(57)【要約】【課題】２つのローラの軸受け位置を独立に定めることができるローラ機構用の支持体、該支持体を用いるローラ機構、及び該ローラ機構を用いるエッチング装置を提供すること。【解決手段】ローラ機構用の支持体１１は、第１の半円１１ａ１１及び第１の矩形１１ａ１２を含む形状に形成された下段溝１１ａ１と、第２の半円１１ａ２１及び第２の矩形１１ａ２２を含む形状に形成された上段溝１１ａ２と、を備える。下段ローラ１２及び上段ローラ１３を溝の開口から挿入し、下段ローラ１２を上段溝を介して下段溝に受け、上段ローラ１３を上段溝に受けることで、２つのローラの軸受け位置を独立に定めることができ、ローラ機構１０を構成することができる。ローラ機構１０を使用してエッチング装置１を構成することができる。【選択図】図１
2020109854.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つのローラを回転可能に受けるローラ機構用の支持体であって、
第１の半円と、該第１の半円に該半円の弦に一辺を重ねて接続する第１の矩形と、を含
む断面形状に形成された下段溝と、
前記第１の半円よりも大きな直径を有し、前記第１の矩形と該矩形の前記一辺に対向す
る他辺側に一部を重ねて接続する第２の半円のうち該矩形外の部分と、該第２の半円に該
半円の弦に一辺を重ねて接続する第２の矩形と、を含む断面形状で、前記第２の矩形の前
記一辺に対向する他辺側を開口して形成された上段溝と、
を備え、
前記第２の半円は、該半円の弦を前記第１の矩形の前記一辺と平行に向けることを特徴
とする、ローラ機構用の支持体。
【請求項２】
請求項１に記載のローラ機構用の支持体と、
前記第１の半円と等しい直径の軸受けを有する下段ローラと、
前記第２の半円と等しい直径の軸受けを有する上段ローラと、
を備えることを特徴とする、ローラ機構。
【請求項３】
前記下段ローラ及び上段ローラにそれぞれ接続する２のギアを備え、
該２のギアを介して前記下段ローラ及び前記上段ローラが逆向きに等速度で回転するこ
とを特徴とする、請求項２に記載のローラ機構。
【請求項４】
ワークにエッチング液を噴射するエッチング装置であって、
請求項２又は３に記載のローラ機構と、
前記下段ローラの下方又は前記上段ローラの上方からエッチング液を噴射する噴射装置
と、
を備えることを特徴とする、エッチング装置。
【請求項５】
前記下段及び上段ローラの離間距離はワークの厚さに略等しいことを特徴とする、請求
項４に記載のエッチング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２つのローラを回転可能に受けるローラ機構用の支持体、該支持体を備える
ローラ機構、及び該ローラ機構を備えるエッチング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばエッチング装置における半導体基板の被搬送板体（以下「ワーク」と呼ぶ。）を
２つのローラで上下に挟んで搬送するローラ機構が用いられる（例えば、特許文献１参照
）。ここで、ワークを挟む２つのローラは、その離間距離をワークの厚みに併せて定める
必要がある。
【０００３】
従来、上側のローラと下側のローラとは同一のサイズであり、２つのローラを１の溝に
貫入して下側のローラを支え、その上にある上側のローラとの間にコロを設けていた。コ
ロのサイズによって２つのローラの離間距離を調整し、また、コロを介して２のローラが
連動して回転するものである。しかし、長時間の回転及び昇温冷却の繰り返しにより締結
が緩むことで、コロずれが生じてしまい、安定した搬送が困難になってしまう。また、締
結が緩まないように強くネジ締めすると、偏心が発生してしまう。安定した搬送には適さ
ないものであった。
【０００４】
そこで、２つのローラを、コロを接触することなく、それぞれ独立に位置決めして離間距
離を定めることのできるローラ機構が求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２２２１１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、２つのローラの軸受け位置を安定して定めることができるローラ機構用の支
持体、該支持体を用いるローラ機構、及び該ローラ機構を用いるエッチング装置を提供す
ることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のローラ機構用の支持体は、
２つのローラを回転可能に受けるローラ機構用の支持体であって、
第１の半円と、該第１の半円に該半円の弦に一辺の少なくとも一部を重ねて接続する第
１の矩形と、を含む断面形状に形成された下段溝と、
前記第１の半円よりも大きな直径を有し、前記第１の矩形と該矩形の前記一辺に対向す
る他辺側に少なくとも一部を重ねて接続する第２の半円のうち該矩形外の部分と、該第２
の半円に該半円の弦に一辺の少なくとも一部を重ねて接続する第２の矩形と、を含む断面
形状で、前記第２の矩形の前記一辺に対向する他辺側を開口して形成された上段溝と、
を備え、
前記第２の半円は、該半円の弦を前記第１の矩形の前記一辺と平行に向けることを特徴
とする。
【０００８】
この特徴によれば、２つのローラの一方（下段ローラ）を上段溝の開口から挿入し第２
の矩形及び第２の半円を介して下段溝に受け、２つのローラの他方（上段ローラ）を上段
溝の開口から挿入して上段溝に受けることで、２つのローラの位置（離間距離）を安定し
て定めることができる。
【０００９】
本発明のローラ機構は、
本発明のローラ機構用の支持体と、
前記第１の半円と等しい直径の軸受けを有する下段ローラと、
前記第２の半円と等しい直径の軸受けを有する上段ローラと、
を備えることを特徴とする。
【００１０】
この特徴によれば、２つのローラの位置（離間距離）の安定したローラ機構を提供する
ことができる。
【００１１】
本発明のローラ機構は、
前記下段ローラ及び上段ローラにそれぞれ接続する２のギアを備え、
該２のギアを介して前記下段ローラ及び前記上段ローラが逆向きに等速度で回転するこ
とを特徴とする。
【００１２】
この特徴によれば、下段ローラと上段ローラの回転を連動させ、逆向きに等速度で回転
することでワークに上下から同等の移動を与え、ワークを安定して搬送することができる
。
【００１３】
本発明のローラ機構は、
前記上段溝は、前記断面に直交する方向に高さの異なる第１及び第２段部を有し、
前記上段ローラの軸受けは、長手方向に高さの異なる第１及び第２端部を有することを
特徴とする。
【００１４】
この特徴によれば、上段ローラの軸受けを一向きに上段溝に入れて軸受けの第１及び第
２端部をそれぞれ上段溝の第１及び第２段部上に受け、上段ローラの軸受けを逆向きに上
段溝に入れて軸受けの第１及び第２端部のうちの低いほうを上段溝の第１及び第２段部の
うちの高いほうの上に支持することで、上段溝内で支持される上段ローラの高さを変える
ことができる。
【００１５】
本発明のローラ機構は、
前記上段ローラの軸受けは、前記第２の半円と等しい直径を有する２つの円弧と該２つ
の円弧の端部を接続する２つの直線とを含む外縁形状を有し、外縁形状の中心から前記２
つの円弧の一方側に偏心した軸受孔を有することを特徴とする。
【００１６】
この特徴によれば、上段ローラの軸受けを一向き又は逆向きに上段溝に入れて軸受けを
受けることで、上段溝内で支持される上段ローラの高さを変えることができる。
【００１７】
本発明のエッチング装置は、
ワークにエッチング液を噴射するエッチング装置であって、
本発明のローラ機構と、
前記下段ローラの下方又は前記上段ローラの上方からエッチング液を噴射する噴射装置
と、
を備えることを特徴とする。
【００１８】
この特徴によれば、ワークを安定して搬送するエッチング装置を提供することができる
。
【００１９】
本発明のエッチング装置は、
前記下段ローラと上段ローラの離間距離はワークの厚さに略等しいことを特徴とする。
【００２０】
この特徴によれば、ワークの厚さに合わせた設計で、ワークをさらに安定して搬送する
ことができる。ここで、「略等しい」とは、ワークを下段ローラと上段ローラで狭圧して
搬送できる状態であることを言う。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のローラ機構用の支持体によれば、下段ローラと上段ローラの離間距離を安定し
て定めることが可能となる。
【００２２】
本発明のローラ機構によれば、下段ローラと上段ローラの離間距離が安定しており、ワ
ークを安定して搬送することが可能となる。
【００２３】
本発明のエッチング装置によれば、ワークが安定して搬送され、効率的なエッチング処
理が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】図１は、ローラ機構用の支持体及びローラ機構の構成を示す側面図である。
【図２】図２は、溝の形状を示す図である。
【図３】図３は、ローラ機構用の支持体及びローラ機構の構成を示す正面図である。
【図４】図４は、エッチング装置の構成を示す正面図である。
【図５】図５は、ローラ機構用の支持体の構成を示す図である。
【図６】図６は、上段ローラの軸受けの構成を示す図である。
【図７】図７は、ローラ機構の構成を示す図である。
【図８】図８は、上段ローラの軸受けの構成を示す図である。
【図９】図９は、ローラ機構の構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の実施例について説明する。
【実施例１】
【００２６】
本実施例は、ローラ機構の基本的な構成を示すものである。
【００２７】
図１は、ローラ機構用の支持体及びローラ機構の構成を示す側面図であり、ワーク２０
の搬送方向が図面左右方向である。ローラ機構１０は、対向する２つのローラによりワー
ク２０を挟んで搬送する機構であり、支持体１１、下段ローラ１２、及び上段ローラ１３
を備える。ここで、ワーク２０として、例えば半導体基板を搬送することができる。
【００２８】
（支持体の構成）
支持体１１は、下段ローラ１２及び上段ローラ１３を回転可能に受けるローラ機構用の
支持体である。下段ローラ１２及び上段ローラ１３のそれぞれの両端を支持するよう、一
対の支持体１１が互いに対向して床面１４上に配置される。支持体１１は、ワーク２０の
搬送方向を長手とする矩形状の板状部材であり、上辺に向かって開口する溝１１ａが長手
方向に複数並んで形成されている。なお、支持体１１は、一軸方向に並設された１又は複
数の溝１１ａが形成されていれば、板状の一体物に限らず任意の形状及び構造を採用する
ことができる。
【００２９】
図２は、溝の形状を示す図である。溝１１ａは、下段溝１１ａ１及び上段溝１１ａ２を
含む。
【００３０】
下段溝１１ａ１は、第１の半円１１ａ１１及び第１の半円１１ａ１１にその半円の弦に
底辺を重ねて接続する第１の矩形１１ａ１２を含む形状に形成されている。第１の矩形１
１ａ１２の底辺の全体が第１の半円１１ａ１１の弦の全体に重なっている。なお、第１の
矩形１１ａ１２に代えて上辺に対して底辺が短い台形を含むこととしてもよい。第１の半
円１１ａ１１の周縁部１１ｃが、下段ローラ１２を支持する。
【００３１】
上段溝１１ａ２は、第１の半円１１ａ１１よりも大きな直径を有し、第１の矩形１１ａ
１２とその上辺側に一部を重ねて接続する第２の半円１１ａ２１（第１の矩形１１ａ１２
の内部を除く：図において第２の半円１１ａ２１が第１の矩形１１ａ１２によって切り取
られている。）及び第２の半円１１ａ２１にその半円の弦に底辺を重ねて接続する第２の
矩形１１ａ２２を含む形状に形成され、第２の矩形１１ａ２２の上辺側を支持体１１の上
辺に開口している。第２の矩形１１ａ２２の底辺の全体が第２の半円１１ａ２１の弦の全
体に重なっている。なお、第２の矩形１１ａ２２に代えて上辺に対して底辺が短い台形を
含むこととしてもよい。第２の半円１１ａ２１の周縁部１１ｂが、上段ローラ１３を支持
する。
【００３２】
第２の半円１１ａ２１は、その半円の弦を第１の矩形１１ａ１２の上辺と平行に向け、
第２の矩形１１ａ２２は、側辺を第１の矩形１１ａ１２の側辺と平行に向けて、上段溝１
１ａ２を形成している。それにより、下段及び上段溝１１ａ１，１１ａ２が同一方向を向
き、下段ローラ１２及び上段ローラ１３を溝１１ａの開口を介してそれぞれの溝に容易に
入れることができる。なお、第２の半円１１ａ２１は、その半円の弦を第１の矩形１１ａ
１２の上辺に対して傾斜して支持体１１の上辺側に向け、第２の矩形１１ａ２２は、側辺
を第１の矩形１１ａ１２の側辺と交差する方向に向けて、上段溝１１ａ２を形成してもよ
い。つまり、上段溝１１ａ２を下段溝１１ａ１に対して傾けてもよい。また、下段溝１１
ａ１を、上段溝１１ａ２と同じ角度で又は異なる角度で傾けてもよい。これによっても、
下段ローラ１２及び上段ローラ１３を溝１１ａの開口を介してそれぞれの溝１１ａに容易
に入れることができる。
【００３３】
上述の構成の支持体１１により、下段ローラ１２を上段溝１１ａ２（すなわち、溝１１
ａ）の開口から挿入し、第２の矩形１１ａ２２及び第２の半円１１ａ２１を介して下段溝
１１ａ１に受け、上段ローラ１３を上段溝１１ａ２（すなわち、溝１１ａ）の開口から挿
入して上段溝１１ａ２に受けることで、下段ローラ１２及び上段ローラ１３の軸受け位置
を安定して定めることができる。
【００３４】
（ローラ機構の構成）
図３は、ローラ機構用の支持体及びローラ機構の構成を示す正面図である。下段ローラ
１２は、複数の溝１１ａのそれぞれに挿入されて、ワーク２０をその下側から支持しつつ
回転して搬送する部材であり、ローラ軸１２ａ、軸受け１２ｂ及び搬送用円盤１２ｃを有
する。
【００３５】
ローラ軸１２ａは、下段ローラ１２の回転軸となる軸体である。
【００３６】
軸受け１２ｂは、第１の半円１１ａ１１と等しい直径を有するリング状の部材であり、
ローラ軸１２ａの両端に固定されて下段溝１１ａ１の中で摺動回転する。軸受け１２ｂが
第１の半円１１ａ１１に位置決めされ、ローラ軸１２ａの中心が第１の半円１１ａ１１の
中心に位置決めされる。
【００３７】
搬送用円盤１２ｃは、ローラ軸１２ａと中心を合わせて設けられた円盤状の部材である
。ワーク２０を下側から支持する。なお、複数の搬送用円盤１２ｃは等経であり、ワーク
２０は平面状に支持される。
【００３８】
上段ローラ１３は、複数の溝１１ａのそれぞれに挿入されて、ワーク２０をその上側か
ら支持しつつ回転して搬送する部材であり、ローラ軸１３ａ、軸受け１３ｂ及び搬送用円
盤１３ｃを有する。
【００３９】
ローラ軸１３ａは、上段ローラ１３の回転軸となる軸体である。
【００４０】
軸受け１３ｂは、第２の半円１１ａ２１と等しい直径を有するリング状の部材であり、
ローラ軸１３ａの両端に固定されて上段溝１１ａ２の中で摺動回転する。軸受け１３ｂが
第２の半円１１ａ２１に位置決めされ、ローラ軸１３ａの中心が第２の半円１１ａ２１の
中心に位置決めされる。
【００４１】
搬送用円盤１３ｃは、ローラ軸１３ａと中心を合わせて設けられた円盤状の部材である
。ワーク２０を上側から支持する。なお、複数の搬送用円盤１３ｃは等経であり、ワーク
２０は平面状に支持される。
【００４２】
上述の下段ローラ１２及び上段ローラ１３の構成により、下段ローラ１２及び上段ロー
ラ１３を溝１１ａの開口から挿入して、下段ローラ１２を下段溝１１ａ１に受け、上段ロ
ーラ１３を上段溝１１ａ２に受けることで、下段ローラ１２及び上段ローラ１３のそれぞ
れの位置を独立に定めることができる。それにより、上段ローラ１３の位置を調整するた
めの追加の位置合わせ部材（コロ等）を要さず、ローラ機構１０を簡便に構成することが
可能となる。
【００４３】
なお、ローラ機構１０は、下段ローラ１２及び上段ローラ１３に接続するギア（不図示
）をさらに備えてもよい。下段ローラ１２と上段ローラ１３の回転を連動することができ
、それによりワークを安定して搬送することが可能となる。
【００４４】
以上詳細に説明したように、支持体１１は、第１の半円１１ａ１１、第１の半円１１ａ
１１にその半円の弦に一辺の少なくとも一部を重ねて接続する第１の矩形１１ａ１２を含
む形状に形成された下段溝１１ａ１、第１の半円１１ａ１１よりも大きな直径を有し、第
１の矩形１１ａ１２とその矩形の一辺に対向する他辺側に少なくとも一部を重ねて接続す
る第２の半円１１ａ２１、第２の半円１１ａ２１にその半円の弦に一辺の少なくとも一部
を重ねて接続する第２の矩形１１ａ２２、を含む形状で、第２の矩形１１ａ２２の一辺に
対向する他辺側を開口して形成された上段溝１１ａ２と、を備える。下段ローラ１２を上
段溝１１ａ２の開口から挿入し、第２の矩形１１ａ２２及び第２の半円１１ａ２１を介し
て下段溝１１ａ１に受け、上段ローラ１３を上段溝１１ａ２の開口から挿入して上段溝１
１ａ２に受けることで、２つのローラの軸受け位置を独立に定めることができる。
【００４５】
また、ローラ機構１０は、支持体１１、第１の半円１１ａ１１と等しい直径を有する下
段ローラ１２、及び第２の半円１１ａ２１と等しい直径を有する上段ローラ１３を備える
。下段ローラ１２及び上段ローラ１３を開口から挿入して、下段ローラ１２を下段溝１１
ａ１に受け、上段ローラ１３を上段溝１１ａ２に受けることで、下段ローラ１２及び上段
ローラ１３のそれぞれの軸受け位置を独立に定めることができる。
【実施例２】
【００４６】
本実施例は、ローラ機構を使用したエッチング装置を示すものである。ローラ機構は実
施例１と同様であり、詳細な説明を省略する。
【００４７】
図４は、エッチング装置の構成を示す正面図である。エッチング装置１は、ワーク２０
にエッチング液を噴射する装置であり、ローラ機構１０、ギアモータ（不図示）、及び噴
射装置１４を備える。
【００４８】
ローラ機構１０は、先述のとおりの構成を有し、下段ローラ１２及び上段ローラ１３の
離間距離（すなわち、ローラ軸１２ａ，１３ａの間隙のサイズ）はワーク２０の厚さに略
等しくなるように、下段ローラ１２及び上段ローラ１３をそれぞれ受ける下段及び上段溝
１１ａ１，１１ａ２の高さ（すなわち、軸受け位置）が定められている。それにより、ワ
ーク２０を下段ローラ１２及び上段ローラ１３により適当な力で挟圧して、それらの間を
介して安定に搬送することができる。
【００４９】
ギアモータは、ワーク２０を搬送するための動力を発生するモータであり、チェーン、
ギア等を介して下段ローラ１２及び上段ローラ１３に動力を伝達する。例えば、ギアモー
タの駆動軸をヘリカルギアを介して下段ローラ１２に接続し、下段ローラ１２をスパーギ
アを介して上段ローラ１３に接続する。下段ローラ１２及び上段ローラ１３の回転速度、
すなわちワーク２０の搬送速度は、ギア比及びインバータ制御により調整される。
【００５０】
噴射装置１４は、一対の軸受け１３の間で床面１４上に設置されている。噴射装置１４
は、下段ローラ１２の下方から下段ローラ１２の間隙を介してエッチング液を噴射して、
ローラ機構１０により搬送されるワーク２０の下面にエッチング液を噴射する。
【００５１】
なお、噴射装置１４は、ローラ機構１０の上方に設けてもよい。噴射装置１４は、上段
ローラ１３の上方から上段ローラ１３の間隙を介してエッチング液を噴射して、ローラ機
構１０により搬送されるワーク２０の上面にエッチング液を噴射する。
【００５２】
なお、噴射装置１４は、床面１４上及びローラ機構１０の上方にそれぞれ設置してもよ
い。２つの噴射装置１４により、ローラ機構１０により下段ローラ１２及び上段ローラ１
３との間を介してワーク２０を搬送しつつ、噴射装置１４によりワーク２０の下面及び上
面にエッチング液を噴射することができる。
【００５３】
以上詳細に説明したように、エッチング装置１は、ローラ機構１０及び下段ローラ１２
の下方又は上段ローラ１３の上方からエッチング液を噴射する噴射装置１４を備える。ロ
ーラ機構１０により下段ローラ１２及び上段ローラ１３との間を介してワーク２０を搬送
しつつ、噴射装置１４によりワーク２０の下面又は上面にエッチング液を噴射することが
できる。
【実施例３】
【００５４】
本実施例は、上段ローラと下段ローラの離間距離を可変とするローラ機構を示すもので
ある。本実施例において相違を示した点を除き実施例１と同様であり、詳細な説明を省略
する。また、本実施例のローラ機構は、実施例２に示したエッチング装置にも適用可能で
ある。
【００５５】
図５は、ローラ機構用の支持体の構成を示す図である。ここで、図５（Ａ）及び（Ｂ）
は、それぞれ、正面図及び図５（Ａ）における中心線についての断面を示す図である。支
持体１１は、第２の半円１１ａ２１の周縁部１１ｂが、低い第１段部１１ｂ１及び高い第
２段部１１ｂ２を有する。第１及び第２段部１１ｂ１，１１ｂ２は、それぞれが正面視に
おいて第２の半円１１ａ２１に沿った底面を有する。
【００５６】
図６は、上段ローラの軸受けの構成を示す図である。ここで、図６（Ａ）及び（Ｂ）は
、それぞれ、正面図及び図６（Ａ）における中心線についての断面を示す図である。軸受
け１３ｂは、長手方向（すなわち、ローラ軸１３ａの長手方向）に、低い第１端部１３ｂ
１及び高い第２端部１３ｂ２を有する。第１及び第２端部１３ｂ１，１３ｂ２は、それぞ
れが正面視において第２の半円１１ａ２１に等しい底面を有する。ここで、第１及び第２
端部１３ｂ１，１３ｂ２の高低差は、軸受け１３ｂの第１及び第２段部１１ｂ１，１１ｂ
２の高低差に等しいものとする。
【００５７】
図７は、ローラ機構の構成を示す図である。なお、簡単のため、下段ローラ１２等は省
略する。ローラ機構１０は、上述の支持体１１及び上段ローラ１３を備える。図７（Ａ）
に示すように、上段ローラ１３の軸受け１３ｂを一向きに、すなわち第１及び第２端部１
３ｂ１，１３ｂ２をそれぞれ支持体１１の第１及び第２段部１１ｂ１，１１ｂ２に向けて
上段溝１１ａ２に入れて、軸受け１３ｂの第１及び第２端部１３ｂ１，１３ｂ２をそれぞ
れ上段溝１１ａ２の第１及び第２段部１１ｂ１，１１ｂ２上に受けることができる。他方
、図７（Ｂ）に示すように、上段ローラ１３の軸受け１３ｂを逆向きに、すなわち第１及
び第２端部１３ｂ１，１３ｂ２をそれぞれ支持体１１の第２及び第１段部１１ｂ２，１１
ｂ１に向けて上段溝１１ａ２に入れて、軸受け１３ｂの第１及び第２端部１３ｂ１，１３
ｂ２のうちの低いほう（この例では第１端部１３ｂ１）を上段溝１１ａ２の第１及び第２
段部１１ｂ１，１１ｂ２のうちの高いほう（この例では第２段部１１ｂ２）の上に支持す
ることもできる。図７（Ａ）に示す状態と図７（Ｂ）に示す状態とで、ローラ軸１３ａの
高さがＤだけ相違する。Ｄの値は、第１段部１１ｂ１と第２段部１１ｂ２との高さの差に
等しい。これによって、上段ローラ１３と下段ローラ１２との離間距離もＤだけ相違し、
ワーク２０の厚さの相違等に対応することができる。
【００５８】
Ｄの値は、０．５ｍｍ程度とすることが好ましい。
【実施例４】
【００５９】
本実施例は、上段ローラと下段ローラの離間距離を可変とするローラ機構の別途の構成
を示すものである。
【００６０】
図８は、上段ローラの軸受けの構成を示す図である。軸受け１３ｂは、第２の半円１１
ａ２１と等しい直径を有する２つの円弧１３ｂ３，１３ｂ４とこれら２つの円弧の端部を
接続する２つの直線とを含む角丸長方形状の外縁形状を有し、中心から下方に偏心したロ
ーラ軸１３ａを通す軸受孔を有する。
【００６１】
図９は、ローラ機構の構成を示す図である。なお、簡単のため、下段ローラ１２等は省
略する。ローラ機構１０は、図１に示した支持体１１及び上述の上段ローラ１３を備える
。図９（Ａ）に示すように、上段ローラ１３の軸受け１３ｂを一向き、すなわちローラ軸
１３ａを下方に偏心して上段溝１１ａ２に入れて軸受け１３ｂを受けることができる。他
方、図９（Ｂ）に示すように、上段ローラ１３の軸受け１３ｂを逆向きに、すなわちロー
ラ軸１３ａを上方に偏心して上段溝１１ａ２に入れて軸受け１３ｂを受けることもできる
。図９（Ａ）に示す状態と図９（Ｂ）に示す状態とで、ローラ軸１３ａの高さがＤだけ相
違する。Ｄの値は、軸受け１３ｂの軸受孔の偏心距離（図８にｄで示す。）の２倍に等し
い。これによって、上段ローラ１３と下段ローラ１２との離間距離もＤだけ相違し、ワー
ク２０の厚さの相違等に対応することができる。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
２つのローラの軸受け位置を独立に定めることができるローラ機構用の支持体、該支持
体を用いるローラ機構、及び該ローラ機構を用いるエッチング装置である。ワークを安定
して搬送することができ、多くのローラ機構生産業者、ローラ機構使用業者、特に半導体
のエッチング処理実施者、による利用が考えられる。
【符号の説明】
【００６３】
１０   ローラ機構
１１   支持体
１１ａ   溝
１１ａ１   下段溝
１１ａ１１   第１の半円
１１ａ１２   第１の矩形
１１ａ２   上段溝
１１ａ２１   第２の半円
１１ａ２２   第２の矩形
１２     下段ローラ
１２ａ   ローラ軸
１２ｂ   軸受け
１３     上段ローラ
１３ａ   ローラ軸
１３ｂ   軸受け
２０   ワーク
３０     エッチング装置
３１     噴射装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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