(57)【要約】【課題】ステージ上に設置されるトレイの在荷確認、ステージに対するトレイの位置ずれの監視や、ステージの動作異常の監視を統括的に行うことができるロードロック装置を提供する。【解決手段】ロードロック装置ＬＭは、透孔１１ａを有する隔壁１１と隔壁上面で透孔の外周縁部に当接する、筒状の蓋体１２と、隔壁の下方に配置されて、平坦な上面３ａにトレイ２の設置が可能で上下動自在なステージ３とを備え、ステージを上動させると、フランジ３１が隔壁下面で当接して、ステージ上部が透孔を通って突出して気密な内部空間２０が画成され、蓋体上面に所定波長の光を透過する窓部１３ａ〜１３ｃが設けられ、窓部の上方に、所定波長の光を照射する光源を持つ少なくとも２個の反射式の変位センサ１４ａ〜１４ｃが設けられ、第１変位センサ１４ａがトレイ上面２ａで反射した光を受光し、第２変位センサ１４ｂがステージ上面で反射した光を受光する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚の基板がセットされたトレイを大気雰囲気中から真空雰囲気中に搬入し、または、このトレイを真空雰囲気中から大気雰囲気中に搬出するためのロードロック装置であって、
上下方向に貫通する透孔を有して水平な姿勢で設置される隔壁と、隔壁上面で透孔の外周縁部に気密保持した状態で当接する、下面が開放された筒状の蓋体と、隔壁の下方に配置されて、その平坦な上面にトレイの設置が可能であると共にこの隔壁に対して上下動自在なステージと、を備え、ステージを上動させると、ステージの外周面からその水平方向に延出されたフランジが隔壁下面で透孔の外周縁部に気密保持した状態で当接してステージの上部が透孔を通って蓋体の内部空間に突出し、この蓋体内に気密な内部空間が画成されるようにしたものにおいて、
蓋体上面に所定波長の光を透過する窓部が設けられ、窓部の上方に、所定波長の光を照射する光源を持つ少なくとも２個の反射式の変位センサが設けられ、その中の第１変位センサがトレイの上面で反射した光を受光し、その中の第２変位センサがステージの上面で反射した光を受光するように構成されていることを特徴とするロードロック装置。
【請求項２】
前記窓部の上方に、所定波長の光を照射する光源を持つ１個の反射式の第３変位センサが更に設けられ、第３変位センサがトレイまたはステージの上面で反射した光を受光するように構成されていることを特徴とする請求項１記載のロードロック装置。
【請求項３】
請求項１記載のロードロック装置を備える真空処理装置であって、前記隔壁が真空チャンバの上壁であると共に、この真空チャンバ内に前記ステージが設けられているものにおいて、
水平方向で互いに直交する方向をＸ軸方向及びＹ軸方向、ステージの下動位置を起点とし、この起点に向けてＸ軸方向一方にトレイを搬送できるトレイ搬送手段と、トレイ搬送手段で搬送されるトレイをステージ上に移載する移載手段と、トレイ搬送手段による搬送中にトレイにセットされた基板に対して真空処理を施す処理ユニットとを備え、
Ｙ軸方向に位置するトレイの側面にその外方に突出する突片が設けられ、前記第１変位センサが突片で反射した光を受光するように構成されていることを特徴とする真空処理装置。
【請求項４】
前記ステージ上面にストッパ部が設けられ、移載手段によってトレイをＸ軸方向一方に更に移動させて搬送手段からステージ上に移載するとき、トレイのＸ軸方向一方の側面がストッパ部に当接してトレイがＸ軸方向に位置決めされることを特徴とする請求項３記載の真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ロードロック装置及び真空処理装置に関し、より詳しくは、ステージ上に設置されるトレイの在荷確認、ステージに対するトレイの位置ずれの監視や、ステージの動作異常の監視を統括的に行うことができるようにしたものに関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽電池やフラットパネルディスプレイの製造工程においては、基板に対して成膜処理、エッチング処理や熱処理といった各種の真空処理が行われる。このような真空処理を行うインライン式の真空処理装置は例えば特許文献１で知られている。この真空処理装置には、複数枚の基板がセットされたトレイを大気雰囲気中から真空雰囲気中の真空チャンバ内に搬入し、または、このトレイを真空雰囲気中の真空チャンバから大気雰囲気中に搬出するためのロードロック装置が一体に組み付けられている。即ち、真空チャンバの上壁に透孔が開設され、この透孔を覆うように真空チャンバの上壁には、筒状の蓋体が開閉自在に設けられている。透孔の下方に位置させて真空チャンバ内には、トレイを設置可能な平坦な上面を有するステージが上下動自在に設けられている。
【０００３】
例えば、複数枚の基板がセットされたトレイを大気雰囲気中から真空雰囲気中の真空チャンバ内に搬入するのに際しては、蓋体の下面を透孔の外周縁部に気密保持した状態で真空チャンバ上壁の上面に当接させ、ステージを上動させ、ステージに形成したフランジを真空チャンバ上壁の下面に当接させる。これにより、ステージの上部が透孔を通って蓋体の内部空間に突出し、この蓋体内に、気密な内部空間（言い換えると、真空チャンバ内の真空雰囲気と隔絶された内部空間）が画成され、内部空間が大気雰囲気のときに蓋体を開放すれば、ステージに対するトレイの設置が可能になる。
【０００４】
ステージに対するトレイの設置が終了すると、蓋体の下面を透孔の外周縁部に気密保持した状態で真空チャンバ上壁の上面に当接するように蓋体を閉じ、内部空間内を真空ポンプによって真空排気する。内部空間内が所定圧力まで減圧されると、ステージを下動させ、これにより、トレイが大気雰囲気中から真空雰囲気中の真空チャンバ内に搬入される。そして、真空チャンバ内に設けられる移載手段によりステージからトレイ搬送手段にトレイを移載し、トレイ搬送手段によりトレイを水平方向に搬送しながら、その搬送経路に設けられた処理ユニットによって各基板に所定の真空処理が施される。一方、処理済みの基板がセットされたトレイを真空雰囲気中の真空チャンバから大気雰囲気中に搬出する場合には、上記と逆の手順に従って操作され、ステージの上部が透孔を通って蓋体の内部空間に突出した状態で気密な内部空間にベントガスを導入して大気圧に戻される。
【０００５】
ここで、真空チャンバ内で実施される真空処理によっては、トレイ自体が然程汚染されない場合がある。このような場合、複数枚の基板がセットされたトレイごと交換するのでは、トレイに付着した水などの汚染ガスが真空チャンバ内に持ち込まれる虞がある。このことから、蓋体を開放した状態で多関節式ロボット等によりトレイ上の基板のみを交換する場合があるが、トレイ搬送手段からステージにトレイを移載したときにステージに対してトレイが位置ずれしていると、多関節ロボット等がトレイにセットされた基板の交換ができないという問題がある。また、トレイ搬送手段からステージ上面にトレイを移載する際に、ステージ上面に別のトレイが存在したのでは、トレイ同士が接触してトレイや基板を破損してしまうという問題がある。更に、ステージを上動させてステージに形成したフランジを真空チャンバ上壁の下面に当接させるときに、ステージを上下動させる機構に不具合が発生し、または、フランジのシール面に異物があることで、ステージの動作異常に起因してステージ自体が水平面に対して傾き、正しい姿勢でフランジが真空チャンバ上壁の下面に当接しない場合があり、これでは、上記操作を行うと、例えば真空チャンバ内に真空リークを発生させるといった問題が生じる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２０１７／１０４８２６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、以上の点に鑑み、ステージ上に設置されるトレイの在荷確認、ステージに対するトレイの位置ずれの監視や、ステージの動作異常の監視を統括的に行うことができるようにしたロードロック装置及び真空処理装置を提供することをその課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、複数枚の基板がセットされたトレイを大気雰囲気中から真空雰囲気中に搬入し、または、このトレイを真空雰囲気中から大気雰囲気中に搬出するための本発明のロードロック装置は、上下方向に貫通する透孔を有して水平な姿勢で設置される隔壁と隔壁上面で透孔の外周縁部に気密保持した状態で当接する、下面が開放された筒状の蓋体と、隔壁の下方に配置されて、その平坦な上面にトレイの設置が可能であると共にこの隔壁に対して上下動自在なステージと、を備え、ステージを上動させると、ステージの外周面からその水平方向に延出されたフランジが隔壁下面で透孔の外周縁部に気密保持した状態で当接して、ステージの上部が透孔を通って蓋体の内部空間に突出して気密な内部空間が画成されるようにし、蓋体上面に所定波長の光を透過する窓部が設けられ、窓部の上方に、所定波長の光を照射する光源を持つ少なくとも２個の反射式の変位センサが設けられ、その中の第１変位センサがトレイの上面で反射した光を受光し、その中の第２変位センサがステージの上面で反射した光を受光するように構成されていることを特徴とする。
【０００９】
本発明によれば、窓部の上方に設けた第１変位センサを、トレイ上面で反射した光を所定の受光位置で受光するように予め調整すると共に、第２変位センサを、ステージ上面で反射した光を所定の受光位置で受光するように予め調整しておく。このように調整しておけば、ステージ上にトレイが存在する場合には第１変位センサの受光位置は変化しないが、ステージ上にトレイが存在しないと、第１変位センサがステージ上面で反射した光を受光し、トレイの厚みに起因して第１変位センサの受光位置が変化する。また、ステージに対するトレイの位置ずれが発生していない場合には第２変位センサの受光位置が変化しないが、トレイの位置ずれが発生すると、第２変位センサがトレイ上面で反射した光を受光し、トレイの厚みに起因して第２変位センサの受光位置が変化する。また、ステージの動作異常によりステージが傾くと、第１及び第２の変位センサの受光位置が大きく変化する。従って、第１及び第２の変位センサの受光位置の変化量に基づいて、トレイの在荷確認、ステージに対するトレイの位置ずれの監視や、ステージの動作異常の監視を統括的に行うことができる。
【００１０】
本発明においては、前記窓部の上方に、所定波長の光を照射する光源を持つ１個の反射式の第３変位センサが更に設けられ、第３変位センサがトレイまたはステージの上面で反射した光を受光するように構成されていることが好ましい。これによれば、第３変位センサを例えばステージ上面で反射した光を所定の受光位置で受光するように予め調整しておけば、トレイの位置ずれが発生すると、第３変位センサがトレイ上面で反射した光を受光し、第３変位センサの受光位置が変化する。従って、第２及び第３の変位センサのいずれか一方の受光位置が変化したときに、トレイの位置ずれを検知できる。さらに、第１〜第３の３つの変位センサの受光位置の変化量からステージの傾きを求めることができるため、求めた傾きからステージの動作異常をより精度良く検知することもできる。
【００１１】
上記少なくとも２個の反射式の変位センサを有するロードロック装置を備える本発明の真空処理装置は、前記隔壁が真空チャンバの上壁であると共に、この真空チャンバ内に前記ステージが設けられ、水平方向で互いに直交する方向をＸ軸方向及びＹ軸方向、ステージの下動位置を起点とし、この起点に向けてＸ軸方向一方にトレイを搬送できるトレイ搬送手段と、トレイ搬送手段で搬送されるトレイをステージ上に移載する移載手段と、トレイ搬送手段による搬送中にトレイにセットされた基板に対して真空処理を施す処理ユニットとを備え、Ｙ軸方向に位置するトレイの側面にその外方に突出する突片が設けられ、前記第１変位センサが突片で反射した光を受光するように構成されていることを特徴とする。
【００１２】
ここで、移載手段としては、トレイの突片に係合する係合部を持つものが含まれる。この場合、第１変位センサが突片で反射した光を所定の受光位置で受光するように予め調整すれば、トレイがＹ軸方向に位置ずれを起こしても、第１変位センサの受光位置が変化しないが、トレイが存在しない場合や、トレイがＸ軸方向又は回転方向に位置ずれを起こした場合には、第１変位センサがステージ上面で反射した光を受光するため、突片からステージ上面までの距離に起因して第１変位センサの受光位置が変化する。また、ステージの動作異常によりステージが傾くと、各変位センサの受光位置の変化量が大きくなる。このため、第１及び第２の両変位センサの受光位置の変化量から、トレイの在荷確認、トレイのＸ軸方向又は回転方向の位置ずれの監視や、ステージの動作異常の監視を統括的に行うことができる。さらに、前記ステージ上面にストッパ部を設け、移載手段によってトレイをＸ軸方向一方に更に移動させて搬送手段からステージ上に移載するとき、トレイのＸ軸方向一方の側面がストッパ部に当接してトレイがＸ軸方向に位置決めされるように構成すれば、トレイのＸ軸方向の位置ずれは発生しない。このため、第１及び第２の２つの変位センサの受光位置の変化量から、トレイの回転方向の位置ずれを検知できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態のロードロック装置が組み付けられた真空処理装置を示す模式的断面図。
【図２】ロードロック装置に設けられる変位センサを示す模式図。
【図３】ステージとその上面に設置されるトレイを示す模式的平面図。
【図４】本発明の変形例を示す模式的平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面を参照して、ロードロック装置が組み付けられたインライン式の真空処理装置を例に、本発明の真空処理装置の実施形態について説明する。以下においては、水平方向で互いに直交する方向をＸ軸方向及びＹ軸方向として説明する。
【００１５】
図１及び図２を参照して、ＶＭは、真空処理装置であり、真空処理装置ＶＭは、真空チャンバ１を備える。真空処理装置ＶＭには、複数枚の基板Ｓｗがセットされたトレイ２を大気雰囲気中から真空雰囲気中の真空チャンバ１内に搬入し、または、このトレイ２を真空雰囲気中の真空チャンバ１から大気雰囲気中に搬出するためのロードロック装置ＬＭが一体に組み付けられている。真空チャンバ１の上壁１１には、上下方向に貫通する透孔１１ａが開設され、この透孔１１ａを覆うように、真空チャンバ１の上壁１１には、下面が開放された筒状の蓋体１２が開閉自在（上下動自在）に設けられている。蓋体１２の下面にはＯリング１２ａが設けられており、当該下面を透孔１１ａの外周縁部に気密保持できるようになっている。透孔１１ａの下方に位置させて真空チャンバ１内には、トレイ２を設置可能な平坦な上面３ａを持つステージ３が上下動自在に設けられている。ステージ３には、ステージ３を上下動させる公知の昇降機構Ｅｖが連結されている。ステージ３の外周面には、水平方向に延出するフランジ３１が設けられており、このフランジ３１の上面には真空シール用のＯリング３２が設けられている。そして、ステージ３を上動させると、ステージ３のフランジ３１がＯリング３２を介して真空チャンバ１の下面で透孔１１ａの外周縁部に当接して蓋体１２の気密な内部空間２０が画成され、この内部空間２０にステージ３の上部が透孔１１ａを通って突出する。
【００１６】
蓋体１２の天板１２ｂには、所定波長の光を透過する窓部１３ａ，１３ｂ，１３ｃが設けられ、窓部１３ａ，１３ｂ，１３ｃの上方に、少なくとも２個（本実施形態では３個）の変位センサ１４ａ，１４ｂ，１４ｃが設けられている。変位センサ１４ａ，１４ｂ，１４ｃとしては、所定波長の光を照射する光源（図示省略）を持つ反射式変位センサが用いられる。このような変位センサの構造及びその受光位置の調整方法（キャリブレーション）は公知であるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【００１７】
真空処理装置ＶＭは、真空チャンバ１内でＸ軸方向他方にトレイ２を搬送する第１ローラコンベヤ４１と、第１ローラコンベヤ４１の下方でＸ軸方向一方にトレイ２を搬送する第２ローラコンベヤ４２とを備え、各ローラコンベヤ４１，４２は、Ｘ軸方向に並設される複数の回転ローラ４１ａ，４２ａを有する。そして、第２両ローラコンベヤ４２がトレイ搬送手段を構成する。第１ローラコンベヤ４１と第２ローラコンベヤ４２との間には隔絶板１５が設けられ、隔絶板１５により上下２つの処理空間が相互に隔絶される。これら第１及び第２のローラコンベヤ４１，４２のＸ軸方向他方側（図中左側）には、他のステージ３０が上下動自在に設けられている。
【００１８】
真空チャンバ１内には、ステージ３から第１ローラコンベヤ４１にトレイ２を移載する移載手段５１ａと、第２ローラコンベヤ４２からステージ３にトレイ２を移載する移載手段５１ｂと、第１ローラコンベヤ４１から他のステージ３０にトレイ２を移載する移載手段５２ａと、他のステージ３０から第２ローラコンベヤ４２にトレイ２を移載する移載手段５２ｂとが設けられている。これらの移載手段５１ａ，５１ｂ，５２ａ，５２ｂとしては、図１に拡大して示す如く、トレイ２のＹ軸方向に位置する側面から外方に突出する突片２１に係合する係合部５０を持ち、係合部５０を突片２１に係合させた状態でＸ軸方向に移動自在なスライダーを有するものを用いることができる。
【００１９】
第１ローラコンベヤ４１及び第２ローラコンベヤ４２によるトレイ２の搬送経路には処理ユニット６１，６２が夫々設けられ、トレイ２にセットされた各基板Ｓｗに所定の真空処理が施されるようになっている。尚、上記真空処理装置ＶＭは、マイクロコンピュータ、記憶素子やシーケンサ等を備えた公知の構造の制御手段Ｃｕを備え、この制御手段Ｃｕが、蓋体１２の作動、ベントガス導入手段の作動、真空ポンプの作動、ステージ３，３０の昇降機構Ｅｖの作動、処理ユニット６１，６２の作動等を統括制御するほか、後述の如く、変位センサ１４ａ，１４ｂ，１４ｃの受光位置の変化量から、トレイ２の在荷確認、トレイ２の位置ずれや、ステージ３の動作異常を検知する。以下、上記真空処理装置ＶＭの動作について説明する。
【００２０】
複数枚の基板Ｓｗがセットされたトレイ２を大気雰囲気中から真空雰囲気中の真空チャンバ１内に搬入するのに際しては、蓋体１２の下面を真空チャンバ１の上壁１１の上面に当接させた状態で、ステージ３をロードロック位置（図１中に実線で示す最上位置）に上動させる。これにより、ステージ３のフランジ３１がＯリング３２を介して真空チャンバ１の上壁１１の下面に当接し、ステージ３の上部が透孔１１ａを通って蓋体１２内に突出し、この蓋体１２内に気密な内部空間（言い換えると、真空チャンバ１内の真空雰囲気と隔絶された内部空間）２０が画成される。この内部空間２０にベントガスを導入して大気雰囲気にし、この状態で蓋体１２を開放した後、例えば多関節式の基板搬送ロボット（図示省略）を用いてステージ３上のトレイ２に対して複数枚の基板Ｓｗをセットする。基板Ｓｗのセットが完了すると、つまり、ステージ３に対するトレイ２の設置が終了すると、蓋体１２を閉じて内部空間２０を再び画成し、内部空間２０内を真空ポンプによって真空排気する。内部空間２０内が所定圧力まで減圧されると、ステージ３を下動させ、これにより、トレイ２が真空雰囲気中の真空チャンバ１内に搬入される。
【００２１】
そして、ステージ３が上記ロードロック位置よりも下方の上動位置（図１中に仮想線で示す中間位置）に達すると、移載手段５１ａによりステージ３から第１ローラコンベヤ４１にトレイ２を移載し、第１ローラコンベヤ４１によりトレイ２をＸ軸方向他方（図１中の左側）に搬送しながら、その搬送経路に設けられた処理ユニット６１によって各基板Ｓｗに所定の真空処理が施される。その後、移載手段５２ａにより第１ローラコンベヤ４１から他のステージ３０にトレイ２を移載し、ステージ３０を下動し、移載手段５２ｂによりステージ３０から第２ローラコンベヤ４２にトレイ２を移載する。第２ローラコンベヤ４２によりトレイ２をＸ軸方向一方（図１中の右側）に搬送しながら、その搬送経路に設けられた処理ユニット６２によって各基板Ｓｗに所定の真空処理が施される。処理ユニット６１，６２としては、基板Ｓｗに対してスパッタリング法により成膜処理を施すためのロータリーカソードを備えるものを用いることができる。尚、処理ユニット６１，６２により施される真空処理としては、成膜処理に限らず、エッチング処理や熱処理等を例示できる。処理ユニット６１，６２は各処理に必要な公知の構成を持つため、ここでは詳細な説明を省略する。また、処理ユニット６１，６２により同一の真空処理を施してもよいし、異なる真空処理を施してもよい。
【００２２】
また、ステージ３を上記上動位置よりも下方の下動位置（図１中に仮想線で示す最下位置）に下動し、移載手段５１ｂにより第２ローラコンベヤ４２からステージ３にトレイ２を移載する。このトレイ２を真空雰囲気中の真空チャンバ１から大気中に搬出するため、ステージ３を上記ロードロック位置まで上動して内部空間２０を画成し、この内部空間２０内にベントガスを導入して大気雰囲気とする。
【００２３】
ところで、第２ローラコンベヤ４２からステージ３にトレイ２を移載したときに、ステージ３に対してトレイ２が位置ずれしていると、ステージ３のロードロック位置にてトレイ２に対する基板Ｓｗの交換ができない。また、第２ローラコンベヤ４２からステージ３にトレイ２を移載する際に、ステージ３に別のトレイ２が存在すると、トレイ２同士が接触してトレイ２や基板Ｓｗの破損を招く。更に、ステージ３の動作異常に起因してステージ３が傾くことがある。
【００２４】
そこで、本実施形態では、窓部１３ａの上方に設けた第１変位センサ１４ａを、例えばステージ３の下動位置にて、トレイ２の上面２ａで反射した光を所定の受光位置で受光するように予め調整すると共に、窓部１３ｂの上方に設けた第２変位センサ１４ｂを、ステージ３の上面３ａで反射した光を所定の受光位置で受光するように予め調整しておく。図３を参照して、Ｐａは、第１変位センサ１４ａにより受光する光の反射位置を、Ｐｂは、第２変位センサ１４ｂにより受光する光の反射位置を示す。このように調整しておけば、ステージ３上にトレイ２が存在する場合には第１変位センサ１４ａの受光位置（第１変位センサ１４ａからトレイ２までの距離）は変化しないが（たとえ変化したとしてもその変化量が極めて小さい）、ステージ３上にトレイ２が存在しないと、第１変位センサ１４ａがステージ３の上面３ａで反射した光を受光するため、トレイ２の厚みに起因して第１変位センサ１４ａの受光位置（距離）が変化する（つまり、第１変位センサ１４ａにより受光する光の反射位置は、トレイ２の有無により受光距離が（略トレイ２の厚み分）変化する位置とする必要がある）。また、ステージ３に対するトレイ２の位置ずれが発生していない場合には第２変位センサ１４ｂの受光位置（第２変位センサ１４ｂからステージ３までの距離）が変化しないが、トレイ２の位置ずれが発生し、その位置ずれが第２変位センサ１４ｂの光の反射位置まで到達すると、第２変位センサ１４ｂがトレイ２の上面２ａで反射した光を受光し、トレイ２の厚みに起因して第２変位センサ１４ｂの受光位置（距離）が変化する。また、ステージ３の動作異常によりステージ３が傾くと、第１及び第２の変位センサ１４ａ，１４ｂの少なくとも一方の受光位置（距離）が、例えばステージ３の下動位置にて、予め調整した際に制御手段Ｃｕ内に記憶した、各上面にて反射した光に基づく当初位置（距離）よりも大きく変化する。従って、第１及び第２の変位センサ１４ａ，１４ｂの受光位置の変化量に基づいて、トレイ２の在荷確認、ステージ３に対するトレイ２の位置ずれの監視や、ステージ３の動作異常の監視を統括的に行うことができる。尚、蓋体１２の内部空間２０が真空雰囲気か大気雰囲気かによって、蓋体１２ひいては蓋体１２に設けられた（レンズとして機能する）窓部１３ａ，１３ｂ，１３ｃの位置が変わるため、各変位センサの受光位置の調整及び当初位置（距離）の制御手段Ｃｕ内への記憶は、蓋体１２の内部空間２０を真空引きした後に行うことが好ましい。尚、制御手段Ｃｕ内への当初位置（距離）の記憶は、下動位置および上動位置の双方共に記憶されることが検出精度向上、特に傾き検知（ステージ３の動作異常の監視）の面から望ましい。
【００２５】
また、窓部１４ｃ上方の第３変位センサ１４ｃをステージ３の上面３ａで反射した光を所定の受光位置で受光するように予め調整しておけば、トレイ２の位置ずれが発生し、第３変位センサ１４ｃがトレイ２の上面２ａで反射した光を受光する位置となった場合、第３変位センサ１４ｃの受光位置（ステージ３の上面３から第３変位センサ１４ｃまでの距離）が変化する。尚、図３に示すＰｃは、第３変位センサ１４ｃにより受光する光の反射位置を示す。従って、第２及び第３の変位センサ１４ｂ，１４ｃのいずれか一方の受光位置が変化したときに、トレイ２の位置ずれを検知でき、トレイ２の位置ずれについて回転方向（Ｚ軸回転方向）の検出精度を向上させる結果を得ることができる。さらに、第１〜第３の３つの変位センサ１４ａ〜１４ｃの受光位置の変化量からステージ３の傾きを求めることができるため、求めた傾きからステージ３の動作異常をより精度良く検知することもできる。つまり、検出点を３点とし、かつ、３点のうち２点についてはトレイ２のＸ軸方向及びＺ軸回転方向の位置ずれを検出を兼ねる構成とし、また、各センサから反射面までの距離をも測定し、この測定値と当初記憶値とを比較することで、トレイ２の有無、トレイ２のＸ軸方向及びＺ軸回転方向の姿勢の検出、およびステージ３の平面度（当初記憶値からの逸脱度）の検出を同時に行うことを可能とした。
【００２６】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態のものに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない限り、種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では、第１変位センサ１４ａが、トレイ２の上面２ａで反射した光を所定の受光位置で受光するように予め調整しているが、図４に示す如く第１変位センサ１４ａがトレイ２の突片２１で反射した光を所定の受光位置で受光するように、窓部１３ａ及び第１変位センサ１４ａの位置を含めて予め調整してもよい。これによれば、トレイ２がＹ軸方向で位置ずれを起こしたとしても、第１変位センサ１４ａの受光位置は変化しないが、トレイ２が存在しない場合や、トレイ２がＸ軸方向又は回転方向に位置ずれを起こした場合には、第１変位センサ１４ａがステージ３の上面３ａで反射した光を受光するため、突片２１からステージ３の上面３ａまでの距離に起因して第１変位センサ１４ａの受光位置が変化する。このため、第１及び第２の両変位センサ１４ａ，１４ｂの受光位置の変化量から、トレイ２の在荷確認、トレイ２のＸ軸方向又は回転方向の位置ずれの監視、ステージ３の動作異常の監視を統括的に行うことができる。
【００２７】
さらに、図４に示すように、ステージ上面３ａにストッパ部３３を設け、トレイ２をＸ軸方向一方に移動させて第２ローラコンベア４２からステージ３上に移載するとき、トレイ２のＸ軸方向一方の側面２ｂがストッパ部３３に当接してトレイ２がＸ軸方向に位置決めされるように構成すれば、トレイ２のＸ軸方向の位置ずれは発生しない。このため、第１及び第２の２つの変位センサ１４ａ，１４ｂの受光位置の変化量から、トレイ２の回転方向の位置ずれを検知できる。
【００２８】
また、上記実施形態では、２つのローラコンベヤ４１，４２を備える場合を例に説明したが、１つのローラコンベヤを備えるものにも適用できる。この場合、ローラコンベヤによりトレイをＸ軸方向に往復動させながら、真空ユニットにより基板に対して真空処理が施される。尚、トレイ搬送手段としては、ローラコンベヤに限らず、例えば２つの駆動ローラにチェーンを巻き掛けたものを用いることができる。
【００２９】
また、上記実施形態では、第３変位センサ１４ｃを、ステージ３の上面３ａで反射した光を所定位置で受光するように調整する場合を例に説明したが、トレイ２の上面２ａで反射した光を所定位置で受光するように調整してもよい。この場合も、上記実施形態と同様に、３つの変位センサ１４ａ〜１４ｃの受光位置からステージ３の傾きを求めることができ、ステージ３の動作異常を検知できる。
【符号の説明】
【００３０】
ＬＭ…ロードロック装置、ＶＭ…真空処理装置、Ｓｗ…基板、１…真空チャンバ、１１…隔壁，真空チャンバ上壁、１１ａ…透孔、１２…蓋体、１３ａ〜１３ｃ…窓部、１４ａ…第１変位センサ、１４ｂ…第２変位センサ、１４ｃ…第３変位センサ、２…トレイ、２ａ…トレイ２の上面、２１…突片、３…ステージ、３ａ…ステージの上面、３１…フランジ、３３…ストッパ部、４２…第２ローラコンベヤ（トレイ搬送手段）、６１，６２…処理ユニット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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