(57)【要約】      （修正有）【課題】光学調整層の光学特性の低下を抑制しつつ、金属層の剥離を抑制できる導電性フィルムおよびタッチパネルを提供すること。【解決手段】導電性フィルム１は、透明基材２、光学調整層４、透明導電層５および金属層６を上側に順に備え、光学調整層４が、ＳｉＯ２粒子、ＺｒＯ２粒子および樹脂を含有し、光学調整層４の上面から下側に１０ｎｍまでの範囲において、ＳｉおよびＺｒの合計元素存在割合を１００％としたときのＳｉ元素存在割合が、２０％以上であり、光学調整層４を上下方向に均等に３つの層に区分したときに、最も高いＳｉ元素存在割合を有する層のＳｉ元素存在割合と、最も低いＳｉ元素存在割合を有する層のＳｉ元素存在割合との差が、１５％以下である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材、光学調整層、透明導電層および金属層を厚み方向一方向に順に備え、
前記光学調整層が、ＳｉＯ２粒子、ＺｒＯ２粒子および樹脂成分を含有し、
前記光学調整層の厚み方向一方面から厚み方向他方側に１０ｎｍまでの範囲において、ＳｉおよびＺｒの合計元素存在割合を１００％としたときのＳｉ元素存在割合が、２０％以上であり、
前記光学調整層を厚み方向に均等に３つの層に区分したときに、最も高いＳｉ元素存在割合を有する層のＳｉ元素存在割合と、最も低いＳｉ元素存在割合を有する層のＳｉ元素存在割合との差が、１５％以下であることを特徴とする、導電性フィルム。
【請求項２】
前記光学調整層の厚みが、３０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項１に記載の導電性フィルム。
【請求項３】
前記透明基材と前記光学調整層との間に配置されるハードコート層をさらに備えることを特徴とする、請求項１または２に記載の導電性フィルム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の導電性フィルムを備えることを特徴とする、タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性フィルム、および、それを備えるタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、画像表示装置は、タッチパネル用フィルムとして、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）層などの透明導電層を透明基材上に配置した透明導電性フィルムを備えることが知られている。近年、このような透明導電性フィルムにおいて、タッチ入力領域の外縁部に引き回し配線を形成して狭額縁化を図るため、ＩＴＯ層の上面に銅層をさらに配置した導電性フィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このような導電性フィルムは、例えば、透明基材の一方面に、透明導電層および銅層をスパッタリング法により順次形成し、ロール状に巻き取ることによって製造されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−１６１２８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、金属層を透明導電層の上に形成し、ロール状に巻き取ると、金属層の歪みが強くなる。その結果、金属層が、透明導電層とともに、透明基材から剥離するという不具合が生じる。このため、透明導電層と透明基材との密着性の改良が求められている。
【０００６】
一方、透明導電層を所定の配線パターンに形成した場合に、配線パターンが視認されないように、導電性フィルムでは、一般的に、透明導電層と透明基材との間に光学調整層が配置されている。
【０００７】
これらから、光学調整層に高い密着機能を付与して、透明導電性と透明基材との密着性を向上させることが検討される。具体的には、光学調整層に、ＳｉＯ２粒子を配合することが検討される。
【０００８】
しかしながら、光学調整層にＳｉＯ２粒子を配合すると、光学調整層の光学特性が低下する不具合が生じる。具体的には、例えば、所望の光学調整層の反射スペクトルが大幅に変化してしまい、光学調整層に色味が発生するなどの不具合が生じる。
【０００９】
本発明は、光学調整層の光学特性の低下を抑制しつつ、金属層の剥離を抑制できる導電性フィルムおよびタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明［１］は、透明基材、光学調整層、透明導電層および金属層を厚み方向一方向に順に備え、前記光学調整層が、ＳｉＯ２粒子、ＺｒＯ２粒子および樹脂成分を含有し、前記光学調整層の厚み方向一方面から厚み方向他方側に１０ｎｍまでの範囲において、ＳｉおよびＺｒの合計元素存在割合を１００％としたときのＳｉ元素存在割合が、２０％以上であり、前記光学調整層を厚み方向に均等に３つの層に区分したときに、最も高いＳｉ元素存在割合を有する層のＳｉ元素存在割合と、最も低いＳｉ元素存在割合を有する層のＳｉ元素存在割合との差が、１５％以下である、導電性フィルムを含む。
【００１１】
本発明［２］は、前記光学調整層の厚みが、３０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下である、［１］に記載の導電性フィルムを含む。
【００１２】
本発明［３］は、前記透明基材と前記光学調整層との間に配置されるハードコート層をさらに備える、［１］または［２］に記載の導電性フィルムを含む。
【００１３】
本発明［４］は、［１］〜［３］のいずれか一項に記載の導電性フィルムを備える、タッチパネルを含む。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の導電性フィルムおよびタッチパネルによれば、透明基材、光学調整層、透明導電層および金属層を厚み方向一方向に順に備え、光学調整層の厚み方向一方面から厚み方向他方側に１０ｎｍまでの範囲において、ＳｉおよびＺｒの合計元素存在割合を１００％としたときのＳｉ元素存在割合が、２０％以上である。このため、透明導電層と光学調整層との密着性が向上しており、金属層の剥離を抑制することができる。
【００１５】
また、光学調整層を厚み方向に均等に３つの層に区分したときに、最も高いＳｉ元素存在割合を有する層のＳｉ元素存在割合と、最も低いＳｉ元素存在割合を有する層のＳｉ元素存在割合との差が、１５％以下である。このため、ＳｉＯ２粒子配合による光学調整層の反射スペクトルの変化を抑制し、その結果、光学特性の低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の導電性フィルムの一実施形態の側断面図を示す。
【図２】図２は、図１に示す導電性フィルムから形成されるパターニング導電性フィルムの側断面図を示す。
【図３】図３は、本発明の導電性フィルムの他の実施形態（ハードコート層を備えない形態）の側断面図を示す。
【図４】図４は、本発明のパターニング導電性フィルムの他の実施形態（ハードコート層を備えない形態）の側断面図を示す。
【図５】図５は、実施例１の導電性フィルムにおける光学調整層のＴＥＭ断面図において、元素マッピングした際の画像を示す。
【図６】図６は、比較例２の導電性フィルムにおける光学調整層のＴＥＭ断面図において、元素マッピングした際の画像を示す。
【図７】図７は、比較例３の導電性フィルムにおける光学調整層のＴＥＭ断面図において、元素マッピングした際の画像を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の実施の形態について、図を参照しながら以下に説明する。図１において、紙面上下方向は、上下方向（厚み方向）であって、紙面上側が、上側（厚み方向一方側）、紙面下側が、下側（厚み方向他方側）である。また、紙面左右方向および奥行き方向は、上下方向に直交する面方向である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。
【００１８】
＜第１実施形態＞
１．導電性フィルム
本発明の導電性フィルムの第１実施形態である導電性フィルム１は、例えば、図１に示すように、面方向に延び、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）を有する。フィルム形状とは、平坦な上面（厚み方向一方面）および平坦な下面（厚み方向他方面）を有する薄板形状として定義される（以下、同様）。
【００１９】
導電性フィルム１は、例えば、画像表示装置に備えられるタッチパネル用基材などの一部品であり、つまり、画像表示装置ではない。すなわち、導電性フィルム１は、画像表示装置などを作製するための部品であり、ＬＣＤモジュールなどの画像表示素子を含まず、後述する透明基材２とハードコート層３と光学調整層４と透明導電層５と金属層６とからなり、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。
【００２０】
具体的には、図１に示すように、導電性フィルム１は、透明基材２と、ハードコート層３と、光学調整層４と、透明導電層５と、金属層６とを上方向（厚み方向一方向）に向かって順に備える。より具体的には、導電性フィルム１は、透明基材２と、透明基材２の上面に配置されるハードコート層３と、ハードコート層３の上面に配置される光学調整層４と、光学調整層４の上面に配置される透明導電層５と、透明導電層５の上面に配置される金属層６とを備える。導電性フィルム１は、好ましくは、透明基材２と、ハードコート層３と、光学調整層４と、透明導電層５と、金属層６とからなる。以下、各層について詳述する。
【００２１】
２．透明基材
透明基材２は、導電性フィルム１の機械強度を確保する基材である。透明基材２は、透明導電層５および金属層６を、ハードコート層３および光学調整層４とともに、支持している。
【００２２】
透明基材２は、例えば、透明性を有する高分子フィルムである。高分子フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）などのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。高分子フィルムは、単独使用または２種以上併用することができる。
【００２３】
透明性、耐熱性、機械的強度などの観点から、好ましくは、ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂が挙げられ、より好ましくは、ＰＥＴ、ＣＯＰが挙げられる。
【００２４】
透明基材２の厚みは、機械的強度、耐擦傷性、導電性フィルム１をタッチパネル用フィルムとした際の打点特性などの観点から、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下である。
【００２５】
透明基材２の厚みは、例えば、膜厚計（デジタルダイアルゲージ）を用いて測定することができる。
【００２６】
なお、透明基材２の上面および／または下面には、必要に応じて、易接着層、接着剤層、セパレータなどが設けられていてもよい。
【００２７】
３．ハードコート層
ハードコート層３は、複数の導電性フィルム１を積層した場合などに、導電性フィルム１の表面（すなわち、金属層６の上面）に擦り傷を生じにくくするための擦傷保護層である。また、導電性フィルム１に耐ブロッキング性を付与するためのアンチブロッキング層とすることもできる。
【００２８】
ハードコート層３は、フィルム形状を有しており、例えば、透明基材２の上面全面に、透明基材２の上面と接触するように、配置されている。より具体的には、ハードコート層３は、透明基材２と光学調整層４との間に、透明基材２の上面および光学調整層４の下面と接触するように、配置されている。
【００２９】
ハードコート層３は、例えば、ハードコート組成物から形成される。ハードコート組成物は、樹脂成分を含有し、好ましくは、樹脂成分からなる。
【００３０】
樹脂成分としては、例えば、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂（例えば、ポリオレフィン樹脂）などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂が挙げられる。
【００３１】
硬化性樹脂としては、例えば、活性エネルギー線（具体的には、紫外線、電子線など）の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、例えば、加熱により硬化する熱硬化性樹脂などが挙げられ、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。
【００３２】
活性エネルギー線硬化性樹脂は、例えば、分子中に重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を有するポリマーが挙げられる。そのような官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基（メタクリロイル基および／またはアクリロイル基）などが挙げられる。
【００３３】
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、具体的には、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートなどの（メタ）アクリル系紫外線硬化性樹脂が挙げられる。
【００３４】
また、活性エネルギー線硬化性樹脂以外の硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、有機シラン縮合物などが挙げられる。
【００３５】
これら樹脂成分は、単独使用または２種以上併用することができる。
【００３６】
樹脂成分には、重合開始剤などの樹脂添加剤が含有されていてもよい。
【００３７】
重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、熱重合開始剤などのラジカル重合開始剤が挙げられる。これら重合開始剤は、単独使用または２種以上併用することができる。
【００３８】
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインエーテル化合物、アセトフェノン化合物、α−ケトール化合物、芳香族スルホニルクロリド化合物、光活性オキシム化合物、ベンゾイン化合物、ベンジル化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキサントン化合物、α−アミノケトン化合物などが挙げられる。
【００３９】
熱重合開始剤としては、例えば、有機過酸化物、アゾ化合物などが挙げられる。
【００４０】
ハードコート組成物は、粒子を含有することができる。
【００４１】
粒子としては、無機粒子、有機粒子などが挙げられる。無機粒子としては、例えば、シリカ（ＳｉＯ２）粒子、例えば、ジルコニア（ＺｒＯ２）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズなどからなる金属酸化物粒子、例えば、炭酸カルシウムなどの炭酸塩粒子などが挙げられる。有機粒子としては、例えば、架橋アクリル樹脂粒子などが挙げられる。粒子は、単独使用または２種以上併用することができる。
【００４２】
ハードコート組成物には、さらに、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を含有することができる。
【００４３】
ハードコート層３の厚みは、例えば、０．５μｍ以上、好ましくは、１μｍ以上であり、また、例えば、１０μｍ以下、好ましくは、３μｍ以下、より好ましくは、２μｍ以下である。ハードコート層３の厚みは、例えば、膜厚計（デジタルダイアルゲージ）を用いて測定することができる。
【００４４】
４．光学調整層
透明導電層５の配線パターンの視認を抑制しつつ、導電性フィルム１に優れた透明性を確保するために、導電性フィルム１の屈折率を調整する光学調整層である。また、光学調整層４は、導電性フィルム１の金属層６側（特に、透明導電層５）と透明基材２側（特に、ハードコート層３）との密着性を向上させて、導電性フィルム１内部の層間剥離を抑制するための密着層でもある。
【００４５】
光学調整層４は、フィルム形状を有しており、例えば、ハードコート層３の上面全面に、ハードコート層３の上面と接触するように、配置されている。より具体的には、光学調整層４は、ハードコート層３と透明導電層５との間に、ハードコート層３の上面および透明導電層５の下面と接触するように、配置されている。
【００４６】
光学調整層４は、光学調整組成物から形成される。光学調整組成物は、無機粒子成分および樹脂成分を含有し、好ましくは、無機粒子成分および樹脂成分からなる。すなわち、光学調整層４は、無機粒子成分を含有する樹脂層であり、好ましくは、無機粒子成分および樹脂成分からなる樹脂層である。
【００４７】
樹脂成分としては、例えば、ハードコート組成物で用いる樹脂成分と同一の樹脂成分が挙げられる。好ましくは、硬化性樹脂、より好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。
【００４８】
樹脂成分の含有割合は、光学調整組成物に対して、例えば、３４．０質量％以上、好ましくは、４０．０質量％以上であり、また、例えば、６０．０質量％以下、好ましくは、５０．０質量％以下、より好ましくは、４５．０質量％以下である。
【００４９】
無機粒子成分は、ＳｉＯ２（シリカ）粒子およびＺｒＯ２（ジルコニア）粒子を含有し、好ましくは、ＳｉＯ２粒子およびＺｒＯ２粒子からなる。
【００５０】
ＳｉＯ２粒子およびＺｒＯ２粒子は、好ましくは、ともに、表面処理されている。これにより、ＳｉＯ２粒子およびＺｒＯ２粒子をより確実に均一に光学調整層８中に分散させることができる。
【００５１】
ＳｉＯ２粒子の表面処理に用いる表面処理剤としては、例えば、シラン系カップリング剤、ジルコニウム系カップリング剤、チタン系カップリング剤、リン系カップリング剤,
および、これらの組み合わせなどが挙げられる。
【００５２】
本発明では、ＳｉＯ２粒子の表面処理において、光学調整層８中に均一に分散されるように設計する。これにより、光学調整層４におけるＳｉＯ２粒子の偏在を抑制して、光学調整層４の色味の発生を抑制することができる。
【００５３】
ＺｒＯ２粒子の表面処理に用いる表面処理剤としては、例えば、シラン系カップリング剤、ジルコニウム系カップリング剤、チタン系カップリング剤、リン系カップリング剤,
および、これらの組み合わせなどが挙げられる。
【００５４】
無機粒子成分におけるＳｉＯ２粒子の含有割合は、例えば、１．０質量％以上、好ましくは、５．０質量％以上、より好ましくは、１０．０質量％以上であり、また、例えば、５０．０質量％以下、好ましくは、４０．０質量％以下、より好ましくは、３０．０質量％以下である。ＳｉＯ２粒子の含有割合が上記範囲内であれば、密着性に優れる。
【００５５】
無機粒子成分におけるＺｒＯ２粒子の含有割合は、例えば、５０．０質量％以上、好ましくは、６０．０質量％以上、より好ましくは、７０．０質量％以上であり、また、例えば、９９．０質量％以下、好ましくは、９５．０質量％以下、より好ましくは、９０．０質量％以下である。ＺｒＯ２粒子の含有割合が上記範囲内であれば、光学調整層４の屈折率を向上させることができ、透明導電層５の配線パターンの視認を抑制することができる。
【００５６】
ＳｉＯ２粒子の平均粒子径は、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上であり、また、例えば、１００ｎｍ以下、好ましくは、５０ｎｍ以下である。
【００５７】
ＺｒＯ２粒子の平均粒子径は、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上であり、また、例えば、１００ｎｍ以下、好ましくは、５０ｎｍ以下である。
【００５８】
粒子の平均粒子径は、体積基準による粒度分布の平均粒子径（Ｄ５０）を示し、例えば、粒子を水中に分散させた溶液を、光回折・散乱法により測定することができる。
【００５９】
無機粒子成分の含有割合は、光学調整組成物（ひいては、光学調整層４）に対して、例えば、４０．０質量％以上、好ましくは、５０．０質量％以上、より好ましくは、５５．０質量％以上であり、また、例えば、６６．０質量％以下、好ましくは、６０．０質量％以下である。無機粒子成分の含有割合が上記上限以下であれば、密着性に優れる。また、無機粒子成分の含有割合が上記下限以上であれば、透明導電層５の配線パターンの視認をより一層抑制することができる。
【００６０】
光学調整層４の上面（厚み方向一方面）４ａから下側（厚み方向他方側）１０ｎｍまでの範囲において、すなわち、光学調整層４の上面から深さ１０ｎｍまでの範囲において、Ｓｉ元素存在割合は、２０％以上、好ましくは、３０％以上であり、また、例えば、５０％以下、好ましくは、４０％以下、より好ましくは、３５％以下である。
【００６１】
Ｓｉ元素存在割合が上記下限以上であれば、透明導電層５と光学調整層４との密着性を向上させ、ひいては、金属層６の剥離を抑制することができる。
【００６２】
また、光学調整層４を厚み方向に均等に３つの層に区分する。すなわち、光学調整層４を、断面視において、上下方向に均等に、上層、中間層および下層に分割する。このとき、最も高いＳｉ元素存在割合を有する層（最大Ｓｉ層）のＳｉ元素存在割合と、最も低いＳｉ元素存在割合を有する層（最小Ｓｉ層）のＳｉ元素存在割合との差が、１５％以下、好ましくは、１０％以下、より好ましくは、５％以下である。
【００６３】
上記差が上記上限以下であれば、光学調整層４において、ＳｉＯ２粒子を厚み方向に均一に配置することができ、ＳｉＯ２粒子偏在による反射スペクトルの変化を抑制することができる。その結果、光学調整層４の色味の発生を抑制することができる。
【００６４】
Ｓｉ元素存在割合は、ＳｉおよびＺｒの合計元素存在割合を１００％としたときのＳｉ元素存在割合（Ｓｉ／Ｓｉ＋Ｚｒ）である。すなわち、Ｓｉ元素存在割合は、Ｓｉの元素存在量およびＺｒの元素存在量の合計を１００としたときのＳｉ元素存在量の割合であり、（Ｓｉ元素存在量／（Ｓｉ元素存在量＋Ｚｒ元素存在量）×１００）によって算出される。
【００６５】
ＳｉおよびＺｒの元素存在量（または元素存在割合）は、エネルギー分散型Ｘ線分析システムを用いて、元素分析を実施し、各元素（Ｓｉ、Ｚｒ）をマッピングし、そのマッピングされた面積を算出することにより、求められる。
【００６６】
光学調整層４の屈折率は、例えば、１．６０以上、好ましくは、１．６２以上であり、また、例えば、１．７０以下、好ましくは、１．６８以下である。光学調整層４の屈折率が上記範囲内であれば、透明導電層５の配線パターンの視認を抑制することができる。
【００６７】
屈折率は、例えば、アッベ屈折率計により、波長５８９ｎｍの条件で測定することができる。
【００６８】
光学調整層４の厚みは、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、３０ｎｍ以上であり、また、例えば、３００ｎｍ以下、好ましくは、１５０ｎｍ以下である。光学調整層４の厚みが上記範囲内であれば、透明導電層５の配線パターンの視認をより一層抑制することができる。
【００６９】
光学調整層４の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いて、導電性フィルム１の断面を観察することにより測定することができる。
【００７０】
５．透明導電層
透明導電層５は、後工程で配線パターン（後述するパターニング透明導電層５Ａ）に形成して、例えば、タッチパネルのタッチ入力領域における配線パターン（例えば、電極配線）を形成するための透明な導電層である。
【００７１】
透明導電層５は、フィルム形状を有しており、例えば、光学調整層４の上面全面に、光学調整層４の上面と接触するように、配置されている。より具体的には、透明導電層５は、光学調整層４と金属層６との間に、光学調整層４の上面および金属層６の下面と接触するように、配置されている。
【００７２】
透明導電層５の材料としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含む金属酸化物が挙げられる。金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子をドープしていてもよい。
【００７３】
透明導電層５の材料は、例えば、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）などのインジウム含有酸化物、例えば、アンチモンスズ複合酸化物（ＡＴＯ）などのアンチモン含有酸化物などが挙げられ、好ましくは、インジウム含有酸化物、より好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。
【００７４】
透明導電層５の材料としてＩＴＯを用いる場合、酸化スズ（ＳｎＯ２）含有量は、酸化スズおよび酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）の合計量に対して、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上であり、また、例えば、１５質量％以下、好ましくは、１３質量％以下である。酸化スズの含有量が上記下限以上であれば、ＩＴＯ層の耐久性をより一層良好にすることができる。酸化スズの含有量が上記上限以下であれば、ＩＴＯ層の結晶転化を容易にし、透明性や比抵抗の安定性を向上させることができる。
【００７５】
本明細書中における「ＩＴＯ」とは、少なくともインジウム（Ｉｎ）とスズ（Ｓｎ）とを含む複合酸化物であればよく、これら以外の追加成分を含んでもよい。追加成分としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ以外の金属元素が挙げられ、具体的には、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｆｅ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｇａなどが挙げられる。
【００７６】
透明導電層５の厚みは、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上であり、また、例えば、５０ｎｍ以下、好ましくは、３０ｎｍ以下である。
【００７７】
透明導電層５の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いて、導電性フィルム１の断面を観察することにより測定することができる。
【００７８】
透明導電層５は、結晶質および非晶質のいずれであってもよく、また、結晶質および非晶質の混合体であってもよい。透明導電層５は、好ましくは、結晶質からなり、より具体的には、結晶質ＩＴＯ層である。これにより、透明導電層５の透明性を向上させることができ、また、透明導電層５の表面抵抗値をより一層低減させることができる。
【００７９】
透明導電層５が結晶質であることは、例えば、透明導電層５がＩＴＯ層である場合は、２０℃の塩酸（濃度５質量％）に１５分間浸漬した後、水洗・乾燥し、１５ｍｍ程度の間の端子間抵抗を測定することで判断できる。本明細書においては、塩酸（２０℃、濃度：５質量％）への浸漬・水洗・乾燥後に、１５ｍｍ間の端子間抵抗が１０ｋΩ以下である場合、ＩＴＯ層が結晶質であるものとする。
【００８０】
透明導電層５（特に、結晶質ＩＴＯ層）の表面抵抗値は、例えば、１００Ω／□未満、好ましくは、８０Ω／□以下であり、また、例えば、１０Ω／□以上である。表面抵抗値は、例えば、ＪＩＳ  Ｋ  ７１９４（１９９４年）に準拠して、４端子法により測定することができる。
【００８１】
６．金属層
金属層６は、後工程で配線パターン（後述するパターニング金属層６Ａ）に形成して、例えば、タッチパネルのタッチ入力領域の外側（外周）の外縁部（外周縁部）における配線パターン（例えば、引き回し配線）を形成するための導電性の金属層である。
【００８２】
金属層６は、導電性フィルム１の最上層であって、フィルム形状を有しており、透明導電層５の上面全面に、透明導電層５の上面と接触するように、配置されている。
【００８３】
金属層６の材料としては、例えば、銅、ニッケル、クロム、鉄、チタン、または、それらの合金などの金属が挙げられる。導電性などの観点から、好ましくは、銅が挙げられる。
【００８４】
なお、金属層６が、銅などの酸化が生じやすい材料である場合、その金属層６の表面は酸化されていてもよい。具体的には、金属層６が、銅層である場合は、金属層６は、表面の一部または全部に酸化銅を備える銅層であってもよい。
【００８５】
金属層６の厚みは、例えば、１００ｎｍ以上、好ましくは、１５０ｎｍ以上であり、また、例えば、４００ｎｍ以下、好ましくは、３００ｎｍ以下である。金属層６の厚みが上記下限以上であれば、金属層６の表面抵抗値を低くでき、導電性に優れる。そのため、タッチパネルの大型化に対応して、より一層幅狭で長尺な配線パターン（額縁部の引き回し配線）を形成することが可能となる。また、金属層６の厚みが上記上限以下であれば、額縁部の薄膜化を図ることができる。
【００８６】
金属層６の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いて、導電性フィルム１の断面を観察することにより測定することができる。
【００８７】
７．導電性フィルムの製造方法
導電性フィルム１を製造するには、例えば、ロールトゥロール工程において、透明基材２の一方面に、ハードコート層３、光学調整層４、透明導電層５および金属層６を順に設ける。具体的には、長手方向に長尺な透明基材２を送出ロールから送出して搬送方向下流側に搬送しながら、透明基材２の上面にハードコート層３を設け、次いで、ハードコート層３の上面に光学調整層４を設け、次いで、光学調整層４の上面に透明導電層５を設け、次いで、透明導電層５の上面に金属層６を設け、巻取ロールにて導電性フィルム１を巻き取る。以下、詳述する。
【００８８】
まず、送出ロールに巻回された長尺な透明基材２を用意し、巻取ロールに巻回されるように透明基材２を搬送する。
【００８９】
その後、必要に応じて、透明基材２とハードコート層３との密着性の観点から、透明基材２の表面に、例えば、スパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を実施することができる。また、溶剤洗浄、超音波洗浄などにより透明基材２を除塵、清浄化することができる。
【００９０】
次いで、透明基材２の上面にハードコート層３を設ける。例えば、透明基材２の上面にハードコート組成物を湿式塗工することにより、透明基材２の上面にハードコート層３を形成する。
【００９１】
具体的には、例えば、ハードコート組成物を溶媒で希釈したハードコート組成物塗布液を調製し、続いて、その塗布液を透明基材２の上面に塗布し、乾燥する。
【００９２】
溶媒としては、例えば、有機溶媒、水系溶媒（具体的には、水）などが挙げられ、好ましくは、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール化合物、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン化合物、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル化合物、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル化合物、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族化合物などが挙げられる。これら溶媒は、単独使用または２種以上併用することができる。好ましくは、エステル化合物、エーテル化合物が挙げられる。
【００９３】
塗布液における固形分濃度は、例えば、１質量％以上、好ましくは、１０質量％以上であり、また、例えば、３０質量％以下、好ましくは、２０質量％以下である。
【００９４】
塗布方法としては、塗布液および透明基材２に応じて適宜選択することができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、インクジェット法などが挙げられる。
【００９５】
乾燥温度は、例えば、５０℃以上、好ましくは、６０℃以上であり、例えば、２００℃以下、好ましくは、１５０℃以下である。
【００９６】
乾燥時間は、例えば、０．５分以上、好ましくは、１分以上であり、例えば、６０分以下、好ましくは、２０分以下である。
【００９７】
その後、ハードコート組成物が活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、塗布液の乾燥後に、活性エネルギー線を照射することにより、活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させる。
【００９８】
なお、ハードコート組成物が、熱硬化性樹脂を含有する場合は、この乾燥工程により、溶媒の乾燥とともに、熱硬化性樹脂を熱硬化することができる。
【００９９】
次いで、ハードコート層３の上面に光学調整層４を設ける。例えば、ハードコート層３の上面に光学調整組成物を湿式塗工することにより、ハードコート層３の上面に光学調整層４を形成する。
【０１００】
具体的には、例えば、必要に応じて光学調整組成物を溶媒で希釈した光学調整組成物塗布液を調製し、続いて、その塗布液をハードコート層３の上面に塗布し、乾燥する。
【０１０１】
光学調整組成物の調製、塗布、乾燥などの条件は、ハードコート組成物で例示した調製、塗布、乾燥などの条件と同一のものが挙げられる。
【０１０２】
その後、光学調整組成物が活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、塗布液の乾燥後に、活性エネルギー線を照射することにより、活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させる。
【０１０３】
また、光学調整組成物が、熱硬化性樹脂を含有する場合は、この乾燥工程により、溶媒の乾燥とともに、熱硬化性樹脂を熱硬化することができる。
【０１０４】
特に、本発明では、光学調整組成物として、光学調整層を厚み方向に均等に３つの層に区分したときに、最も高いＳｉ元素存在割合を有する層のＳｉ元素存在割合と、最も低いＳｉ元素存在割合を有する層のＳｉ元素存在割合との差が、１５％以下であるような光学調整組成物を用いる。このような光学調整組成物は、ＳｉＯ２粒子、ＺｒＯ２粒子および樹脂成分を含有する公知または市販の光学用機能性コーティング材から適宜選択して用いればよい。このような光学用機能性コーティング材としては、具体的には、例えば、荒川化学社製の「ＲＡ０２６」、「ＲＡ０４３」などが挙げられる。
【０１０５】
次いで、光学調整層４の上面に透明導電層５を設ける。例えば、乾式方法により、光学調整層４の上面に透明導電層５を形成する。
【０１０６】
乾式方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。この方法により、薄膜であり、かつ、厚みが均一である透明導電層５を形成することができる。
【０１０７】
スパッタリング法は、真空チャンバー内にターゲットおよび被着体（光学調整層４およびハードコート層３が積層された透明基材２）を対向配置し、ガスを供給するとともに電源から電圧を印加することによりガスイオンを加速しターゲットに照射させて、ターゲット表面からターゲット材料をはじき出して、そのターゲット材料を被着体表面に積層させる。
【０１０８】
スパッタリング法としては、例えば、２極スパッタリング法、ＥＣＲ（電子サイクロトロン共鳴）スパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法、イオンビームスパッタリング法などが挙げられる。好ましくは、マグネトロンスパッタリング法が挙げられる。
【０１０９】
スパッタリング法を採用する場合、ターゲット材料としては、透明導電層５を構成する上述の金属酸化物などが挙げられ、好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。ＩＴＯの酸化スズ濃度は、ＩＴＯ層の耐久性、結晶化などの観点から、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上であり、また、例えば、１５質量％以下、好ましくは、１３質量％以下である。
【０１１０】
ガスとしては、例えば、Ａｒなどの不活性ガスが挙げられる。また、必要に応じて、酸素ガスなどの反応性ガスを併用することができる。反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの流量比（ｓｃｃｍ）は特に限定しないが、スパッタガスおよび反応性ガスの合計流量比に対して、例えば、０．１流量％以上５流量％以下である。
【０１１１】
スパッタリング時の気圧は、スパッタリングレートの低下抑制、放電安定性などの観点から、例えば、１Ｐａ以下であり、好ましくは、０．１Ｐａ以上０．７Ｐａ以下である。
【０１１２】
電源は、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＭＦ電源およびＲＦ電源のいずれであってもよく、また、これらの組み合わせであってもよい。
【０１１３】
次いで、透明導電層５の上面に金属層６を設ける。例えば、乾式方法により、透明導電層５の上面に金属層６を形成する。
【０１１４】
乾式方法としては、透明導電層５の形成で上述したものと同様のものが挙げられ、好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。この方法により、厚膜であっても、均一な厚みを有する金属層６を形成することができる。
【０１１５】
金属層６におけるスパッタリング法の条件も、透明導電層５の形成で例示した条件と同一のものが挙げられる。
【０１１６】
なお、ターゲット材料としては、金属層６を構成する上述の金属などが挙げられ、好ましくは、銅が挙げられる。
【０１１７】
このようにして、図1に示すように、透明基材２、ハードコート層３、光学調整層４、透明導電層５、および、金属層６を備える導電性フィルム１が得られる。
【０１１８】
なお、必要に応じて、導電性フィルム１の透明導電層５に対して、結晶転化処理を実施することができる。結晶化転化処理は、得られた導電性フィルム１に対して実施してもよく、また、金属層６を積層する前の導電性フィルム１（中間積層体、すなわち、透明基材２／ハードコート層３／光学調整層４／透明導電層５の積層体）に対して実施していてもよい。
【０１１９】
具体的には、導電性フィルム１または中間積層体に大気下で加熱処理を実施する。
【０１２０】
加熱処理は、例えば、赤外線ヒーター、オーブンなどを用いて実施することができる。
【０１２１】
加熱温度は、例えば、１００℃以上、好ましくは、１２０℃以上であり、また、例えば、２００℃以下、好ましくは、１６０℃以下である。加熱温度が上記範囲内であれば、透明基材２の熱損傷および透明基材２から発生する不純物を抑制しつつ、結晶転化を確実にすることができる。
【０１２２】
加熱時間は、加熱温度に応じて適宜決定されるが、例えば、１０分以上、好ましくは、３０分以上であり、また、例えば、５時間以下、好ましくは、３時間以下である。
【０１２３】
これにより、結晶化された透明導電層５を備える導電性フィルム１が得られる。
【０１２４】
なお、上記工程において、各層の形成ごとに巻取ロールに巻回してもよい。また、ハードコート層３、光学調整層４、透明導電層５および金属層６の形成まで巻回せずに連続的に実施して、金属層６の形成後に巻取ロールに巻回してもよい。
【０１２５】
なお、必要に応じて、結晶転化処理の前または後において、公知のエッチング手法を用いて、透明導電層５および／または金属層６をストライプ状などの配線パターンにパターニングしてもよい。
【０１２６】
透明導電層５および金属層６をエッチングする場合、これらを同時にエッチングしてもよく、また、別々にエッチングしてもよいが、好ましくは、透明導電層５および金属層６をそれぞれ別々のパターンに確実に形成できる観点から、これらを別々にエッチングする。
【０１２７】
例えば、まず、金属層６の平面視周端部（例えば、引き回し配線に相当する領域）に所望の配線パターン（例えば、引き回し配線）が形成されるように、金属層６（特に、平面視中央部）をエッチングにより除去する。次いで、金属層６から露出した透明導電層５（特に、平面視中央部）を、所望の配線パターン（例えば、タッチ入力領域における配線パターン）が形成されるように、エッチングにより除去する。
【０１２８】
これにより、図２に示すように、導電性フィルム１の一実施形態として、透明基材２、ハードコート層３、光学調整層４、パターニング透明導電層５Ａ、および、パターニング金属層６Ａを備えるパターニング導電性フィルム１Ａが得られる。
【０１２９】
なお、パターニング金属層６Ａは、平面視枠形状の額縁部を形成し、パターニング透明導電層５Ａは、パターニング金属層６Ａ内において、所定の配線パターンを形成する。
【０１３０】
８．タッチパネル
導電性フィルム１は、例えば、画像表示装置に備えられるタッチパネル用基材に用いられる。タッチパネルの形式としては、例えば、静電容量方式、抵抗膜方式などの各種方式が挙げられ、特に静電容量方式のタッチパネルに好適に用いられる。具体的には、例えば、パターニング導電性フィルム１Ａを保護ガラスなどの保護基材に配置することにより、タッチパネルとして用いる。
【０１３１】
また、導電性フィルム１は、例えば、電気泳動方式、ツイストボール方式、サーマル・リライタブル方式、光書き込み液晶方式、高分子分散型液晶方式、ゲスト・ホスト液晶方式、トナー表示方式、クロミズム方式、電界析出方式などのフレキシブル表示素子にも好適に利用できる。
【０１３２】
９．作用効果
この導電性フィルム１は、透明基材２、光学調整層４、透明導電層５および金属層６を上側に向かって順に備える。また、光学調整層４が、ＳｉＯ２粒子、ＺｒＯ２粒子および樹脂成分を含有している。このため、透明導電層５を配線パターン（例えば、タッチパネルのタッチ入力領域におけるパターン；パターニング透明導電層５Ａ）に形成したときに、その配線パターンの視認を抑制できる。
【０１３３】
また、光学調整層４の上面４ａから下側に１０ｎｍまでの範囲において、ＳｉおよびＺｒの合計元素存在割合を１００％としたときのＳｉ元素存在割合が、２０％以上である。このため、透明導電層５（無機層）と光学調整層４（有機層）との界面における密着性が向上している。したがって、金属層６が、光学調整層４とともに、透明基材２から剥離することを抑制できる。
【０１３４】
また、光学調整層４を厚み方向に均等に３つの層に区分したときに、最も高いＳｉ元素存在割合を有する層のＳｉ元素存在割合と、最も低いＳｉ元素存在割合を有する層のＳｉ元素存在割合との差が、１５％以下である。このため、光学調整層４において、ＳｉＯ２粒子が厚み方向に均一に存在しており、ＳｉＯ２粒子の偏在による光学調整層４の光学特性の変化、具体的には、色味の発生を抑制することができる。
【０１３５】
なお、本発明者らは、光学調整層４に密着機能を付与するため、ＺｒＯ２粒子を有する光学調整層４にＳｉＯ２粒子を配合することを検討したところ、ＺｒＯ２粒子とＳｉＯ２粒子との関係で、ＳｉＯ２粒子が厚み方向に偏在して、光学調整層４の光学特性に影響を及ぼすことを新たに知見した。具体的には、無機粒子としてＺｒＯ２粒子のみを有する光学調整層層４の反射スペクトルのピーク位置がＳｉＯ２粒子配合のため大幅に変化して、光学調整層４の色味に影響を及ぼすことを知見した。この知見に基づき、本発明者らは、光学調整層４内部のＳｉ元素存在割合に着目し、上記構成を採用することによって、光学調整層４の光学特性の低下を抑制しつつ、金属層６の剥離を抑制したものである。
【０１３６】
＜変形例＞
図１に示す実施形態では、導電性フィルム１は、ハードコート層３を備えているが、例えば、図３に示すように、導電性フィルム１は、ハードコート層３を備えなくてもよい。すなわち、図３に示す導電性フィルム１は、透明基材２と、光学調整層４と、透明導電層５と、金属層６とからなる。
【０１３７】
また、図２に示す実施形態では、パターニング導電性フィルム１Ａは、ハードコート層３を備えているが、例えば、図４に示すように、導電性フィルム１は、ハードコート層３を備えなくてもよい。すなわち、図４に示す導電性フィルム１は、透明基材２と、光学調整層４と、パターニング透明導電層５Ａと、パターニング金属層６Ａとからなる。
【０１３８】
この実施形態においても、図１および図２に示す実施形態と同様の作用効果を奏する。好ましくは、耐擦傷性の観点から、図１および図３に示す実施形態が挙げられる。
【０１３９】
また、図１および図２に示す実施形態は、透明基材２の下面が露出されているが、例えば、図示しないが、透明基材２の下面に、さらに、ハードコート層３、光学調整層４、透明導電層５および金属層６の全部または一部を備えていてもよい。
【０１４０】
この実施形態においても、図１および図２に示す実施形態と同様の作用効果を奏する。
【実施例】
【０１４１】
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値(「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値(「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。
【０１４２】
（実施例１）
長尺な透明基材として、厚み５５μｍのシクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰフィルム、日本ゼオン社製、「ゼオノアＺＦ１６」）を用意した。
【０１４３】
紫外線硬化型アクリル樹脂（ＤＩＣ社製、「ＥＬＳ８８８」）１００質量部、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）２質量部および酢酸エチル１６０質量を混合して、ハードコート組成物塗布液を調製した。ＣＯＰフィルムの上面に、ハードコート組成物塗布液を塗布して、８０℃１分間の条件で乾燥させて、紫外線を照射した。これにより、厚み２μｍのハードコート層をＣＯＰフィルムの上面に形成した。
【０１４４】
光学調整組成物（荒川化学工業社製、「ＲＡ０２６」）１００質量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテル７００質量部を混合して、光学調整組成物塗布液を調製した。ハードコート層の上面に、光学調整組成物塗布液を塗布して、６０℃１分間の条件で乾燥させて、紫外線を照射した。これにより、厚み８０ｎｍの光学調整層をハードコート層の上面に形成した。
【０１４５】
なお、光学調整組成物（荒川化学工業社製、「ＲＡ０２６」）の固形分は、無機粒子成分５９．５質量％および樹脂成分（アクリル系紫外線硬化性樹脂）４０．５質量％であった。また、無機粒子成分の割合は、ＳｉＯ２粒子（平均粒子径１０ｎｍ）１４．２５質量％およびＺｒＯ２粒子（平均粒子径２５ｎｍ）８５．７５質量％であった。
【０１４６】
次いで、ＣＯＰフィルム／ハードコート層／光学調整層の積層体を、巻き取り式スパッタリング装置に投入して、光学調整層の上面に、厚みが３０ｎｍのＩＴＯ層（非晶質）を形成した。具体的には、アルゴンガス９８％および酸素ガス２％を導入した気圧０．４Ｐａの真空雰囲気下で、９７質量％の酸化インジウムおよび３質量％の酸化スズの焼結体からなるＩＴＯターゲットを用いて、光学調整層に対してスパッタリングを実施した。
【０１４７】
次いで、ＣＯＰフィルム／ハードコート層／光学調整層／ＩＴＯ層（非晶質）の積層体を、巻き取り式スパッタリング装置に投入して、ＩＴＯ層の上面に、厚みが２００ｎｍの銅層を形成した。具体的には、アルゴンガスを導入した気圧０．４Ｐａの真空雰囲気下で、無酸素銅からなるＣｕターゲットを用いて、ＩＴＯ層に対してスパッタリングを実施した。
【０１４８】
これにより、実施例１の導電性フィルムを作製した。
【０１４９】
（実施例２）
光学調整層の形成において、光学調整組成物として、荒川化学工業社製の「ＲＡ０４３」を用いた以外は、実施例１と同様にして、導電性フィルムを作製した。
【０１５０】
なお、荒川化学工業社製の「ＲＡ０４３」の固形分は、無機粒子成分５３．５質量％および樹脂成分（アクリル系紫外線硬化性樹脂）４６．５質量％であった。また、無機粒子成分の割合は、ＳｉＯ２粒子（平均粒径１０ｎｍ）２６．６３質量％およびＺｒＯ２粒子（平均粒径２５ｎｍ）７３．３７質量％であった。ＳｉＯ２粒子およびＺｒＯ２粒子は、実施例１と同様の表面処理が施されていた。
【０１５１】
（比較例１）
光学調整層の形成において、光学調整組成物として、荒川化学工業社製の「オプスターＫＺ６９６１」を用いた以外は、実施例１と同様にして、導電性フィルムを作製した。
【０１５２】
なお、荒川化学工業社製の「オプスターＫＺ６９６１」の固形分は、無機粒子成分５９．５質量％および樹脂成分（アクリル系紫外線硬化性樹脂）４０．５質量％であった。また、無機粒子成分の割合は、ＳｉＯ２（平均粒子径１０ｎｍ）１４．２５質量％およびＺｒＯ２粒子（平均粒子径２５ｎｍ）８５．７５質量％であった。
【０１５３】
（比較例２）
光学調整層の形成において、光学調整組成物として、東洋インキ社製の「ＴＹＺ６４−Ａ０３」を用いた以外は、実施例１と同様にして、導電性フィルムを作製した。
【０１５４】
（比較例３）
光学調整層の形成において、光学調整組成物として、荒川化学工業社製の「ＲＡ００１」を用いた以外は、実施例１と同様にして、導電性フィルムを作製した。
【０１５５】
なお、荒川化学工業社製の「ＲＡ００１」の固形分は、無機粒子成分５３．５質量％および樹脂成分（アクリル系紫外線硬化性樹脂）４６．５質量％であった。また、無機粒子成分の割合は、ＳｉＯ２粒子（平均粒径１０ｎｍ）２６．６３質量％およびＺｒＯ２粒子（平均粒径２５ｎｍ）７３．３７質量％であった。
【０１５６】
（比較例４）
光学調整層の形成において、光学調整組成物として、荒川化学工業社製の「オプスターＫＺ６９５６」を用いた以外は、実施例１と同様にして、導電性フィルムを作製した。
【０１５７】
なお、荒川化学工業社製の「オプスターＫＺ６９５６」の固形分は、無機粒子成分５１．７質量％および樹脂成分（アクリル系紫外線硬化性樹脂）４８．３質量％であった。また、無機粒子成分の割合は、ＺｒＯ２粒子（平均粒径２５ｎｍ）１００質量％であった。
【０１５８】
（各層の厚み）
厚みが１．０μｍ未満の層は、透過型電子顕微鏡（日立製作所社製、「Ｈ−７６５０」）を用いて、導電性フィルムの断面を観察して測定した。厚みが１．０μｍ以上の層は、膜厚計（Ｐｅａｃｏｃｋ社製  デジタルダイアルゲージＤＧ−２０５）を用いて測定した。
【０１５９】
（光学調整層の屈折率）
アッベ屈折率計（アタゴ社製）を用いて、光学調整層の波長５８９ｎｍにおける屈折率を測定した。結果を表１に示す。
【０１６０】
（光学調整層の元素分析）
各実施例および各比較例で得られた導電性フィルムから、ミクロトーム（「ＵＣ７」、Ｌｅｉｃａ  ｍｉｃｒｏｍａｔｅｒｉａｌｓ社製）を用いて、超薄切片となる試料を作製した。この試料の光学調整層部分において、エネルギー分散型Ｘ線分析システム（「ＮＯＲＡＮ  Ｓｙｓｔｅｍ７」、Ｔｈｅｒｍｏ  Ｆｉｓｈｅｒ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製）を用いて、ＳｉおよびＺｒの元素分析を実施した。その後、上記Ｘ線分析システムに搭載のソフトウェアを用いて、元素マッピングを実施し、Ｓｉの元素存在割合を算出した。
【０１６１】
このとき、光学調整層内のＳｉ元素を緑色に、Ｚｒ元素を赤色に着色して、緑色の面積および赤色の面積をそれぞれＳｉ元素存在量およびＺｒ元素存在量とした。そして、Ｓｉ元素存在量およびＺｒ元素存在量の合計を１００として、Ｓｉ元素存在量の割合を算出した。すなわち、式「Ｓｉ元素存在量／（Ｓｉ元素存在量およびＺｒ元素存在量）×１００」により、Ｓｉ元素存在割合を算出した。
【０１６２】
Ｓｉ元素存在割合は、各光学調整層を上下方向に均等に、上層、中間層および下層の３分割にして、３層ごとに算出した。
【０１６３】
また、光学調整層の上面から深さ１０ｎｍまでの範囲に対しても、Ｓｉ元素存在割合を同様に算出した。
【０１６４】
これらの結果を表１に示す。また、実施例１、比較例２および比較例３の光学調整層のＴＥＭ断面図に元素マッピングしたときの画像を図５〜図７に示す。
【０１６５】
（密着性；銅層の非剥離性）
各実施例および各比較例で得られた導電性フィルムの銅層の表面に対して、１ｍｍ角のマス目が１００個（１０行×１０列）形成するように、カッターナイフを用いて碁盤目状に切り目を入れた。次いで、切り目を入れた銅層表面に、粘着テープ（積水化学工業社製、「セロテープ（登録商標）Ｎｏ．２５２」）を貼り付けた後、剥離する工程を２回繰り返した。このときの銅層表面の表面を目視で観察して、密着性を以下のように評価した。結果を表１に示す。
５：銅層の剥離が全く見られなかった（剥離面積が１％未満）。
４：碁盤目の切り目周辺に、欠けが見られる程度であった（剥離面積が１％以上１０％未満）。
３：銅層の剥離面積が１０％以上４０％未満であった。
２：銅層の剥離面積が４０％以上６０％未満であった。
１：銅層の剥離面積が６０％以上８０％未満であった。
０：銅層の剥離面積が８０％以上であった。
【０１６６】
（光学調整層の光学特性：ピーク反射率の変化）
各実施例および各比較例において、銅層およびＩＴＯ層を形成する前のフィルム（ＣＯＰフィルム／ハードコート層／光学調整層の積層体）を用意した。各フィルムの波長２００ｎｍ〜８００ｎｍの反射スペクトルを、分光光度計（「Ｕ４１００」、日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて取得した。各実施例および各比較例の反射スペクトルを、各反射スペクトルのボトム位置が合うように、重ね合わせた。次いで、比較例４の反射スペクトル（ＺｒＯ２粒子１００質量％のスペクトル）の最大ピーク位置の反射率と、各実施例および各比較例の反射スペクトルの最大ピーク位置の反射率とを算出した。
【０１６７】
これらの最大ピーク反射率の差が１．０％未満である場合を〇と評価し、１．０％以上、５．０％未満である場合を△と評価し、５．０％以上である場合を×と評価した。結果を表１に示す。
【０１６８】
なお、反射スペクトルの最大ピーク反射率の差が大きくなればなるほど、従来の光学調整層（無機粒子としてＺｒＯ２粒子が１００質量％含有）が有する光学特性と異なるため、色味（青色や黄色の呈色）が生じてくる。そのため、好ましくは、１．０％未満であることが求められる。
【０１６９】
（配線パターンの視認抑制）
各実施例および各比較例で得られた導電性フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍに切り取り、その導電性フィルムの金属層上に、所定パターンのドライフィルムレジストを配置し、金属層のみをエッチングした後、レジストを除去した。これにより、周端縁のみに、額縁の引き回し配線に相当する金属層をパターニングした。
【０１７０】
次いで、導電性フィルムの額縁を除く平面視中央のＩＴＯ層に、所定パターンのドライフィルムレジストを配置し、ＩＴＯ層のみをエッチングした後、レジストを除去した。これにより、平面視中央に、配線パターンに相当するＩＴＯ層をパターニングした（図２参照）。
【０１７１】
得られたパターニング導電性フィルムの配線パターンを、ＬＥＤ光源下で、斜め４５度方向から目視した。
【０１７２】
配線パターンを確認されなかった場合を○と評価し、配線パターンが僅かに確認された場合を△と評価し、配線パターンが明確に確認された場合を×と評価した。結果を表１に示す。
【０１７３】
【表１】
2020075364.tif 000003
【符号の説明】
【０１７４】
１  導電性フィルム
２  透明基材
３  ハードコート層
４  光学調整層
５  透明導電層
６  金属層
【図１】
2020075364.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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