(57)【要約】      （修正有）【課題】シール部において湾曲することが出来、額縁領域の幅を小さくできる液晶表示装置を実現する。【解決手段】ＴＦＴ基板１００と対向基板２００がシール材２０によって接着し、内部に液晶３００が封止され、４辺を有し、表示領域（Ａ．Ａ．）と端子領域を有する液晶表示装置であって、端子領域と表示領域（Ａ．Ａ．）の間には、シール材２０が存在し、シール材２０と表示領域（Ａ．Ａ．）との間は接続領域となっており、端子領域は、シール材において前記ＴＦＴ基板の背面に湾曲し、シール材２０と表示領域（Ａ．Ａ．）の間の接続領域には、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００を接着する接着スペーサ３０が形成されている。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性である第１の基板と、前記第１の基板に対向して配置される第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板を接着するシール材と、前記第１の基板と前記第２の基板間に封止された液晶と、を有する液晶表示装置であって、
表示領域と周辺領域を有し、
前記シール材は、前記周辺領域に配置され、
前記周辺領域において、前記シール材の前記表示領域側には、前記第１の基板と前記第２の基板を接着する接着スペーサが形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１の基板は、４辺を有し、その１辺に外部との信号を送受するための端子領域を有し、
前記接着スペーサは、前記端子領域に対向する領域において複数形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記表示領域には、通常状態で対抗する基板に接触しているメイン柱状スペーサと、対向基板が押し圧力を受けた場合に、対向する基板に接触するサブ柱状スペーサが存在し、
前記接着スペーサの配置密度は、前記表示領域の端部におけるメイン柱状スペーサと前記サブ柱状スペーサの合計の配置密度と同等であることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記接着スペーサの配置密度は、前記表示領域近傍から前記シール材近傍にかけて増大していることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記表示領域には、通常状態で対向する基板に接触しているメイン柱状スペーサと、対向基板が押し圧力を受けた場合に、対向する基板に接触するサブ柱状スペーサが存在し、
前記接着スペーサの径は、前記メイン柱状スペーサの径か前記サブの径のいずれかと同等であることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記表示領域には、通常状態で対抗する基板に接触しているメイン柱状スペーサと、対向基板が押し圧力を受けた場合に、対向する基板に接触するサブ柱状スペーサが存在し、
前記表示領域の周辺において、前記メイン柱状スペーサの一部は、前記接着スペーサによって置き換わっていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記接着スペーサは、ポリマーウォールによって形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記接着スペーサは、加熱することによって接着性を現出し、対向する基板と接着する接着性柱状スペーサであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記接着スペーサは、紫外線を照射されることによって接着性を現出し、対向する基板と接着する接着性柱状スペーサであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
４辺を有し、表示領域とシール部を有する液晶表示装置であって、
ＴＦＴ基板と対向基板が前記シール部に形成されたシール材によって接着し、内部に液晶が封止され、
前記表示領域と前記シール材の間は接続領域となっており、
前記接続領域には、前記ＴＦＴ基板と対向基板を接着する接着スペーサが形成され、
前記接着スペーサが形成されている辺に対応する辺では、前記シール材が形成されている部分において、前記シール部が背面に湾曲していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】
前記接着スペーサが形成されている辺は複数存在することを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記接着スペーサは４辺すべてに形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記接着スペーサは、ポリマーウォールによって形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記接着スペーサは、加熱することによって接着性を現出し、対向する基板と接着する接着性柱状スペーサであることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記接着スペーサは、紫外線を照射されることによって接着性を現出し、対向する基板と接着する接着性柱状スペーサであることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置に係り、特に、フレキシブルに湾曲させることが出来る液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して、対向基板が配置され、ＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶層が挟持されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。
【０００３】
ＴＦＴ基板と対向基板との間隔が変動すると、液晶の層厚が変動することになり、輝度むらや色むらの原因になる。通常は、対向基板に柱状スペーサを形成し、柱状スペーサによって、ＴＦＴ基板と対向基板の間隔を一定に保っている。
【０００４】
柱状スペーサによって、ＴＦＴ基板と対向基板の間隔を制御することはできるが、ＴＦＴ基板と対向基板の横ずれ、すなわち、ＴＦＴ基板と対向基板の主面方向のずれは制御することが出来ない。ＴＦＴ基板と対向基板とで横ずれが生ずると、ＴＦＴ基板側に形成された画素電極と、対向基板側に形成されたカラーフィルタあるいはブラックマトリクスとがずれて、混色、色むら、輝度むら等を引き起こす。
【０００５】
引用文献１乃至３には、液晶中にモノマーを分散させ、ブラックマトリクスのホールを通して紫外線を透過させ、この紫外線によって、該モノマーをポリマー化して、いわゆる、ポリマーウォールを形成する構成が記載されている。ポリマーウォールはＴＦＴ基板とも対向基板とも接着しているので、ＴＦＴ基板と対向基板の横ずれを防止することができる。
【０００６】
引用文献４乃至５には、熱硬化性、あるいは、紫外線硬化性の柱状スペーサを対向基板あるいはＴＦＴ基板のいずれかに形成し、ＴＦＴ基板と対向基板を接着した後、柱状スペーサを加熱するか、柱状スペーサに紫外線を照射することによって、柱状スペーサに接着性を発現させて、ＴＦＴ基板あるいは対向基板と接着させ、これによって、ＴＦＴ基板と対向基板の横ずれを防止する構成が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−１９５２７３号公報
【特許文献２】特開２０１２−７３４２１号公報
【特許文献３】特開２０１７−１５７８７号公報
【特許文献４】特開２００３−３３００２９号公報
【特許文献５】特開２０１１−６５０８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
液晶表示装置は、ＴＦＴ基板及び対向基板をポリイミド等の可撓性の樹脂で形成することによって、フレキシブルに湾曲させることが出来る表示装置を実現することが出来る。このような表示装置では、表示領域は、平面に保ったまま、非表示領域である周辺領域を湾曲させて、表示領域の裏側に折り返すことによって、額縁領域を極小化する液晶表示装置を実現することができる。
【０００９】
ＴＦＴ基板と対向基板はシール材によって接着し、シール材の内側に液晶材料が充填されているが、液晶表示装置の額縁領域を小さくするためには、シール材が形成されている周辺領域において、湾曲させる必要がある。周辺領域の一辺には、外部と信号の授受を行うための端子類が形成される部分があり、表示領域と端子間で複数の配線が形成される。周辺領域を湾曲させた場合、このような領域に形成された配線も曲げられることになるが、これらの配線は、基板の曲げによる引張りや圧縮の応力を受けるので断線をしやすい。
【００１０】
一方、周辺領域を湾曲させた場合、湾曲部分にはシール材が形成されることになる。シール材を湾曲させると、シール材が形成されたＴＦＴ基板や対向基板に、引張や圧縮の応力を与える一因となる。しかしながら、本発明者らが検討したところ、湾曲位置とシール材の液晶材料側の境界位置が近いほど、シール材からＴＦＴ基板が受けた引張応力の影響で、配線が断線するリスクが高くなり、湾曲位置がシール材の液晶材料側の境界位置から離れるほど、引張応力の影響が弱くなることが分かった。配線の断線リスクを考慮するとシール材の液晶材料からの境界位置をなるべく湾曲位置から離す方が有効であるが、その分平面部でのシール材の幅が大きくなり、表示領域側にもシール材が配置されることになり、額縁領域を狭くすることができない。
【００１１】
本発明の課題は、周辺を湾曲することが可能な液晶表示装置において、配線の断線を防止し、且つ狭額縁を実現することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。
【００１３】
（１）ＴＦＴ基板と対向基板がシール材によって接着し、内部に液晶が封止され、４辺を有し、表示領域と端子領域を有する液晶表示装置であって、前記端子領域と前記表示領域の間には、前記シール材が存在し、前記シール材と前記表示領域との間は接続領域となっており、前記端子領域は、前記シール材において前記ＴＦＴ基板の背面に湾曲し、前記シール材と前記表示領域の間の前記接続領域には、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板を接着する接着スペーサが形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【００１４】
（２）４辺を有し、表示領域とシール部を有する液晶表示装置であって、
ＴＦＴ基板と対向基板が前記シール部に形成されたシール材によって接着し、内部に液晶が封止され、前記表示領域と前記シール材の間は接続領域となっており、前記接続領域には、前記ＴＦＴ基板と対向基板を接着する接着スペーサが形成され、前記接着スペーサが形成されている辺に対応する辺では、前記シール材が形成されている部分において、前記シール部が背面に湾曲していることを特徴とする液晶表示装置。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】液晶表示装置の平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図であり、本発明の前提となる構成を説明するための図である。
【図３】図２においてシール部を湾曲させた状態を示す断面図である。
【図４】本発明に対応する図１のＡ−Ａ断面図である。
【図５】図４においてシール部を湾曲させた状態を示す断面図である。
【図６】実施例１におけるポリマーウォールの形成方法を示す断面図である。
【図７】液晶表示装置において、紫外線照射領域を示す平面図である。
【図８】紫外線照射マスクの平面図の例である。
【図９】ポリマーウォールの他の形成方法を示す断面図である。
【図１０】ポリマーウォールのさらに他の形成方法を示す断面図である。
【図１１】ポリマーウォールの配置の例を示す断面図である。
【図１２】ポリマーウォールの配置の他の例を示す断面図である。
【図１３】ポリマーウォールの配置のさらに他の例を示す断面図である。
【図１４】実施例２における接着性柱状スペーサの形成方法を示す断面図である。
【図１５】実施例２における接着性柱状スペーサの他の形成方法を示す断面図である。
【図１６】実施例３における液晶表示装置の平面図である。
【図１７】実施例３における液晶表示装置の他の例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下に本発明の内容を、実施例を用いて説明する。
【実施例１】
【００１７】
図１は液晶表示装置の例を示す平面図である。図１において、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００がシール材２０によって接着し、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間に液晶が挟持されているＴＦＴ基板１００と対向基板２００が重なった領域に表示領域１４が形成されている。
【００１８】
ＴＦＴ基板１００の表示領域１４において、走査線１１が横方向（ｘ方向）に延在し、縦方向（ｙ方向）に配列している。また、映像信号線１２が縦方向に延在し、横方向に配列している。走査線１１と映像信号線１２とで囲まれた領域が画素１３となっている。
【００１９】
ＴＦＴ基板１００は対向基板２００よりも大きく形成されており、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００が重なっていない部分は端子領域１５となっている。端子領域１５には、液晶表示装置に電源や信号を供給するためのフレキシブル配線基板４００が接続している。図１では、液晶表示装置を駆動するドライバＩＣは、フレキシブル配線基板４００に搭載される。
【００２０】
表示領域１４の端部（最外周の走査線１１や映像信号線１２）とシール材２０との間には所定の間隔を確保するための領域ａが存在し、領域ａの幅の値は例えば０．２ｍｍ程度である。シール材２０の幅は、端子領域１５を除く３辺では、０．５ｍｍ程度と小さく形成されている。図１において、端子領域１５に隣接するシール材２０の幅は大きく、２ｍｍ乃至３ｍｍ程度である。これは、端子領域１５に隣接するシール材２０の部分で、端子領域１５を表示領域１４の背面に折り返すためである。
【００２１】
しかしながら、発明者らの検討により、折り返しを行う湾曲領域では、湾曲されたシール材２０がＴＦＴ基板１００に応力を及ぼし、シール材２０の幅により、ＴＦＴ基板２０にかかる引張応力や圧縮応力が変化することがわかった。また、発生した応力によっては、湾曲領域近辺の金属からなる配線が断線する危険が生ずることがわかった。以下、そのことについて詳述する。
【００２２】
図２は、図１のＡ−Ａ断面図である。図２において、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００がシール材２０によって接着し、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間に液晶３００が挟持されている。図２において、ＴＦＴ基板１００が対向基板２００とオーバーラップしていない部分は端子領域１５となっており、この部分にはフレキシブル配線基板４００が接続している。フレキシブル配線基板４００には、液晶表示装置を駆動するドライバＩＣが搭載される。
【００２３】
ＴＦＴ基板１００および対向基板２００は、ポリイミド等の透明な可撓性の材料で形成される。ＴＦＴ基板１００には、走査線１１や映像信号線１２などの金属からなる配線や、ＴＦＴを形成するための半導体層、その他、無機絶縁膜や有機絶縁膜などの複数の層が形成されている。図２においては、簡略化のため、ＴＦＴ基板１００上には配線１０１のみを表示している。配線１０１は、アルミニウムやチタンなどの金属からなる配線であり、表示領域１４では走査線１１や映像信号線１２となり、周辺領域である端子領域１５では、走査線１１や映像信号線１２に電気的に接続される引出配線となる。
【００２４】
また、対向基板２００には、表示領域１４の液晶３００側にカラーフィルタや平坦化膜などの複数の層が形成されるが、図中では省略している。ＴＦＴ基板１００の下側には、下偏光板１１０が接着している。また、対向基板２００の上には、上偏光板２１０が接着している。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００は、ポリイミドで形成され、厚さはいずれも１０μｍ程度であり、フレキシブルに湾曲することが出来る。一方、下偏光板１１０と上偏光板２１０は厚さが１００μｍ程度であるため、ＴＦＴ基板１００や対向基板２００のようには、容易に湾曲しない。
【００２５】
図２の構成では、偏光板１１０、２１０は、表示するための画素が形成された表示領域１４（Ａｃｔｉｖｅ  Ａｒｅａ、以下、Ａ．Ａ．）よりも広い面積で貼り付けられる。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００は、偏光板１１０、２１０よりも外側の周辺領域で折り曲げられることになる。
【００２６】
図３は、図２の構成をシール材２０において湾曲させた状態を示す断面図である。図３において、領域ａは、表示領域１４の端部とシール材２０の端部との間隙であり、この部分を接続領域と呼ぶこともある。シール材２０が湾曲を始める点は、上偏光板２１０の端部から、ある程度離れた領域ｂの左側からである。すなわち、領域ｂは、シール材２０が平坦な形状で保持される領域である。
【００２７】
表示領域１４から液晶表示パネルの外形までを額縁領域と称するが、図３では幅ｆである。額縁領域の幅ｆはできるだけ小さくすることが要求されている。図３において、額縁領域の幅ｆを決めるのは、領域ａ、ｂの幅及び、シール材２０を挟んだＴＦＴ基板１００と対向基板２００の湾曲部分の曲率半径ｒである。図中では、曲率半径ｒの領域は大きく書かれているが、実際には、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００は各々の厚さは１０μｍ程度なので、曲率半径ｒの領域は相当に小さくすることが出来る。したがって、額縁の幅ｆに対して大きな影響を持つのは領域ａ及びｂである。
【００２８】
接続領域である領域ａの幅は、表示領域（Ａ．Ａ．）からシール材２０の端部までの距離であり、通常は０．２ｍｍ程度確保する必要がある。領域ａを確保する理由は、シール材２０は液晶を汚染する材料を含む場合があるため、シール材２０を起因とした液晶３００への汚染の影響が、表示領域（Ａ．Ａ．）に対して影響を与えないようにするためである。
【００２９】
図３において、領域ｂは、シール材２０の液晶３００側の端部を基準にして、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００が湾曲を始める位置までの距離である。領域ｂは小さいほど、額縁領域の幅ｆを小さくすることが出来る。したがって、理想的には領域ｂはゼロが望ましい。しかしながら、シール材２０が形成された位置で湾曲させると、シール材２０の液晶３００と接する側の端部と近接する部分（図３のＴで示す領域）、言い換えると接続領域に、引張応力が発生する。この引張応力の大きさは、領域ｂが小さくなるほど大きくなり、領域Ｔの位置にある配線１０１に過大な引張横領が加わり、断線し易い状態となることが、発明者らの検討で分かった。
【００３０】
したがって、図２及び図３の構成では、断線のリスクを低下させるために、シール材２０の液晶３００側の端部に曲げ応力が発生しないようにするため、シール材２０の平坦な領域ｂを十分大きく取らねばならず、額縁領域の幅ｆを小さくすることが出来ない。
【００３１】
図４はこれを対策する本発明を示す断面図である。図４において、表示領域（Ａ．Ａ．）の端部と隣接する接続領域に、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００を接着する柱状の接着スペーサ３０が複数形成されている。接着スペーサ３０はＴＦＴ基板１００と対向基板２００の両方と接着している。したがって、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００を接着するという意味では、シール材２０と同様な効果を有している。また、接着スペーサ３０には、液晶を汚染する材料は含まれない。図４のその他の構成は図２と同じである。
【００３２】
図５は、図４の構成をシール材２０において湾曲させた状態を示す断面図である。図５において、領域ａの表示領域（Ａ．Ａ．）と隣接する部分に接着スペーサ３０が形成され、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００を接着している。このようにすることで、領域ａを、実質的にシール材２０を充填した状態と同じ状態にすることができる。すなわち、シール材２０を平坦化する領域ｂを領域ａの範囲まで拡張したことと同じである。
【００３３】
したがって、領域ｂの液晶３００側の端部は、図５で示すように、領域ｂの中間地点と等価であり、シール材２０は十分に平坦性が保たれるため、この付近のＴＦＴ基板１００に引張応力がかかるようなことが無い。よって、図３に示すような引張応力が発生する領域Ｔは、シール材２０の端部付近には生じないため、この部分の配線１０１は、断線を免れることが出来る。
【００３４】
一方、接着スペーサ３０の内側、すなわち、表示領域（Ａ．Ａ．）の端部においては、ＴＦＴ基板１００に引張応力が発生するが、接着スペーサ３０は柱状であることから、領域ａにおいて、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００を接着する面積は、シール材２０を充填した時に比べ、ごくわずかである。このため、接着スペーサ３０周辺のＴＦＴ基板１００に発生する引張応力は、図３の場合に比べてはるかに小さくなる。
【００３５】
図５の構成では、シール材２０の液晶３００側の端部において、すぐに湾曲を始めたとしても（領域ａ≒領域ｂの状態）、接続領域の幅である領域ａが実質的に領域ｂを兼ねるので、シール材２０を平坦化しておいた状態と同じ状態が領域ａの分だけ存在していることになる。したがって、図３の場合に比べて、額縁領域ｆは、領域ａのみで対応することができ、配線の断線リスクを減らしつつ、より狭額縁化を行うことが可能となる。
【００３６】
図４及び図５で説明した接着スペーサ３０は表示領域（Ａ．Ａ．）の外側に配置するので、画像表示には影響しない。しかし、液晶の配向を乱さない程度の大きさであることが望ましい。表示領域（Ａ．Ａ．）には、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を規定するための、柱状スペーサが配置しているが、接着スペーサ３０は表示領域（Ａ．Ａ．）における柱状スペーサと似た形態であると、画面の違和感が生じにくい。つまり、接着スペーサ３０は、額縁領域において、複数形成され、密度や径も表示領域（Ａ．Ａ．）における柱状スペーサと似ていることが望ましい。
【００３７】
図６乃至図１３は、このような接着スペーサ３０をいわゆるポリマーウォール４０によって形成する場合の例である。なお、製造原理は同じであるが、本発明においては、ポリマーウォールによるスペーサは壁状ではなく、柱状ではあるが、慣用としてポリマーウォール４０と呼ぶことにする。
【００３８】
図６は本発明において、ポリマーウォール４０を形成する手段を示す断面図である。ポリマーウォール４０は、液晶層３００中に、紫外線によってポリマー化するモノマーを分散させ、紫外線を照射することによって、その部分をポリマー化する。そうすると、モノマーが周辺から拡散してきてポリマー化が進行し、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００を接着するポリマーウォール４０が出来る。ポリマーウォール４０はＴＦＴ基板１００と対向基板２００の両方と接着するので、図４および図５で説明した本発明の作用を発揮することが出来る。
【００３９】
図６において、対向基板の表示領域（Ａ．Ａ．）にはカラーフィルタ２０１が形成されている。また、対向基板２００の表示領域（Ａ．Ａ．）の外側の接続領域にはブラックマトリクス２０２が形成され、ブラックマトリクス２０２には、紫外線を通過させるためのホール２０２１が形成されている。ブラックマトリクス２０２を覆ってオーバーコート膜２０３が形成されている。ＴＦＴ基板１００には、絶縁層１０２の下で、ブラックマトリクス２０２のホール２０２１に対応した部分に遮光膜１０３が金属又は合金によって形成されている。ポリマーウォール４０は透明なので、ブラックマトリクス２０２のホール２０２１を通してバックライトの光が通過することを防止するためである。
【００４０】
図６において、ブラックマトリクス２０２のホール２０２１を通して紫外線ＵＶが液晶層３００中に照射されると、光重合反応によって、液晶層３００に分散していたモノマーがポリマー化され、これが進行して柱状のポリマーウォール４０が形成される。
【００４１】
ところで、本発明で用いる紫外線ＵＶは、極めて限られた領域に照射される。例えば、図７にドットで示す領域１５１である。図７にドットで示す領域は、例えば、幅が０．２ｍｍで、長さは、表示領域１４の短辺の長さである。ポリマーウォール４０を形成するための紫外線ＵＶは強度が均一であることが必要な場合がある。本発明で使用する紫外線ＵＶは、極めて限られた領域に照射されるので、紫外線ＵＶの強度を容易に均一化することが出来る。
【００４２】
図８は、図６における紫外線ＵＶのためのマスク１５０の例を示す平面図である。図８において、マスク１５０は、点線で示すＴＦＴ基板１００よりも若干大きな外形を持つものとして示されている。マスク１５０に開けられた開口１５１で示される領域が、紫外線ＵＶが液晶装置の対抗基板に照射される領域である。つまり、この範囲においてのみ、紫外線強度が均一になるように制御すればよい。
【００４３】
図９はポリマーウォール４０を形成する他の手段を示す断面図である。図９が図６と異なる点は、ポリマーウォール４０を形成するためのマスク１５０には、ポリマーウォール４０に対応して、小さな開口１５２が多数形成されていることである。このような照射方法は、紫外線ＵＶを、ポリマーウォール４０を形成する部分にのみに照射し、他の部分には照射しないようにすることによって、他の部分の紫外線による劣化を防止したい場合に用いられる。本実施例では、対向基板２００はポリイミド等の樹脂で形成されているので、紫外線ＵＶの照射はできるだけ避けたい場合があるからである。
【００４４】
図９において、紫外線マスク１５０は対向基板２００と密着しているが、作業の都合上、非接触（ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光としてもよい。図９の他の構成は、図６で説明したのと同様である。すなわち、この場合もブラックマトリクス２０２に紫外線ＵＶを通過させるための開口を設け、ＴＦＴ基板１００には、このブラックマトリクス２０２の開口２０２１からバックライトからの光が抜けていくのを防止するための遮光膜１０３が形成されている。
【００４５】
図１０は、ポリマーウォール４０を形成するための、さらに他の手段を示す断面図である。図１０では、紫外線マスク１５０を用いてＴＦＴ基板１００の背面からポリマーウォール４０を形成するための紫外線ＵＶを照射する。ＴＦＴ基板１００側にはブラックマトリクス２０２は存在していないので、紫外線マスク１５０によって、紫外線ＵＶの照射領域を規定する。ポリマーウォール４０の直径は例えば、１０μｍ程度なので、この程度の開口１５２を紫外線マスク１５０に多数形成することになる。図１０では、紫外線マスク１５０はＴＦＴ基板１００に密着しているが、プロキシミティ（ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光としてもよい。
【００４６】
図１０では、ブラックマトリクス２０２には、ポリマーウォール４０のためのホール２０２１は形成されていない。したがって、ＴＦＴ基板１００側における遮光膜１０３も不要である。
【００４７】
本実施例の特徴は、シール材２０が存在していない額縁領域、すなわち、シール材２０の端部と表示領域（Ａ．Ａ．）の端部の間の接続領域である領域ａにおいて、ポリマーウォール４０によって、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００を固着することである。この目的のためには、ポリマーウォール４０の密度は大きいほうがよい。しかし、表示領域（Ａ．Ａ．）と隣接して、ポリマーウォール４０を多く形成すると、表示領域（Ａ．Ａ．）の端部付近における液晶の配向方向に影響を与え、周辺において、輝度むら、色むら等が生ずる危険がある。
【００４８】
図１１に示す構成は、ポリマーウォール４０間の間隔ｐｐを表示領域（Ａ．Ａ．）における柱状スペーサの配置間隔と同じにすることによって、表示領域周辺における画像のむらを抑えるものである。表示領域（Ａ．Ａ．）の柱状スペーサには、通常状態で、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を規定するメイン柱状スペーサと、対向基板２００に押し圧力が加わった時に、ＴＦＴ基板１００等、対向する基板と接触するサブ柱状スペーサとがある。
【００４９】
表示領域の周辺での、画像の違和感を抑えるためには、メイン柱状スペーサとサブ柱状スペーサを含めた表示領域（Ａ．Ａ．）における柱状スペーサの配置間隔と同じとすればよい。一方、サブ柱状スペーサの数はメイン柱状スペーサの数よりもはるかに多い。したがって、図１１における間隔ｐｐは表示領域（Ａ．Ａ．）周辺におけるサブ柱状スペーサの配置間隔と同じにしてもよい。
【００５０】
また、メイン柱状スペーサとサブ柱状スペーサを含めた柱状スペーサの配置間隔は、表示領域（Ａ．Ａ．）の場所によって異なる場合がある。この場合は、図１１におけるポリマーウォール４０の間隔ｐｐは、表示領域（Ａ．Ａ．）周辺における柱状スペーサの配置間隔と同じにすればよい。なお、図１１は一方向の断面における間隔のみを記載しているが、紙面の鉛直方向における間隔についても同様である。
【００５１】
また、ポリマーウォール４０の径も表示領域（Ａ．Ａ．）における柱状スペーサの径と同等であることが望ましい。表示領域（Ａ．Ａ．）において、メイン柱状スペーサとサブ柱状スペーサの径が異なる場合がある。通常は、サブ柱状スペーサの径が大きい場合が多い。このような、場合、ポリマーウォールの径は、表示領域（Ａ．Ａ．）におけるサブ柱状スペーサの径と同じであることが望ましい。
【００５２】
図１２は、本実施例におけるポリマーウォール４０の配置を示す他の形態を示す断面図である。図１２では、ポリマーウォール４０の間隔が、表示領域（Ａ．Ａ．）付近の間隔ｐ１と、シール材２０付近の間隔ｐ２とで異なっている。シール材２０付近の間隔ｐ２の方が、表示領域（Ａ．Ａ．）付近の間隔ｐ１よりも小さい。
【００５３】
さらに、表示領域（Ａ．Ａ．）付近の間隔ｐ１は、表示領域（Ａ．Ａ．）における柱状スペーサの間隔とほぼ一致している。このような配置によって、表示領域（Ａ．Ａ．）周辺における液晶の配向に対しては影響を与えず、領域ａを有する接続領域全体としては、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００との接着力を向上させることが出来る。
【００５４】
図１３は、本実施例におけるさらに他の形態を示す断面図である。図１３が図１２と異なる点は、表示領域（Ａ．Ａ．）の周辺において、メイン柱状スペーサ６０の一部に替えてポリマーウォール４０を配置している点である。メイン柱状スペーサ６０の一部をポリマーウォールで置き換えることによって、表示領域（Ａ．Ａ．）において、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００との横方向のズレを軽減する効果が期待出来る。
【００５５】
表示領域（Ａ．Ａ．）に形成するポリマーウォール４０の形成方法は、基本的には、図６、図９、図１０等で説明したのと同様である。すなわち、表示領域（Ａ．Ａ．）においても、柱状スペーサはブラックマトリクス２０２で覆われた領域に形成されているので、表示領域（Ａ．Ａ．）においてポリマーウォール４０を形成する場合も、断面形状は、基本的は、図６、図９、図１０と同じになるからである。すなわち、ブラックマトリクス２０２にホール２０２１を形成して、その部分にポリマーウォール４０を形成することになる。
【実施例２】
【００５６】
実施例１は、表示領域（Ａ．Ａ．）端部とシール材２０の端部の間の領域ａにポリマーウォール４０を形成する構成である。実施例２は、ポリマーウォール４０に替えて、接着性の柱状スペーサ５０を用いるものである。接着性柱状スペーサ５０は、通常の柱状スペーサと同様に、フォトリソグラフィによって形成する。接着性柱状スペーサ５０には熱硬化性と紫外線硬化性とが存在する。
【００５７】
熱硬化性の接着性柱状スペーサ５０は、加熱することによって、接着性を現出するものである。対向基板２００側に接着性柱状スペーサ５０を形成し、シール材２０の内部に液晶３００を注入した後、液晶表示パネル全体を所定の温度に加熱することによって、接着性柱状スペーサ５０を、対向するＴＦＴ基板１００に接着する。
【００５８】
紫外線硬化性の接着性柱状スペーサ５０は、紫外線ＵＶを照射することによって接着性を現出するものである。図１４は、紫外線硬化性の接着性柱状スペーサ５０を形成している例である。図１４においては、対向基板２００側から紫外線ＵＶを照射している。ブラックマトリクス２０２には、紫外線ＵＶを通過させるためにホール２０２１が形成されている。
【００５９】
図１４において、ＴＦＴ基板１００側に形成された接着性柱状スペーサ５０は、紫外線ＵＶを照射されることによって対向基板２００側に接着する。これによって、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００を固着することが出来る。図１４における紫外線照射方法、及び、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の構成は、実施例1の図６で説明した構成と同じである。図１４では、すでに接着性柱状スペーサ５０はＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間に配置されており、紫外線ＵＶによって接着性柱状スペーサ５０の先端に接着性を発現させる点が異なっている。
【００６０】
図１５は、紫外線硬化性の接着性柱状スペーサ５０を用いる場合の他の例である。接着性柱状スペーサ５０を対向基板２００側に形成しておき、ＴＦＴ基板１００側から紫外線ＵＶを照射することによって、接着性柱状スペーサ５０のＴＦＴ基板１００側に接着性を発現させ、ＴＦＴ基板１００と接着性柱状スペーサ５０を接着するものである。この場合は、実施例１の図１０の場合と異なり、接着性柱状スペーサ５０はすでに形成されているので、紫外線マスク１５０の大きな開口１５１から紫外線ＵＶを照射できる。したがって、マスクの合わせ作業が容易である。
【００６１】
本実施例における接着性柱状スペーサ５０の配置は、実施例１の図１１乃至図１３で説明したのと同じである。すなわち、表示領域（Ａ．Ａ．）における表示むらが生じないように、柱状スペーサの密度の連続性が保たれるような、また、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の接着強度を十分に確保できるような、接着性柱状スペーサ５０の密度とすれば良い。また、接着性柱状スペーサ５０の径も実施例１で説明したポリマーウォール４０の径に順じて決めることが出来る。
【実施例３】
【００６２】
図１６は、本発明が適用される液晶表示装置の他の例を示す平面図である。図１６の特徴は、４辺共に表示面の背面側に折り曲げられることである。
【００６３】
図１６において、表示領域１４の端部とシール材２０の端部の間の、領域ａを有する接続領域Ａには、実施例１，２で示したポリマーウォール４０、あるいは、接着性柱状スペーサ５０等の接着スペーサ３０が４辺共に配置され、接続領域Ａにおいて、ＴＦＴ基板１００における配線が、引張応力によって断線することを防止している。また、ポリマーウォール４０、接着性柱状スペーサ５０等の配置も、実施例１、２で説明した配置が、４辺の領域ａに行われ、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間の接着力を確保しつつ、液晶の配向が連続性を保てるようにしている。図１６の構造によれば、端子領域１５以外の３辺においても、シール材２０の部分で背面に折り曲げることによって、４辺とも額縁領域を縮小することができる。
【００６４】
図１７は、図１６の変形例である。図１７においては、フレキシブル配線基板４００が接続された端子領域１５以外の３辺にも端子領域１６を形成し、この部分にドライバＩＣ５００を配置した例である。端子領域１６も背面に折り曲げられるので、ドライバＩＣ５００を配置しても、液晶表示装置の外形が大きくなることは無い。なお、図１７において、必要に応じて、３つの端子領域１６にもフレキシブル配線基板４００を接続した場合も同様である。
【００６５】
このように、端子領域以外の３辺を背面に折り曲げたとしても、領域Ａには、接着スペーサ３０等が形成されているので、この部分におけるＴＦＴ基板１００における配線が引張応力によって断線することを回避することが出来る。
【００６６】
図１６及び図１７は、液晶表示装置の４辺においてシール部分が背面に折り曲げられているが、２辺あるいは、３辺のみのシール部が背面に折り曲げられる場合も同様である。
【符号の説明】
【００６７】
１１…走査線、  １２…映像信号線、  １３…画素、  １４…表示領域、  １５…端子領域、  １６…端子領域、  ２０…シール材、  ３０…接着スペーサ、  ４０…ポリマーウォール、  ５０…接着性柱状スペーサ、  ６０…表示領域の柱状スペーサ、  １００…ＴＦＴ基板、  １０１…配線、  １０２…絶縁層、  １０３…遮光膜、  １１０…下偏光板、  １５０…紫外線マスク、  １５１…紫外線照射領域、  １５２…紫外線マスクのホール、  ２００…対向基板、  ２０１…カラーフィルタ、  ２０２…ブラックマトリクス、  ２０３…オーバーコート膜、  ２０２１…ブラックマトリクスのホール、  ４００…フレキシブル配線基板、  ５００…ドライバＩＣ、  ＵＶ…紫外線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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