(57)【要約】【課題】柱状部の上部側から漏れる光の量を低減することができる発光装置を提供する。【解決手段】基体と、前記基体に設けられ、複数の第１柱状部および複数の第２柱状部を有する積層体と、第１電極および第２電極と、を有し、前記第１柱状部は、第１半導体層と、前記第１半導体層とは導電型の異なる第２半導体層と、前記第１半導体層と前記第２半導体層との間に設けられた発光層と、を有し、前記発光層で発生した光は、複数の前記第１柱状部、および複数の前記第２柱状部を伝搬し、前記第２柱状部の高さは、前記第１半導体層の厚さと前記発光層との和以上であり、かつ、前記第１柱状部の高さよりも低く、前記第１半導体層は、前記基体と前記発光層との間に設けられ、前記第１電極は、前記第１半導体層と電気的に接続され、前記第２電極は、前記第２半導体層と電気的に接続され、前記第２柱状部は、前記第２電極と電気的に接続されていない、発光装置。【選択図】図１
2020161622.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、
前記基体に設けられ、複数の第１柱状部および複数の第２柱状部を有する積層体と、
第１電極および第２電極と、
を有し、
前記第１柱状部および前記第２柱状部は、前記積層体の積層方向と直交する方向に配置され、
前記第１柱状部は、
第１半導体層と、
前記第１半導体層とは導電型の異なる第２半導体層と、
前記第１半導体層と前記第２半導体層との間に設けられた発光層と、
を有し、
前記発光層で発生した光は、複数の前記第１柱状部、および複数の前記第２柱状部を伝搬し、
前記第２柱状部の高さは、前記第１半導体層の厚さと前記発光層との和以上であり、かつ、前記第１柱状部の高さよりも低く、
前記第１半導体層は、前記基体と前記発光層との間に設けられ、
前記第１電極は、前記第１半導体層と電気的に接続され、
前記第２電極は、前記第２半導体層と電気的に接続され、
前記第２柱状部は、前記第２電極と電気的に接続されていない、発光装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第２柱状部の径は、前記第１柱状部の径よりも小さい、発光装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記第１柱状部と前記第２柱状部との間に設けられ、前記第１半導体層および前記第２半導体層よりも屈折率の小さい光伝搬層を有する、発光装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記第２柱状部と前記第２電極との間には、前記光伝搬層が設けられている、発光装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項において、
前記第１柱状部の層構造と、前記第２柱状部の層構造とは、同じである、発光装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の発光装置を有する、プロジェクター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置およびプロジェクターに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体レーザーは、高輝度の次世代光源として期待されている。特に、ナノコラム、ナノワイヤー、ナノロッド、ナノピラーなどと呼ばれるナノ構造を有する半導体レーザーは、フォトニック結晶の効果によって、狭放射角で高出力の発光が得られる発光装置が実現できると期待されている。
【０００３】
特許文献１には、ｎ型クラッド層を含むｎ型半導体層と、活性層と、ｐ型クラッド層を含むｐ型半導体層と、からなるナノコラムを備えた半導体発光素子が開示されている。ｐ型半導体層上には、Ｎｉ／Ａｕ多層膜等からなるｐ側電極が設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１０／０２３９２１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のようなナノコラムを有する発光装置では、発光層とクラッド層との格子定数差などの制約から、発光層とクラッド層との屈折率差を大きくできない場合がある。発光層とクラッド層との屈折率差が小さいと、活性層で発生した光がｐ型半導体層側に漏れて、ｐ側電極に吸収されてしまう場合がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る発光装置の一態様は、
基体と、
前記基体に設けられ、複数の第１柱状部および複数の第２柱状部を有する積層体と、
第１電極および第２電極と、
を有し、
前記第１柱状部および前記第２柱状部は、前記積層体の積層方向と直交する方向に配置され、
前記第１柱状部は、
第１半導体層と、
前記第１半導体層とは導電型の異なる第２半導体層と、
前記第１半導体層と前記第２半導体層との間に設けられた発光層と、
を有し、
前記発光層で発生した光は、複数の前記第１柱状部、および複数の前記第２柱状部を伝搬し、
前記第２柱状部の高さは、前記第１半導体層の厚さと前記発光層との和以上であり、かつ、前記第１柱状部の高さよりも低く、
前記第１半導体層は、前記基体と前記発光層との間に設けられ、
前記第１電極は、前記第１半導体層と電気的に接続され、
前記第２電極は、前記第２半導体層と電気的に接続され、
前記第２柱状部は、前記第２電極と電気的に接続されていない。
【０００７】
本発明に係る発光装置の一態様において、
前記第２柱状部の径は、前記第１柱状部の径よりも小さくてもよい。
【０００８】
本発明に係る発光装置の一態様において、
前記第１柱状部と前記第２柱状部との間に設けられ、前記第１半導体層および前記第２半導体層よりも屈折率の小さい光伝搬層を有してもよい。
【０００９】
本発明に係る発光装置の一態様において、
前記第２柱状部と前記第２電極との間には、前記光伝搬層が設けられていてもよい。
【００１０】
本発明に係る発光装置の一態様において、
前記第１柱状部の層構造と、前記第２柱状部の層構造とは、同じであってもよい。
【００１１】
本発明に係るプロジェクターの一態様は、
前記発光装置の一態様を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】第１実施形態に係る発光装置を模式的に示す断面図。
【図２】第１実施形態に係る発光装置を模式的に示す平面図。
【図３】積層体の積層方向の平均屈折率の分布を示すグラフ。
【図４】光閉じ込めモードの電界強度分布の一例を模式的に示す図。
【図５】光閉じ込めモードの電界強度分布の一例を模式的に示す図。
【図６】第１実施形態に係る発光装置の製造工程を模式的に示す断面図。
【図７】第１実施形態に係る発光装置の製造工程を模式的に示す断面図。
【図８】第１実施形態に係る発光装置の製造工程を模式的に示す断面図。
【図９】第１柱状部の第１半導体層および第２柱状部の第１半導体層のＳＥＭ像。
【図１０】第１柱状部の第１半導体層および第２柱状部の第１半導体層のＳＥＭ像。
【図１１】第１変形例に係る発光装置を模式的に示す断面図。
【図１２】第２実施形態に係るプロジェクターを模式的に示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
【００１４】
１．  第１実施形態
１．１．  発光装置
まず、第１実施形態に係る発光装置について、図面を参照しながら説明する。図１は、第１実施形態に係る発光装置１００を模式的に示す断面図である。図２は、第１実施形態に係る発光装置１００を模式的に示す平面図である。なお、図１は、図２のＩ−Ｉ線断面図である。
【００１５】
発光装置１００は、図１および図２に示すように、基体１０と、積層体２０と、第１電極５０と、第２電極５２と、を有している。なお、便宜上、図２では、積層体２０の第１柱状部３０Ａおよび第２柱状部３０Ｂ以外の部材の図示を省略している。
【００１６】
基体１０は、例えば、板状の形状を有している。基体１０は、例えば、Ｓｉ基板、ＧａＮ基板、サファイア基板などである。
【００１７】
積層体２０は、基体１０に設けられている。図示の例では、積層体２０は、基体１０上
に設けられている。積層体２０は、例えば、バッファー層２２と、複数の第１柱状部３０Ａと、複数の第２柱状部３０Ｂと、光伝搬層４０と、を有している。
【００１８】
なお、「上」とは、積層体２０の積層方向（以下、単に「積層方向」ともいう）において、ＭＱＷ（multi quantum well）層３４からみて基体１０から遠ざかる方向のことであり、「下」とは、積層方向において、ＭＱＷ層３４からみて基体１０に近づく方向のことである。また、「積層体２０の積層方向」とは、第１半導体層３２とＭＱＷ層３４との積層方向のことである。
【００１９】
バッファー層２２は、基体１０上に設けられている。バッファー層２２は、例えば、シリコンがドープされたｎ型のＧａＮ層である。バッファー層２２上には、第１柱状部３０Ａおよび第２柱状部３０Ｂを形成するためのマスク層６０が設けられている。マスク層６０は、例えば、チタン層、酸化チタン層、酸化シリコン層、酸化アルミニウム層などである。
【００２０】
第１柱状部３０Ａおよび第２柱状部３０Ｂは、バッファー層２２上に設けられている。第１柱状部３０Ａおよび第２柱状部３０Ｂは、積層方向と直交する方向に配置されている。第１柱状部３０Ａおよび第２柱状部３０Ｂは、バッファー層２２から上方に突出した柱状の形状を有している。第１柱状部３０Ａおよび第２柱状部３０Ｂは、例えば、ナノコラム、ナノワイヤー、ナノロッド、ナノピラーとも呼ばれる。
【００２１】
第１柱状部３０Ａおよび第２柱状部３０Ｂの積層方向と直交する方向における断面形状は、例えば、多角形、円などである。図２に示す例では、第１柱状部３０Ａおよび第２柱状部３０Ｂの断面形状は、正六角形である。
【００２２】
第１柱状部３０Ａは、第１半導体層３２と、発光層として機能するＭＱＷ層３４と、第２半導体層３６と、を有している。
【００２３】
第１半導体層３２は、バッファー層２２上に設けられている。第１半導体層３２は、基体１０とＭＱＷ層３４との間に設けられている。第１半導体層３２は、ｎ型の半導体層である。第１半導体層３２は、例えば、Ｓｉがドープされたｎ型のＧａＮ層、Ｓｉがドープされたｎ型のＡｌＧａＮ層などである。
【００２４】
ＭＱＷ層３４は、第１半導体層３２上に設けられている。ＭＱＷ層３４は、第１半導体層３２と第２半導体層３６との間に設けられている。第１柱状部３０Ａでは、ＭＱＷ層３４は、電流が注入されることで光を発生させる発光層として機能する。ＭＱＷ層３４は、例えば、不純物がドープされていないｉ型のＧａＮ層と、ｉ型のＩｎＧａＮ層と、からなる量子井戸構造を重ねた多重量子井戸構造を有している。
【００２５】
第２半導体層３６は、ＭＱＷ層３４上に設けられている。第２半導体層３６は、第１半導体層３２と導電型の異なる層である。第２半導体層３６は、ｎ型の半導体層である。第２半導体層３６は、例えば、マグネシウムがドープされたｐ型のＧａＮ層、マグネシウムがドープされたｐ型のＡｌＧａＮ層などである。第１半導体層３２および第２半導体層３６は、ＭＱＷ層３４に光を閉じ込める機能を有するクラッド層である。
【００２６】
第２柱状部３０Ｂは、第１柱状部３０Ａと同じ層構造を有している。すなわち、第２柱状部３０Ｂは、第１柱状部３０Ａと同様に、第１半導体層３２と、ＭＱＷ層３４と、第２半導体層３６と、を有している。
【００２７】
第２柱状部３０Ｂの高さＨ２は、第１柱状部３０Ａの高さＨ１よりも小さい。また、第
２柱状部３０Ｂの高さＨ２は、第１柱状部３０Ａの第１半導体層３２の厚さＤ１と第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４の厚さＤ２の和以上である。すなわち、Ｄ１＋Ｄ２≦Ｈ２＜Ｈ１である。図示の例では、第２柱状部３０Ｂの高さＨ２は、第１柱状部３０Ａの第１半導体層３２の厚さＤ１と第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４の厚さＤ２の和に等しい。すなわち、Ｈ２＝Ｄ１＋Ｄ２である。第１半導体層３２の厚さＤ１とは、第１半導体層３２の積層方向における最大の厚さであり、ＭＱＷ層３４の厚さＤ２とは、ＭＱＷ層３４の積層方向における最大の厚さである。
【００２８】
なお、第１柱状部３０Ａの高さＨ１とは、第１柱状部３０Ａの積層方向における最大の大きさである。また、第２柱状部３０Ｂの高さＨ２とは、第２柱状部３０Ｂの積層方向における最大の大きさである。
【００２９】
第２柱状部３０Ｂの高さＨ２は、第１柱状部３０Ａの高さＨ１よりも小さいため、第１柱状部３０Ａは、第２電極５２と接しているが、第２柱状部３０Ｂは、第２電極５２に接していない。第２柱状部３０Ｂと第２電極５２との間には、光伝搬層４０が設けられている。光伝搬層４０の屈折率は、第１半導体層３２の屈折率、ＭＱＷ層３４の屈折率、および第２半導体層３６の屈折率よりも小さい。
【００３０】
第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４で発生した光は、複数の第１柱状部３０Ａ、複数の第２柱状部３０Ｂ、および光伝搬層４０を伝搬する。
【００３１】
図３は、積層体２０の積層方向Ｚの平均屈折率ＮＡＶＥの分布を示すグラフである。なお、平均屈折率ＮＡＶＥは、積層方向と直交する積層体２０の面内方向（以下、単に「面内方向」ともいう）の平均屈折率である。平均屈折率ＮＡＶＥは、部材の屈折率と、面内方向における部材の充填率と、で決まる。平均屈折率ＮＡＶＥは、面内方向における柱状部の充填率が大きいほど大きくなる。
【００３２】
積層体２０は、図３に示すように、第１部分Ｚ１と、第２部分Ｚ２と、を有する。第１部分Ｚ１は、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４よりも上部側の部分である。第１部分Ｚ１は、第１柱状部３０Ａの第２半導体層３６と、光伝搬層４０と、を含む。
【００３３】
第２部分Ｚ２は、面内方向において第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４が設けられている部分である。第２部分Ｚ２は、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４と、第２柱状部３０Ｂの第１半導体層３２と、光伝搬層４０と、を含む。
【００３４】
上述したように、第２柱状部３０Ｂの高さＨ２は、Ｄ１＋Ｄ２≦Ｈ２＜Ｈ１の関係を満たす。そのため、例えば、Ｈ１＝Ｈ２の場合と比べて、第１部分Ｚ１の柱状部の充填率が小さくなり、第１部分Ｚ１の平均屈折率ＮＡＶＥが低くなる。また、第２部分Ｚ２の柱状部の充填率は、Ｈ１＝Ｈ２の場合と同じである。そのため、第２部分Ｚ２の平均屈折率ＮＡＶＥは、Ｈ１＝Ｈ２の場合とほぼ同じである。
【００３５】
したがって、発光装置１００では、Ｈ１＝Ｈ２の場合と比べて、第２部分Ｚ２の平均屈折率ＮＡＶＥと第１部分Ｚ１の平均屈折率ＮＡＶＥの差を大きくできる。これにより、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４から当該ＭＱＷ層３４よりも上部側に漏れる光の量を低減でき、第２電極５２で吸収される光の量を低減できる。また、第２部分Ｚ２、すなわち、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４近傍を伝搬する光の強度を大きくできる。
【００３６】
第２柱状部３０Ｂの高さＨ２は、第１柱状部３０Ａの高さＨ１よりも小さいため、第２柱状部３０Ｂは、第２電極５２に電気的に接続されず、第２柱状部３０Ｂには電流が注入されない。また、第２柱状部３０Ｂと第２電極５２との間には、絶縁性の光伝搬層４０が
設けられている。そのため、第２柱状部３０Ｂと第２電極５２との間を、より確実に絶縁できる。
【００３７】
第２柱状部３０ＢのＭＱＷ層３４のインジウムの濃度は、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４のインジウムの濃度よりも低い。したがって、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４で発生する光の波長と、第２柱状部３０ＢのＭＱＷ層３４で吸収される光の波長と、をずらすことができる。したがって、第２柱状部３０Ｂで吸収される光の量を低減できる。
【００３８】
第２柱状部３０Ｂの径は、例えば、第１柱状部３０Ａの径よりも小さい。後述するように、第２柱状部３０Ｂの径が、第１柱状部３０Ａの径よりも小さくなるように結晶成長させることによって、第２柱状部３０Ｂの高さＨ２を第１柱状部３０Ａの高さＨ１よりも小さくすることができる。さらに、第２柱状部３０ＢのＭＱＷ層３４のインジウムの濃度を、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４のインジウムの濃度よりも低くすることができる。
【００３９】
なお、「径」とは、第１柱状部３０Ａの平面形状が円の場合は、直径であり、第１柱状部３０Ａの平面形状が円ではない形状の場合は、最小包含円の直径である。例えば、第１柱状部３０Ａの径は、第１柱状部３０Ａの平面形状が多角形の場合、該多角形を内部に含む最小の円の直径であり、第１柱状部３０Ａの平面形状が楕円の場合、該楕円を内部に含む最小の円の直径である。第２柱状部３０Ｂの径についても同様である。
【００４０】
光伝搬層４０は、隣り合う第１柱状部３０Ａと第２柱状部３０Ｂの間、隣り合う第１柱状部３０Ａの間、および隣り合う第２柱状部３０Ｂの間に設けられている。光伝搬層４０は、さらに、第２柱状部３０Ｂと第２電極５２との間に設けられている。光伝搬層４０は、第１柱状部３０Ａの側面および第２柱状部３０Ｂの側面を覆っている。光伝搬層４０の屈折率は、第１柱状部３０Ａの屈折率および第２柱状部３０Ｂの屈折率よりも低い。すなわち、光伝搬層４０の屈折率は、第１半導体層３２、ＭＱＷ層３４、および第２半導体層３６の屈折率よりも低い。光伝搬層４０は、例えば、酸化シリコン層である。第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４で発生した光は、光伝搬層４０を通って、複数の第１柱状部３０Ａおよび複数の第２柱状部３０Ｂを、面内方向に伝搬することができる。なお、光伝搬層４０は、酸化シリコン層に限定されず、例えば、ＧａＮ層、ＡｌＧａＮ層など、その他の絶縁層であってもよい。
【００４１】
第１電極５０は、バッファー層２２上に設けられている。バッファー層２２は、第１電極５０とオーミックコンタクトしていてもよい。第１電極５０は、第１半導体層３２と電気的に接続されている。図示の例では、第１電極５０は、バッファー層２２を介して、第１半導体層３２と電気的に接続されている。第１電極５０は、ＭＱＷ層３４に電流を注入するための一方の電極である。第１電極５０としては、例えば、バッファー層２２側から、Ｔｉ層、Ａｌ層、Ａｕ層の順序で積層したものなどを用いる。なお、基体１０が導電性の場合には、図示はしないが、第１電極５０は、基体１０の下に設けられていてもよい。
【００４２】
第２電極５２は、積層体２０の基体１０側とは反対側に設けられている。図示の例では、第２電極５２は、第１柱状部３０Ａの第２半導体層３６上、および光伝搬層４０上に設けられている。第１柱状部３０Ａの第２半導体層３６は、第２電極５２とオーミックコンタクトしていてもよい。第２電極５２は、第１柱状部３０Ａの第２半導体層３６と電気的に接続されている。なお、第２電極５２は、第２柱状部３０Ｂの第２半導体層３６と電気的に接続されていない。第２電極５２は、ＭＱＷ層３４に電流を注入するための他方の電極である。第２電極５２としては、例えば、ＩＴＯ（indium tin oxide）などを用いる。
【００４３】
図２に示すように、積層体２０は、複数の柱状部集合体２を有している。柱状部集合体２は、周期的に配列されている。例えば、柱状部集合体２は、２５０ｎｍ程度のピッチで
配置されている。複数の柱状部集合体２は、図示の例では、積層方向からの平面視において、三角格子状に配列されている。なお、複数の柱状部集合体２の配列は、三角格子状に限定されず、例えば、四角格子状などに配列されていてもよい。複数の柱状部集合体２は、フォトニック結晶の効果を発現することができる。例えば、複数の柱状部集合体２は、可視光において、フォトニックバンド端による光閉じ込め効果を発現することができる。
【００４４】
柱状部集合体２は、複数の第１柱状部３０Ａと、複数の第２柱状部３０Ｂと、を有している。図２に示す例では、柱状部集合体２は、２つの第１柱状部３０Ａと、２つの第２柱状部３０Ｂと、を有している。２つの第１柱状部３０Ａが並ぶ方向と、２つの第２柱状部３０Ｂが並ぶ方向とは、例えば、直交している。複数の第１柱状部３０Ａと複数の第２柱状部３０Ｂの配列は特に限定されず、複数の第１柱状部３０Ａおよび複数の第２柱状部３０Ｂが三角格子状、四角格子状、ハニカム格子状などに配列されていてもよい。
【００４５】
発光装置１００では、複数の第１柱状部３０Ａおよび複数の第２柱状部３０Ｂによって構成された柱状部集合体２を、１つのナノ構造体とみなして、周期的に配列している。これにより、例えば１つのナノ構造体を１つの柱状部で構成する場合と比べて、第１柱状部３０Ａおよび第２柱状部３０Ｂの径を小さくすることができる。この結果、ＭＱＷ層３４に内在する歪みを低減でき、光を高い効率で増幅できる。
【００４６】
第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４で発生した光は、第１半導体層３２および第２半導体層３６により積層方向と直交する方向に光伝搬層４０を通って伝搬し、複数の柱状部集合体２によるフォトニック結晶の効果により定在波を形成し、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４で利得を受けてレーザー発振する。そして、発光装置１００は、＋１次回折光および−１次回折光をレーザー光として、積層方向に出射する。
【００４７】
図４および図５は、柱状部集合体２によって形成される光閉じ込めモードの電界強度分布の一例を模式的に示す図である。図４では、電界強度が等しい位置を結んだ等強度線を実線で図示している。図５では、等強度線を破線で図示している。図５では、１つの柱状部集合体２を拡大して図示している。
【００４８】
発光装置１００では、図４に示すように、複数の柱状部集合体２において、光閉じ込めモードが形成される。すなわち、発光装置１００では、複数の柱状部集合体２において、電界強度の分布が形成される。複数の柱状部集合体２では、波長と電界分布が異なる複数のモードが同時に形成される。例えば、複数の柱状部集合体２を三角格子状に二次元配列したフォトニック結晶において、フォトニックバンド端での発振を利用した場合、波長と電界分布が異なる複数のモードが同時に形成される。このようにして形成された複数のモードのうち典型的なモードとして、図４および図５には、１つの柱状部集合体２に対して、２つの電界強度のピークＰを持つモードを示している。光閉じ込めモードは、例えば、複数の柱状部集合体２の配置によって制御できる。光閉じ込めモードは、例えば、ＰＷＥ法（Plane Wave Expansion method）を用いて求めることができる。光閉じ込めモードは、前述した、フォトニック結晶の効果により形成される定在波として表される。電界強度のピークＰの位置とは、定在波において、電界強度がもっとも大きく変化する位置であり、電界強度が極値をとる位置である。
【００４９】
ここで、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４は電流が注入されて光を発生させる発光層として機能し、第２柱状部３０ＢのＭＱＷ層３４には、電流が注入されず、第２柱状部３０ＢのＭＱＷ層３４は、発光層として機能しない。すなわち、発光装置１００では、第１柱状部３０Ａは、電流が注入されて光を発生させる活性な柱状部であり、第２柱状部３０Ｂは、電流が注入されず、発光や吸収が生じない不活性な柱状部である。
【００５０】
第１柱状部３０Ａは、電界強度のピークＰと重なる位置に配置されている。第２柱状部３０Ｂは、ピークＰと重ならない位置に配置されている。すなわち、第１柱状部３０Ａにおける電界強度は、第２柱状部３０Ｂにおける電界強度よりも大きい。そのため、面内方向において、発光層として機能する第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４の位置と電界強度のピークＰの位置とを一致させることができる。したがって、発光装置１００では、電界強度のピークＰの位置に選択的に利得を生じさせることができ、光を高い効率で増幅できる。これにより、発振閾値を低減できる。
【００５１】
１つの柱状部集合体２において、第１柱状部３０Ａの数とピークＰの数とは、等しい。図４および図５に示す例では、１つの柱状部集合体２において、第１柱状部３０Ａの数は２つであり、ピークＰの数は２つである。
【００５２】
発光装置１００では、第１柱状部３０Ａにおいて、ｐ型の第２半導体層３６、ＭＱＷ層３４、およびｎ型の第１半導体層３２により、ｐｉｎダイオードが構成される。発光装置１００では、第１電極５０と第２電極５２との間に、ｐｉｎダイオードの順バイアス電圧を印加すると、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４に電流が注入され、ＭＱＷ層３４で電子と正孔との再結合が起こる。この再結合により発光が生じる。なお、第２柱状部３０Ｂは、第２電極５２に電気的に接続されていないため、第１電極５０と第２電極５２との間に電圧を印加しても、第２柱状部３０ＢのＭＱＷ層３４には電流が注入されず、発光が生じない。
【００５３】
なお、図示はしないが、基体１０とバッファー層２２との間、または基体１０の下に反射層が設けられていてもよい。該反射層は、例えば、ＤＢＲ（Distributed Bragg Reflector）層である。該反射層によって、ＭＱＷ層３４において発生した光を反射させることができ、発光装置１００は、第２電極５２側からのみ光を出射することができる。
【００５４】
発光装置１００は、例えば、以下の特徴を有する。
【００５５】
発光装置１００では、第２柱状部３０Ｂの高さＨ２は、第１柱状部３０Ａの第１半導体層３２の厚さＤ１と第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４の厚さＤ２との和以上であり、かつ、第１柱状部３０Ａの高さＨ１よりも低い。すなわち、Ｄ１＋Ｄ２≦Ｈ２＜Ｈ１である。そのため、上述したように、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４から当該ＭＱＷ層３４よりも上部側に漏れる光の量を低減でき、第２電極５２において吸収される光の量を低減できる。したがって、発光装置１００では、第１柱状部３０Ａへの光閉じ込め係数を大きくでき、発振閾値を低減できる。
【００５６】
例えば、一般的な発光装置では、第２半導体層を構成する材料の屈折率と、ＭＱＷ層を構成する材料の屈折率との差を大きくすることで、ＭＱＷ層よりも上部側に漏れる光の量を低減している。しかしながら、格子定数などの制約から、第２半導体層の屈折率とＭＱＷ層の屈折率の差を大きくできないため、第２半導体層を厚くして、ＭＱＷ層よりも上部側への光の漏れを低減している。
【００５７】
これに対して、発光装置１００では、上述したように、第２柱状部３０Ｂを設けることによって、ＭＱＷ層３４よりも上部側に漏れる光の量を低減している。そのため、発光装置１００では、第２半導体層３６の厚さを小さくできる。
【００５８】
発光装置１００では、さらに、第２柱状部３０Ｂは、第２電極５２に電気的に接続されていない。そのため、第１電極５０と第２電極５２との間に電圧を印加しても、第２柱状部３０ＢのＭＱＷ層３４には電流が注入されずに、ＭＱＷ層３４において発光を生じさせないことができる。
【００５９】
発光装置１００では、第２柱状部３０Ｂの径は、第１柱状部３０Ａの径よりも小さい。ここで、ＭＱＷ層３４を結晶成長させる工程において、柱状部の径が小さいほど、ＭＱＷ層３４のインジウム濃度が低くなる。そのため、発光装置１００では、第２柱状部３０Ｂのインジウムの濃度は、第１柱状部３０Ａのインジウムの濃度よりも低い。したがって、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４で発生する光の波長と、第２柱状部３０ＢのＭＱＷ層３４で吸収される光の波長と、をずらすことができる。よって、発光装置１００では、第２柱状部３０Ｂで吸収される光の量を低減できる。
【００６０】
発光装置１００では、第１柱状部３０Ａと第２柱状部３０Ｂとの間に設けられ、第１半導体層３２および第２半導体層３６よりも屈折率の小さい光伝搬層４０を有する。そのため、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４で発生した光を効率よく伝搬させることができる。また、光伝搬層４０は、第２柱状部３０Ｂと第２電極５２との間に設けられている。そのため、第２柱状部３０Ｂと第２電極５２との間を、より確実に絶縁できる。
【００６１】
発光装置１００では、第１柱状部３０Ａの層構造と、第２柱状部３０Ｂの層構造とは、同じである。そのため、後述するように、第１柱状部３０Ａと第２柱状部３０Ｂとを同時に形成することができる。
【００６２】
なお、上記では、発光装置１００が、フォトニック結晶の効果を利用した面発光レーザーである場合について説明したが、上述した実施形態に係る発光装置は、ＬＥＤ、あるいは共振発光ダイオードなどの発光デバイスにも適用できる。
【００６３】
１．２．  発光装置の製造方法
次に、第１実施形態に係る発光装置１００の製造方法について、図面を参照しながら説明する。図６〜図８は、第１実施形態に係る発光装置１００の製造工程を模式的に示す断面図である。
【００６４】
図６に示すように、基体１０上に、バッファー層２２をエピタキシャル成長させる。エピタキシャル成長させる方法としては、例えば、ＭＯＣＶＤ（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）法、ＭＢＥ（Molecular Beam Epitaxy）法などが挙げられる。
【００６５】
次に、バッファー層２２上に、マスク層６０を形成する。マスク層６０は、例えば、電子ビーム蒸着法やプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などによる成膜、ならびにフォトリソグラフィー技術およびエッチング技術によるパターニングによって形成される。マスク層６０の第２柱状部３０Ｂを形成するための開口の面積は、マスク層６０の第１柱状部３０Ａを形成するための開口の面積よりも小さい。これにより、第２柱状部３０Ｂの径を第１柱状部３０Ａの径よりも小さくすることができる。
【００６６】
次に、マスク層６０をマスクとして、バッファー層２２上に、第１半導体層３２、ＭＱＷ層３４、および第２半導体層３６をエピタキシャル成長させる。エピタキシャル成長させる方法としては、例えば、ＭＯＣＶＤ法、ＭＢＥ法などが挙げられる。
【００６７】
第２柱状部３０Ｂの径が第１柱状部３０Ａの径よりも小さくなるように結晶成長させることによって、第２柱状部３０Ｂの高さＨ２を、第１柱状部３０Ａの高さＨ１よりも小さくできる。また、第２柱状部３０Ｂの径が第１柱状部３０Ａの径よりも小さくなるように結晶成長させることによって、第２柱状部３０ＢのＭＱＷ層３４のインジウムの濃度を、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４のインジウムの濃度よりも低くできる。
【００６８】
以上の工程により、複数の第１柱状部３０Ａと複数の第２柱状部３０Ｂとを有する柱状
部集合体２が形成される。
【００６９】
図７に示すように、複数の第１柱状部３０Ａおよび複数の第２柱状部３０Ｂが形成された領域に光伝搬層４０を埋め込む。光伝搬層４０は、例えば、スピンコート法などによって形成される。
【００７０】
次に、図８に示すように、第１柱状部３０Ａが露出し、第２柱状部３０Ｂが露出しないように、光伝搬層４０をエッチングする。光伝搬層４０のエッチングは、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチングなどにより行われる。なお、光伝搬層４０のエッチングを、ウェットエッチングとドライエッチングとを組み合わせて行ってもよい。次に、光伝搬層４０を所定の形状にパターニングして、第１電極５０が形成される領域を露出させる。
【００７１】
図１に示すように、バッファー層２２上に第１電極５０を形成し、第２半導体層３６および光伝搬層４０上に第２電極５２を形成する。第１電極５０および第２電極５２は、例えば、真空蒸着法などにより形成される。なお、第１電極５０および第２電極５２の形成順序は、特に限定されない。
【００７２】
以上の工程により、発光装置１００を製造することができる。
【００７３】
図９および図１０は、第１柱状部３０Ａの第１半導体層３２および第２柱状部３０Ｂの第１半導体層３２の走査電子顕微鏡像である。図９および図１０に示す走査電子顕微鏡像は、上述したように、マスク層６０の第２柱状部３０Ｂを形成するための開口の面積を、第１柱状部３０Ａを形成するための開口の面積よりも小さく形成し、第１半導体層３２をエピタキシャル成長させた状態を撮影したものである。図９および図１０では、第１柱状部３０Ａの第１半導体層３２の径は８４ｎｍであり、第１柱状部３０Ａの第１半導体層３２の高さは２９６ｎｍであった。これに対して、第２柱状部３０Ｂの第１半導体層３２の径は６８ｎｍであり、第２柱状部３０Ｂの第１半導体層３２の高さは２２２ｎｍであった。このように、柱状部の径を異ならせることによって、高さの異なる柱状部を同時に成長させることができる。
【００７４】
１．３．  変形例
次に、第１実施形態に係る発光装置１００の変形例について説明する。以下に説明する各変形例において、上述した発光装置１００の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００７５】
１．３．１．  第１変形例
図１１は、第１変形例に係る発光装置２００を模式的に示す断面図である。
【００７６】
上述した発光装置１００では、図１に示すように、第２柱状部３０Ｂの高さＨ２は、第１柱状部３０Ａの第１半導体層３２の厚さＤ１と第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４の厚さＤ２の和に等しい。すなわち、Ｈ２＝Ｄ１＋Ｄ２であった。
【００７７】
これに対して、発光装置２００では、図１１に示すように、第２柱状部３０Ｂの高さＨ２は、第１柱状部３０Ａの第１半導体層３２の厚さＤ１と第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４の厚さＤ２の和よりも大きい。すなわち、Ｄ１＋Ｄ２＜Ｈ２＜Ｈ１である。
【００７８】
発光装置２００では、上述した発光装置１００と同様に、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４よりも上部側の柱状部の充填率が低くなる。そのため、第１柱状部３０ＡのＭＱＷ層３４から当該ＭＱＷ層３４よりも上部側に漏れる光の量を低減でき、第２電極５２で吸収
される光の量を低減できる。したがって、発光装置２００では、第１柱状部３０Ａへの光閉じ込め係数を大きくでき、発振閾値を低減できる。
【００７９】
１．３．２．  第２変形例
例えば、上述した発光装置１００では、ＩｎＧａＮ系のＭＱＷ層３４について説明したが、ＭＱＷ層３４としては、射出される光の波長に応じて、電流が注入されることで発光可能な様々な材料系を用いることができる。例えば、ＡｌＧａＮ系、ＡｌＧａＡｓ系、ＩｎＧａＡｓ系、ＩｎＧａＡｓＰ系、ＩｎＰ系、ＧａＰ系、ＡｌＧａＰ系などの半導体材料を用いることができる。
【００８０】
２．  第２実施形態
次に、第２実施形態に係るプロジェクターについて、図面を参照しながら説明する。図１２は、第２実施形態に係るプロジェクター９００を模式的に示す図である。
【００８１】
プロジェクター９００は、例えば、光源として、発光装置１００を有している。
【００８２】
プロジェクター９００は、図示しない筐体と、筐体内に備えられている赤色光、緑色光、青色光をそれぞれ出射する赤色光源１００Ｒ、緑色光源１００Ｇ、青色光源１００Ｂと、を有している。なお、便宜上、図１２では、赤色光源１００Ｒ、緑色光源１００Ｇ、および青色光源１００Ｂを簡略化している。
【００８３】
プロジェクター９００は、さらに、筐体内に備えられている、第１レンズアレイ９０２Ｒと、第２レンズアレイ９０２Ｇと、第３レンズアレイ９０２Ｂと、第１光変調装置９０４Ｒと、第２光変調装置９０４Ｇと、第３光変調装置９０４Ｂと、投射装置９０８と、を有している。第１光変調装置９０４Ｒ、第２光変調装置９０４Ｇ、および第３光変調装置９０４Ｂは、例えば、透過型の液晶ライトバルブである。投射装置９０８は、例えば、投射レンズである。
【００８４】
赤色光源１００Ｒから出射された光は、第１レンズアレイ９０２Ｒに入射する。赤色光源１００Ｒから出射された光は、第１レンズアレイ９０２Ｒによって、集光され、例えば重畳されることができる。
【００８５】
第１レンズアレイ９０２Ｒによって集光された光は、第１光変調装置９０４Ｒに入射する。第１光変調装置９０４Ｒは、入射した光を画像情報に応じて変調させる。そして、投射装置９０８は、第１光変調装置９０４Ｒによって形成された像を拡大してスクリーン９１０に投射する。
【００８６】
緑色光源１００Ｇから出射された光は、第２レンズアレイ９０２Ｇに入射する。緑色光源１００Ｇから出射された光は、第２レンズアレイ９０２Ｇによって、集光され、例えば重畳されることができる。
【００８７】
第２レンズアレイ９０２Ｇによって集光された光は、第２光変調装置９０４Ｇに入射する。第２光変調装置９０４Ｇは、入射した光を画像情報に応じて変調させる。そして、投射装置９０８は、第２光変調装置９０４Ｇによって形成された像を拡大してスクリーン９１０に投射する。
【００８８】
青色光源１００Ｂから出射された光は、第３レンズアレイ９０２Ｂに入射する。青色光源１００Ｂから出射された光は、第３レンズアレイ９０２Ｂによって、集光され、例えば重畳されることができる。
【００８９】
第３レンズアレイ９０２Ｂによって集光された光は、第３光変調装置９０４Ｂに入射する。第３光変調装置９０４Ｂは、入射した光を画像情報に応じて変調させる。そして、投射装置９０８は、第３光変調装置９０４Ｂによって形成された像を拡大してスクリーン９１０に投射する。
【００９０】
また、プロジェクター９００は、第１光変調装置９０４Ｒ、第２光変調装置９０４Ｇ、および第３光変調装置９０４Ｂから出射された光を合成して投射装置９０８に導くクロスダイクロイックプリズム９０６を有することができる。
【００９１】
第１光変調装置９０４Ｒ、第２光変調装置９０４Ｇ、および第３光変調装置９０４Ｂによって変調された３つの色光は、クロスダイクロイックプリズム９０６に入射する。クロスダイクロイックプリズム９０６は、４つの直角プリズムを貼り合わせて形成され、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に配置されている。これらの誘電体多層膜によって３つの色光が合成され、カラー画像を表す光が形成される。そして、合成された光は、投射装置９０８によりスクリーン９１０上に投射され、拡大された画像が表示される。
【００９２】
なお、赤色光源１００Ｒ、緑色光源１００Ｇ、および青色光源１００Ｂは、発光装置１００を映像の画素として画像情報に応じて制御することで、第１光変調装置９０４Ｒ、第２光変調装置９０４Ｇ、および第３光変調装置９０４Ｂを用いずに、直接的に映像を形成してもよい。そして、投射装置９０８は、赤色光源１００Ｒ、緑色光源１００Ｇ、および青色光源１００Ｂによって形成された映像を、拡大してスクリーン９１０に投射してもよい。
【００９３】
また、上記の例では、光変調装置として透過型の液晶ライトバルブを用いたが、液晶以外のライトバルブを用いてもよいし、反射型のライトバルブを用いてもよい。このようなライトバルブとしては、例えば、反射型の液晶ライトバルブや、デジタルマイクロミラーデバイス（Digital Micro Mirror Device）が挙げられる。また、投射装置の構成は、使用されるライトバルブの種類によって適宜変更される。
【００９４】
また、光源を、光源からの光をスクリーン上で走査させることにより、表示面に所望の大きさの画像を表示させる画像形成装置である走査手段を有するような走査型の画像表示装置の光源装置にも適用することが可能である。
【００９５】
上述した実施形態に係る発光装置は、プロジェクター以外にも用いることが可能である。プロジェクター以外の用途には、例えば、屋内外の照明、ディスプレイのバックライト、レーザープリンター、スキャナー、車載用ライト、光を用いるセンシング機器、通信機器等の光源がある。
【００９６】
本発明は、本願に記載の特徴や効果を有する範囲で一部の構成を省略したり、各実施形態や変形例を組み合わせたりしてもよい。
【００９７】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、さらに種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施形態で説明した構成と実質的に同一の構成を含む。実質的に同一の構成とは、例えば、機能、方法、及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成である。また、本発明は、実施形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【符号の説明】
【００９８】
２…柱状部集合体、１０…基体、２０…積層体、２２…バッファー層、３０Ａ…第１柱状部、３０Ｂ…第２柱状部、３２…第１半導体層、３４…ＭＱＷ層、３６…第２半導体層、４０…光伝搬層、５０…第１電極、５２…第２電極、６０…マスク層、１００…発光装置、１００Ｒ…赤色光源、１００Ｇ…緑色光源、１００Ｂ…青色光源、２００…発光装置、９００…プロジェクター、９０２Ｒ…第１レンズアレイ、９０２Ｇ…第２レンズアレイ、９０２Ｂ…第３レンズアレイ、９０４Ｒ…第１光変調装置、９０４Ｇ…第２光変調装置、９０４Ｂ…第３光変調装置、９０６…クロスダイクロイックプリズム、９０８…投射装置、９１０…スクリーン
【図１】
2020161622.tif 000003
【図２】
2020161622.tif 000004
【図３】
2020161622.tif 000005
【図４】
2020161622.tif 000006
【図５】
2020161622.tif 000007
【図６】
2020161622.tif 000008
【図７】
2020161622.tif 000009
【図８】
2020161622.tif 000010
【図９】
2020161622.tif 000011
【図１０】
2020161622.tif 000012
【図１１】
2020161622.tif 000013
【図１２】
2020161622.tif 000014