(57)【要約】【課題】光学機能層への液晶層の転写時に、シワや不定形状の異物の発生が抑制された液晶層を有する光学積層体を製造するために好適な積層体、接着層付き積層体、基材層付き光学積層体、光学積層体、及びその製造方法を提供する。【解決手段】積層体は、基材層を含む基材層含有層上に、第１液晶層を含む第１液晶層含有層が設けられている。基材層含有層は、第１液晶層含有層に対して剥離可能である。第１液晶層は、第１液晶層の面に対して水平方向に配向している液晶化合物を含む。第１液晶層含有層の突刺し試験における変位量は、２．０ｍｍ以下である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層を含む基材層含有層上に、第１液晶層を含む第１液晶層含有層が設けられた積層体であって、
前記基材層含有層は、前記第１液晶層含有層に対して剥離可能であり、
前記第１液晶層は、前記第１液晶層の面に対して水平方向に配向している液晶化合物を含み、
前記第１液晶層含有層の突刺し試験における変位量は、２．０ｍｍ以下である、積層体。
【請求項２】
前記基材層含有層と前記第１液晶層含有層との間の密着力は、０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上である、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記基材層含有層は、さらに配向層を含み、
前記第１液晶層含有層は、前記基材層含有層の前記配向層側に設けられている、請求項１又は２に記載の積層体。
【請求項４】
前記第１液晶層含有層は、さらに配向層を含み、
前記基材層含有層は、前記第１液晶層含有層の前記配向層側に設けられている、請求項１又は２に記載の積層体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体と、接着層とを含む接着層付き積層体であって、
前記接着層は、前記積層体の前記第１液晶層含有層側に積層されており、
前記第１液晶層含有層は、前記接着層が積層されていない未積層領域を有する、接着層付き積層体。
【請求項６】
前記未積層領域は、前記接着層付き積層体における幅方向の少なくとも一方の端部に存在する、請求項５に記載の接着層付き積層体。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体、接着層、及び光学機能層をこの順に含む基材層付き光学積層体であって、
前記接着層は、前記積層体の前記第１液晶層含有層側に設けられている、基材層付き光学積層体。
【請求項８】
請求項５又は６に記載の接着層付き積層体の前記接着層上に、光学機能層が設けられている、基材層付き光学積層体。
【請求項９】
前記光学機能層は、偏光層を含む、請求項７又は８に記載の基材層付き光学積層体。
【請求項１０】
前記光学機能層は、第２液晶層を含む、請求項７〜９のいずれか１項に記載の基材層付き光学積層体。
【請求項１１】
第１’液晶層を含む第１’液晶層含有層と、接着層と、光学機能層とをこの順に含む光学積層体であって、
前記第１’液晶層は、前記第１’液晶層の面に対して水平方向に配向している液晶化合物を含み、
前記第１’液晶層含有層の突刺し試験における変位量は、２．０ｍｍ以下である、光学積層体。
【請求項１２】
前記第１’液晶層含有層は、さらに配向層を含み、
前記配向層は、第１’液晶層の前記接着層とは反対側に設けられている、請求項１１に記載の光学積層体。
【請求項１３】
第１’液晶層を含む第１’液晶層含有層と、接着層と、光学機能層とをこの順に含む光学積層体の製造方法であって、
請求項７〜１０のいずれか１項に記載の基材層付き光学積層体から、前記基材層含有層を剥離する工程を含む、光学積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体、接着層付き積層体、基材層付き光学積層体、光学積層体、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の表示装置では、外光の反射防止のために、直線偏光板と位相差板とが積層された楕円偏光板等が用いられることがある。この楕円偏光板を構成する位相差板として、重合性液晶化合物を硬化させた層（液晶層）やその積層体からなる位相差板が知られている。特許文献１には、基材上に、当該基材の面に対して水平配向させた液晶層を形成し、これを直線偏光板に転写する転写法により、この液晶層を直線偏光板に積層する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−２１９７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような水平配向させた液晶層には、基材から直線偏光板に転写する際に、端部からシワや不定形状の異物が生じやすいという課題があった。特許文献１には、接着剤層、液晶層との幅関係の調整により異物発生を抑制する方法が記載されているが、幅関係の調整が難しい場合には有効な方法ではなかった。
【０００５】
本発明は、光学機能層への液晶層の転写時に、シワや不定形状の異物の発生が抑制された液晶層を有する光学積層体を製造するために好適な積層体、接着層付き積層体、基材層付き光学積層体、光学積層体、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下に示す積層体、接着層付き積層体、基材層付き光学積層体、光学積層体、及びその製造方法を提供する。
〔１〕  基材層を含む基材層含有層上に、第１液晶層を含む第１液晶層含有層が設けられた積層体であって、
前記基材層含有層は、前記第１液晶層含有層に対して剥離可能であり、
前記第１液晶層は、前記第１液晶層の面に対して水平方向に配向している液晶化合物を含み、
前記第１液晶層含有層の突刺し試験における変位量は、２．０ｍｍ以下である、積層体。
〔２〕  前記基材層含有層と前記第１液晶層含有層との間の密着力は、０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上である、〔１〕に記載の積層体。
〔３〕  前記基材層含有層は、さらに配向層を含み、
前記第１液晶層含有層は、前記基材層含有層の前記配向層側に設けられている、〔１〕又は〔２〕に記載の積層体。
〔４〕  前記第１液晶層含有層は、さらに配向層を含み、
前記基材層含有層は、前記第１液晶層含有層の前記配向層側に設けられている、〔１〕又は〔２〕に記載の積層体。
〔５〕  〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の積層体と、接着層とを含む接着層付き積層体であって、
前記接着層は、前記積層体の前記第１液晶層含有層側に積層されており、
前記第１液晶層含有層は、前記接着層が積層されていない未積層領域を有する、接着層付き積層体。
〔６〕  前記未積層領域は、前記接着層付き積層体における幅方向の少なくとも一方の端部に存在する、請求項〔５〕に記載の接着層付き積層体。
〔７〕  〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の積層体、接着層、及び光学機能層をこの順に含む基材層付き光学積層体であって、
前記接着層は、前記積層体の前記第１液晶層含有層側に設けられている、基材層付き光学積層体。
〔８〕  〔５〕又は〔６〕に記載の接着層付き積層体の前記接着層上に、光学機能層が設けられている、基材層付き光学積層体。
〔９〕  前記光学機能層は、偏光層を含む、〔７〕又は〔８〕に記載の基材層付き光学積層体。
〔１０〕  前記光学機能層は、第２液晶層を含む、〔７〕〜〔９〕のいずれかに記載の基材層付き光学積層体。
〔１１〕  第１’液晶層を含む第１’液晶層含有層と、接着層と、光学機能層とをこの順に含む光学積層体であって、
前記第１’液晶層は、前記第１’液晶層の面に対して水平方向に配向している液晶化合物を含み、
前記第１’液晶層含有層の突刺し試験における変位量は、２．０ｍｍ以下である、光学積層体。
〔１２〕  前記第１’液晶層含有層は、さらに配向層を含み、
前記配向層は、第１’液晶層の前記接着層とは反対側に設けられている、〔１１〕に記載の光学積層体。
〔１３〕  第１’液晶層を含む第１’液晶層含有層と、接着層と、光学機能層とをこの順に含む光学積層体の製造方法であって、
前記〔７〕〜〔１０〕のいずれかに記載の基材層付き光学積層体から、前記基材層含有層を剥離する工程を含む、光学積層体の製造方法。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、光学機能層への液晶層の転写時に、シワや不定形状の異物の発生が抑制された液晶層を有する光学積層体を製造するために好適な積層体、接着層付き積層体、基材層付き光学積層体、光学積層体、及びその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図２】本発明の積層体の他の例を模式的に示す概略断面図である。
【図３】本発明の接着層付き積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図４】本発明の基材層付き光学積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図５】本発明の基材層付き光学積層体の他の例を模式的に示す概略断面図である。
【図６】本発明の光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。
【図７】本発明の光学積層体の製造工程の他の例を模式的に示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照して本発明の積層体、接着層付き積層体、基材層付き光学積層体、光学積層体、及びその製造方法の好ましい実施形態について説明する。なお、以下に示す各実施形態及びその変形例は任意に組み合わせてもよい。また、各実施形態及びその変形例において、それらよりも先の実施形態又はその変形例で説明した部材と同じ部材については同じ符号を付してその説明を省略することがある。
【００１０】
［実施形態１（積層体）］
図１は、本実施形態の積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。本実施形態の積層体１ａは、図１に示すように、基材層１１ａを含む基材層含有層１０ａ上に第１液晶層１３ａ（第１液晶層含有層）が設けられている。基材層含有層１０ａは、図１に示すように、基材層１１ａと配向層１２ａとを含むことができ、基材層含有層１０ａの配向層１２ａ側に第１液晶層１３ａが設けられており、第１液晶層１３ａは配向層１２ａに直接接している。第１液晶層３１ａは、その面に対して水平方向に配向している液晶化合物を含む。また、基材層含有層１０ａは、第１液晶層１３ａに対して剥離可能となっている。積層体１ａは、第１液晶層１３ａ上に、さらに他の層を有するものであってもよい。積層体１ａは、枚葉体のフィルムであってもよく、長尺のフィルムであってもよい。
【００１１】
積層体１ａはその幅方向断面において、図１に示すように、基材層１１ａ、配向層１２ａ、第１液晶層１３ａの順に幅方向の長さが短くなっており、配向層１２ａの幅方向両端の位置は、基材層１１ａの幅方向両端の位置よりも幅方向内側にあり、第１液晶層１３ａの幅方向両端の位置は、配向層１２ａの幅方向両端の位置よりも幅方向内側にある。なお、積層体１ａは、各層の幅方向の長さ、及び、各層の両端の幅方向の位置が、上記した関係にあるものに限定されるものではない。例えば、基材層１１ａと配向層１２ａとは、幅方向の長さが同じであり、積層体１ａの幅方向断面において幅方向両端の位置が同じであってもよい。また、配向層１２ａと第１液晶層１３ａとは、幅方向の長さが同じであり、積層体１ａの幅方向断面において幅方向両端の位置が同じであってもよく、幅方向の長さが第１液晶層１３ａよりも配向層１２ａの方が短く、配向層１２ａの幅方向両端の位置が、第１液晶層１３ａの幅方向両端の位置よりも幅方向内側にあってもよい。また、図１に示す積層体１ａは、幅方向に対称な構造を有しているが、幅方向に非対称な構造を有していてもよい。
【００１２】
基材層１１ａは、配向層１２ａ及び第１液晶層１３ａを支持する支持層としての機能を有することができる。配向層１２ａは、第１液晶層１３ａを形成するために用いられる液晶化合物を、水平方向に液晶配向させる配向規制力を有することができる。
【００１３】
第１液晶層１３ａは、重合性液晶化合物（液晶化合物）が重合して形成されたものであることができ、例えば、基材層含有層１０ａの配向層１２ａ上に、重合性液晶化合物を含む液晶層形成用組成物を塗布して乾燥し、第１液晶層１３ａの面に対して重合性液晶化合物が水平方向に配向した状態で、紫外線等の活性エネルギー線照射により重合性液晶化合物を重合して硬化させて形成することができる。第１液晶層１３ａは、単層構造を有していてもよいが、２層以上の多層構造を有していてもよい。
【００１４】
第１液晶層１３ａは、突刺し試験における変位量が２．０ｍｍ以下であり、１．５ｍｍ以下であることが好ましく、１．２ｍｍ以下であってもよく、１．１ｍｍ以下であってもよく、また、０（ゼロ）ｍｍ以上であればよいが、通常は０．１ｍｍ以上であり、０．３ｍｍ以上であることが好ましく、０．５ｍｍ以上であることがより好ましい。突刺し試験における変位量が小さくなりすぎると、研磨等の加工時にクラック等の不具合が生じやすくなる傾向にある。また、突刺し試験における変位量を０．５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下の範囲とすることにより、第１液晶層１３ａの転写時の異物発生を効果的に抑制できるとともに、研磨等の加工において加工適性に優れた第１液晶層１３ａを形成しやすくなる。突刺し試験における変位量は、後述する実施例に記載のように突刺し試験機を用いて測定することができる。
【００１５】
積層体１ａは、後述するように、接着層３０ａ及び光学機能層６０ａを有する基材層付き光学積層体３ａ（図４）を得るために用いられるが、この基材層付き光学積層体３ａから、基材層含有層１０ａを剥離することにより、光学積層体４ａ（図６）を得ることができる。水平配向した液晶化合物を含む第１液晶層１３ａの突刺し試験における変位量が２．０ｍｍ以下であると、上記のように基材層付き光学積層体３ａから基材層含有層１０ａを剥離する際に、第１液晶層１３ａの、接着層３０ａが積層された領域である積層領域１３ａｙと、接着層３０ａが積層されていない領域である未積層領域１３ａｘ（図４中、右上がり斜線で示す部分）との間で、第１液晶層１３ａを良好に分離させることができる。これに対し、第１液晶層１３ａの突刺し試験における変位量が２．０ｍｍを超えると、第１液晶層１３ａが伸びやすくなるため、基材層付き光学積層体３ａから基材層含有層１０ａを剥離する際に、積層領域１３ａｙと未積層領域１３ａｘとの間という意図した位置で第１液晶層１３ａが分離されず、分離部分が不定形状の異物となる、分離部分にシワが発生する等の不具合が発生しやすくなる。
【００１６】
第１液晶層１３ａの突刺し試験における変位量は、例えば、水平配向した液晶化合物を含む第１液晶層１３ａを得るために用いる重合性液晶化合物の種類、第１液晶層１３ａにおける重合性液晶化合物の重合度（硬化度）、第１液晶層１３ａに含まれる重合開始剤、反応性添加剤、レベリング剤、重合禁止剤、架橋剤等の添加剤の種類や量、第１液晶層１３ａの厚み等によって調整することができる。第１液晶層１３ａは、厚み以外の条件が同じである場合、厚みが大きいほど伸びにくくなり、第１液晶層１３ａの突刺し試験における変位量が小さくなる傾向にある。第１液晶層１３ａの厚みは、適用される表示装置の種類に応じて適宜選択できるが、０．３μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であってもよく、１μｍ以上であってもよく、また、通常１０μｍ以下であり、５μｍ以下であってもよく、３μｍ以下であることが好ましい。
【００１７】
基材層含有層１０ａと第１液晶層１３ａとの間の密着力は、０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上であることが好ましく、０．０６Ｎ／２５ｍｍ以上であってもよく、０．０７Ｎ／２５ｍｍ以上であってもよく、０．０８Ｎ／２５ｍｍ以上であってもよく、０．１０Ｎ／２５ｍｍ以上であってもよい。基材層含有層１０ａと第１液晶層１３ａとの間の密着力の上限値は、基材層含有層１０ａが第１液晶層１３ａに対して剥離可能であれば特に限定されないが、例えば、０．５Ｎ／２５ｍｍ以下とすることができる。密着力は、後述する実施例に記載の方法によって測定することができる。
【００１８】
基材層含有層１０ａと第１液晶層１３ａとの間の密着力が０．０５Ｎ／２５ｍｍ未満であると、後述する基材層付き光学積層体３ａから基材層含有層１０ａを剥離する際に、積層領域１３ａｙと未積層領域１３ａｘとの間で第１液晶層１３ａが良好に分離されにくくなり、上記した不具合が発生しやすくなる。
【００１９】
基材層含有層１０ａと第１液晶層１３ａとの間の密着力は、配向層１２ａや第１液晶層１３ａに含まれる重合開始剤、反応性添加剤、レベリング剤、重合禁止剤、架橋剤等の添加剤の種類や量で調整することができる。また、上記密着力は、基材層１１ａの配向層１２ａ側の表面、配向層１２ａの表面、及び、第１液晶層１３ａの配向層１２ａ側の表面に対して行う、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理等の表面処理によって調整することもできる。
【００２０】
本実施形態の積層体は、以下に示す変形例のように変更されてもよい。
（実施形態１の変形例１）
上記では、図１に示すように、基材層含有層１０ａが基材層１１ａ及び配向層１２ａを含む積層体１ａを例に挙げて説明したが、基材層含有層が配向層１２ａを含んでいなくてもよく、例えば図２に示す積層体であってもよい。図２は、本実施形態の積層体の他の例を模式的に示す概略断面図である。積層体１ｂは、図２に示すように、基材層１１ｂ（基材層含有層）上に、配向層１２ｂと、水平配向した液晶化合物を含む第１液晶層１３ｂを有する第１液晶層含有層２０ｂとが設けられたものであり、基材層１１ｂは、第１液晶層含有層２０ｂの配向層１２ｂ側に設けられている。第１液晶層１３ｂは、配向層１２ｂに直接接している。また、積層体１ｂをなす基材層１１ｂは、第１液晶層含有層２０ｂに対して剥離可能となっている。
【００２１】
積層体１ｂでは、水平配向した液晶化合物を含む第１液晶層１３ｂを有する第１液晶層含有層２０ｂの突刺し試験における変位量を２．０ｍｍ以下とすることができる。第１液晶層含有層２０ｂの突刺し試験における変位量として採用し得る範囲は上記の実施形態で説明した範囲と同様であるため、その説明を省略する。第１液晶層含有層２０ｂの突刺し試験における変位量を調整する方法としては、上記の実施形態で説明したように、第１液晶層の突刺し試験における変位量を調整する方法に加えて、配向層１２ｂに含まれる成分の種類や量、配向層１２ｂの厚み等によっても調整することができる。第１液晶層含有層２０ｂは、厚み以外の条件が同じである場合、厚みが大きいほど伸びにくくなり、第１液晶層含有層２０ｂの突刺し試験における変位量が小さくなる傾向にある。第１液晶層含有層２０ｂの厚みは、適用される表示装置の種類に応じて適宜選択できるが、０．４μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であってもよく、通常１２μｍ以下であり、８μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。また、第１液晶層１３ｂの厚みは、０．３μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であってもよく、１μｍ以上であってもよく、また、通常１０μｍ以下であり、５μｍ以下であってもよく、３μｍ以下であることが好ましい。配向層１２ｂの厚みは、０．０１μｍ以上であることが好ましく、０．０５μｍ以上であってもよく、また、通常１０μｍ以下であり、３μｍ以下であってもよく、０．５μｍ以下であることが好ましい。
【００２２】
積層体１ｂも、接着層及び光学積層体を有する基材層付き光学積層体を得るために用いられ、この基材層付き光学積層体から基材層１１ｂを剥離することにより、後述する光学積層体４ｂ（図７）を得ることができる。水平配向した液晶化合物を含む第１液晶層含有層２０ｂの突刺し試験における変位量が２．０ｍｍ以下であると、上記したように、基材層付き光学積層体から基材層を剥離する際に、第１液晶層含有層２０ｂの、接着層が積層された領域である積層領域と、接着層が積層されていない領域である未積層領域との間で、第１液晶層含有層２０ｂを良好に分離させることができる。これに対し、第１液晶層含有層２０ｂの突刺し試験における変位量が２．０ｍｍを超えると、第１液晶層含有層２０ｂが伸びやすくなるため、基材層付き光学積層体から基材層１１ｂを剥離する際に、積層領域１３ａｙと未積層領域１３ａｘとの間という意図した位置で第１液晶層含有層２０ｂが分離されず、分離部分が不定形状の異物となる、分離部分にシワが発生する等の不具合が発生しやすくなる。第１液晶層含有層２０ｂの突刺し試験における変位量の好ましい範囲は、上記した第１液晶層１３ａの突刺し試験における変位量の好ましい範囲と同様とすることができる。
【００２３】
また、基材層１１ｂと第１液晶層含有層２０ｂとの間の密着力は、０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上であることが好ましい。この密着力としてさらに採用し得る範囲は、上記の実施形態で説明した範囲と同様であり、その調整方法についても上記の実施形態で説明した範囲と同様であるため、その説明を省略する。基材層１１ｂと第１液晶層含有層２０ｂとの間の密着力が０．０５Ｎ／２５ｍｍ未満であると、基材層付き光学積層体から基材層１１ｂを剥離する際に、積層領域と未積層領域との間で第１液晶層含有層２０ｂが良好に分離されにくくなり、上記した不具合が発生しやすくなる。基材層１１ｂと第１液晶層含有層２０ｂとの間の密着力の好ましい範囲は、上記した基材層含有層１０ａと第１液晶層１３ａとの間の密着力の好ましい範囲と同様とすることができる。
【００２４】
（実施形態１の変形例２）
図１及び図２に示す積層体１ａ及び積層体１ｂでは、配向層を含む場合を例に挙げて説明したが、積層体は、配向層を含まないものであってもよい。
【００２５】
［実施形態２（接着層付き積層体）］
図３は、本実施形態の接着層付き積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。本実施形態の接着層付き積層体２ａは、図３に示すように、図１に示す積層体１ａと接着層３０ａとを有し、接着層３０ａは、積層体１ａの第１液晶層１３ａ側に設けられる。接着層３０ａは、接着剤や粘着剤で形成された層である。積層体１ａは、先の実施形態で説明したものであり、接着層付き積層体２ａは、例えば積層体１ａ上に、接着剤や粘着剤を塗布する、又は、粘着剤層を転写すること等によって接着層３０ａを形成して、得ることができる。接着層付き積層体２ａは、接着層３０ａの第１液晶層１３ａとは反対側の表面を被覆する剥離層を有していてもよい。接着層付き積層体２ａは、枚葉体のフィルムであってもよく、長尺のフィルムであってもよい。
【００２６】
接着層３０ａは、図３に示すように、接着層付き積層体２ａの幅方向断面において、第１液晶層１３ａよりも幅方向の長さが短くなっており、接着層３０ａの幅方向両端の位置は、第１液晶層１３ａの幅方向両端の位置よりも幅方向内側にある。また、第１液晶層１３ａは、接着層３０ａが積層された領域である積層領域１３ａｙと、接着層３０ａが積層されていない領域である未積層領域１３ａｘ（図４中、右上がり斜線で示す部分）とを有する。図３に示すように、接着層付き積層体２ａの幅方向断面において、第１液晶層１３ａの両端に未積層領域１３ａｘを設けることにより、接着層付き積層体２ａや、積層体１ａ又は接着層付き積層体２ａを用いて得られる後述する基材層付き光学積層体３ａ（図４）において接着層をはみ出しにくくして、これを搬送するときに、接着層により搬送路が汚染されることを抑制することができる。
【００２７】
なお、接着層付き積層体２ａにおける接着層３０ａは、第１液晶層１３ａ上に設けられ、第１液晶層１３ａに積層領域１３ａｙ及び未積層領域１３ａｘを形成することができれば、図３に示す接着層付き積層体２ａの構造に限定されるものではない。例えば、接着層３０ａの幅方向の一方の端部が、第１液晶層１３ａの幅方向の一方の端部と同じ位置にあってもよい。また、第１液晶層１３ａの平面視において、中央部に未積層領域が形成され、この未積層領域を取り囲む積層領域が形成されるように、第１液晶層１３ａ上に接着層３０ａを設けてもよい。また、第１液晶層１３ａは、積層領域１３ａｙ及び未積層領域１３ａｘをそれぞれ１以上有していればよく、それぞれ２以上有していてもよく、積層領域１３ａｙと未積層領域１３ａｘとの数は、互いに同じであってもよく異なっていてもよい。
【００２８】
接着層付き積層体２ａは、後述するように、光学機能層６０ａを有する基材層付き光学積層体３ａ（図４）を得るために用いられるが、この基材層付き光学積層体３ａから基材層含有層１０ａを剥離することにより、光学積層体４ａ（図６）を得ることができる。接着層付き積層体２ａは、水平配向した液晶化合物を含み、かつ、突刺し試験における変位量が２．０ｍｍ以下である第１液晶層１３ａを有しているため、上記したように、基材層付き光学積層体３ａから基材層含有層１０ａを剥離する際に、第１液晶層１３ａの積層領域１３ａｙと未積層領域１３ａｘとの間で第１液晶層１３ａを良好に分離させることができる。
【００２９】
また、接着層付き積層体２ａにおいて、基材層含有層１０ａと第１液晶層１３ａとの間の密着力が０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上であることにより、第１液晶層１３ａの積層領域１３ａｙと未積層領域１３ａｘとの間で、第１液晶層１３ａを良好に分離させることができる。
【００３０】
本実施形態の接着層付き積層体は、以下に示す変形例のように変更されてもよい。
（実施形態２の変形例１）
上記では、図１に示す積層体１ａと接着層３０ａとを有する接着層付き積層体２ａを例に挙げて説明したが、積層体は、図２に示す積層体１ｂであってもよい。積層体１ｂを用いた接着層付き積層体は、後述する光学機能層を有する基材層付き光学積層体を得るために用いられ、この基材層付き光学積層体から基材層１１ｂ（基材層含有層）が剥離されることにより、後述する光学積層体４ｂ（図７）を得ることができる。積層体１ｂを用いた接着層付き積層体では、水平配向した液晶化合物を含む第１液晶層１３ｂを有する第１液晶層含有層２０ｂの突刺し試験における変位量が２．０ｍｍ以下であることにより、基材層付き光学積層体から基材層１１ｂを剥離する際に、第１液晶層含有層２０ｂの、接着層が設けられた領域である積層領域と、接着層が設けられていない領域である未積層領域との間で、第１液晶層含有層２０ｂを良好に分離させることができる。また、基材層１１ｂと第１液晶層含有層２０ｂとの間の密着力が０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上であることにより、基材層付き光学積層体から基材層１１ｂを剥離する際に、積層領域と未積層領域との間で第１液晶層含有層２０ｂを良好に分離させやすくなる。
【００３１】
（実施形態２の変形例２）
上記では、配向層を含む接着層付き積層体を例に挙げて説明したが、接着層付き積層体は、配向層を含まないものであってもよい。
【００３２】
［実施形態３（基材層付き光学積層体）］
図４は、本実施形態の基材層付き光学積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。本実施形態の基材層付き光学積層体３ａは、図４に示すように、図１に示す積層体１ａと、接着層３０ａと、光学機能層６０ａとをこの順に有し、接着層３０ａは、積層体１ａの第１液晶層１３ａ側に設けられる。基材層付き光学積層体３ａは、接着層３０ａを介して、積層体１ａの第１液晶層１３ａと光学機能層６０ａとが対向する構造を有していればよく、積層体１ａと光学機能層６０ａとを接着層３０ａを介して貼合してもよく、図３に示す接着層付き積層体２ａの接着層３０ａ上に光学機能層６０ａを設けてもよい。基材層付き光学積層体３ａに含まれる基材層１１ａ、配向層１２ａ、第１液晶層１３ａ及び接着層３０ａの説明については、先の実施形態で説明したとおりである。光学機能層６０ａは、例えば、偏光層を含んでいてもよく、重合性液晶化合物を重合させて形成された液晶層である第２液晶層を含んでいてもよく、偏光層及び第２液晶層を含んでいてもよい。基材層付き光学積層体３ａは、枚葉体のフィルムであってもよく、長尺のフィルムであってもよい。
【００３３】
光学機能層６０ａは、図４に示すように、基材層付き光学積層体３ａの幅方向断面において、接着層３０ａよりも幅方向の長さが長くなっており、光学機能層６０ａの幅方向両端の位置は、接着層３０ａの幅方向両端の位置よりも幅方向外側にある。光学機能層６０ａの幅方向の長さ及び幅方向両端の位置は、図４に示すものに限定されないが、上記の関係にあることにより、基材層付き光学積層体３ａを搬送するときに、接着層がはみ出して搬送路が汚染されることを抑制することができる。なお、光学機能層６０ａと積層体１ａの各層との幅方向の長さ及び幅方向両端の位置の関係には特に制限はなく、光学機能層６０ａの幅方向の長さは、積層体１ａをなすすべての層よりも長くても短くてもよく、積層体１ａをなすいずれの層とも異なっていてもよく、いずれかの層と同じであってもよい。また、光学機能層６０ａの幅方向両端の位置は、積層体１ａをなすすべての層よりも幅方向外側であっても内側であってもよく、積層体１ａをなすいずれかの層と同じであってもよい。
【００３４】
後述するように、基材層付き光学積層体３ａから基材層含有層１０ａを剥離することにより、光学積層体４ａ（図６）を得ることができる。基材層付き光学積層体３ａは、水平配向した液晶化合物を含み、かつ、突刺し試験における変位量が２．０ｍｍ以下である第１液晶層１３ａを有しているため、上記したように、基材層付き光学積層体３ａから基材層含有層１０ａを剥離する際に、第１液晶層１３ａの積層領域１３ａｙと未積層領域１３ａｘとの間で、第１液晶層１３ａを良好に分離させることができる。
【００３５】
また、基材層付き光学積層体３ａにおいて、基材層含有層１０ａと第１液晶層１３ａとの間の密着力が０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上であることにより、第１液晶層１３ａの積層領域１３ａｙと未積層領域１３ａｘとの間で、第１液晶層１３ａを良好に分離させることができる。
【００３６】
本実施形態の基材層付き光学積層体は、以下に示す変形例のように変更されてもよい。
（実施形態３の変形例１）
上記では、図１に示す積層体１ａと、接着層３０ａと、光学機能層６０ａとを有する基材層付き光学積層体３ａを例に挙げて説明したが、積層体は、図２に示す積層体１ｂであってもよい。積層体１ｂを用いた基材層付き光学積層体から、基材層１１ｂ（基材層含有層）を剥離することにより、後述する光学積層体４ｂ（図７）を得ることができる。積層体１ｂを用いた基材層付き光学積層体では、水平配向した液晶化合物を含む第１液晶層１３ｂを有する第１液晶層含有層２０ｂの突刺し試験における変位量が２．０ｍｍ以下であることにより、基材層付き光学積層体から基材層１１ｂを剥離する際に、第１液晶層含有層２０ｂの、接着層が積層された領域である積層領域と、接着層が積層されていない領域である未積層領域との間で、第１液晶層含有層２０ｂを良好に分離させることができる。また、基材層１１ｂと第１液晶層含有層２０ｂとの間の密着力が０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上であることにより、基材層付き光学積層体から基材層１１ｂを剥離する際に、積層領域と未積層領域との間で第１液晶層含有層２０ｂを良好に分離させやすくなる。
【００３７】
（実施形態３の変形例２）
上記では、配向層を含む接着層付き積層体を例に挙げて説明したが、基材層付き光学積層体は、配向層を含まないものであってもよい。
【００３８】
（実施形態３の変形例３）
上記では、光学機能層６０ａを用いた基材層付き光学積層体３ａ（図４）を例に挙げて説明したが、光学機能層６０ａは、例えば、図１に示す積層体１ａであってもよい。図５は、本実施形態の基材層付き光学積層体の他の例を模式的に示す概略断面図である。図５に示す基材層付き光学積層体３ｃは、積層体１ａ、接着層３０ｃ、及び光学機能層６０ｃをこの順に含む。積層体１ａの説明については、先の実施形態で説明したとおりである。また、接着層３０ｄは、接着層３０ａと同様であり、光学機能層６０ｃは、図１に示す積層体１ａと同じ層構造を有するものであるため、その説明を省略する。
【００３９】
基材層付き光学積層体３ｃでは、光学機能層６０ｃの第１液晶層１３ａ（第２液晶層）側に接着層３０ｃが設けられている。また、基材層付き光学積層体３ｃから積層体１ａをなす基材層含有層１０ａを剥離することにより、光学積層体を得ることができる。
【００４０】
基材層付き光学積層体３ｃでは、光学機能層６０ｃとして図１に示す積層体１ａを用いる場合を例に挙げて説明したが、光学機能層として図２に示す積層体１ｂを用いてもよい。また、光学機能層をなす積層体の第１液晶層や液晶層含有層は、突刺し試験における変位量が２．０ｍｍ以下であってもよく、２．０ｍｍ超であってもよい。
【００４１】
［実施形態４（光学積層体及びその製造方法）］
図６は、本実施形態の光学積層体の製造工程の一例を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。本実施形態の光学積層体４ａは、図６に示すように、第１’液晶層１３’ａ（第１’液晶層含有層）と、接着層３０ａと、光学機能層６０ａとをこの順に含む。第１’液晶層１３’ａは、その面に対して水平方向に配向している液晶化合物を含む。光学積層体４ａに含まれる接着層３０ａ及び光学機能層６０ａの説明については、先の実施形態で説明したとおりである。光学積層体４ａは、枚葉体のフィルムであってもよく、長尺のフィルムであってもよい。
【００４２】
光学積層体４ａの幅方向断面において、第１’液晶層１３’ａと接着層３０とは、図６に示すように幅方向の長さが同じであり、幅方向両端の位置も同じとすることができる。このような光学積層体４ａは、例えば、図４に示す基材層付き光学積層体３ａから基材層含有層１０ａを剥離する工程を経て得ることができる。基材層付き光学積層体３ａから基材層含有層１０ａを剥離すると、図６に示すように、未積層領域１３ａｘが基材層含有層１０ａ上に存在し、積層領域１３ａｙが接着層３０ａ上に存在するように、第１液晶層１３ａを分離することができ、接着層３０ａ上に存在する積層領域１３ａｙが第１’液晶層１３’ａとなる。このような第１液晶層１３ａの分離は、基材層付き光学積層体３ａにおける第１液晶層１３ａが、接着層３０ａが設けられていない未積層領域１３ａｘ（図４中、右上がり斜線で示す部分）と、接着層３０ａが設けられている積層領域１３ａｙとを有するために生じる。具体的には、積層領域１３ａｙは接着層３０が設けられた領域であるため、基材層含有層１０ａを剥離しても、接着層３０ａに固定されて基材層含有層１０ａとともに剥離されにくくなっている。これに対し、未積層領域１３ａｘは接着層３０ａが設けられていない領域であるため、基材層含有層１０ａを剥離すると、基材層含有層１０ａとともに剥離されやすくなっている。その結果、基材層付き光学積層体３ａから基材層含有層１０ａを剥離すると、第１液晶層１３ａは、未積層領域１３ａｘと積層領域１３ａｙとに分離する。
【００４３】
本実施形態では、上記したように、基材層付き光学積層体３ａにおける第１液晶層１３ａは、水平配向した液晶化合物を含み、かつ、突刺し試験における変位量が２．０ｍｍ以下である。そのため、基材層付き光学積層体３ａから基材層含有層１０ａを剥離することにより、未積層領域１３ａｘと積層領域１３ａｙとを良好に分離することができ、積層領域１３ａｙと未積層領域１３ａｘとの間という意図した位置で第１液晶層１３ａが分離されず、分離されず分離部分が不定形状となる、分離部分にシワが発生する等の不具合が発生をすることを抑制することができる。また、突刺し試験における変位量が上記の範囲にあることにより、図６に示すように、第１’液晶層１３’ａの幅方向両端の位置と、接着層３０の幅方向両端の位置とが同じである光学積層体４ａを得やすくなる。
【００４４】
光学積層体４ａの第１’液晶層１３’ａは、突刺し試験における変位量が、先の実施形態で説明した第１液晶層１３ａと同様に、２．０ｍｍ以下であり、１．５ｍｍ以下であることが好ましく、１．２ｍｍ以下であってもよく、１．１ｍｍ以下であってもよく、また、０（ゼロ）ｍｍ以上であればよいが、通常は０．１ｍｍ以上であり、０．３ｍｍ以上であることが好ましく、０．５ｍｍ以上であることがより好ましい。上記のように、基材層付き光学積層体３ａから光学積層体４ａを得る場合、第１’液晶層１３’ａは、先の実施形態で説明した第１液晶層１３ａに由来する層となるため、第１液晶層１３ａと同じ特性を有することができる。
【００４５】
なお、光学積層体４ａは、先の実施形態で説明した光学機能層として用いることもできる。光学積層体４ａを光学機能層として用いた基材層付き光学積層体は、接着層を介して、積層体の液晶層含有層と光学積層体４ａの第１’液晶層１３’ａ（第２液晶層）とが対向したものとすることができる。また、この基材層付き光学積層体から基材層含有層を剥離することによって、光学積層体を得ることができる。
【００４６】
本実施形態の光学積層体及びその製造方法は、以下に示す変形例のように変更されてもよい。
（実施形態４の変形例１）
上記では、第１’液晶層１３’ａ、接着層３０ａ、及び光学機能層６０ａとをこの順に含む光学積層体４ａを例に挙げて説明したが、光学積層体は、さらに配向層を有していてもよく、例えば、図７に示す光学積層体であってもよい。図７は、本実施形態の光学積層体の他の例を模式的に示す概略断面図である。光学積層体４ｂは、図７に示すように、配向層１２’ｂ及び第１’液晶層１３’ｂを含む第１’液晶層含有層２０’ｂと、接着層３０ａと、光学機能層６０ａとをこの順に含む。接着層３０ａは、第１’液晶層含有層２０’ｂの第１’液晶層１３’ｂ側に設けられる。
【００４７】
光学積層体４ｂの幅方向断面において、第１’液晶層含有層２０’ｂ（配向層１２’ｂ及び第１’液晶層１３’ｂ）と接着層３０ａとは、図７に示すように幅方向の長さが同じであり、幅方向両端の位置も同じとすることができる。このような光学積層体４ｂは、例えば、積層体１ｂ（図２）を含む基材層付き光学積層体から、基材層１１ｂ（基材層含有層）を剥離して得ることができる。積層体１ｂを含む基材層付き光学積層体から基材層１１ｂを剥離すると、図６に示す基材層付き光学積層体３ａから光学積層体４ａを得る場合と同様の原理により、図７に示すように、第１液晶層含有層２０ｂ（図２）が、接着層３０ａが積層されていない領域である未積層領域（図７中、右上がり斜線で示す部分）と、接着層３０ａが積層されている領域である積層領域とに分離する。図２に示す積層体１ｂでは、水平配向した液晶化合物を含む第１液晶層１３ｂを有する第１液晶層含有層２０ｂの突刺し試験における変位量が２．０ｍｍ以下である。そのため、積層体１ｂを含む基材層付き光学積層体から基材層１１ｂを剥離すると、第１液晶層含有層２０ｂを、未積層領域と積層領域とを良好に分離することができる。これにより、上記した積層領域が、図７に示す第１’液晶層含有層２０’ｂとなり、第１’液晶層含有層２０’ｂの幅方向両端の位置が、接着層３０ａの幅方向両端の位置と同じである光学積層体４ｂが得られる。
【００４８】
光学積層体４ｂの第１’液晶層含有層２０’ｂは、突刺し試験における変位量が、先の実施形態で説明した第１液晶層含有層２０ｂと同様に、２．０ｍｍ以下であり、１．５ｍｍ以下であることが好ましく、１．２ｍｍ以下であってもよく、１．１ｍｍ以下であってもよく、また、０（ゼロ）ｍｍ以上であればよいが、通常は０．１ｍｍ以上であり、０．３ｍｍ以上であることが好ましく、０．５ｍｍ以上であることがより好ましい。上記のように、積層体１ｂを含む基材層付き光学積層体から光学積層体４ｂを得る場合、第１’液晶層含有層２０’ｂ、第１’液晶層含有層２０’ｂに含まれる配向層１２’ｂ及び第１’液晶層１３’ｂは、先の実施形態で説明した第１液晶層含有層２０ｂに由来する層となるため、第１液晶層含有層２０ｂ、配向層１２ｂ、及び第１液晶層１３ｂとそれぞれ同じ特性を有することができる。
【００４９】
なお、光学積層体４ｂは、先の実施形態で説明した光学機能層として用いることもできる。光学積層体４ｂを光学機能層として用いた基材層付き光学積層体は、接着層を介して、積層体の液晶層含有層と光学積層体４ｂの配向層１２’ｂとが対向したものとすることができる。また、この基材層付き光学積層体から基材層含有層を剥離することによって、光学積層体を得ることができる。
【００５０】
（実施形態４の変形例２）
上記では、図４に示す基材層付き光学積層体３ａから基材層含有層１０ａを剥離して光学積層体４ａ（図６）を得る場合について説明したが、図５に示す基材層付き光学積層体３ｃから基材層含有層１０ａを剥離して光学積層体を得てもよい。
【００５１】
なお、図５に示す基材層付き光学積層体３ｃから基材層含有層１０ａを剥離して得られる光学積層体は、先の実施形態で説明した積層体として用いることもできる。この場合、基材層含有層１０ａを剥離した側に接着層を設け、この接着層上に光学機能層を積層することにより、基材層付き光学積層体を得ることができる。この基材層付き光学積層体から基材層含有層１０ａを剥離することにより、光学積層体を得ることもできる。また、この場合、先の実施形態で説明したように、光学機能層６０ｃに含まれる第１液晶層１３ａの突刺し試験における変位量は、２．０ｍｍ以下とすることが好ましく、光学機能層６０ｃに含まれる基材層含有層１０ａと第１液晶層１３ａとの間の密着力も、０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上とすることが好ましい。これにより、光学機能層６０ｃに含まれる基材層１１ａを剥離することにより、光学機能層６０ｃに含まれる第１液晶層１３ａを、積層領域と未積層領域とで良好に分離することができる。
【００５２】
また、図５に示す基材層付き光学積層体３ｃから基材層含有層１０ａを剥離して得られる光学積層体は、先の実施形態で説明した光学機能層として用いることもできる。
【００５３】
（実施形態４の変形例３）
上記では、未積層領域１３ａｘが幅方向両端にある基材層付き光学積層体３ａから、基材層含有層１０ａを剥離して光学積層体４ａを製造する場合を例に挙げて説明したが、これに限定されない。例えば、基材層付き光学積層体の平面視において、第１液晶層の中央部に未積層領域を有し、未積層領域を取り囲むように積層領域を有する場合にも、基材層付き光学積層体から第１剥離層を剥離することにより、未積層領域と積層領域との間で第１液晶層を良好に分離させることができる。この場合、光学積層体では、その平面視における第１’液晶層の輪郭の位置と接着層の輪郭の位置とを一致させたものとすることができる。
【００５４】
以上、本発明の実施形態及びその変形例について説明したが、本発明はこれらの実施形態及びその変形例に限定されることはなく、例えば、上記の各実施形態及びその変形例の各構造及び各工程を組合わせて実施することもできる。以下、全ての実施形態及びその変形例において共通する各事項について詳細に説明する。
【００５５】
（光学機能層）
光学機能層は、特にその構成に制約はないが、偏光層、偏光層の少なくとも片面に保護層が形成された偏光板、偏光板の少なくとも片面にプロテクトフィルムが積層されたプロテクトフィルム付き偏光板、反射フィルム、半透過型反射フィルム、輝度向上フィルム、光学補償フィルム、防眩機能付きフィルム、位相差フィルム、等であることができ、これらのうちの１つを有するものであってもよく、２つ以上を有する多層構造を有していてもよい。また、光学機能層は、第２液晶層を含んでいてもよい。本明細書において「偏光層」とは、無偏光の光を入射させたとき、吸収軸に直交する振動面をもつ直線偏光を透過させる性質を有する層をいう。
【００５６】
光学機能層に含まれていてもよい偏光層としては、単層のポリビニルアルコール樹脂フィルムに二色性色素が吸着配向したものであってもよく、基材フィルム上に二色性色素が吸着配向したポリビニルアルコール樹脂層を設けた二層以上の積層フィルムであってもよい。また、偏光層は、重合性液晶化合物に二色性色素を配向させ、重合性液晶化合物を重合させた硬化膜であってもよい。この場合、偏光層は、第２液晶層でもあり得る。
【００５７】
光学機能層に含まれていてもよい第２液晶層は、重合性液晶化合物が重合して形成されたものであることができる。第２液晶層は、第２液晶層用基材層、又はこの上に設けられた第２液晶層用配向層上に、重合性液晶化合物を含む液晶層形成用組成物を塗布して乾燥し、紫外線等の活性エネルギー線照射により重合性液晶化合物を重合して硬化させて形成することができる。
【００５８】
（基材層）
基材層は、特にその構成に制約はないが、樹脂材料で形成されたフィルムであることが好ましい。樹脂材料としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、延伸性等に優れる樹脂材料が用いられる。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂；ノルボルネン系ポリマー等の環状ポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル系樹脂；ポリビニルアルコール及びポリ酢酸ビニル等のビニルアルコール系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリエーテルケトン系樹脂；ポリフェニレンスルフィド系樹脂；ポリフェニレンオキシド系樹脂、及びこれらの混合物、共重合物等を挙げることができる。これらの樹脂のうち、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロースエステル系樹脂及び（メタ）アクリル酸系樹脂のいずれか又はこれらの混合物を用いることが好ましい。なお、上記「（メタ）アクリル酸」とは、「アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも１種」を意味する。
【００５９】
基材層は、樹脂を１種類又は２種以上を混合した単層であってもよく、２層以上の多層構造を有していてもよい。多層構造を有する場合、各層をなす樹脂は互いに同じであってもよく異なっていてもよい。基材層が樹脂材料で形成されたフィルムである場合、基材層には、任意の添加剤が添加されていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、及び着色剤等が挙げられる。
【００６０】
基材層の厚みは特に限定されないが、一般には強度や取扱い性等の作業性の点から１〜３００μｍであることが好ましく、１０〜２００μｍであることがより好ましく、３０〜１２０μｍであることがさらに好ましい。
【００６１】
（配向層）
積層体は、基材層と第１液晶層との間に配向層を含んでいてもよい。配向層は、その上に形成される液晶層に含まれる重合性液晶化合物を所望の方向に配向させる、配向規制力を有する。配向層としては、重合性液晶組成物の塗布等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や後述する重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向層としては、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層、光配向ポリマーで形成された光配向性ポリマー層、層表面に凹凸パターンや複数のグルブ（溝）を有するグルブ配向層を挙げることができる。配向規制力制御の容易性の観点から、配向層としては、光配向性ポリマー層が好ましい。配向層の厚みは、０．０１μｍ以上であることが好ましく、０．０５μｍ以上であってもよく、また、通常１０μｍ以下であり、３μｍ以下であってもよく、０．５μｍ以下であることが好ましい。
【００６２】
配向性ポリマー層は、配向性ポリマーを溶剤に溶解した組成物を基材層に塗布して溶剤を除去し、必要に応じてラビング処理をして形成することができる。この場合、配向規制力は、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層では、配向性ポリマーの表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能である。また、配向性ポリマーに架橋剤等を添加することにより、膜強度を調整することが可能である。
【００６３】
光配向性ポリマー層は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む光配向膜形成用組成物を基材層に塗布し、偏光を照射することによって形成することができる。この場合、配向規制力は、光配向性ポリマー層では、光配向性ポリマーに対する偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、配向性ポリマーに架橋剤等を添加することにより、膜強度を調整することが可能である。
【００６４】
光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性、膜強度に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）、及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する基が特に好ましい。
【００６５】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基、及びシンナモイル基等が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及びアゾキシベンゼン構造を有する基等が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基、及びマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。
【００６６】
中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基及びカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。
【００６７】
光配向膜形成用組成物を基材層上に塗布することにより、基材層上に光配向誘起層を形成することができる。該組成物に含まれる溶媒としては、重合性液晶組成物に用い得る溶媒として後述する溶媒と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマーあるいはモノマーの溶解性に応じて適宜選択することができる。
【００６８】
光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマー又はモノマーの種類や目的とする光配向性ポリマー層の厚みによって適宜調節できるが、光配向膜形成用組成物の質量に対して、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコールやポリイミド等の高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。
【００６９】
光配向膜形成用組成物を基材層に塗布する方法としては、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法等の塗布法、フレキソ法等の印刷法等の公知の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶媒を除去する方法としては例えば、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥、及び減圧乾燥法等が挙げられる。
【００７０】
偏光を照射するには、基材層上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶媒を除去したものに直接、偏光ＵＶを照射する形式でも、基材層側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、及びメタルハライドランプがより好ましい。これらの中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、及びメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラー等の偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。
【００７１】
グルブ配向層は、例えば感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光、現像等を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層を基材層に転写して硬化する方法、基材層に活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層に、凹凸を有するロール状の原盤を押し当てる等により凹凸を形成して硬化させる方法等によって形成することができる。
【００７２】
（第１液晶層及び第２液晶層）
第１液晶層及び第２液晶層（以下、両者をまとめて「液晶層」という場合がある。）は、公知の重合性液晶化合物等の液晶化合物を含む組成物を用いて形成することができる。重合性液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。重合性液晶化合物は、少なくとも１つの重合反応に関与しうる重合性反応基、特に光重合性反応基を有する。光重合性反応基とは、光重合開始剤から発生した反応活性種、例えば活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶化合物の液晶性は、液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。重合性液晶化合物は、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７３】
重合性液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２０１０−２７０１０８号公報、特開２０１１−６３６０号公報、及び特開２０１１−２０７７６５号公報に記載されるような液晶化合物等が挙げられる。
【００７４】
重合性液晶化合物を用いる場合には、重合性液晶化合物を含む組成物は、重合性液晶化合物に加え、溶媒、重合開始剤、架橋剤、レベリング剤、酸化防止剤、可塑剤、増感剤などの添加剤をさらに含んでいてもよい。これらの成分は、それぞれ、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７５】
重合性液晶化合物を含む組成物が含有していてもよい溶剤としては、上記重合性液晶化合物を溶解し得る溶剤であって、且つ、上記重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤が好ましい。
【００７６】
溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤；等が挙げられる。溶剤は、単独で使用してもよいし、組み合わせて使用してもよい。
【００７７】
重合性液晶組成物における溶剤の含有量は、通常、固形分１００質量部に対して、１０質量部〜１００００質量部が好ましく、より好ましくは５０質量部〜５０００質量部である。なお固形分とは、重合性液晶組成物における溶剤以外の成分の合計を意味する。
【００７８】
重合性液晶化合物を含む組成物が含有していてもよい重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物であり、より低温条件下で、重合反応を開始できる点で、光重合性開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカル又は酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、オキシム化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩、及びスルホニウム塩が挙げられる。光ラジカル重合開始剤として、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７９】
光ラジカル重合開始剤として市販品を用いてもよい。そのような市販品として、具体的には、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ、登録商標）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア１２７、イルガキュア２９５９、イルガキュア７５４、イルガキュア３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、精工化学株式会社製）、カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＮ−１７１７、アデカオプトマーＮ−１９１９、アデカアークルズＮＣＩ−８３１、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）、及びＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製）が挙げられる。
【００８０】
重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の総量１００重量部に対して、通常、０．１〜３０質量部であり、好ましくは１〜２０質量部であり、より好ましくは１〜１５質量部である。この範囲内であると、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、液晶化合物の配向状態を安定化させやすい。
【００８１】
重合性液晶化合物を含む組成物が含有していてもよい架橋剤は、分子内に１個以上の光、熱反応性基を有する化合物である。架橋剤を用いる事により、液晶層の架橋密度が変化し、膜強度を調整しやすくなる。架橋剤としては、多官能アクリレート化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、メチロール化合物、イソシアネート化合物等が挙げられる。中でも、塗工膜の均一性及び膜強度調整の観点から、多官能アクリレート化合物が好ましい。架橋剤は、分子内に２個以上８個以下の反応性基を有することが好ましく、より好ましくは２個以上６個以下の重合性基を有することが好ましい。
【００８２】
多官能アクリレートとしては、市販品を用いてもよい。そのような市販品として、具体的には、Ａ−ＤＯＤ−Ｎ、Ａ−ＨＤ−Ｎ、Ａ−ＮＯＤ−Ｎ、ＡＰＧ−１００、ＡＰＧ−２００、ＡＰＧ−４００、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＰＴ、ＡＤ−ＴＭＰ、ＡＴＭ−３５Ｅ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−９５５０、Ａ−ＤＰＨ、ＨＤ−Ｎ、ＮＯＤ−Ｎ、ＮＰＧ、ＴＭＰＴ（新中村化学株式会社製）、”ＡＲＯＮＩＸ Ｍ−２２０”、同”Ｍ−３２５”、同”Ｍ−２４０”、同”Ｍ−２７０”同”Ｍ−３０９”同”Ｍ−３１０”、同”Ｍ−３２１”、同”Ｍ−３５０”、同”Ｍ−３６０”、同”Ｍ−３０５”、同”Ｍ−３０６”、同”Ｍ−４５０”、同”Ｍ−４５１”、同”Ｍ−４０８”、同”Ｍ−４００”、同”Ｍ−４０２”、同”Ｍ−４０３”、同”Ｍ−４０４”、同”Ｍ−４０５”、同”Ｍ−４０６”（東亜合成株式会社製）、”ＥＢＥＣＲＹＬ１１”、同”１４５”、同”１５０”、同”４０”、同”１４０”、同”１８０”、ＤＰＧＤＡ、ＨＤＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＨＰＮＤＡ、ＰＥＴＩＡ、ＰＥＴＲＡ、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＤＰＨＡ、ＥＢＥＣＲＹＬシリーズ（ダイセル・サイテック株式会社製）等が挙げられる。
【００８３】
架橋剤の含有量は、重合性液晶化合物の総量１００質量部に対して、好ましくは１質量部〜３０質量部であり、より好ましくは３質量部〜２０質量部である。架橋剤の含有量が下限値以下であると研磨等の加工時に不具合を生じやすくなり、上限値以上であると液晶化合物の配向状態が不安定になり、配向欠陥が発生しやすくなる。
【００８４】
重合性液晶化合物を含む組成物が含有していてもよい反応性添加剤としては、その分子内に炭素−炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、水酸基（−ＯＨ）、アミノ基（−ＮＨ２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が分子内に有する、炭素−炭素不飽和結合及び活性水素反応性基の個数は、通常、それぞれ１〜２０個であり、好ましくはそれぞれ１〜１０個である。
【００８５】
反応性添加剤において、活性水素反応性基は分子内に少なくとも２つ存在することが好ましい。この場合、複数存在する活性水素反応性基は同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
【００８６】
反応性添加剤が分子内に有する炭素−炭素不飽和結合とは、炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合のことをいい、炭素−炭素二重結合であることが好ましい。中でも、反応性添加剤としては、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基として炭素−炭素不飽和結合を分子内に含むことが好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。とりわけ炭素−炭素二重結合としてアクリル基と、活性水素反応性基としてイソシアネート基とを有する反応性添加剤が特に好ましい。
【００８７】
反応性添加剤としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテル等の、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とオキセタン基とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレート等の、（メタ）アクリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリン等の、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート及び２０イソシアナトエチルメタクリレート等の、（メタ）アクリル基とイソシアネート基とを有する化合物、及びこれらモノマーのオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸、ビニル無水マレイン酸等の、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物等が挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、２−イソシアナトエチルアクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレート、又はこれらモノマーのオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート、又は、これらモノマーのオリゴマーが特に好ましい。
【００８８】
重合性液晶組成物が反応性添加剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部以上３０質量部以下であり、好ましくは０．１質量部以上５質量部以下である。
【００８９】
重合性液晶化合物を含む組成物は、組成物を塗布して得られる塗膜をより平坦にするために、レベリング剤を含有していてもよい。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。
【００９０】
レベリング剤として市販品を用いてもよく、具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ  パフォーマンス  マテリアルズ  ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３、同Ｆ−５５６（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３およびＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ  Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。レベリング剤は単独又は２種以上を組み合わせて使用できる。
【００９１】
レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．０５〜３質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物を配向させることが容易であり、かつ得られる液晶硬化膜がより平滑となる傾向にあるため好ましい。
【００９２】
重合性液晶化合物を用いる場合には、重合性液晶化合物を含む組成物を、配向層上に塗布し、相転移温度に加熱することで液晶化合物を水平配向させた塗膜を形成し、この塗膜を硬化させることによって、液晶硬化層である液晶層を形成することができる。あるいは、基材層上に重合性液晶化合物を含む組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を基材層とともに延伸することによって、液晶層を形成してもよい。
【００９３】
重合性液晶化合物を含む組成物を基材層、又は、配向層上に塗布する方法としては、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法等の塗布法、フレキソ法等の印刷法等の公知の方法が挙げられる。
【００９４】
重合性液晶化合物を含む組成物の乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥、及び減圧乾燥法等が挙げられる。この際、重合性液晶組成物から得られた塗膜を加熱することにより、塗膜から溶媒を乾燥除去し、かつ、重合性液晶化合物を配向させることができる。塗膜の加熱温度は、用いる重合性液晶化合物及び塗膜を形成する基材層、配向層等の材質等を考慮して、適宜決定し得るが、重合性液晶化合物を液晶相状態へ相転移させるために、通常、液晶相転移温度以上の温度であることが必要である。
【００９５】
加熱時間は、加熱温度、用いる重合性液晶化合物の種類、溶媒の種類やその沸点、及びその量等に応じて適宜決定し得るが、通常、１５秒〜１０分であり、好ましくは０．５〜５分である。
【００９６】
得られた乾燥塗膜において、重合性液晶化合物の配向状態を保持したまま、重合性液晶化合物を硬化させることにより、所望の配向状態で存在する重合性液晶化合物の重合体である液晶層が形成される。硬化方法としては、熱重合及び光重合が挙げられ、重合の容易さの観点から、光重合が好ましい。光重合において、乾燥塗膜に照射する光としては、当該乾燥塗膜に含まれる光ラジカル重合開始剤の種類、重合性液晶化合物の種類（特に、該重合性液晶化合物が有する重合性基の種類）及びその量に応じて適宜選択される。その具体例としては、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、及びγ線からなる群より選択される１種以上の光や活性電子線が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し膜強度を調整しやすい易い点や、光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって、光重合可能なように、重合性液晶組成物に含有される重合性液晶化合物や光ラジカル重合開始剤の種類を選択しておくことが好ましい。また、重合時に、適切な冷却手段により乾燥塗膜を冷却しながら光照射することで、重合温度を制御することもできる。このような冷却手段の採用により、より低温で重合性液晶化合物の重合を実施すれば、基材が比較的耐熱性が低いものを用いたとしても、適切に液晶層を形成できる。また、光照射時の熱による不具合（基材の熱による変形等）が発生しない範囲で重合温度を高くすることにより重合反応を促進することも可能である。
【００９７】
乾燥塗膜に照射する光の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【００９８】
紫外光の照射強度は、通常、１０〜３，０００ｍＷ／ｃｍ２である。紫外光の照射強度は、好ましくは光重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。紫外光を照射する時間は、通常０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．１秒〜５分、より好ましくは０．１秒〜３分、さらに好ましくは０．１秒〜１分である。このような紫外光の照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、１０〜３，０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００９９】
液晶層の厚みは、適用される表示装置に応じて適宜選択でき、０．３μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であってもよく、１μｍ以上であってもよく、また、通常１０μｍ以下であり、５μｍ以下であってもよく、３μｍ以下であることが好ましい。
【０１００】
第１液晶層及び第２液晶層はそれぞれ、位相差層であってもよく、偏光層であってもよい。位相差層としては、光に所定の位相差を与えるものであれば特に限定されず、例えば、１／２波長板、１／４波長板、逆波長分散性の１／４波長板等として機能するものを挙げることができる。
【０１０１】
（接着層）
接着層は、接着剤、粘着剤及びこれらの組み合わせによって形成することができ、通常１層であるが、２層以上であってもよい。接着層が２層以上の層からなる場合、各層は互いに同じ材料で形成されていてもよく、異なる材料で形成されていてもよい。
【０１０２】
接着剤としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤等のうち１又は２種以上を組み合せて形成することができる。水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含むもの等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルや酸といった活性種を発生する物質を含むものを挙げることができる。接着剤を用いて形成した接着層（接着剤層）の厚みは特に制限されないが、通常０．００１μｍ〜１０μｍであり、外観不良の観点から、０．０１〜５μｍが好ましい。
【０１０３】
粘着剤としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ゴム系樹脂、又はポリエーテル等をベースポリマーとし、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物等の架橋剤を加えた組成物を挙げることができる。中でも、（メタ）アクリル系樹脂を含む粘着剤は、光学的な透明性、接着性、耐久性に優れているため好ましい。粘着剤を用いて形成した接着層（粘着剤層）の厚みは特に制限されないが、通常１μｍ〜４０μｍであり、加工性、耐久性の観点から、３μｍ〜２５μｍが好ましい。
【０１０４】
接着層は、薄膜化等の観点から、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて形成されることが好ましく、特に、紫外線硬化性のエポキシ系モノマー及び光カチオン重合開始剤を含む接着剤を用いて形成されることが好ましい。
【０１０５】
（光学積層体）
光学積層体は、例えば、光学機能層として偏光層を含むものを用い、第１液晶層又は第２液晶層として１／４波長板を含むものを用いる、又は、光学機能層として１／４波長板を含むものを用い、第１液晶層として液晶化合物を含む偏光層を用いることにより、円偏光板とすることができる。このような円偏光板は、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の反射防止フィルムとして用いることができる。光学積層体を円偏光板とする場合は、光学積層体は、偏光層と１／４波長板とを含んでいればよいが、例えば、［ｉ］偏光層、１／２波長板、１／４波長板の順、又は、［ｉｉ］偏光層、逆波長分散性の１／４波長板の順に、各層が積層された構造を有することもできる。
【実施例】
【０１０６】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。実施例、比較例中の「％」及び「部」は、特記しない限り、質量％及び質量部である。
【０１０７】
［面内位相差値の測定］
積層体の第１液晶層含有層を、粘着剤（リンテック社製感圧式粘着剤  ２５μｍ）を介してガラスと貼合し、基材層含有層を剥離することで位相差値測定用の試験片を得た。第１液晶層含有層の波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、王子計測機器株式会社製のＫＯＢＲＡ−ＷＲを用いて測定した。
【０１０８】
［突刺し試験における変位量の測定］
積層体から基材層含有層を剥離して得られた第１液晶層含有層から、長さ３０ｍｍ×幅３０ｍｍの断片を切り出して突刺し試験用の試験片とした。突刺し試験は、直径１ｍｍ、先端の曲率半径０．５Ｒの突刺治具を装着した小型卓上試験機〔（株）島津製作所製の商品名“ＥＺ  Ｔｅｓｔ”〕を用い、突刺し治具が通過することができる直径１０ｍｍの円形の穴の開いた２枚のサンプル台の間に挟んだ突刺し試験用の試験片に、上記突刺治具を０．３３ｃｍ／秒で突刺し、突刺し試験用の試験片が破断するまでの変位量を測定した。
【０１０９】
［密着力の測定］
実施例で得た積層体の第１液晶層含有層側に、粘着剤（リンテック社製感圧式粘着剤、２５μｍ）を貼合した。この粘着剤層を形成した積層体から、幅２５ｍｍ×長さ約１５０ｍｍの試験片を裁断し、その粘着剤層の面をガラス板に貼合した後、試験片の基材層含有層（幅２５ｍｍの一辺）に剥離用テープ（幅２５ｍｍ×長さ約１８０ｍｍ）を貼り付けた。引張り試験機を用いて剥離用テープの一端をつかみ、温度２３℃、相対湿度６０％の雰囲気下、クロスヘッドスピード（つかみ移動速度）３００ｍｍ／分で、１８０°剥離試験を行い、密着力の測定を行った。
【０１１０】
［光学積層体の評価］
実施例で得た積層体（幅２００ｍｍ×長さ約２５０ｍｍ、第１液晶層の配向方向は、幅方向に対して任意の方向をとることができる。）の第１液晶層側に、粘着剤層が形成されていない未積層領域が、幅方向両端にそれぞれ幅方向の長さが５０ｍｍで形成されるように、粘着剤（リンテック社製感圧式粘着剤、２５μｍ）を貼り合わせた。この粘着剤層上に、光学機能層としての偏光板（幅１００ｍｍ×長さ約２５０ｍｍ）を積層して、基材層付き光学積層体を得た。得られた基材層付き光学積層体から、基材層含有層を長辺方向に沿って剥離して得た光学積層体について、第１液晶層の端部の形状を目視で観察し、接着層の形状に沿っているものをＡとし、部分的に接着層の形状に沿っていない不定形状であったり、シワが発生しているものをＢとし、端部全長にわたり接着層の形状に沿っていない不定形状であったり、シワが発生しているものをＣとした。
【０１１１】
［加工性の評価］
実施例で得た積層体（幅２００ｍｍ×長さ約２５０ｍｍ、第１液晶層の配向方向は、幅方向に対して任意の方向をとることができる。）を、基材層含有層を上にして、スーパーカッター（荻野精機製作所製）を用いて長辺方向に裁断し、試験片の第１液晶層側の裁断部付近を倍率１００倍の顕微鏡で観察した。第１液晶層に軽微なクラック、キズ（長さが０．５ｍｍ以下）のみが部分的に入っているものをＡとし、長さが０．５μｍ超１．０ｍｍ以下のクラック、キズが部分的に入っているものをＢ、クラック、キズが第１液晶層の全長にわたり入っているものをＣとした。
【０１１２】
〔実施例１〕
（光配向層形成用組成物（１）の調製）
下記の成分を混合し、得られた混合物を温度８０℃で１時間攪拌することにより、光配向層形成用組成物（１）を得た。
・光配向性材料（５部）：
【化１】
2020126228.tif 000003
・溶剤（９５部）：シクロペンタノン
【０１１３】
（液晶層形成用組成物（Ａ）の調製）
下記に示す重合性液晶化合物ＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社製）１００質量部に対して、レベリング剤「ＢＹＫ−３６１Ｎ」（ＢＭ  Ｃｈｅｍｉｅ社製）０．１質量部、光重合開始剤として２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン「イルガキュア（登録商標）９０７（Ｉｒｇ９０７）」（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３．０質量部、反応性添加剤としてＬａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００（ＢＡＳＦジャパン社製）を２．０質量部、架橋剤としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート「ＮＫエステル  Ａ−ＤＰＨ」（新中村化学工業社製）５．０質量部を添加した。さらに、固形分濃度が１３％となるようにシクロぺンタノンを添加した。得られた混合物を８０℃で１時間撹拌した後、室温まで冷却して液晶層形成用組成物（Ａ）を得た。
【化２】
2020126228.tif 000004
【０１１４】
（積層体の製造）
基材層としての厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて２．６ｍＪ／ｃｍ２のコロナ処理エネルギーで処理した。コロナ処理を施した表面に、上記の光配向層形成用組成物（１）をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ  ＣＵＲＥ  ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施して、光配向層を得た。なお、露光後の光配向層の配向方向が、４５°となるように偏光ＵＶを照射した。
【０１１５】
続いて、光配向層上に液晶層形成用組成物（Ａ）を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２）することにより、位相差層としての第１液晶層を形成して、積層体を得た。得られた光配向層の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。同様の測定方法で測定した第１液晶層の厚みは２μｍであった。得られた第１液晶層含有層の面内位相差値を上記した方法で測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝２５８ｎｍであった。
【０１１６】
得られた積層体から基材層を剥離したところ、第１液晶層含有層（光配向層付きの第１液晶層）が単離された。なお、光配向層付きの第１液晶層のみ単離されていることは、上記のレーザー顕微鏡による厚み測定により確認した。得られた第１液晶層含有層の突刺し変位量を上記した手順で測定したところ、１．０ｍｍであった。また、基材層と第１液晶層含有層（光配向層付きの第１液晶層）との間の密着力は０．０７Ｎ／２５ｍｍであった。また、上記した方法で光学積層体の評価を実施したところ、第１液晶層の端部の形状において、不定形状やシワの発生は観察されず、良好な結果であった。また、上記した方法で加工性の評価を実施したところ、１．０ｍｍ以下のクラック・キズが部分的に入っていた。これらの結果を表１に示す。
【０１１７】
〔実施例２〕
表１に記載のように、反応性添加剤を添加しなかったこと以外は、実施例１と同じ操作を行って重合性液晶組成物を調整し、これを用いて実施例１と同様の手順で積層体を作製した。
【０１１８】
得られた積層体から基材層を剥離したところ、基材層含有層（光配向層付きの基材層）から、第１液晶層のみが単離された。なお、第１液晶層のみ単離されていることは、上記のレーザー顕微鏡による厚み測定により確認した。実施例１と同様の方法にて、突刺し変位量を測定するとともに、基材層含有層と第１液晶層との間の密着力測定、光学積層体の剥離評価、及び加工性の評価を実施した。結果を表１に示す。
【０１１９】
〔実施例３〕
表１に記載のように、架橋剤としてＡ−ＤＰＨを重合性液晶化合物に対して１５部添加し、反応性添加剤を添加しなかったこと以外は実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶組成物を調整し、これを用いて実施例１と同様の手順で積層体を作製した。
【０１２０】
得られた積層体から基材層を剥離したところ、基材層含有層（光配向層付きの基材層）から、第１液晶層のみが単離された。なお、第１液晶層のみ単離されていることは、上記のレーザー顕微鏡による厚み測定により確認した。実施例１と同様の方法にて、突刺し変位量を測定するとともに、基材層含有層と第１液晶層との間の密着力測定、光学積層体の剥離評価、及び加工性の評価を実施した。結果を表１に示す。
【０１２１】
〔実施例４〕
表１に記載のように、架橋剤としてトリメチロールプロパントリアクリレート（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＰＴ（新中村化学工業社製））を重合性液晶化合物に対して１５部添加し、反応性添加剤を添加しなかったこと以外は実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶組成物を調整し、これを用いて実施例１と同様の手順で積層体を作製した。
【０１２２】
得られた積層体から基材層を剥離したところ、基材層含有層（光配向層付きの基材層）から、第１液晶層のみが単離された。なお、第１液晶層のみ単離されていることは、上記のレーザー顕微鏡による厚み測定により確認した。実施例１と同様の方法にて、突刺し変位量を測定するとともに、基材層含有層と第１液晶層との間の密着力測定、光学積層体の剥離評価、及び加工性の評価を実施した。結果を表１に示す。
【０１２３】
〔実施例５〕
表１に記載のように、架橋剤としてウレタンアクリレート（ＵＡ−１２２Ｐ（新中村化学工業社製））を重合性液晶化合物に対して１５部添加し、反応性添加剤を添加しなかったこと以外は実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶組成物を調整し、これを用いて実施例１と同様の手順で積層体を作製した。
【０１２４】
得られた積層体から基材層を剥離したところ、基材層含有層（光配向層付きの基材層）から、第１液晶層のみが単離された。なお、第１液晶層のみ単離されていることは、上記のレーザー顕微鏡による厚み測定により確認した。実施例１と同様の方法にて、突刺し変位量を測定するとともに、基材層含有層と第１液晶層との間の密着力測定、光学積層体の剥離評価、及び加工性の評価を実施した。結果を表１に示す。
【０１２５】
〔実施例６〕
表１に記載のように、架橋剤として１,６−ヘキサンジオールジアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＨＤ−Ｎ（新中村化学工業社製））を重合性液晶化合物に対して１５部添加し、反応性添加剤を添加しなかったこと以外は実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶組成物を調整し、これを用いて実施例１と同様の手順で積層体を作製した。
【０１２６】
得られた積層体から基材層を剥離したところ、基材層含有層（光配向層付きの基材層）から、第１液晶層のみが単離された。なお、第１液晶層のみ単離されていることは、上記のレーザー顕微鏡による厚み測定により確認した。実施例１と同様の方法にて、突刺し変位量を測定するとともに、基材層含有層と第１液晶層との間の密着力測定、光学積層体の剥離評価、及び加工性の評価を実施した。結果を表１に示す。
【０１２７】
【表１】
2020126228.tif 000005
【符号の説明】
【０１２８】
１ａ，１ｂ  積層体、２ａ  接着層付き積層体、３ａ，３ｃ  基材層付き光学積層体、４ａ，４ｂ  光学積層体、１０ａ  基材層含有層、１１ａ  基材層、１１ｂ  基材層（基材層含有層）、１２ａ，１２ｂ  配向層、１３ａ  第１液晶層（第１液晶層含有層）、１３’ａ  第１’液晶層（第１’液晶層含有層）、１３ａｘ  未積層領域、１３ａｙ  積層領域、１３ｂ  第１液晶層、２０ｂ  第１液晶層含有層、２０’ｂ  第１’液晶層含有層、３０ａ，３０ｃ  接着層、６０ａ，６０ｃ  光学機能層、Ｗ  幅方向。
【図１】
2020126228.tif 000006
【図２】
2020126228.tif 000007
【図３】
2020126228.tif 000008
【図４】
2020126228.tif 000009
【図５】
2020126228.tif 000010
【図６】
2020126228.tif 000011
【図７】
2020126228.tif 000012
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月18日(2020.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層を含む基材層含有層上に、第１液晶層を含む第１液晶層含有層が設けられた積層体であって、
前記基材層含有層は、前記第１液晶層含有層に対して剥離可能であり、
前記第１液晶層は、液晶化合物と架橋剤（ただし、前記液晶化合物とは異なる化合物である。）とを含む組成物から形成され、前記液晶化合物が前記第１液晶層の面に対して水平方向に配向しており、
前記組成物において、前記架橋剤の含有量は、前記液晶化合物１００質量部に対して、３〜２０質量部であり、
前記第１液晶層含有層の下記突刺し試験によって測定される変位量は、２．０ｍｍ以下である、積層体。
［突刺し試験における変位量の測定］
積層体から基材層含有層を剥離して得られた第１液晶層含有層から、長さ３０ｍｍ×幅３０ｍｍの断片を切り出して突刺し試験用の試験片とする。突刺し試験は、直径１ｍｍ、先端の曲率半径０．５Ｒの突刺治具を装着した小型卓上試験機〔（株）島津製作所製の商品名“ＥＺ  Ｔｅｓｔ”〕を用い、突刺し治具が通過することができる直径１０ｍｍの円形の穴の開いた２枚のサンプル台の間に挟んだ突刺し試験用の試験片に、前記突刺治具を０．３３ｃｍ／秒で突刺し、突刺し試験用の試験片が破断するまでの変位量を測定する。
【請求項２】
前記基材層含有層と前記第１液晶層含有層との間の密着力は、０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上である、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記基材層含有層は、さらに配向層を含み、
前記第１液晶層含有層は、前記基材層含有層の前記配向層側に設けられている、請求項１又は２に記載の積層体。
【請求項４】
前記第１液晶層含有層は、さらに配向層を含み、
前記基材層含有層は、前記第１液晶層含有層の前記配向層側に設けられている、請求項１又は２に記載の積層体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体と、接着層とを含む接着層付き積層体であって、
前記接着層は、前記積層体の前記第１液晶層含有層側に積層されており、
前記第１液晶層含有層は、前記接着層が積層されていない未積層領域を有する、接着層付き積層体。
【請求項６】
前記未積層領域は、前記接着層付き積層体における幅方向の少なくとも一方の端部に存在する、請求項５に記載の接着層付き積層体。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体、接着層、及び光学機能層をこの順に含む基材層付き光学積層体であって、
前記接着層は、前記積層体の前記第１液晶層含有層側に設けられている、基材層付き光学積層体。
【請求項８】
請求項５又は６に記載の接着層付き積層体の前記接着層上に、光学機能層が設けられている、基材層付き光学積層体。
【請求項９】
前記光学機能層は、偏光層を含む、請求項７又は８に記載の基材層付き光学積層体。
【請求項１０】
前記光学機能層は、第２液晶層を含む、請求項７〜９のいずれか１項に記載の基材層付き光学積層体。
【請求項１１】
第１’液晶層を含む第１’液晶層含有層と、接着層と、光学機能層とをこの順に含む光学積層体であって、
前記第１’液晶層は、液晶化合物と、架橋剤（ただし、前記液晶化合物とは異なる化合物である。）とを含む組成物から形成され、前記液晶化合物が前記第１’液晶層の面に対して水平方向に配向しており、
前記組成物において、前記架橋剤の含有量は、前記液晶化合物１００質量部に対して、３〜２０質量部であり、
前記第１’液晶層含有層の下記突刺し試験によって測定される変位量は、２．０ｍｍ以下である、光学積層体。
［突刺し試験における変位量の測定］
第１’液晶層含有層から、長さ３０ｍｍ×幅３０ｍｍの断片を切り出して突刺し試験用の試験片とする。突刺し試験は、直径１ｍｍ、先端の曲率半径０．５Ｒの突刺治具を装着した小型卓上試験機〔（株）島津製作所製の商品名“ＥＺ  Ｔｅｓｔ”〕を用い、突刺し治具が通過することができる直径１０ｍｍの円形の穴の開いた２枚のサンプル台の間に挟んだ突刺し試験用の試験片に、前記突刺治具を０．３３ｃｍ／秒で突刺し、突刺し試験用の試験片が破断するまでの変位量を測定する。
【請求項１２】
前記第１’液晶層含有層は、さらに配向層を含み、
前記配向層は、第１’液晶層の前記接着層とは反対側に設けられている、請求項１１に記載の光学積層体。
【請求項１３】
第１’液晶層を含む第１’液晶層含有層と、接着層と、光学機能層とをこの順に含む光学積層体の製造方法であって、
請求項７〜１０のいずれか１項に記載の基材層付き光学積層体から、前記基材層含有層を剥離する工程を含む、光学積層体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
［実施形態１（積層体）］
図１は、本実施形態の積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。図中、Ｗは幅方向を表す。本実施形態の積層体１ａは、図１に示すように、基材層１１ａを含む基材層含有層１０ａ上に第１液晶層１３ａ（第１液晶層含有層）が設けられている。基材層含有層１０ａは、図１に示すように、基材層１１ａと配向層１２ａとを含むことができ、基材層含有層１０ａの配向層１２ａ側に第１液晶層１３ａが設けられており、第１液晶層１３ａは配向層１２ａに直接接している。第１液晶層１３ａは、その面に対して水平方向に配向している液晶化合物を含む。また、基材層含有層１０ａは、第１液晶層１３ａに対して剥離可能となっている。積層体１ａは、第１液晶層１３ａ上に、さらに他の層を有するものであってもよい。積層体１ａは、枚葉体のフィルムであってもよく、長尺のフィルムであってもよい。