(57)【要約】【課題】横型のトランスファー成型装置を用いて、ゴム成形品に深いえぐれを生じさせるバリの発生が十分に抑制された長尺のゴム製品を成形する。【解決手段】上面にキャビティの下半分が半円柱状に形成されていると共にキャビティの中心軸に沿うようにセンターピンが配置されている下型と、下面にキャビティの上半分が半円柱状に形成されていると共に上方に開口したポット部が上面に形成されており、ポット部からキャビティの側方へ向けて、ゴムを注入する注入ゲートが設けられている上型とを備えて、下型の上面と上型の下面を重ねることにより、断面が円形状で横方向に延びるキャビティが形成されるように構成されており、さらに、注入ゲートの下端とキャビティとの間に横ゲートが配置されて、注入ゲートに注入されたゴムが、横ゲートを介してキャビティに注入されるように構成されているトランスファー成型装置。【選択図】図１
2020011478.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１または２以上設けられたキャビティにゴムを注入して、横方向に延びる円筒形のゴム製品をトランスファー成形により成形する横型のトランスファー成形装置であって、
上面に前記キャビティの下半分が半円柱状に形成されていると共に、前記キャビティの中心軸に沿うようにセンターピンが配置されている下型と、
下面に前記キャビティの上半分が半円柱状に形成されていると共に、上方に開口したポット部が上面に形成されており、前記ポット部から前記キャビティの側方へ向けて、ゴムを注入する注入ゲートが設けられている上型とを備えて、前記下型の上面と前記上型の下面を重ねることにより、断面が円形状で横方向に延びるキャビティが形成されるように構成されており、
さらに、前記注入ゲートの下端と前記キャビティとの間に横ゲートが配置されて、前記注入ゲートに注入されたゴムが、前記横ゲートを介して前記キャビティに注入されるように構成されていることを特徴とするトランスファー成型装置。
【請求項２】
前記注入ゲートおよび前記横ゲートが、前記キャビティの長手方向の複数箇所に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のトランスファー成形装置。
【請求項３】
前記注入ゲートおよび前記横ゲートが、均等の間隔で配置されていることを特徴とする請求項２に記載のトランスファー成形装置。
【請求項４】
前記横ゲートと前記キャビティとの接続箇所に、前記ゴム製品の表面に凸部を形成させる凹部が設けられていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置。
【請求項５】
前記横ゲートの長手方向における前記凹部の断面形状が円、楕円または四角であって、高さが２〜６ｍｍ、幅が３〜８ｍｍ、前記キャビティからの奥行が０．４〜２ｍｍであることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置。
【請求項６】
前記凹部の前記キャビティ側の境界部分に、Ｃ面加工、Ｒ加工、または逆Ｒ加工が施されていることを特徴とする請求項４または請求項５に記載のトランスファー成形装置。
【請求項７】
前記横ゲートの前記凹部との接続部が、テーパまたはＣ面により、前記凹部に向けて狭くなるように形成されていること特徴とする請求項４ないし請求項６のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置。
【請求項８】
前記横ゲートの胴部における幅をＷ１、前記凹部との接続部の先端における幅をＷ２としたとき、
Ｗ２／Ｗ１が０．５〜０．９５であることを特徴とする請求項４ないし請求項７のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置。
【請求項９】
前記Ｗ２／Ｗ１が０．７〜０．９５であることを特徴とする請求項８に記載のトランスファー成形装置。
【請求項１０】
前記Ｗ２／Ｗ１が０．８〜０．９５であることを特徴とする請求項９に記載のトランスファー成形装置。
【請求項１１】
請求項１ないし請求項１０のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置を用いて、円筒形のゴム製品をトランスファー成形により成形することを特徴とするトランスファー成形方法。
【請求項１２】
ＮＲ、ＩＲ、ＢＲ、ＳＢＲ、ＩＩＲ、ＮＢＲ、ＥＰＤＭ、ＣＲ、ＡＣＭ、ＣＳＭ、Ｕ、Ｑ、ＦＫＭ、ＥＶＡ、ＣＯ、Ｔから選択された１種類もしくは２種類以上をゴム成分として、ＪＩＳ  Ｋ  ６２５３に規定するデュロメータタイプＡ硬度で３０〜９０度のゴム製品を成形することを特徴とする請求項１１に記載のトランスファー成形方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、トランスファー成形装置および前記トランスファー成形装置を用いたトランスファー成形方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリンターやファクシミリなどのＯＡ機器においては、一般的に、ゴムローラなどの円筒形のゴム製品が紙を送る搬送ローラとして使用されているが、近年、大判紙の搬送に対する要求が強くなり、長尺の搬送ローラが求められている。このような長尺の搬送ローラは、短尺のゴム製品を複数並べて長尺化して得ることも考えられるが、このような搬送ローラでは、配置された各ゴム製品のわずかな外形の違いなどによって、紙送り時に皺を生じる恐れがある。
【０００３】
そこで、１本で長尺となったゴム製品の作製が検討されており、例えば、インジェクション成形を用いて、端部からゴムを射出する方法があるが、ゴム焼けの発生や流動性の不足があるため、限定された配合での成形に留まっている。
【０００４】
一方で、トランスファー成形法を採用して、プレス成型する方法もある（例えば、特許文献１、２）が、従来の一般的なトランスファー成形装置は縦型であるため、以下に説明するように、長尺のゴム製品の製造には適していない。
【０００５】
図８は、従来のトランスファー成形法において使用されるトランスファー成形装置の構成を説明する正断面図である。図８に示すように、このトランスファー成形装置は、金型本体５２に縦型のキャビティＣを有し、下型５１上に、金型本体５２、ポット型５３、ピストン型５４が順次載置されて構成されており、ポット型５３に投入されたゴムをピストン型５４により金型本体のキャビティＣに注入することによりゴム成形品が成形される。
【０００６】
図８から分かるように、このトランスファー成形装置において、キャビティＣはゴム製品の長さに対応した長さに形成されるため、キャビティＣを長くすると金型本体の厚みが厚くなり、ゴムの注入作業や成形品を脱型する引き抜き作業などが困難となる。また、加熱時における熱版間距離（デイライト）が著しく大きくなるため、キャビティの温度制御が難しく、均一な加硫状態が得られ難く、やはり、限定的にしか使用できず、長尺のゴム製品の製造に適した手段とは言えない。
【０００７】
そこで、金型本体を上型と下型から構成される割型とし、金型合わせ面（ＰＬ：パーティングライン）に横方向に延びるキャビティを設けた横型のトランスファー成形装置が提案されている。このトランスファー成形装置では、金型合わせ面に対して垂直方向に設けられた注入ゲートからゴムを注入することにより注入されたゴムを金型合わせ面で受け、その後、金型合わせ面の隙間で横方向にゴムを流して、キャビティ内に注入することにより、ゴム製品の成形を行う。
【０００８】
図９は、従来の横型のトランスファー成形装置におけるゴムの流れを説明する模式図であり、２は上型、３は下型であり、上型２と下型３との合わせ面Ｍに断面が円形状のキャビティＣが形成される。そして、４はゴムを合わせ面Ｍに向けて注入する注入ゲート、７は注入ゲート４へ向けてゴムを押し込むポット部である。また、６は、キャビティＣにおいて、円筒形のゴム製品を成形するために配置されたセンターピンである。
【０００９】
ポット部７から注入ゲート４を経由して、合わせ面Ｍに注入されたゴムは、その後、合わせ面Ｍ上をキャビティＣに向かって流れて、センターピン６を芯として、円筒形のゴム製品が成形される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１３−２４０９０３号公報
【特許文献２】特開２０１６−０３０４１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上記した従来の横型のトランスファー成形装置では、金型合わせ面の隙間で横方向にゴムを流すため、この隙間に残ったゴムによって、ゴム製品の表面の金型合わせ面に対応する位置でシート状のバリが形成される。形成されたバリは金型上に施された食い切り加工により取り除くことができるが、この食い切り加工は一般的に耐久性が十分とは言えないため、成形の繰り返しに伴ってバリの除去が困難になる。また、成形の繰り返しに伴って金型合わせ面が摩耗していくと、形成されるバリの厚みが厚くなってきて、さらにバリの除去が困難になる。そこで、無理にバリを除去しようとすると、ゴム製品の表面がバリの除去に合わせてえぐり取られてしまう恐れがある。
【００１２】
このようなえぐれがあると、成形後の表面研磨の際（粗面化により、摩擦抵抗を上げて紙とのグリップ性能を向上させる）、研磨量が大きくなり、材料ロスや研磨時間ロスの増加を招いてしまう。
【００１３】
そこで、本発明は、横型のトランスファー成型装置を用いて、ゴム成形品に深いえぐれを生じさせるバリの発生が十分に抑制された長尺のゴム製品を成形することができるトランスファー成形技術を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者は、上記課題の解決について鋭意検討を行い、以下に記載する発明によれば上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１５】
請求項１に記載の発明は、
１または２以上設けられたキャビティにゴムを注入して、横方向に延びる円筒形のゴム製品をトランスファー成形により成形する横型のトランスファー成形装置であって、
上面に前記キャビティの下半分が半円柱状に形成されていると共に、前記キャビティの中心軸に沿うようにセンターピンが配置されている下型と、
下面に前記キャビティの上半分が半円柱状に形成されていると共に、上方に開口したポット部が上面に形成されており、前記ポット部から前記キャビティの側方へ向けて、ゴムを注入する注入ゲートが設けられている上型とを備えて、前記下型の上面と前記上型の下面を重ねることにより、断面が円形状で横方向に延びるキャビティが形成されるように構成されており、
さらに、前記注入ゲートの下端と前記キャビティとの間に横ゲートが配置されて、前記注入ゲートに注入されたゴムが、前記横ゲートを介して前記キャビティに注入されるように構成されていることを特徴とするトランスファー成型装置である。
【００１６】
請求項２に記載の発明は、
前記注入ゲートおよび前記横ゲートが、前記キャビティの長手方向の複数箇所に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のトランスファー成形装置である。
【００１７】
請求項３に記載の発明は、
前記注入ゲートおよび前記横ゲートが、均等の間隔で配置されていることを特徴とする請求項２に記載のトランスファー成形装置である。
【００１８】
請求項４に記載の発明は、
前記横ゲートと前記キャビティとの接続箇所に、前記ゴム製品の表面に凸部を形成させる凹部が設けられていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置である。
【００１９】
請求項５に記載の発明は、
前記横ゲートの長手方向における前記凹部の断面形状が円、楕円または四角であって、高さが２〜６ｍｍ、幅が３〜８ｍｍ、前記キャビティからの奥行が０．４〜２ｍｍであることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置である。
【００２０】
請求項６に記載の発明は、
前記凹部の前記キャビティ側の境界部分に、Ｃ面加工、Ｒ加工、または逆Ｒ加工が施されていることを特徴とする請求項４または請求項５に記載のトランスファー成形装置である。
【００２１】
請求項７に記載の発明は、
前記横ゲートの前記凹部との接続部が、テーパまたはＣ面により、前記凹部に向けて狭くなるように形成されていること特徴とする請求項４ないし請求項６のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置である。
【００２２】
請求項８に記載の発明は、
前記横ゲートの胴部における幅をＷ１、前記凹部との接続部の先端における幅をＷ２としたとき、
Ｗ２／Ｗ１が０．５〜０．９５であることを特徴とする請求項４ないし請求項７のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置である。
【００２３】
請求項９に記載の発明は、
前記Ｗ２／Ｗ１が０．７〜０．９５であることを特徴とする請求項８に記載のトランスファー成形装置である。
【００２４】
請求項１０に記載の発明は、
前記Ｗ２／Ｗ１が０．８〜０．９５であることを特徴とする請求項９に記載のトランスファー成形装置である。
【００２５】
請求項１１に記載の発明は、
請求項１ないし請求項１０のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置を用いて、円筒形のゴム製品をトランスファー成形により成形することを特徴とするトランスファー成形方法である。
【００２６】
請求項１２に記載の発明は、
ＮＲ、ＩＲ、ＢＲ、ＳＢＲ、ＩＩＲ、ＮＢＲ、ＥＰＤＭ、ＣＲ、ＡＣＭ、ＣＳＭ、Ｕ、Ｑ、ＦＫＭ、ＥＶＡ、ＣＯ、Ｔから選択された１種類もしくは２種類以上をゴム成分として、ＪＩＳ  Ｋ  ６２５３に規定するデュロメータタイプＡ硬度で３０〜９０度のゴム製品を成形することを特徴とする請求項１１に記載のトランスファー成形方法である。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、横型のトランスファー成型装置を用いて、ゴム成形品に深いえぐれを生じさせるバリの発生が十分に抑制された長尺のゴム製品を成形することができるトランスファー成形技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の一実施の形態に係るトランスファー成形装置を示す正断面図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係るトランスファー成形装置における上型の（ａ）上面図、（ｂ）正断面図、および（ｃ）下面図である。
【図３】本発明の一実施の形態に係るトランスファー成形装置における下型の（ａ）上面図、および（ｂ）正断面図である。
【図４】本発明の一実施の形態に係るトランスファー成形装置におけるゴムの流れを説明する模式図である。
【図５】本発明の一実施の形態に係るトランスファー成形装置における横ゲートの他の配置例を示す模式断面図である。
【図６】凹部の形状の一例を示す模式斜視図であり、（ａ）横長長方形の凹部、および（ｂ）横長楕円形の凹部を示している。
【図７】横ゲートとキャビティとの接続の一例を示す模式図である。
【図８】従来のトランスファー成形装置の構成を説明する正断面図である。
【図９】従来の横型のトランスファー成形装置におけるゴムの流れを説明する模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明を実施の形態に基づき、図面を用いて説明する。
【００３０】
１．本実施の形態の概要
本実施の形態に係るトランスファー成形装置は、以下の点においては従来の横型のトランスファー成形装置と同様である。
（ａ）上面にキャビティの下半分が半円柱状に形成されていると共に、キャビティの中心軸に沿うようにセンターピンが配置されている下型を備えている。
（ｂ）下面にキャビティの上半分が半円柱状に形成されていると共に、上方に開口したポット部が上面に形成されており、ポット部からゴムを注入する注入ゲートが設けられている上型を備えている。
（ｃ）下型の上面と上型の下面を重ねることにより、断面が円形状で横方向に延びるキャビティが形成される。
【００３１】
しかしながら、本実施の形態に係るトランスファー成形装置は、以下の点において従来の横型のトランスファー成形装置と異なっている。
（ａ）ゴムを注入する注入ゲートがポット部からキャビティの側方へ向けて設けられている。
（ｂ）注入ゲートの下端とキャビティとの間に横ゲートが配置されて、注入ゲートに注入されたゴムが、横ゲートを介してキャビティに注入されるように構成されている。
【００３２】
このように、横ゲートを介してキャビティにゴムを注入することにより、バリは、従来の合わせ面ではなく、横ゲートとキャビティとが接続された箇所の近傍にのみ形成される。そして、このようにして形成されたバリは、ゴム成形品に深いえぐれを発生させることなく、容易に除去することができる。この結果、表面研磨に際しても、研磨量が大きくならず、材料ロスや研磨時間ロスの増加を招くことがない。
【００３３】
なお、キャビティは１つであっても、複数であってもよい。
【００３４】
２．トランスファー成形装置
以下、本実施の形態に係るトランスファー成形装置の具体的な構成について説明する。
【００３５】
（１）全体構成
図１は、本実施の形態に係るトランスファー成形装置を示す正断面図である。そして、図２は、このトランスファー成形装置における上型の（ａ）上面図、（ｂ）正断面図、および（ｃ）下面図である。また、図３は、下型の（ａ）上面図、および（ｂ）正断面図であり、図４は、ゴムの流れを説明する模式図である。
【００３６】
図１に示すように、成形時、上型２と下型３とは、上型２の下面と下型３の上面とが重なり合うように、載置される。これにより、上型２と下型３の合わせ面Ｍにおいて、上型２に半円柱状に形成されたキャビティの上半分と、下型３に半円柱状に形成されたキャビティの下半分とで、断面が円形状で横方向に延びるキャビティＣが形成される。なお、この載置に先立って、キャビティＣの中心軸に沿うようにセンターピン６を下型３に配置しておく。
【００３７】
そして、本実施の形態のトランスファー成形装置は、特徴部として、ポット部７から下方のキャビティの側方へ向けてゴムを注入する注入ゲート４が設けられていると共に、さらに、上型２と下型３との合わせ面Ｍに、注入ゲート４の下端と連結され、キャビティＣに接続される横ゲート５が設けられている。
【００３８】
横ゲート５が設けられていることにより、図４に示すように、注入ゲート４に注入されたゴムは、従来の合わせ面Ｍからではなく、横ゲート５を介して、キャビティＣへ注入されることになる。この結果、成形時に発生するバリは、キャビティＣの横ゲート５の開口部分近傍に限定されて形成される。そして、このようにして横ゲート５に生じたバリは、金型上での食い切り加工によらずにキャビティＣと横ゲート５の境界でゴム成形品に深いえぐれを生じさせることなく、容易に取り除くことができる。この結果、後工程である研磨において、必要とされる研磨量を小さくすることができ、材料ロスと研磨時間に要する時間ロスを低減させることができる。また、金型の耐久性が向上する。
【００３９】
（２）具体的な構成
以下、本実施の形態に係るトランスファー成形装置の具体的な構成について説明する。
【００４０】
（ａ）上型
図２に示すように、本実施の形態のトランスファー成形装置１の上型２には、前記したように、下面にキャビティの上半分Ｃ１が形成され、上方には開口したポット部７が一体に形成されている。そして、ポット部７から下方の合わせ面ＭのキャビティＣの側方に向けて注入ゲート４が設けられている。また、合わせ面Ｍ上における注入ゲート４の下端部である注入ゲート連結部４ＡとキャビティＣとの間には、横ゲート５の上半分が設けられている。
【００４１】
（ｂ）下型
図３に示すように、本実施の形態のトランスファー成形装置１の下型３には、前記したように、上面にキャビティの下半分Ｃ２が形成されている。そして、上型の場合と同様に、合わせ面上における注入ゲート４の下端部である注入ゲート連結部４ＡとキャビティＣとの間には、横ゲート５の下半分が設けられている。
【００４２】
（ｃ）ピストン型
図１に示すように、本実施の形態のトランスファー成形装置１のピストン型１０は、上型２のポット部７の形状に対応した形状を有しており、ポット部７の側壁の内面を摺動しながら下降する。これにより、ピストン型１０は、トランスファー成形の際にはポット部７に投入されたゴムを確実に注入ゲート４へと押し込むことができる。
【００４３】
（３）本実施の形態における特徴部（注入ゲートおよび横ゲート）
次に、本実施の形態のトランスファー成形装置１の特徴部である注入ゲートと横ゲートについて説明する。
【００４４】
図１〜３に示すように、トランスファー成形装置１には、ポット部７から下方に向かってゴムを注入する注入ゲート４が設けられており、さらに、上型２と下型３の合わせ面Ｍに、上型２に設けられた縦方向の注入ゲート４の下端とキャビティＣを連結するように横ゲート５が設けられている。
【００４５】
キャビティＣが複数ある場合には、横ゲート５は、図３（ａ）に示すように、キャビティＣ（図３は下型であるため、Ｃ２で示している）の両側方に設けられて、１つの横ゲート５から２つのキャビティＣに向けてゴムを注入することが好ましいが、キャビティＣの両側に交互に位置をずらして横ゲート５を配置して、両側の横ゲート５から１つのキャビティＣに向けてゴムを注入してもよく、その一例を図５に示す。
【００４６】
本実施の形態において、横ゲート５は、キャビティＣの長手方向に対して複数配置されることが好ましく、均等な間隔で配置されているとより好ましい。例えば、図２、図３では、キャビティＣの長手方向に長さの１／５の間隔で４つの横ゲート５が配置されている。このように横ゲート５が均等に複数箇所設けられることにより、キャビティ内へのゴムの注入を均等に確保して、効率的にゴムの注入を行うことができる。
【００４７】
本実施の形態のトランスファー成形装置は、横ゲート５の前記キャビティとの接続箇所に、ゴム成形品の表面に凸部を形成させる凹部が設けられていることが好ましい。このような凹部を設けてゴム成形品の表面に凸部を形成させることにより、バリの形成が抑制されて、バリ取りにおいて発生するえぐれを凸となる部分のえぐれのみにもでき、ゴム成形品におけるえぐれの発生を抑制することができる。
【００４８】
図６は、凹部の一例を示す模式斜視図である。凹部は、横ゲートとキャビティとの接続箇所、具体的には、横ゲートを中心として、キャビティに沿って設けられていることが好ましい。凹部の形状としては、横ゲート５の長手方向における断面形状として、円、楕円、四角などが好ましいが、特に、横長の長方形状（図６（ａ））、横長の楕円状（図６（ｂ））であることが好ましい。
【００４９】
凹部Ｂの寸法は、高さが２〜６ｍｍ、幅が３〜８ｍｍ、キャビティからの奥行が０．４〜２ｍｍであることが好ましく、高さが２〜６ｍｍ、幅が３〜８ｍｍ、キャビティからの奥行が０．４〜１ｍｍであるとより好ましく、高さが２〜６ｍｍ、幅が３〜８ｍｍ、キャビティからの奥行が０．４〜０．６ｍｍであるとさらに好ましい。凹部Ｂの寸法を上記の範囲とすることにより、バリを深いえぐれを生じさせることなく、さらに容易に除去することができる。
【００５０】
また、凹部Ｂは、凹部Ｂによって形成される凸部の付け根に角が形成されると、研磨加工に際して形成された凸部が取れてえぐれを発生する恐れがあるため、キャビティ側の境界部分には、Ｃ面加工、Ｒ加工、または逆Ｒ加工が施されていることが好ましい。
【００５１】
図７は、横ゲートとキャビティの接続の一例を示す模式図である。図７に示すように、横ゲートの凹部Ｂとの接続部８は、テーパまたはＣ面により、凹部Ｂに向けて狭くなるように形成されていることが好ましい。
【００５２】
そして、横ゲートの胴部における幅をＷ１、横ゲート５の凹部との接続部８の先端（凹部Ｂ側）における幅をＷ２としたとき、Ｗ２／Ｗ１が０．５〜０．９５であることが好ましく、０．７〜０．９５であるとより好ましく、０．８〜０．９５であるとさらに好ましい。これにより、バリを深いえぐれを生じさせる恐れなく形成させて、容易に除去することができる。
【００５３】
３．ゴム製品の成形方法
以下、上記の構成のトランスファー成形装置を用いた、トランスファー成形について説明する。
【００５４】
最初に、下型３を合わせ面Ｍが上になるように載置して、キャビティＣの中心軸に沿うようにセンターピン６を配置する。
【００５５】
次に、下型３の上に、合わせ面Ｍが下になるようにして上型２を載置する。これにより、上型２と下型３の合わせ面Ｍにおいて、断面が円形状のキャビティＣが形成される。
【００５６】
次に、上型２のポット部７内にゴムを投入する。そして、上型のポット部７にピストン型１０を押し込むことによりゴムを注入ゲート４へ押し込む。注入ゲート４に押し込まれたゴムは、その後、横ゲートを経由してキャビティＣ内に注入される。
【００５７】
キャビティＣ内に所定量のゴムを注入した後は、所定時間、加圧、加熱することにより、ゴム成形品の加硫成形を行う。
【００５８】
成形が完了した後は、まずピストン型１０のみを分離させ、その後、上型２と下型３とを分離させる。このとき、成形されたゴム製品は、下型３のキャビティの下半分Ｃ２上に残っている。そして、成形されたゴム製品をセンターピン６から引き抜いて脱型することにより、成形を完了する。
【００５９】
脱型されたゴム製品には、横ゲート５に対応する形状のバリが付いているため、作業者が除去し、その後、表面を研磨加工する。
【００６０】
本実施の形態のゴム製品の成形方法は、注入が困難で成形時にゴム焼けが発生しやすい長さが１００ｍｍ以上の長尺の搬送ローラ用の成形に、特に、好ましく適用することができる。
【００６１】
４．ゴム製品
本実施の形態において、成形するゴム製品としては、ゴム材質が、ＮＲ（天然ゴム）、ＩＲ（イソプレンゴム）、ＢＲ（ブタジエンゴム）、ＳＢＲ（スチレンブタジエンゴム）、ＩＩＲ（ブチルゴム）、ＮＢＲ（ニトリルゴム）、ＥＰＤＭ（エチレンプロピレンゴム）、ＣＲ（クロロプレンゴム）、ＡＣＭ（アクリルゴム）、ＣＳＭ（クロルスロフォン化ポリエチレン）、Ｕ（ウレタンゴム）、Ｑ（シリコーンゴム）、ＦＫＭ（フッ素ゴム）、ＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル）、ＣＯ（エビクロルヒドリンゴム）、Ｔ（多硫化ゴム）から選択された１種類もしくは２種類以上で、ＪＩＳ  Ｋ  ６２５３に規定するデュロメータタイプＡ硬度で、３０〜９０度であるゴム製品が特に好ましい。
【実施例】
【００６２】
次に、実施例に基づき本発明をより具体的に説明する。
【００６３】
［１］実験１
本実験は、トランスファー成形装置において、キャビティの両側に横ゲートを設けることによる効果を確認した実験である。
【００６４】
１．実験方法
具体的には、表１に示すシリコーンゴムコンパウンドをトランスファー成形装置により成形することにより、外径φ１５ｍｍ×内径φ６ｍｍ×全長２５０ｍｍのプリンター用ゴムローラを成形した。
【００６５】
【表１】
2020011478.tif 000003
【００６６】
トランスファー成形装置としては、上記の寸法のプリンター用ゴムローラに対応したキャビティを１面当たり１０個有する金型を使用した。なお、実験例１においては、キャビティの両側に横ゲートが設けられていない金型を使用した。そして、実験例２においては、キャビティの両側に、幅２ｍｍ、奥行１ｍｍの横ゲートが設けられた金型を使用した。
【００６７】
そして、加硫成形は、加硫温度１７０℃、加硫時間１０分、プレス圧力１０ＭＰａの加硫条件で行った。
【００６８】
２．評価
成形完了後、上型を開いて、成形されたゴムローラを取り出した後、ゴムローラに形成されたバリを取り除く際に生じたえぐれの程度を評価した。結果を表２に示す。
【００６９】
なお、具体的な評価は以下の５段階で行った。
秀  ：ゴムローラ表面からのえぐれ深さが０．２ｍｍ未満（ゴムローラ表面に達しな
い凸部分に留まるえぐれを含む）
優  ：ゴムローラ表面からのえぐれ深さが０．２ｍｍ以上、０．３ｍｍ未満
良  ：ゴムローラ表面からのえぐれ深さが０．３ｍｍ以上、０．５ｍｍ未満
可  ：ゴムローラ表面からのえぐれ深さが０．５ｍｍ以上、０．７ｍｍ未満
不可：ゴムローラ表面からのえぐれ深さが０．７ｍｍ以上
【００７０】
【表２】
2020011478.tif 000004
【００７１】
表２に示すように、横ゲートが設けられていない実験例１では、上型の合わせ面に広い範囲でバリが形成されており、バリを除去するに際して、ゴム成形品に深いえぐれが発生した。一方、横ゲートを設けた実験例２では、横ゲートの開口部近傍に限定されてバリが形成されており、ゴム成形品に深いえぐれを発生させることなくバリを除去することができた。
【００７２】
この結果より、キャビティの両側に横ゲートを設けることにより、バリの形成が限定され、深いえぐれが発生しないことが確認できた。
【００７３】
［２］実験２
次に、横ゲートとキャビティとの間に凹部を設けることによる効果について実験した。
【００７４】
具体的には、実験１と同様の横ゲートを有する金型において横ゲートとキャビティとの間に凹部を設けていない金型（実験例３）と、高さ３ｍｍ、幅４ｍｍ、奥行１ｍｍの楕円状の凹部を設ける加工を施した金型（実施例４）とを用いて、実験１と同様の条件で、ゴムローラを成形し、同様に評価した。結果を表３に示す。
【００７５】
【表３】
2020011478.tif 000005
【００７６】
表３に示す結果より、横ゲートとキャビティとの間に凹部を設けることにより、さらに、深いえぐれの発生を抑制できることが確認できた。
【００７７】
［３］実験３
次に、適切な凹部の寸法について実験した。
【００７８】
具体的には、実験１と同様の横ゲートを有する金型において表４に示す寸法の凹部が、横ゲートとキャビティとの間に設けられた金型を使用して、実験１と同様の条件で、ゴムローラを成形し、同様に評価した。結果を表４に示す。なお、凹部の形状は楕円形とした。
【００７９】
【表４】
2020011478.tif 000006
【００８０】
表４に示す結果より、凹部の寸法が、高さが２〜６ｍｍ、幅が３〜８ｍｍ、キャビティからの奥行が０．４〜２ｍｍであると、深いえぐれの発生をより一層抑制できることが確認できた。
【００８１】
なお、本実験では、凹部の形状は楕円形としたが、本発明者は、凹部の形状が円形の場合、四角形であっても、同様の効果が得られることを、別途、確認した。
【００８２】
［４］実験４
次に、Ｃ面加工による凸脱落の抑制の効果について実験した。
【００８３】
具体的には、実験１と同様の横ゲートを有する金型の横ゲートとキャビティとの間に、高さ３ｍｍ、幅４ｍｍ、奥行１ｍｍの楕円状の凹部を設ける加工を施した金型において、凹部のキャビティ側の境界部分に対してＣ面加工が施されていない金型（実験例１７）と、Ｃ面加工が施された金型（実験例１８）とを用いて、実験１と同様の条件で、ゴムローラを成形し、バリ除去後の研磨加工の際の凸部の脱落について評価した。結果を表５に示す。なお、凸部の脱落については、成形されたゴムローラ上に形成された全ての凸部の内、研磨加工の際に脱落した凸部の割合を％で表した。
【００８４】
【表５】
2020011478.tif 000007
【００８５】
表５に示す結果より、Ｃ面加工が施されてキャビティと滑らかに接続するように凹部を形成することにより、Ｃ面加工が施されていない実験例１７に比べて、凸部の脱落が少ないことが確認できた。
【００８６】
なお、本実験では、Ｃ面加工について検討したが、本発明者は、Ｒ加工、逆Ｒ加工であっても、同様の効果が得られることを、別途、確認した。
【００８７】
［５］実験５
次に、横ゲートと凹部との接続部の幅について実験した。
【００８８】
具体的には、実験１と同様の横ゲートを有する金型の横ゲートとキャビティとの間に、高さ３ｍｍ、幅４ｍｍ、奥行１ｍｍの楕円状の凹部を設け、表６に示すＷ２（凹部との接続部の先端における幅）／Ｗ１（横ゲートの胴部における幅）となるように構成した金型を使用して、実験１と同様の条件で、ゴムローラを成形し、同様に評価した。結果を表６に示す。
【００８９】
【表６】
2020011478.tif 000008
【００９０】
表６に示す結果より、Ｗ２／Ｗ１が１より小さくなる、即ち、接続部の先端における幅に対して、横ゲートの胴部における幅が狭くなるにつれて、えぐれの発生を抑制でき、Ｗ２／Ｗ１が、０．５〜０．９５、０．７〜０．９５、０．８〜０．９５となるにつれて、好ましい結果が得られることが確認できた。
【００９１】
以上、本発明を実施の形態に基づいて説明したが、本発明は、上記の実施の形態に限定されるものではない。本発明と同一および均等の範囲内において、上記の実施の形態に対して種々の変更を加えることが可能である。
【符号の説明】
【００９２】
１            トランスファー成形装置
２            上型
３            下型
４            注入ゲート
４Ａ          注入ゲート連結部
５            横ゲート
６            センターピン
７            ポット部
８            凹部との接続部
１０          ピストン型
５１          下型
５２          金型本体
５３          ポット型
５４          ピストン型
Ｂ            凹部
Ｃ            キャビティ
Ｃ１          キャビティの上半分
Ｃ２          キャビティの下半分
Ｍ            合わせ面
Ｗ１          横ゲートの胴部における幅
Ｗ２          凹部との接続部の先端における幅
【図１】
2020011478.tif 000009
【図２】
2020011478.tif 000010
【図３】
2020011478.tif 000011
【図４】
2020011478.tif 000012
【図５】
2020011478.tif 000013
【図６】
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【図７】
2020011478.tif 000015
【図８】
2020011478.tif 000016
【図９】
2020011478.tif 000017