(57)【要約】【課題】本発明は、表示装置、照明装置等の用途に適用可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の封止材料として有用な硬化性組成物に関し、封止材としての硬化性能を維持しながらも、屈折率が高く、塗布性、透明性に優れた硬化性組成物を提供することを目的とする。さらに、低粘度で、得られる硬化膜がエッチング耐性に優れるインプリント材料としても好適な硬化性組成物を提供することを目的とする。【解決手段】上記課題を解決するためになされた発明は、（Ａ）下記式（１）で示される化合物、（Ｂ）重合開始剤含む硬化性組成物であって、硬化性組成物の１００質量部に対して、（Ａ）成分が２０質量部から９９質量部の範囲で含む硬化性組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記式（１）で示される化合物
（Ｂ）重合開始剤
含む硬化性組成物であって、
硬化性組成物の１００質量部に対して、（Ａ）成分が２０質量部から９９質量部の範囲で含む硬化性組成物。
【化１】
2020026515.tif 000018
（上記式（１）中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基もしくはフェニル基を示す。ｎは２または３の整数であり、ｍは、０≦ｍ≦８−ｎの関係を示す整数である。Ｙは単結合もしくは硫黄原子である。）
【請求項２】
請求項１記載の硬化性組成物の粘度が、２５℃で３から３０ｍＰａ．ｓの範囲にある硬化性組成物。
【請求項３】
さらに、（Ｃ）成分として、（Ａ）成分以外の重合性化合物を含む請求項１又は請求項２のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項４】
前記（Ｃ）成分が、ビニルスルフィド誘導体、（メタ）アクリレート誘導体ビニルスルホキシド誘導体もしくはビニルスルホン誘導体である請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項５】
さらに、（Ｄ）成分として、粒径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の粒子を含む請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項６】
前記粒子が、金属酸化物粒子または中空粒子から選ばれる少なくとも一種である請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項７】
請求項１〜６に記載の有機ＥＬ素子の封止膜形成に用いる硬化性組成物。
【請求項８】
請求項１〜６に記載のインプリント用組成物。
【請求項９】
下記式（２）で示される化合物
2020026515.tif 000019
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置、照明装置等の用途に適用可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の封止材料およびインプリント材料として有用な硬化性組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
対象物を硬化物により保護する等の目的で、硬化物を形成するための硬化性組成物として、現在までに種々の硬化性材料が提案されている。例えば、近年開発が進められている電子デバイス用素子の一つとして、陽極、有機発光層および陰極からなる積層構造を有する有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子が知られている。
【０００３】
しかしながら、有機発光層に含まれる発光材料は水分および酸素により劣化しやすいため、有機ＥＬ素子の封止を行う必要がある。そこで、有機発光層を保護するため、硬化性組成物を用いた素子封止が知られている（特許文献１）。また、有機ＥＬ素子は、その発光が素子内で起こるため、その光の取り出しには様々な方法がとられており、一般的には発光層から最外層までの各層の屈折率を調整することにより、光の取り出し効率を上げる工夫がなされている（特許文献２）
有機ＥＬ素子の封止において、素子へのダメージを低減するため、焼成レス、溶剤レスの硬化組成物が望まれており、光硬化性が望ましいとされている（特許文献３）。また、省液化の観点からインクジェット塗布法が普及しつつあり、インクジェット塗布適性として低粘度の硬化組成物が望まれている。
【０００４】
しかしながら特許文献３に記載の硬化物は、光硬化できるものの粘度が高いためインクジェット塗布に適さない不具合がある。
【０００５】
以上のように、光硬化性があり、無溶剤で低粘度、そして高屈折率の硬化性組成物が有機ＥＬ素子の封止素材として求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１４−２２５３８０号公報
【特許文献２】特許５３９５６７７号公報
【特許文献３】特許５４７９２４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、上記の有機ＥＬ素子の信頼性を向上し、インクジェット塗布性および透明電極等の無機膜の亀裂（クラック）発生を低減させ、無溶剤で低粘度であり、得られる硬化膜が高屈折率である硬化性組成物を提供することにある。また、低粘度で、得られる硬化膜がエッチング耐性に優れるインプリント材料としても好適な硬化性組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、以下の構成を有する硬化性組成物により上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成した。
本発明は、
（１）（Ａ）下記式（１）で示される化合物、（Ｂ）重合開始剤を含む硬化性組成物であって、硬化性組成物の１００質量部に対して、（Ａ）成分が２０質量部から９９質量部の範囲で含む硬化性組成物によって達成される。
【０００９】
【化１】
2020026515.tif 000002
【００１０】
上記式（１）中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基もしくはフェニル基を示す。ｎは２または３の整数であり、ｍは、０≦ｍ≦８−ｎの関係を示す整数である。Ｙは単結合もしくは硫黄原子である。
（２）さらに、（１）記載の硬化性組成物の粘度が、２５℃で３から３０ｍＰａ．ｓの範囲にある硬化性組成物によって達成される。
（３）さらに、（Ｃ）成分として、（Ａ）成分以外の重合性化合物を含む（１）又は（２）のいずれかに記載の硬化性組成物によって達成される。
（４）前記（Ｃ）成分が、ビニルスルフィド誘導体、（メタ）アクリレート誘導体ビニルスルホキシド誘導体もしくはビニルスルホン誘導体である（１）から（３）のいずれかに記載の硬化性組成物によって達成される。
（５）さらに、（Ｄ）成分として、粒径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の粒子を含む（１）から（４）のいずれかに記載の硬化性組成物
によって達成される。
（６）前記粒子が、金属酸化物粒子または中空粒子から選ばれる少なくとも一種を含む硬化性組成物によって達成される。
（７）（１）〜（６）に記載の有機ＥＬ素子の封止膜形成に用いる硬化性組成物によって達成される。
（８）（１）〜（６）に記載のインプリント用組成物によって達成される。
（９）下記式（２）で示される化合物によって達成される。
【００１１】
【化２】
2020026515.tif 000003
【発明の効果】
【００１２】
さらに本発明によれば、インクジェット塗布における基板上での濡れ広がり性に優れ、塗布ムラが少なく、透明電極等の無機膜の亀裂（クラック）発生が低く、かつ硬化後にアウトガスの発生が少ない硬化性組成物を提供することができる。そして封止性能を維持しながらも、硬化膜が高屈折率であることによって光取り出し効率を向上させることができる。また、このような特性を利用し、硬化性、屈折率、エッチング耐性に優れ、光学部品の製造に用いるインプリント用材料としても好適に用いることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の硬化性祖組成物は、（Ａ）式（１）で示される化合物、（Ｂ）重合開始剤を含む硬化性組成物であって、硬化性組成物の１００質量部に対して、（Ａ）成分が２０質量部から９９質量部の範囲で含む硬化性組成物である。以下にその詳細を説明する。
＜（Ａ）化合物＞
本発明の（Ａ）化合物は、下記式（１）で示される１分子中に２以上のビニル基を有するナフタレン化合物である。ビニル基が直接ナフタレンのベンゼン環と直接結合した構造を有する化合物である。
【００１４】
【化３】
2020026515.tif 000004
【００１５】
上記式（１）中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基もしくはフェニル基を示す。ｎは２または３の整数であり、ｍは、０≦ｍ≦８−ｎの関係を示す整数である。
本発明のビニル基は、ベンゼン環と直接結合している。ビニル基を有する芳香族炭化水素基は、一分子中に少なくとも一つ存在し二つ以上であることが好ましい。
【００１６】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ-ブチル基、ｎ−ペンピル基、ｎ−ヘキシル基などである。炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ-ブトキシ基などである。
【００１７】
（Ａ）化合物の具体例としては、１，３−ジビニルナフタレン、１，４−ジビニルナフタレン、１，５−ジビニルナフタレン、１、６−ジビニルナフタレン、１、７−ジビニルナフタレン、２、３−ジビニルナフタレン、２、６−ジビニルナフタレン、２、７−ジビニルナフタレン、１，２，４−トリビニルナフタレン、１，２，６−トリビニルナフタレン、１，３，６−トリビニルナフタレン、１，３−ジビニル−６−メトキシ−ナフタレン、１，３−ジビニル−６−メチル−ナフタレン、１，３−ジビニル−６−クロロ−ナフタレン、１，２−ジビニル−６−エトキシ−ナフタレン、１−ビニル−５−メトキシ−ナフタレン、１−ビニルナフタレン、２−ビニルナフタレン等が挙げられる．
また、式（１）中のＹが硫黄原子である場合は、下記式で示される（ＶＳ−１）、（ＶＳ−２）を挙げることができる。
【００１８】
【化４】
2020026515.tif 000005
【００１９】
これらのうち、１，３−ジビニルナフタレン、１，４−ジビニルナフタレン、１，６−ジビニルナフタレン、１，８−ジビニルナフタレン、２、３−ジビニルナフタレン、１，２，４−トリビニルナフタレン、１，２，６−トリビニルナフタレン、１−ビニル−５−メトキシ−ナフタレン、１−ビニルナフタレン、２−ビニルナフタレンが好ましい。
これらのビニルナフタレン類は
第一段階：トリフレートもしくは臭素等のハロゲンに変換する工程、
第二段階：トリフレートもしくはハロゲンとビニル化合物をカップリング工程、によりジビニルナフタレンを合成できる。
ナフタレンのフェノール基のトリフレート化は無水トリフルオロスルホン酸を作用させて合成することができる。また、臭素化は三臭化リンを水酸基に作用させて合成することができ、あるいはアミン化合物を出発化合物として臭素により臭素化することもできる。
第二段階のカップリングはパラジウム触媒を用い、ビニルトリブチル錫をカップリングさせる方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９９３年、５８巻、７３８８〜７８９２ページ（Ｔａｋｅｕｃｈｉ、ｅｔａｌ．）に参照）、パラジウム触媒を用いビニルホウ酸エステルをカップリングさせる方法。パラジウム触媒を用いビニルマグネシウムクロリドをカップリングさせる方法、ビニルトリアルコキシシランをヒヤマカップリングさせる方法等を挙げることができる。これらのうち特に、ビニルトリブチル錫もしくはビニルホウ酸エステルをカップリングさせる方法が好ましい。
【００２０】
【化５】
2020026515.tif 000006
【００２１】
上記式（ＶＳ−１）、（ＶＳ−２）で示されるビニルスルフィド類は、例えばチオールに１，２−ジブロモエタンを反応させてチオエーテルを合成した後、水酸化カリウムにより臭素化水素を取り除くことで得ることができる。
【００２２】
【化６】
2020026515.tif 000007
【００２３】
これら（Ａ）化合物の使用量は、硬化性組成物の１００質量部に対して、２０質量部から９９質量部の範囲で使用することが好ましく、特に好ましくは５０質量部から９０質量部の範囲で使用することが硬化性組成物の粘度と揮発性の観点から好ましい。
＜（Ｂ）重合開始剤＞
本発明で好ましく使用される重合開始剤は光開始剤が好ましく、光ラジカル開始剤、酸発生剤が挙げられる。  本発明の（Ｂ）重合開始剤は、硬化性組成物の１〜１０質量％含有される。
【００２４】
光ラジカル開始剤としては、例えば、Ｏ−アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物などを挙げることができる。
【００２５】
上記Ｏ−アシルオキシム化合物の具体例としては、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）またはエタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）を好ましいものとして挙げることができる。
【００２６】
これらＯ−アシルオキシム化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００２７】
上記アセトフェノン化合物としては、例えばα−アミノケトン化合物、α−ヒドロキシケトン化合物およびその他のアセトフェノン化合物を挙げることができる。
【００２８】
これらの具体例としては、α−アミノケトン化合物として、例えば２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンなど；
α−ヒドロキシケトン化合物として、α−アミノケトン化合物が好ましく、特に２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オンまたは２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オンが好ましい。
【００２９】
上記ビイミダゾール化合物の具体例としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールまたは２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましく、特に２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましい。
酸発生剤としては、光酸発生剤及び熱酸発生剤が挙げられる。光酸発生剤であっても、加熱により酸を発生する場合は、熱酸発生剤とすることができる。
【００３０】
酸発生剤としては、イオン性の化合物と非イオン性の化合物とがあるが、非イオン性の化合物が好ましい。非イオン性の発生剤を用いることで、得られる硬化膜の光透過性を高めることなどができる。
【００３１】
光酸発生剤とは、光又はその他の放射線の照射によって酸を発生する化合物をいう。放射線としては、例えば紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等が挙げられる。光酸発生剤を用いることで、当該感放射線性樹脂組成物においては、放射線の照射により、通常（Ａ）成分のカチオン重合が生じる。光酸発生剤としては、オキシムスルホネート化合物、スルホンイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物、オニウム塩等を挙げることができる。これらの中では、オキシムスルホネート化合物、スルホンイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物及びカルボン酸エステル化合物が非イオン性の化合物である。一方、オニウム塩がイオン性の化合物である。
【００３２】
上記オキシムスルホネート化合物としては、下記式（４）で表されるオキシムスルホネート基を含有する化合物が好ましい。
【００３３】
【化７】
2020026515.tif 000008
【００３４】
式（４）中、ＲＢ１は、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これらの基の水素原子の一部又は全部が置換基で置換されていてもよい。
【００３５】
ＲＢ１のアルキル基としては、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。ＲＢ１のアルキル基は、炭素数１〜１０のアルコキシ基又は脂環式基（７，７−ジメチル−２−オキソノルボルニル基等の有橋式脂環式基を含む、好ましくはビシクロアルキル基等）で置換されていてもよい。ＲＢ１のアリール基としては、炭素数６〜１１のアリール基が好ましく、フェニル基及びナフチル基がさらに好ましい。ＲＢ１のアリール基は、炭素数１〜５のアルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されてもよい。
【００３６】
上記式（４）で表されるオキシムスルホネート基を含有する上記化合物は、下記式（５）で表されるオキシムスルホネート化合物であることがさらに好ましい。
【００３７】
【化８】
2020026515.tif 000009
【００３８】
式（５）において、ＲＢ１は、式（４）におけるＲＢ１の説明と同義である。Ｘは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子である。ｍは０〜３の整数である。ｍが２又は３であるとき、複数のＸは同一でも異なっていてもよい。Ｘとしてのアルキル基は、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分岐状アルキル基が好ましい。
【００３９】
Ｘとしてのアルコキシ基としては、炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状アルコキシ基が好ましい。Ｘとしてのハロゲン原子は、塩素原子又はフッ素原子が好ましい。ｍは０又は１が好ましい。特に、式（５）において、ｍが１、Ｘがメチル基であり、Ｘの置換位置がオルトである化合物が好ましい。
【００４０】
オキシムスルホネート化合物の具体例としては、例えば、下記式（５−ｉ）〜（５−ｖ）でそれぞれ表される化合物（５−ｉ）、化合物（５−ｉｉ）、化合物（５−ｉｉｉ）、化合物（５−ｉｖ）及び化合物（５−ｖ）等が挙げられる。
【００４１】
【化９】
2020026515.tif 000010
【００４２】
これらは単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができ、他の［Ｂ］発生剤と組み合わせて使用することもできる。上記化合物（５−ｉ）［（５−プロピルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル］、化合物（５−ｉｉ）［（５Ｈ−オクチルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル］、化合物（５−ｉｉｉ）［（カンファースルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル］、化合物（５−ｉｖ）［（５−ｐ−トルエンスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル］及び化合物（５−ｖ）［（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ）−（４−メトキシフェニル）アセトニトリル］は、市販品として入手出来る。
【００４３】
スルホンイミド化合物としては、例えばＮ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−フルオロフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド等を挙げることができる。
【００４４】
オニウム塩としては、ジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、テトラヒドロチオフェニウム塩等を挙げることができる。ジフェニルヨードニウム塩としては、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート挙げることができる。トリフェニルスルホニウム塩としては、例えばトリフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウム カンファースルホン酸トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウム  ヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート等を挙げることができる。
【００４５】
これらの酸発生剤の中でも、非イオン性の酸発生剤が好ましく、オキシムスルホネート化合物及びスルホンイミド化合物がより好ましい。
また酸発生の具体例であっても、光照査せず、加熱することによる熱酸発生剤としても使用することができる
＜（Ｃ）（Ａ）成分以外の重合性化合物＞
本発明では、（Ｃ）成分として、（Ａ）成分以外の重合性化合物を用いることができる。重合性化合物に含まれる重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、ビニル基が挙げられる。これらのうち、ラジカル重合性の観点から、（メタ）アクリロイル基またはビニル基を有する重合性化合物が好ましい。
（Ｃ）成分を含むことで、得られる硬化膜の硬度を増加することが可能であり、硬化膜の基板への密着性を向上させることができる。
【００４６】
このような（Ｃ）成分の具体例として、以下に示す化合物を挙げることができる。
（Ｃ）成分としては、例えば、単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリル酸エステルが、重合性が良好であり、且つ形成される硬化膜の強度が向上する点から好ましい。また、ビニルスルフィド誘導体、（メタ）アクリレート誘導体ビニルスルホキシド誘導体もしくはビニルスルホン誘導体でビニル基を有する化合物を使用することも可能である。これらの化合物は、感度向上や硬化性組成物の保存安定性を良好に保つことができる点において好ましい。
【００４７】
上記単官能（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）（２−ヒドロキシプロピル）フタレート、ω―カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。これらの市販品としては、商品名で、例えば、アロニックス（登録商標）Ｍ−１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４、同Ｍ−５３００（以上、東亞合成（株）製）；ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２０Ｓ（以上、日本化薬（株）製）；ビスコート１５８、同２３１１（以上、大阪有機化学工業（株）製）等を挙げることができる。
【００４８】
上記２官能（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。これらの市販品としては、商品名で、例えば、アロニックス（登録商標）Ｍ−２１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ−６０４（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレート１，９−ＮＤＡ（共栄社化学（株）製等を挙げることができる。
【００４９】
上記３官能以上の（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；
ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートとの混合物；
エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）フォスフェート、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、コハク酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレートとイソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレートとの混合物；
直鎖アルキレン基および脂環式構造を有し且つ２個以上のイソシアネート基を有する化合物と、分子内に１個以上の水酸基を有し且つ３個、４個または５個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物とを反応させて得られる多官能ウレタンアクリレート系化合物等を挙げることができる。
【００５０】
上述した３官能以上の（メタ）アクリル酸エステルの市販品としては、商品名で、例えば、アロニックス（登録商標）Ｍ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同ＴＯ−１４５０（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０、同ＤＰＥＡ−１２（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）や、多官能ウレタンアクリレート系化合物を含有する市販品として、ニューフロンティア（登録商標）Ｒ−１１５０（第一工業製薬（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬（株）製）等を挙げることができる。
【００５１】
これらのうち、特に、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート；
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物；
トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートとトリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレートとの混合物；
エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、多官能ウレタンアクリレート系化合物、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、コハク酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレートを含有する市販品等が好ましい。
また、下記（Ｃ−１）、（Ｃ−２）、（Ｃ−３）、（Ｃ−５）で示される重合性化合物も用いることができる。（Ｃ−４）はＭＰＶ（芳香族系ビニル化合物（住友精化株式会社製））である。
【００５２】
【化１０】
2020026515.tif 000011
【００５３】
ビニルスルフィド誘導体、（メタ）アクリレート誘導体ビニルスルホキシド誘導体もしくはビニルスルホン誘導体でビニル基を有する化合物を使用することも可能である。このような化合物の具体例としては、ビニルスフィド、フェニルビニルスルホキシド、ジビニルスルホキシド、ジビニルスルホン、フェニルビニルスルホン、ビス（ビニルスルホニル）メタン等が挙げられる。このような化合物は感度向上や硬化性組成物の保存安定性を良好に保つことができる点において好ましい。
【００５４】
上記のような（Ｃ）成分は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００５５】
本発明の硬化性組成物における（Ｃ）成分の使用割合は、（Ａ）化合物１００質量部に対して、好ましくは３０質量部〜２５０質量部であり、さらに好ましくは５０質量部〜２００質量部である。上記の範囲とすることにより、現像残差の問題を生じることなく、硬化膜を高い解像度で形成することができることができて好ましい。
＜（Ｄ）粒径１００ｎｍ以下の金属酸化物＞
金属酸化物は、得られる硬化物の光屈折率を高めるために含有される。金属酸化物粒子とは、実施例に記載の方法によって測定される屈折率が１．６以上である粒子をいう。金属酸化物粒子の平均粒径としては、例えば１ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。平均粒径が上記範囲を外れる場合は、塗布性や、得られる硬化物の低透湿性、高屈折率性等に影響を与える場合がある。金属酸化物粒子は、高屈折性を発現できるものであれば特に限定されず、チタン原子含有粒子、ジルコニウム原子含有粒子、ニオブ原子含有粒子、錫原子含有粒子、亜鉛原子含有粒子、アルミニウム原子含有粒子、ケイ素原子含有粒子、マグネシウム粒子含有粒子等の無機粒子を挙げることができ、具体的には、例えばこれらの各酸化物粒子等を挙げることができる。上記核粒子としては、高い屈折率を有することなどの点から、チタン原子含有粒子、ジルコニウム原子含有粒子又はこれらの組み合わせがより好ましい。また、上記核粒子としては、酸化チタン（チタニウム）粒子、酸化ジルコニウム（ジルコニア）粒子又はこれらの組み合わせより好ましい。上記核粒子には、本発明の効果に影響を与えない範囲で、他の元素が含有されていてもよい。また、分散剤を用いる事により金属酸化物粒子の分散性を高めることができる。分散剤には、リン酸アクリレート、リン酸エステルなどが用いられるがこれに限定されない。上記分散剤の使用量としては、上記核粒子１００質量部に対して、５〜４０質量部が好ましく、１０〜３０質量部がより好ましい。カップリング剤の使用量が上記下限未満、上限を超える場合は、粒子の分散性が低下する場合がある。
本明細書における金属酸化物粒子の平均粒径は、ＢＥＴ法又はシアーズ法で測定した値を用いている。平均粒径が１０ｎｍ以下である如き小粒径の金属酸化物粒子の粒径を測定する場合には、シアーズ法が好ましい。
【００５６】
例えば、平均粒径の一例であるＢＥＴ法によれば、ＢＥＴの式（Ｂｒｕｎａｕｅｒ，Ｅｍｍｅｔｔ，Ｔｅｌｌｅｒ’ｓ  ｅｑｕａｔｉｏｎ）を使用した窒素吸着法により金属酸化物粒子の平均粒径を求めることができる。また、平均粒径の一例であるシアーズ法は、Ｇ．Ｗ．Ｓｅａｒｓ，Ｊｒ．が、”Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”  Ｖｏｌ．２８、ｐ１９８１〜１９８３（１９５６年）に記載している異形状粒子の相当径を求める方法であり、１．５ｇのＳｉＯ２に相当するコロイダルシリカをｐＨ４からｐＨ９まで滴定するのに必要とした０．１Ｎ−ＮａＯＨの量からコロイダルシリカの比表面積を求め、これから算出した相当径である。
金属酸化物粒子の平均粒径は公知の方法で測定してもよく、また、金属酸化物粒子メーカーのカタログ値を参照することもできる。
【００５７】
本発明においては、金属酸化物粒子以外にも中空粒子も用いることができる。中空粒子としては無機中空粒子と有機中空粒子がある。中空粒子としては、内部に空孔を有していれば特に制限されない。このような粒子を用いることで、粒子に入射する光量を増加させることができ、さらに、粒子からの光を効率的に光拡散することができる。また、粒子）を用いることで、耐屈曲性に優れる膜等を容易に得ることができる。
【００５８】
本組成物で用いられる粒子は、１種でもよく、２種以上でもよい。
【００５９】
粒子は他の有機成分と混合し、組成物として均一な分散状態を保持していることが好ましく、均一な分散状態を保持する組成物を容易に得ることができる等の点から、有機中空粒子が好ましい。さらに、有機中空粒子は、本組成物中の他の構成材料に合わせて分子設計−合成といった調整自由度が高いことからも好ましい。また、高いトルエン不溶分（９０質量％以上）の有機中空粒子は、無機中空粒子と同程度の硬度を有するため、前記特徴を備えたうえで、熱応力などによる変形を受けた際の空隙保持性にも優れる。
前記無機中空粒子としては特に制限されず、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＳｎＯ、ＣｅＯ２、ＣａＣＯ３およびポリオルガノシロキサン系化合物などからなる無機粒子等が挙げられ、吸湿性が低く、有機
溶媒中への分散性に優れる粒子となる等の点から、その表面の少なくとも一部を表面処理、特に疎水化処理した粒子であることが好ましい。
【００６０】
このような無機中空粒子としては、市販品を用いてもよく、従来公知の方法、例えば、特許第５０７８６２０号公報に記載の方法で合成して得てもよい。
【００６１】
前記有機中空粒子としては特に制限されず、アクリル系またはスチレン系などの有機架橋粒子等が挙げられる。このような有機中空粒子としては、市販品を用いてもよく、従来公知の方法、例えば、特開昭６２−１２７３３６号公報、特開平０１−３１５４５４号公報、特開平０４−１２６７７１号公報、特開２００２−２４１４４８号公報、特開２００７−１１２９３５号公報、特許第５４３９１０２号公報に記載の方法で合成して得てもよい。前記有機中空粒子としては、光拡散性が高く、耐有機溶媒性および形状保持性に優れる粒子が得られ、長期安定性に優れる本組成物が得られ、さらに、高い発光効率を有する膜等を容易に得ることができるなどの点から、下記方法、具体的には、特許第４８４３８５０号公報に記載の方法で得られる架橋中空ポリマー粒子であることが好ましい。ＷＯ２０１８―１２８１４４号報記載の中空粒子を用いることができる。
＜その他の添加材料＞
本発明の硬化性組成物には、必要に応じて有機溶剤、増感剤、重合禁止剤、酸化防止剤、界面活性剤等を含有させてもよい。溶剤は必要であれば使用することは可能であるが、使用することなしに硬化性組成物とすることができる。
［酸化防止剤］
酸化防止剤は、露光や加熱により発生したラジカル、又は酸化によって生成した過酸化物を分解し、重合体分子の結合の開裂を防止することができる成分である。その結果、得られる硬化膜は経時的な酸化劣化が防止され、例えば硬化膜の輝度低下を抑制することができる。
【００６２】
酸化防止剤として、具体的には、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、リン系、チオール系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒドロキシルアミン系、サルチル酸エステル系、およびトリアジン系の化合物があげられ、公知の紫外線吸収剤、酸
化防止剤等が使用できる。また、本実施形態で用いられる酸化防止剤は、ハロゲン原子を含有していないものが好ましい。
【００６３】
これらの酸化防止剤の中でも、塗膜の透過率と感度の両立の観点から、好ましいものとしては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤またはチオール系酸化防止剤が挙げられる。また、より好ましくは、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤である。
【００６４】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，４−ビス〔（ラウリルチオ）メチル〕−ｏ−クレゾール、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等が挙げられる。その他ヒンダードフェノール構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等も使用することができる。
【００６５】
リン系酸化防止剤としては、トリス（イソデシル）フォスファイト、トリス（トリデシル）フォスファイト、フェニルイソオクチルフォスファイト、フェニルイソデシルフォスファイト、フェニルジ（トリデシル）フォスファイト、ジフェニルイソオクチルフォスファイト、ジフェニルイソデシルフォスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト、ジ（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジフォスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジフォスファイト、フェニルビスフェノールＡペンタエリスリトールジフォスファイト等が挙げられる。その他フォスファイト構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等も使用することができる。
【００６６】
チオール系酸化防止剤としては、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス〔（オクチルチオ）メチル〕−ｏ−クレゾール、２，４−ビス〔（ラウリルチオ）メチル〕−ｏ−クレゾール等が挙げられる。その他チオエーテル構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等も使用することができる。
【００６７】
（Ａ）化合物と（Ｂ）化合物成分の和１００質量部に対する酸化防止剤の含有量の下限としては、０．０１質量部が好ましく、０．１質量部がより好ましい。上記酸化防止剤の含有量の上限としては、１０質量部が好ましく、８質量部がより好ましく、７質量部がさらに好ましい。酸化防止剤の含有量を上記範囲とすることで、得られる硬化膜の経時的な酸化劣化を効果的に抑制することなどができる。なお、酸化防止剤を２種以上用いる場合、上記含有量は合計量である。
［界面活性剤］
本実施形態の硬化性組成物に含有可能な界面活性剤は、硬化性組成物の塗布性の改善、塗布ムラの低減、放射線照射部の現像性を改良するために添加することができる。好ましい界面活性剤の例としては、フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤が挙げられる。
【００６８】
フッ素系界面活性剤としては、例えば１，１，２，２−テトラフルオロオクチル（１，１，２，２−テトラフルオロプロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフルオロオクチルヘキシルエーテル等を挙げることができる。
【００６９】
これらのフッ素系界面活性剤の市販品としては、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、３０３、３５２（新秋田化成（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ１７１、１７２、１７３（ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、４３１（住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ（登録商標）７１０（旭硝子（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８２、ＳＣ−１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６（ＡＧＣセイミケミカル（株）製）、ＦＴＸ−２１８（（株）ネオス製）等を挙げることができる。
【００７０】
シリコーン系界面活性剤の例としては、市販されている商品名で、ＳＨ２００−１００ｃｓ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８９ＰＡ、ＳＨ１９０、ＳＨ  ８４００  ＦＬＵＩＤ（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００７１】
その他任意成分として界面活性剤を使用する場合、その含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部〜１０質量部、より好ましくは０．０５質量部〜５質量部である。界面活性剤の使用量を０．０１質量部〜１０質量部とすることによって、本実施形態の硬化性組成物の塗布性を最適化することができる。
【００７２】
リン酸エステル化合物としては、２−ヒドロキシエチルメタクリレートの６−ヘキサノリド付加重合物と無水リン酸の反応生成物 (日本化薬社製「ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２１」)、アルキル（Ｃ１２，Ｃ１４，Ｃ１６，Ｃ１８）アシッドホスフェート(城北化学工業社製「ＪＢ−５１２」等が挙げられる。このようなリン酸エステル化合物は、（Ａ）成分１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部〜１０質量部、より好ましくは０．０５質量部〜５質量部である。リン酸エステル化合物の使用量を０．０１質量部〜１０質量部とすることによって、本実施形態の硬化性組成物から得られる硬化膜の基板に対する密着性を向上させることができる。
［接着助剤は、本実施形態の硬化性組成物から得られる絶縁膜と、その下層に配置される層や基板等との接着性をさらに向上させる目的で使用することができる。接着助剤としては、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、オキシラニル基等の反応性官能基を有する官能性シランカップリング剤が好ましく用いられ、例えば、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
必要に応じて有機溶剤を用いることができる。有機溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用できる。
【００７３】
本実施形態の硬化性組成物に使用可能な有機溶剤としては、他の含有成分を溶解または分散させるとともに、他の含有成分と反応しないものを挙げることができる。
【００７４】
例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、メチル−３−メトキシプロピオネート等のエステル類；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類等が挙げられる。
有機溶剤を使用する場合の使用量は、有機ＥＬ用の硬化性組成物においては、硬化性組成物全量に対して、好ましくは０質量部〜２０質量部、より好ましくは０質量部〜１０質量部である。
また、インプリント用硬化性組成物においては、硬化性組成物全量に対して、好ましくは５０質量部〜４００質量部、より好ましくは１００質量部〜３００質量部である。
【００７５】
本発明の硬化性組成物は、粘度が２５℃で３から３０ｍＰａ．ｓの範囲にある硬化性組成物である。なお粘度は、ＪＩＳ  Ｋ２２８３に準拠して、Ｅ型粘度計（東機産業社製「ＴＶＥ２２Ｌ」）を用いて、２３℃で測定した値である。この粘度とすることでインクジェット塗布性を向上させることがで、塗布面の塗布ムラ、ハジキ等の塗布における不具合を防止することが可能である。この粘度は、硬化性組成物に含有される（Ａ）化合物、（Ｂ）化合物の分子量、添加量比によって調整することができ、特に（Ａ）化合物の分子量によって調整することが好ましい。またこの粘度範囲は、経時による粘度上昇が起こりにくい範囲でもある点で好ましい。
インプリント用硬化性組成物の場合、溶剤を含む場合の粘度範囲は、２５℃において１から１０００ｍＰａ・ｓの範囲となる。この溶剤を含む粘度範囲で使用することで、すぐれたインプリント性を示すことが可能となる。
【００７６】
本実施形態の硬化膜の形成方法は、以下の工程によって形成される。
【００７７】
［工程（１）］
工程（１）では、当該硬化性組成物の溶液を基板表面に塗布し、必要に応じてプレベークを行うで塗膜を形成する。工程（１）で使用する基板としては、例えばガラス基板、シリコンウエハー、プラスチック基板、およびこれらの表面に窒化珪素等の各種無機膜が形成された基板が挙げられる。プラスチック基板としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックを主成分とする基板などが挙げられる。
当該硬化性組成物の塗布方法としては、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット法等の適宜の方法を採用することができる。これらの塗布方法の中でもインクジェット塗布法が好ましい。プレベークの条件としては、当該硬化性組成物の含有成分の種類、含有量等によっても異なるが、例えば６０℃以上１００℃以下で３０秒間以上１０分間以下程度とすることができる。上記塗膜の平均膜厚は、プレベーク後の下限として、０．１μｍが好ましい。また、この上限としては、１５μｍが好ましく、１０μｍがより好ましく、８μｍがさらに好ましい。
［工程（２）］
工程（２）では、工程（１）で形成した塗膜に所定のパターンを有するマスクを介して放射線を照射する。このときの放射線としては、例えば紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等が挙げられる。
露光波長としては３００〜４５０ｎｍが好ましい。光源としては高圧水銀灯やＬＥＤを用いることができる。露光量としては、例えば１００Ｊ／ｍ２以上１００，０００Ｊ／ｍ２以下が好ましい。また、必要に応じてインプリント法によりパターンを形成してもよい。      
【００７８】
［工程（３）］
必要に応じて塗膜を加熱・焼成処理（ポストベーク処理）することによって塗膜の硬化を行ってもよい。また、工程（３）における焼成温度の下限としては、８０℃が好ましい。一方、この上限としては、２５０℃が好ましい。焼成時間としては、加熱機器の種類により異なるが、例えばホットプレート上で加熱処理を行う場合には５分以上４０分以下、オーブン中で加熱処理を行う場合には３０分以上８０分以下とすることができる。
当該製造方法によれば、当該硬化性組成物の感放射線性を利用した露光および加熱によって硬化膜を形成することができる。
＜硬化膜＞
本発明の硬化性組成物を硬化した硬化物は、屈折率が１．６０以上であり好ましくは１．６５以上である。硫黄原子等の重量元素の使用、または縮合炭化水素環の含有割合を増やすことによって、高屈折率の硬化物を設計することができる。本発明の硬化膜は
有機ＥＬ素子の封止、マイクロレンズ、反射防止膜、ＡＲ素子の回折格子等にも用いることができる。また、インプリント材としてエッチング耐性、高屈折率および流動性に優れるためワイヤーグリッド偏光板作成用レジスト、ＡＲ素子の回折格子等に用いることができる。
【実施例】
【００７９】
化合物の構造同定は、１Ｈ−ＮＭＲ測定（ブルカー製、ＡＶＡＮＣＥ５００型）を用いて行い、分子量の測定は液体クロマトグラフ質量分析計（ＬＣ−ＭＳ  島津製作所製、ＬＣＭＳ−８０４５）を用いて行い、目的の化合物が得られていることを確認した。
［合成例１］
＜（ａ−１）〜（ａ−５）の合成＞
式（１）で示される（Ａ）化合物の具体例である（ａ−１）〜（ａ−５）の合成は、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９９３年、５８巻、７３８８〜７８９２ページ（Ｔａｋｅｕｃｈｉ、ｅｔａｌ．）に記載の方法で合成した。全て２５℃で液体を示した。
（ａ−１）１，３−ジビニルナフタレン
（ａ−２）１，４−ジビニルナフタレン
（ａ−３）１、６−ジビニルナフタレン
（ａ−４）１、７−ジビニルナフタレン
（ａ−５）２、３−ジビニルナフタレン
［合成例２］
＜（ａ−７）１，２，６−トリビニルナフタレンの合成＞、
（ａ−７）１，２，６−トリビニルナフタレンを以下に示す合成スキーム１のように合成した。
滴下ロートおよび窒素導入管を備えた３Ｌの三口フラスコに１，６−ナフタレンジオール８０．２ｇおよびピリジン１Ｌを加えて氷冷した。つづいて、無水トリフルオロスルホン酸２９．６ｇを２時間かけて滴下し、さらに室温で一昼夜反応させた。反応終了後、氷水に投入し、イソプロピルエーテルを加えて水層を除去後、冷１０％塩酸水で２回、水、飽和食塩水で分液洗浄を行った後、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮乾固して濃褐色オイルを得た。次に、シリカカラム精製（ヘキサン/酢酸エチル=５０：１（ｗｔ））を行い、（ａ−７Ｂ）の濃褐色オイルを２１．７ｇ得た。
続いて、窒素導入管を備えた１Ｌの三口フラスコに塩化リチウム１９．１ｇ、ジクロロビス（トリフルオロホスフィン）パラジウム１．０５ｇ、（ａ−７Ｂ） ２１．７ｇ、４−トキシフェノール０．０６ｇ、脱水Ｎ，Ｎ，−ジメチルホルムアミド３００ｍＬおよびトリブチルビニル錫５０．０ｇを加えて６０℃で５時間反応させた。反応終了後、イソプロピルエーテルおよび２０％フッ化カリウム水溶液を加えて1時間激しく撹拌し、セライトろ過したろ液を分液ロートにて分離、水層を除去し、硫酸ナトリウムで乾燥した。次に、シリカカラム精製（ヘキサン１００％）を行い、黄色液体を得た。再度、シリカカラム精製（ヘキサン１００％）を行うことで（ａ−７）の無色透明液体を９．２８ｇ得た。重クロロホルムで測定した１Ｈ−ＮＭＲの結果は以下の通りであった。５．２８〜５．４３ｐｐｍ（３Ｈ、ｑ）、５．７２〜５．８６ｐｐｍ（３Ｈ、ｑ）、６．８０ｐｐｍ（１Ｈ、ｑ）、７．０２ｐｐｍ（１Ｈ、ｑ）、７．０９ｐｐｍ（１Ｈ、ｑ）、７．５６ｐｐｍ（１Ｈ、ｄ）、７．６６ｐｐｍ（３Ｈ、ｄ）、８．００ｐｐｍ（１Ｈ、ｄ）
【００８０】
【化１１】
2020026515.tif 000012
【００８１】
［製造例１］中空粒子ｂ１の製造
容量２リットルの反応容器に、予め、媒体として水１０９．５質量部、乳化剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム（Ｆ６５、花王（株）製）０．２質量部、重合開始剤として過硫酸ナトリウム０．５質量部を投入した。
一方、メタクリル酸メチル９０質量部、メタクリル酸１０質量部、分子量調整剤としてオクチルチオグリコール２．５質量部、乳化剤（Ｆ６５、花王（株）製）０．１質量部および水４０質量部を混合攪拌してモノマー混合物の水性分散体１を調製した。
【００８２】
得られたモノマー混合物の水性分散体１の２０質量％を前記反応容器に投入し、反応容器内の液を攪拌しながら温度７５℃まで昇温して１時間重合反応を行い、その後、温度を７５℃に保ちながら残り８０質量％のモノマー混合物の水性分散体１を連続的に２時間かけて反応容器に添加した。さらに、２時間熟成を行うことで、シード粒子の水性分散体（固形分４０質量％）を得た。
【００８３】
次いで、メタクリル酸メチル７９．５質量部、メタクリル酸２０質量部、ジビニルベンゼン（純度８１％）０．５質量部、オクチルチオグリコール３質量部、乳化剤（Ｆ６５、花王（株）製）０．１質量部および水４０質量部を混合攪拌してモノマー混合物の水性分散体２を調製した。
【００８４】
一方、容量２リットルの反応容器に、予め、媒体として水１８６質量部を投入し、これに、得られたシード粒子の水性分散体を２５質量部、および、重合開始剤として過硫酸ナトリウム０．５質量部を投入した。反応容器内の液を攪拌しながら温度８０℃まで昇温し、この温度に保ちながら、得られたモノマー混合物の水性分散体２を連続的に３時間かけて投入した。その後、更に２時間熟成を行なうことで、粒子径０．４１μｍの第１ポリマー粒子の水性分散体（固形分３１質量％）を得た。
【００８５】
次いで、スチレン５６．５質量部、エチレングリコールジメタクリレート３質量部、乳化剤（Ｆ６５、花王（株）製）０．１質量部および水４０質量部を混合攪拌して、重合性モノマー（β）混合物の水性分散体３を調製した。
【００８６】
一方、容量２リットルの反応容器に、予め、媒体として水２４０質量部を投入し、これに、得られた第１ポリマー粒子の水性分散体を４８．４質量部、スチレン２０質量部、および、重合開始剤として過硫酸ナトリウム０．４質量部を投入した。反応容器内の液を攪拌しながら温度８０℃まで昇温し、この温度で３０分間スチレンの重合を行い、第１ポリマー粒子にスチレンの重合物が複合したポリマー粒子を得た。
【００８７】
得られた反応容器内の液を攪拌しながら８０℃に保持し、ここに、重合性モノマー（β）混合物の水性分散体３を連続的に４時間かけて投入した。この際、該水性分散体３を投入開始後２時間経過時に、アクリル酸０．５質量部を反応容器に一括投入してスチレンと共重合させた。該水性分散体３をすべて反応容器に投入し終わった後、ジビニルベンゼン（純度８１％）２０質量部を一括投入し、第１ポリマー粒子の表層にスチレン、アクリル酸、エチレングリコールジメタクリレート、ジビニルベンゼンの重合体を積層させたコアシェル粒子を得た。なお、得られたコアシェル粒子には、未反応の重合性モノマー（β）が存在していた。
【００８８】
前記水性分散体３を投入し終えてからおよそ１５分後に、攪拌を続けながら２０％アンモニア水溶液５質量部を反応容器に一括投入し、温度を９０℃に上げ、２時間攪拌熟成した。その後、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド０．３質量部およびホルムアルデヒド樹脂０．１質量部を投入し、そのまま１時間攪拌放置することで、単一の空孔を有する球状の中空粒子ｂ１の水性分散体Ｅｍ１（固形分２６．５質量％）を得た。
【００８９】
得られた中空粒子ｂ１の水性分散体を、遠心分離器を用いて１５０００ｒｐｍで３０分間遠心分離することで中空粒子の沈殿物を得、この沈殿物を真空乾燥機を用いて２５℃で２４時間乾燥させることで、中空粒子ｂ１を得た。
実施例１
＜硬化性組成物の調整＞
（Ａ）成分として（ａ−１）を８０質量部、（Ｂ）成分として（ｂ−１）化合物を５質量部、（Ｃ）成分として（ｃ−１）化合物を１４質量部、界面活性剤としてＳＨ  １９０（東レ・ダウコーニング・シリコーン製）１質量部を加え、混合攪拌した後、０．２μｍのフィルターを用いてろ過を行い、硬化性組成物（Ｔ−１）を調整した。結果を表１に示す。実施例２〜実施例３０、比較例１〜比較例３も実施例１と同様に調整した。
【００９０】
実施例３０〜実施例３３、比較例４において、金属酸化物粒子を硬化性組成物に添加する場合は、以下に示す方法により調整した。
＜組成物Ｔ−３０の調整＞
容器に金属酸化物粒子（ｄ−１）ＴＴＯ−５１Ａ  (石原産業株式会社製酸化チタン:  粒子径０．０１〜０．０３μｍ)を１６ｇ、分散剤  (ｅ−１)   ＪＡＭＰ−１００  (城北化学工業株式会社製)３ｇ、表１に示す（Ａ）成分を混合し、均一に攪拌し溶液を作製した。その後に、得られた溶液４０ｇに対し、平均粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズ７０ｇを添加し、ペイントシェイカーにて１２時間分散を行ない、金属酸化物粒子が分散された分散液を得た。得られた分散液に対し、表１に示す（Ｂ）成分、（Ｃ）成分を添加し、組成物（Ｔ−３０）を調整した。
＜組成物Ｔ−３１の調整＞
容器に(ｄ−２) ＵＥＰ−１００  (第一稀元素化学工業株式会社製酸化ジルコニウム:  粒子径０．０１〜０．０２μｍ)を１６ｇ、分散剤  (ｅ−１)   ＪＡＭＰ−１００  (城北化学工業株式会社製)３ｇ、表１に示す（Ａ）成分を混合し、均一に攪拌し溶液を作製した。その後に、得られた溶液４０ｇに対し、平均粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズ７０ｇを添加し、ペイントシェイカーにて１２時間分散を行ない、金属酸化物粒子が分散された分散液を得た。得られた分散液に対し、表１に示す（Ｂ）成分、（Ｃ）成分を添加し、組成物（Ｔ−３１）を調整した。
＜組成物Ｔ−３２、Ｔ−３３の調整＞
組成物Ｔ−３０と同様にして調整した。結果を表１に示す。
表１に記載した実施例１〜実施例３３、比較例１〜比較例３の組成は、下記に示した通りである。
＜（Ａ）成分＞
（ａ−１）１，３−ジビニルナフタレン
（ａ−２）１，４−ジビニルナフタレン
（ａ−３）１、６−ジビニルナフタレン
（ａ−４）１、７−ジビニルナフタレン
（ａ−５）２、３−ジビニルナフタレン
（ａ−６）１、５−ジビニルナフタレン
（ａ−９）１−ビニルナフタレン
（ａ−１０）２−ビニルナフタレン
（ａ−１１）１−ビニル−５−メトキシ−ナフタレン
＜（Ｂ）成分＞
（ｂ−１）イルガキュア  ＯＸＥ−０４（ＢＡＳＦ社製）
（ｂ−２）ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド.  
（ｂ−３）ＣＰＩ１１０Ｐ（サンアプロ社製）
（ｂ−４）ＣＰＩ４１０Ｂ（サンアプロ社製）
（ｂ−５）イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製）  
（ｂ−６）２−メチル−１−［４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン  
＜（Ｃ）その他重合性化合物＞
（ｃ−１）から（ｃ−３）、（ｃ−５）化合物は、下記に示す化合物である。また、（Ｃ−４）はＭＰＶ（芳香族系ビニル化合物（住友精化株式会社製））である。
【００９１】
【化１２】
2020026515.tif 000013
【００９２】
（ｃ−６）２−ビニルナフタレン
（ｃ−７）１，１２−ドデカンジオールジメタクリレート
ＤＩＰＢ：１，６−ジイソプロペニルベンゼン
＜金属酸化物粒子及び中空粒子＞
(ｄ−１) ＴＴＯ−５１Ａ  (石原産業株式会社製酸化チタン:  粒子径０．０１〜０．０３μｍ)
(ｄ−２) ＵＥＰ−１００  (第一稀元素化学工業株式会社製酸化ジルコニウム:  粒子径０．０１〜０．０２μｍ)
（ｄ−３）製造例１に示した中空粒子ｂ１の水性分散体Ｅｍ１
＜増感剤＞
（ｇ−１）４，４‘−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン
（ｇ−２）アントラキュアーＵＶＳ−５８１（川崎化成工業社製）
＜分散剤＞
(ｅ−１)   ＪＡＭＰ−１００  (城北化学工業株式会社製)
【００９３】
【表１】
2020026515.tif 000014
【００９４】
表１中、「−」は添加しなかったことを示す。
【００９５】
＜粘度の評価＞
ＪＩＳ  Ｋ２２８３に準拠して、Ｅ型粘度計（東機産業社製「ＴＶＥ２２Ｌ」）を用いて、実施例および比較例で得られた硬化性組成物の２５℃、１００ｒｐｍでの粘度を測定した。
結果を表２に示す。
【００９６】
＜吐出安定性の評価＞
紫外線照射装置付きピエゾ方式インクジェットプリンタのインクジェットヘッドから、硬化性組成物の吐出試験を行い、下記の判断基準で評価した。
【００９７】
○：硬化性組成物をヘッドから吐出可能であり、
目視に於いて全てのノズルからインクジェット吐出可能であった。
【００９８】
△：硬化性組成物をヘッドから吐出可能であるが、
目視に於いて一部のノズルからインクジェット吐出が出来なかった。
【００９９】
×：硬化性組成物をヘッドから吐出の初期段階で吐出不可能であった。
結果を表２に示す。
【０１００】
＜塗布膜ムラの評価＞
ガラス基板上にＳｉＮｘを膜厚１００ｎｍで成膜した評価基板に対して、５０μｍ×５０μｍピッチで、ピエゾ方式インクジェットプリンタのインクジェットヘッドから、硬化性組成物１〜１６のインクジェット吐出を行い、１０ｃｍ角の塗布膜を作製した。さらに５分後に高圧水銀ランプを用いて露光量５０００ｍＪ／ｃｍ２を照射し、塗布膜を硬化させた。その際、硬化膜の膜厚が１０μｍまたは５μｍとなる様にインクジェットヘッドに印可する電圧を変化させ、吐出されるインクドット１滴の量を調整した。得られた硬化膜に対して以下の基準で評価を行った。結果を表２に示す。
◎  ：目視および顕微鏡（１００倍）にて塗布膜ムラが観察されない。
○  ：目視にて塗布膜ムラが観察されない。
△  ：目視にて部分的な膜厚変化による塗布膜ムラが観察される。
×：目視にて未塗布箇所が観察される。
【０１０１】
＜硬化性の評価＞
有機ＥＬ用硬化性組成物（Ｔ−１）〜（Ｔ−３３）、（ＲＴ−１）から（ＲＴ−３）をガラス基板上に塗布することで塗膜を形成し、高圧水銀ランプによる光照射を行い、露光量を変化させながら、タックが無くなるまでの硬化性を評価した。
◎：１Ｊ／ｍ２未満の光照射でタック無し
○：１Ｊ／ｍ２以上２Ｊ／ｍ２未満でタック無し
△：２Ｊ／ｍ２以上５Ｊ／ｍ２未満でタック無し
×：硬化に５Ｊ／ｍ２以上の光照射を要する。結果を表２に示す。
＜屈折率の評価＞
本発明の組成物を４インチシリコンウェハにスピンコート法で塗布した後、タックが無くなるまで高圧水銀ランプによる光照射を行うことで硬化膜を得た。この硬化膜をプリズムカプラ法によりＭｏｄｅｌ２０１（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製）を使用して測定した。
結果を表２に示す。
【０１０２】
＜有機ＥＬ素子の作製＞
アレイ状にＩＴＯ透明電極が形成されたガラス基材（日本電気硝子社製「ＯＡ−１０」）と、前記ＩＴＯ透明電極の一部のみが露出したコンタクトホールを有する、膜厚３μｍの平坦化層とを有するアレイ基材を複数用意した。
【０１０３】
Ａｌターゲットを用いてＤＣスパッタ法により、平坦化層上に膜厚１００ｎｍのＡｌ膜を形成した。ＩＴＯターゲットを用いてＤＣマグネトロンリアクティブスパッタリング法により、Ａｌ膜上に膜厚２０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。この様にしてＡｌ膜とＩＴＯ膜とからなる陽極層を形成した基材を用いた。
【０１０４】
レジスト材料（ＪＳＲ製「オプトマーＮＮ８０３」）を用いて陽極層上に塗膜を形成し、ｉ線（波長３６５ｎｍ）照射、現像、流水洗浄、風乾および加熱処理を含む一連の処理を行い、陽極層の一部を開口領域として持つ画素規定層を形成した。
【０１０５】
陽極および画素規定層が形成された基材を真空成膜室へ移動し、成膜室を１Ｅ−４Ｐａまで排気した後、前記基材上に、所定のパターンの蒸着マスクを用いて、正孔注入性を有する酸化モリブデン（ＭｏＯｘ）を抵抗加熱蒸着法により成膜速度０．００４〜０．００５ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜し、膜厚１ｎｍの正孔注入層を形成した。
【０１０６】
正孔注入層上に、所定のパターンの蒸着マスクを用いて、正孔輸送性を有する４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）を抵抗加熱蒸着法により正孔注入層と同様の排気条件で成膜し、膜厚３５ｎｍの正孔輸送層を形成した。成膜速度は、０．２〜０．３ｎｍ／ｓｅｃの条件であった。
【０１０７】
正孔輸送層上に、所定のパターンの蒸着マスクを用いて、緑色の発光材料としてアルキレート錯体であるトリス（８−キノリノラト）アルミニウムを抵抗加熱蒸着法により正孔輸送層と同様の成膜条件で成膜し、膜厚３５ｎｍの発光層を形成した。成膜速度は、０．５ｎｍ／ｓｅｃ以下の条件であった。
【０１０８】
発光層上に、フッ化リチウムを抵抗加熱蒸着法により正孔注入層と同様の排気条件で成膜し、膜厚０．８ｎｍの電子注入層を形成した。成膜速度は、０．００４ｎｍ／ｓｅｃ以下の条件であった。
【０１０９】
続いて電子注入層上に、マグネシウムおよびＡｇを抵抗加熱蒸着法により正孔注入層と同様の排気条件で同時に成膜し、膜厚５ｎｍの第１陰極層を形成した。成膜速度は、０．５ｎｍ／ｓｅｃ以下の条件であった。
【０１１０】
続いて、別の成膜室（スパッタ室）に上記基材を移送し、第１陰極層上に、ＩＴＯターゲットを用いてＲＦスパッタリング法により、膜厚１００ｎｍの第２陰極層を形成した。
【０１１１】
以上のようにして、評価用有機ＥＬ素子を得た。
【０１１２】
＜有機ＥＬ素子の薄膜封止＞
得られた有機ＥＬ素子に対して、以下の手順にて薄膜封止層を形成した。成膜室（スパッタ室）に前記有機ＥＬ素子を移送し、陰極層上に、ＳｉＮｘターゲットを用いてＲＦスパッタリング法により、膜厚１００ｎｍの無機封止層（ＳｉＮｘ膜）を形成した。続いて、前記有機ＥＬ素子をＮ２置換されたグローブボックス中に移送し、ピエゾ方式インクジェットプリンタによって、硬化性組成物１〜１６を所定のパターンに吐出し、続いてウシオ電機社製ＵｎｉＪｅｔＥ１１０ＺＨＤ  ３９５ｎｍ  ＬＥＤランプを用いて露光量５０００ｍＪ／ｃｍ２を照射し、製膜された硬化性組成物１〜１６を硬化させ、膜厚１０μｍの有機封止層を形成した。成膜室（スパッタ室）に前記有機ＥＬ素子を移送し、有機封止層上に、ＳｉＮｘターゲットを用いてＲＦスパッタリング法により、膜厚１００ｎｍの無機封止層（ＳｉＮｘ膜）を形成した。以上のようにして、有機ＥＬデバイスを得た。
【０１１３】
＜有機ＥＬデバイスの信頼性＞
上記で得られたそれぞれの有機ＥＬデバイスについて、８５℃８５％湿熱条件下で１００ｈ保管した後、順方向電流を１０ｍＡ／ｃｍ２で通電し、発光外観（ダークスポット）を観察した。下記基準に基づき、評価した。結果を表２に示す。
○：ダークスポットが観察されない。
×：ダークスポットが１箇所以上観察される。
実施例５５（熱硬化）
＜有機ＥＬ用硬化組成物の調整＞
（Ａ）成分として（ａ−７）を９７質量部、（Ｂ）成分としてＣＸＣ１８２１を２質量部、界面活性剤としてＳＨ  １９０（東レ・ダウコーニング・シリコーン製）１質量部を加え、混合攪拌した後、０．２μｍのフィルターを用いてろ過を行い、硬化性組成物を調整した。この組成物をシリコンウェハにスピンコートし、１００℃のホットプレートで１０分間ベークすることで５μの薄膜を得た。この膜の屈折率は１．６８であった
＜無機膜上のクラック発生有無の評価＞
５×１０ｃｍのＰＥＴフィルム上に有機ＥＬ素子作成時と同様にＲＦスパッタリング法にて膜厚１００ｎｍの無機封止層(ＳｉＮｘ膜)を形成した。続いて、前記ＰＥＴフィルムをＮ２置換されたグローブボックス中に移送し、ＰＥＴフィルムの中心にピエゾ方式インクジェットプリンタによって、硬化性組成物を4×6cmに吐出し、続いてウシオ電機社製ＵｎｉＪｅｔＥ１１０ＺＨＤ  ３９５ｎｍ  ＬＥＤランプを用いて露光量５０００ｍＪ／ｃｍ２を照射し、製膜された硬化性組成物を硬化させ、膜厚１０μｍの有機封止層を形成した。成膜室（スパッタ室）に前記ＰＥＴフィルムを移送し、有機封止層上に、ＳｉＮｘターゲットを用いてＲＦスパッタリング法により、膜厚１００ｎｍの無機封止層（ＳｉＮｘ膜）を形成した。以上のようにして、PETフィルム上の薄膜封止層を得た。本薄膜封止膜を曲げ半径R=3mmになる様固定し、８５℃８５％湿熱条件下で１００ｈ保管した後、光学顕微鏡にて無機膜上のクラックの観察を行った。下記基準にて評価を行った。
◎:クラックの数が０〜３個
○:クラックの数が４〜１０個
△:クラックの数が１１〜２０個
×:クラックの数が２１個以上
【０１１４】
【表２】
2020026515.tif 000015
【０１１５】
「−」は評価しなかったことを示す。
実施例３６
＜インプリント用硬化組成物の調整＞
（Ａ）成分として（ａ−１）を２０質量部、（Ｂ）成分として（ｂ−５）化合物を３質量部、（Ｃ）成分として（ｃ−５）化合物を７０質量部、界面活性剤としてＳＨ  １９０（東レ・ダウコーニング・シリコーン製）２質量部、ポリエーテル化合物として、アデカポリエーテルＰＲ−３００７（株式会社ＡＦＥＫＡ製）５質量部を溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３００質量部に溶解し、混合攪拌した後、０．２μｍのフィルターを用いてろ過を行い、インプリント用硬化性組成物（Ｐ−１）を調整した。結果を表３に示す。実施例３７〜実施例６４、比較例５，７も実施例３６と同様に調整した。結果表３に示す。
【０１１６】
粒子を含む実施例４７から実施例６２、比較例６の場合、前記組成物Ｔ−３０、組成物Ｔ−３１の場合と同様にして、表３の組成により調整した。結果表３に示す。
【０１１７】
【表３】
2020026515.tif 000016
【０１１８】
表３中「−」は添加しなかったことを示す。
【０１１９】
＜粘度の評価＞
ＪＩＳ  Ｋ２２８３に準拠して、Ｅ型粘度計（東機産業社製「ＴＶＥ２２Ｌ」）を用いて、実施例および比較例で得られた硬化性組成物の２５℃、１００ｒｐｍでの粘度を測定した。
結果を表４に示す。
【０１２０】
＜硬化性の評価＞
インプリント用硬化性組成物（Ｐ−１）〜（Ｐ−２９）、（ＲＰ−１），（ＲＰ−２），（ＲＰ−３）をガラス基板上に塗布することで塗膜を形成し、その後、高圧水銀ランプによる光照射を行い、露光量を変化させながら、タックが無くなるまでの硬化性を評価した。
◎：１Ｊ／ｍ２未満の光照射でタック無し
○：１Ｊ／ｍ２以上２Ｊ／ｍ２未満でタック無し
△：２Ｊ／ｍ２以上５Ｊ／ｍ２未満でタック無し
×：硬化に５Ｊ／ｍ２以上の光照射を要する。結果を表４に示す。
結果を表４に示す。
＜屈折率＞
＜屈折率の評価＞
本発明の組成物を４インチシリコンウェハにスピンコート法で塗布した後、タックが無くなるまで高圧水銀ランプによる光照射を行うことで硬化膜を得た。この硬化膜をプリズムカプラ法によりＭｏｄｅｌ２０１（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製）を使用して測定した。
結果を表４に示す。
＜インプリント性＞
ガラス基板に調整例で作成した光硬化組成物をさらにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートにて３倍に希釈し、スピンコート法にて約２００ｎｍ膜厚の薄膜を作成した。
上記基板をインプリント装置のワークステージに設置した。一方、離型剤を所定の方法であらかじめ塗布した石英モールド（金型ピッチ２００ｎｍ）を、インプリント装置の石英製露光ヘッドへ貼り付けた。次いで、インプリント装置の圧力を０．１ＭＰａとした後、露光ヘッドを下降し、モールドと実験基板とを、上記調製した感放射線性樹脂組成物を介して密着させた後、２，０００ｍＪ／ｃｍ２（１００ｍＷ、３６５ｎｍ換算）でＵＶ露光を実施し、モールドを硬化したパターン形成層から剥離し、所望のパターンが形成されたアルミ薄膜を形成したアルミ層付ガラス基板を得た。
【０１２１】
○：アスペクト比０．８以上の良好な形状のパターンが得られた。
【０１２２】
△：モジュールへの充填が不十分で、一部、アスペクト比が０．８以上のパターンを得ることができなかった。
【０１２３】
×：モジュールへの充填が不十分で、全面にわたり、アスペクト比が０．８以上のパターンを得ることができなかった。
＜エッチング耐性＞
４インチのシリコンウェハ上に、上記調製した硬化性組成物をスピンコーターにて塗布し、平均厚み８００ｎｍの膜を形成した。次に、窒素雰囲気下、２，０００ｍＪ／ｃｍ２（１００ｍＷ、３６５ｎｍ換算）の紫外光を照射することで、硬化膜を得た。次に、この硬化膜をドライエッチング装置のチャンバー内に置き、ＣＦ４ガス：９０ｍＬ／分、酸素ガス：１０ｍＬ／分、出力２００ｍＷの条件で９０秒間エッチングを行った。その際、３０秒、６０秒、９０秒、１２０秒での残存する硬化膜の厚みを光学式非接触膜厚測定装置を用いて測定してプロットし、エッチングレートを算出した。但し、Ｓｉ基板に到達したものはプロットから除外した。測定したエッチングレートの値から、エッチング耐性を下記基準により評価した。結果を表４に示す。
【０１２４】
◎：２．０ｎｍ／秒未満
○：２．０ｎｍ／秒以上２．５ｎｍ／秒未満
△：２．５ｎｍ／秒以上３．０ｎｍ／秒未満
×：３．０ｎｍ／秒以上
【０１２５】
【表４】
2020026515.tif 000017
【０１２６】
以上の通り、本発明の硬化性組成物は、有機ＥＬ用の硬化性組成物だけでなく、インプリント用硬化性組成物としても有用であることが示された。