(57)【要約】【課題】透光率を増加するための多機能膜層構造を提供する。【解決手段】透光率を増加するための多機能膜層構造は、透明基板及び多機能性膜層を含む。該多機能膜層は透明基板の前表面に設けられ、該多機能膜層は、複数の誘電体塗布層及び複数の金属塗布層で交互に積層して構成され、金属塗布層毎は、少なくとも二つの異なる金属材料で混合して構成される。また、これらの誘電体塗布層は、複数の炭素−ケイ素化合物塗布層であり、炭素−ケイ素化合物塗布層毎は炭化ケイ素であり、金属塗布層毎は銀及び銅を混合してなる。【選択図】図２Ｂ
2010181626.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板の前表面に設けられ、複数の誘電体塗布層及び複数の金属塗布層を交互に積層して構成される多機能性膜層と、を含み、
前記金属塗布層毎は、少なくとも二つの異なる金属材料で混合して構成されることを特徴とする透光率を増加するための多機能膜層構造。
【請求項２】
前記複数の誘電体塗布層は、それぞれ炭素−ケイ素化合物塗布層であり、かつ、前記炭素−ケイ素化合物塗布層毎は炭化ケイ素であり、前記金属塗布層毎は銀及び銅を混合してなり、前記炭素−ケイ素化合物塗布層の屈折率は、前記金属塗布層よりも高いことを特徴とする請求項１に記載の透光率を増加するための多機能膜層構造。
【請求項３】
前記複数の誘電体塗布層は、それぞれ炭素−ケイ素化合物及びチタン含有酸化物を混合してなる混合物塗布層であり、かつ、前記炭素−ケイ素化合物は炭化ケイ素であり、前記チタン含有酸化物は二酸化チタンであり、かつ、前記金属塗布層毎は、銀及び銅を混合してなり、前記炭素−ケイ素化合物と該チタン含有酸化物との割合は、40％：60％であり、かつ、前記混合物塗布層の屈折率は、前記金属塗布層よりも高いことを特徴とする請求項１に記載の透光率を増加するための多機能膜層構造。
【請求項４】
前記複数の誘電体塗布層は、それぞれチタン含有酸化物塗布層であり、かつ、前記チタン含有酸化物塗布層毎は二酸化チタンであり、かつ、前記金属塗布層毎は、銀及び銅を混合してなり、前記チタン含有酸化物塗布層の屈折率は、前記金属塗布層よりも高いことを特徴とする請求項１に記載の透光率を増加するための多機能膜層構造。
【請求項５】
前記複数の誘電体塗布層は、チタン含有酸化物とカーボンを混合してなる混合物塗布層であり、該チタン含有酸化物塗布層毎は二酸化チタンであり、前記金属塗布層毎は、銀及び銅を混合してなり、前記混合物塗布層の屈折率は、前記金属塗布層よりも高いことを特徴とする請求項１に記載の透光率を増加するための多機能膜層構造。
【請求項６】
透明基板を用意する工程と、
前記透明基板の前表面に、複数の誘電体塗布層及び複数の金属塗布層を交互に積層して構成された前記多機能膜層を成形する工程とを含み、前記金属塗布層毎は、少なくとも二つの異なる金属材料で混合して構成されることを特徴とする透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法。
【請求項７】
前記複数の誘電体塗布層は、炭素−ケイ素化合物塗布層であり、かつ、前記炭素−ケイ素化合物塗布層毎は炭化ケイ素であり、前記金属塗布層毎は銀及び銅を混合してなり、前記炭素−ケイ素化合物塗布層の屈折率は、前記金属塗布層よりも高いことを特徴とする請求項６に記載の透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法。
【請求項８】
前記複数の誘電体塗布層は、炭素−ケイ素化合物及びチタン含有酸化物を混合してなる混合物塗布層であり、かつ、前記炭素−ケイ素化合物は炭化ケイ素であり、前記チタン含有酸化物は二酸化チタンであり、かつ、前記金属塗布層毎は、銀及び銅を混合してなり、前記炭素−ケイ素化合物と該チタン含有酸化物との割合は、40％：60％であり、かつ、前記混合物塗布層の屈折率は、前記金属塗布層よりも高いことを特徴とする請求項６に記載の透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法。
【請求項９】
前記複数の誘電体塗布層は、チタン含有酸化物塗布層であり、かつ、前記チタン含有酸化物塗布層毎は二酸化チタンであり、かつ、前記金属塗布層毎は、銀及び銅を混合してなり、前記チタン含有酸化物塗布層の屈折率は、前記金属塗布層よりも高いことを特徴とする請求項６に記載の透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法。
【請求項１０】
前記複数の誘電体塗布層は、チタン含有酸化物とカーボンを混合してなる混合物塗布層であり、該チタン含有酸化物塗布層毎は二酸化チタンであり、前記金属塗布層毎は、銀及び銅を混合してなり、前記混合物塗布層の屈折率は、前記金属塗布層よりも高いことを特徴とする請求項６に記載の透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布層構造及びその作製方法に係り、特に、透光率を増加するための多機能膜層構造及びその作製方法に関るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、プラズマディスプレイパネルフィルタ（ＰＤＰｆｉｌｔｅｒ）の製造方法は、以下のような二つの部分に分かれている。第一、先ず、電磁干渉や、反射、近赤外線などを抵抗するため、スパッターリング方式で、透明ガラス上に多機能性のある膜層を積層し、第二、先ず、染料が塗布されたフィルムを作製して色を制御し、クライアントが要求するスペクトル曲線に達し、その後、染料が塗布されたフィルムを前記の透明ガラスに貼り付けて、プラズマディスプレイパネルフィルタの作製を完了する。
【０００３】
しかしながら、上記従来の作製方法は、多機能性膜層を積層した後のスペクトル図の図形が曲線の形状になることで問題が現れ、これは、スパッター用の金属物質が光に対して異なる吸収係数を有するので、複数の誘電体塗布層と複数の金属塗布層とが交互に積層する場合、光が前記金属塗布層を透過する時に吸収されるためである。
【０００４】
例えば、銀を例として、図１Ａに示すように、波長４００〜７００ｎｍの領域の光の銀に対する透過率は、徐々に減っていく状態となり、すなわち、ブルー領域が最も少なく吸収され、グリーン領域が次ぎとなり、レッド領域が最も多く吸収されるので、該透明ガラスを透過する光の色度が不均一となる。
【０００５】
また、図１Ｂは、従来の加工されたガラスを透過する光の透過率及び波長の特性曲線図である。図１Ｂから分かるように、光が加工されたガラス（ガラス上に所定の電磁干渉防止塗布層、例えば、図１Ａの「銀」が形成された）を透過する時、異なる波長は、異なるパーセントの光透過率を有する。特に、ブルー近い光（最も左寄りの領域）及びレッド近い光（最も右寄りの領域）の波長は、その透過率がいずれも明らかに約１０％程度低下される。
【０００６】
また、図１Ｃは、従来前記図１Ｂの銀層がスパッターリングされたガラスを用いるプラズマディスプレイパネルフィルタの透過率及び波長の特性曲線図である。図１Ｃから分かるように、従来の反射抵抗領域は幅広くないので、伝統なプラズマディスプレイパネルフィルタがさらに後工程の色制御の塗布工程に入る時に、完全に染料により三原色透光率の差異を補足できず、このように、クライアントが求めるスペクトル曲線に完全に満足しようとする困難度が向上されるので、プラズマディスプレイパネルが色差の問題を生じることとなる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、透明ガラス上に多機能性膜層（電磁干渉や、反射、近赤外線などを抵抗するため）をスパッターリングする時に、少なくとも二つの異なる金属材料を混合してなる金属塗布層（例えば、銀及び銅の混合）により、光に対する該金属塗布層の吸収係数が水平のスペクトル図形になるので、スパッターリングした後の多機能性膜層構造のスペクトル図も、金属塗布層が光を吸収する平衡状態で、水平のスペクトル図形になることを主な技術特徴とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成するため、本発明により提供された透光率を増加するための多機能膜層構造は、透明基板及び多機能性膜層を含む。前記多機能膜層は前記透明基板の前表面に設けられる。前記多機能膜層は、複数の誘電体塗布層及び複数の金属塗布層を交互に積層して構成され、前記金属塗布層毎は、少なくとも二つの異なる金属材料で混合して構成される。
【０００９】
前記目的を達成するため、本発明により提供された透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法は、先ず、透明基板を用意する工程と、次に、前記透明基板の前表面に、複数の誘電体塗布層及び複数の金属塗布層を交互に積層して構成された前記多機能膜層を成形する工程とを含み、前記金属塗布層毎は、少なくとも二つの異なる金属材料で混合して構成される。
【００１０】
所定目的を達成するため採択した本発明の技術、方法及び効果をより詳しく了解するために、以下に本発明に関る詳細な説明及び添付図面を参照するが、それらの添付図面は参考及び説明のみに使われ、本発明の主張範囲を狭義的に局限するものではないことは言うまでもないことである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る多機能膜層構造は、従来よりも反射抵抗波域の範囲を増幅できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１Ａ】図１Ａは、従来の銀に対する光の透過率が徐々に減っていく状態を示す図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、従来の加工されたガラスを透過する光の透過率及び波長の特性曲線図である。
【図１Ｃ】図１Ｃは、従来、前記図１Ｂの銀層がスパッターリングされたガラスを用いるプラズマディスプレイパネルフィルタの透過率及び波長の特性曲線図である。
【図２Ａ】図２Ａは、本発明に係る第１実施例の透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法のフローチャートである。
【図２Ｂ】図２Ｂは、本発明に係る第１実施例の透光率を増加するための多機能膜層構造を示す図である。
【図２Ｃ】図２Ｃは、本発明に係る銀＋銅を金属スパッタ層とした後に光の透過率が水平となる状態図である。
【図２Ｄ】図２Ｄは、本発明に係る銀及び銅からなる金属スパッタ層をガラスに塗布した後の透過率及び波長の特性曲線図である。
【図２Ｅ】図２Ｅは、本発明に係る前記図２Ｄの銀＋銅層がスパッターリングされたガラスを用いるプラズマディスプレイパネルフィルタの透過率及び波長の特性曲線図である。
【図３Ａ】図３Ａは、本発明に係る第２実施例の透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法のフローチャートである。
【図３Ｂ】図３Ｂは、本発明に係る第２実施例の透光率を増加するための多機能膜層構造を示す図である。
【図４Ａ】図４Ａは、本発明に係る第３実施例の透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法のフローチャートである。
【図４Ｂ】図４Ｂは、本発明に係る第３実施例の透光率を増加するための多機能膜層構造を示す図である。
【図５Ａ】図５Ａは、本発明に係る第４実施例の透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法のフローチャートである。
【図５Ｂ】図５Ｂは、本発明に係る第４実施例の透光率を増加するための多機能膜層構造を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
図２Ａに示すように、本発明に係る第１実施例は、透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法を提供し、該作製方法は、以下のステップを含む。
【００１４】
ステップＳ１００で、透明基板Ｓａを用意する。
【００１５】
ステップＳ１０２で、透明基板Ｓａの前表面に第１の塗布層１ａを成形し、該第１の塗布層１ａは、炭素−ケイ素化合物塗布層（誘電体塗布層）である。
【００１６】
ステップＳ１０４で、第１の塗布層１ａの上に第２の塗布層２ａを成形し、該第２の塗布層２ａは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００１７】
ステップＳ１０６で、第２の塗布層２ａの上に第３の塗布層３ａを成形し、該第３の塗布層３ａは、炭素−ケイ素化合物塗布層である。
【００１８】
ステップＳ１０８で、第３の塗布層３ａの上に第４の塗布層４ａを成形し、該第４の塗布層４ａは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００１９】
ステップＳ１１０で、第４の塗布層４ａの上に第５の塗布層５ａを成形し、該第５の塗布層５ａは、炭素−ケイ素化合物塗布層である。
【００２０】
ステップＳ１１２で、第５の塗布層５ａの上に第６の塗布層６ａを成形し、該第６の塗布層６ａは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００２１】
ステップＳ１１４で、第６の塗布層６ａの上に第７の塗布層７ａを成形し、該第７の塗布層７ａは、炭素−ケイ素化合物塗布層である。
【００２２】
ステップＳ１１６で、第７の塗布層７ａの上に第８の塗布層８ａを成形し、該第８の塗布層８ａは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００２３】
ステップＳ１１８で、第８の塗布層８ａの上に第９の塗布層９ａを成形し、該第９の塗布層９ａは、炭素−ケイ素化合物塗布層である。
【００２４】
よって、前記図２Ａ及び図２Ｂから分かるように、前記作製方法によって、本発明に係る第1実施例は、透明基板Ｓａ及び多機能性膜層Ｍａを含む透光率を増加するための多機能膜層構造を提供した。ここで、該透明基板Ｓａは、プラスチックフィルムまたはガラスであり、かつ、該多機能性膜層Ｍａは、プラズマディスプレイパネルまたはプラズマディスプレイパネルのフィルタの基本塗布層である。
【００２５】
また、該多機能性膜層Ｍａは、透明基板Ｓａの前表面に成形された第１の塗布層１ａと、第１の塗布層１ａに成形された第２の塗布層２ａと、第２の塗布層２ａに成形された第３の塗布層３ａと、第３の塗布層３ａに成形された第４の塗布層４ａと、第４の塗布層４ａに成形された第５の塗布層５ａと、第５の塗布層５ａに成形された第６の塗布層６ａと、第６の塗布層６ａに成形された第７の塗布層７ａと、第７の塗布層７ａに成形された第８の塗布層８ａと、第８の塗布層８ａに成形された第９の塗布層９ａとを含む。
【００２６】
また、第１の塗布層１ａ、第３の塗布層３ａ、第５の塗布層５ａ、第７の塗布層７ａ及び第９の塗布層９ａは、いずれも誘電体塗布層であり、第２の塗布層２ａ、第４の塗布層４ａ、第６の塗布層６ａ及び第８の塗布層８ａは、いずれも金属塗布層である。ここで、誘電体塗布層毎は、炭素−ケイ素化合物塗布層、例えば、炭化ケイ素であり、かつ、金属塗布層毎は、銀及び銅を混合してなる。これらの炭素−ケイ素化合物塗布層の屈折率は、これらの金属塗布層よりも高い。
【００２７】
そのため、該多機能性膜層Ｍａは、透明基板Ｓａの前表面に設けられ、該多機能性膜層Ｍａは、複数の炭素−ケイ素化合物塗布層と複数の金属塗布層で交互に積層して構成され、金属塗布層毎は、少なくとも二つの異なる金属材料、例えば、銀及び銅で混合して構成される。
【００２８】
また、第１の塗布層１ａ、第３の塗布層３ａ、第５の塗布層５ａ、第７の塗布層７ａ及び第９の塗布層９ａの屈折率は、いずれも2.6であり、第２の塗布層２ａ、第４の塗布層４ａ、第６の塗布層６ａ及び第８の塗布層８ａの屈折率は、いずれも０．１〜０．５の間に介在する。また、第１の塗布層１ａの厚さは３０ｎｍであり、第２の塗布層２ａの厚さは１０ｎｍ〜１８ｎｍの間に介在し、第３の塗布層３ａの厚さは６６ｎｍであり、第４の塗布層４ａの厚さは１０ｎｍ〜１８ｎｍの間に介在し、第５の塗布層５ａの厚さは６０ｎｍであり、第６の塗布層６ａの厚さは１０ｎｍ〜１８ｎｍの間に介在し、第７の塗布層７ａの厚さは７０ｎｍであり、第８の塗布層８ａの厚さは１０ｎｍ〜１８ｎｍの間に介在し、第９の塗布層９ａの厚さは４０ｎｍである。
【００２９】
また、第１の塗布層１ａ、第３の塗布層３ａ、第５の塗布層５ａ、第７の塗布層７ａ及び第９の炭素−ケイ素化合物塗布層は、いずれも直流またはパルス直流スパッタ法（DC or AC magnetron sputtering mothod）で成形され、また、第２の塗布層２ａ、第４の塗布層４ａ、第６の塗布層６ａ及び第８の塗布層８ａの金属塗布層は、いずれも直流またはパルス直流スパッタ法で成形された。該第１の塗布層１ａ〜第９の塗布層９ａは、同軸またはロール・ロール真空システムの蒸着或いはスパッタ工程（in-line or roll-to-roll vacuum evaporation/sputtering method）で成形された。
【００３０】
図２Ｃに示すように、銀及び銅で形成した金属塗布層の光に対する吸収係数は、水平のスペクトル図形を表す。
【００３１】
図２Ｄを参照すると、本発明は、透明ガラスＳａ上に多機能性膜層Ｍａ（電磁干渉や、反射、近赤外線などを抵抗するため）をスパッターリングする時に、少なくとも二つの異なる金属材料を混合してなる金属塗布層（例えば、銀及び銅の混合）により、光に対する該金属塗布層の吸収係数が水平のスペクトル図形になるので（図２Ｃに示すように）、スパッターリングした後の多機能性膜層構造のスペクトル図も、金属塗布層が光を吸収する平衡状態で、水平のスペクトル図形になることを主な特徴とする（図２Ｄに示すように）。
【００３２】
図２Ｅに示すように、本発明の図２Ｅと従来の図１Ｃを比較すると、本発明に係る多機能膜層構造は、従来よりも反射抵抗波域の範囲を増幅できる。
【００３３】
図３Ａ及び図３Ｂに示すように、本発明に係る第２実施例は、透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法を提供し、該作製方法は、以下のステップを含む。
【００３４】
ステップＳ２００で、透明基板Ｓｂを用意する。
【００３５】
ステップＳ２０２で、透明基板Ｓｂの前表面に第１の塗布層１ｂを成形し、該第１の塗布層１ｂは、炭素−ケイ素化合物及びチタン含有酸化物を混合してなる混合物塗布層（誘電体塗布層）である。
【００３６】
ステップＳ２０４で、第１の塗布層１ｂの上に第２の塗布層２ｂを成形し、該第２の塗布層２ｂは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００３７】
ステップＳ２０６で、第２の塗布層２ｂの上に第３の塗布層３ｂを成形し、該第３の塗布層３ｂは、炭素−ケイ素化合物及びチタン含有酸化物を混合してなる混合物塗布層である。
【００３８】
ステップＳ２０８で、第３の塗布層３ｂの上に第４の塗布層４ｂを成形し、該第４の塗布層４ｂは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００３９】
ステップＳ２１０で、第４の塗布層４ｂの上に第５の塗布層５ｂを成形し、該第５の塗布層５ｂは、炭素−ケイ素化合物及びチタン含有酸化物を混合してなる混合物塗布層である。
【００４０】
ステップＳ２１２で、第５の塗布層５ｂの上に第６の塗布層６ｂを成形し、該第６の塗布層６ｂは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００４１】
ステップＳ２１４で、第６の塗布層６ｂの上に第７の塗布層７ｂを成形し、該第７の塗布層７ｂは、炭素−ケイ素化合物及びチタン含有酸化物を混合してなる混合物塗布層である。
【００４２】
ステップＳ２１６で、第７の塗布層７ｂの上に第８の塗布層８ｂを成形し、該第８の塗布層８ｂは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００４３】
ステップＳ２１８で、第８の塗布層８ｂの上に第９の塗布層９ｂを成形し、該第９の塗布層９ｂは、炭素−ケイ素化合物及びチタン含有酸化物を混合してなる混合物塗布層である。
【００４４】
よって、第１の塗布層１ｂと、第２の塗布層２ｂと、第３の塗布層３ｂと、第４の塗布層４ｂと、第５の塗布層５ｂと、第６の塗布層６ｂと、第７の塗布層７ｂと、第８の塗布層８ｂと、第９の塗布層９ｂは、多機能性膜層Ｍｂを形成する。
【００４５】
そのため、本発明の第２実施例と第１実施例との最も大きな違いは、第２実施例では、これらの誘電体塗布層は、炭素−ケイ素化合物及びチタン含有酸化物を混合してなる複数の混合物塗布層であり、該炭素−ケイ素化合物は炭化ケイ素であり、該チタン含有酸化物は二酸化チタンであり、かつ、金属塗布層毎は、銀及び銅を混合してなることである。また、該炭素−ケイ素化合物と該チタン含有酸化物との割合は、４０％：６０％であり、かつ、これらの混合物塗布層の屈折率は、これらの金属塗布層よりも高い。
【００４６】
図４Ａ及び図４Ｂに示すように、本発明に係る第３実施例は、透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法を提供し、該作製方法は、以下のステップを含む。
【００４７】
ステップＳ３００で、透明基板Ｓｃを用意する。
【００４８】
ステップＳ３０２で、透明基板Ｓｃの前表面に第１の塗布層１ｃを成形し、該第１の塗布層１ｃは、チタン含有酸化物塗布層（誘電体塗布層）である。
【００４９】
ステップＳ３０４で、第１の塗布層１ｃの上に第２の塗布層２ｃを成形し、該第２の塗布層２ｃは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００５０】
ステップＳ３０６で、第２の塗布層２ｃの上に第３の塗布層３ｃを成形し、該第３の塗布層３ｃは、チタン含有酸化物塗布層である。
【００５１】
ステップＳ３０８で、第３の塗布層３ｃの上に第４の塗布層４ｃを成形し、該第４の塗布層４ｃは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００５２】
ステップＳ３１０で、第４の塗布層４ｃの上に第５の塗布層５ｃを成形し、該第５の塗布層５ｃは、チタン含有酸化物塗布層である。
【００５３】
ステップＳ３１２で、第５の塗布層５ｃの上に第６の塗布層６ｃを成形し、該第６の塗布層６ｃは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００５４】
ステップＳ３１４で、第６の塗布層６ｃの上に第７の塗布層７ｃを成形し、該第７の塗布層７ｃは、チタン含有酸化物塗布層である。
【００５５】
ステップＳ３１６で、第７の塗布層７ｃの上に第８の塗布層８ｃを成形し、該第８の塗布層８ｃは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００５６】
ステップＳ３１８で、第８の塗布層８ｃの上に第９の塗布層９ｃを成形し、該第９の塗布層９ｃは、チタン含有酸化物塗布層である。
【００５７】
よって、第１の塗布層１ｃと、第２の塗布層２ｃと、第３の塗布層３ｃと、第４の塗布層４ｃと、第５の塗布層５ｃと、第６の塗布層６ｃと、第７の塗布層７ｃと、第８の塗布層８ｃと、第９の塗布層９ｃは、多機能性膜層Ｍｃを形成する。
【００５８】
そのため、本発明の第３実施例と他の実施例との最も大きな違いは、第３実施例では、これらの誘電体塗布層は、複数のチタン含有酸化物塗布層であり、該チタン含有酸化物塗布層毎は二酸化チタンであり、かつ、金属塗布層毎は、銀及び銅を混合してなることである。また、該チタン含有酸化物塗布層の屈折率は、これらの金属塗布層よりも高い。
【００５９】
図５Ａ及び図５Ｂに示すように、本発明に係る第４実施例は、透光率を増加するための多機能膜層構造の作製方法を提供し、該作製方法は、以下のステップを含む。
【００６０】
ステップＳ４００で、透明基板Ｓｄを用意する。
【００６１】
ステップＳ４０２で、透明基板Ｓｄの前表面に第１の塗布層１ｄを成形し、該第１の塗布層１ｄは、チタン含有酸化物及びカーボンを混合してなる混合物塗布層（誘電体塗布層）である。
【００６２】
ステップＳ４０４で、第１の塗布層１ｄの上に第２の塗布層２ｄを成形し、該第２の塗布層２ｄは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００６３】
ステップＳ４０６で、第２の塗布層２ｄの上に第３の塗布層３ｄを成形し、該第３の塗布層３ｄは、チタン含有酸化物及びカーボンを混合してなる混合物塗布層である。
【００６４】
ステップＳ４０８で、第３の塗布層３ｄの上に第４の塗布層４ｄを成形し、該第４の塗布層４ｄは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００６５】
ステップＳ４１０で、第４の塗布層４ｄの上に第５の塗布層５ｄを成形し、該第５の塗布層５ｄは、チタン含有酸化物及びカーボンを混合してなる混合物塗布層である。
【００６６】
ステップＳ４１２で、第５の塗布層５ｄの上に第６の塗布層６ｄを成形し、該第６の塗布層６ｄは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００６７】
ステップＳ４１４で、第６の塗布層６ｄの上に第７の塗布層７ｄを成形し、該第７の塗布層７ｄは、チタン含有酸化物及びカーボンを混合してなる混合物塗布層である。
【００６８】
ステップＳ４１６で、第７の塗布層７ｄの上に第８の塗布層８ｄを成形し、該第８の塗布層８ｄは、銀及び銅を混合してなる金属塗布層である。
【００６９】
ステップＳ４１８で、第８の塗布層８ｄの上に第９の塗布層９ｄを成形し、該第９の塗布層９ｄは、チタン含有酸化物及びカーボンを混合してなる混合物塗布層である。
【００７０】
よって、第１の塗布層１ｄと、第２の塗布層２ｄと、第３の塗布層３ｄと、第４の塗布層４ｄと、第５の塗布層５ｄと、第６の塗布層６ｄと、第７の塗布層７ｄと、第８の塗布層８ｄと、第９の塗布層９ｄは、多機能性膜層Ｍｄを形成する。
【００７１】
そのため、本発明の第４実施例と他の実施例との最も大きな違いは、第４実施例では、これらの誘電体塗布層は、チタン含有酸化物とカーボンを混合してなる複数の混合物塗布層であり、該チタン含有酸化物は二酸化チタンであり、かつ、金属塗布層毎は、銀及び銅を混合してなることである。また、これらの混合物塗布層の屈折率は、これらの金属塗布層よりも高い。
【００７２】
以上のように、前記少なくとも二つの異なる金属材料を混合してなる金属塗布層（例えば、銀及び銅の混合）により、スパッターリングした後の多機能性膜層構造のスペクトル図も、金属塗布層が光を吸収する平衡状態で、水平の図形となる。
【００７３】
しかし、前記の説明は、単に本発明の好ましい具体的な実施例の詳細説明及び図面に過ぎず、本発明の特許請求の範囲を局限するものではない。
【符号の説明】
【００７４】
Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄ  透明基板
Ｍａ、Ｍｂ、Ｍｃ、Ｍｄ  多機能性膜層
１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ  第１の塗布層
２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ  第２の塗布層
３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ  第３の塗布層
４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ  第４の塗布層
５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ  第５の塗布層
６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄ  第６の塗布層
７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ  第７の塗布層
８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄ  第８の塗布層
９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄ  第９の塗布層
【図１Ａ】
2010181626.tif 000003
【図１Ｂ】
2010181626.tif 000004
【図１Ｃ】
2010181626.tif 000005
【図２Ａ】
2010181626.tif 000006
【図２Ｂ】
2010181626.tif 000007
【図２Ｃ】
2010181626.tif 000008
【図２Ｄ】
2010181626.tif 000009
【図２Ｅ】
2010181626.tif 000010
【図３Ａ】
2010181626.tif 000011
【図３Ｂ】
2010181626.tif 000012
【図４Ａ】
2010181626.tif 000013
【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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