(57)【要約】【課題】  低湿度環境下で長期間繰り返し使用した場合であっても帯電電位変動が抑制された電子写真感光体を提供すること。【解決手段】  支持体と、下引き層と、電荷発生物質及び結着樹脂を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質及び結着樹脂を含有する電荷輸送層をこの順に有する電子写真感光体において、該電荷発生層中の該電荷発生物質が、ＣｕＫα線を用いたＸ回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを示すクロロガリウムフタロシアニンであり、該下引き層が、チタン酸ストロンチウム粒子及び結着樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、下引き層と、電荷発生物質及び結着樹脂を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質及び結着樹脂を含有する電荷輸送層をこの順に有する電子写真感光体において、
該電荷発生層中の該電荷発生物質が、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを示すクロロガリウムフタロシアニンであり、
該下引き層が、チタン酸ストロンチウム粒子及び結着樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
前記下引き層の全質量に対する、前記チタン酸ストロンチウム粒子の含有量が、５０質量％以上９０質量％以下である請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記電荷発生層が、更に、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンを含有する請求項１または２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記電荷発生層の全質量に対する、前記クロロガリウムフタロシアニンの含有量が、２０質量％以上８０質量％以下である請求項１から３のいずれか一項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記下引き層が、一般式（１）及び一般式（２）で示される群より選択される少なくとも１種の化合物を含有する請求項１から４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【化１】
2020071478.tif 000008
（一般式（１）中、Ｒａ１〜Ｒａ８は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、または、アミノ基を示す。）
【化２】
2020071478.tif 000009
（一般式（２）中、Ｒｂ１〜Ｒｂ１０は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、または、アミノ基を示す。）
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段、除電手段及びクリーニング手段からなる群より選ばれた少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱可能であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項７】
請求項１から５のいずれか１項に記載の電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段、及び転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機電子写真感光体（以下、「電子写真感光体」、「感光体」とも言う）は、電子写真装置の印刷速度の向上に対応するため高感度化が進められている。感光体の感度は使用する電荷発生物質の特性に大きく左右されるため、より優れた特性を有する新規電荷発生物質の開発が従来から盛んに行われてきた。
【０００３】
電荷発生物質の１つであるフタロシアニン顔料においては、無金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、ガリウムフタロシアニンなど、様々な化合物が開発されている。
【０００４】
チタニルフタロシアニンやガリウムフタロシアニンは、優れた特性を有するため、現在市場で流通している感光体の電荷発生物質として広く用いられている。
【０００５】
特許文献１には、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の少なくとも７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン顔料と、それを用いた感光体が開示されている。
【０００６】
一方、電子写真感光体にはリークによる帯電不良の抑制などを目的として、支持体と感光層との間に下引き層を設ける場合がある。下引き層の構成には様々なものが知られているが、金属酸化物粒子を結着樹脂に分散させてなる下引き層は広く用いられている。特許文献２の実施例１〜８には、酸化亜鉛粒子とシリコーンオイルと結着樹脂とを含有する下引き層と、電荷発生物質としてＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の少なくとも７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン顔料を含有する電荷発生層とを有する感光体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平０５−９８１８１号公報
【特許文献２】特開２００２−３４１５６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明者らの検討によると、特許文献１及び特許文献２に記載の電子写真感光体では、低湿度環境下で長期間繰り返し使用した際、使用に伴って帯電電位が使用開始時の値から次第に大きく乖離していく場合があり、帯電電位の安定性の面で改善の余地が残されていた。
【０００９】
したがって、本発明の目的は、低湿度環境下で長期間繰り返し使用した場合であっても帯電電位の変化が抑制された電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的は以下の本発明によって達成される。即ち、本発明にかかる電子写真感光体は、支持体と、下引き層と、電荷発生物質及び結着樹脂を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質及び結着樹脂を含有する電荷輸送層をこの順に有し、該電荷発生層中の該電荷発生物質が、ＣｕＫα線を用いたＸ回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを示すクロロガリウムフタロシアニンであり、該下引き層が、チタン酸ストロンチウム粒子及び結着樹脂を含有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、低湿度環境下で長期間繰り返し使用した場合であっても帯電電位変動が抑制された電子写真感光体を提供することができる。更に、係る電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の電子写真感光体の層構成の１例を示す図である。
【図２】本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の１例を示す図である。
【図３】研磨シートを用いた研磨機の１例を示す図である。
【図４】（ａ）：電子写真感光体の製造例で用いたモールドを示す上面図である。（ｂ）：図４（ａ）に示されたモールドにおける凸部のＢ−Ｂ断面図である。（ｃ）：図４（ａ）に示されたモールドにおける凸部のＣ−Ｃ断面図である。
【図５】電子写真感光体の周面に凹部を形成するための圧接形状転写加工装置の１例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、好適な実施の形態を挙げて、本発明を詳細に説明する。
【００１４】
本発明の電子写真感光体は、支持体と、下引き層と、電荷発生物質及び結着樹脂を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質及び結着樹脂を含有する電荷輸送層をこの順に有する。そして、前記下引き層はチタン酸ストロンチウム粒子と結着樹脂とを含有し、前記電荷発生層は、電荷発生物質としてＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを示すクロロガリウムフタロシアニン顔料を含有する。
【００１５】
本発明者らは鋭意検討を行った結果、チタン酸ストロンチウム粒子を含有する下引き層の表面上に、電荷発生物質として前記クロロガリウムフタロシアニン顔料を含有する電荷発生層を形成することによって、低湿度環境下で長期間繰り返し使用した場合においても帯電電位の変化が抑制されることを見出した。
【００１６】
帯電電位の変化が抑制されるメカニズムの詳細は不明であるが、本発明者らは以下のように予想している。帯電および露光により、前記クロロガリウムフタロシアニン顔料において正孔と電子のペアが発生すると、顔料側から下引層側へと電子の授受が行われる。電荷発生層と下引層の界面に電子が滞留すると、それが次の帯電工程における帯電電位に影響を及ぼして帯電電位変動が引き起こされると推測される。前記の電子の授受は、クロロガリウムフタロシアニン顔料と、チタン酸ストロンチウム粒子とが接触する箇所で主に行われると考えられる。両者の接触点における相互作用が電子の授受の改善に寄与することで電子の滞留が生じにくくなり、帯電電位の変動が抑制されるのではないかと本発明者らは推測している。
【００１７】
本発明のチタン酸ストロンチウム粒子の一次粒子の個数平均粒径は、特に限定はないが、電気特性の観点から１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上９５ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００１８】
本発明のチタン酸ストロンチウムの粒子は、表面処理剤により表面処理が施されていても良い。好ましい表面処理剤としてシランカップリング剤を用いることができる。中でも、アルキル基、アミノ基及びハロゲン基からなる群より選択される少なくとも１種の官能基を有するシランカップリング剤は、電気特性の観点から特に好ましい。
【００１９】
［電子写真感光体］
本発明の電子写真感光体は、下引き層と、電荷発生層と、電荷輸送層とを有することを特徴とする。
【００２０】
本発明の電子写真感光体を製造する方法としては、後述する各層の塗布液を調製し、所望の層の順番に塗布して、乾燥させる方法が挙げられる。このとき、塗布液の塗布方法としては、浸漬塗布、スプレー塗布、インクジェット塗布、ロール塗布、ダイ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布、ワイヤーバー塗布、リング塗布などが挙げられる。これらの中でも、効率性及び生産性の観点から、浸漬塗布が好ましい。
【００２１】
以下、各層について説明する。
【００２２】
＜支持体＞
本発明において、電子写真感光体は、支持体を有する。本発明において、支持体は導電性を有する導電性支持体であることが好ましい。また、支持体の形状としては、円筒状、ベルト状、シート状などが挙げられる。中でも、円筒状支持体であることが好ましい。また、支持体の表面に、陽極酸化などの電気化学的な処理や、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。
【００２３】
支持体の材質としては、金属、樹脂、ガラスなどが好ましい。
【００２４】
金属としては、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金、ステンレスや、これらの合金などが挙げられる。中でも、アルミニウムを用いたアルミニウム製支持体であることが好ましい。
【００２５】
また、樹脂やガラスには、導電性材料を混合又は被覆するなどの処理によって、導電性を付与してもよい。
【００２６】
＜導電層＞
本発明において、支持体と下引き層との間に、導電層を設けてもよい。導電層を設けることで、支持体表面の傷や凹凸を隠蔽することや、支持体表面における光の反射を制御することができる。
【００２７】
導電層は、導電性粒子と、樹脂と、を含有することが好ましい。
【００２８】
導電性粒子の材質としては、金属酸化物、金属、カーボンブラックなどが挙げられる。
【００２９】
金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ビスマスなどが挙げられる。金属としては、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などが挙げられる。
【００３０】
これらの中でも、導電性粒子として、金属酸化物を用いることが好ましく、特に、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛を用いることがより好ましい。
【００３１】
導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、金属酸化物の表面をシランカップリング剤などで処理したり、金属酸化物にリンやアルミニウムなど元素やその酸化物をドーピングしたりしてもよい。
【００３２】
また、導電性粒子は、芯材粒子と、その粒子を被覆する被覆層とを有する積層構成としてもよい。芯材粒子としては、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛などが挙げられる。被覆層としては、酸化スズなどの金属酸化物が挙げられる。
【００３３】
また、導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、その体積平均粒子径が、１ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましく、３ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００３４】
樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などが挙げられる。
【００３５】
また、導電層は、シリコーンオイル、樹脂粒子、酸化チタンなどの隠蔽剤などを更に含有してもよい。
【００３６】
導電層の平均膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上４０μｍ以下であることが特に好ましい。
【００３７】
導電層は、上述の各材料及び溶剤を含有する導電層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。導電層用塗布液中で導電性粒子を分散させるための分散方法としては、ペイントシェーカー、サンドミル、ボールミル、液衝突型高速分散機を用いた方法が挙げられる。
【００３８】
＜下引き層＞
本発明において、電子写真感光体は、支持体（又は導電層）の上に、下引き層を有する。
【００３９】
本発明の電子写真感光体が有する下引き層は、上述の通り、チタン酸ストロンチウム粒子と、結着樹脂と、を含有する。
【００４０】
本発明において、下引き層の全質量に対する、チタン酸ストロンチウム粒子の含有量は、５０質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。
【００４１】
５０質量％より小さいと、下引き層と電荷発生層との界面において、クロロガリウムフタロシアニン顔料とチタン酸ストロンチウム粒子との接触点の数が十分に確保できず、電子の授受の効率が低下する場合がある。一方、９０質量％を超えると、相対的に下引き層中に含有される結着樹脂の含有量が低下するため、形成された下引き層の表面粗さが大きくなる傾向がある。下引き層の表面粗さが大きくなりすぎると、下引き層の表面に塗布される電荷発生層の平滑性の低下を招き、電荷発生層の微細な膜厚ムラに起因するハーフトーン画像のガサツキが生じる場合がある。よって、ハーフトーン画像のガサツキを抑制するため、下引き層中のチタン酸ストロンチウム粒子の含有量は９０質量％以下であることが好ましい。
【００４２】
結着樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、アルキッド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリエチレンオキシド樹脂、ポリプロピレンオキシド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミド酸樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、セルロース樹脂などが挙げられる。
【００４３】
結着樹脂は、重合性官能基を有するモノマーを含有する組成物を重合させることで結着樹脂としてもよい。重合性官能基を有するモノマーが有する重合性官能基としては、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、メチロール基、アルキル化メチロール基、エポキシ基、金属アルコキシド基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、カルボン酸無水物基、炭素−炭素二重結合基などが挙げられる。
【００４４】
また、本発明の下引き層は、電気特性を高める目的で、電子受容性物質、電子輸送物質、金属酸化物、金属、導電性高分子などを更に含有してもよい。
【００４５】
電子受容性物質としては、キノン化合物、アントラキノン化合物、フタロシアニン化合物、ポルフィリン化合物、トリフェニルメタン化合物、フルオレニリデンマロノニトリル化合物、ベンザルマロノニトリル化合物などが挙げられる。
【００４６】
電子輸送物質としては、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物、フルオレノン化合物、キサントン化合物、ベンゾフェノン化合物、シアノビニル化合物、ハロゲン化アリール化合物、シロール化合物、含ホウ素化合物などが挙げられる。電子輸送物質として、重合性官能基を有する電子輸送物質を用い、上述の重合性官能基を有するモノマーと共重合させることで、硬化膜として下引き層を形成してもよい。
【００４７】
電子受容性、あるいは電子輸送性を有する化合物の例を以下に挙げる。
【００４８】
【化１】
2020071478.tif 000002
【００４９】
金属酸化物としては、酸化インジウムスズ、酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素などが挙げられる。金属としては、金、銀、アルミなどが挙げられる。
【００５０】
本発明の下引き層は、電気特性の観点から、一般式（１）及び一般式（２）で示される群より選択される少なくとも１種の化合物を含有することが好ましい。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５１】
【化２】
2020071478.tif 000003
【００５２】
（一般式（１）中、Ｒａ１〜Ｒａ８は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、または、アミノ基を示す。）
【００５３】
【化３】
2020071478.tif 000004
【００５４】
（一般式（２）中、Ｒｂ１〜Ｒｂ１０は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、または、アミノ基を示す。）
本発明の下引き層には、さらに、有機樹脂粒子、レベリング剤を含有させてもよい。有機樹脂粒子としては、例えば、シリコーン粒子などの疎水性有機樹脂粒子や、架橋型ポリメタクリレート樹脂（ＰＭＭＡ）粒子などの親水性有機樹脂粒子などが挙げられる。
【００５５】
本発明の下引き層の平均膜厚は、０．１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上４０μｍ以下であることがより好ましい。
【００５６】
本発明の下引き層は、上述の各材料及び溶剤を含有する下引き層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥及び／又は硬化させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
【００５７】
＜感光層＞
本発明の電子写真感光体は、下引き層の上に電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とを有する積層型感光体である。図１に本発明の電子写真感光体の概略構成の一例を示す。図１において、１−１は支持体、１−２は下引き層、１−３は電荷発生層、１−４は電荷輸送層である。
【００５８】
＜電荷発生層＞
電荷発生層は、電荷発生物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
【００５９】
本発明において、電荷発生層は、電荷発生物質として、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを示すクロロガリウムフタロシアニン顔料を含有する。
【００６０】
また、電荷発生物質として、上記のクロロガリウムフタロシアニン顔料以外の電荷発生物質を併用してもよい。その他の電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、フタロシアニン顔料などが挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、フタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は特に好ましく、その中でもＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°に回折ピークを示すＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は高感度であるため特に好ましい。クロロガリウムフタロシアニン顔料およびヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料のＸ線回折測定は、例えば以下の方法によって行うことができる。
【００６１】
（粉末Ｘ線回折測定の例）
測定機：理学電気製、Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ−ＴＴＲＩＩ、  Ｘ線管球：Ｃｕ、管電圧：５０ｋＶ、  管電流：３００ｍＡ、スキャン方法：２θ／θスキャン、スキャン速度：４．０°／ｍｉｎ    サンプリング間隔：０．０２°、スタート角度（２θ）：５．０°、ストップ角度（２θ）：４０．０°、アタッチメント：標準試料ホルダー、フィルター：不使用、インシデントモノクロ：使用、カウンターモノクロメーター：不使用、発散スリット：開放、発散縦制限スリット：１０．００ｍｍ、散乱スリット：開放、受光スリット：開放、カウンター：シンチレーションカウンター。
【００６２】
電荷発生層中の電荷発生物質の含有量は、電荷発生層の全質量に対して、４０質量％以上８５質量％以下であることが好ましく、６０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましい。４０質量％未満の場合、使用する電荷発生物質や電荷輸送物質の種類にもよるが、感光体の使用時に残留電荷が大きくなる傾向がある。一方、８０質量％を超えると、結着樹脂の含有量が低下するため、電荷発生層を塗布する際に下引き層の表面粗さの影響による微細な膜厚ムラが生じやすくなる。電荷発生層の微細な膜厚ムラは、ハーフトーン画像のガサツキを悪化させる懸念がある。
【００６３】
また、本発明において、電荷発生層の全質量に対する、前記クロロガリウムフタロシアニンの含有量は、２０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましい。２０質量％より小さいと、前記クロロガリウムフタロシアニン顔料と下引き層中のチタン酸ストロンチウム粒子との接触点の数が不足し、電子の授受の効率が低下する場合がある。８０質量％を超える場合の懸念点は上述の通りである。
【００６４】
感光体の感度は、電荷発生層に含有される全電荷発生物質の含有量や、電荷発生層の膜厚を変化させることによって調節できる。また、電荷発生効率の異なる電荷発生物質を混合し、その混合比を変えて感度を調節することもできる。後者の方法には、電荷発生層用塗布液の塗工性や、電荷発生層の成膜性への影響を抑制できる利点がある。本発明においては、前記クロロガリウムフタロシアニン顔料と、より電荷発生効率の高い電荷発生材料である前記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とを混合して用いた場合、両者の混合比を変更することによって感度調節が可能となる。
【００６５】
樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルブチラール樹脂がより好ましい。
【００６６】
また、電荷発生層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの添加剤を更に含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、などが挙げられる。
【００６７】
電荷発生層の平均膜厚は、０．０５μｍ以上１μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上０．３μｍ以下であることがより好ましい。
【００６８】
電荷発生層は、上述の各材料及び溶剤を含有する電荷発生層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
【００６９】
＜電荷輸送層＞
電荷輸送層は、電荷輸送物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
【００７０】
電荷輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、エナミン化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物や、これらの物質から誘導される基を有する樹脂などが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物が好ましい。
【００７１】
電荷輸送層中の電荷輸送物質の含有量は、電荷輸送層の全質量に対して、２５質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上５５質量％以下であることがより好ましい。
【００７２】
樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂が好ましい。ポリエステル樹脂としては、特にポリアリレート樹脂が好ましい。
【００７３】
電荷輸送物質と樹脂との含有量比（質量比）は、４：１０〜２０：１０が好ましく、５：１０〜１２：１０がより好ましい。
【００７４】
また、電荷輸送層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、滑り性付与剤、耐摩耗性向上剤などの添加剤を含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ホウ素粒子などが挙げられる。
【００７５】
電荷輸送層の平均膜厚は、５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、８μｍ以上４０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上３０μｍ以下であることが特に好ましい。
【００７６】
電荷輸送層は、上述の各材料及び溶剤を含有する電荷輸送層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。これらの溶剤の中でも、エーテル系溶剤または芳香族炭化水素系溶剤が好ましい。
【００７７】
＜保護層＞
本発明において、感光層の上に、保護層を設けてもよい。保護層を設けることで、耐久性を向上することができる。保護層は、導電性粒子及び／又は電荷輸送物質と、樹脂とを含有することが好ましい。導電性粒子としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物の粒子が挙げられる。
【００７８】
電荷輸送物質としては、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、エナミン化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物や、これらの物質から誘導される基を有する樹脂などが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物が好ましい。
【００７９】
樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂が好ましい。
【００８０】
また、保護層は、重合性官能基を有するモノマーを含有する組成物を重合することで硬化膜として形成してもよい。その際の反応としては、熱重合反応、光重合反応、放射線重合反応などが挙げられる。重合性官能基を有するモノマーが有する重合性官能基としては、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。重合性官能基を有するモノマーとして、電荷輸送能を有する材料を用いてもよい。
【００８１】
保護層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、滑り性付与剤、耐摩耗性向上剤、などの添加剤を含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ホウ素粒子などが挙げられる。
【００８２】
保護層の平均膜厚は、０．５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上７μｍ以下であることが好ましい。
【００８３】
保護層は、上述の各材料及び溶剤を含有する保護層用塗布液を調製し、この塗膜を感光層上に形成し、乾燥及び／又は硬化させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、スルホキシド系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。
【００８４】
＜電子写真感光体の表面加工＞
本発明の電子写真感光体は、該電子写真感光体に接触させるクリーニング手段（クリーニングブレード）の挙動をより安定化させる目的で、電子写真感光体の表面層を研磨して粗さを付与することや、表面層に凹部または凸部を設けることができる。
【００８５】
電子写真感光体の表面層を研磨し粗さを付与する場合は、電子写真感光体に研磨具を当接させ、いずれか一方あるいは両方を相対的に移動させて電子写真感光体の表面を研磨することにより、粗さを付与することができる。研磨具としては、基材上に研磨砥粒が結着樹脂中に分散された層を設けてなる研磨部材などが挙げられる。
【００８６】
凹部を形成する場合は、凹部に対応した凸部を有するモールドを電子写真感光体の表面に圧接し、形状転写を行うことにより、電子写真感光体の表面に凹部を形成することができる。
【００８７】
凸部を形成する場合は、凸部に対応した凹部を有するモールドを電子写真感光体の表面に圧接し、形状転写を行うことにより、電子写真感光体の表面に凸部を形成することができる。
【００８８】
＜機械的研磨に用いる研磨具＞
機械的研磨は公知の手段を利用できる。一般的には、電子写真感光体に研磨具を当接させ、いずれか一方あるいは両方を相対的に移動させて電子写真感光体の表面を研磨する。研磨具は、基材上に研磨砥粒が結着樹脂中に分散された層を設けてなる研磨部材である。砥粒としては、例えば、酸化アルミニウム、酸化クロム、ダイヤモンド、酸化鉄、酸化セリウム、コランダム、珪石、窒化珪素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭化珪素、炭化タングステン、チタンカーバイトおよび酸化珪素などの粒子が挙げられる。砥粒の粒子径は、０．０１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、さらには１μｍ以上１５μｍ以下であることがより好ましい。砥粒の粒子径が小さすぎると、研磨力が弱くなり、電子写真感光体の最表面のＦ／Ｃ比を増加させにくくなる。これらの砥粒は、１種類あるいは２種類以上を混合して用いることができる。２種類以上を混合する場合は、材質や粒子径が異なっていても同じでもよい。
【００８９】
研磨具に用いられる砥粒を分散させる結着樹脂としては、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線硬化樹脂、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂および防黴性樹脂を用いることができる。熱可塑性樹脂としては、例えば、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、ウレタンエラストマーおよびポリアミド−シリコーン樹脂が挙げられる。熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂およびアルキッド樹脂が挙げられる。また、熱可塑性樹脂にイソシアネート系の硬化剤を添加してもよい。
【００９０】
研磨具の結着樹脂中に砥粒を分散させてなる層の膜厚は、１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。膜厚が厚すぎると膜厚ムラが生じやすく、結果、被研磨体の表面粗さのムラが問題となる。一方、膜厚が薄すぎると砥粒の脱落が起こりやすくなる。
【００９１】
研磨具の基材の形状は特に制限されない。本例の実施形態では、円筒状の電子写真感光体を効率的に研磨するためにシート状の基材を用いたが、他の形状でもよい。（以下、本例の研磨具を研磨シートとも記載する）研磨具の基材の材質も特に制限されない。例えば、シート状の基材の材質としては、紙、織布、不織布、プラスチックフィルムが挙げられる。
【００９２】
研磨具は、上記の砥粒、結着樹脂、結着樹脂を溶解可能な溶剤を混合し分散させた塗布液を、基材上に塗布、乾燥して得ることができる。
【００９３】
＜研磨装置＞
本例の電子写真感光体の研磨装置の一例について図３に示す。図３は研磨シートを用いて円筒状の電子写真感光体を研磨する装置である。図３中、研磨シート３０１は中空の軸３０６に巻かれており、軸３０６に研磨シート３０１が送られる方向と逆方向に、研磨シート３０１に張力が与えられるようモーター（不図示）が配置されている。研磨シート３０１は矢印方向に送られ、ガイドローラー３０２ａ、３０２ｂを介してバックアップローラー３０３を通り、研磨後の研磨シート３０１はガイドローラー３０２ｃ、３０２ｄを介してモーター（不図示）により巻き取り手段３０５に巻き取られる。研磨は、研磨シート３０１を被処理体（研磨を行う前の電子写真感光体）３０４に常時圧接して行われる。研磨シート３０１は絶縁性であることが多いため、研磨シート３０１の接する部位には、アースに接地されたものまたは導電性を有するものを用いることが好ましい。
【００９４】
研磨シート３０１の送りスピードは１０ｍｍ／ｍｉｎ以上１０００ｍｍ／ｍｉｎ以下が好ましい。送り量が少ないと、研磨シート３０１表面への結着樹脂の付着、これに起因して被処理体３０４表面に深傷が生じる場合がある。
【００９５】
被処理体３０４は、研磨シート３０１を介してバックアップローラー３０３と対向した位置に置かれる。バックアップローラー３０３は被処理体３０４の表面粗さの均一性を向上させる観点から、弾性体であることが好ましい。この際、研磨シート３０１を介して被処理体３０４とバックアップローラー３０３が所望の設定値で所定の時間押し当てられ、被処理体３０４の表面が研磨される。被処理体３０４の回転方向は、研磨シート３０１の送られる方向と同一であってもよいし、対向であってもよい。また、研磨の途中で回転方向を変更してもよい。
【００９６】
バックアップローラー３０３の被処理体３０４に対する押し当て圧は、バックアップローラー３０３の硬度や研磨時間にもよるが、０．００５Ｎ／ｍ２以上１５Ｎ／ｍ２以下が好ましい。
【００９７】
電子写真感光体の表面粗さは、研磨シート３０１の送りスピード、バックアップローラー３０３の押し当て圧、研磨シートの砥粒種、研磨シートの結着樹脂の膜厚、基材の厚みなどを適宜選択することにより調整できる。
【００９８】
＜電子写真感光体の周面に凹部を形成する方法＞
形成するべき凹部に対応した凸部を有するモールドを電子写真感光体の周面に圧接し、形状転写を行うことにより、電子写真感光体の周面に凹部を形成することができる。図４は、凸部を有するモールドの概略を示す図である。図４（ａ）はモールドの概略を示す上面図、図４（ｂ）はモールドの凸部の電子写真感光体の軸方向の概略断面図（図４（ａ）のＢ−Ｂ断面における断面図）である。図４（ｃ）はモールドの凸部の電子写真感光体の周方向の断面図（図４（ａ）のＣ−Ｃ断面の断面図）である。
【００９９】
図５に、電子写真感光体の周面に凹部を形成するための圧接形状転写加工装置の例を示す。図５に示す圧接形状転写加工装置によれば、被加工物である電子写真感光体５−１を回転させながら、その周面に連続的にモールド５−２を接触させ、加圧することにより、電子写真感光体５−１の周面に凹部や平坦部を形成することができる。
【０１００】
加圧部材５−３の材質としては、例えば、金属、金属酸化物、プラスチック、ガラスなどが挙げられる。これらの中でも、機械的強度、寸法精度、耐久性の観点から、ステンレス鋼（ＳＵＳ）が好ましい。加圧部材５−３は、その上面にモールド５−２が設置される。また、下面側に設置される支持部材（不図示）および加圧システム（不図示）により、支持部材５−４に支持された電子写真感光体５−１の周面に、モールド５−２を所定の圧力で接触させることができる。また、支持部材５−４を加圧部材５−３に対して所定の圧力で押し付けてもよいし、支持部材５−４および加圧部材５−３を互いに押し付けてもよい。
【０１０１】
図５に示す例は、加圧部材５−３を電子写真感光体５−１の軸方向と垂直な方向に移動させることにより、電子写真感光体５−１が従動または駆動回転しながら、その周面を連続的に加工する例である。さらに、加圧部材５−３を固定し、支持部材５−４を電子写真感光体５−１の軸方向と垂直な方向に移動させることにより、または、支持部材５−４および加圧部材５−３の両者を移動させることにより、電子写真感光体５−１の周面を連続的に加工することもできる。
【０１０２】
なお、形状転写を効率的に行う観点から、モールド５−２や電子写真感光体５−１を加熱することが好ましい。モールド５−２としては、例えば、微細な表面加工された金属や樹脂フィルムや、シリコンウエハーなどの表面にレジストによりパターニングをしたものや、微粒子が分散された樹脂フィルムや、微細な表面形状を有する樹脂フィルムに金属コーティングを施したものなどが挙げられる。
【０１０３】
また、電子写真感光体５−１に押し付けられる圧力を均一にする観点から、モールド５−２と加圧部材５−３との間に弾性体を設置することが好ましい。
【０１０４】
電子写真感光体の周面の凹部や平坦部や凸部などは、例えば、レーザー顕微鏡、光学顕微鏡、電子顕微鏡、原子間力顕微鏡などの顕微鏡を用いて観察することができる。
【０１０５】
［プロセスカートリッジ、電子写真装置］
本発明のプロセスカートリッジは、これまで述べてきた電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とする。
【０１０６】
また、本発明の電子写真装置は、これまで述べてきた電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有することを特徴とする。
【０１０７】
図２に、電子写真感光体を備え、電子写真装置本体に着脱可能であるプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成の一例を示す。
【０１０８】
１は円筒状の電子写真感光体であり、軸２を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。電子写真感光体１の表面は、帯電手段３により、正又は負の所定電位に帯電される。尚、図においては、ローラ型帯電部材によるローラ帯電方式を示しているが、コロナ帯電方式、近接帯電方式、注入帯電方式などの帯電方式を採用してもよい。帯電された電子写真感光体１の表面には、露光手段（不図示）から露光光４が照射され、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成される。電子写真感光体１の表面に形成された静電潜像は、現像手段５内に収容されたトナーで現像され、電子写真感光体１の表面にはトナー像が形成される。電子写真感光体１の表面に形成されたトナー像は、転写手段６により、転写材７に転写される。トナー像が転写された転写材７は、定着手段８へ搬送され、トナー像の定着処理を受け、電子写真装置の外へプリントアウトされる。電子写真装置は、転写後の電子写真感光体１の表面に残ったトナーなどの付着物を除去するための、クリーニング手段９を有していてもよい。また、クリーニング手段を別途設けず、上記付着物を現像手段などで除去する、所謂、クリーナーレスシステムを用いてもよい。電子写真装置は、電子写真感光体１の表面を、前露光手段（不図示）からの前露光光１０により除電処理する除電機構を有していてもよい。また、本発明のプロセスカートリッジを電子写真装置本体に着脱するために、レールなどの案内手段１２を設けてもよい。
【０１０９】
本発明の電子写真感光体は、レーザービームプリンター、ＬＥＤプリンター、複写機、ファクシミリ、及び、これらの複合機などに用いることができる。
【実施例】
【０１１０】
以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更に詳細に説明する。本発明は、その要旨を超えない限り、下記の実施例によって何ら限定されるものではない。尚、以下の実施例の記載において、「部」とあるのは特に断りのない限り質量基準である。
【０１１１】
［チタン酸ストロンチウムの粒子の製造方法］
＜粒子Ｓ−１の製造例＞
硫酸チタニル水溶液を加水分解して得られた含水酸化チタンスラリーをアルカリ水溶液で洗浄した。次に、前記含水酸化チタンのスラリーに塩酸を添加して、ｐＨを０．７に調整してチタニアゾル分散液を得た。前記チタニアゾル分散液２．２モル（酸化チタン換算）に対し、１．１倍モル量の塩化ストロンチウム水溶液を加えて反応容器に入れ、窒素ガス置換した。更に、酸化チタン換算で１．１モル／Ｌになるように純水を加えた。次に、撹拌混合し、９０℃に加温した後、超音波振動を加えながら、１０Ｎ水酸化ナトリウム水溶液４４０ｍＬを１５分かけて添加し、その後、２０分間反応を行った。反応後のスラリーに５℃の純水を加えて３０℃以下になるまで急冷した後、上澄み液を除去した。更に、前記スラリーにｐＨ５．０の塩酸水溶液を加えて１時間撹拌した後、純水で洗浄を繰り返した。更に、水酸化ナトリウムにて中和して、ヌッチェで濾過を行い、純水で洗浄した。得られたケーキを乾燥し、粒子Ｓ−１を得た。
【０１１２】
＜粒子Ｓ−２の製造例＞
前記チタニアゾル分散液１．８モル（酸化チタン換算）に対し、１．１倍モル量の塩化ストロンチウム水溶液を加えて反応容器に入れ、窒素ガス置換した。更に、酸化チタン濃度で０．９モル／Ｌになるように純水を加えた。次に、撹拌混合し、８０℃に加温した後、超音波振動を加えながら、５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液７９２ｍＬを４０分かけて添加し、その後、２０分間反応を行った。反応後のスラリーを３０℃以下になるまで冷却した後、上澄み液を除去した。更に、前記スラリーにｐＨ５．０の塩酸水溶液を加えて１時間撹拌した後、純水で洗浄を繰り返した。更に、水酸化ナトリウムにて中和して、ヌッチェで濾過を行い、純水で洗浄した。得られたケーキを乾燥し、粒子Ｓ−２を得た。
【０１１３】
＜粒子Ｓ−３の製造例＞
前記チタニアゾル分散液を０．６モル（酸化チタン換算）に対し、１．２倍モル量の塩化ストロンチウム水溶液を加えて反応容器に入れ、窒素ガス置換した。更に、０．０５モルの硫酸アルミニウムを添加した後、酸化チタン濃度で０．３モル／Ｌになるように純水を加えた。次に、撹拌混合し、８０℃に加温した後、超音波振動を加えながら、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液４５０ｍＬを５分かけて添加し、その後、２０分間反応を行った。反応後のスラリーに５℃の純水を加えて３０℃以下になるまで急冷した後、上澄み液を除去した。更に、前記スラリーに対して純水で洗浄を行い、得られたケーキを乾燥し、粒子Ｓ−３を得た。
【０１１４】
＜一次粒子の平均粒径の測定＞
上記により製造した粒子Ｓ−１〜Ｓ−３の一次粒子の平均粒径（個数平均粒径）は、透過電子顕微鏡「Ｈ−８００」（日立製作所製）で観察し、最大２００万倍に拡大した視野において、１００個の一次粒子の長径を測定して一次粒子の平均粒径を求めた。粒子Ｓ−１〜Ｓ−３の一次粒子の平均粒径はそれぞれ３５ｎｍ、５０ｎｍ、１１０ｎｍであった。
【０１１５】
［表面処理されたチタン酸ストロンチウムの粒子の製造例］
＜表面処理された粒子Ｓ−１Ａの製造例＞
上記、製造した粒子Ｓ−１、１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、これにシランカップリング剤としてＮ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業製）２部を添加し、６時間攪拌させた。その後、トルエンを減圧留去して、１３０℃で６時間加熱乾燥し、表面処理された粒子Ｓ−１Ａを得た。
【０１１６】
＜表面処理された粒子Ｓ−２Ａ、Ｓ−３Ａの製造例＞
表面処理された粒子Ｓ−１Ａの製造例において、粒子Ｓ−１を粒子Ｓ−２、Ｓ−３に変更した以外は、粒子Ｓ−１Ａの製造例と同様にして、表面処理された粒子Ｓ−２Ａ、Ｓ−３Ａを製造した。
【０１１７】
＜表面処理された粒子Ｚ−１の製造例＞
基材となる酸化亜鉛粒子（ＢＥＴ比表面積：２０ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業製）０．５０部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、１３０℃で６時間加熱乾燥し、表面処理された酸化亜鉛粒子Ｚ−１を得た。
【０１１８】
［実施例１］
支持体（導電性支持体）として、長さ３５７．５ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ、外径３０ｍｍのアルミニウムシリンダーを用意した。旋盤を用いて、アルミニウムシリンダーの表面に切削加工を施した。
【０１１９】
切削条件として、Ｒ０．１のバイトを用い、主軸回転数＝１００００ｒｐｍ、バイトの送り速度を０．０３〜０．０６ｍｍ／ｒｐｍの範囲で連続的に変化させて加工した。
【０１２０】
次に、ポリオール樹脂としてブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業製）１４．５部、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住化バイエルウレタン製）１４．５部をメチルエチルケトン３００部と１−ブタノール３００部の混合液に溶解した。
【０１２１】
この溶液に、チタン酸ストロンチウムの粒子として粒子Ｓ−１Ａを１２１部と、添加剤として２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン（東京化成工業製）１．２１部を加え、これを直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で２３±３℃雰囲気下で３時間分散した。
【０１２２】
分散後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング製）０．０１部を分散液に加えて攪拌し、下引き層用塗布液を得た。
【０１２３】
得られた下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布し、これを３０分間１６０℃で乾燥させることによって、膜厚が２．０μｍの下引き層を形成した。
【０１２４】
次に、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを示すクロロガリウムフタロシアニン顔料１０部、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料１０部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業製）１０部、およびシクロヘキサノン６００部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、４時間分散処理した後、酢酸エチル６００部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調整した。
【０１２５】
この電荷発生層用塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１５分間８０℃で乾燥させることによって、膜厚０．１８μｍの電荷発生層を形成した。
【０１２６】
次に、下記式（Ａ）で示される化合物（電荷輸送物質）６０部、下記式（Ｂ）で示される化合物（電荷輸送物質）３０部、下記式（Ｃ）で示される化合物１０部、ポリカーボネート樹脂（商品名：ユーピロンＺ４００、三菱エンジニアリングプラスチックス製、ビスフェノールＺ型のポリカーボネート）１００部、下記式（Ｄ）で示されるポリカーボネート（粘度平均分子量Ｍｖ：２００００）０．０２部を、ｏ−キシレン６００部およびジメトキシメタン２００部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。
【０１２７】
この電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を３０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚１８μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１２８】
【化４】
2020071478.tif 000005
【０１２９】
次に、下記式（Ｅ）で示される化合物９５部、下記式（Ｆ）で示される化合物であるビニルエステル化合物５部（東京化成工業製）、シロキサン変性アクリル化合物３．５部（商品名：ＢＹＫ−３５５０、ビックケミー・ジャパン製）、下記式（Ｇ）で示されるウレア化合物５部、１−プロパノール２００部、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン製）１００部を混合し、撹拌した。
【０１３０】
その後ポリフロンフィルター（商品名：ＰＦ−０２０、アドバンテック東洋製）でこの溶液を濾過することによって、表面層用塗布液（保護層用塗布液）を調製した。
【０１３１】
【化５】
2020071478.tif 000006
【０１３２】
この表面層用塗布液を電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を１０分間５０℃で乾燥させた。その後、窒素雰囲気下にて、加速電圧７０ｋＶ、ビーム電流５．０ｍＡの条件で支持体（被照射体）を２００ｒｐｍの速度で回転させながら、１．６秒間電子線を塗膜に照射した。なお、このときの電子線の吸収線量を測定したところ、１５ｋＧｙであった。その後、窒素雰囲気下にて、塗膜の温度が２５℃から１１７℃になるまで３０秒かけて昇温させ、塗膜の加熱を行った。電子線照射から、その後の加熱処理までの酸素濃度は１５ｐｐｍ以下であった。次に、大気中において、塗膜の温度が２５℃になるまで自然冷却し、塗膜の温度が１０５℃になる条件で３０分間加熱処理を行い、膜厚５μｍの保護層（表面層）を形成した。このようにして凹部形成前の電子写真感光体を作製した。
【０１３３】
［モールド圧接形状転写による凹部の形成］
次に、圧接形状転写加工装置に型部材（モールド）を設置し、作製した凹部形成前の電子写真感光体に対して表面加工を行った。具体的には、概ね図５に示す構成の圧接形状転写加工装置に、概ね図４に示すモールドを設置し、作製した凹部形成前の電子写真感光体に対して表面加工を行った。図４は、実施例および比較例で用いたモールドを示す図である。図４（ａ）はモールドの概略を示す上面図、図４（ｂ）はモールドの凸部の電子写真感光体の軸方向の概略断面図（図４（ａ）のＢ−Ｂ断面における断面図）である。図４（ｃ）はモールドの凸部の電子写真感光体の周方向の断面図（図４（ａ）のＣ−Ｃ断面の断面図）である。図４に示されるモールドは、最大幅（モールド上の凸部を上から見たときの電子写真感光体の軸方向の最大幅のこと。）Ｘ：５０μｍ、最大長さ（モールド上の凸部を上から見たときの電子写真感光体の周方向の最大長さのこと。）Ｙ：７５μｍ、面積率５６％、高さＨ：４μｍの凸形状）である。なお、面積率とは、モールドを上から見たときに表面全体に占める凸部の面積の比率である。加工時には、電子写真感光体の表面の温度が１２０℃になるように電子写真感光体およびモールドの温度を制御した。そして、７．０ＭＰａの圧力で電子写真感光体と加圧部材をモールドに押し付けながら、電子写真感光体を周方向に回転させて、電子写真感光体の表面層（周面）の全面に凹部を形成した。以上のようにして、実施例１の電子写真感光体を作製した。
【０１３４】
［電子写真感光体の評価］
電子写真感光体の電気特性評価は、キヤノン製の電子写真装置ｉｍａｇｅＲＵＮＮＥＲＡＤＶＡＮＣＥ  Ｃ５５６０改造機のシアンステーションを使用して行った。評価装置は、温度２３℃湿度５％ＲＨの低湿度環境下に設置した。電子写真感光体の表面電位の測定は、評価装置から現像用カートリッジを抜き取り、そこに電位測定装置を挿入することで行った。電位測定装置は、現像用カートリッジの現像位置に電位測定プローブを配置することで構成されており、電位測定プローブの位置は、電子写真感光体の母線方向の中央とした。帯電手段としては、直流電圧に２０００Ｈｚ／１５００Ｖｐｐの交流電圧を重畳した電圧をローラ型の接触帯電部材（帯電ローラ）に印可する帯電方式を用いた。暗部電位Ｖｄ１が−８００Ｖになるように帯電部材（帯電ローラー）への印加電圧を調整し、続いて像露光として波長７８０ｎｍのレーザー光を照射した際の明部電位Ｖｌ１が−３００Ｖになるようにレーザー光量を調整した。このようにＶｄ１とＶｌ１を調整した後、本体から電位測定装置を取り外し、現像器を取り付けて画像出力ができるようにした。まず、シアンの全面ハーフトーン画像を出力し、出力画像のガサツキを以下の基準に従って目視評価した。ここではランクＣを不可とした。結果を表１に示す。
Ａ＝ガサツキの発生なし
Ｂ＝軽微なガサツキを確認できるが、実使用上問題無い状態
Ｃ＝顕著なガサツキが発生し、実使用上問題となる状態
続いて、Ａ４横送りで１０００００枚の通紙試験を行った。耐久画像パターンとしては、印字率５％の横黒オビ画像を用いた。通紙試験後、評価機に再び電位測定装置を取り付け、耐久後の感光体の暗部電位Ｖｄ２を測定し、耐久前後の暗部電位の変化量ΔＶｄを、以下の計算式に従って求めた。
ΔＶｄ［−Ｖ］＝Ｖｄ２［−Ｖ］−Ｖｄ１［−Ｖ］
結果を表１に示す。
【０１３５】
［実施例２］
実施例１において、下引き層用塗布液の分散に用いたチタン酸ストロンチウムの粒子Ｓ−１Ａ  １２１部を、粒子Ｓ−２Ａ  １２１部に変更した以外は、実施例１と同様にして実施例２の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１３６】
［実施例３］
実施例１において、下引き層用塗布液の分散に用いたチタン酸ストロンチウムの粒子Ｓ−１Ａ  １２１部を、粒子Ｓ−３Ａ  １２１部に変更した以外は、実施例１と同様にして実施例３の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１３７】
［実施例４］
実施例１において、下引き層用塗布液に添加する２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１．２１部を、アリザリン（東京化成工業製）１．２１部に変更した以外は、実施例１と同様にして実施例４の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１３８】
［実施例５］
実施例２において、下引き層用塗布液に添加する２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１．２１部を、アリザリン（東京化成工業製）１．２１部に変更した以外は、実施例２と同様にして実施例５の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１３９】
［実施例６］
実施例３において、下引き層用塗布液に添加する２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１．２１部を、アリザリン（東京化成工業製）１．２１部に変更した以外は、実施例３と同様にして実施例６の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１４０】
［実施例７］
実施例１において、実施例１と同様にして下引き層の形成までを行った。次に、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを示すクロロガリウムフタロシアニン顔料２２．５部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業製）５部、およびシクロヘキサノン６００部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、４時間分散処理した後、酢酸エチル６００部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調整した。
【０１４１】
この電荷発生層用塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１５分間８０℃で乾燥させることによって、膜厚０．１８μｍの電荷発生層を形成した。
【０１４２】
続いて、実施例１と同様にして、電荷輸送層の形成、保護層の形成、表面加工を行って実施例７の電子写真感光体を作成し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１４３】
［実施例８］
実施例７において、下引き層用塗布液に添加する２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１．２１部を、アリザリン（東京化成工業製）１．２１部に変更した以外は、実施例７と同様にして実施例８の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１４４】
［実施例９］
実施例１において、実施例１と同様にして下引き層の形成までを行った。次に、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを示すクロロガリウムフタロシアニン顔料２０部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業製）５部、およびシクロヘキサノン６００部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、４時間分散処理した後、酢酸エチル６００部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調整した。
【０１４５】
この電荷発生層用塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１５分間８０℃で乾燥させることによって、膜厚０．１８μｍの電荷発生層を形成した。
【０１４６】
続いて、実施例１と同様にして、電荷輸送層の形成、保護層の形成、表面加工を行って実施例９の電子写真感光体を作成し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１４７】
［実施例１０］
実施例９において、下引き層用塗布液に添加する２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１．２１部を、アリザリン（東京化成工業製）１．２１部に変更した以外は、実施例９と同様にして実施例１０の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１４８】
［実施例１１］
実施例１において、実施例１と同様にして下引き層の形成までを行った。次に、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを示すクロロガリウムフタロシアニン顔料６部、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料１４部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業製）１０部、およびシクロヘキサノン６００部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、４時間分散処理した後、酢酸エチル６００部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調整した。
【０１４９】
この電荷発生層用塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１５分間８０℃で乾燥させることによって、膜厚０．１８μｍの電荷発生層を形成した。続いて、実施例１と同様にして、電荷輸送層の形成、保護層の形成、表面加工を行って実施例１１の電子写真感光体を作成し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５０】
［実施例１２］
実施例１１において、下引き層用塗布液に添加する２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１．２１部を、アリザリン（東京化成工業製）１．２１部に変更した以外は、実施例１１と同様にして実施例１２の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５１】
［実施例１３］
実施例１において、実施例１と同様にして下引き層の形成までを行った。次に、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを示すクロロガリウムフタロシアニン顔料３部、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料１７部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業製）１０部、およびシクロヘキサノン６００部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、４時間分散処理した後、酢酸エチル６００部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調整した。
【０１５２】
この電荷発生層用塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１５分間８０℃で乾燥させることによって、膜厚０．１８μｍの電荷発生層を形成した。続いて、実施例１と同様にして、電荷輸送層の形成、保護層の形成、表面加工を行って実施例１３の電子写真感光体を作成し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５３】
［実施例１４］
実施例１３において、下引き層用塗布液に添加する２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１．２１部を、アリザリン（東京化成工業製）１．２１部に変更した以外は、実施例１３と同様にして実施例１４の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５４】
［実施例１５］
実施例１において、実施例１と同様にして支持体の作成を行った。次に、ポリオール樹脂としてブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業製）５．５部、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住化バイエルウレタン製）５．５部をメチルエチルケトン３００部と１−ブタノール３００部の混合液に溶解した。この溶液に、チタン酸ストロンチウムの粒子として粒子Ｓ−１Ａを１３９部と、添加剤として２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン（東京化成工業製）１．３９部を加え、これを直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で２３±３℃雰囲気下で３時間分散した。分散後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング製）０．０１部を分散液に加えて攪拌し、下引き層用塗布液を得た。得られた下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布し、これを３０分間１６０℃で乾燥させることによって、膜厚が２．０μｍの下引き層を形成した。続いて、実施例１と同様にして、電荷発生層の形成、電荷輸送層の形成、保護層の形成、表面加工を行って実施例１５の電子写真感光体を作成し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５５】
［実施例１６］
実施例１５において、下引き層用塗布液に添加する２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１．３９部を、アリザリン（東京化成工業製）１．３９部に変更した以外は、実施例１５と同様にして実施例１６の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５６】
［実施例１７］
実施例１において、実施例１と同様にして支持体の作成を行った。次に、ポリオール樹脂としてブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業製）７部、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住化バイエルウレタン製）７部をメチルエチルケトン３００部と１−ブタノール３００部の混合液に溶解した。この溶液に、チタン酸ストロンチウムの粒子として粒子Ｓ−１Ａを１３６部と、添加剤として２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン（東京化成工業製）１．３６部を加え、これを直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で２３±３℃雰囲気下で３時間分散した。分散後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング製）０．０１部を分散液に加えて攪拌し、下引き層用塗布液を得た。得られた下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布し、これを３０分間１６０℃で乾燥させることによって、膜厚が２．０μｍの下引き層を形成した。続いて、実施例１と同様にして、電荷発生層の形成、電荷輸送層の形成、保護層の形成、表面加工を行って実施例１７の電子写真感光体を作成し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５７】
［実施例１８］
実施例１７において、下引き層用塗布液に添加する２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１．３６部を、アリザリン（東京化成工業製）１．３６部に変更した以外は、実施例１７と同様にして実施例１８の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５８】
［実施例１９］
実施例１において、実施例１と同様にして支持体の作成を行った。次に、ポリオール樹脂としてブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業製）１４．５部、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住化バイエルウレタン製）１４．５部をメチルエチルケトン３００部と１−ブタノール３００部の混合液に溶解した。この溶液に、チタン酸ストロンチウムの粒子として粒子Ｓ−１Ａを７６部、前記表面処理された酸化亜鉛粒子Ｚ−１を４５部と、添加剤として２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン（東京化成工業製）１．２１部を加え、これを直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で２３±３℃雰囲気下で３時間分散した。分散後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング製）０．０１部を分散液に加えて攪拌し、下引き層用塗布液を得た。得られた下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布し、これを３０分間１６０℃で乾燥させることによって、膜厚が２．０μｍの下引き層を形成した。続いて、実施例１と同様にして、電荷発生層の形成、電荷輸送層の形成、保護層の形成、表面加工を行って実施例１９の電子写真感光体を作成し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１５９】
［実施例２０］
実施例１９において、下引き層用塗布液に添加する２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１．２１部を、アリザリン（東京化成工業製）１．２１部に変更した以外は、実施例１９と同様にして実施例２０の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１６０】
［実施例２１］
実施例１において、実施例１と同様にして支持体の作成を行った。次に、ポリオール樹脂としてブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業製）１４．５部、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住化バイエルウレタン製）１４．５部をメチルエチルケトン３００部と１−ブタノール３００部の混合液に溶解した。この溶液に、チタン酸ストロンチウムの粒子として粒子Ｓ−１Ａを６１部、前記表面処理された酸化亜鉛粒子Ｚ−１を６０部と、添加剤として２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン（東京化成工業製）１．２１部を加え、これを直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で２３±３℃雰囲気下で３時間分散した。分散後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング製）０．０１部を分散液に加えて攪拌し、下引き層用塗布液を得た。得られた下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布し、これを３０分間１６０℃で乾燥させることによって、膜厚が２．０μｍの下引き層を形成した。続いて、実施例１と同様にして、電荷発生層の形成、電荷輸送層の形成、保護層の形成、表面加工を行って実施例２１の電子写真感光体を作成し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１６１】
［実施例２２］
実施例２１において、下引き層用塗布液に添加する２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１．２１部を、アリザリン（東京化成工業製）１．２１部に変更した以外は、実施例２１と同様にして実施例２２の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１６２】
［実施例２３］
実施例１において、下引き層用塗布液の調整の際に、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンを添加しなかったこと以外は実施例１と同様にして実施例２３の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１６３】
［実施例２４］
実施例１において、実施例１と同様にして下引き層の形成までを行った。次に、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の７．４°、１６．６°、２５．５°、及び２８．３°に回折ピークを示すクロロガリウムフタロシアニン顔料１０部、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の２７．３°に最大の回折ピークを有するチタニルフタロシアニン顔料１０部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業製）１０部、およびシクロヘキサノン６００部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、４時間分散処理した後、酢酸エチル６００部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調整した。
【０１６４】
この電荷発生層用塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１５分間８０℃で乾燥させることによって、膜厚０．１８μｍの電荷発生層を形成した。
【０１６５】
続いて、実施例１と同様にして、電荷輸送層の形成、保護層の形成、表面加工を行って実施例２４の電子写真感光体を作成し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１６６】
［比較例１］
実施例１において、実施例１と同様にして支持体の作成を行った。次に、ポリオール樹脂としてブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業製）１５部、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住化バイエルウレタン製）１５部を、メチルエチルケトン６５部および１−ブタノール６５部の混合液に溶解した。この溶液に、前記表面処理された酸化亜鉛粒子Ｚ−１を８１部と、添加材として２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン（東京化成工業製）０．８１部を加え、これを直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で２３±３℃雰囲気化で３時間分散した。分散後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン製）０．０１部、架橋ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）粒子（商品名：ＴＥＣＨＰＯＬＹＭＥＲＳＳＸ−１０２、積水化成品工業製、平均一次粒径：２．５μｍ）５．６部を分散液に加えて撹拌し、下引き層用塗布液を得た。得られた下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布し、これを４０分間１６０℃で乾燥させることによって、膜厚が３０μｍの下引き層を形成した。続いて、実施例１と同様にして、電荷発生層の形成、電荷輸送層の形成、保護層の形成、表面加工を行って比較例１の電子写真感光体を作成し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１６７】
［比較例２］
実施例１において、実施例１と同様にして下引き層の形成までを行った。次に、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンのブラッグ角（２θ±０．２°）の２７．３°に最大の回折ピークを有するチタニルフタロシアニン顔料１５部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業製）１０部、およびシクロヘキサノン６００部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、４時間分散処理した後、酢酸エチル６００部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調整した。この電荷発生層用塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１５分間８０℃で乾燥させることによって、膜厚０．１８μｍの電荷発生層を形成した。続いて、実施例１と同様にして、電荷輸送層の形成、保護層の形成、表面加工を行って比較例２の電子写真感光体を作成し、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１６８】
【表１】
2020071478.tif 000007
【０１６９】
表１中、下引層の添加剤の記入欄のＡは２、３、４−トリヒドロキシベンゾフェノンを、Ｂはアリザリンを意味する。また、表１中の略称は、ＣｌＧａＰｃ：クロロガリウムフタロシアニン顔料、ＨＯＧａＰｃ：ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料、ＴｉＯＰｃ：チタニルフタロシアニン顔料である。
【符号の説明】
【０１７０】
１  電子写真感光体
２  軸
３  帯電手段
４  露光光
５  現像手段
６  転写手段
７  転写材
８  定着手段
９  クリーニング手段
１０  前露光光
１１  プロセスカートリッジ
１２  案内手段
【図１】
2020071478.tif 000010
【図２】
2020071478.tif 000011
【図３】
2020071478.tif 000012
【図４】
2020071478.tif 000013
【図５】
2020071478.tif 000014