(57)【要約】【課題】高温で引っ張った場合の光学特性の低下を抑制させる反射防止フィルムを提供する。【解決手段】基材フィルムと、前記基材フィルムの少なくとも一方面側に形成された低屈折率層とを備える反射防止フィルムであって、温度１８０℃の環境下における１００％伸長時のヘイズ値の変化比が、伸長前後で５０以下であることを特徴とする反射防止フィルム。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムと、前記基材フィルムの少なくとも一方面側に形成された低屈折率層とを備える反射防止フィルムであって、
温度１８０℃の環境下における１００％伸長時のヘイズ値の変化比が、伸長前後で５０以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記温度１８０℃の環境下における１００％伸長時のヘイズ値の変化比が、伸長前後で２５以下であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記低屈折率層は、少なくとも低屈折率微粒子とバインダ樹脂とを含む層であり、
前記低屈折率層における前記バインダ樹脂に対する前記低屈折率微粒子の固形分比率は、５０％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記低屈折率微粒子は、有機系中空ビーズであることを特徴とする請求項３に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記低屈折率微粒子の平均粒子径は、８０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項３又は４に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記バインダ樹脂は、フッ素系ウレタンアクリレートであることを特徴とする請求項３から５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記基材フィルムは、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルムの少なくとも片面に、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）層を備えていることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プロジェクションディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の様々な表示装置、タッチパネル、光学レンズ、眼鏡レンズ、車内ダッシュボードにおける反射防止処理、太陽電池パネル表面の反射防止処理等の様々な分野で利用されている。
【０００３】
反射防止フィルムとしては、例えば、特許文献１に、可撓性を有する透明なプラスチックフィルムの少なくとも片面に、該プラスチックフィルムよりも光屈析率が小さいフッ素系無機化合物が無機バインダーで固結された焼付け被膜を形成したことを特徴とする反射防止フィルムが開示されている。この特許文献１に開示の反射防止フィルムは、長期間にわたって優れた反射防止効果を維持できるというものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第２９２３５６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の反射防止フィルムに関しては、低反射特性の改善に着目して改良・開発が行われており、例えば、インモールド成型においてフィルムを高温で引っ張った場合の光学特性の低下を抑制させるといった着眼点で改良・開発されたものはなかった。
【０００６】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであって、高温で引っ張った場合の光学特性が損なわない反射防止フィルムの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記目的は、基材フィルムと、前記基材フィルムの少なくとも一方面側に形成された低屈折率層とを備える反射防止フィルムであって、温度１８０℃の環境下における１００％伸長時のヘイズ値の変化比が、伸長前後で５０以下であることを特徴とする反射防止フィルムにより達成される。
【０００８】
また、前記温度１８０℃の環境下における１００％伸長時のヘイズ値の変化比が、伸長前後で２５以下であることが好ましい。
【０００９】
また、前記低屈折率層は、少なくとも低屈折率微粒子とバインダ樹脂とを含む層であり、前記低屈折率層における前記バインダ樹脂に対する前記低屈折率微粒子の固形分比率は、５０％以下であることが好ましい。
【００１０】
また、前記低屈折率微粒子としては、有機系中空ビーズを採用することができる。この低屈折率微粒子の平均粒子径は、８０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００１１】
また、前記バインダ樹脂は、フッ素系ウレタンアクリレートであることが好ましい。
【００１２】
また、前記基材フィルムは、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルムの少なくとも片面に、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）層を備えていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、高温で引っ張った場合の光学特性が損なわない反射防止フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明に係る反射防止フィルムの概略構成断面図である。
【図２】本発明に係る反射防止フィルムの変形例に関する概略構成断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態に係る反射防止フィルムについて、添付図面を参照して説明する。なお、図面においては、構成の理解を容易ならしめるために部分的に拡大・縮小している。本発明に係る反射防止フィルム１は、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プロジェクションディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の様々な表示装置、タッチパネル、光学レンズ、眼鏡レンズ、自動車の車内ダッシュボード、フォトリソグラフィープロセス等における反射防止処理、太陽電池パネル表面の反射防止処理等の様々な分野で利用されるものであり、図１の概略構成断面図に示すように、基材フィルム２の少なくとも一方面側に、低屈折率層３が形成されて構成されている。
【００１６】
基材フィルム２としては、例えば、透明有機高分子材料から形成することが好ましい。透明有機高分子材料は、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、有機高分子化合物をフィルムとしたものを用いる事ができる。この有機高分子化合物としては、透明な有機高分子であれば特に限定されないが、優れた反射防止性能をしめすためには透過率が８０％以上、さらには８６％以上であることが好ましく、屈折率は１．４０〜１．７０であることが好ましい。なお、有機高分子化合物としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等をあげることができる。
【００１７】
また、基材フィルム２の膜厚は、通常２５〜４００μｍ程度、好ましくは３８〜３００μｍ程度である。また、基材フィルム２には、各種の添加剤が含有されていてもよい。そのような添加剤として、例えば紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤等が挙げられる。
【００１８】
また、基材フィルム２の両面上に、或いは、片面上にハードコート層を形成してもよい。ハードコート層は、反射防止フィルム１の表面強度を担保するための層であり、フィルムへの傷防止のために、当該ハードコート層は形成しておくことが好ましい。また、ハードコート層を基材フィルム２の両面に形成する場合、反射防止層との境界に形成されるハードコート層の屈折率は、１．５０〜１．７０の範囲内のものが好ましく、基材フィルム２において反射防止層が形成される面とは反対側の面に形成されるハードコート層の屈折率は、１．５０〜１．７０の範囲内のものが好ましい。なお、ハードコート層の屈折率が、基材フィルム２の屈折率と最適化が図れていない場合、基材フィルム２とハードコート層の屈折率差から生じる干渉により、干渉ムラが顕著に表れたり、反射防止フィルム１の反射特性として色相の設計が難しくなる場合があるため、好ましくない。
【００１９】
ハードコート層の厚みは、１〜１０μｍの範囲に設定することが好ましい。ハードコート層の膜厚が１μｍ未満の場合には、十分な表面強度が得られないため好ましくない。その一方、膜厚が１０μｍを超える場合には、フィルム延伸による光学特性の低下等の問題が生じるため好ましくない。
【００２０】
また、ハードコート層を形成する材料としては、電離放射線硬化型材料や、熱硬化型材料を用いることができる。電離放射線硬化型材料は、例えばアクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。
【００２１】
また、電離放射線硬化型材料は紫外線により硬化されるため、ハードコート層形成用塗液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。
【００２２】
また、熱硬化性材料としては、例えばオルガノポリシロキサンを用いることができる。オルガノポリシロキサンからなる層は、オルガノシロキサンを出発原料として湿式法に従い加水分解および脱水重縮合によりえられた層であり、シロキサン（Ｓｉ−Ｏ）骨格に基づく三次元網目構造のポリマーネットワークをなすように構成されている。
【００２３】
さらに、ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。
【００２４】
また、ハードコート層形成用塗液にはその他添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤などが挙げられる。
【００２５】
また、ハードコート層の硬度としては、鉛筆硬度でＨ以上であることが実用上好ましいが、基材フィルム２の影響も受けるためこの限りではない。また、ハードコート層は、基材フィルム２に直接接して設けてもよく、或いは、基材フィルム２との密着性を向上させるため及び干渉低減のため、屈折率が、１．４０〜１．７０（好ましくは１．５０〜１．６５）のアンカー層を介して基材フィルム２の上に設けてもよい。
【００２６】
ハードコート層の形成方法としては、ウェットコーティング法を好適に用いることができ、例えて、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等を採用することができ、基材フィルム２の面上にハードコート層形成用塗液を塗布することにより形成することができる。特に、ハードコート層は、薄く、均一に層を形成する必要性があることから、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。また、ハードコート層として、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることが好ましい。
【００２７】
次に、基材フィルム２の一方面側に形成される低屈折率層３について説明する。低屈折率層３は、反射防止特性を発揮する反射防止層である。この低屈折率層３は、基材フィルム２よりも屈折率が低く構成されることが好ましい。低屈折率層３は、バインダ樹脂と低屈折率微粒子とを含む硬化層であり、低屈折率層形成塗液を、基材フィルム２の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。この低屈折率層３においては、バインダ樹脂に対する低屈折率微粒子の固形分比率は、５０％以下となるように構成されることが好ましい。なお、このとき低屈折率層３単層の膜厚は、光学シミュレーションにより最適な値になるように設計される。また、低屈折率層３の膜厚は、光学干渉層としての特性から、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲にあることが好ましく、２０ｎｍ〜７０ｎｍの範囲内にあることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜６０ｎｍの範囲内にあることが特に好ましい。
【００２８】
本発明の低屈折率層３の屈折率は、１．２０から１．５０までの範囲内にあることが望ましく、１．２５から１．４５であることがさらに望ましい。低屈折率層３の屈折率は、できるだけ低い方が空気（屈折率＝１）の屈折率に近づき低反射率を実現しやすいものの、低屈折率材料（低屈折率微粒子）を低屈折率層形成塗液中に多量に添加する必要があるため、機械強度が低くなり傷がつきやすくなる。
一方、低屈折率層３の屈折率が１．５０をこえる場合、空気との屈折率の差が大きくなり、反射率が上昇してしまうため好ましくない。
【００２９】
低屈折率層形成塗液に含まれる低屈折率微粒子としては、例えば、粒子内部に空隙を有する無機系中空微粒子（無機系中空ビーズ）や有機系中空微粒子（有機系中空ビーズ）を好適に用いることができる。無機系中空微粒子としては、中空シリカビーズ、フッ素樹脂系ビーズ、ゾルゲル系シリカビーズ等を好適に用いることができる。また、有機系中空微粒子としては、アクリル系中空ビーズを好適に用いることができる。なお、粒子内部に空隙を有する微粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（約１．０）とすることができるので、非常に低い屈折率を備える低屈折率微粒子とすることができ、好ましい。
【００３０】
低屈折率微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率微粒子の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層３が白化して反射防止フィルム１の透明性が低下するおそれがある。一方、低屈折率微粒子の平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、低屈折率層３における粒子の不均一性等の問題が生じるおそれがある。
【００３１】
低屈折率層３を形成するためのバインダ樹脂としては、紫外線硬化型材料や、熱硬化型材料を用いることができ、紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、または単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。紫外線硬化型材料としては、単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物であるアクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料の中でも、所望する分子量および分子構造を設計することができ、形成される低屈折率層３の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。多官能ウレタンアクリレートの具体例としては、フッ素系ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。また、熱硬化型材料としては、例えばオルガノポリシロキサンを用いることができる。オルガノポリシロキサンからなる層は、オルガノシロキサンを出発原料として湿式法に従い加水分解および脱水重縮合によりえられた層であり、シロキサン（Ｓｉ−Ｏ）骨格に基づく三次元網目構造のポリマーネットワークをなすように構成されている。
【００３２】
なお、低屈折率層３を形成するための低屈折率層形成用塗液には、必要に応じて溶媒を加えることができる。溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から、塗工適性等を考慮して適宜選択して用いることができる。
【００３３】
また、低屈折率層３を形成するためのバインダ樹脂材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより当該低屈折率層３を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであればよく、具体例としては、アセトフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、チオキサンソン系化合物、トリアジン系化合物、ホスフィン系化合物、キノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チタノセン系化合物等が挙げられる。アセトフェノン系化合物としては、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン等が例示できる。また、ベンゾイン系化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等が例示できる。ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等が例示できる。オキシムエステル系化合物としては、エタノン,１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−(０−アセチルオキシム)、１，２−オクタジオン−１−[４−(フェニルチオ)−，２−(Ｏ−ベンゾイルオキシム)]等が例示できる。チオキサンソン系化合物としては、チオキサンソン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等が例示できる。トリアジン系化合物としては、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリルｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等が例示できる。ホスフィン系化合物としては、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が例示できる。また、キ���ン系化合物としては、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等を例示できる。光重合開始剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３４】
なお、低屈折率層形成塗液にはその他添加剤を加えてもよい。添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、光増感剤等が挙げられる。
【００３５】
低屈折率層３を形成する方法としては、低屈折率層形成塗液を基材フィルム２の表面に塗布して形成する湿式成膜法による方法を用いることが、安価に反射防止フィルム１を製造することができるという点から好ましい。
【００３６】
ここで、必要に応じて、低屈折率層３の表面上に滑剤層を設けるようにして、反射防止フィルム１を構成してもよい。滑剤層は、低屈折率層３を汚れから保護し、耐擦傷性を向上させるために設けられるものである。この滑剤層は、フッ素含有シラン化合物を滑剤コート層形成用組成物に含有することが好ましく、フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物溶液をコーティングして作製する。特に、フッ素含有シラン化合物がポリシラザンもしくはアルコキシシランであることが好ましい。なお、滑剤層６の膜厚は、０．１ｎｍ〜１５ｎｍであることが好ましい。更には、１ｎｍ〜１０ｎｍであることが好ましい。
【００３７】
また、上述のフルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物のなかでも、シラン化合物中のフルオロアルキル基が、Ｓｉ原子１つに対し、１つ以下の割合でＳｉ原子と結合されており、残りは加水分解性基もしくはシロキサン結合基であるシラン化合物が好ましい。ここでいう加水分解性の基としては、例えばアルコキシ基等の基であり、加水分解によりヒドロキシル基となり、それにより前記シラン化合物は重縮合物を形成する。
【００３８】
例えば、上記シラン化合物は水と（必要なら酸触媒の存在下）、副生するアルコールを留去しながら、通常、室温〜１００℃の範囲で反応させる。これによりアルコキシシランは（部分的に）加水分解し、一部縮合反応が起こり、ヒドロキシル基を有する加水分解物として得ることができる。加水分解、縮合の程度は、反応させる水の量により適宜調節することができるが、本発明においては、滑剤層６に用いるシラン化合物溶液に積極的には水を添加せず、調製後、主として乾燥時に、空気中の水分等により加水分解反応を起こさせるため溶液の固形分濃度を薄く希釈して用いることが好ましい。
【００３９】
なお、好ましくは、滑剤層形成用組成物において、上述のフルオロアルキル基を有するシラン化合物は下記一般式（１）で表され、かつ該シラン化合物の濃度を０．０１〜５質量％に希釈した溶液として用いることができる。
【００４０】
一般式（１）  ＣＦ３（ＣＦ２）ｍ（ＣＨ２）ｎ−Ｓｉ−（ＯＲａ）３
ここにおいて、ｍは１〜１０の整数、ｎは０〜１０の整数、Ｒａは同一もしくは異なるアルキル基を表す。
【００４１】
前記一般式（１）で表される化合物中、Ｒａは炭素原子数３つ以下であり炭素と水素のみからなるアルキル基、例えば、メチル、エチル、イソプロピル等の基が好ましい。
【００４２】
これら本発明において好ましく用いられるフルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物としては、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）3、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ4Ｈ9）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）2ＯＣ3Ｈ7、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣ2Ｈ5）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣＨ3（ＯＣ3Ｈ7）2、（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、Ｃ7Ｆ15ＣＯＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＯＣＯＮＨ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ2Ｈ5）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｃ2Ｈ5）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｃ2Ｈ5）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ2Ｈ5）2、ＣＦ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣ3Ｈ7）2、ＣＦ3（ＣＦ2）2Ｏ（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）、Ｃ7Ｆ15ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｏ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2）2ＯＣＨＯ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3などがあげられるが、この限りでない。
【００４３】
上記構成を備える本発明に係る反射防止フィルムは、温度度１８０℃の環境下における１００％伸長時のヘイズ値の変化比が、伸長前後で５０以下、より好ましくは２５以下となるように形成されている。ここで、上記ヘイズ値の変化比とは、（１００％伸長時のヘイズ値）／（０％伸長時のヘイズ値）で表せられる値のことをいう。
【００４４】
以下に実施例を揚げて本発明の具体的な態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００４５】
（実施例）
[基材フィルム２]
基材フィルム２として、厚さ３００μｍ、２１０ｍｍ×２９７ｍｍのＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル樹脂）／ＰＣ（ポリカーボネート）の積層フィルムを用意する。
【００４６】
[低屈折率層３の形成]
上記基材フィルム２のＰＭＭＡ層上に低屈折率層形成塗液を塗布形成後、８０℃の温度で２分間乾燥させた後、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射して低屈折率層３を形成した。形成された低屈折率層の厚みは、４０ｎｍである。低屈折率層形成塗液の塗布に際しては、オーエスジーシステムプロダクツ株式会社製Ｄ−Ｂａｒ＃２を用いた。
【００４７】
ここで、低屈折率層形成塗液は、低屈折率微粒子、バインダ樹脂（液体）、希釈溶剤、開始剤（光重合開始剤）の混合液であり、使用する低屈折率微粒子の種類や平均粒子径、バインダ樹脂の種類を異ならせて１０種類生成し、それぞれを基材フィルム２上に塗布して１０種類の反射防止フィルムを作成している（サンプル１〜１０）。なお、使用する低屈折率微粒子は、サンプル１〜４が平均粒子径５０ｎｍの中空シリカビーズであり、サンプル５〜８が平均粒子径６０ｎｍの中空シリカビーズである。また、サンプル９が平均粒子径７０ｎｍの中空シリカビーズであり、サンプル１０が平均粒子径８０ｎｍのアクリル系中空ビーズである。また、使用する液状のバインダ樹脂は、サンプル１〜１０共に、ＵＶ硬化型のフッ素系ウレタンアクリレートである。また、低屈折率層形成塗液の生成に際しては、低屈折率微粒子の固形分が４％となるように希釈溶剤を加えて微粒子希釈液を生成すると共に、バインダ樹脂の固形分が４％となるように希釈溶剤を加えてバインダ樹脂希釈液を生成し、両者を混合した上で、開始剤を添加している。微粒子希釈液を生成する希釈溶剤としては、サンプル１〜９が、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）であり、サンプル１０が、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）である。また、バインダ樹脂希釈液を生成する希釈溶剤は、ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）である。
【００４８】
下記表１に、サンプル１〜１０に係る反射防止フィルムにおいて、基材フィルム２上に形成された低屈折率層３に含まれる低屈折率微粒子及びバインダー樹脂の固形分比を示す。また、基材フィルム２上に形成された低屈折率層３に含まれる低屈折率微粒子、バインダー樹脂、開始剤の配合比率（質量部）を表２に示す。
【００４９】
【表１】
2020060634.tif 000003
【００５０】
【表２】
2020060634.tif 000004
【００５１】
[反射率の評価]
上記サンプル１〜１０に係る反射防止フィルムのそれぞれについて、低屈折率層３が形成されていない基材フィルム２の面にデンカ（株）製ビニールテープ（黒）をローラーで貼り付けた後、ＪＩＳＺ８７８１に準じて、日本分光株式会社製「Ｖ−６７０」の紫外可視近赤外分光光度計を用いて反射率の測定を行い、５５０ｎｍにおける反射率を求めた。この結果を表３に示す。
【００５２】
【表３】
2020060634.tif 000005
【００５３】
［フィルムの延伸］
上記サンプル１〜１０に係る各反射防止フィルムから、４０ｍｍ×１０ｍｍの矩形試料を切り出し、−３５℃〜２５０℃まで制御可能な恒温槽付きの島津製作所株式会社製「オートグラフＡＧ−５００ＮＸ Ｐｌｕｓ」を用いて、４０ｍｍ×１０ｍｍにカットした各試料を長手方向を両端から摘まみ、温度１８０℃の環境下で４０ｍｍ延伸（１００％伸長）させた。
【００５４】
［ヘイズ値の測定］
上記１００％伸長させた各サンプル１〜１０の試料について、ＪＩＳＫ７１３６に基づいて、日本電色工業株式会社製「ＮＤＨ−５０００」を用いてヘイズ値の測定を行った。なお、ヘイズ値測定に際しては、φ７ｍｍの穴の黒鉄板で校正し、測定時に黒鉄板の孔部にサンプルを設置して測定した。なお、１００％伸長前（０％伸長時）の各サンプル１〜１０についても、予め同様にヘイズ値の測定を行った。
【００５５】
各サンプル１〜１０の試料に関し、ヘイズ値の測定結果を表４に示す。また、表４中に、温度１８０℃の環境下における１００％伸長時のヘイズ値の変化比についても示す。なお、温度１８０℃の環境下において１００％伸長した際に、良好な光学特性である場合を“○”とし、光学特性が低下している場合を“×”として示している。
【００５６】
【表４】
2020060634.tif 000006
【００５７】
表３の反射率の測定結果から、サンプル１〜１０に係る反射防止フィルムは、いずれも反射率（％）が、２．５％以下の値を示しており、低反射特性という観点からはいずれも良好なものであるといえる。一方、ヘイズ値の測定結果に係る表４より、サンプル１及びサンプル５に係る反射防止フィルムは、温度１８０℃環境下で１００％伸長させた場合に、低屈折率層の内部にクラック等の欠陥が発生し、ヘイズ値の変化比の値が増加し、光学特性が低下しているものであることが確認された。これに対し、サンプル２〜４、サンプル６〜１０に係る反射防止フィルムにおいては、内部欠陥の発生が抑制されたものであり、高温で引っ張った場合のヘイズ値の変化比の値が増加しにくく、光学特性が損なわないフィルムであることが分かる。
【００５８】
ここで、温度１８０℃の環境下における１００％伸長時のヘイズ値の変化比の値に着目すると、サンプル１が、“１７５．７２”、サンプル５が“１５４．００”という高い数値を示しているが、サンプル２〜４、サンプル６〜１０は、いずれも“２５”以下の低い数値を示している。また、温度１８０℃の環境下において１００％伸長させた場合に、内部欠陥が発生してしまうヘイズ値の変化比の境界値としては、 “２３．９７（サンプル６）”と、“１５４．００（サンプル５）”の間に存在すると考えられる。また、伸長前後でのヘイズ値の変化比が増加するに従い、内部欠陥は急激に増加すると推測されるため、内部欠陥が発生してしまうヘイズ値の変化比の境界値は、“２３．９７”と、“１５４．００”との算術平均値である“８９”よりも小さい“５０”あたりに存在すると考えられる。このことから、温度１８０℃の環境下における１００％伸長時のヘイズ値の変化比が、伸長前後で５０以下となるように反射防止フィルムを形成することが好ましく、２５以下となるように形成することがより好ましいと考えられる。
【００５９】
また、温度１８０℃環境下で１００％伸長させた場合に内部クラック等の欠陥が発生しているサンプル１及びサンプル５は、表１から、低屈折率層３におけるバインダ樹脂に対する低屈折率微粒子の固形分比率が１００％であるのに対し、温度１８０℃環境下で１００％伸長させた場合に内部クラック等の欠陥が発生していないサンプル２〜４、サンプル６〜１０については、低屈折率層３におけるバインダ樹脂に対する低屈折率微粒子の固形分比率が５０％以下であることが分かる（サンプル２及び６：５０％、サンプル３、７、９及び１０：３３％、サンプル４及び８：２５％）。このことから、低屈折率層３におけるバインダ樹脂に対する低屈折率微粒子の固形分比率は、５０％以下となるように、低屈折率層３を形成することが好ましいことが分かる。
【００６０】
また、温度１８０℃の環境下における１００％伸長時のヘイズ値の変化比の値の増加を抑えるという観点からは、下記表５より、低屈折率微粒子として有機系中空ビーズを用いることが好ましいことが分かる。
【００６１】
【表５】
2020060634.tif 000007
【００６２】
具体的に説明すると、まず、図５は、低屈折率層３におけるバインダ樹脂に対する低屈折率微粒子の固形分比率が３３％であるサンプル３，７，９、及び１０について、使用する低屈折率微粒子の種類、低屈折率微粒子の平均粒子径、温度１８０℃の環境下における１００％伸長時のヘイズ値の伸長前後の変化比について示している。サンプル３は、低屈折率微粒子として平均粒子径が５０ｎｍの中空シリカビーズ（無機系中空ビーズ）を使用し、サンプル７は、低屈折率微粒子として平均粒子径が６０ｎｍの中空シリカビーズ（無機系中空ビーズ）を使用したものである。サンプル９は、低屈折率微粒子として平均粒子径が７０ｎｍの中空シリカビーズ（無機中空ビーズ）を使用し、サンプル１０は、低屈折率微粒子として平均粒子径が８０ｎｍのアクリル系中空ビーズ（有機系中空ビーズ）を使用している。低屈折率微粒子として中空シリカビーズ（無機系中空ビーズ）を使用したサンプル３，７、９に着目すると、使用する低屈折率微粒子の平均粒子径が増加するにしたがい、温度１８０℃の環境下における１００％伸長時のヘイズ値の変化比の値が、“１０．７９”、“１４．８９”“１９．４７”というように、増加する傾向にある。これに対し、平均粒子径が最も大きい低屈折率微粒子（有機系中空ビーズ）を使用したサンプル１０（平均粒子径：８０ｎｍ）は、温度１８０℃の環境下における１００％伸長時のヘイズ値の変化比の値が、“１１．６８”であり、サンプル７及び９の変化比よりも小さい値となっている。このことから、低屈折率微粒子として有機系中空ビーズを採用する場合、無機系中空ビーズを使用するよりも、温度１８０℃の環境下における１００％伸長時の反射防止フィルムの低屈折率層に内部欠陥が生じることを効果的に抑制することができ、良好な光学特性を得ることができると考えられる。
【００６３】
以上、本発明に係る反射防止フィルム１の一実施形態について説明したが、反射防止フィルム１の具体的構成は、上記実施形態に限定されない。例えば、上記実施形態においては、低屈折率層３単層にて反射防止層を構成するようにしているが、例えば、低屈折率層３の単層構造ではなく、図２の断面図に示すように、基材フィルム２と低屈折率層３単層との間に、中屈折率層４及び高屈折率層５を更に配設し、中屈折率層４、高屈折率層５、低屈折率層３の３層からなる積層体が反射防止特性を発揮する反射防止層を構成するようにしてもよい。このような多層構造として反射防止層を構成することにより、より効果的に反射率を低減させることが可能となる。なお、中屈折率層４、高屈折率層５、低屈折率層３の３層からなる反射防止層を基材フィルム２の他方面側に更に配置するように構成してもよい。このとき、基材フィルム２から見て、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層３の順に積層配置させる。
【００６４】
図２における中屈折率層４としては、例えば、無機材料を含む層であり、中屈折率層形成塗液を基材フィルム２の表面に塗布して、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき中屈折率層単層の膜厚は、光学シミュレーションにより最適な値になるように設計される。中屈折率層形成塗液としては、バインダマトリックス形成材料に高屈折率微粒子を分散させたものを用いることができる。中屈折率層４の膜厚は、光学干渉層としての特性から、８５ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内にあることが好ましく、１０５ｎｍ〜１３０ｎｍの範囲内にあることがさらに好ましい。また、中屈折率層４の屈折率は１．５５〜１．６０までの範囲内にあることが望ましい。中屈折率層４の屈折率は、低屈折率層３の屈折率と、高屈折率層５の屈折率との間の値となるように調整される。
【００６５】
中屈折率層形成塗液に分散される高屈折率微粒子としては、例えば、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ等の高屈折率材料からなる無機微粒子を用いることができる。本発明で使用される高屈折率微粒子の形状は、特に限定されないが、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状または不定形状が好ましい。本発明における無機微粒子は、単独で用いてもよいが、２種類以上を併用して用いることもできる。
【００６６】
また、高屈折率微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。高屈折率微粒子の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、中屈折率層４のヘイズ値が高くなってしまい、反射防止フィルム１の透明性が低下するおそれがある。一方、高屈折率微粒子の平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、中屈折率層４における粒子の不均一性等の問題が生じるおそれがある。
【００６７】
また、中屈折率層４を形成するためのバインダ樹脂材料としては、紫外線硬化型材料を例示することができる。紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、または単官能性モノマーを含有する紫外線硬化型材料が用いられる。紫外線硬化型材料としては、例えば、上記低屈折率層３を形成する材料を用いることができる。具体的には、単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物であるアクリル系材料を用いることができる。
【００６８】
次に、中屈折率層４上に形成される高屈折率層５について説明する。 高屈折率層５は、無機材料を含む層であり、高屈折率層形成塗液を中屈折率層４上の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき高屈折率層５単層の膜厚は、光学シミュレーションにより最適な値になるように設計される。また、高屈折率層５の膜厚は、光学干渉層としての特性から、２０ｎｍ〜５５ｎｍの範囲内にあることが好ましく、３０ｎｍ〜４５ｎｍの範囲内にあることがさらに好ましい。
【００６９】
本発明の高屈折率層５の屈折率は、反射防止フィルム１の色付きを抑制する観点からは、１．６５〜１．７５の範囲内にあることが特に好ましい。高屈折率層５の屈折率の調整は、高屈折率微粒子の添加量を変更することにより行うことができる。高屈折率微粒子としては、上述の中屈折率層形成塗液に記載した高屈折率材料を用いることができる。
【００７０】
高屈折率層５を形成するためのバインダ樹脂材料としては、紫外線硬化型材料を例示することができる。紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、または単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。紫外線硬化型材料としては、上述の低屈折率層３に用いられる紫外線硬化型材料として例示したアクリル系材料を好ましく用いることができる。
【００７１】
ここで、中高屈折率層形成用塗液及び高屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、上記低屈折率層３の用いられるものとして例示したものを用いることができる。また、添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、光増感剤等が挙げられる。
【００７２】
また、中屈折率層４及び高屈折率層５を形成するためのバインダ樹脂材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより、中屈折率層や高屈折率層を形成する場合には、中高屈折率層形成用塗液や高屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、上述の低屈折率層形成用塗液に加えられる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。
【００７３】
中屈折率層や高屈折率層を形成する方法としては、中屈折率層形成用塗液や高屈折率層形成用塗液を対象面（基材フィルム２の表面や中屈折率層４の表面）に塗布して行う湿式成膜法による方法と、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった真空中で中屈折率層や高屈折率層５形成する真空成膜法による方法とに分けられるが、特に限定されるものではない。しかしながら、安価に反射防止フィルム１を製造することができるという点から、湿式成膜法を採用することが好ましい。
【符号の説明】
【００７４】
１  反射防止フィルム
２  基材フィルム
３  低屈折率層
４  中屈折率層
５  高屈折率層
【図１】
2020060634.tif 000008
【図２】
2020060634.tif 000009