(57)【要約】【解決手段】ステージと、前記ステージに載置される被処理物に対向して配置される対向電極部と、を備え、前記対向電極部と前記被処理物との間で発生するプラズマにより前記被処理物を処理するプラズマ処理装置であって、前記ステージと前記対向電極部とを相対的に移動させることで前記被処理物と前記対向電極部との間の距離を調整する移動機構と、電源部により前記対向電極部に電圧が印加されることで生じる電流に応じて前記移動機構を制御する制御部と、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージと、前記ステージに載置される被処理物に対向して配置される対向電極部と、を備え、前記対向電極部と前記被処理物との間で発生するプラズマにより前記被処理物を処理するプラズマ処理装置であって、
前記ステージと前記対向電極部とを相対的に移動させることで前記被処理物と前記対向電極部との間の距離を調整する移動機構と、
電源部により前記対向電極部に電圧が印加されることで生じる電流に応じて前記移動機構を制御する制御部と、
を備える、プラズマ処理装置。
【請求項２】
大気圧でのプラズマ放電により前記被処理物を処理する、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記ステージに接続される電流路に配置されて前記電流を検出する電流計をさらに備える、請求項１または請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記移動機構は、前記対向電極部を移動させる、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記ステージと前記対向電極部との少なくとも一方を、前記移動機構による移動方向と垂直な所定方向に移動させる第１アクチュエータをさらに備える、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記被処理物の被処理面の高さを計測する変位計と、
前記ステージと前記変位計との少なくとも一方を前記所定方向に移動させる第２アクチュエータと、をさらに備え、
前記制御部は、前記変位計の計測結果と前記電流とに基づいて前記移動機構を制御する、請求項５に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記被処理物の被処理面の高さを計測する変位計をさらに備え、
前記制御部は、前記変位計による１箇所の計測結果と前記電流とに基づいて前記移動機構を制御する、請求項５に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記被処理物と前記対向電極部との間の距離と、電流値との関係性を、所定基準により区分された前記被処理物ごとに記憶する、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記制御部は、記憶された前記被処理物と前記対向電極部との間の距離と、電流値との関係性を、前記電流の検出結果に基づき補正する、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
前記ステージを移動させる第３アクチュエータと、
前記ステージと前記第３アクチュエータとの間に配置される絶縁部と、
前記ステージに接続される電流路に配置されて前記電流を検出する電流計と、をさらに備える、請求項１から請求項９のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、密閉容器の内部を減圧してプラズマを発生し、当該密閉容器内に配置されたワークをプラズマ処理する技術が多く利用された。さらに近年では、大気圧下で安定的にプラズマ放電させる技術が確立されてきており、開放空間でのプラズマ処理が実現されている。これにより、減圧に耐える強固な密閉容器が不要となり、安価なプラズマ処理装置が実現できる。
【０００３】
このような大気圧下でのプラズマ処理を行う従来のプラズマ処理装置は、特許文献１に開示される。上記特許文献１のプラズマ処理装置は、電圧を印加させるＨＯＴ電極と、ＨＯＴ電極の表面を覆う誘電体を備える。誘電体に対向して、導電性を有する被処理物が配置される。
【０００４】
誘電体と被処理物との間に処理ガスを供給し、ＨＯＴ電極に電圧を印加してＨＯＴ電極と被処理物との間で放電を発生させる。放電によりプラズマ化した処理ガスを被処理物の表面に接触させ、上記表面をプラズマ処理する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−１１５６１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１では、例えば被処理物の表面の高さ位置のバラツキにより、誘電体と上記表面との間の距離は一定とならない虞があり、安定したプラズマ放電が行えない虞がある。
【０００７】
上記状況に鑑み、本発明は、プラズマ放電を安定化させることができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の例示的なプラズマ処理装置は、ステージと、前記ステージに載置される被処理物に対向して配置される対向電極部と、を備え、前記対向電極部と前記被処理物との間で発生するプラズマにより前記被処理物を処理するプラズマ処理装置であって、前記ステージと前記対向電極部とを相対的に移動させることで前記被処理物と前記対向電極部との間の距離を調整する移動機構と、電源部により前記対向電極部に電圧が印加されることで生じる電流に応じて前記移動機構を制御する制御部と、を備える。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の例示的なプラズマ処理装置によれば、プラズマ放電を安定化させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、第１実施形態に係るプラズマ処理装置の全体構成を概略的に示す図である。
【図２】図２は、被処理物と対向電極部との間の距離と、放電電流の電流値との関係性の一例を示す図である。
【図３】図３は、第１実施形態に係るプラズマ処理装置における電圧印加電極に印加される出力電圧と、電流計により検出される検出電流信号の波形例を示す図である。
【図４】図４は、比較例に係るプラズマ処理装置における電圧印加電極に印加される出力電圧と、電流計により検出される検出電流信号の波形例を示す図である。
【図５】図５は、被処理物の処理工程の第１例を示す上面図である。
【図６】図６は、被処理物の処理工程の第２例を示す上面図である。
【図７】図７は、対向電極部を移動させるアクチュエータの一例を示す上面図である。
【図８】図８は、第２実施形態に係るプラズマ処理装置の一部構成を概略的に示す図である。
【図９】図９は、第３実施形態に係るプラズマ処理装置の一部構成を概略的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に本発明の例示的な実施形態について図面を参照して説明する。
【００１２】
＜１．第１実施形態＞
図１は、第１実施形態に係るプラズマ処理装置１５の全体構成を概略的に示す図である。
【００１３】
図１に示すプラズマ処理装置１５は、大気圧下でプラズマを発生させ、金属製の被処理物１に対してプラズマ処理を行う装置である。プラズマ処理装置１５は、対向電極部２と、アクチュエータ３と、電源部４と、ステージ５と、絶縁部６と、アクチュエータ７と、信号処理ボックス８と、変位計９と、アクチュエータ１０と、を有する。対向電極部２は、電圧印加電極２Ａと、誘電体部３と、を有する。対向電極部２は、被処理物１よりも軽量小型である。
【００１４】
電源部４は、第１出力端４１と、第２出力端４２と、を有する。電源部４は、第１出力端４１から電圧印加電極２Ａに高周波であって高電圧の出力電圧を印加する。上記出力電圧は、交流電圧である。
【００１５】
電源部４が印加する電圧の周波数は、例えば、１ｋＨ〜１００ｋＨｚである。電源部４が印加する電圧の波形は、パルス波形が望ましいが、その他にも正弦波、矩形波等でもよく、大気圧プラズマ放電で用いられる公知の波形を用いればよい。また、電源部４が印加する電圧は、例えば５ｋＶｐｐ〜２０ｋＶｐｐであり、電圧印加電極２Ａと被処理物１との間のギャップ等によって適宜設定される。
【００１６】
誘電体部２Ｂは、電圧印加電極２Ａの下面に配置される。誘電体部３の材料としては、アルミナ、ジルコニアなどのセラミック材料、または快削性セラミックなどが好適に使用される。
【００１７】
被処理物１は、誘電体部２Ｂの下方に配置され、誘電体部２Ｂと上下方向に対向する。すなわち、対向電極部２は、被処理物１に対向して配置される。被処理物１は、金属製の部材である。
【００１８】
誘電体部２Ｂと被処理物１との間に隙間Ｓ１が形成される。隙間Ｓ１において発生したプラズマＰにより被処理物１の被処理面１１がプラズマ処理される。被処理物１は、電極として機能し、誘電体部２Ｂと被処理物１との間に発生するプラズマＰによってダイレクトに被処理物１は処理される。なお、ガス供給手段により隙間Ｓ１に処理ガスを供給してもよい。処理ガスは、窒素、または窒素と空気との混合ガスなど、ガス種は限定されない。
【００１９】
ステージ５は、被処理物１が載置されて、被処理物１を保持する。ステージ５は、金属製である。
【００２０】
すなわち、プラズマ処理装置１５は、ステージ５と、ステージ５に載置される被処理物１に対向して配置される対向電極部２と、を備え、対向電極部２と被処理物１との間で発生するプラズマＰにより被処理物１を処理する。
【００２１】
絶縁部６は、ステージ５とアクチュエータ７との間に配置される。絶縁部６は、例えばシート状の絶縁材により構成される。絶縁部６は、ステージ５とアクチュエータ７とを電気的に絶縁する。
【００２２】
アクチュエータ７は、被処理物１をステージ５および絶縁部６ごと搬送方向に搬送する。図１では、上記搬送方向をＹ軸方向として示し、上下方向をＺ軸方向として示し、Ｙ軸方向およびＺ軸方向に直交する方向をＸ方向として示す。なお、図１以外の図面についても同様である。
【００２３】
ステージ５は、第１ラインＬ１を介して第２出力端４２に接続される。信号処理ボックス８は、電流計８１と、制御部８２を収容する。電流計８１は、第１ラインＬ１の途中に配置される。
【００２４】
大気圧下で被処理物１をプラズマ処理するプラズマ処理装置１５においては、電圧印加電極２Ａに誘電体部２Ｂを配置して、電源部４により電圧印加電極２Ａに高電圧・高周波の出力電圧を印加することで、隙間Ｓ１において誘電体バリア放電が発生する。放電電流により運ばれる電荷が誘電体部２Ｂに蓄積することで隙間Ｓ１に加わる電圧が減少し、自動的に放電が停止される。これにより、誘電体バリア放電はパルス状の放電となり、安定した大気圧非熱平衡プラズマを得ることができる。
【００２５】
誘電体バリア放電により生じる放電電流は、被処理物１およびステージ５を介して第１ラインＬ１を流れる。電流計８１は、上記放電電流を検出する。
【００２６】
すなわち、プラズマ処理装置１５は、ステージ５に接続される電流路Ｌ１に配置される電流計８１を備える。電流計８１は、電源部４により対向電極部２に電圧が印加されることで生じる電流を検出する。これにより、基準電位側に電流計８１を配置できるので、電流計８１の構成を簡易化できる。なお、電流計を第１出力端４１と電圧印加電極２Ａとの間の電流路に配置することも可能である。
【００２７】
アクチュエータ７は、第２ラインＬ２によって接地される。第１ラインＬ１は、アクチュエータ７を接地させる第２ラインＬ２とは非接続である。
【００２８】
電流計８１は、例えば電流を電圧に変換する抵抗によって構成される。電流計８１は、電流の検出結果として検出電流信号を制御部８２に出力する。制御部８２は、プラズマ処理装置１５の各部を制御し、例えばプロセッサ等により構成される。
【００２９】
アクチュエータ３は、対向電極部２をＸ軸方向およびＺ軸方向に移動させる。アクチュエータ３は、対向電極部２をＺ軸方向に移動させることで対向電極部２と被処理物１との間の距離を調整することが可能である。すなわち、プラズマ処理装置１５は、ステージ５と対向電極部２とを相対的に移動させることで被処理物１と対向電極部２との間の距離を調整する移動機構（アクチュエータ）３を備える。なお、アクチュエータ３を用いた対向電極部２の移動制御については後述する。
【００３０】
変位計９は、被処理物１の被処理面１１の高さを計測する。変位計９としては、例えば光学式センサ、超音波式センサ等を用いることができる。アクチュエータ１０は、変位計９をＸ方向に移動させる。なお、アクチュエータ１０を用いた変位計９の移動制御については後述する。
【００３１】
＜２．被処理物・対向電極部間のギャップ制御＞
被処理物１と対向電極部２との間の距離を変化させつつ、発生する放電電流の電流値を計測したところ、図２に示される距離ＧＰと電流値Ｉｄとの関係性が得られた。なお、電流値Ｉｄは、放電電流のpeak to peak値を示す。
【００３２】
図２に示すように、所定範囲の距離ＧＰについては、距離ＧＰが長くなる程、電流値Ｉｄが大きくなる結果となった。これは、距離ＧＰが長くなる程、被処理物１と対向電極部２との間に存在する処理ガスの量が増えるためと考えられる。但し、上記所定範囲を超えて距離ＧＰが長くなる範囲には、距離ＧＰが長くなる程、電流値Ｉｄが低下する範囲が存在する。これは、あまりに距離ＧＰが長くなると、放電が生じにくくなるからである。
【００３３】
図２に示すように、距離ＧＰの所定値Ｇ０に対して電流値ＩｄはＩ０であり、Ｉ０よりも高い電流値Ｉ１が検出された場合は、Ｉ１に対する距離ＧＰであるＧ１からＧ０へ距離を縮め、Ｉ０よりも低い電流値Ｉ２が検出された場合は、Ｉ２に対する距離ＧＰであるＧ２からＧ０へ距離を広げることで、距離ＧＰを所定値Ｇ０に制御することが可能である。
【００３４】
そこで、プラズマ処理装置１５では、制御部８２に例えば図２に示す関係性を記憶させ、制御部８２は、電流計８１により検出される電流値と上記関係性に基づき、アクチュエータ３による対向電極部２のＺ軸方向の移動を制御する。これにより、被処理物１と対向電極部２との間の距離を所定値に制御できる。なお、制御部８２は、電流計８１から出力される検出電流信号のpeak to peak値を取得することにより電流値を取得できる。
【００３５】
すなわち、プラズマ処理装置１５は、電源部４により対向電極部２に電圧が印加されることで生じる電流に応じて移動機構（アクチュエータ）３を制御する制御部８２を備える。これにより、被処理物１と対向電極部２との間の距離を所定値に調整することができるので、プラズマ放電を安定化させることができる。
【００３６】
また、プラズマ処理装置１５は、大気圧でのプラズマ放電により被処理物１を処理する。大気圧プラズマ処理では、被処理物１と対向電極部２との間の距離が短いので、当該距離を制御することができる意義は大きい。例えば、被処理物１と対向電極部２との間の距離の制御目標値である上記所定値は、１ｍｍ以下の値とされる。
【００３７】
また、ステージ５と対向電極部２とは相対的に移動できればよいので、ステージ５をＺ軸方向に移動させるアクチュエータをアクチュエータ３の代わりに設けてもよい。但し、対向電極部２をＺ軸方向に移動させるアクチュエータ３を設けることが望ましい。すなわち、移動機構（アクチュエータ）３は、対向電極部２を移動させる。これにより、被処理物１よりも軽量である対向電極部２を移動させるので、移動機構の構成を簡易化できる。
【００３８】
＜３．絶縁部に関して＞
ここで、図３は、本実施形態に係るプラズマ処理装置１５における電圧印加電極２Ａに印加される出力電圧Ｖと、電流計８１により検出される検出電流信号Ｉの波形例を示す図である。なお、図３では、一例として正弦波状の出力電圧Ｖを印加した場合を示す。
【００３９】
図３に示すように、出力電圧Ｖの極性が切替わるタイミング付近でパルス状の放電電流が発生する。図３の例えばＡ領域において、放電電流が発生している。図３では、検出電流信号Ｉへのノイズの影響は小さく、放電電流はpeak to peak値が大きく明確となっている。これは、アクチュエータ７からのノイズの電流計８１への流入を絶縁部６により抑制し、被処理物１を流れる放電電流のアクチュエータ７への流出を絶縁部６により抑制できるためと考えられる。これにより、電流計８１により検出される放電電流のＳ／Ｎ比を向上させることができる。
【００４０】
すなわち、プラズマ処理装置１５は、ステージ５を移動させるアクチュエータ７と、ステージ５とアクチュエータ７との間に配置される絶縁部６と、ステージ５に接続される電流路Ｌ１に配置されて電流を検出する電流計８１と、を備える。
【００４１】
これにより、アクチュエータ７からのノイズの電流計８１への流入を絶縁部６により抑制し、ステージ５を流れる放電電流のアクチュエータ７への流出を絶縁部６により抑制できる。従って、電流計８１により検出される放電電流のＳ／Ｎ比を向上させることができる。よって、被処理物１と対向電極部２との間の距離を適切に制御できる。
【００４２】
参考として図４は、仮にアクチュエータ７とステージ５とを絶縁しなかった場合の出力電圧Ｖと検出電流信号Ｉの波形例を示す図である。この場合、検出電流信号Ｉへのノイズの影響が大きくなり、例えばＢ領域で示すように放電電流は、peak to peak値が小さくなっており不明確である。これにより、放電電流のＳ／Ｎ比が劣化している。
【００４３】
なお、アクチュエータ７からのノイズには、アクチュエータ７が駆動する際に発生するノイズに加え、アクチュエータ７が電源部４から受ける電磁波に基づくノイズも含まれる。本実施形態のプラズマ処理装置１５は、大気圧でのプラズマ放電により被処理物１を処理する。大気圧でのプラズマ放電では、電源部４により高電圧・高周波の出力電圧が電圧印加電極２Ａに印加されるため、アクチュエータ７が電源部４から受ける電磁波によりノイズが発生しやすいが、絶縁部６によりノイズの電流計８１への流入を抑制できる。
【００４４】
また、アクチュエータ７は、第２ラインＬ２によって接地されるので、アクチュエータ７で発生したノイズは接地により吸収され、ノイズの電流計８１への流入をより抑制できる。
【００４５】
また、第１ラインＬ１は、アクチュエータ７を接地させる第２ラインＬ２とは非接続であるので、グランドからのノイズが電流計８１へ流入することを抑制できる。
【００４６】
また、電流計８１とステージ５とは、第１ラインＬ１の一部である第３ラインＬ３によって接続されるので、被処理物１に電流計８１をラインによって接続させる必要がなくなり、処理工程を簡易化できる。
【００４７】
＜４．被処理物の処理工程＞
次に、被処理物１の処理工程の一例について説明する。図５は、被処理物１の処理工程の第１例を示す上面図である。
【００４８】
まず、工程ＳＴ１において、被処理物１はステージ５にセットされる。ここで、被処理物１は、一例として円筒形状を有する部材であり、上面である被処理面１１として円環面を有する。
【００４９】
ステージ５に載置された被処理物１は、アクチュエータ７によりＹ軸方向一方側へ搬送される。そして、工程ＳＴ２において、変位計９により被処理物１の被処理面の高さが計測される。このとき、制御部８２は、アクチュエータ７による被処理物１のＹ軸方向への移動を制御するとともに、アクチュエータ１０による変位計９のＸ軸方向への移動を制御する。これにより、被処理面１１である円環面の周方向全体における高さを計測することができる。
【００５０】
なお、処理工程ＳＴ２において、アクチュエータ１０が変位計９をＸ方向およびＹ方向に移動させてもよいし、アクチュエータ７がステージ５をＸ方向およびＹ方向に移動させてもよい。
【００５１】
次に、被処理物１はアクチュエータ７によりＹ軸方向一方側へ搬送される。そして、工程ＳＴ３において、被処理物１の被処理面は、電圧が印加された電圧印加電極２Ａによって発生するプラズマによりプラズマ処理される。具体的には、制御部８２は、アクチュエータ７による被処理物１のＹ軸方向の移動を制御するとともに、アクチュエータ３による対向電極部２のＸ軸方向の移動を制御する。
【００５２】
このとき、制御部８２は、工程ＳＴ２での変位計９による計測結果に基づき、被処理物１の被処理面１１と対向電極部２との間の距離を上記所定値とすべく、アクチュエータ３による対向電極部２のＺ軸方向の移動を制御するフィードフォワード制御を行う。また、制御部８２は、電流計８１により検出される電流値と、上記記憶された距離と電流値との関係性に基づき、被処理面１１と対向電極部２との間の距離を上記所定値とすべく、アクチュエータ３による対向電極部２のＺ軸方向の移動を制御するフィードバック制御を、上記フィードフォワード制御と組み合わせて行う。これにより、被処理面１１と対向電極部２との間の距離が円環面の周方向において一定に制御される。
【００５３】
なお、図７に示すように、処理工程ＳＴ３において、アクチュエータ３が対向電極部２をＸ方向およびＹ方向に移動させてもよい。または、アクチュエータ７がステージ５をＸ方向およびＹ方向に移動させてもよい。
【００５４】
すなわち、プラズマ処理装置１５は、ステージ５と対向電極部２との少なくとも一方を、移動機構（アクチュエータ）３による移動方向（Ｚ方向）と垂直な所定方向（Ｙ方向、Ｘ方向）に移動させるアクチュエータ７，３を備える。これにより、被処理物１の所望の箇所に広範囲に亘ってプラズマ処理を安定的に行うことができる。
【００５５】
また、プラズマ処理装置１５は、被処理物１の被処理面１１の高さを計測する変位計９と、ステージ５と変位計９との少なくとも一方を上記所定方向（Ｙ方向、Ｘ方向）に移動させるアクチュエータ７，１０と、を備え、制御部８２は、変位計９の計測結果と電流とに基づいて移動機構（アクチュエータ）３を制御する。これにより、被処理物１の所望の箇所全体に亘って、被処理物１と対向電極部２との間の距離を精度良く調整できる。
【００５６】
そして、被処理物１はアクチュエータ７によりＹ軸方向一方側へ搬送され、工程ＳＴ４で被処理物１はステージ５から取り外されて搬出される。
【００５７】
図６は、被処理物１の処理工程の第２例を示す上面図である。図６に示す処理工程の図５との相違点は、工程ＳＴ２，ＳＴ３である。
【００５８】
工程ＳＴ２では、変位計９は移動せず、変位計９により被処理面１１における１箇所の高さが計測される。従って、変位計９を移動させるアクチュエータは不要である。
【００５９】
そして、工程ＳＴ３では、制御部８２は、アクチュエータ７によるステージ５のＹ方向の移動を制御するとともに、アクチュエータ３による対向電極部２のＸ方向の移動を制御することで、工程ＳＴ２で変位計９により計測を行った箇所に対向電極部２を位置させる。このとき、制御部８２は、工程ＳＴ２での計測結果に基づき、被処理面１１と対向電極部２との間の距離を所定値とすべくアクチュエータ３による対向電極部２のＺ軸方向の移動を制御する。これにより、対向電極部２は初期位置に制御される。
【００６０】
その後、制御部８２は、アクチュエータ７によるステージ５のＹ方向の移動を制御するとともに、アクチュエータ３による対向電極部２のＸ方向の移動を制御することで、対向電極部２を円環面である被処理面１１に周方向に沿わせる。このとき、制御部８２は、電流計８１により検出される電流値と、上記記憶された距離と電流値との関係性に基づいてアクチュエータ３による対向電極部２のＺ軸方向の移動を制御し、被処理面１１と対向電極部２との間の距離を上記所定値とすべく調整する。これにより、被処理面１１と対向電極部２との間の距離が円環面の周方向において一定に制御される。
【００６１】
すなわち、制御部８２は、変位計９による１箇所の計測結果と電流とに基づいて移動機構（アクチュエータ）３を制御する。これにより、被処理物１の所望の箇所全体を変位計９に計測させることが不要となり、構成を簡易化できる。
【００６２】
＜５．被処理物と対向電極部との間の距離と電流値との関係性に関して＞
先述した図２を一例とするような被処理物１と対向電極部２との間の距離と電流値との関係性は、例えば同一製品、同じ材質から製造される製品、同じロットの製品等で区分された被処理物ごとに制御部８２に記憶させてもよい。
【００６３】
すなわち、制御部８２は、被処理物１と対向電極部２との間の距離と、電流値との関係性を、所定基準により区分された被処理物ごとに記憶する。これにより、所定基準により区分された被処理物ごとに特性が異なっていても、被処理物ごとに上記距離を適切に制御できる。
【００６４】
また、上記距離と電流値との関係性は経年変化により変化する可能性がある。そこで、所定期間の経過ごとなどの所定タイミングにおいて、次のような処理を行ってもよい。
【００６５】
例えば、被処理物１の被処理面１１における所定箇所で変位計９を用いて高さを計測する。そして、制御部８２は、アクチュエータ３による対向電極部２のＺ軸方向の移動を制御し、上記所定箇所での上記距離を所定のサンプル値に制御する。その状態で、制御部８２は、電圧印加電極２Ａに電圧を印加させたときの電流計８１により検出される電流値を取得する。そして、制御部８２は、上記距離のサンプル値と、上記取得された電流値とに基づき、上記距離と電流値との関係性を補正する。なお、上記サンプル値は、１つでも複数でもよい。
【００６６】
また、制御部８２は、アクチュエータ３により対向電極部２をＺ軸方向に移動させつつ、電流計８１により検出される電流値が所定のサンプル値となる対向電極部２の位置を探索し、探索された対向電極部２の位置と変位計９により計測された高さに基づき、上記距離を取得してもよい。これによっても、上記距離と電流値との関係性を補正することができる。
【００６７】
すなわち、制御部８２は、記憶された被処理物１と対向電極部２との間の距離と、電流値との関係性を、電流の検出結果に基づき補正する。これにより、経年変化に応じて被処理物１と対向電極部２との間の距離を適切に制御できる。
【００６８】
＜６．第２実施形態＞
図８は、第２実施形態に係るプラズマ処理装置１５１の一部構成を概略的に示す図である。
【００６９】
プラズマ処理装置１５１の第１実施形態に係るプラズマ処理装置１５との相違点は、ステージ５に接続されて途中に電流計８１が配置される第４ラインＬ４と、アクチュエータ７に接続される第５ラインＬ５と、第２出力端４２に接続される第６ラインＬ６と、がともに接地されることである。
【００７０】
＜７．第３実施形態＞
図９は、第３実施形態に係るプラズマ処理装置１５２の一部構成を概略的に示す図である。
【００７１】
プラズマ処理装置１５２の第１実施形態に係るプラズマ処理装置１５との相違点は、アクチュエータ７が接地されず、フローティング状態であることである。アクチュエータ７から発生するノイズが少ない場合は、プラズマ処理装置１５２の構成であっても、電流計８１へ流入するノイズを絶縁部６により十分に抑制できる。
【００７２】
＜８．その他＞
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の趣旨の範囲内であれば、実施形態は種々の変形が可能である。
【００７３】
例えば、先述した実施形態では絶縁部６を設けているが、アクチュエータ７から生じるノイズが少ない条件であれば、絶縁部６を設けず、アクチュエータ７とステージ５とを短絡させる構成も可能である。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明は、被処理物に対する各種のプラズマ処理に利用することができる。
【符号の説明】
【００７５】
１・・・被処理物、１１・・・被処理面、２・・・対向電極部、２Ａ・・・電圧印加電極、２Ｂ・・・誘電体部、３・・・アクチュエータ、４・・・電源部、４１・・・第１出力端、４２・・・第２出力端、５・・・ステージ、６・・・絶縁部、７・・・アクチュエータ、８・・・信号処理ボックス、８１・・・電流計、８２・・・制御部、９・・・変位計、１０・・・アクチュエータ、１５・・・プラズマ処理装置、１５１、１５２・・・プラズマ処理装置、Ｌ１・・・第１ライン、Ｌ２・・・第２ライン、Ｌ３・・・第３ライン、Ｌ４・・・第４ライン、Ｌ５・・・第５ライン、Ｌ６・・・第６ライン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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