(57)【要約】【課題】摩擦耐久性に優れる蒸着膜を形成できる蒸着用含フッ素エーテル組成物、ならびに蒸着膜付き物品およびその製造方法の提供。【解決手段】ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖、および加水分解性シリル基を有する化合物（Ａ）と、前記化合物（Ａ）の部分縮合物（Ｂ）とを含み、前記化合物（Ａ）と前記部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する前記部分縮合物（Ｂ）の割合が、４〜４０質量％である蒸着用含フッ素エーテル組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖、および下式（Ｉ）で表される基をｂ個（ただし、ｂは１以上の整数）有する化合物（Ａ）と、前記化合物（Ａ）の部分縮合物（Ｂ）とを含み、
前記化合物（Ａ）と前記部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する前記部分縮合物（Ｂ）の割合が、４〜４０質量％であることを特徴とする蒸着用含フッ素エーテル組成物。
−ＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（Ｉ）
ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、
前記ｂが２以上の整数である場合のｎは０〜２の整数であり、前記ｂが１である場合のｎは０または１であり、
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、
ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよい。
【請求項２】
前記化合物（Ａ）の数平均分子量が２，０００〜１０，０００である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記部分縮合物（Ｂ）の数平均分子量が４，０００〜３０，０００である、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記部分縮合物（Ｂ）が、Ｌが加水分解性基である化合物（Ａ）の部分加水分解縮合物である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記化合物（Ａ）が、下式（Ａ１）で表される化合物である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−］ａＺ１［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｂ  ・・・（Ａ１）
ただし、Ｌ、Ｒ、ｎおよびｂはそれぞれ前記と同義であり、
Ｒｆ１は、ペルフルオロアルキル基であり、
Ｑは、単結合、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基、または該オキシフルオロアルキレン基の２〜５個が結合してなるポリオキシフルオロアルキレン基であり、該基を構成するオキシフルオロアルキレン基は同一であっても異なっていてもよく、
Ｒｆαは、前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖であり、
Ｚ１は、（ａ＋ｂ）価の連結基であり、
ａは、１以上の整数であり、
ａが２以上のときａ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−］は、同一であっても異なっていてもよく、
ｂが２以上のときｂ個の［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【請求項６】
前記ｂが２または３である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物と、液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物から形成された蒸着膜を有することを特徴とする蒸着膜付き物品。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物を基材上に蒸着することを特徴とする蒸着膜付き物品の製造方法。
【請求項１０】
温度が２０〜３００℃、圧力が１×１０−１Ｐａ以下の条件下で前記蒸着を行う、請求項９記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着用含フッ素エーテル組成物、ならびに蒸着膜付き物品およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すことから、表面処理剤等に用いられる。たとえば表面処理剤として基材の表面に塗布し表面層を形成すると、潤滑性、撥水撥油性等が付与され、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。含フッ素化合物の中でも、ペルフルオロアルキル鎖の途中にエーテル結合（−Ｏ−）が存在するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、油脂等の汚れの除去性に優れる。
このような含フッ素エーテル化合物は、拭き取りによって表面に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）を有するため、たとえば、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材の表面処理剤に用いられている。
【０００３】
含フッ素エーテル化合物の層をガラスや金属等の基材の表面に設けるため、含フッ素エーテル化合物の末端に加水分解性シリル基を導入した化合物が提案されている。加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物から形成される表面層は、加水分解性シリル基が分解して生成したシラノール基によりガラスや金属等の表面に結合できる。
【０００４】
加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物は、液状媒体に含まれる水分の影響等により、その一部が多量体化する場合がある。従来、多量体は、コーティング液の保存安定性等の観点で好ましくないとされ、たとえば特許文献１に、液状媒体の水分量を低くすることにより、多量体化を防止する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１５−２１４６６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
表面層の形成方法としてはウェットコーティング法とドライコーティング法がある。特許文献１のようなウェットコーティング法と異なり、液状媒体を大量には必要としないドライコーティング法は、作業環境等の点で好ましく注目されている。
近年、摩擦耐久性の要求はますます厳しくなってきており、ドライコーティング法の１例である真空蒸着法の場合も、一層の摩擦耐久性向上が求められている。
本発明は、摩擦耐久性に優れる蒸着膜を形成できる蒸着用含フッ素エーテル組成物、ならびに摩擦耐久性に優れる蒸着膜付き物品およびその製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、以下の［１］〜［１０］の構成を有する、蒸着用含フッ素エーテル組成物、ならびに蒸着膜付き物品およびその製造方法を提供する。
［１］ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖、および下式（Ｉ）で表される基をｂ個（ただし、ｂは１以上の整数）有する化合物（Ａ）と、前記化合物（Ａ）の部分縮合物（Ｂ）とを含み、前記化合物（Ａ）と前記部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する前記部分縮合物（Ｂ）の割合が、４〜４０質量％であることを特徴とする蒸着用含フッ素エーテル組成物。
−ＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（Ｉ）
ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、
前記ｂが２以上の整数である場合のｎは０〜２の整数であり、前記ｂが１である場合のｎは０または１であり、
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、
ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよい。
【０００８】
［２］前記化合物（Ａ）の数平均分子量が２，０００〜１０，０００である、［１］の組成物。
［３］前記部分縮合物（Ｂ）の数平均分子量が４，０００〜３０，０００である、［１］または［２］の組成物。
［４］前記部分縮合物（Ｂ）が、Ｌが加水分解性基である化合物（Ａ）の部分加水分解縮合物である、［１］〜［３］のいずれかの組成物。
【０００９】
［５］前記化合物（Ａ）が、下式（Ａ１）で表される化合物である、［１］〜［４］のいずれかの組成物。
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−］ａＺ１［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｂ  ・・・（Ａ１）
ただし、Ｌ、Ｒ、ｎおよびｂはそれぞれ前記と同義であり、
Ｒｆ１は、ペルフルオロアルキル基であり、
Ｑは、単結合、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基、または該オキシフルオロアルキレン基の２〜５個が結合してなるポリオキシフルオロアルキレン基であり、該基を構成するオキシフルオロアルキレン基は同一であっても異なっていてもよく、
Ｒｆαは、前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖であり、
Ｚ１は、（ａ＋ｂ）価の連結基であり、
ａは、１以上の整数であり、
ａが２以上のときａ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−］は、同一であっても異なっていてもよく、
ｂが２以上のときｂ個の［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
［６］前記ｂが２または３である、［１］〜［５］のいずれかの組成物。
【００１０】
［７］前記［１］〜［６］のいずれかの組成物と、液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。
［８］前記［１］〜［６］のいずれかの組成物から形成された蒸着膜を有することを特徴とする蒸着膜付き物品。
［９］前記［１］〜［６］のいずれかの組成物を基材上に蒸着することを特徴とする蒸着膜付き物品の製造方法。
［１０］温度が２０〜３００℃、圧力が１×１０−１Ｐａ以下の条件下で前記蒸着を行う、［９］の製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の蒸着用含フッ素エーテル組成物によれば、摩擦耐久性に優れる蒸着膜を形成できる。また、本発明の蒸着膜付き物品およびその製造方法によれば、摩擦耐久性に優れる蒸着膜を有する物品を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】実施例の例１で得られたゲルパーミエーションクロマトグラフィのクロマトグラムである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本明細書において、式（Ａ１）で表される化合物を化合物（Ａ１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。また、式（Ｉ）で表される基を基（Ｉ）と記す。他の式で表される基も同様に記す。
本明細書における以下の用語の意味は、以下の通りである。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を形成し得る基を意味する。
オキシペルフルオロアルキレン基の化学式は、その酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子を意味する。
【００１４】
〔含フッ素エーテル組成物〕
本発明の含フッ素エーテル組成物（以下、本組成物とも記す。）は、化合物（Ａ）と、その部分縮合物（Ｂ）とを含む。
Ｌが水酸基である化合物（Ａ）は、その水酸基の一部が脱水反応することにより、縮合して部分縮合物（Ｂ）となると考えられる。Ｌが加水分解性基である化合物（Ａ）は、その加水分解性基の一部が加水分解して水酸基となり、生成した水酸基が脱水反応することにより、縮合して部分縮合物（Ｂ）となると考えられる。
【００１５】
（化合物（Ａ））
化合物（Ａ）は、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖（以下、化合物（Ａ）中のポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を、鎖αとも記す。）、および基（Ｉ）をｂ個（ただし、ｂは１以上の整数）有する。
−ＳｉＲｎＬ３−ｎ  ・・・（Ｉ）
ただし、Ｌは水酸基または加水分解性基であり、
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基であり、
前記ｂが２以上の整数である場合のｎは０〜２の整数であり、前記ｂが１である場合のｎは０または１であり、
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよく、
ｎが２のときｎ個のＲは、同一であっても異なっていてもよい。
【００１６】
化合物（Ａ）が有する鎖αは１個でもよく２個以上でもよい。摩擦耐久性や潤滑性に優れる点から、１〜３個が好ましい。
化合物（Ａ）が鎖αを２個以上有する場合、各鎖αは同一であっても異なっていてもよい。
【００１７】
化合物（Ａ）が有する基（Ｉ）の数ｂは１でもよく２以上でもよい。ｂが１の場合、ｎは０または１である。これにより、化合物（Ａ）は、１分子あたり前記Ｌで示す基（基Ｌ）を２以上有することができる。
化合物（Ａ）が有する基（Ｉ）の数ｂは、真空蒸着法により基材の表面に形成される膜（以下、蒸着膜とも記す。）の摩擦耐久性がより優れる点から、１〜６が好ましく、１〜４がより好ましく、２〜３が特に好ましい。
化合物（Ａ）が基（Ｉ）を２個以上有する場合、各基（Ｉ）は同一であっても異なっていてもよい。化合物（Ａ）の製造のしやすさの点では、全てが同一の基であることが好ましい。
【００１８】
鎖αの一方の末端には、基（ＩＩ）が結合していることが好ましい。すなわち、化合物（Ａ）は、鎖αの一方の末端に結合した基（ＩＩ）をさらに有することが好ましい。これにより、蒸着膜の潤滑性が優れたものとなる。
Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−  ・・・（ＩＩ）
ただし、Ｒｆ１は、ペルフルオロアルキル基であり、Ｑは、単結合、１個以上の水素原子を含む炭素数２〜１０のオキシフルオロアルキレン基、または該オキシフルオロアルキレン基の２〜５個が結合してなるポリオキシフルオロアルキレン基である。該ポリオキシフルオロアルキレン基を構成するオキシフルオロアルキレン基は、全てが同一であっても異なっていてもよい。
【００１９】
化合物（Ａ）の数平均分子量（Ｍｎ）は、２，０００〜１０，０００が好ましく、２，５００〜８，０００がより好ましく、３，０００〜６，０００が特に好ましい。化合物（Ａ）の数平均分子量が前記範囲の下限値以上であれば、蒸着膜の潤滑性が優れる。化合物（Ａ）の数平均分子量が前記範囲の下限値以上であれば、蒸着膜の摩擦耐久性がより優れる。
数平均分子量（Ｍｎ）は、後述する実施例に記載の測定方法により測定される。
【００２０】
＜ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖＞
鎖αとしては、下式（α１）で表されるものが挙げられる。
（Ｒｆ２Ｏ）ｍ1  ・・・（α１）
ただし、Ｒｆ２はペルフルオロアルキレン基であり、
ｍ１は２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ２Ｏ）ｍ１は炭素数の異なる２種以上のＲｆ２Ｏからなるものであってもよい。
【００２１】
Ｒｆ２は、直鎖構造でも分岐構造でもよいが、蒸着膜の潤滑性がさらに優れる点から、直鎖構造が好ましい。
Ｒｆ２の炭素数は、１〜６が好ましく、蒸着膜の摩擦耐久性および潤滑性がさらに優れる点から、２〜６がより好ましく、２〜４がさらにより好ましく、蒸着膜の潤滑性がさらに優れる点から、２が特に好ましい。
【００２２】
ｍ１は５〜１５０の整数であることが好ましく、１〜１００の整数が特に好ましい。ｍ１が前記範囲の下限値以上であれば、蒸着膜の潤滑性に優れる。ｍ１が前記範囲の上限値以下であれば、蒸着膜の摩擦耐久性に優れる。すなわち、化合物（Ａ）の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量あたりに存在する基（Ｉ）の数が減少し、摩擦耐久性が低下する。
【００２３】
鎖αが炭素数の異なる２種以上のＲｆ２Ｏからなる場合、結合順序は限定されない。各オキシペルフルオロアルキレン基がランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
【００２４】
鎖（α１）の具体的な態様として、以下の（α１−１）〜（α１−８）等が挙げられる。なお、下記式において、｛  ｝は、その中に記載の２種のオキシペルフルオロアルキレン基のそれぞれｍ１１個とｍ１２個がランダムに配置されていることを表す。
（ＣＦ２Ｏ）ｍ０１  ・・・（α１−１）
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝   ・・・（α１−２）
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝   ・・・（α１−３）
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝   ・・・（α１−４）
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝   ・・・（α１−５）
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１３  ・・・（α１−６）
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１４   ・・・（α１−７）
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１５   ・・・（α１−８）
【００２５】
ただし、ｍ０１は２〜２００の整数であり、ｍ１１は１以上の整数であり、ｍ１２は１以上の整数であり、（ｍ１１＋ｍ１２）は２〜２００の整数である。
ｍ０１、（ｍ１１＋ｍ１２）はそれぞれ２〜２００の整数であり、５〜１５０の整数が好ましく、１０〜８０の整数が特に好ましい。
ｍ１１とｍ１２との比（ｍ１１／ｍ１２）は、９９／１〜３０／７０が好ましく、９０／１０〜４０／６０が特に好ましい。
また、ｍ１３およびｍ１４はそれぞれ２〜２００の整数である。ｍ１５は１〜１００の整数であり、３〜７５の整数が好ましく、５〜４０の整数が特に好ましい。
上記のなかでも、（α１−２）〜（α１−４）、（α１−８）が好ましく、（α１−２）、（α１−２）が特に好ましい。
【００２６】
さらに、上記（α１−２）〜（α１−５）および（α１−８）においては、前記式の前または後にさらに１〜４個の（Ｒｆ２Ｏ）が結合していることも好ましい。その場合、前記ｍ１１とｍ１２の合計数はこの（Ｒｆ２Ｏ）の数を加えて２００以下となり、ｍ１５はこの（Ｒｆ２Ｏ）の数を加えて２００以下となる。
上記（Ｒｆ２Ｏ）を有する鎖（α１）の具体的な態様としては、例えば下記の基が挙げられる。
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１５（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）
【００２７】
本組成物において、化合物（Ａ）は、１種の化合物（Ａ）からなる単一化合物であってもよく、２種以上の化合物（Ａ）からなる混合物であってもよい。
本明細書において、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖におけるオキシペルフルオロアルキレン基の繰り返し数の数に分布を有する以外は同一の化合物群である含フッ素エーテル化合物は単一化合物とみなす。
たとえば鎖αが｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝である化合物（Ａ）の場合、ｍ１１とｍ１２に分布を有する以外は同一の化合物群は、単一化合物である含フッ素エーテル化合物とする。
【００２８】
＜基（Ｉ）＞
基（Ｉ）において、Ｌは、水酸基または加水分解性基である。
加水分解性基は、加水分解反応によって水酸基となる基である。すなわち、Ｌが加水分解性基である場合、基（Ｉ）のＳｉ−Ｌは、加水分解反応によってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）となる。
加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）等が挙げられる。アルコキシの炭素数は、１〜４が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が特に好ましい。
【００２９】
Ｌとしては、化合物（Ａ）自体の保存安定性、化合物（Ｂ）自体の保存安定性、化合物（Ａ）から化合物（Ｂ）を製造する反応の調整のしやすさ（例えば、化合物（Ａ）を化合物（Ｂ）に変換する割合や化合物（Ｂ）の縮合度の調整等）等から、加水分解性基であることが好ましい。
Ｌとしては、さらに、化合物（Ａ）の製造のしやすさの点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。蒸着時のアウトガスが少なく、化合物（Ａ）の保存安定性に優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物（Ａ）の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、蒸着後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
【００３０】
Ｒは水素原子または１価の炭化水素基である。
１価の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基等の飽和炭化水素基、アルケニル基、アリール基等が挙げられ、飽和炭化水素基が好ましい。
１価の飽和炭化水素基の炭素数は、化合物（Ａ）が製造しやすい点で、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。
【００３１】
ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。１個の基（Ｉ）にＬが複数存在することによって、基材との接着性がより強固になり、蒸着膜の摩擦耐久性がさらに優れる。
ｎが０または１のとき（３−ｎ）個のＬは、同一であっても異なっていてもよい。たとえば一部のＬが加水分解性基で、残りのＬが水酸基であってもよい。
【００３２】
基（Ｉ）としては、Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、ＳｉＣｌ３、Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、Ｓｉ（ＮＣＯ）３が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、Ｓｉ（ＯＣＨ３）３が特に好ましい。
【００３３】
＜基（ＩＩ）＞
基（ＩＩ）において、Ｒｆ１はペルフルオロアルキル基である。
Ｒｆ１におけるペルフルオロアルキル基の炭素数は、蒸着膜の潤滑性および摩擦耐久性がさらに優れる点から、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜３が特に好ましい。
ペルフルオロアルキル基は分岐状でも直鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。直鎖状のペルフルオロアルキル基として、たとえばＣＦ３−、ＣＦ３ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−等が挙げられる。
【００３４】
Ｑは、単結合、１個以上の水素原子を含む炭素数２〜１０のオキシフルオロアルキレン基、または該オキシフルオロアルキレン基の２〜５個（好ましくは２〜４個）が結合してなるポリオキシフルオロアルキレン基である。ポリオキシフルオロアルキレン基において複数のオキシフルオロアルキレン基は、通常、直列に結合している。
Ｑが水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基または該オキシフルオロアルキレン基の２〜５個が結合してなるポリオキシフルオロアルキレン基であると、化合物（Ａ）の液状媒体への溶解性が高くなる。
【００３５】
オキシフルオロアルキレン基の炭素数は、２〜６が好ましく、２〜４がより好ましく、２または３が特に好ましい。
オキシフルオロアルキレン基における水素原子の数は、蒸着膜の外観に優れる点から、１個以上であり、２個以上が好ましく、３個以上が特に好ましい。オキシフルオロアルキレン基における水素原子の数は、蒸着膜の撥水撥油性にさらに優れる点から、（Ｑの炭素数）×２個以下が好ましく、（Ｑの炭素数）個以下が特に好ましい。
オキシフルオロアルキレン基は、分岐状でも直鎖状でもよく、蒸着膜の潤滑性がさらに優れる点から、直鎖状が好ましい。
【００３６】
ポリオキシフルオロアルキレン基において、２〜５個のオキシフルオロアルキレン基は、全てが同一であっても異なっていてもよい。
Ｑとしては、化合物（Ａ）の製造のしやすさの点から、単結合、または−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−、および−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ−からなる群から選ばれる基（ただし、左側がＲｆ１−Ｏに結合する。）が好ましい。
【００３７】
化合物（Ａ）としては、鎖αおよび基（Ｉ）を有する限り特に限定されない。たとえば以下の文献に記載されるような公知の含フッ素エーテル化合物のなかから適宜選択できる。
特開２０１３−９１０４７号公報、特開２０１４−８０４７３号公報、国際公開第２０１３／０４２７３２号、国際公開第２０１３／０４２７３３号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８５号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１４／１６３００４号、国際公開第２０１４／１７５１２４号、国際公開第２０１５／０８７９０２号、特開２０１３−２２７２７９号公報、特開２０１３−２４１５６９号公報、特開２０１３−２５６６４３号公報、特開２０１４−１５６０９号公報、特開２０１４−３７５４８号公報、特開２０１４−６５８８４号公報、特開２０１４−２１０２５８号公報、特開２０１４−２１８６３９号公報、特開２０１５−２００８８４号公報、特開２０１５−２２１８８８号公報、国際公開第２０１３／１４６１１２号、国際公開第２０１３／１８７４３２号、国際公開第２０１４／０６９５９２号、国際公開第２０１５／０９９０８５号、国際公開第２０１５／１６６７６０号、特開２０１３−１４４７２６号公報、特開２０１４−７７８３６号公報、特開２０１３−１１７０１２号公報、特開２０１４−２１４１９４号公報、特開２０１４−１９８８２２号公報、特開２０１５−１２９２３０号公報、特開２０１５−１９６７２３号公報、特開２０１５−１３９８３号公報、特開２０１５−１９９９１５号公報、特開２０１５−１９９９０６号公報等。
【００３８】
＜化合物（Ａ１）＞
化合物（Ａ）としては、国際公開第２０１４／１６３００４号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、特開２０１５−１９９９０６号公報に記載される含フッ素エーテル化合物、および下記化合物（Ａ１）が好ましい。
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−］ａＺ１［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｂ  ・・・（Ａ１）
ただし、Ｒｆ１、Ｑ、Ｌ、Ｒ、ｎおよびｂはそれぞれ前記と同義であり、
Ｒｆαは、鎖αであり、
Ｚ１は、（ａ＋ｂ）価の連結基であり、
ａは、１以上の整数であり、
ａが２以上のときａ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−］は、同一であっても異なっていてもよく、
ｂが２以上のときｂ個の［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００３９】
Ｒｆ１は前記基（ＩＩ）中のＲｆ１と同様であり、好ましい態様も同様である。
ａが２以上のときａ個のＲｆ１は、炭素数が同一であることが好ましく、製造しやすさの点から、同一の基、すなわち炭素数が同一かつ化学構造が同一の基であることが好ましい。炭素数が同一かつ化学構造が同一の基であるとは、たとえばａが２の場合に、２個のＲｆ１がＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−であるということである（２個のＲｆ１の炭素数が同一であっても化学構造が異なる、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ（ＣＦ３）−の組み合わせではない。）。
【００４０】
Ｑは前記基（ＩＩ）中のＱと同様であり、好ましい態様も同様である。
Ｒｆαの鎖αは前記と同様であり、好ましい態様も同様である。
Ｌは前記基（Ｉ）中のＬと同様であり、好ましい態様も同様である。
Ｒは前記基（Ｉ）中のＲと同様であり、好ましい態様も同様である。
ｎは前記基（Ｉ）中のｎと同様であり、好ましい態様も同様である。
ａの好ましい値はそれぞれ、化合物（Ａ）が有する鎖αの好ましい数と同様である。すなわち、ａはそれぞれ、１〜３の整数が好ましい。
ｂの好ましい値は、化合物（Ａ）が有する基（Ｉ）の好ましい数と同様である。すなわち、ｂは１〜１０の整数が好ましく、２〜５の整数がより好ましく、３〜４の整数が特に好ましい。
【００４１】
Ｚ１としては、たとえば、（ａ＋ｂ）価の置換または無置換の炭化水素基、置換または無置換の炭化水素基の炭素−炭素原子間または／および末端に、炭化水素基以外の基または原子を有する（ａ＋ｂ）価の基、（ａ＋ｂ）価のオルガノポリシロキサン基等が挙げられる。
【００４２】
無置換の炭化水素基としては、たとえば直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基、芳香族炭化水素環式基（たとえばベンゼン環、ナフタレン環等の芳香族炭化水素環から（ａ＋ｂ）個の水素原子を除いた基）、直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基と芳香族炭化水素環式基との組み合わせからなる基（たとえば前記芳香族炭化水素環式基に置換基としてアルキル基が結合した基、前記飽和炭化水素基の炭素原子間または／および末端にフェニレン基等のアリーレン基を有する基等）、２以上の芳香族炭化水素環式基の組み合わせからなる基等が挙げられる。これらの中でも直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基が好ましい。無置換の炭化水素基の炭素数は、２０以下が好ましい。
置換の炭化水素基は、炭化水素基の水素原子の一部または全部が置換基で置換された基である。置換基としては、たとえば水酸基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アミノカルボニル基等が挙げられる。
【００４３】
炭化水素基の炭素−炭素原子間または／および末端に有する炭化水素基以外の基または原子としては、たとえばエーテル性酸素原子（−Ｏ−）、チオエーテル性硫黄原子（−Ｓ−）、窒素原子（−Ｎ＜）、ケイ素原子（＞Ｓｉ＜）、炭素原子（＞Ｃ＜）、−Ｎ（Ｒ１５）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１５）−、−ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１５）−、−Ｓｉ（Ｒ１６）（Ｒ１７）−、オルガノポリシロキサン基、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−等が挙げられる。ただし、Ｒ１５は水素原子、アルキル基またはフェニル基であり、Ｒ１６〜Ｒ１７はそれぞれ独立にアルキル基またはフェニル基である。アルキル基の炭素数は、１〜６が好ましい。
オルガノポリシロキサン基は、直鎖状でもよく、分岐鎖状でもよく、環状でもよい。
【００４４】
＜化合物（Ａ１）の好ましい形態＞
化合物（Ａ１）としては、蒸着膜の摩擦耐久性および指紋汚れ除去性にさらに優れる点から、以下の化合物（Ａ１１）、化合物（Ａ１２）および化合物（Ａ１３）からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
【００４５】
「化合物（Ａ１１）」
化合物（Ａ１１）は、下式（Ａ１１）で表される。
Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−Ｑ３２−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３３）］ｐ１−Ｒ３４−Ｃ［−Ｒ３５−ＳｉＲｎ１Ｌ３−ｎ１］３  ・・・（Ａ１１）
ただし、Ｒｆ１、Ｑ、Ｒｆα、Ｒ、およびＬはそれぞれ前記と同義であり、
Ｑ３２は、炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、または炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基（ただし、一端がエーテル性酸素原子に結合し他端がＲｆαと結合するフルオロアルキレン基がペルフルオロアルキレン基である場合を除く。）であり、
Ｒ３３は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、
ｐ１は、０または１であり、
ｎ１は０〜２の整数であり、
Ｒ３４は、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、該アルキレン基の末端（ただし、Ｃ［−Ｒ３５−ＳｉＲｎＬ３−ｎ１］３と結合する側の末端。）にエーテル性酸素原子を有する基、炭素数２〜６のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または炭素数２〜６のアルキレン基の末端（ただしＣ［−Ｒ３５−ＳｉＲｎＬ３−ｎ１］３と結合する側の末端。）および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Ｒ３５は、炭素数１〜６のアルキレン基、該アルキレン基の末端（ただし、Ｓｉと結合する側の末端を除く。）にエーテル性酸素原子を有する基、または炭素数２〜６のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
３個の［−Ｒ３５−ＳｉＲｎ１Ｌ３−ｎ１］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００４６】
Ｑ３２において、炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基としては、ペルフルオロアルキレン基、または１個以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基が好ましい。フルオロアルキレン基は、表面層の耐摩擦性および潤滑性の点から、直鎖状が好ましい。
炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基としては、たとえば、後述する（ｉｉ）の基が挙げられる。
Ｑ３２としては、炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基、１個以上の水素原子を含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、または１個以上の水素原子を含む炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましい。
【００４７】
Ｒｆαには（ＣＦ２Ｏ）が４個以上含まれ、かつＱ３２中の（ＣＦ２Ｏ）の数は０〜３個であることが好ましい。
ｐ１が０で、Ｒｆαが｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝である場合、Ｑ３２は、典型的には、炭素数１のペルフルオロアルキレン基である。
ｐ１が１の場合、Ｑ３２としては、下記の基が挙げられる。
（ｉ）ペルフルオロアルキレン基。
（ｉｉ）ＲＦＣＨ２Ｏ（ただし、ＲＦは、炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基である。）をＲｆαと結合する側に有し、１個以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基（炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよい。）をＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３３）と結合する側に有する基。
【００４８】
（ｉｉ）のＱ３２としては、化合物（Ａ１１）の製造のしやすさの点から、下記の基が好ましい。
−ＲＦＣＨ２Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＲＦＣＨ２Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、−ＲＦＣＨ２Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＲＦＣＨ２Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−。
Ｑ３２が直鎖状である化合物（Ａ１１）によれば、摩擦耐久性および潤滑性に優れる蒸着膜を形成できる。
【００４９】
［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３３）］ｐ１基におけるｐ１が０と１の場合で、含フッ素エーテル化合物の特性はほとんど変わらない。ｐが１の場合にはアミド結合を有するが、Ｑ３２の［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３３）］と結合する側の末端の炭素原子に少なくとも１個のフッ素原子が結合していることにより、アミド結合の極性は小さくなり、蒸着膜の撥水撥油性が低下しにくい。ｐ１が０か１かは、製造のしやすさの点から選択できる。
［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３３）］ｐ１基中のＲ３３としては、化合物（Ａ１１）の製造のしやすさの点から、水素原子が好ましい。
Ｒ３３がアルキル基の場合、アルキル基としては、炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
【００５０】
ｐ１が０の場合、Ｒ３４としては、化合物（Ａ１１）の製造のしやすさの点から、単結合、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−および−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２−からなる群から選ばれる基（ただし、左側がＱ３２に結合する。）が好ましい。
ｐ１が１の場合、Ｒ３４としては、化合物（Ａ１１）の製造のしやすさの点から、単結合、−ＣＨ２−および−ＣＨ２ＣＨ２−からなる群から選ばれる基が好ましい。
【００５１】
Ｒ３５としては、化合物（Ａ１１）の製造のしやすさの点から、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−からなる群から選ばれる基（ただし、右側がＳｉに結合する。）が好ましい。
Ｒ３５としては、蒸着膜の耐光性に優れる点から、エーテル性酸素原子を有しないものが特に好ましい。屋外使用のタッチパネル（自動販売機、案内板等のデジタルサイネージ）、車載タッチパネル等においては、撥水撥油層に耐光性が求められる。
化合物（Ａ１１）中の３個のＲ３５は、同一であっても異なっていてもよい。
【００５２】
化合物（Ａ１１）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。該化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、蒸着膜の撥水撥油性、摩擦耐久性、指紋汚れ除去性、潤滑性、外観にさらに優れる点から好ましい。
【００５３】
【化１】
2020073711.tif 000002
【００５４】
ただし、これらの式中のＷは、Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−である。Ｗの好ましい形態は、上述した好ましいＲｆ１、ＱおよびＲｆαを組み合わせたものとなる。Ｑ３２の好ましい範囲は上述した通りである。
【００５５】
「化合物（Ａ１２）」
化合物（Ａ１２）は、下式（Ａ１２）で表される。
Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−Ｒ４２−Ｒ４３−Ｎ［−Ｒ４４−ＳｉＲｎ２Ｌ３−ｎ２］２  ・・・（Ａ１２）
ただし、Ｒｆ１、Ｑ、Ｒｆα、Ｒ、およびＬはそれぞれ前記と同義であり、
ｎ２は０〜２の整数であり、
Ｒ４２は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基であり、
Ｒ４３は、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、該アルキレン基の末端（ただし、Ｎと結合する側の末端を除く。）にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基、炭素数２〜６のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基、または炭素数２〜６のアルキレン基の末端（ただし、Ｎと結合する側の末端を除く。）および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基であり、
Ｒ４４は、炭素数１〜６のアルキレン基、または炭素数２〜６のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基であり、
２個の［−Ｒ４４−ＳｉＲｎ２Ｌ３−ｎ２］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００５６】
Ｒ４２は、直鎖状のペルフルオロアルキレン基であることが好ましい。Ｒ４２が直鎖状のペルフルオロアルキレン基であれば、蒸着膜の摩擦耐久性および潤滑性がさらに優れる。
Ｒ４２は、Ｒｆαが｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝である場合、典型的には、炭素数１のペルフルオロアルキレン基である。
【００５７】
Ｒ４３としては、化合物（Ａ１２）の製造のしやすさの点から、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−および−ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−からなる群から選ばれる基（ただし、左側がＲ４２に結合する。）が好ましい。
Ｒ４３は、極性が高くかつ耐薬品性や耐光性が不充分なエステル結合を有しないため、蒸着膜の初期の撥水性、耐薬品性および耐光性に優れる。
【００５８】
Ｒ４４としては、化合物（Ａ１２）の製造のしやすさの点から、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−または−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−（ただし、右側がＳｉに結合する。）が好ましい。
Ｒ４４は、極性が高くかつ耐薬品性や耐光性が不充分なエステル結合を有しないため、蒸着膜の初期の撥水性、耐薬品性および耐光性に優れる。
Ｒ４４としては、蒸着膜の耐光性に優れる点からは、エーテル性酸素原子を有しないものが特に好ましい。
化合物（Ａ１２）中の２個のＲ４４は、同一であっても異なっていてもよい。
【００５９】
化合物（Ａ１２）としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。該化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、撥水撥油性、摩擦耐久性、指紋汚れ除去性、潤滑性、耐薬品性および耐光性にさらに優れる点から好ましい。
【００６０】
【化２】
2020073711.tif 000003
【００６１】
ただし、これらの式中のＷは、Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−である。Ｗの好ましい形態は、上述した好ましいＲｆ１、ＱおよびＲｆαを組み合わせたものとなる。Ｒ４２の好ましい範囲は上述した通りである。
【００６２】
「化合物（Ａ１３）」
化合物（Ａ１３）は、下式（Ａ１３）で表される。
［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−Ｒ５１−Ｒ５２−Ｏ−］ｅＺ３［−Ｏ−Ｒ５３−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｆ  ・・・（Ａ１３）
ただし、Ｒｆ１、Ｑ、Ｒｆα、Ｒ、Ｌおよびｎはそれぞれ前記と同義であり、
Ｒ５１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基であり、
Ｒ５２は、炭素数１〜６のアルキレン基であり、
Ｚ３は、（ｅ＋ｆ）価の炭化水素基、または炭化水素基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を１個以上有する、炭素数２以上で（ｅ＋ｆ）価の基であり、
Ｒ５３は、炭素数１〜２０のアルキレン基であり、
ｅは、１以上の整数であり、
ｆは、１以上の整数であり、
（ｅ＋ｆ）は３以上であり、
ｅが１のときｆは４以上であり、ｅが２以上のときｆは１以上であり、
ｅが２以上のときｅ個の［Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−Ｒ５１−Ｒ５２−Ｏ−］は、同一であっても異なっていてもよく、
ｆが２以上のときｆ個の［−Ｏ−Ｒ５３−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００６３】
Ｒ５１は、たとえばＲｆαが｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１２｝である場合、−ＣＦ２−である。
Ｒ５１は直鎖状が好ましい。Ｒ５１が直鎖状である化合物（Ａ１３）であれば、摩擦耐久性および潤滑性に優れる蒸着膜を形成できる。
【００６４】
Ｒ５２としては、化合物（Ａ１３）の製造のしやすさの点から、炭素数１〜４のアルキレン基が好ましく、−ＣＨ２−が特に好ましい。
【００６５】
Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−Ｒ５１−基としては、蒸着膜の撥水撥油性、摩擦耐久性、指紋汚れ除去性、潤滑性、さらに外観にもさらに優れる点および化合物（Ａ１３）の製造のしやすさの点から、基（Ｒｆ−１）、または基（Ｒｆ−２）が好ましい。
Ｒｆ１１Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ２１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２２｝ＣＦ２−    （Ｒｆ−１）
Ｒｆ１１ＯＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ２１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２２｝ＣＦ２−    （Ｒｆ−２）
ただし、Ｒｆ１１は、炭素数１〜２０で直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、ｍ２１およびｍ２２は、それぞれ１以上の整数であり、ｍ２１＋ｍ２２は、２〜２００の整数であり、ｍ２１個のＣＦ２Ｏおよびｍ２２個のＣＦ２ＣＦ２Ｏの結合順序は限定されない。
【００６６】
Ｚ３としては、（ｅ＋ｆ）個の水酸基を有する多価アルコールから水酸基を除いた残基が挙げられる。
Ｚ３の具体例としては、たとえば、下式の基が挙げられる。Ｚ３としては、水酸基の反応性に優れる点から、１級の水酸基を有する多価アルコールから水酸基を除いた残基が好ましく、原料の入手容易性の点から、基（Ｚ−１）、基（Ｚ−２）、または基（Ｚ−３）が特に好ましい。ただし、Ｒ４は、アルキル基であり、メチル基またはエチル基が好ましい。
【００６７】
【化３】
2020073711.tif 000004
【００６８】
Ｒ５３としては、化合物（Ａ１３）の製造のしやすさの点から、炭素数３〜１４のアルキレン基が好ましい。さらに、後述する化合物（Ａ１３）の製造におけるヒドロシリル化の際に、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）の一部または全部がインナーオレフィン（−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３）に異性化した副生物が生成しにくい点から、炭素数４〜１０のアルキレン基が特に好ましい。
【００６９】
ｅは、１〜１０が好ましく、１〜４が特に好ましい。ｅが前記範囲の下限値以上であれば、蒸着膜の撥水撥油性、摩擦耐久性、指紋汚れ除去性、潤滑性に優れる。ｅが前記範囲の上限値以下であれば、蒸着膜の外観に優れる。
（ｅ＋ｆ）は、３〜１５が好ましく、３〜１２が特に好ましい。
ｅが１のときｆは４以上であり、４〜１０が好ましく、４〜５が特に好ましい。ｅが１のときｆが４以上であれば、蒸着膜の摩擦耐久性が優れる。ｆが前記範囲の上限値以下であれば、蒸着膜の外観、化合物（Ａ１３）の安定性に優れる。
ｅが２以上の整数のときｆは１以上の整数であり、１〜１０の整数が好ましく、１〜４の整数が特に好ましい。ｅが２以上の整数であれば、蒸着膜におけるＲｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−Ｒ５１−Ｒ５２−Ｏ−基の密度が高くなり、蒸着膜の潤滑性に優れるため、蒸着膜に摩擦力が加わりにくい。そのため、ｆが１であっても、蒸着膜の摩擦耐久性に優れる。ｆが前記範囲の上限値以下であれば、蒸着膜の外観、化合物（Ａ１３）の安定性に優れる。
【００７０】
化合物（Ａ１３）としては、たとえば、下式の化合物（１−１）〜（１−６）が挙げられる。該化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、蒸着膜の撥水撥油性、摩擦耐久性、指紋汚れ除去性、潤滑性、外観にさらに優れる点から好ましい。
【００７１】
【化４】
2020073711.tif 000005
【００７２】
ただし、これらの式中のＷは、Ｒｆ１−Ｏ−Ｑ−Ｒｆα−である。Ｗの好ましい形態は、上述した好ましいＲｆ１、ＱおよびＲｆαを組み合わせたものとなる。Ｒ５１の好ましい形態は上述した通りである。
【００７３】
（部分縮合物（Ｂ））
部分縮合物（Ｂ）は、化合物（Ａ）の部分縮合物である。すなわち、化合物（Ａ）が有する基（Ｉ）の加水分解性基の一部が分解して生成した水酸基または基（Ｉ）が有する水酸基同士が、脱水縮合反応することにより生成する多量体である。
【００７４】
部分縮合物（Ｂ）の数平均分子量（Ｍｎ）は、４，０００〜３０，０００が好ましく、５，０００〜２５，０００がより好ましく、６，０００〜２０，０００が特に好ましい。部分縮合物（Ｂ）の数平均分子量が前記範囲の下限値以上であれば、摩擦耐久性に優れる。部分縮合物（Ｂ）の数平均分子量が前記範囲の上限値以下であれば、蒸気圧が低くなりすぎない。
部分縮合物（Ｂ）は、化合物（Ａ）が２〜４個結合したものが好ましく、２〜３個結合したものがより好ましい。結合する化合物（Ａ）の数が前記範囲の下限値以上であれば、蒸着により、化合物（Ａ）の層の上に部分縮合物（Ｂ）の層を形成できるので好ましい。結合する化合物（Ａ）の数が前記範囲の上限値以下であれば、蒸気圧が低くなりすぎない。
【００７５】
化合物（Ａ）が基Ｌを１個以上有しているので、部分縮合物（Ｂ）中には、基Ｌが１個以上、通常２個以上存在している。部分縮合物（Ｂ）は、１分子あたり基Ｌを１〜１２個有することが好ましく、２〜９個有することがより好ましい。
部分縮合物（Ｂ）は、全ての分子が基Ｌを１個以上有していることが好ましい。
部分縮合物（Ｂ）における基Ｌの数が前記範囲の下限値以上であることにより、蒸着により、化合物（Ａ）の層の上に部分縮合物（Ｂ）の層を形成した際、２つの層の密着性が高くなるので好ましい。また部分縮合物（Ｂ）における基Ｌの数が前記範囲の上限値以下であることにより、防汚性に優れる。
【００７６】
（他の含フッ素エーテル化合物）
本組成物は、化合物（Ａ）および部分縮合物（Ｂ）からなるものでもよく、化合物（Ａ）および部分縮合物（Ｂ）以外の他の含フッ素エーテル化合物をさらに含むものでもよい。
他の含フッ素エーテル化合物としては、たとえば、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、基（Ｉ）を有しない含フッ素エーテル化合物（以下、化合物（Ｃ）とも記す。）が挙げられる。
【００７７】
化合物（Ｃ）としては、たとえば化合物（Ｃ１）が挙げられる。
Ａ３１−Ｏ−Ｑ５１−（ＲＦ３Ｏ）ｍ３０−［Ｑ５２−Ｏ］ｐ３−Ａ３２  ・・・（Ｃ１）
ただし、Ａ３１およびＡ３２は、それぞれ独立に炭素数１〜２０のペルフルオロアルキル基であり、Ｑ５１は、単結合、１個以上の水素原子を含む炭素数２〜１０のオキシフルオロアルキレン基、または該オキシフルオロアルキレンの２〜５個（好ましくは２〜４個）が結合してなるポリオキシフルオロアルキレン基であり、Ｑ５２は、１個以上の水素原子を含む炭素数１〜１０のフルオロアルキレン基、または１個以上の水素原子を含む炭素数２〜１０のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基（ただし、酸素数は１０以下である。）であり、ＲＦ３は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基であり、ｍ３０は、２〜２００の整数であり、（ＲＦ３Ｏ）ｍ３０は、炭素数の異なる２種以上のＲＦ３Ｏからなるものであってもよく、ｐ３は、Ｑ５１が単結合の場合は０であり、Ｑ５１が単結合以外の場合は１である。
【００７８】
化合物（Ｃ１）は、公知の製造方法により製造したものを用いてもよく、市販品を用いてもよい。
たとえば、Ｑ５１が単結合であり、ｐ３が０である化合物（Ｃ１）としては、ＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）Ｍ、ＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）Ｙ、ＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）Ｚ（以上、ソルベイソレクシス社製）、Ｋｒｙｔｏｘ（登録商標）（デュポン社製）、デムナム（登録商標）（ダイキン工業社製）等が挙げられる。
【００７９】
（本組成物の組成）
本組成物において、化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する部分縮合物（Ｂ）の割合は４〜４０質量％である。化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する部分縮合物（Ｂ）の割合は摩擦耐久性に優れる蒸着膜を得られる点から、５〜３５質量％が好ましく、２０〜３２質量％が特に好ましい。
なお、本発明において、化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する部分縮合物（Ｂ）の割合は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により、ガウス分布を仮定したピークフィッティングより求めた。すなわち１つ目のピークを化合物（Ａ）によるものとみなし、２つ目以降のピークを部分縮合物（Ｂ）によるものとみなした［（ピーク２の面積）／（ピーク１の面積＋ピーク２の面積）］の値である。
【００８０】
本組成物において、化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量は、本組成物の総質量に対し、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上が特に好ましい。上限は特に限定されず、１００質量％であってもよい。
【００８１】
本組成物は、加水分解および脱水縮合のための触媒を含んでいてもよい。触媒としては、任意の酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸等が挙げられる。塩基触媒としては、アンモニア、有機アミン等が挙げられる。
【００８２】
本組成物は、化合物（Ａ）、部分縮合物（Ｂ）、他の含フッ素エーテル化合物、および触媒以外の不純物を含んでいてもよい。化合物（Ａ）、部分縮合物（Ｂ）および他の含フッ素エーテル化合物以外の不純物としては、化合物（Ａ）、部分縮合物（Ｂ）および他の含フッ素エーテル化合物の製造上不可避の化合物等が挙げられる。
なお、本組成物は後述する液状媒体を含まない。
【００８３】
（本組成物の製造方法）
本組成物は、Ｌが水酸基である化合物（Ａ）の一部を縮合反応させることによって製造でき、Ｌが加水分解性基である化合物（Ａ）の一部を部分加水分解および縮合反応させることによって製造できる。
化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する部分縮合物（Ｂ）の割合を調整するには、水分添加量を調整すればよい。水分添加量を多くすると部分縮合物（Ｂ）の割合を高くでき、水分添加量を少なくすると部分縮合物（Ｂ）の割合を低くすることができる。
【００８４】
化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する部分縮合物（Ｂ）の割合は、部分縮合物（Ｂ）の割合が異なる二種類の組成物を、適切な混合比で混合することによっても調整できる。たとえば、化合物（Ａ）を主成分とする組成物と部分縮合物（Ｂ）を主成分とする組成物を混合することにより、部分縮合物（Ｂ）の割合を調整できる。
【００８５】
〔コーティング液〕
本発明のコーティング液（以下、本コーティング液とも記す。）は、本組成物と液状媒体とを含む。本コーティング液は、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
本組成物の濃度は、本コーティング液中、５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が特に好ましい。
【００８６】
液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒でも非フッ素系有機溶媒でもよく、両溶媒を含んでもよい。
フッ素系有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
液状媒体の含有量は、本コーティング液中、７０〜９５質量％が好ましく、７５〜９０質量％が特に好ましい。
【００８７】
〔物品〕
本発明の物品は、本組成物から形成された蒸着膜を基材の表面に有する。
【００８８】
（基材）
本発明における基材は、潤滑性や撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の材料としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材の表面にはＳｉＯ２膜等の下地膜が形成されていてもよい。
基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材が好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材は、透光性を有する。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ  ９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であることを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。
【００８９】
（蒸着膜）
本発明の蒸着膜は、化合物（Ａ）を主成分とする下層（基材側）と、部分縮合物（Ｂ）を主成分とする上層の二層構成となっている。蒸着時に、分子量の小さい化合物（Ａ）の方が、先に蒸発して基材に付着するからである。
蒸着膜全体の厚さは、１〜２０ｎｍが好ましく、３〜１５ｎｍが特に好ましい。蒸着膜の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。蒸着膜の厚さが前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。蒸着膜の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＲＩＧＡＫＵ社製、ＡＴＸ−Ｇ）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、該干渉パターンの振動周期から算出できる。
【００９０】
（物品の製造方法）
本発明の物品は、本組成物または本コーティング液を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して得ることができる。本組成物は、ドライコーティング法によって密着性に優れた蒸着膜を形成するのに好適である。
本組成物または本コーティング液は、ドライコーティング法にそのまま用いることができる。あるいは、鉄や鋼等の金属多孔体に本組成物を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着してもよい。
ドライコーティング法としては、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法等が挙げられる。化合物（Ａ）および部分縮合物（Ｂ）の分解を抑える点、および装置の簡便さの点から、真空蒸着法が特に好ましい。
真空蒸着法としては、抵抗加熱法、高周波加熱法、電子ビーム法、イオンビーム法等が挙げられる。
【００９１】
真空蒸着の際の温度は、２０〜３００℃が好ましく、３０〜２００℃が特に好ましい。
真空蒸着の際の圧力は、１×１０−１Ｐａ以下が好ましく、１×１０−２Ｐａ以下が特に好ましい。
加熱開始から蒸着完了までの蒸着時間は、３０〜５００秒が好ましく、５０〜３００秒が特に好ましい。蒸着時間が前記範囲の下限値以上であれば、化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）が段階的に蒸発するので好ましい。蒸着速度が前記範囲の上限値以下であれば、化合物（Ａ）の熱分解が起こりにくい。
【００９２】
本組成物を蒸着すると１秒あたりに蒸着される膜厚のプロファイルが少なくとも２つのピークを示す。これは、本組成物に含まれる化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との分子量が異なり、異なる蒸気圧を示すことによる。ピークの内、最初に現れるピークは、化合物（Ａ）を主成分とし、２つ目以降のピークは、部分縮合物（Ｂ）を主成分とする。
【００９３】
＜後処理＞
蒸着膜の摩擦耐久性を向上させるために、必要に応じて、化合物（Ａ）および部分縮合物（Ｂ）と基材との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。
たとえば、水分を有する大気中で蒸着膜が形成された基材を加熱して、加水分解性シリル基のシラノール基への加水分解反応、基材の表面の水酸基等とシラノール基との反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、等の反応を促進できる。
表面処理後、蒸着膜中の化合物であって他の化合物や基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、たとえば、蒸着膜に溶媒をかけ流す方法、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法等が挙げられる。
【００９４】
〔作用効果〕
本組成物にあっては、化合物（Ａ）および部分縮合物（Ｂ）を特定の割合で含むため、摩擦耐久性に優れる蒸着膜を形成できる。
まず、蒸着の際、先に蒸発して基材に接する層を形成する化合物（Ａ）は、基（Ｉ）における基Ｌを充分な量有している。基Ｌが加水分解性基である場合には、加水分解によりシラノール基が形成され、該シラノール基が基材の表面の水酸基と脱水縮合して化学結合が形成される。基Ｌが水酸基の場合には、そのシラノール基が基材の表面の水酸基と脱水縮合して化学結合が形成される。したがって、蒸着膜は、基材と強固に結合できる。
【００９５】
蒸着の際、後から蒸発して最表層を形成する部分縮合物（Ｂ）は分子量が大きいため緻密な硬い層を形成できる。すなわち、蒸着膜の表面強度を高められる。部分縮合物（Ｂ）にも化合物（Ａ）に由来する基Ｌが残存するため、化合物（Ａ）の基Ｌと脱水縮合して化学結合するので、化合物（Ａ）から形成される層と部分縮合物（Ｂ）から形成される層との間の密着性にも優れる。
本組成物による蒸着膜は、高い表面強度と密着性とを有するため摩擦耐久性に優れる。
【実施例】
【００９６】
以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。以下、「％」は特に断りのない限り「質量％」である。なお、例２〜６、９および１０が実施例であり、例１、７、８および１１が比較例である。
【００９７】
〔評価〕
（数平均分子量）
含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、下記条件によるＧＰＣによって測定した。
装置：ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ（東ソー社製）。
移動相：Ｒ−２２５（旭硝子社製、アサヒクリンＡＫ−２２５ＳＥＣグレード１）およびヘキサフルオロイソプロピルアルコールの混合溶媒（Ｒ−２２５：ヘキサフルオロイソプロピルアルコール＝９０：１０（体積比））。
分析カラム：ＫＦ８０６Ｌ（昭和電工社製）。
分子量測定用標準試料：Ｍｗ／Ｍｎが１．１未満で、Ｍｎが２，０００〜１０，０００のペルフルオロポリエーテル３種。
移動相流速：１．０ｍＬ／分。
サンプル濃度：１０ｍｇ／ｍＬ。
カラム温度：３７℃。
検出器：蒸発光散乱検出器。
【００９８】
（組成）
化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する部分縮合物（Ｂ）の割合は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により、ガウス分布を仮定したピークフィッティングより求めた。すなわち１つ目のピークを化合物（Ａ）によるものとみなし、２つ目以降のピークを部分縮合物（Ｂ）によるものとみなした［（ピーク２の面積）／（ピーク１の面積＋ピーク２の面積）］から求めた。ピークフィッティングには、Ｉｇｏｒ  Ｐｒｏ（Ｗａｖｅ  Ｍｅｔｒｉｃｓ社製）を用いた。例１のＧＰＣのクロマトグラムを図１に示す。図１において、横軸は分子量対数を表し、縦軸は濃度分率を分子量の対数値で微分した値を表す。
組成物全体に対する化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量の割合は、蒸着用組成物を２０℃２００Ｐａで乾燥し、液状媒体等の低揮発成分を除き求めた。
【００９９】
＜摩擦耐久性＞
蒸着膜の表面に置いた約２μＬの蒸留水の接触角（水接触角）を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ−７０１）を用いて２０℃で測定した。蒸着膜の表面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出し、初期接触角とした。接触角の算出には２θ法を用いた。
【０１００】
その後、ＪＩＳ  Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ  １０５−Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で５千回往復させ、５千回往復後の水接触角（摩擦後の接触角）を、初期接触角と同様にして調べた。
初期接触角と摩擦後の接触角との差（接触角の差）を求め、摩擦耐久性を評価した。接触角の差が小さい程、摩擦耐久性に優れる。
【０１０１】
［組成物（１）の調製］
３００ｍＬの３つ口フラスコに、２４％ＫＯＨ水溶液の２４．４ｇ、ｔｅｒｔ−ブチルアルコールの３３ｇ、化合物（１）（ソルベイソレクシス社製、ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ（登録商標）Ｄ４０００）の２２０ｇを入れ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２（東京化成工業社製）の１９．４ｇを加えた。窒素雰囲気下、６０℃で８時間撹拌した。希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、粗生成物の２３３ｇを得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに展開して分取した。展開溶媒としては、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（旭硝子社製、ＡＣ−６０００）、ＡＣ−６０００／ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（旭硝子社製、ＡＥ−３０００）＝１／２（質量比）、ＡＥ−３０００／酢酸エチル＝９／１（質量比）を順に用いた。各フラクションについて、末端基の構造および構成単位の単位数（ｘ１、ｘ２）の平均値を１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。粗生成物中には化合物（２）、化合物（３）および化合物（１）がそれぞれ、４２モル％、４９モル％および９モル％含まれていたことがわかった。化合物（２）の９８．６ｇ（収率：４４．８％）および化合物（３）の５１．９ｇ（収率：２３．６％）が得られた。
ＨＯ−ＣＨ２−（ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（１）
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２−（ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（２）
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２−（ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（３）
式（１）〜（３）中の単位数ｘ１：平均値２１、単位数ｘ２：平均値２０。化合物（２）の数平均分子量：４，１５０、化合物（３）の数平均分子量：４，４２０。
【０１０２】
１００ｍＬのナスフラスコに、化合物（２）の３０．０ｇ、フッ化ナトリウム粉末の０．９ｇ、ジクロロペンタフルオロプロパン（旭硝子社製、ＡＫ−２２５）の３０ｇを入れ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦの３．５ｇを加えた。窒素雰囲気下、５０℃で２４時間撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦおよびＡＫ−２２５を減圧留去した。得られた粗生成物をＣ６Ｆ１３Ｈ（旭硝子社製、ＡＣ−２０００）で希釈し、シリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、化合物（４）の３１．８ｇ（収率９８．８％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２−（ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−ＣＨ２−ＯＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（４）
単位数ｘ１の平均値：２１、単位数ｘ２の平均値：２０、化合物（４）の数平均分子量：４，４６０。
【０１０３】
１Ｌのニッケル製オートクレーブのガス出口に、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層および０℃に保持した冷却器を直列に設置した。０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＣｌＣＦ２ＣＦＣｌＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｃｌ（以下、ＣＦＥ−４１９とも記す。）の７５０ｇを入れ、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、化合物（４）の３１．０ｇをＣＦＥ−４１９の１２４ｇに溶解した溶液を、４．３時間かけて注入した。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、ＣＦＥ−４１９中に０．０５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の４ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。１５分間撹拌した後、再びベンゼン溶液の４ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに３回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．１７ｇであった。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、化合物（５）の３１．１ｇ（収率９８．５％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−ＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（５）
単位数ｘ１の平均値：２１、単位数ｘ２の平均値：２０、化合物（５）の数平均分子量：４，５５０。
【０１０４】
テトラフルオロエチレン−ペルフルオロ（アルコキシビニルエーテル）共重合体（以下、ＰＦＡとも記す。）製丸底フラスコに、化合物（５）の３０．０ｇおよびＡＫ−２２５の６０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの２．０ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。窒素でバブリングしながら１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、化合物（６）の２７．６ｇ（収率９８．８％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−ＣＯＯＣＨ３  ・・・（６）
単位数ｘ１の平均値：２１、単位数ｘ２の平均値：２０、化合物（６）の数平均分子量：４，２３０。
【０１０５】
１００ｍＬの３つ口ナスフラスコ内にて、塩化リチウムの０．１８ｇをエタノールの１８．３ｇに溶解させた。これに化合物（６）の２５．０ｇを加えて氷浴で冷却しながら、水素化ホウ素ナトリウムの０．７５ｇをエタノールの２２．５ｇに溶解した溶液をゆっくり滴下した。氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。ＡＣ−２０００の２０ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物（７）の２４．６ｇ（収率９９．０％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（７）
単位数ｘ１の平均値：２１、単位数ｘ２の平均値：２０、化合物（７）の数平均分子量：４，２００。
【０１０６】
１００ｍＬの２つ口ナスフラスコに、化合物（７）の２０．０ｇ、硫酸水素テトラブチルアンモニウムの０．２１ｇ、ＢｒＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２の１．７６ｇおよび３０％水酸化ナトリウム水溶液の２．６ｇを加え、６０℃で８時間撹拌した。反応終了後、ＡＣ−２０００の２０ｇを加え、希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、化合物（８）の１９．８ｇ（収率９８．２％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（８）
単位数ｘ１の平均値：２１、単位数ｘ２の平均値：２０、化合物（８）の数平均分子量：４，２５０。
【０１０７】
１００ｍＬのＰＦＡ製ナスフラスコに、化合物（８）の５．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．００５ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ３）３の０．２５ｇ、ジメチルスルホキシドの０．００５ｇおよび１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の０．２０ｇを入れ、４０℃で４時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物（８）の１個のアリル基がヒドロシリル化された化合物（９）および化合物（８）の１個のアリル基がインナーオレフィン（−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３）に異性化した副生物からなる組成物（１）の４．９ｇ（収率９５％）を得た。ヒドロシリル化の転化率は１００％であり、化合物（８）は残存していなかった。ヒドロシリル化の選択率は９５％であった。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（９）
【０１０８】
化合物（９）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７（６Ｈ）、１．７（６Ｈ）、３．６（１１Ｈ）、３．８（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：Ｃ６Ｆ６）  δ（ｐｐｍ）：−５２．４〜−５５．８（４２Ｆ）、−７８．２（１Ｆ）、−８０．２（１Ｆ）、−８２．２（３Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（９０Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）。
単位数ｘ１の平均値：２１、単位数ｘ２の平均値：２０、化合物（９）の数平均分子量：４，３７０。
【０１０９】
〔組成物（２）の調製〕
２０ｍＬのスクリュー管に、脱水処理をして水分量を１０ｐｐｍまで低下させたＨＦＥ７２００（ハイドロフルオロエーテル、製品名ノベック−７２００、３Ｍ社製）の８ｇ、組成物（１）の２ｇを入れ、室温で１時間攪拌し、組成物（２）を得た。
組成物（２）をＧＰＣで分析したところ、化合物（Ａ）の数平均分子量は４，６５０、部分縮合物（Ｂ）の数平均分子量は９，２３０、化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する部分縮合物（Ｂ）の割合は、２質量％であった。
【０１１０】
〔組成物（３）の調製〕
０．５ＬのＳＵＳ製オートクレーブに、ＨＦＥ７２００の２００ｇ、蒸留水の１０ｇを入れ、８０℃に加温して３時間攪拌した。その後、ＨＦＥ７２００に不溶な水分を除去して、カールフィッシャー法により測定したところ、ＨＦＥ７２００に溶解している水分量は、８０ｐｐｍであった。
０．５ＬのＳＵＳ製オートクレーブに、上記水を溶解させたＨＦＥ７２００の１６ｇ、組成物（１）の４ｇ、ジエチルアミンの０．４ｍｇを入れ、６０℃で２４時間攪拌して、組成物（３）を得た。
組成物（３）をＧＰＣで分析したところ、化合物（Ａ）の数平均分子量は４，７５０、部分縮合物（Ｂ）の数平均分子量は１２，０３０、化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する部分縮合物（Ｂ）の割合は、４２質量％であった。
【０１１１】
〔ドライコーティング〕
組成物（２）と組成物（３）とを、表１に示す質量比で混合して組成物を調製した。この組成物を用いて、ドライコーティング法により、基材の表面処理を行い、各例の物品を得た。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、摩擦耐久性を評価した。結果を表１に示す。
【０１１２】
ドライコーティングは、真空蒸着装置（昭和真空社製、ＳＧＣ−２２ＷＡ）を用いて行った（真空蒸着法）。組成物の３５ｍｇを真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を５×１０−３Ｐａ以下に排気した。組成物を配置したボートを加熱し、組成物を基材の表面に堆積することによって、基材の表面に蒸着膜を形成した。蒸着膜が形成された基材を、温度：２５℃、湿度：４０％の条件で一晩放置し、基材の表面に蒸着膜を有する物品を得た。
【０１１３】
【表１】
2020073711.tif 000006
【０１１４】
化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する部分縮合物（Ｂ）の割合が４〜４０質量％である例２〜６では、接触角の差が小さく、高い摩擦耐久性が得られることが確認できた。特に、部分縮合物（Ｂ）の割合が２５質量％である例４と３０質量％である例５の摩擦耐久性が高かった。
一方、化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する部分縮合物（Ｂ）の割合が４質量％未満の例１と４０質量％超の例７では、摩擦耐久性が不充分だった。
【０１１５】
〔組成物（４）の調製〕
国際公開第２０１３／１２１９８４号の実施例６に記載の方法にしたがい、化合物（１０）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（１０）
化合物（１０）：単位数ｘ３の平均値１３、数平均分子量４，７００。
５０ｍＬのナスフラスコに、化合物（１０）の９．０ｇおよびＨ２Ｎ−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３の０．４５ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、化合物（１０）がすべて化合物（１１）に変換していることを確認した。また、副生物であるメタノールが生成していた。得られた溶液をＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（旭硝子社製、ＡＥ−３０００）の９．０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＥ−３０００）で精製し、化合物（１１）の７．６ｇ（収率８４％）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３  ・・・（１１）
化合物（１１）：単位数ｘ３の平均値１３、数平均分子量４，８００。
【０１１６】
１０ｍＬのＰＦＡ製サンプル管に、化合物（１１）の６．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．０７ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ３）３の０．７８ｇ、ジメチルスルホキシドの０．０２ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の０．４９ｇを入れ、４０℃で１０時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、１．０μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物（１２）の６．７ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］３  ・・・（１２）
【０１１７】
化合物（１２）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．８（６Ｈ）、１．３〜１．６（１２Ｈ）、３．４（２Ｈ）、３．７（２７Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５５．２（３Ｆ）、−８２．１（５４Ｆ）、−８８．１（５４Ｆ）、−９０．２（２Ｆ）、−１１９．４（２Ｆ）、−１２５．４（５２Ｆ）、−１２６．２（２Ｆ）。
単位数ｘ３の平均値：１３、化合物（１２）の数平均分子量：５，１００。
【０１１８】
〔組成物（５）の調製〕
２０ｍＬのスクリュー管に、脱水処理をして水分量を１０ｐｐｍまで低下させたＨＦＥ７２００（ハイドロフルオロエーテル、製品名ノベック−７２００、３Ｍ社製）の８ｇ、組成物（４）の２ｇを入れ、室温で１時間攪拌し、組成物（５）を得た。
組成物（５）をＧＰＣで分析したところ、化合物（Ａ１）の数平均分子量は４，７３０、縮合物（Ｂ１）の数平均分子量は９，９３０、化合物（Ａ１）と縮合物（Ｂ１）との合計量に対する縮合物（Ｂ１）の割合は、３質量％であった。
【０１１９】
〔組成物（６）の調製〕
０．５ＬのＳＵＳ製オートクレーブに、ＨＦＥ７２００の２００ｇ、蒸留水の１０ｇを入れ、８０℃に加温して３時間攪拌した。その後、ＨＦＥ７２００に不溶な水分を除去して、カールフィッシャー法により測定したところ、ＨＦＥ７２００に溶解している水分量は、８５ｐｐｍであった。
０．５ＬのＳＵＳ製オートクレーブに、上記水を溶解させたＨＦＥ７２００の１６ｇ、組成物（４）の４ｇ、ジエチルアミンの０．１ｍｇを入れ、６０℃で２４時間攪拌して、組成物（６）を得た。
組成物（６）をＧＰＣで分析したところ、化合物（Ａ）の数平均分子量は４，６８０、部分縮合物（Ｂ）の数平均分子量は１３，４９０、化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する部分縮合物（Ｂ）の割合は、５７質量％であった。
【０１２０】
〔ドライコーティング〕
組成物（５）と組成物（６）とを、表２に示す質量比で混合して組成物を調製した。この組成物を用いて、前記真空蒸着装置（昭和真空社製、ＳＧＣ−２２ＷＡ）を用いた真空蒸着法と同じ条件でドライコーティングを行い、基材の表面処理を行い、各例の物品を得た。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、摩擦耐久性を評価した。結果を表２に示す。
【０１２１】
【表２】
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【０１２２】
化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する部分縮合物（Ｂ）の割合が４〜４０質量％である例９〜１０では、接触角の差が小さく、高い摩擦耐久性が得られることが確認できた。
一方、化合物（Ａ）と部分縮合物（Ｂ）との合計量に対する部分縮合物（Ｂ）の割合が４質量％未満の例８と４０質量％超の例１１では、摩擦耐久性が不充分だった。
【産業上の利用可能性】
【０１２３】
本組成物は、撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえばタッチパネル等の表示入力装置、透明なガラス製または透明なプラスチック製（アクリル、ポリカーボネート等）部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート、電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート、トイレタリー用防汚コート、導通しながら撥液が必要な部材へのコート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。
より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話、携帯情報端末等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等人の指あるいは手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材、配線板用防水コーティング熱交換機の撥水・防水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車部品、工具等の表面保護コート等が挙げられる。
なお、２０１７年０６月０２日に出願された日本特許出願２０１７−１１０１４１号の明細書、特許請求の範囲、要約書および図面の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【図１】
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