(57)【要約】【課題】本発明によれば、剥離発生の問題を改善した光学部材を提供する。これにより、信頼性が向上した表示装置を提供することができる。【解決手段】本発明に係るディスプレイ装置は、量子ドット（quantum-dot）を含む色制御部材と、前記色制御部材を包み込んでシールするバリア層と、前記バリア層を挟むようにして、前記色制御部材と重ね合わされて配置される低屈折層と、を備え、前記バリア層の層密度は1.50g/cm3〜3.0g/cm3を有する。【選択図】図１
2020071481.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
量子ドット（quantum-dot）を含む色制御部材と、
前記色制御部材を包み込んで密封するバリア層と、
前記バリア層を挟み込むようにして、前記色制御部材と重ね合わされて配置される低屈折層と、を備え、
前記バリア層の密度は1.50g/cm3から3.0g/cm3である、光学部材。
【請求項２】
前記バリア層は、窒化シリコン（SiNX）を含むことを特徴とする、請求項１に記載の光学部材。
【請求項３】
前記バリア層におけるシリコン（Si）の含有量に対する窒素（N）の含有量の比は、0.70〜1.50であることを特徴とする、請求項２に記載の光学部材。
【請求項４】
前記バリア層の残留応力は、-300MPa〜500MPaであることを特徴とする、請求項２に記載の光学部材。
【請求項５】
前記バリア層は、酸化シリコン（SiOX）を含むことを特徴とする、請求項１に記載の光学部材。
【請求項６】
前記バリア層の残留応力は、-500MPa〜500MPaであることを特徴とする、請求項５に記載の光学部材。
【請求項７】
前記バリア層は、
前記色制御部材の裏面をカバーする第1無機層、及び、前記色制御部材の表側の面をカバーする第2無機層を含むことを特徴とする、請求項１に記載の光学部材。
【請求項８】
前記第1無機層及び前記第2無機層は、いずれも、
単一の層からなることを特徴とする、請求項７に記載の光学部材。
【請求項９】
前記バリア層は、窒化シリコン（SiNX）を含み、
前記第1無機層の厚さは、0.1μm以上であり、
前記第2無機層の厚さは、0.3μm以上であることを特徴とする、 請求項８に記載の光学部材。
【請求項１０】
前記バリア層は、酸化シリコン（SiOX）を含み、
前記第1無機層の厚さは、0.3μm以上であり、
前記第2無機層の厚さは、0.3μm以上であることを特徴とする、請求項８に記載の光学部材。
【請求項１１】
前記第1無機層及び前記第2無機層のうちの少なくとも一方は、
窒化シリコン（SiNX）を含む第1層、及び、前記第1層と積層された酸化シリコン（SiOX）を含む第2層を有することを特徴とする、請求項７に記載の光学部材。
【請求項１２】
前記第1層及び前記第2層は、いずれも、複数備えられ、
前記第1層と前記第2層とが、互いに交互に重ね合わされて配置されることを特徴とする、請求項１１に記載の光学部材。
【請求項１３】
ベース基板と、
前記ベース基板上に配置された複数の画素と、
画素の表側及び裏側のいずれかに配置され、量子ドットを含む色制御部材と、
前記色制御部材を包み込んで密封するバリア層と、
前記バリア層を挟み込むようにして、前記色制御部材と重ね合わされて配置される低屈折層と、を備え、
前記バリア層の密度は1.50g/cm3から3.0g/cm3であることを特徴とする、ディスプレイ装置。
【請求項１４】
前記バリア層は、
前記色制御部材の裏面をカバーする第1無機層、及び、前記色制御部材の表側の面をカバーする第2無機層を含むことを特徴とする、請求項１３に記載のディスプレイ装置。
【請求項１５】
前記バリア層は、窒化シリコン（SiNX）を含み、
前記バリア層におけるシリコン（Si）の含有量に対する窒素（N）の含有量の比は、0.70〜1.50であることを特徴とする、請求項１４に記載のディスプレイ装置。
【請求項１６】
前記第1無機層の厚さは、0.1μm以上であり、
前記第2無機層の厚さは、0.3μm以上であることを特徴とする、請求項１５に記載のディスプレイ装置。
【請求項１７】
前記バリア層は、酸化シリコン（SiOX）を含み、
前記第1無機層の厚さは、0.3μm以上であり、
前記第2無機層の厚さは、0.3μm以上であることを特徴とする、請求項１４に記載のディスプレイ装置。
【請求項１８】
画素のそれぞれは、
前記ベース基板上に配置されたトランジスタと、前記トランジスタに連結された第1電極と、前記第1電極と対向して配置される第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に配置された液晶層とを含むことを特徴とする、請求項１３に記載のディスプレイ装置。
【請求項１９】
前記ベース基板の裏側に配置され、光を提供する光源と、
前記ベース基板に向けられた出射面、前記出射面と対向する裏面、前記光源と対向して前記裏面と前記出射面とを連結する入射面、及び、前記入射面と対向する対向面を含む導光板と、をさらに備え、
前記光は、青色光であることを特徴とする、請求項１８に記載のディスプレイ装置。
【請求項２０】
画素を表側及び裏側から挟み込むようにして、互いに重ね合わされて配置される第1偏光層及び第2偏光層をさらに含むことを特徴とする、請求項１９に記載のディスプレイ装置。
【請求項２１】
前記色制御部材は、
前記光を、互いに異なる複数色の光にそれぞれ変換させる複数の色制御部を含むことを特徴とする、請求項１９に記載のディスプレイ装置。
【請求項２２】
遮光部により区画形成された複数の開口部のうちの少なくともいずれかに重ね合わされるか、または、この少なくともいずれかの開口部と、これを囲む遮光部のの領域と重ね合わされる光フィルタ層をさらに含み、
前記色制御部のうちの少なくともいずれか一つは、
前記光フィルタ層と重ね合わされて配置されることを特徴とする、請求項２１に記載のディスプレイ装置。
【請求項２３】
画素のそれぞれは、
前記ベース基板上に配置されたトランジスタと、
前記トランジスタと連結された第1電極と、前記第1電極と離隔された第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に配置された有機層を含む有機発光素子と、を備えることを特徴とする、請求項１３に記載のディスプレイ装置。
【請求項２４】
前記色制御部材は、
画素から提供された光を他の色の光に変換させる色制御部を含むことを特徴とする、請求項２３に記載のディスプレイ装置。
【請求項２５】
前記有機層は、
前記ベース基板の全面にわたって配置され、前記色制御部材に青色光を提供することを特徴とする、請求項２４に記載のディスプレイ装置。
【請求項２６】
前記有機層は、異なる色の光を提供する複数のパターンを含み、
前記パターンのそれぞれは、
前記色制御部のうちの対応する色制御部と重ね合わされていることを特徴とする、請求項２３に記載のディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、ディスプレイ装置に関し、さらに詳しくは、信頼性の高い光学部材及びそれを包含するディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
テレビ、携帯電話、タブレット型コンピュータ、ナビゲーションシステム、ゲーム機などのようなマルチメディア装置では、イメージ情報を提供する手段として多様なディスプレイ装置が開発されている。 具体的には、液晶ディスプレイ素子や有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ素子を含むディスプレイ装置のディスプレイ品質を向上させるために量子ドットが導入されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国登録特許第ＵＳ９９５８７２７Ｂ２号公報
【特許文献２】米国公開特許第ＵＳ２０１８/０２１８７０３Ａ１号公報
【特許文献３】米国公開特許第ＵＳ２０１７/０２４８７４８Ａ１号公報
【特許文献４】韓国登録特許第ＫＲ１０-１８５８５０２Ｂ１号公報
【特許文献５】韓国公開特許第ＫＲ１０-２０１７-００７４９０８Ａ号公報（WO 2016/075949；PCT/JP2015/005685）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明によれば、剥離発生の問題を改善した光学部材を提供する。これにより、信頼性が向上した表示装置を提供することができる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一実施形態によれば、光学部材における層間剥離の問題を改善することが可能である。これにより、信頼性の高いディスプレイ装置を実現することができる。
【０００６】
本発明の一実施形態によれば、光学部材は、量子ドットを含む色制御部材と、前記色制御部材を封止するバリア層と、前記バリア層を挟み込むようにして、前記色制御部材に重ね合わされた低屈折率層とを含む。バリア層は、1.50g/cm3〜3.0g/cm3の範囲の密度を有する。
【０００７】
一実施形態で、バリア層は、窒化シリコン（SiNX）を含む。
【０００８】
一実施形態において、バリアにおけるシリコン（Si）に対する窒素（N）の含有比は、0.70〜1.50の範囲であり得る。
【０００９】
一実施形態において、バリア層の残留応力は、-300MPa〜500MPaの範囲であり得る。
【００１０】
一実施形態において、バリア層は、酸化シリコン（SiOX）を含む。
【００１１】
一実施形態において、バリア層の残留応力は、-500MPa〜500MPaの範囲であり得る。
【００１２】
一実施形態において、バリア層は、色制御部材の裏面をカバーする第１無機層及び色制御部材の上面をカバーする第２無機層を含む。
【００１３】
一実施形態において、第１及び第２の無機層のそれぞれは、単一層から構成されてもよい。
【００１４】
一実施形態において、バリア層は窒化シリコン（SiNX）を含み、第１無機層の厚さは0.1μm以上であり、第２無機層の厚さは0.3μm以上であり得る。
【００１５】
一実施形態において、バリア層は酸化シリコン（SiOX）を含み、第１無機層の厚さは0.3μm以上であり、第２無機層の厚さは0.3μm以上であり得る。
【００１６】
一実施形態において、第１及び第２の無機層の少なくとも一つは、窒化シリコン（SiNX）を含む第１層と、第１層の上に積層されて酸化シリコン（SiOX）を含む第２層と、を備える。
【００１７】
一実施形態において、第１層および第２層はそれぞれ複数設けられ、第１層および第２層は交互に配置されてもよい。
【００１８】
本発明の一実施形態によれば、ディスプレイ装置は、ベース基板と、前記ベース基板上に配置された複数の画素と、画素の上または下に配置された色制御部材と、量子ドットとを含む色制御部材と、前記色制御部材を封止するバリア層と、前記バリア層を間に介在して前記色制御部材から離隔して配置された低屈折率層と、を備える。バリア層は、1.50ｇ/cm3〜3.0ｇ/cm3の範囲の層密度を有する。
【００１９】
一実施形態において、バリア層は、色制御部材の裏面をカバーする第１無機層及び色制御部材の上面をカバーする第２無機層を含んでもよい。
【００２０】
一実施形態において、前記バリア層は、窒化シリコン（SiNX）を含み、前記バリア層におけるシリコン（Si）に対する窒素（N）の含有比は、0.70〜1.50の範囲内であり得る。
【００２１】
一実施形態において、第１無機層の厚さは0.1μm以上であり、第２無機層の厚さは0.3μm以上であり得る。
【００２２】
一実施形態において、前記バリア層は、酸化シリコン（SiOX）を含み、前記第1無機層の厚さは、0.3μm以上であり、前記第2無機層の厚さは、0.3μm以上であり得る。
【００２３】
一実施形態において、画素のそれぞれは、前記ベース基板上に配置されたトランジスタ、前記トランジスタと接続された第1電極及び前記第1電極と対向する第2電極、並びに前記第1電極と前記第2電極との間に配置された液晶層を含むことを特徴とする。
【００２４】
一実施形態において、前記ディスプレイ装置は、前記ベース基板の下部に配置されて光を提供する光源と、前記ベース基板に面する出射面、前記出射面と対向する下部面、及び前記光源と面して前記下部面を前記出射面に連結する入射面を含む導光板と、入射面に対向する対向面と、をさらに備える。前記光は、青色光であることを特徴とする。
【００２５】
一実施形態において、前記ディスプレイ装置は、画素を挟んで互いに離隔して配置される第1偏光層及び第2偏光層をさらに含むことを特徴とする。
【００２６】
一実施形態において、前記色制御部材は、それぞれが前記光を異なる色の光に変換させる色制御部を含むことを特徴とする。
【００２７】
一実施形態において、前記ディスプレイ装置は、複数の開口部を含む遮光部と前記開口のうちの少なくとも一つに重畳する光フィルタ層と、をさらに含み、前記色制御部のうちの少なくともいずれか一つは、前記光フィルタ層と重畳して配置されることを特徴とする。
【００２８】
一実施形態において、画素のそれぞれは、前記ベース基板上に配置されたトランジスタと、有機発光素子と、を含む。前記有機発光素子は、前記トランジスタと接続された第1電極、前記第1電極と離隔された第2電極、並びに、前記第1電極と前記第2電極との間に配置された有機層を含むことを特徴とする。
【００２９】
一実施形態において、前記色制御部材は、前記画素から提供された光を他の色の光に変換させる色制御部を含むことを特徴とする。
【００３０】
一実施形態において、前記有機層は、前記ベース基板の全面上に配置され、前記色制御部材に青色光を提供することを特徴とする。
【００３１】
一実施形態において、前記有機層は、異なる色の光を提供する複数のパターンを含み、前記パターンのそれぞれは、前記色制御部のうちの対応する色制御部と重畳されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によると、色制御部材を封止する無機層の層密度が1.50g/cm3〜3.0g/cm3の範囲を有することで、低屈折層とバリア層との間に発生する剥離の問題が改善されたディスプレイ装置を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を示す分解斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態に係るディスプレイモジュールの一部のエレメントを示す断面図である。
【図３】本発明の一実施形態によるディスプレイ部材を示す断面図である。
【図４ａ】本発明の一実施形態に係る光学部材の一部のエレメントを示す拡大図(1)である。
【図４ｂ】本発明の一実施形態に係る光学部材の一部のエレメントを示す拡大図(2)である。
【図５】本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を示す分解斜視図である。
【図６】本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を示す断面図である。
【図７】本発明の一実施形態に係る光学部材を示す平面図である。
【図８】図6のCC領域を拡大した拡大図である。
【図９ａ】本発明の一実施形態に係る光学部材の一部のエレメントを示す拡大図(1)である。
【図９ｂ】本発明の一実施形態に係る光学部材の一部のエレメントを示す拡大図(2)である。
【図１０】本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を示す分解斜視図である。
【図１１】本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を示す断面図である。
【図１２ａ】本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を示す断面図(1)である。
【図１２ｂ】本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を示す断面図(2)である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
本明細書において、いくつかの構成要素（または領域、層、部分など）が、他の構成要素「上にある」、「接続される」、または「結合される」と言及される場合には、それは他の構成要素上に直接配置/接続/結合されることができるか、またはそれらの間に第3構成要素が配置される可能性もあることを意味する。
【００３５】
同一の符号は同一の構成要素を指す。また、図面において、構成要素の厚さ、比率、および寸法は、技術的な内容の効果的な説明のために誇張されたものである。
【００３６】
「および/または」は、関連される構成が定義可能な、1つ以上の組み合わせをすべて含む。
【００３７】
第1、第2などの用語は、多様な構成要素を説明するために使用されが、前記構成要素は、前記用語によって限定されてはならない。前記用語は、1つの構成要素を他の構成要素から区別するためにのみ使用される。例えば、本発明の権利範囲を逸脱せずに、第1構成要素は、第2構成要素として命名されることができ、同様に第2構成要素も第1構成要素として命名されることができる。単数の表現は、文脈上明らかに別の意味を示していると判定されない限り、複数の表現を含む。
【００３８】
また、「下に」、「下側に」、「上に」、「上側に」などの用語は、図面に示されたエレメントの関連性を説明するために使用される。前記の用語は、相対的な概念であり、図面に示されている方向を基準に説明される。
【００３９】
別の意味で定義されていない限り、本明細書で使用されるすべての用語（技術用語および科学用語を含む）は、本発明が属する技術分野の当業者によって一般的に理解されるのと同じ意味を有する。また、一般的に使用される辞書に定義された用語のような用語は、関連技術の脈絡での意味と一致する意味を有するものと解釈されるべきで、理想的な、または過度に形式的な意味に解釈されない限り、明示的にここで定義される。
【００４０】
「含む」または「有する」などの用語は、明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものが存在することを指定しようとするのであって、一つ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものの存在または付加可能性を予め排除しないものと理解されるべきである。以下、図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。
【００４１】
図1は、本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を示している分解斜視図である。図2は、本発明の一実施形態に係るディスプレイモジュールの一部のエレメントを示している断面図である。図3は、本発明の一実施形態によるディスプレイ部材を示している断面図である。以下、図1〜図3を参照して、本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置（DS）を説明する。
【００４２】
図1及び図2を参照すると、本発明に係るディスプレイ装置（DS）は、Windows部材（WP）、ディスプレイモジュール（DD）、並びにハウジング部材（HAU）を含む。一実施形態で、ディスプレイ装置（DS）は、ディスプレイ素子を含むことで、イメージを提供することができる。例えば、ディスプレイ装置（DS）は、液晶ディスプレイ装置（Liquid Crystal Display Device）や有機ＥＬディスプレイ装置（Organic Electroluminescence Display Device）であり得る。
【００４３】
一方、図1及び以下の図面では、第1方向軸（DR1）〜第3方向軸（DR3）を図示したし、本明細書で説明される方向軸は相対的なもので、説明の便宜のために、第3方向軸（DR3）方向は、ユーザーにイメージの光が提供される伝搬方向と定義することができる。なお、第1方向軸（DR1、以下、第1方向）と第2方向軸（DR2、以下、第2方向）は、互いに直交し、第3方向軸（DR3、以下、第3方向）は、第1方向（DR1）と第2方向（DR2）とにより定義される平面の法線方向であり得る。図1において、第1方向（DR1）と第2方向（DR2）が定義する平面は、イメージが提供されるディスプレイ面であり得る。
【００４４】
ウィンドウ部材（WP）は、ディスプレイモジュール（DD）上に配置される。ウィンドウ部材（WP）は、ガラス、サファイア、またはプラスチックを含む材料で形成されうる。ウィンドウ部材（WP）は、ディスプレイモジュール（DD）から提供されるイメージを透過させる透過領域（TA）と、透過領域（TA）に隣接してイメージが透過されない遮光領域（BA）と、を含む。透過領域（TA）は、第1方向（DR1）と第2方向（DR2）とによって定義される平面上で、ディスプレイ装置（DS）の中心部に配置される。遮光領域（BA）は、透過領域（TA）の周辺部に配置されて透過領域（TA）を取り囲むフレーム形状を有する。しかし、これに限定されるものではなく、本発明の他の実施形態によれば、ウィンドウ部材（WP）は、透過領域（TA）だけを含むことができ、この場合には、遮光領域（BA）は省略できる。なお、遮光領域（BA）は、透過領域（TA）の少なくとも1つのエッジや側面のみに配置されうる。一方、図1に示されたものとは異なるようにして、一実施形態のディスプレイ装置（DS）で、Windows部材（WP）は、省略されうる。
【００４５】
本発明に係るディスプレイモジュール（DD）は、ディスプレイパネル（DP）、光学部材（OPM）、並びにバックライト部材（LP）を含む。
【００４６】
一実施形態に係るディスプレイパネル（DP）は、Windows部材（WP）とハウジング部材（HAU）の間に配置される。ディスプレイパネル（DP）は、液晶ディスプレイ素子（Liquid Crystal Display Element）を含むか、または有機ＥＬディスプレイ素子（Organic Electroluminescence Display Element）を含む。本実施形態では、ディスプレイパネル（DP）が液晶ディスプレイ素子を含むものである実施形態について説明する。
【００４７】
一実施形態に係るディスプレイパネル（DP）は、第1ベース基板（BS1）、ディスプレイ部（DPP）、及び第2ベース基板（BS2）を含む。ディスプレイ部（DPP）は、第1ディスプレイ層（SUB1）、液晶層（LCL）、及び第2ディスプレイ層（SUB2）を含む。第1ディスプレイ層（SUB1）、液晶層（LCL）、及び第2のディスプレイ層（SUB2）は、第1ベース基板（BS1）と第2ベース基板（BS2）との間に配置される。
【００４８】
第1ベース基板（BS1）はディスプレイ部（DPP）のエレメントが蒸着される基底層として提供される。第1ベース基板（BS1）及び第2ベース基板（BS2）のそれぞれは、透明な絶縁性基板であり得る。例えば、ガラス基板、プラスチック基板などであり得る。また、金属基板であり得るし、いずれかの実施形態に限定されるのでない。第1ベース基板（BS1）及び第2ベース基板（BS2）は、互いに対向して配置される。
【００４９】
ディスプレイ部（DPP）は、イメージをディスプレイする画素（PX）を含む。画素（PX）は、マトリックス状に配列される。ディスプレイパネル（DP）のディスプレイ部（DPP）は、画素（PX）がディスプレイされるディスプレイ領域（DA）と、ディスプレイ領域（DA）に隣接した非ディスプレイ領域（NDA）とを含む。
【００５０】
一実施形態によるディスプレイ領域（DA）は、Windows部材（WP）の透過領域（TA）と重なり合う。非ディスプレイ領域（NDA）は、Windows部材（WP）の遮光領域（BA）と重なり合うことができるものの、これに限定されるものではなく、非ディスプレイ領域（NDA）は省略されうる。なお、ディスプレイ領域（DA）は、非ディスプレイ領域（NDA）の少なくとも一側のみに配置されうる。
【００５１】
一実施形態による第1ディスプレイ層（SUB1）は、トランジスタ（TR）、絶縁層（INS1、INS2）、画素電極（PE）、並びに第1配向層（AL1）が含む層として定義されうる。第2ディスプレイ層（SUB2）は、第2配向層（AL2）と共通電極（CE）が含まれる層として定義されうる。
【００５２】
画素（PX）は、第1ベース基板（BS1）と第2ベース基板（BS2）との間に配置される。画素（PX）のそれぞれは、トランジスタ（TR）、液晶キャパシタ（PE、LCL、CE）を含む。トランジスタ（TR）は、制御電極（GE）、入力電極（SE）、出力電極（DE）、および半導体パターン（SM）を含む。液晶キャパシタ（PE、LCL、CEの）は、トランジスタ（TR）に接続された画素電極（PE）、画素電極（PE）に対向する共通電極（CE）、および画素電極（PE）と共通電極（CE）との間に配置される誘電層を含む。本発明の実施形態で、誘電体層は、液晶層（LCL）に対応する。
【００５３】
画素（PX）のそれぞれは、複数の信号配線（図示せず）のうち対応される信号配線に接続される。信号配線は、複数のゲートライン及び複数のデータラインを含む。複数のゲートラインは、ディスプレイパネル（DP）の一方向に配列される。複数のデータラインは、複数のゲートラインと絶縁されるようにして交差する。
【００５４】
制御電極（GE）は、第1ベース基板（BS1）上に配置される。制御電極（GE）は、対応するゲートラインに接続される。制御電極（GE）は、導電物質を含む。例えば、ニッケル（Ni）、モリブデン（Mo）、アルミニウム（Al）、チタン（Ti）、銅（Cu）、及びタングステン（W）などといった金属、又はこれらの金属の酸化物のうちの少なくともいずれか一つを含む。制御電極（GE）は、単層または積層の構造であり得る。ゲートラインは、制御電極（GE）と同一の物質で構成され、同一層の構造を有する。
【００５５】
第1絶縁層（INS1）は、制御電極（GE）と第1ベース基板（BS1）をカバーする。第1絶縁層（INS1）は無機物を含む。例えば、酸化シリコン（SiOx）、窒化シリコン（SiNx）、及び酸化窒化シリコン（SiON）のうちの少なくともいずれか一つを含む。
【００５６】
半導体パターン（SM）は、第1絶縁層（INS1）上に配置される。半導体パターン（SM）の少なくとも一部は、制御電極（GE）と重畳する。
【００５７】
図2にはボトムゲート型のトランジスタが示されているものの、これに限定されるものではなく、制御電極が入力/出力電極の上部に配置されたトップゲート型のトランジスタにも適用されうるのであり、いずれか一つの実施形態に限定されない。
【００５８】
入力電極（SE）及び出力電極（DE）は、第1絶縁層（INS1）上に配置される。入力電極（SE）の一側は対応されるデータラインに接続され、入力電極（SE）の他側は半導体パターン（SM）に重畳する。出力電極（DE）の一側は半導体パターン（SM）に重畳し、出力電極（DE）の他側は画素電極（PE）と接続される。入力電極（SE）の他側と、出力電極（DE）の一側とは、互いに離隔される。
【００５９】
入力電極（SE）及び出力電極（DE）のそれぞれは、導電性物質を含む。例えば、入力電極（SE）と出力電極（DE）のそれぞれは、ニッケル（Ni）、クロム（Cr）、モリブデン（Mo）、アルミニウム（Al）、チタン（Ti）、銅（Cu）、タングステン（W）、及びそれぞれの合金のうちの少なくともいずれか一つを含む。入力電極（SE）及び出力電極（DE）のそれぞれは、単層又は積層の構造であり得る。データラインは、入力電極（SE）と同一の物質で構成され、同一の導電パターン層中に含まれた構造を有し得る。
【００６０】
第2絶縁層（INS2）は、第1絶縁層（INS1）上に配置される。第2絶縁層（INS2）は、トランジスタ（TR）をカバーする。第2絶縁層（INS2）は、有機層及び/又は無機層を含む。第2絶縁層（INS2）は、単層または多層の構造であり得る。例えば、第2絶縁層（INS2）は、トランジスタ（TR）上に配置される無機層と無機層上に配置されて平坦な上面を提供する有機層を含む。
【００６１】
画素電極（PE）は、第2絶縁層（INS2）上に配置される。画素電極（PE）は、第2絶縁層（INS2）を貫通して形成されたコンタクトホールを介して出力電極（DE）と電気的に接続される。画素電極（PE）は、透明な導電性物質を含む。例えば、酸化インジウムスズ（Indium Tin Oxide）、酸化インジウム亜鉛（Indium Zinc Oxide）、酸化インジウムガリウム亜鉛（Indium Gallium Zinc Oxide）、酸化フッ素亜鉛（Fluorine Zinc Oxide）、酸化ガリウム亜鉛（Gallium Zinc Oxide）、又は酸化スズ（Tin Oxide）のうちの少なくともいずれか一つを含む。画素電極（PE）は、第2絶縁層（INS2）において定義されたコンタクトホールを介して出力電極（DE）と電気的に接続されたので、画素電極（PE）は、データ信号に対応する電圧を伝達してもらう。
【００６２】
液晶層（LCL）は方向性を有した液晶分子を含む。液晶分子は、共通電極（CE）と画素電極（PE）との間の電圧差に応じて形成された電界に応じて多様な配列を有する。液晶分子の配列に基づいて、液晶層（LCL）を透過する光量が調節される。
【００６３】
本発明に係るディスプレイパネル（DP）は、第1配向層（AL1）及び第2配向層（AL2）を含む。第1配向層（AL1）は、画素電極（PE）と液晶層（LCL）との間に配置され、第2配向層（AL2）は、液晶層（LCL）と共通電極（CE）との間に配置されて液晶層（LCL）の液晶分子を配向する。第1配向層（AL1）及び第2配向層（AL2）は、垂直配向層からなり、ポリアミド酸（Polyamic acid）、ポリシロキサン（Polysiloxane）、ポリイミド（Polyimide）などを含む。
【００６４】
共通電極（CE）は、第2配向層（AL2）の上に配置される。上述したように、共通電極（CE）は、画素電極（PE）とともに、液晶キャパシタを構成する。共通電極（CE）は、透明な導電性物質を含む。例えば、共通電極（CE）は、酸化インジウムスズ（Indium Tin Oxide）、酸化インジウム亜鉛（Indium Zinc Oxide）、酸化インジウムガリウム亜鉛（Indium Gallium Zinc Oxide）、酸化フッ素亜鉛（Fluorine Zinc Oxide）、酸化ガリウム亜鉛（Gallium Zinc Oxide）、及び酸化スズ（Tin Oxide）のうちの少なくともいずれか一つを含む。
【００６５】
本発明の一実施形態によると、光学部材（OPM）は、光学シート部材（OF）、色制御部材（CCP）、バリア層（BRL）、並びに低屈折層（LRL）を含む。
【００６６】
光学シート部材（OF）は、ディスプレイパネル（DP）の下部に配置される。光学シート部材（OF）拡散シート、プリズムシート、及び輝度向上シートのうちの少なくともいずれか一つを含む。拡散シートは、光学シート部材（OF）の中でバックライト部材（LP）と最も隣接して配置される。拡散シートは、導光板（GP）から入射される光を分散させ、光が部分的に密集するのを防止することができる。拡散シートは、例えば、ポリエステル（Polyester）とポリカーボネート（Polycarbonate]）のうちの少なくともいずれか一つを含む。プリズムシートは、拡散シートを通過した光のうちの測光（side light）を正面光に変えるとともに、放射する光を集光させることで、輝度を高める役割をする。二重輝度向上フィルム（dual brightness enhancement film；例えば３Ｍ社の3M DBEF）は、プリズムシートから出た光の損失を低減する役割をする。本発明に係る光学部材（OPM）は、光学シート部材（OF）が省略されうる。
【００６７】
図3を参照すると、一実施形態に係る色制御部材（CCP）は、ディスプレイパネル（DP）とバックライト部材（LP）との間に配置される。
【００６８】
色制御部材（CCP）は、導光板（GP）から入射された光を変換させる複数の変換粒子を含む。変換粒子のそれぞれは、入射される光の少なくとも一部を吸収して、特定の色を有した光を放出するか、又は入射光の一部を色変換なしにそのまま透過させる。
【００６９】
色制御部材（CCP）に入射される光が変換粒子を励起するのに十分なエネルギーを有した場合には、変換粒子は入射される光の少なくとも一部を吸収して励起状態になった後、安定化されて特定の色相の光を放出する。これとは異なり、入射される光が変換粒子を励起しにくいエネルギーの場合には、入射される光は、色制御部材（CCP）をそのまま通過して、外部から視認される。
【００７０】
色制御部材（CCP）は、第1変換体（QD1）、第2変換体（QD2）、およびベース樹脂（BR）を含むことができる。
【００７１】
ベース樹脂（BR）は、第1及び第2変換体（QD1、QD2）が分散配置されている媒質であり、一般的にバインダーと称される。ベース樹脂（BR）は、第1および第2変換体（QD1、QD2）を分散配置させることができる媒質であれば、その名称は、追加の他の機能、構成物質などに関係なく、ベース樹脂（BR）と称される。ベース樹脂（BR）は、高分子樹脂であり得る。例えば、ベース樹脂（BR）は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂などの多様な樹脂組成物からなるのでありうる。
【００７２】
色制御部材（CCP）の変換粒子から放出される光は、様々な方向に放射される。色制御部材（CCP）は、白色光を生成するために光源（LU）から提供される光の種類によってサイズの異なる変換体（QD1、QD2）を含む。一実施形態に係る変換体（QD1、QD2）は量子ドット（Quantum Dot：QD）であり得る。
【００７３】
たとえば、変換体（QD1、QD2）はII-VI族化合物、III-V族化合物、IV-VI族化合物、IV族元素、IV族化合物、及びこれらの組み合わせから選択される。II-VI族化合物は、２元素化合物（例えば、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、MgSe及びMgS）、２元素化合物の混合物、３元素化合物（例えば、CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、MgZnSe、及びMgZnSを含む）、３元素化合物の混合物、４元素化合物（例えば、HgZnTeS、CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、及びHgZnSTeを含む）、及び４元素化合物の混合物からなる群から選択されうる。
【００７４】
III-V族化合物は、２元素化合物（例えば、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、及びInSbを含む）、２元素化合物の混合物、３元素化合物（例えば、GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、及びGaAlNPを含む）、３元素化合物の混合物、４元素化合物（例えば、GaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、及びInAlPSbを含む）、及び４元素化合物の混合物からなる群から選択されうる。
【００７５】
IV-VI族化合物は、２元素化合物（例えば、SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、及びPbTeを含む）、これら２元素化合物の混合物、３元素化合物（例えば、SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、及びSnPbTeを含む）、これら３元素化合物の混合物、４元素化合物（例えば、SnPbSSe、SnPbSeTe、及びSnPbSTeを含む）、及びこれら４元素化合物の混合物からなる群から選択されうる。
【００７６】
IV族元素では、Si、Ge、及びこれらの混合物からなる群から選択される。IV族化合物としてはSiC、SiGe、およびこれらの混合物からなる群から選択される２元素化合物であり得る。変換体（QD1、QD2）の形は、該当する分野で一般的に使用される形態のものでありうるのであり、特に限定されない。例えば、球状、ピラミッド型、マルチアーム（multi-arm）、または立方体（cubic）のナノ粒子である。或いは、ナノチューブ、ナノワイヤー、ナノ繊維、ナノ板状粒子などの形態のものが使用されうる。
【００７７】
しかし、これに限定されるものではなく、色制御部材（CCP）は、複数の蛍光体を含みうる。バックライト部材（LP）から提供される光が青色光である場合、青色光を吸収して赤色光を放出する複数の蛍光体を含みうる。赤色光蛍光体は、例えば、硫黄（S）、（Ca、Sr、Ba）2Si5N8、CaAlSiN3、CaMoO4、及びEu2Si5N8の中の、少なくとも一つで形成されるか、又は少なくとも一つを含む。
【００７８】
色制御部材（CCP）は、バックライト部材（LP）で出射される青色光を吸収して緑色光を放出する蛍光体を含む。緑色光蛍光体は、例えば、イットリウムアルミニウムガーネット（yttrium aluminum garnet：YAG）、（Ca、Sr、Ba）2SiO4、SrGa2S4、BAM、アルファサイアロン（α-SiAlON）、ベータサイアロン（β-SiAlON）、Ca3Sc2Si3O12、Tb3Al5O12 、BaSiO4、CaAlSiON、及び（Sr1-xBax）Si2O2N2のうちの少なくとも一つの物質であり得る。
【００７９】
本発明に係る変換体（QD1、QD2）は、青色光を吸収して緑色または赤色の波長帯域の光に変換させる。しかし、青光の一部は、変換体（QD1、QD2）に吸収されない可能性がある。したがって、色制御部材（CCP）にて、青色、緑色、および赤色波長の光が互いに混合され、白色光が生成される。
【００８０】
バリア層（BRL）は、色制御部材（CCP）をカバーする。バリア層（BRL）は、色制御部材（CCP）の側面が外部に露出されないように低屈折層（LRL）とともに色制御部材（CCP）を封止する。バリア層（BRL）は、色制御部材（CCP）へと向かって流れ込む水分および/または酸素の浸透を防ぐ役割をする。
【００８１】
バリア層（BRL）は、少なくとも一つの無機層を含む可能性がある。つまり、バリア層（BRL）は無機物質を含むか、又は無機物質からなることができる。例えば、バリア層（BRL）は、酸化シリコン（SiNX）、窒化アルミニウム（AlNX）、窒化ジルコニウム（ZrNX）、窒化チタン（TiNX）、窒化ハフニウム（HfNX）、酸化シリコン（SiOX）、酸化アルミニウム（AlOX）、酸化チタン（TiOX）、及び酸化窒化シリコン（SiOXNY）のうちの少なくともいずれか一つを含む。
【００８２】
一実施形態において、バリア層（BRL）は、十分に高い光透過率が有する金属薄膜などを含むか、又は金属薄膜などからなる。一方、バリア層（BRL）は、有機層を含む。例えば、バリア層（BRL）は、ポリイミド（Polyimide）、ポリエチレンテレフタレート（Polyethylene terephthalate]）、ポリカーボネート（Polycarbonate）、エポキシ樹脂（Epoxy resin）、ポリエチレン（Polyethylene）及びポリアクリレート（Polyacrylate）のうちの少なくともいずれか一つを含む。バリア層（BRL）は、単層、または複数層による積層構造で構成されうる。
【００８３】
以下、本発明に係るバリア層（BRL）について、窒化シリコン（SiNX）および/または酸化シリコン（SiOX）を含む場合を例として説明する。
【００８４】
低屈折層（LRL）は、導光板（GP）と色制御部材（CCP）との間に配置される。低屈折層（LRL）は、導光板（GP）の屈折率よりも低い屈折率を有する。導光板（GP）上に配置された色制御部材（CCP）の屈折率と、導光板（GP）の屈折率とが類似した場合、導光板（GP）と色制御部材（CCP）との間の境界で全反射が正常に行われず、導光板（GP）に入射された光が導光板（GP）の内部を導光できず、外部に出射され、一定の領域のみに光が集光されるホットスポット現象が発生する。
【００８５】
本発明によると、このような問題を防止するために導光板（GP）の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折層（LRL）を、導光板（GP）と色制御部材（CCP）との間に配置させる。これにより、導光板（GP）と低屈折層（LRL）との境界での、全反射が行われる最小の角度を増加させることで導光板（GP）内における全反射の効率が増大する。
【００８６】
バックライト部材（LP）は、ディスプレイパネル（DP）の下部に配置されてディスプレイパネル（DP）に光を提供することができる。本発明に係るバックライト部材（LP）は、光源部（LU）、導光板（GP）、並びに出光パターン（CP）を含む。
【００８７】
光源（LU）は、回路基板（PB）と光源（LD）を含む。回路基板（PB）は、光源（LD）と電気的に接続されて、光源（LD）から出射される光を制御する。図1に図示されたように、光源（LD）は、回路基板（PB）に複数が提供されうる。本発明に係る光源（LU）は、導光板（GP）の側面に配置されたエッジ型であり得る。
【００８８】
一実施形態において、回路基板（PB）は、複数の光源のそれぞれに対応するように複数の回路基板を備える。図示されていなかったが、回路基板（PB）は、基板と回路層を含む。回路層は、光源（LD）と電気的に接続される。具体的には、回路層は、光源（LD）の電極（図示せず）に接続される。回路層は、電極のそれぞれに接続された導電ライン、又は導電性パッドで構成される。回路層は、金属材料からなり、例えば、銅（Cu）を含むことができる。
【００８９】
光源（LD）は、回路層と電気的に接続される。光源（LD）は、回路層から受信された電気信号に応答して光を生成する発光ダイオード（Light emitting diode：LED）を含む。発光ダイオードは、回路層に電気的に接続された第1電極、n型半導体層、活性層、p型半導体層、及び第1電極に対向して回路層に電気的に接続された第2電極が順次積層された構造を有し得る。発光ダイオードの駆動電圧が印加されると、電子及び正孔が移動することで結合され、前記電子と正孔との結合によって光が生成される。本発明の一実施形態に係る光源（LD）は、複数の発光ダイオードを含むことができ、発光ダイオードが生成する光は、互いに同一のまたは異なる色を有し得るのであり、いずれか一つの実施形態に限定されない。本発明の一実施形態に係る光源（LD）は、青色光であり得る。
【００９０】
導光板（GP）は、ディスプレイパネル（DP）の下側（裏側）に配置される。導光板（GP）は、光源（LU）から受け取った光をディスプレイパネル（DP）の側へとガイドする。導光板（GP）は、可視光線領域での光透過率が高い物質を含む。本発明の一実施形態に係る導光板（GP）は、光学的に透明な材料からなる。例えば、導光板は、ガラス基板、プラスチック基板、またはこれらの組み合わせからなる。本発明の一実施形態に係る導光板（GP）としては、ガラスからなるものについて説明する。
【００９１】
導光板（GP）は、放出面（G1；出射面、表側の面）、下面（G2；裏面）、及び複数の側端面（G3、G4）を含む。放出面（G1）は、ディスプレイパネル（DP）に面する表面として定義される。下面（G2）は、放出面（G1）と対向する。図1に記載されたように、複数の側端面（G3、G4、以下、側端面）は、第1方向（DR1）で対向する第1および第2側端面（G3、G4）、第2方向（DR2）で対向する第1および第2側端面（G3、G4）と連結される第3及び第4側端面を含む。
【００９２】
本発明の一実施形態によると、側端面（G3、G4）のうちの少なくとも一面が入射面として使用される。入射面は、光源（LD）と向き合い、光源（LD）から提供された光を受信する。一実施形態によると、第1側端面（G3）は、入射面であるとして定義されうる。導光板（GP）は、入射面（G3）へと入射した光をガイドして、放出面（G1）を介して出射させることにより、ディスプレイパネル（DP）に光を提供することができる。ただし、これは例として示したものであり、入射面は、第2〜第4側端面のうちのいずれか一つとして定義されるか、又は2つ以上の側端面として定義されるのであり得、いずれか一つの実施形態に限定されない
【００９３】
放出パターン（CP）は、導光板（GP）と異なる屈折率の値を有する物質で形成されたものであり得る。放出パターン（CP）は、光源（LU）から放出され、導光板（GP）の一側端面に入射された光を、導光板（GP）の他の側端面に伝達するか、または導光板（GP）の下面（G2）へと入射された光を、導光板（GP）の上面である放出面（G1）へと伝達されるように、光の方向を変化させるものであり得る。
【００９４】
再び、図1を参照すると、ハウジング部材（HAU）は、ディスプレイパネル（DP）の下側に配置されてディスプレイパネル（DP）を収納する。ハウジング部材（HAU）は、ディスプレイパネル（DP）におけるディスプレイ面としての上面が露出されるようにしてディスプレイパネル（DP）をカバーする。例えば、ハウジング部材（HAU）はディスプレイパネル（DP）の側端面と底面をカバーし、上面の全体を露出させる可能性がある。また、これとは異なり、ハウジング部材（HAU）は、ディスプレイパネル（DP）の側端面及び底面だけでなく、上面の一部をカバーする可能性があり、いずれかの実施形態に限定されない。
【００９５】
一実施形態に係るバリア層（BRL）は、窒化シリコン（SiNX）及び酸化シリコン（SiOX）のいずれか一つを含む。窒化シリコン（SiNX）を含むバリア層（BRL）の密度は1.50g/cm3〜3.0g/cm3であり得る。窒化シリコン（SiNX）を含むバリア層（BRL）におけるシリコン（Si）の含有量に対する窒素（N）の含有量の比は、0.70〜1.50の範囲であり得る。
【００９６】
一実施形態によると、窒化シリコン（SiNX）を含むバリア層（BRL）の残留応力は-300MPa〜500MPaの範囲であり得る。一実施形態に係る残留応力は、圧縮応力（Compressive Stress）であり得る。
【００９７】
窒化シリコン（SiNX）を含むバリア層（BRL）の密度、及び、シリコン（Si）に対する窒素（N）の含有量比が、それぞれ、1.50g/cm3未満である場合、及び／または0.70未満である場合には、バリア層（BRL）の水蒸気透過率（Moisture vapor transmission rate：MVTR）が上昇して、色制御部材（CCP）の寿命が減少しうる。なお、バリア層（BRL）の表面酸化により、バリア層（BRL）と、これに隣接する層との間の剥離の問題が発生しうる。
【００９８】
窒化シリコン（SiNX）を含むバリア層（BRL）の密度と、シリコン（Si）に対する窒素（N）の含有量比が、それぞれ3.0g/cm3を超過と1.50超過である場合には、バリア層（BRL）の密度の増加に起因して工程費用が増加するという問題が発生しうる。
【００９９】
本発明の一実施形態に係るバリア層（BRL）は、酸化シリコン（SiOX）を含む。酸化シリコン（SiOX）を含むバリア層（BRL）の密度は、1.50g/cm3〜3.0g/cm3の範囲内であり得る。
【０１００】
酸化シリコン（SiOX）を含むバリア層（BRL）の残留応力は、-500MPa〜500MPaの範囲内であり得る。一実施形態に係る残留応力は、圧縮応力（Compressive Stress）であり得る。
【０１０１】
酸化シリコン（SiOX）を含むバリア層（BRL）の密度が1.50g/cm3未満の場合には、バリア層（BRL）の水蒸気透過率（Moisture vapor transmission rate：MVTR）が上昇して、色制御部材（CCP）の寿命が減少しうる。なお、バリア層（BRL）の表面酸化により、バリア層（BRL）と、これに隣接する層との間での剥離の問題が発生しうる。
【０１０２】
酸化シリコン（SiOX）を含むバリア層（BRL）の密度が3.0g/cm3を超える場合は、バリア層（BRL）の密度の増加に起因して工程費用が増加するという問題が発生しうる。
【０１０３】
図4a及び図4bは、本発明の一実施形態に係る光学部材における一部のエレメントを示す拡大図である。図1〜図3中に示されたのと同一のエレメントについては、同一の参照符号を使用し、重複した説明は省略する。
【０１０４】
図4aを参照すると、一実施形態に係るバリア層（BRL）は、第1無機層（SBL1）及び第2無機層（SBL2）を含む。第1無機層（SBL1）は、図3に示された低屈折層（LRL）と色制御部材（CCP）との間に配置されて低屈折層（LRL）の下面と接触する。第1無機層（SBL1）は、色制御部材（CCP）の複数の面（上下の面、及び４つの側端面）の中の下面（裏面）を封止するか、又はシール(seal)する。第2無機層（SBL2）は、図3に示された光学シート部材（OF）と色制御部材（CCP）との間に配置されて、低屈折層（LRL）の上面と接触する。第2無機層（SLB2）は、色制御部材（CCP）が有する複数の面のうち、第1無機層（SBL1）によってシールされていない面（上面、及び４つの側端面）をシールする。
【０１０５】
一実施形態によると、第1無機層（SBL1）及び第2無機層（SBL2）のそれぞれの端部は、色制御部材（CCP）の端部を挟み込むようにして互いに接触することで、色制御部材（CCP）を包み込んで封止するか、又はシールする。これにより、色制御部材（CCP）へと流れ込んで来る水分および/または酸素の浸透を防ぐ役割をする。
【０１０６】
一実施形態によれば、第1無機層（SBL1）及び第2無機層（SBL2）のうちの、少なくともいずれか一つの層は、単層（単層膜）の構造からなる。
【０１０７】
単層からなるバリア層（BRL）が窒化シリコン（SiNX）を含む場合には、第1無機層（SBL1）の厚さは、0.1μm以上を有し、第2無機層（SBL2）の厚さは、0.3μm以上であり得る。
【０１０８】
単層からなるバリア層（BRL）がシリコン酸化物（SiOX）を含む場合の第1無機層（SBL1）の厚さは、バリア層（BRL）が窒化シリコン（SiNX）を含む場合の第1無機層（SBL1）の厚さよりも厚い可能性がある。例えば、第1無機層（SBL1）の厚さは、0.3μm以上であり得る。なお、第2無機層（SBL2）の厚さは、0.3μm以上であり得る。
【０１０９】
本発明の一実施形態によると、バリア層（BRL）の第1無機層（SBL1）の厚さが、窒化シリコン（SiNX）を含んでいるときよりも、酸化シリコン（SiOX）を含んでいる場合、より大きな厚さを有する。詳細には、酸化シリコン（SiOX）を含むバリア層（BRL）は、凹凸が激しい色制御部材（CCP）との境界にて成長する場合、窒化シリコン（SiNX）を含むバリア層（BRL）に比べて、色制御部材（CCP）を封止する成長面の境界が、遅く形成されるという特徴を有し得る。これに伴い、色制御部材（CCP）への水分および/または酸素の浸透を効果的に遮断すべく、バリア層（BRL）の第1無機層（SBL1）の厚さは、酸化シリコン（SiOX）を含む場合に、窒化シリコン（SiNX）を含む場合よりも大きいのでありうる。
【０１１０】
図4bを参照すると、一実施形態に係るバリア層（BRL）は、それぞれが複数の層を含む、第1層（SBL1-1）及び第2層（SBL2-1）を含む。第1層（SBL1-1）は、第1サブ層（SL1-1）及び第2サブ層（SL1-2）を含む。第2層（SBL2-1）は、第1サブ層（SL2-1）及び第2サブ層（SL2-2）を含む。
【０１１１】
一実施形態に係る第1サブ層（SL1-1）は、窒化シリコン（SiNX）を含むことができ、第2サブ層（SL1-2）は、酸化シリコン（SiOX）を含みうる。第1サブ層（SL1-1）と第2サブ層（SL1-2）とは、互いに交互に重ね合わされて配置されうる。
【０１１２】
一実施形態に係る第1サブ層（SL2-1）は、窒化シリコン（SiNX）を含むことができ、第2サブ層（SL2-2）は、酸化シリコン（SiOX）を含む。第2サブ層（SL2-1）と第2サブ層（SL2-2）とは、互いに交互に重ね合わされて配置されうる。
【０１１３】
図4bには、バリア層（BRL）が、単一の第1サブ層（SL1-1、SL2-1）と単一の第2サブ層（SL1-2、SL2-1）とで形成された２層の積層膜である場合を図示したが、これに限定されるものではない。例えば、複数の第1サブ層及び第2サブ層が、交互に重ね合わされて配置されうる。なお、色制御部材（CCP）と接触するサブ層が、酸化シリコン（SiOX）を含むことができるのであり、いずれかの実施形態に限定されるのでない。
【０１１４】
図5は、本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を示している分解斜視図である。図6は、本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を示している断面図である。図7は、本発明の一実施形態に係る光学部材を示している平面図である。図8は、図6のCC領域を示している拡大図である。簡潔な説明のため、図1〜図4bで示されたのと同様のエレメントについては、同一の参照符号を使用し、重複した説明は省略する。
【０１１５】
図5〜図8を参照すると、一実施形態に係るディスプレイモジュール（DD-1）は、バックライト部材（LP）、第1ベース基板(BS1）、ディスプレイ部（DPP）、光学部材（OPM-1）、第2ベース基板(BS2）、第1偏光層（PL）、並びに第2偏光層（ICP）を含む。
【０１１６】
一実施形態による光学部材（OPM-1）は、色制御部材（CCP-1）、バリア層（BRL）、低屈折層（LRL）、並びに平坦化層（OC）を含む。
【０１１７】
一実施形態に係るディスプレイモジュール（DD-1）の構成のうち、バックライト部材（LP）、第1ベース基板(BS1）、ディスプレイ部（DPP）及び第2ベース基板(BS2）は、それぞれ、図1〜図3に示されたバックライト部材（LP）、第1ベース基板(BS1）、ディスプレイ部（DPP）及び第2ベース基板(BS2）と同一の特徴を有する構成であり得る。
【０１１８】
一実施形態に係るディスプレイモジュール（DD-1）は、第1偏光層（PL）及び第2偏光層（ICP）を含む。第1偏光層（PL）は、バックライト部材（LP）と第1ベース基板(BS1）との間に配置される。第1偏光層（PL）は、別の部材で提供されるか、又はコーティングまたは蒸着によって形成された偏光子を含む可能性がある。第1偏光層（PL）は、二色性色素および液晶化合物を含む物質をコーティングして形成されたものである。一実施形態において、第1偏光層（PL）は、ワイヤグリッド（wire grid）型の偏光子を含むものであり得る。
【０１１９】
第1偏光層（PL）は、第1ベース基板（BS1）の下面（裏面）に配置されうる。ただし、これに限定されるものではなく、第1偏光層（PL）は、第1ベース基板(BS1）の上面（液晶層LCLの側の面）に配置されうるのであり、この場合にも、第1偏光層（PL）は、ディスプレイ部（DDP）の液晶層（LCL：図3参照）と第1ベース基板(BS1）との間に配置される。
【０１２０】
第2偏光層（ICP）は、光学部材（OPM-1）とディスプレイパネル（DP）との間に配置されうる。しかし、これに代えて、第2偏光層（ICP）は、インセル（In-cell）の形態の偏光層であり得る。すなわち、ディスプレイパネル（DP）の内部に、特には、第2ベース基板（BS）における液晶層LCLの側の面に配置されうる。第2偏光層（ICP）は、二色性色素および液晶化合物を含む物質をコーティングして形成されたものであり得る。これに代えて、一実施形態において、第2偏光層（ICP）は、ワイヤグリッド型の偏光層であり得る。
【０１２１】
一実施形態に係る色制御部材（CCP-1）は、第2ベース基板(BS2）とディスプレイ部（DPP）との間に配置される。色制御部材（CCP-1）は、平面上で互いに離隔されている、複数の色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）のパターンを含む。
【０１２２】
第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）は、第2ベース基板(BS2）上に提供されたものでありうる。第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）は、第2ベース基板（BS2）の下面（裏側の面、すなわち、液晶層LCLの側の面）に提供されたものでありうる。
【０１２３】
一実施形態に係る色制御部材（CCP-1）は、第1光を吸収して、第2光に波長変換する第1変換体（QD1）、及び、第1光を吸収して、第3光に波長変換する第2変換体（QD2）を含む。例えば、第1光は、青色光であり、第2光は緑色光であり、第3光は赤色光であり得る。
【０１２４】
一方、一実施形態に係る色制御部材（CCP-1）に含まれた、第1変換体（QD1）及び第2変換体（QD2）については、図3の箇所で説明した一実施形態の色制御部材（CCP）に含まれた変換体（QD1、QD2）についての説明が、同一に適用される。例えば、第1変換体（QD1）は緑色の量子ドットであり、第2変換体（QD2）は赤色の量子ドットであり得る。
【０１２５】
色制御部材（CCP-1）は、第1変換体（QD1）を含む第1色制御部（CCL1）、第2変換体（QD2）を含む第2色制御部（CCL2）、及び、第1光を透過する第3色制御部（CCL3）を含む。
【０１２６】
例えば、第1変換体（QD1）は、青色光である第1光を吸収して緑色光を放出するものであり、第2変換体（QD2）は、青色光である第1光を吸収して赤色光を放出するものであり得る。すなわち、第1色制御部（CCL1）は緑色光を放出する発光領域であり、第2色制御部（CCL2）は、赤色光を放出する第2発光領域でありうる。
【０１２７】
なお、第3色制御部（CCL3）は、波長変換のための変換体を含まない部分であり得る。この場合、第3色制御部（CCL3）は、バックライト部材（LP）から提供された第1光を透過させる部分である。すなわち、第3色制御部（CCL3）は、青色光を透過させる領域でありうる。第3色制御部（CCL3）は、高分子樹脂で形成されたものであり得る。例えば、第3色制御部（CCL3）は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、又はエポキシ系樹脂等で形成される。第3色制御部（CCL3）は、透明な樹脂で形成されたものであるか、又は白色樹脂で形成されたものであり得る。
【０１２８】
色制御部材（CCP-1）は、遮光部（BM）をさらに含む。図7に図示されたように、遮光部（BM）には、複数の開口部が（OPC）が区画形成されている。遮光部（BM）は、第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）を区画する境界部をなす。例えば、第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）のそれぞれのパターンは、対応する開口部（OPC）と重なり合うように配置され、遮光部（BM）によって、隣り合う色制御部のパターンから区画されている。したがって、遮光部（BM）は、互いに隣接する第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）のパターン間の境界に沿って延びる格子状または網状のものであり得る。
【０１２９】
遮光部（BM）の少なくとも一部分は、隣接する第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）と重なり合うように配置される。すなわち、第1方向（DR1）と第3方向（DR3）とにより定義された平面上（図６のような垂直断面）で見た場合、遮光部（BM）は、厚さ方向に、隣接する第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）と、少なくとも一部分が重なるように配置される。
【０１３０】
遮光部（BM）は、樹脂をベースとしたブラックマトリックスであり得る。遮光部（BM）は、ブラックの顔料または染料を含む有機遮光物質または無機遮光物質を含んで形成されうる。遮光部（BM）は、光漏れ現象を防止する。
【０１３１】
第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）は、第1方向（DR1）と第2方向（DR2）とにより定義された平面上（図７のような平面ビュー）で見た場合、互いに離隔して配置される。第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）のパターンは、これらの間に挟まれた遮光部（BM）により区切られて、互いに離隔して配置されうる。例えば、第1方向（DR1）に沿って、互いに異なる色の光を放出する第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）のパターンが、互いに離隔しつつ、この順に、順繰りに配列され、第2方向（DR2）には、同じ色の光を放出する色制御部が互いに離隔して配列されるのでありうる。
【０１３２】
一方、図7は、第1〜第3の色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）の配列の一実施形態を示したもので、これに限定されるものではなく、例えば、第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2 、CCL3）は、互いに異なる面積で提供されうるのであり、いずれか一つの実施形態に限定されるのでない。
【０１３３】
図8に示されたように、色制御部材（CCP-1）は、第1および第2色制御部（CCL1、CCL2）上に配置された光フィルタ層（FP1、FP2）をさらに含む。
【０１３４】
光フィルタ層（FP1、FP2）は、異なる色の光を遮断及び透過させる。光フィルタ層（FP1、FP2）は、第1及び第2色制御部（CCL1、CCL2）上に配置されて、第1光は遮断し、第2光または第3光は透過するのでありうる。
【０１３５】
例えば、光フィルタ層（FP1、FP2）は、青色光を遮断し、緑色光及び赤色光は透過させるのでありうる。光フィルタ層（FP1、FP2）は、第1及び第2色制御部（CCL1、CCL2）上に配置されうる。ただし、これに限定されるものではなく、第3色制御部（CCL3）上に配置される光フィルタ層（図示せず）を含みうる。この光フィルタ層（FP3）は、青色光のみを透過させるのでありうる。
【０１３６】
光フィルタ層（FP1、FP2）は、一つの層で構成されるか、または複数の層が積層された形態であり得る。例えば、光フィルタ層（FP1、FP2）は、青色光を吸収する物質を含む単層の構造であるか、または、これに低屈折率の絶縁層及び高屈折率の絶縁層が積層された構造であり得る。
【０１３７】
なお、光フィルタ層（FP1、FP2）は顔料または染料を含むことで、特定の波長の光を遮断するのでありうる。例えば、一実施形態において、光フィルタ層（FP1、FP2）は、青色光を遮断するために、青色光を吸収する黄色フィルタ層である。
【０１３８】
光フィルタ層（FP1、FP2）は、第1色制御部（CCL1）上に配置される第1光フィルタ層（FP1）及び第2色制御部（CCL2）上に配置される第2光フィルタ層（FP2）を含みうる。第1光フィルタ層（FP1）は、青色光を遮断し、緑色光を透過させるフィルタ層でありうる。なお、第2光フィルタ層（FP2）は、青色光を遮断し、赤色光を透過させるフィルタ層でありうる。
【０１３９】
本発明に係る光学部材（OPM-1）は、バリア層（BRL-1）を含む。一実施形態に係るバリア層（BRL）は、第1無機層（SBL1）及び第2無機層（SBL2）を含む。第1無機層（SBL1）は、第2ベース基板(BS2）上に配置される。第1無機層（SBL1）は、遮光部（BM）および光フィルタ層（FP1、FP2）を全面的に、直接にカバーする。第1無機層（SBL1）は、第2ベース基板(BS2）の下面（液晶層LCLの側の面）のうち、遮光部（BM）および光フィルタ層（FP1、FP2）によって覆われずに露出された第2ベース基板(BS2）の一部をもカバーする。
【０１４０】
第2無機層（SBL2）は、色制御部材（CCP-1）上に配置されうる。第2無機層（SBL2）は、第1無機層（SBL1）とともに第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）の各パターンを封止包み込んでシールする。一実施形態によれば、遮光部（BM）と重なる箇所にて、第1無機層（SBL1）と第2無機層（SBL2）とは互いに接触される。
【０１４１】
これにより、第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）のそれぞれのパターンは、第1無機層（SBL1）及び第2無機層（SBL2）によって個別に封止包み込まれてシールされる。これにより、一実施形態のディスプレイモジュール（DD-1）では、色制御部材（CCP-1）へと流れ込む水分および/または酸素の浸透を効果的に遮断できる。
【０１４２】
一実施形態に係るバリア層（BRL）は、図3〜4bで説明したバリア層（BRL）と同じ物質を含む。例えば、ここでのバリア層（BRL）は、窒化シリコン（SiNX）および/または酸化シリコン（SiOX）を含む。なお、ここでのバリア層（BRL）は、単層で構成されてもよく、また、第1無機層（SBL1）及び第2無機層（SBL2）のそれぞれが、複数の層からなるものでもよく、いずれか一つの実施形態に限定されるのでない。
【０１４３】
低屈折層（LRL）は、第2無機層（SBL2）上に配置される。低屈折層（LRL）は、第2無機層（SBL2）をカバーする。一実施形態による光学部材（OPM-1）は、色制御部材（CCP-1）の下側（裏側）に低屈折層（LRL）を配置することにより、色制御部材（CCP-1）から放出されて、ディスプレイ部（DPP）の側へと向かう光について、その進行方向を変換させる。
【０１４４】
例えば、低屈折層（LRL）は、色制御部材（CCP-1）の下側（裏側）に配置されることで、色制御部材（CCP-1）から放出された光を、再び反射させて第2ベース基板(BS2）へと向かう方向に進行するようにする光抽出機能を有するものであり得る。これにより、一実施形態のディスプレイモジュール（DD-1）は、向上された光効率を示すことができる。
【０１４５】
光学部材（OPM-1）は、平坦化層（OC）を含みうる。平坦化層（OC）は、第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）をカバーする低屈折層（LRL）の凹凸をカバーするように配置される。平坦化層（OC）は、低屈折層（LRL）が有する凹凸をカバーして平坦面を提供する。平坦化層（OC）は、有機物を含むことができる。
【０１４６】
図9a及び図9bは、本発明の一実施形態に係る光学部材の一部のエレメントを示している拡大図である。図9a及び図9bは、それぞれ、図8のCC領域に対応する領域についての具体的な実施形態を示すものである。図8で示したのと同じエレメントについては、同じ参照符号を使用し、重複した説明は省略する。
【０１４７】
図9aを参照すると、図8の第1無機層（SBL1；平坦な方の無機層）が省略されている。これにより、第2無機層（SBL2）は、色制御部材（CCP-1）上に配置される。
【０１４８】
第2無機層（SBL2-1）は、遮光部（BM）と光フィルタ層（FP1、FP2）とともに第1〜第3の色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）の各パターンを包み込んでシール（封止）する。例えば、第2無機層（SBL2）は、遮光部（BM）と重なる箇所にて、遮光部（BM）と接触するのでありうる。これにより、第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）のそれぞれのパターンは、第2無機層（SBL2）によって個別に封止される。
【０１４９】
図9bを参照すると、一実施形態による光学部材（OPM-1）は、反射層（RP）をさらに含む。反射層（RP）は、色制御部材（CCP-1）とディスプレイ部（DPP）との間に配置されうる。例えば、反射層（RP）は、低屈折層（LRL）を挟み込むようにして第2無機層（SBL2）と重ね合わされて配置される。
【０１５０】
反射層（RP）は、バックライト部材（LP）から提供される第1光を透過させるとともに、色制御部材（CCP-1）の第1および第2色制御部（CCL1、CCL2）から放出されて、ディスプレイ部（DPP）へと向かう第2光及び第3光については、反射させて、第2ベース基板(BS2）へと向かう方向に放出されるようにするのでありうる。すなわち、選択的透過の反射層（RP）であり得る。反射層（RP）は、単層のもの、または複数の絶縁層が積層されたものであり得る。
【０１５１】
例えば、反射層（RP）は、複数の絶縁層を含んで形成されたもので、積層された層同士の間の屈折率の差、積層された層のそれぞれの厚さ、および積層された層の数などに応じて、透過及び反射の波長の範囲が定められる。
【０１５２】
一実施形態において、反射層（RP）は、互いに異なる屈折率を有する第1絶縁層及び第2絶縁層を含む。第1絶縁層及び第2絶縁層は、これらのそれぞれが複数具備されて、交互に積層されうる。一実施形態において、金属酸化物材料が比較的高い屈折率を有する絶縁層として使用されうるのであり、具体的に、高屈折率の絶縁層は、酸化チタン（TiOx）、酸化タンタル（TaOx）、酸化ハフニウム（HfOx）及び酸化ジルコニウム（ZrOx）のうちの少なくとも一つを含むのでありうる。なお、比較的低い屈折率を有する絶縁層は、酸化シリコン（SiOx）又は窒化シリコン（SiNx）などを含むのでありうる。一実施形態で、反射層（RP）は、窒化シリコン（SiNx）及び酸化シリコン（SiOx）が交互に繰り返し蒸着されて形成されたものであり得る。
【０１５３】
図9bは、低屈折層（LRL）を挟み込むようにして、第2無機層（SBL2）と重ね合わされた反射層（RP）を図示したが、これに限定されるものではなく、反射層（RP）は、第2無機層（SBL2）と低屈折層（LRL）との間に配置されうるのであり、いずれか一つの実施形態に限定されるのではない。
【０１５４】
図10は、本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を示している分解斜視図である。図11は、本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を示している断面図である。図1〜図4bと同一の構成については、同一の参照符号を使用し、重複した説明は省略する。
【０１５５】
図10を参照すると、一実施形態に係るディスプレイモジュール（DD-2）は、第1ベース基板(BS1）、ディスプレイ部（DPP-2）、光学部材（OPM-2）、及び第2ベース基板(BS2）を含む。
【０１５６】
一実施形態による光学部材（OPM-2）は、低屈折層（LRL）、色制御部材（CCP-2）、およびバリア層（BRL-2）を含む。
【０１５７】
一実施形態に係るディスプレイ部（DPP-2）は、有機ＥＬディスプレイ素子を含むディスプレイパネルである。例えば、ディスプレイ部（DPP-2）に含まれている画素（PX）は、第1ベース基板(BS1）上に配置されたトランジスタ（TR）及びトランジスタ（TR）と接続された有機発光素子（OLD）を含む。
【０１５８】
トランジスタ（TR）は、半導体パターン（AL）、制御電極（GE）、入力電極（SE）、および出力電極（DE）を含む。
【０１５９】
第1ベース基板(BS1）上に、トランジスタ（TR）の半導体パターン（AL）と、第1絶縁層（ILD1）とが配置される。第1絶縁層（ILD1）は、半導体パターン（AL）をカバーする。
【０１６０】
第1の絶縁層（ILD1）上に、制御電極（GE）及び第2絶縁層（ILD2）が配置される。第2絶縁層（ILD2）は、制御電極（GE）をカバーする。第1絶縁層（ILD1）及び第2の絶縁層（ILD2）のそれぞれは、有機層および/または無機層を含む。第1絶縁層（ILD1）及び第2絶縁層（ILD2）のそれぞれは、複数の薄膜を含む。
【０１６１】
第2絶縁層（ILD2）上に、入力電極（SE）、出力電極（DE）並びに第3絶縁層（ILD3）が配置される。第3絶縁層（ILD3）は、入力電極（SE）及び出力電極（DE）をカバーする。
【０１６２】
入力電極（SE）及び出力電極（DE）は、第1絶縁層（ILD1）及び第2絶縁層（ILD2）中に区画形成された貫通穴を介して半導体パターン（AL）にそれぞれ連結される。
【０１６３】
第3絶縁層（ILD3）上には、有機発光素子（OLD）と画素定義膜（PXL）とが配置される。有機発光素子（OLD）は、アノード電極（AE）、発光層（EML）、カソード電極（CE）、アノード電極（AE）と発光層（EML）との間で定義された正孔輸送領域（HCL）、及びカソード電極（CE）と発光層（EML）との間で定義された電子輸送領域（ECL）を含む。
【０１６４】
アノード電極（AE）は、第3絶縁層（ILD3）中に区画形成された貫通穴を介して出力電極（DE）に連結される。
【０１６５】
画素区画層（PXL）は、第3絶縁層（ILD3）上に配置される。画素定義層（PXL）は、アノード電極（AE）の少なくとも一部を露出させる開口部（OB）が区画形成される。アノード電極（AE）が配置された領域は、有機発光素子（OLD）から発光される光の発光領域と対応しうる。本発明の他の一実施形態で、開口部（OB）が区画形成された領域は、発光領域と対応しうる。
【０１６６】
正孔輸送領域（HCL）は、アノード電極（AE）上に配置されてアノード電極（AE）と画素区画層（PXL）をカバーする。正孔輸送領域（HCL）は、正孔注入層、正孔輸送層、および正孔注入機能及び正孔輸送機能を同時に有する単層のうちの少なくともいずれか一つを含む。
【０１６７】
発光層（EML）は正孔輸送領域（HCL）上に配置される。一実施形態に係る発光層（EML）は、有機物質を含む有機層として定義される。
【０１６８】
発光層（EML）は、画素区画層（PXL）内に区画形成された開口部（OB）に重なり合う。例えば、発光層（EML）は、開口部（OB）のそれぞれに重畳する複数のパターンを含む。発光層（EML）は、蛍光物質、燐光物質、または量子ドットを含む。発光層（EML）は、一つの色を有する光を生成したり、少なくとも複数の色が混合された光を生成したりする。本発明に係る発光領域は、発光層（EML）と平面上で重畳する。
【０１６９】
電子輸送領域（ECL）は、発光層（EML）上に配置されて発光層（EML）と正孔輸送領域（HCL）をカバーする。電子輸送領域（ECL）は、電子輸送物質と電子注入物質の少なくともいずれか一つを含む。電子輸送領域（ECL）は、電子輸送物質を含む電子輸送層であるか、又は電子輸送物質と電子注入物質を含む電子注入/輸送単一層でである。
【０１７０】
カソード電極（CE）は、電子輸送領域（ECL）上に配置されてアノード電極（AE）と対向する。カソード電極（CE）は、電子注入を容易にするように、低い仕事関数を有する物質で構成される。
【０１７１】
封止層（TFE）はカソード電極（CE）上に配置される。封止層（TFE）はカソード電極（CE）の前面をカバーして、有機発光素子（OLD）をシール（seal）する。封止層（TFE）は、水分と汚染物質から有機発光素子（OLD）を保護する。封止層（TFE）は蒸着によって形成された層であり得る。
【０１７２】
封止層（TFE）は無機層および/または有機層を含む。無機層は、例えば、酸化アルミニウム（AlOx）、酸化シリコン（SiOx）、窒化シリコン（SiNx）、シリ酸化窒化シリコン（SiOxNy）、炭化ケイ素（SiCx）、酸化チタン（TiOx）、酸化ジルコニウム（ZrOx）、及び酸化亜鉛（ZnOx）のうちの少なくともいずれか一つを含む。
【０１７３】
有機層は、例えば、エポキシ（epoxy）、ポリイミド（PI）、ポリエチレンテレフタレート（PET）、ポリカーボネート（PC）、ポリエチレン（polyethylene：PE）、およびポリアクリレート（polyacrylate）のうちの少なくともいずれか一つを含む。一実施形態に係る無機層は複数で提供され、無機層は有機層を挟んで配置されて有機層をカバーする。
【０１７４】
一実施形態に係る色制御部材（CCP-2）は、第2ベース基板(BS2）上に配置される。色制御部材（CCP-2）は、遮光部（BM）、光フィルタ層（FP1、FP2）、バリア層（BRL）、及びダム(dam)部（DM）を含む。
【０１７５】
色制御部材（CCP-2）は、第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）を含む可能性がある。第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）、光フィルタ層（FP1、FP2）、および遮光部（BM）に対しては、図5〜図7を参照して、説明した光学部材（OPM-1）に含まれた第1および第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）、光フィルタ層（FP1、FP2）、及び遮光部（BM）についての説明が同様に適用される。
【０１７６】
一実施形態に係る第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）は、対応する発光層（EML）と重なって配置される。これにより、色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）のそれぞれは、発光層（EML）と重畳する発光領域と重畳するように配置される。
【０１７７】
ダム部（DM）は、遮光部（BM）に重畳して配置される。ダム部（DM）は、第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）のそれぞれの間に配置されるうる。ダム部（DM）は、発光層（EML）と重畳する発光領域と重畳しないように配置される。これにより、第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）のそれぞれは、ダム部（DM）によって区画されて発光領域と重畳する。ダム部（DM）は、高分子樹脂で形成されうる。たとえば、ダム部（DM）は、アクリル系樹脂、イミド系樹脂等により形成されたものであり得る。
【０１７８】
光フィルタ層（FP1、FP2）は、第1及び第2の色制御部（CCL1、CCL2）上に配置されて、第1光は遮断され、第2光または第3光は透過される可能性がある。つまり、光フィルタ層（FP1、FP2）は、青色光を遮断し、緑色光及び赤色光を透過させる可能性がある。ただし、これに限定されるものではなく、第3色制御（CCL3）上に配置される光フィルタ層（図示）を含む。光フィルタ層（FP3）は、青色光のみを透過させる可能性がある。
【０１７９】
一実施形態に係るバリア層（BRL）は、第1無機層（SBL1）及び第2無機層（SBL2）を含む。第1無機層（SBL1）は、第2ベース基板(BS2）上に配置される。第1無機層（SBL1-2）は、遮光部（BM）、光フィルタ層（FP1、FP2）、およびダム部（DM）をカバーする。第1無機層（SBL1）は、第2ベース基板(BS2）のうち遮光部（BM）および光フィルタ層（FP1、FP2）によって露出された第2ベース基板(BS2）の一部をカバーする。
【０１８０】
第2無機層（SBL2）は、色制御部材（CCP-2）上に配置される。第2無機層（SBL2）は、第1無機層（SBL1）とともに第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）を封止する。一実施形態によれば、ダム部（DM）と重なる箇所にて、第1無機層（SBL1）と第2無機層（SBL2）とは互いに接触される。
【０１８１】
これにより、第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）のそれぞれは、第1無機層（SBL1）及び第2無機層（SBL2）によって個別に封止される。これにより、一実施形態のディスプレイモジュール（DD-2）は、色制御部材（CCP-2）に流入される水分および/または酸素の浸透を効果的に遮断できる。
【０１８２】
一実施形態に係るバリア層（BRL）は、図3〜4bで説明したバリア層（BRL）と同じ物質を含む。例えば、ここでのバリア層（BRL）は、窒化シリコン（SiNX）および/または酸化シリコン（SiOX）を含む。なお、ここでのバリア層（BRL）は、単層で構成されることができ、第1無機層（SBL1）及び第2無機層（SBL2）のそれぞれは、複数層の積層からなることができ、いずれか一つの実形態に限定されない。
【０１８３】
第2無機層（SBL2）上には、低屈折層（LRL）が配置される。低屈折層（LRL）は、色制御部材（CCP-2）の下側に配置されて、色制御部材（CCP-2）から放出された光を再び反射させて第2ベース基板(BS2）に向かう方向に進むようにする光抽出機能を有し得る。
【０１８４】
低屈折層（LRL）上には、平坦化層（OC）が配置される。平坦化層（OC）は、第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）をカバーする低屈折層（LRL）の凹凸をカバーするように配置される。平坦化層（OC）は、低屈折層（LRL）が有する凹凸をカバーして平坦面を提供する。平坦化層（OC）は、有機物を含むのでありうる。
【０１８５】
図示されていないが、光学部材（OPM-2）は、第2無機層（SBL2-2）上に配置される反射層をさらに含みうる。この反射層は、図9bに図示された反射層（RP）と同じ機能を遂行しうる。
【０１８６】
図12a及び図12bは、本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置を示している断面図である。図1〜図4bと同一の構成については同一の参照符号を使用し、重複された説明は省略する。
【０１８７】
図12aを参照すると、図8の第1無機層（SBL1-1）が省略されうる。これに伴い、第2無機層（SBL2）は、色制御部材（CCP-2）上に配置される。
【０１８８】
第2無機層（SBL2）は、遮光部（BM）、ダム部（DM）、および光フィルタ層（FP1、FP2）とともに第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）を封止する。例えば、第2無機層（SBL2）のうち、ダム部（DM）と重畳する第2無機層（SBL2）の一部は、ダム部（DM）と接触する。これにより、第1〜第3色制御部（CCL1、CCL2、CCL3）のそれぞれは、第2無機層（SBL2）によって個別に封止される。
【０１８９】
図12bを参照すると、図11の発光層（EML）とは異なり、一実施形態に係る発光層（EML-1）は、共通の層として配置される。例えば、発光層（EML-1）は、正孔輸送領域（HCL）の全上面をカバーするように配置される。一実施形態に係る発光層（EML-1）は、有機物質を含む有機層であるとして定義される。
【０１９０】
本発明によると、ディスプレイ部（DPP-2）から光学部材（OPM-2）に提供される光は、青色光でありうる。これに伴い、それぞれの画素（PX）から生成された光は、同じ色の光を有する。そして、この場合、発光層（EML-1）は、別途のパターニング工程なしに正孔輸送領域（HCL）上に形成された共通の層として配置されうる。
【０１９１】
図10〜図12bを参照して説明した実施形態によると、色制御部材（CCP-2）を封止するバリア層（BRL）を含むことにより、バリア層（BRL）が無機層（例えば、低屈折層（LRL）または反射層（RP））と接触するときに生じうる剥離の発生の問題を改善できる。
【０１９２】
以上では、本発明の好適な実施形態を参照して説明したが、当該技術分野の熟練された当業者または当該技術分野における通常の知識を有する者であれば、後述される特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び技術領域から逸脱しない範囲内で、本発明を多様に修正・変更させうることが理解できるだろう。
【０１９３】
したがって、本発明の技術的範囲は、明細書の詳細な説明に記載された内容に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって定められるべきである。
【０１９４】
好ましい一実施形態によると、本件の背景及び課題は下記(i)〜(vii)のとおりである。
【０１９５】
(i) 液晶表示装置(LCD)または有機発光表示装置（OLED）において、青色光または紫外光を、各原色（例えばR,G,B）に変換するた量子ドット（quantum dot;QD1、QD2）をベース樹脂(BR)などの中に分散させた波長変換層（色制御部材CCP）が用いられるようになって来ている。
【０１９６】
(ii) 量子ドット（quantum dot;変換体QD1、QD2）は、水分や酸素の影響で劣化する場合が多いため、波長変換層（色制御部材CCP）を、無機材料を含むバリア層(BRL)により、封止する必要がある。
【０１９７】
(iii) 光の利用効率を向上させるためには、波長変換層（色制御部材CCP）の裏側（光の入射側）に、低屈折層（LRL）を積層させるべきである。
ここで、低屈折層（LRL）は、その裏側に積層または配置される、透明層または透明シート（導光拡散層、平坦化層、「反射層（RP）」など）よりも、屈折率が低い透明絶縁層である。
【０１９８】
(iv) 低屈折層（LRL）は、封止性能などの観点から、無機材料からなるものが好ましい。例えば、フッ化マグネシウム（屈折率1.38）、フッ化リチウム（屈折率1.39）、フッ化カルシウム（屈折率1.40）、及びこれらの組み合わせといった、一般的なガラス（屈折率が1.5〜1.6）よりも低いものを用いることができる。
【０１９９】
(v) 波長変換層（色制御部材CCP）を封止するバリア層(BRL)には、液晶表示装置(LCD)または有機発光表示装置（OLED）にて無機絶縁層に用いられている材料、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコンなどを用いることができる。
【０２００】
(vi) ところが、無機材料からなるバリア層(BRL)と、無機材料からなる低屈折層（LRL）との間の界面に、空気中の酸素が浸透し、酸化などが生じるおそれがある。このように酸化が生じた場合、バリア層(BRL)と、低屈折層（LRL）との界面で剥離が生じるおそれがある。
【０２０１】
(vii) 例えば、バリア層(BRL)と、低屈折層（LRL）との間に、別途の接合層を設けるならば、性膜工程が追加され、製造コストが増大するか、製造効率か低下しうる。
【０２０２】
そこで、従来から一般的に用いられている材料種を用いつつ、上記課題を解決できないかについて、鋭意検討し、実験を繰り返した。
【０２０３】
その結果、好ましい一実施形態によると、下記Ａ１〜Ａ５またはＡ１〜Ａ７とすべきことが知られた。酸素や水分の浸透を防止する緻密性を維持するとともに、熱応力などを緩和することのできる力学的性能を最適化することで、良好な剥離防止の性能が得られたものと考えられる。
【０２０４】
Ａ１  バリア層(BRL)は、窒化シリコン（SiNX）の層であるか、または、窒化シリコン（SiNX）の層と、酸化シリコン（SiOX）の層との積層膜である。
【０２０５】
Ａ２  窒化シリコン（SiNX）の層の密度は、1.50g/cm3〜3.0g/cm3、好ましくは1.80g/cm3〜2.7g/cm3、より好ましくは2.0g/cm3〜2.5g/cm3である。
なお、典型的には、Si3N4の密度は3.1g/cm3であり、SiO2の密度は2.2g/cm3である。
【０２０６】
Ａ３  波長変換層（色制御部材CCP）をバリア層(BRL)で包み込み、低屈折層（LRL）などと積層させる工程、及びこの後のアニーリング工程を含む製造方法によって製造された表示装置中にて、バリア層(BRL)の残留応力は、-300MPa〜500MPaの範囲内、例えば、-200MPa〜400MPaまたは-150MPa〜300MPaである。
【０２０７】
Ａ４  窒化シリコン（SiNX）の層の厚みは、0.1μm以上、例えば、0.1〜0.5μmまたは0.1〜0.3μm、特には、0.2〜0.3μmである。
【０２０８】
Ａ５  バリア層(BRL)は、波長変換層（色制御部材CCP）に直接接触する窒化シリコン（SiNX）の層と、この外側の酸化シリコン（SiOX）の層との積層膜とするのが好ましい。
【０２０９】
Ａ６  この酸化シリコン（SiOX）の層の密度は、上記Ａ２の窒化シリコン（SiNX）の層の密度と同様か、これより少し低い。例えば、1.50g/cm3〜2.1g/cm3または1.80g/cm3〜2.0g/cm3とすることができる。
また、酸化シリコン（SiOX）の層の厚みは、0.3μm以上、例えば、0.3〜0.8μmまたは0.3〜0.6μm、特には、0.4〜0.6μmである。
【０２１０】
Ａ７  窒化シリコン（SiNX）の層におけるシリコン（Si）の含有量に対する窒素（N）の含有量の比は、0.70〜1.50、例えば、0.80〜1.30または0.90〜1.20とすることができる。
【０２１１】
なお、下記Ｂ１〜Ｂ５のいずれかとすることができる。
【０２１２】
Ｂ１  窒化シリコン（SiNX）及び酸化シリコン（SiOX）の層の密度は、X線反射率法(XRR; X-Ray Reflectometry)により、次の条件で適宜測定することができる（東芝ナノアナリシス株式会社）。
・X線源  Cu 45kV-200mA
・光学系
多層膜ミラー
4結晶モノクロメータ
アナライザー結晶
・検出器
0次元(ポイント型)検出器
1次元検出器
【０２１３】
Ｂ２  製品中のバリア層(BRL)の残留応力は、下記のような、薄膜熱応力評価装置（thin film thermal stress evaluation system）を用いて行なうことができる（豊田中央研究所Ｒ＆ＤレビューVol.34 No.1 (1999.3)）。
・レーザによる基板上の薄膜についての曲げ測定
・応力範囲：±１〜１０００MPa
・温度：２０℃
・基板：５０ｍｍ×５ｍｍ
【０２１４】
Ｂ３  上記の低屈折層（LRL）に代えて、反射層（RP）がバリア層(BRL)に直接接するように積層されるのであっても良い。
ここでの反射層（RP）は、特定の波長範囲の光を透過させ、他の光を反射させるというようなものである。特には、酸化チタン（TiOx）、酸化タンタル（TaOx）、酸化ハフニウム（HfOx）及び酸化ジルコニウム（ZrOx）から選択される高屈折率の絶縁層と、酸化シリコン（SiOx）及び窒化シリコン（SiNx）から選択される比較的低い屈折率を有する絶縁層との積層膜であるか、または、窒化シリコン（SiNx）及び酸化シリコン（SiOx）交互に繰り返し蒸着されて形成されたものである。
【０２１５】
Ｂ４  低屈折層（LRL）は、場合によっては、有機樹脂材料からなるものであっても良い。
【０２１６】
例えば、ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート（屈折率1.375）やヘキサフルオロブチルアクリレート（屈折率1.377）といった、フルオロアルキル（メタ）アクリレート、または、アクリレート系樹脂中に、多孔性のシリカ粒子を分散させたものなどを用いることもできる。
【０２１７】
Ｂ５  波長変換層（色制御部材CCP）は、画素ごとに設けられパターンとして、有機発光表示装置（OLED）または液晶表示装置(LCD)の表示パネルにおける出射側のベース基板に設けることができる。
または、液晶表示装置(LCD)の表示パネルにおける入射側のベース基板に配置することができる。
【符号の説明】
【０２１８】
DS：ディスプレイ装置          DD：ディスプレイモジュール
DP：ディスプレイパネル        DPP：ディスプレイ部
OPM：光学部材                 LP：バックライト部材
BRL：バリア層                 SBL1：第1無機層
SBL2：第2無機層               CCP：色制御部材
【図１】
2020071481.tif 000003
【図２】
2020071481.tif 000004
【図３】
2020071481.tif 000005
【図４ａ】
2020071481.tif 000006
【図４ｂ】
2020071481.tif 000007
【図５】
2020071481.tif 000008
【図６】
2020071481.tif 000009
【図７】
2020071481.tif 000010
【図８】
2020071481.tif 000011
【図９ａ】
2020071481.tif 000012
【図９ｂ】
2020071481.tif 000013
【図１０】
2020071481.tif 000014
【図１１】
2020071481.tif 000015
【図１２ａ】
2020071481.tif 000016
【図１２ｂ】
2020071481.tif 000017