(57)【要約】【課題】液体噴射ヘッドにより噴射される液体に含有される成分の沈降を抑制する。【解決手段】液体を貯留する第１液体貯留室と当該第１液体貯留室内の液体を噴射する第１ノズルとを含む第１液体噴射部と、液体を貯留する第２液体貯留室と当該第２液体貯留室内の液体を噴射する第２ノズルとを含む第２液体噴射部と、複数の基板の積層により構成され、前記第１液体貯留室および前記第２液体貯留室に液体を供給する分配流路が内部に形成された流路構造体とを具備する液体噴射ヘッドであって、前記分配流路は、液体が流通する共通流路と、前記共通流路に液体を供給する供給流路と、前記共通流路から液体を回収する回収流路と、前記共通流路と前記第１液体貯留室とを連通する第１連通流路と、前記共通流路と前記第２液体貯留室とを連通する第２連通流路とを含む液体噴射ヘッド。【選択図】図７
2020142453.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を貯留する第１液体貯留室と当該第１液体貯留室内の液体を噴射する第１ノズルとを含む第１液体噴射部と、
液体を貯留する第２液体貯留室と当該第２液体貯留室内の液体を噴射する第２ノズルとを含む第２液体噴射部と、
複数の基板の積層により構成され、前記第１液体貯留室および前記第２液体貯留室に液体を供給する分配流路が内部に形成された流路構造体と
を具備する液体噴射ヘッドであって、
前記分配流路は、
液体が流通する共通流路と、
前記共通流路に液体を供給する供給流路と、
前記共通流路から液体を回収する回収流路と、
前記共通流路と前記第１液体貯留室とを連通する第１連通流路と、
前記共通流路と前記第２液体貯留室とを連通する第２連通流路とを含む
液体噴射ヘッド。
【請求項２】
前記複数の基板は、前記供給流路および前記回収流路が形成された第１基板と、前記第１連通流路および前記第２連通流路が形成された第２基板とを含む
請求項１の液体噴射ヘッド。
【請求項３】
前記供給流路および前記回収流路は、前記第１基板を板厚方向に貫通する貫通孔である
請求項２の液体噴射ヘッド。
【請求項４】
前記第１液体貯留室と前記第２液体貯留室とは第１方向に並設され、
前記共通流路は、前記第１方向に沿って延在する
請求項１から請求項３の何れかの液体噴射ヘッド。
【請求項５】
前記第１液体貯留室および前記第２液体貯留室は、前記第１方向に交差する第２方向に沿う長尺状の空間である
請求項４の液体噴射ヘッド。
【請求項６】
前記供給流路に供給される液体が通過するフィルター
を具備する請求項１から請求項５の何れかの液体噴射ヘッド。
【請求項７】
下流側の液体の圧力に応じて開閉する第１調整弁と、
下流側の液体の圧力に応じて開閉する第２調整弁とを具備し、
前記第１調整弁を通過する液体が前記供給流路に供給され、
前記回収流路により回収される液体が前記第２調整弁に供給される
請求項１から請求項６の何れかの液体噴射ヘッド。
【請求項８】
前記供給流路に供給される液体を通過させる開状態と液体を遮断する閉状態とに制御される第１開閉弁と、
前記第１開閉弁と前記供給流路との間の液体を加圧する加圧機構と、
前記回収流路により回収される液体を通過させる開状態と液体を遮断する閉状態とに制御される第２開閉弁と
を具備する請求項１から請求項７の何れかの液体噴射ヘッド。
【請求項９】
液体を貯留する第１液体貯留室と当該第１液体貯留室内の液体を噴射する第１ノズルとを含む第１液体噴射部と、
液体を貯留する第２液体貯留室と当該第２液体貯留室内の液体を噴射する第２ノズルとを含む第２液体噴射部と、
液体を貯留する第３液体貯留室と当該第３液体貯留室内の液体を噴射する第３ノズルとを含む第３液体噴射部と、
液体を貯留する第４液体貯留室と当該第４液体貯留室内の液体を噴射する第４ノズルとを含む第４液体噴射部と、
複数の基板の積層により構成され、前記第１液体貯留室および前記第２液体貯留室に液体を供給する第１分配流路と、前記第３液体貯留室および前記第４液体貯留室に液体を供給する第２分配流路と、が内部に形成された流路構造体と
を具備する液体噴射ヘッドであって、
前記第１分配流路は、
液体が流通する第１共通流路と、
前記第１共通流路に液体を供給する第１供給流路と、
前記第１共通流路から液体を回収する第１回収流路と、
前記第１共通流路と前記第１液体貯留室とを連通する第１連通流路と、
前記第１共通流路と前記第２液体貯留室とを連通する第２連通流路とを含み、
前記第２分配流路は、
液体が流通する第２共通流路と、
前記第２共通流路に液体を供給する第２供給流路と、
前記第２共通流路から液体を回収する第２回収流路と、
前記第２共通流路と前記第３液体貯留室とを連通する第３連通流路と、
前記第２共通流路と前記第４液体貯留室とを連通する第４連通流路とを含む
液体噴射ヘッド。
【請求項１０】
液体を噴射する液体噴射ヘッドと、
循環機構とを具備する液体噴射装置であって、
前記液体噴射ヘッドは、
液体を貯留する第１液体貯留室と当該第１液体貯留室内の液体を噴射する第１ノズルとを含む第１液体噴射部と、
液体を貯留する第２液体貯留室と当該第２液体貯留室内の液体を噴射する第２ノズルとを含む第２液体噴射部と、
複数の基板の積層により構成され、前記第１液体貯留室および前記第２液体貯留室に液体を供給する分配流路が内部に形成された流路構造体とを具備し、
前記分配流路は、
液体が流通する共通流路と、
前記共通流路に液体を供給する供給流路と、
前記共通流路から液体を回収する回収流路と、
前記共通流路と前記第１液体貯留室とを連通する第１連通流路と、
前記共通流路と前記第２液体貯留室とを連通する第２連通流路とを含み、
前記循環機構は、前記回収流路により回収される液体を前記分配流路に環流させる
液体噴射装置。
【請求項１１】
媒体に液体を噴射する液体噴射ヘッドと、
前記媒体を搬送する搬送機構とを具備し、
前記液体噴射ヘッドは、
液体を貯留する第１液体貯留室と当該第１液体貯留室内の液体を噴射する第１ノズルとを含む第１液体噴射部と、
液体を貯留する第２液体貯留室と当該第２液体貯留室内の液体を噴射する第２ノズルとを含む第２液体噴射部と、
複数の基板の積層により構成され、前記第１液体貯留室および前記第２液体貯留室に液体を供給する分配流路が内部に形成された流路構造体とを具備し、
前記分配流路は、
液体が流通する共通流路と、
前記共通流路に液体を供給する供給流路と、
前記共通流路から液体を回収する回収流路と、
前記共通流路と前記第１液体貯留室とを連通する第１連通流路と、
前記共通流路と前記第２液体貯留室とを連通する第２連通流路とを含み、
前記共通流路は、前記媒体が搬送される方向に交差する方向に沿って延在する
液体噴射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液体容器から供給されるインク等の液体を複数の液体噴射部に分配する構成の液体噴射装置が従来から提案されている。例えば特許文献１には、複数のノズルから液体を噴射する複数の噴射ヘッド部と、液体容器から供給される液体を複数の噴射ヘッド部に分配する液体分配部と、を具備する液体噴射ヘッドが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−１７４３９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の構成では、液体を複数の系統に分配する流路内において、液体に含有される成分が沈降する場合がある。例えば、顔料が分散されたインクを噴射する構成では、分配用の流路内に顔料が沈降する場合がある。以上のように液体の成分が沈降した状態では、所期の特性の液体を噴射できない可能性がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
以上の課題を解決するために、本発明のひとつの態様に係る液体噴射ヘッドは、液体を貯留する第１液体貯留室と当該第１液体貯留室内の液体を噴射する第１ノズルとを含む第１液体噴射部と、液体を貯留する第２液体貯留室と当該第２液体貯留室内の液体を噴射する第２ノズルとを含む第２液体噴射部と、複数の基板の積層により構成され、前記第１液体貯留室および前記第２液体貯留室に液体を供給する分配流路が内部に形成された流路構造体とを具備する液体噴射ヘッドであって、前記分配流路は、液体が流通する共通流路と、前記共通流路に液体を供給する供給流路と、前記共通流路から液体を回収する回収流路と、前記共通流路と前記第１液体貯留室とを連通する第１連通流路と、前記共通流路と前記第２液体貯留室とを連通する第２連通流路とを含む。
【０００６】
本発明の他の態様に係る液体噴射ヘッドは、液体を貯留する第１液体貯留室と当該第１液体貯留室内の液体を噴射する第１ノズルとを含む第１液体噴射部と、液体を貯留する第２液体貯留室と当該第２液体貯留室内の液体を噴射する第２ノズルとを含む第２液体噴射部と、液体を貯留する第３液体貯留室と当該第３液体貯留室内の液体を噴射する第３ノズルとを含む第３液体噴射部と、液体を貯留する第４液体貯留室と当該第４液体貯留室内の液体を噴射する第４ノズルとを含む第４液体噴射部と、複数の基板の積層により構成され、前記第１液体貯留室および前記第２液体貯留室に液体を供給する第１分配流路と、前記第３液体貯留室および前記第４液体貯留室に液体を供給する第２分配流路と、が内部に形成された流路構造体とを具備する液体噴射ヘッドであって、前記第１分配流路は、液体が流通する第１共通流路と、前記第１共通流路に液体を供給する第１供給流路と、前記第１共通流路から液体を回収する第１回収流路と、前記第１共通流路と前記第１液体貯留室とを連通する第１連通流路と、前記第１共通流路と前記第２液体貯留室とを連通する第２連通流路とを含み、前記第２分配流路は、液体が流通する第２共通流路と、前記第２共通流路に液体を供給する第２供給流路と、前記第２共通流路から液体を回収する第２回収流路と、前記第２共通流路と前記第３液体貯留室とを連通する第３連通流路と、前記第２共通流路と前記第４液体貯留室とを連通する第４連通流路とを含む。
【０００７】
本発明のひとつの態様に係る液体噴射装置は、液体を噴射する液体噴射ヘッドと、循環機構とを具備する液体噴射装置であって、前記液体噴射ヘッドは、液体を貯留する第１液体貯留室と当該第１液体貯留室内の液体を噴射する第１ノズルとを含む第１液体噴射部と、液体を貯留する第２液体貯留室と当該第２液体貯留室内の液体を噴射する第２ノズルとを含む第２液体噴射部と、複数の基板の積層により構成され、前記第１液体貯留室および前記第２液体貯留室に液体を供給する分配流路が内部に形成された流路構造体とを具備し、前記分配流路は、液体が流通する共通流路と、前記共通流路に液体を供給する供給流路と、前記共通流路から液体を回収する回収流路と、前記共通流路と前記第１液体貯留室とを連通する第１連通流路と、前記共通流路と前記第２液体貯留室とを連通する第２連通流路とを含み、前記循環機構は、前記回収流路により回収される液体を前記分配流路に環流させる。
【０００８】
本発明の他の態様に係る液体噴射装置は、媒体に液体を噴射する液体噴射ヘッドと、前記媒体を搬送する搬送機構とを具備し、前記液体噴射ヘッドは、液体を貯留する第１液体貯留室と当該第１液体貯留室内の液体を噴射する第１ノズルとを含む第１液体噴射部と、液体を貯留する第２液体貯留室と当該第２液体貯留室内の液体を噴射する第２ノズルとを含む第２液体噴射部と、複数の基板の積層により構成され、前記第１液体貯留室および前記第２液体貯留室に液体を供給する分配流路が内部に形成された流路構造体とを具備し、前記分配流路は、液体が流通する共通流路と、前記共通流路に液体を供給する供給流路と、前記共通流路から液体を回収する回収流路と、前記共通流路と前記第１液体貯留室とを連通する第１連通流路と、前記共通流路と前記第２液体貯留室とを連通する第２連通流路とを含み、前記共通流路は、前記媒体が搬送される方向に交差する方向に沿って延在する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】第１実施形態に係る液体噴射装置の構成図である。
【図２】液体噴射ユニットにおける媒体との対向面の平面図である。
【図３】噴射ヘッド部の構成を例示する平面図である。
【図４】液体噴射ヘッドの構成を例示する分解斜視図である。
【図５】流路構造体の内部流路の説明図である。
【図６】循環機構の構成を例示するブロック図である。
【図７】液体分配部の内部流路の構成を模式的に例示する平面図である。
【図８】図７におけるa-a線の断面図である。
【図９】図７におけるb-b線の断面図である。
【図１０】図７におけるc-c線の断面図である。
【図１１】図７におけるd-d線の断面図である。
【図１２】第２実施形態における液体分配部の内部流路の構成を模式的に例示する平面図である。
【図１３】第２実施形態における共通流路に沿う断面図である。
【図１４】第３実施形態における液体噴射ヘッドの構成を例示するブロック図である。
【図１５】第４実施形態における液体噴射ヘッドの構成を例示するブロック図である。
【図１６】変形例における液体噴射ヘッドの構成を例示するブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
１．第１実施形態
図１は、第１実施形態に係る液体噴射装置１００の部分的な構成図である。図１に図示される通り、以下の説明では、相互に直交するＸ軸とＹ軸とＺ軸とを想定する。任意の地点からみてＸ軸に沿う一方向をＸ1方向と表記し、Ｘ1方向に対して反対の方向をＸ2方向と表記する。同様に、任意の地点からＹ軸に沿って相互に反対の方向をＹ1方向およびＹ2方向と表記する。Ｘ軸とＹ軸とを含むＸ-Ｙ平面は水平面に相当する。Ｚ軸は、鉛直方向に沿う軸線である。Ｚ軸の方向から対象を観測することを、以下では「平面視」と表記する。
【００１１】
第１実施形態の液体噴射装置１００は、液体の一例であるインクの液滴を媒体１１に対して噴射するインクジェット方式の印刷装置である。媒体１１は、例えば印刷用紙である。ただし、例えば樹脂フィルムまたは布帛等の任意の材質の印刷対象が媒体１１として利用される。
【００１２】
図１に例示される通り、液体噴射装置１００には液体容器１２が設置される。液体容器１２はインクを貯留する。例えば液体噴射装置１００に着脱可能なカートリッジ、可撓性のフィルムで形成された袋状のインクパック、または、インクを補充可能なインクタンクが、液体容器１２として利用される。第１実施形態の液体容器１２は、４種類のインクＩ1〜Ｉ4を貯留する。４種類のインクＩ1〜Ｉ4の各々は例えば別色のインクである。例えばインクＩ1はシアンインクであり、インクＩ2はマゼンタインクであり、インクＩ3はイエローインクであり、インクＩ4はブラックインクである。なお、インクの種類数は任意である。
【００１３】
図１に例示される通り、液体噴射装置１００は、制御ユニット２１と搬送機構２２と液体噴射ユニット２３とを具備する。制御ユニット２１は、液体噴射装置１００の各要素を制御する。制御ユニット２１は、例えばＣＰＵ（Central Processing Unit）またはＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）等の処理回路と半導体メモリー等の記憶回路とを具備する。制御ユニット２１は、液体噴射ユニット２３を制御する制御部として機能する。
【００１４】
搬送機構２２は、制御ユニット２１による制御のもとで媒体１１をＹ軸に沿って搬送する。液体噴射ユニット２３は、液体容器１２から供給される４種類のインクＩ1〜Ｉ4を制御ユニット２１による制御のもとで媒体１１に噴射する。第１実施形態の液体噴射ユニット２３は、Ｘ軸の方向に長尺なラインヘッドである。搬送機構２２による媒体１１の搬送に並行して液体噴射ユニット２３が媒体１１に各インクＩk（ｋ＝１〜４）を噴射することで、媒体１１の表面に所望の画像が形成される。
【００１５】
図２は、液体噴射ユニット２３における媒体１１との対向面の平面図である。図２に例示される通り、液体噴射ユニット２３は、Ｘ軸に沿って配列された複数の液体噴射ヘッド２５で構成される。液体噴射ユニット２３を構成する液体噴射ヘッド２５の個数は任意である。各液体噴射ヘッド２５は、Ｘ軸に沿って配列された６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6を具備する。各噴射ヘッド部Ｈm（ｍ＝１〜６）には複数のノズルＮが形成される。液体噴射ユニット２３の複数のノズルＮは、Ｘ軸の方向における媒体１１の全範囲にわたり分布する。液体容器１２に貯留された４種類のインクＩ1〜Ｉ4が６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6に対して並列に供給され、各噴射ヘッド部Ｈmの複数のノズルＮから噴射される。なお、各液体噴射ヘッド２５を構成する噴射ヘッド部Ｈmの個数は任意である。
【００１６】
噴射ヘッド部Ｈmの複数のノズルＮはＷ軸に沿って配列する。Ｗ軸は、Ｘ-Ｙ平面内でＸ軸またはＹ軸に対して所定の角度で傾斜する。例えばＷ軸は、Ｘ軸またはＹ軸に対して３０°以上かつ６０°以下の角度をなす。以上の通り、第１実施形態では、媒体１１が搬送されるＹ軸の方向に対して傾斜するＷ軸に沿って複数のノズルＮが配列されるから、複数のノズルＮをＸ軸に沿って配列した構成と比較して、Ｘ軸の方向における実質的なドット密度を高めることが可能である。
【００１７】
図３は、各噴射ヘッド部Ｈmの構成を例示する平面図である。図３に例示される通り、噴射ヘッド部Ｈmの複数のノズルＮは、相異なるインクＩkに対応する４系統のノズル列Ｌ1〜Ｌ4に区分される。各ノズル列Ｌkは、Ｗ軸に沿って配列する複数のノズルＮの集合である。ノズル列Ｌ1とノズル列Ｌ2とがＷ軸に直交する方向に間隔をあけて並設され、ノズル列Ｌ3とノズル列Ｌ4とがＷ軸に直交する方向に間隔をあけて並設される。また、ノズル列Ｌ1とノズル列Ｌ3とはＷ軸に沿って配列し、ノズル列Ｌ2とノズル列Ｌ4とはＷ軸に沿って配列する。
【００１８】
図３に例示される通り、噴射ヘッド部Ｈmは、相異なるノズル列Ｌkに対応する４個の液体噴射部Ｕ1〜Ｕ4を具備する。各液体噴射部Ｕkには、液体容器１２から供給されるインクＩkを貯留する液体貯留室Ｒkが形成される。液体貯留室Ｒkは、ノズル列Ｌkの複数のノズルＮにわたり連続する共通液室である。液体噴射部Ｕkは、液体貯留室Ｒkに貯留されたインクＩkをノズル列Ｌkの各ノズルＮから噴射する。各噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室Ｒkは、Ｗ軸の方向に沿う長尺状の空間である。以上の構成によれば、Ｗ軸に沿って配列する複数のノズルＮに対して液体貯留室ＲkからインクＩkを効率的に供給できる。なお、Ｘ軸の方向は「第１方向」の例示であり、Ｗ軸の方向は「第２方向」の例示である。
【００１９】
図３に例示される通り、各液体噴射部Ｕkは、複数の圧力室Ｃと複数の駆動素子Ｅとを具備する。圧力室Ｃおよび駆動素子ＥはノズルＮ毎に形成される。圧力室Ｃは、ノズルＮに連通する空間である。液体貯留室Ｒkから供給されるインクＩkが液体噴射部Ｕkの複数の圧力室Ｃに充填される。駆動素子Ｅは、圧力室Ｃ内のインクＩkの圧力を変動させる。例えば、圧力室Ｃの壁面を変形させることで当該圧力室Ｃの容積を変化させる圧電素子、または、圧力室Ｃ内のインクＩkの加熱により圧力室Ｃ内に膜沸騰を発生させる発熱素子が、駆動素子Ｅとして好適に利用される。静電アクチュエーターを駆動素子Ｅとして利用してもよい。駆動素子Ｅが圧力室Ｃ内のインクＩkの圧力を変動させることで、当該圧力室Ｃ内のインクＩkがノズルＮから噴射される。
【００２０】
図４は、１個の液体噴射ヘッド２５の構成を例示する分解斜視図である。図４に例示される通り、液体噴射ヘッド２５は、流路構造体３０と制御基板４１と６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6と支持基板４２とを具備する。流路構造体３０と支持基板４２との間に６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6が設置される。
【００２１】
支持基板４２は、６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6を支持する。例えばステンレス等の高剛性の材料で形成された板状部材が支持基板４２として好適に利用される。支持基板４２には、各噴射ヘッド部Ｈmの複数のノズルＮを露出させる開口４２１が形成される。
【００２２】
図４の流路構造体３０は、液体容器１２に貯留された４種類のインクＩ1〜Ｉ4を６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6の各々に供給するための構造体である。第１実施形態の流路構造体３０は、液体処理部３１と液体分配部３２とを具備する。制御基板４１は、液体処理部３１と液体分配部３２との間に設置される。制御基板４１は、制御ユニット２１と各噴射ヘッド部Ｈmとを電気的に接続するための配線基板である。
【００２３】
図４に例示される通り、各噴射ヘッド部Ｈmには配線基板４３が設置される。配線基板４３は、噴射ヘッド部Ｈmを制御基板４１に電気的に接続するための配線が形成された可撓性の実装部品である。各噴射ヘッド部Ｈmの配線基板４３は、液体分配部３２に形成された挿入孔３２１に挿入され、当該配線基板４３の先端部が制御基板４１に接合される。制御基板４１から配線基板４３を介して噴射ヘッド部Ｈmに供給される駆動信号および電源電圧を利用して各駆動素子Ｅが駆動される。
【００２４】
図５は、流路構造体３０の内部流路の説明図である。図５に例示される通り、液体処理部３１の内部には、相異なるインクＩkに対応する４個のフィルターＦ1〜Ｆ4と後述の循環機構Ｇkとが設置される。各フィルターＦkは、液体容器１２から供給されるインクＩkに混入した気泡または異物を捕集する。液体分配部３２は、液体処理部３１の各フィルターＦkを通過したインクＩkを６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6に分配する。
【００２５】
液体分配部３２の内部には、相異なるインクＩkに対応する４系統の分配流路Ｖ1〜Ｖ4が形成される。各分配流路Ｖkは、６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6の各々の液体貯留室ＲkにインクＩkを供給するための流路である。図５に例示される通り、各分配流路Ｖkは、供給流路Ｓkと共通流路Ｑkと回収流路Ｄkとを含む。すなわち、図４および図５に例示される通り、流路構造体３０には、相異なるインクＩkに対応する４個の供給流路Ｓ1〜Ｓ4と、相異なるインクＩkに対応する４個の回収流路Ｄ1〜Ｄ4とが形成される。
【００２６】
供給流路Ｓkは共通流路Ｑkに連通する。液体処理部３１のフィルターＦkを通過したインクＩkが供給流路Ｓkに供給される。供給流路Ｓkは、共通流路ＱkにインクＩkを供給する流路である。
【００２７】
図５に例示される通り、各共通流路Ｑkには、相異なる噴射ヘッド部Ｈmに対応する６個の連通流路Ｐk_1〜Ｐk_6が形成される。各連通流路Ｐk_mは、共通流路Ｑkから分岐する流路である。各噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室Ｒkは、連通流路Ｐk_mを介して共通流路Ｑkに連通する。したがって、供給流路Ｓkから共通流路Ｑkに供給されるインクＩkは、各連通流路Ｐk_mを通過して噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室Ｒkに供給される。すなわち、６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6の各々の液体貯留室ＲkにインクＩkが並列に供給される。
【００２８】
図５に例示される通り、回収流路Ｄkは共通流路Ｑkに連通する。回収流路Ｄkは、共通流路ＱkからインクＩkを回収する流路である。すなわち、供給流路Ｓkから共通流路Ｑkに供給されるインクＩkのうち、６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6の何れにも供給されないインクＩkが、共通流路Ｑkから回収流路Ｄkに排出される。
【００２９】
図５に例示される通り、液体噴射装置１００は、相異なるインクＩkに対応する４個の循環機構Ｇ1〜Ｇ4を具備する。各循環機構Ｇkは、回収流路Ｄkにより回収されたインクＩkを各噴射ヘッド部Ｈmに環流させる機構である。各循環機構Ｇkは、例えば液体処理部３１の内部に設置される。
【００３０】
図６は、循環機構Ｇkの構成を例示するブロック図である。図６に例示される通り、循環機構Ｇkは、第１循環流路５１と循環ポンプ５２と加温機構５３と第２循環流路５４とを具備する。第１循環流路５１は、回収流路Ｄkから供給されるインクＩkを液体容器１２に環流する。循環ポンプ５２は、液体容器１２に貯留されたインクＩkを所定の圧力で送出する圧送機構である。加温機構５３は、循環ポンプ５２から送出されるインクＩkを加温することでインクＩkの温度を調整する。第２循環流路５４は、加温機構５３による加温後のインクＩkを流路構造体３０に供給する。
【００３１】
循環機構Ｇkから送出されるインクＩkは、液体処理部３１のフィルターＦkを通過したうえで液体分配部３２の供給流路Ｓkに供給される。すなわち、図５から理解される通り、液体分配部３２の共通流路Ｑkに供給されるインクＩkのうち各噴射ヘッド部Ｈmに供給されないインクＩkは、共通流路Ｑk→回収流路Ｄk→循環機構Ｇk→フィルターＦk→供給流路Ｓk→共通流路Ｑk、という経路で循環する。４種類のインクＩ1〜Ｉ4の各々について以上の循環動作が並列に実行される。また、以上に説明した循環動作は、噴射動作が実行される期間内において噴射動作に並行して実行される。ただし、噴射動作が実行されない期間内において循環動作を実行してもよい。
【００３２】
以上に説明した通り、第１実施形態では、供給流路Ｓkの上流側にフィルターＦkが設置される。したがって、６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6の各々について別個のフィルターを共通流路Ｑkの下流側に設置する構成と比較して、液体噴射ヘッド２５を小型化し易いという利点がある。
【００３３】
図４に例示される通り、液体分配部３２は、複数の基板Ｂ（Ｂ1〜Ｂ3）の積層により構成される。複数の基板Ｂは、例えば、樹脂材料の射出成形で形成され、接着剤により相互に接合される。なお、シリコンの単結晶基板またはガラス基板等の任意の材料の基板を液体分配部３２の各基板Ｂとして利用してもよい。第１実施形態の液体分配部３２は、第１基板Ｂ1と第２基板Ｂ2と第３基板Ｂ3とをＺ軸に沿って積層した構造体である。第２基板Ｂ2は、第１基板Ｂ1と第３基板Ｂ3との間に位置する。第１基板Ｂ1は、第２基板Ｂ2と液体処理部３１との間に位置し、第３基板Ｂ3は、第２基板Ｂ2と６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6との間に位置する。
【００３４】
図７は、液体分配部３２の内部流路の構成を模式的に例示する平面図である。図７には、６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6の各々における４個の液体貯留室Ｒ1〜Ｒ4が併記される。図７から理解される通り、噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6における液体貯留室Ｒkは、Ｘ軸の方向に併設される。
【００３５】
図８から図１１は、液体分配部３２の断面図である。図８は、図７におけるａ-ａ線の断面図である。図９は、図７におけるｂ-ｂ線の断面図である。図１０は、図７におけるｃ-ｃ線の断面図である。図１１は、図７におけるｄ-ｄ線の断面図である。
【００３６】
図７に例示される通り、共通流路Ｑ1および共通流路Ｑ3は、Ｘ軸に沿って直線状に延在する。共通流路Ｑ1および共通流路Ｑ3は、図８に例示される通り、第１基板Ｂ1と第２基板Ｂ2との間に形成される。具体的には、共通流路Ｑ1および共通流路Ｑ3は、第１基板Ｂ1における第２基板Ｂ2との対向面に形成された溝部と、第２基板Ｂ2における第１基板Ｂ1との対向面に形成された溝部との組合せにより形成される。
【００３７】
図８および図９に例示される通り、供給流路Ｓ1と回収流路Ｄ1と供給流路Ｓ3と回収流路Ｄ3とは、第１基板Ｂ1を板厚方向に貫通する貫通孔である。第１基板Ｂ1の板厚方向は、Ｚ軸に平行な方向である。図７に例示される通り、供給流路Ｓ1は、共通流路Ｑ1におけるＸ2方向の端部に連通し、回収流路Ｄ1は、共通流路Ｑ1におけるＸ1方向の端部に連通する。したがって、共通流路Ｑ1内においてインクＩ1はＸ1方向に進行する。他方、供給流路Ｓ3は、共通流路Ｑ3におけるＸ1方向の端部に連通し、回収流路Ｄ3は、共通流路Ｑ3におけるＸ2方向の端部に連通する。したがって、共通流路Ｑ3内においてインクＩ3はＸ2方向に進行する。すなわち、共通流路Ｑ1内のインクＩ1と共通流路Ｑ3内のインクＩ3とは逆方向に流動する。
【００３８】
図９に例示される通り、共通流路Ｑ1に連通する６系統の連通流路Ｐ1_1〜Ｐ1_6の各々は、分岐部ｐAと連通部ｐBとで構成される。分岐部ｐAは、共通流路Ｑ1からＷ軸の方向に分岐する部分であり、共通流路Ｑ1と連通部ｐBとを連通させる。分岐部ｐAは、共通流路Ｑ1とともに第１基板Ｂ1と第２基板Ｂ2との間に形成される。連通流路Ｐ1_mの連通部ｐBは、噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室Ｒ1に連通する。図９に例示される通り、連通部ｐBは、第２基板Ｂ2と第３基板Ｂ3とを板厚方向に貫通する貫通孔である。図５を参照して前述した通り、共通流路Ｑ1から各連通流路Ｐ1_mに流入するインクＩ1は、噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室Ｒ1に供給される。
【００３９】
図９に例示される通り、共通流路Ｑ3に連通する６系統の連通流路Ｐ3_1〜Ｐ3_6の各々も、連通流路Ｐ1_mと同様に分岐部ｐAと連通部ｐBとで構成される。各連通流路Ｐ3_mの分岐部ｐAは、共通流路Ｑ3とともに第１基板Ｂ1と第２基板Ｂ2との間に形成され、連通部ｐBは、第２基板Ｂ2と第３基板Ｂ3とを板厚方向に貫通する。共通流路Ｑ3から各連通流路Ｐ3_mに流入するインクＩ3は、噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室Ｒ3に供給される。
【００４０】
図７に例示される通り、共通流路Ｑ2および共通流路Ｑ4は、共通流路Ｑ1および共通流路Ｑ3と同様に、Ｘ軸に沿って直線状に延在する。共通流路Ｑ2および共通流路Ｑ4は、図１０に例示される通り、第２基板Ｂ2と第３基板Ｂ3との間に形成される。具体的には、共通流路Ｑ2および共通流路Ｑ4は、第２基板Ｂ2における第３基板Ｂ3との対向面に形成された溝部と、第３基板Ｂ3における第２基板Ｂ2との対向面に形成された溝部との組合せにより形成される。
【００４１】
図１０および図１１に例示される通り、供給流路Ｓ2と回収流路Ｄ2と供給流路Ｓ4と回収流路Ｄ4とは、第１基板Ｂ1および第２基板Ｂ2を板厚方向に貫通する貫通孔である。図７に例示される通り、供給流路Ｓ2は、共通流路Ｑ2におけるＸ1方向の端部に連通し、回収流路Ｄ2は、共通流路Ｑ2におけるＸ2方向の端部に連通する。したがって、共通流路Ｑ2内においてインクＩ2はＸ2方向に進行する。すなわち、共通流路Ｑ1内のインクＩ1と共通流路Ｑ2内のインクＩ2とは逆方向に流動する。他方、供給流路Ｓ4は、共通流路Ｑ4におけるＸ2方向の端部に連通し、回収流路Ｄ4は、共通流路Ｑ4におけるＸ1方向の端部に連通する。したがって、共通流路Ｑ4内においてインクＩ4はＸ1方向に進行する。すなわち、共通流路Ｑ3内のインクＩ3と共通流路Ｑ4内のインクＩ4とは逆方向に流動する。
【００４２】
図１１に例示される通り、共通流路Ｑ2に連通する６系統の連通流路Ｐ2_1〜Ｐ2_6の各々は、分岐部ｐAと連通部ｐBとで構成される。分岐部ｐAは、共通流路Ｑ2からＷ軸の方向に分岐する部分であり、共通流路Ｑ2と連通部ｐBとを連通させる。分岐部ｐAは、共通流路Ｑ2とともに第２基板Ｂ2と第３基板Ｂ3との間に形成される。連通流路Ｐ2_mの連通部ｐBは、噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室Ｒ2に連通する。図１１に例示される通り、連通部ｐBは、第３基板Ｂ3を板厚方向に貫通する貫通孔である。図５を参照して前述した通り、共通流路Ｑ2から各連通流路Ｐ2_mに流入するインクＩ1は、噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室Ｒ2に供給される。
【００４３】
図１１に例示される通り、共通流路Ｑ4に連通する６系統の連通流路Ｐ4_1〜Ｐ4_6の各々も、連通流路Ｐ2_mと同様に分岐部ｐAと連通部ｐBとで構成される。各連通流路Ｐ4_mの分岐部ｐAは、共通流路Ｑ4とともに第２基板Ｂ2と第３基板Ｂ3との間に形成され、連通部ｐBは、第３基板Ｂ3を板厚方向に貫通する。共通流路Ｑ4から各連通流路Ｐ4_mに流入するインクＩ4は、噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室Ｒ4に供給される。
【００４４】
図７から理解される通り、分配流路Ｖ1と分配流路Ｖ2とは平面視で部分的に重複する。同様に、分配流路Ｖ3と分配流路Ｖ4とは平面視で部分的に重複する。以上の構成によれば、分配流路Ｖ1と分配流路Ｖ2と平面視で重複しない構成、または、分配流路Ｖ3と分配流路Ｖ4とが平面視で重複しない構成と比較して、Ｘ-Ｙ平面内における流路構造体３０のサイズを低減できる。
【００４５】
以上の説明から理解される通り、第１実施形態では、供給流路Ｓkから共通流路Ｑkに供給されるインクＩkのうち各噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室Ｒkに供給されないインクＩkが、回収流路Ｄkを介して回収される。したがって、回収流路Ｄkが設置されない構成と比較して、共通流路Ｑk内におけるインクＩkの流動が促進される。以上の構成によれば、インクＩkに含有される顔料等の成分が分配流路Ｖk内に沈降する可能性を低減できる。
【００４６】
第１実施形態では、供給流路Ｓ1および回収流路Ｄ1が共通の第１基板Ｂ1に形成され、供給流路Ｓ3および回収流路Ｄ3も同様に第１基板Ｂ1に形成される。また、供給流路Ｓ2と回収流路Ｄ2とは第２基板Ｂ2および第３基板Ｂ3に形成され、供給流路Ｓ4および回収流路Ｄ4も同様に第２基板Ｂ2および第３基板Ｂ3に形成される。すなわち、供給流路Ｓkと回収流路Ｄkとが共通の基板に形成される。したがって、第１実施形態によれば、供給流路Ｓkと回収流路Ｄkとが別個の基板に形成される構成と比較して、流路構造体３０を小型化し易いという利点がある。
【００４７】
図７から理解される通り、第１実施形態では、６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6における液体貯留室ＲkがＸ軸の方向に並設される構成のもとで、共通流路ＱkがＸ軸の方向に延在する。したがって、各噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室ＲkにインクＩkを効率的に供給できるという利点がある。
【００４８】
以上に説明した構成において、液体噴射ヘッド２５を構成する６個の噴射ヘッド部Ｈ1〜Ｈ6のうち２個の噴射ヘッド部Ｈm1および噴射ヘッド部Ｈm2に着目する（ｍ1≠ｍ2）。流路構造体３０の分配流路Ｖkは、噴射ヘッド部Ｈm1の液体噴射部Ｕkと噴射ヘッド部Ｈm2の液体噴射部ＵkとにインクＩkを供給する流路として表現される。噴射ヘッド部Ｈm1の液体噴射部Ｕkは「第１液体噴射部」の例示であり、当該液体噴射部Ｕkの液体貯留室Ｒkは「第１液体貯留室」の例示である。同様に、噴射ヘッド部Ｈm2の液体噴射部Ｕkは「第２液体噴射部」の例示であり、当該液体噴射部Ｕkの液体貯留室Ｒkは「第２液体貯留室」の例示である。また、共通流路Ｑkと噴射ヘッド部Ｈm1の液体噴射部Ｕkとを連通する連通流路Ｐk_m1は「第１連通流路」の例示であり、共通流路Ｑkと噴射ヘッド部Ｈm2の液体噴射部Ｕkとを連通する連通流路Ｐk_m2は「第２連通流路」の例示である。
【００４９】
共通流路Ｑ1および共通流路Ｑ3に着目すると、第１基板Ｂ1が「供給流路および回収流路が形成された第１基板」に相当し、第２基板Ｂ2および第３基板Ｂ3が「第１連通流路および第２連通流路が形成された第２基板」に相当する。共通流路Ｑ2および共通流路Ｑ4に着目すると、第１基板Ｂ1および第２基板Ｂ2が「供給流路および回収流路が形成された第１基板」に相当し、第３基板Ｂ3が「第１連通流路および第２連通流路が形成された第２基板」に相当する。
【００５０】
また、流路構造体３０に形成された４系統の分配流路Ｖ1〜Ｖ4のうち２系統の分配流路Ｖk1および分配流路Ｖk2に着目する（ｋ1≠ｋ2）。分配流路Ｖk1は「第１分配流路」の例示である。分配流路Ｖk1の共通流路Ｑk1は「第１共通流路」の例示であり、供給流路Ｓk1は「第１供給流路」の例示であり、回収流路Ｄk1は「第１回収流路」の例示である。分配流路Ｖk2は「第２分配流路」の例示である。分配流路Ｖk2の共通流路Ｑk2は「第２共通流路」の例示であり、供給流路Ｓk2は「第２供給流路」の例示であり、回収流路Ｄk2は「第２回収流路」の例示である。
【００５１】
分配流路Ｖk1によるインクＩk1の分配および分配流路Ｖk2によるインクＩk2の分配の対象となる噴射ヘッド部Ｈm1および噴射ヘッド部Ｈm2に着目する。分配流路Ｖk1は、噴射ヘッド部Ｈm1の液体噴射部Ｕk1と噴射ヘッド部Ｈm2の液体噴射部Ｕk1とにインクＩk1を分配する。噴射ヘッド部Ｈm1の液体噴射部Ｕk1は「第１液体噴射部」の例示であり、当該液体噴射部Ｕk1の液体貯留室Ｒk1は「第１液体貯留室」の例示である。また、噴射ヘッド部Ｈm2の液体噴射部Ｕk1は「第２液体噴射部」の例示であり、当該液体貯留室Ｕk1の液体貯留室Ｒk1は「第２液体貯留室」の例示である。同様に、分配流路Ｖk2は、噴射ヘッド部Ｈm1の液体噴射部Ｕk2と噴射ヘッド部Ｈm2の液体噴射部Ｕk2とにインクＩk2を分配する。噴射ヘッド部Ｈm1の液体噴射部Ｕk2は「第３液体噴射部」の例示であり、当該液体噴射部Ｕk2の液体貯留室Ｒk2は「第３液体貯留室」の例示である。また、噴射ヘッド部Ｈm2の液体噴射部Ｕk2は「第４液体噴射部」の例示であり、当該液体噴射部Ｕk2の液体貯留室Ｒk2は「第４液体貯留室」の例示である。
【００５２】
分配流路Ｖk1の共通流路Ｑk1と噴射ヘッド部Ｈm1の液体貯留室Ｒk1とを連通する連通流路Ｐk1_m1は「第１連通流路」の例示であり、共通流路Ｑk1と噴射ヘッド部Ｈm2の液体貯留室Ｒk1とを連通する連通流路Ｐk1_m2は「第２連通流路」の例示である。同様に、分配流路Ｖk2において共通流路Ｑk2と噴射ヘッド部Ｈm1の液体貯留室Ｒk2とを連通する連通流路Ｐk2_m1は「第３連通流路」の例示であり、共通流路Ｑk2と噴射ヘッド部Ｈm2の液体貯留室Ｒk2とを連通する連通流路Ｐk2_m2は「第４連通流路」の例示である。
【００５３】
２．第２実施形態
第２実施形態について説明する。以下に例示する各態様において機能が第１実施形態と同様である要素については、第１実施形態の説明で使用した符号を流用することで各々の詳細な説明を適宜に省略する。
【００５４】
図１２は、第２実施形態における液体分配部３２の内部流路の構成を模式的に例示する平面図であり、図１３は、共通流路Ｑ1に沿う断面図である。図１３に例示される通り、第２実施形態における分配流路Ｖ1の供給流路Ｓ1および回収流路Ｄ1は、共通流路Ｑ1とともに第１基板Ｂ1と第２基板Ｂ2との間に形成される。図１２に例示される通り、供給流路Ｓ1は、流路構造体３０の側面２５２に開口する。回収流路Ｄ1は、流路構造体３０の側面２５１に開口する。
【００５５】
以上の説明では分配流路Ｖ1に着目したが、他の分配流路Ｖ2〜Ｖ4についても同様である。例えば、分配流路Ｖ2の供給流路Ｓ2および回収流路Ｄ2は、共通流路Ｑ2とともに第２基板Ｂ2と第３基板Ｂ3との間に形成される。図１２に例示される通り、供給流路Ｓ2は流路構造体３０の側面２５１に開口し、回収流路Ｄ2は流路構造体３０の側面２５２に開口する。
【００５６】
分配流路Ｖ3の供給流路Ｓ3および回収流路Ｄ3は第１基板Ｂ1と第２基板Ｂ2との間に形成され、分配流路Ｖ4の供給流路Ｓ4および回収流路Ｄ4は第２基板Ｂ2と第３基板Ｂ3との間に形成される。図１２に例示される通り、供給流路Ｓ3および回収流路Ｄ4は側面２５１に開口し、回収流路Ｄ3および供給流路Ｓ4は側面２５２に開口する。
【００５７】
第２実施形態においても第１実施形態と同様の効果が実現される。第２実施形態では、供給流路Ｓkおよび回収流路Ｄkが流路構造体３０の側面に形成されるから、Ｚ軸の方向における流路構造体３０のサイズが低減されるという利点がある。他方、第１実施形態では、供給流路Ｓkおよび回収流路ＤkがＺ軸に沿う貫通孔で構成されるから、第２実施形態と比較して、Ｘ-Ｙ平面内における流路構造体３０のサイズを低減できるという利点がある。
【００５８】
３．第３実施形態
図１４は、第３実施形態における液体噴射ヘッド２５の構成を例示するブロック図である。任意の１種類のインクＩkに関連する要素のみが図１４には便宜的に図示されている。
【００５９】
図１４に例示される通り、第３実施形態の液体噴射ヘッド２５における液体処理部３１は、第１実施形態と同様のフィルターＦkおよび循環機構Ｇkに加えて第１調整弁３４と第２調整弁３５とを具備する。第１調整弁３４は、循環機構Ｇkと液体分配部３２の供給流路Ｓkとの間に設置される。例えば、循環機構Ｇkの第２循環流路５４とフィルターＦkとの間に第１調整弁３４が設置される。第１調整弁３４を通過するインクＩkが供給流路Ｓkに供給される。なお、フィルターＦkと供給流路Ｓkとの間に第１調整弁３４を設置してもよい。
【００６０】
第１調整弁３４は、当該第１調整弁３４の下流側のインクＩkの圧力α1に応じて開閉する弁機構である。圧力α1は、第１調整弁３４とフィルターＦkとの間のインクＩkの圧力である。具体的には、第１調整弁３４は、通常状態では閉状態を維持し、圧力α1が所定の負圧に到達した場合に開状態に遷移する。開状態は、インクＩkを通過させる状態である。閉状態は、インクＩkの流路を閉塞することでインクＩkを遮断する状態である。第１調整弁３４が開状態に遷移すると、第１調整弁３４をインクＩkが通過することで圧力α1は上昇する。以上の説明から理解される通り、第１調整弁３４は、圧力α1を所定の負圧に維持する負圧発生部として機能する。
【００６１】
第２調整弁３５は、液体分配部３２の回収流路Ｄkと循環機構Ｇkとの間に設置される。例えば、回収流路Ｄkと循環機構Ｇkの第１循環流路５１との間に第２調整弁３５が設置される。すなわち、回収流路Ｄkにより回収されるインクＩkが第２調整弁３５に供給される。
【００６２】
第２調整弁３５は、当該第２調整弁３５の下流側のインクＩkの圧力α2に応じて開閉する弁機構である。圧力α2は、第２調整弁３５と循環機構Ｇkとの間のインクＩkの圧力である。具体的には、圧力α2は、循環機構Ｇkの第１循環流路５１内のインクＩkの圧力である。第２調整弁３５は、第１調整弁３４と同様に、通常状態では閉状態を維持し、圧力α2が所定の負圧に到達した場合に開状態に遷移する。
【００６３】
第３実施形態の循環機構Ｇkは、第１循環流路５１内のインクＩkの圧力α2を調整する圧力調整部５５を具備する。圧力調整部５５は、例えば制御ユニット２１からの指示に応じて圧力α2を低下させることが可能である。
【００６４】
以上の構成において、圧力調整部５５が圧力α2を低下させると、第２調整弁３５が開状態に遷移する。開状態の第２調整弁３５をインクＩkが通過することで第１調整弁３４の下流側の圧力α1が低下し、当該圧力α1が所定の負圧に到達すると第１調整弁３４が開状態に遷移する。以上のように第１調整弁３４および第２調整弁３５の双方が開状態に遷移すると、液体分配部３２の共通流路Ｑk内のインクＩkは、共通流路Ｑk→回収流路Ｄk→第２調整弁３５→循環機構Ｇk→第１調整弁３４→フィルターＦk→供給流路Ｓk→共通流路Ｑk、という経路で循環する。
【００６５】
第３実施形態における液体分配部３２の具体的な構成は第１実施形態と同様である。したがって、第３実施形態においても第１実施形態と同様の効果が実現される。また、第３実施形態においては、第２調整弁３５の下流側の圧力α2を調整する簡便な制御により、液体噴射ヘッド２５から回収されるインクＩkを当該液体噴射ヘッド２５に環流させる循環動作が実現されるという利点もある。なお、第３実施形態の構成は、第１実施形態および第２実施形態の何れにも適用される。
【００６６】
４．第４実施形態
図１５は、第４実施形態における液体噴射ヘッド２５の構成を例示するブロック図である。任意の１種類のインクＩkに関連する要素のみが図１５には便宜的に図示されている。
【００６７】
図１５に例示される通り、第４実施形態の液体噴射ヘッド２５における液体処理部３１は、第１実施形態と同様のフィルターＦkおよび循環機構Ｇkに加えて第１開閉弁３６と第２開閉弁３７と加圧機構３８とを具備する。第１開閉弁３６と第２開閉弁３７と加圧機構３８とは、液体噴射ヘッド２５の保守動作に利用される。第４実施形態の保守動作は、液体噴射ヘッド２５の複数のノズルＮから強制的にインクＩkを排出する動作である。複数のノズルＮから強制的にインクＩkを排出することで、各噴射ヘッド部内のインクＩkの増粘または沈降が低減される。また、各噴射ヘッド部内のインクＩkに混入した気泡または異物を、保守動作によりインクＩkとともにノズルＮから排出することも可能である。
【００６８】
第１開閉弁３６は、循環機構Ｇkと液体分配部３２の供給流路Ｓkとの間に設置される。具体的には、循環機構Ｇkの第２循環流路５４とフィルターＦkとの間に第１開閉弁３６が設置される。加圧機構３８は、第１開閉弁３６と供給流路Ｓkとの間に設置される。具体的には、第１開閉弁３６とフィルターＦkとの間に加圧機構３８が設置される。すなわち、加圧機構３８は第１開閉弁３６の下流側に設置される。
【００６９】
第１開閉弁３６は、制御ユニット２１からの指示に応じて開状態または閉状態に制御される。開状態は、供給流路Ｓkに供給されるインクＩkを通過させる状態である。閉状態は、インクＩkを遮断する状態である。加圧機構３８は、制御ユニット２１からの指示に応じて第１開閉弁３６と供給流路Ｓkとの間のインクＩkを加圧する。なお、加圧機構３８がインクＩkを加圧するための具体的な構成は任意である。例えば、加圧機構３８は、供給流路Ｓkの容積を減少させることでインクＩkを加圧してもよい。例えば、加圧機構３８は、供給流路Ｓkの一部の壁面を構成する可撓膜を変形させることでインクＩkを加圧してもよい。また、加圧機構３８は、供給流路ＳkにインクＩkを供給することでインクＩkを加圧してもよい。例えば、加圧機構３８は、液体容器１２に連通するチューブが接続されるポートを具備し、当該ポートを介して液体容器１２から供給流路ＳkにインクＩkを供給する。
【００７０】
第２開閉弁３７は、液体分配部３２の回収流路Ｄkと循環機構Ｇkとの間に設置される。例えば、回収流路Ｄkと循環機構Ｇkの第１循環流路５１との間に第２開閉弁３７が設置される。すなわち、回収流路Ｄkにより回収されるインクＩkが第２開閉弁３７に供給される。第２開閉弁３７は、制御ユニット２１からの指示に応じて開状態または閉状態に制御される。開状態は、回収流路Ｄkにより回収されるインクＩkを通過させる状態である。閉状態は、インクＩkを遮断する状態である。
【００７１】
液体噴射ユニット２３による通常の噴射動作が実行される期間内において、制御ユニット２１は、第１開閉弁３６および第２開閉弁３７の双方を開状態に維持する。他方、噴射動作が実行されない期間内においては、第１開閉弁３６と第２開閉弁３７と加圧機構３８とを利用した保守動作が実行される。具体的には、制御ユニット２１は、第１開閉弁３６および第２開閉弁３７の双方を閉状態に制御する。また、制御ユニット２１は、第１開閉弁３６および第２開閉弁３７の双方が閉状態に維持された状態で、加圧機構３８にインクＩkを加圧させる。
【００７２】
第１開閉弁３６および第２開閉弁３７が閉状態に維持された状態でインクＩkが加圧されると、各噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室Ｒk内のインクＩkが加圧される。したがって、液体貯留室Ｒk内のインクＩkがノズル列Ｌkの複数のノズルＮから強制的に排出される。例えば複数のノズルＮから漏出することで噴射面に付着したインクＩkは、例えば噴射面に接触するワイパーにより払拭される。また、加圧機構３８によるインクＩkの加圧により、複数のノズルＮからインクＩkの液滴を噴射してもよい。
【００７３】
第４実施形態における液体分配部３２の具体的な構成は第１実施形態と同様である。したがって、第４実施形態においても第１実施形態と同様の効果が実現される。また、第４実施形態においては、第１開閉弁３６および第２開閉弁３７の双方を閉状態に維持した状態で加圧機構３８を作動させることで、各液体噴射部Ｕkの内部のインクＩkを加圧することが可能である。なお、第４実施形態の構成は、第１実施形態および第２実施形態の何れにも適用される。
【００７４】
５．第５実施形態
図１６は、第５実施形態における液体噴射ヘッド２５の構成を例示するブロック図である。任意の１種類のインクＩkに関連する要素のみが図１６には便宜的に図示されている。第５実施形態の液体噴射ヘッド２５は、第３実施形態と第４実施形態とを組合わせた構成である。
【００７５】
図１６に例示される通り、循環機構Ｇkの第２循環流路５４と液体分配部３２の供給流路Ｓkとの間には、第１実施形態と同様のフィルターＦkに加えて、第１調整弁３４と第１開閉弁３６と加圧機構３８とが設置される。具体的には、第１調整弁３４と供給流路Ｓkとの間に第１開閉弁３６が設置され、第１開閉弁３６と供給流路Ｓkとの間に加圧機構３８が設置される。すなわち、第１開閉弁３６および加圧機構３８が第１調整弁３４の下流側に設置される。なお、図１６では加圧機構３８の下流側にフィルターＦkを設置したが、フィルターＦkが設置される位置は任意である。
【００７６】
第１調整弁３４は、第３実施形態と同様に、当該第１調整弁３４の下流側のインクＩkの圧力α1に応じて開閉する。圧力α1は、第１調整弁３４と第１開閉弁３６との間のインクＩkの圧力である。第１開閉弁３６は、第４実施形態と同様に、制御ユニット２１からの指示に応じて開状態または閉状態に制御される。噴射動作または循環動作が実行される期間内においては第１開閉弁３６は開状態に維持される。加圧機構３８は、第４実施形態と同様に、制御ユニット２１からの指示に応じて第１開閉弁３６と供給流路Ｓkとの間のインクＩkを加圧する。
【００７７】
液体分配部３２の回収流路Ｄkと循環機構Ｇkの第１循環流路５１との間には第２調整弁３５が設置される。第２調整弁３５は、当該第２調整弁３５の下流側のインクＩkの圧力α2に応じて開閉する弁機構である。
【００７８】
循環動作を実行する場合、制御ユニット２１は、圧力調整部５５により圧力α2を低下させることで第２調整弁３５を開状態に制御する。第１開閉弁３６は開状態に維持されるから、圧力α2に連動して圧力α1が低下する。圧力α1が所定の負圧に到達すると、第１調整弁３４が開状態に遷移する。したがって、第３実施形態と同様に、回収流路Ｄkから回収されたインクＩkを供給流路Ｓkに循環させる循環動作が実行される。
【００７９】
他方、保守動作を実行する場合、制御ユニット２１は、第１開閉弁３６を閉状態に制御する。第２調整弁３５は閉状態に維持される。以上のように第１開閉弁３６および第２調整弁３５の双方が閉状態に維持された状態で、制御ユニット２１は加圧機構３８にインクＩkを加圧させる。以上の動作により各噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室Ｒk内のインクＩkが加圧されることで、液体貯留室Ｒk内のインクＩkがノズル列Ｌkの複数のノズルＮから排出される。すなわち、第４実施形態と同様に、液体貯留室Ｒk内のインクＩkを複数のノズルＮから強制的に排出する保守動作が実行される。以上の説明から理解される通り、第５実施形態の第２調整弁３５は、第４実施形態の第２開閉弁３７と同様の機能を実現する。したがって、第２調整弁３５と第２開閉弁３７とを液体処理部３１に設置する構成と比較して流路構造体３０の構成が簡素化されるという利点がある。なお、図１６の第２調整弁３５を第４実施形態の第２開閉弁３７に置換してもよい。
【００８０】
６．変形例
以上に例示した形態は多様に変形され得る。前述の形態に適用され得る具体的な変形の態様を以下に例示する。以下の例示から任意に選択された２以上の態様は、相互に矛盾しない範囲で適宜に併合され得る。
【００８１】
（１）前述の各形態では、各噴射ヘッド部Ｈmと流路構造体３０とが直接的に接続された構成を例示したが、各噴射ヘッド部Ｈmと流路構造体３０との間に他の要素が介在してもよい。例えば、前述の各形態に係る液体処理部３１を、流路構造体３０と各噴射ヘッド部Ｈmとの間に設置してもよい。すなわち、流路構造体３０の共通流路Ｑkが噴射ヘッド部Ｈmの液体貯留室Ｒkに直接的に連通する構成のほか、各種の弁機構またはフィルター等の他の要素を介して間接的に共通流路Ｑkと液体貯留室Ｒkとが連通する構成も、本発明の範囲には包含される。
【００８２】
（２）前述の各形態では、第１基板Ｂ1と第２基板Ｂ2と第３基板Ｂ3との積層で構成される流路構造体３０を例示したが、第１基板Ｂ1と第２基板Ｂ2との間、または第２基板Ｂ2と第３基板Ｂ3との間に、他の要素が介在してもよい。また、流路構造体３０を構成する基板Ｂの個数または形状は任意である。
【００８３】
（３）前述の各形態では、相互に対向する２個の基板Ｂの各々に形成された溝部の組合わせにより流路を形成したが、一方の基板に形成された溝部により流路を形成してもよい。例えば、共通流路Ｓ1および共通流路Ｓ3は、第１基板Ｂ1および第２基板Ｂ2の一方に形成された溝部を他方の基板Ｂにより閉塞することで形成される。同様に、共通流路Ｓ2および共通流路Ｓ4は、第２基板Ｂ2および第３基板Ｂ3の一方に形成された溝部を他方の基板Ｂにより閉塞することで形成される。
【００８４】
（４）前述の各形態では、各噴射ヘッド部Ｈmの４個の液体噴射部Ｕ1〜Ｕ4の各々に相異なる種類のインクＩkを供給したが、４個の液体噴射部Ｕ1〜Ｕ4に１種類のインクを供給してもよい。すなわち、１個の噴射ヘッド部Ｈmが具備する複数の液体噴射部Ｕkに対して同種類の液体が供給されてもよい。また、複数の連通流路Ｐk_mが１個の噴射ヘッド部Ｈmに接続されてもよい。
【００８５】
（５）前述の各形態では、液体噴射ヘッド２５に液体処理部３１を設置したが、液体噴射ヘッド２５とは別個に液体処理部３１を設置してもよい。すなわち、液体処理部３１は、液体噴射ユニット２３または液体噴射装置１００に設置される。また、前述の各形態では、循環機構Ｇkを液体処理部３１に設置したが、液体処理部３１とは別個に循環機構Ｇkを設置してもよい。すなわち、循環機構Ｇkは、液体噴射ユニット２３または液体噴射装置１００に設置される。
【００８６】
（６）前述の各形態では、圧力室Ｃ内のインクＩkはノズルＮから噴射されるが、圧力室Ｃ内のインクＩkのうちノズルＮから噴射されないインクＩkを回収流路Ｄkまたは液体容器１２に回収してもよい。また、液体貯留室Ｒk内のインクＩkのうち圧力室Ｃに供給されないインクＩkを回収流路Ｄkまたは液体容器１２に回収してもよい。
【００８７】
（７）前述の各形態では、Ｘ軸の方向における媒体１１の全範囲にわたり複数のノズルＮが分布するラインヘッドを液体噴射ユニット２３として例示したが、１個以上の液体噴射ヘッド２５を搭載した搬送体をＸ軸に沿って往復させるシリアル方式の液体噴射装置にも本発明を適用することが可能である。
【００８８】
（８）前述の形態で例示した液体噴射装置１００は、印刷に専用される機器のほか、ファクシミリ装置やコピー機等の各種の機器に採用され得る。もっとも、液体噴射装置の用途は印刷に限定されない。例えば、色材の溶液を噴射する液体噴射装置は、液晶表示パネル等の表示装置のカラーフィルターを形成する製造装置として利用される。また、導電材料の溶液を噴射する液体噴射装置は、配線基板の配線や電極を形成する製造装置として利用される。また、生体に関する有機物の溶液を噴射する液体噴射装置は、例えばバイオチップを製造する製造装置として利用される。
【符号の説明】
【００８９】
１００…液体噴射装置、１１…媒体、１２…液体容器、２１…制御ユニット、２２…搬送機構、２３…液体噴射ユニット、２５…液体噴射ヘッド、３０…流路構造体、３１…液体処理部、３２…液体分配部、３４…第１調整弁、３５…第２調整弁、３６…第１開閉弁、３７…第２開閉弁、３８…加圧機構、４１…制御基板、４２…支持基板、４３…配線基板、５１…第１循環流路、５２…循環ポンプ、５３…加温機構、５４…第２循環流路、５５…圧力調整部、Ｃ…圧力室、Ｅ…駆動素子、Ｂ1…第１基板、Ｂ2…第２基板、Ｂ3…第３基板、Ｑk（Ｑ1〜Ｑ4）…共通流路、Ｓk（Ｓ1〜Ｓ4）…供給流路、Ｄk（Ｄ1〜Ｄ4）…回収流路、Ｆk（Ｆ1〜Ｆ4）…フィルター、Ｇk（Ｇ1〜Ｇ4）…循環機構、Ｉk（Ｉ1〜Ｉ4）…インク、Ｈm（Ｈ1〜Ｈ6）…噴射ヘッド部、Ｌk（Ｌ1〜Ｌ4）…ノズル列、Ｎ…ノズル、Ｐk_m…連通流路、Ｕk（Ｕ1〜Ｕ4）…液体噴射部、Ｒk（Ｒ1〜Ｒ4）…液体貯留室、Ｖk（Ｖ1〜Ｖ4）…分配流路。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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