(57)【要約】【課題】優れた耐擦傷性及び硬度を有するハードコートフィルムを提供する。【解決手段】光透過性基材フィルムの一面側に順に第一のハードコート層、及び第二のハードコート層を設けたハードコートフィルムであって、前記第一層は、平均１次粒径１０〜１００ｎｍの反応性シリカ微粒子及び第一のバインダーを含む第一の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、第二層は、第二のバインダーを含む第二の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、第一及び第二層はそれぞれ膜厚１〜２０μｍ、２層の膜厚の合計が２５μｍ以下であり、第一層が第二層よりもマルテンス硬度が大きく、層法線方向の荷重を解消したときの回復率は、第二層が第一のハードコート層よりも大きく、且つ第一及び第二層にそれぞれ法線方向の荷重をかけながら、水平に一定速度で切削したときの水平力は、第二層が第一層よりも大きいことを特徴とする、ハードコートフィルム。【選択図】図２
2010131771.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材フィルムの一面側に当該光透過性基材フィルム側から順に第一のハードコート層、及び第二のハードコート層を設けたハードコートフィルムであって、
前記第一のハードコート層は、粒子表面に反応性官能基ａを有する平均１次粒径１０〜１００ｎｍの反応性シリカ微粒子及び反応性官能基ｂを有する第一のバインダー成分を含む第一の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、
前記第二のハードコート層は、反応性官能基ｃを有する第二のバインダー成分を含む第二の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、
前記反応性官能基ａ、ｂ、並びにｃは、それぞれ、同種及び異種の反応性官能基間での架橋反応性を有し、
前記第一及び第二のハードコート層は、それぞれ、膜厚１〜２０μｍであり、且つ第一及び第二のハードコート層の膜厚の合計が２５μｍ以下であり、
前記第一及び第二のハードコート層にそれぞれ、当該層に対する法線方向の荷重をかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度は、前記第一のハードコート層が第二のハードコート層よりも大きく、
前記法線方向の荷重を解消したときの押込深さの回復率は、前記第二のハードコート層が前記第一のハードコート層よりも大きく、且つ、
前記第一及び第二のハードコート層にそれぞれ、法線方向の荷重をかけながら、水平方向に一定速度で当該層を切削したときの水平力は、前記第二のハードコート層が前記第一のハードコート層よりも大きいことを特徴とする、ハードコートフィルム。
【請求項２】
前記第一のハードコート層において、当該第一のハードコート層に対する法線方向の荷重１００〜５００ｍＮをかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度は、２９０〜４２５Ｎ／ｍｍ２であり、
前記第二のハードコート層に対する法線方向の荷重１００〜５００ｍＮをかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度は、２１５〜２８０Ｎ／ｍｍ２であり、
前記法線方向の荷重５００ｍＮを解消したときの前記押込深さの回復率が、前記第一のハードコート層では８８％以上９４％未満であり、前記第二のハードコート層では９５％以上であり、
前記第一のハードコート層において、法線方向に荷重１００ｍＮをかけながら、水平方向に速度２０ｎｍ／ｓｅｃで当該層を切削したときの水平力が０．０３Ｎ以上０．０８Ｎ未満であり、且つ、
前記第二のハードコート層において、法線方向に荷重１００ｍＮをかけながら、水平方向に速度２０ｎｍ／ｓｅｃで当該層を切削したときの水平力が０．０８Ｎ以上であることを特徴とする、請求項１に記載のハードコートフィルム。
【請求項３】
前記第二のバインダー成分が、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートよりなる群から選ばれる１種以上であることを特徴とする、請求項１又は２に記載のハードコートフィルム。
【請求項４】
前記光透過性基材フィルムと前記第一のハードコート層の間に、帯電防止層、中屈折率層、高屈折率層、防眩層、並びに前記第一及び第二のハードコート層と同じか又は異なる第三のハードコート層よりなる群から選ばれる１種以上の層が設けられていることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のハードコートフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ等の表面を保護する目的等で使用される、光透過性基材フィルム上にハードコート層を設けたハードコートフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の画像表示装置における画像表示面は、取り扱い時に傷がつかないように、耐擦傷性を付与することが要求される。これに対して、基材フィルムにハードコート（ＨＣ）層を設けたハードコートフィルムや、更に反射防止性や防眩性等光学機能を付与したハードコートフィルム（光学積層体）を利用することにより、画像表示装置の画像表示面の耐擦傷性を向上させることが一般になされている。
【０００３】
ハードコート層の硬度を向上させる方法として、無機微粒子を添加する方法があり、一般に、基材フィルム上に無機微粒子を添加したハードコート層を設けたハードコートフィルムが製造されている。
【０００４】
特許文献１では、透明基材上に、光硬化性樹脂と熱硬化性樹脂を含む組成物を硬化させた中間層を設け、当該中間層上に更にハードコート層を設け、硬度の向上を図っている。
【０００５】
しかし、近年、さらに耐擦傷性や硬度に優れたハードコートフィルムが要求されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−１０７７６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、優れた耐擦傷性及び硬度を有するハードコートフィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係るハードコートフィルムは、光透過性基材フィルムの一面側に当該光透過性基材フィルム側から順に第一のハードコート層、及び第二のハードコート層を設けたハードコートフィルムであって、
前記第一のハードコート層は、粒子表面に反応性官能基ａを有する平均１次粒径１０〜１００ｎｍの反応性シリカ微粒子及び反応性官能基ｂを有する第一のバインダー成分を含む第一の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、
前記第二のハードコート層は、反応性官能基ｃを有する第二のバインダー成分を含む第二の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、
前記反応性官能基ａ、ｂ、並びにｃは、それぞれ、同種及び異種の反応性官能基間での架橋反応性を有し、
前記第一及び第二のハードコート層は、それぞれ、膜厚１〜２０μｍであり、且つ第一及び第二のハードコート層の膜厚の合計が２５μｍ以下であり、
前記第一及び第二のハードコート層にそれぞれ、当該層に対する法線方向の荷重をかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度は、前記第一のハードコート層が第二のハードコート層よりも大きく、
前記法線方向の荷重を解消したときの押込深さの回復率は、前記第二のハードコート層が前記第一のハードコート層よりも大きく、且つ、
前記第一及び第二のハードコート層にそれぞれ、法線方向の荷重をかけながら、水平方向に一定速度で当該層を切削したときの水平力は、前記第二のハードコート層が前記第一のハードコート層よりも大きいことを特徴とする。
【０００９】
反応性シリカ微粒子は平均１次粒径１０〜１００ｎｍであり、且つ粒子表面の反応性官能基ａにより第一のバインダー成分や第二のバインダー成分と架橋可能なため、第一のハードコート層の光透過性を維持しながら第一のハードコート層に硬度を付与する。
【００１０】
光透過性基材フィルム側の第一のハードコート層は、反応性シリカ微粒子と第一のバインダー成分を含む第一の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、膜厚１〜２０μｍであることにより、当該第一の層の法線方向の荷重に強く、第一のハードコート層のマルテンス硬度は第二のハードコート層よりも大きく、下地の層として機能する。
【００１１】
第二のハードコート層は、少なくとも第二のバインダー成分を含む第二の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、前記法線方向の荷重を解消した際の押込深さの回復率は、前記第二のハードコート層が前記第一のハードコート層よりも大きく、且つ第二のハードコート層に対して水平方向に一定速度で当該層を切削したときの水平力は、前記第二のハードコート層が前記第一のハードコート層よりも大きくなり、優れた柔軟性を有する層となる。また、第一及び第二のハードコート層の膜厚の合計が２５μｍ以下であることにより、硬度を維持しながらカールを抑える効果もある。
【００１２】
本発明に係るハードコートフィルムは、上記法線方向の荷重に強く、下地の層として機能する第一のハードコート層、柔軟性に優れた第二のハードコート層を、光透過性基材フィルム側からこの順序で有することにより、硬度及び耐擦傷性に優れる。
【００１３】
本発明に係るハードコートフィルムは、前記第一のハードコート層において、当該第一のハードコート層に対する法線方向の荷重１００〜５００ｍＮをかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度は、２９０〜４２５Ｎ／ｍｍ２であり、
前記第二のハードコート層に対する法線方向の荷重１００〜５００ｍＮをかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度は、２１５〜２８０Ｎ／ｍｍ２であり、
前記法線方向の荷重５００ｍＮを解消したときの前記押込深さの回復率が、前記第一のハードコート層では８８％以上９４％未満であり、前記第二のハードコート層では９５％以上であり、
前記第一のハードコート層において、法線方向に荷重１００ｍＮをかけながら、水平方向に速度２０ｎｍ／ｓｅｃで当該層を切削したときの水平力が０．０３Ｎ以上０．０８Ｎ未満であり、且つ、
前記第二のハードコート層において、法線方向に荷重１００ｍＮをかけながら、水平方向に速度２０ｎｍ／ｓｅｃで当該層を切削したときの水平力が０．０８Ｎ以上であることが、硬度及び耐擦傷性を向上する点から好ましい。
【００１４】
本発明に係るハードコートフィルムにおいて、前記第二のバインダー成分が、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートよりなる群から選ばれる１種以上であることが、第二のハードコート層の回復率を向上する点から好ましい。
【００１５】
本発明において、マルテンス硬度は、厚さ４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に形成した厚さ１０μｍの第一又は第二のハードコート層を試験用サンプルフィルムとして、当該サンプルフィルムに対して、（株）フィッシャー・インストルメンツ製の微小硬さ試験機（ＰＩＣＯＤＥＮＴＯＲ  ＨＭ５００、ＩＳＯ１４５７７−１）を用い、一定の押し込み荷重のときの押し込み深さ（μｍ）から、計算した硬度を意味する。押し込み荷重は層法線方向の荷重を、押込み深さは押し込まれる前のハードコート層界面を０とし、荷重をかけたとき（荷重時）の前記ハードコート層界面の深さを表す。
【００１６】
本発明において、回復率は、荷重解消時にどの程度ハードコート層界面の押し込みが回復したかを表し、下記式（１）で求められる。
【００１７】
【数１】
2010131771.tif 000003
【００１８】
水平力は、ダイプラ・ウィンテス（株）製、ＳＡＩＣＡＳを用いて、刃角６０°、すくい角２０°、にげ角１０°、刃の材質：単結晶ダイヤモンド、刃先幅１ｍｍの条件で、ハードコート層に法線方向の荷重をかけながら一定速度で当該層を切削したときの刃にかかる水平方向の荷重を意味する。すなわち、水平力が低いとそのハードコート層は割れやすく、脆い層であることを意味する。
【００１９】
図１は、ハードコート層の切削の様子の一例を模式的に表した図である。光透過性基材フィルム１０上に設けられたハードコート層２０を層法線方向の荷重４０をかけながら刃３０が切削して３１、３２の位置へと移動している。このとき、刃に対して水平にかかる力が水平力５０である。
【００２０】
本発明に係るハードコートフィルムの好適な実施形態では、前記光透過性基材フィルムと前記第一のハードコート層の間に、帯電防止層、中屈折率層、高屈折率層、防眩層、並びに前記第一及び第二のハードコート層と同じか又は異なる第三のハードコート層よりなる群から選ばれる１種以上の層が設けられている構成とすることも可能である。
【００２１】
本発明において、微粒子の平均１次粒径とは、溶液中の当該微粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの５０％粒子径（ｄ５０  メジアン径）を意味する。当該平均１次粒径は、日機装（株）製のＭｉｃｒｏｔｒａｃ粒度分析計又はＮａｎｏｔｒａｃ粒度分析計を用いて測定することができる。
【００２２】
本発明において、「ハードコート層」とは、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で、「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。
【発明の効果】
【００２３】
本発明のハードコートフィルムは、層に対する法線方向の荷重をかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度が第二のハードコート層よりも大きい第一のハードコート層を下地層として有し、前記法線方向の荷重を解消したときの押し込み深さの回復率が第一のハードコート層よりも大きく、且つ、法線方向の荷重をかけながら水平方向に一定速度で当該層を切削した時の水平力が第一のハードコート層よりも大きい第二のハードコート層を第一のハードコート層の光透過性基材フィルムとは反対側に隣接して有することにより、強度と柔軟性を併せ持ち、優れた硬度及び耐擦傷性を発揮する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、まず本発明に係るハードコートフィルムについて説明し、次いで当該ハードコートフィルムの製造方法について説明する。
【００２５】
なお、本発明において、（メタ）アクリレートは、アクリレート及び／又はメタクリレートを表す。
本発明において、「ハードコート層」とは、一般にＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で「Ｈ」以上の硬度を示すものである。
また、本発明の光には、可視及び非可視領域の波長の電磁波だけでなく、電子線のような粒子線、及び、電磁波と粒子線を総称する放射線又は電離放射線が含まれる。
本発明において、膜厚とは乾燥時の膜厚（乾燥膜厚）を意味する。
本発明において、分子量とは、分子量分布を有する場合には、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値である重量平均分子量を意味し、分子量分布を有しない場合には、化合物そのものの分子量を意味する。
本発明において、微粒子の平均１次粒径とは、溶液中の当該粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの５０％粒子径（ｄ５０  メジアン径）を意味する。当該平均１次粒径は、日機装（株）製のＭｉｃｒｏｔｒａｃ粒度分析計又はＮａｎｏｔｒａｃ粒度分析計を用いて測定することができる。
【００２６】
本発明において、マルテンス硬度は、厚さ４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に形成した厚さ１０μｍの第一又は第二のハードコート層を試験用サンプルフィルムとして、当該サンプルフィルムに対して、（株）フィッシャー・インストルメンツ製の微小硬さ試験機（ＰＩＣＯＤＥＮＴＯＲ  ＨＭ５００、ＩＳＯ１４５７７−１）を用い、一定の押し込み荷重のときの押し込み深さ（μｍ）から、計算した硬度を意味する。押し込み荷重は層法線方向の荷重を、押込み深さは押し込まれる前のハードコート層界面を０とし、荷重をかけたとき（荷重時）の前記ハードコート層界面の深さを表す。
【００２７】
本発明において、回復率は、荷重解消時にどの程度ハードコート層界面の押し込みが回復したかを表し、下記式（１）で求められる。
【００２８】
【数２】
2010131771.tif 000004
【００２９】
例えば、荷重をかけていないときのハードコート層の膜厚を１００、荷重時の当該ハードコート層の荷重部分の膜厚を６０、及び当該荷重解消時のハードコート層の荷重をかけた部分の膜厚を９０とすると、荷重時の押し込み深さは、１００−６０＝４０となり、荷重解消時の押し込み深さは１００−９０＝１０となる。これらの数値を上記式（１）にあてはめると、回復率は、（４０−１０）／４０×１００＝７５％となる。
【００３０】
水平力は、ダイプラ・ウィンテス（株）製、ＳＡＩＣＡＳを用いて、刃角６０°、すくい角２０°、にげ角１０°、刃の材質：単結晶ダイヤモンド、刃先幅１ｍｍの条件で、ハードコート層に法線方向の荷重をかけながら一定速度で当該層を切削したときの刃にかかる水平方向の荷重を意味する。すなわち、水平力が低いとそのハードコート層は割れやすく、脆い層であることを意味する。
【００３１】
Ｉ．ハードコートフィルム
本発明に係るハードコートフィルムは、光透過性基材フィルムの一面側に当該光透過性基材フィルム側から順に第一のハードコート層、及び第二のハードコート層を設けたハードコートフィルムであって、
前記第一のハードコート層は、粒子表面に反応性官能基ａを有する平均１次粒径１０〜１００ｎｍの反応性シリカ微粒子及び反応性官能基ｂを有する第一のバインダー成分を含む第一の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、
前記第二のハードコート層は、反応性官能基ｃを有する第二のバインダー成分を含む第二の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、
前記反応性官能基ａ、ｂ、並びにｃは、それぞれ、同種及び異種の反応性官能基間での架橋反応性を有し、
前記第一及び第二のハードコート層は、それぞれ、膜厚１〜２０μｍであり、且つ第一及び第二のハードコート層の膜厚の合計が２５μｍ以下であり、
前記第一及び第二のハードコート層にそれぞれ、当該層に対する法線方向の荷重をかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度は、前記第一のハードコート層が第二のハードコート層よりも大きく、
前記法線方向の荷重を解消したときの押込深さの回復率は、前記第二のハードコート層が前記第一のハードコート層よりも大きく、且つ、
前記第一及び第二のハードコート層にそれぞれ、法線方向の荷重をかけながら、水平方向に一定速度で当該層を切削したときの水平力は、前記第二のハードコート層が前記第一のハードコート層よりも大きいことを特徴とする。
【００３２】
本発明に係るハードコートフィルムは、上記法線方向の荷重に強く、下地の層として機能する第一のハードコート層、柔軟性に優れた第二のハードコート層を、光透過性基材フィルム側からこの順序で有することにより、硬度及び耐擦傷性に優れる。
【００３３】
本発明に係るハードコートフィルムは、前記第一のハードコート層において、当該第一のハードコート層に対する法線方向の荷重１００〜５００ｍＮをかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度は、２９０〜４２５Ｎ／ｍｍ２であり、
前記第二のハードコート層に対する法線方向の荷重１００〜５００ｍＮをかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度は、２１５〜２８０Ｎ／ｍｍ２であり、
前記法線方向の荷重５００ｍＮを解消したときの前記押込深さの回復率が、前記第一のハードコート層では８８％以上９４％未満であり、前記第二のハードコート層では９５％以上であり、
前記第一のハードコート層において、法線方向に荷重１００ｍＮをかけながら、水平方向に速度２０ｎｍ／ｓｅｃで当該層を切削したときの水平力が０．０３Ｎ以上０．０８Ｎ未満であり、且つ、
前記第二のハードコート層において、法線方向に荷重１００ｍＮをかけながら、水平方向に速度２０ｎｍ／ｓｅｃで当該層を切削したときの水平力が０．０８Ｎ以上であることが、硬度及び耐擦傷性を向上する点から好ましい。
【００３４】
図２は、本発明に係るハードコートフィルムの層構成の一例を模式的に示した断面図である。
光透過性基材フィルム１０の一面側に、光透過性基材フィルム１０から順に、第一のハードコート層６０及び第二のハードコート層７０が設けられている。
【００３５】
以下、本発明に係るハードコートフィルムの必須要素である光透過性基材フィルム、第一のハードコート層、及び第二のハードコート層、並びに必要に応じて適宜設けることができるその他の層である帯電防止層、中屈折率層、高屈折率層、防眩層、並びに前記第一及び第二のハードコート層と同じか又は異なる第三のハードコート層について、詳細に説明する。
【００３６】
１．光透過性基材フィルム
本発明に用いられる光透過性基材は、透明性（光透過性）の高いプラスチックフィルム又はシートであり、光学積層体の光透過性基材として用い得る物性を満たすものであれば特に限定されることはなく、適宜選んで用いることができる。
通常、光学積層体に用いられる基材フィルムには、透明、半透明、無色又は有色を問わないが、光透過性が要求される。なお、光透過率の測定は、紫外可視分光光度計（例えば、（株）島津製作所製  ＵＶ−３１００ＰＣ）を用い、室温、大気中で測定した値を用いる。
【００３７】
本発明においては、光透過性基材フィルムの厚さは適宜選択して用いることができるが、ハードコートフィルムの表面を割れにくく、且つ、硬度を付与する点から、１０〜２００μｍの光透過性基材を用いることが好ましく、３０〜１５０μｍであることがより好ましい。
【００３８】
光透過性基材フィルムの材料として好ましいものとしては、セルロースアシレート、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリレート系ポリマー、又はポリエステルを主体とするものが挙げられる。ここで、「主体とする」とは、基材構成成分の中で最も含有割合が高い成分を示すものである。
【００３９】
セルロースアシレートの具体例としては、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。
シクロオレフィンポリマーとしては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が挙げられ、より具体的には、日本ゼオン（株）製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製  スミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ（株）製  アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製  アペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製の  Ｔｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成（株）製  オプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。
ポリカーボネートの具体例としては、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等）をベースとする芳香族ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート等が挙げられる。
アクリレート系ポリマーの具体例としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等が挙げられる。
ポリエステルの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。
【００４０】
本発明に用いられる光透過性基材フィルムとして、最も光透過性に優れた材料は、セルロースアシレートであり、中でもトリアセチルセルロースを用いることが好ましい。
トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）は、可視光域３８０〜７８０ｎｍにおいて、平均光透過率を５０％以上とすることが可能な光透過性基材である。基材フィルムの平均光透過率は７０％以上、更に８５％以上であることが好ましい。
ＴＡＣフィルムは、光学的等方性を有するため、液晶ディスプレイ用途の場合においても好ましく用いることができる。
【００４１】
尚、本発明におけるトリアセチルセルロースとしては、純粋なトリアセチルセルロース以外に、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートの如くセルロースとエステルを形成する脂肪酸として酢酸以外の成分も併用した物であっても良い。又、これらトリアセチルセルロースには、必要に応じて、ジアセチルセルロース等の他のセルロース低級脂肪酸エステル、或いは可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸收剤等の各種添加剤が添加されていても良い。
【００４２】
また、本発明においては、ＴＡＣフィルムに表面処理（例、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよく、プライマー層（接着剤層）を形成してもよい。本発明における光透過性基材フィルムは、これらの表面処理及びプライマー層も含めたものをいう。従って、プライマー層のみに上記特定の樹脂が浸透している場合も、光透過性基材フィルムに上記特定の樹脂が浸透している場合に含める。
【００４３】
２．第一のハードコート層
本発明の第一のハードコート層は、粒子表面に反応性官能基ａを有する平均１次粒径１０〜１００ｎｍの反応性シリカ微粒子及び反応性官能基ｂを有する第一のバインダー成分を含む第一の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、膜厚１〜２０μｍであり、当該第一のハードコート層に対する法線方向の荷重をかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度は、後述する第二のハードコート層よりも大きい。
【００４４】
反応性シリカ微粒子は平均１次粒径１０〜１００ｎｍであり、且つ粒子表面の反応性官能基ａにより第一のバインダー成分や第二のバインダー成分と架橋可能なため、第一のハードコート層の光透過性を維持しながら第一のハードコート層に硬度を付与する。
【００４５】
光透過性基材フィルム側の第一のハードコート層は、反応性シリカ微粒子と第一のバインダー成分を含む第一の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、膜厚１〜２０μｍであることにより、当該第一の層の法線方向の荷重に強く、第一のハードコート層のマルテンス硬度は第二のハードコート層よりも大きく、下地の層として機能する。
第一のハードコート層のマルテンス硬度が第二のハードコート層よりも大きいことにより、衝撃や荷重が光透過性基材フィルムに伝わることを防ぎ、ハードコートフィルムの割れや傷を抑制する効果を有する。
【００４６】
本発明の第一のハードコート層において、当該第一のハードコート層に対する法線方向の荷重１００〜５００ｍＮをかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度は、２９０〜４２５Ｎ／ｍｍ２であり、前記法線方向の荷重５００ｍＮを解消したときの前記押込深さの回復率が、第一のハードコート層では８８％以上９４％未満であり、法線方向に荷重１００ｍＮをかけながら、水平方向に速度２０ｎｍ／ｓｅｃで当該層を切削したときの水平力が０．０３Ｎ以上０．０８Ｎ未満であることが、下地層として優れた硬度を発揮する点から好ましい。
前記法線方向の荷重が１００〜５００ｍＮである場合に、前記マルテンス硬度、及び水平力が上記範囲、且つ法線方向の荷重５００ｍＮを解消したときの前記押込深さの回復率が上記範囲であれば、鉛筆硬度に優れたハードコートフィルムが得られる。法線方向の荷重が１００ｍＮ未満では、ハードコート層の光透過性基材とは反対側の表面部分しか測定できず、ハードコート層全体の鉛筆硬度を測定することができない。また、法線方向の荷重が５００ｍＮ超過では、荷重が大きすぎるためハードコート層を超えて光透過性基材まで押し込んでしまう。
【００４７】
第一のハードコート層の膜厚は１〜２０μｍであるが、硬度付与の点から５μｍ以上が好ましい。また、カール低減の点から１５μｍ以下が好ましい。
また、硬度を維持しながらカールを低減するために第一及び第二のハードコート層の膜厚の合計は２５μｍ以下である。
【００４８】
以下、硬化して第一のハードコート層を形成する第一の硬化性樹脂組成物について説明する。
【００４９】
（第一の硬化性樹脂組成物）
第一の硬化性樹脂組成物は、粒子表面に反応性官能基ａを有する平均１次粒径１０〜１００ｎｍの反応性シリカ微粒子及び反応性官能基ｂを有する第一のバインダー成分を必須成分として含み、その他、帯電防止性、防眩性、塗工性を考慮して適宜、帯電防止剤、防眩剤、及び溶剤等の成分を含んでいても良い。
以下、各成分について説明する。
【００５０】
（反応性シリカ微粒子）
反応性シリカ微粒子は、ハードコート層に硬度を付与するための成分である。
ハードコート層用硬化性樹脂組成物に平均１次粒径１０〜１００ｎｍのシリカ微粒子を含有させることにより、ハードコート層に優れた硬度を付与しやすくなる。
【００５１】
反応性シリカ微粒子は平均１次粒径が１０〜１００ｎｍであれば、凝集粒子であっても良く、凝集粒子である場合は、２次粒径が上記範囲内で且つ当該凝集粒子表面に反応性官能基ａがあれば良い。
反応性シリカ微粒子の平均１次粒径は１２〜５０ｎｍであることが好ましい。反応性シリカ微粒子の平均１次粒径が１０ｎｍ未満ではハードコート層に十分な硬度を付与できず、また、ハードコート層に隣接するトリアセチルセルロース基材の浸透層や必要に応じてハードコート層のトリアセチルセルロース基材とは反対側に設けるその他の層とシリカ微粒子との接触面積が増えるために、基材との密着性が悪化するおそれがある。平均１次粒径が１００ｎｍを超えると、ハードコート層の光透過性が低下し、透過率の悪化、ヘイズの上昇を招く。
【００５２】
また、反応性シリカ微粒子は、光透過性を損なうことなく、後述する第一のバインダー成分のみを用いた場合の復元率を維持しつつ、硬度を向上させる点から、粒径分布が狭く、単分散であることが好ましい。
【００５３】
第一の硬化性樹脂組成物の全固形分に対して含まれる反応性シリカ微粒子の量は特に限定されずに、ハードコート層の要求される硬度や密着性等の性能に応じて適宜調節すればよい。中でも、第一の硬化性樹脂組成物の全固形分に対する反応性シリカ微粒子の量は３０〜６５重量％含まれることが好ましく、４０〜６０重量％がさらに好ましい。３０重量％以上であればハードコート層の法線方向の荷重（押し込み荷重）に対する強度が十分得られる。６５重量％を超えると、前記押し込み荷重には強いが、充填率が上がり過ぎ、シリカ微粒子とバインダー成分との密着性が悪化し、かえってハードコート層の硬度を低下させ、割れを生ずる恐れや第二のハードコート層との密着性も低下する恐れがある。
【００５４】
反応性シリカ微粒子は単一の平均１次粒径のものだけでなく、平均１次粒径の異なるものを２種類以上組み合わせて用いても良い。２種類以上組み合わせて用いる場合は、各粒子の平均１次粒径が１０〜１００ｎｍ以内となれば良い。
【００５５】
反応性シリカ微粒子には、１粒子あたりコアとなるシリカ微粒子の数が２つ以上のものも含まれる。また、反応性シリカ微粒子は、粒径を小さくすることにより含有量に対して、ハードコート層のマトリクス内での架橋点を高めることができる。
反応性シリカ微粒子は、ハードコート層に更に機能を付与するものであっても良く、目的に合わせて適宜選択して用いる。
【００５６】
なお、反応性シリカ微粒子は、第一の硬化性樹脂組成物が硬化したハードコート層においては、反応性官能基ａの一部又は全部が架橋反応に使用されているため、第一の硬化性樹脂組成物に含まれる反応性シリカ微粒子とハードコート層に含まれるシリカ微粒子は厳密には異なる。
【００５７】
本発明においては、シリカ微粒子の代わりに又はシリカ微粒子と併用して前記シリカ微粒子の３〜２０個、好ましくは３〜１０個が無機の化学結合によって結合してなる異形シリカ微粒子を用いても良い。異形シリカ微粒子を用いることによりハードコート層にさらに硬度を付与することができるため好ましい。
前記シリカ微粒子が無機の化学結合によって結合した当該微粒子数が３個以上であれば、耐擦傷性及び硬度向上の効果が得られる。シリカ微粒子が無機の化学結合によって結合した当該微粒子数が２０個超過では、ハードコート層の光透過性が低下し、透過率の悪化、ヘイズの上昇を招く恐れがある。
【００５８】
シリカ微粒子３〜２０個が無機の化学結合により結合している反応性異形シリカ微粒子の大きさ、すなわち長軸の長さは、特に限定されず、２０〜３００ｎｍであることが好ましい。この範囲であればハードコート層に耐擦傷性及び硬度を付与しやすく且つハードコート層の光透過性を維持しやすい。
【００５９】
上記無機の化学結合としては、例えば、イオン結合、金属結合、配位結合、及び共有結合が挙げられる。中でも、上記異形シリカ微粒子を極性溶媒中に添加しても、結合した微粒子が分散しない結合、具体的には、金属結合、配位結合、及び共有結合が好ましく、更に、共有結合が好ましい。共有結合のない従来の凝集体では、物理的な外力（例えば、インキの段階では攪拌におけるシェアー、ドクターナイフ等の塗布時に受けるシェアー）によって、凝集体が分離する恐れがある。化学的にも、凝集を崩す溶剤、バインダー成分、界面活性剤等の添加剤によって凝集体が分離する恐れがある。また、ハードコートフィルムとなった場合にも、物理的な外力（尖ったもの等による接触）によって、凝集体が分離し、ハードコートフィルムの傷となる恐れがあり、好ましくない。これに対して、共有結合であれば、物理的、化学的な力による分解が起こりにくく、安定している。
なお、極性溶媒としては、例えば、水、並びにメタノール、及びエタノール、イソプロパノール等の低級アルコール等が挙げられる。
【００６０】
本発明の反応性シリカ微粒子は、中空粒子のような粒子内部に空孔や多孔質組織を有する粒子よりも、粒子内部に空孔や多孔質組織を有しない中実粒子を用いることが硬度向上の点から好ましい。
【００６１】
反応性シリカ微粒子は、少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された反応性官能基ａを表面に有する。ここで、有機成分とは、炭素を含有する成分である。また、少なくとも表面の一部に有機成分が被覆されている態様としては、例えば、シリカ微粒子の表面に存在する水酸基にシランカップリング剤等の有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様、または、シリカ微粒子の表面に存在する水酸基にイソシアネート基を有する有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様、のほか、例えば、シリカ微粒子の表面に存在する水酸基に水素結合等の相互作用により有機成分を付着させた態様や、ポリマー粒子中に１個又は２個以上のシリカ微粒子を含有する態様、などが含まれる。
【００６２】
当該被覆している有機成分は、シリカ微粒子同士の凝集を抑制し、且つシリカ微粒子表面へ反応性官能基を多く導入して膜（ハードコート層）の硬度を向上させる点から、粒子表面のほぼ全体を被覆していることが好ましい。このような観点から、シリカ微粒子を被覆している前記有機成分は、反応性シリカ微粒子中に１．００×１０−３ｇ／ｍ２以上含まれることが好ましい。シリカ微粒子表面に有機成分を付着乃至結合させた態様においては、シリカ微粒子を被覆している前記有機成分が、反応性シリカ微粒子中に２．００×１０−３ｇ／ｍ２以上含まれることが更に好ましく、反応性シリカ微粒子中に３．５０×１０−３ｇ／ｍ２以上含まれることが特に好ましい。ポリマー粒子中にシリカ微粒子を含有する態様においては、シリカ微粒子を被覆している前記有機成分が、反応性シリカ微粒子中に３．５０×１０−３ｇ／ｍ２以上含まれることが更に好ましく、反応性シリカ微粒子中に５．５０×１０−３ｇ／ｍ２以上含まれることが特に好ましい。
【００６３】
当該被覆している有機成分の割合は、通常、乾燥粉体を空気中で完全に燃焼させた場合の重量減少の恒量値として、例えば、空気中で室温から通常８００℃までの熱重量分析により求めることができる。
なお、単位面積当りの有機成分量は、以下の方法により求めることができる。まず、示差熱重量分析（ＤＴＧ）により、有機成分重量を無機成分重量で割った値（有機成分重量／無機成分重量）を測定する。次に、無機成分重量と用いたシリカ微粒子の比重から無機成分全体の体積を計算する。また、被覆前のシリカ微粒子が真球状であると仮定し、被覆前のシリカ微粒子の平均１次粒径から被覆前のシリカ微粒子１個当りの体積、及び表面積を計算する。次に、無機成分全体の体積を被覆前のシリカ微粒子１個当たりの体積で割ることにより、反応性シリカ微粒子の個数を求める。更に、有機成分重量を反応性シリカ微粒子の個数で割ることにより、反応性シリカ微粒子１個当たりの有機成分量を求める。最後に、反応性シリカ微粒子１個当りの有機成分重量を、被覆前のシリカ微粒子１個当りの表面積で割ることにより、単位面積当たりの有機成分量を求めることができる。
【００６４】
少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された反応性官能基ａを表面に有する反応性シリカ微粒子を調製する方法としては、当該シリカ微粒子に導入したい反応性官能基ａにより、従来公知の方法を適宜選択して用いることができる。
中でも、本発明においては、被覆している有機成分が反応性シリカ微粒子中に、被覆前のシリカ微粒子の単位面積当たり１．００×１０−３ｇ／ｍ２以上含まれることが可能で、シリカ微粒子同士の凝集を抑制し、膜の硬度を向上させる点から、以下の（ｉ）（ｉｉ）の反応性シリカ微粒子のいずれかを適宜選択して用いることが好ましい。
（ｉ）飽和又は不飽和カルボン酸、当該カルボン酸に対応する酸無水物、酸塩化物、エステル及び酸アミド、アミノ酸、イミン、ニトリル、イソニトリル、エポキシ化合物、アミン、β‐ジカルボニル化合物、シラン、及び官能基を有する金属化合物よりなる群から選択される１種以上の分子量５００以下の表面修飾化合物の存在下、分散媒としての水及び／又は有機溶媒の中にシリカ微粒子を分散させることにより得られる、表面に反応性官能基ａを有する反応性シリカ微粒子。
（ｉｉ）被覆前のシリカ微粒子に導入する反応性官能基ａ、下記化学式（１）に示す基、及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物と、金属酸化物微粒子とを結合することにより得られる、表面に反応性官能基ａを有する反応性シリカ微粒子。
化学式（１）
−Ｑ１−Ｃ（＝Ｑ２）−Ｑ３−
化学式（１）中、Ｑ１は、ＮＨ、Ｏ（酸素原子）、又はＳ（硫黄原子）を示し、Ｑ２はＯ又はＳを示し、Ｑ３は、ＮＨ又は２価以上の有機基を示す。
【００６５】
以下、好適に用いられる反応性シリカ微粒子を順に説明する。
（ｉ）飽和又は不飽和カルボン酸、当該カルボン酸に対応する酸無水物、酸塩化物、エステル及び酸アミド、アミノ酸、イミン、ニトリル、イソニトリル、エポキシ化合物、アミン、β‐ジカルボニル化合物、シラン、及び官能基を有する金属化合物よりなる群から選択される１種以上の分子量５００以下の表面修飾化合物の存在下、分散媒としての水及び／又は有機溶媒の中にシリカ微粒子を分散させることにより得られる、表面に反応性官能基ａを有する反応性シリカ微粒子。
上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子を用いる場合には、有機成分含量が少なくても膜強度を向上できるというメリットがある。
【００６６】
上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は、カルボキシル基、酸無水物基、酸塩化物基、酸アミド基、エステル基、イミノ基、ニトリル基、イソニトリル基、水酸基、チオール基、エポキシ基、第一級、第二級及び第三級アミノ基、Ｓｉ−ＯＨ基、シランの加水分解性残基、又はβ−ジカルボニル化合物のようなＣ−Ｈ酸基等の、分散条件下において上記シリカ微粒子の表面に存在する基と化学結合可能な官能基を有する。ここでの化学結合は、好ましくは、共有結合、イオン結合又は配位結合が含まれるが、水素結合も含まれる。配位結合は錯体形成であると考えられる。例えば、ブレンステッド又はルイスに従う酸性／塩基反応、錯体形成又はエステル化が、上記表面修飾化合物の官能基とシリカ微粒子表面の基の間で生じる。上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は、１種又は２種以上を混合して用いることができる。
【００６７】
上記表面修飾化合物は通常、シリカ微粒子の表面の基との化学結合に関与できる少なくとも１つの官能基（以下、第１の官能基という）に加えて、当該官能基を介して上記表面修飾化合物に結びついた後に、シリカ微粒子に新たな特性を付与する分子残基を有する。分子残基又はその一部は疎水性又は親水性であり、例えば、シリカ微粒子を安定化、融和化、又は活性化させる。
例えば、疎水性分子残基としては、不活性化又は反発作用をもたらす、アルキル、アリール、アルカリル、アラルキル又はフッ素含有アルキル基等が挙げられる。親水性基としてはヒドロキシ基、アルコキシ基又はポリエステル基等が挙げられる。
【００６８】
反応性シリカ微粒子が後述する第一のバインダー成分と反応できるように表面に導入される反応性官能基ａは、当該第一のバインダー成分に応じて、適宜選択される。当該反応性官能基ａとしては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合及びエポキシ基等が挙げられる。
【００６９】
上記表面修飾化合物の上記分子残基中に、後述する第一のバインダー成分と反応できる反応性官能基ａが含まれる場合には、上記表面修飾化合物中に含まれる第１の官能基をシリカ微粒子表面に反応させることによって、上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子の表面に第一のバインダー成分と反応できる反応性官能基ａを導入することが可能である。例えば、第１の官能基のほかに、更に重合性不飽和基を有する表面修飾化合物が、好適なものとして挙げられる。
【００７０】
一方で、上記表面修飾化合物の上記分子残基中に、第２の反応性官能基を含有させ、当該第２の反応性官能基を足掛かりにして、上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子の表面に第一のバインダー成分と反応できる反応性官能基ａが導入されても良い。例えば、第２の反応性官能基として水酸基及びオキシ基のような水素結合が可能な基（水素結合形成基）を導入し、当該微粒子表面上に導入された水素結合形成基に、更に別の表面修飾化合物の水素結合形成基が反応することにより、第一のバインダー成分と反応できる反応性官能基ａを導入することが好ましい。すなわち、表面修飾化合物として、水素結合形成基を有する化合物と、重合性不飽和基などの第一のバインダー成分と反応できる反応性官能基ａと水素結合形成基を有する化合物とを併用して用いることが好適な例として挙げられる。水素結合形成基の具体例としては、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、グリシジル基、アミド基、といった官能基、もしくはアミド結合を示すものである。ここで、アミド結合とは、−ＮＨＣ（Ｏ）や＞ＮＣ（Ｏ）−を結合単位に含むものを示す旨である。本発明の表面修飾化合物に用いられる水素結合形成基としては、中でもカルボキシル基、水酸基、アミド基が好ましい。
【００７１】
上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は５００以下、より好ましくは４００、特に２００を超えない分子量を有する。このような低分子量を有するため、シリカ微粒子表面を急速に占有し、シリカ微粒子同士の凝集を妨げることが可能であると推定される。
【００７２】
上記（ｉ）の反応性シリカ微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は、表面修飾のための反応条件下で好ましくは液体であり、分散媒中で溶解性又は少なくとも乳化可能であるのが好ましい。中でも分散媒中で溶解し、分散媒中で離散した分子又は分子イオンとして一様に分布して存在することが好ましい。
【００７３】
飽和又は不飽和カルボン酸としては、１〜２４の炭素原子を有しており、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、クエン酸、アジピン酸、琥珀酸、グルタル酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸及びステアリン酸、並びに対応する酸無水物、塩化物、エステル及びアミド、例えばカプロラクタム等が挙げられる。また、不飽和カルボン酸を用いると、重合性不飽和基を導入することができる。
【００７４】
好ましいアミンの例は、化学式Ｑ３−ｎＮＨｎ（ｎ＝０，１又は２）を有するものであり、残基Ｑは独立して、１〜１２、特に１〜６、特別好ましくは１〜４の炭素原子を有するアルキル（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル及びブチル）、並びに６〜２４の炭素原子を有するアリール、アルカリル又はアラルキル（例えば、フェニル、ナフチル、トリル及びベンジル）を表す。また、好ましいアミンの例としては、ポリアルキレンアミンが挙げられ、具体例は、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、アニリン、Ｎ−メチルアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、トルイジン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミンである。
【００７５】
好ましいβ−ジカルボニル化合物は４〜１２、特に５〜８の炭素原子を有するものであり、例えば、ジケトン（アセチルアセトンなど）、２，３−ヘキサンジオン、３，５−ヘプタンジオン、アセト酢酸、アセト酢酸−Ｃ１−Ｃ４−アルキルエステル（アセト酢酸エチルエステルなど）、ジアセチル及びアセトニルアセトンが挙げられる。
アミノ酸の例としては、β−アラニン、グリシン、バリン、アミノカプロン酸、ロイシン及びイソロイシンが挙げられる。
【００７６】
好ましいシランは、少なくとも１つの加水分解性基又はヒドロキシ基と、少なくとも１つの非加水分解性残基を有する加水分解性オルガノシランである。ここで加水分解性基としては、例えば、ハロゲン、アルコキシ基及びアシルオキシ基が挙げられる。非加水分解性残基としては、反応性官能基ａを有する及び／又は反応性官能基ａを有しない非加水分解性残基が用いられる。また、フッ素で置換されている有機残基を少なくとも部分的に有するシランを使用しても良い。
【００７７】
用いられるシランとしては特に限定されないが、例えば、ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＯＣＣＨ３）３、ＣＨ２＝ＣＨＳｉＣｌ３、ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ４ＯＣＨ３）３、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＯＣＣＨ３）３、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＰＴＳ）、γ−グリシジルオキシプロピルジメチルクロロシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＡＰＴＳ）、３−アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＰＴＥＳ）、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−［Ｎ’−（２’−アミノエチル）−２−アミノエチル］−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、２−［メトキシ（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリメトキシシラン、ビス−（ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン及び３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
【００７８】
上記シランカップリング剤としては、特に限定されず、公知のものを挙げることができ、例えば、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３（商品名、いずれも、信越化学工業（株）製）等を挙げることができる。
【００７９】
官能基を有する金属化合物としては、元素周期表の第１群ＩＩＩ〜Ｖ及び／又は第２群ＩＩ〜ＩＶからの金属Ｍの金属化合物が挙げられる。ジルコニウム及びチタニウムのアルコキシド、Ｍ（ＯＲ）４（Ｍ＝Ｔｉ、Ｚｒ）、（式中、ＯＲ基の一部はβ−ジカルボニル化合物又はモノカルボン酸などの錯生成剤により置換される。）が挙げられる。重合性不飽和基を有する化合物（メタクリル酸など）が錯生成剤として使用される場合には、重合性不飽和基を導入することができる。
【００８０】
分散媒として、水及び／又は有機溶媒が好適に使用される。特に好ましい分散媒は、蒸留された（純粋な）水である。有機溶媒として、極性及び非極性及び非プロトン性溶媒が好ましい。それらの例として、炭素数１〜６の脂肪族アルコール（特にメタノール、エタノール、ｎ（ノルマル）−及びｉ（イソ）−プロパノール及びブタノール）等のアルコール、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン及びブタノン等のケトン類、酢酸エチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びテトラヒドロピランなどのエーテル類；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド類；スルホラン及びジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類及びスルホン類；及びペンタン、ヘキサン及びシクロヘキサン等の脂肪族（任意にハロゲン化された）炭化水素類が挙げられる。これらの分散媒は混合物として使用することができる。
分散媒は、蒸留（任意に減圧下）により容易に除去できる沸点を有することが好ましく、沸点が２００℃以下、特に１５０℃以下の溶媒が好ましい。
【００８１】
（ｉ）の反応性シリカ微粒子の調製に際し、分散媒の濃度は、通常４０〜９０、好ましくは５０〜８０、特に５５〜７５重量％である。分散液の残りは、未処理のシリカ微粒子及び上記表面修飾化合物から構成される。ここで、シリカ微粒子／表面修飾化合物の重量比は、１００：１〜４：１とすることが好ましく、更に５０：１〜８：１、より更に２５：１〜１０：１とすることが好ましい。
【００８２】
（ｉ）の反応性シリカ微粒子の調製は、好ましくは室温（約２０℃）〜分散媒の沸点で行われる。特に好ましくは、分散温度は５０〜１００℃である。分散時間は、特に使用される材料のタイプに依存するが、一般に数分から数時間、例えば、１〜２４時間である。
【００８３】
（ｉｉ）被覆前のシリカ微粒子に導入する反応性官能基ａ、下記化学式（１）に示す基、及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物と、コアとなるシリカ微粒子としての金属酸化物微粒子とを結合することにより得られる、表面に反応性官能基ａを有する反応性シリカ微粒子。
化学式（１）
−Ｑ１−Ｃ（＝Ｑ２）−Ｑ３−
化学式（１）中、Ｑ１は、ＮＨ、Ｏ（酸素原子）、又はＳ（硫黄原子）を示し、Ｑ２はＯ又はＳを示し、Ｑ３は、ＮＨ又は２価以上の有機基を示す。
上記（ｉｉ）の反応性シリカ微粒子を用いる場合には、有機成分量が高まり、分散性、及び膜強度がより高まるという利点がある。
【００８４】
まず、被覆前のシリカ微粒子に導入したい反応性官能基ａ、上記化学式（１）に示す基、及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物（以下、反応性官能基修飾加水分解性シランという場合がある。）について説明する。
上記反応性官能基修飾加水分解性シランにおいて、当該シリカ微粒子に導入したい反応性官能基ａは、後述する第一のバインダー成分と反応可能なように適宜選択すれば特に限定されない。上述したような重合性不飽和基を導入するのに適している。
【００８５】
上記反応性官能基修飾加水分解性シランにおいて、上記化学式（１）に示す基の［−Ｑ１−Ｃ（＝Ｑ２）−］部分は、具体的には、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−］、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−］、［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−］、［−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−］、［−ＮＨ−Ｃ（＝Ｓ）−］、及び［−Ｓ−Ｃ（＝Ｓ）−］の６種である。これらの基は、１種単独で又は２種以上を組合わせて用いることができる。中でも、熱安定性の観点から、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−］基と、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−］基及び［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−］基の少なくとも１種を併用することが好ましい。前記化学式（１）に示す基［−Ｑ１−Ｃ（＝Ｑ２）−Ｑ３−］は、分子間において水素結合による適度の凝集力を発生させ、硬化物にした場合、優れた機械的強度、基材との密着性及び耐熱性等の特性を付与することが可能になると考えられる。
【００８６】
また、加水分解によってシラノ−ル基を生成する基としては、ケイ素原子上にアルコキシ基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等を有する基を挙げることができ、アルコキシシリル基又はアリールオキシシリル基が好ましい。シラノール基又は、加水分解によってシラノ−ル基を生成する基は、縮合反応又は加水分解に続いて生じる縮合反応によって、金属酸化物微粒子と結合することができる。
【００８７】
上記反応性官能基修飾加水分解性シランの好ましい具体例としては、例えば、下記化学式（２）及び（３）に示す化合物を挙げることができ、化学式（３）に示す化合物が硬度の点からより好ましく用いられる。
【００８８】
【化１】
2010131771.tif 000005
【００８９】
【化２】
2010131771.tif 000006
【００９０】
化学式（２）及び（３）中、Ｒａ、Ｒｂは同一でも異なっていてもよいが、水素原子又はＣ１からＣ８のアルキル基若しくはアリール基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、フェニル、キシリル基等を挙げることができる。ここでｍは１、２又は３である。
［（ＲａＯ）ｍＲｂ３ーｍＳｉ−］で示される基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリフェノキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基等を挙げることができる。このような基のうち、トリメトキシシリル基又はトリエトキシシリル基等が好ましい。
【００９１】
化学式（２）及び（３）中、ＲｃはＣ１からＣ１２の脂肪族又は芳香族構造を有する２価の有機基であり、鎖状、分岐状又は環状の構造を含んでいてもよい。そのような有機基としては例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキサメチレン、シクロヘキシレン、フェニレン、キシリレン、ドデカメチレン等を挙げることができる。これらのうち好ましい例は、メチレン、プロピレン、シクロヘキシレン、フェニレン等である。
【００９２】
化学式（２）中、Ｒｄは２価の有機基であり、通常、分子量１４から１０，０００、好ましくは、分子量７６から５００の２価の有機基の中から選ばれる。例えば、ヘキサメチレン、オクタメチレン、ドデカメチレン等の鎖状ポリアルキレン基；シクロヘキシレン、ノルボルニレン等の脂環式又は多環式の２価の有機基；フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、ポリフェニレン等の２価の芳香族基；及びこれらのアルキル基置換体、アリール基置換体を挙げることができる。また、これら２価の有機基は炭素及び水素原子以外の元素を含む原子団を含んでいてもよく、ポリエーテル結合、ポリエステル結合、ポリアミド結合、ポリカーボネート結合、さらには前記化学式（１）に示す基を含むこともできる。
【００９３】
化学式（２）及び（３）中、Ｒｅは（ｎ＋１）価の有機基であり、好ましくは鎖状、分岐状又は環状の飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基の中から選ばれる。
【００９４】
化学式（２）及び（３）中、Ｙ’は反応性官能基ａを有する１価の有機基を示す。上述のような反応性官能基ａそのものであっても良い。例えば、反応性官能基ａを重合性不飽和基から選択する場合、（メタ）アクリロイル（オキシ）基、ビニル（オキシ）基、プロペニル（オキシ）基、ブタジエニル（オキシ）基、スチリル（オキシ）基、エチニル（オキシ）基、シンナモイル（オキシ）基、マレエート基、（メタ）アクリルアミド基等を挙げることができる。また、ｎは好ましくは１〜２０の正の整数であり、さらに好ましくは１〜１０、特に好ましくは１〜５である。
【００９５】
本発明で用いられる反応性官能基修飾加水分解性シランの合成は、例えば、特開平９−１００１１１号公報に記載された方法を用いることができる。すなわち、例えば、重合性不飽和基を導入したい場合、（イ）メルカプトアルコキシシランと、ポリイソシアネート化合物と、イソシアネート基と反応可能な活性水素基含有重合性不飽和化合物との付加反応により行うことができる。また、（ロ）分子中にアルコキシシリル基及びイソシアネート基を有する化合物と、活性水素基含有重合性不飽和化合物との直接的反応により行うことができる。さらに、（ハ）分子中に重合性不飽和基及びイソシアネート基を有する化合物と、メルカプトアルコキシシラン又はアミノシランとの付加反応により直接合成することもできる。
【００９６】
（ｉｉ）の反応性シリカ微粒子の製造においては、反応性官能基修飾加水分解性シランを別途加水分解操作を行った後、これとシリカ微粒子を混合し、加熱、攪拌操作を行う方法、もしくは反応性官能基修飾加水分解性シランの加水分解をシリカ微粒子の存在下に行う方法、また、他の成分、例えば、多価不飽和有機化合物、単価不飽和有機化合物、放射線重合開始剤等の存在下、シリカ微粒子の表面処理を行う方法を選ぶことができるが、反応性官能基修飾加水分解性シランの加水分解をシリカ微粒子の存在下行う方法が好ましい。（ｉｉ）の反応性シリカ微粒子を製造する際、その温度は、通常２０℃以上１５０℃以下であり、また処理時間は５分〜２４時間の範囲である。
【００９７】
加水分解反応を促進するため、触媒として酸、塩もしくは塩基を添加してもよい。酸としては有機酸及び不飽和有機酸；塩基としては３級アミン又は４級アンモニウムヒドロキシドが好適な物として挙げられる。これら酸もしくは塩基触媒の添加量は反応性官能基修飾加水分解性シランに対して０．００１〜１．０重量％、好ましくは０．０１〜０．１重量％である。
【００９８】
反応性シリカ微粒子としては、分散媒を含有しない粉末状の微粒子を用いてもよいが、分散工程を省略でき、生産性が高い点から微粒子を溶剤分散ゾルとしたものを用いることが好ましい。
【００９９】
上記反応性シリカ微粒子の市販品としては、日産化学工業（株）製；ＭＩＢＫ−ＳＤ、ＭＩＢＫ−ＳＤＭＳ、ＭＩＢＫ−ＳＤＬ等を挙げることができる。
【０１００】
（第一のバインダー成分）
ハードコート層用硬化性樹脂組成物に用いられる第一のバインダー成分は、前記反応性シリカ微粒子の反応性官能基ａと架橋反応性を有する反応性官能基ｂを有する。当該反応性官能基ａと当該反応性官能基ｂ、及び当該反応性官能基ｂ同士が架橋結合し、網目構造が形成され、第一のハードコート層の硬度及び耐擦傷性を更に高める。
【０１０１】
第一のバインダー成分は、十分な架橋性を得るために、当該反応性官能基ｂを１分子あたり３つ以上有することが好ましい。
【０１０２】
反応性官能基ｂとしては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合及びエポキシ基等が挙げられる。
【０１０３】
反応性官能基ｂは、前記反応性官能基ａと同じであっても異なっていても良い。
【０１０４】
第一のバインダー成分としては、硬化性有機樹脂が好ましく、塗膜とした時に光が透過する透光性のものが好ましく、紫外線又は電子線で代表される電離放射線により硬化する樹脂である電離放射線硬化性樹脂、その他公知の硬化性樹脂などを要求性能などに応じて適宜採用すればよい。電離放射線硬化性樹脂としては、アクリレート系、オキセタン系、シリコーン系などが挙げられる。
【０１０５】
第一のバインダー成分として、１種又は２種以上のバインダー成分を用いることができる。
【０１０６】
第一のバインダー成分としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート、及びこれらの変性体が挙げられる。
尚、変性体としては、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性体、ＰＯ（プロピレンオキサイド）変性体、ＣＬ（カプロラクトン）変性体、及びイソシアヌル酸変性体等が挙げられる。
【０１０７】
また、後述する２つ以上の反応性官能基ｂを有する分子量が１０，０００未満の化合物（Ｂ）と類似の骨格で分子量が１０，０００以上の化合物も用いることができる。この様な化合物としては、例えば、商品名ビームセット３７１（荒川化学工業（株）製）が挙げられる。
【０１０８】
第一のバインダー成分としては、ペンタエリスリトールトリアクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが好ましく用いられ、ペンタエリスリトールトリアクリレートが特に好ましく用いられる。
【０１０９】
このほか、ハードコート層において、当該ハードコート層の硬度を向上させる点から、第一のバインダー成分として、下記化学式（４）で表されるポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマー（Ａ）と２つ以上の反応性官能基ｂを有する分子量が１０，０００未満の化合物（Ｂ）とを組み合わせて用いることが好ましい。
【０１１０】
【化３】
2010131771.tif 000007
化学式（４）において、Ｘは直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖が単独又は組み合わされてなり、当該炭化水素鎖は置換基を有していても良く、また当該炭化水素鎖間には異種原子が含まれていても良い、前記置換基を除いた炭素数が３〜１０の３価以上の有機基である。ｋは３〜１０の整数を表す。Ｌ１〜Ｌｋはそれぞれ独立に、エーテル結合、エステル結合、及びウレタン結合よりなる群から選択される１種以上を含む２価の基、又は、直接結合である。Ｒ１〜Ｒｋはそれぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖又は分岐の炭化水素基である。ｎ１、ｎ２・・・ｎｋはそれぞれ独立の数である。Ｙ１〜Ｙｋはそれぞれ独立に、１つ以上の反応性官能基ｂを有する化合物残基を示す。
【０１１１】
前記ポリマー（Ａ）、前記化合物（Ｂ）及び前記反応性シリカ微粒子が互いに反応可能であり、当該ポリマー（Ａ）が、当該化合物（Ｂ）及び当該反応性シリカ微粒子の両方と架橋結合を形成するため、ハードコートフィルムに十分な耐擦傷性を付与することができると推定される。
【０１１２】
（化学式（４）で表されるポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマー（Ａ））
前記ポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマー（Ａ）は、下記化学式（４）で表され、末端に３つ以上の反応性官能基ｂを有する分子量が１０００以上のポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマーである。
【０１１３】
【化４】
2010131771.tif 000008
化学式（４）において、Ｘは直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖が単独又は組み合わされてなり、当該炭化水素鎖は置換基を有していても良く、また当該炭化水素鎖間には異種原子が含まれていても良い、前記置換基を除いた炭素数が３〜１０の３価以上の有機基である。ｋは３〜１０の整数を表す。Ｌ１〜Ｌｋはそれぞれ独立に、エーテル結合、エステル結合、及びウレタン結合よりなる群から選択される１種以上を含む２価の基、又は、直接結合である。Ｒ１〜Ｒｋはそれぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖又は分岐の炭化水素基である。ｎ１、ｎ２・・・ｎｋはそれぞれ独立の数である。Ｙ１〜Ｙｋはそれぞれ独立に、１つ以上の反応性官能基ｂを有する化合物残基を示す。
【０１１４】
化学式（４）において、Ｘは直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖が単独又は組み合わされてなり、当該炭化水素鎖は置換基を有していても良く、また当該炭化水素鎖間には異種原子が含まれていても良く、前記置換基を除いた炭素数が３〜１０の３価以上の有機基である。化学式（４）で表されるポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマー（Ａ）において、Ｘは、線状側鎖であるポリアルキレンオキシド鎖（Ｏ−Ｒｋ）ｎｋ部分が出ている分岐点をｋ個有する短い主鎖に該当する。
【０１１５】
上記炭化水素鎖は、−ＣＨ２−のような飽和炭化水素又は−ＣＨ＝ＣＨ−のような不飽和炭化水素を含むものである。環状の炭化水素鎖は、脂環式化合物からなるものであっても良いし、芳香族化合物からなるものであっても良い。また、炭化水素鎖間にはＯ、Ｓ等の異種原子が含まれていても良く、炭化水素鎖間にエーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、ウレタン結合等を含んでいても良い。なお、直鎖や環状の炭化水素鎖に対して異種原子を介して分岐している炭化水素鎖は、後述する置換基の炭素数として数えられる。
【０１１６】
上記炭化水素鎖に有していても良い置換基としては、具体的にはハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、メルカプト基、シアノ基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、アセチル基、アセトキシ基、スルホン基等が挙げられるが特に限定されない。上記炭化水素鎖に有していても良い置換基には、上述のように直鎖や環状の炭化水素鎖に対して異種原子を介して分岐している炭化水素鎖も含まれ、例えば、アルコキシ基（ＲＯ−、ここでＲは飽和又は不飽和の直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖である。）、アルキルチオエーテル基（ＲＳ−、ここでＲは飽和又は不飽和の直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖である。）、アルキルエステル基（ＲＣＯＯ−、ここでＲは飽和又は不飽和の直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖である。）等が挙げられる。
【０１１７】
Ｘは、前記置換基を除いた炭素数が３〜１０の３価以上の有機基である。Ｘの前記置換基を除いた炭素数が３未満であると、線状側鎖であるポリアルキレンオキシド鎖（Ｏ−Ｒｋ）ｎｋ部分を３個以上有することが困難となる。一方、Ｘの前記置換基を除いた炭素数が１０を超えると、柔軟な部分が増え硬化膜の硬度が低下し、好ましくない。上記置換基を除いた炭素数の炭素数は、好ましくは３〜７であり、更に好ましくは３〜５である。
【０１１８】
Ｘとしては、上記条件を満たせば特に限定されない。例えば、下記構造を有するものが挙げられる。
【０１１９】
【化５】
2010131771.tif 000009
【０１２０】
中でも、好適な構造としては、上記構造（ｘ−１）、（ｘ−２）、（ｘ−３）、（ｘ−７）等が挙げられる。
【０１２１】
Ｘの原料としては、中でも、１，２，３−プロパントリオール（グリセロール）、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等、水酸基を分子中に３個以上有する炭素数が３〜１０の多価アルコール類や、カルボキシル基を分子中に３個以上有する炭素数が３〜１０の多価カルボン酸類や、アミノ基を分子中に３個以上有する炭素数が３〜１０の多価アミン酸類等が好適に用いられる。
【０１２２】
化学式（４）において、上記ｋは、分子中に有するポリアルキレンオキシド鎖（Ｏ−Ｒｋ）ｎｋの数を表し、３〜１０の整数を表す。ｋが３未満、すなわちポリアルキレンオキシド鎖が２つでは、十分な硬度が得られない。またｋが１０を超えると、柔軟な部分が増え硬化膜の硬度が低下し好ましくない。上記ｋは、好ましくは３〜７であり、更に好ましくは３〜５である。
【０１２３】
化学式（４）において、上記Ｌ１〜Ｌｋはそれぞれ独立に、エーテル結合、エステル結合、及びウレタン結合よりなる群から選択される１種以上を含む２価の基、又は、直接結合である。エーテル結合、エステル結合、及びウレタン結合よりなる群から選択される１種以上を含む２価の基とは、エーテル結合（−Ｏ−）、エステル結合（−ＣＯＯ−）、ウレタン結合（−ＮＨＣＯＯ−）そのものであっても良い。これらの結合は分子鎖が広がりやすく自由度が高いため、他の樹脂成分との相溶性を実現しやすい。
【０１２４】
エーテル結合、エステル結合、及びウレタン結合よりなる群から選択される１種以上を含む２価の基としては、例えば、−Ｏ−Ｒ−Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ−Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−Ｒ−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−Ｒ−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−Ｒ−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、−ＮＨＣＯＯ−Ｒ−Ｏ−、−ＮＨＣＯＯ−Ｒ−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−Ｒ−Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−Ｒ−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣＯＯ−Ｒ−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣＯＯ−Ｒ−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−Ｒ−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＨＣＯＯ−Ｒ−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−Ｒ−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−等が挙げられる。ここでＲは、飽和又は不飽和の、直鎖、分枝、又は環状の炭化水素鎖を示す。
【０１２５】
上記２価の基の具体例としては、例えば、（ポリ）エチレングリコール、（ポリ）プロピレングリコール等のジオールや、フマル酸、マレイン酸、コハク酸等のジカルボン酸、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソボロンジイソシアネート等のジイソシアネート等の活性水素を除いた残基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２６】
化学式（４）において、（Ｏ−Ｒｋ）ｎｋは、アルキレンオキシドが繰り返し単位の線状側鎖であるポリアルキレンオキシド鎖である。ここでＲ１〜Ｒｋはそれぞれ独立に、炭素数１〜４の直鎖又は分岐の炭化水素基である。アルキレンオキシドとしては、メチレンオキシド、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、イソブチレンオキシド等が挙げられるが、炭素数２〜３の直鎖又は分岐の炭化水素基であるエチレンオキシド、プロピレンオキシドが好適に用いられる。
【０１２７】
アルキレンオキシドＲｋ−Ｏの繰り返し単位数であるｎ１、ｎ２・・・ｎｋはそれぞれ独立の数である。ｎ１、ｎ２・・・ｎｋは、分子全体として重量平均分子量が１０００以上であることを満たせば特に限定されない。ｎ１、ｎ２・・・ｎｋは、それぞれ異なっていても良いが、鎖長がほぼ同様であることがハードコート層を形成した際の硬度を維持しつつクラックを抑制する点から好ましい。従って、ｎ１、ｎ２・・・ｎｋの差はそれぞれ０〜１００程度、更に０〜５０程度、特に０〜１０程度であることが好ましい。
ハードコート層を形成した際の硬度を維持しつつクラックを抑制する点から、ｎ１、ｎ２・・・ｎｋはそれぞれ２〜５００の数であることが好ましく、更に２〜３００の数であることが好ましい。
【０１２８】
Ｙ１〜Ｙｋはそれぞれ独立に、反応性官能基ｂ、又は、１つ以上の反応性官能基ｂを有する化合物残基を示す。これにより、当該ポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマーの末端に３つ以上の反応性官能基ｂがもたらされる。
Ｙ１〜Ｙｋが反応性官能基ｂそのものである場合、Ｙ１〜Ｙｋとしては例えば、（メタ）アクリロイル基等の重合性不飽和基が挙げられる。
【０１２９】
また、Ｙ１〜Ｙｋが１つ以上の反応性官能基ｂを有する化合物残基の場合の反応性官能基ｂとしては、例えば、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基（ＣＨ２＝ＣＨ−）、ＣＨ２＝ＣＲ−（ここでＲは炭化水素基）等の重合性不飽和基が挙げられる。反応性シリカ微粒子や後述する化合物（Ｂ）と反応可能なように、適宜反応性官能基ｂを選択すれば、化合物残基としては特に限定されない。Ｙ１〜Ｙｋが化合物残基の場合、当該Ｙ１〜Ｙｋが有する反応性官能基ｂの数は、１つでも良いが、２つ以上であることが更に架橋密度を上げることができ、ハードコート層とした際の硬度の点から好ましい。
【０１３０】
Ｙ１〜Ｙｋが１つ以上の反応性官能基ｂを有する化合物残基である場合、当該化合物残基は、少なくとも１つ以上の反応性官能基ｂと当該反応性官能基ｂとは別に更に反応性置換基を有する化合物から、当該反応性置換基又は当該反応性置換基の一部（水素等）を除いた残基である。
例えば、エチレン性不飽和基を有する化合物残基としては、具体的には例えば、以下の化合物のエチレン性不飽和基以外の反応性置換基又は反応性置換基の一部（水素等）を除いた残基が挙げられる。例えば、（メタ）アクリル酸、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１３１】
また、本発明に用いられるポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマー（Ａ）の分子量は、硬化膜に柔軟性を与え、クラックを防止する点から、１０００以上であり、更に好ましくは５０００以上、特に好ましくは１００００以上である。
【０１３２】
上記化学式（４）で表されるポリアルキレンオキシド鎖含有ポリマー（Ａ）を含有する市販品としては、例えば、商品名ダイヤビームＵＫ−４１５３（三菱レイヨン製；化学式（４）において、Ｘが（ｘ−７）、ｋは３、Ｌ１〜Ｌ３はそれぞれ直接結合、Ｒ１〜Ｒ３はそれぞれエチレンであり、ｎ１、ｎ２、ｎ３の合計が２０、Ｙ１〜Ｙ３はそれぞれアクリロイルオキシ基である。）等が挙げられる。
【０１３３】
前記ポリマー（Ａ）の含有量は、後述する前記化合物（Ｂ）１００重量部に対して５〜１００重量部であることが好ましく、１０〜５０重量部であることが更に好ましい。前記ポリマー（Ａ）の含有量は、後述する前記化合物（Ｂ）１００重量部に対して５重量部以上であれば、硬化膜に柔軟性と復元性を付与でき、１００重量部以下であれば、硬化膜の硬さを維持できる。
【０１３４】
（２つ以上の反応性官能基ｂを有する分子量が１０，０００未満の化合物（Ｂ））
２つ以上の反応性官能基ｂを有する分子量が１０，０００未満の化合物（Ｂ）は、前述の反応性シリカ微粒子と相俟って、第一のハードコート層の硬度を向上させ、十分な耐擦傷性を付与するものである。なお、上記ポリマー（Ａ）の構造を有するものは、２つ以上の反応性官能基ｂを有する分子量が１０，０００未満の化合物（Ｂ）から除かれる。
本発明において当該化合物（Ｂ）は、上記ポリマー（Ａ）と前述の反応性シリカ微粒子との組み合わせにおいて、互いに反応可能な反応性官能基ｂを有し、十分な耐擦傷性を有する広範な化合物から適宜選択して用いることができる。当該化合物（Ｂ）としては、１種単独で用いても良いが、２種以上を適宜混合して用いても良い。
２つ以上の反応性官能基ｂを有する分子量が１００００未満の化合物（Ｂ）は、１分子中に含まれる反応性官能基ｂが３個以上であることが、硬化膜の架橋密度をあげて、硬度を付与する点から好ましい。ここで化合物（Ｂ）が分子量分布を有するオリゴマーの場合、反応性官能基ｂ数は、平均の個数で表される。
また、化合物（Ｂ）の分子量は、硬度向上の点から、５，０００未満であることが好ましい。
【０１３５】
以下に具体例を挙げるが、本発明に用いられる化合物（Ｂ）は、これらに限定されるものではない。
重合性不飽和基を有する具体例として、重合性不飽和基を１分子内に２つ以上有する多官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート等の２官能（メタ）アクリレート化合物；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート（東亞合成製アロニックスＭ−３１５等）、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、フタル酸水素−（２，２，２−トリ−（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチル、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品等の３官能（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の４官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル、ウレタン変性品等の５官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル、ウレタン変性品、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、及びそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル、ウレタン変性品等の６官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
【０１３６】
３官能以上のアクリレート樹脂としては、市販品を使用することができ、具体的には、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＲＡＤ、ＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（例えば、ＤＰＨＡ、ＰＥＴ３０、ＧＰＯ３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ３３０、ＴＰＡ３３０、Ｄ３１０、Ｄ３３０、ＰＭ２、ＰＭ２１、ＤＰＣＡ２０、ＤＰＣＡ３０、ＤＰＣＡ６０、ＤＰＣＡ１２０）；東亞合成（株）製のアロニックスシリーズ（例えば、Ｍ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３２７、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０２、Ｍ４０８、Ｍ４５０、Ｍ７１００、Ｍ７３００Ｋ、Ｍ８０３０、Ｍ８０６０、Ｍ８１００、Ｍ８５３０、Ｍ８５６０、Ｍ９０５０）；新中村化学工業（株）製のＮＫエステルシリーズ（例えば、ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−ＴＭＰＴ−６ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＣＬ、Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−６Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−１１Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−１８Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−９３００、ＡＤ−ＴＭＰ−４ＣＬ、ＡＤ−ＴＭＰ）；新中村化学工業（株）製のＮＫエコノマーシリーズ（例えば、ＡＤＰ５１、ＡＤＰ３３、ＡＤＰ４２、ＡＤＰ２６、ＡＤＰ１５）；第一工業製薬（株）製のニューフロンティアシリーズ（例えば、ＴＭＰＴ、ＴＭＰ３、ＴＭＰ１５、ＴＭＰ２Ｐ、ＴＭＰ３Ｐ、ＰＥＴ３、ＴＥＩＣＡ）；ダイセル・ユーシービー（株）製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、（例えば、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＴＡＮ、１６０、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＯＴＡ４８０、５３、ＰＥＴＩＡ、２０４７、４０、１４０、１１４０、ＰＥＴＡＫ、ＤＰＨＡ）；サーマー社製のＣＤ５０１、ＣＤ９０２１、ＣＤ９０５２、ＳＲ３５１、ＳＲ３５１ＨＰ、ＳＲ３５１ＬＶ、ＳＲ３６８、ＳＲ３６８Ｄ、ＳＲ４１５、ＳＲ４４４、ＳＲ４５４、ＳＲ４５４ＨＰ、ＳＲ４９２、ＳＲ４９９、ＳＲ５０２、ＳＲ９００８、ＳＲ９０１２、ＳＲ９０２０、ＳＲ９０２０ＨＰ、ＳＲ９０３５、ＣＤ９０５１、ＳＲ３５０、ＳＲ９００９、ＳＥ９０１１、ＳＲ２９５、ＳＲ３５５、ＳＲ３９９、ＳＲ３９９ＬＶ、ＳＲ４９４、ＳＲ９０４１等が挙げられる。
【０１３７】
（メタ）アクリレート系オリゴマー（乃至プレポリマー）としては、例えば、グリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸若しくはカルボン酸塩基を持つモノマーとの付加反応によって得られるエポキシ（メタ）アクリレート類；ポリオールとポリイソシアネートとの反応物と水酸基を含有する（メタ）アクリレートとの付加反応によって得られるウレタン（メタ）アクリレート類；ポリオールと多塩基酸から成るポリエステルポリオールと、（メタ）アクリル酸とのエステル化によって得られるポリエステルアクリレート類；ポリブタジエン又は水添ポリブタジエン骨格を有する（メタ）アクリル化合物であるポリブタジエン（メタ）アクリレート等が挙げられる。本発明における必須成分が有する反応性官能基ｂが重合性不飽和基の場合、中でもウレタン（メタ）アクリレートは、硬化膜に硬度と柔軟性を与える点から、好適に用いられる。
【０１３８】
上記エポキシ（メタ）アクリレート類に用いられるグリシジルエーテルとしては、例えば、１，６−ヘキサンジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールグリシジルエーテル、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ナフタレン系エポキシ樹脂、カルドエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、上記ウレタン（メタ）アクリレート類に用いられるポリオールとしては、例えば、１，６−ヘキサンジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリカプロラクトンジオール、ポリカーボネートジオール、ポリブタジエンポリオール、ポリエステルジオール等が挙げられる。上記ウレタン（メタ）アクリレート類に用いられるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフエニルメタンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、ヘキサメレチンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等が挙げられる。上記ウレタン（メタ）アクリレート類に用いられる水酸基を含有する（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記ポリエステルアクリレート類に用いられるポリエステルポリオールを形成するためのポリオールとしては、例えばエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，４−ブタンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等が挙げられ、多塩基酸としては、例えばコハク酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸等が挙げられる。
【０１３９】
また、本発明に用いられる化合物（Ｂ）としては、分子量が１００，０００未満である下記化学式（５）で表される重合体も用いることができる。
【０１４０】
【化６】
2010131771.tif 000010
化学式（５）中、Ｄは炭素数１〜１０の連結基を表し、ｑは０又は１を表す。Ｒは水素原子又はメチル基を表す。Ｅは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。ｏ、ｐは各重合単位のモル％である。ｐは０であっても良い。
【０１４１】
化学式（５）中のＤは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
【０１４２】
化学式（５）中の連結基Ｄの好ましい例としては、＊−（ＣＨ２）２−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ２）２−ＮＨ−＊＊、＊−（ＣＨ２）４−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ２）６−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ）２−Ｏ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−Ｏ−＊＊等が挙げられる。ここで、＊は、ポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は、（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。
【０１４３】
化学式（５）中、Ｒは水素原子又はメチル基を表すが、硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
【０１４４】
化学式（５）においてｏは１００モル％、すなわち単独の重合体であっても良い。また、ｏが１００モル％であっても、ｏモル％で表された（メタ）アクリロイル基を含有する重合単位が２種以上混合して用いられた共重合体であってもよい。ｏとｐの比は、特に制限はなく、硬度や、溶剤への溶解性、光透過性等種々の観点から適宜選択することができる。
【０１４５】
化学式（５）中、Ｅは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、特に制限はなく、硬度や、溶剤への溶解性、光透過性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。
【０１４６】
例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸及びその誘導体等を挙げることができる。
【０１４７】
また、重量平均分子量が１０，０００未満である、末端や側鎖にエチレン性不飽和結合を有する反応性オリゴマーも用いることができる。当該反応性オリゴマーとしては、骨格成分がポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（アクリロニトリル／スチレン）、ポリ（（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシメチル／（メタ）アクリル酸メチル）、ポリ（（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシメチル／（メタ）アクリル酸ブチル）、及び、これらの樹脂とシリコーン樹脂との共重合体等が挙げられる。
【０１４８】
以上の化合物については市販品を用いることができる。重量平均分子量が１０，０００未満であり、且つ、２以上の重合性不飽和基を有するウレタンアクリレートとしては、共栄社化学（株）製  商品名ＡＨ−６００、ＡＴ−６００、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ等が挙げられる。本発明の前記ポリマー（Ａ）との組み合わせにおいて好適に用いられるウレタン（メタ）アクリレートとしては、イソホロンジイソシアネートの単量体又は多量体とペンタエリスリトール多官能アクリレートとジペンタエリスリトール多官能アクリレートとを反応して得られるウレタン（メタ）アクリレートが挙げられる。当該ウレタン（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、商品名ＵＶ−１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製）が挙げられる。
【０１４９】
ウレタン（メタ）アクリレート樹脂は市販品を使用することができ、具体的には、日本合成化学工業（株）製の紫光シリーズ、例えば、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６５Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ等が挙げられ；根上工業（株）製のアートレジンシリーズ、例えば、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＵＮ９０００Ｈ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ９０１Ｍ、アートレジンＵＮ９０２ＭＳ、アートレジンＵＮ９０３等が挙げられ；新中村化学工業（株）製のＵＡ１００Ｈ、Ｕ４Ｈ、Ｕ６Ｈ、Ｕ１５ＨＡ、ＵＡ３２Ｐ、Ｕ６ＬＰＡ、Ｕ３２４Ａ、Ｕ９ＨＡＭＩ等が挙げられ；ダイセル・ユーシービー（株）製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、例えば、１２９０、５１２９、２５４、２６４、２６５、１２５９、１２６４、  ４８６６、９２６０、８２１０、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０等が挙げられ；荒川化学工業（株）製のビームセットシリーズ、例えば、３７１、３７１ＭＬＶ、３７１Ｓ、５７７、５７７ＢＶ、５７７ＡＫ等が挙げられ；三菱レイヨン（株）製のＲＱシリーズが挙げられ；ＤＩＣ（株）製のユニディックシリーズ等が挙げられ；ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＣＮ９００６、ＣＮ９６８（サーマー社製）等が挙げられる。この中でも、好ましくは、ＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬（株）製）、アートレジンＨＤＰ（根上工業（株）製）、ビームセット３７１、ビームセット５７７（荒川化学工業（株）製）、Ｕ１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０１５０】
また、重量平均分子量が１０，０００未満であり、且つ、２以上の重合性不飽和基を有するエポキシアクリレートとしては、昭和高分子（株）製  商品名ＳＰシリーズ（ＳＰ−４０６０、１４５０等）、ＶＲシリーズ（ＶＲ−６０、１９５０；ＶＲ−９０、１１００等）等；日本合成化学工業（株）製  商品名ＵＶ−９１００Ｂ、ＵＶ−９１７０Ｂ等；新中村化学工業（株）製  商品名ＥＡ−６３２０／ＰＧＭＡｃ、ＥＡ−６３４０／ＰＧＭＡｃ等が挙げられる。
【０１５１】
また、重量平均分子量が１０，０００未満であり、且つ、２以上の重合性不飽和基を有する反応性オリゴマーとしては、東亞合成（株）製  商品名マクロモノマーシリーズ  ＡＡ−６、ＡＳ−６、ＡＢ−６、ＡＡ−７１４ＳＫ等が挙げられる。
【０１５２】
（その他の成分）
第一の硬化性樹脂組成物には、上記成分のほかに、更に重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等を適宜添加することもできる。更に、反応性又は非反応性レベリング剤、各種増感剤等の各種添加剤が混合されていても良く、塗工性や硬度を向上させるために溶剤が含まれていても良い。帯電防止剤及び／又は防眩剤を含む場合には、ハードコート層に、更に帯電防止性及び／又は防眩性を付与できる。
【０１５３】
（重合開始剤）
上記ラジカル重合性官能基やカチオン重合性官能基の開始又は促進させるために、必要に応じてラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等を適宜選択して用いても良い。これらの重合開始剤は、光照射及び／又は加熱により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
【０１５４】
ラジカル重合開始剤は、光照射及び／又は加熱によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。例えば、光ラジカル重合開始剤としては、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、Ｎ−アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン類、アルミナート錯体、有機過酸化物、Ｎ−アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられ、更に具体的には、１，３−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラキス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３−フェニル−５−イソオキサゾロン、２−メルカプトベンズイミダゾール、ビス（２，４，５−トリフェニル）イミダゾール、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名イルガキュア６５１、チバ・ジャパン（株）製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名イルガキュア１８４、チバ・ジャパン（株）製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン（商品名イルガキュア３６９、チバ・ジャパン（株）製）、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム）（商品名イルガキュア７８４、チバ・ジャパン（株）製）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１５５】
上記以外にも、市販品が使用でき、具体的には、チバ・ジャパン（株）製のイルガキュア９０７、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ  ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３、日本シイベルヘグナー（株）製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＫＴＯ４６、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＣＴＸ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＭＢＩ等が挙げられる。
【０１５６】
また、カチオン重合開始剤は、光照射及び／又は加熱によりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。カチオン重合開始剤としては、スルホン酸エステル、イミドスルホネート、ジアルキル−４−ヒドロキシスルホニウム塩、アリールスルホン酸−ｐ−ニトロベンジルエステル、シラノール−アルミニウム錯体、（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（ＩＩ）等が例示され、さらに具体的には、ベンゾイントシレート、２，５−ジニトロベンジルトシレート、Ｎ−トシフタル酸イミド等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１５７】
ラジカル重合開始剤としても、カチオン重合開始剤としても用いられるものとしては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物、鉄アレーン錯体等が例示され、更に具体的には、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウム等のヨードニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム、４−ｔｅｒｔ−ブチルトリフェニルスルホニウム、トリス（４−メチルフェニル）スルホニウム等のスルホニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のスルホニウム塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン等の２，４，６−置換−１，３，５トリアジン化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１５８】
（帯電防止剤）
帯電防止剤の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物及びそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、又は金属キレート部を有し、且つ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー、或いは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基を有する且つ、カップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
帯電防止剤としては、導電性ポリマーも挙げることができる。導電性ポリマーとしては特に限定されず、例えば、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、脂肪族共役系のポリアセチレン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。
【０１５９】
また、前記帯電防止剤の他の例としては、導電性微粒子が挙げられる。当該導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。前記導電性微粒子の平均１次粒径は、０．１ｎｍ〜０．１μｍであることが好ましい。かかる範囲内であることにより、前記導電性微粒子をバインダーに分散した際、ヘイズがほとんどなく、全光線透過率が良好な高い光透過性を有する膜を形成可能な組成物が得られる。
【０１６０】
（防眩剤）
防眩剤としては微粒子が挙げられ、微粒子の形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは有機系材料により形成されてなるものが好ましい。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは光透過性のものがよい。微粒子の具体例としては、プラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは、光透過性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。微粒子の添加量は、樹脂組成物１００重量部に対し、２〜３０重量部、好ましくは１０〜２５重量部程度である。
【０１６１】
（第一の硬化性樹脂組成物の溶剤）
溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ノルマルブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、メチルグリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、メチルグリコールアセテート、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ニトロメタン、Ｎ―メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物；ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエタン、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン等のその他の物；又はこれらの混合物が挙げられる。
ハードコートフィルムの硬度を向上できる点から、ＭＩＢＫ、ＰＧＭＥ、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ノルマルブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、及びｔｅｒｔ−ブタノールよりなる群から選ばれる１種以上の非浸透性溶剤であることが好ましい。非浸透性溶剤を用いることにより、上記第一のバインダー成分が光透過性基材フィルムに浸透しなくなるため、第一のハードコート層の硬度を高めることができる。
なお、本発明において、浸透とは、光透過性基材フィルムを溶解又は膨潤させることをいう。
【０１６２】
３．第二のハードコート層
本発明の第二のハードコート層は、第二のバインダー成分を含む第二の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、膜厚１〜２０μｍであり、当該第二のハードコート層に対する法線方向の荷重をかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度は、前記第一のハードコート層よりも小さく、前記法線方向の荷重を解消したときの押込深さの回復率は、第二のハードコート層が前記第一のハードコート層よりも大きく、且つ、
前記第一及び第二のハードコート層にそれぞれ、法線方向の荷重をかけながら水平方向に一定速度で当該層を切削したときの水平力は、第二のハードコート層が前記第一のハードコート層よりも大きいことにより、優れた柔軟性を有する層となる。
【０１６３】
本発明に係るハードコートフィルムは、マルテンス硬度が大きく下地の層として機能する前記第一のハードコート層、柔軟性に優れた第二のハードコート層を、光透過性基材フィルム側からこの順序で有することにより、硬度及び耐擦傷性に優れる。
【０１６４】
第二のハードコート層は、第二のバインダー成分を含む第二の硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、膜厚１〜２０μｍであることにより、衝撃に対する回復性に優れ、水平力が大きく、優れた柔軟性を有する。
第二のハードコート層の柔軟性により、当該第二のハードコート層がない場合に比べ、光透過性基材フィルム側の層に伝わる衝撃や荷重を和らげ、当該衝撃や荷重が解消した際に回復し、傷等による外観の品質劣化を低減する効果がある。
【０１６５】
本発明の第二のハードコート層において、当該第二のハードコート層に対する法線方向の荷重１００〜５００ｍＮをかけたとき、当該荷重によるマルテンス硬度は、２１５〜２８０Ｎ／ｍｍ２であり、前記法線方向の荷重５００ｍＮを解消したときの前記押込深さの回復率が、第二のハードコート層では９５％以上であり、法線方向に荷重１００ｍＮをかけながら、水平方向に速度２０ｎｍ／ｓｅｃで当該層を切削したときの水平力が０．０８Ｎ以上であることが、表面層として優れた柔軟性を発揮する点から好ましい。
水平力が小さいということは少しの荷重でもハードコート層が割れてしまうこと、すなわちハードコート層が割れやすく、脆いことを意味する。
前記法線方向の荷重が１００〜５００ｍＮである場合に、前記マルテンス硬度、及び水平力が上記範囲、且つ法線方向の荷重５００ｍＮを解消したときの前記押込深さの回復率が上記範囲であれば、鉛筆硬度に優れたハードコートフィルムが得られる。法線方向の荷重が１００ｍＮ未満では、ハードコート層の光透過性基材とは反対側の表面部分しか測定できず、ハードコート層全体の鉛筆硬度を測定することができない。また、法線方向の荷重が５００ｍＮ超過では、荷重が大きすぎるためハードコート層を超えて光透過性基材まで押し込んでしまう。
【０１６６】
第二のハードコート層の膜厚は１〜２０μｍであるが、第一のハードコート層があるため、硬度付与の点から１．５μｍ以上が好ましい。また、カール低減の点から１５μｍ以下が好ましい。
また、硬度を維持しながらカールを低減するために第一及び第二のハードコート層の膜厚の合計は２５μｍ以下である。
【０１６７】
以下、硬化して第二のハードコート層を形成する第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物について説明する。
【０１６８】
（第二の硬化性樹脂組成物）
第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物は、第二のバインダー成分を必須成分として含み、その他、硬度、帯電防止性、防眩性、塗工性を考慮して適宜、第二の反応性シリカ微粒子、帯電防止剤、防眩剤、及び溶剤等の成分を含んでいても良い。
以下、各成分について説明する。
【０１６９】
（第二のバインダー成分）
第二のバインダー成分は、第一のバインダー成分や前記反応性シリカ微粒子と架橋反応可能な反応性官能基ｃを有し、上記第一の硬化性樹脂組成物で説明した第一のバインダー成分と同じものを用いることができる。第二のバインダー成分は前記第一のバインダー成分と同じであっても異なっていても良い。
【０１７０】
第二のバインダー成分として、１種又は２種以上のバインダー成分を用いることができる。
【０１７１】
反応性官能基ｃは、前記反応性官能基ａ及び反応性官能基ｂと同じであっても異なっていても良い。
【０１７２】
第二のバインダー成分としては、ペンタエリスリトールトリアクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが好ましく用いられ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが特に好ましく用いられる。
【０１７３】
（第二の硬化性樹脂組成物のその他の成分）
第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物には、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、硬度、重合開始剤、帯電防止性、防眩性、防汚性、塗工性等を考慮して、第二の微粒子、帯電防止剤、防眩剤、防汚剤、及び溶剤等のその他の成分が含まれていても良い。
【０１７４】
（第二の反応性シリカ微粒子）
第二の硬化性樹脂組成物に含まれていても良い第二の反応性シリカ微粒子は、上記第一の硬化性樹脂組成物に含まれる反応性シリカ微粒子と同様のものが挙げられる。
第二の反応性シリカ微粒子の第二の硬化性樹脂組成物に対する含有量は、第二の硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、０重量％以上３０重量％未満であることが好ましく、１重量％以上３０重量％未満であることがより好ましい。３０重量％未満であることにより、第二のバインダー成分の回復性を確保しやすく、第一のハードコート層との密着性も高め、第二のハードコート層の水平力を高めることもできる。
【０１７５】
（第二の硬化性樹脂組成物の重合開始剤）
重合開始剤は、上記第一の硬化性樹脂組成物で挙げたものと同様のものが挙げられ、第二の硬化性樹脂組成物に含まれる重合開始剤と上記第一の硬化性樹脂組成物の重合開始剤は同じであっても異なっていても良い。
【０１７６】
（第二の硬化性樹脂組成物の帯電防止剤）
帯電防止剤は、上記第一の硬化性樹脂組成物で挙げたものと同様のものが挙げられ、第二の硬化性樹脂組成物に含まれる帯電防止剤と上記第一の硬化性樹脂組成物の帯電防止剤は同じであっても異なっていても良い。
【０１７７】
（第二の硬化性樹脂組成物の防眩剤）
防眩剤は、上記第一の硬化性樹脂組成物で挙げたものと同様のものが挙げられ、第二の硬化性樹脂組成物に含まれる防眩剤と上記第一の硬化性樹脂組成物の防眩剤は同じであっても異なっていても良い。
【０１７８】
（第二の硬化性樹脂組成物の溶剤）
第二の硬化性樹脂組成物のその他の成分である溶剤は、非浸透性及び浸透性のどちらでもよく、両方を組み合わせて用いても良い。
【０１７９】
４．その他の層
ハードコートフィルムは、上記したように光透過性基材フィルム、第一のハードコート層及び第二のハードコート層により基本的には構成されてなる。しかしながら、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、ハードコートフィルムとしての機能又は用途を加味して、上記第一のハードコート層の光透過性基材フィルム側に、更に下記のような一又は二以上の層を設けてもよい。
【０１８０】
４−１．帯電防止層
帯電防止層は、帯電防止剤と硬化性樹脂を含む帯電防止層用硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。帯電防止層の厚さは、３０ｎｍ〜３μｍ程度であることが好ましい。
【０１８１】
帯電防止剤としては、上記第一のハードコート層の帯電防止剤で挙げたものと同様のものを用いることができる。
【０１８２】
帯電防止層用硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂としては、公知のものを適宜選択して、１種又は２種以上用いることができる。
【０１８３】
４−２．中屈折率層及び高屈折率層
中屈折率層及び高屈折率層は、通常、バインダー成分と屈折率調整用の粒子とを主に含有する。バインダー成分としては、ハードコート層と同様のものを用いることができる。また、必要に応じて用いられる光重合開始剤、各種添加剤、形成方法等についてもハードコート層と同様とすればよい。
【０１８４】
屈折率調整用の粒子としては、例えば、粒子径が１００ｎｍ以下の微粒子を挙げることができる。このような微粒子としては、酸化亜鉛（屈折率：１．９０）、チタニア（屈折率：２．３〜２．７）、セリア（屈折率：１．９５）、スズドープ酸化インジウム（屈折率：１．９５）、アンチモンドープ酸化スズ（屈折率：１．８０）、イットリア（屈折率：１．８７）、ジルコニア（屈折率：２．０）からなる群から選ばれた１種以上を挙げることができる。
【０１８５】
４−３．防眩層
防眩層は、防眩剤と硬化性樹脂を含む防眩層用硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。当該硬化性樹脂は、公知のものを適宜選択して、１種又は２種以上用いることができる。
【０１８６】
（防眩剤）
防眩剤としては、上記第一のハードコート層の防眩剤で挙げたものと同様のものを用いることができる。
【０１８７】
４−４．第三のハードコート層
ハードコートフィルムの硬度を更に向上させる点から、上記第一のハードコート層及び第二のハードコート層と同じ又は異なる第三のハードコート層を設けても良い。
第三のハードコート層は前記第一及び第二のハードコート層と同様のものを用いることができ、当該第一及び第三又は第二及び第三のハードコート層の組成は同一であっても良く、異なっていても良い。
【０１８８】
図３は、本発明に係るハードコートフィルムの層構成の他の一例を模式的に示した断面図である。
光透過性基材フィルム１０の一面側に、光透過性基材フィルム１０から順に、帯電防止層８０、第一のハードコート層６０及び第二のハードコート層７０が設けられている。
【０１８９】
ＩＩ．ハードコートフィルムの製造方法
本発明に係るハードコートフィルムは、従来公知の方法で製造すればよく、特に限定されない。例えば、光透過性基材フィルムの一面側に、第一の硬化性樹脂組成物を塗布し、塗膜とし、半硬化又は完全硬化させ、次いで、第一の硬化性樹脂組成物の塗膜上に第二の硬化性樹脂組成物を塗布し、塗膜とし、半硬化した第一の硬化性樹脂組成物の塗膜とともに完全硬化させるか、第二の硬化性樹脂組成物を硬化させることにより第二のハードコート層を形成する。
【０１９０】
（第一及び第二のハードコート層の形成方法）
ハードコート層は、従来公知の方法で形成すれば良い。
例えば、調製した第一の硬化性樹脂組成物を光透過性基材フィルムの一面側に塗布し、塗膜を形成し、乾燥を行い、次いで、前記塗膜を光及び／又は熱により硬化させ、第一のハードコート層を形成する。
第二のハードコート層も第一の硬化性樹脂組成物の半硬化した塗膜や完全硬化した第一のハードコート層上に上記第一の硬化性樹脂組成物と同様に塗布し、硬化させればよい。
【０１９１】
第一及び第二の硬化性樹脂組成物は、通常、溶剤に反応性シリカ微粒子やバインダー成分の他、重合開始剤等を一般的な調製法に従って、混合し分散処理することにより調製される。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等を用いることができる。
【０１９２】
塗布方法は、光透過性基材フィルム表面や第一の硬化性樹脂組成物の塗膜に硬化性樹脂組成物を均一に塗布することができる方法であれば特に限定されるものではなく、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。
また、光透過性基材フィルム表面や第一の硬化性樹脂組成物の塗膜上への第一及び第二の硬化性樹脂組成物の塗工量としては、得られるハードコートフィルムが要求される性能により異なるものであるが、乾燥後の膜厚が３〜２５μｍになるように適宜調節すればよく、塗工量が３ｇ／ｍ２〜３０ｇ／ｍ２の範囲内、特に５ｇ／ｍ２〜２５ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【０１９３】
乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥又は加熱乾燥、更にはこれらの乾燥を組み合わせる方法等が挙げられる。また、常圧で乾燥させる場合は、３０〜１１０℃で乾燥させることが好ましい。例えば、ハードコート層用硬化性樹脂組成物の溶剤としてメチルイソブチルケトンを用いる場合は、通常室温〜８０℃、好ましくは４０℃〜７０℃の範囲内の温度で、２０秒〜３分、好ましくは３０秒〜１分程度の時間で乾燥工程が行われる。
【０１９４】
次に、第一及び第二の硬化性樹脂組成物を塗布、必要に応じて乾燥させた塗膜に対し、当該硬化性樹脂組成物に含まれる反応性シリカ微粒子やバインダー成分の反応性官能基に応じて、光照射及び／又は加熱して塗膜を硬化させることにより、硬化性樹脂組成物の硬化物からなるハードコート層が形成される。
【０１９５】
光照射には、主に、紫外線、可視光、電子線、電離放射線等が使用される。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２程度である。
加熱する場合は、通常４０℃〜１２０℃の温度にて処理する。また、室温（２５℃）で２４時間以上放置することにより反応を行っても良い。
【０１９６】
（その他の層の形成）
光透過性基材フィルム上にその他の層を形成する場合は、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物を塗布する前に、その他の層の硬化性樹脂組成物を塗布し、乾燥させ、光照射及び／又は加熱してその他の層を形成し、その後、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させ第一のハードコート層を形成すればよい。
【実施例】
【０１９７】
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。
反応性シリカ微粒子（１）として、日産化学工業（株）製、ＭＩＢＫ−ＳＤＬ（平均１次粒径４４ｎｍ、固形分３０％液（溶剤；ＭＩＢＫ）、反応性官能基はメタクリレート基）を用いた。
反応性シリカ微粒子（２）として、日産化学工業（株）製、ＭＩＢＫ−ＳＤＬ（平均１次粒径１２ｎｍ、固形分３０％液（溶剤；ＭＩＢＫ）、反応性官能基はメタクリレート基）を用いた。
反応性シリカ微粒子（３）として、日産化学工業（株）製、ＭＩＢＫ−ＳＤＬ（平均１次粒径２０ｎｍ、固形分３０％液（溶剤；ＭＩＢＫ）、反応性官能基はメタクリレート基）を用いた。
反応性シリカ微粒子（４）として、日産化学工業（株）製、ＭＩＢＫ−ＳＤＬ（平均１次粒径８０ｎｍ、固形分３０％液（溶剤；ＭＩＢＫ）、反応性官能基はメタクリレート基）を用いた。
反応性シリカ微粒子（５）として、日揮触媒化成（株）製、ＤＰ１０３９ＳＩＶ（異形形状、平均１次粒径５５ｎｍ、平均連結数３．５個、固形分４０％液（溶剤；ＭＩＢＫ）、反応性官能基はメタクリレート基）を用いた。
反応性シリカ微粒子（６）として、日産化学工業（株）製、ＭＩＢＫ−ＳＴＤ２Ｌ（平均１次粒径４４ｎｍ、固形分３０％液（溶剤；ＭＩＢＫ）、反応性官能基はアクリレート基）を用いた。
反応性官能基をもたないシリカ粒子（１）として、平均１次粒径４４ｎｍのシリカ微粒子を用いた。
バインダー成分（１）として、日本化薬（株）製、ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）を用いた。
バインダー成分（２）として、日本化薬（株）製、ＰＥＴ３０（ペンタエリスリトールトリアクリレート）を用いた。
バインダー成分（３）として、日本合成化学工業（株）製、ＵＶ１７００Ｂ（多官能ウレタンアクリレート、１０官能、分子量２０００）を用いた。
バインダー成分（４）として、荒川化学工業（株）製、ビームセットＤＫ１（反応性官能基はアクリレート基、３０官能以上、重量平均分子量２００００、固形分７５重量％、ＭＫＢＫ溶剤）を用いた。
バインダー成分（５）として、東亞合成（株）製、Ｍ２１５（イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、分子量３３３、反応性官能基数２）を用いた。
重合開始剤として、チバ・ジャパン（株）製、イルガキュア１８４を用いた。
レベリング剤として、ＤＩＣ（株）製、メガファックＭＣＦ３５０−５（固形分）を用いた。
光透過性基材フィルムとして、ＴＡＣフィルム（厚み４０μｍ、トリアセチルセルロース樹脂フィルム、商品名：ＫＣ４ＵＹ、コニカ（株）製）を用いた。
各化合物の略語はそれぞれ、以下の通りである。
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールトリアクリレート
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
【０１９８】
（硬化性樹脂組成物の調製）
下記に示す組成の成分を配合して硬化性樹脂組成物１−１〜１−１２、及び２−１〜２−２をそれぞれ、調製した。各硬化性樹脂組成物の反応性シリカ微粒子又はシリカ微粒子の硬化性樹脂組成物の全固形分に対する配合割合（重量％）、バインダー成分の種類、及び当該バインダー成分の官能基数を表１に示す。
【０１９９】
（硬化性樹脂組成物１−１）
反応性シリカ微粒子（１）：１４０重量部（固形分４２重量部）
バインダー成分（１）：５８重量部
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：５７重量部
【０２００】
（硬化性樹脂組成物１−２）
反応性シリカ微粒子（２）：１４０重量部（固形分４２重量部）
バインダー成分（１）：５８重量部
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：５７重量部
【０２０１】
（硬化性樹脂組成物１−３）
反応性シリカ微粒子（３）：１４０重量部（固形分４２重量部）
バインダー成分（１）：５８重量部
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：５７重量部
【０２０２】
（硬化性樹脂組成物１−４）
反応性シリカ微粒子（４）：１４０重量部（固形分４２重量部）
バインダー成分（１）：５８重量部
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：５７重量部
【０２０３】
（硬化性樹脂組成物１−５）
反応性シリカ微粒子（５）：１０５重量部（固形分４２重量部）
バインダー成分（１）：５８重量部
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：９０重量部
【０２０４】
（硬化性樹脂組成物１−６）
反応性シリカ微粒子（６）：１４０重量部（固形分４２重量部）
バインダー成分（１）：５８重量部
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：５７重量部
【０２０５】
（硬化性樹脂組成物１−７）
反応性シリカ微粒子（６）：１４０重量部（固形分４２重量部）
バインダー成分（２）：５８重量部
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：５７重量部
【０２０６】
（硬化性樹脂組成物１−８）
反応性シリカ微粒子（１）：１４０重量部（固形分４２重量部）
バインダー成分（３）：５８重量部
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：５７重量部
【０２０７】
（硬化性樹脂組成物１−９）
反応性シリカ微粒子（１）：１４０重量部（固形分４２重量部）
バインダー成分（４）：７７重量部（固形分５８重量部）
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：３７重量部
【０２０８】
（硬化性樹脂組成物１−１０）
反応性シリカ微粒子（１）：２００重量部（固形分６０重量部）
バインダー成分（１）：４０重量部
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：１０重量部
【０２０９】
（硬化性樹脂組成物１−１１）
シリカ微粒子（１）：１４０重量部（固形分４２重量部）
バインダー成分（１）：５８重量部
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：５７重量部
【０２１０】
（硬化性樹脂組成物１−１２）
シリカ微粒子（１）：１４０重量部（固形分４２重量部）
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：５７重量部
【０２１１】
（第二の硬化性樹脂組成物２−１）
バインダー成分（１）：１００重量部
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：１５０重量部
【０２１２】
（第二の硬化性樹脂組成物２−２）
バインダー成分（２）：１００重量部
イルガキュア１８４：４重量部
メガファックＭＣＦ３５０−５：０．２重量部
ＭＩＢＫ：１５０重量部
【０２１３】
【表１】
2010131771.tif 000011
【０２１４】
実施例１：ハードコートフィルムの作製
ＴＡＣフィルムの片面に、第一の硬化性樹脂組成物として、前記硬化性樹脂組成物１−１を塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚１０μｍの第一のハードコート層（下層）を形成した。さらに、当該第一のハードコート層上に、第二の硬化性樹脂組成物として、前記硬化性樹脂組成物２−１を塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚５μｍの第二のハードコート層（上層）を形成し、実施例１のハードコートフィルムを作製した。
【０２１５】
（実施例２〜１２、及び比較例１〜７）
実施例１において、第一の硬化性樹脂組成物及び第二の硬化性樹脂組成物を１を表１に示す組成物に代え、膜厚を表に示すように代えた以外は実施例１と同様にして、実施例２〜１２、及び比較例１〜７のハードコートフィルムをそれぞれ作製した。
【０２１６】
（ハードコート層の評価）
作製した実施例１〜１２、及び比較例１〜７のハードコートフィルムの第一のハードコート層及び第二のハードコート層について、以下の様に、ＴＡＣフィルム上に膜厚１０μｍの第一のハードコート層又は第二のハードコート層のみを形成して、当該ハードコート層の法線方向の荷重１００ｍＮによるマルテンス硬度（Ｎ／ｍｍ２）、法線方向の荷重５００ｍＮを解消したときの押込深さの回復率（％）、法線方向に荷重１００ｍＮをかけながら水平方向に速度２０ｎｍ／ｓｅｃで当該層を切削したときの水平力（Ｎ）を測定した。その結果を表２に示す。また、第一ハードコート層のマルテンス硬度から第二ハードコート層のマルテンス硬度を引いた値、第二ハードコート層の回復率から第一ハードコート層の回復率を引いた値、及び第二ハードコート層の水平力から第一ハードコート層の水平力を引いた値をあわせて表２に示す。
【０２１７】
（ハードコートフィルムの評価）
また、作製した実施例１〜１２、及び比較例１〜７のハードコートフィルムについて、以下の様に、鉛筆硬度及びカール性を評価した。その結果を表２に示す。
【０２１８】
（評価：鉛筆硬度）
鉛筆硬度試験；鉛筆引っ掻き試験の硬度は、作製したハードコートフィルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）を行い、傷がつかない最も高い鉛筆硬度を評価した。
【０２１９】
（評価：カール性）
ハードコートフィルムのカールの度合い（カール幅）は、ハードコートフィルムをＴＡＣフィルムを下にして１０ｃｍ×１０ｃｍにカットしたサンプル片を水平な台（平面）の上に置き、浮き上がった第二のハードコート層の端点間の距離の平均値（ｍｍ）で評価した。
＜評価基準＞
○：１〜８５ｍｍであった。
×：１ｍｍ未満、又はロール状であった。
【０２２０】
【表２】
2010131771.tif 000012
【０２２１】
実施例１〜１２のハードコートフィルムは鉛筆硬度及びカール性ともに優れるものであった。
【０２２２】
第一の硬化性樹脂組成物に含まれるシリカ微粒子に反応性官能基がない比較例１では、第一のハードコート層の回復率が８５％と低く下地層が硬く脆いため、鉛筆硬度が２Ｈと低くなった。
第一の硬化性樹脂組成物にバインダー成分が含まれない比較例２では、第一のハードコート層の回復率が７０％と低く、鉛筆硬度が２Ｈと低くなった。
第一及び第二のハードコート層がそれぞれ１５μｍで、２層の合計膜厚が３０μｍと厚い比較例３では、鉛筆硬度は高かったが、カール性が悪化した。
第一及び第二のハードコート層がそれぞれ０．３μｍと薄い比較例４では、鉛筆硬度がＨと低くなった。
実施例１の第一のハードコート層と第二のハードコート層の組成物を入れ替えた比較例５では、下層である第一のハードコート層のマルテンス硬度が上層の第二のハードコート層よりも小さいため下地層の機能が十分に発揮されず、また、上層の第二のハードコート層の水平力が小さいため鉛筆硬度が３Ｈと低くなった。
実施例１の第一のハードコート層しか有しない比較例６では、第二のハードコート層の表層としての柔軟性がないため鉛筆硬度が３Ｈと低くなった。
実施例１の第二のハードコート層しか有しない比較例７では、硬度に優れる下地層がないため、鉛筆硬度が２Ｈと低くなった。
【図面の簡単な説明】
【０２２３】
【図１】図１は、ハードコートフィルムの切削の様子の一例を模式的に示した図である。
【図２】図２は、本発明に係るハードコートフィルムの層構成の一例を模式的に示した断面図である。
【図３】図３は、本発明に係るハードコートフィルムの層構成の他の一例を模式的に示した断面図である。
【符号の説明】
【０２２４】
１  ハードコートフィルム
１０  光透過性基材フィルム
２０  ハードコート層
３０、３１、３２  刃
４０  法線方向の荷重
５０  水平力
６０  第一のハードコート層
７０  第二のハードコート層
８０  帯電防止層
【図１】
2010131771.tif 000013
【図２】
2010131771.tif 000014
【図３】
2010131771.tif 000015