(57)【要約】【課題】  透磁率および耐電圧が安定的に良好である磁性体コアおよびコイル部品を提供する。【解決手段】  大径粉および小径粉を含むＦｅ系軟磁性粉を有する磁性体コアである。大径粉の平均粒子径をＤ１、小径粉の平均粒子径をＤ２として、Ｄ１が５．０μｍ以上２００μｍ以下であり、Ｄ２が０．１０μｍ以上１５μｍ以下であり、Ｄ２／Ｄ１＜１．０を満たす。大径粉および小径粉が絶縁コーティングされており、大径粉の平均絶縁コート厚みをＴ１、小径粉の平均絶縁コート厚みをＴ２として、Ｔ１／Ｔ２＞１．０を満たす。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
大径粉および小径粉を含むＦｅ系軟磁性粉を有する磁性体コアであって、
前記大径粉の平均粒子径をＤ１、前記小径粉の平均粒子径をＤ２として、
Ｄ１が５．０μｍ以上２００μｍ以下であり、Ｄ２が０．１０μｍ以上１５μｍ以下であり、Ｄ２／Ｄ１＜１．０を満たし、
前記大径粉および前記小径粉が絶縁コーティングされており、
前記大径粉の平均絶縁コート厚みをＴ１、前記小径粉の平均絶縁コート厚みをＴ２として、
Ｔ１／Ｔ２＞１．０を満たす磁性体コア。
【請求項２】
前記絶縁コートが酸化物を含む請求項１に記載の磁性体コア。
【請求項３】
前記絶縁コートがＰ，Ｓｉ，Ｂｉ，および，Ｚｎから選択される１種以上の元素の酸化物を含む請求項１または２に記載の磁性体コア。
【請求項４】
０．００１≦Ｄ２／Ｄ１≦０．５０を満たす請求項１〜３のいずれかに記載の磁性体コア。
【請求項５】
前記大径粉が非晶質を含む請求項１〜４のいずれかに記載の磁性体コア。
【請求項６】
前記大径粉がＦｅ基ナノ結晶を含む請求項１〜４のいずれかに記載の磁性体コア。
【請求項７】
前記小径粉における粒子径の頻度分布が２つ以上のピークを有する請求項１〜６のいずれかに記載の磁性体コア。
【請求項８】
任意の切断面における前記大径粉の面積割合をＳ１、前記小径粉の面積割合をＳ２として、
０．２０≦Ｓ２／Ｓ１≦０．５５を満たす請求項１〜７のいずれかに記載の磁性体コア。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の磁性体コアを有する磁性部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁性体コアおよび磁性部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子機器分野では、電源用のインダクタとして表面実装型のコイル部品を用いることが多くなっている。表面実装型のコイル部品の具体的構造のひとつに、プリント回路基板技術を応用した平面コイル構造がある。
【０００３】
特許文献１では、粒径が互いに異なる２種類以上のＦｅ系軟磁性粉を用いて作製した磁性体コアを有するコイル部品が提案されている。そして、粒径が互いに異なる２種類以上のＦｅ系軟磁性粉を用いることで透磁率を向上させる効果を奏することが示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１７−１０３２８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年では、さらに良好な特性を有する磁性体コアが要求されている。本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、透磁率および耐電圧が安定的に良好である磁性体コアおよび磁性部品を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明に係る磁性体コアは、
大径粉および小径粉を含むＦｅ系軟磁性粉を有する磁性体コアであって、
前記大径粉の平均粒子径をＤ１、前記小径粉の平均粒子径をＤ２として、
Ｄ１が５．０μｍ以上２００μｍ以下であり、Ｄ２が０．１０μｍ以上１５μｍ以下であり、Ｄ２／Ｄ１＜１．０を満たし、
前記大径粉および前記小径粉が絶縁コーティングされており、
前記大径粉の平均絶縁コート厚みをＴ１、前記小径粉の平均絶縁コート厚みをＴ２として、
Ｔ１／Ｔ２＞１．０を満たすことを特徴とする。
【０００７】
本発明に係る磁性体コアは上記の構成を有することにより、透磁率および耐電圧が安定的に良好である磁性体コアとなる。
【０００８】
前記絶縁コートが酸化物を含んでもよい。
【０００９】
前記絶縁コートがＰ，Ｓｉ，Ｂｉ，および，Ｚｎから選択される１種以上の元素の酸化物を含むことが好ましい。
【００１０】
０．００１≦Ｄ２／Ｄ１≦０．５０を満たしてもよい。
【００１１】
前記大径粉が非晶質を含むことが好ましい。
【００１２】
前記大径粉がＦｅ基ナノ結晶を含むことが好ましい。
【００１３】
前記小径粉における粒子径の頻度分布が２つ以上のピークを有することが好ましい。
【００１４】
任意の切断面における前記大径粉の面積割合をＳ１、前記小径粉の面積割合をＳ２として、
０．２０≦Ｓ２／Ｓ１≦０．５５を満たしてもよい。
【００１５】
本発明に係る磁性部品は、上記の磁性体コアを有する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】絶縁コーティングされたＦｅ系軟磁性粉の模式図である。
【図２】ピークの決定手順を説明するためのヒストグラムの例である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明を、実施形態に基づき説明する。
【００１８】
本実施形態における磁性体コアは、Ｆｅ系軟磁性粉を有する。Ｆｅ系軟磁性粉とは、Ｆｅを含む軟磁性粉のことを指し、Ｆｅの含有量が１０ａｔ％以上であって軟磁性を有する粉末のことである。また、磁性体コアは、Ｆｅ系軟磁性粉の他に樹脂やガラスなど、絶縁結着材として機能するものを含んでいても良い。主にＦｅ系軟磁性粉を成形して軟磁性を有する磁性体コアを得るためである。
【００１９】
Ｆｅ系軟磁性粉の他に樹脂を含む場合、樹脂の材料としては液状エポキシ樹脂又は粉体エポキシ樹脂を用いることが好ましい。また、樹脂の含有率は磁性体コア全体を１００重量％として、１〜１０重量％であることが好ましく、１〜５重量％であることがさらに好ましい。
【００２０】
本実施形態では、Ｆｅ系軟磁性粉が大径粉および小径粉を有する。そして、大径粉の平均粒子径をＤ１、小径粉の平均粒子径をＤ２として、Ｄ１が５．０μｍ以上２００μｍ以下であり、Ｄ２が０．１０μｍ以上１５μｍ以下であり、Ｄ２／Ｄ１＜１．０を満たす。Ｄ１は５０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましく、Ｄ２は３．０μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。なお、Ｄ１およびＤ２は体積基準による平均粒子径である。
【００２１】
Ｄ１および／またはＤ２が小さすぎる場合には十分に透磁率を向上させにくくなる。Ｄ１が大きすぎる場合には成形時に大径粉同士の間の粒界にかかる負荷が大きくなり、耐電圧が低下しやすくなる。Ｄ２が大きすぎる場合には後述する充填率を十分に向上させることが難しくなり、十分に透磁率を向上させにくくなる。
【００２２】
また、０．００１≦Ｄ２／Ｄ１≦０．５を満たすことが好ましい。Ｄ２／Ｄ１が上記の範囲内であることで充填率をさらに高くしやすくなるためである。充填率とは、磁性体コアにおけるＦｅ系軟磁性粉が占める体積割合のことである。なお、充填率は任意の断面におけるＦｅ系軟磁性粉が占める面積割合と同等な値となる。
【００２３】
さらに、本実施形態では、大径粉および小径粉が図１に示すように絶縁コート２２により絶縁コーティングされている。大径粉および小径粉が絶縁コーティングされていることにより、特に耐電圧が向上する。なお、「（粉末が）絶縁コーティングされている」とは、５０％以上の粉末が絶縁コーティングされている場合を指す。
【００２４】
絶縁コート２２の材質には特に制限はない。絶縁コート２２が酸化物を含むことが好ましい。磁性体コアの使用時における渦電流の発生が抑制されるためである。また、絶縁コート２２がＰ，Ｓｉ，Ｂｉ，および，Ｚｎから選択される１種以上の元素の酸化物を含むことが、安定した絶縁性を発揮する上で好ましい。例えば、絶縁コート２２がＰ２Ｏ５、ＳｉＯ２、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ２から選択される１種以上を含んでいてもよい。絶縁コート２２が実質的ＳｉＯ２のみからなる酸化膜であることがさらに好ましい。なお、実質的にＳｉＯ２のみからなる酸化膜であるとは、酸化膜におけるＳｉＯ２の含有量が９０質量％以上である場合を指す。
【００２５】
また、絶縁コート２２が各種酸化物を含むガラスからなる被膜であってもよい。特に、Ｐ，Ｓｉ，Ｂｉ，および，Ｚｎから選択される１種以上の元素の酸化物を含むガラスからなる被膜であることが好ましい。
【００２６】
絶縁コーティングの方法は任意であり、本技術分野で通常用いられる方法を用いることができる。
【００２７】
本実施形態では、大径粉および小径粉における絶縁コート厚みを好適に制御することで、透磁率および耐電圧を安定的に良好とすることができる。特に、大径粉の絶縁コート厚みを小径粉の絶縁コート厚みよりも大きくすることに特徴がある。
【００２８】
一般的に圧粉コアを作成する上で、互いに平均粒子径の異なる２種類以上の粉末を含む場合には、磁性体コア（圧粉コア）の充填率を向上させやすく、透磁率を向上させやすい。なお、平均粒子径は粒子径の頻度分布におけるピークの粒子径と置きかえても良い。しかし、磁性体コアの使用時に電圧を印加すると、特に平均粒子径が大きい側の粉末粒子間の粒界が薄くなりやすくなる。そして、平均粒子径が大きい側の粉末粒子間の粒界に高い電圧が印加されやすくなり、磁性体コアの耐電圧を向上させにくくなる。また、磁性体コアの耐電圧を向上させるために充填率を低下させれば透磁率を向上させにくくなる。
【００２９】
本実施形態の磁性体コアは大径粉における絶縁コート厚みを小径粉における絶縁コート厚みよりも厚くすることに特徴がある。当該特徴により、大径粉同士の間の粒界が十分に厚くなりやすくなり、大径粉同士の間に高い電圧を印加しても、絶縁膜が破壊されにくく耐電圧が向上する。この結果、高充填率、高透磁率および高耐電圧を満たす磁性体コアを得やすくなる。
【００３０】
具体的には、大径粉の平均絶縁コート厚みをＴ１、小径粉の平均絶縁コート厚みをＴ２として、Ｔ１／Ｔ２＞１．０を満たす。Ｔ１／Ｔ２≧１．３３であってもよく、Ｔ１／Ｔ２≧３．００であることが好ましい。なお、Ｔ１／Ｔ２には特に上限はないが、例えばＴ１／Ｔ２≦１０．００であってもよく、Ｔ１／Ｔ２≦５．００であることが好ましい。
【００３１】
Ｔ１は任意である。３０ｎｍ≦Ｔ１≦１００ｎｍを満たすことが好ましく、３０ｎｍ≦Ｔ１≦５０ｎｍを満たすことがさらに好ましい。
【００３２】
Ｔ２は任意である。２．０ｎｍ≦Ｔ２≦３０ｎｍを満たすことが好ましく、５．０ｎｍ≦Ｔ２≦１０ｎｍを満たすことがさらに好ましい。
【００３３】
絶縁コーティングされたＦｅ系軟磁性粉２０におけるＦｅ系軟磁性粉の粒径は図１のｄ１の長さである。ただし、実際にはｄ１の長さを測定するに当たって、絶縁コート２２の厚みは無視できる程度に小さい場合が多い。また、絶縁コート２２は必ずしもＦｅ系軟磁性粉の表面の全てを覆っている必要はない。表面の５０％以上が絶縁コート２２に覆われているＦｅ系軟磁性粉は絶縁コーティングされているＦｅ系軟磁性粉２０であるとみなす。なお、Ｆｅ系軟磁性粉２０の粒子径は円相当径である。
【００３４】
そして、本実施形態に係る磁性体コアにおけるＴ１およびＴ２の測定方法は任意である。例えば、磁性体コアの任意の切断面において観察される大径粉および小径粉の絶縁コート厚みを倍率２０００００〜５０００００倍で最低５箇所、測定して平均することで測定できる。
【００３５】
Ｆｅ系軟磁性粉の組成は任意である。例えばカルボニル鉄粉など、実質的にＦｅのみからなっていてもよい。また、例えばパーマロイなど、Ｆｅと他の金属との合金であってもよい。上記の通り、Ｆｅを１０ａｔ％以上、含んでいればよい。
【００３６】
Ｆｅ系軟磁性粉の微細構造は任意である。例えば、Ｆｅ系軟磁性粉が非晶質であってもよく、ナノ結晶を含んでもよい。上記の場合には、ナノ結晶よりも大きな結晶を含む場合と比較して、保磁力を低下させることができ、軟磁気特性を向上させることができ、耐電圧および透磁率を向上させることができるためである。また、大径粉と小径粉とで異なる微細構造を有していてもよい。
【００３７】
特に、大径粉はナノ結晶を含むことが好ましい。ここで、ナノ結晶とは結晶粒径がナノオーダーの結晶のことである。そして、結晶粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の結晶のことである。
【００３８】
なお、ナノ結晶を含む粉末においては、１粒の粉に多数のナノ結晶が含まれていることが通常である。すなわち、粉の粒子径と結晶粒径とは異なる。
【００３９】
本実施形態では、大径粉がナノ結晶を含むことで、磁性体コアの透磁率が向上しやすくなるため、大径粉がナノ結晶を含むことが好ましい。また、大径粉がナノ結晶を含むことで、耐電圧も大きく低下することなく好適に維持されやすい。
【００４０】
以下、ナノ結晶についてさらに詳細に説明する。
【００４１】
本実施形態のナノ結晶は、Ｆｅ基ナノ結晶であることが好ましい。Ｆｅ基ナノ結晶とは、粒径がナノオーダーであり、Ｆｅの結晶構造がｂｃｃ（体心立方格子構造）である結晶のことである。
【００４２】
本実施形態においては、Ｆｅ基ナノ結晶は平均粒径が５〜３０ｎｍであることが好ましい。このようなＦｅ基ナノ結晶を含むＦｅ系軟磁性粉は、飽和磁束密度が高くなりやすく、保磁力が低くなりやすい。
【００４３】
本実施形態におけるＦｅ基ナノ結晶の組成は任意である。例えば、Ｆｅの他にＭを含んでもよい。なお、ＭはＮｂ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｍｏ，ＷおよびＶから選択される１種以上の元素である。
【００４４】
Ｆｅ基ナノ結晶を含むＦｅ系軟磁性粉の組成は任意である。例えば、
組成式（Ｆｅ（１−（α＋β））Ｘ１αＸ２β）（１−（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ））ＭａＢｂＰｃＳｉｄＣｅＳｆＴｉｇからなる主成分からなるＦｅ系軟磁性粉であって、
Ｘ１はＣｏおよびＮｉからなる群から選択される１種以上、
Ｘ２はＡｌ，Ｍｎ，Ａｇ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｂｉ，Ｎ，Ｏおよび希土類元素からなる群より選択される１種以上、
ＭはＮｂ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｍｏ，ＷおよびＶからなる群から選択される１種以上であり、
０．０２０≦ａ≦０．１４
０．０２０＜ｂ≦０．２０
０≦ｃ≦０．１５
０≦ｄ≦０．１４
０≦ｅ≦０．０３０
０≦ｆ≦０．０１０
０≦ｇ≦０．００１０
α≧０
β≧０
０≦α＋β≦０．５０
であってもよい。
【００４５】
以下、Ｆｅ基ナノ結晶を含むＦｅ系軟磁性粉の各成分について詳細に説明する。
【００４６】
ＭはＮｂ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｍｏ，ＷおよびＶからなる群から選択される１種以上である。
【００４７】
Ｍの含有量（ａ）は０．０２０≦ａ≦０．１４を満たす。ａが小さい場合には、Ｆｅ系軟磁性粉の製造時においてナノ結晶より粒径の大きな結晶が生じやすい。そして、Ｆｅ系軟磁性粉の比抵抗が低くなりやすく、保磁力が高くなりやすくなり、透磁率が低くなりやすくなる。ａが大きい場合には、Ｆｅ系軟磁性粉の飽和磁束密度が低下しやすくなる。
【００４８】
Ｂの含有量（ｂ）は０．０２０＜ｂ≦０．２０を満たす。ｂが小さい場合には、Ｆｅ系軟磁性粉の製造時においてナノ結晶より粒径の大きな結晶が生じやすい。そして、Ｆｅ系軟磁性粉の比抵抗が低くなりやすく、保磁力が高くなりやすくなり、透磁率が低くなりやすくなる。ｂが大きい場合には、Ｆｅ系軟磁性粉の飽和磁束密度が低下しやすくなる。
【００４９】
Ｐの含有量（ｃ）は０≦ｃ≦０．１５を満たす。すなわち、Ｐは含有しなくてもよい。ｃが大きい場合には、Ｆｅ系軟磁性粉の飽和磁束密度が低下しやすくなる。
【００５０】
Ｓｉの含有量（ｄ）は０≦ｄ≦０．１４を満たす。すなわち、Ｓｉは含有しなくてもよい。ｄが大きい場合には、Ｆｅ系軟磁性粉の保磁力が上昇しやすくなる。
【００５１】
Ｃの含有量（ｅ）は０≦ｅ≦０．０３０を満たす。すなわち、Ｃは含有しなくてもよい。ｅが大きい場合には、Ｆｅ系軟磁性粉の比抵抗が低下し、保磁力が上昇しやすくなる。
【００５２】
Ｓの含有量（ｆ）は０≦ｆ≦０．０１０を満たす。すなわち、Ｓは含有しなくてもよい。ｆが大きい場合には、保磁力が上昇しやすくなる。
【００５３】
Ｔｉの含有量（ｇ）は０≦ｆ≦０．００１０を満たす。すなわち、Ｔｉは含有しなくてもよい。ｇが大きい場合には、保磁力が上昇しやすくなる。
【００５４】
Ｆｅの含有量（１−（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ））は、０．７３≦（１−（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ））≦０．９５であることが好ましい。（１−（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ））を上記の範囲内とすることで、Ｆｅ基ナノ結晶が得やすくなる。
【００５５】
また、Ｆｅの一部をＸ１および／またはＸ２で置換してもよい。
【００５６】
Ｘ１はＣｏおよびＮｉからなる群から選択される１種以上である。Ｘ１の含有量に関してはα＝０でもよい。すなわち、Ｘ１は含有しなくてもよい。また、Ｘ１の原子数は組成全体の原子数を１００ａｔ％として４０ａｔ％以下であることが好ましい。すなわち、０≦α｛１−（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ）｝≦０．４０を満たすことが好ましい。
【００５７】
Ｘ２はＡｌ，Ｍｎ，Ａｇ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｂｉ，Ｎ，Ｏおよび希土類元素からなる群より選択される１種以上である。Ｘ２の含有量に関してはβ＝０でもよい。すなわち、Ｘ２は含有しなくてもよい。また、Ｘ２の原子数は組成全体の原子数を１００ａｔ％として３．０ａｔ％以下であることが好ましい。すなわち、０≦β｛１−（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ）｝≦０．０３０を満たすことが好ましい。
【００５８】
ＦｅをＸ１および／またはＸ２に置換する置換量の範囲としては、原子数ベースでＦｅの半分以下としてもよい。すなわち、０≦α＋β≦０．５０としてもよい。α＋β＞０．５０の場合には、Ｆｅ基ナノ結晶を得にくくなる。
【００５９】
また、上記以外の元素については、特性に大きな影響を与えない範囲で含有しても良い。たとえば、Ｆｅ基ナノ結晶を含むＦｅ系軟磁性粉１００重量％に対して、０．１重量％以下、含有してもよい。
【００６０】
大径粉の材質には特に制限はない。例えば、上記のナノ結晶を含んでいてもよい。また、カルボニル鉄粉などの純鉄粉としてもよい。また、パーマロイを含んでもよい。
【００６１】
小径粉の材質には特に制限はない。例えば、カルボニル鉄粉などの純鉄粉としてもよい。また、小径粉がパーマロイを含んでもよい。小径粉がパーマロイを含む場合には、透磁率を向上させやすくなる。なお、本実施形態のパーマロイとは、Ｎｉ−Ｆｅ系合金のことであり、Ｎｉが２８重量％以上含まれ、残部がＦｅおよびその他の元素からなる合金のことである。その他の元素の含有量に特に制限はないが、Ｎｉ−Ｆｅ合金を１００重量％とする場合に８重量％以下である。また、上記のナノ結晶を含んでいてもよい。
【００６２】
以下、磁性体コアにおいて大径粉と小径粉とを区別する方法について説明する。
【００６３】
まず、磁性体コアを任意の断面で切断する。
【００６４】
次に、大径粉と小径粉とでＦｅ系軟磁性粉の組成が異なる場合には、例えば、ＥＤＳやＥＰＭＡなどを用いて磁性体コアの切断面を観察し、大径粉と小径粉とを区別できる。大径粉と小径粉とでＦｅ系軟磁性粉の組成が異なる場合としては、例えば、大径粉が上記の組成式（Ｆｅ（１−（α＋β））Ｘ１αＸ２β）（１−（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ））ＭａＢｂＰｃＳｉｄＣｅＳｆＴｉｇからなる主成分からなり、小径粉がカルボニル鉄からなる場合が挙げられる。ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭなどを用いて磁性体コアの切断面を観察し、Ｆｅ系軟磁性粉の組成の違いによる外観の違いで大径粉と小径粉とを区別できる。
【００６５】
次に、Ｆｅ系軟磁性粉の組成で大径粉と小径粉とを区別できない場合には、Ｆｅ系軟磁性粉の微細構造で大径粉と小径粉とを区別できる。Ｆｅ系軟磁性粉の微細構造で大径粉と小径粉とを区別できる場合としては、例えば、大径粉がナノ結晶を含み、小径粉が非晶質である場合が挙げられる。ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭなどを用いて磁性体コアの切断面を観察し、Ｆｅ系軟磁性粉の微細構造の違いによる外観の違いで大径粉と小径粉とを区別できる場合がある。また、ＸＲＤ測定から大径粉と小径粉とを区別できる場合がある。
【００６６】
次に、Ｆｅ系軟磁性粉の組成でも微細構造でも大径粉と小径粉とを区別できない場合には、絶縁コートの組成で大径粉と小径粉とを区別できる。例えば、ＥＤＳやＥＰＭＡなどを用いて磁性体コアの切断面を観察し、大径粉と小径粉とを区別できる。また、ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭなどを用いて磁性体コアの切断面を観察し、絶縁コートの組成の違いによる外観の違いで大径粉と小径粉とを区別できる。
【００６７】
上記のいずれの方法でも大径粉と小径粉とを区別できない場合には、Ｆｅ系軟磁性粉における粒子径の頻度分布を測定する。まず、ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等を用いて、少なくとも１００００個以上のＦｅ系軟磁性粉を二次元画像にて撮影し、粒子径を算出する。
【００６８】
次に、横軸を粒子径（Ｐａｒｔｉｃｌｅ  ｓｉｚｅ）、縦軸を頻度（Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）とし、階級の幅を適宜決定して、ヒストグラムを作成する。なお、ヒストグラムにおいて頻度が０ではない階級のうち粒子径が最小の階級から粒子径が最大の階級までの階級の数が３０個程度となるように階級の幅を決定する。
【００６９】
次に、隣接するいずれの階級の頻度よりも頻度が高い階級を検出し、隣接するいずれの階級よりも頻度が高い階級の中央値に暫定ピークを有するとする。
【００７０】
また、隣接する２つ以上の階級の頻度が同一である場合には、これら２つ以上の階級を単一の階級群とみなす。当該階級群の頻度は当該階級群を構成する各階級の頻度と同一とする。そして、隣接するいずれの階級よりも頻度が高い階級群の中央値に暫定ピークを有するとする。
【００７１】
そして、各暫定ピークを頻度が高い順に並べ替える。
【００７２】
次に、暫定ピークを有する階級（階級群）から２つ隣の階級の頻度を調べる。前記２つ隣の階級の頻度がいずれも暫定ピークを有する階級（階級群）の頻度よりも低い場合には、当該暫定ピークを正式にピークとする。そして、各ピークを頻度の高い方から順番に第１ピーク、第２ピーク、・・・、とする。
【００７３】
以下、図２のヒストグラムにおける第１ピーク、第２ピーク、・・・、の決定手順を示す。なお、図２はピークの決定手順を示すために例示したヒストグラムであり、本実施形態のＦｅ系軟磁性粉における粒子径の頻度分布とは無関係である。
【００７４】
まず、図２のヒストグラムにおける暫定ピークを決定する。図２のヒストグラムでは、暫定ピークＡ〜Ｉが存在する。なお、各暫定ピークはＡＢＣ順に頻度が高い。
【００７５】
そして、各暫定ピークを正式にピークとするか否かを調べる。
【００７６】
暫定ピークＡを有する階級の頻度はいずれの２つ隣の階級の頻度よりも高い。したがって、暫定ピークＡが第１ピークとなる。
【００７７】
暫定ピークＢを有する階級の頻度は粒子径がマイナスの方向に２つ隣の階級（暫定ピークＡを有する階級）の頻度よりも低い。したがって、暫定ピークＢは第２ピークではない。
【００７８】
暫定ピークＣを有する階級の頻度は粒子径がプラスの方向に２つ隣の階級（暫定ピークＡを有する階級）の頻度よりも低い。したがって、暫定ピークＣは第２ピークではない。
【００７９】
暫定ピークＤを有する階級群の頻度はいずれの２つ隣の階級の頻度よりも高い。したがって、暫定ピークＤは第２ピークである。
【００８０】
暫定ピークＥを有する階級の頻度は粒子径がプラスの方向に２つ隣の階級（暫定ピークＤを有する階級群に含まれる階級）の頻度よりも低い。したがって、暫定ピークＥは第３ピークではない。
【００８１】
暫定ピークＦを有する階級の頻度は粒子径がマイナスの方向に２つ隣の階級（暫定ピークＤを有する階級群に含まれる階級）の頻度よりも低い。したがって、暫定ピークＦは第３ピークではない。
【００８２】
暫定ピークＧを有する階級の頻度は粒子径がマイナスの方向に２つ隣の階級（暫定ピークＦを有する階級）の頻度よりも低い。したがって、暫定ピークＧは第３ピークではない。
【００８３】
暫定ピークＨを有する階級の頻度はいずれの２つ隣の階級の頻度よりも高い。したがって、暫定ピークＨは第３ピークである。
【００８４】
暫定ピークＩを有する階級の頻度はいずれの２つ隣の階級の頻度よりも高い。したがって、暫定ピークＩは第４ピークである。
【００８５】
以上より、図２のヒストグラムでは、第１ピークから第４ピークまでの４つのピークがある。なお、第１ピークの粒子径は２．１２５μｍ、第２ピークの粒子径は４．２５μｍ、第３ピークの粒子径は６．８７５μｍ、第４ピークの粒子径は８．１２５μｍである。
【００８６】
そして、粒子径が第１ピークと第２ピークとの間にある階級のうち最も頻度が低い階級（階級群）の中央値以上であるＦｅ系軟磁性粉を大径粉とし、粒子径が第１ピークと第２ピークとの間にある階級のうち最も頻度が低い階級（階級群）の中央値未満であるＦｅ系軟磁性粉を小粒粉とする。
【００８７】
また、小径粉における粒子径の頻度分布が２つ以上のピークを有することが好ましい。小径粉における粒子径の頻度分布が２つ以上のピークを有することで、磁性体コアの充填率をさらに向上させやすくなり、透磁率をさらに向上させやすくなる。
【００８８】
大径粉と小径粉とがＦｅ系軟磁性粉の組成、Ｆｅ系軟磁性粉の微細構造、または絶縁コートの組成で区別できる場合には、小径粉について粒子径の頻度分布を測定し、ピークが２つ以上あるか否かを確認できる。
【００８９】
大径粉と小径粉とがＦｅ系軟磁性粉の組成、Ｆｅ系軟磁性粉の微細構造、および絶縁コートの組成で区別できない場合には、Ｆｅ系軟磁性粉における粒子径の頻度分布を測定し、上記の方法で大径粉と小径粉とを区別する。その後、ヒストグラムのうち小径粉の部分のみでピークが２つ以上あるか否かを確認できる。
【００９０】
また、本実施形態では、磁性体コアの任意の断面において、大径粉の面積割合をＳ１、小径粉の面積割合をＳ２として、０．２０≦Ｓ２／Ｓ１≦０．５５を満たすことが好ましい。また、０．３４≦Ｓ２／Ｓ１≦０．４７を満たすことがさらに好ましい。Ｓ２／Ｓ１を上記の範囲内とすることで、充填率を向上させやすくなる。
【００９１】
なお、上記の大径粉および小径粉のいずれにも該当しない粉が含まれていても良い。しかし、その含有量はＦｅ系軟磁性粉１００重量％に対して１重量％以下である。
【００９２】
以下、磁性部品の一種であるコイル部品に用いられる磁性体コアの一種である圧粉コアの製造方法について述べる。
【００９３】
まず、本実施形態における磁性体コアに含まれるＦｅ系軟磁性粉の製造方法を説明する。本実施形態におけるＦｅ系軟磁性粉は、通常は大径粉と小径粉とを別個に作製し、混合することにより製造される。また、絶縁コーティングも大径粉と小径粉とで別個に行う。絶縁コーティングの方法は絶縁コートの種類により周知の方法で行うことができる。絶縁コーティングの厚みを適宜制御することで、Ｔ１／Ｔ２＞１．０を満たすことができる。なお、通常は混合前の大径粉の平均粒子径Ｄ１、小径粉の平均粒子径Ｄ２、大径粉の平均絶縁コート厚みＴ１、および、小径粉の平均絶縁コート厚みＴ２は最終的に得られる磁性体コアにおけるＤ１、Ｄ２、Ｔ１、Ｔ２と同一である。また、Ｓ２／Ｓ１は大径粉と小径粉との混合比率を変化させることで制御することができる。
【００９４】
大径粉および小径粉は球状であることが好ましい。本実施形態において球状であるとは、具体的には、球形度が０．９以上である場合をいう。また、球形度は画像式粒度分布計で測定することができる。
【００９５】
さらに、ナノ結晶（特にＦｅ基ナノ結晶）を含むＦｅ系軟磁性粉の製造方法について説明する。ナノ結晶（特にＦｅ基ナノ結晶）を含むＦｅ系軟磁性粉の製造方法は任意であるが、ナノ結晶（特にＦｅ基ナノ結晶）を含むＦｅ系軟磁性粉を球状にしやすくする観点からは、ガスアトマイズ法により製造することが好ましい。
【００９６】
ガスアトマイズ法では、まず、最終的に得られるＦｅ系軟磁性粉に含まれる各金属元素の純金属を準備し、最終的に得られるＦｅ系軟磁性粉と同組成となるように秤量する。そして、各金属元素の純金属を溶解し、混合して母合金を作製する。なお、前記純金属の溶解方法には特に制限はないが、例えばチャンバー内で真空引きした後に高周波加熱にて溶解させる方法がある。なお、母合金と最終的に得られる軟磁性合金とは通常、同組成となる。次に、作製した母合金を加熱して溶融させ、溶融金属（溶湯）を得る。溶融金属の温度には特に制限はないが、例えば１２００〜１５００℃とすることができる。
【００９７】
その後、前記溶融合金をチャンバー内で噴射させ、Ｆｅ系軟磁性粉を作製する。Ｆｅ系軟磁性粉の粒度分布はガスアトマイズ法で通常用いられている方法により制御することができる。このとき、ガス噴射温度を５０〜２００℃とし、チャンバー内の蒸気圧を４ｈＰａ以下とすることが好ましい。後述する熱処理によりＦｅ基ナノ結晶を含むＦｅ系軟磁性粉が得やすくなるためである。この時点では、Ｆｅ系軟磁性粉が非晶質のみからなる場合もあれば、Ｆｅ系軟磁性粉がナノヘテロ構造を有する場合もある。本実施形態でのナノヘテロ構造とは、粒径が３０ｎｍ以下であるナノ結晶が非晶質中に存在する構造のことである。
【００９８】
次に、作製したＦｅ系軟磁性粉に対して熱処理を行うことが好ましい。Ｆｅ系軟磁性粉が非晶質のみからなる場合には必ず熱処理を行うが、Ｆｅ系軟磁性粉がナノヘテロ構造を有する場合には、必ずしも熱処理を行わなくてもよい。Ｆｅ系軟磁性粉がすでにナノ結晶を含んでいるためである。
【００９９】
例えば、４００〜６００℃で０．５〜１０分、熱処理を行うことで、各Ｆｅ系軟磁性粉同士が焼結し粗大化することを防ぎつつ元素の拡散を促し、熱力学的平衡状態に短時間で到達させることができ、歪や応力を除去することができる。その結果、Ｆｅ基ナノ結晶を含むＦｅ系軟磁性粉を得やすくなる。なお、熱処理後のＦｅ基ナノ結晶を含むＦｅ系軟磁性粉は非晶質を含む場合もあれば含まない場合もある。
【０１００】
また、熱処理により得られたＦｅ系軟磁性粉に含まれるＦｅ基ナノ結晶の平均粒径の算出方法には特に制限はない。例えば透過電子顕微鏡を用いて観察することで算出できる。また、結晶構造がｂｃｃ（体心立方格子構造）であること確認する方法にも特に制限はない。例えばＸ線回折測定（ＸＲＤ）を用いて確認することができる。
【０１０１】
次に、得られたＦｅ系軟磁性粉を適宜樹脂と混合した後、金型を用いて圧粉成形することにより、圧粉コア（磁性体コア）を得ることができる。圧粉成形時の成形圧力は任意である。ここで、特にＤ１≦２００μｍ、Ｔ１／Ｔ２＞１．０であるなどの特徴を有するＦｅ基軟磁性粉を用いることにより、プレス処理時の圧力を高くしても、絶縁コートが破壊されることが少なくなる。特に大径粉同士の接触点において絶縁コートが破壊されることが少なくなる。この結果、圧粉成形時の成形圧力を例えば５ｔ／ｃｍ２以上１２ｔ／ｃｍ２以下、好ましくは７ｔ／ｃｍ２以上１０ｔ／ｃｍ２以下とすることで耐電圧を維持しながら充填率を向上させ、透磁率を向上させることが可能となる。また、樹脂の種類や含有量は任意である。
【０１０２】
さらに、上記の圧粉コアに対し、歪取り熱処理として成形後に熱処理してもよい。歪取り熱処理することで、圧粉コアの保磁力を低減してコアロスを低下させることも可能である。
【０１０３】
そして、上記の圧粉コアに巻線を施すことで磁性部品の一種であるコイル部品が得られる。巻線の施し方およびコイル部品の製造方法には特に制限はない。例えば、上記の方法で製造した圧粉コアに巻線を少なくとも１ターン以上巻き回す方法が挙げられる。
【０１０４】
さらに、巻線コイルが本実施形態に係るＦｅ基軟磁性粉および樹脂に内蔵されている状態で加圧成形し一体化することで、本実施形態に係る圧粉コアに巻線コイルが内蔵されたインダクタンス部品を製造することも可能である。加圧成形時の成形圧力は上記の圧粉成形時の成形圧力と同様とすることが好ましい。
【０１０５】
本実施形態に係る磁性体コアの用途は任意である。磁性部品、例えば磁心、コイル部品、インダクタンス部品、トランス、モータなどに用いることができる。
【０１０６】
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
【実施例】
【０１０７】
以下、本発明を、実施例に基づき説明する。
【０１０８】
＜実験例１＞
本発明に係る磁性体コアの特性を評価するためにトロイダルコアを作製した。以下、トロイダルコアの作製方法について説明する。
【０１０９】
まず、トロイダルコアに含まれるＦｅ系軟磁性粉作製のためにＦｅ系軟磁性粉に含まれる大径粉および小径粉を準備した。
【０１１０】
まず、大径粉として、組成がＦｅ：７９．９ａｔ％、Ｃｕ：０．１ａｔ％、Ｎｄ：７．０ａｔ％、Ｂ：１０．０ａｔ％、Ｐ：３．０ａｔ％、Ｓ：０．１ａｔ％であるナノ結晶合金粉を準備した。なお、上記の組成で各元素の含有割合の合計が１００．０ａｔ％になっていないのは、各元素の含有割合について小数点２桁目を四捨五入しているためである。
【０１１１】
以下、大径粉に用いられるナノ結晶合金粉の作製方法について説明する。
【０１１２】
まず、上記の合金組成となるように原料金属を秤量し、高周波加熱にて溶解し、母合金を作製した。
【０１１３】
その後、作製した母合金を加熱して溶融させ、１２５０℃の溶融状態の金属とした。そして、ガスアトマイズ法により前記金属を噴射させ、粉体を作成した。ガス噴射温度は１５０℃、チャンバー内の蒸気圧は３．８ｈＰａとした。また、蒸気圧調整は露点調整をおこなったＡｒガスを用いることで行った。そして、大径粉の平均粒子径Ｄ１が表１〜表３に示す値となるように制御した。
【０１１４】
そして、各大径粉について、５００℃で５分間、熱処理を行い、Ｆｅ基ナノ結晶が含まれる微細構造とした。なお、大径粉がＦｅ基ナノ結晶を含むことはＸＲＤにより確認した。
【０１１５】
小径粉としては、カルボニル法により作製されたカルボニル鉄粉を準備した。小径粉のＤ２が表１〜表３に示す値となるようにした。なお、小径粉は結晶粒が１００ｎｍより大きい結晶を含む微細構造を有していた。
【０１１６】
次に、上記の大径粉および小径粉に対してコーティングを行った。
【０１１７】
実験例１では、各Ｆｅ系軟磁性粉に対するコーティングは、酸化物としてＳｉＯ２のみを含むガラスからなる絶縁コートを形成することにより行った。絶縁コートの形成は、ＳｉＯ２を含む溶液を前記Ｆｅ系軟磁性粉に噴霧することにより行った。なお、Ｔ１およびＴ２が表１〜表３に記載の厚みとなるように噴霧条件等を制御した。また、Ｔ１およびＴ２が表１〜表３に記載の厚みとなっていることはＳＴＥＭにより確認した。
【０１１８】
そして、大径粉および小径粉の配合比率については、最終的に得られるトロイダルコアにおけるＳ２／Ｓ１が表１〜表３に示す値となるように混合した。
【０１１９】
そして、Ｆｅ系軟磁性粉をエポキシ樹脂と混練して樹脂溶液を作製した。前記樹脂溶液における絶縁コートを形成したＦｅ系軟磁性粉の重量比率は、９７．５重量％とした。なお、エポキシ樹脂としてはフェノールノボラック型エポキシ樹脂を用いた。
【０１２０】
そして、得られた樹脂溶液を所定のトロイダル形状の金型に充填させ、１００℃で５時間加熱して溶剤分を揮発させた。そして、８ｔ／ｃｍ２の圧力でプレス処理を行ったのちに固定砥石にて研削し、厚みを０．７ｍｍで均一にした。その後に１７０℃で９０分、熱硬化させてエポキシ樹脂を架橋させてトロイダルコア（外径１５ｍｍ、内径９ｍｍ、厚み０．７ｍｍ）を得た。
【０１２１】
また、得られた樹脂溶液を所定の直方体形状の金型に充填させた。トロイダルコアと同様の方法で直方体磁性材料（４ｍｍ×４ｍｍ×１ｍｍ）を得た。さらに、前記直方体磁性材料の一方の４ｍｍ×４ｍｍの面の両端に幅１．３ｍｍの端子電極を設けた。端子電極間の距離は１．４ｍｍとなった。
【０１２２】
次に、得られたトロイダルコアにおける大径粉および小径粉の存在割合を測定し、Ｓ２／Ｓ１が表１〜表３に記載された値であることを確認した。
【０１２３】
具体的には、得られたトロイダルコアを任意の断面で切断し、ＳＥＭを用いて倍率１０００倍、観察範囲０．１２８ｍｍ×０．９６ｍｍで切断面を観察した。そして、Ｓ２／Ｓ１を確認した。なお、Ｓ２／Ｓ１の算出においては、互いに異なる５か所以上の観察範囲を設定してそれぞれの観察範囲における各粉末の面積比率を算出し、平均した。結果を表１〜表３に示す。また、充填率は、上記の全ての観察範囲においてＦｅ基軟磁性粉が占める面積割合を平均することで算出した。
【０１２４】
さらに、各試料の切断面についてＳＴＥＭを用いて大径粉および小径粉の平均粒子径および平均絶縁コート厚みを確認した。具体的には、倍率１０００倍のＳＴＥＭ画像に存在する大径粉の粒子径を測定し、平均してＤ１を求めた。また、倍率１００００倍のＳＴＥＭ画像に存在する小径粉の粒子径を測定し、平均してＤ２を求めた。なお、Ｄ１およびＤ２の測定に当たっては、それぞれ少なくとも１００００個の粉末の粒子径を測定し、平均した。平均絶縁コート厚みＴ１、Ｔ２については、具体的には、倍率２５００００倍のＳＴＥＭ画像から目視にて絶縁コート２２の厚みを測定した。大径粉および小径粉のそれぞれについて１００個の粒子で測定した絶縁コートの厚みを平均した。ＳＴＥＭ画像から測定したＤ１、Ｄ２、Ｔ１、Ｔ２が表１〜表３に記載された値と概ね一致することを確認した。
【０１２５】
透磁率は、巻数３０でコイルを巻き、ＬＣＲメータを用いて周波数１ＭＨｚでインダクタンスを測定し、インダクタンスから算出した。本実施例では、透磁率が５０以上である場合を良好とし、６０以上である場合をさらに良好とした。
【０１２６】
さらに、前記直方体磁性材料の端子電極間に電圧をかけ、２ｍＡの電流が流れたときの電圧を測定することで、耐電圧を測定した。本実施例では、耐電圧は１５０Ｖ／ｍｍ以上を良好とし、１５５Ｖ／ｍｍ以上を更に良好とし、１６０Ｖ／ｍｍ以上を最も良好とした。
【０１２７】
【表１】
2020136647.tif 000003
【０１２８】
【表２】
2020136647.tif 000004
【０１２９】
【表３】
2020136647.tif 000005
【０１３０】
表１および表２に記載の実施例および比較例は、表１の試料のＴ１が表２の試料のＴ２と等しくなり、表１の試料のＴ２が表２の試料のＴ１と等しくなるようにした点以外は、全て同条件で実施した。その結果、Ｔ１／Ｔ２＞１．０である表１の試料は全ての特性が良好となった。これに対し、Ｔ１／Ｔ２＜１．０である表２の試料は全て耐電圧および／または透磁率が良好ではなかった。
【０１３１】
表３に記載の比較例は、Ｄ１またはＤ２が所定の範囲外である。表３の試料は全て耐電圧および／または透磁率が良好ではなかった。また、Ｄ２が大きすぎる試料番号２４は充填率も低かった。
【０１３２】
＜実験例２＞
実験例２では、Ｄ１＝５０μｍ、Ｄ２＝６．０μｍ、Ｔ１＝３０ｎｍ、Ｔ２＝１０ｎｍである大径粉および小径粉を準備した。大径粉の組成は実験例１と同様とした。大径粉の微細構造はＦｅ基ナノ結晶が含まれる微細構造とした。小径粉は実験例１と同様にカルボニル鉄粉とした。また、小径粉は結晶粒が１００ｎｍより大きい結晶を含む微細構造を含むようにした。そして、Ｓ２／Ｓ１＝０．３７となるように大径粉および小径粉を混合した。
【０１３３】
実験例２では、大径粉および小径粉の絶縁コートを表４に示す種類の酸化膜、または、表４に示す複数の酸化物を含むガラスコートとした。酸化膜は大径粉および／または小径粉の表面を酸化することで形成した。酸化膜は、適切に調整された酸素分圧下で大径粉および／または小径粉を熱処理することによって形成した。ガラスコートを形成する方法は実験例１と同様とした。その他の条件は実験例１と同様とした。結果を表４に示す。
【０１３４】
【表４】
2020136647.tif 000006
【０１３５】
表４より、絶縁コートの種類を変化させても全ての実施例で耐電圧および透磁率が良好となった。Ｐ２Ｏ５、ＳｉＯ２、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ２から選択される１種以上を含む場合に耐電圧および透磁率が良好となりやすく、ＳｉＯ２を含む場合に特に耐電圧および透磁率が良好となった。
【０１３６】
＜実験例３＞
実験例３では、大径粉および小径粉の微細構造を変化させた点以外は実験例２の試料番号４８と同様に実施した。結果を表５に示す。微細構造が非晶質を含む大径粉は、大径粉を急冷アトマイズ処理することで得られた。微細構造が結晶粒径１００ｎｍ以上の結晶を含む大径粉は、大径粉を急冷アトマイズ処理した後に、熱処理によりナノ結晶化することで得られた。微細構造が非晶質を含む小径粉は小径粉を急冷アトマイズ処理した後に分級処理することで得られた。微細構造がナノ結晶を含む小径粉は、小径粉を急冷アトマイズ処理した後に分級処理し、さらに熱処理によりナノ結晶化することで得られた。
【０１３７】
【表５】
2020136647.tif 000007
【０１３８】
表５より、大径粉および小径粉の微細構造が変化しても全ての実施例で耐電圧および透磁率が良好となった。特に大径粉がナノ結晶を含む場合および非晶質を含む場合に透磁率が高くった。さらに、大径粉がナノ結晶を含む場合に最も透磁率が高くなった。
【０１３９】
＜実験例４＞
実験例４では、小径粉として、平均粒径６．０μｍのカルボニル鉄粉と平均粒径１．０μｍのカルボニル鉄粉とを混合したものを用いた点以外は、実験例２の試料番号４８と同条件で実施した。小径粉のＤ２が５．０μｍとなるようにした。また、小径粉における粒子径の頻度分布を測定し、各ピークの粒子径を算出した。結果を表６に示す。
【０１４０】
【表６】
2020136647.tif 000008
【０１４１】
表６より、小径粉における粒子径の頻度分布が２つのピークを有する実施例、試料番号６８は１つのピークのみを有する実施例、試料番号４８と比較して充填率が向上した。そして、耐電圧および透磁率も向上した。
【０１４２】
＜実験例５＞
上記の各実施例で用いられた大径粉および小径粉を用いて磁性体コアを作製し、当該磁性体コアを用いてコイル部品を作製した。各実施例で用いられた大径粉および小径粉を用いたコイル部品は透磁率および耐電圧が良好なコイル部品となった。
【符号の説明】
【０１４３】
２０…  絶縁コーティングされたＦｅ系軟磁性粉
２２…  絶縁コート
【図１】
2020136647.tif 000009
【図２】
2020136647.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月24日(2019.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大径粉および小径粉を含むＦｅ系軟磁性粉を有する磁性体コアであって、
前記大径粉がＦｅ基ナノ結晶を含み、
前記大径粉は、組成式（Ｆｅ（１−（α＋β））Ｘ１αＸ２β）（１−（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ））ＭａＢｂＰｃＳｉｄＣｅＳｆＴｉｇからなる成分からなり、
Ｘ１はＣｏおよびＮｉからなる群から選択される１種以上、
Ｘ２はＡｌ，Ｍｎ，Ａｇ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｂｉ，Ｎ，Ｏおよび希土類元素からなる群より選択される１種以上、
ＭはＮｂ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｍｏ，ＷおよびＶからなる群から選択される１種以上であり、
０．０２０≦ａ≦０．１４
０．０２０＜ｂ≦０．２０
０≦ｃ≦０．１５
０≦ｄ≦０．１４
０≦ｅ≦０．０３０
０≦ｆ≦０．０１０
０≦ｇ≦０．００１０
α≧０
β≧０
０≦α＋β≦０．５０
であり、
前記大径粉における上記以外の元素の含有量は前記大径粉１００重量％に対して、０．１重量％以下であり、
前記大径粉の平均粒子径をＤ１、前記小径粉の平均粒子径をＤ２として、
Ｄ１が５．０μｍ以上２００μｍ以下であり、Ｄ２が０．１０μｍ以上１５μｍ以下であり、Ｄ２／Ｄ１＜１．０を満たし、
前記大径粉および前記小径粉が絶縁コーティングされており、
前記大径粉の平均絶縁コート厚みをＴ１、前記小径粉の平均絶縁コート厚みをＴ２として、
Ｔ１／Ｔ２＞１．０を満たす磁性体コア。
【請求項２】
前記絶縁コートが酸化物を含む請求項１に記載の磁性体コア。
【請求項３】
前記絶縁コートがＰ，Ｓｉ，Ｂｉ，および，Ｚｎから選択される１種以上の元素の酸化物を含む請求項１または２に記載の磁性体コア。
【請求項４】
０．００１≦Ｄ２／Ｄ１≦０．５０を満たす請求項１〜３のいずれかに記載の磁性体コア。
【請求項５】
前記小径粉における粒子径の頻度分布が２つ以上のピークを有する請求項１〜４のいずれかに記載の磁性体コア。
【請求項６】
任意の切断面における前記大径粉の面積割合をＳ１、前記小径粉の面積割合をＳ２として、
０．２０≦Ｓ２／Ｓ１≦０．５５を満たす請求項１〜５のいずれかに記載の磁性体コア。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の磁性体コアを有する磁性部品。
【手続補正書】
【提出日】令和2年5月1日(2020.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大径粉および小径粉を含むＦｅ系軟磁性粉を有する磁性体コアであって、
前記大径粉がＦｅ基ナノ結晶を含み、
前記大径粉は、組成式（Ｆｅ（１−（α＋β））Ｘ１αＸ２β）（１−（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ））ＭａＢｂＰｃＳｉｄＣｅＳｆＴｉｇからなる成分からなり、
Ｘ１はＣｏおよびＮｉからなる群から選択される１種以上、
Ｘ２はＡｌ，Ｍｎ，Ａｇ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｂｉ，Ｎ，Ｏおよび希土類元素からなる群より選択される１種以上、
ＭはＮｂ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｍｏ，ＷおよびＶからなる群から選択される１種以上であり、
０．０２０≦ａ≦０．１４
０．０２０＜ｂ≦０．２０
０≦ｃ≦０．１５
０≦ｄ≦０．１４
０≦ｅ≦０．０３０
０≦ｆ≦０．０１０
０≦ｇ≦０．００１０
α≧０
β≧０
０≦α＋β≦０．５０
であり、
前記大径粉における上記以外の元素の含有量は前記大径粉１００重量％に対して、０．１重量％以下であり、
前記大径粉の平均粒子径をＤ１、前記小径粉の平均粒子径をＤ２として、
Ｄ１が５．０μｍ以上２００μｍ以下であり、Ｄ２が０．１０μｍ以上１５μｍ以下であり、Ｄ２／Ｄ１＜１．０を満たし、
前記大径粉および前記小径粉が絶縁コーティングされており、
前記大径粉の平均絶縁コート厚みをＴ１、前記小径粉の平均絶縁コート厚みをＴ２として、
３．００≦Ｔ１／Ｔ２≦５．００を満たし、
任意の切断面における前記大径粉の面積割合をＳ１、前記小径粉の面積割合をＳ２として、
０．２０≦Ｓ２／Ｓ１≦０．５５を満たす磁性体コア。
【請求項２】
前記絶縁コートが酸化物を含む請求項１に記載の磁性体コア。
【請求項３】
前記絶縁コートがＰ，Ｓｉ，Ｂｉ，および，Ｚｎから選択される１種以上の元素の酸化物を含む請求項１または２に記載の磁性体コア。
【請求項４】
０．００１≦Ｄ２／Ｄ１≦０．５０を満たす請求項１〜３のいずれかに記載の磁性体コア。
【請求項５】
前記小径粉における粒子径の頻度分布が２つ以上のピークを有する請求項１〜４のいずれかに記載の磁性体コア。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の磁性体コアを有する磁性部品。