(57)【要約】【課題】マークを容易に付すことのできる偏光素子、液晶装置、電子機器、および偏光素子の製造方法を提供すること。【解決手段】偏光素子１は、基板２の一方面２ａに複数の金属部３を有するワイヤーグリッド偏光素子であり、金属部３は撥水膜４で覆われている。撥水膜４は、偏光素子１をフッ素系シランカップリング剤、フッ素系アルミネートカップリング剤、フッ素系チタネートカップリング剤等の含フッ素化合物の溶液に浸漬した後、熱処理を行うことにより形成される。撥水膜４は、基板２の一方面２ａおよび他方面２ｂにも形成されている。但し、偏光素子１の端部１ａとしての基板２の側面２１には、マスクを介して一方面２ａ側からＵＶ光を照射することによって、撥水膜４を構成する組成物における結合を部分に切断した親水性領域４０が設けられている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
並列する複数の金属部と、
前記複数の金属部を覆う撥水膜と、
を有し、
親水性領域が端部に設けられていることを特徴とする偏光素子。
【請求項２】
請求項１に記載の偏光素子において、
前記親水性領域には、マークが付されていることを特徴とする偏光素子。
【請求項３】
請求項１または２に記載の偏光素子において、
前記複数の金属部が一方面に設けられた透光性の基板を有し、
前記基板の前記一方面、および前記一方面とは反対側の他方面の双方に前記撥水膜が設けられ、
前記基板の端部に前記親水性領域が設けられていることを特徴とする偏光素子。
【請求項４】
請求項３に記載の偏光素子において、
前記親水性領域が設けられた前記端部は、前記基板の前記一方面と前記他方面との間に位置する側面を含むことを特徴とする偏光素子。
【請求項５】
請求項３または４に記載の偏光素子において、
前記親水性領域が設けられた前記端部は、前記基板の前記一方面の縁に沿う部分を含むことを特徴とする偏光素子。
【請求項６】
請求項４または５に記載の偏光素子において、
前記親水性領域が設けられた前記端部は、前記基板の前記他方面の縁に沿う部分を含むことを特徴とする偏光素子。
【請求項７】
請求項１から６までの何れか一項に記載の偏光素子が液晶パネルの光入射側および光出射側の少なくとも一方に設けられていることを特徴とする液晶装置。
【請求項８】
請求項７に記載の液晶装置を有することを特徴とする電子機器。
【請求項９】
並列する複数の金属部を有する偏光素子に撥水膜を形成する撥水膜形成工程と、
前記偏光素子の端部に光を照射して前記端部に設けられた前記撥水膜の撥水性を低下させる光照射工程と、
を有することを特徴とする偏光素子の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の偏光素子の製造方法において、
前記偏光素子は、一方面に前記複数の金属部が設けられた透光性の基板を有し、
前記光照射工程では、支持部材によって前記基板を前記一方面とは反対側の他方面側から支持した状態で、マスクを介して前記光を、前記基板の端部に照射することを特徴とする偏光素子の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の偏光素子の製造方法において、
前記光は、ＵＶ光であり、
前記光照射工程では、酸素または水を含む雰囲気中で前記ＵＶ光を前記基板の端部に照射することを特徴とする偏光素子の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の偏光素子の製造方法において、
前記光照射工程では、前記基板の側面に前記ＵＶ光を照射することを特徴とする偏光素子の製造方法。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の偏光素子の製造方法において、
前記光照射工程では、前記基板の前記一方面の前記基板の縁に沿う部分に前記ＵＶ光を照射することを特徴とする偏光素子の製造方法。
【請求項１４】
請求項１１から１３までの何れか一項に記載の偏光素子の製造方法において、
前記光照射工程では、前記支持部材が前記基板の前記他方面の全体に重なった状態にあることを特徴とする偏光素子の製造方法。
【請求項１５】
請求項１１から１３までの何れか一項に記載の偏光素子の製造方法において、
前記光照射工程では、前記基板の前記他方面のうち、縁に沿う部分以外の部分に前記支持部材が重なった状態にあることを特徴とする偏光素子の製造方法。
【請求項１６】
複数の偏光素子を構成する複数の金属部が一方面で並列する透光性のマザー基板に撥水膜を形成する撥水膜形成工程と、
支持部材によって前記マザー基板を前記一方面とは反対側の他方面側から支持した状態で、マスクを介して光を、前記複数の偏光素子の各々の端部に照射して前記端部に設けられた前記撥水膜の撥水性を低下させる光照射工程と、
前記マザー基板を前記複数の偏光素子に分割する分割工程と、
を有することを特徴とする偏光素子の製造方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の偏光素子の製造方法において、
前記光は、ＵＶ光であり、
前記光照射工程では、酸素または水を含む雰囲気中で前記ＵＶ光を前記複数の偏光素子の各々の端部に照射することを特徴とする偏光素子の製造方法。
【請求項１８】
請求項１６または１７に記載の偏光素子の製造方法において、
前記光照射工程では、前記支持部材が前記マザー基板の前記他方面の全体に重なった状態にあることを特徴とする偏光素子の製造方法。
【請求項１９】
請求項１６または１７に記載の偏光素子の製造方法において、
前記光照射工程では、前記マザー基板の前記他方面のうち、前記分割工程で前記複数の偏光素子に分割される領域の縁に沿う部分以外の領域に前記支持部材が重なった状態にあることを特徴とする偏光素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光素子、液晶装置、電子機器、および偏光素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ワイヤーグリッドを備えた偏光素子では、透光性の基板の一方面に、一方方向に延在する複数の金属ワイヤー層が設けられている。金属ワイヤー層は、空気中の水分と反応して劣化しやすいことから、フッ素系シランカップリング剤、フッ素系アルミネートカップリング剤、フッ素系チタネートカップリング剤等によって、金属ワイヤー層を撥水膜で覆う技術が提案されている（特許文献１、２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−２１０８２９号公報
【特許文献２】特開２０１４−８５５１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
金属ワイヤー層の表面に撥水性を付与するにあたって、偏光素子を処理液に浸漬すると、偏光素子の全面に撥水性が付与される。一方、偏光素子については、製造工程等において、検査結果等を示すマークを付すことがあるが、偏光素子の全面に撥水性が付与されると、インクの濡れ性が低下し、偏光素子にマークを付すことができないという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明に係る偏光素子の一態様は、並列する複数の金属部と、前記複数の金属部を覆う撥水膜と、を有し、親水性領域が端部に設けられていることを特徴とする。
【０００６】
本発明に係る偏光素子は、液晶装置において、液晶パネルの光入射側および光出射側の少なくとも一方に設けられる。また、本発明に係る液晶装置は、例えば、各種電子機器に用いられる。
【０００７】
本発明に係る偏光素子の製造方法の一態様は、並列する複数の金属部を有する偏光素子に撥水膜を形成する撥水膜形成工程と、前記偏光素子の端部に光を照射して前記端部に設けられた前記撥水膜の撥水性を低下させる光照射工程と、を有することを特徴とする。
【０００８】
本発明に係る偏光素子の製造方法の別態様は、複数の偏光素子を構成する複数の金属部が一方面で並列する透光性のマザー基板に撥水膜を形成する撥水膜形成工程と、支持部材によって前記マザー基板を前記一方面とは反対側の他方面側から支持した状態で、マスクを介して光を、前記複数の偏光素子の各々の端部に照射して前記端部に設けられた前記撥水膜の撥水性を低下させる光照射工程と、前記マザー基板を前記複数の偏光素子に分割する分割工程と、を有することを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施形態１に係る偏光素子の斜視図。
【図２】図１に示す偏光素子を製造するためのマザー基板の説明図。
【図３】図２に示すマザー基板を分割した後、撥水膜を形成した後の偏光素子の説明図。
【図４】図１に示す親水性領域の形成方法を示す説明図。
【図５】本発明の実施形態２に係る偏光素子の斜視図。
【図６】図５に示す親水性領域の形成方法を示す説明図。
【図７】本発明の実施形態２の変形例に係る偏光素子の斜視図。
【図８】本発明の実施形態３に係る偏光素子の斜視図。
【図９】図８に示す親水性領域の形成方法を示す説明図。
【図１０】本発明の実施形態４に係る偏光素子の斜視図。
【図１１】図１０に示す偏光素子を製造するためのマザー基板の説明図。
【図１２】図１０に示す親水性領域の形成方法を示す説明図。
【図１３】本発明の実施形態４の変形例に係る偏光素子の斜視図。
【図１４】図１３に示す親水性領域の形成方法を示す説明図。
【図１５】透過型の液晶パネルを用いた投射型表示装置の説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。また、以下の説明では、金属部が延在している方向をＹ軸方向とし、金属部が並列している方向をＸ軸方向とし、厚さ方向をＺ軸方向としてある。
【００１１】
［実施形態１］
（偏光素子１の構成）
図１は、本発明の実施形態１に係る偏光素子１の斜視図である。なお、図１には、親水性領域４０をグレーの領域として表してある。図１に示す偏光素子１は、ワイヤーグリッド偏光板であり、透光性の基板２と、基板２の両面のうち、光が入射する一方面２ａで並列する複数の金属部３とを有している。複数の金属部３は各々、アルミニウムまたは銀等を主成分とする金属細線である。基板２は、ガラス基板、石英基板、水晶基板等である。本形態において、基板２は四角形であり、基板２は、一方面２ａに対する反対側の面である他方面２ｂと一方面２ａとの間に計４つの側面２１（側面２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄ）を有している。
【００１２】
偏光素子１において、金属部３は、基板２の一方面２ａのうち、光が入射する有効領域２８でＹ軸方向に延在している。本形態において、有効領域２８は、基板２より小さな四角形の領域であり、基板２の一方面２ａには、有効領域２８と基板２の縁２ｃ（側面２１）との間に枠状領域２５を有している。本形態において、金属部３は、有効領域２８から枠状領域２５まで突出するように形成されている。本形態においては、金属部３が基板２の縁２ｃまでは延在していないが、金属部３が基板２の縁２ｃまで延在するように構成してもよい。
【００１３】
基板２は、例えば、厚さが０．５ｍｍから０．８ｍｍである。金属部３の太さ、およびスペース（ワイヤー状金属層４１の間隔）は、例えば４００ｎｍ以下である。金属部３の太さおよびスペースは各々、例えば５０ｎｍから２００ｎｍである。このように構成した偏光素子１では、金属部３のピッチが入射光の波長よりも十分短ければ、入射光のうち、金属部３の長手方向に直交する電場ベクトルを有する成分である第１偏光の光は透過し、金属部３の長手方向と平行な電場ベクトルを有する成分である第２偏光の光は反射される。なお、金属部３の端部には光吸収膜が形成される場合もある。
【００１４】
（撥水膜４）
偏光素子１においては、金属部３が空気中の水分との反応により劣化することを抑制する目的に、金属部３の表面が撥水膜４で覆われている。撥水膜４は、偏光素子１をフッ素系シランカップリング剤、フッ素系アルミネートカップリング剤、フッ素系チタネートカップリング剤等の含フッ素化合物の溶液に浸漬した後、熱処理を行うことにより形成される。従って、撥水膜４は、含フッ素組成物等からなる。
【００１５】
撥水膜４は、基板２の一方面２ａおよび他方面２ｂにも形成されており、一方面２ａおよび他方面２ｂは撥水性を有している。但し、本形態の偏光素子１の端部１ａには、親水性領域４０が設けられており、図１には、親水性領域４０をグレーの領域として表してある。親水性領域４０は、例えば、撥水膜４を構成する組成物における結合を部分に切断することによって撥水性を低下させた領域等からなる。
【００１６】
本形態において、親水性領域４０が設けられた端部１ａは、基板２の側面２１（側面２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄ）を含んでいる。本形態において、親水性領域４０が設けられた端部１ａは、基板２の側面２１であり、基板２の一方面２ａの全面、および他方面２ｂの全面は、撥水膜４による撥水性が付与された領域になっている。
【００１７】
（マーク５）
偏光素子１の製造工程等においては、偏光素子１の特性や履歴等を示すマーク５をインクにより付す場合がある。例えば、偏光素子１を検査した際、不具合にマーク５を付しておけば、不具合のある偏光素子１が誤って後工程に回送されるという事態が発生しにくい。但し、偏光素子１に形成された撥水膜４の表面は、インクとの濡れ性が低いため、マーク５を付しにくい。
【００１８】
これに対して、本形態の偏光素子１の端部１ａには、親水性領域４０が設けられており、親水性領域４０では、インクが濡れやすい。従って、偏光素子１の親水性領域４０では、マーク５をインクにより容易に付すことができる。図１には、偏光素子１の基板２の側面２１ｄにマーク５を付した様子を示してある。
【００１９】
（偏光素子１の製造方法）
図２、図３および図４を参照して、本形態の偏光素子１の製造方法の一例を説明する。図２は、図１に示す偏光素子１を製造するためのマザー基板２０の説明図である。図３は、図２に示すマザー基板２０を分割した後、撥水膜４を形成した後の偏光素子１の説明図である。図４は、図１に示す親水性領域４０の形成方法を示す説明図である。
【００２０】
図１に示す偏光素子１を製造するにあたって、本形態では、図２に示すマザー基板２０を用いる。マザー基板２０は、一点鎖線Ｌｙで囲んだ領域が、複数の偏光素子１が切り出される領域２０ｙであり、それ以外の領域は、分割工程で除去される領域２０ｚである。本形態では、まず、マザー基板２０の一方面２０ａに複数の偏光素子１を構成する複数の金属部３を形成する。具体的には、マザー基板２０の一方面に金属膜を形成した後、金属膜をパターニングする。
【００２１】
次に、マザー基板２０を分割し、撥水膜４を形成する前の複数の偏光素子１を得る。次に、撥水膜形成工程では、フッ素系シランカップリング剤、フッ素系アルミネートカップリング剤、フッ素系チタネートカップリング剤等が配合された処理液に偏光素子１を浸漬した後、熱処理を行い、偏光素子１の全面に撥水膜４を形成する。その結果、図３に示すように、撥水膜４は、基板２の一方面２ａ、基板２の他方面２ｂ、および基板２の側面２１に形成され、一方面２ａでは、金属部３が撥水膜４で覆われる。
【００２２】
次に、光照射工程では、偏光素子１の端部１ａに光を照射して端部１ａに設けられた撥水膜４の撥水性を低下させる。本形態では、図４に示すように、支持部材８としての真空チャック付きのテーブル等によって基板２を他方面２ｂ側から支持した状態で、光を偏光素子１の端部１ａに照射する。本形態において、光は、低圧水銀ランプ（主波長２５４ｎｍ、１８５ｎｍ）、エキシマＵＶランプ（主波長２７２ｎｍ）等から出射されたＵＶ光であり、光照射工程では、酸素または水を含む雰囲気中でＵＶ光をマスク９を介して偏光素子１の端部１ａに照射する。本形態では、空気中でＵＶ光をマスク９を介して偏光素子１の端部１ａに照射する。その結果、ＵＶ光の照射によって発生した原子状酸素、オゾン、ＯＨラジカル等の活性酸素種が、撥水膜４を構成する有機組成物における結合を部分に切断することによって撥水性を低下させた親水性領域４０を形成する。
【００２３】
マスク９では、透光性基板９１に遮光層９２が形成されており、遮光層９２によってＵＶ光の照射範囲が規定される。本形態において、遮光層９２は、基板２と重なる範囲より広い範囲に設けられている。従って、マスク９において遮光層９２が形成されていない透光部９３を透過したＵＶ光は、基板２の側面２１に回り込んで側面２１に照射されるが、一方面２ａには照射されない。それ故、基板２の側面２１が親水性領域４０となる。
【００２４】
また、支持部材８は、基板２の他方面２ａの全体に重なった状態にあり、基板２の他方面２ａは空気と接していない。従って、ＵＶ光が基板２の他方面２ａに到達した場合でも、基板２の他方面２ａでは活性酸素種が発生しないので、基板２の他方面２ａには親水性領域４０が形成されない。
【００２５】
かかる方法によれば、偏光素子１にマスクキング用のコーティングを行って、撥水膜４を部分的に形成する方法等より、親水性領域４０を効率よく形成することができる。また、支持部材８が基板２を他方面２ｂ側から支持するため、金属部３が損傷しにくい。
【００２６】
光照射工程において、ＵＶ光を照射する際、マスク９と偏光素子１との間隔は狭い方が、ＵＶ光の照射領域を精度よく限定できるという利点がある。但し、マスク９と偏光素子１とが接すると、金属部３が損傷するおそれがある。従って、マスク９と偏光素子１との間隔は０．１ｍｍから０．３ｍｍであることが好ましく、かかる態様によれば、金属部３が損傷することを防止しつつ、偏光素子１に対するＵＶ光の照射領域を精度よく限定することができる。
【００２７】
［実施形態２］
図５は、本発明の実施形態２に係る偏光素子１の斜視図である。図６は、図５に示す親水性領域４０の形成方法を示す説明図である。なお、本形態、および後述する実施形態の基本的な構成は実施形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
【００２８】
図５に示すように、本形態の偏光素子１では、実施形態１と同様、金属部３の表面は撥水膜４で覆われている。撥水膜４は、基板２の一方面２ａおよび他方面２ｂにも形成されている。但し、本形態の偏光素子１の端部１ａには親水性領域４０が設けられている。本形態において、親水性領域４０が設けられた端部１ａは、基板２の側面２１（側面２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄ）、および基板２の一方面２ａのうち、縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｅを含んでいる。本形態において、親水性領域４０が設けられた端部１ａは、基板２の側面２１、および基板２の一方面２ａにおいて縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｅである。かかる偏光素子１では、側面２１や部分２ｅからなる親水性領域４０にマーク５をインクにより容易に付すことができる。
【００２９】
かかる構成の偏光素子１を製造するにあたって、撥水膜形成工程において偏光素子１の全面に撥水膜４を形成した後、光照射工程では、空気中でＵＶ光をマスク９を介して偏光素子１の端部１ａに照射する。本形態において、マスク９の遮光層９２は、基板２と重なる範囲よりわずかに狭い範囲に設けられている。従って、マスク９の透光部９３を透過したＵＶ光は、基板２の一方面２ａにおいて縁２ｃに沿う部分２ｅと、側面２１とに照射される。それ故、偏光素子１では、基板２の一方面２ａにおいて縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｅ、および基板２の側面２１が親水性領域４０となる。
【００３０】
また、支持部材８は、基板２の他方面２ｂの全体に重なった状態にあり、空気に接していない。従って、ＵＶ光が基板２の他方面２ｂに到達した場合でも、基板２の他方面２ｂでは、撥水膜４に活性酸素種が接しないので、基板２の他方面２ｂには親水性領域４０が形成されない。
【００３１】
［実施形態２の変形例］
図７は、本発明の実施形態２の変形例に係る偏光素子１の斜視図である。図５に示す偏光素子１では、基板２の一方面２ａにおいて縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｅ、および基板２の側面２１が親水性領域４０であったが、本形態では、図７に示すように、基板２の一方面２ａの角において縁２ｃに沿って延在する三角形の部分２ｆ、および基板２の側面２１が親水性領域４０になっている。かかる構成は、図６に示すマスク９において、三角形の部分２ｆを透光部９３とすることによって実現することができる。
【００３２】
かかる態様によれば、比較的面積が広い三角形の部分２ｆ（親水性領域４０）にマーク５を付すことができるので、マーク５を効率よく確実に付すことができる。
【００３３】
［実施形態３］
図８は、本発明の実施形態３に係る偏光素子１の斜視図である。図９は、図８に示す親水性領域４０の形成方法を示す説明図である。図８に示すように、本形態の偏光素子１では、実施形態１と同様、金属部３の表面は撥水膜４で覆われている。撥水膜４は、基板２の一方面２ａおよび他方面２ｂにも形成されている。但し、本形態の偏光素子１の端部１ａには親水性領域４０が設けられている。本形態において、親水性領域４０が設けられた端部１ａは、基板２の側面２１（２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄ）、および基板２の他方面２ｂのうち、縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｇを含んでいる。本形態において、親水性領域４０が設けられた端部１ａは、基板２の側面２１、および他方面２ｂにおいて縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｇである。従って、親水性領域４０に対して、マーク５をインクにより容易に付すことができる。
【００３４】
かかる構成の偏光素子１を製造するにあたって、撥水膜形成工程において偏光素子１の全面に撥水膜４を形成した後、光照射工程では、大気中等の含酸素雰囲気中でＵＶ光を、マスク９を介して偏光素子１に照射する。本形態においては、図９に示すように、マスク９の遮光層９２は、実施形態１と同様、基板２と重なる範囲より広い範囲に設けられている。従って、マスク９の透光部９３を透過したＵＶ光は、基板２の側面２１に回り込んで側面２１には照射されるが、一方面２ａには照射されない。それ故、基板２の側面２１が親水性領域４０となるが、一方面２ａには、親水性領域４０が形成されない。
【００３５】
また、支持部材８は、基板２の他方面２ａのうち、縁２ｃに沿う枠状の部分２ｇ以外の部分に重なっている。このため、縁２ｃに沿う枠状の部分２ｇは、支持部材８から張り出しており、空気と接している。従って、ＵＶ光が基板２の他方面２ａ側まで到達した際、基板２の他方面２ａのうち、支持部材８が重なっている領域では、撥水膜４に活性酸素種が接しないが、縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｇでは、撥水膜４に活性酸素種が接する。従って、基板２の他方面２ｂでは、縁２ｃに沿う枠状の部分２ｇが親水性領域４０となる。
【００３６】
［実施形態３の変形例］
実施形態３において、実施形態２と同様、マスク９の遮光層９２が、基板２と重なる範囲よりわずかに狭い範囲に重なっていれば、さらに、基板２の一方面２ａにおいて縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｅを親水性領域４０とすることができる。
【００３７】
［実施形態４］
図１０は、本発明の実施形態４に係る偏光素子１の斜視図である。図１１は、図１０に示す偏光素子１を製造するためのマザー基板２０の説明図である。図１２は、図１０に示す親水性領域４０の形成方法を示す説明図である。
【００３８】
図１０に示すように、本形態の偏光素子１では、実施形態１と同様、金属部３の表面は撥水膜４で覆われている。撥水膜４は、基板２の一方面２ａおよび他方面２ｂにも形成されている。但し、本形態の偏光素子１の端部１ａには親水性領域４０が設けられている。本形態において、親水性領域４０が設けられた端部１ａは、基板２の一方面２ａのうち、縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｅを含んでいる。本形態において、基板２の一方面２ａにおいて縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｅは、撥水膜４の撥水性を低下させた親水性領域４０になっている。また、側面２１は、マザー基板２０から分割した破断面であるので親水性領域４０となっている。かかる偏光素子１では、親水性領域４０に対しては、マーク５をインクにより容易に付すことができる。
【００３９】
偏光素子１を製造するにあたって、本形態では、マザー基板２０の状態で、撥水膜形成工程、および光照射工程を行い、その後、分割工程を行う。より具体的には、図２に示すように、マザー基板２０の一方面２０ａに複数の偏光素子１を構成する複数の金属部３を形成した後、撥水膜形成工程では、マザー基板２０を、フッ素系シランカップリング剤、フッ素系アルミネートカップリング剤、フッ素系チタネートカップリング剤等が配合された処理液に浸漬した後、熱処理を行う。その結果、図１１に示すように、マザー基板２０の全面に撥水膜４が形成される。より具体的には、撥水膜４は、マザー基板２０の一方面２０ａ、マザー基板２０の他方面２０ｂ、およびマザー基板２０の側面に形成され、一方面２０ａでは、金属部３が撥水膜４で覆われる。
【００４０】
次に、光照射工程では、図１２に示すように、支持部材８としての真空チャック付きのテーブル等によってマザー基板２０を他方面２０ｂ側から支持した状態で、マスク９の透光部９３から、マザー基板２０のうち、偏光素子１として分割される領域の境界にＵＶ光を照射する。その結果、マザー基板２０の一方面２０ａのうち、偏光素子１として分割される領域の境界に沿って、撥水膜４の撥水性が低下した親水性領域４０が形成される。
【００４１】
その際、支持部材８は、マザー基板２０の他方面２０ｂの全体に重なった状態にあり、マザー基板２０の他方面２０ｂは、空気に接していない。従って、ＵＶ光がマザー基板２０の他方面２０ｂに到達した場合でも、マザー基板２０の他方面２０ｂでは、撥水膜４に活性酸素種が接しないので、マザー基板２０の他方面２０ｂには親水性領域４０が形成されない。
【００４２】
しかる後に、マザー基板２０を複数の偏光素子１に分割すると、図１０を参照して説明した偏光素子１を得ることができる。
【００４３】
かかる方法によれば、マザー基板２０にマスクキング用のコーティングを行って、撥水膜４を部分的に形成する方法等より、親水性領域４０を効率よく形成することができる。また、支持部材８がマザー基板２０を他方面２０ｂ側から支持するため、金属部３が損傷しにくい。また、ＵＶ光を照射する際、マスク９とマザー基板２０との間隔は狭い方が好ましいが、マスク９とマザー基板２０とが接すると、金属部３が損傷するおそれがある。従って、マスク９とマザー基板２０との間隔は０．１ｍｍから０．３ｍｍであることが好ましく、かかる態様によれば、マザー基板２０に対するＵＶ光の照射領域を精度よく限定することができる。
【００４４】
［実施形態４の変形例］
図１３は、本発明の実施形態４の変形例に係る偏光素子１の斜視図である。図１４は、図１３に示す親水性領域４０の形成方法を示す説明図である。図示を省略するが、図１３に示す偏光素子１では、実施形態４と同様、親水性領域４０が設けられた端部１ａは、基板２の一方面２ａのうち、縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｅを含んでいる。本形態では、さらに、親水性領域４０が設けられた端部１ａは、基板２の他方面２ｂにおいて縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｇを含んでいる。本形態において、基板２の一方面２ａのうち、縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｅ、および基板２の他方面２ｂのうち、縁２ｃに沿って延在する枠状の部分２ｇは、撥水膜４の撥水性を低下させた親水性領域４０になっている。また、側面２１は、マザー基板２０から分割した破断面であるので親水性領域４０になっている。かかる偏光素子１では、親水性領域４０に対しては、マーク５をインクにより容易に付すことができる。
【００４５】
かかる構成の偏光素子１を製造するにあたって、本形態でも、実施形態４と同様、マザー基板２０の状態で、撥水膜形成工程を行った後、光照射工程を行う。本形態では、図１４に示すように、マザー基板２０を他方面２０ｂ側から支持する支持部材８は、マザー基板２０のうち、偏光素子１として分割される領域の境界を避けた位置でマザー基板２０に向けて突出した凸部８０を有している。従って、マザー基板２０の他方面２０ｂでは、偏光素子１として分割される領域の境界に相当する部分は、空気と接している。それ故、マスク９の透光部９３から、マザー基板２０のうち、偏光素子１として分割される領域の境界にＵＶ光を照射すると、マザー基板２０の一方面２０ａ、および他方面２０ｂの双方において、偏光素子１として分割される領域の境界に沿って、撥水膜４の撥水性が低下した親水性領域４０が形成される。
【００４６】
しかる後に、マザー基板２０を複数の偏光素子１に分割すると、図１１を参照して説明した偏光素子１を得ることができる。
【００４７】
［他の実施形態］
上記実施形態では、金属部３が設けられていない領域に親水性領域４０を設けたが、金属部３が設けられている領域の一部が親水性領域４０になっている態様であってもよい。上記実施形態では、光照射工程でＵＶ光を照射したが、レーザー光等の光を照射してもよい。
【００４８】
［投射型表示装置の構成例］
上述した実施形態に係る偏光素子１を用いた電子機器の一例として、投射型表示装置（液晶プロジェクター）を説明する。図１５は、透過型の液晶パネルを用いた投射型表示装置の説明図である。図１５に示す投射型表示装置２１００では、各色の液晶パネル１００と、液晶パネル１００に供給される光を出射する光源部と、液晶パネルによって変調された光を投射する投射光学系とが設けられ、光源部から液晶パネルを経由して投射光学系に到る光路に、本発明を適用した偏光素子１が配置される。本形態では、ライトバルブとしての各色の液晶装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂは各々、液晶パネル１００の光入射側および光出射側に入射側偏光分離素子１１１、および出射側偏光分離素子１１２を備えており、入射側偏光分離素子１１１、および出射側偏光分離素子１１２の少なくとも一方は、本発明を適用した偏光素子１である。
【００４９】
図１５に示す投射型表示装置２１００には、ハロゲンランプ等の白色光源を有するランプユニット２１０２（光源部）が設けられている。ランプユニット２１０２から射出された投射光は、内部に配置された３枚のミラー２１０６および２枚のダイクロイックミラー２１０８によってＲ（赤）色、Ｇ（緑）色、Ｂ（青）色の３原色に分離される。分離された投射光は、各原色に対応する液晶装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂにそれぞれ導かれ、変調される。なお、Ｂ色の光は、他のＲ色やＧ色と比較すると光路が長いので、その損失を防ぐために、入射レンズ２１２２、リレーレンズ２１２３および出射レンズ２１２４
を有するリレーレンズ系２１２１を介して導かれる。ここで、液晶装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂは各々、液晶パネル１００に対して入射側で重なる入射側偏光分離素子１１１と、液晶パネル１００に対して出射側で重なる出射側偏光分離素子１１２とを有している。
【００５０】
液晶装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂによってそれぞれ変調された光は、ダイクロイックプリズム２１１２に３方向から入射する。そして、ダイクロイックプリズム２１１２において、Ｒ色およびＢ色の光は９０度に反射し、Ｇ色の光は透過する。したがって、各原色の画像が合成された後、スクリーン２１２０には、投射レンズ群２１１４（投射光学系）によってカラー画像が投射される。
【００５１】
（他の投射型表示装置）
投射型表示装置については、光源部として、各色の光を出射するＬＥＤ光源等を用い、かかるＬＥＤ光源から出射された色光を各々、別の液晶装置に供給するように構成してもよい。また、図８に示す投射型表示装置２１００では、液晶装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂに透過型の液晶パネル１００を用いたが、反射型の液晶パネルを用いた投射型表示装置において、光源部から液晶パネルを経由して投射光学系に到る光路に、図１〜図７を参照して説明した偏光素子１が配置してもよい。また、１つの液晶装置によってカラー画像を表示する投射型表示装置に用いる偏光素子に、本発明を適用した偏光素子１を用いてもよい。
【００５２】
（他の電子機器）
本発明を適用した偏光素子１を備えた電子機器は、上記実施形態の投射型表示装置２１００に限定されない。例えば、投射型のＨＵＤ（ヘッドアップディスプレイ）や直視型のＨＭＤ（ヘッドマウントディスプレイ）、パーソナルコンピューター、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ等の電子機器に用いてもよい。
【符号の説明】
【００５３】
１…偏光素子、１ａ…端部、２…基板、２ａ、２０ａ…一方面、２ｂ、２０ｂ…他方面、２ｃ…縁、２ｅ、２ｆ、２ｇ…部分、３…金属部、４…撥水膜、８…支持部材、９…マスク、２０…マザー基板、２１、２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄ…側面、４０…親水性領域、１００…液晶パネル、１００Ｂ、１００Ｇ、１００Ｒ…液晶装置、１１１…入射側偏光分離素子、１１２…出射側偏光分離素子、２１００…投射型表示装置、２１０２…ランプユニット（光源部）、２１０６…ミラー、２１０８…ダイクロイックミラー、２１１２…ダイクロイックプリズム、２１１４…投射レンズ群（投射光学系）、２１２０…スクリーン、２１２１…リレーレンズ系。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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