(57)【要約】【課題】フロートバス内でトップロール等の冷却構造体を使用するにあたり、揮散物が凝集して付着することを抑制できる冷却構造体の提供。【解決手段】フロートバス内の雰囲気に曝される露出部を有する冷却構造体であって、前記冷却構造体は、金属部材で形成され、内部に冷媒の流路を有し、前記露出部は、前記金属部材の表面上にセラミックスからなる溶射皮膜が形成され、前記溶射皮膜は、平均厚さが５０〜１０００μｍであり、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２またはＣａＯを５０体積％以上含有し、断面画像解析法による気孔率が８〜４０％であることを特徴とする冷却構造体。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フロートバス内の雰囲気に曝される露出部を有する冷却構造体であって、
前記冷却構造体は、金属部材で形成され、内部に冷媒の流路を有し、
前記露出部は、前記金属部材の表面上にセラミックスからなる溶射皮膜が形成され、
前記溶射皮膜は、平均厚さが５０〜１０００μｍであり、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２またはＣａＯを５０体積％以上含有し、断面画像解析法による気孔率が８〜４０％であることを特徴とする冷却構造体。
【請求項２】
前記溶射皮膜は、Ａｌ２Ｏ３を８０体積％以上含有する、請求項１に記載の冷却構造体。
【請求項３】
前記溶射皮膜は、ＴｉＯ２を２〜５０体積％含有する、請求項１に記載の冷却構造体。
【請求項４】
前記溶射皮膜は、前記気孔率が１０〜３５％である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の冷却構造体。
【請求項５】
前記溶射皮膜は、熱伝導率が３Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の冷却構造体。
【請求項６】
前記露出部は、前記金属部材と前記溶射皮膜との間に、下地膜が形成され、
前記下地膜は、平均厚さが２０〜４００μｍであり、ＭＣｒＡｌＹ合金（ＭはＮｉおよびＣｏの少なくとも１種）からなる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の冷却構造体。
【請求項７】
前記露出部は、前記溶射皮膜の表面上にカーボンの薄膜が形成される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の冷却構造体。
【請求項８】
溶融金属を収容する浴槽を備え、該浴槽内の溶融金属上に連続的に供給される溶融ガラスを、前記溶融金属上で流動させながらガラスリボンに成形するフロートガラス製造装置であって、
前記フロートガラス製造装置は、前記ガラスリボンの流動方向に沿って間隔をおいて設けられ、前記ガラスリボンの幅方向両端部を支持する複数対のトップロールを備え、
少なくとも１対の前記トップロールは、請求項１〜７のいずれか１項に記載の冷却構造体であるフロートガラス製造装置。
【請求項９】
前記トップロールは、前記ガラスリボンの幅方向端部を支持する円盤状の先端部と、該先端部に連結される軸部材とで構成され、
前記先端部は、前記溶射皮膜を有する、請求項８に記載のフロートガラス製造装置。
【請求項１０】
溶融金属を収容する浴槽を備え、該浴槽内の溶融金属上に連続的に供給される溶融ガラスを、前記溶融金属上で流動させながらガラスリボンに成形するフロートガラス製造装置であって、
前記フロートガラス製造装置は、前記溶融ガラスまたは前記ガラスリボンの上方に配置されるクーラを備え、
前記クーラは、請求項１〜７のいずれか１項に記載の冷却構造体であるフロートガラス製造装置。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれか１項に記載のフロートガラス製造装置を用いたフロートガラス製造方法。
【請求項１２】
フロートガラスは、フッ素成分を含むホウケイ酸ガラスである、請求項１１に記載のフロートガラス製造方法。
【請求項１３】
前記ホウケイ酸ガラスは、酸化物基準の質量％表示でＳｉＯ２を５４〜６６％、Ａｌ２Ｏ３を１０〜２５％、Ｂ２Ｏ３を０．５〜１２％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯからなる群から選択される１種以上を合計で７〜２３％含有する、請求項１２に記載のフロートガラス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、冷却構造体、フロートガラス製造装置およびフロートガラス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フロート法では、フロートバス内の溶融金属上に連続的に供給される溶融ガラスを、溶融金属上で流動させながらトップロールを用いて帯板状のガラスリボンに成形する。
【０００３】
フロートバス内では、溶融金属表面から金属成分が揮散したり、溶融ガラス表面からガラス中の一部の成分が揮散したりすることがある。揮散した成分やその反応物は、冷却構造体たるトップロールの表面で凝集し、その表面に付着することによって問題が生じることがある。特許文献１には、トップロール表面に固着したスズが生産中にガラスリボンの表面上に落下することで、ガラスリボンの板幅変動が生じることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１４／０９１９６７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１に記載の製造装置は、トップロール表面に付着した凝集物が落下することを抑制するにすぎず、そもそも揮散物が凝集して付着することを抑制できない。
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、フロートバス内でトップロール等の冷却構造体を使用するにあたり、揮散物が凝集して付着することを抑制できる冷却構造体、フロートガラス製造装置およびフロートガラス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、フロートバス内の雰囲気に曝される露出部を有する冷却構造体であって、前記冷却構造体は、金属部材で形成され、内部に冷媒の流路を有し、前記露出部は、前記金属部材の表面上にセラミックスからなる溶射皮膜が形成され、前記溶射皮膜は、平均厚さが５０〜１０００μｍであり、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２またはＣａＯを５０体積％以上含有し、断面画像解析法による気孔率が８〜４０％であることを特徴とする冷却構造体を提供する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、フロートバス内でトップロール等の冷却構造体を使用するにあたり、揮散物が凝集して付着することを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係るフロートガラス製造装置の平面図である。
【図２】図２は、図１のトップロールをガラスリボンの流動方向から見た側面図である。
【図３】図３は、図１のクーラをガラスリボンの流動方向から見た側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。本明細書において、数値範囲を表す「〜」はその前後の数値を含む範囲を意味する。
【００１１】
［冷却構造体］
本発明は、フロートバス内の雰囲気に曝される露出部を有する冷却構造体であって、冷却構造体は、金属部材で形成され、内部に冷媒の流路を有し、露出部は、金属部材の表面上にセラミックスからなる溶射皮膜が形成され、溶射皮膜は、平均厚さが５０〜１０００μｍであり、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２またはＣａＯを５０体積％以上含有し、断面画像解析法による気孔率が８〜４０％であることを特徴とする冷却構造体である。
【００１２】
冷却構造体は、例えば後述するトップロール３０やクーラ４０として用いられる（図１〜３参照）。冷却構造体は、フロートバス内の雰囲気温度が例えば７００〜１３００℃程度であるため、金属部材が熱変形しないように内部に冷媒の流路を有する。金属部材は、例えば鋼や耐熱合金のような金属が用いられる。冷媒は、例えば水や油のような液体のほか、空気や窒素のような気体が用いられる。ここで、フロートバス内は、後述する浴槽２０内の溶融金属Ｍ（例えば溶融スズや溶融スズ合金）の酸化を防止する目的で、水素ガスと窒素ガスとの混合雰囲気からなる還元性雰囲気で満たされる（図１参照）。
【００１３】
溶射皮膜は、平均厚さが５０〜１０００μｍである。平均厚さは、好ましくは１００μｍ以上、より好ましくは１５０μｍ以上である。また、好ましくは９００μｍ以下、より好ましくは８００μｍ以下である。平均厚さが５０μｍ以上だと、露出部の表面温度の低下を抑制できる。また、平均厚さが１０００μｍ以下だと、膜の剥離や膜質の低下が起きたり、成膜時間が長くなったりすることを抑制できる。ここで、溶射皮膜の平均厚さは、金属部材の表面上に溶射皮膜が形成された部分の中央部等の代表箇所の任意の３点について、電子顕微鏡を用いて断面観察して測定した厚さの平均値、またはマイクロメーターを用いて測定した厚さの平均値である。
【００１４】
溶射皮膜は、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２またはＣａＯを５０体積％以上含有することが好ましい。より好ましくは６０体積％以上、さらに好ましくは７０体積％以上含有する。Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２またはＣａＯは、フロートバス内の雰囲気で安定して存在する上、溶射により、粒子境界および気孔を含む熱伝導率の低い皮膜を形成することができる。なお、本明細書では、Ａｌ２Ｏ３を５０体積％以上含有する溶射皮膜をアルミナ系溶射皮膜とも呼ぶ。
【００１５】
溶射皮膜は、Ａｌ２Ｏ３を８０体積％以上含有することが好ましい。より好ましくは９０体積％以上、さらに好ましくは９５体積％以上含有する。Ａｌ２Ｏ３を８０体積％以上含有すると、フロートバス内の雰囲気に含まれるスズ蒸気が膜内に浸透しにくくなるため、溶射皮膜が金属部材から剥離し難くなる。
【００１６】
溶射皮膜は、ＴｉＯ２を２〜５０体積％含有することが好ましい。より好ましくは１０体積％以上、さらに好ましくは２０体積％以上含有する。また、より好ましくは４５体積％以下、さらに好ましくは４０体積％以下含有する。ＴｉＯ２を２体積％以上含有すると、溶射皮膜の靱性、耐衝撃性を向上させることができる。また、ＴｉＯ２を５０体積％以下含有すると、溶射皮膜は、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２またはＣａＯを５０体積％以上含有することができる。なお、ＴｉＯ２を含有するアルミナ系溶射皮膜は、靱性、耐衝撃性に優れるため、溶射皮膜の摩耗や剥離によって金属部材の表面が露出することを抑制できる。
【００１７】
ここで、溶射皮膜中におけるＡｌ２Ｏ３等の酸化物の含有率は、断面ＥＤＸ分析と画像処理の併用、または断面ＥＰＭＡ分析と画像処理の併用により測定する。例えば溶射皮膜中におけるＡｌ２Ｏ３の含有率（体積％）は、断面ＥＤＸ分析または断面ＥＰＭＡ分析によりＡｌ２Ｏ３にあたる部位（扁平粒子部）を確認し、断面画像分析により扁平粒子部とその他の部位とに二値化して扁平粒子部の面積比率を求めて算出される。
【００１８】
溶射皮膜は、断面画像解析法による気孔率が８〜４０％である。好ましくは１０〜３５％である。より好ましくは１５％以上、さらに好ましくは２０％以上である。また、より好ましくは３３％以下、さらに好ましくは３０％以下である。気孔率が８％以上だと、気孔の断熱効果により、溶射皮膜の熱伝導率をより低くできる。また、気孔率が４０％以下だと、溶射皮膜が金属部材または後述する下地膜から剥離し難くなる。ここで、気孔率は、セラミック溶射皮膜を切断した断面を粒度１μｍのダイヤモンドペーストを用いて研磨した後、光学顕微鏡（２００倍）の視野で画像解析法により算出した。なお、気孔率は、溶射装置と金属部材の表面との間の距離を大きくしたり、溶射に用いる粉体原料の平均粒径を大きくしたりすることで、８〜４０％を実現できる。
【００１９】
溶射皮膜は、Ａｌ２Ｏ３等の粉末原料を、大気プラズマ溶射法によって金属部材の表面に溶射して形成することが好ましい。大気プラズマ溶射法によれば、比較的容易に緻密な皮膜を形成することができる。また、溶射皮膜は、高速フレーム溶射法により溶射、形成されてもよい。ここで、大気プラズマ溶射法において、用いる粉体原料の平均粒径は１０〜１００μｍであることが好ましく、１５〜８０μｍであることがより好ましい。なお、粉体原料の平均粒径は、レーザー回折・散乱方式の粒度分布測定装置を用いて測定して求めた値である。粉末原料は、予め混合、造粒、焼結、粉砕、分級などを行い造粒焼結粉や焼結粉砕粉として、溶射に用いることが好ましい。
【００２０】
溶射皮膜は、熱伝導率が３Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であることが好ましい。熱伝導率は、より好ましくは２．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下、さらに好ましくは２．０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下である。熱伝導率が３Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下だと、露出部の表面温度の低下を抑制できる。ここで、溶射皮膜の熱伝導率は、レーザーフラッシュ法、熱線法といった方法に基づき測定することができる。具体的には、熱伝導率＝熱拡散率×密度×比熱で算出するところ、熱拡散率（ｃｍ２／ｓ）はレーザーフラッシュ法にて測定を行ない、密度（ｇ／ｃｍ３）はアルキメデス法にて測定を行ない、比熱（Ｊ／ｇ・Ｋ）はＤＳＣ法にて測定を行なう。
【００２１】
露出部は、金属部材と溶射皮膜との間に、下地膜が形成されてもよい。下地膜は、平均厚さが２０〜４００μｍであり、ＭＣｒＡｌＹ合金（ＭはＮｉおよびＣｏの少なくとも１種）からなることが好ましい。下地膜が形成されることにより、金属部材に含まれるＦｅ等の成分が溶射皮膜に拡散しにくくなるため、金属部材から溶射皮膜が剥離するのを抑制できる。下地膜は、平均厚さがより好ましくは４０〜３５０μｍ、さらに好ましくは６０〜３００μｍである。なお、下地膜の平均厚さは、溶射皮膜の平均厚さと同様の方法で測定される。下地膜は、大気プラズマ溶射法または高速フレーム溶射法により溶射、形成される。
【００２２】
露出部は、溶射皮膜の表面上にカーボンの薄膜が形成されてもよい。冷却構造体がトップロールとして用いられる場合、後述するトップロールの先端部に溶射皮膜が形成されると、先端部の表面温度が２００℃以上となり、かつ、溶射皮膜中におけるＡｌ２Ｏ３等の酸化物はガラスに接着しやすい成分であるため、先端部にガラスリボンが接着しやすくなる。そこで、溶射皮膜の表面上にカーボンの薄膜が形成されることにより、先端部にガラスリボンが接着するのを抑制できる。
【００２３】
カーボンの薄膜は、例えば、ダイアモンドライクカーボンの薄膜である。ダイアモンドライクカーボンの薄膜は、高硬度で、優れた耐摩耗性・耐擦傷性を有し、ダイアモンドと同程度の密度を有する、実質的に炭素原子からなる膜の総称である。非晶質カーボン、硬質炭素膜、水素化炭素膜（ａ−Ｃ：Ｈ）、及びｉ−カーボン膜（ダイアモンドライクカーボンの別称）などがこれに含まれる。ダイアモンドライクカーボンの膜厚は、０．１μｍから５０μｍであることが好ましい。ダイアモンドライクカーボンの薄膜の形成方法は、蒸着法、例えば物理蒸着法（ＰＶＤ法）、化学蒸着法（ＣＶＤ法）などや、液相にて反応を行う方法などの公知の方法で作製することができる。
【００２４】
本発明の冷却構造体によれば、フロートバス内で揮散物が凝集して付着することを抑制でき、ひいては付着した凝集物がガラスリボンや溶融金属に落下するのを抑制できる。
【００２５】
従来、凝集物の発生原因は、溶融金属表面や溶融ガラス表面からの揮散成分やその反応物にあることまでは分かっていたが、凝集物が具体的に何であるかまでは特定できていなかった。本発明者らは、フッ素を含むホウケイ酸ガラスの製造において、トップロール等の冷却構造体に付着する凝集物がフッ化アンモニウム塩やホウフッ化アンモニウム塩であることを見出した。ここで、アンモニウム成分は、フロートバス内の水素と窒素との混合雰囲気に由来する。ホウフッ化アンモニウム塩は、２００〜２５０℃で液状になるため、冷却構造体の表面温度が２００℃未満だと、冷却構造体の表面で固体になって付着するが、わずかな温度上昇によって液化しやすく、冷却構造体の振動などが原因でガラスリボンの表面上に落下しやすい。また、落下すると、ガラスリボンと融合し、欠点の原因になると考えられる。因みに、冷却構造体の金属部材の表面は、触媒となってホウフッ化アンモニウム塩が生成しやすい。
【００２６】
そこで、本発明の冷却構造体の露出部は、金属部材の表面上にセラミックスからなる溶射皮膜が形成され、溶射皮膜は、平均厚さが５０〜１０００μｍであり、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２またはＣａＯを５０体積％以上含有し、断面画像解析法による気孔率が８〜４０％である。本構成を備えることにより、冷却構造体が内部に冷媒の流路を有し、冷却されていても、冷却構造体の表面温度を２００℃以上とすることができ、ひいてはホウフッ化アンモニウム塩が生成・凝集して冷却構造体の表面に付着するのを抑制できる。これにより、ガラスリボンの板幅変動が生じることを抑制できる。
【００２７】
［フロートガラス製造装置］
図１は、本発明の一実施形態に係るフロートガラス製造装置の平面図である。フロートガラス製造装置１００は、導入部１０、浴槽２０、トップロール３０、クーラ４０、搬送装置５０および徐冷炉６０を備える。
【００２８】
フロートガラス製造装置１００は、溶融金属Ｍを収容する浴槽２０を備え、導入部１０から浴槽２０内の溶融金属Ｍ上に連続的に供給される溶融ガラスを、溶融金属Ｍ上で流動させながらガラスリボンＧに成形する。ここで、溶融ガラスは、浴槽２０の上流側（図１の左側）に配置されるガラス溶解炉（不図示）でガラス原料を溶解し、更に清澄処理を施したものである。フロートガラス製造装置１００は、ガラスリボンＧの流動方向に沿って間隔をおいて設けられ、ガラスリボンＧの幅方向両端部を支持する複数対のトップロール３０を備え、少なくとも１対のトップロール３０は、本発明の冷却構造体である。
【００２９】
トップロール３０は、ガラスリボンＧの粘度が１０４．５〜１０７．５ｄＰａ・ｓとなる領域に設けられ、ガラスリボンＧの幅が表面張力によって狭まるのを防止している。
【００３０】
クーラ４０は、ガラスリボンＧの幅方向の両側に対向配置される。ガラスリボンＧの上方に配置され、ガラスリボンを冷却する。クーラ４０は、トップロール３０よりもガラスリボンＧの流動方向下流側に設けられる。なお、クーラ４０は、ガラスリボンＧの流動方向に沿って間隔をおいて複数対設けられてもよい。また、トップロール３０よりもガラスリボンＧの流動方向上流側に設けられてもよい。
【００３１】
搬送装置５０は、例えばリフトアウトロール装置であり、ガラスリボンＧを浴槽２０の出口から引き出し、徐冷炉６０に搬入する。徐冷炉６０は、ガラスリボンＧを搬送しながらガラスの歪点温度以下まで徐冷して板ガラスを得る。徐冷後の板ガラスは、切断装置によって所望のサイズに切断され、ガラス板となる。
【００３２】
図２は、図１のトップロールをガラスリボンの流動方向から見た側面図である。トップロール３０は、ガラスリボンＧの幅方向端部を支持する先端部３１と、先端部３１に連結される軸部材３６とで構成される。先端部３１は、円盤状の回転部材３２と、回転部材３２の周囲に、円周方向に沿って形成された突起部３３と、溶射皮膜３４とを有する。回転部材３２は、軸部材３６の中心軸３８に対して回転される構造となっている。
【００３３】
先端部３１は、高温のガラスリボンＧと接触するため、使用時に温度が著しく上昇するおそれがある。そのため、先端部３１の内部空間に冷媒を流通させることにより、冷却される構成となっている。これにより、先端部３１の温度上昇を抑制することができる。
【００３４】
しかし、先端部３１は、冷却構造であるがゆえに、周囲と比べて温度が低くなっており、凝集物が付着することがある。先端部３１に凝集物が付着すると、付着した凝集物がガラスリボンＧの表面上に落下してガラス板の欠点となったり、ガラスリボンＧの板幅変動が生じたりするおそれがある。
【００３５】
そこで、先端部３１は、溶射皮膜３４を有する。これにより、先端部３１の表面温度の低下を抑制でき、先端部３１の表面温度が２００℃以上となるので、ホウフッ化アンモニウム塩が凝集して先端部３１の表面に付着するのを抑制できる。
【００３６】
溶射皮膜３４は、回転部材３２の表面上に形成される。回転部材３２のうち、ガラスリボンＧの幅方向内側および幅方向外側に形成される。なお、溶射皮膜３４は、突起部３３の表面上に形成されてもよい。また、軸部材３６の表面上に形成されてもよい。
【００３７】
図３は、図１のクーラをガラスリボンの流動方向から見た側面図である。クーラ４０は、冷却本体部４１と、延伸部４２とを有する。冷却本体部４１は、延伸部４２の端部に接続される。冷却本体部４１の平面視形状は、ガラスリボンＧの幅方向外側の辺よりも幅方向内側の辺の方が長い台形状である（図１参照）。冷却本体部４１の鉛直方向の厚みは、延伸部４２の鉛直方向の厚みと同じである。延伸部４２は、ガラスリボンＧの幅方向に延び、例えば四角柱状である。なお、冷却本体部４１の形状は、特に限定されず、例えば直方体状であってもよい。
【００３８】
クーラ４０の内部には、冷媒が通る流路が設けられる。フロートバス外の延伸部４２の供給口から流路に流入された冷媒は、延伸部４２内を通って冷却本体部４１まで流れる。そして、冷媒は、冷却本体部４１から延伸部４２内を通って排出口で排出される。このようにして、クーラ４０内に冷媒を循環させることで、ガラスリボンＧを冷却する。
【００３９】
冷却本体部４１は、溶射皮膜４４を有する。これにより、冷却本体部４１の表面温度の低下を抑制でき、冷却本体部４１の表面温度が２００℃以上となるので、ホウフッ化アンモニウム塩が凝集して冷却本体部４１の表面に付着するのを抑制できる。
【００４０】
溶射皮膜４４は、冷却本体部４１の表面上に形成される。冷却本体部４１のうち、ガラスリボンＧの幅方向内側の端部および鉛直方向の下部に形成される。なお、溶射皮膜４４は、鉛直方向の上部に形成されてもよい。また、延伸部４２の表面上に形成されてもよい。
【００４１】
なお、フロートガラス製造装置１００は、少なくとも１対のトップロール３０の先端部３１が溶射皮膜３４を有する。全てのトップロール３０の先端部３１が溶射皮膜３４を有してもよい。また、フロートガラス製造装置１００は、１日当たりにフロートバス内に供給される溶融ガラスの質量が小さい場合、クーラ４０を備えなくてもよい。
【００４２】
［フロートガラス製造方法］
本発明の一実施形態に係るフロートガラス製造方法は、前述したフロートガラス製造装置１００を用いる。本発明のフロートガラス製造方法は、フロートバス内でフッ化アンモニウム塩やホウフッ化アンモニウム塩が生成する、フッ素成分を含むホウケイ酸ガラスの製造に好適である。また、フロートバス内が高温となり、ホウ素成分やフッ素成分が揮発しやすい無アルカリガラスの製造にも好適である。ここで、本明細書における無アルカリガラスは、アルカリ金属酸化物の合量が０．２質量％以下である。
【００４３】
ホウケイ酸ガラスは、酸化物基準の質量％表示でＳｉＯ２を５４〜６６％、Ａｌ２Ｏ３を１０〜２５％、Ｂ２Ｏ３を０．５〜１２％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯからなる群から選択される１種以上を合計で７〜２３％含有することが好ましい。
【００４４】
また、ホウケイ酸ガラスは、フッ素を０．０１〜０．３質量％含有することが好ましい。フッ素含有量は、より好ましくは０．０５質量％以上、さらに好ましくは０．１質量％以上である。また、より好ましくは０．２５質量％以下、さらに好ましくは０．１５質量％以下である。フッ素含有量が０．０１質量％以上だと、原料の初期溶解性が向上する。また、０．３質量％以下だと、ホウフッ化アンモニウム塩の生成を抑制することができる。
【００４５】
また、ホウケイ酸ガラスは、Ｎａ２Ｏの含有量が０．０２５〜０．２質量％であることが好ましい。Ｎａ２Ｏの含有量は、より好ましくは０．０５質量％以上、さらに好ましくは０．０７質量％以上である。また、より好ましくは０．１５質量％以下、さらに好ましくは０．１質量％以下である。Ｎａ２Ｏの含有量が０．０２５質量％以上だと、ガラス中に含まれるＮａ２Ｏがフロートバス中に揮散することによって、ホウフッ化アンモニウム塩の生成を抑制できる。これは、フロートバス雰囲気中のフッ素はナトリウムと結合してフッ化ナトリウムを形成する結果、フッ化アンモニウム塩およびホウフッ化アンモニウム塩の生成が抑制されるからである。
【００４６】
本発明のフロートガラスの歪点は、好ましくは６３０℃以上、より好ましくは６５０℃以上、さらに好ましくは６８０℃以上である。
【００４７】
また、フロートガラスは、粘度が１０２ポイズ（ｄＰａ・ｓ）となる温度Ｔ２は、好ましくは１８００℃以下、より好ましくは１７５０℃以下、さらに好ましくは１７００℃以下、特に好ましくは１６８０℃以下である。また、粘度ηが１０４ポイズとなる温度Ｔ４は、好ましくは１３５０℃以下、より好ましくは１３２５℃以下、さらに好ましくは１３００℃以下、特に好ましくは１２９０℃以下である。ここで、温度Ｔ２および温度Ｔ４は、ＡＳＴＭ  Ｃ９６５−９６（２０１２年）に規定されている方法に従い、回転粘度計を用いて測定できる。
【実施例】
【００４８】
以下、本発明の実施例および比較例について具体的に説明する。なお、本発明はこれらの記載に限定されるものではない。
【００４９】
（実施例１）
トップロール３０の回転部材３２（Ｓ２５Ｃ製）の表面上に、溶射原料であるＮｉ−２２Ｃｒ−１０Ａｌ−１Ｙ（平均粒径：約５０μｍ）を溶射し、下地膜を形成した。溶射はスルーザーメデコ社製、９ＭＢ型溶射装置を用いた大気プラズマ溶射法によって行った。溶射後に回転部材３２の皮膜を有する部分の任意の３点について、マイクロメーターを用いて厚さを測定したところ、平均厚さは５０μｍであった。
【００５０】
続けて、下地膜の表面上に、溶射原料であるＡｌ２Ｏ３（平均粒径：約１００μｍ）を溶射し、溶射皮膜３４を形成した。ここで、Ａｌ２Ｏ３は、不可避不純物を除き、Ａｌ２Ｏ３を１００体積％含有することを意味する。
【００５１】
溶射はスルーザーメデコ社製、９ＭＢ型溶射装置を用いた大気プラズマ溶射法によって行った。溶射後に回転部材３２の皮膜を有する部分の任意の３点について、マイクロメーターを用いて厚さを測定したところ、平均厚さは３５０μｍであった。これは、下地膜上の溶射皮膜３４の平均厚さが３００μｍであることを意味する。また、溶射皮膜３４は、断面画像解析法による気孔率が２７％であった。溶射皮膜３４の熱伝導率は、レーザーフラッシュ法に基づき測定したところ、１．９Ｗ／（ｍ・Ｋ）であった。
【００５２】
次に、先端部３１に溶射皮膜３４を有するトップロール３０を、先端部３１の内部空間に水を流通させた上で、フロートバス内に挿入した。ここで、トップロール３０を挿入した箇所におけるフロートバス内の雰囲気温度は、シース熱電対（Ｋタイプ）を用いて測定したところ、９９０℃であった。なお、フロートバス内には、溶融ガラスおよびガラスリボンＧを流動させていない。そして、フロートバス内でトップロール３０の先端部３１を１０分間保持し、回転部材３２のうち、ガラスリボンＧの幅方向外側の溶射皮膜３４の任意の４点について、接触温度計（安立計器株式会社製）を用いて表面温度を測定したところ、平均温度が２６３℃であった。
【００５３】
続けて、フロートバス内の雰囲気温度が１０４０℃、１１００℃の箇所にトップロール３０を挿入して１０分間保持し、同様の方法で溶射皮膜３４の表面温度を測定したところ、平均温度がそれぞれの条件で２５３℃、２６８℃であった。
【００５４】
（実施例２）
実施例１と同様の方法で、下地膜を形成した。下地膜の平均厚さは５０μｍであった。
【００５５】
続けて、下地膜の表面上に、溶射原料であるＡｌ２Ｏ３−２．５ＴｉＯ２（平均粒径：約１００μｍ）を溶射し、溶射皮膜３４を形成した。ここで、Ａｌ２Ｏ３−２．５ＴｉＯ２は、不可避不純物を除き、Ａｌ２Ｏ３を９７．５体積％、ＴｉＯ２を２．５体積％含有することを意味する。
【００５６】
溶射は実施例１と同様の大気プラズマ溶射法によって行った。下地膜および溶射皮膜３４の平均厚さは３５０μｍであった。また、溶射皮膜３４は、断面画像解析法による気孔率が１６％であった。溶射皮膜３４の熱伝導率は、レーザーフラッシュ法に基づき測定したところ、２．２Ｗ／（ｍ・Ｋ）であった。
【００５７】
実施例１と同様の方法で、フロートバス内の雰囲気温度が９９０℃、１０４０℃、１１００℃の箇所にトップロール３０を挿入して１０分間保持し、溶射皮膜３４の表面温度を測定したところ、平均温度がそれぞれの条件で２６９℃、２６９℃、２６２℃であった。
【００５８】
（比較例１）
トップロール３０の回転部材３２（Ｓ２５Ｃ製）の表面上に、下地膜および溶射皮膜３４を形成させずに、実施例１と同様の方法で、フロートバス内の雰囲気温度が９９０℃、１０４０℃、１１００℃の箇所にトップロール３０を挿入して１０分間保持し、回転部材３２の表面温度を測定したところ、平均温度がそれぞれの条件で１４５℃、１５３℃、１６０℃であった。
【００５９】
（まとめ）
以上によれば、フロートバス内の雰囲気温度が９９０℃、１０４０℃、１１００℃の箇所における溶射皮膜３４（回転部材３２）の表面温度は、実施例１、２で２００℃以上であるのに対し、比較例１で２００℃未満であった。この結果から、実施例１、２の溶射皮膜３４を有するトップロール３０は、ホウフッ化アンモニウム塩が凝集して先端部３１の表面に付着するのを抑制できることが分かった。
【００６０】
本発明を詳細に、また特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく、様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
製造されるフロートガラスの用途は、建築用、車両用、フラットパネルディスプレイ用、カバーガラス用、またはその他の各種用途が挙げられる。
【符号の説明】
【００６２】
１０    導入部
２０    浴槽
３０    トップロール
３１    先端部
３２    回転部材
３３    突起部
３４    溶射皮膜
３６    軸部材
３８    中心軸
４０    クーラ
４１    冷却本体部
４２    延伸部
４４    溶射皮膜
５０    搬送装置
６０    徐冷炉
１００  フロートガラス製造装置
Ｇ      ガラスリボン
Ｍ      溶融金属
【図１】
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【図２】
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【図３】
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