(57)【要約】 【課題】管状誘電体３が壊れにくい構造にする。【解決手段】プラズマ装置１００が有するプラズマ発生部１２は、供給源から供給されたプラズマ発生用ガスの流路である内空部を有する管状誘電体３と、管状誘電体３の内空部に配置され、管状誘電体３の軸線方向に延びる内部電極４と、管状誘電体３の外周面に沿って内部電極４に対向する位置に配置される外部電極５と、管状誘電体３及び外部電極５の表面を覆う胴体部と、を有し、胴体部２ｂは、照射器具の軸線方向に延びる断面で２分割された第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅを有し、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅは、管状誘電体３の外周面に面接触される形状の内周面２ｆを有し、内周面の一部には、外部電極５の表面に面接触される形状の第１凹部２ｈが設けられる。【選択図】図６
2020155260.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ発生部と、前記プラズマ発生部にて発生したプラズマ及び前記プラズマによって生じる活性ガスの少なくとも一方を吐出するノズルと、を有する照射器具と、
前記プラズマ発生部にプラズマ発生用ガスを供給する供給源と、を備え、
前記プラズマ発生部は、
前記供給源から供給された前記プラズマ発生用ガスの流路である内空部を有する管状誘電体と、
前記管状誘電体の内空部に配置され、前記管状誘電体の軸線方向に延びる内部電極と、
前記管状誘電体の外周面に沿って前記内部電極に対向する位置に配置される外部電極と、
前記管状誘電体及び前記外部電極の表面を覆う胴体部と、を有し、
前記胴体部は、前記照射器具の軸線方向に延びる断面で２分割された第１分割体及び第２分割体を有し、
前記第１分割体及び前記第２分割体は、前記管状誘電体の外周面に面接触される形状の内周面を有し、
前記内周面の一部には、前記外部電極の表面に面接触される形状の第１凹部が設けられる、プラズマ装置。
【請求項２】
前記第１分割体及び前記第２分割体の前記内周面は、前記内周面に沿って前記管状誘電体を収納したときに、前記内周面と前記管状誘電体の外周面との間に隙間を生じさせる径を有する、請求項１に記載のプラズマ装置。
【請求項３】
前記内周面は、前記管状誘電体の外周面の径よりも２乃至４%大きい径を有する、請求項２に記載のプラズマ装置。
【請求項４】
前記第１凹部は、前記第１凹部内に前記外部電極を収納したときに、前記第１凹部と前記外部電極の表面との間に隙間を生じさせるサイズを有する、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のプラズマ装置。
【請求項５】
前記第１凹部は、前記外部電極の外周面の径よりも２乃至４%大きい径を有し、かつ前記外部電極の軸方向長さよりも０．４乃至０．６%大きい軸方向長さを有する、請求項４に記載のプラズマ装置。
【請求項６】
前記第１分割体及び前記第２分割体の前記内周面は、前記内部電極に電圧を供給する電圧供給線を接合する接合部が収納される第２凹部を有する、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のプラズマ装置。
【請求項７】
前記第２凹部は、前記第１凹部よりも前記ノズルから遠い場所に配置される、請求項６に記載のプラズマ装置。
【請求項８】
前記第１分割体及び前記第２分割体を、前記断面で面接触させた状態で固定する固定部を備え、
前記固定部は、前記内部電極の前記ノズル側の端部よりも、さらに前記ノズルに近い側に設けられる、請求項１乃至７のいずれか一項に記載のプラズマ装置。
【請求項９】
前記第１分割体及び前記第２分割体は、変性ポリフェニレンエーテルを含有する樹脂体である、請求項１乃至８のいずれか一項に記載のプラズマ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
歯科治療等を目的としてプラズマを利用する技術が提案されている（特許文献１参照）。特許文献１に開示されたプラズマジェット照射装置は、先端ノズルからプラズマジェットを歯牙に照射して減菌や殺菌を行うものである。歯科治療用のプラズマジェット照射装置は、主に歯科医師により操作されるため、操作性重視のために、照射器具の把持部を把持した状態で、先端ノズルの位置や角度を自由に変更できるようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５４４１０６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
プラズマを発生させるには、２つの電極間に１０ｋＶ程度の高圧電圧を印加しなければならないため、２つの電極間に管状誘電体を配置して絶縁を図る必要がある。管状誘電体としては、絶縁破壊が生じにくい観点で、ガラスやセラミックなどが用いられる。
【０００５】
しかしながら、ガラスやセラミックなどは割れやすいという問題がある。照射器具には、プラズマ発生用ガスのタンクから延びるチューブや高圧電圧を供給する配線などを束ねたケーブルが接続されており、ケーブルを引き回す際に照射器具が床や壁等に衝突して、その衝撃で管状誘電体が割れてしまうことがある。
【０００６】
照射器具は、高圧電圧を取り扱うことから、簡単には分解できない構造になっていることが多く、管状誘電体が割れてしまうと、その保守交換作業に手間がかかる。
【０００７】
本発明は、上述した問題点を解決するためのものであり、管状誘電体が壊れにくい構造にしたプラズマ装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明の一態様では、プラズマ発生部と、前記プラズマ発生部にて発生したプラズマ及び前記プラズマによって生じる活性ガスの少なくとも一方を吐出するノズルと、を有する照射器具と、
前記プラズマ発生部にプラズマ発生用ガスを供給する供給源と、を備え、
前記プラズマ発生部は、
前記供給源から供給された前記プラズマ発生用ガスの流路である内空部を有する管状誘電体と、
前記管状誘電体の内空部に配置され、前記管状誘電体の軸線方向に延びる内部電極と、
前記管状誘電体の外周面に沿って前記内部電極に対向する位置に配置される外部電極と、
前記管状誘電体及び前記外部電極の表面を覆う胴体部と、を有し、
前記胴体部は、前記照射器具の軸線方向に延びる断面で２分割された第１分割体及び第２分割体を有し、
前記第１分割体及び前記第２分割体は、前記管状誘電体の外周面に面接触される形状の内周面を有し、
前記内周面の一部には、前記外部電極の表面に面接触される形状の第１凹部が設けられる、プラズマ装置が提供される。
【０００９】
前記第１分割体及び前記第２分割体の前記内周面は、前記内周面に沿って前記管状誘電体を収納したときに、前記内周面と前記管状誘電体の外周面との間に隙間を生じさせる径を有してもよい。
【００１０】
前記内周面は、前記管状誘電体の外周面の径よりも２乃至４%大きい径を有してもよい。
【００１１】
前記第１凹部は、前記第１凹部内に前記外部電極を収納したときに、前記第１凹部と前記外部電極の表面との間に隙間を生じさせるサイズを有してもよい。
【００１２】
前記第１凹部は、前記外部電極の外周面の径よりも２乃至４%大きい径を有し、かつ前記外部電極の軸方向長さよりも０．４乃至０．６%大きい軸方向長さを有してもよい。
【００１３】
前記第１分割体及び前記第２分割体の前記内周面は、前記内部電極に電圧を供給する電圧供給線を接合する接合部が収納される第２凹部を有してもよい。
【００１４】
前記第２凹部は、前記第１凹部よりも前記ノズルから遠い場所に配置されてもよい。
【００１５】
前記第１分割体及び前記第２分割体を、前記断面で面接触させた状態で固定する固定部を備え、
前記固定部は、前記内部電極の前記ノズル側の端部よりも、前記ノズルに近い側に設けられてもよい。
【００１６】
前記第１分割体及び前記第２分割体は、変性ポリフェニレンエーテルを含有する樹脂体であってもよい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、プラズマ発生部内の管状誘電体を壊れにくい構造にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態に係るプラズマ装置を示す模式図。
【図２】本発明の一実施形態に係るプラズマ装置を構成する照射器具の部分断面図。
【図３】図２の照射器具のｘ−ｘ断面図。
【図４】図２の照射器具のｙ−ｙ断面図。
【図５】本発明の一実施形態に係るプラズマ装置の概略構成を示すブロック図。
【図６】（ａ）〜（ｄ）は胴体部の組立順序を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照して本開示の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００２０】
さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
【００２１】
本発明のプラズマ装置は、プラズマジェット照射装置又は活性ガス照射装置である。プラズマジェット照射装置と活性ガス照射装置はいずれも、プラズマを発生させる。プラズマジェット照射装置は、発生したプラズマと活性種とを被照射物に直接照射する。活性種は、プラズマ中の気体又はプラズマ周辺の気体とプラズマとが反応して生成される。活性種は、例えば、活性酸素種や活性窒素種等である。活性酸素種は、例えば、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル等である。活性窒素種は、例えば、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等である。活性ガス照射装置は、活性種を含む活性ガスを被照射物に照射する。活性種は、プラズマ中の気体又はプラズマ周辺の気体とプラズマとが反応して生成される。
【００２２】
以下、プラズマ装置の一実施形態について説明する。本実施形態のプラズマ装置は、例えば活性ガス照射装置である。図１から図５に示すように、本実施形態の活性ガス照射装置１００は、照射器具１０と、供給ユニット２０と、ガス管路３０と、電圧供給線４０と、供給源７０と、報知部８０と、制御部９０（演算部）と、を備える。
【００２３】
照射器具１０は、照射器具１０内で発生した活性ガスを吐出する。照射器具１０は、医師等により操作されるものであり、人間の手で操作しやすい形状、大きさ及び重量を有する。照射器具１０は、ガス管路３０、接地線３１及び電圧供給線４０にて、供給ユニット２０と接続されている。ガス管路３０と電圧供給線４０は、一本のケーブル３２内に収納されている。供給ユニット２０は、照射器具１０に電力及びプラズマ発生用ガスを供給する。供給ユニット２０は、供給源７０を収容している。供給源７０は、プラズマ発生用ガスを収容している。供給ユニット２０は、例えば、１００Ｖの家庭用電源等から電源供給を受ける。また、供給ユニット２０内に充電可能なバッテリを搭載してもよい。
【００２４】
図２は、照射器具１０における軸線に沿う面の断面（縦断面）図である。図２に示すように、照射器具１０は、長尺状のカウリング２と、カウリング２の先端から突出するノズル１と、カウリング２内に位置するプラズマ発生部１２とを備える。
カウリング２は、円筒形で中空の胴体部２ｂと、胴体部２ｂの先端を塞ぐヘッド部２ａとを備える。なお、胴体部２ｂは、円筒形に限らず、四角筒、六角筒、八角筒等の多角筒形でもよい。
【００２５】
ヘッド部２ａは、先端に向かって漸次窄んでいる。即ち、本実施形態におけるヘッド部２ａは、円錐形である。なお、ヘッド部２ａは、円錐形に限らず、四角錐、六角錐、八角錐等の多角錐形でもよい。
【００２６】
ヘッド部２ａは、先端に嵌合孔２ｃを有している。嵌合孔２ｃは、ノズル１を受け入れる孔である。ノズル１は、ヘッド部２ａの嵌合孔２ｃに着脱可能になっている。ヘッド部２ａは、管軸Ｏ１方向に延びる第１の活性ガス流路７を内部に有している。管軸Ｏ１は、胴体部２ｂの管軸である。ノズル１は、管軸Ｏ１から傾斜した方向に延びる管軸Ｏ２に沿って第２の活性ガス流路８を有する。
【００２７】
図２及び図３に示すように、プラズマ発生部１２は、管状誘電体３（誘電体）と、内部電極４と、外部電極５とを備える。
【００２８】
管状誘電体３は、管軸Ｏ１方向に延びる円筒状の中空部材である。管状誘電体３は、管軸Ｏ１方向に延びるガス流路６を内部に有している。第１の活性ガス流路７とガス流路６とは連通している。なお、管軸Ｏ１は、管状誘電体３の管軸と同じである。
【００２９】
管状誘電体３の内部の中空部分には、内部電極４が配置されている。内部電極４は、管軸Ｏ１方向に延びる略円柱状の部材である。内部電極４は、管状誘電体３の内面と離間して配置されている。
【００３０】
管状誘電体３の外周面の一部には、内部電極４に対向して配置される外部電極５を備えている。外部電極５は、管状誘電体３の外周面に沿って周回する環状の電極である。外部電極５は、胴体部２ｂの内周面の凹部に配置されている。
【００３１】
このように、カウリング２の胴体部２ｂの内周面に沿って外部電極５が配置され、外部電極５の内周面に沿って管状誘電体３が配置され、管状誘電体３の中空部分に内部電極４が配置されている。すなわち、図３に示すように、管状誘電体３と内部電極４と外部電極５とは、管軸Ｏ１を中心として同心円状に位置している。また、本実施形態において、内部電極４の外周面と外部電極５の内周面とは、管状誘電体３を挟んで互いに対向している。なお、図２や図３では、管状誘電体３と外部電極５が面接触しているように描かれているが、両者の間に若干の隙間がある場合もありえる。本実施形態では、保守性を向上させるために、管状誘電体３を胴体部２ｂの先端側から挿脱できるようにしており、管状誘電体３と外部電極５との間に若干の隙間を設けることで、管状誘電体３の挿脱が容易になる。
【００３２】
ノズル１は、嵌合孔２ｃに嵌合する台座部１ｂと、台座部１ｂから突出する照射管１ｃとを備える。台座部１ｂと照射管１ｃとは一体になっている。ノズル１は、その内部に、第２の活性ガス流路８を有している。ノズル１は、先端に照射口１ａを有している。第２の活性ガス流路８と第１の活性ガス流路７とは、連通している。
【００３３】
胴体部２ｂの材料は、特に制限はないが、絶縁性を有する材料が好ましい。絶縁性の材料は、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等である。熱可塑性樹脂は、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）等である。熱硬化性樹脂は、例えば、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコン樹脂等である。胴体部２ｂの大きさは、特に制限はなく、手指で把持しやすい大きさとすることができる。
【００３４】
ヘッド部２ａの材料は、特に制限はなく、絶縁性を有してもよいし、絶縁性を有しなくてもよい。ヘッド部２ａの材料は、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス等の金属を例示できる。ヘッド部２ａと胴体部２ｂとの材料は、同じでもよく、異なってもよい。
【００３５】
ヘッド部２ａの大きさは、活性ガス照射装置１００の用途等を勘案して決定できる。例えば、活性ガス照射装置１００が口腔内用治療器具である場合、ヘッド部２ａの大きさは、口腔内に挿入できる大きさが好ましい。
【００３６】
管状誘電体３の材料としては、公知のプラズマ装置に使用する誘電体材料を適用できる。管状誘電体３の材料は、例えば、ガラス、セラミックス、合成樹脂等である。管状誘電体３の誘電率は低いほど好ましい。
【００３７】
管状誘電体３の内径Ｒは、内部電極４の外径ｄを勘案して適宜決定できる。内径Ｒは、後述する距離ｓを所望の範囲とするように決定する。
【００３８】
内部電極４は、管軸Ｏ１方向に延びる軸部と、軸部の外周面のねじ山とを備える。軸部は、中実でもよいし、中空でもよい。軸部が中実であれば、加工が容易であり、かつ機械的な耐久性を高められる。内部電極４のねじ山は、軸部の周方向に周回する螺旋状のねじ山である。内部電極４の形態は、雄ねじと同様の形態である。内部電極４は、外周面にねじ山を有することで、ねじ山先端部の電界が局所的に強くなり、放電開始電圧が低くなる。このため、低電力でプラズマを生成し、維持できる。一方、軸部が中空の場合、プラズマ発生用ガスが内部電極４の内部を通って、外部電極５との対向部に設けられた内部電極４の孔から出て、プラズマを発生させる。
【００３９】
内部電極４の外径ｄは、活性ガス照射装置１００の用途（即ち、照射器具１０の大きさ）等を勘案して、適宜決定できる。活性ガス照射装置１００が口腔内用治療器具である場合、外径ｄは、０．５ｍｍ〜２０ｍｍが好ましく、１ｍｍ〜１０ｍｍがより好ましい。外径ｄが上記下限値以上であれば、内部電極４を容易に製造できる。加えて、外径ｄが上記下限値以上であれば、内部電極４の表面積が大きくなり、プラズマをより効率的に発生して、治癒等をより促進できる。外径ｄが上記上限値以下であれば、照射器具１０を過度に大きくすることなく、プラズマをより効率的に発生し、治癒等をより促進できる。
【００４０】
内部電極４のねじ山の高さｈは、内部電極４の外径ｄを勘案して適宜決定できる。内部電極４のねじ山のピッチｐは、内部電極４の長さや外径ｄ等を勘案して適宜決定できる。
【００４１】
内部電極４の材料は、導電材であれば特に制限はなく、公知のプラズマ装置の電極に使用できる金属を適用できる。内部電極４の材料としては、ステンレス、銅、タングステン等の金属、カーボン等を例示できる。
【００４２】
内部電極４としては、ＪＩＳ  Ｂ  ０２０５：２００１のメートルねじの規格品（Ｍ２、Ｍ２．２、Ｍ２．５、Ｍ３、Ｍ３．５等）、ＪＩＳ  Ｂ  ２０１６：１９８７のメートル台形ねじの規格品（Ｔｒ８×１．５、Ｔｒ９×２、Ｔｒ９×１．５等）、ＪＩＳ  Ｂ  ０２０６：１９７３のユニファイ並目ねじの規格品（Ｎｏ．１−６４ＵＮＣ、Ｎｏ．２−５６ＵＮＣ、Ｎｏ．３−４８ＵＮＣ等）等と同等の仕様が好ましい。これらの規格品と同等の仕様であれば、コスト面で優位である。
【００４３】
内部電極４の外面と管状誘電体３の内面との距離ｓは、０．０５ｍｍ〜５ｍｍが好ましく、０．１ｍｍ〜１ｍｍがより好ましい。距離ｓが上記下限値以上であれば、所望量のプラズマ発生用ガスを容易に通流できる。距離ｓが上記上限値以下であれば、プラズマをさらに効率的に発生し、活性ガスの温度を低くできる。
【００４４】
外部電極５の材料は、導電材であれば特に制限はなく、公知のプラズマ装置の電極に使用する金属を適用できる。外部電極５の材料としては、ステンレス、銅、タングステン等の金属、カーボン等を例示できる。
【００４５】
ノズル１の材料は、特に制限はなく、絶縁性を有してもよいし、導電性を有してもよい。ノズル１の材料としては、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス等の金属を例示できる。
【００４６】
ノズル１における照射管１ｃ内の流路の長さ（即ち、距離Ｌ２）は、活性ガス照射装置１００の用途等を勘案して、適宜決定できる。照射口１ａの開口径は、例えば、０．５ｍｍ〜５ｍｍが好ましい。開口径が上記下限値以上であれば、活性ガスの圧力損失を抑制できる。開口径が上記上限値以下であれば、照射する活性ガスの流速を高めて、患部の治癒等を促進できる。照射管１ｃは、管軸Ｏ１に対して屈曲している。照射管１ｃの管軸Ｏ２と管軸Ｏ１とのなす角度θは、活性ガス照射装置１００の用途等を勘案して決定できる。
【００４７】
内部電極４の先端Ｑ１からヘッド部２ａの先端Ｑ２までの距離Ｌ１と、先端Ｑ２から照射口１ａまでの距離Ｌ２との合計（即ち、内部電極４から照射口１ａまでの道のり）は、活性ガス照射装置１００に求める大きさや、照射した活性ガスが当たる面（被照射面）における温度等を勘案して適宜決定する。距離Ｌ１と距離Ｌ２の合計が長ければ、被照射面の温度を低くできる。距離Ｌ１と距離Ｌ２の合計が短ければ、活性ガスのラジカル密度をさらに高めて、被照射面における清浄化、賦活化、治癒等の効果をさらに高められる。なお、先端Ｑ２は、管軸Ｏ１と管軸Ｏ２との交点である。
【００４８】
上記のことから明らかな通り、管状誘電体３の破損は、管状誘電体３と内部電極４とが対向している箇所、又は管状誘電体３と外部電極５とが対向している箇所で発生し易い。特に、衝撃等により、外部電極５の先端部が管状誘電体３の外周面に接触したときに管状誘電体３が最も破損しやすくなる。
【００４９】
なお、本明細書において、外力とは衝撃等により照射器具１０が外部から受ける力をいい、より具体的には、照射器具が床などに落下した際の衝撃力や、照射器具に接続されている配線により、照射器具が振り子として動き、照射器具が壁などに衝突した際の衝撃力や、照射器具の上に重量物が落下した際の衝撃力等をいう。
【００５０】
図１に示すような供給ユニット２０は、照射器具１０に電気およびプラズマ発生用ガスを供給する。供給ユニット２０は、内部電極４と外部電極５との間に印加する電圧及び周波数を調節できる。供給ユニット２０は、供給源７０を収容する筐体２１を備えている。筐体２１は、供給源７０を離脱可能に収容する。これにより、筐体２１に収容された供給源７０内のガスがなくなったとき、プラズマ発生用ガスの供給源７０を交換することができる。
【００５１】
供給源７０は、プラズマ発生部１２にプラズマ発生用ガスを供給する。供給源７０は、内部にプラズマ発生用ガスが収容された耐圧容器である。図５に示すように、供給源７０は、筐体２１内に配置された配管７５に対して着脱可能に装着されている。配管７５は、供給源７０とガス管路３０とを接続している。配管７５には、電磁弁７１、圧力レギュレータ７３、流量コントローラ７４及び圧力センサ７２（残量センサ）が取り付けられている。
【００５２】
電磁弁７１が開状態となると、供給源７０から配管７５及びガス管路３０を介して照射器具１０にプラズマ発生用ガスが供給される。図示の例では、電磁弁７１は、弁開度が調節できる構成ではなく、開閉の切り替えのみができる構成である。なお電磁弁７１は、弁開度が調節できる構成であってもよい。圧力レギュレータ７３は、電磁弁７１と供給源７０との間に配置されている。圧力レギュレータ７３は、供給源７０から電磁弁７１に向かうプラズマ発生用ガスの圧力を低下（プラズマ発生用ガスを減圧）させる。
【００５３】
流量コントローラ７４は、電磁弁７１とガス管路３０との間に配置されている。流量コントローラ７４は、電磁弁７１を通過したプラズマ発生用ガスの流量（単位時間当たりの供給量）を調整する。流量コントローラ７４は、プラズマ発生用ガスの流量を、例えば３Ｌ／ｍｉｎに調整する。
【００５４】
圧力センサ７２は、供給源７０におけるプラズマ発生用ガスの残量Ｖ１を検出する。圧力センサ７２は、残量Ｖ１として、供給源７０内の圧力（残圧）を測定する。圧力センサ７２は、圧力レギュレータ７３と供給源７０との間（圧力レギュレータ７３よりも一次側）を通過するプラズマ発生用ガスの圧力（一次圧）を、供給源７０の圧力として測定する。圧力センサ７２としては、例えば、キーエンス社のＡＰ−Ｖ８０シリーズ（具体的には、例えばＡＰ−１５Ｓ）等を採用することができる。
【００５５】
なお、供給源７０における実際の残量Ｖ１（体積）は、圧力センサ７２が測定する残圧と、供給源７０の容量（内部容積）と、から算出される。供給源７０として、多様な容量の供給源７０を使用する前提の場合、例えば、実際の供給源７０の容量を、図示しない入力部のシステム画面上で選択することで、演算用の容量を設定してもよい。また、供給源７０として、定用量の供給源７０を使用する前提の場合、制御部９０がその容量を予め記憶しておいてもよい。
【００５６】
配管７５の供給源７０側の端部には、継手７６が設けられている。継手７６には、供給源７０が着脱可能に装着されている。供給源７０を継手７６に着脱させることで、電磁弁７１、圧力レギュレータ７３、流量コントローラ７４及び圧力センサ７２（以下、「電磁弁７１等」という。）を筐体２１に固定したまま、プラズマ発生用ガスの供給源７０を交換することができる。この場合、交換前の供給源７０、交換後の供給源７０のいずれについても共通の電磁弁７１等を使用することができる。なお電磁弁７１等は、供給源７０に固定され、供給源７０と一体的に筐体２１から離脱可能であってもよい。
【００５７】
図１に示すように、ガス管路３０は、供給ユニット２０から照射器具１０にプラズマ発生用ガスを供給する経路である。ガス管路３０は、照射器具１０の管状誘電体３の後端部に接続している。ガス管路３０の材料は特に制限はなく、公知のガス管に用いる材料を適用できる。ガス管路３０の材料としては、例えば、樹脂製の配管、ゴム製のチューブ等を例示でき、可撓性を有する材料が好ましい。
【００５８】
電圧供給線４０は、供給ユニット２０から照射器具１０に高電圧を供給する配線である。電圧供給線４０は、照射器具１０の内部電極４、外部電極５及び不図示のフットスイッチに接続している。電圧供給線４０の材料は特に制限はなく、公知の電圧供給線に用いる材料を適用できる。電圧供給線４０の材料としては、絶縁材料で被覆した金属導線等を例示できる。
【００５９】
図５に示すような制御部９０は、情報処理装置を用いて構成される。すなわち、制御部９０は、バスで接続されたＣＰＵ（Central Processor Unit）、メモリ及び補助記憶装置を備える。制御部９０は、プログラムを実行することによって動作する。制御部９０は、例えば、供給ユニット２０に内蔵されていてもよい。制御部９０は、照射器具１０、供給ユニット２０および報知部８０を制御する。
【００６０】
制御部９０には、不図示のフットスイッチが電気的に接続されている。照射器具１０の使用者によりフットスイッチが操作されると、フットスイッチから制御部９０に電気信号が送られる。制御部９０が電気信号を受け付けると、制御部９０は電磁弁７１及び流量コントローラ７４を作動させ、かつ内部電極４と外部電極５との間に電圧を印加する。
【００６１】
本実施形態では、使用者がフットスイッチを１回押したときに、制御部９０が電気信号を受け付ける。すると制御部９０が、電磁弁７１を所定の時間、開放して電磁弁７１を通過したプラズマ発生用ガスの流量を流量コントローラ７４に調整させ、かつ内部電極４と外部電極５との間に電圧を所定の時間、印加する。その結果、供給源７０からプラズマ発生部１２に一定量のプラズマ発生用ガスが供給され、ノズル１から活性ガスが一定時間（例えば、数秒から数十秒程度、本実施形態では３０秒）、継続して吐出される。
【００６２】
すなわち、本実施形態では、使用者によるフットスイッチを１回押下するあたりの活性ガスの吐出量が定まっている。このような、所定の吐出量の活性ガスを吐出する操作を単位操作と呼ぶ。本実施形態では、単位操作が、使用者によるフットスイッチの１回の押下である。単位操作１回あたりの活性ガスの吐出量（単位操作１回あたりの供給源７０からプラズマ発生部１２へのプラズマ発生用ガスの供給量）は、予め設定された固定値であってもよく、図示しない操作盤の操作等により設定可能な変動値であってもよい。
【００６３】
制御部９０は、プラズマ発生用ガスの残回数Ｎ及び残時間Ｔのうちの少なくとも一方を残存情報として演算する。本実施形態では、制御部９０は、残回数Ｎ及び残時間Ｔのうちの残回数Ｎのみを残存情報として演算する。残回数Ｎは、供給源７０に残存するプラズマ発生用ガスによって、供給源７０からプラズマ発生部１２にプラズマ発生用ガスを供給することができる残りの単位操作の回数である。残時間Ｔは、供給源７０に残存するプラズマ発生用ガスによって、供給源７０からプラズマ発生部１２にプラズマ発生用ガスを供給することができる残りの時間である。
【００６４】
残回数Ｎ及び残時間Ｔはいずれも、供給源７０におけるプラズマ発生用ガスの残量Ｖ１から算出することができる。残回数Ｎは、残量Ｖ１と、フットスイッチの単位操作１回あたりのプラズマ発生用ガスの供給量Ｖ２と、に基づいて演算（Ｎ＝Ｖ１／Ｖ２）することができる。また、直近数回のプラズマ発生用ガスの使用量（供給量）の平均値Ｖ２（平均値）を演算し、その平均値Ｖ２（平均値）をプラズマ発生用ガスの残量Ｖ１で除することにより、残回数Ｎを算出する。残時間Ｔは、残量Ｖ１と、供給源７０からプラズマ発生部１２に単位時間あたり供給されるプラズマ発生用ガスの供給量Ｖ３と、に基づいて演算（Ｔ＝Ｖ１／Ｖ３）することができる。
【００６５】
報知部８０は、残回数Ｎおよび残時間Ｔのうちの少なくとも一方を報知する。本実施形態では、報知部８０は、残回数Ｎを表示する。報知部８０は、制御部９０が演算した残回数Ｎを数字で表示する。報知部８０として、例えば、任意の数字を表示可能なディスプレイ装置を採用してもよく、機械式のカウンタを採用してもよい。
【００６６】
なお図示の例では、報知部８０は、筐体２１の外面に、筐体２１と一体に設けられているが、供給ユニット２０から独立して設けられていてもよい。また報知部８０は、残回数Ｎを数字とは異なる形態により表示してもよい。例えば報知部８０として、文字盤および針により形成されるアナログ表示をする構成を採用してもよい。さらに例えば、報知部８０が、色の表示態様や、光の点灯の態様により残回数Ｎを報知してもよい。
【００６７】
さらに報知部８０は、音声によって残回数Ｎを報知してもよい。この場合、報知部８０としては、例えばスピーカ等を採用することができる。
【００６８】
本実施形態のように、使用者がフットスイッチを押したときに、供給源７０からプラズマ発生部１２に一定量のプラズマ発生用ガスが供給される場合には、残時間Ｔを報知することよりも残回数Ｎを報知することの方が使用者の利便性を高めることができる。
【００６９】
次に、活性ガス照射装置１００の使用方法を説明する。例えば医師などの使用者は、照射器具１０を持って移動させ、ノズル１を後述する被照射物に向ける。この状態で使用者がフットスイッチを押し、供給源７０から照射器具１０に電気及びプラズマ発生用ガスを供給する。照射器具１０に供給したプラズマ発生用ガスは、管状誘電体３の後端部から管状誘電体３の内空部に流入する。プラズマ発生用ガスは、内部電極４と外部電極５とが対向する位置において電離し、プラズマになる。
【００７０】
本実施形態においては、内部電極４と外部電極５とが、プラズマ発生用ガスの流れる方向と直交する向きに対向している。内部電極４の外周面と外部電極５の内周面とが対向する位置で発生したプラズマは、ガス流路６と、第１の活性ガス流路７と、第２の活性ガス流路８とをこの順に通流する。この間、プラズマは、ガス組成を変化しつつ通流し、ラジカル等の活性種を含む活性ガスとなる。
【００７１】
生じた活性ガスは照射口１ａから吐出される。吐出された活性ガスは、照射口１ａ近傍の気体の一部をさらに活性化して活性種を生成する。これらの活性種を含む活性ガスは被照射物に照射される。
【００７２】
被照射物としては、例えば、細胞、生体組織、生物個体等を例示できる。生体組織としては、内蔵等の各器官、体表や体腔の内面を覆う上皮組織、歯肉、歯槽骨、歯根膜及びセメント質等の歯周組織、歯、骨等を例示できる。生物個体としては、ヒト、犬、猫、豚等の哺乳類；鳥類；魚類等のいずれでもよい。
【００７３】
プラズマ発生用ガスとしては、例えば、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン等の希ガス；窒素；等である。これらのガスは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。プラズマ発生用ガスは、窒素を主成分とすることが好ましい。ここで、窒素を主成分とするとは、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量が５０体積％超であることをいう。即ち、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量は、５０体積％超が好ましく、７０体積％以上がさらに好ましく、９０体積％〜１００体積％が特に好ましい。プラズマ発生用ガス中、窒素以外のガス成分は、特に制限はなく、例えば、酸素、希ガス等を例示できる。
【００７４】
活性ガス照射装置１００が口腔内用治療器具である場合、管状誘電体３に導入するプラズマ発生用ガスの酸素濃度は、１体積％以下が好ましい。酸素濃度が上限値以下であれば、オゾンの発生を低減できる。
【００７５】
管状誘電体３に導入するプラズマ発生用ガスの流量は、１Ｌ／ｍｉｎ〜１０Ｌ／ｍｉｎが好ましい。管状誘電体３に導入するプラズマ発生用ガスの流量が下限値以上であると、被照射物における被照射面の温度の上昇を抑制しやすい。プラズマ発生用ガスの流量が上限値以下であると、被照射物の清浄化、賦活化又は治癒をさらに促進できる。
【００７６】
内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧は、５ｋＶｐｐ以上２０ｋＶｐｐ以下が好ましい。ここで、交流電圧を表す単位「Ｖｐｐ（Ｖｏｌｔ  ｐｅａｋ  ｔｏ  ｐｅａｋ）」は、交流電圧波形の最高値と最低値との電位差である。印加する交流電圧が上限値以下であれば、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。印加する交流電圧が下限値以上であれば、さらに効率的にプラズマを発生できる。
【００７７】
内部電極４と外部電極５との間に印加する交流の周波数は、０．５ｋＨｚ以上２０ｋＨｚ未満が好ましく、１ｋＨｚ以上１５ｋＨｚ未満がより好ましく、２ｋＨｚ以上１０ｋＨｚ未満がさらに好ましく、３ｋＨｚ以上９ｋＨｚ未満が特に好ましく、４ｋＨｚ以上８ｋＨｚ未満が最も好ましい。交流の周波数が上限値未満であれば、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。交流の周波数が下限値以上であれば、さらに効率的にプラズマを発生できる。
【００７８】
ノズル１の照射口１ａから照射する活性ガスの温度は、５０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましく、４０℃以下がさらに好ましい。ノズル１の照射口１ａから照射する活性ガスの温度が上限値以下であると、被照射面の温度を４０℃以下にしやすい。被照射面の温度を４０℃以下にすることで、被照射部分が患部である場合にも、患部への刺激を低減できる。ノズル１の照射口１ａから照射する活性ガスの温度の下限値は、特に制限はなく、例えば、１０℃以上である。活性ガスの温度は、照射口１ａにおける活性ガスの温度を熱電対で測定した値である。
【００７９】
照射口１ａから被照射面までの距離（照射距離）は、例えば、０．０１ｍｍ〜１０ｍｍが好ましい。照射距離が上記下限値以上であれば、被照射面の温度を低くし、被照射面への刺激をさらに緩和できる。照射距離が上記上限値以下であれば、治癒等の効果をさらに高められる。
【００８０】
照射口１ａから１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離で離れた位置の被照射面の温度は、４０℃以下が好ましい。被照射面の温度が４０℃以下であれば、被照射面への刺激を低減できる。被照射面の温度の下限値は特に制限はないが、例えば１０℃以上である。被照射面の温度は、内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧、照射する活性ガスの吐出量、内部電極４の先端Ｑ１から照射口１ａまでの道のり等の組み合わせで調節できる。被照射面の温度は、熱電対を用いて測定できる。
【００８１】
活性ガスに含まれる活性種（ラジカル等）としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等を例示できる。活性ガスに含まれる活性種の種類は、例えば、プラズマ発生用ガスの種類等にさらに調節できる。
【００８２】
活性ガス中におけるヒドロキシラジカルの密度（ラジカル密度）は、０．１μｍｏｌ／Ｌ〜３００μｍｏｌ／Ｌが好ましい。ラジカル密度が下限値以上であると、細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進しやすい。ラジカル密度が上限値以下であると、被照射面への刺激を低減できる。
【００８３】
ラジカル密度は、例えば、以下の方法で測定できる。ＤＭＰＯ（５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．２ｍＬに対して、活性ガスを３０秒間照射する。この際、照射口１ａから液面までの距離を５．０ｍｍとする。活性ガスを照射した溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法を利用してヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル密度とする。
【００８４】
活性ガス中における一重項酸素の密度（一重項酸素密度）は、０．１μｍｏｌ／Ｌ〜３００μｍｏｌ／Ｌが好ましい。一重項酸素密度が下限値以上であると、細胞、生体組織及び生物個体等の被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進しやすい。上限値以下であると、被照射面への刺激を低減できる。
【００８５】
一重項酸素密度は、例えば、以下の方法で測定できる。ＴＰＣ（２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−３−カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、活性ガスを３０秒間照射する。この際、照射口１ａから液面までの距離を５．０ｍｍとする。活性ガスを照射した溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法を利用して一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素密度とする。
【００８６】
照射口１ａから照射する活性ガスの流量は、１Ｌ／ｍｉｎ〜１０Ｌ／ｍｉｎが好ましい。照射口１ａから照射する活性ガスの流量が下限値以上であると、活性ガスが被照射面に作用する効果を充分に高められる。照射口１ａから照射する活性ガスの流量が上限値未満であると、活性ガスの被照射面の温度が過度に高まることを防止できる。加えて、被照射面が濡れている場合には、被照射面の急速な乾燥を防止できる。さらに、被照射面が患部である場合には、患者への刺激を抑制できる。なお、活性ガス照射装置１００において、照射口１ａから照射する活性ガスの流量は、管状誘電体３へのプラズマ発生用ガスの供給量で調節できる。
【００８７】
活性ガス照射装置１００によって生じる活性ガスは、外傷や異常の治癒を促進する効果を有する。活性ガスを細胞、生体組織又は生物個体に照射することによって、その被照射部分の清浄化、賦活化、又はその被照射部分の治癒を促進できる。
【００８８】
外傷や異常の治癒を促進する目的で活性ガスを照射する場合、その照射頻度、照射回数及び照射期間は特に制限はない。例えば、１Ｌ／ｍｉｎ〜５．０Ｌ／ｍｉｎの照射量で活性ガスを患部に照射する場合、１日１回〜５回、毎回１０秒〜１０分、１日〜３０日間、等の照射条件が、治癒を促進する観点から好ましい。
【００８９】
本実施形態の活性ガス照射装置１００は、特に口腔内用治療器具、歯科用治療器具として有用である。また、本実施形態の活性ガス照射装置１００は、動物治療用器具としても好適である。
【００９０】
本実施形態における胴体部２ｂは、保守性を向上させるために分割構造になっている。図６は胴体部２ｂの組立順序を示す図である。図６（ｄ）に示すように、胴体部２ｂは、照射器具１０の軸線方向に延びる断面で２分割された第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅを有する。第１分割体２ｄと第２分割体２ｅは、互いに同じ形状及びサイズを有する。典型的には、第１分割体２ｄと第２分割体２ｅは、中空の半円柱状である。
【００９１】
第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅは、図６（ａ）に示すように、管状誘電体３の外周面に面接触される形状の内周面２ｆを有する。第１分割体２ｄと第２分割体２ｅが面接触する面は平坦面２ｇであり、平坦面２ｇに連なるように半円柱状の内周面２ｆが形成されている。この内周面２ｆに沿って管状誘電体３の外周面が配置されて、内周面２ｆと管状誘電体３の外周面とは面接触される。これにより、図６（ｃ）に示すように、第１分割体２ｄと第２分割体２ｅの内周面２ｆに沿って、管状誘電体３を収納可能とされている。
【００９２】
第１分割体２ｄと第２分割体２ｅの内周面２ｆの一部には、図６（ａ）に示すように、外部電極５の表面に面接触される形状の第１凹部２ｈが設けられている。図２に示すように、外部電極５は、管状誘電体３の外周面の一部を覆うように配置されている。すなわち、外部電極５の外径は、管状誘電体３の外径よりも大きい。よって、第１分割体２ｄと第２分割体２ｅの内周面２ｆの一部に設けられる第１凹部２ｈは、内周面２ｆよりも深い位置に設けられており、内周面２ｆと第１凹部２ｈの境界位置には段差２ｉが形成される。すなわち、第１凹部２ｈの径は、内周面２ｆの径よりも大きい。
【００９３】
本実施形態では、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅの内周面２ｆにて管状誘電体３を固定し、かつ、第１凹部２ｈにて外部電極５を固定するようにしている。第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅと、管状誘電体３と、外部電極５とは、それぞれ材料が異なっており、別個に製造されるため、製造ばらつきにより、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅと、管状誘電体３と、外部電極５の外径寸法に若干の誤差が生じる。このため、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅの内周面２ｆの径と、管状誘電体３の外径とを同一の設計値にして製造すると、場合によっては、製造ばらつきで、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅの内周面２ｆの径よりも、管状誘電体３の外周面の径の方が大きくなり、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅの内周面２ｆに沿って管状誘電体３を収納できなくなるおそれがある。
【００９４】
そこで、本実施形態では、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅの内周面２ｆの径を管状誘電体３の外径よりも若干大きい設計値にすることで、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅの内周面２ｆと管状誘電体３の外周面との間に若干の隙間を生じさせている。すなわち、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅの内周面２ｆは、内周面２ｆに沿って管状誘電体３を収納したときに、内周面２ｆと管状誘電体３の外周面との間に若干の隙間を生じさせる径を有する。この隙間の許容誤差は、例えば０．２ｍｍ±０．１ｍｍである。この程度の隙間があれば、製造ばらつきが生じたとしても、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅの内周面２ｆに沿って管状誘電体３を収納できなくなるおそれがなくなる。
【００９５】
また、照射器具１０のサイズにも種々のものが考えられるため、上述した隙間の許容誤差は一律には決められないことも考えられる。そこで、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅの内周面２ｆの許容誤差を、径方向の比率で規定してもよい。例えば、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅの内周面２ｆは、管状誘電体３の外径よりも、２乃至４%大きい径を有するように設計してもよい。２%未満になると、製造ばらつきにより、内周面２ｆに管状誘電体３を収納できなくなるおそれがある。その一方で、４%を超えると、内周面２ｆに収納された管状誘電体３のがたつきが大きくなり、管状誘電体３が外部電極５や内部電極４に衝突して破損する頻度が高くなる。
【００９６】
外部電極５が収納される第１凹部２ｈの大きさも同様であり、第１凹部２ｈの内周面２ｆの径を外部電極５の外径よりも若干大きく、かつ第１凹部２ｈの軸方向長さを外部電極５の軸方向長さよりも若干大きい設計値にすることで、第１凹部２ｈの内周面２ｆと外部電極５の外周面との間に若干の隙間を生じさせている。この隙間の許容誤差は、例えば０．２ｍｍ±０．１ｍｍである。また、この隙間の許容誤差を外部電極５の外径に対する比率で表してもよい。この場合、第１凹部２ｈは、外部電極５の外周面の径よりも２乃至４%大きい径を有し、かつ外部電極５の軸方向長さよりも０．４乃至０．６%大きい軸方向長さを有する。これらの許容誤差の範囲外だと、第１凹部２ｈ内に外部電極５を収納できなくなったり、あるいは第１凹部２ｈ内での外部電極５のガタが大きくなって、管状誘電体３を破損する頻度が高くなるおそれがある。
【００９７】
また、内部電極４のノズル１とは反対側の端部には、供給源７０から供給される電圧供給線４０を接合する接合部４１が設けられている。この接合部４１では、例えばネジにて電圧供給線４０を内部電極４に接合する。電圧供給線４０は、高圧の交流電圧を内部電極４に供給するものであり、接合部４１が露出していると、電磁波が放射されてしまう。このため、図６（ａ）に示すように、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅの内周面２ｆに、接合部４１を収納する第２凹部２ｊを設けるのが望ましい。
【００９８】
第２凹部２ｊの径は、接合部４１のサイズに合わせて設計されるが、第１凹部２ｈと同様に、製造ばらつきを考慮に入れて、若干の隙間が形成されるように第２凹部２ｊの径を設計するのが望ましい。
【００９９】
なお、胴体部２ｂを軸線方向に分割される２つの分割体構造にし、ノズル１側の分割体がさらに上述したように第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅに分割されるようにし、供給源７０側の分割体にて内部電極４と電圧供給線４０との接合部４１を覆うようにしてもよい。この場合、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅには第１凹部２ｈは設けられるが、第２凹部２ｊは設けられないことになる。
【０１００】
本実施形態では、耐熱性、耐衝撃性、小型化及び電気絶縁性の観点から、第１分割体２ｄと第２分割体２ｅの材料として、変性ポリフェニレンエーテルからなる樹脂体を用いた。変性ポリフェニレンエーテルは、２，６ジメチルフェニレンオキサイドを重合したポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）とポリスチレン（ＰＳ）のポリマアロイである。耐熱性及び成形性に優れており、小型化が可能であり、また、耐衝撃性と電気絶縁性にも優れている。
【０１０１】
なお、どのような樹脂であっても、ある程度の耐熱性、耐衝撃性、小型化及び電気絶縁性は得られるため、変性ポリフェニレンエーテル以外の樹脂材で第１分割体２ｄと第２分割体２ｅを形成してもよい。
【０１０２】
第１分割体２ｄと第２分割体２ｅは、図６（ｄ）に示すように、平坦面２ｇ同士を面接触させた後、例えばネジ２ｋによって固定される。ネジ２ｋが設けられた場所から絶縁が破壊される可能性があることから、内部電極４と外部電極５が対向している領域とは異なる場所にネジ２ｋ位置を設けるのが望ましい。図６（ｄ）では、内部電極４の先端部と、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅの先端部との間に、ネジ２ｋ位置を設けている。これにより、ネジ２ｋ位置での絶縁性破壊を抑制できる。
【０１０３】
外部電極５の表面には、図６（ｂ）に示すようにアース線３３が半田付けされている。このため、外部電極５の外周面の一部は、アース線３３の半田接合部３４により出っ張っている。この半田接合部３４の形状に合わせて、第１凹部２ｈの一部には、さらに深い第３凹部を設けるのが望ましい。第３凹部には半田接合部３４が収納される。これにより、第１分割体２ｄと第２分割体２ｅの第１凹部２ｈ及び第３凹部により、外部電極５の全体を収納することができる。
【０１０４】
本実施形態のように、胴体部２ｂを第１分割体２ｄと第２分割体２ｅの分割構造にすることで、照射器具１０の組立及び分解作業が容易になる。例えば、照射器具１０の組立時には、図６（ａ）のような第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅを用意し、次に図６（ｂ）のように、例えば第１分割体２ｄの内周面２ｆの第１凹部２ｈに外部電極５を収納し、かつ図６（ｂ）の右側から内部電極４を外部電極５の内部に挿入し、内部電極４と電圧供給線４０との接合部４１を第２凹部２ｊに収納する。次に、図６（ｃ）の左側から管状誘電体３を外部電極５の内部に挿入し、図６（ｄ）のように第１分割体２ｄと第２分割体２ｅを平坦面２ｇ同士で面接触させて、ネジ２ｋで固定することで、照射器具１０の組立が行われる。
【０１０５】
逆に、照射器具１０を分解するには、図６（ｄ）→図６（ｃ）→図６（ｂ）→図６（ａ）の順序で分解作業を行うことで、容易に分解でき、照射器具１０の保守性が非常によくなる。
【０１０６】
なお、図６では省略しているが、第１分割体２ｄと第２分割体２ｅを接合して胴体部２ｂを形成した後、胴体部２ｂの表面を金属部材で覆ってもよい。金属部材で覆うことで、電磁波シールド効果をより向上できる。
【０１０７】
以上説明したような本実施形態に係る活性ガス照射装置１００によれば、内部電極４、外部電極５及び管状誘電体３を覆う胴体部２ｂを、照射器具１０の軸線方向に延びる断面で２分割される第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅで構成し、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅの内周面２ｆを、管状誘電体３の外周面に面接触する形状にするため、この内周面２ｆで管状誘電体３を固定できる。また、内周面２ｆに第１凹部２ｈを設けて、この第１凹部２ｈを、外部電極５の表面に面接触する形状にするため、第１凹部２ｈで外部電極５を固定できる。よって、照射器具１０を落下させても、その衝撃力で外部電極５が管状誘電体３に衝突して管状誘電体３が割れるという不具合が起きにくくなる。
【０１０８】
また、胴体部２ｂを第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅに分割できるようにすることで、照射器具１０の組立作業と分解作業を行いやすくなり、保守性が向上する。
【０１０９】
さらに、第１分割体２ｄ及び第２分割体２ｅは、管状誘電体３と外部電極５体の表面全体を覆っているため、内部電極４や外部電極５から放射された電磁波を効率よく遮蔽できる。
【０１１０】
上述の本実施形態の内部電極４の形状は、ねじ状である。しかしながら、内部電極４は、外部電極との間にプラズマを発生できれば、内部電極４の形状は限定されない。内部電極４は、表面に凹凸を有してもよいし、表面に凹凸を有しなくてもよい。内部電極４としては、外周面に凹凸を有する形状が好ましい。例えば、内部電極４の形状は、コイル状でもよいし、外周面に突起、穴、貫通孔が複数形成された棒形状又は筒形状でもよい。内部電極４の断面形状は、特に限定されず、例えば、真円形、楕円形等の円形、四角形、六角形等の多角形を例示できる。
【０１１１】
本発明の態様は、上述した個々の実施形態に限定されるものではなく、当業者が想到しうる種々の変形も含むものであり、本発明の効果も上述した内容に限定されない。すなわち、特許請求の範囲に規定された内容およびその均等物から導き出される本発明の概念的な思想と趣旨を逸脱しない範囲で種々の追加、変更および部分的削除が可能である。
【符号の説明】
【０１１２】
１     ノズル
２ｂ  胴体部
２ｄ  第１分割体
２ｅ  第２分割体
２ｆ  内周面
２ｇ  平坦面
２ｈ  第１凹部
２ｊ  第２凹部
２ｋ  ネジ
９     操作スイッチ
１０   照射器具
１２   プラズマ発生部
７０   供給源
８０   報知部
９０   制御部（演算部）
１００、１００Ｂ  プラズマ装置（ 活性ガス照射装置 ）
【図１】
2020155260.tif 000003
【図２】
2020155260.tif 000004
【図３】
2020155260.tif 000005
【図４】
2020155260.tif 000006
【図５】
2020155260.tif 000007
【図６】
2020155260.tif 000008