(57)【要約】【課題】本発明の目的は、視認側にカバーガラスが積層された状態で高温環境下に置かれた場合でも、中央部と周辺部とで反射光の色目が均一な円偏光板を提供することにある。【解決手段】偏光フィルムと、粘接着剤層と、位相差フィルムとを、この順に備え、前記粘接着剤層は、温度４０℃、相対湿度９２％Ｒ．Ｈ．における透湿度が１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であり、前記位相差フィルムは、λ／４板として機能し、液晶化合物からなる層を含む円偏光板。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光フィルムと、粘接着剤層と、位相差フィルムとを、この順に備え、
前記粘接着剤層は、温度４０℃、相対湿度９２％Ｒ．Ｈ．における透湿度が１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であり、
前記位相差フィルムは、λ／４板として機能し、液晶化合物からなる層を含む円偏光板。
【請求項２】
前記粘接着剤層が、ポリイソブチレン、及び水素引抜型光重合開始剤を含むゴム系粘着剤組成物から形成された粘着剤層であることを特徴とする請求項１に記載の円偏光板。
【請求項３】
前記粘接着剤層が、ポリオレフィン系樹脂を含む粘着剤層であることを特徴とする請求項１に記載の円偏光板。
【請求項４】
前記ポリオレフィン系樹脂が、非晶質ポリプロピレン系樹脂を含むことを特徴とする請求項３に記載の円偏光板。
【請求項５】
前記偏光フィルムの厚みが、１５μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の円偏光板。
【請求項６】
前記位相差フィルムが、下記式（α）及び（β）を満たす請求項１〜５のいずれかに記載の円偏光板。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００          （α）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）          （β）
［式中、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍにおける面内位相差値を表す。］
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の円偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。
【請求項８】
前記画像表示装置が、有機エレクトロルミネッセンス表示装置である請求項７に記載の画像表示装置。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれかに記載の円偏光板と、ウインドウと、タッチセンサとを含むフレキシブル画像表示装置用積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、円偏光板およびそれを用いた画像表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話やタブレット端末などの普及が進み、画像表示装置として液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）が広く用いられるようになってきた。また、表示装置の薄型化に伴い、用いる偏光板などの各部材の薄型化が求められている。例えば、有機ＥＬ表示装置は、通常、外光が金属電極（陰極）で反射されて鏡面のように視認されることを抑制するために、有機ＥＬパネルの視認側表面に円偏光板が配置される。
【０００３】
前記円偏光板としては、一般的には偏光板とλ／４板の積層体が用いられているが、例えば、偏光子と、特定の屈折率特性を有する１枚の位相差層を積層したものも知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
延伸フィルムを用いたλ／４板では薄型化には限界があり、さらなる薄型化に向けて重合性液晶化合物からなる位相差フィルムを用いたλ／４板が提案されている（例えば、特許文献２参照）。しかしながら、このような位相差フィルムを円偏光板に適用した場合には、円偏光板をガラスに貼り付け、さらにカバーガラスを円偏光板上（画像表示装置における視認側）に積層した状態で耐熱試験を行うと、サンプル中央部の位相差フィルムの位相差値が低下することが明らかになった。その結果、円偏光板の中央部と周辺部とで反射光の色目が変わって、外観が悪化するという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３３２５５６０号公報
【特許文献２】特開２０１４−１２３１３４公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、視認側にカバーガラスが積層された状態で高温環境下に置かれた場合でも、中央部と周辺部とで反射光の色目が均一な円偏光板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち、本発明は、以下の円偏光板及び画像表示装置を提供する。
［１］  偏光フィルムと、粘接着剤層と、位相差フィルムとを、この順に備え、
前記粘接着剤層は、温度４０℃、相対湿度９２％Ｒ．Ｈ．における透湿度が１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であり、
前記位相差フィルムは、λ／４板として機能し、液晶化合物からなる層を含む円偏光板。
［２］  前記粘接着剤層が、ポリイソブチレン、及び水素引抜型光重合開始剤を含むゴム系粘着剤組成物から形成された粘着剤層であることを特徴とする［１］に記載の円偏光板。
［３］  前記粘接着剤層が、ポリオレフィン系樹脂を含む粘着剤層であることを特徴とする［１］に記載の円偏光板。
［４］  前記ポリオレフィン系樹脂が、非晶質ポリプロピレン系樹脂を含むことを特徴とする［３］に記載の円偏光板。
［５］  前記偏光フィルムの厚みが、１５μｍ以下であることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかに記載の円偏光板。
［６］  前記位相差フィルムが、下記式（α）及び（β）を満たす［１］〜［５］のいずれかに記載の円偏光板。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００          （α）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）          （β）
［式中、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍにおける面内位相差値を表す。］
［７］  ［１］〜［６］のいずれかに記載の円偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。
［８］  前記画像表示装置が、有機エレクトロルミネッセンス表示装置である［７］に記載の画像表示装置。
［９］  ［１］〜［６］のいずれかに記載の円偏光板と、ウインドウと、タッチセンサとを含むフレキシブル画像表示装置用積層体。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、視認側にカバーガラスが積層された状態で高温環境下に置かれた場合でも、中央部と周辺部とで色目が均一な円偏光板を提供することができる。
【０００９】
さらに、本発明は前記円偏光板を用いることで、耐熱性に優れた画像表示装置を提供することができ、特に有機ＥＬ表示装置に好適に用いることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【００１１】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大となる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内の位相差値
面内の位相差値［Ｒｅ（λ）］は、温度２３℃、波長λ（ｎｍ）におけるフィルムの面内の位相差値をいう。Ｒｅ（λ）は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差値
面内の位相差値［Ｒｔｈ（λ）］は、温度２３℃、波長λ（ｎｍ）におけるフィルムの厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈ（λ）は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄによって求められる。
【００１２】
（偏光フィルム）
偏光フィルムは、特に限定されず、各種のものを使用できる。偏光フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素等の二色性物質からなる偏光フィルムが好適である。これらの偏光フィルムの厚さは特に制限されないが、一般的に３〜８０μｍ程度である。
【００１３】
ポリビニルアルコール系フィルムとしては、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他に、酢酸ビニルと共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、およびアンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。
【００１４】
ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常、８５〜１００ｍｏｌ％程度であり、９８ｍｏｌ％以上が好ましい。このポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等も用いることができる。またポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常、１，０００〜１０，０００程度であり、１，５００〜５，０００程度が好ましい。
【００１５】
ポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光フィルムの原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系原反フィルムの膜厚は、得られる偏光フィルムの厚みを１５μｍ以下とすることを考慮すると、５〜３５μｍ程度であるのが好ましく、５〜２０μｍであるのがより好ましい。原反フィルムの膜厚が３５μｍ以上であると、偏光フィルムを製造する際の延伸倍率を高くする必要があり、また得られる偏光フィルムの寸法収縮が大きくなる傾向にある。一方、原反フィルムの膜厚が５μｍ以下であると、延伸を施す際のハンドリング性が低下し、製造中に切断などの不具合が発生しやすくなる傾向にある。
【００１６】
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素の染色前、染色と同時、または染色の後に行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合には、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前またはホウ酸処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行ってもよい。
【００１７】
一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また、一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤を用い、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は、通常、３〜８倍程度である。
【００１８】
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色する方法としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素が含有された水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性染料が用いられる。なお、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理の前に水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。
【００１９】
二色性色素としてヨウ素を用いる場合は、通常、ヨウ素およびヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、通常、水１００重量部あたり０．０１〜１重量部程度である。また、ヨウ化カリウムの含有量は、通常、水１００重量部あたり０．５〜２０重量部程度である。染色に用いる水溶液の温度は、通常、２０〜４０℃程度である。
また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常、２０〜１，８００秒程度である。
【００２０】
一方、二色性色素として二色性染料を用いる場合は、通常、水溶性二色性染料を含む水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液における二色性染料の含有量は、通常、水１００重量部あたり１×１０-4〜１０重量部程度であり、１×１０-3〜１重量部程度が好ましい。この水溶液は、硫酸ナトリウム等の無機塩を染色助剤として含有していてもよい。染色に用いる二色性染料水溶液の温度は、通常、２０〜８０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常、１０〜１，８００秒程度である。
【００２１】
二色性色素による染色後のホウ酸処理は、通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸含有水溶液に浸漬することにより行うことができる。
【００２２】
ホウ酸含有水溶液におけるホウ酸の量は、通常、水１００重量部あたり、２〜１５重量部程度であり、５〜１２重量部が好ましい。二色性色素としてヨウ素を用いる場合には、このホウ酸含有水溶液はヨウ化カリウムを含有することが好ましい。ホウ酸含有水溶液におけるヨウ化カリウムの量は、通常、水１００重量部あたり、０．１〜１５重量部程度であり、５〜１２重量部程度が好ましい。ホウ酸含有水溶液への浸漬時間は、通常、６０〜１，２００秒程度であり、１５０〜６００秒程度が好ましく、２００〜４００秒程度がより好ましい。ホウ酸含有水溶液の温度は、通常、５０℃以上であり、５０〜８５℃が好ましく、６０〜８０℃がより好ましい。
【００２３】
ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬することにより行うことができる。水洗処理における水の温度は、通常、５〜４０℃程度である。また、浸漬時間は、通常、１〜１２０秒程度である。
【００２４】
水洗後は乾燥処理が施されて、偏光フィルムが得られる。乾燥処理は、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。乾燥処理の温度は、通常、３０〜１００℃程度であり、５０〜８０℃が好ましい。乾燥処理の時間は、通常、６０〜６００秒程度であり、１２０〜６００秒が好ましい。
【００２５】
乾燥処理によって、偏光フィルムの水分率は実用程度にまで低減される。その水分率は、通常、５〜２０重量％であり、８〜１５重量％が好ましい。水分率が５重量％を下回ると、偏光フィルムの可撓性が失われ、偏光フィルムがその乾燥後に損傷したり、破断したりする場合がある。また、水分率が２０重量％を上回ると、偏光フィルムの熱安定性に劣る場合がある。
【００２６】
また、偏光子の製造工程におけるポリビニルアルコール系樹脂フィルムの延伸、染色、ホウ酸処理、水洗工程、乾燥工程は、例えば、特開２０１２−１５９７７８号に記載されている方法に準じて行ってもよい。この文献記載の方法では、基材フィルムへのポリビニルアルコール系樹脂のコーティングにより、偏光子となるポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。
【００２７】
偏光フィルムの厚みは、１５μｍ以下であり、好ましくは３〜１０μｍである。
【００２８】
また、前記偏光フィルムは、当該偏光フィルムの片面のみに保護フィルムを有する片面保護偏光板や、偏光フィルムの両面に保護フィルムを有する両面保護偏光板として使用することができる。
【００２９】
（保護フィルム）
前記偏光フィルムの片面又は両面に設けられる保護フィルムを形成する材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性等に優れるものが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が挙げられる。
【００３０】
また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系樹脂、イミド系樹脂、スルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、ビニルブチラール系樹脂、アリレート系樹脂、ポリオキシメチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、又は、前記樹脂のブレンド物等も前記保護フィルムを形成する樹脂の例として挙げられる。保護フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、紫外線硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。偏光フィルムの両側に保護フィルムを設ける場合、その表裏で同じ樹脂材料からなる保護フィルムを用いても良く、異なる樹脂材料等からなる保護フィルムを用いても良い。
【００３１】
保護フィルムの厚みは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄膜性等の点より１〜５００μｍ程度である。
【００３２】
前記偏光フィルムと保護フィルムとは通常、水系接着剤または活性エネルギー線硬化型接着剤等を介して積層される。水系接着剤としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリウレタン、水系ポリエステル等を例示できる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、紫外硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤等が挙げられる。電子線硬化型接着剤は、上記各種の保護フィルムに対して、好適な接着性を示す。保護フィルムは、偏光フィルムとの貼合に先立って、ケン化処理、コロナ処理、およびプラズマ処理等を施しておくことが好ましい。
【００３３】
前記保護フィルムの偏光フィルムを接着させない面には、ハードコート層や反射防止処理、帯電防止層やスティッキング防止層、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものであってもよい。
【００３４】
（位相差フィルム）
本発明で用いる位相差フィルムは、いわゆるλ／４板として機能し得る。λ／４板として機能するとは、位相差フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内位相差値Ｒｅ（５９０）が９０〜１９０ｎｍであることをいう。面内位相差値Ｒｅ（５９０）は、好ましくは１１０〜１７０ｎｍであり、さらに好ましくは１２０〜１６０ｎｍである。
【００３５】
上記位相差フィルムは、液晶化合物からなる層を含む。液晶化合物を用いることにより、得られる位相差層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくし得る。その結果、所望の面内の位相差値を得るための位相差層の厚みを格段に小さくし得、得られる円偏光板、画像表示装置の薄型化に寄与し得る。また、円偏光板の製造においてロールツーロールが可能となり、製造工程を格段に短縮し得る。詳細については後述する。位相差フィルムは、液晶化合物から形成される層以外に、後述の基材、支持基材、配向膜、接着剤層等を含んでいてもよい。
【００３６】
上記液晶化合物は、好ましくは、その液晶相がネマチック相である（ネマチック液晶）。
液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックであってもよいし、サーモトロピックであってもよい。液晶化合物の配向状態は、好ましくは、ホモジニアス配向である。液晶化合物としては、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。
【００３７】
上記液晶化合物からなる層は、好ましくは、液晶化合物が硬化した層である。具体的には、液晶化合物が液晶性モノマーである場合、液晶化合物は、重合性モノマー（重合性液晶化合物）および／または架橋性モノマー（架橋性液晶化合物）であることが好ましい。液晶性モノマーを重合または架橋させることで、液晶性モノマーの配向状態を固定できるためである。液晶性モノマーを配向させた後に、例えば、液晶性モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。すなわち、重合後または架橋後において、液晶性は必要とされない。したがって、形成された位相差層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、位相差フィルムは、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた層となり得る。
【００３８】
重合性液晶化合物を重合させることにより形成される層が面内位相差を発現するためには、重合性液晶化合物が適した方向に配向した状態で重合すればよい。重合性液晶化合物が棒状の場合は、該重合性液晶化合物の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する。この場合、光軸方向と遅相軸方向とは一致する。重合性液晶化合物が円盤状の場合は、該重合性液晶化合物の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する。この場合、光軸と遅相軸とは直交する。重合性液晶化合物の配向状態は、配向膜と重合性液晶化合物との組み合わせにより調整することができる。
【００３９】
本発明では、位相差フィルムが以下に述べる重合性液晶化合物が硬化した層を含むことで、式（α）及び式（β）で表される光学特性を有する位相差フィルムを得ることができる。位相差フィルムがこのような光学特性を発現するために、位相差フィルムは、２種類以上の位相差層を有していてもよい。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００          （α）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）          （β）
【００４０】
＜重合性液晶化合物＞
重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶化合物が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でも良く、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。
【００４１】
例えば、重合性液晶化合物は、位相差フィルムが好ましい光学特性を発現できることから、下記の式（１）で表される化合物（以下「化合物（１）」という場合がある）であることが好ましい。
Ｐ１−Ｆ１−（Ｂ１−Ａ１）ｋ−Ｅ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｅ２−（Ａ２−Ｂ２）ｌ−Ｆ２−Ｐ２      （１）
［式（１）中、Ａｒは芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する２価の基を表し、Ａｒ基中の芳香環に含まれるπ電子の数Ｎπは、１２以上である。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、＊−Ｏ−ＣＯ−（＊は、Ａｒに結合する位置を表す）、＊−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、＊−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、＊−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、＊−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、＊−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−Ｒ３Ｒ４−、＊−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、＊−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−、＊−ＣＲ２Ｒ３−ＮＲ１−、＊−ＣＯ−ＮＲ１−、又は＊−ＮＲ１−ＣＯ−を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、２価の脂環式炭化水素基を表す。該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子の一部は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−に置換されていてもよい。
Ｅ１、Ｅ２、Ｂ１及びＢ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ５Ｒ６−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ５−、−ＮＲ５−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｓ−又は単結合を表す。Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、２価の脂環式炭化水素基又は２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子の一部は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよい。該炭素数１〜４のアルキル基及び該炭素数１〜４アルコキシ基に含まれる水素原子の一部は、フッ素原子に置換されていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
Ｆ１及びＦ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれる水素原子の一部は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基又はハロゲン原子に置換されていてもよく、該アルキレン基に含まれるメチレン基の一部は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換されていてもよい。
Ｐ１及びＰ２は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基（ただし、Ｐ１及びＰ２のうち少なくとも１つは、重合性基を表す）を表す。］
【００４２】
化合物（１）は、式（２）及び式（３）で表される要件を充足することが好ましい。
（Ｎπ−４）／３＜ｋ＋ｌ＋４      （２）
１２≦Ｎπ≦２２      （３）
［式（２）及び式（３）中、Ｎπ、ｋ及びｌは上記と同じ意味を表す。］
【００４３】
芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環等が挙げられ、芳香族複素環としては、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環等が挙げられる。なかでも、ベンゼン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環が好ましい。
【００４４】
Ａｒは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する２価の基であって、該２価の基中に含まれる芳香環のπ電子の合計数Ｎπは、１２以上であり、好ましくは１２以上、２２以下であり、より好ましくは、１３以上、２２以下である。
【００４５】
Ａｒは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも二つの芳香環を有する２価の基であることが好ましい。
【００４６】
式（１）中、Ａｒが式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）で表されるいずれかの２価の基であることが好ましい。
【００４７】
2020098317.tif 000002
【００４８】
［式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）中、Ｚ１は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
Ｑ１及びＱ３は、それぞれ独立に、−ＣＲ７Ｒ８−、−Ｓ−、−ＮＲ７−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。
Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。
Ｗ１及びＷ２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜６の整数を表す。
ｎは、０〜２の整数を表す。］
【００４９】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。
【００５０】
炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００５１】
炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基、ヘキシル基スルフィニル等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルフィニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルフィニル基がより好ましく、メチルスルフィニル基が特に好ましい。
【００５２】
炭素数１〜６のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルホニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基が特に好ましい。
【００５３】
炭素数１〜６のフルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられ、炭素数１〜４のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。
【００５４】
炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【００５５】
炭素数１〜６のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルチオ基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルチオ基がより好ましく、メチルチオ基が特に好ましい。
【００５６】
炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基等が挙げられ、炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ−メチルアミノ基が特に好ましい。
【００５７】
炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基等が挙げられ、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基が特に好ましい。
【００５８】
炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基としては、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基等が挙げられ、炭素数１〜４のＮ−アルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ−メチルスルファモイル基が特に好ましい。
【００５９】
炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルスルファモイル基等が挙げられ、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基が特に好ましい。
【００６０】
Ｚ１は、ハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルチオ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルスルファモイル基またはＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基であることが好ましい。
【００６１】
Ｒ７およびＲ８における炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数１〜２のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｑ１は、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−であることが好ましく、Ｑ３は、−Ｓ−、−ＣＯ−であることが好ましい。
【００６２】
Ｙ１、Ｙ２およびＹ３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも一つ含み、炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基が好ましい。
【００６３】
かかる芳香族炭化水素基および芳香族複素環基は、少なくとも一つの置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられ、ハロゲン原子、炭素数１〜２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基、炭素数１〜２のフルオロアルキル基、炭素数１〜２のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキルチオ基、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜２のアルキルスルファモイル基が好ましい。
【００６４】
ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基および炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前記したものと同様のものが挙げられる。
【００６５】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３が、それぞれ独立に、式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）で表されるいずれかの基であることが好ましい。
【００６６】
2020098317.tif 000003
【００６７】
［式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）中、Ｚ２は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
ａ１は、０〜５の整数、ａ２は、０〜４の整数、ｂ１は、０〜３の整数、ｂ２は、０〜２の整数、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。］
【００６８】
Ｚ２としては、ハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホン基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、チオメチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましい。
【００６９】
さらにＹ１、Ｙ２及びＹ３が、それぞれ独立に、式（Ｙ−１）又は式（Ｙ−３）で表される基であることが、化合物（１）の製造工程やコストの点で特に好ましい。
【００７０】
Ｗ１及びＷ２が、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基又はメチル基であることが好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
ｍは０または１であることが好ましい。ｎは０であることが好ましい。
【００７１】
式（１）中、Ａｒが、式（Ａｒ−６ａ）、式（Ａｒ−６ｂ）、式（Ａｒ−６ｃ）、式（Ａｒ−１０a）又は（Ａｒ−１０ｂ）で表される２価の基であることがより好ましい。
【００７２】
2020098317.tif 000004
【００７３】
［式（Ａｒ−６ａ）〜式（Ａｒ−６ｃ）、式（Ａｒ−１０ａ）及び式（Ａｒ−１０ｂ）中、Ｚ１，ｎ，Ｑ１，Ｚ２，ａ１及びｂ１は、上記と同じ意味を表す。］
【００７４】
Ａｒの例を式（ａｒ−１）〜式（ａｒ−１８９）に示す。
【００７５】
式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−４）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１）〜式（ａｒ−２９）で表される基が挙げられる。
【００７６】
2020098317.tif 000005
【００７７】
2020098317.tif 000006
【００７８】
2020098317.tif 000007
【００７９】
2020098317.tif 000008
【００８０】
2020098317.tif 000009
【００８１】
2020098317.tif 000010
【００８２】
式（Ａｒ−５）で表される基の具体例として、式（ａｒ−３０）〜式（ａｒ−３９）で表される基が挙げられる。
【００８３】
2020098317.tif 000011
【００８４】
2020098317.tif 000012
【００８５】
式（Ａｒ−６）又は式（Ａｒ−７）で表される基の具体例として、式（ａｒ−４０）〜式（ａｒ−１１９）で表される基が挙げられる。
【００８６】
2020098317.tif 000013
【００８７】
2020098317.tif 000014
【００８８】
2020098317.tif 000015
【００８９】
2020098317.tif 000016
【００９０】
2020098317.tif 000017
【００９１】
2020098317.tif 000018
【００９２】
2020098317.tif 000019
【００９３】
2020098317.tif 000020
【００９４】
2020098317.tif 000021
【００９５】
2020098317.tif 000022
【００９６】
2020098317.tif 000023
【００９７】
2020098317.tif 000024
【００９８】
2020098317.tif 000025
【００９９】
2020098317.tif 000026
【０１００】
2020098317.tif 000027
【０１０１】
2020098317.tif 000028
【０１０２】
式（Ａｒ−８）又は式（Ａｒ−９）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１２０）〜式（ａｒ−１２９）で表される基が挙げられる。
【０１０３】
2020098317.tif 000029
【０１０４】
2020098317.tif 000030
【０１０５】
式（Ａｒ−１０）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１３０）〜式（ａｒ−１４９）で表される基が挙げられる。
【０１０６】
2020098317.tif 000031
【０１０７】
2020098317.tif 000032
【０１０８】
2020098317.tif 000033
【０１０９】
2020098317.tif 000034
【０１１０】
式（Ａｒ−１１）で示される基の具体例としては、式（ａｒ−１５０）〜式（ａｒ−１５９）で示される基が挙げられる。
【０１１１】
2020098317.tif 000035
【０１１２】
2020098317.tif 000036
【０１１３】
式（Ａｒ−１２）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１６０）〜式（ａｒ−１７９）で表される基が挙げられる。
【０１１４】
2020098317.tif 000037
【０１１５】
2020098317.tif 000038
【０１１６】
2020098317.tif 000039
【０１１７】
2020098317.tif 000040
【０１１８】
式（Ａｒ−１３）で示される基の具体例としては、式（ａｒ−１８０）〜式（ａｒ−１８９）で示される基が挙げられる。
【０１１９】
2020098317.tif 000041
【０１２０】
2020098317.tif 000042
【０１２１】
Ｄ１およびＤ２が、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、＊−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、＊−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−または＊−ＮＲ１−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合部位を表わす。
）であることが好ましい。Ｄ１およびＤ２が、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−または＊−ＮＲ１−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合部位を表わす。）であることがより好ましい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基またはエチル基であることがより好ましい。
【０１２２】
Ｇ１及びＧ２としては、式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で示されるヘテロ原子を含んでもよい脂環式炭化水素基が挙げられ、５員環又は６員環の脂環式炭化水素基であることが好ましい。
【０１２３】
2020098317.tif 000043
【０１２４】
上記式（ｇ−１）〜（ｇ−１０）で示される基に含まれる水素原子の一部は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜４のフルオロアルキル基；トリフルオロメトキシ基等の炭素数１〜４のフルオロアルコキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。
【０１２５】
Ｇ１及びＧ２としては、式（ｇ−１）で表される６員環からなる脂環式炭化水素基であることが好ましく、１，４−シクロヘキシレン基であることがさらに好ましく、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロへキシレン基であることが特に好ましい。
【０１２６】
Ａ１及びＡ２における２価の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基としては、上記式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で表される５員環又は６員環などからなる脂環式炭化水素基や、式（ａ−１）〜式（ａ−８）で表される炭素数６〜２０程度の２価の芳香族炭化水素基が挙げられる。
2020098317.tif 000044
【０１２７】
なお、Ａ１及びＡ２として、前記例示された基の水素原子の一部が、メチル基、エチル基、ｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基などの炭素数１〜４程度のアルキル基；メトキシ基又はエトキシ基などの炭素数１〜４程度のアルコキシ基；トリフルオロメチル基；トリフルオロメチルオキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子又は臭素原子などのハロゲン原子に置換されていてもよい。
【０１２８】
Ａ１及びＡ２としては、特に、いずれも同種類の基であると、化合物（１）の製造が容易であることから好ましい。またＡ１及びＡ２としては、単環の１，４−フェニレン基又は１，４−シクロヘキシレン基であると好ましく、化合物（１）の製造が容易なことから、特に１，４−フェニレン基が好ましい。
【０１２９】
Ｂ１及びＢ２は、同じ種類の２価の基であると、化合物（１）の製造が容易なことから好ましい。さらに化合物（１）の製造がより容易なことから、Ｂ１及びＢ２のうち、Ａ１及びＡ２のみと結合しているＢ１及びＢ２が、それぞれ独立に、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−又は単結合であることが好ましく、特に高い液晶性を示すことから、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−が好ましい。Ｂ１及びＢ２のうち、Ｅ１又はＥ２と結合しているＢ１及びＢ２が、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は単結合であることがより好ましい。
【０１３０】
ｋ及びｌは、液晶性の観点から、それぞれ独立に、０〜３の整数を表すことが好ましく、ｋ及びｌは０〜２であることがより好ましい。ｋ及びｌの合計は、５以下が好ましく、４以下がより好ましい。
【０１３１】
Ｐ１及びＰ２は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基（ただし、Ｐ１及びＰ２のうち少なくとも１つは、重合性基を表す）を表す。Ｐ１及びＰ２が両方とも重合性基であると、得られる位相差フィルムの膜硬度が優れる傾向があることから好ましい。重合性基とは、本発明の化合物（１）を重合させることのできる置換基であり、具体的には、ビニル基、ｐ−スチルベン基、アクリロイル基、メタクロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基、カルボキシル基、メチルカルボニル基、水酸基、アミド基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、アルデヒド基、イソシアネート基又はチオイソシアネート基などが例示される。また重合性基には、上記例示の基とＥ１及びＥ２を結合するために、Ｂ１及びＢ２として示される基が含まれていてもよい。たとえば光重合させるのに適した、ラジカル重合性、カチオン重合性基が好ましく、特に取り扱いが容易な上、製造も容易であることからアクリロイル基又はメタクロイル基が好ましく、アクリロイル基がより好ましい。Ｐ１及びＰ２がいずれも重合性基であると、得られる位相差フィルムの膜硬度が優れる傾向があることからより好ましい。
【０１３２】
−Ｄ１−Ｇ１−Ｅ１−（Ａ１−Ｂ１）ｋ−Ｆ１−Ｐ１、−Ｄ２−Ｇ２−Ｅ２−（Ａ２−Ｂ２）ｌ−Ｆ２−Ｐ２の具体的例としては、式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）で表される基が挙げられる。＊（アスタリスク）は、Ａｒとの結合位置を示す。また式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）におけるｎは２〜１２の整数を表す。
【０１３３】
2020098317.tif 000045
【０１３４】
2020098317.tif 000046
【０１３５】
2020098317.tif 000047
【０１３６】
2020098317.tif 000048
【０１３７】
2020098317.tif 000049
【０１３８】
2020098317.tif 000050
【０１３９】
2020098317.tif 000051
【０１４０】
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【０１４１】
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【０１４２】
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【０１４３】
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【０１４４】
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【０１４５】
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【０１４６】
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【０１４８】
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【０１４９】
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【０１５０】
2020098317.tif 000062
【０１５１】
さらに化合物（１）としては、化合物（ｉ）〜化合物（ｘｘｘｉｖ）が挙げられる。表中のＲ１は、−Ｄ１−Ｇ１−Ｅ１−（Ａ１−Ｂ１）ｋ−Ｆ１−Ｐ１を、Ｒ２は、−Ｄ２−Ｇ２−Ｅ２−（Ａ２−Ｂ２）ｌ−Ｆ２−Ｐ２を表す。
【０１５２】
【表１】
2020098317.tif 000063
【０１５３】
なお、化合物（ｘｘｘ）および化合物（ｘｘｘｉ）においては、式（１−Ａ）で示される基および式（１−Ｂ）で示される基のうちのいずれか一方は、（Ｒ−５７）〜（Ｒ−１２０）のいずれかである。
上記表１中、化合物（ｘｖｉｉ）は、Ａｒで示される基が式（ａｒ−７８）で示される基である化合物、Ａｒで示される基が式（ａｒ−７９）で示される基である化合物またはＡｒで示される基が式（ａｒ−７８）で示される基である化合物と式（ａｒ−７９）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。
上記表２中、化合物（ｘｘｘ）は、Ａｒで示される基が式（ａｒ−１２０）で示される基である化合物、Ａｒで示される基が式（ａｒ−１２１）で示される基である化合物またはＡｒで示される基が式（ａｒ−１２０）で示される基である化合物と式（ａｒ−１２１）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味し、化合物（ｘｘｘｉ）は、Ａｒで示される基が式（ａｒ−１２２）で示される基である化合物、Ａｒで示される基が式（ａｒ−１２３）で示される基である化合物またはＡｒで示される基が式（ａｒ−１２２）で示される基である化合物と式（ａｒ−１２３）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。
【０１５４】
さらに表１の化合物（ｉ）、化合物（ｉｉ）、化合物（ｉｖ）、化合物（ｖ）、化合物（ｖｉ）、化合物（ｉｘ）、化合物（ｘ）、化合物（ｘｉ）、化合物（ｘｖｉ）、化合物（ｘｖｉｉｉ）、化合物（ｘｉｘ）、化合物（ｘｘ）、化合物（ｘｘｉ）、化合物（ｘｘｉｉｉ）、化合物（ｘｘｉｖ）、化合物（ｘｘｖ）、化合物（ｘｘｖｉ）、化合物（ｘｘｖｉｉ）、、化合物（ｘｘｖｉｉｉ）、及び、化合物（ｘｘｉｘ）の代表的な構造式を式（ｉｉ−１）、式（ｉｖ−１）、式（ｖ−１）、式（ｖ−２）、式（ｖ−３）、式（ｖ−４）、式（ｖ−５）、式（ｖｉ−１）、式（ｉｘ−１）、式（ｘ−１）、式（ｘｉ−１）、式（ｘｖｉ−１）、式（ｘｉｘ−１）、式（ｘｘ−１）、式（ｘｘｉ−１）、式（ｘｘｉｉｉ−１）、式（ｘｘｉｖ−１）、式（ｘｘｖ−１）、式（ｘｘｖｉ−１）、式（ｘｘｖｉｉ−１）、式（ｘｘｖｉｉｉ−１）、式（ｘｘｉｘ−１）、式（ｘｘｘｉｉ−１）、及び、式（ｘｘｘｉｖ−１）に例示する。位相差フィルムにおいては、異なる複数の種類の化合物（１）を用いてもよい。
【０１５５】
2020098317.tif 000064
【０１５６】
2020098317.tif 000065
【０１５７】
2020098317.tif 000066
【０１５８】
2020098317.tif 000067
【０１５９】
2020098317.tif 000068
【０１６０】
2020098317.tif 000069
【０１６１】
2020098317.tif 000070
【０１６２】
2020098317.tif 000071
【０１６３】
化合物（１）として、さらに、例えば以下のものが例示される。ただし、式中ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立に２〜１２の整数を示す。
【０１６４】
2020098317.tif 000072
【０１６５】
2020098317.tif 000073
【０１６６】
2020098317.tif 000074
【０１６７】
2020098317.tif 000075
【０１６８】
2020098317.tif 000076
【０１６９】
2020098317.tif 000077
【０１７０】
2020098317.tif 000078
【０１７１】
2020098317.tif 000079
【０１７２】
2020098317.tif 000080
【０１７３】
2020098317.tif 000081
【０１７４】
化合物（１）は、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ  ｄｅｒ  Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ、Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、新実験化学講座等に記載されている公知の有機合成反応（例えば、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応など）を、その構造に応じて、適宜組み合わせることにより、製造することができる。
【０１７５】
液晶化合物として、異なる複数の化合物を併用してもよい。化合物（１）と併用してもよい液晶化合物（以下、その他の液晶化合物ということがある。）としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の３章  分子構造と液晶性の、３．２  ノンキラル棒状液晶分子、３．３  キラル棒状液晶分子に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物が挙げられる。ただし、その他の液晶化合物は、化合物（１）とは構造が異なるものである。
【０１７６】
その他の液晶化合物としては、例えば、式（４）で表される化合物（以下「化合物（４）」という場合がある）等を使用してもよい。
【０１７７】
Ｐ１１−Ｅ１１−（Ｂ１１−Ａ１１）ｔ−Ｂ１２−Ｇ      （４）
［式（４）中、Ａ１１は、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は複素環基を表し、該芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルアミノ基、ニトロ基、ニトリル基又はメルカプト基に置換されていてもよい。
Ｂ１１及びＢ１２は、それぞれ独立に、−ＣＲ１４Ｒ１５−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＮＲ１４−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ１４及びＲ１５が連結して炭素数４〜７のアルキレン基を構成してもよい。
Ｅ１１は、炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれる水素原子の一部は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子に置換されていてもよい。
Ｐ１１は、重合性基を表す。
Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のアルキルアミノ基、ニトリル基、ニトロ基であるか、炭素数１〜１２のアルキレン基を介して結合する重合性基を表し、該アルキレン基に含まれる水素原子の一部は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子に置換されていてもよい。
ｔは、１〜５の整数を表す。］
【０１７８】
特に、Ｐ１１及びＧにおける重合性基としては、化合物（１）と重合することができる基であればよく、ビニル基、ビニルオキシ基、ｐ−スチルベン基、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクロイル基、メタクロイルオキシ基、カルボキシル基、アセチル基、水酸基、カルバモイル基、アミノ基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、ホルミル基、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏまたは−Ｎ＝Ｃ＝Ｓ等が挙げられる。なかでも、光重合に適するという点で、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易で、液晶化合物の製造も容易であるという点で、アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基またはビニルオキシ基が好ましい。
【０１７９】
また、Ａ１１の芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び複素環基の炭素数は、それぞれ、例えば３〜１８であり、５〜１２であることが好ましく、５又は６であることが特に好ましい。
【０１８０】
化合物（４）としては、例えば、式（４−１）及び式（４−２）で表される化合物が挙げられる。
【０１８１】
Ｐ１１−Ｅ１１−（Ｂ１１−Ａ１１）ｔ１−Ｂ１２−Ｅ１２−Ｐ１２      （４−１）  Ｐ１１−Ｅ１１−（Ｂ１１−Ａ１１）ｔ２−Ｂ１２−Ｆ１１      （４−２）
［式（４−１）及び式（４−２）中、Ｐ１１、Ｅ１１、Ｂ１１、Ａ１１、Ｂ１２は上記と同義である。
Ｆ１１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のアルキルアミノ基、ニトリル基、ニトロ基を表す。
Ｅ１２は、Ｅ１１と同義である。
Ｐ１２は、Ｐ１１と同義である。
ｔ１及びｔ２はｔと同義である。］
【０１８２】
さらに、これら式（４−１）及び（４−２）で表される化合物として、式（Ｉ）、式（II）、式（III）、式（IV）又は式（Ｖ）で表される化合物を含む。
【０１８３】
Ｐ１１−Ｅ１１−Ｂ１１−Ａ１１−Ｂ１２−Ａ１２−Ｂ１３−Ａ１３−Ｂ１４−Ａ１４−Ｂ１５−Ａ１５−Ｂ１６−Ｅ１２−Ｐ１２      （Ｉ）
Ｐ１１−Ｅ１１−Ｂ１１−Ａ１１−Ｂ１２−Ａ１２−Ｂ１３−Ａ１３−Ｂ１４−Ａ１４−Ｂ１５−Ｅ１２−Ｐ１２      （ＩＩ）
Ｐ１１−Ｅ１１−Ｂ１１−Ａ１１−Ｂ１２−Ａ１２−Ｂ１３−Ａ１３−Ｂ１４−Ｅ１２−Ｐ１２      （ＩＩＩ）
Ｐ１１−Ｅ１１−Ｂ１１−Ａ１１−Ｂ１２−Ａ１２−Ｂ１３−Ａ１３−Ｂ１４−Ｆ１１      （ＩＶ）
Ｐ１１−Ｅ１１−Ｂ１１−Ａ１１−Ｂ１２−Ａ１２−Ｂ１３−Ｆ１１      （Ｖ）
［式（Ｉ）〜式（Ｖ）中、Ａ１２〜Ａ１５は、Ａ１１と同義であり、Ｂ１３〜Ｂ１６は、Ｂ１１と同義である］。
【０１８４】
なお、式（４−１）、式（４−２）、式（Ｉ）、式（II）、式（III）、式（IV）及び式（Ｖ）で表される化合物においては、Ｐ１１とＥ１１との組み合わせを適宜選択することにより、さらにＰ１２とＥ１２との組み合わせを適宜選択することにより、両者がエーテル結合又はエステル結合を介して結合されていることが好ましい。
【０１８５】
化合物（４）の具体例としては、たとえば以下の式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−５）、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−６）、式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−１９）、式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−１４）、式（Ｖ−１）〜式（Ｖ−５）で表される化合物などが挙げられる。ただし、式中ｋは、１〜１１の整数を表す。これらの液晶化合物であれば、合成が容易であり、市販されているなど、入手が容易であることから好ましい。
【０１８６】
2020098317.tif 000082
【０１８７】
2020098317.tif 000083
【０１８８】
2020098317.tif 000084
【０１８９】
2020098317.tif 000085
【０１９０】
2020098317.tif 000086
【０１９１】
その他の液晶化合物の使用量は、たとえばその他の液晶化合物と化合物（１）との合計１００重量部に対して、９０重量部以下である。
【０１９２】
位相差フィルムは、化合物（１）を含む組成物から形成することができる。位相差フィルムを形成する組成物は、さらに重合開始剤を含有する組成物であることが好ましい。重合開始剤は、光重合開始剤であることが好ましい。
【０１９３】
光重合開始剤としては、たとえばベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられ、より具体的には、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てチバ・ジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２又はアデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ製）などを挙げることができる。
【０１９４】
また重合開始剤の使用量は、たとえばその他の液晶化合物と化合物（１）との合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、液晶の配向性を乱すことなく、化合物（１）を重合させることができる。
【０１９５】
位相差フィルムの波長分散特性は、化合物（１）に由来する構造単位の含有量によって、任意に決定することができる。位相差フィルムにおける構造単位の中で化合物（１）に由来する構造単位の含有量を増加させると、得られる位相差フィルムは、よりフラットな波長分散特性、さらには式（α）および式（β）を満たす逆波長分散特性を示すようになる。
【０１９６】
具体的には、その他の液晶化合物と化合物（１）とを含む組成物について、化合物（１）に由来する構造単位の含有量が異なる組成物を２〜５種類程度調製し、それぞれの組成物について後述するように、同じ膜厚の位相差フィルムを製造して得られる位相差フィルムの位相差値を求め、その結果から、化合物（１）に由来する構造単位の含有量と位相差フィルムの位相差値との相関を求め、得られた相関関係から、上記膜厚における位相差フィルムに所望の位相差値を与えるために必要な化合物（１）に由来する構造単位の含有量を決定すればよい。
【０１９７】
上記位相差フィルムの厚みは、λ／４板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の光学特性が得られるように設定され得る。位相差層の厚みは、好ましくは０．５〜１０μｍ、さらに好ましくは０．５〜８μｍ、特に好ましくは０．５〜５μｍである。
【０１９８】
（位相差フィルムの製造方法）
位相差フィルムの製造方法について、以下に説明する。
まず、化合物（１）に、必要に応じて、有機溶剤、上述したその他の液晶化合物、上述した重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤又はレベリング剤などの添加剤を加えて、組成物を調製する。特に成膜時に成膜が容易となることから、組成物は有機溶剤を含むことが好ましく、得られた光学フィルムを硬化する働きをもつことから重合開始剤を含むことが好ましい。
【０１９９】
〔重合禁止剤〕
位相差フィルムを形成する組成物は、重合禁止剤を含むことができる。重合禁止剤としては、たとえばハイドロキノン又はアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類、ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類、ピロガロール類、２，２、６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類或いはβ−ナフトール類等を挙げることができる。
【０２００】
重合禁止剤を用いることにより、その他の液晶化合物や化合物（１）の重合を制御することができ、得られる位相差層の安定性を向上させることができる。また重合禁止剤の使用量は、たとえばその他の液晶化合物と化合物（１）との合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、液晶の配向性を乱すことなく、化合物（１）を重合させることができる。
【０２０１】
〔光増感剤〕
位相差フィルムを形成する組成物は、光増感剤を含むことができる。光増感剤としては、たとえばキサントン又はチオキサントン等のキサントン類、アントラセン又はアルキルエーテルなどの置換基を有するアントラセン類、フェノチアジン或いはルブレンを挙げることができる。
【０２０２】
光増感剤を用いることにより、その他の液晶化合物や化合物（１）が高感度に重合することができる。また光増感剤の使用量としては、その他の液晶化合物と化合物（１）との合計１００重量部に対して、たとえば０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、液晶の配向性を乱すことなく、化合物（１）を重合させることができる。
【０２０３】
〔レベリング剤〕
位相差フィルムを形成する組成物は、レベリング剤を含むことができる。レベリング剤としては、たとえば放射線硬化塗料用添加剤（ビックケミージャパン製：ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５３，ＢＹＫ−３６１Ｎ）、塗料添加剤（東レ・ダウコーニング株式会社製：ＳＨ２８ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ）、塗料添加剤（信越化学工業株式会社製：ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１）又はフッ素系添加剤（大日本インキ化学工業株式会社製：Ｆ−４４５、Ｆ−４７０、Ｆ−４７９）などを挙げることができる。
【０２０４】
レベリング剤を用いることにより、位相差フィルムを平滑化することができる。さらに位相差フィルムの製造過程で、組成物の流動性を制御したり、その他の液晶化合物や化合物（１）を重合して得られる位相差フィルムの架橋密度を調整したりすることができる。
またレベリング剤の使用量の具体的な数値は、たとえばその他の液晶化合物と化合物（１）との合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、液晶の配向性を乱すことなく、化合物（１）を重合させることができる。
【０２０５】
〔有機溶剤〕
位相差フィルムを形成する組成物は、有機溶剤を含むことができる。有機溶剤としては、化合物（１）及びその他の液晶化合物などを溶解し得る有機溶剤であり、重合反応に不活性な溶剤であればよい。有機溶剤としては、具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ又はブチルセロソルブなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどのエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン又はメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤；ペンタン、ヘキサン又はヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン又はクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、乳酸エチル、クロロホルム、フェノールなどが挙げられる。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。
【０２０６】
位相差フィルムを形成する組成物の粘度は、塗布しやすいように、たとえば１０Ｐａ・ｓ以下、好ましくは０．１〜７Ｐａ・ｓ程度に調整されることが好ましい。
【０２０７】
また組成物における固形分の濃度は、たとえば５〜５０重量％である。固形分の濃度が５０％以下であると、組成物の粘度が低いことから、位相差フィルムの膜厚が均一になりやすくなる傾向があることから好ましい。
【０２０８】
続いて支持基材に、配向膜を形成し、配向膜上に組成物を塗布し、乾燥、重合させて、支持基材上に目的の位相差層を得ることができる。重合は、活性エネルギー線の照射または加熱により行うことができる。支持基材および配向膜は、剥離することができる。
【０２０９】
かくして得られた位相差フィルムは、透明性に優れ、様々な画像表示装置用フィルムとして使用される。形成される層の厚みは、上記のとおり、得られる位相差フィルムの位相差値によって、異なるものである。
【０２１０】
＜第２の位相差フィルム＞
本発明で用いる位相差フィルムとしては、前記の位相差フィルムに第２の位相差フィルムを積層一体化したものを用いることが好ましい。第２の位相差フィルムとしては、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの関係を示すものが好ましい。このような屈折率特性を有する第２の位相差フィルムを備えることで、例えば、反射防止偏光板として使用した場合に、反射光を吸収する効果の角度依存性が低減し、様々な角度で反射した反射光に対して、その出射を防止することができるため、好ましい。
【０２１１】
１つの実施形態においては、前記第２の位相差フィルムは、その屈折率がｎｘ＝ｎｙの関係を示す。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、Ｒｅ（５５０）が１０ｎｍ未満であることが好ましい。
【０２１２】
前記第２の位相差フィルムの厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、−２６０ｎｍ〜−１０ｎｍが好ましく、−２３０ｎｍ〜−１５ｎｍがより好ましく、−２１５ｎｍ〜−２０ｎｍがさらに好ましい。このような範囲であることで、上記効果が顕著となるため、好ましい。
【０２１３】
前記第２の位相差フィルムは、任意の適切な材料で形成することができ、特に限定されるものではないが、液晶化合物がホメオトロピック配向に固定された位相差層であることが好ましい。ホメオトロピック配向させることができる液晶化合物は、液晶モノマーであっても液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物及び当該液晶層の形成方法の具体例としては、例えば、特開２００２−３３３６４２号公報の［００２０］〜［００４２］に記載の液晶化合物及び形成方法が挙げられる。この場合、厚みは、０．１μｍ〜５μｍが好ましく、０．２μｍ〜３μｍがより好ましい。
【０２１４】
第２の位相差フィルムが積層された位相差フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内の位相差値Ｒｅ（５９０）も９０〜１９０ｎｍであり、好ましくは１１０〜１７０ｎｍ、さらに好ましくは１２０〜１６０ｎｍである。
【０２１５】
前述の位相差フィルムと第２の位相差フィルムとを積層一体化するには、任意の接着剤層又は粘着剤層を使用することができる。接着剤層又は粘着剤層は、例えば、（メタ）アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤が、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性等に優れているため、好ましい。接着剤としては、水系、溶剤系、ホットメルト系、活性エネルギー線硬化型等の各種形態のものが
用いられるが、水系接着剤又は活性エネルギー線硬化型接着剤が好適である。また、公知のいかなる接着剤層又は粘着剤層も使用することができる。
【０２１６】
＜粘接着剤層＞
本発明で使用する粘接着剤層は、温度４０℃、相対湿度９２％Ｒ．Ｈ．における透湿度が、１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であればよく、その組成は特に限定されるものではない。ここで、「粘接着剤層」とは、接着剤層又は粘着剤層のことをいう。
【０２１７】
前記粘接着剤層の透湿度は、１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であり、５０ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であることが好ましく、３０ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であることがより好ましく、２０ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であることがさらに好ましい。また、透湿度の下限値は特に限定されるものではないが、理想的には、水蒸気を全く透過させないこと（すなわち、０ｇ／（ｍ２・ｄａｙ））が好ましい。粘接着剤層の透湿度が前記範囲であれば、偏光板から位相差フィルムへの水分の移行を抑制することができ、高温環境下での熱と水分とによる位相差フィルムの劣化を抑制することができるため好ましい。前記透湿度は、粘接着剤層の厚みが５０μｍである場合における温度４０℃、相対湿度９２％Ｒ．Ｈ．条件下での水蒸気透過率（透湿度）であって、その測定方法は実施例に記載の方法に従うことができる。
【０２１８】
＜接着剤層＞
接着剤層としては、温度４０℃、相対湿度９２％Ｒ．Ｈ．における透湿度が、１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であればよい。接着剤層を形成する接着剤の組成は特に限定されるものではなく、任意の適切な接着剤からなる層を採用し得る。このような接着剤としては、例えば、天然ゴム接着剤、α−オレフィン系接着剤、ウレタン樹脂系接着剤、エチレン−酢酸ビニル樹脂エマルション接着剤、エチレン−酢酸ビニル樹脂系ホットメルト接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、塩化ビニル樹脂溶剤系接着剤、クロロプレンゴム系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、シリコーン系接着剤、スチレン−ブタジエンゴム溶剤系接着剤、ニトリルゴム系接着剤、ニトロセルロース系接着剤、反応性ホットメルト接着剤、フェノール樹脂系接着剤、変性シリコーン系接着剤、ポリエステル系ホットメルト接着剤、ポリアミド樹脂ホットメルト接着剤、ポリイミド系接着剤、ポリウレタン樹脂ホットメルト接着剤、ポリオレフィン樹脂ホットメルト接着剤、ポリ酢酸ビニル樹脂溶剤系接着剤、ポリスチレン樹脂溶剤系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ポリビニルピロリドン樹脂系接着剤、ポリビニルブチラール系接着剤、ポリベンズイミダゾール接着剤、ポリメタクリレート樹脂溶剤系接着剤、メラミン樹脂系接着剤、ユリア樹脂系接着剤、レゾルシノール系接着剤等が挙げられる。このような接着剤は、１種単独又は２種以上を混合して使用することができる。
【０２１９】
接着剤としては、接着形態で分類すると、例えば、熱硬化型接着剤、ホットメルト接着剤等が挙げられる。このような接着剤は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
【０２２０】
熱硬化型接着剤は、加熱により熱硬化して固化することにより接着力を発現する。熱硬化型接着剤としては、例えば、エポキシ系熱硬化型接着剤、ウレタン系熱硬化型接着剤、アクリル系熱硬化型接着剤等が挙げられる。熱硬化型接着剤の硬化温度は、例えば、１００〜２００℃である。
【０２２１】
ホットメルト接着剤は、加熱により溶融又は軟化して、被着体に熱融着し、その後の冷却によって、固化することにより、被着体に接着する。ホットメルト接着剤としては、例えば、ゴム系ホットメルト接着剤、ポリエステル系ホットメルト接着剤、ポリオレフィン系ホットメルト接着剤、エチレン−酢酸ビニル樹脂系ホットメルト接着剤、ポリアミド樹脂ホットメルト接着剤、ポリウレタン樹脂ホットメルト接着剤等が挙げられる。ホットメルト接着剤の軟化温度（環球法）は、例えば、１００〜２００℃である。また、ホットメルト接着剤の溶融粘度は、１８０℃で、例えば、１００〜３００００ｍＰａ・ｓである。
【０２２２】
接着剤層の厚みは、特に限定されるものではないが、例えば、０．０１〜１０μｍ程度であることが好ましく、０．０５〜８μｍ程度であることがより好ましい。
【０２２３】
＜粘着剤層＞
粘着剤層としては、温度４０℃、相対湿度９２％Ｒ．Ｈ．における透湿度が、１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であればよい。粘着剤層を形成する粘着剤の組成は特に限定されるものではなく、任意の適切な粘着剤からなる層を採用し得る。粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、ポリオレフィン系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等を挙げることができるが、これらの中でも、透湿度の観点から、ゴム系粘着剤やポリオレフィン系粘着剤であることが好ましい。
【０２２４】
ゴム系粘着剤としては、ゴム系ポリマーを含むものであればよく、その組成は特に限定されるものではない。
【０２２５】
本発明で用いるゴム系ポリマーは、室温付近の温度域においてゴム弾性を示すポリマーである。具体的には、スチレン系熱可塑性エラストマー、イソブチレン系ポリマー等を挙げることができることができるが、本発明においては、耐候性の観点から、イソブチレンの単独重合体であるポリイソブチレン（ＰＩＢ）を用いることが好ましい。これは、ポリイソブチレンは、主鎖の中に二重結合を含まないため、耐光性が優れるものである。
【０２２６】
前記ポリイソブチレンとしては、例えば、ＢＡＳＦ社製のＯＰＰＡＮＯＬ等の市販品を用いることができる。
【０２２７】
前記ポリイソブチレンの重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０万以上であることが好ましく、３０万以上であることがより好ましく、６０万以上であることがさらに好ましく、７０万以上であることが特に好ましい。また、重量平均分子量の上限値は特に限定されるものではないが、５００万以下が好ましく、３００万以下がより好ましく、２００万以下がさらに好ましい。前記ポリイソブチレンの重量平均分子量を１０万以上とすることで高温保管時の耐久性がより優れるゴム系粘着剤組成物とすることができる。
【０２２８】
前記ポリイソブチレンの含有量は、特に限定されるものではないが、ゴム系粘着剤組成物の全固形分中、５０重量％以上であることが好ましく、６０重量％以上であることがより好ましく、７０重量％以上であることがさらに好ましく、８０重量％以上であることがさらに好ましく、８５重量％以上であることがさらに好ましく、９０重量％以上であることが特に好ましい。ポリイソブチレンの含有量の上限は特に限定されるものではなく、９９重量％以下であることが好ましく、９８重量％以下であることがより好ましい。ポリイソブチレンを前記範囲で含むことで、低透湿性に優れるため好ましい。
【０２２９】
また、本発明で使用するゴム系粘着剤においては、前記ポリイソブチレン以外のポリマーやエラストマー等を含むこともできる。具体的には、イソブチレンとノルマルブチレンとの共重合体、イソブチレンとイソプレンとの共重合体（例えば、レギュラーブチルゴム、塩素化ブチルゴム、臭素化ブチルゴム、部分架橋ブチルゴム等のブチルゴム類）、これらの加硫物や変性物（例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の官能基で変性したもの）等のイソブチレン系ポリマー；スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ、ＳＩＳの水添物）、スチレン−エチレン−プロピレンブロック共重合体（ＳＥＰ、スチレン−イソプレンブロック共重合体の水添物）、スチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体（ＳＩＢＳ）、スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）等のスチレン系ブロックコポリマー等のスチレン系熱可塑性エラストマー；ブチルゴム（ＩＩＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、ＥＰＲ（二元系エチレン−プロピレンゴム）、ＥＰＴ（三元系エチレン−プロピレンゴム）、アクリルゴム、ウレタンゴム、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー；ポリエステル系熱可塑性エラストマー；ポリプロピレンとＥＰＴ（三元系エチレン−プロピレンゴム）とのポリマーブレンド等のブレンド系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。これらは、本発明の効果を損なわない範囲で添加することができるが、前記ポリイソブチレン１００重量部に対して１０重量部程度以下であることが好ましく、耐久性の観点からは、含まないことが好ましい。
【０２３０】
また、本発明で使用するゴム系粘着剤は、前記ポリイソブチレンと水素引抜型光重合開始剤を含むことが特に好ましい。
【０２３１】
前記水素引抜型光重合開始剤とは、活性エネルギー線を照射することで、開始剤自身は開裂することなく、前記ポリイソブチレンより水素を引き抜き、ポリイソブチレンに反応点を作ることができるものである。当該反応点形成により、ポリイソブチレンの架橋反応を開始することができるものである。
【０２３２】
光重合開始剤としては、本発明で用いる水素引抜型光重合開始剤の他に、活性エネルギー線の照射により、光重合開始剤自身が開裂分解してラジカルを発生させる開裂型光重合開始剤も知られている。しかしながら、本発明で用いるポリイソブチレンに、開裂型光重合開始剤を用いると、ラジカルが発生した光重合開始剤によりポリイソブチレンの主鎖が切断されてしまい、架橋することができないものである。本発明においては、水素引抜型光重合開始剤を用いることで、前述の通りポリイソブチレンの架橋をすることができるものである。
【０２３３】
水素引抜型光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル−４−フェニルベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジクロルベンゾフェノン、４，４’−ジメチルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系化合物；４，４’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系化合物；１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアンスラキノン、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン等；アセトナフトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の芳香族ケトン化合物；テレフタルアルデヒド等の芳香族アルデヒド、メチルアントラキノン等のキノン系芳香族化合物が挙げられる。これらは１種単独で、又は、２種以上を混合して用いることができる。これらの中でも、反応性の点から、ベンゾフェノン系化合物が好ましく、ベンゾフェノンがより好ましい。
【０２３４】
前記水素引抜型光重合開始剤の含有量は、前記ポリイソブチレン１００重量部に対して、０．００１〜１０重量部であることが好ましく、０．００５〜１０重量部であることがより好ましく、０．０１〜１０重量部であることがさらに好ましい。水素引抜型光重合開始剤を前記範囲で含むことで、架橋反応を目的の密度まで進行させることができるため好ましい。
【０２３５】
また、本発明においては、本発明の効果を損なわない範囲で、開裂型光重合開始剤を前記水素引抜型光重合開始剤と伴に用いてもよいが、前述の理由により用いないことが好ましい。
【０２３６】
本発明で使用するゴム系粘着剤は、さらに多官能ラジカル重合性化合物を含むことができる。本発明において、多官能ラジカル重合性化合物はポリイソブチレンの架橋剤として機能するものである。
【０２３７】
前記多官能ラジカル重合性化合物は、（メタ）アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有するラジカル重合性の官能基を少なくも２つ有する化合物である。多官能ラジカル重合性化合物の具体的としては、例えば、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチルプロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡプロピレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリート、ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸と多価アルコールとのエステル化物、９，９−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン等を挙げることができる。これらを１種単独で、又は２種以上の混合物として用いることができる。これらの中でも、ポリイソブチレンに対する相溶性の観点から、（メタ）アクリル酸と多価アルコールとのエステル化物が好ましく、（メタ）アクリロイル基を２つ有する２官能（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイル基を３つ以上有する３官能（メタ）アクリレートがより好ましく、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【０２３８】
前記多官能ラジカル重合性化合物の含有量は、前記ポリイソブチレン１００重量部に対して２０重量部以下であることが好ましく、１５重量以下であることがより好ましく、１０重量部以下であることがさらに好ましい。また、多官能ラジカル重合性化合物の含有量の下限値は特に限定されるものではないが、例えば、前記ポリイソブチレン１００重量部に対して０．１重量部以上であることが好ましく、０．５重量部以上であることがより好ましく、１重量部以上であることがさらに好ましい。多官能ラジカル重合性化合物の含有量が前記範囲にあることで、得られたゴム系粘着剤層の耐久性の観点から好ましい。
【０２３９】
多官能ラジカル重合性化合物の分子量は、特に限定されないが、例えば、１０００以下程度であることが好ましく、５００以下程度であることがより好ましい。
【０２４０】
本発明で使用するゴム系粘着剤は、テルペン骨格を含む粘着付与剤、ロジン骨格を含む粘着付与剤、及びこれらの水添物からなる群から選択される少なくとも１種の粘着付与剤を含むことができる。ゴム系粘着剤に粘着付与剤を含むことで、各種被着体に対して高い接着性を有し、かつ、高温環境下においても高い耐久性を有するゴム系粘着剤層を形成することができるため、好ましい。
【０２４１】
前記テルペン骨格を含む粘着付与剤としては、例えば、α−ピネン重合体、β−ピネン重合体、ジペンテン重合体等のテルペン重合体や、前記テルペン重合体を変性（フェノール変性、スチレン変性、芳香族変性、水素添加変性、炭化水素変性等）した変性テルペン樹脂等が挙げられる。上記変性テルペン樹脂の例には、テルペンフェノール樹脂、スチレン変性テルペン樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、水素添加テルペン樹脂（水素化テルペン樹脂）等が含まれる。ここでいう水素添加テルペン樹脂の例には、テルペン重合体の水素化物及び他の変性テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂の水素添加物が含まれる。これらの中でも、ゴム系粘着剤への相溶性や粘着特性の観点から、テルペンフェノール樹脂の水素添加物が好ましい。
【０２４２】
前記ロジン骨格を含む粘着付与剤としては、ロジン樹脂、重合ロジン樹脂、水添ロジン樹脂、ロジンエステル樹脂、水添ロジンエステル樹脂、ロジンフェノール樹脂等が挙げられ、具体的には、ガムロジン、ウッドロジン、トール油ロジン等の未変性ロジン（生ロジン）や、これらを水添化、不均化、重合、その他の化学的に修飾された変性ロジン、これらの誘導体を使用することができる。
【０２４３】
前記粘着付与剤としては、例えば、ヤスハラケミカル（株）製のクリアロンシリーズ、ポリスターシリーズ、荒川化学工業（株）製のスーパーエステルシリーズ、ペンセルシリーズ、パインクリスタルシリーズ等の市販品を使用することができる。
【０２４４】
前記粘着付与剤が水素添加物である場合、水素添加は、部分的に水素添加されている部分水素添加物であってもよく、化合物中の全ての二重結合に水素添加がされている完全水素添加物であってもよい。本発明においては、粘着特性、耐候性や色相の観点から完全水素添加物であることが好ましい。
【０２４５】
前記粘着付与剤が、シクロヘキサノール骨格を含むことが粘着特性の観点から好ましい。これは詳細な原理は不明であるが、フェノール骨格よりシクロヘキサノール骨格の方が、ベースポリマーであるポリイソブチレンとの相溶性のバランスがとれるためと考えられる。シクロヘキサノール骨格を含む粘着付与剤としては、例えば、テルペンフェノール樹脂、ロジンフェノール樹脂等の水添物が好ましく、テルペンフェノール樹脂、ロジンフェノール樹脂等の完全水素添加物がより好ましい。
【０２４６】
前記粘着付与剤の軟化点（軟化温度）は、特に限定されないが、例えば、８０℃以上程度であることが好ましく、１００℃以上程度であることがより好ましい。粘着付与剤の軟化点が８０℃以上であることで、高温においても粘着付与剤が軟化せずに粘着特性を保つことができるため好ましい。粘着付与剤の軟化点の上限値は、特に限定されないが、軟化点が高くなり過ぎると、分子量がより高くなり、相溶性が悪化し、白化等の不具合を生じてしまう場合があるため、例えば、２００℃以下程度であることが好ましく、１８０℃以下程度であることが好ましい。なお、ここでいう粘着付与樹脂の軟化点は、ＪＩＳ  Ｋ５９０２及びＪＩＳ  Ｋ２２０７のいずれかに規定する軟化点試験方法（環球法）によって測定された値として定義される。
【０２４７】
前記粘着付与剤の重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されるものではないが、５万以下であることが好ましく、３万以下であることが好ましく、１万以下であることがより好ましく、８０００以下であることがさらに好ましく、５０００以下であることが特に好ましい。また、前記粘着付与剤の重量平均分子量の下限値は特に限定されるものではないが、５００以上であることが好ましく、１０００以上であることがより好ましく、２０００以上であることがさらに好ましい。前記粘着付与剤の重量平均分子量が前記範囲にあることで、ポリイソブチレンとの相溶性が良く、白化等の不具合を生じないため好ましい。
【０２４８】
前記粘着付与剤の添加量は、前記ポリイソブチレン１００重量部に対して、４０重量部以下であることが好ましく、３０重量部以下であることがより好ましく、２０重量部以下であることがさらに好ましい。また、粘着付与剤の添加量の下限値は特に限定されるものではないが、０．１重量部以上であることが好ましく、１重量部以上であることがより好ましく、５重量部以上であることがさらに好ましい。粘着付与剤の使用量を前記範囲にすることで、粘着特性を向上できるため好ましい。また、粘着付与剤の使用量が前記範囲を超えて多量添加となると、粘着剤の凝集力が低下してしまう傾向があり、好ましくない。
【０２４９】
また、本発明で使用するゴム系粘着剤には、前記テルペン骨格を含む粘着付与剤、ロジン骨格を含む粘着付与剤以外の粘着付与剤を添加することもできる。当該粘着付与剤としては、石油樹脂系粘着付与剤を挙げることできる。前記石油系粘着付与剤としては、例えば、芳香族系石油樹脂、脂肪族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂（脂肪族環状石油樹脂）、脂肪族・芳香族系石油樹脂、脂肪族・脂環族系石油樹脂、水素添加石油樹脂、クマロン系樹脂、クマロンインデン系樹脂等が挙げられる。
【０２５０】
前記石油樹脂系粘着付与剤は、本発明の効果を損なわない範囲で用いることができるが、例えば、前記ポリイソブチレン１００重量部に対して、３０重量部以下程度で用いることができる。
【０２５１】
前記ゴム系粘着剤には、希釈剤として有機溶媒を添加することができる。希釈剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、トルエン、キシレン、ｎ−ヘプタン、ジメチルエーテル等を挙げることができ、これらを１種単独で又は２種以上を混合して使用することができる。これらの中でも、トルエンが好ましい。
【０２５２】
希釈剤の添加量は、特に限定されるものではないが、ゴム系粘着剤中に５０〜９５重量％程度で添加することが好ましく、７０〜９０重量％程度であることがより好ましい。希釈剤の添加量が前記範囲であることにより、支持体等へ塗工性の観点から好ましい。
【０２５３】
本発明で使用するゴム系粘着剤には、本発明の効果を損なわない範囲で、前記以外の添加剤を添加することもできる。添加剤の具体例としては、軟化剤、架橋剤（例えば、ポリイソシアネート、エポキシ化合物、アルキルエーテル化メラミン化合物等）、充填剤、老化防止剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。ゴム系粘着剤に添加される添加剤の種類、組み合わせ、添加量等は、目的に応じて適切に設定され得る。ゴム系粘着剤における前記添加剤の含有量（総量）は、３０重量％以下であることが好ましく、２０重量％以下であることがより好ましく、１０重量％以下であることがさらに好ましい。
【０２５４】
本発明で用いるゴム系粘着剤層は、前記粘着剤から形成することができ、その製造方法は特に限定されないが、各種支持体等に粘着剤を塗布し、加熱乾燥や活性エネルギー線の照射等により、粘着剤層を形成することができる。
【０２５５】
前記ゴム系粘着剤として、ポリイソブチレンを含む場合は、粘着剤に、活性エネルギー線を照射して、前記ポリイソブチレンを架橋することが好ましい。活性エネルギー線の照射は、通常、前記ゴム系粘着剤を各種支持体等に塗布し、得られた塗布層に照射される。
また、前記活性エネルギー線の照射は、塗布層に（他部材等を貼り合せることなく）直接照射してもよく、塗布層にセパレータ等の光学フィルムやガラス等の各種部材を貼り合せた後に照射してもよい。前記光学フィルムや各種部材に貼り合せた後に照射する場合は、当該光学フィルムや各種部材越しに活性エネルギー線を照射してもよく、当該光学フィルムや各種部材を剥離して、当該剥離した面から活性エネルギー線を照射してもよい。
【０２５６】
前記粘着剤の塗布方法としては、各種方法が用いられる。具体的には、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等による押出しコート法等の方法が挙げられる。
【０２５７】
前記粘着剤の塗布層を加熱乾燥する場合、加熱乾燥温度は、３０℃〜２００℃程度が好ましく、４０℃〜１８０℃がより好ましく、８０℃〜１５０℃がさらに好ましい。加熱温度を上記の範囲とすることによって、優れた粘着特性を有する粘着剤層を得ることができる。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。上記乾燥時間は、５秒〜２０分程度が好ましく、３０秒〜１０分がより好ましく、１分〜８分がさらに好ましい。
【０２５８】
また、前記粘着剤の塗布層に活性エネルギー線を照射する場合においても、前記接着剤又は粘着剤が、希釈剤として有機溶媒を含有する場合は、塗布後、活性エネルギー線照射前に、加熱乾燥等により溶媒等を除去することが好ましい。
【０２５９】
前記加熱乾燥温度は、特に限定されないが、残存溶媒を少なくする観点から、３０℃〜９０℃程度が好ましく、６０℃〜８０℃程度がより好ましい。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。上記乾燥時間は、５秒〜２０分程度が好ましく、３０秒〜１０分がより好ましく、１分〜８分がさらに好ましい。
【０２６０】
前記活性エネルギー線としては、例えば、可視光線、紫外線、電子線等を挙げることができるが、これらの中でも、紫外線が好ましい。
【０２６１】
紫外線の照射条件は、特に限定されるものではなく、架橋させるゴム系粘着剤の組成に応じて、任意の適切な条件に設定することができるが、例えば、照射積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【０２６２】
前記支持体としては、例えば、剥離処理したシート（セパレータ）や、前述の位相差フィルムを用いることができる。
【０２６３】
前記セパレータの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステルフィルム等のプラスチックフィルム、紙、布、不織布等の多孔質材料、ネット、発泡シート、金属箔、及びこれらのラミネート体等の適宜な薄葉体等を挙げることができるが、表面平滑性に優れる点からプラスチックフィルムが好適に用いられる。
【０２６４】
前記プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム等が挙げられる。
【０２６５】
前記セパレータの厚みは、通常５〜２００μｍ、好ましくは５〜１００μｍ程度である。前記セパレータには、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系もしくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型、及び防汚処理や、塗布型、練り込み型、蒸着型等の帯電防止処理もすることもできる。特に、前記セパレータの表面にシリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等の剥離処理を適宜行うことにより、前記粘着剤層からの剥離性をより高めることができる。
【０２６６】
前記粘接着剤層を、剥離処理したシート（セパレータ）上に形成した場合、当該粘着剤層を位相差フィルムや偏光フィルム上に転写して、本発明の円偏光板を形成することができる。
【０２６７】
前記粘着剤層の厚みは、特に限定されるものではなく、その用途に応じて適宜設定することができるが、２５０μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることがより好ましく、５５μｍ以下であることがさらに好ましい。また、粘着剤層の厚みの下限値は、特に限定されるものではないが、耐久性の観点からは、１μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上であることがより好ましく１５μｍ以上であることがさらに好ましい。
【０２６８】
また、本発明で用いる粘着剤層のゲル分率は、特に限定されないが、１０〜９８％程度が好ましく、２５〜９８％程度がより好ましく、４５〜９０％程度であることがさらに好ましい。ゲル分率が前記範囲にあることで、耐久性と粘着力を両立できるため好ましい。
【０２６９】
ポリオレフィン系粘着剤としては、ポリオレフィン系樹脂を含むものであればよく、その組成は特に限定されるものではない。
【０２７０】
ポリオレフィン系樹脂の具体例としては、低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、低結晶ポリプロピレン、非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−メタクリル酸グリシジル共重合体などのエチレン共重合体やポリオレフィン変性ポリマー等が挙げられる。該粘着剤層は、より好ましくは非晶質ポリプロピレン系樹脂を含み、さらに好ましくは非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体を含む。このような粘着剤層であれば、さらに段差追従性に優れる粘着シートを得ることができる。なお、本明細書において、「非晶質」とは、結晶質のように明確な融点を有さない性質をいう。
【０２７１】
粘着剤に含まれる非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体の含有割合は、粘着剤層の弾性値が０．７Ｎ／ｍｍ以下となるよう適宜調整され得る。粘着剤に含まれる非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体の含有割合は、重量比で、好ましくは１０重量％〜１００重量％であり、より好ましくは１０重量％〜９５重量％である。
【０２７２】
上記非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体は、好ましくはメタロセン触媒を用いて、プロピレンと１−ブテンとを重合することにより得ることができる。より詳細には、非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体は、例えば、メタロセン触媒を用いてプロピレンと１−ブテンとを重合させる重合工程を行い、当該重合工程の後、触媒残さ除去工程、異物除去工程等の後処理工程を行うことにより、得ることができる。非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体は、このような工程を経て、例えば、パウダー状、ペレット状等の形状で得られる。メタロセン触媒としては、例えば、メタロセン化合物とアルミノキサンとを含むメタロセン均一混合触媒、微粒子状の担体上にメタロセン化合物が担持されたメタロセン担持型触媒等が挙げられる。
【０２７３】
上記のようにメタロセン触媒を用いて重合された非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体は、狭い分子量分布を示す。上記非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は好ましくは３以下であり、より好ましくは２以下であり、さらに好ましくは１．１〜２であり、特に好ましくは１．２〜１．９である。分子量分布が狭い非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体は低分子量成分が少ないので、このような非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体を用いれば、低分子量成分のブリードによる被着体の汚染を防止し得る粘着剤層を得ることができる。
【０２７４】
上記非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体における、プロピレン由来の構成単位の含有割合は、好ましくは８０モル％〜９９モル％、より好ましくは８５モル％〜９９モル％であり、さらに好ましくは９０モル％〜９９モル％である。
【０２７５】
上記非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体における、１−ブテン由来の構成単位の含有割合は、好ましくは１モル％〜２０モル％、より好ましくは１モル％〜１５モル％、さらに好ましくは１モル％〜１０モル％である。このような範囲であれば、靭性と柔軟性とのバランスに優れた粘着剤層を得ることができる。
【０２７６】
上記非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体は、ブロック共重合体であってもよく、ランダム共重合体であってもよい。
【０２７７】
上記非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は好ましくは２００，０００以上であり、より好ましくは２００，０００〜５００，０００であり、さらに好ましくは２００，０００〜３００，０００である。非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）がこのような範囲であれば、一般的なスチレン系熱可塑性樹脂、アクリル系熱可塑性樹脂（Ｍｗが１００，０００以下）と比較して、低分子量成分が少なく、被着体の汚染を防止し得る粘着剤層を得ることができる。
【０２７８】
上記非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体の２３０℃、２．１６ｋｇｆにおけるメルトフローレートは、好ましくは１ｇ／１０ｍｉｎ〜５０ｇ／１０ｍｉｎであり、より好ましくは５ｇ／１０ｍｉｎ〜３０ｇ／１０ｍｉｎであり、さらに好ましくは５ｇ／１０ｍｉｎ〜２０ｇ／１０ｍｉｎである。非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体のメルトフローレートがこのような範囲であれば、共押し出し成形により、加工不良なく厚みの均一な粘着剤層を形成することができる。メルトフローレートは、ＪＩＳＫ７２１０に準じた方法により測定することができる。
【０２７９】
上記非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体は、本発明の効果を損なわない範囲で、さらにその他のモノマー由来の構成単位を含んでいてもよい。その他のモノマーとしては、例えば、エチレン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ペンテン等のα−オレフィン等が挙げられる。
【０２８０】
上記非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体は、本発明の効果を損なわない範囲で、さらにその他のモノマー由来の構成単位を含んでいてもよい。その他のモノマーとしては、例えば、エチレン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ペンテン等のα−オレフィン等が挙げられる。
【０２８１】
上記粘着剤層は、好ましくは結晶性ポリプロピレン系樹脂をさらに含む。結晶性ポリプロピレン系樹脂を含有することにより、粘着剤層の７０℃の弾性率Ｅ’を所望の値に調整し得る。結晶性ポリプロピレン系樹脂の含有割合は、所望とする弾性率Ｅ’に応じて任意の適切な割合に設定され得る。結晶性ポリプロピレン系樹脂の含有割合は、上記非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体と当該結晶性ポリプロピレン系樹脂との合計重量に対して、好ましくは０重量％〜９０重量％であり、より好ましくは５重量％〜９０重量％である。
【０２８２】
上記結晶性ポリプロピレン系樹脂は、ホモポリプロピレンであってもよく、プロピレンとプロピレンに共重合可能なモノマーとにより得られる共重合体であってもよい。プロピレンに共重合可能なモノマーとしては、例えば、エチレン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ペンテン等のα−オレフィン等が挙げられる。上記結晶性ポリプロピレン系樹脂がプロピレンとプロピレンに共重合可能なモノマーとにより得られる共重合体である場合、ランダム共重合体であってもよく、ブロック共重合体であってもよい。
【０２８３】
上記結晶性ポリプロピレン系樹脂は、好ましくは上記非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体同様、メタロセン触媒を用いて重合することにより得られる。このようにして得られた結晶性ポリプロピレン系樹脂を用いれば、低分子量成分のブリードによる被着体の汚染を防止することができる。
【０２８４】
上記結晶性ポリプロピレン系樹脂の結晶化度は、好ましくは１０％以上、より好ましくは２０％以上である。結晶化度は、代表的には示差走査熱量分析（ＤＳＣ）またはＸ線回折により求められる。
【０２８５】
好ましくは、上記粘着剤層は、Ｆ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、ＮＯ２−、ＮＯ３−、ＳＯ４２−、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、ＮＨ４＋を実質的に含まない。被着体を当該イオンで汚染することを防止することができるからである。上記イオンを含まない粘着剤層は、例えば、当該粘着剤層に含まれる非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体を上記のようにメタロセン触媒を用いて溶液重合することにより得ることができる。
当該メタロセン触媒を用いた溶液重合においては、非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体は、重合溶媒とは異なる貧溶媒を用いて析出単離（再沈殿法）を繰り返して、精製することができるので、上記イオンを含まない粘着剤層を得ることができる。なお、本明細書において、「Ｆ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、ＮＯ２−、ＮＯ３−、ＳＯ４２−、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、ＮＨ４＋を実質的に含まない」とは、標準的なイオンクロマトグラフ分析（例えば、ダイオネクス社製、商品名「ＤＸ−３２０」、「ＤＸ−５００」を用いたイオンクロマトグラフ分析）において検出限界未満であることをいう。具体的には、粘着剤層１ｇに対して、
Ｆ−、Ｃｌ−、Ｂｒ−、ＮＯ２−、ＮＯ３−、ＳＯ４２−およびＫ＋がそれぞれ０．４９μｇ以下、Ｌｉ＋およびＮａ＋がそれぞれ０．２０μｇ以下、Ｍｇ２＋およびＣａ２＋がそれぞれ０．９７μｇ以下、ＮＨ４＋が０．５μｇ以下である場合をいう。
【０２８６】
上記粘着剤層は、本発明の効果を損なわない範囲で、さらにその他の成分を含んでいてもよい。当該その他の成分としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、耐熱安定剤、帯電防止剤等が挙げられる。その他の成分の種類および使用量は、目的に応じて適切に選択され得る。
【０２８７】
本発明で用いるポリオレフィン系粘着剤層は、前記粘着剤から形成することができ、その製造方法は特に限定されないが、各種支持体等に粘着剤を押し出し成形し、加熱乾燥や活性エネルギー線の照射等により、粘着剤層を形成することができる。
【０２８８】
上記押し出し成形における成形温度は、好ましくは１６０℃〜２２０℃であり、より
好ましくは１７０℃〜２００℃である。このような範囲であれば、成形安定性に優れる。
【０２８９】
前記支持体としては、例えば、剥離処理したシート（セパレータ）や、前述の位相差フィルムを用いることができる。
【０２９０】
前記セパレータの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステルフィルム等のプラスチックフィルム、紙、布、不織布等の多孔質材料、ネット、発泡シート、金属箔、及びこれらのラミネート体等の適宜な薄葉体等を挙げることができるが、表面平滑性に優れる点からプラスチックフィルムが好適に用いられる。
【０２９１】
前記プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム等が挙げられる。
【０２９２】
前記セパレータの厚みは、通常５〜２００μｍ、好ましくは５〜１００μｍ程度である。前記セパレータには、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系もしくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型、及び防汚処理や、塗布型、練り込み型、蒸着型等の帯電防止処理もすることもできる。特に、前記セパレータの表面にシリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等の剥離処理を適宜行うことにより、前記粘着剤層からの剥離性をより高めることができる。
【０２９３】
前記粘接着剤層を、剥離処理したシート（セパレータ）上に形成した場合、当該粘着剤層を位相差フィルムや偏光フィルム上に転写して、本発明の円偏光板を形成することができる。
【０２９４】
前記粘着剤層の厚みは、特に限定されるものではなく、その用途に応じて適宜設定することができるが、２５０μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることがより好ましく、５５μｍ以下であることがさらに好ましい。また、粘着剤層の厚みの下限値は、特に限定されるものではないが、耐久性の観点からは、１μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上であることがより好ましく、１５μｍを超えることがさらに好ましい。
【０２９５】
前記偏光フィルムや保護フィルムを有する偏光板、前記位相差フィルムには、積層する前にコロナ処理，プラズマ処理等の表面改質処理や易接着層を形成するなどの処理を施しておいてもよい。
【０２９６】
＜円偏光板の構成＞
本発明の円偏光板の構成についてより詳細に説明する。円偏光板は、偏光フィルムと、粘接着剤層と、位相差フィルムとを、この順に備える。換言すれば、粘接着剤層は、偏光フィルムと位相差フィルムとの間に配置される。
【０２９７】
例えば、偏光フィルムの片面のみに保護フィルムを有する片面保護偏光板を用いる場合は、保護フィルム／偏光フィルム／粘接着剤層／位相差フィルムから構成される円偏光板とすることができる。また、偏光フィルムの両面に保護フィルムを有する両面保護偏光板を用いる場合は、保護フィルム／偏光フィルム／保護フィルム／粘接着剤層／位相差フィルムから構成される円偏光板とすることができる。粘接着剤層は、偏光フィルムまたは保護フィルムと、位相差フィルムとを積層するための粘接着剤層であることができる。すなわち、粘接着剤層は、偏光フィルム、保護フィルムまたは位相差フィルムに直接接して配置されることができる。
【０２９８】
前記構成において、偏光フィルムの吸収軸と位相差フィルムの遅相軸とのなす角度は、３５°〜５５°であることが好ましく、３８°〜５２°がより好ましく、４０°〜５０°がさらに好ましく、４２°〜４８°がさらに好ましく、４４°〜４６°が特に好ましい。当該角度がこのような範囲であれば、所望の円偏光機能が実現され得るため好ましい。なお、本明細書において角度に言及するときは、特に明記しない限り、当該角度は時計回り及び反時計回りの両方の方向の角度を包含する。
【０２９９】
本発明の円偏光板には、前記以外の接着剤層や粘着剤層、下塗り層（プライマー層）等の介在層や、易接着層を含んでいてもよい。
【０３００】
また、本発明の円偏光板には、機能層を設けることができる。機能層を設けることで、偏光フィルムに生じる貫通クラック及びナノスリット等の欠陥の発生を抑制することができるため、好ましい。機能層は、各種の形成材から形成することができる。機能層は、例えば、樹脂材料を偏光フィルムに塗布することにより形成することができる。
【０３０１】
前記機能層を形成する樹脂材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ＰＶＡ系樹脂、アクリル系樹脂等を挙げることができる。これら樹脂材料は１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができるが、これらの中でも、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂からなる群から選択される１種以上が好ましく、ＰＶＡ系樹脂がより好ましい。また、前記樹脂の形態は、水系、溶剤系のいずれでもよい。前記樹脂の形態は、水系樹脂が好ましく、ＰＶＡ系樹脂が好ましい。また、水系樹脂としては、アクリル樹脂水溶液やウレタン樹脂水溶液を用いることができる。
【０３０２】
前記機能層は、厚くなりすぎると光学信頼性と耐水性が低下するため、機能層の厚みは１５μｍ以下であるのが好ましく、１０μｍ以下であるのがより好ましく、８μｍ以下がさらに好ましく、６μｍ以下がさらに好ましく、５μｍ以下がさらに好ましく、３μｍ以下が特に好ましい。一方、機能層の厚みは０．２μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であるのがより好ましく、０．７μｍ以上であるのがさらに好ましい。当該厚みの機能層により、クラックの発生を抑制することができるため、好ましい。
【０３０３】
＜粘着剤付き円偏光板＞
本発明の円偏光板は、少なくともいずれか一方の表面に粘着剤層を設けて粘着剤付き円偏光板とすることができる。用いる粘着剤は、特に限定されるものではなく、公知のものを用いることができる。この粘着剤層としては、上で説明した温度４０℃、相対湿度９２％Ｒ．Ｈ．における透湿度が１００ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下の粘着剤と同じものを用いてもよいし、異なるものを用いてもよい。
【０３０４】
前記粘着剤と異なる粘着剤としては、例えば、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。粘着剤としては、特に、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましい。
【０３０５】
この粘着剤層としては、光学透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性、および接着性等の粘着特性を示すものであればよいが、耐久性等に優れるものが好ましく用いられる。具体的に粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、アクリル系樹脂からなる感圧性接着剤（アクリル系粘着剤ともいう）が挙げられる。
【０３０６】
前記アクリル系粘着剤から形成される粘着剤層は、特に限定されるものではないが、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、および（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルのような（メタ）アクリル酸エステル系樹脂や、これらの（メタ）アクリル酸エステルを２種類以上用いた共重合樹脂が好ましく用いられる。また、これらの樹脂には、極性モノマーが共重合されている。極性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、およびグリシジル（メタ）アクリレートといったカルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基，およびエポキシ基等の極性官能基を有するモノマーが挙げられる。また、粘着剤には、通常、アクリル系樹脂とともに架橋剤が配合されている。
【０３０７】
粘着剤にはこの他、各種の添加剤が配合されていてもよい。好適な添加剤として、シランカップリング剤や帯電防止剤がある。シランカップリング剤は、ガラスとの接着力を高めるうえで有効である。帯電防止剤は、静電気の発生を低減または防止するうえで有効である。すなわち、粘着剤層を介して偏光板を液晶セルに貼る際、それまで粘着剤層を覆って仮着保護していた表面保護フィルム（セパレータ）を剥がしてから液晶セルに貼り合わされるが、その表面保護フィルムを剥がすときに発生する静電気によって、セル内の液晶に配向不良を生じ、これが液晶表示装置の表示不良をもたらすことがある。
このような静電気の発生を低減または防止するうえで、帯電防止剤の配合が有効である。
【０３０８】
すくなくとも一方の粘着剤の厚みは、３〜５０μｍとすることが好ましい。さらに好ましくは、３〜３０μｍである。
【０３０９】
粘着剤層に導電性を持たせる場合には、その抵抗値は適宜選択されればよいが、例えば１×１０９〜１×１０１１Ω／□の範囲であることが好ましい。
【０３１０】
円偏光板に形成する前記粘着剤層の形成方法は、公知の方法により行うことができる。
【０３１１】
＜画像表示装置＞
本発明の画像表示装置は、本発明の円偏光板を有することを特徴とする。
【０３１２】
画像表示装置としての種類は問わず公知のものが使用できる。例えば、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置に本発明の円偏光板が好適に用いることができる。とくに、有機ＥＬ表示装置の反射防止偏光板として好適に用いることができる。
【０３１３】
画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置であってもよい。フレキシブル画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなり、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側にフレキシブル画像表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル画像表示装置用積層体としては、ウインドウ、本発明の円偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順任意であるが、視認側からウインドウ、本発明の円偏光板、タッチセンサ、またはウインドウ、タッチセンサ、本発明の円偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサの視認側に円偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。
また、ウインドウ、円偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
【０３１４】
［ウインドウ］
ウインドウは、フレキシブル画像表示装置の視認側に配置され、その他の構成要素を外部からの衝撃または温湿度等の環境変化から保護する役割を担っている。従来このような保護層としてはガラスが使用されてきたが、フレキシブル画像表示装置におけるウインドウはガラスのようにリジッドで堅いものではなく、フレキシブルな特性を有する。前記ウインドウは、フレキシブルな透明基材からなり、少なくとも一面にハードコート層を含んでいてもよい。
【０３１５】
（透明基材）
透明基材は、可視光線の透過率が７０％以上、好ましくは８０％以上である。前記透明基材は、透明性のある高分子フィルムなら、どのようなものでも使用可能である。具体的に、透明基材は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネンまたはシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体等のポリオレフィン類、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース等の（変性）セルロース類、メチルメタクリレート（共）重合体等のアクリル類、スチレン（共）重合体等のポリスチレン類、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体類、アクリロニトリル・スチレン共重合体類、エチレン‐酢酸ビニル共重合体類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類などの高分子で形成されたフィルムであってもよい。これらの高分子はそれぞれ単独または２種以上混合して使用することができる。好ましくは、前記記載の透明基材の中でも透明性及び耐熱性に優れたポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルムまたはポリイミドフィルム、ポリエステル系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、セルロース系フィルムが好ましい。高分子フィルムの中には、シリカ等の無機粒子、有機微粒子、ゴム粒子等を分散させることも好ましい。さらに、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤を含有させてもよい。前記透明基材の厚さは５〜２００μｍ、好ましくは、２０〜１００μｍである。透明基材は、未延伸フィルム、１軸延伸フィルムまたは２軸延伸フィルムであってもよい。
【０３１６】
（ハードコート）
前記ウインドウには透明基材の少なくとも一面にハードコート層が設けられていてもよい。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、２〜１００μｍであってもよい。
ハードコート層の厚さが２μｍ未満の場合、十分な耐衝撃性耐擦傷性を確保することが難しく、１００μｍを超えると、耐屈曲性が低下し、硬化収縮によるカール発生の問題が発生することがある。
【０３１７】
ハードコート層は、活性エネルギー線或いは熱エネルギーを照射して架橋構造を形成する反応性材料を含むハードコート組成物の硬化層であることができる。活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線などを挙げることができる。紫外線が特に好ましい。ハードコート組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有する。ハードコート組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。ハードコート組成物はさらに溶剤、添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。添加剤としては、無機粒子、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤などが挙げられる。
【０３１８】
［タッチセンサ］
タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が提案されており、いずれの方式でも構わない。中でも静電容量方式が好ましい。静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と；前記基板の活性領域に形成された感知パターンと；前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウの透明基板と同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、靱性が２，０００ＭＰａ％以上のものがタッチセンサに生じ得るクラックを抑制する観点から好ましい。より好ましくは靱性が２，０００ＭＰａ％〜３０，０００ＭＰａ％でる。ここで、靭性は、高分子材料の引張試験を通じて得られる応力（ＭＰａ）−ひずみ（％）曲線（Ｓｔｒｅｓｓ−Ｓｔｒａｉｎ  Ｃｕｒｖｅ）において、破壊点までの曲線の下部面積として定義される。
【０３１９】
［接着層］
フレキシブル画像表示装置用積層体を形成する各層（ウインドウ、円偏光板、タッチセンサ）並びに各層を構成するフィルム部材（直線偏光板、λ／４位相差板等）は接着剤によって積層することができる。接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤（粘着剤）、再湿型接着剤等汎用に使用されているものが使用できる。中でも水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤がよく用いられる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、０．０１μｍ〜５００μｍ、好ましくは０．１μｍ〜３００μｍである。フレキシブル画像表示装置用積層体が複数の接着層を備える場合、それぞれの厚みや種類は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【０３２０】
［遮光パターン］
遮光パターンはフレキシブル画像表示装置のベゼルまたはハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンがフレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線を遮蔽し、視認されにくくする。遮光パターンは単層または複層の形態であってもよい。遮光パターンの色は特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などが挙げられる。遮光パターンは顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子とで形成することができる。遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは１μｍ〜１００μｍであってもよく、好ましくは２μｍ〜５０μｍでる。また、遮光パターンの厚み方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。
【実施例】
【０３２１】
以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す部及び％は、特記ないかぎり重量基準である。なお、以下の例における各物性の測定は、次の方法で行った。
【０３２２】
（１）厚さの測定：
株式会社ニコン製のデジタルマイクロメーター“ＭＨ−１５Ｍ”を用いて測定した。
【０３２３】
（２）面内レターデーション及び厚み方向レターデーションの測定：
王子計測機器株式会社製の平行ニコル回転法を原理とする位相差計“ＫＯＢＲＡ（登録商標）−ＷＰＲ”を用い、２３℃の温度において、各波長での面内レターデーション及び厚み方向レターデーションを測定した。
【０３２４】
（３）粘着剤層の透湿度の測定
実施例、比較例で用いた粘着シート（粘着剤層の厚み：５０μｍ）の粘着面に、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム、厚み：２５μｍ、コニカミノルタ（株）製）に貼り合わせた。その後、粘着シートのセパレータを剥がして、測定用サンプルを得た。次に、この測定用サンプルを用いて、下記条件で、透湿度試験方法（カップ法、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に準じる）により、透湿度（水蒸気透過率）を測定した。
測定温度：４０℃
相対湿度：９２％Ｒ．Ｈ．
測定時間：２４時間
測定には、恒温恒湿槽を使用した。
【０３２５】
［製造例１］偏光フィルムの作製
厚み３０μｍのポリビニルアルコールフィルム（平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％以上）を、乾式延伸により約４倍に一軸延伸し、さらに緊張状態を保ったまま、４０℃の純水に４０秒間浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の重量比が０．０５２／５．７／１００の水溶液に２８℃で３０秒間浸漬して染色処理を行った。その後、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の重量比が１１．０／６．２／１００の水溶液に７０℃で１２０秒間浸漬した。引き続き、８℃の純水で１５秒間洗浄した後、３００Ｎの張力で保持した状態で、６０℃で５０秒間、次いで７５℃で２０秒間乾燥して、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向している厚み１２μｍの吸収型偏光子を得た。
【０３２６】
［製造例２］位相差フィルムの作製
下記構造の光配向性材料５部（重量平均分子量：３００００）とシクロペンタノン（溶媒）９５部とを成分として混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、配向膜形成用組成物を得た。
【０３２７】
2020098317.tif 000087
以下に示す重合性液晶化合物Ａ、及び重合性液晶化合物Ｂを９０：１０の質量比で混合した混合物に対して、レベリング剤（Ｆ−５５６；ＤＩＣ社製）を１．０部、及び重合開始剤である２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（「イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を６部添加した。
さらに、固形分濃度が１３％となるようにＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、液晶硬化膜形成用組成物を得た。
重合性液晶化合物Ａは特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法で製造した。また、重合性液晶化合物Ｂは、特開２００９−１７３８９３号公報に記載の方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。
【０３２８】
［重合性液晶化合物Ａ］
2020098317.tif 000088
【０３２９】
［重合性液晶化合物Ｂ］
2020098317.tif 000089
〔基材、配向膜、液晶化合物が硬化した層からなる積層体の製造〕
基材として５０μｍ厚のシクロオレフィン系フィルム〔日本ゼオン（株）製の商品名「ＺＦ−１４−５０」〕上にコロナ処理を実施した後、配向膜形成用組成物をバーコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置〔ウシオ電機（株）の商品名「ＳＰＯＴ  ＣＵＲＥ  ＳＰ−９」〕を用いて、波長３１３ｎｍにおける積算光量：１００ｍＪ／ｃｍ２で軸角度４５°にて偏光ＵＶ露光を実施した。続いて、配向膜に、配向液晶硬化膜形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ〔ウシオ電機（株）  の商品名：「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」〕を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ２）することにより、液晶化合物が硬化した層を形成し、基材、配向膜及び液晶化合物が硬化した層からなる積層体を得た。
【０３３０】
上記方法にて製造した液晶化合物が硬化した層の面内位相差値Ｒｅ（λ）は、粘着剤を介してガラスに貼合し、基材であるシクロオレフィン系フィルムを剥離した後に測定した。
各波長における位相差値Ｒｅ（λ）を測定結果は、Ｒｅ（４５０）＝１２１ｎｍ、Ｒｅ（５５０）＝１４２ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４６ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８５、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０３であった。
【０３３１】
［製造例３］ゴム系粘着剤１の作製
ポリイソブチレン（商品名：ＯＰＰＡＮＯＬ  Ｂ８０、Ｍｗ：約７５万、ＢＡＳＦ社製）１００重量部と、多官能ラジカル重合性化合物としてのトリシクロデカンジメタノールジアクリレート（商品名：ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ、２官能アクリレート、分子量：３０４、新中村化学工業（株）製）１０重量部、水素引抜型光重合開始剤であるベンゾフェノン（和光純薬工業（株）製）０．５部、完全水添テルペンフェノール１０重量部を配合したトルエン溶液（粘着剤溶液）を固形分が１５重量％になるように調整し、ゴム系粘着剤１（溶液）を調製した。
【０３３２】
［製造例４］ゴム系粘着剤シート１の作製
製造例３で得られたゴム系粘着剤１（溶液）を、片面をシリコーンで剥離処理した厚み３８μｍのポリエステルフィルム（商品名：ダイアホイルＭＲＦ、三菱樹脂（株）製）の剥離処理面に塗布して塗布層を形成した。次いで、塗布層を８０℃で３分乾燥させて、粘着剤層を形成し、粘着剤層の厚みが２０μｍの粘着シートを作製した。また、粘着シートの粘着面には、片面をシリコーンで剥離処理した厚み３８μｍのポリエステルフィルム（商品名：ダイアホイルＭＲＦ、三菱樹脂（株）製）を、剥離処理面と前記粘着剤層が接するように貼り合せた。粘着剤層の両面に被覆されたポリエステルフィルムは、剥離フィルム（セパレータ）として機能する。
【０３３３】
一方のセパレータを剥離し、セパレータを剥離した側から、室温で紫外線を照射し、ゴム系粘着剤層１／セパレータからなる粘着シートを得た。前記紫外線照射は、ＵＶＡ領域にて、光量１０００ｍＪ／ｃｍ２であった。別途同様に塗布厚みを調整し作製した５０μｍの厚みの粘着剤層を備える粘着シートを用いて透湿度を測定したところ、粘着剤層の透湿度は１０ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）であった。
【０３３４】
［製造例５］オレフィン系粘着剤シートの作製
粘着剤層形成材料として、メタロセン触媒により重合した非晶質プロピレン−（１−ブテン）共重合体（住友化学株式会社製、商品名「タフセレンＨ５００２」：プロピレン由来の構成単位９０モル％／１−ブテン由来の構成単位１０モル％、Ｍｗ＝２３０，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８）６０部とメタロセン触媒により重合した結晶性ポリプロピレン系樹脂（日本ポリプロ（株）製、商品名「ＷＩＮＴＥＣ  ＷＦＸ４」）４０部とを混合して用いた。上記粘着剤層形成材料１００部を押し出し機に投入し、Ｔダイ溶融押し出し（押出温度１８０℃）を行い、粘着剤層の厚みが２０μｍの粘着シートを得た。また、粘着シートの粘着面には、片面をシリコーンで剥離処理した厚み３８μｍのポリエステルフィルム（商品名：ダイアホイルＭＲＦ、三菱樹脂（株）製）を、剥離処理面と前記粘着剤層が接するように貼り合せた。粘着剤層の両面に被覆されたポリエステルフィルムは、剥離フィルムとして機能する。別途押し出し条件を調整して作製した５０μｍの厚みの粘着剤層を備える粘着シートを用いて透湿度を測定したところ、粘着剤層の透湿度は１２ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）であった。
【０３３５】
［製造例６］ゴム系粘着剤２の作製
スチレン系熱可塑性エラストマーとしてスチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ、商品名：ＳＥＰＴＯＮ  ２０６３、スチレン含有量：１３％、（株）クラレ製）１００重量部と、粘着付与剤として水添テルペンフェノール（商品名：ＹＳポリスターＴＨ１３０、軟化点：１３０℃、水酸基価：６０、ヤスハラケミカル（株）製）４０．４重量部、石油系粘着付与剤（商品名：ピコラスチックＡ５、ビニルトルエン系粘着付与剤、軟化点：５℃、イーストマンコダック社製）６１．７部、軟化剤としてポリブテン（商品名：ＨＶ−３００、重量平均分子量：３０００、ＪＸ日鉱日石エネルギー（株）製）２１．３部を配合したトルエン溶液を固形分が３０重量％になるように調整し、ゴム系粘着剤２（溶液）を調製した。
【０３３６】
［製造例７］ゴム系粘着剤シート２の作製
製造例６で得られたゴム系粘着剤２（溶液）を、片面をシリコーンで剥離処理した厚み３８μｍのポリエステルフィルム（商品名：ダイアホイルＭＲＦ、三菱樹脂（株）製）の剥離処理面に塗布して塗布層を形成した。次いで、塗布層を８０℃で３分乾燥させて、粘着剤層を形成し、粘着剤層の厚みが２０μｍの粘着シートを作製した。また、粘着シートの粘着面には、片面をシリコーンで剥離処理した厚み３８μｍのポリエステルフィルム（商品名：ダイアホイルＭＲＦ、三菱樹脂（株）製）を、剥離処理面と前記粘着剤層が接するように貼り合せた。粘着剤層の両面に被覆されたポリエステルフィルムは、剥離フィルム（セパレータ）として機能する。
【０３３７】
一方のセパレータを剥離し、セパレータを剥離した側から、室温で紫外線を照射し、ゴム系粘着剤層２／セパレータからなる粘着シートを得た。前記紫外線照射は、ＵＶＡ領域にて、光量１０００ｍＪ／ｃｍ２であった。別途同様に塗布厚みを調整し作製した５０μｍの厚みの粘着剤層を備える粘着シートを用いて透湿度を測定したところ、粘着剤層の透湿度は４０ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）であった。
【０３３８】
[実施例１]
製造例１で得られた偏光フィルムの片面に、接着剤層の厚さが０．１μｍになるようにポリビニルアルコール系接着剤を塗布しながら、保護フィルム（トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（商品名：ＫＣ２ＵＡＷ、厚み：２５μｍ、コニカミノルタ株式会社製）を貼合せたのち、８０℃で２分間の乾燥を行い、片面保護フィルム付き偏光板を作製した。得られた片面保護フィルム付き偏光板の偏光フィルム側に、製造例４で得られたゴム系粘着剤層１を介して、位相差フィルムを貼り合わせた。ここで、位相差フィルムの遅相軸が偏光フィルムの吸収軸に対して反時計回りに４５°となるように貼り合わせた。さらに位相差フィルムのゴム系粘着剤層１側とは反対の面にアクリル系粘着剤（リンテック株式会社製、Ｐ−３１３２）を貼りあわせ粘着剤付き円偏光板を得た。得られた粘着剤付き円偏光板は、ＴＡＣフィルム／接着剤層／偏光フィルム／ゴム系粘着剤層１／位相差フィルム／アクリル系粘着剤／剥離フィルムからなる構造を有していた。
【０３３９】
得られた円偏光板を１１０ｍｍ×７０ｍｍに裁断した。剥離フィルムを剥離して露出したアクリル系粘着剤を介して、円偏光板を無アルカリガラス（コーニング社製、イーグルＸＧ）に貼合した。次いで、円偏光板の保護フィルム（ＴＡＣフィルム）面にもアクリル系粘着剤（リンテック株式会社製、Ｐ−３１３２）を介して無アルカリガラス（コーニング社製、イーグルＸＧ）を円偏光板の主面が完全に覆われるように貼りあわせ評価サンプルを作製した。
【０３４０】
こうして得られた評価サンプルを、８５℃のオーブンに４００ｈｒ投入した。評価サンプルを鏡の上に配置し、蛍光灯下で反射光の色目を確認したところ中央部と周辺部とで色目は均一であった。評価サンプルの中央部での位相差フィルムの位相差値の変化量を測定したところ、初期から８．８ｎｍ低下しているだけだった。
【０３４１】
[実施例２]
製造例１で得られた偏光フィルムの両面に、接着剤層の厚さが０．１μｍになるようにポリビニルアルコール系接着剤を塗布しながら、保護フィルム（トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（商品名：ＫＣ２ＵＡＷ、厚み：２５μｍ、コニカミノルタ株式会社製）をそれぞれ貼合せたのち、８０℃で２分間の乾燥を行い、両面保護フィルム付き偏光板を作製した。実施例１の片面保護フィルム付き偏光板を、前記両面保護フィルム付き偏光板に変更した以外は同様に評価サンプルを作製した。
【０３４２】
こうして得られた評価サンプルを、８５℃のオーブンに４００ｈｒ投入した。評価サンプルを鏡の上に配置し、蛍光灯下で反射光の色目を確認したところ中央部と周辺部とで色目は均一であった。評価サンプルの中央部での位相差フィルムの位相差値の変化量を測定したところ、初期から８．６ｎｍ低下しているだけだった。
【０３４３】
[実施例３]
実施例１のゴム系粘着剤１を製造例５のオレフィン系粘着剤に変更した以外は、実施例１と同様に評価サンプルを作製した。
【０３４４】
こうして得られた評価サンプルを、８５℃のオーブンに４００ｈｒ投入した。評価サンプルを鏡の上に配置し、蛍光灯下で反射光の色目を確認したところ中央部と周辺部とで色目は均一であった。評価サンプルの中央部での位相差フィルムの位相差値の変化量を測定したところ、初期から９．４ｎｍ低下しているだけだった。
【０３４５】
[実施例４]
実施例２のゴム系粘着剤１を製造例５のオレフィン系粘着剤に変更した以外は、実施例２と同様に評価サンプルを作製した。
【０３４６】
こうして得られた評価サンプルを、８５℃のオーブンに４００ｈｒ投入した。評価サンプルを鏡の上に配置し、蛍光灯下で反射光の色目を確認したところ中央部と周辺部とで色目は均一であった。評価サンプルの中央部での位相差フィルムの位相差値の変化量を測定したところ、初期から９．２ｎｍ低下しているだけだった。
【０３４７】
［実施例５］
実施例１のゴム系粘着剤１を製造例７のゴム系粘着剤２に変更した以外は、実施例１と同様に評価サンプルを作製した。
【０３４８】
こうして得られた評価サンプルを、８５℃のオーブンに４００ｈｒ投入した。評価サンプルを鏡の上に配置し、蛍光灯下で反射光の色目を確認したところ中央部と周辺部とで色目は均一であった。評価サンプルの中央部での位相差フィルムの位相差値の変化量を測定したところ、初期から９．５ｎｍ低下しているだけだった。
【０３４９】
[実施例６]
実施例２のゴム系粘着剤１を製造例７のゴム系粘着剤２に変更した以外は、実施例２と同様に評価サンプルを作製した。
【０３５０】
こうして得られた評価サンプルを、８５℃のオーブンに４００ｈｒ投入した。評価サンプルを鏡の上に配置し、蛍光灯下で反射光の色目を確認したところ中央部と周辺部とで色目は均一であった。評価サンプルの中央部での位相差フィルムの位相差値の変化量を測定したところ、初期から９．４ｎｍ低下しているだけだった。
【０３５１】
[比較例１]
実施例１のゴム系粘着剤１をアクリル系粘着剤（リンテック株式会社製、Ｐ−３１３２、厚み５０μｍでの透湿度：１０３０ｇ／（ｍ２・ｄａｙ））を用いた以外は、実施例１と同様に評価サンプルを作製した。
【０３５２】
こうして得られた評価サンプルを、８５℃のオーブンに４００ｈｒ投入した。評価サンプルを鏡の上に配置し、蛍光灯下で反射光の色目確認したところ中央部と周辺部とで色目は異なっていた。具体的には、中央部の反射光が赤く色付いていた。評価サンプルの中央部での位相差フィルムの位相差値の変化量を測定したところ、初期から１６．８ｎｍ低下していた。
【０３５３】
[比較例２]
実施例２のゴム系粘着剤１をアクリル系粘着剤（リンテック株式会社製、Ｐ−３１３２、厚み５０μｍでの透湿度：１０３０ｇ／（ｍ２・ｄａｙ））を用いた以外は同様に評価サンプルを作製した。
【０３５４】
こうして得られた評価サンプルを、８５℃のオーブンに４００ｈｒ投入した。評価サンプルを鏡の上に配置し、蛍光灯下で反射光の色目の確認したところ中央部と周辺部とで色目は異なっていた。具体的には、中央部の反射光が赤く色付いていた。評価サンプルの中央部での位相差フィルムの位相差値の変化量を測定したところ、初期から１６．３ｎｍ低下していた。
【産業上の利用可能性】
【０３５５】
本発明によれば、視認側にカバーガラスが積層された状態で高温環境下に置かれた場合でも、中央部と周辺部とで反射光の色目が均一な円偏光板を提供することができるので有用である。