(57)【要約】【課題】表示領域の周辺の遮光性を維持しつつ歩留まりを向上することが可能な表示装置及び電子機器を提供すること。【解決手段】本技術の一形態に係る表示装置は、素子基板と、透明基板と、遮光フィルタ部と、透明接着層とを具備する。前記素子基板は、第１の面と、前記第１の面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子と、前記表示領域を囲む周辺領域と平面視で重なるように配置された周辺配線とを有する。前記透明基板は、前記第１の面に対向する第２の面を有する。前記遮光フィルタ部は、前記第１の面の前記周辺領域に配置された第１の色フィルタと、前記第１の色フィルタに対向して前記第２の面に配置された第２の色フィルタとを有し、前記周辺配線を遮光する。前記透明接着層は、前記第１及び前記第２の色フィルタの間に充填され前記素子基板と前記透明基板とを接着する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の面と、前記第１の面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子と、前記表示領域を囲む周辺領域と平面視で重なるように配置された周辺配線とを有する素子基板と、
前記第１の面に対向する第２の面を有する透明基板と、
前記第１の面の前記周辺領域に配置された第１の色フィルタと、前記第１の色フィルタに対向して前記第２の面に配置された第２の色フィルタとを有し、前記周辺配線を遮光する遮光フィルタ部と、
前記第１及び前記第２の色フィルタの間に充填され前記素子基板と前記透明基板とを接着する透明接着層と
を具備する表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記第１の色フィルタは、前記第２の色フィルタを通過した可視光を規制する
表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記第２の色フィルタは、所定の波長の光を通過させ、
前記透明接着層は、前記所定の波長の光により硬化する光硬化性の接着剤を含む
表示装置。
【請求項４】
請求項１に記載の表示装置であって、さらに、
各々が前記第１の面又は前記第２の面のいずれか一方に配置され、互いに異なる波長の光を透過して前記有機ＥＬ素子の光を着色する複数の着色フィルタを有する着色フィルタ部を具備する
表示装置。
【請求項５】
請求項４に記載の表示装置であって、
前記第１又は前記第２の色フィルタの少なくとも一方は、前記複数の着色フィルタを構成する複数の着色膜の少なくとも１つにより構成される
表示装置。
【請求項６】
請求項４に記載の表示装置であって、
前記複数の着色フィルタは、互いに異なる波長の光を透過する、第１の着色フィルタ、第２の着色フィルタ、及び第３の着色フィルタを有する
表示装置。
【請求項７】
請求項６に記載の表示装置であって、
前記第１の色フィルタは、前記第１の着色フィルタと同様の波長の光を透過し、
前記第２の色フィルタは、前記第２の着色フィルタと同様の波長の光を透過する
表示装置。
【請求項８】
請求項６に記載の表示装置であって、
前記第２の着色フィルタは、前記第２の面に配置され、
前記第２の色フィルタは、前記第２の着色フィルタと同じ着色膜により構成される
表示装置。
【請求項９】
請求項６に記載の表示装置であって、
前記第１の着色フィルタは、前記第１の面に配置され、
前記第１の色フィルタは、前記第１の着色フィルタと同じ着色膜により構成される
表示装置。
【請求項１０】
請求項６に記載の表示装置であって、
前記第１の着色フィルタ及び前記第３の着色フィルタは、前記第１の面に配置され、
前記第１の色フィルタは、前記第１の着色フィルタと同じ着色膜と、前記第３の着色フィルタと同じ着色膜とが積層された積層膜を有する
表示装置。
【請求項１１】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記第２の色フィルタは、単一の着色膜により構成され、
前記第１の色フィルタは、前記第２の色フィルタを構成する着色膜とは異なる波長の光を透過する単一の着色膜により構成される
表示装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の表示装置であって、
前記第２の色フィルタは、赤色光を透過し、
前記第１の色フィルタは、青色光を透過する
表示装置。
【請求項１３】
請求項１１に記載の表示装置であって、
前記第２の色フィルタは、前記第２の面が露出した複数の開口部を有し、
前記第１の色フィルタは、前記第１の面の前記周辺領域を覆うように配置される
表示装置。
【請求項１４】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記第１の色フィルタは、第１の着色膜と、前記第１の着色膜とは異なる波長の光を透過する第２の着色膜とにより構成され、
前記第２の色フィルタは、前記第１の着色膜と同じ波長の光を透過する第３の着色膜と、前記第２の着色膜と同じ波長の光を透過する第４の着色膜とにより構成される
表示装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の表示装置であって、
前記第１の色フィルタは、前記第１及び前記第２の着色膜が層状に積層された第１の積層膜と、前記第１の積層膜に形成され前記第１の面が露出した複数の第１の開口部とを有し、
前記第２の色フィルタは、前記第３及び前記第４の着色膜が層状に積層された第２の積層膜と、前記複数の第１の開口部と平面視で重ならないように前記第２の積層膜に形成され前記第２の面が露出した複数の第２の開口部とを有する
表示装置。
【請求項１６】
請求項１４に記載の表示装置であって、
前記第１の色フィルタは、前記第１の着色膜及び前記第２の着色膜が前記第１の面の面方向に沿って交互に配置された第１のパターン膜を有し、
前記第２の色フィルタは、前記第１の着色膜と平面視で重なるように前記第３の着色膜が前記第２の面に配置され、前記第２の着色膜と平面視で重なるように前記第４の着色膜が前記第２の面に配置された第２のパターン膜を有する
表示装置。
【請求項１７】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記透明接着層は、光硬化性の接着剤又は熱硬化性の接着剤を含む
表示装置。
【請求項１８】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記透明接着層は、前記表示領域を囲むように塗布されたシール剤、又は前記透明基板及び前記素子基板の間に充填された充填剤である
表示装置。
【請求項１９】
第１の面と、前記第１の面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子と、前記表示領域を囲む周辺領域と平面視で重なるように配置された周辺配線とを有する素子基板と、
前記第１の面に対向する第２の面を有する透明基板と、
前記第１の面の前記周辺領域に配置された第１の色フィルタと、前記第１の色フィルタに対向して前記第２の面に配置された第２の色フィルタとを有し、前記周辺配線を遮光する遮光フィルタ部と、
前記第１及び前記第２の色フィルタの間に充填され前記素子基板と前記透明基板とを接着する透明接着層と
を有する表示装置と、
前記表示装置を駆動する駆動回路と
を具備する電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、画像を表示する表示装置及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子上にカラーフィルタを配置した表示装置が開発されている。カラーフィルタを設けることで、例えば表示色の調光や、視野角特性の向上を図ることが可能となる。またカラーフィルタを利用して、表示領域の周辺の配線を遮光することが可能となる。
【０００３】
特許文献１には、有機ＥＬ材料を用いた発光素子上にカラーフィルタが配置された発光装置が記載されている。この発光装置では、赤色光、緑色光、及び青色光を透過させる第１〜第３着色層により、表示領域に配置された各画素（発光素子）の光を着色する第１〜第３カラーフィルタがそれぞれ形成される。また表示領域の周辺には、第１〜第３着色層が積層され３層構造の保護部が形成される。この保護部により、発光素子の周りに配置された周辺配線が遮光される（特許文献１の明細書段落［００１４］［００６３］［００６４］［００６８］−［００７０］図１６等）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１８−７８１１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このように、有機ＥＬ素子を用いた表示装置では、周辺の配線を遮光することで、表示領域の周りでの反射や映り込み等が抑制される。一方で、表示装置の製造過程では、周辺に積層されたカラーフィルタの剥離等が生じる可能性が考えられる。このため、表示領域の周辺の遮光性を維持しつつ歩留まりを向上することが可能な技術が求められている。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、表示領域の周辺の遮光性を維持しつつ歩留まりを向上することが可能な表示装置及び電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る表示装置は、素子基板と、透明基板と、遮光フィルタ部と、透明接着層とを具備する。
前記素子基板は、第１の面と、前記第１の面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子と、前記表示領域を囲む周辺領域と平面視で重なるように配置された周辺配線とを有する。
前記透明基板は、前記第１の面に対向する第２の面を有する。
前記遮光フィルタ部は、前記第１の面の前記周辺領域に配置された第１の色フィルタと、前記第１の色フィルタに対向して前記第２の面に配置された第２の色フィルタとを有し、前記周辺配線を遮光する。
前記透明接着層は、前記第１及び前記第２の色フィルタの間に充填され前記素子基板と前記透明基板とを接着する。
【０００８】
この表示装置では、有機ＥＬ素子と周辺配線とを有する素子基板の第１の面と、透明基板の第２の面とが対向して配置される。第１の面及び第２の面には、第１及び第２の色フィルタが対向して配置され、周辺配線が遮光される。また各色フィルタの間に充填された透明接着層により、素子基板及び透明基板が接着される。これにより各色フィルタの厚さが低減され、色フィルタの剥離等を抑制することが可能となる。この結果、表示領域の周辺の遮光性を維持しつつ歩留まりを向上することが可能となる。
【０００９】
前記第１の色フィルタは、前記第２の色フィルタを通過した可視光を規制してもよい。
【００１０】
前記第２の色フィルタは、所定の波長の光を通過させてもよい。この場合、前記透明接着層は、前記所定の波長の光により硬化する光硬化性の接着剤を含んでもよい。
【００１１】
前記表示装置は、さらに、各々が前記第１の面又は前記第２の面のいずれか一方に配置され、互いに異なる波長の光を透過して前記有機ＥＬ素子の光を着色する複数の着色フィルタを有する着色フィルタ部を具備してもよい。
【００１２】
前記第１又は前記第２の色フィルタの少なくとも一方は、前記複数の着色フィルタを構成する複数の着色膜の少なくとも１つにより構成されてもよい。
【００１３】
前記複数の着色フィルタは、互いに異なる波長の光を透過する、第１の着色フィルタ、第２の着色フィルタ、及び第３の着色フィルタを有してもよい。
【００１４】
前記第１の色フィルタは、前記第１の着色フィルタと同様の波長の光を透過してもよい。この場合、前記第２の色フィルタは、前記第２の着色フィルタと同様の波長の光を透過してもよい。
【００１５】
前記第２の着色フィルタは、前記第２の面に配置されてもよい。この場合、前記第２の色フィルタは、前記第２の着色フィルタと同じ着色膜により構成されてもよい。
【００１６】
前記第１の着色フィルタは、前記第１の面に配置されてもよい。この場合、前記第１の色フィルタは、前記第１の着色フィルタと同じ着色膜により構成されてもよい。
【００１７】
前記第１の着色フィルタ及び前記第３の着色フィルタは、前記第１の面に配置されてもよい。この場合、前記第１の色フィルタは、前記第１の着色フィルタと同じ着色膜と、前記第３の着色フィルタと同じ着色膜とが積層された積層膜を有してもよい。
【００１８】
前記第２の色フィルタは、単一の着色膜により構成されてもよい。この場合、前記第１の色フィルタは、前記第２の色フィルタを構成する着色膜とは異なる波長の光を透過する単一の着色膜により構成されてもよい。
【００１９】
前記第２の色フィルタは、赤色光を透過してもよい。この場合、前記第１の色フィルタは、青色光を透過してもよい。
【００２０】
前記第２の色フィルタは、前記第２の面が露出した複数の開口部を有してもよい。この場合、前記第１の色フィルタは、前記第１の面の前記周辺領域を覆うように配置されてもよい。
【００２１】
前記第１の色フィルタは、第１の着色膜と、前記第１の着色膜とは異なる波長の光を透過する第２の着色膜とにより構成されてもよい。この場合、前記第２の色フィルタは、前記第１の着色膜と同じ波長の光を透過する第３の着色膜と、前記第２の着色膜と同じ波長の光を透過する第４の着色膜とにより構成されてもよい。
【００２２】
前記第１の色フィルタは、前記第１及び前記第２の着色膜が層状に積層された第１の積層膜と、前記第１の積層膜に形成され前記第１の面が露出した複数の第１の開口部とを有してもよい。この場合、前記第２の色フィルタは、前記第３及び前記第４の着色膜が層状に積層された第２の積層膜と、前記複数の第１の開口部と平面視で重ならないように前記第２の積層膜に形成され前記第２の面が露出した複数の第２の開口部とを有してもよい。
【００２３】
前記第１の色フィルタは、前記第１の着色膜及び前記第２の着色膜が前記第１の面の面方向に沿って交互に配置された第１のパターン膜を有してもよい。この場合、前記第２の色フィルタは、前記第１の着色膜と平面視で重なるように前記第３の着色膜が前記第２の面に配置され、前記第２の着色膜と平面視で重なるように前記第４の着色膜が前記第２の面に配置された第２のパターン膜を有してもよい。
【００２４】
前記透明接着層は、光硬化性の接着剤又は熱硬化性の接着剤を含んでもよい。
【００２５】
前記透明接着層は、前記表示領域を囲むように塗布されたシール剤、又は前記透明基板及び前記素子基板の間に充填された充填剤であってもよい。
【００２６】
本技術の一形態に係る電子機器は、表示装置と、駆動回路とを具備する。
前記表示装置は、第１の面と、前記第１の面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子と、前記表示領域を囲む周辺領域と平面視で重なるように配置された周辺配線とを有する素子基板と、前記第１の面に対向する第２の面を有する透明基板と、前記第１の面の前記周辺領域に配置された第１の色フィルタと、前記第１の色フィルタに対向して前記第２の面に配置された第２の色フィルタとを有し、前記周辺配線を遮光する遮光フィルタ部と、前記第１及び前記第２の色フィルタの間に充填され前記素子基板と前記透明基板とを接着する透明接着層とを有する。
前記駆動回路は、前記表示装置を駆動する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】第１の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。
【図２】表示装置の全体の構成例を示すブロック図である。
【図３】図２に示す画素回路の具体的な構成例を示す回路図である。
【図４】表示装置の断面構造の一例を示す模式図である。
【図５】表示装置の製造工程の一例を示す製造フローチャートである。
【図６】表示装置の他の構成例を示す模式図である。
【図７】表示装置の他の構成例を示す模式図である。
【図８】比較例として示す表示装置の断面構造の一例を示す模式図である。
【図９】第２の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。
【図１０】表示装置の他の構成例を示す模式図である。
【図１１】第３の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。
【図１２】第４の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。
【図１３】他の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。
【図１４】他の実施形態に係る表示装置を搭載した電子機器の一例を示す模式図である。
【図１５】他の実施形態に係る表示装置を搭載した電子機器の一例を示す模式図である。
【図１６】他の実施形態に係る表示装置を搭載した電子機器の一例を示す模式図である。
【図１７】他の実施形態に係る表示装置を搭載した電子機器の一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本技術に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【００２９】
＜第１の実施形態＞
［表示装置の構成］
図１は、第１の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。表示装置１００は、有機ＥＬ素子を駆動して画像を表示する有機ＥＬディスプレイである。
【００３０】
表示装置１００は、例えば表示モジュールとして構成され、ビデオカメラやデジタルカメラ等のビューファインダや、スマートフォンやタブレット等のディスプレイとして、各種の電子機器に搭載される（図１４〜図１７等参照）。表示装置１００が用いられる電子機器の種類等は限定されず、例えばテレビやＰＣ用のモニターとして用いられる場合にも本技術は適用可能である。
【００３１】
図１には、画像が表示される側、すなわち有機ＥＬ素子の光が出射される側から見た表示装置１００の平面図が模式的に図示されている。表示装置１００は、素子基板１０と、素子基板１０上に配置された透明基板２０と、カラーフィルタ層３０とを有する。表示装置１００では、透明基板２０を通して画像が表示される。
【００３２】
素子基板１０は、透明基板２０に対向する第１の対向面１１と、複数の有機ＥＬ素子１２と、周辺配線６０とを有する。これら複数の有機ＥＬ素子１２により、画像を構成する複数の画素Ｐが構成される。図１には、正方形状の画素Ｐが模式的に図示されている。表示装置１００における画素数や画素サイズ等は限定されず、所望の解像度等が実現可能なように適宜設定されてよい。本実施形態では、第１の対向面１１は、第１の面に相当する。
【００３３】
第１の対向面１１には、表示領域１３と、周辺領域１４と、外部領域１５とが設けられる。表示領域１３は、複数の画素Ｐが配列された矩形状の領域であり、実際に画像が表示される領域である。本実施形態では、有機ＥＬ素子１２により、第１の対向面１１の表示領域１３から光が出射され、画像が表示される。従って、表示領域１３は、実際の画像表示に寄与する画素Ｐが配置された有効画素エリアを含む領域となる。
【００３４】
周辺領域１４は、表示領域１３を囲む領域である。すなわち周辺領域１４は、表示装置１００に表示される画像を囲む領域であり、例えば周辺領域１４の幅により表示装置１００のベゼル（額縁部分）の幅が定まる。図１に示す例では、第１の対向面１１のうち、表示領域１３と表示領域１３の外側に表示領域１３から離間して配置された外部領域１５とを除く領域が周辺領域１４となる。
【００３５】
外部領域１５は、第１の対向面１１のうち周辺領域１４の外側に設けられ、透明基板２０が配置されず素子基板１０（第１の対向面１１）が露出した領域（図中の上側）である。外部領域１５には、外部電極２５が設けられる。外部電極２５には、フレキシブル基板等を介して、表示装置１００を駆動する駆動回路２６が接続される。駆動回路２６は、電子機器本体に搭載され、有機ＥＬ素子１２を駆動するための電力や画像信号等を表示装置１００に供給する。駆動回路２６や駆動信号の種類等は限定されない。
【００３６】
周辺配線６０は、表示領域１３を囲む周辺領域１４と平面視で重なるように配置される。本開示において、平面視とは、例えば表示装置１００において画像が表示される側となる透明基板２０の表面に対して垂直な方向（法線方向）から見た状態である。従って周辺配線６０は、透明基板２０から見て、周辺領域１４に収まるように周辺領域１４の下層に配置された配線となる。図１では、周辺配線６０が点線の領域により模式的に図示されている。
【００３７】
周辺配線６０は、有機ＥＬ素子１２を駆動するための各種の配線や回路等を含む。具体的には、素子基板１０に層状に形成された複数の導電膜（金属膜や透明導電膜等）、トランジスタ、容量素子等が周辺配線６０に含まれる。また周辺配線６０は、上記した外部電極２５と各有機ＥＬ素子１２とに適宜接続される。周辺配線６０の具体的な構成については、後に詳しく説明する。
【００３８】
透明基板２０は、素子基板１０に形成された有機ＥＬ素子１２等を保護する透明な基板である。透明基板２０は、第１の対向面１１に対向する第２の対向面２１を有する。透明基板２０は、表示領域１３及び周辺領域１４を覆うように、素子基板１０の第１の対向面１１に、第２の対向面２１を向けて配置される。透明基板２０としては、例えばガラス基板、ＳｉＯ2基板、アクリル基板等の透明性を有する任意の基板が用いられてよい。
【００３９】
カラーフィルタ層３０は、所定の波長の光を透過するカラーフィルタを含む層である。カラーフィルタ層３０には、互いに異なる波長の光を透過する複数のカラーフィルタが含まれる。カラーフィルタ層３０は、表示領域１３及び周辺領域１４と平面視で重なるように、素子基板１０と透明基板２０との間に配置される。
【００４０】
本実施形態では、表示領域１３と平面視で重なるように配置されたカラーフィルタにより、着色フィルタ部３１が構成される。また周辺領域１４と平面視で重なるように配置されたカラーフィルタにより、遮光フィルタ部３２が構成される。図１では、表示領域１３と重なる着色フィルタ部３１が濃いグレーの領域として図示されており、周辺領域１４と重なる遮光フィルタ部３２が薄いグレーの領域として図示されている。着色フィルタ部３１及び遮光フィルタ部３２については、後に詳しく説明する。
【００４１】
ここで、表示装置１００の回路構成について説明する。図２は、表示装置１００の全体の構成例を示すブロック図である。表示装置１００は、複数の画素Ｐで構成された画素アレイ１０１と、画素アレイ１０１を駆動する駆動部１０２を有する。画素アレイ１０１は、図１に示す表示領域１３と重なるように素子基板１０に設けられ、駆動部１０２は、周辺領域１４と重なるように素子基板１０に設けられる。
【００４２】
画素アレイ１０１は、行列状に配置された複数の画素Ｐと、複数の画素Ｐの各行に対応して配置された電源線１０３とを有する。各画素Ｐは、行状の走査線１０４と、列状の信号線１０５とが交差する部分に配置された画素回路１０６を有する。
【００４３】
駆動部１０２は、垂直走査回路１０２ａと、電源１０２ｂと、水平走査回路１０２ｃとを有する。垂直走査回路１０２ａは、各走査線１０４に順次制御信号を供給して各画素Ｐを行単位で順次走査する。電源１０２ｂは、各電源線１０３に一定の電源電位を供給して、画素Ｐを構成する画素回路１０６を駆動する。電源電位を一定とすることで、電源１０２ｂの構成を簡素化することが可能となり、素子サイズをコンパクトにすることが可能である。水平走査回路１０２ｃは、垂直走査回路１０２ａの走査に合わせて各信号線１０５に画像信号（映像信号）となる信号電位と基準電位とを供給する。
【００４４】
この他、駆動部１０２の具体的な構成は限定されない。例えば、電源１０２ｂとして、垂直走査回路１０２ａの走査に合わせて各電源線１０３に高電位と低電位が切り替わる電源電位を供給する電源スキャナ等が用いられてもよい。これにより、例えば表示装置１００が、中型の電子機器（スマートフォン等）や大型の電子機器（テレビやＰＣモニター等）に搭載される場合であっても、電力消費を抑制しつつ、表示装置１００を安定して駆動することが可能となる。
【００４５】
図３は、図２に示す画素回路１０６の具体的な構成例を示す回路図である。画素回路１０６は、有機ＥＬ素子１２として機能するダイオードと、サンプリング用トランジスタ１０７と、駆動用トランジスタ１０８と、保持容量１０９とを有する。
【００４６】
サンプリング用トランジスタ１０７の制御端子（ゲート）は走査線１０４に接続され、駆動端子（ソース及びドレイン）の一方は信号線１０５に接続され、他方は駆動用トランジスタ１０８の制御端子に接続される。駆動用トランジスタ１０８の駆動端子の一方は有機ＥＬ素子１２のアノードに接続され、他方は電源線１０３に接続される。また有機ＥＬ素子１２のカソードは、複数の有機ＥＬ素子１２に共通する共通電極（図４参照）に接続される。保持容量１０９は、駆動用トランジスタ１０８の制御端子と有機ＥＬ素子１２のアノードとの間に接続され、信号線１０５から供給される画像信号の信号電位を保持する。
【００４７】
図４は、表示装置１００の断面構造の一例を示す模式図である。図４には、図１に示すＡＡ'線で切断した表示装置１００の概略断面構造が模式的に図示されている。以下では、表示装置１００の表示領域１３に対応する部分を表示部分２３と記載し、周辺領域１４に対応する部分を周辺部分２４と記載する場合がある。図中の点線は、表示領域１３と周辺領域１４との境界を表す線である。点線の左側は、表示部分２３（表示領域１３）における断面構造に対応し、点線の右側は、周辺部分２４（周辺領域１４）における断面構造に対応する。
【００４８】
表示装置１００は、上記したように、素子基板１０と、透明基板２０と、カラーフィルタ層３０とを有する。また表示装置１００は、透明接着層４０と、充填剤４１とを有する。以下では、各構成の配置を図中の上下方向に合わせて下層、あるいは上層と記載する場合がある。なお下層、上層といった記載は、相対的な位置関係を表すものであり、表示装置１００の向き等を限定するものではない。
【００４９】
素子基板１０は、回路層５０と、金属電極層５１と、有機発光層５２と、共通電極５３と、保護膜５４とを有する。本実施形態では、透明基板２０に対向する保護膜５４の表面が、第１の対向面１１となる。従って、上記した表示領域１３及び周辺領域１４は、保護膜５４上の領域となる。
【００５０】
回路層５０は、基板上に有機ＥＬ素子１２を駆動するための回路を積層して構成される。基板としては、例えばＳｉ等の半導体基板、ガラス基板、アクリル基板等が用いられる。またステンレス鋼等の金属基板や、プラスチックフィルム等が基板として用いられてもよい。
【００５１】
回路層５０の表示部分２３には、例えば図３に示す画素回路１０６を構成する素子（サンプリング用トランジスタ１０７、駆動用トランジスタ１０８、保持容量１０９等）を含む回路や、有機ＥＬ素子１２に接続される各種の配線（電源線１０３、走査線１０４、信号線１０５等）が設けられる。回路層５０の周辺部分２４には、例えば図３に示す駆動部１０２（垂直走査回路１０２ａ、電源１０２ｂ、水平走査回路１０２ｃ）が積層される。なお図１では、回路層５０に積層される配線や素子等の図示が省略されている。回路層５０の具体的な構成は限定されず、有機ＥＬ素子１２を駆動するための回路等が適宜積層されてよい。
【００５２】
金属電極層５１は、金属膜からなる電極を構成する層である。本実施形態では、回路層５０及び金属電極層５１により、表示装置１００の素子基板１０が構成される。金属電極層５１は、例えば１つの配線層として回路層５０に形成される。本実施形態では、金属電極層５１は、回路層５０の最上層に積層される。
【００５３】
図４に示すように、金属電極層５１は、周辺部分２４に配置されたカソードコンタクト６１を有する。カソードコンタクト６１（金属電極層５１）は、回路層５０の最上層に配置されるため、カラーフィルタに最も近い金属膜となる。またカソードコンタクト６１の下層には、上記した駆動部１０２等が積層される。本実施形態では、駆動部１０２及びカソードコンタクト６１により、図１に示す周辺配線６０が構成される。
【００５４】
カソードコンタクト６１は、有機ＥＬ素子１２のカソードとなる共通電極５３（図３参照）と電気的に接続される電極である。カソードコンタクト６１は、例えば所定の基準電位（典型的にはＧＮＤ電位）に接続され、共通電極５３に基準電位を供給する。図４に示す例では、表示部分２３と周辺部分２４との境界から回路層５０の端部付近までカソードコンタクト６１が形成される。これにより、共通電極５３との接触面積が十分に確保され、コンタクト抵抗を低くすることが可能である。この結果、共通電極５３に安定して基準電位を供給することが可能となる。
【００５５】
また金属電極層５１は、表示部分２３に配置された画素電極６２を有する。画素電極６２は、各有機ＥＬ素子１２のアノード電極であり、複数の画素Ｐに対応して配置される。図４には、複数の画素Ｐに対応して配置された複数の画素電極６２が模式的に図示されている。各画素電極６２には、回路層５０に形成された画素回路１０６の配線が適宜接続される。
【００５６】
なお表示部分２３（表示領域１３）の外縁には、実際の画像表示には用いられない画素（ダミー画素）が形成されるダミー領域１８が設けられる。ダミー領域１８は、例えば実際の画像表示に用いられる画素の成膜条件等を均一にするための緩衝領域である。ダミー領域１８では、例えば図４に示すように、カラーフィルタの画素パターンのみが形成され、画素電極６２は配置されない。ダミー領域１８の具体的な構成は限定されない。
【００５７】
本実施形態では、画素電極６２は、反射電極であり、有機ＥＬ素子１２の光を反射する金属反射膜として機能する。言い換えれば、金属反射膜により、画素電極６２が構成される。後述するように、画素電極６２上には有機発光層５２が積層される。従って画素電極６２は、有機発光層５２で生成された光を第１の対向面１１に反射する。これにより、例えば回路層５０に向かう光を反射して第１の対向面１１から出射することが可能となり、有機ＥＬ素子１２の発光効率を十分に向上することが可能となる。
【００５８】
このように、金属電極層５１は、画素電極６２が金属反射膜として機能するように積層される。従って、金属電極層５１により構成されるカソードコンタクト６１も、画素電極６２と同様の反射率をもった金属反射膜となる。
【００５９】
金属電極層５１を構成する金属材料としては、Ａｌ（アルミニウム）やＡｇ（銀）等の光反射性を有する金属が用いられる。あるいは、光反射性を有する金属の合金等が用いられてもよい。例えば金属電極層５１の光反射率は、例えば４０％以上に設定され、より好ましくは８０％以上に設定される。これにより、有機ＥＬ素子１２の発光効率を十分に高めることが可能である。この他、金属電極層５１の材料や反射率等は限定されない。
【００６０】
有機発光層５２は、アノード電極（画素電極６２）から供給された正孔と、カソード電極（共通電極５３）から供給された電子とが再結合することで光を発光する層である。有機発光層５２は、例えば白色光を発光するように構成される。
【００６１】
有機発光層５２には、例えば画素電極６２から順に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層が積層される。発光層は、例えば赤色発光層、青色発光層、緑色発光層のＲＧＢに対応する発光層が積層された構造を有する。これにより、発光層は白色光を発光する。
【００６２】
正孔注入層（電子注入層）は、発光層への正孔注入効率（電子注入効率）を高めるとともに、リークを防止するバッファ層である。正孔輸送層（電子輸送層）は、発光層への正孔輸送効率（電子輸送効率）を高めるために設けられる。正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層は、一般的に用いられる各種の材料により構成可能である。
【００６３】
発光層では、電子と正孔の再結合により発光層の材質に応じて所定の波長の光が発光する。発光層を構成する材料としては、例えばポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体，ポリフェニレン誘導体，ポリビニルカルバゾール誘導体，ポリチオフェン誘導体，ペリレン系色素，クマリン系色素，ローダミン系色素，あるいはこれらの高分子に有機ＥＬ材料をドープしたものが挙げられる。なお、発光層は、上記した正孔輸送層を兼ねてもよく、また電子輸送層を兼ねてもよい。
【００６４】
有機発光層５２は、例えば真空蒸着法により、各画素電極６２を覆うように回路層５０に形成される。有機発光層５２の具体的な構成は限定されない。例えば所望の波長の光が発光可能となるように、各層の材料が適宜選択されてよい。
【００６５】
共通電極５３は、有機発光層５２上に積層された透明電極である。図４に示すように、共通電極５３は、表示部分２３の全面を覆うように配置される。また周辺部分２４において、共通電極５３は、カソードコンタクト６１上に配置される。これにより、共通電極５３とカソードコンタクト６１とが電気的に接続され、共通電極５３には基準電位（ＧＮＤ電位）が供給される。
【００６６】
共通電極５３は、光透過性が良好で反射率の小さい透明導電膜により構成される。例えば酸化物を用いて透明導電膜を形成することによって光取り出し効率の良好な共通電極５３を構成することが可能である。この場合、共通電極５３としては、ＺｎＯ，ＩＴＯ，ＩＺｎＯ，ＩｎＳｎＺｎＯ等が用いられる。
【００６７】
共通電極５３は、単層で構成されてもよいし、機能の異なる複数の膜を積層して構成されてもよい。例えば有機発光層５２から順に、反射率が低く透過性の高い光透過膜、導電性の高い透明導電膜、及び電極の腐食等を防ぐ劣化防止膜等を積層して共通電極５３が構成されてもよい。これにより、光の透過効率が高く、腐食に強い共通電極５３が実現される。共通電極５３は、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、あるいはプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition：化学気相成長）法などの成膜手法によって形成される。この他、共通電極５３の具体的な構成は限定されない。
【００６８】
このように、有機ＥＬ素子１２は、素子基板１０の第１の対向面１１側に配置された透明な共通電極５３と、共通電極５３の第１の対向面１１とは反対側に配置された画素電極６２と、共通電極５３と画素電極６２との間に配置された有機発光層５２とを有する。このように、表示装置１００には、共通電極５３から光を出射するトップエミッション型の有機ＥＬ素子１２が構成される。
【００６９】
有機ＥＬ素子１２の構成は限定されない。例えば、キャビティ構造（共振構造）を備えた有機ＥＬ素子１２が構成されてもよい。キャビティ構造では、例えば半透過性及び半反射性を有する共通電極５３が用いられる。これにより、画素電極６２と共通電極５３との間で、有機発光層５２から出射された光を多重干渉させることが可能となる。この場合、共通電極５３からは、多重干渉により強められた所定の波長の光が出射される。
【００７０】
キャビティ構造では、画素電極６２と共通電極５３との光学的な距離に応じた波長の光が出射される。このため、例えば画素電極６２の厚みを適宜調整することで、所望の波長の光を抽出することが可能となる。これにより、有機ＥＬ素子１２における光の取り出し効率が向上するとともに、発光スペクトルの制御を行うことが可能となる。
【００７１】
また、赤色光、緑色光、及び青色光をそれぞれ発光可能な有機ＥＬ素子１２が構成されてもよい。例えば上記したキャビティ構造を用いることで、ＲＧＢの各色光を発光する有機ＥＬ素子１２が構成可能である。また、赤色光、緑色光、及び青色光を発光する有機発光層５２をそれぞれ積層することで、ＲＧＢの各色光を発光する有機ＥＬ素子１２が構成されてもよい。
【００７２】
保護膜５４は、大気中に存在する水分や酸素等から有機ＥＬ素子１２を保護する光透過性を有する透明膜である。保護膜５４は、共通電極５３を覆うように形成される。図４に示す例では、共通電極５３の全面を覆うように表示部分２３から周辺部分２４にかけて形成された保護膜５４が模式的に図示されている。
【００７３】
保護膜５４は、例えば無機化合物を用いて形成される。無機化合物としては、水分や酸素に対してバリア性の高い、ＳｉＯｘ（酸化シリコン）、ＳｉＮｘ（窒化シリコン）、ＳｉＯｘＮｙ（酸窒化シリコン）、ＡｌｘＯｙ（酸化アルミニウム）等が用いられる。これらの無機化合物は、例えば真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法、あるいはイオンプレーティング法を用いて成膜される。
【００７４】
なお保護膜５４は、単層で構成されてもよいし、複数の膜を積層して構成されてもよい。例えば、素子基板１０を実際に構成した場合には、有機ＥＬ素子１２等の表面（共通電極５３）に凹凸が含まれる場合がある。このため、上層に配置されるカラーフィルタの積層精度等を向上する目的で、保護膜５４が平坦化されてもよい。なお図４は、回路層５０（金属電極層５１）の界面やカソードコンタクト６１の界面等を平面として模式的に図示している。
【００７５】
保護膜５４を平坦化する場合には、例えば無機化合物で構成された層の間に平坦化膜が設けられる。平坦化膜としては、例えば透明性を有し、熱硬化性や紫外性硬化性のある樹脂材料（エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂等）が用いられる。予め積層した無機化合物からなる層上にこれらの樹脂が適宜塗布される。そして樹脂材料を硬化させ新たに無機化合物を積層する。これにより、下層の凹凸等が緩和された第１の対向面１１を形成することが可能となる。
【００７６】
カラーフィルタ層３０は、素子基板１０と透明基板２０との間に配置された複数のカラーフィルタを有する。これら複数のカラーフィルタのうち、表示領域１３の上層（表示部分２３）に配置されたカラーフィルタ（着色フィルタ３３）により着色フィルタ部３１が構成される。また、周辺領域１４の上層（周辺部分２４）に配置されたカラーフィルタ（遮光フィルタ３４）により遮光フィルタ部３２が構成される。
【００７７】
カラーフィルタ層３０の各カラーフィルタは、互いに異なる波長の光を通過させる複数の着色膜を積層することで構成される。具体的には、波長が約６１０ｎｍの赤色光を透過させる赤色着色膜と、波長が約５５０ｎｍの緑色光を透過させる緑色着色膜と、波長が約４７０ｎｍの青色光を透過させる青色着色膜とが用いられる。
【００７８】
各着色膜は、例えば所定の色を呈する着色材料（染料等）を混練した感光性樹脂材料（カラーレジスト）を用いて形成される。例えばカラーレジストが、スピンコート法等を用いて対象となる面（第１の対向面１１あるいは第２の対向面２１）上に塗布され、フォトリソグラフィー法により所定のパターンが形成される。その後、カラーレジストを硬化するベイキング等の加熱処理が施される。
【００７９】
これらの着色膜を、第１の対向面１１あるいは第２の対向面２１に適宜積層することで、着色フィルタ部３１（着色フィルタ３３）及び遮光フィルタ部３２（遮光フィルタ３４）がそれぞれ構成される。以下では、図４を参照して、着色フィルタ部３１及び遮光フィルタ部３２の構成について具体的に説明する。
【００８０】
着色フィルタ部３１は、互いに異なる波長の光を透過して有機ＥＬ素子１２の光を着色する複数の着色フィルタ３３を有する。着色フィルタ３３は、表示領域１３の上層、すなわち有機ＥＬ素子１２から出射される光の光路上に配置されたカラーフィルタである。
【００８１】
複数の着色フィルタ３３は、互いに異なる波長の光を透過する、第１の着色フィルタ３３Ｂ、第２の着色フィルタ３３Ｒ、及び第３の着色フィルタ３３Ｇを有する。第１〜第３の着色フィルタ３３Ｂ、３３Ｒ、３３Ｇは、入射する光を青色光、赤色光、及び緑色光に変換するカラーフィルタである。各着色フィルタ３３は、典型的には単一の着色膜により構成される。
【００８２】
図４に示す例では、第１〜第３の着色フィルタ３３Ｂ、３３Ｒ、３３Ｇは、いずれも透明基板２０の第２の対向面２１に配置される。すなわち、第１の着色フィルタ３３Ｂは、第２の対向面２１に積層された青色着色膜Ｂ２により構成され、第２の着色フィルタ３３Ｒは、第２の対向面２１に積層された赤色着色膜Ｒ２により構成され、第３の着色フィルタ３３Ｇは、第２の対向面２１に積層された緑色着色膜Ｇ２により構成される。
【００８３】
また、各着色フィルタ３３は、複数の画素Ｐごとに第２の対向面２１に配置される。例えば図４に示すように、第２の対向面２１には、第１の着色フィルタ３３Ｂ、第３の着色フィルタ３３Ｇ、及び第２の着色フィルタ３３Ｒが、表示部分２３の端（表示部分２３と周辺部分２４との境界）からこの順番で繰り返し配置される。このうち、ダミー領域１８に配置された３つの着色フィルタ３３Ｂ、３３Ｇ、３３Ｒにより、ダミー画素が構成される。またダミー領域１８を除く表示部分２３では、各着色フィルタ３３は、有機ＥＬ素子１２ごとに画素電極６２と重なるように配置される。なお、各着色フィルタ３３を配置する順番等は限定されない。
【００８４】
例えば、有機ＥＬ素子１２から出射された白色光は、第１〜第３の着色フィルタ３３Ｂ、３３Ｒ、３３Ｇを透過して、青色光、赤色光、緑色光として、上層に配置された透明基板２０から出射される。このように、第１〜第３の着色フィルタ３３Ｂ、３３Ｒ、３３Ｇが配置された画素は、各色光を出射するサブ画素として機能する。例えば各画素Ｐに対応する各有機ＥＬ素子１２の出力（光量）を調整することで、任意の色を表現することが可能となる。
【００８５】
なお、有機ＥＬ素子１２が各色光を出射するように構成されている場合にも、着色フィルタ３３を用いることで、各色光の発光スペクトルを精度よく揃えることが可能である。この場合、例えば有機ＥＬ素子１２は、対応する着色フィルタ３３と同様の色光を出射するように構成される。これにより、例えば有機ＥＬ素子１２ごとに発光スペクトルのむら等がある場合であっても、着色フィルタ３３を通すことで透明基板２０に向けて出射される各色光の波長を精度よく揃えることが可能である。この結果、高品質な画像表示が可能となる。
【００８６】
図４では、複数の着色フィルタ３３が全て透明基板２０（第２の対向面２１）に配置される場合について説明した。着色フィルタ部３１の構成は、これに限定されるわけではない。例えば、複数の着色フィルタ３３が全て素子基板１０（第１の対向面１１）に配置されてもよい（図６参照）。また例えば、複数の着色フィルタ３３のうち、一部の着色フィルタ３３が第１の対向面１１に配置され、他の一部の着色フィルタ３３が第２の対向面２１に配置されてもよい（図７参照）。
【００８７】
このように、着色フィルタ部３１は、各々が第１の対向面１１又は第２の対向面２１のいずれか一方に配置され、互いに異なる波長の光を透過して有機ＥＬ素子１２の光を着色する複数の着色フィルタ３３を有する。着色フィルタ部３１を設けることで、ＲＧＢの各色光をそれぞれ独立して高精度に取り出すことが可能となり、高品質なカラー画像等を表示することが可能となる。着色フィルタ部３１の他の構成については、後に詳しく説明する。
【００８８】
遮光フィルタ部３２は、第１の対向面１１の周辺領域１４に配置された第１の遮光フィルタ３４ａと、第１の遮光フィルタ３４ａに対向して第２の対向面２１に配置された第２の遮光フィルタ３４ｂとを有する。本実施形態では、第１の遮光フィルタ３４ａは、第１の色フィルタに相当し、第２の遮光フィルタ３４ｂは、第２の色フィルタに相当する。
【００８９】
本実施形態では、第２の遮光フィルタ３４ｂは、単一の着色膜により形成され、第１の遮光フィルタ３４ａは、第２の遮光フィルタ３４ｂを形成する着色膜とは異なる波長の光を透過する単一の着色膜により形成される。すなわち、第１の遮光フィルタ３４ａ及び第２の遮光フィルタ３４ｂは、互いに色の異なる単層の着色膜により構成される。
【００９０】
第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂを単層とすることで、その膜厚を小さくすることが可能となる。この結果、製造工程で生じる遮光フィルタ３４の剥離等を十分に回避することが可能となり、歩留まりを向上することが可能となる。
【００９１】
また第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂは、互いに異なる波長の光を透過する着色膜により構成される。従って、一方の遮光フィルタ３４を通過した光は、他方の遮光フィルタ３４を通過することなく規制される。すなわち、遮光フィルタ部３２は、第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂにより周辺配線６０（周辺領域１４）の上層に形成された遮光構造であるとも言える。このように、遮光フィルタ部３２は、周辺配線６０を遮光する。
【００９２】
第１の遮光フィルタ３４ａは、素子基板１０の上側の表面（第１の対向面１１）に配置されたカラーフィルタである。第１の遮光フィルタ３４ａが設けられる領域は、典型的には、周辺領域１４の下層に形成されたカソードコンタクト６１等の周辺配線６０と平面視で重なるように設定される。なお、平面視で周辺配線６０よりも広い領域となるように、第１の遮光フィルタ３４ａが形成されてもよい。
【００９３】
また第１の遮光フィルタ３４ａは、第１の着色フィルタ３３Ｂと同様の波長の光を透過するように構成される。すなわち、第１の遮光フィルタ３４ａは、青色光を透過する。例えば図４に示すように、第１の遮光フィルタ３４ａは、第１の対向面１１に積層された青色着色膜Ｂ１により構成される。
【００９４】
青色着色膜Ｂ１として、第２の対向面２１に積層された青色着色膜Ｂ２と同様の着色材料（カラーレジスト等）が用いられる。同じ着色材料を用いて第１の遮光フィルタ３４ａ及び第１の着色フィルタ３３Ｂ（青色着色膜Ｂ１及びＢ２）を成膜することが可能となるため、着色材料の管理等を簡略化することが可能となる。
【００９５】
第２の遮光フィルタ３４ｂは、第１の遮光フィルタ３４ａと向かい合うように、透明基板２０の下側の表面（第２の対向面２１）に配置されたカラーフィルタである。第２の遮光フィルタ３４ｂが設けられる領域は、典型的には、第１の遮光フィルタ３４ａと平面視で重なるように設定される。なお、第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂは、互いに所定の間隔を空けて配置される。
【００９６】
また第２の遮光フィルタ３４ｂは、第２の着色フィルタ３３Ｒと同様の波長の光を透過するように構成される。すなわち、第２の遮光フィルタ３４ｂは、赤色光を透過する。例えば図４に示すように、第２の遮光フィルタ３４ｂは、第２の対向面２１に積層された赤色着色膜Ｒ２により構成される。
【００９７】
上記したように、赤色着色膜Ｒ２は、第２の着色フィルタ３３Ｒを構成する着色膜である。従って、図４に示す例では、第２の遮光フィルタ３４ｂは、第２の着色フィルタ３３Ｒと同じ着色膜により構成される。言い換えれば、第２の遮光フィルタ３４ｂ及び第２の着色フィルタ３３Ｒは、赤色着色膜Ｒ２を製膜するタイミングで同時に形成される。
【００９８】
このように、第２の遮光フィルタ３４ｂは、第２の着色フィルタ３３Ｒを形成するために用いられる着色材料を利用して構成される。これにより、新たな成膜工程等を加えることなく、第２の遮光フィルタ３４ｂを構成することが可能となる。これにより、製造工程を簡略化することが可能となる。
【００９９】
また第２の遮光フィルタ３４ｂは、紫外光を通過させる。第２の遮光フィルタ３４ｂを紫外光が通過することで、例えば紫外光で硬化するＵＶ硬化型の接着剤等を用いることが可能となる。この点については、後に詳しく説明する。
【０１００】
本実施形態では、赤色着色膜Ｒ２として、紫外光を透過させる着色膜が用いられる。これにより、紫外光を通過させる第２の遮光フィルタ３４ｂを容易に構成することが可能である。紫外光は、波長がおよそ１０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に収まる光（不可視光）である。この波長範囲の光と、赤色光とを透過する着色膜が、赤色着色膜Ｒ２として用いられる。本実施形態では、紫外光の波長は、所定の波長に相当し、紫外光は、所定の波長の光に相当する。
【０１０１】
一般に、赤色光を透過する着色材料は、他の色光（青色光や緑色光）を透過する着色材料と比べて、紫外光を透過することが可能な材料であることが多い。従って、赤色光を透過する材料（赤色着色膜Ｒ２）を用いることで、紫外光を確実に通過させる第２の遮光フィルタ３４ｂを構成することが可能となる。
【０１０２】
図４では、遮光フィルタ部３２に含まれる第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂのうち、第２の遮光フィルタ３４ｂが、着色フィルタ部３１（第２の着色フィルタ３３Ｒ）と同じ着色膜（赤色着色膜Ｂ２）を用いて構成された。
【０１０３】
例えば、複数の着色フィルタ３３が全て素子基板１０の第１の対向面１１に配置される場合（図６参照）には、第１の着色フィルタ３３Ｂと同じ着色膜を用いて第１の遮光フィルタ３４ａが構成される。また例えば、第１及び第２の着色フィルタ３３Ｂ及び３３Ｒが、第１の対向面１１及び第２の対向面２１にそれぞれ配置される場合（図７参照）がある。この場合、第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂは、第１及び第２の着色フィルタ３３Ｂ及び３３Ｒと同じ着色膜によりそれぞれ構成される。
【０１０４】
このように、第１の遮光フィルタ３４ａ又は第２の遮光フィルタ３４ｂの少なくとも一方は、複数の着色フィルタ３３を形成する複数の着色膜の１つにより形成される。つまり、各着色フィルタ３３の同一のカラーレジスト（着色膜）と組み合わせることで、第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂが形成される。このように、表示装置１００では、各画素Ｐ用のカラーレジストを、周辺領域１４と重なるように製膜して、周辺配線６０が遮光される。これにより、例えば成膜工程の回数を少なくすることが可能となり、製造工程を十分に簡略化することが可能となる。
【０１０５】
透明接着層４０は、第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂの間に充填され素子基板１０と透明基板２０とを接着する。例えば一方の基板の遮光フィルタ３４上に、透明接着層４０となる接着剤が塗布され、その状態で他方の基板が接着される。従って、表示装置１００は、透明接着層（透明樹脂）を間に挟むように、カラーフィルタが形成された不透明な素子基板１０と、カラーフィルタが形成された透明基板２０とを重ね合わせた構造となる。
【０１０６】
透明接着層４０の厚さは、例えば素子基板１０と透明基板２０との間隔（基板間隔）が所定の値となるように調整される。基板間隔は、例えば各有機ＥＬ素子１２から出射された光が、対応する着色フィルタ３３に適正に入射するように設定される。例えば、画素のサイズや画素の間隔に応じて基板間隔を設定可能である。このような基板間隔を維持した状態で、透明接着層４０の硬化処理等が行われ、各基板が接着される。
【０１０７】
透明接着層４０（接着剤）は、典型的には、表示領域を囲むように塗布される。図１には、接着剤が塗布される塗布領域１６が斜線の領域により模式的に図示されている。このような塗布領域１６を設けることで、後述する充填剤４１を容易に充填することが可能となる。
【０１０８】
本実施形態では、透明接着層４０は、表示領域１３を囲むように塗布されたシール剤４２である。シール剤４２は、透明性を有する接着剤であり、表示領域１３に充填される充填剤４１を封止する封止材料である。またシール剤４２は、未硬化の状態では、粘性のあるペースト状の材料である。シール剤４２の塗布には、例えばペースト状のシール剤４２を専用のノズルから供給することで、所定の幅でシール剤４２を塗布するシール剤塗布装置等が用いられる。
【０１０９】
透明接着層４０（シール剤４２）には、紫外光により硬化する光硬化性の接着剤が含まれる。すなわち、透明接着層４０は、ＵＶ硬化型の接着剤である。接着剤の種類は限定されず、例えば紫外光により硬化するエポキシ樹脂等を含む接着剤が適宜用いられてよい。また例えば、紫外光により硬化する接着剤と熱硬化型の接着剤とを混合して用いるといったことも可能である。
【０１１０】
充填剤４１は、シール剤４２（透明接着層４０）が塗布された領域の内側に充填される透明な樹脂材料である。充填剤４１は例えばシール剤４２と比べて粘性が低く、各カラーフィルタの間隙等を隙間なく充填可能な材料である。充填剤４１は、透明基板２０（着色フィルタ部３１）と素子基板１０との間のスペーサ及び保護層として機能する。
【０１１１】
また充填剤４１は、例えば所定の硬化処理により硬化して透明基板２０と素子基板１０とを接着する接着剤となる。この場合、充填剤４１は、シール剤４２と同様に透明接着層４０として機能する。充填剤４１の種類等は限定されず、例えば透明性を有する任意の樹脂材料が充填剤４１として用いられてよい。
【０１１２】
［表示装置１００の製造工程］
図５は、表示装置１００の製造工程の一例を示す製造フローチャートである。図５に示すように、表示装置１００の製造工程は、素子基板１０側の工程（ステップ１０１及び１０２）と、透明基板２０側の工程（ステップ１０３〜ステップ１０６）と、各基板から表示装置１００を製造する工程（ステップ１０７〜ステップ１１０）との３つの工程に大別される。なお、素子基板１０側を製造する工程と透明基板２０側を製造する工程は、それぞれ独立して行われる工程である。
【０１１３】
素子基板１０側では、まず有機ＥＬ素子１２が形成される（ステップ１０１）。例えば所定の基板（Ｓｉ基板等）が準備される。以下では、一つのマザー基板を用いて、複数の素子基板１０（表示装置１００）が形成されるものとする。
【０１１４】
基板上には、図４を参照して説明した回路層５０、金属電極層５１（画素電極６２及びカソードコンタクト６１）、有機発光層５２、共通電極５３、及び保護膜５４等が適宜積層される。これにより、基板上には、複数の有機ＥＬ素子１２が形成される。有機ＥＬ素子１２を形成する方法等は限定されず、各種のリソグラフィ手法や、成膜手法、イオン注入手法等が適宜用いられてよい。
【０１１５】
有機ＥＬ素子１２が形成されると、素子基板１０にカラーフィルタが成膜される（ステップ１０２）。具体的には、素子基板１０の保護膜５４の表面（第１の対向面１１）に、必要となるカラーフィルタ（着色フィルタ３３あるいは遮光フィルタ３４）を構成する着色膜が成膜される。図４に示す例では、第１の遮光フィルタ３４ａを構成する青色着色膜Ｂ１が成膜される。
【０１１６】
例えば、青色の染料を含む感光性樹脂材料（青色のカラーレジスト）が塗布され、周辺配線６０と平面視で重なるパターンに成形される。その後、素子基板１０全体に加熱等の硬化処理が施される。これにより、第１の遮光フィルタ３４ａ（青色着色膜Ｂ１）が形成される。
【０１１７】
なお、素子基板１０側には、有機発光層５２が積層される。従って、カラーレジストを硬化させる際の加熱温度は、有機発光層５２の有機ＥＬ材料の特性が変化しない範囲で設定される。このため、カラーレジストの加熱温度は、比較的低い温度に設定されることになる。
【０１１８】
素子基板１０にカラーフィルタ（第１の遮光フィルタ３４ａ）が成膜された後、カラーフィルタ上に他の膜を製膜するオーバーコート処理等が施される。オーバーコート処理では、例えば透明な平坦化膜や、シール剤４２との密着性を向上するための下地膜（プライマー）等が成膜される。図４では、オーバーコート処理により製膜される平坦化膜等の図示が省略されている。例えば、スピンコート法等を用いて、平坦化膜や下地膜等が成膜される。なおオーバーコート処理は行われなくてもよい。
【０１１９】
次に透明基板２０側の工程について説明する。透明基板２０側では、まず透明基板２０が準備される（ステップ１０３）。例えば素子基板１０を形成するマザー基板と同様の大きさの透明基板２０が洗浄され、スピンコータ等の所定の成膜装置に配置される。
【０１２０】
透明基板２０にカラーフィルタが成膜される（ステップ１０４）。具体的には、透明基板２０の一方の面（第２の対向面２１）に、必要となるカラーフィルタ（着色フィルタ３３あるいは遮光フィルタ３４）を構成する着色膜が成膜される。図４に示す例では、第１の着色フィルタ３３Ｂを構成する青色着色膜Ｂ２と、第２の着色フィルタ３３Ｒ及び第２の遮光フィルタ３４ｂを構成する赤色着色膜Ｒ２と、第３の着色フィルタ３３Ｇを構成する緑色着色膜Ｇ２とがそれぞれ成膜される。各着色膜を製膜する順番等は限定されない。
【０１２１】
例えば青色のカラーレジストが塗布され、第１の着色フィルタ３３Ｂのパターンが形成される。次に赤色のカラーレジストが塗布され、第２の着色フィルタ３３Ｒ及び第２の遮光フィルタのパターンが同時に形成される。最後に緑色のカラーレジストが塗布され、第３の着色フィルタ３３Ｇのパターンが形成される。
【０１２２】
各パターンが形成されると、カラーレジストの硬化処理として透明基板２０全体が加熱される。あるいは、各パターンが形成されるたびに、カラーレジストの硬化処理や半硬化処理等が行われてもよい。
【０１２３】
なお、透明基板２０側には、有機ＥＬ材料等の耐熱性の低い材料は含まれない。このため、透明基板２０における硬化処理では、各カラーレジストを十分に硬化させることが可能な温度で透明基板２０全体が加熱される。これにより、透明基板２０（第２の対向面２１）に十分に密着した着色膜を形成することが可能となる。これにより、各着色膜の剥離等を回避することが可能となる。
【０１２４】
透明基板２０にカラーフィルタ（第１〜第３の着色フィルタ３３Ｂ、３３Ｒ、３３Ｇ、及び第２の遮光フィルタ３４ｂ）が成膜された後、カラーフィルタ上に他の膜を製膜するオーバーコート処理等が施される。オーバーコート処理は、例えば素子基板１０側と同様に行われる。なおオーバーコート処理は行われなくてもよい。
【０１２５】
カラーフィルタが成膜されると、シール剤が塗布される（ステップ１０５）。例えば、カラーフィルタが成膜された透明基板２０に対して、シール剤塗布装置等によりＵＶ硬化型のシール剤４２が塗布される。シール剤４２の塗布領域１６は、例えば第２の遮光フィルタ３４ｂと重なるように設定される（図１参照）。またシール剤４２の塗布量は、素子基板１０及び透明基板２０の間の基板間隔や、第２の遮光フィルタ３４ｂの幅等に応じて適宜設定される。
【０１２６】
シール剤４２が塗布されると、充填剤４１が塗布される（ステップ１０６）。例えばすでに塗布されているシール剤４２で囲まれた領域に、粘性の低い充填剤４１が注入される。これにより、着色フィルタ３３を覆うように充填剤４１を塗布することが可能である。なお、充填剤４１の塗布量は、表示領域１３の面積、基板間隔、着色フィルタの膜厚等に応じて適宜設定される。
【０１２７】
素子基板１０と透明基板２０とが接着される（ステップ１０７）。図５では、シール剤４２及び充填剤４１が塗布された透明基板２０に対して、素子基板１０が接着される。例えば、透明基板２０を下側に配置した状態で、上側から素子基板１０を接近させる。このとき、透明基板２０側のカラーフィルタ等のパターンと、素子基板１０側の画素Ｐ等のパターンとが適正に重なるように位置合わせが行われる。
【０１２８】
素子基板１０及び透明基板２０は、位置合わせが完了した状態で、所定の基板間隔を空けて固定される。この時点で、第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂの間にはシール剤４２が充填される。また第１の対向面１１と着色フィルタ３３との間には充填剤４１が充填される。各基板の固定には、基板間隔に応じたスペーサ等が用いられてもよい。
【０１２９】
シール剤４２を硬化するための紫外光が照射される（ステップ１０８）。例えば透明基板２０側から周辺部分２４に充填されたシール剤４２に向けて紫外光が照射される。透明基板２０に入射した紫外光は、第２の遮光フィルタ３４ｂに入射する。上記したように第２の遮光フィルタ３４ｂは、紫外光を透過する着色膜（赤色着色膜Ｒ２）により構成される。従って、紫外光は、第２の遮光フィルタ３４ｂを透過してシール剤４２に入射する。これにより、シール剤４２の硬化反応が進行し、シール剤４２が硬化する。
【０１３０】
紫外光は、基板全体に照射されてもよい。これにより、例えばＵＶ硬化型の充填剤等を同時に硬化することが可能となる。また紫外光は、シール剤４２が塗布された領域に対して選択的に照射されてもよい。これにより、紫外光の照射により有機発光層に対するダメージ等を抑制することが可能である。なお、シール剤４２や充填剤４１に熱硬化型の接着剤が含まれている場合等には、熱硬化処理が実行される。
【０１３１】
シール剤４２及び充填剤４１が硬化されると、マザー基板を分断して各素子（表示装置１００）が分離される（ステップ１０９）。透明基板２０が接着されたマザー基板は、ダイシング装置等により縦横に分断され、各素子が個片化される。個片化された各素子に配線やパッケージ等が接続され、表示装置１００が完成する（ステップ１１０）。
【０１３２】
［遮光構造の説明］
図４に示すように、表示装置１００では、周辺領域１４の上層においてカラーフィルタ（第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂ）がシール剤４２を挟んで上下に積層される。また各カラーフィルタは、互いに異なる色の光を選択的に透過するように設定される。この構造により、周辺領域１４が遮光され、周辺領域１４の下層に配置された周辺配線６０が遮光される。
【０１３３】
例えば表示装置１００の正面（透明基板２０の上側の表面）から白色光が入射したとする。この場合、周辺部分２４では、透明基板２０を通過した白色光が第２の遮光フィルタ３４ｂに入射する。第２の遮光フィルタ３４ｂは、透明基板２０から入射した白色光のうち、赤色光を透過する。この赤色光は、透明接着層４０を透過して下層に配置された第１の遮光フィルタ３４ａに入射する。
【０１３４】
第１の遮光フィルタ３４ａは、青色光を透過するカラーフィルタである。従って青色光のスペクトル成分をほとんど含んでいない赤色光は、第１の遮光フィルタ３４ａにより略吸収される。この結果、遮光フィルタ部３２を介して入射した白色光等の外光は、周辺領域１４の下層に配置された周辺配線６０（カソードコンタクト６１等）に到達する前に十分に減衰され、周辺配線６０が遮光される。
【０１３５】
このように、第１の遮光フィルタ３４ａは、第２の遮光フィルタ３４ｂを通過した可視光を規制する。従って表示装置１００では、表示領域１３の周辺の遮光性が高いレベルに維持される。これにより、例えば透明基板２０側から外光等が入射した場合であっても、周辺配線６０による不要な反射や映り込み等が生じる事態を十分に回避することが可能である。この結果、高品質な画像表示を実現することが可能となる。
【０１３６】
例えば、互いに異なる波長の光を透過する着色膜を直接積層した多層膜を一方の基板に配置した場合であっても、可視光を遮るフィルタを構成することが可能である（図８等参照）。これに対し、本実施形態では、第１の遮光フィルタ３４ａと第２の遮光フィルタ３４ｂとが、素子基板１０側と透明基板２０側とにそれぞれ分割して配置される。これにより、各基板上に配置されるカラーフィルタ（第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂ）の厚さを、多層膜を用いる場合と比べて薄くすることが可能となる。
【０１３７】
本実施形態では、第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂは、それぞれ単層の着色膜により構成される。従って遮光フィルタ３４は、例えば多層膜のような厚い膜と比べて、剥がれにくく密着性の高い遮光膜となる。これにより、成膜後に施される洗浄工程、高温試験、高湿試験、及び切断工程等において、遮光フィルタ３４の剥離等を十分に抑制することが可能となる。このように、本遮光構造を用いることで、表示領域の周辺の遮光性を維持しつつ、表示装置１００の製造工程における歩留まりを大幅に向上することが可能となる。
【０１３８】
遮光フィルタ３４が成膜された後で、その上に平坦化膜やプライマー等を設けるオーバーコート処理が行われる場合がある（図５のステップ１０２及び１０６等参照）。このような場合であっても、遮光フィルタ３４が薄いため、スピンコート時の塗布不良等を抑制することが可能となる。これにより、オーバーコート膜を精度よく成膜することが可能となる。また遮光フィルタ３４の剥離等が抑制されるため、オーバーコート処理での歩留まりを改善することが可能となる。
【０１３９】
また、遮光構造を分割して各カラーフィルタを単層化することで、紫外光を透過する構造を実現することが可能となる。具体的には、第２の遮光フィルタ３４ｂとして、紫外光を透過する着色膜が用いられる。これにより、シール剤４２がＵＶ硬化型の接着剤である場合にも、シール剤４２に対して適正に紫外光を照射することが可能となり、シール剤４２の硬化不良等を回避することが可能となる。
【０１４０】
別の観点では、紫外光を透過する第２の遮光フィルタ３４ｂを設けることで、ＵＶ硬化型の接着剤を採用することが可能になるとも言える。これにより、透明基板２０と素子基板１０とを容易に接着することが可能となる。またシール剤４２を硬化するための加熱工程等が不要となり、有機ＥＬ材料に対するダメージを抑制することが可能となる。
【０１４１】
第２の遮光フィルタ３４ｂを構成する着色膜は、赤色光を透過する赤色着色膜Ｒ２である。従って、他の色の着色膜を第２の遮光フィルタ３４ｂとして用いる場合と比べ、紫外光を効率的に透過することが可能となる。これにより、シール剤４２を十分に硬化することが可能となり、信頼性の高い接着を実現することが可能となる。
【０１４２】
図４に示す例では、赤色着色膜Ｒ２（第２の遮光フィルタ３４ｂ）に対向する着側膜として、青色着色膜Ｂ１（第１の遮光フィルタ３４ａ）が配置される。この場合、各着色膜を透過する光のスペクトルが離れているため、高い遮光性能を発揮することが可能となる。
【０１４３】
また各基板を接着するシール剤４２は、第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂにより挟まれることになる。第１及び第２の遮光フィルタ３４ａ及び３４ｂは、ともに樹脂材料で形成されるため、これらのカラーフィルタに対するシール剤４２の濡れ性（親和性）は、互いに略同様となる。すなわち、図５のステップ１０７等で説明した、基板の接着工程は、シール剤４２が濡れ性の等しい素材に挟まれた状態で行われる。
【０１４４】
これにより、シール剤４２の線幅等を高精度に制御することが可能となる。例えば各基板を貼り合せる際に、シール剤４２の線幅は、基板間隔に応じて変化する。すなわち、基板間隔が小さくなるほど、シール剤４２は上側及び下側に配置されたカラーフィルタにより押しつぶされて、その線幅は大きくなる。
【０１４５】
仮にシール剤４２が接する接着面の濡れ性に偏り等がある場合には、シール剤４２の線幅が大きく広がる部分や、逆に線幅があまり変化しない部分等が発生する可能性がある。この場合、平面視でみたシール剤４２の境界（外周及び内周）は波状になると考えられる。
【０１４６】
これに対し、本実施形態では、シール剤４２の上下には、略同様の素材（感光性樹脂材料）で構成されたカラーフィルタが配置される。これにより、接着時の線幅を精度よく制御することが可能となり、例えば直線状の境界等を容易に実現することが可能となる。これにより、各基板をむらなく接着することが可能となる。また境界部分が目立たなくなるため、遮光構造の視認性を抑制することが可能となり、画像表示の品位を向上することが可能となる。
【０１４７】
なお、図４に示す表示装置１００では、複数の着色フィルタ３３が全て透明基板２０の第２の対向面２１に配置される。また素子基板１０の第１の対向面１１には、第１の遮光フィルタ３４ａ（青色着色膜Ｂ１）だけが配置される。上記したように、第１の遮光フィルタ３４ａは、比較的低い温度で硬化される（図５のステップ１０２参照）。このため、例えば第１の対向面１１と第１の遮光フィルタ３４ａとの界面から水分や酸素等が侵入する場合が考えられる。
【０１４８】
しかしながら、図４に示すように着色フィルタ３３を全て透明基板２０側に配置することで、第１の対向面１１と第１の遮光フィルタ３４ａとの界面から侵入した水分等は、充填剤４１によりブロックされる。これにより、水分等の侵入に伴う有機ＥＬ素子１２等の劣化を抑制することが可能となる。この結果、装置の信頼性を向上することが可能となる。
【０１４９】
図６は、表示装置の他の構成例を示す模式図である。図６に示す表示装置２００では、着色フィルタ部２３１に含まれる複数の着色フィルタ２３３が全て、素子基板２１０の第１の対向面１１に配置される。なお図６には、表示装置２００の周辺部分２４から、表示部分２３の外縁であるダミー領域１８までの断面構造の一例が模式的に図示されている。
【０１５０】
表示装置２００は、着色フィルタ部２３１と、遮光フィルタ部２３２と、素子基板２１０と、透明基板２２０とを有する。素子基板２１０及び透明基板２２０は、例えば図４に示す表示装置１００の素子基板１０及び透明基板２０と同様に構成される。
【０１５１】
着色フィルタ部２３１は、第１の着色フィルタ２３３Ｂと、第２の着色フィルタ２３３Ｒと、第３の着色フィルタ２３３Ｇとを有する。第１〜第３の着色フィルタ２３３Ｂ、２３３Ｒ、２３３Ｇは、いずれも素子基板２１０の第１の対向面１１に配置される。すなわち、第１の着色フィルタ２３３Ｂは、第１の対向面１１に積層された青色着色膜Ｂ１により構成され、第２の着色フィルタ２３３Ｒは、第１の対向面１１に積層された赤色着色膜Ｒ１により構成され、第３の着色フィルタ２３３Ｇは、第１の対向面１１に積層された緑色着色膜Ｇ１により構成される。
【０１５２】
遮光フィルタ部２３２は、第１の遮光フィルタ２３４ａと、第２の遮光フィルタ２３４ｂとを有する。第１の遮光フィルタ２３４ａは、素子基板２１０（第１の対向面１１）の周辺領域１４に配置される。第２の遮光フィルタ２３４ｂは、第１の遮光フィルタ２３４ａと平面視で重なるように透明基板２２０（第２の対向面２１）に配置される。第１及び第２の遮光フィルタ２３４ａ及び２３４ｂは、それぞれ単層の着色膜により構成される。
【０１５３】
図６に示す表示装置２００では、第１の遮光フィルタ２３４ａは、第１の着色フィルタ２３３Ｂと同じ着色膜により構成される。すなわち、第１の遮光フィルタ２３４ａ及び第１の着色フィルタ２３３Ｂは、青色着色膜Ｂ１を積層する際に同時に成膜される。これにより、新たな成膜工程等を加えることなく、第１の遮光フィルタ２３４ａを構成することが可能となる。
【０１５４】
第２の遮光フィルタ２３４ｂは、第２の対向面２１に積層された赤色着色膜Ｒ２により構成される。赤色着色膜Ｒ２としては、第１の対向面１１に積層された赤色着色膜Ｒ１と同様の着色材料（カラーレジスト等）が用いられる。
【０１５５】
このように、第１の対向面１１に、第１〜第３の着色フィルタ２３３Ｂ、２３３Ｒ、２３３Ｇを配置することで、各着色フィルタ２３３と、有機ＥＬ素子１２との距離を小さくすることが可能である。これにより、例えば１つの有機ＥＬ素子１２から出射された光が、隣接する画素Ｐに対応した着色フィルタ２３３に入射するといった事態が回避される。この結果、所望の色を適正に表示することが可能となり、鮮明な画像表示等を実現することが可能となる。
【０１５６】
図７は、表示装置の他の構成例を示す模式図である。図７に示す表示装置３００では、着色フィルタ部３３１に含まれる複数の着色フィルタ３３３の一部が、素子基板３１０の第１の対向面１１に配置され、他の一部が透明基板３２０の第２の対向面２１に配置される。
【０１５７】
表示装置３００は、着色フィルタ部３３１と、遮光フィルタ部３３２と、素子基板３１０と、透明基板３２０とを有する。素子基板３１０及び透明基板３２０は、例えば図４に示す表示装置１００の素子基板１０及び透明基板２０と同様に構成される。
【０１５８】
着色フィルタ部３３１は、第１の着色フィルタ３３３Ｂと、第２の着色フィルタ３３３Ｒと、第３の着色フィルタ３３３Ｇとを有する。表示装置３００では、第１及び第３の着色フィルタ３３３Ｂ及び３３３Ｇは、素子基板３１０の第１の対向面１１に配置される。また第２の着色フィルタ３３３Ｒは、透明基板３２０の第２の対向面２１に配置される。すなわち、第１の着色フィルタ３３３Ｂは、第１の対向面１１に積層された青色着色膜Ｂ１により構成され、第２の着色フィルタ３３３Ｒは、第２の対向面２１に積層された赤色着色膜Ｒ２により構成され、第３の着色フィルタ３３３Ｇは、第１の対向面１１に積層された緑色着色膜Ｇ１により構成される。なお第３の着色フィルタ３３３Ｇは、第２の対向面２１に配置されてもよい。
【０１５９】
遮光フィルタ部３３２は、第１の遮光フィルタ３３４ａと、第２の遮光フィルタ３３４ｂとを有する。第１の遮光フィルタ３３４ａは、素子基板３１０（第１の対向面１１）の周辺領域１４に配置される。第２の遮光フィルタ３３４ｂは、第１の遮光フィルタ３３４ａと平面視で重なるように透明基板３２０（第２の対向面２１）に配置される。第１及び第２の遮光フィルタ３３４ａ及び３３４ｂは、それぞれ単層の着色膜により構成される。
【０１６０】
図７に示す表示装置３００では、第１の遮光フィルタ３３４ａは、第１の着色フィルタ３３３Ｂと同じ着色膜により構成される。すなわち、第１の遮光フィルタ３３４ａ及び第１の着色フィルタ３３３Ｂは、青色着色膜Ｂ１を積層する際に同時に成膜される。
【０１６１】
また第２の遮光フィルタ３３４ｂは、第２の着色フィルタ３３３Ｒと同じ着色膜により構成される。すなわち、第２の遮光フィルタ３３４ｂ及び第２の着色フィルタ３３３Ｒは、赤色着色膜Ｒ２を積層する際に同時に成膜される。
【０１６２】
このように、表示装置３００では、紫外光を透過しやすいカラーフィルタ（赤色着色膜Ｒ２）が上側基板に形成され、それ以外のカラーフィルタが下側基板に形成される。これにより、ＵＶ硬化型の接着剤を適正に硬化させることが可能となる。また、それぞれの基板に形成する周辺のカラーフィルタ（第１及び第２の遮光フィルタ３３４ａ及び３３４ｂ）は、いずれも、対応する着色フィルタを製膜する際に、同時に形成される。これにより、遮光フィルタを製膜するための工程等を新たに加えることなく、遮光構造を効率的に形成することが可能となる。この結果、製造工程に要する時間等を大幅に短縮することが可能となる。
【０１６３】
以上、本実施形態に係る表示装置１００（２００、３００）では、有機ＥＬ素子１２と周辺配線６０とを有する素子基板の第１の対向面１１と、透明基板の第２の対向面２１とが対向して配置される。第１の対向面１１及び第２の対向面２１には、第１及び第２の遮光フィルタが対向して配置され、周辺配線６０が遮光される。また各遮光フィルタの間に充填された透明接着層により、素子基板及び透明基板が接着される。これにより各遮光フィルタの厚さが低減され、遮光フィルタの剥離等を抑制することが可能となる。この結果、表示領域１３の周辺の遮光性を維持しつつ歩留まりを向上することが可能となる。
【０１６４】
近年、持ち運び等の観点から、ビューファインダやヘッドマウントディスプレイ等に実装される表示パネルとして、外形がより小さいものが求められている。そのため、これまで一般的に採用されていた外枠を排除し、パネル外形を小さくする方法が開発されている。一方で外枠を排除した場合、パネルから発光した光や外光などが、画像の周辺に配置された電極等で反射してしまい、画質を損なう可能性が考えられる。
【０１６５】
このような周辺に配置された電極を遮光する方法として、複数のカラーフィルタを直接積層した遮光膜を電極上に配置する方法が挙げられる。この場合、遮光膜は、複数のカラーフィルタが積層された多層膜となり、比較的厚い膜となる。一般にカラーフィルタを積層する総数が多いほど、その積層膜が剥がれるということが考えられ、製造工程の歩留まりを低下させる恐れがある。
【０１６６】
図８は、比較例として示す表示装置の断面構造の一例を示す模式図である。図８Ａに示す表示パネル１５０では、赤色及び青色のカラーフィルタを積層した積層構造１５１が透明な上側基板１５２に積層される。また図８Ｂに示す表示パネル１６０では、図８Ａと同様の積層構造１６１が有機ＥＬ等を含む下側基板１６３に積層される。各表示パネル１５０及び１６０では、これらの積層構造１５１及び１６１により、周辺の電極が遮光される。一方で、積層構造１５１及び１６１は膜厚が大きいため、製造中に剥離等が生じる可能性があり得る。
【０１６７】
また図８Ａに示す表示パネル１５０では、上側基板１５２から紫外光等を照射する際に積層構造１５１により光が遮光されてしまう。このため、上側基板１５２と下側基板１５３との接着に光硬化樹脂等を用いている場合には、光硬化樹脂に光が照射できないため、未硬化領域が生じてしまうことが考えられる。この結果、硬化不良に伴う基板の剥離等が発生する恐れがある。
【０１６８】
図８Ｂに示す表示パネル１６０では、下側基板１６２の表面に、積層構造１６１による段差が生じる。この段差により、オーバーコート処理等の成膜に不具合が生じる可能性がある。また、下側基板１６３には有機ＥＬ材料等が含まれるため、積層構造１６１と下側基板１６３との密着性は低い。このため、積層構造１６１を製膜した後の洗浄や高温高湿試験により、積層構造１６１が剥離する可能性が高くなり、歩留まりを低下させる恐れがある。
【０１６９】
本実施形態では、周辺領域１４に配置する遮光構造（遮光フィルタ部）として、シール剤を第１及び第２の遮光フィルタで挟む構造が用いられる。すなわち、遮光構造を構成するカラーフィルタは、シール剤を挟んで分割して配置される。
【０１７０】
これにより、第１及び第２の遮光フィルタの膜厚をそれぞれ薄くすることが可能となり、各基板との密着性を十分に高めることが可能となる。これにより、第１及び第２の遮光フィルタの剥離等が回避される。このように、本実施形態では、遮光性を維持したまま、製造工程の歩留まりを大幅に向上することが可能となる。
【０１７１】
また第１及び第２の遮光フィルタは、単層の着色膜により構成される。これにより、例えば比較的低い温度で硬化される第１の遮光フィルタであっても、その膜厚が小さいため、製造工程での剥離等を十分に抑制することが可能となる。また素子基板側あるいは透明基板側にオーバーコート処理等を施す場合であっても、周辺部分での段差が小さいため、適正に成膜処理を行うことが可能となる。
【０１７２】
また例えば上層に配置される第２の遮光フィルタを、紫外線を透過可能なフィルタとして構成することが可能となる。これにより、ＵＶ硬化型のシール剤を適正に硬化することが可能となる。また、第２の遮光フィルタを赤色のカラーフィルタとすることで、紫外光の照射効率を十分に高めることが可能である。これにより、信頼性の高い表示装置を容易に提供することが可能となる。
【０１７３】
なおシール剤は、第１及び第２の遮光フィルタに挟まれるように用いられる。従って素子基板及び透明基板を接着する際に、シール剤の線幅を精度よく制御することが可能となる。これにより、カソードコンタクト等の周辺配線による反射や映り込み等が回避されるとともに、周辺部分２４が目立たなくなる。この結果、周辺部分２４の視認性を抑えた高品位な画像表示を実現することが可能となる。
【０１７４】
＜第２の実施形態＞
本技術に係る第２の実施形態の表示装置について説明する。これ以降の説明では、上記の実施形態で説明した表示装置１００、２００、及び３００における構成及び作用と同様な部分については、その説明を省略又は簡略化する。
【０１７５】
図９は、第２の実施形態に係る表示装置４００の構成例を示す模式図である。表示装置４００では、透明基板４２０側の周辺部分２４にスリット状のカラーフィルタ（第２の遮光フィルタ４３４ｂ）が配置される。以下では、表示装置４００の着色フィルタ部４３１及び遮光フィルタ部４３２について説明する。
【０１７６】
着色フィルタ部４３１は、複数の着色フィルタ４３３を有し、これらは全て透明基板４２０側に配置される。すなわち、第１〜第３の着色フィルタ４３３Ｂ、４３３Ｒ、４３３Ｇは、第２の対向面２１に積層された青色着色膜Ｂ２、赤色着色膜Ｒ２、緑色着色膜Ｇ２によりそれぞれ構成される。
【０１７７】
遮光フィルタ部４３２は、素子基板４１０側に配置される第１の遮光フィルタ４３４ａと、透明基板４２０側に配置される第２の遮光フィルタ４３４ｂとを有する。第１の遮光フィルタ４３４ａは、第１の対向面１１に積層された青色着色膜Ｂ１により構成される。また、第２の遮光フィルタ４３４ｂは、第２の着色フィルタ４３３Ｒと同じ赤色着色膜Ｒ２により構成される
【０１７８】
図９に示すように、表示装置４００では、第２の遮光フィルタ４３４ｂは、第２の対向面２１が露出した複数の開口部４５０を有する。開口部４５０は、着色膜（赤色着色膜Ｒ２）が形成されない領域であり、カラーフィルタに設けられた窓として機能する。各開口部４５０は、例えば平面視で表示領域１３（表示部分２３）を囲む帯状の領域となるようにそれぞれ形成される。この場合、各開口部４５０は、着色膜に設けられたスリットとなる。第１の遮光フィルタ４３４ａは、第１の対向面１１の周辺領域１４を覆うように配置される。従って、第１の遮光フィルタ４３４ａには、スリット等の開口構造は設けられない。
【０１７９】
例えば、透明基板４２０側から周辺部分２４に紫外光を照射した場合、一部は赤色着色膜Ｒ２を透過し、他の一部は開口部４５０を通過してそのままシール剤４４２に入射する。開口部４５０を通過した紫外光は、例えば赤色着色膜Ｒ２を透過した紫外光と比べ、強度が大きくなる。このように、第２の遮光フィルタ４３４ｂに複数の開口部４５０を設けることで、透明基板４２０から十分な紫外光を照射することが可能となり、シール剤４４２の未硬化を十分に抑制することが可能となる。
【０１８０】
また、第２の遮光フィルタ４３４ｂの下層には、開口構造のない第１の遮光フィルタ４３４ａが配置されるため、遮光性を維持することが可能である。これにより、紫外光を効率的に照射して、シール剤４４２を適正に硬化させることが可能な遮光構造が構成される。
【０１８１】
なお、開口部４５０を設けることで、第２の遮光フィルタ４３４ｂとして、紫外光を透過しにくい着色膜等を用いることも可能となる。言い換えれば、着色膜の透過特性に係らず、スリット等の開口部４５０を設けることで、紫外光を通過する第２の遮光フィルタ４３４ｂを構成することが可能である。これにより、例えば着色フィルタ４３３の設計等に合わせて遮光フィルタ４３４の構成を自由に選択することが可能となり、設計自由度が向上する。
【０１８２】
開口部４５０の数、形状、サイズ等は限定されない。例えばスリットを形成する開口部４５０は、シール剤４４２が塗布される塗布領域に一様に光を照射可能となるように、均等な間隔で配置される。また開口部４５０が円形や四角形等の穴として形成され、着色膜に均等に配置されてもよい。この他、遮光性を維持しつつ、紫外光の照射光量を増加させることが可能な任意の開口パターンが用いられてよい。
【０１８３】
図１０は、表示装置の他の構成例を示す模式図である。図１０に示す表示装置５００では、着色フィルタ部５３１に含まれる複数の着色フィルタ５３３のうち、一部が素子基板５１０側に配置され、他の一部が透明基板５２０側に配置される。また遮光フィルタ部５３２は、図９に示す遮光フィルタ部４３２と略同様に構成される。
【０１８４】
図１０に示すように、第１の着色フィルタ５３３Ｂは、第１の対向面１１に積層された青色着色膜Ｂ１により構成される。第２及び第３の着色フィルタ５３３Ｒ及び５３３Ｇは、第２の対向面２１に積層された赤色着色膜Ｒ２及び緑色着色膜Ｇ２によりそれぞれ構成される。なお、第３の着色フィルタ５３３Ｇは、素子基板５１０側に配置されてもよい。
【０１８５】
第１の遮光フィルタ５３４ａは、第１の着色フィルタ５３３Ｂと同じ青色着色膜Ｂ１により構成され、第２の遮光フィルタ５３４ｂは、第２の着色フィルタ５３３Ｒと同じ赤色着色膜Ｒ２により構成される。このように、表示装置５００では、各遮光フィルタ５３４は、着色フィルタ５３３を積層する際に同時に積層可能である。つまり、表示装置５００は、上下それぞれのカラーフィルタを画素Ｐと周辺遮光とで組み合わせる構造となっている。これにより、新たな成膜工程等を増やさずに表示装置５００を製造することが可能となる。
【０１８６】
なお、第１〜第３の着色フィルタ５３３Ｂ、５３３Ｒ、５３３Ｇが全て素子基板５１０側に配置されてもよい。この場合、第１の遮光フィルタ５３４ａは、第１の着色フィルタ５３３Ｂと同時に素子基板５１０に成膜され、第２の遮光フィルタ５３４ｂは、単独で透明基板５２０に成膜される。このように、遮光フィルタは、各基板に成膜される着色フィルタと適宜組み合わせて形成可能である。
【０１８７】
＜第３の実施形態＞
図１１は、第３の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。図１１に示す表示装置６００では、２層構造の積層膜を用いて、第１及び第２の遮光フィルタ６３４ａ及び６３４ｂが構成される。なお図１１では、上記の実施形態で説明した着色膜と比べて膜厚の小さい着色膜が記載されているが、これに限定されず各着色膜の膜厚は適宜設定されてよい。
【０１８８】
素子基板６１０側には、青色着色膜Ｂ１及び赤色着色膜Ｒ１が積層される。また透明基板６２０側には、青色着色膜Ｂ２、赤色着色膜Ｒ２、及び緑色着色膜Ｇ２が積層される。着色フィルタ部６３１の第１〜第３の着色フィルタ６３３Ｂ、６３３Ｒ、６３３Ｇは、青色着色膜Ｂ２、赤色着色膜Ｒ２、及び緑色着色膜Ｇ２により構成される。すなわち、着色フィルタ部６３１は、透明基板６２０側に設けられる。また、緑色着色膜Ｇ２を除く４つの着色膜を用いて、遮光フィルタ部６３２（第１及び第２の遮光フィルタ６３４ａ及び６３４ｂ）が構成される。
【０１８９】
図１１に示すように、第１の遮光フィルタ６３４ａは、青色着色膜Ｂ１と、青色着色膜Ｂ１とは異なる波長の光を透過する赤色着色膜Ｒ１とにより形成される。また第２の遮光フィルタ６３４ｂは、青色着色膜Ｂ１と同じ波長の光を透過する青色着色膜Ｂ２と、赤色着色膜Ｒ１と同じ波長の光を透過する赤色着色膜Ｒ２とにより形成される。本実施形態では、青色着色膜Ｂ１、赤色着色膜Ｒ１、青色着色膜Ｂ２、及び赤色着色膜Ｒ２は、それぞれ第１の着色膜、第２の着色膜、第３の着色膜、及び第４の着色膜に相当する。
【０１９０】
ここで、第２の遮光フィルタ６３４ｂを形成する青色着色膜Ｂ２及び赤色着色膜Ｒ２は、着色フィルタ部６３１の第１の着色フィルタ６３３Ｂ及び第２の着色フィルタ６３３Ｒを形成する着色膜である。従って、第２の遮光フィルタ６３４ｂの成膜は、着色フィルタ部６３１の成膜と同じタイミングで行うことが可能である。
【０１９１】
なお、着色フィルタ部６３１の各着色フィルタ６３３は、全て素子基板６１０側に設けられてもよい。この場合、第１の遮光フィルタ６３４ａは、第１の着色フィルタ６３３Ｂ及び第２の着色フィルタ６３３Ｒを形成する青色着色膜Ｂ１及び赤色着色膜Ｒ１により構成される。この他、着色フィルタ６３３を形成する着色膜を適宜組み合わせて、各遮光フィルタ６３４が構成されてよい。このように、本実施形態では、第１又は前記第２の遮光フィルタ６３４ａ又は６３４ｂの少なくとも一方は、複数の着色フィルタ６３３を形成する複数の着色膜のうち２つの着色膜により形成される。
【０１９２】
第１の遮光フィルタ６３４ａは、第１の積層膜６４０ａと、複数の開口部６５０ａとを有する。第１の積層膜６４０ａは、青色着色膜Ｂ１及び赤色着色膜Ｒ１が積層された積層膜である。図１１では、第１の対向面１１（素子基板６１０）に赤色着色膜Ｒ１が積層され、その上に青色着色膜Ｂ１が積層される。また複数の開口部６５０ａは、第１の積層膜６４０ａに形成され第１の対向面１１が露出した部分である。各開口部６５０ａは、例えば第１の積層膜６４０ａに設けられたスリットであり、表示領域１３を囲む帯状の領域として形成される。本実施形態では、開口部６５０ａは、第１の開口部に相当する。
【０１９３】
第２の遮光フィルタ６３４ｂは、第２の積層膜６４０ｂと、複数の開口部６５０ｂとを有する。第２の積層膜６４０ｂは、青色着色膜Ｂ２及び赤色着色膜Ｒ２が積層された積層膜である。図１１では、第２の対向面２１（透明基板６２０）に赤色着色膜Ｒ２が積層され、その上に青色着色膜Ｂ２が積層される。また複数の開口部６５０ｂは、第１の対向面１１に設けられた複数の開口部６５０ａと平面視で重ならないように第２の積層膜６４０ｂに形成され第２の対向面２１が露出した部分である。例えば各開口部６５０ｂは、スリット状の開口部６５０ａと重ならないように形成された帯状の領域（スリット）である。本実施形態では、開口部６５０ｂは、第２の開口部に相当する。
【０１９４】
第１及び第２の積層膜６４０ａ及び６４０ｂは、互いに異なる波長の光を透過する着色膜を積層した遮光膜である。すなわち各積層膜６４０ａ及び６４０ｂは、単独で光を遮光する機能を発揮する。従って、表示装置６００は、各基板側に遮光膜が配置され、それぞれの遮光膜に対して、互いに重ならないように光を透過する窓（開口部６５０ａ及び６５０ｂ）が形成された構造となる。
【０１９５】
例えば透明基板６２０の周辺部分２４に入射した光（可視光や紫外光等）のうち、一部の光は、第２の積層膜６４０ｂにより遮られ、他の一部の光は開口部６５０ｂを通過して素子基板６１０に向けて進行する。この素子基板６１０に向かう光は、素子基板６１０に設けられた第１の積層膜６４０ａにより遮られる。これにより、周辺部分２４を十分に遮光することが可能となる。
【０１９６】
また、第１及び第２の遮光フィルタ６３４ａ及び６３４ｂには、それぞれ略同様の開口部６５０ａ及び６５０ｂが設けられる。これにより、シール剤６４２に対して互いに同様の濡れ性を発揮する界面が形成される。この結果、シール剤６４２の線幅等を精度よく制御することが可能となる。また図１１に示すように、シール剤６４２に接する側に配置される着色膜の材料として同じカラーレジストを用いることで、シール剤６４２の上下での濡れ性のむら等を十分に抑制することが可能である。
【０１９７】
＜第４の実施形態＞
図１２は、第４の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。図１２に示す表示装置７００では、２種類の着色膜を交互に配置した単層膜を用いて、第１及び第２の遮光フィルタ７３４ａ及び７３４ｂが構成される。
【０１９８】
表示装置７００では、素子基板７１０側には、青色着色膜Ｂ１及び赤色着色膜Ｒ１が積層される。この青色着色膜Ｂ１及び赤色着色膜Ｒ１により、第１の遮光フィルタ７３４ａが構成される。また透明基板７２０側には、着色フィルタ部７３１の第１〜第３の着色フィルタ７３３Ｂ、７３３Ｒ、７３３Ｇを構成する青色着色膜Ｂ２、赤色着色膜Ｒ２、及び緑色着色膜Ｇ２が積層される。また青色着色膜Ｂ２及び赤色着色膜Ｒ２により、第２の遮光フィルタ７３４ｂが構成される。
【０１９９】
本実施形態では、青色着色膜Ｂ１、赤色着色膜Ｒ１、青色着色膜Ｂ２、及び赤色着色膜Ｒ２は、それぞれ第１の着色膜、第２の着色膜、第３の着色膜、及び第４の着色膜に相当する。なお、各着色フィルタ７３３はどちらの基板（素子基板７１０又は透明基板７２０）に配置されてもよい。また遮光フィルタ部７３２（第１及び第２の遮光フィルタ７３４ａ及び７３４ｂ）は、各着色フィルタ７３３と同じ着色膜をもちいて適宜構成されてよい。
【０２００】
図１２に示すように、第１の遮光フィルタ７３４ａは、青色着色膜Ｂ１及び赤色着色膜Ｒ１が第１の対向面１１の面方向に沿って交互に配置された第１のパターン膜７４０ａを有する。第１のパターン膜７４０ａは、単一の着色膜と同様の膜厚であり、単層膜となる。図１２に示す例では、表示領域１３と周辺領域１４との境界（図中の点線）から順に、青色着色膜Ｂ１及び赤色着色膜Ｒ１が交互に配置された断面構造が模式的に図示されている。
【０２０１】
第２の遮光フィルタ７３４ｂは、青色着色膜Ｂ１と平面視で重なるように赤色着色膜Ｒ２が前第２の対向面２１に配置され、赤色着色膜Ｒ１と平面視で重なるように青色着色膜Ｂ２が第２の対向面２１に配置された第２のパターン膜７４０ｂを有する。第２のパターン膜７４０ｂは、単一の着色膜と同様の膜厚であり、単層膜となる。図１２に示すように、第２のパターン膜７４０ｂでは、第１のパターン膜７４０ａの青色着色膜Ｂ１の上層に赤色着色膜Ｒ２が配置され、赤色着色膜Ｒ１の上層に青色着色膜Ｂ２が配置される。
【０２０２】
例えば透明基板７２０から入射した可視光の一部は、赤色着色膜Ｒ２を透過した後、素子基板７１０上の青色着色膜Ｂ１により吸収される。また可視光の他の一部は、青色着色膜Ｂ２を透過した後、素子基板７１０上の赤色着色膜Ｒ１により吸収される。このように、第２のパターン膜７４０ｂを透過した各色光は、第１のパターン膜７４０ａにより吸収され、周辺領域１４が遮光される。
【０２０３】
第２の遮光フィルタ７３４ｂのうち、赤色着色膜Ｒ２で構成される領域は、紫外光を透過可能な領域となる。これにより、シール剤７４２に対して紫外光を適正に照射することが可能となり、ＵＶ硬化型の接着剤（シール剤７４２）を適正に硬化することが可能となる。この結果、遮光性を維持しつつ、各基板の剥離等を抑制して信頼性の高い表示装置７００を実現することが可能となる。
【０２０４】
このように、上下に異なるカラーフィルタが重なるように各基板を貼り合せることで、上側、下側のカラーフィルタが単層で形成された遮光構造を実現することが可能となる。これにより、各遮光フィルタの剥離等が十分に抑制され、製造工程における歩留まりを十分に向上することが可能となる。
【０２０５】
第１のパターン膜７４０ａ及び第２のパターン膜７４０ｂの具体的な構成は限定されない。例えば、各着色膜を、表示部分２３（表示領域１３）を囲む帯状の領域に交互に配置したパターン等が用いられる。また円形や四角形等の複数の部分領域を配置したパターン等が用いられてもよい。この場合、各部分領域には一方の着色膜が成膜され、各部分領域の周りを埋めるように他方の着色膜が成膜される。いずれの場合であっても、各着色膜は、第２のパターン膜７４０ｂを透過した光が第１のパターン膜７４０ａで遮光されるように選択される。これにより、遮光性を維持しつつ紫外光を透過可能な遮光構造を実現することが可能となる。
【０２０６】
＜その他の実施形態＞
本技術は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
【０２０７】
上記の実施形態では、主に、赤色着色膜及び青色着色膜を用いて遮光フィルタを構成する場合について説明した。これに限定されず、緑色着色膜を含む遮光フィルタが用いられてもよい。
【０２０８】
図１３は、他の実施形態に係る表示装置の構成例を示す模式図である。図１３に示す表示装置８００では、着色フィルタ部８３１の第１の着色フィルタ８３３Ｂ及び第３の着色フィルタ８３３Ｇは、第１の対向面１１に配置される。また第２の着色フィルタ８３３Ｒは、第２の対向面２１に配置される。
【０２０９】
遮光フィルタ部８３２の第１の遮光フィルタ８３４ａは、第１の着色フィルタ８３３Ｂと同じ着色膜と、第３の着色フィルタ８３３Ｇと同じ着色膜とが積層された積層膜８４０を有する。図１３に示す積層膜８４０では、第１の対向面１１（素子基板８１０）に第１の着色フィルタ８３３Ｂと同じ青色着色膜Ｂ１が積層され、その上に第３の着色フィルタ８３３Ｇと同じ緑色着色膜Ｇ１が積層される。
【０２１０】
第２の遮光フィルタ８３４ｂは、第２の着色フィルタ８３３Ｒと同じ着色膜、すなわち赤色着色膜Ｒ２により構成される。これにより、第２の遮光フィルタ８３４ｂは、紫外光を透過することが可能となり、ＵＶ硬化型の接着剤を用いることが可能となる。
【０２１１】
このように、表示装置８００では、透明基板８２０側から順番に赤色着色膜Ｒ２、緑色着色膜Ｇ１、及び青色着色膜Ｂ１が、平面視で重なるように配置された遮光構造が構成される。これにより、透明基板８２０側から入射する外光等を十分に減衰することが可能となり、優れた遮光性を発揮することが可能となる。
【０２１２】
また、遮光フィルタ部８３２を構成するために、着色フィルタ８３３を構成する全ての着色膜が用いられる。言い換えれば、着色フィルタ８３３の成膜と同時に、遮光構造に必要なカラーフィルタ（第１及び第２の遮光フィルタ８３４ａ及び８３４ｂ）の成膜が完了する。これにより、新たな成膜工程を加えることなく、高い遮光性を持った表示装置８００を製造することが可能となる。
【０２１３】
上記の実施形態では、透明基板側に配置される第２の遮光フィルタとして、紫外光を透過可能な赤色着色膜（赤色のカラーレジスト）が用いられた。これに限定されず、第２の遮光フィルタは、紫外光を透過可能な任意の着色膜により構成されてよい。
【０２１４】
例えば、紫外光を透過可能な青色着色膜等が、第２の遮光フィルタとして用いられてよい。この場合、第１の遮光フィルタには、青色着色膜を透過した青色光を吸収する着色膜（赤色着色膜や緑色着色膜等）が用いられる。この他、紫外光を透過し、遮光性能を維持することが可能な任意の着色膜の組み合わせが適宜選択されてよい。
【０２１５】
この他、着色フィルタ及び遮光フィルタとして用いられる着色膜の種類等は限定されない。例えば、図４に示す例では、素子基板側に積層される着色膜（青色着色膜Ｂ１）として、透明基板側に積層される青色着色膜Ｂ２と同様の材料が用いられた。この青色着色膜Ｂ１に代えて、上層の赤色着色膜Ｒ２を透過した光を吸収することが可能な任意の色の着色膜が用いられてよい。すなわち、遮光構造を構成するカラーフィルタの色は、ＲＧＢに限定されない。
【０２１６】
上記では、紫外光により硬化するＵＶ硬化型の接着剤を含むシール剤について説明した。シール剤の具体的な構成は限定されない。例えばシール剤として、赤色光、緑色光、青色光等の所定の波長の光により硬化する光硬化性の接着剤がシール剤として用いられてもよい。この場合、シール剤を硬化させることが可能な波長の光が通過可能となるように、透明基板側に配置される第２の遮光フィルタを構成することで、シール剤を適正に硬化させることが可能となる。
【０２１７】
またシール剤（透明接着層）として、光硬化型の接着剤に代えて、加熱により硬化する熱硬化性の接着剤が用いられてもよい。この場合、第２の遮光フィルタは、紫外光等を透過する必要はなく、第１の遮光フィルタと組み合わせて遮光性能が実現されるように適宜構成されてよい。このように熱硬化型の接着剤を用いることで、着色膜の選択範囲を広げることが可能となる、設計の自由度を高めることが可能となる。
【０２１８】
上記の実施形態では、透明基板と素子基板とを接着する透明接着層としてシール剤が用いられた。例えばシール剤を用いずに、充填剤を使って各基板が接着されてもよい。すなわち、透明接着層として、透明基板及び素子基板の間に充填された充填剤が用いられてもよい。これにより、シール剤の塗布工程等を省略することが可能となり、製造工程を簡略化することが可能となる。
【０２１９】
上記では、共通電極側から光を出射するトップエミッション型の有機ＥＬ素子を備えた表示装置について説明した。これに限定されず、例えば画素電極側から光を出射するボトムエミッション型の有機ＥＬ素子が用いられてもよい。この場合、素子基板において、有機ＥＬ素子（有機発光層）が形成される側とは反対側に、カラーフィルタ層及び透明基板が配置される。
【０２２０】
ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子では、例えば透明な素子基板（ガラス基板等）上に透明な画素電極が形成される。画素電極の上方には、有機発光層と、共通電極とが形成される。ここで、共通電極は、光を反射する金属反射膜として機能する。あるいは、共通電極とは別に、金属反射膜が設けられてもよい。画素電極の下方には、例えば有機ＥＬ素子の光を取り出すための窓部が形成され、窓部の周りには画素回路等が配置される。素子基板には、各有機ＥＬ素子にそれぞれ対応する窓部が形成され、各窓部が形成される領域が、画像が表示される表示領域となる。
【０２２１】
素子基板の下方側には、表示領域の周りに設けられた接着領域を避けてカラーフィルタ層が設けられる。また接着領域にはシール剤等が塗布され透明基板が接着される。有機発光層で生成された光は、画素電極、窓部、及びカラーフィルタ層を通過して、透明基板から出射する。
【０２２２】
このような構成であっても、素子基板側と透明基板側とにカラーフィルタ（第１及び第２の遮光フィルタ）を分割して配置することで、遮光性を維持しつつカラーフィルタの剥離を回避することが可能となる。この結果、製造工程の歩留まりを向上することが可能となる。
【０２２３】
図１４〜図１７は、他の実施形態に係る表示装置を搭載した電子機器の一例を示す模式図である。上記では、モジュールとして構成された表示装置について説明した。本技術は、表示装置を搭載する各種の電子機器に適用可能である。以下では図１４〜図１７を参照して他の表示装置の一例について説明する。
【０２２４】
図１４は、携帯端末の外観を表したものである。図１４（Ａ）は、携帯端末９００の正面図であり、図１４（Ｂ）は携帯端末９００の背面図である。携帯端末９００の正面には表示用のディスプレイ９０１が配置される。このディスプレイ９０１として上記した表示装置を用いることが可能である。
【０２２５】
図１５は、デジタルカメラの外観を表したものである。図１５（Ａ）はデジタルカメラ９１０の正面図であり、図１５（Ｂ）はデジタルカメラ９１０の背面図である。このデジタルカメラ９１０は、ビューファインダ部９１１を有しており、このビューファインダ部９１１に上記した表示装置等が用いられる。この場合、表示装置は、マイクロディスプレイとして構成される。またデジタルカメラ９１０は、背面ディスプレイ９１２を有する。この背面ディスプレイ９１２に表示装置が用いられてもよい。
【０２２６】
図１６は、メガネやゴーグル、サングラス等のアイウェア９２０に、アイウェア装着型の片目用ディスプレイモジュール９２１を装着した外観を表したものである。アイウェア装着型の片目用ディスプレイモジュール９２１は、例えば光源と、有機ＥＬ装置９２２とを有しており、この有機ＥＬ装置に上記した表示装置等が適用される。
【０２２７】
図１７は、電子機器としてのテレビジョン装置９３０の外観を表したものである。このテレビジョン装置９３０は、フラットパネル型の有機ＥＬディスプレイ９３１を備える。この有機ＥＬディスプレイ９３１として上記した表示装置を用いることが可能である。
【０２２８】
以上説明した本技術に係る特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。すなわち各実施形態で説明した種々の特徴部分は、各実施形態の区別なく、任意に組み合わされてもよい。また上記で記載した種々の効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果が発揮されてもよい。
【０２２９】
本開示において、「同じ」「等しい」「直交」等は、「実質的に同じ」「実質的に等しい」「実質的に直交」等を含む概念とする。例えば「完全に同じ」「完全に等しい」「完全に直交」等を基準とした所定の範囲（例えば±１０％の範囲）に含まれる状態も含まれる。
【０２３０】
なお、本技術は以下のような構成も採ることができる。
（１）第１の面と、前記第１の面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子と、前記表示領域を囲む周辺領域と平面視で重なるように配置された周辺配線とを有する素子基板と、
前記第１の面に対向する第２の面を有する透明基板と、
前記第１の面の前記周辺領域に配置された第１の色フィルタと、前記第１の色フィルタに対向して前記第２の面に配置された第２の色フィルタとを有し、前記周辺配線を遮光する遮光フィルタ部と、
前記第１及び前記第２の色フィルタの間に充填され前記素子基板と前記透明基板とを接着する透明接着層と
を具備する表示装置。
（２）（１）に記載の表示装置であって、
前記第１の色フィルタは、前記第２の色フィルタを通過した可視光を規制する
表示装置。
（３）（１）又は（２）に記載の表示装置であって、
前記第２の色フィルタは、所定の波長の光を通過させ、
前記透明接着層は、前記所定の波長の光により硬化する光硬化性の接着剤を含む
表示装置。
（４）（１）から（３）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、さらに、
各々が前記第１の面又は前記第２の面のいずれか一方に配置され、互いに異なる波長の光を透過して前記有機ＥＬ素子の光を着色する複数の着色フィルタを有する着色フィルタ部を具備する
表示装置。
（５）（４）に記載の表示装置であって、
前記第１又は前記第２の色フィルタの少なくとも一方は、前記複数の着色フィルタを構成する複数の着色膜の少なくとも１つにより構成される
表示装置。
（６）（４）又は（５）に記載の表示装置であって、
前記複数の着色フィルタは、互いに異なる波長の光を透過する、第１の着色フィルタ、第２の着色フィルタ、及び第３の着色フィルタを有する
表示装置。
（７）（６）に記載の表示装置であって、
前記第１の色フィルタは、前記第１の着色フィルタと同様の波長の光を透過し、
前記第２の色フィルタは、前記第２の着色フィルタと同様の波長の光を透過する
表示装置。
（８）（６）又は（７）に記載の表示装置であって、
前記第２の着色フィルタは、前記第２の面に配置され、
前記第２の色フィルタは、前記第２の着色フィルタと同じ着色膜により構成される
表示装置。
（９）（６）から（８）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、
前記第１の着色フィルタは、前記第１の面に配置され、
前記第１の色フィルタは、前記第１の着色フィルタと同じ着色膜により構成される
表示装置。
（１０）（６）から（９）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、
前記第１の着色フィルタ及び前記第３の着色フィルタは、前記第１の面に配置され、
前記第１の色フィルタは、前記第１の着色フィルタと同じ着色膜と、前記第３の着色フィルタと同じ着色膜とが積層された積層膜を有する
表示装置。
（１１）（１）から（１０）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、
前記第２の色フィルタは、単一の着色膜により構成され、
前記第１の色フィルタは、前記第２の色フィルタを構成する着色膜とは異なる波長の光を透過する単一の着色膜により構成される
表示装置。
（１２）（１１）に記載の表示装置であって、
前記第２の色フィルタは、赤色光を透過し、
前記第１の色フィルタは、青色光を透過する
表示装置。
（１３）（１１）又は（１２）に記載の表示装置であって、
前記第２の色フィルタは、前記第２の面が露出した複数の開口部を有し、
前記第１の色フィルタは、前記第１の面の前記周辺領域を覆うように配置される
表示装置。
（１４）（１）から（６）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、
前記第１の色フィルタは、第１の着色膜と、前記第１の着色膜とは異なる波長の光を透過する第２の着色膜とにより構成され、
前記第２の色フィルタは、前記第１の着色膜と同じ波長の光を透過する第３の着色膜と、前記第２の着色膜と同じ波長の光を透過する第４の着色膜とにより構成される
表示装置。
（１５）（１４）に記載の表示装置であって、
前記第１の色フィルタは、前記第１及び前記第２の着色膜が層状に積層された第１の積層膜と、前記第１の積層膜に形成され前記第１の面が露出した複数の第１の開口部とを有し、
前記第２の色フィルタは、前記第３及び前記第４の着色膜が層状に積層された第２の積層膜と、前記複数の第１の開口部と平面視で重ならないように前記第２の積層膜に形成され前記第２の面が露出した複数の第２の開口部とを有する
表示装置。
（１６）（１４）に記載の表示装置であって、
前記第１の色フィルタは、前記第１の着色膜及び前記第２の着色膜が前記第１の面の面方向に沿って交互に配置された第１のパターン膜を有し、
前記第２の色フィルタは、前記第１の着色膜と平面視で重なるように前記第３の着色膜が前記第２の面に配置され、前記第２の着色膜と平面視で重なるように前記第４の着色膜が前記第２の面に配置された第２のパターン膜を有する
表示装置。
（１７）（１）から（１６）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、
前記透明接着層は、光硬化性の接着剤又は熱硬化性の接着剤を含む
表示装置。
（１８）（１）から（１７）のうちいずれか１つに記載の表示装置であって、
前記透明接着層は、前記表示領域を囲むように塗布されたシール剤、又は前記透明基板及び前記素子基板の間に充填された充填剤である
表示装置。
（１９）  第１の面と、前記第１の面の表示領域から光を出射する有機ＥＬ素子と、前記表示領域を囲む周辺領域と平面視で重なるように配置された周辺配線とを有する素子基板と、
前記第１の面に対向する第２の面を有する透明基板と、
前記第１の面の前記周辺領域に配置された第１の色フィルタと、前記第１の色フィルタに対向して前記第２の面に配置された第２の色フィルタとを有し、前記周辺配線を遮光する遮光フィルタ部と、
前記第１及び前記第２の色フィルタの間に充填され前記素子基板と前記透明基板とを接着する透明接着層と
を有する表示装置と、
前記表示装置を駆動する駆動回路と
を具備する電子機器。
【符号の説明】
【０２３１】
Ｂ１、Ｂ２…青色着色膜
Ｒ１、Ｒ２…赤色着色膜
Ｇ１、Ｇ２…緑色着色膜
１０、２１０、３１０、４１０、５１０、６１０、７１０、８１０…素子基板
１１…第１の対向面
１２…有機ＥＬ素子
１３…表示領域
１４…周辺領域
２０、２２０、３２０、４２０、５２０、６２０、７２０、８２０…透明基板
２１…第２の対向面
２６…駆動回路
３１、２３１、３３１、４３１、５３１、６３１、７３１、８３１…着色フィルタ部
３２、２３２、３３２、４３２、５３２、６３２、７３２、８３２…遮光フィルタ部
３３Ｂ、２３３Ｂ、３３３Ｂ、４３３Ｂ、５３３Ｂ、６３３Ｂ、７３３Ｂ、８３３Ｂ…第１の着色フィルタ
３３Ｒ、２３３Ｒ、３３３Ｒ、４３３Ｒ、５３３Ｒ、６３３Ｒ、７３３Ｒ、８３３Ｒ…第２の着色フィルタ
３３Ｇ、２３３Ｇ、３３３Ｇ、４３３Ｇ、５３３Ｇ、６３３Ｇ、７３３Ｇ、８３３Ｇ…第３の着色フィルタ
３４ａ、２３４ａ、３３４ａ、４３４ａ、５３４ａ、６３４ａ、７３４ａ、８３４ａ…第１の遮光フィルタ
３４ｂ、２３４ｂ、３３４ｂ、４３４ｂ、５３４ｂ、６３４ｂ、７３４ｂ、８３４ｂ…第２の遮光フィルタ
４０…透明接着層
４１…充填剤
４２、４４２、６４２、７４２…シール剤
６０…周辺配線
１００、２００、３００、４００、５００、６００、７００、８００…表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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