(57)【要約】【課題】固体撮像素子デバイスの小型化を図ることを可能とする、近赤外線吸収ガラス板を提供する。【解決手段】表面性状のアスペクト比Ｓｔｒが０．１以上であり、組成中に、ＣｕＯを１〜４０質量％を含むことを特徴とする近赤外線吸収ガラス板。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面性状のアスペクト比Ｓｔｒが０．１以上であり、組成中に、ＣｕＯを１〜４０質量％を含むことを特徴とする近赤外線吸収ガラス板。
【請求項２】
質量％で、Ｐ２Ｏ５  １０〜７０％、Ｒ２Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｎａ及びＫから選択される少なくとも１種）  ０超〜５０％を含有することを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収ガラス板。
【請求項３】
厚みが０．２ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の近赤外線吸収ガラス板。
【請求項４】
３点曲げ強度が、２００Ｎ／ｍｍ２以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の近赤外線吸収ガラス板。
【請求項５】
厚み０．０５ｍｍ換算、波長４００ｎｍにおける光透過率が８０％以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の近赤外線吸収ガラス板。
【請求項６】
厚み０．０５ｍｍ換算、波長８００ｎｍにおける光透過率が５０％以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の近赤外線吸収ガラス板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線吸収ガラス板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
デジタルカメラやスマートフォンのカメラ等には、ＣＣＤやＣＭＯＳ等の固体撮像デバイスが用いられている。これらの固体撮像素子デバイスは、広範囲の受光感度を有しているので、人間の視感に合わせるため、赤外域の光を除去する必要がある。下記の特許文献１では、赤外域の光を除去するための近赤外線カットフィルタとして、近赤外線吸収ガラス板が開示されている。また、特許文献１では、物理研磨によりガラス板の厚みが薄くされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−９９６０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、固体撮像素子デバイスには、より一層の小型化が求められている。そのため、固体撮像素子デバイスを構成する近赤外線吸収ガラス板にもより一層の薄型化が求められている。しかしながら、特許文献１に記載のガラス板では、厚みを薄くしすぎると、ガラス板に割れが生じる場合があった。そのため、ガラス板を十分に薄くすることができず、固体撮像素子デバイスを十分に小型化することができない場合があった。
【０００５】
本発明の目的は、固体撮像素子デバイスの小型化を図ることを可能とする、近赤外線吸収ガラス板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の近赤外線吸収ガラス板は、表面性状のアスペクト比Ｓｔｒが０．１以上であり、組成中に、ＣｕＯを１〜４０質量％を含むことを特徴とする。本発明者等は種々の実験を行った結果、表面性状のアスペクト比Ｓｔｒが０．１以上であれば、ガラス板の強度が十分に高められ、厚みが薄くても割れ難くなることを見出した。なお、「表面性状のアスペクト比Ｓｔｒ」とは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）より求めることができるパラメーターであり、表面性状の異方性、等方性の強さを示す指標である。詳述すると、Ｓｔｒは０〜１の値をとり、０に近い場合は表面に研磨痕等の傷が存在し表面性状の異方性が強くなり、１に近い場合は表面が滑らかであり、研磨痕等の傷が少なく表面性状の等方性が強いことを示す。
【０００７】
本発明の近赤外線吸収ガラス板は、質量％で、Ｐ２Ｏ５  １０〜７０％、Ｒ２Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｎａ及びＫから選択される少なくとも１種）  ０超〜５０％を含有することが好ましい。
【０００８】
本発明の近赤外線吸収ガラス板は、厚みが０．２ｍｍ以下であることが好ましい。
【０００９】
本発明の近赤外線吸収ガラス板は、３点曲げ強度が、２００Ｎ／ｍｍ２以上であることが好ましい。ここで、３点曲げ強度とは、６ｍｍ角の大きさで厚み０．１ｍｍのガラス板（２０枚）を距離２．５ｍｍに配置した２支点上に置き、支点間の中央の１点にクロスヘッド速度０．５ｍｍ／ｍｉｎで荷重を加えた際に、ガラスが破壊される荷重の平均値である。
【００１０】
本発明の近赤外線吸収ガラス板は、厚み０．０５ｍｍにて波長４００ｎｍにおける光透過率が８０％以上であることが好ましい。
【００１１】
本発明の近赤外線吸収ガラス板は、厚み０．０５ｍｍにて波長８００ｎｍにおける光透過率が５０％以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、固体撮像素子デバイスの小型化を図ることを可能とする、近赤外線吸収ガラス板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施例１のガラス表面のＡＦＭ観察結果を示す写真である。
【図２】比較例のガラス表面のＡＦＭ観察結果を示す写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の近赤外線吸収ガラス板は、表面性状のアスペクト比Ｓｔｒが０．１以上であり、質量％で、ＣｕＯ  １〜４０％を含有する。
【００１５】
まず、本発明の近赤外線吸収ガラス板のガラス組成について説明する。
【００１６】
本発明の近赤外線吸収ガラス板は、組成中に、ＣｕＯを１〜４０質量％を含み、好ましくは更に、質量％で、Ｐ２Ｏ５  １０〜７０％、Ｒ２Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｎａ及びＫから選択される少なくとも１種）  ０超〜５０％を含有する。ガラス組成をこのように規制した理由を以下に説明する。
【００１７】
ＣｕＯは近赤外線を吸収するための必須成分である。ＣｕＯの含有量は１〜４０％であり、２〜３５％、３〜３０％、４〜２５％、５〜２０％、特に６〜１５％であることが好ましい。ＣｕＯの含有量が少なすぎると、所望の近赤外線吸収特性を得るためにガラスを厚くする必要があり、結果として光学デバイスを薄型化しにくくなる。一方、ＣｕＯの含有量が多すぎると、液相温度が高くなり、耐失透性が低下しやすくなる。
【００１８】
本発明の近赤外線吸収ガラス板には、上記成分以外にも下記の成分を含有させることができる。
【００１９】
Ｐ２Ｏ５はガラス骨格を形成するための成分である。Ｐ２Ｏ５の含有量は１０〜７０％、１５〜６５％、１６〜６４％、１７〜６３％、１８〜６２％、１９〜６１％、２０〜６０％、３１〜５６％、４１〜５５％、４５〜５４％、特に４７〜５３％であることが好ましい。Ｐ２Ｏ５の含有量が多すぎると、耐候性が低下しやすくなる。
【００２０】
Ｒ２Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｎａ及びＫから選択される少なくとも１種）は溶融温度を低下させる成分である。Ｒ２Ｏの含有量は０〜５０％、０超〜４０％、３〜３０％、５〜２５％、７〜２３％、８〜２２％、９〜２１％、１０〜２０％、１１〜１９％、１２〜１８％、１３〜１７％、特に１４〜１６％であることが好ましい。Ｒ２Ｏの含有量が多すぎると、溶融温度が上昇しやすくなる。なお、溶融温度が上昇すると、近赤外域に吸収を示すＣｕ２＋イオンが還元され、紫外域に吸収を示すＣｕ＋イオンが生成し、紫外〜可視域の光透過率が低下し、近赤外域の光透過率が上昇しやすくなるため、所望の分光特性が得られにくくなる。
【００２１】
なお、Ｒ２Ｏの各成分の好ましい範囲は以下の通りである。Ｌｉ２Ｏは紫外〜可視域の光透過率を上昇させる成分である。Ｌｉ２Ｏを含有することにより、紫外〜可視域の光透過率を低下させている酸素と銅イオンの間での電荷移動遷移による吸収を減少させることができる。Ｌｉ２Ｏの含有量は０〜５０％、０超〜４０％、０．２〜３０％、０．３〜２０％、０．４〜６％、０．５〜５％、０．６〜４％、０．６５〜３％、０．６６〜２％、０．６７〜１．５％、０．６８〜１．２％、０．６９〜１．０％、特に０．７〜０．９％であることが好ましい。Ｌｉ２Ｏの含有量が多すぎると液相温度が高くなり、耐失透性が低下しやすくなる。Ｎａ２Ｏの含有量は０〜５０％、０超〜４０％、０．５〜３０％、０．８〜２０％、特に１〜１０％であることが好ましい。Ｋ２Ｏの含有量は０〜５０％、０超〜４０％、３〜３０％、３．３〜２８％、４〜２５％、５〜２０％、６〜１９％、６．２〜１８．５％、１０〜１８％、特に１４〜１７％であることが好ましい。
【００２２】
Ａｌ２Ｏ３は耐候性を大幅に向上させる成分である。また、耐失透性を向上させる成分でもある。Ａｌ２Ｏ３の含有量は０〜１９％、１〜１４％、２〜１０％、３〜８％、特に４〜６％であることが好ましい。Ａｌ２Ｏ３の含有量が多すぎると、溶融性が低下して溶融温度が高くなり、結果として所望の分光特性を得にくくなる。
【００２３】
Ｒ’Ｏ（ただし、Ｒ’はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａから選択される少なくとも１種）は耐候性を改善するとともに、溶融性を向上させる成分である。また、耐失透性を向上させる成分でもある。Ｒ’Ｏの含有量は０〜５０％、３〜３０％、３．３〜２９％、３．４〜２８％、３．５〜２７％、３．６〜２６％、３．７〜２５％、３．８〜２４％、３．９〜２３％、４〜２２％、特に５〜２０％であることが好ましい。Ｒ’Ｏの含有量が多すぎると、成形時にＲ’Ｏ成分起因の結晶が析出しやすくなる。
【００２４】
なお、Ｒ’Ｏの各成分の含有量の好ましい範囲は以下の通りである。
【００２５】
ＭｇＯは耐候性を改善する成分である。ＭｇＯの含有量は０〜１５％、０．２〜７％、０．３〜５％、０．４〜３．７％、０．５〜３．６％、０．６〜３．５％、０．７〜３．４％、０．８〜３．３％、０．９〜３．２％、０．８〜３．１％、特に０．９〜３％であることが好ましい。ＭｇＯの含有量が多すぎると、ガラス化しにくくなる。
【００２６】
ＣａＯはＭｇＯと同様に耐候性を改善する成分である。ＣａＯの含有量は０〜１５％、０．４〜１０％、特に１〜７％であることが好ましい。ＣａＯの含有量が多すぎると、ガラス化しにくくなる。
【００２７】
ＳｒＯもＭｇＯと同様に耐候性を改善する成分である。ＳｒＯの含有量は０〜１２％、０．３〜１０％、特に０．５〜５％であることが好ましい。ＳｒＯの含有量が多すぎると、ガラス化しにくくなる。
【００２８】
ＢａＯはガラス化の安定性を高めるとともに、耐候性を向上させる成分である。特にＰ２Ｏ５が少ない場合に、ＢａＯによるガラス化安定性の効果を享受しやすい。ＢａＯの含有量は０〜３０％、５〜３０％、７〜２５％、１０〜２３％、特に１５〜２０％であることが好ましい。ＢａＯの含有量が多すぎると、成形中にＢａＯ起因の結晶が析出しやすくなる。
【００２９】
なお、本発明の近赤外線吸収ガラス板は、ＣｕＯを１％以上含有している。ＣｕＯの含有量が多くなると失透しやすくなるが、Ａｌ２Ｏ３やＲ’Ｏを含有させることにより耐失透性を向上させることができる。
【００３０】
ＺｎＯはガラス化の安定性及び耐候性を改善する成分である。ＺｎＯの含有量は０〜１３％、０．１〜１２％、特に１〜１０％であることが好ましい。ＺｎＯの含有量が多すぎると、溶融性が低下して溶融温度が高くなり、結果として所望の分光特性を得にくくなる。また、ＺｎＯ成分起因の結晶が析出しやすくなる。なお、特にＰ２Ｏ５が少ない場合に、ＺｎＯによるガラス化安定性の効果を享受しやすい。
【００３１】
Ｎｂ２Ｏ５及びＴａ２Ｏ５は耐候性を高める成分である。Ｎｂ２Ｏ５及びＴａ２Ｏ５の各成分の含有量は０〜２０％、０．１〜２０％、１〜１８％、特に２〜１５％であることが好ましい。これらの成分の含有量が多すぎると、溶融性が低下して溶融温度が高くなり、結果として所望の分光特性を得にくくなる。なお、Ｎｂ２Ｏ５及びＴａ２Ｏ５の合量は０〜２０％、０．１〜２０％、１〜１８％、特に２〜１５％であることが好ましい。
【００３２】
ＧｅＯ２は耐候性を高める成分である。ＧｅＯ２の含有量は０〜２０％、０．１〜２０％、０．３〜１７％、特に０．４〜１５％であることが好ましい。ＧｅＯ２の含有量が多すぎると、溶融性が低下して溶融温度が高くなり、結果として所望の分光特性を得にくくなる。
【００３３】
ＳｉＯ２はガラス骨格を強化する成分である。また、耐候性を向上させる効果がある。ＳｉＯ２の含有量は０〜１０％、０．１〜８％、０．６〜７．５％、０．７〜７％、０．８〜６．５％、０．８５〜６．４％、０．９〜６．２％、特に１〜６％であることが好ましい。ＳｉＯ２の含有量が多すぎると、かえって耐候性が低下しやすくなる。また、ガラス化が不安定になる傾向がある。
【００３４】
また、上記成分以外にも、Ｂ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ３等を本発明の効果を損なわない範囲で含有させても構わない。具体的には、これらの成分の含有量は、各々０〜３％、特に各々０〜２％であることが好ましい。なお、フッ素を含有させることにより化学的耐久性を向上させることが可能であるが、フッ素は環境負荷物質であるため、アニオン％で、１５％以下、１０％以下、５％以下、１％以下、特に含有しないことが好ましい。
【００３５】
本発明の近赤外線吸収ガラス板は、表面性状のアスペクト比Ｓｔｒが０．１以上であり、０．２以上、０．３以上、０．４以上、０．５以上、０．６以上、０．７以上、０．７５以上、０．８以上、特に０．８５以上であることが好ましい。Ｓｔｒが小さすぎると、異方性が強くなる、つまり研磨痕等の傷が多くなる傾向があり、結果として近赤外線吸収ガラス板の強度が低下し割れやすくなる。Ｓｔｒの上限は特に限定されないが、現実的には１未満である。
【００３６】
本発明の近赤外線吸収ガラス板は、厚みが０．２ｍｍ以下、０．１９ｍｍ以下、特に０．１６ｍｍ以下であることが好ましい。厚みが厚すぎると、固体撮像素子デバイスを小型化しにくくなる。なお、厚みが薄すぎると、近赤外線吸収ガラス板が割れやすくなるため、厚みは、０．０１ｍｍ以上、特に０．０２ｍｍ以上であることが好ましい。
【００３７】
本発明の近赤外線吸収ガラス板は、３点曲げ強度が２００Ｎ／ｍｍ２以上、２１０Ｎ／ｍｍ２以上、２２０Ｎ／ｍｍ２以上、２３０Ｎ／ｍｍ２以上、２４０Ｎ／ｍｍ２以上、２５０Ｎ／ｍｍ２以上、２６０Ｎ／ｍｍ２以上、２７０Ｎ／ｍｍ２以上、特に２８０Ｎ／ｍｍ２以上であることが好ましい。３点曲げ強度が小さすぎると、近赤外線吸収ガラス板が割れやすくなる。なお、近赤外線吸収ガラス板の３点曲げ強度の上限は、特に限定されないが、材料の性質上４５０Ｎ／ｍｍ２以下である。
【００３８】
本発明の近赤外線吸収ガラス板の液相温度は９００℃以下、８９０℃以下、８８０℃以下、８７０℃以下、８６０℃以下、特に８５０℃以下であることが好ましい。液相温度が高すぎると、製造工程において（特に成形時に）失透しやすくなる。
【００３９】
本発明の近赤外線吸収ガラス板は、厚み０．０５ｍｍ換算、波長４００ｎｍにおける光透過率が８０％以上、８１％以上、８２％以上、８３％以上、８４％以上、８５％以上、８６％以上、特に８７％以上であることが好ましい。一方、波長８００ｎｍにおける光透過率は５０％以下、４０％以下、３５％以下、３０％以下、２９％以下、２８％以下、２７％以下、２６％以下、特に２５％以下であることが好ましく、波長１２００ｎｍにおける光透過率は７０％以下、６５％以下、６０％以下、５９％以下、５８％以下、５７％以下、５６％以下、５５％以下、５４％以下、５３％以下、特に５２％以下であることが好ましい。
【００４０】
次に、本発明の近赤外線吸収ガラス板の製造方法について説明する。
【００４１】
まず、所望の組成となるように調製した原料粉末バッチを溶融させ、板状に成形することによりガラス母材を得る。
【００４２】
溶融温度は、７００〜９００℃、特に７１０〜８５０℃であることが好ましい。溶融温度が低すぎると、均質なガラスを得にくくなる。一方、溶融温度が高すぎると、Ｃｕイオンが還元されてＣｕ２＋からＣｕ＋にシフトしやすくなり、所望の光学特性を得にくくなる。
【００４３】
なお、成形方法としては、特に限定されないが、例えば、鋳込み法、ロールアウト法、ダウンドロー法、又はリドロー法等の成形方法を用いることができる。
【００４４】
続いて、上記のようにして用意した板状のガラス母材を物理研磨により研磨する。研磨工程においては、物理研磨により、ガラス母材の厚みを０．２ｍｍ超〜０．３ｍｍにすることが好ましい。ガラス母材の厚みを物理研磨により薄くしすぎると、ガラス母材が割れる虞がある。また、ガラス母材の厚みが厚すぎると、後述するエッチング工程において十分にガラス板の厚みを薄くし難くなる。
【００４５】
研磨工程においては、例えば、ラップ研磨により０．３ｍｍ程度の厚みまでガラス母材を研磨し、続いて、光学研磨により、０．２ｍｍ超〜０．３ｍｍの厚みまで研磨することにより物理研磨されたガラス母材を得ることができる。
【００４６】
次に、物理研磨されたガラス母材を、垂直に立てた状態でアルカリ洗剤に浸漬することによりエッチングする。エッチングすることにより、厚みが０．２ｍｍ以下である近赤外線吸収ガラス板を得ることができる。
【００４７】
アルカリ洗剤としては、例えば、Ｎａ、Ｋなどのアルカリ成分や、トリエタノールアミン、ベンジルアルコール又はグリコール等の界面活性剤や、水又はアルコール等を含有するアルカリ洗剤を用いることができる。
【００４８】
アルカリ洗剤中における浸漬温度は、例えば、２０〜４０℃とすることができる。
【００４９】
アルカリ洗剤中における浸漬時間は、例えば、１〜３０時間とすることができる。なお、物理研磨されたガラス母材は、垂直に立てた状態で１〜３０時間アルカリ洗剤に浸漬させた後に、上下ひっくり返して同時間浸漬させることが好ましい。このようにすれば、厚み分布が均一な近赤外線吸収ガラス板を得ることできる。
【００５０】
このようにアルカリ洗剤でエッチングすることにより、ガラス母材表面が溶かされるため、研磨工程にて生じたガラス母材表面の研磨痕等の傷が除去される。結果として、研磨痕等の傷がなく表面性状の等方性が強い（Ｓｔｒが大きい）近赤外線吸収ガラス板を得ることができる。得られた近赤外線吸収ガラス板は、割れの起点となる研磨痕等の傷がないため強度が高く、厚みが薄くても割れ難くなる。
【実施例】
【００５１】
以下、実施例に基づいて本発明を説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００５２】
（実施例１）
質量％で、ＣｕＯ  ６．９％、Ｐ２Ｏ５  ４６％、Ｋ２Ｏ  １３．９％、Ａｌ２Ｏ３  ６．６％、ＭｇＯ  ２．７％、ＣａＯ  ３．７％、及びＢａＯ  ２０．２％の組成となるように調製した原料粉末バッチを、温度８５０〜１３００℃で溶融し、ロールアウト法により板状に成形し、板状のガラス母材を得た。
【００５３】
得られたガラス母材を、ダイサーを用いて１２５．１ｍｍ角の大きさに切断し、切断したガラス母材を、両面研磨機の下定盤にセットされたキャリアの孔部に嵌め、その上に上定盤を降ろして圧力をかけ、上定盤、下定盤及びキャリアを回転させつつ、Ａｌ２Ｏ３を含む研磨液を流しながら両面を研磨し、ガラス母材の厚みを０．３ｍｍとした。続いて、ＣｅＯ２によりガラス母材をさらに研磨し、ガラス母材の厚みを０．２５ｍｍとした。
【００５４】
次に、研磨されたガラス母材を６ｍｍ角の大きさに切断し、質量％で、Ｎａの成分が３７％、トリエタノールアミンが２０％、及び水が４３％の組成を有するアルカリ洗剤に、温度３０℃で、１２０分間浸漬させエッチングし、６ｍｍ角の大きさで厚み０．１ｍｍの赤外線吸収ガラス板を得た。
【００５５】
得られた赤外線吸収ガラス板について、表面性状のアスペクト比Ｓｔｒを測定したところ、Ｓｔｒが０．７８と等方性が強かった。なお、アスペクト比Ｓｔｒは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定した。また、ガラス表面をＡＦＭで観察した結果を図１に示す。図１から分かる通り、ガラス表面に研磨痕等の傷は確認されず、等方性が強いことが分かった。なお、ＡＦＭの詳細な測定条件は下記の通りである。
【００５６】
ＳＰＭ ｕｎｉｔ：Ｄｉｍｅｎｔｉｏｎ  Ｉｃｏｎ（Ｂｒｕｋｅｒ社製）
Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ  ｕｎｉｔ：Ｎａｎｏ  Ｓｃｏｐｅ（Ｂｒｕｋｅｒ社製）
Ｐｒｏｂｅ：ＯＴＥＳＰＡ−Ｒ３（Ｂｒｕｋｅｒ社製）
解析ソフト：Ｎａｎｏ  Ｓｃｏｐｅ  Ａｎａｌｙｓｉｓ（Ｂｒｕｋｅｒ社製）
スキャンサイズ：５×５μｍ
ｓｃａｎ  ｒａｔｅ：  １Ｈｚ
ｓａｍｐｌｉｎｇ  ｐｏｉｎｔｓ：５１２×５１２
【００５７】
また、得られた赤外線吸収ガラス板（２０枚）について、支点間距離２．５ｍｍにおける３点曲げ強度を測定し平均値を算出したところ、２８０Ｎ／ｍｍ２であり、厚みが０．１ｍｍと薄いにもかかわらず、高い強度を有していた。
【００５８】
得られた赤外線吸収ガラス板について、０．０５ｍｍ厚となるように両面を鏡面研磨した。両面研磨を施した赤外線吸収ガラス板について、分光光度計（島津製作所社製ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて、波長３００〜１３００ｎｍの範囲で光透過率を測定した。波長４００ｎｍにおいて８６％、波長８００ｎｍにおいて２６％、波長１２００ｎｍにおいて５２％となった。
【００５９】
（比較例）
実施例で得られたエッチング前の研磨されたガラス母材を比較例とし、同様に特性評価を行ったところ、Ｓｔｒが０．０７と等方性が低く、３点曲げ強度の平均値は９０Ｎ／ｍｍ２であり、厚みが０．２５ｍｍと厚いにもかかわらず、強度は低かった。また、ガラス表面をＡＦＭで観察した結果を図２に示したが、図２から分かる通り、ガラス表面に研磨痕が確認され、等方性が低いことが分かった。
【００６０】
（実施例２〜４５）
組成を表１〜５の通り変更したこと以外は、実施例１と同様にして赤外線吸収ガラス板を作製し、アスペクト比Ｓｔｒ、３点曲げ強度、及び光透過率を測定した。結果を表１〜５に示す。なお、３点曲げ強度については、強度が２００Ｎ／ｍｍ２以上の場合は「○」とした。
【００６１】
【表１】
2020142952.tif 000003
【００６２】
【表２】
2020142952.tif 000004
【００６３】
【表３】
2020142952.tif 000005
【００６４】
【表４】
2020142952.tif 000006
【００６５】
【表５】
2020142952.tif 000007
【００６６】
表１〜５から明らかなように、実施例２〜４５のアスペクト比Ｓｔｒは０．７１以上と等方性が強く、３点曲げ強度も２００Ｎ／ｍｍ２以上と高い強度を有していた。また、光透過率も所望の値を有していた。
【図１】
2020142952.tif 000008
【図２】
2020142952.tif 000009