(57)【要約】【課題】コストに基づいて露光量を制御するモードを決定することができる露光装置を提供する。【解決手段】本発明に係る露光装置は、パルス光を出射する光源と、光源からのパルス光を基板まで導光する複数の光学素子とを備える、光源からのパルス光を用いて原版に形成されたパターンを基板に転写するように基板を露光する露光装置であって、目標露光量に応じて、複数の光学素子のうちの少なくとも一つの光学素子の交換コストと光源の運用コストとの和が小さくなるように、露光装置の所定のパラメータの値を決定するように制御する制御部を備えることを特徴とする。【選択図】図１
2020034868.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルス光を出射する光源と、
前記光源からのパルス光を基板まで導光する複数の光学素子と、
を備える、前記光源からのパルス光を用いて原版に形成されたパターンを前記基板に転写するように前記基板を露光する露光装置であって、
目標露光量に応じて、前記複数の光学素子のうちの少なくとも一つの光学素子の交換コストと前記光源の運用コストとの和が小さくなるように、前記露光装置の所定のパラメータの値を決定するように制御する制御部を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記所定のパラメータは、前記パルス光のエネルギーと、前記パルス光のパルス間隔と、前記光源のＮＤフィルタの段数と、前記原版が載置される原版ステージ及び前記基板が載置される基板ステージの走査速度とを含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記パルス間隔を前記光源の許容値まで小さくした後に前記エネルギーを増大させるパルスエネルギー優先モードにおける前記交換コスト及び運用コストの和と、前記エネルギーを前記光源の許容値まで大きくした後に前記パルス間隔を減少させるパルス間隔優先モードにおける前記交換コスト及び運用コストの和とで小さい方のモードに基づいて、前記エネルギー、前記パルス間隔、前記ＮＤフィルタの段数、前記走査速度のうちの少なくとも一つを決定することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記交換コストは、前記少なくとも一つの光学素子の価格と該少なくとも一つの光学素子の交換作業工数に必要な費用との少なくとも一方から算出されるコストであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記運用コストは、前記パルス光の単価と一枚の前記基板に対する露光に必要な前記パルス光の数との少なくとも一方から算出されるコストであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置において製品の歩留まりを向上させるために、露光量を適正範囲内に維持するように制御してウェハを露光することで、ウェハ間やロット間における解像力のばらつきを抑えることが重要である。
その際に、レーザ光源のパルス発振周波数を変更して露光量を制御するモードや１パルスあたりのエネルギーを変更して露光量を制御するモード等を用いることができる。
特許文献１は、パルス光のエネルギーがパルス毎にほぼ一定になるように制御するモードと、パルス光の所定パルス数毎の積算エネルギーがほぼ一定になるように制御するモードとを選択的に切り替えて安定的な露光制御を行う露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−３８３８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
露光装置の運用においては、光学素子へのダメージの蓄積による光学素子の交換やレーザ光源の運用に伴うコストが発生する。
そのため、露光量を制御するモードを決定する際に、露光装置の運用において発生するコストを考慮することも生産性向上において重要である。
そこで本発明は、コストに基づいて露光量を制御するモードを決定することができる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係る露光装置は、パルス光を出射する光源と、光源からのパルス光を基板まで導光する複数の光学素子とを備える、光源からのパルス光を用いて原版に形成されたパターンを基板に転写するように基板を露光する露光装置であって、目標露光量に応じて、複数の光学素子のうちの少なくとも一つの光学素子の交換コストと光源の運用コストとの和が小さくなるように、露光装置の所定のパラメータの値を決定するように制御する制御部を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、コストに基づいて露光量を制御するモードを決定することができる露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】第一実施形態に係る走査露光装置の構成図及び一部拡大構成図。
【図２】パルスエネルギー優先モードにおける目標露光量に対する各パラメータの変化を示した図。
【図３】パルス周波数優先モードにおける目標露光量に対する各パラメータの変化を示した図。
【図４】パルスエネルギー優先モード及びパルス周波数優先モードそれぞれにおける目標露光量に対するコストの変化を示した図。
【図５】目標露光量に対するパルスエネルギー優先モードのコストとパルス周波数優先モードのコストとの比の変化を示した図。
【図６】第一実施形態に係る走査露光装置における走査露光制御を示したフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、本実施形態に係る走査露光装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている。
【０００９】
図１（ａ）は、本実施形態に係る走査露光装置１００の構成図を示している。
走査露光装置１００は、走査方向（Ｙ方向）に沿って台形形状の光強度分布を基板１１５上に形成する露光光によって基板１１５を露光する。
走査露光装置１００は、原版１１３上および基板１１５上でスリット形状を有する露光光に対して原版１１３および基板１１５を走査し、原版１１３を介して基板１１５の各ショット領域を露光する。
例えば、ＫｒＦ等のガスが封入されているパルスレーザ光源１０１は、遠紫外領域の波長２４８ｎｍの露光光を出射する。
パルスレーザ光源１０１のガス交換動作、あるいは波長安定化のための動作、放電印加電圧等は、レーザ制御装置１０２によって制御される。
【００１０】
レーザ制御装置１０２は、例えば、主制御装置１０３からの命令に従ってパルスレーザ光源１０１を制御するように構成されている。
主制御装置１０３（制御部）は、例えば、処理部２００及び条件判断部２０１を備えている。処理部２００は、目標とする露光量や走査露光装置１００のパラメータから命令を決定する。また条件判断部２０１は、基板一枚あたりの光学部品交換コストと基板一枚あたりのパルスレーザ光源運用コストとからレーザ制御装置１０２の出力波長や放電印加電圧を決定する。
そして、主制御装置１０３は、処理部２００に入力される目標露光量や走査露光装置１００のパラメータ等の光学的な条件と条件判断部２０１に入力されるコストの条件とから各制御装置へ出力する命令を決定する。
なお、条件判断部２０１における具体的なコスト算出については後述する。
【００１１】
パルスレーザ光源１０１から出力された露光光は、整形光学系である照明光学系１０４に入射し、所定の形状（円形状、輪帯形状、四重極形状、二重極形状など）に整形される。
図１（ｂ）は、照明光学系１０４の構成図を示している。照明光学系１０４は、引き回し光学系２、光学レンズ３、回折光学素子４を備えている。また、照明光学系１０４は、コンデンサーレンズ５、プリズムユニット７、ズームレンズユニット８、ＮＤフィルタ９を備えている。
引き回し光学系２は、パルスレーザ光源１０１からの光束を回折光学素子４に導くように、パルスレーザ光源１０１とＮＤフィルタ９との間に設けられている。
ＮＤフィルタ９は、ターレット（不図示）の複数のスロットにそれぞれ異なる透過率のフィルタが搭載されており、スロット段数を選択することにより所望の光強度を形成する。
【００１２】
回折光学素子４は、照明光学系１０４の被照明面である原版（レチクル）１１３と共役な面又は照明光学系１０４の瞳面とフーリエ変換の関係にある面上に配置される。
そして、回折光学素子４は、投影光学系１１４の瞳面と共役な面である照明光学系１０４の瞳面上及び照明光学系１０４の瞳面と共役な面上それぞれにおいて、パルスレーザ光源１０１からの露光光の光強度分布を回折効果により変換して所望の光強度分布を形成する。
回折光学素子４は、回折パターン面に所望の回折パターンが得られるように計算機で設計された計算機ホログラム（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ｇｅｎｅｒａｔｅｄ  Ｈｏｌｏｇｒａｍ）を使用してもよい。
【００１３】
このようにして照明光学系１０４の瞳面上に形成される光源形状は、有効光源形状と呼ばれる。
回折光学素子４は、光学レンズ３とコンデンサーレンズ５との間に設けられており、光学レンズ３を通過し、回折光学素子４に入射する露光光は、回折光学素子４によって回折されて、コンデンサーレンズ５へ導光される。
【００１４】
照明光学系１０４には複数の回折光学素子４が設けられており、各回折光学素子４はターレット（不図示）の複数のスロットの対応するスロットにそれぞれ取り付けられて搭載されている。
複数の回折光学素子４はそれぞれ、異なる有効光源形状を形成することができる。なお、有効光源形状としては、小円形形状（相対的に小さな円形形状）、大円形形状（相対的に大きな円形形状）、輪帯形状、二重極、四重極その他の形状が含まれる。また、輪帯形状、二重極、四重極の有効光源形状により照明する方法は、変形照明と呼ばれる。
【００１５】
コンデンサーレンズ５は、回折光学素子４とプリズムユニット７との間に設けられており、回折光学素子４で回折された光束を集光し、フーリエ変換面６に回折パターンを形成する。
プリズムユニット７及びズームレンズユニット８は、コンデンサーレンズ５とインテグレータレンズ１０５との間に設けられており、フーリエ変換面６に形成された光強度分布を拡大するズーム光学系として機能する。
プリズムユニット７は、フーリエ変換面６に形成された回折パターン（光強度分布）を、輪帯率等を調整してズームレンズユニット８へ導くことができる。
ズームレンズユニット８は、フーリエ変換面６に形成された回折パターンを、照明光学系１０４のＮＡと投影光学系１１４のＮＡとの比を基準としたσ値を調整してインテグレータレンズ１０５へ導くことができる。
【００１６】
そして、照明光学系１０４で成形された露光光は、インテグレータレンズ１０５に入射し、入射した露光光によって、インテグレータレンズ１０５の射出面に複数の２次光源が形成される。
コンデンサーレンズ１０７は、原版１１３上の照度分布を変更する機能を有している。コンデンサーレンズ１０７は、開口幅を変更することができる可変スリット機構１１０をインテグレータレンズ１０５の射出面（２次光源）からの露光光によって照明する。
可変スリット機構１１０は、原版面ＲＰ又は結像面ＷＰと共役な面である共役面ＭＢ上に配置されている。
開口絞り１０６の開口部は、照明光学系１０４の開口数（ＮＡ）を規定する。開口絞り１０６の開口部は、ほぼ円形であってよい。
照明系制御装置１０８によって開口絞り１０６の開口部の直径、つまり照明光学系１０４の開口数（ＮＡ）が設定される。すなわち、照明系制御装置１０８は、開口絞り１０６の開口部を制御することで、照明光学系１０４のσ値を設定することができる。
【００１７】
照明光学系１０４が出射する露光光の光路上にはハーフミラー１１１が配置されており、原版１１３を照明する露光光の一部がハーフミラー１１１によって反射されて取り出される。
ハーフミラー１１１の反射光の光路上にはフォトセンサ１０９が配置されており、フォトセンサ１０９は、露光光の強度（露光エネルギー量）に対応する出力を生成する。
フォトセンサ１０９の出力は、パルスレーザ光源１０１のパルス発光毎に積分を行う積分回路（不図示）によって１パルス当たりの露光エネルギー量に変換され、照明系制御装置１０８を介して主制御装置１０３に提供される。
【００１８】
原版１１３には、半導体素子の回路パターンに対応したパターンが形成されており、照明光学系１０４から出射した露光光によって照明される。
光軸ＬＡに直交する面内に可動な複数の遮光部材を有する２次元方向の可変ブレード１１２が、照明光学系１０４が出射する露光光の光路上に設けられている。可変ブレード１１２の複数の遮光部材の位置を調整することによって、原版１１３のパターン領域に対する露光光の照射領域を任意に設定することを可能にしている。
【００１９】
投影光学系１１４は、フォトレジストが塗布された基板１１５上に原版１１３のパターン領域の一部を縮小倍率β（βは例えば１／４）で縮小投影する。
この状態で、投影光学系１１４の縮小倍率βと同じ速度比率で、露光光に対して原版ステージ１２３および基板ステージ１１６を互いに逆方向（Ｙ：走査方向）に走査させる。
また、パルスレーザ光源１０１がパルス発光を繰り返す結果、原版１１３のパターン領域の全域が基板１１５上のショット領域（ショット領域は、１つ又は複数のチップ領域を含む）に転写される。
なお、図１（ａ）に示されているように、投影光学系１１４の光軸ＬＡに平行な軸をＺ軸としたとき、それに直交し且つ互いに直交する二軸のうち、基板１１５または基板ステージ１１６の走査方向に平行な軸をＹ軸、残りの軸をＸ軸としている。
【００２０】
原版ステージ１２３は、載置されている原版１１３を保持するように構成されている。また、原版ステージ１２３には移動鏡１２４が設けられており、レーザ干渉計１２５によって移動鏡１２４の位置あるいは変位が計測される。これにより、原版ステージ１２３のＸ方向およびＹ方向の位置が検出される。
主制御装置１０３によって制御される原版ステージ制御装置１２６は、レーザ干渉計１２５を用いて検出される原版ステージ１２３の位置に基づいて不図示の駆動機構を制御することにより、原版ステージ１２３の位置および移動を制御する。
【００２１】
投影光学系１１４は、可動式光学素子１２７を有している。可動式光学素子１２７は、投影光学系１１４の鏡筒１３０により保持されており、駆動機構１２８によって投影光学系１１４の光軸方向に駆動される。
主制御装置１０３によって制御される投影光学系制御装置１２９は、駆動機構１２８を制御することにより、投影光学系１１４の位置および移動を制御する。
投影光学系１１４の光軸方向における可動式光学素子１２７の位置を調整することによって、投影光学系１１４の縮小倍率βおよび／または歪曲誤差を調整することができる。
なお、駆動機構１２８は、例えば、空気圧または圧電素子によって可動式光学素子１２７を駆動するように構成されている。
【００２２】
基板ステージ１１６は、載置されている基板１１５を保持するように構成されており、駆動機構１１９によって駆動されることによって、投影光学系１１４の光軸方向（Ｚ方向）および光軸方向に直交する面内（Ｘ−Ｙ面）を移動することができる。更に、基板ステージ１１６は、Ｚ軸周り、Ｘ軸周り、Ｙ軸周りの回転についても駆動される。
また、基板ステージ１１６には移動鏡１１７が設けられており、レーザ干渉計１１８によって移動鏡１１７の位置あるいは変位が計測される。これにより、基板ステージ１１６のＸ方向およびＹ方向の位置が検出される。
主制御装置１０３によって制御される基板ステージ制御装置１２０は、レーザ干渉計１１８を用いて検出される基板ステージ１１６の位置に基づいて駆動機構１１９を制御することにより、基板ステージ１１６の位置および移動を制御する。
また、基板ステージ１１６には、光検出器１３５が搭載されており、光検出器１３５に対する基準プレート１３６の相対位置を検出することによって、原版ステージ１２３と基板ステージ１１６との相対位置を判定することができる。
【００２３】
次に、本実施形態に係る走査露光装置１００の主制御装置１０３において行われるコスト比較について説明する。
【００２４】
まず、本実施形態に係る走査露光装置１００では、光学部品交換コストとパルスレーザ光源運用コストとの二つのコストを考える。
ここでいう光学部品交換コストとは、走査露光装置１００における走査露光の際にダメージを受けた光学部品を交換するために必要となるコストである。
例えば、一つの或る光学部品Ａを交換するためのコストを基板（ウェハ）一枚当たりで表すと、以下の式（１）のようになる。
【数１】
2020034868.tif 000003
【００２５】
ここで、Ｍはパルスレーザ光源１０１から出射されるパルス光のエネルギー倍率（パルス光の所定のエネルギーを１としたときの割合）、Ｄ（％／ｐｕｌｓｅ）は所定のエネルギーを有するパルス一つ当たりの光学部品Ａの劣化率である。また、Ｎｐｕｌｓｅ（ｐｕｌｓｅ／ｄａｙ）はパルスレーザ光源１０１のパルス周波数が所定の周波数ｆ０の時における一日当たりのパルス照射数であり、Ｄｍａｘ（％）は光学部品Ａの交換までの劣化許容値である。また、Ｎｗａｆｅｒ（ｗａｆｅｒ／ｄａｙ）はパルスレーザ光源１０１のパルス周波数が所定の周波数ｆ０の時における一日当たりに消費されるウェハの数である。また、Ｃは光学部品Ａの交換に必要なコスト（例えば、光学部品Ａの価格と光学部品Ａの交換作業工数に必要な費用との少なくとも一方から算出されるコスト）である。
従って、パルスエネルギー倍率Ｍが大きくなるほど、二乗でウェハ一枚当たりの光学部品Ａの交換コストは大きくなっていく。
【００２６】
また、パルスレーザ光源運用コストとは、走査露光装置１００における走査露光の際にパルスレーザ光源１０１を運用するために必要となるコストである。
ここで、パルスレーザ光源１０１のパルス周波数が周波数ｆの時におけるウェハ一枚当たりのパルスレーザ光源運用コストは以下の式（２）のように表される。
【数２】
2020034868.tif 000004
【００２７】
ここで、Ｙ（／ｐｕｌｓｅ）はパルスレーザ光源１０１において一つのパルスを出射するための単価である。
従って、パルス周波数ｆが大きくなるほど、比例してウェハ一枚当たりのパルスレーザ光源運用コストも大きくなっていく。換言すると、パルス間隔が小さくなるほど、ウェハ一枚当たりのパルスレーザ光源運用コストも大きくなっていく。
【００２８】
このように、光学部品交換コスト及びパルスレーザ光源運用コストは、パルスエネルギー倍率Ｍ及びパルス周波数ｆを主要なパラメータとして変化する。
【００２９】
次に、本実施形態に係る走査露光装置１００をパルスエネルギー優先モード及びパルス周波数優先モードそれぞれにおいて走査露光させる際の動作について説明する。
【００３０】
本実施形態に係る走査露光装置１００における走査露光では、パルスレーザ光源１０１のパルス周波数ｆ、パルスエネルギー倍率Ｍ、ＮＤフィルタの段数及びステージ走査速度の値を調整している。
【００３１】
まず、ここでいうパルスエネルギー優先モードとは、パルスレーザ光源１０１から出射するパルスのエネルギー倍率Ｍを極力変更しないように優先するモードである。
【００３２】
図２（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態に係る走査露光装置１００のパルスエネルギー優先モードにおける目標露光量に対するパルス周波数ｆ、パルスエネルギー倍率Ｍ、ＮＤフィルタの段数及びステージ走査速度の変化を示している。
【００３３】
図２（ａ）における上側のグラフがパルス周波数ｆの変化を示しており、下側のグラフがＮＤフィルタの段数の変化を示している。
また、図２（ｂ）における上側のグラフがパルスエネルギー倍率Ｍの変化を示しており、下側のグラフがステージ走査速度の変化を示している。
【００３４】
まず、パルスエネルギー優先モードにおけるパルス周波数ｆは、以下の式（３）から算出される。
【数３】
2020034868.tif 000005
【００３５】
ここで、ＦはＮＤフィルタ切り替え時許容パルス周波数、ＮＤはＮＤフィルタによる強度減衰率、Ｄｏｓｅは目標露光量、ＤｏｓｅＭａｘはＮＤフィルタを介さない場合の最大露光量、ＦＬＯＯＲは桁切り捨て関数である。
なお、本実施形態に係る走査露光装置１００では、Ｆ＝４０９０．９Ｈｚ、ＮＤ＝８８％、ＤｏｓｅＭａｘ＝５０７．１Ｊ／ｍ２としている。
【００３６】
図２（ａ）及び（ｂ）に示されているように、パルスエネルギー優先モードでは、ＮＤフィルタの段数を変えることによってレーザ強度を階段的に変化させている。そして、パルス周波数ｆを３６００〜４０００Ｈｚの範囲内に入るように連続的に変化させて、目標露光量を達成している。
【００３７】
まず目標露光量が小さい場合、パルス周波数ｆが４０００Ｈｚ未満の時には、パルスエネルギー倍率Ｍを０．８５に固定している。そして、パルス周波数ｆが４０００Ｈｚになった時には、パルス周波数ｆを４０００Ｈｚに固定して、パルスエネルギー倍率Ｍを０．８７程度まで変化させている。
その後、目標露光量が５００Ｊ／ｍ２以上になると、ＮＤフィルタを外してパルス周波数ｆを４０００Ｈｚにしても達成できなくなるため、パルスエネルギー倍率Ｍを上げていく。
そして、６００Ｊ／ｍ２になると、パルスエネルギー倍率Ｍが最大許容値１．０３になるため、最後にステージ走査速度を９００ｍｍ／ｓｅｃから遅くしていくことによって、目標露光量を達成している。
【００３８】
このように、パルスエネルギー優先モードでは、まず目標露光量を達成するためにパルスエネルギー倍率Ｍをなるべく変化させずに、ＮＤフィルタの段数とパルス周波数ｆとを変化させる。
そして、ＮＤフィルタを外し、且つパルス周波数ｆが運用時許容パルス周波数である４０００Ｈｚに達したとき、パルスエネルギー倍率Ｍを運用時許容倍率である１．０３まで増大させて、最後にステージ走査速度を減少させている。
【００３９】
この時、パルスエネルギー優先モードにおける光学部品交換コスト、パルスレーザ光源運用コスト及びそれらの和である装置運用コストは、図４（ａ）のように得られる。
【００４０】
次に、パルス周波数優先モードとは、パルスレーザ光源１０１のパルス周波数ｆを極力変更しないように優先するモードである。またパルス周波数優先モードは、パルスレーザ光源１０１のパルス間隔を極力変更しないように優先するパルス間隔優先モードということもできる。
【００４１】
図３（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態に係る走査露光装置１００のパルス周波数優先モードにおける目標露光量に対するパルス周波数ｆ、パルスエネルギー倍率Ｍ、ＮＤフィルタの段数及びステージ走査速度の変化を示している。
図３（ａ）における階段状のグラフがＮＤフィルタの段数の変化を示しており、もう一つのグラフがパルスエネルギー倍率Ｍの変化を示している。
また、図３（ｂ）における上側のグラフがパルス周波数ｆの変化を示しており、下側のグラフがステージ走査速度の変化を示している。
【００４２】
まず、パルス周波数優先モードにおけるパルスエネルギー倍率Ｍは、以下の式（４）から算出される。
【数４】
2020034868.tif 000006
ここで、ｍはＮＤフィルタ切り替え時許容パルスエネルギー倍率であり、本実施形態に係る走査露光装置１００では、ｍ＝９７％としている。
【００４３】
図３（ａ）及び（ｂ）に示されているように、パルス周波数優先モードでは、ＮＤフィルタの段数を変えることによってレーザ強度を階段的に変化させ、パルスエネルギー倍率Ｍを連続的に変化させて、目標露光量を達成している。
【００４４】
まず目標露光量が小さい場合、パルス周波数ｆを３６００Ｈｚに固定して、パルスエネルギー倍率Ｍを０．８５〜０．９７の範囲で変化させている。
そして、５１０Ｊ／ｍ２以上になるとＮＤフィルタを外してパルスエネルギー倍率ＭをＮＤフィルタ切り替え時の許容値９７％にしても達成できなくなるため、パルスエネルギー倍率Ｍを更に上げていく。
そして、５４０Ｊ／ｍ２以上になるとパルスエネルギー倍率Ｍを最大値１０３％にしても達成できなくなるため、パルス周波数ｆも上げていく。
そして、６００Ｊ／ｍ２以上になるとパルス周波数ｆも最大値４０００Ｈｚになるため、最後にステージ走査速度を９００ｍｍ／ｓｅｃから遅くしていくことによって目標露光量を達成している。
【００４５】
このように、パルス周波数優先モードでは、まず目標露光量を達成するためにパルス周波数ｆをなるべく変化させずに、ＮＤフィルタの段数とパルスエネルギー倍率Ｍとを変化させる。
そして、ＮＤフィルタを外し、且つパルスエネルギー倍率Ｍが運用時許容倍率である１．０３に達したとき、パルス周波数ｆを運用時許容パルス周波数である４０００Ｈｚまで増大させて、最後にステージ走査速度を減少させている。
【００４６】
この時、パルス周波数優先モードにおける光学部品交換コスト、パルスレーザ光源運用コスト及びそれらの和である装置運用コストは、図４（ｂ）のように得られる。
【００４７】
図５は、パルスエネルギー優先モードにおける装置運用コストとパルス周波数優先モードにおける装置運用コストとの比の変化を示している。
なおここで、光学部品Ａの交換に必要なコストＣは２５８００００Ｙｅｎ、一つのパルスを出射するための単価Ｙは４×１０−４Ｙｅｎ／ｐｕｌｓｅとしている。
【００４８】
図５に示されているように、露光量が５４０Ｊ／ｍ２未満ではパルスエネルギー優先モードにおける装置運用コストの方が大きく、５４０Ｊ／ｍ２以上６００Ｊ／ｍ２以下ではパルス周波数優先モードにおける装置運用コストの方が大きくなっていることがわかる。
なお、この両コストの大小が変わる露光量５４０Ｊ／ｍ２の値は、上記で用いたパラメータの値を変えることによって変わってくる。
【００４９】
図６は、本実施形態に係る走査露光装置１００における走査露光制御のフローチャートを示している。
まず、主制御装置１０３は、処理部２００に格納された情報から目標露光量を算出する（Ｓ０１）。そして、コスト入力部２０２に入力された情報から、パルスエネルギー優先モードにおける装置運用コストとパルス周波数優先モードにおける装置運用コストとの比較を条件判断部２０１において行う（Ｓ０２）。
もし、パルスエネルギー優先モードにおける装置運用コストがパルス周波数優先モードにおける装置運用コスト以下の場合、パルスエネルギー優先モードを選択する（Ｓ０３）。
【００５０】
一方、パルスエネルギー優先モードにおける装置運用コストがパルス周波数優先モードにおける装置運用コストより大きい場合、パルス周波数優先モードを選択する（Ｓ０４）。
そして、以上の判定で選択されたモードに応じて、パルスエネルギー倍率Ｍ、パルス周波数ｆ、ＮＤフィルタの段数及びステージ走査速度を決定し（Ｓ０５）、決定されたそれらの情報から主制御装置１０３が命令を出力し、走査露光を行う（Ｓ０６）。
【符号の説明】
【００５１】
１００  走査露光装置（露光装置）
１０１  パルスレーザ光源（光源）
１０３  主制御装置（制御部）
１１３  原版
１１５  基板
【図１】
2020034868.tif 000007
【図２】
2020034868.tif 000008
【図３】
2020034868.tif 000009
【図４】
2020034868.tif 000010
【図５】
2020034868.tif 000011
【図６】
2020034868.tif 000012