(57)【要約】【課題】除菌、脱臭、脱色、浄化等の処理をさらに効率よく行う。【解決手段】処理装置は、オゾンハイドレートＨＤを保持する保持部２１０と、オゾンハイドレートＨＤに紫外線を照射する第１紫外線照射部２２０と、を備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
オゾンハイドレートを保持する保持部と、
前記オゾンハイドレートに紫外線を照射する第１紫外線照射部と、
を備える処理装置。
【請求項２】
前記オゾンハイドレートにガスを送風する送風部を備える請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記保持部は、前記オゾンハイドレートが載置され、複数の孔が形成された底板を有し、
前記送風部は、前記底板の下方からガスを送風する請求項２に記載の処理装置。
【請求項４】
前記送風部によって送風され、前記オゾンハイドレートを通過したガスに含まれるオゾンの濃度が所定の濃度範囲内となるように、前記第１紫外線照射部によって照射される紫外線の強度、および、前記送風部によって送風されるガスの流量のいずれか一方または両方を制御する制御部を備える請求項２または３に記載の処理装置。
【請求項５】
前記第１紫外線照射部によって照射される紫外線とは異なる波長の紫外線を前記オゾンハイドレートに照射する第２紫外線照射部を備える請求項１から４のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項６】
前記第１紫外線照射部によって照射される紫外線の波長は、２００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の範囲内の波長である請求項１から５のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項７】
オゾンハイドレートに紫外線を照射する処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オゾンを利用して対象物を処理する処理装置、および、処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
対象物の除菌、脱臭、脱色、浄化等にオゾンが広く利用されている。オゾンは、不安定な物質である（分解されやすい）ため、ガス状態で長期間保持しておくことができない。このため、従来、オゾン発生器および送風機を、対象物の近傍に設置しておき、オゾン発生器によって生成されたオゾンを送風機で対象物に送り、オゾンを対象物に接触させて除菌、脱臭等している（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１７−０２９３４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
オゾンを用いて対象物を処理する技術において、除菌、脱臭、脱色、浄化等の処理をさらに効率よく行うことができる技術の開発が希求されている。
【０００５】
本発明は、このような課題に鑑み、除菌、脱臭、脱色、浄化等の処理をさらに効率よく行うことが可能な処理装置および処理方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の処理装置は、オゾンハイドレートを保持する保持部と、オゾンハイドレートに紫外線を照射する第１紫外線照射部と、を備える。
【０００７】
また、処理装置は、オゾンハイドレートにガスを送風する送風部を備えてもよい。
【０００８】
また、保持部は、オゾンハイドレートが載置され、複数の孔が形成された底板を有し、送風部は、底板の下方からガスを送風してもよい。
【０００９】
また、処理装置は、送風部によって送風され、オゾンハイドレートを通過したガスに含まれるオゾンの濃度が所定の濃度範囲内となるように、第１紫外線照射部によって照射される紫外線の強度、および、送風部によって送風されるガスの流量のいずれか一方または両方を制御する制御部を備えてもよい。
【００１０】
また、処理装置は、第１紫外線照射部によって照射される紫外線とは異なる波長の紫外線をオゾンハイドレートに照射する第２紫外線照射部を備えてもよい。
【００１１】
また、第１紫外線照射部によって照射される紫外線の波長は、２００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の範囲内の波長であってもよい。
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明の処理方法は、オゾンハイドレートに紫外線を照射する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、除菌、脱臭、脱色、浄化等の処理をさらに効率よく行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施形態の処理装置の概略的な構成を説明する図である。
【図２】処理ユニットの鉛直断面図である。
【図３】第１紫外線照射部および第２紫外線照射部の斜視図である。
【図４】実施形態の処理方法の流れを示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。
【００１６】
［処理装置１００］
図１は、本実施形態の処理装置１００の概略的な構成を説明する図である。処理装置１００は、気体、液体、固形物（固体）等の対象物に対し、除菌、脱臭、脱色、浄化等の処理を行う。本実施形態では、処理装置１００が、屋内１０の空気を対象物として除菌する構成を例に挙げる。
【００１７】
図１に示すように、処理装置１００は、処理ユニット１１０と、濃度測定部１２０と、制御部１３０とを含む。なお、図１中、破線の矢印は、信号の流れを示す。
【００１８】
処理ユニット１１０は、オゾンを用いて、屋内１０の空気を除菌する。図２は、処理ユニット１１０の鉛直断面図である。なお、本実施形態の図２をはじめとする以下の図では、垂直に交わるＸ軸（水平方向）、Ｙ軸（水平方向）、Ｚ軸（鉛直方向）を図示の通り定義している。
【００１９】
図２に示すように、処理ユニット１１０は、保持部２１０と、第１紫外線照射部２２０と、第２紫外線照射部２３０と、送風部２４０と、を含む。
【００２０】
保持部２１０は、オゾンの半減期が比較的長いオゾンハイドレートＨＤを保持する容器である。保持部２１０は、外筒２１２と、底板２１４と、内筒２１６と、蓋部２１８とを含む。
【００２１】
外筒２１２は、円筒形状の部材である。外筒２１２は、軸方向が鉛直方向（図２中、Ｚ軸方向）となるように配される。外筒２１２の上部開口には、後述する蓋部２１８が設けられる。外筒２１２の下部には、周方向に並列した複数の通気孔２１２ａが形成される。本実施形態において、複数の通気孔２１２ａは、所定間隔離隔して外筒２１２に設けられる。
【００２２】
底板２１４は、円板形状の部材である。底板２１４は、外筒２１２内における通気孔２１２ａの上方に設けられる。底板２１４は、面内方向が水平方向（図２中、ＸＹ方向）となるように外筒２１２内に設けられる。
【００２３】
内筒２１６は、外筒２１２より小径の円筒形状の部材である。内筒２１６は、軸方向が外筒２１２と一致するように底板２１４から立設する。したがって、外筒２１２と内筒２１６との間には、空間Ｓが形成される。内筒２１６は、後述する第１紫外線照射部２２０および第２紫外線照射部２３０によって照射される紫外線を少なくとも透過する材質で構成される。
【００２４】
底板２１４のうち、内筒２１６の内側に位置する部分には、複数の孔２１４ａが形成される。また、底板２１４のうち、内筒２１６の内側に位置する部分には、オゾンハイドレートＨＤが載置される。孔２１４ａの径は、オゾンハイドレートＨＤの粒よりも小さい。また、底板２１４には、水平方向に実質的に均等に複数の孔２１４ａが形成される。
【００２５】
蓋部２１８は、円板形状の部材である。蓋部２１８は、外筒２１２の上部開口に設けられる。蓋部２１８には、複数の通気孔２１８ａが形成される。また、蓋部２１８は、後述する送風部２４０を構成する回転軸２４６を回転可能に軸支する。
【００２６】
第１紫外線照射部２２０および第２紫外線照射部２３０は、空間Ｓに設けられる。図３は、第１紫外線照射部２２０および第２紫外線照射部２３０の斜視図である。なお、図３中、理解を容易にするために、処理ユニット１１０の一部の構成を省略する。また、第２紫外線照射部２３０をクロスハッチングで示す。
【００２７】
図３に示すように、本実施形態において、第１紫外線照射部２２０および第２紫外線照射部２３０は、鉛直方向（図３中、Ｚ軸方向）に延在した円柱形状である。第１紫外線照射部２２０および第２紫外線照射部２３０は、周方向に交互に空間Ｓ内に配される。つまり、第１紫外線照射部２２０および第２紫外線照射部２３０は、オゾンハイドレートＨＤを囲繞する。
【００２８】
第１紫外線照射部２２０は、保持部２１０に保持されたオゾンハイドレートＨＤに紫外線を直接照射する。第１紫外線照射部２２０は、オゾンを分解する波長の紫外線をオゾンハイドレートＨＤに照射する。具体的に説明すると、第１紫外線照射部２２０によって照射される紫外線の波長は、２００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の範囲内の波長であり、好ましくは、２５４ｎｍである。また、第１紫外線照射部２２０による紫外線の強度は、少なくとも１０ｍＷ／ｃｍ２以上（例えば、８０ｍＷ／ｃｍ２）である。
【００２９】
第２紫外線照射部２３０は、第１紫外線照射部２２０によって照射される紫外線とは異なる波長の紫外線を、保持部２１０に保持されたオゾンハイドレートＨＤに直接照射する。第２紫外線照射部２３０は、酸素をオゾンに変換する波長の紫外線をオゾンハイドレートＨＤに照射する。具体的に説明すると、第２紫外線照射部２３０によって照射される紫外線の波長は、１００ｎｍ以上２３０ｎｍ以下の範囲内の波長であり、好ましくは、１８５ｎｍである。
【００３０】
図２に戻って説明すると、送風部２４０は、オゾンハイドレートＨＤに空気を送風する。本実施形態において、送風部２４０は、孔径調整機構２４２と、モータ２４４と、回転軸２４６と、撹拌羽根２４８とを含む。
【００３１】
孔径調整機構２４２は、外径が外筒２１２の内径よりもわずかに小さい円筒形状の部材である。孔径調整機構２４２は、軸方向が外筒２１２と一致するように外筒２１２内における底板２１４の下方に設けられる。
【００３２】
孔径調整機構２４２には、周方向に並列した複数の通気孔２４２ａが形成される。通気孔２４２ａは、外筒２１２の通気孔２１２ａと実質的に等しい大きさである。孔径調整機構２４２は、通気孔２４２ａが通気孔２１２ａと対応するように、外筒２１２内に設けられる。換言すれば、孔径調整機構２４２は、通気孔２４２ａの鉛直方向の位置が、通気孔２１２ａの鉛直方向の位置と実質的に等しくなるように、外筒２１２内に設けられる。
【００３３】
孔径調整機構２４２は、不図示のアクチュエータによって、鉛直方向を回転軸として回転される。アクチュエータは、孔径調整機構２４２を回転させて、通気孔２１２ａの開口率を調整する。例えば、通気孔２４２ａが通気孔２１２ａと１００％重畳する場合、通気孔２１２ａの開口率は１００％となる。また、通気孔２４２ａが通気孔２１２ａと重畳しない場合、通気孔２１２ａの開口率は０％となる。本実施形態において、アクチュエータは、通気孔２１２ａの開口率が、０％を上回り、１００％以下となるように、孔径調整機構２４２を回転させる。
【００３４】
モータ２４４は、蓋部２１８の上方に設けられる。回転軸２４６は、モータ２４４および撹拌羽根２４８に接続される。回転軸２４６は、蓋部２１８に回転可能に軸支される。
【００３５】
撹拌羽根２４８は、内筒２１６内に設けられる。回転軸２４６は、モータ２４４によって回転され、これにより、撹拌羽根２４８が回転する。撹拌羽根２４８は、モータ２４４によって回転されると、下方から上方に向けてガスを排気するように構成される。
【００３６】
したがって、送風部２４０は、通気孔２１２ａ、２４２ａを通じて、屋内１０から外筒２１２内に空気を取り込み、底板２１４の孔２１４ａを通じて、オゾンハイドレートＨＤに空気を送風する。つまり、送風部２４０は、底板２１４の下方から空気をオゾンハイドレートＨＤに送風する。
【００３７】
空気がオゾンハイドレートＨＤを通過する過程で、空気の熱によってオゾンハイドレートＨＤが分解（溶解）する。これにより、オゾンハイドレートＨＤに包接されたオゾンと、水が気化する。こうして生成されたオゾンおよび水蒸気には、第１紫外線照射部２２０によって紫外線が照射される。そうすると、オゾンおよび水蒸気からヒドロキシラジカル（ＯＨラジカル）が生成される。つまり、オゾンが加水分解されることにより、ヒドロキシラジカルが生成される。ヒドロキシラジカルは、オゾンよりも高い酸化力を有する。このため、ヒドロキシラジカルは、オゾンよりも高い除菌効果、脱臭効果および脱色効果を発揮する。
【００３８】
したがって、処理ユニット１１０は、送風部２４０によって取り込まれた空気を、オゾンおよびヒドロキシラジカルによって除菌することができる。さらに、処理ユニット１１０は、送風部２４０によって屋内１０から取り込まれた空気に紫外線を照射する。これにより、処理ユニット１１０は、屋内１０から取り込まれた空気を紫外線によっても除菌することが可能となる。
【００３９】
こうして、除菌された空気は、内筒２１６内を上昇し、通気孔２１８ａを通じて屋内１０に排気される。このように、処理ユニット１１０は、送風部２４０が屋内１０内の空気を連続して取り込むことにより、屋内１０内の空気を除菌することが可能となる。
【００４０】
図１に戻って説明すると、濃度測定部１２０は、処理ユニット１１０から排気された混合ガス（オゾン、ヒドロキシラジカル、水蒸気を少なくとも含む）に含まれるオゾンの濃度を測定する。
【００４１】
制御部１３０は、ＣＰＵ（中央処理装置）を含む半導体集積回路で構成される。制御部１３０は、ＲＯＭからＣＰＵ自体を動作させるためのプログラムやパラメータ等を読み出す。制御部１３０は、ワークエリアとしてのＲＡＭや他の電子回路と協働して処理装置１００全体を管理および制御する。
【００４２】
本実施形態において、制御部１３０は、濃度測定部１２０の測定結果に基づいて、送風部２４０によって送風される空気の流量を制御する。具体的に説明すると、制御部１３０は、濃度測定部１２０によって測定された混合ガス（送風部２４０によって送風され、オゾンハイドレートＨＤを通過したガス）に含まれるオゾンの濃度が所定の濃度範囲内となるように、アクチュエータを制御し、孔径調整機構２４２を回転させて、通気孔２１２ａの開口率を制御する。なお、濃度範囲は、例えば、０ｐｐｍ以上作業環境基準値（０．１ｐｐｍ）以下である。
【００４３】
濃度測定部１２０によって測定された混合ガスに含まれるオゾンの濃度が濃度範囲を上回る場合、制御部１３０は、通気孔２１２ａの開口率を小さくする。つまり、制御部１３０は、濃度測定部１２０によって測定された混合ガスに含まれるオゾンの濃度が濃度範囲を上回る場合、送風部２４０によってオゾンハイドレートＨＤに送風される空気の流量を小さくする。これにより、オゾンハイドレートＨＤの溶解速度（オゾンハイドレートＨＤからのオゾンの発生速度）を低下させることができる。
【００４４】
［処理方法］
続いて、上記処理装置１００を用いた対象物の処理方法について説明する。図４は、本実施形態の処理方法の流れを示すフローチャートである。図４に示すように、処理方法は、収容工程Ｓ１１０と、紫外線照射工程Ｓ１２０と、送風工程Ｓ１３０と、調整工程Ｓ１４０とを含む。以下、各工程について説明する。
【００４５】
［収容工程Ｓ１１０］
収容工程Ｓ１１０は、保持部２１０にオゾンハイドレートＨＤを収容する工程である。収容工程Ｓ１１０においてオゾンハイドレートＨＤは、底板２１４に載置される。
【００４６】
［紫外線照射工程Ｓ１２０］
紫外線照射工程Ｓ１２０は、制御部１３０が第１紫外線照射部２２０および第２紫外線照射部２３０を駆動する工程である。これにより、底板２１４に載置されたオゾンハイドレートＨＤに紫外線が照射されることになる。そうすると、オゾンハイドレートＨＤから発生したオゾンの活性化を促進することができる。
【００４７】
［送風工程Ｓ１３０］
送風工程Ｓ１３０は、制御部１３０がモータ２４４を駆動して、オゾンハイドレートＨＤに空気を送風する工程である。
【００４８】
［調整工程Ｓ１４０］
調整工程Ｓ１４０は、濃度測定部１２０によって測定された混合ガスに含まれるオゾンの濃度が濃度範囲内となるように、制御部１３０が孔径調整機構２４２を回転させて、通気孔２１２ａの開口率を制御する工程である。
【００４９】
以上説明したように、本実施形態にかかる処理装置１００およびこれを用いた処理方法は、保持部２１０および第１紫外線照射部２２０を備える。これにより、処理装置１００は、オゾンハイドレートＨＤに紫外線を照射して、オゾンおよび水蒸気からヒドロキシラジカルを生成することができる。したがって、処理装置１００は、オゾンに加えて、ヒドロキシラジカルを対象物に接触させることが可能となる。このため、処理装置１００は、オゾンのみで処理する場合と比較して、対象物に対し、除菌、脱臭、脱色、浄化等の処理を迅速に効率よく行うことができる。
【００５０】
また、オゾンハイドレートＨＤは、オゾン発生器によって生成されたオゾンを含むガス（以下、「従来のオゾンガス」という）と比較して、オゾンの濃度（オゾンの密度）が高い。したがって、処理装置１００は、紫外線の照射範囲が等しい場合、オゾン発生器によって生成された従来のオゾンガスに紫外線を照射する技術と比較して、高濃度のヒドロキシラジカルを生成することができる。換言すれば、処理装置１００は、オゾンに集中して紫外線を照射することができるため、高濃度のヒドロキシラジカルを効率よく生成することが可能となる。このため、処理装置１００は、対象物に対し、除菌、脱臭、脱色、浄化等の処理をさらに効率よく行うことが可能となる。
【００５１】
また、オゾンハイドレートＨＤは、水分子同士の水素結合によって形成されるクラスレート構造（籠状構造）の内部に、オゾンが包接された結晶である。したがって、処理装置１００は、オゾンハイドレートＨＤを溶解させるだけで、オゾンおよび水蒸気を含むガスを生成することができる。これにより、処理装置１００は、従来のオゾンガスと比較して、オゾンに加えて水蒸気の濃度も高いガスを生成することができる。したがって、処理装置１００は、効率よく高濃度のヒドロキシラジカルを生成することが可能となる。
【００５２】
また、処理装置１００は、送風部２４０を備える。これにより、処理装置１００は、オゾンハイドレートＨＤの溶解速度を促進させることができる。したがって、処理装置１００は、高濃度のオゾンを迅速に生成することが可能となる。
【００５３】
また、処理装置１００の送風部２４０は、底板２１４の下方から空気をオゾンハイドレートＨＤに送風する。これにより、処理ユニット１１０から排気される混合ガスに液体の水が混入されてしまう事態を回避することができる。
【００５４】
また、処理装置１００は、制御部１３０を備える。これにより、屋内１０の空気中のオゾンの濃度を作業環境基準値以下に維持することができる。したがって、処理装置１００は、オゾンを分解するための別途の装置（デオゾナイザ）を備えずとも、屋内１０に作業者が在室したまま、屋内１０の空気を除菌することが可能となる。
【００５５】
また、処理装置１００は、第２紫外線照射部２３０を備える。これにより、処理装置１００は、空気中の酸素からオゾンを生成することができる。したがって、オゾンの濃度をさらに向上させることが可能となる。
【００５６】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００５７】
例えば、上記実施形態において、処理装置１００が除菌する対象物として、屋内１０の空気を例に挙げた。しかし、対象物に限定はない。対象物は、気体のみならず、固形物や液体であってもよい。対象物は、例えば、食品、農作物、金属材料、医療用品、介護用品、保育用品、または、ウイルス、菌等の汚染物質等の固形物であってもよい。この場合、処理装置１００は、処理ユニット１１０で生成された混合ガス（オゾン、ヒドロキシラジカル、水蒸気を少なくとも含む）を対象物に接触させる。また、処理装置１００は、容器内を処理してもよいし、容器内に収容された対象物を処理してもよい。さらに、処理装置１００は、容器内に設けられてもよい。
【００５８】
また、対象物は、例えば、浄水場、汚泥処理場、プール等に貯留された水等の液体であってもよい。この場合、液体中にオゾンハイドレートＨＤを浸漬し、液体およびオゾンハイドレートＨＤに紫外線を照射する。これにより、オゾンが溶解した水に紫外線が照射されることになる。したがって、ヒドロキシラジカルを水中で生成することができ、液体自体を除菌したり、液体中の有機物を分解したりすることが可能となる。
【００５９】
また、上記実施形態において、外筒２１２および内筒２１６が円筒形状である場合を例に挙げて説明した。しかし、外筒２１２および内筒２１６の形状に限定はない。
【００６０】
また、上記実施形態において、送風部２４０がオゾンハイドレートＨＤに送風するガスとして空気を例に挙げた。しかし、オゾンハイドレートＨＤの溶解を促進できれば、送風部２４０が送風するガスの種類に限定はない。
【００６１】
また、上記実施形態において、送風部２４０が、底板２１４の下方からガスを送風する構成を例に挙げた。しかし、送風部２４０は、オゾンハイドレートＨＤにガスを送風できれば送風方向に限定はない。送風部２４０は、例えば、オゾンハイドレートＨＤの上方、または、側方からオゾンハイドレートＨＤにガスを送風してもよい。また、撹拌羽根２４８は、オゾンハイドレートＨＤの下方または側方に配されてもよい。
【００６２】
また、上記実施形態において、制御部１３０は、濃度測定部１２０の測定結果に基づいて、孔径調整機構２４２を回転させる構成を例に挙げた。しかし、制御部１３０は、濃度測定部１２０の測定結果に基づいて、送風部２４０によって送風されるガスの流量を制御できれば構成に限定はない。例えば、制御部１３０は、オゾンの濃度が所定の濃度範囲内となるように、撹拌羽根２４８（モータ２４４）の回転数を制御してもよい。制御部１３０は、濃度測定部１２０によって測定された混合ガスに含まれるオゾンの濃度が所定の濃度範囲を上回る場合、撹拌羽根２４８の回転数を低下させる。また、制御部１３０は、濃度測定部１２０によって測定された混合ガスに含まれるオゾンの濃度が所定の濃度範囲を下回る場合、撹拌羽根２４８の回転数を増加させる。また、例えば、制御部１３０は、オゾンの濃度が所定の濃度範囲内となるように、撹拌羽根２４８の角度を制御してもよい。
【００６３】
また、制御部１３０は、オゾンの濃度が所定の濃度範囲内となるように、第１紫外線照射部２２０によって照射される紫外線の強度を制御してもよい。例えば、制御部１３０は、濃度測定部１２０によって測定された混合ガスに含まれるオゾンの濃度が所定の濃度範囲を上回る場合、第１紫外線照射部２２０によって照射される紫外線の強度を大きくする。これにより、オゾンの分解が促進される。また、制御部１３０は、濃度測定部１２０によって測定された混合ガスに含まれるオゾンの濃度が所定の濃度範囲を下回る場合、第１紫外線照射部２２０によって照射される紫外線の強度を小さくする。
【００６４】
また、上記実施形態において、濃度範囲が０ｐｐｍ以上０．１ｐｐｍ以下である場合を例に挙げた。しかし、濃度範囲は、対象物や処理目的に応じて適宜設定されてもよい。
【００６５】
また、上記実施形態において、処理装置１００が第２紫外線照射部２３０を備える構成を例に挙げた。しかし、第２紫外線照射部２３０は、必須の構成ではない。
【００６６】
また、対象物に紫外線を照射した後、オゾンハイドレートＨＤから生じたオゾンを対象物に接触させてもよい。
【００６７】
なお、本明細書のオゾンハイドレートＨＤに紫外線を照射する処理方法の各工程は、必ずしもフローチャートとして記載された順序に沿って時系列に処理する必要はなく、並列的による処理を含んでもよい。例えば、処理方法における上記各工程は、連続処理として遂行されてもよいし、バッチ処理として遂行されてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００６８】
本発明は、オゾンを利用して対象物を処理する処理装置、および、処理方法に利用することができる。
【符号の説明】
【００６９】
１００  処理装置
１３０  制御部
２１０  保持部
２１４  底板
２１４ａ  孔
２２０  第１紫外線照射部
２３０  第２紫外線照射部
２４０  送風部
【図１】
2020186141.tif 000003
【図２】
2020186141.tif 000004
【図３】
2020186141.tif 000005
【図４】
2020186141.tif 000006