(57)【要約】      （修正有）【課題】耐食性に優れる部品の製造方法及び母材に優れた耐食性を付与できる表面処理方法の提供。【解決手段】フッ化スズを含む化成処理液に浸漬したバルブ金属を含む合金の母材に電気化学的処理を施す部品の製造方法である。電気化学的処理が、マイクロアーク酸化処理である。化成処理液が、リン酸系化成処理液である。リン酸系化成処理液が、リン酸マンガンを含有する。合金が、マグネシウム合金、アルミニウム合金、及びチタン合金のいずれかである。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ化スズを含む化成処理液に浸漬したバルブ金属を含む合金の母材に電気化学的処理を施すことを含むことを特徴とする部品の製造方法。
【請求項２】
前記電気化学的処理が、マイクロアーク酸化処理である請求項１に記載の部品の製造方法。
【請求項３】
前記化成処理液が、リン酸系化成処理液である請求項１から２のいずれかに記載の部品の製造方法。
【請求項４】
前記リン酸系化成処理液が、リン酸マンガンを含有する請求項３に記載の部品の製造方法。
【請求項５】
前記合金が、マグネシウム合金、アルミニウム合金、及びチタン合金のいずれかである請求項１から４のいずれかに記載の部品の製造方法。
【請求項６】
前記母材が、電子機器の筐体である請求項１から５のいずれかに記載の部品の製造方法。
【請求項７】
フッ化スズを含む化成処理液に浸漬したバルブ金属を含む合金の母材に電気化学的処理を施すことを含むことを特徴とする表面処理方法。
【請求項８】
前記電気化学的処理が、マイクロアーク酸化処理である請求項７に記載の表面処理方法。
【請求項９】
前記化成処理液が、リン酸系化成処理液である請求項７から８のいずれかに記載の表面処理方法。
【請求項１０】
前記リン酸系化成処理液が、リン酸マンガンを含有する請求項９に記載の表面処理方法。
【請求項１１】
前記合金が、マグネシウム合金、アルミニウム合金、及びチタン合金のいずれかである請求項７から１０のいずれかに記載の表面処理方法。
【請求項１２】
前記母材が、電子機器の筐体である請求項７から１１のいずれかに記載の表面処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本件は、部品の製造方法、及び表面処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話、ノートＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）などのモバイル端末においては、軽量化のために樹脂、又はアルミニウム合金を材料とする筐体が使用されている。アルミニウム合金は、樹脂よりも強度が高いというメリットはあるものの、樹脂よりも重いという欠点がある。
【０００３】
アルミニウム合金よりも軽量な合金として、マグネシウム合金が知られているが、更に軽量な合金として、マグネシウムリチウム合金が注目されつつある。マグネシウムリチウム合金は、主成分であるマグネシウムに少量のリチウムを添加してなり、高強度かつ軽量という特徴がある。
【０００４】
しかし、リチウムは活性が高いため、マグネシウムリチウム合金は、アルミニウム合金やマグネシウム合金と比較して大気中で容易に酸化して黒く変色してしまうという問題がある。
そのため、筐体などの部品に用いられるマグネシウムリチウム合金においては、従来のマグネシウム合金以上に、化成処理や陽極酸化による耐蝕性の高い皮膜を、表面に形成する必要がある。また、マグネシウム合金筐体の作製においても、チクソ成形やダイカスト成形等の鋳造法を用いると離型剤の巻き込みや湯じわ等により合金組成が部分的に不均一になり、従来の化成処理による均一な耐食性付与が困難となる。
【０００５】
したがって、耐食性に優れる部品の製造方法、及び表面処理方法の提供が求められているのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−３７１３８０号公報
【特許文献２】特開２００６−４９２０９号公報
【特許文献３】特表２００８−５１８０９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本件は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本件は、耐食性に優れる部品の製造方法、及び母材に優れた耐食性を付与できる表面処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための手段としては、後述する付記に記載した通りである。即ち、
開示の部品の製造方法は、フッ化スズを含む化成処理液に浸漬したバルブ金属を含む合金の母材に電気化学的処理を施すことを含む。
開示の表面処理方法は、フッ化スズを含む化成処理液に浸漬したバルブ金属を含む合金の母材に電気化学的処理を施すことを含む。
【発明の効果】
【０００９】
開示の部品の製造方法によると、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、耐食性に優れる部品を提供できる。
開示の表面処理方法によると、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、母材に優れた耐食性を付与できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本発明で製造された部品を適用するノートパソコンの概略的斜視図である。
【図２】図２は、フロントカバー形状にプレス加工した状態の説明図である。
【図３】図３は、バックカバー形状にプレス加工した状態の説明図である。
【図４】図４は、アッパーカバー形状にプレス加工した状態の説明図である。
【図５】図５は、ロアカバー形状にプレス加工した状態の説明図である。
【図６】図６は、実施例１の表面処理方法のフローチャートである。
【図７】図７は、実施例１、比較例１〜比較例４の試験片の表面を観察して得られた写真である。
【図８】図８は、比較例１及び比較例３の試験片の表面を観察して得られた写真である。
【図９】図９は、実施例１及び比較例４の試験片の表面を観察して得られた写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（部品の製造方法、及び表面処理方法）
開示の部品の製造方法は、フッ化スズを含む化成処理液に浸漬したバルブ金属を含む合金の母材に電気化学的処理を施すこと（以下、「皮膜形成工程」と称することがある）を少なくとも含み、更に必要に応じて、脱脂工程、活性化工程、デスマット工程などのその他の工程を含む。
開示の表面処理方法は、フッ化スズを含む化成処理液に浸漬したバルブ金属を含む合金の母材に電気化学的処理を施すことを少なくとも含み、更に必要に応じて、脱脂工程、活性化工程、デスマット工程などのその他の工程を含む。
なお、部品の製造方法、及び表面処理方法において、各工程は、例えば、脱脂工程、活性化工程、デスマット工程、及び皮膜形成工程の順で行われる。
【００１２】
＜皮膜形成工程＞
皮膜形成工程においては、フッ化スズ（ＳｎＦ２）を含む化成処理液に浸漬したバルブ金属を含む合金の母材に電気化学的処理を施すことで、合金の母材の表面に皮膜を形成する。
【００１３】
＜＜化成処理液＞＞
化成処理液としては、フッ化スズ（ＳｎＦ２）を含む限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、リン酸系化成処理液が好ましい。
【００１４】
化成処理液におけるフッ化スズ（ＳｎＦ２）の濃度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００ｍｇ／Ｌ〜５０，０００ｍｇ／Ｌが好ましく、５００ｍｇ／Ｌ〜２０，０００ｍｇ／Ｌがより好ましい。１００ｍｇ／Ｌ以上であれば、フッ化スズ（ＳｎＦ２）を添加したことによる耐食性向上の効果が顕になり、５００ｍｇ／Ｌ以上であれば、フッ化スズ（ＳｎＦ２）を添加したことによる耐食性向上の効果がより顕になる。
【００１５】
リン酸系化成処理液は、リン酸又はリン酸塩を含有する。
リン酸、及びリン酸塩におけるリン酸としては、例えば、オルトリン酸、メタリン酸、ピロリン酸、三リン酸、四リン酸などが挙げられる。
リン酸塩としては、例えば、リン酸マンガン、リン酸水素マンガン、リン酸水素アルミニウム、リン酸二水素アルミニウム、リン酸アルミニウム、リン酸水素カルシウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸カルシウムナトリウム、リン酸ジルコニウムなどが挙げられる。
これらの中でもリン酸マンガンが好ましい。
【００１６】
リン酸系化成処理液におけるリン酸又はリン酸塩の濃度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００１７】
フッ化スズ（ＳｎＦ２）を添加する前の化成処理液は、市販品であってもよい。市販品としては、例えば、ＧＲ  ＭＣ−１６７０Ａ（ミリオン化学株式会社製）などが挙げられる。
【００１８】
＜＜合金＞＞
合金としては、バルブ金属を含む合金であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、マグネシウム合金、アルミニウム合金、チタン合金などが挙げ。
ここで、バルブ金属とは、アノード的に生成したバリアー型陽極酸化膜がカソード電流は流すがアノード電流は通さない、即ち弁作用を示すような金属を指す（電気化学便覧    第４版；電気化学協会編、ｐ３７０、丸善、１９８５）。
【００１９】
バルブ金属としては、例えば、マグネシウム、トリウム、カドミウム、タングステン、錫、鉄、銀、シリコン、タンタル、チタン、ハフニウム、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブなどが挙げられる。
【００２０】
マグネシウム合金としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、マグネシウムリチウム合金が挙げられる。
マグネシウムリチウム合金としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＬＺ９１などが挙げられる。
【００２１】
＜＜母材＞＞
母材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子機器の筐体などが挙げられる。電子機器としては、例えば、モバイル端末などが挙げられる。モバイル端末としては、例えば、ノート型ＰＣ、タブレットＰＣ、携帯電話、スマートフォンなどが挙げられる。
【００２２】
＜＜電気化学的処理＞＞
電気化学的処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、マイクロアーク酸化処理（Ｍｉｃｒｏ−ａｒｃ  Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ：ＭＡＯ）、陽極酸化処理、プラズマ電解酸化処理（Ｐｌａｓｍａ  Ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｉｃ  Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ：  ＰＥＯ）などが挙げられる。
【００２３】
陽極酸化処理は、酸化させる物質を陽極とした系に直流または交流電流を流し、電気分解によって酸素を発生させて、金属表面に酸化物被膜を生成させる方法である。
マイクロアーク酸化処理は、陽極酸化処理により生成した酸化物皮膜に高電圧の印加で絶縁破壊を起こし、積極的に膜厚成長を促す方法である。
陽極酸化処理及びマイクロアーク酸化処理では、理論的にどのような金属でも陽極として選択することが可能である。さらにこれらの方法では、陽極は電解液中に設置できるものであれば形状に制限はなく、用途に合わせた形状の金属表面に選択的に酸化物皮膜を生成させることが可能である。
マイクロアーク酸化処理は、化成処理液、電圧印加時間、電圧等を調整することで生成させる酸化物皮膜の微細構造、膜厚等を調整することが可能であることから好ましい。
【００２４】
皮膜形成工程における化成処理液の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、反応促進の点で、３０℃〜７０℃が好ましく、５０℃〜７０℃がより好ましく、５５℃〜６５℃が特に好ましい。
【００２５】
皮膜形成工程において、母材に電気化学的処理を施す時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１分間〜５分間などが挙げられる。
【００２６】
電気化学的処理が、マイクロアーク酸化処理又は陽極酸化処理の場合、平均電流密度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１００Ａｍ−２〜３００Ａｍ−２が挙げられる。
電気化学的処理が、マイクロアーク酸化処理の場合、絶縁破壊を起こす高電圧としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、２００Ｖ〜４００Ｖが挙げられる。
【００２７】
＜脱脂工程＞
脱脂工程としては、脱脂処理液に、合金の母材の表面を曝す工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、脱脂処理液に母材を浸漬する処理などが挙げられる。
【００２８】
脱脂処理液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルカリなどが挙げられる。アルカリとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、強アルカリであることが好ましい。強アルカリとしては、ｐＨが１３〜１４のアルカリであることが好ましい。
【００２９】
脱脂処理液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルカリ水溶液などが挙げられる。脱脂処理液としては、例えば、市販品を用いることができる。市販品としては、例えば、強アルカリ水溶液（ミリオン化学株式会社製、ＧＦ  ＭＧ−１５ＳＸ）などが挙げられる。
【００３０】
脱脂工程におけるアルカリの温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、反応促進の点で、５０℃〜９０℃が好ましく、６５℃〜８５℃がより好ましく、７０℃〜８０℃が特に好ましい。
【００３１】
脱脂工程において、アルカリに、表面を曝す時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１分間〜１０分間などが挙げられる。
【００３２】
＜活性化工程＞
活性化工程としては、フッ素を含む酸に、合金の母材の表面を曝す工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フッ素を含む酸に母材を浸漬する処理などが挙げられる。
【００３３】
フッ素を含む酸としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フッ酸などが挙げられる。フッ素を含む酸としては、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ミリオン化学株式会社製のＧＦ  ＭＧ−１０９などが挙げられる。
【００３４】
活性化工程におけるフッ素を含む酸の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、温度管理が容易である点で、２０℃〜６０℃が好ましく、３０℃〜５０℃がより好ましく、３５℃〜４５℃が特に好ましい。
【００３５】
活性化工程において、フッ素を含む酸に、合金の母材の表面を曝す時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．５分間〜５分間などが挙げられる。
【００３６】
活性化工程においては、例えば、表面にフッ化マグネシウム、フッ化リチウム、及び酸化リチウムなどが生成する。
【００３７】
＜デスマット工程＞
デスマット工程としては、アルカリに、合金の母材の表面を曝す工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルカリ水溶液に母材を浸漬する処理などが挙げられる。
【００３８】
アルカリとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、強アルカリであることが好ましい。強アルカリとしては、ｐＨが１３〜１４のアルカリであることが好ましい。
アルカリとしては、例えば、市販品を用いることができる。市販品としては、例えば、強アルカリ水溶液（ミリオン化学株式会社製、ＧＦ  ＭＧ−１５ＳＸ）などが挙げられる。
【００３９】
デスマット工程におけるアルカリの温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、反応促進の点で、４０℃〜８０℃が好ましく、５０℃〜７０℃がより好ましく、５５℃〜６５℃が特に好ましい。
【００４０】
デスマット工程において、アルカリに、表面を曝す時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１分間〜５分間などが挙げられる。
【００４１】
図１〜図５は、製造された部品を適用するノートパソコンの説明図である。
図１はノートパソコンを示す概略斜視図である。ノートパソコン３０は、本体３１の表面の少なくとも一部が筐体３２により覆われている。筐体３２は、液晶モニタ部の液晶パネル３７を支持するフロントカバー３３、バックカバー３４と、本体３１を支持するアッパーカバー３５とロアカバー３６とからなる。
図２はフロントカバー形状にプレス加工した状態の説明図であり、図３はバックカバー形状にプレス加工した状態の説明図であり、図４はアッパーカバー形状にプレス加工した状態の説明図であり、図５はロアカバー形状にプレス加工した状態の説明図である。これらのカバーの全て或いはその内の一部の母材に対して皮膜を形成してノートパソコンを形成する。
【実施例】
【００４２】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
【００４３】
（実施例１）
マグネシウムリチウム合金の表面処理を行った。具体的な方法を、図６を参照しながら説明する。
【００４４】
〔工程Ｓ１１：脱脂〕
まず、最初の工程Ｓ１１において、温度が７５℃の強アルカリ水溶液（ミリオン化学株式会社製、ＧＦ  ＭＧ−１５ＳＸ）にマグネシウムリチウム合金の試験片を５分間浸漬することにより、その試験片の表面を脱脂した。なお、この例では、試験片として短辺の長さが２５ｍｍで長辺の長さが５０ｍｍの矩形状のＬＺ９１の板（日本金属株式会社製）を用いた。ＬＺ９１は、リチウムが９重量％、亜鉛が１重量％、マグネシウムが９０重量％のマグネシウムリチウム合金である。また、強アルカリ水溶液には添加剤としてミリオン化学株式会社製のＧＦ  Ｆ２１を添加した。
【００４５】
〔工程Ｓ１２：活性化〕
次に、工程Ｓ１２に移り、温度が４０℃の酸に上記の試験片を１分間浸漬することにより、試験片の表面に形成されたマグネシウム及びリチウムの自然酸化膜をエッチングして除去し、試験片の表面を清浄化した。このように表面を清浄化する工程は活性化とも呼ばれる。
この例では、フッ酸を含有するミリオン化学株式会社製のＧＦ  ＭＧ−１０９を上記の酸として使用した。このようにフッ素を含む酸を使用することで、試験片中のマグネシウム及びリチウムがフッ化され、活性化の後の試験片の表面にはマグネシウムのフッ化物、及びリチウムのフッ化物が形成されることになる。
【００４６】
〔工程Ｓ１３：デスマット〕
続いて、工程Ｓ１３に移り、上記の活性化で試験片の表面に発生した残渣を除去するために、温度が６０℃の強アルカリ水溶液（ミリオン化学株式会社製、ＧＦ  ＭＧ−１５ＳＸ）に試験片を２分間浸漬した。この工程で除去される残渣はスマットと呼ばれる黒色物質であり、この工程はデスマット処理とも呼ばれる。
【００４７】
〔工程Ｓ１４：皮膜の形成〕
そして、工程Ｓ１４に移り、化成処理液に上記の試験片を浸漬しつつ、化成処理液に電解を印加し、マイクロアーク酸化処理を行った。
この例では、化成処理液として、リン酸マンガン系の化成処理液（ミリオン化学株式会社製のＧＲ  ＭＣ−１６７０Ａ）１Ｌに、フッ化スズ（ＳｎＦ２、試薬、和光純薬工業社製）１０，０００ｍｇを添加したものを使用した。
マイクロアーク酸化処理においては、パルス電源を使用し、最初は平均電流密度２００Ａｍ−２の定電流電解を行った。電圧の上限は３５０Ｖとし、上限の３５０Ｖに到達後は３５０Ｖでの定電圧電解を行った。
化成処理液の温度を、６０℃とし、マイクロアーク酸化処理の処理時間を、４分間とした。
この処理により、試験片の表面に皮膜が形成された。
【００４８】
〔工程Ｓ１５：乾燥〕
この後は、工程Ｓ１５に移り、高温槽において温度を８０℃、加熱時間を１０分間とする条件で試験片の表面の水分を蒸散させ、試験片を乾燥させた。
【００４９】
以上により、試験片に対する表面処理を終了した。
【００５０】
（比較例１）
実施例１において、工程Ｓ１４を以下の工程Ｓ１４−１に変更した以外は、実施例１と同様にして、試験片を得た。
【００５１】
〔工程Ｓ１４−１：皮膜の形成〕
工程Ｓ１４−１に移り、化成処理液に上記の試験片を浸漬した。この例では、化成処理液としてミリオン化学株式会社製のＧＲ  ＭＣ−１６７０Ａを使用すると共に、その化成処理液の温度を６０℃に維持しつつ、化成処理液に試験片を２．５分間浸漬した。
【００５２】
（比較例２）
比較例１において、工程Ｓ１３と工程Ｓ１４−１との間に、以下の前処理工程を行った以外は、比較例１と同様にして、試験片を得た。
【００５３】
〔前処理工程〕
試験片を、１０ｇ／ＬのＮａＨＣＯ３と１０ｇ／ＬのＮＨ４ＯＨとを含有する６０℃の水溶液に５分間浸漬させることで前処理を行った。
【００５４】
（比較例３）
実施例１において、工程Ｓ１４を以下の工程Ｓ１４−２に変更した以外は、実施例１と同様にして、試験片を得た。
【００５５】
〔工程Ｓ１４−２：皮膜の形成〕
工程Ｓ１４−２に移り、化成処理液に上記の試験片を浸漬した。
この例では、化成処理液として、リン酸マンガン系の化成処理液（ミリオン化学株式会社製のＧＲ  ＭＣ−１６７０Ａ）１Ｌに、フッ化スズ（ＳｎＦ２、試薬、和光純薬工業社製）１０，０００ｍｇを添加したものを使用した。
化成処理液の温度を６０℃に維持しつつ、化成処理液に試験片を２．５分間浸漬した。
【００５６】
（比較例４）
実施例１において、工程Ｓ１４を以下の工程Ｓ１４−３に変更した以外は、実施例１と同様にして、試験片を得た。
【００５７】
〔工程Ｓ１４−３：皮膜の形成〕
工程Ｓ１４−３に移り、化成処理液に上記の試験片を浸漬しつつ、化成処理液に電解を印加し、マイクロアーク酸化処理を行った。
この例では、化成処理液として、リン酸マンガン系の化成処理液であるミリオン化学株式会社製のＧＲ  ＭＣ−１６７０Ａを使用した。
マイクロアーク酸化処理においては、パルス電源を使用し、最初は平均電流密度２００Ａｍ−２の定電流電解を行った。電圧の上限は３５０Ｖとし、上限の３５０Ｖに到達後は３５０Ｖでの定電圧電解を行った。
化成処理液の温度を、６０℃とし、マイクロアーク酸化処理の処理時間を、４分間とした。
この処理により、試験片の表面に皮膜が形成された。
【００５８】
実施例１、比較例１〜４の皮膜形成の条件を表１にまとめた。
【００５９】
【表１】
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【００６０】
＜温湿度サイクル試験＞
得られた試験片を、ＭＩＬ−ＳＴＤ−１０６Ｄ−２０２Ｅで規定される温湿度サイクル試験（１０サイクル）に供し、試験後の外観を観察した。結果を図７に示した。
ここで、判定基準は以下の通りである。
〔判定基準〕
○：  腐食や白錆の発生が無く，初期外観と比較してほとんど変色が見られないこと。
△：  腐食や白錆の発生が無く，初期外観と比較して著しい変色が見られないこと。
×：  腐食や白錆の発生あり。
【００６１】
＜碁盤目試験＞
また、得られた試験片に塗装処理を行い、その後、上記温湿度サイクル（１０サイクル）を行った後に、碁盤目試験法による碁盤目試験を行った。結果を図８及び９に示した。
また、得られた試験片に塗装処理を行い、続いて、４０℃の人工汗を５日間付与した後に、碁盤目試験法による碁盤目試験を行った。結果を図８及び９に示した。
【００６２】
人工汗の付与は、以下の方法で行った。
蓋のできる容器に不織布を敷き、そこに人工汗を入れ、人工汗に浸った不織布に塗装面を接触させた後、容器に蓋をし、４０℃の恒温室に５日間放置した。
なお、塗装処理は、プロミネンスＳＰ０７  Ｎ−６グレー（ミカサペイント製商品型番）からなる下塗り層及びＨＣ−１  Ｐｒｅｍｉｕｍ  Ｓｉｌｖｅｒ  Ｍａｔｔｅ２（ミカサペイント製商品型番）からなる上塗り層を設けることにより行った。
【００６３】
人工汗１としては、Ｌ−ヒスチジン塩酸塩、塩化ナトリウム、水酸化ナトリウム、及びリン酸ナトリウムを主成分とする中性の人工汗（ｐＨ＝７．０）を用いた。
人工汗２としては、塩化ナトリウム、水酸化ナトリウム、及びリン酸ナトリウムを主成分とするアルカリ系の人工汗（ｐＨ＝９．５）を用いた。
人工汗３としては、塩化ナトリウム、リン酸ナトリウム、及び酢酸を主成分とする酸系の人工汗（ｐＨ＝４．５）を用いた。
この塗装評価においては、１センチメートル角の四角に、１ミリずつカッターで切りつけ碁盤目状にクロスカットする。その後、テープを上から張り付けた後、はがしてみて剥がれた１ｍｍ×１ｍｍ各の小片の数で評価した。
【００６４】
（比較例５〜７）
＜Ｓｎ塩の違い＞
Ｓｎ塩の違いを評価した。すなわち、実施例１の工程Ｓ１４において、フッ化スズ（ＳｎＦ２）１０，０００ｍｇを、以下の塩化スズ、酸化スズ、酸化スズ（懸濁）に変更した以外は、実施例１と同様にして、試験片を作製した。
【００６５】
比較例５：塩化スズ（ＳｎＣｌ２、試薬、和光純薬工業社製）１０，０００ｍｇ
比較例６：酸化スズ（ＳｎＯ２、試薬、和光純薬工業社製）１０，０００ｍｇ
比較例７：酸化スズ（懸濁）（ＳｎＯ２、試薬、和光純薬工業社製）１０，０００ｍｇ（ＳｎＯ２換算）
【００６６】
実施例１、及び比較例５〜７で作製した試験片を、ＭＩＬ−ＳＴＤ−１０６Ｄ−２０２Ｅで規定される温湿度サイクル試験（１０サイクル）に供し、試験後の外観を目視により確認した。また、試験前後の色度を測定した。色度の測定は、コニカミノルタＣＭ−６００ｄを用いて行った。結果を表２に示した。
ここで、判定基準は以下の通りである。
〔判定基準〕
○：  ９＞（期と温湿度サイクル後の色差）
△：  １４＞（初期と温湿度サイクル後の色差）＞１０
×：  （初期と温湿度サイクル後の色差）＞１５
【００６７】
【表２】
2020117766.tif 000004
【００６８】
温湿度サイクル試験の結果（図７）、碁盤目試験の結果（図８及び図９）、及び色度変化の結果（表２）から、実施例１の試験片は良好な耐食性を示した。
一方、比較例１〜３の試験片は、温湿度サイクル試験において、剥がれが見られた。
比較例４の試験片は、温湿度サイクル試験は良好であったが、碁盤目試験において、剥がれが見られた（図９の○で囲った部分）。
比較例５〜７の試験片は、温湿度サイクル試験前後の色度変化が大きかった。
【００６９】
以上の実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。
（付記１）
フッ化スズを含む化成処理液に浸漬したバルブ金属を含む合金の母材に電気化学的処理を施すことを含むことを特徴とする部品の製造方法。
（付記２）
前記電気化学的処理が、マイクロアーク酸化処理である付記１に記載の部品の製造方法。
（付記３）
前記化成処理液が、リン酸系化成処理液である付記１から２のいずれかに記載の部品の製造方法。
（付記４）
前記リン酸系化成処理液が、リン酸マンガンを含有する付記３に記載の部品の製造方法。
（付記５）
前記合金が、マグネシウム合金、アルミニウム合金、及びチタン合金のいずれかである付記１から４のいずれかに記載の部品の製造方法。
（付記６）
前記母材が、電子機器の筐体である付記１から５のいずれかに記載の部品の製造方法。
（付記７）
フッ化スズを含む化成処理液に浸漬したバルブ金属を含む合金の母材に電気化学的処理を施すことを含むことを特徴とする表面処理方法。
（付記８）
前記電気化学的処理が、マイクロアーク酸化処理である付記７に記載の表面処理方法。
（付記９）
前記化成処理液が、リン酸系化成処理液である付記７から８のいずれかに記載の表面処理方法。
（付記１０）
前記リン酸系化成処理液が、リン酸マンガンを含有する付記９に記載の表面処理方法。
（付記１１）
前記合金が、マグネシウム合金、アルミニウム合金、及びチタン合金のいずれかである付記７から１０のいずれかに記載の表面処理方法。
（付記１２）
前記母材が、電子機器の筐体である付記７から１１のいずれかに記載の表面処理方法。
【符号の説明】
【００７０】
３０  ノートパソコン
３１  本体
３２  筐体
３３  フロントカバー
３４  バックカバー
３５  アッパーカバー
３６  ロアカバー
３７  液晶パネル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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