(57)【要約】【課題】シャッタに要求される低反射性、耐摩耗性を満足することのできる光量調節装置を提供する。【解決手段】  光量調節装置１は、開口部を有する基板２と、基板２に移動可能に支持され、開口部へ進退可能な光量調節羽根５〜１３と、を備え、基板２には、可視光の波長以下のピッチで多数配列された微細凹凸構造体４２が光量調節羽根５〜１３の摺接する部分に設けられ、微細凹凸構造体の最表層が潤滑層４３であることを特徴とする。【選択図】図４
2020056872.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部を有する基板と、
前記基板に移動可能に支持され、前記開口部へ進退可能な光量調節羽根と、を備え、
前記基板には、可視光の波長以下のピッチで多数配列された微細凹凸構造体が前記光量調節羽根の摺接する部分に設けられ、
前記微細凹凸構造体の最表層が潤滑層であることを特徴とする光量調節装置。
【請求項２】
前記微細凹凸構造体に光吸収材が含まれていることを特徴とする請求項１記載の光量調節装置。
【請求項３】
前記基板と、前記微細凹凸構造体と、の間に前記微細凹凸構造体よりも密着性の高い樹脂性の密着層を有し、
前記基板と、前記微細凹凸構造体と、前記密着層との少なくとも何れか１つに光吸収材が含まれていることを特徴とする請求項１または２に記載の光量調節装置。
【請求項４】
前記微細凹凸構造体は、前記基板側の基部と、前記最表層側の最表層部とを有し、
前記最表層部が前記潤滑層であって、前記基部は、前記最表層部よりも硬く潤滑性が低い材質であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光量調節装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光量調節装置をシャッタユニットに用いたことを特徴とするカメラ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カメラ等に搭載されるシャッタ等の光量調節装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一眼レフカメラやデジタル一眼レフカメラには一般的に、フォーカルプレーンシャッタが用いられている。このようなフォーカルプレーンシャッタは、シャッタ幕やシャッタ幕を駆動するためのアーム、フォーカルプレーンシャッタのフレームを構成する地板、仕切板、カバー板等を組み込んだ光量調節装置などから構成されている。
【０００３】
カメラなどの撮像光学系に搭載する光量調節装置には、多重反射で発生するゴーストによる画質劣化を極力抑制することが求められる。このため、従来から、フォーカルプレーンシャッタに組み込まれるアーム、仕切板、カバー板を含む光量調節装置には低反射化が求められており、ポリアミドイミドなどの樹脂バインダーに、染料、顔料を分散した黒色塗装がされている。
【０００４】
しかし、上記構成では、光量調節装置を構成する部材同士の接触により摩耗粉が発生し、その摩耗粉が画像に映り込んでしまうという問題があり、フォーカルプレーンシャッタなどの光量調節装置には、より摩耗粉の発生を低減した構成であることが求められてきている。
【０００５】
このような背景を受け、特許文献１では潤滑性、及び耐摩耗性の向上を目的に、ＰＴＦＥ粒子を分散させためっき膜を構成部品同士が摺動もしくは衝突する部品に形成したシャッタ装置を提案している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８-１９７６０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１では、耐摩耗性の高い金属膜にＰＴＦＥを共析させることで耐摩耗性は向上しているが、近年の撮像素子のさらなる高感度化に対して要求される低反射化は実現できていなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
以上の課題を解決する為に、本発明における光量調節装置は、開口部を有する基板と、
前記基板に移動可能に支持され、前記開口部へ進退可能な光量調節羽根と、を備え、前記基板には、可視光の波長以下のピッチで多数配列された微細凹凸構造体が前記光量調節羽根の摺接する部分に設けられ、前記微細凹凸構造体の最表層が潤滑層となっている。
【発明の効果】
【０００９】
上述のような構成とすることで、優れた低反射性、及び耐摩耗性を備えた光量調節装置を提供することができる。更に、本発明の光量調節装置を組み込むことで、高画質化に対応したシャッタユニット、及びカメラを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】フォーカルプレーンシャッタ装置の正面図。
【図２】図１のＡ-Ａ断面図。
【図３】本発明の一実施形態に係わるデジタル一眼レフカメラの構成を示す側断面図。
【図４】実施例１のフォーカルプレーンシャッタに用いられる光量調節装置の光量調節羽根との摺接部の断面図。
【図５】基板に形成した針状微細凹凸構造体の斜視図。
【図６】基板に形成した釣り鐘状微細凹凸構造体の斜視図。
【図７】基板上に密着層が存在し、前記密着層の表面に微細凹凸構造体を形成した光量調節羽根との摺接部の断面図。
【図８】(ａ)紫外線反射層を含む光量調節装置の光量調節羽根との摺接部の断面図。        (ｂ)光吸収材濃度が膜厚方向に連続的に変化している密着層を含む光量調節装置の光量調節羽根との摺接部の断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の一実施形態について説明する。
【００１２】
図３において３１はカメラボディ、３２はカメラボディ３１に着脱可能なレンズ鏡筒、３３は被写体像を結像させるための撮像光学系、３４はレンズ鏡筒３２をカメラボディに着脱するためのレンズマウントである。また、３５は被写体像を光電変換して画像信号を生成する撮像素子、３６は光学ローパスフィルター、３７はミラーボックス、３８はクイックリターンミラーである。また、１はフォーカルプレーンシャッタ、３,４はそれぞれフォーカルプレーンシャッタ１の開口部を開閉する先幕と後幕、３９は光学ファインダーである。
【００１３】
カメラボディ３１にはレンズマウント３４を介して各種の撮影レンズが着脱可能となっている。撮影レンズは撮像光学系３３を備えており、不図示のピント調整手段を用いて、被写体像を撮像素子３５の近傍に結像させる。
【００１４】
図１、２は、図３に示したデジタル一眼レフカメラ３０に内蔵されているフォーカルプレーンシャッタ１の構成を示す図であり、図１はフォーカルプレーンシャッタ１の正面図、図２はフォーカルプレーンシャッタ１のＡ-Ａ断面図である。
【００１５】
図１、２において、２はフォーカルプレーンシャッタのフレームを構成する地板である。上記地板の材料としては、ＰＯＭ、ＰＣ、液晶ポリマーなどの樹脂やＦｅ、ＳＵＳ、Ａｌなどの金属が挙げられるが、これらの材料に特に限定されるものではない。また、地板１は、撮影用の開口部であるアパーチャ枠を有し、アパーチャ枠の周囲には斜面（面取り）が形成されている。１６は後述の先幕３と後幕４の間にあってそれぞれの走行スペースを仕切る仕切板である。仕切板１６は、撮影用の開口部であるアパーチャ枠を有している。１５は、地板２と共にフォーカルプレーンシャッタ１のフレームを構成し、先幕３が羽根走行方向と直行する方向に広がるのを防ぐカバー板である。カバー板１５は、撮影用の開口部であるアパーチャ枠を有し、アパーチャ枠の周囲には斜面（面取り）が形成されている。さらに、カバー板１５は、仕切板２および後述の先幕３と後幕４を地板２との間で挟むように配置されている。このフォーカルプレーンシャッタ１は、いわゆる縦走りタイプと呼称されているものであり、地板２のアパーチャ枠を開閉する上下方向に走行する先幕３、及び後幕４を有している。そして相互に重なり合う複数枚（図示例ではそれぞれ５枚、及び４枚）のシャッタ羽根５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３は、移動方向に対して略直行する方向を長手方向とする形状を有している。先幕３はカバー板１５と仕切板１６との間に配置され、後幕４は仕切板１６と地板２との間に配置されている。先幕３を構成するシャッタ羽根５から９の長手方向一端側（図１左側）には、先幕支持アーム１７と先幕駆動アーム１８がそれぞれカシメダボを介して取り付けられており、上述した構成において、先幕駆動アーム１８が不図示の駆動源からの駆動力を受けて、回転すると先幕シャッタ羽根５〜９が重畳したり展開したりする。
【００１６】
同様に後幕４を構成するシャッタ羽根１０から１３の長手方向の一端側にも後幕支持アーム１９と後幕駆動アーム２０がカシメダボを介して取り付けられており、上述した構成において、後幕駆動アーム２０が不図示の駆動源からの駆動力を受けて、回転すると後幕シャッタ羽根１０〜１３が重畳したり展開したりする。すなわち、撮影待機状態においては先幕シャッタ羽根５〜９が展開状態にあり、後幕シャッタ羽根１０〜１３が重畳状態にある。そして、撮影を行う際には先幕シャッタ羽根５〜９が重畳動作を開始するとともに、この動作が開始されてから所定時間経過後に後幕シャッタ羽根１０〜１３が展開動作を開始する。撮影が終了すると、先幕シャッタ羽根５〜９および後幕シャッタ羽根１０〜１３は撮影待機状態に戻る。
【００１７】
以下、光量調節装置に備えられる基板、微細凹凸構造体、潤滑層、光吸収材、潤滑層、      密着層について順次説明する。
【００１８】
（基板）
前記基板は、遮光性を有する金属基板や樹脂基板である。基板の材料としては、Ｆｅ、Ａｌ、ＳＵＳなどの金属、遮光性の付与が可能な量の顔料を複合したＰＣ、ＰＯＭ、ＡＢＳなどが挙げられるが、これらの材料に特に限定されるものではない。また、基板の厚みは、０.０５ｍｍ〜１ｍｍの範囲にあることが望ましい。０.０５ｍｍより薄い場合には、基板の取り扱いが難しくなり、１ｍｍより厚い場合には重くなる。
【００１９】
（微細凹凸構造体）
基板、もしくは密着層の表面には、凹もしくは凸状である微細凹凸構造体が多数配列されている。前記凹凸は、光量調節装置に入射した光を透過させることで、光量調節装置表面での反射に起因した画質劣化を抑制する目的で用いる。この凹凸は可視光の波長域以下のピッチで周期的に配置されている。ここで、ピッチとは、隣接する凸と凸もしくは凹と凹の頂点の距離を意味する。ピッチが小さくなるほど、反射防止効果が得られる波長も低波長側に拡大される。ピッチについては、ピッチが１５０ｎｍ未満であると、微細構造の作製が困難となる傾向がある。一方、ピッチが３５０ｎｍを超えると、反射防止効果が十分に得られない場合がある。そのため、ピッチは可視光の波長以下である１５０ｎｍ〜３５０ｎｍが望ましい。
上記凹凸の高さは、低反射性、耐摩耗性の観点から１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であればよい。
【００２０】
また、凸の形状は針状、釣り鐘状などを挙げることができるが、本案では耐摩耗性の最も優れる釣り鐘状が最適である。
【００２１】
微細構造の凸部もしくは凹部の高さを幅で除したアスペクト比は０.７〜１.５であることが好ましい。０.７以下では、十分な反射低減効果が得られず、１.５以上では他部材と接触した際に破損しやすくなるためである。
【００２２】
微細凹凸構造体を作製する際の材料としては、光硬化タイプや電子線硬化タイプ、熱可塑・熱硬化タイプの樹脂材料、ガラスなどの無機材料などを用いる事が可能であり、有機無機ハイブリッド材料であっても良い。例えば、アクリル系重合性組成物又はメタクリル系重合性組成物、光酸触媒で架橋しうる組成物等、いずれも使用することができる。
【００２３】
本発明の微細凹凸構造体の製造方法は、例えば下記の方法が好ましい。すなわち、上記微細凹凸構造体形成材料を基板、もしくは密着層の上にのせ、バーコーターもしくはアプリケーター等の塗工機又はスペーサーを用いて、均一膜厚になるように塗布する。そして、前記表面構造をもった透明な型を貼り合せる。貼り合せた後、前記型面から紫外線もしくは電子線の照射又は、熱により硬化させる。その後、得られた微細凹凸構造体を該型から剥離させることで作製できる。
【００２４】
また、上記微細凹凸構造体に光吸収材を分散させることも可能である。これにより、      さらなる低反射化を実現できる。
【００２５】
さらに、フッ素系樹脂、特に透明性の高いアモルファスフッ素樹脂のような潤滑性の高い樹脂で微細凹凸構造体を作製することで、潤滑層の作製工程を省くことも可能である。
また、微細凹凸構造体は、潤滑層よりも基板に対して密着性が高い樹脂や、脱型時の形状安定性が高い樹脂を用いると生産性良く成形できる。従って、硬化後の微細凹凸構造体は、潤滑層として形成された樹脂よりも潤滑性が低く硬い樹脂となるように硬化させることが  好ましい。
【００２６】
（潤滑層）
潤滑層は、最表層に設けられた潤滑性のある樹脂からなる極薄の膜である。前記潤滑層は、低摩擦な層を表面に設けることで、他部材との接触抵抗を低減し、摩耗粉の発生を防止する目的で用いられる。
【００２７】
潤滑性のある樹脂としては、フッ素系樹脂が好ましい。
そのため、材料としては、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンパーフルオロアルキルビニールエーテル共重合体（ＰＦＡ）、パーフルオロエチレン−プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合（ＥＣＴＦＥ）から選ばれる一種以上が好ましい。その中でも、表面硬度が、鉛筆硬度で５Ｈ以上であるフッ素系潤滑層が得られる材料が望ましい。
【００２８】
厚みは、上記微細凹凸構造体のピッチの１/５以下であることが好ましい。１/５以上の厚みでは、隣接する微細凹凸構造体の間を埋めてしまい、低反射化の効果を低減する可能性がある。
【００２９】
上記潤滑層の形成方法として、ディップコーティング法や、蒸着法などが挙げられる。ディップコーティング法は、被成膜対象物をコーティング剤に浸漬し、一定速度でコーティング液面から被成膜対象物を引き上げることにより、コーティング剤を一定膜厚の被膜とする成膜方法である。この方法では、フッ素系潤滑層の厚みを数ｎｍレベルで制御することができ、引上げ速度を遅くするほど薄い被膜になることが知られている。
【００３０】
本発明では、フッ素樹脂が溶解したコーティング剤を得るために、種々の溶剤を用いることができるが、好ましくは、フッ素系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、炭化水素系溶剤等を単独またはこれらの２種類以上を混合して用いることができる。これらの中でも、引火性が無く、速やかに揮発するフッ素系溶剤を用いることが好ましい。
【００３１】
フッ素系溶剤は、フッ素原子を含有するものであれば特に限定されず、例えば、ハイド
ロフルオロエーテル、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロアルカン、ハイドロフル
オロポリエーテル、ハイドロフルオロカーボン、パーフルオロサイクリックエーテル、パ
ーフルオロシクロアルカン、ハイドロフルオロシクロアルカン、キシレンヘキサフルオラ
イド、ハイドロフルオロクロロカーボン、パーフルオロカーボン等が挙げられる。
【００３２】
その中でも地球温暖化係数が小さく、オゾン破壊係数がゼロであるハイドロフルオロエ
ーテル、ハイドロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン等が単独又は２種以上を混合
して用いると環境に対する悪影響を低減できるため好ましい。
【００３３】
また、微細凹凸構造体にフッ素系樹脂のように潤滑性の高い樹脂を塗布してもよい。なお、微細凹凸構造体の型にフッ素系樹脂を塗布した後に微細凹凸構造体から脱型することにより、最表層がフッ素系樹脂である微細凹凸構造体を微細凹凸構造体と潤滑層が一体的に形成されたものとすることもできる。本発明の実施例において、基板の両面に微細凹凸構造体、潤滑層をそれぞれ設けたが、仕切り板１６の両面それぞれに、微細凹凸構造体、潤滑層を設けると、一つの部材で後幕、先幕、両方の光量調節羽根に対して、摺動性を向上することができる。発明の実施例においては、カバー板１５についても両面それぞれに、微細凹凸構造体、潤滑層を設けたが、カバー板１５については、潤滑層を少なくとも先幕側に設ければ、摺動性を向上することができる。
【００３４】
（光吸収材）
光吸収材は、光量調節装置に入射した光を吸収し、光量調節装置での反射に起因した画質劣化を抑制する目的で用いられる。光量調節装置での反射に起因した画質の劣化は、主に可視光波長領域の反射に起因しているため、光吸収材の種類としては、少なくとも可視光波長領域である４００-７００ｎｍに１%以上の吸収率を有する材料とする。例えばカーボンブラック、カーボンナノチューブ、カーボンファイバー、黒鉛などの炭素材料や、炭化チタン、炭化酸化チタンのような金属炭化物、シアニン色素、フタロシアニン色素、アゾ系色素などの色素などを含む樹脂のことである。
【００３５】
特に、干渉タイプの赤外カットフィルターを搭載したカメラでは、赤色の波長付近（光波長６００〜７００ｎｍ程度）の光でゴーストが発生しやすい。干渉タイプの赤外カットフィルターは、通常撮影に必要な可視光波長を透過する透過領域と通常撮影に不要な近赤外波長を反射によって遮蔽する不透過領域を有し、透過領域と不透過領域によって形成される遷移波長領域（波長６００〜７００ｎｍ）におけるゴースト強度が大きくなる。その為、前記光吸収材の吸収特性が上述の遷移波長領域において、光吸収率で１%以上のものを採用することでゴーストの発生をより効果的に抑制できる。
【００３６】
色素によって光吸収特性を得る場合には、樹脂バインダーに色素を均一に分散させるために、溶媒を用いてもよい。色素として有機色素を使用する場合は、色素と樹脂バインダーからなる光吸収材に酸化防止剤を添加することが好ましい。有機色素は、紫外線等による劣化で、光吸収特性が変化しやすいが、酸化防止剤を添加することで、光吸収材の劣化を抑制することができ、長期にわたり吸収特性の安定した光吸収材を得ることができる。この酸化防止剤としては、フェノール系、ビンダードフェノール系、アミン系、ビンダードアミン系、硫黄系、リン酸系、亜リン酸系等が挙げられる。
【００３７】
さらに、酸化防止剤を添加しただけで不十分な場合には、紫外線反射層もしくは紫外線吸収層の単独層や、紫外線反射層と紫外線吸収層をハイブリッドにした層を光吸収材含有層の上に設けることもできる。ハイブリッドな層を形成する場合には光吸収材の直上の層に紫外線反射層、紫外線吸収層どちらの層を使用することも可能である。紫外線反射層は少なくとも２種類以上の無機薄膜を複数、積層することにより構成されている。このような無機薄膜を形成する材料には、高屈折率材料にはＴｉＯ２を、低屈折率材料にはＳｉＯ２を使用し、ＴｉＯ２とＳｉＯ２を交互に積層することで構成できる。他にも、成膜手法によって異なるが、おおむね高屈折率材料としてはＮｂ２Ｏ５やＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５等が一般的に使用され、低屈折率材料としてはＭｇＦ２を使用する場合もある。設計上や成膜上の理由から、中間屈折率材料であるＡｌ２Ｏ３等を一部の層で使用する場合もあるが、これらに限らず、適宜最適な材料の組み合わせを選択すればよい。他にも、酸化亜鉛のような金属酸化物層を形成することもできる。紫外線吸収層は、ベンゼン環のような紫外線を吸収する官能基を持つ材料で作製できる。
【００３８】
（密着層）
上記基板、微細凹凸構造体、潤滑層同士の密着性を向上させるため、適宜密着層を形成することも可能である。例えば、金属製の基板と、微細凹凸構造体の密着性を改善するために、シランカップリング剤を使用し、密着性を改善することができる。
【００３９】
また、サンドブラスト等で表面を粗くしたり、ＵＶ処理、プラズマ処理で表面を改質することで、密着性を向上させることもできる。
【実施例】
【００４０】
以下、本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は下記実施例に示す態様に限定されるものではない。
【００４１】
（実施例１）
実施例１では、カバー板１５、仕切り板部材１６の光量調節羽根と摺接する部分に図４のように、基板４０上に微細凹凸構造体４２、潤滑層４３を形成した光量調節装置を作製した。
炭素工具鋼（ＳＫ４）からなる厚み１００μｍの基板４０上に、２５０ｎｍの間隔で、高さ３５０ｎｍの釣り鐘状の突起からなる微細凹凸構造体４２上に、微細凹凸構造体の形状に追従して厚み５０ｎｍの潤滑層４３を形成した。
上記光量調節装置の作製方法を以下に記す。
【００４２】
<基板の作製>
カバー板、仕切り板部材の基板として、厚み１００μｍの炭素工具鋼（ＳＫ４）をプレスで打ち抜き、図１の１５,１６のように開口部を有するように成形した。打ち抜いたカバー板、仕切り板の基板は、表面粗さＲａは０.６μｍである。
【００４３】
<微細凹凸構造体の作製>
打ち抜いたカバー板、仕切り板の基板に、高さ３５０ｎｍ、ピッチ２５０ｎｍになるような形状を反転させたホールアレイ形状を持ち離型処理を施した石英モールドに、熱硬化性のエポキシ樹脂を適量滴下した。その後、インプリントを施す基板に石英モールドを押し付けて密着させた状態で１５０℃まで加温することで樹脂を硬化させ、形状を崩さないように脱型することで高さ３５０ｎｍ、ピッチ２５０ｎｍの釣り鐘状の微細周期構造体を作製した。各種の熱硬化性樹脂を用いることができるが、熱硬化性エポキシ樹脂 ＸＮＲ６８１５（ナガセケムテックス社製）を用いた。
【００４４】
打ち抜いたカバー板、仕切り板の基板の片面に、微細凹凸構造体を形成後、反対面も同様にして微細凹凸構造体を形成した。また、上下一対の転写型を使用し、上下方向から基板に密着させることにより、両面同時に微細凹凸構造体を形成することもできる。
【００４５】
<潤滑層の形成>
上述の方法で作製した微細凹凸構造体上に潤滑層を形成した。その形成方法としては、  まずフッ素系樹脂をフッ素系溶剤に溶かして溶液化したコーティング剤であるＣＹＴＯＰ（旭硝子社製）（屈折率１.３４）を濃度２ｗｔ%になるように調製した。微細凹凸構造体を形成した      カバー板、仕切り板を前述のＣＹＴＯＰ（旭硝子社製）に浸漬し、ディップコーターの引上げ速度を１０ｍｍ/秒にして引き上げた。その後、ドライオーブンで１６０℃１時間の条件でベークすることで、両面に厚み５０ｎｍの潤滑層を形成した。
【００４６】
上記工程によって、光量調節羽根と摺接する部分に図４のような層を設けた部材を作製し、上記部材を使用して光量調節装置を作製した。
【００４７】
（実施例２）
実施例１と同様の方法で基板４０を作製した。
【００４８】
<密着層の形成>
まず、シランカップリング剤をアセトンに溶かし、スプレー法により基板上に塗布した。    乾燥は、５０℃１５分行い、基板と微細凹凸構造体との密着性を改善する処理を行った。
上記工程により、密着層を形成した。
【００４９】
上記密着層７１上に、微細凹凸構造体４２、潤滑層４３を形成し、光量調節装置を作製した。微細凹凸構造体４２、潤滑層４３の作製方法は実施例１と同様である。
【００５０】
また、図８に実施例２の変形例を示した。（ａ）に示したものは、基板４０に、光吸収材を分散させた密着層７２、紫外線反射層８１、微細凹凸構造体４２、潤滑層４３を順次積層したものである。(ｂ)に示したものは、基板４０に、厚み方向の顔料の濃度を連続的に変化させた    密着層８２、微細凹凸構造体４２、潤滑層４３を順次積層したものである。（ｂ）の構成では、界面での屈折率の差が小さくなるように、連続的に濃度を変化させることでより低反射な光量調節装置とすることが可能である。
【００５１】
上記工程によって、光量調節羽根と摺接する部分に図７もしくは図８のような層を設けた部材を作製し、上記部材を使用して光量調節装置を作製した。
【００５２】
（比較例１）
比較例１では、カバー板１５、仕切り板部材１６の光量調節羽根と摺接する部分にＰＴＦＥ粒子を分散させためっき層を形成した光量調節装置を作製した。
【００５３】
基板として、厚み０.１ｍｍの炭素工具鋼（ＳＫ４）をプレスで打ち抜き、図１の１５のように成形した。
【００５４】
めっき液にはカニフロンＳＥＦ-１５０（カニフロン、日本カニゼン（株）社製）を使用した。建浴時の各液の量は、ＳＥＦ-１５０-０を４Ｌ、ＳＥＦ-１５０-１を２Ｌ、ＳＥＦ-１５０-４を１Ｌ、純水３３Ｌとした。前記基板の表面に対して、表１に示した前処理、めっき、及び熱処理を行った。
【００５５】
【表１】
2020056872.tif 000003
上述の工程を経ることで、ＰＴＦＥ粒子を分散させためっき層を光量調節羽根と摺接する部分に形成した部材を作製し、上記部材を使用して光量調節装置を作製した。
【００５６】
（比較例２）
比較例１と同様の方法で、基板を得た。
炭化チタンターゲット、炭化酸化チタンターゲット、ＰＴＦＥターゲットと前記基板が対向するようにスパッタ装置に取り付け、スパッタリング法で基板上に炭化チタン膜、炭化酸化チタン膜、ＰＴＦＥ膜の順に所定の厚みの膜を形成した。上記作業を裏面でも行い、両面に炭化チタン膜、炭化酸化チタン膜、ＰＴＦＥ膜を光量調節羽根と摺接する部分に形成した部材を
作製し、上記部材を使用して光量調節装置を作製した。
【００５７】
評価
作製した成形体の評価方法について説明する。評価項目としては、下記の５項目があり、 (１)耐摩耗性、(２)摩擦係数、(３)反射率に関しては、実施例１〜２、比較例１〜２で作製した光量調節装置を評価し、(４)異物の付着、(５)画像評価は実施例１〜２、比較例１〜２で作製した光量調節装置を組み込んだフォーカルプレーンシャッタユニットを搭載したカメラで評価した。(１)(２)については、連続荷重式表面測定器ＨＥＩＤＯＮ（新棟科学（株）製）を使用して評価した。(３)については、分光光度計 Ｕ-４１００（（株）日立製作所製）を使用し、測定波長域４００〜７００ｎｍでの反射率の平均値を反射率とした。(４)については、シャッタを１０００回駆動させた後に、画像に異物の映り込みがあるか確認した、(５)については、撮影後の画像にゴーストが発生しているか確認した。表２は、これらの評価結果をまとめた表である。
【００５８】
【表２】
2020056872.tif 000004
【００５９】
表２に示すように、実施例１、２と比較例１、２の評価結果を比較すると、耐摩耗性、摩擦係数、異物の付着の項目でほぼ差はないが、実施例１、２では反射率、画像評価の項目が改善されていることが分かる。以上の結果から、本発明の構成とすることで摩耗粉の発生を防止し、優れた低反射性を備えた光量調節装置を提供することができる。更に、本発明の光量調節装置を組み込むことで、高画質化に対応したシャッタユニット、及びカメラを提供することができる。
【符号の説明】
【００６０】
１フォーカルプレーンシャッタ
２  地板
３  先幕
４  後幕
５〜１３  シャッタ羽根
１５  カバー板
１６  仕切板
４０  基板
４２  微細凹凸構造体
４３  潤滑層
４４  針状の微細凹凸構造体
４５  釣鐘状の微細凹凸構造体
７１  密着層
７２  光吸収材を分散させた密着層
８１  紫外線反射層
８２  層内の光吸収材に濃度分布がある密着層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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