(57)【要約】【課題】本開示の一実施形態は、泡発生率を抑制し、更に、引張強度を高める光学部材用樹脂の製造方法等に関する。【解決手段】ポリイソシアナート成分及びポリチオール成分を含む混合物を減圧下に配する第一減圧工程、前記第一減圧工程後、離型剤を添加して、混合物を更に減圧下に配する第二減圧工程、及び前記混合物を重合する重合工程を含む光学部材用樹脂の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリイソシアナート成分及びポリチオール成分を含む混合物を減圧下に配する第一減圧工程、
前記第一減圧工程後、離型剤を添加して、混合物を更に減圧下に配する第二減圧工程、及び
前記混合物を重合する重合工程
を含む光学部材用樹脂の製造方法。
【請求項２】
前記第一減圧工程の到達真空度が、１，０００Ｐａ以下である、請求項１に記載の光学部材用樹脂の製造方法。
【請求項３】
前記第二減圧工程の到達真空度が、１，０００Ｐａ以下である、請求項１又は２に記載の光学部材用樹脂の製造方法。
【請求項４】
前記第一減圧工程における、前記混合物中の離型剤の含有量が、０．０１質量％未満である、請求項１〜３のいずれかに記載の光学部材用樹脂の製造方法。
【請求項５】
前記第二減圧工程における、前記離型剤の添加量が、前記ポリイソシアナート成分及び前記ポリチオール成分の合計量１００質量部に対して、０．０１質量部以上５質量部以下である、請求項１〜４のいずれかに記載の光学部材用樹脂の製造方法。
【請求項６】
前記離型剤が、酸性リン酸エステルである、請求項１〜５のいずれかに記載の光学部材用樹脂の製造方法。
【請求項７】
前記ポリチオール成分が、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、４，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、５，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ブタンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、ブタンジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（２−メルカプトアセテート）、及びジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１〜６のいずれかに記載の光学部材用樹脂の製造方法。
【請求項８】
前記ポリイソシアナート成分が、２，５−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、及びヘキサメチレンジイソシアナートからなる群より選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１〜７のいずれかに記載の光学部材用樹脂の製造方法。
【請求項９】
前記重合工程の前に、前記混合物を成形型内に注入する工程を更に有する、請求項１〜８のいずれかに記載の光学部材用樹脂の製造方法。
【請求項１０】
前記光学部材が、眼鏡用レンズ基材である、請求項１〜９のいずれかに記載の光学部材用樹脂の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、眼鏡用レンズ等の光学部材用樹脂の製造方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
樹脂製のレンズは、無機ガラス等の無機材料からなるレンズに比べて軽量で割れ難く、染色が可能であるという利点を有する。このため、現在、眼鏡レンズやカメラレンズ等の光学部材として、樹脂製のレンズが用いられることが主流となっている。
【０００３】
特許文献１では、所定の環状構造を有するイソシアネート化合物（Ａ）と、炭素数４〜１１脂肪族イソシアネート化合物（Ｂ）と、チオール化合物（Ｃ）と、を含んでなる重合性組成物が記載されている。当該重合性組成物によれば、耐衝撃性に優れ、屈折率、アッベ数等の光学特性、ハンドリング性、透明性、耐熱性のバランスに優れ、アルカリ耐性にも優れ、さらに基材層とハードコート層または反射防止コート層との間にプライマー層を有さない場合においても、耐衝撃性に優れた成形体を提供することができると記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１６／０２１６８０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に示されるように光学部材の製造時には、ポリチオール成分とポリイソシアナート成分とを含む重合性組成物を重合するために、成形型内に注入し、重合することで光学部材が製造される。多数の光学部材を製造すると、それらの製造物に泡の発生が確認されることがあった。
本開示の一実施形態は、泡発生率を抑制し、更に、引張強度を高める光学部材用樹脂の製造方法等に関する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、光学部材の製造過程において、あらゆる原因を分析し、以下に示す第一減圧工程及び第二減圧工程を含む方法により、光学部材用樹脂を製造することで、泡発生率を抑制し、更に、引張強度を高めることができることを見出した。
【０００７】
本開示の一実施形態は、
ポリイソシアナート成分及びポリチオール成分を含む混合物を減圧下に配する第一減圧工程、
前記第一減圧工程後、離型剤を添加して、混合物を更に減圧下に配する第二減圧工程、及び
前記混合物を重合する重合工程
を含む光学部材用樹脂の製造方法に関する。
【発明の効果】
【０００８】
本開示の一実施形態によれば、泡発生率を抑制し、更に、引張強度を高める光学部材用樹脂の製造方法等を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
［光学部材用樹脂の製造方法］
本開示の一実施形態に係る光学部材用樹脂の製造方法は、
ポリイソシアナート成分及びポリチオール成分を含む混合物を減圧下に配する第一減圧工程（以下、単に「第一減圧工程」ともいう）、
前記第一減圧工程後、離型剤を添加して、混合物を更に減圧下に配する第二減圧工程（以下、単に「第二減圧工程」ともいう）、及び
前記混合物を重合する重合工程（以下、単に「重合工程」ともいう）
を含む。
以上の構成を有することで、泡発生率を抑制し、更に、引張強度を高める光学部材用樹脂の製造方法を提供することができる。
【００１０】
当該効果が得られる理由は定かではないが以下のように考えられる。
第一減圧工程及び第二減圧工程と、工程を分けることで、調合時の脱泡効率を高めることができ、混合物中の水分が効率的に除去されると考えられる。その結果、水と、ポリイソシアナート成分との反応で生じるウレア化合物の生成が抑制でき、架橋密度の高い樹脂が形成され、引張強度の向上が見られたのではないかと考えられる。
【００１１】
以下、本開示の一実施形態に係る光学部材の製造方法についてより詳細に説明する。
本開示の一実施形態に係る光学部材の製造方法は、例えば、
ポリイソシアナート成分とポリチオール成分と必要に応じて添加剤（但し、離型剤を除く）とを混合し、重合性組成物を得る工程（以下、「混合工程」ともいう）、
重合性組成物を含む混合物を減圧下に配する第一減圧工程、
前記第一減圧工程後、離型剤を添加して、混合物を更に減圧下に配する第二減圧工程、
混合物を成形型内に注入する工程（以下、「注入工程」ともいう）、及び
混合物を重合する工程（以下、「重合工程」ともいう）
を含む。
【００１２】
＜混合工程＞
混合工程では、例えば、ポリイソシアナート成分とポリチオール成分と必要に応じて添加剤とを混合し、重合性組成物を得る。混合順序は特に限定されない。
【００１３】
〔重合性組成物〕
重合性組成物は、ポリイソシアナート成分とポリチオール成分とを含む。
【００１４】
（ポリイソシアナート成分）
ポリイソシアナート成分としては、例えば、芳香環を有するポリイソシアナート化合物、脂環式ポリイソシアナート化合物、直鎖又は分岐鎖の脂肪族ポリイソシアナート化合物が挙げられる。
【００１５】
芳香環を有するポリイソシアナート化合物としては、例えば、ジイソシアナトベンゼン、２，４−ジイソシアナトトルエン、エチルフェニレンジイソシアナート、イソプロピルフェニレンジイソシアナート、ジメチルフェニレンジイソシアナート、ジエチルフェニレンジイソシアナート、ジイソプロピルフェニレンジイソシアナート、トリメチルベンゼントリイソシアナート、ベンゼントリイソシアナート、ビフェニルジイソシアナート、トルイジンジイソシアナート、４，４’−メチレンビス（フェニルイソシアナート）、４，４’−メチレンビス（２−メチルフェニルイソシアナート）、ビベンジル−４，４’−ジイソシアナート、ビス（イソシアナトフェニル）エチレン、１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン、１,３−ビス（イソシアナトエチル）ベンゼン、ビス（イソシアナトプロピル）ベンゼン、α，α，α’，α’−テトラメチルキシリレンジイソシアナート、ビス（イソシアナトブチル）ベンゼン、ビス（イソシアナトメチル）ナフタレン、ビス（イソシアナトメチルフェニル）エーテル、２−イソシアナトフェニル−４−イソシアナトフェニルスルフィド、ビス（４−イソシアナトフェニル）スルフィド、ビス（４−イソシアナトメチルフェニル）スルフィド、ビス（４−イソシアナトフェニル）ジスルフィド、ビス（２−メチル−５−イソシアナトフェニル）ジスルフィド、ビス（３−メチル−５−イソシアナトフェニル）ジスルフィド、ビス（３−メチル−６−イソシアナトフェニル）ジスルフィド、ビス（４−メチル−５−イソシアナトフェニル）ジスルフィド、ビス（３−メチルオキシ−４−イソシアナトフェニル）ジスルフィド、ビス（４−メチルオキシ−３−イソシアナトフェニル）ジスルフィドが挙げられる。
【００１６】
脂環式ポリイソシアナート化合物としては、例えば、１，３−ジイソシアナトシクロヘキサン、イソホロンジイソシアナート、１,３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１,４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアナート、２，５−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ[２,２,１]ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ[２,２,１]ヘプタン、２，５−ジイソシアナト−１，４−ジチアン、２，５−ビス（イソシアナトメチル）−１，４−ジチアン、４，５−ジイソシアナト−１，３−ジチオラン、４，５−ビス（イソシアナトメチル）−１，３−ジチオラン、４，５−ビス（イソシアナトメチル）−２−メチル−１，３−ジチオランが挙げられる。
【００１７】
直鎖又は分岐の脂肪族ポリイソシアナート化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアナート、２，２−ジメチルペンタンジイソシアナート、２，２，４−トリメチルヘキサンジイソシアナート、ブテンジイソシアナート、１，３−ブタジエン−１，４−ジイソシアナート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアナート、１，６，１１−ウンデカントリイソシアナート、１，３，６−ヘキサメチレントリイソシアナート、１，８−ジイソシアナト−４−イソシアナトメチルオクタン、ビス（イソシアナトエチル）カーボネート、ビス（イソシアナトエチル）エーテル、リジンジイソシアナトメチルエステル、リジントリイソシアナート、ビス（イソシアナトメチル）スルフィド、ビス（イソシアナトエチル）スルフィド、ビス（イソシアナトプロピル）スルフィド、ビス（イソシアナトヘキシル）スルフィド、ビス（イソシアナトメチル）スルホン、ビス（イソシアナトメチル）ジスルフィド、ビス（イソシアナトエチル）ジスルフィド、ビス（イソシアナトプロピル）ジスルフィド、ビス（イソシアナトメチルチオ）メタン、ビス（イソシアナトエチルチオ）メタン、ビス（イソシアナトメチルチオ）エタン、ビス（イソシアナトエチルチオ）エタン、１，５−ジイソシアナト−２−イソシアナトメチル−３−ペンタン、１，２，３−トリス（イソシアナトメチルチオ）プロパン、１，２，３−トリス（イソシアナトエチルチオ）プロパン、３，５−ジチア−１，２，６，７−ヘプタンテトライソシアナート、２，６−ジイソシアナトメチル−３，５−ジチア−１，７−ヘプタンジイソシアナート、２，５−ジイソシアナトメチルチオフェン、４−イソシアナトエチルチオ−２，６−ジチア−１，８−オクタンジイソシアナート、１，２−ジイソチオシアナトエタン、１，６−ジイソチオシアナトヘキサンが挙げられる。
これらは、１種又は２種以上を用いてもよい。
【００１８】
ポリイソシアナート成分は、
好ましくは、
２，５−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、及びヘキサメチレンジイソシアナートからなる群より選ばれる少なくとも１種を含み、
より好ましくは、１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン、ヘキサメチレンジイソシアナート、及び１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサンからなる群より選ばれる少なくとも１種を含み、
更に好ましくは、１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼンを含む。
上述の好ましいポリイソシアナート成分の量は、ポリイソシアナート成分中、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上、更に好ましくは９０質量％以上、更に好ましくは９５質量％以上であり、そして、１００質量％以下である。
【００１９】
（ポリチオール成分）
ポリチオール成分としては、例えば、ポリオール化合物とメルカプト基含有カルボン酸化合物とのエステル化合物、直鎖又は分岐の脂肪族ポリチオール化合物、脂環構造を有するポリチオール化合物、芳香族ポリチオール化合物が挙げられる。
【００２０】
ポリオール化合物とメルカプト基含有カルボン酸化合物とのエステル化合物において、ポリオール化合物としては、分子内に２個以上の水酸基を有する化合物が挙げられる。
ポリオール化合物としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロパンジオール、プロパントリオール、ブタンジオール、トリメチロールプロパン、ビス（２−ヒドロキシエチル）ジスルフィド、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールが挙げられる。
メルカプト基含有カルボン酸化合物としては、例えば、チオグリコール酸、メルカプトプロピオン酸、チオ乳酸化合物、チオサリチル酸が挙げられる。
ポリオール化合物とメルカプト基含有カルボン酸化合物とのエステル化合物としては、例えば、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ブタンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、１，４−ブタンジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（２−メルカプトアセテート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）が挙げられる。
【００２１】
直鎖又は分岐の脂肪族ポリチオール化合物としては、例えば、１，２−エタンジチオール、１，１−プロパンジチオール、１，２−プロパンジチオール、１，３−プロパンジチオール、２，２−プロパンジチオール、１，６−ヘキサンジチオール、１，２，３−プロパントリチオール、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジチオール、３，４−ジメチルオキシブタン−１，２−ジチオール、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール、１，２−ジメルカプトプロピルメチルエーテル、２，３−ジメルカプトプロピルメチルエーテル、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）−３−メルカプトプロパン、２−（２−メルカプトエチルチオ）プロパン−１，３−ジチオール、２，２−ビス（メルカプトメチル）−１，３−プロパンジチオール、ビス（メルカプトメチルチオ）メタン、トリス（メルカプトメチルチオ）メタン、ビス（２−メルカプトエチルチオ）メタン、１，２−ビス（メルカプトメチルチオ）エタン、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）エタン、１，３−ビス（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，３−ビス（２−メルカプトエチルチオ）プロパン、１，１，２，２−テトラキス（メルカプトエチルチオ）エタン、１，１，３，３−テトラキス（メルカプトエチルチオ）プロパン、３−メルカプトメチル−１，５−ジメルカプト−２，４−ジチアペンタン、テトラキス（メルカプトエチルチオ）プロパン、ビス（２−メルカプトエチル）エーテル、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、ビス（２−メルカプトエチル）ジスルフィド、ビス（２−メルカプトエチルチオ）−３−メルカプトプロパン、４−メルカプトメチル−１,８−ジメルカプト−３,６−ジチアオクタン、４，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、５，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオールが挙げられる。
【００２２】
脂環構造を有するポリチオール化合物としては、例えば、１，１−シクロヘキサンジチオール、１，２−シクロヘキサンジチオール、メチルシクロヘキサンジチオール、ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、２−（２，２−ビス（メルカプトメチルチオ）エチル）−１，３−ジチエタン、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、４，８−ビス（メルカプトメチル）−１，３−ジチアンが挙げられる。
【００２３】
芳香族ポリチオール化合物としては、例えば、１，３−ジメルカプトベンゼン、１，４−ジメルカプトベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，３，５−トリメルカプトベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、４，４’−ジメルカプトビフェニル、４，４’−ジメルカプトビベンジル、２，５−トルエンジチオール、１，５−ナフタレンジチオール、２，６−ナフタレンジチオール、２，７−ナフタレンジチオール、２，４−ジメチルベンゼン−１，３−ジチオール、４，５−ジメチルベンゼン−１，３−ジチオール、９，１０−アントラセンジメタンチオール、１，３−ジ（ｐ−メチルオキシフェニル）プロパン−２，２−ジチオール、１，３−ジフェニルプロパン−２，２−ジチオール、フェニルメタン−１，１−ジチオール、２，４−ジ（ｐ−メルカプトフェニル）ペンタンが挙げられる。
これらは、１種又は２種以上を用いてもよい。
【００２４】
ポリチオール成分は、
好ましくは、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）−３−メルカプトプロパン、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、４，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、５，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ブタンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、ブタンジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（２−メルカプトアセテート）、及びジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）からなる群より選ばれる少なくとも１種を含み、
より好ましくは、４，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、５，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）−３−メルカプトプロパン、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、及びペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）からなる群より選ばれる少なくとも１種を含み、
更に好ましくは、４，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、及び５，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオールからなる群より選ばれる少なくとも１種を含み、
更に好ましくは、４，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、及び５，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオールの混合物である。
【００２５】
上述の好ましいポリチオール成分の量は、ポリチオール成分中、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上、更に好ましくは９０質量％以上、更に好ましくは９５質量％以上であり、そして、１００質量％以下である。
【００２６】
ポリチオール成分のメルカプト基と、ポリイソシアナート成分のイソシアナト基の当量比（メルカプト基／イソシアナト基）は、好ましくは４０／６０以上、より好ましくは４３／５７以上、更に好ましくは４５／５５以上であり、そして、好ましくは６０／４０以下、より好ましくは５５／４５以下、更に好ましくは５３／４７以下である。
【００２７】
重合性組成物において、ポリイソシアナート成分とポリチオール成分との好適な組み合わせとしては、例えば、
（ｉ）１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン、並びに、４，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、及び５，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオールの混合物、
（ii）２，５−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンの混合物、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン及びペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）
（iii）１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、及びペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、
が挙げられる。
【００２８】
（添加剤）
添加剤は、例えば、重合触媒、紫外線吸収剤、抗酸化剤、着色防止剤、蛍光増白剤が挙げられる。これらは、１種又は２種以上を用いてもよい。離型剤は、当該工程においては、添加しないことが好ましい。つまり、当該工程で添加する添加剤は、好ましくは離型剤を除く。
添加剤は、好ましくは、重合触媒、及び紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む。
上記各種成分を通常の方法により混合することで、重合性組成物が得られる。
【００２９】
（重合触媒）
重合触媒としては、例えば、スズ化合物、含窒素化合物が挙げられる。
スズ化合物としては、例えば、アルキルスズ化合物、アルキルスズハライド化合物が挙げられる。
アルキルスズ化合物としては、例えば、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジラウレートが挙げられる。
アルキルスズハライド化合物としては、例えば、ジブチルスズジクロライド、ジメチルスズジクロライド、モノメチルスズトリクロライド、トリメチルスズクロライド、トリブチルスズクロライド、トリブチルスズフロライド、ジメチルスズジブロマイドが挙げられる。
これらの中でも、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジクロライド、ジメチルスズジクロライドが好ましく、ジメチルスズジクロライドがより好ましい。
【００３０】
含窒素化合物としては、例えば、３級アミン、４級アンモニウム塩、イミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物が挙げられる。３級アミンは、好ましくはヒンダードアミンである。
３級アミンとしては、例えば、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、ビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ'−ジメチルピペラジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチルエチレンジアミン、１，４−ジアザビシクロ[２．２．２]オクタン（ＤＡＢＣＯ）が挙げられる。
ヒンダードアミンとしては、例えば、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシエチル−４−ピペリジノール、メチル−１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート、メチル−１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケートとビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケートとの混合物、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１−（オクチルオキシ）−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレートが挙げられる。
４級アンモニウム塩としては、例えば、テトラエチルアンモニウムヒドロキシドが挙げられる。
イミダゾール系化合物としては、例えば、イミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾール、ベンジルメチルイミダゾール、２−エチル−４−イミダゾールが挙げられる。
ピラゾール系化合物としては、例えば、ピラゾール、３，５−ジメチルピラゾールが挙げられる。
これらの中でも、ヒンダードアミン等の３級アミン、イミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物が好ましく、より好ましくはヒンダードアミンがより好ましい。
【００３１】
重合触媒の添加量は、ポリイソシアナート成分及びポリチオール成分の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．００１質量部以上、より好ましくは０．００５質量部以上、更に好ましくは０．００７質量部以上であり、そして、好ましくは２質量部以下、より好ましくは１質量部以下、更に好ましくは０．５質量部以下である。
【００３２】
（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ジベンゾイルメタン、ジベンゾイルメタン系化合物が挙げられる。これらの中でもベンゾトリアゾール系化合物、又はベンゾフェノン系化合物が好ましい。
ベンゾトリアゾール系化合物としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−エチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが挙げられる。
ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホニックアシッド、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンが挙げられる。
ジベンゾイルメタン系化合物としては、例えば、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンが挙げられる。
これらは、１種又は２種以上を用いてもよい。
紫外線吸収剤の添加量は、ポリイソシアナート成分及びポリチオール成分の合計量１００質量部に対し、好ましくは０．０１質量部以上、より好ましくは０．１０質量部以上、更に好ましくは０．３０質量部以上、更に好ましくは０．４０質量部以上であり、そして、好ましくは５質量部以下、より好ましくは３質量部以下、更に好ましくは２質量部以下である。
【００３３】
＜第一減圧工程＞
第一減圧工程では、ポリイソシアナート成分及びポリチオール成分を含む混合物を減圧下に配する。
第一減圧工程における到達真空度は、泡発生率をより抑制し、更に、引張強度をより高める観点から、好ましくは１，０００Ｐａ以下、より好ましくは８００Ｐａ以下、更に好ましくは７００Ｐａ以下である。
そして、第一減圧工程における到達真空度は、作業効率の観点から、好ましくは１０Ｐａ以上、より好ましくは５０Ｐａ以上、更に好ましくは１００Ｐａ以上、更に好ましくは３００Ｐａ以上である。
減圧下に配する時間は、好ましくは１０分以上９０分以下、より好ましくは２０分以上７０分以下、更に好ましくは２５分以上５０分以下である。
第一減圧工程における、混合物中の離型剤の含有量は、泡発生率をより抑制し、更に、引張強度をより高める観点から、好ましくは０．０１質量％未満であり、より好ましくは０質量％以上０．０１質量％未満であり、更に好ましくは０質量％以上０．００１質量％未満である。
【００３４】
＜第二減圧工程＞
第二減圧工程では、第一減圧工程後、離型剤を添加して、混合物を更に減圧下に配する。
（離型剤）
離型剤としては、例えば、酸性リン酸アルキルエステル等の酸性リン酸エステルが挙げられる。酸性リン酸アルキルエステルのアルキル基の炭素数は、好ましくは１以上、より好ましくは４以上であり、そして、好ましくは２０以下、より好ましくは１２以下である。
酸性リン酸エステルは、リン酸モノエステル、リン酸ジエステルのいずれであってもよいが、リン酸モノエステル、及びリン酸ジエステルの混合物が好ましい。
酸性リン酸アルキルエステルとしては、例えば、イソプロピルアシッドフォスフェート、ブチルアシッドフォスフェート、オクチルアシッドフォスフェート、ノニルアシッドフォスフェート、デシルアシッドフォスフェート、イソデシルアシッドフォスフェート、トリデシルアシッドフォスフェート、ステアリルアシッドフォスフェート、プロピルフェニルアシッドフォスフェート、ブチルフェニルアシッドフォスフェート、ブトキシエチルアシッドフォスフェートが挙げられる。
離型剤の添加量は、ポリイソシアナート成分及びポリチオール成分の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部以上、より好ましくは０．０５質量部以上、更に好ましくは０．０８質量部以上であり、そして、好ましくは５質量部以下、より好ましくは１質量部以下、更に好ましくは０．５質量部以下、更に好ましくは０．３０質量部以下である。
【００３５】
第二減圧工程における到達真空度は、泡発生率をより抑制し、更に、引張強度をより高める観点から、好ましくは１，０００Ｐａ以下、より好ましくは８００Ｐａ以下、更に好ましくは７００Ｐａ以下である。
そして、第二減圧工程における到達真空度は、作業効率の観点から、好ましくは１０Ｐａ以上、より好ましくは５０Ｐａ以上、更に好ましくは１００Ｐａ以上、更に好ましくは１５０Ｐａ以上である。
減圧下に配する時間は、好ましくは１０分以上１２０分以下、より好ましくは３０分以上１１０分以下、更に好ましくは６０分以上１００分以下である。
【００３６】
＜注入工程＞
注入工程では、例えば、得られた混合物を成形型内に注入する。
光学部材として眼鏡レンズを製造する場合、例えば、眼鏡用レンズ基材の両主面を形成する１対のモールドと、これらのモールドを離隔させて固定するテープ又はガスケットとを備える成形型が用いられる。なお上述のモールドは、ガラス製であっても、金属製であってもよい。
成形型への注入前に、重合組成物を濾過してもよい。濾過方法は特に限定されないが、例えば、孔径１〜３０μｍのフィルターを用いて濾過を行ってもよい。
【００３７】
＜重合工程＞
重合工程においては、例えば、加熱により混合物を重合する。
重合条件は、混合物、成形する光学部材の形状に応じて、適宜設定することができる。
重合開始温度は、通常０〜５０℃、好ましくは５〜３０℃である。重合開始温度から昇温し、その後、加熱して硬化形成することが好ましい。例えば、昇温後の最高温度は、通常１１０〜１３０℃である。重合開始から終了までの、重合時間は、例えば３〜９６時間である。
重合終了後、光学部材を離型して、アニール処理を行ってもよい。アニール処理の温度は、好ましくは１００〜１５０℃である。
上述の方法により、光学部材用樹脂が得られる。
【００３８】
［光学部材］
光学部材としては、例えば、眼鏡レンズ、カメラレンズ、プリズム、光ファイバ、光ディスク若しくは磁気ディスク等に用いられる記録媒体用基板、コンピュータのディスプレイに付設する光学フィルタ等が挙げられる。これらの中でも、眼鏡レンズが好ましい。
眼鏡レンズは、好ましくは、当該光学部材からなるレンズ基材（以下、「眼鏡用レンズ基材」ともいう）を備える。
眼鏡用レンズ基材の表面形状は特に限定されず、平面、凸面、凹面等のいずれであってもよい。
眼鏡用レンズ基材は、単焦点レンズ、多焦点レンズ、累進屈折力レンズ等のいずれであってもよい。例えば、一例として、累進屈折力レンズについては、通常、近用部領域（近用部）及び累進部領域（中間領域）が、下方領域に含まれ、遠用部領域（遠用部）が上方領域に含まれる。
眼鏡用レンズ基材は、フィニッシュ型眼鏡用レンズ基材であってもセミフィニッシュ型眼鏡用レンズ基材であってもよい。
眼鏡用レンズ基材の幾何学中心の厚さ及び直径は、特に限定されるものではないが、幾何学中心の厚さは通常０．８〜３０ｍｍ程度、直径は通常５０〜１００ｍｍ程度である。
眼鏡用レンズ基材の屈折率（ｎｅ）は、例えば、１．５３以上、１．５５以上、１．５８以上、１．６０以上であり、例えば、１．７５以下、１．７０以下である。
【００３９】
眼鏡レンズは、好ましくは眼鏡用レンズ基材及びその眼鏡用レンズ基材の表面に機能層を備える。
機能層としては、例えば、ハードコート層、プライマー層、反射防止膜及び撥水膜からなる郡から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。
ハードコート層は、耐擦傷性向上のために設けられ、好ましくは有機ケイ素化合物、酸化スズ、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化チタン等の微粒子状無機物を含有するコーティング液を塗工して形成することができる。
プライマー層は、耐衝撃性を向上させるために設けられ、例えば、ポリウレタンを主成分とする。ここでポリウレタンの含有量は、プライマー層中、好ましくは５０質量％以上である。
反射防止膜としては、酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル等の無機物を積層した膜が挙げられる。
撥水膜としては、フッ素原子を有する有機ケイ素化合物を用いて形成することができる。
【００４０】
［眼鏡］
本発明の一実施形態に係る眼鏡は、眼鏡レンズと、この眼鏡レンズを取り付けたフレームとを有する。
フレームとしては、例えば、一対のリムと、当該リム間に設けられたブリッチと、当該リムの片端に設けられた一対のテンプルとを有する。
リムは、ハーフリムであってもよい。
フレームとしては、いわゆるリムレスフレームであってもよい。この場合、眼鏡は、例えば、一対の眼鏡レンズと、当該眼鏡レンズ間に設けられたブリッチと、当該眼鏡レンズの片端に設けられた一対のテンプルとを有する。
【実施例】
【００４１】
以下、本開示の実施形態に関して、具体的な実施例を示すが、本特許請求の範囲は、以下の実施例によって限定されるものではない。以下に記載の操作及び評価は、特記しない限り大気中室温下（２０〜２５℃程度）で行った。また、以下に記載の「％」及び「部」は、特記しない限り質量基準である。
【００４２】
［評価方法］
＜引張強度測定＞
引張強度試験は直径５３ｍｍ、中心厚１．８ｍｍのフラット形状の樹脂に対し、外周から内側４ｍｍに直径１．６ｍｍの孔を１か所加工し、対角にも１か所同様に１．６ｍｍの孔を加工した。そこに直径１ｍｍの金属棒を通し、テンシロン万能材料試験機「ＲＴＣ―１２２５」（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製）で５ｍｍ／ｍｉｎの速度にて、引張強度を測定した。試験は各条件１０枚に対して行い、最大点荷重（ｋｇｆ）の平均値を引張強度とした。
【００４３】
＜気泡＞
暗箱内で蛍光灯下に眼鏡用レンズ基材の幾何学中心から直径３０ｍｍ以内を目視で観察し、気泡があるものを不合格とした。検査は、各条件にて製造した眼鏡レンズ基材に対して行い、不合格品の発生割合を表に示した。
【００４４】
［眼鏡用レンズ基材の作製］
実施例１
１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン５０．６質量部、重合触媒としてジメチル錫ジクロライド０．０１質量部、紫外線吸収剤「シーソーブ７０１」（シプロ化成株式会社製）０．５０質量部を混合、溶解させた。更に、４，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、及び５，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオールの混合物４９．４質量部を添加し、混合した。
当該混合液を６００Ｐａにて３０分脱泡（第一減圧工程）を行った後、離型剤「ＪＰ−５０６ｈ」（城北化学工業株式会社製、ブトキシエチルアシッドフォスフェート）０．１０質量部を加えて、６００Ｐａにて４５分脱泡（第二減圧工程）した後、孔径５．０μｍのＰＰ（ポリプロピレン）フィルターにてろ過を行った。続いて、直径７５ｍｍ，−４．００Ｄのレンズ形状を有するガラスモールドとガスケットからなる成形型に当該混合液を注入した。同様に、引張強度試験用フラット基材の成型のため、直径７５ｍｍ、平坦形状のガラスモールドとガスケットからなる成形型に当該混合液を注入した。
重合性組成物が注入された成形型は、重合炉に投入し、１５℃から１２０℃まで２４時間かけて重合させた。重合終了後、重合炉から成形型を取り出し、離型して眼鏡用レンズ基材を得た。得られた眼鏡用レンズ基材を更に炉内温度１２０℃のアニール炉において３時間アニールを行った。
同様の条件で、合計５００枚の眼鏡用レンズ基材を製造した。得られた眼鏡レンズ用レンズ基材の泡発生率の評価を行った。また得られた引張強度試験用フラット基材を用いて、引張強度の評価を行った。なお、試験用フラット基材には、目視で確認したかぎりでは、気泡は発生していなかった。
【００４５】
実施例２〜５
離型剤を加えた後の第二減圧工程の条件を表１に示すように変更した以外は、実施例1と同様に眼鏡用レンズ基材５００枚及び引張強度試験用フラット基材を成型し、泡発生率及び引張強度を評価した。なお、試験用フラット基材には、目視で確認したかぎりでは、気泡は発生していなかった。
【００４６】
実施例６〜１５
表１に示したポリイソシアナート成分及びポリチオール成分に変更し、第一減圧工程と第二減圧工程の条件を表１に示した到達真空度及び時間とした以外は、実施例1と同様に、各実施例について、眼鏡用レンズ基材５００枚及び引張強度試験用フラット基材を成型し、泡発生率及び引張強度を評価した。なお、試験用フラット基材には、目視で確認したかぎりでは、気泡は発生していなかった。
【００４７】
比較例１
１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン５０．６質量部、重合触媒としてジメチル錫ジクロライド０．０１質量部、紫外線吸収剤「シーソーブ７０１」（シプロ化成株式会社製）０．５０質量部、離型剤「ＪＰ−５０６Ｈ」（城北化学工業株式会社製、ブトキシエチルアシッドフォスフェート）０．１０質量部を混合、溶解させた。更に、４，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、及び５，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオールの混合物４９．４質量部を添加し、混合した。
当該混合液を２００Ｐａにて４５分脱泡したのち、孔径５．０μｍのＰＰ（ポリプロピレン）フィルターにてろ過を行った。続いて、直径７５ｍｍ，−４．００Ｄのレンズ形状を有するガラスモールドとガスケットからなる成形型に当該混合液を注入した。同様に、引張強度試験用フラット基材の成型のため、直径７５ｍｍ、平坦形状のガラスモールドとガスケットからなる成形型に当該混合液を注入した。
重合性組成物が注入された成形型は、重合炉に投入し、１５℃から１２０℃まで２４時間かけて重合させた。重合終了後、重合炉から成形型を取り出し、離型して眼鏡用レンズ基材を得た。得られた眼鏡用レンズ基材を更に炉内温度１２０℃のアニール炉において３時間アニールを行った。
同様の条件で、合計５００枚の眼鏡用レンズ基材を製造した。得られた眼鏡レンズ用レンズ基材の泡発生率の評価を行った。また得られた引張強度試験用フラット基材を用いて、引張強度の評価を行った。なお、試験用フラット基材には、目視で確認したかぎりでは、気泡は発生していなかった。
【００４８】
比較例２，３
混合液の脱泡条件を表１に示すように変更した以外は、比較例１と同様に眼鏡用レンズ基材５００枚及び引張強度試験用フラット基材を成型し、泡発生率及び引張強度を評価した。なお、試験用フラット基材には、目視で確認したかぎりでは、気泡は発生していなかった。
【００４９】
比較例４〜９
表１に示したポリイソシアナート成分及びポリチオール成分に変更し、混合液の脱泡条件を表１に示した到達真空度及び時間とした以外は、比較例１と同様に、各実施例について、眼鏡用レンズ基材５００枚及び引張強度試験用フラット基材を成型し、泡発生率及び引張強度を評価した。なお、試験用フラット基材には、目視で確認したかぎりでは、気泡は発生していなかった。
【００５０】
【表１】
2020056830.tif 000002
【００５１】
表１中の略語は以下のとおりである。
Ｉ−１：１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン
Ｉ−２：２，５−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンの混合物
Ｉ−３：１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン
Ｔ−１：２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン
Ｔ−２：ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）
Ｔ−３：４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン
Ｔ−４：４，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、及び５，７−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオールの混合物
Ｔ−５：ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）
【００５２】
以上、実施例及び比較例の結果から、実施例の方法により、発泡抑制され、更に引張強度が高くなることがわかる。