(57)【要約】【課題】複数の材料層の積層体からなるバリア層を備えるものであって、該バリア層の光反射率の低減を図るとともに、クラック防止、各層の密着性、バリア性の向上を図った表示装置の提供。【解決手段】複数の積層された材料層からなるバリア層を挟持する第１材料層と第２材料層を備える表示装置であって、  前記第１材料層、前記バリア層の各材料層、および前記第２材料層のそれぞれの光屈折率は、前記第１材料層から前記第２材料層へかけて、高い方から低い方へ、あるいは低い方から高い方へ、順次変化するように構成され、  前記バリア層の各材料層は、高応力膜と低応力膜を交互に積層させて構成されている。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の積層された材料層からなるバリア層を挟持する第１材料層と第２材料層を備える表示装置であって、
前記第１材料層、前記バリア層の各材料層、および前記第２材料層のそれぞれの光屈折率は、前記第１材料層から前記第２材料層へかけて、高い方から低い方へ、あるいは低い方から高い方へ、順次変化するように構成され、
前記バリア層の各材料層は、高応力膜と低応力膜を交互に積層させて構成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第１材料層はプラスチック基板からなり、前記第２材料層は透明導電膜からなることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１材料層はプラスチック基板からなり、前記第２材料層はカラーフィルタからなることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１材料層はプラスチック基板からなり、前記第２材料層はシリコン系の絶縁膜からなることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１材料層は透明導電膜からなり、前記第２材料層は空気層からなることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第１材料層はプラスチック基板からなり、前記第２材料層は空気層からなることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記バリア層の各材料層はシリコン窒化膜系の材料から構成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
【請求項８】
表示装置は液晶表示装置であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
表示装置は有機ＥＬ表示装置であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に係り、特に、その基板がフレキシブルなプラスチック基板によって構成された表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
このような表示装置は、その基板が、たとえばガラス等で構成されたものと比較し、軽量で、かつ、耐衝撃性および可とう性に優れたものとして構成される。
【０００３】
しかし、基板がプラスチックの場合、ガラス基板に比べ、吸湿性が高く、吸湿がなされると膨張する性質を有することから、プラスチック基板への透湿を阻止するバリア膜を該プラスチック基板の面に形成することが要求される。
【０００４】
そして、前記バリア膜は、該バリア膜と隣接する他の材料との関係で、応力緩和を図ったり、光反射率の低減を図ったりしなくてはならないことから、複数のバリア層からなる積層構造として構成されるのが通常となる。
【０００５】
図１１（ａ）は、低密度膜ＬＤＬを低応力膜ＬＦＬによって挟持させたたとえば３層構造からなるバリア膜ＢＲＬを示し、前記低応力膜ＬＦＬを応力緩和層として機能させることによって、該バリア膜のクラックを防止するようにした構成となっている。
【０００６】
図１１（ｂ）は、低応力膜ＬＦＬと高応力膜ＨＦＬを交互に積層させてたとえば５層構造からなるバリア膜ＢＲＬを示し、各層の密着性を確保することによってバリア性の向上を図った構成となっている。
【０００７】
図１１（ｃ）は、プラスチック基板（屈折率：１．５）ＳＵＢとＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる透明導電材（屈折率：１．９）ＴＣＬとの間にたとえば３層構造からなるバリア層ＢＲＬを形成し、該バリア層ＢＲＬの各材料層ＭＬの屈折率を、プラスチック基板ＳＵＢ側から１．６、１．７、１．８としたものである。これにより、プラスチック基板ＳＵＢから透明導電材ＴＣＬまでの各材料層ＭＬの屈折率を段階的に変化させ、光反射率の低減を図った構成となっている。なお、図１１（ｃ）に示す構成は、たとえば下記特許文献１、２に開示がなされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−１９２２４６号公報
【特許文献２】特開２００２−４０２０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
表示装置の場合、画像を映像させる光が前記バリア層を通過してしまうことは免れず、前記バリア層において光反射率の低減を図ることは、信頼性のある画像を得ることが極めて重要となる。光が入射されたバリア層（複数の層からなる積層体）には多重反射が生じ、バリア層に色がついて画像輝度の低下に繋がるからである。
【００１０】
しかし、このために、図１１（ｃ）に示した構成をそのまま採用することは、バリア層のクラック防止、および各層の密着性、およびバリア性の観点において優れた効果が得られなくなってしまう。一般的には、層の屈折率を段階的に変化させた場合、層の屈折率が高くなると、それにつれ、密度および応力も高くなる性質を有することから、図１１（ａ）、あるいは図１１（ｃ）  に示した構成を満足しなくなるからである。
【００１１】
本発明の目的は、複数の材料層の積層体からなるバリア層を備えるものであって、該バリア層の光反射率の低減を図るとともに、クラック防止、各層の密着性、バリア性の向上を図った表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の構成は、たとえば、以下のようなものとすることができる。
【００１３】
（１）本発明の表示装置は、複数の積層された材料層からなるバリア層を挟持する第１材料層と第２材料層を備える表示装置であって、
前記第１材料層、前記バリア層の各材料層、および前記第２材料層のそれぞれの光屈折率は、前記第１材料層から前記第２材料層へかけて、高い方から低い方へ、あるいは低い方から高い方へ、順次変化するように構成され、
前記バリア層の各材料層は、高応力膜と低応力膜を交互に積層させて構成されていることを特徴とする。
【００１４】
（２）本発明の表示装置は、（１）において、前記第１材料層はプラスチック基板からなり、前記第２材料層は透明導電膜からなることを特徴とする。
【００１５】
（３）本発明の表示装置は、（１）において、前記第１材料層はプラスチック基板からなり、前記第２材料層はカラーフィルタからなることを特徴とする。
【００１６】
（４）本発明の表示装置は、（１）において、前記第１材料層はプラスチック基板からなり、前記第２材料層はシリコン系の絶縁膜からなることを特徴とする。
【００１７】
（５）本発明の表示装置は、（１）において、前記第１材料層は透明導電膜からなり、前記第２材料層は空気層からなることを特徴とする。
【００１８】
（６）本発明の表示装置は、（１）において、前記第１材料層はプラスチック基板からなり、前記第２材料層は空気層からなることを特徴とする。
【００１９】
（７）本発明の表示装置は、（１）において、前記バリア層の各材料層はシリコン窒化膜系の材料から構成されていることを特徴とする。
【００２０】
（８）本発明の表示装置は、（１）において、液晶表示装置であることを特徴とする。
【００２１】
（９）本発明の表示装置は、（１）において、有機ＥＬ表示装置であることを特徴とする。
【００２２】
なお、上記した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、上記した構成以外の本発明の構成の例は、本願明細書全体の記載または図面から明らかにされる。
【００２３】
なお、上記した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、上記した構成以外の本発明の構成の例は、本願明細書全体の記載または図面から明らかにされる。
【発明の効果】
【００２４】
このように構成した表示装置によれば、複数の材料層の積層体からなるバリア層を備えるものであって、該バリア層の光反射率の低減を図るとともに、クラック防止、各層の密着性、バリア性の向上を図ることができる。
【００２５】
本発明のその他の効果については、明細書全体の記載から明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の表示装置に形成されるバリア層の実施例１を示した断面図である。
【図２】本発明の表示装置の実施例１の概略を説明する断面図である。
【図３】本発明の表示装置のバリア層を形成するためのＣＶＤ装置を示した概略構成図である。
【図４】本発明の表示装置のバリア層を形成する手順を示したフロー図である。
【図５】本発明の表示装置のバリア層の各材料層の光屈折率と応力との関係を示すグラフである。
【図６】本発明の表示装置の実施例２の概略を説明する断面図である。
【図７】本発明の表示装置が適用されたポータブルゲーム機の外観図である。
【図８】本発明の表示装置が適用された携帯端末の外観図である。
【図９】本発明の表示装置が適用されたローラブルテレビの外観図である。
【図１０】本発明の表示装置が適用された電子広告の外観図である。
【図１１】従来の表示装置に形成されるバリア層の例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。なお、各図および各実施例において、同一または類似の構成要素には同じ符号を付し、説明を省略する。
【実施例１】
【００２８】
（表示装置の概略構成）
図２は、本発明の表示装置をたとえば液晶表示装置（パネル）を例に挙げて示した概略的な断面図である。
【００２９】
図２において、液晶ＬＣを挟持して基板ＳＵＢ１および基板ＳＵＢ２が対向配置されている。基板ＳＵＢ１および基板ＳＵＢ２はいずれもフレキシブルな樹脂材からなるプラスチック基板によって形成されている。
【００３０】
基板ＳＵＢ１の液晶側の面にはバリア層ＢＲＬ１１が形成され、このバリア層ＢＲＬ１１によって基板ＳＵＢ１への透湿が阻止されるようになっている。このバリア層ＢＲＬ１１の上面には薄膜トランジスタ（図示せず）を含む回路構成層ＣＲＬが形成されている。この回路構成層ＣＲＬは、マトリックス状に配置された各画素領域に前記液晶ＬＣに電界を生じせしめる一対の電極（画素電極、対向電極）を備え、パターン化された絶縁膜、導電膜、および半導体膜が所定の順次に積層されて構成されている。基板ＳＵＢ１の液晶と反対側の面にはバリア層ＢＲＬ１２が形成され、このバリア層ＢＲＬ１２によって基板ＳＵＢ１への透湿が阻止されるようになっている。このバリア層ＢＲＬ１２の上面にはたとえばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる透明導電膜ＴＣＬ１が形成されている。この透明導電膜ＴＣＬ１は、表示装置の外部からの電界が液晶ＬＣに影響を与えるのを阻止するシールド膜としての機能を有するようになっている。
【００３１】
基板ＳＵＢ２の液晶側の面にはバリア層ＢＲＬ２１が形成され、このバリア層ＢＲＬ２１によって基板ＳＵＢ２への透湿が阻止されるようになっている。このバリア層ＢＲＬ２１の上面にはカラーフィルタＣＦが形成されている。このカラーフィルタＣＦは隣接する３個の画素領域にそれぞれ赤、緑、青の各色が施され、該３個の画素領域によってカラー表示用の単位画素を構成するようになっている。なお、色が異なるカラーフィルタＣＦのそれぞれの境界にはブラックマトリックスと称される遮光膜が形成される場合がある。基板ＳＵＢ２の液晶と反対側の面にはバリア層ＢＲＬ２２が形成され、このバリア層ＢＲＬ２２によって基板ＳＵＢ２への透湿が阻止されるようになっている。このバリア層ＢＲＬ２２の上面にはたとえばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる透明導電膜ＴＣＬ２が形成されている。この透明導電膜ＴＣＬ２は、表示装置の外部からの電界が液晶ＬＣに影響を与えるのを阻止するシールド膜としての機能を有するようになっている。
【００３２】
なお、図示していないが、前記回路構成層ＣＲＬの液晶側の面、およびカラーフィルタＣＦの液晶側の面には、液晶ＬＣの分子の初期配向方向を決定する配向膜が形成されている。同様に、図示していないが、基板ＳＵＢ１の透明導電膜ＴＣＬ１側の面、および基板ＳＵＢ２の透明東電膜ＴＣＬ２側の面には、光を偏光させる偏光板が配置されている。
【００３３】
このように構成される液晶表示パネルは、たとえば基板ＳＵＢ１に対向してバックライトＢＬが配置され、このバックライトＢＬからの光Ｌが、図中矢印に示すように、基板ＳＵＢ１、液晶ＬＣ、基板ＳＵＢ２を通して、図示しない観測者に至るようになっている。各画素領域における電界に応じ、液晶ＬＣを透過する光の透過率が変化し、これにより、観察者は画像を認識できるようになっている。
【００３４】
（バリア層ＢＲＬの構成）
図１は、上述したバリア層ＢＲＬの構成を示す断面図である。図１は、図２において、たとえば点線枠Ａにおける部分の断面図を示している。すなわち、樹脂材からなる基板ＳＵＢ２とＩＴＯからなる透明導電膜ＴＣＬ１の間に挟持されてバリア層ＢＲＬ２２を示している。
【００３５】
このバリア層ＢＲＬ２２は、基板ＳＵＢ２側から、たとえば、材料層ＭＬ１、材料層ＭＬ２、材料層ＭＬ３、材料層ＭＬ４、および材料層ＭＬ５の順次積層体によって形成されている。これら材料層ＭＬ１、材料層ＭＬ２、材料層ＭＬ３、材料層ＭＬ４、および材料層ＭＬ５は、いずれもたとえばＳｉＯＮ（シリコン酸窒化膜）系の材料で構成されている。
【００３６】
この場合、材料層ＭＬ１は低応力膜とし、材料層ＭＬ２は高応力膜とし、材料層ＭＬ３は低応力膜とし、材料層ＭＬ４は高応力膜とし、材料層ＭＬ４は高応力膜として構成されている。すなわち、複数の材料層からなるバリア層ＢＲＬ２２は、低応力膜と高応力膜を交互に配置させて積層されているようになっている。これにより、バリア層ＢＲＬ２２は、クラックを防止でき、各材料層の密着性およびバリア性を向上させることができる。このような低応力膜と高応力膜を形成する方法については後述する。
【００３７】
また、このバリア層ＢＲＬ２２の各材料層は、該バリア層ＢＲＬ２２を間に挟持する前記基板ＳＵＢ２と透明導電膜ＴＣＬ１のそれぞれの光屈折率との関係で一方の積層方向に順次光屈折率が変化するように構成されている。たとえば、基板ＳＵＢ２の光屈折率が１．５、透明導電膜ＴＣＬ１の光屈折率が１．９とした場合、材料層ＭＬ１の光屈折率は１．６、材料層ＭＬ２の光屈折率は１．７、材料層ＭＬ３の光屈折率は１．７５、材料層ＭＬ４の光屈折率は１．８、材料層ＭＬ５の光屈折率は１．８５というように、変化するようになっている。これにより、基板ＳＵＢ２、材料層ＭＬ１、材料層ＭＬ２、材料層ＭＬ３、材料層ＭＬ４、材料層ＭＬ５、透明導電膜ＴＣＬ１の積層体において、基板ＳＵＢ２から透明導電膜ＴＣＬ１にかけて、光屈折率が段差的に変化することから、光反射の少ない層構造となっている。
【００３８】
このようなことから、図１に示したバリア層ＢＲＬ２２において、その光反射率の低減を図るとともに、クラック防止、各層の密着性、バリア性の向上を図ることができる。
【００３９】
また、図２の点線枠Ｂの箇所においても、バリア層ＢＲＬ２１の各材料層ＭＬは、図１に示したと同様の関係となっている。すなわち、該バリア層ＢＲＬ２１は基板ＳＵＢ２とカラーフィルタＣＦによって挟持され構成となっていることから、該バリア層ＢＲＬ２１を構成する各材料層ＭＬの光屈折率は、基板ＳＵＢ２の光屈折率からカラーフィルタＣＦの光屈折率にかけて、段差的に変化されるようになっている。また、バリア層ＢＲＬ２１の各材料層ＭＬは、低応力膜と高応力膜とが交互に配置された状態で積層されている。
【００４０】
また、図２の点線枠Ｃの箇所においても、バリア層ＢＲＬ１１の各材料層ＭＬは、図１に示したと同様の関係となっている。すなわち、該バリア層ＢＲＬ１１は基板ＳＵＢ１と前記回路構成層ＣＲＬによって挟持され構成となっており、この場合、該回路構成層ＣＲＬの前記バリア層ＢＲＬ１１と当接する層は、たとえばＳｉＮ膜等の有機絶縁膜（この明細書ではシリコン系の絶縁膜と称する場合がある）となっているのが通常である。したがって、該バリア層ＢＲＬ１１を構成する各材料層ＭＬの光屈折率は、基板ＳＵＢ２の光屈折率から前記有機絶縁膜の光屈折率にかけて、段差的に変化されるようになっている。また、バリア層ＢＲＬ１１の各材料層ＭＬは、低応力膜と高応力膜とが交互に配置された状態で積層されている。
【００４１】
さらに、図２の点線枠Ｄの箇所においても、バリア層ＢＲＬ１２の各材料層ＭＬは、図１に示したと同様の関係となっている。この場合、前記バリア層ＢＲＬ１２は、図１の場合と同様に、樹脂層からなる基板ＳＵＢ１と透明導電層ＴＣＬ１との間に挟持される構成となることから、図１に示した構成と同様となる。
【００４２】
この場合、本発明の適用は、図中点線枠ＡないしＤのそれぞれ箇所において全て適用されることは必要ではなく、少なくとも１箇所において適用されていればよい。また、図１に示すバリア層ＢＲＬ２２は、たとえば５層からなる材料層ＭＬの積層体で示したものである。しかし、この材料層ＭＬは５層に限定されることはなく、５層以外の複数の材料層ＭＬからなる積層体であってもよい。
【００４３】
（バリア層の形成方法）
図３は、前記バリア層ＢＲＬを形成するための装置で、たとえば誘導結合型プラズマＣＶＤ装置を概略的に示した構成図である。
【００４４】
図３において、反応ガスが供給されるチャンバＶＳがあり、このチャンバＶＳ内にはバリア層を形成する基板（たとえば図１に示した基板ＳＵＢ２）を基板台ＰＤＳ上に載置できるようになっている。チャンバＶＳには該チャンバＶＳ内にプラズマを発生させるための誘導コイルＩＮＣおよび高周波透過窓ＷＤが備えられ、前記誘導コイルＩＮＣはＲＦ電源（１３．５６ＭＨｚ）ＲＦＰによって駆動されるようになっている。このような装置において、高密度プラズマによって多くの励起種が発生し、低温での成膜が可能となっている。ここで、この装置を用いて、前記バリア層ＢＲＬを形成する際に、必要時において、ＤＣ電源ＤＣＰによって前記基板台ＰＤＳにバイアスを印加できるようになっている。
【００４５】
図４は、図３に示した装置を用いて、基板ＳＵＢ２上にバリア層ＢＲＬ２２を形成する場合の手順を示したフロー図である。
【００４６】
図４において、まず、ステップＳ１に示すように、チャンバＶＳ内に、反応ガスとして、たとえばＳｉＨ４、Ｎ２、Ｏ２、ＮＨ３を供給する。バリア層ＢＲＬ２２の各材料層をＳｉＯＮ系の材料とするためである。次に、ステップＳ２に示すように、チャンバＶＳ内の圧力を所定の圧力値（１〜１００Ｐａ）になるように制御する。そして、ステップＳ３に示すように、チャンバＶＳ内を適当なプラズマ雰囲気にするため、ＲＦ電源ＲＦＰに電力（３００〜１２００Ｗ）を供給し、プラズマ放電を開始する。
【００４７】
その後、ステップ８に至るまで、プラズマ放電を持続させ、バリア層ＢＲＬ２の各材料層ＭＬを形成する。すなわち、ステップ４に示すように、前記基板台ＰＤＳにバイアスを印加しない状態（ＯＶ）で、材料層ＭＬ１（図中第１層）を形成する。ステップ５に示すように、前記基板台ＰＤＳにバイアスを印加した状態（１〜１２００Ｖ）で、材料層ＭＬ２（図中第２層）を形成する。ステップ６に示すように、前記基板台ＰＤＳにバイアスを印加しない状態（ＯＶ）で、材料層ＭＬ３（図中第３層）を形成する。ステップ７に示すように、前記基板台ＰＤＳにバイアスを印加した状態（１〜１２００Ｖ）で、材料層ＭＬ４（図中第４層）を形成する。ステップ８に示すように、前記基板台ＰＤＳにバイアスを印加しない状態（ＯＶ）で、材料層ＭＬ５（図中第５層）を形成する。
【００４８】
そして、ステップＳ９に示すように、ＲＦ電源ＲＦＰへの電力供給を停止させ、プラズマ放電を停止させる。その後、チャンバＶＳ内へのＳｉＨ４、Ｎ２、Ｏ２、ＮＨ３の供給を停止させる。
【００４９】
図５は、上述のようにして形成される材料層ＭＬ１（図中第１層）、材料層ＭＬ２（図中第２層）、材料層ＭＬ３（図中第３層）、材料層ＭＬ４（図中第４層）、および材料層ＭＬ５（図中第５層）の光屈折率に対する応力（ＭＰａ）の関係を示したグラフである。グラフから明らかとなるように、材料層ＭＬ１（図中第１層）、材料層ＭＬ３（図中第３層）、材料層ＭＬ５（図中第５層）は、それぞれ、応力が比較的小さくなっており、材料層ＭＬ２（図中第２層）、材料層ＭＬ４（図中第４層）は、それぞれ、応力が比較的大きくなっている。応力を小さくさせる場合には、バイアスを印加させない状態で材料層を形成し、応力を大きくさせる場合には、バイアスを印加させた状態で材料層を形成すればよいことが判る。なお、このグラフではバイアスの印加は３３０Ｖとした場合を示している。バイアスを印加させた状態で材料層を形成させた場合、図３に示す装置のチャンバＶＳ内の反応が促進され、生成される材料層の密度が緻密に形成できることに基づくものである。また、光屈折率は、材料層ＭＬ１（図中第１層）、材料層ＭＬ２（図中第２層）、材料層ＭＬ３（図中第３層）、材料層ＭＬ４（図中第４層）、および材料層ＭＬ５（図中第５層）の順番で段差的に大きくなっていることが確かめられる。
【００５０】
以上説明したことから明らかとなるように、本発明による表示装置によれば、複数の層の積層体からなるバリア層において、該バリア層の光反射率の低減を図るとともに、クラック防止、各層の密着性、バリア性の向上を図ることができるようになる。
【実施例２】
【００５１】
上述した実施例は、液晶表示装置に本発明を適用させて示したものである。しかし、これに限定されることはなく、たとえば有機ＥＬ表示装置のような他の表示装置にも適用することができる。
【００５２】
図６（ａ）は、有機ＥＬ表示装置の概略的な断面図である。図６（ａ）において、基板ＳＵＢがある。この基板ＳＵＢはフレキシブルな樹脂材から構成されている。この基板ＳＵＢの一方の面（主面）にはバリア層ＢＲＬ１が形成され、他方の面にはバリア層ＢＲＬ２が形成されている。基板ＳＵＢはこれらバリア層ＢＲＬ１、バリア層ＢＲＬ２によって透湿が阻止されるようになっている。バリア層ＢＲＬ１の上面には薄膜トランジスタ（図示せず）を含む回路構成層ＣＲＬが形成されている。この回路構成層ＣＲＬは、その上面にマトリックス状に配置された画素領域のそれぞれにカソード電極ＫＴが形成されて構成されている。カソード電極ＫＴの上面には発光層ＥＬが形成され、この発光層ＥＬの上面にはたとえばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の透明導電膜からなるアノード電極ＡＴが形成されている。このアノード電極ＡＴは各画素領域に共通に形成されている。また、このアノード電極ＡＴの面を被うようにして樹脂材で構成されたプラスチック基板からなる封止基板ＳＳＢが配置されている。この封止基板ＳＳＢのアノード電極ＡＴ側の面にはバリア層ＢＲ３が形成され、他方の面にはバリア層ＢＲＬ４が形成されている。封止基板ＳＳＢはこれらバリア層ＢＲＬ３、バリア層ＢＲＬ４によって透湿が阻止されるようになっている。
【００５３】
この場合において、点線枠ＥないしＨの箇所におけるバリア層ＢＲＬは、図１で示すように複数の材料層ＭＬの積層体によって構成され、それらの光屈折、および応力の関係は図１で示したようになっている。なお、点線枠Ｅあるいは点線枠Ｈの箇所において、それぞれ、バリア層ＲＢＬ４の封止基板ＳＳＢ側と反対側の面、バリア層ＢＲＬ２の基板ＳＵＢ側と反対側の面には、透明導電層（図１では符号ＴＣＬ１、ＴＣＬ２で示す）が形成されておらず、大気と接触した状態となっている。この場合、点線枠Ｅにおけるバリア層ＲＢＬ４を構成する各材料層ＭＬの光透過率は、該バリア層ＲＢＬ４が封止基板ＳＳＢと空気層で挟持されているものとし、封止基板ＳＳＢの光屈折率から空気層の光屈折率へかけて、前記各材料層ＭＬの光透過率を順次段階的に変化させるように設定すればよい。
【００５４】
なお、図６（ｂ）は、有機ＥＬ表示装置の他の実施例を示す断面図で、図６（ａ）と対応させて描いている。図６（ｂ）において、図６（ａ）の場合と比較して異なる構成は、封止基板ＳＳＢとこの封止基板ＳＳＢの一方の側に形成されているバリア層ＲＢＬ４を除去した構成となっている。図６（ｂ）に示すバリア層ＲＢＬ３を前記封止基板ＳＳＢの機能をもたせるように構成したものとなっている。このため、バリア層ＲＢＬ３は、図中点線枠Ｉに示すように、該バリア層ＲＢＬ３のアノード電極ＡＴである透明導電膜と反対側の面が大気と接触した状態となっている。この場合も、点線枠Ｉにおけるバリア層ＲＢＬ３を構成する各材料層ＭＬの光透過率は、該バリア層ＲＢＬ３が透明導電膜と空気層で挟持されているものとし、透明導電膜の光屈折率から空気層の光屈折率へかけて、前記各材料層ＭＬの光透過率を順次段階的に変化させるように設定すればよい。
【実施例３】
【００５５】
上述した実施例におけるバリア層ＢＲＬは、積層される各材料層ＭＬをたとえばＳｉＯＮのような絶縁材料から構成したものである。しかし、これら材料層ＭＬのうち少なくとも一つは導電層で形成するようにしてもよい。この導電層はたとえば導電性ポリマー等で構成することができる。
【００５６】
たとえば、図２において回路構成層ＣＲＬの下層に形成されるバリア層ＢＲＬ１１において、あるいは、図６（ａ）、（ｂ）において回路構成層ＣＲＬの下層に形成されるバリア層ＢＲＬ１において、上述した構成とすることにより、回路構成層ＣＲＬの薄膜トランジスタのΔＶｔｈのシフトを低減できる効果を奏するからである。この場合、前記導電層は接地してもよく、あるいは接地しなくてもよい。いずれも、薄膜トランジスタのΔＶｔｈのシフト低減を図ることができるからである。
【実施例４】
【００５７】
図７は、本発明の表示装置（パネル）ＰＮＬが適用されたポータブルゲーム機を示している。表示装置ＰＮＬとしては液晶表示装置、あるいは有機ＥＬ表示装置であってもよい。図７に示す表示装置ＰＮＬは湾曲していないが、それらの基板ＳＵＢは樹脂材等で構成され、軽量で耐衝撃性に優れたものとなっている。
【実施例５】
【００５８】
図８は、本発明の表示装置（パネル）ＰＮＬが適用された携帯端末を示している。表示装置ＰＮＬとしては液晶表示装置、あるいは有機ＥＬ表示装置であってもよい。図８に示す表示装置ＰＮＬは湾曲して構成されている。この場合、該表示装置ＰＮＬの基板ＳＵＢのそれぞれの面に形成されるバリア層のそれぞれに、全体的な応力の差を生じるように構成することによって、一方の側への湾曲を生じさせやすくするようにしてもよい。
【実施例６】
【００５９】
図９は、本発明の表示装置（パネル）ＰＮＬが適用されたいわゆるローラブルテレビを示している。表示装置ＰＮＬとしては液晶表示装置、あるいは有機ＥＬ表示装置であってもよい。この場合においても、テレビ本体内で表示装置（パネル）ＰＮＬが巻かれ易くするため、基板ＳＵＢのそれぞれの面に形成されるバリア層のそれぞれに、全体的な応力の差を生じるように構成し、一方の側への湾曲を生じさせやすくするようにしてもよい。
【実施例７】
【００６０】
図１０は、本発明の表示装置（パネル）ＰＮＬが適用された電子広告を示している。表示装置ＰＮＬとしては液晶表示装置、あるいは有機ＥＬ表示装置であってもよい。図１０に示す表示装置ＰＮＬは湾曲して構成されている。この場合も、該表示装置ＰＮＬの基板ＳＵＢのそれぞれの面に形成されるバリア層のそれぞれに、全体的な応力の差を生じるように構成することによって、一方の側への湾曲を生じさせやすくするようにしてもよい。
【００６１】
以上、本発明を実施例を用いて説明してきたが、これまでの各実施例で説明した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、それぞれの実施例で説明した構成は、互いに矛盾しない限り、組み合わせて用いてもよい。
【符号の説明】
【００６２】
ＬＣ……液晶、ＳＵＢ、ＳＵＢ１、ＳＵＢ２……基板、ＢＲＬ、ＢＲＬ１、ＢＲＬ２、ＢＲＬ３、ＢＲＬ４、ＢＲＬ１１、ＢＲＬ１２、ＢＲＬ２１、ＢＲＬ２２……バリア層、ＣＲＬ……回路構成層、ＴＣＬ１、ＴＣＬ２……透明導電膜、ＣＦ……カラーフィルタ、ＢＬ……バックライト、Ｌ……光、ＭＬ１、ＭＬ２、ＭＬ３、ＭＬ４……材料層、ＶＳ……チャンバ、ＰＤＳ……基板台、ＩＮＣ……誘導コイル、ＷＤ……高周波透過窓、ＲＦＰ……ＲＦ電源、ＫＴ……カソード電極、ＥＬ……発光層、ＡＴ……アノード電極、ＳＳＢ……封止基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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