(57)【要約】【課題】高粘度の塗布液を用いる塗布器であっても、塗布器に付着した付着物等を除去することができる清掃装置を提供する。【解決手段】基板と対向する基板対向面に形成された一方向に延びる塗布器に付着した付着物を清掃する清掃装置であって、塗布器に当接する清掃ユニットと、清掃ユニットが塗布器に当接した状態で塗布器の長手方向に相対的に移動させる移動装置と、を備えており、清掃ユニットは、清掃移動方向前側に配置される第１清掃部とこの第１清掃部よりも後側に配置される第２清掃部とを備え、第１清掃部は、塗布器における基板対向面とこの基板対向面に連続する傾斜側面とに当接する第１清掃部材を有し、第２清掃部は、塗布器における基板対向面と傾斜側面とに当接する第２清掃部材を有しており、第１清掃部材は、第２清掃部材に比べて当接する相手面に沿って変形しにくい高剛性材料で形成される構成する。【選択図】図２
2020081994.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と対向する基板対向面に形成された一方向に延びるスリットノズルから塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成する塗布器に付着した付着物を清掃する清掃装置であって、
前記スリットノズルに対向した状態で前記塗布器に当接する清掃ユニットと、
前記清掃ユニットが前記塗布器に当接した状態で前記塗布器の長手方向に相対的に移動させる移動装置と、
を備えており、
前記清掃ユニットは、清掃移動方向前側に配置される第１清掃部とこの第１清掃部よりも後側に配置される第２清掃部とを備え、第１清掃部は、前記塗布器における前記基板対向面とこの基板対向面に連続する傾斜側面とに当接する第１清掃部材を有し、第２清掃部は、前記塗布器における前記基板対向面と前記傾斜側面とに当接する第２清掃部材を有しており、
前記第１清掃部材は、前記第２清掃部材に比べて当接する相手面に沿って変形しにくい剛性の高い材料で形成されており、第２清掃部材は、当接する相手面に沿って弾性変形する材料で形成されていることを特徴とする清掃装置。
【請求項２】
前記第１清掃部材は、樹脂で形成されており、前記第２清掃部材は、ゴムで形成されていることを特徴とする請求項１に記載の清掃装置。
【請求項３】
前記第１清掃部は、第１清掃部材を塗布器に押し当てる第１台座部上に設けられ、前記第２清掃部は、第２清掃部材を塗布器に押し当てる第２台座部上に設けられ、前記第１台座部と前記第２台座部とは、独立して設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の清掃装置。
【請求項４】
前記第１清掃部材は、前記基板対向面に当接する対向当接部と、前記傾斜側面に当接する側面当接部とが別体に形成されており、前記対向当接部と前記側面当接部とが独立して固定され、前記対向当接部が前記基板対向面に沿って当接し、前記側面当接部が前記傾斜側面に沿って当接するように、それぞれ当接状態を調節可能に固定されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の清掃装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スリットノズルから塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成する塗布器において、スリットノズル付近の先端部分を清掃する清掃装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス等の基板上にレジスト液等の塗布液が塗布されたもの（塗布基板という）が使用されている。この塗布基板は、塗布液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。塗布装置は、基板を載置するステージと、載置された基板に塗布液を吐出する塗布ユニットとを有しており、塗布ユニットの塗布器から塗布液を吐出させながら、基板と塗布器とを相対的に移動させることにより、基板上に塗布膜が形成されるようになっている。
【０００３】
この塗布器には、基板と対向する基板対向面に一方向に延びるスリットノズルが形成されており、スリットノズルの長手方向に亘って均一に塗布液を吐出できるようになっている。しかし、スリットノズルに塗布液が乾燥した乾燥残留液や異物（合わせて付着物と呼ぶ）が付着した状態では、その付着物等により塗布液の吐出状態が不均一化され、塗布膜に筋ムラなどの乾燥ムラが形成される原因になる。そのため、塗布器は、塗布膜の均一性を保つため、清掃装置により定期的に清掃され初期化される（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
清掃装置１００は、図７に示すように、清掃ユニット１０１と、この清掃ユニット１０１を移動させる移動装置（不図示）とを有しており、清掃ユニット１０１を塗布器１０２の長手方向に移動させることにより、塗布器１０２に付着した付着物Ｐ（図８（ｂ）参照）を除去するように構成されている。具体的には、清掃ユニット１０１には、塗布器１０２のスリットノズル１０２ａ周辺部に当接する清掃部材１０３が設けられており、この清掃部材１０３を塗布器１０２に当接させた状態で清掃ユニット１０１を移動させることにより、塗布器１０２に付着した付着物Ｐを拭き取ることができる。すなわち、図７、図８（ａ）に示すように、スリットノズル１０２ａを形成する基板対向面１０４、及び、傾斜側面１０５に清掃部材１０３を当接させた状態で移動させることにより、基板対向面１０４、傾斜側面１０５に付着した付着物Ｐが除去できるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−２００６１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年ではフレキシブルディスプレイが開発されており、フレキシブルディスプレイ用途の塗布基板の形成には、粘度の高い塗布液が用いられる。そのため、一度塗布器１０２に付着した塗布液が固化してしまうと、上記清掃装置１００では塗布器１０２に付着した付着物Ｐを除去できないという問題があった。すなわち、上記清掃装置１００に用いられる清掃部材１０３は、主にゴム等が用いられており、清掃時には、ゴム製の清掃部材１０３を塗布器１０２に押し当てることにより密着させて移動させる。塗布液の粘度が低い場合には、清掃部材１０３が当接する相手面に沿って変形することにより、付着物Ｐを剥がして除去することが可能であるが、高粘度の塗布液の場合には、その付着物Ｐが硬質になるため、従来の清掃部材１０３の押し当てる力では除去することができない。すなわち、図８（ｂ）に示すように、清掃部材１０３が付着物Ｐに当接すると、その付着物Ｐを避けるように当初に設定した清掃部材１０３と塗布器１０２との接触姿勢が弾性的に変化するため、清掃部材１０３と塗布器１０２との間に隙間ができてしまい、その隙間により筋状の拭き残しが形成される問題があった。清掃部材１０３の押し当てる力を増大させると、ゴム製の清掃部材１０３の剛性が低く、基板対向面１０４、及び、傾斜側面１０５に当接した清掃部材１０３が反るように変形してしまうことにより、基板対向面１０４、及び、傾斜側面１０５と清掃部材１０３との間に隙間が生じ、基板対向面１０４、及び、傾斜側面１０５全体に拭き残しができてしまうという問題があった。
【０００７】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、高粘度の塗布液を用いる塗布器であっても、塗布器に付着した付着物等を除去することができる清掃装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明の清掃装置は、基板と対向する基板対向面に形成された一方向に延びるスリットノズルから塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成する塗布器に付着した付着物を清掃する清掃装置であって、前記スリットノズルに対向した状態で前記塗布器に当接する清掃ユニットと、前記清掃ユニットが前記塗布器に当接した状態で前記塗布器の長手方向に相対的に移動させる移動装置と、を備えており、前記清掃ユニットは、清掃移動方向前側に配置される第１清掃部とこの第１清掃部よりも後側に配置される第２清掃部とを備え、第１清掃部及び第２清掃部は、前記塗布器における前記基板対向面とこの基板対向面に連続する傾斜側面とに当接する清掃部材を有しており、前記第１清掃部の清掃部材は、前記第２清掃部の清掃部材に比べて当接する相手面に沿って変形しにくい剛性の高い材料で形成されており、第２清掃部の清掃部材は、当接する相手面に沿って弾性変形する材料で形成されていることを特徴としている。
【０００９】
上記課題を解決するために本発明によれば、第１清掃部材が第２清掃部材よりも剛性が高く形成されているため、塗布器に付着した付着物を最初に第１清掃部の清掃部材で掻き落とし、その後、第２清掃部材で拭き取りを行うことにより、付着物を除去することができる。すなわち、第１清掃部材は、第２清掃部材よりも当接部分に沿って弾性変形しにくい材料で形成されているため、清掃動作時に仮に粘性の高い塗布液が付着した付着物と接触した場合でも、その付着物を回避するような弾性変形が行われず、当初に設定した清掃部材が塗布器に接触する姿勢が付着物との接触により変化するのを極力抑えることができる。そのため、清掃ユニットを移動させる力が付着物を掻き取る力として十分に作用させることができ、硬質な付着物等であっても掻き取ることができる。そして、次の第２清掃部材は、当接する相手面に沿って弾性変形して拭き取り動作を行うため、第１清掃部材で掻き落とした後に残留する付着物を確実に拭き取ることができ、基板対向面、及び、傾斜側面に付着した付着物をきれいに除去することができる。
【００１０】
また、第１清掃部材、第２清掃部材の具体的な態様としては、例えば、前記第１清掃部材は、樹脂で形成され、前記第２清掃部材は、ゴムで形成される構成とすることができる。
【００１１】
また、前記第１清掃部は、第１清掃部材を塗布器に押し当てる第１台座部上に設けられ、前記第２清掃部は、第２清掃部材を塗布器に押し当てる第２台座部上に設けられ、前記第１台座部と前記第２台座部とは、独立して設けられている構成としてもよい。
【００１２】
この構成によれば、第１台座部と第２台座部とは、独立して設けられているため、第１清掃部材と第２清掃部材とが塗布器に押し当てる押し当て力をそれぞれ独立して享受できるため、第１清掃部材、第２清掃部材の取付けの調節が容易となり、また第１清掃部材、第２清掃部材の拭き取り性能を安定させることができる。
【００１３】
また、前記第１清掃部の清掃部材は、前記基板対向面に当接する対向当接部と、前記傾斜側面に当接する側面当接部とが別体に形成されており、前記対向当接部と前記側面当接部とが独立して固定され、前記対向当接部が前記基板対向面に沿って当接し、前記側面当接部が前記傾斜側面に沿って当接するように、それぞれ当接状態を調節可能に固定されている構成としてもよい。
【００１４】
第１清掃部材の対向当接部と側面当接部とが別体に形成されており、それぞれが基板対向面、傾斜側面に対して当接状態を調節できるため、対向当接部と側面当接部とが一体的に形成されている場合に比べて、対向当接部と基板対向面、側面当接部と傾斜側面それぞれの隙間を調節することができる。これにより、例えば対向当接部の取付状態により、側面当接部と傾斜側面との間に隙間が形成されて拭き残しが形成されるのを抑えることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、高粘度の塗布液を用いる塗布器であっても、塗布器に付着した付着物等を除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施形態における清掃装置を備える塗布装置を概略的に示す斜視図である。
【図２】上記塗布装置の塗布器を概略的に示す図である。
【図３】上記清掃装置を示す図であり、（ａ）は清掃部材が塗布器から離れた状態を示す図であり、（ｂ）は清掃部材が塗布器に当接した状態を示す図である。
【図４】上記実施形態における第１清掃部を示す図であり、（ａ）はＹ軸方向から見た図、（ｂ）はＸ軸方向から見た図である。
【図５】上記実施形態における第２清掃部を示す図であり、（ａ）はＹ軸方向から見た図、（ｂ）は第２清掃部材の斜視図である。
【図６】他の実施形態における第１清掃部を示す図である。
【図７】従来の清掃装置を示す図である。
【図８】従来の清掃部材と塗布器との接触状態を示す図であり、（ａ）は正常に接触している状態を示す図であり、（ｂ）は付着物に接触した状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１８】
図１は、本発明の清掃装置を備える塗布装置を概略的に示す斜視図、図２は、本発明の清掃装置を概略的に示す図、図３は、清掃装置を長手方向から見た図である。
【００１９】
図１〜図３に示すように、塗布装置１は、基板１０上に薬液やレジスト液等の液状物（以下、塗布液と称す）の塗布膜を形成するものであり、基板１０を載置するためのステージ２１と、このステージ２１に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット３とを備えている。
【００２０】
なお、以下の説明では、塗布ユニット３が移動する方向をＸ軸方向、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。
【００２１】
ステージ２１は、ロボットハンド等により搬入された基板１０を載置するものである。このステージ２１には、基板保持手段が設けられており、この基板保持手段により基板１０が保持されるようになっている。具体的には、ステージ２１の表面に形成された複数の吸引孔が形成されており、この吸引孔に吸引力を発生させることにより基板１０をステージ２１の表面に吸着させて保持できるようになっている。
【００２２】
また、塗布ユニット３は、基板１０上に塗布液を吐出して塗布膜を形成するものである。この塗布ユニット３は、図１、図２に示すように、塗布液を吐出する塗布器３０と、この塗布器３０を保持するガントリ部３５とを有しており、Ｘ軸方向に移動可能に形成されている。すなわち、塗布ユニット３を移動させる駆動ユニットが設けられており、この駆動ユニットを制御することによりガントリ部３５をＸ軸方向に移動させることができるようになっている。具体的には、駆動ユニットは、ステージ２１のＹ軸方向端部に設けられるＸ軸方向に延びるレールと、脚部３５ａに取り付けられたガントリ部３５を駆動させるリニアモータとを有しており、ガントリ部３５がレールにスライド自在に取り付けられている。そして、このリニアモータを駆動制御することにより、塗布ユニット３がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止することができる。本実施形態では、ステージ２１と、ステージ２１の外側に設置される清掃装置５とに移動できるようになっている。
【００２３】
また、ガントリ部３５には、塗布器３０を昇降させる昇降機構が設けられている。具体的には、昇降機構を作動させることにより、塗布器３０が基板１０に対して接離できるようになっている。これにより、塗布動作中には、ステージ２１上の基板１０に対して適切な高さ位置に位置することができる。また、後述の清掃装置５に対しても昇降動作できるようになっており、昇降機構を作動させることにより、清掃装置５に対して接離できるようになっている。
【００２４】
また、塗布器３０は、塗布液を吐出して基板１０上に塗布膜を形成するものである。この塗布器３０は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、塗布ユニット３の走行方向（Ｘ軸方向）とほぼ直交するように設けられている。この塗布器３０は、基板１０と対向する基板対向面３１と、基板１０に対して所定角度を有する傾斜側面３２とを有しており、基板対向面３１にスリットノズル３０ａが形成されている。具体的には、基板対向面３１は、基板１０に対向しＹ軸方向に延びる平坦面に形成されており、この平坦面のＸ軸方向端部から連続して傾斜側面３２が所定角度で形成されている。すなわち、塗布器３０は、傾斜側面３２、基板対向面３１と連続するように基板１０に向かって先細りの形状に形成されている。また、基板対向面３１には、僅かな隙間で形成されるスリットノズル３０ａがＹ軸方向に延びるように形成されている。そして、塗布器３０に塗布液が供給されると、塗布液がスリットノズル３０ａを通じて長手方向（Ｙ軸方向）に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリットノズル３０ａから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット３をＸ軸方向に走行させることにより、基板１０上に一定厚さの塗布膜が形成されるようになっている。
【００２５】
また、塗布装置１には、塗布器３０の保守、初期化を行うための清掃装置５を備えている。この清掃装置５は、塗布器３０に乾燥した乾燥残留液や異物（合わせて付着物と呼ぶ）を除去するものである。清掃装置５は、図５に示すように、塗布器３０に付着した付着物を除去する清掃ユニット５０と、清掃ユニット５０を移動させる移動装置と、除去した付着物を受けるトレイ部６とを有しており、清掃ユニット５０が塗布器３０に当接した状態で移動させられることにより、塗布器３０に付着した付着物が除去されるようになっている。
【００２６】
清掃装置５は、本実施形態では、ステージ２１のＸ軸方向端部側に配置されており、保守、初期化動作時（清掃時という）には、トレイ部６上に塗布器３０が移動し、トレイ部６上で保守、初期化処理（清掃処理という）が行われるようになっている。トレイ部６は、一方向に延びる形状を有しており、Ｙ軸方向に沿う姿勢で配置されている。すなわち、トレイ部６は、塗布器３０を覆う程度に塗布器３０よりも大きく形成されており、トレイ部６上で清掃処理が行われた際に除去された付着物を受けることができる程度に形成されている。
【００２７】
また、トレイ部６内には、清掃ユニット５０と、移動装置とが設けられており、移動装置を駆動制御することにより、清掃ユニット５０がトレイ部６の長手方向に沿って移動できるように形成されている。移動装置は、本実施形態では、アタッチメント基台部８と、このアタッチメント基台部８を移動させるリニアモータを有しており、リニアモータが制御装置（不図示）で制御されるようになっている。すなわち、清掃時には、トレイ部６上に塗布器３０が配置された状態で、制御装置がリニアモータを駆動制御すると、アタッチメント基台部８が塗布器３０の長手方向一方端部から他方端部に向かって移動するように構成されている。そして、このアタッチメント基台部８上には、清掃ユニット５０が設けられており、リニアモータが駆動制御されることにより、アタッチメント基台部８上の清掃ユニット５０が塗布器３０のスリットノズル３０ａに沿って移動できるようになっている。なお、本発明では、清掃ユニット５０の清掃時にアタッチメント基台部８を移動させる方向を特に清掃移動方向と呼ぶ。
【００２８】
清掃ユニット５０は、アタッチメント基台部８上に配置されており、第１清掃部５１と第２清掃部５２とを有している。これら第１清掃部５１と第２清掃部５２は、塗布器３０に当接させて付着物を除去するものであり、第１清掃部５１が第２清掃部５２よりも清掃移動方向前側に配置されている。そして、これら第１清掃部５１が第２清掃部５２が塗布器３０に当接した状態で、アタッチメント基台部８を移動させることにより第１清掃部５１が第２清掃部５２が当接した状態で移動し、塗布器３０に付着した付着物が掻き取られるとともに拭き取りが行われる。すなわち、第１清掃部５１により付着物が掻き取られ、第２清掃部５２により第１清掃部５１で掻き取られた付着物の残留物を拭き取ることにより、塗布器３０から付着物が除去されるようになっている。
【００２９】
第１清掃部５１は、塗布器３０に当接する第１清掃部材７と、この第１清掃部材７を支持する第１台座部５３とを有しており、第１清掃部材７が第１台座部５３よりも上方に突出した状態で第１台座部５３に固定されている。第１台座部５３は、第１清掃部材７を取り付ける台座であり、アタッチメント基台部８上に取り付けられている。本実施形態では、第１台座部５３は、第１清掃部材７を取り付ける清掃取付部５４を有するブロック体に形成されており、バネ８１を介してアタッチメント基台部８に取り付けられている。すなわち、第１台座部５３は、このバネ８１により鉛直方向に付勢力を受けるように構成されている。また、第１台座部５３の清掃取付部５４は、傾斜した平面を有しており、この傾斜平面に第１清掃部材７を清掃部材固定部５７（本実施形態ではボルト５５）で固定できるようになっている。すなわち、第１清掃部材７が清掃取付部５４に取り付けられた状態では、第１清掃部材７の先端部分が清掃移動方向に向く傾斜姿勢に固定され、その先端部分が第１台座部５３よりも上方に突出した状態で固定されるようになっている。したがって、第１台座部５３に第１清掃部材７を取り付けた状態で、上方に配置される塗布器３０に第１清掃部材７を当接させると、第１清掃部材７が傾斜姿勢で塗布器３０に当接し、さらに当接させた状態から上方に変位させることによりバネ８１が収縮することにより、バネ８１の付勢力が第１清掃部材７に作用し、第１清掃部材７を所定の押圧力で塗布器３０に押し当てることができるようになっている。
【００３０】
なお、第２清掃部５２の第２台座部５６も同様の構成を有しており、第２台座部５６に第２清掃部材９を取り付けた状態で、上方に配置される塗布器３０に第２清掃部材９を当接させると、第２清掃部材９が傾斜姿勢で塗布器３０に当接し、さらに当接させた状態から上方に変位させることによりバネ８１が収縮することにより、バネ８１の付勢力が第２清掃部材９に作用し、清掃部材を所定の押圧力で塗布器３０に押し当てることができるようになっている。
【００３１】
このように、第１清掃部５１、第２清掃部５２で、それぞれ第１台座部５３、第２台座部５６をバネ８１を介してアタッチメント基台部８から独立させて設けているため、第１清掃部材７、第２清掃部材９が塗布器３０に塗布器３０に押し当てる力を独立して得ることができるため、第１清掃部材７、第２清掃部材９の拭き取り性能を安定させることができる。
【００３２】
また、第１清掃部材７は、図４に示すように、塗布器３０に当接して付着物を除去するものであり、平板状部材で形成されている。第１清掃部材７は、本実施形態では樹脂で形成されており、後述の第２清掃部材９に比べて変形しにくい高剛性材料で形成されている。すなわち、第１清掃部材７が塗布器３０に当接した場合でも、ほとんど弾性変形することなく、元の姿勢を維持する材料で形成されている。本実施形態では、第１清掃部材７は、ポリアセタール樹脂が使用されている。
【００３３】
また、第１清掃部材７は、３枚の平板状部材で形成されており、塗布器３０の基板対向面３１に当接する対向当接部７１と、傾斜側面３２に当接する側面当接部７２とで形成されている。具体的には、対向当接部７１、側面当接部７２は、それぞれ矩形状の平板部材で形成されており、第１台座部５３の清掃取付部５４に清掃部材固定部５７で固定できるようになっている。本実施形態では、清掃部材固定部５７は、ボルト５５で固定するように構成されている。すなわち、対向当接部７１及び側面当接部７２は、ボルト５５が貫通する貫通孔が形成されており、この貫通孔にボルト５５を挿通させて第１台座部５３のボルト孔に螺合させることにより、第１台座部５３に対向当接部７１及び側面当接部７２を固定することができる。そして、対向当接部７１及び側面当接部７２が固定された状態では、図４（ａ）に示すように、対向当接部７１の縁端部分が基板対向面３１に当接し、側面当接部７２の縁端部分が傾斜側面３２に当接する。そして、図４（ｂ）に示すように、対向当接部７１と側面当接部７２とが固定された状態では、互いに当接するように配置されており、対向当接部７１の縁端部分と、側面当接部７２の縁端部分とが、ほぼ連続する直線を形成するように基板対向面３１及び傾斜側面３２に対して接触している。すなわち、対向当接部７１のみで接触すると、対向当接部７１で掻き取った付着物が基板対向面３１から溢れて傾斜側面３２に移動して残留する場合があり、同様に、側面当接部７２のみで接触すると、側面当接部７２で掻き取った付着物が傾斜側面３２から溢れて基板対向面３１に移動して残留する場合がある。すなわち、対向当接部７１、側面当接部７２のみで当接させると、除去すべき付着物が残留する現象が見られるが、上述のように、対向当接部７１の縁端部分、側面当接部７２の縁端部分を極力連続する直線状に配置することにより、掻き取った際に溢れる付着物が移動して基板対向面３１又は傾斜側面３２に残留するのを抑えることができる。
【００３４】
また、清掃部材固定部５７は、それぞれ塗布器３０との当接状態を調節できる当接調節機構を有している。本実施形態では、対向当接部７１及び側面当接部７２の貫通孔５８が角丸長方形に形成されることで調節できるようになっている。すなわち、対向当接部７１の貫通孔５８は、基板対向面３１に延びる角丸長方形に形成されており、側面当接部７２の貫通孔５８は、傾斜側面３２に向かって延びる角丸長方形に形成されている。これにより、対向当接部７１は基板対向面３１に接離可能に取付状態を調節でき、側面当接部７２は傾斜側面３２に接離可能に取付状態を調節できるため、それぞれ対向当接部７１及び側面当接部７２は、塗布器３０に対する当接状態を調節できるようになっている。これにより、対向当接部７１及び側面当接部７２の先端部の縁端部分全体が塗布器３０に当接するように調節することにより、対向当接部７１が基板対向面３１に沿って当接し、側面当接部７２が傾斜側面３２に沿って当接するように調節できる。そして、第１清掃部材７がほとんど弾性変形することなく、元の姿勢を維持できる材料で形成されているため、清掃時に清掃移動方向に走査させた場合でも、その当接姿勢を維持することができる。したがって、清掃時において、第１清掃部材７と基板対向面３１、傾斜側面３２との間に隙間が形成されることを極力抑えることができ、基板対向面３１、傾斜側面３２に付着した付着物を塗布器３０の長手方向に亘って掻き取り除去することができる。
【００３５】
また、第２清掃部５２は、図５（ａ）、図５（ｂ）に示すように、塗布器３０に当接する第２清掃部材９と、この第２清掃部材９を支持する第２台座部５６とを有しており、清掃部材が第２台座部５６よりも上方に突出した状態で第２台座部５６に固定されている。この第２台座部５６は、上述の通り、第１台座部５３と同様の構成を有しているので、その説明を省略する。
【００３６】
第２清掃部材９は、塗布器３０に当接して付着物を除去するものであり、第１清掃部材７よりも厚みのある板状部材で形成されている。第１清掃部材７は、本実施形態ではゴムで形成されており、例えば、ニトリルゴム、シリコーンゴム等、弾性変形しやすい材料が使用される。すなわち、第２清掃部材９が塗布器３０に当接した場合には、当接する塗布器３０の相手面に沿って弾性変形するようになっている。
【００３７】
第２清掃部材９は、１枚の板状部材であり、その先端部分にはＶ字状の溝が形成されている。すなわち、Ｖ字溝９１が塗布器３０のスリットノズル３０ａに当接させると、塗布器３０の基板対向面３１、傾斜側面３２にＶ字溝９１が沿うように形成されている。そして、第２清掃部材９は、第１台座部５３と同様に、第２台座部５６の清掃部材固定部５７に取り付けられるようになっており、第２台座部５６の清掃取付部５４にボルト５５で固定できるようになっている。すなわち、第２清掃部材９が第２台座部５６に取り付けられた状態では、清掃移動方向に傾斜する傾斜姿勢を維持し、第２清掃部材９のＶ字溝９１が第２台座部５６よりも上方に突出した状態で固定されるようになっている。したがって、第２台座部５６に第２清掃部材９を取り付けた状態で、上方に配置される塗布器３０に第２部材を当接させると、第２清掃部材９のＶ字溝９１が傾斜姿勢で塗布器３０のスリットノズル３０ａに当接し、さらに当接させた状態から上方に変位させることによりバネ８１が収縮することにより、バネ８１の付勢力が第２清掃部材９に作用し、第２清掃部材９を所定の押圧力で塗布器３０に押し当てることができるようになっている。そして、第２清掃部材９は、ゴムで形成されているため、Ｖ字溝９１にスリットノズル３０ａが当接すると、Ｖ字溝９１が弾性変形し、基板対向面３１、傾斜側面３２に密着するように変形することができる。これにより、第１清掃部材７で塗布器３０に付着した付着物を掻き取った後、塗布器３０に残留した付着物を仕上げるように第２清掃部材９で拭き取りすることができる。これにより、塗布液が高粘度であり、硬質の付着物が付着した場合であっても、基板対向面３１、傾斜側面３２に残留する付着物を除去することができる。
【００３８】
このように、上記実施形態では、第１清掃部材７が第２清掃部材９よりも剛性が高く形成されているため、塗布器３０に付着した付着物を最初に第１清掃部５１の清掃部材で掻き落とし、その後、第２清掃部材９で拭き取りを行うことにより、付着物を除去することができる。すなわち、第１清掃部材７は、第２清掃部材９よりも当接部分に沿って弾性変形しにくい材料で形成されているため、清掃動作時に仮に粘性の高い塗布液が付着した付着物と接触した場合でも、その付着物を回避するような弾性変形が行われず、当初に設定した第１清掃部材７が塗布器３０に接触する姿勢が付着物との接触により変化するのを極力抑えることができる。そのため、清掃ユニット５０を移動させる力が付着物を掻き取る力として十分に作用させることができ、硬質な付着物等であっても掻き取ることができる。そして、次の第２清掃部材９は、当接する相手面に沿って弾性変形して拭き取り動作を行うため、第１清掃部材７で掻き落とした後に残留する付着物を確実に拭き取ることができ、基板対向面３１、及び、傾斜側面３２に付着した付着物をきれいに除去することができる。
【００３９】
また、上記実施形態では、第１清掃部材７が、対向当接部７１、側面当接部７２が別々に３枚の平板状部材で形成されている例について説明したが、図６に示すように、側面当接部７２が一体型になっており、対向当接部７１と側面当接部７２とが２枚の平板状部材で形成されているものであってもよい。側面当接部７２が一体型になっている構成であれば、２枚の平板状部材で形成されている場合に比べて、第１台座部５３への取付けが１度で済むため、取付作業を容易にすることができる。
【００４０】
また、上記実施形態では、第１清掃部５１、第２清掃部５２がそれぞれ１つずつ設ける例について説明したが、清掃移動方向前方に第１清掃部５１、後方に第２清掃部５２が配置されていれば、第１清掃部５１及び第２清掃部５２がそれぞれ複数備えるものであってもよい。すなわち、清掃移動方向前方から、第１清掃部５１、第２清掃部５２、第２清掃部５２でもよく、第１清掃部５１、第１清掃部５１、第２清掃部５２でもよく、第１清掃部５１、第１清掃部５１、第２清掃部５２、第２清掃部５２というものであってもよい。このように第１清掃部５１、第２清掃部５２が複数備えるものであれば、拭き取り性能を向上させることができる。
【００４１】
また、上記実施形態では、第１清掃部５１に第１清掃部材７を１つ備え、第２清掃部５２に第２清掃部材９を１つ備える例について説明したが、１つの第１清掃部５１（又は、第２清掃部５２）に複数の第１清掃部材７（又は、第２清掃部材９）を備えるものであってもよい。
【符号の説明】
【００４２】
１  塗布装置
３  塗布ユニット
５  清掃装置
７  第１清掃部材
９  第２清掃部材
３０  塗布器
３０ａ  スリットノズル
３１  基板対向面
３２  傾斜側面
５１  第１清掃部
５２  第２清掃部
７１  対向当接部
７２  側面当接部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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