(57)【要約】【課題】表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な含フッ素エーテル化合物を収率よく製造できる含フッ素エーテル組成物の製造方法の提供。【解決手段】下式（１）で表される化合物にＲ１ＯＨを反応させて、下式（１）で表される化合物、下式（２）で表される化合物および下式（３）で表される化合物を得る、含フッ素エーテル化合物の製造方法。  ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１）  ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１  ・・・（２）  Ｒ１Ｏ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１  ・・・（３）  ただし、Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、ｍは、２〜２００の整数であり、（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、Ｒ１は、１価の有機基である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（１）で表される化合物にＲ１ＯＨを反応させて、下式（１）で表される化合物、下式（２）で表される化合物および下式（３）で表される化合物を含む混合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１）
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１  ・・・（２）
Ｒ１Ｏ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１  ・・・（３）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒ１は、１価の有機基である。
【請求項２】
未反応の前記式（１）で表される化合物を回収して、前記式（１）で表される化合物と前記Ｒ１ＯＨとの反応における前記式（１）で表される化合物として再利用する、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記式（３）で表される化合物を回収し、加水分解して前記式（１）で表される化合物を得て、前記式（１）で表される化合物と前記Ｒ１ＯＨとの反応における前記式（１）で表される化合物として再利用する、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
下式（２）で表される化合物をフッ素ガスでフッ素化して下式（４）で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１  ・・・（２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲｆ３  ・・・（４）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒ１は、１価の有機基であり、
Ｒｆ３は、Ｒ１に由来する１価のペルフルオロ有機基である。
【請求項５】
下式（４）で表される化合物とＲ２ＯＨとでエステル交換して下式（５）で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲｆ３  ・・・（４）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ２  ・・・（５）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒｆ３は、１価のペルフルオロ有機基であり、
Ｒ２は、１価の有機基である。
【請求項６】
下式（５）で表される化合物を、還元剤を用いて水素還元することによって下式（６）で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ２  ・・・（５）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（６）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒ２は、１価の有機基である。
【請求項７】
下式（２）で表される含フッ素エーテル化合物または下式（４）で表される含フッ素エーテル化合物。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１  ・・・（２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲｆ３  ・・・（４）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒ１は、１価の有機基であり、
Ｒｆ３は、１価のペルフルオロ有機基である。
【請求項８】
下式（１）で表される化合物に下式（６）で表される化合物を反応させて、下式（１）で表される化合物、下式（１２）で表される化合物および下式（１３）で表される化合物を含む混合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（６）
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２Ｏ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１３）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、それぞれ独立に２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよい。
【請求項９】
未反応の前記式（１）で表される化合物を回収して、前記式（１）で表される化合物と前記式（６）で表される化合物との反応における前記式（１）で表される化合物して再利用する、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記式（１３）で表される化合物を回収し、加水分解して前記式（１）で表される化合物および前記式（６）で表される化合物を得て、前記式（１）で表される化合物と前記式（６）で表される化合物との反応における前記式（１）で表される化合物および前記式（６）で表される化合物として再利用する、請求項８または９に記載の製造方法。
【請求項１１】
下式（１２）で表される化合物をフッ素ガスでフッ素化して下式（１４）で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＦ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１４）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、それぞれ独立に２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよい。
【請求項１２】
下式（１４）で表される化合物とＲ２ＯＨとでエステル交換して下式（５）で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＦ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１４）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ２  ・・・（５）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、それぞれ独立に２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒ２は、１価の有機基である。
【請求項１３】
請求項１２に記載の製造方法で得られた下式（５）で表される化合物を、還元剤を用いて水素還元することによって下式（６）で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ２  ・・・（５）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（６）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、それぞれ独立に２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒ２は、１価の有機基である。
【請求項１４】
請求項１３に記載の製造方法で得られた前記式（６）で表される化合物を下式（１）で表される化合物に反応させて、下式（１）で表される化合物、下式（１２）で表される化合物および下式（１３）で表される化合物を含む混合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物製造方法。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１）
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２Ｏ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１３）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、それぞれ独立に２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよい。
【請求項１５】
下式（１２）で表される含フッ素エーテル化合物または下式（１４）で表される含フッ素エーテル化合物。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＦ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１４）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、それぞれ独立に２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示す表面層を基材の表面に形成できるため、表面処理剤に好適に用いられる。含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、表面層が指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）および拭き取りによって表面層に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長期間維持されることが求められる用途、たとえば、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材の表面処理剤として用いられる。
【０００３】
耐摩擦性および指紋汚れ除去性に優れる表面層を基材の表面に形成できる含フッ素エーテル化合物としては、片末端に加水分解性シリル基を導入した含フッ素エーテル化合物が提案されている（特許文献１）。片末端に加水分解性シリル基を導入した含フッ素エーテル化合物の中間体としては、片末端に水酸基、カルボニル基含有基（カルボン酸ハライド基、エステル基等）等を有する含フッ素エーテル化合物が有用である。片末端に水酸基を有する含フッ素エーテル化合物は、たとえば、以下のようにして製造される（特許文献１）。
【０００４】
下式（１ｂ）で表される化合物をフッ素ガスによってフッ素化して、下式（１ａ）で表される化合物、下式（１ｂ）で表される化合物および下式（１ｃ）で表される化合物からなる混合物を得る。
ＣＦ３（ＯＣ２Ｆ４）ｐ（ＯＣＦ２）ｑＯＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１ａ）
ＨＯ（Ｏ）ＣＣＦ２（ＯＣ２Ｆ４）ｐ（ＯＣＦ２）ｑＯＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１ｂ）
ＣＦ３（ＯＣ２Ｆ４）ｐ（ＯＣＦ２）ｑＯＣＦ３  ・・・（１ｃ）
ｐおよびｑは、たとえばｐ／ｑ＝０．９、ｐ＋ｑ≒４５である。
【０００５】
混合物をイオン交換樹脂を用いて精製して、式（１ａ）で表される化合物の割合を高める。精製後の混合物を、還元剤を用いて水素還元することによって、下式（２ａ）で表される化合物を高濃度で含む混合物を得る。
ＣＦ３（ＯＣ２Ｆ４）ｐ（ＯＣＦ２）ｑＯＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（２ａ）
【０００６】
また、式（１ａ）で表される化合物、式（１ｂ）で表される化合物および式（１ｃ）で表される化合物からなる混合物を、超臨界状態または亜臨界状態の二酸化炭素を移動相としたシリカゲルクロマトグラフィによって精製して、式（１ａ）で表される化合物を高濃度で含む混合物を得る方法も提案されている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１２−０７２２７２号公報
【特許文献２】特開２０１５−１６４９０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特許文献１に記載された、式（１ｂ）で表される化合物をフッ素ガスによってフッ素化する方法では、式（１ｃ）で表される化合物が必ず生成する。式（１ｃ）で表される化合物は基材と相互作用または化学結合する官能基を持たないため、表面処理剤には適さない。また、式（１ｃ）で表される化合物は、安定な化合物であり、末端のみを分解して原料である式（１ｂ）で表される化合物として再利用することができない。そのため、特許文献１に記載の方法では、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な式（１ａ）で表される化合物、さらには式（２ａ）で表される化合物を収率よく得ることができない。
【０００９】
本発明は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な含フッ素エーテル化合物を収率よく製造できる含フッ素エーテル組成物の製造方法、および表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な含フッ素エーテル化合物の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、下記［１］〜［１５］の構成を有する含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物を提供する。
［１］下式（１）で表される化合物にＲ１ＯＨを反応させて、下式（１）で表される化合物、下式（２）で表される化合物および下式（３）で表される化合物を含む混合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１）
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１  ・・・（２）
Ｒ１Ｏ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１  ・・・（３）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒ１は、１価の有機基である。
［２］未反応の前記式（１）で表される化合物を回収して、前記式（１）で表される化合物と前記Ｒ１ＯＨとの反応における前記式（１）で表される化合物として再利用する、［１］の製造方法。
［３］前記式（３）で表される化合物を回収し、加水分解して前記式（１）で表される化合物を得て、前記式（１）で表される化合物と前記Ｒ１ＯＨとの反応における前記式（１）で表される化合物として再利用する、［１］または［２］の製造方法。
【００１１】
［４］下式（２）で表される化合物をフッ素ガスでフッ素化して下式（４）で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１  ・・・（２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲｆ３  ・・・（４）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒ１は、１価の有機基であり、
Ｒｆ３は、Ｒ１に由来する１価のペルフルオロ有機基である。
［５］下式（４）で表される化合物とＲ２ＯＨとでエステル交換して下式（５）で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲｆ３  ・・・（４）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ２  ・・・（５）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒｆ３は、１価のペルフルオロ有機基であり、
Ｒ２は、１価の有機基である。
【００１２】
［６］下式（５）で表される化合物を、還元剤を用いて水素還元することによって下式（６）で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ２  ・・・（５）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（６）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒ２は、１価の有機基である。
［７］下式（２）で表される含フッ素エーテル化合物または下式（４）で表される含フッ素エーテル化合物。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１  ・・・（２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲｆ３  ・・・（４）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒ１は、１価の有機基であり、
Ｒｆ３は、１価のペルフルオロ有機基である。
【００１３】
［８］下式（１）で表される化合物に下式（６）で表される化合物を反応させて、下式（１）で表される化合物、下式（１２）で表される化合物および下式（１３）で表される化合物を含む混合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（６）
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２Ｏ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１３）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、それぞれ独立に２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよい。
［９］未反応の前記式（１）で表される化合物を回収して、前記式（１）で表される化合物と前記式（６）で表される化合物との反応における前記式（１）で表される化合物して再利用する、［８］の製造方法。
［１０］前記式（１３）で表される化合物を回収し、加水分解して前記式（１）で表される化合物および前記式（６）で表される化合物を得て、前記式（１）で表される化合物と前記式（６）で表される化合物との反応における前記式（１）で表される化合物および前記式（６）で表される化合物として再利用する、［８］または［９］の製造方法。
【００１４】
［１１］下式（１２）で表される化合物をフッ素ガスでフッ素化して下式（１４）で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＦ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１４）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、それぞれ独立に２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよい。
［１２］下式（１４）で表される化合物とＲ２ＯＨとでエステル交換して下式（５）で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＦ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１４）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ２  ・・・（５）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、それぞれ独立に２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒ２は、１価の有機基である。
【００１５】
［１３］前記［１２］の製造方法で得られた下式（５）で表される化合物を、還元剤を用いて水素還元することによって下式（６）で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ２  ・・・（５）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（６）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、それぞれ独立に２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒ２は、１価の有機基である。
［１４］前記［１３］の製造方法で得られた前記式（６）で表される化合物を下式（１）で表される化合物に反応させて、下式（１）で表される化合物、下式（１２）で表される化合物および下式（１３）で表される化合物を含む混合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物製造方法。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１）
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２Ｏ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１３）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、それぞれ独立に２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよい。
［１５］下式（１２）で表される含フッ素エーテル化合物または下式（１４）で表される含フッ素エーテル化合物。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＦ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１４）
ただし、
Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
ｍは、それぞれ独立に２〜２００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法によれば、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な含フッ素エーテル化合物を収率よく製造できる。
本発明の含フッ素エーテル化合物は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
本明細書における以下の用語の意味は、以下の通りである。
「ペルフルオロ有機基」とは、有機基の炭素原子に結合する水素原子のすべてがフッ素原子に置換された基を意味する。
オキシペルフルオロアルキレン基の化学式は、その酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子を意味する。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を形成し得る基を意味する。たとえば、式（２１）〜（２４）中のＳｉＲ３ｎＬ３−ｎである。
「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、ＮＭＲ分析法を用い、下記の方法で算出される。
１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。末端基は、たとえば式（２１）〜（２４）中のＦ−Ｒｆ２またはＳｉＲ３ｎＬ３−ｎである。
【００１８】
［化合物（６）の第１の合成ルート］
化合物（１）を出発物質とする化合物（６）の合成ルートとしては、下記の第１の合成ルートが挙げられる。
【００１９】
【化１】
2020117733.tif 000002
【００２０】
（化合物（１））
化合物（１）は、化合物（６）の合成ルートにおいて出発物質となる。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１）
ただし、Ｒｆ１およびＲｆ２は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、ｍは、２〜２００の整数であり、（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよい。
【００２１】
＜（Ｒｆ１Ｏ）ｍ＞
Ｒｆ１の炭素数は、最終的に得られる表面処理剤からなる表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性にさらに優れる点から、１〜６が好ましく、１〜４がより好ましく、表面層の潤滑性にさらに優れる点から、１〜２が特に好ましい。
Ｒｆ１は直鎖構造でも分岐構造でもかまわないが、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点からは、直鎖構造が好ましい。
【００２２】
化合物（１）は、（Ｒｆ１Ｏ）ｍを有するため、フッ素原子の含有量が多い。そのため、最終的に得られる表面処理剤は、撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面層を形成できる。
【００２３】
ｍは、５〜１５０の整数が好ましく、１０〜１００の整数が特に好ましい。ｍが前記範囲の下限値以上であれば、最終的に得られる表面処理剤からなる表面層の撥水撥油性に優れる。ｍが前記範囲の上限値以下であれば、表面層の耐摩擦性に優れる。すなわち、表面処理剤の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量あたりに存在する加水分解性シリル基の数が減少し、表面層の耐摩擦性が低下する。
【００２４】
（Ｒｆ１Ｏ）ｍにおいて、２種以上のＲｆ１Ｏが存在する場合、各Ｒｆ１Ｏの結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
２種以上のＲｆ１Ｏが存在するとは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在すること、および、炭素数が同一であっても側鎖の有無や側鎖の種類（側鎖の数や側鎖の炭素数等）が異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在することをいう。
２種以上のＲｆ１Ｏの配置については、たとえば実施例の含フッ素エーテル化合物の場合、｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝で表される構造は、ｘ１個の（ＣＦ２Ｏ）とｘ２個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とがランダムに配置されていることを表す。また、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ３で表される構造は、ｘ３個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とｘ３個の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とが交互に配置されていることを表す。
【００２５】
（Ｒｆ１Ｏ）ｍとしては、最終的に得られる表面処理剤からなる表面層の耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性にさらに優れる点から、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２｝、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ３、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５、およびこれらの一端または両端に他の（Ｒｆ１Ｏ）を１〜４個有する基が好ましい。これらの一端または両端に他の（Ｒｆ１Ｏ）を１〜４個有する基としては、たとえば、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２−２｝、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）等が挙げられる。（Ｒｆ１Ｏ）ｍとしては、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２｝を有する基が特に好ましい。
ただし、ｍ１は１以上の整数であり、ｍ２は１以上の整数であり、ｍ１＋ｍ２は２〜２００の整数であり、ｍ１個のＣＦ２Ｏおよびｍ２個のＣＦ２ＣＦ２Ｏの結合順序は限定されない。ｍ３およびｍ４は、それぞれ、２〜２００の整数であり、ｍ５は、１〜１００の整数である。
【００２６】
＜Ｒｆ２基＞
Ｒｆ２の炭素数は、最終的に得られる表面処理剤からなる表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性にさらに優れる点から、１〜６が好ましく、１〜４がより好ましく、表面層の潤滑性にさらに優れる点から、１〜２が特に好ましい。
Ｒｆ２の炭素数は、たとえば、（Ｒｆ１Ｏ）ｍが、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２｝および（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ３である場合、１であり、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４である場合、２であり、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５である場合、３でかつ直鎖である。また、Ｒｆ１が分岐を有するペルフルオロアルキレン基の場合は、Ｒｆ２は分岐を有するペルフルオロアルキレン基となることがあり、たとえば、Ｒｆ１が（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）である場合は、Ｒｆ２は、ＣＦ（ＣＦ３）となる。
Ｒｆ２が直鎖であれば、表面層の耐摩擦性および潤滑性に優れる。
【００２７】
化合物（１）の市販品としては、ソルベイソレクシス社製のＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）ＺＤＩＡＣ４０００等が挙げられる。
【００２８】
（化合物（２）の製造方法）
化合物（２）は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第１の態様は、化合物（１）にＲ１ＯＨを反応させて、化合物（１）、化合物（２）および化合物（３）を含む混合物を得る方法である。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１）
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１  ・・・（２）
Ｒ１Ｏ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１  ・・・（３）
ただし、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物（１）で説明した（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。Ｒ１は、１価の有機基である。
【００２９】
Ｒ１としては、置換基を有してもよい１価の炭化水素基が挙げられる。１価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基等が挙げられる。Ｒ１の炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１０が特に好ましい。
Ｒ１はカルボキシル基がフッ素ガスと反応する際に同時にフッ素化されるが、水素原子がフッ素原子に置換される以外の反応は起こらないことが望ましい。この点から、Ｒ１はエーテル性酸素原子を含んでもよく、水素原子の一部がフッ素原子に置換されていてもよい１価の炭化水素基が好ましい。また、フッ素化後のエステル化反応で容易に反応が進行する点から、Ｒ１ＯＨは１級のアルコールが好ましい。
Ｒ１としては、アルキル基が好ましく、フッ素化後のエステル化反応で副生するＲ１ＯＨに由来する化合物が容易に除去できる（沸点が高くない）点から、炭素数１〜１０のアルキル基が特に好ましい。
【００３０】
化合物（１）とＲ１ＯＨとの反応条件は、通常のエステル化の反応条件であればよく、特に制限されない。
【００３１】
混合物から各化合物を回収する方法としては、公知の精製方法（シリカゲルやイオン交換樹脂によるカラムクロマトグラフィ等）が挙げられる。
回収された化合物（２）は、次の化合物（４）の製造に用いる。
回収された化合物（１）は、化合物（１）とＲ１ＯＨとの反応における化合物（１）として再利用することが好ましい。
回収された化合物（３）は、加水分解して化合物（１）を得て、化合物（１）とＲ１ＯＨとの反応における化合物（１）として再利用することが好ましい。
化合物（１）および化合物（３）を原料として再利用できるため、化合物（１）および化合物（３）が無駄にならない。そのため、化合物（２）さらには化合物（４）、化合物（５）および化合物（６）を収率よく製造できる。
【００３２】
（化合物（４）の製造方法）
化合物（４）は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第２の態様は、化合物（２）をフッ素ガスでフッ素化して化合物（４）を得る方法である。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲｆ３  ・・・（４）
ただし、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物（１）で説明した（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。Ｒｆ３は、Ｒ１に由来する１価のペルフルオロ有機基である。
【００３３】
Ｒｆ３は化合物（２）のＲ１をフッ素化した基であることから、Ｒｆ３としては、Ｒ１をフッ素化したものが挙げられ、Ｒ１の好ましい形態をフッ素化したものが好ましい。
【００３４】
化合物（２）をフッ素ガスでフッ素化する反応条件は、通常のフッ素化の反応条件であればよく、特に制限されない。
【００３５】
（化合物（５）の製造方法）
化合物（５）は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第３の態様は、化合物（４）とＲ２ＯＨとでエステル交換して化合物（５）を得る方法である。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ２  ・・・（５）
ただし、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物（１）で説明した（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。Ｒ２は、１価の有機基である。
【００３６】
Ｒ２としては、置換基を有してもよい１価の炭化水素基が挙げられる。１価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基等が挙げられる。Ｒ１の炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１０が特に好ましい。
Ｒ２としては、アルキル基が好ましく、Ｒ２ＯＨとして沸点が高くなく、後の工程でＲ２ＯＨを取り除きやすい点から、炭素数１〜１０のアルキル基が特に好ましい。
【００３７】
化合物（４）とＲ２ＯＨとの反応条件は、通常のエステル交換の反応条件であればよく、特に制限されない。
【００３８】
（化合物（６）の製造方法）
化合物（６）は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法においては、化合物（５）を、還元剤を用いて水素還元することによって化合物（６）を得てもよい。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（６）
ただし、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物（１）で説明した（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。
【００３９】
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、ボラン（モノボラン、ジボラン等）、金属触媒（パラジウム触媒、白金触媒等）の存在下の水素ガス等が挙げられる。
【００４０】
化合物（５）と還元剤との反応条件は、通常の水素還元の反応条件であればよく、特に制限されない。
【００４１】
［化合物（６）の第２の合成ルート］
化合物（１）を出発物質とする化合物（６）の別の合成ルートとしては、下記の第２の合成ルートが挙げられる。
【００４２】
【化２】
2020117733.tif 000003
【００４３】
（化合物（１２）の製造方法）
化合物（１２）は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第４の態様は、化合物（１）に化合物（６）を反応させて、化合物（１）、化合物（１２）および化合物（１３）を含む混合物を得る方法である。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（６）
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２Ｏ（Ｏ）Ｃ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１３）
ただし、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物（１）で説明した（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。
【００４４】
化合物（１）の（Ｒｆ１Ｏ）ｍと化合物（６）の（Ｒｆ１Ｏ）ｍとは、同じであってもよく、異なっていてもよい。後述する化合物（１４）から得られる化合物（５）および該化合物（５）から得られる化合物（６）として均一な化合物が得られる点から、化合物（１）の（Ｒｆ１Ｏ）ｍと化合物（６）の（Ｒｆ１Ｏ）ｍとは、同じであることが好ましい。
【００４５】
化合物（１）と化合物（６）との反応条件は、通常のエステル化の反応条件であればよく、特に制限されない。
【００４６】
混合物から各化合物を回収する方法としては、公知の精製方法（シリカゲルやイオン交換樹脂によるカラムクロマトグラフィ等）が挙げられる。
回収された化合物（１２）は、次の化合物（１４）の製造に用いる。
回収された化合物（１）は、化合物（１）と化合物（６）との反応における化合物（１）として再利用することが好ましい。
回収された化合物（１３）は、加水分解して化合物（１）および化合物（６）を得て、化合物（１）と化合物（６）との反応における化合物（１）および化合物（６）として再利用することが好ましい。
化合物（１）および化合物（１３）を原料として再利用することによって、化合物（１２）さらには化合物（１４）、化合物（５）および化合物（６）を収率よく製造できる。
【００４７】
（化合物（１４）の製造方法）
化合物（１４）は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第５の態様は、化合物（１２）をフッ素ガスでフッ素化して化合物（１４）を得る方法である。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＦ２−Ｒｆ２−（ＯＲｆ１）ｍ−ＯＲｆ２−Ｆ  ・・・（１４）
ただし、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物（１）で説明した（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。
【００４８】
化合物（１２）をフッ素ガスでフッ素化する反応条件は、通常のフッ素化の反応条件であればよく、特に制限されない。
【００４９】
（化合物（５）の製造方法）
化合物（５）は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第６の態様は、化合物（１４）にＲ２ＯＨを反応させて化合物（５）を得る方法である。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）ＯＲ２  ・・・（５）
ただし、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物（１）で説明した（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。Ｒ２も、上述したＲ２ＯＨにおけるＲ２と同様であり、好ましい形態も同様である。
【００５０】
化合物（１４）とＲ２ＯＨとの反応機構を下式に示す。１モルの化合物（１４）に２モルのＲ２ＯＨが反応して、２モルの化合物（５）が生成する。
【００５１】
【化３】
2020117733.tif 000004
【００５２】
化合物（１４）とＲ２ＯＨとの反応条件は、通常のエステル交換の反応条件であればよく、特に制限されない。
【００５３】
（化合物（６）の製造方法）
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法においては、化合物（１４）から得られた化合物（５）を、上述した方法と同様にして水素還元することによって化合物（６）を得てもよい。
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（６）
ただし、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物（１）で説明した（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。
【００５４】
得られた化合物（６）の一部は、出発物質である化合物（１）に反応させるアルコールとして再利用することが好ましい。
化合物（１）に反応させるアルコールとして化合物（６）以外のＲ１ＯＨを用いた場合、化合物（５）を製造する際に化合物（４）とＲ２ＯＨとのエステル交換によって生成するＲｆ３ＯＨ（Ｒ１ＯＨに由来するアルコール）が無駄になる。一方、化合物（１）に反応させるアルコールとして化合物（６）を用いた場合、化合物（５）を製造する際に１モルの化合物（１４）から２モルの化合物（５）が生成し、最初に用いたアルコール（化合物（６））が無駄にならない。
【００５５】
［表面処理剤］
化合物（６）を原料として製造可能な、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物としては、たとえば、化合物（２１）、化合物（２２）、化合物（２３）、化合物（２４）等が挙げられる。
【００５６】
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２Ｏ−Ｑ１−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ  ・・・（２１）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２−（Ｘ）ｒ−Ｑ２−Ｎ［−Ｑ３−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ］２  ・・・（２２）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２Ｏ−Ｑ４−（Ｏ）ｓ−Ｃ［−（Ｏ）ｔ−Ｑ５−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ］３  ・・・（２３）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−ＣＨ２Ｏ−Ｑ６−Ｓｉ［−Ｑ７−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ］３  ・・・（２４）
【００５７】
ただし、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物（１）で説明した（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。Ｒ３は、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは、加水分解性基であり、ｎは、０〜２の整数である。
式（２１）において、Ｑ１は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
式（２２）において、Ｘは、エーテル性酸素原子または−ＮＨ−であり、Ｑ２は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基であり、ｒは、０または１（ただし、Ｑ２が単結合の場合は０である。）であり、Ｑ３は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子、−ＮＨ−もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、２つの［−Ｑ３−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
式（２３）において、Ｑ４は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Ｑ５は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、ｓは、０または１（ただし、Ｑ４が単結合の場合は０である。）であり、ｔは、０または１であり、３つの［−（Ｏ）ｔ−Ｑ５−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
式（２４）において、Ｑ６は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、Ｑ７は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、３つの［−Ｑ７−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
【００５８】
化合物（５）を原料として製造可能な、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物としては、たとえば、化合物（２５）、化合物（２６）、化合物（２７）、化合物（２８）等が挙げられる。
【００５９】
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ５）−Ｑ８−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ  ・・・（２５）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）−Ｑ９−（Ｏ）ｕ−Ｃ［−（Ｏ）ｖ−Ｑ１０−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ］３  ・・・（２６）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ［−Ｏ−Ｑ１１−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ］［−Ｑ１２−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ］２  ・・・（２７）
Ｆ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−Ｃ（ＯＨ）［−Ｑ１３−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ］２  ・・・（２８）
【００６０】
ただし、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物（１）で説明した（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。Ｒ３、Ｌおよびｎは、化合物（２１）等で説明したＲ３、Ｌおよびｎと同じである。
式（２５）において、Ｒ５は、水素原子またはアルキル基であり、Ｑ８は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
式（２６）において、Ｒ６は、水素原子またはアルキル基であり、Ｑ９は、単結合、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Ｑ１０は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、ｕは、０または１（ただし、Ｑ９が単結合の場合は０である。）であり、ｖは、０または１であり、３つの［−（Ｏ）ｖ−Ｑ１０−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
式（２７）において、Ｑ１１は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間もしくはＯと結合する側の末端に２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基であり、Ｑ１２は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基であり、２つのＱ１２は、同一であっても異なっていてもよく、３つの−ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎは、同一であっても異なっていてもよい。
式（２８）において、Ｑ１３は、アルキレン基、または炭素数２以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基であり、２つの［−Ｑ１３−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］は、同一の基でなくてもよい。
【００６１】
（Ｆ−Ｒｆ２基）
末端にＦ−Ｒｆ２を有するため、表面処理剤の一方の末端がＣＦ３−となり、他方の末端が加水分解性シリル基となる。該構造の表面処理剤によれば、低表面エネルギーの表面層を形成できるため、該表面層は潤滑性および耐摩擦性に優れる。一方、両末端に加水分解性シリル基を有する従来の含フッ素エーテル化合物では、表面層の潤滑性および耐摩擦性が不充分である。
【００６２】
（Ｑ１基〜Ｑ１３基）
Ｑ１としては、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましく、炭素数１〜７のアルキレン基、または炭素数２〜７のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が特に好ましい。化合物（２１）の製造のしやすさの点からは、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−または−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−（ただし、右側がＳｉに結合する。）が好ましい。
【００６３】
Ｑ２としては、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基が好ましく、単結合、炭素数１〜７のアルキレン基、または炭素数２〜７のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基が特に好ましい。（Ｘ）ｒＱ２としては、化合物（２２）の製造のしやすさの点からは、単結合、−ＯＣＨ２ＣＨ２−または−ＮＨＣＨ２ＣＨ２−（ただし、右側がＮに結合する。）が好ましい。
【００６４】
Ｑ３としては、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基が好ましく、炭素数１〜７のアルキレン基、または炭素数２〜７のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基が特に好ましい。化合物（２２）の製造のしやすさの点からは、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−または−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−（ただし、右側がＳｉに結合する。）が好ましい。
【００６５】
Ｑ４としては、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましく、単結合、炭素数１〜７のアルキレン基、または炭素数２〜７のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が特に好ましい。Ｑ４−（Ｏ）ｓとしては、化合物（２３）の製造のしやすさの点からは、単結合、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−または−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２−（ただし、右側がＣに結合する。）が好ましい。
【００６６】
Ｑ５としては、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましく、炭素数１〜７のアルキレン基、または炭素数１〜７のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が特に好ましい。（Ｏ）ｔ−Ｑ５としては、化合物（２３）の製造のしやすさの点からは、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−または−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−（ただし、右側がＳｉに結合する。）が好ましい。
【００６７】
Ｑ６としては、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましく、単結合、炭素数１〜７のアルキレン基、または炭素数２〜７のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が特に好ましい。Ｑ６としては、化合物（２４）の製造のしやすさの点からは、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−または−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−（ただし、右側がＳｉに結合する。）が好ましい。
【００６８】
Ｑ７としては、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましく、炭素数１〜７のアルキレン基、または炭素数２〜７のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が特に好ましい。Ｑ７としては、化合物（２４）の製造のしやすさの点からは、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−または−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−（ただし、右側がＳｉＲ３ｎＬ３−ｎに結合する。）が好ましい。
【００６９】
Ｑ８としては、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましい。Ｑ８としては、化合物（２５）の製造のしやすさの点からは、炭素数２〜６のアルキレン基が好ましい。
【００７０】
Ｑ９としては、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましい。Ｑ９としては、化合物（２６）の製造のしやすさの点からは、単結合、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい。
【００７１】
Ｑ１０としては、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましい。Ｑ１０としては、化合物（２６）の製造のしやすさの点からは、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい。
【００７２】
Ｑ１１におけるシルフェニレン骨格は、−Ｓｉ（Ｒａ）２ＰｈＳｉ（Ｒａ）２−（ただし、Ｐｈはフェニレン基であり、Ｒａは１価の有機基である。）で表される基である。Ｒａは、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
Ｑ１１におけるジアルキルシリレン基は、−Ｓｉ（Ｒｂ）２−（ただし、Ｒｂはアルキル基である。）で表される基である。Ｒｂは、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
Ｑ１１としては、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくはシルフェニレン骨格を有する基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間もしくはＯと結合する側の末端に２価のオルガノポリシロキサン残基もしくはジアルキルシリレン基を有する基が好ましい。Ｑ１１としては、化合物（２７）の製造のしやすさの点から、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２ＰｈＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
【００７３】
Ｑ１２としては、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましい。Ｑ１２としては、化合物（２７）の製造のしやすさの点からは、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
【００７４】
Ｑ１３としては、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましい。Ｑ１３としては、化合物（２８）の製造のしやすさの点からは、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
【００７５】
（Ｒ５基〜Ｒ６基）
Ｒ５およびＲ６としては、水素原子が好ましい。Ｒ５またはＲ６がアルキル基の場合、炭素数は１〜４が好ましい。
【００７６】
（ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎ基）
ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎは、加水分解性シリル基である。
表面処理剤は、末端に加水分解性シリル基を有する。該構造の表面処理剤は基材と強固に化学結合するため、表面層は耐摩擦性に優れる。
また、表面処理剤は、一方の末端のみに加水分解性シリル基を有する。該構造の表面処理剤は凝集しにくいため、表面層は外観に優れる。
【００７７】
Ｌは、加水分解性基である。加水分解性基は、加水分解反応によって水酸基となる基である。すなわち、表面処理剤の末端のＳｉ−Ｌは、加水分解反応によってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）となる。シラノール基は、さらに分子間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）を形成する。
【００７８】
Ｌとしては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
Ｌとしては、表面処理剤の製造のしやすさの点から、アルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、表面処理剤の保存安定性に優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、表面処理剤の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
【００７９】
Ｒ３は、水素原子または１価の炭化水素基である。１価の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基等が挙げられる。
Ｒ３としては、１価の炭化水素基が好ましく、１価の飽和炭化水素基が特に好ましい。
Ｒ３が１価の炭化水素基の場合の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜３が特に好ましく、１〜２が最も好ましい。Ｒ３の炭素数がこの範囲であると、化合物（５）の製造がしやすい。
【００８０】
ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。１つの加水分解性シリル基にＬが複数存在することによって、基材との密着性がより強固になる。
【００８１】
ＳｉＲ３ｎＬ３−ｎとしては、Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、ＳｉＣｌ３、Ｓｉ（Ｏ（Ｏ）ＣＣＨ３）３、Ｓｉ（ＮＣＯ）３が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、Ｓｉ（ＯＣＨ３）３が特に好ましい。
化合物（２２）〜（２４）、（２６）〜（２８）中の複数のＳｉＲ３ｎＬ３−ｎは、表面処理剤の製造のしやすさの点から、同一の基であることが好ましい。
【００８２】
（表面処理剤の具体例）
化合物（２１）の具体例としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
【００８３】
【化４】
2020117733.tif 000005
【００８４】
化合物（２２）の具体例としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
【００８５】
【化５】
2020117733.tif 000006
【００８６】
化合物（２３）の具体例としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
【００８７】
【化６】
2020117733.tif 000007
【００８８】
化合物（２４）の具体例としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
【００８９】
【化７】
2020117733.tif 000008
【００９０】
化合物（２５）の具体例としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
【００９１】
【化８】
2020117733.tif 000009
【００９２】
化合物（２６）の具体例としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
【００９３】
【化９】
2020117733.tif 000010
【００９４】
化合物（２７）の具体例としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
【００９５】
【化１０】
2020117733.tif 000011
【００９６】
化合物（２８）の具体例としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
【００９７】
【化１１】
2020117733.tif 000012
【００９８】
ただし、ＰＦＰＥはポリフルオロポリエーテル鎖、すなわちＦ−Ｒｆ２Ｏ−（Ｒｆ１Ｏ）ｍ−Ｒｆ２−である。ＰＦＰＥの好ましい形態は、上述した好ましい（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２を組み合わせたものとなる。
【００９９】
（表面処理剤の製造方法）
化合物（２１）は、特許文献１、特許文献２、国際公開第２０１３／１２１９８４号等に記載の公知の方法で製造できる。
化合物（２２）は、国際公開第２０１７／０３８８３２号に記載の公知の方法で製造できる。
化合物（２３）は、国際公開第２０１７／０３８８３０号に記載の公知の方法で製造できる。
化合物（２４）は、特開２０１６−０３７５４１号公報、国際公開第２０１６／１２１２１１号等に記載の公知の方法で製造できる。
化合物（２５）は、国際公開第２０１３／１２１９８４号に記載の公知の方法で製造できる。
化合物（２６）は、国際公開第２０１７／０３８８３０号に記載の公知の方法で製造できる。
化合物（２７）は、特開２０１６−２０４６５６号公報に記載の公知の方法で製造できる。
化合物（２８）は、特開２０１６−０３７５４１号公報に記載の公知の方法で製造できる。
【実施例】
【０１００】
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
以下、「％」は特に断りのない限り「質量％」である。
例１〜４は実施例であり、例５〜６は製造例である。
【０１０１】
［例１］
（例１−１）
２００ｍＬの３つ口フラスコに、エタノールの１１．８ｇ、化合物（１−１）（ソルベイソレクシス社製、ＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）ＺＤＩＡＣ４０００）の１００．０ｇを入れ、５０℃で４時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、粗生成物の１００．４ｇを得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに展開して分取した。展開溶媒としてＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（旭硝子社製、ＡＥ−３０００）を用いて化合物（３−１）を溶出させた。展開溶媒としてＡＥ−３０００／アセトン＝７／３（質量比）を用いて化合物（２−１）を溶出させた。展開溶媒としてＡＥ−３０００／２，２，２−トリフルオロエタノール＝２／８（質量比）を用いて化合物（１−１）を溶出させた。得られた各成分について、末端基の構造および構成単位の単位数（ｘ１、ｘ２）の平均値を１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。化合物（１−１）の２４．１ｇ（収率：２４．１％）、化合物（２−１）の４８．４ｇ（収率：４８．１％）、および化合物（３−１）の２５．９ｇ（収率：２５．６％）を得た。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１−１）
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ３  ・・・（２−１）
ＣＨ３ＣＨ２Ｏ（Ｏ）Ｃ−ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ３  ・・・（３−１）
【０１０２】
化合物（１−１）のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．１〜−５５．４（３８Ｆ）、−７７．８（２Ｆ）、−７９．８（２Ｆ）、−８９．２〜−９０．８（８４Ｆ）
単位数ｘ１の平均値：１９、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（１−１）の数平均分子量：３，９００。
【０１０３】
化合物（２−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：テトラメチルシラン（ＴＭＳ））  δ（ｐｐｍ）：４．３（２Ｈ）、１．３（３Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．２〜−５５．５（３８Ｆ）、−７７．８（１Ｆ）、−７８．３（１Ｆ）、−７９．９（２Ｆ）、−８９．３〜−９０．９（８４Ｆ）。
単位数ｘ１の平均値：１９、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（２−１）の数平均分子量：３，９２０。
【０１０４】
化合物（３−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：４．３（４Ｈ）、１．３（６Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．２〜−５５．５（３８Ｆ）、−７８．３（２Ｆ）、−８０．０（２Ｆ）、−８９．３〜−９０．９（８４Ｆ）。
単位数ｘ１の平均値：１９、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（３−１）の数平均分子量：３，９４０。
【０１０５】
（例１−２）
５００ｍＬのニッケル製オートクレーブのガス出口に、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層および０℃に保持した冷却器を直列に設置した。０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＣｌＣＦ２ＣＦＣｌＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｃｌ（ＣＦＥ−４１９）の３５０ｇを入れ、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速１．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例１−１で得た化合物（２−１）の４０．０ｇをＣＦＥ−４１９の１２０ｇに溶解した溶液を、４時間かけて注入した。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、ＣＦＥ−４１９中に０．０５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の６ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。１５分間撹拌した後、再びベンゼン溶液の６ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに３回繰り返した。ベンゼンの注入総量は１．５ｇであった。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、化合物（４−１）の３９．８ｇ（収率９７．９％）を得た。
Ｆ−ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＦ２ＣＦ３  ・・・（４−１）
【０１０６】
化合物（４−１）のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．６（３８Ｆ）、−５６．３〜−５８．３（３Ｆ）、−７７．８（１Ｆ）、−７８．３（１Ｆ）、−８７．５（３Ｆ）、−８９．０〜−９０．９（８６Ｆ）。
単位数ｘ１の平均値：１９、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（４−１）の数平均分子量：３，９８０。
【０１０７】
（例１−３）
テトラフルオロエチレン−ペルフルオロ（アルコキシビニルエーテル）共重合体（ＰＦＡ）製丸底フラスコに、例１−２で得た化合物（４−１）の３９．０ｇおよびＡＥ−３０００の５０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの３．２ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。窒素でバブリングしながら１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、化合物（５−１）の３７．７ｇ（収率９９．４％）を得た。
Ｆ−ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（５−１）
【０１０８】
化合物（５−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．６（３８Ｆ）、−５６．３〜−５８．３（３Ｆ）、−７８．２（１Ｆ）、−７９．９（１Ｆ）、−８９．０〜−９０．９（８４Ｆ）。
単位数ｘ１の平均値：１９、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（５−１）の数平均分子量：３，８８０。
【０１０９】
（例１−４）
２００ｍＬの３つ口ナスフラスコ内に、水素化ホウ素ナトリウムの１．８０ｇをエタノールの１０ｇおよびＡＥ−３０００の２０ｇに溶解させ、氷浴で冷却しながら、例１−３で得た化合物（５−１）の３７．０ｇをＡＥ−３０００の３７．０ｇと混合した溶液をゆっくり滴下した。氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。有機相を採取し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物（６−１）の３６．５ｇ（収率９８．２％）を得た。
Ｆ−ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＨ  ・・・（６−１）
【０１１０】
化合物（６−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．６（３８Ｆ）、−５６．３〜−５８．３（３Ｆ）、−８０．７（１Ｆ）、−８２．８（１Ｆ）、−８９．０〜−９０．９（８４Ｆ）。
単位数ｘ１の平均値：１９、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（６−１）の数平均分子量：３，９００。
【０１１１】
［例２］
１００ｍＬのナスフラスコに、例１−１で得た化合物（３−１）の２５．０ｇおよび４８％水酸化ナトリウム水溶液の２．０ｇを入れ、８０℃で２時間撹拌した。これを分液ロートに移し、希塩酸の３０ｍＬを加え、ＡＥ−３０００の３０ｍＬで５回抽出した。回収した溶液をエバポレータで濃縮し、化合物（１−１）の２２．６ｇ（収率９７．１％）を得た。
【０１１２】
化合物（３−１）から再生した化合物（１−１）の２２．６ｇを用い、各原料の量を化合物（１−１）の量に合わせて変更した以外は、例１と同様にして化合物（６−１）を得た。
化合物（３−１）は化合物（１−１）として再利用が可能であり、化合物（３−１）を再利用することによって、含フッ素エーテル化合物の廃棄物はほとんどないといえる。
【０１１３】
［例３］
（例３−１）
１００ｍＬの３つ口フラスコに、化合物（１−１）の２０．０ｇおよび例１−４で得た化合物（６−１）の２０．０ｇを入れ、８０℃に昇温して撹拌した。減圧下に副生した水を留去し、ＮＭＲ分析で化合物（６−１）が消失したことを確認した。得られた粗生成物を例１−１と同様にして精製し、化合物（１−１）の５．２ｇ（収率：２５．８％）、化合物（１２−１）の１９．１ｇ（収率：４８．０％）、および化合物（１３−１）の１４．５ｇ（収率：２４．２％）を得た。
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−ＣＦ２−Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（１−１）
ＨＯ（Ｏ）Ｃ−ＣＦ２−Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−ＣＦ２−｛（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｘ２（ＯＣＦ２）ｘ１｝−ＯＣＦ２−Ｆ  ・・・（１２−１）
Ｆ−ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ（Ｏ）Ｃ−ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２−ＣＦ２−｛（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｘ２（ＯＣＦ２）ｘ１｝−ＯＣＦ２−Ｆ  ・・・（１３−１）
【０１１４】
化合物（１−１）のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．１〜−５５．４（３８Ｆ）、−７７．８（２Ｆ）、−７９．８（２Ｆ）、−８９．２〜−９０．８（８４Ｆ）。
単位数ｘ１の平均値：１９、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（１−１）の数平均分子量：３，９００。
【０１１５】
化合物（１２−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：４．８（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．２〜−５５．５（７６Ｆ）、−５６．３〜−５８．３（３Ｆ）、−７７．０〜−８０．３（６Ｆ）、−８９．３〜−９０．９（１６８Ｆ）。
単位数ｘ１の平均値：１９、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（１２−１）の数平均分子量：７，７３０。
【０１１６】
化合物（１３−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：４．８（４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．２〜−５５．５（１１４Ｆ）、−５６．３〜−５８．３（６Ｆ）、−７７．５〜−８０．３（８Ｆ）、−８９．３〜−９０．９（２５２Ｆ）。
単位数ｘ１の平均値：１９、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（１３−１）の数平均分子量：１１，５７０。
【０１１７】
（例３−２）
化合物（２−１）を化合物（１２−１）の１９．０ｇに変更し、各原料の量を化合物（１２−１）の量に合わせて変更した以外は、例１−２と同様にして化合物（１４−１）の１８．８ｇ（収率９８．８％）を得た。
Ｆ−ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＦ２−ＣＦ２−｛（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｘ２（ＯＣＦ２）ｘ１｝−ＯＣＦ２−Ｆ  ・・・（１４−１）
【０１１８】
化合物（１４−１）のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．６（７６Ｆ）、−５６．３〜−５８．３（６Ｆ）、−７７．８（１Ｆ）、−７８．３（１Ｆ）、−８９．０〜−９０．９（１７２Ｆ）。
単位数ｘ１の平均値：１９、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（１４−１）の数平均分子量：７，７４０。
【０１１９】
（例３−３）
化合物（４−１）を化合物（１４−１）の１８．５ｇに変更し、各原料の量を化合物（１４−１）の量に合わせて変更した以外は、例１−３と同様にして化合物（５−１）の１８．２ｇ（収率９６％）を得た。
Ｆ−ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（５−１）
【０１２０】
化合物（５−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．６（３８Ｆ）、−５６．３〜−５８．３（３Ｆ）、−７８．２（１Ｆ）、−７９．９（１Ｆ）、−８９．０〜−９０．９（８４Ｆ）。
単位数ｘ１の平均値：１９、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（５−１）の数平均分子量：３，８８０。
化合物（５−１）は例１で得られる化合物（５−１）と同一であり、例１−４と同様にして化合物（６−１）に誘導できる。
【０１２１】
［例４]
５０ｍＬのナスフラスコに、例３−１で得た化合物（１３−１）の１４．０ｇおよび４８％水酸化ナトリウム水溶液の１．０ｇを入れ、８０℃で２時間撹拌した。これを分液ロートに移し、希塩酸の２０ｍＬを加え、ＡＥ−３０００の２０ｍＬで５回抽出した。回収した溶液をエバポレータで濃縮し、得られた粗液をシリカゲルカラムクロマトグラフィにより精製することで、化合物（１−１）の４．４ｇ（収率９３．３％）、化合物（６−１）の９．２ｇ（収率１９７％）を得た。
化合物（１３−１）は化合物（１−１）および化合物（６−１）として再利用が可能であり、化合物（１３−１）を再利用することによって、含フッ素エーテル化合物の廃棄物はほとんどないといえる。
【０１２２】
［例５］
（化合物（５−１）を用いた表面処理剤の製造例）
国際公開第２０１３／１２１９８４号の例１−６に記載の方法にしたがい表面処理剤を製造した。ＮＭＲから化合物（５−１）の９９％が化合物（２５−１）に変換していることを確認した。
Ｆ−ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（２５−１）
【０１２３】
化合物（２５−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．６（２Ｈ）、１．６（２Ｈ）、２．８（１Ｈ）、３．２（２Ｈ）、３．５（９Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．６（３８Ｆ）、−５６．３〜−５８．３（３Ｆ）、−８１．３（１Ｆ）、−８４．１（１Ｆ）、−８９．０〜−９０．９（８４Ｆ）。
単位数ｘ１の平均値：１９、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（２５−１）の数平均分子量：４，０５０。
【０１２４】
［例６］
（化合物（６−１）を用いた表面処理剤の製造例）
国際公開第２０１７／０３８８３０号の例４に記載の方法に従い、化合物（２３−１）を得た。
Ｆ−ＣＦ２Ｏ−｛（ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ２｝−ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２−Ｃ［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］３  ・・・（２３−１）
【０１２５】
化合物（２３−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：０．７（６Ｈ）、１．７（６Ｈ）、３．４〜３．８（３７Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．６（３８Ｆ）、−５６．３〜−５８．３（３Ｆ）、−７７．３（１Ｆ）、−７９．３（１Ｆ）、−８９．０〜−９０．９（８４Ｆ）。
単位数ｘ１の平均値：１９、単位数ｘ２の平均値：２１、化合物（２３−１）の数平均分子量：４，３７０。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明の製造方法で得られた含フッ素エーテル化合物は、潤滑性や撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえばタッチパネル等の表示入力装置；透明なガラス製または透明なプラスチック製部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート；電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート、トイレタリー用防汚コート；導通しながら撥液が必要な部材へのコート；熱交換機の撥水・防水・滑水コート；振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話、携帯情報端末等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等人の指あるいは手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材、配線板用防水コーティング熱交換機の撥水・防水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車部品、工具等の表面保護コート等が挙げられる。
なお、２０１７年０５月２６日に出願された日本特許出願２０１７−１０４６１４号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。