(57)【要約】【課題】１つの培養面に複数のマイクロウェルが形成された培養基材において、マイクロウェルの深さを深くしすぎることなく、マイクロウェルからのスフェロイドの移動を抑制し均一な大きさのスフェロイドを形成することができる細胞培養基材を提供する。【解決手段】細胞を培養するための培養面を有する培養基材であって、前記培養面は複数のマイクロウェルを有し、前記マイクロウェルは傾斜面を有する第１のウェルと、第１のウェル内に第２のウェルを有し、前記第１のウェルと第２のウェルの間の境界部に突起を有し、前記培養面は細胞低接着面となっていることを特徴とする培養基材。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞を培養するための培養面を有する培養基材であって、
前記培養面は複数のマイクロウェルを有し、
前記マイクロウェルは傾斜面を有する第１のウェルと、
第１のウェル内に第２のウェルを有し、
前記第１のウェルと第２のウェルの間の境界部に突起を有し、
前記培養面は細胞低接着面となっていることを特徴とする培養基材。
【請求項２】
前記培養面の外周面に傾斜壁を有することを特徴とする請求項１の培養基材。
【請求項３】
前記第１のウェルは、培養面に稠密に配置されていることを特徴とする請求項１又は２の培養基材。
【請求項４】
前記第２のウェルの開口部の径は、０．０５ｍｍ〜３ｍｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の培養基材。
【請求項５】
前記第１のウェルは、内部に傾斜面を有し、その傾斜角度は０°超〜９０°未満であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項記載の培養基材。
【請求項６】
前記第２のウェルは、深さが開口部の径の０．１〜２倍であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項記載の培養基材。
【請求項７】
前記第１のウェルは、開口部の径が第２のウェルの開口部の径の０．１〜３倍であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項記載の培養基材。
【請求項８】
前記第１のウェルと第２のウェルを合わせた深さは、培養面の厚みの０．１〜０．９倍であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項記載の培養基材。
【請求項９】
前記第２のウェルは内部に平坦面を有していないことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項記載の培養基材。
【請求項１０】
細胞を培養するための培養面を有する培養基材の製造方法であって、
傾斜面を有する第１のウェルと第１のウェル内に第２のウェルを有し、
前記第１のウェルと第２のウェルの間の境界部に突起があるように複数のマイクロウェルを培養面に形成するマイクロウェル形成工程を備えることを特徴とする培養基材の製造方法。
【請求項１１】
前記マイクロウェル形成工程は、第１のウェルを形成後、第２のウェルを形成することを特徴とする、請求項１０記載の培養基材の製造方法。
【請求項１２】
前記マイクロウェル工程は、培養基材と同時に前記第１のウェルを形成することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の培養基材の製造方法。
【請求項１３】
前記マイクロウェル形成工程は、第１のウェルを形成後、第１のウェル内に第２のウェルをレーザで形成することを特徴とする請求項１０〜１２のいずれか１項記載の培養基材の製造方法。
【請求項１４】
前記突起は、レーザによって形成することを特徴とする請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の培養基材の製造方法。
【請求項１５】
前記マイクロウェル形成工程に次いで前記培養面に細胞低接着処理を行う工程を備えることを特徴とする請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の培養基材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、細胞などの被培養物を培養してスフェロイド（細胞凝集塊）を得るための細胞培養基材及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ヒトや動物など由来の細胞を培養容器などで人工的に培養して三次元的に凝集させるスフェロイド培養がよく知られている。スフェロイド培養では、細胞集団が立体的な構造を形成し、細胞同士が相互作用しているため、生体内での三次元構造により近い状態で培養または維持できると考えられており、それが通常の平面接着培養と比べ優れた特性を示すことが知られている。実際に、がん細胞を用いた抗がん剤スクリーニングや、多能性幹細胞などの増殖や分化などにスフェロイド培養がよく利用されている。
【０００３】
また、容器本体の底部に、細胞及び培養液を収容するための凹部を備え、この凹部の底部には、細胞を重力によって集合させるための複数のマイクロウェルが設けた細胞培養容器において、この凹部の開口端へ近付くにつれて開口面積が広がるように凹部の側面を傾斜面で構成したものも知られている（特許文献１参照）。
【０００４】
また、培養面に設けた複数のマイクロウェル内に傾斜を設け、且つ深さを深くすることで、培地交換時にスフェロイドや細胞が他のウェルに移動しづらくする細胞培養容器も知られている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１５−０２９４３１号公報
【特許文献２】国際公開第２０１４／１９６２０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１のような細胞培養容器は、一度に多量の培養を可能とする多数のウェルが形成されたものを適用する場合、容器の移動時や培地交換による吸引、添加時に培養容器内の培地が大きく流動するおそれがある。これにより、ウェル内から細胞や、形成したスフェロイドが飛び出して、別のウェル内に移動することなどがあり、この結果、スフェロイドの形成効率が下がったり、均一な大きさのスフェロイドを得ることが難しくなったりするなど問題が起きる。
【０００７】
特許文献２では、ウェル内からのスフェロイドの移動を解決するために、傾斜（１〜２０°）を形成したり、ウェルの深さを従来より深くしたりする（特許文献２の実施例及び比較例参照）ことが記載されているが、従来から使用されているシャーレ状の培養容器を用いた場合、底部の厚みに対して深くウェルを形成することになるため、底部の強度が低くなり、破損やクラック等が発生するおそれがある。
【０００８】
そこで、本発明においては、１つの培養面に複数のマイクロウェルが形成された培養基材において、マイクロウェルの深さを深くしすぎることなく、マイクロウェルからのスフェロイドの移動を抑制し均一な大きさのスフェロイドを形成することが可能な細胞培養基材及びその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、細胞を培養するための培養面を有する培養基材であって、前記培養面は複数のマイクロウェルを有し、前記マイクロウェルは傾斜面を有する第１のウェルと、第１のウェル内に第２のウェルを有し、前記第１のウェルと第２のウェルの間の境界部に突起を有し、前記培養面は細胞低接着面となっていることを特徴とする。
【００１０】
本発明の培養基材は、前記培養面の外周面に傾斜壁を有することを特徴とする。
【００１１】
本発明の培養基材は、前記第１のウェルが、培養面に稠密に配置されていることを特徴とする。
【００１２】
本発明の培養基材は、前記第２のウェルの開口部の径は、０．０５ｍｍ〜３ｍｍであることを特徴とする。
【００１３】
本発明の培養基材は、前記第１のウェルの内部に傾斜面を有し、その傾斜角度は０°超〜９０°未満であることを特徴とする。
【００１４】
本発明の培養基材は、前記第２のウェルの深さが開口部の径の０．１〜２倍であることを特徴とする。
【００１５】
本発明の培養基材は、前記第１のウェルの開口部の径が第２のウェルの開口部の径の０．１〜３倍であることを特徴とする。
【００１６】
本発明の培養基材は、前記第１のウェルと第２のウェルを合せた深さが培養面の厚みの０．１〜０．９倍であることを特徴とする。
【００１７】
本発明の培養基材は、前記第２のウェルは内部に平坦面を有していないことを特徴とする。
【００１８】
本発明の培養基材の製造方法は、傾斜面を有する第１のウェルと、第１のウェル内に第２のウェルを有し、前記第１のウェルと第２のウェルの間の境界部に突起があるように複数のマイクロウェルを培養面に形成するマイクロウェル形成工程を備えることを特徴とする。
【００１９】
本発明の培養基材の製造方法は、前記マイクロウェル形成工程において前記マイクロウェルが、第１のウェルを形成後、第２のウェルを形成することを特徴とする。
【００２０】
本発明の培養基材の製造方法は、前記マイクロウェル形成工程において培養基材と同時に前記第１のウェルを形成することを特徴とする。
【００２１】
本発明の培養基材の製造方法は、前記マイクロウェル形成工程において第１のウェルを形成後、第１のウェル内に第２のウェルをレーザで形成されることを特徴とする。
【００２２】
本発明の培養基材の製造方法は、前記突起が、レーザによって形成されることを特徴とする。
【００２３】
本発明の培養基材の製造方法は、前記マイクロウェル形成工程に次いで前記培養面に細胞低接着処理を行う工程を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、従来の培養基材の培養面にスフェロイドを形成するための複数のマイクロウェルを形成したとしても、培地（培養液）の流動による細胞やスフェロイドのウェル間での移動を低減できると共に、大きさが均一なスフェロイドを大量に培養できる細胞培養基材を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の培養基材の上面図の一例を示す。
【図２】本発明の培養基材のＡ−Ａ´断面図の一例を示す。
【図３】本発明のマイクロウェルの上面図の一例を示す。
【図４】本発明のマイクロウェルの断面図の一例を示す。
【図５】本発明のマイクロウェルにおける微細突起の拡大図の一例を示す。
【図６】本発明の第１のウェルの開口形状のバリエーションの一例を示す。
【図７】本発明の第１のウェル（第２のウェル形成前）の断面図の一例を示す。
【図８】本発明の第２のウェルの開口形状のバリエーションの一例を示す。
【図９】本発明の第２のウェルのＢ−Ｂ´断面図のバリエーションの一例を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、実施形態について、図面に基づき説明する。なお、本発明は以下に記載する実施形態に限られるものでなく、適宜変更可能である。
【００２７】
本発明の培養基材１は基材の少なくとも１面に培養の過程で細胞を三次元的に凝集させたスフェロイドを得ることができる培養面を有し、その培養面は複数のマイクロウェルを有する。培養基材１の形状は例えば、シャーレ、フラスコ、多層フラスコ、マイクロプレート、シート、インサート等があげられるが特に形状は限定しない。シート状の部材にマイクロウェルを形成後、シャーレ等の容器に載置して使用してもよい。本明細書及び図面においては、シャーレの培養面２にマイクロウェル３を有するものを例に説明する。
【００２８】
図１に示すように、本発明の実施形態の１つの培養基材１は底部、周壁部を主に備えている。底部は円板状に構成されており、複数のマイクロウェル３がある培養面２を有する。培養面２は底部に形成されている。
【００２９】
周壁部は底部の周縁部から立ち上がっている。周壁部の形状は周縁部分を起立させた状態である。円板状の底部は、直径が例えば８５ｍｍ、厚みが例えば１ｍｍで形成されている。周壁部の高さは、底部を基準として例えば２０ｍｍで形成されている。なお、底部と周壁部とは一体の部品によって構成されている。また、細胞培養基材１は、開口部を覆うための蓋体などを備えていてもよい。
【００３０】
本発明の培養面２は、スフェロイドを形成するために、細胞が接着しない又は接着しづらい面（以下、細胞低接着面という）であることが好ましい。培養面２に接着すると細胞低接着面とするために、培養面２に細胞低接着となる処理（以下、細胞低接着処理という）をしたり、容器自体を細胞低接着の樹脂で形成したりしてもよい。細胞低接着処理としては例えば、リン脂質ポリマー（２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン等）、ポリヒドロキシエチルメタアクリレート、フッ素含有化合物、あるいはポリエチレングリコール等を用いたコートを行ったり、プラズマ処理、コロナ放電、ＵＶオゾン処理等の表面処理を行ったりしてもよい。また、細胞低接着の樹脂としては例えば、シリコーン樹脂や、細胞低接着コート様の成分を混ぜ込んだ樹脂等を用いることなどがあげられる。なお、細胞低接着処理は培養面２に限らず、培養面の周壁部等にも同等の処理を施してもよい。
【００３１】
図１及び図２に示すように、本発明の培養基材１は培養面２上に複数のマイクロウェル３を備える。各マイクロウェル３内でスフェロイドが培養される。マイクロウェル３は培養面２に稠密に配置され、マイクロウェル３同士の間には平坦面がない（非平坦面とする）ことが好ましい。例えば、マイクロウェル３同士の間を非平坦面とすることで、播種した細胞がマイクロウェル３内に必ず落ち込むため、マイクロウェル３外に細胞が留まることを防止できる。これにより、細胞がスフェロイドにならないことを抑制することが可能となる。ここで、本明細書における「非平坦」とは、培養面２の底面（培養基材の底面）に対して水平ではないことを指す。また、「稠密」とは、マイクロウェル３が密に形成され、そのウェルとウェルの間に平坦面がないことを指す。また、「細胞がスフェロイドにならない」とは、単層培養や単細胞浮遊培養、球状とならない積層培養、細胞が培養面２に接着して培養される、スフェロイドに取り込まれずに単細胞の状態で死んでしまうもの等を含む。
【００３２】
本発明のマイクロウェル３は、図２及び図３に示すように、第１のウェル３１と第２のウェル３２からなることが好ましい。第１のウェル３１と第２のウェル３２は一体として成形してもよく、第１のウェル３１を形成後、第２のウェル３２を形成してもよい。本明細書においては、第１のウェル３１を形成後に第２のウェル３２を形成した場合について説明する。
【００３３】
本発明の第２のウェル３２は、第１のウェル３１の底部に形成される。第２のウェル３２は第１のウェル３１の底部を開口させたものであり、その開口部（以下、第２の開口部という）の底部を有する。第２の開口部は第１のウェルの傾斜角度が変化した点を指す。第２のウェル３２の開口形状としては、図８示した一例のように、円形（ａ）、多角形（ｂ）（ｃ）（ｅ）（ｆ）、ドーナツ型（ｄ）、開口が複数ある形状（ｇ）などから適宜選択できる。第２のウェル３２の形状としては、円錐型、角柱型、Ｕ底型、Ｖ底型等から適宜選択できるが、特に、Ｕ底であればウェルに落ち込んだ細胞がまとまりやすく、且つ均一な球体を形成しやすいため好ましい。第２のウェルの断面形状の一例を図９に示す。
【００３４】
第２の開口部の径３２１は、０．０５ｍｍ〜３．０ｍｍであることが好ましい。第２の開口部の径３２１が０．０５ｍｍ未満であると、スフェロイドが取り出しにくくなるおそれがある。また第２の開口部の径３２１が３．０ｍｍ超であると、スフェロイドがウェルから飛び出しやすくなるおそれがある。第２の開口部の径３２１は０．１ｍｍ〜２．５ｍｍであることがより好ましく、０．１５ｍｍ〜２．０ｍｍであることがより一層好ましい。
【００３５】
また第２のウェルの深さ３２２は第２の開口部の径３２１の０．１〜２．０倍であることが好ましい。第２のウェルの深さ３２２が第２の開口部の径の０．１倍未満であるとスフェロイドがこぼれやすくなることが問題となる。また、第２のウェルの深さ３２２が第２の開口部の径３２１の２．０倍超であるとスフェロイドが取り出しづらくなること、底面強度が低くなることなどが問題となる。第２のウェルの深さ３２２は第２のウェルの径３２１の０．２〜１．８倍であることがより好ましく、０．３〜１．７倍であることがより一層好ましい。なお、第２のウェルの深さ３２２は第２の開口部から底部の高さのうち、最も長い箇所の値を指す。
【００３６】
本発明の第１のウェル３１は開口部（以下、第１の開口部という）と底部に向かう傾斜面を有する。また、第１の開口部の上面からみた形状は、図６に示すように、ハニカム型、格子型、円形等から適宜選択できる。例えば、ハニカム型であれば、隣接するウェル同士の距離が等しくなるので、各ウェルに同量の培地が入りやすく、より均一な条件でスフェロイド形成が可能となるため好ましい。第１の開口部の径３１１は、第２のウェルの径３２１の１．５〜５倍であることが好ましい。１．５倍未満であると、突起５が形成しづらいおそれがある。５倍超であると、培養効率が低下するおそれがある。第１の開口部の径３１１は第２の開口部の径３２１の１．８〜４．５倍あることがより好ましく、２〜３．５倍であることがより一層好ましい。また第１のウェルの深さ３１２は第１の開口部の径３１１の０．１〜３倍であることが好ましい。０．１倍未満であると、培地の粘度によっては、培地の表面張力に負け傾斜が不十分となるおそれがある。３倍超であると、培養面の厚み２１によっては第２のウェルを深くできなくなる。第１のウェルの深さ３１２は第１の開口部の径３１１の０．１３〜２．５倍であることがより好ましく、０．１５〜２倍であることがより一層好ましい。第１の開口部の径３１１及び深さ３１２については、培養する細胞や所望のスフェロイドの大きさによって適宜調整することができる。
【００３７】
また、第１のウェルの傾斜面は、その傾斜角度３１３（θ）は０超〜９０°未満であることが好ましい。傾斜角度θが０°（平坦面）であると、培地の粘度によっては、表面張力の影響により、第２のウェルへ培地が流れず、スフェロイドの大きさにばらつきが発生しやすい。また、傾斜角度３１３（θ）が９０°以上であると、深堀形状になりやすいため、スフェロイドが取り出しづらくなるおそれがある。傾斜角度３１３（θ）は５°〜８０°であることがより好ましく、８°〜７０°であることがより一層好ましい。培地の粘度によって最適角度が異なるため、上記範囲の中で適宜調整することが可能である。
【００３８】
本発明の第１のウェル３１と第２のウェル３２は連結した形状となっている。第１のウェルと第２のウェルを合わせた深さ３０は、培養基材１の培養面の厚み２１の０．１〜０．９倍であることが好ましい。０．１倍未満では十分な深さのウェルが形成できず、０．９倍を超えると培養基材１の培養面２の強度が落ちるおそれがある。０．３〜０．８倍が好ましく、０．４〜０．７倍であることがより一層好ましい。
【００３９】
本発明の第１のウェル３１と第２のウェル３２の間（結合している部分、以下、境界部という）には図３及び図４に示すような突起５を形成することが好ましい。突起５は第２のウェル３２内に落ち込んだ細胞や、第２のウェル３２内で形成されたスフェロイドが第２のウェル３２より外側に移動することを抑制するためのものである。突起５があることにより、培地交換時等に培養基材１を傾けた際に、突起５によってスフェロイドや細胞が堰き止められ、第２のウェル３２内に留めることができる。突起５は境界部において、第２の開口部に突出している形状であることが好ましく、その突起５は、第２の開口部を通じて第２のウェル３２内に細胞が落ち込むこと、及び第２のウェル４３内で形成されたスフェロイドが取り出すことができる範囲で、第２の開口部に突出していてもよい。例えば、第２のウェルの開口部の径３２１が２５０μｍ程度、所望のスフェロイドの径が１５０μｍ程度であった場合、突起５は２μｍ〜５μｍ程度とすることが好ましい。なお突起５の形状としては、特に限定されないが、細胞やスフェロイドにダメージを与えたり、突起５上に細胞が残ってしまったりすることがないよう、細胞やスフェロイドが接触する箇所は尖った角を有しない非平坦面であることが好ましい。
【００４０】
本発明のマイクロウェル３は、培養面２の単位面積当たり、１０個／ｃｍ２〜１００００個／ｃｍ２、形成することが好ましい。より好ましくは、１５個／ｃｍ２〜５０００個／ｃｍ２、さらに好ましくは、２０個／ｃｍ２〜１０００個／ｃｍ２である。マイクロウェル３の数は、使用する培養基材１の大きさ、所望のスフェロイドの大きさ及び数によって適宜調整可能である。
【００４１】
本発明のマイクロウェル３は得られるスフェロイドの大きさを均一にするために、ウェルの大きさを均一にすることが好ましい。スフェロイドの大きさはウェルの大きさに依存するため、ウェルの大きさが異なると形成されるスフェロイドの大きさが均一でなくなってしまうため、好ましくない。
【００４２】
なお、本発明の培養基材１において、必須ではないが、以下の構成を選択、組み合わせてもよい。
【００４３】
培養基材１の形状により、例えばシャーレの場合周壁部近くに、他のマイクロウェル３と同じ大きさのマイクロウェル３を形成できない広さの面が残ってしまう場合がある。この場合、マイクロウェル３を形成できない面を平坦面のまま残しておくと細胞が落ち込む可能性があり、細胞がスフェロイドにならない可能性がある。そのため、マイクロウェル３を形成できない面が残る場合は、その面を非平坦面にすることが好ましい。例えば、図２（ａ）のように傾斜壁４を形成する、図２（ｂ）のように周壁を厚くする、非平坦面を形成する部品を置く、仕切りをつける等の対応をしてもよい。また、以上の対応は、均一な大きさのマイクロウェル３を形成できない場合に用いることに限られず、例えばマイクロウェル３を培養面２の一部のみに形成したい場合及びマイクロウェル３の数を規格化したい場合等にも用いることが可能である。
【００４４】
マイクロウェル３内からのスフェロイドの移動をより抑制するために、仕切りを設けてもよい。仕切りは培養面２に接合したものでもよく、載置したものでもよく、また培養面２に接触しないもの（例えば落し蓋形状等）を用いてもよい。また仕切りの材質は特に限定されないが、培養基材１と同じ材質でもよく、異なる材質でもよく、また細胞を通さず培地のみを通すメンブレン状の素材からなっていてもよい。
【００４５】
本発明の第１のウェル３１の中心部と第２のウェル３２の中心部は、一致してもよく、一致しなくてもよい。一致させることで、第１のウェル３１の傾斜面の長さが均一となるため、細胞が均一に落ちやすくなる。また、一致させないことで、ウェル開口部が傾いた形状となり、容器を傾けた際の細胞の飛び出しを防止することができる。
【００４６】
続いて本発明の培養基材１の製造方法について説明する。なお、製造方法は用いる基材の素材や所望の形状、大きさ等によって適宜変更可能である。
【００４７】
本発明の培養基材１本体（マイクロウェル形成前の状態）は、基材の素材や大きさによって適した方法で製造すればよい。基材の素材は樹脂製、ガラス製、金属製、またはそれらの組合せ等から適宜選択できる。樹脂製の場合、例えばアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート、ポリプロピレン等に加え、前述した細胞低接着となる物質を混合したものや、着色剤（例えば、酸化チタン、カーボン等）を混合したもの等を用いることができる。培養基材の成形は例えば、射出成型、プレス成型、真空成型、ブロー成形等から適宜選択できる。
【００４８】
本発明のマイクロウェル３は第１のウェル３１と第２のウェル３２を一度に成形してもよく、また、第１のウェル３１を形成後、第２のウェル３２を形成してもよい。マイクロウェルの形成方法としては、金型（基材本体製造時に一緒に成形）、レーザ（ＣＯ２レーザ、ＹＡＧレーザ、エキシマレーザ等）、ナノインプリント、プレス等があげられる。第１のウェル３１を形成後、第２のウェル３２を形成する場合は、第１のウェル３１を金型であらかじめ成形した上に、レーザで第２のウェル３２を形成することで、ウェル数の規格化がしやすくなる。また、樹脂製の基材にＣＯ２レーザで第２のウェルを形成すると、樹脂が溶解及び気化することにより表面が滑らかな面となるため、きれいな球体のスフェロイドが形成しやすくなり、且つ境界部になめらかな突起５が形成されるため、スフェロイドにダメージを与えることも少ないため好ましい形態となる。
【００４９】
第１のウェル３１を形成後、ＣＯ２レーザで第２のウェル３２を形成する場合、そのレーザ光の強度は５〜５００Ｗであることが好ましい。強度を高くすればするほど、第２のウェルを深く３２、且つ第２の開口部の径３２１を広く形成することができる。つまり、強度が高いほど、大きなスフェロイドを形成することが可能となる。照射スポットは円形であることが好ましいが、細胞を凝集できる形状のウェルが形成できれば特に形は問わない。照射スポットの直径は、２０μｍ〜１５００μｍが適当である。なお、レーザの照射位置に関しても、所望のウェル形状に応じて適宜調整可能である。また、培養基材１の材質によっても適宜強度を調整してもよい。例えば、ポリスチレンの場合は５〜３０Ｗ、ガラスの場合は８０〜２００Ｗが好ましい。
【００５０】
前記培養基材１の培養面２が細胞低接着面となっていない（細胞低接着の素材で成形していない）場合は、別途細胞低接着処理を行う必要がある。低接着処理の方法としては、低接着となる物質を含んだ液体に培養面２を浸漬させて培養面２に定着させる方法、低接着となる物質をＵＶ硬化樹脂と混合してＵＶ照射により定着させる方法、放電処理、低接着となる物質を含むシートを貼り付ける方法等があげられる。なお、細胞低接着の素材で培養基材１を成形している場合においても、前記低接着処理を併せて行ってもよい。
【符号の説明】
【００５１】
１．培養基材、２．培養面、２１．培養面の厚み、３．マイクロウェル、３０．マイクロウェル全体の深さ、３１．第１のウェル、３１１．第１のウェルの径、３１２．第１のウェルの深さ、３１３．第１のウェルの傾斜角度、３２．第２のウェル、３２１．第２のウェルの径、３２２．第２のウェルの深さ、４．傾斜壁、５．突起
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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