(57)【要約】【課題】照射光のスポット径を小径化しつつも、測定対象からの反射光の相対的な光量を所定以上とできる光学測定装置を実現する。【解決手段】試料の表面に光を照射し、該表面で反射光した受光する光学測定装置において、照射光および反射光の経路である光透過部材１０と、単一の膜状であって、光透過部材の一面１０ａの一部を覆う被覆部１２と、を備える構成とする。被覆部は、所定の反射率の材料で構成され、光を通過させるための開口部１２１を有し、被覆部の一面に接触する接触面１２ａが参照面である。照射光のうち接触面で反射した光を基準光とし、受光した試料表面からの反射光を試料反射光とし、試料反射光の光量に前記基準光の光量を足したものを総光量として、前記総光量に対する前記試料反射光の光量の割合である測定光量が０．１４より大きく、１未満である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の表面に光を照射し、前記表面における前記光の反射光を受光する構成とされた光学測定装置であって、
照射する前記光および前記反射光の経路である光透過部材（１０）と、
単一の膜状とされ、前記光透過部材の一面（１０ａ）の一部を覆う被覆部（１２）と、を備え、
前記被覆部は、所定の反射率の材料で構成されると共に、前記光を通過させるための開口部（１２１）を有しており、
前記被覆部のうち前記一面に接触する接触面（１２ａ）は、参照面であり、
前記光のうち前記接触面で反射した光を基準光とし、受光した前記表面からの前記反射光を試料反射光とし、前記試料反射光の光量に前記基準光の光量を足したものを総光量として、前記総光量に対する前記試料反射光の光量の割合である測定光量が０．１４より大きく、かつ１未満の範囲内である、光学測定装置。
【請求項２】
前記開口部の直径をＬ２として、Ｌ２は２０μｍ以下である、請求項１に記載の光学測定装置。
【請求項３】
前記光透過部材の直径をＬ１とし、前記開口部の直径をＬ２とし、前記被覆部の反射率をＲ１とし、（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１で表される割合を絞り割合Ｒｄとし、前記測定光量をＬＣとして、前記測定光量は、
Ｌｃ＝（１−Ｒｄ）２×Ａ／（（１−Ｒｄ）２×Ｂ＋（２−Ｒｄ）×Ｒｄ×Ｒ１）
の式で表され、
Ａは、０．０４より大きく、かつ０．８５未満の範囲内であり、
Ｂは、０．０６より大きく、かつ０．９３未満の範囲内である、請求項１または２に記載の光学測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学測定装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プローブから試料の表面に光を照射し、当該表面で反射された反射光を受光部で受光し、当該反射光を公知の光干渉法により分析することで、試料の表面凹凸等の各種測定を行う光学測定装置が知られている。
【０００３】
さて、近年、この種の光学測定装置では、照射光の照射範囲を例えばマイクロメートルオーダーの微小なスポット径に絞り、微小範囲における表面凹凸等の測定を行いたいとのニーズが存在する。このようなニーズに応えるための方法としては、例えば、開口部を有する遮光体を介して照射光を照射することにより、試料への照射光のスポット径を小さくすることが挙げられる。
【０００４】
しかしながら、単に遮光体により物理的に照射光の一部を遮り、スポット径を小径化する方法では、遮光体からの反射光の量が多くなる一方で、試料の表面からの反射光の量が減少する。そのため、この方法では、受光部が受光する試料からの反射光の割合が相対的に減少し、測定精度が低下し得る。このような事態を防止するには、遮光体として例えば特許文献１に記載の光吸収体を用いることが挙げられる。この光吸収体を遮光体として用いてスポット径を小径化することで、遮光体からの反射光の量を抑えると共に、試料表面からの反射光以外の外部の光を吸収でき、反射光の相対的な割合が増え、測定精度の低下を抑制し得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１６−４２１９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、この光吸収体は、第１、第２の光吸収層および低屈折率層の複数層が積層されてなるため、遮光体として用いる場合には、コスト面において好ましくない。
【０００７】
また、遮光体を用いない方法としては、集光レンズにより照射光のスポット径を小径化することが挙げられる。しかしながら、この場合、焦点距離等の関係でプローブが大型化してしまうため、集光レンズが用いられたプローブは、測定対象から所定距離だけ離れた位置に配置されることになる。しかしながら、プローブと測定対象との距離が大きくなると、光学測定において、距離に起因する誤差が大きくなる。
【０００８】
本発明は、上記の点に鑑み、プローブを大型化することなく、照射光のスポット径を小径化しつつも、測定対象からの反射光の相対的な光量を所定以上とできる光学測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の光学測定装置は、試料の表面に光を照射し、表面における光の反射光を受光する構成とされた光学測定装置であって、照射する光および反射光の経路である光透過部材（１０）と、単一の膜状とされ、光透過部材の一面（１０ａ）の一部を覆う被覆部（１２）と、を備え、被覆部は、所定の反射率の材料で構成されると共に、光を通過させるための開口部（１２１）を有しており、被覆部のうち一面に接触する接触面（１２ａ）は、参照面であり、光のうち接触面で反射した光を基準光とし、受光した表面からの反射光を試料反射光とし、試料反射光の光量に基準光の光量を足したものを総光量として、総光量に対する試料反射光の光量の割合である測定光量が０．１４より大きく、かつ１未満の範囲内である。
【００１０】
これによれば、照射する光および試料からの反射光の経路となる光透過部材の一面が、開口部を備える単一の膜状であって、所定の反射率の材料で構成された被覆部により、その一部が覆われた構成の光学測定装置となる。また、この光学測定装置は、被覆部のうち光透過部材の一面に接触する接触面が参照面である。そして、接触面での反射光を基準光とし、受光する試料の表面からの反射光を試料反射光として、「試料反射光の光量に基準光の光量を足したもの」に対する「試料反射光の光量」の割合は、０．１４より大きく、かつ１未満の範囲内とされる。そのため、照射光のスポット径を小径化しても、試料反射光の光量の割合が所定以上となり、光学測定の精度低下を抑制できる。また、被覆部で光透過部材の一面の一部を覆い、開口部により照射光の径を絞る構成のため、プローブが大型化することを抑制できる。
【００１１】
なお、各構成要素等に付された括弧付きの参照符号は、その構成要素等と後述する実施形態に記載の具体的な構成要素等との対応関係の一例を示すものである。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】実施形態に係る光学測定装置の構成を示すブロック図である。
【図２】被覆部により一部を覆われた光透過部を介して、試料に光を照射する様子を示す図である。
【図３】図２のプローブを被覆部の他面側から見た様子を示す平面図である。
【図４】図１の光学測定装置が搭載された加工装置の一部を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、同一符号を付して説明を行う。
【００１４】
（実施形態）
実施形態に係る光学測定装置について、図１〜図３を参照して説明する。この光学測定装置は、光の照射径が例えばマイクロメートルオーダーとされ、微小範囲における試料の表面形状等の各種測定を行う用途に適用されると好適である。なお、ここでいう微小範囲とは、限定するものではないが、例えばφ２０μｍ以下の領域とされ得る。
【００１５】
〔構成〕
実施形態に係る光学測定装置は、図１に示すように、光透過部材１０と被覆部１２とを有してなるプローブ１と、光ファイバ２１〜２３と、光分岐部３と、出力部４と、受光部５と、演算部６とを備える。本光学測定装置は、プローブ１を介して出力部４からの光を試料Ｓの表面に照射し、当該表面で反射した反射光ＲＬ１と被覆部１２で反射した反射光ＲＬ２とを受光部５で受光する。そして、本光学測定装置は、これらの反射光ＲＬ１、ＲＬ２に基づき、公知の光干渉法等により演算部６で各種の演算を実行する構成とされる。
【００１６】
以下、説明の簡略化のため、出力部４から出力される光を「照射光」と称し、照射光のうち被覆部１２の後述する接触面１２ａで反射した光を「基準光」と称し、照射光のうち試料Ｓの表面で反射した光であって、受光部５で受光する光を「試料反射光」と称する。
【００１７】
プローブ１は、出力部４からの照射光を試料Ｓの表面に照射すると共に、試料反射光を受光するために用いられるものである。プローブ１は、例えば図１に示すように、光透過部材１０と、任意の材料によりなり、光透過部材１０を覆う筒状の遮光部１１と、光透過部材１０のうち遮光部１１から露出する面であって、出力部４とは反対側の一面１０ａの一部を覆う被覆部１２とを有してなる。
【００１８】
光透過部材１０は、出力部４からの光や試料Ｓ等からの反射光を透過させる光の経路であり、例えば光ファイバなどの任意の光学部材で構成される。光透過部材１０は、例えば円柱状とされ、その延設方向に沿った筒状の遮光部１１で覆われており、出力部４側の面およびその反対面である一面１０ａにのみ光を通す状態とされている。光透過部材１０は、一面１０ａの一部が被覆部１２によって覆われている。
【００１９】
被覆部１２は、例えば図２に示すように、光透過部材１０の一面１０ａの一部を覆うと共に、開口部１２１を有してなる。被覆部１２は、開口部１２１により照射光の一部を外部に通すと共に、一面１０ａと接する面を接触面１２ａとして、接触面１２ａにて照射光の残部を所定の反射率で反射する部材である。すなわち、被覆部１２は、開口部１２１により照射光を所定のスポット径に絞りつつ、接触面１２ａにて照射光を所定の反射率で反射させ、当該反射光が光学測定における基準光となる構成となっている。つまり、被覆部１２は、照射光を微小範囲に絞る役割、および基準光が生じる参照面の役割を果たす部材である。なお、開口部１２１は、例えば円柱形状の貫通孔とされる。
【００２０】
被覆部１２は、例えば、図３に示すように、接触面１２ａの反対面１２ｂに対する法線方向から見て、その外郭が円形状であって、その中心を含む領域に開口部１２１が形成されたリング状とされている。被覆部１２は、例えば図２や図３に示すように、光透過部材１０の径、すなわち照射光の軸方向における径をＬ１として、開口部１２１の径がＬ２とされている。
【００２１】
なお、光透過部材１０の径Ｌ１は、例えばφ２０μｍ以下とされる。被覆部１２は、光透過部材１０の一面１０ａのうち開口部１２１に位置する部分以外の部分をすべて覆うように、外径がＬ１以上とされる。開口部１２１の径Ｌ２は、照射光が微小範囲に絞られるように、例えばφ２０μｍ以下とされる。具体的には、例えば、光透過部材１０の径Ｌ１がφ２０μｍである場合、開口部１２１の径Ｌ２は、φ５μｍとされる。光透過部材１０の径Ｌ１、および開口部１２１の径Ｌ２は、上記の例では直径であるが、上記の数値に限定されるものではなく、適宜変更され得る。
【００２２】
以下、説明の便宜上、「基準光ＲＬ１の光量ＬＡに試料反射光ＲＬ２の光量ＬＢを足したもの」に対する「試料反射光ＲＬ２の光量ＬＢ」の割合、すなわちＬＢ／（ＬＡ＋ＬＢ）の式で表される割合を「測定光量Ｌｃ」と称する。なお、基準光ＲＬ１の光量ＬＡに試料反射光ＲＬ２の光量ＬＢを足したものは、「総光量」と称され得る。
【００２３】
被覆部１２は、所定の反射率を有する任意の材料で構成された単一膜とされるが、絞り割合Ｒｄ、試料Ｓの反射率、照射光であるレーザ光の広がり角等により算出される測定光量が所定の範囲内となるように、その反射率が決定される。被覆部１２は、試料Ｓが反射率の高い（例えば９０％）金属材料である場合、例えば、反射率が約１０％であるカーボンが選択される。この場合、被覆部１２は、例えば、カーボンを含む原料ガスと集束イオンビーム（ＦＩＢ）とを用いたデポジションにより、マスクレスでパターン成膜が行われることで形成され得る。被覆部１２は、カーボンで構成される場合には、外部からの光が透過することを防ぐため、その厚みが数百ｎｍ以上、例えば１μｍ程度とされることが好ましい。なお、測定光量Ｌｃの範囲や被覆部１２の反射率の決定等の詳細については、後述する。
【００２４】
光分岐部３は、出力部４から光ファイバ２２を介して透過した照射光をプローブ１側へ透過させる。また、光分岐部３は、光ファイバ２１を介して透過した、試料からの反射光および被覆部１２からの反射光を受光部５側へ通過させる。光分岐部３は、「ファイバジャンクション」とも称され得る。
【００２５】
出力部４は、干渉する光を出力するコヒーレント光源であり、例えばレーザ光を出力する任意の光源とされる。なお、本実施形態では、出力部４から出力される光がレーザ光であって、その広がり角が１．５°である例について説明するが、これに限定されるものではない。
【００２６】
受光部５は、光ファイバ２３を介して被覆部１２からの反射光および試料からの反射光を受光する。受光部５は、例えば、不図示のシャッター、カットフィルタ、回折格子および光検出部などを有する任意の分光器とされ、反射光の反射率スペクトルを測定する。具体的には、受光部５は、例えば、光検出部のリセット時などの任意のタイミングで光を遮るシャッターを駆動させ、反射光の透過および遮蔽を制御しつつ、カットフィルタにより測定範囲外の波長の光などの不要な光を遮断する。そして、受光部５は、例えば、カットフィルタを通過した光を回折格子により所定の波長間隔ごとに分光し、分光した光を光検出部で検出しつつ、検出した各波長の光の強度に応じた電気信号を演算部６へ出力する。
【００２７】
演算部６は、例えば、測定光量に応じて受光部５から出力された電気信号に基づき、光干渉法により演算を実行し、試料の表面との距離ｄ等の算出を行う。なお、光学測定において、光干渉法によるプローブと測定対象との距離の算出や測定対象に形成された光透過薄膜の膜厚算出などの各種演算については、公知のため、本明細書では、その詳細な説明を省略する。
【００２８】
以上が、本実施形態の光学測定装置の基本的な構成である。
【００２９】
〔照射光のスポット径〕
近年、この種の光学測定装置においては、照射光のスポット径を微小範囲に絞り、試料の表面のうち微細な凹凸形状等の測定を行いたいとのニーズがある。例えば、切削などの加工を行う加工装置などにより、試料の表面にマイクロメートルオーダーもしくはナノメートルオーダーの微細加工を行う際に、試料と当該加工装置との距離の変位量を測定し、表面凹凸を計測する場合などが挙げられる。このような場合に、照射光のスポット径が加工部分に対して大き過ぎると、試料のうち加工部分以外からの反射光の光量が多くなる一方で、加工部分からの反射光の光量の割合が減少するため、測定精度が低下してしまう。
【００３０】
そこで、照射光のスポット径を微小範囲に絞る方法としては、開口部を有する遮光体により照射光の照射範囲を狭くすることが考えられる。これにより、照射光が試料のうち測定の目標領域内にのみ照射されるため、試料のうち目標領域外からの反射光が減少する。
【００３１】
しかしながら、単に遮光体で照射光の一部を遮る方法は、照射光のうち遮光体で反射される光の光量も多くなってしまう。つまり、遮光体は、当該遮光体での反射光の光量を試料反射光ＲＬ２の光量以上に増加させてしまい、光学測定の精度低下の原因となり得る。
【００３２】
また、遮光体を用いない方法としては、プローブ１に集光レンズを設け、照射光のスポット径を小径化することも考えられる。ただ、この方法では、焦点距離等の関係上、プローブ１が大型化してしまい、試料Ｓに対するプローブ１の配置が制限されてしまう。また、プローブ１と試料Ｓとの距離が大きくなるほど、距離による光学測定の誤差が大きくなる。
【００３３】
そこで、本発明者らは、鋭意検討の結果、プローブ１に遮光体の被覆部１２を成膜して、照射光のスポット径を小径化しつつも、試料反射光ＲＬ２の光量ＬＢが基準光ＲＬ１の光量ＬＡに対して所定以上となる構成の本光学測定装置を考案するに至った。
【００３４】
なお、単一膜の被覆部１２により光透過部材１０の一面１０ａの一部を覆う構成とすることで、光透過部材１０と空気との界面における反射の影響を受け難くなると共に、製造コストが従来よりも低減する。また、既存の光透過部材１０に被覆部１２を成膜するだけで済むため、集光レンズを用いる場合に比べて、プローブ１を小型でき、試料Ｓに近い位置に配置でき、光学測定の精度を高める効果も得られる。
【００３５】
〔被覆部の反射率〕
本発明者らは、鋭意検討の結果、被覆部１２の接触面１２ａにおける反射率を所定の範囲内とすることで、照射光のスポット径を絞りつつ、試料反射光の光量に対する基準光の光量を調整できる本実施形態の光学測定装置をなすに至った。
【００３６】
以下、説明の便宜上、「光透過部材１０の径Ｌ１」に対する「径Ｌ１から開口部１２１の径Ｌ２を差し引いたもの」の割合、すなわち（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１の式で表される割合を「絞り割合Ｒｄ」と称する。
【００３７】
具体的には、本光学測定装置は、被覆部１２の反射率をＲ１として、以下の式で表される測定光量Ｌｃが０．１４よりも大きく、１未満となる構成とされている。本発明者らの試算によると、測定光量Ｌｃが０．１４よりも大きければ、照射光のスポット径が小径化されていても、受光部５で受光する試料反射光ＲＬ２の光量ＬＢを光学測定が可能な程度に確保できる。一方、測定光量Ｌｃが０．１４以下の場合には、試料反射光ＲＬ２の光量不足により光学測定ができない。
【００３８】
【数１】
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なお、Ａ、Ｂは、光源である出力部４から出力されるレーザ光全体の光量をガウス分布と仮定した場合に、レーザ光の拡がり角を考慮した上で、最終的に受光部５に返ってくる光量を公知の理論式により算出することで得られる係数である。具体的には、Ａ、Ｂは、試料Ｓの反射率、被覆部１２のうち開口部１２１の反射率、出力部４から出力される光の広がり角、および試料Ｓとプローブ１との距離ｄにより定まる係数であり、特に試料Ｓの反射率、すなわち試料Ｓの材質により変動する。ここでいう「開口部１２１の反射率」とは、光透過部材１０と開口部１２１における空気との界面、すなわち一面１０ａにおける反射率を意味し、例えば、光透過部材１０が石英ガラスにより構成される光ファイバの場合には、４％〜８％の範囲内となる。
【００３９】
例えば、Ａは、試料Ｓが反射率５０％以上の金属材料等で構成される場合には、０．４０より大きく、０．８５未満の範囲内となり、試料Ｓが、反射率５％以上５０％未満の樹脂材料等で構成される場合には、０．０４より大きく、０．４０以下の範囲内となる。一方、Ｂは、試料Ｓが反射率５０％以上の金属などで構成される場合には、０．４２より大きく、０．９３未満の範囲内となり、試料Ｓが反射率５％以上５０％未満の樹脂材料などで構成される場合には、０．０６より大きく、０．４２以下の範囲内となる。
【００４０】
より具体的には、例えば、試料Ｓが反射率９０％であり、光透過部材１０の径Ｌ１が２０μｍであって、開口部１２１の径Ｌ２を５μｍとしたい場合には、被覆部１２として選択したい材料の反射率Ｒ１が０．１４＜Ｌｃ＜１を満たすか否かを確認する。例えば、被覆部１２として反射率が１０％のカーボンを選択する場合には、Ｒｄ＝（２０−５）／２０＝０．７５、Ｒ１＝０．１、Ａ＝０．７１、Ｂ＝０．７５を（数１）の式に代入してＬｃを算出する。なお、上記のＡ、Ｂの数値については、試料Ｓが反射率９０％であり、出力部４からのレーザ光の広がり角が１．５°である場合におけるものである。この場合、得られるＬｃの値は、０．３２となり、０．１４＜Ｌｃ＜１を満たす。そのため、上記の条件においては、被覆部１２としてカーボンを使用できることがわかる。このようにして、被覆部１２を構成する材料の反射率や開口部１２１の径を適宜設計することで、照射光のスポット径を微小範囲に絞りつつも、測定光量を所定以上とでき、光学測定の精度低下が抑制された光学測定装置となる。
【００４１】
〔適用例〕
次に、本実施形態の光学測定装置の適用例の一例について、図４を参照して簡単に説明する。
【００４２】
図４では、後述する任意の加工装置のうち切削に用いる刃１０１を有する接触子１００の近傍を示しており、見易くするため、当該加工装置の他の構成要素については省略すると共に、光学測定装置のプローブ１の大きさを誇張したものを示している。
【００４３】
光学測定装置は、例えば、図４に示すように、マイクロメートルオーダーないしナノメートルオーダーの精密切削加工が可能な任意の加工装置の接触子１００の近傍にプローブ１が配置され、光干渉変位計として用いられ得る。
【００４４】
このような加工装置としては、例えば、特開２０１７−１７７２３１号公報に記載のものが挙げられるが、これに限定されない。この種の加工装置は、例えば、不図示の、定盤と、被加工物である試料Ｓを固定する保持台と、刃１０１を有する接触子１００を保持する保持部と、保持部の駆動制御を行う制御部とを備える。
【００４５】
本適用例では、光学測定装置は、上記の加工装置のうち接触子１００を保持する保持部等にプローブ１が搭載され、プローブ１から刃１０１により切削された試料Ｓの表面に光を照射し、その反射光をプローブ１で受光する構成とされる。実施形態に係る光学測定装置は、プローブ１に開口部１２１を有する被覆部１２を成膜することで、照射光のスポット径を絞る構成であって、プローブ１の小型化が可能である。そのため、本光学測定装置のプローブ１を任意の加工装置に搭載するにあたって、プローブ１は、図４に示すように、加工対象の試料Ｓの近く、すなわち接触子１００の近傍に配置されることが可能である。
【００４６】
これにより、照射光のスポット径が微小範囲に絞られると共に、小型のプローブ１が試料Ｓのうち微細加工がなされる部分の近くに配置されるため、これらの距離を精度良く測定することができる。そのため、試料Ｓの厚み方向における接触子１００と試料Ｓの加工面との距離を精度良く測定し、当該測定により得られる距離の変位量を制御部にフィードバックすることが可能な加工装置となる。
【００４７】
本実施形態によれば、光透過部材１０に遮光体としての被覆部１２が成膜されたプローブ１を備え、参照面となる被覆部１２が所定の反射率とされた構成の光学測定装置となる。被覆部１２は、開口部１２１が２０μｍ以下とされ、照射光が微小範囲に絞られても測定光量Ｌｃが所定の範囲内となるように、その反射率が選択される。そのため、照射光のスポット径が微小範囲に小径化されても、光学測定の精度低下を抑制できる。また、光透過部材１０に単一の膜状の被覆部１２が形成された構成のため、プローブ１を小型化できる。したがって、プローブ１を大型化することなく、照射光のスポット径を小径化しつつも、測定対象からの反射光の相対的な光量を所定以上にできる光学測定装置となる。
【００４８】
（他の実施形態）
本発明は、実施例に準拠して記述されたが、本発明は当該実施例や構造に限定されるものではないと理解される。本発明は、様々な変形例や均等範囲内の変形をも包含する。加えて、様々な組み合わせや形態、さらには、それらの一要素のみ、それ以上、あるいはそれ以下、を含む他の組み合わせや形態をも、本発明の範疇や思想範囲に入るものである。
【００４９】
（１）例えば、上記実施形態では、光透過部材１０の一面１０ａを所定の反射率とされた被覆部１２で覆う構成とされた例について説明した。しかしながら、プローブ１は、被覆部１２に代わって光透過部材１０の一面１０ａの一部に凹凸形状が設けられた構成とされてもよい。この構成の場合、被覆部１２が存在しないため、参照面は、光透過部材１０の一面１０ａと空気との界面部分となる。
【００５０】
具体的には、一面１０ａのうち被覆部１２に覆われる部分に相当する部分については、微細凹凸が形成された凹凸部とする一方で、一面１０ａのうち被覆部１２の開口部１２１に位置する部分については、平坦形状とされた平坦部とする。この凹凸部は、出力部４から外部に向かう照射光を散乱させ、基準光の光量を下げると共に、外部に向かう照射光の光量を下げる、すなわちスポット径を絞る役割を果たす。つまり、この凹凸部は、スポット径を絞りつつ、参照面における反射率を調整する「反射調整部」として機能する。平坦部は、照射光をほとんど反射せずに外部に通過させると共に、試料反射光を受光する部位である。このように、光透過部材１０の一面１０ａを凹凸部と平坦部とを有する構成とすることで、被覆部１２を有さずとも、照射光のスポット径を絞り、試料反射光の光量を調整可能な光学装置となる。なお、凹凸部は、ＦＩＢなどにより形成され得る。
【００５１】
（２）上記実施形態では、光透過部材１０が円柱形状とされた例について説明したが、これに限定されず、光透過部材１０やこれを覆う遮光部１１については、他の形状に適宜変更されてもよい。また、被覆部１２や開口部１２１の形状についても、同様である。
【符号の説明】
【００５２】
１      プローブ
１０    光透過部材
１０ａ  一面
１１    遮光体
１２    被覆部
１２ａ  接触面
１２１  開口部
【図１】
2020186970.tif 000004
【図２】
2020186970.tif 000005
【図３】
2020186970.tif 000006
【図４】
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