(57)【要約】【課題】不活性ガスの使用量を削減できる技術を提供する。【解決手段】本開示の一態様による基板処理装置は、基板を収容するキャリアを載置するキャリア保管棚と、前記キャリア保管棚に載置された前記キャリア内に不活性ガスを供給するガス供給部と、キャリア情報、基板情報のうち少なくともいずれかに基づいて、前記キャリア内に前記不活性ガスを供給するか否かを制御する制御部と、を有する。【選択図】図５
2020043132.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を収容するキャリアを載置して保管するキャリア保管棚と、
前記キャリア保管棚に載置された前記キャリア内に不活性ガスを供給するガス供給部と、
キャリア情報、基板情報のうち少なくともいずれかに基づいて、前記キャリア内に前記不活性ガスを供給するか否かを制御する制御部と、
を有する、
基板処理装置。
【請求項２】
前記キャリア情報は、キャリア種別、キャリアメーカーのうち少なくともいずれかを含む、
請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記基板情報は、基板の有無、基板の枚数、基板の使用状況のうち少なくともいずれかを含む、
請求項１又は２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記キャリア内に前記不活性ガスを供給する際、前記キャリア内に前記不活性ガスが間欠的に供給されるように前記ガス供給部を制御する、
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記キャリアの内部と外部との間の圧力差を測定する差圧計を有し、
前記制御部は、前記差圧計により測定される前記圧力差が所定の閾値以下になった場合、前記キャリア内に前記不活性ガスを供給するように前記ガス供給部を制御する、
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
基板を収容したキャリアが搬入出されるキャリア搬送領域と、
前記キャリア搬送領域に搬入されたキャリア内の基板を搬送して処理炉に搬入するウエハ搬送領域と、
制御部と、
を有し、
前記キャリア搬送領域には、
キャリアを載置して保管するキャリア保管棚と、
キャリア内の基板を前記ウエハ搬送領域に搬送する際に載置されるキャリア載置台と、
前記キャリア保管棚及び前記キャリア載置台に載置された前記キャリア内に不活性ガスを供給するガス供給部と、
が設けられており、
前記制御部は、キャリア情報、基板情報のうち少なくともいずれかに基づいて、前記キャリア保管棚に載置されたキャリア内に不活性ガスを供給するか否かを制御し、かつ、前記キャリア載置台に載置されたキャリアが前記キャリア保管棚において不活性ガスが供給されたキャリアであるか否かに基づいて、該キャリアに不活性ガスを供給する時間を制御する、
基板処理装置。
【請求項７】
基板を収容するキャリアをキャリア保管棚に載置するステップと、
キャリア情報、基板情報のうち少なくともいずれかに基づいて、前記キャリア内に不活性ガスを供給するか否かを判定するステップと、
前記判定するステップにおいて不活性ガスを供給すると判定された場合、前記キャリア保管棚に載置された前記キャリア内に不活性ガスを供給するステップと、
を有する、
パージ方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、基板処理装置及びパージ方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
バッチ式の基板処理装置では、複数のキャリアに収容されたウエハを一度に処理するため、キャリアを一時的に保管するキャリア保管棚が設けられている。キャリア保管棚に載置されたキャリア内には、不活性ガス、例えば窒素ガスが供給される。これにより、キャリア内の窒素置換が行われ、キャリア内の清浄度が保たれる（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−２０７３０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、不活性ガスの使用量を削減できる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一態様による基板処理装置は、基板を収容するキャリアを載置するキャリア保管棚と、前記キャリア保管棚に載置された前記キャリア内に不活性ガスを供給するガス供給部と、キャリア情報、基板情報のうち少なくともいずれかに基づいて、前記キャリア内に前記不活性ガスを供給するか否かを制御する制御部と、を有する。
【発明の効果】
【０００６】
本開示によれば、不活性ガスの使用量を削減できる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】基板処理装置の構成例を示す断面図
【図２】図１の基板処理装置の平面図
【図３】キャリアの一例の底面を示す図
【図４】キャリア保管棚におけるパージガス導入部の一例を示す図
【図５】パージシステムの一例を示す図
【図６】キャリア保管棚におけるパージ処理の一例を示すフローチャート
【図７】キャリア保管棚におけるパージ処理の別の例を示すフローチャート
【図８】キャリア載置台におけるパージ処理の一例を示すフローチャート
【図９】基板処理装置の動作の一例を説明するフローチャート
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、添付の図面を参照しながら、本開示の限定的でない例示の実施形態について説明する。添付の全図面中、同一又は対応する部材又は部品については、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。
【０００９】
（基板処理装置）
一実施形態の基板処理装置について説明する。図１は、基板処理装置の構成例を示す断面図である。図２は、図１の基板処理装置の平面図である。なお、一実施形態では、基板処理装置として、縦型の熱処理炉を有する縦型熱処理装置を例に挙げて説明する。ただし、基板処理装置は、縦型熱処理装置とは異なる装置であってもよい。
【００１０】
図１及び図２に示されるように、縦型熱処理装置１は、筐体１１に収容されて構成される。筐体１１は、縦型熱処理装置１の外装体を構成する。筐体１１内には、ウエハＷを収容した容器であるキャリアＣが装置に対して搬入出されるキャリア搬送領域Ｓ１と、キャリアＣ内のウエハＷを搬送して後述の熱処理炉２２内に搬入する移載領域であるウエハ搬送領域Ｓ２とが形成されている。キャリアＣは、例えばＦＯＵＰ（Front-Opening Unified Pod）であってよい。
【００１１】
キャリア搬送領域Ｓ１とウエハ搬送領域Ｓ２とは、隔壁２により仕切られている。キャリア搬送領域Ｓ１は、大気雰囲気下にある領域であり、キャリアＣに収容したウエハＷを搬送する領域である。各処理装置の間の領域がキャリア搬送領域Ｓ１に該当し、一実施形態では、縦型熱処理装置１の外部のクリーンルーム内の空間がキャリア搬送領域Ｓ１に該当する。一方、ウエハ搬送領域Ｓ２は、搬入されたウエハＷに自然酸化膜が形成されることを防ぐために、不活性ガス雰囲気、例えば窒素（Ｎ２）ガス雰囲気とされており、キャリア搬送領域Ｓ１よりも清浄度が高く、且つ、低い酸素濃度に維持されている。以後の説明では、キャリア搬送領域Ｓ１及びウエハ搬送領域Ｓ２の配列方向を縦型熱処理装置１の前後方向とする。
【００１２】
隔壁２には、キャリア搬送領域Ｓ１とウエハ搬送領域Ｓ２との間でウエハＷを搬送するための搬送口２０が設けられている。搬送口２０は、開閉ドア５により開閉される。開閉ドア５には、キャリアＣの蓋体を開閉する蓋体開閉機構６が設けられている。搬送口２０、開閉ドア５及び蓋体開閉機構６は、ＦＩＭＳ（Front-Opening Interface Mechanical Standard）規格に従って構成されている。
【００１３】
キャリア搬送領域Ｓ１は、第１の搬送領域１２と、第１の搬送領域１２の後方側（ウエハ搬送領域Ｓ２側）に位置する第２の搬送領域１３とを含む。
【００１４】
図２に示されるように、第１の搬送領域１２には、左右方向に並んで配置された２つのロードポート１４が備えられている。ロードポート１４は、キャリアＣが縦型熱処理装置１に搬入されたときに、キャリアＣを受け入れる搬入用の載置台である。ロードポート１４は、筐体１１の壁が開放された箇所に設けられ、外部から縦型熱処理装置１へのアクセスが可能となっている。具体的には、縦型熱処理装置１の外部に設けられたキャリア搬送装置（図示せず）により、ロードポート１４上へのキャリアＣの搬入載置と、ロードポート１４から外部へのキャリアＣの搬出が可能となっている。また、ロードポート１４は、上下に２段存在するので、両方でのキャリアＣの搬入及び搬出が可能となっている。
【００１５】
また、第１の搬送領域１２に配置されたロードポート１４の上下には、キャリア保管棚１８が設けられている。キャリア保管棚１８は、キャリアＣを一時的に保管する保管用の載置台である。キャリア保管棚１８は、第２の搬送領域１３にも設けられているが、縦型熱処理装置１内にキャリアＣを多く保管できるようにすべく、第１の搬送領域１２のロードポート１４が存在しない位置にも設けるようにしてもよい。
【００１６】
また、キャリアＣを載置するロードポート１４は、第１の搬送領域１２の上下方向に複数段に設けられてもよい。ロードポート１４が上下方向に複数段に設けられる場合、それぞれのロードポート１４が、左右方向に複数並べて設けられてよい。また、各ロードポート１４の載置面には、キャリアＣを位置決めするピン１５が例えば３個所に設けられている。
【００１７】
ロードポート１４には、供給ノズル１９ａと、排気ノズル１９ｂとが設けられてもよい。キャリアＣの底面には、例えば吸気口及び排気口が設けられている。そこで、ロードポート１４には、キャリアＣが載置されたときに、キャリアＣの吸気口と嵌合する位置に供給ノズル１９ａを設け、キャリアＣの排気口と嵌合する位置に排気ノズル１９ｂを設けるようにしてもよい。供給ノズル１９ａ及び排気ノズル１９ｂを設けることにより、キャリアＣがロードポート１４上に載置された際、キャリアＣ内にＮ２ガス等の不活性ガスを供給し、キャリアＣ内の不活性ガス置換を行うことができる。これにより、空間内が不活性ガスで満たされているものの、不活性ガスの供給が無い状態で搬送されていたキャリアＣが、縦型熱処理装置１内のロードポート１４に搬入された段階ですぐに不活性ガスの供給を再開できる。このため、キャリアＣ内を継続的に清浄な状態に保つことができる。
【００１８】
なお、ロードポート１４上でのキャリアＣの不活性ガス置換は、処理終了済みのウエハＷを収容したキャリアＣを縦型熱処理装置１から搬出する際にも行うことができ、搬出の際にロードポート１４上に載置されたキャリアＣ内の不活性ガス置換も行ってよい。
【００１９】
また、ロードポート１４上における不活性ガス置換の際にキャリアＣに供給される不活性ガスの流量は、Ｎ２ガスを例に挙げると、１（ｌ／ｍｉｎ）以上は必要である。具体的には、例えば、１０〜２０（ｌ／ｍｉｎ）の範囲であってもよく、好ましくは１３〜１７（ｌ／ｍｉｎ）であってもよく、より好ましくは１５（ｌ／ｍｉｎ）であってもよい。
【００２０】
第２の搬送領域１３の下部には、上下方向に並んで２つ（図１参照）のキャリア載置台１６が配置されている。各キャリア載置台１６は前後に移動自在に構成されている。キャリア載置台１６の載置面にも、ロードポート１４と同様に、キャリアＣを位置決めするピン１５が３個所に設けられている。一実施形態では、キャリア載置台１６が上下方向に２つ並べて設けられているが、左右方向に複数並べて設けられてよい。
【００２１】
図１に示されるように、第２の搬送領域１３の上部側にはキャリアＣを保管するキャリア保管棚１８が設けられている。キャリア保管棚１８は、２段以上の棚により構成されており、各棚は左右に２つのキャリアＣを載置できる。図１では棚が３段である例を示している。なお、キャリア保管棚１８は、バッファやストッカとも称される。
【００２２】
キャリア保管棚１８の底面にも、ロードポート１４と同じように、供給ノズル及び排気ノズルを設け、キャリア保管棚１８上に載置されたキャリアＣ内の不活性ガス置換を行うようにしてよい。キャリア保管棚１８上での不活性ガス置換において、キャリアＣに供給される不活性ガスの流量も、ロードポート１４と同様であってよく、Ｎ２ガスを例に挙げると、１（ｌ／ｍｉｎ）以上は必要である。具体的には、例えば、１０〜２０（ｌ／ｍｉｎ）の範囲、好ましくは１３〜１７（ｌ／ｍｉｎ）の範囲、より好ましくは１５（ｌ／ｍｉｎ）であってもよい。なお、キャリア保管棚１８の供給ノズル及び排気ノズルを含めた構成及び機能の詳細は後述する。
【００２３】
このように、ロードポート１４及びキャリア保管棚１８では、不活性ガス置換を行うことが好ましい。ＦＯＵＰ等のキャリアＣは、完全密封されたものではないため、蓋体開閉機構６を用いた閉塞空間での不活性ガス置換の後も、湿度維持するには、不活性ガス置換を継続的に行うことが好ましい。そのため、ロードポート１４及びキャリア保管棚１８においても、不活性ガスを置換し続けることが好ましい。なお、蓋体開閉機構６を用いた不活性ガス置換の後に、キャリアＣ内の湿度を継続維持するためには、上述のように、１（ｌ／ｍｉｎ）以上は必要である。
【００２４】
第２の搬送領域１３には、キャリアＣを、ロードポート１４とキャリア載置台１６とキャリア保管棚１８との間で搬送するキャリア搬送機構２１が設けられている。キャリア搬送機構２１は、第１のガイド２１ａと、第２のガイド２１ｂと、移動部２１ｃと、アーム部２１ｄと、ハンド部２１ｅと、を備えている。第１のガイド２１ａは、上下方向に伸びるように構成されている。第２のガイド２１ｂは、第１のガイド２１ａに接続され、左右方向に伸びるように構成されている。移動部２１ｃは、第２のガイド２１ｂに導かれながら左右方向に移動するように構成されている。アーム部２１ｄは、１つの関節と２つのアーム部とを有し、移動部２１ｃに設けられている。ハンド部２１ｅは、アーム部２１ｄの先端に設けられている。
【００２５】
隔壁２には、キャリア搬送領域Ｓ１とウエハ搬送領域Ｓ２とを連通させるウエハＷの搬送口２０が設けられている。搬送口２０には、当該搬送口２０をウエハ搬送領域Ｓ２側から塞ぐ開閉ドア５が設けられている。開閉ドア５には駆動機構（図示せず）が接続されており、駆動機構により開閉ドア５は前後方向及び上下方向に移動自在に構成され、搬送口２０が開閉される。
【００２６】
ウエハ搬送領域Ｓ２には、下端が炉口として開口された縦型の熱処理炉２２が設けられている。熱処理炉２２は、ウエハＷを収容可能であり、ウエハＷの熱処理を行うための石英製の円筒状の処理容器２２ａを有する。処理容器２２ａの周囲には円筒状のヒータ２２ｂが配置され、ヒータ２２ｂの加熱により、収容したウエハＷの熱処理が行われる。熱処理炉２２の下方には、多数枚のウエハＷを棚状に保持するウエハボート２３が、断熱部２４を介してキャップ２５の上に載置されている。キャップ２５は、昇降機構２６の上に支持されており、昇降機構２６によりウエハボート２３が熱処理炉２２に対して搬入又は搬出される。
【００２７】
ウエハボート２３と隔壁２の搬送口２０との間には、ウエハ搬送機構２７が設けられている。ウエハ搬送機構２７は、ガイド機構２７ａと、移動体２７ｂと、フォーク２７ｃと、昇降機構２７ｄと、回転機構２７ｅとを有する。ガイド機構２７ａは、直方体状である。ガイド機構２７ａは、鉛直方向に延びる昇降機構２７ｄに取り付けられ、昇降機構２７ｄにより鉛直方向への移動が可能であると共に、回転機構２７ｅにより回動が可能に構成されている。移動体２７ｂは、ガイド機構２７ａ上に長手方向に沿って進退移動可能に設けられている。フォーク２７ｃは、移動体２７ｂを介して取り付けられる移載機であり、複数枚（例えば５枚）設けられている。複数枚のフォーク２７ｃを有することで、複数枚のウエハＷを同時に移載できるので、ウエハＷの搬送に要する時間を短縮できる。但し、フォーク２７ｃは１枚であってもよい。
【００２８】
また、縦型熱処理装置１には、例えばコンピュータからなる制御部１Ａが設けられている。制御部１Ａはプログラム、メモリ、ＣＰＵからなるデータ処理部などを備えている。プログラムには、制御部１Ａから縦型熱処理装置１の各部に制御信号を送り、既述の各処理工程を進行させるように命令（各ステップ）が組み込まれている。その制御信号によりキャリアＣの搬送、ウエハＷの搬送、蓋体の開閉、開閉ドア５の開閉、キャリアＣ内への不活性ガスの供給等の動作が制御され、ウエハＷの搬送及び処理が行われる。プログラムは、コンピュータ記憶媒体、例えばフレキシブルディスク、コンパクトディスク、ハードディスク、ＭＯ（光磁気ディスク）、メモリーカード等の記憶媒体に格納されて制御部１Ａにインストールされる。
【００２９】
次に、キャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣ内の不活性ガス置換を行う機構の一例について、図３から図５を参照して説明する。
【００３０】
図３は、キャリアＣの一例の底面の構成を示す図である。キャリアＣは、用途に応じて種々の構成のものが用いられているが、例えば図３に示されるように、吸気口Ｃｉｎと排気口Ｃｏｕｔとを備えている。吸気口Ｃｉｎから窒素ガスを供給し、排気口Ｃｏｕｔから排気を行えば、キャリアＣ内の不活性ガス置換を行うことができる。
【００３１】
なお、図３においては、吸気口Ｃｉｎが３個であり、排気口Ｃｏｕｔが１個となっているが、全ての吸気口Ｃｉｎを用いる必要は必ずしも無く、用途に合った吸気口Ｃｉｎを必要に応じて用いることができる。
【００３２】
図４は、キャリア保管棚１８におけるパージガス導入部の一例を示す図である。図４（ａ）は、一実施形態の縦型熱処理装置１のキャリア保管棚１８の構成を示した図である。図４（ａ）に示されるように、キャリア保管棚１８の載置面の表面には、複数の孔が形成されており、キャリアＣにガスを供給できる構成となっている。また、キャリア載置台１６の載置面の表面にも、複数の孔が形成され、キャリアＣにガスを供給できる構成となっていてもよい。
【００３３】
図４（ｂ）は、キャリア保管棚１８の一例の表面を拡大した図である。図４（ｂ）に示されるように、キャリア保管棚１８の表面には、供給ノズル１９ｃ及び排気ノズル１９ｄが形成されている。供給ノズル１９ｃはキャリアＣの吸気口Ｃｉｎと嵌合し、キャリアＣの吸気口Ｃｉｎを介してキャリアＣ内に窒素ガスを供給する。排気ノズル１９ｄは、キャリアＣの排気口Ｃｏｕｔと嵌合し、キャリアＣの排気口Ｃｏｕｔを介してキャリアＣ内を排気する。よって、供給ノズル１９ｃ及び排気ノズル１９ｄは、キャリア保管棚１８上にキャリアＣが載置されたときに、それぞれキャリアＣの吸気口Ｃｉｎ及び排気口Ｃｏｕｔと嵌合する位置に形成される。
【００３４】
図４（ｃ）は、キャリア保管棚１８の供給ノズル１９ｃを示した図である。キャリア保管棚１８の表面に形成された供給ノズル１９ｃは、裏面にある供給管１９１と接続されており、ガスの供給が可能に構成されている。供給ノズル１９ｃ及び供給管１９１は、ガス供給部として機能する。
【００３５】
図４（ｄ）は、キャリア保管棚１８の排気ノズル１９ｄを示した図である。キャリア保管棚１８の表面に形成された排気ノズル１９ｄは、裏面にある排気管１９２と接続されており、ガスの排気が可能に構成されている。排気ノズル１９ｄ及び排気管１９２は、ガス排気部として機能する。
【００３６】
キャリア保管棚１８は、このような供給ノズル１９ｃ及び排気ノズル１９ｄを有することにより、キャリアＣの吸気口Ｃｉｎ及び排気口Ｃｏｕｔを利用して保管中に不活性ガス置換を行うことができる。
【００３７】
なお、図２に示されるロードポート１４の供給ノズル１９ａ及び排気ノズル１９ｂについても、キャリア保管棚１８の供給ノズル１９ｃ及び排気ノズル１９ｄと同様に、供給管１９１及び排気管１９２と接続されて構成されてよい。
【００３８】
図５は、パージシステムの一例を示す図である。図５に示されるように、パージシステムは、不活性ガスの流れの上流の側からこの順序で設けられた、開閉弁Ｖ１、レギュレータＲ、フィルタＦ１、流量制御器Ｍ、開閉弁Ｖ２、フィルタＦ２、供給ノズル１９ｃ、排気ノズル１９ｄ、開閉弁Ｖ３、差圧計Ｐを有する。また、パージシステムは、上記の各部の動作を制御する制御部１Ａを有する。
【００３９】
開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３は、不活性ガスの流路を開閉するバルブである。開閉弁Ｖ２，Ｖ３は各キャリアＣに対応して設けられており、各キャリアＣへの不活性ガスの供給・遮断を制御する。レギュレータＲは、供給される高圧の不活性ガスを用途に応じた圧力に調整する。フィルタＦ１，Ｆ２は、不活性ガスに含まれる固形物や油分、水分等の不純物を除去するガスフィルタである。流量制御器Ｍは、各キャリアＣに対応して設けられており、各キャリアＣに供給する不活性ガスの流量を調整する。差圧計Ｐは、キャリアＣの内部と外部との間の圧力差を測定する。
【００４０】
また、このような窒素ガスの供給系の途中、例えばキャリア保管棚１８の排気ノズル１９ｄ内に、キャリアＣ内の湿度を計測できるセンサを設け、湿度によりキャリアＣ内の雰囲気を管理できるようにしてもよい。さらに、ロードポート１４の排気ノズル１９ｂ内にも、湿度を計測できるセンサを設けてもよい。また、直接湿度を計測するのではなく、何らかの換算値から、キャリアＣ内の湿度を推定し、湿度によるキャリアＣ内の雰囲気を管理するようにしてもよい。
【００４１】
制御部１Ａは、キャリア情報、基板情報のうち少なくともいずれかに基づいて、開閉弁Ｖ２，Ｖ３の開閉動作を制御することにより、キャリアＣ内に不活性ガスを供給するか否かを制御する。制御部１Ａは、取得部１０１と、判定部１０２と、バルブ制御部１０３と、記憶部１０４と、入力受付部１０５と、設定変更部１０６と、を有する。
【００４２】
取得部１０１は、パージシステムの各種情報を取得する。各種情報としては、例えばキャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣのキャリア情報及び基板情報、キャリア載置台１６やキャリア保管棚１８に取り付けられた在席センサ（図示せず）の検出値、差圧計Ｐの検出値が挙げられる。
【００４３】
キャリア情報としては、例えばキャリア種別、キャリアメーカーが挙げられる。キャリア種別は、例えば製品基板用、ダミー基板用、モニタ基板用を含む。製品基板用、ダミー基板用及びモニタ基板用とは、それぞれ製品基板、ダミー基板及びモニタ基板を収容するキャリアであることを示す情報である。なお、キャリア種別としては、これら以外の種別を含んでいてもよい。キャリアメーカーは、例えばＡ社、Ｂ社、Ｃ社等のキャリアを製造したメーカーを示す情報である。
【００４４】
基板情報としては、例えば基板の有無、基板の枚数、基板の使用状況が挙げられる。基板の有無は、キャリア内に基板が収容されているか否かを示す情報である。基板の枚数は、キャリア内に収容されている基板の枚数を示す情報である。基板の使用状況は、キャリア内に収容されている基板の処理状態を示す情報であり、例えば未処理の状態、処理済の状態を含む。
【００４５】
判定部１０２は、取得部１０１が取得したキャリア載置台１６に取り付けられた在席センサ等の検出値に基づいて、キャリア載置台１６にキャリアＣが載置されているか否かを判定する。また、判定部１０２は、取得部１０１が取得したキャリア保管棚１８に取り付けられた在席センサ等の検出値に基づいて、キャリア保管棚１８にキャリアＣが載置されているか否かを判定する。
【００４６】
また、判定部１０２は、取得部１０１が取得したキャリア情報、基板情報のうち少なくともいずれかに基づいて、キャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣがパージ対象であるか否かを判定する。一実施形態では、判定部１０２は、取得部１０１が取得したキャリア情報と、記憶部１０４に記憶された、キャリア情報とパージ有無との関係を示すキャリア関係情報に基づいて、取得部１０１が取得したキャリア情報がパージ対象であるか否かを判定する。例えば、記憶部１０４に記憶されたキャリア関係情報として、キャリア情報が「製品基板用」、「ダミー基板用」及び「モニタ基板用」の場合のパージ有無がそれぞれ「パージあり」、「パージなし」及び「パージなし」に設定されているとする。この場合、判定部１０２は、取得部１０１が取得したキャリア情報が「製品基板用」の場合、キャリアＣがパージ対象であると判定する。一方、判定部１０２は、取得部１０１が取得したキャリア情報が「ダミー基板用」又は「モニタ基板用」の場合、キャリアＣがパージ対象でないと判定する。
【００４７】
また、判定部１０２は、取得部１０１が取得した基板情報と、記憶部１０４に記憶された、基板情報とパージ有無との関係を示す基板関係情報に基づいて、取得部１０１が取得した基板情報がパージ対象であるか否かを判定する。例えば、記憶部１０４に記憶された基板関係情報として、基板情報が「基板あり」及び「基板なし」の場合のパージ有無がそれぞれ「パージあり」及び「パージなし」に設定されているとする。この場合、判定部１０２は、取得部１０１が取得した基板情報が「基板あり」の場合、キャリアＣがパージ対象であると判定する。一方、判定部１０２は、取得部１０１が取得した基板情報が「基板なし」の場合、キャリアＣがパージ対象でないと判定する。
【００４８】
なお、判定部１０２による判定は、取得部１０１が取得したキャリア情報及び基板情報のうちいずれか一方に基づいて行われてもよく、両方に基づいて行われてもよい。キャリア情報及び基板情報の両方に基づいて行われる場合、判定部１０２は、例えばキャリア情報及び基板情報の両方が「パージあり」の場合にパージ対象であると判定してもよく、いずれか一方が「パージあり」の場合にパージ対象であると判定してもよい。
【００４９】
また、判定部１０２は、差圧計Ｐにより測定されるキャリアＣの内部と外部との間の圧力差が所定の閾値以下であるか否かを判定してもよい。
【００５０】
バルブ制御部１０３は、判定部１０２の判定結果に基づいて開閉弁Ｖ２，Ｖ３の開閉動作を制御することにより、キャリアＣ内への不活性ガスの供給・遮断を制御する。バルブ制御部１０３は、例えば判定部１０２がキャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣがパージ対象であると判定した場合、該キャリア保管棚１８に対する不活性ガスの供給及び排気をそれぞれ制御する開閉弁Ｖ２，Ｖ３を開く。一方、バルブ制御部１０３は、例えば判定部１０２がキャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣがパージ対象でないと判定した場合、該キャリア保管棚１８に対する不活性ガスの供給及び排気をそれぞれ制御する開閉弁Ｖ２，Ｖ３を閉じる。
【００５１】
また、バルブ制御部１０３は、キャリアＣ内に不活性ガスを供給する際、キャリアＣ内に不活性ガスが間欠的に供給されるように開閉弁Ｖ２，Ｖ３の開閉動作を制御してもよい。キャリアＣ内に不活性ガスを間欠的に供給することで、不活性ガスの消費量を削減できる。
【００５２】
また、バルブ制御部１０３は、差圧計Ｐにより測定される圧力差が所定の閾値以下になった場合、キャリアＣ内の不活性ガスがキャリアＣの外部に漏れたとみなし、キャリアＣ内に不活性ガスを供給するように開閉弁Ｖ２，Ｖ３を制御してもよい。これにより、圧力差が所定の閾値以下となった場合にのみキャリアＣ内に不活性ガスが供給されるので、不活性ガスの消費量を削減できる。
【００５３】
また、バルブ制御部１０３は、キャリアＣがキャリア載置台１６に載置された場合、該キャリアＣがパージ対象のキャリアであるか否かに基づいて、キャリアＣ内に不活性ガスを供給する時間を制御してもよい。例えば、バルブ制御部１０３は、キャリアＣがパージ対象のキャリアである場合、該キャリアＣ内に不活性ガスを供給する時間が短くなるように、キャリアＣ内に供給される不活性ガスの供給・遮断を制御する開閉弁（図示せず）の動作を制御する。このとき、該キャリアＣ内はキャリア保管棚１８において既に不活性ガス置換されているので、キャリア載置台１６上でのキャリアＣ内の不活性ガス置換の時間を短縮しても十分なパージ効果が得られる。また、不活性ガスの使用量を削減できる。
【００５４】
記憶部１０４は、キャリア情報とパージ有無との関係を示すキャリア関係情報と、基板情報とパージ有無との関係を示す基板関係情報と、を含む情報を記憶する。
【００５５】
入力受付部１０５は、ユーザによるキャリア関係情報及び基板関係情報の設定を変更する操作を受け付ける。
【００５６】
設定変更部１０６は、入力受付部１０５が設定の変更の操作を受け付けると、記憶部１０４に記憶されたキャリア関係情報及び基板関係情報の設定を書き換えて変更する。例えば、入力受付部１０５が「モニタ基板用」のパージ設定を「パージなし」から「パージあり」に切り替える操作を受け付けると、設定変更部１０６は、記憶部１０４に記憶された「モニタ基板用」のパージ設定を「パージあり」に書き換えて変更する。
【００５７】
（パージ処理）
図６を参照して、キャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣに対するパージ処理（パージ方法）の一例について説明する。図６は、キャリア保管棚１８におけるパージ処理の一例を示すフローチャートである。図６に示されるパージ処理は、例えば制御部１Ａによって所定時間ごとに繰り返し実行される。以下では、一例として、複数のキャリア保管棚１８のうち１つのキャリア保管棚１８に対するパージ処理を説明するが、別のキャリア保管棚１８に対するパージ処理についても同様である。
【００５８】
まず、判定部１０２は、キャリア保管棚１８にキャリアＣが載置されているか否かを判定する（ステップＳ１１）。キャリア保管棚１８にキャリアＣが載置されているか否かは、例えば取得部１０１が取得したキャリア保管棚１８に取り付けられた在席センサ等の検出値に基づいて判定される。
【００５９】
ステップＳ１１において、判定部１０２がキャリア保管棚１８にキャリアＣが載置されていると判定した場合、取得部１０１は、該キャリアＣのキャリア情報及び基板情報を取得する（ステップＳ１２）。一方、ステップＳ１１において、判定部１０２がキャリア保管棚１８にキャリアＣが載置されていないと判定した場合、バルブ制御部１０３は、開閉弁Ｖ２，Ｖ３を閉じ、キャリアＣ内への不活性ガスの供給を停止する（ステップＳ１５）。そして、ステップＳ１５の後、処理を終了する。
【００６０】
続いて、判定部１０２は、取得部１０１が取得したキャリア情報、基板情報のうち少なくともいずれかに基づいて、キャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣがパージ対象であるか否かを判定する（ステップＳ１３）。
【００６１】
ステップＳ１３において、判定部１０２がキャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣがパージ対象であると判定した場合、バルブ制御部１０３は、開閉弁Ｖ２，Ｖ３を開き、キャリアＣ内への不活性ガスの供給を開始する（ステップＳ１４）。このとき、バルブ制御部１０３は、キャリアＣ内に不活性ガスが間欠的に供給されるように開閉弁Ｖ２，Ｖ３の開閉動作を制御してもよい。キャリアＣ内に不活性ガスを間欠的に供給することで、不活性ガスの消費量を削減できる。そして、ステップＳ１４の後、処理を終了する。一方、ステップＳ１３において、判定部１０２がキャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣがパージ対象でないと判定した場合、バルブ制御部１０３は、開閉弁Ｖ２，Ｖ３を閉じ、キャリアＣ内への不活性ガスの供給を停止する（ステップＳ１５）。そして、ステップＳ１５の後、処理を終了する。
【００６２】
図６のパージ処理においては、キャリア情報、基板情報のうち少なくともいずれかに基づいて、キャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣがパージ対象であるか否かを判定し、キャリアＣがパージ対象の場合に限り、キャリアＣ内に不活性ガスを供給する。これにより、キャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣに対し、常時不活性ガスを供給する場合と比較して不活性ガスの使用量を削減できる。
【００６３】
図７を参照して、キャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣに対するパージ処理の別の例について説明する。図７は、キャリア保管棚１８におけるパージ処理の別の例を示すフローチャートである。図７に示されるパージ処理は、例えば制御部１Ａによって所定時間ごとに繰り返し実行される。以下では、一例として、複数のキャリア保管棚１８のうち１つのキャリア保管棚１８に対するパージ処理を説明するが、別のキャリア保管棚１８に対するパージ処理についても同様である。
【００６４】
まず、ステップＳ２１〜Ｓ２３を実行する。ステップＳ２１〜Ｓ２３の処理は、ステップＳ１１〜Ｓ１３の処理と同様であってよい。
【００６５】
ステップＳ２３において、判定部１０２がキャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣがパージ対象であると判定した場合、判定部１０２は、差圧計Ｐにより測定される圧力差が所定の閾値以下であるか否かを判定する（ステップＳ２４）。
【００６６】
ステップＳ２４において、判定部１０２が差圧計Ｐにより測定される圧力差が所定の閾値以下であると判定した場合、バルブ制御部１０３は、予め定められた時間キャリアＣ内に不活性ガスを供給するように開閉弁Ｖ２，Ｖ３を制御する（ステップＳ２５）。そして、ステップＳ２５の後、処理を終了する。一方、ステップＳ２４において、判定部１０２が差圧計Ｐにより測定される圧力差が所定の閾値よりも大きいと判定した場合、バルブ制御部１０３は、開閉弁Ｖ２，Ｖ３を閉じ、キャリアＣ内への不活性ガスの供給を停止する（ステップＳ２６）。そして、ステップＳ２６の後、処理を終了する。
【００６７】
図７のパージ処理においては、キャリア情報、基板情報のうち少なくともいずれかに基づいて、キャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣがパージ対象であるか否かを判定し、キャリアＣがパージ対象の場合に限り、キャリアＣ内に不活性ガスを供給する。これにより、キャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣに対し、常時不活性ガスを供給する場合と比較して不活性ガスの使用量を削減できる。
【００６８】
また、図７のパージ処理においては、キャリアＣの内部と外部との間の圧力差が所定の閾値以下の場合、キャリアＣ内に不活性ガスを供給する。これにより、不活性ガスの消費量をより削減できる。
【００６９】
図８を参照して、キャリア載置台１６に載置されたキャリアＣに対するパージ処理の一例について説明する。図８は、キャリア載置台１６におけるパージ処理の一例を示すフローチャートである。図８に示されるパージ処理は、例えば制御部１Ａによって所定時間ごとに繰り返し実行される。以下では、一例として、複数のキャリア載置台１６のうち１つのキャリア載置台１６に対するパージ処理を説明するが、別のキャリア載置台１６に対するパージ処理についても同様である。
【００７０】
まず、判定部１０２は、キャリア載置台１６にキャリアＣが載置されているか否かを判定する（ステップＳ３１）。キャリア載置台１６にキャリアＣが載置されているか否かは、例えば取得部１０１が取得したキャリア載置台１６に取り付けられた在席センサ等の検出値に基づいて判定される。
【００７１】
ステップＳ３１において、判定部１０２がキャリア載置台１６にキャリアＣが載置されていると判定した場合、判定部１０２は、キャリア載置台１６に載置されたキャリアＣがパージ対象のキャリアであるか否かを判定する（ステップＳ３２）。
【００７２】
ステップＳ３２において、キャリア載置台１６に載置されたキャリアＣがパージ対象のキャリアであると判定された場合、バルブ制御部１０３は、第１の時間キャリアＣ内に不活性ガスが供給されるように開閉弁Ｖ２，Ｖ３の開閉動作を制御する（ステップＳ３３）。そして、ステップＳ３３の後、処理を終了する。一方、ステップＳ３２において、キャリア載置台１６に載置されたキャリアＣがパージ対象でないと判定された場合、バルブ制御部１０３は、第２の時間キャリアＣ内に不活性ガスが供給されるように開閉弁Ｖ２，Ｖ３の開閉動作を制御する（ステップＳ３４）。そして、ステップＳ３４の後、処理を終了する。なお、第１の時間は、第２の時間よりも短く設定される。キャリア載置台１６に載置されたキャリアＣがパージ対象のキャリアである場合、キャリア保管棚１８においてキャリアＣ内がパージされているので、短時間でキャリアＣ内が十分にパージされるためである。これにより、キャリア載置台１６においてキャリアＣ内に供給する不活性ガスの消費量を削減できる。
【００７３】
（基板処理装置の動作）
一実施形態の基板処理装置の動作について、前述の縦型熱処理装置１によりウエハＷに対して熱処理を行う場合を例に挙げて説明する。図９は、基板処理装置の動作の一例を説明するフローチャートである。
【００７４】
まず、クリーンルームの天井部に沿って移動する自動搬送ロボット（図示せず）により、キャリアＣがロードポート１４に載置される（ステップＳ１０１）。ただし、自動搬送ロボットに代えて、ユーザがキャリアＣをロードポート１４に載置してもよい。
【００７５】
続いて、キャリア搬送機構２１によりキャリアＣがキャリア載置台１６上に搬送され、キャリア載置台１６が隔壁２へ向けて移動する（ステップＳ１０２）。これにより、キャリアＣの開口縁部が、隔壁２の搬送口２０の周りの口縁部にあるシール部材に気密に当接する。
【００７６】
続いて、蓋体開閉機構６によりキャリアＣの蓋体が取り外され、ガス供給口（図示せず）からキャリアＣ内に不活性ガス（例えば、Ｎ２ガス）が供給され、キャリアＣ内が不活性ガスで置換される（ステップＳ１０３）。
【００７７】
キャリアＣ内の不活性ガス置換が完了すると、開閉ドア５が開かれ、ウエハ搬送機構２７のフォーク２７ｃの先端に取り付けられたマッピングセンサにより、キャリアＣ内のウエハＷの枚数がカウントされる（ステップＳ１０４）。キャリアＣ内のウエハＷの枚数がカウントされた後、開閉ドア５が閉じられると共に、蓋体開閉機構６によりキャリアＣに蓋体が取り付けられる。
【００７８】
続いて、キャリア搬送機構２１により、キャリアＣがキャリア載置台１６からキャリア保管棚１８に搬送される（ステップＳ１０５）。
【００７９】
続いて、キャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣに対して、図６又は図７を用いて説明したパージ処理が行われる（ステップＳ１０６）。パージ処理は、キャリアＣがキャリア保管棚１８に載置されている間継続して行われる。
【００８０】
続いて、キャリア搬送機構２１により、キャリアＣがキャリア保管棚１８からキャリア載置台１６に搬送され、キャリア載置台１６が隔壁２へ向けて移動する（ステップＳ１０７）。これにより、キャリアＣの開口縁部が、隔壁２の搬送口２０の周りの口縁部にあるシール部材に気密に当接する。
【００８１】
続いて、蓋体開閉機構６によりキャリアＣの蓋体が取り外され、ガス供給口（図示せず）からキャリアＣ内に不活性ガス（例えば、Ｎ２ガス）が供給され、キャリアＣ内が不活性ガスで置換される（ステップＳ１０８）。このとき、図８を用いて説明したパージ処理が行われる。すなわち、キャリア載置台１６に載置されたキャリアＣがパージ対象のキャリアであるか否かに基づいて、キャリアＣ内に不活性ガスが供給される時間が制御される。
【００８２】
続いて、開閉ドア５が開かれ、ウエハ搬送機構２７により、キャリアＣ内のウエハＷがウエハ搬送領域Ｓ２内に搬入される（ステップＳ１０９）。
【００８３】
続いて、ウエハ搬送領域Ｓ２に搬入されたウエハＷに対して熱処理が行われる（ステップＳ１１０）。
【００８４】
続いて、処理後のウエハＷが、蓋体開閉機構６を用いて、キャリアＣ内に搬入される（ステップＳ１１１）。
【００８５】
続いて、処理後のウエハＷを収容したキャリアＣが、キャリア搬送機構２１によりキャリア保管棚１８に搬送される（ステップＳ１１２）。
【００８６】
続いて、キャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣに対して、図６又は図７を用いて説明したパージ処理が行われる（ステップＳ１１３）。
【００８７】
続いて、キャリアＣが、キャリア搬送機構２１により、キャリア保管棚１８からロードポート１４に搬送される（ステップＳ１１４）。なお、処理後のウエハＷを収容したキャリアＣは、キャリア保管棚１８に搬送されることなく、キャリア載置台１６からロードポート１４に搬送されてもよい。
【００８８】
続いて、処理済のウエハＷを収容したキャリアＣが縦型熱処理装置１から搬出され、次の処理装置へと搬送される（ステップＳ１１５）。
【００８９】
以上に説明したように、一実施形態の基板処理装置によれば、キャリア情報、基板情報のうち少なくともいずれかに基づいて、キャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣ内に不活性ガスを供給するか否かを制御する。そのため、キャリア保管棚１８に載置されたキャリアＣ内に不活性ガスを常時供給する場合と比較して、不活性ガスの使用量を削減できる。
【００９０】
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
【符号の説明】
【００９１】
Ｃ        キャリア
Ｃｉｎ    吸気口
Ｃｏｕｔ  排気口
Ｐ        差圧計
Ｗ        ウエハ
１        縦型熱処理装置
１Ａ      制御部
１８      キャリア保管棚
１９ｃ    供給ノズル
１９ｄ    排気ノズル
【図１】
2020043132.tif 000003
【図２】
2020043132.tif 000004
【図３】
2020043132.tif 000005
【図４】
2020043132.tif 000006
【図５】
2020043132.tif 000007
【図６】
2020043132.tif 000008
【図７】
2020043132.tif 000009
【図８】
2020043132.tif 000010
【図９】
2020043132.tif 000011