(57)【要約】【課題】透明性に優れたパターン成形可能な感光性樹脂組成物を提供し、耐溶剤性、耐熱性、及び絶縁性に優れたパターン硬化膜および層間絶縁膜を提供し、さらに、該層間絶縁膜を具備することにより、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置、および液晶表示装置を提供する。【解決手段】（Ａ）下記(A-1)、(A-2)、および(A-3)の各構造単位を含む共重合体、（Ｂ）感光剤、並びに（Ｃ）架橋剤を含み、前記共重合体が(A-1)、および(A-2)をそれぞれ独立に１０〜５０モル％含む共重合体であるポジ型感光性樹脂組成物。  (A-1)  カルボキシ基を含む構造単位  (A-2)  エポキシ環と不飽和基とを含む化合物がカルボキシ基に付加した構造単位  (A-3)  前記(A-1)および(A-2)以外の構造単位【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記(A-1)、(A-2)、および(A-3)の各構造単位を含む共重合体、（Ｂ）感光剤、並びに（Ｃ）架橋剤を含み、前記共重合体が(A-1)、および(A-2)をそれぞれ独立に１０〜５０モル％含む共重合体であるポジ型感光性樹脂組成物。
(A-1)  カルボキシ基を含む構造単位
(A-2)  エポキシ環と不飽和基とを含む化合物がカルボキシ基に付加した構造単位
(A-3)  前記(A-1)および(A-2)以外の構造単位
【請求項２】
前記（A-3） (A-1)および(A-2)以外の構造単位が、環構造を有する構造単位である請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記（A-3） (A-1)および(A-2)以外の構造単位が、脂環式構造を有する構造単位である請求項１または請求項２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記（Ａ）(A-1)、(A-2)、および(A-3)の各構造単位を含む共重合体が、(A-3) (A-1)および(A-2)以外の構造単位を１０〜６０モル％の範囲で含む共重合体である請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項５】
ポジ型感光性樹脂組成物の全固形分に対し、質量換算で前記（Ａ）(A-1)、(A-2)、および(A-3)の各構造単位を含む共重合体を４０％〜７０％の範囲で含み、前記（Ｂ）感光剤を５％〜４０％の範囲で含み、且つ前記(Ｃ)架橋剤を３％〜４０％の範囲で含む請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項６】
前記（Ｂ）感光剤が、１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物である請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項７】
前記（Ｃ）架橋剤が、エポキシ系化合物、オキセタン系化合物、メタクリロイル基又はアクリロイル基を含む化合物、メラミン系化合物、グリコールウリル系化合物、及びフェノール系化合物の群から選ばれる少なくとも一つである請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項８】
さらに、（Ｄ）熱ラジカル発生剤を含有する請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項９】
前記（Ｄ）熱ラジカル発生剤の１０時間半減期温度が、１００℃以上２３０℃以下である請求項８に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１０】
請求項１〜請求項９のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗設し、光または熱によって硬化された硬化膜。
【請求項１１】
請求項１０に記載の硬化膜を用いた層間絶縁膜。
【請求項１２】
請求項１１に記載の層間絶縁膜を具備する有機ＥＬ表示装置。
【請求項１３】
請求項１１に記載の層間絶縁膜を具備する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物、該ポジ型感光性樹脂組成物を用いた硬化膜、該硬化膜を用いた層間絶縁膜、それを用いた有機ＥＬ表示装置、および液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置や、液晶表示装置などの層間絶縁膜には、優れた電気特性、機械特性などを併せ持つポリイミド樹脂が用いられている。このポリイミド樹脂は、現在は一般に感光性ポリイミド前駆体組成物の形で供され、基板に塗布した後、活性光線によるパターニング、現像、熱イミド化処理等を施すことによって、半導体装置の層間絶縁膜、表面保護膜等及び表示装置の平坦化膜、層間絶縁膜等を容易に形成させることが出来、従来の非感光性ポリイミド前駆体組成物に比べて大幅な工程短縮が可能となるという特徴を有している。
ところが、感光性ポリイミド前駆体組成物は、その現像工程においては、現像液としてＮ-メチル-２-ピロリドンなどの大量の有機溶剤を用いる必要があり、近年の環境問題の
高まりなどから、脱有機溶剤対策が求められてきている。
【０００３】
これを受け、最近になって、フォトレジストと同様に、アルカリ性水溶液で現像可能な感光性ポリイミド前駆体、感光性ポリベンゾオキサゾール前駆体を用いた、耐熱性感光性樹脂材料の提案が各種なされている（例えば、特許文献１参照。）。しかし感光性ポリイミド前駆体や感光性ポリベンゾオキサゾール前駆体にナフトキノンジアジドを添加した前記耐熱性樹脂材料では、ナフトキノンジアジドのアルカリ性水溶液に対する溶解阻害効果が不十分であり、パターン形成性が不十分という問題があった。
【０００４】
またその他のポジ型感光性樹脂として、銅触媒による酸化カップリング重合を行うことで得られるポリフェニレンオキシド樹脂を用いたものがある（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら前記ポリフェニレンオキシド樹脂では、耐熱性、絶縁性が不足することがわかった。この要因は明らかではないが、前記ポリフェニレンオキシド樹脂は銅触媒による酸化カップリング重合により合成されるため、樹脂中に触媒が残存する可能性があり、一つの仮説ではあるが、耐熱性、絶縁性の不足はこの残存触媒に起因するものと推定される。
【０００５】
また高い透明性を有することを特徴とする液晶表示装置などの層間絶縁膜として、例えば、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物、エポキシ基を有するラジカル重合性化合物、及び他のラジカル重合性化合物の共重合体であるアルカリ水溶液に可溶な樹脂と、感放射線性酸生成化合物と、を含有する感放射線性樹脂組成物が知られている（例えば、特許文献３、４参照）。しかしながら、上記のような公知技術を用いて作製した層間絶縁膜では、透明性、耐熱性、耐溶剤性、及び絶縁性のすべての性能において満足のいくものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−１３３０８８号公報
【特許文献２】特開２０００−２７５８４２号公報
【特許文献３】特許第２９６１７２２号公報
【特許文献４】特開２００５−７０７３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、透明性に優れたパターン成形可能な感光性樹脂組成物を提供することを課題とする。また、該感光性樹脂組成物を用いることにより、耐溶剤性、耐熱性、及び絶縁性に優れたパターン硬化膜および層間絶縁膜を提供することを課題とする。さらに、該層間絶縁膜を具備することにより、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置、および液晶表示装置を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題が下記の構成により解決されることを見出した。
＜１＞  （Ａ）下記(A-1)、(A-2)、および(A-3)の各構造単位を含む共重合体、（Ｂ）感光剤、並びに（Ｃ）架橋剤を含み、前記共重合体が(A-1)、および(A-2)をそれぞれ独立に１０〜５０モル％含む共重合体であるポジ型感光性樹脂組成物。
(A-1)  カルボキシ基を含む構造単位
(A-2)  エポキシ環と不飽和基とを含む化合物がカルボキシ基に付加した構造単位
(A-3)  前記(A-1)および(A-2)以外の構造単位
【０００９】
＜２＞  前記（A-3） (A-1)および(A-2)以外の構造単位が、環構造を有する構造単位である＜１＞に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜３＞  前記（A-3） (A-1)および(A-2)以外の構造単位が、脂環式構造を有する構造単位である＜１＞または＜２＞に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【００１０】
＜４＞  前記（Ａ）(A-1)、(A-2)、および(A-3)の各構造単位を含む共重合体が、(A-3) (A-1)および(A-2)以外の構造単位を１０〜６０モル％の範囲で含む共重合体である＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜５＞  ポジ型感光性樹脂組成物の全固形分に対し、質量換算で前記（Ａ）(A-1)、(A-2)、および(A-3)の各構造単位を含む共重合体を４０％〜７０％の範囲で含み、前記（Ｂ）感光剤を５％〜４０％の範囲で含み、且つ前記(Ｃ)架橋剤を３％〜４０％の範囲で含む＜１＞〜＜４＞のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【００１１】
＜６＞  （Ｂ）感光剤が、１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物である＜１＞〜＜５＞のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜７＞  （Ｃ）架橋剤が、エポキシ系化合物、オキセタン系化合物、メタクリロイル基又はアクリロイル基を含む化合物、メラミン系化合物、グリコールウリル系化合物、及びフェノール系化合物の群から選ばれる少なくとも一つである＜１＞〜＜６＞のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【００１２】
＜８＞  さらに、（Ｄ）熱ラジカル発生剤を含有する＜１＞〜＜７＞のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜９＞  前記（Ｄ）熱ラジカル発生剤の１０時間半減期温度が、１００℃以上２３０℃以下である＜８＞に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【００１３】
＜１０＞  ＜１＞〜＜９＞のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗設し、光または熱によって硬化された硬化膜。
＜１１＞  ＜１０＞に記載の硬化膜を用いた層間絶縁膜。
＜１２＞  ＜１１＞に記載の層間絶縁膜を具備する有機ＥＬ表示装置。
＜１３＞  ＜１１＞に記載の層間絶縁膜を具備する液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、透明性に優れたパターン成形可能な感光性樹脂組成物を提供することができ、該感光性樹脂組成物を用いることにより、耐溶剤性、耐熱性、及び絶縁性に優れたパターン硬化膜および層間絶縁膜を提供することができる。さらに、該層間絶縁膜を具備することにより、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置、および液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】ＴＦＴを用いた有機ＥＬ表示装置の概略断面図である。
【図２】ＴＦＴを用いた液晶表示装置の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の感光性樹脂組成物について詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）下記(A-1)、(A-2)、および(A-3)の各構造単位を含む共重合体、（Ｂ）感光剤、並びに（Ｃ）架橋剤を含み、前記共重合体が(A-1)、および(A-2)をそれぞれ独立に１０〜５０モル％含む共重合体であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物である。
(A-1)  カルボキシ基を含む構造単位
(A-2)  エポキシ環と不飽和基とを含む化合物がカルボキシ基に付加した構造単位
(A-3)  前記(A-1)および(A-2)以外の構造単位
以下、感光性樹脂組成物の構成成分について説明する。
【００１７】
＜（Ａ）(A-1)、(A-2)、および(A-3)の各構造単位を含む共重合体＞
本発明の（Ａ）共重合体は、上記(A-1)、(A-2)、および(A-3)の各構造単位を含み、(A-1)、および(A-2)をそれぞれ独立に１０〜５０モル％含む共重合体（以下、「特定共重合体」ともいう。）であることを特徴とする。以下各構造単位を説明する。
【００１８】
＜(A-1)  カルボキシ基を含む構造単位＞
(A-1)カルボキシ基を含む構造単位としては、例えば、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、および不飽和トリカルボン酸などの、分子中に少なくとも１個のカルボキシ基を有する不飽和多価カルボン酸、などの不飽和カルボン酸を含む構造単位が挙げられる。
【００１９】
ここで、前記不飽和モノカルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸などが挙げられる。前記不飽和ジカルボン酸としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸などが挙げられる。
【００２０】
また、不飽和多価カルボン酸は、その酸無水物であってもよい。具体的には、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸などが挙げられる。不飽和多価カルボン酸は、そのモノ（２−メタクリロイロキシアルキル）エステルであってもよく、例えば、コハク酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、コハク酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）などが挙げられる。
【００２１】
不飽和多価カルボン酸は、その両末端にカルボキシ基を有する、モノ（メタ）アクリレートのポリマーであってもよく、例えば、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノメタクリレートなどが挙げられる。
【００２２】
カルボキシ基を含む構造単位は、一種単独の構造単位でもよいし、２種以上の構造単位から構成してもよい。
【００２３】
上記したカルボキシ基を含む構造単位の特定共重合体への導入方法は、以下のカルボキシ基含有モノマーを共重合することが好ましい。カルボキシ基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸−２−カルボキシエチルエステル、メタクリル酸−２−カルボキシエチルエステル、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、４−カルボキシスチレン等のようなものが好ましい。
【００２４】
＜(A-2)エポキシ環と不飽和基とを含む化合物がカルボキシ基に付加した構造単位＞
(A-2)エポキシ環と不飽和基とを含む化合物がカルボキシ基に付加した構造単位としては、前記のカルボキシ基を含む構造単位のカルボキシ基に、エポキシ環と不飽和基とを含む化合物のエポキシ環を反応させた構造単位が好ましい。
【００２５】
エポキシ環と不飽和基とを含む化合物としては、エポキシ環と炭素間不飽和結合基とをそれぞれ１個以上有する化合物であればよく、例えばグリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルアクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレート、アリルグリシジルエーテルなどの化合物を挙げることができる。
これらの中でも、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルアクリレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレートが好ましく、グリシジルメタクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルアクリレートが溶剤耐性の観点から最も好ましい。
【００２６】
＜(A-3)  (A-1)および(A-2)以外の構造単位＞
特定共重合体にはさらに、(A-3)として(A-1)および(A-2)以外の構造単位を含む。前記(A-3)の構造単位としては、上記した(A-1)および(A-2)以外の構造単位であれば特に制限はなくポリマーの構造単位として用いられるものであれば、適宜使用することができ、好ましくはビニルモノマーに由来する構造単位である。
【００２７】
(A-3)の構造単位になりうるビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリルなどが好ましい。このようなビニルモノマーの具体例としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。
なお、本明細書において「アクリル、メタクリル」の双方を示す場合「（メタ）アクリル」と記載することがある。
【００２８】
（メタ）アクリル酸エステル類の例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチルなどが挙げられる。
【００２９】
クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、及びクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。
ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニルなどが挙げられる。
マレイン酸ジエステル類の例としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、及びマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
フマル酸ジエステル類の例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、及びフマル酸ジブチルなどが挙げられる。
イタコン酸ジエステル類の例としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、及びイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００３０】
（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。
【００３１】
ビニルエーテル類の例としては、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、及びメトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。
スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えばｔ−Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンなどが挙げられる。
【００３２】
(A-3)の構造単位としては、上記したうち芳香環、脂環等の環構造を含むものが好ましく、環構造を含む構造単位としては（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えばｔ−Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンが挙げられ、このうち（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、スチレンが好ましく、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルが更に好ましい。環構造を含むと現像性が良好である。
最も好ましくは環構造が脂環式構造を有する構造単位であり、脂環式構造としては、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸イソボルニルなどであり、具体的には、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルが好ましい。脂環式構造を含むことによって絶縁耐性が良好となる。
【００３３】
特定重合体に含まれる(A-1)と(A-2)と(A-3)との含有量は、(A-1)、および(A-2)がそれぞれ独立に１０〜５０モル％の範囲である。(A-1)、および(A-2)がそれぞれ独立に１２〜４５モル％の範囲であることが好ましく、最も好ましくは(A-1)、および(A-2)がそれぞれ独立に１５〜４０モル％の範囲である。この範囲内にあると(A-1)にあっては、現像性が良好であり、(A-2)にあっては現像性、溶剤耐性の両立が可能となる。
また、特定共重合体に含まれる(A-3)の構造単位は、１０〜６０モル％の範囲が好ましく、より好ましくは１５〜５５モル％の範囲であり、最も好ましくは２０〜５０モル％の範囲である。この範囲内にあると現像性と絶縁耐性の両立が可能となる。
【００３４】
本発明で用いる特定共重合体は、分子量に特に制限はないが、アルカリ溶解速度、膜物性等の面で、重量平均分子量で、１，０００〜５００，０００が好ましく、３，０００〜３００，０００がより好ましく、５，０００〜２００，０００が特に好ましい。なお、本発明において分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて求めることができる。
【００３５】
特定共重合体は、重合したときに(A-1)、(A-2)、および(A-3)の構造単位を有するようなモノマーを共重合によって合成することができる。また重合したときに(A-1)と(A-3)の構造単位を有するようなモノマーを共重合しておき、得られた共重合体のカルボキシ基に、エポキシ環と不飽和基とを含む化合物を付加しても合成できる。
以下、本発明に好適に使用しうる高分子化合物の例示を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３６】
【化１】
2010181866.tif 000003
【００３７】
【化２】
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【００３８】
共重合体を得るとき、および付加反応を行うときは、溶媒中で行うことが好ましい。共重合の原料モノマーが必要な濃度で溶解可能であり、かつ得られる共重合体から形成する膜の特性に悪影響を与えないものであればどのようなものを使用しても良い。例えば水やメタノール、エタノール、プロパノール等のチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸アルコール系溶媒、アセトン、アルコールアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、メチルベンゾエート等のエステル系溶媒、ジブチルエーテル、アニソール、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン、メシチレン、１,２,４,５−テトラメチルベンゼン、ペンタメチルベンゼン、イソプロ
ピルベンゼン、１,４−ジイソプロピルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、１,４−ジ−ｔ−ブチルベンゼン、１,３,５−トリエチルベンゼン、１,３,５−トリ−ｔ−ブチルベンゼン、４−ｔ−ブチル−オルトキシレン、１−メチルナフタレン、１，３，５−トリイソプロピルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、Ｎ−メチルピロリジノン、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、四塩化炭素、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒などが利用できる。
【００３９】
これらの中でより好ましい溶媒は、テトラヒドロフラン、γ−ブチロラクトン、アニソール、トルエン、キシレン、メシチレン、イソプロピルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、１,３,５−トリ−ｔ−ブチルベンゼン、１−メチルナフタレン、１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、Ｎ−メチルピロリジノン、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼンであり、特に好ましくは、Ｎ−メチルピロリジノン、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒である。これらは単独でも２種以上を混合して用いてもよい。
【００４０】
共重合反応、および付加反応に用いる有機溶媒の沸点は５０℃以上が好ましく、より好ましくは１００℃以上であり、特に好ましくは１５０℃以上である。
【００４１】
反応液中の溶質の濃度は好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは５〜３０質量％、特に好ましくは１０〜２０質量％である。
【００４２】
本発明における重合反応の最適な条件は、溶媒の種類、濃度等によって異なるが、反応温度について、好ましくは内温０℃〜２３０℃、より好ましくは１００℃〜２３０℃、特に好ましくは１４０℃〜２００℃で、反応時間について好ましくは１〜５０時間、より好ましくは２〜４０時間、特に好ましくは３〜３０時間の範囲である。
また、高分子化合物の酸化分解を抑制するために不活性ガス雰囲気下（例えば窒素、アルゴン等）で反応させることが好ましい。また、望まない光反応を抑制するために遮光条件で重合することも好ましい。
【００４３】
＜（Ｂ）感光剤＞
本発明の感光性樹脂組成物に使用する（Ｂ）感光剤は、露光により画像を形成する機能を感光性樹脂組成物に付与するかつ／またはそのきっかけを与える化合物を指す。具体的には、(B-1)露光による酸を発生する化合物（光酸発生剤）や、(B-2)感光性のキノンジアジド化合物、(B-3)ジヒドロピリジン化合物を挙げることができる。これら感光剤は２種以上を併用して用いることもできる。また、感度調整のために、増感剤などを併用して用いることもできる。
【００４４】
（B-1）光酸発生剤
光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている活性光線又は放射線の照射により酸を発生する公知の化合物及びそれらの混合物を適宜に選択して使用することができる。
【００４５】
たとえば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ−ニトロベンジルスルホネートを挙げることができる。好ましい感光剤としては、スルホン酸を発生する化合物であるイミドスルホネート、オキシムスルホネート、ｏ−ニトロベンジルスルホネートを挙げることができる。
【００４６】
また、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する基、あるいは化合物を樹脂の主鎖又は側鎖に導入した化合物、たとえば、米国特許第３，８４９，１３７号明細書、独国特許第３９１４４０７号明細書、および特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３８号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号の各公報等に記載の化合物を用いることができる。
【００４７】
さらに米国特許第３,７７９,７７８号、欧州特許第１２６,７１２号等の各明細書に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。
【００４８】
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物の内で好ましい化合物として、下記一般式（ＺＩ）、（ＺII）、（ＺIII）で表される化合物を挙げることができる。
【００４９】
【化３】
2010181866.tif 000005
【００５０】
一般式（ＺＩ）〜（ＺIII）において、Ｒ２０１〜Ｒ２０７は、各々独立に有機基を表す。Ｒ２０１〜Ｒ２０７の有機基の炭素数は、それぞれ１〜３０の範囲、好ましくは１〜２０の範囲である。Ｒ２０１〜Ｒ２０７のうち２つが結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。Ｒ２０１〜Ｒ２０３の内の２つが結合して形成する基としては、アルキレン基（例えば、ブチレン基、ペンチレン基）を挙げることができる。
Ｘ−は、非求核性アニオンを表し、好ましくはスルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、ビス（アルキルスルホニル）アミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−などが挙げられ、好ましくは炭素原子を有する有機アニオンである。
【００５１】
好ましい有機アニオンとしては、下記一般式に示す有機アニオンが挙げられる。
【００５２】
【化４】
2010181866.tif 000006
【００５３】
上記一般式に於いて、Ｒｃ１は、有機基を表す。
Ｒｃ１における有機基として、炭素数１〜３０のものが挙げられ、好ましくは置換していてもよいアルキル基、置換していてもよいシクロアルキル基、置換していてもよいアリール基、またはこれらの複数が、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ２−、−Ｓ−、−ＳＯ３−、−ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ１）−などの連結基で連結された基を挙げることができる。
Ｒｄ１は、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｒｃ３、Ｒｃ４及びＲｃ５は、各々独立に、有機基を表す。
Ｒｃ３、Ｒｃ４及びＲｃ５の有機基としては、Ｒｃ１における好ましい有機基と同じものを挙げることができ、好ましくは、炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基である。
Ｒｃ３とＲｃ４が結合して環を形成していてもよい。
Ｒｃ３とＲｃ４が結合して形成される基としてはアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基が挙げられる。好ましくは炭素数２〜４のパーフルオロアルキレン基である。
Ｒｃ１及びＲｃ３〜Ｒｃ５の有機基として、好ましくは１位がフッ素原子またはフルオロアルキル基で置換されたアルキル基、フッ素原子またはフルオロアルキル基で置換されたフェニル基である。フッ素原子またはフルオロアルキル基を有することにより、光照射によって発生した酸の酸性度が上がり、感度が向上する。また、Ｒｃ３とＲｃ４が結合して環を形成することにより光照射によって発生した酸の酸性度が上がり、感度が向上し、好ましい。
【００５４】
これらの中で、トリアリールスルホニウム塩のアリール基の少なくとも一つが電子求引性基を置換基として有することが好ましく、更に、アリール骨格に結合する置換基のハメット値の総和が０．１８より大きいことが好ましい。
【００５５】
ここで、電子求引性基とは、ハメット値（Ｈａｍｍｅｔ置換基定数σ）が０より大きい置換基を意味する。本発明においては、高感度化の観点から、光酸発生剤中のアリール骨格に結合する置換基のハメット値の総和が０．１８以上であることが好ましく、０．４６より大きいことがより好ましく、０．６０より大きいことが更に好ましい。
また、ハメット値は、トリアリールスルホニウム塩構造を有するカチオンの電子求引性の程度を表すものであり、高感度化の観点からは特に上限値はないが、反応性と安定性との観点からは、０．４６を超え４．０未満であることが好ましく、より好ましくは０．５０を超え、３．５未満であり、特に好ましくは０．６０を超え３．０未満の範囲である。
【００５６】
なお、本発明におけるハメット値は、稲本直樹編、化学セミナー１０  ハメット則−構造と反応性−（１９８３年、丸善（株）発行）に記載の数値を用いている。
アリール骨格に導入する電子求引性基としては、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、エステル基、スルホキシド基、シアノ基、アミド基、カルボキシ基、カルボニル基等が挙げられる。これらの置換基のハメット値を以下に示す。トリフルオロメチル基（−ＣＦ３、ｍ：０．４３、ｐ：０．５４）、ハロゲン原子〔例えば、−Ｆ（ｍ：０．３４、ｐ：０．０６）、−Ｃｌ（ｍ：０．３７、ｐ：０．２３）、−Ｂｒ（ｍ：０．３９、ｐ：０．２３）、−Ｉ（ｍ：０．３５、ｐ：０．１８）〕、エステル基（例えば、−ＣＯＣＨ３、ｏ：０．３７、ｐ：０．４５）、スルホキシド基（例えば、−ＳＯＣＨ３、ｍ：０．５２、ｐ：０．４５）、シアノ基（−ＣＮ、ｍ：０．５６、ｐ：０．６６）、アミド基（例えば、−ＮＨＣＯＣＨ３、ｍ：０．２１、ｐ：０．００）、カルボキシ基（−ＣＯＯＨ、ｍ：０．３７、ｐ：０．４５）、カルボニル基（−ＣＨＯ、ｍ：０．３６、ｐ：（０４３））等が挙げられる。かっこ内は、その置換基のアリール骨格における導入位置と、そのハメット値を表し、例えば（ｍ：０．５０）とは、当該置換基がメタ位に導入された時のハメット値が０．５０であることを示す。
【００５７】
これらの置換基のなかでも、疎水性の観点から、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基等の非イオン性の置換基が好ましく、なかでも、反応性の観点から−Ｃｌが好ましく、疎水性を与えるという観点からは、−Ｆ、−ＣＦ３、−Ｃｌ、−Ｂｒが好ましい。
【００５８】
これらの置換基は、トリアリールスルホニウム塩構造の３つのアリール骨格のいずれか一つに導入されていてもよく、２以上のアリール骨格に導入されていてもよい。また、３つのアリール骨格のそれぞれに導入される置換基は、１つでも複数でもよい。本発明においては、これらのアリール骨格に導入された置換基のハメット値の総和が０．１８を超えるものが好ましく、０．４６を越えるものがより好ましい。導入される置換基の数は、任意である。例えば、トリアリールスルホニウム塩構造のアリール骨格のうち１ヶ所に特にハメット値の大きい（例えば、ハメット値が単独で０．４６を超える）置換基を１つだけ導入していてもよい。また、例えば、複数の置換基が導入されそれぞれのハメット値の合計が０．４６を超えるものを導入してもよい。
【００５９】
上記のように、置換基のハメット値は導入される位置によって異なるため、本発明に係る光酸発生剤におけるハメット値の総和は、置換基の種類、導入位置、導入数により確定されることになる。
なお、ハメット値は、通常、ｍ位、ｐ位で表されるが、本発明においては、電子求引性の指標として、ｏ位での置換基効果はｐ位と同値として計算する。好ましい置換位置としては、合成上の観点からｍ位、ｐ位が好ましく、ｐ位が最も好ましい。
本発明において好ましいのは、ハロゲン原子により３置換以上されているスルホニウム塩であり、最も好ましいのは、クロロ基により３置換されているスルホニウム塩であり、具体的には、３つのアリール骨格のそれぞれにハロゲン原子、最も好ましくは、−Ｃｌが導入されたトリアリールスルホニウム塩構造を有するものが好ましく、−Ｃｌがｐ位に置換されているものがより好ましい。
【００６０】
本発明の感光性樹脂組成物が含有するトリアリールスルホニウム塩が有するスルホン酸アニオンとしては、例えば、アリールスルホン酸アニオン、アルカンスルホン酸アニオンなどが挙げられ、フッ素原子又はフッ素原子を有する有機基で置換されているアニオンが好ましい。
【００６１】
トリアリールスルホニウム塩構造を有する化合物は、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．第１１２巻（１６）、１９９０年；ｐｐ．６００４−６０１５、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９８８年；ｐｐ．５５７１−５５７３、ＷＯ０２／０８１４３９Ａ１パンフレット、或いは欧州特許（ＥＰ）第１１１３００５号明細書等に記載の方法により容易に合成することが可能である。
【００６２】
以下に具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
【００６３】
【化５】
2010181866.tif 000007
【００６４】
【化６】
2010181866.tif 000008
【００６５】
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物の内で好ましい化合物（光酸発生剤）としては、発生酸としてｐＫａが２以下と強い、スルホン酸や電子求引基の置換したアルキルまたはアリールカルボン酸、同じく電子求引基の置換したジスルホニルイミドなどが好ましい。電子求引基としてはＦ原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基を挙げることができる。
光酸発生剤としては、例えばＮ−ヒドロキシイミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート等を挙げることができる。
光酸発生剤として好ましいイミドスルホネート化合物としては、以下の一般式の化合物を挙げることができる。
【００６６】
【化７】
2010181866.tif 000009
【００６７】
式中、Ｃ１（炭素原子）とＣ２（炭素原子）間は単結合あるいは二重結合で結合され、Ｒ５１又はＲ５２は、同じでも異なってもよく、下記（１）〜（４）のいずれかを表す：（１）それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基（２）Ｃ１、Ｃ２ とともに１つあるいは複数のヘテロ原子を含んでよい単環または多環を形成する
。（３）Ｃ１とＣ２とを含む縮合した芳香環を形成する、（４）Ｎ−スルフォニルオキシイミドを含む残基を表す。
Ｒ５３はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基、置換基を有してよいアリール基、置換基を有してよいアラルキル基、又は樟脳基を表す。
【００６８】
一般式（ＰＡ−５）における、Ｒ５１およびＲ５２が（１）のケースに当たる場合、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基の様な炭素数１〜４個のアルキル基があげられる。シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等炭素数３〜８個のものがあげられる。アリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基の様な炭素数６〜１４個のものをあげることができる。Ｒ５１およびＲ５２が（２）のケースに当たる場合、例えば以下の様な部分構造をあげることができる。
【００６９】
【化８】
2010181866.tif 000010
【００７０】
Ｒ５１およびＲ５２が（３）のケースに当たる場合、例えば以下の様な部分構造をあげることができる。
【００７１】
【化９】
2010181866.tif 000011
【００７２】
Ｒ５１およびＲ５２が（４）のケースに当たる場合は、いわゆる少なくとも２つのＮ−スルフォニルオキシイミド残基が上記（１）〜（３）の部分構造を有するＲ５１およびＲ５２の部分で単結合もしくは以下のような２価の有機基で結合したものをあげることができる。但し、下記連結基は単独であるいは２つ以上の組合せで使用される。
〔２価の有機基〕：−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＣＯ２−、−ＮＨＳＯ２−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯ２−
【００７３】
Ｒ５３のアルキル基としては炭素数１〜２０個の直鎖あるいは分岐のアルキル基をあげることができる。好ましくは炭素数１〜１６個の直鎖あるいは分岐のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数１〜１２個のものである。炭素数が２１個以上のアルキル基の場合、感度、解像力が低下するため好ましくない。ハロゲン化アルキル基としては上記アルキル基の１つあるいは２つ以上の水素原子がハロゲン化されたものをあげることができる。置換するハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子をあげることができる。好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくはフッ素原子である。但し、置換するハロゲン原子は一分子当たり複数の種類であってもよい。環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等の炭素数３〜１２個のシクロアルキル基やノルボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデカニル基等の多環状置換基をあげることができる。アルケニル基としては炭素数１〜２０個の直鎖あるいは分岐のアルケニル基をあげることができる。好ましくは炭素数１〜１６個の直鎖あるいは分岐のアルケニル基であり、更に好ましくは炭素数１〜１２個のものである。炭素数が２１個以上のアルケニル基の場合、感度、解像力が低下するため好ましくない。
【００７４】
Ｒ５３のアリール基としてはフェニル基、ナフチル基をあげることができ、アラルキル基としてはベンジル基をあげることができる。アリール基とアラルキル基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の低級アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、メシチル基等のアリール基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の低級アルコキシ基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基等のアルケニル基、ホルミル基、アセチル基等のアシル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子をあげることができる。好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の低級アルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トルイル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の低級アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子である。なおアリール基、アラルキル基上の置換基は２種類以上であっても構わない。  以下にこれらの化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
【００７５】
【化１０】
2010181866.tif 000012
【００７６】
【化１１】
2010181866.tif 000013
【００７７】
【化１２】
2010181866.tif 000014
【００７８】
【化１３】
2010181866.tif 000015
【００７９】
【化１４】
2010181866.tif 000016
【００８０】
【化１５】
2010181866.tif 000017
【００８１】
光酸発生剤として好ましいオキシムスルホネート化合物としては以下の一般式（ＰＡ−６）の化合物を挙げることができる。
【００８２】
【化１６】
2010181866.tif 000018
【００８３】
一般式（ＰＡ−６）中、Ｒ６１及びＲ６２は、それぞれ独立に炭素数１から１６の置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、シクロアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、シアノ基、を表す。また、Ｒ６１及びＲ６２は、炭素数２から８の置換基を有していてもよいアルキレン鎖、アルケニレン鎖、アルキニリン鎖、または、置換基を有していてもよいフェニレン、フリーレン、チエニレン、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ−、−ＣＯ−を含む連結鎖を介して、別の一般式（ＰＡ−６）で表される化合物のＲ６１またはＲ６２と結合されていても良い。
Ｒ６３は炭素数１〜１６個の置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を表す。
【００８４】
Ｒ６１〜Ｒ６３における炭素数１〜１６個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｉ−オクチル基、ｎ−デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基等のアルキル基、トリフルオロメチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロ−ｔ−ブチル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロウンデシル基、１，１−ビストリフルオロメチルエチル基、等が挙げられる。
【００８５】
Ｒ６１及びＲ６２におけるアルケニル基としては、アリル基、メタリル基、ビニル基、メチルアリル基、１−ブテニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、１，３−ペンタジエニル基、５−ヘキセニル基、２−オキソ−３−ペンテニル基、デカペンタエニル基、７−オクテニル基等が挙げられる。
【００８６】
Ｒ６１及びＲ６２におけるアルキニル基としては、エチニル基、プロパルギル基、２−ブチニル基、４−ヘキシニル基、２−オクチニル基、フェニルエチニル基、シクロヘキシルエチニル基等が挙げられる。
【００８７】
Ｒ６１〜Ｒ６３におけるシクロアルキル基としては、置換基を有していてもよい、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基のような炭素数３〜８個のものが挙げられる。
【００８８】
Ｒ６１及びＲ６２におけるシクロアルケニル基としては、シクロブテニル基、シクロヘキセニル基、シクロペンタジエニル基、ビシクロ〔４．２．４〕ドデカ−３，７−ジエン−５−イル基等が挙げられる。
【００８９】
Ｒ６１〜Ｒ６３におけるアリール基としては、置換基を有していてもよい、フェニル基、トリル基、メトキシフェニル基、ナフチル基のような炭素数６〜１４個のものが挙げられる。
【００９０】
上記の置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、沃素原子）、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アラルキル基、下記式（１Ａ）で示される基等が挙げられる。
ここでアルキル基、シクロアルキル基は上記で挙げたものと同義である。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ヒドロキシエトキシ基、プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基のような炭素数１〜４個のものが挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、フリル基、チエニル基などが挙げられる。
【００９１】
【化１７】
2010181866.tif 000019
【００９２】
上記式（１Ａ）中、Ｒ６１及びＲ６２は、前記一般式（ＰＡ−６）中のＲ６１及びＲ６２と同義である。
【００９３】
一般式（ＰＡ−６）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９４】
【化１８】
2010181866.tif 000020
【００９５】
【化１９】
2010181866.tif 000021
【００９６】
より好ましいオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記（ｚ６６）〜（ｚ７０）が挙げられる。
【００９７】
【化２０】
2010181866.tif 000022
【００９８】
光酸発生剤として好ましいニトロベンジルスルホネートの一般式としては一般式（ＴＡ−９）で表される化合物を挙げることができる。
【００９９】
【化２１】
2010181866.tif 000023
【０１００】
この式のＺは、炭素数１〜３０のアルキル基、アリール基、アルキルアリール基、炭素数１〜３０のハロゲン置換されたアルキル基、ハロゲン置換されたアリール基、ハロゲン置換されたアルキルアリール基、炭素数６〜３０のニトロ置換されたアリール基、ニトロ置換されたアルキルアリール基、炭素数６〜３０ニトロ置換基とハロゲン置換基を有するアリール基、ニトロ置換基とハロゲン置換基を有するアルキルアリール基、及び、式Ｃ６Ｈ４ＳＯ３ＣＨＲ'Ｃ６Ｈ４−ｍＱｍ(ＮＯ)２を有する基（Ｒ’は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアシル基）からえらばれ、Ｒ９は水素原子、メチル基、及び炭素数６〜３０のニトロ置換されたアリール基から選ばれ、各Ｑは炭素数１〜３０の炭化水素基、ヒドロカルボノキシ基、ＮＯ２、ハロゲン原子及び有機ケイ素基から独立に選ばれ、ｍの値は０、１又は２であり、但しＱは酸性の基ではない。また、Ｒ９は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアシル基を表す。
一般式（ＴＡ−９）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができる。
【０１０１】
【化２２】
2010181866.tif 000024
【０１０２】
（B-2）キノンジアジド感光剤
(B-2)キノンジアジド感光剤としての１，２−キノンジアジド感光剤は、例えば、１，２−キノンジアジドスルホニルクロリド類とヒドロキシ化合物、アミノ化合物などとを脱塩酸剤の存在下で縮合反応させることで得られる。
【０１０３】
前記１，２−キノンジアジドスルホニルクロリド類としては、例えば、ベンゾキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリド、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリド等が使用できるが、感度の点ではナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリドの使用が好ましい。
【０１０４】
前記ヒドロキシ化合物としては、例えば、ヒドロキノン、レゾルシノール、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，３’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン，２，３，４，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、４ｂ，５，９ｂ，１０−テトラヒドロ−１，３，６，８−テトラヒドロキシ−５，１０−ジメチルインデノ［２，１−ａ］インデン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、４,４’-［１-［４-［１-(４-ヒドロキシフェニル)-１-メチルエチル］フェニル］-エチリデン］ビスフェノールなどが使用できる。
【０１０５】
前記アミノ化合物としては、例えば、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、ｏ−アミノフェノール、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、３，３’−ジアミノ４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジアミノ３，３’−ジヒドロキシビフェニル、ビス（３−アミノ４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−アミノ３−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３−アミノ４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−アミノ３−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−アミノ３−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンなどが使用できる。
【０１０６】
１，２−キノンジアジドスルホニルクロリドとヒドロキシ化合物及び／又はアミノ化合物とは、１，２−キノンジアジドスルホニルクロリド１モルに対して、ヒドロキシ基とアミノ基の合計が０．５〜１当量になるように配合されることが好ましい。脱塩酸剤とｏ−キノンジアジドスルホニルクロリドの好ましい割合は、１／１〜１／０．９の範囲である。好ましい反応温度は０〜４０℃、好ましい反応時間は１〜２４時間とされる。
【０１０７】
反応溶媒としては、ジオキサン、１，３−ジオキソラン、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン等の溶媒が用いられる。脱塩酸剤としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられる。
【０１０８】
キノンジアジド感光剤としては、例えば、以下の構造を有する化合物を挙げることができる。
【０１０９】
【化２３】
2010181866.tif 000025
【０１１０】
【化２４】
2010181866.tif 000026
【０１１１】
【化２５】
2010181866.tif 000027
【０１１２】
【化２６】
2010181866.tif 000028
【０１１３】
【化２７】
2010181866.tif 000029
【０１１４】
式中、Ｄは、独立して、Ｈまたは以下の基のいずれかである。
【０１１５】
【化２８】
2010181866.tif 000030
【０１１６】
ただし、各々の化合物において少なくとも１つのＤが、上記のキノンジアジド基であればよい。
【０１１７】
本発明の感光性樹脂組成物において、（Ｂ）感光剤の配合量は、露光部と未露光部の溶解速度差と、感度の許容幅の点から、（Ａ）特定共重合体の総量を１００質量部としたとき、１〜２５質量部が好ましく、５〜２０質量部がより好ましい。
感光剤としては、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができ、また(B-1)光酸発生剤と、(B-2)キノンジアジド感光剤を併用してもよい。
【０１１８】
本発明においては、（Ｂ）感光剤としては、(B-2)キノンジアジド感光剤が好ましく、１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物がさらに好ましい。（Ｂ）感光剤として１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物を用いると高感度で現像性が良好である。
【０１１９】
上記した（Ｂ）感光剤の中で下記の化合物であり、Ｄがそれぞれ独立して水素原子または１，２−ナフトキノンジアジド基であるものが高感度である観点から好ましい。
【０１２０】
【化２９】
2010181866.tif 000031
【０１２１】
（増感剤）
本発明の感光性樹脂組成物において、上記スルホニウム塩との組み合わせにおいて、その分解を促進させるために増感剤を添加することが好ましい。増感剤は、活性光線または放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感剤は、スルホニウムと接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じる。これにより重合開始剤は化学変化を起こして分解し、ラジカル、酸或いは塩基を生成する。
好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ３５０ｎｍから４５０ｎｍ域に吸収波長を有する化合物を挙げることができる。
多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、アントラセン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリリウム類（例えば、スクアリリウム）、クマリン類（例えば、７−ジエチルアミノ４−メチルクマリン）。中でも増感剤として、特にアントラセン誘導体が好ましい。
【０１２２】
好ましい具体例としては、以下に示す（Ｃ−１）〜（Ｃ−２６）が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２３】
【化３０】
2010181866.tif 000032
【０１２４】
【化３１】
2010181866.tif 000033
【０１２５】
【化３２】
2010181866.tif 000034
【０１２６】
【化３３】
2010181866.tif 000035
【０１２７】
上述のような増感剤は、市販のものを用いてもよいし、公知の合成方法により合成してもよい。
【０１２８】
増感剤の添加量は、感光剤１００質量部に対して、２０〜２００質量部が好ましく、３０〜１５０質量部がより好ましい。
【０１２９】
＜（Ｃ）架橋剤＞
本発明では改質剤として（Ｃ）架橋剤を使用することが好ましい。
ここで、（Ｃ）架橋剤とは、酸または熱により特定共重合体と架橋する化合物であり、例えばメチロール基、アルコキシメチル基、アシロキシメチル基から選ばれる少なくとも１つの基で置換されたメラミン系化合物、グアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物、ウレア系化合物、フェノール系化合物もしくはフェノールのエーテル化合物や、エポキシ系化合物、オキセタン系化合物、チオエポキシ系化合物、イソシアネート系化合物、アジド系化合物、またはメタクリロイル基又はアクリロイル基を含む化合物、などを挙げることができるが、膜物性、耐熱性、および溶剤耐性の点でエポキシ系化合物、オキセタン系化合物、メタクリロイル基又はアクリロイル基を含む化合物、メラミン系化合物、グリコールウリル系化合物、及びフェノール系化合物が好ましく使用される。
【０１３０】
＜アルコキシメチル基又はアシロキシメチル基を含有する化合物＞
アルコキシメチル基又はアシロキシメチル基を含有する化合物はリソグラフィー性能を損なうことなく、硬化時のパターンの融解や熱収縮を防止することが知られている。また、低温キュアプロセスに適用した場合には、耐薬品性を改善することが可能であることが知られている。
当該化合物が有するアルコキシメチル基またはアシロキシメチル基は、炭素数２〜５が好ましく、炭素数２または３がさらに好ましい。アルコキシメチル基の場合には特に炭素数２が好ましく、アシロシメチル基の場合には特に炭素数３が好ましい。
当該化合物が有するアルコキシメチル基及びアシロキシメチル基の総数は１〜１０が好ましく、より好ましくは２〜８、特に好ましくは３〜６である。
当該化合物の分子量は好ましくは１５００以下であり、１８０〜１２００がより好ましい。
【０１３１】
アルコキシメチル基又はアシルロシメチル基を含有する化合物としては、アルコキシメチル基又はアシロキシメチル基が、（ＣＬ−１）直接フェノール誘導体に直接結合した化合物、及び(ＣＬ−２)窒素原子に結合した化合物、（ＣＬ−３）トリアジン誘導体（メラミン系）の芳香族炭素原子に結合した化合物を挙げることができる。
（ＣＬ−１）化合物としては、例えば下記一般式の様な化合物を挙げることができる。
【０１３２】
【化３４】
2010181866.tif 000036
【０１３３】
式中、Ｒ８は炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアシル基を表し、Ｒ６は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、または、酸の作用により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基を示す。
Ｒ７は各々独立にアルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を示し、Ｅはｍ２価の連結基を表す。連結基としては、アルキレン基（例えばメチレン、エチレン、プロピレン等）、シクロアルキレン基（シクロへキシレン、シクロペンチレン等）、アリーレン基（１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフチレン等）、エーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、およびこれらに基を組み合わせた２価の基における任意の水素原子をｍ２−２個除いたｍ２価の基が挙げられる。Ｅが１価の場合は、水素原子、上記２価の基に対応する１価の基であるアルキル基、アリール基などが挙げられる。
ｐとしては１，２、ｑは０〜２、ｍ２としては１〜８、好ましくは２〜６である。
【０１３４】
Ｒ６としての酸により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基とは、酸の作用により分解し、水酸基、カルボキシ基のようなアルカリ可溶性基を生じる基であり、例えば、酸の作用により脱離する基、又は−Ｃ(Ｒ４)２−ＣＯＯＲ５（Ｒ４は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ５は酸の作用により脱離する基を表す。）が挙げられる。
酸の作用により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基として、Ｒ６が酸の作用により脱離する基であるとき、酸の作用により、Ｒ６自体が離脱することで、−ＯＨが生じ、またＲ６が−Ｃ(Ｒ４)２−ＣＯＯＲ５であるとき、酸の作用によりＲ５が離脱することで、−ＣＯＯＨが生じる。
酸の作用により脱離する基としては、例えばアセタール基や３級エステル基を挙げることができる。
アセタール基の具体例としては、メトキシメチル基、エトキシエチル基等のアルコキシアルキル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、アルコキシ置換テトラヒドロピラニル基、アルコキシ置換テトラヒドロフラニル基等が挙げられる。
【０１３５】
エステル型基としては具体例としては、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−エチルシクロヘキシル基を挙げることができる。
【０１３６】
（ＣＬ−１）のアルコキシメチル基を有する化合物としては、例えば、具体的に以下の構造を挙げることができる。
なお、アシルロシメチル基を有する化合物は下記化合物のアルコキシメチル基をアシロキシメチル基に変更した化合物を挙げることができる。
アルコキシメチル基又はアシロキシメチルを分子内に有する化合物は、以下の化合物に限定されるものではない。
【０１３７】
【化３５】
2010181866.tif 000037
【０１３８】
【化３６】
2010181866.tif 000038
【０１３９】
【化３７】
2010181866.tif 000039
【０１４０】
（ＣＬ−２）の化合物としては、下記一般式で表される化合物を挙げることができる。
【０１４１】
【化３８】
2010181866.tif 000040
【０１４２】
式中、Ｒ１０３は炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアシル基を表し、Ｒ１０１およびＲ１０２は一価の有機基を表し、Ｒ１０１とＲ１０２がお互い結合して５〜８員の環を形成してもよい。
【０１４３】
（ＣＬ−３）の化合物としては、メラミン系化合物を挙げることができる。メラミン系化合物を具体的に例示すると、ヘキサメチロールメラミン、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンの１〜６個のメチロール基がメトキシメチル化した化合物及びその混合物、ヘキサメトキシエチルメラミン、ヘキサアシロキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンのメチロール基の１〜６個がアシロキシメチル化した化合物又はその混合物が挙げられる。
【０１４４】
アルコキシメチル基及びアシロキシメチル基の少なくとも１つを含有する化合物は、市販のものを用いても、公知の方法により合成したものを用いても良い。
【０１４５】
＜メタクリロイル基又はアクリロイル基を含む化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、膜物性を向上させる目的で、メタクリロイル基又はアクリロイル基を含む化合物を使用してもよい。
メタクリロイル基又はアクリロイル基を含む化合物とは、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルからなる群から選択される化合物である。本化合物添加により膜物性が向上することがわかっている。そのため、アクリロイル基、メタクリロイル基を１分子中に２個以上、更に好ましくは４個以上ある化合物が好ましい。
【０１４６】
好ましい具体例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン、ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号等の各公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号等の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【０１４７】
＜エポキシ系化合物、オキセタン系化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｃ）架橋剤として、エポキシ系化合物、オキセタン系化合物を使用してもよい。
エポキシ系化合物、およびオキセタン系化合物は、エポキシ基又はオキセタニル基を含む化合物であり、一般にエポキシ樹脂、オキセタン樹脂と呼ばれる化合物である。
エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ化合物などである。
【０１４８】
例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、エポトートＹＤ−１１５、ＹＤ−１１８Ｔ、ＹＤ−１２７、ＹＤ−１２８、ＹＤ−１３４、ＹＤ−８１２５、ＹＤ−７０１１Ｒ、ＺＸ−１０５９、ＹＤＦ−８１７０、ＹＤＦ−１７０など（以上東都化成製）、デナコールＥＸ−１１０１、ＥＸ−１１０２、ＥＸ−１１０３など（以上ナガセケムテックス（株）製）、プラクセルＧＬ−６１、ＧＬ−６２、Ｇ１０１、Ｇ１０２（以上ダイセル化学工業（株）製）の他に、これらの類似のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、も挙げることができる。またＥｂｅｃｒｙｌ  ３７００、３７０１、６００（以上ダイセルサイテック（株）製）などのエポキシアクリレートも使用可能である。
【０１４９】
クレゾールノボラック型としては、エポトートＹＤＰＮ−６３８、ＹＤＰＮ−７０１、ＹＤＰＮ−７０２、ＹＤＰＮ−７０３、ＹＤＰＮ−７０４など（以上東都化成製）、デナコールＥＭ−１２５など（以上ナガセケムテックス（株）製）、
ビフェニル型としては３，５，３’，５’−テトラメチル−４，４’ジグリシジルビフェニルなどがあげられる。
【０１５０】
脂環式エポキシ化合物としては、セロキサイド２０２１、２０８１、２０８３、２０８５、エポリードＧＴ−３０１、ＧＴ−３０２、ＧＴ−４０１、ＧＴ−４０３、ＥＨＰＥ−３１５０（以上ダイセル化学製）、サントートＳＴ−３０００、ＳＴ−４０００、ＳＴ−５０８０、ＳＴ−５１００など（以上東都化成製）などを挙げることができる。他にアミン型エポキシ樹脂であるエポトートＹＨ−４３４、ＹＨ−４３４Ｌ、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の骨格中にダイマー酸を変性したグリシジルエステル等も使用できる。
【０１５１】
これらのエポキシ樹脂の中で、好ましくはノボラック型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物が好ましく、エポキシ当量が１８０〜２５０のものが特に好ましい。このような素材としてはエピクロンＮ−６６０、Ｎ−６７０、Ｎ−６８０、Ｎ−６９０、ＹＤＣＮ−７０４Ｌ（以上ＤＩＣ社製）、ＥＨＰＥ３１５０（ダイセル化学製）を挙げることができる。
本発明の（Ｃ）架橋剤としては、２種以上のエポキシ樹脂を含有してもよい。
【０１５２】
オキセタン樹脂として、アロンオキセタンＯＸＴ−１０１、ＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２１１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸＴ−２１２、ＯＸＴ−６１０、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上東亞合成製）を用いることができる。
またオキセタン樹脂は、単独でまたはエポキシ樹脂と混合して使用することができる。特にエポキシ樹脂との併用で用いた場合には反応性が高く、膜物性を向上させる観点から好ましい。
【０１５３】
＜グリコールウリル系化合物およびウレア化合物＞
グリコールウリル系化合物としては、テトラメチロールグリコールウリル、テトラメトキシグリコールウリル、テトラメトキシメチルグリコールウリル、テトラメチロールグリコールウリルのメチロール基の１〜４個がメトキシメチル基化した化合物、又はその混合物、テトラメチロールグリコールウリルのメチロール基の１〜４個がアシロキシメチル化した化合物又はその混合物が挙げられる。ウレア化合物としてはテトラメチロールウレア、テトラメトキシメチルウレア、テトラメチロールウレアの１〜４個のメチロール基がメトキシメチル基化した化合物又はその混合物、テトラメトキシエチルウレアなどが挙げられる。
【０１５４】
これらの架橋剤は２種以上併用して用いることができる。
（Ｃ）架橋剤の感光性樹脂組成物への添加量は（Ａ）特定共重合体の総量を１００質量部としたとき、１〜７０質量部が好ましく、３〜５０質量部がより好ましい。
【０１５５】
（Ｄ）熱ラジカル発生剤
本発明の感光性樹脂組成物には、（Ｄ）熱ラジカル発生剤を含ませてもよい。本発明における熱ラジカル発生剤としては（Ｂ）感光剤とは異なる構造であって、一般にラジカル発生剤として知られているものを用いることができる。熱ラジカル発生剤は、熱のエネルギーによってラジカルを発生し、特定共重合体などの重合性化合物と重合反応を開始、促進させる化合物である。熱ラジカル発生剤を添加することによって、得られた硬化膜がより強靭になり、耐熱性、耐溶剤性が向上する。
【０１５６】
以下、熱ラジカル発生剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。
本発明において、好ましい熱ラジカル発生剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物等が挙げられる。
本発明においては、得られた硬化膜の耐熱性、耐溶剤性の観点から、有機過酸化物、アゾ系化合物、ビベンジル化合物がより好ましく、ビベンジル化合物が特に好ましい。以下に、上記した熱ラジカル発生剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５７】
これらの有機過酸化物の具体例としては、パーロイルＬ、パーオクタＯ、パーロイルＳＡ、パーヘキサ２５Ｏ、パーヘキシルＯ、ナイパーＢＭＴ、ナイパーＢＷ、パーヘキサＭＣ、パーヘキサＴＭＨ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーテトラＡ、パーヘキシルＩ、パーブチルＭＡ、パーブチル３５５、パーブチルＬ、パーブチルＩ、パーブチルＥ、パーヘキシルＺ、パーヘキサ２５Ｚ、パーブチルＡ、パーヘキサ２２、パーブチルＺ、パーヘキサＶ、パーブチルＰ、パークミルＤ、パーヘキシルＤ、パーヘキサ２５Ｂ、パーブチルＣ（以上、日油株式会社製）等が挙げられる。
【０１５８】
また、アゾ系化合物としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビスプロピオニトリル、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミドオキシム）、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等が挙げられる。
【０１５９】
また、次式（１）に示すビベンジル化合物をラジカル発生剤として使用することができる。
【０１６０】
【化３９】
2010181866.tif 000041
【０１６１】
式（１）中のＲ３はそれぞれ独立に水素原子、炭素数が１〜２０の炭化水素基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、またはハロゲン原子のいずれかを表す。）
式（１）に示すビベンジル化合物として具体的には２、３−ジメチル−２、３−ジフェニルブタン、α、α’−ジメトキシ−α、α’−ジフェニルビベンジル、α、α’−ジフェニル−α−メトキシビベンジル、α、α’−ジメトキシ−α、α’ジメチルビベンジル、α、α’−ジメトキシビベンジル、３、４−ジメチル−３、４−ジフェニル−ｎ−ヘキサン、２、２、３、３−テトラフェニルコハク酸ニトリル、ジベンジルなどを挙げることができる。
【０１６２】
上記した（Ｄ）熱ラジカル発生剤として好ましい化合物は１０時間半減期温度が１００℃以上２３０℃以下の範囲の化合物であり、より好ましくは１２０℃以上２２０℃以下の化合物である。１０時間半減期温度がこの温度範囲にあることによって、優れた特性の硬化膜を得ることができる。
熱ラジカル発生剤の１０時間半減期温度とは、特定温度下にて１０時間放置した場合において、特定化合物の半量が分解し、ラジカルを発生する温度のことをいう。
【０１６３】
１０時間半減期温度が１００℃以上２３０℃以下の範囲の化合物としては、上記した化合物のうち、パーブチルＡ、パーヘキサ２２、パーブチルＺ、パーヘキサＶ、パーブチルＰ、パークミルＤ、パーヘキシルＤ、パーヘキサ２５Ｂ、パーブチルＣ、２、３−ジメチル−２、３−ジフェニルブタン（以上、日油株式会社製）などが挙げられ、本発明に用いる熱ラジカル発生剤として好ましいものである。
理由は明らかではないが、より高温で分解しラジカルを発生する熱ラジカル発生剤が好ましく、得られた硬化膜の耐熱性、耐溶剤性が良好である。このような熱ラジカル発生剤として、例えば２，３-ジメチル−２，３−ジフェニルブタン（ノフマーＢＣ−９０、日油（株）製、１０時間半減期温度２１０℃）が挙げられる。
【０１６４】
本発明における（Ｄ）熱ラジカル発生剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用することも可能である。
（Ｄ）熱ラジカル発生剤の感光性樹脂組成物への添加量は、（Ａ）特定共重合体を１００質量部としたとき、０．１〜２００質量部が好ましく、更に好ましくは１〜５０質量部、５〜３０質量部であることが膜物性向上の観点から最も好ましい。
【０１６５】
＜密着促進剤＞
本発明における感光性樹脂組成物には、必要により密着性付与のための有機ケイ素化合物、シランカップリング剤、レベリング剤等の密着促進剤を添加してもよい。
これらの例としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、尿素プロピルトリエトキシシラン、トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム、アセチルアセテートアルミニウムジイソプロピレートなどが挙げられる。感光性樹脂組成物に密着促進剤を用いる場合は、高分子化合物（ａ）１００質量部に対して、０．１〜２０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましい。
【０１６６】
＜溶剤＞
溶剤は本発明の感光性樹脂組成物を溶解できるものであれば特に限定されないが、塗布時に溶剤が必要以上に蒸発して塗布時に感光性樹脂組成物の固形分が析出しないようにするため、１００℃以上の沸点の溶剤が好ましい。
好ましい溶媒には、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３―エトキシプロピオン酸エチル、３―メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシブタノール、シクロヘキサノンを挙げることができる。
また、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）、プロピレンカーボネートなど沸点が高い溶媒を補助的に使用してもよい。
しかしながら、キュア後に膜中に溶剤が残留すると十分な膜物性が得られないために、キュア温度以上の沸点の溶剤（高沸点溶媒）を溶剤中の３０質量％以上含むことは好ましくない。高沸点溶媒の添加量は、３０質量％以下であり、好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下である。
【０１６７】
本発明の感光性樹脂組成物により得られたパターンは、透明性、耐溶剤性、耐熱性、および絶縁性に優れ、特に電子デバイス用に有効である。本発明でいう電子デバイスとは、有機ＥＬ表示装置、および液晶表示装置用の電子デバイスを意味し、本発明の感光性樹脂組成物は、表示装置用の平坦化膜、層間絶縁膜に特に効果を発揮するのである。
【０１６８】
（パターン形成方法）
本発明の感光性樹脂組成物を用いて、パターンを形成する方法としては、（１）本発明の感光性樹脂組成物を適当な基板上にコートし、（２）コートされたこの基板をベーキングし（プリベーク）、（３）活性光線または放射線で露光し、（４）必要に応じ後加熱し、（５）水性現像液で現像し、（６）必要に応じ全面露光し、そして（７）熱硬化（ポストベーク）することにより、硬化されたパターンを形成することができる。
【０１６９】
コートされ、露光された基板を、現像に先立って、必要に応じて高温でベーキングすることもできる。また、現像された基板を、硬化前にリンスしてもよい。現像後、熱硬化（ポストベーク）に先立って、必要に応じて後露光することもできる。
【０１７０】
このように、本発明の感光性樹脂組成物を、加熱硬化後の厚みが所定厚み（例えば０．１〜３０μｍ）になるように、半導体素子上またはガラス基板上に塗布し、プリベーク、露光、現像、加熱硬化して有機ＥＬ表示装置用または液晶表示装置用のパターンを形成できる。
【０１７１】
以下、パターンを形成する方法についてより詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、好適な基板上にコートされる。基板は、例えばシリコンウエハのような半導体基材またはセラミック基材、ガラス、金属またはプラスチックである。半導体装置用にはシリコンウエハを、表示装置用にはガラス基板を用いるのが一般的である。コーティング方法には、スプレーコーティング、スピンコーティング、スリットコーティング、オフセット印刷、ローラーコーティング、スクリーン印刷、押し出しコーティング、メニスカスコーティング、カーテンコーティング、およびディップコーティング等があるが、これらに限られることはない。
【０１７２】
コーティングした後は、残留する溶媒を蒸発させるために、方法に応じて、約７０〜１３０℃の高められた温度で数分から半時間ベーキングされる。次いで、得られた乾燥した感光性樹脂組成物層はマスクを通して好ましいパターンで活性光線または放射線に露光される。活性光線または放射線として、Ｘ線、電子ビーム、紫外線、可視光線などが使用し得る。最も好ましい放射線は波長が４３６ｎｍ（ｇ−ライン）、４０５ｎｍ（ｈ−ライン）および３６５ｎｍ（ｉ−ライン）を有するものである。
【０１７３】
活性光線または放射線によって露光された基板を約７０〜１３０℃の温度に加熱するのが有利である。露光された基板は短時間、一般的には数秒〜数分、この温度範囲で加熱される。本方法のこの段階は普通、露光後ベーキングと技術上称される。
【０１７４】
次いで、該コーティング膜は水性現像液で現像され、そしてパターンが形成される。水性現像液には、無機アルカリ（例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、アンモニア水）、１級アミン（例えば、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン）、２級アミン（例えば、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン）、３級アミン（例えば、トリエチルアミン）、アルコールアミン（例えば、トリエタノールアミン）、４級アンモニウム塩（例えば、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド）、およびこれらの混合物のようなアルカリ溶液がある。最も好ましい現像液はテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドを含有するものである。加えて、現像液に適当な量の界面活性剤が添加されてよい。現像はディップ、スプレー、パドリング、または他の同様な現像方法によって実施されることができる。
【０１７５】
場合によっては、パターンは次いで脱イオン水を使用してすすぎ洗いされる。
【０１７６】
パターンは必要に応じて現像後、全面露光される。全面露光の露光エネルギーは１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーであることが好ましい。全面露光をすることは、表示装置用の感光性樹脂組成物として用いる場合、透明性の向上の観点から好ましい。
【０１７７】
次いで、最終的なパターンを得るため、パターンを熱硬化させる。熱硬化は耐熱性、耐薬品性、膜強度の大きい膜を形成させるために実施される。一般的な感光性ポリイミド前駆体組成物は、約３００〜４００℃の温度で加熱硬化されてきた。一方、本発明の感光性樹脂組成物は、３００℃未満、より具体的には２００℃〜２５０℃で従来の感光性ポリイミド前駆体組成物と同等以上の膜物性を有する膜が得られる。
【実施例】
【０１７８】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
【０１７９】
（合成例）
以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。
ＭＡＡ：メタクリル酸
ＭＭＡ：メチルメタクリレート
ＣＨＭＡ：シクロヘキシルメタクリレート
Ｓｔ：スチレン
ＧＭＡ：グリシジルメタクリレート
ＤＣＭ：ジシクロペンタニルメタクリレート
ＢｚＭＡ：ベンジルメタクリレート
ＢＴＥＡＣ：ベンジルトリエチルアンモニウム
ＡＩＢＮ：アゾビスイソブチロニトリル
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
【０１８０】
＜バインダーＡの合成＞
共重合体を構成するモノマー成分として、ＭＡＡ（１４．６５ｇ）、ＭＭＡ（０．５４ｇ）、ＣＨＭＡ（１７．５５ｇ）を使用し、ラジカル重合開始剤としてＡＩＢＮ（０．５ｇ）を使用し、これらを溶剤ＰＧＭＥＡ（４０．０１ｇ）中において重合反応させることによりバインダーＡの前駆体であるバインダーＡ’溶液を得た。なお、重合温度は、温度６０℃〜１００℃に調整した。
上記バインダーＡ’溶液にＧＭＡ（１２．２６ｇ）、ＢＴＥＡＣ（０．５ｇ）、ＰＧＭＥＡ（１４．９９ｇ）を加えて反応させることによりバインダーＡのＰＧＭＥＡ溶液（Ｍｗ．３１３００、固形分濃度：４５質量％）得た。なお、反応温度を９０℃〜１２０℃に調整した。
【０１８１】
【化４０】
2010181866.tif 000042
【０１８２】
＜バインダーＢの合成＞
共重合体を構成するモノマー成分として、ＭＡＡ（１２．４７ｇ）、Ｓｔ（４．６６ｇ）、ＤＣＭ（１６．２５ｇ）を使用し、ラジカル重合開始剤としてＡＩＢＮ（０．５ｇ）を使用し、これらを溶剤ＰＧＭＥＡ（４０．８１ｇ）中において重合反応させることによりバインダーＢの前駆体であるバインダーＢ’溶液を得た。なお、重合温度は、温度６０℃〜１００℃に調整した。
上記バインダーＢ’溶液にＧＭＡ（１１．６１ｇ）、ＢＴＥＡＣ（０．５ｇ）、ＰＧＭＥＡ（１４．１９ｇ）を加えて反応させることによりバインダーＢのＰＧＭＥＡ溶液（Ｍｗ．３００００、固形分濃度：４５質量％）得た。なお、反応温度を９０〜１２０℃に調整した。
【０１８３】
【化４１】
2010181866.tif 000043
【０１８４】
＜バインダーＣの合成＞
共重合体を構成するモノマー成分として、ＭＡＡ（７．７９ｇ）、ＢｚＭＡ（３７．２１ｇ）を使用し、ラジカル重合開始剤としてＡＩＢＮ（０．５ｇ）を使用し、これらを溶剤ＰＧＭＥＡ（５５．００ｇ）中において重合反応させることによりバインダーＣのＰＧＭＥＡ溶液（Ｍｗ．３００００、固形分濃度：４５質量％）を得た。なお、重合温度は、温度６０℃〜１００℃に調整した。
【０１８５】
【化４２】
2010181866.tif 000044
【０１８６】
＜バインダーＤの合成＞
特開２００５−７０７３５号公報の合成例４に記載の方法にてバインダーＤの合成を行った。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビス（２,４−ジメチルバレロニトリル）８．５部およびジエチレングリコールエチルメチルエーテル２２０部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸２０部、メタクリル酸グリシジル４５部、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルメタクリレート１５部、ポリエチレングリコール（ｎ＝３）モノメタクリレート２０部およびα−メチルスチレンダイマー３部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を４．５時間保持しエポキシ環を有する構造のバインダーＤを含む重合体溶液を得た。
バインダーＤのポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は８，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．９であった。また、ここで得られた重合体溶液の固形分濃度は３１．５質量％であった。
【０１８７】
【化４３】
2010181866.tif 000045
バインダーＤ
【０１８８】
（実施例１）
＜感光性樹脂組成物の作製＞
下記組成を溶解混合し、０．２μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで濾過し、実施例１の感光性樹脂組成物を得た。
・バインダーＡ溶液                      （固形分で１２．７３部相当の量）
・感光剤（東洋合成社製  ＴＡＳ−２００  下記構造）          ４．７８部
・架橋剤（ダイセル化学製  ＥＨＰＥ−３１５０）              ４．７８部
・密着剤（信越化学製  ＫＢＭ−４０３  下記構造）            ０．４０部
・熱ラジカル発生剤（日油製  ノフマーＢＣ−９０  下記構造）  ０．３２部
・溶剤（ＰＧＭＥＡ）                                            ７７部
【０１８９】
（実施例２〜１６、および比較例１〜４）
実施例１の組成中のバインダー（共重合体、表１には固形分の量で表示）、感光剤、および架橋剤の種類と量などを表１のように変更し、それ以外は、実施例１と同様にして実施例２〜１６、および比較例１〜４の感光性樹脂組成物をそれぞれ調製した。
【０１９０】
【表１】
2010181866.tif 000046
【０１９１】
表１において用いた感光剤、架橋剤、密着剤、および熱ラジカル発生剤の構造を下記に示す。
【０１９２】
【化４４】
2010181866.tif 000047
【０１９３】
【化４５】
2010181866.tif 000048
【０１９４】
【化４６】
2010181866.tif 000049
【０１９５】
比較感光剤：４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］―１―メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）の縮合物
【０１９６】
【化４７】
2010181866.tif 000050
【０１９７】
【化４８】
2010181866.tif 000051
【０１９８】
【化４９】
2010181866.tif 000052
【０１９９】
【化５０】
2010181866.tif 000053
【０２００】
＜特性評価＞
このようにして得られた各感光性樹脂組成物を用いて、下記のようにして耐溶剤性、透明性、耐熱性、比誘電率の評価を行った。結果を表２に示した。
【０２０１】
＜耐溶剤性の評価＞
ガラス基板（コーニング１７３７、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上に、スピンナーを用いて、各感光性樹脂組成物を塗布した後、９０℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜にキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で積算照射量が３００ｍＪ／ｃｍ２（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）となるように露光し、このシリコン基板をオーブンにて２２０℃で１時間加熱して硬化膜を得た。得られた硬化膜の膜厚（Ｔ１）を測定した。そして、この硬化膜が形成されたシリコン基板を７０℃に温度制御されたジメチルスルホキシド中に２０分間浸漬させた後、当該硬化膜の膜厚（ｔ１）を測定し、浸漬による膜厚変化率｛｜ｔ１−Ｔ１｜／Ｔ１｝×１００〔％〕を算出した。結果を表２に示す。この値が２％以下のとき、耐溶剤性は良好といえる。
なお、耐溶剤性の評価は塗膜形成工程、プリベーク工程、全面露光（３００ｍＪ／ｃｍ２（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２））工程及びポストベーク工程（２２０℃／１ｈ）のみ行い評価した。
【０２０２】
＜透明性の評価＞
上記の耐溶剤性の評価と同様にしてガラス基板（コーニング１７３７、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上に硬化膜を形成した。この硬化膜を有するガラス基板の光線透過率を分光光度計「１５０−２０型ダブルビーム（（株）日立製作所製）」を用いて４００〜８００ｎｍの範囲の波長で測定した。そのときの最低光線透過率の値を表２に示す。この値が９５％以上のとき、透明性は良好といえる。
【０２０３】
＜耐熱性の評価＞
上記の耐溶剤性の評価と同様にしてガラス基板（コーニング１７３７、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上に硬化膜を形成し、得られた硬化膜の膜厚（Ｔ２）を測定した。次いで、この硬化膜基板をオーブンにて２４０℃で１時間追加ベークした後、当該硬化膜の膜厚（ｔ２）を測定し、追加ベークによる膜厚変化率｛｜ｔ２−Ｔ２｜／Ｔ２｝×１００〔％〕を算出した。結果を表２に示す。この値が２％以下のとき、耐熱性は良好といえる。
【０２０４】
＜比誘電率の評価＞
ベアウエハ（Ｎ型低抵抗）（ＳＵＭＣＯ社製）上に、本発明の感光性樹脂組成物をスピンナーを用いて、塗布した後、９０℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜にキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で積算照射量が３００ｍＪ／ｃｍ２（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）となるように露光し、この基板をオーブンにて２２０℃で１時間焼成することにより、硬化膜を得た。
この硬化膜について、ＣＶｍａｐ９２Ａ（Ｆｏｕｒ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎｓ  Ｉｎｃ．社製）を用い、測定周波数１ＭＨｚで比誘電率を測定した。結果を表２に示す。この値が３．２以下のとき、誘電率は良好といえる。
なお、比誘電率の測定は、塗膜形成工程、プリベーク工程、全面露光（３００ｍＪ／ｃｍ２（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２））工程及びポストベーク工程（２２０℃／１ｈ）のみ行い評価した。
【０２０５】
【表２】
2010181866.tif 000054
【０２０６】
表２から以下のことがわかる。本発明の特定共重合体であるバインダーＡ、およびＢのいずれかと、感光剤と、架橋剤とを用いて調製した感光性樹脂組成物による実施例１〜１６は、いずれも透明性が良好で、耐熱性、および耐溶剤性評価での膜厚変化率が小さく、しかも比誘電率が小さく絶縁性が良好であった。これに対し架橋剤を用いていない比較例１、２および特定共重合体を用いていない比較例３、４は、いずれも透明性が不良で、耐熱性、および耐溶剤性評価での膜厚変化率が大きく、さらに比誘電率が大きく絶縁性が不良であることがわかる。
【０２０７】
次に、本発明の表示装置の作製方法を、有機ＥＬ表示装置の作製方法を例に挙げて説明するが、本発明は前記感光性樹脂組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、液晶表示装置への応用においても様々な構造をとることができる。
【０２０８】
（実施例１７）
ＴＦＴを用いた有機ＥＬ表示装置を以下の方法で作製した（図１参照）。
ガラス基板６上にボトムゲート型のＴＦＴ１を形成し、このＴＦＴ１を覆う状態でＳｉ３Ｎ４から成る絶縁膜３を形成した。次に、この絶縁膜３に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してＴＦＴ１に接続される配線２（高さ１．０μｍ）を絶縁膜３上に形成した。この配線２は、ＴＦＴ１間または、後の工程で形成される有機ＥＬ素子とＴＦＴ１とを接続するためのものである。
【０２０９】
さらに、配線２の形成による凹凸を平坦化するために、配線２による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜３上へ平坦化層４を形成した。絶縁膜３上への平坦化膜４の形成は、以下のように行った。実施例１で作成した感光性樹脂組成物を基板上にスピン塗布し、ホットプレート上でプリベーク（１２０℃×２分）した後、マスク上から高圧水銀灯を用いてｉ線（３６５ｎｍ）を１００ｍＪ／ｃｍ２（照度２０ｍＷ／ｃｍ２）照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、２２０℃で３０分間の加熱処理を行った。該感光性樹脂組成物を塗布する際の塗布性は良好で、露光、現像、焼成の後に得られた硬化膜には、しわやクラックの発生は認められなかった。さらに、配線２の平均段差は５００ｎｍ、作製した平坦化膜の膜厚は２０００ｎｍであった。
【０２１０】
次に、得られた平坦化膜４上に、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を形成した。まず、平坦化膜４上に、ＩＴＯからなる第一電極５を、コンタクトホール７を介して配線２に接続させて形成した。その後、レジストを塗布、プリベークし、所望のパターンのマスクを介して露光し、現像した。このレジストパターンをマスクとして、ITOエッチャント
用いたウエットエッチングによりパターン加工を行った。その後、レジスト剥離液（モノエタノールアミンとＤＭＳＯの混合液）を用いて該レジストパターンを剥離した。こうして得られた第一電極は、有機ＥＬ素子の陽極に相当する。
【０２１１】
次に、第一電極の周縁を覆う形状の絶縁層８を形成した。絶縁層には、実施例１で作成した感光性樹脂組成物を用い、前記と同様の方法で絶縁膜８を形成した。この絶縁層を設けることによって、第一電極とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。
【０２１２】
さらに、真空蒸着装置内で所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設けた。次いで、基板上方の全面にＡｌから成る第二電極を形成した。得られた上記基板を蒸着機から取り出し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止した。
【０２１３】
以上のようにして、各有機ＥＬ素子にこれを駆動するためのＴＦＴ１が接続してなるアクティブマトリックス型の有機ＥＬ表示装置が得られた。駆動回路を介して電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置が作成できた。
【０２１４】
（実施例１８）
特許第３３２１００３号公報の図１に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置において、層間絶縁膜として硬化膜１７を以下のようにして形成し、実施例１８の液晶表示装置を得た。
すなわち、実施例１の感光性樹脂組成物を用い、上記実施例１７における有機ＥＬ表示装置の平坦化膜４の形成方法と同様の方法で、層間絶縁膜として硬化膜１７を形成した。
【０２１５】
得られた液晶表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い液晶表示装置であることが分かった。
【符号の説明】
【０２１６】
１：ＴＦＴ
２：配線
３：絶縁膜
４：平坦化膜
５：第一電極
６：ガラス基板
７：コンタクトホール
８：絶縁膜
１０：液晶表示装置
１２：バックライトユニット
１４，１５：ガラス基板
１６：ＴＦＴ（薄層フィルムトランジスタ）
１７：硬化膜
１８：コンタクトホール
１９：ＩＴＯ透明電極
２０：液晶
２２：カラーフィルタ
【図１】
2010181866.tif 000055
【図２】
2010181866.tif 000056