(57)【要約】      （修正有）【課題】カラーフィルタパターン上にポジ型感光性樹脂を塗布、露光、現像して形成されたパターンの検査工程において、検査用照明光に感光性樹脂の感光波長域成分が含まれている場合、照明光が照射された部分の感光性樹脂は、相変化や架橋変化が生じ、加熱硬膜処理で、パターン線幅、高さの変化が顕著になる。その結果、照明光の照射、非照射の各領域の外観を比較した場合に相違が生じ、ムラとして検出されている。【解決手段】照明部からの光路に紫外領域の波長成分を選択的に低減する第一光学フィルタと、５２０ｎｍ以下の波長域成分を選択的に低減させる第二光学フィルタを挿入することにより、照明光の紫外領域の波長成分を選択的に低減させ、紫外領域成分の光線による第二光学フィルタの光学特性を低下させることなく、安定したポジ型感光性樹脂パターン形成を行なうことが可能となる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポジ型感光性樹脂からなるパターンを含むカラーフィルタパターンが形成された基板を載置するステージ部と、前記カラーフィルタパターンの検査用照明部と、前記検査用照明部の出射側に照明光の波長を選択する波長選択部と、前記カラーフィルタパターンの画像を撮像する撮像部とを備えたカラーフィルタパターンの検査装置であって、前記波長選択部は透過特性が異なる複数の光学フィルタを備えたことを特徴とするカラーフィルタパターン検査装置。
【請求項２】
前記波長選択部が、前記カラーフィルタパターン検査用照明部光源の出射側から紫外領域の波長成分を低減する第一光学フィルタと、前記第一光学フィルタを透過した照明光から５２０ｎｍ以下の波長成分を選択的に低減させる第二光学フィルタの順序で配置されてなることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタパターン検査装置。
【請求項３】
前記カラーフィルタパターンが、液晶分子の配向制御用突起パターンを含むことを特徴とする請求項１、又は請求項２記載のカラーフィルタパターン検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーモニタ、パーソナルコンピュータ等に使用される液晶表示装置のカラーフィルタパターン検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、省スペース性や軽量性、省電力性などの点において注目を集めており、大画面のテレビ用途への普及が急速に進んでいる。特に、テレビ用途においては、表示品位にかかわる輝度、コントラスト、視野角などの項目について、性能向上が望まれており、これらの特性を向上させるために、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ-Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）方式といった液晶性分子の配向状態の違いを用いた表示モードが液晶セルに適用され、様々な検討が進められている。これらの表示方式の中、ＶＡ方式はカラーフィルタ基板もしくは対向基板の表面に、液晶性分子の軸対称の配向中心となる液晶性分子の配向制御用突起パターン（リブ、リベット）を設けることによって、液晶配列方向の制御を自動的に行う表示モードである。更に、画素をいくつかの領域に分け、それぞれ別の方向に液晶性分子を倒すよう工夫し、視野角を改善するために配向分割（マルチドメイン）化した方式も適用されている。
【０００３】
このＶＡ方式で液晶性分子の配向制御用突起パターンをカラーフィルタ基板に形成する場合には、ポジ型感光性樹脂をカラーフィルタパターン上に形成された導電体層上に塗布した後、フォトリソグラフィによって、このポジ型感光性樹脂を露光、現像して所望パターンとし、その後に加熱硬化して形成される。ここで形成されるＶＡ方式の液晶性分子の配向制御用突起パターンは、液晶モジュールの表示応答性、表示ムラ等の表示品位に影響を与えるため、その線幅、高さ、断面形状など、均一に形成されることが重要となる。そのため、これらＶＡ方式の液晶性分子の配向制御用突起パターンをはじめとするカラーフィルタパターンの製造においては、品質管理目的で設計値との形状や寸法の相違を確認する光学機器を用いた検査が工程間で行なわれている。
【０００４】
一般にＶＡ方式の液晶性分子の配向制御用突起パターンは、ポジ型感光性樹脂を露光、現像、熱硬化して形成される。その形成された前記パターンの検査は現像、加熱硬化を経た後に行なわれ、検査用光源からの照明光が前記パターン部分に照射される。
【０００５】
前記照明光にポジ型感光性樹脂の感光波長域成分が含まれている場合、前記照明光が照射された部分のポジ型感光性樹脂には、相変化や架橋変化が生じ、パターン線幅、高さ、断面形状変化が生じ、後工程で加熱硬化するとそれらの変化はより顕著なものとなる。そのため、このパターンを照明光照射領域と非照射領域の外観を比較した場合に相違が生じ、ムラとして検出されるという問題が生じている。
【０００６】
前記の問題を解決するため、ポジ型感光性樹脂のパターン検査において様々な検討がなされている。例えば、特許文献１に示されるように、感光性樹脂からなるフォトレジストパターンに紫外線を照射して、フォトレジストパターンから発せられる蛍光発光の画像からそのパターン形状を検査、確認する方法がある。この手法では、感光性樹脂がネガ型感光性樹脂の場合、紫外線あるいは紫外線近傍の波長の光がパターンに照射されても、そのパターン形状等は既に形成されているため、パターン形状に与える影響は少ない。しかし、ポジ型感光性樹脂を用いた場合、紫外線あるいは紫外線近傍の波長の光が照射されると、ポジ型感光性樹脂材料の特性上、相変化や架橋変化が生じ、線幅の変化やそれに伴うパターン高さの減少等が生じることがある。更に加熱等を行なった場合には、それらの変化が顕著になるという問題がある。
【０００７】
また、前記課題解決するために、特許文献２のように感光性樹脂のパターン検査において照射する照明光に含まれる紫外線照射量を一定量以下として、線幅やそれに伴うパターン高さの変化を抑制する方法が試みられている。更に、特許文献３のように感光性樹脂のパターンに照射する光源から紫外領域を制限して、前記の感光性樹脂パターンの線幅変化を抑制することも試みられている。
【０００８】
しかしながら、特許文献２、特許文献３いずれの検査方法においても、ポジ型感光性樹脂を適用している場合には、その材料特性から、相変化や架橋変化によって、前記ポジ型感光性樹脂パターンの線幅や高さが変化し、後工程で加熱等を行なった場合には、形状変化が促進されて、断面形状が著しく変化してしまうといった現象が生じる問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平１０−１９５３２号公報
【特許文献２】特開２００１−１６８１５９号公報
【特許文献３】特開２００２−１４０５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、以上のような問題点を解決するためになされたものであり、本発明の課題とするところは、ポジ型感光性樹脂を用いたカラーフィルタパターンのパターン検査において、照明光を照射した後に加熱工程を経ても、形成されたパターンの線幅、高さ、形状に変化を生じることがない、パターンの検査を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
請求項１記載の発明に係るカラーフィルタパターン検査装置は、ポジ型感光性樹脂からなるパターンを含むカラーフィルタパターンが形成された基板を載置するステージ部と、前記カラーフィルタパターン検査用照明部と、前記照明部の出射側に照明光の波長を選択する波長選択部と、前記カラーフィルタパターン画像を撮像する撮像部とを備えたカラーフィルタパターンの検査装置であって、前記波長選択部は前記カラーフィルタパターン検査用照明部光源の出射側に複数の光学フィルタを備えたことを特徴とする。
【００１２】
請求項２記載の発明に係るカラーフィルタパターン検査装置は、前記波長選択部が複数の光学フィルタを備え、前記カラーフィルタパターン検査用照明部光源の出射側から紫外領域の波長成分を低減する第一光学フィルタと、前記第一光学フィルタを透過した照明光から５２０ｎｍ以下の波長成分を選択的に低減させる第二光学フィルタの順序で配置したことを特徴とする。
【００１３】
請求項３の発明に係るカラーフィルタパターン検査装置は、検査対象となる前記カラーフィルタパターンが、液晶分子の配向制御用突起パターンを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１記載の発明によれば、前記ポジ型感光性樹脂からなるパターンが形成されたカラーフィルタ基板を前記ステージ部に載置することで、繰返しパターン検査を行なう際の位置設定が保持され、検査動作時の誤差を抑えることができる。そして、前記撮像部では、照射光により照射されたカラーフィルタパターン画像を撮像し、該撮像データを基にして、パターン検査、測定が行なうことができる。また、前記カラーフィルタパターン検査用照明部光源の出射側に備えられる前記波長選択部は、透過特性が異なる複数の光学フィルタを備えるため、前記光源から照射される照明光の波長成分から、光学フィルタの透過特性を組合せて所望の波長領域を選択的に低減し、カラーフィルタパターン表面に照射することが可能となる。そのため、前記ポジ型感光性樹脂からなるパターンが形成されたカラーフィルタ基板の検査を行なった場合には、ポジ型感光性樹脂材料の相変化や架橋変化が生じることなく、パターン検査、測長することが可能となる。
【００１５】
請求項２記載の発明によれば、前記カラーフィルタパターン検査用照明部光源の出射側から照射された照明光は、まず、紫外領域を低減する第一光学フィルタを透過した後、５２０ｎｍ以下の波長成分を選択的に低減させる光透過特性を有する第二光学フィルタを透過する。つまり、前記波長選択部から出射される照明光を用いたポジ型感光性樹脂からなるカラーフィルタパターンの形状検査に適用した場合、前記ポジ型感光性樹脂の感光波長成分である紫外領域と、紫外領域を超えて５２０ｎｍ以下の波長領域に存在する感光波長成分が選択的に低減されるため、紫外領域を超える波長領域の波長成分による前記ポジ型感光性樹脂材料の相変化や架橋変化が抑制される。
そのため、ポジ型感光性樹脂を露光、現像して形成された液晶性分子の配向制御用突起パターンの形状が保持され、パターンの高さ、線幅が変化することなく、高い品質レベルでのカラーフィルタパターン検査が可能となる。
【００１６】
請求項３記載の発明によれば、前記カラーフィルタパターンに液晶性分子の配向制御用突起パターンを含む。つまり、カラーフィルタパターン検査装置の波長選択部における複数の光学フィルタによって、照明光の波長成分から紫外領域の波長成分を低減され、前記液晶性分子の配向制御用突起パターンに照射される。そのため、カラーフィルタパターン検査装置の照明光によって、前記配向制御用突起パターン形状に変化を与えることがなく、特にポジ型感光性樹脂からなるカラーフィルタパターンの検査では、検査、線幅や高さの測長を行ってもパターン形状に変化を与えることなく、カラーフィルタパターンの検査が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施例に係るカラーフィルタパターン検査装置の構成図を示す。
【図２】本発明の比較例に係るカラーフィルタパターン検査装置の構成図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１は本発明に係るポジ型感光性樹脂パターンからなるカラーフィルタパターン検査装置の概略構成図である。図１で示されるように、本発明の実施の形態に係るパターン検査装置１は、照明部２、第一光学フィルタ及び第二光学フィルタからなる波長選択部３、ビームスプリッタ４、ステージ部５、制御部（図示せず）、撮像部６から構成されている。ステージ部５はカラーフィルタパターンが形成された基板２０を載置するステージと、そのステージ上の基板を固定する基板固定手段（図示せず）と、そのステージと撮像部６を駆動する制御部（図示せず）から構成されている。ステージ部５は、カラーフィルタ基板２０全体を収容載置可能な寸法からなり、カラーフィルタ基板２０が載置される部分は、可視光波長域において光透過性を有する基材、例えば、青板ガラス、無アルカリガラスをはじめとする透明性の高い材料が適用される。そのような材料をステージ部に適宜選択することにより、照射する照明光のモードを透過モード、反射（落射）モードに切り替え、様々な視点でパターン状態を観察することが可能となる。
【００１９】
カラーフィルタ基板２０をステージ部５に固定する手段は、その固定形態として、治具による基板端面の保持、挟持や基板裏面側の吸着等が適用される。制御部は、カラーフィルタ基板２０が載置されたステージ部５をｘ軸方向（横方向）、ｙ軸方向（縦方向）の任意座標位置にステージ部を移動させると共に、ｚ軸方向（高さ方向）においては、撮像部を適宜移動させてパターン撮像の焦点合わせを行う。カラーフィルタ基板２０をステージ部５に固定することで、カラーフィルタ基板２０における検査位置の設定、移動を繰返し行なった場合でも、再現性を保ち、容易に行なうことが可能となる。前記制御部は、撮像部６で画像処理に用いる座標系と連携し、ステージ制御部の精度が座標測定精度に影響を与えるので、高精度な部品が適用されることが好ましい。
【００２０】
照明部２は、電源、光源（ランプ）、反射鏡、光ファイバから構成され、光源に電圧を印加して、光源を点灯させることで照射光を得る。光源の照明光は等方的に照射されるため、非照射方向に照射された照明光を反射鏡で反射、集光させて、照射光の利用効率を向上させる。そして、複数の光ファイバからなる光ファイバ束で所望位置に導光し、観察位置に照射する。ここで光源は、所望の照度となる照射光を得るため、ハロゲンランプ、放電ランプ、発光ダイオード（ＬＥＤ）光源、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）光源などから適宜選択して用いることができる。また、照明部はステージ部上のカラーフィルタ表面に照射して観察する反射（落射）照明に適用でき、カラーフィルタパターンに照明光を透過させる場合には、透過照明として観察に適用することができる。
【００２１】
波長選択部３の第一光学フィルタ３Ａは、照明部２光源の照射光２Ａから紫外領域の波長成分を選択的に低下させ、照明光に含まれるポジ型感光性樹脂の紫外領域の波長成分による感光を減少させる。次に、前記第一光学フィルタの後段に配置される第二光学フィルタ３Ｂを透過することで、照明光から５２０ｎｍ以下の波長域成分を選択的に低減する。そこで、前記波長選択部３から出射された照明光を用いて、カラーフィルタ表面に形成されたポジ型感光性樹脂による液晶性分子の配向制御用突起パターン１４Ａの検査をした場合には、前記ポジ型感光性樹脂の主な感光波長である紫外領域と、紫外領域を超えて５２０ｎｍ以下の波長領域に存在する前記ポジ型感光性樹脂の感光波長領域の各波長成分が選択的に低減される。そのため、紫外領域の波長成分が照射された場合に生じるポジ型感光性樹脂材料の相変化や架橋変化が抑制される。すなわち、前記カラーフィルタパターンの検査後に加熱工程を経る場合であっても、照明光の被照射部分のカラーフィルタ表面に形成されたポジ型感光性樹脂によるＶＡ方式の液晶性分子の配向制御用突起パターンの線幅、高さ等が保持され、形状変化を生じにくくなる。また、前記第一光学フィルタで紫外領域の波長成分が低減されるため、前記第一光学フィルタの後段に配置される第二光学フィルタへの紫外領域の波長成分の照射が抑制される。そのため、前記第二光学フィルタの光透過特性が紫外領域の波長成分により劣化することなく、前記照明光成分から紫外領域を超えて５２０ｎｍ以下の波長成分を低減することができる。
【００２２】
また、ビームスプリッタ４は、カラーフィルタ基板２０と撮像部６の光路間に設けられ、照明部２から波長選択部３を透過した照明光２Ｂを撮像部６とカラーフィルタパターン間の光路に導入して、カラーフィルタパターンに波長選択部３を透過した照明光２Ｂを照射する。そして、照明光２Ｂに照射されたカラーフィルタパターンの像は、対物レンズ、ビームスプリッタ４を通過して撮像部６へ投影されて、撮像部６の撮像素子、画像処理部７を経て、画像データが得られる。そして、画像処理部７においては、カラーフィルタパターン像を用いてカラーフィルタパターンの形状検出が行なわれる。
【００２３】
パターン検査においては、撮像部６においてカラーフィルタパターン画像を撮像し、設計パターンのデータに基づいて、線幅、パターン形状検査が行なわれるだけでなく、画像処理部７のプログラムによって、ステージ部５に設けられる位置センサの変位から、前記画像の位置における座標データから測定位置間の距離算出も行う。制御部は、カラーフィルタ基板２０が載置されたステージ部５をｘ軸方向（横方向）、ｙ軸方向（縦方向）の任意座標位置にステージ部を移動させると共に、ｚ軸方向（高さ方向）においては、撮像部を適宜移動させてパターン撮像時に焦点合わせを行う。各測定位置においては、設計パターンに基づくパターンの線幅、高さ測定、パターン形状検査を行なうだけでなく、座標位置に基づいた測長も行なわれる。
【実施例】
【００２４】
以下、本発明を適用したカラーフィルタパターン検査装置について具体的に説明する。本発明を適用したパターン検査装置の一構成例を図１に示す。
【００２５】
図１に示すカラーフィルタパターン検査装置１は、液晶表示装置用のカラーフィルタ基板、もしくは、対向基板の表面に設けられるポジ型感光性樹脂材料からなる液晶性分子の配向制御用突起パターン（リブ、リベット）のパターン検査装置であり、パターン検査装置の検査用照明部２から基板表面へ照射される照明光２Ａが、パターン検査装置に設けられる波長選択部３の第一光学フィルタ３Ａ、第二光学フィルタ３Ｂを経て、照明部２の一定波長成分を低減するようにしている。ここで、第一光学フィルタは４００ｎｍ以下の紫外領域の全波長成分を低減する機能を有する光学フィルタであり、第二光学フィルタは４００ｎｍを超えて５２０ｎｍ以下の波長を選択的に低減する機能を有する光学フィルタである。照射光２Ａは、それら第一光学フィルタ３Ａ、第二光学フィルタ３Ｂを透過した後、一定波長成分が低減された照明光２Ｂとして、ビームスプリッタ４が配置された光路を通過し、カラーフィルタパターン表面に照射される。
【００２６】
まず、ガラス基板１１にネガ型黒色感光性樹脂組成物（図示せず）をダイコータで塗布し、前記ネガ型黒色感光性樹脂組成物中に含まれる溶剤成分を揮発、乾燥させた後、超高圧水銀灯光源を有する露光装置に所望のブラックマトリクスパターンを有するフォトマスクを用いて、プロキシミティ露光した。その後、このパターン露光されたガラス基板をアルカリ現像液で現像処理することにより、ネガ型黒色感光性樹脂組成物からなるパターンが形成された。その後、２３０℃、２０分の加熱硬膜処理によりブラックマトリクス１２が形成された。
【００２７】
次いで、前記ブラックマトリクス１２のパターン開口部分の所望位置に対して、ネガ型赤色感光性樹脂組成物をダイコータで塗布、乾燥した後、超高圧水銀灯光源を有する露光装置に所望のカラーフィルタパターンを有するフォトマスクを用いて、パターン露光、アルカリ現像した後、２３０℃、２０分の加熱硬膜処理を行ない、赤色カラーフィルタパターン１３Ｒを得た。その後、青色、緑色のネガ型感光性樹脂組成物からなるカラーフィルタパターン形成を同様に繰返し、１３Ｂ、１３Ｇをガラス基板上に順次形成し、カラーフィルタ基板２０が形成された。
【００２８】
続いて、クレゾールノボラック樹脂を主成分とし、感光剤としてジアゾ系感光剤、希釈溶剤として３−メトキシプロピオン酸メチルからなるポジ型感光性樹脂材料１４を前記カラーフィルタ基板２０のカラーフィルタパターンが形成された面にダイコータを適用して塗布した。そして、ブラックマトリクス、カラーフィルタパターンの形成工程と同様に、ポジ型感光性樹脂材料１４を乾燥させた後、超高圧水銀灯光源を有する露光装置に所望のパターンを有するフォトマスク１３を用いて、パターン露光した。その後、このパターン露光されたカラーフィルタ基板２０をアルカリ現像液で現像処理することにより、カラーフィルタパターン上にポジ型感光性樹脂１４からなる液晶性分子の配向制御用突起パターン１４Ａが形成された。ここで形成される前記液晶性分子の配向制御用突起パターンの形状は、液晶性分子の配向制御機能が得られるのであれば、その形状、高さに制限はなく、シミュレーションによって、前記液晶性分子の配向制御用突起パターン形状は円形、矩形、直線形状等、最適な配向制御特性が得られる突起パターンを適用して問題はない。
【００２９】
次に、このカラーフィルタ基板２０をカラーフィルタパターン検査装置１のステージ部５に載置し、形成された液晶性分子の配向制御用突起パターン１４Ａの線幅測定をカラーフィルタ基板２０中の直線形状を示す同一位置の４箇所について、各３回測定してその平均値を求めた。その際、カラーフィルタパターンに照射される照明光の照射時間を３０秒、６０秒、１８０秒、３００秒と変化させて測定を行なった。その後、このパターン検査を経たカラーフィルタ基板を２３０℃、２０分の加熱硬膜処理を行なった。
【００３０】
この加熱硬膜処理を経たカラーフィルタ基板２０について、再度パターン検査装置のステージ部５に載置し、形成された液晶性分子の配向制御用突起パターン１４Ａの線幅測定を、同一基板中の直線形状を示す同一位置の４箇所について、各３回測定してその平均値を求めた。その加熱硬膜処理前後における線幅変化量の平均値を表１に示す。その結果、光路に挿入された紫外領域の波長成分を選択的に低減する機能を有する第一光学フィルタ３Ａと、紫外領域を超えて５２０ｎｍ以下の波長を選択的に低減する機能を有する第二光学フィルタ３Ｂを照射光が透過した場合、液晶性分子の配向制御用突起パターン１４Ａの線幅に変化はほとんどなく、外観においては、ムラがなく均一なパターンが形成されていることが確認された。
【表１】
2010181215.tif 000003
【比較例】
【００３１】
実施例と同様にカラーフィルタパターンが形成されたカラーフィルタ基板２０上にポジ型感光性樹脂１４からなる液晶性分子の配向制御用突起パターン１４Ａが形成し、前記カラーフィルタ基板２０をパターン検査装置１のステージ部５に載置した。そのパターン検査装置１の概略図を図２に示す。形成された液晶性分子の配向制御用突起パターン１４Ａの線幅測定を、同一基板中の直線形状を示す同一位置の４箇所について、各３回測定してその平均値を求めた。その際、光源部の紫外領域を超えて５２０ｎｍ以下の波長を選択的に低減する機能を有する第二光学フィルタ３Ｂを取り外し、照射光２Ａは紫外領域の波長成分を選択的に低減する機能を有する第一光学フィルタ３Ａのみを透過する照明光２Ｃとし、それぞれの測定位置におけるカラーフィルタパターン上に照射される照明光の照射時間を３０秒、６０秒、１８０秒、３００秒と変化させて測定を行なった。その後、このパターン検査を経たカラーフィルタ基板２０を２３０℃、２０分の加熱硬膜処理を行なった。
【００３２】
次に、この加熱硬膜処理を経たカラーフィルタ基板２０について、再度パターン検査装置１のステージ部５に載置し、形成された液晶性分子の配向制御用突起パターン１４Ａの線幅測定を同一基板中の直線形状を示す同一位置の４箇所について、各３回測定してその平均値を求めた。その加熱硬膜前後における線幅変化量の平均値について表２に示す。
【表２】
2010181215.tif 000004
【００３３】
その結果、第一光学フィルタ３Ａのみを透過した照明光２Ｃをカラーフィルタに照射した場合、紫外領域の波長成分は照射されないが、第二光学フィルタが存在しないため、紫外領域を超える波長成分がポジ型感光性樹脂材料による液晶性分子の配向制御用突起パターン１４Ａに照射される。そのため、その後、加熱硬膜処理を行なうと、ポジ型感光性材料における相変化や架橋変化がより顕著に現れ、パターン高さ(膜厚）の低下と、パターン線幅が変化した。その線幅変化量は、前記ポジ型感光性材料の塗布膜厚、照射時間と共に変化し、３００秒間の照射で４μｍ以上変化することが確認された。
【符号の説明】
【００３４】
１      パターン検査装置
２      照明部
２Ａ    照明光
２Ｂ    第一光学フィルタと第二光学フィルタを透過した照明光
２Ｃ    第一光学フィルタのみを透過した照明光
３      波長選択部
３Ａ    第一光学フィルタ
３Ｂ    第二光学フィルタ
４      ビームスプリッタ
５      ステージ部
６      撮像部
７      画像処理部
１１    ガラス基板
１２    ブラックマトリクス
１３Ｒ  赤色のカラーフィルタパターン
１３Ｂ  青色のカラーフィルタパターン
１３Ｇ  緑色のカラーフィルタパターン
１４    ポジ型感光性樹脂
１４Ａ  液晶性分子の配向制御用突起パターン
２０    カラーフィルタ基板
【図１】
2010181215.tif 000005
【図２】
2010181215.tif 000006