(57)【要約】【課題】多層構造が有する層の界面で反射する電磁波の検出信号が小さい場合であっても前記界面に相当する位置で反射する電磁波の検出信号を大きくして前記界面の位置を測定可能にする。【解決手段】本発明の位置測定方法は、多層構造に電磁波を照射して前記多層構造が有する層の界面の位置を測定する位置測定方法であって、前記界面に電磁波を反射する反射体を配置し、前記多層構造に電磁波を照射し、前記反射体で反射した電磁波を検出して前記界面の位置を測定する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
多層構造に電磁波を照射して前記多層構造が有する層の界面の位置を測定する位置測定方法であって、
前記界面に電磁波を反射する反射体を配置し、
前記多層構造に電磁波を照射し、
前記反射体で反射した電磁波を検出して前記界面の位置を測定する、
位置測定方法。
【請求項２】
前記多層構造は、少なくとも、電磁波の照射側から順に第１層、第２層及び第３層が重ねられた３層を有する構造であって、前記第１層と前記第２層との第１界面における電磁波の反射率が前記第２層と前記第３層との第２界面における電磁波の反射率よりも低い関係を有する構造とされ、
前記多層構造に電磁波を照射し、前記多層構造から反射した電磁波を検出して、前記第２界面の位置を測定し、
前記第１界面に前記反射体を配置し、前記多層構造に電磁波を照射し、前記反射体で反射した電磁波を検出して、前記第１界面の位置を測定する、
請求項１に記載の位置測定方法。
【請求項３】
前記多層構造は、少なくとも、電磁波の照射側から順に第１層、第２層及び第３層が重ねられた３層を有する構造であって、前記第２層と前記第３層との第２界面における電磁波の反射率が前記第１層と前記第２層との第１界面における電磁波の反射率よりも低い関係を有する構造とされ、
前記第２界面に前記反射体を配置し、
前記多層構造に電磁波を照射し、
前記第１界面で反射した電磁波及び前記反射体で反射した電磁波を検出して、前記第１界面の位置及び前記第２界面の位置を測定する、
請求項１に記載の位置測定方法。
【請求項４】
前記多層構造は、少なくとも、電磁波の照射側から順に第１層、第２層及び第３層が重ねられた３層を有する構造であって、前記第１層と前記第２層との第１界面における電磁波の反射率が前記第２層と前記第３層との第２界面における電磁波の反射率よりも低い関係を有する構造とされ、
前記反射体は、電磁波を透過可能とされ、
前記第１界面に前記反射体を配置し、
前記多層構造に電磁波を照射し、
前記反射体で反射した電磁波及び前記第２界面で反射した電磁波を検出して、前記第１界面の位置及び前記第２界面の位置を測定する、
請求項１に記載の位置測定方法。
【請求項５】
前記多層構造は、少なくとも、電磁波の照射側から順に第１層、第２層及び第３層が重ねられた３層を有する構造とされ、
前記反射体は、電磁波を反射する第１反射体と、電磁波を反射しつつ電磁波を透過する第２反射体とを有し、
前記第１層と前記第２層との第１界面に前記第２反射体を配置し、且つ、前記第２層と前記第３層との第２界面に前記第１反射体を配置し、
前記多層構造に電磁波を照射し、
前記第１反射体で反射した電磁波及び前記第２反射体で反射した電磁波を検出して、前記第１界面の位置及び前記第２界面の位置を測定する、
請求項１に記載の位置測定方法。
【請求項６】
前記多層構造は、少なくとも、電磁波の照射側から順に第１層、第２層及び第３層が重ねられた３層を有する構造とされ、
前記反射体は、電磁波を反射する第１反射体及び第２反射体を有し、
前記第１層と前記第２層との第１界面に前記第１反射体を配置し、且つ、前記第２層と前記第３層との第２界面における、電磁波の照射側から見て前記第１反射体と重ならない部分に前記第２反射体を配置し、
前記多層構造に電磁波を照射し、
前記第１反射体で反射した電磁波及び前記第２反射体で反射した電磁波を検出して、前記第１界面の位置及び前記第２界面の位置を測定する、
請求項１に記載の位置測定方法。
【請求項７】
前記第１層は衣類の層、前記第３層は皮膚の層、且つ、前記第２層は前記衣類の層と前記皮膚の層との隙間に構成される空気層とされている、
請求項２〜６のいずれか１項に記載の位置測定方法。
【請求項８】
請求項２〜７のいずれか１項に記載の位置測定方法を用いて、前記第１界面の位置及び前記第２界面の位置を測定し、
測定した前記第１界面の位置及び前記第２界面の位置から、前記第１層と前記第３層との距離を算出する、
距離算出方法。
【請求項９】
前記第１層は、複数の部品で構成される構造体の層とされ、
請求項８に記載の距離算出方法を用いて前記構造体と前記第３層との距離を算出し、
算出した前記構造体と前記第３層との前記距離が定められた距離の範囲を満たすように、前記複数の部品のうちの少なくとも１つを交換して前記構造体を製造する、
構造体の製造方法。
【請求項１０】
前記第１界面又は前記第２界面に前記反射体が配置されている前記多層構造に電磁波を照射する照射部と、
前記照射部が前記多層構造に照射して前記反射体で反射した電磁波を検出して、前記第１界面の位置及び前記第２界面の位置を測定する測定部と、
前記測定部が測定した前記第１界面の位置及び前記第２界面の位置から、前記第１層と前記第３層との距離を算出する算出部と、
を備え、
前記照射部、前記測定部及び前記算出部を用いて、請求項８に記載の距離算出方法を実現する、
距離算出装置。
【請求項１１】
コンピュータを、
前記第１界面又は前記第２界面に前記反射体が配置されている前記多層構造に電磁波を照射する照射手段、
前記照射手段が前記多層構造に照射して前記反射体で反射した電磁波を検出して、前記第１界面の位置及び前記第２界面の位置を測定する測定手段、及び、
前記測定手段が測定した前記第１界面の位置及び前記第２界面の位置から、前記第１層と前記第３層との距離を算出する算出手段、
として機能させて、請求項８に記載の距離算出方法を実行するための、
コンピュータプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位置測定方法、距離算出方法、構造体の製造方法、距離算出装置及びコンピュータプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、電磁波出力器と、電磁波検出器と、周波数成分取得部と、厚さ・振幅特性記録部と、厚さ指示量導出部とを備え、層構造を有する被測定物に電磁波を照射しながら被測定物の測定を行う電磁波測定装置が開示されている。この電磁波測定装置は、実測した測定値と、予め定量モデル記憶部に記憶されている被測定物の各層の電磁波に対する反射及び吸収についての定量モデルに基づいて、各層の膜厚比を導出する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−１１９４０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の電磁波測定装置は、定量モデル記憶部に測定対象の各層の定量モデルが記憶されていなければ各層の膜厚比を導出することができない。
また、特許文献１の電磁波測定装置は、被測定物の各層の膜厚比を導出するに当たり、層の界面による反射波を測定するものではない。
【０００５】
本発明が解決しようとする課題としては、多層構造が有する層の界面で反射する電磁波の検出信号が小さい場合であっても前記界面に相当する位置で反射する電磁波の検出信号を大きくして前記界面の位置を測定可能にすることが一例として挙げられる。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、
多層構造に電磁波を照射して前記多層構造が有する層の界面の位置を測定する位置測定方法であって、
前記界面に電磁波を反射する反射体を配置し、
前記多層構造に電磁波を照射し、
前記反射体で反射した電磁波を検出して前記界面の位置を測定する、
位置測定方法である。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】第１実施形態の距離算出装置を用いて多層構造の層の界面の位置測定を行っている状態を示す概略図である。
【図２】第１実施形態の位置測定方法で多層構造を測定した場合における界面からの反射波の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。
【図３】第１比較形態の位置測定方法で多層構造を測定した場合における界面からの反射波の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。
【図４】第２実施形態の位置測定方法で多層構造を測定した場合における界面からの反射波の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。
【図５】第２比較形態の位置測定方法で多層構造を測定した場合における界面からの反射波の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。
【図６】第３実施形態の位置測定方法で多層構造を測定した場合における界面からの反射波の状態及び得られる検出結果の一例を、第１比較形態の場合と比較した模式図である。
【図７】第４実施形態の位置測定方法で多層構造を測定した場合における界面からの反射波の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。
【図８】第３比較形態の位置測定方法で多層構造を測定した場合における界面からの反射波の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。
【図９】第５実施形態の位置測定方法で多層構造を測定した場合における界面からの反射波の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。
【図１０Ａ】第１変形例の反射体の配置例を示す模式図である。
【図１０Ｂ】第２変形例の反射体の配置例を示す模式図である。
【図１０Ｃ】第３変形例の位置測定方法で多層構造を測定した場合における界面からの反射波の状態及び得られる検出結果の一例を、第４比較形態の場合と比較した模式図である。
【図１０Ｄ】第４変形例の位置測定方法で多層構造を測定した場合における界面からの反射波の状態の一例を、第４比較形態の場合と比較した模式図である。
【図１０Ｅ】第５変形例の距離算出装置の概略図である。
【図１１】各実施形態及び各変形例の距離算出方法を用いた応用例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
≪概要≫
以下、本発明の一例である第１〜第５実施形態、変形例及び応用例について図面を参照しながら説明する。なお、参照するすべての図面では同様の機能を有する構成要素に同様の符号を付し、明細書では適宜説明を省略する。
【０００９】
≪第１実施形態≫
以下、第１実施形態について図面を参照しながら説明する。まず、本実施形態の距離算出方法（図２参照）を実現するために用いる距離算出装置１０（図１参照）の機能及び構成について説明する。次いで、本実施形態の距離算出方法について説明する。次いで、本実施形態の効果について説明する。
なお、本実施形態の位置測定方法は本実施形態の距離測定方法の中で行われるものであることから、本実施形態の位置測定方法については本実施形態の距離測定方法の中で説明する。また、本実施形態のコンピュータプログラムは本実施形態の距離測定方法を実現するためのプログラムであることから、本実施形態のコンピュータプログラムについては本実施形態の距離測定方法の中で説明する。
【００１０】
＜第１実施形態の距離算出装置の機能及び構成＞
図１は、本実施形態の距離算出装置１０（コンピュータの一例）を用いて多層構造１００の層の界面の位置測定を行っている状態を示す概略図である。本実施形態の距離算出装置１０は、電磁波送受信部２０と、制御部３０（測定部及び測定手段並びに算出部及び算出手段の一例）と、表示部４０とを備えている。本実施形態の距離算出装置１０は、多層構造１００に電磁波Ｗ１を照射して多層構造１００が有する少なくとも２つの層の界面の位置を測定し、測定した少なくとも２つの界面の位置から、２つの層の距離を算出する機能を有する。
【００１１】
〔電磁波送受信部〕
電磁波送受信部２０は、電磁波Ｗ１を送信する機能と、電磁波Ｗ２（反射波Ｗ２という。）を受信する機能とを有する。電磁波送受信部２０は、図１に示されるように、電磁波Ｗ１を送信する送信部２２（照射部及び照射手段の一例）と、反射波Ｗ２を受信する受信部２４と、電源（図示省略）とを有している。本実施形態の電磁波送受信部２０は、多層構造１００に対向して配置された状態で、送信部２２に多層構造１００に向けて電磁波Ｗ１を送信させ、受信部２４に多層構造１００で反射した反射波Ｗ２を受信させるようになっている。電源は、送信部２２及び受信部２４を作動させるための電力を送信部２２及び受信部２４に供給するようになっている。
本実施形態の電磁波Ｗ１及びＷ２は一例としてテラヘルツ波とされており、電磁波送受信部２０を含むテラヘルツ波送受信計測装置の一例としてテラヘルツ時間領域分光法（Ｔｅｒａｈｅｒｔｚ Ｔｉｍｅ−Ｄｏｍａｉｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を利用する装置とされる。この一例において、テラヘルツ波を発生又は受信させる素子である、送信部２２及び受信部２４の具体例として光伝導アンテナ（ＰＣＡ：Ｐｈｏｔｏ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ａｎｔｅｎｎａ）が配置されている。
【００１２】
ここで、テラヘルツ波とは、赤外線よりも短波長でミリ波よりも長波長の電磁波と言われている。テラヘルツ波は、光波及び電波の両方の性質を兼ね備えていた電磁波であり、例えば、布、紙、木、プラスチック、陶磁器等を透過し（又は透過し易く）、金属、水等は透過しない（又は透過し難い）という性質を有する。一般的に、テラヘルツ波の周波数は１ＴＨｚ前後（波長は３００μｍ前後に相当）の電磁波とも言われているが、その範囲について一般的に明確な定義はない。そこで、本明細書では、テラヘルツ波の波長の範囲を７０ＧＨｚ以上１０ＴＨｚ以下の範囲と定義する。なお、前述の説明では、テラヘルツ時間領域分光法を利用する装置を用いて、多層構造に照射されたテラヘルツ波が検出されるとしたが、テラヘルツ波を発生可能な素子又は受信可能な素子あれば送信部２２及び受信部２４は共鳴トンネルダイオード(Ｒｅｓｏｎａｎｔ  Ｔｕｎｎｅｌｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ)等であってもよい。
【００１３】
また、図１に示されるように、本実施形態の距離算出装置１０の測定対象とされる多層構造１００は、一例として、Ａ層１０１（第１層の一例）、Ｂ層１０２（第２層の一例）、Ｃ層１０３（第３層の一例）がこれらの記載順で重ねられた３層を有する構造とされている。また、多層構造１００は、Ａ層１０１側を距離算出装置１０に配置させて測定動作が行われるようになっている。すなわち、本実施形態の多層構造１００は、送信部２２による電磁波Ｗ１の照射側から順にＡ層１０１、Ｂ層１０２、Ｃ層１０３が重ねられた層とされている。なお、Ｂ層１０２は、Ａ層１０１とＣ層１０３とに挟まれた層である。そこで、本明細書ではＢ層１０２を、Ａ層１０１とＣ層１０３との隙間の層、すなわち、空気層と捉えてもよい。以下の説明では、多層構造１００の各層１０１、１０２、１０３の重なり方向をＸ方向とし、Ｘ方向と交差する方向（後述する各界面１１１、１１２、１１３に沿った方向（各界面に平行な方向））をＹ方向と定義する。
【００１４】
ここで、図２に示されるように、Ａ層１０１における電磁波Ｗ１の照射側の面を界面１１１、Ａ層１０１とＢ層１０２との界面を界面１１２（第１界面の一例）、Ｂ層１０２とＣ層１０３との界面を界面１１３と定義する。そうすると、本実施形態の多層構造１００は、電磁波Ｗ１に対する各界面１１１、１１２、１１３の反射率が界面１１１及び界面１１３の反射率が同等で、界面１１２の反射率が界面１１１及び界面１１３の反射率よりも低いという関係を有している。
【００１５】
〔制御部〕
制御部３０は、電磁波送受信部２０及び表示部４０を制御する機能を有する。制御部３０は、図１に示されるように、演算処理装置（図示省略）と、記憶部３２とを有している。記憶部３２には、本実施形態の距離算出方法を実行するために必要なコンピュータプログラムＣＰが記憶されている。本実施形態の位置測定方法を実行するために必要なコンピュータプログラムは、コンピュータプログラムＣＰの一部とされている。
本実施形態の制御部３０の具体的な機能については後述する本実施形態の距離算出方法の説明の中で説明するが、例えば、制御部３０は受信部２４が受信した反射波Ｗ２を検出して、少なくとも２つの界面の位置を測定する機能を有する。また、制御部３０は、測定した少なくとも２つの界面の位置から２つの層の距離を算出する機能を有する。
なお、コンピュータプログラムＣＰの具体的な内容については、後述する本実施形態の距離算出方法の説明の中で説明する。
【００１６】
〔表示部〕
表示部４０は、本実施形態の距離算出方法の実行後に、算出結果を表示する機能を有する。
【００１７】
以上が、本実施形態の距離算出装置１０の機能及び構成についての説明である。
【００１８】
＜第１実施形態の距離算出方法＞
次に、本実施形態の距離算出方法について図２を参照しながら説明する。図２は、本実施形態の位置測定方法（距離算出方法）で多層構造１００を測定した場合における各層１０１、１０２及び１０３からの反射波Ｗ２の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。
【００１９】
まず、測定者は、距離算出装置１０の電磁波送受信部２０を、測定対象となる多層構造１００の測定が可能な位置に配置する（図１参照）。
次いで、測定者は、距離算出装置１０の動作ボタン（図示省略）をオンにする。その結果、制御部３０は、電磁波送受信部２０及び表示部４０を作動させる。これに伴い、電磁波送受信部２０の送信部２２は多層構造１００に向けて電磁波Ｗ１を照射し、受信部２４は多層構造１００から反射した反射波Ｗ２を受信する。そして、受信部２４が受信した反射波Ｗ２の信号が電磁波送受信部２０から制御部３０に送信されると、制御部３０は、図２の「１回目」と記載されている時間波形のスペクトルを得る。
ここで、図２の１回目のスペクトルは、縦軸の上側から下側に向けて反射波Ｗ２の検出時間（遅延時間）を示し、横軸は各検出時間で検出した反射波Ｗ２の反射強度を示している。本実施形態の場合、界面１１１及び界面１１３の反射率が同等で界面１１２の反射率が界面１１１及び界面１１３の反射率よりも低いという関係を有していることから、界面１１１及び界面１１３の反射強度が同等で界面１１２の反射強度が界面１１１及び界面１１３の反射強度よりも低いという関係が得られる。なお、制御部３０は、１回目のスペクトルから、界面１１１の位置に対する界面１１３の位置（相対位置）を測定することができる。
そして、電磁波Ｗ１の照射開始から定められた時間が経過すると、制御部３０は、１回目の測定動作を停止し、表示部４０に次の動作（反射体２００の配置）を行う旨の指示を表示し、測定者へ報知する。
【００２０】
次いで、次の動作を行う旨の指示を報知された測定者は、第１界面１１１に、電磁波Ｗ１を反射させる反射体２００を配置する。反射体２００の具体例については後述する。反射体２００の配置後、測定者は、距離算出装置１０が備えるインターフェイス（図示省略）を介して、終了ボタンを押す。そうすると、制御部３０は、電磁波送受信部２０及び表示部４０を再度作動させる。これに伴い、電磁波送受信部２０の送信部２２は多層構造１００に向けて電磁波Ｗ１を照射し、受信部２４は多層構造１００から反射した反射波Ｗ２を受信する。そして、受信部２４が受信した反射波Ｗ２の信号が電磁波送受信部２０から制御部３０に送信されると、制御部３０は、図２の「２回目」と記載されている時間波形のスペクトルを得る。
ここで、図２の２回目のスペクトルの見方は、前述の「１回目」のスペクトルの見方と同様である。「２回目」の測定では、界面１１２に反射体２００が配置されていることにより、界面１１２の反射強度が一例として界面１１１と同等の反射強度となる。また、界面１１２で電磁波Ｗ１が反射されることに伴い、界面１１３に電磁波Ｗ１が到達していない。そのため、２回目のスペクトルでは、界面１１３からの反射波Ｗ２が検出されない。なお、制御部３０は、２回目のスペクトルから、界面１１１の位置に対する界面１１２の位置（相対位置）を測定することができる。
そして、電磁波Ｗ１の２回目の照射開始から定められた時間が経過すると、制御部３０は２回目の測定動作を停止する。
【００２１】
次いで、制御部３０は、コンピュータプログラムＣＰに従い、１回目のスペクトルと、２回目のスペクトルとを合成し、界面１１３に対する界面１１２の位置（相対位置）を算出する。別の見方をすると、制御部３０は、１回目のスペクトルと、２回目のスペクトルとにより、Ａ層１０１とＣ層１０３との距離を算出する。すなわち、制御部３０は、１回目のスペクトルと、２回目のスペクトルとにより、Ｂ層１０２の層厚を算出する。
なお、制御部３０による、Ａ層１０１とＣ層１０３との距離の算出は、以下のように行われる。すなわち、制御部３０は、１回目のスペクトルと２回目のスペクトルとを合成したスペクトル（図示省略）から、界面１１２によるピークの遅延時間と界面１１３によるピークの遅延時間との時間差を算出する。次いで、制御部３０は、コンピュータプログラムＣＰにより、算出した時間差を、界面１１２と界面１１３との距離（Ａ層１０１とＣ層１０３との距離）に変換する。
【００２２】
次いで、制御部３０が、算出したＡ層１０１とＣ層１０３との距離、すなわち、Ｂ層１０２の厚みを表示部４０に表示させると、本実施形態の距離算出方法が終了する。
【００２３】
ここで、本実施形態の反射体２００は、固体であっても液体であってもよい。固体としての反射体２００の一例は金属テープ等の金属製のシート材とされ、液体としての反射体２００の一例は水等とされている。反射体２００が金属製のシート材の場合、「反射体２００を配置する」とは、例えば、金属製のシート材を界面１１２に貼付する、Ａ層１０１とＢ層１０２との間に挿入する等を意味する。また、反射体２００が液体の場合、「反射体２００を配置する」とは、例えば、液体を界面１１２に塗布することを意味する。なお、本明細書では、反射体が液体の場合、「反射体を配置する」を「反射体を塗布する」と読み替えるものとする。
【００２４】
以上が、本実施形態の距離算出方法についての説明である。
【００２５】
＜第１実施形態の効果＞
次に、本実施形態の効果について図１及び図２を参照しつつ、本実施形態を図３に示される第１比較形態と比較して説明する。
【００２６】
図３は、第１比較形態の位置測定方法（距離算出方法）で多層構造１００を測定した場合における各層１０１、１０２及び１０３からの反射波Ｗ２の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。第１比較形態の場合、反射体２００を界面１１２に配置せずに多層構造１００への電磁波Ｗ１の照射及び反射波Ｗ２の検出を行う。そのため、第１比較形態の場合、本実施形態の「１回目」のスペクトルを得ることしかできない。すなわち、第１比較形態の場合、界面１１２の反射波Ｗ２の検出信号が小さい。この場合、検出信号の大きさ（反射強度の大きさ）によっては、界面１１２の位置を測定することができない。
これに対して、本実施形態の場合、界面１１１及び界面１１３よりも反射率の低い界面１１２に反射体２００を配置して、多層構造１００に電磁波Ｗ１を照射した時間波形のスペクトルを得る（図２の２回目のスペクトルを参照）。そのため、本実施形態の場合、実質的に界面１１２の反射波Ｗ２の反射強度を大きくすることができる。
したがって、本実施形態の位置測定方法によれば、多層構造１００が有する層１０１と層１０２との界面１１２で反射する電磁波（反射波Ｗ２）の検出信号が小さい場合であっても、界面１１２の位置を測定可能にする。
【００２７】
また、本実施形態の場合、反射体２００を配置せずに測定したスペクトル（図２の１回目のスペクトルを参照）と、界面１１２に反射体２００を配置して測定したスペクトル（図２の２回目のスペクトルを参照）とを合成する。そして、本実施形態の場合、合成したスペクトルにより、界面１１２と界面１１３との距離を算出する。
したがって、本実施形態の位置測定方法によれば、多層構造１００が有する層１０１及び層１０２の界面１１２で反射する電磁波（反射波Ｗ２）の検出信号が小さい場合であっても、Ａ層１０１とＣ層１０３との距離を算出することができる。
【００２８】
また、金属テープや水は、テラヘルツ波に対して比較的高い反射率を示す。そのため、上記の効果は、本実施形態の場合のように、電磁波Ｗ１がテラヘルツ波で反射体２００が金属テープや水の場合に有効である。
また、水等の液体は、金属製のシート材に比べて、界面１１２が微細な凹凸面とされている場合に馴染み易い（追従し易い）。そのため、上記の効果は、反射体２００が液体である場合、界面１１２の微細な凹凸面に対して有効である。
【００２９】
以上が、本実施形態の効果についての説明である。また、以上が、第１実施形態についての説明である。
【００３０】
≪第２実施形態≫
次に、第２実施形態について図４を参照しながら説明する。以下、本実施形態における、第１実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
【００３１】
＜第２実施形態における第１実施形態との異なる部分＞
図４は、本実施形態の位置測定方法（距離算出方法）で多層構造１００Ａを測定した場合における界面１１２Ａ、１１３Ａ及び１１４Ａからの反射波Ｗ２の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。
本実施形態の多層構造１００Ａは、電磁波Ｗ１の照射側から順にＡ層１０１Ａ（第１層の他の一例）、Ｂ層１０２Ａ（第２層の他の一例）、Ｃ層１０３Ａ（第３層の他の一例）が重ねられた３層とされている。ただし、Ｂ層１０２Ａは、Ａ層１０１Ａ及びＣ層１０３Ａに比べてＹ方向の長さが短いため、Ａ層１０１Ａの一部とＣ層１０３Ａの一部とはＢ層１０２Ａを挟まずに重なっている。ここで、Ａ層１０１ＡとＢ層１０２Ａとの界面を界面１１２Ａ（第１界面の他の一例）、Ｂ層１０２ＡとＣ層１０３Ａとの界面を界面１１３Ａ（第２界面の他の一例）、Ａ層１０１ＡとＣ層１０３Ａとの界面を界面１１４Ａと定義する。また、本実施形態の場合、界面１１３Ａの電磁波Ｗ１の反射率は、界面１１２Ａの電磁波Ｗ１の反射率及び界面１１４Ａの電磁波Ｗ１の反射率に比べて、（極めて）低い（図５参照）。
【００３２】
次に、本実施形態の距離算出方法について説明する。本実施形態の距離算出方法は、第１実施形態の場合と同様に距離算出装置１０（図１参照）を用いて行う。
まず、測定者は、Ｃ層１０３ＡのＡ層１０１Ａ側の面、すなわち、界面１１３Ａ及び界面１１４Ａに、反射体２００を配置する。
次いで、測定者は、距離算出装置１０を用いて、Ｙ方向の一端側から他端側に亘る複数箇所で電磁波Ｗ１の照射及び反射波Ｗ２の検出を行い、各照射位置での反射波Ｗ２の反射強度のスペクトルを得る（本実施形態の場合は、図４のとおり一例として２箇所）。
本実施形態の距離算出方法は、以上のとおりである。
【００３３】
＜第２実施形態の効果＞
次に、本実施形態の効果について、第２比較形態（図５参照）と比較して説明する。
【００３４】
図５は、第２比較形態の位置測定方法（距離算出方法）で多層構造１００Ａを測定した場合における各層１１２Ａ、１１３Ａ及び１１４Ａからの反射波Ｗ２の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。第２比較形態の場合、反射体２００を界面１１３Ａ及び界面１１４Ａに配置せずに多層構造１００Ａへの電磁波Ｗ１の照射及び反射波Ｗ２の検出を行う。第２比較形態の場合、界面１１３Ａからの反射波Ｗ２の検出信号が極めて小さすぎるため、Ａ層１０１ＡとＣ層１０３Ａとの間の一部にＢ層１０２Ａが存在するのか否かが判別できない。また、Ｙ方向の各位置でＢ層１０２Ａの層厚がどのように変化しているのかも判別できない。別の見方をすると、界面１１３Ａからの反射波Ｗ２がノイズであるとしてＢ層１０２ＡがＣ層１０３Ａの一部と判別される虞がある。
【００３５】
これに対して、本実施形態の場合、界面１１３Ａ及び界面１１４Ａに反射体２００を配置して多層構造１００Ａへの電磁波Ｗ１の照射及び反射波Ｗ２の検出を行う。そのため、界面１１３Ａからの反射波Ｗ２の検出信号を大きくすることができる。
したがって、本実施形態によれば、Ａ層１０１Ａの一部とＣ層１０３Ａの一部との間にＢ層１０２Ａが存在していることの判別をすることができる。
また、本実施形態の場合、多層構造１００Ａへの電磁波Ｗ１の照射及び反射波Ｗ２の検出を、多層構造１００ＡのＹ方向の一端側から他端側に亘る複数箇所で行う。
したがって、本実施形態によれば、Ｙ方向の各位置でＢ層１０２Ａの層厚がどのように変化しているのかを判別することができる。
本実施形態のその他の効果は、第１実施形態の場合と同様である。
【００３６】
以上が、第２実施形態についての説明である。
【００３７】
≪第３実施形態≫
次に、第３実施形態について図６を参照しながら説明する。以下、本実施形態における、第１実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
【００３８】
＜第３実施形態における第１実施形態との異なる部分＞
図６は、本実施形態の位置測定方法（距離算出方法）で多層構造１００を測定した場合における各層１０１、１０２及び１０３からの反射波Ｗ２の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。
本実施形態の場合、第１実施形態の反射体２００（図２参照）に換えて、反射体２００Ｂを用いる。ここで、反射体２００Ｂは、電磁波Ｗ１を反射しつつ透過可能な部材とされている。
ここで、本実施形態の反射体２００Ｂは、固体であっても液体であってもよい。固体としての反射体２００の一例は養生テープ、スコッチテープ（スコッチは、スリーエムカンパニーの登録商標）等のシート材とされている。また、液体としての反射体２００Ｂの一例はマヨネーズ、ローション等の水中液滴型の乳濁液（水と油との混合液の一例）、ハンドクリーム、バター等の油中水滴型の乳濁液（水と油との混合液の一例）とされている。
なお、反射体２００Ｂが油中液滴型の乳濁液の場合、電磁波Ｗ１の反射性と透過性との両立の観点から、以下の条件を満たすことが好ましい。すなわち、油のＨＬＢ（Hydrophilic-Lipophilic Balance）値は、７以下であることが好ましい。また、別の観点では、乳化剤における、親水基の式量の総和と親油基の式量の総和との比が１：９〜３：７であることが好ましい。すなわち、乳化剤における（親水基の式量の総和）／（親油基の式量の総和）が１／９以上３／７以下であることが好ましい。
【００３９】
次に、本実施形態の距離算出方法について説明する。本実施形態の距離算出方法は、第１実施形態の場合と同様に距離算出装置１０（図１参照）を用いて行う。
まず、測定者は、界面１１２に、反射体２００Ｂを配置する。
次いで、測定者は、距離算出装置１０を用いて電磁波Ｗ１の照射及び反射波Ｗ２の検出を行い、反射波Ｗ２の反射強度のスペクトルを得る。
本実施形態の距離算出方法は、以上のとおりである。
【００４０】
＜第３実施形態の効果＞
次に、本実施形態の効果について、本実施形態を第１比較形態（図３参照）及び第１実施形態と比較して説明する。
【００４１】
第１比較形態の場合、反射体２００Ｂを界面１１２に配置せずに多層構造１００への電磁波Ｗ１の照射及び反射波Ｗ２の検出を行う。そのため、第１比較形態の場合、界面１１２の反射波Ｗ２の検出信号が小さい。この場合、検出信号の大きさ（反射強度の大きさ）によっては、界面１１２の位置を測定することができない。
また、第１実施形態の場合、反射体２００を用いることで、反射体２００により電磁波Ｗ１が反射され、界面１１３に電磁波Ｗ１を到達させることができない（又は到達させ難い）。その結果、第１実施形態の場合、界面１１２の位置を測定することができるが、界面１１３の位置も測定し且つＡ層１０１とＣ層１０３との距離を算出するためには２回の測定を行う必要がある（図２参照）。
【００４２】
これに対して、本実施形態の場合、反射体２００Ｂを界面１１２に配置することにより、界面１１２の反射波Ｗ２の検出信号を大きくすることができる。また、反射体２００Ｂが電磁波Ｗ１を透過可能とされていることから、界面１１３に電磁波Ｗ１を到達させることができる。
したがって、本実施形態によれば、１回の測定で、界面１１２と界面１１３との距離（Ａ層１０１とＣ層１０３との距離）を算出することができる。
本実施形態のその他の効果は、第１実施形態の場合と同様である。
【００４３】
以上が、第３実施形態についての説明である。
【００４４】
≪第４実施形態≫
次に、第４実施形態について図７を参照しながら説明する。以下、本実施形態における、第１実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
【００４５】
＜第４実施形態における第１実施形態との異なる部分＞
図７は、本実施形態の位置測定方法（距離算出方法）で多層構造１００Ｂを測定した場合における各層１０１Ｂ、１０２Ｂ及び１０３Ｂからの反射波Ｗ２の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。
本実施形態の多層構造１００Ｂは、電磁波Ｗ１の照射側から順にＡ層１０１Ｂ（第１層の他の一例）、Ｂ層１０２Ｂ（第２層の他の一例）、Ｃ層１０３Ｂ（第３層の他の一例）が重ねられた３層とされている。ここで、Ａ層１０１ＢとＢ層１０２Ｂとの界面を界面１１２Ｂ（第１界面の他の一例）、Ｂ層１０２ＢとＣ層１０３Ｂとの界面を界面１１３Ｂ（第２界面の他の一例）と定義する。そして、本実施形態の場合、界面１１２Ｂの電磁波Ｗ１の反射率及び界面１１３Ｂの電磁波Ｗ１の反射率は、界面１１１Ｂの電磁波Ｗ１の反射率に比べて、（極めて）低い（図８参照）。
【００４６】
次に、本実施形態の距離算出方法について説明する。本実施形態の距離算出方法は、第１実施形態の場合と同様に距離算出装置１０（図１参照）を用いて行う。
まず、測定者は、界面１１２Ｂ及び界面１１３Ｂに、それぞれ反射体２００を配置する。具体的には、界面１１２Ｂに反射体２００を配置し、且つ、界面１１３Ｂにおける、電磁波Ｗ１の照射側から見て（Ｘ方向から見て）界面１１２Ｂに配置された反射体２００（第１反射体の一例）と重ならない部分に反射体２００（第２反射体の一例）を配置する。
次いで、測定者は、距離算出装置１０を用いて、Ｙ方向における各反射体２００が配置された部分に電磁波Ｗ１の照射及び反射波Ｗ２の検出を行い、各部分（図７の第１部分及び第２部分）での反射波Ｗ２の反射強度のスペクトルを得る。
次いで、制御部３０は、コンピュータプログラムＣＰに従い、第１部分のスペクトルと、第２部分のスペクトルとを合成し、例えば、界面１１１Ｂに対する界面１１３Ｂの位置（相対位置）及び界面１１２Ｂの位置（相対位置）を算出する。別の見方をすると、制御部３０は、第１部分のスペクトルと、第２部分のスペクトルとにより、Ａ層１０１ＢとＣ層１０３Ｂとの距離を算出する。
本実施形態の距離算出方法は、以上のとおりである。
【００４７】
＜第４実施形態の効果＞
次に、本実施形態の効果について、本実施形態を第３比較形態（図８参照）と比較して説明する。
【００４８】
第３比較形態の場合、２つの反射体２００をそれぞれ界面１１２Ｂ及び界面１１３Ｂに配置せずに多層構造１００Ｂへの電磁波Ｗ１の照射及び反射波Ｗ２の検出を行う。そのため、第３比較形態の場合、界面１１２Ｂ及び界面１１３Ｂの反射波Ｗ２の検出信号が小さい。この場合、検出信号の大きさ（反射強度の大きさ）によっては、界面１１２Ｂ及び界面１１３Ｂの位置を測定することができない。
【００４９】
これに対して、本実施形態の場合、界面１１１Ｂよりも反射率の低い界面１１２Ｂ及び界面１１３Ｂにそれぞれ反射体２００を配置して、多層構造１００Ｂに電磁波Ｗ１を照射した時間波形のスペクトルを得る（図７の第１部分のスペクトル及び第２部分のスペクトルを参照）。そのため、本実施形態の場合、実質的に界面１１２Ｂ及び界面１１３Ｂの反射波Ｗ２の反射強度を大きくすることができる。
したがって、本実施形態の位置測定方法によれば、多層構造１００Ｂが有する層１０１及び層１０２の界面１１２で反射する電磁波（反射波Ｗ２）の検出信号が小さい場合であっても、界面１１２の位置を測定可能にする。
【００５０】
また、本実施形態の場合、反射体２００を配置せずに測定したスペクトル（図２の１回目のスペクトルを参照）と、界面１１２に反射体２００を配置して測定したスペクトル（図２の２回目のスペクトルを参照）とを合成する。そして、本実施形態の場合、合成したスペクトルにより、界面１１２と界面１１３との距離を算出する。
したがって、本実施形態の位置測定方法によれば、界面１１２Ｂ及び界面１１３Ｂで反射する電磁波（反射波Ｗ２）の検出信号が小さい場合であっても、Ａ層１０１ＢとＣ層１０３Ｂとの距離を算出することができる。
本実施形態のその他の効果は、第１実施形態の場合と同様である。
【００５１】
以上が、第４実施形態についての説明である。
【００５２】
≪第５実施形態≫
次に、第５実施形態について図９を参照しながら説明する。以下、本実施形態における、第１実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
【００５３】
＜第５実施形態における第１実施形態との異なる部分＞
図９は、本実施形態の位置測定方法（距離算出方法）で多層構造１００Ｂ（図８参照）を測定した場合における各層１０１Ｂ、１０２Ｂ及び１０３Ｂからの反射波Ｗ２の状態及び得られる検出結果の一例を示す模式図である。
本実施形態の場合、界面１１２Ｂに反射体２００Ｂを配置し、界面１１３Ｂに反射体２００を配置する。ここで、界面１１２Ｂに配置された反射体２００Ｂ（第２反射体の他の一例）と、界面１１３Ｂに配置された反射体２００（第１反射体の他の一例）とは、電磁波Ｗ１の照射方向（Ｘ方向）から見て重なっている。
なお、本実施形態の場合、例えば、界面１１２Ｂに配置される反射体２００Ｂを前述の乳濁液等の液体とし、界面１１３Ｂに配置される反射体２００を金属テープ等の金属製のシート材とすることができる。
【００５４】
次に、本実施形態の距離算出方法について説明する。本実施形態の距離算出方法は、第１実施形態の場合と同様に距離算出装置１０（図１参照）を用いて行う。
まず、測定者は、界面１１２Ｂ及び界面１１３Ｂに、それぞれ、反射体２００Ｂ及び反射体２００を配置する。
次いで、測定者は、距離算出装置１０を用いて電磁波Ｗ１の照射及び反射波Ｗ２の検出を行い、反射波Ｗ２の反射強度のスペクトルを得る。
本実施形態の距離算出方法は、以上のとおりである。
【００５５】
＜第５実施形態の効果＞
次に、本実施形態の効果について、本実施形態を第３比較形態（図８参照）及び第４実施形態と比較して説明する。
【００５６】
第３比較形態の場合、２つの反射体２００をそれぞれ界面１１２Ｂ及び界面１１３Ｂに配置せずに多層構造１００Ｂへの電磁波Ｗ１の照射及び反射波Ｗ２の検出を行う。そのため、第３比較形態の場合、界面１１２Ｂ及び界面１１３Ｂの反射波Ｗ２の検出信号が小さい。この場合、検出信号の大きさ（反射強度の大きさ）によっては、界面１１２Ｂ及び界面１１３Ｂの位置を測定することができない。
また、第４実施形態の場合、界面１１２Ｂに反射体２００を配置するため、反射体２００により電磁波Ｗ１が反射され、Ｘ方向において反射体２００と重なる界面１１３Ｂに電磁波Ｗ１を到達させることができない（又は到達させ難い）。その結果、第３比較形態の場合、界面１１２Ｂの位置を測定することができるが、界面１１３Ｂの位置も測定し且つＡ層１０１ＢとＣ層１０３Ｂとの距離を算出するためには２回の測定を行う必要がある（図７参照）。
【００５７】
これに対して、本実施形態の場合、反射体２００Ｂを界面１１２Ｂに配置することにより、界面１１２Ｂの反射波Ｗ２の検出信号を大きくすることができる。また、反射体２００Ｂが電磁波Ｗ１を透過可能とされていることから、Ｘ方向において反射体２００と重なる界面１１３Ｂに電磁波Ｗ１を到達させることができる。
したがって、本実施形態によれば、１回の測定で、界面１１２Ｂと界面１１３Ｂとの距離（Ａ層１０１ＢとＣ層１０３Ｂとの距離）を算出することができる。
本実施形態のその他の効果は、第１実施形態の場合と同様である。
【００５８】
以上が、第５実施形態についての説明である。
【００５９】
≪変形例≫
次に、第１〜第５変形例について図１０Ａ〜１０Ｅを参照しながら説明する。以下、各変形例における、各実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
【００６０】
＜第１変形例＞
図１０Ａは、第１変形例の反射体２００の配置例を示す模式図である。前述の各実施形態の多層構造１００、１００Ａ、１００Ｂは、断面図により説明していた（図２、図４等参照）。そのため、反射体２００、２００Ｂの具体的な形状が明確ではなかった。
しかしながら、例えば、２つの界面に複数の長尺な反射体２００、２００Ｂを配置する場合、一方の層と他方の層とでは複数の反射体２００、２００Ｂの並び方向が交差するようにしてもよい。
【００６１】
＜第２変形例＞
図１０Ｂは、第２変形例の反射体２００、２００Ｂの配置例を示す模式図である。本変形例のように、各層に配置される反射体２００、２００Ｂの形状は、互いに異なる形状であってもよい。
【００６２】
＜第３変形例＞
第３変形例は、第４実施形態の変形例と捉えることができる。図１０Ｃは、本変形例の位置測定方法（距離算出方法）で多層構造１００Ｃを測定した場合における各層１０１Ｃ、１０２Ｃ、１０３Ｃ及び１０４Ｃからの反射波Ｗ２の状態及び得られる検出結果の一例を、第４比較形態の場合と比較した模式図である。
第４比較形態の多層構造１００Ｃは、図１０Ｃに示されるように、界面１１２Ｃ及び界面１１４Ｃの電磁波Ｗ１の反射率が界面１１１Ｃ及び界面１１３Ｃの電磁波Ｗ１の反射率に比べて極めて小さい。この場合、本変形例のように、第１部分における界面１１２Ｃに反射体２００を配置し、第２部分における界面１１４Ｃに反射体２００を配置して、第４実施形態の場合と同様の測定を行うようにしてもよい。この変形例の場合、Ａ層１０１Ｃを第１層の他の一例、Ｂ層１０２ＣとＣ層１０３Ｃとの組合せを第２層の他の一例、Ｄ層１０４Ｃを第３層の他の一例とし、界面１１２Ｃを第１界面の他の一例、界面１１４Ｃを第２界面の他の一例と捉えることができる。以上より、本変形例のように、多層構造の一例は少なくとも３層以上であればよい。
【００６３】
＜第４変形例＞
第４変形例は、第５実施形態の変形例と捉えることができる。図１０Ｄは、本変形例の位置測定方法（距離算出方法）で多層構造１００Ｃを測定した場合における各層１０１Ｃ、１０２Ｃ、１０３Ｃ及び１０４Ｃからの反射波Ｗ２の状態及び得られる検出結果の一例を、第４比較形態の場合と比較した模式図である。
本変形例の場合、界面１１２Ｂに反射体２００Ｂを配置し、界面１１３Ｃに反射体２００を配置し、界面１１４Ｃにおける、反射体２００が配置された界面１１３ＣとＸ方向で重ならない部分に反射体２００を配置する。この場合、界面１１３Ｃに配置された反射体２００及び界面１１４Ｃに配置された反射体２００とは、Ｘ方向から見て界面１１２Ｃに配置された反射体２００Ｂに重なっている。
【００６４】
＜第５変形例＞
図１０Ｅは、第５変形例の距離算出装置１０Ａの概略図である。本変形例の距離算出装置１０Ａは、第１実施形態の距離算出装置１０と異なり、電磁波送受信部２０を可動させるための可動制御部５０を備えている。可動制御部５０は、距離算出装置１０Ａを用いた距離算出動作時において、多層構造１００に対して電磁波送受信部２０をスキャンさせる。そのため、本変形例によれば、電磁波Ｗ１の各照射位置でのＡ層１０１とＣ層１０３との距離を測定し、測定した複数の距離と、各照射位置との関係から、Ｂ層１０２の断面形状又は立体形状を算出することができる。
【００６５】
以上が、第１〜第５変形例についての説明である。
【００６６】
＜応用例＞
次に、これまで説明した第１〜第５実施形態及び第１〜第５変形例の応用例について図１１を参照しながら説明する。本応用例は、ブラジャー３００（衣類及び構造体の一例）のフィッティング方法及びブラジャー３００の製造方法に関する。
【００６７】
まず、本応用例に必要な用語等について説明する。
ブラジャー３００は、一例として、カップ部３１０（部品の一例）と、バック部３２０（部品の他の一例）と、ストラップ部３３０（部品の他の一例）とを備えている。すなわち、ブラジャー３００は、複数の部品で構成される。
ここで、カップ部３１０の層を衣類の層（第１層）とする。人間ＨＭの胸部におけるカップ部３１０に被せられる層を皮膚ＳＫの層（第３層）とする。そして、カップ部３１０の層と、皮膚ＳＫの層との隙間を、空気層ＡＬとする。
なお、本実施形態のブラジャー３００を構成する、カップ部３１０、バック部３２０及びストラップ部３３０は、一例として、それぞれ複数の水準のサイズの部品とされている。すなわち、本実施形態のブラジャー３００は、サイズの異なる各部品を組み合わせることで複数のバリエーションの形状に変更可能とされている。
【００６８】
次に、本応用例のフィッティング方法及びブラジャー３００の製造方法について説明する。
まず、測定者は、試着者に合いそうな適当なサイズの組合せのブラジャー３００を選択する。
次いで、測定者は、選択したブラジャー３００のカップ部３１０の裏面に乳濁液を塗布する。
次いで、試着者は、ブラジャー３００を試着する。
次いで、測定者は、距離算出装置１０をカップ部３１０の表面側に配置し、測定動作を開始する。この場合の測定方法は、第３実施形態（図６参照）の場合と同様である。
以上の動作により、空気層ＡＬの距離（胸部からカップ部３１０がどのくらい離れているか）が測定される。
次いで、表示部４０に表示された空気層ＡＬの距離が定められた距離の範囲を満たしている場合、測定者は試着者が試着したブラジャー３００がちょうどよいサイズであると判断し、本測定を終了する。これに対して、表示部４０に表示された空気層ＡＬの距離が定められた距離の範囲を満たしていない場合、測定者は試着者が試着したブラジャー３００が試着者に合うサイズでないと判断し、異なるサイズのブラジャー３００で再度上記の動作を行う。
以上の測定動作が本応用例のフィッティング方法である。また、上記のフィッティング方法を行い、試着者に合うサイズのブラジャー３００となるように、複数の部品のうちの少なくとも１つの部品を交換してサイズの異なるブラジャー３００を製造することは、本応用例のブラジャー３００の製造方法である。
なお、本応用例は第３実施形態（図６参照）の応用例であるが、その他の実施形態及び変形例を適用させてもよい。例えば、ブラジャー３００のカップ部３１０の裏面に反射体２００Ｂを塗布しつつ、試着者の胸部の皮膚ＳＫの層に水を塗布してもよい。この場合は、第５実施形態（図９参照）の応用例となる。
【００６９】
以上のとおり、本発明について第１〜第５実施形態、第１〜第５変形例及び応用例を一例として説明したが、本発明はこれらの形態に限定されるものではない。本発明の技術的範囲には、例えば、下記のような形態（変形例）も含まれる。
【００７０】
例えば、第１〜第５実施形態及び第１〜第５変形例は、それぞれ別の形態であるとして説明した。しかしながら、これらの形態の一部又は全部の形態を、同じ距離算出装置１０で実施可能としてもよい。
【００７１】
また、応用例と、第５変形例とを組み合せることで、空気層ＡＬの断面形状又は立体形状を算出するようにしてもよい。
【００７２】
また、応用例ではブラジャー３００を用いて説明したが、多層構造の測定によりフィッティングを行うものであれば他にも応用できる。例えば、カツラ、靴その他の着用物であってもよい。
【符号の説明】
【００７３】
１０  距離算出装置
１００  多層構造 
１０１  Ａ層（第１層の一例）
１０２  Ｂ層（第２層の一例）
１０３  Ｃ層（第３層の一例）
１１２  界面（第１界面の一例）
１１３  界面（第２界面の一例）
２０  電磁波送受信部
２２  送信部（照射部の一例）
２４  受信部
３０  制御部（測定部、測定手段、算出部及び算出手段の一例）
３２  記憶部
４０  表示部
２００  反射体
２００Ｂ 反射体 
３００  ブラジャー（構造体の一例）
３１０  カップ部（部品の一例）
３２０  バック部（部品の一例）
３３０  ストラップ部（部品の一例）
ＡＬ  空気層
ＣＰ  コンピュータプログラム 
ＳＫ  皮膚の層
Ｗ１  電磁波
Ｗ２  電磁波（反射波）
【図１】
2020071048.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１０Ｃ】
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【図１０Ｄ】
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【図１０Ｅ】
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【図１１】
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