(57)【要約】【課題】気泡の形成が抑制されたマルチコア光ファイバを製造することができるマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法等を提供すること。【解決手段】被処理ロッドを処理して主ロッドを準備する主ロッド準備工程と、主ロッドを複数本含む複数本のロッドを束ねてマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体を形成するロッド集合体形成工程とを含み、主ロッド準備工程において、主ロッドが、他の主ロッドと接触する複数の接触面と、複数の接触面のうち隣り合う２つの接触面同士を一体に形成する少なくとも１つの一体形成部とを有し、被処理ロッドが、その長手方向に沿って形成される角部を有し、複数本の主ロッドのうちの少なくとも２本の主ロッドが、マルチコア光ファイバのコアとなるコア部の周囲に、マルチコア光ファイバのクラッドを形成するためのクラッド形成材を有し、被処理ロッドの角部を丸くするように処理して主ロッドにおける一体形成部を形成する、マルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理ロッドを処理して主ロッドを準備する主ロッド準備工程と、
前記主ロッドを複数本含む複数本のロッドを束ねてマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体を形成するロッド集合体形成工程とを含み、
前記主ロッド準備工程において、
前記主ロッドが、他の主ロッドと接触する複数の接触面と、前記複数の接触面のうち隣り合う２つの接触面同士を一体に形成する少なくとも１つの一体形成部とを有し、
前記被処理ロッドが、その長手方向に形成される角部を有し、
前記複数本の主ロッドのうちの少なくとも２本の主ロッドが、マルチコア光ファイバのコアとなるコア部の周囲に、前記マルチコア光ファイバのクラッドを形成するためのクラッド形成材を有し、
前記被処理ロッドの前記角部を丸くするように処理して前記主ロッドにおける前記一体形成部を形成する、マルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法。
【請求項２】
前記被処理ロッドがオリジナルロッドの研削加工又は切断加工によって形成されたものであり、前記被処理ロッドが、前記主ロッド準備工程における処理により前記主ロッドの前記接触面となる複数の加工面を有する場合には、前記主ロッド準備工程において、前記被処理ロッドを熱処理によって処理する、請求項１に記載のマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法。
【請求項３】
前記主ロッド準備工程において、前記被処理ロッドを非熱処理によって処理する、請求項１に記載のマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法。
【請求項４】
前記主ロッド準備工程において、前記主ロッドの前記一体形成部において、下記式（１）で表されるＡが０．２０〜０．２４となるように前記被処理ロッドを処理する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法。
Ａ＝Ｒ／Ｒｍａｘ・・・（１）
（上記式（１）中、Ｒは前記一体形成部の曲率半径を表し、Ｒｍａｘは、前記主ロッドの長手方向に直交する断面に対する外接円の直径を表す。）
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法により得られるマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の外側にスートを形成するスート形成工程と、
前記スートをガラス化させて、マルチコア光ファイバ母材を得るスートガラス化工程とを含む、マルチコア光ファイバ母材の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法によってマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体を形成するロッド集合体形成工程と、
前記マルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体を線引きしてマルチコア光ファイバを製造する線引き工程とを含む、マルチコア光ファイバの製造方法。
【請求項７】
請求項５に記載のマルチコア光ファイバ母材の製造方法によってマルチコア光ファイバ母材を形成する母材形成工程と、
前記マルチコア光ファイバ母材を線引きしてマルチコア光ファイバを製造する線引き工程とを含む、マルチコア光ファイバの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法、これを用いたマルチコア光ファイバ母材の製造方法及びマルチコア光ファイバの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ネットワークの通信量が急増しており、伝送容量を大幅に拡大できる光ファイバとして、１本の光ファイバに複数のコアを有するマルチコア光ファイバ（ＭＣＦ）が注目されている。
【０００３】
このようなマルチコア光ファイバの製造方法としては、いわゆるＯＢＲ（Over-cladding Bundled Rods）法が知られている。ＯＢＲ法では、まずマルチコア光ファイバのコアとなるコア部を有するガラスロッドを複数本束ね、得られるロッド集合体の外周面上に、ＯＶＤ（Outside Vaper Deposition）法によってガラス微粒子（スート）を堆積させる。その後、スートが堆積したロッド集合体を電気炉内で加熱することでスートを焼結して透明ガラス化させ、マルチコア光ファイバ母材を得る。そして、この光ファイバ母材を線引きすることで、マルチコア光ファイバを得ることができる。
【０００４】
上述したようなロッド集合体として、例えば下記特許文献１では、断面が正多角形のガラスロッドを複数本束ね、複数本のガラスロッド同士間の隙間をなくしたロッド集合体が開示されている。このロッド集合体は、複数本のガラスロッドを束ねることにより製造される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平９−５５４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記特許文献１に記載のロッド集合体の製造方法は、以下に示す課題を有していた。
【０００７】
すなわち、上記特許文献１に記載のロッド集合体の製造方法においては、ガラスロッド同士を束ねてロッド集合体を形成すると、ロッド集合体の外側にスートを形成してマルチコア光ファイバ母材を製造した後、このマルチコア光ファイバ母材を線引きしてマルチコア光ファイバを製造する際に、得られるマルチコア光ファイバにおいて気泡が形成される場合がある。この気泡は、マルチコア光ファイバの強度及び伝送特性に影響を与える可能性がある。そのため、このような気泡の形成はできるだけ抑制されることが望ましい。
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、気泡の形成が抑制されたマルチコア光ファイバを製造することができるマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法、これを用いたマルチコア光ファイバ母材の製造方法及びマルチコア光ファイバの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記特許文献１記載のロッド集合体を用いてマルチコア光ファイバを製造する際に、マルチコア光ファイバにおいて気泡が形成される原因について検討した。その結果、本発明者らは、以下の理由により、ガラスロッドがその長手方向に沿って角部を有することが原因ではないかと考えた。すなわち、ガラスロッドがその長手方向に沿って角部を有するため、複数本のガラスロッドを束ねる際にガラスロッド同士がぶつかると、角部に応力が集中しやすく、ガラスロッドの角部に欠けが生じやすい。また、ガラスロッドの角部は鋭利であるため、この角部が他のガラスロッドの表面に衝突すると、その表面に過大な応力が加えられやすく、その表面が傷付けられて表面に凹部が形成されることが起こりやすい。特に、ガラスロッドの断面積が大きくなり、長くなると、ガラスロッドのハンドリングが難しくなり、欠けや凹部が形成されやすくなる。その結果、複数本のガラスロッドを束ねてロッド集合体を形成する際に角部の欠けやガラスロッドの表面の凹部が、ガラスロッドの長手方向において角部の欠けやガラスロッド表面の凹部がない箇所に比べて、他のガラスロッドとの間により大きな空間を形成する。そして、このより大きな空間が、ロッド集合体の外側にスートを形成してマルチコア光ファイバ母材を製造した後、このマルチコア光ファイバ母材を線引きしてマルチコア光ファイバを製造する際に、得られるマルチコア光ファイバにおいて気泡を形成するのではないかと本発明者らは考えた。そこで、本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、以下の発明により上記課題を解決し得ることを見出した。
【００１０】
すなわち、本発明は、被処理ロッドを処理して主ロッドを準備する主ロッド準備工程と、前記主ロッドを複数本含む複数本のロッドを束ねてマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体を形成するロッド集合体形成工程とを含み、前記主ロッド準備工程において、前記主ロッドが、他の主ロッドと接触する複数の接触面と、前記複数の接触面のうち隣り合う２つの接触面同士を一体に形成する少なくとも１つの一体形成部とを有し、前記被処理ロッドが、その長手方向に沿って形成される角部を有し、前記複数本の主ロッドのうちの少なくとも２本の主ロッドが、マルチコア光ファイバのコアとなるコア部の周囲に、前記マルチコア光ファイバのクラッドを形成するためのクラッド形成材を有し、前記被処理ロッドの前記角部を丸くするように処理して前記主ロッドにおける前記一体形成部を形成する、マルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法である。
【００１１】
本発明のマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法によれば、被処理ロッドにおいてその長手方向に沿って形成される角部が丸くなるように処理されるため、主ロッドにおける一体形成部が丸く形成される。このため、主ロッドを複数本含む複数本のロッドを、主ロッドの接触面に他の主ロッドを接触させた状態で束ねる際に、主ロッドの一体形成部に他のロッドが衝突しても、主ロッドの一体形成部が丸く形成されず角部を有する場合に比べて、一体形成部に作用する応力が分散されやすいため、主ロッドの一体形成部に欠けが生じにくくなる。また、主ロッドの一体形成部は鋭利でないため、この一体形成部が他の主ロッドの接触面に衝突しても、その接触面に過大な応力が加えられにくく、その接触面が傷付けられて接触面に凹部が形成されることが起こりにくくなる。このため、主ロッドを複数本含む複数本のロッドを束ねてロッド集合体を形成する際に、主ロッドの長手方向において、他の主ロッドの一体形成部や接触面との間に一体形成部の欠けや主ロッドの接触面の凹部に起因してより大きな空間が形成されることが抑制される。このため、本発明のロッド集合体の製造方法によれば、ロッド集合体を線引きして又はロッド集合体の外側にスートを形成して製造したマルチコア光ファイバ母材を線引きしてマルチコア光ファイバを製造する際に、気泡の形成が抑制されたマルチコア光ファイバを製造できるロッド集合体を製造することができる。
【００１２】
上記マルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法においては、前記被処理ロッドがオリジナルロッドの研削加工又は切断加工によって形成されたものであり、前記被処理ロッドが、前記主ロッド準備工程における処理により前記主ロッドの前記接触面となる複数の加工面を有する場合には、前記主ロッド準備工程において、前記被処理ロッドを熱処理によって処理することが好ましい。
【００１３】
この場合、被処理ロッドがオリジナルロッドの研削加工又は切断加工によって形成されたものであり、被処理ロッドが、前記主ロッド準備工程における処理により主ロッドの接触面となる複数の加工面を有する場合には、加工面は、研削加工又は切断加工されていない表面に比べて荒れた状態となる。これに対し、被処理ロッドが熱処理によって処理されることで、被処理ロッドの角部が丸くなるだけでなく、主ロッドにおける接触面が加工面よりも滑らかとなる。そのため、主ロッドにおいて加工面よりも滑らかになった接触面同士を接触させた状態でロッドを束ねてロッド集合体を形成すると、主ロッドの長手方向において、主ロッドの接触面と他の主ロッドの接触面との間に、接触面に形成された凹凸に起因してより大きな空間が形成されることがより抑制される。このため、本発明のロッド集合体の製造方法によれば、ロッド集合体を線引きして又はロッド集合体の外側にスートを形成して製造したマルチコア光ファイバ母材を線引きしてマルチコア光ファイバを製造する際に、気泡の形成がより抑制されたマルチコア光ファイバを製造できるロッド集合体を製造することができる。
【００１４】
また上記マルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法においては、前記主ロッド準備工程において、前記被処理ロッドを非熱処理によって処理してもよい。
【００１５】
上記マルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法においては、前記主ロッド準備工程において、前記主ロッドの前記一体形成部において、下記式（１）で表されるＡが０．２０〜０．２４となるように前記被処理ロッドを処理することが好ましい。
Ａ＝Ｒ／Ｒｍａｘ・・・（１）
（上記式（１）中、Ｒは前記一体形成部の曲率半径を表し、Ｒｍａｘは、前記主ロッドの長手方向に直交する断面に対する外接円の直径を表す。）
【００１６】
ここで、「一体形成部の曲率半径」とは、以下の手順で求められる曲率半径をいう。
（１）主ロッドの端面において、一体形成部を介して隣り合う２つの接触面の各々に沿って引いた２つの直線と一体形成部との２つの交点と、その２つの交点を結んだ直線からの一体形成部の高さが最大となる最大高さ点とを求める。
（２）上記２つの交点と最大高さ点の３つの点を通る円弧を決定する。
（３）（２）で決定した円弧から、円弧に対応する半径を曲率半径として算出する。具体的には、２つの交点を通る直線からの一体形成部の最大高さをａとし、２つの交点との間の長さをｂとすれば、曲率半径ｒは下記式で求められる。
ｒ＝ａ／２＋ｂ２／８ａ
【００１７】
この場合、Ａの値が０．２０未満である場合に比べて、主ロッドの接触面同士を接触させた状態でロッドを束ねてロッド集合体を形成すると、主ロッドの長手方向において、主ロッドの接触面と他の主ロッドの接触面との間に一体形成部の欠けや主ロッドの接触面の凹部又は凹凸に起因してより大きな空間が形成されることがより抑制される。また、Ａの値が０．２４を超える場合に比べて、ロッド集合体において、線引きの際に主ロッドにおけるコア部の変形が抑制され、コアの変形が抑制されたマルチコア光ファイバを製造できる。
【００１８】
また本発明は、上述したマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法により得られるマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の外側にスートを形成するスート形成工程と、前記スートをガラス化させて、マルチコア光ファイバ母材を得るスートガラス化工程とを含む、マルチコア光ファイバ母材の製造方法である。
【００１９】
このマルチコア光ファイバ母材の製造方法によれば、ロッド集合体を形成する際に被処理ロッドにおいてその長手方向に沿って形成される角部が丸くなるように処理されるため、主ロッドにおける一体形成部が丸く形成される。このため、主ロッドを複数本含む複数本のロッドを、主ロッドの接触面に他の主ロッドを接触させた状態で束ねる際に、主ロッドの一体形成部に他のロッドが衝突しても、主ロッドの一体形成部は鋭利でないため、主ロッドの一体形成部が丸く形成されず角部を有する場合に比べて、一体形成部に作用する応力が分散されやすい。従って、主ロッドの一体形成部に欠けが生じにくくなる。また、主ロッドの一体形成部は鋭利でないため、この一体形成部が他の主ロッドの接触面に衝突しても、その接触面に過大な応力が加えられにくく、その接触面が傷付けられて接触面に凹部が形成されることが起こりにくくなる。このため、主ロッドを複数本含む複数本のロッドを束ねてロッド集合体を形成する際に、主ロッドの長手方向において、他の主ロッドとの間に一体形成部の欠けや主ロッドの接触面の凹部に起因してより大きな空間が形成されることが抑制される。このため、本発明のマルチコア光ファイバ母材の製造方法によれば、線引きしてマルチコア光ファイバを製造する際に、気泡の形成が抑制されたマルチコア光ファイバを製造できるマルチコア光ファイバ母材を製造することができる。
【００２０】
さらに、本発明は、上述したマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法によってマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体を形成するロッド集合体形成工程と、前記マルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体を線引きしてマルチコア光ファイバを製造する線引き工程とを含む、マルチコア光ファイバの製造方法である。
【００２１】
このマルチコア光ファイバの製造方法によれば、ロッド集合体を形成する際に被処理ロッドにおいてその長手方向に形成される角部が丸くなるように処理されるため、主ロッドにおける一体形成部が丸く形成される。このため、主ロッドを複数本含む複数本のロッドを、主ロッドの接触面に他の主ロッドを接触させた状態で束ねる際に、主ロッドの一体形成部に他のロッドが衝突しても、主ロッドの一体形成部は鋭利でないため、主ロッドの一体形成部が丸く形成されず角部を有する場合に比べて、一体形成部に作用する応力が分散されやすい。従って、主ロッドの一体形成部に欠けが生じにくくなる。また、主ロッドの一体形成部は鋭利でないため、この一体形成部が他の主ロッドの接触面に衝突しても、その接触面に過大な応力が加えられにくく、その接触面が傷付けられて接触面に凹部が形成されることが起こりにくくなる。このため、主ロッドを複数本含む複数本のロッドを束ねてロッド集合体を形成する際に、主ロッドの長手方向において、他の主ロッドとの間に一体形成部の欠けや凹部に起因してより大きな空間が形成されることが抑制される。このため、本発明のマルチコア光ファイバの製造方法によれば、ロッド集合体を線引きしてマルチコア光ファイバを製造する際に、気泡の形成がより抑制されたマルチコア光ファイバを製造することができる。
【００２２】
さらに、本発明は、上述したマルチコア光ファイバ母材の製造方法によってマルチコア光ファイバ母材を形成する母材形成工程と、前記マルチコア光ファイバ母材を線引きしてマルチコア光ファイバを製造する線引き工程とを含むマルチコア光ファイバの製造方法である。
【００２３】
このマルチコア光ファイバの製造方法によれば、ロッド集合体を形成する際に被処理ロッドにおいてその長手方向に形成される角部が丸くなるように処理されるため、主ロッドにおける一体形成部が丸く形成される。このため、主ロッドを複数本含む複数本のロッドを、主ロッドの接触面に他の主ロッドを接触させた状態で束ねる際に、主ロッドの一体形成部に他のロッドが衝突しても、主ロッドの一体形成部は鋭利でないため、主ロッドの一体形成部が丸く形成されず角部を有する場合に比べて、一体形成部に作用する応力が分散されやすい。従って、主ロッドの一体形成部に欠けが生じにくくなる。また、主ロッドの一体形成部は鋭利でないため、この一体形成部が他の主ロッドの接触面に衝突しても、その接触面に過大な応力が加えられにくく、その接触面が傷付けられて接触面に凹部が形成されることが起こりにくくなる。このため、主ロッドを複数本含む複数本のロッドを束ねてロッド集合体を形成する際に、主ロッドの長手方向において、他の主ロッドとの間に一体形成部の欠けや凹部に起因してより大きな空間が形成されることが抑制される。このため、本発明のマルチコア光ファイバの製造方法によれば、ロッド集合体の外側にスートを形成して製造したマルチコア光ファイバ母材を線引きしてマルチコア光ファイバを製造する際に、気泡の形成がより抑制されたマルチコア光ファイバを製造することができる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、気泡の形成が抑制されたマルチコア光ファイバを製造することができるマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の製造方法、これを用いたマルチコア光ファイバ母材の製造方法及びマルチコア光ファイバの製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明のマルチコア光ファイバの製造方法によって製造されるマルチコア光ファイバの一例を示す横断面図である。
【図２】図１の光ファイバを製造するためのマルチコア光ファイバ母材を示す側面図である。
【図３】図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った横断面図である。
【図４】図２のマルチコア光ファイバ母材を製造するためのマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の一実施形態を示す横断面図である。
【図５】図２のマルチコア光ファイバ母材を製造するためのマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の一実施形態を示す縦断面図である。
【図６】図４のコアロッドを製造するための円柱状コアロッドを示す横断面図である。
【図７】図６の円柱状コアロッドを加工して得られる被処理コアロッドを示す横断面図である。
【図８】図４のマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の外側にスートが形成されたマルチコア光ファイバ母材の前駆体を示す横断面図である。
【図９】図２のマルチコア光ファイバ母材を製造するためのマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の他の実施形態を示す横断面図である。
【図１０】図２のマルチコア光ファイバ母材を製造するためのマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体のさらに他の実施形態を示す横断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明のマルチコア光ファイバの製造方法の実施形態について詳細に説明する。
【００２７】
《マルチコア光ファイバ》
まず、本発明のマルチコア光ファイバの製造方法により得られるマルチコア光ファイバについて図１を用いて説明する。図１は、本発明のマルチコア光ファイバの製造方法によって製造されるマルチコア光ファイバの一例を示す横断面図である。
【００２８】
図１に示すように、マルチコア光ファイバ（以下、単に「光ファイバ」と呼ぶ）１０は、複数のコア１と、コア１の周囲に設けられるクラッド２とを備えている。コア１の屈折率はクラッド２の屈折率よりも大きくなっている。本実施形態では、コア１はシリカガラスにゲルマニウムを添加してなり、クラッド２はシリカガラスにフッ素を添加してなる。
【００２９】
《マルチコア光ファイバの製造方法》
次に、光ファイバ１０の製造方法について説明する。
【００３０】
まず、光ファイバ１０を製造するための光ファイバ母材の製造方法（母材形成工程）について図２〜図８を参照して説明する。図２は、図１の光ファイバを製造するためのマルチコア光ファイバ母材を示す側面図、図３は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った横断面図、図４は、図２のマルチコア光ファイバ母材を製造するためのマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の一実施形態を示す横断面図、図５は、図２のマルチコア光ファイバ母材を製造するためのマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の一実施形態を示す縦断面図、図６は、図４のコアロッドを製造するための円柱状コアロッドを示す横断面図、図７は、図６の円柱状コアロッドを加工して得られる被処理コアロッドを示す横断面図、図８は、図４のマルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体の外側にスートが形成されたマルチコア光ファイバ母材の前駆体を示す横断面図である。
【００３１】
＜マルチコア光ファイバ母材＞
はじめに、マルチコア光ファイバ母材（以下、「光ファイバ母材」と呼ぶ）の製造方法によって製造される光ファイバ母材１１０について説明する。
【００３２】
図２及び図３に示すように、光ファイバ母材１１０は、光ファイバ１０のコア１となるコア部１０１と、クラッド２となるクラッド部１０２とを備えている。光ファイバ母材１１０は、コア部１０１によって包囲される位置に連続孔Ｇ１を有している。連続孔Ｇ１は、光ファイバ母材１１０の長手方向Ｌ１に沿って光ファイバ母材１１０を貫通している。すなわち、連続孔Ｇ１は、光ファイバ母材１１０の一方の端面１１０ａ側から光ファイバ母材１１０の長手方向Ｌ１に沿って光ファイバ母材１１０の他方の端面１１０ｂ側まで連続して延びている。また、本実施形態では、クラッド部１０２の軟化点はコア部１０１の軟化点よりも低くなっている。
【００３３】
＜マルチコア光ファイバ母材の製造方法＞
次に、光ファイバ母材１１０の製造方法について説明する。
【００３４】
光ファイバ母材１１０を形成するためには、まず、図４及び図５に示す光ファイバ母材形成用ロッド集合体（以下、単に「ロッド集合体」と呼ぶ）２０１を形成する（ロッド集合体形成工程）。
【００３５】
（ロッド集合体）
ロッド集合体２０１は、ロッドの集合体であり、ロッドは、主ロッドとしての４本のコアロッド２０２と、４本のコアロッド２０２の外側に設けられる従ロッドとしての円柱状の４本の充填用ロッド１０２Ｂとを有する。
【００３６】
コアロッド２０２は、光ファイバ１０のコア１となるコア部１０１と、その周囲に設けられ、光ファイバ１０のクラッド２及び光ファイバ母材１１０のクラッド部１０２を形成するためのクラッド形成材１０２Ａとを有する。本実施形態では、クラッド形成材１０２Ａの軟化点は、コア部１０１の軟化点よりも低くなっている。
【００３７】
充填用ロッド１０２Ｂは、光ファイバ１０のクラッド２及び光ファイバ母材１１０のクラッド部１０２を形成するためのものであり、隣り合う２つのコアロッド２０２の外周面に接触するように配置されている。本実施形態では、充填用ロッド１０２Ｂは、コアロッド２０２の外周面と接触する接触面を有していないため、主ロッドを構成しない。また、充填用ロッド１０２Ｂは、クラッド形成材１０２Ａよりも低い軟化点を有する。充填用ロッド１０２Ｂがクラッド形成材１０２Ａよりも低い軟化点を有するためには、フッ素などの添加物を含有すればよい。
【００３８】
また、ロッド集合体２０１は、４本のコアロッド２０２によって囲まれるように形成される１つの連続孔Ｇと、コアロッド２０２と充填用ロッド１０２Ｂとによって囲まれる隙間とを有している。連続孔Ｇは、コアロッド２０２の一方の端面２０２ａ側からコアロッド２０２の長手方向Ｌに沿ってコアロッド２０２の他方の端面２０２ｂ側まで連続して延びている。なお、４本のコアロッド２０２については、必要に応じて、コアロッド２０２Ａ〜２０２Ｄと呼ぶこととする。
【００３９】
ここで、コアロッド２０２について説明する。コアロッド２０２Ａ〜２０２Ｄは同様の構成を有するため、コアロッド２０２Ａについて説明する。
【００４０】
コアロッド２０２Ａは、他のコアロッド２０２Ｂ及びコアロッド２０２Ｃと接触する２つの接触面Ｓと、他のコアロッド２０２Ｂ〜２０２Ｄと接触しない非接触面Ｎと、２つの接触面Ｓのうち隣り合う２つの接触面Ｓ同士を一体に形成する一体形成部Ｘとを有している。ここで、一体形成部Ｘは、コアロッド２０２Ａの一方の端面２０２ａ側からコアロッド２０２Ａの長手方向Ｌに沿ってコアロッド２０２Ａの他方の端面２０２ｂ側まで連続して延びている（図５参照）。そして、一体形成部Ｘは丸く形成されている。具体的には、一体形成部Ｘは、隣り合う２つの接触面Ｓ同士を結ぶ平坦面よりも外側（平坦面よりもコア部１０１と反対側）に張り出す湾曲面となっている。別言すると、一体形成部Ｘは、図４においては、隣り合う２つの接触面Ｓ同士を結ぶ平坦面よりも連続孔Ｇ側に張り出す湾曲面となっている。
【００４１】
そして、ロッド集合体２０１においては、コアロッド２０２の２つの接触面Ｓに他のコアロッド２０２を接触させた状態で、コアロッド２０２の一方の端面２０２ａ側からコアロッド２０２の長手方向Ｌに沿ってコアロッド２０２の他方の端面２０２ｂ側まで連続して延びる連続孔Ｇが複数本のコアロッド２０２の一体形成部Ｘによって包囲されるように形成されている。
【００４２】
（ロッド集合体の製造方法）
次に、ロッド集合体２０１の製造方法について説明する。
【００４３】
まず、例えば以下のようにして、図６に示すオリジナルロッドとしての円柱状のオリジナルコアロッド２０２Ａ２を用意する。このとき、円柱状のオリジナルコアロッド２０２Ａ２としては、コアロッド２０２のコア部１０１の中心からクラッド部１０２の非接触面Ｎまでの距離又はそれより大きい長さを半径とする円柱状ロッドを用意する。円柱状のオリジナルコアロッド２０２Ａ２は、コア部１０１と、コア部１０１を包囲するクラッド形成材１０２Ｂ２とで構成される。このクラッド形成材１０２Ｂ２は、光ファイバ母材１１０のクラッド部１０２と同一の材料で構成されている。円柱状のオリジナルコアロッド２０２Ａ２は、例えばＶＡＤ（Vaper-phase Axial Deposition）法によって作製することができる。このとき、オリジナルコアロッド２０２Ａ２におけるコア部１０１の直径／クラッド形成材１０２Ｂ２の外径の比を調整する場合には、必要に応じてＯＶＤ（Outside Vapor Deposition）法を用いることができる。
【００４４】
次に、この円柱状のオリジナルコアロッド２０２Ａ２に対し、例えば研削加工又は切断加工によって２つの加工面Ｓ１を形成し、図７に示す被処理コアロッド２０２Ａ１を形成する。被処理コアロッド２０２Ａ１は、コア部１０１と、コア部１０１を包囲するクラッド形成材１０２Ｂ１とで構成される。このクラッド形成材１０２Ｂ１は、光ファイバ母材１１０のクラッド部１０２と同一の材料で構成されている。また、被処理コアロッド２０２Ａ１は、２つの加工面Ｓ１と、非加工面Ｎ１とを有し、図７において隣り合う２つの加工面Ｓ１同士の接続部として被処理コアロッド２０２Ａ１の長手方向Ｌ２に沿って角部Ｘ１が点となるように形成される。加工面Ｓ１の算術平均粗さは小さい方がよいが、０．８μｍ以下であることが好ましい。また加工面Ｓ１の算術平均粗さは０．３μｍ以下であることがより好ましく、０．１μｍ以下であることが特に好ましい。
【００４５】
なお、被処理コアロッド２０２Ａ１に対しては、円柱状のオリジナルコアロッド２０２Ａ２の研削時に表面に付着した研削液や砥石などの異物を除去するために、必要に応じて洗浄を行ってもよい。洗浄は例えば洗浄液を使用して行うことができる。洗浄液としては、通常はエタノールが使用されるが、被処理コアロッド２０２Ａ１の表面を削る場合にはバッファードフッ酸（ＢＨＦ）を使用することもできる。また、洗浄は、エタノールで行った後、ＢＨＦで行ってもよい。
【００４６】
そして、被処理コアロッド２０２Ａ１の角部Ｘ１を被処理コアロッド２０２Ａ１の長手方向Ｌ２に沿って連続して丸くなるように処理して、主ロッドであるコアロッド２０２を準備する（主ロッド準備工程）。こうして、被処理コアロッド２０２Ａ１における加工面Ｓ１が接触面Ｓとなり、角部Ｘ１が、丸く形成された一体形成部Ｘとなる。具体的には、角部Ｘ１は、角部Ｘ１を丸くしない場合よりもコア部１０１と反対側に張り出す湾曲面となるように処理する。
【００４７】
被処理コアロッド２０２Ａ１の角部Ｘ１を丸くするには、本実施形態では、被処理コアロッド２０２Ａ１が熱処理によって処理される。熱処理は、例えば火炎バーナーによる火炎研磨や電気炉における加熱によって行うことができる。
【００４８】
熱処理の温度は、角部Ｘ１を丸く処理することができれば特に制限されるものではないが、通常は１０００〜２２００℃であり、好ましくは１５００〜１８００℃である。
【００４９】
また、被処理コアロッド２０２Ａ１の熱処理によって、加工面Ｓ１が熱処理されるため、接触面Ｓの算術平均粗さは、加工面Ｓ１の算術平均粗さよりも小さくなる。このとき、接触面Ｓの算術平均粗さは０．２μｍ以下とすることが好ましい。
【００５０】
また、被処理コアロッド２０２Ａ１の処理は、コアロッド２０２の一体形成部Ｘにおいて、下記式（１）で表されるＡの値が０．２０〜０．２４となるように行われることが好ましい。
Ａ＝Ｒ／Ｒｍａｘ・・・（１）
（上記式（１）中、Ｒは一体形成部Ｘの曲率半径（ｍｍ）を表し、Ｒｍａｘは、コアロッド２０２の長手方向Ｌに直交する断面に対する外接円の直径（ｍｍ）を表す。）
【００５１】
この場合、Ａの値が０．２０未満である場合に比べて、コアロッド２０２の接触面Ｓ同士を接触させた状態でロッドを束ねてロッド集合体２０１を形成すると、コアロッド２０２の長手方向Ｌにおいて、コアロッド２０２の接触面Ｓと他のコアロッド２０２の接触面Ｓとの間に一体形成部Ｘの欠けやコアロッド２０２の接触面Ｓの凹凸に起因してより大きな空間が形成されることがより抑制される。また、Ａの値が０．２４を超える場合に比べて、ロッド集合体２０１において、線引の際にコアロッド２０２におけるコア部１０１の変形が抑制され、コア１の変形が抑制された光ファイバ１０を製造できる。
【００５２】
被処理コアロッド２０２Ａ１の処理は、コアロッド２０２の一体形成部Ｘにおいて、Ａの値が０．２０４〜０．２３７となるように行われることがより好ましい。
【００５３】
なお、コアロッド２０２は、まずコア部１０１の中心からクラッド部１０２の非接触面Ｎまでの距離より大きい半径を有する円柱状ロッドを用意し、この円柱状ロッドを研削加工又は切断加工して２つの加工面を形成して被処理コアロッドを形成した後、必要に応じて被処理コアロッドの洗浄を行い、被処理コアロッドを延伸加工することによっても得ることができる。延伸加工は、被処理コアロッドを電気炉内で所定の延伸速度で延伸することによって行うことができる。このとき、電気炉内の温度及び延伸速度は、目標とするコアロッド２０２の最大径（外接円の直径）に応じて適宜決定される。電気炉内の温度は通常、１８００〜２２００℃である。例えば円柱状ロッドの直径が２０ｍｍであり、被処理ロッドの最大径が９．２ｍｍである場合には、電気炉の温度は例えば１９００℃とされる。
【００５４】
ロッド集合体２０１は通常、その状態を保持するために、結束バンドで束ねた状態で、両端面にダミーとなるガラスロッド（以下、「ダミーロッド」と呼ぶ）を溶融接着させた後、結束バンドを外した状態とされる。このとき、ロッド集合体２０１を減圧環境下においた状態で、ダミーロッドを、コアロッド２０２の一方の端面２０２ａ及び他方の端面２０２ｂにおける連続孔Ｇの開口を塞ぐように溶融接着させてから、ロッド集合体２０１を大気圧環境下に置くと、ロッド集合体２０１の連続孔Ｇは陰圧状態とされる。
【００５５】
こうしてロッド集合体２０１を形成する（ロッド集合体形成工程）。
【００５６】
次に、こうして得られたロッド集合体２０１の外側にガラス微粒子を堆積させ、スート１０２Ｃを形成し、図８に示すように、光ファイバ母材１１０の前駆体２００を形成する（スート形成工程）。このとき、スート１０２Ｃは、ガラス化後に、コア部１０１の軟化点よりも低く且つ充填用ロッド１０２Ｂの軟化点よりも高い軟化点を有するように形成する。そのためには、例えばスート１０２Ｃに、フッ素などの添加物を添加させるようにすればよい。
【００５７】
次に、光ファイバ母材１１０の前駆体２００を必要に応じて脱水処理した後、スート１０２Ｃを焼結してガラス化させる（スートガラス化工程）。このとき、コアロッド２０２のクラッド形成材１０２Ａ、充填用ロッド１０２Ｂ、及び、スート１０２Ｃは、コア部１０１よりも早く軟化して一体化される。また、このとき、光ファイバ母材１１０が、連続孔Ｇを、光ファイバ母材１１０の一方の端面１１０ａ側から光ファイバ母材１１０の長手方向Ｌ１に沿って他方の端面１１０ｂ側まで連続して延びる連続孔Ｇ１として残すようにスート１０２Ｃがガラス化される。
【００５８】
こうして光ファイバ母材１１０が得られる。
【００５９】
次に、光ファイバ母材１１０を線引きして光ファイバ１０を得る（線引き工程）。このとき、連続孔Ｇ１は陰圧状態となっているため、線引き工程は、連続孔Ｇ１を陰圧状態にして行われる。こうして光ファイバ１０の製造が完了する。
【００６０】
上述した光ファイバ１０の製造方法によれば、被処理コアロッド２０２Ａ１においてその長手方向Ｌ２に沿って形成される角部Ｘ１が丸くなるように処理されるため、コアロッド２０２における一体形成部Ｘが丸く形成される。このため、コアロッド２０２を複数本含む複数本のロッドを、コアロッド２０２の接触面Ｓに他のコアロッド２０２を接触させた状態で束ねる際に、コアロッド２０２の一体形成部Ｘに他のコアロッド２０２が衝突しても、コアロッド２０２の一体形成部Ｘが丸く形成されず角部を有する場合に比べて、一体形成部Ｘに作用する応力が分散されやすいため、コアロッド２０２の一体形成部Ｘに欠けが生じにくくなる。また、コアロッド２０２の一体形成部Ｘは鋭利でないため、この一体形成部Ｘが他のコアロッド２０２の接触面Ｓに衝突しても、その接触面Ｓに過大な応力が加えられにくく、その接触面Ｓが傷付けられて接触面Ｓに凹部が形成されることが起こりにくくなる。このため、コアロッド２０２を複数本含む複数本のロッドを束ねてロッド集合体２０１を形成する際に、コアロッド２０２の長手方向Ｌにおいて、他のコアロッド２０２の一体形成部Ｘや接触面Ｓとの間に一体形成部Ｘの欠けやコアロッド２０２の接触面Ｓの凹部又は凹凸に起因してより大きな空間が形成されることが抑制される。このため、光ファイバ１０の製造方法によれば、ロッド集合体２０１の外側にスート１０２Ｃを形成して製造したマルチコア光ファイバ母材１１０を線引きして光ファイバ１０を製造する際に、気泡の形成が抑制された光ファイバ１０を製造することができる。
【００６１】
また、上述した光ファイバ１０の製造方法においては、円柱状のコアロッド２０２Ａ２を研削加工又は切断加工することによって被処理コアロッド２０２Ａ１が形成される。このため、被処理コアロッド２０２Ａ１の加工面Ｓ１は、研削加工又は切断加工されていない表面に比べて荒れた状態となる。これに対し、被処理コアロッド２０２Ａ１は熱処理によって処理される。このため、被処理コアロッド２０２Ａ１の角部Ｘ１が丸くなるだけでなく、コアロッド２０２における接触面Ｓが加工面Ｓ１よりも滑らかとなる。そのため、コアロッド２０２において加工面Ｓ１よりも滑らかになった接触面Ｓ同士を接触させた状態でロッド集合体２０１を形成すると、コアロッド２０２の長手方向Ｌにおいて、コアロッド２０２の接触面Ｓと他のコアロッド２０２の接触面Ｓとの間に、接触面Ｓに形成された凹凸に起因してより大きな空間が形成されることがより抑制される。このため、光ファイバ１０の製造方法によれば、ロッド集合体２０１の外側にスート１０２Ｃを形成して製造した光ファイバ母材１１０を線引きして光ファイバ１０を製造する際に、気泡の形成がより抑制された光ファイバ１０を製造できる。
【００６２】
また、母材形成工程においては、ロッド集合体２０１において、コアロッド２０２の複数の接触面Ｓに他のコアロッド２０２が接触された状態で、コアロッド２０２の一方の端面２０２ａ側からコアロッド２０２の長手方向Ｌに沿ってコアロッド２０２の他方の端面２０２ｂ側まで連続して延びる連続孔Ｇが複数本のコアロッド２０２の一体形成部Ｘによって包囲されるように形成されている。このため、コアロッド２０２が接触面Ｓを有しない場合に比べて、連続孔Ｇをより小さくすることができる。従って、ロッド集合体２０１によれば、その外側にスート１０２Ｃを形成するスート形成工程、又はその後、スート１０２Ｃをガラス化するスートガラス化工程を行う際に、コアロッド２０２のクラッド形成材１０２Ａが連続孔Ｇを埋めるべく大きく変形することが抑制され、コア部１０１の変形が抑制された光ファイバ母材１１０が得られる。このため、光ファイバ母材１１０を線引きする線引き工程において、コア１の変形が抑制された光ファイバ１０が得られる。
【００６３】
さらに、母材形成工程においては、ロッド集合体２０１の外側にスート１０２Ｃを形成した後、スート１０２Ｃをガラス化させて光ファイバ母材１１０を製造すると、この光ファイバ母材１１０は、上記ロッド集合体２０１における連続孔Ｇを、光ファイバ母材１１０の一方の端面１１０ａ側から光ファイバ母材１１０の長手方向Ｌ１に沿って連続して延びる連続孔Ｇ１として残している。このため、線引き工程において、光ファイバ母材１１０を線引きする際に、連続孔Ｇ１を陰圧状態にすると、連続孔Ｇ１を形成する内壁面のうちコアロッド２０２の各一体形成部Ｘに由来する部分が光ファイバ母材１１０の長手方向Ｌ１に沿った全ての箇所で互いに接触して連続孔Ｇ１を閉じる様に移動する。これにより、得られる光ファイバ１０において気泡の形成を抑制することができる。
【００６４】
また、ロッド集合体２０１においては、コアロッド２０２の一体形成部Ｘが、隣り合う２つの接触面Ｓを結ぶ平坦面よりも連続孔Ｇ側に張り出している。このため、コアロッド２０２の複数の接触面Ｓに他のコアロッド２０２が接触された状態で、連続孔Ｇがより小さくなる。また、コアロッド２０２の一体形成部Ｘが既に、隣り合う２つの接触面Ｓを結ぶ平坦面よりも外側に張り出しているため、コアロッド２０２が加熱されても、一体形成部Ｘが熱膨張によって平坦面よりもさらに外側には張り出しにくい。このため、ロッド集合体２０１の外側にスート１０２Ｃを形成するスート形成工程、又はその後、スート１０２Ｃをガラス化するスートガラス化工程を行う際に、コアロッド２０２のクラッド形成材１０２Ａが連続孔Ｇを埋めるべく大きく変形することがより抑制され、コア部１０１の変形がより抑制された光ファイバ母材１１０を得ることができる。このため、光ファイバ母材１１０を線引きすると、コアの変形がより抑制された光ファイバ１０が得られる。
【００６５】
さらに、ロッド集合体２０１は、充填用ロッド１０２Ｂを有しており、充填用ロッド１０２Ｂの分だけガラス微粒子を堆積させずに済むため、スート１０２Ｃを容易に形成することができる。さらにまた、充填用ロッド１０２Ｂは、クラッド形成材１０２Ａ及びスート１０２Ｃよりも低い軟化点を有するため、スートガラス化工程において、クラッド形成材１０２Ａ及びスート１０２Ｃよりも早く充填用ロッド１０２Ｂの変形が進み、コア部１０１の変形が抑制される。また、軟化前の充填用ロッド１０２Ｂとコアロッド２０２との間の隙間が、軟化した充填用ロッド１０２Ｂによって消滅しやすくなる。その結果、得られる光ファイバ母材１１０において、不要な空隙が形成されることが抑制される。
【００６６】
また、スート１０２Ｃは、ガラス化後に、コア部１０１の軟化点よりも低い軟化点を有するように形成される。このため、表面張力などによるクラッド形成材１０２Ａへの変形が促進され、コア部１０１の変形をより抑制できる。
【００６７】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば上記実施形態では、被処理コアロッド２０２Ａ１の処理が熱処理によって行われているが、熱処理に代えて非熱処理によって行われてもよい。この場合、少なくとも角部Ｘ１に対して処理が行われればよい。従って、角部Ｘ１に対してのみ処理がおこなわれてもよいし、角部Ｘ１及び加工面Ｓ１の両方に対して処理がおこなわれてもよい。非熱処理としては、例えば研削加工、及び、砥石を用いた研磨加工が挙げられる。
【００６８】
また、上記実施形態では、ロッド集合体２０１において、連続孔Ｇがコアロッド２０２の一方の端面２０２ａ側からコアロッド２０２の長手方向Ｌに沿ってコアロッド２０２の他方の端面２０２ｂ側まで延びているが、連続孔Ｇはコアロッド２０２の他方の端面２０２ｂ側まで延びていなくてもよい。また、光ファイバ母材１１０においては、連続孔Ｇ１が、光ファイバ母材１１０の一方の端面１１０ａ側から光ファイバ母材１１０の長手方向Ｌ１に沿って光ファイバ母材１１０の他方の端面１１０ｂ側まで連続して延びているが、連続孔Ｇ１は光ファイバ母材１１０の一方の端面１１０ａ側から光ファイバ母材１１０の長手方向Ｌ１に沿って光ファイバ母材１１０の他方の端面１１０ｂ側まで延びていなくてもよい。この場合、光ファイバ母材１１０の線引きは、ロッド集合体２０１の一方の端面１１０ａ側から行う。
【００６９】
また上記実施形態では、コアロッド２０２における接触面Ｓが２つとなっているが、接触面Ｓの数はコアロッド２０２に接触する他のコアロッド２０２の本数に応じて適宜変更してもよい。例えばコアロッド２０２に接触するコアロッド２０２の数が３つであれば、接触面Ｓの数は３つであればよい。
【００７０】
また、上記実施形態では、ロッド集合体２０１において、主ロッドとしてのコアロッド２０２の本数が４本となっているが、コアロッド２０２の本数は少なくとも２本であればよく、例えばコアロッド２０２の本数が２本である場合には、残りの２本のロッドは、コアロッド２０２のクラッド形成材１０２Ａの軟化点以下の軟化点を有する充填用ロッドであってもよい。
【００７１】
さらに上記実施形態では、主ロッドとしてのコアロッド２０２の本数が４本となっているが、主ロッドの本数は複数本であればよいため、コアロッド２０２の本数は２〜３本でもよく、５本以上であってもよい。但し、複数本のコアロッド２０２のうち少なくとも２本のロッド２０２はコアロッドであることが必要である。
【００７２】
また、上記実施形態では、クラッド形成材１０２Ａの軟化点は、コア部１０１の軟化点よりも低くなっており、充填用ロッド１０２Ｂは、クラッド形成材１０２Ａよりも低い軟化点を有し、スート１０２Ｃが、ガラス化後に、コア部１０１の軟化点より低く且つ充填用ロッド１０２Ｂの軟化点よりも高い軟化点を有するように形成されているが、例えばコア部１０１が、シリカガラスにゲルマニウムを添加した材料で構成され、クラッド形成材１０２Ａがシリカガラスで構成される場合のように、クラッド形成材１０２Ａの軟化点は、コア部１０１の軟化点以上であってもよい。また、上記実施形態では、クラッド形成材１０２Ａ及び充填用ロッド１０２Ｂがシリカガラスで構成される場合のように、充填用ロッド１０２Ｂは、クラッド形成材１０２Ａの軟化点以上の軟化点を有していてもよい。さらに、上記実施形態では、スート１０２Ｃは、ガラス化後に、コア部１０１の軟化点よりも低く且つ充填用ロッド１０２Ｂの軟化点よりも高い軟化点を有するように形成されていなくてもよい。例えばスート１０２Ｃの軟化点は、コア部１０１の軟化点よりも高いか、あるいは、充填用ロッド１０２Ｂの軟化点以下であってもよい。
【００７３】
また、上記実施形態では、光ファイバ１０は、コア１がシリカガラスにゲルマニウムを添加してなり、クラッド２がシリカガラスにフッ素を添加してなる構成を有しているが、コア１がクラッド２よりも高い屈折率を有するのであれば、このような構成に限定されない。例えば、光ファイバ１０は、コア１がシリカガラスにゲルマニウムを添加してなり、クラッド２がシリカガラスからなる構成を有していてもよい。また、上記実施形態では、光ファイバ１０においては、クラッド２が、屈折率がより低いトレンチ部を有していてもよい。具体的には、光ファイバは、シリカガラスにゲルマニウムを添加してなるコア１と、コア１を包囲するクラッドとを有し、クラッドは、コア１に対して同心円状に、コア１側から順に、第１クラッド層、トレンチ部及び第２クラッド層を有する。ここで、第１クラッド層および第２クラッド層における屈折率はコア１の屈折率よりも低く、トレンチ部の屈折率は、第１クラッド層および第２クラッド層のうち屈折率の低い層の屈折率よりも低い。なお、トレンチ部は、例えばシリカガラスにフッ素を添加してなる。
【００７４】
さらに、コアロッド２０２の断面形状は上記実施形態に示す形状に限定されず、例えば多角形であってもよい。例えば図９に示すロッド集合体３０１のコアロッド３０２のように、コアロッド３０２の断面形状は四角形でもよい。さらに、図１０に示すロッド集合体４０１のコアロッド４０２のように、コアロッド４０２の断面形状は六角形でもよい。
【００７５】
さらに、上記実施形態では、ロッド集合体２０１において、複数の接触面Ｓの各々にコアロッド２０２が１つずつ接触しているが、複数の接触面Ｓに１つのコアロッドのみが接触していてもよい。
【００７６】
また上記実施形態では、ロッド集合体２０１が円柱状の充填用ロッド１０２Ｂを有しているが、充填用ロッド１０２Ｂは、三角柱状などの多角柱状等、種々の形状であってもよい。さらに、ロッド集合体２０１は、必ずしも充填用ロッド１０２Ｂを有していなくてもよい。また、上記実施形態では、充填用ロッド１０２Ｂは主ロッドを構成していないが、充填用ロッド１０２Ｂが、コアロッド２０２との複数の接触面と、接触面同士を一体に形成する一体形成部とを有し、一体形成部によって包囲されるように連続孔が形成されれば、充填用ロッド１０２Ｂは主ロッドを構成することが可能である。例えば充填用ロッド１０２Ｂが多角柱状で且つコアロッド２０２の外側の形状と相補的な形状となる場合には、充填用ロッド１０２Ｂは、主ロッドとしてのコアロッド２０２と接触する複数の接触面と、少なくとも１つの一体形成部とを有することになるので、充填用ロッド１０２Ｂは主ロッドを構成することとなる。
【００７７】
さらに、上記実施形態では、光ファイバ母材１１０における連続孔Ｇ１は、ダミーロッドによって塞がれて陰圧状態とされているが、光ファイバ母材１１０における連続孔Ｇ１をガラスロッドによって塞がずに、連続孔Ｇ１を真空引きすることによって連続孔Ｇ１を陰圧状態とすることも可能である。このとき、光ファイバ母材１１０における連続孔Ｇ１をガラスロッドによって塞がない場合には、ロッド集合体２０１を準備する際に、各ロッドの片端又は両端をテーパ状に加工しておくとよい。この場合、ダミーロッドをロッド集合体２０１のロッドのテーパ状端部の端面に溶着接続する際、溶着されるガラスロッドの径が小さくなるため、ダミーロッドをロッド集合体２０１のロッドのテーパ状端部の端面により小さい火力で溶着させることができるという利点も得られる。また、ダミーロッドの径を小さくすることもできる。さらに、ロッド集合体２０１においては、ダミーロッドに溶着されるロッドのテーパ状端部同士が互いに離間されるため、光ファイバ母材１１０において連続孔Ｇ１内のガスが外に抜けやすい状態となる。このため、光ファイバ母材１１０を真空引きしながら線引きする際に、内部にガスが溜まることがなくなり、得られる光ファイバ１０において気泡が残る可能性がより少なくなる。
【００７８】
さらに、上記実施形態では、ロッド集合体２０１の外周にスート１０２Ｃを形成してマルチコア光ファイバ母材１１０を製造した後、このマルチコア光ファイバ母材１１０を線引きすることによって光ファイバ１０を製造しているが、ロッド集合体２０１の外周にスート１０２Ｃを形成せず、ロッド集合体２０１を直接線引して光ファイバ１０を製造してもよい。
【符号の説明】
【００７９】
１…コア
２…クラッド
１０…マルチコア光ファイバ
１０１…コア部
１０２Ａ…クラッド形成材
１０２Ｃ…スート
１１０…マルチコア光ファイバ母材
２０１，３０１，４０１…マルチコア光ファイバ形成用ロッド集合体
２０２，２０２Ａ，２０２Ｂ，２０２Ｃ，２０２Ｄ、３０２，４０２…コアロッド（主ロッド）
２０２Ａ１…被処理コアロッド（被処理ロッド）
２０２Ａ２…オリジナルコアロッド（オリジナルロッド）
Ｌ…コアロッドの長手方向
Ｌ１…マルチコア光ファイバ母材の長手方向
Ｓ…接触面
Ｓ１…加工面
Ｘ…一体形成部
Ｘ１…角部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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