(57)【要約】【課題】塗布ムラの発生を効果的に抑制できる液塗布装置及び画像形成システムを提供すること。【解決手段】液塗布装置２００は、処理液１を貯留する液供給パン（液貯留部）２と、処理液１を運ぶ計量ローラ（供給ローラ）４と、計量ローラ４とニップを形成し、計量ローラ４から供給される処理液１をシート８に塗布する塗布ローラ５と、液供給パン２から計量ローラ４を介して塗布ローラ５に至る処理液１の供給経路１０１から離間した位置で、塗布ローラ５とニップを形成し、処理液１を回収する回収ローラ７と、を備える。【選択図】図３
2020151620.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートに処理液を塗布する液塗布装置であって、
前記処理液を貯留する液貯留部と、
前記液貯留部に貯留された前記処理液を運ぶ少なくとも一つの供給ローラと、
前記供給ローラの一つである第一供給ローラとニップを形成し、前記第一供給ローラから供給される前記処理液を前記シートに塗布する塗布ローラと、
前記液貯留部から前記供給ローラを介して前記塗布ローラに至る前記処理液の供給経路から離間した位置で、前記塗布ローラとニップを形成し、前記処理液を回収する回収ローラと、
を備える液塗布装置。
【請求項２】
前記第一供給ローラ及び前記回収ローラは、何れも前記塗布ローラより大径である請求項１に記載の液塗布装置。
【請求項３】
前記塗布ローラの直径が３０ｍｍ以下である請求項１又は２に記載の液塗布装置。
【請求項４】
前記塗布ローラと前記シートを介してニップを形成し、前記塗布ローラの前記処理液を前記シートに転写する転写ローラと、
前記転写ローラと前記塗布ローラが近付く方向に加圧する加圧装置と、
前記第一供給ローラ、前記塗布ローラ、前記転写ローラ及び前記回収ローラの少なくとも一部を回転させる駆動力を供給する駆動装置と、を更に備える請求項１から３の何れかに記載の液塗布装置。
【請求項５】
前記第一供給ローラと前記回収ローラは、前記塗布ローラの軸方向からみて、前記転写ローラの回転中心と前記塗布ローラの回転中心とを結ぶ仮想直線に交差する方向に並んで設けられ、かつ、前記仮想直線を挟んで前記第一供給ローラと前記回収ローラとが互いに対向するように設けられる請求項４に記載の液塗布装置。
【請求項６】
前記供給ローラの一つとして、前記液貯留部から前記処理液を汲み上げる汲み上げローラを備え、
前記第一供給ローラは、前記汲み上げローラによって汲み上げられた前記処理液を前記塗布ローラに供給する請求項１から５の何れかに記載の液塗布装置。
【請求項７】
前記汲み上げローラと前記第一供給ローラの間に配置される第二供給ローラを更に備える請求項６に記載の液塗布装置。
【請求項８】
前記第一供給ローラは、前記液貯留部に貯留される前記処理液に浸る状態で配置され、
前記液貯留部に貯留される前記処理液は、前記第一供給ローラによって前記塗布ローラに直接供給される請求項１から５の何れかに記載の液塗布装置。
【請求項９】
前記回収ローラの表面の前記処理液を回収するクリーニングブレードを更に備える請求項１から８の何れかに記載の液塗布装置。
【請求項１０】
前記回収ローラの表面の前記処理液を回収するクリーニングローラを更に備える請求項１から９の何れかに記載の液塗布装置。
【請求項１１】
請求項１から１０の何れかに記載の液塗布装置と、
前記液塗布装置で液が塗布された前記シートに画像を形成する画像形成装置と、
を備える画像形成システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液塗布装置及び画像形成システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、塗布ローラを用いてシートに処理液を塗布する装置が知られている。この種の技術を開示するものとして例えば特許文献１がある。特許文献１には、媒体に液体を塗布する塗布ローラに二本のローラを当接させ、塗布ローラの面上に残る液体の析出を防止することが記載されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
枚葉のシートに処理液を塗布する場合、シートが接触していない非通紙時にも塗布ローラに処理液が供給され続け、塗布ローラに処理液が過剰に保持されている状態となることがある。この状態で次のシートが塗布ローラに到達した場合、処理液が過剰に塗布され、シートに塗布ムラが発生するおそれがあった。この点、特許文献１では、２本のローラで処理液の析出を防止しているとしているものの、過剰な処理液に起因するシートの塗布ムラの抑制という点で改善の余地があった。
【０００４】
本発明は、塗布ムラの発生を効果的に抑制できる液塗布装置及び画像形成システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、シートに処理液を塗布する液塗布装置であって、前記処理液を貯留する液貯留部と、前記液貯留部に貯留された前記処理液を運ぶ少なくとも一つの供給ローラと、前記供給ローラの一つである第一供給ローラとニップを形成し、前記第一供給ローラから供給される前記処理液を前記シートに塗布する塗布ローラと、前記液貯留部から前記供給ローラを介して前記塗布ローラに至る前記処理液の供給経路から離間した位置で、前記塗布ローラとニップを形成し、前記処理液を回収する回収ローラと、を備える液塗布装置に関する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の液塗布装置及び画像形成システムによれば、塗布ムラの発生を効果的に抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の一実施の形態である画像形成システムを示す模式図である。
【図２】本発明の一実施の形態の液塗布装置を示す模式図である。
【図３】第１の実施の形態の液塗布部のローラの位置関係を示す模式図である。
【図４】第１の実施の形態の供給ローラとしての計量ローラと回収ローラの位置関係を示す模式図である。
【図５】液塗布部において回収ローラのない場合の処理液の流れを説明する模式図である。
【図６】第２の実施の形態の供給ローラと回収ローラの位置関係を示す模式図である。
【図７】第３の実施の形態の供給ローラとしての計量ローラと回収ローラの位置関係を示す模式図である。
【図８】第４の実施の形態の供給ローラとしての計量ローラと回収ローラの位置関係を示す模式図である。
【図９】第５の実施の形態の供給ローラとしての計量ローラと回収ローラの位置関係を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。図１には、画像形成システム１０００の概略が示されている。
【０００９】
画像形成システム１０００は、給送装置１００と、液塗布装置２００と、画像形成装置としてのプリンタ３００と、媒体排出装置４００と、を備える印刷システムである。給送装置１００、液塗布装置２００、プリンタ３００及び媒体排出装置４００の画像形成システム１０００を構成する各ユニットは、それぞれモジュール化されていてもよいし、一体型であってもよい。
【００１０】
給送装置１００は、画像を形成する記録媒体としてのシート８を収容し、液塗布装置２００に供給する記録媒体供給装置である。シート８は、例えば、所定の大きさに切り揃えられている枚葉の「カット紙」である。なお、シート８としては紙以外のものを用いることもできる。
【００１１】
液塗布装置２００は、シート８に吐出されるインクを凝集させ、裏写りを防止する作用効果を有する処理液１をシート８の画像形成面に塗布する。処理液１の成分は、インクの成分やシート８の材質等を考慮して適宜選択される。なお、処理液は、その種類を限定されるわけではなく、種々の用途の処理液をシート８に塗布する対象とすることができる。
【００１２】
プリンタ３００は、液塗布装置２００において処理液が塗布されたシート８に、インク滴を吐出して画像形成を施す画像形成部３１０と、シート８に付着した処理液１とインク滴を乾燥させる乾燥部３２０と、を備える。
【００１３】
本実施の形態のプリンタ３００は、シート８の表裏に印刷するための反転装置３３０を更に備える。反転装置３３０は、乾燥部３２０から画像形成部３１０にシート８を反転させて戻す機能を有する。これによって、先に画像が形成されている画像形成面の裏面にインク滴を吐出して画像を形成した後、乾燥部３２０において新たに画像が形成された面を乾燥させてシート８の両面に画像を形成する処理を行うことができる。プリンタ３００で画像形成が施されたシート８は、媒体排出装置４００に排出される。
【００１４】
媒体排出装置４００は、プリンタ３００において画像形成処理が行われたシート８を収容する装置である。
【００１５】
次に、図２を参照して液塗布装置２００の構成について説明する。図２は、液塗布装置２００の構成を示す構成図である。
【００１６】
図２に示すように、液塗布装置２００は、液塗布部２１０と、処理液供給部２３０と、搬入部２４０と、搬出部２５０と、搬送経路２６０と、制御部２７０と、を備える。
【００１７】
液塗布部２１０には、液供給パン２と、汲み上げローラ３と、計量ローラ４と、塗布ローラ５と、転写ローラ６と、回収ローラ７と、加圧装置２１１と、駆動装置２１５と、が配置される。なお、各ローラの構成については、後述する。
【００１８】
液供給パン２は、所定量の処理液１を貯留可能な容器によって構成される液供給部である。液供給パン２の内側に汲み上げローラ３、計量ローラ４、塗布ローラ５及び回収ローラ７が配置される。
【００１９】
加圧装置２１１は、転写ローラ６の位置を切り替え、塗布ローラ５に圧力を加える。本実施の形態の加圧装置２１１は、転写ローラ６を回転自在に支持する回動アーム２１２と、回動アーム２１２を支持する搖動ピン２１３と、偏芯カム機構２１４と、を備える。回動アーム２１２は、転写ローラ６が接続される側の反対側がバネ等によって転写ローラ６を塗布ローラ５側に押し付けるように付勢されている。偏芯カム機構２１４の駆動によって、転写ローラ６を塗布ローラ５に押し付ける位置と、転写ローラ６を塗布ローラ５から離間する位置と、の間で回動アーム２１２が回動する。
【００２０】
駆動装置２１５は、モータやギヤ等の機械部品からなり、汲み上げローラ３、計量ローラ４、塗布ローラ５、転写ローラ６及び回収ローラ７を回転させる駆動力を供給する。駆動装置２１５の駆動力の伝達機構の構成は特に限定されない。例えば、汲み上げローラ３を回転駆動するとともに、ギヤ等を介して計量ローラ４、塗布ローラ５、転写ローラ６及び回収ローラ７を回転させる構成や、一部のローラを駆動し、その他のローラについては従動回転させる構成等、適宜の方式を駆動装置２１５に採用できる。
【００２１】
処理液供給部２３０は、供給管２３１を介して液供給パン２に接続される供給タンク２３２と、排出管２３５を介して液供給パン２に接続される廃液タンク２３６と、を備える。供給管２３１には、供給ポンプ２３３と供給弁２３４が配置される。液供給パン２に貯留される処理液１が所定量を下回ると、供給弁２３４を開放して供給ポンプ２３３を駆動し、処理液１を液供給パン２に供給する。所定量は、少なくとも汲み上げローラ３が処理液１を汲み上げることができる水位を維持するように設定される。排出管２３５には、排出ポンプ２３７と排出弁２３８が配置される。排出弁２３８を開放して排出ポンプ２３７を駆動することにより、液供給パン２内の劣化した処理液１を廃液タンク２３６に排出可能となっている。
【００２２】
搬入部２４０は給送装置１００から搬送されてきたシート８が液塗布装置２００に導入される部分であり、搬出部２５０は液塗布部２１０で処理液１が塗布されたシート８をプリンタ３００に送る部分である。搬送経路２６０は、複数の搬送ローラや複数のペーパガイドからなる。給送装置１００から排出された枚葉メディアであるシート８は、搬入部２４０を介して液塗布装置２００に搬入されて、搬送経路２６０によって搬送されて液塗布部２１０に至り、処理液１が塗布される。その後、搬送経路２６０によって搬出部２５０に搬送され、プリンタ３００に送られる。搬送経路２６０における搬出部２５０の搬送経路２６０には、シート８の搬送方向を切り替える第一分岐ゲート２５１と、第二分岐ゲート２５２と、が配置される。
【００２３】
制御部２７０は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）、電源が遮断されている間もデータを保持するための書き換え可能な不揮発性メモリであるＮＶＲＡＭ（Ｎｏｎ−Ｖｏｌａｔｉｅ  Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等を備え、コンピュータプログラムを実行することで処理機能を実現する情報処理部である。
【００２４】
制御部２７０は、ＲＯＭに記録されている制御プログラムをＣＰＵにおいて実行させることで、液塗布装置２００が備える動作機構の動作を制御する電子部品である。制御部２７０が備えるＲＡＭは、制御プログラムが実行される際のワークエリアとして用いられる。また、制御部２７０のＮＶＲＡＭには、後述する処理液塗布制御処理において用いられる各種データが格納されている。即ち、制御部２７０は、ＣＰＵがＲＯＭに格納されている制御プログラムを読み出してＲＡＭの記憶領域に展開し、ＣＰＵがＮＶＲＡＭに格納されている各種データを読み出しながら制御プログラムを実行する。ＮＶＲＡＭが後述する塗布量データテーブル及び塗布量補正データテーブルを記憶する記憶部を構成する。
【００２５】
本実施の形態の制御部２７０は、液塗布部２１０に含まれる塗布ローラ５の動作によるシート８の搬送速度（液塗布搬送速度）を、プリンタ３００におけるシート８の搬送速度（画像形成搬送速度）に基づいて制御する。この場合、制御部２７０は、画像形成搬送速度よりも液塗布搬送速度が速くなるように制御する。具体的には、塗布ローラ５を回転させる駆動装置２１５の回転速度を、画像形成搬送速度を規定する駆動源の回転速度よりも速くなるように制御し、この制御によって塗布用ローラの回転速度を変化させて、処理液の塗布量を変化させる。従って、制御部２７０は、画像形成搬送速度を一定にしたまま、液塗布搬送速度を任意に変更可能となるように制御する。即ち、画像形成搬送速度を基準として用い、この基準に対する液塗布搬送速度の変化量を制御することによって、液塗布搬送速度を任意に変更し、処理液の塗布量を変化させる。また、制御部２７０は、搬送経路２６０におけるシート８の搬送動作や、表だけに印刷する場合と表裏に印刷する場合に応じて第一分岐ゲート２５１と第二分岐ゲート２５２を切り替える動作も制御する。
【００２６】
次に、液塗布部２１０に配置される各ローラの構成について説明する。図３は、第１の実施の形態の液塗布部２１０を示す模式図である。
【００２７】
汲み上げローラ３は、液供給パン２に貯留された処理液１を汲み上げて薄膜化して搬送する汲み上げ手段であり、処理液１を運ぶ供給ローラの一つである。汲み上げローラ３は、処理液１に浸る状態で、回転軸３０を介して液供給パン２の内側に支持される。汲み上げローラ３が処理液１に浸った状態で駆動装置２１５に回転駆動されることで、処理液１が汲み上げられる。
【００２８】
計量ローラ４は、汲み上げローラ３との間にニップを形成するとともに塗布ローラ５との間にニップを形成する位置で、回転軸４０を介して液供給パン２の内側に支持される計量手段であり、液供給パン２に貯留された処理液１を運ぶ供給ローラの一つである。汲み上げローラ３の回転により液供給パン２から汲み上げられた処理液１は、汲み上げローラ３と計量ローラ４との間のニップで計量された後、塗布ローラ５とのニップで再計量される。
【００２９】
塗布ローラ５は、計量ローラ４とのニップで転写された処理液１を転写ローラ６とのニップに送る。塗布ローラ５と転写ローラ６の間にシート８がある通紙状態の場合には、塗布ローラ５の表面の処理液１がシート８に塗布される。塗布ローラ５は、計量ローラ４とニップを形成するとともに転写ローラ６とニップを形成する位置で、回転軸５０を介して液供給パン２の内側に支持される。計量ローラ４を介して塗布ローラ５に供給された処理液１は、塗布ローラ５と転写ローラ６とのニップ部で塗布ローラ５の表面に微量で均一化された液膜となる。なお、塗布ローラ５の直径は、シート８に処理液１を塗布する位置で該塗布ローラ５の曲率を利用し、表面から分離させることができる所定の直径以下に設定される。本実施の形態では、塗布ローラ５の直径は３０ｍｍ以下に設定される。
【００３０】
転写ローラ６は、加圧装置２１１によって塗布ローラ５に押し付けられることにより、塗布ローラ５に担持されている処理液１の薄膜をシート８に転写する転写手段である。転写ローラ６は、塗布ローラ５とシート８を介してニップを形成し、塗布ローラ５の処理液１をシート８に転写する。転写ローラ６は、搬送経路２６０を挟んで塗布ローラ５の反対側に回転軸６０を介して支持される。
【００３１】
回収ローラ７は、塗布ローラ５によってシート８に塗布されなかった処理液１を回収する。上述の通り、液供給パン２に貯留される処理液１は、汲み上げローラ３と計量ローラ４を介して塗布ローラ５まで搬送される。ここで、汲み上げローラ３と計量ローラ４によって形成される液供給パン２から塗布ローラ５に至るまでの処理液１の経路を供給経路１０１とする。供給経路１０１は、汲み上げローラ３、計量ローラ４の表面に形成される液膜ということもできる。回収ローラ７は、この供給経路１０１から離間した位置で回転軸７０を介して液供給パン２の内側に支持される。即ち、回収ローラ７は、液供給パン２に貯留される処理液１、汲み上げローラ３、計量ローラ４の何れにも接触しておらず、回収ローラ７で回収された処理液１が供給経路１０１に戻らない構成となっている。
【００３２】
塗布ローラ５に接触する計量ローラ４及び回収ローラ７は、何れも、塗布ローラ５との間に所定のニップ幅（接触幅）を確保する必要がある。本実施の形態では、塗布ローラ５と計量ローラ４のうち、少なくとも一方はゴム等からなる弾性層を有するように構成され、弾性層をつぶすように変形させて塗布ローラ５と計量ローラ４のニップ幅が確保される。同様に、塗布ローラ５と回収ローラ７のうち、少なくとも一方はゴム等からなる弾性層を有するように構成され、弾性層をつぶすように変形させて塗布ローラ５と回収ローラ７のニップ幅が確保される。
【００３３】
本実施の形態では、計量ローラ４と回収ローラ７は、同じ材料で同径に構成される。計量ローラ４及び回収ローラ７の両方が、塗布ローラ５よりも大径となっている。これによって、計量ローラ４と回収ローラ７が小径のものである場合に比べ、ニップ幅（接触幅）を得るために計量ローラ４が塗布ローラ５に押し付けられる加圧力と、回収ローラ７が塗布ローラ５に押し付けられる加圧力と、を相対的に低減させることができる。計量ローラ４及び回収ローラ７から塗布ローラ５が受ける力が少なくなるので、塗布ローラ５の撓みが少なくなって塗布ムラの発生を抑制できる。
【００３４】
図４は、第１の実施の形態の供給ローラとしての計量ローラ４と回収ローラ７の位置関係を示す模式図である。計量ローラ４の半径の長さをＤ１とし、軸方向視において計量ローラ４の表面に形成される処理液１の液膜４１の厚みを膜厚ｔ１とする。回収ローラ７の半径の長さをＤ２とし、軸方向視において回収ローラ７の表面に形成される処理液１の液膜７１の厚みを膜厚ｔ２とする。計量ローラ４の回転軸４０の中心と回収ローラ７の回転軸７０の中心の間の距離を軸間距離Ｌとすると、次式の関係が成立するように計量ローラ４及び回収ローラ７の位置が設定される。
Ｌ＞Ｄ１＋ｔ１＋Ｄ２＋ｔ２  …（式１）
【００３５】
式１の関係を満たすことにより、計量ローラ４の液膜４１と回収ローラ７の液膜７１の間に隙間Ｄ３が形成されることになる。即ち、計量ローラ４の表面の処理液１と回収ローラ７の表面の処理液１が交わらない位置に計量ローラ４と回収ローラ７が配置される。これによって、回収ローラ７によって回収された処理液１は、供給経路１０１に戻ることなく回収ローラ７から落下し、液供給パン２に戻される。
【００３６】
ここで回収ローラ７が無い場合の構成を例示し、回収ローラ７の効果について説明する。図５は、液塗布部において回収ローラのない場合の処理液の流れを説明する模式図である。図５には、液供給パン２ａに貯留される処理液１が、汲み上げローラ３ａから計量ローラ４ａを介して塗布ローラ５ａに供給される様子が示されている。
【００３７】
枚葉のシート８を連続で通紙する場合、搬送されてくるシート８とシート８の間には間隔（紙間）が設けられる。塗布ローラ５ａと転写ローラ６の間にシート８がある場合は、塗布ローラ５ａ表面の処理液１がシート８に転写され、供給と転写のバランスが取れた状態となる。しかし、非通紙時も塗布ローラ５ａは駆動し続けるため、塗布ローラ５ａの表面の処理液１がシート８に転写されないまま残留し、計量ローラ４とのニップ部９００に合流する。このとき、塗布ローラ５に残留した処理液１と計量ローラ４で汲み上げられた処理液１によって塗布ローラ５への供給が一時的に過剰な状態となる。この状態で、次のシート８が到達した場合には、過剰な量の処理液１がシート８の先端に転写され、シート８の先端から後端にかけて塗布量が徐々に減少するような塗布ムラが発生する。
【００３８】
また、図５に示す配置では、転写ローラ６、塗布ローラ５ａ、計量ローラ４ａが加圧方向に直列に並んでいる。しかし、部品ばらつき等により各ローラの並びは適正な位置から水平方向に微小なズレが生じる状態となる場合がある。この状態で転写ローラ６が加圧されると、塗布ローラ５ａを水平方向に撓ませようとする分力が発生する。その結果、剛性の低い何れかのローラが撓み、塗布ローラ５ａの軸方向のニップバランスが不均一になる。軸方向のニップバランスが不均一になるとニップを通過する処理液の通過量も軸方向に不均一となり、シート８に転写され、塗布ローラ５の軸方向に塗布量の差が生じたような塗布ムラの原因となる。また、枚葉紙を塗布する場合において、塗布ローラ５ａの外形が大きい程、塗布ローラ５ａの表面にシート８が巻きつく搬送不良が生じる易くなる。一方で、塗布ローラ５ａの外形は小さい方がシート８搬送に有利ではあるが、外形が小さいほど塗布ローラ５の剛性は低くなるため上述の塗布ローラ５ａの撓みに起因する塗布ムラは発生しやすくなる。
【００３９】
この点、図３及び図４に示す本実施の形態の構成では、シート８に塗布されずに塗布ローラ５に残留した処理液１が、供給経路１０１から離間した位置に配置される回収ローラ７と塗布ローラ５のニップ部９０１で回収ローラ７側に回収されるので、計量ローラ４が過剰に処理液１を保持した状態となることもない。
【００４０】
また、塗布ローラ５の回転軸５０と転写ローラ６の回転軸６０とを通る仮想直線９０に対し、計量ローラ４と回収ローラ７は紙面の左右両側に配置される。本実施の形態では、計量ローラ４と回収ローラ７は、仮想直線９０を対称軸として線対称に配置されており、仮想直線９０に直交する方向において仮想直線９０を挟んで互いに対向している。更に、塗布ローラ５と転写ローラ６のニップ部分よりも、搬送経路２６０の下流側に回収ローラ７が配置される。これによって、計量ローラ４と回収ローラ７によってそれぞれ加えられる塗布ローラ５への加圧力が均等に分散され、塗布ローラ５自体の撓みの発生をより、効果的に防止することができる。本実施の形態では、計量ローラ４と回収ローラ７の径及び材質は同一であるので、塗布ローラ５に加えられる力をより均等にすることが可能となっている。
【００４１】
以上、説明したように、本実施の形態の液塗布装置２００は、液供給パン２と、計量ローラ（第一供給ローラ）４と、塗布ローラ５と、回収ローラ７と、を備える。回収ローラ７は、液供給パン２から計量ローラ４を介して塗布ローラ５に至る処理液１の供給経路１０１から離間した位置で、塗布ローラ５とニップを形成し、処理液１を回収する。
【００４２】
この構成により、非通紙時の処理液１の合流地点が計量ローラ４と塗布ローラ５のニップ部分ではなく、塗布ローラ５と回収ローラ７のニップ部分となる。従って、塗布ローラ５にシート８が接触していない非通紙時に塗布されなかった処理液１が、計量ローラ４と塗布ローラ５のニップ部に大量に戻ることなく、回収ローラ７によって回収されることになる。非通紙時に塗布されなかった処理液１が新たに供給される処理液１に合流することが抑制されるので、塗布ローラ５に過剰な処理液１が留まることがなくなり、シート８の先端から後端まで塗布量を均一にできる。
【００４３】
また、本実施の形態の計量ローラ４及び回収ローラ７は、何れも塗布ローラ５より大径である。この構成により、塗布ローラ５の径を大きくし過ぎることなくローラ加圧時の塗布ローラ５の撓みを抑制でき、塗布ムラ発生をより一層抑制することができる。
【００４４】
また、本実施の形態の塗布ローラ５の直径が３０ｍｍ以下である。この構成により、カット紙のような枚葉のシート８に処理液１を塗布する場合に生じ易くなるジャムの発生を防止できる。また、一般的には、直径を小さくすると、塗布ローラ５の剛性が低下して加圧時の負荷やシート８が通過時の衝撃で塗布ローラ５は撓み易くなり、塗布ローラ５と転写ローラ６のニップバランスが不均一になる。この点、本実施の構成では、上述のように、計量ローラ４と回収ローラ７によって良好なニップバランスが実現されているので、ジャム発生と塗布ローラ５の撓みの両方を抑制できる。
【００４５】
また、本実施の形態の液塗布装置２００は、転写ローラ６と、転写ローラ６を塗布ローラ５側に加圧する加圧装置２１１と、計量ローラ４、塗布ローラ５、転写ローラ６及び回収ローラ７の少なくとも一部を回転させる駆動力を供給する駆動装置２１５と、を更に備える。この構成により、転写ローラ６によって塗布ローラ５が加圧された状態において、当該塗布ローラ５は転写ローラ６、計量ローラ４、回収ローラ７の３方向から押さえられているため、良好なニップバランスを実現できる。従って、ニップバランスの不均一に起因する加圧時の塗布ローラ５の撓みも抑制され、塗布ローラ５の軸方向（搬送方向に直交する方向）での塗布ムラも防止できる。このように、本実施の形態によれば、シート８の全体で塗布ムラの発生を効果的に抑制できる。
【００４６】
また、本実施の形態では、塗布ローラ５を軸方向からみたとき、計量ローラ４と回収ローラ７は転写ローラ６の回転中心と塗布ローラ５の回転中心とを結ぶ仮想直線９０に交差する方向に並んで設けられ、かつ、仮想直線９０を挟んで計量ローラ４と回収ローラ７とが互いに対向するように設けられる。この構成により、塗布ローラ５を押す力を効果的に分散でき、塗布ローラ５の撓みをより一層抑制できる。
【００４７】
また、本実施の形態では、液塗布装置２００は、液供給パン２から処理液１を汲み上げる汲み上げローラ３を供給ローラの一つとして備え、計量ローラ４は、汲み上げローラ３によって汲み上げられた処理液１を塗布ローラ５に供給する。この構成により、処理液１は汲み上げローラ３と計量ローラ４のニップと計量ローラ４と塗布ローラ５の２つのニップで計量され、処理液１を多めに使用することなく適切な量でシート８に塗布を行うことができる。
【００４８】
以上説明した第１の実施の形態の構成は、適宜変更することができる。次に、第１の実施の形態とは異なる実施の形態について説明する。なお、以下の各実施の形態において、第１の実施の形態と共通又は同様の構成については同じ符号を付して詳細な説明を省略する場合がある。
【００４９】
図６は、第２の実施の形態の供給ローラ１０４と回収ローラ７の位置関係を示す模式図である。図６に示すように、液供給パン２０２は、処理液１を塗布ローラ５に供給する供給ローラ１０４が回転軸１４０を介して配置される液貯留槽２０３と、回収ローラ７で回収された処理液１を回収する液回収槽２０４と、を備える。
【００５０】
供給ローラ１０４は、汲み上げ機能及び計量機能の両方を有する処理液１の搬送手段であり、液貯留槽２０３の処理液１に浸るように配置される。第２の実施の形態では、供給ローラ１０４によって液供給パン２０２から塗布ローラ５に至る供給経路１０２が供給ローラ１０４単独で形成される。
【００５１】
回収ローラ７は、回収した処理液１が液回収槽２０４に落下するように液回収槽２０４の上方に配置される。回収ローラ７は、第１の実施の形態と同様に供給経路１０２から離間した位置に配置されている。回収ローラ７が供給ローラ１０４とは別の液回収槽２０４に配置されているので、回収ローラ７から供給ローラ１０４への処理液１の移動がより確実に防止される構成となっている。
【００５２】
本実施の形態では、液回収槽２０４には液貯留槽２０３に通じる戻し配管１１０が配置されている。戻し配管１１０には戻しポンプ１１１が配置されており、液貯留槽２０３側から液回収槽２０４側に処理液１が流入しないように戻しポンプ１１１が駆動制御される。また、戻し配管１１０は、処理液１が液貯留槽２０３から液回収槽２０４に逆流しない弁等の構造を設けてもよい。
【００５３】
以上説明したように、第２の実施の形態では、供給ローラ１０４は、液供給パン２０２に貯留される処理液１に浸る状態で配置され、液供給パン２０２に貯留される処理液１は、供給ローラ１０４によって塗布ローラ５に直接供給される。この第２の実施の形態においても、第１の実施の形態と構成と同様の効果を奏する。また、第１の実施の形態に比べ、液塗布装置２００に必要な部品点数を削減することができる。第１の実施の形態のように計量ローラを介さないので、塗布ローラ５に計量されることなく処理液１が直接供給されることになるので、シート８への塗布量を増加したい場合やシート８に塗布される処理液１の量が増加してもよい場合等により好適である。
【００５４】
図７は、第３の実施の形態の計量ローラ４，１５と回収ローラ７の位置関係を示す模式図である。計量ローラ４は塗布ローラ５とニップを形成する供給ローラであり、計量ローラ１５は、計量ローラ４と汲み上げローラ３のそれぞれとニップを形成する。
【００５５】
図７に示すように、第３の実施の形態の液供給パン２から塗布ローラ５に至る供給経路１０３には、汲み上げローラ３、計量ローラ１５、計量ローラ４が配置されている。計量ローラ１５は、回転軸１５０を介して液供給パン２に支持されている。回収ローラ７は、計量ローラ１５及び計量ローラ４の何れにも接触しない供給経路１０３から離間した位置に配置される。
【００５６】
以上説明したように、第３の実施の形態では、塗布ローラ５にニップする第一供給ローラとしての計量ローラ４と汲み上げローラ３の間に配置される第二供給ローラとしての計量ローラ１５を更に備える。この第３の実施の形態においても、第１の実施の形態と構成と同様の効果を奏する。また、２本（複数）の計量ローラ４，１５を介して塗布ローラ５に処理液１が供給されることになるので、より正確な計量を行うことができる。シート８に塗布される処理液１の量を低減したい場合等により好適である。なお、この第３の実施の形態では、２本の計量ローラを用いているが、計量ローラを３本以上備える構成としてもよい。
【００５７】
次に、図８を参照して第１の実施の形態の構成にクリーニングブレード９を加えた第２の実施の形態について説明する。図８に示すように、第４の実施の形態では、回収ローラ７の周面に形成される処理液１を除去するためのクリーニングブレード９が配置される。
【００５８】
クリーニングブレード９は、回収ローラ７の下側の周面に圧接されている。クリーニングブレード９によって掻き落とされた処理液１は液供給パン２の底に落下して、貯留される処理液１の層に回収される。このように、本実施の形態では、液供給パン２がクリーニングブレード９によって掻き落とされた処理液１の回収手段として機能している。
【００５９】
以上説明したように、第４の実施の形態の液塗布装置２００は、回収ローラ７の表面の処理液１を回収するクリーニングブレード９を更に備える。この構成により、クリーニングブレード９によって回収後の処理液１が回収ローラ７から継続的かつ確実に除去されるので、回収ローラ７に処理液１が留まって液溜りが形成されることもない。従って、塗布ローラ５と回収ローラ７のニップ部に処理液１液が回り込み、回収ローラ７から供給経路１０１への処理液１の移動する事態の発生をより確実に防止できる。
【００６０】
次に、図９を参照して第１の実施の形態の構成にクリーニングローラ１０を加えた第５の実施の形態について説明する。図９に示すように、クリーニングローラ１０は、回収ローラ７と液供給パン２の内壁（底壁）の間に配置される。
【００６１】
なお、クリーニングローラ１０は、回収ローラ７の回転速度に対して周速差が出るように構成し、回収ローラ７の表面の処理液１をクリーニングローラ１０で確実に除去できるようにしてもよい。また、クリーニングローラ１０を固定し、回収ローラ７の回転に伴って処理液１がクリーニングローラ１０から除去される構成としてもよい。
【００６２】
以上、説明したように、第５の実施の形態の液塗布装置２００は、回収ローラ７の表面の処理液１を回収するクリーニングローラ１０を更に備える。この第５の実施の形態においても、第１の実施の形態の構成と同様の効果を奏する。また、クリーニングローラ１０によって回収後の処理液１が回収ローラ７から継続的かつ確実に除去されるので、回収ローラ７から供給経路１０１への処理液１の移動をより確実に防止できる。また、クリーニングローラ１０の場合、押し当てに高い精度も要求されないので製造性も高い。
【００６３】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は、上述の実施の形態に制限されるものではなく、適宜変更が可能である。例えば、第２の実施の形態及び第３の実施の形態において、クリーニングブレード９又はクリーニングローラ１０を配置する構成としてもよい。
【００６４】
また、上記実施の形態では、加圧装置２１１が転写ローラ６を加圧する構成であるが、塗布ローラ５側を加圧する構成であってもよい。例えば、塗布ローラ５を支持する液供給パンを搖動可能に構成し、液供給パンの位置を変えることで、塗布ローラ５を転写ローラ６に押し付ける構成の加圧装置２１１としてもよい。
【００６５】
また、上記実施の形態から以下の技術思想を把握することもできる。
シートに処理液を塗布する液塗布装置であって、前記処理液を貯留する液貯留部と、前記処理液を搬送する供給ローラと、前記供給ローラとニップを形成し、前記供給ローラから供給される前記処理液を前記シートに搬送する塗布ローラと、前記塗布ローラとニップを形成し、前記塗布ローラの前記処理液を前記シートに転写する転写ローラと、前記塗布ローラとニップを形成する回収ローラと、前記転写ローラと前記塗布ローラが近付く方向に加圧する加圧装置と、前記供給ローラ、前記塗布ローラ、前記転写ローラ及び前記回収ローラの少なくとも一部を回転させる駆動力を供給する駆動装置と、を備え、前記供給ローラ及び前記回収ローラは、何れも前記塗布ローラより大径であって、前記塗布ローラの軸方向視において、前記転写ローラと前記塗布ローラの軸間方向に交差する方向で前記供給ローラと前記回収ローラが対向する位置関係である液塗布装置。
【符号の説明】
【００６６】
１  処理液
２  液供給パン（液貯留部）
３  汲み上げローラ（供給ローラ）
４  計量ローラ（第一供給ローラ）
５  塗布ローラ
６  転写ローラ
７  回収ローラ
８  シート
９  クリーニングブレード
１０  クリーニングローラ
１５  計量ローラ（第二供給ローラ）
９０  仮想直線
１０１，１０２，１０３  供給経路
２００  液塗布装置
２１１  加圧装置
２１５  駆動装置
１０００  画像形成システム
【先行技術文献】
【特許文献】
【００６７】
【特許文献１】特開２００９‐２２０００１号公報
【図１】
2020151620.tif 000003
【図２】
2020151620.tif 000004
【図３】
2020151620.tif 000005
【図４】
2020151620.tif 000006
【図５】
2020151620.tif 000007
【図６】
2020151620.tif 000008
【図７】
2020151620.tif 000009
【図８】
2020151620.tif 000010
【図９】
2020151620.tif 000011