(57)【要約】【課題】処理液による外周縁部に対する追加の処理を狭い範囲に限定して行う。【解決手段】基板処理装置のノズル移動機構は、基板９の上面９１の外周縁部９３に対向する最外位置から径方向の内側において、ノズル部３１を上面９１に近接させつつ上面９１に沿って移動可能である。基板処理では、回転する基板９の上面９１に沿ってノズル部３１を移動しつつ、上面９１に対してノズル部３１から処理液を吐出する第１吐出動作と、回転する基板９の上面９１に対して、最外位置で停止したノズル部３１から処理液を吐出する第２吐出動作とが行われる。第２吐出動作における基板９の回転速度が、第１吐出動作における回転速度よりも高い、または／および、第２吐出動作における処理液の吐出流量が、第１吐出動作における吐出流量よりも低い。これにより、処理液による外周縁部９３に対する追加の処理を狭い範囲に限定して行うことができる。【選択図】図３
2020077735.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理装置における基板処理方法であって、
前記基板処理装置が、
円板状の基板を水平状態で保持する基板保持部と、
前記基板保持部を回転する基板回転機構と、
前記基板の上面に向けてノズル部から処理液を吐出する処理液供給部と、
前記上面の外周縁部に対向する最外位置から径方向の内側において、前記ノズル部を前記上面に近接させつつ前記上面に沿って移動可能であるノズル移動機構と、
を備え、
前記基板処理方法が、
ａ）回転する前記基板の前記上面に沿って前記ノズル部を移動しつつ、前記上面に対して前記ノズル部から前記処理液を吐出する、または、回転する前記基板の前記上面に対して、前記上面の中央部に対向する中央位置で停止した前記ノズル部から前記処理液を吐出する工程と、
ｂ）回転する前記基板の前記上面に対して、前記最外位置で停止した前記ノズル部から前記処理液を吐出する工程と、
を備え、
前記最外位置に配置された前記ノズル部により、前記基板の外周端面よりも内側の領域に対して前記処理液が吐出され、
前記ｂ）工程における前記基板の回転速度が、前記ａ）工程における前記回転速度よりも高い、または／および、前記ｂ）工程における前記処理液の吐出流量が、前記ａ）工程における前記吐出流量よりも低いことを特徴とする基板処理方法。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理方法であって、
前記ａ）工程において、前記ノズル部が前記中央位置と前記最外位置との間で移動し、前記ノズル部の位置が前記最外位置に近いほど、前記ノズル部の移動速度が低いことを特徴とする基板処理方法。
【請求項３】
請求項１に記載の基板処理方法であって、
前記ａ）工程において、前記ノズル部が前記中央位置と前記最外位置との間で移動し、前記ノズル部の位置が前記最外位置に近いほど、前記基板の回転速度が低く、または、前記処理液の吐出流量が高く、
前記ｂ）工程における前記基板の回転速度が、前記ａ）工程において前記最外位置の内側近傍に前記ノズル部が配置される際の前記回転速度よりも高い、または／および、前記ｂ）工程における前記処理液の吐出流量が、前記ａ）工程において前記最外位置の内側近傍に前記ノズル部が配置される際の前記吐出流量よりも低いことを特徴とする基板処理方法。
【請求項４】
請求項２または３に記載の基板処理方法であって、
前記処理液が、前記上面に設けられた膜をエッチングするエッチング液であり、
前記上面の前記中央部を除く領域において、前記ａ）およびｂ）工程による前記膜のエッチング量が、前記外周縁部に向かうに従って漸次増大することを特徴とする基板処理方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１つに記載の基板処理方法であって、
前記ａ）工程において、前記ノズル部が前記中央位置と前記最外位置との間を繰り返し移動するとともに、前記ノズル部が前記最外位置に到達後、直ぐに前記中央位置に向かい、
前記ａ）工程の完了後に、前記ノズル部が前記最外位置に配置され、前記ｂ）工程が行われることを特徴とする基板処理方法。
【請求項６】
請求項１ないし４のいずれか１つに記載の基板処理方法であって、
前記ａ）工程において、前記ノズル部が前記中央位置と前記最外位置との間を繰り返し移動し、前記ノズル部が前記最外位置に到達する際に、前記ノズル部が一時的に前記最外位置で停止し、前記ｂ）工程が行われることを特徴とする基板処理方法。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１つに記載の基板処理方法であって、
前記基板保持部が、前記基板の前記外周端面に当接する複数のチャックピンを備えることを特徴とする基板処理方法。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１つに記載の基板処理方法であって、
前記基板処理装置が、前記基板保持部により保持される前記基板の周囲を囲むカップをさらに備え、
前記最外位置に配置された前記ノズル部が、前記カップの上部に近接することを特徴とする基板処理方法。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１つに記載の基板処理方法であって、
前記処理液が、前記上面に設けられた膜をエッチングするエッチング液であり、上面に膜が設けられた複数の基板に対して、互いに異なる処理条件で前記ａ）およびｂ）工程を行うことにより得られる前記膜のエッチング結果と、前記ａ）およびｂ）工程を行う前の前記膜の厚さ情報とを取得することにより、前記複数の基板における前記膜の厚さ情報、前記処理条件および前記エッチング結果を示す教師データを準備する工程と、
前記教師データを用いた学習により、判定部を構築する工程と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の基板処理方法であって、
処理対象の基板に対して前記膜の厚さ情報を取得する工程と、
前記基板の前記膜の厚さ情報を用いて、前記判定部により前記処理条件を取得する工程と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理方法。
【請求項１１】
基板処理装置であって、
円板状の基板を水平状態で保持する基板保持部と、
前記基板保持部を回転する基板回転機構と、
前記基板の上面に向けてノズル部から処理液を吐出する処理液供給部と、
前記上面の外周縁部に対向する最外位置から径方向の内側において、前記ノズル部を前記上面に近接させつつ前記上面に沿って移動可能であるノズル移動機構と、
前記基板回転機構、前記処理液供給部および前記ノズル移動機構を制御することにより、回転する前記基板の前記上面に沿って前記ノズル部を移動しつつ、前記上面に対して前記ノズル部から前記処理液を吐出する、または、回転する前記基板の前記上面に対して、前記上面の中央部に対向する中央位置で停止した前記ノズル部から前記処理液を吐出する第１吐出動作と、回転する前記基板の前記上面に対して、前記最外位置で停止した前記ノズル部から前記処理液を吐出する第２吐出動作とを実行させる制御部と、
を備え、
前記最外位置に配置された前記ノズル部により、前記基板の外周端面よりも内側の領域に対して前記処理液が吐出され、
前記第２吐出動作における前記基板の回転速度が、前記第１吐出動作における前記回転速度よりも高い、または／および、前記第２吐出動作における前記処理液の吐出流量が、前記第１吐出動作における前記吐出流量よりも低いことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理方法および基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体デバイスの製造では、半導体基板（以下、単に「基板」という。）に対して、様々な種類の処理液を利用して処理を行う基板処理装置が用いられている。例えば、表面上にレジストのパターンが形成された基板に処理液を供給することにより、基板の表面に対してエッチング等の処理が行われる。特許文献１では、ノズル体が半導体ウエハの周辺部から中心部に向かうときに移動速度を次第に増加させ、中心部から周辺部に向かうときには移動速度を次第に低下させることにより、均一にエッチング処理する手法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−６７８１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、基板に対する成膜方法等によっては、基板上に形成される膜の厚さが、中央部から外周縁部に向かって次第に大きくなることがある。この場合、膜の厚さを均一化する（膜を平坦化）ために、エッチング処理において、外周縁部に向かうに従ってエッチング量を大きくすることが求められる。基板の中央部に対向する中央位置で停止したノズル部からエッチング液を吐出する場合には、基板の中央部でエッチング量が大きくなってしまう。基板の外周縁部に対向する位置と中央位置との間でノズル部を一定の移動速度で移動しつつノズル部からエッチング液を吐出する場合も、基板の中央部でエッチング量が大きくなる。
【０００５】
一方、ノズル部の位置が中央位置から離れるに従って、ノズル部の移動速度を低くすることにより、外周縁部に向かうに従ってエッチング量をおよそ大きくすることが可能となる。しかしながら、実際には、基板の外周縁部およびその内側近傍では、エッチング量がほぼ一定となってしまう。ノズル部から基板の外周端面（ベベル部）付近にエッチング液を供給して、外周縁部のみに対してエッチングを行うことも考えられるが、この場合、基板の外周端面に衝突したエッチング液が跳ね上がり、周囲のカップを介する等して、基板に再付着する可能性がある。カップの存在により、ノズル部を基板の外周端面の上方に配置することができない場合もある。
【０００６】
また、基板の全体に亘って膜のエッチング量を均等にすることが求められる場合に、基板の外周縁部におけるエッチング量が外周縁部の内側近傍に比べて不足することもある。さらに、エッチング液以外の処理液を用いる場合に、基板の外周縁部における処理の程度が、外周縁部の内側近傍に比べて不足することもある。したがって、基板の外周端面における処理液の跳ね上がりを抑制するとともに、処理液による外周縁部に対する追加の処理を狭い範囲に限定して行う手法が求められている。
【０００７】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、基板の外周端面における処理液の跳ね上がりを抑制するとともに、処理液による外周縁部に対する追加の処理を狭い範囲に限定して行うことを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、基板処理装置における基板処理方法であって、前記基板処理装置が、円板状の基板を水平状態で保持する基板保持部と、前記基板保持部を回転する基板回転機構と、前記基板の上面に向けてノズル部から処理液を吐出する処理液供給部と、前記上面の外周縁部に対向する最外位置から径方向の内側において、前記ノズル部を前記上面に近接させつつ前記上面に沿って移動可能であるノズル移動機構とを備え、前記基板処理方法が、ａ）回転する前記基板の前記上面に沿って前記ノズル部を移動しつつ、前記上面に対して前記ノズル部から前記処理液を吐出する、または、回転する前記基板の前記上面に対して、前記上面の中央部に対向する中央位置で停止した前記ノズル部から前記処理液を吐出する工程と、ｂ）回転する前記基板の前記上面に対して、前記最外位置で停止した前記ノズル部から前記処理液を吐出する工程とを備え、前記最外位置に配置された前記ノズル部により、前記基板の外周端面よりも内側の領域に対して前記処理液が吐出され、前記ｂ）工程における前記基板の回転速度が、前記ａ）工程における前記回転速度よりも高い、または／および、前記ｂ）工程における前記処理液の吐出流量が、前記ａ）工程における前記吐出流量よりも低い。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理方法であって、前記ａ）工程において、前記ノズル部が前記中央位置と前記最外位置との間で移動し、前記ノズル部の位置が前記最外位置に近いほど、前記ノズル部の移動速度が低い。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理方法であって、前記ａ）工程において、前記ノズル部が前記中央位置と前記最外位置との間で移動し、前記ノズル部の位置が前記最外位置に近いほど、前記基板の回転速度が低く、または、前記処理液の吐出流量が高く、前記ｂ）工程における前記基板の回転速度が、前記ａ）工程において前記最外位置の内側近傍に前記ノズル部が配置される際の前記回転速度よりも高い、または／および、前記ｂ）工程における前記処理液の吐出流量が、前記ａ）工程において前記最外位置の内側近傍に前記ノズル部が配置される際の前記吐出流量よりも低い。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項２または３に記載の基板処理方法であって、前記処理液が、前記上面に設けられた膜をエッチングするエッチング液であり、前記上面の前記中央部を除く領域において、前記ａ）およびｂ）工程による前記膜のエッチング量が、前記外周縁部に向かうに従って漸次増大する。
【００１２】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれか１つに記載の基板処理方法であって、前記ａ）工程において、前記ノズル部が前記中央位置と前記最外位置との間を繰り返し移動するとともに、前記ノズル部が前記最外位置に到達後、直ぐに前記中央位置に向かい、前記ａ）工程の完了後に、前記ノズル部が前記最外位置に配置され、前記ｂ）工程が行われる。
【００１３】
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれか１つに記載の基板処理方法であって、前記ａ）工程において、前記ノズル部が前記中央位置と前記最外位置との間を繰り返し移動し、前記ノズル部が前記最外位置に到達する際に、前記ノズル部が一時的に前記最外位置で停止し、前記ｂ）工程が行われる。
【００１４】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれか１つに記載の基板処理方法であって、前記基板保持部が、前記基板の前記外周端面に当接する複数のチャックピンを備える。
【００１５】
請求項８に記載の発明は、請求項１ないし７のいずれか１つに記載の基板処理方法であって、前記基板処理装置が、前記基板保持部により保持される前記基板の周囲を囲むカップをさらに備え、前記最外位置に配置された前記ノズル部が、前記カップの上部に近接する。
【００１６】
請求項９に記載の発明は、請求項１ないし８のいずれか１つに記載の基板処理方法であって、前記処理液が、前記上面に設けられた膜をエッチングするエッチング液であり、上面に膜が設けられた複数の基板に対して、互いに異なる処理条件で前記ａ）およびｂ）工程を行うことにより得られる前記膜のエッチング結果と、前記ａ）およびｂ）工程を行う前の前記膜の厚さ情報とを取得することにより、前記複数の基板における前記膜の厚さ情報、前記処理条件および前記エッチング結果を示す教師データを準備する工程と、前記教師データを用いた学習により、判定部を構築する工程とをさらに備える。
【００１７】
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の基板処理方法であって、処理対象の基板に対して前記膜の厚さ情報を取得する工程と、前記基板の前記膜の厚さ情報を用いて、前記判定部により前記処理条件を取得する工程とをさらに備える。
【００１８】
請求項１１に記載の発明は、基板処理装置であって、円板状の基板を水平状態で保持する基板保持部と、前記基板保持部を回転する基板回転機構と、前記基板の上面に向けてノズル部から処理液を吐出する処理液供給部と、前記上面の外周縁部に対向する最外位置から径方向の内側において、前記ノズル部を前記上面に近接させつつ前記上面に沿って移動可能であるノズル移動機構と、前記基板回転機構、前記処理液供給部および前記ノズル移動機構を制御することにより、回転する前記基板の前記上面に沿って前記ノズル部を移動しつつ、前記上面に対して前記ノズル部から前記処理液を吐出する、または、回転する前記基板の前記上面に対して、前記上面の中央部に対向する中央位置で停止した前記ノズル部から前記処理液を吐出する第１吐出動作と、回転する前記基板の前記上面に対して、前記最外位置で停止した前記ノズル部から前記処理液を吐出する第２吐出動作とを実行させる制御部とを備え、前記最外位置に配置された前記ノズル部により、前記基板の外周端面よりも内側の領域に対して前記処理液が吐出され、前記第２吐出動作における前記基板の回転速度が、前記第１吐出動作における前記回転速度よりも高い、または／および、前記第２吐出動作における前記処理液の吐出流量が、前記第１吐出動作における前記吐出流量よりも低い。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、基板の外周端面における処理液の跳ね上がりを抑制するとともに、処理液による外周縁部に対する追加の処理を狭い範囲に限定して行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】基板処理装置の構成を示す図である。
【図２】ノズル移動機構の動作を説明するための図である。
【図３】基板の外周縁部近傍を示す図である。
【図４】基板を処理する流れを示す図である。
【図５】径方向におけるノズル部の位置とノズル部の移動速度との関係を示す図である。
【図６】比較例の基板処理によるエッチング量のプロファイルを示す図である。
【図７】エッチング量のプロファイルを示す図である。
【図８】径方向におけるノズル部の位置と基板の回転速度との関係を示す図である。
【図９】径方向におけるノズル部の位置とノズル部の吐出流量との関係を示す図である。
【図１０】処理条件取得部の構成を示す図である。
【図１１】判定部を構築する処理の流れを示す図である。
【図１２】処理条件を取得する処理の流れを示す図である。
【図１３】ノズル移動機構の動作の他の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１は、本発明の一の実施の形態に係る基板処理装置１の構成を示す図である。基板処理装置１は、円板状の基板９を１枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１は、基板保持部２１と、基板回転機構２２と、カップ２３と、処理液供給部３と、リンス液供給部４と、ノズル移動機構５と、制御部１０とを備える。基板保持部２１、基板回転機構２２、カップ２３、ノズル移動機構５および後述のノズル部３１は、図示省略のチャンバ内に設けられる。基板処理装置１では、複数のチャンバが設けられてもよい。制御部１０は、例えばＣＰＵ等を含むコンピュータであり、基板処理装置１の全体制御を担う。
【００２２】
基板保持部２１は、上下方向を向く中心軸Ｊ１を中心とする円板状のベース部２１１を有する。ベース部２１１の上面には、複数のチャックピン２１２が設けられる。複数のチャックピン２１２は、中心軸Ｊ１を中心とする円周上において、周方向に等間隔に配置される。基板保持部２１では、図示省略のアクチュエータ（モータ、エアシリンダ等）を利用して、複数のチャックピン２１２を駆動することが可能である。基板保持部２１が基板９を保持する際には、複数のチャックピン２１２が、基板９の外周端面に当接する。これにより、基板９がベース部２１１の上方において水平状態で保持される。基板保持部２１により保持された基板９の中心は、中心軸Ｊ１上に位置する。ベース部２１１の上面は、基板９の下方を向く主面と平行であり、両者は隙間を空けて互いに対向する。基板処理装置１の設計によっては、基板保持部２１が、基板９の下方を向く主面に当接する吸着チャックまたは静電チャックを有してもよい。
【００２３】
ベース部２１１の下面の中央には、中心軸Ｊ１を中心とするシャフト部２２１の一端が固定される。モータを有する基板回転機構２２が、シャフト部２２１の他端部を回転することにより、基板保持部２１が基板９と共に中心軸Ｊ１を中心として回転する。カップ２３は、略筒状であり、基板保持部２１により保持される基板９の周囲を囲む。基板処理装置１では、図示省略のカップ昇降機構により、カップ２３の上部であるカップ上部２３１が上下方向に昇降可能である。後述する基板９の処理では、回転する基板９の外周縁から飛散する処理液が、カップ上部２３１の内周面により受けられ、回収される。基板処理装置１への基板９の搬入搬出時には、カップ上部２３１が下降することにより、カップ２３が外部の搬送機構と干渉することが防止される。カップ昇降機構は、モータまたはエアシリンダを動力源として含む。
【００２４】
処理液供給部３は、ノズル部３１と、処理液供給源３２とを備える。ノズル部３１は、例えば上下方向に延びるストレートノズルである。ノズル部３１は、他の形状であってもよい。ノズル部３１は、基板９の上方を向く主面９１（以下、「上面９１」という。）側に位置する。後述するように、ノズル部３１は、ノズル移動機構５により上面９１に沿って移動可能である。ノズル部３１の下端面は、上面９１に直接的に対向する。ノズル部３１の上端には、処理液供給源３２が流量制御弁３３および開閉弁３４を介して接続され、処理液供給源３２からノズル部３１にエッチング液が供給される。エッチング液は、ノズル部３１の下部の吐出口から下方に吐出される。すなわち、ノズル部３１から、基板９の上面９１に向けてエッチング液が吐出される。ノズル部３１と上面９１との間では、エッチング液の液柱が形成される。エッチング液は、基板９の上面９１に設けられた後述の膜をエッチング可能な処理液であり、例えば、クエン酸と過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）との混合液である。エッチング液としては、基板９上の膜がエッチング可能であるならば、酸、アルカリ等、様々な種類の処理液が利用可能である。
【００２５】
リンス液供給部４は、ノズル部３１と、リンス液供給源４２とを備える。ノズル部３１は、処理液供給部３およびリンス液供給部４により共有される。ノズル部３１には、リンス液供給源４２が開閉弁４４を介して接続される。リンス液供給源４２からノズル部３１にリンス液が供給されることにより、ノズル部３１から、基板９の上面９１に向けてリンス液が吐出される。リンス液は、例えば純水（DeIonized Water）である。純水以外のリンス液が用いられてもよい。リンス液供給部４において、処理液供給部３とは個別のノズル部が設けられてもよい。
【００２６】
ノズル部３１には、アーム５１の一端が固定される。アーム５１は、中心軸Ｊ１に垂直な方向に延びる。アーム５１の他端は、ノズル移動機構５に支持される。ノズル移動機構５は、モータを有する。ノズル移動機構５が、中心軸Ｊ１に平行な回動軸Ｊ２を中心として、アーム５１を回動することにより、ノズル部３１が基板９の上面９１に沿って移動する。ノズル移動機構５は、後述する中央位置と最外位置との間において、移動速度（スキャン速度）を任意に変更しつつノズル部３１を連続的に移動することが可能である。ノズル移動機構５は、アーム５１を中心軸Ｊ１の方向に昇降することも可能である。ノズル移動機構５の構成は適宜変更されてよく、例えば、ノズル部３１を一方向に直進させる機構が用いられてもよい。
【００２７】
図２は、ノズル移動機構５の動作を説明するための図である。図２では、上側から下方を向いて見た基板９、ノズル部３１およびノズル移動機構５を示している。基板処理装置１では、ノズル部３１を使用しない期間には、図２中に一点鎖線で示すように、ノズル部３１が基板９の上方から外れた位置（以下、「待機位置」という。）に配置される。中心軸Ｊ１に沿って見た場合に、待機位置は、ノズル部３１が基板９と重ならない位置である。実際には、基板保持部２１の周囲にはカップ２３が設けられており（図１参照）、待機位置は、カップ２３よりも外側（中心軸Ｊ１とは反対側）の位置である。
【００２８】
また、ノズル部３１を使用する際には、ノズル移動機構５により、ノズル部３１が基板９の上面９１に近接した状態で、基板９の上方に配置される。本実施の形態では、ノズル部３１は、上面９１の外周縁部９３に対向する位置（図２中に実線で示すノズル部３１の位置であり、以下、「最外位置」という。）と、上面９１の中央部に対向する位置（図２中に二点鎖線で示すノズル部３１の位置であり、以下、「中央位置」という。）との間における、いずれかの位置に配置される。
【００２９】
既述のように、基板９の周囲にはカップ２３が設けられており、ノズル部３１が上面９１に近接した状態では、ノズル部３１の下端は、カップ上部２３１の上端よりも下方に位置する（後述の図３参照）。また、最外位置に配置されたノズル部３１は、カップ上部２３１に近接する。したがって、ノズル移動機構５は、中心軸Ｊ１を中心とする径方向に関して最外位置から内側（中心軸Ｊ１側）において、ノズル部３１を上面９１に近接させつつ上面９１に沿って移動可能である。なお、待機位置に位置するノズル部３１を、基板９の上方に配置する際には、ノズル移動機構５によるノズル部３１の昇降も行われる。また、カップ上部２３１の上端が基板９よりも下方に下降した状態で、ノズル部３１が待機位置から基板９の上方へと移動し、その後、カップ上部２３１が上昇してもよい。
【００３０】
図３は、基板９の外周縁部９３近傍を示す図であり、中心軸Ｊ１を含む面における基板９の断面を示している。図３では、最外位置に配置されたノズル部３１も示している。基板９の上面９１には、膜９１１が設けられる。膜９１１は、所定の材料（例えば、コバルト（Ｃｏ）、窒化チタン（ＴｉＮ）またはタングステン（Ｗ）等の金属を含む材料）により形成され、基板９の上面９１の全体を覆う。本実施の形態では、膜９１１の厚さが、上面９１の中央部を除く領域（すなわち、中央部よりも外側の領域）において、外周縁部９３に向かうに従って漸次増大する。図３では、膜９１１の厚さの変化を強調している。
【００３１】
ここで、基板９の外周縁部９３は、上面９１において外周端面（ベベル部）９４に隣接する環状領域であり、外周端面９４よりも内側に位置する。外周端面９４では、法線方向が上下方向に対して傾斜するのに対し、外周縁部９３では、法線方向が上下方向に対して平行である。直径３００ｍｍの基板９が用いられる場合、外周縁部９３の幅は、例えば５〜１５ｍｍである。既述のように、最外位置に配置されたノズル部３１は、上下方向において外周縁部９３に対向し、外周縁部９３に向けてエッチング液を吐出する。ノズル部３１から吐出されたエッチング液は、外周縁部９３に衝突する。このとき、エッチング液の液柱は、外周端面９４には当たらない、すなわち、エッチング液が、外周端面９４に直接衝突することはない。
【００３２】
図４は、基板処理装置１が基板９を処理する流れを示す図である。図１の基板処理装置１では、事前に、外部の搬送機構により処理対象の基板９が搬入され、基板保持部２１により保持されている。基板９の処理では、まず、基板回転機構２２により基板９の回転が開始される（ステップＳ１１）。基板９は、予め設定された一定の回転速度（例えば、５００〜２５００ｒｐｍ）にて水平状態で回転する。
【００３３】
続いて、待機位置に位置するノズル部３１が、ノズル移動機構５により中央位置に配置される。そして、ノズル部３１からのエッチング液の吐出、および、中央位置と最外位置との間におけるノズル部３１の移動（揺動）が開始される。これにより、基板９の上面９１に沿ってノズル部３１を移動しつつ、上面９１に対してノズル部３１からエッチング液を吐出する第１吐出動作が実行される（ステップＳ１２）。第１吐出動作では、ノズル部３１におけるエッチング液の吐出流量は一定である。また、ノズル部３１は、最外位置に到達後、直ぐに中央位置に向かい、また、中央位置に到達後、直ぐに最外位置に向かう。このように、ノズル部３１は、中央位置と最外位置との間を繰り返し移動する。
【００３４】
このとき、図５に示すように、径方向におけるノズル部３１の位置が最外位置Ｐ２に近いほど、ノズル部３１の移動速度が低くなる。換言すると、ノズル部３１の移動速度は、ノズル部３１が中央位置Ｐ１から最外位置Ｐ２に向かうに従って漸次低くなり、最外位置Ｐ２から中央位置Ｐ１に向かうに従って漸次高くなる。ノズル部３１の移動速度が低いほど、上面９１におけるエッチング液の吐出位置（径方向の位置）に対するエッチング液の供給量が多くなる、または、単位面積当たりのエッチング時間が長くなると捉えられる。その結果、基板９の中央部から外周縁部９３近傍に向かうに従って、エッチング液による膜９１１のエッチング量を大きくすることが可能となる。もちろん、ノズル部３１の移動速度の変化は、線形には限定されず、非線形であってもよい。また、ノズル部３１の移動速度は、図５中に二点鎖線で示すようにステップ状に変化してもよい。この場合も、ノズル部３１の位置が最外位置Ｐ２に近いほど、ノズル部３１の移動速度が低いといえる。
【００３５】
中央位置と最外位置との間におけるノズル部３１の移動が所定時間（例えば、数秒）継続されると、ノズル部３１が最外位置に配置される。これにより、基板９の上面９１に対して、最外位置で停止したノズル部３１からエッチング液を吐出する第２吐出動作が実行される（ステップＳ１３）。第２吐出動作では、基板９の回転速度が、第１吐出動作時の回転速度よりも高い回転速度（例えば、第１吐出動作時の回転速度の数倍）に変更される。本処理例では、ノズル部３１におけるエッチング液の吐出流量は、第１吐出動作と同じである。
【００３６】
ここで、第１吐出動作においてもノズル部３１が最外位置を通過し、基板９の上面９１の外周縁部９３に対してエッチング液が吐出される。第１吐出動作では、基板９の回転による遠心力により、外周縁部９３に付着したエッチング液が、上面９１上において外側に広がる。このとき、基板９の回転速度が比較的低いため、図３中に二点鎖線で示すように、エッチング液８１が上面９１上において内側にも広がり、この状態が保たれやすくなる（広がったエッチング液８１が残存しやすい。）。一方、第２吐出動作における基板９の回転速度は、第１吐出動作における回転速度よりも高い。したがって、図３中に実線で示すように、ノズル部３１から吐出されたエッチング液８１が、上面９１に付着した後、直ぐに外側（すなわち、外周端面９４側）へと広がり、エッチング液８１の内側への広がりが第１吐出動作に比べて抑制される。好ましくは、エッチング液８１は、内側にはほとんど広がらない。その結果、第２吐出動作では、外周縁部９３の狭い範囲のみに対してエッチング液によるエッチングが行われる。
【００３７】
最外位置に配置されたノズル部３１からのエッチング液の吐出が所定時間（例えば、５〜１０秒）継続されると、エッチング液の吐出が停止される。また、基板９の回転速度が、例えば第１吐出動作時の回転速度まで下げられる。続いて、ノズル部３１が中央位置で停止するとともに、リンス液供給部４によりノズル部３１を介して上面９１にリンス液が供給される（ステップＳ１４）。上面９１では、基板９の回転によりリンス液が基板９の外周に向かって広がり、上面９１の全体にリンス液が供給される。リンス液の供給により、上面９１に付着するエッチング液が除去される。リンス処理において、ノズル部３１が中央位置と最外位置との間で移動してもよい。
【００３８】
リンス液の吐出が所定時間継続されると、リンス液の吐出が停止される。また、ノズル移動機構５によりノズル部３１が待機位置へと移動する。そして、基板回転機構２２が基板９の回転速度を高くすることにより、基板９の乾燥処理（スピンドライ）が行われる（ステップＳ１５）。乾燥処理が完了すると、基板９の回転が停止される（ステップＳ１６）。基板９は、外部の搬送機構により基板処理装置１から搬出される。以上により、基板処理装置１における基板９の処理が完了する。上記処理例では、第１吐出動作の完了後に、第２吐出動作が行われるが、第２吐出動作が先に行われ、第２吐出動作の完了後に、第１吐出動作が行われてもよい。また、リンス液の供給後、乾燥処理の前に、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等の有機溶剤が上面９１に供給され、リンス液が有機溶剤に置換されてもよい。
【００３９】
ここで、図４の基板処理において第２吐出動作（ステップＳ１３）を省略した比較例の基板処理について説明する。比較例の基板処理では、中央位置と最外位置との間でノズル部３１を移動しつつノズル部３１からエッチング液を吐出する第１吐出動作により、上面９１の膜９１１がエッチングされる（ステップＳ１２）。その後、第２吐出動作を省略してリンス処理および乾燥処理が行われ、基板９の処理が完了する（ステップＳ１４〜Ｓ１６）。
【００４０】
図６は、比較例の基板処理により得られるエッチング量のプロファイルを示す図である。以下の説明において、エッチング量のプロファイルは、膜９１１のエッチング量の径方向における変化を意味し、膜９１１の厚さのプロファイルは、膜９１１の厚さの径方向における変化を意味する。図６では、比較例の基板処理によるエッチング量のプロファイルを符号Ｌ２を付す破線で示し、理想的な（目標とする）エッチング量のプロファイルを符号Ｌ０を付す一点鎖線で示している。プロファイルＬ２が得られた際の第１吐出動作における基板９の回転速度は、４００ｒｐｍである。理想的なプロファイルＬ０の形状は、例えば、エッチング前の基板９の膜９１１の厚さのプロファイルに近似する。なお、理想的なプロファイルＬ０では、０〜１０ｍｍの中央部近傍を除き、エッチング量が、外側に向かうに従って漸次増大する。
【００４１】
ここで、基板９の半径は１５０ｍｍであり、比較例の基板処理によるプロファイルＬ２は、径方向における０〜１３０ｍｍの範囲では、理想的なプロファイルＬ０に倣った形状となるが、１３０〜１５０ｍｍの範囲では、理想的なプロファイルＬ０とは異なり、およそ一定のエッチング量となる。径方向における１３０〜１５０ｍｍの範囲において、ノズル部３１の移動速度を可能な範囲で低くして（または、最外位置においてノズル部３１を一時的に停止して）ステップＳ１２の処理を行っても、１３０〜１５０ｍｍの範囲では、およそ一定のエッチング量となってしまう。既述のように、第１吐出動作では、図３中に二点鎖線で示すように、最外位置のノズル部３１から吐出されたエッチング液８１が上面９１上において内側にも広がるため、径方向における１３０〜１５０ｍｍの範囲、すなわち、外周縁部９３の近傍における比較的広い範囲で、エッチング量が一定になると考えられる。
【００４２】
図７は、第１吐出動作および第２吐出動作を含む図４の基板処理により得られるエッチング量のプロファイルを示す図である。図７では、図４の基板処理によるエッチング量のプロファイルを符号Ｌ１を付す実線で示し、比較例の基板処理によるエッチング量のプロファイルを符号Ｌ２を付す破線で示している。プロファイルＬ１が得られた際の第１吐出動作における基板９の回転数は４００ｒｐｍであり、第２吐出動作における回転数は１５００ｒｐｍである。
【００４３】
図４の基板処理によるプロファイルＬ１は、０〜１３０ｍｍの範囲では、比較例の基板処理によるプロファイルＬ２、および、図６の理想的なプロファイルＬ０に倣った形状となっている。また、１３０〜１５０ｍｍの範囲においても、外側に向かうに従ってエッチング量が漸次増大している。したがって、プロファイルＬ１では、径方向の全体に亘って理想的なプロファイルＬ０に倣った形状が得られる。本実施の形態では、理想的なプロファイルＬ０に近似するプロファイルＬ１を得るための処理条件（例えば、第１吐出動作および第２吐出動作のそれぞれにおける基板９の回転速度および時間等）は、実験等により決定される。
【００４４】
以上に説明したように、基板処理装置１では、回転する基板９の上面９１に沿ってノズル部３１を移動しつつ、上面９１に対してノズル部３１からエッチング液を吐出する第１吐出動作（ステップＳ１２）と、回転する基板９の上面９１に対して、最外位置で停止したノズル部３１からエッチング液を吐出する第２吐出動作（ステップＳ１３）とが実行される。また、第２吐出動作における基板９の回転速度が、第１吐出動作における回転速度よりも高くされる。これにより、第２吐出動作において、基板９の外周縁部９３に吐出されたエッチング液が内側に広がることを第１吐出動作と比較して抑制することができ、エッチング液による外周縁部９３に対する追加の処理（ここでは、エッチング）を狭い範囲に限定して行うことができる。
【００４５】
また、基板処理装置１では、最外位置に配置されたノズル部３１により、基板９の外周端面９４よりも内側の領域に対してエッチング液が吐出される。これにより、ノズル部３１から吐出されるエッチング液が、基板９の外周端面９４およびチャックピン２１２に直接衝突することを防止して、外周端面９４およびチャックピン２１２におけるエッチング液の跳ね上がり（液跳ね）を抑制することができる。その結果、跳ね上がったエッチング液が、カップ上部２３１の内周面を介して上面９１に再付着し、上面９１が汚染されること等を抑制することができる。なお、図１の基板処理装置１では、最外位置に配置されたノズル部３１が、カップ上部２３１に近接するため、最外位置よりも外側にノズル部３１を配置することも困難である。
【００４６】
上記基板処理では、第１吐出動作において、径方向におけるノズル部３１の位置が最外位置に近いほど、ノズル部３１の移動速度が低くされる。これにより、第１吐出動作では、基板９の上面９１の中央部を除く領域において、処理液による処理の程度、すなわち、エッチング液によるエッチング量を、外周縁部９３近傍に向かうに従って大きくすることができる。また、第２吐出動作では、外周縁部９３の狭い範囲に限定してエッチングが行われるため、外周縁部９３の近傍において、エッチング量を外側に向かうに従って大きくすることが可能である。その結果、上面９１の中央部を除く領域において、第１吐出動作および第２吐出動作による膜９１１のエッチング量が、外周縁部９３に向かうに従って漸次増大する好ましいプロファイルを実現することができる。
【００４７】
基板９上に形成される膜９１１の厚さのプロファイルによっては、上面９１の全体において、膜９１１のエッチング量が、外周縁部９３に向かうに従って漸次増大するプロファイルが実現されてもよい。また、第１吐出動作および第２吐出動作による膜９１１のエッチング量（処理液による処理の程度）が、径方向の全体に亘って均等となるように、第１吐出動作および第２吐出動作の処理条件が決定されてもよい。この場合に、第１吐出動作のみでは、外周縁部９３におけるエッチング量が、外周縁部９３の内側近傍に比べて不足するときでも、第２吐出動作を行うことにより、外周縁部９３におけるエッチング量の不足を解消することができる。
【００４８】
上記処理例では、第２吐出動作における基板９の回転速度が、第１吐出動作における回転速度よりも高くされるが、第１吐出動作および第２吐出動作における基板９の回転速度を一定としつつ、第２吐出動作におけるエッチング液の吐出流量が、第１吐出動作における吐出流量よりも低くされてもよい。この場合も、第２吐出動作において、基板９の外周縁部９３に吐出されたエッチング液が内側に広がることを第１吐出動作と比較して抑制することができ、エッチング液による外周縁部９３に対する追加の処理を狭い範囲に限定して行うことができる。例えば、第１吐出動作における吐出流量は、１０００〜２０００ｍＬ／ｍｉｎであり、第２吐出動作における吐出流量は、第１吐出動作における吐出流量の０．３〜０．５倍である。
【００４９】
また、第２吐出動作における基板９の回転速度が、第１吐出動作における回転速度よりも高くされ、かつ、第２吐出動作におけるエッチング液の吐出流量が、第１吐出動作における吐出流量よりも低くされてもよい。以上のように、基板処理装置１では、第２吐出動作における基板９の回転速度が、第１吐出動作における回転速度よりも高い、または／および、第２吐出動作におけるエッチング液の吐出流量が、第１吐出動作における吐出流量よりも低いことが重要である。
【００５０】
基板処理装置１では、第１吐出動作および第２吐出動作の一方の完了後に他方を行う上述の処理例（以下、「全体逐次処理」という。）以外の処理が行われてもよい。次に、部分逐次処理について説明する。部分逐次処理における第１吐出動作では、上述の全体逐次処理と同様に、ノズル部３１が中央位置と最外位置との間を繰り返し移動しつつ、ノズル部３１からエッチング液が吐出される（図４：ステップＳ１２）。第１吐出動作では、ノズル部３１の位置が最外位置に近いほど、ノズル部３１の移動速度が低くなる。また、ノズル部３１が最外位置に到達する際に、ノズル部３１が一時的に最外位置で停止し、第２吐出動作が行われる（ステップＳ１３）。このとき、第２吐出動作における基板９の回転速度が、第１吐出動作における回転速度よりも高くされ、または／および、第２吐出動作におけるエッチング液の吐出流量が、第１吐出動作における吐出流量よりも低くされる。
【００５１】
最外位置におけるエッチング液の吐出が所定時間継続されると、ノズル部３１が中央位置に向かって移動を開始し、第１吐出動作が再開される。そして、ノズル部３１が最外位置に再度到達すると、第２吐出動作が行われる。このように、上記部分逐次処理では、ノズル部３１が最外位置に到達する度に、第１吐出動作を中断して、第２吐出動作が行われる。第２吐出動作は、必ずしもノズル部３１が最外位置に到達する度に行われる必要はなく、第１吐出動作の途中においてノズル部３１が最外位置に到達する少なくとも一度のタイミングにおいて行われればよい。
【００５２】
以上のように、部分逐次処理では、第１吐出動作においてノズル部３１が最外位置に到達する際に、ノズル部３１が一時的に最外位置で停止される。そして、基板９の回転速度を高くする、または／および、エッチング液の吐出流量を低くすることにより、第２吐出動作が行われる。この場合も、第２吐出動作において、外周縁部９３に吐出されたエッチング液が内側に広がることを抑制することができ、エッチング液による外周縁部９３に対する追加の処理を狭い範囲に限定して行うことができる。
【００５３】
全体逐次処理および部分逐次処理のいずれの場合も、第１吐出動作において、ノズル部３１の移動速度を一定としつつ、基板９の回転速度、または、エッチング液の吐出流量が、径方向におけるノズル部３１の位置に応じて変更されてもよい。
【００５４】
基板９の回転速度を変更する場合、図８に示すように、径方向におけるノズル部３１の位置が最外位置Ｐ２に近いほど、基板９の回転速度が低くなる。換言すると、基板９の回転速度は、ノズル部３１が中央位置Ｐ１から最外位置Ｐ２に向かうに従って漸次低くなり、最外位置Ｐ２から中央位置Ｐ１に向かうに従って漸次高くなる。基板９の回転速度が低いほど、ノズル部３１から吐出されたエッチング液は、その吐出位置に留まりやすくなると考えられる。その結果、エッチング液による膜９１１のエッチング量（すなわち、処理液による処理の程度）を、基板９の中央部近傍から外周縁部９３近傍に向かうに従って大きくする、または、均等にすることが可能となる。もちろん、基板９の回転速度の変化は、線形には限定されず、非線形であってもよい。また、基板９の回転速度は、図８中に二点鎖線で示すようにステップ状に変化してもよい。この場合も、ノズル部３１の位置が最外位置Ｐ２に近いほど、基板９の回転速度が低いといえる。
【００５５】
第１吐出動作において基板９の回転速度を変更する場合、第２吐出動作における基板９の回転速度は、第１吐出動作において最外位置の内側近傍にノズル部３１が配置される際の回転速度よりも高くされる。これにより、第２吐出動作において、外周縁部９３に吐出されたエッチング液が内側に広がることを抑制することができる。その結果、基板９の外周縁部９３の近傍においても、エッチング量を外側に向かうに従って大きくする、または、均等にする等、エッチング量の好ましいプロファイルを実現することができる。
【００５６】
エッチング液の吐出流量を変更する場合、図９に示すように、径方向におけるノズル部３１の位置が最外位置Ｐ２に近いほど、エッチング液の吐出流量が高くなる。換言すると、エッチング液の吐出流量は、ノズル部３１が中央位置Ｐ１から最外位置Ｐ２に向かうに従って漸次高くなり、最外位置Ｐ２から中央位置Ｐ１に向かうに従って漸次低くなる。エッチング液の吐出流量が高いほど、上面９１におけるエッチング液の吐出位置（径方向の位置）に対するエッチング液の供給量が多くなる。その結果、エッチング液による膜９１１のエッチング量（すなわち、処理液による処理の程度）を、基板９の中央部近傍から外周縁部９３近傍に向かうに従って大きくする、または、均等にすることが可能となる。もちろん、エッチング液の吐出流量の変化は、線形には限定されず、非線形であってもよい。また、エッチング液の吐出流量は、図９中に二点鎖線で示すようにステップ状に変化してもよい。この場合も、ノズル部３１の位置が最外位置Ｐ２に近いほど、エッチング液の吐出流量が高いといえる。
【００５７】
第１吐出動作においてエッチング液の吐出流量を変更する場合、第２吐出動作におけるエッチング液の吐出流量は、第１吐出動作において最外位置の内側近傍にノズル部３１が配置される際の吐出流量よりも低くされる。これにより、第２吐出動作において、外周縁部９３に吐出されたエッチング液が内側に広がることを抑制することができる。その結果、基板９の外周縁部９３の近傍においても、エッチング量を外側に向かうに従って大きくする、または、均等にする等、エッチング量の好ましいプロファイルを実現することができる。第１吐出動作では、ノズル部３１の移動速度、基板９の回転速度、および、エッチング液の吐出流量のうち２つ以上が、径方向におけるノズル部３１の位置に応じて変更されてもよい。
【００５８】
図１０は、基板処理装置１に付加される処理条件取得部７の構成を示す図である。処理条件取得部７は、例えばＣＰＵ等を含むコンピュータであり、特徴ベクトル算出部７１と、判定部７２と、学習部（機械学習部）７３と、（記憶部に記憶された）データベース７４とを備える。処理条件取得部７では、処理対象の基板９における後述の厚さ情報を入力することにより、エッチング量の好ましいプロファイルを得るための、第１吐出動作および第２吐出動作の処理条件が自動的に取得される。特徴ベクトル算出部７１、判定部７２および学習部７３は、例えば、所定のプログラムの実行により実現される。処理条件取得部７の全部または一部が、専用の電気的回路により実現されてもよい。また、処理条件取得部７が、制御部１０と同じコンピュータにより実現されてもよい。
【００５９】
図１１は、判定部７２を構築する処理の流れを示す図である。処理条件取得部７では、処理条件の取得の事前準備として判定部７２が構築される。判定部７２の構築では、まず、上面９１に膜９１１が設けられた複数の基板９（後述の処理対象の基板９と区別するため、以下、「参照基板９」という。）が準備される。続いて、複数の参照基板９のそれぞれに対して、外部の膜厚測定装置を用いて膜９１１の厚さのプロファイルが取得される。以下の説明では、膜９１１の厚さのプロファイルを、「厚さ情報」という。なお、膜厚測定装置が、基板処理装置１に設けられてもよい。
【００６０】
厚さ情報が取得されると、複数の参照基板９に対して図４の基板処理が行われる。このとき、複数の参照基板９は、互いに異なる処理条件で第１吐出動作および第２吐出動作が行われる。処理条件は、例えば、チャンバ内の温度および湿度、全体逐次処理または部分逐次処理の選択、第１吐出動作における参照基板９の回転速度、時間、吐出流量およびノズル部３１の移動速度、並びに、第２吐出動作における参照基板９の回転速度、時間、吐出流量およびノズル部３１の位置（最外位置）等を含む。基板処理装置１が複数のチャンバを含む場合には、チャンバの識別番号が処理条件に含まれてもよい。
【００６１】
複数の参照基板９に対する基板処理が完了すると、各参照基板９に対する膜９１１のエッチング結果が取得される。エッチング結果は、例えば、エッチング後の膜９１１の厚さのプロファイル（または、エッチング量のプロファイル）、および、作業者が当該プロファイルに対して判定した良否のラベルを含む。以上の処理により、複数の参照基板における膜９１１の厚さ情報（エッチング前の膜９１１の厚さ情報）、処理条件およびエッチング結果を示す教師データが準備される（ステップＳ２１）。
【００６２】
教師データは、学習部７３に入力される。学習部７３は、教師データに含まれる各参照基板９に対する膜９１１の厚さ情報から複数の特徴量を算出する。例えば、複数の特徴量は、エッチング前の膜９１１の厚さのプロファイルにおける、径方向の複数の位置での傾きである。複数の特徴量の算出は特徴ベクトル算出部７１において行われてもよい。学習部７３では、複数の特徴量の集合が、特徴ベクトルとして扱われる。続いて、学習部７３が、複数の参照基板９における特徴ベクトル、処理条件およびエッチング結果（すなわち、教師データ）を用いて、ニューラルネットワーク等を利用する分類器（人工知能（ＡＩ）を含む。）を学習させることにより、判定部７２が構築される（ステップＳ２２）。ここで、判定部７２の構築は、ニューラルネットワーク等におけるパラメータの値の決定を含む。判定部７２は、特徴ベクトルの入力により、良と判定されるエッチング後の厚さのプロファイルが得られる予定の処理条件を出力する。教師データは、データベース７４に含められ、記憶される。
【００６３】
図１２は、処理対象の基板９に対して処理条件を取得する処理の流れを示す図である。処理条件を取得する際には、まず、処理対象の基板９に対して、膜厚測定装置を用いて膜９１１の厚さ情報が取得される（ステップＳ３１）。既述のように、膜厚測定装置が、基板処理装置１に設けられてもよい。膜９１１の厚さ情報は、特徴ベクトル算出部７１に入力され、判定部７２の構築時と同様にして特徴ベクトルが取得される。そして、当該特徴ベクトルが判定部７２に入力されることにより、処理対象の基板９に対する処理条件が出力される。このように、判定部７２では、膜９１１の厚さ情報を用いて処理条件が取得される（ステップＳ３２）。処理条件の一例は、使用すべきチャンバの識別番号、全体逐次処理または部分逐次処理の選択、第２吐出動作における基板９の回転速度およびノズル部３１の位置（最外位置）等を示す。基板処理装置１では、取得された処理条件に従って、図４の基板処理が行われる。当該基板処理が行われた基板９では、良と判定されるエッチング後の厚さのプロファイル（または、エッチング量のプロファイル）が得られる。
【００６４】
処理条件取得部７により取得される処理条件が、例えば、第２吐出動作における基板９の回転速度および時間、または、第２吐出動作における吐出流量および時間のみを含み、他の条件は予め定められた固定値であってもよい。好ましくは、処理条件取得部７により取得される処理条件は、第１吐出動作および第２吐出動作のそれぞれにおける基板９の回転速度および時間、または、第１吐出動作および第２吐出動作のそれぞれにおける吐出流量および時間を含む。
【００６５】
なお、基板処理装置１のチャンバ内に撮像部が設けられ、基板９の撮像画像から求められる特徴量が特徴ベクトルに含められてもよい（教師データにおいて同様）。また、判定部７２、学習部７３およびデータベース７４（図１０中で破線で囲む構成）が、外部のサーバにおいて実現されてもよい。この場合、複数の参照基板９における膜９１１の厚さ情報（または特徴ベクトル）、処理条件およびエッチング結果を示す教師データが通信部を介して、当該サーバへと送信され、判定部７２が構築される。処理対象の基板９に対して処理条件を取得する際には、特徴ベクトル算出部７１にて求められた特徴ベクトル（または膜９１１の厚さ情報）が通信部を介して、当該サーバへと送信される。判定部７２では、特徴ベクトルを用いて処理条件が取得され、通信部を介して制御部１０に入力される。これにより、当該処理条件に従った基板９の処理が行われる。上記の場合において、当該サーバが基板処理装置１の一部として捉えられてもよい。また、処理対象の基板９に対して取得されたデータが、教師データに追加され、判定部７２が更新されてもよい。さらに、膜９１１の種類や、基板９のサイズ毎に、判定部７２およびデータベース７４等が準備されてもよい。
【００６６】
上記基板処理装置１では様々な変形が可能である。
【００６７】
基板９に対して求められる処理の精度によっては、第１吐出動作において、必ずしもノズル部３１が中央位置と最外位置との間で移動する必要はなく、例えば、ノズル部３１が中央位置と、最外位置よりも内側の位置との間で移動してもよい。また、第１吐出動作において、回転する基板９の上面９１に対して、中央位置で停止したノズル部３１からエッチング液が吐出されてもよい。
【００６８】
基板処理装置１では、エッチング液以外に、膜９１１を変質させる薬液等、他の種類の処理液が用いられてもよい。この場合も、第２吐出動作における基板９の回転速度が、第１吐出動作における回転速度よりも高い、または／および、第２吐出動作における処理液の吐出流量が、第１吐出動作における吐出流量よりも低いことにより、処理液による外周縁部９３に対する追加の処理を、狭い範囲に限定して行うことが可能となる。また、最外位置に配置されたノズル部３１により、基板９の外周端面９４よりも内側の領域に対して処理液が吐出されることにより、基板９の外周端面９４における処理液の跳ね上がりを抑制することができる。
【００６９】
ノズル移動機構５の設計によっては、ノズル部３１が、図１３中に実線で示す最外位置から中央位置を通過して、二点鎖線で示す最外位置（実線の最外位置と同じ径方向の位置である。）まで移動可能であってもよい。この場合も、図２の例と同様に、ノズル部３１が中央位置と最外位置との間で移動していると捉えることが可能である。
【００７０】
基板処理装置１において処理が行われる基板は半導体基板には限定されず、ガラス基板や他の基板であってもよい。
【００７１】
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。
【符号の説明】
【００７２】
１    基板処理装置
３    処理液供給部
５    ノズル移動機構
９    基板
１０    制御部
２１    基板保持部
２２    基板回転機構
２３    カップ
３１    ノズル部
７２    判定部
８１    エッチング液
９１    （基板の）上面
９３    （基板の）外周縁部
９４    （基板の）外周端面
２１２    チャックピン
２３１    カップ上部
９１１    膜
Ｐ１    中央位置
Ｐ２    最外位置
Ｓ１１〜Ｓ１６，Ｓ２１，Ｓ２２，Ｓ３１，Ｓ３２    ステップ
【図１】
2020077735.tif 000003
【図２】
2020077735.tif 000004
【図３】
2020077735.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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