(57)【要約】【課題】エレクトロクロミック型の調光装置の劣化を、従来よりも効果的に抑制する。【解決手段】調光装置（１）において、シール部材（１４０）は、基板（１７）と基板（１１）との間隔を維持するとともに、電解質層（１４）を封止する。絶縁層（１３）は、基板（１１）の法線方向から見た場合に、透明電極（１２）とシール部材（１４０）との間に位置する部分である第１非突出部分（１３ｎｐ）と、透明電極（１２）と電解質層（１４）との間に位置する第１突出部分（１３ｐ）とを有している。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
エレクトロクロミック型の調光装置であって、
第１基板と、
上記第１基板と対向する第２基板と、
上記第１基板の、上記第２基板側に設けられた第１透明電極と、
上記第２基板の、上記第１基板側に設けられた第２透明電極と、
上記第１透明電極の、上記第２基板側に設けられた第１ナノ粒子層と、
上記第１透明電極と上記第２透明電極との間に設けられた電解質層と、
上記第１基板と上記第２基板との間隔を維持するとともに、上記電解質層を封止するシール部材と、
第１絶縁層と、を備えており、
上記第１絶縁層は、上記第１基板の法線方向から見た場合に、上記第２透明電極と上記シール部材との間に位置する部分と、上記第２透明電極と上記電解質層との間に位置する第１突出部分とを有している、調光装置。
【請求項２】
第２絶縁層をさらに備えており、
上記第２絶縁層は、上記第１基板の法線方向から見た場合に、上記第１透明電極と上記シール部材との間に位置する部分と、上記第１透明電極と上記電解質層との間に位置する第２突出部分とを有している、請求項１に記載の調光装置。
【請求項３】
上記第２絶縁層は、上記第１ナノ粒子層の、上記第２基板側の面の一部のみを覆っている、請求項２に記載の調光装置。
【請求項４】
上記第２突出部分は、上記第１ナノ粒子層と上記電解質層との間に位置している、請求項２または３に記載の調光装置。
【請求項５】
上記第１ナノ粒子層は、上記第２絶縁層の、上記第２基板側を覆う部分を有している、請求項２または３に記載の調光装置。
【請求項６】
上記第２透明電極の、上記第１基板側に位置している第２ナノ粒子層をさらに備えている、請求項１から５のいずれか１項に記載の調光装置。
【請求項７】
上記第２ナノ粒子層は、上記電解質層と上記第２透明電極との間に位置している、請求項６に記載の調光装置。
【請求項８】
上記第１絶縁層は、上記第２ナノ粒子層の、上記第１基板側の面の一部のみを覆っている、請求項６または７に記載の調光装置。
【請求項９】
上記シール部材は、上記第１基板および第２基板の少なくとも１つの側面を覆うように配されている、請求項１から８のいずれか１項に記載の調光装置。
【請求項１０】
上記第１突出部分の、上記シール部材からの突出距離は、１ｍｍ以上かつ５０ｍｍ以下である、請求項１から９のいずれか１項に記載の調光装置。
【請求項１１】
第２絶縁層をさらに備えており、
上記第２絶縁層は、上記第１基板の法線方向において、上記第１透明電極と上記シール部材との間に位置する部分と、上記第１透明電極と上記電解質層との間に位置する第２突出部分とを有しており、
上記第２突出部分の、上記シール部材からの突出距離は、１ｍｍ以上かつ５０ｍｍ以下である、請求項１から１０のいずれか１項に記載の調光装置。
【請求項１２】
エレクトロクロミック型の調光装置の製造方法であって、
上記調光装置において、第１基板と対向する基板を第２基板として、
上記製造方法は、
上記第１基板の、上記第２基板側に第１透明電極を形成する工程と、
上記第２基板の、上記第１基板側に第２透明電極を形成する工程と、
上記第２透明電極の、上記第１基板側の端部に第１絶縁層を形成する工程と、
上記第１透明電極の、上記第２基板側の少なくとも一部に、第１ナノ粒子層を形成する工程と、
上記第１絶縁層の、上記第１基板側の端部にシール部材を形成する工程と、
上記シール部材、上記第１絶縁層、および上記第２透明電極と接する電解質層を形成する工程と、
上記第１透明電極を上記第２透明電極に対向させるように、上記シール部材を介して上記第１基板を上記第２基板に重ね合わせる工程と、を含んでいる製造方法。
【請求項１３】
エレクトロクロミック型の調光装置の製造方法であって、
上記調光装置において、第１基板と対向する基板を第２基板として、
上記製造方法は、
上記第１基板の、上記第２基板側に第１透明電極を形成する工程と、
上記第２基板の、上記第１基板側に第２透明電極を形成する工程と、
上記第２透明電極の、上記第１基板側の端部に第１絶縁層を形成する工程と、
上記第１透明電極の、上記第２基板側の少なくとも一部に、第１ナノ粒子層を形成する工程と、
上記第１絶縁層および上記第２透明電極と接する電解質層を形成する工程と、
上記第１透明電極を上記第２透明電極に対向させるように、上記第１基板を上記第２基板に重ね合わせる工程と、
上記第１基板および第２基板の少なくとも１つの側面を覆い、かつ、上記電解質層を封止するシール部材を形成する工程と、を含んでいる製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
以下の開示は、エレクトロクロミック型の調光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光の透過率を調整する調光装置について、様々な技術が提案されている。一例として、特許文献１には、エレクトロクロミック型の調光装置（調光ガラス）に封入された電解質の漏出を防止するための技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−３４４８７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示の一態様は、エレクトロクロミック型の調光装置の劣化を、従来よりも効果的に抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決するために、本開示の一態様に係る調光装置は、エレクトロクロミック型の調光装置であって、第１基板と、上記第１基板と対向する第２基板と、上記第１基板の、上記第２基板側に設けられた第１透明電極と、上記第２基板の、上記第１基板側に設けられた第２透明電極と、上記第１透明電極の、上記第２基板側に設けられた第１ナノ粒子層と、上記第１透明電極と上記第２透明電極との間に設けられた電解質層と、上記第１基板と上記第２基板との間隔を維持するとともに、上記電解質層を封止するシール部材と、第１絶縁層と、を備えており、上記第１絶縁層は、上記第１基板の法線方向から見た場合に、上記第２透明電極と上記シール部材との間に位置する部分と、上記第２透明電極と上記電解質層との間に位置する第１突出部分とを有している。
【０００６】
また、上記の課題を解決するために、本開示の一態様に係る調光装置の製造方法は、エレクトロクロミック型の調光装置の製造方法であって、上記調光装置において、第１基板と対向する基板を第２基板として、上記製造方法は、上記第１基板の、上記第２基板側に第１透明電極を形成する工程と、上記第２基板の、上記第１基板側に第２透明電極を形成する工程と、上記第２透明電極の、上記第１基板側の端部に第１絶縁層を形成する工程と、上記第１透明電極の、上記第２基板側の少なくとも一部に、第１ナノ粒子層を形成する工程と、上記第１絶縁層の、上記第１基板側の端部にシール部材を形成する工程と、上記シール部材、上記第１絶縁層、および上記第２透明電極と接する電解質層を形成する工程と、上記第１透明電極を上記第２透明電極に対向させるように、上記シール部材を介して上記第１基板を上記第２基板に重ね合わせる工程と、を含んでいる。
【０００７】
また、上記の課題を解決するために、本開示の一態様に係る調光装置の製造方法は、エレクトロクロミック型の調光装置の製造方法であって、上記調光装置において、第１基板と対向する基板を第２基板として、上記製造方法は、上記第１基板の、上記第２基板側に第１透明電極を形成する工程と、上記第２基板の、上記第１基板側に第２透明電極を形成する工程と、上記第２透明電極の、上記第１基板側の端部に第１絶縁層を形成する工程と、上記第１透明電極の、上記第２基板側の少なくとも一部に、第１ナノ粒子層を形成する工程と、上記第１絶縁層および上記第２透明電極と接する電解質層を形成する工程と、上記第１透明電極を上記第２透明電極に対向させるように、上記第１基板を上記第２基板に重ね合わせる工程と、上記第１基板および第２基板の少なくとも１つの側面を覆い、かつ、上記電解質層を封止するシール部材を形成する工程と、を含んでいる。
【発明の効果】
【０００８】
本開示の一態様に係る調光装置によれば、エレクトロクロミック型の調光装置の劣化を、従来よりも効果的に抑制できる。また、本開示の一態様に係る調光装置の製造方法によっても、同様の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施形態１の調光装置の要部の構成を示す断面図である。
【図２】一変形例としての調光装置の要部の構成を示す断面図である。
【図３】実施形態２の一例としての調光装置の構成を示す断面図である。
【図４】実施形態２の別の例としての調光装置の構成を示す断面図である。
【図５】実施形態３の調光装置の要部の構成を示す断面図である。
【図６】実施形態４の調光装置の要部の構成を示す断面図である。
【図７】本開示の一態様に係る調光装置の透過スペクトルの一例を示す図である。
【図８】本開示の一態様に係る調光装置の透過スペクトルの別の例を示す図である。
【図９】本開示の一態様に係る調光装置の透過スペクトルのさらに別の例を示す図である。
【図１０】実施形態６の調光装置の要部の構成を示す断面図である。
【図１１】実施形態７の一例としての調光装置の構成を概略的に示す上面図である。
【図１２】実施形態７の別の例としての調光装置の構成を概略的に示す上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
〔実施形態１〕
実施形態１の調光装置１について、以下に説明する。説明の便宜上、実施形態１にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、以降の各実施形態では、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。公知技術と同様の事項については、説明を適宜省略する。
【００１１】
なお、各図に示されている装置構成は、説明の便宜上のための単なる一例であることに留意されたい。このため、各部材は、必ずしも実際のスケール通りには描画されていない。また、各部材の位置関係も、各図の例に限定されない。また、明細書中において以下に述べる各数値も、単なる一例であることに留意されたい。なお、本明細書では、２つの数ＡおよびＢについての「Ａ〜Ｂ」という記載は、特に明示されない限り、「Ａ以上かつＢ以下」を意味するものとする。
【００１２】
（調光装置１の概要）
図１は、調光装置１の要部の構成を示す断面図である。調光装置１は、調光セル（以下、単に「セル」）とも称される。調光装置１は、例えば、糊剤またはＵＶ硬化樹脂等の接着剤を用いて、窓ガラス等に貼り付けられていてもよい。以下に述べるように、調光装置１は、エレクトロクロミック型調光装置の一例である。
【００１３】
以下の説明では、基板１１（第２基板）から基板１７（第１基板）に向かう方向を、「上方向」と称する。また、上方向とは逆方向（反対の方向）を、「下方向」と称する。特に明示されない限り、各部材についての「第１」および「第２」という文言はそれぞれ、１対の部材のうちの、「上側」および「下側」の部材を指すと理解されてよい。
【００１４】
但し、本明細書において述べる絶縁層に関しては、この命名規則は当てはまらないことに留意されたい。本明細書において、絶縁層１３（第１絶縁層）は、下側に位置する絶縁層である。これに対し、絶縁層１３ａ（第２絶縁層）は、上側に位置する絶縁層である（後述の図２を参照）。
【００１５】
上方向および下方向を総称的に、上下方向とも称する。上下方向は、基板１１・１７のそれぞれの主面の法線方向であるとも表現できる。上下方向は、図１の紙面の縦方向に一致する。また、上下方向を、高さ方向とも称する。これに対し、図１の紙面の横方向を、水平方向とも称する。また、水平方向を、幅方向とも称する。
【００１６】
調光装置１は、図１の紙面の下側から上側に、基板１１、透明電極１２（第２透明電極）、電解質層１４、ナノ粒子層１５（第１ナノ粒子層）、透明電極１６（第１透明電極）、および基板１７を、この順で備える。調光装置１は、絶縁層１３およびシール部材１４０をさらに備える。図１の例では、これらの部材は、水平方向の端部の位置が揃うように位置合わせされている。
【００１７】
一例として、実施形態１では、上側が光取り出し側（つまり、調光装置１による変調後の光が提供されるユーザが位置する側）であるものとして説明する。光取り出し側は、調光装置１を表示装置と見なした場合には、表示側（鑑賞者側）とも表現できる。この場合、基板１７および透明電極１６はそれぞれ、光取り出し側基板（表示側基板）および光取り出し側透明電極（表示側透明電極）と称されてもよい。これに対し、基板１１および透明電極１２はそれぞれ、対向基板および対向透明電極と称されてもよい。
【００１８】
但し、調光装置１は、下側が光取り出し側であるように構成されてもよい。この場合、基板１１および透明電極１２がそれぞれ、光取り出し側基板（表示側基板）および光取り出し側透明電極（表示側透明電極）とも称される。これに対し、基板１７および透明電極１６がそれぞれ、対向基板および対向透明電極とも称される。
【００１９】
上側または下側のいずれを光取り出し側に設定するかについては、セルの設置条件等に基づいて、当該セルの製造者によって適宜決定されてよい。一例として、セルを家屋の窓ガラスに取り付ける場合を考える。下側を光取り出し側として設定した場合には、ナノ粒子層１５を屋外側に位置させることができる。従って、例えば、セルによって赤外線を遮断した場合に、当該セル内の電解質層１４に熱がこもる可能性を低減できる。
【００２０】
図１に示されるように、透明電極１２・１６はそれぞれ、互いに対向する一対の透明電極である。透明電極１２・１６は、電源９０に接続されている。調光装置１は、電源９０をさらに備える。図１の例では、透明電極１６は電源９０の正極（＋極）に、透明電極１２は電源９０の負極（−極）に、それぞれ接続されている。
【００２１】
電源９０によって、透明電極１２・１６間に、所定の電圧が印加される。当該電圧の大きさを調整することにより、調光装置１を通過する光の透過率を変化させる（変調する）ことができる。より厳密には、調光装置１は、電界が印加されることで、自身の光学的特性（特に、光の透過スペクトル）が変更される材料（エレクトロクロミック材料）を含んでいる。
【００２２】
（基板１１・１７）
基板１１・１７は、互いに対向する一対の基板（より具体的には、透明基板）である。基板１１・１７はそれぞれ、透明電極１２・１６を形成するためのベース基板である。基板の材料としては、例えばガラスを用いることができる。あるいは、当該材料としては、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、およびポリイミド等の樹脂を用いることもできる。当該樹脂には、無機物または有機物によって形成されたガスバリア層が設けられてもよい。基板の材料としてガラスを用いる場合には、セル化後にエッチング処理を施すことにより、当該基板を薄型化してもよい。
【００２３】
（透明電極１２・１６）
透明電極１２は、基板１１の上面に設けられている。これに対し、透明電極１６は、基板１７の下面に設けられている。換言すれば、基板１７は、透明電極１６から見て、調光装置１の上下方向における外側（電解質層１４とは反対側）に設けられている。同様に、基板１１は、透明電極１２から見て、調光装置１の上下方向における外側に設けられている。
【００２４】
透明電極１２・１６の材料としては、例えばＩｎＴｉＯ（Titanium doped indium oxide）を用いることができる。ＩｎＴｉＯは、近赤外領域において高い光透過率を有する。あるいは、当該材料としては、（ｉ）アナターゼ型二酸化チタンをシード層としたタンタル置換酸化スズ、および、（ｉｉ）キャリア密度が調製されたＩＴＯ（Tin doped indium oxide）、等を用いることもできる。これらの材料も、近赤外領域において高い光透過率を有する。上記材料の膜（層）を、公知の成膜技術（例：スパッタ法、蒸着法、または塗布法）を用いて、基板表面に製膜（積層）することにより、透明電極を形成できる。なお、上記材料（例：ＩＴＯ）の近赤外線（近赤外光）透過率は、例えばスパッタ温度または処理温度の条件を変更することによって調整可能である。
【００２５】
透明電極が形成された後の基板は、「透明電極付基板」とも称される。従って、透明電極１６が形成された後の基板１７は、第１透明電極付基板とも称される。同様に、透明電極１２が形成された後の基板１１は、第２透明電極付基板とも称される。
【００２６】
（ナノ粒子層１５）
ナノ粒子層１５は、透明電極１６の下面に配置されている。すなわち、ナノ粒子層１５は、透明電極１６から見て、調光装置１の上下方向における内側（電解質層１４と同じ側）に設けられている。ナノ粒子層１５は、透明電極１６を保護する保護層としても機能する。
【００２７】
ナノ粒子層１５についての以下の説明は、後述するナノ粒子層１５ａ（第２ナノ粒子層）にも当てはまる。ナノ粒子層１５は、粒子径２ｎｍ〜数１０ｎｍ程度のナノ粒子を含んでいる。一例として、ナノ粒子の材料としては、金属酸化物が用いられる。当該材料としては、例えばＩＴＯおよびＡＴＯ（Antimony Tin Oxide）を使用できる。あるいは、当該材料として、ＡＺＯ（Aluminum doped Zinc Oxide）、ＧＺＯ（Gallium doped Zinc Oxide）、およびＰＴＯ（リンドープ酸化錫）等を使用することもできる。これらの材料はいずれも、可視光領域において高い光透過率を有する。
【００２８】
ナノ粒子層１５は、エレクトロクロミック現象を起こす。具体的には、透明電極間に電圧が印加された場合には、ナノ粒子層１５に電荷が注入される（または電荷が抽出される）。ナノ粒子層１５は、当該電荷の注入（または電荷の抽出）を契機として、局在プラズモン共鳴（Localized Plasmon Resonance，ＬＰＲ）周波数のシフトを生じさせることにより、自身の透過スペクトルを変化させる。なお、ＬＰＲ周波数のシフトを利用したエレクトロクロミック型調光装置の動作現原理については、例えば、「Chem. Commun., 2014, 50, 10555-10572」または「特表2014-525607号公報」等の文献を参照されたい。
【００２９】
ナノ粒子の分散液は、公知の塗布方法によって透明電極表面に塗布される。その後、当該分散液を焼成することで、透明電極表面にナノ粒子層が形成される。塗布方法としては、例えばスピンコートを用いることができる。また、塗布方法として、バーコート、スリットコート、グラビアコート、またはダイコートが用いられてもよい。あるいは、印刷法を利用した塗布が行われてもよい。例えば、ビヒクルが適度に添加されたペーストに対し、印刷法が適用されてもよい。
【００３０】
焼成温度がナノ結晶表面にある有機成分が除去し焼結が生じる温度以上であれば、セル化後に耐溶剤性が得られる。一方、焼成温度が高すぎ、焼結が過度に進むと、所望の波長におけるＬＰＲが得られない。ＩＴＯ分散液またはＡＴＯ分散液を用いたスピンコートを実施する場合、例えば１５０℃〜３００℃の温度において、当該分散液を３０分間焼成すればよい。
【００３１】
（電解質層１４）
電解質層１４は、透明電極１２・１６間に配置されている。より具体的には、電解質層１４は、透明電極１２とナノ粒子層１５との間に配置されている。電解質層１４は、電源９０による電圧の印加によって生じる電界の強度に、空間的な偏りを生じさせるために設けられている。
【００３２】
電解質層１４は、電解質を含んでいる。当該電解質は、イオン化しやすく、かつ、当該電解質層１４に対して選択的に印加される電圧値の範囲内において酸化還元反応を起こしにくい材料であることが望ましい。
【００３３】
一例として、電解質層１４では、電解液中に電解質が含まれていてよい。この場合、電解質としては、ＬｉＰＦ６、ＮａＰＦ６、ＬｉＢＦ４、ＬｉＴＦＳＩ（Lithium-Bis-Trifluoromethanesulfonyl-Imide）、またはＬｉＣｌＯ４等の材料を用いることができる。これらの材料は、イオン化しやすい材料の一例である。
【００３４】
また、電解液の溶媒としては、（ｉ）ＥＣ（Ethylene carbonate）とＤＥＣ（Diethyl Carbonate）との混合物、または、（ｉｉ）ＥＣとＤＭＣ（Dimethyl Carbonate）との混合物、を用いることができる。あるいは、溶媒としては、上記各材料を単体で用いることもできる。また、溶媒として、その他の材料（例：炭酸プロピレン）を用いてもよい。なお、上記各材料にポリビニルブチラール等を溶解させたゲルを用いてもよい。さらに、例えば、環状４級アンモニウムカチオンとイミドアニオンとからなる、イオン液体を用いてもよい。
【００３５】
なお、電解質層１４の電解質として、固体電解質を用いてもよい。当該固体電解質の例としては、リチウム塩を含むポリエチレンオキサイドを挙げることができる。また、電解質層１４における固体電解質として、柔粘性結晶を用いてもよい。
【００３６】
（電源９０）
電源９０は、公知の直流電源であってよい。電源９０は、調光装置１に着脱可能な公知のバッテリ（１次電池または２次電池）であってよい。一例として、電源９０は、太陽電池から供給された電力を充電可能な２次電池であることが好ましい。
【００３７】
調光装置１の構成を簡素化する場合には、太陽電池自体を電源９０として用いてもよい。この場合、当該太陽電池を調光装置１の端面（例：基板１１の下面の端部）に設けることで、調光装置１に向けて導かれる光の一部を、発電のために利用できる。
【００３８】
（シール部材１４０）
シール部材１４０は、電解質層１４を、透明電極１２とナノ粒子層１５との間の位置に封止する。つまり、シール部材１４０は、電解質層１４に含まれる電解質の漏出を防止する。シール部材１４０は、基板１１・１７を支持する支持部材としても機能する。シール部材１４０は、基板１１・１７の間隔を維持するスペーサとしての役割をも担う。
【００３９】
シール部材１４０は、調光装置１の水平方向の縁部（セル周囲部）に設けられている。図１の例では、シール部材１４０の上面は、ナノ粒子層１５と接している。また、シール部材１４０の下面は、以下に詳述する絶縁層１３の上面と接している。シール部材１４０の幅（水平方向の長さ）は、基板の幅に比べて小さい。
【００４０】
例えば、電解液を滴下して基板１１・１７を貼り合せる場合、シール部材１４０は、ＵＶ硬化性樹脂によって形成されてよい。基板１１・１７を貼り合わせた後、ＵＶ硬化性樹脂を硬化させることで、シール部材１４０を形成できる。なお、シール部材１４０の水平方向における内側（電解質層１４と接する側）には、耐溶剤性を有するシール材がさらに形成されていることが好ましい。また、シール部材１４０の水平方向における外側（電解質層１４と接しない側）には、強い接着性を有するシール材がさらに形成されていることが好ましい。このようにシール部材１４０を形成することで、シール強度が高く、かつ、シール材の染み出しが少ない調光装置１を得ることができる。
【００４１】
なお、基板１１・１７がプラスチック基板である場合は、液晶パネルおよび色素増感型太陽電池等と同様の方法にて、透明電極１２とナノ粒子層１５とを貼り合わせできる。例えば、ＲｔＲ（Role to Role，ロールツーロール）法によって、透明電極１２とナノ粒子層１５とを貼り合せる工程を一連のものとすることができる。その結果、セルの製造コストを低減することが可能となる。また、一連の工程を脱酸素乾燥雰囲気下で実施することにより、調光装置１の製造工程における不純物（例：酸素または水等）の混入をできる。それゆえ、セルの信頼性を高めることもできる。
【００４２】
（スペーサ）
電解液等の低粘度材料を用いる場合には、セル厚を維持するためのスペーサ（図１では不図示）を設けておくことが好ましい。当該スペーサ（例：フォトスペーサ）は、例えば、透明電極１２上に感光性樹脂を塗布した後に、フォトリソグラフィにより形成されてよい。当該スペーサのサイズは、例えば１０μｍ□であり、厚さ（高さ）１０μｍである。
【００４３】
スペーサは、基板１１（対向基板）の側に設けられることが好ましい。仮に、基板１７（ナノ粒子層１５側の基板）にスペーサを設けた場合、当該スペーサの影響によって、ナノ粒子層１５にムラが生じる可能性があるためである。また、スペーサを被覆するナノ粒子層１５の影響により、当該スペーサと透明電極１６（対向透明電極）との間に電気的なリークが生じる可能性もある。また、ナノ粒子層１５上にスペーサを形成しようとした場合、フォトリソグラフィ時の残存物がナノ粒子層１５上に滞留してしまう可能性がある。この場合、電圧の切り替えに伴う透過スペクトルの変化が阻害される恐れがある。
【００４４】
ところで、電解質層１４の材料として固体電解質を用いる場合には、ナノ粒子層１５上に当該固体電解質を塗布し乾燥させる。そして、固体電解質に対向基板を貼り合わせた後に、紫外線露光を行う。この場合、固体電解質は弾性を有するため、スペーサを設ける必要はない。また、電解液に高分子を添加したゲル電解液（ゲル電解質）を用いる場合（実施形態４を参照）にも、スペーサを設ける必要はない。
【００４５】
（絶縁層１３）
絶縁層１３は、透明電極１２の上面に配置されている。従って、絶縁層１３の下面は、透明電極１２の上面と接する。また、絶縁層１３の上面は、シール部材１４０の下面と接する。絶縁層１３は、シール部材１４０と対応するように、セル周囲部に設けられている。絶縁層１３の幅は、基板の幅に比べて小さい。但し、絶縁層１３の幅は、シール部材１４０の幅に比べて大きい。
【００４６】
すなわち、絶縁層１３は、水平方向（調光装置１の幅方向）において、シール部材１４０に比べて、電解質層１４の側に所定の距離だけ突出している。つまり、絶縁層１３は、（ｉ）シール部材１４０と接し、かつ、（ｉｉ）透明電極１２と電解質層１４との間に位置するように、設けられている。このように、絶縁層１３は、シール部材１４０と透明電極１２と電解質層１４との間に介在している。より具体的に表現すれば、絶縁層１３は、上下方向から見た場合に、（ｉ）透明電極１２とシール部材１４０との間に位置する部分（以下、第１非突出部分１３ｎｐ）と、（ｉｉ）透明電極１６と電解質層１４との間に位置する突出部分（以下、第１突出部分１３ｐ）とを有している。
【００４７】
絶縁層１３についての以下の説明は、後述する絶縁層１３ａについても当てはまる。絶縁層１３は、無機絶縁層であってもよいし、有機絶縁層であってもよい。絶縁層１３の体積抵抗率は、好ましくは１０Ｅ６〜１０Ｅ２０Ω・ｃｍ程度であればよく、より好ましくは１０Ｅ１０〜１０Ｅ２０Ω・ｃｍ程度である。「Ｅ」は指数表記を示す記号である。
【００４８】
無機絶縁層の材料としては、ＳｉＯ２およびＳｉＮ等を用いることができる。無機絶縁層の厚さは、１０〜３００ｎｍ程度であってよい。無機絶縁層をパターニングする場合、例えば、フォトレジストを用いて、無機絶縁層を残すべき部分を保護する。そして、エッチング（例：アルゴン等によるドライエッチング、または、フッ酸等によるウェットエッチング）により、無機絶縁層の不要部を除去すればよい。
【００４９】
有機絶縁層の材料としては、ポリイミド、エポキシ樹脂、およびシリコーン樹脂等を使用できる。当該材料を公知の印刷技術（例：インクジェットまたはスクリーン印刷）によりパターンニングすることで、厚さ１００〜３０００ｎｍ程度の有機絶縁層を得ることができる。また、樹脂ブラックマトリックスレジストを用いて、厚さ５００〜２０００ｎｍ程度の有機絶縁層を形成してもよい。
【００５０】
樹脂ブラックマトリックスレジストを用いる場合、マスク露光によりパターニングを行うことにより、セル周囲部に黒色の枠を形成できる。従って、用途によってはセルのデザイン性が向上する。このような場合、少なくともデザイン性を向上させたい面に対応する基板上に、樹脂ブラックマトリックスレジストを設けることが好ましい。
【００５１】
絶縁層１３の幅は、シール部材１４０およびその近傍をカバーできるように設定されていればよい。以下、第１突出部分１３ｐの、シール部材１４０からの突出距離（すなわち、第１突出部分１３ｐの長さ）を、第１突出距離（Ｌｐ）と称する。Ｌｐは、例えば０．５ｍｍ〜５０ｍｍに設定されていてよい。Ｌｐは、セルのサイズに応じて設定されることが好ましい。例えば、１ｍ２程度の大型セルであれば、Ｌｐが５０ｍｍ程度に設定されてもよい。また、３０ｃｍ２程度の小型セルであれば、Ｌｐは２０ｍｍ以下程度に設定されることが好ましい。
【００５２】
絶縁層１３は、上下方向から見た場合に、シール部材１４０と電解質層１４との境界部と少なくとも重なり合うように設けられていればよい。また、絶縁層は、基板の法線方向から見た場合に、シール部材１４０と重なり合う部分に設けられていてもよい。
【００５３】
（効果）
一般に、エレクトロクロミック型の調光装置において、セル周囲部は、セル中央部とは異なる環境にある。例えば、セル周囲部は、電極取り出し部に近いため、セル中央部に比べて高い電圧が印加されやすい。また、セル周囲部は、シール部材が設けられているという点においても、セル中央部とは異なる。例えば、フィルム基板を用いたセルでは、セル厚がシール部材の付近の位置で不安定（不均一）になる傾向にある。
【００５４】
このため、セル周囲部では、透明電極間に繰り返し電圧を印加した場合に、セル中央部に比べて不良が発生しやすい。セル周囲部に不良が発生した場合には、当該不良の影響により、セルの正常部分の動作も阻害されうる。
【００５５】
例えば、不良発生箇所では、望ましくない副反応が生じやすくなるため、当該箇所の電気抵抗が通常時に比べて大きく変化しうる。例えば、当該電気抵抗は、通常時に比べて低下しうる。あるいは、調光装置に使用される材料系次第では、透明電極の電極材料に劣化が生じ（例：電蝕が生じ）、当該電気抵抗が通常時に比べて大きくなる場合もある。このため、透明電極間に適切な設定値の電圧を印加した場合であっても、セルの正常部分に所望の電圧を印加できなくなる。それゆえ、上記設定値に対応した所望の調光動作を実行できなくなる。
【００５６】
上記の問題点を踏まえ、本願の発明者らは、「セル周囲部に、絶縁層１３（例：第１絶縁層）をさらに設ける」という構成を新たに着想した。調光装置１では、従来の調光装置とは異なり、第１突出部分１３ｐを有する絶縁層１３を設けることよって、セル周囲部における電圧降下量を十分に大きくすることができる。
【００５７】
すなわち、調光装置１では、従来の調光装置に比べ、セル周囲部の電解質層１４に印加される電圧の値を小さくできる。その結果、調光装置の劣化を、従来よりも効果的に抑制できる。より具体的には、従来の調光装置に比べ、セル周囲部における不良の発生を効果的に抑制できる。例えば、望ましくない副反応の発生を効果的に抑制できる。また、電蝕反応を生じさせうる高い電圧がセル周囲部に印加されることを防止することもできる。
【００５８】
さらに、絶縁層１３によれば、透明電極１２に回り込む電界を抑制することもできる。この点からも、当該透明電極１２において望ましくない副反応が生じる可能性を効果的に抑制できる。
【００５９】
また、調光装置１では、絶縁層１３の幅を、シール部材１４０の幅に完全に一致させる必要がない。従って、絶縁層１３をシール部材１４０に対して、精密に位置合わせする必要はない。また、ナノ粒子層１５についても、精密な位置合わせは不要である。従って、調光装置１の構成は、比較的低いコストによってセルを製造可能であるという点においても、有益である。
【００６０】
（調光装置１の製造方法の一例）
調光装置１の製造方法の一例を概略的に説明すると、以下の通りである。まず、１つのガラス基板（例：基板１１）に対し、透明電極（例：透明電極１２）の材料としてのＩｎＴｉＯをスパッタ法により堆積させ、１つの透明電極付基板（例：第２透明電極付基板）を得た。
【００６１】
この１つの透明電極付基板上のセル周囲部に該当する部分に、ポリイミド溶液をインクジェット法によって塗布した。ポリイミド溶液を乾燥させ、厚さ５００ｎｍの絶縁層（例：絶縁層１３）を形成した。
【００６２】
続いて、粒径約１０ｎｍのＩＴＯナノ粒子のトルエン分散液をスピンコート塗布した。そして、ホットプレート上において当該トルエン分散液を１４０℃で１分乾燥させた後に、２００℃で６０分の焼成を行った。このようにして、ナノ粒子層（例：ナノ粒子層１５）を形成した。
【００６３】
続いて、厚さ１０μｍのスペーサ樹脂を２ｗｔ％混合したＵＶ硬化型樹脂を、第２透明電極付基板の動作部周辺に部分的に注入口を設けた状態において塗布した。そして、塗布後のＵＶ硬化型樹脂（例：シール部材１４０）にもう一方の基板（例：基板１７）を重ね合わせた。そして、紫外線を照射し、空セルを得た。続いて、上記注入口より１Ｍ  ＬｉＢＦ４の溶液（ＥＣ：ＤＥＣ＝１：２の溶液）を注入した。そして、当該溶液を、ＵＶ硬化型樹脂によって封止した。このように、電解質層（例：電解質層１４）を形成した。
【００６４】
セルを上記の例のように製造した場合、シール部材と電解液とが直接的に接する部分が存在する。セルにおいて、このシール部材による異常を示す可能性がある部分（セル周囲部）には、絶縁層が存在している。従って、このセルに電圧を印加した場合、セル厚方向に絶縁層が存在する部分の電解液（ＩＴＯナノ粒子層も同様）には、セルに本来印加された電圧よりも低い電圧しか印加されない。このため、劣化が起こりやすいセル周囲部において、不要な反応（望ましくない副反応）の発生を防止できるので、セルの信頼性を向上させることができる。
【００６５】
なお、本開示の一態様に係る調光装置の製造方法の一例は、以下のようにも表現できる。当該製造方法は、
上記第１基板の、上記第２基板側（第１基板の下面）に第１透明電極を形成する工程（第１透明電極形成工程）と、
上記第２基板の、上記第１基板側（第２基板の上面）に第２透明電極を形成する工程（第２透明電極形成工程）と、
上記第２透明電極の、上記第１基板側（第２透明電極の上面）の端部に第１絶縁層を形成する工程（第１絶縁層形成工程）と、
上記第１透明電極の、上記第２基板側（第１透明電極の下面）の少なくとも一部に、第１ナノ粒子層を形成する工程（第１ナノ粒子層形成工程）と、
上記第１絶縁層の、上記第１基板側（絶縁層の上面）の端部にシール部材を形成する工程（シール部材形成工程）と、
上記シール部材、上記第１絶縁層、および上記第２透明電極と接する電解質層を形成する工程（電解質層形成工程）と、
上記第１透明電極を上記第２透明電極に対向させるように、上記シール部材を介して上記第１基板を上記第２基板に重ね合わせる工程（基板重ね合わせ工程）と、を含んでいる。
【００６６】
当該製造方法によれば、調光装置１を製造できる。また、後述の調光装置１ａ〜１ｄを製造することもできる。なお、上述の各工程の順序は、必ずしも各工程の記載順に限定されない。例えば、電解質層形成工程と基板重ね合わせ工程との順序は、特に限定されない。一例として、上記製造方法では、ＯＤＦ（Open Drop Fill）法を採用することも可能である。この場合、基板重ね合わせ工程は、電解質層形成工程の後に実行される。これに対し、実施形態１の例に示す通り、基板重ね合わせ工程の後に、電解質層形成工程が実行されてもよい。
【００６７】
（補足）
Ｌｐは、１ｍｍ〜５０ｍｍに設定されることが好ましい。この理由について、以下に説明する。なお、後述する絶縁層１３ａの、シール部材１４０からの突出距離（すなわち、後述する第２突出部分１３ａｐの長さ）を、第２突出距離（Ｌａｐ）とも称する。以下は、Ｌｐに関する説明であるが、Ｌａｐについても同様に当てはまる。
【００６８】
セルに不良が発生した場合には、セル端部から約１ｍｍ以内の範囲において、顕著な着色が、ユーザによって視認されうる。ユーザの視認性を維持するためには、このような顕著な着色の発生を防止することが特に好ましい。この点を踏まえ、Ｌｐの下限値は、１ｍｍに設定されている。
【００６９】
また、セルに不良が発生した場合、上記範囲を除いた領域においても、薄い着色がユーザによって視認されうる。このような薄い着色の発生を防止するためには、Ｌｐをある程度大きくする必要がある。但し、Ｌｐを大きくし過ぎると、セルの動作領域が狭くなってしまう（セルの不動作領域が広くなってしまう）。例えば、１ｍ２程度の大型のセルであっても、Ｌｐが５０ｍｍを越えた場合には、セルの不動作領域が無視できない程度に広くなってしまう。すなわち、Ｌｐを大きくし過ぎた場合にも、ユーザの視認性が低下しうる。この点を踏まえ、Ｌｐの上限値は、５０ｍｍに設定されている。
【００７０】
〔変形例〕
図２は、調光装置１の一変形例としての調光装置１ａの要部の構成を示す断面図である。調光装置１ａは、調光装置１の絶縁層１３に替えて、絶縁層１３ａを有している。絶縁層１３ａは、調光装置の上下方向における配置位置が、絶縁層１３とは異なる。
【００７１】
具体的には、絶縁層１３ａは、絶縁層１３とは異なり、透明電極１６の下面に配置されている。このように、絶縁層１３ａの上面は、透明電極１２の下面と接する。図２の例では、絶縁層１３ａは、ナノ粒子層１５と同じレイヤ上に設けられている。つまり、図２の例では、図１のナノ粒子層１５の両端部が、絶縁層１３ａに置き換えられている。このように、絶縁層１３ａは、ナノ粒子層１５の一部に接するように設けられている。
【００７２】
調光装置１ａでは、ナノ粒子層１５は、絶縁層１３ａの下面を覆う部分（以下、第２絶縁層下面被覆部）を有している。絶縁層１３ａも、絶縁層１３と同様に、水平方向において、シール部材１４０に比べて、電解質層１４の側に所定の距離だけ突出している。つまり、絶縁層１３ａは、透明電極１６と電解質層１４との間に位置するように、設けられている。なお、図２の構成では、絶縁層１３ａは、ナノ粒子層１５の第２絶縁層下面被覆部を介して、シール部材１４０と間接的に接している。
【００７３】
このように、絶縁層１３ａは、シール部材１４０と透明電極１６と電解質層１４との間に介在している。具体的に表現すれば、絶縁層１３ａは、上下方向から見た場合に、（ｉ）透明電極１６とシール部材１４０との間に位置する部分（以下、第２非突出部分１３ａｎｐ）と、（ｉｉ）透明電極１６と電解質層１４との間に位置する突出部分（以下、第２突出部分１３ａｐ）とを有している。
【００７４】
調光装置１ａでは、絶縁層１３ａは、ナノ粒子層１５の第２絶縁層下面被覆部と透明電極１６との間に位置している。このように絶縁層１３ａを配置することにより、当該絶縁層１３ａの剥離を効果的に防止できる。透明電極１６は、ナノ粒子層１５より硬いためである。すなわち、透明電極１６は、ナノ粒子層１５に比べ、絶縁層１３ａの剥離を生じさせくいので、絶縁層１３ａの下地層としてより好適であるためである。
【００７５】
調光装置１ａによっても、調光装置１と同様の効果を奏する。このように、絶縁層の位置は、図１の例に限定されない。なお、絶縁層１３ａによれば、透明電極１６に回り込む電界を抑制できる。調光装置１ａは、透明電極１６において望ましくない副反応が生じる可能性を抑制するために好適と言える。
【００７６】
但し、調光装置１の構成は、調光装置１ａの構成に比べてより好ましいと言える。その理由は、以下の通りである。一般に、基板１７の側（上側）には、基板１１の側（下側）に比べて、透過スペクトルの変調に関与する層が多く形成される。当該構成では、望まない副反応は、基板１７の側よりも基板１１の側において、発生する可能性が高いと考えられる。従って、基板１１の近くに絶縁層（例：絶縁層１３）を設けることにより、基板１７の近くに絶縁層（例：絶縁層１３ａ）を設けた場合に比べ、調光装置の劣化をさらに効果的に抑制できる。
【００７７】
〔実施形態２〕
実施形態２では、調光装置の構成について、２つのバリエーションを説明する。以下、図３の例を、実施形態２における第１の例と称する。これに対し、図４の例を、実施形態２における第２の例と称する。図３および図４のそれぞれの調光装置を、調光装置１ｂおよび調光装置１ｃと称する。
【００７８】
（実施形態２における第１の例）
図３は、調光装置１ｂの要部の構成を示す断面図である。調光装置１ｂでは、調光装置１の構成（図１の構成）と調光装置１ａの構成（図２の構成）とが組み合わせられている。すなわち、調光装置１ｂは、絶縁層１３および絶縁層１３ａの２種類の絶縁層を有する。また、調光装置１ｂにおけるナノ粒子層１５は、調光装置１ａの例と同様に、第２絶縁層下面被覆部を有している。
【００７９】
調光装置１ｂでは、（ｉ）絶縁層１３によって透明電極１２に回り込む電界を抑制しつつ、（ｉｉ）絶縁層１３ａによって透明電極１６に回り込む電界をさらに抑制できる。それゆえ、セルの劣化をさらに効果的に抑制できる。また、透明電極１２・１６間の間の短絡（ショート）をより確実に防止することもできる。
【００８０】
（実施形態２における第２の例）
図４は、調光装置１ｃの要部の構成を示す断面図である。調光装置１ｃにおけるナノ粒子層１５は、調光装置１ｂの例とは異なり、第２絶縁層下面被覆部を有していない。調光装置１ｃにおけるナノ粒子層１５は、調光装置１の例と同様である。すなわち、調光装置１ｃでは、調光装置１ｂとは異なり、絶縁層１３ａの下面が、シール部材１４０の上面と接している。このように、調光装置１ｃでは、絶縁層１３ａは、ナノ粒子層１５の下面の一部のみを覆っている。調光装置１ｃの機能を維持するためには、絶縁層１３ａによって、ナノ粒子層１５の下面の全体を塞がないことが必要であるためである。
【００８１】
ところで、ナノ粒子層１５は非絶縁性の材料であるため、シール部材１４０の付近における電解液には、電界が発生しうる。但し、調光装置１ｃでは、第２突出部分１３ａｐは、ナノ粒子層１５と電解質層１４との間に位置している。このように第２突出部分１３ａｐを設けることにより、上記電界を抑制できる。それゆえ、セルの劣化をより効果的に防止できる。
【００８２】
〔実施形態３〕
図５は、実施形態３の調光装置１ｄの要部の構成を示す断面図である。調光装置１ｄは、調光装置１ｃに対し、ナノ粒子層１５ａ（第２ナノ粒子層）をさらに付加した構成である。ナノ粒子層１５ａは、透明電極１２の上面を覆うように設けられている。すなわち、ナノ粒子層１５ａの下面は、透明電極１２の上面と接する。
【００８３】
調光装置１ｄによれば、（ｉ）ナノ粒子層１５（第１ナノ粒子層）によって透明電極１６を保護するとともに、（ｉｉ）ナノ粒子層１５ａによって透明電極１２をさらに保護できる。それゆえ、各透明電極をより確実に保護できるので、セルの劣化をより効果的に抑制できる。
【００８４】
具体的には、ナノ粒子層１５は、電解質層１４と透明電極１６との間に位置している。また、ナノ粒子層１５ａは、電解質層１４と透明電極１２との間に位置している。当該校によれば、ナノ粒子層１５・１５ａによって、透明電極１６・１２が、電解液に曝されることを保護できる。
【００８５】
調光装置１ｄでは、絶縁層１３の下面は、ナノ粒子層１５ａの上面と接する。このように、調光装置１ｄでは、絶縁層１３は、ナノ粒子層１５ａの上面の一部のみを覆っている。調光装置１ｄの機能を維持するためには、絶縁層１３によって、ナノ粒子層１５ａの上面の全体を塞がないことが必要であるためである。
【００８６】
図５の例では、絶縁層１３は、ナノ粒子層１５ａと電解質層１４との間に位置している。但し、絶縁層１３の位置は、上記の例に限定されない。例えば、絶縁層１３の位置は、ナノ粒子層１５ａと透明電極１２との間に配置されてもよい。つまり、絶縁層１３は、ナノ粒子層１５ａを介して、シール部材１４０と間接的に接するように配置されてもよい。
【００８７】
実施形態２の説明と同様に、ナノ粒子層１５ａは非絶縁性の材料であるため、シール部材１４０の付近における電解液には、電界が発生しうる。そこで、調光装置１ｄでは、第１突出部分１３ｐは、ナノ粒子層１５ａと電解質層１４との間に位置している。このように第１突出部分１３ｐを設けることにより、上記電界を抑制できるので、セルの劣化をより効果的に防止できる。
【００８８】
〔実施形態４〕
図６は、実施形態４の調光装置１ｅの要部の構成を示す断面図である。調光装置１ｅは、調光装置１〜１ｄとは異なる製造方法によって製造される。調光装置１ｅは、調光装置１ｃのシール部材１４０が、シール部材１４０ａに置き換えられた構成である。なお、図６では、電源９０の図示が省略されている。また、調光装置１ｅの電解質層を、電解質層１４ａと称する。電解質層１４ａは、ゲル電解質によって構成されている。
【００８９】
シール部材１４０ａは、シール部材１４０とは異なり、セルの片方の端部のみに設けられている。シール部材１４０ａは、当該端部において、セル側面全体を覆う（封止する）ように設けられている。図６の例では、セルの各部は、シール部材１４０ａが存在する側において湾曲している。但し、２つのシール部材１４０ａを設け、セルの両側面を覆ってもよい。シール部材１４０ａは、セルの少なくとも１つの側面を覆う（より具体的には、基板１１・基板１７の少なくとも１つの側面を覆う）ように設けられていればよい。
【００９０】
調光装置１ｅでは、調光装置１とは異なり、絶縁層１３・１３ａが、シール部材１４０ａが存在する側のセル端部にのみ設けられている。なお、シール部材１４０ａも、シール部材１４０と同様に、基板１１・１７の間隔を維持する役割を担う。好ましくは、シール部材１４０ａも、シール部材１４０と同様に、基板１１・１７を支持する。
【００９１】
（調光装置１ｅの製造方法の一例）
調光装置１ｅの製造方法の一例を概略的に説明すると、以下の通りである。まず、厚さ１２５μｍのＰＥＴ基板（例：基板１７）ＩＴＯ透明電極（例：透明電極１６）をスパッタし、１つの透明電極付基板（例：第１透明電極付基板）を作成した。同様にして、もう１つの透明電極付基板（例：第２透明電極付基板）を作成した。そして、実施形態１と同様に、絶縁層１３・１３ａを形成した。
【００９２】
そして、一方の透明電極付基板（例：第１透明電極付基板）上に、帯電防止膜形成用のＡＴＯナノ粒子（粒径約８〜３０ｎｍ）分散液（分散媒：メチルイソブチルケトン/イソブタノール混合）（大日本塗料株式会社製）をスピンコート塗布した。そして、ホットプレート上で９０℃において１分間乾燥後に、上記分散液に対し１８０℃によって６０分の焼成を行った。このようにして、ナノ粒子層（例：ナノ粒子層１５）を形成した。
【００９３】
続いて、厚さ１０μｍのスペーサ樹脂（０．２ｗｔ％）とポリビニルブチラール（１５ｗｔ％）とを混合したゲル電解質を準備した。当該ゲル電解質は、１Ｍ  ＬｉＢＦ４の溶液（ＥＣ：ＤＥＣ＝１：２の溶液）である。そして、当該ゲル電解質を２つの透明電極付基板間に挟み、両基板を押し広げた。このように、電解質層１４ａを形成した。
【００９４】
続いて、ＵＶ硬化型樹脂を、ゲル電解質が解放されている部分を塞ぐように配置した。そして、ＵＶ硬化型樹脂に紫外線を照射し、シール部材１４０ａを得た。このようにして、セル（調光装置１ｅ）が得られた。図６に示されるように、シール部材１４０ａの付近では、例えばＵＶ硬化収縮により、セル厚が不安定になる。また、シール部材１４０ａとゲル電解質とが直接的に接する部分が存在する。
【００９５】
調光装置１ｅにおいても、セル周囲部（セル厚不良またはシール部材に起因する異常が生じる可能性がある部分）には、絶縁層が存在している。従って、このセルに電圧を印加した場合、セル厚方向に絶縁層が存在する部分の電解液（ナノ粒子層も同様）には、セルに本来印加された電圧よりも低い電圧しか印加されない。このため、実施形態１と同様に、セル周囲部において、不要な反応（望ましくない副反応）の発生を防止できるので、セルの信頼性を向上させることができる。
【００９６】
なお、本開示の一態様に係る調光装置の製造方法の一例は、以下のようにも表現できる。当該製造方法は、
上記第１基板の、上記第２基板側（第１基板の下面）に第１透明電極を形成する工程（第１透明電極形成工程）と、
上記第２基板の、上記第１基板側（第２基板の上面）に第２透明電極を形成する工程（第２透明電極形成工程）と、
上記第２透明電極の、上記第１基板側（第２透明電極の上面）の端部に第１絶縁層を形成する工程（第１絶縁層形成工程）と、
上記第１透明電極の、上記第２基板側（第１透明電極の下面）の少なくとも一部に、第１ナノ粒子層を形成する工程（第１ナノ粒子層形成工程）と、
上記第１絶縁層および上記第２透明電極と接する電解質層を形成する工程（電解質層形成工程）と、
上記第１透明電極を上記第２透明電極に対向させるように、上記第１基板を上記第２基板に重ね合わせる工程（基板重ね合わせ工程）と、
上記第１基板および第２基板の少なくとも１つの側面を覆い、かつ、上記電解質層を封止するシール部材を形成する工程（シール部材形成工程）と、を含んでいる製造方法。
【００９７】
当該製造方法によれば、調光装置１ｅを製造できる。なお、上述の各工程の順序についても、必ずしも各工程の記載順に限定されない。但し、シール部材形成工程は、基板重ね合わせ工程の後に実行されることが好ましい。当該順序によれば、基板重ね合わせ工程（例：ＲｔＲ）の後に、セルのサイズを調整する工程（例：セルの一部を裁断する工程）を設けることができる。そして、サイズ調整後のセル（裁断後のセル）に対し、シール部材による封止を行うことができる。但し、実施形態４の例の通り、シール部材形成工程の後に、基板重ね合わせ工程が実行されてもよい。
【００９８】
〔実施形態５〕
図７〜図９はそれぞれ、本開示の一態様に係る調光装置における光の透過スペクトルの一例を示すグラフである。各グラフにおいて、横軸は光の波長λ（単位：ｎｍ）を示し、縦軸は光の透過率Ｔ（単位：％）を示す。以下の各例では、透明電極１２（第１透明電極）の電圧が０Ｖに固定されている。これに対し、透明電極１６（第２透明電極）の電圧（以下、設定電圧）が所定の値に設定されている。
【００９９】
図７の例では、ナノ粒子として、粒径約１０ｎｍのＩＴＯナノ粒子が用いられている（実施形態１と同様）。図７では、「設定電圧＋３Ｖ」、および、「設定電圧−３Ｖ」の場合のグラフがそれぞれ示されている。図７の例では、可視光領域（例：３８０ｎｍ〜８００ｎｍ程度の波長範囲）における透過スペクトルは、両者の設定電圧においてほぼ同様となることが確認された。これに対し、近赤外領域（例：８００ｎｍ〜２５００ｎｍ程度の波長範囲）では、設定電圧−３Ｖの場合には、設定電圧＋３Ｖの場合に比べ、Ｔが有意に小さくなることが確認された。
【０１００】
図８の例では、ナノ粒子として、粒径約８〜３０ｎｍのＡＴＯナノ粒子（大日本塗料株式会社製）が用いられている（実施形態４と同様）。図８においても、図７と同様に、２通りの設定電圧に対するグラフがそれぞれ示されている。図８の例では、可視光領域および近赤外領域のほぼ全ての波長領域において、設定電圧−３Ｖの場合には、設定電圧＋３Ｖの場合に比べ、Ｔが有意に小さくなることが確認された。
【０１０１】
図９の例では、ナノ粒子として、日揮触媒化成株式会社製のＥＬＣＯＭ（登録商標）ＡＴＯが用いられている。図９では、図７・図８とは異なり、「設定電圧０Ｖ」の場合のグラフがさらに示されている。図８の例では、設定電圧０Ｖの場合と設定電圧−３Ｖの場合とでは、ほぼ同様の透過スペクトルが得られることが確認された。また、設定電圧＋３Ｖの場合には、設定電圧−３Ｖ（または設定電圧０Ｖ）の場合に比べ、Ｔが有意に大きくなることが確認された。
【０１０２】
以上のように、ナノ粒子の材料を変更することで、透過スペクトル特性を変化させることができる。また、同じナノ粒子材料を使用した場合にも、設定電圧を変更することで、透過スペクトル特性を変化させることができる。従って、調光装置の製造者は、セルのユースケースに応じた所望の透過スペクトルを実現できるように、設定電圧およびナノ粒子を選択すればよい。
【０１０３】
なお、図９の例では、設定電圧０Ｖの場合と設定電圧−３Ｖの場合とでは、透過スペクトル特性がほぼ同一であった。このような場合、例えば、設定電圧としては、＋３Ｖおよび０Ｖの２通りが使用されてもよい。これにより、設定電圧の極性を変更することなく（設定電圧の大きさのみを変更することで）、透過スペクトル特性を切り替えることができる。それゆえ、電源９０およびその周囲の構成を簡単化できる。
【０１０４】
（近赤外線透過率の制御について）
太陽からの赤外線の大部分は近赤外線である。このため、日射熱取得率を制御することは、セルを用いて近赤外線透過率を制御することとほぼ同義である。また、冬期においては、室温低下防止のために、赤外線が室内から屋外へと漏出することを防ぐ必要がある。但し、この場合の赤外線の波長は１０μｍ程度であり、当該赤外線は遠赤外線に分類される。
【０１０５】
ここで、セルの透明電極は、近赤外線透過率が高く、かつ、遠赤外線反射率が高いという特性を有する。このため、冬期により多くの近赤外線を室内へと取り込むようにセルの光透過率を調整した場合であっても、室内の熱は輻射熱の形態としては室内からほぼ漏出しない。このため、室温低下防止のために好ましい状態を実現できる。
【０１０６】
同様に、夏期において、室温増加防止のために、近赤外線が室内に入り込む量を低減させるようにセルの光透過率を調整した場合にも、遠赤外線は室内にほぼ入り込まない。このため、室温増加防止のために好ましい状態を実現できる。
【０１０７】
（窓への設置例について）
セルが中央部に配置されたトリプルガラス構成の窓においては、固体（例：ガラス）と気体（例：空気）との界面が複数個（例：少なくとも６つ）形成される。これらの界面においては、界面反射が生じるため、可視光領域の波長を含む光の透過率が低くなる。
【０１０８】
このため、これらの界面の少なくとも一部には、反射防止膜を形成することが好ましい。例えば、セルの両表面に、反射防止膜を形成することが好ましい。反射防止膜としては、例えば、ＡＲ（Anti-Reflective）フィルム、ＬＲ（Low Reflective）フィルム、またはモスアイ（登録商標）フィルムを用いることができる。
【０１０９】
〔実施形態６〕
図１０は、実施形態６の調光装置１ｆの要部の構成を示す断面図である。調光装置１ｆは、例えば車窓（車両の窓）に設けられるセルの一例である。車窓にセルを設けた場合、当該セルには比較的大きい温度変化と振動とが与えられる。調光装置１ｆは、このような使用条件におけるセル厚の柔軟性を考慮して構成されている。
【０１１０】
図１０に示されるように、調光装置１ｆでは、基板１１の側にスペーサ１５０が設けられている。一例として、スペーサ１５０の高さは、１０μｍである。つまり、スペーサ１５０は、セル厚を１０μｍに設定するために設けられている。
【０１１１】
但し、セルの温度低下が生じた場合には、電解液に負圧が生じる。この状態において、電圧または振動が印加されると、溶媒の気化により気泡が発生する恐れがある。ゲル電解質または固体電解質を用いた場合にも、基板（透明電極またはナノ粒子層）と電解質との界面に気泡が発生する恐れがある。
【０１１２】
この現象を回避するためには、電解質層の体積変化に合わせてセル厚を変化可能とするように、基板は柔軟性を有することが好ましい。一例として、フィルム基板を基板として用いることにより、柔軟性を有する基板を実現できる。図１０の例では、基板１１・１７はフィルム基板である。
【０１１３】
フィルム基板の厚さは、好ましくは１８０μｍ以下であり、さらに好ましくは１２５μｍ以下である。また、フィルム基板の破損を防止する観点からは、フィルム基板の厚さは、３０μｍ以上であることが好ましい。以上の点を踏まえ、図１０の例では、基板１７は、図１の例に比べて十分に厚く図示されている。
【０１１４】
さらに、調光装置１ｆでは、水平方向において対向する２つのシール部材１４０間の距離は、２ｃｍ以上であることが好ましい。ゲル電解質または固体電解質を用いる場合には、スペーサ１５０を設けないことが好ましい。このような場合にスペーサ１５０を設けると、電解質層１４とスペーサ１５０との体積収縮率の違いから、電解質層１４とスペーサ１５０との界面に気泡が発生する恐れがあるためである。また、ゲル電解質または固体電解質に割れが生じる可能性も懸念される。
【０１１５】
セルにスペーサ１５０を設ける場合には、上記体積収縮を考慮し、スペーサ１５０の厚さは、仕上がりのセル厚よりも２％以上小さく設定されることが好ましい。その結果、図１０に示されるように、スペーサ１５０とナノ粒子層１５との間には、高さ方向の隙間１６０が形成される。当該隙間１６０を設けることにより、セル厚の柔軟性を実現できる。
【０１１６】
また、（ｉ）ゲル電解質におけるゲル化時の体積収縮、または、（ｉｉ）ＵＶ硬化型の固体電解質をＵＶ硬化した時の体積収縮についても、考慮することが好ましい。一例として、これらの体積収縮を見込み、約３〜４％以上余分のゲル電解質または固体電解質を充填した状態で、ゲル化またはＵＶ硬化を行うことが好ましい。具体的には、厚さ３０μｍのスペーサ１５０を用いる場合には、仕上がりのセル厚が３１μｍ以上となるように、セルが構成されることが好ましい。つまり、隙間１６０の長さは、１μｍ以上となるように設定されることが好ましい。
【０１１７】
なお、セルを建物の窓等に設置する場合（例：実施形態１の場合）には、当該セルが車窓に設けられた場合に比べ、当該セルに与えられる温度変化および振動は小さいことが一般的である。従って、上述した各不具合が生じる可能性が比較的低いため、必ずしもセル厚の柔軟性が考慮されなくともよい。
【０１１８】
〔実施形態７〕
実施形態７では、調光装置の構成について、２つのバリエーションを説明する。図１１および図１２のそれぞれの調光装置を、調光装置１ｇおよび調光装置１ｈと称する。図１１および図１２はそれぞれ、調光装置１ｇおよび調光装置１ｈの構成を概略的に示す上面図である。
【０１１９】
調光装置１ｇ・１ｈでは、透明電極１２・１６がそれぞれ、複数のサブ透明電極に分割されている。この場合、１つのサブ透明電極に対応するサブ領域ごとに、光の透過率を個別に制御できる。但し、透明電極１２については、必ずしも透明電極１６と同様に分割されなくともよい。透明電極１６のみが分割されていれば、サブ領域を規定することが可能である。セルが調光装置として用いられる場合（セルが表示を目的として使用されない場合）、透明電極１２・１６に対して、電極取出部分は、複数箇所に設けられていてもよいし、１箇所に集約されていてもよい。
【０１２０】
調光装置１ｇの電極取出部分１７０は、１箇所（図１１におけるセルの右下の角部）に集約されている。電極取出部分１７０を１箇所に集約した場合には、セルの組立工程が簡略化されるとともに、各配線の引き回しを簡素にすることができる。図１１の例では、透明電極１２・１６の引き回しによって、上記集約が行われている。この場合、透明電極の引き回し部分は、例えばシール部材１４０の下部または外側に位置させることが好ましい。つまり、透明電極の引き回し部分は、調光層の動作部分から離すように位置させることが好ましい。これにより、不要な電圧降下を回避できる。
【０１２１】
調光装置１ｈの電極取出部分１７０ａは、複数箇所に設けられている。このように、透明電極の引き回しを用いることなく、透明電極１２・１６に直接的に配線を接続してもよい。当該構成によれば、セルの調光層に抵抗成分が存在する（すなわち調光層に電流が流れる）場合にも、配線接続部分から遠い場所において、調光層をより確実に動作させることができる。より具体的には、セルにおける部分的な応答速度の遅延を防止できる。
【０１２２】
〔付記事項〕
本開示の一態様は、上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても、本開示の一態様の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成できる。
【符号の説明】
【０１２３】
１〜１ｈ  調光装置
１１  基板（第２基板）
１２  透明電極（第２透明電極）
１３  絶縁層（第１絶縁層）
１３ｐ  第１突出部分（第２透明電極と電解質層との間に位置する部分）
１３ｎｐ  第１非突出部分（第２透明電極とシール部材との間に位置する部分）
１３ａ  絶縁層（第２絶縁層）
１３ａｐ  第２突出部分（第１透明電極と電解質層との間に位置する部分）
１３ａｎｐ  第２非突出部分（第１透明電極とシール部材との間に位置する部分）
１４、１４ａ  電解質層
１５  ナノ粒子層（第１ナノ粒子層）
１５ａ  ナノ粒子層（第２ナノ粒子層）
１６  透明電極（第１透明電極）
１７  基板（第１基板）
９０  電源
１４０、１４０ａ  シール部材
Ｌｐ  第１突出距離（第１突出部分の、シール部材からの突出距離）
Ｌａｐ  第２突出距離（第２突出部分の、シール部材からの突出距離）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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