(57)【要約】      （修正有）【課題】特定の紫外線領域、即ち、有害光とされている４２０ｎｍ付近の波長の光線透過率を抑制しながら、高い全光線透過率を維持し、かつ、耐衝撃強度、成形滞留安定性、耐乾熱性に優れるポリカーボネート樹脂組成物を提供する。【解決手段】ポリカーボネート樹脂組成物は、粘度平均分子量が、２１，０００〜２６，０００であるポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、添加剤（Ｂ）を０．１〜１．５質量部含み、かつ、添加剤（Ｂ）として、式１で示されるベンゾトリアゾール骨格を有する紫外線吸収剤（Ｂ１）を０．１質量部以上含む。2020132839.tif 000011【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
粘度平均分子量が、２１，０００〜２６，０００であるポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、添加剤（Ｂ）を０．１〜１．５質量部含み、かつ、前記添加剤（Ｂ）として、下記式１で示されるベンゾトリアゾール骨格を有する紫外線吸収剤（Ｂ１）を０．１質量部以上含む、ポリカーボネート樹脂組成物：
【化１】
2020132839.tif 000010
式１中、
Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、及び水酸基のいずれかを示し、かつ、前記炭化水素基には、酸素含有基が含まれてもよく、
Ｒ６〜Ｒ９はそれぞれ独立に、水素原子、又は、Ｒ−Ｓ−で表わされる硫黄含有基のいずれかを示し、かつ、Ｒ６〜Ｒ９の少なくとも一つは、Ｒ−Ｓ−で表わされる硫黄含有基であり、Ｒは、水素原子が炭素原子数１〜１８のアルキル基に置換されてもよい炭素原子数６〜２４の芳香族基である。
【請求項２】
前記紫外線吸収剤（Ｂ１）の芳香族基が、フェニル残基を示す、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記紫外線吸収剤（Ｂ１）のＲ−Ｓ−で表わされる硫黄含有基が、Ｒ６又はＲ９に結合した、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
前記紫外線吸収剤（Ｂ１）におけるＲ１〜Ｒ５の炭化水素基が、炭素原子数１〜１２のアルキル基である、請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
前記紫外線吸収剤（Ｂ１）におけるＲ１〜Ｒ５の炭化水素基が、炭素原子数１〜４のアルキル基である、請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
前記紫外線吸収剤（Ｂ１）におけるＲ１〜Ｒ５のうちの少なくとも一つが、メチル基である、請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
前記紫外線吸収剤（Ｂ１）におけるＲ１〜Ｒ５のうちの少なくとも一つが、メチル基であり、かつ、残りのＲ１〜Ｒ５のうちの少なくとも一つがブチル基である、請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
【請求項８】
前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記紫外線吸収剤（Ｂ１）を０．１〜１．４質量部含む、請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記添加剤（Ｂ）として、リン系熱安定剤（Ｂ２）を０．０１〜０．１質量部含む、請求項１〜８のいずれかに記載の組成物。
【請求項１０】
前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記添加剤（Ｂ）として、脂肪酸エステル系離型剤（Ｂ３）を０．０３〜０．５質量部含む、請求項１〜９のいずれかに記載の組成物。
【請求項１１】
前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記添加剤（Ｂ）として、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ４）を０．０１〜０．３０質量部含む、請求項１〜１０のいずれかに記載の組成物。
【請求項１２】
前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記添加剤（Ｂ）として、エポキシ基含有化合物（Ｂ５）を０．００１〜０．０２質量部含む、請求項１〜１１のいずれかに記載の組成物。
【請求項１３】
前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記添加剤（Ｂ）として、前記紫外線吸収剤（Ｂ１）以外の紫外線吸収剤（Ｂ６）を０．０５〜０．３質量部を含む、請求項１〜１２のいずれかに記載の組成物。
【請求項１４】
加熱溶融成形品の成形材料として用いる、請求項１〜１３のいずれかに記載の組成物。
【請求項１５】
眼鏡レンズ成形品の成形材料として用いる、請求項１〜１３のいずれかに記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、特定の紫外線領域、即ち、有害光とされている４２０ｎｍ付近の波長の光線透過率を抑制しながら、高い全光線透過率を維持し、かつ、耐衝撃強度、成形滞留安定性、耐乾熱性に優れるポリカーボネート樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
合成樹脂（プラスチック）を用いて形成される成形品は、ガラス材料よりも割れにくく、着色及び各種の成形加工が容易であるため、ガラス材料からの代替が進んできている。例えば、眼鏡レンズ、カメラレンズ、各種ディスプレイの前面板、光源カバーなどの光学成形品についても、ガラス材料に代わって合成樹脂が使用されてきている。
【０００３】
合成樹脂成形品は、日光又は紫外線の長期の暴露により劣化しやすく、例えば、黄変等の変色が避けられない。このような変色等の劣化を抑制するために、耐光性を改良する目的で合成樹脂成形品に対して紫外線吸収剤が配合されている。
【０００４】
この他、最近では、眼を保護する目的で、合成樹脂成形品に対して紫外線吸収能を付与する検討も行われている。紫外線が眼に悪影響を及ぼすことは、従来より指摘されている。また、例えば自然光、オフィス機器の液晶ディスプレイ、スマートフォン又は携帯電話等の携帯機器のディスプレイ等から発せられる青色光も、眼の疲れや痛みを感じるなど、眼への影響が懸念されている。例えば、眼が青色光の照射を長期間浴びると、眼精疲労や、活性酸素、特に過剰な一重項酸素の発生による酸化ストレスを受けることが指摘されている。この一重項酸素は、紫外線及び可視光の中でもエネルギーの強い短波長の青色光によって産生が促進されることが分かっている。
【０００５】
また網膜では、加齢とともに網膜色素上皮内にリポフスチンと呼ばれる老廃物が蓄積し、これが光増感物質として作用して一重項酸素を発生させると考えられている。このリポフスチンは、可視光から紫外領域にわたって波長が短くなるほど吸収が高くなるという特性を有している。一方、一重項酸素による酸化ストレスを抑制する物質として、ルテインが知られている。ルテインは網膜中に存在しているが、紫外から青色領域の光によって劣化してしまう。
【０００６】
このため、リポフスチンによる一重項酸素の発生の抑制、及び酸化ストレスを抑制するルテインの劣化抑制のためには、ルテインとリポフスチンの光吸収特性がオーバーラップする波長範囲である４００〜４２０ｎｍの波長を、網膜より手前でカットすることが非常に効果的である。
【０００７】
さらに近年の研究では、４１１ｎｍの短波長光に網膜組織が曝されると、４７０ｎｍの波長光に曝された場合よりも、ニューロン網膜細胞が強い酸化ストレスを受け、細胞死の兆候が認められることや、網膜組織の構造の歪みが引き起こされることが指摘され、加齢黄斑変性が進行する要因の一つと考えられている。
【０００８】
また、４００〜４２０ｎｍの波長光の照射により、皮質白内障の原因である活性酸素種の生成、ＤＮＡ損傷及び水晶体上皮細胞の細胞死が開始することが指摘されていることから、眼組織の障害の引き金となる可能性がある４００〜４２０ｎｍの短波長光をブロックすることは眼を健康に保つために非常に重要である。言い換えれば、４２０ｎｍ付近の波長光の光線透過率を抑制することは、眼を健康に保つために非常に重要である。
【０００９】
特許文献１及び２には、プラスチック成形品に４００〜４２０ｎｍの波長光を吸収する性能を付与する紫外線吸収剤の使用が提案されている。
【００１０】
特許文献３及び４には、４００〜４２０ｎｍの波長を十分に効率よく吸収しながらも、４２０ｎｍ以上の波長光の吸収を抑制し、有害光の影響が少なく、黄色化を抑えて外観に優れるプラチックレンズが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特許第５６２００３３号公報
【特許文献２】特許第４３３４６３３号公報
【特許文献３】国際公開第２０１６／０２１６６４号
【特許文献４】国際公開第２０１６／１７４７８８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
特許文献１には、紫外線吸収剤として２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−クロロベンゾトリアゾールを使用し、エピスルフィド樹脂等の樹脂材料と組み合わせる技術が提案されている。また、特許文献２には、特定のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を配合する技術が提案されている。
【００１３】
しかしながら、特許文献１及び２に記載されるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を樹脂に添加し、４００〜４２０ｎｍ付近の波長光を十分吸収させようとすると、その波長領域の吸収効率が低いため、紫外線吸収剤の添加量を多くする必要があり、同時に、その光学的特性より、４２０ｎｍ付近より長波長の光も多く吸収するため、成形品が黄色化する問題があった。
【００１４】
特許文献３及び４は、４２０ｎｍの波長の透過率を抑制する透明なプラスチック成形品を提案するものである。しかしながら、これらの提案の中で具体的に示されたプラスチックレンズ等のプラスチック成形品は、耐衝撃強度が不十分な熱硬化性樹脂からなる成形品である。
【００１５】
一般にポリカーボネート樹脂は、他の熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂に比べ、耐衝撃強度などの機械物性が優れるといわれている。しかしながら、耐衝撃強度以外の様々な機能性を付与するために、ポリカーボネート樹脂と各種添加剤を併用した場合、添加剤の種類及びその量によっては、成形品の機械物性が低下する問題、或いは成形加工時の熱安定性が悪化し、結果として成形品の着色や物性低下の問題が生じることも多い。
【００１６】
前述のように、これまでには、有害とされる４２０ｎｍ付近の波長の透過率を抑制する透明なプラスチック成形品の提案はあったが、４２０ｎｍ付近の波長の光線透過率を抑制しながら、耐衝撃強度に優れるポリカーボネート樹脂組成物を得るための具体的な提案はなかった。さらに、４２０ｎｍ付近の波長の光線透過率を抑制し、耐衝撃強度に優れ、かつ、全光線透過率が高く、成形加工時や押出加工時の成形滞留安定性及び耐乾熱性に優れるポリカーボネート樹脂組成物が強く望まれていた。
【００１７】
したがって、本開示の目的は、特定の紫外線領域、即ち、有害光とされている４２０ｎｍ付近の波長の光線透過率を抑制しながら、高い全光線透過率を維持し、かつ、耐衝撃強度、成形滞留安定性、耐乾熱性に優れるポリカーボネート樹脂組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
〈態様１〉
粘度平均分子量が、２１，０００〜２６，０００であるポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、添加剤（Ｂ）を０．１〜１．５質量部含み、かつ、前記添加剤（Ｂ）として、下記式１で示されるベンゾトリアゾール骨格を有する紫外線吸収剤（Ｂ１）を０．１質量部以上含む、ポリカーボネート樹脂組成物：
【化１】
2020132839.tif 000002
式１中、
Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、及び水酸基のいずれかを示し、かつ、前記炭化水素基には、酸素含有基が含まれてもよく、
Ｒ６〜Ｒ９はそれぞれ独立に、水素原子、又は、Ｒ−Ｓ−で表わされる硫黄含有基のいずれかを示し、かつ、Ｒ６〜Ｒ９の少なくとも一つは、Ｒ−Ｓ−で表わされる硫黄含有基であり、Ｒは、水素原子が炭素原子数１〜１８のアルキル基に置換されてもよい炭素原子数６〜２４の芳香族基である。
〈態様２〉
前記紫外線吸収剤（Ｂ１）の芳香族基が、フェニル残基を示す、態様１に記載の組成物。
〈態様３〉
前記紫外線吸収剤（Ｂ１）のＲ−Ｓ−で表わされる硫黄含有基が、Ｒ６又はＲ９に結合した、態様１又は２に記載の組成物。
〈態様４〉
前記紫外線吸収剤（Ｂ１）におけるＲ１〜Ｒ５の炭化水素基が、炭素原子数１〜１２のアルキル基である、態様１〜３のいずれかに記載の組成物。
〈態様５〉
前記紫外線吸収剤（Ｂ１）におけるＲ１〜Ｒ５の炭化水素基が、炭素原子数１〜４のアルキル基である、態様１〜３のいずれかに記載の組成物。
〈態様６〉
前記紫外線吸収剤（Ｂ１）におけるＲ１〜Ｒ５のうちの少なくとも一つが、メチル基である、態様１〜５のいずれかに記載の組成物。
〈態様７〉
前記紫外線吸収剤（Ｂ１）におけるＲ１〜Ｒ５のうちの少なくとも一つが、メチル基であり、かつ、残りのＲ１〜Ｒ５の炭化水素基のうちの少なくとも一つがブチル基である、態様１〜５のいずれかに記載の組成物。
〈態様８〉
前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記紫外線吸収剤（Ｂ１）を０．１〜１．４質量部含む、態様１〜７のいずれかに記載の組成物。
〈態様９〉
前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記添加剤（Ｂ）として、リン系熱安定剤（Ｂ２）を０．０１〜０．１質量部含む、態様１〜８のいずれかに記載の組成物。
〈態様１０〉
前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記添加剤（Ｂ）として、脂肪酸エステル系離型剤（Ｂ３）を０．０３〜０．５質量部含む、態様１〜９のいずれかに記載の組成物。
〈態様１１〉
前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記添加剤（Ｂ）として、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ４）を０．０１〜０．３０質量部含む、態様１〜１０のいずれかに記載の組成物。
〈態様１２〉
前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記添加剤（Ｂ）として、エポキシ基含有化合物（Ｂ５）を０．００１〜０．０２質量部含む、態様１〜１１のいずれかに記載の組成物。
〈態様１３〉
前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記添加剤（Ｂ）として、前記紫外線吸収剤（Ｂ１）以外の紫外線吸収剤（Ｂ６）を０．０５〜０．３質量部を含む、態様１〜１２のいずれかに記載の組成物。
〈態様１４〉
加熱溶融成形品の成形材料として用いる、態様１〜１３のいずれかに記載の組成物。
〈態様１５〉
眼鏡レンズ成形品の成形材料として用いる、態様１〜１３のいずれかに記載の組成物。
【発明の効果】
【００１９】
本開示によれば、特定の紫外線領域、即ち、有害光とされている４２０ｎｍ付近の波長の光線透過率を抑制しながら、高い全光線透過率を維持し、かつ、耐衝撃強度、成形滞留安定性、耐乾熱性に優れるポリカーボネート樹脂組成物を提供することができる。
【００２０】
また、本開示によれば、各種加熱溶融成形品、例えばパソコンやカーナビなど各種ディスプレイの前面板、発光体の前面板やカバー、光源カバー、多目的シート（例えば射出成形された平面板、押出成形された平面板又はフィルム）、及び眼鏡レンズを成形するための成形材料として用いられるポリカーボネート樹脂組成物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本開示の実施の形態について詳述する。本開示は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、発明の本旨の範囲内で種々変形して実施できる。
【００２２】
本開示の一実施態様のポリカーボネート樹脂組成物は、粘度平均分子量が、２１，０００〜２６，０００であるポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、添加剤（Ｂ）を０．１〜１．５質量部含み、かつ、前記添加剤（Ｂ）として、下記式１で示されるベンゾトリアゾール骨格を有する紫外線吸収剤（Ｂ１）を０．１質量部以上含む、ポリカーボネート樹脂組成物である：
【化２】
2020132839.tif 000003
式１中、
Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、及び水酸基のいずれかを示し、かつ、前記炭化水素基には、酸素含有基が含まれてもよく、
Ｒ６〜Ｒ９はそれぞれ独立に、水素原子、又は、Ｒ−Ｓ−で表わされる硫黄含有基のいずれかを示し、かつ、Ｒ６〜Ｒ９の少なくとも一つは、Ｒ−Ｓ−で表わされる硫黄含有基であり、Ｒは、水素原子が炭素原子数１〜１８のアルキル基に置換されてもよい炭素原子数６〜２４の芳香族基である。
【００２３】
本開示のポリカーボネート樹脂組成物は、特定の紫外線領域、即ち、有害光とされている４２０ｎｍ付近の波長の光線透過率を抑制しながら、高い全光線透過率を維持し、かつ、耐衝撃強度、成形滞留安定性、耐乾熱性に優れる。原理によって限定されるものではないが、本開示のポリカーボネート樹脂組成物の作用原理は、以下のとおりであると考える。
【００２４】
本開示のポリカーボネート樹脂組成物には、特定の粘度平均分子量を有するポリカーボネート樹脂と上述した式１で示される特定の紫外線吸収剤が含まれている。この紫外線吸収剤を採用することによって、従来のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤に比べ、低量でありながらも、４２０ｎｍ付近の波長の光線透過率を十分に抑制しつつ、高い全光線透過率を維持することができると考えている。
【００２５】
また、係る紫外線吸収剤は、特に、式１におけるＲ６〜Ｒ９の少なくとも一つが、特定のＲ−Ｓ−で表わされる硫黄含有基を有している。紫外線吸収剤が、このような特定の硫黄含有基を有しているため、耐熱性、及びポリカーボネート樹脂との相溶性などが向上し、紫外線吸収剤の添加量が多くても、耐衝撃強度の低下を抑制する効果が得られるものと考えている。
【００２６】
また、一般的な紫外線吸収剤を含むポリカーボネート樹脂組成物は、押出、成形加工すると、配合する紫外線吸収剤自体が揮発しやすく固化しやすいため、例えば、押出機又は成形機に連結している真空ベント配管、ベント配管の途中に設置した揮発物トラップ装置が閉塞しやすかった。つまり、従来の紫外線吸収剤を使用して十分な紫外線吸収能を発揮させるためには、成型加工時の揮発分を考慮して、紫外線吸収剤を多量に配合させておく必要があったため、ポリカーボネート樹脂組成物から得られる成形物の耐衝撃強度等を低下させる要因となっていたと考えられる。一方、本開示の特定の紫外線吸収剤は、従来の紫外線吸収剤に比べて分子量が高く、耐熱性及びポリカーボネート樹脂との相溶性に優れ、組成物から揮発しにくいため、低量で充分な紫外線吸収能を発揮できるとともに、成形物の耐衝撃強度等を低下させることがないと考えている。また、本開示の紫外線吸収剤は、従来の紫外線吸収剤に比べ、押し出し等の加熱溶融を伴う成形加工時に揮発しにくく、固化や結晶化も進みにくいため、真空ベント配管等を閉塞させる問題も軽減することができる。
【００２７】
《ポリカーボネート樹脂組成物》
本開示のポリカーボネート樹脂組成物は、各種性能に優れている。
【００２８】
〈４２０ｎｍ以下の光の遮蔽性能〉
本開示のポリカーボネート樹脂組成物は、４２０ｎｍ付近の光を遮蔽することができる。例えば、ポリカーボネート樹脂組成物から得られる厚さ２ｍｍのシートを使用した場合、係るシートにおける４２０ｎｍの光の分光光線透過率は、７０％以下、７０％未満、６５％以下、又は６０％以下とすることができる。この下限値については特に制限はないが、例えば、０．１％以上、０．５％以上、１％以上、３％以上、５％以上、７％以上、又は１０％以上と規定することができる。
【００２９】
本開示のポリカーボネート樹脂組成物は、４００ｎｍ付近の光を遮蔽することもできる。例えば、ポリカーボネート樹脂組成物から得られる厚さ２ｍｍのシートを使用した場合、係るシートにおける４００ｎｍの分光光線透過率は、１％以下、１％未満、０．９％以下、又は０．８％以下とすることができる。この下限値については特に制限はないが、例えば、０％以上、０％超、又は０．１％以上と規定することができる。
【００３０】
〈全光線透過率〉
本開示のポリカーボネート樹脂組成物は、透明性に優れている。例えば、ポリカーボネート樹脂組成物から得られる厚さ２ｍｍのシートを使用した場合、係るシートにおける全光線透過率は、８７％以上、８７％超、８８％以上、又は８９％以上とすることができる。この上限値については特に制限はないが、例えば、１００％未満、９９％以下、又は９８％以下と規定することができる。
【００３１】
〈耐衝撃性〉
本開示のポリカーボネート樹脂組成物は、耐衝撃性に優れている。例えば、ポリカーボネート樹脂組成物から得られる成形物は、後述するシャルピー衝撃強さ試験において、５５ｋＪ／ｍ２超、６０ｋＪ／ｍ２以上、７０ｋＪ／ｍ２以上、又は８０ｋＪ／ｍ２以上を達成することができる。この上限値については特に制限はないが、例えば、１５０ｋＪ／ｍ２以下、１２０ｋＪ／ｍ２以下、又は１００ｋＪ／ｍ２以下と規定することができる。
【００３２】
〈耐熱性〉
本開示のポリカーボネート樹脂組成物は、耐熱性に優れている。耐熱性とは、高温下で成形品の変形が少ないことを意図し、例えば、後述する荷重たわみ温度試験で評価することができる。ポリカーボネート樹脂組成物から得られる成形物は、係る荷重たわみ温度試験において、１２４℃超、１２５℃以上、又は１２６℃以上を達成することができる。この上限値については特に制限はないが、例えば、１３５℃以下、１３２℃以下、又は１３０℃以下と規定することができる。
【００３３】
〈成形滞留安定性〉
本開示のポリカーボネート樹脂組成物は、成形滞留安定性に優れている。例えば、ポリカーボネート樹脂組成物から得られる成形物は、後述する成形滞留試験において、０．７５以下、０．７５未満、０．７２以下、又は０．７０以下の色差（ΔＥ）を達成することができる。この下限値については特に制限はないが、例えば、０．４０以上、０．４５以上、又は０．５０以上と規定することができる。
【００３４】
〈耐乾熱性〉
本開示のポリカーボネート樹脂組成物は、耐乾熱性に優れている。耐乾熱性とは、成形物を長期間高温下に放置した場合、成形物の色相変化や劣化が少ないことを意図している。例えば、ポリカーボネート樹脂組成物から得られる成形物は、後述する耐乾熱性試験において、３．０以下、３．０未満、２．５以下、又は２．０以下の黄変度（ΔＹＩ）を達成することができる。この下限値については特に制限はないが、例えば、０．１以上、０．３以上、又は０．５以上と規定することができる。
【００３５】
〈ポリカーボネート樹脂（Ａ）〉
本開示のポリカーボネート樹脂組成物に配合し得るポリカーボネート樹脂としては、粘度平均分子量が、２１，０００〜２６，０００のポリカーボネート樹脂である限り特に制限はない。
【００３６】
（粘度平均分子量）
粘度平均分子量は、例えば、耐衝撃性、溶融流動性、成型加工性等の観点から、２１，５００〜２５，０００であることがより好ましく、２２，０００〜２４，０００であることが特に好ましい。
【００３７】
ここで、ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量（Ｍ）は、オストワルド粘度計を使用して、塩化メチレン１００ｍｌにポリカーボネート樹脂０．７ｇを２０℃で溶解した溶液から求めた比粘度（ηｓｐ）を用い、以下の式２及び式３から算出したものである：
ηｓｐ／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］２ｃ      …式２
［η］＝１．２３×１０−４Ｍ０．８３      …式３
ここで、［η］は極限粘度であり、ｃは０．７である。
【００３８】
本開示の組成物中のポリカーボネート樹脂としては、例えば、二価フェノールとカーボネート前駆体とを反応させて得られる芳香族ポリカーボネート樹脂を使用することができる。
【００３９】
（二価フェノール）
二価フェノールの具体例としては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡと称する場合がある。）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシアリール）アルカン類が挙げられ；１，１−ビス（ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等のビス（ヒドロキシフェニル）シクロアルカン類が挙げられ；４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテル等のジヒドロキシアリールエーテル類が挙げられ；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド等のジヒドロキシジアリールスルフィド類が挙げられ；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシド等のジヒドロキシジアリールスルホキシド類が挙げられ；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホン等のジヒドロキシジアリールスルホン類等が挙げられる。これらの二価フェノールは、単独で用いてもよく、或いは二種以上併用してもよい。
【００４０】
上述した二価フェノールのうち、耐衝撃性等の観点から、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）が好ましい。ビスフェノールＡの割合としては、全二価フェノール成分中、５０モル％以上、６０モル％以上、７０モル％以上、又は８０モル％以上であることが好ましく、９０モル％以上、９５モル％以上、又は１００％であることがより好ましい。
【００４１】
（ポリカーボネート樹脂の製造方法）
ポリカーボネート樹脂の製造方法については特に制限はないが、例えば以下のような方法で製造することができる。
【００４２】
例えば、カーボネート前駆体としてホスゲンを用いる溶液法を採用することができる。この方法では、通常、酸結合剤及び有機溶媒の存在下で、二価フェノール成分とホスゲンとの反応を行う。
【００４３】
酸結合剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、又はピリジン等のアミン化合物が用いられる。有機溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素が用いられる。
【００４４】
また、任意に、反応促進のために、例えば、第三級アミン、第四級アンモニウム塩等の触媒を用いることができ、分子量を調節するために、例えば、フェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールのようなアルキル置換フェノール等の末端停止剤を用いることができる。
【００４５】
反応温度は通常０〜４０℃、反応時間は１分〜５時間とすることができ、また、反応中のｐＨは１０以上に保つことが好ましい。
【００４６】
カーボネート前駆体として、炭酸ジエステルを用いるエステル交換法（溶融法）を使用することもできる。この方法は、不活性ガスの存在下で、所定割合の二価フェノール成分と炭酸ジエステルとを加熱しながら撹拌し、生成するアルコール又はフェノール類を留出させる方法である。
【００４７】
反応温度は生成するアルコール又はフェノール類の沸点等により異なるが、通常１２０〜３５０℃の範囲である。反応はその初期から減圧にして生成するアルコール又はフェノール類を留出させながら反応させる。また、反応を促進するために、通常のエステル交換反応触媒を用いることができる。
【００４８】
このエステル交換反応に用いる炭酸ジエステルとしては、例えば、ジフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート等が挙げられ、特にジフェニルカーボネートが好ましい。
【００４９】
〈添加剤（Ｂ）〉
本開示のポリカーボネート樹脂組成物は、所定量の添加剤（Ｂ）を含んでいる。
【００５０】
この添加剤（Ｂ）は、ポリカーボネートに配合可能な添加剤であり、複数の添加剤で構成されていてもよいが、好ましくは、この添加剤（Ｂ）は、ポリカーボネートに配合可能な以下の（Ｂ１）〜（Ｂ７）で示される添加剤を意味する。
【００５１】
添加剤（Ｂ）の総量は、ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．１〜１．５質量部である。添加剤（Ｂ）の総量は、耐衝撃性、耐熱性、耐乾熱性等の観点から、好ましくは０．２〜１．３質量部であり、より好ましくは０．３〜１．２質量部であり、さらに好ましくは０．４〜０．９質量部であり、特に好ましくは０．４〜０．７質量部である。
【００５２】
（式１で示される紫外線吸収剤（Ｂ１））
本開示の組成物は、添加剤（Ｂ）として、下記式１で示される特定のベンゾトリアゾール骨格を有する紫外線吸収剤（Ｂ１）を含んでいる。この紫外線吸収剤（Ｂ１）は、４２０ｎｍ付近の光線透過率の十分な抑制効果、及び耐衝撃性等の観点から、ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．１質量部以上含み、好ましくは０．１〜１．４質量部含み、より好ましくは０．２〜１．２質量部含み、さらに好ましくは０．３〜１．１質量部含み、特に好ましくは０．４〜０．８質量部含み、最も好ましくは０．４〜０．６質量部含む：
【化３】
2020132839.tif 000004
式１中、Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、及び水酸基のいずれかを示し、炭化水素基には、酸素含有基が含まれてもよい。Ｒ６〜Ｒ９はそれぞれ独立に、水素原子、又は、Ｒ−Ｓ−で表わされる硫黄含有基のいずれかを示し、Ｒ６〜Ｒ９の少なくとも一つは、Ｒ−Ｓ−であり、Ｒは、水素原子が炭素原子数１〜１８のアルキル基に置換されてもよい炭素原子数６〜２４の芳香族基である。
【００５３】
炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００５４】
脂肪族炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。アルキル基は、直鎖又は分岐を含み、特に限定されないが、例えば、メチル基、エタン−１−イル基、プロパン−１−イル基、１−メチルエタン−１−イル基、ブタン−１−イル基、ブタン−２−イル基、２−メチルプロパン−１−イル基、２−メチルプロパン−２−イル基、ペンタン−１−イル基、ペンタン−２−イル基、ヘキサン−１−イル基、ヘプタン−１−イル基、オクタン−１−イル基、１，１，３，３−テトラメチルブタン−１−イル基、ノナン−１−イル基、デカン−１−イル基、ウンデカン−１−イル基、ドデカン−１−イル基、トリデカン−１−イル基、テトラデカン−１−イル基、ペンタデカン−１−イル基、ヘキサデカン−１−イル基、ヘプタデカン−１−イル基、オクタデカン−１−イル基、ノナデカン−１−イル基、エイコサン−１−イル基、ベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基等が挙げられる。アルケニル基は直鎖又は分岐を含み、特に限定されないが、例えば、ビニル基、プロパ−１−エン−１−イル基、アリル基、イソプロペニル基、ブタ−１−エン−１−イル基、ブタ−２−エン−１−イル基、ブタ−３−エン−１−イル基、２−メチルプロパ−２−エン−１−イル基、１−メチルプロパ−２−エン−１−イル基、ペンタ−１−エン−１−イル基、ペンタ−２−エン−１−イル基、ペンタ−３−エン−１−イル基、ペンタ−４−エン−１−イル基、３−メチルブタ−２−エン−１−イル基、３−メチルブタ−３−エン−１−イル基、ヘキサ−１−エン−１−イル基、ヘキサ−２−エン−１−イル基、ヘキサ−３−エン−１−イル基、ヘキサ−４−エン−１−イル基、ヘキサ−５−エン−１−イル基、４−メチルペンタ−３−エン−１−イル基、４−メチルペンタ−３−エン−１−イル基、ヘプタ−１−エン−１−イル基、ヘプタ−６−エン−１−イル基、オクタ−１−エン−１−イル基、オクタ−７−エン−１−イル基、ノナ−１−エン−１−イル基、ノナ−８−エン−１−イル基、デカ−１−エン−１−イル基、デカ−９−エン−１−イル基、ウンデカ−１−エン−１−イル基、ウンデカ−１０−エン−１−イル基、ドデカ−１−エン−１−イル基、ドデカ−１１−エン−１−イル基、トリデカ−１−エン−１−イル基、トリデカ−１２−エン−１−イル基、テトラデカ−１−エン−１−イル基、テトラデカ−１３−エン−１−イル基、ペンタデカ−１−エン−１−イル基、ペンタデカ−１４−エン−１−イル基、ヘキサデカ−１−エン−１−イル基、ヘキサデカ−１５−エン−１−イル基、ヘプタデカ−１−エン−１−イル基、ヘプタデカ−１６−エン−１−イル基、オクタデカ−１−エン−１−イル基、オクタデカ−９−エン−１−イル基、オクタデカ−１７−エン−１−イル基、ノナデカ−１−エン−１−イル基、エイコサ−１−エン−１−イル基等が挙げられる。アルキニル基は直鎖又は分岐を含み、特に限定されないが、例えば、エチニル、プロパ−１−イン−１−イル基、プロパ−２−イン−１−イル基、ブタ−１−イン−１−イル基、ブタ−３−イン−１−イル基、１−メチルプロパ−２−イン−１−イル基、ペンタ−１−イン−１−イル基、ペンタ−４−イン−１−イル基��ヘキサ−１−イン−１−イル基、ヘキサ−５−イン−１−イル基、ヘプタ−１−イン−１−イル基、ヘプタ−６−イン−１−イル基、オクタ−１−イン−１−イル基、オクタ−７−イン−１−イル基、ノナ−１−イン−１−イル基、ノナ−８−イン−１−イル基、デカ−１−イン−１−イル基、デカ−９−イン−１−イル基、ウンデカ−１−イン−１−イル基、ウンデカ−１０−イン−１−イル基、ドデカ−１−イン−１−イル基、ドデカ−１１−イン−１−イル基、トリデカ−１−イン−１−イル基、トリデカ−１２−イン−１−イル基、テトラデカ−１−イン−１−イル基、テトラデカ−１３−イン−１−イル基、ペンタデカ−１−イン−１−イル基、ペンタデカ−１４−イン−１−イル基、ヘキサデカ−１−イン−１−イル基、ヘキサデカ−１５−イン−１−イル基、ヘプタデカ−１−イン−１−イル基、ヘプタデカ−１６−イン−１−イル基、オクタデカ−１−イン−１−イル基、オクタデカ−１７−イン−１−イル基、ノナデカ−１−イン−１−イル基、エイコサ−１−イン−１−イル基等が挙げられる。
【００５５】
脂環式炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
【００５６】
芳香族炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、フェニル残基、ナフタレン残基、アントラセン残基等の芳香環残基を含む基が挙げられる。１価の芳香族炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，５−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−プロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、４−ブチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−ペンチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル基、２，４−ビス（４−ｔｅｒｔ−ペンチル）フェニル基、１，１，３，３−テトラメチルブチルフェニル基、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−ペンチルフェニル基、４−ヘキシルフェニル基、４−ヘプチルフェニル基、４−オクチルフェニル基、４−ノニルフェニル基、４−デカニルフェニル基、４−ウンデシルフェニル基、４−ドデシルフェニル基、４−トリデシルフェニル基、４−テトラデシルフェニル基、４−ペンタデシルフェニル基、４−ヘキサデシルフェニル基、４−ヘプタデシルフェニル基、４−オクタデシルフェニル基、４−ビフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、２−クロロフェニル基、２−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、４−ヒドロキシフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントラセニル基、２−アントラセニル基、９−アントラセニル基等が挙げられ、２価の芳香族炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，２−フェニレン基、１，８−ナフチレン基、２，７−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、１，４−ナフチレン基、１，３−ナフチレン基、９，１０−アントラセニレン基、１，８−アントラセニレン基、２，７−アントラセニレン基、２，６−アントラセニレン基、１，４−アントラセニレン基、１，３−アントラセニレン基等が挙げられる。
【００５７】
酸素含有基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｉｓｏ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ基、ｉｓｏ−ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、１−ヘキシルオキシ基、２−ヘキシルオキシ基、３−ヘキシルオキシ基、１−ヘプチルオキシ基、２−ヘプチルオキシ基、３−ヘプチルオキシ基、４−ヘプチルオキシ基、１−オクチルオキシ基、２−オクチルオキシ基、３−オクチルオキシ基、４−オクチルオキシ基、１−ノニルオキシ基、２−ノニルオキシ基、３−ノニルオキシ基、４−ノニルオキシ基、５−ノニルオキシ基、１−デシルオキシ基、２−デシルオキシ基、３−デシルオキシ基、４−デシルオキシ基、５−デシルオキシ基、１−ウンデシルオキシ基、１−ドデシルオキシ基、１−トリデシルオキシ基、１−テトラデシルオキシ基、１−ペンタデシルオキシ基、１−ヘキサデシルオキシ基、１−ヘプタデシルオキシ基、１−オクタデシルオキシ基、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ナフトキシ基、フェニルメトキシ基、フェニルエトキシ基、アセトキシ基、アセチル基、アルデヒド基、カルボキシ基、尿素基、ウレタン基、アミド、イミド、エーテル基、カルボニル基、エステル基、オキサゾール基、モルホリン基、カルバメート基、カルバモイル基、ポリオキシエチレン基等が挙げられる。
【００５８】
式１におけるＲ１〜Ｒ５の炭化水素基としては、炭素原子数１〜１２のアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜４のアルキル基がより好ましく、メチル基又はブチル基が特に好ましい。さらに、Ｒ１〜Ｒ５のうちの少なくとも一つは、メチル基であることが好ましく、また、残りのＲ１〜Ｒ５のうちの少なくとも一つが、ブチル基であることがより好ましい。さらに、Ｒ２及びＲ４のうちの少なくとも一つが、このようなアルキル基から選択され、かつ、Ｒ１が水酸基であることが最も好ましい。
【００５９】
また、紫外線吸収剤（Ｂ１）は、Ｒ−Ｓ−で表わされる硫黄含有基を有している。この硫黄含有基が存在することによって、特定の粘度平均分子量を有するポリカーボネート樹脂に紫外線吸収剤（Ｂ１）を配合したときに、高い全光線透過率、並びに優れた耐衝撃性、成形滞留安定性及び耐乾熱性を維持しながら、４００ｎｍの光線はもちろん、特に４００〜４２０ｎｍの光線透過率を抑制することができる。
【００６０】
上記式１において、Ｒ−Ｓ−で表わされる硫黄含有基は、Ｒ６〜Ｒ９のいずれかに位置するが、上記のような性能をより発現しやすくさせる観点から、Ｒ６又はＲ９の位置にあることが好ましい。
【００６１】
硫黄含有基のＲの芳香族基としては、特に限定されないが、例えば、上述した１価の芳香族炭化水素基などを挙げることができる。中でも、上記のような性能をより発現させやすくするという観点から、例えば、フェニル残基、ナフタレン残基、ビフェニル残基、アントラセン残基が好ましく、フェニル残基がより好ましい。ここで、残基とは、芳香族部分を含む基を意図し、例えば、フェニル残基の場合には、ベンゼン環部分を意図している。また、Ｒの芳香族基の水素原子には、炭素原子数１〜１８のアルキル基が置換されていてもよく、上記のような性能をより発現させやすくするという観点から、芳香族基の水素原子と置換することが可能なアルキル基の炭素原子数としては、１〜１２が好ましく、１〜８がより好ましく、１〜４がさらに好ましい。
【００６２】
Ｒ−Ｓ−で表わされる硫黄含有基の導入は、驚くべきことに、紫外線吸収剤自体の分子量を高めながらも、従来の紫外線吸収剤に比べ、押出や成形加工に用いる押出機や成形機に連結している真空ベント配管系（例えば係る系には、ベント配管や揮発物トラップ装置が含まれる。）の詰まりを抑制できることがわかった。この理由としては、硫黄含有基の分だけ分子量が高くなり揮発性が抑制されていることに加え、押出機や成形機に連結する真空ベント配管系内に揮発物として入りこんだ紫外線吸収剤（Ｂ１）が、他の従来の紫外線吸収剤と比べて固化又は結晶化が進み難いため、系内において堆積物が嵩高く成長しづらいことが要因であると推定される。
【００６３】
さらに、我々が鋭意検討した結果、硫黄含有基のＲが脂肪族である場合、即ち、硫黄原子を含む置換基が芳香族基を有さない場合の紫外線吸収剤に比べ、硫黄含有基のＲが芳香族基を含む本開示の紫外線吸収剤の方が、ポリカーボネート樹脂組成物の耐乾熱性を向上させ得ることが判明した。
【００６４】
（任意の添加剤）
本開示の組成物には、添加剤（Ｂ）として、紫外線吸収剤（Ｂ１）以外の以下で例示されるような他の添加剤を１種又は複数種配合してもよい。この場合、紫外線吸収剤（Ｂ１）以外の添加剤は、耐衝撃性等の機械的物性、耐熱性、耐乾熱性等の観点から、例えば、ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０１〜０．５質量部の範囲で配合することができ、０．０２〜０．４質量部の範囲で配合することが好ましく、０．０３〜０．３質量部の範囲で配合することがより好ましく、０．０４〜０．２５質量部の範囲で配合することがさらに好ましく、０．０５〜０．２質量部の範囲で配合することが特に好ましい。
【００６５】
ａ．リン系熱安定剤（Ｂ２）
本開示の組成物には、リン系熱安定剤を配合することができる。リン系熱安定剤としては、例えば、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸及びこれらのエステル等が挙げられる。具体的には、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−クミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリブチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェート、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト及びビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト等が挙げられる。これらは、１種又は２種以上で使用することができる。
【００６６】
これらの中でも、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−クミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトが好ましく；ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトがより好ましく；トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトが特に好ましい。
【００６７】
リン系熱安定剤の含有量は、成形滞留安定性、耐衝撃性等の機械的物性、耐熱性等の観点から、ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して０．０１〜０．１質量部であることが好ましく、０．０１〜０．０５質量部であることがより好ましく、０．０１５〜０．０３質量部であることがさらに好ましい。
【００６８】
ｂ．脂肪酸エステル系離型剤（Ｂ３）
本開示の組成物には、例えば、溶融成形時における成形品の金型からの離型性能を向上させるために、脂肪酸エステル系離型剤を配合することができる。
【００６９】
脂肪酸エステル系離型剤としては、例えば、（ｉ）炭素原子数１〜２０の一価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和若しくは不飽和脂肪酸とのエステル、及び（ｉｉ）炭素原子数１〜２５の多価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和若しくは不飽和脂肪酸との部分エステル又はフルエステルからなる群より選ばれる少なくとも１種の離型剤が使用される。
【００７０】
（ｉ）炭素原子数１〜２０の一価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和若しくは不飽和脂肪酸とのエステルとしては、例えば、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート等が挙げられ、中でもステアリルステアレートが好ましい。
【００７１】
（ｉｉ）炭素原子数１〜２５の多価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和若しくは不飽和脂肪酸との部分エステル又はフルエステルとしては、例えば、グリセリンモノステアレート、グリセリンジステアレート、グリセリントリステアレート、グリセリンモノベヘネート、グリセリントリベヘネート、グリセリントリソルビネート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトラペラルゴネート、プロピレングリコールモノステアレート、ソルビタンモノステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、ジペンタエリスリトールヘキサステアレート等のジペンタエリスルトールの全エステル、ジペンタエリスルトールの部分エステル等が挙げられる。
【００７２】
これら脂肪酸エステルの中でも、ペンタエリスリトールテトラステアレート、グリセリントリステアレート、グリセリントリステアレートとステアリルステアレートとの混合物が好ましく用いられる。特にグリセリントリステアレートとステアリルステアレートとの混合物が好ましく用いられる。混合重量比（前者／後者）は、好ましくは４５〜１５／５５〜８５、より好ましくは４０〜１５／６０〜８５である。
【００７３】
脂肪酸エステル系離型剤の含有量は、耐衝撃性、耐熱性、離型性、耐変色性等の観点から、ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは０．０３〜０．５質量部であり、より好ましくは０．０８〜０．４質量部であり、さらに好ましくは０．１〜０．３質量部である。
【００７４】
脂肪酸エステル系離型剤は、当業者に知られている公知の他の離型剤とも併用可能であるが、その場合でも、脂肪酸エステル系離型剤の含有量は、０．０２〜０．４５質量部であることが好ましく、離型剤の主成分（５０％以上）であることが好ましい。
【００７５】
高温での成形滞留安定性等の観点から、脂肪酸エステル系離型剤中の微量金属不純物、特にスズ（Ｓｎ）の含有量は、より少ないことが好ましく、例えば、２００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１００ｐｐｍ以下であることがより好ましく、５０ｐｐｍ以下であることがさらに好ましく、１ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。離型剤中の各種金属量は、ＩＣＰ（誘導結合プラズマ）分析法により分析することができる。
【００７６】
ｃ．ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ４）
本開示の組成物には、ヒンダードフェノール系酸化防止剤を配合することができる。本開示のポリカーボネート樹脂組成物は、例えば、成形加工時の色相の悪化が少ない、或いは成形品の高温下での長期間の使用に伴う変色が少ないといった耐乾熱性能を有しているが、さらに高度な耐乾熱性能を付与する場合には、かかる酸化防止剤の配合が有効である。
【００７７】
ヒンダードフェノール系安定剤としては、例えば、ｎ−オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェル）プロピオネート、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、１，６−へキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ビス［２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）フェニル］テレフタレート、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、４，４’−ジ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−トリ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２−チオジエチレンビス−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、及びテトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンなどが例示される。これらはいずれも市販品として入手可能である。上記ヒンダードフェノール系安定剤は、単独で又は２種以上を組合せて使用することができる。
【００７８】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤の含有量は、耐衝撃性、耐乾熱性等の観点から、ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜０．３０質量部であり、より好ましくは０．０２〜０．２５質量部であり、さらに好ましくは０．０３〜０．１５質量部である。
【００７９】
ｄ．エポキシ基含有化合物（Ｂ５）
本開示の組成物には、エポキシ基含有化合物を配合することができる。係るエポキシ基含有化合物は、金型腐食を抑制する目的や耐湿熱性を向上する目的で配合されるものであり、基本的にエポキシ官能基を有するもの全てが適用できる。
【００８０】
好ましいエポキシ基含有化合物の具体例としては、例えば、３，４ーエポキシシクロヘキシルメチルー３’，４’ーエポキシシクロヘキシルカルボキシレート、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロセキサン付加物、メチルメタクリレートとグリシジルメタクリレートの共重合体、スチレンとグリシジルメタクリレートの共重合体等が挙げられる。
【００８１】
係るエポキシ基含有化合物の含有量としては、耐衝撃性、耐熱性、成形滞留安定性、透明性、金型腐食抑制効果、耐湿熱性向上効果等の観点から、ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは０．００１〜０．０２質量部であり、より好ましくは０．００４〜０．１５質量部であり、さらに好ましくは０．００５〜０．１質量部である。
【００８２】
ｅ．紫外線吸収剤（Ｂ１）以外の紫外線吸収剤（Ｂ６）
本開示の組成物には、紫外線吸収剤（Ｂ１）以外に、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、環状イミノエステル系紫外線吸収剤、又はシアノアクリレート系紫外線吸収剤等を含有することができる。
【００８３】
例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｎ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２，２’−メチレンビス（４−クミル−６−ベンゾトリアゾールフェニル）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾ−ル等が挙げられる。これらは単独あるいは２種以上の混合物で用いることができる。
【００８４】
中でも、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾ−ルが好ましく；２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］がより好ましい。
【００８５】
本開示の組成物において、紫外線吸収剤（Ｂ１）以外の紫外線吸収剤（特にベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤）の含有量は、耐衝撃性、耐熱性、透明性、成形加工性、色相の観点から、ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０５〜０．３質量部であることが好ましく、０．１〜０．２５質量部であることがより好ましく、０．１５〜０．２５質量部であることがさらに好ましい。
【００８６】
ｆ．ブルーイング剤（Ｂ７）
本開示の組成物には、ポリカーボネート樹脂や紫外線吸収剤に起因する成形品の黄色味を打ち消すために、ブルーイング剤を含有することができる。ブルーイング剤としてはポリカーボネート樹脂に使用されるものであれば特に制限はない。一般的にはアントラキノン系染料は入手が容易であるため好ましい。
【００８７】
具体的なブルーイング剤としては、例えば、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ１３（ＣＡ．Ｎｏ（カラーインデックスＮｏ）６０７２５；商標名  バイエル社製「マクロレックスバイオレットＢ」、三菱化学株式会社製「ダイアレジンブルーＧ」、住友化学工業株式会社製「スミプラストバイオレットＢ」）、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ３１（ＣＡ．Ｎｏ  ６８２１０；商標名  三菱化学株式会社製「ダイアレジンバイオレットＤ」）、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ３３（ＣＡ．Ｎｏ  ６０７２５；商標名  三菱化学株式会社製「ダイアレジンブルーＪ」）、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌｕｅ９４（ＣＡ．Ｎｏ  ６１５００；商標名  三菱化学株式会社製「ダイアレジンブルーＮ」）、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ３６（ＣＡ．Ｎｏ  ６８２１０；商標名  バイエル社製「マクロレックスバイオレット３Ｒ」）、一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌｕｅ９７（商標名バイエル社製「マクロレックスブルーＲＲ」）及び一般名Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌｕｅ４５（ＣＡ．Ｎｏ  ６１１１０；商標名  クラリアント社製「ポリシンスレンブルーＲＬＳ」）が代表例として挙げられる。
【００８８】
ブルーイング剤は、視感透過率等を考慮し、通常０．３〜１．２ｐｐｍの濃度でポリカーボネート樹脂中に含有することができる。
【００８９】
本開示の組成物にはさらに、本開示の目的を損なわない範囲で、他の熱安定剤、帯電防止剤、難燃剤、熱線遮蔽剤、蛍光増白剤、顔料、光拡散剤、強化充填剤、他の樹脂やエラストマー等を含有することができる。
【００９０】
他の熱安定剤としては、例えば、硫黄系熱安定剤を挙げることができる。硫黄系熱安定剤としては、例えば、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ミリスチルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ステアリルチオプロピオネート）、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート等が挙げられる。中でもペンタエリスリトール−テトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ミリスチルチオプロピオネート）、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネートが好ましい。特に好ましくはペンタエリスリトール−テトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）である。該チオエーテル系化合物は住友化学工業株式会社からスミライザーＴＰ−Ｄ（商品名）及びスミライザーＴＰＭ（商品名）等として市販されており、容易に入手できる。
【００９１】
本開示の組成物中の硫黄系熱安定剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００質量部に対して０．００１〜０．２質量部であることが好ましい。
【００９２】
〈加熱溶融成形品〉
加熱溶融成形品とは、本開示のポリカーボネート樹脂組成物を、加熱溶融成形、例えば、射出成形、押出成形、回転成形などの加熱溶融を伴う成形方法によって得られる透明な成形体を意図している。具体的には、例えば、パソコンやカーナビなどの各種ディスプレイの前面板、各種発光体のカバーや前面板、各種光源のカバーや前面板として用いられる平面形状成形品（例えば射出成形平面板、押出成形平面板（例えば押出成形シート））；窓ガラスとして用いる平面形状成形品（例えば射出成形シート、押出成形シート）；眼鏡レンズ等の光学レンズなどが挙げられる。さらに、それら成形品表面には表面賦型が施されていてもよく、平面形状成形品がさらにプレス成形されて、曲面形状又は立体形状が付与された成形品であってもよい。このような各種の成形品は、いずれも、優れた耐衝撃強度を有し、高い光線透過率を維持し、４００ｎｍはもちろん、特に４００〜４２０ｎｍの光線透過率の抑制効果を有するものである。
【００９３】
成形品の厚みとしては特に制限はないが、成形品の実用強度の観点から、０．３ｍｍ以上であることが好ましく、０．５ｍｍ以上であることがより好ましく、１．０ｍｍ以上であることがさらに好ましく、２ｍｍ以上であることが特に好ましい。厚みの上限値としては特に制限はないが、成形加工性の観点から、１０ｍｍ以下であることが好ましく、７ｍｍ以下であることがより好ましく、５ｍｍ以下であることがさらに好ましい。
【００９４】
〈眼鏡レンズ〉
加熱溶融成形品の１種である眼鏡レンズとしては、例えば、成形の時点でレンズの凸面及び凹面を共にガラスモールド面の転写によって光学的に仕上げ、所望の度数にあわせて成形されるフィニッシュレンズが挙げられる。また、例えば、凸面のみがフィニッシュレンズと同様に光学的に仕上げられ、後に受注等による所望の度数に合わせて凹面側を光学的に仕上げるセミフィニッシュレンズなども挙げることができる。
【００９５】
セミフィニッシュレンズは、必要な凹面加工に合わせて、カーブジェネレータ若しくはＮＣ制御されたバイト等によって研削又は切削され、必要に応じて平滑処理（ファイニング）が施される。この切削又は研削、平滑化（ファイニング）された面を、研磨剤及び研磨布を介在させた研磨皿や柔軟性を有する研磨工具等を用いて研磨加工し、鏡面化させて光学的に仕上げられる。
【００９６】
その後、フィニッシュレンズも研磨されたセミフィニッシュレンズも、洗浄し、傷や異物などの検査が行なわれる。さらに、任意に、例えばレンズに所望に応じた色を付ける染色工程、プラスチックレンズのキズ付き易さをカバーするための硬化膜を形成するハードコート処理工程、レンズの表面反射を低減し透過率を向上させる反射防止膜の成膜工程などを行って、完成品として出荷され、各ユーザーで使用される。
【００９７】
本開示のポリカーボネート樹脂組成物を用いて形成される眼鏡レンズは、視力補正用レンズ、サングラス及び保護眼鏡等に用いることができる。いずれの眼鏡レンズも、高い光線透過率を維持して４２０ｎｍ付近、特に４００ｎｍ〜４２０ｎｍの光線透過率の抑制効果を有するものである。
【実施例】
【００９８】
以下、実施例により、本開示を更に具体的に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。
【００９９】
《実施例１〜１２及び比較例１〜９》
下記に示す製造方法により得たポリカーボネート樹脂組成物について、以下の評価を行い、その結果を表１に示す。ここで、表１におけるポリカーボネート樹脂及び各種添加剤の数値は、全て質量部である。
【０１００】
〈シャルピー衝撃強さ（耐衝撃性）〉
各実施例で得たペレットを１２０℃で５時間、熱風乾燥機にて乾燥し、株式会社日本製鋼所製のＪ７５ＥＩＩＩ射出成形機にて、シリンダー温度２８０℃、金型温度７０〜７５℃で、１分サイクルにて、幅１０ｍｍ、長さ８０ｍｍ、厚み４ｍｍの試験片を成形し、ＩＳＯ１７９に準拠してノッチ付きのシャルピー衝撃強さを測定した。
【０１０１】
〈荷重たわみ温度（耐熱性）〉
各実施例で得たペレットを１２０℃で５時間、熱風乾燥機にて乾燥し、株式会社日本製鋼所製のＪ７５ＥＩＩＩ射出成形機にて、シリンダー温度２８０℃、金型温度７０〜７５℃、１分サイクルにて、幅１０ｍｍ、長さ８０ｍｍ、厚み４ｍｍの試験片を成形し、ＩＳＯ７５−１，７５−２に準拠して、１．８０ＭＰａの荷重を付加した状態の荷重たわみ温度を測定した。
【０１０２】
〈全光線透過率〉
各実施例で得たペレットを１２０℃で５時間、熱風乾燥機にて乾燥し、株式会社日本製鋼所製のＪ７５ＥＩＩＩ射出成形機を用いてシリンダー温度３５０℃、金型温度８０℃、１分サイクルにて、幅５０ｍｍ、長さ９０ｍｍ、厚みがゲート側から３ｍｍ（長さ２０ｍｍ）、２ｍｍ（長さ４５ｍｍ）、１ｍｍ（長さ２５ｍｍ）の３段型プレートを成形し、これを試験片とした。３段型プレートの厚み２ｍｍ部における全光線透過率を、ＪＩＳ  Ｋ７３６１に従い、日本電色工業株式会社製のＮＤＨ−２０００を用いて測定した。
【０１０３】
〈分光光線透過率〉
各実施例で得たペレットを射出成形機（シリンダー温度３５０℃、１分サイクル）で成形し、測定用平板（縦９０ｍｍ×横５０ｍｍ×厚み２ｍｍ）を得た。測定用平板の波長領域３００ｎｍ〜５００ｎｍにおける分光光線透過率を、Ｖａｒｉａｎ社製のＣａｒｙ５０００で測定し、４２０ｎｍ及び４００ｎｍの分光光線透過率を求めた。
【０１０４】
〈成形滞留試験〉
成形滞留安定性を評価するために成形耐熱試験に相当する成形滞留試験を実施した。各実施例で得たペレットを１２０℃で５時間、熱風乾燥機にて乾燥し、株式会社日本製鋼所製の射出成形機Ｊ８５−ＥＬＩＩＩを用いてシリンダー温度３５０℃、金型温度８０℃、１分サイクルにて幅５０ｍｍ、長さ９０ｍｍ、厚みがゲート側から３ｍｍ（長さ２０ｍｍ）、２ｍｍ（長さ４５ｍｍ）、１ｍｍ（長さ２５ｍｍ）の３段型プレートを成形した。連続して２０ショット成形した後、該射出成形機のシリンダー温度３５０℃のシリンダー中に樹脂を１０分間滞留させ、滞留前後の試験片の厚さ２ｍｍ部の色相  （Ｌ，ａ，ｂ）を、ＪＩＳ  Ｋ−７１０５に従って、Ｇｒｅｔａｇ  Ｍａｃｂｅｔｈ社製のＣｏｌｏｒ−Ｅｙｅ７０００Ａを用いてＣ光源透過法にて測定し、以下の式４により色差ΔＥ’を求めた。ΔＥ’が小さいほど成形滞留安定性が優れることを示す。
【０１０５】
ΔＥ’＝｛（ΔＬ’）２＋（Δａ’）２＋（Δｂ’）２｝１／２      …式４
「滞留前の成形板」の色相：Ｌ’’、ａ’’、ｂ’’
「滞留後の成形板」の色相：Ｌ’’’、ａ’’’、ｂ’’’
ΔＬ’：Ｌ’’−Ｌ’’’
Δａ’：ａ’’−ａ’’’
Δｂ’：ｂ’’−ｂ’’’
【０１０６】
〈耐乾熱性試験〉
各実施例で得たペレットを１２０℃で５時間、熱風乾燥機にて乾燥し、株式会社日本製鋼所製の射出成形機Ｊ８５−ＥＬＩＩＩを用いてシリンダー温度３５０℃、金型温度８０℃、１分サイクルにて、幅５０ｍｍ、長さ９０ｍｍ、厚みがゲート側から３ｍｍ（長さ２０ｍｍ）、２ｍｍ（長さ４５ｍｍ）、１ｍｍ（長さ２５ｍｍ）の３段型プレートを成形し、これを試験片とした。
【０１０７】
耐乾熱性試験は、得られた試験片を熱風乾燥機１３０℃にて５００時間処理した。処理前後の試験片の厚さ２ｍｍ部の色相をＧｒｅｔａｇ  Ｍａｃｂｅｔｈ社製のＣｏｌｏｒ−Ｅｙｅ７０００Ａを用いてＣ光源透過法にて測定し、以下の式５に基づいて試験前後の黄変度（ΔＹＩ）を求めた。ΔＹＩが小さいほど色相変化がなく、耐乾熱性に優れることを示す。
【０１０８】
ΔＹＩ＝ＹＩ−ＹＩ０      …式５
ΔＹＩ：試験前後の黄変度
ＹＩ：試験後の黄色度
ＹＩ０：試験前の黄色度
【０１０９】
〈紫外線吸収剤の合成〉
紫外線吸収剤（Ｂ１）として、下記合成例１及び２により得られた下記式６及び式７で示される化合物を使用した。また、紫外線吸収剤（Ｂ１）以外の紫外線吸収剤（Ｂ６）の一例として、下記合成例３により得られた下記式８で示される化合物を使用した。
【０１１０】
（合成例１）
２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（２５．０ｇ，７９．２ｍｍｏｌ）、ベンゼンチオール（１７．４ｇ，１５８．３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２４．１ｇ，１７４．２ｍｍｏｌ）及びヨウ化カリウム（０．９ｇ，５．５ｍｍｏｌ）を、ＤＭＦ６２．５ｇ中で、１２５℃、１２時間反応した。反応終了後、精製して下記式６で示される化合物（ＵＶ−１）を得た。また、係る化合物の各分析結果を以下に示す：
【化４】
2020132839.tif 000005
【０１１１】
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）による分析
３０００ｃｍ−１：Ｏ−Ｈ伸縮振動
１４４５，１３９０ｃｍ−１：トリアゾール環伸縮振動
６６５ｃｍ−１：Ｃ−Ｓ伸縮振動
【０１１２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ４００ＭＨｚ）による分析
δ  １．４８  （ｓ，９Ｈ，−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），２．３７（ｓ，３Ｈ，−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），７．１６（ｓ，１Ｈ），７．３８（ｄ，４Ｈ），７．４８（ｓ，２Ｈ），７．６８（ｓ，１Ｈ），７．８３（ｄ，１Ｈ），８．０３（ｄ，１Ｈ），（ｉｎｓｇ．１０ａｒｏｍ．ＣＨ），１１．５５（ｓ，１Ｈ，−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３）
【０１１３】
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ４００ＭＨｚ）による分析
δ  ２０．９（−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），２９．５（−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），３５．４（−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），１１６．８，１１８．０，１１９．３，１２８．３，１２８．８，１２９．６，１３２．７（ＣＨａｒｏｍ），１２５．５，１４１．２，１４３．２（Ｃａｒｏｍ），１２９．８（Ｃａｒｏｍ−ＣＨ３），１３９．２（Ｃａｒｏｍ−Ｓ），１３９．２（Ｓ−Ｃａｒｏｍ），１３９．２（Ｃａｒｏｍ−Ｃ（ＣＨ３）３），１４６．７（Ｃａｒｏｍ−ＯＨ）
【０１１４】
（合成例２）
２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（２５．０ｇ，  ７９．２ｍｍｏｌ）、４−イソプロピルベンゼンチオール（２４．１ｇ，  １５８．３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２４．１ｇ，  １７４．２ｍｍｏｌ）及びヨウ化カリウム（０．９２ｇ，  ５．５４ｍｍｏｌ）を、ＤＭＦ６２．５ｇ中で、１２５℃、１２時間反応した。反応終了後、精製して下記式７で示される化合物（ＵＶ−２）を得た。また、係る化合物の各分析結果を以下に示す：
【化５】
2020132839.tif 000006
【０１１５】
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）による分析
３０００ｃｍ−１：Ｏ−Ｈ伸縮振動
１４４６，１３８９ｃｍ−１：トリアゾール環伸縮振動
６６６ｃｍ−１：Ｃ−Ｓ伸縮振動
【０１１６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ４００ＭＨｚ）による分析
δ  １．３０（ｄ，６Ｈ，（ＣＨ３）２ＣＨ−Ｐｈ−Ｓ−），１．４８（ｓ，９Ｈ，−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），２．３７（ｓ，３Ｈ，−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），２．９５（ｍ，１Ｈ，（ＣＨ３）２ＣＨ−Ｐｈ−Ｓ−），７．１６（ｓ，１Ｈ），７．２８（ｓ，２Ｈ），７．３６（ｄ，１Ｈ），７．４５（ｓ，２Ｈ），７．５７（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），８．０２（ｄ，１Ｈ），（ｉｎｓｇ．９ａｒｏｍ．ＣＨ），１１．５８（ｓ，１Ｈ，−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３）
【０１１７】
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ４００ＭＨｚ）による分析
δ  ２０．９（−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），２３．９（（ＣＨ３）２ＣＨ−Ｐｈ−Ｓ−），２９．５（−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），３３．９（（ＣＨ３）２ＣＨ−Ｐｈ−Ｓ−），３５．４（−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），１１５．３，１１７．８，１１９．３，１２７．９，１２８．７，１２９．２，１２９．６，１３３．６（ＣＨａｒｏｍ），１２５．４，１４１．４，１４３．３（Ｃａｒｏｍ），１２８．３（Ｃａｒｏｍ−ＣＨ３），１３８．５（Ｃａｒｏｍ−Ｓ），１３８．５（Ｓ−Ｃａｒｏｍ），１３９．１（Ｃａｒｏｍ−Ｃ（ＣＨ３）３），１４６．７（Ｃａｒｏｍ−ＯＨ），１４９．７（Ｃａｒｏｍ−ＣＨ）
【０１１８】
（合成例３）
２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（５．００ｇ，１５．８ｍｍｏｌ）、オクタンチオール（７．６３ｇ，５２．１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（７．２０ｇ，５２．１ｍｍｏｌ）及びヨウ化カリウム（０．１８ｇ，１．１ｍｍｏｌ）を、ＤＭＦ５０ｍＬ中で、１５０℃、２０時間反応させた。反応終了後、精製して下記式８で示される化合物（ＵＶ−３）を得た。この化合物は、本願の紫外線吸収剤（Ｂ１）以外の紫外線吸収剤（Ｂ６）に相当する。また、係る化合物の各分析結果を以下に示す：
【化６】
2020132839.tif 000007
【０１１９】
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）による分析
３１２５ｃｍ−１：Ｏ−Ｈ伸縮振動
１４３８，１３９１ｃｍ−１：トリアゾール環伸縮振動
６６１ｃｍ−１：Ｃ−Ｓ伸縮振動
【０１２０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ４００ＭＨｚ）による分析
δ  ０．８８（ｔ，３Ｈ，ＣＨ３（ＣＨ２）７−Ｓ），１．２７（ｍ，８Ｈ，ＣＨ３（ＣＨ２）４（ＣＨ２）３−Ｓ），１．４９（ｍ，１１Ｈ，−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３，ＣＨ３（ＣＨ２）４ＣＨ２（ＣＨ２）２−Ｓ），１．７５（ｑｕｉｎ，２Ｈ，ＣＨ３（ＣＨ２）５ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ），２．３８（ｓ，３Ｈ，−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），３．０３（ｔ，２Ｈ，ＣＨ３（ＣＨ２）５ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ），７．１６（ｓ，１Ｈ），７．３７（ｄ，１Ｈ），７．７０（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ），８．０５（ｓ，１Ｈ），（ｉｎｓｇ．５ａｒｏｍ．ＣＨ），１１．６１（ｓ，１Ｈ，−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３）
【０１２１】
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ４００ＭＨｚ）による分析
δ  １４．０（ＣＨ３（ＣＨ２）７−Ｓ），２０．０（−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），２２．６（−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），２８．７（ＣＨ３（ＣＨ２）５ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ），３１．９（−Ｐｈ−ＯＨ−ＣＨ３−Ｃ（ＣＨ３）３），３３．２（ＣＨ３（ＣＨ２）５ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ），３５．４（ＣＨ３（ＣＨ２）５ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ），１１３．６，１１７．５，１１９．３，１２８．７，１２９．３（ＣＨａｒｏｍ），１４１．２，１４３．４（Ｃａｒｏｍ），１２５．４（Ｃａｒｏｍ−Ｎ），１２８．３（Ｃａｒｏｍ−ＣＨ３），１３８．０（Ｃａｒｏｍ−Ｓ），１３９．１（Ｃａｒｏｍ−Ｃ（ＣＨ３）３），１４６．７（Ｃａｒｏｍ−ＯＨ）
【０１２２】
（実施例１）
常法によりビスフェノールＡとホスゲンを界面重合法で重合して得た粘度平均分子量２３，９００のポリカーボネート樹脂粉粒体（ＰＣ−１）１００部に、紫外線吸収剤として合成例１で得られた化合物（ＵＶ−１）０．１２部、リン系熱安定剤（Ｐ−１）０．０３部、離型剤として脂肪酸エステル系離型剤（Ｒ−２）０．２部、及びブルーイング剤（ＢＬ―１）０．０００１５部を各々添加し、タンブラーにて十分混合した後に、３０ｍｍφのベント式二軸押出成形機により温度２９０℃、真空度４．７ｋＰａでペレット化した。
【０１２３】
（実施例２〜１２、比較例１〜９）
各種材料を表１記載の量で使用する以外は、実施例１と同様の操作を行った。その評価結果を表１に示す。なお、表１記載の各記号に相当する成分を下記に示す。
【０１２４】
（ポリカーボネート樹脂粉粒体）
ＰＣ−１；ビスフェノールＡとホスゲンを界面重合法で重合して得た粘度平均分子量２３，９００の芳香族ポリカーボネート樹脂パウダー（帝人化成株式会社製：パンライト（商標）Ｌ−１２５０ＷＰ）。
【０１２５】
ＰＣ−２；ビスフェノールＡとホスゲンを界面重合法で重合して得た粘度平均分子量２２，２００の芳香族ポリカーボネート樹脂パウダー（帝人化成株式会社製：パンライト（商標）Ｌ−１２２５ＷＰ）。
【０１２６】
ＰＣ−３；ビスフェノールＡとホスゲンを界面重合法で重合して得た粘度平均分子量１９，７００の芳香族ポリカーボネート樹脂パウダー（帝人化成株式会社製：パンライト（商標）Ｌ−１２２５ＷＸ）。
【０１２７】
（紫外線吸収剤）
ＵＶ−１；２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−フェニルスルファニルベンゾトリアゾール（合成例１で得られた化合物）。
【０１２８】
ＵＶ−２；２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−（４’−イソプロピルフェニル）スルファニルベンゾトリアゾール（合成例２で得られた化合物）。
【０１２９】
ＵＶ−３；２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−オクチルスルファニルベンゾトリアゾール（合成例３で得られた化合物）。
【０１３０】
ＵＶ−４；２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール（ＢＡＳＦ株式会社社製：Ｔｉｎｕｖｉｎ（商標）３２９）。
【０１３１】
ＵＶ−５；２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（ＢＡＳＦ株式会社社製：Ｔｉｎｕｖｉｎ（商標）３２６）。
【０１３２】
（リン系熱安定剤）
Ｐ−１；トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（ＢＡＳＦ株式会社：Ｉｒｇａｆｏｓ（商標）１６８）。
【０１３３】
Ｐ−２：ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（株式会社ＡＤＥＫＡ製：アデカスタブ（商標）ＰＥＰ−３６）。
【０１３４】
（脂肪酸エステル系離型剤）
Ｒ−１；ステアリン酸トリグリセリドとステアリルステアレートの混合物（理研ビタミン社製：リケマール（商標）ＳＬ−９００）。
【０１３５】
Ｒ−２；ペンタエリスリトールテトラステアレート（エメリーオレオケミカルズ株式会社製：ロキシオール（商標）ＶＰＧ８６１）。
【０１３６】
（酸化防止剤）
Ｈ−１：ヒンダードフェノール系酸化防止剤；オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（ＢＡＳＦ株式会社製Ｉｒｇａｎｏｘ（商標）１０７６）。
【０１３７】
Ｈ−２；ヒンダードフェノール系酸化防止剤；ペンタエリスリトール−テトラキス（３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）（ＢＡＳＦ株式会社製Ｉｒｇａｎｏｘ（商標）１０１０）。
【０１３８】
（エポキシ基含有化合物）
Ｃ−１；スチレンとグリシジルメタクリレートの共重合体（日油株式会社製：マープルーフ（商標）Ｇ−０２５０ＳＰ）。
【０１３９】
（ブルーイング剤）
ＢＬ−１；ブルーイング剤（バイエル株式会社製：マクロレックスバイオレット（商標）Ｂ）。
【０１４０】
【表１】
2020132839.tif 000008
【０１４１】
【表２】
2020132839.tif 000009
【０１４２】
〈結果〉
表１の結果から分かるように、特定の紫外線吸収剤（Ｂ１）を所定量含む実施例１〜１２のポリカーボネート樹脂組成物は、４００ｎｍはもちろん、特に４２０ｎｍの光線透過率の抑制効果を有するとともに、耐衝撃強度、成形滞留安定性、及び耐乾熱性にも優れることが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【０１４３】
全光線透過率が高いことや、成形加工時や押出加工時の成形滞留安定性が優れることは、眼鏡レンズを含めた透明プラスチック成形品における成形材料としてのポリカーボネート樹脂組成物で重要視されている特性である。また、例えば、夏場の自動車内など、高温の環境下で成形品が使用される場合は、成形品自体の耐熱性（高温下で成形品の変形が少ないこと）だけでなく、成形品自体の耐乾熱性（長期間高温下に放置された場合、成形品の色相変化や劣化が少ないこと）が必要である。
【０１４４】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、４２０ｎｍ付近、特に４００〜４２０ｎｍの波長の光線透過率を抑制しながら、高い全光線透過率を維持し、かつ、耐衝撃強度、成形滞留安定性、耐乾熱性に優れるため、それらの特長を生かしたパソコンやカーナビなど各種ディスプレイの前面板、発光体の前面板やカバー、光源カバー、多目的シート（例えば射出成形された平面板、押出成形された平面板又はフィルム）及び眼鏡レンズなどの加熱溶融成形品を得るための成形材料として産業上幅広く利用される。