(57)【要約】      （修正有）【課題】密着性と耐久性に優れた偏光分離光学部材を製造する偏光分離光学部材の製造方法とその偏光分離光学部材を提供する。【解決手段】微細凹凸パターンを備え凸部及びその近傍にのみ金属薄膜が付着している転写・転移用モールドと光学制御用パターンが形成された転写用モールドと偏光分離光学素子用基板を用意し、上記転写・転移モールド及び転写用モールド及び偏光分離光学素子用基板を加熱し、上記転写・転移モールド及び転写用モールドを上記偏光分離光学素子用基板に両面から押し付けて、上記微細凹凸パターンと光学制御用パターンを上記偏光分離光学素子用基板の両面に夫々転写すると共に上記金属薄幕を上記偏光分離光学素子用基板側に転移させる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
微細凹凸パターンを備えこの微細凹凸パターンの凸部及びその近傍にのみ金属薄膜が付着している転写・転移用モールドと光学制御用パターンが形成された転写用モールドと偏光分離光学素子用基板を用意し、  上記転写・転移モールド及び転写用モールド
及び偏光分離光学素子用基板を加熱し、  上記転写・転移モールド及び上記転写用モールドを上記偏光分離光学素子用基板に両面から押し付けて、上記微細凹凸パターンと光学制御用パターンを上記偏光分離光学素子用基板の両面に夫々転写すると共に上記金属薄幕を上記偏光分離光学素子用基板側に転移させるようにしたことを特徴とする偏光分離光学素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の偏光分離光学素子の製造方法において、  上記転写・転移用モールドへの金属薄膜の付着は、微細凹凸パターンを備えたモールドを真空蒸着源に対して所定の傾斜角度（θ）をもって対向・配置させた斜め真空蒸着法により実現されるものであることを特徴とする偏光分離光学素子の製造方法。
【請求項３】
請求項２記載の偏光分離光学素子の製造方法において、  上記転写・転移用モールドには予め酸化防止膜が真空蒸着法により付着していて、そこに斜め真空蒸着法により金属薄膜を付着させるようにしたことを特徴とする偏光分離光学素子の製造方法。
【請求項４】
請求項２記載の偏光分離光学素子の製造方法において、  上記転写・転移用モールドは表面が高い撥水性を示す材料又は表面を撥水処理された材料から構成されていることを特徴とする偏光分離光学素子の製造方法。
【請求項５】
請求項１記載の偏光分離光学素子の製造方法において、  上記斜め真空蒸着法により蒸着させる金属は、アルミニウム（Ａｌ）又は銀（Ａｇ）であることを特徴とする偏光分離光学素子の製造方法。
【請求項６】
請求項１記載の偏光分離光学素子の製造方法において、  上記光学制御用パターンが、プリズムアレイ、光拡散用パターン、マイクロレンズアレイの何れかであることを特徴とする偏光分離光学素子の製造方法。
【請求項７】
偏光分離光学素子用基板の一方の面を微細凹凸パターン及び上記微細凹凸パターンの凹部近傍にのみ埋め込まれた金属薄膜とからなる偏光分離素子面とし、偏光分離光学素子用基板の他方の面を光学制御用パターン面としたたことを特徴とする偏光分離光学素子。
【請求項８】
請求項７記載の偏光分離光学素子において、  上記偏光分離素子表面には酸化防止膜又は撥水性皮膜が施されていることを特徴とする偏光分離光学素子。
【請求項９】
請求項７記載の偏光分離光学素子において、  上記金属薄膜はアルミニウム（Ａｌ）又は銀（Ａｇ）製であることを特徴とする偏光分離光学素子。
【請求項１０】
請求項９記載の偏光分離光学素子において、  上記光学制御用パターンが、プリズムアレイ、光拡散用パターン、マイクロレンズアレイの何れかであることを特徴とする偏光分離光学素子。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、光ピックアップや液晶バックライト部材として好適な偏光分離光学素子を製造する偏光分離光学素子の製造方法とその偏光分離光学素子に係り、特に、特殊な成型法により凹凸形状をなす構造体の所定の部位に金属薄膜を密着・固定する際に、プリズム等その他光学機能を有する構造についても同時に成形し、偏光分離機能とプリズム等の機能を同時に有する一体型の光学部材を容易に提供することができるように工夫したものに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から光ピックアップやプロジェクター等の光学系や液晶バックライト部材に用いられる偏光分離光学素子としては、屈折率の異なる材料の多層膜やポリマー延伸フィルムが知られている。しかしながら、これらの製造に際しては、工程が煩雑であったり、多層膜の膜厚制御が困難であったり、光利用効率が悪いといった問題があった。  
【０００３】
一方、微細周期構造体により偏光分離機能が得られることが以前から知られており、特に、ワイヤーグリッド偏光素子の研究・開発が盛んに行われていた。そのような内容を開示するものとして、例えば、特許文献１、特許文献２等がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２４０２９７号公報
【特許文献２】特開２００６−３４４７号公報
【０００５】
上記特許文献１に開示されている内容について図４を参照して説明する。まず、偏光分離光学素子１０１があり、この偏光分離光学素子１０１はＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）樹脂製であり、その表面には凹部１０３と凸部１０５が交互に形成されている。これら凹部１０３と凸部１０５の表面には反射層１０７が設置されている。この反射層１０７は予め設けられているクロム（Ｃｒ）の下地層の上にアルミニウム（Ａｌ）が蒸着された構成になっている。  
【０００６】
又、上記特許文献２には図５に示すような内容が開示されている。まず、偏光分離光学素子２０１があり、この偏光分離光学素子２０１はＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）樹脂製であり、その表面には凹部２０３と凸部２０５が交互に形成されている。又、上記凹部２０３と凸部２０５の表面には反射層２０７が設けられている。この反射層２０７は斜め蒸着によりアルミニウム（Ａｌ）が蒸着されて構成されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記従来の構成によると次のような問題があった。まず、図４に示した構成の場合には、反射層１０７の偏光分離光学素子１０１に対する密着度、すなわち、反射層１０７を構成するアルミニウムの金属薄膜の偏光分離光学素子１０１に対する密着性が低いという問題があった。又、それに伴って耐久性に劣るという問題があり、又、Ｃｒなどの下地層を設ける必要があった。次に、図５に示した構成の場合であるが、この場合にも、図４に示した従来例の場合と同様に、反射層２０７の偏光分離光学素子２０１に対する密着度、すなわち、反射層２０７を構成するアルミニウムの金属薄膜の偏光分離光学素子２０１に対する密着性が低いという問題があった。又、それに伴って耐久性に劣るという問題があった。  
【０００８】
本発明はこのような点に基づいてなされたものでその目的とするところは、密着性と耐久性に優れた偏光分離光学素子を製造する偏光分離光学素子の製造方法とその偏光分離光学素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するべく本願発明の請求項１による偏光分離光学素子の製造方法は、微細凹凸パターンを備えこの微細凹凸パターンの凸部及びその近傍にのみ金属薄膜が付着している転写・転移用モールドと光学制御用パターンが形成された転写用モールドと偏光分離光学素子用基板を用意し、上記転写・転移モールド及び転写用モールド及び偏光分離光学素子用基板を加熱し、上記転写・転移モールド及び上記転写用モールドを上記偏光分離光学素子用基板に両面から押し付けて、上記微細凹凸パターンと光学制御用パターンを上記偏光分離光学素子用基板の両面に夫々転写すると共に上記金属薄幕を上記偏光分離光学素子用基板側に転移させるようにしたことを特徴とするものである。又、請求項２による偏光分離光学素子の製造方法は、請求項１記載の偏光分離光学素子の製造方法において、上記転写・転移用モールドへの金属薄膜の付着は、微細凹凸パターンを備えたモールドを真空蒸着源に対して所定の傾斜角度（θ）をもって対向・配置させた斜め真空蒸着法により実現されるものであることを特徴とするものである。又、請求項３による偏光分離光学素子の製造方法は、請求項２記載の偏光分離光学素子の製造方法において、上記転写・転移用モールドには予め酸化防止膜が真空蒸着法により付着していて、そこに斜め真空蒸着法により金属薄膜を付着させるようにしたことを特徴とするものである。又、請求項４による偏光分離光学素子の製造方法は、請求項２記載の偏光分離光学素子の製造方法において、上記転写・転移用モールドは表面が高い撥水性を示す材料又は表面を撥水処理された材料から構成されていることを特徴とするものである。又、請求項５による偏光分離光学素子の製造方法は、請求項１記載の偏光分離光学素子の製造方法において、上記斜め真空蒸着法により蒸着させる金属は、アルミニウム（Ａｌ）又は銀（Ａｇ）であることを特徴とするものである。又、請求項６による偏光分離光学素子の製造方法は、請求項１記載の偏光分離光学素子の製造方法において、上記光学制御用パターンが、プリズムアレイ、光拡散用パターン、マイクロレンズアレイの何れかであることを特徴とするものである。又、請求項７による偏光分離光学素子は、偏光分離光学素子用基板の一方の面を微細凹凸パターン及び上記微細凹凸パターンの凹部近傍にのみ埋め込まれた金属薄膜とからなる偏光分離素子面とし、偏光分離光学素子用基板の他方の面を光学制御用パターン面としたことを特徴とするものである。又、請求項８による偏光分離光学素子は、請求項７記載の偏光分離光学素子において、上記偏光分離素子面には酸化防止膜又は撥水性皮膜が施されていることを特徴とするものである。又、請求項９による偏光分離光学素子は、請求項７記載の偏光分離光学素子において、上記金属薄膜はアルミニウム（Ａｌ）又は銀（Ａｇ）製であることを特徴とするものである。又、請求項１０による偏光分離光学素子は、請求項９記載の偏光分離光学素子において、上記光学制御用パターンが、プリズムアレイ、光拡散用パターン、マイクロレンズアレイの何れかであることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１０】
以上述べたように本願発明の請求項１による偏光分離光学部材の製造方法は、微細凹凸パターンを備えこの微細凹凸パターンの凸部及びその近傍にのみ金属薄膜が付着している転写・転移用モールドと光学制御用パターンが形成された転写用モールドと偏光分離光学素子用基板を用意し、上記転写・転移モールド及び転写用モールド及び偏光分離光学素子用基板を加熱し、上記転写・転移モールド及び上記転写用モールドを上記偏光分離光学素子用基板に両面から押し付けて、上記微細凹凸パターンと光学制御用パターンを上記偏光分離光学素子用基板の両面に夫々転写すると共に上記金属薄幕を上記偏光分離光学素子用基板側に転移させるようにしたので、まず、所望の構成をなす変更分離光学素子を容易に製造することができる。又、転写・転移用モールドを偏光分離光学素子用基板に押し付けることにより、微細凹凸パターンの転写と金属薄膜の転移を同時に行うようにしているので、工程が簡略化されることはもとより、金属薄膜の偏光分離光学素子用基板に対する密着度を高くすることができ、それによって、偏光分離光学素子の耐久性を向上させることができる。又、同時に、偏光分離光学素子用基板の反対側の面に対しては、プリズム転写用モールドを押し付けて、プリズムアレイのパターンをも形成しているので、偏光分離機能とプリズムによる指向性制御機能の両方を備えた偏光分離光学素子を得ることができるものである。そして、これを液晶バックライト部材に適用した場合には、部品点数の削減と薄型化が可能となりコストの低減を図ることができる。又、金属薄膜が全て偏光分離光学素子用基板側に完全に転移されることになるので、偏光分離光学素子において、転写・転移用モールドの微細凹凸パターンを確実に再現することができる。又、請求項２による偏光分離光学素子の製造方法は、請求項１記載の偏光分離光学素子の製造方法において、上記転写・転移用モールドへの金属薄膜の付着は、微細凹凸パターンを備えたモールドを真空蒸着源に対して所定の傾斜角度（θ）をもって対向・配置させた斜め真空蒸着法により実現されるようにした場合には、必要な部位に確実に金属薄膜を付着させることができる。又、請求項３による偏光分離光学素子の製造方法は、請求項２記載の偏光分離光学素子の製造方法において、上記転写・転移用モールドには予め酸化防止膜が真空蒸着法により付着していて、そこに斜め真空蒸着法により金属薄膜を付着させるようにした場合には、耐久性に優れた偏光分離光学素子を提供することができる。又、請求項４による偏光分離光学素子の製造方法は、請求項２記載の偏光分離光学素子の製造方法において、上記転写・転移用モールドは表面が高い撥水性を示す材料又は表面を撥水処理された材料から構成されているものとした場合には、金属薄膜の転移を確実に行うことができる。又、請求項５による偏光分離光学素子の製造方法は、請求項１記載の偏光分離光学素子の製造方法において、上記斜め真空蒸着法により蒸着させる金属は、アルミニウム（Ａｌ）又は銀（Ａｇ）であるので、所望の偏光分離性能を得ることができる。又、請求項６による偏光分離光学素子の製造方法は、請求項１記載の偏光分離光学素子の製造方法において、上記光学制御用パタ���ンが、プリズムアレイ、光拡散用パターン、マイクロレンズアレイの何れかであるので、所望の光学制御用パターンを得ることができる。又、請求項７〜請求項１０は本願発明を偏光分離光学素子としてクレームしたものである。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１の実施の形態を示す図で、偏光分離光学素子の製造方法を工程順に示す図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態を示す図で、偏光分離光学素子の製造方法を工程順に示す図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態を示す図で、偏光分離光学素子の製造方法を工程順に示す図である。
【図４】従来例を示す図で、偏光分離光学素子の構成を示す側面図である。
【図５】従来例を示す図で、偏光分離光学素子の構成を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図１及び図２を参照して本発明の第１の実施の形態を説明する。本実施の形態の場合には、最終的にフレキシブルポリマー偏光分離光学素子（偏光分離光学素子）１{図２（ｄ）に示す}を得るための製造方法
を示すものである。上記フレキシブルポリマー偏光分離光学素子１は、図２（ｄ）に示すように、その一面側（図中上側面）に微細凹凸パターン３を有している。この微細凹凸パターン３の底部又は近傍には金属薄膜５が埋め込まれている。これら微細凹凸パターン３と金属薄膜５とによって偏光分離構造を構成している。
【００１３】
上記フレキシブルポリマー偏光分離光学素子１の他面側（図中下面側）にはプリズムアレイ７が設けられていて、このプリズムアレイ７によって光学制御用パターンを構成しているものである。尚、上記フレキシブルポリマー偏光分離光学素子１は、例えば、液晶バックライト部材として使用されるものである。
【００１４】
次に、上記フレキシブルポリマー偏光分離光学素子１の製造工程について説明する。まず、図１（ａ）に示すように、転写・転移用モールド１１があり、この転写・転移用モールド１１の一面側（図中上側）には予め微細凹凸パターン１３が設けられている。次に、図１（ｂ）に示すように、上記転写・転移用モールド１１に一面側に対して斜め真空蒸着処理が施される。すなわち、図１（ｂ）に示すように、まず、真空蒸着源１５があり、この真空蒸着源１５上に上記転写・転移モールド１１を所定の傾斜角度（θ）をもって設置する。それによって、上記転写・転移モールド１１の一面側に斜め真空蒸着が施される。それによって、上記微細凹凸パターン１３の凸部及びその近傍の側面に金属薄膜１７が蒸着される。
【００１５】
上記微細凹凸パターン１３であるが、最終的に上記金属薄膜１７が上記フレキシブルポリマー偏光分離光学素子１側に転移され易いもの、つまり、上記金属薄膜１７の蒸着時の上記転写・転移モールド１１に対する密着度が低いものが好ましい。具体的には、高撥水性の樹脂材料、表面が撥水処理された無機材料、例えば、ガラス、シリコン（Ｓｉ）、金属等が好ましい。
【００１６】
又、上記転写・転移用モールド１１としては、耐久性の面からシリコン（Ｓｉ）等のマスターモールドからパターン転写によって複製されるものであって、高耐久性、高強度、表面疎水性に優れた材料が好ましい。具体的には、エポキシ樹脂やフッ素樹脂等が考えられる。
【００１７】
又、上記金属薄膜１７としては、蒸着が可能なものであればこれを特に限定するものではないが、反射特性の観点から。例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）等が好ましい。  
【００１８】
又、上記フレキシブルポリマー偏光分離光学素子１の材料としては、パターン転写が可能な熱可塑性樹脂であって、透明、且つ、フレキシブル性を有するものが好ましく、例えば、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、ＰＣ（ポリカーボネイト）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、シクロオレフィン樹脂等のフィルム状のものが好ましい。又、用途に応じてシート状のものであってもよい。  因みに、本実施の形態においては、後述するフレキシブルポリマー基板３１を使用するものである。  
【００１９】
上記微細凹凸パターン１３としては、例えば、図１（ｃ）に示すように、周期的なラインパターンが好ましい。又、可視光領域での偏光分離光学素子としての機能を発揮するために、そのピッチは可視光の最短波長以下、さらには、２５０ｎｍ以下が好ましい。  尚、上記微細凹凸パターン１３は、例えば、電子線リソグラフィー、エッチング、ナノインプリント、干渉露光法等の方法により形成される。  
【００２０】
又、上記傾斜角度（θ）は、上記微細凹凸パターン１３の周期や高さに応じて、凸部及びその近傍の側面にのみ金属薄膜１７が蒸着されるように、適宜設定されることになる。この実施の形態の場合には、７０°〜８０°の範囲で設定されている。又、斜め蒸着は、金属薄膜１７の均一性を確保するために、同じ傾斜角度（θ）で左右両側から同じ回数ずつ行うことが好ましい。  
【００２１】
次に、図２（ａ）に示すように、プリズムアレイ２１が形成されたプリズム転写用モールド２３が用意される。上記プリズムアレイ２１は、液晶バックライト部材で光の指向性制御に使用される。上記プリズムアレイ２１は、例えば、フォトリソグラフィー、エッチング、電気鍍金（電鋳）、機械加工等により形成される。又、上記プリズム転写用モールド２３の材質としては、熱膨張等の影響を考慮して、既に説明した転写・転移用モールド１１と同じ材質であることが好ましい。具体的には、エポキシ樹脂やフッ素樹脂等が考えられる。  尚、上記プリズム転写用モールド２３に設けられる微細パターンとしては、上記プリズムアレイ２１に限定されるものではなく、例えば、拡散パターンやマイクロレンズアレイ等の光制御用の各種パターンが適用使用可能である。  
【００２２】
次に、図２（ｂ）に示すように、フレキシブルポリマー基板（偏光分離光学素子用基板）３１を用意する。そし、図２（ｃ）に示すように、上記フレキシブルポリマー基板３１の両面に対して、上記転写・転移用モールド１１と上記プリズム転写用モールド２３を使用してパターンの転写と金属薄膜の転移を行う。その際、フレキシブルポリマー基板３１と転写・転移用モールド１１と上記プリズム転写用モールド２３を樹脂材料のガラス転移温度付近まで加熱する。具体的には、フレキシブルポリマー基板３１とプリズム転写用モールド２３を１２０℃程度まで加熱し、転写・転移用モールド１１を１３０℃程度まで加熱する。そして、樹脂が柔らかくなったところで、フレキシブルポリマー基板３１の両面に転写・転移用モールド１１と上記プリズム転写用モールド２３を押し付ける。具体的には、例えば、５ＭＰａの圧力で２分間程度押し付ける。そして、一定時間経過後に、フレキシブルポリマー基板３１の両面に転写・転移用モールド１１と上記プリズム転写用モールド２３を押し付けたままの状態で冷却する（例えば、１００℃以下まで冷却する）。  
【００２３】
次に、図２（ｄ）に示すように、フレキシブルポリマー基板３１の両面から、転写・転移用モールド１１と上記プリズム転写用モールド２３を剥離させる。それによって、最初に説明した所望のフレキシブルポリマー偏光分離光学素子１を得ることができる。  又、転移された金属薄膜５をマスクとして使用し、フレキシブルポリマー偏光分離光学素子１に、必要に応じてドライエッチングを施すことにより、より高効率な偏光分離光学素子となるように形状制御を行うことも考えられる。  又、転写・転移用モールド１１に関しては、金属薄膜１７が全てフレキシブルポリマー基板３１側に転移されることになるので、繰り返し使用する場合には、再度斜め蒸着から行うことが望ましい。  
【００２４】
以上本実施の形態によると次のような効果を奏することができる。  まず、所望の構成をなすフレキシブルポリマー偏光分離光学素子１を容易に製造することができる。  又、転写・転移用モールド１１をフレキシブルポリマー基板３１に押し付けることにより、微細凹凸パターン１３の転写と金属薄膜１７の転移を同時に行うようにしているので、工程が簡略化されることはもとより、金属薄膜１７のフレキシブルポリマー基板３１に対する密着度を高くすることができ、それによって、フレキシブルポリマー偏光分離光学素子１の耐久性を向上させることができる。  又、同時に、フレキシブルポリマー基板３１の反対側の面に対しては、プリズム転写用モールド２３を押し付けて、プリズムアレイ２１のパターンをも形成しているので、偏光分離機能とプリズムによる指向性制御機能の両方を備えたフレキシブルポリマー偏光分離光学素子１を得ることができるものである。そして、これを液晶バックライト部材に適用した場合には、部品点数の削減と薄型化が可能となりコストの低減を図ることができる。  又、金属薄膜１７が全てフレキシブルポリマー基板３１側に完全に転移されることになるので、フレキシブルポリマー偏光分離光学素子１において、転写・転移用モールド１１の微細凹凸パターン１３を確実に再現することができる。  
【００２５】
次に、図３を参照して本発明の第２の実施の形態を説明する。まず、図３（ａ）に示すように、転写・転移用モールド１１に対して、通常の真空蒸着法によりは酸化防止膜４１を設ける。この酸化防止膜４１は、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）製である。それ以降の工程は前記第１の実施の形態で説明したものと同じである。すなわち、図３（ｂ）に示すように、転写・転移用モールド１１の一面側に対して斜め真空蒸着処理が施される。それによって、微細凹凸パターン１３の凸部及び凸部近傍の側面に金属薄膜１７が蒸着される。  
【００２６】
次に、図３（ｃ）に示すように、プリズムアレイ２１が形成されたプリズム転写用モールド２３を用意すると共に、フレキシブルポリマー基板３１を用意する。そし、図３（ｃ）に示すように、上記フレキシブルポリマー基板３１の両面に対して、上記転写・転移用モールド１１と上記プリズム転写用モールド２３を使用してパターンの転写と金属薄膜の転移を行う。その際、フレキシブルポリマー基板３１と転写・転移用モールド１１と上記プリズム転写用モールド２３を樹脂材料のガラス転移温度付近まで加熱する。具体的には、フレキシブルポリマー基板３１とプリズム転写用モールド２３を１２０℃程度まで加熱し、転写・転移用モールド１１を１３０℃程度まで加熱する。そして、樹脂が柔らかくなったところで、フレキシブルポリマー基板３１の両面に転写・転移用モールド１１と上記プリズム転写用モールド２３を押し付ける。その際の押し付け力は、例えば、５ＭＰａの圧力で２分間程度押し付ける。そして、一定時間経過後に、フレキシブルポリマー基板３１の両面に転写・転移用モールド１１と上記プリズム転写用モールド２３を押し付けたままの状態で冷却する（例えば、１００℃以下まで冷却する）。  
【００２７】
次に、フレキシブルポリマー基板３１の両面から、転写・転移用モールド１１と上記プリズム転写用モールド２３を剥離させる。それによって、所望のフレキシブルポリマー偏光分離光学素子１を得ることができる。その際、金属薄膜５の表面に酸化防止膜４１が設けられた構成になっているので耐久性に優れたフレキシブルポリマー偏光分離光学素子１となっている。  
【００２８】
したがって、前記第１の実施の形態と同様の効果を奏することができると共に、より耐久性に優れたフレキシブルポリマー偏光分離光学素子１を得ることができる。  
【００２９】
尚、本発明は前記第１、第２の実施の形態に限定されるものではない。  例えば、前記第２の実施の形態においては、酸化防止膜４１を通常の真空蒸着法により蒸着しているが、これについても斜め真空蒸着法により行うことも考えられる。  又、酸化防止膜以外にも、例えば、撥水効果が期待できる材料を蒸着することも考えられる。  又、全記第１、第２の実施の形態においては、偏光分離光学素子基板として、フレキシブルポリマー基板を使用したがこれに限定されるものではない。  その他、図示して説明したものはあくまで一例である。
【産業上の利用可能性】
【００３０】
本発明は、偏光分離光学素子の製造方法とその偏光分離光学素子に係り、特に、特殊な成型法により凹凸形状をなす構造体の所定の部位に金属薄膜を密着・固定する際に、プリズム等その他光学機能を有する構造についても同時に成形し、偏光分離機能とプリズム等の機能を有する一体型の光学部材を容易に提供することができるように工夫したものに関し、例えば、光ピックアップや液晶バックライト部材として好適である。
【符号の説明】
【００３１】
１  フレキシブルポリマー偏光分離光学素子（偏光分離光学素子）３  微細凹凸パターン５  金属薄膜７  プリズムアレイ１１  転写・転移用モールド１３  微細凹凸パターン１５  蒸着源１７  金属薄膜２１  プリズムアレイ２１２３  プリズム転写用モールド３１  フレキシブルポリマー基板４１  酸化防止膜 
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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