(57)【要約】【課題】ＴＦＴ素子と、カラーフィルタ基板の透明導電膜との電気的な導通防止、及び、カラーフィルタ基板の配向膜の適切な形成【解決手段】液晶パネル１００Ｂのカラーフィルタ基板１４０Ｂは、複数の画素毎に光が透過する開口部１４２を区画する枠１４３ａと、アレイ基板１２０のＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂとにブラックマトリクス１４３が形成されている。また、ブラックマトリクス１４３で区画された開口部１４２には着色層１４４が形成されている。さらに、ＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂにおいて、ブラックマトリクス１４３の上に絶縁性のスペーサ２００Ｂが配置されている。この液晶パネル１００Ｂは、ブラックマトリクス１４３の上において、絶縁性のスペーサ２００Ｂと着色層１４４との間に、配向膜１４６を形成する樹脂材料が通る隙間Ｓが形成されている。【選択図】図５
2010181726.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリクス状に形成された複数の画素毎にＴＦＴ素子を備えたアレイ基板と、前記アレイ基板に対向して配置されたカラーフィルタ基板と、前記カラーフィルタ基板の前記アレイ基板に対向する面に形成された配向膜と、
を備え、
前記カラーフィルタ基板は、
前記複数の画素毎に光が透過する開口部を区画する枠と、前記アレイ基板のＴＦＴ素子に対向する部位とに形成されたブラックマトリクスと、
前記ブラックマトリクスで区画された開口部に形成された着色層と、
前記ＴＦＴ素子に対向する部位において、前記ブラックマトリクスの上に配置された絶縁性のスペーサと、
を備え、
前記ブラックマトリクスの上において、前記スペーサと前記着色層との間に配向膜を形成する樹脂材料が通る隙間が形成されている、液晶パネル。
【請求項２】
前記着色層と前記スペーサとの隙間が５μｍ以上である、請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項３】
前記着色層は、ブラックマトリクスの縁部に盛り上がっている、請求項１又は２に記載の液晶パネル。
【請求項４】
請求項１から３までの何れか一項に記載された液晶パネルを備えた液晶表示装置。
【請求項５】
マトリクス状に形成された複数の画素毎にＴＦＴ素子を備えたアレイ基板と、前記アレイ基板に対向して配置されたカラーフィルタ基板とを備えた液晶パネルの製造方法であって、
前記カラーフィルタ基板の基材となる透明基板の上に、前記複数の画素毎に光が透過する開口部を区画する枠と、アレイ基板のＴＦＴ素子に対向する部位とにブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、
前記ブラックマトリクスで区画された開口部に着色層を形成する着色層形成工程と、
前記着色層との間に隙間を空けて、前記ブラックマトリクスのＴＦＴ素子に対向した部位に絶縁性のスペーサを形成する工程と、
前記スペーサが形成された後で、前記カラーフィルタ基板の表面に配向膜を形成する樹脂材料を供給する工程と、
を含む、液晶パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マトリクス状に形成された複数の画素毎にＴＦＴ素子（薄膜トランジスタ、ＴＦＴ：thin film transistor）を備えたアレイ基板と、アレイ基板に対向して配置されたカラーフィルタ基板とを備えた液晶パネル（LCD：Liquid Crystal Display）に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルは、アレイ基板と、アレイ基板に対向して配置されたカラーフィルタ基板とを備えている。アレイ基板とカラーフィルタ基板との間には、液晶が封止されている。液晶パネルにはマトリクス状に複数の画素が形成されている。そして、各画素が制御され、液晶パネルは全体として所望の画像を表示する。かかる液晶パネルは、テレビ、パソコンのディスプレイ、液晶プロジェクタなど、種々の用途に用いられる。かかる液晶パネルは、例えば、特開２００６−２２７２９６号公報（特許文献１）に開示されている。同公報では、かかる液晶パネルのカラーフィルタ基板について、配向膜形成時のラビング工程で配向膜が剥がれる不具合を解消する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２２７２９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
図１は、典型的な液晶パネルの一部の断面図を示している。液晶パネル１００は、図１に示すように、アレイ基板１２０と、アレイ基板１２０に対向して配置されたカラーフィルタ基板１４０とを備えている。アレイ基板１２０とカラーフィルタ基板１４０との間には、液晶１６０が封止されている。図１に示す形態では、液晶パネル１００は、マトリクス状（格子状）に複数の画素Ａが形成されている。ここでは、液晶パネル１００の１つの画素Ａには、ＲＧＢで規定される３つのサブ画素ＡＲ、ＡＧ、ＡＢが形成されている。
【０００５】
アレイ基板１２０は、透明基板１２１の上に、マトリクス状（格子状）にＴＦＴ素子１２２が形成されている。図１に示す形態では、各サブ画素ＡＲ、ＡＧ、ＡＢにそれぞれＴＦＴ素子１２２が形成されている。
また、カラーフィルタ基板１４０は、透明基板１４１の上に、開口部１４２を有するブラックマトリクス１４３が形成されている。ブラックマトリクス１４３の開口部１４２には着色層１４４が形成されている。かかるカラーフィルタ基板１４０の表面にはアレイ基板１２０の対向電極となる透明導電膜１４５（ＩＴＯ膜（ＩＴＯ：indium tin oxide、酸化インジウムスズ））が形成されている。透明導電膜１４５の上に配向膜１４６が形成される。なお、例えば、ブラックマトリクス１４３及び着色層１４４の上に形成されるオーバーコート（Over Coat）膜などは、図示を省略している。
【０００６】
また、ブラックマトリクス１４３の開口部１４２に形成された着色層１４４の縁１４４ａは、ブラックマトリクス１４３の縁に載る。この場合、当該着色層１４４の縁１４４ａが盛り上がるため、当該部位において、アレイ基板１２０のＴＦＴ素子１２２と、カラーフィルタ基板１４０の透明導電膜１４５とが近くなる。ＴＦＴ素子１２２と透明導電膜１４５とが近くなると、例えば、図１に示すように、ＴＦＴ素子１２２と透明導電膜１４５との間に異物１８０が入るなどの不具合が生じやすくなる。ＴＦＴ素子１２２と透明導電膜１４５との間に入った異物１８０によって、ＴＦＴ素子１２２や透明導電膜１４５が損傷する場合がある。また、異物１８０が導電性であると、ＴＦＴ素子１２２と透明導電膜１４５とが電気的に導通する。このため、当該画素が適切に制御できなくなる場合がある。
【０００７】
かかる不具合の対策として本発明者は、ＴＦＴ素子１２２に対向させるように、カラーフィルタ基板１４０にスペーサを配置することを考えた。図２は、かかる不具合の対策として本発明者が考えた液晶パネル１００Ａを示す断面図である。また、図３は、当該液晶パネル１００Ａのカラーフィルタ基板１４０Ａを示す平面図である。この液晶パネル１００Ａでは、図２及び図３に示すように、ＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂにおいて、ブラックマトリクス１４３の上に、絶縁性のスペーサ２００Ａが配置されている。この場合、スペーサ２００Ａによって、ＴＦＴ素子１２２と透明導電膜１４５との間に異物１８０が入り難くなる。また、スペーサ２００Ａが絶縁性であるから、スペーサ２００ＡとＴＦＴ素子１２２との間に異物１８０が入っても、ＴＦＴ素子１２２と透明導電膜１４５とが電気的に導通されるのを防止できる。
【０００８】
しかしながら、スペーサ２００Ａを配置した後で、図２に示すように、カラーフィルタ基板１４０の表面に配向膜１４６が形成される。この際、図３に示すように、カラーフィルタ基板１４０Ａの一部において、配向膜１４６が上手く形成されない部位Ｘが生じることがあった。
本発明は、かかる事象を鑑み、アレイ基板のＴＦＴ素子と、カラーフィルタ基板の透明導電膜とが電気的に導通される不具合を防止できるとともに、カラーフィルタ基板に配向膜を適切に形成できる新規な構成を提案する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る液晶パネルは、マトリクス状に形成された複数の画素毎にＴＦＴ素子を備えたアレイ基板と、アレイ基板に対向して配置されたカラーフィルタ基板とを備えている。カラーフィルタ基板のブラックマトリクスは、複数の画素毎に光が透過する開口部を区画する枠と、アレイ基板のＴＦＴ素子に対向する部位とに形成されている。また、着色層は、ブラックマトリクスで区画された開口部に形成されている。さらに、ＴＦＴ素子に対向する部位において、ブラックマトリクスの上に絶縁性のスペーサが配置されている。さらに、この液晶パネルは、ブラックマトリクスの上において、絶縁性のスペーサと着色層との間に、配向膜を形成する樹脂材料が通る隙間が形成されている。
【００１０】
この液晶パネルによれば、ブラックマトリクスの上において、スペーサと着色層とに、配向膜を形成する樹脂材料が通る隙間が形成されている。このため、配向膜を形成する工程において、配向膜が適切に形成される。また、ＴＦＴ素子に対向する部位において、ブラックマトリクスの上に絶縁性のスペーサが配置されているので、ＴＦＴ素子とスペーサとの間に異物が介在しても、ＴＦＴ素子がカラーフィルタ基板に導通するのを防止できる。
【００１１】
着色層とスペーサとの隙間は、例えば、５μｍ以上であるとよい。着色層は、ブラックマトリクスの縁部に盛り上がっていてもよい。また、着色層及びブラックマトリクスの上に配向膜が塗工されていてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】液晶パネルの断面を示す図。
【図２】液晶パネルの断面を示す図。
【図３】液晶パネルのカラーフィルタ基板を示す平面図。
【図４】液晶パネルのブラックマトリクスが形成された部位の断面を示す図。
【図５】本発明の一実施形態に係る液晶パネルの断面を示す図。
【図６】本発明の一実施形態に係る液晶パネルのカラーフィルタ基板を示す平面図。
【図７】本発明の一実施形態に係る液晶パネルのカラーフィルタ基板にブラックマトリクスが形成された状態を示す平面図。
【図８】本発明の一実施形態に係る液晶パネルのカラーフィルタ基板に着色層が形成された状態を示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態に係る液晶パネルを図面に基づいて説明する。また、実質的に同じ機能を奏する構成要素には、適宜同じ参照符号を付している。各図は、本発明の説明の便宜上、模式的に記載している。このため、各図における寸法関係（長さ、幅、厚さ等）は実際の寸法関係を反映するものではない。また、各図は、各部材、部位の具体的な形状を厳密に表すものではない。
【００１４】
本発明者は、図２及び図３に示す液晶パネル１００Ａで問題となった事象を検討した。すなわち、液晶パネル１００Ａでは、図３に示すように、ＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂにおいて、ブラックマトリクス１４３の上に、絶縁性のスペーサ２００Ａが配置されている。しかしながら、スペーサ２００Ａを配置した後で、図２に示すように、カラーフィルタ基板１４０の表面に配向膜１４６が形成される。この際、図３に示すように、カラーフィルタ基板１４０Ａの一部において、配向膜１４６が上手く形成されない部位Ｘが生じることがあった。
【００１５】
カラーフィルタ基板１４０Ａの配向膜１４６を形成する工程では、まず、透明導電膜１４５が形成されたカラーフィルタ基板１４０Ａの表面に、樹脂材料（例えば、ポリイミド（ＰＩ：polyimide））を塗布する。この際、樹脂材料は、カラーフィルタ基板１４０Ａの表面にランダムに塗布される。カラーフィルタ基板１４０Ａの上に塗布された樹脂材料はカラーフィルタ基板１４０Ａの表面を広がる。これにより、カラーフィルタ基板１４０Ａの表面に膜が形成される。次に、当該膜を乾燥させ、乾燥した膜の表面にラビング処理（配向処理、rubbing）を行う。
【００１６】
また、本発明者は、上記の配向膜１４６の形成工程において、カラーフィルタ基板１４０Ａの表面に塗布された樹脂材料の流れ方を検討した。
樹脂材料が塗布されるカラーフィルタ基板１４０Ａは、ブラックマトリクス１４３が形成され、その後に、ブラックマトリクス１４３の開口部１４２に着色層１４４が形成されている。この際、図４に示すように、ブラックマトリクス１４３の縁部１８１に着色層１４４の縁１４４ａが載る。このため、着色層１４４の縁１４４ａが盛り上がる。かかる着色層１４４の縁１４４ａの盛り上がった部位に比べて、着色層１４４が載っていない部分１８２や、開口部１４２に着色層１４４が形成された部分１８３は低くなる。
【００１７】
したがって、カラーフィルタ基板１４０Ａに塗布された樹脂材料は、図３及び図４に示すように、盛り上がった着色層１４４の縁１４４ａよりも、着色層１４４が載っていない部分１８２や、開口部１４２に着色層１４４が形成された部分１８３を流れ易い。カラーフィルタ基板１４０Ａに塗布された樹脂材料は、これらの流れ易い部分１８２、１８３に沿ってカラーフィルタ基板１４０Ａの表面に広がる。本発明者は、カラーフィルタ基板１４０Ａの表面に塗布された樹脂材料の流れ方をこのように考察した。
【００１８】
かかる液晶パネル１００Ａは、カラーフィルタ基板１４０Ａの一部において、配向膜１４６が上手く形成されない部位Ｘが生じた。ここで、問題となった部位Ｘでは、図２及び図３に示すように、ＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂにおいて、ブラックマトリクス１４３の上に、絶縁性のスペーサ２００Ａが配置されていた。配向膜１４６が形成されない領域Ｘは、図３に示すように、かかるスペーサ２００Ａからブラックマトリクス１４３に沿って生じる傾向があった。
【００１９】
上記のような事象について、本発明者は、配向膜１４６を形成する工程において、カラーフィルタ基板１４０Ａの表面に塗布された樹脂材料の流れが、一部において、上記のスペーサ２００Ａによって阻害されたのではないかと考えた。そして、かかる考察を基に、アレイ基板のＴＦＴ素子１２２と、カラーフィルタ基板１４０Ａの透明導電膜１４５とが電気的に導通する不具合を防止できるとともに、配向膜１４６が適切に形成される新規な構成を想起するに至った。
【００２０】
図５は、本発明の一実施形態に係る液晶パネル１００Ｂの断面を示している。また、図６は、かかる液晶パネル１００Ｂのカラーフィルタ基板１４０Ｂの平面図を示しており、スペーサ２００Ｂが形成された状態を示している。図７は、カラーフィルタ基板１４０Ｂの基材となる透明基板にブラックマトリクス１４３が形成された状態を示している。さらに、図８は着色層が形成された状態を示している。
【００２１】
この実施形態では、液晶パネル１００Ｂは、図５及び図６に示すように、マトリクス状に形成された複数の画素（ここでは、サブ画素ＡＲ、ＡＧ、ＡＢ）毎にＴＦＴ素子１２２を備えたアレイ基板１２０と、アレイ基板１２０に対向して配置されたカラーフィルタ基板１４０Ｂとを備えている。また、カラーフィルタ基板１４０Ｂの配向膜１４６はアレイ基板１２０に対向する面に形成されている。
【００２２】
カラーフィルタ基板１４０Ｂは、図７に示すように、まず基材となる透明基板１４１にブラックマトリクス１４３が形成される。カラーフィルタ基板１４０Ｂのブラックマトリクス１４３は、図７に示すように、複数のサブ画素ＡＲ、ＡＧ、ＡＢ毎に光が透過する開口部１４２を区画する枠１４３ａと、アレイ基板１２０のＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂとに形成されている。次に、図８に示すように、着色層１４４が形成される。着色層１４４は、ブラックマトリクス１４３で区画された開口部１４２に形成されている。さらに、この実施形態では、図６に示すように、ＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂにおいて、ブラックマトリクス１４３の上に絶縁性のスペーサ２００Ｂが配置される。この液晶パネル１００Ｂでは、ブラックマトリクス１４３の上において、スペーサ２００Ｂと着色層１４４との間に、配向膜１４６を形成する樹脂材料が通る隙間Ｓが形成されている。
【００２３】
この液晶パネル１００Ｂによれば、ブラックマトリクス１４３の上において、スペーサ２００Ｂと着色層１４４との間に、配向膜１４６を形成する樹脂材料が通る隙間Ｓが形成されている。このため、配向膜１４６を形成する工程において、カラーフィルタ基板１４０Ｂの表面に供給された樹脂材料が、スペーサ２００Ｂと着色層１４４との隙間Ｓを通り、カラーフィルタ基板１４０Ｂの表面に広がる。これにより、カラーフィルタ基板１４０Ｂに塗布された樹脂材料の流れが、スペーサ２００Ｂによって阻害されないので、配向膜１４６が適切に形成される。また、ＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂにおいて、ブラックマトリクス１４３の上に絶縁性のスペーサ２００Ｂが配置されているので、ＴＦＴ素子１２２とスペーサ２００Ｂとの間に異物１８０が介在しても、ＴＦＴ素子１２２がカラーフィルタ基板１４０Ｂに導通する不具合が防止できる。
【００２４】
詳しくは、この実施形態では、液晶パネル１００Ｂは、図５及び図６に示すように、アレイ基板１２０とカラーフィルタ基板１４０Ｂとの間には、図５に示すように、液晶１６０が封止されている。なお、液晶パネル１００Ｂは、マトリクス状に形成された複数の画素Ａが配置されている。液晶パネル１００Ｂの１つの画素Ａは、ＲＧＢで規定される３つのサブ画素ＡＲ、ＡＧ、ＡＢを備えている。また、各サブ画素ＡＲ、ＡＧ、ＡＢは、それぞれさらに２つの副画素Ｐａ、Ｐｂ（図６参照）に分割されている。図６は、概ね液晶パネル１００Ｂの１つの画素Ａの半分を拡大している。
【００２５】
カラーフィルタ基板１４０Ｂは、図５、図６及び図７に示すように、透明基板１４１の上に、開口部１４２を有するブラックマトリクス１４３が形成されている。ブラックマトリクス１４３は、図６に示すように、光が透過する開口部１４２を区画する枠１４３ａと、アレイ基板１２０のＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂとに形成されている。この実施形態では、開口部１４２は、１つの画素Ａに対して、それぞれ３つのサブ画素ＡＲ、ＡＧ、ＡＢの２つの副画素Ｐａ、Ｐｂ（図６及び図７参照）に対応して形成されている。ブラックマトリクス１４３は、かかる副画素Ｐａ、Ｐｂを区画するように開口部１４２を形成している。また、アレイ基板１２０のＴＦＴ素子１２２（図５参照）は、１つの画素Ａに対して副画素Ｐａ、Ｐｂの間に配置されている。ブラックマトリクス１４３は、かかるＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂにも形成されている。開口部１４２を区画する枠１４３ａと、ＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂとは連続している。
【００２６】
着色層１４４は、図６及び図８に示すように、ブラックマトリクス１４３の開口部１４２に形成されている。この際、図４に示すように、着色層１４４の縁１４４ａは、ブラックマトリクス１４３の縁部１８１に載る。このため、着色層１４４の縁１４４ａは、カラーフィルタ基板１４０Ｂの表面上、盛り上がる。かかるカラーフィルタ基板１４０Ｂの表面には、透明導電膜１４５（ＩＴＯ膜）が形成されている。透明導電膜１４５は、ブラックマトリクス１４３や着色層１４４に比べて薄い膜である。カラーフィルタ基板１４０Ｂの配向膜１４６は、図５に示すように、透明導電膜１４５の上に形成される。
【００２７】
また、この液晶パネル１００Ｂでは、図５に示すように、ＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂにおいて、ブラックマトリクス１４３の上に絶縁性のスペーサ２００Ｂが配置される。この際、ブラックマトリクス１４３の上において、スペーサ２００Ｂと着色層１４４との間に、配向膜１４６を形成する樹脂材料が通る隙間Ｓが形成されている。隙間Ｓは、スペーサ２００Ｂと着色層１４４との間に、配向膜１４６を形成する樹脂材料が通り得る程度に所要の空間があればよい。
【００２８】
かかるスペーサ２００Ｂは、例えば、ポジレジスト材（例えば、ノボラック樹脂）を使用し、フォトリソ工程（フォトリソ：フォトリソグラフィ(photolithography)）にて形成するとよい。この実施形態では、図６に示すように、リブ２１０及びスペーサ２２０（ギャップ形成用スペーサ）を、スペーサ２００Ｂと同じフォトリソ工程で形成している。リブ２１０は、ブラックマトリクス１４３の開口部１４２に形成されており、液晶分子を配向させる機能を有する。また、スペーサ２２０は、アレイ基板１２０とカラーフィルタ基板１４０との間に所要のギャップを形成する。かかるスペーサ２２０は、ブラックマトリックス１４３に設けた着座部１４３ｃに形成されている。なお、スペーサ２００Ｂはプラスチックビーズやガラスビーズを用いることもできる。この場合、スペーサ２００Ｂとしてのプラスチックビーズやガラスビーズを定点に散布又は塗布するとよい。
【００２９】
このように、この液晶パネル１００Ｂでは、図５及び図６に示すように、例えば、カラーフィルタ基板１４０Ｂに塗布された樹脂材料がスムーズに通るように、スペーサ２００Ｂと着色層１４４との間に、適切な隙間Ｓが形成されているとよい。この場合、カラーフィルタ基板１４０Ｂに塗布される樹脂材料の粘度などを考慮して、スペーサ２００Ｂと着色層１４４との間に適切な隙間Ｓを設定するとよい。
カラーフィルタ基板１４０Ｂに塗布された樹脂材料がスムーズに通り得る隙間として、隙間Ｓは、例えば、スペーサ２００Ｂと着色層１４４との間に５μｍ以上で形成されているとよい。なお、カラーフィルタ基板１４０Ｂに塗布された樹脂材料がよりスムーズに通り得るように、この実施形態では、スペーサ２００Ｂと着色層１４４との隙間Ｓは、１０μｍ〜２０μｍで形成している。
【００３０】
配向膜１４６は、カラーフィルタ基板１４０Ｂに、かかるスペーサ２００Ｂが配置された状態で形成される。配向膜１４６を形成する工程では、例えば、透明導電膜１４５が形成されたカラーフィルタ基板１４０Ｂの表面に、樹脂材料（例えば、ポリイミド（ＰＩ：polyimide））を塗布する。樹脂材料（ＰＩ）は、例えば、インクジェットなどで、カラーフィルタ基板１４０Ｂの表面に塗布される。塗布された樹脂材料（ＰＩ）は、カラーフィルタ基板１４０Ｂの上を広がって、カラーフィルタ基板１４０Ｂの上に膜（配向膜１４６）を形成する。
【００３１】
この際、このカラーフィルタ基板１４０Ｂは、ブラックマトリクス１４３の上において、スペーサ２００Ｂと着色層１４４との間に、樹脂材料が通る隙間Ｓが形成されている。このため、塗布された樹脂材料（ＰＩ）は、かかる隙間Ｓを通って、ブラックマトリクス１４３の上を流れる。このため、樹脂材料（ＰＩ）の流れが、スペーサ２００Ｂによって阻害されることはない。これにより、カラーフィルタ基板１４０Ｂの上に、適切に膜（配向膜１４６）が形成される。そして、当該樹脂材料を乾燥させた後で、ラビング処理（配向処理）を行う。ラビング処理では、配向膜に一定の方向の溝が形成される。かかるラビング処理工程では、例えば、ラビング布で、配向膜を一定方向に擦り、配向膜の表面に一定方向の溝を形成する。
【００３２】
このように、この液晶パネル１００Ｂによれば、ブラックマトリクス１４３の上において、スペーサ２００Ｂと着色層１４４との間に、樹脂材料が通る隙間Ｓが形成されている。このため、配向膜１４６を形成する工程において、配向膜１４６が適切に形成される。また、ＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂにおいて、ブラックマトリクス１４３の上に、絶縁性のスペーサ２００Ｂが配置されているので、ＴＦＴ素子１２２とスペーサ２００Ｂとの間に異物が介在しても、ＴＦＴ素子１２２がカラーフィルタ基板１４０Ｂに導通する不具合が防止できる。
【００３３】
また、液晶パネル１００Ｂのカラーフィルタ基板１４０Ｂは、上述したように、まずブラックマトリクス１４３が形成される。かかるブラックマトリクス形成工程では、図７に示すように、カラーフィルタ基板１４０Ｂの基材となる透明基板１４１の上に、開口部１４２を区画する枠１４３ａと、アレイ基板１２０のＴＦＴ素子１２２に対向する部位１４３ｂとにブラックマトリクス１４３が形成される。
次に、着色層１４４が形成される。かかる着色層形成工程では、図８に示すように、ブラックマトリクス１４３で区画された開口部１４２に着色層１４４が形成される。次に、スペーサ２００Ｂが形成される。かかるスペーサ形成工程では、図６に示すように、着色層１４４との間に隙間Ｓを空けて、ブラックマトリクス１４３のＴＦＴ素子１２２に対向した部位１４３ｂに絶縁性のスペーサ２００Ｂが形成される。
【００３４】
そして、配向膜１４６を形成する配向膜形成工程では、スペーサ２００Ｂが形成された後で、カラーフィルタ基板１４０Ｂの表面に配向膜１４６を形成する樹脂材料が供給される。この液晶パネル１００Ｂの製造方法によれば、カラーフィルタ基板１４０Ｂを製造する上記の工程において、着色層１４４との間に隙間Ｓを空けて、ブラックマトリクス１４３のＴＦＴ素子１２２に対向した部位１４３ｂに絶縁性のスペーサ２００Ｂが形成される。そして、その後に、カラーフィルタ基板１４０Ｂの表面に配向膜１４６を形成する樹脂材料が供給される。このため、カラーフィルタ基板１４０Ｂに塗布された樹脂材料が、スペーサ２００Ｂと着色層１４４との隙間Ｓを通って広がり、適切に配向膜１４６が形成される。
【００３５】
以上、本発明の一実施形態に係る液晶パネルを説明したが、本発明に係る液晶パネルは、上記の実施形態に限定されない。
【００３６】
液晶パネル１００Ｂの具体的な構成は、適宜に変更可能である。例えば、図示されたブラックマトリクス１４３、着色層１４４、スペーサ２００Ｂの具体的な形状や配置は、一例を示すに過ぎず、上記の実施形態に限定されない。また、上記では液晶パネル１００Ｂの構造、液晶パネル１００Ｂの製造方法について、本発明の実施に必要な事項を開示した。上記に開示される以外の事項においては、公知の技術が適宜に参酌される。
【符号の説明】
【００３７】
１００、１００Ａ、１００Ｂ  液晶パネル
１２０  アレイ基板
１２１  透明基板
１２２  ＴＦＴ素子
１４０、１４０Ａ、１４０Ｂ  カラーフィルタ基板
１４１  透明基板
１４２  開口部
１４３  ブラックマトリクス
１４３ａ  開口部を区画する枠
１４３ｂ  ＴＦＴ素子に対向する部位
１４４  着色層
１４４ａ  着色層の縁
１４５  透明導電膜
１４６  配向膜
１６０  液晶
１８０  異物
１８１  ブラックマトリクスの縁部
２００Ａ、２００Ｂ  スペーサ
２１０  リブ
２２０  スペーサ（ギャップ形成用スペーサ）
Ｓ  隙間
【図１】
2010181726.tif 000003
【図２】
2010181726.tif 000004
【図３】
2010181726.tif 000005
【図４】
2010181726.tif 000006
【図５】
2010181726.tif 000007
【図６】
2010181726.tif 000008
【図７】
2010181726.tif 000009
【図８】
2010181726.tif 000010