(57)【要約】      （修正有）【課題】帯電防止および反射防止または反射特性を持つ光学物品を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は帯電防止および反射防止または反射特性を持つ光学物品に関係し、反射防止または反射コーティングが塗工された少なくとも１つの主表面を持つ基材を含み、前記コーティングが導電層の全重量に対して重量で少なくとも３０％の酸化スズ（ＳｎＯ３）を含む少なくとも１つの導電層を含有し、前記導電層はイオン−アシスト溶着により堆積されていて、さらに前記基材が前記基材の全重量に対して重量で０．６％以上の水分吸収率を持ち、水分吸収率は前記基材を予備乾燥し次いで５０℃で相対湿度１００％および大気圧下のチャンバー内で８００時間保管後に測定されている。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯電防止および反射防止または反射特性を持つ光学物品で、反射防止または反射コーティングを塗工された少なくとも１つの主表面を持つ基材を有し、前記コーティングが少なくとも１つの導電層を含有し、ここに：
前記導電層が導電層の全重量に対して重量で少なくとも３０％、好ましくは重量で少なくとも４０％およびさらに好ましくは重量で少なくとも５０％の酸化スズ（ＳｎＯ２）を含有し、
前記導電層の堆積がイオン−アシストの下で実施されていて、さらに
前記基材の水分吸収率が前記基材の全重量に対して重量で０．６％以上であり、水分吸収率が前記基材を予備乾燥し次いで５０℃で相対湿度１００％および大気圧下のチャンバー内で８００時間保管後に測定されたものである、
帯電防止および反射防止または反射特性を持つ光学物品。
【請求項２】
導電層の厚みが０．１から１５０ｎｍ、好ましくは０．１から５０ｎｍ、より好ましくは１から２０ｎｍの範囲である、請求項１に記載の光学物品。
【請求項３】
導電層がインジウムを含まない、請求項１および２のいずれかに記載の光学物品。
【請求項４】
導電層が導電層の全重量に対して重量で少なくとも９０％の酸化スズ（ＳｎＯ２）を含む、請求項１〜３のいずれかに記載の光学物品。
【請求項５】
導電層がＳｎＯ２層から成る、請求項１〜４のいずれかに記載の光学物品。
【請求項６】
導電層がスタック順で反射防止または反射コーティングの外側層を形成しない、請求項１〜５のいずれかに記載の光学物品。
【請求項７】
導電層がスタック順で反射防止または反射コーティングの最後から２番目の層を形成する、請求項１〜６のいずれかに記載の光学物品。
【請求項８】
基材がポリ（チオウレタン）の種類もしくはアルキレングリコールビスアリルカーボネート類の重合または共重合によるものである、請求項１〜７のいずれかに記載の光学物品。
【請求項９】
反射防止または反射コーティングが交互の高屈折率層および低屈折率層を有する多層コーティングである、請求項１〜８のいずれかに記載の光学物品。
【請求項１０】
さらに光学レンズ、好ましくはめがねレンズと定義される、請求項１〜９のいずれかに記載の物品。
【請求項１１】
反射防止または反射コーティングがＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の混合物を含む少なくとも１つの層を有し、さらにこの層の堆積が真空チャンバー内で前記堆積中に前記チャンバー内にガスを供給しながら実施されている、請求項１〜１０のいずれかに記載の物品。
【請求項１２】
ガスを供給中の真空チャンバー内の圧力が５ｘ１０−５から３ｘ１０−４ｍｂａｒの範囲である、請求項１１に記載の物品。
【請求項１３】
光学物品を製造する方法で：
少なくとも１つの主表面がある基材で、請求項１に記載した様にして水分吸収率を測定した場合に水分吸収率が前記基材の全重量に対して重量で少なくとも０．６％以上である、光学物品を供給する；
前記基材の主表面の上に反射防止または反射コーティングを堆積し、ここに前記コーティングは導電性の層の全重量に対して重量で少なくとも３０％の酸化スズ（ＳｎＯ２）、好ましくは少なくとも４０％およびさらに好ましくは重量で少なくとも５０％を含有する少なくとも１つの導電性の層を有し、前記導電性の層はイオン−アシスト溶着により堆積される；
その主表面に前記導電性の層を含む前記反射防止または反射コーティングを塗工された基材を含む、光学物品を回収する；
ことを含む、請求項１〜１２のいずれかに記載の光学物品を製造する方法。
【請求項１４】
反射防止または反射コーティング層それぞれの堆積が真空下の蒸着により実施される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
光学物品の基材の上に堆積した反射防止または反射の帯電防止コーティング内に、前記コーティングの透明性を保つために前記基材が重量で少なくとも０．６％の水分吸収率を持ち、重量で少なくとも３０％のＳｎＯ２を含有する層の使用。
【請求項１６】
光学物品の基材の上に堆積した反射防止または反射の帯電防止コーティング内に、光学物品に表面欠陥が発生することを防止するために前記基材が重量で少なくとも０．６％の水分吸収率を持ち、重量で少なくとも３０％のＳｎＯ２を含有する層の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学物品、とりわけ帯電防止および反射防止または反射特性の両方を持ち、しかも都合のよいことにこれが受けた帯電防止処理の結果による経時的な表面欠陥を生じることが無いめがねレンズと、同時にこの様な光学物品を製造する方法に広く関係する。
【背景技術】
【０００２】
眼科用めがねの表面をそれが無機のものであれ有機のものであれ、ハードコート（耐摩耗および／または耐ひっかきコーティング）により保護することは周知のことであり、これらは基本的にポリシロキサンをベースとしている。さらにめがねレンズを処理することによりレンズ着用者および彼または彼女が会話している相手を困惑させるような全ての迷光または望ましくない反射光が生じることを防ぐことも周知されている。この場合レンズには単層または多層の、通常は無機物質でできた反射防止コーティングが備えられている。
【０００３】
レンズがその構成内に硬質の耐摩耗コーティングを有する場合、反射防止コーティングは通常耐摩耗層の上に堆積される。この様なスタックは系が堅くなりひいては脆くなるので衝撃強度が低下する。この問題は有機ガラスでできためがねレンズの業界では周知のことである。
【０００４】
この様な難点を是正するために、有機ガラスでできたレンズおよび耐摩耗性ハードコーティングの間に耐衝撃プライマー層を設けることが提案されてきている。
【０００５】
さらに実質的に絶縁体でできた光学物品は、とりわけ乾燥した条件の下でその表面を拭き布、合成発泡体片またはポリエステルでこすってきれいにするとその表面が簡単に静電気を帯びることもまた周知のことである（摩擦電気）。その表面に存在する電荷は付近（これから数センチ離れた）にある非常に軽い物体、通常はホコリの様な非常に小さな粒子を引きつけ保持することができる静電界を創りだし、しかも電荷は物体上にずっと有効であり続ける。
【０００６】
粒子の誘引を減少または阻止するためには静電界強さを減らすこと、すなわち物品表面に存在する電荷の数を減らすことが必要である。これは電荷を可動性にする、例えば「電荷坦体」に強い可動性を誘発する素材の層を挿入することにより達成できる。最も強い可動性を誘発する素材はいわゆる導電性材料である。斯くして、高導電性材料により電荷をより速やかに消散させることが可能となる。
【０００７】
最新の技術によると光学物体はその表面内の機能性コーティングの中に、少なくとも１つの導電性層または「帯電防止層」を組み込むことにより帯電防止特性が与えられることを明らかにしているが、二つの表現は差別せずに使用されている。
【０００８】
この様な帯電防止層は機能性コーティングスタックの外層、または中間層（内層）を形成することができるし、または光学物品基材上に直接堆積することもできる。この様な層をスタック内に組み込むことにより、例え帯電防止コーティングが２つの非帯電性コーティングまたは基材の間に挿入されていても、物品に帯電防止特性をもたらす。
【０００９】
ここに用いた「帯電防止」とは実質的な静電気帯電を保持および／または生じさせない能力を意味することを意図している。一般に物品がその１つの面を適当な拭い布でこすった後でもホコリおよび微粒子を誘引も保持もしない場合に、満足できる帯電防止特性があると見なされる。速やかに蓄積された静電気帯電を消散できるため、このような物品は拭った後のほうがよりきれいに見える。
【００１０】
材料の帯電防止特性を定量化するためには様々の方法を用いることができる。
【００１１】
材料の帯電防止特性はしばしばその静的ポテンシャルと関係がある。材料の静的ポテンシャルが（物品が帯電していない時点で測定して）０ＫＶ±０．１ＫＶ（絶対値）の場合、材料は帯電防止性であると見なされ、一方でその静的ポテンシャルが０ＫＶ±０．１ＫＶ（絶対値）とは異なる場合、材料は帯電性であると見なされる。
【００１２】
別の方法によると、布でこすることによりまたは静電気帯電を創りだすのに適した全ての他の方法（例えばコロナ荷電）で得られた静電気帯電を消失させるガラスの能力は前記帯電の消散時間を計ることにより得られた。斯くして、本明細書においては、その消失時間が５００ミリ秒以下の場合は、ガラスは帯電防止性と見なされる。帯電性ガラスは何十秒もの放電時間を有する場合があり拭いたばかりではその電荷が消散するまでの間ずっと周囲のホコリを引きつける。
【００１３】
既知の帯電防止コーティングは少なくとも １つの帯電防止剤を含有し、これは一般にインジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛のような金属酸化物（半）導体で、随意的にドープしてある。
【００１４】
インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）は最も普通の材料である。これはインジウムをドープした酸化スズでもまたはスズをドープした酸化インジウムでもよい。最も一般的に用いられる材料はスズをドープした酸化インジウムがその典型で、スズは重量で５から１７％の量で使用されている。
【００１５】
出願または特許ＥＰ０８３４０９２、ＤＥ３９４２９９０、ＤＥ４１１７２５７、ＵＳ６８５２４０６、ＵＳ２００８／０２８９８４およびＵＳ２００２／０１８８８７には光学物品、とりわけめがねレンズが開示され、真空下で溶着された無機で透明な導電性の、二酸化チタン、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化スズ、他をベースとした層を有する本質的に無機の反射防止スタックを備えている。特許ＵＳ６８５２４０６に記載されているＩＴＯ層は通常９０％の酸化インジウムおよび１０％の酸化スズを含有する原料から形成されている。
【００１６】
特許ＷＯ２００９／００４２２２では、出願者の名義で反射防止特性を伴う光学物品を開示し、これは少なくとも１つの導電性の層を有することができる反射防止コーティングを塗工された少なくとも１つの主表面がある基材を含有する。この層はインジウム、スズ、亜鉛酸化物およびこれらの組合せから選択された金属酸化物を含むことが好ましく、好適な材料はインジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）である。
【００１７】
しかしながら、ＩＴＯをベースとした反射防止層を有する反射防止コーティングは完全に満足を示すものでない。
【００１８】
ＩＴＯをベースとした反射防止層は欠点として可視域に無視できない程の吸収を被り、このためその厚みを比較的薄くして光学物品の透明特性に弊害をもたらさない様にしなければならない。斯くして、ＩＴＯ層はＯＲＭＡＴＭ基材のような幾つかの基材に堆積された場合に幾分過度の黄色レベルとなり、それはＩＴＯ層厚みが６．５ｎｍを超えると裸眼で知覚できてしまう。
【００１９】
しかしながらこの様な導電性帯電防止層、とりわけＩＴＯ層を用いることの主たる不都合は、光学物品に反射防止および帯電防止特性を付与してから比較的短期間で表面欠陥といわれる欠陥が光学物品に発生することである。この様な欠陥は問題の光学物品を販売する上で障害になる。基材によって、これらの欠陥は当初から存在するか、しばらくしてから徐々に、数日から数ヶ月間以内にめがねレンズの使用中に現れる。この様な欠陥は物品表面に点や線として現れる。
【００２０】
導電性の層は一般にイオン−アシスト（支援）溶着により堆積される。発明者達はこの様なイオン−アシスト溶着が欠陥発生率を著しく増加することを明らかにしている。
【００２１】
表面欠陥の問題となる発生については、上述の文献の何れでも論じられていない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
したがって本発明の目的は透明な光学物品、とりわけ帯電防止および反射防止または反射の両特性、随意的に耐摩耗性および／または耐ひっかき特性および／または耐衝撃特性を持っためがねレンズで、しかも経時的に表面欠陥を生じることが無く、かつコーティングの種々の層間に抜群の接着特性を維持するものを提供することである。
【００２３】
本発明の別の目的はその帯電防止特性が経時的に安定な光学物品を提供することである。
【００２４】
本発明のさらなる目的は上で説明した物品を製造する方法を提供することであり、これはこの様な物品を製造する従来工程と容易に一体化できると同時に全ての基材の加熱段階を回避できるものである。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
発明者達は帯電防止層を形成する材料の性質に基づいて行動し特定の材料を選定して技術的な問題を解決することが妥当であることを明らかにした。この問題はスタック内の帯電防止コーティングの場所を変更することによっては解決できない。
【００２６】
さらに発明者達は、一端基材に帯電防止の反射防止（または反射）コーティングを塗工されるとこの種の欠陥を生じる傾向がある基材の特性、およびどの基材が帯電防止層の性質によらずこの種の欠陥を示さないか、を明らかにした。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本発明には反射防止または反射コーティングにいくらかのＳｎＯ２をベースとした帯電防止層を用いることにより基板に表面欠陥を生じさせないこと、その水分吸収率が重量で０．６％を超えることにより、前記コーティングの透明性がとりわけ経時的に保たれ、斯くしてこれが損傷を受けることを妨げている、という事実が根底にある。
【００２８】
本発明により設定した目的は、反射防止または反射コーティングされた少なくとも１つの主表面を持つ基材を有し、前記コーティングが導電性の層の全重量に対して重量で少なくとも３０％、好ましくは少なくとも４０％およびより好ましくは少なくとも５０％の酸化スズ（ＳｎＯ２）を含有する少なくとも１つの導電性の層を有し、前記導電性の層がイオン−アシスト溶着により堆積され、さらに前記基材の水分吸収率が前記基材の全重量に対して重量で０．６％以上である帯電防止特性および反射防止または反射特性のある光学物品により本発明を得ようとするもので、ここに水分吸収率は前記基材を予備乾燥してから相対湿度１００％および大気圧下の５０℃のチャンバー内で８００時間保管した後に測定したものである。
【００２９】
本発明はさらに光学物品を製造する方法にも関係し、少なくとも：
−少なくとも１つの主表面がある基材で、上に記載したようにして水分吸収率を測定した場合に水分吸収率が前記基材の全重量に対して重量で少なくとも０．６％以上である、光学物品を供給する；
−前記基材の主表面の上に反射防止または反射コーティングを堆積し、ここに前記コーティングは導電性の層の全重量に対して重量で少なくとも３０％の酸化スズ（ＳｎＯ２）を含有する少なくとも１つの導電性の層を有し、前記導電性の層はイオン−アシスト溶着により堆積される；
−その主表面に前記導電性の層を含む前記反射防止または反射コーティングを塗工された基材を含む、光学物品を回収する；ことを含む。
【００３０】
残りの記述は基本的に反射防止コーティングに言及してはいるが、必要な変更を加えれば反射コーティングにも適用できる。しかしながら、本発明は好ましくは反射防止コーティングに適用される。
【００３１】
本明細書では、光学物品がその表面に１つ以上のコーティングを有する場合、「物品の上に層またはコーティングを堆積する」という表現は層またはコーティングが物品の外面コーティングの外側（露出された）表面に堆積されている、すなわち基材から最も離れたコーティングを意味することを意図している。
【００３２】
基材の「上」にあるまたは基材の「上に」堆積されているコーティングとは（ｉ）基材の上を覆って位置する（ii）基材と必ずしも接触している必要はない、すなわち問題のコーティングと基材の間に１つ以上の中間コーティングが堆積されている場合もある、および（iii）必ずしも基材を完全に覆わなくともよい、コーティングと定義される。「層１が層２の下に位置する」場合、層２は層１に比べ基材からより離れていることを意味する。
【００３３】
本発明により準備された光学物品は、好ましくは透明で、主たる前および背面を持ち、前記主面の少なくとも一方の、好ましくは２つの主面が反射防止帯電防止コーティングを有する基材を含む。
【００３４】
ここに用いた基材の背面（通常は凹面）とは、物品を使用する場合、着用者の目に最も近い面を意味することを意図している。反対に、基材の前面（通常は凸面）とは、物品を使用する場合、着用者の目から最も離れた面を意味することを意図している。
【００３５】
本発明による物品は表示画面または鏡のようなどの様な光学物品であってもよいが、光学レンズであることが好ましく、めがねレンズ、もしくは光学またはめがねレンズ素材であることがより好ましい。レンズは偏光、色付きまたは光互変異性であってもよい。本発明によるめがねレンズは高透過率であることが好ましい。
【００３６】
本発明による反射防止コーティングは剥き出しの、つまり塗工されていない基材の少なくとも一方の主面に、またはすでに塗工され１つ以上の機能性コーティングを持つ基材の主面の少なくとも一方に形成することが可能である。
【００３７】
本発明の光学物品のための基材は例えば熱可塑性または熱硬化性の材料のような、有機ガラスでなくてはならない。
【００３８】
水分吸収率は前記基材の全重量に対して重量で０．６％以上、好ましくは０．７％以上あるべきで、この水分吸収率は前記基材を予備乾燥し５０℃で相対湿度１００％および大気圧下のチャンバー内で８００時間保管した後に測定されている。発明者達は水分吸収率が上で示した試験条件下で０．６％未満の基材は表面欠陥を形成する結果にならないことを確かに観察している。
【００３９】
基材の水分吸収率を測定するためには当業者にはよく知られた伝統的な手順を必要としかつ容易に実施できる。これらは下記の実験部分で詳細に述べられている。
【００４０】
本発明の光学物品のための基材は以下の材料群から選択することができるが、それらが上述した水分吸収率を満たすという条件付である：（メタ）アクリル酸  （コ）ポリマー類、とりわけポリ（メタクリル酸メチル）（ＰＭＭＡ）、チオ（メタ）アクリル酸（コ）ポリマー類、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、ポリウレタン類（ＰＵ）、ポリ（チオウレタン類）、ポリオールアリルカーボネート  （コ）ポリマー類、熱可塑性エチレン／ビニルアセテートコポリマー類、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）またはポリ（ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ）の様なポリエステル類、ポリエポキシド類、ポリカーボネート／ポリエステルコポリマー類、エチレン／ノルボルネンまたはエチレン／シクロペンタジエンコポリマー類の様なシクロオレフィンコポリマー類、およびこれらの組合せ。勿論基材はモノマー混合物の重合により得られることも、またはこの様なポリマー類およびコポリマー類を含むこともまた可能である。
【００４１】
とりわけ好適な基材の種類にはポリ（チオウレタン類）、ポリエピスルフィド類およびアルキレングリコールビスアリルカーボネート類の重合または共重合で得られた樹脂類が含まれるが、これらの水分吸収率が０．６％以上であるという条件付である。
【００４２】
本発明で適切に用いることができる基材の例にはＭＲ６ＴＭ、ＭＲ７ＴＭおよびＭＲ８ＴＭ樹脂（熱硬化ポリウレタン樹脂類）から得られるものが含まれる。ポリチオウレタン樹脂類をベースとした種々の基材は三井東圧化学会社から市販されさらにこれらの基材のほかにこれらを作成するために用いられたモノマー類は特に特許ＵＳ４６８９３８７、ＵＳ４７７５７３３、ＵＳ５０５９６７３、ＵＳ５０８７７５８およびＵＳ５１９１０５５に記載されている。
【００４３】
ジエチレングリコールビスアリルカーボネートの（共）重合により入手した基材もまた適切である（ＯＲＭＡＴＭＥＳＳＩＬＯＲのレンズ）。合成のベースとして作用するモノマーは、例えばＰＰＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ 社から商品名 ＣＲ−３９ＴＭとして販売されている。
【００４４】
水分吸収率が０．６％よりずっと低いため本発明では用いられない基材の例には無機基材（シリカをベースとしたガラス類）、ポリエピスルフィド樹脂をベースとした１．７４ＴＭ基材、およびビスフェノール−Ａホモポリカーボネート樹脂をベースとした樹脂でとりわけ帝人社から商品名ＰＡＮＬＩＴＥＴＭ、ＧＥＮＥＲＡＬ  ＥＬＥＣＴＲＩＣ社から商品名ＬＥＸＡＮＴＭ、ＢＡＹＥＲ社から商品名ＢＡＹＢＬＥＮＤＴＭ、ＭＯＢＡＹ  ＣＨＥＭＩＣＨＡＬ  Ｃｏｒｐ社から商品名ＭＡＫＲＯＬＯＮＴＭ、およびＤＯＷ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ社から商品名ＣＡＬＩＢＲＥＴＭとして市販されているものがある。
【００４５】
基材上に帯電防止コーティングを堆積する前に、反射防止コーティングの接着性を増すことを目的として前記基材の表面を化学的または物理的な活性化前処理にかけることが普通である。この前処理は一般に真空下で実施されエネルギーおよび／または反応種の衝撃による場合があり、例えばイオンビーム（「イオン前洗浄」または「ＩＰＣ」）または電子ビーム、コロナ放電処理、イオン破砕反応、通常は酸素またはアルゴンタイプのプラズマによる真空下における紫外線処理またはプラズマ処理がある。さらにこれは酸または塩基処理および／または溶媒ベースの表面処理（水または全ての有機溶媒）の場合もある。これら多くの方法を組み合わせる場合もある。この様な洗浄処理により基材表面の清浄性および反応性を最適にすることができる。
【００４６】
ここに用いたエネルギー（および／または反応）種はとりわけ１から３００ｅＶ、好ましくは１から１５０ｅＶ、より好ましくは１０から１５０ｅＶ、およびさらにより好ましくは４０から１５０ｅＶの範囲のエネルギーを持つイオン種を意味することを意図している。エネルギー種はイオン類の様な化学種、ラジカル類もしくは光子または電子のような種の場合もある。
【００４７】
基材表面の最も好適な前処理はイオン銃を用いたイオン衝撃で、イオンはガス原子からできていて１つ以上の電子が抜きとられている。アルゴン（Ａｒ＋イオン）がイオン化ガスとして用いられることが好ましいが、さらに酸素も、またはこれらの組合せも、通常は５０から２００Ｖの範囲の加速電圧、通常は１０から１００μＡ／ｃｍ２の範囲の活性化表面の電流密度下で、および通常は８ｘ１０−５ｍｂａｒから２ｘ１０−４ｍｂａｒの範囲の真空チャンバー内の残留圧力の下で使用することができる。
【００４８】
本発明による光学物品は、反射防止（または反射）コーティングを持つが耐摩耗コーティング上に形成されることが好ましい。
【００４９】
反射防止または反射コーティングはこれが含む酸化スズをベースとした１つ以上の層に加え、伝統的に光学分野、とりわけ眼科光学に用いられているどの様な反射防止または反射コーティングであってもよい。
【００５０】
反射防止コーティングとは光学物品の表面の上に堆積され、これにより最終光学物品の反射防止特性が向上するコーティングと定義される。これは可視スペクトル領域の比較的広域にわたり物品−空気境界面の光の反射を減少させる。
【００５１】
反射コーティングは逆の効果を獲得し、すなわちこれは光線の反射を増大させる。この様なタイプのコーティングは例えば太陽レンズのミラー効果を得るために使用される。反射防止または反射コーティングはさらに可視スペクトル領域内で吸収性のある１つ以上の層を持つ場合もありサングラスに相応しく用いられる光学物品につながる。
【００５２】
これもよく知られているように、反射防止コーティングは伝統的に誘電材料でできた単層または多層スタックを含んでいる。これらは高屈折率（ＨＩ）の層および低屈折率（ＬＩ）の層を含む多層のコーティングであることが好ましい。
【００５３】
反射コーティングは反射防止コーティングと同じ性質の層でできているが、その屈折率、層の数および厚みはコーティングが反射効果を持つように選択され、このことは同業者には周知のことである。
【００５４】
本明細書では、反射防止スタックの層の屈折率が１．５５より高い、好ましくは１．６以上、より好ましくは１．８以上およびさらにより好ましくは２．０以上の場合に高屈折率層であると称される。反射防止スタックの層の屈折率が１．５５以下、好ましくは１．５０以下、より好ましくは１．４５以下の場合に低屈折率層であると称される。別途示されない限り、ここに言及する屈折率は２５℃で５５０ｎｍの波長で決定される。
【００５５】
ＨＩ層は当技術分野では周知の伝統的な高屈折率層である。これらは通常、これに制限されないが、ジルコニア（ＺｒＯ２）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ５）、酸化プラセオジム（Ｐｒ２Ｏ３）、プラセオジムチタネート（ＰｒＴｉＯ３）、Ｌａ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３の様な無機酸化物を１つ以上含む。本発明による１つの実施態様においては、本発明によるＳｎＯ２ベースの層は反射防止コーティングにおいてＨＩ層を形成する。好適な材料はＴｉＯ２、ＰｒＴｉＯ３、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２ およびこれらの組合せである。
【００５６】
本発明による特定の実施態様においては、反射防止コーティングの少なくとも１つのＨＩ層はＴｉＯ２ベースの層で、その高屈折率がとりわけ興味深い。これはイオン−アシスト溶着（ＩＡＤ）により堆積されることが好ましく、これによりこの層が圧縮され、ひいてはその屈折率を高める。
【００５７】
本発明による別の特定の実施態様においては、反射防止コーティングの少なくとも１つのＨＩ層はＰｒＴｉＯ３ベースの層で、その高耐熱性がとりわけ注目される。
【００５８】
ＬＩ層もまた周知されていて、これに制限されないが、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＺｒＦ４、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を少量、ＡｌＦ３、フッ化アルミニウムナトリウム（Ｎａ３Ａｌ３Ｆ１４］）、クリオライト（Ｎａ３［ＡｌＦ６］）、およびこれらの組合せを含有する場合があり、ＳｉＯ２またはアルミナをドープしたＳｉＯ２が好ましく、これらは反射防止コーティングの耐熱性を向上させることに寄与する。ＳｉＯＦ層（フッ素をドープしたＳｉＯ２）を用いることもできる。
【００５９】
ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の混合物を含有するＬＩ層を用いる場合、この層内のＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３の全重量に対してこれは好ましくは１から１０％、より好ましくは１から８％およびさらにより好ましくは１から５％の重量のＡｌ２Ｏ３を含有する。アルミナ量が高すぎるとＡＲコーティングの接着に有害となると共にこの層の屈折率を過度に増加させる可能性がある。１つの好適な実施態様において、反射防止コーティングの少なくとも１つのＬＩ層はＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の混合物を含有するが、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の混合物から成ることが好ましい。
【００６０】
本発明の１つの好適な実施態様は本発明による反射防止コーティングにＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の混合物を含有する１つ以上のＬＩ層を用いることから成り、反射防止コーティングに帯電防止と共に改善された限界温度の両方を持たせる、つまりは温度上昇を受けた場合に良好な耐亀裂性を持たせることを可能にした。
【００６１】
発明者達は発明によるスタックの中に、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の混合物を含有する１つ以上のＬＩ層が存在することは表面欠陥の発生に寄与しさらには著しく促進さえすることを観察した。発明者達はこの様なＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３混合層を溶着するには、この溶着処理の間、溶着チャンバー内にガス、好ましくはアルゴン、キセノン、クリプトン、ネオンの様な希ガスまたは酸素、またはこれらの２つ以上の混合物を導入して行うことが好ましいことを見いだした。
【００６２】
斯くして、本発明は好適な反射防止コーティングを提供し、これは溶着中にガスを供給されている真空チャンバー内で溶着された重量で少なくとも３０％のＳｎＯ２を含有する少なくとも１つの導電層および少なくとも１つのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３低屈折率層を有する。
【００６３】
この様なガス供給によりＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３層を溶着処理中の溶着チャンバー内の圧力を調整することが可能となる。１種類以上のガスを供給する間のチャンバー内の推奨される圧力範囲は一般的に ５ｘ１０−５から３ｘ１０−４ｍｂａｒ、好ましくは１ｘ１０−４から３ｘ１０−４ｍｂａｒおよびより好ましくは１．５ｘ１０−４から３ｘ１０−４ｍｂａｒの範囲である。
【００６４】
この様なガスの供給はイオン−アシスト溶着（ＩＡＤ）の様なイオン衝撃とは異なり、さらにＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の様な材料を蒸発させる工程とも異なる。
【００６５】
一般に，ＨＩ層の物理的厚みは１０から１２０ｎｍの範囲にあり、ＬＩ層の物理的厚みは１０から１００ｎｍの範囲である。
【００６６】
反射防止コーティングの合計厚みは１ミクロン未満であることが好ましく、８００ｎｍ以下がより好ましくさらには５００ｎｍ以下がさらにより好ましい。反射防止コーティングの合計厚みは通常１００ｎｍを超え、１５０ｎｍを超えることが好ましい。
【００６７】
しかしながら、反射防止コーティングは少なくとも２つの低屈折率層（ＬＩ）および少なくとも２つの高屈折率層（ＨＩ）を含むことがより好ましい。反射防止コーティング内の層の合計数は８以下であることが好ましく、６以下であることがより好ましい。
【００６８】
ＨＩ層およびＬＩ層は反射防止コーティング内で交互する必要はないが、本発明の１つによるとそうすることもできる。２つ（以上）のＨＩ層を互いの上に堆積することも同様に２つ（以上）のＬＩ層を互いの上に堆積することもできる。
【００６９】
本発明による１つの実施態様において、反射防止コーティングは副層を有する。その場合反射防止コーティングが基材の上に直接堆積されるなら、本発明による酸化スズベースの層が反射防止コーティングの第１層を形成する特別な場合を除き、通常これは与えられた層の堆積順でこの反射防止コーティングの第１層、すなわち反射防止コーティングの下にあるコーティング（これは一般に耐摩耗および耐スクラッチコーティング）または基材に接触する層を形成する。
【００７０】
ここに用いた反射防止（または反射）コーティングの副層または接着層とは、前記コーティングの耐摩耗性および／または耐ひっかき性を改善するためおよび／または基材または下にあるコーティングに対するその接着性を促進するために用いられる、比較的厚みのあるコーティングを意味することを意図している。
【００７１】
その厚みが比較的厚いことを考慮すると、とりわけ副層が剥き出しの基材の上に堆積されるならその屈折率が剥き出しの基材のそれに近い場合、または副層が塗工された基材の上に堆積されるならそのコーティングのそれに近い場合、副層は一般に反射防止（または反射）の光学作用には関与しない。以下の明細書では副層およびこの副層の上に堆積される反射防止コーティング層の間では、後者を光学層と呼び光学的効果を与える層を形成しない副層に対して区別する。
【００７２】
副層は反射防止コーティングの耐摩耗性を促進するために十分な厚みであるべきだが、光の透過を副層の性質によっては、著しく損なう程にまで厚くはないことが好ましい。
【００７３】
副層はＳｉＯ２ベースの層を含み、その厚みは７５ｎｍ以上が好ましく、８０ｎｍ以上がより好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましくおよび１５０ｎｍ以上がさらにより好ましい。その厚みは一般に２５０ｎｍ未満で、２００ｎｍ未満がより好ましい。１つの実施態様では、副層はＳｉＯ２層から成る。
【００７４】
前記ＳｉＯ２ベースの層は、シリカに加え副層を作るために伝統的に用いられている１つ以上の他の材料、例えば本明細書内で前述した誘電材料から選ばれた１つ以上の材料を含む場合がある。
【００７５】
単層タイプの副層を用いることの方が好ましい。しかしながら、副層はラミネートされていてもよい（多層）。本発明に照らして好適に用いることができる副層は出願ＷＯ２００８／１０７３２５およびＷＯ２００９／００４２２２により詳細に記載され、本願に引用して本明細書とする。
【００７６】
反射防止コーティングの種々の層（中でも帯電防止層）は以下のいずれかの方法にしたがって真空下の溶着で堆積されることが好ましい：ｉ）随意的にイオンビームアシストの蒸着により； ii）イオンビームスパッタリングにより； iii）陰極スパッタリングにより； iv ）プラズマアシストの化学蒸気溶着により。これらの種々の方法はそれぞれ「Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ」および「Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ  ＩＩ」Ｖｏｓｓｅｎ  ＆  Ｋｅｒｎ，Ｅｄ．，Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ，１９７８および１９９１に記載されている。真空下における蒸着が最も推奨される方法である。
【００７７】
反射防止コーティングのそれぞれの層の堆積は真空下の蒸着により実施されることが好ましい。
【００７８】
先に説明したようなエネルギー種による処理工程を、反射防止コーティングを形成する１つ以上の異なる層の堆積に付随して実行することも可能である。
【００７９】
イオン−アシスト溶着法または「ＩＡＤ」は特に特許出願ＵＳ２００６／０１７０１１および特許ＵＳ５２６８７８１内に記載されている。これは基材の加熱を全く必要とせず、このことは有機ガラスの基材の様な熱に敏感な材料にとって興味深いことである。
【００８０】
イオン−アシスト蒸着は、基材上に真空下で、同時に基材の表面をイオン銃で作られたイオンビームで衝撃を与えながら蒸着により材料の層を堆積することから成り、ここにイオンは１つ以上の電子を取り出されたガス原子からできた粒子である。イオン衝撃は堆積処理の間に層内の原子の再配置を引き起こし、これにより層自身の形成の間にこれを安定させる。緻密化に加え、ＩＡＤは堆積した層の接着性の改善およびその屈折率の増加を可能にする。
【００８１】
酸素イオンを介して処理される表面は、通常は１０から２００μＡ／ｃｍ２、好ましくは３０から１００μＡ／ｃｍ２の範囲の活性表面上の電流密度および通常は６ｘ１０−５ｍｂａｒから２ｘ１０−４ｍｂａｒ、好ましくは８ｘ１０−５ｍｂａｒから２ｘ１０−４ｍｂａｒの間で変動する真空チャンバー内の残留圧力の下の衝撃から成ることが好ましい。他のイオン化したガスとの組み合わせでまたは酸素とではなく、例えばアルゴン、窒素、とりわけＯ２およびアルゴンの体積比２：１から１：２の混合物を使用する場合もある。
【００８２】
随意的に、次の層を堆積する前に反射防止コーティング層の１つ以上の表面上に、とりわけこのコーティングの最後から２番目の層の表面および／または存在するならば、副層の表面に、化学的または物理的な活性化処理を実施する場合がある。
【００８３】
化学的または物理的活性化処理は基材が委ねられる可能性のある前処理およびすでに上述したものから選定することができる。好適な前処理はイオン衝撃である。普通は真空下で、例えばイオン銃により発生させたアルゴンイオンビームを用いることにより行われ、通常は一方で反射防止コーティングの耐摩耗特性を向上させながら、同時に他方ではその接着特性を補強することを可能にする。
【００８４】
適切に使用できる反射防止コーティングおよびその準備方法は特許ＷＯ２００９／００４２２２により詳細に記載され、本願に引用して本明細書とする。
【００８５】
本発明による物品は反射防止コーティング内に酸化スズ（ＳｎＯ２）を導電性の層の全重量に対して重量で少なくとも３０％、好ましくは少なくとも４０％およびさらに好ましくは少なくとも５０％、含有する少なくとも１つの導電性の層を組み込むことにより帯電防止性になる。この層は本明細書では通例「酸化スズベースの層」と称せられる。
【００８６】
酸化スズの前記導電性の層に対する重量割合は次に示す値の１つ以上であることが好ましい：７０％、７５％、８０％、９０％、９５％、９７％、９９％、９９．５％、９９．９％、９９．９５％。前記導電性の層はＳｎＯ２ 層から成ることが最も好ましい。
【００８７】
本発明による前記酸化スズベースの層は他の成分、特に金属酸化物、とりわけ導電性の金属酸化物で好ましくは高度に透明なものを含む場合がある。特に二酸化チタンおよび／または酸化亜鉛を含む場合がある。
【００８８】
本発明による導電性の層はインジウムを、例えば金属インジウムまたは酸化インジウムのどの様な形であれ、含まないことが好ましい。
【００８９】
導電性の層はその反射防止特性が影響を受けない限り反射防止コーティング内の種々の位置に供給することができる。これは例えば副層（存在する場合は）の上に、すなわち副層と反射防止コーティングの他の層の間に堆積することもできる。さらにこれは副層（存在する場合は）の下に、すなわち副層と随意的に機能性コーティングが塗工された基材の間に挿入することができる。より一般的には、これは反射防止コーティングの第１層を形成する（堆積順で）、すなわち随意的に機能性コーティングが塗工された基材の上に直接堆積することもできる。これは反射防止コーティングの２つの光学誘電層の間、および／または反射防止コーティングの低屈折率光学層の下に位置していることが好ましい。本発明による最も好適な実施態様においては、ＳｎＯ２ベースの層は反射防止コーティングのスタック順で最後から２番目に該当し、前記反射防止コーティングの最後の層はＬＩ層であることが好ましい。
【００９０】
本発明によるある特定の実施態様では、前記ＳｎＯ２ベースの層は反射防止コーティングの最後の層（外側層）に該当しない。本発明による別の特定の実施態様では、前記ＳｎＯ２ベースの層は反射防止コーティングの第１層に該当しない。
【００９１】
導電性の層は反射防止コーティングの透明性を変化させない程度に薄くなくてはならない。一般に、その厚みは０．１から１５０ｎｍ、より好ましくは０．１から５０ｎｍまで変動する。０．１ｎｍ未満の厚みでは通常十分な導電性を得ることができず、一方で１５０ｎｍを超える厚みでは通常透明性および低吸湿性で要求される特性を得ることができない。その厚みの変動は０．１から３０ｎｍが好ましく、１から２０ｎｍがより好ましくおよび１から１５ｎｍがさらにより好ましい。本発明による１つの実施態様では、前記導電性の層の厚みは６ｎｍ以上である。本明細書内で示される全ての厚みは物理的厚みを指している。
【００９２】
一般的に、ＳｎＯ２ をベースとした導電層は反射防止特性を得ることに寄与し、とりわけ随意的な副層の下に位置していない場合にそうで、さらに反射防止コーティング内に高屈折率層（屈折率が約２）を形成する。
【００９３】
本発明による１つの本質的な特性によると、前記導電層の溶着はイオン−アシストの下で実施され、この技術は先に記載された様にＳｎＯ２ベースの層の可視域の吸収を低減させると共に良好な接着性が得られる。
【００９４】
発明者達は十分なＳｎＯ２量を持つ導電性の層を堆積する際に後で表面欠陥の発生の頻度を著しく増加させることなくイオン衝撃力を増大せることが可能であるが、反対にこのようなイオン衝撃力の増大が通常はこの様な衝撃に委ねられた層、とりわけ導電性の金属酸化物をベースとする導電性の層の表面欠陥を大きく増加させてしまうことにも気がついていた。特に都合のよいことに、反射防止コーティングは物品に帯電防止特性を与える少なくとも１つの、好ましくは只１つの導電層に加え、少なくとも４つの、好ましくは４つまたは５つの誘電体の層を含有している。
【００９５】
１つの好適な実施態様では、本発明による反射防止コーティングは、随意的に塗工された基材の上に堆積順で、厚みが通常１０から４０ｎｍおよび好ましくは１５から３５ｎｍの範囲のＺｒＯ２層、厚みが通常１０から４０ｎｍおよび好ましくは１５から３５ｎｍの範囲のＳｉＯ２層またはＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３層、厚みが通常４０から１５０ｎｍ、好ましくは５０から１２０ｎｍの範囲のＺｒＯ２層またはＴｉＯ２層、厚みが通常４から２５ｎｍおよび好ましくは５から２０ｎｍの範囲の本発明によるＳｎＯ２ベースの層、好ましくはＳｎＯ２層、および厚みが通常４０から１５０ｎｍ、好ましくは５０から１００ｎｍの範囲のＳｉＯ２層またはＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３層を有する。
【００９６】
反射防止コーティングは剥き出しの基材の上に直接堆積する場合もある。幾つかの実施態様では、本発明による反射防止コーティングを堆積する前に基材の主表面に１つ以上の機能性コーティングを塗工することが好適である。光学部品に伝統的に用いられるこれらの機能性コーティングは、これらに限定されないが、耐衝撃プライマー層、耐摩耗および／または耐ひっかきコーティング、偏光コーティング、光互変異性コーティングまたは着色コーティング、とりわけ耐摩耗および／または耐ひっかき層を塗工された耐衝撃プライマー層であってもよい。
【００９７】
反射防止コーティングは耐摩耗および／または耐ひっかきコーティングの上に堆積されることが好ましい。耐摩耗および／または耐ひっかきコーティングはめがねレンズの分野で伝統的に用いられているどのような耐摩耗および／または耐ひっかきコーティングであってもよい。
【００９８】
耐摩耗および／または耐ひっかきコーティングはポリ（メタ）アクリレート類またはシラン類をベースとしたハードコーティングであることが好ましく、通常１つ以上の無機充填材を含み一端硬化した際のコーティングの硬度および／または屈折率を増加させる。ここに用いた（メタ）アクリレートはアクリレートまたはメタクリレートを意味することを意図している。
【００９９】
耐摩耗および／または耐ひっかきハードコーティングは少なくとも１つのアルコキシシランおよび／またはその水解物で、例えば塩化水素溶液との加水分解、および随意的に縮合および／または硬化触媒および／または界面活性剤により得られたものを含む組成物から準備されることが好ましい。
【０１００】
本発明で推奨されるコーティングの中で言及しておくべきものはエポキシシラン水解物をベースとしたコーティングであり、特許ＥＰ０６１４９５７、ＵＳ４２１１８２３およびＵＳ５０１５５２３に記載されているようなものである。
【０１０１】
適切に使用できる縮合および／または硬化触媒の多くの例は「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｅｐｏｘｙ  Ｒｅｓｉｎｓ」 Ｂ．Ｅｌｌｉｓ  （Ｅｄ．）  Ｃｈａｐｍａｎ  Ｈａｌｌ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９９３および「Ｅｐｏｘｙ  Ｒｅｓｉｎｓ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」２ｄ  ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｃ．Ａ．Ｍａｙ  （Ｅｄ．），Ｍａｒｃｅｌ  Ｄｅｋｋｅｒ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９８８に示されている。
【０１０２】
好適な耐摩耗および／または耐ひっかきコーティング組成物は特許ＥＰ０６１４９５７で出願者の名前で開示されているものである。これは実験の項に記載されている。
【０１０３】
耐摩耗および／または耐ひっかきコーティング組成物は基材の主表面上にディップコーティングまたはスピンコーティングにより堆積することができる。これはその後適切なやり方（熱またはＵＶ処理を用いることが好ましい）で硬化される。
【０１０４】
耐摩耗および／または耐ひっかきコーティングの厚みは通常２から１０μｍ、好ましくは３から５μｍの範囲である。
【０１０５】
耐摩耗および／または耐ひっかきコーティングを堆積する前に、基材の上にプライマーコーティングを堆積することにより耐衝撃性および／または最終製品の次の層の接着性を改善することも可能である。
【０１０６】
このコーティングはめがねレンズのような透明な高分子材料の物品に伝統的に用いられているどの様な耐衝撃プライマー層であってもよい。
【０１０７】
好適なプライマー組成物には熱可塑性ポリウレタン類をベースとした特許ＪＰ６３−１４１００１およびＪＰ６３−８７２２３に記載されたような組成物、ポリ（メタ）アクリルプライマー組成物の特許ＵＳ５０１５５２３に記載されたような組成物、熱硬化ポリウレタン類をベースとした特許ＥＰ０４０４１１１に記載されたような組成物およびポリ（メタ）アクリルラテックス類またはポリウレタンラテックス類をベースとした特許ＵＳ５３１６７９１およびＥＰ０６８０４９２に記載されたような組成物が含まれる。
【０１０８】
好適なプライマー組成物はポリウレタン類をベースとした組成物およびラテックス類をベースとした組成物で、とりわけポリウレタンラテックス類およびポリ（メタ）アクリルラテックス類、同様にこれらの組合せである。
【０１０９】
ポリ（メタ）アクリルラテックスは本質的に例えばエチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、メトキシメチル（メタ）アクリレートまたはエトキシエチル（メタ）アクリレートの様な（メタ）アクリレートでできた共重合体をベースとしたラテックスで、少なくとも１つの他のコモノマー、例えばスチレンの様なものを通常少量伴っている。
【０１１０】
本発明で適切に用いられる市販されているプライマー組成物にはＷｉｔｃｏｂｏｎｄＴＭ２３２、ＷｉｔｃｏｂｏｎｄＴＭ２３４、ＷｉｔｃｏｂｏｎｄＴＭ２４０、ＷｉｔｃｏｂｏｎｄＴＭ２４２組成物（ＢＡＸＥＮＤＥＮ  ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ社から販売されている）、ＮｅｏｒｅｚＴＭＲ−９６２、ＮｅｏｒｅｚＴＭＲ−９７２、ＮｅｏｒｅｚＴＭＲ−９８６およびＮｅｏｒｅｚＴＭＲ−９６０３  （ＺＥＮＥＣＡ  ＲＥＳＩＮＳ社から販売されている）が含まれる。
【０１１１】
これらプライマー組成物は物品の表面にディップコーティングまたはスピンコーティングにより堆積することができ、次いで少なくとも７０℃および１００℃までの温度、好ましくは約９０℃で２分から２時間の範囲で、通常は約１５分間乾燥され、硬化後の厚みが０．２から２．５μｍ、好ましくは０．５から１．５μｍあるプライマー層が形成される。
【０１１２】
本発明による光学物品はさらに反射防止コーティング上に形成されたコーティングを有する場合もあり、これによりその表面特性を疎水性および／または疎油性コーティング（汚れ防止トップコート）の様に変更できる。これらの層は反射防止コーティングの外側層の上に堆積されることが好ましい。その厚みは一般に１０ｎｍ以下であり、好ましくは１から１０ｎｍの範囲、より好ましくは１から５ｎｍの範囲である。
【０１１３】
一般的にフルオロシランまたはフルオロシラザンタイプのコーティングがある。これらは分子当たり少なくとも２つの加水分解性基を有するフルオロシランまたはフルオロシラザンの前駆体を堆積することにより得ることができる。フルオロシラン前駆体はフルオロポリエーテル基を含有することが好ましく、さらにペルフルオロポリエーテル基がより好ましい。これらのフルオロシラン類は周知のもので、他にもあるが、米国特許Ｎｏ．５０８１１９２、５７６３０６１、６１８３８７２、５７３９６３９、５９２２７８７、６３３７２３５、６２７７４８５およびヨーロッパ特許Ｎｏ．０９３３３７７内に記載されている。
【０１１４】
好適な疎水性および／または疎油性コーティング組成物は信越化学によってＫＰ８０１ＭＴＭの商品名で市販されている。別の好適な疎水性および／または疎油性コーティング組成物はダイキン工業によってＯＰＴＯＯＬ  ＤＳＸＴＭの商品名で市販されている。これはペルフルオロプロピレン基を含有するフッ化樹脂である。
【０１１５】
通常、本発明による光学物品は耐衝撃プライマー層、耐摩耗および／または耐ひっかきコーティング、反射防止（または反射）および本発明による帯電防止コーティングならびに疎水性および／または疎油性コーティングを連続的に塗工された基材を有する。
【０１１６】
酸化スズベースの層を反射防止コーティング内に使用することはＩＴＯ、酸化インジウムまたは酸化亜鉛のような材料をベースとした帯電防止層を有する反射防止特性のある光学物品に比べて多くの利点がある。実際に本発明による基材、すなわち水分吸収率が重量で０．６％以上であるものの上に堆積された反射防止コーティング内にＩＴＯ層、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）層、酸化亜鉛層または酸化亜鉛をドープした層が存在すると全てが表面欠陥の出現を引き起こすが、本発明によるＳｎＯ２ベースの層ではそのようなことはない。
【０１１７】
加えて、ＩＴＯをベースとした帯電防止層は欠点としてその高い黄色度指数のため、同じ厚みのＳｎＯ２層に比べ可視領域の吸収がずっと多い。この様な欠点は比較的厚みの薄い層でも強く知覚され、ＩＴＯ層ではイオン−アシスト溶着にもかかわらず、基材を目視により縁部を観察すると、約１３ｎｍの厚みで黄色いと通常は分かってしまうのに、ＳｎＯ２層は５０ｎｍ厚みでもまだ透明を保っている。
【０１１８】
通常約５％のＳｎＯ２を含有する伝統的なＩＴＯ層を非常に透明で、導電性の材料であるＳｎＯ２層で置き換えると、全く同じ帯電防止特性となりさらに光学的特性、とりわけ光学物品の透明性が維持できる結果となる。
【０１１９】
さらに、酸化スズを伴う本発明による方法を該当するＩＴＯを伴う方法と比べるとより容易に制御ができ、したがって生産性が向上する。
【０１２０】
本発明による種々の反射防止コーティングの接着特性は、とりわけ基材の境界面で良好である。全体としての基材に対する反射防止コーティングの接着特性は普通「ｎ ｘ １０カウント」と呼ばれる国際特許ＷＯ９９／４９０９７に記載されている手順にしたがって調べられる。
【０１２１】
本発明による光学物品は可視域では吸収が無い、またはごくわずかであることが好ましく、可視域の光線透過率とも呼ばれるその可視光透過係数τＶが本明細書によると、９０％より大きく、より好ましくは９５％より大きく、さらにより好ましくは９６％より大きく、および最も好ましくは９７％より大きいことを意味する。
【０１２２】
係数τＶは国際規格の定義（ＩＳＯ１３６６６規格：１９９８）に対応し、かつＩＳＯ８９８０−３規格にしたがって測定される。これは波長域３８０から７８０ｎｍ内で定義される。
【０１２３】
本発明にしたがって塗工された光学物品の光吸収は１％以下であることが好ましい。
【０１２４】
より好ましくは、本発明による反射防止コーティングを塗工した物品の可視領域内（４００〜７００ｎｍ）のＲｍと特筆される平均立体角反射率は、面当たり２．５％未満で、面当たり２％未満がより好ましく、面当たり１％未満がさらにより好ましい。とりわけ非常に好適な実施態様においては、物品は２つの主表面に本発明による反射コーティングが塗工された基材を有しＲｍの合計値（両面の積み重ねた反射）が１％未満、好ましくは０．７から０．８％の範囲である。この様なＲｍ値を達成する手段は当業者には周知のことである。
【０１２５】
本発明による反射防止コーティングの光立体角反射率Ｒｖは面当たり２．５％未満で、面当たり２％未満が好ましく、物品の面当たり１％未満がより好ましく、≦０．７５％がより好ましく、≦０．５％がさらにより好ましくさらには≦０．４％が最も好ましい。
【０１２６】
本明細書においては、「平均立体角反射率」Ｒｍ（全４００〜７００ｎｍ可視スペクトル領域に亘る平均反射スペクトル）および光立体角反射率ＲｖはＩＳＯ１３６６６：１９９８規格で定義されさらにＩＳＯ８９８０−４規格にしたがって測定されたものである。
【０１２７】
本発明による光学物品の放電時間（すなわち、静電気を消散するために必要な時間）は≦５００ミリ秒である。本発明による光学物品は≦２００ミリ秒およびより好ましくは≦１００およびさらにより好ましくは≦７５ミリ秒の放電時間に達することさえ可能にしている。都合のよいことに、その帯電防止特性は経時的に安定していて、このことは先に述べた放電時間に関係する特性が光学物品の生産後少なくとも６ヶ月後でまだ確認されていることを意味している。
【０１２８】
以下の実施例は本発明をより詳細に説明しているがこれらに制約されるものではない。
【実施例１】
【０１２９】
１．一般的手順
実施例に用いられる光学物品はＯＲＭＡＴＭＥＳＳＩＬＯＲの直径６５ｍｍ、度数−２．００ジオプトリーおよび厚み１．２ｍｍで：ｉ）ポリウレタンラテックスをベースとした、９０℃で１時間硬化されたポリエステル単位を含む耐衝撃プライマーコーティング（ＢＡＸＥＮＤＥＮ  ＣＨＥＭＩＣＡＬＳによるＷｉｔｃｏｂｏｎｄＴＭ２３４、１５００ｒｐｍで１０から１５秒スピンコートする）；ii）特許ＥＰ０６１４９５７の実施例３で開示され（屈折率１．５０）、エポキシトリアルコキシシラン水解物(γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ＧＬＹＭＯ）およびジアルキルジアルコキシシラン（ジメチルジエトキシシラン、ＤＭＤＥＳ）、コロイダルシリカおよびアルミニウムアセチルアセトネートをベースとした耐摩耗および耐ひっかきコーティング（ハードコート）；iii)反射防止コーティング；およびiv）汚れ防止コーティング、により塗工されている。
【０１３０】
前記耐摩耗および耐ひっかきコーティングは重量で、２２４部のＧＬＹＭＯ、８０．５部の０．１基定ＨＣｌ、１２０部のＤＭＤＥＳ、７１８部のメタノール内の重量で３０％コロイダルシリカ、１５部のアルミニウムアセチルアセトネート（硬化触媒）および４４部のエチルセロソルブを含む組成物の堆積および硬化により得られた。組成物はさらに組成物の全重量に対して重量で０．１％の３Ｍ社による界面活性剤 ＦＬＵＯＲＡＤＴＭＦＣ−４３０ＴＭを含有する。
【０１３１】
反射防止コーティングは基材を加熱することなく、真空下の蒸着によりおよび随意的に、明示されている場合は堆積中に酸素イオンビーム−アシスト下で、堆積されている（蒸着源：電子銃）。
【０１３２】
汚れ防止コーティングは真空下でダイキン工業社からの化合物Ｏｐｔｏｏｌ  ＤＳＸＴＭの蒸着により得られている（厚み：１〜５ｎｍ）。
【０１３３】
堆積の枠組みはＢＡＫ  ７６０  Ｐｈｙｓｉｍｅｃａ装置で酸化物を蒸着するための電子銃（８ｋＶ）、トップコートを溶着するためにジュール効果により加熱される坩堝およびアルゴンイオンを用いて基材表面の予備段階の準備（ＩＰＣ）、同様にイオン−アシスト溶着（ＩＡＤ）を必要とする層のためのＶｅｅｃｏ動力源を備えたＣｏｍｍｏｎｗｅａｌｔｈ  Ｍａｒｋ  IIイオン銃が取り付けられている。
【０１３４】
帯電防止層は本発明にしたがってＣｅｒａｃ社から供給されたＳｎＯ２粒剤（参照文献：Ｔ−１２１８、直径：３〜１２ｍｍ、品目番号：Ｈ６１８８２８純度：９９．９％）、および比較実施例ではＯｐｔｒｏｎ  Ｉｎｃ．会社から供給されたＩＴＯ粒剤（酸化スズの重量パーセント（５）−酸化インジウム（９５））から形成された。反射防止コーティングの他の層はＺｒＯ２粒剤（Ｕｍｉｃｏｒｅ社）またはＳｉＯ２粒剤（Ｏｐｔｒｏｎ  Ｉｎｃ．会社）から形成された。
【０１３５】
比較の意味で分析にはさらにＣｅｒａｃ社のＩｎ２Ｏ３単層３〜１２ｍｍ（Ｉ−１０７１品目番号：Ｈ６１４７５７−１）、Ｂ２Ｏ３をドープしたＺｎＯ単層Ｃｅｒａｃ社３〜１２ｍｍ（Ｚ−２０７０品目番号：Ｈ６１４７５７−１）、ＡｌをドープしたＺｎＯ単層が提供された。
【０１３６】
層の厚みは水晶微量天秤を用いて調節された。
【０１３７】
ガラスを横切る光の透過に対応する測定はガラスを準備した１時間後にＺｅｉｓｓ社の分光光度計を用いて実行されている。得られたτＶ値の安定度は１週間後に２回目の測定を行うことにより実証した。
【０１３８】
２．作業手順
光学物品を準備する方法は上述したプライマーコーティングおよび耐摩耗コーティングを塗工した基材を真空溶着チャンバー内への導入、次いで高真空を得るまでの排気行程、基材の表面をアルゴンイオンビームで活性化させる工程（ＩＰＣ：１分間、１００Ｖ、１Ａ）、イオン放射の中断および：
−堆積速度０．３ｎｍ／秒のＺｒＯ２層、
−速度０．７ｎｍ／秒のＳｉＯ２層、
−速度０．３ｎｍ／秒のＺｒＯ２層、
−速度０．１５ｎｍ／秒の酸素イオン−アシスト（１．２Ａ／１００Ｖ）下の導電層（比較実施例にはＳｎＯ２、またはＩＴＯ）
−速度１ｎｍ／秒のＳｉＯ２層
−汚れ防止層（トップコート）（ダイキンによるＯｐｔｏｏｌ  ＤＳＸＴＭ）
−および最後に通気工程
の蒸着による堆積が含まれる。
【０１３９】
上述した堆積速度に伴う厚みは物理的厚みである。
【０１４０】
３．特性評価
ａ．耐摩耗性の特性評価
耐摩耗性は特許出願ＷＯ２００８／００１０１１（標準ＡＳＴＭ  Ｆ７３５．８１）に記載してある方法にしたがって反射防止コーティングが塗工された基材についてＢＡＹＥＲ  ＡＳＴＭ値（Ｂａｙｅｒ砂）およびＢａｙｅｒ  ＩＳＴＭ値（Ｂａｙｅｒアルミナ）を決定することにより評価されている。ＢＡＹＥＲ試験値が高い程、耐摩耗性が強い。
【０１４１】
斯くして、Ｒが３．４以上で４．５未満の場合、Ｂａｙｅｒ  ＡＳＴＭ値（Ｂａｙｅｒ砂）は良好とされる。Ｒが３以上で４．５未満の場合、ＢａｙｅｒＩＳＴＭ値は良好とされる。値が４．５以上に達した場合、Ｂａｙｅｒ砂またはＩＳＴＭ値は最高であるとされる。
【０１４２】
ｂ．反射防止コーティングの基材に対する接着性の特性評価（ｎｘ１０カウント試験）
「ｎｘ１０カウント」として知られる定性試験により基材上に堆積された層の接着特性、とりわけ反射防止コーティングのめがねレンズ用の基材に対する接着性を評価できる。これはレンズの凸面に対し国際特許ＷＯ９９／４９０９７に記載された手順にしたがって実施されてきている。
【０１４３】
ストレス（またはサイクル）は消しゴムによる１０回の後退および前進動作から成る。オペレータは３ストレス毎、９ストレスまで試験レンズの状態を目視で管理する。評価は欠陥が現れるまでにレンズが耐えられるストレス数を記録することから成る。本特許出願の文脈においては、９ストレス後にレンズが変化せずにある場合に成功裏に試験を通ったと見なされる。
【０１４４】
Ｃ．放電時間の評価
光学物品の放電時間は前記光学物品を−９０００ボルトで３０ｍｓのコロナ放電に曝した後、室温（２５℃）で、製造者の取扱説明書にしたがって放電時間測定装置ＪＣＩ１５５（Ｊｏｈｎ  Ｃｈｕｂｂ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔａｔｉｏｎ）を用いて測定されている。
【０１４５】
コロナ放電に委ねられたガラス表面のこれらの充電および放電測定実験の間、次の２つのパラメータが分析されている：Ｕｍａｘと書きとどめられるガラス表面で測定された最大電圧、および１／ｅ＝最大電圧の３６．７％に達する時間で、これは放電時間に該当する。
【０１４６】
使用されるガラスの度数は厳密に同一とすべきでこのことにより種々のガラスの挙動の比較が可能になるが、それは装置により記録される値がガラスの幾何学的形状に依存するからである。
【０１４７】
ｄ．表面欠陥の発生可能性の評価
局所的な光学的な欠陥がある。
【０１４８】
これらの欠陥は裸眼で認識できるが、これらの最も目立つものについてはアーク灯を用いたすくい角の反射によりその検査が容易になる。
【０１４９】
光学物品（本発明による物品または比較物品）上の表面欠陥の存在の可能性は、これが準備できた直後（基準時間  ｔ）に環境が制御された「気候室」（温度４０℃、相対湿度８０％、大気圧）内で物品を一定の期間保管後、アーク灯（高輝度ランプ）の下で目視により評価された。
【０１５０】
これらの保管条件により光学物品の熟成促進が可能となりかつ表面欠陥の発生の可能性を加速する。アーク灯の下で観察される欠陥は点や小さな糸状となっている。
【０１５１】
ここに用いた大気圧は、１．０１３２５Ｂａｒの圧力を意味する。
【０１５２】
ｅ）基材の水分吸収率の特性評価
この試験は光学物品の剥き出しの基材について実施され、ひとたび伝統的な帯電防止層、即ち酸化スズを本発明による量だけ含有しない層を含む反射防止コーティングが塗工されると、どの基材が経時的に表面欠陥を現す可能性があるかを決定することが可能になる。発明者は剥き出しの基材の水分吸収率ならびに反射防止および帯電防止処理を受けた後に表面欠陥を生じるその傾向との間の良好な相関関係をもたらすこの試験を開発した。
【０１５３】
水分吸収率を判定するために保管室内に導入する前に、剥き出しの基材はオーブンまたは４５℃のチャンバー内に大気圧下で４８時間、どの様な追加的な脱水手段も用いずに、乾燥（脱水）した。この様な脱水のために、オーブン内の水分含有量は０％に近い。
【０１５４】
基材はそれから水分が飽和した５０℃、すなわち相対湿度（ＲＨ）が１００％および大気圧下のチャンバー内で８００時間保管された。剥き出しの基材の水分吸収率は秤ＡＴ２６１（Ｍｅｔｔｌｅｒ  Ｔｏｌｅｄｏ）を用いて、脱水した基材、次いで湿式保管チャンバー内の封じ込めの約３０秒後にこれを計量し、次の方程式に基づき決定された。
【０１５５】
水分吸収率（％）＝（「基材重量（ｔ＝８００ｈ）」−「脱水した基材の初期重量」）／（「脱水した基材の初期重量」）
【０１５６】
同じ幾何学形状を持った種々の基材が試験された（両主平面、直径６５ｍｍおよび厚み２ｍｍ）。これらは上に説明され試験結果は表１に示されている。
【０１５７】
使用されたチャンバーは全てＵＴ６０６０チャンバー、ＨＥＲＡＥＵＳ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｄ−６４５０  ＨＡＮＡＵである。
【０１５８】
【表１】
2020034924.tif 000002
【０１５９】
基材は三井東圧化学株式会社から市販されているＭＲ６ＴＭ、ＭＲ７ＴＭ、ＭＲ８ＴＭ樹脂から得られた。ＭＲ６ＴＭ、ＭＲ７ＴＭおよびＭＲ８ＴＭはチオウレタン樹脂類（熱硬化性ポリチオウレタン類製造用）である。ＭＲ６ＴＭから得られた基材の屈折率は１．５９およびアッベ数３２であった。樹脂１．７４ＴＭはポリエピスルフィド樹脂で屈折率は１．７４である。使用したポリカーボネート基材は屈折率１．５９のビスフェノール−Ａホモポリカーボネート樹脂で帝人社からＰＡＮＬＩＴＥＴＭの商品名で市販されている。
【０１６０】
使用された無機ガラス（シリカをベース）の基材はＥｓｓｉｌｏｒのガラスで屈折率は１．５２３である。
【０１６１】
ＯＲＭＡＴＭ基材およびＭＲ６ＴＭ、ＭＲ７ＴＭ、ＭＲ８ＴＭ樹脂から得られたものは本発明に合致した基材であり、それはこれらが上に述べた試験条件の下で基材の全重量に比較して０．６％以上の水分吸収率を持っているからである。
【０１６２】
１．７４ＴＭ、ポリカーボネート（ＰＣ）および無機ガラスの基材は上に述べた試験条件の下で基材の全重量に比較して０．６％未満の水分吸収率を持っているから本発明に合致した基材ではない。問題となる表面欠陥の発生はこれらの基材では観察されなかった。これらはその帯電防止層が何であれ、ＳｎＯ２またはＩＴＯのいずれでも、表面欠陥は全く現さなかった（表３参照）。
【０１６３】
４．結果
ａ．ＯＲＭＡＴＭ 基材
実施例１、２および比較実施例Ｃ１およびＣ２で得られた光学物品の構造について以下に詳細に述べる（表２）。さらにこれらの挙動、接着性、耐摩耗性、帯電防止特性、表面欠陥の存在の可能性および次の様な光学パラメータ：可視範囲内の平均立体角反射率Ｒｍ、視覚感受性により重み付けした平均立体角反射率（光反射率）Ｒｖ、可視光透過率τＶ、標準表色系ＣＩＥ Ｌ＊ａ＊ｂ＊内の色相角ｈおよび彩度Ｃ＊に関しても示されている。以下に与えられた結果は同様の条件下で作成された一連の類似の論文の平均値に一致している。
【０１６４】
【表２】
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2020034924.tif 000004
【０１６５】
本発明による物品で実施した物理化学的耐久試験ではＩＴＯをベースとしたスタックで得られたものと類似した結果を示している（ｎｘ１０カウント、Ｂａｙｅｒ）。さらに以下のパラメータも同等である：Ｒｍ、Ｒｖ、Ｃ＊、ｈ、τＶ、放電時間。
【０１６６】
得られた全ての光学物品は高度に透明でかつ同時に帯電防止特性（放電時間 ５００ｍｓ未満）、反射防止特性、良好な耐摩耗性、良好な耐熱性および良好な接着性の恩恵も受けている。準備した光学物品の放電時間は経時的に安定していることが観察できた（これらを用意してから ６ヶ月後のコントロールで変化無し）。
【０１６７】
本発明によるレンズは外観という見地からは、これらには見える様な表面欠陥が、とりわけアーク灯を用いた場合に全くなかったので、完全に満足なものである。
【０１６８】
同様なことはＩＴＯ層を組み込んだ比較レンズには当てはまらない。
【０１６９】
比較実施例Ｃ１およびＣ２は、導電性材料ＳｎＯ２をＩＴＯで置き換えたことを除いて実施例１および２を繰り返すことで得ている（上の一般的手順１に記載されている様な材料）。比較実施例Ｃ２のレンズ全てに表面欠陥が、初期（ｔ＋２４ｈ）および２ヶ月後（ｔ＋２ヶ月）の両方にあり、一方比較実施例Ｃ１では表面欠陥が２ヶ月後の幾つかのレンズに認められる。
【０１７０】
上の２で示したものと同じ堆積条件の下で（酸素イオン−アシスト（１．２Ａ／１００Ｖ）の下で０．１５ｎｍ／ｓの速度で、ＳｎＯ２よりむしろＩｎ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３をドープしたＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯを）堆積したＩＴＯの単層を有する基材の場合では事実は異なる。
【０１７１】
ｂ）他の基材の評価
実施例２および比較実施例Ｃ２はＯＲＭＡＴＭ 基材とは別の基材を用いて繰り返されている（実施例３および４および比較実施例Ｃ３からＣ１０）。結果は表３に示され、復習として実施例２および比較実施例Ｃ２の結果も要約している。
【０１７２】
【表３】
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【０１７３】
ＳｎＯ２層を反射防止コーティング内に有しかつ上に示した試験条件の下で水分吸収率が基材全重量と比較して重量で０．６％を超える基材を持つ本発明によるレンズには表面欠陥が全くないことが観察できる（実施例２〜４）。同じ条件の下で、ＩＴＯ層を反射防止コーティング内に有しかつ上に示した試験条件の下で水分吸収率が基材全重量と比較して重量で０．６％を超える基材を持つ比較レンズには表面欠陥がある（比較実施例Ｃ２からＣ５）。
【０１７４】
最後に、前に述べた通り、１．７４ＴＭ、ポリカーボネート（ＰＣ）および無機ガラスをベースとした基材は帯電防止層がＳｎＯ２またはＩＴＯの何れをベースとしていようとも、２ヶ月後に表面欠陥を全く示していない。
【０１７５】
ｃ）ＳｎＯ２ 層の厚みの影響
実施例２は基材の性質を変更し（ＯＲＭＡＴＭの代わりにＭＲ８ＴＭ）、次いでＳｎＯ２帯電防止層の厚みを３から７５ｎｍまで変化させて繰り返されてきている。表面欠陥の発生が観察されさらに全ての結果が表４に要約されている。
【０１７６】
【表４】
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【０１７７】
大きな厚みを持った導電性ＳｎＯ２層を以てしても、表面欠陥は観察されなかったことが判る。
【０１７８】
ｄ）純度９９．９％のＳｎＯ２層を次の混合物に置き換えたことを除き、実施例４が繰り返されている：
ＳｎＯ２２５％  Ｉｎ２Ｏ３７５％  ＳｎＯ２５０％  Ｉｎ２Ｏ３５０％  ＳｎＯ２７５％  Ｉｎ２Ｏ３２５％
結果を次の表に示す。
【０１７９】
【表５】
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【手続補正書】
【提出日】令和1年11月11日(2019.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯電防止および反射防止または反射特性を持つ光学物品で、反射防止または反射コーティングを塗工された少なくとも１つの主表面を持つ基材を有し、前記コーティングが少なくとも１つの導電層を含有し、ここに：
前記導電層が導電層の全重量に対して重量で少なくとも３０％の酸化スズ（ＳｎＯ２）を含有し、
前記導電層の堆積がイオン−アシストの下で実施されていて、さらに
前記基材の水分吸収率が前記基材の全重量に対して重量で０．６％以上であり、水分吸収率が前記基材を予備乾燥し次いで５０℃で相対湿度１００％および大気圧下のチャンバー内で８００時間保管後に測定されたものである、
帯電防止および反射防止または反射特性を持つ光学物品。
【請求項２】
導電層の厚みが１から２０ｎｍの範囲である、請求項１に記載の光学物品。
【請求項３】
前記イオンーアシストは、５０〜２００Ｖの加速電圧で実施される請求項１または２に記載の光学物品。
【請求項４】
前記導電層が前記導電層の全重量に対して重量で少なくとも９０％の酸化スズ（ＳｎＯ２）を含む、請求項１〜３のいずれかに記載の光学物品。
【請求項５】
導電層がＳｎＯ２層から成る、請求項１〜４のいずれかに記載の光学物品。
【請求項６】
導電層がスタック順で反射防止または反射コーティングの最後から２番目の層を形成する、請求項１〜５のいずれかに記載の光学物品。
【請求項７】
さらに光学レンズと定義される、請求項１〜６のいずれかに記載の光学物品。
【請求項８】
前記反射防止または反射コーティングがＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の混合物を含む少なくとも１つの層を有し、さらにこの層の堆積が真空チャンバー内で前記堆積中に前記チャンバー内にガスを供給しながら実施されている、請求項１〜７のいずれかに記載の光学物品。
【請求項９】
ガスを供給中の真空チャンバー内の圧力が５ｘ１０−５から３ｘ１０−４ｍｂａｒの範囲である、請求項８に記載の光学物品。
【請求項１０】
前記導電層の堆積は、前記基材の表面を前記導電層の形成中にイオン銃で作られたイオンビームで衝撃を与えることによるイオンーアシストで実施される請求項１〜９のいずれかに記載の光学物品。
【請求項１１】
前記導電層の堆積は、前記基材の表面を前記導電層の形成中に酸素イオンで衝撃を与えることによるイオンーアシストで実施される請求項１〜１０のいずれかに記載の光学物品。
【請求項１２】
前記イオンーアシストは、１０〜２００μＡ／ｃｍ２の電流密度で実施される請求項１〜１１のいずれかに記載の光学物品。
【請求項１３】
前記反射防止または反射コーティングは、前記基材の表面上に堆積順で、厚みが１０〜４０ｎｍのＺｒＯ２層、厚みが１０〜４０ｎｍのＳｉＯ２層またはＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３層、厚みが４０〜１５０ｎｍのＺｒＯ２層またはＴｉＯ２層、厚みが４〜２５ｎｍであり、全重量に対して重量で少なくとも３０％の酸化スズ（ＳｎＯ２）を含有する前記導電層、および厚さ５０〜１５０ｎｍのＳｉＯ２層またはＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３層を有する反射防止コーティングである請求項１〜１２のいずれかに記載の光学物品。
【請求項１４】
前記基材がポリ（チオウレタン）の種類によるものである、請求項１〜１３のいずれかに記載の光学物品。
【請求項１５】
光学物品を製造する方法で：
少なくとも１つの主表面がある基材で、請求項１に記載した様にして水分吸収率を測定した場合に前記水分吸収率が前記基材の全重量に対して重量で少なくとも０．６％以上である前記基材を含有する、光学物品を供給する；
前記基材の主表面の上に反射防止または反射コーティングを堆積し、ここに前記コーティングは導電性の層の全重量に対して重量で少なくとも３０％の酸化スズ（ＳｎＯ２）を含有する少なくとも１つの導電性の層を有し、前記導電性の層はイオン−アシスト溶着により堆積される；
その主表面に前記導電性の層を含む前記反射防止または反射コーティングを塗工された基材を含む、光学物品を回収する；
ことを含む、請求項１〜１４のいずれかに記載の光学物品を製造する方法。
【請求項１６】
前記反射防止または反射コーティング層それぞれの堆積が真空下の蒸着により実施される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記イオンーアシストは、１０〜２００μＡ／ｃｍ２の電流密度で実施される請求項１５または１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記導電層の厚みは、１〜２０ｎｍである請求項１５〜１７のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
光学物品の表面欠陥の発生を防止する製造方法であって、
前記光学物品の基材の上に堆積した反射防止または反射の帯電防止コーティング内に全導電層に対して重量で少なくとも３０％のＳｎＯ２を含有する少なくとも１つの導電層の使用を備え、前記基材は、前記基材の全重量に対して重量で少なくとも０．６％の水分吸収率を持ち、前記水分吸収率は、前記基材を予備乾燥してから相対湿度１００％および大気圧下の５０℃のチャンバー内で８００時間保管した後に測定したものであり、前記導電層の堆積は、イオン銃で作られたイオンビームを前記導電層形成中に前記基材の表面に当てることにより、イオンーアシストの下で実施される方法。