(57)【要約】      （修正有）【課題】ポリマー組成物から形成される成形部品（例えば、概して平面状のベース、ベース上に取り付けられているレンズバレル等）を含むカメラモジュールを提供する。【解決手段】芳香族エステル繰り返し単位を含むサーモトロピック液晶ポリマー、及びモース硬度スケールに基づいて約２．５以上の硬度値を有する無機粒子を含むポリマー組成物から形成され、無機粒子は約０．１〜約３５マイクロメートルのメジアン幅を有する組成物からなるカメラモジュール。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
成形部品を含み、成形部品は、サーモトロピック液晶ポリマー、及びモース硬度スケールに基づいて約２．５以上の硬度値を有する無機粒子を含むポリマー組成物から形成され、無機粒子は約０．１〜約３５マイクロメートルのメジアン幅を有するカメラモジュール。
【請求項２】
カメラモジュールが、その上にレンズバレルが取り付けられている概して平面状のベースを含み、ベース、バレル、又は両方が成形部品を含む、請求項１に記載のカメラモジュール。
【請求項３】
成形部品が約５００マイクロメートル以下の厚さを有する、請求項１又は２に記載のカメラモジュール。
【請求項４】
無機粒子がモース硬度スケールに基づいて約３．０〜約１１．０の硬度値を有する、請求項１〜３のいずれかに記載のカメラモジュール。
【請求項５】
無機粒子が、炭酸カルシウム、炭酸水酸化銅、フッ化カルシウム、ピロリン酸カルシウム、無水リン酸二カルシウム、水和リン酸アルミニウム、シリカ、ケイ酸カリウムアルミニウム、ケイ酸銅、ホウケイ酸水酸化カルシウム、アルミナ、又はこれらの組合せを含む、請求項１〜４のいずれかに記載のカメラモジュール。
【請求項６】
無機粒子がピロリン酸カルシウムを含む、請求項１〜５のいずれかに記載のカメラモジュール。
【請求項７】
無機粒子が硫酸バリウムを含む、請求項１〜５のいずれかに記載のカメラモジュール。
【請求項８】
無機粒子がポリマー組成物の約３重量％〜約６０重量％を構成する、請求項１〜７のいずれかに記載のカメラモジュール。
【請求項９】
液晶ポリマーが組成物の約２５重量％〜約９５重量％を構成する、請求項１〜８のいずれかに記載のカメラモジュール。
【請求項１０】
液晶ポリマーが芳香族エステル繰り返し単位を含む、請求項１〜９のいずれかに記載のカメラモジュール。
【請求項１１】
芳香族エステル繰り返し単位が、芳香族ジカルボン酸繰り返し単位、芳香族ヒドロキシカルボン酸繰り返し単位、又はこれらの組合せである、請求項１０に記載のカメラモジュール。
【請求項１２】
ポリマーが芳香族ジオール繰り返し単位を更に含む、請求項１０に記載のカメラモジュール。
【請求項１３】
液晶ポリマーが、４−ヒドロキシ安息香酸、テレフタル酸、ヒドロキノン、４，４’−ビフェノール、アセトアミノフェン、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、又はこれらの組合せから誘導される繰り返し単位を含む、請求項１〜１２のいずれかに記載のカメラモジュール。
【請求項１４】
ポリマー組成物が無機繊維を更に含む、請求項１〜１３のいずれかに記載のカメラモジュール。
【請求項１５】
無機繊維がシリケートから誘導される繊維を含む、請求項１４に記載のカメラモジュール。
【請求項１６】
シリケートがイノシリケートである、請求項１５に記載のカメラモジュール。
【請求項１７】
イノシリケートが珪灰石を含む、請求項１６に記載のカメラモジュール。
【請求項１８】
導電性充填剤、ガラス充填剤、シリケート充填剤、官能性化合物、又はこれらの組合せを更に含む、請求項１〜１７のいずれかに記載のカメラモジュール。
【請求項１９】
成形部品が、ＡＳＴＭ−Ｄ７８５−０８（スケールＭ）にしたがって求めて約４０以上のロックウェル硬度を有する、請求項１〜１８のいずれかに記載のカメラモジュール。
【請求項２０】
約２５重量％〜約９５重量％の少なくとも１種類のサーモトロピック液晶ポリマー、約１重量％〜約４０重量％の無機繊維、及び約３重量％〜約６０重量％のモース硬度スケールに基づいて約２．５以上の硬度値を有する無機粒子を含み、無機粒子は約０．１〜約３５マイクロメートルのメジアン幅を有するポリマー組成物。
【請求項２１】
無機粒子がモース硬度スケールに基づいて約３．０〜約１１．０の硬度値を有する、請求項２０に記載のポリマー組成物。
【請求項２２】
無機粒子が、炭酸カルシウム、炭酸水酸化銅、フッ化カルシウム、ピロリン酸カルシウム、無水リン酸二カルシウム、水和リン酸アルミニウム、シリカ、ケイ酸カリウムアルミニウム、ケイ酸銅、ホウケイ酸水酸化カルシウム、アルミナ、又はこれらの組合せを含む、請求項２０に記載のポリマー組成物。
【請求項２３】
無機粒子がピロリン酸カルシウム又は硫酸バリウムを含む、請求項２０に記載のポリマー組成物。
【請求項２４】
無機繊維が珪灰石を含む、請求項２０に記載のポリマー組成物。
【請求項２５】
無機繊維が、約０．１〜約３５マイクロメートルの平均幅及び約１〜約５０のアスペクト比を有する、請求項２０に記載のポリマー組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[001]本出願は、２０１４年４月９日出願の米国仮出願６１／９７７，１６８（その全
部を参照として本明細書中に包含する）に対する優先権を主張する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]カメラモジュール（又は部品）は、携帯電話、ラップトップコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ等においてしばしば用いられている。例としては、例えば、ベースに取り付けられているレンズバレルを含むコンパクトカメラモジュール、デジタルカメラシャッターモジュール、デジタルカメラの部品、ゲーム機内のカメラ、医療用カメラ、監視カメラ等が挙げられる。カメラモジュールの成形部品のために芳香族ポリマーを用いる種々の試みがなされている。例えば最近では、高い耐熱性を有する液晶ポリマーを用いる試みがなされている。かかるポリマーの機械特性を向上させるために、板状の物質（例えばタルク）及び粉砕したガラスを加えることが公知である。この方法で強度及び弾性率を向上させることができるが、かかる材料をコンパクトカメラモジュールにおいて用いることを試みる際にはなお問題に直面する。例えば、成形部品の外側又は「スキン」層は速やかに容易に剥離する傾向があり、これによってカメラモジュールの組立中において粒子の生成及び劣った生産性がもたらされる可能性がある。更に、スキン層が剥離する傾向は、カメラモジュールの他の部品への劣った接着性をもたらすことも考えられる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
[0003]したがって、カメラモジュールの成形部品において容易に用いることができ、更に良好な機械特性及び接着強度を達成することができるポリマー組成物に対する必要性が存在する。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
[0004]本発明の一態様によれば、成形部品を含むカメラモジュールを開示する。成形部品は、サーモトロピック液晶ポリマー、及びモース硬度スケールに基づいて約２．５以上の硬度値を有する無機粒子を含むポリマー組成物から形成される。無機粒子は約０．１〜約３５マイクロメートルのメジアン幅（median width）を有する。
【０００５】
[0005]本発明の他の態様によれば、約２５重量％〜約９５重量％の少なくとも１種類のサーモトロピック液晶ポリマー、約１重量％〜約４０重量％の無機繊維、及び約３重量％〜約６０重量％のモース硬度スケールに基づいて約２．５以上の硬度値を有する無機粒子を含むポリマー組成物を開示する。無機粒子は約０．１〜約３５マイクロメートルのメジアン幅を有する。
【０００６】
[0006]本発明の他の特徴及び形態を下記においてより詳細に示す。
[0007]当業者に対するそのベストモードを含む本発明の完全且つ実施化可能な程度の開示を、添付の図面の参照を含む明細書の残りの部分においてより詳しく示す。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】[0008]図１は、本発明の一態様にしたがって形成することができるコンパクトカメラモジュール（ＣＣＭ）の斜視図である。
【図２】図２は、本発明の一態様にしたがって形成することができるコンパクトカメラモジュール（ＣＣＭ）の正面図である。
【図３】[0009]図３は、本発明のポリマー組成物を形成するのに用いることができる押出機スクリューの一態様の概要図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
[0010]本開示は代表的な態様のみの記載であり、本発明のより広い形態を限定するものとは意図しないことは当業者に理解される。
[0011]一般的に言えば、本発明は、無線通信装置（例えば携帯電話）において通常的に用いられているもののようなカメラモジュールに関する。本カメラモジュールは、ポリマー組成物から形成される成形部品（例えば、概して平面状のベース、ベース上に取り付けられているレンズバレル等）を含む。ポリマー組成物は、液晶ポリマー、及びモース硬度スケールに基づいて約２．５以上、幾つかの態様においては約３．０以上、幾つかの態様においては約３．０〜約１１．０、幾つかの態様においては約３．５〜約１１．０、幾つかの態様においては約４．５〜約６．５の硬度値を有する無機粒子を含む。かかる硬度値を有する無機粒子の例としては、例えば、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３；３．０のモース硬度）、又は炭酸水酸化銅（Ｃｕ２ＣＯ３（ＯＨ）２；４．０のモース硬度）のような炭酸塩；フッ化カルシウム（ＣａＦｌ２；４．０のモース硬度）のようなフッ化物；ピロリン酸カルシウム（Ｃａ２Ｐ２Ｏ７；５．０のモース硬度）、無水リン酸二カルシウム（ＣａＨＰＯ４；３．５のモース硬度）、又は水和リン酸アルミニウム（ＡｌＰＯ４・２Ｈ２Ｏ；４．５のモース硬度）のようなリン酸塩；シリカ（ＳｉＯ２；６．０のモース硬度）、ケイ酸カリウムアルミニウム（ＫＡｌＳｉ３Ｏ８；６のモース硬度）、又はケイ酸銅（ＣｕＳｉＯ３・Ｈ２Ｏ；５．０のモース硬度）のようなケイ酸塩；ホウケイ酸水酸化カルシウム（Ｃａ２Ｂ５ＳｉＯ９（ＯＨ）５；３．５のモース硬度）のようなホウ酸塩；アルミナ（ＡｌＯ２；１０．０のモース硬度）；硫酸カルシウム（ＣａＳＯ４；３．５のモース硬度）、又は硫酸バリウム（ＢａＳＯ４；３〜３．５のモース硬度）のような硫酸塩など、並びにこれらの組合せを挙げることができる。無機粒子はまた、約０．１〜約３５マイクロメートル、幾つかの態様においては約２〜約２０マイクロメートル、幾つかの態様においては約３〜約１５マイクロメートル、幾つかの態様においては約７〜約１２マイクロメートルのメジアン幅（例えば直径）も有する。無機粒子はまた、狭い寸法分布も有していてよい。即ち、粒子の少なくとも約６０体積％、幾つかの態様においては粒子の少なくとも約７０体積％、幾つかの態様においては粒子の少なくとも約８０体積％は、上述の範囲内の寸法を有していてよい。
【０００９】
[0012]理論によって限定されることは意図しないが、驚くべきことに、本発明者らは、上記に記載のような特定の硬度値及び寸法を有する無機粒子は、得られる成形部品の機械強度、接着強度、及び表面平滑性に対して相乗効果を有することができることを見出した。無機粒子の相対量はまた、成形部品に成形した際のその平滑性のような組成物の他の特性に悪影響を与えずに所望の機械特性を達成することを助けるように選択的に制御することができる。例えば、無機粒子は、通常は、ポリマー組成物の約３重量％〜約６０重量％、幾つかの態様においては約１０重量％〜約５０重量％、幾つかの態様においては約２０重量％〜約４０重量％を構成する。液晶ポリマーの濃度は概して他の随意的な成分の存在に基づいて変動する可能性があるが、これらは通常は、約２５重量％〜約９５重量％、幾つかの態様においては約３０重量％〜約８０重量％、幾つかの態様においては約４０重量％〜約７０重量％の量で存在する。
【００１０】
[0013]而して、特定のタイプの無機粒子を選択的に制御された濃度で用いることによって、本発明者らは、得られるポリマー組成物はポリマースキン層のより少ない層間剥離を達成することができ、これによってカメラモジュールの小さな成形部品（例えばベース、レンズバレル等）に非常に適したものにすることができることを見出した。例えば、ベースは、約５００マイクロメートル以下、幾つかの態様においては約１０〜約４５０マイクロメートル、幾つかの態様においては約２０〜約４００マイクロメートルの厚さを有する
ことができる。同様に、レンズバレルは、約５００マイクロメートル以下、幾つかの態様においては約１０〜約４５０マイクロメートル、幾つかの態様においては約２０〜約４００マイクロメートルの壁厚を有することができる。
【００１１】
[0014]ここで、本発明の種々の態様をより詳細に記載する。
Ｉ．液晶ポリマー：
[0015]サーモトロピック液晶ポリマーは、一般に金型の小さい空間を有効に満たすことを可能にする高い結晶化度を有する。好適なサーモトロピック液晶ポリマーとしては、芳香族ポリエステル、芳香族ポリ（エステルアミド）、芳香族ポリ（エステルカーボネート）、芳香族ポリアミド等を挙げることができ、更に１種類以上の芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオール、芳香族アミノカルボン酸、芳香族アミン、芳香族ジアミン等、及びこれらの組み合わせから形成される繰り返し単位を含ませることができる。
【００１２】
[0016]液晶ポリマーは、一般に、棒状の構造を有することができ、その溶融状態において結晶質の挙動（例えばサーモトロピックネマチック状態）を示すことができる限りにおいて「サーモトロピック」として分類される。かかるポリマーは、当該技術において公知の１以上のタイプの繰り返し単位から形成することができる。液晶ポリマーには、例えば、通常はポリマーの約６０モル％〜約９９．９モル％、幾つかの態様においては約７０モル％〜約９９．５モル％、幾つかの態様においては約８０モル％〜約９９モル％の量の１以上の芳香族エステル繰り返し単位を含ませることができる。芳香族エステル繰り返し単位は、一般に、次式（Ｉ）：
【００１３】
【化１】
2020056026.tif 000002
【００１４】
（式中、
環Ｂは、置換又は非置換の６員アリール基（例えば、１，４−フェニレン又は１，３−フェニレン）、置換又は非置換の５又は６員アリール基に縮合している置換又は非置換の６員アリール基（例えば２，６−ナフタレン）、或いは置換又は非置換の５又は６員アリール基に結合している置換又は非置換の６員アリール基（例えば４，４−ビフェニレン）であり；
Ｙ１及びＹ２は、独立して、Ｏ、Ｃ（Ｏ）、ＮＨ、Ｃ（Ｏ）ＨＮ、又はＮＨＣ（Ｏ）である）
によって表すことができる。
【００１５】
[0017]通常は、Ｙ１及びＹ２の少なくとも１つはＣ（Ｏ）である。かかる芳香族エステル繰り返し単位の例としては、例えば、芳香族ジカルボン酸繰り返し単位（式ＩにおいてＹ１及びＹ２はＣ（Ｏ）である）、芳香族ヒドロキシカルボン酸繰り返し単位（式ＩにおいてＹ１はＯであり、Ｙ２はＣ（Ｏ）である）、並びにこれらの種々の組み合わせを挙げることができる。
【００１６】
[0018]例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸、１，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−
ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジカルボキシビフェニル、ビス（４−カルボキシフェニル）エーテル、ビス（４−カルボキシフェニル）ブタン、ビス（４−カルボキシフェニル）エタン、ビス（３−カルボキシフェニル）エーテル、ビス（３−カルボキシフェニル）エタン等、並びにこれらのアルキル、アルコキシ、アリール、及びハロゲン置換体、並びにこれらの組み合わせのような芳香族ジカルボン酸から誘導される芳香族ジカルボン酸繰り返し単位を用いることができる。特に好適な芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸（ＴＡ）、イソフタル酸（ＩＡ）、及び２，６−ナフタレンジカルボン酸（ＮＤＡ）を挙げることができる。用いる場合には、芳香族ジカルボン酸（例えば、ＩＡ、ＴＡ、及び／又はＮＤＡ）から誘導される繰り返し単位は、通常はポリマーの約５モル％〜約６０モル％、幾つかの態様においては約１０モル％〜約５５モル％、幾つかの態様においては約１５モル％〜約５０％を構成する。
【００１７】
[0019]また、４−ヒドロキシ安息香酸；４−ヒドロキシ−４’−ビフェニルカルボン酸；２−ヒドロキシ−６−ナフトエ酸；２−ヒドロキシ−５−ナフトエ酸；３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸；２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸；４’−ヒドロキシフェニル−４−安息香酸；３’−ヒドロキシフェニル−４−安息香酸；４’−ヒドロキシフェニル−３−安息香酸等、並びにこれらのアルキル、アルコキシ、アリール、及びハロゲン置換体、並びにこれらの組み合わせのような芳香族ヒドロキシカルボン酸から誘導される芳香族ヒドロキシカルボン酸繰り返し単位を用いることもできる。特に好適な芳香族ヒドロキシカルボン酸は、４−ヒドロキシ安息香酸（ＨＢＡ）及び６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（ＨＮＡ）である。用いる場合には、ヒドロキシカルボン酸（例えばＨＢＡ及び／又はＨＮＡ）から誘導される繰り返し単位は、通常はポリマーの約１０モル％〜約８５モル％、幾つかの態様においては約２０モル％〜約８０モル％、幾つかの態様においては約２５モル％〜約７５％を構成する。
【００１８】
[0020]また、ポリマー中において他の繰り返し単位を用いることもできる。例えば幾つかの態様においては、ヒドロキノン、レゾルシノール、２，６−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン、１，６−ジヒドロキシナフタレン、４，４’−ジヒドロキシビフェニル（又は４，４’−ビフェノール）、３，３’−ジヒドロキシビフェニル、３，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジヒドロキシビフェニルエーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン等、並びにこれらのアルキル、アルコキシ、アリール、及びハロゲン置換体、並びにこれらの組み合わせのような芳香族ジオールから誘導される繰り返し単位を用いることができる。特に好適な芳香族ジオールとしては、例えばヒドロキノン（ＨＱ）及び４，４’−ビフェノール（ＢＰ）を挙げることができる。用いる場合には、芳香族ジオール（例えばＨＱ及び／又はＢＰ）から誘導される繰り返し単位は、通常はポリマーの約１モル％〜約３０モル％、幾つかの態様においては約２モル％〜約２５モル％、幾つかの態様においては約５モル％〜約２０％を構成する。また、芳香族アミド（例えばアセトアミノフェン（ＡＰＡＰ））、及び／又は芳香族アミン（例えば４−アミノフェノール（ＡＰ）、３−アミノフェノール、１，４−フェニレンジアミン、１，３−フェニレンジアミン等）から誘導されるもののような繰り返し単位を用いることもできる。用いる場合には、芳香族アミド（例えばＡＰＡＰ）及び／又は芳香族アミン（例えばＡＰ）から誘導される繰り返し単位は、通常はポリマーの約０．１モル％〜約２０モル％、幾つかの態様においては約０．５モル％〜約１５モル％、幾つかの態様においては約１モル％〜約１０％を構成する。また、種々の他のモノマー繰り返し単位をポリマー中に導入することができることも理解すべきである。例えば幾つかの態様においては、脂肪族又は脂環式ヒドロキシカルボン酸、ジカルボン酸、ジオール、アミド、アミン等のような非芳香族モノマーから誘導される１以上の繰り返し単位をポリマーに含ませることができる。勿論、他の態様においては、ポリマーは、非芳香族（例えば脂肪族又は脂環式）モノマーから誘導される繰り返し単位を含まないという点で「全芳香族」であってよい。
【００１９】
[0021]必ずしも必須ではないが、液晶ポリマーは、ナフタレン−２，６−ジカルボン酸（ＮＤＡ）、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（ＨＮＡ）、又はこれらの組み合わせのようなナフテン系ヒドロキシカルボン酸及びナフテン系ジカルボン酸から誘導される繰り返し単位を最小の含量で含むという限りにおいて「低ナフテン」ポリマーであってよい。即ち、ナフテン系のヒドロキシカルボン酸及び／又はジカルボン酸（例えば、ＮＤＡ、ＨＮＡ、又はＨＮＡとＮＤＡの組み合わせ）から誘導される繰り返し単位の合計量は、通常はポリマーの３０モル％以下、幾つかの態様においては約１５モル％以下、幾つかの態様においては約１０モル％以下、幾つかの態様においては約８モル％以下、幾つかの態様においては０モル％〜約５モル％（例えば０モル％）である。高いレベルの従来のナフテン酸が存在しないにもかかわらず、得られる「低ナフテン」ポリマーはなお良好な熱的及び機械特性を示すことができると考えられる。
【００２０】
[0022]１つの特定の態様においては、液晶ポリマーは、４−ヒドロキシ安息香酸（ＨＢＡ）、並びにテレフタル酸（ＴＡ）及び／又はイソフタル酸（ＩＡ）、並びに種々の他の随意的な成分から誘導される繰り返し単位から形成することができる。４−ヒドロキシ安息香酸（ＨＢＡ）から誘導される繰り返し単位は、ポリマーの約１０モル％〜約８０モル％、幾つかの態様においては約３０モル％〜約７５モル％、幾つかの態様においては約４５モル％〜約７０％を構成することができる。更に、テレフタル酸（ＴＡ）及び／又はイソフタル酸（ＩＡ）から誘導される繰り返し単位は、ポリマーの約５モル％〜約４０モル％、幾つかの態様においては約１０モル％〜約３５モル％、幾つかの態様においては約１５モル％〜約３５％を構成することができる。また、ポリマーの約１モル％〜約３０モル％、幾つかの態様においては約２モル％〜約２５モル％、幾つかの態様においては約５モル％〜約２０％の量の４，４’−ビフェノール（ＢＰ）及び／又はヒドロキノン（ＨＱ）から誘導される繰り返し単位を用いることもできる。他の可能な繰り返し単位としては、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（ＨＮＡ）、２，６−ナフタレンジカルボン酸（ＮＤＡ）、及び／又はアセトアミノフェン（ＡＰＡＰ）から誘導されるものを挙げることができる。例えば幾つかの態様においては、ＨＮＡ、ＮＤＡ、及び／又はＡＰＡＰから誘導される繰り返し単位は、用いる場合には、それぞれ約１モル％〜約３５モル％、幾つかの態様においては約２モル％〜約３０モル％、幾つかの態様においては約３モル％〜約２５モル％を構成することができる。
【００２１】
[0023]ポリマーの特定の構成成分及び性質とは関係なく、液晶ポリマーは、まずエステル繰り返し単位（例えば、芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸等）及び／又は他の繰り返し単位（例えば、芳香族ジオール、芳香族アミド、芳香族アミン等）を形成するのに用いる１種類又は複数の芳香族モノマーを反応容器中に導入して重縮合反応を開始させることによって製造することができる。かかる反応において用いる特定の条件及び工程は周知であり、Calundannの米国特許４，１６１，４７０；Linstid, IIIらの米国
特許５，６１６，６８０；Linstid, IIIらの米国特許６，１１４，４９２；Shepherdらの米国特許６，５１４，６１１；及びWaggonerのＷＯ−２００４／０５８８５１；においてより詳細に記載されている。この反応のために用いる容器は特に限定されないが、高粘度流体の反応において通常的に用いられているものを用いることが通常は望ましい。かかる反応容器の例としては、アンカータイプ、多段式タイプ、螺旋リボンタイプ、スクリューシャフトタイプ等、或いはこれらの変形形状のような種々の形状の撹拌ブレードを有する撹拌装置を有する撹拌タンクタイプの装置を挙げることができる。かかる反応容器の更なる例としては、ニーダー、ロールミル、バンバリーミキサー等のような、樹脂の混練において通常的に用いられている混合装置を挙げることができる。
【００２２】
[0024]所望の場合には、反応は、当該技術において公知のモノマーのアセチル化によって進行させることができる。これは、モノマーにアセチル化剤（例えば無水酢酸）を加えることによって行うことができる。アセチル化は、一般に約９０℃の温度において開始す
る。アセチル化の初期段階中においては、還流を用いて、蒸気相温度を、酢酸副生成物及び無水物が蒸留し始める点より低く維持することができる。アセチル化中の温度は、通常は９０℃〜１５０℃、幾つかの態様においては約１１０℃〜約１５０℃の範囲である。還流を用いる場合には、蒸気相温度は、通常は酢酸の沸点よりも高いが、残留無水酢酸を保持するのに十分に低く維持する。例えば、無水酢酸は約１４０℃の温度において気化する。而して、反応器に約１１０℃〜約１３０℃の温度で蒸気相還流を供給することが特に望ましい。反応を実質的に完了させるのを確保するために、過剰量の無水酢酸を用いることができる。過剰の無水物の量は、還流の存在又は不存在などの用いる特定のアセチル化条件によって変動する。存在する反応物質のヒドロキシル基の合計モル数を基準として約１〜約１０モル％の過剰の無水酢酸を用いることは稀ではない。
【００２３】
[0025]アセチル化は別の反応容器内で行うことができ、或いは重合反応容器内でin situで行うことができる。別の反応容器を用いる場合には、モノマーの１以上をアセチル化
反応器に導入し、続いて重合反応器に移すことができる。更に、１以上のモノマーを予めアセチル化にかけないで反応容器に直接導入することもできる。
【００２４】
[0026]モノマー及び随意的なアセチル化剤に加えて、重合の促進を助けるために他の成分を反応混合物内に含ませることもできる。例えば、場合によっては、金属塩触媒（例えば、酢酸マグネシウム、酢酸スズ（Ｉ）、チタン酸テトラブチル、酢酸鉛、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等）、及び有機化合物触媒（例えばＮ−メチルイミダゾール）のような触媒を用いることができる。かかる触媒は、通常は、繰り返し単位前駆体の全重量を基準として約５０〜約５００ｐｐｍの量で用いる。別の反応器を用いる場合には、重合反応器ではなくアセチル化反応器に触媒を加えることが通常は望ましいが、これは決して必須要件ではない。
【００２５】
[0027]反応混合物は、一般に重合反応容器内で昇温温度に加熱して、反応物質の溶融重縮合を開始させる。重縮合は、例えば約２５０℃〜約４００℃、幾つかの態様においては約２８０℃〜約３９５℃、幾つかの態様においては約３００℃〜約３８０℃の温度範囲内で行うことができる。例えば、液晶ポリマーを形成するための１つの好適な方法には、前駆体モノマー及び無水酢酸を反応器中に充填し、混合物を約９０℃〜約１５０℃の温度に加熱してモノマーのヒドロキシル基をアセチル化し（例えばアセトキシを形成し）、次に温度を約２５０℃〜約４００℃に上昇させて溶融重縮合を行うことを含ませることができる。最終重合温度に近付いたら、反応の揮発性副生成物（例えば酢酸）を除去して、所望の分子量を容易に達成することができるようにすることもできる。反応混合物は、一般に重合中に撹拌にかけて、良好な熱及び物質の移動、並びにその結果として良好な材料の均一性を確保する。撹拌器の回転速度は反応の過程中に変動させることができるが、通常は約１０〜約１００の毎分回転数（ｒｐｍ）、幾つかの態様においては約２０〜約８０ｒｐｍの範囲である。溶融体における分子量を構築するために、重合反応はまた真空下で行うこともでき、これを加えると重縮合の最終段階中に形成される揮発性化合物の除去が促進される。真空は、約５〜約３０ポンド／平方インチ（ｐｓｉ）、幾つかの態様においては約１０〜約２０ｐｓｉの範囲内のような吸引圧を加えることによって生起させることができる。
【００２６】
[0028]溶融重合の後、溶融したポリマーは、通常は所望の形状のダイを取り付けた押出しオリフィスを通して反応器から排出し、冷却し、回収することができる。通常は、溶融体は、有孔ダイを通して排出してストランドを形成し、これを水浴内で巻き取り、ペレット化し、乾燥する。幾つかの態様においては、溶融重合したポリマーはまた、引き続き固相重合法にかけてその分子量を更に増加させることもできる。固相重合は、ガス（例えば空気、不活性ガス等）の存在下で行うことができる。好適な不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、クリプトン、キセノン等、並びにこれらの組み合
わせを挙げることができる。固相重合反応容器は、ポリマーを所望の固相重合温度に所望の滞留時間保持することを可能にする実質的に任意のデザインのものであってよい。かかる容器の例は、固定床、静止床、移動床、流動床等を有するものであってよい。固相重合を行う温度は変動する可能性があるが、通常は約２５０℃〜約３５０℃の範囲内である。重合時間は、勿論、温度及び目標の分子量に基づいて変動する。しかしながら殆どの場合において、固相重合時間は約２〜約１２時間、幾つかの態様においては約４〜約１０時間である。
【００２７】
ＩＩ．他の成分：
Ａ．無機繊維：
[0029]所望の場合には、ポリマー組成物に複数の無機繊維（「ウィスカー」としても知られる）を含ませることもできる。かかる無機繊維の例としては、ネオシリケート、ソロシリケート、イノシリケート（例えば、珪灰石のようなカルシウムイノシリケート；透角閃石のようなカルシウムマグネシウムイノシリケート；陽起石のようなカルシウムマグネシウム鉄イノシリケート；直閃石のようなマグネシウム鉄イノシリケート；等）、フィロシリケート（例えばパリゴルスカイトのようなアルミニウムフィロシリケート）、テクトシリケート等のようなシリケート；硫酸カルシウム（例えば脱水又は無水石膏）のようなスルフェート；ミネラルウール（例えば、ロックウール又はスラグウール）；などから誘導されるものが挙げられる。Nyco MineralsからNYGLOS（登録商標）（例えば、NYGLOS（
登録商標）4W又はNYGLOS（登録商標）8）の商品名で入手できる珪灰石繊維のようなイノ
シリケートが特に好適である。
【００２８】
[0030]無機繊維は、約０．１〜約３５マイクロメートル、幾つかの態様においては約２〜約２０マイクロメートル、幾つかの態様においては約３〜約１５マイクロメートル、幾つかの態様においては約７〜約１２マイクロメートルのメジアン幅（又は直径）を有していてよい。無機繊維はまた狭い寸法分布を有していてもよい。即ち、繊維の少なくとも約６０体積％、幾つかの態様においては繊維の少なくとも約７０体積％、幾つかの態様においては繊維の少なくとも約８０体積％は、上述の範囲内の寸法を有していてよい。理論によって制限されることは意図しないが、上述の寸法特性を有する無機繊維は成形装置を通してより容易に移動させることができ、これによりポリマーマトリクス内における分布が増大し、表面欠陥の生成が最小になると考えられる。上述の寸法特性を有することに加えて、無機繊維はまた、得られるポリマー組成物の機械特性及び表面品質の更なる向上を促進するために、比較的高いアスペクト比（平均長さをメジアン幅で割った値）を有していてもよい。例えば、無機繊維は、約１〜約５０、幾つかの態様においては約２〜約２０、幾つかの態様においては約４〜約１５のアスペクト比を有していてよい。かかる無機繊維の体積平均長さは、例えば約１〜約２００マイクロメートル、幾つかの態様においては約２〜約１５０マイクロメートル、幾つかの態様においては約５〜約１００マイクロメートル、幾つかの態様においては約１０〜約５０マイクロメートルの範囲であってよい。
【００２９】
[0031]また、ポリマー組成物中における無機繊維の相対量を選択的に制御して、成形部品に成形した際のその平滑性のような組成物の他の特性に悪影響を与えることなく所望の機械特性の達成を促進することもできる。例えば、無機繊維は、通常はポリマー組成物の約１重量％〜約４０重量％、幾つかの態様においては約２重量％〜約３０重量％、幾つかの態様においては約５重量％〜約２０重量％を構成する。
【００３０】
Ｂ．導電性充填剤：
[0032]ポリマー組成物中において導電性充填剤を用いて、成形操作、輸送、回収、組立等の間において静電荷を生成させる傾向の減少を促進することができる。実際、上述の制御された寸法及び量の無機粒子を存在させることによって、導電性充填剤が液晶ポリマーマトリクス内で分散する能力を増大させて、それによって所望の静電防止特性を達成する
ために比較的低い濃度の導電性充填剤を用いることを可能にすることができる。しかしながら、これは比較的低い濃度で用いられるので、熱的及び機械特性に対する影響を最小にすることができる。この点に関し、導電性充填剤は、用いる場合には、通常はポリマー組成物の約０．１重量％〜約３０重量％、幾つかの態様においては約０．３重量％〜約２０重量％、幾つかの態様においては約０．４重量％〜約５重量％、幾つかの態様においては約０．５重量％〜約１．５重量％を構成する。
【００３１】
[0033]一般に、任意の種々の導電性充填剤をポリマー組成物中において用いて、その静電気防止特性の向上を促進することができる。好適な導電性充填剤の例としては、例えば、金属粒子（例えばアルミニウムフレーク）、金属繊維、炭素粒子（例えば、黒鉛、膨張黒鉛、グラフェン、カーボンブラック、黒鉛化カーボンブラック等）、カーボンナノチューブ、炭素繊維などを挙げることができる。炭素繊維及び炭素粒子（例えば黒鉛）が特に好適である。用いる場合には、好適な炭素繊維としては、ピッチベースの炭素（例えばタールピッチ）、ポリアクリロニトリルベースの炭素、金属被覆炭素等を挙げることができる。望ましくは、炭素繊維は、それらが比較的高い炭素含量、例えば約８５重量％以上、幾つかの態様においては約９０重量％以上、幾つかの態様においては約９３重量％以上の炭素含量を有するという点で高い純度を有する。例えば、炭素含量は、少なくとも約９４重量％、例えば少なくとも約９５％重量％、例えば少なくとも約９６重量％、例えば少なくとも約９７重量％、例えば更には少なくとも約９８重量％であってよい。炭素純度は、一般に１００重量％未満、例えば約９９重量％未満である。炭素繊維の密度は、通常は約０．５〜約３．０ｇ／ｃｍ３、幾つかの態様においては約１．０〜約２．５ｇ／ｃｍ３、幾つかの態様においては約１．５〜約２．０ｇ／ｃｍ３である。
【００３２】
[0034]一態様においては、炭素繊維は繊維の破断を最小にしてマトリクス中に導入する。成形後の繊維の体積平均長さは、一般に、約３ｍｍの初期長さを有する繊維を用いる場合であっても約０．１ｍｍ〜約１ｍｍにすることができる。炭素繊維の平均長さ及び分布はまた、液晶ポリマーマトリクス内においてより良好な接続及び電気流路を達成するように、最終ポリマー組成物中において選択的に制御することもできる。繊維の平均直径は、約０．５〜約３０マイクロメートル、幾つかの態様においては約１〜約２０マイクロメートル、幾つかの態様においては約３〜約１５マイクロメートルであってよい。
【００３３】
[0035]ポリマーマトリクス内における分散を向上させるために、炭素繊維は、炭素繊維と液晶ポリマーとの適合性を増加させるサイジング剤で少なくとも部分的に被覆することができる。サイジング剤は、安定で、液晶ポリマーを成形する温度において熱分解しないものであってよい。一態様においては、サイジング剤に芳香族ポリマーのようなポリマーを含ませることができる。例えば、芳香族ポリマーは、約３００℃より高く、例えば約３５０℃より高く、例えば約４００℃より高い熱分解温度を有していてよい。本明細書において用いる材料の熱分解温度とは、ＡＳＴＭ試験Ｅ１１３１（又はＩＳＯ試験１１３５８）にしたがって求めて、材料が熱重量分析中にその質量の５％を損失する温度である。サイジング剤はまた、比較的高いガラス転移温度も有していてよい。例えば、サイジング剤のガラス転移温度は、約３００℃より高く、例えば約３５０℃より高く、例えば約４００℃より高くてよい。サイジング剤の特定の例としては、ポリイミドポリマー、全芳香族ポリエステルポリマーなどの芳香族ポリエステルポリマー、及び高温エポキシポリマーが挙げられる。一態様においては、サイジング剤に液晶ポリマーを含ませることができる。サイジング剤は、少なくとも約０．１重量％の量、例えば少なくとも０．２重量％の量、例えば少なくとも約０．１重量％の量で繊維上に存在させることができる。サイジング剤は、一般に約５重量％未満の量、例えば約３重量％未満の量で存在する。
【００３４】
[0036]他の好適な導電性充填剤はイオン性液体である。かかる材料の１つの利益は、イオン性液体は、導電性であることに加えて溶融加工中に液体形態で存在することもでき、
これにより液晶ポリマーマトリクス内により均一にブレンドすることが可能であることである。これにより導電性が向上し、それによって組成物がその表面から静電荷を速やかに消散させる能力が増大する。
【００３５】
[0037]イオン性液体は、一般に、液晶ポリマーと一緒に溶融加工する際に液体の形態であることができるのに十分に低い融点を有する塩である。例えば、イオン性液体の融点は、約４００℃以下、幾つかの態様においては約３５０℃以下、幾つかの態様においては約１℃〜約１００℃、幾つかの態様においては約５℃〜約５０℃であってよい。塩は、カチオン種及び対イオンを含む。カチオン種は、「カチオン中心」として少なくとも１つのヘテロ原子（例えば窒素又はリン）を有する化合物を含む。かかるヘテロ原子化合物の例としては、例えば次の構造：
【００３６】
【化２】
2020056026.tif 000003
【００３７】
[0038]（上式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８は、独立して、水素；置換又は非置換のＣ１〜Ｃ１０アルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル等）；置換又は非置換のＣ３〜Ｃ１４シクロアルキル基（例えば、アダマンチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロオクチル、シクロヘキセニ
ル等）；置換又は非置換のＣ１〜Ｃ１０アルケニル基（例えば、エチレン、プロピレン、２−メチルプロピレン、ペンチレン等）；置換又は非置換のＣ２〜Ｃ１０アルキニル基（例えば、エチニル、プロピニル等）；置換又は非置換のＣ１〜Ｃ１０アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ等）；置換又は非置換のアシルオキシ基（例えば、メタクリロキシ、メタクリロキシエチル等）；置換又は非置換のアリール基（例えばフェニル）；置換又は非置換のヘテロアリール基（例えば、ピリジル、フラニル、チエニル、チアゾリル、イソチアゾリル、トリアゾリル、イミダゾリル、イソキサゾリル、ピロリル、ピラゾリル、ピリダジニル、ピリミジニル、キノリル等）；などからなる群から選択される）
を有する第４級オニウムが挙げられる。例えば１つの特定の態様においては、カチオン種は、構造：Ｎ＋Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４（式中、Ｒ１、Ｒ２、及び／又はＲ３は、独立してＣ１〜Ｃ６アルキル（例えば、メチル、エチル、ブチル等）であり、Ｒ４は、水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基（例えばメチル又はエチル）である）を有するアンモニウム化合物であってよい。例えば、カチオン成分は、トリブチルメチルアンモニウム（Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はブチルであり、Ｒ４はメチルである）であってよい。
【００３８】
[0039]カチオン種に対する好適な対イオンとしては、例えば、ハロゲン（例えば、塩素、臭素、ヨウ素等）；スルフェート又はスルホネート（例えば、硫酸メチル、硫酸エチル、硫酸ブチル、硫酸ヘキシル、硫酸オクチル、ハイドロジェンスルフェート、メタンスルホネート、ドデシルベンゼンスルホネート、ドデシルスルフェート、トリフルオロメタンスルホネート、ヘプタデカフルオロオクタンスルホネート、ナトリウムドデシルエトキシスルフェート等）；スルホスクシネート；アミド（例えばジシアンアミド）；イミド（例えば、ビス（ペンタフルオロエチル−スルホニル）イミド、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、ビス（トリフルオロメチル）イミド等）；ボレート（例えば、テトラフルオロボレート、テトラシアノボレート、ビス［オキサラト］ボレート、ビス［サリチラト］ボレート等）；ホスフェート又はホスフィネート（例えば、ヘキサフルオロホスフェート、ジエチルホスフェート、ビス（ペンタフルオロエチル）ホスフィネート、トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、トリス（ノナフルオロブチル）トリフルオロホスフェート等）；アンチモネート（例えばヘキサフルオロアンチモネート）；アルミネート（例えばテトラクロロアルミネート）；脂肪酸カルボキシレート（例えば、オレエート、イソステアレート、ペンタデカフルオロオクタノエート等）；シアネート；アセテート；など、並びに上記の任意のものの組み合わせを挙げることができる。液晶ポリマーとの相溶性の向上を促進するために、イミド、脂肪酸カルボキシレート等のような本来概して疎水性の対イオンを選択することが望ましい可能性がある。特に好適な疎水性対イオンとしては、例えば、ビス（ペンタフルオロエチルスルホニル）イミド、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、及びビス（トリフルオロメチル）イミドを挙げることができる。
【００３９】
[0040]幾つかの態様においては、イオン性液体と炭素充填剤（例えば、黒鉛、炭素繊維等）を組み合わせて用いることによって相乗効果を達成することができる。理論によって限定されることは意図しないが、本発明者らは、イオン性液体は溶融加工中に速やかに流動して、炭素充填剤と液晶ポリマーマトリクスとの間のより良好な接続及び電気流路を与えることを促進して、それによって表面抵抗を更に減少させることができると考える。
【００４０】
Ｃ．ガラス充填剤：
[0041]一般には導電性でないガラス充填剤をポリマー組成物中において用いて、強度の向上を促進することもできる。例えば、ガラス充填剤は、ポリマー組成物の約２重量％〜約４０重量％、幾つかの態様においては約５重量％〜約３５重量％、幾つかの態様においては約６重量％〜約３０重量％を構成することができる。Ｅ−ガラス、Ａ−ガラス、Ｃ−
ガラス、Ｄ−ガラス、ＡＲ−ガラス、Ｒ−ガラス、Ｓ１−ガラス、Ｓ２−ガラス等、及びこれらの混合物から形成されるもののようなガラス繊維は、本発明において用いるのに特に好適である。ガラス繊維のメジアン幅は比較的小さく、例えば約０．１〜約３５マイクロメートル、幾つかの態様においては約２〜約２０マイクロメートル、幾つかの態様においては約３〜約１０マイクロメートルであってよい。用いる場合には、かかるガラス繊維の小さな直径によって、溶融ブレンド中においてそれらの長さをより容易に減少させることを可能にすることができ、これによって表面の外観及び機械特性を更に向上させることができると考えられる。例えば成形部品において、ガラス繊維の体積平均長さは比較的小さく、例えば約１０〜約５００マイクロメートル、幾つかの態様においては約１００〜約４００マイクロメートル、幾つかの態様においては約１５０〜約３５０マイクロメートル、幾つかの態様においては約２００〜約３２５マイクロメートルであってよい。ガラス繊維はまた、約１〜約１００、幾つかの態様においては約１０〜約６０、幾つかの態様においては約３０〜約５０の比較的高いアスペクト比（平均長さを公称径で割った値）を有していてもよい。
【００４１】
Ｄ．シリケート充填剤：
[0042]粒子の形態であってよいシリケート充填剤をポリマー組成物中において用いて、所望の特性及び／又は色の達成を促進することもできる。用いる場合には、かかる充填剤は、通常はポリマー組成物の約５重量％〜約４０重量％、幾つかの態様においては約１０重量％〜約３５重量％、幾つかの態様においては約１０重量％〜約３０重量％を構成する。好適なシリケートの幾つかの例としては、例えば、タルク（Ｍｇ３Ｓｉ４Ｏ１０（ＯＨ）２）、ハロイサイト（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ５（ＯＨ）４）、カオリナイト（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ５（ＯＨ）４）、イライト（（Ｋ，Ｈ３Ｏ）（Ａｌ，Ｍｇ，Ｆｅ）２（Ｓｉ，Ａｌ）４Ｏ１０［（ＯＨ）２，（Ｈ２Ｏ）］、モンモリロナイト（Ｎａ，Ｃａ）０．３３（Ａｌ，Ｍｇ）２Ｓｉ４Ｏ１０（ＯＨ）２・ｎＨ２Ｏ）、バーミキュライト（（ＭｇＦｅ，Ａｌ）３（Ａｌ，Ｓｉ）４Ｏ１０（ＯＨ）２・４Ｈ２Ｏ）、パリゴルスカイト（（Ｍｇ，Ａｌ）２Ｓｉ４Ｏ１０（ＯＨ）・４（Ｈ２Ｏ））、パイロフィライト（Ａｌ２Ｓｉ４Ｏ１０（ＯＨ）２）、マイカ、珪藻土等、並びにこれらの組み合わせが挙げられる。マイカ及び／又はタルクが特に好適である可能性がある。本明細書において用いる「マイカ」という用語は、モスコバイト（ＫＡｌ２（ＡｌＳｉ３）Ｏ１０（ＯＨ）２）、バイオタイト（Ｋ（Ｍｇ，Ｆｅ）３（ＡｌＳｉ３）Ｏ１０（ＯＨ）２）、フロゴパイト（ＫＭｇ３（ＡｌＳｉ３）Ｏ１０（ＯＨ）２）、レピドライト（Ｋ（Ｌｉ，Ａｌ）２〜３（ＡｌＳｉ３）Ｏ１０（ＯＨ）２）、グローコナイト（Ｋ，Ｎａ）（Ａｌ，Ｍｇ，Ｆｅ）２（Ｓｉ，Ａｌ）４Ｏ１０（ＯＨ）２）等、並びにこれらの組み合わせのような任意のこれらの種を総称的に包含すると意図される。
【００４２】
Ｅ．官能性化合物：
[0043]所望の場合には、とりわけポリマー組成物の溶融粘度の減少を促進するために、官能性化合物を本発明において用いることもできる。例えば一態様においては、本発明のポリマー組成物に官能性芳香族化合物を含ませることができる。かかる化合物は、通常は、ポリマー鎖と反応してその長さを短くして、それによって溶融粘度を減少させることができる１以上のカルボキシル及び／又はヒドロキシル官能基を含む。幾つかの場合においては、この化合物はまた、切断された後にポリマーのより短い鎖を一緒に結合して、その溶融粘度を減少させた後においても組成物の機械特性の維持を促進することもできる。官能性芳香族化合物は、下記の式（ＩＩ）：
【００４３】
【化３】
2020056026.tif 000004
【００４４】
（式中、
環Ｂは６員の芳香環であり、１〜３個の環炭素原子は場合によっては窒素又は酸素によって置き換えられており、それぞれの窒素は場合によっては酸化されており、環Ｂは、場合によっては５又は６員のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、又はヘテロシクリルに縮合又は結合していてもよく；
Ｒ４は、ＯＨ又はＣＯＯＨであり；
Ｒ５は、アシル、アシルオキシ（例えばアセチルオキシ）、アシルアミノ（例えばアセチルアミノ）、アルコキシ、アルケニル、アルキル、アミノ、アリール、アリールオキシ、カルボキシル、カルボキシルエステル、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、ヒドロキシル、ハロ、ハロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロシクリル、又はヘテロシクロオキシであり；
ｍは、０〜４、幾つかの態様においては０〜２、幾つかの態様においては０〜１であり；
ｎは、１〜３、幾つかの態様においては１〜２である）
で与えられる一般構造を有していてよく、又はその金属塩であってよい。化合物が金属塩の形態である場合には、好適な金属対イオンとしては、遷移金属対イオン（例えば、銅、鉄等）、アルカリ金属対イオン（例えば、カリウム、ナトリウム等）、アルカリ土類金属対イオン（例えば、カルシウム、マグネシウム等）、及び／又は典型金属対イオン（例えばアルミニウム）を挙げることができる。
【００４５】
[0044]例えば一態様においては、式（ＩＩ）におけるＢはフェニルであり、得られるフェノール系化合物は次の一般式（ＩＩＩ）：
【００４６】
【化４】
2020056026.tif 000005
【００４７】
（式中、
Ｒ４は、ＯＨ又はＣＯＯＨであり；
Ｒ６は、アシル、アシルオキシ、アシルアミノ、アルコキシ、アルケニル、アルキル、アミノ、カルボキシル、カルボキシルエステル、ヒドロキシル、ハロ、又はハロアルキルであり；
ｑは、０〜４、幾つかの態様においては０〜２、幾つかの態様においては０〜１である）
を有するか、又はその金属塩である。かかるフェノール系化合物の特定の例としては、例えば、安息香酸（ｑは０である）；４−ヒドロキシ安息香酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；フタル酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１である）；イソフタル酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１である）；テレフタル酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１
である）；２−メチルテレフタル酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨ及びＣＨ３であり、ｑは２である）；フェノール（Ｒ４はＯＨであり、ｑは０である）；ナトリウムフェノキシド（Ｒ４はＯＨであり、ｑは０である）；ヒドロキノン（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；レゾルシノール（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；４−ヒドロキシ安息香酸（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＣ（Ｏ）ＯＨであり、ｑは１である）等；並びにこれらの組み合わせが挙げられる。
【００４８】
[0045]他の態様においては、上式（ＩＩ）においてＢはフェニルであり、Ｒ５はフェニルであり、ジフェノール系化合物は、次の一般式（ＩＶ）：
【００４９】
【化５】
2020056026.tif 000006
【００５０】
（式中、
Ｒ４は、ＣＯＯＨ又はＯＨであり；
Ｒ６は、アシル、アシルオキシ、アシルアミノ、アルコキシ、アルケニル、アルキル、アミノ、アリール、アリールオキシ、カルボキシル、カルボキシルエステル、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、ヒドロキシル、ハロ、ハロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロシクリル、又はヘテロシクロオキシであり；
ｑは、０〜４、幾つかの態様においては０〜２、幾つかの態様においては０〜１である）
を有するか、又はその金属塩である。かかるジフェノール系化合物の特定の例としては、例えば、４−ヒドロキシ−４’−ビフェニルカルボン酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；４’−ヒドロキシフェニル−４−安息香酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；３’−ヒドロキシフェニル−４−安息香酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；４’−ヒドロキシフェニル−３−安息香酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；４，４’−ビ安息香酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１である）；（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；３，３’−ビフェノール（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；３，４’−ビフェノール（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；４−フェニルフェノール（Ｒ４はＯＨであり、ｑは０である）；ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＣ２（ＯＨ）２フェノールであり、ｑは１である）；トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＣ（ＣＨ３）ビフェノールであり、ｑは１である）；４−ヒドロキシ−４’−ビフェニルカルボン酸（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１である）；４’−ヒドロキシフェニル−４−安息香酸（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１である）；３’−ヒドロキシフェニル−４−安息香酸（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１である）；４’−ヒドロキシフェニル−３−安息香酸（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１である）等；並びにこれらの組み合わせが挙げられる。
【００５１】
[0046]更に他の態様においては、上式（ＩＩ）においてＢはナフチルであり、得られるナフテン系化合物は次の一般式（Ｖ）：
【００５２】
【化６】
2020056026.tif 000007
【００５３】
（式中、
Ｒ４は、ＯＨ又はＣＯＯＨであり；
Ｒ６は、アシル、アシルオキシ、アシルアミノ、アルコキシ、アルケニル、アルキル、アミノ、アリール、アリールオキシ、カルボキシル、カルボキシルエステル、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、ヒドロキシル、ハロ、ハロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロシクリル、又はヘテロシクロオキシであり；
ｑは、０〜４、幾つかの態様においては０〜２、幾つかの態様においては０〜１である）
を有するか、又はその金属塩である。かかるナフテン系化合物の特定の例としては、例えば、１−ナフトエ酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、ｑは０である）；２−ナフトエ酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、ｑは０である）；２−ヒドロキシ−６−ナフトエ酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；２−ヒドロキシ−５−ナフトエ酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；２，６−ナフタレンジカルボン酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１である）；２，３−ナフタレンジカルボン酸（Ｒ４はＣＯＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１である）；２−ヒドロキシナフタレン（Ｒ４はＯＨであり、ｑは０である）；２−ヒドロキシ−６−ナフトエ酸（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１である）；２−ヒドロキシ−５−ナフトエ酸（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１である）；３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１である）；２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＣＯＯＨであり、ｑは１である）；２，６−ジヒドロキシナフタレン（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；２，７−ジヒドロキシナフタレン（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）；１，６−ジヒドロキシナフタレン（Ｒ４はＯＨであり、Ｒ６はＯＨであり、ｑは１である）等；並びにこれらの組み合わせが挙げられる。
【００５４】
[0047]例えば本発明の幾つかの態様においては、ポリマー組成物には、ヒドロキノン、レゾルシノール、４，４’−ビフェノール等、並びにこれらの組み合わせのような芳香族ジオールを含ませることができる。用いる場合には、かかる芳香族ジオールは、ポリマー組成物の約０．０１重量％〜約１重量％、幾つかの態様においては約０．０５重量％〜約０．４重量％を構成することができる。また幾つかの態様においては、芳香族カルボン酸を、単独か又は芳香族ジオールと組合わせて用いることもできる。芳香族カルボン酸は、ポリマー組成物の約０．００１重量％〜約０．５重量％、幾つかの態様においては約０．００５重量％〜約０．１重量％を構成することができる。特定の態様においては、所望の粘度減少を達成することを促進するために、本発明において芳香族ジオール（上式においてＲ４及びＲ６はＯＨである）（例えば４，４’−ビフェノール）及び芳香族ジカルボン酸（上式においてＲ４及びＲ６はＣＯＯＨである）（例えば２，６−ナフタレンジカルボン酸）の組み合わせを用いる。
【００５５】
[0048]上述のものに加えて、本発明において非芳香族官能性化合物を用いることもできる。かかる化合物は、溶融粘度の減少のような種々の目的を果たすことができる。１つのかかる非芳香族官能性化合物は水である。所望の場合には、水は、プロセス条件下におい
て水を生成する形態で加えることができる。例えば、水は、プロセス条件（例えば高温）下において有効に水を「失う」水和物として加えることができる。かかる水和物としては、アルミナ三水和物、硫酸銅五水和物、塩化バリウム二水和物、硫酸カルシウムデヒドレート等、及びこれらの組み合わせが挙げられる。用いる場合には、水和物は、ポリマー組成物の約０．０２重量％〜約２重量％、幾つかの態様においては約０．０５重量％〜約１重量％を構成することができる。１つの特定の態様においては、組成物中において、芳香族ジオール、水和物、及び芳香族ジカルボン酸の混合物を用いる。かかる態様においては、芳香族ジオールに対する水和物の重量比は、通常は約０．５〜約８、幾つかの態様においては約０．８〜約５、幾つかの態様においては約１〜約５である。
【００５６】
Ｆ．レーザー活性化可能な添加剤；
[0049]所望の場合には、本発明のポリマー組成物は、レーザーダイレクトストラクチャリング（ＬＤＳ）プロセスによって活性化することができる添加剤を含むという意味で「レーザー活性化可能」にすることができる。用いる場合には、レーザー活性化可能な添加剤は、ポリマー組成物の約０．１重量％〜約３０重量％、幾つかの態様においては約０．５重量％〜約２０重量％、幾つかの態様においては約１重量％〜約１０重量％を構成することができる。かかるレーザー活性化可能な添加剤は一般にスピネル結晶を含み、これはデファイナブル結晶形成内の２以上の金属酸化物クラスター構造を含んでいてよい。例えば、全結晶形成は次の一般式：
ＡＢ２Ｏ４
（式中、
Ａは、２の価数を有する金属カチオン、例えばカドミウム、クロム、マンガン、ニッケル、亜鉛、銅、コバルト、鉄、マグネシウム、スズ、チタン等、並びにこれらの組み合わせであり；
Ｂは、３の価数を有する金属カチオン、例えばクロム、鉄、アルミニウム、ニッケル、マンガン、スズ等、並びにこれらの組み合わせである）
を有していてよい。
【００５７】
[0050]通常は、上式中のＡは第１の金属酸化物クラスターの主カチオン成分を与え、Ｂは第２の金属酸化物クラスターの主カチオン成分を与える。これらの酸化物クラスターは、同一か又は異なる構造を有していてよい。例えば一態様においては、第１の金属酸化物クラスターは四面体構造を有し、第２の金属酸化物クラスターは八面体クラスターを有する。しかしながら、クラスターは一緒になって、電磁放射線に対して増大した感受性を有する唯一の特定可能な結晶タイプ構造を与えることができる。好適なスピネル結晶の例としては、例えばＭｇＡｌ２Ｏ４、ＺｎＡｌ２Ｏ４、ＦｅＡｌ２Ｏ４、ＣｕＦｅ２Ｏ４、ＣｕＣｒ２Ｏ４、ＭｎＦｅ２Ｏ４、ＮｉＦｅ２Ｏ４、ＴｉＦｅ２Ｏ４、ＦｅＣｒ２Ｏ４、ＭｇＣｒ２Ｏ４等が挙げられる。銅酸化クロム（ＣｕＣｒ２Ｏ４）は本発明において用いるのに特に好適であり、Shepherd Color Co.から"Shepherd Black 1GM"の名称で入手できる。
【００５８】
Ｇ．他の添加剤：
[0051]組成物中に含ませることができる更に他の添加剤としては、例えば、抗菌剤、顔料、酸化防止剤、安定剤、界面活性剤、ワックス、固体溶媒、難燃剤、垂れ防止剤、並びに特性及び加工性を向上させるために加える他の材料を挙げることができる。また、実質的に分解することなく液晶ポリマーの処理条件に耐えることができる潤滑剤を、ポリマー組成物中において用いることもできる。かかる潤滑剤の例としては、脂肪酸エステル、その塩、エステル、脂肪酸アミド、有機ホスフェートエステル、及びエンジニアリングプラスチック材料の処理において潤滑剤として通常用いられているタイプの炭化水素ワックス、並びにこれらの混合物が挙げられる。好適な脂肪酸は、通常は、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキン酸、モンタン酸、オクタデカン酸、パリナリン酸などの
ように、約１２〜約６０個の炭素原子の骨格炭素鎖を有する。好適なエステルとしては、脂肪酸エステル、脂肪アルコールエステル、ワックスエステル、グリセロールエステル、グリコールエステル、及びコンプレックスエステルが挙げられる。脂肪酸アミドとしては、脂肪酸第１級アミド、脂肪酸第２級アミド、メチレン及びエチレンビスアミド、並びにアルカノールアミド、例えば、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビスステアラミドなどが挙げられる。また、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムなどのような脂肪酸の金属塩；パラフィンワックス、ポリオレフィン及び酸化ポリオレフィンワックス、並びに微結晶質ワックスなどの炭化水素ワックス；も好適である。特に好適な潤滑剤は、ステアリン酸の酸、塩、又はアミド、例えばペンタエリトリトールテトラステアレート、カルシウムステアレート、又はＮ，Ｎ’−エチレンビスステアラミドである。用いる場合には、１種類又は複数の潤滑剤は、通常は、ポリマー組成物の約０．０５重量％〜約１．５重量％、幾つかの態様においては約０．１重量％〜約０．５重量％（重量基準）を構成する。
【００５９】
ＩＩＩ．形成：
[0052]液晶ポリマー、無機粒子、及び他の随意的な添加剤は、約２５０℃〜約４５０℃、幾つかの態様においては約２８０℃〜約４００℃、幾つかの態様においては約３００℃〜約３８０℃の温度範囲内で一緒に溶融加工又はブレンドしてポリマー組成物を形成することができる。例えば、成分（例えば、液晶ポリマー、無機粒子等）を、バレル（例えば円筒形のバレル）内に回転可能に取り付けられて収容されている少なくとも１つのスクリューを含み、スクリューの長さに沿って、供給セクション及び供給セクションの下流に配置される溶融セクションを画定することができる押出機に別々か又は組み合わせて供給することができる。
【００６０】
[0053]押出機は一軸又は二軸押出機であってよい。例えば図３を参照すると、ハウジング又はバレル１１４、及び好適な駆動装置１２４（通常はモーター及びギヤボックスを含む）によって一端の上で回転可能に駆動されるスクリュー１２０を含む一軸押出機８０の一態様が示されている。所望の場合には、２つの別々のスクリューを含む二軸押出機を用いることができる。スクリューの形状は本発明に対して特に重要ではなく、当該技術において公知なように任意の数及び／又は配向のネジ山及びネジ溝を含んでいてよい。例えば、図３に示すように、スクリュー１２０は、スクリュー１２０のコアの周りに放射状に伸びる概して螺旋状のネジ溝を形成するネジ山を含む。バレル１１４内の開口を通して液晶ポリマー及び／又は他の材料（例えば、無機粒子、無機繊維等）を供給セクション１３２に供給するためのホッパー４０が、駆動装置１２４に隣接して配置されている。駆動装置１２４の反対側は押出機８０の出口端１４４であり、ここで押出されたプラスチックが更なる加工のために排出される。
【００６１】
[0054]供給セクション１３２及び溶融セクション１３４が、スクリュー１２０の長さに沿って画定されている。供給セクション１３２はバレル１１４の入口部分であり、ここで液晶ポリマー、無機粒子、無機繊維、及び／又は官能性化合物が加えられる。溶融セクション１３４は相変化セクションであり、この中で液晶ポリマーが固体から液体に変化する。押出機を製造する際にはこれらのセクションは明確に規定されて示されていないが、供給セクション１３２、及び固体から液体への相変化を行う溶融セクション１３４を確実に識別することは十分に当業者の範囲内である。必ずしも必須ではないが、押出機８０にはまた、バレル１１４の出口端に隣接して且つ溶融セクション１３４の下流に配置されている混合セクション１３６を与えることもできる。所望の場合には、押出機の混合及び／又は溶融セクション内において、１以上の分配及び／又は分散混合部材を用いることができる。一軸押出機のために好適な分配ミキサーとしては、例えば、Saxon、Dulmage、キャビティートランスファーミキサー等を挙げることができる。更に、好適な分散ミキサーとしては、ブリスターリング、Leroy／Maddock、ＣＲＤミキサー等を挙げることができる。当
該技術において周知なように、混合は、Bussニーダー押出機、キャビティートランスファーミキサー、及びボルテックスインターメッシュピンミキサーにおいて用いられているもののようなポリマー溶融体の折り畳み及び再配向を生起させるバレル内のピンを用いることによって更に向上させることができる。
【００６２】
[0055]用いる場合には、無機粒子及び無機繊維は、ホッパー４０に、又はその下流の位置において加えることができる。１つの特定の態様においては、無機粒子及び無機繊維は、液晶ポリマーを供給する位置の下流の位置で加えることができる。長さ及び直径に加えて、押出機の他の形態を制御することもできる。例えば、スクリューの速度は、所望の滞留時間、剪断速度、溶融加工温度等を達成するように選択することができる。例えば、スクリュー速度は、約５０〜約８００の毎分回転数（ｒｐｍ）、幾つかの態様においては約７０〜約１５０ｒｐｍ、幾つかの態様においては約８０〜約１２０ｒｐｍの範囲にすることができる。また、溶融ブレンド中のみかけ剪断速度は、約１００秒−１〜約１０，０００秒−１、幾つかの態様においては約５００秒−１〜約５０００秒−１、幾つかの態様においては約８００秒−１〜約１２００秒−１の範囲にすることができる。みかけ剪断速度は、４Ｑ／πＲ３（式中、Ｑはポリマー溶融体の体積流量（ｍ３／秒）であり、Ｒはそれを通って溶融ポリマーが流れる毛細管（例えば押出機ダイ）の半径（ｍ）である）に等しい。
【００６３】
[0056]本発明者らは、それを形成する特定の方法には関係なく、得られるポリマー組成物は優れた熱特性を有することができることを見出した。例えば、ポリマー組成物を小さい寸法を有する金型のキャビティ中に容易に流入させることができるように、ポリマー組成物の溶融粘度を十分に低くすることができる。１つの特定の態様においては、ポリマー組成物は、１０００秒−１の剪断速度において測定して約０．１〜約１５０Ｐａ・秒、幾つかの態様においては約０．５〜約１２０Ｐａ・秒、幾つかの態様においては約１〜約１００Ｐａ・秒の溶融粘度を有することができる。溶融粘度は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．１１４４３にしたがって、組成物の融点（例えば３５０℃）よりも１５℃高い温度で測定することができる。組成物はまた、比較的高い融点も有することができる。例えば、ポリマーの融点は、約２５０℃〜約４００℃、幾つかの態様においては約２８０℃〜約３９５℃、幾つかの態様においては約３００℃〜約３８０℃にすることができる。
【００６４】
ＩＶ．カメラモジュール：
[0057]形成したら、ポリマー組成物は、カメラモジュールにおいて用いるための成形部品に成形することができる。例えば、成形部品は、乾燥して予備加熱したプラスチック顆粒を金型中に射出する１成分射出成形プロセスを用いて成形することができる。用いる技術に関係なく、本発明の成形部品は、その表面光沢度によって示すことができる比較的平滑な表面を有することができることが見出された。例えば、光沢計を用いて約８０°〜約８５°の角度で求められる表面光沢度は、約３５％以上、幾つかの態様においては約３８％以上、幾つかの態様においては約４０％〜６０％にすることができる。従来は、かかる平滑な表面を有する部品はまた、十分に良好な機械特性は有しないと考えられていた。しかしながら、従来の見解に反して、本発明の成形部品は優れた機械特性を有することが分かった。例えば、本部品は、カメラモジュールの薄い部品を形成する際に有用な高い溶接強度を有することができる。例えば、本部品は、約１０キロパスカル（ｋＰａ）〜約１００ｋＰａ、幾つかの態様においては約２０ｋＰａ〜約８０ｋＰａ、幾つかの態様においては約４０ｋＰａ〜約７０ｋＰａの溶接強度（これは、ＩＳＯ試験５２７（ＡＳＴＭ−Ｄ６３８と技術的に同等）にしたがって２３℃において求められるピーク応力である）を示すことができる。
【００６５】
[0058]本部品はまた、ＩＳＯ試験１７９−１（ＡＳＴＭ−Ｄ２５６方法Ｂと技術的に同等）にしたがって２３℃において測定して、約２ｋＪ／ｍ２より大きく、約２．５ｋＪ／
ｍ２より大きく、幾つかの態様においては約３〜約４０ｋＪ／ｍ２のシャルピーノッチ付き衝撃強さも有することができる。引張及び曲げ機械特性も良好である。例えば、本部品は、約２０〜約５００ＭＰａ、幾つかの態様においては約５０〜約４００ＭＰａ、幾つかの態様においては約１００〜約３５０ＭＰａの引張り強さ；約０．５％以上、幾つかの態様においては約０．６％〜約１０％、幾つかの態様においては約０．８％〜約３．５％の引張破断歪み；及び／又は約５，０００ＭＰａ〜約２０，０００ＭＰａ、幾つかの態様においては約８，０００ＭＰａ〜約２０，０００ＭＰａ、幾つかの態様においては約１０，０００ＭＰａ〜約１５，０００ＭＰａの引張弾性率；を示すことができる。引張特性は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．５２７（ＡＳＴＭ−Ｄ６３８と技術的に同等）にしたがって２３℃において求めることができる。本部品はまた、約２０〜約５００ＭＰａ、幾つかの態様においては約５０〜約４００ＭＰａ、幾つかの態様においては約１００〜約３５０ＭＰａの曲げ強さ；約０．５％以上、幾つかの態様においては約０．６％〜約１０％、幾つかの態様においては約０．８％〜約３．５％の曲げ破断歪み；及び／又は約５，０００ＭＰａ〜約２０，０００ＭＰａ、幾つかの態様においては約８，０００ＭＰａ〜約２０，０００ＭＰａ、幾つかの態様においては約１０，０００ＭＰａ〜約１５，０００ＭＰａの曲げ弾性率；も示すことができる。曲げ特性は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．１７８（ＡＳＴＭ−Ｄ７９０と技術的に同等）にしたがって２３℃において求めることができる。本成形部品はまた、ＡＳＴＭ−Ｄ６４８−０７（ＩＳＯ試験Ｎｏ．７５−２と技術的に同等）にしたがって１．８ＭＰａの規定荷重において測定して約２００℃以上、幾つかの態様においては約２００℃〜約２８０℃の荷重撓み温度（ＤＴＵＬ）も示すことができる。また、本部品のロックウェル硬さは、ＡＳＴＭ−Ｄ７８５−０８（スケールＭ）にしたがって求めて約４０以上、幾つかの態様においては約５０以上、幾つかの態様においては約６０〜約１００にすることができる。
【００６６】
[0059]更に、本成形部品はまた、特に導電性充填剤をポリマー組成物内に含ませる場合には、優れた静電防止挙動を有することもできる。かかる静電防止挙動は、ＩＥＣ−６００９３にしたがって求めて比較的低い表面及び／又は体積抵抗率によって特徴付けることができる。例えば、本成形部品は、約１×１０１５Ω以下、幾つかの態様においては約１×１０１４Ω以下、幾つかの態様においては約１×１０９Ω〜約９×１０１３Ω、幾つかの態様においては約１×１０１０〜約１×１０１３Ωの表面抵抗率を示すことができる。更に、本成形部品はまた、約１×１０１５Ω・ｍ以下、幾つかの態様においては約１×１０９Ω・ｍ〜約９×１０１４Ω・ｍ、幾つかの態様においては約１×１０１０〜約５×１０１４Ω・ｍの体積抵抗率を示すこともできる。勿論、かかる静電防止挙動は決して必須ではない。例えば、幾つかの態様においては、本成形部品は、約１×１０１５Ω以上、幾つかの態様においては約１×１０１６Ω以上、幾つかの態様においては約１×１０１７Ω〜約９×１０３０Ω、幾つかの態様においては約１×１０１８〜約１×１０２６Ωのような比較的高い表面抵抗率を示すことができる。
【００６７】
[0060]本発明のポリマー組成物及び成形部品は、広範囲のカメラモジュール構造において用いることができる。１つの特に好適なカメラモジュールを図１〜２に示す。示されているように、カメラモジュール５００は、ベース５０６の上に配されているレンズアセンブリ５０４を含む。次にベース５０６は、場合によって用いるメインボード５０８の上に配される。これらの比較的薄い特徴のために、ベース５０６及び／又はメインボード５０８は、上記に記載の本発明のポリマー組成物から成形するのに特に適している。レンズアセンブリ５０４は、当該技術において公知の任意の種々の構造を有していてよい。例えば一態様においては、レンズアセンブリ５０４は、レンズ６０４を収容する中空のバレルの形態であり、これはメインボード５０８の上に配置されて回路６０１によって制御される画像センサー６０２と連絡している。バレルは、長方形、円筒形等のような任意の種々の形状を有していてよい。幾つかの態様においては、バレルは本発明のポリマー組成物から形成することができ、上述の範囲内の壁厚を有していてよい。カメラモジュールの他の部
品も本発明のポリマー組成物から形成することができることを理解すべきである。例えば、示されているように、ポリマーフィルム５１０（例えばポリエステルフィルム）及び／又は断熱キャップ５０２によってレンズアセンブリ５０４を覆うことができる。幾つかの態様においては、フィルム５１０及び／又はキャップ５０２も本ポリマー組成物から形成することができる。
【実施例】
【００６８】
[0061]本発明は以下の実施例を参照してより良好に理解することができる。
試験方法：
[0062]溶融粘度：溶融粘度（Ｐａ・秒）は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．１１４４３にしたがって、１０００秒−１の剪断速度、及び融点（例えば３５０℃）より１５℃高い温度において、Dynisco LCR7001毛細管流量計を用いて求めることができる。流量計オリフィス（ダイ
）は、１ｍｍの直径、２０ｍｍの長さ、２０．１のＬ／Ｄ比、及び１８０°の入口角を有していた。バレルの直径は９．５５ｍｍ±０．００５ｍｍであり、ロッドの長さは２３３．４ｍｍであった。
【００６９】
[0063]融点：融点（Ｔｍ）は、当該技術において公知なように示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によって求めることができる。融点は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．１１３５７によって求められる示差走査熱量測定（ＤＳＣ）ピーク融解温度である。ＤＳＣ手順においては、TA-Q2000装置上で行うＤＳＣ測定を用いて、ＩＳＯ標準規格１０３５０に示されているように試料を２０℃／分で加熱及び冷却した。
【００７０】
[0064]荷重撓み温度（ＤＴＵＬ）：荷重撓み温度は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．７５−２（ＡＳＴＭ−Ｄ６４８−０７と技術的に同等）にしたがって求めることができる。より詳しくは、８０ｍｍの長さ、１０ｍｍの厚さ、及び４ｍｍの幅を有する試験片試料を、規定荷重（最大外繊維応力）が１．８メガパスカルである沿層方向３点曲げ試験にかけることができる。試験片をシリコーン油浴中に降下させ、０．２５ｍｍ（ＩＳＯ試験Ｎｏ．７５−２に関しては０．３２ｍｍ）歪むまで温度を２℃／分で上昇させることができる。
【００７１】
[0065]引張弾性率、引張応力、及び引張伸び：引張特性は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．５２７（ＡＳＴＭ−Ｄ６３８と技術的に同等）にしたがって試験することができる。８０ｍｍの長さ、１０ｍｍの厚さ、及び４ｍｍの幅を有する同じ試験片試料について、弾性率及び強度の測定を行うことができる。試験温度は２３℃であってよく、試験速度は１又は５ｍｍ／分であってよい。
【００７２】
[0066]曲げ弾性率、曲げ応力、及び曲げ歪み：曲げ特性は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．１７８（ＡＳＴＭ−Ｄ７９０と技術的に同等）にしたがって試験することができる。この試験は６４ｍｍの支持材スパンに関して行うことができる。試験は、未切断のＩＳＯ−３１６７多目的棒材の中央部分について行うことができる。試験温度は２３℃であってよく、試験速度は２ｍｍ／分であってよい。
【００７３】
[0067]ノッチ付きシャルピー衝撃強さ：ノッチ付きシャルピー特性は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．１７９−１（ＡＳＴＭ−Ｄ２５６方法Ｂと技術的に同等）にしたがって試験することができる。この試験は、タイプＡのノッチ（０．２５ｍｍの底半径）、及びタイプ１の試験片寸法（８０ｍｍの長さ、１０ｍｍの幅、及び４ｍｍの厚さ）を用いて行うことができる。試験片は、一枚歯フライス盤を用いて多目的棒材の中央部分から切り出すことができる。試験温度は２３℃であってよい。
【００７４】
[0068]溶接線強度：溶接線強度は、まず、当該技術において周知なようにポリマー組成物試料から射出成形ライングリッドアレイ（ＬＧＡ）コネクター（４９ｍｍ×３９ｍｍ×
１ｍｍの寸法）を形成することによって求めることができる。形成したら、ＬＧＡコネクターを試料ホルダー上に配置することができる。コネクターの中央部を、５．０８ミリメートル／分の速度で動かすロッドによる引張力にかけることができる。ピーク応力を溶接線強度の概算値として記録することができる。
【００７５】
[0069]表面光沢度：光沢計を用いて表面の光沢度を測定することができる。表面の２つの異なる位置において、部品の表面に対して８５°の入射光角度で光沢度の読み値を取り、それぞれの位置において３回の繰り返し測定を行うことができる。光沢度を計算するために読み値の平均をとることができる。BYK Gardner GmbHからのMicro-TRI-Glossのよう
な任意の好適な光沢計を用いて光沢度を測定することができる。
【００７６】
[0070]ロックウェル硬さ：ロックウェル硬さは材料の押し込み抵抗性の指標であり、ＡＳＴＭ−Ｄ７８５−０８（スケールＭ）にしたがって求めることができる。試験は、まず規定の小荷重を用いて鋼球圧子を材料の表面中に押し込むことによって行う。次に、荷重を規定の大荷重に増加させ、減少させて元の小荷重に戻す。ロックウェル硬さは、圧子の深さの正味の増加分の量であり、貫入量を目盛分割で割った値を１３０から減じることによって計算される。
【００７７】
[0002]表面／体積抵抗率：表面及び体積抵抗率の値は、ＩＥＣ−６００９３（ＡＳＴＭ−Ｄ２５７−０７と同等）にしたがって求めることができる。この手順によると、標準試験片（例えば１メートル立方）を２つの電極の間に配置する。電圧を６０秒間印加し、抵抗を測定する。表面抵抗率は、電位勾配（Ｖ／ｍ）と単位電極長さあたりの電流（Ａ／ｍ）との商であり、概して絶縁材料の表面に沿った漏れ電流に対する抵抗を表す。電極の４つの端が正方形を画定するので、商において長さは約分されて表面抵抗率はΩで報告されるが、Ω毎スクエアのより説明的な単位を見ることも通常的である。体積抵抗率もまた、電流密度に対する材料において電流に平行な電位勾配の比として求められる。ＳＩ単位においては、体積抵抗率は１メートル立方の材料の対向面の間の直流抵抗（Ω・ｍ）に数値的に等しい。
【００７８】
実施例１：
[0003]試料１〜４は、下表１に示すように、種々の割合の液晶ポリマー、ピロリン酸カルシウム、珪灰石（Nyglos（登録商標）4W）、潤滑剤（Glycolube（登録商標）P）、導電性充填剤、及び黒色マスターバッチから形成した。黒色マスターバッチは、８０重量％の液晶ポリマー及び２０重量％のカーボンブラックを含んでいた。試料２〜３においては、導電性充填剤は、イオン性液体、即ちトリ−ｎ−ブチルメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（3MからのFC-4400）を含んでいた。それぞれの試料に
おける液晶ポリマーは、Leeらの米国特許５，５０８，３７４に記載されているように、
ＨＢＡ、ＨＮＡ、ＴＡ、ＢＰ、及びＡＰＡＰから形成した。配合は、１８ｍｍの一軸押出機を用いて行った。試料をプラーク（６０ｍｍ×６０ｍｍ）に射出成形した。
【００７９】
【表１】
2020056026.tif 000008
【００８０】
[0004]また、成形部品を熱及び機械特性に関しても試験した。結果を下記の表２において示す。
【００８１】
【表２】
2020056026.tif 000009
【００８２】
[0005]本発明のこれら及び他の修正及び変更は、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく当業者によって実施することができる。更に、種々の態様の幾つかの形態は、全体的又は部分的に交換することができることを理解すべきである。更に、当業者であれば、上記の記載は例示目的のみのものであり、特許請求の範囲において更に記載されている発明を限定することは意図しないことを認識するであろう。
【図１】
2020056026.tif 000010
【図２】
2020056026.tif 000011
【図３】
2020056026.tif 000012
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月22日(2019.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２５重量％〜９５重量％の少なくとも１種類のサーモトロピック液晶ポリマー、及び１０重量％〜５０重量％の硫酸バリウム粒子を含むポリマー組成物であって、当該硫酸バリウム粒子が２〜２０マイクロメートルのメジアン幅を有する、前記ポリマー組成物。
【請求項２】
前記液晶ポリマーが、芳香族ジカルボン酸繰り返し単位、芳香族ヒドロキシカルボン酸繰り返し単位、またはそれらの組み合わせを含有する、請求項１に記載のポリマー組成物。
【請求項３】
前記芳香族ジカルボン酸繰り返し単位が、前記液晶ポリマーの５モル％〜６０モル％を構成する、請求項２に記載のポリマー組成物。
【請求項４】
前記芳香族ヒドロキシカルボン酸繰り返し単位が、前記液晶ポリマーの２５モル％〜７５モル％を構成する、請求項２に記載のポリマー組成物。
【請求項５】
前記液晶ポリマーが、芳香族ジオール繰り返し単位、芳香族アミド繰り返し単位、芳香族アミン繰り返し単位、またはその組み合わせを含有する、請求項１〜４のいずれかに記載のポリマー組成物。
【請求項６】
前記芳香族ジオール繰り返し単位が、前記液晶ポリマーの１モル％〜３０モル％を構成する、請求項５に記載のポリマー組成物。
【請求項７】
前記芳香族アミド繰り返し単位、前記芳香族アミン繰り返し単位、又はその組み合わせが、前記ポリマーの０．１モル％〜２０モル％を構成する、請求項５に記載のポリマー組成物。
【請求項８】
前記液晶ポリマーが、４−ヒドロキシ安息香酸、テレフタル酸、４，４’−ビフェノール、アセトアミノフェン、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、又はその組み合わせに由来する繰り返し単位を含有する、請求項１〜７のいずれかに記載のポリマー組成物。
【請求項９】
導電性充填剤を更に含む、請求項１〜８のいずれかに記載のポリマー組成物。
【請求項１０】
請求項９に記載のポリマー組成物であって、前記導電性充填剤が、当該ポリマー組成物の０．１重量％〜３０重量％を構成する、前記組成物。
【請求項１１】
前記導電性充填剤が、金属粒子、金属繊維、炭素粒子、炭素繊維、イオン性液体、又はその組み合わせを含む、請求項９に記載のポリマー組成物。
【請求項１２】
シリケート充填剤、官能性化合物、又はその組み合わせを更に含む、請求項１〜１１のいずれかに記載のポリマー組成物。
【請求項１３】
前記シリケート充填剤が、タルク、ハロイサイト、カオリナイト、イライト、モンモリロナイト、バーミキュライト、パリゴルスカイト、珪藻土、又はその組み合わせを含む、請求項１２に記載のポリマー組成物。
【請求項１４】
前記シリケート充填剤がマイカを含む、請求項１２に記載のポリマー組成物。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれかに記載のポリマー組成物であって、前記硫酸バリウム粒子が、当該ポリマー組成物の２０重量％〜４０重量％を構成する、前記ポリマー組成物。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれかに記載のポリマー組成物を含む、成形部品。
【請求項１７】
ＡＳＴＭ−Ｄ７８５−０８（スケールＭ）にしたがって求めて５０以上のロックウェル硬度を有する、請求項１６に記載の成型部品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
[0005]本発明のこれら及び他の修正及び変更は、本発明の精神及び範囲から逸脱するこ
となく当業者によって実施することができる。更に、種々の態様の幾つかの形態は、全体
的又は部分的に交換することができることを理解すべきである。更に、当業者であれば、
上記の記載は例示目的のみのものであり、特許請求の範囲において更に記載されている発
明を限定することは意図しないことを認識するであろう。
以下に、出願時の特許請求の範囲の記載を示す。
［請求項１］
成形部品を含み、成形部品は、サーモトロピック液晶ポリマー、及びモース硬度スケー
ルに基づいて約２．５以上の硬度値を有する無機粒子を含むポリマー組成物から形成され
、無機粒子は約０．１〜約３５マイクロメートルのメジアン幅を有するカメラモジュール
。
［請求項２］
カメラモジュールが、その上にレンズバレルが取り付けられている概して平面状のベー
スを含み、ベース、バレル、又は両方が成形部品を含む、請求項１に記載のカメラモジュ
ール。
［請求項３］
成形部品が約５００マイクロメートル以下の厚さを有する、請求項１又は２に記載のカ
メラモジュール。
［請求項４］
無機粒子がモース硬度スケールに基づいて約３．０〜約１１．０の硬度値を有する、請
求項１〜３のいずれかに記載のカメラモジュール。
［請求項５］
無機粒子が、炭酸カルシウム、炭酸水酸化銅、フッ化カルシウム、ピロリン酸カルシウ
ム、無水リン酸二カルシウム、水和リン酸アルミニウム、シリカ、ケイ酸カリウムアルミ
ニウム、ケイ酸銅、ホウケイ酸水酸化カルシウム、アルミナ、又はこれらの組合せを含む
、請求項１〜４のいずれかに記載のカメラモジュール。
［請求項６］
無機粒子がピロリン酸カルシウムを含む、請求項１〜５のいずれかに記載のカメラモジ
ュール。
［請求項７］
無機粒子が硫酸バリウムを含む、請求項１〜５のいずれかに記載のカメラモジュール。
［請求項８］
無機粒子がポリマー組成物の約３重量％〜約６０重量％を構成する、請求項１〜７のい
ずれかに記載のカメラモジュール。
［請求項９］
液晶ポリマーが組成物の約２５重量％〜約９５重量％を構成する、請求項１〜８のいず
れかに記載のカメラモジュール。
［請求項１０］
液晶ポリマーが芳香族エステル繰り返し単位を含む、請求項１〜９のいずれかに記載の
カメラモジュール。
［請求項１１］
芳香族エステル繰り返し単位が、芳香族ジカルボン酸繰り返し単位、芳香族ヒドロキシ
カルボン酸繰り返し単位、又はこれらの組合せである、請求項１０に記載のカメラモジュ
ール。
［請求項１２］
ポリマーが芳香族ジオール繰り返し単位を更に含む、請求項１０に記載のカメラモジュ
ール。
［請求項１３］
液晶ポリマーが、４−ヒドロキシ安息香酸、テレフタル酸、ヒドロキノン、４，４’−
ビフェノール、アセトアミノフェン、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２，６−ナフタ
レンジカルボン酸、又はこれらの組合せから誘導される繰り返し単位を含む、請求項１〜
１２のいずれかに記載のカメラモジュール。
［請求項１４］
ポリマー組成物が無機繊維を更に含む、請求項１〜１３のいずれかに記載のカメラモジ
ュール。
［請求項１５］
無機繊維がシリケートから誘導される繊維を含む、請求項１４に記載のカメラモジュー
ル。
［請求項１６］
シリケートがイノシリケートである、請求項１５に記載のカメラモジュール。
［請求項１７］
イノシリケートが珪灰石を含む、請求項１６に記載のカメラモジュール。
［請求項１８］
導電性充填剤、ガラス充填剤、シリケート充填剤、官能性化合物、又はこれらの組合せ
を更に含む、請求項１〜１７のいずれかに記載のカメラモジュール。
［請求項１９］
成形部品が、ＡＳＴＭ−Ｄ７８５−０８（スケールＭ）にしたがって求めて約４０以上
のロックウェル硬度を有する、請求項１〜１８のいずれかに記載のカメラモジュール。
［請求項２０］
約２５重量％〜約９５重量％の少なくとも１種類のサーモトロピック液晶ポリマー、約
１重量％〜約４０重量％の無機繊維、及び約３重量％〜約６０重量％のモース硬度スケー
ルに基づいて約２．５以上の硬度値を有する無機粒子を含み、無機粒子は約０．１〜約３
５マイクロメートルのメジアン幅を有するポリマー組成物。
［請求項２１］
無機粒子がモース硬度スケールに基づいて約３．０〜約１１．０の硬度値を有する、請
求項２０に記載のポリマー組成物。
［請求項２２］
無機粒子が、炭酸カルシウム、炭酸水酸化銅、フッ化カルシウム、ピロリン酸カルシウ
ム、無水リン酸二カルシウム、水和リン酸アルミニウム、シリカ、ケイ酸カリウムアルミ
ニウム、ケイ酸銅、ホウケイ酸水酸化カルシウム、アルミナ、又はこれらの組合せを含む
、請求項２０に記載のポリマー組成物。
［請求項２３］
無機粒子がピロリン酸カルシウム又は硫酸バリウムを含む、請求項２０に記載のポリマ
ー組成物。
［請求項２４］
無機繊維が珪灰石を含む、請求項２０に記載のポリマー組成物。
［請求項２５］
無機繊維が、約０．１〜約３５マイクロメートルの平均幅及び約１〜約５０のアスペク
ト比を有する、請求項２０に記載のポリマー組成物。