(57)【要約】【課題】噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積を抑制する。【解決手段】真空処理装置は、蒸着源と、移動機構とを具備する。上記蒸着源は、噴出ノズルを有し、上記噴出ノズルから蒸着材料を噴出することができる。上記移動機構は、上記噴出ノズルよりも高さが低く構成され上記噴出ノズルに並ぶ防着板を有し、上記蒸着材料の蒸着処理によって上記防着板に付着した上記蒸着材料を移動させることができる。このような真空処理装置であれば、噴出ノズルに並ぶ防着板に付着した蒸着材料が移動するので、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
噴出ノズルを有し、前記噴出ノズルから蒸着材料を噴出することが可能な蒸着源と、
前記噴出ノズルよりも高さが低く構成され前記噴出ノズルに並ぶ防着板を有し、前記蒸着材料の蒸着処理によって前記防着板に付着した前記蒸着材料を移動させることが可能な移動機構と
を具備する真空処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載された真空処置装置であって、
前記移動機構において、前記防着板は、前記蒸着材料が優先的に堆積する部分を有し、前記部分が前記噴出ノズルから遠ざけられる
真空処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載された真空処置装置であって、
前記防着板下に前記防着板を支持する支持台をさらに具備し、
前記支持台は、第１領域と、前記第１領域の温度よりも低い温度に維持された第２領域とを有し、
前記第２領域上の前記防着板に、前記蒸着材料が優先的に堆積する
真空処理装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載された真空処置装置であって、
前記噴出ノズルの中心軸は、前記防着板の法線と交差している
真空処理装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載された真空処置装置であって、
前記噴出ノズルは、複数の噴出ノズルにより構成され、
前記防着板は、前記複数の噴出ノズルが並設された方向または前記方向と交差する方向に移動する
真空処理装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載された真空処置装置であって、
前記防着板は、積層された複数の防着板からなり、
前記複数の防着板における最上層の防着板が移動する
真空処理装置。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載された真空処置装置であって、
前記防着板は、積層された複数の防着板からなり、
前記複数の防着板における最上層の防着板と、前記最上層の防着板の下の防着板とが移動し、
前記最上層の防着板と、前記最上層の防着板の下の前記防着板との移動方向が交差する
真空処理装置。
【請求項８】
請求項２〜７のいずれかに記載された真空処置装置であって、
前記蒸着材料が優先的に堆積する部分が公転する
真空処理装置。
【請求項９】
噴出ノズルを有し、前記噴出ノズルから蒸着材料を噴出することが可能な蒸着源に前記噴出ノズルよりも高さが低く構成され防着板を並設し、
減圧雰囲気で、前記蒸着材料の第１の蒸着処理で前記防着板に付着した前記蒸着材料を前記第１の蒸着処理後の第２の蒸着処理の前に移動させる
真空処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空処理装置及び真空処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空処理装置の中に、複数の噴出ノズルが所定の間隔で並設した蒸着源を備えるものがある。複数の噴出ノズルからは、蒸着材料が噴出して、蒸着源に対向する基板に蒸着材料が成膜される。また、基板と蒸着源との間にマスク部材を設けることにより、基板には所定のパターンの膜が形成される。
【０００３】
しかし、噴出ノズルから噴出する蒸着材料の指向性は低く、噴出ノズルからは広い角度で蒸着材料が基板に飛散していく。このため、基板と蒸着源との間にマスク部材を配置すると、蒸着材料が飛遊する角度によっては、マスク部材で本来遮蔽されるべき基板の箇所に蒸着材料が付着する場合がある。
【０００４】
このような現象の対応策として、例えば、外側付近に配置された噴出ノズルを基板から背けるように傾ける方策がある（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開２０１８／０２５６３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、噴出ノズルを基板から背けるように傾けて配置した場合、噴出ノズルから噴出する蒸着材料の指向性の低さから、噴出ノズルの噴出口近傍に位置する部材、例えば、噴出ノズル近傍に配置された防着板に蒸着材料が付着しやすくなる。このような噴出ノズル近傍に蒸着材料が堆積し続けると、噴出ノズルの先端口に固化した蒸着材料が接近して、噴出ノズルから噴出する蒸着材料の指向性に影響を与えたり、蒸着材料によって噴出ノズルが遮蔽されたりする可能性がある。
【０００７】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積を抑制することができる真空処理装置及び真空処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る真空処理装置は、蒸着源と、移動機構とを具備する。
上記蒸着源は、噴出ノズルを有し、上記噴出ノズルから蒸着材料を噴出することができる。
上記移動機構は、上記噴出ノズルよりも高さが低く構成され上記噴出ノズルに並ぶ防着板を有し、上記蒸着材料の蒸着処理によって上記防着板に付着した上記蒸着材料を移動させることができる。
このような真空処理装置であれば、噴出ノズルに並ぶ防着板に付着した蒸着材料が移動するので、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
【０００９】
真空処置装置においては、上記移動機構において、上記防着板は、上記蒸着材料が優先的に堆積する部分を有し、上記部分が上記噴出ノズルから遠ざけられてもよい。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
【００１０】
真空処置装置においては、上記防着板下に上記防着板を支持する支持台をさらに具備し、上記支持台は、第１領域と、上記第１領域の温度よりも低い温度に維持された第２領域とを有し、上記第２領域上の上記防着板に、上記蒸着材料が優先的に堆積してもよい。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
【００１１】
真空処置装置においては、上記噴出ノズルの中心軸は、上記防着板の法線と交差してもよい。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
【００１２】
真空処置装置においては、上記噴出ノズルは、複数の噴出ノズルにより構成され、上記防着板は、上記複数の噴出ノズルが並設された方向または上記方向と交差する方向に移動してもよい。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
【００１３】
真空処置装置においては、上記防着板は、積層された複数の防着板からなり、上記複数の防着板における最上層の防着板が移動してもよい。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
【００１４】
真空処置装置においては、上記防着板は、積層された複数の防着板からなり、上記複数の防着板における最上層の防着板と、上記最上層の防着板の下の防着板とが移動し、上記最上層の防着板と、上記最上層の防着板の下の上記防着板との移動方向が交差してもよい。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
【００１５】
真空処置装置においては、上記蒸着材料が優先的に堆積する部分が公転してもよい。
このような真空処理装置であっても、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
【００１６】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る真空処理方法では、噴出ノズルを有し、上記噴出ノズルから蒸着材料を噴出することが可能な蒸着源に上記噴出ノズルよりも高さが低く構成され防着板が並設される。
減圧雰囲気で、上記蒸着材料の第１の蒸着処理で上記防着板に付着した上記蒸着材料を上記第１の蒸着処理後の第２の蒸着処理の前に移動させる。
このような真空処理方法であれば、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積が抑制される。
【発明の効果】
【００１７】
以上述べたように、本発明によれば、噴出ノズル近傍における蒸着材料の堆積を抑制することができる真空処理装置及び真空処理方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本実施形態に係る真空処理装置の模式的断面図である。
【図２】両側の一方の側に配置された噴出ノズル及び該噴出ノズル付近に設けられた部材の模式的断面図である。
【図３】本実施形態に係る真空処理装置の変形例１の模式的上面図である。
【図４】本実施形態に係る真空処理装置の変形例２の模式的断面図である。
【図５】本実施形態に係る真空処理装置の変形例３の模式的上面図である。
【図６】本実施形態に係る真空処理装置の変形例４の模式的上面図である。
【図７】本実施形態に係る真空処理装置の変形例５の模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。各図面には、ＸＹＺ軸座標が導入される場合がある。また、同一の部材または同一の機能を有する部材には同一の符号を付す場合があり、その部材を説明した後には適宜説明を省略する場合がある。実施形態は、一例であり、以下の例に限らない。
【００２０】
図１は、本実施形態に係る真空処理装置の模式的断面図である。
【００２１】
真空処理装置１は、真空容器１０と、基板搬送機構２０と、蒸着源３０と、防着板移動機構４０Ａ（以下、移動機構４０Ａ）と、支持台５０とを具備する。真空処理装置１は、蒸着材料３０ｍを基板９０に蒸着する蒸着装置である。
【００２２】
真空容器１０は、減圧状態を維持できる容器である。真空容器１０は、排気機構７０によって、その内部の気体が排気される。真空容器１０を基板搬送機構２０から蒸着源３０に向かう方向（以下、Ｚ軸方向）に上面視したときの平面形状は、例えば、矩形状である。
【００２３】
真空容器１０は、基板搬送機構２０、蒸着源３０、移動機構４０Ａ等を収容する。真空容器１０には、ガスを供給することが可能なガス供給機構が取り付けられてもよい。また、真空容器１０には、その内部の圧力を計測する圧力計が取り付けられてもよい。また、真空容器１０には、基板９０に形成された膜の蒸着速度等を間接的に計測する膜厚計が設けられてもよい。
【００２４】
基板搬送機構２０は、真空容器１０の上部に位置する。基板搬送機構２０は、Ｚ軸方向において蒸着源３０に対向する。基板搬送機構２０は、基板９０を保持する基板ホルダ９１を支持しつつ、基板９０及び基板ホルダ９１をＹ軸方向に搬送する。すなわち、基板９０は、搬送されながら、基板９０に蒸着材料３０ｍが蒸着される。蒸着源３０と基板９０との相対距離を変える搬送機構は、蒸発源３０側に設けられてもよい。例えば、固定された基板９０に対して蒸着源３０及び蒸発源３０を搬送する搬送機構が移動することにより、蒸着源３０と基板９０との相対距離を変えることができる。基板９０は、例えば、矩形状の大型ガラス基板である。また、基板９０と蒸着源３０との間には、マスク部材９２が設けられてもよい。例えば、図１の例では、基板９０の蒸着源３０と対向する面（蒸着面）にマスク部材９２が設けられる。
【００２５】
蒸着源３０は、真空容器１０の下部に位置する。蒸着源３０は、蒸発容器３１（坩堝）と、噴出ノズル３２と、加熱機構３３とを有する。蒸着源３０は、Ｚ軸方向において基板９０に対向する。蒸着源３０は、例えば、図示しない支持台に固定されている。
【００２６】
蒸発容器３１は、基板９０が搬送される方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に延在する。蒸発容器３１をＺ軸方向から上面視した場合、その外形は、例えば、長方形である。蒸発容器３１は、１つに限らず、例えば、Ｙ軸方向に複数並設されてもよい。この場合、複数の蒸発容器３１のそれぞれは、互いに平行になってＹ軸方向に並ぶことになる。
【００２７】
複数の蒸発容器３１のそれぞれには、種類が異なる蒸着材料３０ｍを充填することができる。これにより、基板９０に、層に応じて材料が異なる積層膜、各層において異種の材料が混合した混合膜等を形成することができる。なお、蒸着材料３０ｍは、例えば、有機物、金属等である。
【００２８】
また、蒸発容器３１の上面部には、複数の噴出ノズル３２が設けられている。複数の噴出ノズル３２のそれぞれは、所定の間隔を隔てて、Ｘ軸方向に並設されている。複数の噴出ノズル３２は、基板９０に対向する。複数の噴出ノズル３２からは、蒸発容器３１に充填された蒸着材料３０ｍが噴出する。複数の噴出ノズル３２は、例えば、Ｘ軸方向における基板９０の幅よりも狭い領域に配置されている。
【００２９】
また、Ｘ軸方向に列状に並ぶ複数の噴出ノズル３２では、両側及び両側近傍に配置された噴出ノズル３２は、基板９０に背くように傾斜している。図１の例では、両側に配置された噴出ノズルを噴出ノズル３２１と表記している。例えば、噴出ノズル３２１の中心軸３２ｃは、防着板４０１の法線４０１ｎと交差している。なお、本実施形態では、複数の噴出ノズルのそれぞれを総括的に"噴出ノズル３２"と呼称する。
【００３０】
加熱機構３３は、蒸発容器３１の外側に配置されている。加熱機構３３は、蒸発容器３１の底部及び側部を囲む。加熱機構３３は、誘導加熱方式または抵抗加熱方式の加熱機構である。蒸発容器３１に収容された蒸着材料３０ｍが加熱機構３３によって加熱されると、蒸着材料３０ｍが複数の噴出ノズル３２から基板９０に向けて蒸発する。
【００３１】
移動機構４０Ａは、防着板４０１と、防着板４１と、本体部４２と、金属線４３とを有する。防着板４０１、４１の材料は、例えば、ステンレス鋼、銅、アルミニウム等の金属である。
【００３２】
防着板４０１は、噴出ノズル３２１よりも高さが低く構成されている。防着板４０１は、噴出ノズル３２１の横に設けられる。防着板４０１の下には、別の防着板４１が配置され、例えば、防着板４０１は、防着板４１の上をスライド移動する。なお、蒸発容器３１の直上には、基板９０に向かって飛遊する蒸着材料３０ｍを遮断するシャッタが設けられてもよい。
【００３３】
図２（ａ）、（ｂ）は、両側の一方の側に配置された噴出ノズル及び該噴出ノズル付近に設けられた部材の模式的断面図である。ここで、図２（ｂ）には、図２（ａ）よりも蒸着処理が後の状態が示されている。
【００３４】
噴出ノズル３２から噴出する蒸着材料３０ｍは、余弦則に則り、所定の放射角で噴出ノズル３２から噴出する。このため、斜めに傾いた噴出ノズル３２１においては、垂直に設けられた噴出ノズル３２に比べて、その横に配置された防着板４０１に蒸着材料３０ｍが付着しやすくなる。これは、噴出ノズル３２１が傾いたことにより、噴出ノズル３２１の先端口付近に防着板４０１が位置するからである。
【００３５】
例えば、図２（ａ）には、蒸着を開始して所定の時間が経過した後の様子が示されている。加熱機構３３によって加熱された蒸着材料３０ｍは、蒸気となって噴出ノズル３２１から噴出し、基板９０に向かって飛遊する。この際、噴出ノズル３２１から噴出した蒸着材料３０ｍの一部は、噴出ノズル３２１の先端口近傍の防着板４０１に付着する。図２（ａ）では、防着板４０１に付着して固化した蒸着材料の塊りを蒸着材料３０ｍ１としている。
【００３６】
ここで、防着板４０１が支持台５０上で固定された構成を想定してみる。
【００３７】
この場合には、蒸着材料３０ｍ１が防着板４０１上で堆積し続ける。従って、このまま蒸着処理を続けると、同じ場所で蒸着材料３０ｍ１の堆積が続き、ついには、蒸着材料３０ｍ１の先端部が噴出ノズル３２１を遮蔽したり、または、噴出ノズル３２１を閉塞したりする可能性がある。
【００３８】
これに対し、真空処理装置１では、移動機構４０Ａが蒸着処理によって防着板４０１に付着した蒸着材料３０ｍ１を支持台５０上で移動することができる。
【００３９】
例えば、図２（ｂ）に示すように、本体部４２が金属線４３を巻き込むことによって防着板４０１が本体部４２に向かって牽引され、防着板４０１が複数の噴出ノズル３２が並設された方向（Ｘ軸方向）に移動する。これにより、蒸着材料３０ｍ１は、噴出ノズル３２１から遠ざかることになる。
【００４０】
続いて、蒸着処理を継続すると、蒸着材料３０ｍ１が堆積した位置とは異なる位置に、新たな蒸着材料３０ｍ２が堆積する。つまり、蒸着材料３０ｍ２は、蒸着材料３０ｍ１と噴出ノズル３２１との間に堆積することになる。さらに、この後、防着板４０１を移動し、防着板４０１から防着板４１を露出させ、防着板４１上に蒸着材料３０ｍを堆積してもよい。
【００４１】
ここで、防着板４０１を移動する手段としては、一例として、回転機構を有する本体部４２、金属線４３等を利用した牽引手段があげられる。移動機構４０Ａには、牽引手段に限られず、例えば、エアコンプレッサによるエア駆動、歯車、アーム等を利用した搬送手段、回転ローラ、ベルト等を利用した移送手段等が適用されてもよい。
【００４２】
このように、防着板４０１においては、蒸着材料３０ｍが優先的に堆積する部分が設けられ、この部分が噴出ノズル３２１から遠ざけられる。そして、この部分以外の部分に優先的に蒸着材料３０ｍが堆積する。
【００４３】
ここで、移動機構４０Ａは、真空容器１０内に配置されているため、第１の蒸着処理で防着板４０１に付着した蒸着材料３０ｍを第１の蒸着処理後の第２の蒸着処理の前に減圧雰囲気で移動させることができる。
【００４４】
これにより、真空処理装置１では、蒸着材料３０ｍによる噴出ノズル３２１の遮蔽、または、閉塞を遅延させることでき、長時間にわたり蒸着処理を行うことができる。また、蒸着材料３０ｍによる噴出ノズル３２１の遮蔽、閉塞が遅延することから、大気解放して行うメンテナンス作業の頻度を減少させることができ、蒸着処理の生産性が大きく向上する。換言すれば、蒸着工程におけるダウンタイムが減少することにより、蒸着材料３０ｍの使用効率が大きく向上する。
【００４５】
また、真空処置装置１は、防着板４０１下において防着板４０１を支持する支持台５０を具備している。
【００４６】
ここで、支持台５０は、第１領域５０１と、第１領域５０１の温度よりも低い温度に維持された第２領域５０２とを有する。Ｚ軸方向から防着板４０１を上面視した場合、防着板４０１と第２領域５０２とは重なる。
【００４７】
例えば、支持台５０の内部には、冷媒体が流通する流路５１と、流路５２とが設けられている。ここで、第１領域５０１においては、流路５１が疎に配置され、第２領域５０２においては、流路５２が密に配置されている。また、流路５２は、防着板４０１側に近接して設けられている。例えば、流路５２と支持台５０の上面との間の距離は、流路５２と支持台５０の下面との間の距離よりも短く構成されている。
【００４８】
なお、防着板４０１と支持台５０との間には、蒸着源３０から基板９０への直接的な熱輻射を抑制したり、蒸着材料３０ｍの支持台５０への直接的な付着を防止したりするための防着板４１が配置される。支持台５０の材料は、例えば、銅、アルミニウム、ステンレス鋼等の金属である。
【００４９】
このような構成であれば、冷媒体による第１領域５０１の冷却効果と、冷媒体による第２領域５０２の冷却効果とに差異が生じて、第２領域５０２の温度は、第１領域５０１の温度よりも低い温度に維持される。
【００５０】
これにより、第２領域５０２上に位置する防着板４０１には、蒸着材料３０ｍの捕捉効果によって蒸着材料３０ｍが優先的に堆積する。すなわち、蒸着材料３０ｍは、真空容器１０の内壁に比べて第２領域５０２上の防着板４０１に蒸着材料３０ｍが優先的（局所的）に付着し、第２領域５０２上の防着板４０１に厚い蒸着材料３０ｍが形成する。
【００５１】
また、第２領域５０２上に位置する防着板４０１は、低温に保たれているため、防着板４０１に付着する蒸着材料３０ｍの密度が高くなる。これにより、防着板４０１に付着する蒸着材料３０ｍの堆積速度が益々遅れることになり、蒸着材料３０ｍによる噴出ノズル３２１の遮蔽、閉塞を確実に遅延させることできる。
【００５２】
また、密度の高い蒸着材料３０ｍが防着板４０１に局所的に捕捉されることで、真空容器１０内では、蒸着材料３０ｍを起因とするパーティクルが発生しにくくなり、基板９０に形成される蒸着膜に該パーティクルが混在しにくくなる。
【００５３】
なお、第１領域５０１と第２領域５０２とに温度差を設ける構成は、上記構成に限らず、例えば、第１領域５０１に流路５１を設けない構成も本実施形態に含まれる。また、流路５２に流す冷媒体の温度は、流路５１に流す冷媒体の温度よりも低く設定されてもよい。また、第２領域５０２を熱伝導率が高く冷却効果に優れた金属で構成し、第１領域５０１を第２領域５０２よりも熱伝導率が低い材料で構成してもよい。
【００５４】
（変形例１）
【００５５】
図３（ａ）、（ｂ）は、本実施形態に係る真空処理装置の変形例１の模式的上面図である。
【００５６】
例えば、移動機構４０Ｂでは、防着板４１の上に、防着板４０５を配置して（図３（ａ））、防着板４０５を複数の噴出ノズル３２が並設された方向と交差する方向（Ｙ軸方向）に移動させる（図３（ｂ））。この場合、防着板４０５上では、Ｙ軸方向において、蒸着材料３０ｍ１の横に蒸着材料３０ｍ２が堆積する。
【００５７】
このような構成であれば、上記効果に加え、防着板４０５がＹ軸方向に移動することから、Ｘ軸方向における真空容器１０の幅を狭くすることができる。これにより、真空処理装置１の小型化が図れる。
【００５８】
さらに、防着板４０５は、複数の噴出ノズル３２の間に延出されてもよい。例えば、防着板４０５を噴出ノズル３２１と、噴出ノズル３２１に隣接する噴出ノズル３２２との間に延出することにより、噴出ノズル３２２付近の防着板４０５に付着した蒸着材料３０ｍ１'も移動させることができる。この場合には、蒸着材料３０ｍ１'の横に蒸着材料３０ｍ２'が堆積することになる。
【００５９】
このように、変形例１によれば、噴出ノズル３２１のほか、蒸着材料３０ｍ１'による噴出ノズル３２２の遮蔽、閉塞を遅延させることできる。
【００６０】
（変形例２）
【００６１】
図４（ａ）、（ｂ）は、本実施形態に係る真空処理装置の変形例２の模式的断面図である。
【００６２】
例えば、防着板４１上に配置された防着板は、積層された複数の防着板からなり、この複数の防着板においては、最上層の防着板を移動させてもよい。
【００６３】
例えば、図４（ａ）に示すように、移動機構４０Ｃは、さらに防着板４０２を有する。防着板４０２は、防着板４１と、防着板４０１との間に設けられる。なお、防着板４１上の防着板は、２枚に限らず、３枚以上であってもよい。
【００６４】
このような構成であれば、図４（ｂ）に示すように、蒸着材料３０ｍ１、３０ｍ２が堆積した防着板４０１を噴出ノズル３２１から遠ざけた後に、防着板４０２を露出させ、防着板４０１下で露出した防着板４０２に蒸着材料３０ｍ３が堆積する。さらに、この後、防着板４０１と防着板４０２との相対位置を保ったまま、防着板４０１、４０２を一緒に移動させてもよい。これにより、防着板４１が防着板４０２から露出し、防着板４１上に蒸着材料３０ｍを堆積することができる。
【００６５】
これにより、蒸着材料３０ｍによる噴出ノズル３２１の遮蔽、閉塞をさらに遅延させることでき、より長時間にわたり蒸着処理を行うことができる。
【００６６】
（変形例３）
【００６７】
図５（ａ）、（ｂ）は、本実施形態に係る真空処理装置の変形例３の模式的上面図である。
【００６８】
例えば、移動機構４０Ｄでは、複数の防着板における最上層の防着板と、最上層の防着板の下の防着板との移動方向が交差してもよい。
【００６９】
例えば、図５（ａ）に示すように、防着板４１と、防着板４０１との間に防着板４０５が配置される。すなわち、防着板４０５は、防着板４０１下に配置される。ここで、防着板４０５は、防着板４０１とは独立して、金属線４３を介して本体部４２によって噴出ノズル３２１から遠ざかる方向に移動する。また、防着板４０１が移動する方向と、防着板４０５が移動する方向とは、交差する。例えば、防着板４０１は、Ｘ軸方向に移動し、防着板４０５は、Ｙ軸方向に移動する。
【００７０】
このような構成であれば、蒸着材料３０ｍ１、３０ｍ２が堆積した防着板４０１をＸ軸方向において噴出ノズル３２１から遠ざけることで防着板４０５が露出する。そして、防着板４０１下で露出した防着板４０５に蒸着材料３０ｍ３が堆積する（図５（ａ））。
【００７１】
さらに、蒸着材料３０ｍ３が堆積した防着板４０５をＹ軸方向において移動させることにより、蒸着材料３０ｍ３の横の防着板４０５上に蒸着材料３０ｍ４が析出することになる（図５（ｂ））。
【００７２】
これにより、蒸着材料３０ｍによる噴出ノズル３２１の遮蔽、閉塞をさらに遅延させることでき、より長時間にわたり蒸着処理を行うことができる。
【００７３】
（変形例４）
【００７４】
図６（ａ）、（ｂ）は、本実施形態に係る真空処理装置の変形例４の模式的上面図である。
【００７５】
図６（ａ）、（ｂ）に示す移動機構４０Ｅは、防着板４０６に優先的に蒸着材料３０ｍが堆積した部分が公転する機構を有する。
【００７６】
例えば、図６（ａ）に示すように、防着板４１上には、平面形状が円形の防着板４０６が設けられる。防着板４０６は、本体部４５によってＸ−Ｙ軸平面で中心軸４０６ｃを中心に回転することができる。
【００７７】
このような構成であれば、蒸着材料３０ｍ１が堆積した防着板４０６を中心軸４０６ｃを中心に回転することにより、蒸着材料３０ｍ１を噴出ノズル３２１から遠ざけることができる。続いて、蒸着処理を行うことにより蒸着材料３０ｍ１が堆積していない防着板４０６に蒸着材料３０ｍ２が堆積する（図６（ｂ））。
【００７８】
これにより、蒸着材料３０ｍによる噴出ノズル３２１の遮蔽、閉塞をさらに遅延させることでき、より長時間にわたり蒸着処理を行うことができる。
【００７９】
（変形例５）
【００８０】
図７（ａ）、（ｂ）は、本実施形態に係る真空処理装置の変形例５の模式的断面図である。
【００８１】
図７（ａ）、（ｂ）に示す移動機構４０Ｆは、防着板４０１が本体部４６を基準に回動する機構を有する。
【００８２】
例えば、図７（ａ）に示すように、防着板４０１と本体部４６との間にはアーム４７が連結され、防着板４０１は、本体部４６を基準に回動することができる。防着板４０１と防着板４１との間には、防着板４０２が配置されている。
【００８３】
このような構成であれば、蒸着材料３０ｍ１が堆積した防着板４０１をアーム４７を介して垂直に立てることにより、蒸着材料３０ｍ１を噴出ノズル３２１から遠ざけることができる。続いて、蒸着処理を行えば、防着板４０１から露出した防着板４０２に蒸着材料３０ｍ２が堆積する（図７（ｂ））。
【００８４】
これにより、蒸着材料３０ｍによる噴出ノズル３２１の遮蔽、閉塞をさらに遅延させることでき、より長時間にわたり蒸着処理を行うことができる。
【００８５】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく種々変更を加え得ることは勿論である。各実施形態は、独立の形態とは限らず、技術的に可能な限り複合することができる。
【符号の説明】
【００８６】
１…真空処置装置
１０…真空容器
２０…基板搬送機構
３０…蒸着源
３０ｍ、３０ｍ１、３０ｍ２、３０ｍ１'、３０ｍ２'…蒸着材料
３１…蒸発容器
３２、３２１、３２２…噴出ノズル
３２ｃ…中心軸
３３…加熱機構
４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄ、４０Ｆ…移動機構
４１、４０１、４０２、４０５、４０６…防着板
４２、４５、４６…本体部
４３…金属線
４７…アーム
５０…支持台
５１、５２…流路
７０…排気機構
９０…基板
９１…基板ホルダ
９２…マスク部材
４０１ｎ…法線
５０１…第１領域
５０２…第２領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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