(57)【要約】【課題】線形加速器から出力される電子のエネルギーを可変にする。【解決手段】Ｘ線発生装置１は、電子ビームＢを発生する電子銃２と、入射口３ａから入射された電子ビームＢを構成する電子が加速されて出射口３ｂから出射される線形加速器３と、線形加速器３の出射口３ｂから出射される電子が衝突することでＸ線を発生するターゲット４と、ターゲット４と線形加速器３との間に電位差を与える直流電源５とを有する。【選択図】図１
2020043023.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子線を発生する電子線発生部と、
入射口から入射された前記電子線を構成する電子が加速されて出射口から出射される線形加速器と、
前記線形加速器の前記出射口から出射される前記電子が衝突することでＸ線を発生するターゲットと、
前記ターゲットと前記線形加速器との間に電位差を与える電位差付与部と
を有することを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項２】
前記電位差付与部は、前記ターゲットと前記線形加速器との間に、前記電子の出射方向に対して交差する等電位面を形成する電場を生成することを特徴とする請求項１に記載のＸ線発生装置。
【請求項３】
前記電位差付与部は、前記ターゲットに所定の電圧を付与する直流電源であることを特徴とする請求項１または２に記載のＸ線発生装置。
【請求項４】
前記ターゲットと前記線形加速器の前記出射口との間に配置され、前記出射口から出射される前記電子を収束させる磁気レンズを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のＸ線発生装置。
【請求項５】
前記磁気レンズを囲み、前記ターゲットと同電位とされた導体からなる筐体を有することを特徴とする請求項４に記載のＸ線発生装置。
【請求項６】
前記ターゲットと前記線形加速器の前記出射口との間に配置され、前記出射口から出射される前記電子の出射方向に対して軸対称に形成されてこの電子を収束させる電極を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のＸ線発生装置。
【請求項７】
前記ターゲットを放電する放電部を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のＸ線発生装置。
【請求項８】
電子線を発生する電子線発生部と、
入射口から入射された前記電子線を構成する電子が加速されて出射口から出射される線形加速器と、
前記線形加速器の前記出射口から出射される前記電子が衝突することでＸ線を発生するターゲットと、
前記ターゲットと前記線形加速器との間に電位差を与える電位差付与部と、
前記ターゲットから発生され、被測定物を透過したＸ線の強度を検出する検出部と
を有することを特徴とするＸ線装置。
【請求項９】
電子線を発生する電子線発生部と、
入射口から入射された前記電子線を構成する電子が加速されて出射口から出射される線形加速器と、
前記線形加速器の前記出射口から出射される前記電子が衝突することでＸ線を発生するターゲットと
を有するＸ線発生装置によるＸ線発生方法であって、
前記ターゲットと前記線形加速器との間に電位差を与える工程と、
前記ターゲットと前記線形加速器との間に電位差を与えつつ、前記線形加速器の前記出射口から出射される前記電子を前記ターゲットに衝突させる工程と
を有することを特徴とするＸ線発生方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、Ｘ線発生装置、Ｘ線装置及びＸ線発生方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子銃から発射された電子を線形加速器により加速し、加速した電子をターゲットに衝突させてＸ線を発生させるＸ線発生装置がある（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
かかるＸ線発生装置において、線形加速器から出力される電子のエネルギーを可変にする要望がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３０１０１６９号公報
【発明の概要】
【０００５】
本開示に係るＸ線発生装置は、電子線を発生する電子線発生部と、入射口から入射された電子線を構成する電子が加速されて出射口から出射される線形加速器と、線形加速器の出射口から出射される電子が衝突することでＸ線を発生するターゲットと、ターゲットと線形加速器との間に所定の電位差を与える電位差付与部とを有する。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】本開示の第一の実施形態に係るＸ線発生装置を示す一部破断正面図である。
【図２】第一の実施形態に係るＸ線発生装置の線形加速器を示す一部破断斜視図である。
【図３】第一の実施形態に係るＸ線発生装置の動作を説明するための図である。
【図４】従来のエネルギー可変なＸ線発生装置を示す図である。
【図５】第一の実施形態に係るＸ線発生装置の動作を説明するための図である。
【図６】本開示の第二の実施形態に係るＸ線発生装置を示す一部破断正面図である。
【図７】本開示の第三の実施形態に係るＸ線発生装置を示す一部破断正面図である。
【図８】本開示の第四の実施形態に係るＸ線発生装置を示す一部破断正面図である。
【図９】本開示のＸ線発生装置が適用された第五の実施形態に係るＸ線装置を示す概略構成図である。
【図１０】本開示の第一の実施形態に係るＸ線発生装置の変形例を示す一部破断正面図である。
【図１１】本開示の第三の実施形態に係るＸ線発生装置の変形例を示す一部破断正面図である。
【図１２】本開示の第一の実施形態に係るＸ線発生装置の変形例を示す一部破断正面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
（第一の実施形態）
図１及び図２を参照して、本開示の第一の実施形態に係るＸ線発生装置について説明する。
【０００８】
本開示の第一の実施形態に係るＸ線発生装置１は、電子銃（電子線発生部）２と、線形加速器３と、ターゲット４とを有する。
【０００９】
電子銃２は、一例としてカソード（陰極）とウェネルト電極とを有し、ウェネルト電極の下流側に陽極を有する。陽極にグランドの電位、陰極にマイナスの電位を与えることで、陰極と陽極との間に高電圧を付加すると、陰極から電子が放出される。ウェネルト電極に陰極よりもさらに低い電位を与えることで、電子線が空間的に広がることを抑制できる。放出された電子は陽極側に放射され、電子銃２の外方に向けて所定の速度で打ち出される。これにより電子銃２は電子線を発生する。なお、以下の説明では、電子線を電子ビームＢと説明することもある。
【００１０】
本開示の第一の実施形態における線形加速器３は、サイドカップル型定在波型線形加速器と呼ばれる。線形加速器３は、加速空洞３０と、結合空洞３１とを有する。
【００１１】
線形加速器３の電子銃２側の端部（図１において左端部）には入射口３ａが形成されている。電子銃２から打ち出される電子ビームＢはこの入射口３ａを介して線形加速器３内に導入される。線形加速器３の電子銃２と反対側の端部（図１において右端部）には出射口３ｂが形成されている。入射口３ａから入射された電子ビームＢは線形加速器３内で加速されて、出射口３ｂから出射される。
【００１２】
加速空洞３０は、電子銃２からの電子ビームＢが通過する方向（図１において左右方向）に沿って、線形加速器３内に複数直列に設けられている。それぞれの加速空洞３０は連結孔３２により連結されている。これら連結孔３２を電子銃２からの電子ビームＢが通過する。結合空洞３１は、隣接する加速空洞３０を連通するように設けられている。
【００１３】
Ｘ線発生装置１の外部に配置されたマイクロ波発生源から、導波管３３を通じて加速空洞３０内にマイクロ波が供給される。供給されたマイクロ波により、図３に示すように加速空洞３０内に定在波のマイクロ波電場Ｅが形成される。この電場Ｅにより、入射口３ａから入射された電子が加速されて、出射口３ｂから出射される。マイクロ波発生源は、Ｘ線発生装置１に組み込まれてもよい。
【００１４】
ターゲット４は、線形加速器３の出射口３ｂから出射される電子ビームＢを遮るように配置されている。このターゲット４は外形板状に形成されている。ターゲット４には、線形加速器３の出射口３ｂから出射される電子が衝突され、この電子によりターゲット４からＸ線が発生される。ターゲット４は、例えばタングステン等の金属（導体）から形成されている。
【００１５】
ターゲット４の線形加速器３に面する側に位置する平面４ａは、電子が衝突される衝突面とされる。出射口３ｂから出射される電子ビームＢは、衝突面４ａに対して所定の角度をもってターゲット４に入射され、これにより電子がターゲット４に衝突される。
【００１６】
ターゲット４には、このターゲット４に所定の直流電圧を付与する直流電源（電位差付与部）５が接続されている。一例として、線形加速器３から出射される電子のエネルギーを１ＭｅＶとすると、この直流電源５はターゲット４に対して±３００ｋＶ程度の直流電圧を付加する。これにより、線形加速器３とターゲット４との間には所定の電位差が与えられる。通常、線形加速器３はアース端子３４により接地されているので、直流電源５により与えられる電位差は±３００ｋＶ程度となる。
【００１７】
ターゲット４が外形板状に形成されていることから、直流電源５により直流電圧がターゲット４に付加されると、ターゲット４と線形加速器３との間には電場が形成される。この電場は、図１に示すような等電位面Ｓを有する。本実施形態に係るＸ線発生装置１では、この等電位面Ｓが、出射口３ｂから出射される電子ビームＢの出射方向に対して交差する平面であり、図示の例では、出射方向を垂線とする平面とされている。等電位面Ｓを電子ビームＢの出射方向（これを光軸とする）を垂線とする平面に形成する手段は任意である。一例としては、ターゲット４の衝突面４ａを十分大きくして電子ビームＢの衝突部分を平面に形成し、また、線形加速器３の出射口３ｂも十分大きくしつつ平面に形成する等の手段がある。
【００１８】
次に、図４を参照して、一般的なＸ線発生装置との対比による本開示の第一の実施形態に係るＸ線発生装置１の作用について説明する。
【００１９】
線形加速器を用いたＸ線発生装置において、線形加速器から出力される電子のエネルギーを可変にする要望がある。電子のエネルギーを変化させることで、この電子がターゲットに衝突して発生されるＸ線のエネルギーを変化させることができる。
【００２０】
電子のエネルギーを可変にする手法として、次に挙げる２つの手法が考えられる。
【００２１】
一つは、図４に示すように、線形加速器３の途中にある結合空洞３１と加速空洞３０との間の連通を遮断する遮断部３５を設ける手法である。遮断部３５を設けた結合空洞３１に隣接する加速空洞３０（図中３０ａで示す）及びそれ以降（図中右方）の加速空洞３０内では定在波であるマイクロ波電場が遮断される。これにより線形加速器３から出力される電子のエネルギーを変化させることができる。
【００２２】
しかしながら、図４に示す手法では、結合空洞３１と加速空洞３０との間の連通を遮断する遮断部３５に複雑な機構が必要である。また、遮断部３５による遮断にある程度の時間が掛かる。さらに、加速空洞３０単位の離散的なエネルギーの変化しか与えることができない。そして、結合空洞３１と加速空洞３０との間の連通を遮断した箇所以降では電子が加速されないので、電子ビームＢが拡散する。
【００２３】
もう一つは、線形加速器３に導入、供給するマイクロ波の電力を変化させる手法である。マイクロ波の電力を変化させると線形加速器３から出力される電子のエネルギーも変化する。従って、ターゲット４から発生されるＸ線量も、マイクロ波の電力の変化により変化する。
【００２４】
しかしながら、線形加速器３は通常、特定のエネルギーを有する電子を出力するために設計されている。従って、マイクロ波の電力を低下させると電子のエネルギースペクトルの分布が広がってしまう。このため、電子ビームＢを収束させるという観点からはエネルギースペクトルの分布の広がりはいわば色収差につながる。このため、線形加速器３から出力される電子ビームＢの収束性が悪化する。
【００２５】
以上説明したように、線形加速器３は特定のエネルギーを有する電子を出力するために最適設計されている。従って、線形加速器３そのものに変化を与える、あるいはマイクロ波の電力を変化させて電子のエネルギーを変化させると、線形加速器３そのものの性能が低下する。
【００２６】
本開示の第一の実施形態に係るＸ線発生装置１では、上述したように、ターゲット４に所定の直流電圧を付与する直流電源５が接続されている。
【００２７】
従って、線形加速器３の出射口３ｂから出射される電子には、等電位面Ｓを垂直に横切る方向に力が付与される。この力は、線形加速器３とターゲット４との間に形成される電場に依存する。つまり、ターゲット４に付加される直流電圧の電圧値を変化させることにより、線形加速器３の出射口３ｂから出射されてターゲット４に衝突する電子を任意に加減速させることができる。すなわち、ターゲット４に付加される直流電圧の電圧値を正にすると電子が加速され、電圧値を負にすると電子が減速される。本実施形態では、直流電源５により与えられる電位差は±３００ｋＶ程度であるため、±３００ｋＶの範囲で加減速することができる。
【００２８】
従って、本開示の第一の実施形態に係るＸ線発生装置１によれば、線形加速器３から出力されてターゲット４に衝突する電子のエネルギーを可変にすることができる。
【００２９】
しかも、本開示の第一の実施形態に係るＸ線発生装置１では、線形加速器３に遮断部３５を設けることもなく、また、供給するマイクロ波の電力を変化させることなく、ターゲット４に衝突する電子のエネルギーを可変にすることができる。従って、線形加速器３から出力される電子ビームＢの性能を最適に維持しつつ、ターゲット４に衝突する電子のエネルギーを可変にすることができる。
【００３０】
（第二の実施形態）
図５及び図６を参照して、本開示の第二の実施形態に係るＸ線発生装置について説明する。
【００３１】
図１の実線及び図５の点線で示すように、直流電源５により生成される電場が有する等電位面Ｓは、理想的には出射口３ｂから出射される電子ビームＢの出射方向を垂線とする平面である。しかしながら、ターゲット４の形状等によっては、等電位面Ｓが図１の実線及び図５の点線で示す理想的なものと異なる場合がある。
【００３２】
ここで、直流電源５により生成される電場による等電位面Ｓが、図５の実線で示すような線形加速器３からみて凸の形状であった場合を考える。この場合、線形加速器３とターゲット４との間の電場は、いわば静電レンズとして作用する。このため、線形加速器３から出力される電子ビームＢの収束性に影響を与える可能性がある。
【００３３】
第二の実施形態に係るＸ線発生装置１では、図６に示すように、線形加速器３の出射口３ｂとターゲット４との間に、出射口３ｂから出射される電子ビームＢを収束させる磁気レンズ６を配置している。この磁気レンズ６は、円筒状のコイル６ａを有する。出射口３ｂから出射される電子ビームＢは、このコイル６ａの中空部６ｂを通ってターゲット４に至る。また、磁気レンズ６のコイル６ａに所定の直流電圧を付与する直流電源（図略）が設けられている。
【００３４】
磁気レンズ６は、好ましくは、線形加速器３の出射口３ｂから出射される電子ビームＢをターゲット４の衝突面４ａ近傍に収束させる。従って、磁気レンズ６はできるだけターゲット４に近付けて配置されることが好ましい。また電子ビームＢがターゲット４の衝突面４ａ近傍に収束されるように、磁気レンズ６の形状や、及び磁気レンズ６のコイル６ａに付加される電流値が選定されている。さらに、直流電源５からターゲット４に印加される電圧値に応じて、磁気レンズ６とターゲット４との間の距離や磁気レンズ６のコイル６ａに付加される電流値を調整することが好ましい。
【００３５】
従って、第二の実施形態に係るＸ線発生装置１によれば、線形加速器３の出射口３ｂから出射される電子ビームＢを磁気レンズ６により収束させている。そして、電子ビームＢはターゲット４の衝突面４ａに収束されて衝突される。これにより、ターゲット４発生するＸ線を用いたＸ線イメージングにおいてＸ線像を高分解能化できる。このような効果は、本実施形態におけるターゲット４から発生するＸ線を医療用途に用いる場合等に好適である。
【００３６】
しかも、線形加速器３とターゲット４との間に形成される電場が有する等電位面Ｓの形状が理想的なものと異なる場合でも、等電位面Ｓの形状によらず効率良く電子ビームＢを収束させることができる。
【００３７】
（第三の実施形態）
図７を参照して、本開示の第三の実施形態に係るＸ線発生装置について説明する。
【００３８】
第二の実施形態に係るＸ線発生装置１において、ターゲット４には直流電源５により所定の直流電圧が付加されている。従って、第二の実施形態に係るＸ線発生装置１については磁気レンズ６と線形加速器３との間、及び磁気レンズ６とターゲット４との間に放電が生じる可能性がある。放電が生じると、線形加速器３や磁気レンズ６に影響を及ぼす可能性がある。
【００３９】
そこで、図７に示すように、第三の実施形態に係るＸ線発生装置１では、磁気レンズ６を非磁性体である金属導体（例えばアルミニウム）からなる筐体７で囲んでいる。筐体７とターゲット４との間には導線８により接続されている。これにより、筐体７とターゲット４とは同電位になる。
【００４０】
あるいは、筐体７を鉄などの透磁率の高い材質から形成し、筐体７の開口部７ｂ側（電子ビームＢに近い側）を電子ビームＢに向けて延出してヨーク７ｃを形成してもよい。このヨーク７ｃを設けることで、磁気レンズ６により発生される磁場をこの開口部７ｂで収束させることができる。つまり、この開口部７ｂに磁極を形成することができる。
【００４１】
ヨーク７ｃにより形成される磁極は、図７に示すように線形加速器３の出射口３ｂとターゲット４との間に配置される。また、磁極を線形加速器３の出射口３ｂとターゲット４との間に配置していれば、コイル６ａは必ずしも線形加速器３とターゲット４との間に配置する必要はない。一例として、コイル６ａを線形加速器３の周囲に配置し、磁気レンズ６を囲む筐体７のヨーク７ｃのみを電子ビームＢの近傍にまで延出させればよい。
【００４２】
好ましくは、筐体７の縁部７ａは曲面状に形成されている。これは、縁部７ａが角状に形成されていると、この角部から放電が生じやすいからである。
【００４３】
また、線形加速器３と磁気レンズ６との間の距離は、これらの間に放電が生じないような適切な距離とされる。線形加速器３と磁気レンズ６との間の距離は、ターゲット４と線形加速器３との間の電位差、及び線形加速器３と磁気レンズ６とが収納されている空間の真空度に応じて定められる。
【００４４】
従って、第三の実施形態に係るＸ線発生装置１によれば、磁気レンズ６と線形加速器３との間、及び磁気レンズ６とターゲット４との間に放電が生じる可能性を低減させることができる。これにより、放電による線形加速器３や磁気レンズ６への影響を抑制することができる。
【００４５】
（第四の実施形態）
図８を参照して、本開示の第四の実施形態に係るＸ線発生装置について説明する。
【００４６】
第三の実施形態に係るＸ線発生装置１において説明したように、ターゲット４には直流電源５により所定の直流電圧が付加されている。従って、第一の実施形態に係るＸ線発生装置１については、ターゲット４と線形加速器３との間に放電が生じる可能性がある。
【００４７】
そこで、図８に示すように、第四の実施形態に係るＸ線発生装置１では、ターゲット４をアース線（放電部）９により接地している。
【００４８】
従って、第四の実施形態に係るＸ線発生装置１によれば、ターゲット４と線形加速器３との間に放電が生じる可能性を低減させることができる。これにより、放電による線形加速器３への影響を低下させることができる。
【００４９】
（第五の実施形態）
図９を参照して、本開示の第五の実施形態に係るＸ線装置について説明する。本実施形態に係るＸ線装置２０には、上述した第一〜第四の実施形態に係るＸ線発生装置１が適用されている。
【００５０】
本実施形態に係るＸ線装置２０は、筐体２１、Ｘ線発生装置１、載置部２２及び検出部２３を有する。Ｘ線発生装置１、載置部２２及び検出部２３は筐体２１内に設置されている。筐体２１はＸ線遮蔽材料を有する。これにより、筐体２１内のＸ線が筐体２１の外に漏洩しない。
【００５１】
Ｘ線発生装置１は、上述した第一〜第四の実施形態に係るＸ線発生装置１であるので、ここでの説明は省略する。
【００５２】
載置部２２は、Ｘ線発生装置１と検出部２３との間に配置される。この載置部２２は、被測定物Ｗが載置される載置台２２ａとマニピュレータ部２２ｂとを有する。
【００５３】
マニピュレータ部２２ｂは、回転駆動部２２ｃ、Ｘ軸駆動部２２ｄ、Ｙ軸駆動部２２ｅ及びＺ軸駆動部２２ｆを有する。回転駆動部２２ｃは、載置台２２ａを図中垂直方向に延びる回転軸Ｒに沿って回転させる。Ｘ軸駆動部２２ｄ、Ｙ軸駆動部２２ｅ及びＺ軸駆動部２２ｆは、それぞれ載置台２２ａを図に示すＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向にそれぞれ移動させる。
【００５４】
検出部２３は、載置台２２ａ上に載置された被測定物Ｗを透過した透過Ｘ線を含む、Ｘ線発生装置１により発生したＸ線を検出する。好ましくは、検出部２３は２次元的に広がるＸ線検出画素を有する。これにより、Ｘ線による被測定物Ｗの一部または全部の投影像を検出部２３により得ることができる。
【００５５】
以上、図面を参照して、本開示の様々な実施形態について詳述してきたが、具体的な構成は、これら開示の各実施形態に限らず、その要旨を逸脱しない程度の設計的変更は、本開示に含まれる。
【００５６】
一例として、第二及び第三の実施形態に係るＸ線発生装置１では、磁気レンズ６を用いて電子ビームＢを所定箇所に収束させていた。これに代えて、静電レンズを線形加速器３とターゲット４との間に配置しても良い。この静電レンズは電子ビームＢに対して軸対称な形状を有し、この電子ビームＢが通過する開口部を有する。あるいは、ターゲット４以外に線形加速器３とターゲット４との間に電極を配置し、この電極に直流電圧を付加することで、静電レンズと同様の作用を実現することもできる。この電極も、同様に電子ビームＢに対して軸対称な形状を有し、この電子ビームＢが通過する開口部を有する。加えて、磁気レンズ６と静電レンズとを併用しても良い。
【００５７】
さらには、通常は電子銃２と線形加速器３に配置される静電アライナーを、線形加速器３とターゲット４との間に配置しても良い。この静電アライナーは静電レンズに類似し、電子ビームＢをその進行方向に直交する面内で移動させるものである。
【００５８】
また、ターゲット４と線形加速器３との間に形成される電場の等電位面Ｓを電子ビームＢの光軸を垂線とする平面に形成する手段は、上述の第一の実施形態において説明したような、ターゲット４の衝突面４ａや線形加速器３の出射口３ｂを十分大きくして平面に形成する手段に限定されない。以下、図１０〜図１２を参照して、等電位面Ｓを電子ビームＢの光軸を垂線とする平面に形成する他の手段について説明する。
【００５９】
図１０に示す例では、上述した第一の実施形態に係るＸ線発生装置１において、線形加速器３の出射口３ｂ側の外縁部３ｃ及び出射口３ｂの縁部３ｄを、所定の曲率を有する曲面に形成している。ターゲット４に電圧を付加しているので、これら外縁部３ｃ及び縁部３ｄとターゲット４との間には、線形加速器３とターゲット４との間とは異なる電位差が生じやすい、外縁部３ｄ等を曲面に形成することで、これら外縁部３ｄ等からの放電を極力抑制できる。
【００６０】
図１１に示す例では、上述した第三の実施形態に係るＸ線発生装置１において、ヨーク７ｃを筐体７のターゲット４側に寄せている。これにより、ヨーク７ｃにより形成される磁極をターゲット４側に近付けることができ、磁極による電子の集束性をより向上させることができる。加えて、電位差を設ける筐体７と線形加速器３の出射口３ｂとを平行平面に配置しやすくなる。この結果、電子ビームＢの光軸付近における電場の等電位面Ｓを電子ビームＢの光軸を垂線とする平面に形成しやすくなる。
【００６１】
図１２に示す例では、上述した第一の実施形態に係るＸ線発生装置１において、線形加速器３の出射口３ｂ側の側部をターゲット４側に突出する膨張部３ｅに形成している。これにより、線形加速器３の出射口３ｂ側の側面を凹面に形成している。さらに、ターゲット４との衝突面４ａも、線形加速器３の出射口３ｂ側の側面である凹面に対向する凹面に形成している。この結果、等電位面Ｓを図１２に示すような面に形成でき、この等電位面Ｓをいわば静電レンズとして用いることができる。つまり、等電位面Ｓにより電子ビームＢの加減速及び集束を行うことができる。
【符号の説明】
【００６２】
１    Ｘ線発生装置
２    電子銃（電子線発生部）
３    線形加速器
３ａ    入射口
３ｂ    出射口
４    ターゲット
４ａ    衝突面
５    直流電源（電位差付与部）
６    磁気レンズ
７    筐体
９    アース線
２０    Ｘ線装置
Ｂ    電子ビーム
Ｓ    等電位面
【図１】
2020043023.tif 000003
【図２】
2020043023.tif 000004
【図３】
2020043023.tif 000005
【図４】
2020043023.tif 000006
【図５】
2020043023.tif 000007
【図６】
2020043023.tif 000008
【図７】
2020043023.tif 000009
【図８】
2020043023.tif 000010
【図９】
2020043023.tif 000011
【図１０】
2020043023.tif 000012
【図１１】
2020043023.tif 000013
【図１２】
2020043023.tif 000014