(57)【要約】【課題】表面に凹凸が有るチャック上から、異物を効果的に除去する。【解決手段】表面に複数の凸部１１を有するチャック１０の上方に吸着手段３１を配置し、Ｘステージ５及びＹステージ７によりチャック１０を移動して、チャック１０上の異物を吸着手段３１の下方へ移動し、吸着手段３１を昇降させて、吸着手段３１によりチャック１０上の異物を吸着して除去する。あるいは、チャック１０の上方に吸引手段３２を配置し、Ｘステージ５及びＹステージ７によりチャック１０を吸引手段３２の下方で移動して、吸引手段３２によりチャック１０上の異物を吸引して除去する。吸着手段３１又は吸引手段３２により、チャック１０上の異物を吸着又は吸引して除去するので、チャック１０の表面に凹凸が有っても、チャック１０上の異物が効果的に除去される。【選択図】図１
2010176080.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の凸部により基板を支持するチャックと、
前記チャックを移動するステージと、
前記チャックの上方に配置された吸着手段と、
前記吸着手段を昇降させる昇降機構と、
前記ステージの移動を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記ステージにより前記チャックを移動して、前記チャック上の異物を前記吸着手段の下方へ移動し、
前記吸着手段は、前記昇降機構により昇降されて、前記チャック上の異物を吸着して除去することを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】
前記吸着手段は、異物を真空吸着する吸着パッドを有することを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項３】
複数の凸部により基板を支持するチャックと、
前記チャックを移動するステージと、
前記チャックの上方に配置された吸引手段と、
前記ステージの移動を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記ステージにより前記チャックを前記吸引手段の下方で移動し、
前記吸引手段は、前記チャック上の異物を吸引して除去することを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項４】
前記吸引手段は、異物を複数の吸引孔から真空吸引するノズルを有することを特徴とする請求項３に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項５】
前記吸引手段は、異物をスリット状の吸引口から真空吸引するノズルを有することを特徴とする請求項３に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項６】
前記吸引手段は、異物を静電気の力で吸引するヘッド部を有することを特徴とする請求項３に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項７】
前記吸引手段を前記チャックの表面近くへ降下させる昇降機構を備えたことを特徴とする請求項３乃至請求項６のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項８】
表面に複数の凸部を有するチャックの上方に吸着手段を配置し、
ステージによりチャックを移動して、チャック上の異物を吸着手段の下方へ移動し、
吸着手段を昇降させて、吸着手段によりチャック上の異物を吸着して除去することを特徴とするプロキシミティ露光装置のチャック清掃方法。
【請求項９】
吸着手段として、異物を真空吸着する吸着パッドを有する吸着ヘッドを用いることを特徴とする請求項８に記載のプロキシミティ露光装置のチャック清掃方法。
【請求項１０】
表面に複数の凸部を有するチャックの上方に吸引手段を配置し、
ステージによりチャックを吸引手段の下方で移動して、吸引手段によりチャック上の異物を吸引して除去することを特徴とするプロキシミティ露光装置のチャック清掃方法。
【請求項１１】
吸引手段として、異物を複数の吸引孔から真空吸引する吸引ノズルを用いることを特徴とする請求項１０に記載のプロキシミティ露光装置のチャック清掃方法。
【請求項１２】
吸引手段として、異物をスリット状の吸引口から真空吸引する吸引ノズルを用いることを特徴とする請求項１０に記載のプロキシミティ露光装置のチャック清掃方法。
【請求項１３】
吸引手段として、異物を静電気の力で吸引する吸引ヘッドを用いることを特徴とする請求項１０に記載のプロキシミティ露光装置のチャック清掃方法。
【請求項１４】
吸引手段を昇降させる昇降機構を設け、
昇降機構により吸引手段をチャックの表面近くへ降下させることを特徴とする請求項１０乃至請求項１３のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置のチャック清掃方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、プロキシミティ方式を用いて基板の露光を行うプロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のチャック清掃方法に係り、特に、大型の基板の露光を行うのに好適なプロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のチャック清掃方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
【０００３】
プロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクホルダに保持されたマスクとチャックに支持された基板とを、数百μｍ程度の距離まで近接させて、露光を行う。通常、チャックは、基板の移動及び位置決めを行うステージ上に搭載されており、基板を真空吸着して固定する。マスクホルダは、基板を搭載したチャックの上方に設けられ、マスクの周辺部を真空吸着して固定する。チャックへの基板の搬入、及びチャックからの基板の搬出は、通常、基板搬送ロボットのハンドリングアームにより行われるが、マスクと基板との接触を避けるために、マスクの下の露光位置から離れたロード／アンロード位置で行われる。ロード／アンロード位置で基板をチャックに搭載した後、ステージがマスクの下の露光位置へ移動し、露光位置で基板の位置決めを行う。
【０００４】
基板の搬入及び搬出を繰り返すうちに、塵埃等の異物がチャックの表面に付着する。そのため、チャックの表面を定期的に清掃する必要がある。特許文献１には、粘着面を有する帯状のクリーニングシートを用いて、チャック面を清掃する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−２１２７６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
チャックには、従来、表面が平らなものと、表面にピン形状の凸部を複数設けたものとがあった。後者は、ピン形状の凸部により複数の点で基板を支持し、ピン形状の凸部以外の部分と基板との空間を真空引きすることにより、基板を真空吸着して固定する。特許文献１に記載の技術は、クリーニングシートを清掃すべき面に粘着させる方式であるため、表面に凹凸が有るチャック上の異物を十分に除去することができなかった。
【０００７】
また、基板の搬入又は搬出の際に基板が破損して、基板の破片がチャック上に散乱することがある。特に、表示用パネルの大画面化に伴って基板が大型化する程、基板が破損する事故が増加している。特許文献１に記載の技術は、基板の細かな破片をクリーニングテープに粘着させて除去することはできても、基板の大きな破片を除去することはできない。従来は、基板の大きな破片を人手で除去していたが、基板が大型化してチャックが大きくなると、チャックの中央部まで手が届かず、基板の大きな破片を除去するのが困難になってきた。
【０００８】
本発明の課題は、表面に凹凸が有るチャック上から、異物を効果的に除去することである。また、本発明の課題は、チャック上から、基板の大きな破片を除去することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のプロキシミティ露光装置は、複数の凸部により基板を支持するチャックと、チャックを移動するステージと、チャックの上方に配置された吸着手段と、吸着手段を昇降させる昇降機構と、ステージの移動を制御する制御手段とを備え、制御手段が、ステージによりチャックを移動して、チャック上の異物を吸着手段の下方へ移動し、吸着手段が、昇降機構により昇降されて、チャック上の異物を吸着して除去するものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置のチャック清掃方法は、表面に複数の凸部を有するチャックの上方に吸着手段を配置し、ステージによりチャックを移動して、チャック上の異物を吸着手段の下方へ移動し、吸着手段を昇降させて、吸着手段によりチャック上の異物を吸着して除去するものである。
【００１０】
あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置は、複数の凸部により基板を支持するチャックと、チャックを移動するステージと、チャックの上方に配置された吸引手段と、ステージの移動を制御する制御手段とを備え、制御手段が、ステージによりチャックを吸引手段の下方で移動し、吸引手段が、チャック上の異物を吸引して除去するものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置のチャック清掃方法は、表面に複数の凸部を有するチャックの上方に吸引手段を配置し、ステージによりチャックを吸引手段の下方で移動して、吸引手段によりチャック上の異物を吸引して除去するものである。
【００１１】
吸着手段又は吸引手段により、チャック上の異物を吸着又は吸引して除去するので、チャックの表面に凹凸が有っても、チャック上の異物が効果的に除去される。ステージによりチャックを移動して、チャック上の異物を吸着手段の下方へ移動し、あるいは、ステージによりチャックを吸引手段の下方で移動するので、吸着手段又は吸引手段を移動することなく、チャックの表面全体から異物を除去することができる。
【００１２】
さらに、吸着手段として、異物を真空吸着する吸着パッドを有する吸着ヘッドを用いると、基板の大きな破片を吸着パッドで真空吸着して除去することができる。また、吸引手段として、異物を複数の吸引孔から真空吸引する吸引ノズル、異物をスリット状の吸引口から真空吸引する吸引ノズル、または異物を静電気の力で吸引する吸引ヘッドを用いると、チャックに付着した塵埃や基板の細かな破片等の小さな異物を、吸引ノズル又は吸引ヘッドで吸引して除去することができる。また、吸引手段を昇降させる昇降機構を設け、昇降機構により吸引手段をチャックの表面近くへ降下させると、吸引手段によるチャック上の異物の吸引がより確実に行われる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、表面に複数の凸部を有するチャックの上方に吸着手段を配置し、吸着手段を昇降させて、吸着手段によりチャック上の異物を吸着して除去することにより、あるいは、表面に複数の凸部を有するチャックの上方に吸引手段を配置し、吸引手段によりチャック上の異物を吸引して除去することにより、表面に凹凸が有るチャック上から、異物を効果的に除去することができる。また、ステージによりチャックを移動して、チャック上の異物を吸着手段の下方へ移動し、あるいは、ステージによりチャックを吸引手段の下方で移動することにより、吸着手段又は吸引手段を移動することなく、チャックの表面全体から異物を除去することができる。
【００１４】
さらに、吸着手段として、異物を真空吸着する吸着パッドを有する吸着ヘッドを用いることにより、基板の大きな破片を吸着パッドで真空吸着して除去することができる。また、吸引手段として、異物を複数の吸引孔から真空吸引する吸引ノズル、異物をスリット状の吸引口から真空吸引する吸引ノズル、または異物を静電気の力で吸引する吸引ヘッドを用いることにより、チャックに付着した塵埃や基板の細かな破片等の小さな異物を、吸引ノズル又は吸引ヘッドで吸引して除去することができる。また、吸引手段を昇降させる昇降機構を設け、昇降機構により吸引手段をチャックの表面近くへ降下させることにより、吸引手段によるチャック上の異物の吸引をより確実に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】図２（ａ）はチャックの上面図、図２（ｂ）はチャックの一部の断面図である。
【図３】図３（ａ）は吸着ヘッドの側面図、図３（ｂ）は同下面図、図３（ｃ）は図３（ｂ）のＡ−Ａ部の断面図である。
【図４】図４（ａ）は吸引ノズルの一例の側面図、図４（ｂ）は同下面図、図４（ｃ）は図４（ｂ）のＢ−Ｂ部の断面図である。
【図５】図５（ａ）は吸引ノズルの他の例の側面図、図５（ｂ）は同下面図、図５（ｃ）は図５（ｂ）のＣ−Ｃ部の断面図である。
【図６】本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。
【図７】吸引ヘッドの側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
図１は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。プロキシミティ露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、チャック支持台９、チャック１０、マスクホルダ２０、フレーム２１、電磁弁制御回路３０、吸着ヘッド３１、吸引ノズル３２、電磁弁３３，３５、異物回収タンク３４、昇降機構駆動回路４０、昇降機構４１，４２、Ｘステージ駆動回路５０、Ｙステージ駆動回路６０、θステージ駆動回路７０、及び主制御装置８０を含んで構成されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板をチャック１０へ搬入し、また基板をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、露光光を照射する照射光学系、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
【００１７】
なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。
【００１８】
チャック１０は、後述するＸステージ５及びＹステージ７により、基板のロード及びアンロードを行うロード／アンロード位置と、基板の露光を行う露光位置との間を移動される。ロード／アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板がチャック１０へ搬入され、また基板がチャック１０から搬出される。チャック１０への基板のロード及びチャック１０からの基板のアンロードは、チャック１０に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック１０の内部に収納されており、チャック１０の内部から上昇して、基板をチャック１０にロードする際、基板搬送ロボットから基板を受け取り、基板をチャック１０からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板を受け渡す。
【００１９】
基板の露光を行う露光位置の上空には、マスク２を保持するマスクホルダ２０が設置されている。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上空には、図示しない照射光学系が配置されている。露光時、照射光学系からの露光光がマスク２を透過して基板へ照射されることにより、マスク２のパターンが基板の表面に転写され、基板上にパターンが形成される。
【００２０】
チャック１０は、チャック支持台９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向（図１の図面横方向）へ移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向（図１の図面奥行き方向）へ移動する。θステージ８は、Ｙステージ７に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台９は、θステージ８に搭載され、チャック１０を複数箇所で支持する。Ｘステージ駆動回路５０、Ｙステージ駆動回路６０、θステージ駆動回路７０は、主制御装置８０の制御により、Ｘステージ５、Ｙステージ７、θステージ８をそれぞれ駆動する。
【００２１】
Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０は、ロード／アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード／アンロード位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板のプリアライメントが行われる。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０に搭載された基板のＸＹ方向へのステップ移動が行われる。そして、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、基板の位置決めが行われる。また、図示しないＺ−チルト機構によりマスクホルダ２０をＺ方向（図１の図面上下方向）へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板とのギャップ合わせが行われる。
【００２２】
なお、本実施の形態では、マスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台９にＺ−チルト機構を設けて、チャック１０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板とのギャップ合わせを行ってもよい。
【００２３】
図２（ａ）はチャックの上面図、図２（ｂ）はチャックの一部の断面図である。図２（ａ）に示す様に、本実施の形態では、チャック１０が、３つのチャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃにより構成されている。しかしながら、本発明はこれに限らず、チャック１０を１つ又は２つ以上のチャック部材で構成してもよい。チャック１０を複数のチャック部材で構成すると、チャック１０全体の寸法が大きくても、チャック１０の加工及び運搬を、チャック部材毎に容易に行うことができる。
【００２４】
図２（ｂ）において、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの表面には、凸部１１と土手１２と吸着孔１３とが設けられている。凸部１１は、直径数ｍｍのピン形状であり、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの表面に所定の間隔で複数設けられている。チャック１０に基板が搭載されたとき、凸部１１は、基板を複数の点で支持する。このとき、チャック１０の表面の凸部１１以外の部分と基板との間には、空間が形成される。土手１２は、所定の幅の連続した壁であり、チャック１０の表面の凸部以外の部分と基板との間の空間に、真空区画を形成する。吸着孔１３は、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの表面の凸部１１及び土手１２以外の部分に所定の間隔で複数設けられ、土手１２により形成された真空区画の真空引きを行う。
【００２５】
なお、土手１２は、裏面転写が発生したときに人間の目で認識され難い様に、直線ではなく不規則な線で構成されているが、図２（ａ）では、見易くするため、土手１２の縁を直線で示している。また、図２（ａ）では、凸部、吸着孔１３、及び突き上げピンが通る貫通孔が省略されている。
【００２６】
また、本実施の形態では、チャック部材１０ａに長方形又は正方形の合計１３個の真空区画が設けられ、チャック部材１０ｂ，１０ｃに長方形の合計４個の真空区画がそれぞれ設けられているが、真空区画の形状及び数は、これに限定されるものではない。
【００２７】
図１において、チャック１０の上方のマスクホルダ２０から外れた位置には、吸着ヘッド３１、吸引ノズル３２、及び昇降機構４１，４２が配置されている。昇降機構４１，４２は、例えば電動シリンダで構成され、チャック１０の上方に設けたフレーム２１に取り付けられて、吸着ヘッド３１又は吸引ノズル３２を昇降させる。昇降機構駆動回路４０は、主制御装置８０の制御により、昇降機構４１，４２を駆動する。
【００２８】
図３（ａ）は吸着ヘッドの側面図、図３（ｂ）は同下面図、図３（ｃ）は図３（ｂ）のＡ−Ａ部の断面図である。図３（ａ）に示す様に、吸着ヘッド３１は、胴部３１ａの下端に吸着パッド３１ｂを取り付けて構成されている。図３（ｃ）に示す様に、胴部３１ａの内部には、吸着パッド３１ｂの内部へ通じるエア通路３１ｃが設けられている。吸着パッド３１ｂ内の空気をエア通路３１ｃから吸引することにより、吸着パッド３１ｂは、チャック１０上の異物を真空吸着する。
【００２９】
図４（ａ）は吸引ノズルの一例の側面図、図４（ｂ）は同下面図、図４（ｃ）は図４（ｂ）のＢ−Ｂ部の断面図である。図４（ａ）に示す様に、本例の吸引ノズル３２は、胴部３２ａの下端にノズル３２ｂを取り付けて構成されている。図４（ｂ）に示す様に、ノズル３２ｂの下面には、複数の吸着孔３２ｄが設けられている。図４（ｃ）に示す様に、胴部３２ａの内部には、ノズル３２ｂの内部へ通じるエア通路３２ｃが設けられている。ノズル３２ｂ内の空気をエア通路３２ｃから吸引することにより、ノズル３２ｂは、チャック１０上の異物を吸引孔３２ｄから真空吸引する。
【００３０】
図５（ａ）は吸引ノズルの他の例の側面図、図５（ｂ）は同下面図、図５（ｃ）は図５（ｂ）のＣ−Ｃ部の断面図である。図５（ａ）に示す様に、本例の吸引ノズル３２は、胴部３２ａの下端にノズル３２ｂ’を取り付けて構成されている。図５（ｂ）に示す様に、ノズル３２ｂ’の下面には、スリット状の吸着口３２ｅが設けられている。図４（ｃ）に示す様に、胴部３２ａの内部には、ノズル３２ｂ’の内部へ通じるエア通路３２ｃが設けられている。ノズル３２ｂ’内の空気をエア通路３２ｃから吸引することにより、ノズル３２ｂ’は、チャック１０上の異物を吸引口３２ｅから真空吸引する。
【００３１】
図１において、吸着ヘッド３１は、電磁弁３３を介して、図示しない真空設備に接続されている。吸引ノズル３２は、異物回収タンク３４及び電磁弁３５を介して、図示しない真空設備に接続されている。電磁弁制御回路３０は、主制御装置８０の制御により、電磁弁３３，３５を開閉する。
【００３２】
以下、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置のチャック清掃方法について説明する。チャック１０上に基板の大きな破片が有る場合、まず、主制御装置８０は、Ｘステージ駆動回路５０及びＹステージ駆動回路６０を制御し、Ｘステージ５及びＹステージ７によりチャック１０を移動して、チャック１０上の基板の大きな破片を、吸着ヘッド３１の下方へ移動する。次に、主制御装置８０は、昇降機構駆動回路４０を制御し、昇降機構４１により吸着ヘッド３１を下降させて、吸着ヘッド３１の吸着パッド３１ｂを基板の大きな破片に接触させる。続いて、主制御装置８０は、電磁弁制御回路３０を制御し、電磁弁３３を開いて、吸着ヘッド３１により基板の大きな破片を真空吸着させる。
【００３３】
次に、主制御装置８０は、昇降機構駆動回路４０を制御し、昇降機構４１により吸着ヘッド３１を上昇させて、吸着ヘッド３１により真空吸着した基板の大きな破片をチャック１０から持ち上げさせる。続いて、主制御装置８０は、Ｘステージ駆動回路５０及びＹステージ駆動回路６０を制御し、Ｘステージ５及びＹステージ７によりチャック１０を移動して、チャック１０を吸着ヘッド３１の下方から移動する。そして、主制御装置８０は、電磁弁制御回路３０を制御し、電磁弁３３を閉じて、吸着ヘッド３１による真空吸着を解除する。吸着ヘッド３１からの基板の大きな破片の回収は、ロボット又は人手により行う。これらの動作を繰り返して、チャック１０上から基板の大きな破片を除去する。
【００３４】
チャック１０上から基板の大きな破片を除去した後、主制御装置８０は、Ｘステージ駆動回路５０及びＹステージ駆動回路６０を制御し、Ｘステージ５及びＹステージ７によりチャック１０を移動して、チャック１０を吸引ノズル３２の下方へ移動する。次に、主制御装置８０は、昇降機構駆動回路４０を制御し、昇降機構４２により吸引ノズル３２をチャック１０の表面近くへ下降させる。続いて、主制御装置８０は、電磁弁制御回路３０を制御し、電磁弁３５を開いて、吸引ノズル３２による異物の吸引を開始させる。そして、主制御装置８０は、Ｘステージ駆動回路５０及びＹステージ駆動回路６０を制御し、Ｘステージ５及びＹステージ７によりチャック１０を吸引ノズル３２の下方で移動して、チャック１０の表面全体の清掃を行う。
【００３５】
異物回収タンク３４の内部には、フィルタが内蔵されており、吸引ノズル３２により吸引された塵埃や基板の細かな破片等の小さな異物は、異物回収タンク３４の内部のフィルタにより回収される。チャック１０の表面全体の清掃が終了したら、主制御装置８０は、昇降機構駆動回路４０を制御し、昇降機構４２により吸引ノズル３２を上昇させる。続いて、主制御装置８０は、Ｘステージ駆動回路５０及びＹステージ駆動回路６０を制御し、Ｘステージ５及びＹステージ７によりチャック１０を移動して、チャック１０を吸引ノズル３２の下方から移動する。そして、主制御装置８０は、電磁弁制御回路３０を制御し、電磁弁３５を閉じて、吸引ノズル３２の吸引を停止させる。
【００３６】
図６は、本発明の他の実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、図１に示した実施の形態の吸引ノズル３２の代わりに、異物を静電気の力で吸引する吸引ヘッド３６を用いたものである。図７は、吸引ヘッドの側面図である。吸引ヘッド３６は、胴部３６ａの下端にヘッド部３６ｂを取り付けて構成されている。ヘッド部３６ｂは、図６の静電気発生器３７に接続されており、静電気発生器３７が発生した静電気の力でチャック１０上の異物を吸引する。ヘッド部３６ｂで吸引された異物は、胴部３６ａの内部に収納される。その他の構成要素は、図１に示した実施の形態と同様である。
【００３７】
以上説明した実施の形態によれば、表面に複数の凸部１１を有するチャック１０の上方に吸着ヘッド３１を配置し、吸着ヘッド３１を昇降させて、吸着ヘッド３１によりチャック１０上の異物を吸着して除去することにより、あるいは、表面に複数の凸部１１を有するチャック１０の上方に吸引ノズル３２又は吸引ヘッド３６を配置し、吸引ノズル３２又は吸引ヘッド３６によりチャック１０上の異物を吸引して除去することにより、表面に凹凸が有るチャック１０上から、異物を効果的に除去することができる。また、Ｘステージ５及びＹステージ７によりチャック１０を移動して、チャック１０上の異物を吸着ヘッド３１の下方へ移動し、あるいは、Ｘステージ５及びＹステージ７によりチャック１０を吸引ノズル３２又は吸引ヘッド３６の下方で移動することにより、吸着ヘッド３１、吸引ノズル３２、又は吸引ヘッド３６を移動することなく、チャック１０の表面全体から異物を除去することができる。
【００３８】
さらに、吸着パッド３１ｂを有する吸着ヘッド３１を用いることにより、基板の大きな破片を吸着パッド３１ｂで真空吸着して除去することができる。また、異物を複数の吸引孔３２ｄから真空吸引する吸引ノズル３２、異物をスリット状の吸引口３２ｅから真空吸引する吸引ノズル３２、または異物を静電気の力で吸引する吸引ヘッド３６を用いることにより、チャック１０に付着した塵埃や基板の細かな破片等の小さな異物を、吸引ノズル３２又は吸引ヘッド３６で吸引して除去することができる。また、吸引ノズル３２又は吸引ヘッド３６を昇降させる昇降機構４２を設け、昇降機構４２により吸引ノズル３２又は吸引ヘッド３６をチャック１０の表面近くへ降下させることにより、吸引ノズル３２又は吸引ヘッド３６によるチャック１０上の異物の吸引をより確実に行うことができる。
【００３９】
本発明の吸着手段及び吸引手段は、以上説明した実施の形態に限らず、チャック上の異物を吸着又は吸引できるものであればよい。
【符号の説明】
【００４０】
２  マスク
３  ベース
４  Ｘガイド
５  Ｘステージ
６  Ｙガイド
７  Ｙステージ
８  θステージ
９  チャック支持台
１０  チャック
１１  凸部
１２  土手
１３  吸着孔
２０  マスクホルダ
２１  フレーム
３０  電磁弁制御回路
３１  吸着ヘッド
３２  吸引ノズル
３３，３５  電磁弁
３４  異物回収タンク
３６  吸引ヘッド
３７  静電気発生器
４０  昇降機構駆動回路
４１，４２  昇降機構
５０  Ｘステージ駆動回路
６０  Ｙステージ駆動回路
７０  θステージ駆動回路
８０  主制御装置
【図１】
2010176080.tif 000003
【図２】
2010176080.tif 000004
【図３】
2010176080.tif 000005
【図４】
2010176080.tif 000006
【図５】
2010176080.tif 000007
【図６】
2010176080.tif 000008
【図７】
2010176080.tif 000009