(57)【要約】【課題】薄膜層の転写に際して支持基材を薄膜層から容易に剥離することのできる転写シート、および、薄膜層の転写方法を提供する。【解決手段】転写シートは、薄膜層１１と、薄膜層１１を支持する支持基材１２とを備え、吸液性を有する。転写シートの表面と対向する位置から見て、転写シートが内接する最小の矩形Ｓｑを仮想的に配置したときの当該矩形Ｓｑの重心Ｃを通る直線が基準線Ａｄであり、少なくとも１つの基準線Ａｄに沿った箇所において、転写シートの吸液対象の液状体への浸漬の前後における寸法変化率が、薄膜層１１と支持基材１２とで異なる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜層と、前記薄膜層を支持する支持基材とを備え、吸液性を有する転写シートであって、
前記転写シートの表面と対向する位置から見て、前記転写シートが内接する最小の矩形を仮想的に配置したときの当該矩形の重心を通る直線が基準線であり、少なくとも１つの前記基準線に沿った箇所において、前記転写シートの吸液対象の液状体への浸漬の前後における寸法変化率が、前記薄膜層と前記支持基材とで異なる
転写シート。
【請求項２】
前記基準線に沿った複数の箇所における前記支持基材の前記寸法変化率の絶対値の最大値は、前記複数の箇所における前記薄膜層の前記寸法変化率の絶対値の最大値よりも大きい
請求項１に記載の転写シート。
【請求項３】
前記支持基材の構成材料には、吸液性フィルム、織物、編物、および、不織布の少なくとも１つが含まれる
請求項１または２に記載の転写シート。
【請求項４】
前記支持基材は繊維材料から構成され、前記支持基材の目付けは、３ｇ／ｍ２以上２００ｇ／ｍ２以下である
請求項１〜３のいずれか一項に記載の転写シート。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の転写シートを用いた薄膜層の転写方法であって、
前記薄膜層における前記支持基材に接する面とは反対側の面を被転写体に接触させることと、
前記被転写体上に配置された前記転写シートに吸液させることと、
前記転写シートが吸液した状態で、前記薄膜層から前記支持基材を剥離することと、
を含む薄膜層の転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜層を備える転写シート、および、この転写シートを用いた薄膜層の転写方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
スキンケアやメイクアップ等の美容、あるいは、創傷の治療を目的として、生体に貼り付けられる薄膜層が知られている。例えば、特許文献１，２には、毛穴や皺を隠すための薄膜層が記載されている。この薄膜層は肌に貼り付けられ、薄膜層の上からファンデーション等の化粧料が塗布される。
【０００３】
薄膜層を皮膚等の被転写体に貼り付けるための転写シートは、薄膜層と、薄膜層を支持する支持基材とを備えている。薄膜層が被転写体に接するように転写シートが被転写体に貼り付けられた後、支持基材が薄膜層から剥離されることによって、薄膜層が支持基材から被転写体に転写される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１４／０５８０６６号
【特許文献２】特開２０１３−２８５５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
薄膜層の転写に際しては、被転写体の対象箇所に、薄膜層が一様な膜状に貼り付けられることが望ましい。ここで、薄膜層と支持基材との間の密着力が大きいと、薄膜層から支持基材を剥がし難い。強い力で支持基材を剥離しようとすれば、薄膜層に皺や縒れや破れといった変形が生じ、薄膜層の一様な転写が困難となる。
【０００６】
本発明は、薄膜層の転写に際して支持基材を薄膜層から容易に剥離することのできる転写シート、および、薄膜層の転写方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決する転写シートは、薄膜層と、前記薄膜層を支持する支持基材とを備え、吸液性を有する転写シートであって、前記転写シートの表面と対向する位置から見て、前記転写シートが内接する最小の矩形を仮想的に配置したときの当該矩形の重心を通る直線が基準線であり、少なくとも１つの前記基準線に沿った箇所において、前記転写シートの吸液対象の液状体への浸漬の前後における寸法変化率が、前記薄膜層と前記支持基材とで異なる。
【０００８】
上記構成によれば、転写シートが吸液したときの薄膜層と支持基材との変形の程度が異なるため、吸液状態では、薄膜層と支持基材との密着力が低下する。したがって、吸液状態で支持基材を剥離することによって、支持基材の薄膜層からの剥離が容易になる。
【０００９】
上記構成において、前記基準線に沿った複数の箇所における前記支持基材の前記寸法変化率の絶対値の最大値は、前記複数の箇所における前記薄膜層の前記寸法変化率の絶対値の最大値よりも大きくてもよい。
【００１０】
上記構成によれば、吸液による支持基材の形状の変化が薄膜層よりも大きくなるため、薄膜層を被転写体に貼り付けた状態で支持基材を剥離する転写方法において、支持基材の剥離がより容易になる。また、転写の対象である薄膜層の形状の安定性が支持基材に対して相対的に高められる。
【００１１】
上記構成において、前記支持基材の構成材料には、吸液性フィルム、織物、編物、および、不織布の少なくとも１つが含まれてもよい。
上記構成によれば、吸液性を有する支持基材が好適に実現される。
【００１２】
上記構成において、前記支持基材は繊維材料から構成され、前記支持基材の目付けは、３ｇ／ｍ２以上２００ｇ／ｍ２以下であってもよい。
上記構成によれば、静電気や気流に起因した変形が生じ難くなる程度の剛性を支持基材が有するため、転写シートが取り扱いやすくなる。また、支持基材において繊維が詰まりすぎないため、支持基材の吸液と形状の変化とが円滑に進む。
【００１３】
上記課題を解決する薄膜層の転写方法は、上記転写シートを用いた薄膜層の転写方法であって、前記薄膜層における前記支持基材に接する面とは反対側の面を被転写体に接触させることと、前記被転写体上に配置された前記転写シートに吸液させることと、前記転写シートが吸液した状態で、前記薄膜層から前記支持基材を剥離することと、を含む。
【００１４】
上記方法によれば、吸液状態で支持基材が薄膜層から剥離されるため、吸液による薄膜層と支持基材との変形の程度の差に起因して、支持基材の薄膜層からの剥離が容易になる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、薄膜層の転写に際して支持基材を薄膜層から容易に剥離することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】転写シートの一実施形態について、転写シートの断面構造の一例を示す図。
【図２】転写シートの一実施形態について、転写シートの断面構造の一例を示す図。
【図３】一実施形態における薄膜層および支持基材に対する基準線の設定例を示す図。
【図４】一実施形態の転写シートを用いた薄膜層の転写方法の手順を示す図であって、被転写体に供給液を供給する工程を示す図。
【図５】一実施形態の転写シートを用いた薄膜層の転写方法の手順を示す図であって、被転写体に転写シートを押し当てる工程を示す図。
【図６】一実施形態の転写シートを用いた薄膜層の転写方法の手順を示す図であって、薄膜層から支持基材を剥離する工程を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
図面を参照して、転写シート、および、薄膜層の転写方法の一実施形態を説明する。転写シートは、転写シートが備える薄膜層を、被転写体に転写するために用いられる。被転写体は、生体であって、例えば、皮膚である。
【００１８】
［転写シートの構成］
図１が示すように、転写シート１０は、薄膜層１１と、支持基材１２とを備えている。
薄膜層１１は、第１面１１Ｆと、第１面１１Ｆとは反対側の面である第２面１１Ｒとを有する。第２面１１Ｒは、被転写体に貼り付けられる面である。第１面１１Ｆは、薄膜層１１が被転写体に転写されたとき、外気に曝される面である。
【００１９】
薄膜層１１の材料は特に限定されず、被転写体への薄膜層１１の貼り付けの目的に応じて選択されればよい。薄膜層１１の材料は、例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリシロキサン類、セルロースやキチンやキトサン等の多糖類、カゼイン等の各種のたんぱく質、ゴム、これらの高分子化合物の変性体や共重合体や混合物である。
【００２０】
薄膜層１１は、被転写体において所定の機能を発揮する添加剤を含んでいてもよい。添加剤は、例えば、光学特性を調整するための色素や高屈折率材料や低屈折率材料や光吸収剤、導電性材料、化粧料成分、薬効成分等であり、発現させたい機能に応じて選択されればよい。
【００２１】
薄膜層１１の厚さは特に限定されないが、被転写体に対する接着性を発現する程度に薄いことが好ましい。例えば、薄膜層１１の厚さは、１０ｎｍ以上５μｍ以下である。薄膜層１１の厚さが上記範囲内であれば、粘着層を用いずとも、薄膜層１１自身が生体の表面に貼り付く。薄膜層１１は単一の薄膜から構成された層であってもよいし、複数の薄膜から構成された層であってもよい。
【００２２】
支持基材１２は、薄膜層１１の第１面１１Ｆに接している。支持基材１２に支持されていることにより、転写前における薄膜層１１の変形が抑えられ、また、被転写体上に薄膜層１１を配置する際に薄膜層１１が取り扱いやすくなる。
【００２３】
支持基材１２は、吸液性を有する。吸液の対象となる液状体は、薄膜層１１の転写に際して、転写シート１０に供給される液状体である。上記液状体は、流動性を有して支持基材１２に浸透する流体であれば、特に限定されない。薄膜層１１の転写に際して、上記液状体は、支持基材１２に接触し、また、薄膜層１１および被転写体に接触し得るため、支持基材１２、薄膜層１１、および、被転写体を溶解あるいは分解し難い性質を有することが好ましい。また、上記液状体は、生体適合性を有し、被転写体の表面に対する刺激を与え難い性質を有することが好ましい。上記液状体は、例えば、水、アルコール、および、オイルの少なくとも１つを含有する。被転写体が生体の皮膚である場合、上記液状体は、例えば、水、アルコール類、化粧水、乳液、化粧用のクリーム類、軟膏、オイル、ローション、および、これらの混合物から、薄膜層１１の用途等に応じて適宜選択される。
【００２４】
なお、薄膜層１１は、支持基材１２が吸収する液状体に対する吸液性を有していてもよいし、有していなくてもよい。薄膜層１１は、支持基材１２が吸収する液状体を透過可能であることが好ましい。
【００２５】
吸液性を有する支持基材１２を構成可能であれば、支持基材１２の材料は限定されない。吸液性の的確な発現のためには、支持基材１２は、その少なくとも一部が、吸液性フィルム、織物、編物、および、不織布のいずれかから構成されていることが好ましい。
【００２６】
吸液性フィルムの材料としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリシロキサン類、セルロース、カゼイン等の各種のたんぱく質、ゴム、これらの高分子化合物の変性体や共重合体や混合物が挙げられる。吸液性フィルムは、エンボス加工、穴あけ加工、発泡等による多孔質化等の加工が施されたフィルムであってもよい。
【００２７】
織物、編物、および、不織布は、天然繊維もしくは化学繊維から構成される。天然繊維としては、綿、麻、パルプ、毛、絹等を用いることができる。化学繊維としては、ポリエステル、ポリオレフィン、キュプラ、レーヨン、リヨセル、アセテート、ジアセテート、ナイロン、アラミド、アクリル等からなる繊維を用いることができる。また、支持基材１２は、天然繊維と化学繊維とが混合された繊維材料から構成されていてもよい。こうした繊維からなる支持基材１２は、エンボス加工、穴あけ加工、発泡等による繊維の多孔質化等の加工が施されていてもよい。また、支持基材１２は紙であってもよい。
【００２８】
繊維材料からなる支持基材１２の目付けは、３ｇ／ｍ２以上２００ｇ／ｍ２以下であることが好ましく、１０ｇ／ｍ２以上１００ｇ／ｍ２以下であることがより好ましい。支持基材１２の目付けが上記下限値以上であれば、静電気や気流に起因して縒れ等の変形が生じ難くなる程度の剛性を支持基材１２が有するため、転写シート１０が取り扱いやすくなる。また、支持基材１２の目付けが上記上限値以下であれば、支持基材１２において繊維が詰まりすぎないため、支持基材１２の吸液と形状の変化とが円滑に進む。
【００２９】
なお、図２が示すように、転写シート１０は、薄膜層１１の第２面１１Ｒを覆う保護層１３を備えていてもよい。保護層１３は、第２面１１Ｒを保護する機能を有し、被転写体に貼り付けられる前に、薄膜層１１に他の物品等との接触に起因した傷や破れが生じることを抑える。薄膜層１１の転写に際しては、薄膜層１１と支持基材１２とを被転写体上に配置する前に、保護層１３は薄膜層１１から剥離される。
【００３０】
保護層１３は、例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリシロキサン類、セルロース、カゼイン等の各種のたんぱく質、ゴム、これらの高分子化合物の変性体や共重合体や混合物、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、無酸素銅、タフピッチ銅、りん脱酸銅、黄銅、りん青銅、電解銅、ニッケル、鉄ニッケル合金、チタン等からなるシートや箔である。あるいは、保護層１３は、織物、編物、不織布であってもよい。これらを構成する繊維としては、支持基材１２の繊維として例示した各種の繊維が用いられる。保護層１３は単一の層から構成されていてもよいし、複数の層から構成されていてもよい。
【００３１】
なお、平面視における転写シート１０の外形形状、すなわち、薄膜層１１の第２面１１Ｒと対向する位置から見た転写シート１０の外形形状は、特に限定されない。転写シート１０の外形形状は、例えば、矩形等の多角形形状、円形状、楕円形状、これら以外の直線や曲線で囲まれた形状等である。平面視にて、薄膜層１１と支持基材１２と保護層１３との形状は、一致していてもよいし、支持基材１２および保護層１３の少なくとも一方は薄膜層１１よりも大きくてもよい。
【００３２】
［吸液時の寸法変化率］
本実施形態の転写シート１０においては、薄膜層１１の転写に際して、吸液した状態で支持基材１２が薄膜層１１から剥離される。吸液前の状態においては、薄膜層１１と支持基材１２とは密着している。
【００３３】
吸液していない標準状態と吸液状態とを比較したとき、転写シート１０の表面に沿った少なくとも１つの方向において、薄膜層１１の寸法変化率Ｒｆと支持基材１２の寸法変化率Ｒｂとは、互いに異なる。転写シート１０の表面は、例えば、薄膜層１１の第２面１１Ｒである。さらに、薄膜層１１および支持基材１２の各々について、寸法変化率Ｒｆ，Ｒｂの絶対値の最大値を最大寸法変化率ＭＲｆ，ＭＲｂとするとき、支持基材１２の最大寸法変化率ＭＲｂは、薄膜層１１の最大寸法変化率ＭＲｆよりも大きいことが好ましい。
【００３４】
標準状態とは、薄膜層１１または支持基材１２である対象物を、２０±２℃、相対湿度６５±４％の環境下に配置して、その質量を１時間以上の間隔で測定し、前回の測定時からの質量の変化量が後の質量の０．１％以下となった状態である。
【００３５】
吸液状態とは、標準状態である対象物を、２０±２℃の吸液対象の液状体に１５分間以上浸漬し、その後、ピンセットで対象物を液状体中から取り出して、１分間、液状体を滴り落とした状態である。
【００３６】
標準状態に対する吸液状態の対象物の寸法変化率Ｒおよび最大寸法変化率ＭＲは、以下の方法で算出する。
まず、標準状態の対象物の寸法と、吸液状態の対象物の寸法とを、ノギスを用いて計測する。図３が示すように、薄膜層１１または支持基材１２である対象物Ｏｂの寸法Ｌは、基準線Ａｄに沿った対象物Ｏｂの端部間の長さである。基準線Ａｄは、転写シート１０の表面と対向する位置から見て、転写シート１０が内接する最小の矩形Ｓｑを仮想的に配置したとき、当該矩形Ｓｑの重心Ｃを通る直線である。基準線Ａｄは、標準状態の転写シート１０の外形を基準に設定され、標準状態での測定時と吸液状態での測定時とで、重心Ｃである点の位置を一致させて寸法Ｌを測定する。
なお、薄膜層１１と支持基材１２との標準状態および吸液状態の寸法は、薄膜層１１と支持基材１２とが積層された状態で測定されてもよいし、薄膜層１１と支持基材１２とが分離された状態で測定されてもよい。
【００３７】
標準状態の対象物Ｏｂの寸法Ｌ１を測定した後、対象物Ｏｂを吸液状態にして、吸液状態の対象物Ｏｂの寸法Ｌ２を測定する。１つの基準線Ａｄに沿った箇所における対象物Ｏｂの寸法変化率Ｒは、当該基準線Ａｄの位置での対象物Ｏｂの標準状態の寸法Ｌ１および吸液状態の寸法Ｌ２を用いて、Ｒ（％）＝（Ｌ２−Ｌ１）÷Ｌ１×１００の計算式によって算出される。
【００３８】
最大寸法変化率ＭＲは、１０本の基準線Ａｄについての寸法変化率Ｒの絶対値の最大値である。１０本の基準線Ａｄには、標準状態での対象物Ｏｂの寸法が、当該対象物Ｏｂのなかで最大となる箇所に位置する直線が含まれることが好ましい。また、１０本の基準線Ａｄが、重心Ｃを中心に分散して配置されることが好ましい。具体的には、１０本の基準線Ａｄが、互いに直交する２つの直線を含むこと、上記仮想的な矩形Ｓｑの２つの対角線の各々に沿った直線を含むこと、および、１０の基準線Ａｄが、重心Ｃを中心として均等な角度間隔で放射状に配置されること、の少なくとも１つが満たされていることが好ましい。
【００３９】
転写シート１０に対して設定し得る少なくとも１つの基準線Ａｄに沿った箇所において、薄膜層１１の寸法変化率Ｒｆと支持基材１２の寸法変化率Ｒｂとは、互いに異なる。薄膜層１１の寸法変化率Ｒｆと支持基材１２の寸法変化率Ｒｂとのどちらが大きくてもよい。また、薄膜層１１の寸法変化率Ｒｆと支持基材１２の寸法変化率Ｒｂとの双方が正、一方が正で他方が負、双方が負、のいずれであってもよい。また、薄膜層１１の寸法変化率Ｒｆは０％であってもよい。
【００４０】
薄膜層１１の寸法変化率Ｒｆと支持基材１２の寸法変化率Ｒｂとが異なることにより、転写シート１０が吸液したときの薄膜層１１と支持基材１２との変形の程度が異なる。その結果、薄膜層１１と支持基材１２との密着力が低下し、支持基材１２の薄膜層１１からの剥離が容易になる。
【００４１】
支持基材１２の最大寸法変化率ＭＲｂは、薄膜層１１の最大寸法変化率ＭＲｆよりも大きいことが好ましい。こうした構成によれば、支持基材１２の形状の変化が薄膜層１１よりも大きくなるため、薄膜層１１を被転写体に貼り付けた状態で支持基材１２を剥離する転写方法において、支持基材１２の剥離がより容易になる。また、転写の対象である薄膜層１１の形状の安定性が支持基材１２に対して相対的に高められる。
【００４２】
支持基材１２の最大寸法変化率ＭＲｂの測定箇所に対応する基準線Ａｄと、薄膜層１１の最大寸法変化率ＭＲｆの測定箇所に対応する基準線Ａｄとは、同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。また、薄膜層１１の最大寸法変化率ＭＲｆは０％であってもよい。すなわち、いずれの基準線Ａｄに沿った箇所においても、薄膜層１１の寸法は液状体への浸漬の前後で変化していなくてもよい。
【００４３】
薄膜層１１と支持基材１２の形状の変化の差を十分に確保するためには、支持基材１２の最大寸法変化率ＭＲｂは、１％以上であることが好ましく、支持基材１２と薄膜層１１との最大寸法変化率ＭＲの差は、１％以上であることが好ましい。
【００４４】
また、基準線Ａｄに沿った箇所のうち、標準状態での転写シート１０の寸法が最大となる箇所において、支持基材１２と薄膜層１１との寸法変化率Ｒが異なっていることが好ましい。さらに、上記標準状態での転写シート１０の寸法が最大となる箇所において、支持基材１２の寸法変化率Ｒｂの絶対値は、１％以上であることが好ましく、支持基材１２と薄膜層１１との寸法変化率Ｒの差は、１％以上であることが好ましい。また、上記標準状態での転写シート１０の寸法が最大となる箇所での支持基材１２の寸法変化率Ｒｂが、支持基材１２の最大寸法変化率ＭＲｂであることが好ましい。こうした構成によれば、転写シート１０の長さが大きい方向、すなわち、薄膜層１１と支持基材１２との形状の変化の差が支持基材１２の剥がしやすさに反映されやすい方向にて、上記形状の変化の差が十分に確保される。したがって、支持基材１２の薄膜層１１からの剥離がより容易になる。
【００４５】
また、転写シート１０に対して設定し得る複数の基準線Ａｄに沿った箇所に、支持基材１２の寸法変化率Ｒｂが正である箇所と、負である箇所とが含まれることが好ましい。言い換えれば、支持基材１２は、特定の方向では吸液によって膨らみ、この方向と異なる特定の方向では吸液によって縮むことが好ましい。例えば、支持基材１２が不織布である場合、製造工程での不織布の幅方向と長さ方向とで、吸液による伸縮の方向が変わるように、不織布を構成することが可能である。こうした構成によれば、すべての基準線Ａｄに沿った箇所で支持基材１２の寸法変化率Ｒｂがすべて正あるいはすべて負である場合と比較して、吸液した支持基材１２の形状が歪になるため、薄膜層１１と支持基材１２との密着力がより低下しやすい。
【００４６】
［転写シートの製造方法］
薄膜層１１は、公知の薄膜形成方法によって形成される。例えば、薄膜層１１の形成方法として、溶融させた材料を押し出して薄膜化する溶融押出法や、材料を溶かした塗液を薄膜状に成形した後に溶剤を蒸発させる溶液キャスト法が挙げられる。
【００４７】
薄膜層１１は、支持基材１２上に成膜されてもよいし、支持基材１２とは異なる基材上に製膜された後に、支持基材１２上に転写されてもよい。あるいは、溶解性基材上に成膜された薄膜層１１が、溶解性基材の溶解によって単離された後、支持基材１２上に移されてもよい。転写シート１０の形成後、吸液前、すなわち標準状態においては、薄膜層１１と支持基材１２とは密着している。
【００４８】
［薄膜層の転写方法］
転写シート１０を用いた薄膜層１１の転写方法、すなわち、薄膜層１１の被転写体への貼付方法を説明する。
【００４９】
図４が示すように、まず、被転写体Ｓｋにおける薄膜層１１の貼り付けの対象箇所に、供給液Ｌｑを供給する。供給液Ｌｑは、支持基材１２の吸液対象の液状体である。供給液Ｌｑの供給量は、薄膜層１１と支持基材１２との寸法変化量に差を生じさせるために十分な量であればよい。
【００５０】
続いて、転写シート１０を、薄膜層１１の第２面１１Ｒが被転写体Ｓｋの対象箇所に接するように、被転写体Ｓｋ上に配置する。吸液前の状態においては、薄膜層１１と支持基材１２とは密着しているため、支持基材１２からの薄膜層１１の剥離や脱落が抑えられ、薄膜層１１を対象箇所まで容易に運ぶことができる。図５が示すように、転写シート１０を、供給液Ｌｑが供給された被転写体Ｓｋ上に配置することで、転写シート１０が供給液Ｌｑを吸液する。このとき、支持基材１２の上から、指等で転写シート１０を押圧することにより、供給液Ｌｑを支持基材１２にまで浸透させることが好ましい。
【００５１】
図６が示すように、その後、薄膜層１１から支持基材１２を剥離する。これにより、薄膜層１１が被転写体Ｓｋに転写される。こうした転写方法によれば、吸液による寸法変化の差によって薄膜層１１と支持基材１２との間の密着力が低下するため、薄膜層１１から支持基材１２を容易に剥離することができる。その結果、支持基材１２の剥離時に薄膜層１１に皺や縒れや破れといった変形が生じることが抑えられるため、被転写体Ｓｋに薄膜層１１を一様に転写することができる。
【００５２】
なお、上記転写方法においては、被転写体Ｓｋに転写シート１０を配置する前に、被転写体Ｓｋに供給液Ｌｑを供給する方法を例示したが、供給液Ｌｑは、被転写体Ｓｋに転写シート１０を配置した後に、転写シート１０に対して供給されてもよい。また、被転写体Ｓｋの表面が予め液状体で濡れている場合には、供給液Ｌｑの積極的な供給が行われなくてもよい。要は、被転写体Ｓｋ上に配置された転写シート１０を吸液させられればよい。
【００５３】
［実施例］
上述した転写シートについて、具体的な実施例および比較例を用いて説明する。
（実施例１）
ポリ−ＤＬ−乳酸（武蔵野化学研究所製）を固形分が１０％となるように酢酸エチルに溶解させることにより、薄膜層の形成のための塗液を生成した。この塗液を、グラビアコート法を用いて離形性を有する成膜用基材上に塗布した後、塗膜を９０℃で１分間加熱して乾燥し、ポリ乳酸からなる薄膜層を得た。得られた薄膜層の膜厚は３５０ｎｍであった。続いて、成膜用基材上の薄膜層に支持基材を積層し、これらの積層体を成膜用基材の位置する側からゴムローラーで押圧しつつ、成膜用基材を剥離した。支持基材としては、パルプ系の繊維から構成された不織布を用いた。支持基材の目付けは、２０ｇ／ｍ２である。これにより、薄膜層と支持基材とを備える実施例１の転写シートを得た。
【００５４】
（実施例２）
支持基材として、目付けが２５ｇ／ｍ２である、パルプ系の繊維から構成された不織布を用いたこと以外は、実施例１と同様の工程によって、実施例２の転写シートを得た。
【００５５】
（実施例３）
支持基材として、目付けが３５ｇ／ｍ２である、パルプ系の繊維から構成された不織布を用いたこと以外は、実施例１と同様の工程によって、実施例３の転写シートを得た。
【００５６】
（実施例４）
支持基材として、目付けが２７．５ｇ／ｍ２である、キュプラ系の繊維から構成された不織布を用いたこと以外は、実施例１と同様の工程によって、実施例４の転写シートを得た。
【００５７】
（比較例１）
支持基材として、目付けが２０ｇ／ｍ２である、ポリエステル系の繊維から構成された不織布を用いたこと以外は、実施例１と同様の工程によって、比較例１の転写シートを得た。
【００５８】
（比較例２）
ポリ−ＤＬ−乳酸（武蔵野化学研究所製）を固形分が１０％となるように酢酸エチルに溶解させることにより、薄膜層の形成のための塗液を生成した。この塗液を、グラビアコート法を用いて支持基材上に塗布した後、塗膜を９０℃で１分間加熱して乾燥し、ポリ乳酸からなる薄膜層を得た。支持基材としては、ポリエステル系の樹脂フィルムを用いた。支持基材における単位面積当たりの質量は、２０ｇ／ｍ２である。得られた薄膜層の膜厚は３５０ｎｍであった。これにより、薄膜層と支持基材とを備える比較例２の転写シートを得た。
【００５９】
（比較例３）
支持基材として、単位面積当たりの質量が２０ｇ／ｍ２である、ポリオレフィン系の樹脂フィルムを用いたこと以外は、比較例２と同様の工程によって、比較例３の転写シートを得た。
【００６０】
＜評価方法＞
（寸法変化率の算出）
各実施例および各比較例の薄膜層と支持基材について、上記実施形態に記載の方法で、標準状態に対する吸液状態の寸法変化率Ｒを算出し、最大寸法変化率ＭＲを求めた。具体的には、各実施例および各比較例の薄膜層と支持基材とを、平面視にて３０ｍｍ×４０ｍｍの矩形形状に切り出して試験片を作製し、当該試験片に対して１０本の基準線Ａｄを設定して標準状態と吸液状態との寸法を測定することに基づき、最大寸法変化率ＭＲを算出した。１０本の基準線Ａｄは、試験片の外形である矩形の対角線に沿った直線と、当該矩形の向かい合う辺の中点同士を結ぶ直線とが含まれるように設定した。吸液対象の液状体としては、水を用いた。
なお、薄膜層については、支持基材に積層された状態で標準状態と吸液状態との寸法を測定し、支持基材については、薄膜層と分離した単独の支持基材を用いて標準状態と吸液状態との寸法を測定した。
【００６１】
（転写性の評価）
各実施例および各比較例の転写シートについて、平面視にて３０ｍｍ×４０ｍｍの矩形形状の試験片を５つずつ用意した。
【００６２】
被転写体であるヒトの皮膚に、供給液として水を２５０μｌ供給し、供給した水を指で軽く引き伸ばした。その後、転写シートの試験片を、薄膜層における支持基材とは反対側の面が皮膚に接するように、皮膚上に配置した。次いで、支持基材の上から、３Ｎの荷重で３秒間、試験片を押圧した。そして、試験片の端部から、支持基材を指で剥離した。支持基材の剥離後、皮膚上の薄膜層を目視により観察し、薄膜層の欠け、破れ、皺、縒れのいずれかの変形が生じているか否かを確認した。
【００６３】
各実施例および各比較例について、５つの試験片のうち、薄膜層に皺、縒れ、破れ、欠けの少なくとも１つが生じている試験片が０個である場合を「〇」、薄膜層に皺、縒れ、破れ、欠けの少なくとも１つが生じている試験片が３個以上の場合、もしくは、支持基材が剥がれず皮膚上への薄膜層の転写ができなかった場合を「×」、上記「〇」および「×」のいずれにも当てはまらない場合を「△」とした。
【００６４】
表１に、各実施例および各比較例について、薄膜層と支持基材との最大寸法変化率ＭＲ、および、転写性の評価結果を示す。
【００６５】
【表１】
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【００６６】
表１が示すように、薄膜層の最大寸法変化率は０％である。すなわち、いずれの方向においても、水への浸漬の前後で薄膜層の寸法はほぼ変わらない。実施例１〜４では、支持基材の最大寸法変化率が０％とは異なる値であるから、薄膜層の寸法変化率と支持基材の寸法変化率とが互いに異なる箇所が存在することは明らかである。そして、実施例１〜４では、支持基材の最大寸法変化率が薄膜層の最大寸法変化率よりも大きくなっている。こうした実施例１〜４においては、転写された薄膜層に皺、縒れ、破れ、欠けが発生しておらず、薄膜層の一様な転写が可能であった。
【００６７】
一方、比較例１〜３では、支持基材の最大寸法変化率が０％であり、すなわち、いずれの方向においても、水への浸漬の前後で支持基材の寸法はほぼ変わらない。このように、比較例１〜３では、薄膜層と支持基材との双方が変形しないため、薄膜層の寸法変化率と支持基材の寸法変化率とが互いに異なる方向は存在せず、支持基材の最大寸法変化率と薄膜層の最大寸法変化率とは共に０％である。こうした比較例１〜３においては、転写された薄膜層に皺、縒れ、破れ、欠けが高頻度で発生しており、また、被転写体への薄膜層の転写ができない場合もあった。
【００６８】
以上のことから、液状体への浸漬の前後における寸法変化率が、薄膜層と支持基材とで異なる構成であれば、薄膜層の転写に際して支持基材を薄膜層から容易に剥離することが可能であり、良好な転写性が得られることが示された。
【００６９】
以上、実施形態および実施例にて説明したように、上記実施形態の転写シートおよび薄膜層の転写方法によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
（１）少なくとも１つの基準線Ａｄに沿った箇所において、標準状態に対する吸液状態の寸法変化率Ｒ、すなわち、転写シート１０の吸液対象の液状体への浸漬の前後における寸法変化率Ｒが、薄膜層１１と支持基材１２とで異なる。こうした構成によれば、転写シート１０が吸液したときの薄膜層１１と支持基材１２との変形の程度が異なるため、吸液状態では、薄膜層１１と支持基材１２との密着力が低下する。したがって、吸液状態で支持基材１２を剥離することによって、支持基材１２の薄膜層１１からの剥離が容易になる。
【００７０】
（２）基準線Ａｄに沿った複数の箇所における支持基材１２の最大寸法変化率ＭＲｂは、上記複数の箇所における薄膜層１１の最大寸法変化率ＭＲｆよりも大きい。こうした構成によれば、吸液による支持基材１２の形状の変化が薄膜層１１よりも大きくなるため、薄膜層１１を被転写体に貼り付けた状態で支持基材１２を剥離する転写方法において、支持基材１２の剥離がより容易になる。また、転写の対象である薄膜層１１の形状の安定性が支持基材１２に対して相対的に高められる。
【００７１】
（３）支持基材１２の構成材料に、吸液性フィルム、織物、編物、および、不織布の少なくとも１つが含まれる構成であれば、吸液性を有する支持基材１２が好適に実現される。
【００７２】
（４）支持基材１２が繊維材料から構成され、支持基材１２の目付けが、３ｇ／ｍ２以上２００ｇ／ｍ２以下であれば、静電気や気流に起因した変形が生じ難くなる程度の剛性を支持基材１２が有するため、転写シート１０が取り扱いやすくなる。また、支持基材１２において繊維が詰まりすぎないため、支持基材１２の吸液と形状の変化とが円滑に進む。
【００７３】
（５）転写シート１０を用いた薄膜層１１の転写方法は、薄膜層１１における支持基材１２に接する面とは反対側の面である第２面１１Ｒを被転写体に接触させることと、被転写体上に配置された転写シート１０に吸液させることと、転写シート１０が吸液した状態で、薄膜層１１から支持基材１２を剥離することとを含む。こうした転写方法によれば、吸液状態で支持基材１２が薄膜層１１から剥離されるため、吸液による薄膜層１１と支持基材１２との変形の程度の差に起因して、支持基材１２の薄膜層１１からの剥離が容易になる。
【００７４】
［変形例］
上記実施形態は、以下のように変更して実施することが可能である。
少なくとも１つの基準線Ａｄに沿った箇所において、標準状態に対する吸液状態の寸法変化率Ｒが、薄膜層１１と支持基材１２とで異なっていれば、支持基材１２の寸法変化率Ｒｂは０％であってもよい。言い換えれば、転写シート１０の吸液によって、薄膜層１１の形状が変化する一方で、支持基材１２の形状は変化しなくてもよい。
【符号の説明】
【００７５】
Ａｄ…基準線、Ｃ…重心、Ｓｑ…矩形、Ｓｋ…被転写体、Ｌｑ…供給液、１０…転写シート、１１…薄膜層、１１Ｆ…第１面、１１Ｒ…第２面、１２…支持基材、１３…保護層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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