(57)【要約】【課題】ＳＣＲ排ガス後処理システムにおいて、排ガス高温域の３５０℃から５００℃までの範囲で、ＮＯｘ選択還元に係わらずアンモニアが部分酸化によりＮＯｘ浄化が低下する課題があった。【解決手段】本発明は、尿素および／またはアンモニアを用い、ＮＯｘを選択触媒還元システムにおいて、触媒が、銅を含むゼオライトであって、アンモニアの部分酸化による消費量を、排ガス中のＮＯｘと等モル量となるアンモニア量を制御して供給することを特徴とする、システム制御方法である。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
尿素および／またはアンモニアを用い、ＮＯｘを選択触媒還元システムにおいて、
触媒が、銅を含むゼオライトであって、
アンモニアの部分酸化による消費量を、排ガス中のＮＯｘと等モル量となるアンモニア量を制御して供給することを特徴とする、システム制御方法。
【請求項２】
前記触媒の入口排ガス温度と、前記尿素の加水分解からなるアンモニアガスおよび／またはアンモニアガスの供給量との関係式が、以下を満たすことを特徴とする、請求項１に記載のシステム制御方法。
【数１】
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【請求項３】
前記ゼオライトが、ＣＨＡ型、ＡＥＩ型およびＡＦＸ型の結晶構造からなる、請求項１または請求項２に記載のシステム制御方法。
【請求項４】
前記ゼオライトが、２．０質量％〜５．０質量％のＣｕＯを含むことを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のシステム制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、自動車負荷走行に対応する排気ガス後処理装置のＮＯｘ浄化システム制御に関する。
【０００２】
本発明の一実施の形態は、銅ゼオライト触媒および酸化窒素（ＮＯｘ）を還元するために設計された排ガスシステムにおける、その制御に関する。さらに、特定の実施形態は、ＮＯｘ選択還元剤としての尿素およびアンモニアの供給量を制御に関する。
【背景技術】
【０００３】
ディーゼル自動車のＮＯｘ浄化触媒は、排気ガス後処理装置で尿素水を噴霧し、その尿素水が加水分解して得られるアンモニアを還元剤として用いる（一般にＳＣＲ触媒といわれる選択的接触還元“Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  ｃａｔａｌｙｔｉｃ  ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ”の略）触媒担体として、固体酸点にアンモニア吸着能が高い点で合成ゼオライトが知られている。
【０００４】
前記排気ガス後処理装置では、幾つかの化学反応が起こり、それらの全てが、ＮＯｘを窒素に還元する。支配的な反応は、ＮＯとＮＨ3とが等量モルで進行する、反応式（１）に代表される。
【０００５】
［化１］
4NO  ＋  4NH3  ＋  O2  →  4N2  ＋  6H2O  ・・・（１）
【０００６】
ＳＣＲ触媒として、シリカとアルミナを主成分とするＣＨＡ型結晶構造を有し、シリカのアルミナに対するモル割合が約１５以上、及び銅のアルミニウムに対する原子割合が約０．２５以上のような銅イオン交換ゼオライトを使用することが開示されている。（特許文献１）
この特許文献１に代表されるＣｕＣＨＡ触媒は、銅がイオン交換されたＳＳＺ−１３である。
【０００７】
前記以外のＳＣＲ触媒として、リン酸化物、アルミナおよびシリカを主成分とするＣＨＡ型結晶構造を有するＳＡＰＯ−３４の鉄および／または銅のイオン交換ゼオライトを使用することが開示されている（特許文献２）。この特許文献２に代表される触媒は、銅がイオン交換されたＳＡＰＯ−３４である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】国際公開第２００８／１０６５１９号
【特許文献２】国際公開第２００８／１１８４３４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
前記ＣｕＣＨＡ触媒は、排ガス温度が２００℃から３５０℃まで低温活性および熱水における熟成後の耐久活性は優れている。しかしながら、排ガス温度が３５０℃から５００℃に至るにつれてＮＯｘ浄化率が低下しまう課題があった。
【００１０】
競争する、酸素との非選択的反応は、ＳＣＲ触媒入り口の排ガス温度が３５０℃から５００℃までの高温になるに従い、アンモニアの部分酸化反応が進行して、Ｎ2またはＮ2Ｏ（地球温暖化ガス）の生成が増加する。このように非選択的反応は、アンモニアがＮＯｘの還元に使用されずアンモニアを消費する。その反応式（２）および反応式（３）に示す。
【００１１】
［化２］
4NH3 ＋3O2  →  2N2  ＋  6H2O  ・・・（２）
2NH3 ＋2O2  →  N2O  ＋  6H2O  ・・・（３）
【００１２】
一方、ＳＣＲ触媒入り口の排ガス温度が５００℃を超えると、アンモニアの完全酸化反応が進行する。アンモニアがＮＯｘの還元に使用されずアンモニアから直接ＮＯｘを生成する。高度の排ガス規制を満足するために、Ｃｕゼオライト触媒を用いて高活性のＮＯｘ浄化を行う場合において、ＳＣＲ触媒入り口排ガス温度が５００℃以下になるよう、内燃機関のＥＧＲ等の排ガス冷却システムで温度制御する必要がある。ただし、ＰＭ燃焼を行う場合は、５００℃以上の排ガスとなるが、酸素濃度が少なく還元雰囲気になるため、尿素噴霧を行うことなくＮＯｘが還元されるため、５００℃以下でＳＣＲシステムを制御する、この限りでない。
【００１３】
［化３］
4NH3 ＋5O2  →  4NO  ＋  6H2O  ・・・（４）
【００１４】
本発明は、車両走行負荷時の排ガス温度において、尿素水のＮＯｘ還元の浄化が、２００℃低温から５００℃高温に至るまで、一様にして９３％以上を維持できるＳＣＲシステム制御方法にある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、尿素および／またはアンモニアを用い、ＮＯｘを選択触媒還元システムにおいて、触媒が、銅を含むゼオライトであって、アンモニアの部分酸化による消費量を、排ガス中のＮＯｘと等モル量となるアンモニア量を制御して供給することを特徴とする、システム制御方法である。
【００１６】
本発明は、ＮＯｘ浄化に係わらず、前記反応式（２）および反応式（３）によるアンモニアの消費量を加味し、アンモニア供給量を制御することにある。（数１）に示す。
【００１７】
【数１】
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【００１８】
本発明に用いる触媒担体として、特に限定されるものでないが、熱水による耐久性が高い材料固有の特性から、ＣＨＡ型および／またはＡＥＩ型、ＡＦＸ型の結晶構造からなるゼオライトが好ましい。
【００１９】
さらに、触媒金属は、低温活性の観点で銅が好ましく、その銅が、ＣｕＯ換算で２．０質量％〜５．０質量％を含まれることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の排ガス温度におけるＮＯｘ浄化率について、実施例１、実施例２、比較例１および比較例２とを比較したグラフである。
【図２】本発明の排ガス温度におけるＮＯｘ浄化率について、実施例３、実施例４、比較例３および比較例４とを比較したグラフである。
【図３】本発明の排ガス後処理装置のシステム図の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明は、図３に示す、一般的な車両に用いられる公知の排ガス後処理装置システムであって、（数１）の排ガス温度が、ＳＣＲ触媒入口の（９）温度センサーの測定値を用い、（数１）の触媒上流ＮＯｘ体積濃度が、エンジン出口の（２）上流ＮＯｘセンサーの測定値を用いて、システム制御をおこなう。
【００２２】
本発明の（数１）定数Ｃは、Ｃｕゼオライト触媒において種々ゼオライトの酸性度で異なる固有値である。排ガス温度における定数Ｃは、本発明の実施例が示すモデルガス性能試験によって定めて、排ガス温度をＳＣＲ触媒入口の（９）温度センサーの測定し、本発明のシステム制御をおこなう。
【００２３】
本発明の前記モデルガス評価試験において、前記定数Ｃは、比較例１及び２が示すように、各排ガス温度においてＮＯ、ＮＨ3、ＮＯ2、Ｎ2Ｏの触媒入口濃度およびＮＯ、ＮＨ3、ＮＯ2、Ｎ2Ｏの触媒出口の濃度を測定値から求める。
【００２４】
まず、各排ガス温度において、ＮＯｘ浄化率を（数２）に従い求める。
（数２）
ＮＯｘ浄化率＝｛１−（[ＮＯ]出口＋[ＮＯ2]出口／[ＮＯ]入口＋[ＮＯ2]入口)｝×１００
【００２５】
次に、各排ガス温度において、定数Ｃを（数３）に従い求める。
（数３）
定数Ｃ＝｛[ＮＨ3] 出口＋（[ＮＯx]入口×[ＮＯx浄化率] ×２) ＋ [ＮＯx] 出口＋２＊[Ｎ2Ｏ] 出口｝／（[ＮＯx]入口＋２＊[Ｎ2Ｏ]）
但し、[ＮＯx]＝[ＮＯ]＋[ＮＯ2]  として表す。
本発明は、（数３）から求めた前記定数Ｃを、（数１）に当て嵌めて、実際の自動車負荷走行に対応する排気ガス後処理装置のＮＯｘ浄化システム制御において、図３に示すエンジン出口の（２）上流ＮＯｘセンサーの測定値とＳＣＲ触媒入口の（９）温度センサーの測定値とを演算して、表１に示すＡＮＲ（ＮＨ3／ＮＯx）でシステム制御をおこなう。
【実施例】
【００２６】
以下、本発明の実施例および比較例によって、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例によって何ら限定されることはない。
【００２７】
（参考例１）
参考例１は、ＣＨＡ型ＳＳＺ−１３ゼオライトを合成し、銅がイオン交換されたＣｕＣＨＡ触媒を作製した。
【００２８】
（ゼオライト原料の調整）
まず、ガラス容器にイオン交換水と、攪拌しながら、擬ベーマイト（Ｐｕｒａｌ  ＳＢ）を加え、室温で２０分間攪拌する。次いで、攪拌しながらアダマンチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡｄａＯＨ）をゆっくり加え、１時間室温になるまで保持する。その後、コロイダルシリカ（Ｌｕｄｏｘ  ＡＳ４０）を加え、５分間攪拌を継続し、懸濁液がｐＨが８．４で、次の組成物を調製した。
【００２９】
０．０３３（Ａｌ2Ｏ3）：１．０（ＳｉＯ2）：０．１９（ＴＭＡｄａＯＨ）：４６（Ｈ2Ｏ）
【００３０】
（水熱合成）
得られた懸濁液を攪拌付きオートクレーブ（加圧滅菌器）に移し、密閉して、５０ｒｐｍ速度で攪拌しながら７２時間１５０℃で加熱後、室温まで徐冷した。オートクレーブから得られたゲル組成物を取り出し、その上澄み液取り分け、上澄み液のｐＨは１０．６であった。上澄み液を取り除いたゲル組成物に、等体積量のイオン交換水を加え、振り混ぜて、遠心分離機にて、洗浄、固液分離を、繰り返し行った。
【００３１】
（ＣＨＡ型合成ゼオライト）
耐熱容器に、得られたゲル組成物を移し、乾燥を１２０℃で１２時間後、２０メッシュの篩網を通して粒度調整をおこなった。
得られた合成ゼオライトをＸ線回折(Ｘ-ｒａｙ  Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ)分析の結果から、主な回折ピークの相対強度（Ｉ）と格子面間隔（ｄ）とを、国際合成ゼオライト学会のＸ線回折パターン・データベースおよびＩＣＤＤのＰＤＦと照らして、最大酸素環員数が８と、３次元構造を有するＣＨＡ型ＳＳＺ−１３からなるゼオライトと同定した。
【００３２】
得られたＣＨＡ型ＳＳＺ−１３合成ゼオライトの組成は、ＩＣＰ分析した結果、ＳｉＯ2が９４．６５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3が５．３５ｗｔ％で、ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3のｍｏｌ比（ＳＡＲ）は、３０．００であった。
【００３３】
次いで、前記ＣＨＡ型ＳＳＺ−１３合成ゼオライト１００ｇのＮＨ4+状ＣＨＡを４００ｍＬの１．０Ｍの硝酸銅（ＩＩ）溶液と混合することにより、ＣｕＣＨＡ粉末触媒を製造した。酢酸で、ｐＨを３．５に調節した。スラリーを８０℃で１時間攪拌させて、ＮＨ4+状ＣＨＡと銅イオンとの間のイオン交換反応を行った。得られた混合物を次にろ過し、８００ｍＬの脱イオン水で、ろ液が透明で無色になるまで洗浄した。そして洗浄したサンプルを９０℃に乾燥した。
【００３４】
次に得られたＣｕＣＨＡ生成物を、７００℃で２時間か焼した。得られたＣｕＣＨＡ触媒は、ＩＣＰ分析で測定して、ＣｕＯを２．８質量％含んでいた。
【００３５】
（参考例２）
参考例２は、触媒担体の合成ゼオライトをＣＨＡ型ＳＡＰＯ−３４合成ゼオライトに代えた以外は、参考例１と同様にして、銅がイオン交換されたＣｕＣＨＡ触媒を作製した。
【００３６】
（ゼオライト原料の調整）
まず、ガラス容器にイオン交換水と、８５質量％オルトリン酸とを攪拌しながら混合する。そこに、擬ベーマイト（Ｐｕｒａｌ  ＳＢ）を加え、室温で２０分間攪拌する。次いで、攪拌しながらテトラエチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＥＡＯＨ）をゆっくり加え、１時間室温になるまで保持する。その後、コロイダルシリカ（Ｌｕｄｏｘ  ＡＳ４０）を加え、５分間攪拌を継続し、懸濁液がｐＨが８．１で、次の組成物を調製した。
【００３７】
１．０（Ａｌ2Ｏ3）：１．０（Ｐ2Ｏ5）：０．３（ＳｉＯ2）：１．０（ＴＥＡＯＨ）：６４（Ｈ2Ｏ）
【００３８】
（水熱合成）
得られた懸濁液を攪拌付きオートクレーブ（加圧滅菌器）に移し、密閉して、５０ｒｐｍ速度で攪拌しながら７２時間１７０℃で加熱後、室温まで徐冷した。オートクレーブから得られたゲル組成物を取り出し、その上澄み液取り分け、上澄み液のｐＨは１０．２であった。上澄み液を取り除いたゲル組成物に、等体積量のイオン交換水を加え、振り混ぜて、遠心分離機にて、洗浄、固液分離を、繰り返し行った。
【００３９】
（ＣＨＡ型合成ゼオライト）
耐熱容器に、得られたゲル組成物を移し、乾燥を１２０℃で１２時間後、２０メッシュの篩網を通して粒度調整をおこなった。
得られた合成ゼオライトをＸ線回折(Ｘ-ｒａｙ  Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ)分析の結果から、主な回折ピークの相対強度（Ｉ）と格子面間隔（ｄ）とを、国際合成ゼオライト学会のＸ線回折パターン・データベースおよびＩＣＤＤのＰＤＦと照らして、最大酸素環員数が８と、３次元構造を有するＣＨＡ型ＳＡＰＯ―３４からなるゼオライトと同定した。
【００４０】
得られたＣＨＡ型合成ＳＡＰＯ−３４ゼオライトの組成は、ＩＣＰ分析した結果、Ｐ2Ｏ5が４４．５０ｗｔ％、ＳｉＯ2が９．６０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3が４５．９０ｗｔ％で、ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3のｍｏｌ比（ＳＡＲ）は、０．３５５であった。
【００４１】
次いで、参考例１と同様にして、前記ＣＨＡ型ＳＡＰＯ−３４合成ゼオライト１００ｇのＮＨ4+状ＣＨＡを４００ｍＬの１．０Ｍの硝酸銅（ＩＩ）溶液と混合することにより、ＣｕＣＨＡ粉末触媒を製造した。酢酸で、ｐＨを３．５に調節した。スラリーを８０℃で１時間攪拌させて、ＮＨ4+状ＣＨＡと銅イオンとの間のイオン交換反応を行った。得られた混合物を次にろ過し、８００ｍＬの脱イオン水で、ろ液が透明で無色になるまで洗浄した。そして洗浄したサンプルを９０℃に乾燥した。
【００４２】
次に得られたＣｕＣＨＡ生成物を、７００℃で２時間か焼した。得られたＣｕＣＨＡ触媒は、ＩＣＰ分析で測定して、ＣｕＯを２．８質量％含んでいた。
【００４３】
（参考例３）
参考例３は、触媒担体の合成ゼオライトをＡＥＩ型ＳＳＺ−３９合成ゼオライトに代えた以外は、参考例１と同様にして、銅がイオン交換されたＣｕＡＥＩ触媒を作製した。
【００４４】
（ゼオライト原料の調整）
まず、ガラス容器にイオン交換水を入れ、そこへ攪拌しながら、１ＮのＮａＯＨと、Ｎ，Ｎ−ジエチル−シス−２，６−ジメチルピペラジニウムカチオンヒドロキシド(ＤＥＤＭＰＯＨ）とを所定量加えて室温で２０分間攪拌する。次に、ＮＨ4+状のＹ型ゼオライトとコロイダルシリカ（Ｌｕｄｏｘ  ＡＳ４０）をと所定量加え、５分間攪拌を継続し、懸濁液がｐＨが９．２で、次の組成物を調製した。
【００４５】
０．０６（Ａｌ2Ｏ3）：１．０（ＳｉＯ2）：０．３５（ＤＥＤＭＰＯＨ）：４３（Ｈ2Ｏ）
【００４６】
（水熱合成）
得られた懸濁液を攪拌付きオートクレーブ（加圧滅菌器）に移し、密閉して、５０ｒｐｍ速度で攪拌しながら７日間１４０℃で加熱後、室温まで徐冷した。オートクレーブから得られたゲル組成物を取り出し、その上澄み液取り分け、上澄み液のｐＨは１１．３であった。上澄み液を取り除いたゲル組成物に、等体積量のイオン交換水を加え、振り混ぜて、遠心分離機にて、洗浄、固液分離を、繰り返し行った。
【００４７】
（ＡＥＩ型合成ゼオライト）
耐熱容器に、得られたゲル組成物を移し、乾燥を１２０℃で１２時間後、２０メッシュの篩網を通して粒度調整をおこなった。
得られた合成ゼオライトをＸ線回折(Ｘ-ｒａｙ  Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ)分析の結果から、主な回折ピークの相対強度（Ｉ）と格子面間隔（ｄ）とを、国際合成ゼオライト学会のＸ線回折パターン・データベースおよびＩＣＤＤのＰＤＦと照らして、最大酸素環員数が８と、３次元構造を有するＡＥＩ型ＳＳＺ−３９からなるゼオライトと同定した。
【００４８】
得られたＡＥＩ型ＳＳＺ−３９ゼオライトの組成は、ＩＣＰ分析した結果、ＳｉＯ2が８９．６５ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3が１０．３５ｗｔ％で、ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3のｍｏｌ比（ＳＡＲ）は、１４．７であった。
【００４９】
次いで、実施例１と同様にして、前記ＡＥＩ型ＳＳＺ−３９合成ゼオライト１００ｇのＮＨ4+状ＡＥＩを４００ｍＬの１．０Ｍの硝酸銅（ＩＩ）溶液と混合することにより、ＣｕＡＥＩ粉末触媒を製造した。酢酸で、ｐＨを３．５に調節した。スラリーを８０℃で１時間攪拌させて、ＮＨ4+状ＡＥＩと銅イオンとの間のイオン交換反応を行った。得られた混合物を次にろ過し、８００ｍＬの脱イオン水で、ろ液が透明で無色になるまで洗浄した。そして洗浄したサンプルを９０℃に乾燥した。
【００５０】
次に得られたＣｕＡＥＩ生成物を、７００℃で２時間か焼した。得られたＣｕＡＥＩ触媒は、ＩＣＰ分析で測定して、ＣｕＯを２．８質量％含んでいた。
【００５１】
（参考例４）
参考例４は、触媒担体の合成ゼオライトをＡＥＩ型ＳＡＰＯ−１８合成ゼオライトに代えた以外は、参考例１と同様にして、銅がイオン交換されたＣｕＡＥＩ触媒を作製した。
【００５２】
（ゼオライト原料の調整）
まず、ガラス容器にイオン交換水と、８５質量％オルトリン酸とを攪拌しながら混合する。そこに、擬ベーマイト（Ｐｕｒａｌ  ＳＢ）を加え、室温で２０分間攪拌する。次いで、攪拌しながらテトラエチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＥＡＯＨ）をゆっくり加え、１時間室温になるまで保持する。その後、コロイダルシリカ（Ｌｕｄｏｘ  ＡＳ４０）を加え、５分間攪拌を継続し、懸濁液がｐＨが７．８で、次の組成物を調製した。
【００５３】
１．０（Ａｌ2Ｏ3）：０．９８（Ｐ2Ｏ5）：０．０７５（ＳｉＯ2）：１．０（ＴＥＡＯＨ）：６４（Ｈ2Ｏ）
【００５４】
（水熱合成）
得られた懸濁液を攪拌付きオートクレーブ（加圧滅菌器）に移し、密閉して、５０ｒｐｍ速度で攪拌しながら１２０時間２１５℃で加熱後、室温まで徐冷した。オートクレーブから得られたゲル組成物を取り出し、その上澄み液取り分け、上澄み液のｐＨは９．２であった。上澄み液を取り除いたゲル組成物に、等体積量のイオン交換水を加え、振り混ぜて、遠心分離機にて、洗浄、固液分離を、繰り返し行った。
【００５５】
（ＡＥＩ型合成ゼオライト）
耐熱容器に、得られたゲル組成物を移し、乾燥を１２０℃で１２時間後、２０メッシュの篩網を通して粒度調整をおこなった。
得られた合成ゼオライトをＸ線回折(Ｘ-ｒａｙ  Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ)分析の結果から、主な回折ピークの相対強度（Ｉ）と格子面間隔（ｄ）とを、国際合成ゼオライト学会のＸ線回折パターン・データベースおよびＩＣＤＤのＰＤＦと照らして、最大酸素環員数が８と、３次元構造を有するＡＥＩ型ＳＡＰＯ−１８からなるゼオライトと同定した。
【００５６】
得られたＡＥI型ＳＡＰＯ−１８ゼオライトの組成は、ＩＣＰ分析した結果、Ｐ2Ｏ5が６１．００ｗｔ％、ＳｉＯ2が１．８０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3が３７．２０ｗｔ％で、ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3のｍｏｌ比（ＳＡＲ）は、０．０８２であった。
【００５７】
次いで、実施例１と同様にして、前記ＡＥＩ型ＳＡＰＯ−１８合成ゼオライト１００ｇのＮＨ4+状ＡＥＩを４００ｍＬの１．０Ｍの硝酸銅（ＩＩ）溶液と混合することにより、ＣｕＡＥＩ粉末触媒を製造した。酢酸で、ｐＨを３．５に調節した。スラリーを８０℃で１時間攪拌させて、ＮＨ4+状ＡＥＩと銅イオンとの間のイオン交換反応を行った。得られた混合物を次にろ過し、８００ｍＬの脱イオン水で、ろ液が透明で無色になるまで洗浄した。そして洗浄したサンプルを９０℃に乾燥した。
【００５８】
次に得られたＣｕＡＥＩ生成物を、７００℃で２時間か焼した。得られたＣｕＡＥＩ触媒は、ＩＣＰ分析で測定して、ＣｕＯを２．８質量％含んでいた。
【００５９】
参考例１〜参考例４の銅を含むＳＣＲ触媒粉を、コロイド状シリカバインダー（固形分２０質量％）とスラリー液を作製し、公知のコージェライト製ハニカムフロースルー型基材に堆積させた。
【００６０】
（スラリー配合）
イオン交換水：                          ３０ｇ
ＳＣＲ触媒粉：                          ３０ｇ
コロイド状シリカバインダー：            １５ｇ
【００６１】
前記スラリー液をボールミルにて分散させ、前記ハニカム基材の容積当たり２００ｇ／Ｌに堆積させた。その後、８０℃で乾燥、５００℃でか焼させて、本発明のシステム制御を用いた排ガス浄化性能試験を行った。
【００６２】
（排ガス浄化性能試験）
触媒入口温度：２００℃、２５０℃、３００℃、３５０℃、４００℃、４５０℃、５０              ０℃
空間速度（ＳＶ）：５００００／ｈ
ＮＯ：５００ｐｐｍ
ＮＨ3：実施例１〜実施例４は、本発明の指数で供給
比較例１〜比較例４は、５００ｐｐｍで一定
ＣＯ2：１０％
Ｏ2：１０％
Ｈ2Ｏ：１０％
Ｎ2：ＢＡＬＡＮＣＥ
排ガス濃度検出器：ＦＴ−ＩＲ
触媒入口及び出口の検出濃度ガス成分：ＮＯ、ＮＨ3、ＮＯ2、Ｎ2Ｏ、ＣＯ2、Ｈ2Ｏ
但し、Ｏ2は計算上での濃度調整。
【００６３】
表１に、実施例１〜実施例４および比較例１〜比較例４におけるＮＯｘ排ガス濃度とＮＨ3供給制御濃度との関係を、ＡＮＲ（ＮＨ3／ＮＯｘ）として示す。
【００６４】
【表１】
2020186690.tif 000004
【００６５】
表２に、実施例１〜実施例４および比較例１〜比較例４におけるＮＯｘ浄化性能の結果を示す。
【００６６】
【表２】
2020186690.tif 000005
【００６７】
表３に、実施例１〜実施例４および比較例１〜比較例４における前記ＮＨ3スリップ（ＳＣＲ触媒下流漏れ）濃度の結果を示す。
【００６８】
【表３】
2020186690.tif 000006
【００６９】
上記の結果により、ＮＯｘ浄化率において、実施例１〜実施例４は、比較例１〜比較例４と比較して、３５０℃から５００℃まで範囲で明らかに向上した。
【００７０】
一方、ＮＨ3スリップ（漏洩）において、実施例１〜実施例４は、比較例１〜比較例４と比較して、排ガス高温域３５０℃から５００℃までの範囲で少量の漏洩が認められるが、本発明の対象ＳＣＲ触媒の下段に設けられるＡＭＯＸ触媒（アンモニア酸化触媒）で、浄化できる十分な範囲である。また、排ガス低高温域では、ＳＣＲ触媒の低温活性に依存するため、実施例１〜実施例４は、比較例１〜比較例４と比較して、同等のＮＨ3スリップ（漏洩）量であった。
【図１】
2020186690.tif 000008
【図２】
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【図３】
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