(57)【要約】【課題】蒸着材材料の劣化を防止しながら蒸着速度の制御が可能な蒸着装置及び蒸着方法を提供すること。【解決手段】本発明の一形態に係る蒸着装置は、チャンバと、蒸発源と、チャンバ内圧力センサと、蒸着速度センサと、圧力調整機構と、制御部とを具備する。蒸発源は、チャンバ内に配置され、蒸着材料を収容し、蒸着材料を加熱する加熱機構を備える。チャンバ内圧力センサは、チャンバの内部圧力を計測する。蒸着速度センサは、蒸着材料の蒸着対象物への蒸着速度を計測する。圧力調整機構は、内部圧力を調整する。制御部は、内部圧力と蒸着速度に基づいて圧力調整機構を制御する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバと、
前記チャンバ内に配置され、蒸着材料を収容し、前記蒸着材料を加熱する加熱機構を備える蒸発源と
前記チャンバの内部圧力を計測するチャンバ内圧力センサと、
前記蒸着材料の蒸着対象物への蒸着速度を計測する蒸着速度センサと、
前記内部圧力を調整する圧力調整機構と、
前記内部圧力と前記蒸着速度に基づいて前記圧力調整機構を制御する制御部と
を具備する蒸着装置。
【請求項２】
請求項１に記載の蒸着装置であって、
前記制御部は、前記蒸着速度が予め設定された設定値となるように前記圧力調整機構を制御する
蒸着装置。
【請求項３】
請求項２に記載の蒸着装置であって、
前記制御部は、前記蒸着速度が前記設定値より小さい場合には前記内部圧力を減少させ、前記蒸着速度が前記設定値より大きい場合には前記内部圧力を増加させる
蒸着装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の蒸着装置であって、
前記圧力調整機構は、前記内部空間に接続された調圧バルブである
蒸着装置。
【請求項５】
請求項１から３のいずれか１項に記載の蒸着装置であって、
前記圧力調整機構は、前記内部空間に不活性ガスを供給するガス源である
蒸着装置。
【請求項６】
請求項１に記載の蒸着装置であって、
前記制御部は、さらに、前記内部圧力と前記蒸着速度に基づいて前記加熱機構を制御する
蒸着装置。
【請求項７】
請求項１に記載の蒸着装置であって、
前記蒸発源は、前記蒸着材料を収容する室内空間を形成する圧力室と、前記チャンバ内における前記圧力室の外部空間である室外空間に前記室内空間を連通させるノズルとを有し、
前記チャンバ内圧力センサは前記室外空間の圧力である室外圧力を計測し、
前記蒸着速度センサは前記室内空間の圧力である室内圧力を計測し、
前記制御部は、前記室外圧力と前記室内圧力から前記蒸着速度を算出する
蒸着装置。
【請求項８】
チャンバ内に配置され、蒸着材料を収容し、前記蒸着材料を加熱する加熱機構を備える蒸発源を用い、前記チャンバの内部圧力と、前記蒸着材料の蒸着対象物への蒸着速度に基づいて前記内部圧力を調整する
蒸着方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着材料を蒸発させ、蒸着対象物に付着させる蒸着装置及び蒸着方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
蒸着材料を蒸発させ、蒸着対象物に付着させる蒸着装置は、有機ＥＬ（electro-luminescence）ディスプレイやイメージセンサ等の各種製品の製造に利用されている。蒸着装置は、チャンバ内に配置された蒸発源を備え、ディスプレイのパネル等の蒸着対象物が蒸発源に対向して配置される。
【０００３】
蒸発源は、固体又は液体である蒸着材料を収容可能であり、加熱機構を備える。加熱機構によって蒸着材料を加熱し、発生した蒸気を蒸着対象物に供給する。蒸発源からの蒸着材料の単位時間当たりの放出量、即ち蒸着速度は蒸着材料の加熱温度によって調整することが可能である。
【０００４】
例えば、特許文献１には、加熱温度によって蒸着速度を調整する蒸着装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１７６１２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載のように、加熱温度によって蒸着速度を調整する場合、蒸着速度の調整が困難となる場合がある。蒸着材料の種類によっては蒸発温度と劣化温度が近接しているものもあり、加熱温度を変更すると蒸着材料が蒸発せず、あるいは劣化するおそれがある。
【０００７】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、蒸着材材料の劣化を防止しながら蒸着速度の制御が可能な蒸着装置及び蒸着方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る蒸着装置は、チャンバと、蒸発源と、チャンバ内圧力センサと、蒸着速度センサと、圧力調整機構と、制御部とを具備する。
上記蒸発源は、上記チャンバ内に配置され、蒸着材料を収容し、上記蒸着材料を加熱する加熱機構を備える。
上記チャンバ内圧力センサは、上記チャンバの内部圧力を計測する。
上記蒸着速度センサは、上記蒸着材料の蒸着対象物への蒸着速度を計測する。
上記圧力調整機構は、上記内部圧力を調整する。
上記制御部は、上記内部圧力と上記蒸着速度に基づいて上記圧力調整機構を制御する。
【０００９】
この構成によれば、制御部がチャンバの内部圧力と蒸着速度に基づいて圧力調整機構を制御し、チャンバの内部圧力を調整する。これにより、蒸着材料の加熱温度を変更することなく蒸着速度を制御することが可能であり、熱による蒸着材料の劣化を防止することができる。さらに、蒸着速度によって蒸着対象物に向かう蒸着材料の分布を制御することも可能となる。
【００１０】
上記制御部は、上記蒸着速度が予め設定された設定値となるように上記圧力調整機構を制御してもよい。
【００１１】
上記制御部は、上記蒸着速度が上記設定値より小さい場合には上記内部圧力を減少させ、上記蒸着速度が上記設定値より大きい場合には上記内部圧力を増加させてもよい。
【００１２】
上記圧力調整機構は、上記内部空間に接続された調圧バルブであってもよい。
【００１３】
上記圧力調整機構は、上記内部空間に不活性ガスを供給するガス源であってもよい。
【００１４】
上記制御部は、さらに、上記内部圧力と上記蒸着速度に基づいて上記加熱機構を制御してもよい。
【００１５】
上記蒸発源は、上記蒸着材料を収容する室内空間を形成する圧力室と、上記チャンバ内における上記圧力室の外部空間である室外空間に上記室内空間を連通させるノズルとを有し、
上記チャンバ内圧力センサは上記室外空間の圧力である室外圧力を計測し、
上記蒸着速度センサは上記室内空間の圧力である室内圧力を計測し、
上記制御部は、上記室外圧力と上記室内圧力から上記蒸着速度を算出してもよい。
【００１６】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る蒸着方法は、チャンバ内に配置され、蒸着材料を収容し、上記蒸着材料を加熱する加熱機構を備える蒸発源を用い、上記チャンバの内部圧力と、上記蒸着材料の蒸着対象物への蒸着速度に基づいて上記内部圧力を調整する。
【発明の効果】
【００１７】
以上のように、本発明によれば蒸着材材料の劣化を防止しながら蒸着速度の制御が可能な蒸着装置及び蒸着方法を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る蒸着装置の模式図である。
【図２】同蒸着装置の一部構成の斜視図である。
【図３】同蒸着装置が備える蒸発源の模式図である。
【図４】同蒸着装置が備える蒸着源における蒸着材料の経路を示す模式図である。
【図５】同蒸着装置の動作を示す模式図である。
【図６】同蒸着装置の動作を示す模式図である。
【図７】同蒸着装置における蒸着材料の指向性を示す模式図である。
【図８】同蒸着装置が備える蒸発源の他の構成を示す模式図である。
【図９】同蒸着装置が備える蒸発源の他の構成を示す模式図である。
【図１０】同蒸着装置が備える蒸発源の他の構成を示す模式図である。
【図１１】本発明の第２の実施形態に係る蒸着装置の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
（第１の実施形態）
本技術の第１の実施形態に係る蒸着装置について説明する。
【００２０】
［蒸着装置の構成］
図１は、本実施形態に係る蒸着装置１００の構成を示す模式図であり、図２は、蒸着装置１００の一部構成の斜視図である。以下の図において相互に直交する三方向をそれぞれＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向とする。Ｘ方向及びＹ方向は例えば水平方向、Ｚ方向は例えば鉛直方向である。
【００２１】
これらの図に示すように、蒸着装置１００は、チャンバ１０１、支持機構１０２、蒸発源１０３、温度調整器１０４、蒸着速度センサ１０５、チャンバ内圧力センサ１０６、圧力調整機構１０７及び制御部１０８を備える。
【００２２】
チャンバ１０１は、図示しない真空ポンプに接続され、内部を所定の圧力に維持する。支持機構１０２及び蒸発源１０３はチャンバ１０１内に収容されている。
【００２３】
支持機構１０２は、チャンバ１０１内に配置され、蒸着対象物Ｓを支持する。支持機構１０２は、図２に示すように蒸着対象物Ｓを蒸発源１０３に対向する位置と対向しない位置の間でＸ方向において移動させることが可能に構成されている。蒸着対象物Ｓは例えばディスプレイのパネルである。
【００２４】
蒸着対象物Ｓの表面には、マスクＭが設けられている。マスクＭには所定のパターンで開口が設けられ、蒸着対象物Ｓの表面に蒸着材料のパターンを形成する。なお、蒸着対象物Ｓの全面に蒸着を行う場合にはマスクＭは設けられなくてもよい。
【００２５】
蒸発源１０３は、チャンバ１０１内に配置され、蒸着対象物Ｓに蒸着材料を供給する。
【００２６】
図３は、蒸発源１０３の構造を示す断面図であり、図４は蒸発源１０３における蒸着材料の流れを矢印で示す模式図である。図３に示すように、蒸発源１０３は、圧力室１１１、加熱機構１１２及びノズル１１３を備える。
【００２７】
圧力室１１１は、蒸着材料Ｒを収容する。蒸着材料Ｒは、金属や有機物等であり特に限定されない。以下、圧力室１１１の内部空間を室内空間Ｋ１とし、圧力室１１１の外部空間であってチャンバ１０１内の空間を室外空間Ｋ２とする。
【００２８】
室内空間Ｋ１には、第１分散板１１４、第２分散板１１５及びメッシュ板１１６が設けられている。これらの部材は、蒸発した蒸着材料Ｒの流れを分散させ、各ノズル１１３から蒸着材料Ｒを均等に放出させるためのものである。
【００２９】
第１分散板１１４には複数個所に開口１１４ａが設けられ、第２分散板１１５には第１分散板１１４の開口１１４ａとは対向しない位置に開口１１５ａが設けられている。
【００３０】
図４に示すように、開口１１４ａを通過した蒸着材料Ｒは開口１１５ａに向かって第１分散板１１４と第２分散板１１５の間を流れ、分散される。このような構造はトーナメント方式と呼ばれる。なお、蒸発源１０３は必ずしもトーナメント方式の構造を有するものでなくてもよい。
【００３１】
加熱機構１１２は、圧力室１１１の周囲に設けられ、蒸着材料Ｒを加熱し、蒸発させる。加熱機構１１２は、抵抗加熱又は誘導加熱等によって発熱するものとすることができる。加熱機構１１２には温度調整器１０４が接続され、温度調整器１０４によって加熱機構１１２の加熱温度が調整される。
【００３２】
ノズル１１３は、蒸発した蒸着材料Ｒを放出するノズルであり、室内空間Ｋ１を室外空間Ｋ２に連通させる。ノズル１１３は複数が設けられ、図２に示すように、複数のノズル１１３がＹ方向に沿って配列するものとすることができる。なお、ノズル１１３の数は特に限定されず、１つであってもよい。
【００３３】
蒸着装置１００は、１つの蒸発源１０３を備えるものであってもよく、複数の蒸発源１０３を備えるものであってもよい。複数の蒸発源１０３を備える場合、互いに異なる蒸着材料Ｒを蒸着対象物Ｓに供給するものとすることができる。
【００３４】
温度調整器１０４は、加熱機構１１２に接続され、予め設定された温度となるように加熱機構１１２の温度を調整する。温度調整器１０４は例えば、加熱機構１１２に供給する電力を増減させることにより、加熱機構１１２の温度を調整することができる。
【００３５】
蒸着速度センサ１０５は、蒸着速度を計測する。蒸着速度センサ１０５は、水晶振動子を所定の周波数で発振させ、蒸着材料の付着による周波数変動に基づいて蒸着速度を計測する水晶振動子センサとすることができる。
【００３６】
この他にも蒸着速度センサ１０５は、蒸着速度の計測が可能なものであればよい。蒸着速度センサ１０５は、計測した蒸着速度を制御部１０８に出力する。
【００３７】
チャンバ内圧力センサ１０６は、室外空間Ｋ２内の気体の圧力（以下、チャンバ内圧力Ｐｃ）を測定するセンサである。チャンバ内圧力センサ１０６は、イオンゲージとすることができる。また、チャンバ内圧力センサ１０６は他の圧力センサを用いてもよいが、長寿命とするために蒸着材料Ｒの付着を防止できるものが好適であり、例えば蒸着防止加工を施した圧力計とすることも可能である。
【００３８】
チャンバ内圧力センサ１０６の配置は、チャンバ内圧力を測定できる位置であれば限定されない。チャンバ内圧力センサ１０６は図１に示すように制御部１０８に接続され、測定したチャンバ内圧力Ｐｃを制御部１０８に出力する。
【００３９】
圧力調整機構１０７は、チャンバ内圧力Ｐｃを調整する。圧力調整機構１０７は、チャンバ１０１と真空ポンプの間に接続された調圧バルブとすることができる。また、圧力調整機構１０７は、チャンバ１０１内に不活性ガスを供給することが可能なガス源であってもよい。さらに、圧力調整機構１０７は調圧バルブとガス源の両方を備えるものであってもよい。この他にも圧力調整機構１０７はチャンバ内圧力Ｐｃを調整可能な構成であればよい。
【００４０】
制御部１０８は、チャンバ内圧力センサ１０６から出力されるチャンバ内圧力Ｐｃと、蒸着速度センサ１０５から出力される蒸着速度に基づいて圧力調整機構１０７を制御し、チャンバ内圧力Ｐｃを制御する。制御部１０８は例えば、ＰＬＣ（programmable logic controller）とすることができる。制御部１０８の動作については後述する。
【００４１】
［蒸着装置の動作について］
蒸着装置１００の動作について説明する。図５乃至図６は蒸着装置１００の動作を示す模式図である。
【００４２】
図５に示すように、蒸発源１０３において加熱機構１１２（図３参照）により蒸着材料Ｒを加熱し、蒸着材料Ｒをノズル１１３から放出させる。加熱機構１１２は、温度調整器１０４によって所定の温度に加熱されている。
【００４３】
蒸着開始前には図５に示すように蒸着対象物Ｓは蒸発源１０３から離間した待機位置に位置している。蒸着材料Ｒが所定の温度に到達すると、支持機構１０２を駆動し、図６に示すように蒸着対象物Ｓを蒸発源１０３に対向する位置に移動させる。
【００４４】
蒸着材料Ｒはノズル１１３から蒸着対象物Ｓに向かって飛散し、蒸着対象物Ｓに付着する。また、一部はマスクＭによって遮蔽され、パターニングされる。
【００４５】
蒸着対象物Ｓが終端位置（図中、左端）に到達すると、支持機構１０２は蒸着対象物Ｓを図５に示す待機位置に戻す。
【００４６】
蒸着材料Ｒは、蒸着対象物Ｓの待機位置から終端位置への往路と終端位置から待機位置への復路の両方で蒸着対象物Ｓに蒸着される。これにより、蒸着対象物Ｓの表面に蒸着材料Ｒからなる膜が成膜される。
【００４７】
なお、蒸着対象物Ｓをチャンバ１０１に対して固定し、蒸発源１０３を蒸着対象物Ｓに対して移動させながら蒸着を行ってもよく、蒸着対象物Ｓと蒸発源１０３の相対位置を固体して蒸着を行ってもよい。
【００４８】
［制御部による制御について］
上述のように蒸着材料Ｒが所定の温度に到達すると制御部１０８による圧力調整機構１０７の制御が実施される。
【００４９】
具体的には、制御部１０８が蒸着速度センサ１０５から蒸着速度を取得し、チャンバ内圧力センサ１０６からチャンバ内圧力Ｐｃを取得する。
【００５０】
制御部１０８は、蒸着速度が予め設定された値より小さい場合、圧力調整機構１０７をチャンバ内圧力Ｐｃが減少するように制御する。これにより、蒸着材料Ｒが室内空間Ｋ１から室外空間Ｋ２に流れ易くなり、蒸着速度が上昇する。
【００５１】
また、制御部１０８は、蒸着速度が予め設定された値より大きい場合、圧力調整機構１０７をチャンバ内圧力Ｐｃが増加するように制御する。これにより、蒸着材料Ｒが室内空間Ｋ１から室外空間Ｋ２に流れ難くなり、蒸着速度が低下する。
【００５２】
このように、制御部１０８は、圧力調整機構１０７によってチャンバ内圧力Ｐｃを調整することにより、蒸着速度を制御することが可能である。なお、蒸着速度の設定値は、その蒸着材料について予め蒸着試験を行うことによって求めることが可能である。
【００５３】
さらに、制御部１０８はチャンバ内圧力Ｐｃを調整することによって、蒸着材料Ｒの指向性を制御することが可能である。図７は、蒸着材料Ｒの指向性を示す模式図である。
【００５４】
チャンバ内圧力Ｐｃが大きく、蒸着速度が小さいと、蒸着材料Ｒの流れは分子流となり、図７（ａ）に示すようにシャープな分布となって流れる。このため、蒸着材料Ｒの飛散経路はノズル１１３の形状による幾何学的な制限を大きく受ける。
【００５５】
一方、チャンバ内圧力Ｐｃが小さく、蒸着速度が大きいと、蒸着速度Ｒの流れは粘性流となり、図７（ｂ）に示すようにブロードな分布となって流れる。このため、蒸着材料Ｒの飛散経路はノズル１１３の形状による幾何学的な制限を受け難くなる。
【００５６】
このように制御部１０８は、チャンバ内圧力Ｐｃによって蒸着速度Ｒの指向性を制御することも可能である。
【００５７】
［蒸着装置による効果について］
蒸着装置１００では上述のように、蒸着速度及びチャンバ内圧力Ｐｃに基づいてチャンバ内圧力Ｐｃを調整し、蒸着速度を調整する。加熱機構１１２の温度によって蒸着速度を調整する必要がないため、加熱機構１１２は蒸着材料Ｒの蒸発に適した温度に維持するこことが可能であり、蒸着材料Ｒの劣化を防止することができる。
【００５８】
さらに、蒸着装置１００では、上述のようにチャンバ内圧力Ｐｃを調整することによって、蒸着材料Ｒの指向性を調整することができる。蒸着では、蒸着材料Ｒの種類やマスクＭのパターン等に応じて適切な蒸着材料Ｒの指向性が異なる場合があるが、蒸着装置１００では必要に応じて指向性の調整が可能である。
【００５９】
［変形例］
上記説明において蒸着装置１００は、水晶振動子センサ等である蒸着速度センサ１０５を備えるものとしたが、蒸着速度センサ１０５は、室内空間Ｋ１（図３参照）の圧力（以下、室内圧力）を計測する圧力センサであってもよい。制御部１０８は、室外空間Ｋ２の圧力であるチャンバ内圧力Ｐｃと室内圧力の圧力差から、蒸着速度を算出することが可能である。
【００６０】
また、蒸発源１０３の構造は上述のものに限られない。図８乃至図１０は他の構造を有する蒸発源１０３の模式図である。
【００６１】
図８に示すように、圧力室１１１には蒸着材料Ｒを収容するポット部１２１が設けられてもよい。加熱機構１１２はポット部１２１の周囲に設けられ、蒸着材料Ｒを加熱する。また、図９に示すように、圧力室１１１には分散板が設けられなくてもよい。
【００６２】
さらに、図１０に示すように、蒸発源１０３は圧力室１１１に代えて槽１１７を有するものであってもよい。槽１１７は蒸着材料Ｒを収容し、蒸着対象物Ｓ側が開放された構造を有する。この構造であってもチャンバ内圧力Ｐｃを増減させることによって蒸着速度の調整が可能である。
【００６３】
（第２の実施形態）
本技術の第２の実施形態に係る蒸着装置について説明する。
【００６４】
［蒸着装置の構成］    
図１１は、本実施形態に係る蒸着装置２００の構成を示す模式図である。なお、蒸着装置２００の構成において、第１の実施形態に係る蒸着装置１００と同一の構成については蒸着装置１００と同一の符号を付し、説明を省略する。
【００６５】
図１１に示すように、蒸着装置２００は、チャンバ１０１、支持機構１０２、蒸発源１０３、温度調整器２０４、蒸着速度センサ１０５、チャンバ内圧力センサ１０６、圧力調整機構１０７及び制御部２０８を備える。温度調整器２０４及び制御部２０８以外の構成は第１の実施形態と同一である。
【００６６】
温度調整器２０４は、加熱機構１１２の加熱温度を調整する。ここで、本実施形態に係る温度調整器２０４は、制御部２０８に接続され、加熱温度が制御部２０８によって指示された温度となるように加熱機構１１２を制御する。
【００６７】
制御部２０８は、チャンバ内圧力センサ１０６から出力されるチャンバ内圧力Ｐｃと、蒸着速度センサ１０５から出力される蒸着速度に基づいて圧力調整機構１０７を制御部し、チャンバ内圧力Ｐｃを制御する。
【００６８】
さらに制御部２０８は、蒸着速度センサ１０５から出力される蒸着速度に応じて温度調整器２０４を制御し、加熱機構１１２の加熱温度を調整する。
【００６９】
［制御部による制御について］
蒸着装置２００においても、第１の実施形態と同様に蒸着材料Ｒが所定温度まで加熱され、蒸着が行われる。蒸着材料Ｒが所定の温度に到達すると制御部２０８による温度調整器２０４及び圧力調整機構１０７の制御が実施される。
【００７０】
具体的には、制御部１０８が蒸着速度センサ１０５から蒸着速度を取得し、チャンバ内圧力センサ１０６からチャンバ内圧力Ｐｃを取得する。
【００７１】
制御部１０８は、蒸着速度が予め設定された値より小さい場合、圧力調整機構１０７をチャンバ内圧力Ｐｃが減少するように制御する。これにより、蒸着材料Ｒが室内空間Ｋ１から室外空間Ｋ２に流れ易くなり、蒸着速度が上昇する。
【００７２】
さらに制御部２０８は、温度調整器２０４に加熱機構１１２の加熱温度を上昇させるように指示する。これにより、蒸着材料Ｒの加熱温度が上昇し、蒸着速度が上昇する。
【００７３】
また、制御部２０８は、蒸着速度が予め設定された値より大きい場合、圧力調整機構１０７をチャンバ内圧力Ｐｃが増加するように制御する。これにより、蒸着材料Ｒが室内空間Ｋ１から室外空間Ｋ２に流れ難くなり、蒸着速度が低下する。
【００７４】
さらに制御部２０８は、温度調整器２０４に加熱機構１１２の加熱温度を低下させるように指示する。これにより、蒸着材料Ｒの加熱温度が低下し、蒸着速度が低下する。
【００７５】
このように、制御部２０８は、圧力調整機構１０７によってチャンバ内圧力Ｐｃを調整し、かつ温度調整器２０４によって蒸着材料Ｒの加熱温度を調整することにより、蒸着速度を制御することが可能である。なお、蒸着速度の設定値は、その蒸着材料について予め蒸着試験を行うことによって求めることが可能である。
【００７６】
［蒸着装置による効果について］
蒸着装置２００では、圧力調整機構１０７によるチャンバ内圧力Ｐｃの調整に加え、温度調整器２０４による加熱温度の調整によって、蒸着速度を制御することができる。このため制御部２０８は、蒸着材料Ｒの劣化温度より低い温度では加熱機構１１２による加熱温度によって蒸着速度を調整し、加熱温度が同劣化温度に到達するとチャンバ内圧力Ｐｃによって蒸着速度を調整するような制御が可能である。
【００７７】
［変形例］
本実施形態においても、蒸発源２０３の構造は上述のものに限られず、図８乃至図１０に示したような蒸発源２０３とすることができる。また、蒸着速度センサ１０５は、室内空間Ｋ１（図３参照）の圧力（室内圧力）を計測する圧力センサであってもよい。制御部２０８は、室外空間Ｋ２の圧力であるチャンバ内圧力Ｐｃと室内圧力の圧力差から、蒸着速度を算出することが可能である。
【符号の説明】
【００７８】
１００、２００…蒸着装置
１０１…チャンバ
１０２…支持機構
１０３…蒸発源
１０４、２０４…温度調整器
１０５…蒸着速度センサ
１０６…チャンバ内圧力センサ
１０７…圧力調整機構
１０８、２０８…制御部
１１１…圧力室
１１２…加熱機構
１１３…ノズル
１１４…第１分散板
１１５…第２分散板
１１６…メッシュ板
１２１…ポット部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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