(57)【要約】      （修正有）【課題】１つのモジュールにより１度だけ露光される領域と、２つのモジュールにより２度半露光される継ぎ目領域とで形成されるパターンのずれを抑止するフォトマスクの製造方法を提供する。【解決手段】複数の投影光学モジュールが列方向に列設された光学ユニットが行方向に複数列設され、対象物に対して行方向に相対移動させ走査露光する露光装置に用いられるフォトマスクの製造方法であって、１つの光学ユニットによりフォトマスクの第１マスク部分を１回走査露光（６０１ａ、６０２ａ等）し、複数の光学ユニットによりフォトマスクの第２マスク部分を複数回走査露光する（６０１ｂ、６０２ｂ等）としたとき、対象物に形成すべきパターンで規定された開口部の行方向の幅と第２マスク部分における開口部の行方向の幅との比と、対象物に形成すべきパターンで規定された開口部の行方向の幅と第１マスク部分における開口部の行方向の幅との比とを異ならせる。【選択図】図２
2020109440.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の投影光学モジュールが列方向に列設された光学ユニットが行方向に複数列設され、前記複数の光学ユニットを対象物に対して行方向に相対移動させ走査露光する露光装置に用いられるフォトマスクの製造方法であって、
対象物に形成すべきパターンを基準としてマスク原型データを作成する工程と、
前記マスク原型データに基づいて開口部を形成する工程とを含み、
前記露光装置が、１つの光学ユニットにより前記フォトマスクの第１マスク部分を１回走査露光し、複数の光学ユニットにより前記フォトマスクの第２マスク部分を複数回走査露光するとしたとき、前記パターンで規定された開口部の行方向の幅と前記第２マスク部分における開口部の行方向の幅との比と、前記パターンで規定された開口部の行方向の幅と前記第１マスク部分における開口部の行方向の幅との比とを異ならせる
ことを特徴とするフォトマスクの製造方法。
【請求項２】
前記マスク原型データを作成する工程において、前記パターンで規定された開口部の行方向に対応する前記マスク原型データ上の開口部の幅を、前記第１マスク部分に対応するデータと前記第２マスク部分に対応するデータとで異ならせる
ことを特徴とする請求項１に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項３】
前記開口部を形成する工程は、前記マスク原型データに基づいてフォトマスク材料をレーザー加工する工程を含み、前記第１マスク部分と前記第２マスク部分とで、レーザーの出力を異ならせる
ことを特徴とする請求項１に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項４】
前記第１マスク部分および前記第２マスク部分の開口部の行方向の幅を、対応する前記対象物上の構造物の行方向の幅が同一となるようにフォトマスクを形成する
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載のフォトマスクの製造方法によりフォトマスクを形成し、
前記フォトマスクと前記露光装置を用いて、基板上に隔壁を形成し、
前記基板上の隔壁間隙に複数の表示素子を形成する
表示パネルの製造方法。
【請求項６】
請求項１から３のいずれか１項の記載のフォトマスクの製造方法によりフォトマスクを形成する工程と、
前記フォトマスクと前記露光装置を用いて、基板上に隔壁を形成する工程と、
前記基板上の隔壁間隙に複数の表示素子を形成する工程と
を含み、
前記第１マスク部分に対応する隔壁の間隙に形成される表示素子と、前記第１マスク部分に対応する隔壁の間隙に形成される表示素子とで、単位面積当たりの輝度が同一となるように、前記第１マスク部分と前記第２マスク部分とで開口部の行方向の幅を異ならせる
表示パネルの製造方法。
【請求項７】
前記隔壁を形成する際に、撥液性を有する樹脂材料を用いて隔壁を形成し、
前記表示素子を形成する際に、有機材料を含むインクを塗布して機能層を形成することにより有機ＥＬ素子を形成する
ことを特徴とする請求項５または６に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項８】
複数の投影光学モジュールが列方向に列設された光学ユニットが行方向に複数列設され、前記複数の光学ユニットを対象物に対して行方向に相対移動させ走査露光する露光装置に用いられるフォトマスクであって、
１つの光学ユニットにより１回走査露光され、列方向に延伸する開口が設けられた第１マスク部分と、
複数の光学ユニットにより複数回走査露光され、列方向に延伸する開口が設けられた第２マスク部分と
を備え、
前記第１マスク部分の前記開口と第２マスク部分の前記開口とは行方向の幅が同一の構造物を対象物に形成するために開設され、かつ、前記第１マスク部分の前記開口の行方向の幅と前記第２マスク部分の前記開口の行方向の幅が異なる
ことを特徴とするフォトマスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、露光装置に用いるフォトマスクの製造方法、フォトマスクを用いた表示パネルの製造方法、および、フォトマスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、表示パネルの製造工程において、露光装置を用いてフォトマスクに設けられたパターンを基板上のフォトレジストに転写する工程が用いられている。近年、パネルの大型化に伴い、列設された複数の投影光学モジュールと、フォトマスク及び基板とを相対的に移動させて走査することで、基板上で転写パターンをつなぎ合わせ、ひと続きの大きな転写パターンを形成する走査式露光装置が用いられている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
このような、複数の投影光学モジュールの走査により露光を行う場合、１つのモジュールにより露光される領域と、他のモジュールにより露光される領域との継ぎ目では露光不良が発生することがあり得る。そのため、例えば、特許文献１では、領域と領域との継ぎ目において半露光を行うことで、１つのモジュールにより露光される領域と、領域と領域との継ぎ目とで、露光量が変動しない技術が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１６３１３３号公報
【特許文献２】特開２０１２−２４２８１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、表示パネルにおいて構造物としての隔壁を形成する際にフォトリソグラフィを用いる場合に、１つのモジュールにより１度だけ露光される領域と、２つのモジュールにより２度半露光される継ぎ目領域とで、隔壁幅、隔壁間隔や隔壁の断面形状等が同一とならず、ムラが生じることがある。表示パネルにおいて隔壁幅のムラ、隔壁間隔のムラや隔壁の断面形状のムラ等が表示素子の並ぶ方向に発生した場合、表示面積の変化や機能層の膜厚変化をもたらす可能性がある。その結果として、２つのモジュールにより２度半露光される継ぎ目領域に当たる隔壁間隙に存在する表示素子の輝度などの表示特性と、１つのモジュールにより１度だけ露光される領域の隔壁間隙に存在する表示素子の表示特性にずれが生じて、継ぎ目領域に当たる領域に帯状の表示ムラが発生することがある。
【０００６】
本開示は、１つのモジュールにより１度だけ露光される領域と、２つのモジュールにより２度半露光される継ぎ目領域とで形成されるパターンのずれを抑止するフォトマスクおよびフォトマスクの製造方法、フォトマスクを用いた表示パネルの製造方法、および、フォトマスクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の一態様に係るフォトマスクの製造方法は、複数の投影光学モジュールが列方向に列設された光学ユニットが行方向に複数列設され、前記複数の光学ユニットを対象物に対して行方向に相対移動させ走査露光する露光装置に用いられるフォトマスクの製造方法であって、対象物に形成すべきパターンを基準としてマスク原型データを作成する工程と、前記マスク原型データに基づいて開口部を形成する工程とを含み、前記露光装置が、１つの光学ユニットにより前記フォトマスクの第１マスク部分を１回走査露光し、複数の光学ユニットにより前記フォトマスクの第２マスク部分を複数回走査露光するとしたとき、前記パターンで規定された開口部の行方向の幅と前記第２マスク部分における開口部の行方向の幅との比と、前記パターンで規定された開口部の行方向の幅と前記第１マスク部分における開口部の行方向の幅との比とを異ならせることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
上記態様のフォトマスクの製造方法によれば、１つのモジュールにより１度だけ露光される領域と、２つのモジュールにより２度半露光される継ぎ目領域とで形成されるパターンのずれを抑止することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施の態様の一形態に係る露光装置の概略図である。
【図２】実施の態様の一形態に係るフォトマスク３００の外観および投影光学モジュールの走査範囲との関係を示す平面概略図である。
【図３】実施の態様の一形態に係る表示パネルの模式断面図である。
【図４】実施の態様の一形態に係るフォトマスクと投影光学モジュールの走査範囲の関係とを示す平面概略図である。
【図５】実施の態様の一形態に係るフォトマスク３００を用いた露光処理の過程を示す模式図であり、（ａ）は光学ユニット４１０がフォトマスク３００の開口３２０に光を照射した状態を示し、（ｂ）は光学ユニット４１０がフォトマスク３００の開口３２０上の走査を終了した後の状態を示す。
【図６】実施の態様の一形態に係るフォトマスク３００を用いた露光処理の過程を示す模式図であり、（ａ）は光学ユニット４２０がフォトマスク３００の開口３２０に光を照射した状態を示し、（ｂ）は露光装置がフォトマスク３００の開口３２０上の走査を終了した後の状態を示す。
【図７】従来の露光装置とフォトマスクにより形成された表示パネルの模式断面図である。
【図８】（ａ）は実施の形態の一態様に係るマスク原型データを示す模式図であり、（ｂ）は（ａ）のマスク原型データに基づくフォトマスクの形成過程を示す模式図である。（ｃ）は実施の形態の他の一態様に係るマスク原型データを示す模式図である。
【図９】実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造過程の一部を模式的に示す部分断面図であって、（ａ）は、基板上にＴＦＴ層が形成された状態、（ｂ）は、基板上に層間絶縁層が形成された状態、（ｃ）は、層間絶縁層上に画素電極材料が形成された状態、（ｄ）は、画素電極材料上に正孔注入層材料が形成された状態、（ｅ）は、画素電極層と正孔注入層が形成された状態を示す。
【図１０】実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造過程の一部を模式的に示す部分断面図であって、（ａ）は、層間絶縁層および画素電極、正孔注入層上に隔壁材料層が形成された状態、（ｂ）は、隔壁層が形成された状態、（ｃ）は、正孔注入層上に正孔輸送層が形成された状態、（ｄ）は、正孔注入層上に発光層が形成された状態を示す。
【図１１】実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造過程の一部を模式的に示す部分断面図であって、（ａ）は、発光層および隔壁層上に電子輸送層が形成された状態、（ｂ）は電子輸送層上に電子注入層が形成された状態、（ｃ）は、電子注入層上に対向電極が形成された状態、（ｄ）は、対向電極上に封止層が形成された状態を示す。
【図１２】実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造過程を示すフローチャートである。
【図１３】実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の概略ブロック図である。
【図１４】（ａ）は従来のフォトマスクにより形成された隔壁の写真であり、（ｂ）は実施の形態に係るフォトマスクにより形成された隔壁の写真である。
【図１５】実施の形態に係る他の態様の有機ＥＬ表示パネルの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
＜本開示の一態様に至った経緯＞
表示パネルにおいて構造物としての隔壁は、塗布法で機能層を形成する場合には、材料を溶解したインクの乗り越えを防ぐ構造物として機能する。また、蒸着法で機能層を形成する場合には、蒸着マスクを載置するための構造物として機能する。また、いずれの場合であっても、隔壁は、画素またはサブ画素を区画するための構造物として機能する。したがって、隔壁の高さ幅、断面形状や隔壁間隔が同一とならずムラが生じると、表示面積の変化や機能層の膜厚変化をもたらし、発光特性の変化をもたらす原因となる。
【００１１】
表示パネルの隔壁は画素またはサブ画素を区画するための構造物でもあるため、絶縁性を有する材料で形成されることが好ましい。そして、感光性の有機材料であるアクリル系、メタクリル系、ポリイミド系、フェノール系などのフォトレジストは絶縁性を有するため、これらを隔壁材料とすることで、エッチング工程を省きフォトリソグラフィのみで隔壁を形成することができる。
【００１２】
しかしながら、列設された複数の投影光学モジュールと、フォトマスク及び基板とを相対的に移動させて走査する走査式露光装置では、転写パターンのつなぎ目で露光不良が発生することがあり得る。具体的には、投影光学モジュールの露光範囲を重複しないように設計した場合、転写パターンのつなぎ目では光がはみ出すことによる露光過剰や露光範囲間の隙間が生じることによる露光不足が起こりえる。そこで、例えば、特許文献１や特許文献２の技術では、投影光学モジュールの露光範囲の周縁部を半露光領域として設定し、半露光領域同士を重複させるとともに、２回の半露光により１回の露光と同じ光量となるように設計している。図４は、フォトマスクと投影光学モジュールの走査範囲の関係とを示す平面概略図である。図４に示すように、フォトマスク３００には列方向（Ｙ方向）に延伸する複数の開口が設けられている。露光装置の光学ユニットは複数の投影光学モジュールを備え、投影光学モジュールのそれぞれに対応する照射範囲５１１〜５１４、５２１〜５２３は、照射範囲５１１〜５１４が列方向（Ｙ方向）に並び、照射範囲５２１〜５２３が列方向（Ｙ方向）に並び、それらが行方向（Ｘ方向）に並ぶように配置されている。そして、照射範囲５１１に対応する投影光学モジュールはフォトマスク上の領域６１１を走査し、照射範囲５１２に対応する投影光学モジュールはフォトマスク上の領域６１３を走査し、照射範囲５１３に対応する投影光学モジュールはフォトマスク上の領域６１５を走査し、照射範囲５１５に対応する投影光学モジュールはフォトマスク上の領域６１７を走査する。また、照射範囲５２１に対応する投影光学モジュールはフォトマスク上の領域６１２を走査し、照射範囲５２２に対応する投影光学モジュールはフォトマスク上の領域６１４を走査し、照射範囲５２３に対応する投影光学モジュールはフォトマスク上の領域６１６を走査する。このとき、フォトマスク上の領域６１１〜６１７のうち、領域６０１ａ、６０２ａ、６０３ａ、６０４ａ、６０５ａ、６０６ａ、６０７ａについては、それぞれ、照射範囲５１１ａ、５２１ａ、５１２ａ、５２２ａ、５１３ａ、５２３ａ、５１４ａが一度だけ通過する。すなわち、１つの投影光学モジュールによって一度だけ露光される。一方、領域６０１ｂについては、照射範囲５１１ｂと照射範囲５２１ｂとがそれぞれ一度ずつ通過する。同様に、領域６０２ｂについては、照射範囲５２１ｃと照射範囲５１２ｂとがそれぞれ一度ずつ通過する。すなわち、第１列の投影光学モジュールと第２列の投影光学モジュールによって２度露光される。領域６０３ｂ、６０４ｂ、６０５ｂ、６０６ｂについても同様である。一方で、照射範囲５１１ｂと照射範囲５２１ｂとは、行方向（Ｘ方向）の幅が狭く、どのＸ座標においても、照射範囲５１１ｂの行方向の幅と照射範囲５２１ｂの行方向の幅の合計が、照射範囲５１１ａと同一となるように設計されている。これにより、領域６０１ｂについては、照射範囲５１１ｂの通過による露光量と、照射範囲５２１ｂの通過による露光量との合計が、領域６０１ａにおける照射範囲５１１ａの通過による露光量と等しく設計されている。
【００１３】
図５、図６は、このような露光装置とマスクを用いた場合の隔壁の形成過程を示す模式図である。なお、図５、図６では、説明を簡略化させるため、フォトマスク３００の開口を開口３２０だけとしている。露光装置の光源ユニット４００がフォトマスク３００上を走査すると、図５（ａ）に示すように光学ユニット４１０による照射範囲５１１〜５１４がフォトマスク３００の開口３２０上に存在するときに、照射範囲５１１〜５１４と開口３２１の重複領域の像１６１〜１６４が表示パネル基板１００上に結像し、当該領域が露光される。これにより、図５（ｂ）に示すように、表示パネル基板１００上の領域１８１〜１８４が露光される。ただし、照射範囲５１１〜５１４のうち行方向の幅が狭い部分に対応する領域１８１ｂ、１８２ｃ、１８２ｂ、１８３ｃ、１８３ｂ、１８４ｂについては、半露光となる。さらに、露光装置の光源ユニット４００がフォトマスク３００上を走査すると、図６（ａ）に示すように光学ユニット４２０による照射範囲５２１〜５２３がフォトマスク３００の開口３２１上に存在するときに、照射範囲５１１〜５１４と開口３２１の重複領域の像１７１〜１７３が表示パネル基板１００上に結像し、当該領域が露光される。これにより、図６（ｂ）に示すように、表示パネル基板１００上の領域１９１〜１９３が露光される。ただし、照射範囲５２１〜５２３のうち行方向の幅が狭い部分に対応する領域１８１ｂ、１８２ｃ、１８２ｂ、１８３ｃ、１８３ｂ、１８４ｂについては、既に半露光されているところに、さらに半露光が行われる。上述したように、半露光が２度行われた領域１８１ｂ、１８２ｃ、１８２ｂ、１８３ｃ、１８３ｂ、１８４ｂの合計露光量は、１度だけ露光された領域１８１ａ〜１８４ａ、１９１ａ〜１９１ｃの露光量と等しくなるように設計される。したがって、形成される隔壁においては、場所に係らず露光量は原理的には一定となる。
【００１４】
しかしながら、このような露光装置とフォトマスクを用いた場合においても、図７の表示パネルの模式断面図に示すように、隔壁１４における１回露光部１４ｐと２回露光部１４ｑとで行方向の幅、高さ、断面形状、隔壁間隔等（以下、幅等という）が同一とならずにムラが発生する課題があることを発明者らは発見した。このような隔壁の行方向の幅等のムラが発生する原因としては、単位面積当たりの露光量が同一であっても、一度に露光する場合と、半露光を複数回繰り返す場合とで、フォトレジストの光硬化の度合いに差が生じることが考えられる。このような隔壁の幅等のムラは露光回数の差に起因するものであるため露光装置の走査方向に走査ごとに同じ位置に生じるため、面内の複数の走査によると面内で帯状に発生するため、隔壁の幅等のムラに起因する表示パネルの表示ムラも同様に露光装置の走査方向に発生し、ムラの度合いによっては顕著なものとなる。発明者らは、このような露光装置を用いた場合においても隔壁幅等のムラを抑止するフォトマスクについて検討し、本開示に至ったものである。
【００１５】
＜開示の態様＞
実施の形態の一態様に係るフォトマスクの製造方法は、複数の投影光学モジュールが列方向に列設された光学ユニットが行方向に複数列設され、前記複数の光学ユニットを対象物に対して行方向に相対移動させ走査露光する露光装置に用いられるフォトマスクの製造方法であって、対象物に形成すべきパターンを基準としてマスク原型データを作成する工程と、前記マスク原型データに基づいて開口部を形成する工程とを含み、前記露光装置が、１つの光学ユニットにより前記フォトマスクの第１マスク部分を１回走査露光し、複数の光学ユニットにより前記フォトマスクの第２マスク部分を複数回走査露光するとしたとき、前記パターンで規定された開口部の行方向の幅と前記第２マスク部分における開口部の行方向の幅との比と、前記パターンで規定された開口部の行方向の幅と前記第１マスク部分における開口部の行方向の幅との比とを異ならせることを特徴とする。
【００１６】
上記態様のフォトマスクの製造方法によれば、１つのモジュールにより１度だけ露光される領域と、２つのモジュールにより２度半露光される継ぎ目領域とで形成されるパターンに差が存在する場合においても、対象物に設計上のパターンを形成することができる。
実施の形態の一態様に係るフォトマスクの製造方法において、前記マスク原型データを作成する工程において、前記パターンで規定された開口部の行方向に対応する前記マスク原型データ上の開口部の幅を、前記第１マスク部分に対応するデータと前記第２マスク部分に対応するデータとで異ならせる、としてもよい。
【００１７】
上記態様のフォトマスクの製造方法によれば、１つのモジュールにより１度だけ露光される領域と、２つのモジュールにより２度半露光される継ぎ目領域とで形成されるパターンに差が存在する場合においても、対象物に設計上のパターンを高精度に形成することができる。
実施の形態の一態様に係るフォトマスクの製造方法において、前記開口部を形成する工程は、前記マスク原型データに基づいてフォトマスク材料をレーザー加工する工程を含み、前記第１マスク部分と前記第２マスク部分とで、レーザーの出力を異ならせる、としてもよい。
【００１８】
上記態様のフォトマスクの製造方法によれば、１つのモジュールにより１度だけ露光される領域と、２つのモジュールにより２度半露光される継ぎ目領域とで形成されるパターンに差が存在する場合においても、簡易な方法で、対象物に設計上のパターンを形成することができる。
実施の形態の一態様に係るフォトマスクの製造方法において、前記第１マスク部分および前記第２マスク部分の開口部の行方向の幅を、対応する前記対象物上の構造物の行方向の幅が同一となるようにフォトマスクを形成する、としてもよい。
【００１９】
上記態様のフォトマスクの製造方法によれば、隔壁のように列方向に延伸する構造物において、行方向の幅のムラを抑止することができる。
実施の形態の一態様に係る表示パネルの製造方法は、実施の形態の一態様に係るフォトマスクの製造方法によりフォトマスクを形成し、前記フォトマスクと前記露光装置を用いて、基板上に隔壁を形成し、前記基板上の隔壁間隙に複数の表示素子を形成することを特徴とする。
【００２０】
上記態様の表示パネルの製造方法によれば、隔壁の行方向の幅のムラによる表示特性のムラを抑止することができる。
実施の形態の一態様に係る表示パネルの製造方法は、実施の形態の一態様に係るフォトマスクの製造方法によりフォトマスクを形成する工程と、前記フォトマスクと前記露光装置を用いて、基板上に隔壁を形成する工程と、前記基板上の隔壁間隙に複数の表示素子を形成する工程とを含み、前記第１マスク部分に対応する隔壁の間隙に形成される表示素子と、前記第１マスク部分に対応する隔壁の間隙に形成される表示素子とで、単位面積当たりの輝度が同一となるように、前記第１マスク部分と前記第２マスク部分とで開口部の行方向の幅を異ならせることを特徴とする。
【００２１】
上記態様の表示パネルの製造方法によれば、表示特性が均質である高品質な表示パネルを製造することができる。
実施の形態の一態様に係る表示パネルの製造方法において、前記隔壁を形成する際に、撥液性を有する樹脂材料を用いて隔壁を形成し、前記表示素子を形成する際に、有機材料を含むインクを塗布して機能層を形成することにより有機ＥＬ素子を形成する、としてもよい。
【００２２】
上記態様の表示パネルの製造方法によれば、各発光素子の特性が均質である高品質な有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。
実施の形態の一態様に係るフォトマスクは、複数の投影光学モジュールが列方向に列設された光学ユニットが行方向に複数列設され、前記複数の光学ユニットを対象物に対して行方向に相対移動させ走査露光する露光装置に用いられるフォトマスクであって、１つの光学ユニットにより１回走査露光され、列方向に延伸する開口が設けられた第１マスク部分と、複数の光学ユニットにより複数回走査露光され、列方向に延伸する開口が設けられた第２マスク部分とを備え、前記第１マスク部分の前記開口と第２マスク部分の前記開口とは行方向の幅が同一の構造物を対象物に形成するために開設され、かつ、前記第１マスク部分の前記開口の行方向の幅と前記第２マスク部分の前記開口の行方向の幅が異なることを特徴とする。
【００２３】
上記態様のフォトマスクによれば、１つのモジュールにより１度だけ露光される領域と、２つのモジュールにより２度半露光される継ぎ目領域とで形成されるパターンのずれを抑止することができる。
＜実施の形態＞
１．露光システムの概略構成
本発明の一態様に係るフォトマスクを用いた露光システムについて説明する。
【００２４】
図１は、実施の形態に係る露光システム１０の概略図である。露光システム１０は、光源ユニット４００と、フォトマスク台３５０と、投影ユニット２６０と、基板台１１０とを備えている。
光源ユニット４００は、高圧水銀ランプ等からなる光源と、光源からの光から必要な波長の光を取り出すフィルタと、フォトマスク台３５０上のフォトマスク３００に仮想的に設けられる照射範囲５１１〜５１４、５２１〜５２３に光を照射する光学系を備える。
【００２５】
フォトマスク台３５０は、フォトマスク３００を載置するステージである。
投影ユニット２６０は、照射範囲５１１〜５１４、５２１〜５２３に存在するフォトマスク３００の開口を通過した光を基板台１１０上の基板に結像させるための光学系である。より具体的には、照射範囲５１１におけるフォトマスクの像を、表示パネル基板１００上の領域１６１に結像させる。同様に、照射範囲５１２、５１３、５１４のそれぞれにおけるフォトマスクの像を、表示パネル基板１００上の領域１６２、１６３、１６４のそれぞれに結像させる。同様に、照射範囲５２１、５２２、５２３のそれぞれにおける開口の像を、表示パネル基板１００上の領域１７１、１７２、１７３のそれぞれに結像させる。
【００２６】
基板台１１０は、フォトレジストを塗布した表示パネル基板１００を載置するステージである。
光源ユニット４００と投影ユニット２６０は、Ｙ方向には相対移動しないよう固定されている。また、フォトマスク台３５０と基板台１１０は、Ｙ方向には相対移動しないよう固定されている。一方で、光源ユニット４００と投影ユニット２６０からなる光学系は、フォトマスク台３５０と基板台１１０に対し、一定速度でＹ方向に相対移動可能に構成されており、フォトマスク３００と表示パネル基板１００に対して、光学系がＹ方向に一定速度で走査される。これによって、フォトマスク３００上のどの場所においても、照射範囲５１１〜５１４、５２１〜５２３のうち１以上が通過し、フォトマスク３００のパターンが表示パネル基板１００に転写される。
【００２７】
＜フォトマスクの構成＞
フォトマスク３００は表示パネル基板１００に転写すべきパターンを有する部材であり、表示パネル基板１００において露光されるべき形状と同様の形状を備える開口部を有する。フォトマスク３００は、開口部以外の部分は照射される光を遮る遮光性部材からなる。本実施の形態では、表示パネル基板１００上には、露光によって硬化する、いわゆるネガ型のフォトレジストが塗布されており、フォトマスク３００には、隔壁のそれぞれに対応する開口３１１が設けられている。なお、表示パネル基板１００上には露光によって現像除去される、いわゆるポジ型のフォトレジストが塗布されてもよく、この場合には、フォトマスク３００には、隔壁以外の部分に対応する開口が設けられることとなる。
【００２８】
図２には、実施の形態に係るフォトマスク３００の外観および照射範囲５１１〜５１４、５２１〜５２３との関係を示す平面概略図である。図２に示すように、フォトマスク３００には、表示パネル基板１００上に形成されるべき隔壁のそれぞれに対応する複数の開口３１１を有する。ここで、照射範囲５１１〜５１４、５２１〜５２３のそれぞれは、フォトマスク３００上の領域６１１、６１３、６１５、６１７、６１２、６１４、６１６のそれぞれを通過する。したがって、領域６０１ａ、６０２ａ、６０３ａ、６０４ａ、６０５ａ、６０６ａ、６０７ａについては、照射範囲５１１〜５１４、５２１〜５２３のいずれか１つのみが１度だけ通過することとなり、露光によるパターンの転写は１度だけとなる。一方で、領域６０１ｂ、６０２ｂ、６０３ｂ、６０４ｂ、６０５ｂ、６０６ｂについては、照射範囲５１１〜５１４、５２１〜５２３のうちＹ方向に隣接する２つの照射範囲が１度ずつ通過することとなり、露光によるパターンの転写が２度行われる。本実施の形態に係るフォトマスク３００では、開口３１１のそれぞれについて、領域６０１ｂ、６０２ｂ、６０３ｂ、６０４ｂ、６０５ｂ、６０６ｂに位置する部分３１１ｂの行方向（Ｘ方向）の幅が、領域６０１ａ、６０２ａ、６０３ａ、６０４ａ、６０５ａ、６０６ａ、６０７ａに位置する部分３１１ａの行方向（Ｘ方向）の幅より大きくなっている。具体的には、部分３１１ａと部分３１１ｂとのそれぞれの行方向の幅を同一としたときに隔壁における部分３１１ａと部分３１１ｂとのそれぞれに対応する部分の行方向の幅を１：ｐ（０＜ｐ＜１）とすると、部分３１１ａと部分３１１ｂとのそれぞれの行方向の幅を、ｐ：１となるように設計する。このようにすることで、露光回数の違いによる隔壁の行方向の幅のずれを補正することができる。なお、ｐの値は、例えば、上述したようにｐ＝１としたフォトマスク３００を作成してこれを用いて露光し、隔壁を試作して隔壁の行方向の幅を調査することで決定することができる。なお、実施の形態ではｐ＜１としたが、露光装置の光学系における光強度分布の違い、ネガ型かポジ型かの違いを含むフォトレジスト材料の違い等によって、２回露光される継ぎ目部分で隔壁に行方向の幅の大きい肥大部が生じる場合がある（ｐ＞１）。このような場合には、同様の考え方で、部分３１１ｂの行方向の幅を、部分３１１ａの行部分の幅より小さくすればよい。これにより、図３の表示パネルの模式断面図に示すように、隔壁１４の行方向の幅が１回被露光部１４ｐと２回被露光部１４ｑとで異なる場合に、図４の模式断面図に示すように行方向の幅が均一な隔壁１４を形成することができる。
【００２９】
＜フォトマスク３００の開口幅調整方法＞
図２に示したような、２回露光される継ぎ目部分の開口幅を変更する具体的方法について、以下説明する。
フォトマスク３００を形成する手順としては、例えば、（１）形成すべき隔壁の形状を基準としてマスク原型データを形成し、（２）マスク原型データを基準としてフォトマスク基板に開口を形成する、の方法がある。より具体的には、例えば、（１）形成すべき隔壁の形状を規定する３次元ＣＡＤデータをベースとして、マスク原型データである２次元ＣＡＤデータを作成する、（２）マスク原型データである２次元ＣＡＤデータをベースとして、フォトマスク基板をレーザー加工し開口を設ける、の手段がある。
【００３０】
フォトマスク３００の開口幅を調整する方法の１つとしては、マスク原型データを基準としてフォトマスク基板に開口を形成する際に、加工方法を変更する手法がある。より具体的には、図８（ａ）に示す開口７１０が設定されたマスク原型データ７００からフォトマスク３００を形成する際に、図８（ｂ）に示すように、開口３１１形成時に１度露光領域６０１ａと２度露光領域６０２ｂとで、レーザー加工する際のレーザー出力を変更する。これにより、２度露光領域６０２ｂではレーザー出力が１度露光領域６０１ｂより高く設定されるため、マスク原型データ上の開口７１０に対して形成される開口３１１の行方向の幅が大きくなり、２回露光される継ぎ目部分の開口幅を広げることができる。
【００３１】
もう一つのフォトマスク３００の開口幅を調整する方法としては、隔壁の形状を基準としてマスク原型データを形成する際に、マスク原型データ上の開口幅を変更する手法がある。より具体的には、図８（ｃ）に示すように、マスク原型データ７００の開口７１１に対して、２度露光領域６０１ｂ内に存在する部分７１１ｂの行方向の幅を、１度露光領域６０１ａ内に存在する部分７１１ａの行方向の幅より大きくする。これにより、予め２度露光領域６０１ｂにおける開口の行方向の幅が大きいマスク原型データ７００に基づいてフォトマスク３００が形成されるため、２回露光される継ぎ目部分の開口幅を広げることができる。
【００３２】
＜フォトマスクの効果＞
図１４を用いて、実施の形態に係るフォトマスク３００と、比較例として、設計上の隔壁形状と同形状の開口を有する従来のフォトマスクとのそれぞれで作成した継ぎ目部分の隔壁の形状を比較する。図１４（ａ）は、比較例としての設計上の隔壁形状と同形状の開口を有する従来のフォトマスクで作成した隔壁の拡大写真であり、図１４（ｂ）は、実施の形態に係るフォトマスク３００で作成した隔壁の拡大写真である。なお、図１４（ａ）、図１４（ｂ）は、いずれも露光のスキャン方向はＸ方向であり、１回露光される部分と、２回露光される継ぎ目部分はＹ方向に並ぶ。図１４（ａ）の隔壁では、領域９０１と領域９０３が１回露光された領域であり、領域９０２が２回露光された領域である。図１４（ａ）の隔壁では、領域９０１および領域９０３と、領域９０２との間で露光量が異なるため、２回露光される継ぎ目部分に当たる領域９０２と領域９０１および領域９０３とは均一な状態とはなっていない。これに対し、図１４（ｂ）の隔壁では、領域９１１と領域９１３が１回露光された領域であり、領域９１２が２回露光された領域である。図１４（ａ）とは異なり、領域９１１、領域９１２、領域９１３が均一な構造となっており、Ｙ方向に状態の違いが見受けられない。すなわち、比較例では隔壁の形状が露光部分の継ぎ目に変化が生じているのに対し、実施例では隔壁の形状が列方向に対して均一である。以上のように、露光ムラに対し、フォトマスクの開口幅を調整することで、露光ムラを抑止することができる。
【００３３】
＜まとめ＞
以上説明したように、本実施の形態に係るフォトマスク、および、フォトマスクの製造方法によれば、露光装置において、１回露光される部分と、２回露光される継ぎ目部分とで形成される構造物の行方向の幅にムラがある場合に、ムラを解消するようにフォトマスクの開口幅を調整することで、形成される構造物の行方向の幅ムラを抑止することができる。したがって、特に表示装置において、隔壁の幅ムラによる表示ムラを抑止することができる。また、１回露光される部分と、２回露光される継ぎ目部分とで形成される構造物の行方向の幅にムラの程度は、露光装置の特性、フォトレジストの特性、構造物の寸法により変化するため、これらが変更されない程度の設計変更については、改めて開口幅の調整量を再測定する必要がなく、簡易にフォトマスクを作成することが可能となる。また、実施の形態に係るフォトマスクの製造方法によれば、露光装置の露光量に照射場所依存のムラが存在している場合においても、同様に、露光量が少ないほど開口幅を大きくしたフォトマスクを製造することにより、所望の形状の構造物をフォトリソグラフィにより形成することができる。
【００３４】
２．有機ＥＬ表示パネルの製造方法
以下、実施の形態の一態様である表示パネルの製造方法として、有機ＥＬ表示パネルの製造方法について説明する。図９から図１１は、有機ＥＬ表示パネル１００の製造における各工程での状態を示す模式断面図である。また、図１２は、有機ＥＬ表示パネル１００の製造方法を示すフローチャートである。
【００３５】
（１）基板１１の作成
まず、図９（ａ）に示すように、基材１１１上にＴＦＴ層１１２を成膜して基板１１を形成し、（ステップＳ１）。ＴＦＴ層１１２は、公知のＴＦＴの製造方法により成膜することができる。
次に、図９（ｂ）に示すように、基板１１上に層間絶縁層１２を形成する（ステップＳ２）。層間絶縁層１２は、例えば、プラズマＣＶＤ法、スパッタリング法などを用いて積層形成することができる。
【００３６】
次に、層間絶縁層１２における、ＴＦＴ層のソース電極上の箇所にドライエッチングを行い、コンタクトホールを生成する。コンタクトホールは、その底部にソース電極の底面が露出されるように形成される。
次に、コンタクトホールの内壁に沿って接続電極層を形成する。接続電極層の上部は、その一部が層間絶縁層１２上に配される。接続電極層の形成は、例えば、スパッタリング法を用いることができ、金属膜を成膜した後、フォトリソグラフィ法およびウェットエッチング法を用いパターニングすることがなされる。
【００３７】
（２）画素電極１３、正孔注入層１５の作成
次に、図９（ｃ）に示すように、層間絶縁層１２上に画素電極材料層１３０を形成する（ステップＳ３）。画素電極材料層１３０は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法などを用いて形成することができる。
そして、図９（ｄ）に示すように、画素電極材料層１３０上に正孔注入材料層１５０を形成する（ステップＳ４）。正孔注入材料層１５０は、例えば、スパッタリング法などを用いて形成することができる。
【００３８】
そして、図９（ｅ）に示すように、画素電極材料層１３０と正孔注入材料層１５０をエッチングによりパターニングして、サブピクセルごとに区画された複数の画素電極１３と正孔注入層１５の積層構造を形成する（ステップＳ５）。
なお、正孔注入層１５を塗布法で形成してもよい。この場合には、ステップＳ４を実行せず、後述のステップＳ７の実行後ステップＳ８の実行前に、ステップＳ８と同様の方法で正孔注入層１５を形成する。
【００３９】
（３）副壁１４ｘ、隔壁１４の作成
次に、画素電極１３および層間絶縁層１２上に、副壁の材料である副壁用樹脂を塗布し、副壁材料層を形成する。副壁用樹脂には、例えば、感光性材料であるフェノール樹脂が用いられる。副壁材料層は、フェノール樹脂を溶媒に溶解させた溶液を画素電極１３上および層間絶縁層１２上にスピンコート法などを用いて一様に塗布することにより形成される。そして、副壁材料層にパターン露光と現像を行うことで副壁１４ｘを形成する。
【００４０】
そして、図１０（ａ）に示すように、画素電極１３および層間絶縁層１２、副壁１４ｘ上に、隔壁の材料である隔壁用樹脂を塗布し、隔壁材料層を形成する。隔壁用樹脂には、例えば、感光性材料であるアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂に、撥液性を有する界面活性剤であるフッ素化合物が添加されて用いられる。隔壁材料層は、スピンコート法などを用いて一様に塗布することにより形成される。そして、隔壁材料層に対して、実施の形態に係るフォトマスクと露光装置とを用いてパターン露光を行い、現像を行うことで、図１０（ｂ）に示すように、隔壁１４を形成する。
【００４１】
最後に、焼成を行うことで、副壁１４ｘと隔壁１４が完成する（ステップＳ７）。焼成は、例えば、１５０℃以上２１０℃以下の温度で６０分間行う。
（４）正孔注入層の成膜
次に、図１０（ｃ）に示すように、隔壁１４および副壁１４ｘが規定する開口部１４ａに対し、正孔輸送層１６の構成材料を含むインクを、インクジェットヘッド４０１のノズル４０３０から吐出して開口部１４ａ内の正孔注入層１５上に塗布し、焼成（乾燥）を行って、正孔輸送層１６を形成する（ステップＳ８）。
【００４２】
（５）発光層の成膜
次に、図１０（ｄ）に示すように、発光層１７の構成材料を含むインクを、インクジェットヘッド４０１のノズル４０３０から吐出して開口部１４ａ内の正孔注入層１５上に塗布し、焼成（乾燥）を行って、発光層１７を形成する（ステップＳ９）。
（６）電子輸送層の成膜
次に、図１１（ａ）に示すように、発光層１７上および隔壁１４上に、電子輸送層１８を構成する材料を真空蒸着法またはスパッタリング法により各サブピクセルに共通して成膜し、電子輸送層１８を形成する（ステップＳ１０）。
【００４３】
（７）電子注入層の成膜
次に、図１１（ｂ）に示すように、電子輸送層１８上に、電子注入層１９を構成する材料を、蒸着法、スピンコート法、キャスト法などの方法により電子輸送層１８上に成膜し、各サブ画素に共通して電子注入層１９を形成する（ステップＳ１１）。
（８）対向電極の成膜
次に、図１１（ｃ）に示すように、電子注入層１９上に、対向電極２０を構成する材料を真空蒸着法またはスパッタリング法により各サブピクセルに共通して成膜し、対向電極２０を形成する（ステップＳ１２）。
【００４４】
（９）封止層の成膜
最後に、図１１（ｄ）に示すように、対向電極２０上に、封止層を形成する材料をＣＶＤ法またはスパッタリング法により各サブピクセルに共通して成膜し、封止層２１を形成する（ステップＳ１３）。
以上の工程を経ることにより有機ＥＬ表示パネル１００が完成する。
【００４５】
以下、有機ＥＬ表示パネル１００の各部構成について説明する。
＜基板＞
基板１１は、絶縁材料である基材１１１と、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層１１２とを含む。ＴＦＴ層１１２には、画素ごとに駆動回路が形成されている。基材１１１は、例えば、ガラス基板、石英基板、シリコン基板、硫化モリブデン、銅、亜鉛、アルミニウム、ステンレス、マグネシウム、鉄、ニッケル、金、銀などの金属基板、ガリウム砒素などの半導体基板、プラスチック基板等を採用することができる。プラスチック材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂いずれの樹脂を用いてもよい。例えば、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリサルホン（ＰＳｕ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリウレタン系、等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ポリウレタン等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられる。これらよりプロセス温度に対して耐久性を有するように選択し、１種、または２種以上を積層した積層体を用いることができる。
【００４６】
＜層間絶縁層＞
層間絶縁層１２は、基板１１上に形成されている。層間絶縁層１２は、樹脂材料からなり、ＴＦＴ層１１２の上面の段差を平坦化するためのものである。樹脂材料としては、例えば、ポジ型の感光性材料が挙げられる。また、このような感光性材料として、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。また、図９〜１１の断面図には示されていないが、層間絶縁層１２には、画素ごとにコンタクトホールが形成されている。
【００４７】
＜画素電極＞
画素電極１３は、光反射性の金属材料からなる金属層を含み、層間絶縁層１２上に形成されている。画素電極１３は、画素ごとに設けられ、層間絶縁層１２に設けられたコンタクトホールを通じてＴＦＴ層１１２と電気的に接続されている。
本実施形態においては、画素電極１３は、陽極として機能する。
【００４８】
光反射性を具備する金属材料の具体例としては、Ａｇ（銀）、Ａｌ（アルミニウム）、アルミニウム合金、Ｍｏ（モリブデン）、ＡＰＣ（銀、パラジウム、銅の合金）、ＡＲＡ（銀、ルビジウム、金の合金）、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＭｏＷ（モリブデンとタングステンの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）などが挙げられる。
【００４９】
画素電極１３は、金属層単独で構成してもよいが、金属層の上に、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）やＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）のような金属酸化物からなる層を積層した積層構造としてもよい。
＜隔壁＞
隔壁１４は、画素電極１３の上面の一部の領域を露出させ、その周辺の領域を被覆した状態で画素電極１３上に形成されている。画素電極１３上面において隔壁１４で被覆されていない領域（以下、「開口部」という）は、サブピクセルに対応している。すなわち、隔壁１４は、サブピクセルごとに設けられた開口部１４ａを有する。
【００５０】
本実施の形態において、隔壁１４は、画素電極１３および正孔注入層１５が形成されていない部分では、層間絶縁層１２上に形成されている。すなわち、画素電極１３および正孔注入層１５が形成されていない部分では、隔壁１４の底面は層間絶縁層１２の上面と接している。
隔壁１４は、正孔輸送層１６、発光層１７を塗布法で形成する際、塗布されたインクが隣接するサブピクセルのインクと接触しないようにするための構造物として機能する。隔壁１４は少なくとも表面が撥液性を有し、隔壁１４の断面は上方を先細りとする順テーパーの台形状もしくは上に凸のお椀状である。隔壁１４は、絶縁性の樹脂材料からなる母材に、フッ素系化合物やシリコーン系化合物などの撥液性の界面活性剤が添加されてなる。絶縁性の樹脂材料である母材としては、例えば、ネガ型の感光性材料を用いることができ、具体的には、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。なお、母材は例えば、ポジ型の感光材料を用いてもよいし、感光性でない材料を用いてもよい。
【００５１】
＜副壁＞
副壁１４ｘは、画素電極１３および正孔注入層１５の上面の一部の領域を露出させ、その周辺の領域を被覆した状態で画素電極１３および正孔注入層１５上に形成されている。副壁１４ｘの延伸する方向は、隔壁１４が延伸する方向と直交している。副壁１４ｘのそれぞれは、複数の開口部１４ａにわたって形成されており、開口部１４ａ内において、隣接する画素電極１３および正孔注入層１５を区画している。
【００５２】
本実施の形態において、副壁１４ｘは、画素電極１３および正孔注入層１５が形成されていない部分では、層間絶縁層１２上に形成されている。
副壁１４ｘは、正孔輸送層１６、発光層１７を塗布法で形成する際、塗布されたインクの列方向（Ｙ方向）への流動を規制するためのものである。副壁１４ｘの形状は、四角錐台状もしくはそれに類似した形状であり、断面は上方を先細りとする順テーパーの台形状もしくは上に凸のお椀状である。また、層間絶縁層１２からの副壁１４ｘの高さは、層間絶縁層１２からの隔壁１４の高さよりも低い。副壁１４ｘは、樹脂材料からなり、例えば、ネガ型の感光性材料を用いることができる。このような感光性材料として、具体的には、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。なお、樹脂材料は、例えば、ポジ型の感光性材料を用いてもよいし、感光性でない材料を用いてもよい。
【００５３】
＜正孔注入層＞
正孔注入層１５は、画素電極１３から発光層１７への正孔（ホール）の注入を促進させる目的で、画素電極１３上に設けられている。正孔注入層１５の材料の具体例としては、例えば、遷移金属の酸化物である。遷移金属の具体例としては、Ａｇ（銀）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｃｒ（クロム）、Ｖ（バナジウム）、Ｗ（タングステン）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｉｒ（イリジウム）などである。遷移金属は複数の酸化数を取るため、複数の準位を取ることができ、その結果、正孔注入が容易になり、駆動電圧の低減に寄与するからである。この場合、正孔注入層１５は、大きな仕事関数を有することが好ましい。
【００５４】
また、正孔注入層１５は、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物）などの導電性ポリマー材料で形成されてもよく、この場合は、塗布法により形成される。なお、正孔注入層１５は、遷移金属の酸化物層と有機層との２層が積層された構造であってもよい。
＜正孔輸送層＞
正孔輸送層１６は、正孔注入層１５から注入された正孔を発光層１７へ輸送する機能を有し、正孔を正孔注入層１５から発光層１７へと効率よく輸送するため、正孔移動度の高い有機材料で形成されている。正孔輸送層１６の形成は、有機材料溶液の塗布および乾燥により行われる。正孔輸送層１６を形成する有機材料としては、ポリフルオレンやその誘導体、あるいはポリアリールアミンやその誘導体等の高分子化合物を用いることができる。
【００５５】
また、正孔輸送層１６はトリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンゼン誘導体を用いて形成されてもよい。特に好ましくは、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物等を用いてもよい。この場合、正孔輸送層１６は、真空蒸着法により形成される。なお、正孔輸送層１６の材料および製造方法は上述のものに限られず、正孔輸送機能を有する任意の材料を用いてよく、正孔輸送層１６の製造に用いることのできる任意の製造方法で形成されてよい。
【００５６】
＜発光層＞
発光層１７は、開口部１４ａ内に形成されている。発光層１７は、正孔と電子の再結合によりＲ、Ｇ、Ｂの各色の光を出射する機能を有する。発光層１７の材料としては、公知の材料を利用することができる。
発光層１７に含まれる有機発光材料としては、例えば、オキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物およびアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体およびピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、２−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質を用いることができる。また、トリス（２−フェニルピリジン）イリジウムなどの燐光を発光する金属錯体等の公知の燐光物質を用いることができる。また、発光層１７は、ポリフルオレンやその誘導体、ポリフェニレンやその誘導体、あるいはポリアリールアミンやその誘導体等の高分子化合物等、もしくは前記低分子化合物と前記高分子化合物の混合物を用いて形成されてもよい。
【００５７】
＜電子輸送層＞
電子輸送層１８は、複数の画素に共通して発光層１７および隔壁１４上に形成されており、対向電極２０から注入された電子を発光層１７へと輸送する機能を有する。電子輸送層１８は、例えば、オキサジアゾール誘導体（ＯＸＤ）、トリアゾール誘導体（ＴＡＺ）、フェナンスロリン誘導体（ＢＣＰ、Ｂｐｈｅｎ）などを用い形成されている。
【００５８】
＜電子注入層＞
電子注入層１９は、電子輸送層１８上に複数の画素に共通して設けられており、対向電極２０から発光層１７への電子の注入を促進させる機能を有する。
電子注入層１９は、例えば、電子輸送性を有する有機材料に、電子注入性を向上させる金属材料がドープされてなる。ここで、ドープとは、金属材料の金属原子または金属イオンを有機材料中に略均等に分散させることを指し、具体的には、有機材料と微量の金属材料を含む単一の相を形成することを指す。なお、それ以外の相、特に、金属片や金属膜など、金属材料のみからなる相、または、金属材料を主成分とする相は、存在していないことが好ましい。また、有機材料と微量の金属材料を含む単一の相において、金属原子または金属イオンの濃度は均一であることが好ましく、金属原子または金属イオンは凝集していないことが好ましい。金属材料としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、または、希土類金属から選択されることが好ましく、Ｂａ、Ｌｉ、Ｙｂがより好ましい。本実施の形態では、Ｂａが選択される。また、電子注入層１９における金属材料のドープ量は５〜４０ｗｔ％が好ましい。本実施の形態では、２０ｗｔ％である。電子輸送性を有する有機材料としては、例えば、オキサジアゾール誘導体（ＯＸＤ）、トリアゾール誘導体（ＴＡＺ）、フェナンスロリン誘導体（ＢＣＰ、Ｂｐｈｅｎ）などのπ電子系低分子有機材料が挙げられる。
【００５９】
なお、電子注入層１９は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属から選択される金属のフッ化物層を発光層１７側に有していてもよい。
＜対向電極＞
対向電極２０は、複数の画素に共通して電子注入層１９上に形成されており、陰極として機能する。
【００６０】
対向電極２０は、透光性と導電性とを兼ね備えており、金属材料で形成された金属層、金属酸化物で形成された金属酸化物層のうち少なくとも一方を含んでいる。透光性を確保するため、金属層の膜厚は１ｎｍ〜５０ｎｍ程度である。金属層の材料としては、例えば、Ａｇ、Ａｇを主成分とする銀合金、Ａｌ、Ａｌを主成分とするＡｌ合金が挙げられる。Ａｇ合金としては、マグネシウム−銀合金（ＭｇＡｇ）、インジウム−銀合金が挙げられる。Ａｇは、基本的に低抵抗率を有し、Ａｇ合金は、耐熱性、耐腐食性に優れ、長期にわたって良好な電気伝導性を維持できる点で好ましい。Ａｌ合金としては、マグネシウム−アルミニウム合金（ＭｇＡｌ）、リチウム−アルミニウム合金（ＬｉＡｌ）が挙げられる。その他の合金として、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金が挙げられる。金属酸化物層の材料としては、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）が挙げられる。
【００６１】
陰極は、金属層単独、または、金属酸化物層単独で構成してもよいが、金属層の上に金属酸化物層を積層した積層構造、あるいは金属酸化物層の上に金属層を積層した積層構造としてもよい。
＜封止層＞
対向電極２０の上には、封止層２１が設けられている。封止層２１は、基板１１の反対側から不純物（水、酸素）が対向電極２０、電子注入層１９、電子輸送層１８、発光層１７等へと侵入するのを防ぎ、不純物によるこれらの層の劣化を抑制する機能を有する。封止層２１は、窒化シリコン（ＳｉＮ）、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）などの透光性材料を用い形成される。また、窒化シリコン（ＳｉＮ）、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）などの材料を用い形成された層の上に、アクリル樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂材料からなる封止樹脂層を設けてもよい。
【００６２】
本実施の形態においては、有機ＥＬ表示パネル１００がトップエミッション型であるため、封止層２１は光透過性の材料で形成されることが必要となる。
＜その他＞
なお図９〜１１には示されないが、封止層２１の上に、封止樹脂を介してカラーフィルタや上部基板を貼り合せてもよい。上部基板を貼り合せることによって、正孔注入層１５、正孔輸送層１６、発光層１７、電子輸送層１８、電子注入層１９、対向電極２０を水分および空気などから保護できる。
【００６３】
＜まとめ＞
以上説明したように、本実施の形態に係る表示パネルの製造方法によれば、露光装置において、１回露光される部分と、２回露光される継ぎ目部分とで形成される隔壁の行方向の幅にムラがある場合に、ムラを解消するようにフォトマスクの開口幅を調整することで、形成される隔壁の行方向の幅ムラを抑止することができる。したがって、隔壁の行方向の幅のムラを抑止することができ、隔壁幅のムラや隔壁間隙の開口幅のムラに起因する機能層の膜厚ムラを抑止することができる。したがって、表示特性のムラを抑止することができ、均一性の高い表示パネルを製造することが可能となる。
【００６４】
３．有機ＥＬ表示装置の全体構成
図１４は、有機ＥＬ表示パネル１００を備えた有機ＥＬ表示装置１０００の構成を示す模式ブロック図である。図１４に示すように、有機ＥＬ表示装置１０００は、有機ＥＬ表示パネル１００と、これに接続された駆動制御部２００とを含む構成である。駆動制御部２００は、４つの駆動回路２１０〜２４０と、制御回路２５０とから構成されている。
【００６５】
なお、実際の有機ＥＬ表示装置１０００では、有機ＥＬ表示パネル１００に対する駆動制御部２００の配置については、これに限られない。
４．変形例
＜表示パネルの製造方法の変形例＞
実施の形態に係る表示パネルの製造方法では、１回露光される領域と２度露光される領域の継ぎ目とで、隔壁の行方向の幅が変化しないようにフォトマスクの開口の行方向の幅を制御する場合について説明した。
【００６６】
しかしながら、例えば、１回露光される領域と２度露光される領域の継ぎ目とで、形成される表示素子の表示特性が変化しないようにフォトマスクの開口の行方向の幅を制御する、としてもよい。
具体的には、フォトマスク３００の開口３１１において、１回露光される部分３１１ａと２度露光される部分３１１ｂとのそれぞれの行方向の幅を同一とし、これを用いて基板上に隔壁を形成して表示パネルを試作する。そして、１回露光される部分３１１ａに対応する隔壁の間隙に設けられた表示素子と、２回露光される部分３１１ｂに対応する隔壁の間隙に設けられた表示素子とのそれぞれの表示特性、例えば、輝度を測定する。そして、その表示特性の差を打ち消すように、フォトマスク３００の開口３１１において、１回露光される部分３１１ａと２度露光される部分３１１ｂとのそれぞれの行方向の幅を補正する。これにより、例えば、図１４の模式平面図に示すように、１回露光される部分３１１ａに対応する領域１０１ａ内の画素と、２回露光される部分３１１ｂに対応する領域１０１ｂ内の画素とで表示特性を揃え、ムラのない表示パネルを製造することができる。
５．補足
（１）上記実施の形態においては、表示パネルの例として塗布型の有機ＥＬ表示パネルについて説明したが、表示パネルは、例えば、蒸着型の有機ＥＬ表示パネルであってもよいし、他の自発光パネルであってもよい。また、表示パネルは自発光パネルに限られず、例えば、透過型ないし反射型の液晶表示パネルであってもよい。
【００６７】
（２）上記実施の形態においては、ネガ型の感光性材料を用いて隔壁を形成するとしたが、ポジ型の感光性材料を用いて隔壁を形成するとしてもよい。
また、上記実施の形態では、２回露光される部分においてフォトマスクにおける開口の行方向の幅を１回露光される部分より広くするとしたが、補正の方法はこの場合に限られない。例えば、行方向の幅が均一のフォトマスクを用いた際に２回露光される領域の隔壁の行方向の幅が１回露光される領域の隔壁の行方向の幅より大きい場合には、２回露光される部分においてフォトマスクにおける開口の行方向の幅を１回露光される部分より狭くすることで、同様の効果を得ることができる。
【００６８】
（３）上記実施の形態においては、フォトマスクの２回露光される部分における開口と、１回露光される部分における開口とで形成される隔壁の形状のずれを補正するために、２回露光される部分における開口と、１回露光される部分における開口とで行方向の幅を変更するとしたが、露光装置の露光ムラに起因する隔壁形状のずれを補正するために、上述の技術を用いてもよい。具体的には、フォトマスクを試作し、当該試作フォトマスクを用いて基板上に隔壁を試作した場合において、どの基板にも共通して同様の隔壁形状のムラ、位置ずれ等の形成不良、等が発生する場合には、当該ムラや形成不良を打ち消すようにフォトマスクを形成しなおすことにより、表示ムラを抑止することができる。
【００６９】
（４）以上、本開示に係るフォトマスク、フォトマスクの製造方法、および、表示パネルの製造方法について、実施の形態及び変形例に基づいて説明したが、本発明は、上記の実施の形態および変形例に限定されるものではない。上記実施の形態および変形例に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で実施の形態および変形例における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００７０】
本発明は、露光装置を用いて形成される隔壁を有する表示パネルにおいて、隔壁の形状を均一化することにより、均一性に優れた表示パネルを製造するのに有用である。
【符号の説明】
【００７１】
１０  露光システム
１００  表示パネル基板、有機ＥＬ表示パネル
１１０  基板台
２６０  投影ユニット
３００  フォトマスク
３１１  開口
３５０  フォトマスク台
４００  光源ユニット
４１０、４２０  光学ユニット
７００  マスク原型データ
１１  基板
１２  層間絶縁層
１３  画素電極
１４  隔壁
１４ｘ  副壁
１５  正孔注入層
１６  正孔輸送層
１７  発光層
１８  電子輸送層
１９  電子注入層
２０  対向電極
２１  封止層
１０００  有機ＥＬ表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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