(57)【要約】【課題】  廃液の流入量に関わらず、還元処理を適度に進めることが可能な還元処理装置及び還元処理方法を提供する。【解決手段】  被還元液を還元することを目的とした槽である還元槽と、上流から還元槽へ被還元液を移送する手段と、還元槽に還元剤を投入する手段を有した還元処理装置であって、還元槽が複数の槽で構成されており、下流の第２還元槽２ｂから上流の第１還元槽２ａへ既還元液の一部を逆移送するポンプＰ２を有する還元処理装置である。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被還元液を還元することを目的とした槽である還元槽と、上流から前記還元槽へ被還元液を移送する手段と、前記還元槽に還元剤を投入する手段を有する還元処理装置であって、
前記還元槽が複数の槽で構成されており、下流の還元槽から上流の還元槽へ既還元液の一部を逆移送する手段を有することを特徴とする還元処理装置。
【請求項２】
前記逆移送する液量が可変であることを特徴とする請求項１記載の還元処理装置。
【請求項３】
上流の還元槽における酸化還元電位を測定する酸化還元電位計を備え、当該酸化還元電位計により測定された酸化還元電位に応じて、前記逆移送する液量を決定することを特徴とする請求項２に記載の還元処理装置。
【請求項４】
液体を還元することを目的とした槽である還元槽として上流の還元槽と下流の還元槽を用いて被還元液を還元する方法であって、
上流の還元槽から下流の還元槽へ被還元液を移送する工程と、
上流の還元槽における酸化還元電位を測定する工程と、
測定された酸化還元電位に応じた量の被還元液を、下流の還元槽から上流の還元槽に逆移送する工程と、を有することを特徴とする還元処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、メッキ工程等から排出される重金属を含んだ廃液の処理に関する技術であって、例えば６価クロムなどの有害物質を３価クロムに還元する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、クロムメッキ工程からは、有害な６価クロムが排出される。６価クロムは非常に毒性が強く、水溶性でそのままでは凝集除去できない性質を有しているため、３価のクロムイオンに還元することが行われている（例えば、特許文献１参照）。図２は、クロムメッキ工程から排出される６価クロムを含んだ廃液の還元処理を行う従来の還元処理装置を示す図である。クロムメッキ工程から排出された６価クロムを含んだ水溶液は、原水槽１１からポンプにより汲み上げられて、還元槽１２に移される。還元槽１２においては、還元剤を用いて水溶液中の６価クロムを３価のクロムイオンに還元する。そして、中和槽１３において苛性ソーダを用いて中和し、凝集槽１４において高分子凝集剤を用いて凝集させ、沈殿槽１５において沈殿させてスラッジを生成し、脱水機により脱水する。
【０００３】
還元槽１２において、６価クロムを３価のクロムイオンに還元するための還元剤としては、一般的に重亜硫酸ソーダが用いられる。しかし、連続的に廃液処理を行うためには還元層の滞留時間内に還元反応が完結する必要がある。還元反応はｐＨ２．０〜３．０の領域でその反応速度が最大になる特性があり、そのｐＨ領域を維持するためにｐＨ調整剤として硫酸を投入するのが一般的である。一方、還元反応の終点は酸化還元電位（ＯＲＰ）を測定して判断する。６価クロムを含んだ廃液のＯＲＰは８００ｍＶ程度の値を示すが、還元反応が進み３価になるとＯＲＰは３００ｍＶ〜３５０ｍＶ程度の値を示す。還元剤はＯＲＰをモニターしながら投入され、常にＯＲＰが３００ｍＶ〜３５０ｍＶの範囲で安定するようにその投入量が制御される。３価に還元されたクロムイオンは苛性ソーダを加えることで水酸化物となり、キレート剤・核となる金属イオン・高分子剤を凝集剤として加えることで凝集し、沈殿除去することが可能になる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１７−７４５８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図２に示したような従来の廃液処理フローにおいては、還元反応を適切に管理する必要がある。仮に還元反応が不十分であった場合、有毒な６価クロムを３価クロムに還元できず、凝集除去できなくなる。この鍵を握るのが還元剤の投入量であって、還元反応が確実に完結するようにＯＲＰを監視しながら投入量を制御する必要がある。バッチ処理の廃液処理においては、還元剤を理論反応量近傍の一定量を加えた上で必要な反応時間を設けることで比較的に安全に還元反応の終点を維持することができる。しかしながら、大量に連続的に還元反応を進める必要がある場合、還元槽に滞留する時間内に還元反応を完結しなければならない制約が生じる。このため、安全を見るためには反応を早く完結させる必要があり、還元剤を理論反応量より多めに投入する必要が出てくる。
【０００６】
ところが、重亜硫酸ソーダに代表される還元剤は後工程の凝集反応の阻害因子となることが知られており、過度に投入された還元剤は沈殿除去を不完全にし、金属イオンの凝集除去を妨げる。６価クロムの毒性に対する安全性は高まるが、これとトレードオフする形で３価クロムや他の重金属の沈殿除去を妨げる事態を招く。また、廃液の流入量が大きく変化する場合や、間欠性である場合は、さらなるリスクが生じる。即ち、還元剤は安全を見るために最大流量に対して投入量を設計するのが一般的であり、過度に流量が低下すると相対的に還元剤が過多になる傾向がある。特に流入が間欠性であり、還元剤が投入された時点で流入が停止した場合、還元すべきものが流入して来ないにも拘わらず還元剤が投入された状態で停滞することになり、還元反応が過度に進み、ＯＲＰが過度に低下する結果を招く。
【０００７】
危惧すべきは、過度にＯＲＰが低下した状態から廃液の流入が再開されると、低下したＯＲＰが、制御ラインに戻るまでにタイムラグが生じ、この間は還元剤が投入されない空白の時間が生じる。この間は還元反応が不十分な状態となり、６価クロムが還元できなくなる。
【０００８】
そこで、本発明は、廃液の流入量に関わらず、還元処理を適度に進めることが可能な還元処理装置及び還元処理方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明では、
被還元液を還元することを目的とした槽である還元槽と、上流から前記還元槽へ被還元液を移送する手段と、前記還元槽に還元剤を投入する手段を有する還元処理装置であって、
前記還元槽が複数の槽で構成されており、下流の還元槽から上流の還元槽へ既還元液の一部を逆移送する手段を有することを特徴とする還元処理装置を提供する。
【００１０】
また、本発明の還元処理装置は、
前記逆移送する液量が可変であることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の還元処理装置は、
上流の還元槽における酸化還元電位を測定する酸化還元電位計を備え、当該酸化還元電位計により測定された酸化還元電位に応じて、前記逆移送する液量を決定することを特徴とする。
【００１２】
また、本発明では、
液体を還元することを目的とした槽である還元槽として上流の還元槽と下流の還元槽を用いて被還元液を還元する方法であって、
上流の還元槽から下流の還元槽へ被還元液を移送する工程と、
上流の還元槽における酸化還元電位を測定する工程と、
測定された酸化還元電位に応じた量の被還元液を、下流の還元槽から上流の還元槽に逆移送する工程と、を有することを特徴とする還元処理方法を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、廃液の流入量が変化した場合であっても、適切に還元処理を進めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態に係る還元処理装置を示す図である。
【図２】クロムメッキ工程から排出される６価クロムを含んだ廃液の還元処理を行う従来の還元処理装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
＜１．還元処理装置の構成＞
図１は、本発明の一実施形態に係る還元処理装置を示す図である。図１において、１は原水槽、２ａは第１還元槽、２ｂは第２還元槽、３は中和槽、４は凝集槽、５は沈殿槽、６は調整剤投入部、７は還元剤投入部、８は中和剤投入部、９は凝集剤投入部、１０は制御部、Ｐ１、Ｐ２はポンプ、Ｈ１、Ｈ２はｐＨ計、Ｏ１、Ｏ２は酸化還元電位計（以下ＯＲＰ計とも呼ぶ）である。
【００１６】
本実施形態に係る装置は、液体を還元することを目的とした槽である還元槽として第１還元槽２ａ、第２還元槽２ｂの２つを備えている。図２に示したような従来の還元処理装置と比較すると、還元槽が２つに分割された構成となっている。第１還元槽２ａは上流の還元槽であり、第２還元槽２ｂは下流の還元槽である。第１還元槽２ａの第２還元槽２ｂ側における上端部は、連結部２ｃを介して第２還元槽２ｂと連結されている。連結部２ｃは、第１還元槽２ａの底面から所定の高さの位置から、第２還元槽２ｂの底面から所定の高さの位置を結び、所定の傾斜を有している。連結部２ｃの傾斜により、第１還元槽２ａにおいて所定の高さを超えた廃液が、連結部２ｃを流れて、第２還元槽２ｂに注がれるようになっている。
【００１７】
第１還元槽２ａには調整剤投入部６が設置されており、ｐＨ調整剤を投入して第１還元槽２ａ内の廃液のｐＨを調整可能に構成されている。ｐＨ調整剤としては、公知の様々なものを用いることができるが、本実施形態では、硫酸を用いている。また、第１還元槽２ａにはｐＨ計Ｈ１が設置されており、第１還元槽２ａ内のｐＨを測定可能に構成されている。また、第１還元槽２ａにはＯＲＰ計Ｏ１が設置されており、第１還元槽２ａ内のＯＲＰを測定可能に構成されている。
【００１８】
第２還元槽２ｂには還元剤投入部７が設置されており、還元剤を投入して第２還元槽２ｂ内の廃液の６価クロムを３価クロムに還元可能に構成されている。還元剤投入部７は、第２還元槽２ｂに還元剤を投入する手段である。還元剤としては、公知の様々なものを用いることができるが、本実施形態では、重亜硫酸ソーダを用いている。また、第２還元槽２ｂにはＯＲＰ計Ｏ２が設置されており、第２還元槽２ｂ内の酸化還元電位（ＯＲＰ）を測定可能に構成されている。第１還元槽２ａと第２還元槽２ｂの間にはポンプＰ２が設置されており、第２還元槽２ｂの廃液を組み上げて第１還元槽２ａに逆移送させることができるように構成されている。ポンプＰ２は、吸入口が第２還元槽２ｂ内に配置され、吐出口が第１還元槽２ａ内に配置されており、第２還元槽２ｂ内の廃液を汲み上げることが可能となっている。すなわち、ポンプＰ２は、下流の還元槽である第２還元槽２ｂから上流の還元槽である第１還元槽２ａへ既還元液の一部を逆移送する手段である。
【００１９】
第１還元槽２ａの上流側には、原水槽１が設置されている。第２還元槽２ｂの下流側には、上流側から順に中和槽３、凝集槽４、沈殿槽５が設置されている。原水槽１は、還元前の被還元液である廃液を貯留した槽であり、本実施形態では、クロムメッキ工程から排出された廃液を貯留している。この廃液は、６価クロムを含んだ水溶液である。原水槽１と第１還元槽２ａの間にはポンプＰ１が設置されており、原水槽１の廃液を組み上げて第１還元槽２ａに流入させることができるように構成されている。すなわち、ポンプＰ１は、上流の原水槽１から還元槽へ被還元液を移送する手段である。ポンプＰ１は、その吸入口が原水槽１内に配置され、その吐出口が第１還元槽２ａ内に配置されており、原水槽１内の廃液を汲み上げることが可能となっている。
【００２０】
中和槽３は、６価クロムから３価クロムに還元されて、既還元液となった廃液を中和するための槽である。中和槽３は、第２還元槽２ｂと水路を介して接続されており、還元された廃液が第２還元槽２ｂから流入可能に構成されている。中和槽３には中和剤投入部８が設置されており、中和剤を投入して中和槽３内の廃液を中和可能に構成されている。中和剤としては、公知の様々なものを用いることができるが、本実施形態では、苛性ソーダを用いている。また、中和槽３にはｐＨ計Ｈ２が設置されており、中和槽３内のｐＨを測定可能に構成されている。
【００２１】
凝集槽４は、中和された廃液内の不純物を凝集させるための槽である。凝集槽４は、中和槽３と水路を介して接続されており、中和された廃液が中和槽３から流入可能に構成されている。凝集槽４には凝集剤投入部９が設置されており、凝集剤を投入して凝集槽４内の不純物を凝集可能に構成されている。凝集剤としては、公知の様々なものを用いることができるが、本実施形態では、高分子凝集剤を用いている。
【００２２】
沈殿槽５は、凝集された廃液内の不純物を沈殿させるための槽である。沈殿槽５は、凝集槽４と水路を介して接続されており、凝集された廃液が凝集槽４から流入可能に構成されている。さらに、沈殿槽５は、沈殿したスラッジと処理水それぞれを排出可能に構成されている。
【００２３】
制御部１０は、還元剤投入部７、ポンプＰ２、ＯＲＰ計Ｏ１、ＯＲＰ計Ｏ２に接続されており、２通りの制御を行うように構成されている。１つ目は、ＯＲＰ計Ｏ１からＯＲＰを取得して、取得したＯＲＰに応じて、異なる流量でポンプＰ２が逆移送するような制御である。２つ目は、ＯＲＰ計Ｏ２からＯＲＰを取得して、取得したＯＲＰに応じて、還元剤投入部７に還元剤を投入させる制御である。制御部１０は、所定の演算制御処理を行う手段であり、汎用のコンピュータに所定のプログラムを組み込むことにより実現してもよいし、プログラマブルロジックコントローラ（ＰＬＣ）により実現してもよい。
【００２４】
＜２．還元処理方法＞
次に、図１に示した還元処理装置の処理動作とともに、本発明の一実施形態に係る還元処理方法について説明する。廃液は原水槽１から送水ポンプＰ１で第１還元槽２ａに送られる。本実施形態では、第１還元槽２ａにおいてｐＨを2に保つように、調整剤投入部６からｐＨ調整剤として硫酸を加えている。第１還元槽２ａにおいては還元剤を加えていない。また、第１還元槽２ａにおいては、ＯＲＰ計Ｏ１により常時ＯＲＰが計測されている。廃液処理開始からしばらくの間は、還元が行われないため、ＯＲＰは８００ｍＶ程度で安定した状態となっている。
【００２５】
原水槽１からの流入量が一定量を超えて第１還元槽２ａ内の水位が高まり、第２還元槽２ｂとの連結部２ｃに達すると、オーバーフローした廃液は連結部２ｃを通って第２還元槽２ｂに流入する。
【００２６】
第２還元槽２ｂにおいても、第１還元槽２ａと同様、ＯＲＰ計Ｏ２により常時ＯＲＰが計測されている。廃液が第１還元槽２ａから第２還元槽２ｂに流入すると、ＯＲＰ計Ｏ２で計測されるＯＲＰが上昇し、ＯＲＰが制御値を上回ると還元剤(重亜硫酸ソーダ)が一定流量で連続的に投入される。投入された還元剤によって還元反応が進むとＯＲＰは下降し、制御値を下回ると還元剤の投入を停止する。この動作を繰り返すことによりＯＲＰは制御値近傍に制御される。本実施形態では、制御値を３００ｍＶとし、還元剤投入量を１９２ｇ／ｍｉｎとした。第１還元槽２ａへの廃液の流入開始から所定の期間経過後は、ＯＲＰ計Ｏ２と制御部１０が連携し、ＯＲＰが３００ｍＶに保たれるように制御部１０が還元剤投入部７に指示して還元剤(重亜硫酸ソーダ)を投入している。本実施形態では、還元槽を第１還元槽２ａと第２還元槽２ｂの２段で構成しているが、本発明はこれに限定されることなく、還元槽を複数備える構成であればよい。したがって、３つ以上の還元槽を備え、３段以上の構成としても構わない。
【００２７】
本実施形態では、ＯＲＰ計Ｏ１と制御部１０が連携し、ＯＲＰ計Ｏ１からＯＲＰを取得し、取得したＯＲＰの値に応じてポンプＰ２を駆動させている。すなわち、取得したＯＲＰに応じて、逆移送する液量を決定し、ポンプＰ２の駆動を制御している。初期状態では、第１還元槽２ａ内の廃液は還元処理が行われておらず、６価クロムの含有量が多い。そのため、第１還元槽２ａ内に設置されたＯＲＰ計Ｏ１は高い値を示している。この場合、制御部１０は高流量で汲み上げるようにポンプＰ２を制御する。したがって、初期状態では、高流量で第２還元槽２ｂから第１還元槽２ａに廃液が還流されることになる。
【００２８】
本実施形態では、第１還元槽２ａに戻すためのポンプＰ２を備え、第２還元槽２ｂから適量の廃液を第１還元槽２ａへ向流的にポンプＰ２で逆移送している。第１還元槽２ａでは直接には還元剤を加えていないが、逆移送される液には第２還元槽２ｂに投入された還元剤のうちの余剰還元剤が含まれている。このため、第１還元槽２ａにも還元剤が還流されて、第１還元槽２ａにおいても還元反応が緩やかに進むことになる。主に還元を行う第２還元槽２ｂに対して、第１還元槽２ａがプレ還元槽の働きをすることになる。また、逆移送される廃液は第１還元槽２ａ内の廃液を第２還元槽２ｂに押し出すエネルギーを発生させるという効用も生み出すことになる。仮に廃液処理の送水が間欠処理の設計となっており、上流からの送水が停止しているときであっても、第１還元槽２ａと第２還元槽２ｂの間では局所的に液循環することになる。
【００２９】
廃液処理の送水が間欠処理の設計で、送水が停止した状態で循環を繰り返すと、第１還元槽２ａのＯＲＰは第２還元槽２ｂのＯＲＰに徐々に近付いて行き、やがて第２還元槽２ｂのＯＲＰと同等になる。そうなると、第１還元槽２ａと第２還元槽２ｂの容積が同じである場合、容積が２倍の還元槽となるのであるが、逆移送する量を調節することで、第１還元槽２ａのＯＲＰを制御することができる。
【００３０】
本実施形態では、第１還元槽２ａに設置されたＯＲＰ計Ｏ１、ポンプＰ２と接続された制御部１０を有している。この制御部１０は、ＯＲＰ計Ｏ１からＯＲＰを取得し、取得したＯＲＰの値に応じてポンプＰ２を駆動させる。具体的には、ＯＲＰの値が所定の値を超えた場合に、高流量で汲み上げるようにポンプＰ２の駆動を制御し、ＯＲＰの値が所定の値以下である場合に、低流量で汲み上げるようにポンプＰ２の駆動を制御するように構成されている。所定の値としては、適宜設定することができるが、３５０ｍＶ以上５５０ｍＶ以下とすることが好ましく、４００ｍＶ以上５００ｍＶ以下とすることがより好ましい。所定の値を３５０ｍＶ未満とした場合は、ＯＲＰの過度な低下を抑制する効果が薄れてしまい、所定の値を５５０ｍＶ超とした場合は、ＯＲＰの上昇を抑制する効果が薄れてしまうためである。
【００３１】
（実施例）
第１還元槽２ａの容量を１２００リットルとし、第２還元槽２ｂの容量も１２００リットルとして、２つの還元槽を合わせて２４００リットルの容量となるように第１還元槽２ａ、第２還元槽２ｂを構成した。また、第１還元槽２ａの１２００リットルを超えるとき、第１還元槽２ａの所定の水位に達し、第２還元槽２ｂに連結部２ｃを介して廃液が流れるように構成した。
【００３２】
原水槽１から第１還元槽２ａへの廃液の送水は間欠方式とし、ポンプＰ１により７５Ｌ（リットル）／ｍｉｎ（分）で１０分間廃液の送水を行った後、送水を休止し、１０分経過後、送水を再開するという処理を繰り返し行うものとした。
【００３３】
制御部１０には、ＯＲＰ計Ｏ１に対応するしきい値を所定の値として４５０ｍＶに設定した。そして、ＯＲＰ計Ｏ１の値が、所定の値を超えた場合に高流量（１８Ｌ／ｍｉｎ）で、所定の値に達しない場合に、低流量（８Ｌ／ｍｉｎ）で、ポンプＰ２が廃液を逆移送するように設定した。また、制御部は、ＯＲＰ計Ｏ２の値が３００ｍＶを超えた場合に、還元剤投入部が還元剤を一定流量１９２ｇ／ｍｉｎで投入するように設定した。還元剤としては、重亜硫酸ソーダを用いた。
【００３４】
還元処理装置を動作させると、制御部１０は定期的にＯＲＰ計Ｏ１からＯＲＰ値を取得し、ＯＲＰ値が４５０ｍＶ以下の場合は、低流量（８Ｌ／ｍｉｎ）で廃液を逆移送するようにポンプＰ２が作動して、ゆるやかに循環状態を保った。また、ＯＲＰ値が４５０ｍＶを超えた場合は、流量を上昇させて高流量（１８Ｌ／ｍｉｎ）で廃液を逆移送するようにポンプＰ２が作動して、循環が加速した。廃液処理の開始後、初期動作時を除き、所定時間の経過後は、ＯＲＰ計Ｏ１の値は、４５０ｍＶの上下５０ｍＶ以内に保たれた。すなわち、第１還元槽２ａのＯＲＰが４５０ｍＶ近傍に保たれた。これは、廃液の送水が間欠方式であっても、還元反応が十分に、かつ、進み過ぎないように行われていることを意味する。第２還元槽２ｂにおいては、ＯＲＰ計Ｏ２の値が３００ｍＶを超えることが多く、還元剤投入部７から還元剤が投入され続け、還元処理が継続して行われた。
【００３５】
（比較例）
単一還元槽を１つのみ設け、この単一還元槽の容量を１２００リットルとした図２に示したような従来型の還元処理装置を用いた。単一還元槽には還元剤投入部が設置されており、単一還元槽内の廃液の６価クロムを３価クロムに還元可能に構成されている。また、単一還元槽にはＯＲＰ計が設置されており、単一還元槽内のＯＲＰを測定可能とした。制御部は、ＯＲＰ計Ｏ３の値が３００ｍＶを超えた場合に、還元剤投入部が還元剤を一定流量１９２ｇ／ｍｉｎで投入するように設定した。還元剤としては、重亜硫酸ソーダを用いた。上流から原水槽への廃液の送水は実施例と同様の間欠方式とした。
【００３６】
還元処理装置を動作させると、制御部は定期的にＯＲＰ計Ｏ３からＯＲＰ値を取得し、ＯＲＰ値が３００ｍＶを超えている状態においては還元剤投入部が還元剤を連続的に投入し、ＯＲＰ値が３００ｍＶ以下の状態においては還元剤投入部が還元剤投入を停止した。しかし、廃液の送水が間欠方式であるため、送水が止まったときに、還元剤を投入しなくても還元反応が進み過ぎてしまい、ＯＲＰ計Ｏ３のＯＲＰ値が設定値である３００ｍＶよりも１００ｍＶ以上低下して２００ｍＶを切ってしまった。これは、廃液の送水が間欠方式の場合、還元反応が進み過ぎてしまうことを意味する。
【００３７】
従来の還元処理装置では、送水が停止すると余剰還元剤の影響で還元反応が過度に進み、ＯＲＰが異常に低下してしまう。この状態から送水が開始されて新しい廃液が還元槽に流れてきても、ＯＲＰは瞬時に回復しないため、制御のタイムラグが発生し、還元剤が還元槽に投入されない空白時間が発生してしまう。これは６価クロムの還元が不十分になることを意味する。さらに、余剰な還元剤が後工程の凝集作用の阻害因子となるため、３価クロムやその他の重金属の凝集沈殿を妨げる。
【００３８】
これに対して、本実施形態の還元処理装置においては、逆移送する廃液で第１還元槽２ａの廃液を第２還元槽２ｂに押し出すため、送水が停止しているときであっても、局所的に液が循環する。この構成を採ることで、第２還元槽２ｂには還元すべき廃液が常に流れ込んで来るので、還元反応が過度に進むことを防止でき、制御のタイムラグによる６価クロムの還元不足を防止することができる。さらに、逆移送液量を制御することで余剰還元剤をプレ還元のエネルギーとして消費できるため、還元剤過多となる状況を防止でき、後工程の凝集沈殿の阻害リスクを低減することができる。また、還元剤の削減を図ることができる。従来の還元処理装置においては、送水が停止するとＯＲＰ値が設定値より１００ｍＶ以上低下していたが、本実施形態による還元処理装置を用いることでＯＲＰの低下を３０ｍＶ以内に抑制することができ、安定したＯＲＰ制御を実現することができた。このため、還元剤が適切に投入され続け、還元処理が適度に行われた。
【００３９】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では、第１還元槽のＯＲＰ値により逆移送する量を制御したが、ｐＨなどその他の物性を加味して制御してもかまわない。ＯＲＰ値以外であっても、第１還元槽内の廃液における還元の程度に影響されるｐＨなどの指標を用いることにより、還元の進展の程度に応じて、逆移送する量を制御することができる。
【００４０】
また、上記実施形態では、下流側の第２還元槽から上流側の第１還元槽に向流的に逆移送する液量を可変としたが、常に一定量としてもよい。向流的に逆移送する液量を常に一定量とした場合であっても、還元が進んだ部分が、還元が進んでいない部分に戻されて混ぜ合わされるため、還元が緩やかに進むことになる。
【符号の説明】
【００４１】
１・・・原水槽
２ａ・・・第１還元槽
２ｂ・・・第２還元槽
３・・・中和槽
４・・・凝集槽
５・・・沈殿槽
６・・・調整剤投入部
７・・・還元剤投入部
８・・・中和剤投入部
９・・・凝集剤投入部
１０・・・制御部
Ｈ１、Ｈ２・・・ｐＨ計
Ｏ１、Ｏ２・・・ＯＲＰ計
Ｐ１、Ｐ２・・・ポンプ
【図１】
2020110772.tif 000003
【図２】
2020110772.tif 000004