(57)【要約】      （修正有）【課題】視認性に優れた表示装置を提供する。【解決手段】表示素子１０と、前記表示素子の出光面側に配置されてなる、熱伝導層１２を含む光学フィルム１３と、前記熱伝導層の周縁部から熱アースされた放熱部材と、を有する表示装置１。あるいは、表示素子と、前記表示素子の出光面側に配置されてなる、放射熱反射層を含む光学フィルムと、を有する表示装置。【選択図】図１
2020042259.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示素子と、
前記表示素子の出光面側に配置されてなる、熱伝導層を含む光学フィルムと、
前記熱伝導層の周縁部から熱アースされた放熱部材と、
を有する表示装置。
【請求項２】
前記熱伝導層が、透明樹脂中に、隣接する金属ナノワイヤ同士が接触点を有するように分散された金属ナノワイヤ層、又は金属材料でメッシュ状に形成された層である、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記金属ナノワイヤが、銀ナノワイヤである、請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記熱伝導層の表面抵抗率が、２５０Ω／□以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記表示素子が有機ＥＬ表示素子である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項６】
車両に搭載された、請求項１〜５のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記表示素子と、前記熱伝導層を含む光学フィルムとが、直接又は接着剤層を介して接してなる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項８】
表示素子と、
前記表示素子の出光面側に配置されてなる、放射熱反射層を含む光学フィルムと、
を有する表示装置。
【請求項９】
前記放射熱反射層が、透明樹脂中に、隣接する銀ナノワイヤ同士が接触点を有するように分散された銀ナノワイヤ層である、請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記放射熱反射層を含む光学フィルムを、前記表示装置の最表面に配置してなる、請求項８又は９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記表示装置内において、前記放射熱反射層よりも前記表示素子とは反対側に位置する層の総厚みが３５０ｎｍ以下である、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）や有機ＥＬ表示装置（有機Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ表示装置）等の画像表示装置の用途が拡大しており、テレビ、モニター、スマートフォン、カーナビゲーション、デジタルカメラなどに利用されている。
【０００３】
液晶表示装置は、一般に、カラーフィルタ、対向基板、これらに挟持された液晶層を有する液晶セル部を有するものである（例えば、特許文献１）。また、液晶表示装置は非発光型であるため、バックライト等の光源が必要であり、該光源から出射した光を用いて表示を行う。
【０００４】
また、有機ＥＬ表示装置としては、有機ＥＬ表示素子を有する有機ＥＬ表示素子基板とカラーフィルタとを組み合わせたもの、ＲＧＢ塗り分け方式等が知られている（例えば、特許文献２）。有機ＥＬ表示素子は、陽極／有機ＥＬ層／陰極の積層構造を基本とし、該有機ＥＬ表示素子に電流が流れると発光する。これにより、表示画面に画像が表示される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１５−１７９２１９号公報
【特許文献２】特開２００６−２２８７０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述の有機ＥＬ表示装置では、表示画面内の明るさ及び色味が局所的に、或いは、中心と周辺とで不均一になることや、反射光が目立つこと等により視認性が低下するという問題が報告され始めている。また、表示装置を車載等で用いた場合にも同様の報告がされている。
【０００７】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、視認性に優れた表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、表示画面内の局所的な箇所において、明るさ、色味、反射指向性等の諸性能が不均一となることや、表示画面の中心付近と端付近とで該諸性能が不均一となることで視認性が低下する原因が、表示装置内部の温度が局所的に不均一になること、或いは表示装置内部の温度が全体的に高温となることなどにより、表示装置内部の光学フィルムが熱で変形することに起因することを見出し、これを解決するに至った。
なお、表示装置内部が高温になる原因としては、表示画面に画像を表示する際に光源から発生する熱、有機ＥＬ表示素子の発光に伴う発熱、表示装置が夏の車内等の高温環境下に置かれることなどが考えられる。
【０００９】
本発明は、以下の［１］〜［２］を提供する。
［１］表示素子と、前記表示素子の出光面側に配置されてなる、熱伝導層を含む光学フィルムと、前記熱伝導層の周縁部から熱アースされた放熱部材と、を有する表示装置。
［２］表示素子と、前記表示素子の出光面側に配置されてなる、放射熱反射層を含む光学フィルムと、を有する表示装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、視認性に優れた表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態Ａの表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図２】実施形態Ａの熱伝導層の一例の平面図である。
【図３】本発明の実施形態Ｂの表示装置の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
＜実施形態Ａ＞
本発明の実施形態Ａの表示装置は、表示素子と、前記表示素子の出光面側に配置されてなる、熱伝導層を含む光学フィルムと、前記熱伝導層の周縁部から熱アースされた放熱部材と、を有することを特徴とする。
以下、実施形態Ａの熱伝導層を含む光学フィルムのことを「光学フィルムＡ」と称する場合がある。
実施形態Ａでは、主として、自由電子による導通作用により、表示装置内部の温度が局所的に不均一になること、或いは表示装置内部の温度が全体的に高温となることを抑制するものである。
【００１３】
図１は、実施形態Ａの表示装置の一例を示す概略断面図である。図１の表示装置１は、表示素子１０の出光面側に、透明基材１１及び熱伝導層１２がこの順に積層された光学フィルム１３が設けられている。熱伝導層１２は、その周縁部１４から導線１５を介して放熱部材１６に熱アース（接地）されている。
【００１４】
［熱アース］
熱アース（接地）は、図１のように、熱伝導層１２の画像表示領域の範囲外となる周縁部１４から放熱部材１６に接続する手法が挙げられる。この際、熱伝導層１２の周縁部１４と、放熱部材１６とは、直接接続されていてもよいし、導線１５を介して接続されていてもよい。また、導線１５は、銀ペースト、カーボンテープ、金属テープ等の自由電子による導電性を有する導電性接着材料により熱伝導層１２の周縁部１４に固着されていることが好ましい。
熱アースは、熱伝導層１２の周縁部１４の１箇所であってもよいし、複数箇所であってもよい。
【００１５】
（放熱部材）
放熱部材は、表示装置内部に発生した熱を熱伝導層から表示装置外部に放熱させるための部材である。
放熱部材としては、自由電子による導通作用を有する物質であれば特に制限されるものではなく、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、クロムなどの金属、これらの金属の合金（例えば、ニクロム）等からなる部材や、これらの金属及び金属合金を含有する複合部材等が挙げられる。
【００１６】
放熱部材は、熱アースをより効果的に行う観点から、体積抵抗率が１．０×１０６Ωｍ以下であることが好ましく、１．０×１０３Ωｍ以下であることがより好ましく、１．０Ωｍ以下であることがさらに好ましく、１．０×１０−３Ωｍ以下であることが特に好ましい。
また、実施形態Ａでは、放熱部材が表示装置のケーシング（外枠）を兼用していることが好ましい。
【００１７】
（光学フィルムＡ）
光学フィルムＡは、少なくとも熱伝導層を含むものである。光学フィルムＡは、透明基材上に熱伝導層を有することが好ましい。光学フィルムＡは、さらに後述する機能層を有していてもよい。
【００１８】
（熱伝導層）
実施形態Ａで用いられる熱伝導層は、表示装置内部に発生した熱を表示装置外部に放熱させる機能と、表示装置内部で生じた高温領域及び低温領域において、高温領域から低温領域に熱を伝え、均一な温度にする機能とを有すると共に、表示パネルの表示画像を観賞し得る程度の可視光線透過性を有する層である。
熱伝導層としては、例えば、金属材料を含み、隣接する金属材料同士が接触点を有する層が挙げられ、中でも、透明樹脂中に、隣接する金属ナノワイヤ同士が接触点を有するように分散された金属ナノワイヤ層や金属材料でメッシュ状に形成された層が好ましい。透明樹脂としては、例えば、後述するカバー樹脂を用いることができる。
【００１９】
熱伝導層が前述のように形成されると、熱伝導層中の自由電子の移動に伴って、表示装置内部に発生した熱が効率よく表示装置外部に放熱され、また、表示装置内部で生じた高温領域及び低温領域において、高温領域から低温領域に熱が効率よく伝えられ、均一な温度となり、熱ムラの発生を防止する。そして、熱ムラの発生が防止されることにより、光学フィルムの変形が抑制される。なお、透明導電層として一般的に用いられているＩＴＯ等の金属酸化物膜は、自由電子の移動が少ないため、熱伝導の機能を高くすることができない。
熱伝導性能を向上するためには、自由電子密度が大きいこと（導電性が高いこと）が好ましい。このため、熱伝導層の表面抵抗率は２５０Ω／□以下とすることが好ましく、１５０Ω／□以下とすることがより好ましく、１００Ω／□以下とすることがさらに好ましい。
表面抵抗率は、例えば三菱化学（株）製の抵抗率計ロレスタ等を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１９４：１９９４（導電性プラスチックの４深針法による抵抗率試験方法）に従って測定することができる。
【００２０】
金属材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、アルミニウム等の金属やこれらの合金等が挙げられる。熱伝導性の観点から、銀、銅、アルミニウムが好ましく、銀がより好ましい。また、金属材料の形状は特に限定されないが、透明性と熱伝導性の観点から、金属ナノワイヤであることが好ましい。特に、銀ナノワイヤは、近赤外線の反射能が高く熱の発生を抑制しやすい点で優れるとともに、耐屈曲性に優れることから折り畳み式のディスプレイに適用しやすい点で好ましい。
【００２１】
金属ナノワイヤの平均直径としては、２００ｎｍ以下であることが好ましい。金属ナノワイヤの平均直径を２００ｎｍ以下とすることにより、ヘイズが高くなることを抑制できる。金属ナノワイヤの平均直径のより好ましい下限は熱伝導性の観点から１０ｎｍ以上であり、金属ナノワイヤの平均直径のより好ましい範囲は１５ｎｍ以上１８０ｎｍ以下である。
金属ナノワイヤの長さは１μｍ以上であることが好ましい。金属ナノワイヤの長さを１μｍ以上とすることにより、１本の金属ナノワイヤで長い熱伝導パスを形成することができる。金属ナノワイヤの長さの好ましい上限は光透過性の観点から５００μｍ以下である。
金属ナノワイヤの長さは３μｍ以上３００μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上３０μｍ以下であることがさらに好ましい。
【００２２】
金属ナノワイヤの直径は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、１０００〜５０万倍にて５０本の金属ナノワイヤの直径を測定し、その５０本の金属ナノワイヤの直径の平均値として求めるものとする。金属ナノワイヤの長さは、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用い、１０００〜５０万倍にて５０本の金属ナノワイヤの長さを測定し、その５０本の金属ナノワイヤの長さの平均値として求めるものとする。
【００２３】
金属ナノワイヤの製造方法としては、公知の方法であればよく、特に限定されるものではない。
【００２４】
金属ナノワイヤ層は、金属ナノワイヤに加えて、カバー樹脂等の他の成分を含有していてもよい。
カバー樹脂は、金属ナノワイヤ層の表面から電気的な導通が得られる程度に金属ナノワイヤを覆うことによって、金属ナノワイヤ層からの金属ナノワイヤの脱離を防ぎ、かつ金属ナノワイヤ層の耐久性や耐擦傷性を向上させるために、必要に応じて金属ナノワイヤ層に含有させるものである。
【００２５】
カバー樹脂の膜厚は、１０ｎｍ以上３００ｎｍ未満であることが好ましく、５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることがより好ましい。
カバー樹脂の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）、または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて１０００〜５０万倍にて撮影された導電層の断面写真からランダムに１０箇所厚みを測定し、測定された１０箇所の厚みの平均値とする。
【００２６】
カバー樹脂は、光透過性を有する樹脂であれば特に限定されず使用することができ、重合性化合物の重合体（硬化物、架橋物）を含むものが挙げられる。カバー樹脂は、重合性化合物の重合体の他、溶剤乾燥型樹脂を含んでいてもよい。重合性化合物としては、電離放射線重合性化合物および／または熱重合性化合物が挙げられる。
【００２７】
電離放射線重合性化合物は、１分子中に電離放射線重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。本明細書における「電離放射線重合性官能基」とは、電離放射線照射により重合反応し得る官能基である。電離放射線重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。また、電離放射線重合性化合物を重合する際に照射される電離放射線としては、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線が挙げられる。
【００２８】
電離放射線重合性化合物としては、電離放射線重合性モノマー、電離放射線重合性オリゴマー、または電離放射線重合性プレポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して、用いることができる。電離放射線重合性化合物としては、電離放射線重合性モノマーと、電離放射線重合性オリゴマーまたは電離放射線重合性プレポリマーとの組み合わせが好ましい。
【００２９】
電離放射線重合性モノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の水酸基を含むモノマーや、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類が挙げられる。
【００３０】
電離放射線重合性オリゴマーとしては、２官能以上の多官能オリゴマーが好ましく、電離放射線重合性官能基が３つ（３官能）以上の多官能オリゴマーが好ましい。上記多官能オリゴマーとしては、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル−ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３１】
電離放射線重合性プレポリマーは、重量平均分子量が１万を超えるものであり、重量平均分子量としては１万以上８万以下が好ましく、１万以上４万以下がより好ましい。重量平均分子量が８万を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られるカバー樹脂の外観が悪化するおそれがある。多官能プレポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、ポリエステル−ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３２】
熱重合性化合物は、１分子中に熱重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。本明細書における「熱重合性官能基」とは、加熱により同じ官能基同士または他の官能基との間で重合反応し得る官能基である。熱重合性官能基としては、水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、アミノ基、環状エーテル基、メルカプト基等が挙げられる。
【００３３】
熱重合性化合物としては、特に限定されず、例えば、エポキシ化合物、ポリオール化合物、イソシアネート化合物、メラミン化合物、ウレア化合物、フェノール化合物等が挙げられる。
【００３４】
溶剤乾燥型樹脂は、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂である。溶剤乾燥型樹脂を添加した場合、カバー樹脂を形成する際に、塗液の塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
【００３５】
熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。
熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
【００３６】
金属ナノワイヤ層は、反応抑制剤を含むことが好ましい。
反応抑制剤は、カバー樹脂用組成物の塗布後に、金属ナノワイヤと、雰囲気下の物質等（雰囲気の硫黄、酸素、ハロゲン。あるいは、導電層と粘着剤層とが接する場合には粘着剤層を構成する材料）との反応による導電性低下を抑制するためのものである。
反応抑制剤としては、例えば、ベンゾアゾール系化合物、トリアゾール系化合物、テトラゾール系化合物、イソシアヌル酸系化合物、アニリン系化合物等の窒素含有化合物等が挙げられる。反応抑制剤として用いられる窒素含有化合物としては、例えば、１−アミノベンゾアゾール、５−メチルベンゾトリアゾール、１，２，３−ベンゾトリアゾール、１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−アミン、ＤＬ−α−トコフェロール、１−オクタデカンチオール、２−メルカプト−５−(トリフルオロメチル)ピリジン、イソシアヌル酸ジアリル、イソシアヌル酸ジアリルプロピル、６−アニリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール、チオシアヌル酸、３，５−ジメチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、４−(１,２,４−トリアゾール−１−イルメチル)アニリン、６−(ジブチルアミノ)−１,３,５−トリアジン−２,４−ジチオール、４−(１,２,４−トリアゾール−１−イル)アニリン、２−メチルチオ-ベンゾチアゾール、１−フェニル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、５−メルカプト−１−メチルテトラゾール、５−(メチルチオ)−１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、１−(２−ジメチルアミノエチル)−５−メルカプトテトラゾール、１−(２−ジメチルアミノエチル)−５−メルカプトテトラゾール、１−(４−ヒドロキシフェニル)−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、３−アミノ−５−メルカプト−１,２,４−トリアゾール、３,５−ジアミノ−１,２,４−トリアゾールが挙げられる。
【００３７】
金属ナノワイヤ層中の反応抑制剤の含有量は、０．０１質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。反応抑制剤の含有量を０．０１質量％以上とすることにより、金属ナノワイヤが雰囲気下の物質と反応することを抑制できる。また、反応抑制剤の含有量を１０質量％以下とすることにより、金属ナノワイヤと反応抑制剤との反応が金属ナノワイヤの表面のみならず内部まで進行し、熱伝導性が低下することを抑制できる。
【００３８】
金属ナノワイヤ層の膜厚は、１０ｎｍ以上３００ｎｍ未満であることが好ましく、５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００３９】
熱伝導層をメッシュ状に形成する方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属箔、蒸着、スパッタなどによる金属蒸着膜、電解めっき、無電解めっきなどによる金属めっき膜、或いは金属蒸着膜上への金属めっき膜積層など、これらの組み合わせなどの金属層をエッチングによりパターンニングする方法、或いは金属を含有するインク乃至ペーストをメッシュ状に印刷する方法等が挙げられる。また、より透明性を高めるために、金属ナノワイヤ層をエッチングによりパターニングしてもよい。
【００４０】
熱伝導層のメッシュ状としての形状は、任意で特に限定されないが、そのメッシュの開口部の形状として、正方形が代表的である。開口部の平面視形状は、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形等の多角形などの周期性を有する規則的パターン形状やランダムな形状の開口部を含む不規則的パターン形状等である。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は通常幅均一のライン状のライン部となる。具体的サイズを例示すれば、熱伝導性及びメッシュの非視認性の点で、開口部間のライン部の幅は１〜１００μｍが好ましく、３〜５０μｍがより好ましい。また、開口部サイズは〔ラインピッチ〕−〔ライン幅〕であるが、この〔ラインピッチ〕でいうと１００μｍ〜５００μｍ、且つ開口率（開口部の面積の合計／メッシュ部の全面積）を５０〜９７％とするのが、光透過性と熱伝導性との両立性の点で好ましい。また、ラインピッチは１００μｍ〜５００μｍの間でランダムでもかまわない。
なお、バイアス角度（メッシュのライン部と熱伝導層の外周辺との成す角度）は、ディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレがでにくい角度に適宜設定すればよい。
【００４１】
熱伝導層１２は、図２の平面図で概念的に例示するように、その平面方向において、中央部の透明熱伝導領域１２１以外の周縁部に接地用領域１２２を備えた層とするのが、熱アースをとり易い点で好ましい。該接地用領域は画像表示を阻害しないために、画像表示領域周縁部の一部又は全周に形成する。
ここで、透明熱伝導領域とは熱伝導層を適用するディスプレイの画像表示領域を全て覆うことができる領域である。また、接地用領域とは接地をとるための領域である。
なお、接地用領域は基本的には熱伝導性が高いほど好ましく、透明性は必要ないが、接地用領域の反り防止等の目的から、透明熱伝導領域と同一の材料から形成することが好ましい。
【００４２】
なお、熱伝導層の厚さは、熱伝導層及び放熱部材の自由電子が共有されていれば特に限定されるものではない。
【００４３】
（透明基材）
透明基材は、上記熱伝導層を支持するものである。
透明基材は、光透過性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものであることが好ましい。このような透明基材としては、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等のプラスチックフィルムが挙げられる。透明基材は、２枚以上のプラスチックフィルムを貼り合わせたものであってもよい。
これらプラスチックフィルムの中でも、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）が、機械的強度や寸法安定性に優れる点で好ましい。また、表示装置が折り畳み式の場合は、プラスチックフィルムとしては、屈曲性に優れるポリイミドが好ましい。
【００４４】
また、プラスチックフィルムの中でも、リタデーション値３０００〜３００００ｎｍのプラスチックフィルム又は１／４波長位相差のプラスチックフィルムは、偏光サングラスを通して画像を観察した場合に、表示画面に色の異なるムラが観察されることを防止できる点で好適である。
【００４５】
透明基材の厚さは、５〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましい。
なお、透明基材の厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から１０箇所の厚みを測定し、１０箇所の値の平均値から算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、倍率は１００〜７００倍とすることが好ましい。
また、透明基材は、その表面に、コロナ放電処理、プライマー処理、下地処理などの公知の易接着処理を行ったものでもよい。
【００４６】
（その他の層）
光学フィルムＡは、さらに、防眩層、反射防止層、帯電防止層、屈折率調整層、ハードコート層、防汚層、円偏光板等の機能層を有していてもよい。
表示装置内における機能層の位置は、熱伝導層よりも表面側とすることが好ましい。また、光学フィルムＡが機能層を有する場合、透明基材よりも表示素子側に熱伝導層を有し、透明基材よりも表面側に機能層を有することが好ましい。
【００４７】
（光学特性）
光学フィルムＡは、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７の全光線透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。
また、光学フィルムＡは、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。
【００４８】
（光学フィルムＡの位置）
実施形態Ａの表示装置は、表示素子と、熱伝導層を含む光学フィルム（光学フィルムＡ）とが、直接又は接着剤層を介して接してなることが好ましい。
当該構成とすることにより、光出射面側から多量の熱が発生する表示素子（例えば、自発光型の有機ＥＬ表示素子、マイクロＬＥＤ表示素子、対角５０インチ以上の大型の表示素子）を備えた表示装置内部の温度が局所的に不均一になること、或いは該表示装置内部の温度が全体的に高温となることを抑制しやすくできる。当該構成における接着剤層は、光透過性を有するものであれば特に限定されることなく使用できるが、導電性を有する接着剤層が好ましい。接着剤層の厚みは５〜３００μｍ程度である。
【００４９】
（熱伝導層の位置）
光学フィルムＡが上記の機能層を有する多層構造の場合、熱伝導層の位置は特に限定されないが、本発明の効果を発揮しやすくする観点から、熱の発生源に近い位置に設けることが好ましい。具体的には、熱伝導層は表示素子に隣接する位置に設けることが好ましい。
例えば、表示素子が自発光型の有機ＥＬ表示素子の場合、有機ＥＬ表示素子は、後述するように発光の際に熱を発生させる。そのため、表示素子として有機ＥＬ表示素子を用いる場合、熱伝導層は有機ＥＬ表示素子に隣接する位置に設けることが好ましい。また、表示素子がマイクロＬＥＤ表示素子である場合、又は、表示素子が対角５０インチ以上の大型の表示素子である場合にも、熱伝導層は表示素子に隣接する位置に設けることが好ましい。
【００５０】
なお、有機ＥＬ表示素子等の表示素子と、熱伝導層との間に他の機能層を設ける場合には、該機能層中に自由電子による導通作用をもつ導通微粒子を含有させることが好ましい。これにより、有機ＥＬ表示素子等の表示素子で発生した熱を熱伝導層に移動させると共に、該機能層中に生じた高温領域及び低温領域において、高温領域から低温領域に熱を効率よく伝え、均一な温度とし、熱ムラの発生を防止することができる。
導通微粒子としては特に限定されず、例えば、コア微粒子の表面に導電性被覆層を形成したコーティング微粒子が好適に用いられる。
コア微粒子としては特に限定されず、例えば、コロイダルシリカ微粒子、酸化ケイ素微粒子等の無機微粒子、フッ素樹脂微粒子、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子等のポリマー微粒子、有機質無機質複合体粒子等の微粒子が挙げられる。また、導電性被覆層を構成する材料としては、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ等の金属又はこれらの合金が挙げられる。
【００５１】
また、実施形態Ａの表示装置を車両に搭載する場合には、前述の熱伝導層を表示装置の最表面付近にくるように設けることにより、外光による温度上昇を防ぐことも可能となる。これにより、透明基材の延伸倍率の違いに基づく縦方向及び横方向の寸法変化の違いを抑制し、表示画面の変形を防止することができる。
更に、前述の透明基材として、リタデーション値３０００〜３００００ｎｍのプラスチックフィルム又は１／４波長位相差のプラスチックフィルムを用いることで、偏光サングラス対応も可能で、より車載に適したものとなる。
【００５２】
（その他の光学フィルム）
実施形態Ａの表示装置には、前述の光学フィルムＡとは別に、防眩層、反射防止層、帯電防止層、屈折率調整層、ハードコート層、防汚層などの機能層を有するその他の光学フィルムが、更に設けられていてもよい。この場合、熱伝導層を有する光学フィルム（光学フィルムＡ）は、熱の発生源に近い位置に設けることが好ましい。なお、実施形態Ａにおいて設けるその他の光学フィルムＡは、後述する光学フィルムＢであってもよい。
【００５３】
（表示素子）
実施形態Ａで用いられる表示素子としては、例えば、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、マイクロ発光ダイオード表示素子（マイクロＬＥＤ表示素子）が挙げられる。液晶表示素子としては、例えば、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード液晶表示素子、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード液晶表示素子が挙げられ、有機ＥＬ表示素子としては、例えば、透光性の第１電極（陽極）と、発光層を含む有機発光層と、第２電極（陰極）とが、この順で透光性の基板の表面に積層されたものが挙げられる。
【００５４】
有機ＥＬ表示素子は、陰極と陽極との間に電流を印加することによって、両電極間にある有機発光層が発光する。この際、発光に寄与しないエネルギーが熱として発生し、表示装置内部が高温になる場合がある。特に、有機ＥＬ表示素子の発光層として、赤色発光層、緑色発光層、及び青色発光層が平面的に配列されているＲＧＢ塗り分け方式の場合、各色によって発光に必要なエネルギーが異なるため、各色によって発生する熱も異なることから、表示画面内に高温領域と低温領域が生じ、熱ムラが発生する場合がある（特に、静止画像を表示した場合には熱ムラが顕著になりやすい。）。したがって、表示素子が有機ＥＬ表示素子である場合、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
また、マイクロＬＥＤ表示素子は、大量のＬＥＤチップにより映像を表示するため、必然的に高温となる。このため、表示素子がマイクロＬＥＤ表示素である場合、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
また、表示素子が対角５０インチ以上の大型の表示素子である場合にも、表示素子内部は高温となりやすくなるため、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
【００５５】
実施形態Ａの表示装置は、表示素子の出光面側に上述の熱伝導層を有する光学フィルムを設けることにより、表示装置内部に発生した熱あるいは外光に起因する熱等を表示装置外部に放熱させ、表示画面内の温度を均一にすることができる。これにより、表示画面内の温度の不均一に起因する局所的な変形がないため、明るさや色味の局所的不均一はなく、殊に写り込んだ外部映像の歪みが生じることもないので、違和感のない表示画面を得ることができる。特に、表示素子が有機ＥＬ表示素子、マイクロＬＥＤ表示素子、対角５０インチ以上である場合、あるいは、表示装置が車載用である場合において、該効果を顕著に発揮することができる。
【００５６】
実施形態Ａの表示装置は、本発明の効果をより発揮しやすくする観点から、表示素子の光出射面とは反対側に、汎用の放熱機構を有することが好ましい。汎用の放熱機構としては、空冷ファン、放熱フィン、ヒートポンプ及びペルチェ素子等が挙げられる。
【００５７】
＜実施形態Ｂ＞
本発明の実施形態Ｂの表示装置は、表示素子と、前記表示素子の出光面側に配置されてなる、放射熱反射層を含む光学フィルムと、を有することを特徴とする。
以下、実施形態Ｂの放射熱反射層を含む光学フィルムのことを「光学フィルムＢ」と称する場合がある。
実施形態Ｂでは、主として、放射熱反射層によって放射熱を反射することにより、放射熱によって光学フィルムＢが高温になることを抑制するものである。
【００５８】
図３は、実施形態Ｂの表示装置の一例を示す概略断面図である。図３の表示装置１は、表示素子１０の出光面側に、放射熱反射層１７を含む光学フィルム１９を有している。また、図３において、光学フィルム１９は、透明基材１１上に、放射熱反射層１７及び機能層１８を有している。また、図３の表示装置１は、表示素子１０と光学フィルム１９との間に、その他の光学フィルム２０を有している。
【００５９】
（光学フィルムＢ）
光学フィルムＢは、少なくとも放射熱反射層を含むものである。光学フィルムＢは、透明基材上に放射熱反射層を有することが好ましい。光学フィルムＢは、さらに後述する機能層を有していてもよい。
光学フィルムＢの透明基材の実施形態としては、光学フィルムＡの透明基材と同様のものが挙げられる。
【００６０】
（放射熱反射層）
一般的に「放射熱」とは、電磁波により運ばれる熱のことを意味する。本明細書において、「放射熱反射層」とは、波長２０００〜２５００ｎｍの分光反射率の平均が５％以上である層を指すものとする。
放射熱反射層は、波長２０００〜２５００ｎｍの分光反射率の平均が５％以上であることが好ましく、１０％以上であることがより好ましい。なお、波長２０００〜２５００ｎｍの分光反射率の平均を高くしすぎると、可視光線の長波長側の透過率が減少する傾向がある。このため、波長２０００〜２５００ｎｍの分光反射率の平均は３０％以下であることが好ましい。
本明細書において、波長２０００〜２５００ｎｍの分光反射率の平均は、２０００〜２５００ｎｍの波長域を５ｎｍ間隔で測定したものとする。
【００６１】
放射熱反射層は、波長２０００〜２５００ｎｍの領域において反射率の高い金属又は金属酸化物を含むことが好ましい。このような金属又は金属酸化物としては、金、銀及びＩＴＯ（酸化インジウムスズ）が挙げられる。また、波長２０００〜２５００ｎｍの領域において反射率の高い金属又は金属酸化物は、透明性の観点から、ナノワイヤ又は微粒子の形態であることが好ましい。
波長２０００〜２５００ｎｍの領域において反射率の高い金属又は金属酸化物の好適な実施形態としては、銀ナノワイヤ、ＩＴＯ粒子、Ａｇ粒子及びＡｕ粒子等が挙げられる。
【００６２】
放射熱反射層が銀ナノワイヤを含む場合、放射熱反射層は、透明樹脂中に、隣接する銀ナノワイヤ同士が接触点を有するように分散された銀ナノワイヤ層であることが好ましい。
銀ナノワイヤの平均直径としては、２００ｎｍ以下であることが好ましい。銀ナノワイヤの平均直径を２００ｎｍ以下とすることにより、ヘイズが高くなることを抑制できる。銀ナノワイヤの平均直径は１０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下であることがより好ましい。
銀ナノワイヤの長さは可視光透過性の観点から５００μｍ以下であることが好ましい。銀ナノワイヤの長さは１μｍ以上３００μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上３０μｍ以下であることがさらに好ましい。
銀ナノワイヤの直径及び長さは、上述した熱伝導層に含まれる金属ナノワイヤの直径及び長さと同様の手法により算出できる。
【００６３】
銀ナノワイヤ層は、銀ナノワイヤに加えて、カバー樹脂等の他の成分を含有していてもよい。
カバー樹脂は上述の透明樹脂としての役割を果たすことができる。カバー樹脂は、熱伝導層で例示したカバー樹脂と同様のものを用いることができる。
銀ナノワイヤ層の全体としての膜厚は、１０ｎｍ以上３００ｎｍ未満であることが好ましく、５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００６４】
放射熱反射層が、ＩＴＯ粒子、Ａｇ粒子及びＡｕ粒子から選ばれる一以上の粒子（以下、「放射熱反射粒子」と称する場合がある。）を含む場合、放射熱反射層は、透明樹脂中に、放射熱反射粒子が高密度に充填されてなることが好ましい。具体的には、透明樹脂１００質量部に対して、放射熱反射粒子を１００〜１５００質量部含むことが好ましく、２００〜１３００質量部含むことがより好ましく、５００〜１２００質量部含むことがさらに好ましい。
【００６５】
放射熱反射粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下がさらに好ましい。
本明細書において、各種粒子の平均粒子径は、以下の（１）〜（３）の作業により算出できる。
（１）粒子を含む成形体の断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。
（２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の数平均から得られる値を粒子の平均粒子径とする。
【００６６】
放熱反射層が放射熱反射粒子を含む場合の厚みは特に限定されず、通常０．１〜５．０μｍであり、好ましくは０．３〜２．０μｍである。
【００６７】
（機能層）
光学フィルムＢは、さらに、防眩層、反射防止層、帯電防止層、屈折率調整層、ハードコート層、防汚層、円偏光板等の機能層を有していてもよい。表示装置内における放射熱反射層に対する機能層の位置は、機能層の種類に応じて適宜決定すればよい。
【００６８】
後述するように、実施形態Ｂの表示装置は、光学フィルムＢ（放射熱反射層を含む光学フィルム）を、表示装置の最表面に配置することが好ましい。このため、光学フィルムＢは、機能層として反射防止層を有することが好ましい。また、表示装置内における放射熱反射層に対する反射防止層の位置は、放射熱反射層よりも表面側であることが好ましい。
【００６９】
光学フィルムＢがハードコート層を有する場合、その位置は、透明基材と放射熱反射層との間であることが好ましい。
【００７０】
（ハードコート層）
機能層の一例であるハードコート層は、耐擦傷性の観点から、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
【００７１】
熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
【００７２】
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味し、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。
【００７３】
ハードコート層の厚みは、耐擦傷性の観点から、０．１μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましく、１．０μｍ以上がさらに好ましく、２．０μｍ以上がよりさらに好ましい。また、ハードコート層の厚みは、カール抑制の観点から、１００μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、３０μｍ以下がより好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下がより好ましい。
【００７４】
（反射防止層）
反射防止層としては、低屈折率層の単層構造、高屈折率層と低屈折率層との積層構造が挙げられる。放射熱反射層が放射熱反射粒子を含む場合、該放射熱反射層は高屈折率層を兼用できる点で好ましい。
【００７５】
低屈折率層の屈折率は、１．１０〜１．４８が好ましく、１．２０〜１．４５がより好ましく、１.２６〜１．４０がより好ましく、１．２８〜１．３８がより好ましく、１．３０〜１．３２がより好ましい。
また、低屈折率層の厚みは、８０〜１２０ｎｍが好ましく、８５〜１１０ｎｍがより好ましく、９０〜１０５ｎｍがより好ましい。また、低屈折率層の厚みは、中空粒子等の低屈折率粒子の平均粒子径よりも大きいことが好ましい。
【００７６】
低屈折率層を形成する手法としては、ウェット法とドライ法とに大別できる。ウェット法としては、金属アルコキシド等を用いてゾルゲル法により形成する手法、フッ素樹脂のような低屈折率の樹脂を塗工して形成する手法、樹脂組成物に低屈折率粒子を含有させた低屈折率層形成用塗布液を塗工して形成する手法が挙げられる。ドライ法としては、低屈折率粒子の中から所望の屈折率を有する粒子を選び、物理気相成長法又は化学気相成長法により形成する手法が挙げられる。
ウェット法は、生産効率、斜め反射色相の抑制、及び耐薬品性の点で、ドライ法よりも優れている。本実施形態においては、ウェット法の中でも、密着性、耐水性、耐擦傷性及び低屈折率化の観点から、バインダー樹脂組成物に低屈折率粒子を含有させた低屈折率層形成用塗布液により形成することが好ましい。該バインダー樹脂組成物としては、例えば、ハードコート層で例示した硬化性樹脂組成物を用いることができる。
【００７７】
低屈折率粒子は、中空粒子及び非中空粒子から選ばれる１種以上を含むことが好ましい。また、低反射及び耐擦傷性のバランスの観点からは、中空粒子から選ばれる１種以上と、非中空粒子から選ばれる１種以上とを併用することが好ましい。
中空粒子及び非中空粒子の材質は、シリカ及びフッ化マグネシウム等の無機化合物、有機化合物のいずれであってもよいが、低屈折率化及び強度の観点からシリカが好ましい。
【００７８】
光学的特性および機械的強度を考慮すると、中空シリカ粒子の平均粒子径は、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、６０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることがより好ましい。また、非中空シリカ粒子の凝集を防止しつつ分散性を考慮すると、非中空シリカ粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００７９】
中空シリカ粒子の含有量が多くなるほど、バインダー樹脂中の中空シリカ粒子の充填率が高くなり、低屈折率層の屈折率が低下する。このため、中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して１００質量部以上であることが好ましく、１５０質量部以上であることがより好ましい。
一方で、バインダー樹脂に対する中空シリカ粒子の含有量が多すぎると、バインダー樹脂から露出する中空シリカ粒子が増加する上、粒子間を結合するバインダー樹脂が少なくなる。このため、中空シリカ粒子が損傷したり、脱落したりしやすくなって、低屈折率層の耐擦傷性等の機械的強度が低下する傾向がある。このため、中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して４００質量部以下であることが好ましく、３００質量部以下であることがより好ましい。
【００８０】
非中空シリカ粒子の含有量が少ないと、低屈折率層の表面に非中空シリカ粒子が存在していても硬度上昇に影響を及ぼさないことがある。また、非中空シリカ粒子を多量に含有すると、バインダー樹脂の重合による収縮ムラの影響を小さくし、樹脂硬化後に低屈折率層表面に発生する凹凸を小さくすることができる。このため、非中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して９０質量部以上であることが好ましく、１００質量部以上であることがより好ましい。
一方で、非中空シリカ粒子の含有量が多すぎると、非中空シリカが凝集しやすくなり、バインダー樹脂の収縮ムラが生じ、表面の凹凸が大きくなる。このため、非中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して２００質量部以下であることが好ましく、１５０質量部以下であることがより好ましい。
【００８１】
上記の割合でバインダー樹脂中に中空シリカ粒子及び非中空シリカ粒子を含有させることにより、低屈折率層のバリア性を向上させることができる。これは、シリカ粒子が高充填率で均一に分散されていることにより、ガス等の透過が阻害されているためと推測される。
また、日焼け止め及びハンドクリーム等の各種の化粧品には、揮発性の低い低分子ポリマーが含まれている場合がある。低屈折率層のバリア性を良好にすることにより、低分子ポリマーが低屈折率層の塗膜内部に浸透することを抑制でき、低分子ポリマーが塗膜に長期残存することによる不具合（例えば外観異常）を抑制することができる。
【００８２】
高屈折率層は、屈折率が１．５３〜１．８５が好ましく、１．５４〜１．８０がより好ましく、１．５５〜１．７５がより好ましく、１．５６〜１．７０がより好ましい。
また、高屈折率層の厚みは、２００ｎｍ以下が好ましく、５０〜１８０ｎｍがより好ましく、７０〜１５０ｎｍがさらに好ましい。
【００８３】
高屈折率層は、例えば、バインダー樹脂組成物及び高屈折率粒子を含む高屈折率層形成用塗布液から形成することができる。該バインダー樹脂組成物としては、例えば、ハードコート層で例示した硬化性樹脂組成物を用いることができる。
【００８４】
高屈折率粒子としては、五酸化アンチモン（１．７９）、酸化亜鉛（１．９０）、酸化チタン（２．３〜２．７）、酸化セリウム（１．９５）、スズドープ酸化インジウム（１．９５〜２．００）、アンチモンドープ酸化スズ（１．７５〜１．８５）、酸化イットリウム（１．８７）及び酸化ジルコニウム（２．１０）等が挙げられる。
【００８５】
高屈折率粒子の平均粒子径は、２ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上がさらに好ましい。また、高屈折率粒子の平均粒子径は、白化抑制及び透明性の観点から、２００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、８０ｎｍ以下がより好ましく、６０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましい。高屈折率粒子の平均粒子径が小さいほど透明性が良好であり、特に、６０ｎｍ以下とすることにより透明性を極めて良好にすることができる。
【００８６】
（光学特性）
光学フィルムＢは、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７の全光線透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。
また、光学フィルムＢは、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。
【００８７】
（光学フィルムＢの位置）
実施形態Ｂの表示装置は、放射熱反射層を含む光学フィルム（光学フィルムＢ）を、表示装置の最表面に配置してなることが好ましい。当該構成とすることにより、表示素子の光出射面側から生じる放射熱を狭い範囲に集中させることなく比較的広い範囲に分散させることができ、かつ、表示装置の外部から表示装置内に放射熱が侵入することを抑制できるため、光学フィルムＢが高温になり変形することを抑制しやすくできる。
このため、光学フィルムＢを上記のように配置することにより、光出射面側から多量の熱が発生する表示素子（例えば、自発光型の有機ＥＬ表示素子、マイクロＬＥＤ表示素子、対角５０インチ以上の大型の表示素子）を備えた表示装置においても、本発明の効果を発揮しやすくできる。
【００８８】
実施形態Ｂでは、表示装置内において、放射熱反射層よりも表示素子とは反対側に位置する層の総厚みが３５０ｎｍ以下であることが好ましく、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、２７０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
放射熱反射層よりも表示素子とは反対側に位置する層は、表示装置の外部の放射熱、及び、表示素子から生じて放射熱反射層を透過した放射熱によって温度が上昇する。そして、当該層の総厚みが厚いほど、温度の上昇度合いが大きくなる傾向を示す。このため、放射熱反射層よりも表示素子とは反対側に位置する層の総厚みを上記範囲とすることにより、光学フィルムＢが高温になることを抑制しやすくできる。
放射熱反射層よりも表示素子とは反対側に位置する層とは、図３の機能層１８のように光学フィルムＢ（１９）自体が有する層、あるいは、光学フィルムＢよりも表面側に位置する部材が有する層が挙げられる。
【００８９】
光学フィルムＢが、放射熱反射層よりも表示素子とは反対側に低屈折率層を有する場合、上記総厚みは５０〜２００ｎｍであることが好ましく、８０〜１５０ｎｍであることがより好ましい。
光学フィルムＢが、放射熱反射層よりも表示素子とは反対側に高屈折率層及び低屈折率層を有する場合、上記総厚みは８０〜３００ｎｍであることが好ましく、１３０〜２５０ｎｍであることがより好ましい。
【００９０】
（表示素子）
実施形態Ｂで用いられる表示素子としては、例えば、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、マイクロ発光ダイオード表示素子（マイクロＬＥＤ表示素子）が挙げられる。液晶表示素子としては、例えば、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード液晶表示素子、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード液晶表示素子が挙げられ、有機ＥＬ表示素子としては、例えば、透光性の第１電極（陽極）と、発光層を含む有機発光層と、第２電極（陰極）とが、この順で透光性の基板の表面に積層されたものが挙げられる。
【００９１】
有機ＥＬ表示素子は、陰極と陽極との間に電流を印加することによって、両電極間にある有機発光層が発光する。この際、発光に寄与しないエネルギーが熱として発生し、表示装置内部が高温になる場合がある。特に、有機ＥＬ表示素子の発光層として、赤色発光層、緑色発光層、及び青色発光層が平面的に配列されているＲＧＢ塗り分け方式の場合、各色によって発光に必要なエネルギーが異なるため、各色によって発生する熱も異なることから、表示画面内に高温領域と低温領域が生じ、熱ムラが発生する場合がある（特に、静止画像を表示した場合には熱ムラが顕著になりやすい。）。したがって、表示素子が有機ＥＬ表示素子である場合、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
また、マイクロＬＥＤ表示素子は、大量のＬＥＤチップにより映像を表示するため、必然的に高温となる。このため、表示素子がマイクロＬＥＤ表示素である場合、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
また、表示素子が対角５０インチ以上の大型の表示素子である場合にも、表示素子内部は高温となりやすくなるため、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
また、表示素子の種類及び大きさに関わらず、実施形態Ｂの表示装置が車載用である場合には、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
【００９２】
実施形態Ｂの表示装置は、本発明の効果をより発揮しやすくする観点から、表示素子の光出射面とは反対側に、汎用の放熱機構を有することが好ましい。汎用の放熱機構としては、空冷ファン、放熱フィン、ヒートポンプ及びペルチェ素子等が挙げられる。
【００９３】
＜実施形態Ｃ＞
本発明の実施形態Ｃの表示装置は、表示素子と、前記表示素子の出光面側に配置されてなる、熱伝導層を含む光学フィルムと、前記熱伝導層の周縁部から熱アースされた放熱部材とを有し、さらに、前記熱伝導層を含む光学フィルムの出光面側に、放射熱反射層を含む光学フィルムを有するものである。
【００９４】
実施形態Ｃにおいて、「表示示素子の出光面側に配置されてなる、熱伝導層を含む光学フィルム」及び「熱伝導層の周縁部から熱アースされた放熱部材」は、実施形態Ａと同様のものが挙げられる。また、実施形態Ｃにおいて、「放射熱反射層を含む光学フィルム」は、実施形態Ｂと同様のものが挙げられる。また、実施形態Ｃにおいて、「表示素子」は、実施形態Ａ又はＢと同様のものが挙げられる。
【実施例】
【００９５】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、実施例に記載の形態に限定されるものではない。
【００９６】
＜実施形態Ａ＞
［実施例Ａ１］
（１）光学フィルムＡの作製
（１−１）ハードコート層の形成
透明基材として、２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み：１００μｍ、面積：５５２ｍｍ×９５９ｍｍ）を用意した。該透明基材の一方の面上に、下記に示すハードコート層形成用組成物を、塗布速度１０ｍ／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を９０℃で６０秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いで、その塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、硬化後膜厚５μｍのハードコート（ＨＣ）層を形成した。
【００９７】
（ハードコート層形成用組成物）
以下の各成分を混合して、ハードコート層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０）：４６質量部
・光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製、イルガキュア１８４）：４質量部
・メチルエチルケトン：５０質量部
【００９８】
（１−２）熱伝導層の形成
次に、上記透明基材のハードコート層を形成した面とは反対側の面上に、銅箔（厚み：１０μｍ）を、接着剤を介して貼り合せ、次いで、フォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより、メッシュ状のパターンを形成し、光学フィルムＡを得た。
得られた光学フィルムＡの熱伝導層の表面抵抗値は「三菱化学（株）製、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＥＰ  ＭＣＰ−Ｔ３６０」を用いて４端子法により測定したところ、４．２×１０−２Ω／□であった。
また、熱伝導層表面の周縁部の１箇所に、銀ペーストを用いて導線を固着し、さらに導線を放熱部材（ニクロム、体積抵抗値１．５×１０−６Ωｍ）に接続し、熱アース処理を行った。なお、固着箇所の面積は２ｍｍ２とした。
【００９９】
（２）表示装置の作製
市販のＲＧＢ塗り分け方式の有機ＥＬ表示装置（商品名：ＸＥＬ−１、ソニー社製）に貼り合わされていた、もとの光学シートとガラス板とを剥がし、代わりに、上記で得られた光学フィルムＡおよびガラス板を組み込んで各部材を挟持し、表示装置を作製した。
【０１００】
得られた表示装置の表示画面に静止画像を１２時間表示させた後の表示画面について、目視により観察した。その結果、表示画面内に、光学フィルムＡの変形を原因とする明るさ及び色味の不均一な箇所はなく、また、反射像の屈曲違和感がなく、視認性は良好であった。
【０１０１】
［実施例Ａ２］
（１）塗工液の調製
（１−１）銀ナノワイヤ含有組成物の調製
還元剤としてエチレングリコール（ＥＧ）を、形態制御剤兼保護コロイド剤としてポリビニルピロリドン（ＰＶＰ：平均分子量１３０万、アルドリッチ社製）を使用し、下記に示した核形成工程と粒子成長工程とを分離して粒子形成を行い、銀ナノワイヤ含有組成物を調製した。
【０１０２】
＜核形成工程＞
反応容器内で１６０℃に保持したＥＧ液１００ｍＬを攪拌しながら、硝酸銀のＥＧ溶液（硝酸銀濃度：１．０モル／Ｌ）２．０ｍＬを、一定の流量で１分間かけて添加した。その後、１６０℃で１０分間保持しながら銀イオンを還元して銀の核粒子を形成した。反応液は、ナノサイズの銀微粒子の表面プラズモン吸収に由来する黄色を呈しており、銀イオンが還元されて銀の微粒子（核粒子）が形成されたことを確認した。続いて、ＰＶＰのＥＧ溶液（ＰＶＰ濃度：３．０×１０−１モル／Ｌ）１０．０ｍＬを一定の流量で１０分間かけて添加した。
【０１０３】
＜粒子成長工程＞
上記核形成工程を終了した後の核粒子を含む反応液を、攪拌しながら１６０℃に保持し、硝酸銀のＥＧ溶液（硝酸銀濃度：１．０×１０−１モル／Ｌ）１００ｍＬと、ＰＶＰのＥＧ溶液（ＰＶＰ濃度：３．０×１０−１モル／Ｌ）１００ｍＬを、ダブルジェット法を用いて一定の流量で１２０分間かけて添加した。この粒子成長工程において、３０分毎に反応液を採取して電子顕微鏡で確認したところ、核形成工程で形成された核粒子が時間経過に伴ってワイヤ状の形態に成長しており、粒子成長工程における新たな微粒子の生成は認められなかった。最終的に得られた銀ナノワイヤの直径および長さを測定したところ、銀ナノワイヤの直径は３０ｎｍであり、長さは１５μｍであった。銀ナノワイヤの直径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、１０００〜５０万倍にて５０本の導電性繊維の直径を測定し、その５０本の導電性繊維の直径の平均値として求めた。また、銀ナノワイヤの長さは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用い、１０００〜５０万倍にて５０本の導電性繊維の長さを測定し、その５０本の導電性繊維の長さの平均値として求めた。
【０１０４】
＜脱塩水洗工程＞
粒子成長工程を終了した反応液を室温まで冷却した後、分画分子量０．２μｍの限外濾過膜を用いて脱塩水洗処理を施すとともに、溶媒をエタノールに置換した。そして、液量を１００ｍＬまで濃縮して銀ナノワイヤ分散液を得た。最後に、銀ナノワイヤ濃度が０．１質量％となり、かつ希釈後のアノンの溶剤比率が３０質量％となるようにエタノールとアノンで希釈し、銀ナノワイヤ含有組成物を得た。
【０１０５】
（１−２）カバー樹脂用組成物の調製
下記に示す組成となるように各成分を配合して、カバー樹脂用組成物を得た。
＜カバー樹脂用組成物＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートとの混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０」、日本化薬社製）：５質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：０．２５質量部
・メチルエチルケトン：７０質量部
・シクロヘキサノン：２４．７５質量部
【０１０６】
（２）光学フィルムＡの作製
（２−１）ハードコート層の形成
透明基材として、２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み：１００μｍ、面積：５５２ｍｍ×９５９ｍｍ）を用意した。該透明基材の一方の面上に、下記に示すハードコート層形成用組成物を、塗布速度１０ｍ／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を９０℃で６０秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いで、その塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、硬化後膜厚５μｍのハードコート（ＨＣ）層を形成した。
【０１０７】
（ハードコート層形成用組成物）
以下の各成分を混合して、ハードコート層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０）：４６質量部
・光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製、イルガキュア１８４）：４質量部
・メチルエチルケトン：５０質量部
【０１０８】
（２−２）熱伝導層の形成
次に、上記透明基材のハードコート層を形成した面とは反対側の面上に、上記銀ナノワイヤ含有組成物を付着量が１０ｍｇ／ｍ２となるように直接塗布した。次いで、塗布した銀ナノワイヤ含有組成物に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて銀ナノワイヤ含有組成物中の分散媒を蒸発させることにより、ＰＥＴフィルム上に銀ナノワイヤを直接配置させた。
次いで、銀ナノワイヤを覆うように上記カバー樹脂用組成物を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚が１００ｎｍのカバー樹脂を形成した。
以上のようにして、熱伝導層（銀ナノワイヤ層）を形成し、光学フィルムＡを得た。
【０１０９】
得られた光学フィルムＡの熱伝導層の表面抵抗値は「三菱化学（株）製、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＥＰ  ＭＣＰ−Ｔ３６０」を用いて４端子法により測定したところ、５１Ω／□であった。
また、熱伝導層表面の周縁部の１箇所に、銀ペーストを用いて導線を固着し、さらに導線を放熱部材（ニクロム、体積抵抗値１．５×１０−６Ωｍ）に接続し、熱アース処理を行った。なお、固着箇所の面積は２ｍｍ２とした。
【０１１０】
（３）表示装置の作製
市販のＲＧＢ塗り分け方式の有機ＥＬ表示装置（商品名：ＸＥＬ−１、ソニー社製）に貼り合わされていた、もとの光学シートとガラス板とを剥がし、代わりに、上記で得られた光学フィルムＡおよびガラス板を組み込んで各部材を挟持し、表示装置を作製した。
【０１１１】
得られた表示装置の表示画面に静止画像を１２時間表示させた後の表示画面について、目視により観察した。その結果、表示画面内に、光学フィルムＡの変形を原因とする明るさ及び色味の不均一な箇所はなく、また、反射像の屈曲違和感がなく、視認性は良好であった。
【０１１２】
［比較例Ａ１］
（１）光学フィルムの作製
透明基材として、２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み：１００μｍ、面積：５５２ｍｍ×９５９ｍｍ）を用意した。該透明基材の一方の面上に、下記に示すハードコート層形成用組成物を、塗布速度１０ｍ／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を９０℃で６０秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いで、その塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、硬化後膜厚５μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学フィルムを得た。
【０１１３】
（ハードコート層形成用組成物）
以下の各成分を混合して、ハードコート層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０）：４６質量部
・光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製、イルガキュア１８４）：４質量部
・メチルエチルケトン：５０質量部
【０１１４】
（２）表示装置の作製
市販のＲＧＢ塗り分け方式の有機ＥＬ表示装置（商品名：ＸＥＬ−１、ソニー社製）に貼り合わされていた、もとの光学シートとガラス板とを剥がし、代わりに、上記で得られた光学フィルムおよびガラス板を組み込んで各部材を挟持し、表示装置を作製した。
【０１１５】
得られた表示装置の表示画面に静止画像を１２時間表示させた後の表示画面について、目視により観察した。その結果、表示画面内に、光学フィルムの変形を原因とする明るさ及び色味が不均一な箇所があり、また、反射像の屈曲違和感が確認された。
【０１１６】
［比較例Ａ２］
（１）光学フィルムの作製
（１−１）ハードコート層の形成
透明基材として、２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み：１００μｍ、面積：５５２ｍｍ×９５９ｍｍ）を用意した。該透明基材の一方の面上に、下記に示すハードコート層形成用組成物を、塗布速度１０ｍ／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を９０℃で６０秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いで、その塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、硬化後膜厚５μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学フィルムを得た。
【０１１７】
（ハードコート層形成用組成物）
以下の各成分を混合して、ハードコート層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０）：４６質量部
・光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製、イルガキュア１８４）：４質量部
・メチルエチルケトン：５０質量部
【０１１８】
（１−２）透明導電層の形成
次に、５体積％の酸素ガスを混合したアルゴンを導入しながら、ＩＴＯターゲット［インジウム：スズ＝９０：１０（質量比）］を用い、圧力０．１５Ｐａ、周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．６４ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１μ秒の条件で、パルススパッタリングを行い、上記透明基材のハードコート層を形成した面とは反対側の面上に、厚さ５ｎｍのＩＴＯ膜を形成し、光学フィルムを得た。
【０１１９】
（２）表示装置の作製
市販のＲＧＢ塗り分け方式の有機ＥＬ表示装置（商品名：ＸＥＬ−１、ソニー社製）に貼り合わされていた、もとの光学シートとガラス板とを剥がし、代わりに、上記で得られた光学フィルムおよびガラス板を組み込んで各部材を挟持し、表示装置を作製した。
【０１２０】
得られた表示装置の表示画面に静止画像を１２時間表示させた後の表示画面について、目視により観察した。その結果、表示画面内に、光学フィルムの変形を原因とする明るさ及び色味が不均一な箇所があり、また、反射像の屈曲違和感が確認された。
【０１２１】
（結果のまとめ）
熱伝導層を有する光学フィルムＡを有し、かつ該光学フィルムＡの熱伝導層の周縁部から熱アースされた放熱部材を有する実施例Ａ１及びＡ２では、長時間静止画像を表示した後の視認性に優れたものであった。また、透明基材として、リタデーション値が３０００ｎｍ以上の２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用いた場合には、どのような角度でも視認性が良好であり、偏光サングラス対応ができていた。
【０１２２】
＜実施形態Ｂ＞
（Ｉ）光学フィルムの作製
［実施例Ｂ１］
透明基材として、トリアセチルセルロースフィルム（厚み：８０μｍ、面積：２２５ｍｍ×１５０ｍｍ）を用意した。
該透明基材の一方の面上に、実施例Ａ２と同様にして、銀ナノワイヤ含有組成物を塗布し、トリアセチルセルロースフィルム上に銀ナノワイヤを付着させた後、さらにカバー樹脂用組成物を塗布、乾燥及び硬化して、膜厚１００ｎｍのカバー樹脂を形成した。
以上のようにして、透明基材上に放射熱反射層（銀ナノワイヤ層）を有してなる、実施例Ｂ１で用いる光学フィルムＢを得た。
【０１２３】
［実施例Ｂ２］
透明基材として、トリアセチルセルロースフィルム（厚み：８０μｍ、面積：２２５ｍｍ×１５０ｍｍ）を用意した。
該透明基材の一方の面上に、下記処方の放射熱反射層形成用組成物を塗布、乾燥及び硬化して、膜厚７００ｎｍのＩＴＯ粒子を含む放射熱反射層を形成した。
以上のようにして、透明基材上に放射熱反射層（ＩＴＯ粒子含有層）を有してなる、実施例Ｂ２で用いる光学フィルムＢを得た。
【０１２４】
（放射熱反射層形成用組成物）
以下の各成分を混合して、放射熱反射層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０）：２質量部
・ＩＴＯ粒子（平均粒子径３０ｎｍ）：１０質量部
・光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製、イルガキュア１８４）：２質量部
・メチルイソブチルケトン：８８質量部
【０１２５】
［比較例Ｂ１］
比較例Ｂ１で用いる光学フィルムとして、トリアセチルセルロースフィルム（厚み：８０μｍ、面積：２２５ｍｍ×１５０ｍｍ）を準備した。
【０１２６】
［比較例Ｂ２］
透明基材として、トリアセチルセルロースフィルム（厚み：８０μｍ、面積：２２５ｍｍ×１５０ｍｍ）を用意した。
該透明基材の一方の面上に、下記処方の熱伝導層形成用組成物を塗布、乾燥及び硬化して、膜厚７００ｎｍの窒化アルミ粒子を含む熱伝導層を形成した。
以上のようにして、透明基材上に熱伝導層（窒化アルミ粒子含有層）を有してなる、比較例Ｂ２で用いる光学フィルムを得た。
【０１２７】
（比較例Ｂ２の熱伝導層形成用組成物）
以下の各成分を混合して、熱伝導層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０）：２質量部
・窒化アルミ粒子（平均粒子径１．５μｍ）：１０質量部
・光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製、イルガキュア１８４）：２質量部
・メチルイソブチルケトン：８８質量部
【０１２８】
［比較例Ｂ３］
透明基材として、トリアセチルセルロースフィルム（厚み：８０μｍ、面積：２２５ｍｍ×１５０ｍｍ）を用意した。
該透明基材の一方の面上に、下記処方の熱伝導層形成用組成物を塗布、乾燥及び硬化して、膜厚１５０ｎｍの窒化ホウ素粒子を含む熱伝導層を形成した。
以上のようにして、透明基材上に熱伝導層（窒化ホウ素粒子含有層）を有してなる、比較例Ｂ３で用いる光学フィルムを得た。
【０１２９】
（比較例Ｂ３の熱伝導層形成用組成物）
以下の各成分を混合して、熱伝導層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０）：２質量部
・窒化ホウ素粒子（平均粒子径２００ｎｍ）：１０質量部
・光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製、イルガキュア１８４）：２質量部
・メチルエチルケトン：８８質量部
【０１３０】
（ＩＩ）表示装置の作製
市販の液晶表示装置（ａｍａｚｏｎ社製、商品名Ｋｉｎｄｌｅ  Ｆｉｒｅ  ＨＤＸ）上に、実施例Ｂ１の光学フィルムの透明基材側が表示装置側を向くようにして配置し、実施例Ｂ１の液晶表示装置を得た。
同様に、市販の液晶表示装置（ａｍａｚｏｎ社製、商品名Ｋｉｎｄｌｅ  Ｆｉｒｅ  ＨＤＸ）上に、実施例Ｂ２及び比較例Ｂ１〜Ｂ３用の光学フィルムの光学フィルムの透明基材側が表示装置側を向くようにして配置し、実施例Ｂ２及び比較例Ｂ１〜Ｂ３の液晶表示装置を得た。
【０１３１】
（ＩＩＩ）熱耐久試験
夏場の自動車の車内を想定し、下記の熱耐久試験を行った。
＜温度＞
上記（ＩＩ）で作製した、実施例Ｂ１〜Ｂ２及び比較例Ｂ１〜Ｂ３の液晶表示装置を８０℃のオーブンに入れ、１０分経過した後に、ＩＲカメラ（フリアーシステムズ社製、商品名ＦＬＩＲ  Ｅ４）で表面側から温度を測定した（光学フィルムとＩＲカメラとの距離は３０ｃｍ）。光学フィルム上の最高温度を表１に示す。最高温度７０℃以下が合格レベルである。
＜視認性＞
上記（ＩＩ）で作製した、実施例Ｂ１〜Ｂ２及び比較例Ｂ１〜Ｂ３の液晶表示装置を８０℃のオーブンに入れ、１０分経過した後に取り出した。取り出した直後に液晶表示装置の画面（緑一色の画面）を表示し、表示画面内に、光学フィルムの変形を原因とする明るさ及び色味が不均一な箇所があるか否かを目視で評価した。その結果、明るさ及び色味が不均一な箇所がないものを「Ａ」、明るさ及び色味が不均一な箇所があるものを「Ｃ」とした。
【０１３２】
（ＩＶ）全光線透過率
上記（Ｉ）で作製した、実施例Ｂ１〜Ｂ２及び比較例Ｂ１〜Ｂ３用の光学フィルムの全光線透過率を測定した。測定装置はヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用い、光入射面は透明基材側とした。
【０１３３】
【表１】
2020042259.tif 000003
【０１３４】
表１の結果から、実施例Ｂ１及びＢ２の表示装置は、熱耐久試験において光学フィルムの温度上昇を抑制し、光学フィルムの変形による視認性の低下を抑制し得ることが確認できる。
【産業上の利用可能性】
【０１３５】
本発明の表示装置は、例えば、パソコンモニター，ノートパソコン，コピー機などのＯＡ機器、携帯電話，時計，携帯情報端末（ＰＤＡ）などの携帯機器、ビデオカメラ，テレビ，電子レンジなどの家庭用電気機器、バックモニター，カーナビゲーションシステム用モニター，カーオーディオなどの車載用機器等として好適に使用される。
【符号の説明】
【０１３６】
１：表示装置
１０：表示素子
１１：透明基材
１２：熱伝導層
１２１：透明熱伝導領域
１２２：接地用領域
１３：光学フィルムＡ
１４：周縁部
１５：導線
１６：放熱部材
１７：放射熱反射層
１８：機能層
１９：光学フィルムＢ
２０：その他の光学フィルム
【図１】
2020042259.tif 000004
【図２】
2020042259.tif 000005
【図３】
2020042259.tif 000006