(57)【要約】      （修正有）【課題】小型化及び不要波を抑制できる弾性波装置を提供する。【解決手段】弾性波装置１は、ＬｉＮｂＯ３からなる圧電基板２と、圧電基板２上に設けられたＩＤＴ電極３と、ＩＤＴ電極３を覆う第１の誘電体膜（酸化ケイ素）４とを備える。ＩＤＴ電極が、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ａｕ、Ｗ及びＴａの内からなる第１の金属膜で、圧電基板が、オイラー角（０°±５°，−９０°≦θ≦−７０°，０°±５°）であり、ＩＤＴ電極の電極指ピッチによる波長をλとして規格化された第１の金属膜の膜厚をｈｍ／λ（％）とした時に、第１の金属膜の金属及び膜厚ｈｍ／λ（％）が別途表１に示す何れかの組合せとなる。2020145737.tif 000030【選択図】図１
2020145737.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＬｉＮｂＯ３からなる圧電基板と、
前記圧電基板上に設けられているＩＤＴ電極と、
前記ＩＤＴ電極を覆うように、前記圧電基板上に設けられており、かつ酸化ケイ素からなる第１の誘電体膜と、
を備え、
前記ＩＤＴ電極が、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ａｕ、Ｗ及びＴａのうち１種の金属からなる第１の金属膜を有し、
前記圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）が、オイラー角（０°±５°，−９０°≦θ≦−７０°，０°±５°）であり、
前記ＩＤＴ電極の電極指ピッチにより規定される波長をλとし、前記波長λにより規格化された前記第１の金属膜の膜厚をｈｍ／λ（％）としたときに、前記第１の金属膜の金属及び前記膜厚ｈｍ／λ（％）が下記の表１に示すいずれかの組み合わせである、弾性波装置。
【表１】
2020145737.tif 000021
【請求項２】
ＬｉＮｂＯ３からなる圧電基板と、
前記圧電基板上に設けられているＩＤＴ電極と、
前記ＩＤＴ電極を覆うように、前記圧電基板上に設けられており、かつ酸化ケイ素からなる第１の誘電体膜と、
を備え、
前記ＩＤＴ電極が、Ｐｔ、Ｃｕ及びＭｏのうち１種の金属からなる第１の金属膜を有し、
前記圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）が、オイラー角（０°±５°，−９０°≦θ≦−２７．５°，０°±５°）であり、
前記ＩＤＴ電極の電極指ピッチにより規定される波長をλとし、前記波長λにより規格化された前記第１の金属膜の膜厚をｈｍ／λ（％）とし、前記波長λにより規格化された前記第１の誘電体膜の膜厚をｈｓ／λ（％）したときに、前記第１の金属膜の金属、前記膜厚ｈｍ／λ（％）、前記膜厚ｈｓ／λ（％）及び前記圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）におけるθが下記の表２〜表９に示すいずれかの組み合わせである、弾性波装置。
【表２】
2020145737.tif 000022
【表３】
2020145737.tif 000023
【表４】
2020145737.tif 000024
【表５】
2020145737.tif 000025
【表６】
2020145737.tif 000026
【表７】
2020145737.tif 000027
【表８】
2020145737.tif 000028
【表９】
2020145737.tif 000029
【請求項３】
前記圧電基板と前記ＩＤＴ電極との間に、誘電体からなる中間膜が設けられている、請求項１に記載の弾性波装置。
【請求項４】
前記ＩＤＴ電極が、前記第１の金属膜より導電率が高い第２の金属膜を有し、
前記ＩＤＴ電極において、前記圧電基板側を下層とし、前記圧電基板側とは反対側を上層としたときに、前記第１の金属膜が前記第２の金属膜より上層に積層されている、請求項１または３に記載の弾性波装置。
【請求項５】
前記第１の誘電体膜上に、第２の誘電体膜が設けられている、請求項１〜４のいずれか１項に記載の弾性波装置。
【請求項６】
ＳＨ波を利用している、請求項１〜５に記載の弾性波装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、弾性波装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、弾性波装置は、携帯電話機のフィルタなどに広く用いられている。下記の特許文献１には、弾性波装置の一例が開示されている。この弾性波装置は、ＬｉＮｂＯ３からなる圧電基板を有する。圧電基板上に、Ａｌより密度が高い金属を主体とするＩＤＴ電極が設けられている。圧電基板上に、ＩＤＴ電極上を覆うように、誘電体層が設けられている。特許文献１においては、ＩＤＴ電極の上記金属の膜厚及び圧電基板のオイラー角を所定の範囲内とすることにより、利用する弾性波の電気機械結合係数を大きくし、不要波の電気機械結合係数を小さくすることが図られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２９５９７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、弾性波装置のより一層の小型化が要求されている。しかしながら、特許文献１に記載の弾性波装置において、小型化を進めようとすると電極膜厚を厚くする必要があるが、一方で、膜厚を厚くすると不要波の比帯域が大きくなり、通過特性が悪化する。したがって、不要波を抑制して通過特性を維持しつつ小型化を達成することは困難であった。
【０００５】
本発明の目的は、小型化することができ、かつ不要波を抑制することができる、弾性波装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る弾性波装置のある広い局面では、ＬｉＮｂＯ３からなる圧電基板と、前記圧電基板上に設けられているＩＤＴ電極と、前記ＩＤＴ電極を覆うように、前記圧電基板上に設けられており、かつ酸化ケイ素からなる第１の誘電体膜とを備え、前記ＩＤＴ電極が、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ａｕ、Ｗ及びＴａのうち１種の金属からなる第１の金属膜を有し、前記圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）が、オイラー角（０°±５°，−９０°≦θ≦−７０°，０°±５°）であり、前記ＩＤＴ電極の電極指ピッチにより規定される波長をλとし、前記波長λにより規格化された前記第１の金属膜の膜厚をｈｍ／λ（％）としたときに、前記第１の金属膜の金属及び前記膜厚ｈｍ／λ（％）が下記の表１に示すいずれかの組み合わせである。
【０００７】
【表１】
2020145737.tif 000003
【０００８】
本発明の弾性波装置の他の広い局面では、ＬｉＮｂＯ３からなる圧電基板と、前記圧電基板上に設けられているＩＤＴ電極と、前記ＩＤＴ電極を覆うように、前記圧電基板上に設けられており、かつ酸化ケイ素からなる第１の誘電体膜とを備え、前記ＩＤＴ電極が、Ｐｔ、Ｃｕ及びＭｏのうち１種の金属からなる第１の金属膜を有し、前記圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）が、オイラー角（０°±５°，−９０°≦θ≦−２７．５°，０°±５°）であり、前記ＩＤＴ電極の電極指ピッチにより規定される波長をλとし、前記波長λにより規格化された前記第１の金属膜の膜厚をｈｍ／λ（％）とし、前記波長λにより規格化された前記第１の誘電体膜の膜厚をｈｓ／λ（％）したときに、前記第１の金属膜の金属、前記膜厚ｈｍ／λ（％）、前記膜厚ｈｓ／λ（％）及び前記圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）におけるθが下記の表２〜表９に示すいずれかの組み合わせである。
【０００９】
【表２】
2020145737.tif 000004
【００１０】
【表３】
2020145737.tif 000005
【００１１】
【表４】
2020145737.tif 000006
【００１２】
【表５】
2020145737.tif 000007
【００１３】
【表６】
2020145737.tif 000008
【００１４】
【表７】
2020145737.tif 000009
【００１５】
【表８】
2020145737.tif 000010
【００１６】
【表９】
2020145737.tif 000011
【００１７】
本発明の弾性波装置の他の特定の局面では、前記圧電基板と前記ＩＤＴ電極との間に、誘電体からなる中間膜が設けられている。この場合には、不要波を抑制しつつ、電気機械結合係数を調整することができる。これにより、弾性波装置の比帯域を調整することができる。
【００１８】
本発明の弾性波装置のさらに他の特定の局面では、前記ＩＤＴ電極が、前記第１の金属膜より導電率が高い第２の金属膜を有し、前記ＩＤＴ電極において、前記圧電基板側を下層とし、前記圧電基板側とは反対側を上層としたときに、前記第１の金属膜が前記第２の金属膜より上層に積層されている。この場合には、不要波の比帯域に対する第１の誘電体膜の膜厚の影響を、より一層小さくすることができる。
【００１９】
本発明の弾性波装置の別の特定の局面では、前記第１の誘電体膜上に、第２の誘電体膜が設けられている。この場合には、周波数の調整を容易に行うことができる。
【００２０】
本発明の弾性波装置のさらに別の特定の局面では、ＳＨ波を利用している。この場合には、本発明を特に好適に適用することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、小型化することができ、かつ不要波を抑制することができる、弾性波装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波装置の正面断面図である。
【図２】図２は、本発明の第１の実施形態におけるＩＤＴ電極の電極指の拡大正面断面図である。
【図３】図３は、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚と音速との関係を示す図である。
【図４】図４は、第１の比較例における、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図５】図５は、本発明の第１の実施形態及び第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚を異ならせた場合の、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図６】図６は、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚と音速との関係を示す図である。
【図７】図７は、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚と音速との関係を示す図である。
【図８】図８は、Ａｕからなる第１の金属膜の膜厚と音速との関係を示す図である。
【図９】図９は、Ｗからなる第１の金属膜の膜厚と音速との関係を示す図である。
【図１０】図１０は、Ｔａからなる第１の金属膜の膜厚と音速との関係を示す図である。
【図１１】図１１は、第１の比較例における、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図１２】図１２は、本発明の第１の実施形態及び第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚を異ならせた場合の、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図１３】図１３は、第１の比較例における、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図１４】図１４は、本発明の第１の実施形態及び第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚を異ならせた場合の、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図１５】図１５は、第１の比較例における、Ａｕからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図１６】図１６は、本発明の第１の実施形態及び第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚を異ならせた場合の、Ａｕからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図１７】図１７は、第１の比較例における、Ｗからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図１８】図１８は、本発明の第１の実施形態及び第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚を異ならせた場合の、Ｗからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図１９】図１９は、第１の比較例における、Ｔａからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図２０】図２０は、本発明の第１の実施形態及び第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚を異ならせた場合の、Ｔａからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図２１】図２１は、本発明の第１の実施形態の変形例に係る弾性波装置の正面断面図である。
【図２２】図２２は、本発明の第１の実施形態の変形例及び第２の比較例における、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図２３】図２３は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが２２．５％のときの、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図２４】図２４は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが２７．５％のときの、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図２５】図２５は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが３２．５％のときの、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図２６】図２６は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが３７．５％のときの、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図２７】図２７は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが４２．５％のときの、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図２８】図２８は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが４７．５％のときの、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図２９】図２９は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが５２．５％のときの、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図３０】図３０は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが５７．５％のときの、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図３１】図３１は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが６２．５％のときの、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図３２】図３２は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが３２．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図３３】図３３は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが３７．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図３４】図３４は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが４２．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図３５】図３５は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが４７．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図３６】図３６は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが５２．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図３７】図３７は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが５７．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図３８】図３８は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが６２．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図３９】図３９は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが６７．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図４０】図４０は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが７２．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図４１】図４１は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが７７．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図４２】図４２は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが８２．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図４３】図４３は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが８７．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図４４】図４４は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが９２．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図４５】図４５は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが３２．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図４６】図４６は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが３７．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図４７】図４７は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが４２．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図４８】図４８は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが４７．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図４９】図４９は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが５２．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図５０】図５０は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが５７．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図５１】図５１は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが６２．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図５２】図５２は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが６７．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図５３】図５３は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが７２．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図５４】図５４は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが７７．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図５５】図５５は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが８２．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図５６】図５６は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが８７．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【図５７】図５７は、本発明の第２の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが９２．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。
【００２４】
なお、本明細書に記載の各実施形態は、例示的なものであり、異なる実施形態間において、構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることを指摘しておく。
【００２５】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波装置の正面断面図である。図２は、第１の実施形態におけるＩＤＴ電極の電極指の拡大正面断面図である。
【００２６】
図１に示す弾性波装置１はＳＨ波を利用している弾性波装置であり、レイリー波を不要波としている。弾性波装置１は、ＬｉＮｂＯ３からなる圧電基板２を有する。圧電基板２のオイラー角（φ，θ，ψ）は、オイラー角（０°，−９０°≦θ≦−７０°，０°）である。
【００２７】
圧電基板２上には、ＩＤＴ電極３が設けられている。ＩＤＴ電極３は、複数の電極指３ａを有する。圧電基板２上には、ＩＤＴ電極３を覆うように、第１の誘電体膜４が設けられている。本実施形態では、第１の誘電体膜４は、ＳｉＯ２からなる。
【００２８】
なお、第１の誘電体膜４の材料には、ＳｉＯ２以外の酸化ケイ素を用いることもできる。上記酸化ケイ素は、ＳｉＯ２に限らず、ＳｉＯｘ（ｘは整数）で表される。
【００２９】
第１の誘電体膜４上には、第２の誘電体膜５が設けられている。本実施形態では、第２の誘電体膜５はＳｉＮからなる。第２の誘電体膜５を有することにより、周波数の調整を容易に行うことができる。なお、第２の誘電体膜５の材料は上記に限定されない。第２の誘電体膜５がＳｉＮ以外の材料からなる場合においても、例えば、弾性波装置１の耐湿性などを好適に高めることができる。もっとも、第２の誘電体膜５は、必ずしも設けられていなくともよい。
【００３０】
図２に示すように、本実施形態では、ＩＤＴ電極３は第１〜第５の電極層３ａ１〜３ａ５が積層された積層金属膜からなる。圧電基板２側から、第１〜第５の電極層３ａ１〜３ａ５がこの順序で積層されている。
【００３１】
ここで、第４の電極層３ａ４が、本発明における第１の金属膜である。ＩＤＴ電極３は、少なくとも第１の金属膜としての第４の電極層３ａ４を有していればよい。第１の金属膜は、ＩＤＴ電極３における主電極である。なお、本明細書において、主電極とは、弾性波の励振において支配的な電極層である。
【００３２】
図２に示す第１の電極層３ａ１はＮｉＣｒからなる。第１の電極層３ａ１は、ＩＤＴ電極３における密着層である。第１の電極層３ａ１を有することにより、ＩＤＴ電極３と圧電基板２との密着性を高めることができる。第２の電極層３ａ２はＡｌからなる。第２の電極層３ａ２は、上記第１の金属膜より導電性が高い、本発明における第２の金属膜である。第２の電極層３ａ２を有することにより、ＩＤＴ電極３の導電性を高めることができる。第３の電極層３ａ３はＴｉからなる。第３の電極層３ａ３は、ＩＤＴ電極３における拡散防止層である。第３の電極層３ａ３を有することにより、第２の電極層３ａ２と第４の電極層３ａ４との間における相互拡散が生じ難いため、ＩＤＴ電極３の電気的特性の劣化が生じ難い。
【００３３】
第４の電極層３ａ４は、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ａｕ、Ｗ及びＴａのうち１種の金属からなる。ここで、ＩＤＴ電極３の電極指ピッチにより規定される波長をλとする。このとき、
第４の電極層３ａ４の、波長λにより規格化された膜厚をｈｍ／λ（％）とする。このとき、第４の電極層３ａ４の金属の種類及び膜厚ｈｍ／λ（％）は、下記の表１０に示すいずれかの組み合わせである。すなわち、第４の電極層３ａ４がＰｔからなる場合、膜厚ｈｍ／λ（％）は６．５％以上、２５％以下である。第４の電極層３ａ４がＣｕからなる場合、膜厚ｈｍ／λ（％）は１３％以上、２５％以下である。第４の電極層３ａ４がＭｏからなる場合、膜厚ｈｍ／λ（％）は１５．５％以上、２５％以下である。第４の電極層３ａ４がＡｕからなる場合、膜厚ｈｍ／λ（％）は６．５％以上、２５％以下である。第４の電極層３ａ４がＷからなる場合、膜厚ｈｍ／λ（％）は７．５％以上、２５％以下である。第４の電極層３ａ４がＴａからなる場合、膜厚ｈｍ／λ（％）は７％以上、２５％以下である。
【００３４】
【表１０】
2020145737.tif 000012
【００３５】
第５の電極層３ａ５はＴｉからなる。第５の電極層３ａ５は保護層である。第５の電極層３ａ５を有することにより、ＩＤＴ電極３の耐湿性などを高めることができる。
【００３６】
本実施形態の特徴は以下の構成にある。１）圧電基板２のオイラー角（φ，θ，ψ）がオイラー角（０°，−９０°≦θ≦−７０°，０°）である。２）ＩＤＴ電極３の上記第１の金属膜の金属の種類及び膜厚ｈｍ／λ（％）が表１０に示すいずれかの組み合わせである。それによって、弾性波装置を小型化することができ、かつ不要波を抑制することができる。これを以下において説明する。なお、第１の金属膜がＰｔからなる場合を例として説明する。
【００３７】
図３は、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚と音速との関係を示す図である。図３において、菱形のプロットは音速を示し、正方形のプロットは基準音速からの比率を示す。なお、図３の右軸における基準音速とは、第１の金属膜の膜厚が３．５％である場合の音速である。
【００３８】
図３に示すように、第１の金属膜の膜厚が厚くなるほど、音速が低速となることがわかる。ここで、音速をＶ、周波数をｆとしたとき、Ｖ＝ｆλとなる。弾性波装置において用いる弾性波の周波数ｆを定数としたとき、第１の金属膜の膜厚が厚くなり、音速Ｖの値が小さくなると、波長λの値も小さくなる。よって、ＩＤＴ電極の電極指ピッチを小さくすることができる。第１の実施形態では、第１の金属膜がＰｔからなる場合、第１の金属膜の膜厚は６．５％以上であり、音速は低速となる。従って、電極指ピッチを小さくし、ＩＤＴ電極を小型化することができるため、弾性波装置を小型化することができる。
【００３９】
例えば、従来、第１の金属膜の膜厚として、３．５％程度の膜厚とされることがあった。図３に示すように、第１の金属膜の膜厚が３．５％である場合の音速である基準音速からの比率は、第１の金属膜の膜厚が６．５％のとき、０．８８である。よって、従来の弾性波装置と比較して、１２％以上の大幅な小型化を行うことができる。
【００４０】
なお、第１の実施形態では、第１の金属膜の膜厚は２５％以下である。これにより、生産性を高めることができる。
【００４１】
他方、ＩＤＴ電極における金属膜の膜厚を厚くすると、不要波の比帯域が大きくなることがある。これを、第１の比較例を用いて説明する。第１の比較例は、圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）がオイラー角（０°，−１０°，０°）である点で、第１の実施形態と異なる。下記の図４では、第１の金属膜がＰｔからなる場合の第１の比較例の結果を示す。
【００４２】
図４は、第１の比較例における、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。なお、図４に示す不要波はレイリー波である。後述する図５以降の図面においても同様である。
【００４３】
図４に示すように、第１の比較例においては、第１の金属膜の膜厚が約３．５％より厚くなると、不要波の比帯域は大きくなっている。
【００４４】
これに対して、第１の実施形態では、圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）はオイラー角（０°，−９０°≦θ≦−７０°，０°）である。これにより、不要波の比帯域を小さくすることができる。これを、下記の図５において、第１の実施形態と第２の比較例とを比較することにより説明する。第２の比較例は、第１の金属膜がＰｔからなる場合、第１の金属膜の膜厚は６．５％未満である点で第１の実施形態と異なる。図５に示す結果は、圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）をオイラー角（０°，−８５°，０°）とした場合の結果である。なお、下記においては、第１の誘電体膜の膜厚を異ならせた場合においても比較している。
【００４５】
図５は、第１の実施形態及び第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚を異ならせた場合の、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【００４６】
図５では、黒色の菱形のプロットは、第１の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚が２２．５％である場合の結果を示す。黒色の正方形のプロットは、第１の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚が２７．５％である場合の結果を示す。黒色の三角形のプロットは、第１の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚が３２．５％である場合の結果を示す。黒色の長方形のプロットは、第１の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚が３７．５％である場合の結果を示す。黒色の円形のプロットは、第１の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚が４２．５％である場合の結果を示す。白色の菱形のプロットは、第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚が２２．５％である場合の結果を示す。白色の正方形のプロットは、第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚が２７．５％である場合の結果を示す。白色の三角形のプロットは、第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚が３２．５％である場合の結果を示す。白色の長方形のプロットは、第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚が３７．５％である場合の結果を示す。白色の円形のプロットは、第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚が４２．５％である場合の結果を示す。
【００４７】
図５に示すように、第２の比較例では、第１の誘電体膜の膜厚を異ならせても、不要波の比帯域が大きいことがわかる。これに対して、第１の実施形態では、第１の誘電体膜の膜厚によらず、不要波の比帯域を効果的に小さくすることができている。
【００４８】
ところで、第２の比較例では、第１の金属膜の膜厚が薄いため、弾性波装置の大幅な小型化は困難である。図４に示した第１の比較例も同様に、弾性波装置の小型化は困難である。例えば、図３に示すように、第１の比較例において不要波が抑制される、第１の金属
膜の膜厚が３．５％程度である場合に比べ、第１の実施形態では１２％以上の大幅な小型化を行うことができる。このように、第１の実施形態においては、弾性波装置を小型化することができ、かつ不要波を抑制することができる。
【００４９】
第１の実施形態において、第１の金属膜がＰｔ以外の、Ｃｕ、Ｍｏ、Ａｕ、Ｗ及びＴａのうち１種の金属からなる場合について、以下において説明する。なお、下記の各第１の比較例は、図４に示した第１の比較例と、第１の金属膜以外は同様の構成を有する。下記の各第２の比較例は、図５に示した第２の比較例と、第１の金属膜以外は同様の構成を有する。
【００５０】
図６は、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚と音速との関係を示す図である。図６の右軸の基準音速は、第１の金属膜の膜厚が５％のときの音速である。図７は、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚と音速との関係を示す図である。図７の右軸の基準音速は、第１の金属膜の膜厚が６％のときの音速である。図８は、Ａｕからなる第１の金属膜の膜厚と音速との関係を示す図である。図８の右軸の基準音速は、第１の金属膜の膜厚が３．５％のときの音速である。図９は、Ｗからなる第１の金属膜の膜厚と音速との関係を示す図である。図９の右軸の基準音速は、第１の金属膜の膜厚が３．５％のときの音速である。図１０は、Ｔａからなる第１の金属膜の膜厚と音速との関係を示す図である。図１０の右軸の基準音速は、第１の金属膜の膜厚が４％のときの音速である。図６〜図１０において、菱形のプロットは音速を示し、正方形のプロットは基準音速からの比率を示す。
【００５１】
図６〜図１０に示すように、第１の金属膜がＣｕ、Ｍｏ、Ａｕ、Ｗ及びＴａのうち１種の金属からなる場合においても、第１の金属膜の膜厚が厚くなるほど音速が低速になっていることがわかる。よって、第１の金属膜がＰｔからなる場合と同様に、第１の金属膜の膜厚が厚いほど、弾性波装置を小型にすることができる。
【００５２】
図１１は、第１の比較例における、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。図１２は、第１の実施形態及び第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚を異ならせた場合の、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【００５３】
図１２では、黒色の菱形のプロットは、第１の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚が２２．５％である場合の結果を示す。黒色の正方形のプロットは、第１の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚が４２．５％である場合の結果を示す。黒色の三角形のプロットは、第１の実施形態において、第１の誘電体膜の膜厚が８２．５％である場合の結果を示す。白色の菱形のプロットは、第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚が２２．５％である場合の結果を示す。白色の正方形のプロットは、第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚が４２．５％である場合の結果を示す。白色の三角形のプロットは、第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚が８２．５％である場合の結果を示す。後述する図１４、図１６、図１８及び図２０においても同様である。
【００５４】
図１１に示すように、第１の比較例では、第１の金属膜の膜厚が約５％より厚くなると、不要波の比帯域が大きくなっている。そのため、第１の比較例では、弾性波装置の小型化と不要波の抑制との両立は困難である。これに対して、第１の実施形態では、第１の金属膜の膜厚が１３％以上であるため、大幅に小型化することができる。
【００５５】
さらに、図１２に示すように、第１の実施形態においては、不要波の比帯域を小さくすることができている。他方、第２の比較例では、不要波の比帯域を小さくする場合、第１の金属膜の膜厚を約６％以下とする必要があり、弾性波装置を小型化することは困難である。このように、第１の実施形態においては、第１の金属膜がＣｕからなる場合において
も、弾性波装置を小型化することができ、かつ不要波を抑制することができる。
【００５６】
図１３は、第１の比較例における、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。図１４は、第１の実施形態及び第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚を異ならせた場合の、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【００５７】
図１３に示すように、第１の比較例では、第１の金属膜の膜厚が約６％より厚くなると、不要波の比帯域が大きくなっている。そのため、第１の比較例では、弾性波装置の小型化と不要波の抑制との両立は困難である。これに対して、第１の実施形態では、第１の金属膜の膜厚が１５．５％以上であるため、大幅に小型化することができる。
【００５８】
さらに、図１４に示すように、第１の実施形態においては、不要波の比帯域を小さくすることができている。他方、第２の比較例では、不要波の比帯域を小さくする場合、第１の金属膜の膜厚を約５．５％以下とする必要があり、弾性波装置を小型化することは困難である。このように、第１の実施形態においては、第１の金属膜がＭｏからなる場合においても、弾性波装置を小型化することができ、かつ不要波を抑制することができる。
【００５９】
図１５は、第１の比較例における、Ａｕからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。図１６は、第１の実施形態及び第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚を異ならせた場合の、Ａｕからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【００６０】
図１５に示すように、第１の比較例では、第１の金属膜の膜厚が約３．５％より厚くなると、不要波の比帯域が大きくなっている。そのため、第１の比較例では、弾性波装置の小型化と不要波の抑制との両立は困難である。これに対して、第１の実施形態では、第１の金属膜の膜厚が６．５％以上であるため、大幅に小型化することができる。
【００６１】
さらに、図１６に示すように、第１の実施形態においては、第２の比較例に比べ、不要波の比帯域を小さくすることができている。このように、第１の実施形態においては、第１の金属膜がＡｕからなる場合においても、弾性波装置を小型化することができ、かつ不要波を抑制することができる。
【００６２】
図１７は、第１の比較例における、Ｗからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。図１８は、第１の実施形態及び第２の比較例において、第１の誘電体膜の膜厚を異ならせた場合の、Ｗからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【００６３】
図１７に示すように、第１の比較例では、第１の金属膜の膜厚が約３．５％より厚くなると、不要波の比帯域が大きくなっている。そのため、第１の比較例では、弾性波装置の小型化と不要波の抑制との両立は困難である。これに対して、第１の実施形態では、第１の金属膜の膜厚が７．５％以上であるため、大幅に小型化することができる。
【００６４】
さらに、図１８に示すように、第１の実施形態においては、第２の比較例に比べ、不要波の比帯域を小さくすることができている。このように、第１の実施形態においては、第１の金属膜がＷからなる場合においても、弾性波装置を小型化することができ、かつ不要波を抑制することができる。
【００６５】
図１９は、第１の比較例における、Ｔａからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。図２０は、第１の実施形態及び第２の比較例において、第１の
誘電体膜の膜厚を異ならせた場合の、Ｔａからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。
【００６６】
図１９に示すように、第１の比較例では、第１の金属膜の膜厚が約４％より厚くなると、不要波の比帯域が大きくなっている。そのため、第１の比較例では、弾性波装置の小型化と不要波の抑制との両立は困難である。これに対して、第１の実施形態では、第１の金属膜の膜厚が７％以上であるため、大幅に小型化することができる。
【００６７】
さらに、図２０に示すように、第１の実施形態においては、第２の比較例に比べ、不要波の比帯域を小さくすることができている。このように、第１の実施形態においては、第１の金属膜がＴａからなる場合においても、弾性波装置を小型化することができ、かつ不要波を抑制することができる。
【００６８】
以上のように、第１の実施形態において、第１の金属膜がＰｔ以外の、Ｃｕ、Ｍｏ、Ａｕ、Ｗ及びＴａのうち１種の金属からなる場合においても、第１の金属膜がＰｔからなる場合と同様に弾性波装置を小型化することができ、かつ不要波を抑制することができる。
【００６９】
さらに、第１の金属膜がＰｔ以外の、Ｃｕ、Ｍｏ、Ａｕ、Ｗ及びＴａのうち１種の金属からなる場合においても、第１の金属膜の膜厚は２５％以下であるため、生産性を高めることができる。
【００７０】
なお、圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）がオイラー角（０°±５°，θ，０°±５°）の場合においても、上記と同様の効果を得ることができる。本明細書において、０°±５°とは、０°±５°の範囲内であることを示す。
【００７１】
図２１は、第１の実施形態の変形例に係る弾性波装置の正面断面図である。
【００７２】
第１の実施形態の変形例の弾性波装置においては、圧電基板２とＩＤＴ電極３との間に、誘電体からなる中間膜１６が設けられている。本変形例においては、中間膜１６の膜厚は１０ｎｍである。なお、中間膜１６の膜厚は上記に限定されない。
【００７３】
図２２は、第１の実施形態の変形例及び第２の比較例における、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚と不要波の比帯域との関係を示す図である。図２２において、黒色の菱形のプロットは第１の実施形態の変形例の結果を示し、白色の菱形のプロットは第２の比較例の結果を示す。
【００７４】
図２２に示すように、第１の実施形態の変形例においても、不要波を抑制することができている。本変形例では、中間膜１６を有することにより、不要波を抑制しつつ、電気機械結合係数を調整することができる。これにより、弾性波装置の比帯域を調整することもできる。
【００７５】
ここで、ＩＤＴ電極３において、圧電基板２側を下層とし、圧電基板２側とは反対側を上層とする。図２に戻り、第１の実施形態のように、第１の金属膜としての第４の電極層３ａ４は、上記第２の金属膜としての第１の電極層３ａ１より上層に積層されていることが好ましい。それによって、不要波の比帯域に対する第１の誘電体膜４の膜厚の影響を、より一層小さくすることができる。
【００７６】
以下において、本発明の第２の実施形態について説明する。
【００７７】
第２の実施形態に係る弾性波装置は、圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）、ＩＤＴ電
極における第１の金属膜の金属の種類及び膜厚並びに第１の誘電体膜の膜厚の組み合わせが第１の実施形態と異なる。上記の点以外では、第２の実施形態の弾性波装置は、図１に示した第１の実施形態の弾性波装置１と同様の構成を有する。
【００７８】
より具体的には、本実施形態では、圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）はオイラー角（０°，−９０°≦θ≦−２７．５°，０°）である。ＩＤＴ電極の第１の金属膜は、Ｐｔ、Ｃｕ及びＭｏのうち１種の金属からなる。
【００７９】
ここで、波長λにより規格化された第１の誘電体膜の膜厚をｈｓ／λ（％）とする。このとき、第１の金属膜の金属の種類及び膜厚ｈｍ／λ（％）、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λ（％）並びに圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）におけるθは、下記の表１１〜表１８に示すいずれかの組み合わせである。
【００８０】
上記の第１の実施形態では、不要波の比帯域に対する第１の誘電体の膜厚の影響が小さい。本実施形態では、第１の金属膜の膜厚及び圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）が、第１の実施形態における範囲以外の範囲を含むが、第１の誘電体膜の膜厚を下記の表１１〜表１８の範囲としている。それによって、弾性波装置を小型化することができ、かつ不要波を低減することができる。
【００８１】
【表１１】
2020145737.tif 000013
【００８２】
【表１２】
2020145737.tif 000014
【００８３】
【表１３】
2020145737.tif 000015
【００８４】
【表１４】
2020145737.tif 000016
【００８５】
【表１５】
2020145737.tif 000017
【００８６】
【表１６】
2020145737.tif 000018
【００８７】
【表１７】
2020145737.tif 000019
【００８８】
【表１８】
2020145737.tif 000020
【００８９】
図３、図６及び図７に示したように、第１の金属膜の膜厚が厚くなるほど、音速は低速となる。本実施形態では、第１の金属膜の膜厚が表１１〜表１８の範囲であるため、第１の実施形態と同様に、弾性波装置をより一層小型化することができる。
【００９０】
下記の図２３〜図５７により、本実施形態において不要波を効果的に低減することができることを具体的に示す。
【００９１】
図２３は、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが２２．５％のときの、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。同様に、図２４〜図３１は、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが２７．５％〜６２．５％のときの、Ｐｔからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【００９２】
図２３〜図３１に示すように、本実施形態において、第１の金属膜がＰｔからなる場合において、不要波の比帯域を０．１％以下とすることができている。このように、不要波を効果的に抑制することができる。
【００９３】
図３２は、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが３２．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。同様に、図３３〜図４４は、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが３７．５％〜９２．５％のときの、Ｃｕからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【００９４】
図３２〜図４４に示すように、本実施形態において、第１の金属膜がＣｕからなる場合においても、不要波の比帯域を０．１％以下とすることができている。このように、不要波を効果的に抑制することができる。
【００９５】
図４５は、第１の誘電体膜の膜厚が３２．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。同様に、図４６〜図５７は、第１の誘電体膜の膜厚ｈｓ／λが３７．５％〜９２．５％のときの、Ｍｏからなる第１の金属膜の膜厚及びオイラー角（０°，θ，０°）におけるθと、不要波の比帯域との関係を示す図である。
【００９６】
図４５〜図５７に示すように、本実施形態において、第１の金属膜がＭｏからなる場合においても、不要波の比帯域を０．１％以下とすることができている。このように、不要波を効果的に抑制することができる。
【００９７】
なお、圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）がオイラー角（０°±５°，θ，０°±５°）の場合においても、上記と同様の効果を得ることができる。
【符号の説明】
【００９８】
１…弾性波装置
２…圧電基板
３…ＩＤＴ電極
３ａ…電極指
３ａ１〜３ａ５…第１〜第５の電極層
４，５…第１，第２の誘電体膜
１６…中間膜
【図１】
2020145737.tif 000031
【図２】
2020145737.tif 000032
【図３】
2020145737.tif 000033
【図４】
2020145737.tif 000034
【図５】
2020145737.tif 000035
【図６】
2020145737.tif 000036
【図７】
2020145737.tif 000037
【図８】
2020145737.tif 000038
【図９】
2020145737.tif 000039
【図１０】
2020145737.tif 000040
【図１１】
2020145737.tif 000041
【図１２】
2020145737.tif 000042
【図１３】
2020145737.tif 000043
【図１４】
2020145737.tif 000044
【図１５】
2020145737.tif 000045
【図１６】
2020145737.tif 000046
【図１７】
2020145737.tif 000047
【図１８】
2020145737.tif 000048
【図１９】
2020145737.tif 000049
【図２０】
2020145737.tif 000050
【図２１】
2020145737.tif 000051
【図２２】
2020145737.tif 000052
【図２３】
2020145737.tif 000053
【図２４】
2020145737.tif 000054
【図２５】
2020145737.tif 000055
【図２６】
2020145737.tif 000056
【図２７】
2020145737.tif 000057
【図２８】
2020145737.tif 000058
【図２９】
2020145737.tif 000059
【図３０】
2020145737.tif 000060
【図３１】
2020145737.tif 000061
【図３２】
2020145737.tif 000062
【図３３】
2020145737.tif 000063
【図３４】
2020145737.tif 000064
【図３５】
2020145737.tif 000065
【図３６】
2020145737.tif 000066
【図３７】
2020145737.tif 000067
【図３８】
2020145737.tif 000068
【図３９】
2020145737.tif 000069
【図４０】
2020145737.tif 000070
【図４１】
2020145737.tif 000071
【図４２】
2020145737.tif 000072
【図４３】
2020145737.tif 000073
【図４４】
2020145737.tif 000074
【図４５】
2020145737.tif 000075
【図４６】
2020145737.tif 000076
【図４７】
2020145737.tif 000077
【図４８】
2020145737.tif 000078
【図４９】
2020145737.tif 000079
【図５０】
2020145737.tif 000080
【図５１】
2020145737.tif 000081
【図５２】
2020145737.tif 000082
【図５３】
2020145737.tif 000083
【図５４】
2020145737.tif 000084
【図５５】
2020145737.tif 000085
【図５６】
2020145737.tif 000086
【図５７】
2020145737.tif 000087
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月27日(2020.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＬｉＮｂＯ３からなる圧電基板と、
前記圧電基板上に設けられているＩＤＴ電極と、
前記ＩＤＴ電極を覆うように、前記圧電基板上に設けられており、かつ酸化ケイ素からなる第１の誘電体膜と、
を備え、
前記ＩＤＴ電極が、Ｐｔ、Ｃｕ及びＭｏのうち１種の金属からなる第１の金属膜を有し、
前記圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）が、オイラー角（０°±５°，−９０°≦θ≦−２７．５°，０°±５°）であり、
前記ＩＤＴ電極の電極指ピッチにより規定される波長をλとし、前記波長λにより規格化された前記第１の金属膜の膜厚をｈｍ／λ（％）とし、前記波長λにより規格化された前記第１の誘電体膜の膜厚をｈｓ／λ（％）としたときに、前記第１の金属膜の金属、前記膜厚ｈｍ／λ（％）、前記膜厚ｈｓ／λ（％）及び前記圧電基板のオイラー角（φ，θ，ψ）におけるθが下記の表１〜表８に示すいずれかの組み合わせである、弾性波装置。
【表１】
2020145737.tif 000088
【表２】
2020145737.tif 000089
【表３】
2020145737.tif 000090
【表４】
2020145737.tif 000091
【表５】
2020145737.tif 000092
【表６】
2020145737.tif 000093
【表７】
2020145737.tif 000094
【表８】
2020145737.tif 000095
【請求項２】
前記第１の誘電体膜上に、第２の誘電体膜が設けられている、請求項１に記載の弾性波装置。
【請求項３】
ＳＨ波を利用している、請求項１または２に記載の弾性波装置。