(57)【要約】【課題】酸素および水分に対する優れた遮蔽性を有すると共に、狭ベゼル化が達成された有機発光表示装置および有機発光表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】本発明における有機発光表示装置は、素子基板と、前記素子基板上に設けられた有機発光素子層と、前記素子基板上において前記有機発光素子層の周囲に設けられたダム材と、前記素子基板と対向して前記ダム材上に設けられた対向基板と、前記ダム材の外壁面に設けられた封止膜と、を備える。【選択図】図３
2020043035.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
素子基板と、
前記素子基板上に設けられた有機発光素子層と、
前記素子基板上において前記有機発光素子層の周囲に設けられたダム材と、
前記素子基板と対向して前記ダム材上に設けられた対向基板と、
前記ダム材の外壁面に設けられた封止膜と、
を備える有機発光表示装置。
【請求項２】
前記対向基板、前記ダム材および前記封止膜は、透明性を有し、
前記対向基板は、前記有機発光素子層の発光方向に位置する、
請求項１に記載の有機発光表示装置。
【請求項３】
前記封止膜は、金属酸化物および金属窒化物の少なくとも一つを含む蒸着膜であり、エアロゾルデポジション法により形成される、
請求項１または２に記載の有機発光表示装置。
【請求項４】
前記ダム材の前記外壁面上に、有機樹脂および無機樹脂から形成されたハイブリッド膜を備え、
前記封止膜は、前記ハイブリッド膜上に蒸着される、
請求項３に記載の有機発光表示装置。
【請求項５】
前記封止膜は、層状無機化合物から分離されたナノシートと、有機樹脂層とをナノメートル単位で積層した複合膜である、
請求項１または２に記載の有機発光表示装置。
【請求項６】
前記ナノシートは、前記封止膜の内部で分散し、かつ、前記ナノシートの面方向は前記封止膜の面方向と略平行である、
請求項５に記載の有機発光表示装置。
【請求項７】
透明性を有し、前記ダム材、前記有機発光素子層および前記対向基板に囲まれた領域に設けられた充填材、
をさらに備える請求項１乃至６のいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項８】
素子基板上に有機発光素子層を設ける工程と、
前記素子基板上の前記有機発光素子層の周囲に、樹脂を含む塗工液を塗布して未硬化ダム材を設ける工程と、
前記素子基板と対向して前記未硬化ダム材上に対向基板を設ける工程と、
前記未硬化ダム材を硬化させてダム材を形成する工程と、
前記ダム材の外壁面に封止膜を設ける工程と、
を備える有機発光表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記封止膜を設ける工程は、金属の酸化物または窒化物を含む微粒子エアロゾルを前記外壁面上に噴射する工程を含む、
請求項８に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記封止膜を設ける工程は、層状無機化合物から分離されたナノシートと、有機樹脂層とをナノメートル単位で積層する工程を含む、
請求項８に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光表示装置および有機発光表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光表示装置（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＯＬＥＤ）は、低電圧駆動が可能で薄型であり、視野角に優れて応答速度が速いという特徴がある。
【０００３】
その一方で、有機発光表示装置は、酸素および水分の影響によって有機発光素子（有機発光ダイオード）の劣化が生じ、発光性能が低下してしまう。このため、有機発光表示装置への酸素および水分の透過を抑制する技術の開発が進められている。
【０００４】
例えば、特許文献１には、素子基板と対向基板の間に設けられたダム材（封止壁）によって有機発光素子の周囲を封止することで酸素および水分の透過を抑制する有機発光表示装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１５−０７６１９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載された有機発光表示装置では、ダム材は樹脂により形成されているため、酸素および水分に対する充分な遮蔽性を得るためにはダム材の幅（面方向における厚み）を広くすることが必要となる。その一方で、有機発光表示装置においては非表示領域の低減、デザイン性の向上、小型化および軽量化の観点から、ダム材の幅は狭いことが好ましく、狭ベゼル化（狭額縁化）が強く求められている。
したがって、酸素および水分に対する優れた遮蔽性と、狭ベゼル化とはトレードオフの関係にあり、これらを高次元に達成することが求められている。
【０００７】
本発明は、上述した従来技術における諸問題に鑑み、酸素および水分に対する優れた遮蔽性を有すると共に、狭ベゼル化が達成された有機発光表示装置および有機発光表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一観点によれば、素子基板と、前記素子基板上に設けられた有機発光素子層と、前記素子基板上において前記有機発光素子層の周囲に設けられたダム材と、前記素子基板と対向して前記ダム材上に設けられた対向基板と、前記ダム材の外壁面に設けられた封止膜と、を備える有機発光表示装置が提供される。
【０００９】
本発明の他の観点によれば、素子基板上に有機発光素子層を設ける工程と、前記素子基板上の前記有機発光素子層の周囲に、樹脂を含む塗工液を塗布して未硬化ダム材を設ける工程と、前記素子基板と対向して前記未硬化ダム材上に対向基板を設ける工程と、前記未硬化ダム材を硬化させてダム材を形成する工程と、前記ダム材の外壁面に封止膜を設ける工程と、を備える有機発光表示装置の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、酸素および水分に対する優れた遮蔽性を有すると共に、狭ベゼル化が達成された有機発光表示装置および有機発光表示装置の製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１の実施形態における有機発光表示装置を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態における有機発光表示装置を示すブロック図である。
【図３】本発明の第１の実施形態における有機発光表示装置を示す断面図である。
【図４】本発明の第１の実施形態における有機発光表示装置の製造方法を示すフローチャートである。
【図５】本発明の第１の実施形態における有機発光表示装置の製造方法を説明する図である。
【図６】本発明の第２の実施形態における有機発光表示装置を示す断面図である。
【図７】本発明の第２の実施形態における有機発光表示装置の遮蔽構造を説明する要部拡大断面図である。
【図８】本発明の第２の実施形態における有機発光表示装置の製造方法を示すフローチャートである。
【図９】本発明の第２の実施形態における有機発光表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１０】本発明の変形実施形態における有機発光表示装置を示す断面図である。
【図１１】本発明の変形実施形態における有機発光表示装置を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
［第１の実施形態］
図１は、本実施形態における有機発光表示装置１００を示す斜視図である。図２は、本実施形態における有機発光表示装置１００を示すブロック図である。なお、本実施形態において、各図面は説明のための模式図であり、寸法通りではない。特に、反復される多数の構成要素は、図示の明瞭化のためにその数量を大幅に減少して図示する。
【００１３】
図１および図２に示すように、本実施形態における有機発光表示装置１００は、表示パネル１１０と、スキャン駆動部１２０と、データ駆動部１３０と、タイミングコントローラ１６０と、ホストシステム１７０とを備える。
【００１４】
図１に示すように、表示パネル１１０は、対向する一対の基板である素子基板１１１と対向基板１１２とを備える。また、表示パネル１１０の外周方向の壁面（外壁面）には、封止膜１１３が設けられている。なお、以降の説明において、表示パネル１１０の表示面を画定する２辺の方向をそれぞれＸ方向およびＹ方向といい、表示面に垂直な方向（すなわち、Ｘ−Ｙ平面に垂直な方向）をＺ方向という。また、本実施形態において、「上」または「下」という表現は、現実の使用における位置関係を限定するものではない。
【００１５】
図２に示すように、表示パネル１１０は、画素Ｐが設けられ画像を表示する領域である表示領域を備える。表示パネル１１０には、データライン（Ｄ１〜Ｄｍ、ｍは２以上の正の整数）とスキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ、ｎは２以上の正の整数）が形成される。データライン（Ｄ１〜Ｄｍ）は、スキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）と交差するように形成される。画素Ｐは、ゲートラインとデータラインの交差構造によって定義される領域に形成される。
【００１６】
表示パネル１１０の画素Ｐのそれぞれは、データライン（Ｄ１〜Ｄｍ）のいずれか一つとスキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）のいずれか一つに接続され得る。表示パネル１１０の画素Ｐのそれぞれは、ゲート電極に印加されたデータ電圧に応じてドレイン・ソース間電流を調整する駆動トランジスタ（ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）、スキャンラインのスキャン信号によってＯＮにされ、データラインのデータ電圧を駆動トランジスタのゲート電極に供給するスキャントランジスタ、駆動トランジスタのドレイン・ソース間電流に応じて発光する有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）、および前記駆動トランジスタのゲート電極の電圧を保存するためのコンデンサ（Ｃａｐａｃｉｔｏｒ）を含み得る。これにより、画素Ｐのそれぞれは、有機発光ダイオードに供給される電流に応じて発光することができる。
【００１７】
スキャン駆動部１２０は、タイミングコントローラ１６０からスキャン制御信号（ＧＣＳ）の入力を受ける。スキャン駆動部１２０は、スキャン制御信号（ＧＣＳ）に基づいてスキャン信号をスキャンライン（Ｓ１〜Ｓｎ）に供給する。
【００１８】
スキャン駆動部１２０は、表示パネル１１０の表示領域の一側または両側の外側の非表示領域にＧＩＰ（ｇａｔｅ  ｄｒｉｖｅｒ  ｉｎ  ｐａｎｅｌ）方式で形成され得る。または、スキャン駆動部１２０は、駆動チップにて製作され、軟性フィルム１４０を用いて実装され、ＴＡＢ（Ｔａｐｅ  Ａｕｔｏｍａｔｅｄ  Ｂｏｎｄｉｎｇ）方式で表示パネル１１０の表示領域の一側または両側の外側の非表示領域に付着させることもできる。
【００１９】
データ駆動部１３０は、タイミングコントローラ１６０からのデジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とデータ制御信号（ＤＣＳ）の入力を受ける。データ駆動部１３０は、データ制御信号（ＤＣＳ）に基づいて、デジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）をアナログ正極性／負極性データ電圧に変換してデータラインに供給する。つまり、スキャン駆動部１２０のスキャン信号によってデータ電圧が供給される画素Ｐが選択され、選択された画素Ｐにデータ電圧が供給される。
【００２０】
データ駆動部１３０は、図１に示すように、複数のソースドライブＩＣ１３１を含むことができる。複数のソースドライブＩＣ１３１の各々は、ＣＯＦ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｆｉｌｍ）またはＣＯＰ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｐｌａｓｔｉｃ）方式で軟性フィルム１４０に実装され得る。軟性フィルム１４０は、異方性導電フィルム（ａｎｔｉｓｏｔｒｏｐｉｃ  ｃｏｎｄｕｃｔｉｎｇ  ｆｉｌｍ）を用いて、表示パネル１１０の非表示領域に設けられたパッド上に付着する。これにより、複数のソースドライブＩＣ１３１は、パッドに接続ことができる。
【００２１】
回路基板１５０は、軟性フィルム１４０に付着することができる。回路基板１５０には、駆動チップに実装された多数の回路が実装され得る。例えば、回路基板１５０には、タイミングコントローラ１６０が実装され得る。回路基板１５０は、プリント回路基板（ｐｒｉｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ  ｂｏａｒｄ）またはフレキシブルプリント回路基板（ｆｌｅｘｉｂｌｅ  ｐｒｉｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ  ｂｏａｒｄ）であり得る。
【００２２】
タイミングコントローラ１６０は、ホストシステム１７０からのデジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とタイミング信号の入力を受ける。タイミング信号は、垂直同期信号（ｖｅｒｔｉｃａｌ  ｓｙｎｃｈｒｏｎｉｚａｔｉｏｎ  ｓｉｇｎａｌ）、水平同期信号（ｈｏｒｉｚｏｎｔａｌ  ｓｙｎｃｈｒｏｎｉｚａｔｉｏｎ  ｓｉｇｎａl）、データイネーブル信号（ｄａｔａ  ｅｎａｂｌｅ  ｓｉｇｎａｌ）、ドットクロック（ｄｏｔ  ｃｌｏｃｋ）などを含むことができる。垂直同期信号は、１フレーム期間を定義する信号である。水平同期信号は、表示パネル１１０の１水平ラインの画素Ｐにデータ電圧を供給するのに必要な１水平期間を定義する信号である。データイネーブル信号は、有効なデータが入力される期間を定義する信号である。ドットクロックは、所定の短い周期で反復する信号である。
【００２３】
タイミングコントローラ１６０は、スキャン駆動部１２０と、データ駆動部１３０の動作タイミングを制御するために、タイミング信号に基づいて、データ駆動部１３０の動作タイミングを制御するためのデータ制御信号（ＤＣＳ）と、スキャン駆動部１２０の動作タイミングを制御するためのスキャン制御信号（ＧＣＳ）とを発生する。タイミングコントローラ１６０は、スキャン駆動部１２０にスキャン制御信号（ＧＣＳ）を出力し、データ駆動部１３０にデジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とデータ制御信号（ＤＣＳ）とを出力する。
【００２４】
ホストシステム１７０は、ナビゲーションシステム、セットトップボックス、ＤＶＤプレーヤー、ブルーレイプレーヤー、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ホームシアターシステム、放送受信機、携帯電話システム（Ｐｈｏｎｅ  ｓｙｓｔｅｍ）などで実装され得る。ホストシステム１７０は、スケーラー（ｓｃａｌｅｒ）を内蔵したＳｏＣ（Ｓｙｓｔｅｍ  ｏｎ  ｃｈｉｐ）を含む入力映像のデジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）を表示パネル１１０に表示するのに適した形式に変換する。ホストシステム１７０は、デジタルビデオデータ（ＤＡＴＡ）とタイミング信号とをタイミングコントローラ１６０に伝送する。
【００２５】
図３は、本実施形態における有機発光表示装置１００を示す断面図である。なお、図３は、図１に示す表示パネル１１０のＸ−Ｚ平面における断面図であるが、説明の便宜上、各部材の寸法および比率は図１とは異なるものとする。また、以下においてはトップエミッション型の有機発光表示装置１００を例に挙げて説明するが、本発明の有機発光表示装置はトップエミッション型に限られるものではなく、ボトムエミッション型の有機発光表示装置であってもよい。
【００２６】
図３に示すように、本実施形態による有機発光表示装置１００は、素子基板１１１と、対向基板１１２と、封止膜１１３と、有機発光素子層１１４と、パッシベーション層１１５と、ダム材１１６と、充填材１１７とを備える。
ている。
【００２７】
素子基板１１１は、例えば、ガラス基板である。なお、素子基板１１１は、ガラス基板に限定されるものではなく、種々の材質の基板を用いることができる。また、素子基板１１１上には、バリア層（不図示）が形成される。バリア層の材料としては、酸素および水分に対する遮蔽性を有する材料であれば特に制限はなく、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アルミナなどが挙げられる。また、バリア層は単層であってもよく、２層以上の積層構成であってもよい。さらに、バリア層上には、有機発光素子層１１４を駆動する駆動回路を構成する薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：ＴＦＴ）を含むＴＦＴ層（不図示）が形成される。
【００２８】
対向基板１１２は、例えば、ガラス基板である。透明性を有する対向基板１１２が有機発光素子層１１４の発光方向に位置することにより、トップエミッション型の表示装置を構成することができる。対向基板１１２は、ダム材１１６および充填材１１７の上に接着・固定されている。
【００２９】
封止膜１１３は、ダム材１１６の外壁面上に設けられている。本実施形態では、図１に示すように、封止膜１１３は、表示パネル１１０において図中ＸＹ平面に垂直な３つの外壁面上に連続して設けられている。また、封止膜１１３は、表示パネル１１０の厚み方向（Ｚ方向）において、素子基板１１１、ダム材１１６および対向基板１１２の３つ部材の外壁面を跨るように連続して形成されている。なお、封止膜１１３は、金属酸化物および金属窒化物の少なくとも一つを含む蒸着膜であり、公知の成膜法の一つであるエアロゾルデポジション法（Ａｅｒｏｓｏｌ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ  ｍｅｔｈｏｄ：ＡＤ法）により形成される。
【００３０】
エアロゾルデポジション法は、金属酸化物や金属窒化物などからなる脆性材料の微粒子エアロゾルを、ノズルから高速で対象物の表面に向けて噴射することによって、対象物に微粒子を衝突させ、その機械的衝撃力を利用して脆性材料の多結晶構造物を対象物の表面に形成する方法である。エアロゾルデポジション法によれば、非湿式かつ非加熱の条件下にて焼成体と同等の機械的強度と酸素および水分に対する高い遮蔽性を併せ持つ緻密な構造物を得ることができる。
【００３１】
水分に対する高い遮蔽性（高水蒸気バリア性）は、一般的に水蒸気透過度（Ｗａｔｅｒ  Ｖａｐｏｒ  Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｒａｔｅ：ＷＶＴＲ）で表される。水蒸気透過度の単位としては、水蒸気量を単位時間（１日）、単位面積（１ｍ２）当たりに換算したものが一般的に用いられる。特に、有機エレクトロニクス基板の用途では、１０-５〜１０-６ｇ／ｍ２／ｄａｙと極めて低い透過性が要求されており、本実施形態の封止膜１１３も当該基準を満たすものとする。
【００３２】
封止膜１１３の材料としては、アルミナ、ジルコニア（二酸化ジルコニウム）、チタニア（酸化チタン）などが用いられる。また、封止膜１１３は、透明性を有すると好適である。封止膜１１３の厚みは、１００ｎｍ〜１００ｕｍであると好適である。
【００３３】
有機発光素子層１１４は、上述したＴＦＴ層上に設けられている。有機発光素子層１１４は、有機発光素子（不図示）とバンク（不図示）を備える。有機発光素子は、アノード（陽極）と、アノード上に形成された有機化合物層（有機発光層）と、有機化合物層上に形成されたカソード（陰極）を有する。また、有機化合物層は、アノード側から順に、正孔注入層と、正孔輸送層と、発光層と、電子輸送層と、電子注入層を有する。なお、有機発光素子層１１４を構成する各層は、公知の材料を用いて形成できる。
【００３４】
アノードとしては、例えば、アルミニウム、銀、プラチナ、クロムなどの反射率の高い材料の薄膜からなる反射電極、および、これらの薄膜上にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電性酸化物の薄膜を形成した反射電極が挙げられる。
【００３５】
有機化合物層は、例えば、ピクセルを構成するサブピクセルに応じて、赤色光を発光するＲ用有機化合物層と、緑色光を発光するＧ用有機化合物層と、青色光を発光するＢ用有機化合物層とを含んでいる。Ｒ，Ｇ，Ｂ用有機化合物層は、それぞれの発光色に応じた公知の材料により構成されている。
【００３６】
カソードとしては、例えば、銀、銀合金、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの薄膜からなる半透明電極または透明電極が用いられる。
【００３７】
バンクは、画素Ｐを区画するように、例えばアノードの端部を覆うように形成される。すなわち、バンクは、画素Ｐを定義する画素定義膜としての役割をする。バンクとしては、例えばアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの有機膜が用いられる。
【００３８】
パッシベーション層１１５は、有機発光素子層１１４を覆うように、有機発光素子層１１４の上面および側面に設けられている。パッシベーション層１１５は、透湿性の低い無機膜からなり、酸素および水分から有機発光素子層１１４を保護する保護膜として機能する。パッシベーション層１１５としては、例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜などが用いられる。
【００３９】
ダム材１１６は、素子基板１１１上にマトリクス状に形成された複数の有機発光素子層１１４の周囲に設けられている。ダム材１１６は、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などの透明な樹脂からなる。ダム材１１６の材料としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂などが用いられる。
【００４０】
ダム材１１６上には、素子基板１１１に対向して対向基板１１２が設けられる。ダム材１１６は、素子基板１１１（バリア層）と対向基板１１２との間に設けられ、熱や光によって硬化することで一対の基板の接着部材としても機能する。なお、製造された表示パネル１１０の厚み方向において、素子基板１１１、ダム材１１６および対向基板１１２の積層領域を通過する光の透過度が８０％以上になるように、各部材の材質が選択されていると好適である。
【００４１】
充填材１１７は、パッシベーション層１１５、ダム材１１６および対向基板１１２により囲まれた空間領域に充填されている。充填材１１７は、ダム材１１６と同様に、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などの透明な樹脂からなる。充填材１１７は、ダム材１１６と同様に、熱や光によって硬化することで一対の基板の接着部材としても機能する。なお、ダム材１１６および充填材１１７の屈折率は、０．５〜０．５５であると好適である。上下の基板（素子基板１１１および対向基板１１２）とダム材１１６との屈折率の差は、０．１以下であると好適である。
【００４２】
続いて、本実施形態における有機発光表示装置１００の製造方法について図４および図５を用いて説明する。図４は、本実施形態における有機発光表示装置１００の製造方法を示すフローチャートである。図５は、本実施形態における有機発光表示装置１００の製造方法を説明する図である。
【００４３】
先ず、図５（Ａ）に示すように、素子基板１１１の上面に有機発光素子層１１４を形成する（ステップＳ１１）。
【００４４】
次に、図５（Ｂ）に示すように、有機発光素子層１１４の上面および側面にパッシベーション層１１５を形成し、有機発光素子層１１４を覆う（ステップＳ１２）。
【００４５】
次に、後述する充填材１１７の注入に備えて、図５（Ｃ）に示すように、素子基板１１１において有機発光素子層１１４およびパッシベーション層１１５の周囲に未硬化樹脂であるダム材１１６を塗布する（ステップＳ１３）。
【００４６】
次に、ダム材１１６に対して紫外線を所定時間照射することにより、ダム材１１６を仮硬化する（ステップＳ１４）。
【００４７】
次に、図５（Ｄ）に示すように、素子基板１１１、パッシベーション層１１５およびダム材１１６により囲まれた空間に充填材１１７を注入する（ステップＳ１５）。
【００４８】
次に、図５（Ｅ）に示すように、素子基板１１１と対向してダム材１１６および充填材１１７の上に対向基板１１２を貼り合せる（ステップＳ１６）。
【００４９】
次に、図５（Ｆ）に示すように、例えば約１００Ｐａに減圧された常温状態のチャンバーＣ１内に表示パネル１１０の中間体（図５（Ｅ）参照）を搬入した後、当該中間体におけるダム材１１６、素子基板１１１、対向基板１１２の各外壁面に微粒子エアロゾルＡＳをノズルＮ１から噴射することで、ＡＤ法に基づいて外壁面上に封止膜１１３を形成する（ステップＳ１７）。
【００５０】
そして、内部温度を例えば１００℃まで温度を上昇させたチャンバーＣ１内で中間体を所定時間継続して熱処理、あるいは、中間体に紫外線を３０分間照射することで、充填材１１７およびダム材１１６を本硬化させる（ステップＳ１８）。硬化条件は、充填材１１７およびダム材１１６材質に応じて適宜選択される。これにより、有機発光表示装置１００の表示パネル１１０の製造処理が完了する。
【００５１】
以上のように、本実施形態における有機発光表示装置１００によれば、酸素および水分に対する優れた遮蔽性を有すると共に、狭ベゼル化が達成される。
【００５２】
詳述すると、極めて薄い厚み（１００ｎｍ〜１００ｕｍ）で形成された封止膜１１３のみで遮蔽性（高水蒸気バリア性）が確保される構造のため、従来装置よりもダム材１１６の幅を大幅に狭くすることが可能になる。また、従来装置のダム材１１６は、吸湿機能を有するゲッター材を含むため、表示パネル１１０の縁部が白濁し、非表示領域の増大の原因となっていた。これに対し、本実施形態における有機発光表示装置１００は、封止膜１１３の遮蔽性により、ダム材１１６の内部にゲッター材を含む必要がない構造のため、ダム材１１６を透明樹脂のみから形成でき、その結果、透明な表示領域の拡大（狭ベゼル化）を達成できる。
【００５３】
また、ダム材１１６が樹脂のみから形成されるため、ダム材１１６がゲッター材を包含する場合と比較して、ダム材１１６と素子基板１１１および対向基板１１２との接着力を向上させることができる利点もある。
【００５４】
また、ＡＤ法を用いることで、高温状態（例えば２５０℃）のチャンバー内で基板を高速回転させながら成膜を行うＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法と比較して以下のような利点もある。
（Ａ）常温環境の下で基板の外壁面（側面）に封止膜１１３を蒸着可能なため、成膜工程に要するコストを抑制できる。
（Ｂ）基板の表面のすべてを成膜するＣＶＤ法とは異なり、所望の部分への限定的な封止膜１１３の形成が可能である。
【００５５】
さらに、封止膜１１３のみで遮蔽性（高水蒸気バリア性）が確保される構造により、ダム材１１６の厚みを薄くできる利点もある。これにより、表示パネル１１０全体での厚みも薄くなるため、表示パネル１１０の柔軟性も向上できる利点もある。
【００５６】
［第２の実施形態］
続いて、本実施形態における有機発光表示装置２００を図６乃至図９に基づいて説明する。なお、第１の実施形態の図中において付与した符号と共通する符号は同一の対象を示す。以下では、第１の実施形態と共通する箇所の説明は省略し、第１の実施形態と異なる構成および動作を中心に説明する。
【００５７】
図６は、本実施形態における有機発光表示装置２００を示す断面図である。本実施形態における封止膜１１８は、層状無機化合物から分離されたナノシート１１８ａと、有機樹脂層１１８ｂとをナノメートル単位で交互に積層したナノシート複合膜である点で第１の実施形態と異なっている。ナノシート１１８ａの材質は、例えば、モンモリロナイト、ベントナイト、ヘクトライト、オクトシリケーなどである。また、封止膜１１８のアスペクト比は、３００：１以上、含油率は３０ｗｔ％以上であると好適である。封止膜１１８の厚みは、１００ｎｍ〜１００ｕｍであると好適である。
【００５８】
図７は、本実施形態における有機発光表示装置２００の遮蔽構造を説明する要部拡大断面図である。図７に示すように、ナノシート１１８ａは、封止膜１１８の内部で分散し、かつ、ナノシート１１８ａの面方向は封止膜１１８の面方向（図中Ｚ方向）と略平行となるように設けられている。また、図中の破線矢印は、有機樹脂層１１８ｂ内に侵入した水分（Ｈ２Ｏ）の進行方向を示している。図７においては、酸素および水分が、封止膜１１８の内部において最短の経路を取り得ず、最短経路から大きく逸れた複雑で非常に長い経路を辿らなければダム材１１６まで到達できないことを示している。すなわち、封止膜１１８は、ナノシート１１８ａと有機樹脂層１１８ｂがナノメートル単位でＸ方向またはＹ方向に積層されることで形成されるため、高度な遮蔽性を有していることを意味する。
【００５９】
続いて、本実施形態における有機発光表示装置２００の製造方法について図８および図９を用いて説明する。図８は、本実施形態における有機発光表示装置２００の製造方法を示すフローチャートである。図９は、本実施形態における有機発光表示装置２００の製造方法を説明する図である。
【００６０】
先ず、図９（Ａ）に示すように、素子基板１１１の上面に有機発光素子層１１４を形成する（ステップＳ２１）。
【００６１】
次に、図９（Ｂ）に示すように、有機発光素子層１１４の上面および側面にパッシベーション層１１５を形成し、有機発光素子層１１４を覆う（ステップＳ２２）。
【００６２】
次に、図９（Ｃ）に示すように、素子基板１１１において有機発光素子層１１４およびパッシベーション層１１５の周囲に、未硬化樹脂であるダム材１１６を塗布する（ステップＳ２３）。
【００６３】
次に、ダム材１１６に対して紫外線を所定時間照射することにより、ダム材１１６を仮硬化する（ステップＳ２４）。
【００６４】
次に、図９（Ｄ）に示すように、素子基板１１１、パッシベーション層１１５およびダム材１１６により囲まれた空間に充填材１１７を注入する（ステップＳ２５）。
【００６５】
次に、図９（Ｅ）に示すように、素子基板１１１と対向して、ダム材１１６および充填材１１７の上に対向基板１１２を貼り合せる（ステップＳ２６）。
【００６６】
次に、図９（Ｆ）に示すように、表示パネル１１０の中間体（図９（Ｅ）参照）をチャンバーＣ２内に搬入した後、ノズルＮ２から封止膜１１８の形成用に調整された塗工液を中間体におけるダム材１１６、素子基板１１１、対向基板１１２の各外壁面に繰り返し塗布する（ステップＳ２７）。この際、チャンバーＣ２内の温度は、常温でよい。なお、塗工液は、例えばアスペクト比が１０００：１程度のナノシート１１８ａを溶媒と樹脂に単層剥離・分散させることによって調整されると好適である。
【００６７】
そして、チャンバーＣ２内の温度を例えば１００℃まで上昇させ、表示パネル１１０の中間体に紫外線を３０分間照射し、充填材１１７、ダム材１１６および封止膜１１８をそれぞれ本硬化させる（ステップＳ２８）。これにより、有機発光表示装置２００の表示パネル１１０の製造処理が完了する。
【００６８】
以上のように、本実施形態における有機発光表示装置２００によれば、酸素および水分に対する優れた遮蔽性を有すると共に、狭ベゼル化が達成される。これにより、上述した第１の実施形態と同様の効果を奏する。
【００６９】
さらに、上述した第１の実施形態と異なり、ナノシート１１８ａを包含する塗工液を外壁面に塗布したのちに、チャンバーＣ２内で紫外線照射しながら所定の温度条件の下で塗工液を乾燥させるだけで封止膜１１８を容易に形成できるため、第１の実施形態の場合よりも、さらに限定的な範囲に対する成膜が可能になる利点もある。
【００７０】
［変形実施形態］
以上に本発明の好適な実施形態を示したが、本発明は、例えば以下に示すように種々の態様に変形可能である。
【００７１】
図１０は、変形実施形態における有機発光表示装置３００を示す断面図である。ここでは、ダム材１１６の外壁面上に、有機樹脂および無機樹脂から形成されたハイブリッド膜１１９が形成され、封止膜１１３は、ハイブリッド膜１１９上に蒸着される場合が示されている。ハイブリッド膜１１９は、例えば、シラン変性エポキシ樹脂、ＰＯＳＳ（ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ ｏｌｉｇｏｍｅｒｉｃ ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）ハイブリッド膜などである。このように、中間層として素子基板１１１、ダム材１５および対向基板１１２の外壁面（側面）上にハイブリッド膜１１９が設けられる場合には、ＡＤ法により蒸着された封止膜１１３と外壁面との密着力および封止膜１１３の強度を高められる利点がある。
【００７２】
また、上述の第１および第２の実施形態においては、説明の便宜上、素子基板１１１、ダム材１１６および対向基板１１２の外壁面がＺ方向において揃っている場合について説明した。しかし、ＡＤ法に基づく蒸着膜およびナノシート複合膜は、表示パネル１１０の所望の部分に形成できる。このため、素子基板１１１、ダム材１１６および対向基板１１２の境界部分に段部が設けられている場合も、上述の実施形態と同様に各外壁面に封止膜１１３、１１８を形成できる。例えば、素子基板１１１および対向基板１１２の外壁面がダム材１１６の外壁面よりも外側に突出している場合、少なくともダム材１１６の外壁面、ダム材１１６と素子基板１１１との境界領域、ダム材１１６と対向基板１１２との境界領域に封止膜１１３、１１８を設けることで、外壁面に垂直な方向（Ｘ方向およびＹ方向）からの酸素および水分の浸入を抑制できる。
【００７３】
また、上述の第１および第２の実施形態において説明した遮蔽構造は、有機発光表示装置に限られず、液晶表示装置やプラズマ表示装置などの他の表示装置、照明装置などにも適用可能である。照明装置は、その用途に特に制限はなく、例えば、室内用照明、屋外用照明として用いてもよく、液晶表示装置のバックライトなど電子デバイス用照明としても用いてもよい。
【００７４】
また、上述した第１および第２の実施形態では、有機発光素子層１１４が、赤色光を発光するＲ用有機化合物層と、緑色光を発光するＧ用有機化合物層と、青色光を発光するＢ用有機化合物層とを含む構成について例示したが、表示方式はこれに限られない。例えば、画素Ｐについて、発光色が赤色の発光素子、発光色が緑色の発光素子、発光色が青色の発光素子および発光色が白色の発光素子が設けられる構成でもよい。また、全ての発光素子が同じ発光色（例えば白色または青色）であり、画素Ｐ毎に必要なカラーフィルタが付加された構成を採用してもよい。
【００７５】
また、上述した第１および第２の実施形態では、模式化した図面に基づいて表示パネル１１０の内部構造を説明したが、表示パネル１１０の内部構造は任意に変更可能である。図１１は、変形実施形態における有機発光表示装置４００を示す断面図である。ここでは、有機発光素子層１１４は、カソード１１４ａと、バンク１１４ｂと、有機化合物層１１４ｃとを備えている。充填材１１７の層内には、バンク１１４ｂによって区画された有機発光素子層１１４にＺ方向で対向する位置に、カラーフィルタ４０１が設けられている。これにより、例えば、有機化合物層１１４ｃの発光素子が白色または青色に発光したとき、カラーフィルタ４０１による色変換によってＲＧＢの発色が得られる。
【００７６】
また、図１１においては、素子基板１１１と有機発光素子層１１４との間に、下から順にパッシベーション（Ｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎ：ＰＡＳ）層４０２と、オーバーコート（Ｏｖｅｒ  ｃｏａｔ）層４０３とが積層されている。パッシベーション層４０２は、絶縁物質、例えば無機絶縁物質である酸化シリコンまたは窒化シリコンなどから形成され、保護層として機能する。パッシベーション層４０２は、素子基板１１１の上面全体に形成されている。このため、パッシベーション層４０２は、素子基板１１１側からの酸素や水分の浸透を抑制できる。また、パッシベーション層４０２の内部には、スキャン駆動部１２０がＧＩＰ形式で設けられている。
【００７７】
一方、オーバーコート層４０３は、素子基板１１１上に形成される薄膜トランジスタ（不図示）などによってパッシベーション層４０２の上面側に生じた段差を除去する平坦化層として機能する。オーバーコート層４０３は、絶縁物質、例えば有機絶縁物質から形成される。オーバーコート層４０３の材料としては、例えばオレフィン系高分子（ポリエチレンやポリプロピレンなど）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、ポリシロキサンなどが用いられる。
【００７８】
さらに、図１１において、パッシベーション層１１５は、有機発光素子層１１４の上面および側面、オーバーコート層４０３の端部を覆うように形成されることから、パッシベーション層１１５の外周方向（図中Ｘ方向）の端部には複数の段部が形成されている。また、ダム材１１６は、パッシベーション層１１５の端部を覆うようにパッシベーション層４０２上に形成されている。すなわち、図３と異なり、ダム材１１６は、パッシベーション層１１５から離間しておらず、ダム材１１６、素子基板１１１および対向基板１１２によってパッシベーション層１１５およびパッシベーション層４０２並びにその内部の有機発光素子層１１４を挟持・固定する構造である。このため、表示パネル１１０の耐衝撃性をさらに高めることができる利点がある。また、有機発光素子層１１４は、パッシベーション層１１５とパッシベーション層４０２によって上下方向および左右方向で保護されている。このため、装置の遮蔽性をさらに高めることができる利点もある。
【符号の説明】
【００７９】
１００,２００,３００,４００  有機発光表示装置
１１０  表示パネル
１１１  素子基板
１１２  対向基板
１１３  封止膜（セラミック蒸着膜）
１１４  有機発光素子層
１１５  パッシベーション層
１１６  ダム材
１１７  充填材
１１８  封止膜（ナノシート複合膜）
１１８ａ  ナノシート
１１８ｂ  有機樹脂層
１１９  ハイブリッド膜
１２０  スキャン駆動部
１３０  データ駆動部
１３１  ソースドライブＩＣ
１４０  軟性フィルム
１５０  回路基板
１６０  タイミングコントローラ
１７０  ホストシステム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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