(57)【要約】【課題】被検光学系のＭＴＦ周波数特性を簡単に測定する。【解決手段】本発明を例示する測定装置の一態様は、高輝度領域と低輝度領域とを一定ピッチで交互に配したストライプチャート（１６）からの射出光を被検光学系（１００）へ投射し、その被検光学系にストライプチャートの像を形成させる投射手段（１０）と、被検光学系が形成する像の少なくともピッチ方向の強度分布を検出する検出手段（２０）と、ストライプチャートの少なくともピッチ方向の輝度分布を記憶する記憶手段（３７）と、検出手段が検出した強度分布と、記憶手段が記憶した輝度分布とに基づき、被検光学系のＭＴＦ周波数特性を算出する演算手段（３３）とを備える。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高輝度領域と低輝度領域とを一定ピッチで交互に配したストライプチャートからの射出光を被検光学系へ投射し、その被検光学系に前記ストライプチャートの像であるストライプ像を形成させる投射手段と、
前記被検光学系が形成するストライプ像の少なくともピッチ方向の強度分布を検出する検出手段と、
前記ストライプチャートの少なくともピッチ方向の輝度分布を記憶する記憶手段と、
前記検出手段が検出したストライプ像の強度分布と、前記記憶手段が記憶したストライプチャートの輝度分布とに基づき、前記被検光学系のＭＴＦ周波数特性を算出する演算手段と
を備えることを特徴とする測定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の測定装置において、
前記演算手段は、
前記ストライプ像のピッチ方向の強度分布をＩ’（ｘ）と、前記ストライプチャートのピッチ方向の輝度分布をＩ（ｘ）と、以下の式（１）とに基づき、前記ＭＴＦ周波数特性ＭＴＦ（ω）を算出する
【数３】
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但し、式（１）におけるＦ｛Ａ（ｘ）｝は分布Ａ（ｘ）のフーリエ変換であり、ωは空間周波数である
ことを特徴とする測定装置。
【請求項３】
請求項２に記載の測定装置において、
前記検出手段は、
前記ストライプ像の強度分布を二次元方向に亘り検出する撮像素子であり、
前記演算手段は、
前記ＭＴＦ周波数特性ＭＴＦ（ω）を算出するに当たり、前記検出手段が検出したストライプ像の強度分布をそのライン方向にかけて平均化することにより、そのストライプ像のピッチ方向の強度分布Ｉ’（ｘ）を算出する
ことを特徴とする測定装置。
【請求項４】
請求項１に記載の測定装置において、
前記被検光学系から前記検出手段までの測定距離を変化させながら前記検出手段に対して繰り返し検出を行わせる制御手段を更に備え、
前記演算手段は、
前記検出手段が検出した複数のストライプ像の強度分布の各々と、前記記憶手段が記憶したストライプチャートの輝度分布とに基づき、前記被検光学系の測定距離毎のＭＴＦ周波数特性を算出する
ことを特徴とする測定装置。
【請求項５】
請求項４に記載の測定装置において、
前記演算手段は、
前記被検光学系の測定距離毎のＭＴＦ周波数特性に基づき、前記被検光学系のジャストフォーカス位置を算出する
ことを特徴とする測定装置。
【請求項６】
請求項５に記載の測定装置において、
前記演算手段は、
前記被検光学系の測定距離毎のＭＴＦ周波数特性から、前記被検光学系の空間周波数毎のＭＴＦ距離特性を算出し、それらの特性が描く複数のカーブのピーク距離を平均化することにより、前記被検光学系のジャストフォーカス位置を算出する
ことを特徴とする測定装置。
【請求項７】
請求項６に記載の測定装置において、
前記演算手段は、
前記被検光学系の測定距離毎のＭＴＦ周波数測定から、前記被検光学系の空間周波数毎のＭＴＦ距離特性を算出し、それらの特性が描く複数のカーブのピーク距離の重み付け平均値を、前記被検光学系のジャストフォーカス位置を示す情報として算出する
ことを特徴とする測定装置。
【請求項８】
高輝度領域と低輝度領域とを一定ピッチで交互に配したストライプチャートからの射出光を被検光学系へ投射し、その被検光学系の前記ストライプチャートの像であるストライプ像を形成させる投射手順と、
前記被検光学系が形成するストライプ像の少なくともピッチ方向の強度分布を検出する検出手順と、
前記ストライプチャートの少なくともピッチ方向の輝度分布を記憶する記憶手順と、
前記検出手順で検出されたストライプ像の強度分布と、前記記憶手順で記憶したストライプチャートの輝度分布とに基づき、前記被検光学系のＭＴＦ周波数特性を算出する演算手順と
を含むことを特徴とする測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
カメラの撮影レンズなどの被検光学系のＭＴＦ周波数特性（ＭＴＦの空間周波数特性）を測定する測定装置及び測定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、カメラの撮影レンズなどの被検光学系のジャストフォーカス位置を正確に測定する測定方法が開示されている。この測定方法では、被検光学系の設計焦点面の近傍に撮像素子を配置し、被検光学系から撮像素子までの距離（測定距離）を変化させながら、被検光学系が形成するチャートの像を繰り返し撮像し、複数枚の画像を取得する。
【０００３】
この測定で通常使用されるチャートは、ピッチの異なる複数種類のストライプパターンを所定の位置関係で並べたものである。この場合、１枚の画像中に複数種類のストライプ像が現れるので、それらストライプ像の最高輝度及び最低輝度に基づけば、被検光学系のＭＴＦ周波数特性を算出することができる。この算出を全ての画像について行えば、各測定距離における被検光学系のＭＴＦ周波数特性が求まるので、ジャストフォーカス位置を正確に求めることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許開２００７−９４３３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら従来の測定方法では、複数種類のストライプパターンの各々と被検光学系の光軸との関係を既知の関係（又は予め決められた関係）にしておく必要があるので、チャートと被検光学系との間の位置合わせが難しかった。
【０００６】
そこで本発明は、被検光学系のＭＴＦ周波数特性を簡単に測定することのできる測定装置及び測定方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明を例示する測定装置の一態様は、高輝度領域と低輝度領域とを一定ピッチで交互に配したストライプチャートからの射出光を被検光学系へ投射し、その被検光学系にストライプチャートの像であるストライプ像を形成させる投射手段と、被検光学系が形成するストライプ像の少なくともピッチ方向の強度分布を検出する検出手段と、ストライプチャートの少なくともピッチ方向の輝度分布を予め記憶する記憶手段と、検出手段が検出したストライプ像の強度分布と、記憶手段が記憶したストライプチャートの輝度分布とに基づき、被検光学系のＭＴＦ周波数特性を算出する演算手段とを備えるものである。
【０００８】
本発明を例示する測定方法の一態様は、高輝度領域と低輝度領域とを一定ピッチで交互に配したストライプチャートからの射出光を被検光学系へ投射し、その被検光学系のストライプチャートの像であるストライプ像を形成させる投射手順と、被検光学系が形成するストライプ像の少なくともピッチ方向の強度分布を検出する検出手順と、ストライプチャートの少なくともピッチ方向の輝度分布を記憶する記憶手順と、検出手順で検出されたストライプ像の強度分布と、記憶手順で記憶したストライプチャートの輝度分布とに基づき、被検光学系のＭＴＦ周波数特性を算出する演算手順とを含むものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、被検光学系のＭＴＦ周波数特性を簡単に測定することのできる測定装置及び測定方法が実現する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】測定装置の構成図
【図２】チャート１６を説明する図
【図３】測定時におけるＣＰＵ３３の動作フローチャート
【図４】ストライプ画像Ｉ’を説明する図
【図５】測定距離毎のＭＴＦ周波数特性を示す模式図
【図６】空間周波数毎のＭＴＦ距離特性の一例
【図７】測定結果の一例
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［実施形態］  
以下、本発明の１の実施形態である測定装置を説明する。
【００１２】
図１は、測定装置の構成図である。図１に示すとおり測定装置１には、投射光学系１０と、被検レンズ１００と、測定装置本体２０と、演算・制御装置３０とが配置される。なお、被検レンズ１００は、結像光学系であり、例えばカメラの撮影レンズである。
【００１３】
投射光学系１０には、光源１１と、反射鏡１２と、拡散板１３と、コンデンサレンズ１４と、フィルタ１５と、チャート１６と、コリメータレンズ１７とが配置される。なお、フィルタ１５は、不要な波長の光が被検レンズ１００へ入射するのを防ぐためのフィルタである。
【００１４】
光源１１から発した光は、反射鏡１２で反射された後に拡散板１３で均一化され、コンデンサレンズ１４及びフィルタ１５を介してチャート１６を正面からほぼ均一に照明する。チャート１６はコリメータレンズ１７の焦点位置に配置されているので、チャート１６を通過した光は、コリメータレンズ１７により平行光束Ｌ１となって被検レンズ１００へ入射する。
【００１５】
測定装置本体２０には、被検レンズ１００から射出した集光光束Ｌ２を受光するＣＣＤなどのエリアセンサ２２と、被検レンズ１００からエリアセンサ２２の撮像面までの光軸方向の距離（測定距離Ｌ）を変化させる移動ステージ２４とが備えられる。
【００１６】
なお、エリアセンサ２２上には、被検レンズ１００によるチャート１６の像が形成されるが、エリアセンサ２２の撮像面が被検レンズ１００のジャストフォーカス位置にあるときには、チャート１６の像のコントラストは最高となり、エリアセンサ２２の撮像面がレンズ１００のジャストフォーカス位置からずれていたときには、チャート１６の像のコントラストは低下する。
【００１７】
演算・制御装置３０には、エリアセンサ２２が出力する画像信号をＡ／Ｄ変換するＡ／Ｄ変換器３１と、Ａ／Ｄ変換器３１が出力する画像信号に対して処理を施すＣＰＵ３３と、その処理に必要な情報（ＣＰＵ３３の動作プログラムなど）を記憶するメモリ３７とが備えられる。なお、ＣＰＵ３３には、測定装置本体２０を制御する制御部としての機能と、測定装置本体２０が取得した画像信号を処理する演算部としての機能とがある。
【００１８】
図２（Ａ）は、チャート１６を正面から（被検レンズ１００の光軸方向から）見た図である。図２（Ａ）に示すとおりチャート１６は、入射光を透過する透過領域１６ｂと、入射光を遮光する遮光領域１６ｄとを並べた部分遮光マスクであって、チャート１６の中央部は、互いに等しい幅のライン状の透過領域１６ｂとライン状の遮光領域１６ｄとが交互に繰り返し配列されたストライプパターンＰになっている。
【００１９】
なお、本実施形態のチャート１６には、ピッチの異なる複数種類のストライプパターンＰが形成されている必要は無く、少なくとも１種類のストライプパターンＰが形成されていれば十分である。以下、ストライプパターンＰのピッチ方向をｘ方向とし、ストライプパターンＰのライン方向をｙ方向とする。
【００２０】
また、前述した被検レンズ１００の光軸は、ストライプパターンＰの中心近傍に位置しているものとする。但し、本実施形態では他の種類のストライプパターンを使用しないので、ストライプパターンＰにおける被検レンズ１００の光軸位置が既知である必要は無い。したがって、本実施形態では、チャート１６と被検レンズ１００との間の位置合わせが容易である。
【００２１】
また、前述した被検レンズ１００の視野Ｆは、ストライプパターンＰの一部（少なくとも１ピッチ分）を捉えている。
【００２２】
また、前述した光源１１がオンされると、チャート１６の全体がほぼ均一に照明されるが、その場合に被検レンズ１００から見たストライプパターンＰのピッチ方向（ｘ方向）の輝度分布Ｉ（ｘ）は、図２（Ｂ）に示すとおり矩形波状である。この輝度分布Ｉ（ｘ）の情報は、ユーザから演算・制御装置３０に対して予め入力され、前述したメモリ３７へ格納されているものとする。
【００２３】
なお、メモリ３７へ格納される輝度分布Ｉ（ｘ）の情報は、ストライプパターンＰの各位置の絶対的な輝度を示している必要は無く、ストライプパターンＰの各位置の相対的な輝度を示していれば十分である。
【００２４】
また、メモリ３７へ格納される輝度分布Ｉ（ｘ）の情報は、ストライプパターンＰの全部の情報である必要は無く、少なくとも被検レンズ１００の視野Ｆによって捉えられる部分の情報を含んでいれば十分である。
【００２５】
図３は、測定時におけるＣＰＵ３３の動作フローチャートである。この動作フローチャートは、前述した動作プログラムに従って実行される。以下、図３の各ステップを順に説明する。
【００２６】
ステップＳ１１：ＣＰＵ３３は、移動ステージ２４を必要に応じて駆動し、測定距離Ｌを初期値に設定する。
【００２７】
ステップＳ１２：ＣＰＵ３３は、エリアセンサ２２を駆動し、そのエリアセンサ２２から１フレーム分の画像信号を取り込む。この画像信号は、被検レンズ１００の視野Ｆが捉えた画像を示しており、その画像中には、図４（Ａ）に示すとおり、ストライプパターンＰのうち、被検レンズ１００の視野Ｆが捉えた部分の像（以下、「ストライプ画像Ｉ’」と称す。）が現れている。なお、ストライプ画像Ｉ’のコントラストは、現在の測定距離Ｌがジャストフォーカス位置に近いときほど高くなる。
【００２８】
ステップＳ１３：ＣＰＵ３３は、測定距離Ｌの変更回数が所定値に達したか否かを判別し、所定値に達していなかった場合にはステップＳ１４へ移行し、所定値に達していた場合にはステップＳ１５へ移行する。なお、ここでは９通りの測定距離Ｌの各々にてストライプ画像Ｉ’を取得することを想定し、本ステップの判別基準である所定値は、「８」に設定されたと仮定する。これによって、本実施形態ではステップＳ１２、Ｓ１３が９回に亘って繰り返され、その結果９個のストライプ画像Ｉ’が取得される。
【００２９】
ステップＳ１４：ＣＰＵ３３は、移動ステージ２４を駆動することにより、測定距離Ｌを１ステップ分だけずらしてから（Ｌ＝Ｌ＋Δとしてから）ステップＳ１２に戻る。なお、測定距離Ｌの１ステップ分の変更量Δは、例えば２５μｍに設定される。したがって、本実施形態で取得される９個のストライプ画像Ｉ’の間では、測定距離Ｌが２５μｍずつ異なることになる。
【００３０】
ステップＳ１５：ＣＰＵ３３は、ステップＳ１１〜Ｓ１４のループで取得された９個のストライプ画像Ｉ’に対して個別にＭＴＦ演算を施す。ＭＴＦ演算の手順は、以下の手順（ａ）、（ｂ）、（ｃ）からなる。
【００３１】
（ａ）ストライプ画像Ｉ’をライン方向（ｙ方向）にかけて平均化することにより、図４（Ｂ）に示すとおりストライプ画像Ｉ’のピッチ方向の輝度分布Ｉ’（ｘ）を算出する。
【００３２】
（ｂ）手順（ａ）で算出した輝度分布Ｉ’（ｘ）と、メモリ３７に格納された輝度分布Ｉ（ｘ）とに基づき、被検レンズ１００のＭＴＦ周波数特性を算出する。
【００３３】
ここで、ＭＴＦ周波数特性を「ＭＴＦ（ω）」とおくと、ＭＴＦ（ω）は、下式（１）で表される。
【００３４】
【数１】
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但し、上式（１）におけるＦ｛Ａ（ｘ）｝は、分布Ａ（ｘ）のフーリエ変換であり、ωは空間周波数である。
【００３５】
本手順（ｂ）では、この式（１）に基づきＭＴＦ（ω）が算出される。なお、上記手順（ａ）で取得される輝度分布Ｉ’（ｘ）は実測データであり、離散データなので、本手順（ｂ）で算出されるＭＴＦ（ω）も、離散データとなる。
【００３６】
（ｃ）ω＝０におけるＭＴＦ値が１となるよう、手順（ｂ）で算出したＭＴＦ周波数特性ＭＴＦ（ω）を規格化する。以下、規格化後のＭＴＦ周波数特性ＭＴＦ（ω）を単に「ＭＴＦ周波数特性ＭＴＦ（ω）」と称す（以上、手順（ｃ））。
【００３７】
本ステップ（ステップＳ１５）では、以上のＭＴＦ演算が９個のストライプ画像Ｉ’に対してそれぞれ施されるので、図５に模式的に示すとおり、９個のＭＴＦ周波数特性ＭＴＦＬ１（ω）、ＭＴＦＬ２（ω）、…、ＭＴＦＬ９（ω）が取得される。これらのＭＴＦ周波数特性ＭＴＦＬ１（ω）、ＭＴＦＬ２（ω）、…、ＭＴＦＬ９（ω）の間では、測定距離Ｌが２５μｍずつ異なる。
【００３８】
ステップＳ１６：ＣＰＵ３３は、測定距離毎のＭＴＦ周波数特性、すなわちＭＴＦ周波数特性ＭＴＦＬ１（ω）、ＭＴＦＬ２（ω）、…、ＭＴＦＬ９（ω）に基づき、図６に示すような空間周波数毎のＭＴＦ距離特性（ＭＴＦの距離特性）、すなわちＭＴＦ距離特性ＭＴＦω１（Ｌ）、ＭＴＦω２（Ｌ）、…、ＭＴＦω８（Ｌ）を算出する（なお、ＭＴＦ距離特性は、ＭＴＦＤと呼ばれることもある。）。これらのＭＴＦ距離特性ＭＴＦω１（Ｌ）、ＭＴＦω２（Ｌ）、…、ＭＴＦω８（Ｌ）の間では、空間周波数ωが互いに異なる。
【００３９】
ここでは、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω１（Ｌ）の空間周波数ω１を２０．０８９２８６［ＬＰ／ｍｍ］とし、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω２（Ｌ）の空間周波数ω２を２４．５５３５７１［ＬＰ／ｍｍ］とし、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω３（Ｌ）の空間周波数ω３を２９．０１７８５７［ＬＰ／ｍｍ］とし、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω４（Ｌ）の空間周波数ω４を３３．４８２１４３［ＬＰ／ｍｍ］とし、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω５（Ｌ）の空間周波数ω５を３７．９４６４２９［ＬＰ／ｍｍ］とし、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω５（Ｌ）の空間周波数ω６を４２．４１０７１４［ＬＰ／ｍｍ］とし、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω７（Ｌ）の空間周波数ω７を４６．８７５［ＬＰ／ｍｍ］とし、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω８（Ｌ）の空間周波数ω８を５１．３３９２８６［ＬＰ／ｍｍ］とした。なお、図６では、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω１（Ｌ）、ＭＴＦω２（Ｌ）、…、ＭＴＦω８（Ｌ）の各々を曲線で描いたが、実際には離散データとして算出される。
【００４０】
ステップＳ１７：ＣＰＵ３３は、以下の手順（ｃ）〜（ｆ）により被検レンズ１００のジャストフォーカス位置を算出する。
【００４１】
（ｃ）離散データであるＭＴＦ距離特性ＭＴＦω１（Ｌ）、ＭＴＦω２（Ｌ）、…、ＭＴＦω８（Ｌ）の近似曲線を算出する。近似曲線の算出方法は、スプライン近似など、公知の何れかの算出方法を適用することができる。以下、図６に示すとおり、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω１（Ｌ）の近似曲線をＣ１とおき、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω２（Ｌ）の近似曲線をＣ２とおき、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω３（Ｌ）の近似曲線をＣ３とおき、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω４（Ｌ）の近似曲線をＣ４とおき、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω５（Ｌ）の近似曲線をＣ５とおき、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω６（Ｌ）の近似曲線をＣ６とおき、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω７（Ｌ）の近似曲線をＣ７とおき、ＭＴＦ距離特性ＭＴＦω８（Ｌ）の近似曲線をＣ８とおく。
【００４２】
（ｄ）曲線Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４、Ｃ５、Ｃ６、Ｃ７、Ｃ８の各々のピーク距離（曲線にピークを与えるような測定距離）Ｌ１０、Ｌ２０、Ｌ３０、Ｌ４０、Ｌ５０、Ｌ６０、Ｌ７０、Ｌ８０を算出する。仮に、被検レンズ１００が理想光学系であった場合は、ピーク距離Ｌ１０、Ｌ２０、Ｌ３０、Ｌ４０、Ｌ５０、Ｌ６０、Ｌ７０、Ｌ８０は互いに等しくなるが、被検レンズ１００が実際の光学系であった場合は、ピーク距離Ｌ１０、Ｌ２０、Ｌ３０、Ｌ４０、Ｌ５０、Ｌ６０、Ｌ７０、Ｌ８０は少しずつずれる。
【００４３】
（ｅ）ピーク距離Ｌ１０、Ｌ２０、Ｌ３０、Ｌ４０、Ｌ５０、Ｌ６０、Ｌ７０、Ｌ８０の重み付け平均値Ｌａｖｅを下式（２）により算出する。
【００４４】
【数２】
2010210507.tif 000004
なお、式（２）におけるｉ番目の重み値Ｇｉは、ｉ番目の空間周波数ωｉに対して予め決められた値である。重み値Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４、Ｇ５、Ｇ６、Ｇ７、Ｇ８の全体の配分は、被検レンズ１００の適用先（具体的には、被検レンズ１００の撮影対象に含まれる空間周波数の分布）などに応じて予め決められている。
【００４５】
（ｆ）手順（ｅ）で算出した平均値Ｌａｖｅの値を、被検レンズ１００のジャストフォーカス位置を示す情報として不図示のモニタ上に表示する。なお、図７に示すのは、図６に示したグラフの横軸を、デフォーカス量で表したものである。図７において、測定距離ＬがＬａｖｅであるときのフォーカス量はゼロであり、測定距離ＬがＬａｖｅ以外であるときのデフォーカス量は（Ｌ−Ｌａｖｅ）である（以上、ステップＳ１７）。
【００４６】
以上、本実施形態の測定装置１は、ストライプパターンＰのピッチ方向の輝度分布Ｉ（ｘ）を予め記憶するので、１種類のストライプパターンＰしか使用していないにも拘わらず、被検レンズ１００のＭＴＦ周波数特性を測定することが可能となった。
【００４７】
また、本実施形態の測定装置１は、測定に使用するストライプパターンの種類数が１のみ（図２に示したストライプパターンＰのみ）なので、ストライプパターンＰにおける被検レンズ１００の光軸位置を既知とする必要は無い。よって、チャート１６と被検レンズ１００との位置合わせは従来と比較して容易である。因みに本実施形態では、少なくともチャート面と被検レンズ１００との光軸とが垂直になってさえいればよい。
【００４８】
また、本実施形態の測定装置１は、測定に使用するストライプパターンの種類数が１のみなので、チャート１６のパターンを図２に示したとおりシンプルにすることができる。
【００４９】
また、本実施形態の測定装置１は、ストライプ画像Ｉ’のｘ方向の輝度分布Ｉ（ｘ）を求めるに当たり、ストライプ画像Ｉ’をライン方向にかけて平均化するので、強度分布Ｉ’（ｘ）のＳＮを向上させ、測定精度を向上させることができる。
【００５０】
［その他］
なお、上述した実施形態では、個々の測定距離のＭＴＦ演算を、全ての測定距離のストライプ画像Ｉ’が取得された後に一括して行ったが、個々の測定距離のストライプ画像Ｉ’が取得される度に行ってもよい。
【００５１】
また、上述した実施形態では、ストライプ画像Ｉ’に対する処理の全部をソフトウエアにより実行したが、その処理の一部又は全部をハードウエアにより実行してもよい。
【００５２】
また、上述した実施形態では、ストライプ画像Ｉ’に対する処理を測定装置１の内部に設けられた演算・制御装置３０が実行したが、その処理の一部又は全部を測定装置１の外部に設けられた汎用のコンピュータが実行してもよい。
【符号の説明】
【００５３】
１０…投射光学系、１００…被検レンズ、２０…測定装置本体、３０…演算・制御装置、１１…光源、１２…反射鏡、１３…拡散板、１４…コンデンサレンズ、１５…フィルタ、１６…チャート、１７…コリメータレンズ、２２…エリアセンサ、２４…移動ステージ、３１…Ａ／Ｄ変換器、３３…ＣＰＵ、３７…メモリ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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