(57)【要約】【課題】光源が発する光を透過させる光学部品を作製するために使用でき、発光装置における無機質層と光学部品とに起因する発光効率の低下を生じにくくできる、紫外線硬化性樹脂組成物を提供する。【解決手段】紫外線硬化性樹脂組成物は、アクリル化合物（Ａ）及び光重合開始剤（Ｂ）を含有する。アクリル化合物（Ａ）は、屈折率１．４５９以下のアクリル化合物（Ａ１）を含有する。アクリル化合物（Ａ）に対するアクリル化合物（Ａ１）の百分比は５０質量％以上である。紫外線硬化性樹脂組成物は、１．４５９以下の屈折率を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクリル化合物（Ａ）及び光重合開始剤（Ｂ）を含有し、
前記アクリル化合物（Ａ）は、屈折率１．４５９以下のアクリル化合物（Ａ１）を含有し、かつ前記アクリル化合物（Ａ）に対する前記アクリル化合物（Ａ１）の百分比は５０質量％以上である、
光源が発する光を透過させる光学部品を作製するための紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項２】
１．４５９以下の屈折率を有する、
請求項１に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項３】
前記アクリル化合物（Ａ１）は、一分子中に二つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を含有する、
請求項１又は２に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項４】
前記アクリル化合物（Ａ１）の２５℃での粘度は２５ｍＰａ・ｓ以下である、
請求項１から３のいずれか一項に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項５】
インクジェット法で成形される、
請求項１から４のいずれか一項に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項６】
硬化物のガラス転移温度が８０℃以上である、
請求項１から５のいずれか一項に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項７】
中空フィラー（Ｃ）を更に含有する、
請求項１から６のいずれか一項に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項８】
前記中空フィラー（Ｃ）は、中空樹脂粒子を含有する、
請求項７に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項９】
光源と、前記光源が発する光を透過させる光学部品及び無機質層とを備え、前記光学部品と前記無機質層とは重なっている発光装置を製造する方法であり、
請求項１から８のいずれか一項に記載の紫外線硬化性樹脂組成物をインクジェット法で成形してから、前記紫外線硬化性樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させることで前記光学部品を作製することを含む、
発光装置の製造方法。
【請求項１０】
前記紫外線硬化性樹脂組成物を加熱してから前記紫外線硬化性樹脂組成物をインクジェット法で成形する、
請求項９に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１１】
光源と、前記光源が発する光を透過させる光学部品及び無機質層とを備え、前記光学部品と前記無機質層とは重なっており、前記光学部品は、請求項１から８のいずれか一項に記載の紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物である、
発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線硬化性樹脂組成物、発光装置の製造方法及び発光装置に関し、詳しくは、光源が発する光を透過させる光学部品を作製するための紫外線硬化性樹脂組成物、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いる発光装置の製造方法、及びこの光学部品を備える発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ発光装置などの発光装置は、照明、ディスプレイなどに適用されており、今後の普及が期待されている。
【０００３】
有機ＥＬ発光装置のうち、トップエミッションタイプと呼ばれるものは、例えば支持基板上に有機ＥＬ素子を配置し、支持基板に対向するように透明基板を配置して構成される。この場合、有機ＥＬ素子が発する光は透明基板を通過して外部へ出射する。
【０００４】
有機ＥＬ素子は水分によって劣化すると、ダークスポットとよばれる発光しない部分が生じることがある。そのため、有機ＥＬ素子を透明な封止材及び窒素化合物製のパッシベーション層で覆うことで、外部から有機ＥＬ素子への水分の侵入を抑制することが行われている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１４−１８６８５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
有機ＥＬ発光装置には、ダークスポットを抑制することだけでなく、高い発光効率も要求される。発明者は、有機ＥＬ発光装置に封止材及びパッシベーション層を設けることが、発光効率の低下を招き、特に封止材の厚みが薄いと発光効率の低下が顕著になることを見出した。
【０００７】
本発明の課題は、光源が発する光を透過させる光学部品を作製するために使用でき、発光装置における無機質層と光学部品とに起因する発光効率の低下を生じにくくできる、紫外線硬化性樹脂組成物、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いる発光装置の製造方法、及びこの紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる光学部品を備える発光装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様に係る、光源が発する光を透過させる光学部品を作製するための紫外線硬化性樹脂組成物は、アクリル化合物（Ａ）及び光重合開始剤（Ｂ）を含有し、前記アクリル化合物（Ａ）は、屈折率１．４５９以下のアクリル化合物（Ａ１）を含有し、かつ前記アクリル化合物（Ａ）に対する前記アクリル化合物（Ａ１）の百分比は５０質量％以上である。
【０００９】
本発明の一態様に係る発光装置の製造方法は、光源と、前記光源が発する光を透過させる光学部品及び無機質層とを備え、前記光学部品と前記無機質層とは重なっている発光装置を製造する方法であり、前記紫外線硬化性樹脂組成物をインクジェット法で成形してから、前記紫外線硬化性樹脂組成物に紫外線を照射して
硬化させることで前記光学部品を作製することを含む。
【００１０】
本発明の一態様に係る発光装置は、光源と、前記光源が発する光を透過させる光学部品及び無機質層とを備え、前記光学部品と前記無機質層とは重なっており、前記光学部品は、前記紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の一態様には、紫外線硬化性樹脂組成物を発光装置の光学部品を作製するために使用すると、発光装置における無機質層と光学部品とに起因する発光効率の低下を生じにくくできるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態における発光装置を示す概略の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態について説明する。
【００１４】
本実施形態に係る、光源が発する光を透過させる光学部品を作製するため紫外線硬化性樹脂組成物（以下、組成物（Ｘ）ともいう）は、アクリル化合物（Ａ）及び光重合開始剤（Ｂ）を含有する。アクリル化合物（Ａ）は、屈折率１．４５９以下のアクリル化合物（Ａ１）を含有する。アクリル化合物（Ａ）に対するアクリル化合物（Ａ１）の百分比は５０質量％以上である。
【００１５】
組成物（Ｘ）は、光源が発する光を透過させる光学部品を作製するために用いられる。光学部品は、光学系を有する装置（例えば発光装置１）における、発光素子などの光源が発する光を透過させるための部品である。光学部品は、例えば発光素子のための封止材５である。光学部材は、例えば薄膜であり、より具体的には例えば厚み２μｍ以上５０μｍ以下、又は２μｍ以上３０μｍ以下の膜である。
【００１６】
本実施形態では、組成物（Ｘ）から、発光装置１の封止材５といった、光学部品を作製できる（図１参照）。発光装置１は、例えば光源と、光源が発する光を透過させる光学部品及び無機質層とを備え、光学部品と無機質層とは重なっている。特に、発光素子４と、発光素子４を覆う封止材５及びパッシベーション層６とを備え、封止材５とパッシベーション層６とが重なっている発光装置１における、封止材５を、組成物（Ｘ）から作製することが好ましい。この場合、封止材５が光学部品であり、発光素子４が光源であり、パッシベーション層６が無機質層である。この場合、発光装置１におけるパッシベーション層６と封止材５とに起因する発光効率の低下を生じにくくできる。これは、組成物（Ｘ）がアクリル化合物（Ａ１）を含有することで、組成物（Ｘ）の硬化物からなる封止材５が、無機材料製のパッシベーション層６に比して適度に低い屈折率を有することができるためであると考えられる。すなわち、封止材５とパッシベーション層６との間の屈折率差に起因して生じるパッシベーション層６及び封止材５内での光の干渉によって、発光素子４から発せられる光の外部への取り出し効率が高まると考えられる。
【００１７】
なお、本明細書において、アクリル化合物（Ａ１）の屈折率とは、波長５８９．３ｎｍの光（ナトリウムのＤ線）についての、２５℃での屈折率である。
【００１８】
組成物（Ｘ）の屈折率は１．４５９以下であることが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）の硬化物の屈折率は、組成物（Ｘ）と同等の屈折率を有することができる。なお、硬化収縮等により組成物（Ｘ）の屈折率と硬化物の屈折率との間には多少の差は生じうる。この場合、無機質層及び光学部品において光の反射が特に生じにくくなる。
【００１９】
なお、本明細書において、組成物（Ｘ）の屈折率とは、波長５８９．３ｎｍの光（ナトリウムのＤ線）についての、２５℃での屈折率である。
【００２０】
組成物（Ｘ）の屈折率は１．４００以上であることも好ましい。組成物（Ｘ）の屈折率は１．４１０以上１．４８０以下であればより好ましく、１．４２０以上１．４６０以下であれば更に好ましい。
【００２１】
また、組成物（Ｘ）の硬化物の屈折率は１．５１０以下であることが好ましい。この場合、無機質層及び光学部品において光の反射が特に生じにくくなる。硬化物の屈折率は１．４２０以上であることも好ましい。硬化物の屈折率は１．４３０以上１．５０５以下であればより好ましく、１．４４０以上１．４９９以下であれば更に好ましい。
【００２２】
なお、本明細書において、硬化物の屈折率とは、波長５８７．６ｎｍの光（ヘリウムのｄ線）についての、２５℃での屈折率である。
【００２３】
組成物（Ｘ）の硬化物のガラス転移温度は８０℃以上であることが好ましい。すなわち、組成物（Ｘ）は、硬化することでガラス転移温度が８０℃以上の硬化物になる性質を有することが好ましい。この場合、硬化物は良好な耐熱性を有することができる。そのため、例えば硬化物に温度上昇を伴う処理が施された場合に、硬化物が劣化しにくい。このため、例えば組成物（Ｘ）から作製された光学部品に重ねて無機質層をプラズマＣＶＤ法といった蒸着法で作製する場合、光学部品が加熱されても、光学部品が劣化しにくい。硬化物のガラス転移温度は９０℃以上であればより好ましく、１００℃以上であれば更に好ましい。この硬化物のガラス転移温度は、下記で詳細に説明される組成物（Ｘ）の組成によって達成可能である。
【００２４】
組成物（Ｘ）の２５℃での粘度は、１ｍＰａ・ｓ以上３０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）を常温下でキャスティング法といった方法で成形することが容易であり、組成物（Ｘ）をインクジェット法で成形することも可能である。この粘度が２５ｍＰａ・ｓ以下であればより好ましく、２０ｍＰａ・ｓ以下であれば更に好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下であれば特に好ましい。この粘度が５ｍＰａ・ｓ以上であることも好ましい。
【００２５】
組成物（Ｘ）の４０℃における粘度が１ｍＰａ・ｓ以上３０ｍＰａ・ｓ以下であることも好ましい。この場合、常温における組成物（Ｘ）の粘度がいかなる値であっても、組成物（Ｘ）を僅かに加熱すれば低粘度化させることが可能である。このため、加熱すれば、組成物（Ｘ）をキャスティング法といった方法で成形することが容易であり、組成物（Ｘ）をインクジェット法で成形することも可能である。また、組成物（Ｘ）を大きく加熱することなく低粘度化させることができるので、組成物（Ｘ）中の成分が揮発することによる組成物（Ｘ）の組成の変化を生じにくくできる。この粘度が２５ｍＰａ・ｓ以下であればより好ましく、２０ｍＰａ・ｓ以下であれば更に好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下であれば特に好ましい。この粘度が５ｍＰａ・ｓ以上であることも好ましい。
【００２６】
なお、組成物（Ｘ）の粘度は、レオメータを用いて、せん断速度１００ｓ-1の条件で測定される。レオメータとして、例えばアントンパール・ジャパン社製の型番ＤＨＲ−２を使用できる。
【００２７】
このような組成物（Ｘ）の２５℃又は４０℃における低い粘度は、下記で詳細に説明される組成物（Ｘ）の組成によって達成可能である。
【００２８】
組成物（Ｘ）の硬化物の、厚み寸法が１０μｍである場合の、全光透過率は、９０％以上であることが好ましい。この場合、硬化物を発光装置１における封止材５に適用すると、封止材５を透過して外部へ出射する光の取り出し効率を特に向上できる。このような硬化物の光透過性も、下記で詳細に説明される組成物（Ｘ）の組成によって達成可能である。
【００２９】
以下、本実施形態について、更に詳しく説明する。
【００３０】
１．発光装置の構造
まず、発光装置１の構造について説明する。発光装置１は、光源と、光源が発する光を透過させる光学部品とを備える。例えば、発光装置１は、発光素子４と、発光素子４を覆う封止材５及びパッシベーション層６とを備える。この場合、発光素子４が光源であり、封止材５が光学部品であり、パッシベーション層６が無機質層である。封止材５とパッシベーション層６とは重なっている。
【００３１】
発光素子４は、例えば発光ダイオードを含む。発光ダイオードは、例えば有機ＥＬ素子（有機発光ダイオード）とマイクロ発光ダイオードとのうち少なくとも一方を含む。発光素子４が有機発光ダイオードを含む場合は、発光素子４を備える発光装置１は例えば有機ＥＬディスプレイである。発光素子４がマイクロ発光ダイオードを含む場合は、発光素子４を備える発光装置１は例えばマイクロＬＥＤディスプレイである。なお、ＥＬとはエレクトロルミネッセンスの略である。
【００３２】
発光装置１の構造の例を、図１を参照して説明する。この発光装置１は、トップエミッションタイプである。発光装置１は、支持基板２、支持基板２と間隔をあけて対向する透明基板３、支持基板２の透明基板３と対向する面の上にある発光素子４、並びに発光素子４を覆うパッシベーション層６及び封止材５を備える。
【００３３】
支持基板２は、例えば樹脂材料から作製されるが、これに限定されない。透明基板３は透光性を有する材料から作製される。透明基板３は、例えば、ガラス製基板又は透明樹脂製基板である。発光素子４は、例えば一対の電極４１、４３と、電極４１、４３間にある有機発光層４２とを備える。有機発光層４２は、例えば正孔注入層４２１、正孔輸送層４２２、有機発光層４２３及び電子輸送層４２４を備え、これらの層は前記の順番に積層している。
【００３４】
発光装置１は複数の発光素子４を備え、かつ複数の発光素子４が、支持基板２上でアレイ９（以下素子アレイ９という）を構成している。素子アレイ９は、隔壁７も備える。隔壁７は、支持基板２上にあり、隣合う二つの発光素子４の間を仕切っている。隔壁７は、例えば感光性の樹脂材料をフォトリソグラフィ法で成形することで作製される。素子アレイ９は、隣合う発光素子４の電極４３及び電子輸送層４２４同士を電気的に接続する接続配線８も備える。接続配線８は、隔壁７上に設けられている。
【００３５】
パッシベーション層６は窒化ケイ素又は酸化ケイ素から作製されることが好ましく、窒化ケイ素から作製されることが特に好ましい。図１に示す例では、パッシベーション層６は、第一パッシベーション層６１と第二パッシベーション層６２とを含む。第一パッシベーション層６１は素子アレイ９に直接接触した状態で、素子アレイ９を覆うことで、発光素子４を覆っている。第二パッシベーション層６２は、第一パッシベーション層６１に対して、素子アレイ９とは反対側の位置に配置され、かつ第二パッシベーション層６２と第一パッシベーション層６１との間には間隔があけられている。第一パッシベーション層６１と第二パッシベーション層６２との間に、封止材５が充填されている。すなわち、発光素子４と、発光素子４を覆う封止材５との間に、第一パッシベーション層６１が介在している。
【００３６】
さらに、第二パッシベーション層６２と透明基板３との間に、第二封止材５２が充填されている。第二封止材５２は、例えば透明な樹脂材料から作製される。第二封止材５２の材質は特に制限されない。第二封止材５２の材質は、封止材５と同じであっても、異なっていてもよい。
【００３７】
２．紫外線硬化性樹脂組成物
本実施形態に係る紫外線硬化性樹脂組成物（以下、組成物（Ｘ）ともいう）について説明する。
【００３８】
上記に例示した構造を有する発光装置１における封止材５を、組成物（Ｘ）から作製できる。すなわち、組成物（Ｘ）は、発光素子４のための封止材５を作製するために用いられる。さらに言い換えれば、組成物（Ｘ）は、好ましくは封止材作製用の組成物、発光素子封止用の組成物、あるいは発光装置製造用の組成物である。
【００３９】
上記のとおり、組成物（Ｘ）は、アクリル化合物（Ａ）及び光重合開始剤（Ｂ）を含有する。組成物（Ｘ）に紫外線を照射すると、光重合開始剤（Ｂ）によって光ラジカル重合反応が開始されてアクリル化合物（Ａ）が硬化することで、硬化物を作製できる。組成物（Ｘ）の成分について、下記で更に詳しく説明する。
【００４０】
上記のとおり、組成物（Ｘ）はアクリル化合物（Ａ）を含有する。アクリル化合物（Ａ）は、一分子中に一つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する。
【００４１】
アクリル化合物（Ａ）全体の２５℃での粘度は５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。この場合、アクリル化合物（Ａ）は組成物（Ｘ）を特に低粘度化させることができる。アクリル化合物（Ａ）全体の粘度は３０ｍＰａ・ｓ以下であればより好ましく、２５ｍＰａ・ｓ以下であれば更に好ましく、２０ｍＰａ・ｓ以下であれば特に好ましい。また、アクリル化合物（Ａ）全体の粘度は例えば３ｍＰａ・ｓ以上である。
【００４２】
アクリル化合物（Ａ）全体の４０℃での粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下であることも好ましい。この場合、アクリル化合物（Ａ）は、加熱された場合の組成物（Ｘ）を特に低粘度化させることができる。アクリル化合物（Ａ）全体の粘度は３０ｍＰａ・ｓ以下であれば更に好ましく、２５ｍＰａ・ｓ以下であれば更に好ましく、２０ｍＰａ・ｓ以下であれば特に好ましい。また、アクリル化合物（Ａ）全体の粘度は、例えば３ｍＰａ・ｓ以上である。
【００４３】
アクリル化合物（Ａ）が含みうる化合物について説明する。
【００４４】
アクリル化合物（Ａ）は、屈折率１．４５９以下のアクリル化合物（Ａ１）を含有する。このため、アクリル化合物（Ａ）は、組成物（Ｘ）の硬化物及び封止材５の屈折率を低めることができ、これにより組成物（Ｘ）の屈折率が１．４５９以下であることを達成できる。アクリル化合物（Ａ１）の屈折率は１．４５６以下であることがより好ましく、１．４５０以下であれば更に好ましい。また、アクリル化合物（Ａ１）の屈折率は、例えば１．４００以上であり、又は１．４２０以上である。
【００４５】
アクリル化合物（Ａ）に対するアクリル化合物（Ａ１）の百分比は５０質量％以上である。このため、アクリル化合物（Ａ１）が硬化物の屈折率を効果的に低めることができる。アクリル化合物（Ａ１）の百分比が５５質量％以上であることが好ましい。また、アクリル化合物（Ａ）に対するアクリル化合物（Ａ１）の百分比は、例えば１００質量％以下であり、又は８５質量％以上であり、好ましくは８０質量％以下であり、より好ましくは７０質量％以下である。
【００４６】
アクリル化合物（Ａ１）の沸点は２７０℃以上であることが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）の保存中及び組成物（Ｘ）が加熱された場合に、組成物（Ｘ）からアクリル化合物（Ａ１）が揮発しにくい。そのため、組成物（Ｘ）の保存安定性が損なわれにくい。また、硬化物中及び封止材５中にアクリル化合物（Ａ１）が未反応で残留していても、硬化物及び封止材５からアクリル化合物（Ａ１）に起因するアウトガスが生じにくい。そのため、発光装置１内の例えば封止材５とパッシベーション層６との間などに、アウトガスによる空隙が生じにくい。発光装置１中に空隙があると空隙を通じて発光素子４に水分が到達してしまうおそれがあるが、空隙が生じにくいと、発光素子４に水分が到達しにくいため、発光素子４が水分によって劣化しにくくなる。なお、沸点は、減圧下の沸点を換算して得られる常圧下の沸点であり、例えばScience of Petroleum, Vol.II. P.1281(1938)に示される方法で求められる。アクリル化合物（Ａ１）の沸点は２８０℃以上であればより好ましく、２９０℃以上であれば更に好ましく、３００℃
以上であれば特に好ましい。
【００４７】
アクリル化合物（Ａ１）の２５℃での粘度は２５ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。この場合、アクリル化合物（Ａ１）は組成物（Ｘ）の粘度を低めることができる。アクリル化合物（Ａ１）の２５℃での粘度は、４０ｍＰａ・ｓ以下であればより好ましく、２５ｍＰａ・ｓ以下であれば更に好ましい。また、アクリル化合物（Ａ１）の２５℃での粘度は、例えば１ｍＰａ・ｓ以上であり、３ｍＰａ・ｓ以上であれば好ましい。
【００４８】
アクリル化合物（Ａ１）は、一分子中に二つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能の化合物を含有することが好ましい。この場合、アクリル化合物（Ａ１）は、硬化物のガラス転移温度を高めることができ、このため、硬化物及び封止材５の耐熱性を高めることができる。
【００４９】
アクリル化合物（Ａ１）は、屈折率１．４５９以下であり、或いは更に上記の好ましい条件を１つ以上満たす、適宜の化合物を含有できる。
【００５０】
アクリル化合物（Ａ１）は、例えばアルキレングリコールのジ（メタ）アクリル酸エステルと、ポリアルキレングルコールのジ（メタ）アクリル酸エステルと、アルキレンオキサイド変性アルキレングリコールのジ（メタ）アクリル酸エステルとからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。なお、「（メタ）アクリ」とは、「アクリ」と「メタクリ」とのうちの少なくとも一方のことである。
【００５１】
アルキレングリコールのジ（メタ）アクリル酸エステルにおけるアルキレングリコールの炭素数は２〜１２であることが好ましく、４〜１２であればより好ましい。アルキレングリコールは、直鎖状でもよく、１，３ブチレングリコール及びネオペンチルグリコールのように分岐を有していてもよい。特にアルキレングリコールのジ（メタ）アクリル酸エステルは、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、１，１０−デカンジオールジメタクリレート、１，１２−ドデカンジオールジメタクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有することが好ましい。また、アルキレングリコールのジ（メタ）アクリル酸エステルは、サートマー社製の品番ＳＲ２１３、大阪有機化学工業社製の品番Ｖ１９５、サートマー社製の品番ＳＲ２１２、サートマー社製の品番ＳＲ２４７、共栄化学工業社製の品名ライトアクリレートＮＰ−Ａ、サートマー社製の品番ＳＲ２３８ＮＳ、大阪有機化学工業社製の品番Ｖ２３０、ダイセル社製の品番ＨＤＤＡ、共栄化学工業社製の品番１，６ＨＸ−Ａ、大阪有機化学工業社製の品番Ｖ２６０、共栄化学工業社製の品番１，９−ＮＤ−Ａ、新中村化学工業社製の品番Ａ−ＮＯＤ−Ａ、及びサートマー社製の品番ＣＤ５９５、サートマー社製の品番ＳＲ２１４ＮＳ、新中村化学工業社製の品番ＢＤ、サートマー社製の品番ＳＲ２９７、サートマー社製の品番ＳＲ２４８、共栄化学工業社製の品名ライトエステルＮＰ、サートマー社製の品番ＳＲ２３９ＮＳ、共栄化学工業社製の品名ライトエステル１，６ＨＸ、新中村化学工業社製の品番ＨＤ−Ｎ、共栄化学工業社製の品名ライトエステル１，９ＮＤ、新中村化学工業社製の品番ＮＯＤ−Ｎ、共栄化学工業社製の品名ライトエステル１，１０ＤＣ、新中村化学工業社製の品番ＤＯＤ−Ｎ、及びサートマー社製の品番ＳＲ２６２からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有することが好ましい。
【００５２】
ポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリル酸エステルにおけるアルキレングリコールの炭素数は例えば２〜４である。ポリアルキレングリコールは、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコールからなる群から選択される少なくとも一種を含む。ポリアルキレングリコールの炭素数が多いほど、硬化物及び封止材５の疎水性が高くなり、封止材５に水分を透過させにくい。そのため、ポリアルキレングリコールは、プロピレングリコールであることが特に好ましい。アルキレングリコールの重合度は、例えば２〜７であり、２〜６であることが好ましく、２〜３であることも好ましい。ポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリル酸エステルは、特にジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサエチレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート及びトリテトラメチレングリコールジアクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有することが好ましい。また、ポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリル酸エステルは、特にサートマー社製の品番ＳＲ２３０、サートマー社製の品番ＳＲ５０８ＮＳ、ダイセル社製の品番ＤＰＧＤＡ、サートマー社製の品番ＳＲ３０６ＮＳ、ダイセル社製の品番ＴＰＧＤＡ、大阪有機化学工業社製の品番Ｖ３１０ＨＰ、新中村化学工業社製の品番ＡＰＧ２００、共栄化学工業株式会社製の品名ライトアクリレートＰＴＭＧＡ−２５０、サートマー社製の品番ＳＲ２３１ＮＳ、共栄化学工業社製の品名ライトエステル２ＥＧ、サートマー社製の品番ＳＲ２０５ＮＳ、共栄化学工業社製の品名ライトエステル３ＥＧ、三菱化学社製の品名アクリエステルＨＸ及び新中村化学工業社製の品番３ＰＧからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有することが好ましい。
【００５３】
アルキレンオキサイド変性アルキレングリコールのジ（メタ）アクリル酸エステルは、例えばプロピレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールを含有する。また、アルキレンオキサイド変性アルキレングリコールのジ（メタ）アクリル酸エステルは、例えばダイセル社製の品番ＥＢＥＣＲＹＬ１４５を含有する。
【００５４】
アクリル化合物（Ａ）は、上記のアクリル化合物（Ａ１）以外の、多官能アクリル化合物（Ａ２）を更に含有してもよい。多官能アクリル化合物（Ａ２）は、一分子中に二つ以上の（メタ）アクリロイル基を有し、かつ屈折率が１．４５９より高い。多官能アクリル化合物（Ａ２）は、硬化物のガラス転移温度を高めることができ、このため、硬化物及び封止材５の耐熱性を高めることができる。多官能アクリル化合物（Ａ２）は、例えば屈折率が１．４５９より高いポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリル酸エステル、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。屈折率が１．４５９より高いポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリル酸エステルは、例えばテトラエチレングリコールジアクリレート（ポリエチレングリコール２００ジアクリレート）、ノナエチレングリコールジアクリレート（ポリエチレングリコール４００ジアクリレート）、及びテトラエチレングリコールジメタクリレート（ポリエチレングリコール２００ジメタクリレート）からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００５５】
多官能アクリル化合物（Ａ２）の沸点は２７０℃以上であることが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）の保存中及び組成物（Ｘ）が加熱された場合に、組成物（Ｘ）から多官能アクリル化合物（Ａ２）が揮発しにくい。そのため、組成物（Ｘ）の保存安定性が損なわれにくい。また、硬化物中及び封止材５中に多官能アクリル化合物（Ａ２）が未反応で残留していても、硬化物及び封止材５から多官能アクリル化合物（Ａ２）に起因するアウトガスが生じにくい。そのため、発光装置１内の例えば封止材５とパッシベーション層６との間などに、アウトガスによる空隙が生じにくい。発光装置１中に空隙があると空隙を通じて発光素子４に水分が到達してしまうおそれがあるが、空隙が生じにくいと、発光素子４に水分が到達しにくいため、発光素子４が水分によって劣化しにくくなる。多官能アクリル化合物（Ａ２）の沸点は２８０℃以上であればより好ましい。なお、多官能アクリル化合物（Ａ２）の沸点の定義は、アクリル化合物（Ａ１）の沸点の定義と同じである。
【００５６】
アクリル化合物（Ａ）は、一分子中に三つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ａ３）を含有してもよい。化合物（Ａ３）は、一分子中の（メタ）アクリロイル基の個数のみで規定される。このため、アクリル化合物（Ａ１）及び多官能アクリル化合物（Ａ２）の各々に含まれる化合物と、化合物（Ａ３）に含まれる化合物とは、重複しうる。
【００５７】
化合物（Ａ３）は、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート及びトリメチロールプロパントリメタクリレートからなる群から選択される少なくとも一種を含有できる。アクリル化合物（Ａ）が化合物（Ａ３）を含有すると、化合物（Ａ３）は、硬化物のガラス転移温度を高めることができ、このため、硬化物及び封止材５の耐熱性を特に高めることができる。
【００５８】
アクリル化合物（Ａ）が化合物（Ａ３）を含む場合、アクリル化合物（Ａ）に対する化合物（Ａ３）の百分比は０質量％より多く２５質量％以下であることが好ましい。化合物（Ａ３）の百分比は１０質量％以上であればより好ましい。この場合、硬化物のガラス転移温度を特に高めることができる。また、化合物（Ａ３）が２５質量％以下であると、化合物（Ａ３）に起因する組成物（Ｘ）の粘度上昇が生じにくい。化合物（Ａ３）の百分比は２０質量％以下であれば、組成物（Ｘ）の粘度上昇が特に生じにくくなる。
【００５９】
アクリル化合物（Ａ）は、一分子中に一つのみの（メタ）アクリロイル基を有する単官能アクリル化合物（Ａ４）を含有してもよい。単官能アクリル化合物（Ａ４）は、組成物（Ｘ）の硬化時の収縮を抑制できる。また、単官能アクリル化合物（Ａ４）は、組成物（Ｘ）の粘度の低減に寄与できる。ただし、単官能アクリル化合物（Ａ４）は組成物（Ｘ）の屈折率を高めやすいため、組成物（Ｘ）の低屈折率化のためには、アクリル化合物（Ａ）は単官能アクリル化合物（Ａ４）を含有せず、又はアクリル化合物（Ａ）中の単官能アクリル化合物（Ａ４）の量が組成物（Ｘ）の屈折率を過度に高めない程度の量であることが好ましい。アクリル化合物（Ａ）が単官能アクリル化合物（Ａ４）を含有する場合、アクリル化合物（Ａ）全量に対する単官能アクリル化合物（Ａ４）の量は、０質量％より多く３０質量％以下であることが好ましい。単官能アクリル化合物（Ａ４）の量が０質量％より多ければ、組成物（Ｘ）の硬化時の収縮を抑制できる。また、単官能アクリル化合物（Ａ４）の量が３０質量％以下であれば、単官能アクリル化合物（Ａ４）による組成物（Ｘ）の屈折率の上昇が起こりにくい。
【００６０】
単官能アクリル化合物（Ａ４）は、例えば、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボロニルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、エトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジキシルエチルアクリレート、エチルジグリコールアクリレート、環状トリメチロールプロパンフォルマルモノアクリレート、イミドアクリレート、イソアミルアクリレート、エトキシ化コハク酸アクリレート、トリフルオロエチルアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソデシルアクリレート、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノールアクリレート、イソオクチルアクリレート、オクチル／デシルアクリレート、トリデシルアクリレート、カプロラクトンアクリレート、エトキシ化（４）のニルフェノールアクリレート、メトキシポリエチレングリコール（３５０）モノアクリレート、メトキシポリエチレングリコール（５５０）モノアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジルアクリレート、メチルフェノキシエチルアクリレート、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、エトキシ化トリブロモフェニルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレートのエチレンオキサイド付加物、２−フェノキシエチルアクリレートのプロピレンオキサイド付加物、アクリロイルモルホリン、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレ−ト、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、３−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド及び３−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイドからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。
【００６１】
アクリル化合物（Ａ１）が、分子骨格中にケイ素を有する化合物（Ａ５）を含有することも好ましい。この場合、硬化物及び封止材５と無機材料製の部材との間の密着性が向上する。このため、封止材５とパッシベーション層６との間に隙間が生じにくく、この隙間を通じた発光素子４への水分の侵入が起こりにくい。
【００６２】
なお、化合物（Ａ５）は分子骨格中にある原子の種類のみで規定されている。そのため、アクリル化合物（Ａ１）、多官能アクリル化合物（Ａ２）、アクリル化合物（Ａ３）及び単官能アクリル化合物（Ａ４）の各々に含まれる化合物と、化合物（Ａ５）に含まれる化合物とは、重複しうる。
【００６３】
分子骨格中にケイ素を有する化合物は、例えばアクリル酸３−（トリメトキシシリル）プロピル（例えば信越化学工業社製の品番ＫＢＭ５１０３）及び（メタ）アクリル基含有アルコキシシランオリゴマー（例えば信越化学工業社製の品番ＫＲ−５１３）からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。分子骨格中にケイ素を有する化合物の沸点は２７０℃以上であることが好ましい。また、分子骨格中にケイ素を有する化合物は多官能の化合物であることも好ましい。このため、分子骨格中にケイ素を有する化合物は、特に（メタ）アクリル基含有アルコキシシランオリゴマーを含有することが好ましい。
【００６４】
アクリル化合物（Ａ）が分子骨格中にケイ素を有する化合物を含有する場合、アクリル化合物（Ａ）に対する分子骨格中にケイ素を有する化合物の百分比は、０．１質量％以上であることが好ましく、１質量％以下であれば更に好ましい。また、分子骨格中にケイ素を有する化合物の百分比が、２０質量％以下であることも好ましい。
【００６５】
組成物（Ｘ）は、アクリル化合物（Ａ）以外のラジカル重合性化合物（Ｅ）を更に含有してもよい。ラジカル重合性化合物（Ｅ）は、一分子に二つ以上のラジカル重合性官能基を有する多官能ラジカル重合性化合物（Ｅ１）と、一分子に一つのみのラジカル重合性官能基を有する単官能ラジカル重合性化合物（Ｅ２）とのうち、いずれか一方又は両方を含有できる。アクリル化合物（Ａ）とラジカル重合性化合物（Ｅ）との合計量に対するラジカル重合性化合物（Ｅ）の量は、例えば１０質量％以下である。多官能ラジカル重合性化合物（Ｅ１）は、例えば一分子中にエチレン性二重結合を２つ以上有する芳香族ウレタンオリゴマー、脂肪族ウレタンオリゴマー、エポキシアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレートオリゴマー及びその他特殊オリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有してもよい。単官能ラジカル重合性化合物（Ｅ２）は、例えばＮ−ビニルホルムアミド、ビニルカプロラクタム、ビニルピロリドン、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブタジエンモノオキサイド、１，２−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、１，２−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、３−ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルシクロヘキセンオキサイド、Ｎ−ビニルピロリドン及びＮ−ビニルカプロラクタムからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。
【００６６】
光重合開始剤（Ｂ）は、紫外線が照射されるとラジカル種を生じさせる化合物であれば、特に制限されない。光重合開始剤（Ｂ）は、例えば芳香族ケトン類、アシルフォスフィンオキサイド化合物、芳香族オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物（チオキサントン化合物、チオフェニル基含有化合物など）、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、及びアルキルアミン化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。組成物（Ｘ）１００質量部に対する光重合開始剤（Ｂ）の量は、例えば１重量部以上１０質量部以下である。
【００６７】
光重合開始剤（Ｂ）は、この光重合開始剤（Ｂ）の一部として増感剤を含有してもよい。増感剤は、光重合開始剤（Ｂ）のラジカル生成反応を促進させて、ラジカル重合の反応性を向上させ、かつ架橋密度を向上させうる。増感剤は、例えば９，１０−ジブトキシアントラセン、９−ヒドロキシメチルアントラセン、チオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、アントラキノン、１，２−ジヒドロキシアントラキノン、２−エチルアントラキノン、１，４−ジエトキシナフタレン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノベンゾフェノン、ｐ−ジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド、及びｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒドからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００６８】
組成物（Ｘ）中の増感剤の含有量は、例えば組成物（Ｘ）の固形分１００質量部に対して、０．１質量部以上５質量部以下であり、好ましくは０．１質量部以上３質量部以下である。増感剤の含有量がこのような範囲であれば、空気中で組成物（Ｘ）を硬化させることができ、組成物（Ｘ）の硬化を窒素雰囲気等の不活性雰囲気下で行う必要がなくなる。
【００６９】
組成物（Ｘ）は、光重合開始剤（Ｂ）に加えて、重合促進剤を含有してもよい。重合促進剤は、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、安息香酸−２−ジメチルアミノエチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸ブトキシエチルといったアミン化合物を含有する。
【００７０】
組成物（Ｘ）は中空フィラー（Ｃ）を更に含有することが好ましい。中空フィラー（Ｃ）は、組成物（Ｘ）の屈折率を低減することができる。
【００７１】
中空フィラー（Ｃ）の平均粒径は、１５０ｎｍ以下であることが好ましい。この場合、中空フィラー（Ｃ）は硬化物及び封止材５の透明性を低下させにくい。中空フィラー（Ｃ）の平均粒径は１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であればより好ましく、２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であれば更に好ましい。なお、中空フィラー（Ｃ）の平均粒径は、動的光散乱法による測定結果から算出されるメディアン径である。測定装置としては、マイクロトラック・ベル株式会社のナノトラックＮａｎｏｔｒａｃ  Ｗａｖｅシリーズを用いることができる。
【００７２】
中空フィラー（Ｃ）の中空率は、３０％以上７０％以下であることが好ましい。この場合、中空フィラー（Ｃ）は、硬化物及び光学部品の屈折率を効果的に低減できる。
【００７３】
中空フィラー（Ｃ）の屈折率は、１．４０以下であることが好ましい。この場合、中空フィラー（Ｃ）は、硬化物及び封止材５の屈折率を効果的に低減できる。中空フィラー（Ｃ）の屈折率は、１．２５以上１．４０以下であればより好ましく、１．２５以上１．３５以下であれば更に好ましく、１．２５以上１．３０以下であれば特に好ましい。
【００７４】
中空フィラー（Ｃ）は、シリカ製の粒子（以下、中空シリカ粒子という）と樹脂製の粒子（以下、中空樹脂粒子という）とのうち少なくとも一方を含有することが好ましい。この場合、中空フィラー（Ｃ）によって硬化物及び光学部品の光透過性が特に損なわれにくい。
【００７５】
中空フィラー（Ｃ）は、特に中空樹脂粒子を含むことが好ましい。中空樹脂粒子は、中空シリカ粒子と比べて、力が加わった場合に破損しにくい。そのため、中空樹脂粒子を含む組成物（Ｘ）を調製する場合の混練等の過程及び組成物（Ｘ）から封止材５を作製する過程で中空樹脂粒子に力が加わっても、中空樹脂粒子が破損しにくい。このため、封止材５の屈折率が低く維持されやすい。中空樹脂粒子は、例えばアクリル樹脂製であり、すなわち例えば中空アクリル粒子である。
【００７６】
中空シリカ粒子は、例えば日揮触媒化成社製のカタロイド−Ｓｉを含有できる。中空アクリル粒子は、例えば積水化成品工業社製のテックポリマーＮＨシリーズを含有できる。
【００７７】
組成物（Ｘ）が中空フィラー（Ｃ）を含有する場合、組成物（Ｘ）に対する中空フィラー（Ｃ）の百分比は、０体積％より多く７体積％以下であることが好ましい。中空フィラー（Ｃ）の百分比が７体積％以下であると、中空フィラー（Ｃ）による組成物（Ｘ）の粘度の増大が生じにくい。
【００７８】
組成物（Ｘ）は吸湿剤（Ｄ）を更に含有してもよい。組成物（Ｘ）が吸湿剤（Ｄ）を含有すると、組成物（Ｘ）の硬化物及び光学部品は吸湿性を有することができる。このため、光学部品である封止材５は、発光装置１における発光素子４へ水分が更に侵入しにくくできる。吸湿剤（Ｄ）の平均粒径は２００ｎｍ以下であることが好ましい。この場合、硬化物は高い透明性を有することができる。
【００７９】
吸湿剤（Ｄ）は、吸湿性を有する無機粒子であることが好ましく、例えばゼオライト粒子、シリカゲル粒子、塩化カルシウム粒子、及び酸化チタンナノチューブ粒子からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することが好ましい。吸湿剤（Ｄ）がゼオライト粒子を含有することが特に好ましい。
【００８０】
平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子は、例えば一般的な工業用ゼオライトを粉砕することで製造できる。ゼオライト粒子を製造するに当たって、ゼオライトを粉砕してから水熱合成などによって結晶化させてもよく、この場合、ゼオライト粒子は特に高い吸湿性を有することができる。このようなゼオライト粒子の製造方法の例は、特開２０１６−６９２６６号公報、特開２０１３−０４９６０２号公報などに開示されている。
【００８１】
組成物（Ｘ）が吸湿剤（Ｄ）を含有する場合、組成物（Ｘ）の全量に対する吸湿剤（Ｄ）の割合は、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。吸湿剤（Ｄ）の割合が１質量％以上であれば硬化物は特に高い吸湿性を有することができる。また、吸湿剤（Ｄ）の割合が２０質量％以下であれば組成物（Ｘ）の粘度を特に低減でき、組成物（Ｘ）がインクジェット法で塗布可能な程度の十分な低粘度を有することもできる。吸湿剤（Ｄ）の割合は、３質量％以上であれば更に好ましく、５質量％以上であれば特に好ましい。また、吸湿剤（Ｄ）の割合は、１５質量％以下であればより好ましく、１３質量％以下であれば特に好ましい。
【００８２】
組成物（Ｘ）が中空フィラー（Ｃ）を含有する場合、組成物（Ｘ）は更に分散剤（Ｅ）を含有することが好ましい。この場合、分散剤（Ｅ）は組成物（Ｘ）中での中空フィラー（Ｃ）の分散性を向上できる。このため、組成物（Ｘ）には、中空フィラー（Ｃ）による粘度の増大と保存安定性の低下とが生じにくい。
【００８３】
組成物（Ｘ）が吸湿剤（Ｄ）を含有する場合も、組成物（Ｘ）は更に分散剤（Ｅ）を含有することが好ましい。この場合、分散剤（Ｅ）は組成物（Ｘ）中での吸湿剤（Ｄ）の分散性を向上できる。このため、組成物（Ｘ）には、吸湿剤（Ｄ）による粘度の増大と保存安定性の低下とが生じにくい。
【００８４】
なお、分散剤（Ｅ）は、粒子に吸着しうる界面活性剤である。分散剤（Ｅ）は、粒子に吸着されうる吸着基（一般にアンカーともいう）と、吸着基が粒子に吸着することでこの粒子に付着する分子骨格（一般にテールともいう）とを、有する。分散剤（Ｅ）は、例えばテールがアクリル系の分子鎖であるアクリル系分散剤と、テールがウレタン系の分子鎖であるウレタン系分散剤と、テールがポリエステル系の分子鎖であるポリエステル系分散剤とからなら群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。吸着基は、例えば塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうち少なくとも一方を含む。塩基性の極性官能基は、例えばアミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、及び含窒素複素環基からなる群から選択される少なくとも一種の基を含む。酸性の極性官能基は、例えばカルボキシル基とリン酸基とからなる群から選択される少なくとも一種の基を含む。分散剤（Ｅ）は、例えば日本ルーブルリゾール株式会社製のソルスパースシリーズ、ビックケミー・ジャパン株式会社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ及び味の素ファインテクノ株式会社製のアジスパーシリーズからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００８５】
組成物（Ｘ）が中空フィラー（Ｃ）を含有する場合、中空フィラー（Ｃ）に対する分散剤（Ｅ）の量は、５質量部以上６０質量部以下であることが好ましい。組成物（Ｘ）が吸湿剤（Ｄ）を含有する場合、吸湿剤（Ｄ）に対する分散剤（Ｅ）の量は、５質量部以上６０質量部以下であることが好ましい。組成物（Ｘ）が中空フィラー（Ｃ）及び吸湿剤（Ｄ）を含有する場合、中空フィラー（Ｃ）と吸湿剤（Ｄ）との合計に対する分散剤（Ｅ）の量は、５質量部以上６０質量部以下であることが好ましい。いずれの場合でも、分散剤（Ｅ）の量が５質量部以上であることで分散剤（Ｅ）の機能が効果的に発現でき、また６０質量部以下であることで封止材５中の分散剤（Ｅ）の遊離の分子が封止材５と無機材料製の部材との間の密着性を阻害することを抑制できる。また、いずれの場合も、分散剤（Ｄ）の量は１５質量部以上であればより好ましく、５０質量部以下であることもより好ましく、４０質量部以下であればより更に好ましく、３０質量部以下であれば特に好ましい。
【００８６】
組成物（Ｘ）は、溶剤を含有しないことが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）から硬化物を作製する際に組成物（Ｘ）を乾燥させて溶剤を揮発させるような必要がなくなる。また、組成物（Ｘ）の保存安定性が更に高くなる。
【００８７】
上述の成分を混合することで、組成物（Ｘ）を調製できる。組成物（Ｘ）は２５℃で液状であることが好ましい。
【００８８】
３．封止材の作製方法及び有機ＥＬ発光装置の製造方法
組成物（Ｘ）を用いる封止材５の作製方法及び発光装置１の製造方法について説明する。
【００８９】
本実施形態では、組成物（Ｘ）をインクジェット法で成形してから、組成物（Ｘ）に紫外線を照射して硬化することで、封止材５を作製することが好ましい。本実施形態では、インクジェット法で組成物（Ｘ）を塗布して成形することが可能である。
【００９０】
組成物（Ｘ）をインクジェット法で塗布するに当たっては、組成物（Ｘ）が常温で十分に低い粘度を有する場合、例えば２５℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下、特に１５ｍＰａ・ｓ以下である場合には、組成物（Ｘ）を加熱せずにインクジェット法で塗布することで成形できる。
【００９１】
組成物（Ｘ）が加熱されることで低粘度化する性質を有する場合、組成物（Ｘ）を加熱してから組成物（Ｘ）をインクジェット法で塗布して成形してもよい。組成物（Ｘ）の４０℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下、特に１５ｍＰａ・ｓ以下である場合、組成物（Ｘ）を僅かに加熱しただけで低粘度化させることができ、この低粘度化した組成物（Ｘ）をインクジェット法で吐出することができる。組成物（Ｘ）の加熱温度は、例えば２０℃以上５０℃以下である。
【００９２】
より具体的には、例えばまず、支持基板２を準備する。この支持基板２の一面上に隔壁７を、例えば感光性の樹脂材料を用いてフォトリソグラフィ法で作製する。続いて、支持基板２の一面上に複数の発光素子４を設ける。発光素子４は、蒸着法、塗布法といった適宜の方法で作製できる。特に発光素子４を、インクジェット法といった塗布法で作製することが好ましい。これにより、支持基板２に素子アレイ９を作製する。
【００９３】
次に、素子アレイ９の上に第一パッシベーション層６１を設ける。第一パッシベーション層６１は、例えばプラズマＣＶＤ法といった蒸着法で作製できる。
【００９４】
次に、第一パッシベーション層６１の上に組成物（Ｘ）を、例えばインクジェット法で成形して、塗膜を作製する。発光素子４の形成と組成物（Ｘ）の塗布のいずれにもインクジェット法を適用すれば、発光装置１の製造効率を特に向上できる。続いて、塗膜に紫外線を照射することで硬化させて、封止材５を作製する。封止材５の厚みは例えば５μｍ以上５０μｍ以下である。
【００９５】
次に、封止材５の上に第二パッシベーション層６２を設ける。第二パッシベーション層６２は、例えばプラズマＣＶＤ法といった蒸着法で作製できる。
【００９６】
次に、支持基板２の一面上に、第二パッシベーション層６２を覆うように、紫外線硬化性の樹脂材料を設けてから、この樹脂材料に透明基板３を重ねる。透明基板３は、例えばガラス製基板又は透明樹脂製基板である。
【００９７】
次に外部から透明基板３へ向けて紫外線を照射する。紫外線は透明基板３を透過して紫外線硬化性の樹脂材料へ到達する。これにより、紫外線硬化性の樹脂材料が硬化し、第二封止材５２が作製される。
【００９８】
本実施形態では、上述のとおり、発光装置１におけるパッシベーション層６と封止材５とに起因する発光効率の低下を生じにくくできる。
【００９９】
封止材５の厚みは、例えば１μｍ以上２０μｍ以下である。封止材５の厚みは、１５μｍ以下であってもよい。この場合、封止材５を薄型化することで、発光装置１を薄型化することができ、フレキシブル性を有する発光装置１を得ることも可能となる。また、封止材５の厚みが１０μｍ以下であっても、本実施形態では、発光装置１におけるパッシベーション層６と封止材５とに起因する発光効率の低下を生じにくくできる。封止材５の厚みが８μｍ以下であればより好ましい。また、封止材５によって発光素子４への水分を効果的に抑制するためには、封止材５の厚みは３μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上であればより好ましい。
【０１００】
封止材５に重なっているパッシベーション層６の厚みは、例えば０．１μｍ以上２μｍ以下である。上記のようにパッシベーション層６が第一パッシベーション層６１と第二パッシベーション層６２とを含む場合、第一パッシベーション層６１と第二パッシベーション層６２との各々の厚みが０．１μｍ以上２μｍ以下であることが好ましい。
【０１０１】
封止材５の屈折率の値は、パッシベーション層６の屈折率の値の７０％以上８０％以下であることが好ましい。例えばパッシベーション層６が屈折率１．８７の窒化ケイ素製である場合、封止材５の屈折率は１．３２以上１．５０以下であることが好ましい。この場合、発光装置１におけるパッシベーション層６と封止材５とに起因する発光効率の低下を特に生じにくくできる。
【０１０２】
なお、本明細書において、封止材５及びパッシベーション層６の各々の屈折率とは、波長５８７．６ｎｍの光（ヘリウムのｄ線）についての、２５℃での屈折率である。
【０１０３】
なお、本実施形態に係る組成物（Ｘ）の用途は、発光素子４のための封止材５の作製に限られない。組成物（Ｘ）は、光源が発する光を透過させる種々の光学部品を作製するために用いることができる。例えば、光学部品がカラーレジストであってもよい。すなわち、例えば組成物（Ｘ）に蛍光体を含有させ、この組成物（Ｘ）からカラーフィルタにおけるカラーレジストを作製してもよい。このカラーフィルタを、例えば発光装置である有機ＥＬディスプレイ、マイクロＬＥＤディスプレイといった表示装置に設けることができる。
【実施例】
【０１０４】
１．組成物の調製
下記表に示す成分を混合することで、実施例及び比較例の組成物を調製した。
【０１０５】
なお、表中に示される成分の詳細は次のとおりである。また、下記の各成分の粘度はレオメータ（アントンパール・ジャパン社製、型番ＤＨＲ−２）を使用し、温度２５℃、せん断速度１０００ｓ-1の条件で測定された値である。
【０１０６】
（１）アクリル化合物
・ＫＢＭ５１０３：ケイ素原子を有する単官能のアクリル化合物であるアクリル酸３−（トリメトキシシリル）プロピル、信越化学工業社製の品番ＫＢＭ５１０３、粘度４ｍＰａ・ｓ、屈折率１．４２７、沸点２６０℃℃。
・ＫＲ５１３：ケイ素原子を有する平均３官能以上のアクリル化合物であるアクリル基含有アルコキシシランオリゴマー、粘度５０ｍＰａ・ｓ、屈折率１．４２７、沸点３００℃以上。
・３ＰＧ：二官能のアクリル化合物であるトリス（プロピレングリコール）ジメタクリレート、新中村化学工業社製、品番３ＰＧ、粘度１３ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度−８℃、屈折率１．４５０、沸点４００℃。
・ＡＰＧ２００：二官能のアクリル化合物であるトリス（プロピレングリコール）ジアクリレート、新中村化学工業社製、粘度１２ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度５５〜６２℃、屈折率１．４４９、沸点２９５℃。
・ＳＲ２９７：二官能のアクリル化合物である１，３ブチレングリコールジメタクリレート、サートマー社製、品番ＳＲ２９７、粘度７ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度８５℃、屈折率１．４４９、沸点２９０℃。
・ＥＢＥＣＲＹＬ１４５：二官能のアクリル化合物であるプロピレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジアクリレート、ダイセルオルネクス社製、品番ＥＢＥＣＲＹＬ１４５、粘度２０ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度６０℃、屈折率１．４５９、沸点４０８℃。
・ＢＤ：二官能のアクリル化合物である１，４−ブタンジオールジメタクリレート、新中村化学工業社製、粘度７ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度５５℃、屈折率１．４５６、沸点２８０℃。
・ＴＭＰＴＡ：三官能のアクリル化合物であるトリメチロールプロパントリアクリレート、粘度１０６ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度６２℃、屈折率１．４７２、沸点３００℃以上
。
・ＴＭＰＴＭＡ：三官能のアクリル化合物であるトリメチロールプロパントリメタクリレート、粘度４４ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度２７℃、屈折率１．４７０、沸点３００℃以上。
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート：粘度３４２ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度１０３℃、屈折率１．４８５、沸点３００℃以上。
・ポリエチレングリコール２００ジメタクリレート：粘度１５ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度−９℃、屈折率１．４６０、沸点３５０℃。
【０１０７】
（２）光重合開始剤
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ＢＡＳＦ社製、品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４。
・ＩｒｇａｃｕｒｅＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ＢＡＳＦ社製、品名ＩｒｇａｃｕｒｅＴＰＯ。
【０１０８】
（３）中空フィラー
・中空アクリル粒子：積水化成品工業社製、平均粒径８０ｎｍ、中空率４０％、屈折率１．３０、比重０．７５。
・中空シリカ粒子：日揮触媒化成社製、平均粒径５０ｎｍ、中空率３３％、屈折率１．３０、比重１．３２。
・中空シリカ粒子２：日揮触媒化成社製、平均粒径６０ｎｍ、中空率４４％、屈折率１．２５、比重１．１２。
【０１０９】
（４）分散剤
・ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ３２０００：吸着基としてアミノ基とリン酸基とを有するワックス状の櫛型分散剤、アミン価３１ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価１５ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度１４０００ｍＰ・ｓ、重量平均分子量３９００、ルーブリゾール社製、品番ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ３２０００。
【０１１０】
２．評価試験
実施例及び比較例について、次の評価試験を実施した。その結果を表に示す。
【０１１１】
（１）透過率
組成物を塗布して塗膜を作製し、この塗膜を、パナソニック電工株式会社製のＬＥＤ−ＵＶ照射器（ピーク波長３６５ｎｍ）を用いて、約３０ｍＷ／ｃｍ2の条件で５０秒間紫
外線照射して光硬化させることで、厚み１０μｍのフィルムを作製した。このフィルムの、波長５８７．６ｎｍの光の透過率をエリプソメータ（ＳＣＩ社製のＦｉｌｍｔｅｋ３０００）を用いて測定した。
【０１１２】
（２）揮発性
組成物を２０℃のアルゴン雰囲気（露点温度−７０℃）中に２４時間静置した。これにより生じる組成物の重量減少の割合を測定した。重量減少量が０．５％以下の場合を「Ａ」、０．５〜１％の場合を「Ｂ」、１％以上の場合を「Ｃ」と評価した。
【０１１３】
（３）粘度
組成物の粘度を、レオメータ（アントンパール・ジャパン社製、型番ＤＨＲ−２）を使用して、温度２５℃、せん断速度１０００ｓ-1の条件で測定した。
【０１１４】
（４）インクジェット性
組成物をインクジェットプリンター（リコー製  ＭＨ２４２０）のカートリッジに入れ
、インクジェットプリンターにおけるノズルからカートリッジ内の組成物を吐出しうることを確認してから、ノズルから組成物を吐出させてテストパターンを連続で印刷した。その結果、組成物を１時間吐出できるとともに吐出動作が安定していた場合を「Ａ」、組成物を１時間吐出できたが吐出動作が断続的に不安定になった場合を「Ｂ」、吐出開始から１時間経過前にノズルが詰まって組成物を吐出できなくなった場合を「Ｃ」と、評価した。
【０１１５】
（５）屈折率
組成物の波長５８９．３ｎｍでの屈折率を、京都電子製の屈折率計（型番ＲＡ−６２０）を用いて測定した。
【０１１６】
（６）硬化物の屈折率
上記の「（１）透過率」で作製したフィルムの、波長５８７．６ｎｍの光の屈折率を、エリプソメータ（ＳＣＩ社製のＦｉｌｍｔｅｋ３０００）を用いて測定した。
【０１１７】
（７）ガラス転移温度
組成物を塗布して塗膜を作製し、この塗膜を、パナソニック電工株式会社製のＬＥＤ−ＵＶ照射器（ピーク波長３６５ｎｍ）を用いて、約３０ｍＷ／ｃｍ2の条件で５０秒間紫
外線照射して光硬化させることで、厚み２００μｍのフィルムを作製した。このフィルムから切り出したサンプルのガラス転移温度を、粘弾性測定装置（日立ハイテクサイエンス社製、型番ＤＭＡ７１００）を用いて測定した。
【０１１８】
（８）密着性
石英ガラス片（寸法７６ｍｍ×５２ｍｍ×１ｍｍ）の表面上に、組成物を塗布して厚み５０μｍの塗膜を形成し、この塗膜の上に別の石英ガラス片（寸法７６ｍｍ×５２ｍｍ×１ｍｍ）を重ねた。続いて、塗膜を、パナソニック電工株式会社製のＬＥＤ−ＵＶ照射器（ピーク波長３６５ｎｍ）を用いて、約３０ｍＷ／ｃｍ2の条件で５０秒間紫外線照射す
ることで、硬化させた。これにより、試験片を得た。
【０１１９】
この試験片を８５℃８５％ＲＨの恒温恒湿槽に２４時間入れてから、二つの石英ガラス片の間の密着強度を、ＪＩＳ  Ｋ６８５４に基づくＴ字ピール試験を行うことで、評価した。その結果、密着強度が３ＭＰａ以上である場合を「Ａ」、密着強度が３ＭＰａ未満である場合を「Ｂ」、石英ガラス片が剥がれてしまって密着強度が測定できなかった場合を「Ｃ」と評価した 。
【０１２０】
（９）光取出効率の評価
二つの石英ガラス片（寸法７６ｍｍ×５２ｍｍ×１ｍｍ）の各々の表面上にプラズマＣＶＤ法により厚み１μｍの窒化ケイ素膜を作製して、二つの基板を得た。一方の基板の窒化ケイ素膜の表面上に、組成物を塗布して厚み５μｍの塗膜を形成し、この塗膜の上に他方の基板の窒化ケイ素膜を重ねた。続いて、塗膜を、パナソニック電工株式会社製のＬＥＤ−ＵＶ照射器（ピーク波長３６５ｎｍ）を用いて、約３０ｍＷ／ｃｍ2の条件で５０秒
間紫外線照射することで、硬化させた。これにより、試験片を得た。
【０１２１】
この試験片の可視光透過率を測定し、比較例１よりも可視光透過率が高い場合を「Ａ」、そうでない場合を「Ｂ」と、評価した。
【０１２２】
【表１】
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【０１２３】
【表２】
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【図１】
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