンワックス（ハイワックス４０５ＭＰ  平均分子量４５００、融点１２０℃、三井化学社製）
（Ｄ−３）ポリプロピレンワックス（ハイワックスＮＰ０５６  数平均分子量７２００、融点１３０℃、三井化学社製）
【００８５】
［紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の製造例］
＜製造例１（ポリマーＢ−１）＞
温度計、攪拌機、滴下ロート、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコに、メチルエチルケトン６１．４部を仕込み窒素気流下で７５℃に昇温した。別途、４−メタクリロイルオキシベンゾフェノン（ＭＣＣユニテック社製、ＭＢＰ）を５．０部、一般式（１）で示す単量体としてジシクロペンタニルメタクリレート（日立化成社製、ＦＡ−５１３Ｍ）を４７．５部、スチレンを４７．５部、２，２’−アゾビス（イソ酪酸メチル）を１０．０部、およびメチルエチルケトン７５．０部を均一に混合した後、滴下ロートに仕込んだ。次いで滴下ロートの内容物を２時間かけて滴下した。滴下終了後、２時間反応を継続した。その後、サンプリングを行い重合収率が９８％以上である事を確認し、メチルエチルケトンで不揮発分が３５％になるように希釈し、室温に冷却し、樹脂溶液ｂ−１を得た。
次に温度計、攪拌機、滴下ロート、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコにメチルエチルケトン５００部、メタノール５００部を仕込んでおき、ディスパーで１，０００回転させたところに上記樹脂溶液ｂ−１、２５０部を１時間かけて滴下した。生成してきた白色沈殿物をろ過で取出し、真空乾燥機で５０℃１２時間乾燥し、ポリマー（Ｂ−１）を得た。
【００８６】
＜製造例２，３，５，９＞
単量体の種類と量を表１の通り変更した以外は、製造例１と同様に合成し、ポリマー（Ｂ−２、Ｂ−３，Ｂ−５，Ｂ−９）を得た。
【００８７】
＜製造例４＞
単量体の種類と量を表１の通り変更し、樹脂溶液ｂ−４を得た。不揮発分３５％のｂ−４、２５０部にアセトン２５０部を添加し、ディスパーで１，０００回転で３０分間攪拌したあと、攪拌を止め、１時間放置すると２層に分かれた。下層の樹脂層を取出し、メチルエチルケトンで３５％に希釈し、樹脂溶液ｂ−４‘を得た。
得られた樹脂溶液を真空乾燥機で５０℃１２時間乾燥し、ポリマー（Ｂ−４）を得た。
【００８８】
＜製造例６＞
温度計、攪拌機、滴下ロート、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコにメチルエチルケトン２５０部、メタノール２５０部を仕込んでおき、ディスパーで１，０００回転させたところに製造例４で得られた樹脂溶液ｂ−４‘、１２５部を１時間かけて滴下した。生成してきた白色沈殿物をろ過で取出し、真空乾燥機で５０℃１２時間乾燥し、ポリマー（Ｂ−６）を得た。
【００８９】
＜製造例７，１２＞
単量体の種類と量を表１の通り変更し、製造例４，６と同様の操作を行いポリマー（Ｂ−７、Ｂ−１２）を得た。
【００９０】
＜製造例８＞
温度計、攪拌機、滴下ロート、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコに、メチルエチルケトン３８．０部、４−メタクリロイルオキシベンゾフェノンを３．０部、一般式（１）で示す単量体としてジシクロペンタニルメタクリレートを４１．０部、スチレンを４１．０部、一般式（２）で示す単量体として２−[２−ヒドロキシ−５−[２−(メタク
リロイルオキシ)エチル]フェニル]−２H−ベンゾトリアゾール（大塚化学社製、ＲＵＶＡ−９３）を１５．０部、チオグリコール酸オクチル（淀化学社製、ＯＴＧ）を２．０ｇを仕込み窒素気流下で７５℃に昇温した。そこに２，２’−アゾビス（イソ酪酸メチル）を１．０部、チオグリコール酸オクチル（淀化学社製、ＯＴＧ）を２．０ｇおよびメチルエチルケトン１７．０部を８時間かけて滴下した。滴下終了後、２時間反応を継続した。その後、サンプリングを行い重合収率が９８％以上である事を確認し、メチルエチルケトンで希釈し、不揮発分３５％の樹脂溶液ｂ−８を得た。ｂ−８、２５０部にアセトン２５０部を添加し、ディスパーで１，０００回転で３０分間攪拌したあと、攪拌を止め、１時間放置すると２層に分かれた。下層の樹脂層を取出し、メチルエチルケトンで３５％に希釈し、樹脂溶液ｂ−８‘を得た。
温度計、攪拌機、滴下ロート、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコにメチルエチルケトン２５０部、メタノール２５０部を仕込んでおき、ディスパーで１，０００回転させたところに樹脂溶液ｂ−８‘、１２５部を１時間かけて滴下した。生成してきた白色沈殿物をろ過で取出し、真空乾燥機で５０℃１２時間乾燥し、ポリマー（Ｂ−８）を得た。
【００９１】
＜製造例１０＞
温度計、攪拌機、滴下ロート、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコに、メチルエチルケトン３８．０部、４−メタクリロイルオキシベンゾフェノン（ＭＣＣユニテック株式会社製、ＭＢＰ）を３．０部、一般式（１）で示す単量体としてジシクロペンタニルメタクリレートを４１．０部、スチレンを４１．０部、一般式（２）で示す単量体として２−[２−ヒドロキシ−５−[２−(メタクリロイルオキシ)エチル]フェニル]−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを１５．０部、４−シアノ−４−［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］ペンタン酸メチルを４．４ｇを仕込み窒素気流下で７５℃に昇温した。そこに２，２’−アゾビス（イソ酪酸メチル）を２．５部およびメチルエチルケトン１７．０部を８時間かけて滴下した。滴下終了後、２４時間反応を継続した。その後、サンプリングを行い重合収率が９９％以上である事を確認し、５０℃へ冷却、テフロン（登録商標）バットに取り出した。さらに、真空乾燥機で５０℃１２時間乾燥し、ポリマー（Ｂ−１０）を得た。
【００９２】
＜製造例１１＞
温度計、攪拌機、滴下ロート、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコに、メチルエチルケトン４３．０部、ビス（ドデシルスルファニルチオカルボニル）ジスルフィドを１．７７部、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）を０．８８部仕込み窒素気流下で７０℃に昇温し、２時間反応させた。そこに４−アクリロイルオキシベンゾフェノンを１０．０部、一般式（２）で示す単量体として２−[２−ヒドロキシ−５−[２−(メタクリロイルオキシ)エチル]フェニル]−２H−ベンゾトリアゾールを４０．０部仕込み窒素気流下で７５℃に昇温した。そこにジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）を０．１５部およびメチルエチルケトン１０．０部を８時間かけて滴下し、Ａブロックを合成した。その後、ジシクロペンタニルメタクリレートを４５．０部、２−メトキシエチルアクリレートを５．０部、メチルエチルケトンを４０．１部仕込み、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）を０．１５部およびメチルエチルケトン１０．０部を８時間かけて滴下し、Ｂブロックを合成した。滴下終了後、２４時間反応を継続した。その後、サンプリングを行い重合収率が９９％以上である事を確認し、樹脂溶液ｂ−１１を得た。
次に温度計、攪拌機、滴下ロート、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコにメタノール５００部を仕込んでおき、ディスパーで１，０００回転させたところに上記樹脂溶液ｂ−１１、１００部を１時間かけて滴下した。生成してきた白色沈殿物をろ過で取出し、真空乾燥機で５０℃１２時間乾燥し、ＡＢブロックポリマー（Ｂ−１１）を得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）１５，２００、Ｍｗ／Ｍｎ  １．２３であった。
【００９３】
＜製造例１２＞
温度計、攪拌機、滴下ロート、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコに、酢酸エチル２５．４部、ビス（ドデシルスルファニルチオカルボニル）ジスルフィドを１．７７部、２，２’−アゾビス（２、４−ジメチルバレロニトリル）を０．９５部仕込み窒素気流下で７０℃に昇温し、２時間反応させた。そこに４−メタクリロイルオキシベンゾフェノン（ＭＣＣユニテック株式会社製、ＭＢＰ）を１０．０部、一般式（２）で示す単量体として２−[２−ヒドロキシ−５−[２−(メタクリロイルオキシ)エチル]フェニル]−２H−ベンゾトリアゾールを４０．０部仕込み窒素気流下で７５℃に昇温した。そこに２，２’−アゾビス（２、４−ジメチルバレロニトリル）を０．１６部および酢酸エチル１０．０部を８時間かけて滴下し、Ａブロックを合成した。その後、ジシクロペンタニルメタクリレートを４５．０部、２−メトキシエチルアクリレートを５．０部、酢酸エチルを２３．４部仕込み、２，２’−アゾビス（２、４−ジメチルバレロニトリル）を０．１６部および酢酸エチル１０．０部を８時間かけて滴下し、Ｂブロックを合成した。滴下終了後、２４時間反応を継続した。その後、サンプリングを行い重合収率が９９％以上である事を確認し、樹脂溶液ｂ−１２を得た。
次に温度計、攪拌機、滴下ロート、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコにメタノール５００部を仕込んでおき、ディスパーで１，０００回転させたところに上記樹脂溶液ｂ−１２、１００部を１時間かけて滴下した。生成してきた白色沈殿物をろ過で取出し、真空乾燥機で５０℃１２時間乾燥し、ＡＢブロックポリマー（Ｂ−１２）を得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）１３，６００、Ｍｗ／Ｍｎ  １．２０であった。
【００９４】
＜製造例１３＞
温度計、攪拌機、滴下ロート、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコに、メチルエチルケトン６１．４部を仕込み窒素気流下で７５℃に昇温した。別途、４−メタクリロイルオキシベンゾフェノンを３．０部、一般式（１）で示す単量体としてジシクロペンタニルメタクリレートを４１．０部、スチレンを４１．０部、一般式（２）で示す単量体として２−[２−ヒドロキシ−５−[２−(メタクリロイルオキシ)エチル]フェニル]−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを１５．０部、２，２’−アゾビス（イソ酪酸メチル）を１０．０部、およびメチルエチルケトン７５．０部、を均一に混合した後、滴下ロートに仕込んだ。次いで滴下ロートの内容物を２時間かけて滴下した。滴下終了後、２時間反応を継続した。その後、サンプリングを行い重合収率が９８％以上である事を確認し、５０℃へ冷却、テフロン（登録商標）バットに取り出した。さらに、真空乾燥機で５０℃１２時間乾燥し、ポリマー（Ｂ−１３）を得た。
【００９５】
【表１】
2020132850.tif 000006
【００９６】
表１中の用語の詳細は以下の通りである。
・ＭＢＰ：４−メタクリロイルオキシベンゾフェノン（ＭＣＣユニテック社製）
・４ＡＢＰ：４−アクリロイルオキシベンゾフェノン
・ＲＵＶＡ−９３：
２−[２−ヒドロキシ−５−[２−(メタクリロイルオキシ)エチル]フェニル]−２H−ベン
ゾトリアゾール（大塚化学社製）
・ＦＡ−７１１ＭＭ：
ペンタメチルピペリジニルメタクリレート（日立化成社製）
・２−ＭＴＡ：２−メトキシエチルアクリレート
【００９７】
（実施例１）
〔マスターバッチの製造〕
ワックス（Ｄ−１）１００部、およびポリマー（Ｂ−１）１００部を混合し、３本ロールミルを使用して１６０℃で混練を行いポリマー（Ｂ−１）の分散体を得た。次いで、ポリオレフィン（Ａ−３）１００部と共に得られた上記分散体１００部をヘンシェルミキサーで混合した。次いで、スクリュー径３０ｍｍの単軸押出機にて１８０℃で溶融混練した後、冷却し、ペレタイザーを用いてペレット状にカッティングしてマスターバッチを得た。
【００９８】
［フィルム成形］
希釈樹脂としてポリオレフィン（Ａ−３）１００部に対して、得られたマスターバッチ５０部を混合した。次いで、Ｔ−ダイ成形機（東洋精機社製）を用いて、温度１８０℃で溶融混合し成形を行い厚さ２５０μｍのフィルムを得た。
【００９９】
（実施例２〜１７、比較例1〜３）
実施例１の材料を表２に示す材料および配合量に変更した以外は、実施例１と同様にして、マスターバッチを製造し、次いでそれぞれ実施例２〜１７、比較例1〜３のフィルム
を成形した。
【０１００】
表２中の用語の詳細は以下の通りである。
【０１０１】
アデカスタブＬＡ−２９（ＡＤＥＫＡ社製）
【化６】
2020132850.tif 000007
【０１０２】
［紫外線吸収性］
得られたフィルムの透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（島津製作所社製）を用いて測定した。透過率は白色標準板に対しての分光透過率を測定した。なお、評価基準は、以下に示す。
〇：波長２９０〜３６０ｎｍの光透過率が全領域にわたって０．３％未満  良好
△：波長２９０〜３６０ｎｍの範囲で一部光透過率が０．３％％以上の領域がある  実用域
×：波長２９０〜３６０ｎｍの光透過率が全領域にわたって０．３％％以上  実用不可
【０１０３】
［フィルムの透過性］
ポリオレフィンとの相溶性を確認するために得られたフィルムの透過性を目視評価した。なお、評価基準は、以下の通りである。
◎：濁りが全く認められない。非常に良好
〇：濁りがほとんど認められない。良好
△：濁りが若干認められる。実用域
×：明らかに濁りが認められる。実用不可
【０１０４】
［耐光性試験］                            
得られたフィルムをキセノンウェザーメーターで、３００〜４００ｎｍが６０Ｗ／ｍ２の照度で１５００時間暴露した。
〇：黄変が全く認められない。良好
△：黄変がわずかに認められる。実用域
×：明らかに黄変が認められる。実用不可
【０１０５】
［マイグレーション評価］
得られたフィルムを酸化チタンを配合した軟質塩化ビニルシートで挟み、熱プレス機を使用して圧力１００ｇ／ｃｍ２・温度１７０℃３０秒間の条件で加熱圧着した。次いで、直ちにフィルムを外して酸化チタンを配合した軟質塩化ビニルシートへのマイグレーションを紫外可視近赤外分光光度計（島津製作所社製）を用いて評価した。評価は、上記の処理を行った軟質塩化ビニルシート上の場所５点を選び、紫外領域の吸光度を測定し、その平均を算出することで行った。
○：３８０〜４８０ｎｍにおける吸光度が検出されない（０．０５未満）。良好
△：３８０〜４８０ｎｍにおける吸光度が０．０５以上０．２以下。実用域
×：３８０〜４８０ｎｍにおける吸光度が０．２を超える。実用不可
【０１０６】
［臭気評価］
得られたフィルムの臭気を官能試験で確認し、ポリオレフィンのみのフィルムとの違いの確認を５名で行った。
○：ポリオレフィンフィルムのみのフィルムと同等の臭気と５名が判定。良好
△：ポリオレフィンフィルムのみのフィルムと同等の臭気と３名が判定。実用域
×：ポリオレフィンフィルムのみのフィルムと同等の臭気と０名が判定。実用不可
【０１０７】
【表２】
2020132850.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月30日(2019.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオレフィン（Ａ）、および紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）を含み、
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、ベンゾフェノン骨格を有する単量体単位、および下記一般式（１）で示す単量体単位を有し、
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の重量平均分子量は、５，０００〜１００，０００であり、かつ前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）全体に占める重量平均分子量１，０００以下のポリマーは、１％以下である、成形用樹脂組成物。
一般式（１）
【化１】
2020132850.tif 000011
（ただし、一般式（１）中、Ｒ１６は、水素原子又はメチル基を表す。Ｚは、炭素数が１０以上の環状炭化水素基、または炭素数１４以上の、直鎖構造もしくは分岐構造の炭化水素基を表す。
【請求項２】
前記分岐構造の炭化水素基は、イソステアリル基である、請求項１に記載の成形用樹脂組成物。
【請求項３】
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）が、下記一般式（２）で示す単量体単位を含む、請求項１または２に記載の成形用樹脂組成物。
一般式（２）
【化２】
2020132850.tif 000012
（ただし、一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキレン基、もしくは-Ｏ-Ｒ５を表し、Ｒ５は、炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ｒ３は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘ１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８の炭化水素基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を表す。）
【請求項４】
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）が、単量体単位中にベンゾフェノン骨格を有する単量体単位を０．１〜３０質量％含む、請求項１〜３いずれか１項に記載の成形用樹脂組成物。  
【請求項５】
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）が、単量体単位中に一般式（２）で示す単量体を１〜３０質量％含む、請求項４に記載の成形用樹脂組成物。        
【請求項６】
請求項１〜５いずれか１項に記載の成形用樹脂組成物を含む、成形体。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月17日(2020.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオレフィン（Ａ）、および（Ｂ）を含み、
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、ベンゾフェノン骨格を有する単量体単位、および下記一般式（１）で示す単量体単位を有し、
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の重量平均分子量は、５，０００〜１００，０００であり、かつ前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）全体に占める重量平均分子量１，０００以下のポリマーは、１％以下である、成形用樹脂組成物。
一般式（１）
【化１】
2020132850.tif 000013
（ただし、一般式（１）中、Ｒ１６は、水素原子又はメチル基を表す。Ｚは、炭素数が１０以上の環状炭化水素基を表す。
【請求項２】
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）が、下記一般式（２）で示す単量体単位を含む、請求項１に記載の成形用樹脂組成物。
一般式（２）
【化２】
2020132850.tif 000014
（ただし、一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキレン基、もしくは-Ｏ-Ｒ５を表し、Ｒ５は、炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ｒ３は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘ１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８の炭化水素基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を表す。）
【請求項３】
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）が、単量体単位中にベンゾフェノン骨格を有する単量体単位を０．１〜３０質量％含む、請求項１または２に記載の成形用樹脂組成物。  
【請求項４】
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）が、単量体単位中に一般式（２）で示す単量体を１〜３０質量％含む、請求項２に記載の成形用樹脂組成物。        
【請求項５】
請求項１〜４いずれか１項に記載の成形用樹脂組成物を含む、成形体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
（実施例２〜１７、比較例1〜３）
実施例１の材料を表２に示す材料および配合量に変更した以外は、実施例１と同様にして、マスターバッチを製造し、次いでそれぞれ実施例２〜１７、比較例1〜３のフィルムを成形した。なお、本明細書で実施例３は、参考例である。
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月12日(2020.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオレフィン（Ａ）、および紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）を含み、
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）は、ベンゾフェノン骨格を有する単量体単位、および下記一般式（１）で示す単量体単位を有し、
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）の重量平均分子量は、５，０００〜１００，０００であり、かつ前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）全体に占める重量平均分子量１，０００以下のポリマーは、１％以下である、成形用樹脂組成物。
一般式（１）
【化１】
2020132850.tif 000015
（ただし、一般式（１）中、Ｒ１６は、水素原子又はメチル基を表す。Ｚは、炭素数が１０以上の環状炭化水素基を表す。
【請求項２】
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）が、下記一般式（２）で示す単量体単位を含む、請求項１に記載の成形用樹脂組成物。
一般式（２）
【化２】
2020132850.tif 000016
（ただし、一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキレン基、もしくは-Ｏ-Ｒ５を表し、Ｒ５は、炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ｒ３は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘ１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８の炭化水素基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を表す。）
【請求項３】
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）が、単量体単位中にベンゾフェノン骨格を有する単量体単位を０．１〜３０質量％含む、請求項１または２に記載の成形用樹脂組成物。  
【請求項４】
前記紫外線吸収性ポリマー（Ｂ）が、単量体単位中に一般式（２）で示す単量体を１〜３０質量％含む、請求項２に記載の成形用樹脂組成物。        
【請求項５】
請求項１〜４いずれか１項に記載の成形用樹脂組成物を含む、成形体。