(57)【要約】      （修正有）【課題】付着性に優れつつもインデックスマッチング層としての機能も良好な活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、硬化物及び積層体を提供する。【解決手段】基材上にインデックスマッチング層、透明導電層を順に有する積層体のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物であって、（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物、（Ｂ）屈折率が１．５以下の金属酸化物、（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有する化合物、（Ｄ）光重合開始剤を含み、特定条件下でのインデックスマッチング層の屈折率が特定の範囲内にあるインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上にインデックスマッチング層、透明導電層を順に有する積層体のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物であって、
（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子、
（Ｂ）屈折率が１．５以下の金属酸化物粒子、
（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有する化合物、及び
（Ｄ）光重合開始剤を含み、
下記の条件を満たすインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
条件：インデックスマッチング層の屈折率が１．６２以上１．７２以下であり、Ｘ線光電子分光法により測定される透明導電層側のインデックスマッチング層表層における（Ｂ）成分の金属元素と（Ａ）成分の金属元素との質量比（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）が０．３以上である。
【請求項２】
（Ａ）成分がシランカップリング剤で表面処理された金属酸化物粒子であり、（Ｂ）成分がシロキサン化合物又はシラザンで表面処理された金属酸化物粒子である請求項１に記載のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
【請求項３】
シランカップリング剤で表面処理されたジルコニア粒子、シロキサン化合物又はシラザンで表面処理されたシリカ粒子、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、及び光重合開始剤を含むインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
【請求項４】
シランカップリング剤がウレタン（メタ）アクリレート構造含有トリメトキシシランである請求項２又は３に記載のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
【請求項５】
シロキサン化合物がポリジメチルシロキサンであり、シラザンがビス（トリメチルシリル）アミンである請求項２又は３に記載のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物。
【請求項７】
基材、請求項６に記載の硬化物及び透明導電層の順に有する積層体。
【請求項８】
透明導電層がスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）であって、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６に準じたクロスカット法によって測定されるインデックスマッチング層と透明導電層との間で剥離する割合が１０％未満である請求項７に記載の積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、硬化物及び積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルセンサーに用いられる透明導電性フィルムは透明導電層をフォトリソエッチングすることにより配線パターンを形成する。しかし配線パターン部分とエッチング部分の反射率の差が大きく配線パターンが見えてしまう問題があった。この問題を解決するために、基板と透明導電層の間に屈折率の異なる層（インデックスマッチング層）を設けることで、配線パターン部分とエッチング部分の反射率の差を小さくし、配線パターンを視認させにくくする技術が知られている。特許文献１には、基板上に少なくとも１層のアンダーコート層を設け、このアンダーコート層の上に透明導電層を設けた積層体が開示されており、特許文献２には、基板上に高屈折率層、低屈折率層および透明導電性薄膜層をこの順に積層した積層体が開示されている。また、特許文献３は、骨見え抑制するために、透明基板と透明電極層の間に硬化樹脂層を設けた積層体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−７６４３２号公報
【特許文献２】特開２０１０−１５８６１号公報
【特許文献３】ＷＯ２０１０／１１４０５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来のインデックスマッチング層は透明導電層との付着性が十分ではなくタッチパネルセンサーへの加工時に剥離が生じてしまう問題があった。
【０００５】
本発明では、付着性に優れつつもインデックスマッチング層としての機能も良好な活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、硬化物及び積層体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討したところ、所定の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を用いることにより、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
【０００７】
すなわち、本発明は、以下の項目１〜項目８に関する。
（項目１）
基材上にインデックスマッチング層、透明導電層を順に有する積層体のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物であって、
（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子、
（Ｂ）屈折率が１．５以下の金属酸化物粒子、
（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有する化合物、及び
（Ｄ）光重合開始剤を含み、
下記の条件を満たすインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
条件：インデックスマッチング層の屈折率が１．６２以上１．７２以下であり、Ｘ線光電子分光法により測定される透明導電層側のインデックスマッチング層表層における（Ｂ）成分の金属元素と（Ａ）成分の金属元素との質量比（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）が０．３以上である。
（項目２）
（Ａ）成分がシランカップリング剤で表面処理された金属酸化物粒子であり、（Ｂ）成分がシロキサン化合物又はシラザンで表面処理された金属酸化物粒子である項目１に記載のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
（項目３）
シランカップリング剤で表面処理されたジルコニア粒子、シロキサン化合物又はシラザンで表面処理されたシリカ粒子、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、及び光重合開始剤を含むインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
（項目４）
シランカップリング剤がウレタン（メタ）アクリレート構造含有トリメトキシシランである項目２又は３に記載のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
（項目５）
シロキサン化合物がポリジメチルシロキサンであり、シラザンがビス（トリメチルシリル）アミンである項目２又は３に記載のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
（項目６）
項目１〜５のいずれかに記載のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物。
（項目７）
基材、項目６に記載の硬化物及び透明導電層の順に有する積層体。
（項目８）
透明導電層がスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）であって、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６に準じたクロスカット法によって測定されるインデックスマッチング層と透明導電層との間で剥離する割合が１０％未満である項目７に記載の積層体。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を用いることで、インデックスマッチング層と透明導電層との付着性が向上した透明導電性フィルムを得ることが出来る。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明は、
基材上にインデックスマッチング層、透明導電層を順に有する積層体のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物であって、
（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子（以下、「（Ａ）成分」ともいう。）、
（Ｂ）屈折率が１．５以下の金属酸化物粒子（以下、「（Ｂ）成分」ともいう。）、
（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有する化合物（以下、「（Ｃ）成分」ともいう。）、
（Ｄ）光重合開始剤（以下、「（Ｄ）成分」ともいう。）を含み、下記の条件を満たすインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物（以下、「樹脂組成物」ともいう。）
又は、
シランカップリング剤で表面処理されたジルコニア粒子、シロキサン化合物又はシラザンで表面処理されたシリカ粒子、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、及び光重合開始剤を含むインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
条件：インデックスマッチング層の屈折率が１．６２以上１．７２以下であり、Ｘ線光電子分光法により測定される透明導電層側のインデックスマッチング層表層における（Ｂ）成分の金属元素と（Ａ）成分の金属元素との質量比（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）が０．３以上である。
以下各成分について詳細に説明する。なお、本明細書において、（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル及び／又はメタクリロイルのことである。また、本明細書において、金属酸化物粒子とは、金属酸化物同士を重合反応させ、−金属原子−酸素原子−金属原子−の結合を形成させることで得られる一次粒子及び／又は二次粒子のことである。金属酸化物粒子の表面は、通常水酸基で覆われていることから、金属酸化物粒子は通常親水性の物質である。
【００１０】
＜（Ａ）成分＞
（Ａ）成分は、屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子である。（Ａ）成分の屈折率は、好ましくは１．７以上３．０以下であり、より好ましくは１．７以上２．４以下である。
【００１１】
（Ａ）成分として、特に限定されず、各種公知のものを使用できる。（Ａ）成分として、酸化アルミニウム（屈折率１．７〜１．８）、酸化スズ（屈折率１．９〜２．０）、酸化亜鉛（屈折率１．９〜２．０）、酸化ジルコニウム（屈折率２．０〜２．１）、酸化チタン（屈折率２．５〜２．８）等が例示される。
【００１２】
（Ａ）成分は、分散体であってもよく、粉体であってもよい。
【００１３】
（Ａ）成分の分散体の溶液は、各種公知のものであってもよい。（Ａ）成分の分散体の溶液は、水又は有機溶媒等が例示される。
【００１４】
有機溶媒は、各種公知のものであってもよい。有機溶媒として、ケトン溶媒、芳香族溶媒、アルコール溶媒、グリコールエーテル溶媒、エステル溶媒、石油系溶媒、ハロアルカン溶媒、アミド溶媒等が例示される。
【００１５】
ケトン溶媒として、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が例示される。
【００１６】
芳香族溶媒として、トルエン、キシレン等が例示される。
【００１７】
アルコール溶媒として、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール等が例示される。
【００１８】
グリコールエーテル溶媒として、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が例示される。
【００１９】
エステル溶媒として、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブアセテート、セロソルブアセテート等が例示される。
【００２０】
石油系溶媒として、ソルベッソ＃１００（エクソン社製）、ソルベッソ＃１５０（エクソン社製）等が例示される。
【００２１】
ハロアルカン溶媒として、クロロホルム等が例示される。
【００２２】
アミド溶媒として、ジメチルホルムアミド等が例示される。
【００２３】
有機溶媒として例示された物質及び有機溶媒として公知のものを単独で、或いは２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００２４】
酸化アルミニウムは、市販された製品であってもよい。当該製品として、酸化アルミニウム粉体（製品名「酸化アルミニウム」、富士フイルム和光純薬（株）製）、酸化アルミニウム水分散体（製品名「アルミナゾル２００」、日産化学（株）製）等が例示される。
【００２５】
酸化スズは、市販された製品であってもよい。当該製品として、酸化スズナノ粉末（製品名「アンチモンフリー透明導電性粉末Ｓ−１」、三菱マテリアル電子化成（株）製）、リンドープ酸化スズナノ粉末（製品名「アンチモンフリー透明導電性粉末ＳＰ−２」、三菱マテリアル電子化成（株）製）、酸化スズ粉末（製品名「酸化第二錫」、日本化学産業（株）製）等が例示される。
【００２６】
酸化亜鉛は、市販された製品であってもよい。当該製品として、酸化亜鉛微粒子（製品名「超微粒子酸化亜鉛」、堺化学工業（株）製）、酸化亜鉛粉末（製品名「酸化亜鉛」、富士フィルム和光純薬（株）製）、酸化亜鉛アニオン系分散体（製品名「水性亜鉛華  ＡＺ−ＳＷ」、大崎工業（株）製）等が例示される。
【００２７】
酸化ジルコニウムは、市販された製品であってもよい。当該製品として、ジルコニア粒子水分散体（製品名「Ｚｉｒｃｏｎｅｏ−Ｃｗ」、（株）アイテック製）、ジルコニア粒子メチルエチルケトン／メタノール分散体（製品名「Ｚｉｒｃｏｎｅｏ−Ｃｋ」、（株）アイテック製）、ジルコニア粒子メチルエチルケトン分散体（製品名「ジルコスターＴｙｐｅ１」、（株）日本触媒製）、ジルコニア粒子粉体（製品名「Ｚｉｒｃｏｎｅｏ−Ｃｐ」「Ｚｉｒｃｏｎｅｏ−Ｒｐ」、（株）アイテック製）等が例示される。
【００２８】
酸化チタンは、市販された製品であってもよい。当該製品として、酸化チタン粉体（製品名「微粒子酸化チタンＭＴ−５００Ｂ」「微粒子酸化チタンＭＴ−６００Ｂ」「微粒子酸化チタンＭＴ−７００Ｂ」、テイカ（株）製）、酸化チタン水溶液（製品名「ミラクルチタン」、金森藤平商事（株）製）等が例示される。
【００２９】
（Ａ）成分は、スズドープ酸化インジウムからなる透明導電層（以下、「ＩＴＯ膜」ともいう。）の配線パターンを見えづらくする効果（以下、「骨見え防止効果」ともいう。）に優れることから、好ましくは酸化ジルコニウム又は酸化チタンである。さらに、（Ａ）成分は、樹脂組成物が十分に硬化すること（以下、「硬化性」ともいう。）に優れることから、好ましくは酸化ジルコニウムである。
【００３０】
＜（Ａ）成分の表面処理＞
（Ａ）成分は表面処理工程を経た金属酸化物粒子であってもよい。表面処理工程とは、粒子表面を表面処理剤で修飾し、疎水化する工程のことである。
【００３１】
表面処理剤は、特に限定されず、各種公知のものであってもよい。表面処理剤として、シロキサン化合物、界面活性剤、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、シラザン等が例示される。
【００３２】
シロキサン化合物として、モノアミン変性シリコーン、ジアミン変性シリコーン、メトキシ変性シリコーン、カルボキシル変性シリコーン、アルコール変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、（メタ）アクリレート変性シリコーン、メチルハイドロジェンシリコーン、脂環式エポキシ変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、（メタ）アクリル変性シリコーン、ハイドロジェン変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、フェノール変性シリコーン、シラノール変性シリコーン、アミノ・ポリエーテル変性シリコーン、エポキシ・ポリエーテル変性シリコーン、エポキシ・アラルキル変性シリコーン、カルボン酸無水物変性シリコーン等の変性シリコーン、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、メチルハイドロジェンシリコーン等のストレートシリコーン等が例示される。
【００３３】
シロキサン化合物は、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、モノアミン変性シリコーン（製品名「ＫＦ−８６８」「ＫＦ−８６５」、信越化学工業（株）製）、ジアミン変性シリコーン（製品名「ＫＦ−８５９」「ＫＦ−３９３」、信越化学工業（株）製）、エポキシ変性シリコーン（製品名「Ｘ−２２−３４３」「ＫＦ−１０１」「Ｘ−２２−２０００」、信越化学工業（株）製）、脂環式エポキシ変性シリコーン（製品名「Ｘ−２２−２０４６」「ＫＦ−１０２」、信越化学工業（株）製）、エポキシ・ポリエーテル変性シリコーン（製品名「Ｘ−２２−４７４１」「ＫＦ−１００２」、信越化学工業（株）製）、エポキシ・アラルキル変性シリコーン（製品名「ＫＦ−１００５」、信越化学工業（株）製）、カルビノール変性シリコーン（製品名「Ｘ−２２−４０３９」「Ｘ−２２−４０１５」、信越化学工業（株）製）、メルカプト変性シリコーン（製品名「ＫＦ−２００１」「ＫＦ−２００４」、信越化学工業（株）製）、カルボキシル変性シリコーン（製品名「Ｘ−２２−３７０１Ｅ」、信越化学工業（株）製）、ハイドロジェン変性シリコーン（製品名「ＫＦ−９９」「ＫＦ−９９０１」、信越化学工業（株）製）、メタクリル変性シリコーン（製品名「Ｘ−２２−１６４」「Ｘ−２２−１６４ＡＳ」、信越化学工業（株）製）、ポリエーテル変性シリコーン（製品名「ＫＦ−３５１Ａ」「Ｘ−２２−４５１５」、信越化学工業（株）製）、フェノール変性シリコーン（製品名「ＫＦ−２２０１」、信越化学工業（株）製）、シラノール変性シリコーン（製品名「Ｘ−２１−５８４１」、信越化学工業（株）製）、アクリル変性シリコーン（製品名「Ｘ−２２−２４４５」、信越化学工業（株）製）、カルボン酸無水物変性シリコーン（製品名「Ｘ−２２−１６８ＡＳ」「Ｘ−２２−１６８Ａ」、信越化学工業（株）製）、ポリジメチルシロキサン（製品名「ＫＦ−９６Ｌ０．６５ｃｓ」、信越化学工業（株）製）、ポリメチルフェニルシロキサン（製品名「ＫＦ−５０−１００ｃｓ」、信越化学工業（株）製）、ポリメチルハイドロジェンシロキサン（製品名「ＫＦ−９９」、信越化学工業（株）製）等が例示される。
【００３４】
界面活性剤として、オレイン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、ラウリン酸ナトリウム、ヘキサンスルホン酸ナトリウム、トルエンスルホン酸ナトリウム、塩化テトラメチルアンモニウム、モノメチルアミン塩酸塩、塩化ブチルピリジニウム、モノステアリン酸グリセリン、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート等が例示される。
【００３５】
界面活性剤は、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、オレイン酸ナトリウム（製品名「オレイン酸ナトリウム」、富士フィルム和光純薬（株）製）、ステアリン酸ナトリウム（製品名「ステアリン酸ナトリウム」、富士フィルム和光純薬（株）製）、ラウリン酸ナトリウム（製品名「ラウリン酸ナトリウム」、富士フィルム和光純薬（株）製）、ヘキサンスルホン酸ナトリウム（製品名「１−ヘキサンスルホン酸ナトリウム」、富士フィルム和光純薬（株）製）、トルエンスルホン酸ナトリウム（製品名「ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム」、富士フィルム和光純薬（株）製）、塩化テトラメチルアンモニウム（製品名「塩化テトラメチルアンモニウム」、ナカライテスク（株）製）、モノメチルアミン塩酸塩（製品名「モノメチルアミン塩酸塩」、昭和化学（株）製）、塩化ブチルピリジニウム（製品名「塩化Ｎ−ｎ−ブチルピリジニウム」、富士フィルム和光純薬（株）製）、モノステアリン酸グリセリン（製品名「レオドール  ＭＳ−５０」、花王（株）製）、ポリオキシエチレンオレイルエーテル（製品名「エマルゲン  ４０４」、花王（株）製）、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート（製品名「レオドールスーパー  ＴＷ−Ｌ１２０」、花王（株）製）等が例示される。
【００３６】
シランカップリング剤として、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３−ウレイドプロピルトリアルコキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、（３−メルカプトプロピル）トリメトキシシラン等が例示される。
【００３７】
シランカップリング剤は、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、ビニルトリメトキシシラン（製品コード「Ｖ００４２」、東京化成工業（株）製）（製品名「ＫＢＭ−１００３」、信越化学工業（株）製）、ビニルトリエトキシシラン（製品名「ＫＢＥ−１００３」、信越化学工業（株）製）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ−３０３」、信越化学工業（株）製）、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ−４０２」、信越化学工業（株）製）、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ−４０３」、信越化学工業（株）製）、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン（製品名「ＫＢＥ−４０２」、信越化学工業（株）製）、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（製品名「ＫＢＥ−４０３」、信越化学工業（株）製）、ｐ−スチリルトリメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ−１４０３」、信越化学工業（株）製）、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ−５０２」、信越化学工業（株）製）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ−５０３」、信越化学工業（株）製）、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン（製品名「ＫＢＥ−５０２」、信越化学工業（株）製）、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ−５１０３」、信越化学工業（株）製）、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ−６０２」、信越化学工業（株）製）、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン（製品名「ＫＢＥ−９１０３」、信越化学工業（株）製）、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート（製品名「ＫＢＭ−９６５９」、信越化学工業（株）製）、３−ウレイドプロピルトリアルコキシシラン（製品名「ＫＢＥ−５８５」、信越化学工業（株）製）、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ−８０２」、信越化学工業（株）製）、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（製品名「ＫＢＥ−９００７」、信越化学工業（株）製）、（３−メルカプトプロピル）トリメトキシシラン（製品コード「Ｍ０９２８」、東京化成工業（株）製）等が例示される。
【００３８】
チタンカップリング剤として、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ（ドデシル）ベンゼンスルホニルチタネート、ネオペンチル（ジアリル）オキシートリ（ジオクチル）ホスフェイトチタネート、ネオペンチル（ジアリル）オキシートリネオドデカノイルチタネート等が例示される。
【００３９】
チタンカップリング剤は、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、イソプロピルトリ（ドデシル）ベンゼンスルホニルチタネート（製品名「イソプロピルトリ（ドデシルベンゼンスルホン酸）チタネート」、ＨＡＮＧＺＨＯＵ  ＪＥＳＳＩＣＡ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ社製）等が例示される。
【００４０】
シラザンとして、ビス（トリメチルシリル）アミン、テトラメチル−１，３−ビス（クロロメチル）ジシラザン、１，３−ビス（３，３，３−トリフルオロプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３−ジフェニルテトラメチルジシラザン、２，２，４，４，６，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン等が例示される。
【００４１】
シラザンは、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、ビス（トリメチルシリル）アミン（製品コード「Ｈ００８９」、東京化成工業（株）製）、テトラメチル−１，３−ビス（クロロメチル）ジシラザン（製品コード「Ｂ０９９０」、東京化成工業（株）製）、１，３−ビス（３，３，３−トリフルオロプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン（製品コード「Ｂ３３１９」、東京化成工業（株）製）、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン（製品コード「Ｄ１７６９」、東京化成工業（株）製）、１，３−ジフェニルテトラメチルジシラザン（製品コード「Ｄ１８１６」、東京化成工業（株）製）、２，２，４，４，６，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン（製品コード「Ｈ０９０９」、東京化成工業（株）製）等が例示される。
【００４２】
表面処理剤として例示されたものを、各種公知の方法で他の化学物質と反応させることも可能である。各種公知の方法として、多官能イソシアネートや多官能（メタ）アクリレート等の反応性基を有する物質と表面処理剤とを混合し、４０℃以上７０℃以下１時間以上６時間以下反応させる方法等が例示される。反応の際には、さらに重合禁止剤や触媒等の従来公知の化学物質を任意で含有してもよい。
【００４３】
（Ａ）成分の表面処理剤は、（Ａ）成分と樹脂組成物のその他成分との相溶性及び樹脂組成物の架橋性が優れることから、好ましくはシランカップリング剤であり、より好ましくはビニルトリメトキシシランであり、さらに好ましくは（メタ）アクリレート構造を持つトリメトキシシランであり、特に好ましくはウレタン（メタ）アクリレート構造含有トリメトキシシランである。
【００４４】
表面処理剤を用いた（Ａ）成分の表面処理方法は、特に限定されず、各種公知のものであってもよい。表面処理剤を用いた（Ａ）成分の表面処理方法として、湿式法、乾式法等が例示される。
【００４５】
湿式法として、
（１）表面処理剤及び（Ａ）成分の分散体、さらに任意で適切な溶液を湿式の混合機（湿式ビーズミルや超音波装置等）に投入し、室温で１５分以上１時間以内混合する方法、
（２）表面処理剤及び（Ａ）成分の分散体、さらに任意で適切な溶液を容器に投入し、５０℃以上１５０℃以下で３０分以上５時間以内加熱する方法、
等が例示される。
【００４６】
乾式法として、表面処理剤と（Ａ）成分の粉体を乾式の混合機（乾式ビーズミルやミキサー等）に投入し、室温で１５分以上１時間以内混合する方法等が例示される。
【００４７】
（Ａ）成分として例示された物質及び（Ａ）成分として公知のものを単独で、或いは２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００４８】
（Ａ）成分の粒子径は、好ましくは５ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。
【００４９】
本明細書において、粒子径の測定は、ＪＩＳ  Ｚ８８２８：２０１３に準拠し、市販の測定機（製品名「ＤＹＮＡＭＩＣ  ＬＩＧＨＴ  ＳＣＡＴＴＥＲＩＮＧ  ＮＡＮＯＰＡＲＴＩＣＬＥ  ＳＩＺＥ  ＡＮＡＬＹＺＥＲ  ＬＢ−５５０」、（株）堀場製作所）を用いた動的光散乱法による粒度分布測定によって行う。
【００５０】
（Ａ）成分の含有量は、特に限定されないが、ＩＴＯ膜の骨見え防止効果に優れることから、樹脂組成物の総量に対して好ましくは固形分換算で４０質量％以上８０質量％以下であり、より好ましくは固形分換算で４５質量％以上８０質量％以下である。
【００５１】
＜（Ｂ）成分＞
（Ｂ）成分は、屈折率が１．５以下の金属酸化物粒子である。（Ｂ）成分の屈折率は、好ましくは、１．４以上１．５以下である。
【００５２】
（Ｂ）成分として、特に限定されず、各種公知のものを使用できる。（Ｂ）成分として、シリカ粒子（屈折率１．４〜１．５）等が例示される。
【００５３】
（Ｂ）成分は、分散体であってもよく、粉体であってもよい。
【００５４】
（Ｂ）成分の分散体の溶液は、特に限定されず、各種公知のものであってもよい。（Ｂ）成分の分散体の溶液は、（Ａ）成分で例示されたものが例示される。
【００５５】
シリカ粒子は、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、シリカ粒子水分散体（製品名「ｓｉｃａｓｔａｒ」、ｍｉｃｒｏｍｏｄ社製）（製品名「シーホスタ−ＫＥ−Ｗ」、（株）日本触媒製）、シリカ粒子エチレングリコール分散体（製品名「シーホスタ−ＫＥ−Ｅ」、（株）日本触媒製）、シリカ粒子粉体（製品名「シーホスタ−ＫＥ−Ｐ」、（株）日本触媒製）、シリカ粒子高純度粉体（製品名「シーホスタ−ＫＥ−Ｓ」、（株）日本触媒製）等が例示される。
【００５６】
（Ｂ）成分は、インデックスマッチング層と透明導電層との付着性が優れることから、好ましくはシリカ粒子である。
【００５７】
＜（Ｂ）成分の表面処理＞
（Ｂ）成分は表面処理工程を経た金属酸化物粒子であってもよい。（Ｂ）成分の表面処理は、（Ａ）成分の表面処理と同様の方法及び表面処理剤等が用いられる。
【００５８】
（Ｂ）成分の表面処理剤は、インデックスマッチング層と透明導電層との付着性が優れることから、好ましくはシロキサン化合物又はシラザンであり、より好ましくはポリジメチルシロキサン又はビス（トリメチルシリル）アミンである。インデックスマッチング層と透明導電層との付着性が優れることのメカニズムについて、詳細は不明であるが、上記表面処理剤の疎水度が高いため（Ｂ）成分の表面エネルギーが下がり、透明導電層側のインデックスマッチング層表面に（Ｂ）成分が移行しやすくなることで付着性が優れたものとなっていると考えている。
【００５９】
（Ｂ）成分として、表面処理済みの製品を使用してもよい。当該製品として、ポリジメチルシロキサンで表面処理されたシリカ分散体（製品名「ＮＡＮＯＢＹＫ−３６５０」、ビックケミー・ジャパン（株）製、平均粒子径２０ｎｍ）、ビス（トリメチルシリル）アミンで表面処理されたシリカ分散体（製品名「ＹＡ０１０−ＬＦＧ」、（株）アドマテックス製、平均粒子径２０ｎｍ）、（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシランで表面処理されたシリカ分散体（製品名「ＥＬＣＯＭ  Ｖ８８０４」、日揮触媒化成（株）製、平均粒子径１０ｎｍ）等が例示される。
【００６０】
（Ｂ）成分として例示された物質及び（Ｂ）成分として公知のものを単独で、或いは２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００６１】
（Ｂ）成分の粒子径は、好ましくは５ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。
【００６２】
（Ｂ）成分の含有量は、特に限定されないが、インデックスマッチング層と透明導電層との付着性が優れることから、樹脂組成物の総量に対して好ましくは固形分換算で３質量％以上２０質量％以下であり、より好ましくは固形分換算で５質量％以上１３質量％以下である。
【００６３】
（Ａ）成分の金属元素と（Ｂ）成分の金属元素の樹脂組成物中の含有量比（質量比）は、特に限定されないが、ＩＴＯ膜の骨見え防止効果に優れ、インデックスマッチング層の強度が優れることから、好ましくは固形分換算で［（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素］＝１／２〜１／１５であり、より好ましくは１／３〜１／１４であり、さらにより好ましくは１／３．５〜１／１３であり、特に好ましくは１／３．５〜１／１２．５であり、さらに特に好ましくは１／４〜１／１２．３である。インデックスマッチング層の強度が優れることの推定される要因は以下のものが考えられる。優れた屈折率を呈するために一定量以上の（Ａ）成分を樹脂組成物に含有させることが好ましく、その際に（Ａ）成分の含有量に相対して（Ｂ）成分の含有量が多くなりすぎないことで、樹脂組成物中の粒子濃度が過剰となりすぎず、結果としてインデックスマッチング層の強度が優れたものとなっていると考えている。
【００６４】
＜（Ｃ）成分＞
（Ｃ）成分は、（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。
【００６５】
（Ｃ）成分は、特に限定されず、各種公知のものであってもよい。（Ｃ）成分として、（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物、（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物等が例示される。
【００６６】
（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、１つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、２つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、３つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、４つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、５つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、６つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物等が例示される。
【００６７】
１つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、イソアミル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、エトキシ−ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ−トリエチレングルコール（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル−ジグルコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等が例示される。
【００６８】
２つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビス（メタクリロイルオキシ）プロパノール、デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等が例示される。
【００６９】
３つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等が例示される。
【００７０】
４つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が例示される。
【００７１】
５つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が例示される。
【００７２】
６つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が例示される。
【００７３】
（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物として、１つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物、２つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物、３つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物、４つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物、５つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物、６つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物等が例示される。
【００７４】
１つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物として、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が例示される。
【００７５】
２つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物として、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート等が例示される。
【００７６】
３つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物として、エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が例示される。
【００７７】
（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物として、１つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物、２つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物、３つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物、４つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物、５つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物、６つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物等が例示される。
【００７８】
１つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物として、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシ化ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート等が例示される。
【００７９】
２つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物として、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、９，９−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビス（メタ）アクリル酸［３，３‘−［イソプロピリデンビス（ｐ−フェニレンオキシ）］ビス（２−ヒドロキシプロパン）］−１，１’−ジイル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物等が例示される。
【００８０】
（Ｃ）成分は、（メタ）アクリロイル基以外の１以上の官能基等をさらに有し、（メタ）アクリロイル基を有する化合物であってもよい。（メタ）アクリロイル基以外の官能基等として、エポキシ基、ケトン基、カルボキシル基、ウレタン結合等が例示される。例えば、ウレタン結合を有し、（メタ）アクリロイル基を有する化合物は、上記（メタ）アクリロイル基を有する化合物と各種公知の多官能イソシアネートとの反応物であってもよい。なお、本明細書において、多官能イソシアネートとは、イソシアネート基（−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）を２以上有するものを指す。
【００８１】
多官能イソシアネートとして、特に限定されず、各種公知のものを使用できる。多官能イソシアネートとして、脂肪族多官能イソシアネート、脂環式多官能イソシアネート、芳香族多官能イソシアネート等が例示される。
【００８２】
脂肪族多官能イソシアネートとして、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、ジイソシアナトヘキサン酸メチル、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジントリイソシアネート等が例示される。
【００８３】
脂環式多官能イソシアネートとして、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、シクロヘキサンジイルビス（メチレン）ジイソシアナート、メチルシクロヘキサンジイルジイソシアネート、ノルボルネンメタンジイソシアネート等が例示される。
【００８４】
芳香族多官能イソシアネートとして、トルエンジイソシアネート、メチリジントリス（イソシアナトベンゼン）、キシレンジイソシアネート、ジイソシアナトナフタレン等が例示される。
【００８５】
（Ｃ）成分は、樹脂組成物を塗工した後硬化した塗膜（以下、「塗膜」ともいう。）であるインデックスマッチング層が耐擦傷性に優れることから、好ましくは２以上の（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物及び／又はウレタン結合を有し、（メタ）アクリロイル基を有する化合物であり、より好ましくは３つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、４つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物及び／又は脂環式多官能イソシアネートと（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物との反応物であり、さらに好ましくはペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート及び／又はイソホロンジイソシアネートとペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレートとの反応物である。耐擦傷性に優れることのメカニズムとして、詳細については不明であるが、化学反応を経て架橋構造を形成しうる官能基を上述する数分子内に有することで、反応後に得られる生成物の架橋密度が高くなり、結果として耐擦傷性に優れるインデックスマッチング層を得られると考えている。
【００８６】
（Ｃ）成分は、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート（製品名「７０１Ａ」、新中村化学工業（株）製）、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ−２００」「Ａ−４００」、新中村化学工業（株）製）、ビス（メタクリロイルオキシ）プロパノール（製品コード「Ｂ２９３８」、東京化成工業（株）製）、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート（製品コード「Ｈ１３６９」、東京化成工業（株）製）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭ−３」「Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」、新中村化学工業（株）製）、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ−ＴＭＭＴ」、新中村化学工業（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ−ＤＰＨ」、新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ−ＤＣＰ」、新中村化学工業（株）製）、エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ−９３００」、新中村化学工業（株）製）、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ−Ｂ１２０６ＰＥ」、新中村化学工業（株）製）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートの混合物（製品名「ＰＥＴＡ」、ダイセル・オルネクス（株）製）（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０」、日本化薬（株）製）、フェニルグリシジルエーテル（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（製品名「ＡＨ−６００」、共栄社化学（株））、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（製品名「ＵＡ−３０６Ｈ」、共栄社化学（株））、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー（製品名「ＵＡ−３０６Ｉ」、共栄社化学（株））等が例示される。
【００８７】
（Ｃ）成分として例示された物質及び（Ｃ）成分として公知のものを単独で、或いは２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００８８】
（Ｃ）成分の重量平均分子量は、特に限定されないが、塗膜が耐擦傷性に優れることから、好ましくは２００以上１，５００以下であり、より好ましくは２５０以上１，４００以下である。なお、本明細書において重量平均分子量は、ゲルパーメーションクロマトグラフィー法によるポリスチレン換算値である。
【００８９】
（Ｃ）成分の炭素数は、特に限定されないが、塗膜が耐擦傷性に優れることから、好ましくは１０以上８０以下であり、より好ましくは１４以上７０以下である。
【００９０】
（Ｃ）成分の含有量は、特に限定されないが、塗膜が耐擦傷性に優れることから、樹脂組成物の総量に対して好ましくは固形分換算で１０質量％以上５０質量％以下であり、より好ましくは固形分換算で１２質量％以上４５質量％以下である。
【００９１】
＜（Ｄ）成分＞
（Ｄ）成分は、光重合開始剤である。（Ｄ）成分は、紫外線等のエネルギーによってフリーラジカルを発生する化合物である。樹脂組成物に（Ｄ）成分を含有することで、樹脂組成物はさらに硬化性に優れる。
【００９２】
（Ｄ）成分として、各種公知のものを使用できる。（Ｄ）成分として、ラジカル系光重合開始剤、カチオン系光重合開始剤、アニオン系光重合開始剤等が例示される。
【００９３】
ラジカル系光重合開始剤として、アルキルフェノン型光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド型光重合開始剤、水素引き抜き型光重合開始剤、オキシムエステル型光重合開始剤等が例示される。
【００９４】
アルキルフェノン型光重合開始剤として、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンジルジメチルケタール、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン等のα−ヒドロキシアルキルフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等のα−アミノアルキルフェノン等が例示される。
【００９５】
アシルフォスフィンオキサイド型光重合開始剤として、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド等が例示される。
【００９６】
水素引き抜き型光重合開始剤として、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル等が例示される。
【００９７】
オキシムエステル型光重合開始剤として、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が例示される。
【００９８】
カチオン系光重合開始剤として、ヨードニウム，（４−メチルフェニル）］４−（２−メチルプロピル）フェニル］−ヘキサフルオロフォスフェート（１−）及びプロピレンカーボネートの混合物、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート、トリアリールスルフォニウム テトラキス−（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が例示される。
【００９９】
アニオン系光重合開始剤として、コバルトアミン系錯体、ｏ−ニトロベンジルアルコールカルバミン酸エステル、オキシムエステル等が例示される。
【０１００】
（Ｄ）成分として例示された物質及び（Ｄ）成分として公知のものを単独で、或いは２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【０１０１】
（Ｄ）成分は、樹脂組成物の硬化速度が優れるため、好ましくはラジカル系光重合開始剤であり、より好ましくはアルキルフェノン型光重合開始剤であり、さらに好ましくはα−アミノアルキルフェノンであり、特に好ましくは２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オンである。
【０１０２】
（Ｄ）成分として、市販された製品を使用してもよい。当該製品として、特に限定されないが、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ（以下、「オムニラッド」ともいう。）  ６５１」、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製）、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（製品名「オムニラッド  ２９５９」、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製）、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（製品名「オムニラッド  １２７」、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製）、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（製品名「オムニラッド  ９０７」、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製）、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド（製品名「オムニラッド  ＴＰＯ  Ｈ」、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（製品名「オムニラッド  ８１９」、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製）、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル（製品名「オムニラッド  ＭＢＦ」、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製）、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１」、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０２」、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ヨードニウム，（４−メチルフェニル）］４−（２−メチルプロピル）フェニル］−ヘキサフルオロフォスフェート（１−）及びプロピレンカーボネートの混合物（製品名「Ｏｍｎｉｃａｔ（以下、「オムニキャット」ともいう。）  ２５０」、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製）、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート（製品名「オムニキャット  ２７０」、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製）、トリアリールスルフォニウムテトラキス−（ペンタフルオロフェニル）ボレート（製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２９０」、ＢＡＳＦジャパン（株）製）等が例示される。
【０１０３】
（Ｄ）成分の含有量は、樹脂組成物の硬化性が優れ、塗膜に不要な（Ｄ）成分が残存しないことから、樹脂組成物の総量に対して好ましくは固形分換算で０．５質量％以上１０質量％以下、より好ましくは固形分換算で２質量％以上５質量％以下である。
【０１０４】
＜その他配合可能な剤＞
樹脂組成物には、更に、アクリル樹脂、エポキシ樹脂やウレタン樹脂等の各種公知の樹脂、充填剤、離型剤、難燃剤、粘度調節剤、可塑剤、抗菌剤、防黴剤、消泡剤、着色剤、安定剤、顔料、表面調整剤、各種溶剤及び光増感剤等から選択される１種以上の剤を配合できる。
【０１０５】
＜硬化物＞
樹脂組成物に紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより硬化した物もまた本発明の１つである。
【０１０６】
紫外線照射により硬化させる方法として、１５０ｎｍ波長域以上４５０ｎｍ波長域以下の光を発する高圧水銀ランプ、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、無電極放電ランプ又はＬＥＤ等を用いて、１０ｍＪ／ｃｍ２以上１０，０００ｍＪ／ｃｍ２以下程度照射する方法が例示される。紫外線照射前は、必要に応じて加熱を行って乾燥させてもよい。紫外線照射後は、必要に応じて加熱を行って完全に硬化させてもよい。
【０１０７】
＜インデックスマッチング層＞
本発明は、樹脂組成物を基材の少なくとも一方の面に塗工、硬化してなるインデックスマッチング層でもある。本発明のインデックスマッチング層には、基材の反対側に透明導電層を設けることが考えられる。すなわち、基材、インデックスマッチング層、透明導電層の順に設けることが考えられる。本発明のインデックスマッチング層は、当該透明導電層にスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を使用しても骨見えの発生を抑えることが可能であり、透明基材や透明導電層との付着性にも優れる。
【０１０８】
本発明のインデックスマッチング層は、成分が偏析する。例えば、（Ａ）成分は透明基材側のインデックスマッチング層において濃度が高く、透明導電層側のインデックスマッチング層において濃度が低い。また、（Ｂ）成分は透明基材側のインデックスマッチング層表層において濃度が低く、透明導電層側のインデックスマッチング層表層において濃度が高い。
【０１０９】
上記濃度の分析手法として、ＪＩＳ  Ｋ０１６２：２０１０に準拠した、市販のＸ線光電子分光分析装置（製品名「ＥＳＣＡ−３４００ＨＳＥ」、（株）島津製作所製）による測定が例示される。当該方法によると、例えば、透明導電層側のインデックスマッチング層表層の（Ａ）成分の金属元素と（Ｂ）成分の金属元素との質量比を測定できる。
【０１１０】
Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）では、測定対象の表面から０．１ｎｍ以上１０ｎｍ以下程度の深さの元素を観察している。透明導電層側のインデックスマッチング層表層の測定を行った場合、透明導電層側のインデックスマッチング層表層に存在する（Ｂ）成分の金属元素の質量を測定することができ、他の元素（例えば、（Ａ）成分の金属元素）の割合と比較しての数値化が可能である。ＸＰＳの具体的な測定条件については、実施例に記載する。
【０１１１】
透明導電層側のインデックスマッチング層表層の（Ｂ）成分の金属元素と（Ａ）成分の金属元素との質量比（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）は、（Ｂ）成分の金属元素が透明導電層との付着性を向上させることから、（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）が０．３以上であり、好ましくは（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）が０．３以上４．０以下であり、より好ましくは（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）が０．３以上３．０以下である。（Ａ）成分を酸化ジルコニウム、（Ｂ）成分をシリカとした場合、透明導電層側のインデックスマッチング層表層のＳｉ元素とＺｒ元素の質量比（Ｓｉ／Ｚｒ）は、Ｓｉ元素の比率が高ければ高い程、インデックスマッチング層と透明導電層との付着性が良好となり、積層体の色相も良好となることから好ましい。
【０１１２】
上記付着性の分析手法として、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６に準じたクロスカット法が例示される。
【０１１３】
ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６に準じたクロスカット法によるインデックスマッチング層と透明導電層との間で剥離する割合は、好ましくは１０％未満である。
【０１１４】
当該インデックスマッチング層の厚みは、好ましくは１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である。厚みをこの範囲とすることで、良好な骨見え防止効果と優れた光学特性の両立ができる。
【０１１５】
樹脂組成物の塗工方法として、スピンコーター塗工、バーコーター塗工、メイヤーバー塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、リバースグラビア塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷又はスクリーン印刷法等が例示される。
【０１１６】
塗工量は特に限定されないが、通常は、乾燥後の質量が０．０１ｇ／ｍ２以上１ｇ／ｍ２以下であり、好ましくは０．０５ｇ／ｍ２以上０．５ｇ／ｍ２以下になる範囲である。
【０１１７】
インデックスマッチング層の屈折率は、透明導電層の骨見えを抑制できることから、１．６２以上１．７２以下である。なお、通常基材の屈折率は１．４８以上１．６５以下であり、透明導電層の屈折率は１．８０以上２．３０以下である。
【０１１８】
本明細書において、屈折率とは、光が空気中からある物質中に進むとき，その界面で生じる屈折現象における入射角αの正弦と屈折角βの正弦との比のことである。具体的な方法として、アッベ屈折計（製品名「ＮＡＲ−１Ｔ  ＳＯＬＩＤ」、（株）アタゴ製）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１４２：２０１４に準拠し、ナトリウムのＤ線の波長に対する屈折率を測定する方法が挙げられる。
【０１１９】
＜基材＞
本明細書において、基材とは下記に挙げる各種基材のほか、各種基材に任意のハードコート層を設けたものも含める。そのような各種基材として、各種公知の金属、プラスチック、フィルム、ガラス、その他の樹脂等が例示される。
【０１２０】
金属として、鉄、アルミニウム、アルミめっき鋼板、チンフリー鋼板（ＴＦＳ）、ステンレス鋼板、リン酸亜鉛処理鋼板、亜鉛・亜鉛合金めっき鋼板（ボンデ鋼板）の処理鋼板等が例示される。
【０１２１】
プラスチックとして、ＡＢＳ、ポリイミド（ＰＩ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル（ＰＥ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のアクリル、ＦＲＰ、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等が例示される。
【０１２２】
フィルムとして、ＰＥＴ、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が例示される。
【０１２３】
その他の基材として、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ノルボルネン系樹脂、その他ハードコート剤として従来使用される樹脂等が例示される。
【０１２４】
当該基材は、好ましくは透明な基材であり、インデックスマッチング層と共に使用される各種公知の基材である。
【０１２５】
基材の厚みは、好ましくは２０μｍ以上１２５μｍ以下であり、さらに好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。厚みをこの範囲とすることで、積層体を薄型化することができる。
【０１２６】
＜透明導電層＞
樹脂組成物を、各種透明導電層に適用できる。各種透明導電層として、ＳｎＯ２透明導電層、スズドープ酸化インジウム透明導電層、酸化亜鉛透明導電層、酸化銅透明導電層、ヨウ化銅透明導電層等が例示される。
【０１２７】
透明導電層の形成方法として、各種公知の方法を使用できる。透明導電層の形成方法として、スパッタリング法、蒸着法等が例示される。
【０１２８】
透明導電層として、比抵抗が小さく、透明性に優れることから、好ましくはスズドープ酸化インジウム透明導電層である。
【０１２９】
透明導電層の厚みは、好ましくは１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。厚みをこの範囲とすることで、良好な比抵抗と透明性の高い導電層を得ることができる。
【０１３０】
＜積層体＞
本発明は、透明基材上にインデックスマッチング層、透明導電層をこの順に有する積層体に関する。
【実施例】
【０１３１】
以下に、製造例、実施例、比較例、評価例及び比較評価例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、以下の説明で、部および％は質量基準である。
【０１３２】
以下の実施例において平均粒子径の測定は、ＪＩＳ  Ｚ８８２８：２０１３に準拠し、市販の測定機（製品名「ＤＹＮＡＭＩＣ  ＬＩＧＨＴ  ＳＣＡＴＴＥＲＩＮＧ  ＮＡＮＯＰＡＲＴＩＣＬＥ  ＳＩＺＥ  ＡＮＡＬＹＺＥＲ  ＬＢ−５５０」、（株）堀場製作所）を用いた動的光散乱法による粒度分布測定によって行った。
【０１３３】
＜ウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤の作製＞
攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管及び空気導入口を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート２０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物７２質量部（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０」、日本化薬（株）製）、（３−メルカプトプロピル）トリメトキシシラン８質量部、重合禁止剤として２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０２質量部、並びに触媒としてジオクチル錫ジラウレート０．２質量部を混合し、反応を７０℃５時間の条件で行った。反応終了後に、ウレタン（メタ）アクリレート構造含有トリメトキシシラン、ウレタン（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートをそれぞれ３分の１質量％ずつ含有する混合物が得られた。以下の実施例においてウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤とは、反応終了後に得られたこの混合物のことである。
【０１３４】
＜製造例１：ウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤で表面処理したジルコニア粒子＞
攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管及び空気導入口を備えた反応容器に、固形分換算で５２．７質量％のジルコニア分散体（固形分：３０％、溶液：プロピレングリコールモノメチルエーテル）と３３．２質量％のウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤を混合し、６０℃４時間の条件で反応を行い、表面処理されたジルコニア分散体を製造した。平均粒子径は２５ｎｍであった。
【０１３５】
＜製造例２：ウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤で表面処理したシリカ粒子＞
攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管及び空気導入口を備えた反応容器に、固形分換算で９．４質量％のシリカ分散体（固形分：３０％、溶液：メチルエチルケトン（以下、「ＭＥＫ」ともいう。）と１．３質量％のウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤を混合し、６０℃４時間の条件で反応を行い、表面処理されたシリカ分散体を製造した。平均粒子径１０ｎｍであった。
【０１３６】
＜実施例１：樹脂組成物（Ａ１）の作製＞
攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管及び空気導入口を備えた反応容器に、ウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤で表面処理したジルコニア粒子を固形分として８５．９質量部、ポリジメチルシロキサンで処理された平均粒子径２０ｎｍのシリカ分散体（製品名「ＮＡＮＯＢＹＫ３６５０」、ビックケミー・ジャパン（株）製）を固形分として１０．７質量部、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（製品名「ＯＭＮＩＲＡＤ１２７」、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製）を固形分として３．４質量部混合し、酢酸ブチルで固形分が２０％になるように調整して樹脂性組成物（Ａ１）を得た。
【０１３７】
＜実施例２〜４及び比較例１〜６＞
下記の表１又は表２に示す組成に変更した以外は樹脂組成物（Ａ１）と同様に操作し、樹脂組成物（Ａ２）〜（Ａ４）（実施例２〜４）、樹脂組成物（Ｂ１）〜（Ｂ６）（比較例１〜６）を得た。
【０１３８】
＜評価例１：積層体（Ａ１−１）及び積層体（Ａ１−２）の作製＞
バーコーターを用いて、シクロオレフィンポリマー（以下、「ＣＯＰ」ともいう。）フィルム上にシリカ含有ハードコート剤（製品名「オプスターＺ７５３７」、ＪＳＲ（株）製、屈折率：１．４９、固形分：５０％）を乾燥後の膜厚が１μｍになるように塗布し、８０℃３分で市販の温風乾燥機において乾燥した。その後、高圧水銀灯を用いて空気下で照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してハードコートフィルムを形成した。次に得られたハードコートフィルム上に樹脂組成物（Ａ１）を乾燥後の膜厚が０．１μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、８０℃１分で市販の温風乾燥機において乾燥した。その後、高圧水銀灯を用いて空気下で照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してインデックスマッチング層を形成し、積層体（Ａ１−１）を得た。さらに、インデックスマッチング層の表面にスズドープ酸化インジウム（以下、「ＩＴＯ」ともいう。）からなる透明導電層をスパッタリング法で２０ｎｍの厚みで形成し、透明導電層上に銅からなる金属層をスパッタリング法で１００ｎｍの厚みで形成し、積層体（Ａ１−２）を得た。
【０１３９】
＜評価例２〜４：積層体（Ａ２−１）〜（Ａ４−１）及び積層体（Ａ２−２）〜（Ａ４−２）の作製＞
樹脂組成物（Ａ１）を樹脂組成物（Ａ２）〜（Ａ４）に変更した以外は評価例１と同様に操作し、積層体（Ａ２−１）〜（Ａ４−１）を作製した。積層体（Ａ１−１）を積層体（Ａ２−１）〜（Ａ４−１）に変更した以外は評価例１と同様に操作し、積層体（Ａ２−２）〜（Ａ４−２）を作製した。
【０１４０】
＜比較評価例１〜６：積層体（Ｂ１−１）〜（Ｂ６−１）及び積層体（Ｂ１−２）〜（Ｂ６−２）の作製＞
樹脂組成物（Ａ１）を、樹脂組成物（Ｂ１）〜（Ｂ６）に変更した以外は評価例１と同様に操作し、積層体（Ｂ１−１）〜（Ｂ６−１）を作製した。積層体（Ａ１−１）を積層体（Ｂ１−１）〜（Ｂ６−１）に変更した以外は評価例１と同様に操作し、積層体（Ｂ１−２）〜（Ｂ６−２）を作製した。
【０１４１】
＜性能評価：塗膜表面元素比（Ｓｉ／Ｚｒ）＞
市販のＸ線光電子分光分析装置（製品名「ＥＳＣＡ−３２００」、（株）島津製作所製、真空度「３ｘ１０−５Ｐａ」、アノード電圧「８〜１０ｋＶ」、エネルギー走査範囲「Ｓｉ：２ｐ  ８９．２〜１１４．２ｅＶ、Ｚｒ：３ｄ  １７３．０〜１９８．０ｅＶ）を用いて積層体（Ａ１−１）〜（Ａ４−１）又は積層体（Ｂ１−１）〜（Ｂ６−１）におけるインデックスマッチング層表面の解析を行い、得られたデータからインデックスマッチング層表面におけるＳｉ元素とＺｒ元素の質量比を算出した。なお、本実施例においてインデックスマッチング層表面とは、透明導電層と接触する側の表面を指す。
【０１４２】
＜性能評価：ＩＴＯ膜付着性＞
積層体（Ａ１−２）〜（Ａ４−２）又は積層体（Ｂ１−２）〜（Ｂ６−２）に対して、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６に準拠し、クロスカット法によりＩＴＯ層とインデックスマッチング層との間の付着性を評価した。評価基準を以下に示す。
○：どの格子の目にも剥がれが無い
△：はがれが０％超１０％未満
×：はがれが１０％以上、又は積層体が破断
【０１４３】
＜性能評価：屈折率（ｎＤ）＞
積層体（Ａ１−１）〜（Ａ４−１）又は積層体（Ｂ１−１）〜（Ｂ６−１）のインデックスマッチング層に対して、ＪＩＳ  Ｋ７１４２：２０１４に準拠し、アッベ屈折計（製品名「ＮＡＲ−１Ｔ  ＳＯＬＩＤ」、（株）アタゴ製）を用いてナトリウムのＤ線の波長に対する屈折率を測定した。
【０１４４】
＜性能評価：ヘイズ（％）＞
積層体（Ａ１−２）〜（Ａ４−２）又は積層体（Ｂ１−２）〜（Ｂ６−２）に対して、ＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠し、カラーヘーズメーターを用いて測定を行った。
【０１４５】
＜性能評価：全光線透過率（％）＞
積層体（Ａ１−２）〜（Ａ４−２）又は積層体（Ｂ１−２）〜（Ｂ６−２）に対して、ＪＩＳ  Ｋ７３７５：２００８に準拠し、カラーヘーズメーターを用いて測定を行った。
【０１４６】
【表１】
2020056019.tif 000002
【０１４７】
【表２】
2020056019.tif 000003
【０１４８】
表１及び表２の用語の意味は下記のとおりである。
ポリジメチルシロキサン処理シリカ粒子：製品名「ＮＡＮＯＢＹＫ−３６５０」、ビックケミー・ジャパン（株）製
ビス（トリメチルシリル）アミン処理シリカ粒子：製品名「ＹＡ０１０−ＬＦＧ」、（株）アドマテックス製
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理シリカ粒子：製品名「ＥＬＣＯＭ  Ｖ８８０４」、日揮触媒化成（株）製
アクリレート化合物：ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０」、日本化薬（株）製）
なお、表中のウレタン（メタ）アクリレート構造含有トリメトキシシランで表面処理されたジルコニア粒子の質量部は、当該粒子以外にウレタン（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートの質量部も含んでいる。ウレタン（メタ）アクリレート構造含有トリメトキシシランで表面処理されたジルコニア粒子の質量部からジルコニア粒子の質量部であるＺｒＯ２含有量を差し引いた値が表面処理剤の質量部であり、表面処理剤の質量部の内３分の１質量％ずつが、ウレタン（メタ）アクリレート構造含有トリメトキシシラン、ウレタン（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートの質量部である。