(57)【要約】【課題】可視光線と近赤外線の一部（波長９００〜１１００ｎｍ）とを選択的に透過させる機能を有し、かつ、入射角依存性の少ない光学フィルターであって、該光学フィルターを太陽光の下で用いた場合であっても赤外線ノイズ量の少ない装置を提供することができる光学フィルター、および、該光学フィルターを用いた装置を提供すること。【解決手段】波長８００〜９３０ｎｍに吸収極大を有する化合物（Ａ）を含み、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光において、波長９００〜１１００ｎｍのうちの少なくとも一部の波長（域）Ｉの光と可視光とを透過し、波長（域）Ｉ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の平均透過率が３０％以下となるように遮断する、光学フィルター。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長８００〜９３０ｎｍに吸収極大を有する化合物（Ａ）を含み、
光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光において、
波長９００〜１１００ｎｍのうちの少なくとも一部の波長（域）Ｉの光と可視光とを透過し、波長（域）Ｉ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の平均透過率が３０％以下となるように遮断する、
光学フィルター。
【請求項２】
下記要件（ａ）〜（ｃ）を満たし、
光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光において、
波長９００〜１１００ｎｍのうちの少なくとも一部の波長（域）Ｉの光と可視光とを透過し、波長（域）Ｉ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の平均透過率が３０％以下となるように遮断する、
光学フィルター。
（ａ）波長４３０〜５８０ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率の平均値が６０％以上
（ｂ）波長８００〜９００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率の平均値が１０％以下
（ｃ）波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる最も短い波長をλＩＲＴ0（ｎｍ）としたとき、該波長λＩＲＴ0が９００〜１１００ｎｍにあり、
波長８００ｎｍ〜（λＩＲＴ0−５０）ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度度の角度で入射した光の透過率の最大値が１５％以下
【請求項３】
波長８００〜９３０ｎｍに吸収極大を有する化合物（Ａ）を含む、請求項２に記載の光学フィルター。
【請求項４】
波長６００ｎｍ以上８００ｎｍ未満に吸収極大波長を有する化合物（Ｂ）を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項５】
波長３００〜４２５ｎｍに吸収極大波長を有する化合物（Ｘ）を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項６】
波長８００〜９３０ｎｍに吸収極大を有する化合物（Ａ）を含む層を少なくとも１層有し、
下記式（Ａ１）を満たす、
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【数１】
2020034701.tif 000042
［式（Ａ１）中の符号は、以下のことを示す。
化合物（Ａ）を含む層をｎ層有する光学フィルターにおいて、
ＣＡｎはｎ層中の化合物（Ａ）の濃度（ｗｔ％）を示し、ｌＡｎは該ｎ層の厚み（μｍ）を示す。］
【請求項７】
波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％以上となる波長（域）の合計が２０〜１５０ｎｍである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項８】
下記要件（ｄ）を満たす、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルター。
（ｄ）波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる最も短い波長をλＩＲＴ0（ｎｍ）とし、
波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した光の透過率が５０％となる最も短い波長をλＩＲＴ35とした場合、下記式（ｄ１）を満たす
｜λＩＲＴ0−λＩＲＴ35｜≦３０ｎｍ      （ｄ１）
【請求項９】
誘電体多層膜を有し、該誘電体多層膜を構成する層のうち、厚みが６０ｎｍ以下である層が２層以上連続した積層部分を４個以上有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項１０】
誘電体多層膜を有し、
光学フィルターに含まれる全ての誘電体多層膜の層数をＡとし、厚みが６０ｎｍ以下である層の層数をＢとした時、Ｂ／Ａ＞０．２を満たす、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルターを含む固体撮像装置。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルターを含むカメラモジュール。
【請求項１３】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルターを含む生体認証装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた用途に関する。詳しくは、可視光線と一部の近赤外線を選択的に透過させる光学フィルター、ならびに、該光学フィルターを用いた固体撮像装置、カメラモジュールおよび生体認証装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話、スマートフォンなどの固体撮像装置にはカラー画像の固体撮像素子であるＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサーが使用されているが、これら固体撮像素子は、その受光部において人間の目では感知できない近赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードが使用されている。これらの固体撮像素子では、人間の目で見て自然な色合いにさせる視感度補正を行うことが必要であり、特定の波長領域の光線を選択的に透過またはカットする光学フィルター（例えば近赤外線カットフィルター）を用いることが多い。
【０００３】
このような近赤外線カットフィルターとしては、従来から、各種方法で製造されたものが使用されている。例えば、特許文献１には、透明樹脂からなる基板を用い、透明樹脂中に近赤外線吸収剤を含有させた近赤外線カットフィルターが記載されており、特許文献２には銅イオンを含有するガラス基板を用いた近赤外カットフィルターが記載されている。
【０００４】
近年、可視光線と合わせて、近赤外線を利用したモーションキャプチャーや距離認識（空間認識）などのセンシング機能をカメラモジュールに付与する試みが行われている。このような用途では、可視光線と一部の近赤外線を選択的に透過させることが必要となるため、従来のような近赤外線を一律に遮断する近赤外線カットフィルターを用いることはできない。
【０００５】
可視光線と一部の近赤外線を選択的に透過させる光学フィルターとしては、例えば、特許文献３に記載の光学フィルターが知られている。（株）東亜理化学研究所やセラテックジャパン（株）などは、ガラス基板上に誘電体多層膜を製膜したフィルターを販売している。また、特許文献４〜７には、近赤外線吸収剤を含有させた可視光線と一部の近赤外線を選択的に透過させる光学フィルターが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平６−２００１１３号公報
【特許文献２】特許第５０３６２２９号公報
【特許文献３】特開２０１５−２２７９６３号公報
【特許文献４】国際公開第２０１５／０５６７３４号
【特許文献５】特開２０１６−１４２８９１号公報
【特許文献６】特開２０１６−１６２９４６号公報
【特許文献７】特開２０１６−２００７７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、従来の可視光線と一部の近赤外線を選択的に透過させる光学フィルターでは、太陽光の下で検出を行う際に、青、緑、赤色の画素が有する近赤外線に対する感度によって、ノイズが発生し、シグナルとノイズの比（Ｓ／Ｎ比）が悪化することが分かった。特に、近年、固体撮像装置等は薄型化が求められる傾向にあり、レンズユニットを用いる場合や別の機構で撮像画像を得る場合のいずれにおいても、固体撮像装置等に入射する光の角度が大きく、最大で３５度程度になる場合がある。このため、固体撮像装置等に具備する光学フィルターにも、高角度で入射することを考慮した構成が求められる。
【０００８】
しかしながら、従来の光学フィルターでは、該フィルターに対し光が高角度で入射する場合、光学フィルターへの垂直入射を考慮して設定した所定の透過させたい近赤外線以外の近赤外線の透過率が増加し、ノイズが悪化することが分かった。特に、選択的に透過させたい近赤外線が９００ｎｍ以上の場合であって、該選択透過帯域より短波長側の入射角依存性が大きい光学フィルターを用いる場合、該フィルターに光線が斜めから入射すると、センシング機能に用いる近赤外線（選択透過させた近赤外線）のノイズ量（Ｎ／Ｓ比）が増加するほか、カメラ画質や画像端部における色再現性に悪影響が出るなどといった問題が生じることが分かった。
【０００９】
図１に、フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した波長９１０〜９９９ｎｍの光を透過する従来の可視光線と一部の近赤外線を選択的に透過させる光学フィルターの例を示す。この可視光線と一部の近赤外線を選択的に透過させる光学フィルターの面方向に対して垂直方向から光が入射した場合と、垂直方向から３５度の角度で光が入射した場合とでは、近赤外線の透過帯における透過率が５０％となる最も短い波長は、４２ｎｍ短波長側にシフトした。つまり、該フィルターへの光の入射角度が３５°（３５度入射）になると、近赤外領域の選択透過帯域（近赤外線選択透過帯域）が大幅に短波長側にシフトしてしまい、本来光線カットすべき波長領域（この図の例では８５０〜９００ｎｍ付近）の透過率が高くなってしまうことが確認された。
【００１０】
また、近赤外線を利用したモーションキャプチャーや距離認識（空間認識）、生体認証などにおけるセンシングでは、従来、波長８００〜９００ｎｍの光を使用していたが、センシングする光源がより人の眼に見えないように、波長９００〜１１００ｎｍのより長波長の光が使われるようになってきた。
【００１１】
本発明の目的は、可視光線と近赤外線の一部（波長９００〜１１００ｎｍ）とを選択的に透過させる機能を有し、かつ、入射角依存性の少ない光学フィルターであって、該光学フィルターを太陽光の下で用いた場合であっても、赤外線ノイズ量の少ない装置を提供することができる光学フィルターおよび該光学フィルターを用いた装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の光学フィルターによれば、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明の態様例を以下に示す。
【００１３】
［１］  波長８００〜９３０ｎｍに吸収極大を有する化合物（Ａ）を含み、
光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光において、
波長９００〜１１００ｎｍのうちの少なくとも一部の波長（域）Ｉの光と可視光とを透過し、波長（域）Ｉ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の平均透過率が３０％以下となるように遮断する、
光学フィルター。
【００１４】
［２］  下記要件（ａ）〜（ｃ）を満たし、
光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光において、
波長９００〜１１００ｎｍのうちの少なくとも一部の波長（域）Ｉの光と可視光とを透過し、波長（域）Ｉ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の平均透過率が３０％以下となるように遮断する、光学フィルター。
（ａ）波長４３０〜５８０ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率の平均値が６０％以上
（ｂ）波長８００〜９００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率の平均値が１０％以下
（ｃ）波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる最も短い波長をλＩＲＴ0（ｎｍ）としたとき、該波長λＩＲＴ0が９００〜１１００ｎｍにあり、
波長８００ｎｍ〜（λＩＲＴ0−５０）ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度度の角度で入射した光の透過率の最大値が１５％以下
【００１５】
［３］  波長８００〜９３０ｎｍに吸収極大を有する化合物（Ａ）を含む、［２］に記載の光学フィルター。
【００１６】
［４］  波長６００ｎｍ以上８００ｎｍ未満に吸収極大波長を有する化合物（Ｂ）を含む、［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルター。
［５］  波長３００〜４２５ｎｍに吸収極大波長を有する化合物（Ｘ）を含む、［１］〜［４］のいずれかに記載の光学フィルター。
【００１７】
［６］  波長８００〜９３０ｎｍに吸収極大を有する化合物（Ａ）を含む層を少なくとも１層有し、
下記式（Ａ１）を満たす、
［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルター。
【００１８】
【数１】
2020034701.tif 000002
［式（Ａ１）中の符号は、以下のことを示す。
化合物（Ａ）を含む層をｎ層有する光学フィルターにおいて、
ＣＡｎはｎ層中の化合物（Ａ）の濃度（ｗｔ％）を示し、ｌＡｎは該ｎ層の厚み（μｍ）を示す。］
【００１９】
［７］  波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％以上となる波長（域）の合計が２０〜１５０ｎｍである、［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルター。
【００２０】
［８］  下記要件（ｄ）を満たす、［１］〜［７］のいずれかに記載の光学フィルター。
（ｄ）波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる最も短い波長をλＩＲＴ0（ｎｍ）とし、
波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した光の透過率が５０％となる最も短い波長をλＩＲＴ35とした場合、下記式（ｄ１）を満たす
｜λＩＲＴ0−λＩＲＴ35｜≦３０ｎｍ      （ｄ１）
【００２１】
［９］  誘電体多層膜を有し、該誘電体多層膜を構成する層のうち、厚みが６０ｎｍ以下である層が２層以上連続した積層部分を４個以上有する、［１］〜［８］のいずれかに記載の光学フィルター。
【００２２】
［１０］  誘電体多層膜を有し、
光学フィルターに含まれる全ての誘電体多層膜の層数をＡとし、厚みが６０ｎｍ以下である層の層数をＢとした時、Ｂ／Ａ＞０．２を満たす、［１］〜［９］のいずれかに記載の光学フィルター。
【００２３】
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学フィルターを含む固体撮像装置。
［１２］  ［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学フィルターを含むカメラモジュール。
［１３］  ［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学フィルターを含む生体認証装置。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、可視光線と近赤外線の一部（波長９００〜１１００ｎｍ）とを選択的に透過させる機能を有し、かつ、可視光透過帯域の長波長側や、近赤外線選択透過帯域の短波長側などにおける、入射角依存性の少ない光学フィルターであって、該光学フィルターを太陽光の下で用いた場合であっても、赤外線ノイズ量の少ない、良好なカメラ画質等を得ることができる光学フィルターを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】図１は、比較例１で得られた従来の可視光線と一部の近赤外線を選択的に透過させる光学フィルターの分光透過スペクトルである。
【図２】図２は、本発明の光学フィルターの構成例を示す概略断面模式図である。
【図３】図３は、本発明の光学フィルターを含む固体撮像装置およびモジュールの一例を示す概略断面模式図である。
【図４】図４は、本発明の光学フィルターを含む固体撮像装置、カメラモジュール、生体認証装置の一例を示す概略断面模式図である。
【図５】図５（Ａ）は、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率を測定する方法を示す概略図である。図５（Ｂ）は、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した光の透過率を測定する方法を示す概略図である。
【図６】図６は、本発明の光学フィルターを含む固体撮像装置におけるセンサー部分の一例を示す概略断面模式図である。
【図７】図７は、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構が公開している、ある日時の岐阜の照射量データである。
【図８】図８は、青、緑、赤色、赤外の各センサー画素の波長別感度の一例である。
【図９】図９は、実施例１で得られた光学フィルター１の分光透過スペクトルである。
【図１０】図１０は、実施例２で得られた光学フィルター２の分光透過スペクトルである。
【図１１】図１１は、実施例３で得られた光学フィルター３の分光透過スペクトルである。
【図１２】図１２は、実施例４で得られた光学フィルター４の分光透過スペクトルである。
【図１３】図１３は、実施例５で得られた光学フィルター５の分光透過スペクトルである。
【図１４】図１４は、実施例６で得られた光学フィルター６の分光透過スペクトルである。
【図１５】図１５は、実施例７で得られた光学フィルター７の分光透過スペクトルである。
【図１６】図１６は、実施例８で得られた光学フィルター８の分光透過スペクトルである。
【図１７】図１７は、実施例９で得られた光学フィルター９の分光透過スペクトルである。
【図１８】図１８は、比較例２で得られた光学フィルター１１の分光透過スペクトルである。
【図１９】図１９は、比較例３で得られた光学フィルター１２の分光透過スペクトルである。
【図２０】図２０は、比較例４で得られた光学フィルター１３の分光透過スペクトルである。
【図２１】図２１は、比較例５で得られた光学フィルター１４の分光透過スペクトルである。
【図２２】図２２は、比較例６で得られた光学フィルター１５の分光透過スペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
≪光学フィルター≫
本発明に係る光学フィルター（以下「本フィルター」ともいう。）は、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光において、波長９００〜１１００ｎｍのうちの少なくとも一部の波長（域）Ｉの光と可視光とを透過し、波長（域）Ｉ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の平均透過率が３０％以下となるように遮断する光学フィルターであって、下記要件（Ｉ）または（ＩＩ）を満たす。
以下、下記要件（Ｉ）を満たす光学フィルターを本フィルター１ともいい、下記要件（ＩＩ）を満たす光学フィルターを本フィルター２ともいう。
【００２７】
要件（Ｉ）：波長８００〜９３０ｎｍに吸収極大を有する化合物（Ａ）を含む
要件（ＩＩ）：下記要件（ａ）〜（ｃ）を満たす
（ａ）波長４３０〜５８０ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率の平均値が６０％以上
（ｂ）波長８００〜９００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率の平均値が１０％以下
（ｃ）波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる最も短い波長をλＩＲＴ0（ｎｍ）としたとき、該波長λＩＲＴ0が９００〜１１００ｎｍにあり、
波長８００ｎｍ〜（λＩＲＴ0−５０）ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度度の角度で入射した光の透過率の最大値が１５％以下
【００２８】
本発明において、波長Ｘ〜Ｙｎｍなる記載は、Ｘｎｍ以上Ｙｎｍ以下のことを示す。また、波長Ｘ〜Ｙｎｍの透過率の平均値（平均透過率）は、Ｘｎｍ以上Ｙｎｍ以下の、１ｎｍ刻みの各波長における透過率を測定し、その透過率の合計を、測定した透過率の数（波長範囲、Ｙ−Ｘ＋１）で除した値により算出したものである。
【００２９】
本フィルターは、可視光を透過することを一つの特徴とする。該可視光としては、波長４３０〜５８０ｎｍの領域の光が挙げられる。
なお、本発明において、ある波長の光を「透過する」とは、その波長の光の入射光束に対する透過光束の割合（拡散成分を含む）である光線透過率が５０％以上である場合のことをいう。
【００３０】
本フィルターを固体撮像装置などに使用する場合、可視光透過率は高い方が好ましい。具体的には、波長４３０〜５８０ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から測定した場合の透過率の平均値は、好ましくは６０％以上、より好ましくは６５％以上、さらに好ましくは７０％以上、いっそう好ましくは７５％以上、特に好ましくは８０％以上である。この波長域において透過率の平均値が前記範囲にあると、本フィルターを固体撮像装置等に使用した場合、優れた撮像感度を達成することができる。
【００３１】
本フィルターは、波長４３０〜５８０ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した光の透過率の平均値が、好ましくは５７％以上、より好ましくは６２％以上、さらに好ましくは６７％以上、特に好ましくは７２％以上である。透過率の平均値が前記範囲にあるフィルターは、可視光透過帯域における入射角依存性の少ない光学フィルターであるといえ、該フィルターを固体撮像装置等に使用した場合、また、該フィルターに斜め方向から光が入射しても、優れた撮像感度を達成することができる。
【００３２】
本フィルターは、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光において、波長９００〜１１００ｎｍのうちの少なくとも一部の波長（域）Ｉの光を透過することも一つの特徴とする。
前記波長（域）Ｉは、波長または波長域を示し、透過部分の波長幅が２ｎｍ未満の場合も含む。
【００３３】
本フィルターは、このような特徴を有するため、該フィルターを用いることで、モーションキャプチャーや距離認識（空間認識）、生体認証などのセンシングを、より人の眼に見えない光により行うことができる。
図８によれば、センシングを行う赤外画素（ＩＲ画素）のセンサー感度がより良好になる等の点から、前記波長（域）Ｉの上限波長は、好ましくは１０５０ｎｍ、より好ましくは１０２５ｎｍである。また、図７によれば、太陽光線の下で使用する場合を考慮すると、太陽光線の強度分布の観点から、前記波長（域）Ｉの下限波長は、好ましくは９０５ｎｍ以上、より好ましくは９０８ｎｍ以上、特に好ましくは９１０ｎｍ以上である。前記λＩＲＴ0は、該波長（域）Ｉの下限波長と同じ範囲にあることが好ましい。
【００３４】
本フィルターは、図７によれば、太陽光線による７８０ｎｍ超の光によるノイズの影響を抑制する等の点から、また、図８によれば、センシングを行う赤外画素（ＩＲ画素）のセンサー感度がより良好になる等の点から、波長８００〜１２００ｎｍ、好ましくは波長９００〜１１００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％以上となる波長（域）Ｉの合計は、好ましくは２０〜１５０ｎｍ、より好ましくは３０〜１４０ｎｍである。
本フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で光が入射する光に対しても、前記波長（域）Ｉを有するフィルターを容易に得ることができる等の点から、前記波長（域）Ｉの合計は、好ましくは４０ｎｍ以上であり、好ましくは１５０ｎｍ以下、より好ましくは１４０ｎｍ以下である。
波長（域）Ｉの合計が前記範囲にあることで、センシングを行う波長の感度を確保しながらも、センシングを行わない波長によるノイズをより低減することができる。
【００３５】
例えば、前記波長（域）Ｉの合計が２０ｎｍの場合、透過率が５０％以上となる波長（域）Ｉの幅が、２ｎｍ未満である部分が複数箇所存在し、合計で２０ｎｍ分存在していてもよいが、波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％以上となる波長幅が２０ｎｍである部分が１つ存在することが好ましい。本発明において、波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％以上となる波長幅が２ｎｍ以上である幅を透過幅という。
該透過幅は、前記と同様の理由から、好ましくは２０ｎｍ以上、より好ましくは３０ｎｍ以上、特に好ましくは４０ｎｍ以上であり、好ましくは１５０ｎｍ以下、より好ましくは１４０ｎｍ以下である。
【００３６】
また、本フィルターは、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の波長（域）Ｉ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の平均透過率が３０％以下となるように遮断することも一つの特徴とする。
ここで、「光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の波長（域）Ｉ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の平均透過率」とは、波長８００〜１２００ｎｍにおいて、１ｎｍ刻みで波長（域）I以外の波長域の光の透過率を測定し、その透過率の合計を測定した波長域の数で除した値により算出したものである。
前記平均透過率は、好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下、いっそう好ましくは１０％以下、特に好ましくは８％以下である。
平均透過率が前記範囲にあると、センシング等に用いたい所望の波長の光以外の波長８００〜１２００ｎｍの光を遮断することができ、平均透過率が前記範囲にある光学フィルターを用いることで、大きなＳ／Ｎ比を得ることができる。
【００３７】
本フィルターは、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した光において、波長８５０〜１１００ｎｍのうちの少なくとも一部の波長（域）ＩＩの光を透過することが好ましい。
前記波長（域）ＩＩは、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した光において、波長８５０〜１１００ｎｍにおける光を透過する波長または波長域を示し、透過部分の波長幅が２ｎｍ未満の場合も含む。
前記λＩＲＴ35が波長８５０ｎｍ以上にある場合、前記波長（域）ＩＩの下限波長はλＩＲＴ35と同義である。
【００３８】
また、本フィルターは、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した光の波長（域）ＩＩ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の平均透過率が３０％以下となるように遮断することが好ましい。
前記平均透過率は、好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下、いっそう好ましくは１０％以下、特に好ましくは８％以下である。
平均透過率が前記範囲にあると、センシング等に用いたい所望の波長の光以外の波長８００〜１２００ｎｍの光を遮断することができ、平均透過率が前記範囲にある光学フィルターを用いることで、大きなＳ／Ｎ比を得ることができる。
【００３９】
ここで、「光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した光の波長（域）ＩＩ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の平均透過率」とは、波長８００〜１２００ｎｍにおいて、１ｎｍ刻みで波長（域）ＩＩ以外の波長域の光の透過率を測定し、その透過率の合計を測定した波長域の数で除した値により算出したものである。
【００４０】
なお、本発明において、ある波長の光を「遮断する」とは、その波長の光の入射光束に対する透過光束の割合（拡散成分を含む）である光線透過率が３０％以下である場合のことをいう。
【００４１】
本フィルターは、波長８００〜９００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率の平均値は、太陽光線によるノイズを効率的に除く等の点から、好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下、さらに好ましくは９％以下、いっそう好ましくは５％以下、特に好ましくは３％以下となることが望ましい。
透過率の平均値が前記範囲にあると、センシング等に用いたい所望の波長の光以外の波長８００〜１２００ｎｍの光を遮断することができ、透過率の平均値が前記範囲にある光学フィルターを用いることで、大きなＳ／Ｎ比を得ることができる。
【００４２】
本フィルターは、波長８００〜９００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した光の透過率の平均値が、好ましくは２５％以下、より好ましくは２０％以下、いっそう好ましくは１５％以下、さらに好ましくは１３％以下、特に好ましくは５％以下である。透過率の平均値が前記範囲にあるフィルターは、近赤外線帯域における入射角依存性の少ない光学フィルターであるといえ、該フィルターをセンシング等に用いると、近赤外線のノイズ量（Ｎ／Ｓ比）が少なく、カメラ画質や画像端部における色再現性に優れる画像等を得ることができる。
【００４３】
本フィルターは、波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる最も短い波長をλＩＲＴ0（ｎｍ）としたとき、該波長λＩＲＴ0が９００〜１１００ｎｍにあることが好ましく、前記波長（域）Ｉの下限波長と同じ範囲にあることがより好ましく、
波長８００ｎｍ〜（λＩＲＴ0−５０）ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した光の透過率の最大値が、好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下、いっそう好ましくは８％以下、特に好ましくは５％以下である。
透過率の最大値が前記範囲にあるフィルターは、近赤外線帯域における入射角依存性の少ない光学フィルターであるといえ、該フィルターをセンシング等に用いると、近赤外線のノイズ量（Ｎ／Ｓ比）が少なく、カメラ画質や画像端部における色再現性に優れる画像等を得ることができる。
【００４４】
本フィルターは、さらに下記要件（ｄ）を満たすことが好ましい。
（ｄ）波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる最も短い波長をλＩＲＴ0（ｎｍ）とし、
波長８００〜１２００ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した光の透過率が５０％となる最も短い波長をλＩＲＴ35とした場合、下記式（ｄ１）を満たす。
｜λＩＲＴ0−λＩＲＴ35｜≦３０ｎｍ      （ｄ１）
【００４５】
前記式（ｄ１）の右辺は、より好ましくは２５ｎｍ、さらに好ましくは２０ｎｍ、いっそう好ましくは１５ｎｍ、特に好ましくは１３ｎｍである。
前記式（ｄ１）を満たすことで、３５度入射時においても波長８００〜９００ｎｍの遮断性能を維持することが可能となり、本フィルターを含む固体撮像装置、カメラモジュール、生体認証装置等を用いて撮像した際に、該光学フィルターに高角度に入射する光線に相当する画像の周辺部分において、７８０ｎｍ超の波長によるノイズを低減することができる。
この光学特性を有する光学フィルターは、例えば、下記化合物（Ａ）を適切な濃度で含有し、誘電体多層膜の近赤外線の透過領域（波長９００〜１１００ｎｍの一部）の波長を適切に設定することで得ることができる。
【００４６】
前記λＩＲＴ35は、ノイズの原因となる太陽光線は、例えば、図７によれば、波長８００〜９００ｎｍの強度は大きい傾向にあることから、ノイズがセンサーに入ることを防ぐ等の点から、好ましくは８７５ｎｍ以上、より好ましくは８８０ｎｍ以上、いっそう好ましくは８９０ｎｍ以上、さらに好ましくは８９５ｎｍ以上、特に好ましくは９００ｎｍ以上である。
【００４７】
本フィルターは、さらに下記要件（ｆ）を満たすことが好ましい。
（ｆ）波長４６０〜７８０ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる最も短波長の波長をλＲＴ0（ｎｍ）とし、
波長４６０〜７８０ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した光の透過率が５０％となる最も短波長の波長をλＲＴ35とした場合、下記式（ｆ１）を満たす。
｜λＲＴ0−λＲＴ35｜≦２５ｎｍ      （ｆ１）
【００４８】
前記式（ｆ１）の右辺は、より好ましくは２０ｎｍ、さらに好ましくは１５ｎｍ、いっそう好ましくは１０ｎｍ、特に好ましくは７ｎｍである。
前記式（ｆ１）を満たすことで、３５度入射時においても赤色付近の色の可視光光線の光量変化が少なく、本フィルターを含む固体撮像装置、カメラモジュール、生体認証装置等を用いて撮像した際に、該光学フィルターに高角度に入射する光線に相当する画像の周辺部分において、可視光画素の色味の変化を抑制することができる。
この光学特性を有する光学フィルターは、例えば、下記化合物（Ｂ）を適切な濃度で含有し、誘電体多層膜の近赤外線の遮断領域の波長を適切に設定することで得ることができる。
【００４９】
前記λＲＴ0は、可視光によるカラー画像の色再現性により優れる等の点から、好ましくは６１０〜７２０ｎｍ、より好ましくは６２０〜６７０ｎｍ、さらに好ましくは６２０〜６６０ｎｍ、特に好ましくは６２５〜６５０ｎｍにあることが望ましい。
また、前記λＲＴ35は、λＲＴ0と同様に、好ましくは６１０〜７００ｎｍ、より好ましくは６２０〜６６０ｎｍ、さらに好ましくは６２０〜６５５ｎｍ、特に好ましくは６２５〜６５０ｎｍにあることが望ましい。
【００５０】
本フィルターは、さらに下記要件（ｈ）を満たすことが好ましい。
（ｈ）波長３００〜４５０ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる最も短波長の波長をλＢＴ0（ｎｍ）とし、
波長３００〜４５０ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した光の透過率が５０％となる最も短波長の波長をλＢＴ35とした場合、下記式（ｈ１）を満たす。
｜λＢＴ0−λＢＴ35｜≦１５ｎｍ      （ｈ１）
【００５１】
前記式（ｈ１）の右辺は、好ましくは１０ｎｍ、より好ましくは８ｎｍ、さらに好ましくは６ｎｍ、いっそう好ましくは４ｎｍ、特に好ましくは２ｎｍである。
前記式（ｈ１）を満たすことで、３５度入射時においても青色付近の色の可視光光線の光量変化が少なく、本フィルターを含む固体撮像装置、カメラモジュール、生体認証装置等を用いて撮像した際に、該光学フィルターに高角度に入射する光線に相当する画像の周辺部分において、可視光画素の色味の変化を抑制することができる。
この光学特性を有する光学フィルターは、例えば、下記化合物（Ｘ）を適切な濃度で含有し、誘電体多層膜の近赤外線の遮断領域の波長を適切に設定することで得ることができる。
【００５２】
前記λＢＴ0は、可視光によるカラー画像の色再現性に優れる等の点から、好ましくは３８０〜４４０ｎｍ、より好ましくは３９０〜４３６ｎｍ、さらに好ましくは３９５〜４３０ｎｍ、特に好ましくは４００〜４２８ｎｍにあることが望ましい。
また、前記λＢＴ35は、λＢＴ0と同様に、好ましくは３８０〜４４０ｎｍ、より好ましくは３９０〜４３６ｎｍ、さらに好ましくは３９５〜４３０ｎｍ、特に好ましくは４００〜４２８ｎｍにあることが望ましい。
【００５３】
本フィルターは、下記実施例に記載の０度入射時のノイズ量が、好ましくは１５％以下、より好ましくは１３％以下、いっそう好ましくは１０％以下、さらに好ましくは８％以下、特に好ましくは５％以下であり、下記実施例に記載の３５度入射時のノイズ量が、好ましくは１８％以下、より好ましくは１３％以下、いっそう好ましくは９％以下、特に好ましくは４％以下である。
ノイズ量が前記範囲にあるフィルターをセンシング等に用いると、近赤外線のノイズ量（Ｎ／Ｓ比）が少なく、カメラ画質や画像端部における色再現性に優れる画像等を得ることができる。
【００５４】
本フィルターの厚みは、所望の用途に応じて適宜選択すればよいが、近年の固体撮像装置等の薄型化、軽量化等の流れによれば、薄いことが好ましい。本フィルターは、薄型化が可能であり、特に、下記基材（ｉ）を用いる場合に薄型化が可能である。
本フィルターの厚みは、例えば、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１８０μｍ以下、さらに好ましくは１５０μｍ以下、特に好ましくは１２０μｍ以下であり、下限は特に制限されないが、例えば、２０μｍ以上であることが望ましい。
【００５５】
＜化合物（Ａ）＞
本フィルター１は、所定の光学特性を有し、かつ、波長８００〜９３０ｎｍに吸収極大を有する化合物（Ａ）を含めばよく、本フィルター２は、該化合物（Ａ）を含むことが好ましい。
該化合物（Ａ）を用いることで、前記要件（ａ）〜（ｃ）を満たす光学フィルターを容易に得ることができる。
【００５６】
化合物（Ａ）は、吸収極大波長を８００〜９３０ｎｍの範囲に有する。波長８００ｎｍ以上に吸収極大波長を有することで、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射する波長９００〜１１００ｎｍの近赤外線を透過する光学フィルターとする場合、該光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で光が入射（３５度入射）する際に波長８００〜９００ｎｍの光を吸収することで、高角度入射時の可視光画素に入る波長８００〜９００ｎｍの光を遮断することができる。
【００５７】
化合物（Ａ）は、その吸収極大波長から約１０〜７０ｎｍ長波長である領域の光も吸収する傾向にある。従って、波長９００〜１１００ｎｍの近赤外線を透過する光学フィルターにおいて、該光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で光が入射する際に、波長８００〜９００ｎｍの光をより効率的に遮断することができる等の点から、化合物（Ａ）が有する吸収極大波長は、好ましくは８３０ｎｍ以上、より好ましくは８４０ｎｍ以上、さらに好ましくは８５１ｎｍ以上、特に好ましくは８５２ｎｍ以上である。
【００５８】
ノイズの原因となる太陽光線は、例えば、図７に示すように、波長８００〜９００ｎｍの強度は大きい傾向にあり、波長約９３０〜９８０ｎｍの強度は小さい傾向にある。このため、太陽光線の可視光画素に入る波長８００〜９００ｎｍの光によるノイズをより効率的に遮断することがノイズ量の低減に重要であり、波長８００〜９００ｎｍの透過率を効率的に下げることができる等の点から、化合物（Ａ）の吸収極大波長は、好ましくは９３０ｎｍ以下、より好ましくは９２０ｎｍ以下、特に好ましくは９１０ｎｍ以下である。図７によれば、太陽光線の強度は、波長９８０ｎｍ以上において再度上昇しピークを有するが、図８によれば、波長９８０ｎｍ以上の光に対しては、センサー感度が低いため、波長９３０ｎｍ以下の光を遮断することが効果的である。
【００５９】
前記化合物（Ａ）としては、前記吸収極大波長を有する化合物であれば特に限定されないが、溶剤可溶型の色素化合物であることが好ましく、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、ヘキサフィリン系化合物、アゾ系化合物、ナフトキノン系化合物、オキソノール系化合物、ピロロピロール系化合物、トリアリールメタン系色素、ジイモニウム系化合物、ジチオール錯体系化合物、ジチオレン錯体系化合物、メルカプトフェノール錯体系化合物、メルカプトナフトール錯体系化合物およびポリメチン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることがより好ましい。本発明では、これらの中でも、優れた可視光透過特性、急峻な吸収特性および高いモル吸光係数を有する等の点から、ポリメチン系化合物、スクアリリウム系化合物を用いることがさらに好ましい。
【００６０】
［ポリメチン系化合物］
前記ポリメチン系化合物は、前記吸収極大波長を有する化合物であれば特に限定されないが、下記式（Ｓ−１）〜（Ｓ−５）のいずれかで表される化合物（以下それぞれ「化合物（Ｓ−１）」〜「化合物（Ｓ−５）」ともいう。）であることが好ましい。
【００６１】
【化１】
2020034701.tif 000003
【００６２】
前記Ｘ-は１価の陰イオンを表す。該１価の陰イオンとしては特に限定されないが、例えば、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＰＦ6-、Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）2-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-、ニッケルジチオラート系錯体イオン、銅ジチオラート系錯体イオンが挙げられる。
【００６３】
前記Ｙ+は１価の陽イオンを表す。該１価の陽イオンとしては特に限定されないが、例えば、Ｌｉ+、Ｎａ+、Ｋ+、Ｃｓ+、Ｒｂ+、ＮＨ4+、ＮＲ4+が挙げられる。ここでＲは炭素数１〜４のアルキル基である。
【００６４】
前記複数あるＤはそれぞれ独立に、炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表す。
前記複数あるＸはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子または−ＮＨ−を表す。
【００６５】
複数あるＲa、Ｒb、Ｒc、Ｒd、Ｒe、Ｒf、Ｒg、ＲhおよびＲiはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−Ｌ1、−Ｓ−Ｌ2、−ＳＳ−Ｌ2、−ＳＯ2−Ｌ3、−Ｎ＝Ｎ−Ｌ4、または、ＲbとＲc、ＲdとＲe、ＲeとＲf、ＲfとＲg、ＲgとＲhおよびＲhとＲiのうち少なくとも１つの組み合わせが結合した、下記式（Ａ）〜（Ｈ）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表す。
【００６６】
なお、前記式（Ｓ−１）〜（Ｓ−４）中のＤ−（Ｒb）（Ｒc）は、便宜的にこのように記載しているのであり、必ずしもＤにＲbおよびＲcが結合しているわけではない。例えば、Ｄが窒素原子の場合、ＲbおよびＲcの一方は存在せず、Ｄが酸素原子場合、ＲbおよびＲcは両方とも存在せず、Ｄが硫黄原子場合、ＲbおよびＲcは両方とも存在しないか、または、ＲbおよびＲcの合計が４個となる。
【００６７】
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基、炭素数３〜１４の複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基Ｌを有してもよい。
【００６８】
前記Ｌ1は、下記Ｌa、Ｌb、Ｌc、Ｌd、Ｌe、Ｌf、Ｌg、ＬhまたはＬiである。
（Ｌa）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌb）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌc）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌd）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌe）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌf）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜９のアルコキシ基
（Ｌg）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜９のアシル基
（Ｌh）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜９のアルコキシカルボニル基
（Ｌi）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のスルフィド基またはジスルフィド基
【００６９】
前記Ｌ2は、水素原子または前記Ｌ1におけるＬa〜Ｌeのいずれかを表し、
前記Ｌ3は、水素原子または前記Ｌ1におけるＬa〜Ｌeのいずれかを表し、
前記Ｌ4は、前記Ｌ1におけるＬa〜Ｌeのいずれかを表す。
【００７０】
【化２】
2020034701.tif 000004
【００７１】
式（Ａ）〜（Ｈ）中、ＲxおよびＲyは炭素原子を表し、
複数あるＲA〜ＲLはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−Ｌ1、−Ｓ−Ｌ2、−ＳＳ−Ｌ2、−ＳＯ2−Ｌ3または−Ｎ＝Ｎ−Ｌ4（Ｌ1〜Ｌ4は、前記Ｒa〜ＲiにおけるＬ1〜Ｌ4と同義である。）を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Ｌを有してもよい。
【００７２】
Ｚa〜ＺcおよびＹa〜Ｙdはそれぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；水酸基；カルボキシ基；ニトロ基；アミノ基；アミド基；イミド基；シアノ基；シリル基；−Ｌ1；−Ｓ−Ｌ2；−ＳＳ−Ｌ2；−ＳＯ2−Ｌ3；−Ｎ＝Ｎ−Ｌ4（Ｌ1〜Ｌ4は、前記Ｒa〜ＲiにおけるＬ1〜Ｌ4と同義である。）；Ｚ同士もしくはＹ同士のうち隣接した二つが相互に結合して形成される、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基；Ｚ同士もしくはＹ同士のうち隣接した二つが相互に結合して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含んでもよい５〜６員環の脂環式炭化水素基；または、Ｚ同士もしくはＹ同士のうち隣接した二つが相互に結合して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含む、炭素数３〜１４の複素芳香族炭化水素基；を表し、これらの芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基および複素芳香族炭化水素基は、炭素数１〜９の脂肪族炭化水素基またはハロゲン原子を有してもよく、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Ｌを有していてもよい。
【００７３】
前記Ｚa〜ＺcおよびＹa〜Ｙdにおける、Ｚ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、アセナフチル基、フェナレニル基、テトラヒドロナフチル基、インダニル基およびビフェニリル基が挙げられる。
【００７４】
前記Ｚa〜ＺcおよびＹa〜Ｙdにおける、Ｚ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含んでもよい５乃至６員環の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基およびシクロオクチル基等のシクロアルキル基；ノルボルナン基およびアダマンタン基等の多環脂環式基；テトラヒドロフラン、ピロリン、ピロリジン、イミダゾリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリンからなる基等の複素環が挙げられる。
【００７５】
前記Ｚa〜ＺcおよびＹa〜Ｙdにおける、Ｚ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数３〜１４の複素芳香族炭化水素基としては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、インドール、インドリン、インドレニン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、アクリジンまたはフェナジンからなる基が挙げられる。
【００７６】
前記置換基Ｌを有してもよいアミノ基としては、例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基が挙げられる。
【００７７】
前記置換基Ｌを有してもよいアミド基としては、アミド基、メチルアミド基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジプロピルアミド基、プロピルトリフルオロメチルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ジブチルアミド基、α−ラクタム基、β−ラクタム基、γ−ラクタム基、δ−ラクタム基が挙げられる。
【００７８】
前記置換基Ｌを有してもよいイミド基としては、例えば、イミド基、メチルイミド基、エチルイミド基、ジエチルイミド基、ジプロピルイミド基、ジイソプロピルイミド基、ジブチルイミド基が挙げられる。
【００７９】
前記置換基Ｌを有してもよいシリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリエチルシリル基が挙げられる。
【００８０】
前記−Ｓ−Ｌ2としては、例えば、チオール基、メチルスルフィド基、エチルスルフィド基、プロピルスルフィド基、ブチルスルフィド基、イソブチルスルフィド基、ｓｅｃ−ブチルスルフィド基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィド基、フェニルスルフィド基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルフィド基、２，６−ジフェニルフェニルスルフィド基、４−クミルフェニルスルフィド基が挙げられる。
【００８１】
前記−ＳＳ−Ｌ2としては、例えば、ジスルフィド基、メチルジスルフィド基、エチルジスルフィド基、プロピルジスルフィド基、ブチルジスルフィド基、イソブチルジスルフィド基、ｓｅｃ−ブチルジスルフィド基、ｔｅｒｔ−ブチルジスルフィド基、フェニルジスルフィド基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジスルフィド基、２，６−ジフェニルフェニルジスルフィド基、４−クミルフェニルジスルフィド基が挙げられる。
【００８２】
前記−ＳＯ2−Ｌ3としては、例えば、スルホ基、メシル基、エチルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基が挙げられる。
【００８３】
前記−Ｎ＝Ｎ−Ｌ4としては、例えば、メチルアゾ基、フェニルアゾ基、ｐ−メチルフェニルアゾ基、ｐ−ジメチルアミノフェニルアゾ基が挙げられる。
【００８４】
前記化合物（Ｓ−１）〜（Ｓ−５）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、例えば、特開２００９−１０８２６７号公報に記載されている方法で合成することができる。
【００８５】
［スクアリリウム系化合物］
前記スクアリリウム系化合物は、前記吸収極大波長を有する化合物であれば特に限定されないが、下記式（Ｓｑ１）〜（Ｓｑ２）で表されるスクアリリウム系化合物（以下、これらを併せて「化合物（Ｓｑ）」ともいう。）より選ばれる化合物であることが好ましい。
【００８６】
【化３】
2020034701.tif 000005
【００８７】
式（Ｓｑ１）、（Ｓｑ２）中、Ｘは独立に、硫黄原子、セレン原子または−ＮＨ−を表し、Ｒ1〜Ｒ7およびＲ1〜Ｒ8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−Ｌ1または−ＮＲgＲh基を表す。ＲgおよびＲhはそれぞれ独立に、水素原子、−Ｌa、−Ｌb、−Ｌc、−Ｌd、−Ｌe、−Ｌf、−Ｌg、−Ｌhまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒi基（Ｒiは、−Ｌa、−Ｌb、−Ｌc、−Ｌdまたは−Ｌeを表す。）を表し、Ｒ9は独立に、水素原子、−Ｌa、−Ｌb、−Ｌc、−Ｌd、−Ｌe、−Ｌf、−Ｌgまたは−Ｌhを表す。
Ｌ1は、Ｌa、Ｌb、Ｌc、Ｌd、Ｌe、Ｌf、ＬgまたはＬhである。
前記Ｌa〜Ｌhは、以下の基を表す。
（Ｌa）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌb）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌc）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌd）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌe）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌf）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシ基
（Ｌg）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアシル基
（Ｌh）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基
（Ｌi）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のスルフィド基またはジスルフィド基
【００８８】
前記Ｒ1、Ｒ1およびＲ2としてはそれぞれ独立に、水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ニトロ基が好ましく、水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、水酸基がより好ましい。
【００８９】
前記Ｒ2〜Ｒ7およびＲ3〜Ｒ8としてはそれぞれ独立に、水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、Ｎ−メチルアセチルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基が好ましく、水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、水酸基、ジメチルアミノ基、ニトロ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基がより好ましい。
【００９０】
化合物（Ｓｑ）は置換基によって吸収極大波長を調整可能であるが、前記Ｘとしては、極大吸収波長が８００〜９３０ｎｍにある化合物になりやすい等の点から、好ましくは硫黄原子である。
【００９１】
化合物（Ｓｑ１）は、下記式（Ｓｑ１−１）のような記載方法に加え、下記式（Ｓｑ１−２）のように共鳴構造を取るような記載方法でも構造を表すことができる。つまり、下記式（Ｓｑ１−１）と下記式（Ｓｑ１−２）との違いは構造の記載方法のみであり、どちらも同一の化合物を表す。本明細書中では特に断りのない限り、下記式（Ｓｑ１−１）のような記載方法にてスクアリリウム系化合物の構造を表すものとする。（Ｓｑ２）についても同様である。
【００９２】
【化４】
2020034701.tif 000006
【００９３】
さらに、例えば、下記式（Ｓｑ１−３）で表される化合物と下記式（Ｓｑ１−４）で表される化合物は、同一の化合物であると見なすことができる。（Ｓｑ２）についても同様である。
【００９４】
【化５】
2020034701.tif 000007
【００９５】
化合物（Ｓｑ）は、前記式（Ｓｑ１）、（Ｓｑ２）を満たせば特に構造は限定されない。例えば前記式（Ｓｑ１）のように構造を表した場合、中央の四員環に結合している左右の置換基は同一であっても異なっていてもよいが、同一であった方が合成上容易であるため好ましい。（Ｓｑ２）についても同様である。
【００９６】
化合物（Ａ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、例えば、特開平１−２２８９６０号公報、特開２００１−４０２３４号公報、特許第３１９６３８３号公報等に記載されている方法などを参照して合成することができる。
【００９７】
本発明において、化合物の吸収極大波長は、例えば、ジクロロメタンなどの適当な溶媒に化合物を溶解させた後、得られた溶液を分光光度計を用いて測定すればよい。
【００９８】
＜化合物（Ｂ）＞
本フィルターは、波長６００ｎｍ以上８００ｎｍ未満に吸収極大波長を有する化合物（Ｂ）を含むことが好ましく、化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）を併用することがより好ましい。
化合物（Ｂ）の吸収極大波長は、好ましくは６５０ｎｍ以上８００ｎｍ未満、より好ましくは６９０ｎｍ以上８００ｎｍ未満、特に好ましくは７００ｎｍ以上８００ｎｍ未満である。
このような化合物（Ｂ）を用いることで、カラー画像のノイズとなる波長７００〜７８０ｎｍにおける光を効率的に遮断することができ、また３５度入射時においても赤色付近の色の可視光光線の光量変化が少なく、本フィルターを含む固体撮像装置、カメラモジュール、生体認証装置等を用いて撮像した際に、該光学フィルターに高角度に入射する光線に相当する画像の周辺部分において、可視光画素の色味の変化を容易に抑制することができる。
また、このような化合物（Ｂ）を、特に化合物（Ａ）とともに用いることで、カラー画像と近赤外線画像両方のノイズとなる波長７００〜９００ｎｍにおける光を効率的に遮断することができ、色再現性のよくノイズ量の少ない固体撮像装置、カメラモジュール、生体認証装置が得られ、好ましい。
【００９９】
化合物（Ｂ）としては、吸収極大波長が前記範囲であれば特に限定されないが、好ましくは、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、ヘキサフィリン系化合物、アゾ系化合物、ナフトキノン系化合物、オキソノール系化合物、ピロロピロール系化合物、トリアリールメタン系色素、ジチオール錯体系化合物、ジチオレン錯体系化合物、メルカプトフェノール錯体系化合物、メルカプトナフトール錯体系化合物およびポリメチン系化合物が挙げられる。本発明では、これらの中でも、優れた可視光透過特性、急峻な吸収特性および高いモル吸光係数を有する等の点から、ポリメチン系化合物、フタロシアニン系化合物、スクアリリウム系化合物を用いることがさらに好ましい。
化合物（Ｂ）は、１種または２種以上用いてもよい。
【０１００】
化合物（Ｂ）としては、スクアリリウム系化合物とその他の化合物（Ｂ）とをそれぞれ一種以上含むことがさらに好ましく、スクアリリウム系化合物とその他の化合物（Ｂ）を用いる場合は、スクアリリウム系化合物がその他の化合物（Ｂ）よりも短波長側に吸収極大波長を有することが好ましく、スクアリリウム系化合物とその他の化合物（Ｂ）の少なくとも１種との吸収極大波長の差が５〜５０ｎｍであることがより好ましい。
【０１０１】
化合物（Ｂ）としてスクアリリウム系化合物とその他の化合物（Ｂ）とを用いる場合、スクアリリウム系化合物の含有割合は、用いる化合物（Ｂ）全体を１００質量％とした場合、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１５〜８５質量％、特に好ましくは２０〜８０質量％である。
【０１０２】
スクアリリウム系化合物は構造によって光線吸収時に散乱光の原因となる蛍光を発生させる場合があるが、化合物（Ｂ）として、スクアリリウム系化合物とその他の化合物（Ｂ）を用いる場合、これらの吸収極大波長の差が前記範囲にある化合物（Ｂ）を用いる場合、または、スクアリリウム系化合物を前記量で用いる場合、好ましくはこれらすべてを満たす場合、可視域〜近赤外波長域において散乱光を含めた不要な光線を効率よくカットすることができるため、優れた入射角依存改良性能と散乱光低減効果による良好なカメラ画質を達成することができる。
【０１０３】
［スクアリリウム系化合物］
化合物（Ｂ）として用いられるスクアリリウム系化合物としては、式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物および式（ＩＩ）で表されるスクアリリウム系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。以下、それぞれ「化合物（Ｉ）」および「化合物（ＩＩ）」ともいう。
【０１０４】
【化６】
2020034701.tif 000008
【０１０５】
式（Ｉ）中、Ｒa、ＲbおよびＹは、下記（ｉ）または（ｉｉ）の条件を満たす。
【０１０６】
・条件（ｉ）
複数あるＲaはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−Ｌ1または−ＮＲeＲf基を表す。ＲeおよびＲfはそれぞれ独立に、水素原子、−Ｌa、−Ｌb、−Ｌc、−Ｌdまたは−Ｌeを表す。
複数あるＲbはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−Ｌ1または−ＮＲgＲh基を表す。ＲgおよびＲhはそれぞれ独立に、水素原子、−Ｌa、−Ｌb、−Ｌc、−Ｌd、−Ｌeまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒi基（Ｒiは、−Ｌa、−Ｌb、−Ｌc、−Ｌdまたは−Ｌeを表す。）を表す。
複数あるＹはそれぞれ独立に、−ＮＲJＲk基を表す。ＲJおよびＲkはそれぞれ独立に、水素原子、−Ｌa、−Ｌb、−Ｌc、−Ｌdまたは−Ｌeを表す。
Ｌ1は、Ｌa、Ｌb、Ｌc、Ｌd、Ｌe、Ｌf、Ｌg、ＬhまたはＬiである。
【０１０７】
前記Ｌa〜Ｌiは、以下の基を表す。
（Ｌa）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌb）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌc）置換基Ｌを有してもよい炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌd）置換基Ｌを有してもよい炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌe）置換基Ｌを有してもよい炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌf）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシ基
（Ｌg）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアシル基
（Ｌh）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基
（Ｌi）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のスルフィド基またはジスルフィド基
【０１０８】
置換基Ｌは、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基、炭素数３〜１４の複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。
【０１０９】
前記Ｌa〜Ｌiは、置換基を含めた炭素数の合計が、それぞれ５０以下であることが好ましく、炭素数４０以下であることがさらに好ましく、炭素数３０以下であることが特に好ましい。炭素数がこの範囲よりも多いと、化合物の合成が困難となる場合があるとともに、単位質量あたりの光の吸収強度が小さくなる傾向がある。
【０１１０】
・条件（ｉｉ）
１つのベンゼン環上の２つのＲaのうちの少なくとも１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む構成原子数５または６の複素環を形成する。前記複素環は置換基Ｌを有していてもよく、Ｒbおよび前記複素環の形成に関与しないＲaは、それぞれ独立に前記条件（ｉ）のＲbおよびＲaと同義である。
【０１１１】
・各基の具体例
前記ＬaおよびＬにおける炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基（Ｍｅ）、エチル基（Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（ｎ−Ｐｒ）、イソプロピル基（ｉ−Ｐｒ）、ｎ−ブチル基（ｎ−Ｂｕ）、ｓｅｃ−ブチル基（ｓ−Ｂｕ）、ｔｅｒｔ−ブチル基（ｔ−Ｂｕ）、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基およびドデシル基等のアルキル基；ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−ペンテニル基、ヘキセニル基およびオクテニル基等のアルケニル基；ならびに、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、２−メチル−１−プロピニル基、ヘキシニル基およびオクチニル基等のアルキニル基が挙げられる。
【０１１２】
前記ＬbおよびＬにおける炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基としては、例えば、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、１，１−ジクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタクロロプロピル基およびヘプタフルオロプロピル基が挙げられる。
【０１１３】
前記ＬcおよびＬにおける炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基およびシクロオクチル基等のシクロアルキル基；ノルボルナン基およびアダマンタン基等の多環脂環式基が挙げられる。
【０１１４】
前記ＬdおよびＬにおける炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、アセナフチル基、フェナレニル基、テトラヒドロナフチル基、インダニル基およびビフェニリル基が挙げられる。
【０１１５】
前記ＬeおよびＬにおける炭素数３〜１４の複素環基としては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、インドール、インドリン、インドレニン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、アクリジン、モルホリンおよびフェナジン等の複素環からなる基が挙げられる。
【０１１６】
前記Ｌfにおける炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基が挙げられる。
【０１１７】
前記Ｌgにおける炭素数１〜１２のアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基およびベンゾイル基が挙げられる。
【０１１８】
前記Ｌhにおける炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基およびオクチルオキシカルボニル基が挙げられる。
【０１１９】
前記Ｌiにおける炭素数１〜１２のスルフィド基としては、例えば、ｎ−オクチルスルフィド基、ｎ−ドデシルスルフィド基が挙げられる。前記Ｌiにおける炭素数１〜１２のジスルフィド基としては、例えば、フェニルジスルフィド基、４−メチルフェニルジスルフィド基、４−アミノフェニルジスルフィド基が挙げられる。
【０１２０】
前記Ｌaとしては、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、４−フェニルブチル基、２−シクロヘキシルエチル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基である。
【０１２１】
前記Ｌbとしては、好ましくはトリクロロメチル基、ペンタクロロエチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、５−シクロヘキシル−２，２，３，３−テトラフルオロペンチル基であり、より好ましくはトリクロロメチル基、ペンタクロロエチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基である。
【０１２２】
前記Ｌcとしては、好ましくはシクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４−エチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、４−フェニルシクロヘプチル基であり、より好ましくはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、４−エチルシクロヘキシル基である。
【０１２３】
前記Ｌdとしては、好ましくはフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−シクロペンチルフェニル基、２，３，６−トリフェニルフェニル基、２，３，４，５，６−ペンタフェニルフェニル基であり、より好ましくはフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、２，３，４，５，６−ペンタフェニルフェニル基である。
【０１２４】
前記Ｌeとしては、好ましくはフラン、チオフェン、ピロール、インドール、インドリン、インドレニン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、モルホリンからなる基であり、より好ましくはフラン、チオフェン、ピロール、モルホリンからなる基である。
【０１２５】
前記Ｌfとしては、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、２−フェニルエトキシ基、３−シクロヘキシルプロポキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基であり、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基である。
【０１２６】
前記Ｌgとしては、好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、ベンゾイル基、４−プロピルベンゾイル基、トリフルオロメチルカルボニル基、ペンタフルオロエチルカルボニル基であり、より好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基である。
【０１２７】
前記Ｌhとしては、好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、２−トリフルオロメチルエトキシカルボニル基、２−フェニルエトキシカルボニル基であり、より好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基である。
【０１２８】
前記Ｌa〜Ｌiは、さらに、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子または基を有していてもよい。このような例としては、４−スルホブチル基、４−シアノブチル基、５−カルボキシペンチル基、５−アミノペンチル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ホスホリルエチル基、６−アミノ−２，２−ジクロロヘキシル基、２−クロロ−４−ヒドロキシブチル基、２−シアノシクロブチル基、３−ヒドロキシシクロペンチル基、３−カルボキシシクロペンチル基、４−アミノシクロヘキシル基、４−ヒドロキシシクロヘキシル基、４−ヒドロキシフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２−ヒドロキシナフチル基、４−アミノフェニル基、４−ニトロフェニル基、３−メチルピロールからなる基、２−ヒドロキシエトキシ基、３−シアノプロポキシ基、４−フルオロベンゾイル基、２−ヒドロキシエトキシカルボニル基、４−シアノブトキシカルボニル基が挙げられる。
【０１２９】
前記条件（ｉ）におけるＲaとしては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ニトロ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、水酸基である。
【０１３０】
前記条件（ｉ）におけるＲbとしては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、Ｎ−メチルアセチルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、水酸基、ジメチルアミノ基、ニトロ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基である。
【０１３１】
前記Ｙとしては、好ましくはアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノ基であり、より好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基である。
【０１３２】
前記式（Ｉ）の条件（ｉｉ）における、１つのベンゼン環上の２つのＲaのうちの少なくとも１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して形成される、窒素原子を少なくとも１つ含む構成原子数５または６の複素環としては、例えば、ピロリジン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ピリダジン、ピリミジンおよびピラジンが挙げられる。これらの複素環のうち、当該複素環を構成し、かつ、前記ベンゼン環を構成する炭素原子の隣の１つの原子が窒素原子である複素環が好ましく、ピロリジンがさらに好ましい。
【０１３３】
【化７】
2020034701.tif 000009
【０１３４】
式（ＩＩ）中、Ｘは独立に、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ−ＲcまたはＣ（ＲdＲd）を表し；複数あるＲcはそれぞれ独立に、水素原子、Ｌa、Ｌb、Ｌc、ＬdまたはＬeを表し；複数あるＲdはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−Ｌ1または−ＮＲeＲf基を表し、隣り合うＲd同士は連結して置換基Ｌを有していてもよい環を形成してもよく；Ｌa〜Ｌe、Ｌ1、ＲeおよびＲfは、前記式（Ｉ）において定義したＬa〜Ｌe、Ｌ1、ＲeおよびＲfと同義である。
【０１３５】
前記式（ＩＩ）中のＲcとしては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トルフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基である。
【０１３６】
前記式（ＩＩ）中のＲdとしては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、４−アミノシクロヘキシル基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基である。
【０１３７】
前記Ｘとしては、好ましくはＯ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ−Ｍｅ、Ｎ−Ｅｔ、ＣＨ2、Ｃ−Ｍｅ2、Ｃ−Ｅｔ2であり、より好ましくはＳ、Ｃ−Ｍｅ2、Ｃ−Ｅｔ2である。
【０１３８】
前記式（ＩＩ）において、隣り合うＲd同士は連結して環を形成してもよい。このような隣り合うＲd同士が連結した場合のシクロブタン環に結合した−ＣＨ＝に結合する環としては、例えば、ベンゾインドレニン環、α−ナフトイミダゾール環、β−ナフトイミダゾール環、α−ナフトオキサゾール環、β−ナフトオキサゾール環、α−ナフトチアゾール環、β−ナフトチアゾール環、α−ナフトセレナゾール環、β−ナフトセレナゾール環が挙げられる。
【０１３９】
化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）は、下記式（Ｉ−１）および下記式（ＩＩ−１）のような記載方法に加え、下記式（Ｉ−２）および下記式（ＩＩ−２）のように共鳴構造を取るような記載方法でも構造を表すことができる。つまり、下記式（Ｉ−１）と下記式（Ｉ−２）との違い、および下記式（ＩＩ−１）と下記式（ＩＩ−２）との違いは構造の記載方法のみであり、どちらも同一の化合物を表す。本明細書中では特に断りのない限り、下記式（Ｉ−１）および下記式（ＩＩ−１）のような記載方法にてスクアリリウム系化合物の構造を表すものとする。
【０１４０】
【化８】
2020034701.tif 000010
【０１４１】
さらに、例えば、下記式（Ｉ−３）で表される化合物と下記式（Ｉ−４）で表される化合物は、同一の化合物であると見なすことができる。
【０１４２】
【化９】
2020034701.tif 000011
【０１４３】
化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）は、それぞれ前記式（Ｉ）および前記式（ＩＩ）を満たせば特に構造は限定されない。例えば前記式（Ｉ−１）および前記式（ＩＩ−１）のように構造を表した場合、中央の四員環に結合している左右の置換基は同一であっても異なっていてもよいが、同一であった方が合成上容易であるため好ましい。
【０１４４】
化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）の具体例としては、下記（Ｉ−Ａ）〜（Ｉ−Ｈ）で表される基本骨格を有する化合物が挙げられる。
【０１４５】
【化１０】
2020034701.tif 000012
【０１４６】
【化１１】
2020034701.tif 000013
【０１４７】
化合物（Ｂ）として用いられるスクアリリウム系化合物としては、式（ｉｉｉ）で表されるスクアリリウム系化合物や式（ｉｖ）で表されるスクアリリウム系化合物を用いてもよい。
【０１４８】
【化１２】
2020034701.tif 000014
【０１４９】
式（ｉｉｉ）中、Ｒa〜Ｒgはそれぞれ独立に、式（Ｉ）中の条件（ｉ）のＲbと同義である。
【０１５０】
【化１３】
2020034701.tif 000015
【０１５１】
式（ｉｖ）中、Ｒ1〜Ｒ7はそれぞれ独立に、式（Ｓｑ１）中のＲ1〜Ｒ7と同義である。
【０１５２】
化合物（Ｉ）〜（ＩＩ）および化合物（ｉｉｉ）〜（ｉｖ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、例えば、特開平１−２２８９６０号公報、特開２００１−４０２３４号公報、特許第３１９６３８３号公報等に記載されている方法などを参照して合成することができる。
【０１５３】
［フタロシアニン系化合物］
前記化合物（Ｂ）として用いられるフタロシアニン系化合物は、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物（以下「化合物（ＩＩＩ）」ともいう。）であることが好ましい。
【０１５４】
【化１４】
2020034701.tif 000016
【０１５５】
式（ＩＩＩ）中、Ｍは、２個の水素原子、２個の１価の金属原子、２価の金属原子、または３価もしくは４価の金属原子を含む置換金属原子を表し、
複数あるＲa、Ｒb、ＲcおよびＲdはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−Ｌ1、−Ｓ−Ｌ2、−ＳＳ−Ｌ2、−ＳＯ2−Ｌ3、−Ｎ＝Ｎ−Ｌ4、または、ＲaとＲb、ＲbとＲcおよびＲcとＲdのうち少なくとも１つの組み合わせが結合した、下記式（Ａ）〜（Ｈ）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表す。但し、同じ芳香環に結合したＲa、Ｒb、ＲcおよびＲdのうち少なくとも１つは水素原子ではない。
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（Ｉ）において定義した置換基Ｌを有してもよく、
Ｌ1は前記式（Ｉ）において定義したＬ1と同義であり、
Ｌ2は、水素原子または前記式（Ｉ）において定義したＬa〜Ｌeのいずれかを表し、
Ｌ3は、水酸基または前記Ｌa〜Ｌeのいずれかを表し、
Ｌ4は、前記Ｌa〜Ｌeのいずれかを表す。
【０１５６】
【化１５】
2020034701.tif 000017
【０１５７】
式（Ａ）〜（Ｈ）中、ＲxおよびＲyは炭素原子を表し、
複数あるＲA〜ＲLはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−Ｌ1、−Ｓ−Ｌ2、−ＳＳ−Ｌ2、−ＳＯ2−Ｌ3、−Ｎ＝Ｎ−Ｌ4を表し、
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（Ｉ）において定義した置換基Ｌを有してもよく、Ｌ1〜Ｌ4は前記式（ＩＩＩ）において定義したＬ1〜Ｌ4と同義である。
【０１５８】
前記Ｒa〜ＲdおよびＲA〜ＲLにおいて、置換基Ｌを有してもよいアミノ基としては、例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基が挙げられる。
【０１５９】
前記Ｒa〜ＲdおよびＲA〜ＲLにおいて、置換基Ｌを有してもよいアミド基としては、例えば、アミド基、メチルアミド基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジプロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ジブチルアミド基、α−ラクタム基、β−ラクタム基、γ−ラクタム基、δ−ラクタム基が挙げられる。
【０１６０】
前記Ｒa〜ＲdおよびＲA〜ＲLにおいて、置換基Ｌを有してもよいイミド基としては、例えば、イミド基、メチルイミド基、エチルイミド基、ジエチルイミド基、ジプロピルイミド基、ジイソプロピルイミド基、ジブチルイミド基が挙げられる。
【０１６１】
前記Ｒa〜ＲdおよびＲA〜ＲLにおいて、置換基Ｌを有してもよいシリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリエチルシリル基が挙げられる。
【０１６２】
前記Ｒa〜ＲdおよびＲA〜ＲLにおいて、−Ｓ−Ｌ2としては、例えば、チオール基、メチルスルフィド基、エチルスルフィド基、プロピルスルフィド基、ブチルスルフィド基、イソブチルスルフィド基、ｓｅｃ−ブチルスルフィド基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィド基、フェニルスルフィド基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルフィド基、２，６−ジフェニルフェニルスルフィド基、４−クミルフェニルスルフィド基が挙げられる。
【０１６３】
前記Ｒa〜ＲdおよびＲA〜ＲLにおいて、−ＳＳ−Ｌ2としては、例えば、ジスルフィド基、メチルジスルフィド基、エチルジスルフィド基、プロピルジスルフィド基、ブチルジスルフィド基、イソブチルジスルフィド基、ｓｅｃ−ブチルジスルフィド基、ｔｅｒｔ−ブチルジスルフィド基、フェニルジスルフィド基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジスルフィド基、２，６−ジフェニルフェニルジスルフィド基、４−クミルフェニルジスルフィド基が挙げられる。
【０１６４】
前記Ｒa〜ＲdおよびＲA〜ＲLにおいて、−ＳＯ2−Ｌ3としては、例えば、スルホ基、メシル基、エチルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基が挙げられる。
【０１６５】
前記Ｒa〜ＲdおよびＲA〜ＲLにおいて、−Ｎ＝Ｎ−Ｌ4としては、例えば、メチルアゾ基、フェニルアゾ基、ｐ−メチルフェニルアゾ基、ｐ−ジメチルアミノフェニルアゾ基が挙げられる。
【０１６６】
前記Ｍにおいて、１価の金属原子としては、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓが挙げられる。
【０１６７】
前記Ｍにおいて、２価の金属原子としては、例えば、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｓｎ、Ｐｂが挙げられる。
【０１６８】
前記Ｍにおいて、３価の金属原子を含む置換金属原子としては、例えば、Ａｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｃｌ、Ａｌ−Ｂｒ、Ａｌ−Ｉ、Ｇａ−Ｆ、Ｇａ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｂｒ、Ｇａ−Ｉ、Ｉｎ−Ｆ、Ｉｎ−Ｃｌ、Ｉｎ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｉ、Ｔｌ−Ｆ、Ｔｌ−Ｃｌ、Ｔｌ−Ｂｒ、Ｔｌ−Ｉ、Ｆｅ−Ｃｌ、Ｒｕ−Ｃｌ、Ｍｎ−ＯＨが挙げられる。
【０１６９】
前記Ｍにおいて、４価の金属原子を含む置換金属原子としては、例えば、ＴｉＦ2、ＴｉＣｌ2、ＴｉＢｒ2、ＴｉＩ2、ＺｒＣｌ2、ＨｆＣｌ2、ＣｒＣｌ2、ＳｉＦ2、ＳｉＣｌ2、ＳｉＢｒ2、ＳｉＩ2、ＧｅＦ2、ＧｅＣｌ2、ＧｅＢｒ2、ＧｅＩ2、ＳｎＦ2、ＳｎＣｌ2、ＳｎＢｒ2、ＳｎＩ2、Ｚｒ（ＯＨ）2、Ｈｆ（ＯＨ）2、Ｍｎ（ＯＨ）2、Ｓｉ（ＯＨ）2、Ｇｅ（ＯＨ）2、Ｓｎ（ＯＨ）2、ＴｉＲ2、ＣｒＲ2、ＳｉＲ2、ＧｅＲ2、ＳｎＲ2、Ｔｉ（ＯＲ）2、Ｃｒ（ＯＲ）2、Ｓｉ（ＯＲ）2、Ｇｅ（ＯＲ）2、Ｓｎ（ＯＲ）2（Ｒは脂肪族基または芳香族基を表す。）、ＴｉＯ、ＶＯ、ＭｎＯが挙げられる。
【０１７０】
前記Ｍとしては、周期表５族〜１１族、かつ、第４周期〜第５周期に属する、２価の遷移金属、３価もしくは４価の金属ハロゲン化物または４価の金属酸化物であることが好ましく、その中でも、高い可視光透過率や安定性を達成することができることから、Ｃｕ、Ｎｉ、ＣｏおよびＶＯが特に好ましい。
【０１７１】
前記フタロシアニン系化合物は、下記式（Ｖ）のようなフタロニトリル誘導体の環化反応により合成する方法が一般的に知られているが、得られるフタロシアニン系化合物は下記式（ＶＩ−１）〜（ＶＩ−４）のような４種の異性体の混合物となっている。本明細書では、特に断りのない限り、１種のフタロシアニン系化合物につき１種の異性体のみを例示しているが、他の３種の異性体についても同様に用いることができる。なお、これらの異性体は必要に応じて分離して用いることも可能であるが、本明細書では異性体混合物を一括して取り扱っている。
【０１７２】
【化１６】
2020034701.tif 000018
【０１７３】
【化１７】
2020034701.tif 000019
【０１７４】
前記化合物（ＩＩＩ）の具体例としては、下記式（ＩＩＩ−Ａ）〜（ＩＩＩ−Ｊ）で表わされる基本骨格を有する化合物が挙げられる。
【０１７５】
【化１８】
2020034701.tif 000020
【０１７６】
化合物（ＩＩＩ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、例えば、特許第４０８１１４９号公報や「フタロシアニン  −化学と機能―」（アイピーシー、１９９７年）に記載されている方法を参照して合成することができる。
【０１７７】
＜化合物（Ｘ）＞
本フィルターは、波長３００〜４２５ｎｍに吸収極大波長を有する化合物（Ｘ）を含むことが好ましく、化合物（Ａ）と化合物（Ｘ）とを併用することがより好ましく、化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）と化合物（Ｘ）とを併用することが特に好ましい。
化合物（Ｘ）の吸収極大波長は、好ましくは３５０〜４１５ｎｍ、より好ましくは３６０〜４１０ｎｍ、特に好ましくは３６５〜４０５ｎｍである。
このような化合物（Ｘ）を用いることで、３５度入射時においても青色付近の色の可視光光線の光量変化が少なく、本フィルターを含む固体撮像装置、カメラモジュール、生体認証装置等を用いて撮像した際に、該光学フィルターに高角度に入射する光線に相当する画像の周辺部分において、可視光画素の色味の変化を容易に抑制することができる。
【０１７８】
化合物（Ｘ）としては、前記吸収極大波長を有する化合物であれば特に限定されないが、例えば、オキサゾール系、メロシアニン系、シアニン系、ナフタルイミド系、オキサジアゾール系、オキサジン系、オキサゾリジン系、ナフタル酸系、スチリル系、アントラセン系、環状カルボニル系、トリアゾール系等の色素が挙げられる。
化合物（Ｘ）は、１種または２種以上用いてもよい。
【０１７９】
化合物（Ｘ）の市販品としては、例えば、Ｕｖｉｔｅｘ ＯＢ（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＨａｋｋｏｌＲＦ−Ｋ（昭和化学工業（株）製）、ＮｉｋｋａｆｌｕｏｒＥＦＳ、ＮｉｋｋａｆｌｕｏｒＳＢ−ｃｏｎｃ（以上、日本化学工業（株）製）、Ｓ０５１１（ＦｅｗＣｈｅｍｉｃａｌｓ社製）、ＳＭＰ３７０（（株）林原製）、ＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ３７０１、ＵＡ３９１１（以上、オリヱント化学工業（株）製）、Ｌｕｍｏｇｅｎ Ｆｖｉｏｌｅｔ５７０（ＢＡＳＦ社製）、ＡＢＳ４０７（Ｅｘｉｔｏｎ社製）、ＵＶ３８１Ａ、ＵＶ３８１Ｂ、ＵＶ３８２Ａ、ＵＶ３８６Ａ（以上、ＱＣＲ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ Ｃｏｒｐ．社製）が挙げられる。
【０１８０】
＜その他の吸収剤（Ｚ）＞
本フィルターは、さらに、前記化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）および化合物（Ｘ）以外のその他の吸収剤（Ｚ）を含んでいてもよい。
化合物（Ａ）の吸収特性や目的とする近赤外透過波長によっては、化合物（Ａ）とその他の吸収剤（Ｚ）とを併用することで、可視波長域に加え近赤外透過帯域の長波長側においても入射角依存性を低減することができ、より良好な赤外センシング性能を達成することができる傾向にある。
【０１８１】
前記その他の吸収剤（Ｚ）としては、例えば、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、ポルフィリン系化合物および金属ジチオラート系化合物、ジイモニウム系化合物、アゾ系化合物、ポリメチン系化合物、フタリド系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、インドフェノール化合物、ピリリウム系化合物、チオピリリウム系化合物、トリフェニルメタン系化合物、アミニウム系化合物が挙げられる。
【０１８２】
＜光学フィルターの構造＞
本フィルターは、前記本フィルター１または２の要件を満たせば特に限定されないが、基材と誘電体多層膜とを含む光学フィルターであることが好ましい。
本フィルターは、図２の一番上の図のように、基材の一方の面に誘電体多層膜を有してもよく、図２のその他の図のように、複数の誘電体多層膜や複数の基材を有してもよい。
【０１８３】
［基材］
前記基材は、単層であっても多層であってもよく、基材が単層の場合は、例えば、透明樹脂製基板からなる基材（ｉ）を挙げることができ、多層の場合は、例えば、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの１層以上の支持体上に１層以上のオーバーコート層が積層された基材（ｉｉ）が挙げられる。
製造コストや光学特性調整の容易性、さらに、樹脂製支持体の傷消し効果を達成できることや基材の耐傷つき性向上等の点から、オーバーコート層を含む基材が好ましい。
【０１８４】
前記基材の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択することができ、特に制限されないが、得られる光学フィルターの入射角依存性を低減するように適宜選択することが好ましく、好ましくは１０〜２００μｍ、さらに好ましくは２０〜１５０μｍ、特に好ましくは１５〜１２０μｍである。
基材の厚みが前記範囲にあると、該基材を用いた光学フィルターを薄型化および軽量化することができ、固体撮像装置等の様々な用途に好適に用いることができる。特に、前記基材（ｉ）をカメラモジュール等のレンズユニットに用いた場合には、レンズユニットの低背化、軽量化を実現することができるため好ましい。
【０１８５】
前記基材（ｉ）の場合、透明樹脂製基板は、透明樹脂と化合物（Ａ）とを含むことが好ましい。また、前記基材（ｉｉ）の場合であって、支持体がガラス支持体である場合、前記オーバーコート層は、透明樹脂と化合物（Ａ）とを含むことが好ましく、前記基材（ｉｉ）の場合であって、支持体が樹脂製支持体である場合、該樹脂製支持体または前記オーバーコート層の少なくとも一方は、透明樹脂と化合物（Ａ）とを含むことが好ましい。
【０１８６】
前記化合物（Ｂ）や前記化合物（Ｘ）を用いる場合、これらの化合物は、同一の層に含まれていても別々の層に含まれていてもよい。
これらを同一の層に含む場合は、例えば、化合物（Ａ）、（Ｂ）および（Ｘ）を含む透明樹脂製基板からなる基材、化合物（Ａ）、（Ｂ）および（Ｘ）を含む透明樹脂製支持体上にオーバーコート層が積層された基材、支持体上に化合物（Ａ）、（Ｂ）および（Ｘ）を含むオーバーコート層が積層されている基材が挙げられる。
また、前記化合物が別々の層に含まれる場合は、例えば、化合物（Ａ）が含まれる透明樹脂製支持体上に、化合物（Ｂ）や化合物（Ｘ）を含むオーバーコート層が積層された基材や、化合物（Ｂ）や化合物（Ｘ）を含む透明樹脂製支持体上に化合物（Ａ）を含むオーバーコート層が積層された基材が挙げられる。
化合物（Ａ）と、化合物（Ｂ）および／または化合物（Ｘ）とは、同一の層に含まれていることがより好ましく、この場合、別々の層に含まれる場合よりも、用いる化合物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｘ）の含有量比率を制御することがより容易になる。
【０１８７】
前記化合物（Ａ）を含む層中の化合物（Ａ）の濃度は、該層に含まれる樹脂１００質量部に対し、好ましくは０．００１〜５０質量部、より好ましくは０．００５〜４０質量部、特に好ましくは０．０１〜３５質量部である。
化合物（Ａ）の濃度が前記範囲にあることで、光学フィルターに光が３５度入射しても、波長８００〜９００ｎｍの光をより容易に遮断することができる。
【０１８８】
また、前記化合物（Ａ）の濃度は下記式（Ａ１）を満たすことが好ましい。
【０１８９】
【数２】
2020034701.tif 000021
［式（Ａ１）中の符号は、以下のことを示す。
化合物（Ａ）を含む層をｎ層有する光学フィルターにおいて、
ＣＡｎはｎ層中の化合物（Ａ）の濃度（ｗｔ％）を示し、ｌＡｎは該ｎ層の厚み（μｍ）を示す。］
【０１９０】
なお、式（Ａ１）は、本フィルターが、化合物（Ａ）を濃度αｗｔ％で含む層１（厚みａμｍ）と、化合物（Ａ）を濃度βｗｔ％で含む層２（厚みｂμｍ）とを有する場合、「１≦（α×ａ＋β×ｂ）≦５０」となる。
また、本フィルターに含まれるある層が化合物（Ａ）を２種以上含む場合、前記ＣＡｎは該層中に含まれる化合物（Ａ）の合計の濃度（ｗｔ％）を示す。
これらは、下記式（Ｂ１）や（Ｘ１）でも同様である。
【０１９１】
前記式（Ａ１）の左辺は、好ましくは２、より好ましくは３であり、右辺は、好ましくは４０、より好ましくは３０、特に好ましくは２５である。
化合物（Ａ）の濃度が前記式（Ａ１）を満たすことで、太陽光線によるノイズの原因となる波長８００〜９００ｎｍの光を十分に遮断することができ、過剰な添加による波長８００〜９００ｎｍ以外の光、例えば可視光の吸収を少なくすることができ、可視光領域の高い感度とノイズ量の低下を両立した光学フィルターを容易に得ることができる。
【０１９２】
前記化合物（Ｂ）を用いる場合、該化合物（Ｂ）を含む層中の化合物（Ｂ）の濃度は、該層に含まれる樹脂１００質量部に対し、好ましくは０．００１〜５０質量部、より好ましくは０．００５〜４０質量部、特に好ましくは０．０１〜３５質量部である。
化合物（Ｂ）の濃度が前記範囲にあることで、光学フィルターに光が３５度入射しても、赤色付近の色の可視光光線の光量変化をより抑制することができ、過度な吸収による可視光透過率の低下が少なく、該フィルターを含む固体撮像装置、カメラモジュール、生体認証装置等を用いて撮像した際に、該フィルターに高角度に入射する光線に相当する画像の周辺部分において、可視光画素の色味の変化を抑制することができる。
【０１９３】
また、前記化合物（Ｂ）の濃度は下記式（Ｂ１）を満たすことが好ましい。
【０１９４】
【数３】
2020034701.tif 000022
［式（Ｂ１）中の符号は、以下のことを示す。
化合物（Ｂ）を含む層をｎ層有する光学フィルターにおいて、
ＣＢｎはｎ層中の化合物（Ｂ）の濃度（ｗｔ％）を示し、ｌＢｎは該ｎ層の厚み（μｍ）を示す。］
【０１９５】
前記式（Ｂ１）の左辺は、好ましくは２、より好ましくは３であり、右辺は、好ましくは３０、より好ましくは２５である。
化合物（Ｂ）の濃度が前記式（Ｂ１）を満たすことで、太陽光線によるノイズの原因となる波長７００〜７８０ｎｍの光を十分に遮断することができ、過剰な添加による波長７００〜７８０ｎｍ以外の光、例えば可視光の吸収を少なくすることができ、可視光領域の高い感度とノイズ量の低下を両立した光学フィルターを容易に得ることができる。
【０１９６】
前記化合物（Ｘ）を用いる場合、該化合物（Ｘ）を含む層中の化合物（Ｘ）の濃度は、該層に含まれる樹脂１００質量部に対し、好ましくは０．００１〜５０質量部、より好ましくは０．００５〜４０質量部、特に好ましくは０．０１〜３５質量部である。
化合物（Ｘ）の濃度が前記範囲にあることで、光学フィルターに光が３５度入射しても、青色付近の色の可視光光線の光量変化より抑制することができ、過度な吸収による可視光透過率の低下が少なく、該フィルターを含む固体撮像装置、カメラモジュール、生体認証装置等を用いて撮像した際に、該フィルターに高角度に入射する光線に相当する画像の周辺部分において、可視光画素の色味の変化を抑制することができる。
【０１９７】
また、前記化合物（Ｘ）の濃度は下記式（Ｘ１）を満たすことが好ましい。
【０１９８】
【数４】
2020034701.tif 000023
［式（Ｘ１）中の符号は、以下のことを示す。
化合物（Ｘ）を含む層をｎ層有する光学フィルターにおいて、
ＣＸｎはｎ層中の化合物（Ｘ）の濃度（ｗｔ％）を示し、ｌＸｎは該ｎ層の厚み（μｍ）を示す。］
【０１９９】
前記式（Ｘ１）の左辺は、好ましくは０．５、より好ましくは１であり、右辺は、好ましくは３０、より好ましくは２５である。
化合物（Ｘ）の濃度が前記式（Ｘ１）を満たすことで、太陽光線によるノイズの原因となる紫外線を十分に遮断することができ、過剰な添加による紫外線領域以外の光、例えば可視光の吸収を少なくすることができ、可視光領域の高い感度とノイズ量の低下を両立した光学フィルターを容易に得ることができる。
【０２００】
前記基材として、例えば、透明樹脂と、前記化合物（Ａ）、（Ｂ）および（Ｘ）とを含有する透明樹脂製基板からなる基材や、透明樹脂と、前記化合物（Ａ）、（Ｂ）および（Ｘ）とを含有する透明樹脂製支持体を含む基材を用いる場合、前記化合物（Ａ）、（Ｂ）および（Ｘ）の総含有量は、透明樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜２．０質量部、より好ましくは０．０２〜１．５質量部、特に好ましくは０．０３〜１．０質量部である。
【０２０１】
前記基材として、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体上に前記化合物（Ａ）、（Ｂ）および（Ｘ）を含有するオーバーコート層が積層された基材を用いる場合、該オーバーコート層を形成する樹脂１００質量部に対して、前記化合物（Ａ）、（Ｂ）および（Ｘ）の総含有量は、好ましくは０．１〜５．０質量部、より好ましくは０．２〜４．０質量部、特に好ましくは０．３〜３．０質量部である。
【０２０２】
化合物（Ａ）、（Ｂ）および（Ｘ）の総含有量が前記範囲内にあると、高い可視光透過性および所望の近赤外線透過特性と、それ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の遮断性に優れることとを両立した光学フィルターを容易に得ることができる。
【０２０３】
また、基材が有する化合物（Ａ）、（Ｂ）および（Ｘ）の濃度は下記式（ＡＢＸ）を満たすことが好ましい。
【０２０４】
【数５】
2020034701.tif 000024
【０２０５】
前記式（ＡＢＸ）の左辺が０．５であると、波長８００〜９００ｎｍの光を十分に遮断できる光学フィルターを容易に得ることができる。前記式（ＡＢＸ）の左辺は、好ましくは１であり、より好ましくは２であり、特に好ましくは３である。
また、前記式（ＡＢＸ）の右辺が６０であると、高い可視光透過性および所望の近赤外線透過特性と、それ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の遮断性に優れることとを両立した光学フィルターを容易に得ることができる。前記式（ＡＢＸ）の右辺は、好ましくは４５であり、より好ましくは３５、特に好ましくは２５である。
【０２０６】
前記基材として、例えば、透明樹脂と前記その他の吸収剤（Ｚ）とを含有する透明樹脂製基板からなる基材や、透明樹脂と前記その他の吸収剤（Ｚ）とを含有する透明樹脂製基板を含む基材を用いる場合、該吸収剤（Ｚ）の含有量は、透明樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜１．５質量部、より好ましくは０．０２〜１．０質量部、特に好ましくは０．０３〜０．７質量部である。
また、前記基材として、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体上に前記吸収剤（Ｚ）を含有するオーバーコート層が積層された基材を用いる場合、該オーバーコート層を形成する樹脂１００質量部に対して、該吸収剤（Ｚ）の含有量は、好ましくは０．１〜４．０質量部、より好ましくは０．２〜３．０質量部、特に好ましくは０．３〜２．０質量部である。
【０２０７】
前記吸収剤（Ｚ）の含有量が前記範囲にあると、高い可視光透過性および所望の近赤外線透過特性と、それ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の遮断性に優れることとを両立した光学フィルターを容易に得ることができる。
【０２０８】
〈透明樹脂〉
樹脂製支持体やガラス支持体などに積層するオーバーコート層および透明樹脂製基板は、透明樹脂を用いて形成することができる。
前記基材に用いる透明樹脂としては、１種単独でもよいし、２種以上でもよい。
【０２０９】
透明樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性やフィルムへの成形性を確保し、かつ、１００℃以上の蒸着温度で行う高温蒸着により誘電体多層膜を形成しうる基材とするため、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０〜３８０℃、より好ましくは１１０〜３７０℃、さらに好ましくは１２０〜３６０℃である樹脂が挙げられる。
また、前記樹脂のガラス転移温度が１４０℃以上であると、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成し得るフィルム（透明樹脂製基板、透明樹脂製支持体およびオーバーコート層）が得られるため、特に好ましい。
Ｔｇは、具体的には、下記実施例に記載の方法で測定することができる。
【０２１０】
透明樹脂としては、当該樹脂からなる厚さ０．１ｍｍの樹脂製支持体を形成した場合に、この樹脂製支持体の全光線透過率（ＪＩＳ  Ｋ７３７５）が、好ましくは７５％以上、さらに好ましくは７８％以上、特に好ましくは８０％以上となる樹脂を用いることができる。全光線透過率がこのような範囲となる樹脂を用いれば、得られる基材は光学フィルムとして良好な透明性を示す。
【０２１１】
透明樹脂として、溶媒可溶性の樹脂を用いる場合、該透明樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常１５，０００〜３５０，０００、好ましくは３０，０００〜２５０，０００であり、数平均分子量（Ｍｎ）は、通常１０，０００〜１５０，０００、好ましくは２０，０００〜１００，０００である。
ＭｗおよびＭｎは、具体的には、下記実施例に記載の方法で測定することができる。
【０２１２】
透明樹脂としては、例えば、環状（ポリ）オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド（アラミド）系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂およびビニル系紫外線硬化型樹脂を挙げることができる。
【０２１３】
・環状（ポリ）オレフィン系樹脂
環状（ポリ）オレフィン系樹脂としては、下記式（Ｘ0）で表される単量体および下記式（Ｙ0）で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも１種の単量体から得られる樹脂、および当該樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。
【０２１４】
【化１９】
2020034701.tif 000025
【０２１５】
式（Ｘ0）中、Ｒx1〜Ｒx4はそれぞれ独立に、下記（ｉ'）〜（ｉｘ'）より選ばれる原子または基を表し、ｋx、ｍxおよびｐxはそれぞれ独立に、０または正の整数を表す。
（ｉ'）水素原子
（ｉｉ'）ハロゲン原子
（ｉｉｉ'）トリアルキルシリル基
（ｉｖ'）酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（ｖ'）置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（ｖｉ'）極性基（但し、（ｉｖ'）を除く。）
（ｖｉｉ'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基（但し、前記結合に関与しないＲx1〜Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す。）
（ｖｉｉｉ'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲx1〜Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す。）
（ｉｘ'）Ｒx2とＲx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲx1とＲx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す。）
【０２１６】
【化２０】
2020034701.tif 000026
【０２１７】
式（Ｙ0）中、Ｒy1およびＲy2はそれぞれ独立に、前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表すか、Ｒy1とＲy2とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表し、ｋyおよびｐyはそれぞれ独立に、０または正の整数を表す。
【０２１８】
・芳香族ポリエーテル系樹脂
芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式（１）で表される構造単位および下記式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。
【０２１９】
【化２１】
2020034701.tif 000027
（式（１）中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、ａ〜ｄはそれぞれ独立に、０〜４の整数を示す。）
【０２２０】
【化２２】
2020034701.tif 000028
（式（２）中、Ｒ1〜Ｒ4およびａ〜ｄはそれぞれ独立に、前記式（１）中のＲ1〜Ｒ4およびａ〜ｄと同義であり、Ｙは、単結合、−ＳＯ2−または＞Ｃ＝Ｏを示し、Ｒ7およびＲ8はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、０〜４の整数を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０のとき、Ｒ7はシアノ基ではない。）
【０２２１】
また、前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、さらに下記式（３）で表される構造単位および下記式（４）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有していてもよい。
【０２２２】
【化２３】
2020034701.tif 000029
（式（３）中、Ｒ5およびＲ6はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、＞Ｃ＝Ｏ、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−または炭素数１〜１２の２価の有機基を示し、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、０〜４の整数を示し、ｎは０または１を示す。
【０２２３】
【化２４】
2020034701.tif 000030
（式（４）中、Ｒ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、前記式（２）中のＲ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、前記式（３）中のＲ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。）
【０２２４】
・フルオレンポリエステル系樹脂
フルオレンポリエステル系樹脂としては特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば、特開２０１０−２８５５０５号公報や特開２０１１−１９７４５０号公報に記載されている方法で合成することができる。
【０２２５】
・ポリイミド系樹脂
ポリイミド系樹脂としては特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば、特開２００６−１９９９４５号公報や特開２００８−１６３１０７号公報に記載されている方法で合成することができる。
【０２２６】
・ポリカーボネート系樹脂
ポリカーボネート系樹脂として特に制限されないが、ガラス転移温度が１４０℃以上である樹脂が好ましく、例えば、特開平６−３０６１５８号公報、特開２００４−３５９９３２号公報特開２００８−１６３１９４号公報、特開２０１１−２４６５８３号公報に記載されている方法で合成することができる。
【０２２７】
・フッ素化芳香族ポリマー系樹脂
フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては特に制限されないが、フッ素原子を少なくとも１つ有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも１つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであることが好ましく、例えば、特開２００８−１８１１２１号公報に記載されている方法で合成することができる。
【０２２８】
・アクリル系紫外線硬化型樹脂
アクリル系紫外線硬化型樹脂としては特に制限されないが、分子内に一つ以上のアクリル基もしくはメタクリル基を有する化合物と、紫外線によって分解して活性ラジカルを発生させる化合物を含有する樹脂組成物から合成されるものを挙げることができる。アクリル系紫外線硬化型樹脂は、前記基材として、ガラス支持体上やベースとなる樹脂製支持体上に形成するオーバーコート層に使用する樹脂として特に好適に使用することができる。
【０２２９】
・市販品
透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等が挙げられる。環状（ポリ）オレフィン系樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製アートン、日本ゼオン（株）製ゼオノア、三井化学（株）製ＡＰＥＬ、ポリプラスチックス（株）製ＴＯＰＡＳが挙げられる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、例えば、住友化学（株）製スミカエクセルＰＥＳが挙げられる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、例えば、三菱ガス化学（株）製ネオプリムＬが挙げられる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、例えば、帝人（株）製ピュアエースが挙げられる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、例えば、三菱ガス化学（株）製ユピゼータＥＰ−５０００が挙げられる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、例えば、大阪ガスケミカル（株）製ＯＫＰ４ＨＴが挙げられる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、例えば、帝人（株）製パンライトＳＰ−３８１０が挙げられる。アクリル系樹脂の市販品としては、例えば、（株）日本触媒製アクリビュアが挙げられる。シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂の市販品としては、例えば、新日鐵化学（株）製シルプラスが挙げられる。
【０２３０】
〈添加剤〉
前記基材は、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに、酸化防止剤、耐光向上剤、離型剤、界面活性剤、帯電防止剤、密着助剤、光拡散材、蛍光消光剤および金属錯体系化合物等の添加剤を含有してもよい。また、後述するキャスト成形により基材を製造する場合には、レベリング剤や消泡剤を添加することで基材の製造を容易にすることができる。
これら添加剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２３１】
前記酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２'−ジオキシ−３，３'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５'−ジメチルジフェニルメタン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンが挙げられる。
【０２３２】
なお、前記添加剤は、基材を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を合成する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、樹脂１００質量部に対して、通常０．０１〜５．０質量部、好ましくは０．０５〜２．０質量部である。
【０２３３】
〈基材の製造方法〉
前記透明樹脂製基板や樹脂製支持体は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができ、さらに、必要により、成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングすることで、オーバーコート層が積層された基材を製造することができる。
【０２３４】
前記基材が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体上にオーバーコート層が積層された基材である場合は、例えば、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体にオーバーコート層形成用組成物を溶融成形またはキャスト成形することで、好ましくはスピンコート、スリットコート、インクジェットなどの方法にて塗工した後に溶媒を乾燥除去し、必要に応じてさらに光照射や加熱を行うことで、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体上にオーバーコート層が形成された基材を製造することができる。
【０２３５】
・溶融成形
前記溶融成形としては、具体的には、例えば、樹脂と必要により用いられるその他の成分とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法；樹脂と必要により用いられるその他の成分とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法；または、樹脂、溶剤および必要により用いられるその他の成分を含む樹脂組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法が挙げられる。
溶融成形方法としては、例えば、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形が挙げられる。
【０２３６】
・キャスト成形
前記キャスト成形としては、例えば、樹脂、溶剤および必要により用いられるその他の成分を含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶剤を除去する方法；または、光硬化性樹脂および／または熱硬化性樹脂と、必要により用いられるその他の成分とを含む硬化性組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶媒を除去した後、紫外線照射や加熱などの適切な手法により硬化させる方法が挙げられる。
【０２３７】
前記基材が、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板からなる基材である場合には、該基材は、キャスト成形後、支持体から塗膜を剥離することにより得ることができ、また、前記基材が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体等の支持体上に化合物（Ａ）を含有するオーバーコート層が積層された基材である場合には、該基材は、キャスト成形後、塗膜を剥離しないことで得ることができる。
【０２３８】
前記支持体としては、例えば、ガラス板、スチールベルト、スチールドラムおよび透明樹脂製支持体（例えば、前記透明樹脂等からなるフィルム（ポリエステルフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルムなど））が挙げられる。
【０２３９】
さらに、ガラス板、石英または透明プラスチック製等の光学部品に、前記樹脂組成物をコーティングして溶剤を乾燥させる方法、または、前記硬化性組成物をコーティングして硬化および乾燥させる方法などにより、光学部品上に透明樹脂層を形成することもできる。
【０２４０】
前記方法で得られた透明樹脂製基板やオーバーコート層中の残留溶剤量は可能な限り少ない方がよい。具体的には、前記残留溶剤量は、透明樹脂製基板やオーバーコート層の重さに対して、好ましくは３質量％以下、より好ましくは１質量％以下、さらに好ましくは０．５質量％以下である。残留溶剤量が前記範囲にあると、変形や特性が変化しにくい、所望の機能を容易に発揮できる透明樹脂製基板やオーバーコート層が得られる。
【０２４１】
［誘電体多層膜］
本フィルターは、誘電体多層膜を有していることが好ましい。該誘電体多層膜は、不要な近赤外線を反射によりカットするとともに必要となる近赤外線を透過させる能力を有する膜であることが好ましい。
該誘電体多層膜は、基材の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。片面に設ける場合、製造コストや製造容易性に優れ、両面に設ける場合、高い強度を有し、反りの生じにくい光学フィルターを得ることができる。
【０２４２】
本フィルターを固体撮像装置などの用途に適用する場合、光学フィルターの反りが小さい方が好ましいことから、誘電体多層膜を基材の両面に設けることが好ましく、両面に設けた誘電体多層膜は分光特性が同じでも異なっていてもよい。両面に設けた誘電体多層膜の分光特性が同じ場合では、近赤外波長域における前記波長（域）Ｉ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の透過率を効率よく低減することができ、両面に設けた誘電体多層膜の分光特性が異なる場合では前記波長（域）Ｉを超える近赤外線遮断領域をより長波長側まで広げることが容易になる傾向がある。
【０２４３】
誘電体多層膜としては、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した積層体が挙げられる。高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６超の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．６超〜２．５の材料が選択される。このような材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛または酸化インジウム等を主成分とし、酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウム等を少量（例えば、主成分に対して０〜１０質量％）含有させたものが挙げられる。
【０２４４】
低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．２〜１．６の材料が選択される。このような材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウム、これらを適当な空隙率で充填したものが挙げられる。
【０２４５】
高屈折率材料層と低屈折率材料層とを積層する方法については、これらの材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、基材上に、直接、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法またはイオンプレーティング法、ラジカルアシストスパッタ法等により、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。
【０２４６】
高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の物理膜厚は、それぞれ層の屈折率にもよるが、通常、５〜５００ｎｍであることが好ましく、誘電体多層膜の物理膜厚の合計値は光学フィルター全体として１．０〜８．０μｍであることが好ましい。
【０２４７】
誘電体多層膜における高屈折率材料層と低屈折率材料層との合計の積層数は、光学フィルター全体として１６〜１２０層であることが好ましく、２０〜８０層であることがより好ましい。各層の厚み、光学フィルター全体としての誘電体多層膜の厚みや合計の積層数が前記範囲にあると、十分な製造マージンを確保できる上に、光学フィルターの反りや誘電体多層膜のクラックを低減することができる。
【０２４８】
本発明では、高屈折率材料層および低屈折率材料層を構成する材料種、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さ、積層の順番、積層数を適切に選択することで、可視域に十分な透過率を確保した上で近赤外波長域に所望の波長の光線阻止帯域や光線透過帯域を有する光学フィルターを得ることができる。
【０２４９】
ここで、前記条件を最適化するには、例えば、光学薄膜設計ソフト（例えば、Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ  Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用い、近赤外波長域において光線の透過を抑制したい波長域の透過率を低くするともに、光線を透過させたい波長域の透過率を高くするようにパラメーターを設定すればよい。例えば、両面に形成された誘電体多層膜によって９４０ｎｍ付近に光線透過帯域を設ける場合、前記ソフトを使用し、一方の誘電体多層膜の波長８００〜９００ｎｍの光の目標透過率を０％、波長９２０〜９６０ｎｍの光の目標透過率を１００％とした上で、それぞれの波長域のＴａｒｇｅｔ  Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を０．５以下などとし、もう一方の誘電体多層膜の波長９２０〜９６０ｎｍの光の目標透過率を１００％、波長９６１〜１２００ｎｍの光の目標透過率を０％とした上で、それぞれの波長域のＴａｒｇｅｔ  Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を０．５以下などとするパラメーター設定方法が挙げられる。
【０２５０】
誘電体多層膜により近赤外線に遮断域を設ける場合、従来は遮断域の４分の１の光学膜厚の層の積層体を設けていた。しかし従来の遮断域の４分の１の光学膜厚の層の積層体では、該遮断域の３分の１の波長域は反射帯域となる傾向にある。波長９００〜１１００ｎｍにおいて一部の波長を透過する設計とした場合、該波長領域に透過領域を形成するために、例えば波長９５０ｎｍに透過帯域を形成する場合、遮断領域は例えば１０００〜１３５０ｎｍになる。その場合１３５０ｎｍの３分の１の波長に相当する波長４５０ｎｍの光の透過率が低下し、可視光透過率を高く維持することが困難となる。
これに対し、誘電体多層膜が、該誘電体多層膜を構成する層のうち、厚みが６０ｎｍ以下である層（のみ）が２層以上連続した積層部分を、好ましくは４個以上、より好ましくは５個以上、いっそう好ましくは６個以上、さらに好ましくは７個以上、特に好ましくは８個以上含むことで、波長４３０〜５８０ｎｍの光の透過率を高く、かつ、波長９００〜１１００ｎｍの範囲の一部に透過域を有しながらもその他の波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線を遮断する誘電体多層膜を容易に得ることができる。
前記積層部分の個数は、製造コストの点から１２個以下であることが好ましい。
【０２５１】
前記誘電体多層膜は、光学フィルターに含まれる全ての誘電体多層膜の層数をＡとし、厚みが６０ｎｍ以下である層の層数をＢとした時、Ｂ／Ａは、好ましくは０．２超、より好ましくは０．２７超、さらに好ましくは０．３超、好ましくは０．６未満、より好ましくは０．５以下である。
Ｂ／Ａが前記範囲にあると、高い可視光透過性および所望の近赤外線透過特性と、それ以外の波長８００〜１２００ｎｍの光の遮断性に優れることとを両立した光学フィルターを容易に得ることができる。
【０２５２】
［遮光膜］
本フィルターは、図２に示すように、光を遮断する遮光膜を有していてもよい。
本フィルターに含まれる遮光膜は、１か所でも複数個所でもよい。
【０２５３】
遮光膜の厚さは、好ましくは１〜１０μｍであり、遮光膜表面や端面における回折や反射を容易に抑制できる等の点から、より好ましくは１〜５μｍである。また、十分な遮断性能を有する膜となる等の点からは、遮光膜の厚さは２μｍ以上であることが好ましい。
厚みの異なる遮光膜や１枚の遮光膜のうちに厚み変化がある場合、該遮光膜の表面における反射を防止する等の点から、遮光膜の最も厚い部分と最も薄い部分間の高低差が０．１〜２μｍ程度の凹凸を設けることが好ましい。より好ましくは０．１〜０．２５μｍ程度である。
【０２５４】
遮光膜を形成する材料としては特に限定されないが、色素、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、フラーレン、グラフェン、ＨＯＰＧ（高配向性熱分解グラファイト）等の炭素材料、金属および金属酸化物から選ばれる可視光吸収剤を少なくとも１種含む紫外線硬化型または熱硬化型樹脂組成物であることが好ましい。中でも紫外線硬化樹脂組成物は、基材や誘電体多層膜との密着性に優れる等の点からより好ましい。
【０２５５】
可視光吸収剤である金属や金属酸化物としては、鉄、銅、クロム、モリブデン、タングステン、ニッケル、チタンを少なくとも１種含む金属または該金属の酸化物が好ましく、特に、低級金属酸化物または金属亜酸化物が遮光性に優れる等の点から好ましい。
遮光膜中の可視光吸収剤の含有量は、質量換算にて、少なくとも１ｐｐｍ以上であり、好ましくは５０％以下である。
【０２５６】
波長３００〜１２００ｎｍにおける遮光膜の光学濃度（ＯＤ値）は、特に制限されないが、迷光を除く効果、またはフレネルゾーンプレート形成の等の点から、１以上、好ましくは２以上、より好ましくは３以上である。
【０２５７】
［その他の機能膜］
本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、基材と誘電体多層膜との間、基材の誘電体多層膜が設けられた面と反対側の面、または誘電体多層膜の基材が設けられた面と反対側の面に、基材や誘電体多層膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
【０２５８】
本フィルターは、前記機能膜からなる層を１層含んでもよく、２層以上含んでもよい。本フィルターが前記機能膜からなる層を２層以上含む場合には、同様の層を２層以上含んでもよいし、異なる層を２層以上含んでもよい。
【０２５９】
機能膜を積層する方法としては、特に制限されないが、例えば、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤などを基材または誘電体多層膜に、前記と同様に溶融成形またはキャスト成形する方法が挙げられる。
【０２６０】
また、前記コーティング剤などを含む硬化性組成物をバーコーター等で基材または誘電体多層膜上に塗布した後、紫外線照射等により硬化することによっても製造することができる。
【０２６１】
前記コーティング剤としては、紫外線（ＵＶ）／電子線（ＥＢ）硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、具体的には、ビニル化合物類や、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。これらのコーティング剤を含む前記硬化性組成物としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系硬化性組成物などが挙げられる。
【０２６２】
また、前記硬化性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。該重合開始剤としては、公知の光重合開始剤や熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。
【０２６３】
前記硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を１００質量％とした場合、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．５〜１０質量％、さらに好ましくは１〜５質量％である。
重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物の硬化特性および取り扱い性に優れ、所望の硬度を有する反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を容易に得ることができる。
【０２６４】
前記硬化性組成物には溶剤として有機溶剤を加えてもよく、有機溶剤としては、公知の溶剤を使用することができる。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類が挙げられる。
これら溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２６５】
前記機能膜の厚さは、好ましくは０．１〜２０μｍ、より好ましくは０．５〜１０μｍ、特に好ましくは０．７〜５μｍである。
【０２６６】
基材と機能膜および／または誘電体多層膜との密着性や、機能膜と誘電体多層膜との密着性を上げる目的で、基材、機能膜または誘電体多層膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。
【０２６７】
＜光学フィルターの用途＞
本フィルターは、視野角が広く、可視光と一部の近赤外線を選択的に透過させることができる。したがって、カメラ機能と近赤外センシング機能を併せ持つＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサーなどの固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、暗視カメラ、モーションキャプチャー、レーザー距離計、バーチャル試着、ナンバープレート認識装置、テレビ、カーナビゲーション、携帯情報端末、ビデオゲーム機、携帯ゲーム機、デジタルミュージックプレーヤー、顔認証装置、静脈認証装置、虹彩認証装置、指紋認証装置、体温検出装置、空間物体検出装置、拡張現実表示装置、仮想現実表示装置等に有用である。
【０２６８】
［固体撮像装置］
本発明に係る固体撮像装置は、本フィルターを具備する。ここで、固体撮像装置とは、カメラ機能と近赤外センシング機能を併せ持つＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサー等といった固体撮像素子を備えたイメージセンサーであることが好ましく、具体的にはデジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、デジタルビデオカメラ等のカメラモジュール、生体認証装置等が挙げられる。
【０２６９】
固体撮像装置、カメラモジュール、生体認証装置の例を図４に示す。センシングの為近赤外線の光源１０２、センサー１１２、レンズユニット１２１を備え、光学フィルター１はセンサー１１２全面に具備させる。光源、センサー、レンズユニットは装置に対して一つでも複数でもよい。
光源やレンズユニットが有するレンズは、いわゆる屈折率１．１以上の曲率を形成した構造物でも、回折光学素子でもよい。薄さの観点や複数個所へ光源を拡散させるなどの光学制御の観点から、固体撮像装置、カメラモジュール、生体認証装置が有するレンズユニットは回折光学素子を有することがより好ましい。回折光学素子としては、例えば、シリコン、チタニア、ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、金、銀、銅、アルミニウムが用いられる。可視光透過率の観点から回折光学素子を構成する材料としては、好ましくはシリコン、チタニア、酸化アルミニウム、酸化ケイ素を含む材料が挙げられる。
【０２７０】
前記固体撮像装置における光学フィルターの具備位置の例を、図３に示す。配置位置については特に限定されないが、図３の通り、光学フィルター１をレンズユニット３２の後方、前方どちらに具備してもよい。光学フィルターが遮光膜を有し、遮光膜がモザイクマスクやフレネルゾーンプレート等のレンズ効果を有する場合や、センサー検出位置を走査する場合など別の機構で撮像画像が得られる場合はレンズユニットを有さなくてもよい。
【０２７１】
前記固体撮像装置におけるセンサー部分の例を図６に示す。構成要素については特に限定されないが、センサーは、青画素、緑画素、赤画素の三色の画素に加え、近赤外線画素を有してもよい。センシングを行う一部の近赤外線透過帯が高い透過率を有する本フィルターを用いる場合であって、近赤外線画素を有するセンサーに用いると、人間の眼に見えない光を用いた検出が可能となる。
受光素子としては、例えばフォトダイオードを用いることができ、フォトダイオードとしては、シリコンフォトダイオード、ブラックシリコンが好ましい。
絶縁層表面はフォトダイオードの感度向上等の点から、円錐、三角錐型、四角錐型などの反射防止構造を有することが好ましい。
【実施例】
【０２７２】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されない。なお、下記「部」は、特に断りのない限り「質量部」を意味する。
【０２７３】
＜分子量＞
下記樹脂の分子量は、各樹脂の溶剤への溶解性等を考慮し、下記の（ａ）または（ｂ）の方法にて測定を行った。
【０２７４】
（ａ）ウォターズ（ＷＡＴＥＲＳ）社製のゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（１５０Ｃ型、カラム：東ソー（株）製Ｈタイプカラム、展開溶剤：ｏ−ジクロロベンゼン）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
（ｂ）東ソー（株）製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ−８２２０型、カラム：ＴＳＫｇｅｌα−Ｍ、展開溶剤：テトラヒドロフラン）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
【０２７５】
＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ（株）製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。
【０２７６】
＜分光透過率＞
光学フィルターの各波長領域における透過率は、（株）日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ−４１００）を用いて測定した。
【０２７７】
ここで、基材および光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した（０度入射）光の透過率は、図５（Ａ）のように基材またはフィルターに対して垂直に透過した光を測定した。また、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から３５度の角度で入射した（３５度入射）光の透過率は、図５（Ｂ）のようにフィルターの垂直方向に対して３５度の角度で透過した光を測定した。
【０２７８】
＜ノイズ量＞
３５度入射時のノイズ量は光学フィルターの３５度入射時の波長別透過率Ｔ35（λ）、太陽光線の波長別強度Ｉ（λ）、センサー画素において、青画素の波長別感度Ｂ（λ）、緑画素の波長別感度Ｇ（λ）、赤画素の波長別感度Ｒ（λ）から以下の式より算出した。
ノイズ量（％）＝Ｎ／Ｓ×１００
【０２７９】
Ｎは、人間の比視感度が比較的低い近赤外線波長である波長７８１〜１２００ｎｍにおける太陽光線下のセンサー画素への総受光量の代替指標である。Ｎは、具体的には、光学フィルターの波長別透過率Ｔ35（λ）と、太陽光線の波長別強度Ｉ（λ）と、青、緑、赤の各センサー画素の波長別感度Ｂ（λ）、Ｇ（λ）またはＲ（λ）との積の１ｎｍ毎の計算値の総和として、下記式に基づいて算出した。
【０２８０】
【数６】
2020034701.tif 000031
【０２８１】
Ｓは、波長３８０〜７８０ｎｍにおける太陽光線下のセンサー画素への総受光量の代替指標である。Ｓは、具体的には、光学フィルターの波長別透過率Ｔ35（λ）と、太陽光線の波長別強度Ｉ（λ）と、青、緑、赤の各センサー画素の波長別感度Ｂ（λ）、Ｇ（λ）またはＲ（λ）との積の１ｎｍ毎の計算値の総和として、下記式に基づいて算出した。
【０２８２】
【数７】
2020034701.tif 000032
【０２８３】
太陽光線の波長別強度Ｉ（λ）は図７に示す通り、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構が公開している、ある日時の岐阜の照射量データを用いた。青、緑、赤の各センサー画素の波長別感度は、特開２０１７−２１６６７８号公報の記載に基づき、図８に示す値を用いた。
【０２８４】
０度入射時のノイズ量は光学フィルターの０度入射時の波長別透過率Ｔ0（λ）を用いた以外は前記３５度入射時のノイズ量と同様にして算出した。
【０２８５】
［合成例］
下記実施例で用いた化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）および化合物（Ｘ）は、一般的に知られている方法で合成することができ、例えば、特許第３３６６６９７号公報、特許第２８４６０９１号公報、特許第２８６４４７５号公報、特許第３０９４０３７号公報、特許第３７０３８６９号公報、特開昭６０−２２８４４８号公報、特開平１−１４６８４６号公報、特開平１−２２８９６０号公報、特許第４０８１１４９号公報、特開昭６３−１２４０５４号公報、「フタロシアニン  −化学と機能―」（アイピーシー、１９９７年）、特開２００７−１６９３１５号公報、特開２００９−１０８２６７号公報、特開２０１０−２４１８７３号公報、特許第３６９９４６４号公報、特許第４７４０６３１号公報などに記載されている方法を参照して合成することができる。
【０２８６】
＜化合物（Ａ）＞
【化２５】
2020034701.tif 000033
【０２８７】
＜化合物（Ｂ）＞
【化２６】
2020034701.tif 000034
【０２８８】
＜化合物（Ｘ）＞
（Ｘ−１）：ＢＯＮＡＳＯＲＢ−ＵＡ３９１１（オリヱント化学工業（株）製）
【０２８９】
＜樹脂合成例１＞
下記式（ａ）で表される８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ−３−エン１００部、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部およびトルエン（開環重合反応用溶媒）３００部を、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（濃度０．６ｍｏｌ／リットル）０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９部とを添加し、得られた溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
【０２９０】
【化２７】
2020034701.tif 000035
【０２９１】
このようにして得られた開環重合体溶液１，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3］3を０．１２部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ2、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下「樹脂Ａ」ともいう。）を得た。得られた樹脂Ａは、数平均分子量（Ｍｎ）が３２，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１３７，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１６５℃であった。
【０２９２】
［実施例１］
容器に、合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、化合物（Ａ）として化合物（ａ−１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長８４３ｎｍ）０．１２部および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液を得た。次いで、得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥することで、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの透明樹脂製基板からなる基材を得た。
【０２９３】
続いて、得られた基材の片面に表１に記載の誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、基材のもう一方の面に表１に記載の誘電体多層膜（ＩＩ）を形成し、厚さ約０．１０５ｍｍの光学フィルター１を得た。
【０２９４】
誘電体多層膜（Ｉ）は、蒸着温度１００℃で、シリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層された積層体である。誘電体多層膜（ＩＩ）は、蒸着温度１００℃で、シリカ層とチタニア層とが交互に積層された積層体である。誘電体多層膜（Ｉ）および（ＩＩ）のいずれにおいても、シリカ層およびチタニア層は、基材側からチタニア層、シリカ層、チタニア層、・・・シリカ層、チタニア層、シリカ層の順で交互に積層されており、光学フィルターの最外層をシリカ層とした。
【０２９５】
この光学フィルター１の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図９および表６に示す。
光学フィルター１の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は９０．２％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は２．６％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８８．８％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は１３．２％であり、高い可視光透過率と波長８００〜９００ｎｍにおいて高い遮断性を有していた。光学フィルター１における３５度入射時のノイズ量は９％であり、ノイズ量が少なかった。
【０２９６】
［実施例２］
実施例１において、化合物（ａ−１）０．１２部の代わりに化合物（ａ−２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長９０３ｎｍ）０．１０４部を用いたこと、基板の両面に設ける誘電体多層膜を表１に記載の（ＩＩＩ）および（ＩＶ）に変えたこと以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター２を得た。
【０２９７】
この光学フィルター２の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１０および表６に示す。
光学フィルター２の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８０．３％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は０．１％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は７８．８％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は０．８％であり、高い可視光透過率と波長８００〜９００ｎｍにおいて高い遮断性を有していた。光学フィルター２における３５度入射時のノイズ量は２％であり、ノイズ量が少なかった。
【０２９８】
［実施例３］
実施例１において、化合物（ａ−１）０．１２部の代わりに化合物（ａ−３）（ジクロロメタン中での吸収極大波長８８６ｎｍ）０．０６５部を用いたこと、基板の両面に設ける誘電体多層膜を表１に記載の（Ｖ）および（ＶＩ）に変えたこと以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター３を得た。
【０２９９】
この光学フィルター３の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１１および表６に示す。
光学フィルター３の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８１．３％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は０．０％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は７８．４％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は０．２％であり、高い可視光透過率と波長８００〜９００ｎｍにおいて高い遮断性を有していた。光学フィルター３における３５度入射時のノイズ量は１％であり、ノイズ量が少なかった。
【０３００】
【表１】
2020034701.tif 000036
【０３０１】
［実施例４］
容器に、合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、化合物（Ａ）として化合物（ａ−４）（ジクロロメタン中での吸収極大波長８６８８９８ｎｍ）０．０４２部および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液を得た。次いで、得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、縦１５０ｍｍ、横２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。
【０３０２】
下記樹脂組成物（１）を、前記透明樹脂製基板の両面に、バーコーター（（株）安田精機製作所製、オートマチックフィルムアプリケーター、型番５４２−ＡＢ）を用い、コーターバーにより乾燥後の膜厚が各０．００２ｍｍとなるように塗布した。イナートオーブン（ヤマト科学（株）製イナートオーブンＤＮ４１０Ｉ）を用い、８０℃で３分間乾燥した後、ＵＶコンベア（アイグラフィックス（株）製、アイ紫外硬化用装置、型式ＵＳ２−Ｘ０４０５  ６０Ｈｚ）を用い、メタルハライドランプ照度２７０ｍＷ／ｃｍ2、露光量５００ｍＪ／ｃｍ2でＵＶ硬化させ、透明な硬化層が形成された基材を得た。
【０３０３】
樹脂組成物（１）：トリシクロデカンジメタノールアクリレート  ６０部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート  ４０部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン  ５部、メチルエチルケトン（固形分濃度が３０質量％となるよう使用）を含む組成物
【０３０４】
得られた基材の両面に設ける誘電体多層膜を表２に記載の（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）に変えた以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター４を得た。
【０３０５】
この光学フィルター４の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１２および表６に示す。
光学フィルター４の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８８．３％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は０．２％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８７．４％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は２．４％であり、高い可視光透過率と波長８００〜９００ｎｍにおいて高い遮断性を有していた。光学フィルター４における３５度入射時のノイズ量は４％であり、ノイズ量が少なかった。
【０３０６】
［実施例５］
ガラス板（ＳＣＨＯＴＴ社製、ＢＫ７、厚み０．１ｍｍ）に、下記樹脂組成物（２）をスピンコートで塗布した後、ホットプレート上８０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去することで硬化層を形成した。この際、該硬化層の膜厚が０．８μｍ程度となるようにスピンコーターの塗布条件を調整した。
【０３０７】
樹脂組成物（２）：イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート（商品名：アロニックスＭ−３１５、東亜合成化学（株）製）３０部、１，９−ノナンジオールジアクリレート２０部、メタクリル酸２０部、メタクリル酸グリシジル３０部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン５部、１−ヒドロキシシクロヘキシルベンゾフェノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカル（株）製)５部およびサンエイドＳＩ−１１０主剤（三新化学工業（株）製）１部を混合し、固形分濃度が５０質量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解した後、孔径０．２μｍのミリポアフィルタでろ過した溶液
【０３０８】
次に、容器に、合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、化合物（ａ−４）０．４８部、化合物（ｂ−１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７７１ｎｍ）０．５４部および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液（Ａ）を得た。前記硬化層の片面上に、バーコーター（（株）安田精機製作所製、オートマチックフィルムアプリケーター、型番５４２−ＡＢ）を用い、コーターバーにより乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように溶液（Ａ）を塗布し、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶剤を揮発除去することで、透明樹脂層を形成した。次いで、ガラス板側からＵＶコンベア式露光機を用いて露光（露光量：５００ｍＪ／ｃｍ2、照度：２００ｍＷ）し、その後オーブン中２１０℃で５分間焼成し、ガラス基板と硬化層および透明樹脂層を有する基材を得た。
【０３０９】
得られた基材の両面に設ける誘電体多層膜を表２に記載の（ＩＸ）および（Ｘ）に変えた以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター５を得た。なお、ガラス板と接する誘電体多層膜が（ＩＸ）となるように誘電体多層膜を形成した。
【０３１０】
この光学フィルター５の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１３および表６に示す。
光学フィルター５の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は７５．９％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は０．１％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は７４．３％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は１．５％であり、高い可視光透過率と波長８００〜９００ｎｍにおいて高い遮断性を有していた。光学フィルター５における３５度入射時のノイズ量は４％であり、ノイズ量が少なかった。
【０３１１】
［実施例６］
実施例１において、化合物（ａ−１）０．１２部の代わりに化合物（ａ−１）０．１３６部、化合物（ｂ−２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７０４ｎｍ）０．０３部および化合物（ｂ−３）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３３ｎｍ）０．０３５部を用いたこと、基板の両面に設ける誘電体多層膜を表２に記載の（ＸＩ）および（ＸＩＩ）に変えた以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター６を得た。
【０３１２】
この光学フィルター６の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１４および表６に示す。
光学フィルター６の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８８．２％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は１．６％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８４．１％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は１１．１％であり、高い可視光透過率と波長８００〜９００ｎｍにおいて高い遮断性を有していた。光学フィルター６における３５度入射時のノイズ量は９％であり、ノイズ量が少なかった。
【０３１３】
【表２】
2020034701.tif 000037
【０３１４】
［実施例７］
実施例１において、化合物（ａ−１）の代わりに化合物（ａ−２）０．１０４部、化合物（ｂ−２）０．０３部および化合物（ｂ−３）０．０３５部を用いたこと、基板の両面に設ける誘電体多層膜を表３に記載の（ＸＩＩＩ）および（ＸＩＶ）に変えた以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター７を得た。
【０３１５】
この光学フィルター７の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１５および表６に示す。
光学フィルター７の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は７７．７％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は０．１％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は７６．１％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は０．８％であり、高い可視光透過率と波長８００〜９００ｎｍにおいて高い遮断性を有していた。光学フィルター７における３５度入射時のノイズ量は２％であり、ノイズ量が少なかった。
【０３１６】
［実施例８］
実施例１において、化合物（ａ−１）の代わりに化合物（ａ−４）０．０４１部、化合物（ｂ−２）０．０４部、化合物（ｂ−３）０．０３５部および化合物（Ｘ−１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長３９５ｎｍ）０．０４５部を用いたこと、基板の両面に設ける誘電体多層膜を表３に記載の（ＸＶ）および（ＸＶＩ）に変えた以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター８を得た。
【０３１７】
この光学フィルター８の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１６および表６に示す。
光学フィルター８の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８６．７％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は０．３％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８２．７％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は２．４％であり、高い可視光透過率と波長８００〜９００ｎｍにおいて高い遮断性を有していた。光学フィルター８における３５度入射時のノイズ量は４％であり、ノイズ量が少なかった。
【０３１８】
［実施例９］
実施例１において、化合物（ａ−１）の代わりに化合物（ａ−３）０．０５部、化合物（ｂ−２）０．０３１部、化合物（ｂ−３）０．０３５部および化合物（Ｘ−１）０．０４５部を用いたこと、基板の両面に設ける誘電体多層膜を表３に記載の（ＸＶＩＩ）および（ＸＶＩＩＩ）に変えた以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター９を得た。
【０３１９】
この光学フィルター９の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１７および表６に示す。
光学フィルター９の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８１．６％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は０．０％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は７８．６％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は０．４％であり、高い可視光透過率と波長８００〜９００ｎｍにおいて高い遮断性を有していた。光学フィルター９における３５度入射時のノイズ量は１％であり、ノイズ量が少なかった。
【０３２０】
【表３】
2020034701.tif 000038
【０３２１】
［比較例１］
実施例１において、透明樹脂製基板からなる基材の代わりに、ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、ＢＫ７、厚み０．１ｍｍ）を用いたこと、基板の両面に設ける誘電体多層膜を表４記載の（ＸＩＸ）および（ＸＸ）に変えた以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター１０を得た。
【０３２２】
この光学フィルター１０の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を表６に示す。
得られた光学フィルター１０は従来の２波長バンドパスフィルターと同様の構成であり、光学フィルター１０の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は９５．１％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は１．０％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は９４．８％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は３２．８％であり、高い可視光透過率を有するが、３５度入射時における波長８００〜９００ｎｍの遮断性を有していなかった。光学フィルター１０における３５度入射時のノイズ量は１３％でありノイズ量が多かった。
【０３２３】
［比較例２］
実施例１において、化合物（ａ−１）０．１２部の代わりに化合物（ｂ−１）０．０５４部を用いたこと、基板の両面に設ける誘電体多層膜を表４に記載の（ＸＸＩ）および（ＸＸＩＩ）に変えた以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター１１を得た。
【０３２４】
この光学フィルター１１の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１８および表６に示す。
光学フィルター１１の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８３．１％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は２．１％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８１．８％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は２８．４％であり、高い可視光透過率を有するが、３５度入射時における波長８００〜９００ｎｍの遮断性を有していなかった。光学フィルター１１における３５度入射時のノイズ量は１９％でありノイズ量が多かった。
【０３２５】
［比較例３］
実施例１において、化合物（ａ−１）０．１２部の代わりに化合物（ｂ−４）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７７０ｎｍ）０．０７２部を用いたこと、基板の両面に設ける誘電体多層膜を表４に記載の（ＸＸＩＩＩ）および（ＸＸＩＶ）に変えた以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター１２を得た。
【０３２６】
この光学フィルター１２の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１９および表６に示す。
光学フィルター１２の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８９．６％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は２．２％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８８．８％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は２９．８％であり、高い可視光透過率を有するが、３５度入射時における波長８００〜９００ｎｍの遮断性を有していなかった。光学フィルター１２における３５度入射時のノイズ量は１７％でありノイズ量が多かった。
【０３２７】
【表４】
2020034701.tif 000039
【０３２８】
［比較例４］
実施例１において、化合物（ａ−１）０．１２部の代わりに化合物（ｂ−２）０．０３部および化合物（ｂ−３）０．０３５部を用いたこと、基板の両面に設ける誘電体多層膜を表５に記載の（ＸＸＶ）および（ＸＸＶＩ）に変えた以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター１３を得た。
【０３２９】
この光学フィルター１３の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図２０および表６に示す。
光学フィルター１３の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は９４．１％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は３．３％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は９０．３％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は３３．５％であり、高い可視光透過率を有するが、３５度入射時における波長８００〜９００ｎｍの遮断性を有していなかった。光学フィルター１３における３５度入射時のノイズ量は２１％でありノイズ量が多かった。
【０３３０】
［比較例５］
比較例４において、基板の両面に設ける誘電体多層膜を表５に記載の（ＸＸＶＩＩ）および（ＸＸＶＩＩＩ）に変えた以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター１４を得た。
【０３３１】
この光学フィルター１４の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図２１および表６に示す。
光学フィルター１４の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は９０．９％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は３．１％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８７．０％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は３２．７％であり、高い可視光透過率を有するが、３５度入射時における波長８００〜９００ｎｍの遮断性を有していなかった。光学フィルター１４における３５度入射時のノイズ量は２２％でありノイズ量が多かった。
【０３３２】
［比較例６］
実施例１において、化合物（ａ−１）０．１２部の代わりに化合物（ｂ−２）０．０３部、化合物（ｂ−３）０．０３５部および化合物（ｂ−４）０．０４部を用いたこと、基板の両面に設ける誘電体多層膜を表５に記載の（ＸＸＩＸ）および（ＸＸＸ）に変えた以外は実施例１と同様の手順および条件で光学フィルター１５を得た。
【０３３３】
この光学フィルター１５の面方向に対して垂直方向（０度）および垂直方向から３５度の角度で入射した光の分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図２２および表６に示す。
光学フィルター１５の０度入射の際の、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は９０．９％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は６６．９％であり、３５度入射の際の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８６．４％、波長８００〜９００ｎｍの透過率の平均値は４６．１％であり、高い可視光透過率を有するが、３５度入射時における波長８００〜９００ｎｍの遮断性を有していなかった。光学フィルター１５における３５度入射時のノイズ量は３９％でありノイズ量が多かった。
【０３３４】
【表５】
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【０３３５】
【表６】
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【産業上の利用可能性】
【０３３６】
本フィルターは、デジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、暗視カメラ、モーションキャプチャー、レーザー距離計、バーチャル試着、ナンバープレート認識装置、テレビ、カーナビゲーション、携帯情報端末、パソコン、ビデオゲーム機、携帯ゲーム機、デジタルミュージックプレーヤー、顔認証装置、静脈認証装置、虹彩認証装置、指紋認証装置、体温検出装置、空間物体検出装置、拡張現実表示装置、仮想現実表示装置等に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【０３３７】
１・・・光学フィルター
２，２’・・・基材
３，３’・・・誘電体多層膜
４，４’・・・機能膜
５・・・遮光膜
６，６’・・・光
７・・・分光光度計
８・・・光学フィルター
２４・・・イメージセンサー
２５・・・イメージセンサーフレーム
２６・・・フレーム
３１・・・筐体
３２・・・レンズ
１０１・・・光源ユニット
１０２・・・光源
１０３・・・レンズまたは回折光学素子または光源走査ユニット
１１１・・・センサーユニット
１１２・・・センサー
１２１・・・レンズユニット
１２２・・・レンズまたは回折光学素子
２０１・・・マイクロレンズ
２０２・・・平坦層
２０３ａ・・・カラーフィルター（青）
２０３ｂ・・・カラーフィルター（緑）
２０３ｃ・・・カラーフィルター（赤）
２０３ｄ・・・カラーフィルター（赤外）
２０４ａ・・・フォトダイオード（青）
２０４ｂ・・・フォトダイオード（緑）
２０４ｃ・・・フォトダイオード（赤）
２０４ｄ・・・フォトダイオード（赤外）
２０５・・・絶縁層
２０６・・・基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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