(57)【要約】【課題】効率的に製造することができ、且つ透過光及び反射光の干渉が低減されたグリッド偏光子、及びその製造方法を提供する。【解決手段】第１面、及び前記第１面とは反対側の第２面を有する支持層、前記支持層の前記第１面上に設けられ、前記第１面に相対する面とは反対側の面上に、細長く線状に延び互いに離間した状態で平行に並ぶ複数の畝状凸部からなる凹凸構造(i)を有する凹凸構造層、及び前記畝状凸部の頂部上、前記畝状凸部の間の谷部上、又はその両方に設けられ、前記畝状凸部に沿って延長する吸光性層を備えるグリッド偏光子であって、前記支持層が前記第１面に凹凸構造(ii)を有し、前記凹凸構造(ii)は、その算術平均粗さＲａ及び平均周期Ｓｍが式０．５μｍ≦Ｒａ≦１．５μｍ及び５．０μｍ≦Ｓｍ≦１００μｍを満たすことを特徴とする、グリッド偏光子；並びにその製造方法。【選択図】  図２
2010181831.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面、及び前記第１面とは反対側の第２面を有する支持層、
前記支持層の前記第１面上に設けられ、前記第１面に相対する面とは反対側の面上に、細長く線状に延び互いに離間した状態で平行に並ぶ複数の畝状凸部からなる凹凸構造(i)を有する凹凸構造層、及び
前記畝状凸部の頂部上、前記畝状凸部の間の谷部上、又はその両方に設けられ、前記畝状凸部に沿って延長する吸光性層
を備えるグリッド偏光子であって、
前記支持層が前記第１面に凹凸構造(ii)を有し、前記凹凸構造(ii)は、その算術平均粗さＲａ及び平均周期Ｓｍが下記式（１）及び（２）：
０．５μｍ≦Ｒａ≦１．５μｍ・・・（１）
５．０μｍ≦Ｓｍ≦１００μｍ・・・（２）
を満たすことを特徴とする、グリッド偏光子。
【請求項２】
前記凹凸構造(ii)が、ランダムな凹凸構造である、請求項１に記載のグリッド偏光子。
【請求項３】
前記ランダムな凹凸形状が、賦形ロール上に形成した凹凸構造をフィルムに転写してなる凹凸構造である、請求項２に記載のグリッド偏光子。
【請求項４】
前記賦形ロール上に形成した凹凸構造が、サンドブラスト法により形成された凹凸構造である、請求項３に記載のグリッド偏光子。
【請求項５】
前記凹凸構造層がエネルギー線硬化性の樹脂を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載のグリッド偏光子。
【請求項６】
前記吸光性層がアルミニウムを含む層である請求項１〜５のいずれか１項に記載のグリッド偏光子。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のグリッド偏光子の製造方法であって、
前記支持層を長尺のフィルムとして提供し、前記支持層上に、前記凹凸構造層及び前記吸光性層を形成することを含む、グリッド偏光子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、グリッド偏光子及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
グリッド偏光子は、多数の線状金属等の吸光性層を一定の周期で平行に配列したグリッド構造をもつ光学部材である。このようなグリッド構造に光が入射する際に、グリッドの周期が入射光の波長より短い場合に、グリッド構造を形成している吸光性層に対して平行な偏光成分は反射し、垂直な偏光成分は透過するため、かかるグリッド構造は単一偏光を作りだす偏光子として機能する。このグリッド偏光子は、光通信ではアイソレーターの光部品として、液晶表示装置では光の利用率を高め輝度を向上させるための部品として、利用することが提案されている。
【０００３】
グリッド偏光子としては、厚さ数１０〜数１００μｍの支持層の上に、複数の畝状の凸部からなる凹凸構造を有する厚さ数μｍの凹凸構造層を形成し、さらに凹凸構造層の上に金属等の吸光性層材料を蒸着して吸光性層を形成することを含む方法により製造されるものが提案されている（例えば特許文献１）。支持層を構成する材料は、偏光子の製造時及び使用時に必要な強度を有する樹脂とすることができ、一方、凹凸構造層を構成する材料は、紫外線硬化等の成形方法により微細な形状に成形するのに有利な各種の樹脂とすることができる。このような製造方法によれば、微細な凹凸構造層を有する長尺フィルム状のグリッド偏光子をインラインで効率的に製造することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−０５７９７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような製造方法により製造されたグリッド偏光子においては、複数の層からなる積層構造に基づく、透過光及び反射光の干渉が発生しやすいという問題点がある。即ち、支持層と凹凸構造層の構成材料が異なることからこれらの屈折率は通常異なり、そのため界面での反射が発生しやすく、その結果積層構造が干渉を発生させやすくなる。
【０００６】
本発明の目的は、効率的に製造することができ、且つ透過光及び反射光の干渉が低減されたグリッド偏光子、及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は上記課題に鑑み検討した結果、グリッド偏光子を構成する支持層と凹凸構造層との界面を特定の態様とすることにより上記課題を解決しうることを見出し、本発明を解決するに至った。即ち、本発明によれば、以下のものが提供される。
【０００８】
〔１〕  第１面、及び前記第１面とは反対側の第２面を有する支持層、
前記支持層の前記第１面上に設けられ、前記支持層とは異なる屈折率を有し、前記第１面に相対する面とは反対側の面上に、細長く線状に延び互いに離間した状態で平行に並ぶ複数の畝状凸部からなる凹凸構造(i)を有する凹凸構造層、及び
前記畝状凸部の頂部上、前記畝状凸部の間の谷部上、又はその両方に設けられ、前記畝状凸部に沿って延長する吸光性層
を備えるグリッド偏光子であって、
前記支持層が前記第１面に凹凸構造(ii)を有し、前記凹凸構造(ii)は、その算術平均粗さＲａ及び平均周期Ｓｍが下記式（１）及び（２）：
０．５μｍ≦Ｒａ≦１．５μｍ・・・（１）
５．０μｍ≦Ｓｍ≦１００μｍ・・・（２）
を満たすことを特徴とする、グリッド偏光子。
〔２〕  前記凹凸構造(ii)が、ランダムな凹凸構造である、〔１〕に記載のグリッド偏光子。
〔３〕  前記ランダムな凹凸形状が、賦形ロール上に形成した凹凸構造をフィルムに転写してなる凹凸構造である、〔２〕に記載のグリッド偏光子。
〔４〕  前記賦形ロール上に形成した凹凸構造が、サンドブラスト法により形成された凹凸構造である、〔３〕に記載のグリッド偏光子。
〔５〕  前記凹凸構造層がエネルギー線硬化性の樹脂を含む、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載のグリッド偏光子。
〔６〕  前記吸光性層がアルミニウムを含む層である〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載のグリッド偏光子。
〔７〕  〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載のグリッド偏光子の製造方法であって、
前記支持層を長尺のフィルムとして提供し、前記支持層上に、前記凹凸構造層及び前記吸光性層を形成することを含む、グリッド偏光子の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のグリッド偏光子は、効率的に製造することができ、透過光及び反射光の干渉が少なく、且つ従来品と同等以上の偏光透過率及び偏光反射率を有するため、液晶表示装置等の光学装置の構成要素として有用に用いることができる。
本発明のグリッド偏光子の製造方法は、前記本発明のグリッド偏光子を効率的に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本発明のグリッド偏光子の一例を概略的に示す斜視図である。
【図２】図２は、図１に示すグリッド偏光子を、畝状凸部７の長手方向と垂直な面で切断した断面の一部を拡大して示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態につき説明する。なお、各図は、本発明が理解できる程度に、構成要素の形状、大きさおよび配置が概略的に示されているに過ぎない。本発明は以下の説明によって限定されるものではなく、各構成要素は特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。また、以下の説明に用いる各図において、同様の構成要素については同一の符号を付して示し、重複する説明を省略する場合がある。
【００１２】
本発明のグリッド偏光子は、支持層、凹凸構造層、及び吸光性層を所定の態様で備える。
【００１３】
（支持層）
本発明において、支持層は、第１面及び第１面とは反対側の第２面を有し、第１面側が所定の凹凸構造(ii)を有する。即ち、凹凸構造(ii)は、支持層の表面又は裏面の少なくとも一方に設けられる。
【００１４】
支持層の第１面側の凹凸構造(ii)は、その算術平均粗さＲａ及び平均周期Ｓｍが下記式（１）及び（２）：
０．５μｍ≦Ｒａ≦１．５μｍ・・・（１）
５．０μｍ≦Ｓｍ≦１００μｍ・・・（２）
を満たす。
算術平均粗さＲａ及び平均周期Ｓｍは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１で規定された表面性状パラメーターである。
このような所定の凹凸構造(ii)を有することにより、グリッド偏光子を透過する光及び反射する光による干渉の発生を効果的に抑制することができる。
【００１５】
凹凸構造(ii)は、ランダムな凹凸構造であることが好ましい。具体的には、サンドペーパーや、サンドブラストによる研磨により形成されるランダムな凹凸構造であることが好ましい。ランダムな形状を付与しやすいという理由から、サンドブラスト法が好適に用いられる。このような凹凸構造(ii)を得るには、凹凸構造(ii)を形成する前の支持層の材料となるフィルムを直接研磨してもよく、支持層を形成するための型の表面を研磨して凹凸構造を設け、かかる凹凸構造を支持層の形成に際し転写してもよい。具体的には、平滑な面を有する賦形ロールの当該平滑な面にサンドブラスト等の方法によりランダムな凹凸構造を付与し、この賦形ロールの凹凸構造を支持層の材料であるフィルムに転写し、凹凸構造(ii)を有する支持層を得ることができる。
【００１６】
支持層の材料としては、グリッド偏光子の構成材料としうる透明度を有する各種の樹脂を用いることができる。具体的には、ポリカーボネート樹脂、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、ポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂及び脂環式構造含有重合体などが挙げられる。これらのうち、ポリカーボネート樹脂、脂環式構造含有重合体が好適である。
【００１７】
支持層の厚さの下限は、好ましくは５μｍ、より好ましくは２０μｍとすることができる。一方支持層の厚さの上限は好ましくは１０ｍｍ、より好ましくは５００μｍとすることができる。上記下限以上の厚さとすることにより、グリッド偏光子の機械的強度を確保することができる。また、上記上限以下の厚さとすることにより、グリッド偏光子を軽量化させることができ、且つ透過する光の損失を低減することができる。
【００１８】
（凹凸構造層）
本発明において、凹凸構造層は、支持層の第１面、すなわち支持層の凹凸構造(ii)を有する側の表面上に設けられる。
【００１９】
凹凸構造層は、第１面に相対する面とは反対側の面上に、細長く線状に延び互いに離間した状態で平行に複数並ぶ畝状凸部からなる凹凸構造(i)を有する。当該凹凸構造(i)は、グリッド偏光子としての機能を発現するための凹凸構造である。なお本発明において、グリッド偏光子の構成要素が平行であるとは、グリッド偏光子としての機能を発現しうる範囲内での誤差を含んでいてもよく、例えば±５°の誤差を含んでいてもよい。
【００２０】
支持層及び凹凸構造層の関係、及び凹凸構造層の凹凸構造(ii)を、図１及び図２の例を参照して説明する。図１は、本発明のグリッド偏光子の一例を概略的に示す斜視図であり、図２は、図１に示すグリッド偏光子を、畝状凸部７の長手方向と垂直な面で切断した断面の一部を拡大して示す縦断面図である。図１及び図２において、グリッド偏光子１０は、その凹凸構造を有する側を上向きにし、偏光子の主面を水平に置いた状態で図示される。グリッド偏光子１０は、上側の第１面１Ｕ及び下側の第２面１Ｌを有する支持層１、支持層１の第１面１Ｕ上に設けられた凹凸構造層５を備えている。
【００２１】
凹凸構造層５が、支持層１の凹凸構造(ii)を有する面である第１面１Ｕ上に設けられるため、支持層１と凹凸構造層５との界面は、凹凸構造(ii)により規定される凹凸構造を有することになる。このような構造を有することにより、支持層１と凹凸構造層５との界面における反射に基づく干渉の発生を効果的に抑制することができる。
【００２２】
凹凸構造層５は、支持層１の第１面１Ｕに相対する面とは反対側の面上に、細長く線状に延び互いに離間した状態で平行に複数並ぶ畝状凸部７からなる凹凸構造(i)を有している。
【００２３】
凹凸構造(i)は、周期が９００ｎｍ以下の凹凸構造とすることができる。ここで、凹凸構造(i)の周期とは、凹凸面上の一方向に沿って観察した際に、複数の同一形状の凹凸が繰り返し現れる場合における、一つの凹凸の幅（即ち当該一方向に沿った長さ）ということを意味することができる。
凹凸面上の複数方向において凹凸構造の周期が存在する場合は、それらのうち最も短いものを周期とすることができる。以下においては、特に断らない限り、最も短い周期を単に周期という。
【００２４】
これを図１及び図２に示す例を再び参照して説明する。図１において、凹凸構造層５は、座標軸Ｘ及びＹに平行な面方向に延長するフィルムであり、その上面の全面が、座標軸Ｙに平行に延長した多数の畝状凸部７からなる凹凸構造(i)を有する。断面図である図２の断面は、図１に示す座標軸Ｘ及びＺに平行な面における断面である。この例において、畝状凸部７は、図４のＹ軸方向に延長する畝状の構造であるため、凹凸構造の最も短い周期は、座標軸Ｘ方向、即ち図２における図面の左右方向における周期となる。したがって、畝状凸部７が繰り返し現れる凹凸構造における周期は、図２の矢印Ｐ７で示される距離となる。
凹凸構造の周期のより好ましい長さは、作製するグリッド偏光子に求められる性能により異なるため特に限定されないが、好ましくは２０〜８００ｎｍ、より好ましくは２０〜５００ｎｍ、さらにより好ましくは３０〜３００ｎｍとすることができる。
【００２５】
前記畝状凸部の垂直断面形状（長手方向に垂直な断面の形状）は特に限定されないが、図１及び図２に示す矩形のほか、台形、菱形、山形などが挙げられる。畝状凸部の高さ（図２において矢印Ｈ７で示される）は、好ましくは５〜３０００ｎｍ、より好ましくは２０〜１０００ｎｍ、特に好ましくは５０〜３００ｎｍである。畝状凸部間に形成される溝の幅は、好ましくは２００ｎｍ以下、好ましくは２０〜１００ｎｍである。畝状凸部の幅（図２において矢印Ｗ７で示される）は、好ましくは２５〜３００ｎｍである。畝状凸部のアスペクト比（畝状凸部の高さ／畝状凸部の幅）は、好ましくは０．１〜５．０、より好ましくは０．４〜３．０、特に好ましくは０．８〜２．０である。偏光分離性能などの光学特性を考慮すると、畝状凸部は平行且つ周期的に（同一ピッチで）並んだものが好ましい。
【００２６】
凹凸構造層の材料は、グリッド偏光子として機能しうる任意の材質、例えば入射した光の一部を透過させる材質とすることができる。具体的には、透明樹脂等の有機材料とすることが、光透過性能と加工の容易さの観点から好ましい。
【００２７】
かかる透明樹脂は、可塑性樹脂または硬化性樹脂を用いうるが、凹凸構造を容易に形成できるという観点から、硬化性樹脂を硬化させたものが好ましい。硬化性樹脂としては、熱硬化性のものと、エネルギー線硬化性のものが挙げられる。エネルギー線は、可視光線、紫外線、電子線、Ｘ線を含む。
【００２８】
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、及びポリシロキサン樹脂が挙げられる。
【００２９】
エネルギー線硬化性樹脂としては、ラジカル重合性不飽和基及び／又はカチオン重合性基を有する低分子量化合物、又は樹脂等が挙げられる。なお、ラジカル重合性不飽和基及び／又はカチオン重合性基は、１分子中に２以上含んでいてもよい。
【００３０】
前記ラジカル重合性不飽和基を有する低分子量化合物としては、エチレン、プロピレン等のα−オレフィン；ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン化合物；スチレン、α−メチルスチレン、ｔ−ブチルスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルナフタレン、４−ビニルピリジン等のラジカル反応性芳香族化合物；アクリル酸、メタクリル酸、フマール酸、マレイン酸、エンド−ビシクロ［２．２．１］−５−ヘプテン−２，８−ジカルボン酸（エンディック酸）、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸等の不飽和カルボン酸；アクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライド、マレイン酸クロライド等の不飽和カルボン酸のハライド；アクリルアミド、メタクリルアミド、マレイミド等の不飽和カルボン酸のアミド若しくはイミド誘導体；無水マレイン酸、無水エンディック酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸の無水物；マレイン酸モノメチル、マレイン酸ジメチル、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フエノキシエチル（メタ）アクリレート、へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールへキサ（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸のエステル誘導体；ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシトリエトキシシラン等のラジカル反応不飽和基を有するシラン化合物；等が挙げられる。
【００３１】
前記カチオン重合性基を有する低分子量化合物としては、ジシクロペンタジエンジオキサイド、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アセタール、エチレングリコールのビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）エーテル、エチレングリコールの３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸ジエステル等の脂環式エポキシ基を含有する化合物；エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ジグリセリンテトラグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、スピログリコールジグリシジルエーテル等のグリシジル基を含有するエポキシ化合物；３−エチル−３−メトキシメチルオキセタン、３−エチル−３−エトキシメチルオキセタン、３−エチル−３−ブトキシメチルオキセタン、３−エチル−３−アリルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（２’−ヒドロキシエチル）オキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（２’−ヒドロキシ−３’−フェノキシプロピル）オキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（２’−ヒドロキシ−３’−ブトキシプロピル）オキシメチルオキセタン、３−エチル−３−［２’−（２”−エトキシエチル）オキシメチル］オキセタン等のオキセタン環を含有する化合物；等が挙げられる。
【００３２】
前記ラジカル重合性不飽和基又はカチオン重合性基を有する樹脂としては、低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等の側鎖にラジカル重合性不飽和基又はカチオン重合性基を有する樹脂が挙げられる。
【００３３】
エネルギー線として紫外線や可視光線を用いる場合には、硬化性樹脂の中に光重合開始剤、光増感剤などを含ませることができる。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【００３４】
凹凸構造層を構成する透明樹脂は、可塑性樹脂の場合は、加工性の観点からガラス転移温度が６０〜２００℃であることが好ましく、１００〜１８０℃であることがより好ましい。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量分析（ＤＳＣ）により測定することができる。
【００３５】
前記透明樹脂は、顔料や染料のごとき着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤が適宜配合されたものであってもよい。
【００３６】
前記透明樹脂は、１００℃で２時間真空乾燥した後の重量Ｗ０から、８０℃の温水に２４時間浸漬し次いで１００℃で２時間真空乾燥した後の重量Ｗ１への重量減量が、Ｗ０の１％以下であることが好ましく、０．８％以下であることがより好ましい。
【００３７】
本発明において、凹凸構造層は、支持層とは異なる屈折率を有するものとしうる。具体的には、支持層と凹凸構造層との界面の反射を起こしうる屈折率の差異がある、任意の材料を用いることができる。支持層と凹凸構造層とで全く同じ材料を用い屈折率の差が全く無い場合は、界面の反射がなくそれに基づく干渉も発生し得ないが、支持層と凹凸構造層とで異なる材料を用いた場合には、屈折率の差が発現し界面の反射が起こるが、本発明のグリッド偏光子の場合は、そのような場合であっても干渉を低減しうる。
【００３８】
凹凸構造層の厚さ（図２の矢印Ｔ５で示される）は、２００ｎｍ〜２０μｍであることが好ましい。上記下限以上とすることにより、欠陥のない凹凸構造を安定して製造することができ、また上記上限以下とすることにより、コスト、部材の重量及び部材の厚さを低減することができる。
【００３９】
支持層上に凹凸構造層を設ける方法としては、エネルギー線硬化性樹脂を含む液体状の凹凸構造層形成材料を支持層上に流延して凹凸構造層形成材料の塗膜を得、該塗膜に、畝状凸部に対応した凹凸を有する金型またはロールを押し当て、該押し当てている状態でエネルギー線を照射し、エネルギー線硬化性樹脂を硬化させる方法を挙げることができる。このような製造方法によれば、凹凸構造の形成を比較的短時間で行なうことができ、その結果、インラインでの効率的な生産が可能となり、長尺のグリッド偏光子を低コストで得ることができるため、特に好ましい。
【００４０】
（吸光性層）
本発明において、吸光性層は、凹凸構造層の畝状凸部の頂部上、畝状凸部の間の谷部上、又はその両方に設けられ、前記畝状凸部に沿って延長する。再び図１及び図２の例を参照して説明すると、グリッド偏光子１０は、凹凸構造層５の畝状凸部７の頂部７Ｔ上、及び畝状凸部７の間の谷部７Ｂ上の両方に設けられ、畝状凸部７に沿って延長する吸光性層９及び８を備えている。
【００４１】
吸光性層の材料としては、金属を含む材料を用いることができる。金属としては、導電性の金属、例えばアルミニウム、インジウム、マグネシウム、ロジウム、スズ、銀、金等の金属及びそれらの合金が挙げられる。これらのうち、光学特性が良好であるという観点から、アルミ、銀がより好ましい。
【００４２】
吸光性層は、前記材料を物理蒸着（ＰＶＤ法）することによって形成することができる。
ＰＶＤ法は、蒸着材料を蒸発・イオン化し、被膜を形成させる方法である。具体的には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング（イオンめっき）法、イオンビームデポジション法等が挙げられる。これらのうち表面粗さを小さくすることが容易という観点から真空蒸着法が好ましい。真空蒸着法は、真空にした容器の中で、蒸着材料を加熱し気化もしくは昇華して、離れた位置に置かれた基材の表面に付着させ、薄膜を形成する方法である。加熱手段としては、抵抗加熱、電子ビーム、高周波誘導、レーザーなどが挙げられる。
物理蒸着を行う装置内の雰囲気は、好ましくは絶対圧１×１０−２Ｐａ以下、より好ましくは絶対圧８×１０−３Ｐａ以下である。物理蒸着による製膜速度は、好ましくは１．０ｎｍ／秒以上、より好ましくは２．５ｎｍ／秒以上、特に好ましくは４．０ｎｍ／秒以上である。なお、製膜速度の上限は、製膜装置の性能による限界があるのみで、表面粗さを小さくするという観点においては特に制限されない。製膜速度をこの範囲に調整することによって、表面粗さを小さくすることができる。
【００４３】
畝状凸部を有する凹凸構造層にＰＶＤ法により凹凸構造層を形成させた場合、前記畝状凸部の頂部上および／または前記畝状凸部の間の谷部上に吸光性層となる金属層が積層しうる。
【００４４】
畝状凸部の頂部上に積層された吸光性層（以下、「吸光性層Ａ」という。）の形状は、特に制限されず、通常は矩形、台形、円形、山形などである。吸光性層Ａの厚さは、特に制限されないが、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは３０〜９０ｎｍ、特に好ましくは５０〜８０ｎｍである。吸光性層Ａの幅および長さは、通常、畝状凸部の頂面の形状にしたがってほぼ決まる。
【００４５】
畝状凸部の間の谷部上に積層された吸光性層（以下「吸光性層Ｂ」という。）の形状は、特に制限されず、通常は矩形、台形、円形、山形などである。吸光性層Ｂの厚さは、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは３０〜９０ｎｍ、特に好ましくは５０〜８０ｎｍである。吸光性層Ｂの幅および長さは、通常、畝状凸部間の谷部の形状にしたがってほぼ決まる。
【００４６】
また、必要に応じて、望ましい形状の吸光性層を形成するために、吸光性層の形成前に、無機誘電体で透明性がある材料を物理蒸着して、その後に吸光性層を形成する方法がある。ここで、無機誘電体で透明性がある材料としては、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム等及びそれらの合金を使用することができる。物理蒸着の方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング（イオンめっき）法、イオンビームデポジション法等が挙げられる。基材との密着性が良好であるという観点から、スパッタリング法、イオンプレーティング法がより好ましい。
【００４７】
図１及び図２に示す例では、凹凸構造層５の矩形畝状の凸部７からなる凹凸構造の頂部及び畝間部の両方に、それぞれ断面概略矩形及び三角形の吸光性層９及び８が積層された構造とすることができる。かかる吸光性層８のような断面形状の吸光性層は、断面矩形に形成した吸光性層を、以下に詳述するエッチング等の手段により変形させることにより得ることができる。
【００４８】
前記のような畝状凸部の頂部上及び畝状凸部の間の谷部上に積層された吸光性層の一部は、湿式エッチングによって除去することが好ましい。除去されることが好ましい吸光性層の一部としては、畝状凸部の側壁に接して形成された部分、及び畝状凸部の頂部の幅からはみ出した部分などを挙げることができる。湿式エッチングは、吸光性層にエッチング液を接触させる工程と、リンス液で洗浄する工程、およびリンス液を除去する工程を少なくとも含む。
【００４９】
吸光性層にエッチング液を接触させる工程の前に、吸光性層の除去されないようにしたい部分上にマスク層を設けてもよい。マスク層には、通常、無機化合物膜が用いられる。このマスク層によって吸光性層の厚さの減少を少なくして吸光性層の幅を狭くすることができる。
【００５０】
マスキング用の無機化合物は、後述の湿式エッチングに耐えるものであれば特に限定されず、例えば、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素または窒化酸化ケイ素などの化合物が挙げられる。これらの中では特に二酸化ケイ素が好ましい。積層される無機化合物膜の厚さは、特に制限されないが、通常１〜１００ｎｍ、好ましくは２〜５０ｎｍ、より好ましくは３〜２０ｎｍである。無機化合物膜はＰＶＤ法によって形成できる。
【００５１】
吸光性層にエッチング液を接触させる工程の前に、略平行に並んだ畝状凸部の長手方向に直交する方向に、凹凸構造層５を含む積層体を延伸することができる。この延伸によって畝状凸部間の距離が広がり、吸光性層Ａ間のピッチ間隔が広がり、結果として光線透過率が高くなる。また畝状凸部間の谷部上に形成されていた吸光性層Ｂの端が、延伸によって、畝状凸部の基部から離れ、隙間ができる。後述する湿式エッチング液がこの隙間に入り込み、吸光性層Ｂの両端を優先的に除去し、図２のように、吸光性層Ｂの断面における中央部分よりも両端部分を薄くし、概略三角形の断面形状とすることができる。
【００５２】
延伸方法は特に限定されないが、畝状凸部の長手方向に直交する方向の延伸倍率を好ましくは１．０５〜５倍、より好ましくは１．１〜３倍、畝状凸部の長手方向に平行な方向の延伸倍率を好ましくは０．９〜１．１倍、より好ましくは０．９５〜１．０５倍にするとよい。このような延伸を行うためには、テンター延伸機による連続的な横一軸延伸が好適である。
【００５３】
吸光性層にエッチング液を接触させる工程の前に、吸光性層の表面改質処理を行うことが好ましい。表面改質処理としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、ＵＶ照射処理および有機溶剤処理からなる群から選ばれる少なくとも一つの処理が好適なものとして挙げられる。吸光性層の表面改質処理を行うことによって、光学性能のバラツキが小さくなる。
【００５４】
湿式エッチングに用いられるエッチング液は、凹凸構造層を腐食等させずに吸光性層の一部を除去できる液であれば良く、マスク層（無機化合物膜）、吸光性層、及び凹凸構造層の材質に応じて適宜選択される。エッチング液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属化合物を含有する溶液；硫酸、燐酸、硝酸、酢酸、フッ化水素、塩酸などを含有する溶液；過硫酸アンモニウム、過酸化水素、フッ化アンモニウム等やそれらの混合液からなる溶液などが挙げられる。また、エッチング液には界面活性剤などの添加剤が含まれていても良い。
【００５５】
吸光性層にエッチング液を接触させる方法は、特に制限されないが、ディップ法、スプレー法およびコーティング法からなる群から選ばれる少なくとも一つの方法が好ましい。
【００５６】
湿式エッチングに用いられるリンス液は、エッチング液を吸光性層に接触させたときに発生した残渣を取り除く液である。残渣が残ると吸光性層の表面が荒れ、光学性能に影響を及ぼすことがある。また、残渣が凹凸構造層上の好ましく無い場所に付着することがある。
リンス液としては、水（例えば、純水など）、界面活性剤を含有する溶液、などが挙げられる。
リンス液で吸光性層を洗浄する方法は、吸光性層に接触したエッチング液およびエッチング残渣を取り除くことができる方法であれば、特に制限されない。
【００５７】
リンス液で洗浄した後、リンス液を除去する。リンス液の除去方法は特に制限されないが、エアーブローによる方法が好ましい。
【００５８】
凹凸構造層上の吸光性層には、腐食防止処理を施して腐食防止膜を設けても良い。腐食防止膜は、グリッド偏光性能の観点から、単分子膜もしくはそれに準じる厚さ、具体的には、１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の厚さであることが好ましい。
【００５９】
（その他）
本発明のグリッド偏光子は、支持層、凹凸構造層、及び吸光性層に加えて、任意の構成要素を含みうる。例えば、前記凹凸構造層及び吸光性層上の表面に設けられた保護層を備えていてもよい。保護層を構成する材料は、上に例示した透明樹脂と同様の有機材料を含むものとすることができる。
【００６０】
（グリッド偏光子の製造方法）
本発明のグリッド偏光子の製造方法としては、前記支持層を長尺のフィルムとして提供し、前記支持層上に、前記凹凸構造層及び前記吸光性層を形成することを含む製造方法を、好ましく挙げることができる。
【００６１】
長尺とは、幅に対し少なくとも５倍程度以上の長さを有するものを言い、好ましくは１０倍もしくはそれ以上の長さを有するものを言い、具体的にはロール状に巻回されて保管または運搬される程度の長さを有するものを言う。
【００６２】
長尺の支持層の幅は、好ましくは５００ｍｍ以上、より好ましくは１０００ｍｍ以上である。支持層は、その製造工程の途中において、任意に、その幅方向の両端を切り落とす（トリミング）ことがある。この場合、支持層の幅は、両端を切り落とした後の寸法とすることができる。
【００６３】
長尺の支持層の成形方法は、特に限定されないが、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。これらの成形法により前述の材料をフィルム状に成形すると同時に、又はかかる成形の後に、フィルムの片面に凹凸構造を付与し、凹凸構造(ii)を有する第１面を有する支持層とすることができる。かかる凹凸構造の付与の方法としては、転写型または転写ロールを用いた転写法を好ましく挙げることができる。より具体的には、所定の温度に加熱した、所定の凹凸構造を有する賦形ロールをフィルムの片面に押し当てることにより、凹凸構造を付与することができる。賦形ロール表面の材質としては、金属メッキ、セラミック等が挙げげられる。
【００６４】
このように得られた長尺の支持層上に、それぞれの層の説明において既に述べた形成方法により、凹凸構造層、吸光性層及び必要に応じて任意の層を形成し、長尺の状態のグリッド偏光子を得ることができる。得られた長尺の状態のグリッド偏光子は、さらに必要に応じて所望の形状に裁断することにより、製品とすることができる。
【００６５】
（用途）
本発明のグリッド偏光子は、入射した光のうち、吸光性層の長手方向に対して平行な偏光成分は反射し、垂直な偏光成分を透過させることができる。従って、本発明のグリッド偏光子は、単一偏光を作り出す偏光子として、種々の用途に用いることができる。好ましくは、液晶表示装置の構成要素として用いることができる。具体的には、液晶表示装置において、バックライト装置と液晶セルとの間にグリッド偏光子を設け、液晶セルに供給することが求められる所定の偏光を透過し、それ以外の光を反射させるよう、液晶表示装置を構成することができる。反射した光が、装置内部の他の部材により偏光状態を変化させ反射させ再びグリッド偏光子に入射するよう装置を構成することにより、バックライト装置の光を効率良く利用することができ、その結果、輝度が高く且つ消費電力が少ない液晶表示装置とすることができる。
【実施例】
【００６６】
以下、実施例に基づき、本発明についてさらに詳細に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【００６７】
下記実施例において、諸物性の測定は下記の通り行なった。
【００６８】
（基材表面粗さＲａ、Ｓｍ）
ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１の規定に従って、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（キーエンス社製、製品名「ＶＫ−９５００」）を用いて測定した。
【００６９】
（干渉縞観察）
得られたグリッド偏光子の、凹凸構造層及び吸光性層を有する表面に、前記グリッド偏光子と透過軸を合わせた偏光板を重ねて、以下の方法で干渉縞を確認した。光を通さない黒布に囲われた部屋の天井に６つの三波長蛍光灯（松下電器産業社製、ナショナルＦＬ２０ＳＳ・ＥＮＷ／１８）を配置し、この蛍光灯より１．５ｍ下の場所で蛍光灯の光を観察者側からフィルム表面に当てて、干渉縞の状態を確認し、以下の基準で評価した。
良：干渉縞見えない。
中：干渉縞がうっすらみえる。
不良：干渉縞が目立つ。
【００７０】
（ヘイズ）
濁度計（日本電色社製、製品名「ＮＤＭ  ２０００」）を用いて測定した。
【００７１】
（偏光透過率、偏光反射率測定）
得られたグリッド偏光子を所定の形状に打ち抜いて、グリッド偏光子の枚葉状の試料を得た。４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの波長に対する試料の偏光透過率および偏光反射率を分光光度計Ｖ−５７０（日本分光製）を用いて測定した。なお、偏光透過率および偏光反射率の測定には直線偏光を使用し、偏光透過率の測定の場合にはグリッド偏光子の透過軸と入射する光の偏光を平行に、また偏光反射率の測定の場合にはグリッド偏光子の透過軸と入射する光の偏光を直交させ、入射角５°における反射率を測定した。
【００７２】
＜実施例１＞
（１−１：エンボスフィルム１の作製）
ノルボルネン系重合体（日本ゼオン社製「ＺＥＯＮＯＲ１４２０」、Ｔｇ１３５℃、屈折率１．５２５）のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて７０℃で２時間乾燥したのち、６５ｍｍφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するＴダイ式フィルム溶融押出し成形機を使用し、溶融樹脂温度２４０℃、Ｔダイの幅５００ｍｍの成形条件で、支持層として、厚さ１００μｍのフィルムを押出成形した。成形機より出てきたフィルムを、１３５℃に加熱した鏡面ロール（金属製、表面に厚さ１００μｍのハードクロムめっきを有する）と、１６０℃に加熱した賦型ロール（セラミック製、表面にサンドブラスト法により作製したＲａ３．９μｍ、Ｓｍ５０μｍの凹凸を有する）を用いて、線圧１００ｋＮ／ｍにて狭圧した。
狭圧後のフィルムをロールスピード１０ｍ／ｍｉｎで巻き取り、凹凸構造(ii)が形成された第１面及び凹凸構造を有しない第２面を有するフィルムを得、これをエンボスフィルム１とした。
エンボスフィルム１の第１面上のランダムな凹凸構造(ii)のＲａは１．４μｍ、Ｓｍは５０μｍであった。エンボスフィルム１のヘイズは７．０％であった。
【００７３】
（１−２：グリッド偏光子１の作製及び評価）
８ｍｍ×８ｍｍ×６０ｍｍのＳＵＳ製シャンクにろう付けされた寸法０．２ｍｍ×１ｍｍ×１ｍｍの直方体単結晶ダイヤモンドの０．２ｍｍ×１ｍｍの面に、集束イオンビーム加工装置ＳＭＩ３０５０（セイコーインスツルメンツ製）を用いてアルゴンイオンビームを用いた集束イオンビーム加工を行い、長さ１ｍｍの辺に平行な幅９０ｎｍ、深さ８０ｎｍの溝を複数彫り込み、ピッチ１８０ｎｍの矩形形状のパターンを有する切削工具を作製した。
【００７４】
直径２００ｍｍで長さ１５０ｍｍの円筒形状ステンレス鋼ＳＵＳ４３０の曲面全面に、厚さ１００μｍのニッケル−リン無電解メッキを施し、次いで、先に作製した矩形形状のパターンを有する切削工具と、精密円筒研削盤Ｓ３０−１（スチューダ製）を用いて、ニッケル−リン無電解メッキ面に、円筒の円周端面と平行な方向に幅９０ｎｍ、高さ８０ｎｍｍ、ピッチ１８０ｎｍの、平行に複数並ぶ畝状の突起を切削加工することにより、転写ロールを得た。
なお、集束イオンビーム加工による切削工具の作製と、ニッケル−リン無電解メッキ面の切削加工は、温度２０．０±０．２℃、振動制御システム（昭和サイエンス製）により０．５Ｈｚ以上の振動の変位が１０μｍ以下に管理された恒温低振動室内で行った。
【００７５】
紫外線硬化樹脂Ｐａｋ０１（東洋合成工業社製：屈折率１．５６）を、コロナ処理を施した上記エンボスフィルム１の第１面上に５μｍの厚みで塗布し、塗膜を設けた。塗膜を設けたエンボスフィルム１を、直径７０ｍｍのゴム製ロールからなるニップロールおよび上記転写ロールを備えた転写装置に、塗膜が転写ロール側となるよう通し、転写ロールのパターンを塗膜に転写した。次いでエンボスフィルム１の第２面側から紫外線を１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射条件で照射して塗膜を硬化させることにより凹凸構造層を形成し、支持層及び凹凸構造層からなる長尺の複層フィルムを得、ロール状に巻き取った。
【００７６】
得られた長尺の複層フィルムを所定のサイズに切り出し、集束イオンビーム加工観察装置ＦＢ−２１００（日立製作所製）のマイクロサンプリング装置を使用してＴＥＭ用観察断面を作製し、透過電子顕微鏡Ｈ−７５００（日立製作所製）にてフィルム断面を観察した結果、凹凸構造層上の凹凸構造(i)のパターンは開口部の幅９０ｎｍ、高さ８０ｎｍ、ピッチ１８０ｎｍの矩形形状であった。
【００７７】
長尺の複層フィルムの凹凸構造(i)を有する面上に、アルゴンガス存在下にて出力４００Ｗの条件でスパッタリングによりＳｉＯ２をフィルムの鉛直方向から成膜した後、ダイナミックレート１５００ｎｍ・ｍ／ｍｉｎ、成膜時真空度５×１０−３Ｐａの条件で真空蒸着によりアルミニウムをフィルムの鉛直方向から成膜し、ロール状に巻き取った。
【００７８】
加熱装置と攪拌装置を備えたエッチング槽に、水酸化ナトリウム０．１ｗｔ％及び界面活性剤（サーフィノール４６５：エアープロダクツ社製）０．５ｗｔ％を含有する水溶液であるエッチング液を溜め入れ、エッチング液の温度を３３℃に調整し、エッチング浴とした。このエッチング浴に、アルミニウムを成膜した上記複層フィルムを３０秒間浸漬した後、純水で洗い流し、エアーブローをした後に１２０℃、５分間乾燥し、ロール状に巻き取ることにより、長尺のグリッド偏光子１を作製した。
【００７９】
作製した長尺状のグリッド偏光子１を所定のサイズに切り出し、干渉縞観察、ならびに偏光透過率及び偏光反射率の測定を行なって評価した。結果を表１に示す。
【００８０】
＜実施例２＞
（２−１：エンボスフィルム２の作製）
ポリカーボネート樹脂（帝人化学（株）社製「パンライトＡＤ-5503」屈折率１．５８５）のペレットを、窒素を流通させた熱風乾燥器を用いて１２０℃で５時間乾燥したのち、５０ｍｍφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するＴダイ式フィルム溶融押出し成形機を使用し、溶融樹脂温度２６０℃、Ｔダイの幅６５０ｍｍの成形条件で、厚さ１００μｍのフィルムを押出成形した。成形機から出てきたフィルムを、１４０℃に加熱した鏡面ロール（金属製、表面に厚さ１００μｍのハードクロムめっきを有する）と、１６０℃に加熱した賦型ロール（セラミック製、表面にサンドブラスト法により作製したＲａ２．２μｍ、Ｓｍ３０μｍの凹凸を有する）を用いて、線圧２００ｋＮ／ｍにて狭圧した。
狭圧後のフィルムをロールスピード２０ｍ／ｍｉｎで巻き取り、凹凸構造(ii)が形成された第１面及び凹凸構造を有しない第２面を有するフィルムを得、これをエンボスフィルム２とした。
エンボスフィルム２の第１面上の凹凸構造(ii)のＲａは０．９μｍ、Ｓｍは３０μｍであった。エンボスフィルム２のヘイズは４．２％であった。
【００８１】
（グリッド偏光子２の作製）
エンボスフィルム１に代えて（２−１）で得られたエンボスフィルム２を用いたこと以外は実施例１の（１−２）と同様にして、グリッド偏光子２を作製して評価した。結果を表１に示す。
【００８２】
＜実施例３＞
（３−１：エンボスフィルム３の作製）
表面にＲａ２．２μｍ、Ｓｍ３０μｍの凹凸を有するセラミック製の賦形ロールに代えて、表面にＲａ１．３μｍ、Ｓｍ７．０μｍの凹凸を有するセラミック製の賦形ロールを用いた点、狭圧の線圧を４００ｋＮ／ｍとした点、及び狭圧後の巻き取りのロールスピードを３０ｍ／ｍｉｎとした点以外は、実施例２の（２−１）と同様にして、エンボスフィルム３を得た。
エンボスフィルム３の第１面上の凹凸構造(ii)のＲａは０．５０μｍ、Ｓｍは７．０μｍであった。エンボスフィルム３のヘイズは２．５％であった。
【００８３】
（グリッド偏光子３の作製）
エンボスフィルム１に代えて（３−１）で得られたエンボスフィルム３を用いたこと以外は実施例１の（１−２）と同様にして、グリッド偏光子３を作製して評価した。結果を表１に示す。
【００８４】
＜比較例１＞
（Ｃ１−１：エンボスフィルム４の作製）
表面にＲａ２．２μｍ、Ｓｍ３０μｍの凹凸を有するセラミック製の賦形ロールに代えて、表面にＲａ０．８μｍ、Ｓｍ３．５μｍの凹凸を有するセラミック製の賦形ロールを用いた点以外は、実施例１の（１−１）と同様にして、エンボスフィルム４を得た。
エンボスフィルム４の第１面上の凹凸構造(ii)のＲａは０．２μｍ、Ｓｍは３．５μｍであった。エンボスフィルム４のヘイズは２．０％であった。
【００８５】
（Ｃ１−２：グリッド偏光子４の作製）
エンボスフィルム１に代えて（Ｃ１−１）で得られたエンボスフィルム４を用いたこと以外は実施例１の（１−２）と同様にして、グリッド偏光子４を作製して評価した。結果を表１に示す。
【００８６】
＜比較例２＞
（Ｃ２−１：エンボスフィルム５の作製）
表面にＲａ３．９μｍ、Ｓｍ５０μｍの凹凸を有するセラミック製の賦形ロールに代えて、表面にＲａ０．９μｍ、Ｓｍ１１０μｍの凹凸を有するセラミック製の賦形ロールを用いた点以外は、実施例２の（２−１）と同様にして、エンボスフィルム５を得た。
エンボスフィルム５の第１面上の凹凸構造(ii)のＲａは０．２μｍ、Ｓｍは１１０μｍであった。エンボスフィルム５のヘイズは１０．１％であった。
【００８７】
（Ｃ２−２：グリッド偏光子５の作製）
エンボスフィルム１に代えて（Ｃ２−１）で得られたエンボスフィルム５を用いたこと以外は実施例１の（１−２）と同様にして、グリッド偏光子５を作製して評価した。結果を表１に示す。
【００８８】
＜比較例３＞
（Ｃ３−１：エンボスフィルム６の作製）
表面にＲａ２．２μｍ、Ｓｍ３０μｍの凹凸を有するセラミック製の賦形ロールに代えて、表面にＲａ４．３μｍ、Ｓｍ１１０μｍの凹凸を有するセラミック製の賦形ロールを用いた点以外は、実施例２の（２−１）と同様にして、エンボスフィルム６を得た。
エンボスフィルム６の第１面上の凹凸構造(ii)のＲａは１．３μｍ、Ｓｍは１１０μｍであった。エンボスフィルム６のヘイズは８．０％であった。
【００８９】
（Ｃ３−２：グリッド偏光子６の作製）
エンボスフィルム１に代えて（Ｃ３−１）で得られたエンボスフィルム６を用いたこと以外は実施例１の（１−２）と同様にして、グリッド偏光子６を作製して評価した。結果を表１に示す。
【００９０】
【表１】
2010181831.tif 000003
【００９１】
表１に示す結果から明らかな通り、本発明にかかる実施例１〜３のグリッド偏光子は、支持層の形状が本発明の規定の範囲外である比較例１〜３に比べて、偏光透過率及び偏光反射率は同等である一方、干渉縞評価においては非常に良好であった。
【符号の説明】
【００９２】
１０  グリッド偏光子
１  支持層
１Ｕ  支持層第１面
１Ｌ  支持層第２面
５  凹凸構造層
７  畝状凸部
７Ｔ  凸部の頂部
７Ｂ  凸部の間の谷部
８、９  吸光性層
Ｔ１  支持層厚さ
Ｔ５  凹凸構造層厚さ
Ｐ７  凹凸構造ピッチ
Ｗ７  凸部の幅
Ｈ７  凸部高さ
【図１】
2010181831.tif 000004
【図２】
2010181831.tif 000005