(57)【要約】【課題】  特に表示品位を損なうことなく、或いは、顕著にコストを増加することなく、横電界駆動方式の液晶表示装置における静電気起因の表示不良について改善する。【解決手段】  この発明の液晶表示装置１０は、０．５ｍｍ未満に薄板化されたアレイ基板１１０および対向基板１２０と、これら一対の基板間に封止される液晶層１４０と、この対向基板１２０上に設けられ、光が照射されていない状態に比べ、光が照射された状態の体積抵抗値が少なくとも１／１０以下に変化する光導電性特性を有した配向膜１２２とを備える。【選択図】  図１
2020086090.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．５ｍｍ未満に薄板化された一対の透明絶縁性基板が互いに対向して配置されてなるアレイ基板および対向基板と、前記一対の透明絶縁性基板間に配置されるシール材と、前記一対の透明絶縁性基板間の前記シール材により囲まれる領域に封止される液晶層とを備えた横電界駆動方式の液晶パネルと、
前記対向基板上に設けられ、光が照射されていない状態と光が照射された状態における体積抵抗値の変化において、前記光が照射されていない状態に比べて、光が照射された状態の体積抵抗値が少なくとも１／１０以下に変化する光導電性特性を有した材料を用いた配向膜とを備えることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記光導電性特性について、光が照射された状態における体積抵抗値が１０１２  Ω・ｃｍ以上、１０１３  Ω・ｃｍ以下の範囲内であり、光が照射されていない状態における体積抵抗値が１０１４  Ω・ｃｍ以上、１０１５  Ω・ｃｍ以下の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記配向膜は、厚み方向において、相対的に下層側に配置される第１層領域と、前記第１層に対して上層側に配置される第２層領域を備え、
前記第１層領域と前記第２層領域とは、それぞれ互いに異なるポリイミドよりなる配向剤を主として含み、
前記第１層領域は、前記光導電性特性を有した材料を含み、
前記第２層領域が主として含む配向剤であるポリイミドは、第１層領域が主として含む配向剤であるポリイミドと比べて高いイミド化率を有することを特徴とする請求項１或いは請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第２層領域が主として含む配向剤であるポリイミドは、
光配向性を有した前駆体をイミド化してなることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１層領域が主として含む配向剤であるポリイミドは、
ピロメリット酸二無水物を原料とするポリアミド酸を前駆体としてイミド化してなることを特徴とする請求項１から請求項４の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第２層領域は、光が照射された状態における体積抵抗値および光が照射されていない状態における体積抵抗値が共に１０１５  Ω・ｃｍ以上であることを特徴とする請求項１から請求項５の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記液晶パネルが、湾曲形状となるよう変形されるとともに、湾曲した表示面を有することを特徴とする請求項１から請求項６の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記一対の透明絶縁性基板は、０．２ｍｍ未満に薄板化されていることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記液晶パネルの前面に透明粘着シートを介して固定された前面パネルを更に備えることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
横電界駆動方式の液晶パネルを備えた液晶表示装置の製造方法であって、
それぞれアレイ基板および対向基板が面付けされる一対の透明絶縁性基板よりなるマザーアレイ基板およびマザー対向基板を準備する工程と、
前記マザー対向基板上に、光が照射されていない状態と光が照射された状態における体積抵抗値の変化において、前記光が照射されていない状態に比べて、光が照射された状態の体積抵抗値が少なくとも１／１０以下に変化する光導電性特性を有した材料を用いた配向膜を形成する工程と、
前記マザーアレイ基板および前記マザー対向基板を液晶層およびシール材を介して貼り合わせ、マザーセル基板を形成する工程と、
前記マザーセル基板の外側となる前記マザーアレイ基板および前記マザー対向基板の表面を削ることにより、前記一対の透明絶縁性基板を０．５ｍｍ未満に薄板化する工程と、
前記薄板化する工程のあとにおいて、前記マザー対向基板の表面に透明導電膜を形成する工程と、
前記マザーアレイ基板および前記マザー対向基板を貼り合わせて以降において、所定の時間、前記アレイ基板側から光を照射する工程とを備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記液晶パネルの背面側に配置される点灯検査用バックライトを点灯する工程と、当該点灯検査用バックライトを点灯した状態でテスト画面を表示させ、表示状態を検査する工程とを含む点灯検査工程を備え、
前記アレイ基板側から光を照射する工程は、前記点灯検査工程における前記表示状態を検査する工程の開始前に、所定の時間、前記点灯検査用バックライトにより光を照射することにより行なわれることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記点灯検査工程に用いられる点灯検査装置において、
前記点灯検査用バックライトに加えて、前記液晶パネルの前面側或いは前記液晶パネルの側面側から照射する光源を備えることにより、
前記アレイ基板側から光を照射する工程においては、前記アレイ基板側に加え、前記液晶パネルの前面側或いは前記液晶パネルの側面側からも光を照射することを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記点灯検査工程に用いられる点灯検査装置において、
前記点灯検査用バックライトと前記液晶パネルとの間において、前記点灯検査用バックライトから発する光の散乱特性を調整する光学フィルムを備え、
前記光学フィルムを介して前記液晶パネルに光が照射されることを特徴とする請求項１１或いは請求項1２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記液晶パネルの背面側に配置される点灯検査用バックライトを点灯する工程と、当該点灯検査用バックライトを点灯した状態でテスト画面を表示させ、表示状態を検査する工程とを含む点灯検査工程を備え、
前記アレイ基板側から光を照射する工程は、前記点灯検査工程よりも前において、別途、前記アレイ基板側から光を照射する工程を含むことを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記アレイ基板側から光を照射する工程は、
前記マザーアレイ基板および前記マザー対向基板を貼り合わせて以降、前記点灯検査工程よりも前に行なわれる各工程で用いられる処理装置の何れかに設けた光源により光が照射されることにより行われることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記透明導電膜を形成する工程よりもあとにおいて、前記マザーセル基板を個々の液晶セルに分断する工程を備え、
前記アレイ基板側から光を照射する工程は、
前記透明導電膜を形成する工程よりもあとであって、前記個々の液晶セルに分断する工程よりも前に行われることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関するものであり、特に、横電界駆動方式の液晶パネルを用いた液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
基板面に対して平行に電圧が印加される横電界駆動方式の液晶パネルを備える液晶表示装置では、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）などの駆動素子が形成された基板（「ＴＦＴアレイ基板」、或いは、単に「アレイ基板」とも呼ばれる。）には電極が設けられ、カラーフィルタなどが設けられる対向基板（「カラーフィルタ（ＣＦ）基板」とも呼ばれる。）には電極が設けられない。そのため、対向基板側からの静電気などの外部電界の侵入、または対向基板表面の局所的な帯電などにより、液晶パネルの表示に不具合が発生する問題がある。
【０００３】
従って、従来の一般的な横電界駆動方式の液晶パネルを備える液晶表示装置では、上記のような静電気放電（ＥＳＤ：Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｓｔａｔｉｃ  Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ）対策として、対向基板側からの外部電界の侵入を抑制するために、対向基板の表示面側（つまり、アレイ基板とは反対側）のガラス表面に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜などよりなる透明導電層（カラーフィルタが配置される側の面に対して裏側に設けられることから、「裏面ＩＴＯ」とも呼ばれる。）が形成された構造が採用されている。
【０００４】
一方、横電界駆動方式の液晶表示装置で用いられる配向膜に関して、信頼性や光学特性を向上するために高抵抗仕様の配向膜（例えば、ポリアミック酸を前駆体としてイミド化してなるポリイミド）を使用する場合がある。特に、近年、横電界駆動方式の液晶表示装置では高画質化の要求に伴って、配向処理に偏光光を用いる光配向膜を適用する場合が多くなっている。当該光配向膜については、配向特性を安定化するために、光分解性ポリマーの分子量を大きくする必要があり、それに伴ってポリイミドを形成する際のイミド化率が高く設定されることから、比抵抗が高く、高抵抗を有した配向膜となる。
【０００５】
以上のような高抵抗を有した配向膜を使用した場合において、対向基板のセル内側の基板面に局所的な帯電が発生し、輝点不良、表示ムラといった表示状態の不良（表示不良）が発生する場合がある。特に、我々が行なった詳細な検討によれば、当該輝点不良、表示ムラの発生が顕著となるか否かは、製造プロセスにおける上記の裏面ＩＴＯが形成されるタイミングと相関することを突き止めた。具体的には、近年の液晶表示装置に対する薄型軽量化の要求や湾曲形状の表示面を有した湾曲ディスプレイ化の要求に伴って、薄型機種や湾曲型機種となる液晶表示装置が製品化されている。当該薄型機種や湾曲型機種となる液晶表示装置において、高抵抗を有した配向膜を使用した場合に、特に上記の輝点不良、表示ムラの発生が顕著となることに着目した。当該薄型機種や湾曲型機種となる液晶表示装置と、一般的な液晶表示装置との製造プロセスの相違点としては、当該薄型機種や湾曲型機種となる液晶表示装置では、その製造プロセスの途中において、研磨などにより、マザーガラス基板の厚みを薄く加工する薄板化研磨工程（スリミング工程とも呼ばれる）が設けられ、一般的な液晶表示装置では、当該スリミング工程が設けられない点にある。
【０００６】
一方、上記の裏面ＩＴＯが形成されるタイミングに関して言えば、当該スリミング工程を用いない一般的な液晶表示装置では、裏面ＩＴＯはマザーガラス基板を貼り合わせる前の状態で形成されるのに対し、スリミング工程を行なう製造プロセスを採用している薄型機種や湾曲型機種となる液晶表示装置の場合、一般的にはスリミング工程以降に上記の裏面ＩＴＯが形成されることになる。裏面ＩＴＯが設けられた状態のマザーガラス基板においては、マザーガラス基板自体の帯電を緩和するとともに、マザーガラス基板に蓄積される電荷を均一化する作用が得られる。従って、裏面ＩＴＯが設けられた以降、マザーガラス基板が経ることとなる製造プロセスにおける各工程において、当該マザーガラス基板自体の帯電を緩和するとともに、マザーガラス基板に蓄積される電荷を均一化する作用が得られ、結果として、上記説明を行なった輝点不良、表示ムラが発生することを改善しているものと考えられる。一方、スリミング工程を行なう製造プロセスを採用している薄型機種や湾曲型機種となる液晶表示装置の場合には、少なくとも裏面ＩＴＯが形成される前となるスリミング工程までの工程の全てにおいて、マザーガラス基板自体に帯電を生ずることや、マザーガラス基板に電荷が局所的に蓄積するといったことが繰り返され、結果として、上記説明を行なった輝点不良、表示ムラの発生が顕著となるものと考えられる。
【０００７】
なお、裏面ＩＴＯが形成されるタイミングが要因であれば、スリミング工程を行なう製造プロセスを採用している薄型機種や湾曲型機種となる液晶表示装置の場合においても、マザーガラス基板を貼り合わせる前より、ダミーの裏面ＩＴＯ、つまり、除去されることを前程とする裏面ＩＴＯを追加し、スリミング工程の直前において、当該ダミーの裏面ＩＴＯを除去したうえで、スリミング工程を行い、その後、再度、本来の裏面ＩＴＯを形成するプロセスを用いれば、当該輝点不良、表示ムラの発生に対して改善が可能ということになる。但し、本来は不要であるダミーの裏面ＩＴＯの形成工程と、当該ダミーの裏面ＩＴＯを除去する工程を追加することとなり、当然、製造期間が長くなるとともに、当該プロセスに掛かるＩＴＯ材料、薬液、各種装置などが必要となる。結果、大幅なコスト増を伴うこととなることから現実的に採用することは難しい。
【０００８】
また、薄型機種や湾曲型機種となる液晶表示装置において、高抵抗を有した配向膜を使用した場合に、特に上記の輝点不良、表示ムラの発生が顕著となることには、別の要因もある。この対向基板のセル内側の基板面に局所的な帯電が発生した場合に、顕著な輝点不良、表示ムラを引き起こすか否かについては、当該帯電により生ずる電界が液晶に作用することにより当該輝点不良、表示ムラを引き起こすことから、容量の大小が影響する。特に、薄型機種や湾曲型機種では、セル内側の基板面に励起される帯電と容量電極となる裏面ＩＴＯ間の誘電体に対応するガラス基板が薄板化されていることから、一般的な液晶表示装置に比べて、容量が大きくなっている。その結果、薄型機種や湾曲型機種となる液晶表示装置では、裏面ＩＴＯを形成するタイミングによる局所的な帯電の発生がし易く、当該帯電により液晶に作用する電界が大きいこと、或いは、容量が大きくなっていることから、蓄積される電荷量が多くなり、一旦、帯電を生じると電荷が抜けにくいことなどが相互作用することにより、特に上記の輝点不良、表示ムラの発生が顕著となっている。従って、輝点不良、表示ムラの発生には、ガラス基板の厚さ自体も相関していることから、仮に上記のダミーの裏面ＩＴＯを形成するプロセスを採用したとしても、充分に輝点不良、表示ムラの発生を改善できるとは限らない。
【０００９】
一方、高抵抗を有した配向膜を使用していることが製造プロセス中において発生する静電気による不良を招く要因となることは、従来より指摘されており、例えば、特許文献１では、予め導電物質を混入した配向膜材料を用いることによって、形成される配向膜を低抵抗化し、製造プロセス中において発生する静電気による静電破壊を防ぐことや同一パターンを連続表示した際における残留直流成分による焼き付き現象を防ぐことを狙った液晶表示装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０００−１７１８０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
然しながら、特許文献１の構成のように、配向膜材料の抵抗について、低抵抗化の程度が過ぎると、表示電位を保持する能力に対応する電圧保持率（Ｖｏｌｔａｇｅ  Ｈｏｌｄｉｎｇ  Ｒａｔｉｏ：ＶＨＲ）が低下してしまうことになり、それに伴う表示品位の悪化（中間調を表示した際における画面のチラツキ、或いは、輝度やコントラストの低下など）が発生する場合がある。つまり、配向膜材料を無闇に低抵抗化してしまうと、別の不具合の起因となる。従って、各種不良を改善するために必要な抵抗値の設定や配向膜材料を選定することが難しい。また、特許文献１においては、薄型機種や湾曲型機種となる液晶表示装置と、当該液晶表示装置において問題となる顕著な輝点不良、表示ムラに関する記載は無く、当該薄型機種や湾曲型機種となる液晶表示装置における特有の課題を解決する方法については記載されていない。
【００１２】
本発明は、上記説明のような課題を解決するために為されたものであって、その目的は、特に表示品位を損なうことなく、或いは、顕著にコストを増加することなく、静電気起因の表示不良の発生を改善することが可能となる横電界駆動方式の液晶表示装置およびその製造方法を得るものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の液晶表示装置においては、０．５ｍｍ未満に薄板化された一対の透明絶縁性基板が互いに対向して配置されてなるアレイ基板および対向基板と、これら一対の基板間に配置されるシール材と、これら一対の基板間のシール材により囲まれる領域に封止される液晶層とを備えた横電界駆動方式の液晶パネルと、対向基板上に設けられ、前記光が照射されていない状態に比べて、光が照射された状態の体積抵抗値が少なくとも１／１０以下に変化する光導電性特性を有した材料を用いた配向膜とを備えるものである。
【発明の効果】
【００１４】
特に表示品位を損なうことなく、或いは、顕著にコストを増加することなく、横電界駆動方式の液晶表示装置における静電気起因の表示不良について改善することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施の形態１の液晶表示装置の断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１の液晶表示装置における液晶パネルの斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態１の液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板の要部断面図である。
【図４】本発明の実施の形態１の液晶パネルの製造工程におけるパネル組み立て工程を示すフローチャートである。
【図５】本発明の実施の形態１の液晶パネルの製造工程における点灯検査工程における各工程のフローチャートである。
【図６】本発明の実施の形態１の点灯検査工程に用いられる点灯検査装置の概略図である。
【図７】本発明の実施の形態２の液晶表示装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
実施の形態１．
＜液晶表示装置（液晶パネル）の構成＞
本発明を適用した液晶表示装置の一例として、湾曲タイプの液晶表示装置（湾曲型液晶表示装置とも呼ぶ）への本発明の適用例となる実施の形態１の液晶表示装置と、その液晶表示装置に用いられる液晶パネルの構成について図１〜図３を用いて説明する。図１および図２は、本発明の実施の形態１における湾曲型液晶表示装置１０の概略図である。また、図３は要部となるカラーフィルタ基板側に設けられる配向膜を説明するための断面図である。以下、この湾曲型液晶表示装置１０の構成について図１および図２を用いて説明する。図１は液晶表示装置全体を示した断面図であり、図２は液晶パネルの全体を示した斜視図である。なお、図は模式的なものであり、示された構成要素の正確な大きさなどを反映するものではない。表示画素の繰り返し部分の省略および膜構成の一部簡略化を行っている。また、図中、既出の図において説明したものと同一の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。以下の図においても同様とする。
【００１７】
ここでは、一例としてＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）をスイッチング素子に用いて動作される横電界駆動方式の液晶パネルのうち、特にＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式を用いた液晶パネル１００を一方向に湾曲した湾曲形状となるよう変形された状態で組み込んだ構成よりなる湾曲型液晶表示装置１０に本発明を適用した場合について説明を行うことにする。図１の断面図に示されるように、この湾曲型液晶表示装置１０は、主要な構成となる液晶パネル１００と、所定の曲率(曲率半径)の曲面を有した保持面を備えた湾曲透明保護カバー１０１とが、透明粘着シート１０２を介して貼り付けられて構成されている。
【００１８】
液晶パネル１００の具体的な構成としては、ＴＦＴが配列して配置されるＴＦＴアレイ基板（以下、アレイ基板）１１０と、アレイ基板１１０と対向して配置され、画像を表示する表示領域（表示面）２００を有するカラーフィルタ基板（以下、対向基板）１２０と、アレイ基板１１０と対向基板１２０との間の表示領域２００に対応する領域を囲うように配置され、両基板を貼り合わせる樹脂からなるシール材１３０と、このシール材１３０により囲まれアレイ基板１１０と対向基板１２０との間の表示領域２００に対応する領域に封止された液晶層１４０から構成されている。湾曲型液晶表示装置１０を構成した状態において、液晶パネル１００が、画像を表示する表示面に対応する表示領域２００が設けられる対向基板１２０側が凹面となる方向に、所定の曲率に湾曲された外観を為している。従って、液晶パネル１００は、当該所定の曲率に湾曲した表示面を有した構成となる。
【００１９】
また、シール材１３０は、画像を表示する表示面に対応する表示領域２００の外側に配置される額縁領域に設けられる。また、アレイ基板１１０および対向基板１２０の外形は、何れも矩形となっている。更に、アレイ基板１１０の外形の方が対向基板１２０の外形よりも大きく、以下で説明する信号端子１１７（信号端子１１７Ｘ、１１７Ｙ）の設けられる図中下側の辺、右側の辺において、アレイ基板１１０の外形端が対向基板１２０の外形端より一部突出する突出部を有して重ね合わせ配置されている。
【００２０】
なお、所定の曲率に湾曲する湾曲型液晶表示装置１０の湾曲方向については、図２中において曲線の矢印により概念的に示しているとおり、液晶パネル１００の長手方向と平行な方向に湾曲の曲率が最大となる方向である。なお、ここでは、基準として、矩形のアレイ基板１１０と対向基板１２０の長辺方向を長手方向としている。
【００２１】
更に、アレイ基板１１０と対向基板１２０との間には、基板間に所定の一定範囲の間隙を形成し保持する柱状スペーサ（図示省略）が表示領域２００内に多数配置される。言い換えると、この柱状スペーサは基板間の距離を一定範囲に保持することになる。また、本実施の形態１においては、異なる２種類の柱状スペーサ形態を混在して備えるデュアルスペーサ構造を用いている。このデュアルスペーサ構造では、一部の柱状スペーサについては、例えば、相対的に高さの高いスペーサ（或いは、各基板面に対して垂直方向での長さが相対的に長いスペーサ）とすることで、通常時より対向する基板と当接し基板間を保持するスペーサ（「メインスペーサ」と呼ばれる）とし、他の一部の柱状スペーサについては、相対的に高さの低いスペーサ（或いは、各基板面に対して垂直方向での長さが相対的に短いスペーサ）とすることで、通常時は対向する基板と当接せず基板間の保持に寄与せずに外力などにより基板間の距離が縮まった際にのみ対向する基板と当接し基板間を保持するスペーサ（「サブスペーサ」と呼ばれる）とする。
【００２２】
これら互いに対向して配置される一対の基板となるアレイ基板１１０と対向基板１２０は、何れも透明絶縁性基板であるガラス基板１１１およびガラス基板１２１上に各構成が配置される。また、アレイ基板１１０と対向基板１２０を構成するガラス基板１１１およびガラス基板１２１は、所定範囲の曲率の湾曲形状に変形可能な程度の可撓性を有するように、０．２ｍｍ未満程度に薄板化されたガラス基板により構成されることが望ましい。本実施の形態１では、先にも説明したとおり、加工のし易さを考慮し、０．１５ｍｍ程度の厚みに設定（例えば、中心値０．１５ｍｍ、バラツキ範囲±２０％の範囲内で管理）することとした。
【００２３】
続いて、上述の対向基板１２０の詳細な構成について説明する。対向基板１２０は、先に説明したとおり、０．１５ｍｍ程度の厚みに設定されたガラス基板１２１の一方の面の少なくとも表示領域２００において、液晶を配向させる配向膜１２２と、配向膜１２２の下部に設けられるカラーフィルタ１２３（ここでは、３原色である赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に対応する色材層層が配列して設けられる）およびカラーフィルタ１２３間を遮光するため、或いは表示領域２００の外側に配置される額縁領域を遮光するために設けられる遮光層であるブラックマトリクス（Ｂｌａｃｋ  Ｍａｔｒｉｘ：ＢＭ）１２４と、上記配向膜よりも下層に設けられ、カラーフィルタ１２３とＢＭ１２４の表面を覆い、これらカラーフィルタ１２３とＢＭ１２４で形成される表面段差を平坦化することで対向基板１２０の表面を平坦化する透明樹脂膜よりなるオーバーコート層（ＯＣ層）１２５などを有している。なお、対向基板１２０表面に形成される配向膜１２２については、本実施の形態１においては、光配向膜材料に対して光配向処理が行われることにより配向規制力を有した光配向膜が用いられ、特に、上層側と下層側で互いに異なる組成、性質などを有した部分を有した相分離系の光配向膜により構成される。この配向膜１２２については、特に本発明の特徴的な構成の１つであることから、別途、構成やその製法などについて詳細説明を行うこととし、ここでは詳細説明を省略する。
【００２４】
また、先に説明した柱状スペーサについては、アレイ基板１１０と対向基板１２０との間に設けられる構成であるが、対向基板１２０側の表面の特にオーバーコート層（ＯＣ層）１２５の表面に固着して設けられる。
【００２５】
また、対向基板１２０のガラス基板１２１の他方の面、すなわち、カラーフィルタ１２３、ＢＭ１２４などの設けられる面と反対側の面には、接地接続される静電気防止用の透明導電層１２６を備えている。この静電気防止用の透明導電層１２６は、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜などの透明導電膜がガラス基板１２１の少なくとも表示領域２００を覆い設けられるものであり、いわゆる「裏面ＩＴＯ」とも呼ばれ、横電界駆動方式の液晶パネルにおいて静電気による帯電や外部電界による表示不良防止に有効なものとして設けられる。
【００２６】
続いて、上述のアレイ基板１１０の詳細な構成について説明する。アレイ基板１１０についても、先に説明したとおり、０．１５ｍｍ程度の厚みに設定されたガラス基板１１１上に各構成が配置される。先ず、アレイ基板１１０における表示領域２００に設けられる構成より、以下、順に説明する。アレイ基板１１０は、表示領域２００において、このガラス基板１１１の一方の面に液晶を配向させる配向膜１１２と、配向膜１１２の下部において設けられ、アレイ基板１１０或いは対向基板１２０の基板面と平行な方向の電界を発生し液晶を駆動する電圧を印加する１対の電極である画素電極１１３および対向電極１１４と、これら１対の電極の一方である画素電極１１３に電圧を書き込むスイッチング素子であるＴＦＴ１１５と、ＴＦＴ１１５を覆う絶縁膜１１６、ＴＦＴ１１５に信号を供給する配線である複数の走査信号線（以下、ゲート配線とも呼ぶ）および映像信号線（以下、ソース配線とも呼ぶ）などを有している（何れも図示省略）。なお、配向膜１１２については、対向基板１２０に設けられる配向膜１２２と同様に、光配向膜材料に対して光配向処理が行われることにより配向規制力を有した光配向膜が用いられる。
【００２７】
また、ＴＦＴ１１５は、トランジスタの能動層となる半導体と、半導体層に重なって設けられるトランジスタのゲート電極（ゲート配線の一部と共通に設けられる場合もある）、ソース電極、およびドレイン電極などを有している（各電極の図示省略）。更に、ＴＦＴ１１５は、それぞれソース電極を介してソース配線に対して、ドレイン電極を介して各画素電極１１３に電気的に接続されている（図では、ＴＦＴ１１５と画素電極１１３の構成間を線でつなぎ、接続関係のみを概念的に示している）。また、ゲート配線およびソース配線やＴＦＴ１１５を構成するゲート電極、ソース電極およびドレイン電極については、遮光層となる金属膜より構成される。
【００２８】
また、液晶を駆動する電圧を印加する１対の電極である画素電極１１３と対向電極１１４については、本実施の形態１においては、断面図において概念的に示しているが、一方の電極である画素電極１１３が平板形状の透明導電膜パターンより構成され、他方の電極である対向電極１１４は、上記の画素電極１１３と重なる領域に複数並列して設けられたスリット状の開口部よりなるスリット電極を有する透明導電膜パターンより構成される。更に、対向電極１１４は、少なくとも当該スリット電極の形成領域において上記の画素電極１１３上に絶縁膜１１６を介して重なって配置される。また、対向電極１１４を構成する透明導電膜パターンは、ＴＦＴ１１５と重なる領域に開口部が設けられた構成としても良い。
【００２９】
また、画素電極１１３と対向電極１１４における上記構成は必須ではなく、従来、横電界駆動方式の電極として一般的であった画素電極１１３および対向電極１１４の両者について櫛歯形状を有した櫛歯電極としても良い。或いは、ＦＦＳ方式の別の形態として、画素電極１１３と対向電極１１４について、それぞれの形状と配置の上下関係を逆として、画素電極１１３側を複数並列して設けられたスリット状の開口部よりなるスリット電極を有するパターンとして対向電極１１４よりも上層に配置し、対向電極１１４を平板形状として画素電極１１３よりも下層に配置し、更に、ＴＦＴ１１５は、上記のスリット電極を有するパターンよりなる画素電極１１３に接続し電圧を印加する構成としても構わない。
【００３０】
なお、アレイ基板１１０を構成する絶縁膜１１６については、図中では、ＴＦＴ１１５を構成する半導体層、ゲート電極、ソース電極、およびドレイン電極などを互いに絶縁する各絶縁膜やＴＦＴ１１５を被う絶縁膜、或いは画素電極１１３と対向電極１１４との間に形成される絶縁膜などについて一体化した絶縁膜に簡略化して示しているが、各電極などの間において、単層の透明絶縁膜、或いは複数層の透明絶縁膜の積層膜により構成される。
【００３１】
続いて、アレイ基板１１０の額縁領域に設けられる構成について説明する。アレイ基板１１０上における額縁領域の特に対向基板１２０の外形端よりも一部突出する突出部における対向基板１２０の配置される側の表面には、ＴＦＴ１１５に供給される信号を外部から受け入れる信号端子１１７（１１７Ｘ、１１７Ｙ）を備えている。なお、湾曲方向での断面図（図１）においては、液晶パネル１００（アレイ基板１１０）の一端のみに、信号端子１１７Ｙが設けられる状態が図示されるが、信号端子１１７（１１７Ｘ、１１７Ｙ）は、先に説明したアレイ基板１１０の隣接する２辺に設けられる突出部に対応して、アレイ基板１１０の２辺の額縁領域にそれぞれ設けられる。更に、例えば、湾曲方向に対して垂直方向（図中のＹ方向と平行方向）の辺に設けられる信号端子１１７Ｘがゲート配線に走査信号を供給し、湾曲方向に対して平行方向（図中のＸ方向と平行方向）の辺に設けられる信号端子１１７Ｙがソース配線に映像信号を供給する。なお、信号端子１１７（１１７Ｘ、１１７Ｙ）は、詳細には複数の信号に対応して分離した複数の矩形のパッドが基板端部に沿って多数配列した構成となっている。
【００３２】
更に、このアレイ基板１１０の隣接する２辺に設けられた信号端子１１７（１１７Ｘ、１１７Ｙ）のそれぞれのパッドに対しては、接続配線となるＦＦＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｆｌａｔ  Ｃａｂｌｅ）１３１を介して駆動ＩＣを制御する制御信号などを発生する制御ＩＣ（Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）チップなどを装備した制御基板１３２（１３２Ｘ、１３２Ｙ）が接続されている。また、制御基板１３２（１３２Ｘ、１３２Ｙ）からの制御信号は、信号端子１１７（１１７Ｘ、１１７Ｙ）を介して、突出部に取り付けられたソース配線用のソース駆動ＩＣチップ或いはゲート配線用のゲート駆動ＩＣチップ（何れも図示省略）の入力側に入力され、ソース駆動ＩＣチップ或いはゲート駆動ＩＣチップの出力側より出力される出力信号が表示領域２００から引き出された多数の信号引き出し配線（図示省略）とゲート配線或いはソース配線を介して、表示領域２００内のＴＦＴ１１５に供給される。
【００３３】
なお、上記説明では、信号端子１１７、ＦＦＣ１３１、制御基板１３２などが液晶パネル１００の２辺に設けられる例を説明したが、液晶パネル１００の１辺のみ配置される構成であっても良い。更に、当該１辺のみ配置される場合には、湾曲される辺に配置される構成であっても、湾曲されない辺に配置される構成であっても良い。
【００３４】
また、ＴＦＴ基板１１０の液晶層１４０に対して外側表面には偏光板１４１を有している。更に、対向基板１２０の液晶層１４０に対して外側表面に設けられる透明導電層１２６の上層には偏光板１４２を有している。これら偏光板１４１および偏光板１４２は、それぞれＴＦＴ基板１１０および対向基板１２０の少なくとも表示領域２００を覆うように配置され、粘着層（図示省略）を介して貼り付けられて固定されている。なお、偏光板１４１および偏光板１４２は、単板で図示しているが、保護層（ＴＡＣ層）、偏光層（偏光フィルム層）、位相差板、或いは、視野角補正用（ワイドビュ）フィルムなどを貼り合わせた積層構造として構成される。
【００３５】
また、対向基板１２０表面に形成される透明導電層１２６は接地接続される。詳細な接続構造の図示による説明は省略するが、ここでは、例えば、アレイ基板１１０の突出部に、アースパッドを設け、透明導電層１２６とアースパッドとの間について導電ペーストや導電テープを介して接続することとした。なお、導電ペーストとしては一般的な導電ペースト剤となる銀ペーストを使用することができ、導電テープとしてはＡｌ箔やＣｕ箔などの金属箔よりなる母材に導電粘着剤を塗布したものを使用することができ、一般的な市販品の導電テープを利用することができる。
【００３６】
更に、液晶パネル１００の表示面２００の反対側であるアレイ基板１１０に対向して光源となるバックライトユニット（図示せず）が配置されており、更に、液晶パネル１００とバックライトユニットとの間には光の偏光状態や指向性などを制御する光学シートが配置されている。
【００３７】
更に、液晶パネル１００は、先に説明を行った単独で湾曲形状を有した湾曲透明保護カバー１０１に対して、透明粘着シート１０２を介して貼り付けられることで、所定の湾曲形状に変形された状態で保持され、更に、上記のバックライトユニットや、光学シートなどの部材と共に、少なくとも表示領域（表示面）２００における対向基板１２０の外側の部分が開放された筐体（図示せず）の中に収納され、本実施の形態１の液晶表示装置は構成される。
【００３８】
この湾曲型液晶表示装置１０は次のように動作する。例えば制御基板１３２から電気信号が入力されると、画素電極１１３および共通電極１１４に駆動電圧が加わり、駆動電圧に合わせて液晶層１４０における液晶分子の方向が変わる。そして、液晶パネル１００の背面側に配置される湾曲型バックライトの発する光がアレイ基板１１０、液晶層１４０および対向基板１２０を介して観察者側に透過或いは遮断されることにより、液晶パネル１００の凹面に湾曲した表示面２００に映像などが表示される。
【００３９】
なお、湾曲方向としては、本実施の形態１では表示面２００側が凹状となるように液晶パネル１００を湾曲変形されてなる湾曲型液晶表示装置１０の例を用いて説明を行なったが、用途に応じて、表示面２００側が凸状になるように湾曲変形される構成を採っても良く、その場合には、液晶パネル１００は表示面２００側が凸状となる表示面２００を有した構成となる。
【００４０】
＜配向膜の構成＞
続いて、特に本発明での特徴的構成の１つとなる対向基板１２０表面に形成される配向膜１２２について、図３の拡大断面図も参照しながら、配向膜１２２の厚み方向の構造について、より詳細に説明する。配向膜１２２は、対向基板１２０上に形成される第１層１２２Ｌ１と、第１層１２２Ｌ１上に形成される第２層１２２Ｌ２とを含む。すなわち、配向膜１２２は、その厚み方向において、相対的に下層側に配置される領域となる第１層１２２Ｌ１と、第１層１２２Ｌ１よりも上層側に配置される領域となる第２層１２２Ｌ２とで構成される。更に、下層側に配置される第１層１２２Ｌ１については、光導電性の高い配向材料よりなり、上層側に配置される第２層１２２Ｌ２については、光配向性を有した配向材料よりなる。
【００４１】
より具体的には、第１層１２２Ｌ１を構成する光導電性の高い配向材料は、例えば、ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）を原料とするポリアミド酸を前駆体してイミド化してなるポリイミドを配向剤として用いると良い。この下層側に配置される第１層１２２Ｌ１を構成するポリイミドのイミド化率としては、例えば、４０％以上程度の適当な条件を選択することができる。
【００４２】
一方、第２層１２２Ｌ２を構成する光配向性の配向材料としては、例えば、光配向性を有したポリアミド酸アルキルエステルを前駆体としてイミド化してなるポリイミドを配向剤として用いると良い。この上層側に配置される第２層１２２Ｌ２を構成するポリイミドのイミド化率としては、配向性を重視し、配向特性を安定化させるために、第１層１２２Ｌ１を構成する配向材料よりも高く、例えば、７０％以上程度の適当な条件を選択すると良い。
【００４３】
また、図中では、以降で詳細説明するとおり、上記の互いに異なる２種類の前駆体の混合材料を転写塗布した後に加熱し相分離して形成されてなる相分離系の配向膜よりなる配向膜１２２の構成を表すイメージとして、下層側に位置する第１層１２２Ｌ１を構成する配向剤と、上層側に配置する第２層１２２Ｌ２を構成する配向剤とが、境界部ではある程度混在して分布し、上層側と下層側で明確に２層に分離されてない状態を示している。相分離されることで得られる構成については、２種類の混合材料の特性、下層側に形成する材料と下地層との馴染む程度、形成プロセスの詳細条件などより、多少、異なった状態の２層構造が得られるものの、典型例について、具体的な濃度分布で言えば、配向膜１２２において、下層側では、第１層１２２Ｌ１を構成する配向剤、つまり、第１層１２２Ｌ１に主として含まれる配向剤の濃度が高く、下層より上層に向けて徐々に低濃度となる濃度勾配が形成される。一方、配向膜１２２における、上層側では、第２層１２２Ｌ２を構成する配向剤、つまり、第２層１２２Ｌ２に主として含まれる配向剤の濃度が高く、上層より下層に向けて徐々に低濃度となる濃度勾配が形成される。
【００４４】
また、光導電性の高い配向材料よりなる第１層１２２Ｌ１の具体的な体積抵抗値特性（Ω・ｃｍ）としては、例えば、光を照射しない状況において、１０１４〜１０１５（Ω・ｃｍ）程度より、バックライト光に相当する程度の光を照射した状況において、１０１２〜１０１３（Ω・ｃｍ）程度に変化する光導電性特性を有するものが望ましい。光のオンオフ、つまり、光が照射された状態と光が照射されていない状態による体積抵抗値の変化で言えば、オフ時に比べて、オン時の体積抵抗値が１／１０〜１／１０２程度、少なくとも１／１０以下に変化する光導電性特性を有するものが望ましく、上記のとおり例示したピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）を原料とするポリアミド酸を前駆体してイミド化してなるポリイミドを用いれば、これらの範囲を満たした第１層１２２Ｌ１とすることができる。
【００４５】
一方、光配向性を有した配向材料よりなる第２層１２２Ｌ２については、配向性を重視することから、光を照射しない場合、光を照射した場合の何れにおいても、特に体積抵抗値自体が低い必要が無い。寧ろ、電圧保持率（Ｖｏｌｔａｇｅ  Ｈｏｌｄｉｎｇ  Ｒａｔｉｏ：ＶＨＲ）を低下させないためには、高抵抗、つまり、比較的、体積抵抗値自体が高いことが望ましい。従って、第２層１２２Ｌ２の具体的な体積抵抗値特性（Ω・ｃｍ）としては、バックライト光に相当する程度の光を照射した状況において、１０１５（Ω・ｃｍ）以上程度、光を照射しない状況において、１０１５（Ω・ｃｍ）以上程度と、光のオンオフによる体積抵抗値の変化が少ないもの、つまり、光導電性特性についても特に有さないものとする。こちらも上記のとおり例示したポリアミド酸アルキルエステルを前駆体としてイミド化してなるポリイミドにおいて例えば７０％以上程度の適当な条件を選択することにより、基本的には高抵抗な配向膜が得られ、これらの範囲を満たした第２層１２２Ｌ２とすることができる。
【００４６】
また、先に説明したとおり、配向膜１２２の詳細な構成においては、下層側に位置する第１層１２２Ｌ１を構成する配向剤と上層側に配置する第２層１２２Ｌ２を構成する配向剤とが、境界部では、ある程度混在して分布し上層側と下層側で明確に２層に分離されてない状態である。そして、配向膜１２２の下層側では、第１層１２２Ｌ１を構成する配向剤の濃度が高く、下層より上層に向けて徐々に低濃度となる濃度勾配が形成され、配向膜１２２の上層側では、第２層１２２Ｌ２を構成する配向剤の濃度が高く、上層より下層に向けて徐々に低濃度となる濃度勾配が形成される。従って、光のオン時とオフ時における体積抵抗値および光導電性特性についても、配向膜１２２における下層側から上層側にかけて、先に説明を行なった第１層１２２Ｌ１が備える特性から第２層１２２Ｌ２が備える特性に徐々に変化することになる。
【００４７】
また、ここでは対向基板１２０上に形成される配向膜１２２について説明したが、アレイ基板１１０上に形成される配向膜１１２についても同様の構成、つまり、相分離系の配向膜で構成し、更に、下層側に光導電性の高い配向材料を配置し、上層側に光配向性を有した配向材料よりなる構成を採ることとした。但し、アレイ基板１１０上に形成される配向膜１１２については、アレイ基板１１０上では、各種の配線、電極などの導電膜が設けられ、それ程、電荷の残留が問題とならないことから、光配向性を有した配向材料の単層膜よりなる構成を選択しても良い。
【００４８】
＜液晶表示装置の製造フロー＞
本発明に係る実施の形態１の液晶表示装置の製造方法として、上記のような構成の液晶パネル１００を有する液晶表示装置１０の製造フローを、図４に示すフローチャートを用いて説明する。通常、一般的な液晶パネルは最終形状よりも大きなマザーガラス基板から、液晶パネルを１枚或いは複数枚切り出して（多面取りとも呼ばれる）製造される。図４におけるステップＳ１〜Ｓ１０（Ｓ１１途中まで）のプロセスは、マザーガラス基板の状態でのプロセスである。
【００４９】
まず、基板準備工程において、アレイ基板１１０が面付けされてなるマザーアレイ基板に対応するマザーガラス基板と、対向基板１２０が面付けされてなるマザー対向基板に対応するマザーガラス基板に対して、それぞれ配線や電極、遮光層や各種絶縁膜などの形成が行われる。すなわち、マザーアレイ基板においては、マザーガラス基板上に、ゲート配線、ソース配線、ＴＦＴ１１５、絶縁膜１１６、画素電極１１３および対向電極１１４などを作り込む工程を行うが、これらの作り込みは一般的な横電界駆動方式の液晶パネルにおけるアレイ基板の製造方法と同様であるので、製造方法に関する詳細な説明は省略する。一方、マザー対向基板においては、マザーガラス基板上に図１或いは図３を用いて説明を行なったカラーフィルタ１２３、ＢＭ１２４、ＯＣ層１２５、或いは、柱状スペーサなどを作り込む工程を行うが、これらの作り込みは一般的な液晶パネルにおけるカラーフィルタ基板（対向基板）の製造方法と同様であるので、製造方法に関する詳細な説明は省略する。
【００５０】
なお、一般的な横電界駆動方式の液晶パネルでは、図１を用いて説明した静電気防止用の透明導電層１２６について、このマザー対向基板を準備した際に既に形成される場合も多い。然しながら、本実施の形態１では、マザーアレイ基板およびマザー対向基板を構成するマザーガラス基板については、製造プロセスを容易とするように、以降で説明するとおり、マザーアレイ基板およびマザー対向基板をシール材１３０により貼り合わせたマザーセル基板の状態とした後にマザー対向基板およびマザーアレイ基板の厚みを０．２ｍｍ未満程度に薄板化する薄板化研磨工程（スリミング工程）が行なわれ、その後に透明導電層１２６となるＩＴＯ膜などの透明導電膜が設けられるプロセスが用いられる。従って、このマザー対向基板を準備する工程ではＩＴＯ膜などの透明導電膜を形成する工程は省略される。
【００５１】
以上のとおり、マザーアレイ基板およびマザー対向基板を準備した後、まず、ステップＳ１の基板洗浄工程において、以上のように準備されたマザーアレイ基板およびマザー対向基板に対して、基板を洗浄する洗浄処理が行われる。
【００５２】
次に、ステップＳ２の配向膜材料塗布工程において、マザーアレイ基板およびマザー対向基板の片側表面に、配向膜材料の塗布形成を行う。この工程ではマザーアレイ基板およびマザー対向基板の互いに向かい合う主面に、例えば、フレキソ印刷法によりポリイミドなどの有機材料で構成される配向膜材料を転写塗布する。より具体的には、配向膜材料が表面に塗布された転写ローラを所定の転写方向に移動することにより、マザー対向基板表面の所定の塗布領域に配向膜材料が転写され塗布される。
【００５３】
この際に転写塗布される配向膜材料については、本実施の形態１では、例えば、主に上層側の配向膜の原料となるポリアミド酸アルキルエステルをイミド化した光配向膜材料と、主に上層側の配向膜の原料となるピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）を原料とするポリアミド酸を前駆体とする光導電性を有する配向膜材料とを混合してなる混合材料を転写塗布する。ＰＭＤＡを原料とするポリアミド酸は光配向膜材料を構成するポリアミド酸アルキルエステルに比べてマザーアレイ基板側の表面に形成される対向電極１１４を構成するＩＴＯ膜やマザー対向基板側の表面に形成されるＯＣ層１２５を構成する透明樹脂膜と馴染みやすいので、塗布後の状態では、レベリング効果によって、常にＰＭＤＡを原料とするポリアミド酸が下層側に、塗布された混合材料の残りの材料が上層側に、それぞれ位置するようになり、いわゆる相分離される。
【００５４】
その後、このようにして形成された配向膜材料にホットプレートなどにより２００℃程度の熱を加えることにより、それぞれ上層側および下層側に相分離されたポリアミド酸アルキルエステルをイミド化した光配向膜材料とＰＭＤＡを原料とするポリアミド酸はポリイミド化され、更に、溶剤成分が揮発されて乾燥される。
【００５５】
なお、このように形成された配向膜は、少なくとも下層側にＰＭＤＡを原料とするポリアミド酸を前駆体としてイミド化されてなるポリイミドを含む光導電性特性を有した材料が用いられることから、光が照射されていない状態と光が照射された状態における体積抵抗値の変化において、前記光が照射されていない状態に比べて、光が照射された状態の体積抵抗値が少なくとも１／１０以下に変化する光導電性特性を有した材料を用いた配向膜が形成されることになる。以上の工程までがＳ２の配向膜材料塗布工程にて行なわれる。
【００５６】
次に、ステップＳ３の配向処理工程において、マザーアレイ基板およびマザー対向基板に対して、例えば、ラビング処理や所定の偏光光を照射する光配向処理などによる配向処理を行なうことにより、配向膜材料表面を配向処理し配向膜１１２および配向膜１２２を形成する。本実施の形態１では、配向膜１１２および配向膜１２２について、何れも光配向膜を用いることとしたことから、ステップＳ３の配向処理工程は、光配向処理を選択する。
【００５７】
次に、ステップＳ４のシールペースト剤塗布工程において、シールディスペンサ装置を用いて、マザーアレイ基板或いはマザー対向基板の主面に、シール材１３０となる接着剤のペースト剤をディスペンサノズルより吐出して塗布する。ペースト剤は、液晶パネルの表示領域を囲うパターン形状に塗布され、シール材１３０を形成する。
【００５８】
次に、ステップＳ５の液晶滴下工程において、ペースト剤のパターンが形成された方の基板の当該ペースト剤のパターンで囲まれた領域内に液晶材料を滴下する。続いて、ステップＳ６の基板貼り合わせ工程において、マザーアレイ基板とマザー対向基板とを真空状態で貼り合わせてマザーセル基板を形成する。次に、ステップＳ７のＵＶ（紫外線）照射工程でマザーセル基板に紫外線を照射し、シール材１３０となるペースト剤を仮硬化させる。その後、ステップＳ８において加熱によりアフターキュアを行い、ペースト剤を完全に硬化させて、硬化したシール材１３０を得る。
【００５９】
次に、湾曲型液晶表示装置を得るために、湾曲加工が容易になるように、ガラス基板１１１およびガラス基板１２１を削り薄板化するよう加工する薄板化研磨工程（スリミング工程）を行う（Ｓ９）。この工程は、例えば薬液を用いた化学研磨や研磨材により擦る物理研磨により、マザーセル基板の外側となる其々のマザーガラス基板表面を削ることにより行われる。ここでは、０．５ｍｍ程度の厚みのマザーガラス基板を研磨し、マザー対向基板およびマザーアレイ基板の厚みを０．１５ｍｍ程度の厚み（例えば、中心値０．１５ｍｍ、バラツキ範囲±２０％の範囲内で管理）に薄板化する。
【００６０】
更に、ステップＳ１０の透明導電膜形成工程において、特にＳ９の薄板化研磨工程を経て０．２ｍｍ未満程度まで薄板化されたマザー対向基板のセル外側表面に対し、液晶パネル１００が完成した状態で各対向基板１２０の外側表面に設けられる静電気防止用の透明導電層１２６とするためのＩＴＯ膜などの透明導電膜をスパッタリングなどの成膜方法により形成する。
【００６１】
次に、ステップＳ１１のセル分断工程において、マザーセル基板をスクライブラインに沿って切断し、個々の液晶セルに分断する。以上のように分断された個々の液晶セルに対して、液晶セルの状態の液晶パネルの背面側に配置される点灯検査用バックライトを点灯する工程と、当該バックライトを点灯した状態でテスト画面を表示させ、観察者による目視やカメラによる撮像によって表示状態を検査する工程とを含む点灯検査工程ＴＳを行なう。
【００６２】
この点灯検査工程ＴＳについては、本発明における製造プロセスにおいて特徴的な工程であることから、図５の点灯検査工程における各工程のフローチャートおよび図６の点灯検査装置の構成図などを適宜用いて詳細な説明を加える。
【００６３】
先ず、点灯検査工程ＴＳにて用いられる点灯検査装置３００の詳細構成について、図６を用いて説明する。点灯検査装置３００においては、検査対象のワークとなる液晶パネル（液晶セル）１００を載置するステージを有しており、図示されるとおり、ステージは、ステージ筺体３０１と、液晶パネル（液晶セル）１００を載置する透明ステージ板３０２と、透明ステージ板３０２の背面側に配置される検査用の光源となるバックライト３０３を備える。
【００６４】
また、ここでは、液晶パネル１００が完成した状態で備える偏光板１４１および偏光板１４２を貼り付ける前の状態の液晶パネル（液晶セル）１００を点灯表示させることから、点灯検査装置３００の側に検査用の偏光板を備える。具体的な構成としては、背面側偏光板３０４を透明ステージ板３０２の裏面側に貼り付けて配置し、液晶パネル（液晶セル）１００の前面側に前面透明板３０５を配置し、当該前面透明板３０５に前面偏光板３０６を貼り付けて配置する構成としている。なお、透明ステージ板３０２および前面透明板３０５については、透明な板状部材を用いることが可能であり、例えば、ガラス板やアクリル板などを用いることができる。
【００６５】
また、本実施の形態１において用いる点灯検査装置３００は、液晶パネル（液晶セル）１００の内部で生じている帯電に対する除電処理の作用も得られるよう活用されることから、除電処理の作用を得るための光源として、一般的な点灯検査装置が備えるバックライト３０３に加えて、本実施の形態１の点灯検査装置３００に特有の構成として、補助光源を備えている。この補助光源としては、ステージ上に載置した液晶パネル（液晶セル）１００に対して、側面側より光を照射できるように、側方にも光源として補助ライト（サイド）３０７を配置している。更に、ステージ上に載置した液晶パネル（液晶セル）１００に対して、上面側からも光を照射できるように、ステージの上方にも光源として補助ライト（フロント）３０８を配置している。
【００６６】
なお、図では、補助ライト（サイド）３０７および補助ライト（フロント）３０８からステージ上に載置した液晶パネル（液晶セル）１００に対して照射光４００が照射されている状態を概念的に図示している。また、検査者の位置を液晶パネル（液晶セル）１００の上方に概念的に示している。なお、検査者の位置と液晶パネル（液晶セル）１００との間の距離、補助ライト（フロント）３０８と液晶パネル（液晶セル）１００との間の距離の相対的な関係などについては、正確なものではない。
【００６７】
また、本実施の形態１の点灯検査装置３００に特有の構成として、バックライト３０３と液晶パネル（液晶セル）１００との間、ここでは、バックライト３０３と背面側偏光板３０４との間において、バックライト３０３から発する光の散乱特性を調整する光学フィルム３０９を配置している。この光学フィルム３０９については、液晶パネル（液晶セル）１００内における対向基板１２０のＢＭ１２４とアレイ基板１１０の各遮光層の間に挟まれる部分における配向膜１２２に対して十分に照射光が入射されるように、バックライト３０３の表面に対して垂直方向以外の方向にも拡散し、液晶パネル（液晶セル）１００に入射されることを狙うものであり、レンズシートやプリズムシートを用いることができる。
【００６８】
また、図示は省略しているが、一般的な点灯検査装置と同様に、液晶パネル（液晶セル）１００に対して、テスト表示画面を表示するための電気信号を印加する信号印加手段などを備えており、信号を印加するためのプローブピンなどが液晶パネル（液晶セル）１００の信号端子１１７に接続される。また、液晶パネル（液晶セル）１００を載置するステージに可動機構を設けて、液晶パネル（液晶セル）１００の着脱位置と前面透明板３０５の下方となる検査位置との間において移動動作させる構成としても良い。
【００６９】
続いて、図５のフローチャートを用いて、点灯検査工程ＴＳにて行なう各工程について説明を行う。先ず、パネル載置工程ＴＳ１において、液晶パネル（液晶セル）１００をステージ上に載せるとともに、適宜、信号を印加するためのプローブピンなどを液晶パネル（液晶セル）１００の信号端子１１７に接続する。更に、適宜、前面透明板３０５の下方まで移動し、図６で図示されるとおり、液晶パネル（液晶セル）１００がステージ上に載置されると共に、前面透明板３０５の下方に配置され、背面側偏光板３０４と前面偏光板３０６との間に挟まれる位置に配置する。なお、図示されるとおり、液晶パネル（液晶セル）１００は、一般的な点灯検査工程と同様に、上側に対向基板１２０、下側にアレイ基板１１０が配置される状態でステージ上に配置される。
【００７０】
続いて、図６で図示される配置となった状態で、バックライト３０３を点灯し、更に、補助ライト（サイド）３０７および補助ライト（フロント）３０８についても点灯することにより、液晶パネル（液晶セル）１００に対して、下方、側方、上方の各方向から光を照射する除電処理として機能する光照射処理ＴＳ２を行う。この光照射処理ＴＳ２が行われている間、液晶パネル（液晶セル）１００内の対向基板１２０の内側表面に形成されている配向膜１２２とアレイ基板１１０の内側表面に形成されている配向膜１１２に対して、これらの光源から発せられる光が照射される。
【００７１】
特に、アレイ基板１１０および対向基板１２０に設けられる遮光層（対向基板１２０のＢＭ１２４およびアレイ基板１１０の各遮光層）の間に挟まれる部分における配向膜１２２および配向膜１１２についても、側方に設けられる補助ライト（サイド）３０７からの照射光やバックライト３０３から発する光の散乱特性を調整する光学フィルム３０９が機能することによって、より有効に光を照射することができる。その結果、配向膜１２２に用いれる光導電性の高い配向材料よりなる下層側に配置される第１層１２２Ｌ１、或いは配向膜１１２に用いられる同様の光導電性の高い配向材料よりなる下層側に配置される配向膜の体積抵抗値が１０１２〜１０１３（Ω・ｃｍ）程度に変化することで、これらの配向膜材料は、大きく低抵抗化される。
【００７２】
この配向膜１２２および配向膜１１２における下層側の配向膜が大きく低抵抗化された状態は、この光照射処理ＴＳ２が行われている間において継続され、その間において、主として、対向基板１２０の内側表面に発生していた静電気起因の電荷が抜ける。つまり、この光照射工程ＴＳ２が対向基板１２０の表面に対する除電作用が得られる処理として機能する。なお、この光照射工程ＴＳ２を行う時間については、除電作用が得られるのに充分な時間を目安として設定する所定の時間行なうようにすれば良い。
【００７３】
以上のとおり、光照射処理ＴＳ２を行うことにより除電処理が行なわれた液晶パネル（液晶セル）１００に対して、引き続いて、一般的な点灯検査工程にあたる工程、つまり、バックライト３０３を点灯し、テスト画面などを表示させた状態で、観察者の目視やカメラによる撮像によって表示状態を検査することによって所定の表示状態の不良の有無を検査する工程となる表示不良検査工程ＴＳ３を行なう。この表示不良検査工程ＴＳ３については、一般的な点灯検査工程における検査項目となる点欠陥不良（輝点不良も含む）や配線間の断線や短絡による線欠陥不良の検査や表示ムラの検査などを順次行う。以上の各工程を順次行なうことにより、点灯検査工程ＴＳは完了する。
【００７４】
なお、上記の点灯検査工程ＴＳおよび点灯検査装置３００の例では、特に横電界駆動方式の液晶パネル（液晶セル）１００の場合において、表示不良の起因となる対向基板１２０側の配向膜１２２に対して、ＢＭ１２４とアレイ基板１１０の各遮光層の間に挟まれる部分においても照射光が効果的に入射されるように、或いは、光照射処理ＴＳ２の時間、つまり、除電作用が得られるのに充分な時間を短縮し、光照射処理ＴＳ２および点灯検査工程ＴＳのタクトタイムを短縮できるように、バックライト３０３上に光学フィルム３０９を配置した構成を用いる方法と、ステージ上に載置した液晶パネル（液晶セル）１００に対して、側面側より光を照射する補助ライト（サイド）３０７を配置する構成を用いる方法を併用して用いた例について説明を行なった。
【００７５】
但し、何れか一方の方法のみを選択しても、ある程度、効果的に、ＢＭ１２４とアレイ基板１１０の各遮光層との間に挟まれる部分の配向膜１２２に対して照射することは可能である。また、両者の方法ともに省略し、一般的な点灯検査工程の場合と同様に、点灯検査用のバックライト３０３からの光を直接、液晶パネル（液晶セル）１００に対して、アレイ基板１１０側より照射する方法を選択した場合においても、ある程度、効果的に、ＢＭ１２４とアレイ基板１１０の各遮光層との間に挟まれる部分の配向膜１２２に対して照射することは可能である。
【００７６】
これは、アレイ基板１１０の各遮光層は、対向基板１２０側に設けられるＢＭ１２４に比べると、遮光層の幅が狭いこと、更に、光を照射する必要がある対向基板１２０側の配向膜１２２に対して、液晶層１４０を介して離れた位置に配置されることから、アレイ基板１１０側より照射することにより、バックライト３０３から適度に散乱して発せられる光が、ある程度は、ＢＭ１２４とアレイ基板１１０の各遮光層との間に挟まれる部分の配向膜１２２に対しても照射されるためである。
【００７７】
また、上記の点灯検査工程ＴＳおよび点灯検査装置３００の例では、光照射処理ＴＳ２の時間、つまり、除電作用が得られるのに充分な時間を短縮し、光照射処理ＴＳ２および点灯検査工程ＴＳのタクトタイムを短縮できるように、ステージ上に載置した液晶パネル（液晶セル）１００に対して、上面側からも光を照射できるように、ステージの上方にも補助ライト（フロント）３０８を配置する構成を用いた例を示した。然しながら、ＢＭ１２４とアレイ基板１１０の各遮光層との間に挟まれる部分の配向膜１２２に対して照射することにおいては、バックライト３０３による照射と、側面側からの補助ライト（サイド）３０７による照射のほうが効果的であって、補助ライト（フロント）３０８からの照射は、補助的な位置づけである。従って、補助ライト（フロント）３０８の配置および照射について省略した構成としても良い。
【００７８】
また、光学フィルム３０９について、レンズシートやプリズムシートなどの特定の散乱特性を有した構成を用いた例について説明を行なったが、このような構成を用いた場合、除電処理として機能する光照射処理ＴＳ２を行う際には効果的であるものの、表示不良検査ＴＳ３を行う際において、点灯検査用のバックライト３０３としての照射方向に悪影響することも考えられる。そこで、光学フィルム３０９が点灯検査用のバックライト３０３としての照射方向に影響を及ぼさないようにするのであれば、光学フィルム３０９を着脱可能として、表示不良検査ＴＳ３を行う際には、バックライト３０３と背面側偏光板３０４の間より、この光学フィルム３０９を外せば良い。当該光学フィルム３０９の着脱については、検査者が行なう構成としても良いし、自動的に行なう着脱機構を設けた構成としても良い。
【００７９】
また、別の方法として、光学フィルム３０９について、散乱特性を可変とするように、例えば、対向配置され、表面に透明電極の設けられた２枚の透明プラスチックシートの間に、ＰＤＬＣ（高分子分散型液晶）が挟持された積層構造を有する散乱液晶シートを光学フィルム３０９として用いると良い。この散乱液晶シートは、２枚の透明プラスチックシートに設けられる透明電極間に印加する電圧をオンオフすることにより、散乱有りと散乱無しの２種類の散乱特性を選択することができる。その場合にも、除電処理として機能する光照射処理ＴＳ２を行う際には、散乱液晶シートの電圧をオフ状態（散乱無し）とし、表示不良検査ＴＳ３を行う際には、散乱液晶シートの電圧をオン状態（散乱有り）とするように動作させると良い。
【００８０】
また、上記説明のとおり、本実施の形態１の例では、光照射工程ＴＳ２にて、表示不良検査工程ＴＳ３の開始前に点灯検査装置３００のバックライト３０３により、アレイ基板１１０側から光を照射すること、当該光照射工程ＴＳ２を行う時間、つまり、バックライト３０３によりアレイ基板１１０側から光を照射する時間については、除電作用が得られるのに充分な時間を目安して設定する所定の時間とすることとした。なお、除電すべき帯電の程度により除電作用が得られるのに充分な時間は多少異なるものの、採用されているプロセスにおける帯電の程度に応じて、除電作用が得られる適当な所定の時間を設定すれば良い。
【００８１】
また、この設定された所定の時間について、ある程度の時間が必要であって正確に管理する必要がある場合には、例えば、パネル載置ＴＳ１のあと、表示不良検査工程ＴＳ３を開始する前において、点灯検査装置３００に計時機能と、所定時間の経過後に表示不良検査工程ＴＳ３を開始するアラームを発報する機能などを備えて、必ず、所定時間の光照射工程ＴＳ２が確保されるようにしても良い。
【００８２】
逆に、この所定時間が余り長くない場合には、点灯検査により行なう検査項目のうち、帯電により影響を受け難い、配線間の断線や短絡による線欠陥不良の検査などを先に行い、当該検査を行なっている間に所定時間のバックライト３０３の点灯による光照射工程ＴＳ２を完了し、帯電により影響を受けやすい点欠陥不良や表示ムラ不良の検査を最後に行なうようにしても良い。このような点灯検査であれば、従来から行なっている点灯検査工程において、検査項目の順番を見直すのみで、実施の形態１の効果を得ることができることになる。
【００８３】
また、タクトタイムの関係により光照射工程ＴＳ２を行う時間を充分に確保できない場合、或いは、帯電の程度が高いなどの理由により、光照射工程ＴＳ２を経たあとも表示不良検査工程ＴＳ３において、ある一定の比率で静電気起因の輝点不良や表示ムラが検知され不良と評価された製品が発生する場合も想定される。そのような場合においても、当該不良と評価された製品について、再度、光照射工程ＴＳ２を行うこと、適宜、少し処理時間を長く設定した光照射工程ＴＳ２を行うことにより、対向基板１２０の内側表面に残留していた静電気起因の電荷が抜け、不良品と評価された製品が修復されることが期待できる。
【００８４】
従って、表示不良検査工程ＴＳ３において、不良と評価された製品について、再度、光照射工程ＴＳ２と表示不良検査工程ＴＳ３を行なう工程を追加しても良い。このようにすることで、直行率を上げることには寄与しないものの、最終的に不良発生を防止し、更に、歩留りを向上することができることになる。
【００８５】
また、光照射工程ＴＳ２による静電気起因の輝点不良や表示ムラが充分に回復しない場合において、特に、静電気起因の表示ムラについては、この回復が若干不足する程度の場合には、表示状態が不安定になるなど、明らかに静電気起因であることが判る場合も多い。従って、このような状態が発生した場合には、表示不良検査工程ＴＳ３において、直ちに不良と評価してしまわずに、ステージ上に検査対象を載置した状態で、つまり、光照射工程ＴＳ２と同様にバックライト３０３によりアレイ基板１１０側から光を照射された状態で、所定の観察時間として１、２分程度の時間をおくこと、言わば光照射工程ＴＳ２における所定時間を延長するのと同等の処理がされることにより、静電気起因の電荷の除電残りが解消され、正常に表示動作されようになる場合も有り得る。
【００８６】
従って、このように表示不良検査工程ＴＳ３において、表示状態が不安定になる現象が発生した場合には、そのままステージ上に検査対象を載置した状態で表示状態が安定するまで所定の観察時間の経過を待ったあとに、表示不良検査工程ＴＳ３で行なう必要がある所定の表示状態の不良の有無を検査する各検査項目の検査を行なうようにしても良い。このようにすることで、光照射工程ＴＳ２による静電気起因の輝点不良や表示ムラの回復が不充分な製品が検査に仕掛かった場合のみ、多少、点灯検査工程ＴＳのタクトが長くなってしまうものの、直行率を下げることなく、最終的に不良発生を防止し、歩留りを向上することができることになる。
【００８７】
以上説明のとおり、点灯検査工程ＴＳを行なったあと、表示不良検査工程ＴＳ３において、各検査項目において不良の無い良品と評価されたものについて、続いて、ステップＳ１２の偏光板貼り付け工程、ステップＳ１３の制御基板実装工程などを実行することにより、一連の製造工程が完了し、図１および図２のとおり、液晶パネル１００が完成する。
【００８８】
更に、最後に、ステップＳ１４の湾曲変形工程（および筺体組み込み工程）において、所望の湾曲形状を有した透明の板材によりなる湾曲透明保護カバー１０１の湾曲面に対して、透明粘着シート１０２を介して、液晶パネル１００を、それぞれのアレイ基板１１０および対向基板１２０を湾曲するように変形した状態で貼り付けることで、湾曲変形を行なう。更に、背面側に光学シートを介して湾曲形状を有したバックライトユニットなどを対向して配置した状態で、適宜、筐体内に組み込み保持する。以上の工程を経て、湾曲した表示面２００を有した液晶パネル１００よりなる湾曲型液晶表示装置１０が完成する。
【００８９】
続いて、本実施の形態１の湾曲型液晶表示装置において得られる作用について説明を行なう。本実施の形態１の湾曲型液晶表示装置においては、製造方法を説明したとおり、一般的な湾曲型液晶表示装置と同様にスリミング工程が設けられるプロセスを経ることから、マザー対向基板の状態では、ＩＴＯ膜などの透明導電膜が設けられてない状態である。従って、少なくともＩＴＯ膜などの透明導電膜が設けられる透明導電膜形成工程Ｓ１０よりも前の工程となる基板洗浄工程Ｓ１〜薄板化研磨工程Ｓ９においては、各工程において発生する静電気により、液晶セルの内側、特に横電界駆動方式の場合に電極層が設けられないマザー対向基板の液晶層側の表面に静電気による電荷が励起される。
【００９０】
更に、当該マザー対向基板の液晶層側の表面に励起された電荷（帯電）については、信頼性や光学特性良化のために高抵抗仕様の配向膜（ポリアミック酸）を使用している場合には、通常、透明導電膜形成工程Ｓ１０により、セル外側にＩＴＯ膜などの透明導電膜が設けられた以降も除去されない。従って、一般的な横電界駆動方式の湾曲型液晶表示装置において、高抵抗仕様の配向膜が使用されることを想定した場合には、点灯検査時において、表示ムラとして視認されることで表示不良と評価されて、歩留りを低下する要因となることが懸念される。
【００９１】
特に、湾曲型液晶表示装置では、点灯検査時においては、スリミング工程を経て、対向基板１２０を構成するガラス基板１２１は０．２ｍｍ未満程度、本実施の形態１の例で言えば、０．１５ｍｍ程度まで薄板化されている。その結果、液晶層側の表面に励起された電荷と０．２ｍｍ未満程度に薄板化されたガラス基板１２１を介して対向配置される静電気防止用の透明導電層１２６との間の容量が大きくなることから、この液晶層側の表面の帯電により液晶層１４０に作用する電界が大きくなる。或いは、容量が大きくなっていることから、蓄積される電荷量が多くなり、一旦、帯電を生じると抜けにくい。つまり、同程度の帯電が生じていたとしても、特に、スリミング工程を経たあとの状態となる点灯検査時の一般的な湾曲型液晶表示装置を想定した場合には、輝点不良、表示ムラが顕著になることが懸念される。
【００９２】
一方、本実施の形態１の湾曲型液晶表示装置および製造方法においては、特に一般的な液晶表示装置および製造方法において備えていない特徴として、湾曲型液晶表示装置および製造方法において、対向基板１２０側の配向膜１２２として、特に下層側に設けられる光導電性の高い配向材料よりなる第１層１２２Ｌ１を備えていること、更に、基板貼り合わせ工程以降に外部から光照射を伴うプロセスとして、点灯検査工程ＴＳを経ること、特に、その点灯検査工程ＴＳにおいて、検査開始前に、所定の時間（除電作用が得られるのに充分な時間）、点灯検査用のバックライトにより、アレイ基板側から光を照射する工程となる光照射工程ＴＳ２を備えている。
【００９３】
以上の湾曲型液晶表示装置および製造方法の特徴を有していることにより、上記の配向膜１２２における光導電性の高い配向材料よりなる第１層１２２Ｌ１の抵抗が大きく低下し、対向基板１２０の表面に発生している静電気起因の電荷が抜けること、つまり、この光照射工程ＴＳ２が対向基板１２０の表面に対する除電作用が得られる処理として機能することにより、続いて行なわれる表示不良検査工程ＴＳ３において、当該静電気起因の輝点不良や表示ムラなどの表示状態が不良となることについて発生しにくくすることができる。
【００９４】
なお、帯電の影響による表示ムラの発生については、ある程度の時間を経ることにより、徐々に電荷が抜けることによって回復する場合もあることから、数日程度保管したあとに再度点灯検査を行なうことにより、不良品とはならない場合もある。然しながら、点灯検査工程ＴＳの時点で当該静電気起因の輝点不良や表示ムラなどの不良が検知されなくなることによって、少なくとも、一時的な検査脱落を防ぎ、直行率を上げることには寄与することになる。
【００９５】
また、逆に、先に説明を行なったとおり、点灯検査工程ＴＳにおける表示不良検査工程ＴＳ３を経たあとにおいて、再度、アレイ基板１１０側から光を照射する工程となる光照射工程ＴＳ２を行うことにより、不良品と評価された製品を修復することも可能となる。つまり、基板貼り合わせ工程以降の何れかの段階において、アレイ基板１１０側から光を照射する工程が行なわれることにより、直行率を上げることには寄与しない場合もあるが、少なくとも、最終的に不良発生を防止し、歩留りを向上することに寄与することになる。
【００９６】
また、本実施の形態１の湾曲型液晶表示装置１０を表示動作した際においては、液晶層１４０と接する上層の第２層１２２Ｌ２については、バックライトからの光が照射されている状態においても１０１５（Ω・ｃｍ）以上程度の体積抵抗値特性であり、比較的高抵抗であることから、液晶層１４０を介した電荷の移動は遮断される。
【００９７】
更に、第２層１２２Ｌ２を介して下層に配置される第１層１２２Ｌ１については、バックライトからの光が照射される部分では、１０１２〜１０１３（Ω・ｃｍ）の範囲内程度に低抵抗化されるものの、アレイ基板１１０側に設けられるゲート配線、ソース配線、ＴＦＴ１１５などの形成領域は遮光層となり、これら遮光層と平面視で重なる部分に位置する第１層１２２Ｌ１には充分に光が照射されずに、１０１４〜１０１５（Ω・ｃｍ）の範囲内程度の比較的高抵抗のままである。また、当該遮光層の形成される部分は、基本的には格子状に形成され、遮光層の形成される部分と平面的に重なる部分となる高抵抗のままの第１層１２２Ｌ１の領域も同様に格子状に形成されることから、バックライトからの光が照射されることで低抵抗化される第１層１２２Ｌ１の領域は平面配置としては分断して配置されることになる。
【００９８】
従って、表示動作している際において、液晶層１４０を駆動する表示電位を保持するために蓄積される電荷について、液晶層１４０および配向膜１２２の第１層１２２Ｌ１および第２層１２２Ｌ２を介して液晶パネルの周辺部に向う経路については、かなり高抵抗となり、当該経路を通って自由にリークすることは無い。以上のことから、本実施の形態１の湾曲型液晶表示装置を表示動作した際において、特に問題となるような電圧保持率（Ｖｏｌｔａｇｅ  Ｈｏｌｄｉｎｇ  Ｒａｔｉｏ：ＶＨＲ）の低下を招くことも無い。
【００９９】
以上説明のとおり、本実施の形態１の湾曲型液晶表示装置においては、薄板化研磨工程（スリミング工程）を行なう製造プロセスを用いて製造される横電界駆動方式の液晶表示装置において、点灯検査時のバックライト光を利用して、配向膜を低抵抗化し、対向基板表面に発生している静電気起因の電荷が抜けることにより、帯電の影響を受けず安定して点灯検査を行なうことができる。或いは、静電気起因の輝点不良や表示ムラなどの表示状態が不良となることについて改善することができる。特に０．２ｍｍ未満に薄板化されたガラス基板が用いられることから静電気起因の輝点不良や表示ムラなどの不良を生じ易い湾曲型液晶表示装置であるにも関わらず、当該静電気起因の輝点不良や表示ムラなどの表示状態が不良となることについて生じにくくすることができる。或いは、一時的な検査脱落を防ぎ、直行率を上げることができる。更に、表示動作した際において、特に問題となるような電圧保持率（ＶＨＲ）の低下を招くことも無い。従って、特に、電圧保持率（ＶＨＲ）の低下に伴う表示品位の悪化が発生することもない。また、ダミーの裏面ＩＴＯ（つまり、静電気防止用の透明導電層）を形成する必要もなく、顕著にコストを増加することなく、上記の効果を得ることができる。
【０１００】
実施の形態２．
以上説明を行なった実施の形態１の液晶表示装置については、本発明を湾曲タイプの液晶表示装置（湾曲型液晶表示装置とも呼ぶ）に適用した例について説明を行った。一方、本発明は、湾曲型液晶表示装置以外であっても、製造プロセスにおいて、マザーガラス基板の厚みを薄く加工する薄板化研磨工程（スリミング工程とも呼ばれる）が設けられる製品、例えば、一般的なマザーガラス基板の厚みである０．５〜１．１ｍｍよりも薄いガラス基板により構成される薄型機種、具体的には、０．５ｍｍ未満のガラス基板により構成される通常の平板の表示面を備えた液晶表示装置においても有効に適用することができる。続いて、通常の平板の表示面を備えた液晶表示装置への本発明の適用例となる実施の形態２の液晶表示装置に用いられる液晶パネルの構成について図７を用いて説明を行なう。なお、図７は液晶表示装置全体を示した断面図であり、実施の形態１における図１に対応する。以下、実施の形態１との変更部を重点的に説明することとする。
【０１０１】
本実施の形態２の液晶表示装置１０ａに用いられる液晶パネル１００ａの構成としては、実施の形態１の湾曲型液晶表示装置１０とは異なり、図７に示されるとおり、一般的な液晶表示装置と同様に、画像を表示する表示領域（表示面）２００ａについて通常の平板の表示面２００ａを備えている。更に、本実施の形態２の液晶パネル１００ａでは、湾曲形状に変形可能である必要が無いことから、液晶パネル１００ａを構成するアレイ基板１１０と対向基板１２０におけるガラス基板１１１ａとガラス基板１２１ａの厚みについて、０．２ｍｍ未満程度まで薄板化されている必要は無い。但し、本発明を適用した際の効果が顕著に発揮される構成となる薄型機種の液晶表示装置への適用例であることから、これらガラス基板１１１ａとガラス基板１２１ａの厚みについて、一般的な液晶表示装置に比べると若干薄くなる０．５ｍｍ未満、例えば、０．３ｍｍ程度の厚みに設定（例えば、中心値０．３０ｍｍ、バラツキ範囲±２０％の範囲内で管理）することとした。このように０．５ｍｍ未満のガラス基板１１１ａとガラス基板１２１ａが用いられることにより、本実施の形態２の液晶表示装置１０ａは一般的な液晶表示装置に比べて薄型化や軽量化がなされていることになる。
【０１０２】
一方、液晶パネル１００ａが、ＴＦＴをスイッチング素子に用いて動作される横電界駆動方式の液晶パネルであって、特にＦＦＳ方式を用いた液晶パネル１００ａである点は実施の形態１の液晶パネル１００と共通している。更に、液晶パネル１００ａを構成するアレイ基板１１０と対向基板１２０におけるガラス基板１１１ａとガラス基板１２１ａ上に設けられる各構成についても実施の形態１の液晶パネル１００を構成するアレイ基板１１０と対向基板１２０におけるガラス基板１１１とガラス基板１２１上に設けられる各構成と大差は無い。従って、図中において、実施の形態１における各構成と同一の構成要素には、それぞれ実施の形態１と同一の符号を付し、重複説明は省略する。
【０１０３】
また、本発明での特徴的構成となる対向基板１２０表面に形成される配向膜１２２について、本実施の形態２の液晶パネル１００ａは、図３を用いて説明した実施の形態１の配向膜１２２の構成と同様の構成を備えている。従って、本実施の形態２の液晶パネル１００ａが備える配向膜１２２の詳細説明についても重複説明は省略する。
【０１０４】
また、図示されるとおり、液晶表示装置１０ａの全体の構成における実施の形態１の湾曲型液晶表示装置１０との相違点としては、液晶パネル１００ａを所定の湾曲形状に変形された状態で保持する必要が無いことから、実施の形態１で備えていた単独で湾曲形状を有した湾曲透明保護カバーや透明粘着シートなどの構成は備える必要がなく、図示を省略されている。
【０１０５】
但し、液晶表示装置１０ａについて、前面側からの外圧などに対する耐性や耐湿性を向上した製品仕様とするのであれば、湾曲透明保護カバーの代わりに、透明粘着シートを介して平板状の透明保護カバーを設けた構成としても良い。或いは、タッチパネル付きの製品仕様とするのであれば、透明粘着シートを介してタッチパネルを設けた構成としても良い。何れにしても、液晶パネルの前面側に透明粘着シートを介して固定される湾曲透明保護カバー、透明保護カバー、タッチパネルなどの前面パネルを備えた構成とすることにより、前面側からの外圧などに対する耐性や耐湿性を向上することができるといった共通する効果を得ることができる。
【０１０６】
本実施の形態２の液晶表示装置１０ａおよび液晶パネル１００ａの構成については、以上説明のとおりであり、続いて、本実施の形態２の液晶表示装置１０ａおよび液晶パネル１００ａの製造方法について説明する。但し、ここでも実施の形態１との変更部を重点的に説明することとする。大部分の製造工程は実施の形態１と同様であることから、別途、フローチャートを示すことは省略し、実施の形態１で用いた図４のフローチャートを用いて、相違点について説明する。
【０１０７】
本実施の形態２の液晶表示装置１０ａおよび液晶パネル１００ａの製造方法においても、実施の形態１のフローチャートにおけるステップＳ１からＳ１３までの工程は概ね共通となる。特に、実施の形態１の液晶パネル１００と本実施の形態２の液晶パネル１００ａとは、最終的な構成としては、ガラス基板の厚みが異なるものの、ステップＳ１からＳ９に至るまでの工程において用いられるマザーガラス基板は実施の形態１の製造フローの場合と同様に、０．５ｍｍ程度の厚みのマザーガラス基板が用いられる。また、本実施の形態２においても、実施の形態１において、図５や図６を適宜参照しながら説明を行なった点灯検査工程ＴＳの各工程を同様に行う。
【０１０８】
一方、薄板化研磨工程（スリミング工程）Ｓ９では、実施の形態１において薄板化研磨される厚みとは異なり、０．５ｍｍ未満、例えば、０．３ｍｍ程度の厚みまで薄板化研磨することとした（例えば、中心値０．３０ｍｍ、バラツキ範囲±２０％の範囲内で管理）。また、ステップＳ１４については、実施の形態１においては、湾曲変形工程および筺体組み込み工程を行なうこととしていたが、本実施の形態２においては、液晶パネル１００ａの湾曲変形は不要であることから、背面側に光学シートを介してバックライトユニットなどを対向して配置した状態で、適宜、筐体内に組み込み保持する工程となる筺体組み込み工程のみを行なうことになる。或いは、前面側からの外圧などに対する耐性や耐湿性を向上した製品仕様やタッチパネル付きの製品仕様とするのであれば、この工程にて、液晶パネル１００に対して透明粘着シートを介して平板状の透明保護カバーやタッチパネルを貼り付けると良い。
【０１０９】
本実施の形態２の液晶表示装置１０ａにおいても、製造方法を説明したとおり、実施の形態１の湾曲型液晶表示装置１０と同様にスリミング工程が設けられるプロセスを経ることから、マザー対向基板の状態では、ＩＴＯ膜などの透明導電膜が設けられてない状態である。従って、少なくとも基板洗浄工程Ｓ１〜薄板化研磨工程Ｓ９においては、各工程において発生する静電気により、液晶セルの内側、特に横電界駆動方式の場合に電極層が設けられないマザー対向基板の液晶層側の表面に静電気による電荷が励起される。
【０１１０】
一方、本実施の形態２の液晶表示装置１０ａおよび製造方法においても、実施の形態１の湾曲型液晶表示装置１０と共通する特徴として、対向基板１２０側の配向膜１２２において、特に下層側に設けられる光導電性の高い配向材料よりなる第１層１２２Ｌ１を備えていること、更に、基板貼り合わせ工程以降に外部から光照射を伴うプロセスとして、点灯検査工程ＴＳを経ること、特に、その点灯検査工程ＴＳにおいて、検査開始前に、所定の時間（除電作用が得られるのに充分な時間）、点灯検査用のバックライトにより、アレイ基板側から光を照射する工程となる光照射工程ＴＳ２を備えている。
【０１１１】
従って、この光照射工程ＴＳ２が行われている間において、上記の配向膜１２２における光導電性の高い配向材料よりなる第１層１２２Ｌ１の抵抗が大きく低下し、対向基板１２０の表面に発生している静電気起因の電荷が抜けるよう作用する。つまり、この光照射工程ＴＳ２が対向基板１２０の表面に対する除電作用が得られる処理として機能する。その結果、続いて行なわれる表示不良検査工程ＴＳ３において、当該静電気起因の輝点不良や表示ムラなどの不良発生を防止することができる。また、実施の形態１において説明を行なった作用と同様の作用により、本実施の形態２の液晶表示装置を表示動作した際において、特に問題となるような電圧保持率（ＶＨＲ）の低下を招くことも無い。
【０１１２】
以上説明のとおり、本実施の形態２の液晶表示装置１０ａにおいても、実施の形態１の湾曲型液晶表示装置１０と同様に、特に０．５ｍｍ未満に薄板化されたガラス基板を用いた構成とするために薄板化研磨工程（スリミング工程）を行なう製造プロセスを用いて製造される横電界駆動方式の液晶表示装置において、点灯検査時のバックライト光を利用して、配向膜を低抵抗化し、対向基板表面に発生している静電気起因の電荷が抜けることにより、帯電の影響を受けず安定して点灯検査を行なうことができる。また、静電気起因の輝点不良や表示ムラなどの表示状態が不良となることについて改善することができる。或いは、一時的な検査脱落を防ぎ、直行率を上げることができる。更に、表示動作した際において、特に問題となるような電圧保持率（ＶＨＲ）の低下を招くことも無い。従って、特に、電圧保持率（ＶＨＲ）の低下に伴う表示品位の悪化が発生することもない。また、ダミーの裏面ＩＴＯを形成する必要もなく、顕著にコストを増加することなく、上記の効果を得ることができる。
【０１１３】
以上説明を行なった実施の形態１および実施の形態２の液晶表示装置においては、本発明を対向基板１２０に設けられる配向膜１２２やアレイ基板１１０に設けられる配向膜１１２について、光配向膜を含んでなる構成に適用した例について説明を行った。一方、本発明は、配向膜１２２やアレイ基板１１０に設けられる配向膜１１２について、ラビング処理による配向処理を行なうことにより形成されるラビング仕様の配向膜を用いた構成にも適用することができる。その場合には、実施の形態１において説明を行なった配向膜材料塗布工程Ｓ２においてマザーアレイ基板やマザー対向基板上に転写塗布する配向膜材料についてラビング仕様の配向膜材料に変更し、続いて行われる配向処理工程Ｓ３については、ラビング処理を用いた配向処理に変更すれば良い。
【０１１４】
また、ラビング仕様の配向膜を用いる場合においても光導電性特性を有した材料を用いる必要があり、具体的には、実施の形態１および実施の形態２の配向膜１１２および配向膜１２２と同様に、光が照射されていない状態と光が照射された状態における体積抵抗値の変化において、前記光が照射されていない状態に比べて、光が照射された状態の体積抵抗値が少なくとも１／１０以下に変化する光導電性特性を有したラビング仕様の配向膜を用いる。
【０１１５】
なお、光配向膜は、一般的には高抵抗な材料、つまり、体積抵抗値が高い材料である場合が多いことから、実施の形態１および実施の形態２の配向膜１１２および配向膜１２２においては、上層側と下層側で互いに異なる組成、性質などを有した部分を有した相分離系の光配向膜を用い、上層側に比較的体積抵抗値が高くなる光配向性を有した配向膜材料を配置し、下層側に光導電性特性を有した配向膜を配置した構成を採った例について説明を行なった。当然、ラビング仕様の配向膜を用いる場合においても、上層側に配向性を重視して高い配向性を有したラビング仕様の配向膜材料を配置し、下層側に光導電性特性を有した配向膜を配置した構成を採った相分離系の配向膜を選択しても良い。
【０１１６】
一方、ラビング仕様の配向膜では、一般的には光配向膜に比べると体積抵抗値が低い材料を選択することが可能であることから、ラビング仕様であるとともに光導電性特性を有した配向膜の単層膜により配向膜１１２および配向膜１２２を構成しても良い。その場合にも、光導電性特性の目安としては、光が照射されていない状態と光が照射された状態における体積抵抗値の変化において、前記光が照射されていない状態に比べて、光が照射された状態の体積抵抗値が少なくとも１／１０以下に変化する光導電性特性を有していれば良い。更に、具体的な光導電性特性としては、光を照射しない状況において、体積抵抗値が１０１４〜１０１５（Ω・ｃｍ）程度であって、バックライト光に相当する程度の光を照射した状況において、体積抵抗値が１０１２〜１０１３（Ω・ｃｍ）程度に変化する光導電性特性を有するものが望ましい。また、このような特性が得られる具体的な配向膜材料としては、例えば、ＰＭＤＡを原料とするポリアミド酸を前駆体としてイミド化されてなるポリイミドを含む光導電性特性を有した材料において、ラビング仕様となる配向膜材料が混入されてなる配向膜材料を選択することができる。
【０１１７】
また、上記のとおり例示した光導電性特性を有した配向膜の単層膜により配向膜１１２および配向膜１２２を構成した例では、ラビング仕様の配向膜材料において単層膜を用いた例について説明を行なった。一方、光配向膜の単層膜であっても、光が照射されていない状態と光が照射された状態における体積抵抗値の変化において、前記光が照射されていない状態に比べて、光が照射された状態の体積抵抗値が少なくとも１／１０以下に変化する光導電性特性を有していれば、仮に通常時の抵抗特性、つまり、光が照射されていない状態の抵抗特性において比較的高抵抗であったとしても、適用することは可能であって、本発明の基本的な効果については共通して得ることができることになる。
【０１１８】
以上説明を行なった実施の形態１の製造方法の例においては、静電気起因の輝点不良や表示ムラを回復させるために行なう光照射処理について、主に点灯検査装置が元々備えている検査用のバックライト３０３から照射される光を利用することで、効率的に、本発明における特徴的な工程となる静電気起因の輝点不良や表示ムラを回復させる作用が得られる光照射処理を行なうことができる例について説明を行なった。然しながら、アレイ基板１１０側より光照射ができれば、特に点灯検査装置内で行う必要はなく、他の工程や装置において行っても良い。特に光照射処理を行なうタイミングとしては、マザーアレイ基板とマザー対向基板を貼り合わせて以降、点灯検査工程ＴＳよりも前に行なうことで、効果的に各基板の内側表面に残留していた電荷について除電することができる。
【０１１９】
また、点灯検査装置における点灯検査工程ＴＳよりも前に、この光照射処理による除電処理が済んでいれば、特に点灯検査装置において、光照射工程ＴＳ２による所定時間の光照射処理を付加する必要がなくなり、点灯検査工程ＴＳ自体のタクト向上につながることになる。また、点灯検査装置３００で光照射処理ＴＳ２を行うために備えていた補助ライト（サイド）３０７、補助ライト（フロント）３０８、光学フィルム３０９などの各構成は不要となり、一般的な点灯検査装置を用いることができることになる。
【０１２０】
このマザーアレイ基板とマザー対向基板を貼り合わせて以降、点灯検査工程ＴＳよりも前に、別途光照射処理を行なう方法を選択する場合には、例えば、この間に行なわれる各工程、具体的には、ＵＶ（紫外線）照射工程Ｓ７やアフターキュア工程Ｓ８において、その処理に用いられるＵＶ照射装置やアフターキャア装置において、適宜、ステージなどにアレイ基板１１０側より光照射ができる光源などを備えた構成に変更することで、この光照射処理を行なうことができる。
【０１２１】
また、実施の形態１の点灯検査装置の場合と同様に、適宜、処理装置上に載置したマザーセル基板に対して、側面側より光を照射できるように、或いは、上面側からも光を照射できるように、補助光源を備えるようにしても良い。更に、実施の形態１の点灯検査装置で備えるとしていた散乱特性を調整する光学フィルム３０９を備え、当該散乱特性を調整する光学フィルムを介してマザーセル基板に対してアレイ基板１１０側より散乱された光が照射される構成を用いても良い。以上の方法を選択することにより、別途、専用の光照射装置や光照射工程を設ける必要がなく、比較的低コストにて、本発明の製造プロセスを行なうことができる製造ラインを構築することができる。
【０１２２】
また、逆に、このマザーアレイ基板とマザー対向基板を貼り合わせて以降、点灯検査工程ＴＳよりも前に、別途光照射処理を行なう方法を選択する場合において、この光照射処理による除電処理について、既存のＳ７からＳ１１までの各工程および各処理装置において行うことに限られず、Ｓ７からＳ１１までの各工程の間において、別途当該静電気起因の輝点不良や表示ムラを回復させるために行なう光照射処理を行なうようにしても良い。
【０１２３】
例えば、透明導電膜形成工程Ｓ１０を行なった以降の工程においては、この静電気防止用の透明導電層１２６が機能することにより、更にセル内側の電荷が増加し難くなる。従って、透明導電膜形成工程Ｓ１０よりもあとにおいて、この光照射処理を行なってセル内側の電荷を除去することが望ましい。また、この光照射処理を効率的に行なうためには、マザーセル基板の状態で一括して処理ができるように、セル分断工程Ｓ１１よりも前に行なわれることが望ましい。従って、透明導電膜形成工程Ｓ１０とセル分断工程Ｓ１１との間に、この別途光照射処理を行う工程および別途光照射処理を行うことができる光照射装置を備えることにより、当該静電気起因の輝点不良や表示ムラを回復させるために行なう光照射処理を効率的に行うことができる。
【０１２４】
以上の方法をとれば、特に、点灯検査装置において、光照射工程ＴＳ２による所定時間の光照射処理を付加する必要がなくなることや、既存の処理装置に光源などを付加するといった制約事項がなく、当該静電気起因の輝点不良や表示ムラを回復させるために行なう光照射を行なうことに特化した最適な装置構成とすることも可能である。なお、ここで用いる既存の処理装置と別途準備する光照射装置については、新設する必要があるものの、実施の形態１の点灯検査装置３００から、液晶パネルにテスト画面を表示するために必要な構成となる駆動するために必要な信号印加手段や検査用の偏光板などを省略した比較的簡単な装置構成となり、ダミー裏面ＩＴＯを設けるのに必要となる成膜装置やエッチング装置に比べると大幅に安価にて設置することが可能である。
【０１２５】
なお、本発明は上記説明を行った実施の形態１、実施の形態２およびその変形例或いは変形を示唆した構成に限られたものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、一部構成について適宜公知の構成に変更することが可能である。また、上記説明を行った実施の形態１、実施の形態２およびその変形例或いは変形を示唆したそれぞれの構成は、矛盾を生じない範囲で互いに組み合わせて適用することができ、それぞれの構成により生ずるそれぞれの効果や複合効果を得ることができる。
【符号の説明】
【０１２６】
１０  湾曲型液晶表示装置、１０ａ  液晶表示装置、１００，１００ａ  液晶パネル、
１０１  湾曲透明保護カバー、１０２  透明粘着シート、
１１０  ＴＦＴアレイ基板（アレイ基板）、１２０  カラーフィルタ基板（対向基板）、
１１１，１２１，１１１ａ，１２１ａ  ガラス基板、１１２，１２２  配向膜、
１２２Ｌ１  （配向膜）第１層、１２２Ｌ２  （配向膜）第２層、
１１３  画素電極、１１４  対向電極、１１５  ＴＦＴ、１１６  絶縁膜、
１１７Ｘ，１１７Ｙ  信号端子、１２３  カラーフィルタ、
１２４  ブラックマトリクス（ＢＭ）、１２５  オーバーコート層(ＯＣ層)、
１２６  静電気防止用透明導電層、１３０  シール材、
１３１  ＦＦＣ、１３２Ｘ，１３２Ｙ  制御基板、
１４０  液晶層、１４１，１４２  偏光板、２００  表示領域、
３００  点灯検査装置、３０１  ステージ筺体、３０２  透明ステージ板、
３０３  バックライト、３０４  背面偏光板、３０５  前面透明板、
３０６  前面偏光板、３０７  補助ライト（サイド）、
３０８  補助ライト（フロント）、３０９  光学フィルム材、４００  照射光。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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