(57)【要約】【課題】ロータに作用する保持トルクを小さくすることができるステータを提供する。【解決手段】ステータ２１は、貫通孔３１を有する磁性体３０と、貫通孔３１の周囲に設けられ、コイル２３を励磁した場合に貫通孔３１の周囲に磁極を発生させる磁気抵抗部３３と、貫通孔３１の周囲において磁気抵抗部３３とは異なる位置に、熱溶融により設けられ、透磁率が磁性体３０よりも小さくなるように形成された非磁性部３５と、を備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
貫通孔を有する磁性体と、
前記貫通孔の周囲に設けられ、コイルを励磁した場合に前記貫通孔の周囲に磁極を発生させる磁気抵抗部と、
前記貫通孔の周囲において前記磁気抵抗部とは異なる位置に、熱溶融により設けられ、透磁率が前記磁性体よりも小さくなるように形成された非磁性部と、
を備えることを特徴とするステータ。
【請求項２】
前記非磁性部は、前記貫通孔の内周面に設けられている、
ことを特徴とする請求項１に記載のステータ。
【請求項３】
前記非磁性部は、前記貫通孔から離れて設けられている、
ことを特徴とする請求項１に記載のステータ。
【請求項４】
前記非磁性部は、前記貫通孔の貫通方向において一部のみに設けられている、
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のステータ。
【請求項５】
前記非磁性部は、前記磁性体を貫通していない、
ことを特徴とする請求項４に記載のステータ。
【請求項６】
前記磁性体は、Ｎｉ−Ｆｅ合金を含み、
前記非磁性部は、Ｃｒの含有率が前記磁性体よりも大きくなるように形成されている、
ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のステータ。
【請求項７】
前記磁気抵抗部は、熱溶融により設けられ、透磁率が前記磁性体よりも小さくなるように、かつＣｒの含有率が前記磁性体よりも大きくなるように形成されている、
ことを特徴とする請求項６に記載のステータ。
【請求項８】
前記磁気抵抗部は、前記磁性体の第１面から第１深さまで形成され、
前記非磁性部は、前記磁性体の前記第１面から前記第１深さとは異なる第２深さまで形成されている、
ことを特徴とする請求項７に記載のステータ。
【請求項９】
前記第２深さは、前記第１深さよりも小さい、
ことを特徴とする請求項８に記載のステータ。
【請求項１０】
前記磁気抵抗部は、透磁率が前記磁性体よりも小さくなるように形成され、
前記貫通孔から外縁までの最小間隔は、０．１ｍｍ以上である、
ことを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載のステータ。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載のステータと、
前記貫通孔に配置されたロータと、
を備えることを特徴とするステッピングモータ。
【請求項１２】
請求項１１に記載のステッピングモータと、
前記ステッピングモータの動力を伝達する輪列と、
を備えることを特徴とする時計用ムーブメント。
【請求項１３】
請求項１２に記載の時計用ムーブメントを備えることを特徴とする時計。
【請求項１４】
ステータの製造方法であって、
前記ステータは、
貫通孔を有し、Ｎｉ−Ｆｅ合金を含む磁性体と、
前記貫通孔の周囲に設けられ、コイルを励磁した場合に前記貫通孔の周囲に磁極を発生させる磁気抵抗部と、
前記貫通孔の周囲において前記磁気抵抗部とは異なる位置に設けられ、透磁率が前記磁性体よりも小さくなるように形成された非磁性部と、
を備え、
磁性材にＣｒ材を配置するクロム配置工程と、
前記Ｃｒ材にレーザーを照射して前記磁性材に前記Ｃｒ材を溶融凝固させるクロム溶融工程と、
前記クロム溶融工程を行った後、前記磁性材を打ち抜いて前記貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、
を備えることを特徴とするステータの製造方法。
【請求項１５】
前記クロム溶融工程は、
前記Ｃｒ材にレーザーを照射して前記磁気抵抗部の少なくとも一部を形成する第１照射工程と、
前記Ｃｒ材にレーザーを照射し、前記第１照射工程におけるレーザーのエネルギーよりも小さいエネルギーを印加して前記非磁性部の少なくとも一部を形成する第２照射工程と、
を備える、
ことを特徴とする請求項１４に記載のステータの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステータ、ステッピングモータ、時計用ムーブメント、時計、およびステータの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、時針や分針等の針を回転駆動するステッピングモータを備えた時計がある。ステッピングモータは、回転可能に配設されたロータと、ロータを配置する貫通孔が形成されたステータと、ステータに磁気的に結合された磁心と、磁心に巻回されたコイルと、を有する。ステータには、ロータの静止位置を決めるための位置決め部が形成されている。
【０００３】
ロータを回転させるには、駆動回路からコイルに極性の異なる駆動パルスを交互に供給する。供給された駆動パルスによって、ステータには、極性の異なる漏洩磁束が交互に発生する。そして、ロータは、供給された駆動パルスによって、１８０度ずつ所定の一方向（正方向）に回転し、位置決め部に対応する位置に停止する。
【０００４】
一般的に、ステッピングモータでは、ロータを配設するために形成された貫通孔周りの２か所（１８０°間隔）において、幅を狭くした幅狭部を有することで磁束を飽和させやすくした一体型のステータが用いられている。この構造によって、ロータを駆動させる漏洩磁束が得やすくなる。
【０００５】
ロータを駆動させる漏洩磁束を得やすくするためのステータとして、いわゆる二体型のステータが知られている（例えば、特許文献１参照）。このステータは、次のように形成されるものである。まずステータを、磁路の断面積が最小となる貫通孔周り２か所（１８０度間隔）で切断することで２分割する。次に、当該切断箇所に、低透磁率材料または非磁性材料より成るスリット材を挿入する。次に、スリット材を分割したステータと溶接・接合する。
【０００６】
また、従来のステッピングモータでは、前記位置決め部として、ステータの貫通孔に切欠または段差形状等を設けた技術が用いられている。ステータの貫通孔に段差形状または切欠等を設けることで、ロータの位置（角度）に応じてロータの磁気ポテンシャルに差が生じる。これにより、ロータに保持トルクが作用し、ロータの静止位置を決めることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特公平５−５６１０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、小型の時計においては、搭載できる電池も小さくなるので、ロータに作用する保持トルクを小さくして、ステッピングモータの駆動に伴う消費電力を低減させる必要がある。位置決め部としてステータの貫通孔に切欠または段差形状を設ける場合、ロータに作用する保持トルクを小さくするためには、切欠または段差形状を小さくする必要があるが、従来の機械加工では微細加工に限界がある。したがって、従来技術のステッピングモータにあっては、ロータに作用する保持トルクを小さくするという課題がある。
【０００９】
そこで本発明は、ロータに作用する保持トルクを小さくすることができるステータ、ステッピングモータ、時計用ムーブメント、時計、およびステータの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のステータは、貫通孔を有する磁性体と、前記貫通孔の周囲に設けられ、コイルを励磁した場合に前記貫通孔の周囲に磁極を発生させる磁気抵抗部と、前記貫通孔の周囲において前記磁気抵抗部とは異なる位置に、熱溶融により設けられ、透磁率が前記磁性体よりも小さくなるように形成された非磁性部と、を備えることを特徴とする。
【００１１】
本発明によれば、磁性体の貫通孔の周囲に透磁率が磁性体よりも小さい非磁性部を設けることで、貫通孔にノッチや段差形状を設けることなく、ロータの回転位置に応じてロータの磁気ポテンシャルに差を発生させることができる。このため、非磁性部の形状や大きさ、透磁率等を適宜調整することで、ロータに作用する保持トルクも調整することができる。したがって、本発明のステータによれば、ロータに作用する保持トルクを小さくすることができる。
【００１２】
上記のステータにおいて、前記非磁性部は、前記貫通孔の内周面に設けられていてもよい。
【００１３】
本発明によれば、非磁性部をロータに直接面する位置に設けることができる。このため、ロータの回転位置に応じたロータの磁気ポテンシャルの差を確実に発生させることができる。したがって、ロータに作用する保持トルクが不足することを抑制できる。
【００１４】
上記のステータにおいて、前記非磁性部は、前記貫通孔から離れて設けられていてもよい。
【００１５】
本発明によれば、ロータの磁界が及ぶ範囲に非磁性部を設けることで、ロータの回転位置に応じてロータの磁気ポテンシャルに差を発生させることができる。したがって、ロータに作用する保持トルクを小さくすることが可能なステータを提供できる。
【００１６】
上記のステータにおいて、前記非磁性部は、前記貫通孔の貫通方向において一部のみに設けられていてもよい。
【００１７】
本発明によれば、非磁性部が貫通孔の貫通方向における全域にわたって設けられている場合と比較して、ロータの磁界が非磁性部に及ぶ範囲を小さくして、ロータの回転位置に応じたロータの磁気ポテンシャルの差を小さくすることができる。すなわち、非磁性部が設けられる範囲を貫通孔の貫通方向において適宜調整することで、ロータに作用する保持トルクも調整することができる。
【００１８】
上記のステータにおいて、前記非磁性部は、前記磁性体を貫通していなくてもよい。
【００１９】
本発明によれば、非磁性部が磁性体を貫通している場合と比較して、ロータの磁界が非磁性部に及ぶ範囲を小さくできる。このため、ロータの回転位置と磁気ポテンシャルとの関係において、磁気ポテンシャルの極大値が小さくなる。したがって、ロータに作用する保持力が過大となることを抑制できる。
【００２０】
上記のステータにおいて、前記磁性体は、Ｎｉ−Ｆｅ合金を含み、前記非磁性部は、Ｃｒの含有率が前記磁性体よりも大きくなるように形成されていてもよい。
【００２１】
本発明によれば、Ｃｒが拡散されたオーステナイト単相となる非磁性領域によって、当該領域の透磁率が周囲よりも小さくなるので、透磁率が磁性体よりも小さい非磁性部を形成することができる。
【００２２】
上記のステータにおいて、前記磁気抵抗部は、熱溶融により設けられ、透磁率が前記磁性体よりも小さくなるように、かつＣｒの含有率が前記磁性体よりも大きくなるように形成されていてもよい。
【００２３】
従来では、ステータを磁気的に分割して磁極を発生させるために、コイルの磁界によって磁束密度の飽和（磁気飽和）が生じるように貫通孔からステータの外縁までの間隔を狭くする場合があった。本発明によれば、Ｃｒが拡散されたオーステナイト単相となる非磁性領域によって、磁気抵抗部を透磁率が磁性体よりも小さくなるように形成することで、上記従来技術を用いることなく、磁気抵抗部によってステータを磁気的に分割して磁極を発生させることができる。
【００２４】
上記のステータにおいて、前記磁気抵抗部は、前記磁性体の第１面から第１深さまで形成され、前記非磁性部は、前記磁性体の前記第１面から前記第１深さとは異なる第２深さまで形成されていてもよい。
【００２５】
本発明では、磁気抵抗部および非磁性部が互いに異なる深さで形成される。ここで、磁極を発生させる際の磁気飽和に必要な磁束が過大となることを抑制するために、磁気抵抗部の深さを適宜設定することが望ましい。また、ロータに作用する保持力が過大となることを抑制するために、非磁性部の深さを適宜設定することが望ましい。磁気抵抗部および非磁性部を互いに異なる深さで形成することで、磁極を発生させる際の磁束が過大となること、およびロータに作用する保持力が過大となることを抑制できる。したがって、ロータを回転させる際にコイルに流す電流を小さくすることができる。
【００２６】
上記のステータにおいて、前記第２深さは、前記第１深さよりも小さくてもよい。
【００２７】
本発明によれば、ロータに作用する所望の保持力を得るために非磁性部の深さを設定しつつ、磁気飽和に必要な磁束を減らすために磁気抵抗部を非磁性部よりも深く形成できる。よって、磁極を発生させる際の磁束が過大となること、およびロータに作用する保持力が過大となることを抑制できる。したがって、ロータを回転させる際にコイルに流す電流を小さくすることができる。
【００２８】
上記のステータにおいて、前記磁気抵抗部は、透磁率が前記磁性体よりも小さくなるように形成され、前記貫通孔から外縁までの最小間隔は、０．１ｍｍ以上であってもよい。
【００２９】
従来では、ステータを磁気的に分割して磁極を発生させるために、コイルの磁界によって磁束密度の飽和が生じるように貫通孔からステータの外縁までの間隔を狭くする場合があった。本発明によれば、磁気抵抗部を透磁率が磁性体よりも小さくなるように形成することで、上記従来技術を用いることなく、磁気抵抗部によってステータを磁気的に分割して磁極を発生させることができる。よって、貫通孔からステータの外縁までの最小間隔を０．１ｍｍ以上としても、磁気抵抗部によって磁極を発生させることができるので、上記従来技術と比較して、ステータの強度を向上させることができる。
【００３０】
本発明のステッピングモータは、上記のステータと、前記貫通孔に配置されたロータと、を備えることを特徴とする。
本発明の時計用ムーブメントは、上記のステッピングモータと、前記ステッピングモータの動力を伝達する輪列と、を備えることを特徴とする。
【００３１】
本発明によれば、ロータに作用する保持トルクを小さくすることができるステータを備えるので、ロータを回転させる際にコイルに流す電流を小さくすることができる。したがって、消費電力を低減することができる。
【００３２】
本発明の時計は、上記の時計用ムーブメントを備えることを特徴とする。
【００３３】
本発明によれば、消費電力の小さい時計を提供できる。特に、本発明は搭載できる電池が小さい小型の時計に好適である。
【００３４】
本発明のステータの製造方法は、前記ステータは、貫通孔を有し、Ｎｉ−Ｆｅ合金を含む磁性体と、前記貫通孔の周囲に設けられ、コイルを励磁した場合に前記貫通孔の周囲に磁極を発生させる磁気抵抗部と、前記貫通孔の周囲において前記磁気抵抗部とは異なる位置に設けられ、透磁率が前記磁性体よりも小さくなるように形成された非磁性部と、を備え、磁性材にＣｒ材を配置するクロム配置工程と、前記Ｃｒ材にレーザーを照射して前記磁性材に前記Ｃｒ材を溶融凝固させるクロム溶融工程と、前記クロム溶融工程を行った後、前記磁性材を打ち抜いて前記貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、を備えることを特徴とする。
【００３５】
本発明によれば、Ｃｒ材を溶融凝固させた後に貫通孔を形成するので、貫通孔が熱変形することを抑制できる。したがって、ステータを精度よく形成することができる。
【００３６】
上記のステータの製造方法において、前記クロム溶融工程は、前記Ｃｒ材にレーザーを照射して前記磁気抵抗部の少なくとも一部を形成する第１照射工程と、前記Ｃｒ材にレーザーを照射し、前記第１照射工程におけるレーザーのエネルギーよりも小さいエネルギーを印加して前記非磁性部の少なくとも一部を形成する第２照射工程と、を備えていてもよい。
【００３７】
本発明によれば、印加されたエネルギーが大きいほどＣｒが溶融拡散する深度が深くなるので、非磁性部を磁気抵抗部よりも浅く形成することができる。このため、磁気抵抗部の周辺で磁極を発生させる際の磁束が過大となることを抑制しつつ、ロータに作用する保持力が過大となることを抑制できる。したがって、ロータを回転させる際にコイルに流す電流を小さくすることが可能なステータを提供できる。
【発明の効果】
【００３８】
本発明によれば、ロータに作用する保持トルクを小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】第１実施形態に係る時計を示すブロック図である。
【図２】第１実施形態に係るステッピングモータ７の概略構成例を示す斜視図である。
【図３】第１実施形態に係るステッピングモータを模式的に示す平面図である。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶ線におけるステータの断面図である。
【図５】第１実施形態のステータの製造方法を示すフローチャートである。
【図６】第１実施形態のステータの製造方法を説明するための模式図である。
【図７】第２実施形態に係るステッピングモータを模式的に示す平面図である。
【図８】図７のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線におけるステータの断面図である。
【図９】第３実施形態に係るステッピングモータを模式的に示す平面図である。
【図１０】第４実施形態に係るステッピングモータを模式的に示す平面図である。
【図１１】第４実施形態に係るステータの断面図であって、（ａ）は図１０のＸａ−Ｘａ線におけるステータの断面図であり、（ｂ）は図１０のＸｂ−Ｘｂ線におけるステータの断面図である。
【図１２】第４実施形態の変形例に係るステータの断面図であって、図１１のＸａ−Ｘａ線に相当する部分における断面を示す図である。
【図１３】第４実施形態のステータの製造方法を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお以下の説明では、同一または類似の機能を有する構成に同一の符号を付す。そして、それら構成の重複する説明は省略する場合がある。なお、以下で説明する実施形態では、時計の一例としてアナログ電子時計を例示する。
【００４１】
［第１実施形態］
（時計およびムーブメント）
図１は、第１実施形態に係る時計を示すブロック図である。
図１に示すように、時計１は、電池２、発振回路３、分周回路４、制御回路５、パルス駆動回路６、ステッピングモータ７、およびアナログ時計部８を備える。
また、アナログ時計部８は、輪列１１、時針１２、分針１３、秒針１４、カレンダ表示部１５、時計ケース１６、およびムーブメント１７（時計用ムーブメント）を備える。本実施形態では、時針１２、分針１３、および秒針１４のうち１つを特定しない場合、「指針」という。なお、発振回路３、分周回路４、制御回路５、パルス駆動回路６、ステッピングモータ７、および輪列１１は、ムーブメント１７の構成要素である。
【００４２】
電池２は、例えば酸化銀電池またはリチウム電池など、いわゆるボタン電池である。なお、電池２は、太陽電池と、太陽電池によって発電された電力を蓄電する蓄電池であってもよい。電池２は、電力を制御回路５に供給する。
【００４３】
発振回路３は、例えば水晶の圧電現象を利用し、その機械的共振から所定の周波数を発振するために用いられる受動素子である。ここで、所定の周波数は、例えば３２［ｋＨｚ］である。
【００４４】
分周回路４は、発振回路３が出力した所定の周波数の信号を所望の周波数に分周し、分周した信号を制御回路５に出力する。
【００４５】
制御回路５は、分周回路４が出力する分周された信号を用いて計時を行い、計時した結果に基づいて、駆動パルスを生成する。なお、制御回路５は、指針を正転方向に運針させる場合、正転用の駆動パルスを生成する。制御回路５は、指針を逆転方向に運針させる場合、逆転用の駆動パルスを生成する。制御回路５は、生成した駆動パルスをパルス駆動回路６に出力する。
【００４６】
パルス駆動回路６は、制御回路５が出力する駆動指示に応じて、指針それぞれに対して駆動パルスを生成する。パルス駆動回路６は、生成した駆動パルスをステッピングモータ７に出力する。
【００４７】
ステッピングモータ７は、パルス駆動回路６が出力する駆動パルスに応じて指針を運針させる。図１に示す例では、例えば、時針１２、分針１３、および秒針１４それぞれに１つステッピングモータ７を備えている。ステッピングモータ７の動力は、輪列１１によって指針に伝達される。
【００４８】
時針１２、分針１３および秒針１４それぞれは、ステッピングモータ７の動力によって運針される。時針１２は、パルス駆動回路６がステッピングモータ７を駆動することによって１２時間で１回転する。分針１３は、パルス駆動回路６がステッピングモータ７を駆動することによって６０分間で１回転する。秒針１４は、パルス駆動回路６がステッピングモータ７を駆動することによって６０秒間で１回転する。
【００４９】
（ステッピングモータの構成）
図２は、第１実施形態に係るステッピングモータ７の概略構成例を示す斜視図である。
図２に示すように、ステッピングモータ７は、２極（Ｓ極及びＮ極）に着磁されたロータ２０と、ロータ２０に対向する磁極を発生させるステータ２１と、ステータ２１に磁気的に結合された磁心２２と、磁心２２に巻回されてステータ２１を励磁するコイル２３と、ステータ２１と磁心２２とを接合するネジ２４と、を備える。ロータ２０は、ムーブメント１７の基板を構成する地板等によって回転可能に支持されている。ロータ２０には、輪列１１に噛み合うかなが設けられている。
【００５０】
ここで、ステータ２１の構成について詳述する。
図３は、第１実施形態に係るステッピングモータを模式的に示す平面図である。
図３に示すように、ステータ２１は、磁心２２の両端部に接続するように延びている。ステータ２１は、後述する磁気抵抗部３３および非磁性部３５を除き、磁性材料により形成された板状の磁性体３０である。本実施形態では、磁性材料として、Ｆｅ−３８％Ｎｉ−８％Ｃｒ合金（いわゆる３８パーマロイ）を用いている。ステータ２１の磁性体３０の中間部には、ロータ２０が配置される貫通孔３１が形成されている。なお、本実施形態で用いる「中間」とは、対象の両端間の中央のみならず、対象の両端間の内側の範囲を含む意とする。貫通孔３１は、ステータ２１の磁性体３０をその厚さ方向に貫通している。貫通孔３１は、ステータ２１の磁性体３０の厚さ方向から見て、全周にわたって一定の曲率を有する円形状に形成されている。貫通孔３１は、ロータ２０と同軸、かつロータ２０よりも大径に形成されている。
【００５１】
ステータ２１は、磁路Ｒと、一対の磁気抵抗部３３と、一対の非磁性部３５と、を備える。
磁路Ｒは、貫通孔３１の周囲の磁性体３０に設けられている。磁路Ｒには、コイル２３を励磁することで生じる磁界の磁束線が通る。磁路Ｒは、貫通孔３１とステータ２１の外縁２１ａとの間の磁性体３０である。すなわち、磁路Ｒは、ステータ２１の延在方向に直交する方向において、貫通孔３１を挟んだ両側にそれぞれ設けられている。
【００５２】
一対の磁気抵抗部３３は、コイル２３を励磁した場合に貫通孔３１の周囲に磁極を発生させる。一対の磁気抵抗部３３は、それぞれ磁路Ｒに１つずつ設けられている。一対の磁気抵抗部３３は、磁路Ｒの断面積が最小となる貫通孔３１周りの２箇所に設けられている。つまり、一対の磁気抵抗部３３は、貫通孔３１の周囲における、貫通孔３１とステータ２１の外縁２１ａとの間隔が狭い箇所に設けられている。例えば、一対の磁気抵抗部３３は、ロータ２０の回転中心回りに互いに１８０°ずれた位置に設けられている。一対の磁気抵抗部３３は、コイル２３から発生する磁界に対する磁気抵抗を増大させて、貫通孔３１内に漏洩磁束を発生させる。漏洩磁束は、一対の磁気抵抗部３３を結ぶ線分に直交するように発生する。これにより、貫通孔３１の周囲には、磁極が発生する。
【００５３】
本実施形態では、磁気抵抗部３３は、非磁性材料により形成されている。磁気抵抗部３３は、熱溶融による非接触加工によって形成されている。具体的に、本実施形態の磁気抵抗部３３は、ステータ２１を形成する磁性体３０にＣｒを溶融拡散することで、Ｃｒの含有率が磁性体３０よりも大きくなるように形成されている。これにより、磁気抵抗部３３は、透磁率が磁性体３０よりも小さくなるように形成され、コイル２３から発生する磁界に対する磁気抵抗を増大させている。例えば、磁気抵抗部３３におけるＣｒ濃度の最大値は、磁気抵抗部３３の低透磁率化の観点から、１５質量％以上かつ８０質量％以下とすることが望ましい。磁気抵抗部３３におけるＣｒ濃度は、ステータ２１の第２主面２１ｃ側から第１主面２１ｂ側に向かうに従い高くなっている。一対の磁気抵抗部３３は、ステータ２１の少なくとも第１主面２１ｂ上において、貫通孔３１からステータ２１の外縁２１ａにわたって連続的に設けられている。磁気抵抗部３３における貫通孔３１からステータ２１の外縁２１ａまでの最小間隔ｇは、０．１ｍｍ以上となっている。
【００５４】
一対の非磁性部３５は、貫通孔３１の周囲において、一対の磁気抵抗部３３とは異なる位置に設けられている。例えば、一対の非磁性部３５は、ロータ２０の回転中心回りに互いに１８０°ずれた位置に設けられている。例えば、一対の非磁性部３５は、一対の非磁性部３５を結ぶ線分が一対の磁気抵抗部３３を結ぶ線分に対して所定角度だけロータ２０の正転方向に傾斜するように設けられている。
【００５５】
非磁性部３５は、非磁性材料により形成されている。非磁性部３５は、熱溶融による非接触加工によって形成されている。具体的に、本実施形態の非磁性部３５は、ステータ２１を形成する磁性板材にＣｒを溶融拡散することで、Ｃｒの含有率が磁性体３０よりも大きくなるように形成されている。これにより、非磁性部３５は、透磁率が磁性体３０よりも小さくなるように形成され、非磁性部３５が設けられていない場合に対して当該箇所の磁気抵抗を増加させている。例えば、非磁性部３５におけるＣｒ濃度の最大値は、非磁性部３５の低透磁率化の観点から、１５質量％以上かつ８０質量％以下とすることが望ましい。非磁性部３５におけるＣｒ濃度は、磁気抵抗部３３と同様、ステータ２１の第２主面２１ｃ側から第１主面２１ｂ側に向かうに従い高くなっている。
【００５６】
非磁性部３５は、ステータ２１の第１主面２１ｂ上で、半円形状に形成されている。非磁性部３５は、貫通孔３１の内周面３１ａに設けられている（図４も併せて参照）。つまり、非磁性部３５の一部は、貫通孔３１の内周面３１ａを構成している。
【００５７】
一対の非磁性部３５は、コイル２３が励磁されていない状態でのロータ２０の静止位置を決めるための位置決め部として構成されている。ロータ２０は、磁力による吸引が最も強くなる位置で静止する。非磁性部３５は、透磁率が周囲よりも小さくなるように形成されているので、ロータ２０は、ロータ２０の磁極が非磁性部３５に対向しない位置で静止する。換言すると、一対の非磁性部３５は、ロータ２０の回転位置に応じてロータ２０の磁気ポテンシャルに差を発生させる。ロータ２０は、磁気ポテンシャルが極小となる位置において静止する。ロータ２０には、その位置に留まるように保持トルクが作用する。例えば、ロータ２０は、ロータ２０の磁極軸Ａが一対の非磁性部３５を結ぶ線分に直交するような位置で静止する。
【００５８】
図４は、図３のＩＶ−ＩＶ線におけるステータの断面図である。
図４に示すように、非磁性部３５は、ステータ２１の第１主面２１ｂから第２主面２１ｃに向かうに従い、ステータ２１の厚さ方向に直交する断面の断面積が漸次小さくなるように形成されている。本実施形態では、非磁性部３５は、ステータ２１の厚さ方向において一部のみに設けられている。具体的に、非磁性部３５は、ステータ２１の第１主面２１ｂから第２主面２１ｃに達しないように形成され、磁性体３０を貫通していない。
【００５９】
（ステータの製造方法）
次に、第１実施形態のステータの製造方法について説明する。
図５は、第１実施形態のステータの製造方法を示すフローチャートである。図６は、第１実施形態のステータの製造方法を説明するための模式図である。なお、図６において、符号４６はプレス加工によるせん断位置を示している。
図５に示すように、本実施形態のステータ２１の製造方法は、クロム配置工程Ｓ１０と、クロム溶融工程Ｓ２０と、プレス工程Ｓ３０（貫通孔形成工程）と、を備える。
【００６０】
図６に示すように、クロム配置工程Ｓ１０において、ステータ２１を形成する磁性板材４１（磁性材）の表面にＣｒ材を配置する。磁性板材４１は、例えばＦｅ−３８％Ｎｉ−８％Ｃｒ（いわゆる３８パーマロイ）を用いることができる。例えば、Ｃｒ材は、ディスペンサを用いて磁性板材４１にペースト塗布された後、乾燥されることで、磁性板材４１に配置される。なお、Ｃｒ材の配置は、ペースト塗布に限定されず、例えば磁性板材４１へのめっきを適用してもよい。
【００６１】
クロム溶融工程Ｓ２０において、Ｃｒ材にレーザーを照射して磁性板材４１にＣｒ材を溶融凝固させる。具体的に、磁性板材４１の表面に配置されたＣｒ材にレーザーを照射して、Ｃｒ材を母材である磁性板材４１に溶け込ませる。これにより、Ｃｒ材が磁性板材４１に溶融拡散し、Ｃｒ重量比が局所的に増加したＣｒ拡散領域４３，４４が形成される。Ｃｒ拡散領域４３，４４は、ステータ２１の磁気抵抗部３３および非磁性部３５に対応する位置に形成される。Ｃｒ拡散領域４３は、磁気抵抗部３３用に形成され、例えば連続した直線状に形成される。Ｃｒ拡散領域４４は、非磁性部３５用に形成され、非磁性部３５に対応する位置のみに局所的に形成される。その後、不要なＣｒ材を除去するために、Ｃｒ材を溶融凝固した磁性板材４１を、必要に応じて洗浄する。
【００６２】
なお、Ｃｒ拡散領域４３，４４の範囲は、レーザー照射にて加えられる熱量により変化し、印加熱量が大きいほどＣｒが溶融拡散する深度が深くなる。すなわち、レーザーの出力や照射時間、開口径等を調整することで、Ｃｒ拡散領域４３，４４の範囲を任意の深度に設定することができる。例えば、Ｃｒ拡散領域４３，４４を磁性板材４１の第１主面から第２主面に達するように形成することも可能であるし、磁性板材４１の第１主面から第２主面に達しないように形成することも可能である。本実施形態では、Ｃｒ拡散領域４３，４４を磁性板材４１の第１主面から第２主面に達しないように形成する。
【００６３】
プレス工程Ｓ３０は、クロム溶融工程Ｓ２０の後に行う。プレス工程Ｓ３０において、Ｃｒが溶融凝固した磁性板材４１を打ち抜いて、ステータ２１の外形および貫通孔３１を形成する。この際、Ｃｒ拡散領域４３，４４を横断するように磁性板材４１をせん断する。
以上により、磁気抵抗部３３および非磁性部３５を備えるステータ２１が形成される。
【００６４】
なお、上述したロータ２０の磁気ポテンシャルは、一対の非磁性部３５の透磁率や大きさ、位置等によって変化する。つまり、クロム溶融工程Ｓ２０において形成されるＣｒ拡散領域４４の深度等を調整することで、静止するロータ２０に作用する保持トルクを調整できる。
【００６５】
（ステッピングモータの動作）
次に、第１実施形態のステッピングモータの動作について説明する。
図３に示すように、コイル２３に電流を流していない場合、ロータ２０は磁気ポテンシャルが極小となる位置で静止する。
【００６６】
パルス駆動回路６から駆動パルス信号をコイル２３の端子ＯＵＴ１、ＯＵＴ２間に供給して（例えば、第１端子ＯＵＴ１側を正極、第２端子ＯＵＴ２側を負極）、図３の矢印方向に電流ｉを流すと、ステータ２１には破線矢印方向に磁束が発生する。
【００６７】
本実施形態では、磁路Ｒに磁気抵抗部３３が形成されている。そのため、貫通孔３１内に容易に漏洩磁束を確保できる。その後、ステータ２１に生じた磁極とロータ２０の磁極との相互作用によって、ロータ２０は図３の矢印方向に１８０°回転し、安定的に停止（静止）する。
なお、ステッピングモータ７を回転駆動することによって通常動作（例えばアナログ電子時計の運針動作）を行わせるための回転方向（図３では反時計回り方向）を正転方向とし、その逆（時計回り方向）を逆転方向としている。
【００６８】
次に、パルス駆動回路６から、逆極性の駆動パルスをコイル２３の端子ＯＵＴ１、ＯＵＴ２に供給して、図３の反矢印方向に電流を流すと、ステータ２１には破線矢印方向とは反対方向に磁束が発生する。
その後、前述と同様に、ステータ２１に生じた磁極とロータ２０の磁極との相互作用によって、ロータ２０は前記と同一方向（正転方向）に１８０°回転し、安定的に停止（静止）する。
【００６９】
以後、このように、コイル２３に対して極性の異なる信号（交番信号）を供給することによって、前記動作が繰り返し行われて、ロータ２０を１８０°ずつ矢印方向に連続的に回転させることができる。
【００７０】
以上に説明したように、本実施形態のステータ２１は、貫通孔３１の周囲に設けられ、コイル２３を励磁した場合に貫通孔３１の周囲に磁極を発生させる磁気抵抗部３３と、貫通孔３１の周囲において磁気抵抗部３３とは異なる位置に設けられ、透磁率が磁性体３０よりも小さくなるように形成された非磁性部３５と、を備える。
この構成によれば、貫通孔３１の周囲に透磁率が磁性体３０よりも小さい非磁性部３５を設けることで、貫通孔３１にノッチまたは段差形状を設けることなく、ロータ２０の回転位置に応じてロータ２０の磁気ポテンシャルに差を発生させることができる。このため、非磁性部３５の形状や大きさ、透磁率等を適宜調整することで、ロータ２０に作用する保持トルクも調整することができる。したがって、ロータ２０に作用する保持トルクを小さくすることが可能なステータ２１を提供できる。
【００７１】
また、非磁性部３５は、貫通孔３１の内周面３１ａに設けられている。この構成によれば、非磁性部３５をロータ２０に直接面する位置に設けることができる。このため、ロータ２０の回転位置に応じたロータ２０の磁気ポテンシャルの差を確実に発生させることができる。したがって、ロータ２０に作用する保持トルクが不足することを抑制できる。
【００７２】
また、ステータ２１は、Ｎｉ−Ｆｅ合金により形成され、非磁性部３５は、Ｃｒの含有率が局所的に大きくなるように形成されている。この構成によれば、Ｃｒが拡散されたオーステナイト単相となる非磁性領域によって、当該領域の透磁率が周囲よりも小さくなるので、透磁率が磁性体３０よりも小さい非磁性部３５を形成することができる。
【００７３】
また、非磁性部３５は、貫通孔３１の貫通方向（すなわちステータ２１の厚さ方向）において一部のみに設けられている。この構成によれば、非磁性部が貫通孔３１の貫通方向における全域にわたって設けられている場合と比較して、ロータ２０の磁界が非磁性部３５に及ぶ範囲を小さくして、ロータ２０の回転位置に応じたロータ２０の磁気ポテンシャルの差を小さくすることができる。すなわち、非磁性部３５が設けられる範囲を貫通孔３１の貫通方向において適宜調整することで、ロータ２０に作用する保持トルクも調整することができる。
【００７４】
また、磁気抵抗部３３は、透磁率が局所的に小さくなるように形成され、貫通孔３１からステータ２１の外縁２１ａまでの最小間隔は、０．１ｍｍ以上である。従来では、ステータを磁気的に分割して磁極を発生させるために、コイルの磁界によって磁束密度の飽和（磁気飽和）が生じるように貫通孔からステータの外縁までの間隔を狭くする場合があった。本実施形態によれば、磁気抵抗部３３を透磁率が磁性体３０よりも小さくなるように形成することで、上記従来技術を用いることなく、磁気抵抗部３３によってステータ２１を磁気的に分割して磁極を発生させることができる。よって、貫通孔３１からステータ２１の外縁２１ａまでの最小間隔ｇを０．１ｍｍ以上としても、磁気抵抗部３３によって磁極を発生させることができるので、上記従来技術と比較して、ステータ２１の強度を向上させることができる。
【００７５】
また、本実施形態のステータ２１の製造方法は、磁性板材４１にＣｒ材を配置するクロム配置工程Ｓ１０と、Ｃｒ材にレーザーを照射して磁性板材４１にＣｒ材を溶融凝固させるクロム溶融工程Ｓ２０と、クロム溶融工程Ｓ２０を行った後、磁性板材４１を打ち抜いて貫通孔３１を形成するプレス工程Ｓ３０と、を備える。この構成によれば、Ｃｒ材を溶融凝固させた後に貫通孔３１を形成するので、貫通孔３１が熱変形することを抑制できる。したがって、ステータ２１を精度よく形成することができる。
【００７６】
また、本実施形態のステッピングモータ７は、上記のステータ２１と、貫通孔３１に配置されたロータ２０と、を備える。また、本実施形態のムーブメント１７は、上記のステッピングモータ７と、ステッピングモータ７の動力を伝達する輪列１１と、を備える。本実施形態によれば、ロータ２０に作用する保持トルクを小さくすることができるステータ２１を備えるので、ロータ２０を回転させる際にコイル２３に流す電流を小さくすることができる。したがって、消費電力を低減することができる。
【００７７】
また、本実施形態の時計１は、上記のムーブメント１７を備えるので、消費電力の小さい時計とすることができる。特に、本実施形態の構成は、搭載できる電池が小さい小型の時計に好適である。
【００７８】
［第２実施形態］
（ステッピングモータの構成）
図７は、第２実施形態に係るステッピングモータを模式的に示す平面図である。図８は、図７のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線におけるステータの断面図である。
図３に示す第１実施形態では、非磁性部３５は、貫通孔３１の内周面３１ａに設けられている。これに対して、図７に示す第２実施形態では、非磁性部１３５は、貫通孔３１から離れて設けられている。この点で、第２実施形態は、第１実施形態とは異なる。なお、以下で説明する以外の構成は、第１実施形態と同様である。
【００７９】
図７に示すように、非磁性部１３５は、ステータ２１の第１主面２１ｂ上で、円形状に形成されている。
図８に示すように、非磁性部１３５は、ステータ２１の第１主面２１ｂから第２主面２１ｃに向かうに従い、ステータ２１の厚さ方向に直交する断面の断面積が漸次小さくなるように形成されている。本実施形態では、非磁性部１３５は、ステータ２１の厚さ方向において一部のみに設けられている。具体的に、非磁性部１３５は、ステータ２１の第１主面２１ｂから第２主面２１ｃに達しないように形成され、磁性体３０を貫通していない。非磁性部１３５と貫通孔３１との最小間隔は、例えば０．１ｍｍ以下である。
【００８０】
以上に説明したように、本実施形態のステータ２１によれば、ロータ２０の磁界が及ぶ範囲に非磁性部１３５を設けることで、ロータ２０の回転位置に応じてロータ２０の磁気ポテンシャルに差を発生させることができる。したがって、上述した第１実施形態と同様の作用効果を奏することができるステータ２１を提供できる。
【００８１】
［第３実施形態］
（ステッピングモータの構成）
図９は、第３実施形態に係るステッピングモータを模式的に示す平面図である。
図３に示す第１実施形態では、磁気抵抗部３３は、透磁率が磁性体３０よりも小さくなるように形成されている。これに対して、図９に示す第３実施形態では、磁気抵抗部２３３は、ステータ２１の外縁２１ａに外ノッチ２３７を設けることにより形成された幅狭部である。この点で、第３実施形態は、第１実施形態とは異なる。なお、以下で説明する以外の構成は、第１実施形態と同様である。
【００８２】
図９に示すように、ステータ２１の外縁２１ａには、一対の外ノッチ２３７が形成されている。一対の外ノッチ２３７は、磁路Ｒを挟んで貫通孔３１とは反対側にそれぞれ設けられている。外ノッチ２３７は、磁路Ｒの断面積を局所的に小さくしている。
【００８３】
一対の磁気抵抗部２３３は、磁路Ｒにおける外ノッチ２３７と貫通孔３１との間に設けられている。一対の磁気抵抗部２３３は、磁路Ｒの断面積が最小となる貫通孔３１周りの２箇所に設けられている。磁気抵抗部２３３は、その周囲と同一部材によって一体的に形成されている。すなわち、磁気抵抗部２３３は、磁性材料により形成されている。一対の磁気抵抗部２３３は、ロータ２０の磁界によって磁束が飽和せず、コイル２３が励磁された際に磁束が飽和するように形成されている。これにより、一対の磁気抵抗部２３３は、コイル２３から発生する磁界に対する磁気抵抗を増大させて貫通孔３１内に漏洩磁束を発生させ、貫通孔３１の周囲に磁極を発生させる。
【００８４】
以上に説明したように、本実施形態のステータ２１によれば、上述した第１実施形態のステータ２１と同様の作用効果を奏することができる。
【００８５】
［第４実施形態］
（ステッピングモータの構成）
図１０は、第４実施形態に係るステッピングモータを模式的に示す平面図である。図１１は、第４実施形態に係るステータの断面図であって、（ａ）は図１０のＸａ−Ｘａ線におけるステータの断面図であり、（ｂ）は図１０のＸｂ−Ｘｂ線におけるステータの断面図である。
第１実施形態および第２実施形態では、磁気抵抗部３３および非磁性部３５，１３５の深さについて特に限定していない。これに対して、図１０に示す第４実施形態では、磁気抵抗部３３３および非磁性部３３５の深さが互いに異なる。なお、以下で説明する以外の構成は、第１実施形態と同様である。
【００８６】
図１０および図１１に示すように、磁気抵抗部３３３は、ステータ２１の第１主面２１ｂから第２主面２１ｃに向かうに従い、ステータ２１の厚さ方向に直交する断面の断面積が漸次小さくなるように形成されている。磁気抵抗部３３３は、ステータ２１の厚さ方向において一部のみに設けられている。具体的に、磁気抵抗部３３３は、ステータ２１の第１主面２１ｂから第２主面２１ｃに達しないように形成され、磁性体３０を貫通していない。磁気抵抗部３３３は、ステータ２１の第１主面２１ｂ（磁性体３０の第１面）から第１深さＤ１まで形成されている。
【００８７】
非磁性部３３５は、ステータ２１の第１主面２１ｂから第２主面２１ｃに向かうに従い、ステータ２１の厚さ方向に直交する断面の断面積が漸次小さくなるように形成されている。非磁性部３３５は、ステータ２１の厚さ方向において一部のみに設けられている。具体的に、非磁性部３３５は、ステータ２１の第１主面２１ｂから第２主面２１ｃに達しないように形成され、磁性体３０を貫通していない。非磁性部３３５は、ステータ２１の第１主面２１ｂから、第１深さＤ１とは異なる第２深さＤ２まで形成されている。第２深さＤ２は、第１深さＤ１よりも小さい。すなわち、非磁性部３３５は、磁気抵抗部３３３よりもステータ２１の第１主面２１ｂを基準として浅く形成されている。
【００８８】
なお、図示の例では、非磁性部３３５は、第１実施形態の非磁性部３５と同様に、貫通孔３１の内周面３１ａに設けられている。しかしながら図１２に示すように、非磁性部３３５は、第２実施形態の非磁性部１３５と同様に、貫通孔３１から離れて設けられていてもよい。
【００８９】
（ステータの製造方法）
次に、第４実施形態のステータの製造方法について、図６および図１２を参照して説明する。
図１３は、第４実施形態のステータの製造方法を示すフローチャートである。
図１３に示すように、本実施形態のステータ２１の製造方法では、クロム溶融工程Ｓ２０Ａが第１照射工程Ｓ２１および第２照射工程Ｓ２２を有する。なお、第１照射工程Ｓ２１および第２照射工程Ｓ２２の順番については特に限定されない。
【００９０】
第１照射工程Ｓ２１では、Ｃｒ材にレーザーを照射して、磁気抵抗部３３３の一部であるＣｒ拡散領域４３を形成する。
【００９１】
第２照射工程Ｓ２２では、Ｃｒ材にレーザーを照射して、非磁性部３３５の少なくとも一部であるＣｒ拡散領域４４を形成する。第２照射工程Ｓ２２では、第１照射工程Ｓ２１におけるレーザーのエネルギーよりも小さいエネルギーをＣｒ材および磁性板材４１に印加する。これにより、Ｃｒ拡散領域４４におけるＣｒが溶融拡散する深度を、Ｃｒ拡散領域４３におけるＣｒが溶融拡散する深度よりも浅くする。
【００９２】
レーザーにより印加されるエネルギーは、レーザーの出力および照射時間のうち少なくともいずれか一方を調整することで変更できる。レーザーの出力は、パルスレーザーのパルスエネルギーや、パルスの周波数、レーザーの開口径等を調整することで変更できる。なお、レーザーの開口径の調整は、第１照射工程Ｓ２１と第２照射工程Ｓ２２との間でレーザー装置の機械的な設定変更、または開口径の異なるレンズへの交換が必要となる。
このため、生産性の向上等、製造コスト削減の観点で、レーザーにより印加されるエネルギーの変更は、レーザーの出力条件の変更のみで対応できる方法が望ましい。すわなち、レーザーにより印加されるエネルギーの変更は、パルスエネルギーやパルスの周波数、照射時間の調整により行うことが望ましい。
【００９３】
以上に説明した第４実施形態のステータ２１によれば、上述した第１実施形態と同様の作用効果に加えて、以下の作用効果を奏することができる。
本実施形態では、非磁性部３３５は、磁性体３０を貫通していない。この構成によれば、非磁性部が磁性体を貫通している場合と比較して、ロータ２０の磁界が非磁性部３３５に及ぶ範囲を小さくできる。このため、ロータ２０の回転位置と磁気ポテンシャルとの関係において、磁気ポテンシャルの極大値が小さくなる。したがって、ロータ２０に作用する保持力が過大となることを抑制できる。
【００９４】
また、磁気抵抗部３３３はステータ２１の第１主面２１ｂから第１深さＤ１まで形成され、非磁性部３３５はステータ２１の第１主面２１ｂから第１深さＤ１とは異なる第２深さＤ２まで形成されている。この構成では、磁気抵抗部３３３および非磁性部３３５が互いに異なる深さで形成される。ここで、磁極を発生させる際の磁気飽和に必要な磁束が過大となることを抑制するという観点で、磁気抵抗部３３３の深さを適宜設定することが望ましい。また、ロータ２０に作用する保持力が過大となることを抑制するという観点で、非磁性部３３５の深さを適宜設定することが望ましい。磁気抵抗部３３３および非磁性部３３５を互いに異なる深さで形成することで、磁極を発生させる際の磁束が過大となること、およびロータ２０に作用する保持力が過大となることを抑制できる。したがって、ロータ２０を回転させる際にコイル２３に流す電流を小さくすることができる。
【００９５】
さらに、第２深さＤ２は、第１深さＤ１よりも小さい。この構成によれば、ロータ２０に作用する所望の保持力を得るために非磁性部３３５の深さを設定しつつ、磁気飽和に必要な磁束を減らすために磁気抵抗部３３３を非磁性部３３５よりも深く形成できる。よって、磁極を発生させる際の磁束が過大となること、およびロータ２０に作用する保持力が過大となることを抑制できる。したがって、ロータ２０を回転させる際にコイル２３に流す電流を小さくすることができる。
【００９６】
また、本実施形態では、クロム溶融工程Ｓ２０Ａは、Ｃｒ材にレーザーを照射して磁気抵抗部３３３の少なくとも一部を形成する第１照射工程Ｓ２１と、Ｃｒ材にレーザーを照射し、第１照射工程Ｓ２１におけるレーザーのエネルギーよりも小さいエネルギーを印加して非磁性部３３５の少なくとも一部を形成する第２照射工程Ｓ２２と、を備える。この構成によれば、印加されたエネルギーが大きいほどＣｒが溶融拡散する深度が深くなるので、非磁性部３３５を磁気抵抗部３３３よりも浅く形成することができる。このため、磁気抵抗部３３３の周辺で磁極を発生させる際の磁束が過大となることを抑制しつつ、ロータ２０に作用する保持力が過大となることを抑制できる。したがって、ロータ２０を回転させる際にコイル２３に流す電流を小さくすることが可能なステータを提供できる。
【００９７】
なお、第４実施形態では、レーザーにより印加されるエネルギーの変更により、磁気抵抗部３３３および非磁性部３３５を互いに異なる深さで形成しているが、これに限定されない。例えば、貫通孔３１のせん断位置に対するＣｒ拡散領域４４の位置を調整して、非磁性部３３５の深さを磁気抵抗部３３３の深さとは異ならせてもよい。
【００９８】
なお、本発明は、図面を参照して説明した上述の実施形態に限定されるものではなく、その技術的範囲において様々な変形例が考えられる。
例えば、上記実施形態では、ステッピングモータ７が１つのコイル２３を備えた１コイルモータであるが、これに限定されない。ステッピングモータは２つのコイルを備えた２コイルモータであってもよい。
【００９９】
また、上記実施形態では、非磁性部３５，１３５の平面視形状が円形状に形成されているが、これに限定されない。非磁性部の平面視形状は、レーザーの照射範囲に対応するものであって、ロータ２０に作用する保持トルクを制御するために適宜調整されてもよい。つまり、非磁性部の平面視形状は、例えば楕円形状や長円形状（角丸長方形状）等であってもよい。
【０１００】
また、上記実施形態では、磁気抵抗部３３は、非磁性材料により形成され、貫通孔３１からステータ２１の外縁２１ａに連続的に設けられているが、これに限定されない。磁気抵抗部は、非磁性材料により形成される場合、貫通孔３１とステータ２１の外縁２１ａとの間の少なくとも一部に設けられていればよい。
【０１０１】
また、上記実施形態では、非磁性部３５，１３５は、貫通孔３１の貫通方向において一部のみに設けられているが。これに限定されない。非磁性部は、貫通孔３１の貫通方向における全域にわたって設けられ、ステータ２１の第１主面２１ｂから第２主面２１ｃに達していてもよい。
【０１０２】
また、上記実施形態では、非磁性部３５，１３５が一対設けられているが、これに限定されない。非磁性部は１つだけ設けられていてもよいし、３つ以上設けられていてもよい。
【０１０３】
また、磁性体３０が有する貫通孔について、貫通孔３１の全体が磁性体３０に形成されていなくてもよい。つまり、貫通孔の少なくとも一部が磁性体に形成されていればよい。例えば、磁性体は、磁気抵抗部３３によって分断され、貫通孔の内周面の一部のみを形成していてもよい。この場合であっても、上述した実施形態と同様の作用効果を奏する。
【０１０４】
その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記した実施の形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、上述した各実施形態を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【０１０５】
１…時計  １１…輪列  １７…ムーブメント（時計用ムーブメント）  ２０…ロータ  ２１…ステータ  ２１ａ…外縁  ２３…コイル  ３０…磁性体  ３１…貫通孔  ３１ａ…内周面  ３３，２３３，３３３…磁気抵抗部  ３５，１３５，３３５…非磁性部  ４１…磁性板材（磁性材）  Ｄ１…第１深さ  Ｄ２…第２深さ  Ｓ１０…クロム配置工程  Ｓ２０，Ｓ２０Ａ…クロム溶融工程  Ｓ２１…第１照射工程  Ｓ２２…第２照射工程  Ｓ３０…貫通孔形成工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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