【事件の表示】
　特許第６４７７７７１号発明「洗浄水供給装置」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６４７７７７１号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１−３〕について訂正することを認める。
　特許第６４７７７７１号の請求項１に係る特許を維持する。
　特許第６４７７７７１号の請求項２及び請求項３に係る特許についての特許異議の申立てを却下する。
【理　由】
１　手続の経緯
　特許第６４７７７７１号の請求項１〜３に係る特許についての出願は、平成２９年４月１４日に出願され、平成３１年２月１５日にその特許権の設定登録がされ、平成３１年３月６日に特許掲載公報が発行された。
　本件特許異議の申立ての経緯は、次のとおりである。
令和　１年　９月　６日　　：　特許異議申立人黒崎惇子による請求項１〜３に係る特許に対する特許異議の申立て
令和　１年１１月２７日付け：　取消理由通知書
令和　２年　１月　８日　　：　特許権者による意見書及び訂正請求書の提出
令和　２年　２月１４日　　：　特許異議申立人黒崎惇子による意見書の提出
令和　２年　５月２１日付け：　取消理由通知書（決定の予告）
令和　２年　７月２２日　　：　特許権者による意見書及び訂正請求書の提出（以下、この訂正請求書による訂正請求を「本件訂正請求」という。）
令和　２年　９月１０日　　：　特許異議申立人黒崎惇子による意見書の提出
２　本件訂正請求による訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
ア　訂正事項１
　特許請求の範囲の請求項１に「ｐＨ調整剤及び／又は酸化還元電位調整剤を添加して」と記載されているのを、「ｐＨ調整剤及び酸化還元電位調整剤を添加して」に訂正するとともに、「該除去部は、イオン交換装置及び／又は白金族触媒装置を備える」と記載されているのを、「該洗浄機は、多数のバルブが不規則に開閉する多チャンバー枚葉式洗浄機であり、
　該洗浄機に供給される該洗浄水量は変動するものであり、
　該除去部は、イオン交換装置及び白金族触媒装置を備え」に訂正する。
イ　訂正事項２
　特許請求の範囲の請求項１に「備えること」と記載されているのを、「を備え、
　前記洗浄水製造部は、前記超純水ラインに超純水を定量供給する手段と、超純水に対し溶質を定量供給する手段とを有し、
　前記洗浄水ラインに複数の洗浄機が接続されており、前記洗浄水製造部は、すべての洗浄機の最大使用量の合計よりも多量の洗浄水を製造可能であり、
　該洗浄水製造部２から洗浄水ライン３へ供給される洗浄水量は、各洗浄機５Ａ〜５Ｎに供給される洗浄水量の最大量の合計量の１２０％以上であり、
　該洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへは、それぞれ、洗浄水ライン３から分岐配管７、配管１０を介して洗浄水が供給され、配管１０からはリターン配管１１が分岐しており、該リターン配管１１の末端側は洗浄水ライン３に接続されていること」に訂正する。
ウ　訂正事項３
　特許請求の範囲の請求項２、３を削除する。
　なお、訂正事項１ないし３に係る訂正前の請求項１〜３は、請求項２は請求項１の記載を引用し、請求項３は請求項１又は２の記載を引用しているものであって、訂正の請求の対象である請求項１の記載を引用する関係にあるから、本件訂正は、一群の請求項〔１〜３〕について請求されている。
　したがって、訂正前の請求項１〜３は、特許法第１２０条の５第４項に規定する一群の請求項に該当する。
　よって、訂正事項１ないし３に係る訂正の請求は、特許法第１２０条の５第４項の規定に適合する。
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無、特許請求の範囲の拡張・変更の存否
ア　訂正事項１について
（ア）訂正の目的の適否
　訂正前の請求項１に係る発明では、「ｐＨ調整剤及び／又は酸化還元電位調整剤を添加して」とあり、また、「該除去部は、イオン交換装置及び／又は白金族触媒装置を備える」とあり、ｐＨ調整剤と酸化還元電位調整剤のいずれか一方を添加してもよく、両方を添加してもよく、また、除去部は、イオン交換装置と白金族触媒装置のいずれか一方を備えてもよく、両方を備えてもよいものとされている。
　これに対して、訂正後の請求項１に係る発明では、「ｐＨ調整剤及び酸化還元電位調整剤を添加して」として、ｐＨ調整剤と酸化還元電位調整剤の両方を添加するものに限定し、また、「該除去部は、イオン交換装置及び白金族触媒装置を備え」として、イオン交換装置及び白金族触媒装置の両方を備えるものに限定することで、特許請求の範囲を減縮しようとするものである。
　また、訂正前の請求項１に係る発明では、洗浄機に供給される洗浄水量の変動の有無について何ら特定されていない。
　これに対して、訂正後の請求項１に係る発明では、「該洗浄機は、多数のバルブが不規則に開閉する多チャンバー枚葉式洗浄機であり、該洗浄機に供給される該洗浄水量は変動するものであり、」との記載を追加することにより、「該洗浄機」は、「多数のバルブが不規則に開閉する多チャンバー枚葉式洗浄機」であること、「該洗浄機」に供給される「該洗浄水」量が「変動するものであ」ることを限定することで、特許請求の範囲を減縮しようとするものである。
　よって、訂正事項１は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
（イ）新規事項の有無
　訂正事項１の「ｐＨ調整剤及び／又は酸化還元電位調整剤を添加して」を、「ｐＨ調整剤及び酸化還元電位調整剤を添加して」とし、「該除去部は、イオン交換装置及び／又は白金族触媒装置を備える」を、「該除去部は、イオン交換装置及び白金族触媒装置を備え、」とする訂正は、いずれも、「及び／又は」とあるのを「及び」とするものであり、訂正前の請求項１の記載に基づいて導き出される構成である。
　訂正事項１の「該洗浄機は、多数のバルブが不規則に開閉する多チャンバー枚葉式洗浄機であり、」は、明細書の段落【００１３】の記載に基づいて導き出される構成であり、訂正事項１の「該洗浄機に供給される該洗浄水量は変動するものであり、」は、明細書の段落【０００３】〜【０００４】の記載に基づいて導き出される構成である。
　よって、訂正事項１は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正である。
（ウ）特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　訂正事項１は、訂正後の請求項１に係る発明の技術的範囲を狭めるものであるにとどまり、それらのカテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。
イ　訂正事項２について
（ア）訂正の目的の適否
　訂正前の請求項１に係る発明では、洗浄水製造部の超純水ラインに供給される超純水の量と、超純水に供給される溶質の量について何ら特定されておらず、また、洗浄水ラインに接続される洗浄機の数や洗浄水製造部で製造される洗浄水の量について何ら特定されておらず、また、洗浄水供給部から洗浄水ラインへ供給される洗浄水量について何ら特定されておらず、更にまた、洗浄機それぞれへの洗浄水ライン３から配管の接続について何ら特定されていない。
　これに対して、訂正後の請求項１に係る発明では、「前記洗浄水製造部は、前記超純水ラインに超純水を定量供給する手段と、超純水に対し溶質を定量供給する手段とを有し、前記洗浄水ラインに複数の洗浄機が接続されており、前記洗浄水製造部は、すべての洗浄機の最大使用量の合計よりも多量の洗浄水を製造可能であり、該洗浄水製造部２から洗浄水ライン３へ供給される洗浄水量は、各洗浄機５Ａ〜５Ｎに供給される洗浄水量の最大量の合計量の１２０％以上であり、該洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへは、それぞれ、洗浄水ライン３から分岐配管７、配管１０を介して洗浄水が供給され、配管１０からはリターン配管１１が分岐しており、該リターン配管１１の末端側は洗浄水ライン３に接続されている」との記載を追加することにより、「前記洗浄水製造部」は、「前記超純水ラインに超純水を定量供給する手段と、超純水に対し溶質を定量供給する手段」を有すること、「前記洗浄水ラインに複数の洗浄機が接続されて」いること、「前記洗浄水製造部」は、「すべての洗浄機の最大使用量の合計よりも多量の洗浄水を製造可能」であること、「該洗浄水製造部２から洗浄水ライン３へ供給される洗浄水量は、各洗浄機５Ａ〜５Ｎに供給される洗浄水量の最大量の合計量の１２０％以上」であること、「該洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへは、それぞれ、洗浄水ライン３から分岐配管７、配管１０を介して洗浄水が供給され、配管１０からはリターン配管１１が分岐しており、該リターン配管１１の末端側は洗浄水ライン３に接続されている」ことを限定することで、特許請求の範囲を減縮しようとするものである。
　よって、訂正事項２は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
（イ）新規事項の有無
　訂正事項２の「前記洗浄水製造部は、前記超純水ラインに超純水を定量供給する手段と、超純水に対し溶質を定量供給する手段とを有し」は、訂正前の請求項２の記載に基づいて導き出される構成である。
　訂正事項２の「前記洗浄水ラインに複数の洗浄機が接続されており、前記洗浄水製造部は、すべての洗浄機の最大使用量の合計よりも多量の洗浄水を製造可能であり」は、訂正前の請求項３の記載に基づいて導き出される構成である。
　訂正事項２の「該洗浄水製造部２から洗浄水ライン３へ供給される洗浄水量は、各洗浄機５Ａ〜５Ｎに供給される洗浄水量の最大量の合計量の１２０％以上であり」は、明細書の段落【００２９】の記載に基づいて導き出される構成である。
　訂正事項２の「該洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへは、それぞれ、洗浄水ライン３から分岐配管７、配管１０を介して洗浄水が供給され、配管１０からはリターン配管１１が分岐しており、該リターン配管１１の末端側は洗浄水ライン３に接続されている」は、明細書の段落【００１８】の記載に基づいて導き出される構成である。
　よって、訂正事項２は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正である。
（ウ）特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　訂正事項２は、訂正後の請求項１に係る発明の技術的範囲を狭めるものであるにとどまり、それらのカテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。
ウ　訂正事項３について
（ア）訂正の目的の適否
　訂正事項３は、訂正前の請求項２、３の記載を削除するものである。
　したがって、訂正事項３は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
（イ）新規事項の有無
　訂正事項３は、訂正前の請求項２、３の記載を削除するものであるから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正である。
（ウ）特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　訂正事項３は、訂正前の請求項２、３の記載を削除するのみであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
（３）小括
　上記のとおり、訂正事項１ないし３に係る訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第９項で準用する同法第１２６条第４項、第５項及び第６項の規定に適合する。
　したがって、特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１〜３〕について訂正することを認める。
３　本件訂正請求による訂正後の本件発明
　本件訂正請求により訂正された訂正後の請求項１ないし３に係る発明（以下、順に「本件発明１」ないし「本件発明３」という。）は、訂正特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
「【請求項１】
　超純水ラインと、該超純水ラインからの超純水にｐＨ調整剤及び酸化還元電位調整剤を添加して一定濃度の洗浄水を製造する洗浄水製造部を有する洗浄水供給装置において、
　該洗浄水製造部から該洗浄水を洗浄機に供給する洗浄水ラインと、
　該洗浄水ラインからの余剰洗浄水から溶質を除去する除去部とを備える洗浄水供給装置っであって、
　該洗浄機は、多数のバルブが不規則に開閉する多チャンバー枚葉式洗浄機であり、
　該洗浄機に供給される該洗浄水量は変動するものであり、
　該除去部は、イオン交換装置及び白金族触媒装置を備え、
　前記洗浄水製造部は、前記超純水ラインに超純水を定量供給する手段と、超純水に対し溶質を定量供給する手段とを有し、
　前記洗浄水ラインに複数の洗浄機が接続されており、前記洗浄水製造部は、すべての洗浄機の最大使用量の合計よりも多量の洗浄水を製造可能であり、
　該洗浄水製造部２から洗浄水ライン３へ供給される洗浄水量は、各洗浄機５Ａ〜５Ｎに供給される洗浄水量の最大量の合計量の１２０％以上であり、
　該洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへは、それぞれ、洗浄水ライン３から分岐配管７、配管１０を介して洗浄水が供給され、配管１０からはリターン配管１１が分岐しており、該リターン配管１１の末端側は洗浄水ライン３に接続されていることを特徴とする洗浄水供給装置。
【請求項２】（削除））
【請求項３】（削除）」
４　取消理由通知（決定の予告）に記載した取消理由について
（１）取消理由の概要
　本件訂正前の請求項１及び２に係る特許に対して、当審が令和２年５月２１日付けで特許権者に通知した取消理由の要旨は、次のとおりである。
　令和２年１月８日に提出された訂正請求書により訂正請求された訂正後の請求項１及び２に係る発明は、引用文献１に記載された発明、及び引用文献１〜１２に記載された技術的事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。そうすると、令和２年１月８日に提出された訂正請求書により訂正請求された訂正後の請求項１及び２に係る発明に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきものである。
（２）引用文献の記載と引用発明等
ア　引用文献１の記載と引用発明
（ア）取消理由通知（決定の予告）において引用した引用文献１（甲第１号証：特開２００３−３４０４５８号公報）には、以下の事項が記載されている（下線は合議体が付加した。以下同じ。）。
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、機能水の回収方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、使用ずみの機能水を良好な水質を有する状態で回収し、又は、ユースポイントで使用されなかった余剰機能水を回収し、機能水の原料水として再利用することができる機能水の回収方法に関する。」
「【０００２】
【従来の技術】半導体、液晶などの電子部品の製造においては、多量の超純水が用いられている。ユースポイントにおいて発生する排水には、汚染物質を多量に含む濃厚排水と、リンスなどに使用され、汚染物質の濃度が低い希薄排水がある。汚染の程度が原水に比べて低い希薄排水は、水の完全利用のために一次純水装置又は二次純水装置にリサイクルされ、再利用される。図１は、超純水供給装置の一例の系統図である。超純水供給装置では、市水、工業用水、井水などを原水とし、前処理装置、一次純水装置及び二次純水装置で処理されて、超純水が製造される。前処理装置では、・・・。二次純水装置では、一次純水中に残存する極微量のイオン、シリカ、有機物、微粒子などを除去するために、さらに紫外線照射、イオン交換、限外ろ過膜などを組み合わせて最終的に処理され、超純水が得られる。製造された超純水は、ウエハー洗浄工程などのユースポイントに送られて使用される。ユースポイントで発生する濃厚排水は、排水処理されたのち、放流又は排水処理系で回収再利用される。希薄排水は排水回収装置で処理され、使用されなかった純水は純水回収装置で処理されて、本例では一次純水装置に供給され、再利用されている。そして
最近では、超純水に水素ガス、オゾン、酸素ガスなどを溶解した機能水が、半導体用シリコン基板などの汚染を効果的に除去することが見いだされ、研究が進められるとともに、実用化されている
機能水は、ユースポイントへ送られて洗浄に使用されるが、ユースポイントで不足が生じないように、常に余裕をもって多めに送られる。その結果、ユースポイントにおいて、洗浄に使用されなかった余剰の機能水が発生する
ユースポイントで使用されなかった機能水には、超純水に特定の機能を付与するために溶解された気体又は気体とpH調整剤などの薬剤が含まれている。しかし、これらの気体と薬剤の含有量は、機能水を循環している間に、揮散、分解などにより減少し、機能水が本来有すべき値から外れ、しかもユースポイントにおける未使用の機能水の発生量などによっても変動する。未使用の機能水の気体と薬剤の含有量を連続的に分析し、気体と薬剤の不足分を添加すれば、理論的には気体と薬剤の使用量を節減して機能水を循環再使用することができる。しかし、変動する気体と薬剤の含有量を連続的に分析し、分析値に対応した量の気体と薬剤を添加するためには、複雑な設備と管理が必要になり、機能水の水質を一定に保つことは容易ではない。このため、従来はこのような未使用の機能水は、排水として排出されていたのが現実であり、余剰の未使用機能水を有効に利用する方法が求められていた。
「【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、使用ずみ又は未使用の機能水を良好な水質を有する状態で回収し、機能水の原料水として再利用することができる機能水の回収方法を提供することを目的としてなされたものである。
「【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、汚染の程度が低い希薄排水や未使用の機能水を原料水として製造した機能水が十分な性能を発揮しない原因は、水中に含まれるイオン性物質にあることを突き止め、使用ずみ又は未使用の機能水をイオン除去手段で処理したのち、機能水の製造工程に供給することにより、本来の性能を有する機能水を製造し得ることを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。・・・」
「【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の機能水の回収方法においては、使用された機能水又は未使用の機能水を回収して再利用する方法において、使用ずみ又は未使用の機能水をイオン除去手段で処理したのち、機能水の製造工程に供給する。本発明方法を適用する機能水としては、例えば、超純水に水素ガスを溶解した機能水（水素水）、超純水にオゾンを溶解した機能水（オゾン水）、超純水に酸素ガスを溶解した機能水（酸素水）、超純水にオゾンと酸素ガスを溶解した機能水、超純水にオゾンと炭酸ガスを溶解した機能水、超純水に酸素ガスとアンモニアと過酸化水素を溶解した機能水、超純水に水素ガスとアンモニアと過酸化水素を溶解した機能水、超純水にチオ硫酸ナトリウムとアンモニアと過酸化水素を溶解した機能水、超純水にフッ化水素と水素ガスを溶解した機能水、超純水にフッ化水素と過酸化水素と酸素ガスを溶解した機能水などを挙げることができる。」
「【０００７】図３は、本発明方法の実施の他の態様の工程系統図である。
原料水貯槽１２に貯留された超純水が、ポンプ１３によりフィルター１４に送られ、原料水中に含まれる微粒子などが除去される
微粒子などが除去された原料水は、膜脱気装置１５に送られ
脱気された原料水は、気体透過膜装置１８に送られ、水素ガス、オゾン、酸素ガス、希ガスなどが溶解されて、機能水となる
機能水には、必要に応じて、薬剤貯槽１９から薬注ポンプ２０により、アンモニア、過酸化水素、フッ化水素などの薬剤が添加され、ユースポイント２１に送られる
ユースポイントで使用された機能水は
イオン除去手段２４に送られ、アンモニウムイオン、フッ化物イオンなどのイオンが除去されて、原料水貯槽１２に返送される
原料水貯槽には、水位計２５が設けられ、バルブ２６に信号が送られて、超純水が補給されて原料水貯槽内の水量は、常に一定に保たれる
「【００１０】本発明方法に用いる非再生型イオン交換樹脂装置に特に制限はなく、例えば、・・・。機能水の希薄排水に含まれるイオン性物質の量が多いときは、再生型イオン交換樹脂装置を好適に用いることができる。本発明の機能水の回収方法として、図２に示す態様においては使用ずみの機能水を、図３及び図４に示す態様においては未使用の機能水をイオン除去手段で処理して機能水の製造工程に供給しているが、使用ずみの機能水と余剰の未使用機能水が同時に発生する場合には、使用ずみ機能水と未使用機能水とを混合し、イオン除去手段で処理して回収することができる。
本発明の機能水の回収方法によれば、機能水の希薄排水に含まれるイオン性物質を除去して、機能水の製造工程に供給するので、使用ずみの機能水を原料水として用いて、超純水を原料水とする機能水と等しい性能を有する機能水を製造することができる。また、未使用の機能水についても、イオン性物質を除去して機能水の製造工程に供給するので、イオン性物質に影響されることなく、所望の水質の機能水を製造することができる
「【００１１】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。
実施例１
オゾンを含有する超純水で表面を酸化した直径６インチのシリコンウェーハを、アルミナ微粉末で汚染することにより、表面にアルミナの微粒子が付着した汚染ウェーハを作製した。この汚染ウェーハについて、レーザー散乱光検出方式にもとづくウェーハゴミ検査装置［東京光学機械(株)、ＷＭ−３］を用いて、直径０.２μｍ以上の付着微粒子数を測定したところ、ウェーハ１枚当たり２,１３０個であった。この汚染ウェーハを５００rpmで回転させ、超純水に水素ガス１.１mg／Ｌとアンモニア１.０mg／Ｌを溶解した機能水に、超音波照射ノズル［プレテック社、Ｆｉｎｅ Ｊｅｔ］を用いて周波数１.６MHzの超音波を出力１３.５Ｗ／cm2で照射しつつ、７００mL／分で流しかけ、６０秒間スピン洗浄を行った。洗浄後のウェーハ表面の残存微粒子数を同様にして測定したところ、ウェーハ１枚当たり２０個であり、微粒子の除去率は９９％であった。・・・
比較例１
・・・
実施例２
図３に示す装置を用い、水素ガスとアンモニアを溶解した機能水を製造して、半導体用シリコン基板の洗浄を２０時間行った。
ポンプ１３により原料水５Ｌ／minを送り
薬注ポンプ２０によりアンモニア１.０mg／Ｌを添加した。ユースポイントにおける機能水の使用量は、１５０〜２２０Ｌ／ｈであり
　図３は、以下のとおりのものである。
（イ）以上の記載によれば、引用文献１には以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「原料水貯槽１２に貯留された超純水が、ポンプ１３によりフィルター１４に送られ、微粒子などが除去された原料水は、膜脱気装置１５に送られ、脱気された原料水は、気体透過膜装置１８に送られ、水素ガス、オゾン、酸素ガス、希ガスなどが溶解されて、機能水となり、機能水には、薬剤貯槽１９から薬注ポンプ２０により、アンモニア、過酸化水素、フッ化水素などの薬剤が添加され、ユースポイント２１に送られ、
　ユースポイントで使用されなかった機能水は、イオン除去手段２４に送られ、アンモニウムイオン、フッ化物イオンなどのイオンが除去されて、原料水貯槽１２に返送され、
　原料水貯槽には、水位計２５が設けられ、バルブ２６に信号が送られて、超純水が補給されて原料水貯槽内の水量は、常に一定に保たれる機能水供給装置であって、
　機能水は、ユースポイントへ送られて洗浄に使用されるが、ユースポイントで不足が生じないように、常に余裕をもって多めに送られ、その結果、ユースポイントにおいて、洗浄に使用されなかった余剰の機能水が発生し、
　ユースポイントで使用されなかった機能水には、超純水に特定の機能を付与するために溶解された気体又は気体とpH調整剤などの薬剤が、含まれているが、これらの気体と薬剤の含有量は、機能水を循環している間に、揮散、分解などにより減少し、機能水が本来有すべき値から外れ、しかもユースポイントにおける未使用の機能水の発生量などによっても変動するものであるところ、機能水の希薄排水に含まれるイオン性物質を除去して、機能水の製造工程に供給するので、使用ずみの機能水を原料水として用いて、超純水を原料水とする機能水と等しい性能を有する機能水を製造することができ、また、未使用の機能水についても、イオン性物質を除去して機能水の製造工程に供給するので、イオン性物質に影響されることなく、所望の水質の機能水を製造することができる、
　機能水の回収方法において用いられる機能水供給装置。」
イ　引用文献２の記載
　取消理由通知（決定の予告）において引用した引用文献２（甲第５号証：特開２０１５−１５５０８３号公報）には、以下の事項が記載されている。
「【０００２】
　半導体デバイス（液晶表示装置を含む。）の製造プロセスにおいては、基板の表面に付着する有機物やパーティクル等を除去するために、基板に対して洗浄処理が繰り返される。ここに使用される洗浄液としては、有機溶剤、酸液等が多用されているが、近年では、環境面で問題の少ないオゾン水が使用されている。」
「【００１７】
　本発明のオゾン水供給方法及び本発明のオゾン水供給装置について、図１を参照して説明する。図１は、本発明のオゾン水供給方法を実施するための本発明のオゾン水供給装置の形態例のフロー図である。
【００１８】
　図１中、オゾン水供給装置３０は、原料超純水５が供給されると共にユースポイント７で使用されなかった返送オゾン水２５が返送される循環タンク１と、原料酸素ガス４を原料にオゾンガスを発生させて、オゾン含有ガスを得るための放電式のオゾンガス発生手段２と、放電式のオゾンガス発生手段２で得たオゾン含有ガス２８を、被処理水２６に溶解させるオゾン溶解手段３と、循環タンク１に繋がり、原料超純水５を循環タンク１に供給するための原料水供給管２９と、循環タンク１とオゾン溶解手段３とを繋ぎ、循環タンク１内の被溶解水２６をオゾン溶解手段３に供給するための被溶解水供給管２０と、原料酸素ガス４をオゾン発生手段に供給するための原料ガス供給管３１と、放電式のオゾン発生手段２とオゾン溶解手段３とを繋ぎ、放電式のオゾン発生手段２で得たオゾン含有ガス２８をオゾン溶解手段３に供給するためのオゾン含有ガス供給管２２と、オゾン溶解手段３とユースポイント７とを繋ぎ、オゾン溶解手段３で生成させた
オゾン溶解水２７をユースポイント７に供給するためのオゾン溶解水供給管１８
　図１は、以下のとおりのものである。
ウ　引用文献３の記載
　取消理由通知（決定の予告）において引用した引用文献３（甲第７号証：特開２０１５−８８７４０号公報）には、以下の事項が記載されている。
「【請求項１７】
　基板が配置され、該基板を処理する基板処理液が供給される処理室と、
　前記基板が配置された前記処理室の中に不活性ガスを充填する不活性ガス充填機構と、
　前記処理室の近傍または前記処理室の内部に設置され、被処理液に水素を添加してなる水素溶解液を通液する白金族系金属触媒が充填された触媒ユニットと、
を備え、
　前記水素溶解液を前記白金族系金属触媒に通液して得た水素溶解処理液を前記基板処理液として前記処理室内に供給することを特徴とする基板処理装置。」
「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、基板を処理する基板処理方法および基板処理装置に関する。特に、回路基板の洗浄処理、化学処理又は浸漬処理に用いられる基板処理方法および基板処理装置に関する。処理対象となる基板には、例えば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、電界放出ディスプレイ用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板などが含まれる。」
「【００４１】
　さらに本願発明では、図３に示すように、超純水製造装置のサブシステム９（詳しくは図１参照）からの超純水（被処理液）が、基板処理装置１の各処理室２（洗浄機構）に供給される。サブシステム９の超純水（被処理液）循環配管９ａからの出口９ｂと各基板処理装置１の超純水（被処理液）入口１ａとは、半導体製造ラインに主に使われるＰＶＣやＰＦＡ、ＰＴＦＥなどのフッ素樹脂からなるメイン配管１０を介して接続されている。
各メイン配管１０は、各基板処理装置１内を延び、かつ分岐されて、当該基板処理装置１内の各処理室２
と接続されている
【００４２】
　メイン配管１０における基板処理装置１の超純水入口１ａ付近には、触媒ユニット２１(図２参照)が設置され、さらに、メイン配管１０における触媒ユニット２１の後段に膜分離ユニット２２(図２参照)が設置されている。
【００４３】
　メイン配管１０から触媒ユニット２１へ供給する超純水（被処理液）は、溶存水素濃度が８μｇ／Ｌ以上（好ましくは１５μｇ／Ｌ以上、より好ましくは６６μｇ／Ｌ以上）有る水素溶解処理液に調整されている。サブシステム９からメイン配管１０へ出水される超純水（被処理液）は、サブシステム９が有する水素溶解処理装置（図１参照）によって処理された、所定の溶存水素濃度を有する水素溶解水である。しかし、図２の触媒ユニット２１の直前の位置で、当該水素溶解水の溶存水素濃度が８μｇ／Ｌ以上（好ましくは１５μｇ／Ｌ以上、より好ましくは６６μｇ／Ｌ以上）に満たない場合は、当該水素溶解水に水素を添加して当該水素溶解水の溶存水素濃度が８μｇ／Ｌ以上（好ましくは１５μｇ／Ｌ以上、より好ましくは６６μｇ／Ｌ以上）に調整されている。この場合、触媒ユニット２１の直前の配管部分に水素ガス導入装置（不図示）が設けられる。
【００４４】
　触媒ユニット２１は、水素溶解水を触媒ユニット２１に通液して得た
水素溶解処理液における
過酸化水素濃度を２μｇ／Ｌ以下に減じる白金族系金属触媒を充填した態様を有する
　図３は、以下のとおりのものである。
エ　引用文献４の記載
　取消理由通知（決定の予告）において引用した引用文献４（特開２００４−１２２０２０号公報）には、以下の事項が記載されている。
「【００２５】
【発明の実施の形態】
図１は本発明装置の実施態様を示す略図であり、１は原水槽、２は前処理装置、３は前段貯槽、４は一次純水装置、５は純水貯槽である。
６は供給ラインで、この供給ライン６は
超純水をユースポイント７に送水する
・・・
【００２７】
１５は
残余の超純水を純水貯槽５に戻すリターン配管としての返送ライン
【００２８】
返送ライン１５には不純物除去装置１６が設けられている
不純物除去装置１６としては
活性炭処理装置
を用いる
活性炭処理装置は過酸化水素等を
除去する
【００２９】
前記したように、使用する洗浄液自体の成分等によってどの処理装置を用いるかが決定されるが、例えば、洗浄液がテトラメチルアンモニウムヒドロキサイド（ＴＭＡＨ）である場合には、不純物除去装置１６としてイオン交換処理装置又は膜処理装置が用いられ、また洗浄液が塩酸水溶液等の酸性水溶液である場合には、不純物除去装置１６としてイオン交換処理装置（アニオン交換樹脂装置）又は膜処理装置が用いられる。更に洗浄液が界面活性剤水溶液である場合には、不純物除去装置１６としてイオン交換処理装置、膜処理装置又は活性炭処理装置が用いられ、また
洗浄液が過酸化水素水溶液である場合には、不純物除去装置１６として活性炭処理装置が用いられる
「【００３３】
　
不純物除去装置１６として用いられる活性炭処理装置も公知のものを用いることができ、該活性炭処理装置は過酸化水素
を除去することができる
【００３４】
　尚、不純物除去装置１６として、上記したイオン交換処理装置、膜処理装置、活性炭処理装置の他、紫外線照射装置、脱気装置等を単独或いは適宜組み合わせて用いることもできる。」
「【００６４】
図２は本発明の別の実施態様を示すもので、
機能水供給ラインを併設した超純水製造装置
【００６５】
本発明において、
機能水としては水素水、オゾン水等が挙げられ、またそれらは酸、アルカリ添加によってｐＨを調節したものであってもよい
【００６６】
供給ライン６より分岐して
機能水製造装置２２に超純水が供給され、ここで水素ガスやオゾンガスが超純水に溶解され、機能水が製造される。該装置２２によって製造された機能水は機能水供給ライン２１を通り、ユースポイント７に供給され、各種用途に利用される
【００６７】
機能水供給ライン２１には返送ライン２３が連続して設けられており、該返送ライン２３には不純物除去装置２４が設置されている
【００６８】
不純物除去装置２４はシステム洗浄における洗浄工程終了後に洗浄液の処理を行なう機能と、機能水成分である水素やオゾン等を除去する機能とがある。前者の機能のためには図１の実施態様の説明で述べたように、
不純物除去装置２４として
活性炭処理装置
を用いる
・・・
【００７０】
返送ライン２３は純水貯槽５に接続され、不純物除去装置２４で処理された処理水を純水貯槽５に戻す。純水貯槽５に戻された処理水は超純水製造用として或いは機能水製造用として再び系内に送られる。」
　図１は、以下のとおりのものである。
　図２は、以下のとおりのものである。
オ　引用文献５の記載
　取消理由通知（決定の予告）において引用した引用文献５（特開平１１−１８１４９３号公報）には、以下の事項が記載されている。
「【００１３】本発明の電子材料用洗浄水は、密閉式の電子材料用洗浄水貯槽から配管を通してユースポイントまで送水し、余剰の電子材料用洗浄水を配管を通して密閉式の電子材料用洗浄水貯槽に返送し、循環利用する電子材料用洗浄水の供給装置を用いて、好適に使用することができる。図１は、本発明の電子材料用洗浄水の製造、供給装置の一態様の系統図である。原水は、真空ポンプ１により気相側が減圧に保たれた前段の気体透過膜モジュール２に送られ、溶存気体が除去される。溶存気体が除去された水は、次いで後段の気体透過膜モジュール３に送られ、酸素ガス供給器４から供給される
酸素ガスが所定濃度になるように溶解されて、大気飽和濃度より高濃度に酸素ガスを溶解した水となる
電子材料用洗浄水は
配管１１を通してユースポイント１２まで送給される
【００１４】酸素ガスを溶解し、低濃度のアンモニア及び過酸化水素を含有する本発明の電子材料用洗浄水は、酸素ガスは自己分解を起こさず極めて安定であり、含有するアンモニアと過酸化水素も低濃度であるために、密閉式の貯槽と供給配管を使用することにより、長時間にわたって水質を保持することができる。このような装置を用いることにより、多くのユースポイントに対して個々に洗浄水製造装置を設けることなく、集中的に電子材料用洗浄水を製造し、主配管と分岐配管とを通して、
複数のユースポイントまで水質の安定した電子材料用洗浄水を供給する
ユースポイントで使用されなかった余剰の電子材料用洗浄水は貯槽に返送し、繰り返しユースポイントへ送って使用する循環システムを形成することができる
　図１は、以下のとおりのものである。
カ　引用文献６の記載
　取消理由通知（決定の予告）において引用した引用文献６（特開平１１−１６６７００号公報）には、以下の事項が記載されている。
「【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、特定の気体の溶存濃度が制御された洗浄用の気体含有超純水を連続的に製造し、ユースポイントにおける断続的な使用に対しても、安定的かつ迅速に供給し得る気体含有超純水供給装置を提供することを目的としてなされたものである。」
「【０００６】図１は、本発明の気体含有超純水供給装置の一態様の系統図である。装置に送られた超純水は、超純水供給系統１と気体含有超純水供給系統２に分岐される。気体含有超純水供給系統の超純水には、気体供給器３から溶解すべき気体が供給され、気体混合部４において超純水に供給される。気体供給器に特に制限はなく、例えば、オゾン発生器のように装置内で必要とする気体を発生させることができ、あるいは、水素ガス容器のように別途に入手した気体容器を接続して気体供給器とすることもできる。気体混合部に特に制限はなく、例えば、気体を超純水に直接吹き込んで、気液混合状態で気体含有超純水供給主配管中を移送しつつ、気体を超純水に溶解することができ、あるいは、気体透過膜モジュールなどを用いて、超純水に気体を溶解することもできる。本発明装置は、
気体を含有する超純水を移送する気体含有超純水供給主配管５と、主配管から分岐してユースポイントに連結する枝管６と
バッファータンク７を有する
ユースポイントで使用されなかった超純水は、超純水供給系統の返送配管を通じて返送し、ふたたび使用することができる
ユースポイントで使用されなかった気体含有超純水は
含有されている気体を除去し
ふたたび使用することができる
【０００７】図２は、本発明装置の一態様のバッファータンク近傍を示す系統図である。気体含有超純水は、連続的に製造され、気体含有超純水供給主配管を通り、ユースポイントであるバッチ式や枚葉式などの洗浄機付近まで送られる。気体含有超純水は、主配管から分岐した枝管６を通ってバッファータンク７に貯留される。本発明装置において、バッファータンクは、ユースポイントへ気体含有超純水の断続供給のための待機容器としての機能を有する。量産工場において、洗浄水としての気体含有超純水は、断続的に使用される。
バッチ式洗浄の場合は
供給工程と
待機工程とが繰り返される
待機工程中に、一定量の補給水を洗浄槽に送り続ける
場合もある
枚葉式洗浄の場合も
供給工程が、断続的に繰り返される
いずれの場合も、洗浄の場においては、断続的な供給が求められている
断続的な使用の双方の要求を適合させることができる
【０００８】・・・一つのユースポイントについて２個以上のバッファータンクを設けることにより、１個のバッファータンクは待機用、他のバッファータンクは補充用と使い分け、
ユースポイントにおける洗浄水更新
ユースポイントにおける洗浄水の使用状態が変動する場合
「【００１０】
図３は、オゾン含有超純水を供給するための本発明装置の他の態様の系統図である
キ　引用文献７の記載
　取消理由通知（決定の予告）において引用した引用文献７（特開平１１−３０２６８９号公報）には、以下の事項が記載されている。
「【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板、フォトマスク用石英基板などの電子材料に付着した微粒子汚染は、アンモニア水と過酸化水素水と超純水の混合液を用いる、いわゆるＳＣ１洗浄により除去されていた。このような洗浄液を採用した場合の多大な薬液コスト、リンス用の超純水コスト、廃液処理コスト、薬品蒸気を排気して新たに清浄空気を作る空調コストなどを低減し、さらに水の大量使用、薬物の大量廃棄、排ガスの放出などの環境への負荷を低減するために、近年ウェット洗浄工程の見直しが進められている。
本発明者らは、先に洗浄対象物及び洗浄目的に応じて、超純水又は超純水に塩酸、アンモニア、過酸化水素、重亜硫酸塩などを溶解した水に、オゾン、水素ガス、酸素ガス、炭酸ガス、塩素ガス、窒素ガス、希ガスなどのガスを溶解した省資源型の電子材料用洗浄水を開発した
電子材料の洗浄工程において、セントラル方式の洗浄水給水システムを用いる場合には、複数のユースポイントにおいて、電子材料を洗浄するための洗浄装置がそれぞれに設けられている。洗浄水は主配管を通して各ユースポイントに移送され、ユースポイントでは必要に応じて洗浄水を消費するが、主配管には、各ユースポイントで不足を生じないように、十分な量の洗浄水を移送している
ク　引用文献８の記載
　取消理由通知（決定の予告）において引用した引用文献８（特開２０１４−１６０７５９号公報）には、以下の事項が記載されている。
「【背景技術】
【０００２】
　従来、電子部品となる基板の洗浄、表面改質又は表面保護プロセスには、ＲＣＡ洗浄を代表とする高濃度の薬液や洗剤と、それを濯ぐための大量の純水又は超純水が用いられてきた。これに対し、洗浄工程のコスト削減、環境保全などを目的とした様々な洗浄技術の簡略化の取り組みがなされ、成果を挙げてきた。その代表的なものが、酸、アルカリ等の薬剤や、オゾン、水素などのガスを、純水又は超純水に極低濃度で溶解させた洗浄水による洗浄技術である。この方法であれば、洗浄水の調製のためのコスト、洗浄廃液の処理コストも低減される上に、洗浄後の濯ぎ水量も大幅に削減される。また、洗浄時にエッチングを伴わないため、基板表面の品質向上にも寄与するという利点もある。
【０００３】
　上記の洗浄水は、通常、
純水製造装置又は超純水製造装置からの純水又は超純水の給水配管に、酸、アルカリ等の薬剤やオゾン、水素などのガスといった洗浄剤成分を、ライン注入することにより調製されて、ユースポイント（使用場所）に供給されるが、目的の洗浄効果を得るためには、調製された洗浄水の洗浄剤成分濃度が常に安定して一定濃度であることが重要となる
【０００４】
　ところで、基板の洗浄方式には、複数枚の基板を専用のキャリアにセットして、基板をこのキャリアごと洗浄水を入れた洗浄槽に浸漬して洗浄する
バッチ式洗浄と
枚葉式洗浄とがあるが、いずれの方式でも、洗浄機で使用する洗浄水量は一連の洗浄工程において変動する
　特に枚葉式洗浄では、用いる洗浄機毎に設定されている洗浄プログラムに従って、基板に噴き付ける洗浄水量を変化させたり、噴き付けを断続的に行ったりすることで洗浄効果を上げており、洗浄機での洗浄水使用量は秒単位で変化する。
【０００５】
　このように、使用水量が変化する洗浄水を、常に一定の洗浄剤成分濃度でユースポイントに安定的に供給するために、従来は、一定流量の洗浄水を連続的に製造し、これをそのままユースポイントに供給し、余剰の洗浄水は廃棄するという方法が採用されていた。しかし、廃液処理コスト、環境問題の観点からは、ユースポイントでの必要量だけの洗浄水を供給し、廃棄する余剰水を発生させないことが望ましい。
【０００６】
　
ユースポイントにおける使用量に対応した洗浄水を供給するためには、その使用量の変動に応じた洗浄水を調製してユースポイントに供給する制御機構を設ける必要がある
　例えば、前述した従来の洗浄水の供給方法において、純水又は超純水の給水量を洗浄水の使用量に応じて変化させ、一方で、給水配管に設けられた流量計に連動する洗浄剤成分の注入量制御手段により、給水配管を経て供給される純水又は超純水の流量変動に応じて洗浄剤成分の注入量を制御し、常に一定濃度の洗浄水を調製してユースポイントに供給することが考えられる。
　しかしながら、流量変動のある給水に対して、上述のような流量計に連動する洗浄剤成分の注入量制御のみで対応することは困難であり、給水流量変動に応じて、調製される洗浄水の洗浄剤成分濃度が不安定となることは避けられない。特に、洗浄水が洗浄剤成分を極低濃度で含む希薄溶液である場合には、この濃度管理が極めて困難となる。」
「【００２６】
　本発明の溶液の供給方法及び供給装置は、特に、半導体用のシリコンウェハ、フラットパネルディスプレイ用のガラス基板等、高度な清浄度を必要とする電子部品などの洗浄、表面改質又は表面保護プロセスに用いられる、酸又はアルカリや、オゾン、酸素などのガスといった洗浄剤成分を低濃度で含む洗浄水を、ユースポイントである洗浄機に供給するための方法及び装置として有用であり、特に、
洗浄水使用量が秒単位で変動する枚葉式洗浄機
「【００３７】
　このような洗浄水の供給系統において、本発明では、洗浄水の供給配管１１の途中部分、即ち配管１１の薬液注入点１３とユースポイント４との間の部分に、気液界面が存在しない滞留部１を設ける。この滞留部１が存在することにより、
ユースポイント４での洗浄水使用量が変動する
ケ　引用文献９の記載
　取消理由通知（決定の予告）において引用した引用文献９（特開２００４−１８１３６４号公報）には、以下の事項が記載されている。
「【請求項６】
前処理システムと、一次純水システムと、二次純水システムと、二次純水システムにおけるユースポイントで使用された超純水を活性炭処理装置を介して前記前処理システム又は前記一次純水システムに還流させる回収システムとを備えた超純水製造装置において
前記活性炭処理装置が、過酸化水素に対する分解能が異なる少なくとも２種の活性炭を、過酸化水素に対する分解能が低い方の活性炭を上流側に、過酸化水素に対する分解能が高い方の活性炭を下流側に配置してなることを特徴とする超純水製造装置
「【０００４】
近時、
水素や酸素、オゾン等の活性基体を溶解させた機能水
【０００５】
・・・従来回収システムに介挿されていた活性炭では完全に過酸化水素を分解することができず、回収水中にはｐｐｂオーダーで過酸化水素が残存し、この
微量残存する過酸化水素が一次純水システムと二次純水システムでも分解できずに末端超純水装置まで到達して、超純水を利用した機能水の濃度を変動させている
【０００６】
すなわち、従来の二酸化過マンガン酸法やヨウ素電極法を用いた過酸化水素モニターで０ｐｐｍであった超純水がヨウ素電極滴定法を用いた過酸化水素モニターで測定すると５〜３０ｐｐｂの範囲で過酸化水素が検出され、この
微量残存する過酸化水素が機能水の濃度を変動させていた
【０００７】
さらに、本発明者等は、
かかる微量の過酸化水素も
完全に除去できる
「【００１５】
本発明で用いられる
過酸化水素に対する分解能が高い方の活性炭は
白金、パラジウム、銀のような分解触媒を担持させて過酸化水素に対する分解能を高くしたもの
　図１は、以下のとおりのものである。
　したがって、引用文献９には、以下の技術的事項が開示されているといえる。
「前処理システムと、一次純水システムと、二次純水システムと、二次純水システムにおけるユースポイントで使用された超純水を活性炭処理装置を介して前記前処理システム又は前記一次純水システムに還流させる回収システムとを備え、
前記活性炭処理装置が、過酸化水素に対する分解能が異なる少なくとも２種の活性炭を、過酸化水素に対する分解能が低い方の活性炭を上流側に、過酸化水素に対する分解能が高い方の活性炭を下流側に配置してなる超純水製造装置において、
過酸化水素に対する分解能が高い方の活性炭は
白金、パラジウム、銀のような分解触媒を担持させて過酸化水素に対する分解能を高くしたもの
コ　引用文献１０の記載
　取消理由通知（決定の予告）において引用した引用文献１０（甲第６号証：特開２０１１−２４５３８０号公報）には、以下の事項が記載されている。
「【００１０】
　特許文献４には、超純水製造装置において、
被処理水からＨ2Ｏ2を除去するために
過酸化水素分解装置を設け、
過酸化水素分解触媒としては、白金族の金属ナノコロイド粒子を担体に担持させたもの
「【００４１】
　図１は、本発明の実施の一形態における純水製造装置を示している。
【００４２】
　この装置は、純水を貯留するタンク１１と、タンク１１から純水を送出するポンプ（Ｐ）１２を備えており、ポンプ１２に対し、熱交換器１５、紫外線酸化装置（ＵＶ）１６、
Ｈ2Ｏ2除去装置１７
供給水は、例えば一次純水である。
【００４３】
　この構成において、紫外線酸化装置１６に供給される水のＴＯＣ濃度は、１０ｐｐｂ以下であるものとする。さらにこのシステムは、Ｈ2Ｏ2を貯えるＨ2Ｏ2貯槽（Ｈ2Ｏ2）１３を、熱交換器１５と紫外線酸化装置１６とを接続する配管に接続し、この配管中の被処理水に対してＨ2Ｏ2を添加するようにＨ2Ｏ2貯槽１３からＨ2Ｏ2を供給するポンプ（Ｐ）１４と、を備えている。ポンプ１４は、添加後の被処理水におけるＨ2Ｏ2濃度が例えば１０ｐｐｂ以上４００ｐｐｂ以下となるように、被処理水にＨ2Ｏ2を添加する。
【００４４】
　このようなシステムでは、タンク１１に貯えられた純水が、被処理水として、ポンプ１２により、まず熱交換器１５に送られて温度が調整される。その後、Ｈ2Ｏ2を添加され、紫外線酸化装置１６において紫外線を照射される。その結果、被処理水中のＴＯＣ成分が分解される。
・・・
【００５０】
　紫外線酸化装置１６によって紫外線酸化処理を受けた被処理水は、次に、
Ｈ2Ｏ2除去装置１７に送られ、Ｈ2Ｏ2が除去される
【００５１】
　
Ｈ2Ｏ2除去装置１７内には、白金族金属触媒が設けられており
Ｈ2Ｏ2の残留分が触媒分解によって除去される
・・・
【００５３】
　白金族金属触媒を有するＨ2Ｏ2除去装置１７を設け、
被処理水に添加したＨ2Ｏ2及び紫外線酸化装置１６で発生したＨ2Ｏ2を白金族金属触媒に接触させることにより、Ｈ2Ｏ2を極低濃度にまで除去することができる
【００５４】
　Ｈ2Ｏ2除去装置１７から流出した被処理水は、次に膜脱気装置１８に送られて溶存酸素（ＤＯ）などが除去され、続いて非再生型混床式イオン交換装置１９に送られる。紫外線酸化処理によって生成して被処理水中に含まれることとなった有機酸及び二酸化炭素（ＣＯ2）は、非再生型混床式イオン交換装置１９において除去される。さらに、被処理水は、限外濾過装置２０に送られ、高度に不純物が除去された水となって、ユースポイントに送られることになる。使用されなかった水は、循環されて、タンク１１に戻される。場合によっては膜脱気装置１８を省略することができる。この構成では、ユースポイントから、ＴＯＣ濃度とＨ2Ｏ2濃度とが極めて低いレベルに抑えられた純水が得られ、このような純水は循環管路を介してタンク１１にも戻される。
・・・
【００５６】
　図３は、さらに別の実施形態における純水製造装置を示している。
【００５７】
　図３に示す装置は、図１に示す装置において、溶存酸素（ＤＯ）を除去し、Ｈ2Ｏ2の分解除去を促進するために水素（Ｈ2）を添加するようにしたものである。Ｈ2添加のために、紫外線酸化装置１６とＨ2Ｏ2除去装置１７との間にガス溶解膜装置２２が設けられ、ガス溶解膜装置２２には、Ｈ2貯槽（Ｈ2）２１からＨ2が供給されている。この場合、Ｈ2Ｏ2除去装置１７において溶存酸素を除去できるので、膜脱気装置１８は設けられていない。
【００５８】
　この構成では、
紫外線酸化装置１６からの水は、Ｈ2を溶解させられた後に、白金族金属触媒と接触させられる
残留Ｈ2Ｏ2の除去
を
行うことができる
サ　引用文献１１の記載
　取消理由通知（決定の予告）において引用した引用文献１１（甲第８号証：特許第５３２９４６３号公報）には、以下の事項が記載されている。
「【０００２】
　半導体製造産業においては、不純物を高度に除去した超純水を用いてシリコンウエハの洗浄等が行われている。超純水は、一般に原水（河川水、地下水、工業用水等）中に含まれる懸濁物質や有機物の一部を前処理工程で除去した後、その処理水を一次純水系システム及び二次純水系システム（サブシステム）で順次処理することによって製造され、ウエハ洗浄を行うユースポイントに供給される。・・・」
「【００３２】
　本発明の過酸化水素分解処理水の製造装置においては、モノリス状有機多孔質アニオン交換体に白金族金属が担持されてなる白金族金属担持触媒を用いていることから、通常の粒子状アニオン交換樹脂を用いた場合に比べて被処理水との接触効率を格段に高めることができる。そして、上記
白金族金属担持触媒は、過酸化水素分解能力が著しく高い
「【０１４５】
＜電子部品の洗浄方法＞
　次に、本発明の電子部品の洗浄方法について説明する。
【０１４６】
　本発明の電子部品の洗浄方法は、本発明の過酸化水素分解処理水の製造方法もしくは本発明の過酸化水素分解処理水の製造装置により得られる過酸化水素分解処理水を含む洗浄水、本発明の超純水の製造方法もしくは本発明の超純水の製造装置により得られる超純水を含む洗浄水、本発明の水素溶解水の製造方法もしくは本発明の水素溶解水の製造装置により得られる水素溶解水を含む洗浄水または本発明のオゾン溶解水の製造方法もしくは本発明のオゾン溶解水の製造装置により得られるオゾン溶解水を含む洗浄水から選ばれるいずれか一種以上の洗浄水により、表面洗浄することを特徴とするものである」
「【０１６０】
＜白金族金属担持触媒＞
　次に、本発明の過酸化水素分解処理水の製造方法、過酸化水素分解処理水の製造装置、超純水の製造方法、超純水の製造装置、水素溶解水の製造方法、水素溶解水の製造装置、オゾン溶解水の製造方法、オゾン溶解水の製造装置および電子部品の洗浄方法において共通に用いられる、モノリス状有機多孔質アニオン交換体に白金族金属が担持されてなる
白金族金属担持触媒
【０１６１】
　上記白金族金属担持触媒としては、モノリス状有機多孔質アニオン交換体に
白金族金属ナノ粒子が担持されてなるもの
シ　引用文献１２の記載
　取消理由通知（決定の予告）において引用した引用文献１２（甲第３号証：国際公開第２０１６／０４２９３３号）には、以下の事項が記載されている。
「[0001]　本発明は、希釈液を製造する希釈液製造方法および希釈液製造装置に関するものである。」 
「[0002]　半導体装置や液晶ディスプレイの製造プロセスにおいては、シリコンウエハや液晶パネル用ガラス基板の洗浄液として、アンモニア水などの薬液を超純水で希釈した希釈液が用いられている。希釈液の製造方法としては、ユースポイントに向けて供給される超純水に対して微少量の薬液を添加する方法が知られており、種々の提案がなされている。」
「[0058]　＜実施例１＞ 
　図４に実施例１の希薄アンモニア水製造装置の概念図を示す。
[0059]　まず、ＰＦＡ製の第１の配管１１に超純水を流す。超純水としては、電気抵抗率が１８ＭΩ・ｃｍ以上、ＴＯＣ（有機体炭素）が１．０ｐｐｂ以下の超純水を使用した。次いで、ＰＦＡ製のタンク１２から薬液としての２９ｗｔ％の高濃度アンモニア水（電子工業用、関東化学（株））を、第２の配管１３を通して第１の配管１１内の超純水に供給することにより、所定の成分濃度の希薄アンモニア水を製造して、ユースポイントに供給した。・・・」
「[0066]　＜実施例３＞
　図７に実施例３の希薄アンモニア水製造装置の概念図を示す。
[0067]　実施例３では、実施例１の装置（図４）に対し、第１の配管１１と第２の配管１３との連結部１１ａの圧力を測定することができる圧力計（ＨＰＳ、サーパス工業（株））１８Ａと、圧力計１８Ａの測定値に基づいて連結部１１ａの圧力を所定の値にするための磁気浮上式の供給ポンプ（ＢＰＳ−４、レビトロニクスジャパン（株））１９Ａとを追加した。そして、圧力計１８Ａの測定値が２８０ｋＰａになるようにポンプ１９Ａの回転数を制御するとともに、流量計１４および導電率計１５Ａの測定値に基づき、タンク１２内の圧力の目標値を算出した。これら以外の構成は実施例１と変わらない。」
「　符号の説明」
[0088]・・・１９Ａ・・・定量ポンプ・・・」
　以上から、引用文献１２には、以下の技術的事項が開示されているといえる。
「超純水にアンモニア水を供給する連結部１１ａにおける圧力の測定値が一定（２８０ｋＰａ）となるように、定量ポンプであるポンプ１９Ａの回転数を制御すること。」、
「タンク１２から薬液としての２９ｗｔ％の高濃度アンモニア水を第２の配管１３を通して第１の配管１１内の超純水に供給することにより、所定の成分濃度の希薄アンモニア水を製造すること。」
（３）当審の判断
ア　本件発明１について
（ア）対比
　本件発明１と引用発明とを対比する。
ａ　本件発明１の「超純水ラインと、該超純水ラインからの超純水にｐＨ調整剤及び酸化還元電位調整剤を添加して一定濃度の洗浄水を製造する洗浄水製造部を有する洗浄水供給装置において」、「該洗浄水製造部から該洗浄水を洗浄機に供給する洗浄水ライン」を備える「洗浄水供給装置」と、引用発明の「原料水貯槽１２に貯留された超純水が、ポンプ１３によりフィルター１４に送られ、微粒子などが除去された原料水は、膜脱気装置１５に送られ、脱気された原料水は、気体透過膜装置１８に送られ、水素ガス、オゾン、酸素ガス、希ガスなどが溶解されて、機能水となり、機能水には、薬剤貯槽１９から薬注ポンプ２０により、アンモニア、過酸化水素、フッ化水素などの薬剤が添加され、ユースポイント２１に送られ」る、「機能水供給装置」であって、機能水は、「洗浄に使用される」ものであり、「ユースポイントで使用されなかった機能水には、超純水に特定の機能を付与するために溶解された気体又は気体とpH調整剤などの薬剤が、含まれているが、これらの気体と薬剤の含有量は、機能水を循環している間に、揮散、分解などにより減少し、機能水が本来有すべき値から外れ、しかもユースポイントにおける未使用の機能水の発生量などによっても変動するものであるところ、機能水の希薄排水に含まれるイオン性物質を除去して、機能水の製造工程に供給するので、使用ずみの機能水を原料水として用いて、超純水を原料水とする機能水と等しい性能を有する機能水を製造することができ、また、未使用の機能水についても、イオン性物質を除去して機能水の製造工程に供給するので、イオン性物質に影響されることなく、所望の水質の機能水を製造することができる」、「機能水供給装置」とを対比する。 
（ａ）引用発明の「洗浄に使用される」「機能水」を供給する「機能水供給装置」、「機能水」が「洗浄に使用され」る「ユースポイント２１」は、それぞれ、本件発明１の「洗浄水供給装置」、「洗浄機」に相当する。
（ｂ）引用発明における「アンモニア」は、本件発明１の「ｐＨ調整剤」に相当する。
　また、引用発明における「水素ガス」、「オゾン」、「過酸化水素」はいずれも、本件発明１の「酸化還元電位調整剤」に相当する（水素ガスについては、必要であれば、技術常識を示す文献である、甲第２号証（特開２００８−２０５４９０号公報）の段落【００３９】の「とりわけ、酸化還元電位調整剤として水素を用いると、添加によるｐＨ変動が生じず工程における洗浄組成物の濃度管理を簡便化できる上、排水処理への負荷も大幅に軽減できる。」との記載を参照されたい。）。
（ｃ）引用発明は、「バルブ２６に信号が送られて、超純水が補給されて原料水貯槽内の水量は、常に一定に保たれる」ものであるから、引用発明のバルブ２６を介して原料水貯槽に超純水を補給するラインは、本件発明１の「超純水ライン」に相当する。
　引用発明において、気体透過膜装置１８で生成された機能水は、「アンモニア、過酸化水素、フッ化水素などの薬剤が添加され、ユースポイント２１に送られ」るから、図３のユースポイント２１に送るラインは、本件発明１の「洗浄水ライン」に相当し、ユースポイント２１に送られる、薬剤が添加された機能水は、本件発明１の「洗浄水」に相当する。
（ｄ）また、引用発明において、「ユースポイントで使用されなかった機能水には、超純水に特定の機能を付与するために溶解された気体又は気体とpH調整剤などの薬剤が、含まれているが、これらの気体と薬剤の含有量は、機能水を循環している間に、揮散、分解などにより減少し、機能水が本来有すべき値から外れ、しかもユースポイントにおける未使用の機能水の発生量などによっても変動するものであるところ、機能水の希薄排水に含まれるイオン性物質を除去して、機能水の製造工程に供給するので、使用ずみの機能水を原料水として用いて、超純水を原料水とする機能水と等しい性能を有する機能水を製造することができ、また、未使用の機能水についても、イオン性物質を除去して機能水の製造工程に供給するので、イオン性物質に影響されることなく、所望の水質の機能水を製造することができる」のであるから、「機能水製造装置」が「ユースポイント」へ供給する「機能水」のイオン性物質の濃度は一定であるといえる。
（ｅ）したがって、本件発明１と引用発明とは、「超純水ラインと、該超純水ラインからの超純水にｐＨ調整剤及び酸化還元電位調整剤を添加して」「洗浄水を製造する洗浄水製造部を有する洗浄水供給装置において」、「該洗浄水製造部から該洗浄水を洗浄機に供給する洗浄水ライン」を備える「洗浄水供給装置」である点で一致する。
ｂ　本件発明１の「該洗浄水ラインからの余剰洗浄水から溶質を除去する除去部」を備えとの構成、「該除去部は、イオン交換装置及び白金族触媒装置を備え」との構成と、引用発明の「ユースポイントで使用されなかった機能水は、イオン除去手段２４に送られ、アンモニウムイオン、フッ化物イオンなどのイオンが除去されて」とを対比する。
　引用発明の「イオン除去手段２４」は、本件発明１の「除去部」であって、当該除去部が備える「イオン交換装置」に相当する。
　また、引用発明において、機能水には、「アンモニア、過酸化水素、フッ化水素などの薬剤が添加され」、「ユースポイントで使用されなかった機能水」は、イオン除去手段２４で、「アンモニウムイオン、フッ化物イオンなどのイオン」が除去されるから、引用発明の「ユースポイントで使用されなかった機能水」、「アンモニア、過酸化水素、フッ化水素などの薬剤」は、それぞれ、本件発明１の「余剰洗浄水」、「溶質」に相当する。
　したがって、本件発明１と引用発明とは、「該洗浄水ラインからの余剰洗浄水から溶質を除去する除去部」を備える点で一致し、「該除去部は、イオン交換装置」を備える点で共通する。
ｃ　本件発明１の「前記洗浄水製造部は、すべての洗浄機の最大使用量の合計よりも多量の洗浄水を製造可能である」と、引用発明の「機能水は、ユースポイントへ送られて洗浄に使用されるが、ユースポイントで不足が生じないように、常に余裕をもって多めに送られ、その結果、ユースポイントにおいて、洗浄に使用されなかった余剰の機能水が発生し」とを対比する。
　引用発明において、「洗浄」に使用される「機能水」は、本件発明１の「洗浄水製造部」で製造される「洗浄水」に相当し、「ユースポイント」では、「未使用の機能水」が「発生」するのであるから、本件発明１と引用発明とは、「前記洗浄水製造部は、すべての洗浄機の最大使用量の合計よりも多量の洗浄水を製造可能である」点で一致する。
ｄ　そうすると、本件発明１と引用発明との一致点と相違点は次のとおりである。
＜一致点＞
「超純水ラインと、該超純水ラインからの超純水にｐＨ調整剤及び酸化還元電位調整剤を添加して洗浄水を製造する洗浄水製造部を有する洗浄水供給装置において、 
　該洗浄水製造部から該洗浄水を洗浄機に供給する洗浄水ラインと、
　該洗浄水ラインからの余剰洗浄水から溶質を除去する除去部とを備える洗浄水供給装置っであって、
　該除去部は、イオン交換装置を備え、
　前記洗浄水製造部は、すべての洗浄機の最大使用量の合計よりも多量の洗浄水を製造可能である洗浄水供給装置。」
＜相違点＞
＜相違点１＞
　本件発明１は、「該洗浄機は、多数のバルブが不規則に開閉する多チャンバー枚葉式洗浄機であり、該洗浄機に供給される該洗浄水量は変動するものであ」るのに対し、引用発明では、ユースポイント２１に送られる機能水について、そのような特定はなされていない点。
＜相違点２＞
　本件発明１は、該除去部は、「イオン交換装置及び白金族触媒装置」を備えるものであり、洗浄水製造部は、「一定濃度」の洗浄水を製造するのに対し、引用発明は、イオン除去手段１０を備えるものの、「白金族触媒装置」を備えるものではなく、「機能水の希薄排水に含まれるイオン性物質を除去して、機能水の製造工程に供給するので、使用ずみの機能水を原料水として用いて、超純水を原料水とする機能水と等しい性能を有する機能水を製造することができ、また、未使用の機能水についても、イオン性物質を除去して機能水の製造工程に供給するので、イオン性物質に影響されることなく、所望の水質の機能水を製造することができる」ものである点。
＜相違点３＞
　本件発明１は、「前記洗浄水製造部は、前記超純水ラインに超純水を定量供給する手段と、超純水に対し溶質を定量供給する手段とを有」するのに対し、引用発明では、そのような特定はなされていない点。
＜相違点４＞
　洗浄水ラインに接続される洗浄機について、本件発明１では、「複数の洗浄機」が接続されているのに対し、引用発明では、ユースポイントについて、そのような特定はなされていない点。
＜相違点５＞
　本件発明１は、「該洗浄水製造部２から洗浄水ライン３へ供給される洗浄水量は、各洗浄機５Ａ〜５Ｎに供給される洗浄水量の最大量の合計量の１２０％以上であ」るのに対し、引用発明では、そのような特定はなされていない点。
＜相違点６＞
　本件発明１は、「該洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへは、それぞれ、洗浄水ライン３から分岐配管７、配管１０を介して洗浄水が供給され、配管１０からはリターン配管１１が分岐しており、該リターン配管１１の末端側は洗浄水ライン３に接続されている」のに対し、引用発明では、ユースポイント２１（洗浄機）への配管の接続関係について、そのような特定はなされていない点。
（イ）判断
ａ　相違点６について
　事案に鑑み、まず、相違点６について検討する。
　相違点６に係る本件発明１の「該洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへは、それぞれ、洗浄水ライン３から分岐配管７、配管１０を介して洗浄水が供給され、配管１０からはリターン配管１１が分岐しており、該リターン配管１１の末端側は洗浄水ライン３に接続されている」との構成について、上記引用文献２〜１２には記載も示唆もされておらず、本件出願前において周知技術であるともいえない。
　したがって、引用発明において、上記引用文献２〜１２を参照した当業者が、上記相違点６に係る本件発明１の構成とすることは容易になし得たこととはいえない。
ｂ　小括
　したがって、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明１は、引用発明、並びに引用文献２〜１２に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。
ｃ　特許異議申立人の意見について
（ａ）特許異議申立人黒崎惇子は、令和２年９月１０日に提出した意見書１０〜１２ページにおいて、構成要件Ｐ（上記「ａ」の相違点６に係る本件発明１に係る構成）について、
「例えば、参考資料３（特許公報第２６０６９１号公報）」には、・・・（略）・・・と記載され、超純水製造された超純水が供給ライン８を経由してユースポイント９の超純水分配箇所に分配供給され、未使用分はリターンライン１０を経て一次純水タンク２に戻ることが記載されている。ここで、参考資料３の下記第１図には、供給ライン８からユースポイント９に超純水を供給するラインから分岐してリターンライン１０に繋がる配管が記載されており、未使用分の超純水が当該配管を経由してリターンライン１０に戻されていることは明らかである。
・・・
　また、参考資料４（特開平１１−１８６２０７号公報）には、・・・（略）・・・と記載され、・・・（略）・・・一次純水製造部に返送して原水とする方法が望ましいことが記載されている。
　よって、甲１−１発明において、ユースポイントで使用されなかった洗浄水を回収するために、供給ラインからユースポイントに洗浄水を供給するラインから分岐してリターンラインに繋がる配管を設け、当該配管を経由して洗浄水を回収することは当業者にとって自明である。
・・・（略）・・・
　したがって、訂正後の本件特許発明１は、・・・（略）・・・特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。」と主張している。
（ｂ）上記参考資料３（特許公報第２６０６９１号公報）の【第１図】は、以下のとおりのものである。
　上記参考資料３の【第１図】には、「９ユースポイント」（本件発明１の「（複数の）洗浄機」に相当する。）」へ、「８供給ライン」（本件発明１の「洗浄水ライン」に相当する。）から「分岐する配管」（本件発明１の「分岐配管７」に対応する。）を介して洗浄水が供給され、該「分岐する配管」からは「更に分岐する配管」が分岐しており、該「更に分岐する配管」の末端側は「リターンライン１０」に接続されていることが、開示されているものの、本件発明１の「配管１０」及び「『該配管１０』からはリターン配管１１が『分岐』して」いる構成は記載されておらず、しかも、上記【第１図】において、「リターンライン１０」と「供給ライン８」とは同じラインではないから、上記参考資料３には、前記「更に分岐する配管」の末端側が「８供給ライン」に接続されていること、すなわち、本件発明１の、「該リターン配管１１の末端側は『該洗浄水ライン３に』接続されている』」という構成は、記載も示唆もされていない。
　また、上記参考資料４（特開平１１−１８６２０７号公報）にも、相違点６に係る本件発明１の「該洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへは、それぞれ、洗浄水ライン３から分岐配管７、配管１０を介して洗浄水が供給され、配管１０からはリターン配管１１が分岐しており、該リターン配管１１の末端側は洗浄水ライン３に接続されている」との構成について、記載も示唆もされていない。
　したがって、甲１−１発明において、構成要件Ｐが自明であるとする、特許異議申立人黒崎惇子の上記主張は、採用することができない。
ｄ　判断についてのまとめ
　したがって、本件発明１は、引用発明、並びに引用文献２〜１２、及び上記参考資料３、４に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。
５　取消理由通知（決定の予告）において採用しなかった特許異議申立理由について
（１）特許異議申立人黒崎惇子は、特許異議申立書において、登録時の特許請求の範囲に関し、本件特許発明１、２は、その出願前に日本国内において頒布された甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない旨を主張する。
　しかしながら、本件発明１は、本件訂正請求により訂正され、本件発明１は、上記３のとおりのものであり、上記「４（３）ア」「（ア）対比」のとおり、本件発明１と引用発明とは、相違点１〜６の点で相違する。
　したがって、本件発明１は、甲第１号証（引用文献１）に記載された発明ではなく、特許法第２９条第１項第３号には該当しない。
（２）特許異議申立人黒崎惇子は、特許異議申立書において、登録時の特許請求の範囲に関し、本件特許発明１は、甲第１号証（引用文献１）に記載された発明および甲第６−８号証（順に、引用文献１０、引用文献３、引用文献１１）に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、本件特許発明２は、甲第１号証（引用文献１）に記載された発明および甲第３号証（引用文献１２）に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、本件特許発明３は、甲第１号証（引用文献１）に記載された発明、および周知技術（例えば、甲第４号証、甲第５号証（引用文献２）、甲第７号証（引用文献３））に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない旨を主張する。
　しかしながら、上記「４（３）ア」「（イ）判断」「ａ　相違点６について」のとおり、相違点６に係る本件発明１の「該洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへは、それぞれ、洗浄水ライン３から分岐配管７、配管１０を介して洗浄水が供給され、配管１０からはリターン配管１１が分岐しており、該リターン配管１１の末端側は洗浄水ライン３に接続されている」との構成について、上記引用文献２〜１２（引用文献２、３、１０〜１２は、それぞれ、甲第５号証、甲第７号証、甲第６号証、甲第８号証、甲第３号証に対応。）には記載も示唆もされておらず、本件出願前において周知技術であるともいえない。すなわち、上記相違点６に係る本件発明１の上記の構成について、甲第３、５〜８号証には記載も示唆もされていない。
　また、甲第２号証、甲第４号証にも、上記相違点６に係る本件発明１の上記の構成について記載も示唆もされていない。
　したがって、甲第４号証を併せて検討しても、本件発明１が、甲第１、３〜８号証から容易に発明をすることができたものとは認められない。
（３）特許異議申立人黒崎惇子は、特許異議申立書４２〜４４ページにおいて、登録時の特許請求の範囲に関し、本件特許発明１には、「具体的な「ｐＨ調整剤」、「酸化還元電位調整剤」、及び「イオン交換装置」の種類については何ら特定されておらず、本件特許発明１は、「発明の課題（余剰洗浄水から溶質除去部にて溶質を除去して回収することによって、ごく低濃度の溶質を含む洗浄水を安定供給することができる洗浄水装置を提供する）を解決できない態様を含むものである。したがって、請求項１−３の範囲まで、発明の詳細な説明に開示された内容を拡張ないし一般化できるとはいえない。よって、本件特許発明１−３は、発明の詳細な説明に記載したものではない。」旨を主張する。
　しかしながら、本件訂正後の特許請求の範囲の請求項１には、「ｐＨ調整剤及び酸化還元電位調整剤を添加して」、「該除去部は、イオン交換装置及び白金族触媒装置を備え」と記載されているところ、発明の詳細な説明には、以下のように記載されている。
「【０００２】
　半導体ウェハの洗浄・リンス水工程では、ウェハの帯電、金属腐食・溶解、微粒子付着を抑制する目的で、
酸又はアルカリのｐＨ調整剤や、酸化剤又は還元剤のような酸化還元電位調整剤を、必要最低限のごく低濃度で超純水に溶解させた水質調整水が洗浄水（リンス水を含む）として使用される
Ｈ２、Ｏ３、ＣＯ２、ＮＨ３といった還元性、酸化性、酸性、又はアルカリ性のガスを超純水に溶解させる
「【００３０】
　本発明において、超純水に薬注する薬液は、ｐＨ調整剤及び／又は酸化還元電位調整剤を超純水に溶解させて調製した薬液であり、その
ｐＨ調整剤としては
アンモニア
等を用いる
【００３１】
　また、
酸化還元電位調整剤としては過酸化水素や硝酸を用いる
・・・
【００３３】
　
超純水に溶解させるガスとしては、Ｈ２，Ｏ３，ＣＯ２，ＮＨ３などが例示される
「【００３５】
　除去部４における余剰水の処理は、
イオン交換樹脂又は白金族触媒のみで対応可能
ｐｐｍオーダーの酸・アルカリはイオン交換装置で容易に除去できる
酸化剤・還元剤の除去には白金ナノコロイド担持樹脂などの触媒が有効である
【００３６】
　洗浄水ライン３からの余剰洗浄水中の溶質濃度がｐｐｍオーダーと非常に低く、また、溶質の種類が限られているため、溶質を十分に除去することは容易であり、簡単な
イオン交換装置と触媒装置の組み合わせで超純水に近い純度に戻る
　したがって、発明の詳細な説明には、ｐＨ調整剤として、アンモニア等を用い、イオン交換装置で除去することができ、酸化還元電位調整剤として、過酸化水素や硝酸を用い、白金ナノコロイド担持樹脂などの触媒で除去することができる旨が開示されている。
　
　また、特許異議申立人黒崎惇子は、特許異議申立書４３ページにおいて、「例えば、本件特許発明１には、「ｐＨ調整剤」としてアンモニア（本件明細書の段落［００３０］）を添加し、「イオン交換装置」としてアニオン交換樹脂のみを充填した構成も含まれるが、この構成ではカチオン性物質であるアンモニウムイオンを除去することはできない。つまり、余剰洗浄水から溶質（アンモニア）を除去することはできない。」と主張している。
　しかしながら、「ｐＨ調整剤」としてのアンモニアは、陽イオン（カチオン）であるから、カチオン交換樹脂を充填した「イオン交換装置」で除去することができることは技術常識である。したがって、技術常識を踏まえれば、本件訂正後の特許請求の範囲の請求項１の範囲まで、発明の詳細な説明に開示された内容を拡張ないし一般化できないとはいえない。
　したがって、特許異議申立人黒崎惇子のかかる主張は、採用することができない。
６　むすび
　以上のとおりであるから、取消理由通知（決定の予告）に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した特許異議申立理由によっては、本件請求項１に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　また、請求項２及び３に係る特許は、上記のとおり、本件訂正請求による訂正により削除された。これにより、特許異議申立人黒崎惇子による特許異議の申立てについて、請求項２及び３に係る申立ては、申立ての対象が存在しないこととなったため、特許法第１２０条の８第１項で準用する同法第１３５条の規定により却下する。
　よって、結論のとおり決定する
【異議決定日】
令和２年１２月２１日（２０２０．１２．２１）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　超純水ラインと、該超純水ラインからの超純水にｐＨ調整剤及
び酸
　該洗浄水製造部から該洗浄水を洗浄機に供給する洗浄水ラインと、
　該洗浄水ラインからの余剰洗浄水から溶質を除去する除去部とを備える洗浄水供給装置っであって、
　
該洗浄機は、多数のバルブが不規則に開閉する多チャンバー枚葉式洗浄機であり、
　
該洗浄機に供給される該洗浄水量は変動するものであり、
　該除去部は、イオン交換装置及
び白
、
　
前記洗浄水製造部は、前記超純水ラインに超純水を定量供給する手段と、超純水に対し溶質を定量供給する手段とを有し、
　
前記洗浄水ラインに複数の洗浄機が接続されており、前記洗浄水製造部は、すべての洗浄機の最大使用量の合計よりも多量の洗浄水を製造可能であり、
　
該洗浄水製造部２から該洗浄水ライン３へ供給される洗浄水量は、各洗浄機５Ａ〜５Ｎに供給される洗浄水量の最大量の合計量の１２０％以上であり、
　
該洗浄機５Ａ，５Ｂ，………５Ｎへは、それぞれ、該洗浄水ライン３から分岐配管７、配管１０を介して洗浄水が供給され、該配管１０からはリターン配管１１が分岐しており、該リターン配管１１の末端側は該洗浄水ライン３に接続されてい
　【請求項２】（削除）
　【請求項３】（削除）