(57)【要約】【課題】より気軽に足浴を楽しむことができる足湯装置を提供する。【解決手段】足湯装置１は、湯水を貯留する水槽部４と、水槽部４の上端縁から湯水が溢れるのを防止するオーバーフロー管６１（水溢れ防止部）とを備えている。オーバーフロー管６１は、水槽部４内の所定の高さに開口して流入した湯水を排出する開口６１Ａ（オーバーフロー口）を有して構成され得る。【選択図】図１
2020151055.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
湯水を貯留する水槽部と、
前記水槽部の上端縁から湯水が溢れるのを防止する水溢れ防止部と、
を備えている足湯装置。
【請求項２】
前記水溢れ防止部は、前記水槽部内の所定の高さに開口して流入した湯水を排出するオーバーフロー口を有して構成されている請求項１に記載の足湯装置。
【請求項３】
前記水槽部に隣接して設けられ、上面を座面とする座面部を備えており、
前記水槽部の上端縁は前記座面部の上面よりも低い位置に配置されている請求項１又は請求項２に記載の足湯装置。
【請求項４】
前記座面部は、前記水槽部を覆う位置に移動自在に設けられている請求項３に記載の足湯装置。
【請求項５】
前記座面部は着脱自在に設けられている請求項３又は請求項４に記載の足湯装置。
【請求項６】
前記水槽部の底面と上端縁との間に少なくとも１の段部が設けられたステップを備えており、
前記水溢れ防止部は、前記段部よりも上方に水位が上昇するのを防止する請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の足湯装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、足湯装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は足湯機能付き浴槽を開示している。浴槽は、底面部と、底面部の周囲を囲う側壁と、底面部から上方に段差状に立ち上がった座部とを備えている。浴槽は、足浴を行う時は、座部に着座し、底面部側に張られた湯水に足部を浸漬して使用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−２２０９３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１のような浴槽は、通常、浴室に設けられる。このため、足浴を行うためには浴室に行かなければならず煩雑であった。例えば、足湯装置がリビングルームや寝室に設置されていれば足浴を容易に行うことができるが、この場合には水槽からの湯水の溢れが懸念され、注意が必要であった。
【０００５】
本発明は、上記従来の実情に鑑みてなされたものであって、より気軽に足浴を楽しむことができる足湯装置を提供することを解決すべき課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の足湯装置は、湯水を貯留する水槽部と、前記水槽部の上端縁から湯水が溢れるのを防止する水溢れ防止部と、を備えている。
【０００７】
なお、上記「湯水」とは、足部を浸した際に、感覚的に温かい（又はやや熱い）と感じられる湯や、感覚的に冷たいと感じられる冷水等の水を意図している。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施例１に係る足湯装置を模式的に示す斜視図である。
【図２】実施例１に係る足湯装置を模式的に示す側面断面図である。
【図３】実施例１に係る足湯装置のフレーム、槽本体、ステップ、カバー、及び座板を模式的に示す分解斜視図である。
【図４】実施例１に係る足湯装置の内部構造を省略した斜視断面図である。
【図５】実施例１に係る足湯装置の作用を説明するための図であり、座板を槽本体の上面に移動させた状態を示す。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下の説明では、便宜上、鉛直方向を上下方向、水槽部内に足部を入れて座面に着座した状態の使用者から見た方向をそのまま前後左右方向として説明する。
【００１０】
＜実施例１＞
実施例１の足湯装置１は、図１〜図４に示すように、全体として、前後方向を長手方向とする略直方体形状をなしている。足湯装置１は、座面部２と、収納部３と、水槽部４とを備えている。座面部２は足湯装置１の最上部に設けられている。座面部２の上面は座面２Ａとされている。収納部３は、座面部２の下方に設けられている。収納部３は、後述するポンプ５等の機能部品が収納される収納空間３Ａを形成している。水槽部４は湯水を貯留する。水槽部４は、座面部２の前方に隣接して設けられ、上方に開口するとともに、下方に凹状に窪んで形成されている。ポンプ５の吸込口及び吐出口には、吸込流路６Ａ及び吐出流路６Ｂが接続されている。吸込流路６Ａは、水槽部４内の湯水をポンプ５に吸込む。吐出流路６Ｂは、吸込流路６Ａから吸い込んだ湯水をポンプ５により圧送して水槽部４内に吐出する。収納部３には、給湯用、又は給水用の流路である給湯流路Ｓが配置されている。給湯流路Ｓは、座面部２の下部を通過し、後述する槽本体２０の周壁２２に形成された開口２２Ｃを経て水槽部４まで延びている。
【００１１】
実施例１の足湯装置１は、部品構成的には、フレーム１０、槽本体２０、ステップ３０、カバー４０、及び座板５０を備えて構成されている。フレーム１０は、内部が中空の角筒材を溶接等により組み付けて形成されている。具体的には、フレーム１０は、前後又は左右方向に延びる複数の梁と、上下方向に延びる複数の柱とを組み合わせて構成されている。本実施例の足湯装置１において、フレーム１０の前部は水槽部４を構成し、フレーム１０の後部は座面部２及び収納部３を構成する。
【００１２】
図２〜図４に示すように、フレーム１０の後部には底板１１及び天板１２が取り付けられている。底板１１はフレーム１０の下部に取り付けられている。底板１１には、ポンプ５や、図示しない加熱手段等の被収納物が配置される。図４に示すように、底板１１には、給湯、給水用配管等の流路形成部材や給電用の電気配線等を収納部３に入れるための貫通孔１１Ａが上下に貫通して形成されている。貫通孔１１Ａは、収納部３の後部側の隅の２箇所に形成されている。２つの貫通孔１１Ａのうちの一方は給湯流路Ｓが上下に貫通して配置され、他方は電気配線Ｅが上下に貫通して配置される。フレーム１０の収納部３に相当する部位の上部には天板１２が取り付けられている。フレーム１０の底部の四隅には、足湯装置１を移動させる際に用いる自在キャスター１３と、足湯装置１の据え付けに用いるレベルアジャスター１４とがそれぞれ設けられている。
【００１３】
図２〜図４に示すように、槽本体２０は上面が開放された箱状に形成されている。本実施例の足湯装置１において、槽本体２０は水槽部４を構成する。槽本体２０は、底壁部２１、周壁部２２、及びフランジ部２３を有している。底壁部２１は、前後方向を長手方向とする矩形状の平面形状をなしている。底壁部２１には排水口２１Ａが形成されている。排水口２１Ａは、底壁部２１の後方寄りの位置に上下方向に貫通して形成されている。
【００１４】
周壁部２２は、底壁部２１の外周縁から上方に立ち上がって形成されている。周壁部２２には、ポンプ５を介した湯水循環用の２つの開口２２Ａ，２２Ｂと、湯水供給用の開口２２Ｃと、が形成されている。開口２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃは、前後左右４面の周壁部２２のうちの後部に位置する周壁部２２に形成されている。開口２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃは、周壁部２２の下部であって左右方向の中心近傍に上下に並んで形成されている。開口２２Ａは、ポンプ５の吸込口に接続された吸込流路６Ａの水槽部４側の開口である。開口２２Ｂは、一端がポンプ５の吐出口に接続され、他端が後述する第１吐出部材３６及び第２吐出部材３７に分岐して接続される吐出流路６Ｂが貫通する開口である。開口２２Ｃは、水槽部４に湯水を供給する給湯流路Ｓが貫通する開口である。
【００１５】
開口２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃは、それぞれ前後に貫通して形成されており、水槽部４内の空間と収納部３内の空間とを連通する。換言すると、水槽部４内の空間と収納部３内の空間とは、槽本体２０の周壁部２２によって仕切られるといえる。
【００１６】
フランジ部２３は、前後の周壁部２２の上端から外側方向にそれぞれ延出して形成されている。フランジ部２３は、フレーム１０の梁の上面に当接して配置される。槽本体２０は、このフランジ部２３をフレーム１０にビス止めすることによりフレーム１０に固定される。
【００１７】
ステップ３０は水槽部４に着脱自在に設けられる。本実施例の場合、ステップ３０は槽本体２０内に着脱自在に配置される。図１、図２及び図４に示すように、ステップ３０は、槽本体２０の後部の周壁部２２に隣接させる形態で底壁部２１上に配置される。ステップ３０は、槽本体２０内に配置された状態で排水口２１Ａを覆い隠す被覆部材として機能する。ステップ３０は、その高さが槽本体２０の上下方向の内寸と略同等に形成されているとともに、左右方向の幅が槽本体２０の左右方向の内寸と略同等に形成されている。ステップ３０の内側は外部から視認不能とされる。したがって、本実施例に係る被覆部材としてのステップ３０は、排水口２１Ａを覆い隠すのみならず、ステップ３０の後方に位置する周壁２２に形成された３つの開口２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃを覆い隠す。
【００１８】
図２〜図４に示すように、ステップ３０は、上端面部３１と、この上端面部３１の前側に設けられ、上端面部３１よりも低い位置で水平方向に延びる段差状の段部３２とを有している。上端面部３１は座面部２の下方に位置する部位である。すなわち、上端面部３１の上側にはカバー４０及び座板５０が配置される。上端面部３１の下方には、座面部２からの荷重を受ける門型の強度部材３３が取り付けられている。上端面部３１の後端には、左右方向を長手方向とする矩形状に形成されるとともに、後方から切り欠かれた形態の開口３１Ａが形成されている。段部３２は足浴の際に足置きとして利用される。
【００１９】
図２〜図４に示すように、ステップ３０は、段部３２の前端から下方に延びる前壁部３４と、段部３２の後端から上端面部３１の前端に向かって上方に延びる立壁部３５とを有している。前壁部３４の上部には、左右方向に延びるスリット状の開口３４Ａが形成されている。開口３４Ａには後述する第１吐出部材３６が取り付けられる。前壁部３４の下端には、左右方向を長手方向とする矩形状に形成されるとともに、下方から切り欠かれた形態の開口３４Ｂが形成されている。開口３４Ｂは、前壁部３４の前方の空間と後方の空間とを連通する。換言すると、開口３４Ｂは、ステップ３０の外側空間と内側空間とを連通する。立壁部３５の下部には、左右方向に延びるスリット状の開口３５Ａが形成されている。開口３５Ａには後述する第２吐出部材３７が取り付けられる。
【００２０】
上述のように、ステップ３０には、第１吐出部材３６及び第２吐出部材３７が取り付けられている。第１吐出部材３６及び第２吐出部材３７は、スリット状に開口する吐出口３６Ａ，３７Ａがそれぞれ形成されている。第１吐出部材３６及び第２吐出部材３７は、ポンプ５から供給される湯水をこれら吐出口３６Ａ，３７Ａから吐出する。具体的には、第１吐出部材３６及び第２吐出部材３７は、開口２２Ｂを貫通する吐出流路６Ｂを介してそれぞれポンプ５に接続されている。第１吐出部材３６は、前壁部３４の上部に形成された開口３４Ａに後方から嵌め込まれ、前壁部３４の前方から前壁部３４にビス止めされて取り付けられる。吐出口３６Ａは、第１吐出部材３６が開口３４Ａに取り付けられた状態において前方に開口している。これにより、第１吐出部材３６は湯水を前方に向けて薄膜状に吐出する（図１及び図２参照）。
【００２１】
第２吐出部材３７は立壁部３５の下部に形成された開口３５Ａに後方から嵌め込まれ、立壁部３５の前方から立壁部３５にビス止めされて取り付けられる。第２吐出部材３７は、その先端部が立壁部３５の前面よりも前方に突出する形態で開口３５Ａに取り付けられる。吐出口３７Ａは、第２吐出部材３７が開口３５Ａに取り付けられた状態において、立壁部３５の前面よりも前方に突出する部位に下方に開口する形態で形成されている。これにより、第２吐出部材３７は湯水を下方に向けて薄膜状に吐出する（図２参照）。なお、この第２吐出部材３７や上述の第１吐出部材３６等の吐出部材の取り付け形態は特に限定されない。
【００２２】
本実施例の足湯装置１において、湯水の吐出形態は変更可能である。具体的には、第１吐出部材３６及び第２吐出部材３７は電磁弁等の図示しない流路開閉手段によって吐止水の制御を個別に行うことができ、２つの吐出口３６Ａ，３７Ａのうちのいずれか一方又は両方から湯水を吐出するように切り替えることができる。
【００２３】
上述のように、第１吐出部材３６及び第２吐出部材３７は、開口２２Ｂを貫通する吐出流路６Ｂを介してそれぞれポンプ５に接続されている。吐出流路６Ｂは、第１吐出部材３６及び第２吐出部材３７のそれぞれに、ステップ３０の後側で接続されている。すなわち、実施例１において、被覆部材としてのステップ３０は、吐出流路６Ｂを形成する図示しない流路形成部材を覆い隠している。
【００２４】
カバー４０は、槽本体２０が組み付けられた状態のフレーム１０に上方から覆い被せられる。図１及び図２に示すように、カバー４０は、被収納物としてのポンプ５等が収納された収納部３の収納空間３Ａや、フレーム１０や槽本体２０の外周面等を外部から視認不能に覆い隠す。カバー４０は、下面が開放した直方体状の外形形状をなしている。カバー４０の前部上面には上下に貫通する開口４０Ａが形成されている。本実施例の足湯装置１において、開口４０Ａは水槽部４の上部の開口に相当する。開口４０Ａは、フレーム１０と槽本体２０との組立体に上方から覆い被せた状態において、外部空間と槽本体２０の内側空間とを連通する。カバー４０の左側面には前後に貫通する開口４０Ｂが形成されている。開口４０Ｂは、収納部３内の点検やメンテナンスの際に用いられる点検口である。開口４０Ｂには蓋部材４１が着脱自在に取り付けられている。
【００２５】
座板５０はカバー４０の上部に配置される。本実施例の足湯装置１において、座板５０は座面部２を構成する。図３に示すように、座板５０は、板状に形成されているとともに、左右の端部が下方に向かって湾曲する形態の断面逆Ｕ字状に形成されている。図１、図２及び図４に示すように、座板５０は、足湯装置１における最上部に設けられる。足湯装置１は、座板５０の上面が座面２Ａとされる。座面２Ａである座板５０の上面は、カバー４０の上縁よりも上方に位置する。座板５０は、カバー４０上を前後方向に移動自在に設けられている。具体的には、座板５０は、図１に示す収納部３の上方の位置と、図５に示す水槽部４の上方の位置（水槽部４を覆う位置）と、の間で移動自在とされている。座板５０は、カバー４０に対して着脱自在に設けられており、好みに応じて色や模様の異なる意匠のものに交換することができる。
【００２６】
本実施例の足湯装置１において、排水口２１Ａには排水栓６０が取り付けられている。排水栓６０は、図示しない操作部によって遠隔から開閉操作することができるようにされている。図２に示すように、排水栓６０は、オーバーフロー管６１（本発明に係る水溢れ防止部として例示する）と、回転継手６２とを具備している。オーバーフロー管６１は、底壁部２１の上面側における排水口２１Ａの開口縁部に対向する形態で排水口２１Ａから上方に延出して配置されている。オーバーフロー管６１は、ステップ３０の内側において上方に延出している。すなわち、オーバーフロー管６１は、被覆部材としてのステップ３０によって覆い隠されている。オーバーフロー管６１は、排水栓６０の開閉状態に関わらず、上端に形成された開口６１Ａ（本発明に係るオーバーフロー口として例示する）から流入した湯水を排水経路に流出させる。これにより、水槽部４内の湯水の水位がオーバーフロー管６１の高さ以上になることを防止する。必然的に、オーバーフロー管６１は、水槽部４の上端縁から湯水が溢れるのを防止する。オーバーフロー管６１は、上下方向の長さ（高さ）の異なるものに交換することで、湯水の水位の上限を自在に調整することができる。本実施例のオーバーフロー管６１は、図２に示すように、開口６１Ａがステップ３０の段部３２の高さよりも低い位置となる長さで設けられている。これにより、オーバーフロー管６１は、段部３２よりも上方に水位が上昇するのを防止する。
【００２７】
図２に示すように、回転継手６２は、底壁部２１の下面側における排水口２１Ａの開口縁部に対向する形態で排水口２１Ａの下方に配置されている。回転継手６２は、その回転軸が排水口２１Ａの貫通方向に平行となる形態で取り付けられており、排水経路の方向を足湯装置１の前後左右の所望の方向に向けることができるようにされている。
【００２８】
次に、上記構成の足湯装置１の作用効果について説明する。足湯装置１の使用時には、まず、排水栓６０を閉じ、給湯流路Ｓから湯水を水槽部４に供給する。給湯流路Ｓは、図２に示すように、足湯装置１の下方から収納部３内に導入されているため、足湯装置１の側面等の外部から視認可能な場所から導入されている場合と比較して、足湯装置１の美観への影響が抑えられている。
【００２９】
給湯流路Ｓは座面部２の下部を流通している。このため、湯を供給する場合には座面２Ａが温められ、水を供給する場合には座面２Ａが冷やされる。給湯流路Ｓは、開口２２Ｃを経て水槽部４内に導入されて湯水を供給する。開口２２Ｃ及び給湯流路Ｓの吐出口は、被覆部材であるステップ３０の内側の視認不能な位置に配置されている。このため、給湯流路Ｓが足湯装置１の側面等の外部から視認可能な場所から水槽部４に導入されている場合と比較して、足湯装置１の美観への影響が抑えられている。
【００３０】
給湯流路Ｓから湯水を水槽部４に供給する時、湯水を過剰に供給してしまってもオーバーフロー管６１から自動的に排出されるため、水位が所定高さ以上になることが防止される。これにより、水槽部４の上端縁から湯水が溢れるのが防止される。オーバーフロー管６１や排水栓６０、及び排水栓６０が取り付けられている排水口２１Ａは、被覆部材であるステップ３０の内側の視認不能な位置に配置されているため、足湯装置１の美観への影響が抑えられている。
【００３１】
所望の水位まで湯水を供給した後には、ポンプ５を駆動して水槽部４内の湯水を循環させる。図２に示すように、ポンプ５の給電用の電気配線Ｅは、足湯装置１の下方から収納部３内に導入されてポンプ５に接続されているため、足湯装置１の側面等の外部から視認可能な場所から導入されている場合と比較して、足湯装置１の美観への影響が抑えられている。
【００３２】
足湯装置１は、ポンプ５を駆動することによって、水槽部４内の湯水が吸込流路６Ａに吸い込まれて吐出流路６Ｂに圧送される。ポンプ５により圧送され、吐出流路６Ｂを流通した湯水は、第１吐出部材３６及び第２吐出部材３７の各吐出口３６Ａ，３７Ａから水槽部４内に再び吐出される。吸込流路６Ａが接続された開口２２Ａと、吐出流路６Ｂが貫通する開口２２Ｂと、この開口２２Ｂを貫通して各吐出部材３６，３７に接続されている吐出流路６Ｂを形成する部材は、それぞれステップ３０の内側の視認不能な位置に配置される。このため、外部から視認可能な場所に配置されている場合と比較して、足湯装置１の美観への影響が抑えられている。なお、吐出流路６Ｂは、給湯流路Ｓと同様に、又は給湯流路Ｓに替えて、座面部２の下部を流通させてもよい。この場合、吐出流路６Ｂを流通する湯水によって、給湯流路Ｓの場合と同様に、座面２Ａを温めたり冷やしたりすることができる。
【００３３】
第１吐出部材３６から吐出される湯水は、ステップ３０の前壁部３４から前方に水平に吐出され、水槽部４の水面に自由落下する。これに対し、第１吐出部材３６よりも後方且つ上方に配置された第２吐出部材３７から吐出される湯水は、下方に吐出されて段部３２の表面を流れ、段部３２の前端から水面に落下する。足湯装置１は、第１吐出部材３６及び第２吐出部材３７のいずれか一方又は両方からの湯水の吐出を切り替えることができる。このように、足湯装置１は、吐出方向や吐出高さの異なる２つの吐出部材３６，３７からの変化に富んだ湯水の流れを視覚的、聴覚的に楽しむことができる。
【００３４】
足湯装置１を用いて足浴を行う場合、使用者は足部を水槽部４に入れて座面部２の座面２Ａに着座する（図２参照）。足部を槽本体２０の底壁部２１に置いた状態では、槽内に貯留された湯水に足部を浸した足浴を行うことができる。この時、第１吐出部材３６の吐出口３６Ａから湯水を吐出することで、脹ら脛から足首にかけての部位等に水流刺激を付与することができる。
【００３５】
足部をステップ３０の段部３２に置いた状態では、段部３２の上面が水面よりも高い位置にあることから、足部を水中から出して足浴を中断することができる。第２吐出部材３７の吐出口３７Ａから湯水を吐出すると、段部３２の表面に膜状の水流を形成することができる。この状態で足部をステップ３０の段部３２に置くことにより湯水の流れに足部を晒すことができ、更に異なる形態の足浴を楽しむこともできる。
【００３６】
ステップ３０は、槽本体２０とは別体に設けられており交換可能である。このため、所望の高さや所望の数の段部を有するものや所望の吐出形態の吐出部材が取り付けられたものに自在に変更可能である。
【００３７】
座面部２は足湯装置１の最上部に設けられている。このため、足湯装置１は、前方を向いて足部を水槽部４内に入れた状態での座面部２への着座のみならず、左右側方や後方を向いた状態での座面部２への着座も可能である。足湯装置１は座面２Ａが最上部に設けられているので、着衣状態で座面２Ａに着座しても服を濡らすことを防止できる。
【００３８】
座面部２を構成する座板５０は、水槽部４を覆う位置に移動自在に設けられている。このため、水槽部４用の蓋を別途用意することなく、水槽部４内に貯留した湯水の保温を行うことができる。座板５０は、着脱自在に設けられている。このため、足湯装置１は、座面２Ａを色や模様の異なるものに自在に変更することができる。
【００３９】
足浴を終了し、水槽部４内の湯水を排出する場合には、図示しない操作部を操作して排水栓６０を開放し、排水経路に湯水を排出する。排水栓６０は、回転継手６２を有しているため、排水経路の方向を自在に変更することができる。足湯装置１は自在キャスター１３により設置場所を自由に変更することができるため、このような回転継手６２を有する排水栓６０としたことにより、排水経路を既存の排水口の方向に好適に向けることができる。
【００４０】
排水口２１Ａは、槽本体２０の底壁部２１（水槽部４の底部）に形成されており、被覆部材としてのステップ３０によって覆い隠されている。このため、すっきりとした美観の槽内の意匠を実現することができる。
【００４１】
ステップ３０を交換する際には、まず、カバー４０を取り外す。その後、ステップ３０を上方に持ち上げて取り外す。この時、第１吐出部材３６及び第２吐出部材３７に接続されている吐出流路６Ｂを形成する部材を取り外す。このように、ステップ３０は、段部３２の高さや意匠の異なるものに取り替えることができる。ステップ３０を取り外すことで、排水口２１Ａやオーバーフロー管６１等、ステップ３０の内側に配置されたものを露出させることができ、これらのメンテナンスや交換等をすることもできる。
【００４２】
以上のように、実施例１の足湯装置１は、湯水を貯留する水槽部４と、水槽部４の上端縁から湯水が溢れるのを防止する水溢れ防止部としてのオーバーフロー管６１と、を備えている。
【００４３】
足湯装置１は、水溢れ防止部としてのオーバーフロー管６１を備えたことにより、水槽部４の上端縁から湯水が溢れるのが防止される。このため、リビングルーム等、湯水が溢れてはいけない場所にも設置することができる。
【００４４】
したがって、実施例１の足湯装置１は、より気軽に足浴を楽しむことができる。
【００４５】
足湯装置１において、水溢れ防止部としてのオーバーフロー管は、水槽部４内の所定の高さに開口して流入した湯水を排出するオーバーフロー口としての開口６１Ａを有して構成されている。このため、簡易な構成で水溢れ防止部を実現することができる。
【００４６】
足湯装置１は、水槽部４に隣接して設けられ、上面を座面２Ａとする座面部２を備えている。そして、水槽部４の上端縁は座面部２の上面よりも低い位置に配置されている。このため、座面が濡れるのを抑制することができる。
【００４７】
足湯装置１において、座面部２を構成する座板５０は、水槽部４を覆う位置に移動自在に設けられている。このため、座板５０によって水槽部４の開口を覆い隠すことができるので、蓋を別途用意することなく、水槽部４の湯水を保温することができる。
【００４８】
足湯装置１において、座面部２を構成する座板５０は着脱自在に設けられている。このため、所望の意匠の座面部に自在に変更することができる。
【００４９】
足湯装置１において、水槽部４の底面である槽本体２０の底壁部２１と、水槽部４の上端縁であるカバー４０の上面との間に段部３２が設けられたステップ３０を備えている。そして、水溢れ防止部としてのオーバーフロー管６１は、段部３２よりも上方に水位が上昇するのを防止する。このため、段部３２が濡れるのを抑制することができる。
【００５０】
足湯装置１はカバー４０を備えている。カバー４０は、被収納物としてのポンプ５等が収納された収納部３の収納空間３Ａやフレーム１０や槽本体２０の外周面等を、外部から視認不能に覆い隠す。これにより、収納部内の被収納物やカバー内部の部品についての意匠性は特に考慮することなく、美麗な意匠を容易に実現することができる。
【００５１】
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施例に限定されるものではなく、例えば次のような実施例も本発明の技術的範囲に含まれる。
（１）実施例１では、被収納物としてのポンプを備えて循環流路を形成する形態を例示したが、本発明に係る足湯装置では、循環流路を形成することは必須ではない。被収納物はポンプに限定されず、例えば、湯水を加熱するヒーター、湯水を冷却するチラー、水槽部内にエアーを供給するための空気供給源、槽内に光を照射するための照明装置等であってもよいし、タオル等の単なる日用品であってもよい。
（２）実施例１では、足湯装置が被覆部材としてのステップを備える形態を例示したが、本発明に係る足湯装置において、ステップ等の被覆部材を備えることは必須ではない。被覆部材としては排水口や水溢れ防止部等を覆い隠す機能を有していればよく、したがって、被覆部材を備える場合には、単なる板状の部材等の段部を有さない被覆部材としてもよい。ステップを設ける場合には、段部の数は１つに限定されず、２つ以上であってもよい。ステップを設ける場合には、排水口を覆い隠していない形態であってもよい。
（３）実施例１では、ステップが水槽部に着脱自在に設けられた形態を例示したが、ステップは着脱不能に設けられていてもよい。この場合、ステップを水槽部と一体に設けるとともに、ステップ下部の空間を座面部の下方の空間と連通させ、より大きな空間の収納部を形成してもよい。この場合、水槽部内の空間と収納部内の空間とは、ステップを構成する部材によって仕切られていることができる。
（４）実施例１では、座面部としての座板が水槽部を覆う位置に移動自在である形態を例示したが、本発明に係る足湯装置において、座面部を備えることは必須ではない。座面部を備える場合には、座面部は移動不能に設けられていてもよい。
（５）実施例１では、座面部としての座板を着脱自在に設ける形態を例示したが、本発明に係る足湯装置において、座面部は着脱不能に設けられていてもよい。
（６）実施例１では、水槽部内に湯水を吐出する吐出口を被覆部材であるステップに設ける形態を例示したが、本発明に係る足湯装置において、吐出口を設けることは必須ではない。吐出口を設ける場合には、例えば、上記実施例のように被覆部材であるステップに設ける形態のみならず、槽本体の周壁部や底壁部等、水槽部の内壁に設けられている形態等であってもよい。
（７）実施例１では、吐出口から水槽部内に吐出される湯水が薄膜状に吐出される形態を例示したが、これに限定されず、例えば、直線状、環状、シャワー状等の他の吐出形態であってもよい。吐出口から水槽部内に吐出される湯水は、気泡が含まれていてもよい。
（８）実施例１では、座面部の下部に水槽部内の空間に連通する流路を形成して座面を温める形態を例示したが、本発明に係る足湯装置において、このような流路を形成することは必須ではない。このような流路を形成する場合には、例示したポンプ吐出側の流路である吐出流路に限定されず、ポンプ吸込側の吸込流路や給湯流路であってもよい。湯に限らず、冷水を流通させてもよい。
（９）実施例１では、収納空間と外部空間を連通する開口を形成する形態を例示したが、本発明に係る足湯装置において、このような開口を形成することは必須ではない。開口を形成する場合、その位置は、例示した装置側面に限定されず、例えば、上面や後面であってもよい。作業性の観点では、上面に形成されていると有利である。
（１０）実施例１では、ポンプを用いて水槽部内の湯水を循環させる循環経路を形成する形態を例示したが、本発明に係る足湯装置において、湯水の循環経路を形成することは必須ではない。
（１１）実施例１では、水溢れ防止部として、水槽部内の湯水の水位を設定するオーバーフロー管を備える形態を例示したが、水溢れ防止部の形態は実施例１の形態に限定されない。本発明に係る水溢れ防止部は、例えば、水槽部の壁面に開口するオーバーフロー口や、水位センサと自動バルブ等を備える形態等、他の形態のものであってもよい。水溢れ防止部は、２つ以上備えられていてもよい。
（１２）実施例１では、水槽部が座面部の前方に隣接して設けられている形態を例示したが、本発明に係る水槽部は、座面部の側方又は後方に隣接して設けられている形態であってもよい。
（１３）実施例１では、平面視略矩形状の角型の水槽部を例示したが、水槽部の形状としては、平面視略円形状の丸型や平面視略楕円形状等の他の形状であってもよく、種々の形状であることができる。
（１４）実施例１では、足湯装置が１つの座面部を備える形態を例示したが、本発明に係る足湯装置は、２以上の複数の座面部を備えていてもよい。例えば、座面部が水槽部の前後左右の少なくとも２方に設けられていてもよい。この場合、水槽部を取り囲むように座面部同士が一体的に形成されていてもよい。
（１５）実施例１では、水溢れ防止部としてのオーバーフロー管が、オーバーフロー口としての開口を上端に形成している形態を例示したが、水溢れ防止部がオーバーフロー管である場合、オーバーフロー口はオーバーフロー管の高さ方向の中途に形成されていてもよい。
（１６）実施例１では、足湯装置が収納部を備える形態を例示したが、本発明に係る足湯装置において、収納部を備えることは必須ではない。
（１７）実施例１では、吐出流路の吐出口が水槽部の水面よりも上方に設けられている形態を例示したが、吐出口は、水面よりも下方に設けられていてもよい。
（１８）実施例１では、吐出流路の２つの吐出口から水槽部内に湯水を吐出する形態を例示したが、循環流路を備える場合には、吐出流路の吐出口の数は２つに限定されず、１つ、又は３つ以上であってもよい。
【符号の説明】
【００５２】
１…足湯装置
２…座面部
２Ａ…座面
４…水槽部
３０…ステップ
３２…段部
６１…オーバーフロー管（水溢れ防止部）
６１Ａ…オーバーフロー管上端の開口（オーバーフロー口）
【図１】
2020151055.tif 000003
【図２】
2020151055.tif 000004
【図３】
2020151055.tif 000005
【図４】
2020151055.tif 000006
【図５】
2020151055.tif 000007