(57)【要約】      （修正有）【課題】ヘキサフルオロプロピレンオキシド等から１工程でフルオロラクトン化合物を製造できる方法等の提供。【解決手段】フルオロラクトン化合物の製造方法であって、式（２）で表される化合物と、2020132524.tif 000059式（３−１）で表される化合物とを、2020132524.tif 000060式（４−１）で表されるフッ素化合物ＭＨｎＦｍ（４−１）［式中、Ｍは金属原子であり、ｎは０又は１であり、Ｍの原子価数とｎの和はｍである。］並びに有機溶媒（当該有機溶媒からは、式（３−１）で表される化合物は除外される。）の存在下に反応させる工程を含む製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
【化１】
2020132524.tif 000044
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
【化２】
2020132524.tif 000045
［式中、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物と、
式（３−１）：
【化３】
2020132524.tif 000046
［式中、
Ｒ３１、Ｒ３２、及びＲ３３は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−１０アルキル基であるか、或いは２つが互いに結合して、１個以上の置換基を有していてもよい環を形成していてもよい。］
で表される化合物
及び
式（３−２）：
【化４】
2020132524.tif 000047
［式中、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、及びＲ３７は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−１０アルキル基であるか、或いは２つが互いに結合して、１個以上の置換基を有していてもよい環を形成していてもよい。］
で表される化合物
からなる群から選択される少なくとも１種の化合物（３）とを、
式（４−１）：
ＭＨｎＦｍ              （４−１）
［式中、Ｍは金属原子であり、ｎは０又は１であり、Ｍの原子価数とｎの和はｍである。］
で表される化合物、
式（４−２）：
ＬＲ４１４Ｆ              （４−２）
［式中、Ｌは窒素原子又はリン原子であり、Ｒ４１は、同一又は異なって、Ｃ１−５アルキル基である。］
で表される化合物、及び
フッ酸又はその塩
からなる群から選択される少なくとも１種のフッ素化合物（４）
並びに
有機溶媒（当該有機溶媒からは、前記式（３−１）で表される化合物及び式（３−２）で表される化合物は除外される。）の存在下に反応させる工程Ａ
を含む製造方法。
【請求項２】
２つのＲ１は、同一に、Ｃ１−１０フルオロアルキル基である、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記工程Ａが上液層及び下液層が生成する工程であって、分液する工程Ｂをさらに含む、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
式（５）：
【化５】
2020132524.tif 000048
［式中、Ｒ１はフッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
前記工程Ａ又はＢで生成した式（１）：
【化６】
2020132524.tif 000049
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物を、
式（４−１）：
ＭＨｎＦｍ              （４−１）
［式中、Ｍは金属原子であり、ｎは０又は１であり、Ｍの原子価数とｎの和はｍである。］
で表される化合物、
式（４−２）：
ＬＲ４１４Ｆ              （４−２）
［式中、Ｌは窒素原子又はリン原子であり、Ｒ４１は、同一又は異なって、Ｃ１−５アルキル基である。］
で表される化合物、及び
フッ酸又はその塩
からなる群から選択される少なくとも１種のフッ素化合物（４）
の存在下に加熱して
式（６）：
【化７】
2020132524.tif 000050
［式中、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を生成させる工程Ｃ、
該式（６）で表される化合物を塩基と反応させて式（８）：
【化８】
2020132524.tif 000051
［式中、Ｒ８１は前記塩基に対応する基であり、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を生成させる工程Ｄ、及び
該式（８）で表される化合物を加熱して前記式（５）で表される化合物を生成させる工程Ｅ
を含む、方法。
【請求項５】
前記工程Ｄに代えて、
前記式（６）で表される化合物を水又はアルキルアルコールと反応させて式（７）：
【化９】
2020132524.tif 000052
［式中、Ｒ７１は水素原子又はアルキル基であり、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を生成させる工程Ｄ１、及び
該式（７）で表される化合物を塩基と反応させて前記式（８）で表される化合物を生成させる工程Ｄ２
を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記工程Ｄ１において生成した液を精製して前記式（７）で表される化合物を得る工程Ｄ１ａをさらに含む、請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
前記工程Ｄ及び工程Ｅに代えて、
前記式（６）で表される化合物を塩基の存在下に加熱して前記式（５）で表される化合物を生成する工程Ｆ
を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
式（７−１）：
【化１０】
2020132524.tif 000053
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基であり、Ｒ７２はアルキル基である。］
で表される化合物。
【請求項９】
Ｒ７２が直鎖又は分岐鎖状のＣ１−１０アルキル基である請求項８に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ７２がメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、又はtert-ブチルである請求項８に記載の化合物。
【請求項１１】
式（６）：
【化１１】
2020132524.tif 000054
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物をアルキルアルコールと反応させ式（７−１）：
【化１２】
2020132524.tif 000055
［式中、Ｒ７２はアルキル基であり、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を生成させる工程Ｄ１−１を含む、
請求項８に記載の化合物の製造方法。
【請求項１２】
式（５）：
【化１３】
2020132524.tif 000056
［式中、Ｒ１はフッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物を含有する組成物であって、
さらに、式（５）で表される化合物１００質量部に対して、
式（９）：
【化１４】
2020132524.tif 000057
［式中、２つのＲ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を０．００００１〜１質量部、及び／又は
式（１０）：
【化１５】
2020132524.tif 000058
［式中、２つのＲ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を０．００００１〜１質量部
含有する組成物。
【請求項１３】
前記式（５）で表される化合物１００質量部に対して、
前記式（９）で表される化合物の含有量が０．００００１〜０．５質量部であり、
前記式（１０）で表される化合物の含有量が０．００００１〜０．５質量部である、
請求項１２に記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、フルオロラクトン及びその製造方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
2-(ジフルオロメチレン)-4,4,5-トリフルオロ-5-(トリフルオロメチル)-1,3-ジオキソランはフッ素樹脂原料に用いられる。
このパーフルオロジオキソランを製造する方法としては、次式に示すような、3,5,5,6-テトラフルオロ-3,6-ビス(トリフルオロメチル)-1,4-ジオキサン-2-オンを原料とする方法が知られている（例えば、特許文献１）。
【化１】
2020132524.tif 000002
【０００３】
また、前記パーフルオロジオキサンを製造する方法としては、例えば、次式に示すような、ヘキサフルオロプロピレンオキシドを原料とした２工程の方法が知られている（例えば、非特許文献１）。
【化２】
2020132524.tif 000003
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２０１４号公報
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】V. S. Yuminov, S. V. Kartsov, V. L. Maksimov, and A. V. Fokin, Bulletin of the Academy of Sciences of the USSR, 1988, 37, 311.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
非特許文献１に記載された前記パーフルオロジオキサンの製造方法では２工程必要であった。
本開示は、ヘキサフルオロプロピレンオキシド等から１工程でフルオロラクトン化合物を製造できる方法等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は、次の態様を包含する。
項１．
式（１）：
【化３】
2020132524.tif 000004
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
【化４】
2020132524.tif 000005
［式中、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物と、
式（３−１）：
【化５】
2020132524.tif 000006
［式中、
Ｒ３１、Ｒ３２、及びＲ３３は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−１０アルキル基であるか、或いは２つが互いに結合して、１個以上の置換基を有していてもよい環を形成していてもよい。］
で表される化合物
及び
式（３−２）：
【化６】
2020132524.tif 000007
［式中、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、及びＲ３７は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−１０アルキル基であるか、或いは２つが互いに結合して、１個以上の置換基を有していてもよい環を形成していてもよい。］
で表される化合物
からなる群から選択される少なくとも１種の化合物（３）とを、
式（４−１）：
ＭＨｎＦｍ              （４−１）
［式中、Ｍは金属原子であり、ｎは０又は１であり、Ｍの原子価数とｎの和はｍである。］
で表される化合物、
式（４−２）：
ＬＲ４１４Ｆ              （４−２）
［式中、Ｌは窒素原子又はリン原子であり、Ｒ４１は、同一又は異なって、Ｃ１−５アルキル基である。］
で表される化合物、及び
フッ酸又はその塩
からなる群から選択される少なくとも１種のフッ素化合物（４）
並びに
有機溶媒（当該有機溶媒からは、前記式（３−１）で表される化合物及び式（３−２）で表される化合物は除外される。）の存在下に反応させる工程Ａ
を含む製造方法。
項２．
２つのＲ１は、同一に、Ｃ１−１０フルオロアルキル基である、項１に記載の製造方法。
項３．
前記工程Ａが上液層及び下液層が生成する工程であって、分液する工程Ｂをさらに含む、項１又は２に記載の製造方法。
項４．
式（５）：
【化７】
2020132524.tif 000008
［式中、Ｒ１はフッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
前記工程Ａ又はＢで生成した式（１）：
【化８】
2020132524.tif 000009
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物を、
式（４−１）：
ＭＨｎＦｍ              （４−１）
［式中、Ｍは金属原子であり、ｎは０又は１であり、Ｍの原子価数とｎの和はｍである。］
で表される化合物、
式（４−２）：
ＬＲ４１４Ｆ              （４−２）
［式中、Ｌは窒素原子又はリン原子であり、Ｒ４１は、同一又は異なって、Ｃ１−５アルキル基である。］
で表される化合物、及び
フッ酸又はその塩
からなる群から選択される少なくとも１種のフッ素化合物（４）
の存在下に加熱して
式（６）：
【化９】
2020132524.tif 000010
［式中、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を生成させる工程Ｃ、
該式（６）で表される化合物を塩基と反応させて式（８）：
【化１０】
2020132524.tif 000011
［式中、Ｒ８１は前記塩基に対応する基であり、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を生成させる工程Ｄ、及び
該式（８）で表される化合物を加熱して前記式（５）で表される化合物を生成させる工程Ｅ
を含む、方法。
項５．
前記工程Ｄに代えて、
前記式（６）で表される化合物を水又はアルキルアルコールと反応させて式（７）：
【化１１】
2020132524.tif 000012
［式中、Ｒ７１は水素原子又はアルキル基であり、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を生成させる工程Ｄ１、及び
該式（７）で表される化合物を塩基と反応させて前記式（８）で表される化合物を生成させる工程Ｄ２
を含む、項４に記載の方法。
項６．
前記工程Ｄ１において生成した液を精製して前記式（７）で表される化合物を得る工程Ｄ１ａをさらに含む、項５に記載の製造方法。
項７．
前記工程Ｄ及び工程Ｅに代えて、
前記式（６）で表される化合物を塩基の存在下に加熱して前記式（５）で表される化合物を生成する工程Ｆ
を含む、項４に記載の方法。
項８．
式（７−１）：
【化１２】
2020132524.tif 000013
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基であり、Ｒ７２はアルキル基である。］
で表される化合物。
項９．
Ｒ７２が直鎖又は分岐鎖状のＣ１−１０アルキル基である項８に記載の化合物。
項１０．
Ｒ７２がメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、又はtert-ブチルである項８に記載の化合物。
項１１．
式（６）：
【化１３】
2020132524.tif 000014
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物をアルキルアルコールと反応させ式（７−１）：
【化１４】
2020132524.tif 000015
［式中、Ｒ７２はアルキル基であり、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を生成させる工程Ｄ１−１を含む、
項８に記載の化合物の製造方法。
項１２．
式（５）：
【化１５】
2020132524.tif 000016
［式中、Ｒ１はフッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物を含有する組成物であって、
さらに、式（５）で表される化合物１００質量部に対して、
式（９）：
【化１６】
2020132524.tif 000017
［式中、２つのＲ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を０．００００１〜１質量部、及び／又は
式（１０）：
【化１７】
2020132524.tif 000018
［式中、２つのＲ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を０．００００１〜１質量部
含有する組成物。
項１３．
前記式（５）で表される化合物１００質量部に対して、
前記式（９）で表される化合物の含有量が０．００００１〜０．５質量部であり、
前記式（１０）で表される化合物の含有量が０．００００１〜０．５質量部である、
項１２に記載の組成物。
【発明の効果】
【０００８】
本開示によれば、ヘキサフルオロプロピレンオキシド等から１工程でフルオロラクトン化合物を製造できる方法等が提供される。本開示によれば、新規なフルオロジオキソラン化合物及びその製造方法等が提供される。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本開示の前記概要は、本開示の各々の開示された実施形態または全ての実装を記述することを意図するものではない。
本開示の後記説明は、実例の実施形態をより具体的に例示する。
本開示のいくつかの箇所では、例示を通してガイダンスが提供され、及びこの例示は、様々な組み合わせにおいて使用できる。
それぞれの場合において、例示の群は、非排他的な、及び代表的な群として機能できる。
本明細書で引用した全ての刊行物、特許及び特許出願はそのまま引用により本明細書に組み入れられる。
【００１０】
用語
本明細書中の記号及び略号は、特に限定のない限り、本明細書の文脈に沿い、本開示が属する技術分野において通常用いられる意味に理解できる。
【００１１】
本明細書中、語句「含有する」は、語句「から本質的になる」、及び語句「からなる」を包含することを意図して用いられる。
【００１２】
特に断りのない限り、本明細書中に記載されている工程、処理、又は操作は、室温で実施され得る。
本明細書中、室温は、１０〜４０℃の範囲内の温度を意味することができる。
【００１３】
本明細書中、表記「Ｃｎ−ｍ」（ここで、ｎ、及びｍは、それぞれ、数である。）は、当業者が通常理解する通り、炭素数がｎ以上、且つｍ以下であることを表す。
【００１４】
本明細書中、特に断りのない限り、「置換基」としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、及びアルキルチオ基が挙げられる。当該置換基の数は、１個から置換可能な最大個数の範囲内（例：１個、２個、３個、４個、５個、６個）であることができ、好ましくは１〜４個、より好ましくは１〜３個、特に好ましくは１又は２個とできる。なお、２個以上の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００１５】
本明細書中、特に断りのない限り、「有機基」は、有機化合物から１個の水素原子を除去して形成される基を意味する。これから理解される通り、有機基は１個以上の炭素原子を有する。
本明細書中、特に断りのない限り、「有機基」は、
（１）炭化水素基、及び
（２）１個以上のヘテロ原子（例：窒素、酸素、硫黄、リン、ハロゲン）を有する炭化水素基
を包含する。
【００１６】
本明細書中、特に断りのない限り、「炭化水素基」は、炭素及び水素のみからなる基を意味する。炭化水素基は、ヒドロカルビル基とも称され得る。
本明細書中、特に断りのない限り、「炭化水素基」の例は、
（１）１個以上の芳香族炭化水素基で置換されていてもよい脂肪族炭化水素基（例：ベンジル基）、及び
（２）１個以上の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基
を包含する。芳香族炭化水素基は、アリール基とも称され得る。
【００１７】
本明細書中、特に断りのない限り、当該「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状、又はそれらの組み合わせである構造を有することができる。
本明細書中、特に断りのない限り、当該「脂肪族炭化水素基」は、飽和又は不飽和であることができる。
本明細書中、特に断りのない限り、当該「脂肪族炭化水素基」の例は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、及びシクロアルキル基を包含する。
【００１８】
本明細書中、特に断りのない限り、「アルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、プロピル（例：ｎ−プロピル、イソプロピル）、ブチル（例：ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル）、ペンチル（例：ｎ−ペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ネオペンチル、イソペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、３−ペンチル）、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、及びデシル等の、直鎖又は分岐鎖状の、炭素数１〜１０のアルキル基が挙げられる。
【００１９】
本明細書中、特に断りのない限り、「アルケニル基」の例は、直鎖状、又は分岐鎖状の、炭素数１〜１０のアルケニル基を包含し、及び
その具体例は、ビニル、１−プロペニル、イソプロペニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−エチル−１−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、及び５−ヘキセニルを包含する。
【００２０】
本明細書中、特に断りのない限り、「アルキニル基」の例は、直鎖状、又は分岐鎖状の、炭素数２〜６のアルキニル基を包含し、及び
その具体例は、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、及び５−ヘキシニルを包含する。
【００２１】
本明細書中、特に断りのない限り、「シクロアルキル基」の例は、炭素数３〜１０のシクロアルキル基を包含し、及び
その具体例はシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、及びアダマンチルを包含する。
【００２２】
本明細書中、特に断りのない限り、「芳香族炭化水素基（アリール基）」の例は、Ｃ６−１４の芳香族炭化水素基（アリール基）を包含し、及び
その具体例は、フェニル、ナフチル、フェナンスリル、アンスリル、及びピレニルを包含する。
【００２３】
本明細書中、特に断りのない限り、「芳香族炭化水素環」の例は、Ｃ６−１４芳香族炭化水素環を包含し、及び
その具体例は、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、及びフェナントレン環を包含する。
【００２４】
本明細書中、特に断りのない限り、「フルオロアルキル基」とは、アルキル基から１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された基を意味し、アルキル基の全ての水素原子が置換されたパーフルオロアルキル基も包含する。「フルオロアルキル基」としては、例えば、モノ、ジ又はトリフルオロメチル、モノ、ジ、トリ、テトラ又はヘキサフルオロエチル、モノ、ジ、トリ、テトラ、ヘキサ又はヘプタフルオロブチル、及び、モノ、ジ、トリ、テトラ、ヘキサ、ヘプタ、オクタ又はノナフルオロブチル、モノ、ジ、トリ、テトラ、ヘキサ、ヘプタ、オクタ、ノナ、デカ又はウンデカフルオロペンチル等の、直鎖又は分岐状の、炭素数１〜１０のフルオロアルキル基が挙げられる。
【００２５】
式（１）で表される化合物の製造方法
本開示の一実施態様は、式（１）：
【化１８】
2020132524.tif 000019
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物（本明細書中、化合物（１）と称する場合がある。）の製造方法である。
【００２６】
当該方法は、式（２）：
【化１９】
2020132524.tif 000020
［式中、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物（本明細書中、化合物（２）と称する場合がある。）と、
式（３−１）：
【化２０】
2020132524.tif 000021
［式中、
Ｒ３１、Ｒ３２、及びＲ３３は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−１０アルキル基であるか、或いは２つが互いに結合して、１個以上の置換基を有していてもよい環を形成していてもよい。］
で表される化合物（本明細書中、化合物（３−１）と称する場合がある。）
及び
式（３−２）：
【化２１】
2020132524.tif 000022
［式中、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、及びＲ３７は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−１０アルキル基であるか、或いは２つが互いに結合して、１個以上の置換基を有していてもよい環を形成していてもよい。］
で表される化合物（本明細書中、化合物（３−２）と称する場合がある。）
からなる群から選択される少なくとも１種の化合物（３）（本明細書中、化合物（３）と称する場合がある。）とを、
式（４−１）：
ＭＨｎＦｍ              （４−１）
［式中、Ｍは金属原子であり、ｎは０又は１であり、Ｍの原子価数とｎの和はｍである。］
で表される化合物（本明細書中、化合物（４−１）と称する場合がある。）、
式（４−２）：
ＬＲ４１４Ｆ              （４−２）
［式中、Ｌは窒素原子又はリン原子であり、Ｒ４１は、同一又は異なって、Ｃ１−５アルキル基である。］
で表される化合物（本明細書中、化合物（４−２）と称する場合がある。）、及び
フッ酸又はその塩
からなる群から選択される少なくとも１種のフッ素化合物（４）（本明細書中、化合物（４）と称する場合がある。）
並びに
有機溶媒（当該有機溶媒からは、前記式（３−１）で表される化合物及び式（３−２）で表される化合物は除外される。）の存在下に反応させる工程Ａを含む。
【００２７】
Ｒ１は、好ましくは、フッ素原子又はＣ１−１０フルオロアルキル基であり、より好ましくは、フッ素原子又はＣ１−５パーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくは、フッ素原子又はＣ１−３パーフルオロアルキル基であり、特に好ましくは、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基である。
【００２８】
化合物（２）の好適な具体例は、ヘキサフルオロプロピレンオキシド、２,２,３-トリフルオロ-３-(パーフルオロエチル)オキシラン、及び２,２,３-トリフルオロ-３-(パーフルオロプロピル)オキシランを包含する。
【００２９】
好ましくは、
Ｒ３１、Ｒ３２、及びＲ３３は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−５アルキル基であるか、
Ｒ３１が水素原子又はＣ１−５アルキル基であり、Ｒ３２及びＲ３３が結合して、環上の炭素原子において１又は２個の置換基を有してもよいピロリジン環又はピペリジン環を形成し、当該置換基はメチル又はエチルであり複数ある場合は同一でも異なってもよく、或いは
Ｒ３１及びＲ３２が結合して、環上の炭素原子において１又は２個の置換基を有してもよいピロリドン環又はピペリジノン環を形成し、当該置換基はメチル又はエチルであり複数ある場合は同一でも異なってもよく、Ｒ３３が水素原子又はＣ１−５アルキル基である。
【００３０】
より好ましくは、
Ｒ３１、Ｒ３２、及びＲ３３は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−３アルキル基であるか、
Ｒ３１が水素原子又はＣ１−３アルキル基であり、Ｒ３２及びＲ３３が結合してピロリジン環又はピペリジン環を形成するか、或いは
Ｒ３１及びＲ３２が結合してピロリドン環又はピペリジノン環を形成し、Ｒ３３が水素原子又はＣ１−３アルキル基である。
【００３１】
さらに好ましくは、
Ｒ３１、Ｒ３２、及びＲ３３は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−３アルキル基であるか、
Ｒ３１が水素原子又はＣ１−３アルキル基であり、Ｒ３２及びＲ３３が結合してピロリジン環を形成するか、或いは
Ｒ３１及びＲ３２が結合してピロリドン環を形成し、Ｒ３３がＣ１−３アルキル基である。
【００３２】
特に好ましくは、
Ｒ３１、Ｒ３２、及びＲ３３は、同一又は異なって、水素原子、メチル、又はエチルであるか、
Ｒ３１が水素原子、メチル、又はエチルであり、Ｒ３２及びＲ３３が結合してピロリジン環を形成するか、或いは
Ｒ３１及びＲ３２が結合してピロリドン環を形成しており、Ｒ３３が水素原子、メチル、又はエチルである。
【００３３】
化合物（３−１）の好適な具体例は、ギ酸アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、及びＮ−エチル−２−ピロリドンを包含する。
【００３４】
好ましくは、
Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、及びＲ３７は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−５アルキル基であるか、或いは
Ｒ３４及びＲ３５は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−５アルキル基であり、Ｒ３６とＲ３７とは互いに結合して、環上の炭素原子において１又は２個の置換基を有してもよい、テトラヒドロピリミジン環又はイミダゾリジン環を形成し、当該置換基は、メチル又はエチルである。
【００３５】
より好ましくは、
Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、及びＲ３７は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−３アルキル基であるか、或いは
Ｒ３４及びＲ３５は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−３アルキル基であり、Ｒ３６とＲ３７とは互いに結合して、テトラヒドロピリミジン環又はイミダゾリジン環を形成する。
【００３６】
さらに好ましくは、
Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、及びＲ３７は、同一又は異なって、水素原子、メチル、又はエチルであるか、或いは
Ｒ３４及びＲ３５は、同一又は異なって、水素原子、メチル、又はエチルであり、Ｒ３６とＲ３７とは互いに結合して、テトラヒドロピリミジン環又はイミダゾリジン環を形成する。
【００３７】
特に好ましくは、
Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、及びＲ３７は、同一に、メチル又はエチルであるか、或いは
Ｒ３４及びＲ３５は、同一に、メチル又はエチルであり、Ｒ３６及びＲ３７は互いに結合して、テトラヒドロピリミジン環を形成する。
【００３８】
化合物（３−２）の好適な具体例は、Ｎ，Ｎ’−ジメチルプロピレン尿素、Ｎ,Ｎ’−ジメチルエチレン尿素、及びテトラメチル尿素を包含する。
【００３９】
本開示の一実施形態において、化合物（３）の好適な具体例は、ギ酸アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルプロピレン尿素、Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレン尿素、テトラメチル尿素、Ｎ，Ｎ’−ジエチルプロピレン尿素、及びＮ，Ｎ’−ジエチルエチレン尿素からなる群から選択される少なくとも１種の化合物である。
【００４０】
Ｍは、好ましくは、アルカリ金属原子又はアルカリ土類金属原子であり、より好ましくは、アルカリ金属原子、マグネシウム原子、又はカルシウム原子であり、さらに好ましくはアルカリ金属原子又はカルシウム原子であり、特に好ましくはナトリウム原子、カリウム原子、セシウム原子、又はカルシウム原子である。
【００４１】
好ましくは、Ｍはアルカリ金属原子であり、ｎは０又は１であるか、或いはＭはアルカリ土類金属原子であり、ｎは０である。
【００４２】
より好ましくは、Ｍはナトリウム原子、カリウム原子、又はセシウム原子であり、ｎは０又は１であるか、或いはＭはカルシウム原子であり、ｎは０である。
【００４３】
さらに好ましくは、Ｍはカリウム原子又はセシウム原子であり、ｎは０又は１であるか、或いはＭはカルシウム原子であり、ｎは０である。
【００４４】
化合物（４−１）の好適な具体例は、フッ化セシウム、フッ化水素カリウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、及びフッ化水素ナトリウムを包含する。
【００４５】
好ましくは、Ｌは窒素原子又はリン原子であり、Ｒ４１は、同一又は異なって、Ｃ１−４アルキル基である。
【００４６】
より好ましくは、Ｌは窒素原子又はリン原子であり、Ｒ４１は、同一に、Ｃ１−４アルキル基である。
【００４７】
さらに好ましくは、Ｌは窒素原子又はリン原子であり、Ｒ４１は、同一に、直鎖状のＣ１−４アルキル基である。
【００４８】
特に好ましくは、Ｌは窒素原子又はリン原子であり、Ｒ４１は、同一に、メチル、エチル、又はn-ブチルである。
【００４９】
化合物（４−２）の好適な具体例は、テトラブチルアンモニウムフルオリド、テトラエチルアンモニウムフルオリド、テトラメチルアンモニウムフルオリド、テトラブチルホスホニウムフルオリド、及びトリエチルメチルアンモニウムフロライドを包含する。
【００５０】
フッ酸の塩は、アミン塩、アンモニウム塩、イミダゾリウム塩、ピリジニウム塩、ホスホニウム塩等を包含し、当該塩は１個以上の置換基を包含してもよく、置換基が複数あるときは同一でも異なってもよい。
【００５１】
フッ酸のアミン塩は置換されていることが好ましい。置換基の数は、例えば１〜３個、好ましくは２又は３個、より好ましくは３個である。置換基が複数ある場合は同一でも異なってもよい。置換基としてはＣ１−１０アルキル基が好ましく、Ｃ１−５アルキル基がより好ましく、Ｃ１−４アルキル基が特に好ましい。
【００５２】
フッ酸のアミン塩の好適な例は、トリＣ１−４アルキルアミンのフッ化水素酸塩（ＨＦ−の数は１〜７の整数のいずれであってもよい。）を包含する。
【００５３】
フッ酸のアミン塩の好適な具体例は、トリメチルアミンのフッ化水素酸塩（ＨＦ−の数は１〜７の整数のいずれであってもよく、好ましくは３、４、又は５である。）、トリエチルアミンのフッ化水素酸塩（ＨＦ−の数は１〜７の整数のいずれであってもよく、好ましくは３、４、又は５である。）を包含する。
【００５４】
フッ酸のアンモニウム塩が置換される場合、置換基の数は、例えば１〜４個、好ましくは２〜４個、より好ましくは３又は４個、特に好ましくは４個である。置換基が複数ある場合は同一でも異なってもよい。置換基としてはＣ１−１０アルキル基が好ましく、Ｃ１−５アルキル基がより好ましく、Ｃ１−４アルキル基が特に好ましい。
【００５５】
フッ酸のアンモニウム塩の好適な例は、フッ化アンモニウム、フッ化水素アンモニウム、テトラＣ１−４アルキルアンモニウムフルオライドを包含する。
【００５６】
フッ酸のアンモニウム塩の好適な具体例は、フッ化アンモニウム、フッ化水素アンモニウム、テトラメチルアンモニウムフルオライド、テトラエチルアンモニウムフルオライド、及びテトラブチルアンモニウムフルオライドを包含する。
【００５７】
フッ酸のイミダゾリウム塩は、イミダゾリウム環上の窒素原子で置換されていることが好ましい。置換基の数は、例えば１〜３個、好ましくは２又は３個、より好ましくは２個である。置換基が複数ある場合は同一でも異なってもよい。置換基としては、Ｃ１−１０アルキル基（例；メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、n-ブチル、tert-ブチル）、シクロヘキシル、ビニル、又はアリルが好ましく、特に好ましくはＣ１−３アルキル基である。
【００５８】
フッ酸のイミダゾリウム塩の好適な具体例は、１−メチル−３−メチルイミダゾリウムフロリド、及び１−エチル−３−メチルイミダゾリウムフロリドを包含する。
【００５９】
フッ酸のピリジニウム塩は置換されていてもよく、置換基の数は、例えば１〜３個、好ましくは１又は２個である。置換基が複数ある場合は同一でも異なってもよい。置換基としてはＣ１−１０アルキル基が好ましく、Ｃ１−５アルキル基がより好ましく、Ｃ１−４アルキル基が特に好ましい。
【００６０】
フッ酸のピリジニウム塩の好適な具体例は、ピリジニウムポリ(ヒドロゲンフルオリド)（ＨＦ−の数は１〜９の整数のいずれであってもよく、好ましくは１又は９である。）を包含する。
【００６１】
フッ酸のホスホニウム塩は置換されていることが好ましく、置換基の数は、例えば１〜４個、好ましくは３又は４個、より好ましくは４個である。置換基としてはＣ１−１０アルキル基、置換基を有していてもよいフェニル、又は置換基を有していてもよいベンジルが好ましく、Ｃ１−５アルキル基がより好ましく、Ｃ１−４アルキル基が特に好ましい。
【００６２】
フッ酸のホスホニウム塩の好適な具体例は、テトラメチルホスホニウムフッ化水素酸塩、テトラエチルホスホニウムフッ化水素酸塩、テトラプロピルホスホニウムフッ化水素酸塩、テトラブチルホスホニウムフッ化水素酸塩、テトラオクチルホスホニウムフッ化水素酸塩、トリメチルエチルホスホニウムフッ化水素酸塩、トリエチルメチルホスホニウムフッ化水素酸塩、ヘキシルトリメチルホスホニウムフッ化水素酸塩、トリメチルオクチルホスホニウムフッ化水素酸塩、トリエチル（メトキシメチル）ホスホニウムフッ化水素酸塩、及びトリエチル（メトキシメチル）ホスホニウムフッ化水素酸塩を包含する。
【００６３】
本開示の一実施形態において、化合物（４）の好適な具体例は、フッ化セシウム、フッ化水素カリウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化水素ナトリウム、テトラブチルアンモニウムフルオリド、テトラエチルアンモニウムフルオリド、テトラメチルアンモニウムフルオリド、テトラブチルホスホニウムフルオリド、トリエチルメチルアンモニウムフロライド、トリエチルアミン３フッ化水素酸塩、トリエチルアミン５フッ化水素酸塩、トリエチルアミン７フッ化水素酸塩、ピリジニウムポリ(ヒドロゲンフルオリド)、ピリジン１フッ化水素酸塩、ピリジニウムポリ(ヒドロゲンフルオリド)、ピリジン９フッ化水素酸塩、フッ化水素アンモニウム、及びフッ化アンモニウムからなる群から選択される少なくとも１種のフッ素化合物である。
【００６４】
有機溶媒の例は、芳香族系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、飽和炭化水素系溶媒、ニトリル系溶媒、エーテル系溶媒、スルホキシド系溶媒、及びハロゲン化炭化水素系溶媒を包含する。当該有機溶媒は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いられ得る。
【００６５】
有機溶媒の好適な例は、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、及びニトリル系溶媒を包含する。
【００６６】
芳香族系溶媒の好適な具体例は、ベンゼン、トルエン、及びキシレンを包含する。
エステル系溶媒の好適な具体例は、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、及び酢酸ｎ−ブチルを包含する。
ケトン系溶媒の好適な具体例は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、及びシクロヘキサノンを包含する。
飽和炭化水素系溶媒の好適な具体例は、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、及びｎ−ヘプタンを包含する。
ニトリル系溶媒の好適な具体例は、１，４−ジシアノブタン、アセトニトリル及びベンゾニトリルを包含する。
エーテル系溶媒の好適な具体例は、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、及び１，２−ジメトキシエタン、クラウンエーテルを包含する。
スルホキシド系溶媒の好適な具体例は、ジメチルスルホキシド及びスルホランを包含する。
ハロゲン化炭化水素系溶媒の好適な具体例は、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロベンゼン、及びクロロベンゼンを包含する。
【００６７】
有機溶媒の好適な具体例は、酢酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジシアノブタン、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、及びアセトニトリルを包含する。
【００６８】
本開示において、化合物（３−１）及び（３−２）は工程Ａにおいて反応剤として作用すると考えられるため、工程Ａにおける有機溶媒から化合物（３−１）及び（３−２）は除外される。
【００６９】
工程Ａ
工程Ａに用いる化合物（３）の量は、化合物（２）の１モルに対して、好ましくは、０．０５〜１０モルの範囲内、より好ましくは０．０８〜５モルの範囲内、さらに好ましくは０．１〜２モルの範囲内であってよい。
【００７０】
工程Ａに用いる化合物（４）の量は、化合物（２）の１モルに対して、好ましくは、０．００１〜０．３モルの範囲内、より好ましくは０．００２〜０．１モルの範囲内、さらに好ましくは０．００６〜０．１モルの範囲内であってよい。
【００７１】
工程Ａに用いる有機溶媒の量は、技術常識等に基づき、溶媒として機能しえる量とすることができる。工程Ａに用いる有機溶媒の量は、化合物（２）の１モルに対して、好ましくは、０．１〜５０モルの範囲内、より好ましくは０．１〜２０モルの範囲内、さらに好ましくは０．１〜１０モルの範囲内であってよい。
【００７２】
工程Ａの反応温度は、好ましくは、−３０〜４０℃の範囲内、より好ましくは、−３０℃〜３０℃の範囲内、さらに好ましくは、−２０〜３０℃の範囲内であってよい。工程Ａの反応温度は、低いほうが、化合物（１）の選択性が向上する傾向がある。工程Ａの反応温度は、高いほうが、反応性が向上する傾向がある。
【００７３】
工程Ａの反応時間は、好ましくは、０．５時間〜４８時間の範囲内、より好ましくは、０．５時間〜２４時間の範囲内、さらに好ましくは０．５時間〜１２時間の範囲内であってよい。
【００７４】
工程Ａの反応は、不活性ガス（例：窒素ガス）の存在下又は不存在下で実施され得、好適には不存在下で実施され得る。
【００７５】
工程Ａは、減圧下、大気圧下、又は加圧条件下にて実施され得る。
【００７６】
工程Ａは、有機溶媒中で化合物（２）と化合物（３）とを反応させてよく、好ましくは、化合物（３）、化合物（４）、及び有機溶媒を混合して冷却（例：−３０℃）し、ここに化合物（２）を添加して実施され得る。
【００７７】
工程Ａで生成した化合物（１）は、所望により、抽出、溶解、濃縮、析出、脱水、吸着、蒸留、精留、クロマトグラフィー等の慣用の方法、又はこれらの組み合わせにより単離、又は精製できる。
【００７８】
ヘキサフルオロプロピレンオキシドにＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを０℃で反応（第１反応）させた後、ジエチレングリコールジメチルエーテル中、フッ化セシウム存在下、１４０℃に加熱（第２反応）して、化合物（１）を製造する従来の方法では、第１反応時にジフルオロアミンが多く副生する。ジフルオロアミンは目的物である化合物（１）を他の化合物に変換するため、第２反応の前に、人体に有害なＨＣｌガスでジフルオロアミンをトラップして除去する必要があった。本開示の工程Ａでは溶媒を使用することによって、ジフルオロアミンが溶媒に移行し、ジフルオロアミンと化合物（１）との接触が抑制されるため、ＨＣｌガスでジフルオロアミンをトラップする必要がない。
【００７９】
特許文献１に開示の方法では、3,5,5,6-テトラフルオロ-3,6-ビス(トリフルオロメチル)-1,4-ジオキサン-2-オンの製造において、取り扱いが難しく、危険なフッ素ガスが使用される。また、特許文献１に開示の方法では、3,5,5,6-テトラフルオロ-3,6-ビス(トリフルオロメチル)-1,4-ジオキサン-2-オンは混合物で製造され精製が難しい。これに対し、本開示の工程Ａでは、フッ素ガスを使用しなくてもよく、また、工程Ａで得られる生成液は精製が容易であり、例えば分液により精製することができる。
【００８０】
工程Ｂ
本開示の式（１）で表される化合物の製造方法は、工程Ａに加え、分液する工程Ｂをさらに含んでよい。工程Ａで生成する反応液は、上液層と下液層との２層で構成され得、一方の層には化合物（１）が含まれる。このため、当該反応液を分液することで目的とする化合物（１）を含む液層を簡便に取得できる。
【００８１】
当該液層から化合物（１）を単離する方法は、抽出、溶解、濃縮、析出、脱水、吸着、蒸留、精留、クロマトグラフィー等の慣用の方法、又はこれらの組み合わせであってよい。工程Ｂで取得される化合物（１）を含む液層は、化合物（１）の沸点と近い沸点を有する夾雑化合物が少ないため、当該液層を蒸留することにより化合物（１）を簡便に取得できる。
【００８２】
式（５）で表される化合物の製造方法
本開示の一実施態様は、式（５）：
式（５）：
【化２２】
2020132524.tif 000023
［式中、Ｒ１はフッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物（本明細書中、化合物（５）と称する場合がある。）の製造方法である。
当該方法は、前記工程Ａ又はＢで生成した前記式（１）で表される化合物を前記化合物（４）の存在下に加熱して式（６）：
【化２３】
2020132524.tif 000024
［式中、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物（本明細書中、化合物（６）と称する場合がある。）を生成させる工程Ｃ、
該式（６）で表される化合物を塩基（本明細書中、塩基（ｄ）と称する場合がある。）と反応させて式（８）：
【化２４】
2020132524.tif 000025
［式中、Ｒ８１は前記塩基に対応する基であり、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を生成させる工程Ｄ、及び
該式（８）で表される化合物（本明細書中、化合物（８）と称する場合がある。）を加熱して前記式（５）で表される化合物を生成させる工程Ｅ、
を含む。
【００８３】
化合物（８）は前記塩基に対応する、化合物（６）のカルボン酸塩である。
Ｒ８１は、好ましくは、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、ピリジニウム、アンモニウム、有機基で置換されていてもよいアミノであり、より好ましくは、カリウム原子、ナトリウム原子、又はアンモニウムであり、特に好ましくは、ナトリウム原子又はカリウム原子である。
【００８４】
本明細書において、工程Ｃ、工程Ｄ、工程Ｅ、及び工程Ｆは、工程Ｃにおいて前記工程Ａ又はＢで生成した式（１）を原料として使用することを除き、公知の方法で実施してもよく、例えば、特開２００５−００２０１４号公報、米国特許第３３０８１０７号明細書、又は米国特許第６６６４４３１号明細書に記載の方法に準じて実施してもよい。当該公報は、引用により本明細書に組み入れられる。
【００８５】
工程Ｃ
工程Ｃでは、前記工程Ａ又はＢで生成した化合物（１）を化合物（４）の存在下に加熱して異性化し、化合物（６）を生成させる。
工程Ｃにおいて、前記工程Ａ又はＢで生成した化合物（１）は、単離されて使用されてもよいし、又は化合物（１）を含む前記工程Ｂで取得された反応液の液層を使用されてもよい。
【００８６】
工程Ｃにおける化合物（４）の詳細は、特に断りのない限り、工程（Ａ）における化合物（４）の詳細に関する記載が適用される。
工程Ｃに用いる化合物（４）の量は、化合物（１）の１モルに対して、好ましくは、０．００１〜１０モルの範囲内、より好ましくは０．００２〜５．０モルの範囲内、さらに好ましくは０．００６〜１．０モルの範囲内であってよい。
【００８７】
工程Ｃは、好適には、有機溶媒中で実施してもよい。有機溶媒の例及び好適な例は、前記と同じである。有機溶媒の好適な具体例は、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジシアノブタン、アセトニトリル、１，２−ジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、及びジメチルスルホキシドを包含する。
【００８８】
工程Ｃに用いる有機溶媒の量は、技術常識等に基づき、溶媒として機能しえる量を採用すればよい。
【００８９】
工程Ｃの反応温度は、好ましくは、５０〜３００℃の範囲内、より好ましくは、５０〜２００℃の範囲内、さらに好ましくは、１００〜１８０℃の範囲内であってよい。
【００９０】
工程Ｃの反応時間は、好ましくは、０．５時間〜６０時間の範囲内、より好ましくは、１時間〜２４時間の範囲内、さらに好ましくは２時間〜２４時間の範囲内であってよい。
【００９１】
工程Ｃで生成した化合物（６）は、所望により、抽出、溶解、濃縮、析出、脱水、吸着、蒸留、精留、クロマトグラフィー等の慣用の方法、又はこれらの組み合わせにより単離、又は精製できる。
【００９２】
工程Ｄ
工程Ｄでは、化合物（６）を、塩基（ｄ）と反応させて、化合物（８）を生成させる。化合物（８）は、当該塩基（ｄ）に対応する、化合物（６）のカルボン酸塩である。
【００９３】
塩基（ｄ）は、例えば、(1)アルカリ又はアルカリ土類金属の、酢酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩、リン酸水素塩、アルコキシド塩、水酸化物塩、水素化物塩、アンモニウム塩、又はアミド塩、(2)アルカリ金属、及び(3)アミンからなる群より選択される少なくとも１種である。
アルコキシド塩の例は、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムブトキシド、リチウムメトキシド、及びリチウムエトキシドを包含する。
水酸化物塩の例は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、及び水酸化バリウムを包含する。
水素化物塩の例は、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム、及び水素化カルシウムを包含する。
アルカリ金属の例は、ナトリウム、カリウム、及びリチウムを包含する。
アミンの例は、脂肪族アミン、脂環式アミン、芳香族アミン、及び複素環式アミンを包含する。当該アミンは、好適に、第三級アミンであることができる。
【００９４】
塩基（ｄ）は、好ましくは、ナトリムメトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム及びアンモニアからなる群より選択される少なくとも１種である。
塩基（ｄ）は、より好ましくは、水酸化カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸カリウム、及び炭酸ナトリウムからなる群より選択される少なくとも１種である。
【００９５】
工程Ｄは、好適には、有機溶媒中で実施してもよい。有機溶媒の例及び好適な例は、前記と同じである。有機溶媒の好適な具体例は、メタノール、エタノール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジシアノブタン、１，２−ジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、及びアセトニトリルを包含する。
【００９６】
工程Ｄに用いる塩基（ｄ）の量は、化合物（６）の１モルに対して、好ましくは、０．０５〜１０モルの範囲内、より好ましくは０．１〜１０モルの範囲内、さらに好ましくは０．１〜５モルの範囲内であってよい。
【００９７】
工程Ｄに用いる有機溶媒の量は、技術常識等に基づき、溶媒として機能しえる量を採用すればよい。
【００９８】
工程Ｄの反応温度は、好ましくは、−５０〜１２０℃の範囲内、より好ましくは、−２０〜１００℃の範囲内、さらに好ましくは、−１０〜７０℃の範囲内であってよい。
【００９９】
工程Ｄの反応時間は、好ましくは、０．１時間〜２４時間の範囲内、より好ましくは、０．１時間〜１２時間の範囲内、さらに好ましくは０．１時間〜６時間の範囲内であってよい。
【０１００】
工程Ｄで生成した化合物（８）は、所望により、抽出、溶解、濃縮、析出、脱水、吸着、蒸留、精留、クロマトグラフィー等の慣用の方法、又はこれらの組み合わせにより単離、又は精製できる。
【０１０１】
工程Ｅ
工程Ｅでは、化合物（８）を加熱し、熱分解することにより化合物（５）を生成させる。化合物（５）は、樹脂材料の原料を製造するための中間体等として有用である。
【０１０２】
工程Ｅは、有機溶媒中で実施してもよいし、無溶媒で実施してもよい。有機溶媒の例及び好適な例は、前記と同じである。有機溶媒の好適な具体例は、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、１，２−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジシアノブタン、及びアセトニトリルを包含する。
【０１０３】
工程Ｅに用いる有機溶媒の量は、技術常識等に基づき、溶媒として機能しえる量を採用すればよい。
【０１０４】
工程Ｅの反応温度は、溶媒を含む場合は好ましくは、１００〜４００℃の範囲内、より好ましくは、１００〜３００℃の範囲内、さらに好ましくは、１００〜２００℃の範囲内であってよい。溶媒を含まない場合は好ましくは、１００〜４００℃の範囲内、より好ましくは、１５０〜４００℃の範囲内、さらに好ましくは、１５０〜３５０℃の範囲内であってよい。
【０１０５】
工程Ｅの反応時間は、好ましくは、０．１時間〜２４時間の範囲内、より好ましくは、０．１時間〜１２時間の範囲内、さらに好ましくは０．１時間〜６時間の範囲内であってよい。
【０１０６】
工程Ｅの反応は、不活性ガス（例：窒素ガス）の存在下又は不存在下で実施され得、好適には不存在下で実施され得る。
【０１０７】
工程Ｅは、減圧下、大気圧下、又は加圧条件下にて実施され得る。
【０１０８】
工程Ｅで生成した化合物（５）は、所望により、抽出、溶解、濃縮、析出、脱水、吸着、蒸留、精留、クロマトグラフィー等の慣用の方法、又はこれらの組み合わせにより単離、又は精製できる。
【０１０９】
本開示の一実施形態は、前記式（５）で表される化合物の製造方法であって、
前記工程Ｄに代えて、
前記式（６）で表される化合物を水又はアルキルアルコールと反応させて式（７）：
【化２５】
2020132524.tif 000026
［式中、Ｒ７１は水素原子又はアルキル基であり、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物（本明細書中、化合物（７）と称する場合がある。）を生成させる工程Ｄ１、及び
該式（７）で表される化合物を塩基（本明細書中、塩基（ｄ２）と称する場合がある。）と反応させて前記式（８）で表される化合物を生成させる工程Ｄ２
を含む。
【０１１０】
Ｒ７１は、好ましくは、水素原子或いは直鎖又は分岐鎖状のＣ１−１０アルキル基であり、より好ましくは、水素原子或いは直鎖又は分岐鎖状のＣ１−５アルキル基であり、さらに好ましくは、直鎖又は分岐鎖状のＣ１−４アルキル基であり、特に好ましくは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、又はｔｅｒｔ−ブチルであり、さらに特に好ましくはメチル又はエチルである。
【０１１１】
工程Ｄ１
工程Ｄ１では、化合物（６）を、水又はアルキルアルコールと反応させて、対応するカルボン酸又はアルキルエステルに転換し、化合物（７）を生成させる。
【０１１２】
工程Ｄ１において、化合物（６）は、単離されたものであってもよいし、化合物（６）を含む工程Ｃで生成した生成液をそのまま使用してもよい。当該生成液を使用すると、化合物（６）の精製が不要となる利点があるため、好ましい。
【０１１３】
アルキルアルコールは、好ましくは、直鎖又は分岐鎖状のＣ１−１０アルキルアルコールであり、より好ましくは、直鎖又は分岐鎖状のＣ１−５アルキルアルコールであり、さらに好ましくは、直鎖又は分岐鎖状のＣ１−４アルキル基であり、特に好ましくは、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、又はｔｅｒｔ−ブチルアルコールであり、さらに特に好ましくは、メタノール又はエタノールである。
【０１１４】
工程Ｄ１に用いる水、アルキルアルコール、或いは水と当該アルコールとの混合物の量は、化合物（６）の１モルに対して、好ましくは、０．１〜５０モルの範囲内、より好ましくは、０．２〜２０モルの範囲内、さらに好ましくは、０．５〜１０モルの範囲内であってよい。
【０１１５】
工程Ｄ１では、水及び前記のアルキルアルコールに加え、さらに他の有機溶媒を使用することもできる。有機溶媒の例及び好適な例は、前記と同じである。当該有機溶媒の具体例は、１，２−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジシアノブタン、及びアセトニトリルを包含する。当該有機溶媒の量は化合物（６）の１モルに対して好ましくは０．０１〜５０モルの範囲内、より好ましくは０．１〜５０モルの範囲内とすることができる。
【０１１６】
工程Ｄ１の反応温度は、好ましくは、−５０〜５０℃の範囲内、より好ましくは、−２０〜３０℃の範囲内、さらに好ましくは、−２０〜２０℃の範囲内であってよい。
【０１１７】
工程Ｄ１の反応時間は、好ましくは、０．１時間〜２４時間の範囲内、より好ましくは、０．１時間〜１２時間の範囲内、さらに好ましくは０．１時間〜６時間の範囲内であってよい。
【０１１８】
工程Ｄ１の反応は、不活性ガス（例：窒素ガス）の存在下又は不存在下で実施され得、好適には不存在下で実施され得る。
【０１１９】
工程Ｄ１は、減圧下、大気圧下、又は加圧条件下にて実施され得る。
【０１２０】
工程Ｄ１で生成した化合物（７）は、所望により、抽出、溶解、濃縮、析出、脱水、吸着、蒸留、精留、クロマトグラフィー等の慣用の方法、又はこれらの組み合わせにより単離、又は精製できる。
【０１２１】
化合物（６）に前記アルキルアルコールを反応させて反応液中に化合物（７）を生成させ、当該反応液に水を加えて生じた有機層を回収し、有機層を蒸留することによって、化合物（７）を簡便に精製することができ、好ましい。
【０１２２】
工程Ｄ２
工程Ｄ２では、化合物（７）を塩基（ｄ２）と反応させて化合物（８）を生成させる。
工程Ｄ２における塩基（ｄ２）の詳細は、特に断りのない限り、工程Ｄにおける塩基の詳細に関する記載が適用される。
【０１２３】
工程Ｄ２に用いる塩基（ｄ２）の量は、化合物（７）の１モルに対して、好ましくは、０．１〜２０モルの範囲内、より好ましくは、０．５〜１５モルの範囲内、さらに好ましくは１〜１０モルの範囲内であってよい。
【０１２４】
工程Ｄ２は、好適には有機溶媒存在下で実施する。有機溶媒の例及び好適な例は、前記と同じである。
有機溶媒は、好ましくは、メタノール、エタノール、１，２−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジシアノブタン、アセトニトリル又はテトラヒドロフランであり、１種単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。
【０１２５】
工程Ｄ２の反応温度は、好ましくは、−５０〜１２０℃の範囲内、より好ましくは、−２０〜１００℃の範囲内、さらに好ましくは、−１０〜７０℃の範囲内であってよい。
【０１２６】
工程Ｄ２の反応時間は、好ましくは、０．１時間〜２４時間の範囲内、より好ましくは、０．１時間〜１２時間の範囲内、さらに好ましくは０．１時間〜６時間の範囲内であってよい。
【０１２７】
工程Ｄ２の反応は、不活性ガス（例：窒素ガス）の存在下又は不存在下で実施され得、好適には不存在下で実施され得る。
【０１２８】
工程Ｄ２は、減圧下、大気圧下、又は加圧条件下にて実施され得る。
【０１２９】
工程Ｄ２において化合物（８）は、溶媒中に固体として析出し得、析出した場合は溶媒を除去することにより化合物（８）を簡便に単離できる。溶媒を除去する方法は公知の方法を採用すればよい。
【０１３０】
本開示の一実施形態は、前記式（５）で表される化合物の製造方法であって、前記工程Ｄ１において生成した液を精製して前記式（７）で表される化合物を得る工程Ｄ１ａをさらに含む。精製した化合物（７）は前記工程Ｄ２に供されてよい。
【０１３１】
工程Ｄ１ａ
工程Ｄ１ａでは、工程Ｄ１で生成する反応液を精製して化合物（７）を得る。化合物（７）は、抽出、溶解、濃縮、析出、脱水、吸着、蒸留、精留、クロマトグラフィー等の慣用の方法、又はこれらの組み合わせにより単離、又は精製できる。好ましくは、工程Ｄ１で生成する反応液中の有機層を精製し、より好ましくは当該有機層を蒸留により精製して簡便に化合物（７）を得る。当該有機層は多くの場合、化合物（７）の沸点近傍の沸点を有する他の物質が含まれないか少量しか含まれないため、蒸留に適している。
【０１３２】
本開示の一実施形態は、前記式（５）で表される化合物の製造方法であって、前記工程Ｄ及び工程Ｅに代えて、前記式（６）で表される化合物を塩基（本明細書中、塩基（ｆ）と称する場合がある。）の存在下に加熱して前記式（５）で表される化合物を生成する工程Ｆを含む。
【０１３３】
工程Ｆ
工程Ｆでは、化合物（６）を塩基（ｆ）の存在下に加熱して前記式（５）で表される化合物を生成させる。工程Ｆは、公知の方法で実施してもよく、例えば、米国特許第３３０８１０７号明細書、又は米国特許第６６６４４３１号明細書に記載の方法に準じて実施してもよい。当該公報は、引用により本明細書に組み入れられる。
【０１３４】
工程Ｆにおいて、化合物（６）は、単離されたものであってもよいし、化合物（６）を含む工程Ｃで生成した生成液をそのまま使用してもよい。当該生成液を使用すると、化合物（６）を精製する作業が不要となる利点があるため、好ましい。
【０１３５】
工程Ｆにおける塩基（ｆ）の詳細は、特に断りのない限り、工程Ｄにおける塩基の詳細に関する記載が適用される。
【０１３６】
塩基（ｆ）は、好ましくは、アルカリ金属の水酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩又は炭酸水素塩、或いはアンモニアである。アルカリ金属ハロゲン化物は、活性炭、無機酸化物等の担体に担持されていてもよい。
【０１３７】
塩基（ｆ）は、より好ましくは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、アンモニア、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム、フッ化セシウム、塩化ナトリウム、及びヨウ化カリウムからなる群より選択される少なくとも１種である。
塩基（ｆ）は、さらに好ましくは、水酸化カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム、フッ化セシウム、塩化ナトリウム、及びヨウ化カリウムからなる群より選択される少なくとも１種である。
【０１３８】
塩基（ｆ）の担体は、好ましくは活性炭、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ニッケル、又は二酸化ケイ素である。
塩基（ｆ）の担体は、より好ましくはアルカリ土類金属酸化物、酸化アルミニウム、及び二酸化ケイ素からなる群より選択される少なくとも１種である。
アルカリ金属酸化物の具体的な例は、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化ルビジウム、及び酸化セシウムを包含する。
アルカリ土類金属酸化物の具体的な例は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及び酸化バリウムを包含する。
【０１３９】
工程Ｆは、有機溶媒中で実施してもよいし、無溶媒で実施してもよい。有機溶媒の例及び好適な例は、前記と同じである。有機溶媒の好適な具体例は、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、１，２−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジシアノブタン、テトラヒドロフラン、及びアセトニトリルを包含する。
【０１４０】
工程Ｆに用いる塩基（ｆ）の量は、化合物（６）の１モルに対して、好ましくは、０．１〜２００モルの範囲内、より好ましくは、０．５〜１００モルの範囲内、さらに好ましくは、１〜５０モルの範囲内であってよい。
【０１４１】
工程Ｆに用いる無機酸化物の量は、化合物（６）の１モルに対して、好ましくは、０．２〜４００モルの範囲内、より好ましくは１〜２００モルの範囲内、さらに好ましくは２〜１００モルの範囲内であってよい。
【０１４２】
工程Ｆに用いる有機溶媒の量は、技術常識等に基づき、溶媒として機能しえる量を採用すればよい。
【０１４３】
工程Ｆの反応温度は、溶媒を含む場合は好ましくは、８０〜４００℃の範囲内、より好ましくは、１００〜３５０℃の範囲内、さらに好ましくは、１００〜３００℃の範囲内であってよい。溶媒を含まない場合は好ましくは、１００〜４００℃の範囲内、より好ましくは、１５０〜４００℃の範囲内、さらに好ましくは、１５０〜３５０℃の範囲内であってよい。
【０１４４】
工程Ｆの反応時間は、好ましくは、０．０１時間〜２４時間の範囲内、より好ましくは、０．０１時間〜１２時間の範囲内、さらに好ましくは０．０１時間〜６時間の範囲内であってよい。
【０１４５】
工程Ｆの反応は、不活性ガス（例：窒素ガス）の存在下又は不存在下で実施され得、好適には不存在下で実施され得る。
【０１４６】
工程Ｆは、減圧下、大気圧下、又は加圧条件下にて実施され得る。
【０１４７】
工程Ｆで生成した化合物（５）は、所望により、抽出、溶解、濃縮、析出、脱水、吸着、蒸留、精留、クロマトグラフィー等の慣用の方法、又はこれらの組み合わせにより単離、又は精製できる。
【０１４８】
化合物
本開示の製造方法で製造可能な化合物のうち、式（７−１）：
【化２６】
2020132524.tif 000027
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基であり、Ｒ７２はアルキル基である。］
で表される化合物（本明細書中、化合物（７−１）と称する場合がある。）は新規化合物である。本開示はこれらの新規化合物もまた、提供する。これらの新規化合物は、ポリマー製造用のモノマーの原料、中間体などとして、有用に使用され得る。
【０１４９】
化合物（７−１）において、Ｒ１は、前記のとおりである。
【０１５０】
化合物（７−１）において、Ｒ７２は、好ましくは、直鎖又は分岐鎖状のＣ１−１０アルキル基であり、より好ましくは、水素原子或いは直鎖又は分岐鎖状のＣ１−５アルキル基であり、さらに好ましくは、直鎖又は分岐鎖状のＣ１−４アルキル基であり、特に好ましくは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、又はｔｅｒｔ−ブチルであり、さらに特に好ましくはメチル又はエチルである。
【０１５１】
化合物（７−１）は、好ましくは、Ｒ１が、同一に、フッ素原子又はＣ１−１０フルオロアルキル基であり、Ｒ７２が直鎖又は分岐鎖状のＣ１−１０アルキル基である。
化合物（７−１）は、より好ましくは、Ｒ１が、同一に、フッ素原子又はＣ１−５パーフルオロアルキル基であり、Ｒ７２が直鎖又は分岐鎖状のＣ１−５アルキル基である。
化合物（７−１）は、さらに好ましくは、Ｒ１が、同一に、フッ素原子又はＣ１−３パーフルオロアルキル基であり、Ｒ７２が直鎖又は分岐鎖状のＣ１−４アルキル基である。
化合物（７−１）は、特に好ましくは、Ｒ１が、同一に、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基であり、Ｒ７２がメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、又はｔｅｒｔ−ブチルである。
化合物（７−１）は、さらに特に好ましくは、Ｒ１が、同一に、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基であり、Ｒ７２がメチル又はエチルである。
【０１５２】
式（７−１）で表される化合物の製造方法
本開示は、新規化合物（７−１）の製造方法も提供する。当該製造方法は、
前記式（６）で表される化合物をアルキルアルコールと反応させて前記式（７−１）で表される化合物を生成させる工程Ｄ１−１を含む。
【０１５３】
化合物（７−１）の製造方法における工程Ｄ１−１において用いられる化合物（６）は、前記化合物（５）の製造方法における工程Ｃで生成したものでもよいし、公知技術により製造されたものでもよい。本工程のその他の事項は、本工程が化合物（６）に水と反応させる態様を含まないことを除き、前記化合物（５）の製造方法における工程Ｄ１と同様である。
【０１５４】
組成物
本開示の一実施形態は、前記式（５）で表される化合物を含有する組成物であって、
さらに、式（５）で表される化合物１００質量部に対して、
式（９）：
【化２７】
2020132524.tif 000028
［式中、２つのＲ１は前記と同意義である。］
で表される化合物（本明細書中、化合物（９）と称する場合がある。）を０．００００１〜１質量部、及び／又は
式（１０）：
【化２８】
2020132524.tif 000029
［式中、２つのＲ１は前記と同意義である。］
で表される化合物（本明細書中、化合物（１０）と称する場合がある。）を０．００００１〜１質量部
含有する組成物、である。
【０１５５】
本開示の式（５）で表される化合物の製造方法は、前記組成物もまた製造できる。前記組成物は、化合物（４−１）、重合禁止剤、水、又は極性溶媒をさらに含んでもよい。
前記組成物に含有される前記の各種成分の量は、反応条件（例：温度、時間、原料種及び量、溶媒種及び量、触媒種及び量）を設定することにより調整し得る。また、当該各種成分の量は、化合物（５）の製造後の精製により調整し得る。
【０１５６】
前記組成物におけるＲ１の詳細には、特に断りのない限り、前記式（１）で表される化合物の製造方法におけるＲ１の詳細に関する記載が適用される。
【０１５７】
化合物（９）の好適な具体例は2,2,3,5,6-ペンタフルオロ-3,6-ビス(トリフルオロメチル)-5-((1,2,2-トリフルオロビニル)オキシ)-1,4-ジオキサンを包含する。
前記組成物における化合物（９）の量比は、化合物（５）の１００質量部に対して、好ましくは、０．００００１〜１質量部、より好ましくは、０．００００１〜０．８質量部、さらに好ましくは、０．００００１〜０．５質量部、特に好ましくは、０．０００１〜０．１質量部である。
【０１５８】
化合物（１０）の好適な具体例はパーフルオロ−２，４−ジメチルー１，３−ジオキソランを包含する。
前記組成物における化合物（１０）の量比は、化合物（５）の１００質量部に対して、好ましくは、０．００００１〜１質量部、より好ましくは、０．００００１〜０．８質量部、さらに好ましくは、０．００００１〜０．５質量部、特に好ましくは、０．０００１〜０．１質量部である。
【０１５９】
前記組成物は、化合物（９）と化合物（１０）のいずれか、或いは両方を含有しても良い。化合物（５）の１００質量部に対して、好ましくは、化合物（９）を０．００００１〜０．８質量部及び／又は化合物（１０）を０．００００１〜０．８質量部含有し、より好ましくは、化合物（９）を０．００００１〜０．５質量部及び／又は化合物（１０）を０．００００１〜０．５質量部含有し、特にに好ましくは、化合物（９）を０．０００１〜０．１質量部及び／又は化合物（１０）を０．０００１〜０．１質量部含有する。
【０１６０】
化合物（４−１）の好適な具体例及び式（４−１）中の記号は、前記式（１）で表される化合物の製造方法における化合物（４−１）の場合と同じである。
【０１６１】
極性溶媒の好適な例は、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、及びニトリル系溶媒を包含する。
アルコール系溶媒の好適な具体例は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、及びｔｅｒｔ−ブチルアルコールを包含する。
エステル系溶媒の好適な具体例は、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、及び酢酸ｎ−ブチルを包含する。
ニトリル系溶媒の好適な具体例は、１，４−ジシアノブタン、アセトニトリル及びベンゾニトリルを包含する。
エーテル系溶媒の好適な具体例は、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、及び１，２−ジメトキシエタンを包含する。
【０１６２】
極性溶媒の好適な具体例は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジシアノブタン、アセトニトリル、及びテトラヒドロフランを包含する。
【０１６３】
重合禁止剤の好適な例は、４−メトキシ−１−ナフトール、ヒドロキノン、ヒドロキノンメチルエーテル、ジメチル−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、及びベンゾトリアゾールを包含する。
【０１６４】
前記組成物における化合物（４−１）の量比は、化合物（５）の１００質量部に対して、好ましくは、０．００００１〜０．１質量部、より好ましくは、０．００００１〜０．０８質量部、さらに好ましくは、０．００００１〜０．０５質量部、特に好ましくは、０．００００１〜０．０１質量部である。
【０１６５】
前記組成物における極性溶媒の量比は、化合物（５）の１００質量部に対して、好ましくは、０．００００１〜０．１質量部、より好ましくは、０．００００１〜０．０８質量部、さらに好ましくは、０．００００１〜０．０５質量部、特に好ましくは、０．０００１〜０．０１質量部である。
【０１６６】
前記組成物における重合禁止剤の量比は、化合物（５）の１００質量部に対して、好ましくは、０．００００１〜１質量部、より好ましくは、０．００００１〜０．８質量部、さらに好ましくは、０．００００１〜０．５質量部、特に好ましくは、０．００００１〜０．１質量部である。
【０１６７】
前記組成物における水の量比は、化合物（５）の１００質量部に対して、好ましくは、０．００００１〜０．１質量部、より好ましくは、０．００００１〜０．０８質量部、さらに好ましくは、０．００００１〜０．０５質量部、特に好ましくは、０．００００１〜０．０１質量部である。
【０１６８】
本開示の組成物は、前記量比の範囲内であることにより、例えば樹脂材料の原料に好適に使用することができ、かつ当該組成物の製造コストの点で有利であり、それにより、最終製品の製造コストの点でも有利である。
【０１６９】
以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能であることが理解されるであろう。
【実施例】
【０１７０】
以下、実施例によって本開示の一実施態様を更に詳細に説明するが、本開示はこれに限定されるものではない。
【０１７１】
実施例中の記号及び略称は、以下の意味で用いられる。
ＣｓＦ：フッ化セシウム
ＧＣ：ガスクロマトグラフィー
ＤＭＦ：N,N-ジメチルホルムアミド
ジグライム：ジエチレングリコールジメチルエーテル
Ｍｅ：メチル
化合物１ａ：次式（１ａ）で表される化合物
【化２９】
2020132524.tif 000030
化合物６ａ：次式（６ａ）で表される化合物
【化３０】
2020132524.tif 000031
化合物８ａ：次式（８ａ）で表される化合物
【化３１】
2020132524.tif 000032
化合物５ａ：次式（５ａ）で表される化合物
【化３２】
2020132524.tif 000033
化合物９ａ：次式（９ａ）で表される化合物
【化３３】
2020132524.tif 000034
化合物１０ａ：次式（１０ａ）で表される化合物
【化３４】
2020132524.tif 000035
化合物１１ａ：次式（１１ａ）で表される化合物
【化３５】
2020132524.tif 000036
化合物１１ｂ：次式（１１ｂ）で表される化合物
【化３６】
2020132524.tif 000037
化合物１２ａ：次式（１２ａ）で表される化合物
【化３７】
2020132524.tif 000038
化合物１３ａ：次式（１３ａ）で表される化合物
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３          （１３ａ）
化合物７ａ：次式（７ａ）で表される化合物
【化３８】
2020132524.tif 000039
化合物１４ａ：次式（１４ａ）で表される化合物
【化３９】
2020132524.tif 000040
化合物１４ｂ：次式（１４ｂ）で表される化合物
【化４０】
2020132524.tif 000041
化合物１４ｃ：次式（１４ｃ）で表される化合物
【化４１】
2020132524.tif 000042
化合物１５ａ：次式（１５ａ）で表される化合物
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦＣＦ３ＣＯＦ          （１５ａ）
化合物１５ｂ：次式（１５ｂ）で表される化合物
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦＣＦ３ＣＯＯＭｅ        （１５ｂ）
化合物１５ｃ：次式（１５ｃ）で表される化合物
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦＣＦ３ＣＯＯＫ          （１５ｃ）
化合物１６ａ：次式（１６ａ）で表される化合物
【化４２】
2020132524.tif 000043
【０１７２】
実施例  １：工程ＡおよびＢ
０．８３ｇのＣｓＦ（２．５ｍｍｏｌ）、９．０３ｇのＤＭＦ（０．１２  ｍｏｌ）、及び１６．６ｇのジグライム（０．１２  ｍｏｌ）を反応器に加え−２０℃に冷却した。前記反応器に４４ｇの６フッ化プロピレンオキシド（０．２７  ｍｏｌ）を加え２時間撹拌した。６フッ化プロピレンオキシドが消失したのち、反応液を回収した。反応液は上層液と下層液の２層に分離していた。反応液を分液し上層液２９ｇと下層液４０ｇを各々回収した。上層液と下層液をＧＣで分析した。６３ＧＣ％の化合物１ａを収率５２％で得た。
化合物１ａ：６３ＧＣ％、ヘキサフルオロプロピレン：１０ＧＣ％、化合物１４ａ：１５ＧＣ％以下、化合物１１ａ（Ｈ）：０．１ＧＣ％、ＣｓＦ：０．１％以下、化合物１５ａ：１．０ＧＣ％、（ＣＨ３）２ＮＣＦ２Ｈ：０．５ＧＣ％、化合物１６ａ：６．０ＧＣ％、ジグライム：１．０ＧＣ％以下
なお、ここで「％以下」とは、各種成分の含有量が、０．０００００９５％以上、且つ具体的に記載された数値の％以下の範囲内であることを意味する。以下の例でも同様である。
ＣｓＦの含有量は、ＮＭＲ法で測定した。
その他の成分の含有量はＧＣ法で測定した。
【０１７３】
比較例１：  ２段階での化合物１ａの合成
４．２７ｇのＤＭＦ（０．０６  ｍｏｌ）を反応器に加え−２７℃に冷却した。前記反応器に１２ｇの６フッ化プロピレンオキシド（０．０７  ｍｏｌ）を加え１時間撹拌した。撹拌後反応液を回収した。反応液をＮＭＲで分析した。目的物の前駆体である４−フルオロ−５−オキソ−２，４−ビス（トリフルオロメチル）−１，３−ジオキソラン−２−カルボニルフルオリドが５％の収率で得られた。前駆体の収率が非常に低かったため第２工程を実施しなかった。
【０１７４】
実施例２：  工程Ｃ
実施例１と同様にして得られた２０ｇの下層液（１３ｇの化合物１ａを含む）、３．２ｇのＣｓＦ（２１  ｍｍｏｌ）、７．１ｇのジグライム（５３ｍｍｏｌ）を反応器に加え１２０℃で１２時間加熱し反応液を得た。反応液は上層液と下層液をＧＣで分析した。７．２ｇの化合物６ａを純度７４％で得た。
化合物６ａ：７４ＧＣ％、ヘキサフルオロプロピレン：２．０ＧＣ％、化合物１ａ：１．１ＧＣ％、化合物１４ａ：３．０ＧＣ％以下、化合物１１ａ（Ｈ）：０．１ＧＣ％、ＣｓＦ：０．１％以下、化合物１５ａ：０．１ＧＣ％、（ＣＨ３）２ＮＣＦ２Ｈ：０．１ＧＣ％以下、ジグライム：１５ＧＣ％以下
ＣｓＦの含有量は、ＮＭＲ法で測定した。
その他の成分の含有量はＧＣ法で測定した。
【０１７５】
実施例３：  工程Ｄ
実施例２で得られた７．２ｇの化合物６ａを含む下層液を、１２．７ｇの炭酸カリウム（０．０９ｍｏｌ）、２８ｇのジメトキシエタン（０．３  ｍｏｌ）に加え６０℃で２時間撹拌し反応液を得た。反応液を濾過しろ液を取得し、ろ液を濃縮した。ＮＭＲで解析したところ７．０ｇの化合物８ａを含む濃縮物を得た（収率４４％）
化合物８ａ：８０％、化合物１４ｃ：３．０％以下、化合物１１ａ（Ｈ）：０．１％、ＣｓＦ：１．０％以下、ＫＦ：１．０％以下、化合物１５ｃ：０．１％、水：０．１％以下、ジグライム：１０％以下
水の含有量はカールフィッシャー電量滴定法で測定した。
その他の成分の含有量はＮＭＲ法で測定した。
【０１７６】
実施例４：  工程Ｅ
実施例３で得られた６．７ｇの化合物８ａを反応器に加え、２００℃で４時間、３００℃で１時間加熱した。生成物を−７８℃でトラップに回収しＮＭＲ、ＧＣで解析したところ化合物５ａを収率６０％、純度９５％で得た。
化合物５ａ：９５ＧＣ％、ヘキサフルオロプロピレン：０．０１ＧＣ％、化合物９ａ：１．０ＧＣ％以下、化合物１１ａ（Ｈ）：０．１ＧＣ％、化合物１１ｂ（Ｍｅ）：０．１ＧＣ％、化合物１２ａ：０．１ＧＣ％、ＣｓＦ：０．１％以下、ＫＦ：０．１％以下、化合物１３ａ：０．１ＧＣ％、化合物１０ａ：０．２ＧＣ％以下、ジグライム：４．０ＧＣ％以下、水：０．１％以下
ＣｓＦ及びＫＦの含有量は、イオンクロマトグラフィー法で測定した。イオンクロマトグラフィー法では、前処理として、サンプルを同容量の超純水によって液液抽出して得られた液を測定に供した。
水の含有量はカールフィッシャー電量滴定法で測定した。
その他の成分の含有量はＧＣ法で測定した。
【０１７７】
実施例５：  工程Ｄ１
実施例２と同様にして得られた８３ｇの上層液、７９ｇの下層液にメタノール３２ｇ（１  ｍｏｌ）及び４５ｇの水を加えて２時間撹拌した。生成液は２層に分離しており分液により下層液を回収して蒸留（１５０℃、５時間）することによって化合物７ａを得た。収率は４７％であった。
-77ppm (1F, CF2), -81ppm (3F, CFCF3), -82ppm (3F, CF3), -83ppm (1F, CF2), -124ppm(1F, CFCF3)
化合物７ａ：９８ＧＣ％、化合物１４ｂ：０．１ＧＣ％以下、化合物１１ａ（Ｈ）：０．１ＧＣ％、化合物１１ｂ（Ｍｅ）：０．１ＧＣ％、化合物１５ｂ：０．１ＧＣ％、水：０．１％以下
水の含有量はカールフィッシャー電量滴定法で測定した。
その他の成分の含有量はＧＣ法で測定した。
【０１７８】
実施例６：  工程Ｄ２
４２ｇのメタノールに０．１３ｍｏｌの水酸化カリウムを加えた。このメタノール液をガラスの反応器に加えた。このメタノール液に０．１３ｍｏｌの化合物７ａを徐々に加え２０℃で１時間撹拌した。反応液から溶媒を濃縮器で留去し生成した固体を回収した。この個体を減圧乾燥して化合物８ａを化学量論量で得た。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月18日(2020.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
【化１】
2020132524.tif 000061
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（２）：
【化２】
2020132524.tif 000062
［式中、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物と、
式（３−１）：
【化３】
2020132524.tif 000063
［式中、
Ｒ３１、Ｒ３２、及びＲ３３は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−１０アルキル基であるか、或いは２つが互いに結合して、１個以上の置換基を有していてもよい環を形成していてもよい。］
で表される化合物
及び
式（３−２）：
【化４】
2020132524.tif 000064
［式中、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、及びＲ３７は、同一又は異なって、水素原子又はＣ１−１０アルキル基であるか、或いは２つが互いに結合して、１個以上の置換基を有していてもよい環を形成していてもよい。］
で表される化合物
からなる群から選択される少なくとも１種の化合物（３）とを、
式（４−１）：
ＭＨｎＦｍ              （４−１）
［式中、Ｍは金属原子であり、ｎは０又は１であり、Ｍの原子価数とｎの和はｍである。］
で表される化合物、
式（４−２）：
ＬＲ４１４Ｆ              （４−２）
［式中、Ｌは窒素原子又はリン原子であり、Ｒ４１は、同一又は異なって、Ｃ１−５アルキル基である。］
で表される化合物、及び
フッ酸又はその塩
からなる群から選択される少なくとも１種のフッ素化合物（４）
並びに
有機溶媒（当該有機溶媒からは、前記式（３−１）で表される化合物及び式（３−２）で表される化合物は除外される。）の存在下に反応させる工程Ａ
を含む製造方法。
【請求項２】
２つのＲ１は、同一に、Ｃ１−１０フルオロアルキル基である、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記工程Ａが上液層及び下液層が生成する工程であって、分液する工程Ｂをさらに含む、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
式（５）：
【化５】
2020132524.tif 000065
［式中、Ｒ１はフッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
請求項１に記載の工程Ａ又は請求項３に記載の工程Ｂにより式（１）：
【化６】
2020132524.tif 000066
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物を生成する工程、
該工程で生成した式（１）で表される化合物を、
式（４−１）：
ＭＨｎＦｍ              （４−１）
［式中、Ｍは金属原子であり、ｎは０又は１であり、Ｍの原子価数とｎの和はｍである。］
で表される化合物、
式（４−２）：
ＬＲ４１４Ｆ              （４−２）
［式中、Ｌは窒素原子又はリン原子であり、Ｒ４１は、同一又は異なって、Ｃ１−５アルキル基である。］
で表される化合物、及び
フッ酸又はその塩
からなる群から選択される少なくとも１種のフッ素化合物（４）
の存在下に加熱して
式（６）：
【化７】
2020132524.tif 000067
［式中、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を生成させる工程Ｃ、
該式（６）で表される化合物を塩基と反応させて式（８）：
【化８】
2020132524.tif 000068
［式中、Ｒ８１は前記塩基に対応する基であり、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を生成させる工程Ｄ、及び
該式（８）で表される化合物を加熱して前記式（５）で表される化合物を生成させる工程Ｅ
を含む、方法。
【請求項５】
前記工程Ｄに代えて、
前記式（６）で表される化合物を水又はアルキルアルコールと反応させて式（７）：
【化９】
2020132524.tif 000069
［式中、Ｒ７１は水素原子又はアルキル基であり、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を生成させる工程Ｄ１、及び
該式（７）で表される化合物を塩基と反応させて前記式（８）で表される化合物を生成させる工程Ｄ２
を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記工程Ｄ１において生成した液を精製して前記式（７）で表される化合物を得る工程Ｄ１ａをさらに含む、請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
前記工程Ｄ及び工程Ｅに代えて、
前記式（６）で表される化合物を塩基の存在下に加熱して前記式（５）で表される化合物を生成する工程Ｆ
を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
式（７−１）：
【化１０】
2020132524.tif 000070
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基であり、Ｒ７２はアルキル基である。］
で表される化合物。
【請求項９】
Ｒ７２が直鎖又は分岐鎖状のＣ１−１０アルキル基である請求項８に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ７２がメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、又はtert-ブチルである請求項８に記載の化合物。
【請求項１１】
式（６）：
【化１１】
2020132524.tif 000071
［式中、２つのＲ１は同一であり、フッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物をアルキルアルコールと反応させ式（７−１）：
【化１２】
2020132524.tif 000072
［式中、Ｒ７２はアルキル基であり、Ｒ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を生成させる工程Ｄ１−１を含む、
請求項８に記載の化合物の製造方法。
【請求項１２】
式（５）：
【化１３】
2020132524.tif 000073
［式中、Ｒ１はフッ素原子又はフルオロアルキル基である。］
で表される化合物を含有する組成物であって、
さらに、式（５）で表される化合物１００質量部に対して、
式（９）：
【化１４】
2020132524.tif 000074
［式中、２つのＲ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を０．００００１〜１質量部、及び／又は
式（１０）：
【化１５】
2020132524.tif 000075
［式中、２つのＲ１は前記と同意義である。］
で表される化合物を０．００００１〜１質量部
含有する組成物。
【請求項１３】
前記式（５）で表される化合物１００質量部に対して、
前記式（９）で表される化合物の含有量が０．００００１〜０．５質量部であり、
前記式（１０）で表される化合物の含有量が０．００００１〜０．５質量部である、請求項１２に記載の組成物。