(57)【要約】【課題】歯科修復物の製造のためのプロセスを提供すること。【解決手段】本発明は、歯科修復物の製造のためのプロセスに関し、このプロセスにおいて、酸化物セラミック材料は、（ａ）第一の加熱処理に供され、（ｂ）第二の加熱処理に供され、そして（ｃ）冷却され、ここでステップ（ａ）における加熱処理は、ステップ（ｂ）における加熱処理より低い圧力で行われる。本発明の目的は、優れた機械特性および特に光学特性を有する歯科修復物が、酸化物セラミック材料を焼成することにより短時間で製造され得る、歯科修復物の製造のためのプロセスを提供することである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯科修復物の製造のためのプロセスであって、該プロセスにおいて、酸化物セラミック材料が、
（ａ）  第一の加熱処理に供され、
（ｂ）  第二の加熱処理に供され、そして
（ｃ）  冷却され、
ここで前記ステップ（ａ）における加熱処理が、前記ステップ（ｂ）における加熱処理より低い圧力で行われる、プロセス。
【請求項２】
ステップ（ａ）において、前記酸化物セラミック材料が、１１００から１６００℃までの範囲、特に１２００から１５００℃までの範囲、好ましくは１２５０から１４５０℃までの範囲、そしてさらに好ましくは１３００から１４００℃までの範囲にある温度、そして最も好ましくは約１３５０℃である温度まで加熱される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
ステップ（ａ）において、前記酸化物セラミック材料が、１０から５００Ｋ／分まで、特に５０〜２５０Ｋ／分、そして好ましくは１００〜２００Ｋ／分の範囲の加熱速度で加熱される、請求項１または２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記ステップ（ａ）における加熱処理が、２００ｍｂａｒ未満、好ましくは１００ｍｂａｒ未満、そして特に好ましくは５０ｍｂａｒ未満、そして特に０．１から２００ｍｂａｒまでの範囲の圧力、好ましくは１から１５０ｍｂａｒまでの範囲の圧力、そして特に好ましくは５０から１００ｍｂａｒまでの範囲の圧力で行われる、請求項１〜３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項５】
ステップ（ｂ）において、前記酸化物セラミック材料が、（ｂ１）必要に応じてさらに加熱され、そして（ｂ２）１１００から１７００℃までの範囲、特に１３００から１６００℃までの範囲、そして好ましくは１３５０から１５５０℃までの範囲、そして特に好ましくは約１５００℃の温度で、好ましくは一定の温度で保持および焼成される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６】
前記ステップ（ｂ２）における保持が、１〜６０分間、特に２〜３０分間、好ましくは３〜１５分間、そして特に好ましくは約５分間行われる、請求項５に記載のプロセス。
【請求項７】
前記ステップ（ｂ）における加熱処理が、５００ｍｂａｒより高い圧力で、そして特に周囲圧力で行われる、請求項１〜６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記ステップ（ｂ）における加熱処理が、酸素含有雰囲気中で、そして特に、空気中、酸素濃縮空気中または酸素中で行われる、請求項１〜７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９】
酸素含有雰囲気、好ましくは空気、酸素濃縮空気、または酸素が、ステップ（ｂ）中に加熱チャンバを通って、不連続にかまたは好ましくは連続的に、特に０．１から５０ｌ／分まで、好ましくは１〜２０ｌ／分、そして特に好ましくは４〜８ｌ／分の流量で流れる、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】
ステップ（ａ）において、前記酸化物セラミック材料が、前記酸化物セラミック材料がステップ（ｂ）において保持される温度または温度範囲よりも、０〜５００Ｋ低い、特に１０〜２５０Ｋ低い、好ましくは５０〜２００Ｋ低い、そして特に好ましくは１００〜１５０Ｋ低い温度まで加熱される、請求項５〜９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１】
ステップ（ｃ）において、前記酸化物セラミック材料が、２０から１３００℃までの範囲、特に１００から１２５０℃までの範囲、そして好ましくは１０００から１２００℃までの範囲にある温度まで冷却される、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記酸化物セラミック材料が、ジルコニアベースであり、特に正方晶系ジルコニア多結晶（ＴＺＰ）ベースである、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記ジルコニアが、Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＭｇＯおよび／またはＣａＯで安定化されており、そして好ましくは、該ジルコニアの含有量に対して、２〜１２ｍｏｌ％、特に３〜５ｍｏｌ％のこれらの酸化物で安定化されている、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記酸化物セラミック材料が着色されており、そして好ましくは、特に色が異なる少なくとも２つの層を含む、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記歯科修復物が、ブリッジ、インレー、アンレー、クラウン、前装、咬合局面または支台であり、そして好ましくは、２つまたはそれより多くのユニットを備える、請求項１〜１４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１６】
歯科修復物の製造のための、酸化物セラミック材料の使用であって、該酸化物セラミック材料は、
（ａ）  第一の加熱処理に供され、
（ｂ）  第二の加熱処理に供され、そして
（ｃ）  冷却され、
ここで前記ステップ（ａ）における加熱処理が、前記ステップ（ｂ）における加熱処理より低い圧力で行われる、使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、酸化物セラミック材料から開始して、優れた特性を有する歯科修復物を短時間で製造することを可能にするプロセスに関する。本発明はまた、本発明によるプロセスによって歯科修復物を製造するための、酸化物セラミック材料の使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
酸化物セラミックなどのセラミック材料は、しばしば、完全に解剖学的な歯科修復物の製造のために使用される。これらは、臨床上の高い安全性を与え、通常は金属を含まず、最小侵襲性調製物においても使用され得、そして他の金属を含まない修復物と比較した場合に、価格の観点で非常に魅力的である。しかし、１つの欠点は、このような修復物の製造のために通常必須である多数の作業工程である。
【０００３】
これらの修復物は通常、予備焼成ブランクからミーリングまたは粉砕され、必要に応じて着色され、熱処理によって緻密焼成され、そして最後に、必要に応じてさらに着色され、艶出しされ、そして／または研磨される。
【０００４】
歯科用セラミックを焼成するための従来のプロセスは、最高温度までのゆっくりとした加熱を包含し、この最高温度で、使用される酸化物セラミック材料が緻密焼成される。この低い加熱速度に起因して、このような焼成プロセスは代表的に、４時間よりもさらに長い時間を要し、従って、歯科用セラミックの製造サイクルの、特に椅子のわきでの処置の場合に不満足に長い時間の、大きな原因となる。
【０００５】
加熱速度を増大させることによって焼成プロセスを加速するアプローチは、原理的には公知である。
【０００６】
従って、欧州特許出願公開第２０９８１８８号は、歯科用ファーネス、および歯科材料を焼成するための方法を記載し、この方法において、この炉は、第一の加熱期間で、５０Ｋ／分を超える迅速な加熱速度で、少なくとも１０００℃の予備焼成温度まで加熱される。
【０００７】
欧州特許出願公開第２１０１号は、焼成炉、および歯科用調製物を焼成するための方法を記載し、この方法において、これらの歯科用調製物は、焼成区画に沿って動かされ、そしてここで、異なる温度に曝露される。第一の区画において、３００Ｋ／分またはそれを超える、高い加熱速度が使用され得る。
【０００８】
国際公開第２０１２／０５７８２９号は、電磁誘導またはプラズマを使用して、セラミックを迅速に焼成するための方法を記載する。
【０００９】
国際公開第２０１５／０９１７４４号は、歯科補綴物部品の焼成を計画するための方法を記載し、この方法において、歯科補綴物部品の加熱処理のための温度プロフィールは、製造されるべき歯科補綴物部品の特定の幾何パラメータおよび材料パラメータの関数として、コンピュータによって自動的に決定される。１００Ｋ／分〜４００Ｋ／分の加熱速度が、特定の歯科補綴物部品の焼成のために使用される。
【００１０】
国際公開第２０１５／１２１３６４号は、歯科用成分のための、加熱デバイスを備える焼成炉を記載し、この加熱デバイスは、有用な領域において、少なくとも２００Ｋ／分の加熱速度を可能にする。
【００１１】
保護気体下、または減圧中での、歯科材料の焼成もまた、公知である。
【００１２】
国際公開第２０１１／０２０６８８号は、歯科技術における、保護気体下での金属またはセラミックの無酸素焼成のためのデバイスを記載する。
【００１３】
欧州特許出願公開第２７０３７６０号は、歯科補綴物を焼成するための歯科用ファーネスを記載し、この歯科用ファーネスの加熱チャンバは、従来の閉鎖デバイス（例えば扉など）によってか、減圧容器の取り付けによってのいずれかで閉じられ得、これによって、通常の焼成または減圧焼成のいずれのためにも使用され得る。
【００１４】
しかし、焼成プロセスを加速するための公知のアプローチでは、その特性が歯科分野における高い要求（特に、光学特性に対する要求）を満たさないセラミック材料をもたらすことが示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】欧州特許出願公開第２０９８１８８号明細書
【特許文献２】欧州特許出願公開第２１０１号明細書
【特許文献３】国際公開第２０１２／０５７８２９号
【特許文献４】国際公開第２０１５／０９１７４４号
【特許文献５】国際公開第２０１５／１２１３６４号
【特許文献６】国際公開第２０１１／０２０６８８号
【特許文献７】欧州特許出願公開第２７０３７６０号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１６】
従って、本発明の目的は、優れた機械特性および特に光学特性を有する歯科修復物が、酸化物セラミック材料を焼成することにより短時間で製造され得る、歯科修復物の製造のためのプロセスを提供することである。
【００１７】
この目的は、本発明によって、請求項１〜１５に記載の歯科修復物の製造のためのプロセスによって達成される。本発明の主題はまた、請求項１６に記載の、歯科修復物の製造のための酸化物セラミック材料の使用である。
【００１８】
本発明は、例えば、以下を提供する：
（項目１）
歯科修復物の製造のためのプロセスであって、該プロセスにおいて、酸化物セラミック材料が、
（ａ）  第一の加熱処理に供され、
（ｂ）  第二の加熱処理に供され、そして
（ｃ）  冷却され、
ここで前記ステップ（ａ）における加熱処理が、前記ステップ（ｂ）における加熱処理より低い圧力で行われる、プロセス。
（項目２）
ステップ（ａ）において、前記酸化物セラミック材料が、１１００から１６００℃までの範囲、特に１２００から１５００℃までの範囲、好ましくは１２５０から１４５０℃までの範囲、そしてさらに好ましくは１３００から１４００℃までの範囲にある温度、そして最も好ましくは約１３５０℃である温度まで加熱される、上記項目に記載のプロセス。
（項目３）
ステップ（ａ）において、前記酸化物セラミック材料が、１０から５００Ｋ／分まで、特に５０〜２５０Ｋ／分、そして好ましくは１００〜２００Ｋ／分の範囲の加熱速度で加熱される、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
（項目４）
前記ステップ（ａ）における加熱処理が、２００ｍｂａｒ未満、好ましくは１００ｍｂａｒ未満、そして特に好ましくは５０ｍｂａｒ未満、そして特に０．１から２００ｍｂａｒまでの範囲の圧力、好ましくは１から１５０ｍｂａｒまでの範囲の圧力、そして特に好ましくは５０から１００ｍｂａｒまでの範囲の圧力で行われる、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
（項目５）
ステップ（ｂ）において、前記酸化物セラミック材料が、（ｂ１）必要に応じてさらに加熱され、そして（ｂ２）１１００から１７００℃までの範囲、特に１３００から１６００℃までの範囲、そして好ましくは１３５０から１５５０℃までの範囲、そして特に好ましくは約１５００℃の温度で、好ましくは一定の温度で保持および焼成される、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
（項目６）
前記ステップ（ｂ２）における保持が、１〜６０分間、特に２〜３０分間、好ましくは３〜１５分間、そして特に好ましくは約５分間行われる、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
（項目７）
前記ステップ（ｂ）における加熱処理が、５００ｍｂａｒより高い圧力で、そして特に周囲圧力で行われる、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
（項目８）
前記ステップ（ｂ）における加熱処理が、酸素含有雰囲気中で、そして特に、空気中、酸素濃縮空気中または酸素中で行われる、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
（項目９）
酸素含有雰囲気、好ましくは空気、酸素濃縮空気、または酸素が、ステップ（ｂ）中に加熱チャンバを通って、不連続にかまたは好ましくは連続的に、特に０．１から５０ｌ／分まで、好ましくは１〜２０ｌ／分、そして特に好ましくは４〜８ｌ／分の流量で流れる、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
（項目１０）
ステップ（ａ）において、前記酸化物セラミック材料が、前記酸化物セラミック材料がステップ（ｂ）において保持される温度または温度範囲よりも、０〜５００Ｋ低い、特に１０〜２５０Ｋ低い、好ましくは５０〜２００Ｋ低い、そして特に好ましくは１００〜１５０Ｋ低い温度まで加熱される、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
（項目１１）
ステップ（ｃ）において、前記酸化物セラミック材料が、２０から１３００℃までの範囲、特に１００から１２５０℃までの範囲、そして好ましくは１０００から１２００℃までの範囲にある温度まで冷却される、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
（項目１２）
前記酸化物セラミック材料が、ジルコニアベースであり、特に正方晶系ジルコニア多結晶（ＴＺＰ）ベースである、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
（項目１３）
前記ジルコニアが、Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＭｇＯおよび／またはＣａＯで安定化されており、そして好ましくは、該ジルコニアの含有量に対して、２〜１２ｍｏｌ％、特に３〜５ｍｏｌ％のこれらの酸化物で安定化されている、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
（項目１４）
前記酸化物セラミック材料が着色されており、そして好ましくは、特に色が異なる少なくとも２つの層を含む、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
（項目１５）
前記歯科修復物が、ブリッジ、インレー、アンレー、クラウン、前装、咬合局面または支台であり、そして好ましくは、２つまたはそれより多くのユニットを備える、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
（項目１６）
歯科修復物の製造のための、酸化物セラミック材料の使用であって、該酸化物セラミック材料は、
（ａ）  第一の加熱処理に供され、
（ｂ）  第二の加熱処理に供され、そして
（ｃ）  冷却され、
ここで前記ステップ（ａ）における加熱処理が、前記ステップ（ｂ）における加熱処理より低い圧力で行われる、使用。
【００１９】
摘要
本発明は、歯科修復物の製造のためのプロセスに関し、このプロセスにおいて、酸化物セラミック材料は、
（ａ）  第一の加熱処理に供され、
（ｂ）  第二の加熱処理に供され、そして
（ｃ）  冷却され、
ここでステップ（ａ）における加熱処理は、ステップ（ｂ）における加熱処理より低い圧力で行われる。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
歯科修復物の製造のための、本発明によるプロセスは、酸化物セラミック材料が、
（ａ）  第一の加熱処理に供され、
（ｂ）  第二の加熱処理に供され、そして
（ｃ）  冷却され、
ここでステップ（ａ）における加熱処理が、ステップ（ｂ）より低い圧力で行われることを特徴とする。
【００２１】
驚くべきことに、本発明によるプロセスは、良好な機械特性および特に高い密度を有し、そして同時にまた、歯科修復物に対する美的観点からの高い要求を満たし、そして天然の歯の材料の光学特性を実に見事に模倣し得る歯科修復物を形成するための酸化物セラミックの、非常に迅速な焼成を可能にすることが見出された。
【００２２】
ステップ（ａ）において使用される酸化物セラミック材料は通常、非緻密焼成されたものであり、特に、予備焼成された酸化物セラミック材料である。使用される酸化物セラミック材料は、通常３０から９０％までの範囲、特に４０から８０％までの範囲、そして好ましくは５０から７０％までの範囲の相対密度を有し、各場合において、この酸化物セラミック材料の真密度に対してである。
【００２３】
相対密度とは、酸化物セラミック材料の見掛け密度の、酸化物セラミック材料の真密度に対する比である。
【００２４】
酸化物セラミック材料の見掛け密度は、ＩＳＯ  １８７５４に従う液浸法によって、乾燥サンプルの質量（ｍｔ）、浸液に浸漬されたこのサンプルの見掛け質量（ｍｉ）、およびこの浸液の密度（ρｉ）から、式
【数１】
2020081895.tif 000002
に従って計算され得る。
【００２５】
好ましくは、四塩化炭素（ＣＣｌ４）が浸液として使用される。
【００２６】
酸化物セラミック材料の真密度は、酸化物セラミック材料を、粒子の数に対して１０から３０μｍまで、特に２０μｍの平均粒子サイズを有する粉末に粉砕し、そしてこの粉末の密度をピクノメーターにより決定することによって、決定される。粒子サイズの決定は、例えば、Ｑｕａｎｔａｃｈｒｏｍｅ  ＧｍｂＨ  ＆  Ｃｏ．ＫＧ製のＣＩＬＡＳ（登録商標）Ｐａｒｔｉｃｌｅ  Ｓｉｚｅ  Ａｎａｌｙｚｅｒ  １０６４を用いて、ＩＳＯ  １３３２０（２００９）に従うレーザー回折を使用して、行われ得る。
【００２７】
ステップ（ａ）において、酸化物セラミック材料は、好ましくは１１００から１６００℃までの範囲、特に１２００から１５００℃までの範囲、好ましくは１２５０から１４５０℃までの範囲、そしてさらに好ましくは１３００から１４００℃までの範囲、そして最も好ましくは約１３５０℃の温度まで加熱される。ステップ（ａ）の終了時に、酸化物セラミック材料が、９０から９７％までの範囲、特に９３から９６％までの範囲の相対密度、そして好ましくは約９５％の相対密度（各場合において、この酸化物セラミック材料の真密度に対して）を有することが、さらに好ましい。
【００２８】
ステップ（ａ）において、酸化物セラミック材料は、好ましくは１０から５００Ｋ／分までの範囲、特に５０〜２５０Ｋ／分の範囲、そして好ましくは１００〜２００Ｋ／分の加熱速度で加熱される。好ましい実施形態において、この酸化物セラミック材料は最初に、ステップ（ａ）で達成される最高温度よりも１００〜７００Ｋ低い、特に２００〜４５０Ｋ低い、そして好ましくは約３５０Ｋ低い温度まで、５０から５００Ｋ／分まで、特に１００〜２５０Ｋ／分、そして好ましくは１５０〜２００Ｋ／分の加熱速度で加熱され、そして次に、１０から２００Ｋ／分まで、特に２５〜１５０Ｋ／分、そして好ましくは５０〜１００Ｋ／分の加熱速度で、さらに加熱される。
【００２９】
本発明によれば、ステップ（ａ）における加熱処理は、ステップ（ｂ）における加熱処理より低い圧力で行われる。ステップ（ａ）における加熱処理は、好ましくは２００ｍｂａｒ未満、好ましくは１００ｍｂａｒ未満、そして特に好ましくは５０ｍｂａｒ未満の圧力、そして特に０．１から２００ｍｂａｒまでの範囲、好ましくは１から１５０ｍｂａｒまでの範囲、そして特に好ましくは５０から１００ｍｂａｒまでの範囲の圧力で行われる。
【００３０】
この圧力は、酸化物セラミック材料の加熱を始める前に、周囲温度でセットされ得る。あるいは、この酸化物セラミック材料は、最初に、ステップ（ａ）について規定される圧力をセットする前に、周囲温度より高い温度まで加熱され得る。この温度は、好ましくは２０から５００℃までの範囲、そして特に２５から１００℃までの範囲にある。
【００３１】
ステップ（ｂ）において、酸化物セラミック材料は、好ましくは、（ｂ１）必要に応じてさらに加熱され、そして（ｂ２）１１００から１７００℃までの範囲、特に１３００から１６００℃までの範囲、そして好ましくは１３５０から１５５０℃までの範囲の好ましくは一定の温度で、そして特に好ましくは約１５００℃の温度で、保持および焼成される。ステップ（ｂ１）におけるこのさらなる加熱は、好ましくは１０から２００Ｋ／分まで、特に２５〜１５０Ｋ／分、そして好ましくは５０〜１００Ｋ／分の加熱速度で行われる。ステップ（ｂ２）における保持は、好ましくは１〜６０分間、特に２〜３０分間、好ましくは３〜１５分間、そして特に好ましくは約５分間行われる。この対応する温度で保持することにより、この酸化物セラミック材料は代表的に、緻密焼成される。この後、この酸化物セラミック材料は、各場合においてこの酸化物セラミック材料の真密度に対して、好ましくは少なくとも９７％、特に少なくとも９８％、好ましくは少なくとも９９％、そして最も好ましくは少なくとも９９．５％の相対密度を有する。
【００３２】
本発明によれば、ステップ（ｂ）における加熱処理は、ステップ（ａ）における加熱処理よりも高い圧力で行われる。ステップ（ｂ）における加熱処理は、好ましくは５００ｍｂａｒより高い圧力で、そして特に周囲圧力で行われる。
【００３３】
ステップ（ｂ）における加熱処理は、好ましくは、酸素含有雰囲気中で行われる。特に、空気、酸素濃縮空気、および酸素が、酸素含有雰囲気として考慮される。このような雰囲気を提供する目的で、この加熱処理のために使用される加熱チャンバは、空気および／または酸素で満たされ得る。好ましい実施形態において、酸素含有雰囲気、好ましくは空気、酸素濃縮空気、酸素は、ステップ（ｂ）の間、加熱処理のために使用される加熱チャンバを通って、不連続にかまたは好ましくは連続的に、特に０．１から５０ｌ／分まで、好ましくは１〜２０ｌ／分、そして特に好ましくは４〜８ｌ／分の流速で流れる。
【００３４】
さらに、ステップ（ａ）において、酸化物セラミック材料が、ステップ（ｂ）において酸化物セラミック材料が保持される温度または温度範囲よりも、０〜５００Ｋ低い、特に１０〜２５０Ｋ低い、好ましくは５０〜２００Ｋ低い、そして特に好ましくは１００〜１５０Ｋ低い温度まで加熱されることが好ましい。
【００３５】
次いで、ステップ（ｃ）において、酸化物セラミック材料が冷却される。この酸化物セラミック材料は、好ましくは２０から１３００℃までの範囲、特に１００から１２５０℃までの範囲、そして好ましくは１０００から１２００℃までの範囲の温度まで冷却される。このような温度に達した後に、この酸化物セラミック材料は、加熱チャンバから取り出され得る。この冷却は、好ましくは５０〜２００Ｋ／分、特に７５〜１７５Ｋ／分、そして好ましくは１００〜１５０Ｋ／分の冷却速度で行われる。
【００３６】
本発明によるプロセスに従って得られる酸化物セラミック材料は、好ましくは１ｎｍから１０００ｎｍまで、特に１０ｎｍから８００ｎｍまで、そして好ましくは１００ｎｍから６００ｎｍまでの数平均粒径を有する。数平均粒径は、特に、ＤＩＮ  ＥＮ  ６２３−３またはＡＳＴＭ  Ｅ  １１２に従う、線形切断法によって決定され得、ここで三次元微細構造の実際の数平均粒径への変換のために、Ｍ．Ｉ．Ｍｅｎｄｅｌｓｏｎ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｅｒａｍ．Ｓｏｃ．１９６９，５２（８），４４３−４４６に従って、決定された値に１．５６という比例定数を掛ける。
【００３７】
本発明によるプロセスは、種々のタイプの酸化物セラミック材料に適している。酸化物セラミック材料は一般に、高度に結晶性のセラミック材料であり、これらは、酸化物化合物をベースとし、そして大部分が、非常に低いガラス相の割合を有する。代表的な酸化物セラミック材料は、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、これらの組み合わせ、固溶体または複合材料、特にＺｒＯ２／Ａｌ２Ｏ３（ＺＴＡ）、Ａｌ２Ｏ３／ＺｒＯ２（ＡＴＺ）またはＺｒＯ２／スピネルをベースとし、ここでスピネルは、好ましくは、Ｓｒスピネル、Ｍｇスピネル、Ｌａスピネルおよび／またはＣｅスピネルである。ＺｒＯ２および／またはＡｌ２Ｏ３をベースとする酸化物セラミック材料が、本発明によれば好ましい。
【００３８】
ジルコニアをベースとする酸化物セラミック材料、特に正方晶系ジルコニア多結晶（ＴＺＰ）をベースとする酸化物セラミック材料が、特に好ましい。ジルコニアをベースとする酸化物セラミック材料であって、このジルコニアが、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＭｇＯおよび／またはＣａＯで、好ましくはジルコニア含有量に対して２〜１２ｍｏｌ％、特に３〜５ｍｏｌ％のこれらの酸化物で安定化されている、酸化物セラミックが、非常に特に好ましい。
【００３９】
酸化物セラミック材料が着色されていることが、さらに好ましい。本発明によれば、これは、１つまたはそれより多くの着色元素が添加されている酸化物セラミック材料を意味する。適切な着色元素の例は、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｐｒ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｎｄ、ＣｕおよびＢｉである。酸化物セラミック材料は、特に好ましくは、色が異なる少なくとも２つの層を含む。
【００４０】
本願の意味の範囲内で、用語「色」および「着色」は、物質の色、明度および／または半透明性に関する。
【００４１】
「半透明性」とは、物質、立体または層の光透過、すなわち、透過光強度対入射光強度の比である。
【００４２】
色はまた、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における色座標Ｌ＊、ａ＊およびｂ＊によって、または歯科産業において通常使用される色コードによって、特徴付けられ得る。Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間において、値Ｌ＊は、０（黒）から１００（白）までの値で色の明度を表し、値ａ＊は、色の緑成分または赤成分を表し、ここで負の値は緑を表し、そして正の値は赤を表し、そして値ｂ＊は、色の青成分または黄成分を表し、ここで負の値は青を表し、そして正の値は黄を表す。歯科産業において通常の色コードの例は、Ｖｉｔａｐａｎ  ｃｌａｓｓｉｃａｌ（登録商標）およびＶｉｔａ  ３Ｄ  Ｍａｓｔｅｒ（登録商標）（両方が、ＶＩＴＡ  Ｚａｈｎｆａｂｒｉｋ  Ｈ．Ｒａｕｔｅｒ  ＧｍｂＨ  ＆  Ｃｏ．ＫＧ製）、ならびにＣｈｒｏｍａｓｃｏｐ（登録商標）（Ｉｖｏｃｌａｒ  Ｖｉｖａｄｅｎｔ  ＡＧ製）である。半透明性は、明度比ＣＲによって特徴付けられ得、ここで０％は、完全な透明を意味し、そして１００％は、完全な不透明を意味する。
【００４３】
通常、色座標Ｌ＊、ａ＊およびｂ＊は、ＤＩＮ  ５０３３およびＤＩＮ  ６１７４に従って決定され、そして半透明性は、ＢＳ  ５６１２に従って決定される。対応する測定は、特に、ＣＭ−３７００ｄ型の分光光度計（Ｋｏｎｉｃａ−Ｍｉｎｏｌｔａ）によって行われ得る。このために、２．００±０．０２５ｍｍの最終サンプル厚さを得る目的で両面がダイヤモンド粒子（粒子サイズ１５〜２０μｍ）で湿式研磨された試験片が、測定のために使用される。
【００４４】
本発明により得られる歯科修復物の色（単数または複数）は、好ましくは、自然の歯の色の範囲内である。特に好ましくは、本発明により得られる歯科修復物は、５０から１００までの範囲、特に８０〜９７の範囲のＬ＊値、−１０から１０までの範囲、特に−１〜５の範囲のａ＊値、０から５０までの範囲、特に１〜２０の範囲のｂ＊値、および／または５０から１００％までの範囲、特に７５〜９９％の範囲のＣＲ値を有する。
【００４５】
本発明によるプロセスは、歯科修復物の製造のために特に適している。特に好ましい歯科修復物は、ブリッジ、インレー、アンレー、クラウン、前装、咬合局面および支台である。本発明によるプロセスは、２つまたはそれより多くのユニットを含む歯科修復物（特にブリッジ）の製造のために、非常に特に適している。
【００４６】
本発明はまた、歯科修復物の製造のための、酸化物セラミック材料の使用に関し、ここで酸化物セラミック材料は、
（ａ）  第一の加熱処理に供され、
（ｂ）  第二の加熱処理に供され、そして
（ｃ）  冷却され、
ここでステップ（ａ）における加熱処理は、ステップ（ｂ）における加熱処理より低い圧力で行われる。
【００４７】
この使用の好ましい実施形態は、本発明によるプロセスについて上に記載されるとおりである。
【００４８】
本発明は、実施例を参照しながら、以下でより詳細に説明される。
【実施例】
【００４９】
一般手順：試験片の製造
１７ｍｍの高さ、１５．５ｍｍの幅および２．５〜３．５ｍｍの厚さを有する試験片を、市販の酸化物セラミックのブロックまたは円板から、ダイヤモンド鋸を使用する乾式鋸引きによって製造した。この鋸引きの後に、これらの試験片を、乾燥キャビネット内で８０℃で２時間乾燥させた。
【００５０】
実施例１Ａ
一般手順に従って、市販の３ｍｏｌ％のＹ２Ｏ３を含有するジルコニアをベースとする酸化物セラミックブロック（ＩＰＳ  ｅ．ｍａｘ  ＺｉｒＣＡＤ  ＬＴ  ＢＬ，Ｉｖｏｃｌａｒ  Ｖｉｖａｄｅｎｔ）から得られた試験片を、ＳｉＣ加熱素子を備える焼成炉内で焼成した。このために、試験片をこの焼成炉の加熱チャンバに室温で導入し、この加熱チャンバを閉じ、そして約５０〜１００ｍｂａｒの最終圧力の部分減圧をこの加熱チャンバ内で発生させた。試験片を、約１０００℃の温度まで約１８０Ｋ／分の加熱速度で加熱し、そしてさらに、約１３５０℃の温度まで約８０Ｋ／分の加熱速度で加熱した。この温度に達したら、この加熱チャンバを新鮮な空気で満たし、次いで新鮮な空気を、約５ｌ／分の流量で連続的に流し、この間に、試験片を１５００℃の温度まで約８０Ｋ／分の加熱速度でさらに加熱し、この温度で約５分間保持し、次いで約１１００℃の温度まで約１４０Ｋ／分の速度で冷却した。次いで、この加熱チャンバを開いた。この焼成プロセスの合計の持続時間は、約１９．５分間であった。
【００５１】
実施例１Ｂ（比較）
実施例１Ａを繰り返したが、今回は、減圧を発生させず、その代わりに、新鮮な空気を加熱チャンバに通して、焼成プロセスの全持続時間にわたって連続的に、約５ｌ／分の流量で流した。
【００５２】
実施例１Ｃ（比較）
一般手順に従って、市販の３ｍｏｌ％のＹ２Ｏ３を含有するジルコニアをベースとする酸化物セラミックブロック（ＩＰＳ  ｅ．ｍａｘ  ＺｉｒＣＡＤ  ＬＴ  ＢＬ，Ｉｖｏｃｌａｒ  Ｖｉｖａｄｅｎｔ）から得られた試験片を、Ｐｒｏｇｒａｍａｔ  ＣＳ４型の焼成炉（Ｉｖｏｃｌａｒ  Ｖｉｖａｄｅｎｔ）内で、プログラムＰ２を用いて、自動予備乾燥を用いずに焼成した。ここで、試験片を室温から約９００℃まで、約１３０Ｋ／分の加熱速度で加熱し、さらに、約１０３５℃まで約５０Ｋ／分の加熱速度で加熱し、そして最後に、約１４６０℃まで約１５Ｋ／分の加熱速度で加熱した。試験片をこの温度で約６分間保持し、次いで約１２００℃の温度まで約７０Ｋ／分の冷却速度で冷却した。次いで、この加熱チャンバを開いた。この焼成プロセスの全持続時間は、約４７分間であった。
【００５３】
実施例１Ａ〜Ｃで得られた酸化物セラミック材料の密度、半透明性および色座標を、表１に再現する。
【表１】
2020081895.tif 000003
【００５４】
これらの結果は、実施例１Ａによる本発明によるプロセスが、２０分未満という非常に短い焼成の持続時間を使用して、実施例１Ｂおよび１Ｃに匹敵する密度に達することを可能にし、そして同時に、実施例１Ｃによるゆっくりとした焼成の場合に得られる半透明性に匹敵し、そして実施例１Ｂによる速い焼成の場合に得られる半透明性よりずっと高い半透明性を得ることを可能にすることを示す。
【００５５】
実施例２
一般手順に従って、市販の３ｍｏｌ％のＹ２Ｏ３を含有するジルコニアをベースとする酸化物セラミックブロック（ＩＰＳ  ｅ．ｍａｘ  ＺｉｒＣＡＤ  ＬＴ  ＢＬ  Ｂ４５もしくはＩＰＳ  ｅ．ｍａｘ  ＺｉｒＣＡＤ  ＬＴ  Ａ３  Ｂ４５，Ｉｖｏｃｌａｒ  Ｖｉｖａｄｅｎｔ）から、または市販のジルコニアをベースとする酸化物セラミック円板（Ｚｅｎｏｓｔａｒ  ＭＴ  ３，Ｗｉｅｌａｎｄ  Ｄｅｎｔａｌ＋Ｔｅｃｈｎｉｋ）から得られた試験片を、各場合に、ＭｏＳｉ２加熱素子を備える焼成炉内で焼成した。このために、試験片を、この焼成炉の加熱チャンバに室温で導入し、この加熱チャンバを閉じ、そして５０ｍｂａｒ未満の最終圧力の部分減圧を、この加熱チャンバ内で発生させた。試験片を、約１０５０℃の温度まで約１８０Ｋ／分の加熱速度で加熱し、そしてさらに、約１５００℃の温度まで約８０Ｋ／分の加熱速度で加熱した。表２に従って、１３５０℃、１４００℃、１４５０℃または１５００℃の温度に達したら、この加熱チャンバに新鮮な空気を満たし、次いで新鮮な空気を、この焼成プロセスの残りの間、約５ｌ／分の流量で連続的に流した。試験片を、約１５００℃の温度で約５分間保持し、次いで約１１００℃の温度まで約１４０Ｋ／分の冷却速度で冷却した。次いで、この加熱チャンバを開いた。
【００５６】
比較のために、上記手順を繰り返したが、今回は、減圧を発生させず、その代わりに、新鮮な空気を加熱チャンバに通して、焼成プロセスの全持続時間にわたって連続的に、約５ｌ／分の流量で流した。
【００５７】
各場合に得られた酸化物セラミック材料の密度、半透明性および色座標を、表２に再現する。
【表２】
2020081895.tif 000004
【００５８】
実施例３
一般手順に従って、市販の３ｍｏｌ％のＹ２Ｏ３を含有するジルコニアをベースとする酸化物セラミックブロック（ＩＰＳ  ｅ．ｍａｘ  ＺｉｒＣＡＤ  ＬＴ  Ａ３  Ｂ４５，Ｉｖｏｃｌａｒ  Ｖｉｖａｄｅｎｔ）から、または市販のジルコニアをベースとする酸化物セラミック円板（Ｚｅｎｏｓｔａｒ  ＭＴ  ３，Ｗｉｅｌａｎｄ  Ｄｅｎｔａｌ＋Ｔｅｃｈｎｉｋ）から得られた試験片を、各場合に、ＭｏＳｉ２加熱素子を備える焼成炉内で焼成した。このために、試験片を、この焼成炉の加熱チャンバに室温で導入し、この加熱チャンバを閉じ、そして表３に従って、５０ｍｂａｒ、１００ｍｂａｒまたは２００ｍｂａｒの最終圧力の部分減圧を、この加熱チャンバ内で発生させた。試験片を、約１０００℃の温度まで約１８０Ｋ／分の加熱速度で加熱し、そしてさらに、約１３５０℃の温度まで約８０Ｋ／分の加熱速度で加熱した。この温度に達したら、この加熱チャンバに新鮮な空気を満たし、次いで新鮮な空気を、約５ｌ／分の流量で連続的に流し、この間に、試験片を、１５００℃の温度まで約８０Ｋ／分の加熱速度でさらに加熱し、この温度で約５分間保持し、次いで約１１００℃の温度まで約１４０Ｋ／分の冷却速度で冷却した。次いで、この加熱チャンバを開いた。
【００５９】
各場合に得られた酸化物セラミック材料の密度を表３に再現する。
【表３】
2020081895.tif 000005
【００６０】
実施例４
一般手順に従って、市販の３ｍｏｌ％のＹ２Ｏ３を含有するジルコニアをベースとする酸化物セラミックブロック（ＩＰＳ  ｅ．ｍａｘ  ＺｉｒＣＡＤ  ＬＴ  ＢＬ  Ｂ４５もしくはＩＰＳ  ｅ．ｍａｘ  ＺｉｒＣＡＤ  ＬＴ  Ａ３  Ｂ４５，Ｉｖｏｃｌａｒ  Ｖｉｖａｄｅｎｔ）から、または市販のジルコニアをベースとする酸化物セラミック円板（Ｚｅｎｏｓｔａｒ  ＭＴ  ３，Ｗｉｅｌａｎｄ  Ｄｅｎｔａｌ＋Ｔｅｃｈｎｉｋ）から得られた試験片を、各場合に、ＳｉＣ加熱素子を備える焼成炉内で焼成した。このために、試験片を、この焼成炉の加熱チャンバに室温で導入し、この加熱チャンバを閉じ、そして約５０〜１００ｍｂａｒの最終圧力の部分減圧を、この加熱チャンバ内で発生させた。試験片を、約１０５０℃の温度まで約１８０Ｋ／分の加熱速度で加熱し、そしてさらに、約１５００℃の温度まで約８０Ｋ／分の加熱速度で加熱した。表４に従って、１２５０℃、１３００℃または１３５０℃の温度に達したら、この加熱チャンバに新鮮な空気または酸素を満たし、次いでこれを、この焼成プロセスの残りの間、約５ｌ／分の流量で連続的に流した。試験片を、約１５００℃の温度で約５分間保持し、次いで約１１００℃の温度まで約１４０Ｋ／分の冷却速度で冷却した。次いで、この加熱チャンバを開いた。
【００６１】
比較のために、上記手順を繰り返したが、今回は、減圧を発生させず、その代わりに、表４に従って新鮮な空気または酸素を加熱チャンバに通して、焼成プロセスの全持続時間にわたって連続的に、約５ｌ／分の流量で流した。さらなる比較において、上記手順を繰り返したが、今回は、約５０〜１００ｍｂａｒの最終圧力の部分減圧を、焼成プロセスの全持続時間にわたって維持した。
【００６２】
各場合に得られた酸化物セラミック材料の密度、平均粒径、半透明性および色座標を、表４に再現する。
【表４】
2020081895.tif 000006
【外国語明細書】
2020081895000001.pdf