(57)【要約】      （修正有）【課題】ＵＶ等の特定の光に対する分解性が高く、光分解による重量平均分子量低減効果が大きい重合体を提供すること。【解決手段】重合体の主鎖にニトロフェニレン構造を持つジオールと長鎖脂肪族ジオールとからなる単位を一つ以上含むポリエステルからなる重合体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）で表される構造からなる群より選ばれる構成単位を１つ以上有する重合体。
【化１Ａ】
2020056010.tif 000031
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ニトリル基、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基又はハロゲン原子を表し、
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−又は−Ｓ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｘ１は単結合又はメチレン基を表し、
Ｙ１は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、を表し、ｎは１〜１２の整数を表し、
Ｙ１で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｙ１で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１９−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ１９は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（Iα）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１及びＹ１は同一でもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【化１Ｂ】
2020056010.tif 000032
（式中、Ｒ５は、水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子、ニトリル基、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基又はハロゲン原子を表し、
Ｒ６、Ｒ７及びＲ８で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｒ６、Ｒ７及びＲ８で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−又は−Ｓ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｘ２は単結合又はメチレン基を表し、
Ｙ２は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、を表し、ｎは１〜１２の整数を表し、
Ｙ２で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｙ２で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１９−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ１９は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（Iβ）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｘ２及びＹ２は同一であってもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【化１Ｃ】
2020056010.tif 000033
（式中、Ｒ９は、水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ニトリル基、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基又はハロゲン原子を表し、
Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−又は−Ｓ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｘ３は単結合又はメチレン基を表し、
Ｙ３は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、を表し、ｎは１〜１２の整数を表し、
Ｙ３で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｙ３で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１９−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ１９は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（Iγ）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＲ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｘ３及びＹ３は同一であってもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【化１Ｄ】
2020056010.tif 000034
（式中、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立に、水素原子、ニトリル基、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基又はハロゲン原子を表し、
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−又は−Ｓ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｙ４は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、を表し、ｎは１〜１２の整数を表し、
Ｙ４はで表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｙ４で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１９−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ１９は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（Iδ）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＲ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＹ４は同一であってもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【請求項２】
重合体の主鎖に上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）又は（Iδ）で表される構成単位を有する、請求項１に記載の重合体。
【請求項３】
上記一般式（Iα）のＹ１、（Iβ）のＹ２又は（Iγ）のＹ３が、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−であり、ｎが１〜１２の整数である、請求項１又は２に記載の重合体。
【請求項４】
上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）で表される構造からなる群より選ばれる構成単位を１つ以上、並びに下記一般式（IIα）、（IIβ）、（IIγ）及び（IIδ）で表される構造からなる群より選ばれる構成単位を１つ以上有する、請求項１〜３の何れか１項に記載の重合体。
【化２Ａ】
2020056010.tif 000035
（式中、Ｚ１は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基又は複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基を表し、
Ｚ１で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｚ１で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ２１−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ２１は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（IIα）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＺ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【化２Ｂ】
2020056010.tif 000036
（式中、Ｚ２は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基を表し、
Ｚ２で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｚ２で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ２１−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ２１は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（IIβ）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＺ２は同一であってもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【化２Ｃ】
2020056010.tif 000037
（式中、Ｚ３は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基を表し、
Ｚ３で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｚ３で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ２１−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ２１は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（IIγ）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＺ３は同一であってもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【化２Ｄ】
2020056010.tif 000038
（式中、Ｚ４はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基を表し、
Ｚ４で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｚ４で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ２１−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ２１は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（IIδ）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＺ４は、同一である場合も異なる場合もあり、
＊は結合手を表す。）
【請求項５】
上記一般式（Iα）で表される構成単位と、上記一般式（IIα）で表される構成単位とを有する請求項４に記載の重合体。
【請求項６】
上記一般式（Iα）におけるＲ２、Ｒ３及びＲ４が水素原子を表し、
上記一般式（IIα）におけるＺ１が炭素原子数２〜１２のアルキレン基、炭素原子数６〜１０のアリーレン基又は芳香族複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基である請求項５に記載の重合体。
【請求項７】
上記一般式（Iβ）で表される構成単位と、上記一般式（IIα）で表される構成単位とを有する請求項４に記載の重合体。
【請求項８】
上記一般式（Iβ）におけるＲ７が炭素原子数１〜３０のアルコキシ基を表し、
上記一般式（IIα）におけるＺ１が炭素原子数２〜１２のアルキレン基又は炭素原子数６〜１０のアリーレン基を表す、請求項７に記載の重合体。
【請求項９】
上記一般式（Iδ）で表される構成単位と、上記一般式（IIα）で表される構成単位とを有する請求項４に記載の重合体。
【請求項１０】
上記一般式（Iδ）におけるＲ１３及びＲ１５〜Ｒ１８が水素原子を表し、
上記一般式（IIα）におけるＺ１が炭素原子数２〜１２のアルキレン基、炭素原子数６〜１０のアリーレン基又は芳香族複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基である、請求項９に記載の重合体。
【請求項１１】
上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）で表される構成単位合計の割合が、重合体に対して１０質量％以上である、請求項１〜１０の何れか１項に記載の重合体。
【請求項１２】
重量平均分子量が１，０００〜５００，０００である、請求項１〜１１の何れか１項に記載の重合体。
【請求項１３】
請求項１〜１２の何れか１項に記載の重合体を含有する光分解樹脂。
【請求項１４】
請求項１３に記載の光分解樹脂を含有する組成物。
【請求項１５】
請求項１４に記載の組成物を含有する光易解体性接着剤。
【請求項１６】
請求項１４に記載の組成物を含有するパターン形成剤。
【請求項１７】
請求項１４に記載の組成物及び活性種を含有する光潜在性触媒。
【請求項１８】
請求項１３に記載の光分解樹脂に活性エネルギー線を照射する工程を有する光分解樹脂の分解方法。
【請求項１９】
請求項１３に記載の光分解樹脂に発光ダイオード光を照射する工程を有する光分解樹脂の分解方法。
【請求項２０】
請求項１４に記載の組成物に発光ダイオード光を照射する工程を有する組成物の分解方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の波長の光に対して分解性を示す繰り返し単位を有する重合体に関するものである。該重合体を含有する組成物は、特定の波長の光に対し分解性を有し、光照射前後で重合体の性状が変化するために、光易解体性接着剤、パターン形成剤又は光潜在性触媒として活用できる。
【背景技術】
【０００２】
近年、環境低負荷、コスト低減のために光易解体性接着剤や、微細なパターンを形成できるパターン形成剤及び保存安定性に優れる光潜在性触媒に対するニーズが高まっている。
【０００３】
特許文献１には、ｏ−ニトロベンジル基を有する光分解性高分子化合物の製造方法が開示されている。特許文献２には、ｏ−ニトロベンジル基を有する光分解性カップリング剤を用いて対象物の被処理面を化学修飾する工程を有するパターン形成方法が開示されている。特許文献３には、クマリン基を有する光分解性カップリング剤を用いて対象物の被処理面を化学修飾する工程を有するパターン形成方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１３１７１０号公報
【特許文献２】特開２０１７−１２０３４２号公報
【特許文献３】特開２０１７−１６０２５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、既存の技術は、光分解の感度が低かったり、光分解による分子量低減効果が小さいという問題があった。
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、上記の問題を解決できる重合体、光分解樹脂、組成物、光易解体性接着剤、パターン形成剤及び光潜在性触媒を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を下記結するために鋭意検討を行い、下記〔１〕〜〔２０〕を提供することにより、上記課題の解決を達成した。
【０００８】
[１]  下記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）で表される構造からなる群より選ばれる構成単位を１つ以上有する重合体。
【０００９】
【化１Ａ】
2020056010.tif 000002
【００１０】
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ニトリル基、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基又はハロゲン原子を表し、
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−又は−Ｓ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｘ１は単結合又はメチレン基を表し、
Ｙ１は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、を表し、ｎは１〜１２の整数を表し、
Ｙ１で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｙ１で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１９−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ１９は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（Iα）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１及びＹ１は同一でもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【００１１】
【化１Ｂ】
2020056010.tif 000003
（式中、Ｒ５は、水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子、ニトリル基、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基又はハロゲン原子を表し、
Ｒ６、Ｒ７及びＲ８で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｒ６、Ｒ７及びＲ８で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−又は−Ｓ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｘ２は単結合又はメチレン基を表し、
Ｙ２は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、を表し、ｎは１〜１２の整数を表し、
Ｙ２で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｙ２で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１９−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ１９は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（Iβ）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｘ２及びＹ２は同一であってもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【００１２】
【化１Ｃ】
2020056010.tif 000004
【００１３】
（式中、Ｒ９は、水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ニトリル基、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基又はハロゲン原子を表し、
Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−又は−Ｓ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｘ３は単結合又はメチレン基を表し、
Ｙ３は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、を表し、ｎは１〜１２の整数を表し、
Ｙ３で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｙ３で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１９−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ１９は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（Iγ）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＲ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｘ３及びＹ３は同一であってもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【００１４】
【化１Ｄ】
2020056010.tif 000005
【００１５】
（式中、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立に、水素原子、ニトリル基、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基又はハロゲン原子を表し、
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−又は−Ｓ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｙ４は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、を表し、ｎは１〜１２の整数を表し、
Ｙ４はで表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｙ４で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１９−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ１９は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（Iδ）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＲ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＹ４は同一であってもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【００１６】
[２]  重合体の主鎖に上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）又は（Iδ）で表される構成単位を有する、[１]に記載の重合体は、光分解により、効率よく重合体の分子量が低下することから好ましい。
【００１７】
[３]  上記一般式（Iα）のＹ１、（Iβ）のＹ２又は（Iγ）のＹ３が、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−であり、ｎが１〜１２の整数である、[１]又は[２]に記載の重合体は、化合物の安定性が高く、特定の光による光分解性に優れることから好ましい。
【００１８】
[４]  上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）で表される構成単位からなる群より選ばれる構成単位を１つ以上、並びに下記一般式（IIα）、（IIβ）、（IIγ）及び（IIδ）で表される構造からなる群より選ばれる構成単位を１つ以上有する[１]〜[３]の何れか１項に記載の重合体は、常温、可視光域下で保存安定性に優れることから好ましい。
【００１９】
【化２Ａ】
2020056010.tif 000006
【００２０】
（式中、Ｚ１は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基又は複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基を表し、
Ｚ１で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｚ１で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ２１−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ２１は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（IIα）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＺ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【００２１】
【化２Ｂ】
2020056010.tif 000007
【００２２】
（式中、Ｚ２は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基を表し、
Ｚ２で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｚ２で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ２１−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ２１は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（IIβ）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＺ２は同一であってもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【００２３】
【化２Ｃ】
2020056010.tif 000008
【００２４】
（式中、Ｚ３は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基を表し、
Ｚ３で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｚ３で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ２１−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ２１は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（IIγ）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＺ３は同一であってもよく、異なっていてもよく、
＊は結合手を表す。）
【００２５】
【化２Ｄ】
2020056010.tif 000009
【００２６】
（式中、Ｚ４はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基を表し、
Ｚ４で表される基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基又はカルボキシル基で置換される場合があり、
Ｚ４で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ２１−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合があり、
Ｒ２１は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
重合体が（IIδ）で表される構成単位を複数含む場合、複数存在するＺ４は、同一である場合も異なる場合もあり、
＊は結合手を表す。）
【００２７】
[５]  上記一般式（Iα）で表される構成単位と、上記一般式（IIα）で表される構成単位とを有する[４]に記載の重合体。
【００２８】
[６]  上記一般式（Iα）におけるＲ２、Ｒ３及びＲ４が水素原子を表し、
上記一般式（IIα）におけるＺ１が炭素原子数２〜１２のアルキレン基、炭素原子数６〜１０のアリーレン基又は芳香族複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基を表す、[５]に記載の重合体。
【００２９】
[７]  上記一般式（Iβ）で表される構成単位と、上記一般式（IIα）で表される構成単位とを有する[４]に記載の重合体。
【００３０】
[８]  上記一般式（Iβ）におけるＲ７が炭素原子数１〜３０のアルコキシ基を表し、
上記一般式（IIα）におけるＺ１が炭素原子数２〜１２のアルキレン基又は炭素原子数６〜１０のアリーレン基を表す、[７]請求項７に記載の重合体。
【００３１】
[９]  上記一般式（Iδ）で表される構成単位と、上記一般式（IIα）で表される構成単位とを有する[４]に記載の重合体。
【００３２】
[１０]  上記一般式（Iδ）におけるＲ１３及びＲ１５〜Ｒ１８が水素原子を表し、
上記一般式（IIα）におけるＺ１が炭素原子数２〜１２のアルキレン基、炭素原子数６〜１０のアリーレン基又は芳香族複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基を表す、[９]に記載の重合体。
【００３３】
[１１]  上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）で表される構成単位合計の割合が、重合体に対して１０質量％以上である[１]〜[１０]の何れか１項に記載の重合体は、光分解により、効率よく重合体の分子量が低下することから好ましく、２０質量％以上である場合は、より好ましく、特に３０〜６０質量％である場合、溶媒溶解性、融点、力学的強度などの物性と光分解性のバランスがよいことから好ましい。
【００３４】
[１２]  重量平均分子量が１，０００〜５００，０００である[１]〜[１１]の何れか１項に記載の重合体は、光分解前後で溶媒溶解性、融点、力学的強度などの性状が大きく変化することから好ましく、作業性の点から、５,０００〜１００,０００のものが特に好ましい。
【００３５】
[１３]  [１]〜[１２]の何れか１項に記載の重合体を含有する光分解樹脂。
【００３６】
[１４]  [１３]に記載の光分解樹脂を含有する組成物。
【００３７】
[１５]  [１４]に記載の組成物を含有する光易解体性接着剤。
【００３８】
[１６]  [１４]に記載の組成物を含有するパターン形成剤。
【００３９】
[１７]  [１４]に記載の組成物及び活性種を含有する光潜在性触媒。
【００４０】
[１８]  [１４]に記載の光分解樹脂に活性エネルギー線を照射する工程を有する光分解樹脂の分解方法。
【００４１】
[１９]  [１３]に記載の光分解樹脂に発光ダイオード光を照射する工程を有する光分解樹脂の分解方法。
【００４２】
[２０]  [１４]に記載の組成物に発光ダイオード光を照射する工程を有する組成物の分解方法。
【発明の効果】
【００４３】
本発明によれば、ＵＶ等の特定の光に対する分解性が高く、光分解による重量平均分子量低減効果が大きい重合体を提供できる。本発明の化合物を用いれば、優れた光易解体性接着剤、パターン形成剤及び光潜在性触媒を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
以下、本発明について、その好ましい実施形態について詳細に説明する。
【００４５】
＜重合体＞
本発明の重合体は、上記（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）で表される構造からなる群より選ばれる構成単位を１つ以上有する。
【００４６】
上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）中のＲ２〜Ｒ４、Ｒ６〜Ｒ８、及びＲ１０〜Ｒ１９で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基、並びにＲ２〜Ｒ４、Ｒ６〜Ｒ８、Ｒ１０〜Ｒ１８及びＹ１〜Ｙ４で表される基の水素原子を置換する場合がある炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、特に限定されるものではないが、好ましくは炭素原子数１〜３０のアルキル基、炭素原子数２〜３０のアルケニル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数４〜３０のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基及び炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基等を表す。光分解性に優れることから、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、炭素原子数１〜１０のアルカンジイル基、炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基及び炭素原子数７〜１０のアリールアルキル基等が好ましい。
【００４７】
上記炭素原子数１〜３０のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル及びイコシル等の直鎖状のアルキル基、並びにイソプロピル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、イソアミル、ｔ−アミル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、イソノニル及びイソデシル等の分岐状のアルキル基が挙げられ、上記炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル及びデシル等の直鎖状のアルキル基、並びにイソプロピル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、イソアミル、ｔ−アミル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、イソノニル及びイソデシル等の分岐状のアルキル基が挙げられる。
【００４８】
上記炭素原子数２〜３０のアルケニル基は、鎖状であってもよく、環状であってもよい。該アルケニル基が鎖状である場合、末端に不飽和結合を有する末端アルケニル基であってもよく、内部に不飽和結合を有する内部アルケニル基であってもよい。炭素原子数が２〜３０である末端アルケニル基としては、例えば、ビニル、２−プロペニル、３−ブテニル、４−ペンテニル及び５−ヘキセニル等が挙げられる。内部アルケニル基としては、例えば、２−ブテニル、３−ペンテニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、２−ヘプテニル、３−ヘプテニル、４−ヘプテニル、３−オクテニル、３−ノネニル、４−デセニル、３−ウンデセニル及び４−ドデセニル等が挙げられる。環状アルケニル基としては、３−シクロヘキセニル、２，５−シクロヘキサジエニル−１−メチル及び４，８，１２−テトラデカトリエニルアリル等が挙げられる。上記炭素原子数２〜１０のアルケニル基としては、例えば、ビニル、２−プロペニル、３−ブテニル、２−ブテニル、４−ペンテニル、３−ペンテニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、５−ヘキセニル、２−ヘプテニル、３−ヘプテニル、４−ヘプテニル、３−オクテニル、３−ノネニル及び４−デセニル等が挙げられる。
【００４９】
上記炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基とは、３〜３０の炭素原子を有する、飽和単環式又は飽和多環式アルキル基を意味する。飽和単環式アルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル及びシクロデシル等が挙げられる。飽和多環式アルキル基としては、例えば、アダマンチル、デカハイドロナフチル、オクタヒドロペンタレン、ビシクロ［１．１．１］ペンタニル及びテトラデカヒドロアントラセニル等が挙げられる。上記炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、アダマンチル、デカハイドロナフチル、オクタヒドロペンタレン及びビシクロ［１．１．１］ペンタニル等が挙げられる。
【００５０】
上記炭素原子数４〜３０のシクロアルキルアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、シクロアルキル基で置換された４〜３０の炭素原子を有する基を意味する。該シクロアルキルアルキル基中のシクロアルキル基は単環であってもよく、多環であってもよい。シクロアルキル基が単環である炭素原子数４〜３０のシクロアルキルアルキル基としては、例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチルメチル、シクロオクチルメチル、シクロノニルメチル及びシクロデシルメチル等のシクロアルキルメチル；、２−シクロブチルエチル、２−シクロペンチルエチル、２−シクロヘキシルエチル、２−シクロヘプチルエチル、２−シクロオクチルエチル、２−シクロノニルエチル及び２−シクロデシルエチル等のシクロアルキルエチル；３−シクロブチルプロピル、３−シクロペンチルプロピル、３−シクロヘキシルプロピル、３−シクロヘプチルプロピル、３−シクロオクチルプロピル、３−シクロノニルプロピル及び３−シクロデシルプロピル等のシクロアルキルプロピル；並びに４−シクロブチルブチル、４−シクロペンチルブチル、４−シクロヘキシルブチル、４−シクロヘプチルブチル、４−シクロオクチルブチル、４−シクロノニルブチル及び４−シクロデシルブチル等のシクロアルキルブチル、等が挙げられる。シクロアルキル基が多環である炭素原子数４〜２０のシクロアルキルアルキル基としては、３−３−アダマンチルプロピル及びデカハイドロナフチルプロピル等が挙げられる。上記炭素原子数４〜１０のシクロアルキルアルキル基としては、例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチルメチル、シクロオクチルメチル、シクロノニルメチル、２−シクロブチルエチル、２−シクロペンチルエチル、２−シクロヘキシルエチル、２−シクロヘプチルエチル、２−シクロオクチルエチル、３−シクロブチルプロピル、３−シクロペンチルプロピル、３−シクロヘキシルプロピル、３−シクロヘプチルプロピル、４−シクロブチルブチル、４−シクロペンチルブチル及び４−シクロヘキシルブチル等が挙げられる。
【００５１】
上記炭素原子数６〜３０のアリール基は、単環構造を有するものであってもよく、縮環構造を有するものであってもよい。更に、上記アリール基は、単環構造のアリール基と単環構造のアリール基とを連結したものであってもよく、単環構造のアリール基と縮合構造のアリール基とを連結したものであってもよく、或いは縮合構造のアリール基と縮合構造のアリール基とを連結したものであってもよい。単環構造を有するアリール基としては、例えば、フェニル、及びビフェニリル等が挙げられる。縮環構造を有するアリール基としては、例えば、ナフチル、アンスリル及びフェナントレニル等が挙げられる。炭素原子数６〜３０のアリール基の１又は２以上水素原子が置換基によって置換される場合がある。該置換基としては、上記アルキル基、上記アルケニル基、カルボキシル基及びハロゲン原子等が挙げられる。置換基を有する炭素原子数６〜３０のアリール基としては、例えば、トリル、キシリル、エチルフェニル、４−クロロフェニル、４−カルボキシルフェニル、４−ビニルフェニル、４−メチルフェニル、２，４，６−トリメチルフェニル等の単環構造の置換アリール基が挙げられる。上記炭素原子数６〜１０のアリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、エチルフェニル及びナフチル等や、上記アルキル基、上記アルケニル基やカルボキシル基、ハロゲン原子等で１つ以上置換されたフェニル、ビフェニリル、ナフチル、アンスリル等、例えば、４−クロロフェニル、４−カルボキシルフェニル、４−ビニルフェニル、４−メチルフェニル、２，４，６−トリメチルフェニル等が挙げられる。
【００５２】
上記炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基とは、上記アルキル基の水素原子が、上記アリール基で置換された７〜３０の炭素原子を有する基を意味する。例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、α、α−ジメチルベンジル、フェニルエチル及びナフチルプロピル等が挙げられ、上記炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、アリール基で置換された７〜３０の炭素原子を有する基を意味する。例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、α、α−ジメチルベンジル及びフェニルエチル等が挙げられる。
【００５３】
上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）中のＹ１〜Ｙ４で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基としては、Ｒ２等で例示した炭素原子数１〜３０の炭化水素基から水素原子１つを取り除いた２価の基が挙げられる。
【００５４】
上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）中のＲ２〜Ｒ４、及びＲ６〜Ｒ８、Ｒ１０〜Ｒ１８で表される複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基、並びにＲ２〜Ｒ４、Ｒ６〜Ｒ８、Ｒ１０〜Ｒ１８及びＹ１〜Ｙ４で表される基の水素原子を置換する場合のある複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基は、特に限定されるものではないが、芳香族であってもよく、脂肪族であってもよい。また、該複素環は単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、該複素環基の１又は２以上水素原子は炭素原子数１〜６のアルキル基で置換されていてもよい。
芳香族複素環基としては、例えば、ピロリル、ピリジル、ピリジルエチル、ピリミジル、ピリダジル、ピラゾリル、トリアジル、トリアジルメチル、イミダゾリル及びトリアゾリル等の環中に窒素と炭素とを含む単環の芳香族複素環基；チエニル及びチオフェニル等の環中に硫黄と炭素とを含む単環の芳香族複素環基；ピラニル、フリル、フラニル及びイソチアゾリル等の環中に窒素と炭素とを含む単環の芳香族複素環基；チアジアゾリル及びチアゾリル等の窒素と硫黄と炭素とを含む単環の芳香族複素環基；オキサゾリル及びイソオキサゾリル等の窒素と酸素と炭素とを含む単環の芳香族複素環基；キノリル、イソキノリル、ベンゾイミダゾリル及びインドリル等の環中に窒素と炭素とを含む縮合環の芳香族複素環基；ベンゾフラニル等の環中に窒素と酸素とを含む縮合環の芳香族複素環基；ベンゾチオフェニル等の環中に硫黄と炭素とを含む縮合環の芳香族複素環基；ベンゾチアゾリル等の環中に窒素と硫黄と炭素とを含む縮合環の芳香族複素環基；並びにベンゾオキサゾリル等の環中に窒素と硫黄と酸素とを含む縮合環の複素環基が挙げられる。
脂肪族複素環基としては、ピペラジル、ピペリジル、ピラニルエチル、ピロリジル、２−ピロリジノン−１−イル、２−ピペリドン−１−イル、２，４−ジオキシイミダゾリジン−３−イル及び２，４−ジオキシオキサゾリジン−３−イル等の環中に窒素と炭素とを含む単環の脂肪族複素環基；モルフォリニル等の環中に窒素と酸素と炭素とを含む単環の脂肪族複素環基；チオモルフォリニル等の環中に窒素と硫黄と炭素とを含む単環の脂肪族複素環基；並びに、ユロリジル等の環中に窒素と炭素とを含む縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。置換基等を含めて具体的に記載すると下記の構造を有する基等が挙げられる。
【００５５】
【化３】
2020056010.tif 000010
（上記式中、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表し、
Ｚは直接結合又は炭素原子数１〜６のアルキレン基を表し、
＊は結合手を表す。）
【００５６】
上記炭素原子数１〜６のアルキル基としては、炭素原子数１〜３０のアルキル基として上記で例示したものの中の、炭素原子数１〜６のものが挙げられる。
【００５７】
上記炭素原子数１〜６のアルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン等が挙げられる。
【００５８】
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が、−Ｏ−又は−Ｓ−に、これらが隣り合わない条件で置換されている場合がある。例えば、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２が炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、この炭素原子数１〜３０の炭化水素基中の１つのメチレン基が−Ｏ−で置換されている場合、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基で表される基中のメチレン基が−Ｏ−で置換された基を表す。本発明においては、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１０、Ｒ１１又はＲ１２が、炭素原子数２〜３０のアルキル基中の１つのメチレン基が−Ｏ−で置換された基であることが好ましい。
【００５９】
上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）中のＹ１〜Ｙ４で表される複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基は、Ｒ２等で例示した複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基から水素原子１つを取り除いた２価の基が挙げられる。
【００６０】
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３及びＹ４で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１９−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合がある。例えば、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３及びＹ４が炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、この炭素原子数１〜３０の炭化水素基で表される基中の１つのメチレン基が−Ｏ−で置換されている場合、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３及びＹ４は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基で表される基中のメチレン基が−Ｏ−で置換された基を表す。
【００６１】
上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）中のＲ２〜Ｒ４、Ｒ６〜Ｒ８及びＲ１０〜Ｒ１８で表されるハロゲン原子並びにＲ２〜Ｒ４、Ｒ６〜Ｒ８、Ｒ１０〜Ｒ１８及びＹ１〜Ｙ４で表される基中の水素原子を置換する場合のあるハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素の何れかである。
【００６２】
本発明の重合体は、その主鎖に上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）又は（Iδ）で表される構成単位を有することが、光分解により、効率よく重合体の分子量が低下することから好ましい。本発明おいて重合体の主鎖とは、重合体における炭素原子数が最大となる幹に当たる部分を指す。
【００６３】
上記一般式（Iα）のＹ１、（Iβ）のＹ２又は（Iγ）のＹ３が、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−であり、ｎが１〜１２、特に３〜１０の整数である重合体は、化合物の安定性が高く、特定の光による光分解性に優れることから好ましい。
【００６４】
本発明において、上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）で表される構成単位からなる群より選ばれる構成単位を１つ以上、並びに下記一般式（IIα）、（IIβ）、（IIγ）及び（IIδ）で表される構造からなる群より選ばれる構成単位を１つ以上有する重合体は、常温、可視光域下で保存安定性に優れることから好ましい。
【００６５】
本発明の重合体は、上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）で表される構成単位合計の割合が該重合体に対し１０質量％以上であることが、光分解により、効率よく重合体の分子量が低下することから好ましく、２０質量％以上であることがより好ましく、３０〜６０質量％である場合、溶媒溶解性、融点、力学的強度などの物性と光分解性のバランスがよいことから特に好ましい。
【００６６】
本発明の重合体は、その重量平均分子量が１，０００〜５００，０００であると、光分解前後で溶媒溶解性、融点、力学的強度などの性状が大きく変化することから好ましく、作業性の点から、５,０００〜１００,０００であると特に好ましい。
【００６７】
本発明の重合体は、その多分散度［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］が１〜２．５であることが、光分解性をコントロールしやすいので好ましく、特に１〜２．０が好ましい。
【００６８】
重合体の数平均分子量及び重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、標準ポリスチレン換算値として求めることができる。
上記数平均分子量Ｍｎ及び重量平均分子量Ｍｗは、例えば、日本分光（株）製のＧＰＣ（ＬＣ−２０００ｐｌｕｓシリーズ）を用い、溶出溶剤をテトラヒドロフランとし、校正曲線用ポリスチレンスタンダードをＭｗ１１１００００、７０７０００、３９７０００、１８９０００、９８９００、３７２００、１３７００、９４９０、５４３０、３１２０、１０１０、５８９（東ソー（株）社製  ＴＳＫｇｅｌ標準ポリスチレン）とし、測定カラムをＫＦ−８０４、ＫＦ−８０３、ＫＦ−８０２（昭和電工（株）製）として測定して得ることができる。
また、測定温度は４０℃とすることができ、流速は１．０ｍＬ／分とすることができる。
【００６９】
上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）で表される構造の中でも、（Iα）〜（Iγ）で表される構造を有する重合体は、光分解性に優れることから好ましい。製造が容易で重合体が保存安定性に優れることから（Iα）及び（Iβ）が特に好ましい。
【００７０】
上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）中のＲ１、Ｒ５、Ｒ９、Ｒ１４及びＲ１５で表される基が、水素原子である化合物は、重合体が保存安定性に優れることから特に好ましい。
【００７１】
上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）中のＲ２〜Ｒ４、Ｒ６〜Ｒ８、Ｒ１０〜Ｒ１２並びにＲ１３及びＲ１５〜Ｒ１８で表される基の少なくとも１つが、水素原子；炭素原子数２〜３０のアルキル基中のメチレン基中の１つが−Ｏ−で置換された基、特にアルコキシ基；ハロゲン原子、特にフルオロ基；トリフルオロメトキシ基等のパーフルオロアルコキシ基；トリフルオロメチル基等のパーフルオロアルキル基；又はニトリル基である重合体は光分解性に優れることから好ましく、製造が容易で重合体が保存安定性に優れることから水素原子が特に好ましい。
【００７２】
上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）中のＲ１、Ｒ５及びＲ９で表される基が、メチル基である化合物は、光分解後の光分解樹脂及び組成物の着色が少ないことから好ましい。
【００７３】
上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）中のＸ１〜Ｘ３で表される基が、単結合である化合物は、重合体が保存安定性に優れることから水素原子が特に好ましい。
【００７４】
上記一般式（Iα）、（Iβ）、（Iγ）及び（Iδ）中のＸ１〜Ｘ３で表される基が、メチレン基である化合物は、光分解後の光分解樹脂及び組成物の着色が少ないことから好ましい。
【００７５】
上記一般式（IIα）、（IIβ）、（IIγ）及び（IIδ）中のＲ２１で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基並びにＺ１〜Ｚ４で表される基中の水素原子を置換する場合のある炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、上記Ｒ２等で例示した炭素原子数１〜３０の炭化水素と同様である。
【００７６】
上記一般式（IIα）、（IIβ）、（IIγ）及び（IIδ）中のＺ１〜Ｚ４で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、上記Ｙ１等で例示した炭素原子数１〜３０の炭化水素と同様である。
【００７７】
上記一般式（IIα）、（IIβ）、（IIγ）及び（IIδ）中のＺ１〜Ｚ４で表される基中の水素原子を置換する場合のある複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基は、上記Ｒ２等で例示した複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基と同様である。
【００７８】
上記一般式（IIα）、（IIβ）、（IIγ）及び（IIδ）中のＺ１〜Ｚ４で表される複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基は、上記Ｙ１等で例示した複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基と同様である。
【００７９】
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１９−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に、これらが隣り合わない条件で置換される場合がある。例えば、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４が炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、この炭素原子数１〜３０の炭化水素基で表される基中の１つのメチレン基が−Ｏ−で置換されている場合、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基で表される基中のメチレン基が−Ｏ−で置換された基を表す。
【００８０】
上記一般式（IIα）、（IIβ）、（IIγ）及び（IIδ）中のＺ１〜Ｚ４で表される基中の水素原子を置換する場合のあるハロゲン原子は、上記Ｒ２等で例示したハロゲン原子と同様である。
【００８１】
上記一般式（IIα）、（IIβ）、（IIγ）及び（IIδ）で表される構造の中でも、（IIα）及び（IIβ）で表される構造は、分子量などの物性変化が大きくなることから好ましい。
【００８２】
上記一般式（IIα）、（IIβ）、（IIγ）及び（IIδ）中のＺ１〜Ｚ４で表される基は、炭素原子数２〜１２のアルキレン基、炭素原子数６〜１０の単環構造若しくは縮合構造を有するアリーレン基又は芳香族複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基が好ましい。炭素原子数６〜１０の単環構造を有するアリーレン基はフェニレン基が好ましい。炭素原子数６〜１０の縮合構造を有するアリーレン基はナフチレン基が好ましい。芳香族複素環を含有する炭素原子数２〜３０の基に含まれる芳香族複素環は単環の芳香族複素環が好ましく、環中に窒素と炭素とを含む単環の芳香族複素環基；又は環中に硫黄と炭素とを含む単環の芳香族複素環基がより好ましい。環中に窒素と炭素とを含む単環の芳香族複素環基を含有する炭素原子数２〜３０の基は、ピリジレンが好ましい。環中に硫黄と炭素とを含む単環の芳香族複素環基を含有する炭素原子数２〜３０の基はチオフェレン基が好ましい。炭素原子数２〜１２のアルキレン基としては、例えば、エチレン、ｎ−プロピレン、ｎ−ブチレン、ｎ−ペンチレン、ｎ−ヘキシレン、ｎ−へプチレン及びｎ−オクチレン等の直鎖のアルキレン基；並びにメチルエチレン、１−メチルプロピレン、２−メチルプロピレン、１，２−ジメチルプロピレン、１，３−メチルプロピレン、１−メチルブチレン、２−メチルブチレン、３−メチルブチレン、２，４−ジメチルブチレン及び１，３−ジメチルブチレン等の分岐のアルキレン基が挙げられる。
【００８３】
本発明の重合体は、上記一般式（Iα）で表される構成単位と、上記一般式（IIα）で表される構成単位とを有することが好ましい。また、上記一般式（Iβ）で表される構成単位と、上記一般式（IIα）で表される構成単位とを有することも好ましい。また、上記一般式（Iγ）で表される構成単位と、上記一般式（IIα）で表される構成単位とを有することも好ましい。更に、また、上記一般式（Iδ）で表される構成単位と、上記一般式（IIα）で表される構成単位とを有することも好ましい。
本発明の重合体は、上記一般式（IIα）で表される構成単位を含有することが好ましい。
【００８４】
本発明の重合体は、ｏ−ニトロベンジル構造を有したジオール化合物、クマリン構造を有したジオール化合物などの光分解性基を有した化合物と、ジクロリド化合物、ジカルボン酸化合物などをモノマーとして適時共重合することで得られる。反応が速やかに進行し。高分子量体が得やすいことから、ジカルボン酸化合物よりジクロリド化合物の方が好ましい。
【００８５】
上記ｏ−ニトロベンジル構造を有したジオール化合物としては、例えば、４−ヒドロキシ−２−ニトロベンゼンメタノール、３−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ニトロベンゼンメタノール、４−（３−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−５−メトキシ−２−ニトロベンゼンメタノール、４−（３−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−５−メトキシ−α−メチル−２−ニトロベンゼンメタノール、（２−ニトロ−１，３−フェニレン）ジメタノール、２，２’−（２−ニトロ−１，４−フェニレン）ビス（エタン−１−オール）等が挙げられ、光分解性に優れることから（２−ニトロ−１，３−フェニレン）ジメタノール及び２，２’−（２−ニトロ−１，４−フェニレン）ビス（エタン−１−オール）等が好ましい。
【００８６】
上記クマリン構造を有したジオール化合物としては、例えば、４−（ヒドロキシメチル）−７−（３−ヒドロキシプロポキシ）−２Ｈ−クロメン−２−オン等が挙げられる。
【００８７】
上記ジクロリド化合物としては、例えば、チオフェン−２，５−ジカルボニルジクロリド、ナフタレン−２，６−ジカルボニルジクロリド、１，８−オクタンジカルボニルジクロリド、１，６−ヘキサンジカルボニルジクロリド、１，４−ブタンジカルボニルジクロリド等が挙げられ、高分子量の重合体が得られ、重合体の安定性、光分解性に優れることから、１，８−オクタンジカルボニルジクロリド、１，６−ヘキサンジカルボニルジクロリド、１，４−ブタンジカルボニルジクロリド等が特に好ましい。
【００８８】
上記ジカルボン酸化合物としては、例えば、チオフェン−２，５−ジカルボン酸、ナフタレン−２，６−ジカルボニルジカルボン酸、１，６−ヘキサンジカルボン酸、１，４−ブタンジカルボン酸、１，８−オクタンジカルボン酸等が挙げられ、高分子量の重合体が得られ、重合体の安定性、光分解性に優れることから、１，８−オクタンジカルボン酸、１，６−ヘキサンジカルボン酸、１，４−ブタンジカルボン酸等が特に好ましい。
【００８９】
本発明の重合体の製造方法については、特に限定されないが、例えば、ｏ−ニトロベンジル構造を有したジオール化合物又はクマリン構造を有するジオール化合物とジクロリド化合物とを、トリエチルアミン、４−メチルアミノピリジン存在下で反応させる公知の方法によって本発明の重合体を得ることができる。
【００９０】
＜光分解樹脂＞
本発明の重合体は、光分解性に優れることから光分解樹脂として有用である。光分解樹脂とは、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線、高周波のような活性エネルギー線により、容易に分解する重合体を意味する。保存安定性が悪いことから可視光線のみで分解する重合体は好ましくなく、取扱いの容易さから紫外線で分解する光分解樹脂が好ましい。
【００９１】
光分解樹脂を紫外線によって分解する場合、好ましい照射量は０．１〜１００Ｊ／ｃｍ２であり、更に好ましくは０．５〜１０Ｊ／ｃｍ２である。上記の照射量において分解する光分解樹脂は、保存安定性と光分解性のバランスがよく幅広い用途で使用できる。
【００９２】
＜組成物＞
本発明の組成物は、上記光分解樹脂を含有すればよく、特に制限されないが、組成物中に含まれる重量平均分子量が１，０００以上の成分１００質量部中に光分解樹脂を５０質量％以上含有する組成物は分解性に優れることから好ましい。
【００９３】
また、本発明の組成物には、必要に応じて、重合性化合物、重合開始剤、着色剤、無機化合物、潜在性添加剤、有機重合体、連鎖移動剤、増感剤、界面活性剤、シランカプリング剤、メラミン化合物、熱重合抑制剤；可塑剤；接着促進剤；充填剤；消泡剤；レベリング剤；表面調整剤；酸化防止剤；紫外線吸収剤；分散助剤；凝集防止剤；触媒；効果促進剤；架橋剤；増粘剤等の慣用の添加物を加えることができる。
【００９４】
本発明の組成物の用途は、光易解体性接着剤、パターン形成剤、光潜在性触媒、記録媒体、液晶表示装置、配線基板、インク組成物、防塵膜など多岐にわたるが、本発明の組成物の用途としては、光易解体性接着剤、パターン形成剤、光潜在性触媒が特に好ましい。
【００９５】
＜光易解体性接着剤＞
上記光易解体性接着剤とは、光分解樹脂を含有する接着剤であればよく特に限定されない。光易解体性接着剤を用いることで、一度接着させた２種の部材の光易解体性接着剤層に特定の活性エネルギー線を照射することにより、接着剤が分解することで２種の部材を分離できる。操作が容易なことから、紫外線によって分解する光易解体性接着剤が好ましい。また、光を透過することから２種の部材のうち１つ以上が、透明な用途が特に好ましい。
光易解体性接着剤には、本発明の組成物と同様の添加物を適時加えることができる。
【００９６】
＜パターン形成剤＞
本発明のパターン形成剤は、本発明の光分解樹脂を含有するものである。本発明のパターン形成剤は、フォトリソ性を有するものであり、具体的には、マスクを介して光照射した後、現像液を用いて現像することにより、１，０００μｍ以下のパターンを±１０％以内の精度で再現よく形成できる。本発明のパターン形成剤を用いることで、従来の酸発生剤を使用する手法に比べ、酸又は酸発生剤がパターン部に残存しないというメリットがある。操作が容易なことから、紫外線によって分解するパターン形成剤が好ましい。パターン形成剤には、本発明の組成物と同様の添加物を適時加えることができる。
【００９７】
＜光潜在性触媒＞
上記光潜在性触媒とは、特定の活性エネルギー線を照射することにより、活性種を提供できる触媒である。本発明の光潜在性触媒は、活性種を本発明の光分解樹脂又は本発明の組成物で包括しており、特定の活性エネルギー線を照射することにより、光分解樹脂が分解し、内包されていた活性種が系内に溶出することで、重合反応などを起こすことができる。従来の光重合開始剤などと比較して、より活性の高い活性種を内包させることができることから、光分解樹脂が分解後に瞬時に重合する性能を有しながら、保存時は安定性に優れた組成物を形成できるというメリットがある。
【００９８】
光潜在性触媒に使用する光分解樹脂としては、常温常圧で固体のもの、組成物、内包する活性種に対して溶解性の少ないことから重量平均分子量３,０００〜５００,０００のものが好ましく、作業性の点から、５,０００〜１００,０００のものが特に好ましい。
【００９９】
光分解性触媒の製造方法としては、特に限定されないが、光分解樹脂と活性種を混練する方法や、活性種を光分解樹脂でコーティングしたカプセルを形成する方法などが挙げられる。
【０１００】
＜光分解樹脂又は組成物の分解方法＞
本発明の光分解樹脂又は本発明の組成物の分解方法について説明する。本発明の光分解樹脂又は本発明の組成物に対して活性エネルギー線を照射することによって分解することができる。活性エネルギー線を照射する工程において、本発明の光分解樹脂又は本発明の組成物に対して直接照射しても、基材などの透明材料を介して照射しても構わない。活性エネルギー線としては、取扱いの容易さから紫外線が好ましい。光源としては、公知のものを特に制限なく用いることができる。取扱いの容易さから、発光ダイオード光源（以下、「ＬＥＤ光源」という。）を用いることが好ましい。ＬＥＤ光源を用いる場合、その波長は３６５〜４０５ｎｍであることが好ましく、３６５〜３９５ｎｍであることがより好ましい。
【実施例】
【０１０１】
以下に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何らの制限を受けるものではない。
【０１０２】
＜製造例１：２，２’−（２−ニトロ−１，４−フェニレン）ビス（エタン−１−オール）の合成＞
還流管付反応フラスコに、２，２’−（２−ニトロ−１，４−フェニレン）二酢酸を４．３ｇ、ＴＨＦを２６ｇ量り取った。攪拌しながら５℃まで冷却させ、０．９ｍｏｌ／Ｌボラン−ＴＨＦコンプレックスを１００ｍＬ（９０ｍｍｏｌ）ゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、そのまま１７時間攪拌した。５℃に冷却したメタノールを１００ｇ反応液を滴下後、更に、水を３０ｇ滴下し、攪拌した。溶媒を減圧留去した残渣に酢酸エチルを３５ｇ加え、析出物を濾過した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝８４：１６）により、分離精製を行い、薄黄色粉体として下記に記載する目的物を２．５ｇ（収率６５％）得た。
得られた目的物の１Ｈ−ＮＭＲを測定した。スペクトルを下記に示す。
・１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ／ｐｐｍ：７．７５（ｓ，１Ｈ），７．４９（ｄ，１Ｈ），７．４１（ｄ，１Ｈ），４．７２（ｄｔ，２Ｈ），３．５−３．７（ｍ，４Ｈ），２．９５（ｔ，２Ｈ），２．７９（ｔ，２Ｈ）
【０１０３】
【化４】
2020056010.tif 000011
【０１０４】
＜実施例１：重合体Ｎ−１の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、３−（４−（ヒドロキシメチル）−２−メトキシ−５−ニトロフェノキシ）プロパン−１−オールを１．２ｇ（４．７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミンを１．４ｇ（１４ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジンを０．０５７ｇ（０．４７ｍｍｏｌ）、ＴＨＦを２４ｇ量り取った。５℃に冷却後、５．７ｇのＴＨＦに溶解させたセバコイルクロリドを１．２ｇ（４．９ｍｍｏｌ）ゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、３時間攪拌後、昇温して還流下で４時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール３０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をアセトン  ６．０ｇで溶解後、メタノール  ４０ｇに滴下し、沈殿物を回収した。沈殿物を再度アセトン４．０ｇで溶解後、メタノール  ４０ｇに滴下し、沈殿物を同様に回収し、乾燥させ黄色粘性液体を１．０ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝９３００、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３９）であった。得られた重合体Ｎ−１は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｎ−１における一般式（Iβ）で表される構成単位の割合は、６０質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、４０質量％であった。
重合体Ｎ−１における構成単位の割合は、重合体Ｎ−１の１Ｈ−ＮＭＲより算出した。以下の実施例についても同様の方法で算出した。
【０１０５】
【化５】
2020056010.tif 000012
【０１０６】
＜実施例２：重合体Ｎ−２の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、３−（４−（ヒドロキシメチル）−２−メトキシ−５−ニトロフェノキシ）プロパン−１−オール  １．３ｇ（４．９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  １．５ｇ（１５ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン
０．０６０ｇ（０．４９ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  ２５ｇを量り取った。５℃に冷却後、ＴＨＦ  ４．５ｇに溶解させたアジポイルクロリド  ０．９ｇ（４．９ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、２時間攪拌後、昇温して還流下で４時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール３０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をアセトン  ６．０ｇで溶解後、メタノール  ３０ｇに滴下し、沈殿物を回収した。沈殿物を再度アセトン４．０ｇで溶解後、−１０℃以下に冷却したメタノール  ４０ｇに滴下し、沈殿物を同様に回収した。次いで、乾燥させ黄色粘性液体を０．８ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、Ｍｗ＝２４００、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３８）であった。得られた重合体Ｎ−２は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｎ−２における一般式（Iβ）で表される構成単位の割合は、６９質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、３１質量％であった。
【０１０７】
【化６】
2020056010.tif 000013
【０１０８】
＜実施例３：重合体Ｎ−３の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、４−（ヒドロキシメチル）−２−メトキシ−５−ニトロフェノール  １．３ｇ（６．４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ２．０ｇ（２０ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０７９ｇ（０．６５ｍｍｏｌ）を量り取り、ＴＨＦ  ２６ｇに溶解させた。５℃に冷却後、ＴＨＦ  ５．９ｇに溶解させたアジポイルクロリド  １．２ｇ（６．６ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、２時間攪拌後、昇温して還流下で４時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール３０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣にアセトン  １０ｇを加え、−１０℃以下に冷却し、生じた沈殿物を回収した。沈殿物に再度アセトン  １５ｇを加え、−１０℃以下で冷却し、生じた沈殿物を除去した。溶液を脱溶媒し、乾燥させ黄色結晶０．８ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、Ｍｗ＝２４００多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．６９）であった。得られた重合体Ｎ−３は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｎ−３における一般式（Iβ）で表される構成単位の割合は、６４質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、３６質量％であった。
【０１０９】
【化７】
2020056010.tif 000014
【０１１０】
＜実施例４：重合体Ｎ−４の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、（２−ニトロ−１，３−フェニレン）ジメタノール１．１ｇ（５．８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  １．８ｇ（１７ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０７０ｇ（０．５７ｍｍｏｌ）を量り取り、ＴＨＦ  ２０ｇに溶解させた。５℃に冷却後、ＴＨＦ  ７．０ｇに溶解させたセバコイルクロリド  １．４ｇ（５．８ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温して還流下で５時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、濾過により析出物を回収し、メタノール３０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣にアセトン  ６ｇを加え、５℃に冷却し、生じた沈殿物を回収した。もう一度同じ操作を繰り返した後、乾燥させ淡黄色粘性液体１．０ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、Ｍｗ＝１１５００、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４０）であった。得られた重合体Ｎ−４は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｎ−４における一般式（Iα）で表される構成単位の割合は、５２質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、４８質量％であった。
【０１１１】
【化８】
2020056010.tif 000015
【０１１２】
＜実施例５：重合体Ｎ−５の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、３−（４−（ヒドロキシメチル）−２−メトキシ−５−ニトロフェノキシ）プロパン−１−オール  １．２ｇ（４．７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  １．４ｇ（１４ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０５８ｇ（０．４７ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  ２４ｇを量り取った。５℃に冷却後、ＴＨＦ  ４．７ｇに溶解させたテレフタロイルクロリド  １．０ｇ（４．７ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温して還流下で６時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、濾過により析出物を回収し、メタノール３０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。この残渣を水で掛け洗いながら、再度濾過を行い、残留物を乾燥させ淡黄色粉体１．０ｇ得た。本重合体はＴＨＦ、クロロホルムに不溶であり、ＧＰＣによる分子量測定ができなかった。得られた重合体Ｎ−５の構造は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｎ−５における一般式（Iβ）で表される構成単位の割合は、６６質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、３４質量％であった。
【化９】
2020056010.tif 000016
【０１１３】
＜実施例６：重合体Ｎ−６の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、（２−ニトロ−１，３−フェニレン）ジメタノール  １．２ｇ（６．４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ２．０ｇ（１９ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０７９ｇ（０．６５ｍｍｏｌ）を量り取り、ＴＨＦ  ２３ｇに溶解させた。５℃に冷却後、ＴＨＦ  ６．５ｇに溶解させたテレフタロイルクロリド  １．３ｇ（６．４ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、７時間反応を行った。反応液の濾過により析出物を回収し、メタノール３０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。この残渣を水、アセトンの順で掛け洗いながら、再度濾過を行い、残留物を乾燥させ白色粉体１．４ｇ得た。本重合体はＴＨＦ、クロロホルムに不溶であり、ＧＰＣによる分子量測定ができなかった。得られた重合体Ｎ−６は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｎ−６における一般式（Iα）で表される構成単位の割合は、５８質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、４２質量％であった。
【０１１４】
【化１０】
2020056010.tif 000017
【０１１５】
＜実施例７：重合体Ｎ−７の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、（２−ニトロ−１，３−フェニレン）ジメタノール  ５．０ｇ（２７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ８．３ｇ（８２ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．３３ｇ（２．７ｍｍｏｌ）を量り取り、ＴＨＦ  １００ｇに溶解させた。５℃に冷却後、ＴＨＦ  ３０ｇに溶解させたテレフタロイルクロリド  ２．７ｇ（１３ｍｍｏｌ）、セバコイルクロリド  ３．３ｇ（１４ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温して還流下で６時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール５０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣にアセトン  ２０ｇを加えた後、濾過することで固体を回収し、乾燥させ淡黄色粉体４．９ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、Ｍｗ＝２３２００多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４０）であった。重合体Ｎ−７は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｎ−７における一般式（Iα）で表される構成単位の割合は、５５質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、４５質量％であった。
【０１１６】
【化１１】
2020056010.tif 000018
【０１１７】
＜実施例８：重合体Ｎ−８の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、（２−ニトロ−１，３−フェニレン）ジメタノール  ０．５５ｇ（３．０ｍｍｏｌ），  トリエチルアミン  ０．９１ｇ（９．０ｍｍｏｌ），  ４−ジメチルアミノピリジン  ０．０３８ｇ（０．３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１２ｇに溶解させた。５℃に冷却後、ＴＨＦ４ｇに溶解させたチオフェン−２，５−ジカルボニルジクロリド  ０．６５ｇ（３．０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、還流下で７時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール２０ｇを加え３０分攪拌後、脱溶媒した。残渣にメタノール２０ｇを加え、析出物を濾過し、ろ物を水１０ｇ、メタノール１０ｇの順に洗浄し、乾燥させ、淡黄色結晶０．８０ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、Ｍｗ＝３３００、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８７）であった。得られた重合体Ｎ−８は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｎ−８における一般式（Iα）で表される構成単位の割合は、５７質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、４３質量％であった。
【０１１８】
【化１２】
2020056010.tif 000019
【０１１９】
＜実施例９：重合体Ｎ−９の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、（２−ニトロ−１，３−フェニレン）ジメタノール  ０．５５ｇ（３．０ｍｍｏｌ），  トリエチルアミン  ０．９１ｇ（９．０ｍｍｏｌ），  ４−ジメチルアミノピリジン  ０．０３８ｇ（０．３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１２ｇに溶解させた。５℃に冷却後、ＴＨＦ４ｇに溶解させたナフタレン−２，６−ジカルボニルジクロリド  ０．２５ｇ（１．０ｍｍｏｌ）とセバコイルクロリド  ０．４８ｇ（２．０ｍｍｏｌ）の混合物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、還流下で７時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール２０ｇを加え３０分攪拌後、脱溶媒した。残渣にメタノール２０ｇを加えると黄色の粘稠体が生成した。上澄みの溶媒を除いた後に、減圧下で脱溶媒し乾燥させることで、淡黄色不定形固体を０．８０ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、Ｍｗ＝１２４００、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５５）であった。重合体Ｎ−９は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｎ−９における一般式（Iα）で表される構成単位の割合は、５１質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、４９質量％であった。
【０１２０】
【化１３】
2020056010.tif 000020
【０１２１】
＜実施例１０：重合体Ｎ−１０の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、（２−ニトロ−１，３−フェニレン）ジメタノール  ０．３７ｇ（２．０ｍｍｏｌ），  ２，６−ピリジンジメタノール
０．１４ｇ（１．０ｍｍｏｌ），  トリエチルアミン  ０．９１ｇ（９．０ｍｍｏｌ），  ４−ジメチルアミノピリジン  ０．０３８ｇ（０．３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１８ｇに溶解させた。５℃に冷却後、ＴＨＦ４ｇに溶解させたテレフタロイルジクロリド    ０．３０ｇ（１．５ｍｍｏｌ）とセバコイルクロリド  ０．３６ｇ（１．５ｍｍｏｌ）の混合物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、還流下で７時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール２０ｇを加え３０分攪拌後、脱溶媒した。残渣にメタノール２０ｇを加えると黄色の粘稠体が生成した。上澄みの溶媒を除いた後に、減圧下で脱溶媒し乾燥させることで、淡黄色高粘性液体を０．７７ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、Ｍｗ＝６，０００、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４４）であった。重合体Ｎ−１０は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｎ−１０における一般式（Iα）で表される構成単位の割合は、３５質量％であり、一般式（IIα）及び（IIβ）で表される構造からなる構成単位の合計の割合は、６５質量％であった。
【０１２２】
【化１４】
2020056010.tif 000021
【０１２３】
＜実施例１１：重合体Ｎ−１１の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、２，２’−（２−ニトロ−１，４−フェニレン）ビス（エタン−１−オール）  １．２ｇ（５．６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  １．７ｇ（１７ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０７０ｇ（０．５７ｍｍｏｌ）を量り取り、ＴＨＦ  ２４ｇに溶解させた。５℃に冷却後、ＴＨＦ  ６．２ｇに溶解させたテレフタロイルクロリド  ０．５７ｇ（２．８ｍｍｏｌ）、セバコイルクロリド  ０．６８ｇ（２．８ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温して還流下で７時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール３０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣にアセトン  １０ｇを加え、−１０℃以下に冷却し、生じた沈殿物を回収した。更に２回同じ操作を繰り返した後、乾燥させ薄黄色粘性液体を０．５２ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、Ｍｗ＝８９００、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３３）であった。重合体Ｎ−１１は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｎ−１１における一般式（Iβ）で表される構成単位の割合は、５８質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、４２質量％であった。
【０１２４】
【化１５】
2020056010.tif 000022
【０１２５】
＜実施例１２：重合体Ｎ−１２の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、２，２’−（２−ニトロ−１，４−フェニレン）ビス（エタン−１−オール）  １．２ｇ（５．６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  １．８ｇ（１７ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０７０ｇ（０．５６ｍｍｏｌ）を量り取り、ＴＨＦ  ２４ｇに溶解させた。５℃に冷却後、ＴＨＦ  ５．７ｇに溶解させたテレフタロイルクロリド  １．１ｇ（５．６ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温して還流下で６時間反応を行った。反応液の濾過により析出物を回収し、メタノール３０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。この残渣を水、メタノールの順で掛け洗いながら、再度濾過を行い、残留物を乾燥させ白色粉体を０．４７ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、Ｍｗ＝１１１００多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７２）であった。得られた重合体Ｎ−１２は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｎ−１２における一般式（Iβ）で表される構成単位の割合は、６１質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、３９質量％であった。
【０１２６】
【化１６】
2020056010.tif 000023
【０１２７】
＜実施例１３：重合体Ｃ−１の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、７−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）−２Ｈ−クロメン−２−オン  １．１ｇ（５．６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  １．８ｇ（１８ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０６８ｇ（０．５６ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ  ２２ｇを量り取った。５℃に冷却後、ＴＨＦ  ６．７ｇに溶解させたセバコイルクロリド  １．３ｇ（５．６ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温して還流下で７時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、濾過により析出物を回収し、メタノール３０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。この残渣を水、アセトンの順で掛け洗いながら、再度濾過を行い、残留物を乾燥させ白色粉体を１．２ｇ得た。本重合体はＴＨＦ、クロロホルムに不溶であり、ＧＰＣによる分子量測定ができなかった。得られた重合体Ｃ−１は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｃ−１における一般式（Iδ）で表される構成単位の割合は、５３質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、４７質量％であった。
【０１２８】
【化１７】
2020056010.tif 000024
【０１２９】
＜実施例１４：重合体Ｃ−２の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、４−（ヒドロキシメチル）−７−（３−ヒドロキシプロポキシ）−２Ｈ−クロメン−２−オン  １．５ｇ（６．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  １．８ｇ（１８ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０７６ｇ（０．６２ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ  ３１ｇを量り取った。５℃に冷却後、ＴＨＦ
７．５ｇに溶解させたセバコイルクロリド  １．５ｇ（６．２ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温して還流下で６時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール３０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣を塩化メチレン  １０ｇに溶解し、アセトンを２０ｇ添加することで生じた沈殿物を回収した。沈殿物を乾燥し固化させた後、アセトン、水の順で掛け洗いながら濾過を行った。残留物を乾燥させ、淡黄色粉体の重合体を１．７ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、Ｍｗ＝１２８００、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．６２）であった。得られた重合体Ｃ−２は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｃ−２における一般式（Iδ）で表される構成単位の割合は、６０質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、４０質量％であった。
【０１３０】
【化１８】
2020056010.tif 000025
【０１３１】
＜実施例１５：重合体Ｃ−３の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、７−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）−２Ｈ−クロメン２−オン    ０．５８ｇ（３．０ｍｍｏｌ），  トリエチルアミン  ０．９１ｇ（９．０ｍｍｏｌ），  ４−ジメチルアミノピリジン  ０．０３８ｇ（０．３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１８ｇに溶解させた。５℃に冷却後、ＴＨＦ４ｇに溶解させたチオフェン−２，５−ジカルボニルジクロリド  ０．３１ｇ（１．５ｍｍｏｌ）とセバコイルクロリド  ０．３６ｇ（１．５ｍｍｏｌ）の混合物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、還流下で７時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール２０ｇを加え３０分攪拌後、濾過した。残渣を水１０ｇ，メタノール１０ｇの順に洗浄後、乾燥させることで、淡褐色固体の重合体を０．７４ｇ得た。本重合体はＴＨＦ、クロロホルムに不溶であり、ＧＰＣによる分子量測定ができなかった。重合体Ｃ−３は下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｃ−３における一般式（Iδ）で表される構成単位の割合は、５５質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、４５質量％であった。
【０１３２】
【化１９】
2020056010.tif 000026
【０１３３】
＜実施例１６：重合体Ｃ−４の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、７−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）−２Ｈ−クロメン２−オン０．５８ｇ（３．０ｍｍｏｌ），  トリエチルアミン  ０．９１ｇ（９．０ｍｍｏｌ），  ４−ジメチルアミノピリジン  ０．０３８ｇ（０．３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１８ｇに溶解させた。５℃に冷却後、ＴＨＦ４ｇに溶解させたナフタレン−２，６−ジカルボニルジクロリド  ０．２５ｇ（１．０ｍｍｏｌ）とアジピン酸ジクロリド  ０．３７ｇ（２．０ｍｍｏｌ）の混合物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、還流下で７時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール２０ｇを加え３０分攪拌後、濾過した。残渣を水１０ｇ，メタノール２０ｇ，アセトン２０ｇの順に洗浄後、乾燥させることで、淡黄色固体の重合体を０．６０ｇ得た。本重合体はＴＨＦ、クロロホルムに不溶であり、ＧＰＣによる分子量測定ができなかった。重合体Ｃ−４は下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｃ−４における一般式（Iδ）で表される構成単位の割合は、５８質量％であり、一般式（IIα）で表される構造からなる構成単位の割合は、４２質量％であった。
【０１３４】
【化２０】
2020056010.tif 000027
【０１３５】
＜実施例１７：重合体Ｃ−５の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、７−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）−２Ｈ−クロメン２−オン    ０．３８ｇ（２．０ｍｍｏｌ），  ２，６−ピリジンジメタノール  ０．１４ｇ（１．０ｍｍｏｌ），トリエチルアミン  ０．９１ｇ（９．０ｍｍｏｌ），  ４−ジメチルアミノピリジン  ０．０３８ｇ（０．３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１８ｇに溶解させた。５℃に冷却後、ＴＨＦ４ｇに溶解させたセバコイルクロリド０．７２ｇ（３．０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、還流下で７時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、脱溶媒後の残渣にメタノール２０ｇを加え、氷水冷下で生成した析出物を濾過し、乾燥させることで、淡黄色固体の重合体を０．２７ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、Ｍｗ＝３４００、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３７）であった。重合体Ｃ−５は下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｃ−５における一般式（Iδ）で表される構成単位の割合は、２０質量％であり、一般式（IIα）及び（IIβ）で表される構造からなる構成単位の合計の割合は、８０質量％であった。
【０１３６】
【化２１】
2020056010.tif 000028
【０１３７】
＜比較例１：比較重合体Ｒ−１の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，４−ベンゼンジメタノール
０．４１ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ０．９１ｇ（９．０ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０４ｇ（０．３ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  １８ｇを量り取った。５℃に冷却後、ＴＨＦ  ４．０ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．３６ｇ（１．５ｍｍｏｌ）とテレフタロイルジクロリド  ０．３０ｇ（１．５ｍｍｏｌ）の混合溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温して還流下で７時間反応を行った。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール２０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣にメタノール２０ｇを加え、攪拌後、析出物を濾別し、乾燥させ淡黄色粉体０．４９ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３２００、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３８］であった。比較重合体Ｒ−１は、下記の構成単位を有する。
【０１３８】
【化２２】
2020056010.tif 000029
【０１３９】
得られた重合体について、光分解による分子量の低下、接着性の変化、パターン形成及び光潜在性触媒能を下記の手順で評価した。評価の詳細を下記に示す。
【０１４０】
（光分解による分子量の低下）
重合体Ｎ−７、Ｃ−２及びＲ−１のクロロホルム溶液（濃度：１．０×１０−２ｍｏｌ／Ｌ）をそれぞれ調製した。調製した溶液に、高圧水銀ランプ（２０ｍＷ／ｃｍ２（＠３６５ｎｍ））を使用し、紫外線を１０Ｊ／ｃｍ２照射した。その後、照射後の重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）をＧＰＣ測定で算出し、下記の計算式で分子量変化率（％）を求めた。結果を[表１］に示す。
分子量変化率（％）＝光照射後のＭｗ／光照射前のＭｗ×１００
【０１４１】
【表１】
2020056010.tif 000030
【０１４２】
［表１］より、本発明の重合体Ｎ−７及びＣ−２は何れも光照射によって分子量が小さくなったが、一般式（Iα）〜（Iδ）で表される構成単位を有さないＲ−１は分子量がほとんど変わらなかった。よって、本発明の重合体が光分解樹脂として優れることは明らかである。
【０１４３】
（光分解による接着性の変化）
基板の作成：１００℃に加熱したガラス基板（コーニング製イーグルＸＧ）上に重合体Ｎ−９又は比較重合体Ｒ−１を載せて溶融させ、もう一枚のガラス基板の間に挟み込み、評価用基板とした。その後、高圧水銀ランプ（２０ｍＷ／ｃｍ２（＠３６５ｎｍ））を使用し、評価基盤に紫外線を１０Ｊ／ｃｍ２照射した。
その結果、重合体Ｎ−９を用いた基板は、光照射前はガラス基板の間に挟んだ重合体が接着していたが、光照射後、一部が剥がれた。一方で比較重合体Ｒ−１を用いた基板は、光照射前後の接着力変化がなかった。
このことから、本発明の重合体は光照射により接着力が低下する材料であり、光易解体性接着剤として有用であることがわかった。
【０１４４】
（パターン形成）
重合体Ｎ−７又は比較重合体Ｒ−１の重合体のクロロホルム溶液（濃度：１０％）を調製した。調製した溶液をガラス基板（コーニング製イーグルＸＧ）上に膜厚が約１μｍとなるようスピンコーターの回転数を調整して塗布した。溶液を塗工したガラス基板を１００℃で１分加熱、乾燥を行い評価サンプルを作成した。
評価サンプルを室温まで冷却し、フォトマスク（ＬＩＮＥ／ＳＰＡＣＥ＝５０μｍ／５０μｍ）を介し、高圧水銀ランプ（２０ｍＷ／ｃｍ２（＠３６５ｎｍ））を用い、紫外光を１０Ｊ／ｃｍ２照射し、２３℃のアセトンに１分間浸漬した後、エアーガンで付着した溶媒を除去し、基板を１００℃で１分乾燥させた。
乾燥後のパターンをレーザー顕微鏡で確認したところ、重合体Ｎ−７を用いた評価サンプルは、露光部の膜が現像され、未露光部の膜はそのままの状態でパターンが形成されていた。一方、比較重合体Ｒ−１を用いた評価サンプルは、全面が一様であり、パターンが形成されていなかった。
このことから本発明の重合体は、露光部を現像液で除去する工程でパターンを作製する、ポジ型パターン形成材料として有用であることがわかった。
【０１４５】
（光潜在性触媒能）
１）１．０ｇの重合体Ｎ−７と１．０ｇのｍ−キシリレンジアミンとをジクロロメタン５．０ｍＬに溶解させた。室温で１０分攪拌した後、減圧留去し、淡黄色不定形固体を得た。
２）組成物Ａの調製：  １）で調製した組成物に、エポキシ樹脂組成物（ＥＰ−４１００Ｅ（（株）ＡＤＥＫＡ製  ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂）とＥＤ−５２３Ｔ（（株）ＡＤＥＫＡ製  ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル）の６０／４０（質量比）混合物）５．０ｇを混合した。
３）比較組成物Ｂの調製（比較例）：２）で使用したエポキシ樹脂組成物５．０ｇにｍ−キシリレンジアミン１．０ｇを混合させた。
４）比較組成物Ｃの調製（比較例）組成物Ａの重合体Ｎ−７を比較重合体Ｒ−１に変更した以外は同一の操作を行い、淡黄色不定形固体を得た。
５）結果：組成物Ａ、比較組成物Ｂ及び比較組成物Ｃを室温下で放置し、２４時間後の状態を確認したところ、組成物Ｂは固化し、流動性が消失していたが、組成物Ａ及び比較組成物Ｃは調製後と変わらず流動性を有しており、変化が確認できなかった。組成物Ａをガラス基板（コーニング製イーグルＸＧ）上に塗工し、高圧水銀ランプ（２０ｍＷ／ｃｍ２（＠３６５ｎｍ））を用い、紫外光を５Ｊ／ｃｍ２照射したところ、組成物Ａは、表面にタックがなくなったが、比較組成物Ｃは、表面にタックが残っていた。
上記より、本発明の重合体で反応性物質（触媒）を被覆することでその機能（反応性）を潜在化させることができ、光照射によってその反応性物質の機能を発現させることが確認された。本発明の重合体によって活性種を被覆させた組成物は、光潜在性触媒として有用であることは明らかである。
【０１４６】
（ＬＥＤ光源）
重合体Ｎ−７又は比較重合体Ｒ−１の重合体のクロロホルム溶液（濃度：１０％）を調製した。調製した溶液をガラス基板（コーニング製イーグルＸＧ）上に膜厚が約３μｍとなるようスピンコーターの回転数を調整して塗布した。溶液を塗工したガラス基板を１００℃で１分加熱、乾燥を行い、評価用基板を作成した。作成した評価用基板の半分をアルミホイルで被覆し、該基板にＬＥＤ光源（３６５ｎｍ、５０ｍＷ／ｃｍ２）を使用し、１０ｍＪ／ｃｍ２に相当する光を照射した。重合体Ｎ−７の塗膜を形成した基板は、照射された部の表面が脆化し、２３℃のアセトンに１分間浸漬したところ、照射された部分のガラス面が露出した。これに対し、重合体Ｒ−１の塗膜を形成した基板は、照射された部分の表面の変化がなく、２３℃のアセトンに１分間浸漬しても重合体が残存した。この結果から、本発明の重合体は、ＬＥＤ光源でも分解が進行することがわかった。