(57)【要約】【課題】優れた光学性能、特に十分な二色比を維持したまま、低い等方相出現温度を実現できる異方性色素膜形成用組成物の提供。【解決手段】本発明の異方性色素膜形成用組成物は、色素、および、式（２）で表される液晶化合物を含有する。  Ｒ１−Ａ１−Ｙ１−Ａ２−Ｙ２−Ａ３−Ｒ２    ・・・（２）（式中、Ｒ１およびＲ２は、鎖状有機基を表し；Ａ１およびＡ３は、式（１）で表される部分構造、２価有機基または単結合を表し；Ａ２は、式（１）で表される部分構造または２価有機基を表し；−Ｙ１−および−Ｙ２−は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−など表す。）  −Ｃｙ−Ｘ２−Ｃ≡Ｃ−Ｘ−    ・・・（１）（式中、Ｃｙは、炭化水素環基または複素環基を表し；−Ｘ−は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−などを表し；−Ｘ２−は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−などを表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
色素および液晶化合物を含有する異方性色素膜形成用組成物であって、
前記液晶化合物は、式（２）で表される液晶化合物を含む異方性色素膜形成用組成物。
Ｒ１−Ａ１−Ｙ１−Ａ２−Ｙ２−Ａ３−Ｒ２    ・・・（２）
（式中、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、鎖状有機基を表し；
Ｒ１およびＲ２の少なくとも一つの鎖状有機基が、−（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ２−重合性基または−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ２−重合性基を表し、ここで、ｎは、１〜２４の整数であり；
Ａ１およびＡ３は、それぞれ独立に、式（１）で表される部分構造、２価有機基、または単結合を表し；
Ａ２は、式（１）で表される部分構造または２価有機基を表し；
−Ｙ１−および−Ｙ２−は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−を表し；
Ａ１およびＡ３の一方は、式（１）で表される部分構造または２価有機基であり；
Ａ１、Ａ２、およびＡ３のうち、少なくとも一つは、式（１）で表される部分構造である。）
−Ｃｙ−Ｘ２−Ｃ≡Ｃ−Ｘ−    ・・・（１）
（式中、
Ｃｙは、炭化水素環基または複素環基を表し；
−Ｘ−は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−を表し；
−Ｘ２−は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−を表す。）
【請求項２】
−Ｘ−が、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−である、請求項１に記載の異方性色素膜形成用組成物。
【請求項３】
Ｃｙが、炭化水素環基であり、−Ｘ２−が、単結合である、請求項１または２に記載の異方性色素膜形成用組成物。
【請求項４】
Ａ１、Ａ２、およびＡ３のうち、一つが、前記式（１）で表される部分構造である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
【請求項５】
Ｃｙが炭化水素環基であり、−Ｘ２−が単結合であり；Ａ１、Ａ２、およびＡ３のうち、一つが、前記式（１）で表される部分構造であり、それ以外の二つが、それぞれ独立に、炭化水素環基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
【請求項６】
前記炭化水素環基が、１，４−フェニレン基またはシクロヘキサン−１，４−ジイル基である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
【請求項７】
−Ｙ１−および−Ｙ２−が、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−であり、−Ｘ−が、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
【請求項８】
Ｃｙが、１，４−フェニレン基である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
【請求項９】
Ａ１およびＡ３の一方が、シクロヘキサン−１，４−ジイル基である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
【請求項１０】
Ａ１およびＡ３の一方が、前記式（１）で表される部分構造であり、
他方が、シクロヘキサン−１，４−ジイル基である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
【請求項１１】
前記異方性色素膜形成用組成物の固形分１００質量部に対して、前記色素が占める含有量が０．０１〜３０質量部である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
【請求項１２】
前記色素がアゾ系二色性色素である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物を用いて形成された、異方性色素膜。
【請求項１４】
請求項１３に記載の異方性色素膜を含む、光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶組成物を塗布することにより形成される異方性色素膜、特に、調光素子、液晶素子（ＬＣＤ）、および有機エレクトロルミネッセンス素子（ＯＬＥＤ）の表示素子に具備される偏光膜等に有用な、高い二色性を示す異方性色素膜形成用組成物および異方性色素膜、ならびに光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤでは、表示における旋光性や複屈折性を制御するために、直線偏光膜および円偏光膜が用いられている。ＯＬＥＤにおいても、明所での外光の反射防止のために円偏光膜が用いられている。
従来、このような偏光膜として、たとえば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を低濃度のヨウ素で染色した偏光膜（ヨウ素−ＰＶＡ偏光膜）を含むものが知られている（特許文献１）。
また、色素を含有した液晶組成物を塗布して形成される異方性色素膜が偏光膜として機能することも知られている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１−１０５２０４号公報
【特許文献２】特表２００４−５３５４８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このように低濃度としたヨウ素−ＰＶＡ偏光板は、使用環境によっては、ヨウ素が昇華したり、変質したりして、色目が変わってしまうといった問題や、ＰＶＡの延伸が緩和されることによる反りが発生するといった問題がある。
【０００５】
また、色素を含有した液晶組成物を塗布して形成される偏光膜においては、高い光吸収選択性能を得られない、または、高い光吸収選択性能を得ようとすると、プロセス上の困難が生じることがあるという問題がある。
そのような状況下、薄膜でも高い光吸収選択性能を有する偏光膜が所望されている。
【０００６】
ところで、異方性色素膜の製造過程において、異方性色素膜形成用組成物の基板への塗布、乾燥後に必要に応じて行われる配向プロセスにおいては、異方性色素膜形成用組成物の等方相出現温度以上に加熱した後、再度液晶相となるように冷却を行う。または、流動性が高い液晶相（たとえばネマチック相など）が発現する温度に加熱した後、冷却を行う。このことから、等方相出現温度の高い異方性色素膜形成用組成物は、上記の配向プロセスにおいてより高温を必要とすることとなり、色素や液晶化合物の安定性、プロセスの取り扱いやすさ、エネルギー消費の観点等において不利となる。さらに、液晶化合物が重合性基を有する場合には、上記の再配向プロセスにおける高温での加熱により、意図しない熱重合が起こりうる。また、基材の耐熱温度によっては、使用しうる基材の選定自由度が下がってしまう。
【０００７】
一方、異方性色素膜形成用組成物から形成される異方性色素膜の二色性を高くするためには、異方性色素膜形成用組成物に含有される液晶化合物分子のコアの長軸と短軸の比率を大きくすることが考えられる。
しかし、液晶化合物分子のコアを大きくすると、液晶化合物の融点（固体および液体間の相転移点）や、等方相出現温度（液晶および液体間の相転移点）が高くなる傾向がある。
すなわち、等方相出現温度を低くしようとすれば、液晶化合物分子のコアを小さくすることが考えられる一方で、液晶化合物分子のコアを小さくすることにより、液晶化合物分子のコアの長軸と短軸の比率が小さくなってしまい、その結果、異方性色素膜形成用組成物から形成される異方性色素膜の二色性を低くすることとなってしまう。
【０００８】
このような状況下、異方性色素膜形成用組成物から形成される異方性色素膜の二色性を高く維持したまま、異方性色素膜形成用組成物の等方相出現温度を低くすることが望まれている。
【０００９】
本発明は、優れた光学性能、特に十分な二色比を維持したまま、低い等方相出現温度を実現できる異方性色素膜形成用組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、優れた光学性能、特に十分な二色比を維持でき、より低い温度で形成することが可能な異方性色素膜を提供することを目的とする。
また、本発明は、優れた光学性能、特に十分な二色比を維持でき、より低い温度で形成することが可能な異方性色素膜を含む、光学素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、色素および液晶化合物を含有する異方性色素膜形成用組成物において、特定の構造を有する液晶化合物を用いることにより、前記課題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明は、以下を要旨とする。
【００１１】
［１］  色素および液晶化合物を含有する異方性色素膜形成用組成物であって、
前記液晶化合物は、式（２）で表される液晶化合物を含む異方性色素膜形成用組成物。
Ｒ１−Ａ１−Ｙ１−Ａ２−Ｙ２−Ａ３−Ｒ２    ・・・（２）
（式中、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、鎖状有機基を表し；
Ｒ１およびＲ２の少なくとも一つの鎖状有機基が、−（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ２−重合性基または−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ２−重合性基を表し、ここで、ｎは、１〜２４の整数であり；
Ａ１およびＡ３は、それぞれ独立に、式（１）で表される部分構造、２価有機基、または単結合を表し；
Ａ２は、前記式（１）で表される部分構造または２価有機基を表し；
−Ｙ１−および−Ｙ２−は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−を表し；
Ａ１およびＡ３の一方は、式（１）で表される部分構造または２価有機基であり；
Ａ１、Ａ２、およびＡ３のうち、少なくとも一つは、式（１）で表される部分構造である。）
−Ｃｙ−Ｘ２−Ｃ≡Ｃ−Ｘ−    ・・・（１）
（式中、
Ｃｙは、炭化水素環基または複素環基を表し；
−Ｘ−は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−を表し；
−Ｘ２−は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−を表す。）
［２］  −Ｘ−が、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−である、［１］に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［３］  Ｃｙが、炭化水素環基であり、−Ｘ２−が、単結合である、［１］または［２］に記載の異方性色素膜形成用組成物。
【００１２】
［４］  Ａ１、Ａ２、およびＡ３のうち、一つが、前記式（１）で表される部分構造である、［１］〜［３］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［５］  Ｃｙが炭化水素環基であり、−Ｘ２−が単結合であり；Ａ１、Ａ２、およびＡ３のうち、一つが、前記式（１）で表される部分構造であり、それ以外の二つが、それぞれ独立に、炭化水素環基である、［１］〜［４］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［６］  前記炭化水素環基が、１，４−フェニレン基またはシクロヘキサン−１，４−ジイル基である、［１］〜［５］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［７］  −Ｙ１−および−Ｙ２−が、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−であり、−Ｘ−が、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−である、［１］〜［６］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［８］  Ｃｙが、１，４−フェニレン基である、［１］〜［７］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［９］  Ａ１およびＡ３の一方が、シクロヘキサン−１，４−ジイル基である、［１］〜［８］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［１０］  Ａ１およびＡ３の一方が、前記式（１）で表される部分構造であり、
他方が、シクロヘキサン−１，４−ジイル基である、［１］〜［９］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［１１］  前記異方性色素膜形成用組成物の固形分１００質量部に対して、前記色素が占める含有量が０．０１〜３０質量部である、［１］〜［１０］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［１２］  前記色素がアゾ系二色性色素である、［１］〜［１１］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
【００１３】
［１３］  ［１］〜［１２］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物を用いて形成された、異方性色素膜。
［１４］  ［１３］に記載の異方性色素膜を含む、光学素子。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の異方性色素膜形成用組成物は、優れた光学性能、特に十分な二色比を維持したまま、低い等方相出現温度を実現できる。
本発明の異方性色素膜は、本発明の異方性色素膜形成用組成物を用いて形成されるため、優れた光学性能、特に十分な二色比を維持でき、より低い温度で形成することが可能である。
本発明の光学素子は、本発明の異方性色素膜を含むため、優れた光学性能、特に十分な二色比を維持でき、より低い温度で形成することが可能な異方性色素膜を含むことができる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更して実施することができる。
【００１６】
本発明で言う異方性色素膜とは、異方性色素膜の厚み方向および任意の直交する面内２方向の立体座標系における合計３方向から選ばれる、任意の２方向における電磁気的性質に異方性を有する色素膜である。電磁気学的性質としては、たとえば、吸収、屈折等の光学的性質、抵抗、容量等の電気的性質が挙げられる。
吸収、屈折等の光学的異方性を有する膜としては、たとえば、直線偏光膜、円偏光膜等の偏光膜、位相差膜、導電異方性色素膜が挙げられる。本発明の異方性色素膜は、偏光膜、または導電異方性色素膜として用いられることが好ましく、偏光膜に用いられることがより好ましい。
【００１７】
［異方性色素膜形成用組成物］
本発明の異方性色素膜形成用組成物は、色素および液晶化合物を含有する。
本発明の異方性色素膜形成用組成物は、相分離を引き起こさない状態であれば、溶液であっても、液晶であっても、分散状態であってもよいが、異方性色素膜形成用組成物としては、基材への塗布が容易である観点から、溶液であることが好ましい。一方、異方性色素膜形成用組成物から溶剤を除いた固形分成分は、後述のように基板上に配向させる観点から、任意の温度で液晶相の状態であることが好ましい。
なお、本発明において、液晶相の状態であるとは、具体的には、「液晶の基礎と応用」（松本正一、角田市良著；１９９１年）の１〜１６ページに記載されているように、液体と結晶の双方または中間の性質を示す液晶状態であり、ネマティック相、スメクチック相、コレステリック相、またはディスコティック相であることを言う。
【００１８】
（色素）
本発明において色素とは、可視光領域（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）の波長の少なくとも一部を吸収する物質または化合物である。
本発明に用いることができる色素としては、二色性色素が挙げられる。なお、二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素を言う。また、色素は、液晶性を有する色素であってもよいし、液晶性を有さなくてもよい。なお、液晶性を有するとは、任意の温度で液晶相を発現することを言う。
【００１９】
本発明の異方性色素膜形成用組成物に含有される色素としては、アゾ系色素、キノン系色素（ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素等を含む。）、スチルベン系色素、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、インジゴ系色素、縮合多環系色素（ペリレン系色素、オキサジン系色素、アクリジン系色素等を含む。）等が挙げられる。これらの色素の中でも、分子長短軸比が大きく、異方性色素膜中で高い分子配列をとり得るため、アゾ系色素が好ましい。
アゾ系色素とは、アゾ基（−Ｎ＝Ｎ−）を少なくとも１個以上有する色素を言い、その一分子中のアゾ基の数は、溶剤への溶解性、液晶化合物との相溶性、色調および製造容易性の観点から、１以上が好ましく、２以上がより好ましく、６以下が好ましく、４以下がより好ましく、３以下がさらに好ましい。
【００２０】
アゾ系色素としては、たとえば、式（Ａ）で表される化合物が挙げられる。
【００２１】
Ｒ１１−Ｄ１−Ｎ＝Ｎ−（Ｄ２−Ｎ＝Ｎ）ｐ−Ｄ３−Ｒ１２    ・・・（Ａ）
【００２２】
式（Ａ）中、
Ｄ１、Ｄ２およびＤ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基、または置換基を有していてもよい２価の複素環基を表し；
ｐは０〜４の整数を表し；
ｐが２以上の整数である場合、複数のＤ２は互いに同一でも異なっていてもよく；
Ｒ１１およびＲ１２は、同一のまたはそれぞれ異なる１価の有機基を表す。
【００２３】
Ｄ１、Ｄ２およびＤ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基、または置換基を有していてもよい２価の複素環基を表す。
フェニレン基の置換位置としては、分子の直線性が高いため、１，４−フェニレン基が好ましい。
ナフチレン基の置換位置としては、分子の直線性が高いため、１，４−ナフチレン基または２，６−ナフチレン基が好ましい。
【００２４】
２価の複素環基としては、環を形成する炭素数が好ましくは３以上１４以下であり、さらに好ましくは１０以下である。特に単環または２環式の複素環基が好ましい。
２価の複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子から選択される少なくとも１つが挙げられる。複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
具体的には、ピリジンジイル基、キノリンジイル基、イソキノリンジイル基、チアゾールジイル基、ベンゾチアゾールジイル基、チエノチアゾールジイル基、チエノチオフェンジイル基、ベンズイミダゾリジノンジイル基、ベンゾフランジイル基、フタルイミドジイル基、オキサゾールジイル基、ベンゾオキサゾールジイル基等が挙げられる。
【００２５】
Ｄ１、Ｄ２およびＤ３におけるフェニレン基、ナフチレン基、および２価の複素環基が任意に有する置換基としては、炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基およびブトキシ基などの炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４のフッ化アルキル基；シアノ基；ニトロ基；水酸基；ハロゲン原子；アミノ基、ジエチルアミノ基、およびピロリジノ基などの置換または無置換アミノ基（置換アミノ基とは、炭素数１〜４のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２〜８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、−ＮＨ２である。なお、炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基およびブチル基などが挙げられる。炭素数２〜８のアルカンジイル基としては、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基などが挙げられる。）が挙げられる。
分子直線性が高い点から、無置換、または、置換されている場合には、メチル基、メトキシ基、水酸基、フッ素原子、塩素原子、ジメチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基で置換されているのが好ましい。
【００２６】
ｐは０〜４の整数を表す。溶剤への溶解性、液晶化合物との相溶性、色調および製造容易性の観点から、１以上が好ましく、４以下が好ましく、３以下がより好ましい。
【００２７】
Ｒ１１およびＲ１２は、同一のまたはそれぞれ異なる１価の有機基を表す。
Ｒ１１およびＲ１２における１価の有機基としては、水素原子、分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基；脂環式の炭素数１〜２０のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基およびブトキシ基などの分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基；トリフルオロメチル基などの分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のフッ化アルキル基；シアノ基；ニトロ基；水酸基；ハロゲン原子；アミノ基、ジエチルアミノ基、およびピロリジノ基などの置換または無置換アミノ基（置換アミノ基とは、分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２〜２０のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、−ＮＨ２である。なお、炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基およびブチル基などが挙げられる。炭素数２〜２０のアルカンジイル基としては、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基などが挙げられる。）；カルボキシ基；ブトキシカルボニル基などの分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル基；エテニル基などの分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基；２−（４−ブチルフェニル）エテニル基などのアルキルフェニルアルケニル基；カルバモイル基；ブチルカルバモイル基などの分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキルカルバモイル基；スルファモイル基；ブチルスルファモイル基などの分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキルスルファモイル基；ブチルカルボニルアミノ基などの分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアシルアミノ基；ブチルカルボニルオキシ基などの分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアシルオキシ基；スルファニル基；ブチルスルファニル基などの炭素数１〜２０のアルキルスルファニル基；後述の、液晶化合物におけるＲ１およびＲ２の重合性基を有する鎖状有機基が挙げられる。
【００２８】
Ｒ１１およびＲ１２としては、水素原子、鎖状基、脂肪族有機基（「脂肪族有機基」は、鎖状のものおよび環状のものを含む。）、炭素の一部が窒素および／または酸素で置き換えられた脂肪族有機基（「炭素の一部が窒素および／または酸素で置き換えられた脂肪族有機基」は、鎖状のものおよび環状のものを含み、脂肪族有機基の一部のメチル基が水酸基、オキソ基（＝Ｏ）、アミノ基、イミノ基等にそれぞれ置き換えられたものを含む。）等が挙げられ、ある態様としては、水素原子、鎖状基が好ましく、別の態様としては、水素原子、脂肪族有機基が好ましく、さらに別の態様としては、水素原子、炭素の一部が窒素および／または酸素で置き換えられた脂肪族有機基が好ましい。
【００２９】
鎖状基としては、上記の、分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基；分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基；分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のフッ化アルキル基；置換または無置換アミノ基（置換アミノ基とは、分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、−ＮＨ２である。）；カルボキシ基；分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル基；カルバモイル基；分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキルカルバモイル基；スルファモイル基；分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキルスルファモイル基；分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアシルアミノ基；分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアシルオキシ基；スルファニル基；炭素数１〜２０のアルキルスルファニル基等が挙げられる。
【００３０】
脂肪族有機基としては、上記の、分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、脂環式の炭素数１〜２０のアルキル基等が挙げられる。
炭素の一部が窒素および／または酸素で置き換えられた脂肪族有機基としては、上記の、分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基；置換または無置換アミノ基（置換アミノ基とは、分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２〜２０のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、−ＮＨ２である。なお、炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基およびブチル基などが挙げられる。炭素数２〜２０のアルカンジイル基としては、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基などが挙げられる。）；カルボキシ基；分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル基；カルバモイル基；分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキルカルバモイル基；分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアシルアミノ基；分岐を有していてもよい炭素数１〜２０のアシルオキシ基等が挙げられる。
【００３１】
Ｒ１１およびＲ１２としては、それぞれ独立に、分子直線性が高い点から、水素原子、または、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などの炭素数１〜１０のアルキル基；ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基などの炭素数１〜１０のアルコキシ基、ジエチルアミノ基、ピロリジノ基およびピペリジニル基で置換されていることが好ましい。また、後述の、液晶化合物におけるＲ１およびＲ２の重合性基を有する鎖状有機基における好ましいものも好ましい。
【００３２】
本発明の異方性色素膜形成用組成物に含有される色素としては、特に限定されることなく、公知の色素を用いることもできる。
公知の色素としては、たとえば、上述の特許文献１、日本国特許第５９８２７６２号公報、日本国特許出願公開第２０１７−０２５３１７号公報、日本国特許出願公開第２０１４−０９５８９９号公報に記載の色素（二色性色素、二色性染料）が挙げられる。
【００３３】
具体的には、以下に記載の色素が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３４】
【化１】
2020042305.tif 000002
【００３５】
【化２】
2020042305.tif 000003
【００３６】
【化３】
2020042305.tif 000004
【００３７】
【化４】
2020042305.tif 000005
【００３８】
本発明の異方性色素膜形成用組成物に含有される色素の分子量としては、３００以上が好ましく、３５０以上がより好ましく、３８０以上がさらに好ましく、１５００以下が好ましく、１２００以下がより好ましく、１０００以下がさらに好ましい。具体的には、本発明の異方性色素膜形成用組成物に含有される色素の分子量としては、３００〜１５００が好ましく、３５０〜１２００がより好ましく、３８０〜１０００がさらに好ましい。
【００３９】
異方性色素膜形成用組成物における色素（二色性色素）が占める含有量としては、例えば、異方性色素膜形成用組成物の固形分（１００質量部）に対して、０．０１質量部以上が好ましく、０．０５質量部以上がより好ましく、３０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。具体的には、異方性色素膜形成用組成物における色素（二色性色素）が占める含有量としては、例えば、異方性色素膜形成用組成物の固形分（１００質量部）に対して、０．０１〜３０質量部であり、好ましくは０．０５〜１０質量部である。  色素（二色性色素）が占める含有量が前記範囲内であれば、本発明の異方性色素膜形成用組成物に含まれる液晶化合物の配向を乱すことなく、本発明の異方性色素膜形成用組成物に含まれる化合物を重合させることができる傾向にある。また、色素（二色性色素）が占める含有量が前記下限値以上であれば、十分な光吸収が得られ、十分な偏光性能が得られる傾向にある。また、色素（二色性色素）が占める含有量が前記上限値以下であれば、液晶分子の配向の阻害が抑制されやすい傾向にある。
色素（二色性色素）は目的に応じて、１種で使用してもよく、複数種類併用してもよい。
【００４０】
（液晶化合物）
本発明において、液晶化合物とは、液晶状態を示す物質を指し、具体的には、「液晶便覧」（丸善株式会社、平成１２年１０月３０日発行）の１〜２８ページに記載されているように、結晶から液体には直接転移せず、結晶と液体の両方の性質を示す中間の状態を経て液体になる化合物をいう。
【００４１】
本発明の異方性色素膜形成用組成物に含有される液晶化合物は、下記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物を含む。
【００４２】
−Ｃｙ−Ｘ２−Ｃ≡Ｃ−Ｘ−    ・・・（１）
【００４３】
式（１）中、
Ｃｙは、炭化水素環基または複素環基を表し；
−Ｘ−は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−を表し；
−Ｘ２−は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−を表す。
【００４４】
Ｃｙにおける炭化水素環基は、芳香族炭化水素環基と非芳香族炭化水素環基とを含む。
【００４５】
芳香族炭化水素環基は、非連結芳香族炭化水素環基と連結芳香族炭化水素環基とを含む。
非連結芳香族炭化水素環基は、単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環の２価基であり、炭素数は６〜２０が好ましい。芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環等が挙げられる。
連結芳香族炭化水素環基は、単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環の複数が単結合で結合し、環を構成する原子上に結合手を有する２価基である。単環もしくは縮合環の炭素数は６〜２０が好ましい。たとえば、第１の炭素数６〜２０の単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環と第２の炭素数６〜２０の単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環とが単結合で結合し、第１の炭素数６〜２０の単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環の環を構成する原子上に第１の結合手を有し、第２の炭素数６〜２０の単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環の環を構成する原子上に第２の結合手を有する２価基である。連結芳香族炭化水素環基としては、たとえば、ビフェニル−４，４’−ジイル基が挙げられる。
芳香族炭化水素環基としては、非連結芳香族炭化水素環基が好ましい。
これらのうち、芳香族炭化水素環基としては、ベンゼン環の２価基、ナフタレン環の２価基が好ましく、ベンゼン環の２価基（フェニレン基）がより好ましい。フェニレン基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。
【００４６】
非芳香族炭化水素環基は、非連結非芳香族炭化水素環基と連結非芳香族炭化水素環基とを含む。
非連結非芳香族炭化水素環基は、単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環の２価基であり、炭素数は３〜２０が好ましい。非芳香族炭化水素環としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、ノルボルナン環、ボルナン環、アダマンタン環、テトラヒドロナフタレン環、ビシクロ［２．２．２］オクタン環等が挙げられる。
非連結非芳香族炭化水素環基は、非芳香族炭化水素環の環を構成する原子間結合として不飽和結合を有さない脂環式炭化水素環基と、非芳香族炭化水素環の環を構成する原子間結合として不飽和結合を有する不飽和非芳香族炭化水素環基とを含む。非連結非芳香族炭化水素環基としては、脂環式炭化水素環基が好ましい。
連結非芳香族炭化水素環基は、単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環の複数が単結合で結合し、環を構成する原子上に結合手を有する２価基；あるいは、単環の芳香族炭化水素環、縮合した芳香族炭化水素環、単環の非芳香族炭化水素環、および縮合した非芳香族炭化水素環からなる群より選択される１つ以上の環と、単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環とが単結合で結合し、環を構成する原子上に結合手を有する２価基である。単環もしくは縮合環の炭素数は３〜２０が好ましい。たとえば、第１の炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環と第２の炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環とが単結合で結合し、第１の炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環の環を構成する原子上に第１の結合手を有し、第２の炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環の環を構成する原子上に第２の結合手を有する２価基であり、たとえば、炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環と炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環とが単結合で結合し、炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環の環を構成する原子上に第１の結合手を有し、炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環の環を構成する原子上に第２の結合手を有する２価基である。連結非芳香族炭化水素環基としては、たとえば、ビス（シクロヘキサン）−４，４’−ジイル基、１−シクロヘキシルベンゼン−４，４’−ジイル基が挙げられる。
非芳香族炭化水素環基としては、非連結非芳香族炭化水素環基が好ましい。
これらのうち、非芳香族炭化水素環基としては、シクロヘキサンの２価基（シクロヘキサンジイル基）が好ましい。シクロヘキサンジイル基としては、シクロヘキサン−１，４−ジイル基が好ましい。
【００４７】
Ｃｙにおける複素環基は、芳香族複素環基と非芳香族複素環基とを含む。
【００４８】
芳香族複素環基は、非連結芳香族複素環基と連結芳香族複素環基とを含む。
非連結芳香族複素環基は、単環もしくは縮合した芳香族複素環の２価基であり、炭素数は４〜２０が好ましい。芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、チエノチアゾール環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ピリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環等が挙げられる。
連結芳香族複素環基は、単環もしくは縮合した芳香族複素環の複数が単結合で結合し、環を構成する原子上に結合手を有する２価基である。単環もしくは縮合環の炭素数は４〜２０が好ましい。たとえば、第１の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した芳香族複素環と第２の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した芳香族複素環とが単結合で結合し、第１の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した芳香族複素環の環を構成する原子上に第１の結合手を有し、第２の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した芳香族複素環の環を構成する原子上に第２の結合手を有する２価基である。
【００４９】
非芳香族複素環基は、非連結非芳香族複素環基と連結非芳香族複素環基とを含む。
非連結非芳香族複素環基は、単環もしくは縮合した非芳香族複素環の２価基であり、炭素数は４〜２０が好ましい。炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族複素環の２価基であり、非芳香族複素環としては、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、ジオキサン環、テトラヒドロチオフェン環、テトラヒドロチオピラン環、ピロリジン環、ピペリジン環、ジヒドロピリジン環、ピペラジン環、テトラヒドロチアゾール環、テトラヒドロオキサゾール環、オクタヒドロキノリン環、テトラヒドロキノリン環、オクタヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロイミダゾール環、テトラヒドロベンゾイミダゾール環、キヌクリジン環等が挙げられる。
連結非芳香族複素環基は、単環もしくは縮合した非芳香族複素環の複数が単結合で結合し、環を構成する原子上に結合手を有する２価基である。単環もしくは縮合環の炭素数は４〜２０が好ましい。たとえば、第１の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族複素環と第２の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族複素環とが単結合で結合し、第１の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族複素環の環を構成する原子上に第１の結合手を有し、第２の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族複素環の環を構成する原子上に第２の結合手を有する２価基である。
【００５０】
Ｃｙにおける芳香族炭化水素環基、非芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基は、それぞれ、ＲＡ、−ＯＨ、−Ｏ−ＲＡ、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＲＡ、−ＮＨ２、−ＮＨ−ＲＡ、−Ｎ（ＲＢ）−ＲＡ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＲＡ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＲＡ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−ＲＡ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（ＲＢ）−ＲＡ、−ＳＨ、−Ｓ−ＲＡ、トリフルオロメチル基、スルファモイル基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、ニトロ基、およびハロゲンからなる群より選択される１以上の基で置換されていてもよい。ここで、ＲＡおよびＲＢは、それぞれ独立に、炭素数１〜６の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基を表す。
Ｃｙにおける芳香族炭化水素環基、非芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基は、分子構造の直線性が高く、式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物同士が会合しやすく液晶状態を発現しやすい点から、それぞれ独立に、無置換であるか、メチル基、メトキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が置換していることが好ましく、無置換であることがより好ましい。
芳香族炭化水素環基、非芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基が有する置換基は、同一でも異なっていてもよく、また、芳香族炭化水素環基、非芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基の全部が置換されていてもよく、全部が無置換であってもよく、一部が置換されていて一部が無置換であってもよい。
【００５１】
Ｃｙとしては、炭化水素環基が好ましく、フェニレン基、シクロヘキサンジイル基がより好ましい。また、液晶化合物の分子構造の直線性を高くすることができることから、Ｃｙとしては、１，４-フェニレン基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基がさらに好ましく、１，４-フェニレン基がとりわけ好ましい。
【００５２】
液晶化合物の直線性や分子短軸周りの回転運動がしやすい傾向にあることから、−Ｘ−としては、π結合性の小さい、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＳＣＨ２−が好ましく、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−がより好ましい。ある態様として、−Ｘ−は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（＝Ｏ）−であり、別の態様として、−Ｘ−は、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−である。
【００５３】
液晶化合物のコアを大きくし、異方性色素膜形成用組成物から形成される異方性色素膜の二色性を大きくする観点から直線性が高い基で−Ｃｙ−と−Ｃ≡Ｃ−を連結することが好ましい。具体的には、−Ｘ２−としては、単結合、またはπ結合性を有する−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−であることが好ましく、より直線性が高いことから単結合であることがさらに好ましい。
【００５４】
本発明の異方性色素膜形成用組成物に含有される、上記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物としては、下記式（２）で表される液晶化合物が挙げられる。
【００５５】
Ｒ１−Ａ１−Ｙ１−Ａ２−Ｙ２−Ａ３−Ｒ２    ・・・（２）
【００５６】
式（２）中、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、鎖状有機基を表し；
Ａ１およびＡ３は、それぞれ独立に、前記式（１）で表される部分構造、２価有機基、または単結合を表し；
Ａ２は、前記式（１）で表される部分構造または２価有機基を表し；
−Ｙ１−および−Ｙ２−は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−を表し；
Ａ１およびＡ３の一方は、前記式（１）で表される部分構造または２価有機基であり；
Ａ１、Ａ２、およびＡ３のうち、少なくとも一つは、前記式（１）で表される部分構造である。
【００５７】
なお、Ａ１が、式（１）で表される部分構造である場合、式（２）は、
Ｒ１−Ｃｙ−Ｘ２−Ｃ≡Ｃ−Ｘ−Ｙ１−Ａ２−Ｙ２−Ａ３−Ｒ２    ・・・（２Ａ）であってもよく、
Ｒ１−Ｘ−Ｃ≡Ｃ−Ｘ２−Ｃｙ−Ｙ１−Ａ２−Ｙ２−Ａ３−Ｒ２    ・・・（２Ｂ）であってもよい。
また、Ａ２が、式（１）で表される部分構造である場合、式（２）は、
Ｒ１−Ａ１−Ｙ１−Ｃｙ−Ｘ２−Ｃ≡Ｃ−Ｘ−Ｙ２−Ａ３−Ｒ２    ・・・（２Ｃ）であってもよく、
Ｒ１−Ａ１−Ｙ１−Ｘ−Ｃ≡Ｃ−Ｘ２−Ｃｙ−Ｙ２−Ａ３−Ｒ２    ・・・（２Ｄ）であってもよい。
また、Ａ３が、式（１）で表される部分構造である場合、式（２）は、
Ｒ１−Ａ１−Ｙ１−Ａ２−Ｙ２−Ｃｙ−Ｘ２−Ｃ≡Ｃ−Ｘ−Ｒ２    ・・・（２Ｅ）であってもよく、
Ｒ１−Ａ１−Ｙ１−Ａ２−Ｙ２−Ｘ−Ｃ≡Ｃ−Ｘ２−Ｃｙ−Ｒ２    ・・・（２Ｆ）であってもよい。
【００５８】
同様に、Ａ１、Ａ２、およびＡ３のうち、二つ以上が式（１）で表される部分構造である場合、それぞれ独立に、式（１）で表される部分構造の向きが反転していてもよい。
【００５９】
また、上記のように、Ａ１、Ａ２、およびＡ３は、それぞれ独立に、式（１）で表される部分構造または２価有機基であり；加えて、Ａ１およびＡ３は、単結合であってもよいが、Ａ１およびＡ３が、ともに単結合であることはなく；Ａ１、Ａ２、およびＡ３のうち、少なくとも一つは、前記式（１）で表される部分構造を表す。
【００６０】
Ｒ１およびＲ２における鎖状有機基は、前述の芳香族炭化水素環、非芳香族炭化水素環、芳香族複素環、非芳香族複素環等の環状構造を含まない（ただし、Ｒ１およびＲ２における鎖状有機基が、オキシラン環、オキセタン環、ビニルベンゼン環等の、後述する、環状の重合性基を有する場合には、重合性基を除く部分が上記の環状構造を含まない。）１価の有機基である。
このような鎖状有機基としては、−（アルキル基）、−Ｏ−（アルキル基）、−Ｓ−（アルキル基）、−ＮＨ−（アルキル基）、−Ｎ（アルキル基）−（アルキル基）、−ＯＣ（＝Ｏ）−（アルキル基）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−（アルキル基）が挙げられる。このような鎖状有機基としては、−（アルキル基）、−Ｏ−（アルキル基）が好ましい。ある態様として、このような鎖状有機基としては、−（アルキル基）であり、別の態様として、このような鎖状有機基としては、−Ｏ−（アルキル基）である。
【００６１】
これらの鎖状有機基におけるアルキル基としては、炭素数１〜２５の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基が挙げられ、アルキル基の炭素−炭素結合は、一部が不飽和結合になっていてもよく、また、アルキル基に含まれる一つまたはそれ以上のメチレン基は、エーテル性酸素原子、チオエーテル性硫黄原子、アミン性窒素原子（−ＮＨ−、−Ｎ（ＲＡ）−：ここで、ＲＡは、炭素数１〜６の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基を表す。）、カルボニル基、エステル結合、アミド結合、−ＣＨＦ−、−ＣＦ２−、−ＣＨＣｌ−、−ＣＣｌ２−によって置き換えられた（ｄｉｓｐｌａｃｅ）構造とされていてもよい。
これらの鎖状有機基におけるアルキル基としては、分子直線性が高いことから、アルキル基の炭素の一部が不飽和結合になっていてもよく、また、アルキル基に含まれる一つまたはそれ以上のメチレン基が上述の基によって置き換えられた（ｄｉｓｐｌａｃｅ）構造とされていてもよい、炭素数１〜２５の直鎖状のアルキル基であることが好ましい。
鎖状有機基における主鎖（鎖状有機基におけるもっとも長い鎖状部分を意味し、鎖状有機基が後述の重合性基で置換されている場合には、重合性基を除いた部分におけるもっとも長い鎖状部分を意味する。）の原子の数は、３〜２５が好ましく、５〜２０がより好ましく、６〜２０がさらに好ましい。
【００６２】
また、これらのアルキル基には、１〜３個の重合性基が置換していてもよい。重合性基は、光、熱、および／または放射線によって重合することが可能な部分構造を有する基であり、重合の機能を担保するために必要な官能基ないし原子団である。重合性基は、光重合性基であることが異方性色素膜の製造の観点から好ましい。
重合性基としては、たとえば、アクリロイル基、メタアクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタアクリロイルアミノ基、ビニル基、ビニルオキシ基、エチニル基、エチニルオキシ基、１，３−ブタジエニル基、１，３−ブタジエニルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、グリシジル基、グリシジルオキシ基、スチリル基、スチリルオキシ基等が挙げられ、アクリロイル基、メタアクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタアクリロイルアミノ基、オキシラニル基、グリシジル基、グリシジルオキシ基が好ましく、アクリロイル基、メタアクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタアクリロイルアミノ基、グリシジル基、グリシジルオキシ基がより好ましく、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、グリシジルオキシ基がさらに好ましい。
これらのアルキル基に重合性基が置換している場合、重合性基が１つ置換していることが好ましく、１つの重合性基がアルキル基の末端に置換していることがより好ましい。
【００６３】
鎖状有機基としては、−（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ３、−（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ２−重合性基、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ３、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ２−重合性基、−（Ｏ）ｎ１−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−（ＣＨ２）ｎ３−ＣＨ３、−（Ｏ）ｎ１−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ２−（ＣＨ２）ｎ３−重合性基、−（Ｏ）ｎ１−（ＣＨ２）ｎ２−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ３−ＣＨ３、−（Ｏ）ｎ１−（ＣＨ２）ｎ２−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ３−重合性基が好ましい。なお、これらの式中のｎは、１〜２４の整数であり、２〜２４の整数が好ましく、４〜１９の整数がより好ましく、５〜１９の整数がさらに好ましい。また、これらの式中のｎ１、ｎ２、ｎ３は、それぞれ独立して整数を表し、鎖状有機基における主鎖（鎖状有機基におけるもっとも長い鎖状部分を意味し、鎖状有機基が重合性基で置換されている場合には、重合性基を除いた部分におけるもっとも長い鎖状部分を意味する。）の原子の数が、好ましくは３〜２５、より好ましくは５〜２０、さらに好ましくは６〜２０となるように適宜調整される。
【００６４】
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、重合性基で置換されていてもよい−（アルキル基）、アルキル基が重合性基で置換されていてもよい−Ｏ−（アルキル基）であることが好ましく、重合性基で置換された−（アルキル基）、アルキル基が重合性基で置換された−Ｏ−（アルキル基）であることがより好ましい。
式（２Ｂ）、式（２Ｅ）のように、ＸとＲ１もしくはＸとＲ２が結合している場合や；たとえば、式（２Ｂ）においてＡ３が単結合である場合や、式（２Ｅ）においてＡ１が単結合である場合のように、Ｒ１もしくはＲ２がＹ１もしくはＹ２と結合している場合；には、ＸもしくはＹ１もしくはＹ２と結合するＲ１もしくはＲ２は、重合性基で置換されていてもよい−（アルキル基）であることが好ましく、重合性基で置換された−（アルキル基）であることがより好ましい。
また、上記以外のように、ＸもしくはＹ１もしくはＹ２と結合しないＲ１もしくはＲ２は、重合性基で置換されていてもよい−Ｏ−（アルキル基）であることが好ましく、重合性基で置換された−Ｏ−（アルキル基）であることがより好ましい。
【００６５】
Ａ１、Ａ２、およびＡ３における２価有機基は、下記式（３）で表される基であることが好ましい。
【００６６】
−Ｑ１−    ・・・（３）
【００６７】
式（３）中、
Ｑ１は、炭化水素環基または複素環基を表す。
【００６８】
Ｑ１における炭化水素環基は、芳香族炭化水素環基と非芳香族炭化水素環基とを含む。
【００６９】
芳香族炭化水素環基は、非連結芳香族炭化水素環基と連結芳香族炭化水素環基とを含む。
非連結芳香族炭化水素環基は、単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環の２価基であり、炭素数は６〜２０が好ましい。芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環等が挙げられる。
連結芳香族炭化水素環基は、単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環の複数が単結合で結合し、環を構成する原子上に結合手を有する２価基である。単環もしくは縮合環の炭素数は６〜２０が好ましい。たとえば、第１の炭素数６〜２０の単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環と第２の炭素数６〜２０の単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環とが単結合で結合し、第１の炭素数６〜２０の単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環の環を構成する原子上に第１の結合手を有し、第２の炭素数６〜２０の単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環の環を構成する原子上に第２の結合手を有する２価基である。連結芳香族炭化水素環基としては、たとえば、ビフェニル−４，４’−ジイル基が挙げられる。
芳香族炭化水素環基としては、非連結芳香族炭化水素環基が好ましい。
これらのうち、芳香族炭化水素環基としては、ベンゼン環の２価基、ナフタレン環の２価基が好ましく、ベンゼン環の２価基（フェニレン基）がより好ましい。フェニレン基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。
【００７０】
非芳香族炭化水素環基は、非連結非芳香族炭化水素環基と連結非芳香族炭化水素環基とを含む。
非連結非芳香族炭化水素環基は、単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環の２価基であり、炭素数は３〜２０が好ましい。非芳香族炭化水素環としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、ノルボルナン環、ボルナン環、アダマンタン環、テトラヒドロナフタレン環、ビシクロ［２．２．２］オクタン環等が挙げられる。
非連結非芳香族炭化水素環基は、非芳香族炭化水素環の環を構成する原子間結合として不飽和結合を有さない脂環式炭化水素環基と、非芳香族炭化水素環の環を構成する原子間結合として不飽和結合を有する不飽和非芳香族炭化水素環基とを含む。非連結非芳香族炭化水素環基としては、脂環式炭化水素環基が好ましい。
連結非芳香族炭化水素環基は、単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環の複数が単結合で結合し、環を構成する原子上に結合手を有する２価基；あるいは、単環の芳香族炭化水素環、縮合した芳香族炭化水素環、単環の非芳香族炭化水素環、および縮合した非芳香族炭化水素環からなる群より選択される１つ以上の環と、単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環とが単結合で結合し、環を構成する原子上に結合手を有する２価基である。単環もしくは縮合環の炭素数は３〜２０が好ましい。たとえば、第１の炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環と第２の炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環とが単結合で結合し、第１の炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環の環を構成する原子上に第１の結合手を有し、第２の炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環の環を構成する原子上に第２の結合手を有する２価基であり、たとえば、炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環と炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環とが単結合で結合し、炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した芳香族炭化水素環の環を構成する原子上に第１の結合手を有し、炭素数３〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族炭化水素環の環を構成する原子上に第２の結合手を有する２価基である。連結非芳香族炭化水素環基としては、たとえば、ビス（シクロヘキサン）−４，４’−ジイル基、１−シクロヘキシルベンゼン−４，４’−ジイル基が挙げられる。
非芳香族炭化水素環基としては、非連結非芳香族炭化水素環基が好ましい。
これらのうち、非芳香族炭化水素環基としては、シクロヘキサンの２価基（シクロヘキサンジイル基）が好ましい。シクロヘキサンジイル基としては、シクロヘキサン−１，４−ジイル基が好ましい。
【００７１】
Ｑ１における複素環基は、芳香族複素環基と非芳香族複素環基とを含む。
【００７２】
芳香族複素環基は、非連結芳香族複素環基と連結芳香族複素環基とを含む。
非連結芳香族複素環基は、単環もしくは縮合した芳香族複素環の２価基であり、炭素数は４〜２０が好ましい。芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、チエノチアゾール環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ピリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環等が挙げられる。
連結芳香族複素環基は、単環もしくは縮合した芳香族複素環の複数が単結合で結合し、環を構成する原子上に結合手を有する２価基である。単環もしくは縮合環の炭素数は４〜２０が好ましい。たとえば、第１の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した芳香族複素環と第２の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した芳香族複素環とが単結合で結合し、第１の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した芳香族複素環の環を構成する原子上に第１の結合手を有し、第２の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した芳香族複素環の環を構成する原子上に第２の結合手を有する２価基である。
【００７３】
非芳香族複素環基は、非連結非芳香族複素環基と連結非芳香族複素環基とを含む。
非連結非芳香族複素環基は、単環もしくは縮合した非芳香族複素環の２価基であり、炭素数は４〜２０が好ましい。炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族複素環の２価基であり、非芳香族複素環としては、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、ジオキサン環、テトラヒドロチオフェン環、テトラヒドロチオピラン環、ピロリジン環、ピペリジン環、ジヒドロピリジン環、ピペラジン環、テトラヒドロチアゾール環、テトラヒドロオキサゾール環、オクタヒドロキノリン環、テトラヒドロキノリン環、オクタヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロイミダゾール環、テトラヒドロベンゾイミダゾール環、キヌクリジン環等が挙げられる。
連結非芳香族複素環基は、単環もしくは縮合した非芳香族複素環の複数が単結合で結合し、環を構成する原子上に結合手を有する２価基である。単環もしくは縮合環の炭素数は４〜２０が好ましい。たとえば、第１の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族複素環と第２の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族複素環とが単結合で結合し、第１の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族複素環の環を構成する原子上に第１の結合手を有し、第２の炭素数４〜２０の単環もしくは縮合した非芳香族複素環の環を構成する原子上に第２の結合手を有する２価基である。
【００７４】
Ｑ１における芳香族炭化水素環基、非芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基は、それぞれ、ＲＡ、−ＯＨ、−Ｏ−ＲＡ、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＲＡ、−ＮＨ２、−ＮＨ−ＲＡ、−Ｎ（ＲＢ）−ＲＡ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＲＡ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＲＡ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ２、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−ＲＡ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（ＲＢ）−ＲＡ、−ＳＨ、−Ｓ−ＲＡ、トリフルオロメチル基、スルファモイル基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、ニトロ基、およびハロゲンからなる群より選択される１以上の基で置換されていてもよい。ここで、ＲＡおよびＲＢは、それぞれ独立に、炭素数１〜６の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基を表す。
Ｑ１における芳香族炭化水素環基、非芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基は、分子構造の直線性が高く、式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物同士が会合しやすく液晶状態を発現しやすい点から、それぞれ独立に、無置換であるか、メチル基、メトキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が置換していることが好ましく、無置換であることがより好ましい。
芳香族炭化水素環基、非芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基が有する置換基は、同一でも異なっていてもよく、また、芳香族炭化水素環基、非芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基の全部が置換されていてもよく、全部が無置換であってもよく、一部が置換されていて一部が無置換であってもよい。
また、Ａ１、Ａ２、およびＡ３における２価有機基が有する置換基は、同一でも異なっていてもよく、Ａ１、Ａ２、およびＡ３における２価有機基の全部が置換されていてもよく、全部が無置換であってもよく、一部が置換されていて一部が無置換であってもよい。
【００７５】
Ｑ１としては、炭化水素環基が好ましく、フェニレン基、シクロヘキサンジイル基がより好ましい。また、液晶化合物の分子構造の直線性を高くすることができることから、Ｑ１としては、１，４-フェニレン基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基がさらに好ましい。
【００７６】
２価有機基としては、Ｑ１が炭化水素環基であること、すなわち、２価有機基として炭化水素環基であることが好ましい。また、２価有機基としては、フェニレン基、シクロヘキサンジイル基がより好ましく、液晶化合物の分子構造の直線性を高くすることができることから、１，４-フェニレン基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基がさらに好ましい。
【００７７】
式（２）としては、Ａ１、Ａ２、およびＡ３のうち、一つが、式（１）で表される部分構造であり、それ以外の二つが、それぞれ独立に、２価有機基であることが好ましく、Ａ１、Ａ２、およびＡ３のうち、式（１）で表される部分構造のＣｙが炭化水素環基であることが好ましく、２価有機基が炭化水素環基であることが特に好ましい。さらに、炭化水素環基が、１，４−フェニレン基またはシクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが好ましい。また、Ａ１およびＡ３の一方が、シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが好ましい。
また、Ａ１およびＡ３のうち、一つが、式（１）で表される部分構造であり、それ以外の一つおよびＡ２が２価有機基であることがより好ましい。この場合、Ａ１およびＡ３のうち、２価有機基である一方は、シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが好ましく、Ａ２が１，４-フェニレン基であることが特に好ましい。
【００７８】
液晶化合物の直線性や分子短軸周りの回転運動がしやすい傾向にあることから、−Ｙ１−および−Ｙ２−としては、それぞれ独立して、π結合性の小さい、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−が好ましく、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−がより好ましい。
【００７９】
式（２Ａ）、式（２Ｃ）、式（２Ｄ）、式（２Ｆ）のように、ＸとＹ１もしくはＸとＹ２が結合している場合には、Ｘと結合するＹ１もしくはＸと結合するＹ２は、単結合であることが好ましく；−Ｘ−と、−Ｙ１−および−Ｙ２−の他方は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（＝Ｏ）−であることが好ましい。
また、式（２Ｂ）、式（２Ｅ）のように、ＸがＹ１およびＹ２のいずれとも結合していない場合には、−Ｘ−は、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−であることが好ましく；−Ｙ１−および−Ｙ２−はいずれも、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（＝Ｏ）−であることが好ましい。
【００８０】
式（２）としては、上記式（２Ａ）、上記式（２Ｂ）、上記（２Ｅ）、上記（２Ｆ）が好ましい。
【００８１】
具体的には、式（２）として以下の化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００８２】
【化５】
2020042305.tif 000006
【００８３】
【化６】
2020042305.tif 000007
【００８４】
【化７】
2020042305.tif 000008
【００８５】
【化８】
2020042305.tif 000009
【００８６】
【化９】
2020042305.tif 000010
【００８７】
【化１０】
2020042305.tif 000011
【００８８】
【化１１】
2020042305.tif 000012
【００８９】
【化１２】
2020042305.tif 000013
【００９０】
【化１３】
2020042305.tif 000014
【００９１】
【化１４】
2020042305.tif 000015
【００９２】
【化１５】
2020042305.tif 000016
【００９３】
【化１６】
2020042305.tif 000017
【００９４】
本発明の異方性色素膜形成用組成物に含有される液晶化合物は、前記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物からなることが好ましい。ここで、本発明の異方性色素膜形成用組成物に含有される液晶化合物は、前記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物の１種でもよく、２種以上が併用されてもよい。また、前記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物以外の液晶化合物が併用されてもよい。
【００９５】
本発明の異方性色素膜形成用組成物に含有される液晶化合物は、プロセスの観点から、その等方相出現温度が、一般的には２００℃未満で、１６０℃未満であることが好ましく、１４０℃未満がより好ましく、１１５℃未満がさらに好ましく、１１０℃未満がよりさらに好ましく、１０５℃未満が特に好ましい。
なお、ここで等方相出現温度とは、液晶から液体への相転移温度および液体から液晶への相転移温度を意味する。本発明においては、これらの相転移温度の少なくとも一方が前記範囲にあることが好ましく、これらの相転移温度の両方が前記範囲にあることがより好ましい。
【００９６】
本発明の異方性色素膜形成用組成物に含有される液晶化合物は、アルキル化反応、エステル化反応、アミド化反応、エーテル化反応、イプソ置換反応、金属触媒を用いたカップリング反応等の公知の化学反応を組み合わせることにより製造することができる。
たとえば、本発明の異方性色素膜形成用組成物に含有される液晶化合物は、実施例に記載の方法や、「液晶便覧」（丸善株式会社、平成１２年１０月３０日発行）の４４９〜４６８ページに記載の方法にしたがって合成することができる。
【００９７】
（溶剤）
本発明の異方性色素膜形成用組成物は、必要に応じて、溶剤を含有してもよい。
使用しうる溶剤としては、液晶化合物中に色素またはその他の添加剤を十分に分散または溶解させ得るものであれば特に限定されないが、たとえば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル等のエーテル溶剤；ペルフルオロベンゼン、ペルフルオロトルエン、ペルフルオロデカリン、ペルフルオロメチルシクロヘキサン、ヘキサフルオロ−２−プロパノール等のフッ素含有溶剤；および、クロロホルム、ジクロロメタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の塩素含有溶剤；が挙げられる。
これら溶剤は、一種類のみを用いてもよく、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００９８】
溶剤は、液晶化合物および色素を溶解し得る溶剤であることが好ましく、液晶化合物および色素が完全に溶解する溶剤であることがさらに好ましい。また、液晶化合物が重合性化合物である場合には重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。また、後述する本発明の異方性色素膜形成用組成物を塗布する観点から、沸点が５０〜２００℃の範囲である溶剤が好ましい。
【００９９】
本発明の異方性色素膜形成用組成物が溶剤を含む場合において、異方性色素膜形成用組成物において溶剤が占める含有割合は、本発明の組成物の総量（１００質量％）に対して、５０〜９８質量％が好ましい。換言すると、本発明の異方性色素膜形成用組成物における固形分は、２〜５０質量％が好ましい。
異方性色素膜形成用組成物における固形分含有量が前記上限値以下であれば、異方性色素膜形成用組成物の粘度が高くなりすぎず、得られる偏光膜の厚みが均一になり、偏光膜にムラが生じにくくなる傾向がある。
かかる固形分含有量は、製造しようとする偏光膜の厚さを考慮して定めることができる。
本発明の異方性色素膜用組成物の粘度は、後述の塗布方法により、厚みムラのない均一な膜が作製されれば特に問わないが、大面積での厚み均一性、塗布速度などの生産性、光学特性の面内均一性を得る観点からは、０．１ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、５００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、１００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、５０ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましい。
【０１００】
（その他の添加剤）
本発明の異方性色素膜形成用組成物は、さらに必要に応じて、前記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物以外の重合性液晶化合物、前記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物以外の非重合性液晶化合物、重合開始剤、重合禁止剤、重合助剤、重合性非液晶化合物、界面活性剤、レベリング剤、カップリング剤、ｐＨ調整剤、分散剤、酸化防止剤、有機・無機フィラー、有機・無機ナノシート、有機・無機ナノファイバー、金属酸化物等のその他の添加剤を含有してもよい。添加剤を含有することにより、異方性色素膜形成用組成物の塗布性や安定性等を向上させたり、異方性色素膜形成用組成物から形成される異方性色素膜の安定性を向上させたりし得る場合がある。
【０１０１】
［異方性色素膜形成用組成物の製造方法］
本発明の異方性色素膜用組成物を製造する方法は特に限定されない。たとえば、色素、液晶化合物、必要に応じて溶剤、その他の添加剤等を混合し、０〜８０℃で撹拌、振盪して色素を溶解する。難溶性の場合は、ホモジナイザー、ビーズミル分散機等を用いてもよい。
本発明の異方性色素膜用組成物を製造する方法として、組成物中の異物等を除去する目的で、ろ過工程を有していてもよい。
本発明の異方性色素膜形成用組成物は、異方性色素膜形成用組成物から溶剤の除いた組成物が、任意の温度で液晶であってもなくてもよいが、任意の温度で液晶性を示すことが好ましい。異方性色素膜形成用組成物から溶剤を除いた組成物は、下記に記載の塗工プロセスの観点からその等方相出現温度が、一般的には２００℃未満で、１６０℃未満であることが好ましく、１４０℃未満がより好ましく、１１５℃未満がさらに好ましく、１１０℃未満がよりさらに好ましく、１０５℃未満が特に好ましい。
【０１０２】
［異方性色素膜］
本発明の異方性色素膜は、色素および前記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物を含有する（ただし、前記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物が重合性化合物である場合は、色素と、前記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物および前記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物に基づく単位を有する重合物の一方または両方とを含有する。）。
本発明の異方性色素膜は、前記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物以外の重合性液晶化合物、非重合性液晶化合物、重合開始剤、重合禁止剤、重合助剤、重合性非液晶化合物、非重合性非液晶化合物、界面活性剤、レベリング剤、カップリング剤、ｐＨ調整剤、分散剤、酸化防止剤、有機・無機フィラー、有機・無機ナノシート、有機・無機ナノファイバー、金属酸化物等を含んでもよい。
【０１０３】
本発明の異方性色素膜は、本発明の異方性色素膜形成用組成物を用いて形成することができる。
【０１０４】
本発明における異方性色素膜は、光吸収の異方性を利用して、直線偏光、円偏光、楕円偏光等を得る偏光膜として機能しうる他、膜形成プロセスと基板や有機化合物（色素や透明材料）を含有する組成物の選択により、屈折異方性や伝導異方性等の各種異方性色素膜として機能化が可能である。
【０１０５】
本発明の異方性色素膜を液晶ディスプレイ用や、ＯＬＥＤ用反射防止膜の偏光素子として使う場合は、異方性色素膜の配向特性は二色比を用いて表すことができる。二色比は８以上あれば偏光素子として機能するが、１５以上が好ましく、２０以上がさらに好ましく、２５以上がさらに好ましく、３０以上が特に好ましく、４０以上がことさら好ましい。また、二色比は高いほど好ましい。二色比が前記下限値以上であることで、後述する光学素子、特に偏光素子として有用である。
ＯＬＥＤ用反射防止膜の偏光素子として用いる場合、位相差フィルム等の周辺材料の性能が低くても、偏光素子の性能が高ければ、反射防止膜としての特性は向上する。そのため、偏光素子の性能が高ければ、層構成を簡素化させやすく、薄膜構成でも十分な機能を発現しやすくなり、折る、曲げる、を含む変形させて使用する用途にも好適に使用できる。また、コストも低く抑えることが可能となる。
【０１０６】
本発明で言う二色比（Ｄ）は、色素が一様に配向している場合、以下の式で表される。  Ｄ＝Ａｚ／Ａｙ
ここで、Ａｚは異方性色素膜に入射した光の偏光方向が異方性色素の配向方向に平行な場合に観測される吸光度であり、Ａｙは異方性色素膜に入射した光の偏光方向が垂直な場合に観測される吸光度である。
それぞれの吸光度は同じ波長のものを用いれば特に制限はなく、目的によっていずれの波長を選択してもよいが、異方性色素膜の配向の度合を表す場合は、異方性色素膜の３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの特定波長域に視感度で補正した値や、可視域の極大吸収波長における値を用いることが好ましい。
【０１０７】
また、本発明の異方性色素膜の可視光波長域における透過率は、好ましくは２５％以上であり、３５％以上がさらに好ましく、４０％以上が特に好ましい。また、透過率は用途に応じた上限であればよい。たとえば、偏光度を高くする場合には、透過率は５０％以下であることが好ましい。透過率が上記範囲であることで、後述する光学素子として有用であり、特にカラー表示に用いる液晶ディスプレイ用や、異方性色素膜と位相差膜とを組み合わせた反射防止膜用の光学素子として有用である。
【０１０８】
異方性色素膜の膜厚は、乾燥膜厚として、好ましくは１０ｎｍ以上、より好ましくは１００ｎｍ以上、さらに好ましくは５００ｎｍ以上である。一方、好ましくは３０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以下、とりわけ好ましくは３μｍ以下である。異方性色素膜の膜厚が上記範囲にあることで、膜内で色素の均一な配向および均一な膜厚を得られる傾向にある。
【０１０９】
［異方性色素膜の製造方法］
本発明の異方性色素膜は、本発明の異方性色素膜形成用組成物を用いて、湿式成膜法により作製することが好ましい。
本発明で言う湿式成膜法とは、異方性色素膜用組成物を基板上に何らかの手法により塗布、配向させる方法である。そのため、異方性色素膜用組成物は流動性を持てばよく、溶剤を含んでいても、含んでいなくてもよい。塗布する際の粘度や膜均一性の観点から、溶剤を含んでいる方がより好ましい。
異方性色素膜中の液晶や色素の配向は、塗布過程で剪断などにより配向してもよいし、溶剤が乾燥する過程で配向してもよい。また、塗布、乾燥後に加熱し、液晶や色素等を再配向させるプロセスを経て、液晶や色素等を基板上で配向、積層させてもよい。湿式成膜法では、異方性色素膜用組成物を基板上に付与すると、すでに異方性色素膜用組成物中で、または溶剤が乾燥する過程で、または溶媒が完全に除去された後で、色素や液晶化合物が自己会合（液晶状態等の分子会合状態）を取ることにより微小面積での配向が起こる。この状態に外場を与えることにより、マクロな領域で一定方向に配向させ、所望の性能を有する異方性色素膜を得ることができる。この点で、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルム等を、色素を含む溶液で染色して延伸し、延伸工程だけで色素を配向させることを原理とする方法とは異なる。なお、ここで外場とは、あらかじめ基板上に施された配向処理層の影響、せん断力、磁場、電場、熱等が挙げられ、これらを単独で用いてもよく、複数組み合わせて用いてもよい。必要があれば、加熱工程を経てもよい。
【０１１０】
異方性色素膜用組成物を基板上に付与し成膜する過程、外場を与えて配向させる過程、溶剤を乾燥させる過程は、逐次行ってもよいし、同時に行ってもよい。
【０１１１】
湿式成膜法における異方性色素膜形成用組成物の基板上へ付与する方法としては、たとえば、塗布法、ディップコート法、ＬＢ膜形成法、公知の印刷法等が挙げられる。また、このようにして得た異方性色素膜を別の基板に転写する方法もある。
【０１１２】
これらのなかでも、塗布法を用いて異方性色素膜形成用組成物を基板上に付与することが好ましい。
異方性色素膜の配向方向は塗布方向と異なっていてもよい。なお、本発明において異方性色素膜の配向方向とは、たとえば、偏光膜であれば、偏光の透過軸（偏光軸）または吸収軸のことであり、位相差膜であれば、進相軸または遅相軸のことである。
【０１１３】
異方性色素膜用組成物を塗布し、異方性色素膜を得る方法としては、特に限定されないが、たとえば、原崎勇次著「コーティング工学」（株式会社朝倉書店、１９７１年３月２０日発行）の２５３〜２７７ページに記載の方法、市村國宏監修「分子協調材料の創製と応用」（株式会社シーエムシー出版、１９９８年３月３日発行）の１１８〜１４９ページに記載の方法、段差構造を有する基板（予め配向処理を施してもよい）上にスロットダイコート法、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ロールコート法、ブレードコート法、カーテンコート法、ファウンテン法、ディップ法等で塗布する方法が挙げられる。なかでも、スロットダイコート法やバーコート法を採用すると、均一性の高い異方性色素膜が得られるため好適である。
【０１１４】
スロットダイコート法に用いるダイコーターは、一般的に塗布液を吐出する塗布機、いわゆるスリットダイを備えている。スリットダイは、たとえば、日本国特開平２−１６４４８０号公報、日本国特開平６−１５４６８７号公報、日本国特開平９−１３１５５９号公報、「分散・塗布・乾燥の基礎と応用」（２０１４年、株式会社テクノシステ、ＩＳＢＮ９７８４９２４７２８７０７  Ｃ  ３０５）、「ディスプレイ・光学部材における湿式コーティング技術」（２００７年、情報機構、ＩＳＢＮ９７８４９０１６７７７５２）、「エレクトロニクス分野における精密塗布・乾燥技術」（２００７年、技術情報協会、ＩＳＢＮ９７８４８６１０４１３８９）等に開示されている。これら公知のスリットダイは、フィルムやテープなどの可撓性を有した部材やガラス基板のような硬い部材であっても塗布が実施できる。
【０１１５】
本発明の異方性色素膜形成に使用される基板として、ガラスや、トリアセテート、アクリル、ポリエステル、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースまたはウレタン系のフィルム等が挙げられる。また、この基板表面には、色素の配向方向を制御するために、「液晶便覧」（丸善株式会社、平成１２年１０月３０日発行）の２２６〜２３９ページ等に記載の公知の方法（ラビング法、配向膜表面上にグルーブ（微細な溝構造）を形成する方法、偏光紫外光・偏光レーザーを用いる方法（光配向法）、ＬＢ膜形成による配向方法、無機物の斜め蒸着による配向方法等）により、配向処理（配向膜）を施していてもよい。特に、ラビング法、光配向法による配向処理を好ましく挙げることができる。ラビング法に用いる材料としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリイミド（ＰＩ）、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。光配向法に用いる材料としては、ポリシンナメート系、ポリアミック酸・ポリイミド系、アゾベンゼン系等が挙げられる。配向処理層を設けた場合、配向処理層の配向処理の影響と、塗布時に異方性色素膜用組成物にかかるせん断力によって、液晶化合物や色素が配向すると考えられる。
【０１１６】
異方性色素膜用組成物を塗布する際の、異方性色素膜用組成物の供給方法、供給間隔は特に限定されない。塗布液の供給操作が繁雑になったり、塗布液の開始時と停止時に塗布膜厚の変動を生じたりする場合があるため、異方性色素膜の膜厚が薄い時には、連続的に異方性色素膜用組成物を供給しながら塗布することが望ましい。
【０１１７】
異方性色素膜用組成物を塗布する速度としては、通常０．００１ｍ／分以上であり、好ましくは０．０１ｍ／分以上であり、より好ましくは０．１ｍ／分以上であり、さらに好ましくは１．０ｍ／分以上であり、特に好ましくは５．０ｍ／分以上である。また、通常４００ｍ／分以下であり、好ましくは２００ｍ／分以下であり、より好ましくは１００ｍ／分以下であり、さらに好ましくは５０ｍ／分以下である。塗布速度が上記範囲であることで、異方性色素膜の異方性が得られ、均一に塗布できる傾向にある。
異方性色素膜用組成物の塗布温度としては、通常０℃以上１００℃以下、好ましくは８０℃以下、さらに好ましくは６０℃以下である。
異方性色素膜用組成物の塗布時の湿度は、好ましくは１０％ＲＨ以上であり、好ましくは８０ＲＨ％以下である。
【０１１８】
異方性色素膜には、不溶化処理を行ってもよい。不溶化とは、異方性色素膜中の化合物の溶解性を低下させることにより、化合物の異方性色素膜からの溶出を制御し、膜の安定性を高める処理を意味する。
具体的には、膜の重合やオーバーコートなどが、後工程の容易さ、異方性色素膜の耐久性等の点から好ましい。
【０１１９】
膜の重合を行う場合、液晶分子と色素分子が配向した膜に対して、光、熱、および／または放射線を用いて重合を行う。
【０１２０】
光または放射線を用いて重合をおこなう場合、波長が１９０〜４５０ｎｍの範囲にある活性エネルギー線を照射することが好ましい。
波長１９０〜４５０ｎｍの活性エネルギー線の光源は、特に限定されるものではないが、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、蛍光ランプ等のランプ光源；アルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー、エキシマレーザー、窒素レーザー、ヘリウムカドミニウムレーザー、半導体レーザー等のレーザー光源等が挙げられる。特定の波長の光を照射して使用する場合には、光学フィルターを利用することもできる。活性エネルギー線の露光量は、１〜１００，０００Ｊ／ｍ２が好ましく、１０〜１０，０００Ｊ／ｍ２がより好ましい。
【０１２１】
熱を用いて重合を行う場合は、５０〜２００℃の範囲で行うことが好ましく、６０〜１５０℃の範囲で行うことがさらに好ましい。
光、熱、および／または放射線を用いて重合を行ってもよいが、光重合を用いる、または、光重合と熱重合を併用するのが膜形成プロセスの時間が短く、装置も簡易であることから好ましい。
【０１２２】
［光学素子］
本発明の光学素子は、本発明の異方性色素膜を含む。
【０１２３】
本発明における光学素子は、光吸収の異方性を利用して、直線偏光、円偏光、楕円偏光等を得る偏光素子、位相差素子、屈折異方性や伝導異方性等の機能を有する素子を表す。これらの機能は、異方性色素膜形成プロセスと、基板や有機化合物（色素や透明材料）を含有する組成物の選択により、適宜調整することができる。
【０１２４】
本発明の光学素子は、偏光素子として用いることが最も好ましい。
本発明の光学素子は、基板上に塗布等により異方性色素膜を形成することで偏光素子を得ることができるという点から、フレキシブルディスプレイ等の用途にも好適に使用することができる。
【０１２５】
光学素子は、異方性色素膜の機能を維持、向上させるために、他の層が設けられていてもよい。たとえば、耐光性、耐熱性、耐水性等の耐久性を向上させるために用いる、特定の波長を遮断する機能を有する層や特定の物質を遮断する機能を有する層（酸素遮断フィルム、水蒸気遮断フィルムなどのバリアフィルム等）；色域を変更したり、光学特性を向上させたりするために用いる、波長カットフィルターや特定の波長を吸収する材料を含有する層；等が挙げられる。
【０１２６】
［偏光素子］
本発明の偏光素子は、本発明の異方性色素膜を有するものであれば他の如何なる膜（層）を有するものであってもよい。たとえば、基板上に配向膜を設け、配向膜の表面に、本発明の異方性色素膜を形成することにより製造することができる。
また、偏光素子は異方性色素膜だけに限らず、偏光性能を向上させる、機械的強度を向上させる等の機能を有するオーバーコート層；粘着層または反射防止層；配向膜；位相差フィルムとしての機能、輝度向上フィルムとしての機能、反射または反射防止フィルムとしての機能、半透過反射フィルムとしての機能、拡散フィルムとしての機能などの光学機能を有する層；等、と組み合わせて使用してもよい。具体的には、前述の様々な機能を有する層を塗布や貼合等により積層形成し、積層体として使用してもよい。
これらの層は、製造プロセス、特性および機能に合わせ適宜設けることができ、その積層の位置、順番等は特に限定されない。たとえば、各層を形成する位置は、異方性色素膜の上に形成してもよく、異方性色素膜を設けた基板の反対面に形成してもよい。また、各層を形成する順番は、異方性色素膜を形成する前でも形成した後でもよい。
【０１２７】
これら光学機能を有する層は、以下の様な方法により形成することができる。
【０１２８】
位相差フィルムとしての機能を有する層は、位相差フィルムを、偏光素子を構成する他の層に塗布や貼合等を行うことにより形成することができる。位相差フィルムは、たとえば、日本国特開平２−５９７０３号公報、日本国特開平４−２３０７０４号公報等に記載の延伸処理を施したり、日本国特開平７−２３０００７号公報等に記載された処理を施したりすることにより形成することができる。
【０１２９】
輝度向上フィルムとしての機能を有する層は、輝度向上フィルムを、偏光素子を構成する他の層に塗布や貼合等を行うことにより形成することができる。輝度向上フィルムは、たとえば、日本国特開２００２−１６９０２５号公報および日本国特開２００３−２９０３０号公報に記載されるような方法で微細孔を形成することにより、または、選択反射の中心波長が異なる２層以上のコレステリック液晶層を重畳することにより形成することができる。
【０１３０】
反射フィルムまたは半透過反射フィルムとしての機能を有する層は、たとえば、蒸着やスパッタリングなどで得られた金属薄膜を、偏光素子を構成する他の層に塗布や貼合等を行うことにより形成することができる。
拡散フィルムとしての機能を有する層は、たとえば、偏光素子を構成する他の層に微粒子を含む樹脂溶液をコーティングすることにより形成することができる。
【０１３１】
位相差フィルムや光学補償フィルムとしての機能を有する層は、ディスコティック液晶性化合物、ネマティック液晶性化合物、スメクチック液晶性化合物、コレステリック液晶性化合物等の液晶性化合物を、偏光素子を構成する他の層に塗布して配向させることにより形成することができる。その際に、基板上に配向膜を設け、配向膜の表面に、位相差フィルムや光学補償フィルムを形成してもよい。
【０１３２】
本発明の異方性色素膜を、ＬＣＤやＯＬＥＤ等の各種の表示素子に異方性色素膜等として用いる場合には、これらの表示素子を構成する電極基板等の表面に直接、本発明の異方性色素膜を形成してもよいし、本発明の異方性色素膜を形成した基板を、これら表示素子の構成部材として用いてもよい。
【実施例】
【０１３３】
実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
以下の記載において、「部」は「重量部」を意味する。
【０１３４】
［液晶相の同定方法］
得られた異方性色素膜形成用組成物の液晶性は、示差走査熱量測定（セイコーインスツルメンツ社「ＤＳＣ２２０ＣＵ」）、Ｘ線構造解析（株式会社リガク「ＮＡＮＯ−Ｖｉｅｗｅｒ」）、ホットステージ（株式会社東陽テクニカ「ＨＣＳ３０２−ＬＮ１９０」）が付属する偏光顕微鏡（株式会社ニコンインステック「ＥＣＬＩＰＳＥ  ＬＶ１００Ｎ  ＰＯＬ」）にて観察し、「液晶便覧」（丸善株式会社、平成１２年１０月３０日発行）の９〜５０ページ、１１７〜１７６ページ等に記載の方法にしたがって、液晶であることの同定を行った。
【０１３５】
［異方性色素膜の吸収軸／偏光軸方向の偏光に対する透過率の測定および二色比］
得られた異方性色素膜の吸収軸／偏光軸方向の偏光に対する透過率は、グラントムソン偏光子を備える分光光度計（大塚電子（株）製、製品名「ＲＥＴＳ−１００」）を用いて測定した。
異方性色素膜に直線偏光の測定光を入射し、異方性色素膜の吸収軸方向の偏光に対する透過率および異方性色素膜の偏光軸方向の偏光に対する透過率を測定し、次式により二色比（Ｄ）を算出した。
Ｄ＝Ａｚ／Ａｙ
（式中、
Ａｙ＝−ｌｏｇ（Ｔｙ）であり；
Ａｚ＝−ｌｏｇ（Ｔｚ）であり；
Ｔｚは、異方性色素膜の吸収軸方向の偏光に対する透過率であり；
Ｔｙは、異方性色素膜の偏光軸方向の偏光に対する透過率である。）
【０１３６】
具体的には、基材としてガラス上にポリイミドの配向膜（ＬＸ１４００、日立化成デュポンマイクロシステムズ社製）が形成されたサンドイッチセル（セルギャップ：８．０μｍ、１０．０μｍ、１２．０μｍ、成膜済みのポリイミドにあらかじめ布でラビング処理を施したもの）に、異方性色素膜用組成物を等方相で注入し、５℃／ｍｉｎで８０℃まで冷却することにより異方性色素膜を得、さらに５℃／ｍｉｎで０℃まで冷却しながら、各温度で二色比を測定した。その中で、最大の二色比を示した温度および波長における二色比をその異方性色素膜の二色比と決定した。
また、異方性色素膜の二色比が、４０以上のものをＡ、２０以上４０未満のものをＢ、８以上２０未満のものをＣ、８未満のものをＤと評価した。
【０１３７】
［液晶化合物の合成］
＜液晶化合物（Ｉ−１）＞
下記に記載の合成法に従い、液晶化合物（Ｉ−１）を合成した。
【０１３８】
【化１７】
2020042305.tif 000018
【０１３９】
（Ｉ−１−ａ）の合成：
ｐ−ヨードフェノール（１１．０ｇ，５０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１５０ｍＬ）に、プロピオル酸エチル（９．７ｇ，９９ｍｍｏｌ）、酸化銅（Ｉ）（７．５ｇ，９４ｍｍｏｌ）を添加し、１１０℃で９時間撹拌し、室温まで放冷した。沈殿を濾別したのち酢酸エチルを添加し、水、続いて飽和食塩水で洗浄した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、褐色結晶（Ｉ−１−ａ）を７．３ｇ得た。
【０１４０】
（Ｉ−１−ｂ）の合成：
（Ｉ−１−ａ）（４．２０ｇ，２２．１ｍｍｏｌ）、１１−ブロモ−１−ウンデカノール（５．５５ｇ，２２．１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（６．１０ｇ，４４．２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍＬ）を混合し、８０℃で４時間撹拌した。沈殿を濾別後、ジエチルエーテルを添加し、水、続いて飽和食塩水で洗浄した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、橙色固体（Ｉ−１−ｂ）を５．５ｇ得た。
【０１４１】
（Ｉ−１−ｃ）の合成：
（Ｉ−１−ｂ）（３．６ｇ，１０ｍｍｏｌ）、水酸化カリウム（１．７ｇ，３０ｍｍｏｌ）、水（２０ｍＬ）を混合し、１００℃で２時間撹拌した。水（２０ｍＬ）を加え、濃塩酸で酸性にしたのち、析出した沈殿を濾別した。得られた沈殿をアセトニトリルで懸洗し、乳白色固体（Ｉ−１−ｃ）を３．２ｇ得た。
【０１４２】
（Ｉ−１−ｄ）の合成：
（Ｉ−１−ｃ）（２．３３ｇ，７．０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）を混合し、続いてＮ，Ｎ−ジメチルアニリン（１．０２ｇ，８．４ｍｍｏｌ）、２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール（５４ｍｇ）を添加した。氷浴で冷却したのち、アクリロイルクロリド（０．７６ｇ，８．４ｍｍｏｌ）をゆっくり添加した。氷浴下６時間撹拌したのち、塩化メチレンを添加し、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水の順に洗浄した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール）で精製し、白色固体（Ｉ−１−ｄ）を２．０ｇ得た。
【０１４３】
（Ｉ−１−ｅ）の合成：
日本国特開２０１４−２６２８８４号公報に記載の合成法により（Ｉ−１−ｅ）を合成した。
【０１４４】
（Ｉ−１−ｆ）の合成：
（Ｉ−１−ｄ）（２．００ｇ，５．１７ｍｍｏｌ）、（Ｉ−１−ｅ）（１．０１ｇ，５．１７ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−４−ピリジン（０．１３ｇ，１．０３ｍｍｏｌ）、２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール（５８ｍｇ）、塩化メチレン（３０ｍＬ）を混合し、氷浴で冷却したのち、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（１．０９ｇ，５．６９ｍｍｏｌ）を添加した。一晩放置したのち、塩化アンモニウム飽和水溶液、続いて飽和食塩水で洗浄した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、白色固体（Ｉ−１−ｆ）を１．９ｇ得た。
【０１４５】
（Ｉ−１−ｇ）の合成：
（Ｉ−１−ｆ）（２．６ｇ，４．６２ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩（０．２３ｇ，０．９２ｍｍｏｌ）、２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール（４４ｍｇ）、エタノール（２０ｍＬ）を混合し、５０℃で２時間撹拌した。反応溶液を水に放出し、析出した沈殿を濾別、乾燥させ、白色固体（Ｉ−１−ｇ）を２．０ｇ得た。
【０１４６】
（Ｉ−１−ｈ）の合成：
下記に記載の合成法に従い、化合物（Ｉ−１−ｈ）を合成した。
【０１４７】
【化１８】
2020042305.tif 000019
【０１４８】
Ｌｕｂ  ｅｔ  ａｌ．，Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．ＣｈＩｍ．Ｐａｙｓ−Ｂａｓ，１１５，３２１−３２８（１９９６）に記載の化合物に準じた方法で（Ｉ−１−ｉ）を合成した。  次に、（Ｉ−１−ｉ）（トランス体のみ）（４２．９ｇ，１０７．６ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩（２．６ｇ，１０．８ｍｍｏｌ）、エタノール（４３０ｍＬ）を混合し、７８℃で２時間撹拌した。溶媒を留去し、酢酸エチル（１５０ｍＬ）に溶解し、ヘキサン（７５０ｍＬ）を加え、冷却した。析出した沈殿を濾別、ヘキサンで洗浄後、乾燥させ、白色固体（Ｉ−１−ｊ）を２９．２ｇ得た。
（Ｉ−１−ｊ）（３７．２ｇ，１１８．３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（２１．５ｇ，１７７．５ｍｍｏｌ）、２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール（０．２４ｇ）、テトラヒドロフラン（３８０ｍＬ）を混合した。氷浴で冷却したのち、アクリロイルクロリド（１６．１ｇ，１７７．５ｍｍｏｌ）をゆっくり添加した。滴下後５０℃で２時間撹拌したのち、液量が１９０ｍＬになるまで溶媒を留去し、氷冷下の１ｍｏｌ／Ｌ塩酸に放出した。析出した沈殿を濾別、水、ヘキサンで洗浄した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、白色固体（Ｉ−１−ｈ）を３９．４ｇ得た。
【０１４９】
（Ｉ−１）の合成：
（Ｉ−１−ｇ）（４９４ｍｇ，１．０３ｍｍｏｌ）、（Ｉ−１−ｈ）（４００ｍｇ，１．０９ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−４−ピリジン（２７ｍｇ，０．２２ｍｍｏｌ）、２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール（２ｍｇ）、塩化メチレン（１０ｍＬ）を混合し、氷浴で冷却したのち、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（２３０ｍｇ，１．１９ｍｍｏｌ）を添加した。氷浴下４時間撹拌したのち、塩化アンモニウム飽和水溶液、続いて飽和食塩水で洗浄した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、液晶化合物（Ｉ−１）を白色固体として５３０ｍｇ得た。
【０１５０】
この化合物の液体クロマトグラフ−質量分析の結果を下記に示す。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ  ８５１．５（Ｍ＋Ｎａ+）
また、ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ１．２０−１．７０（ｍ，３８Ｈ），１．７４−１．８５（ｍ，２Ｈ），２．０５−２．２５（ｍ，４Ｈ）， ２．４９−２．５７（ｍ，１Ｈ），３．２１−３．２９（ｍ，１Ｈ），３．４６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．９９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．１５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），５．８０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），６.１２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１７．２，１０．４Ｈｚ），６．３９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ），６．８９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）, ７．１０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）, ７．１９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）
【０１５１】
＜液晶化合物（Ｉ−２）＞
下記に記載の合成法に従い、液晶化合物（Ｉ−２）を合成した。
【０１５２】
【化１９】
2020042305.tif 000020
【０１５３】
（Ｉ−２−ａ）の合成：
４−ヨード安息香酸エチル（８．２０ｇ，２９．７ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）（６２６ｍｇ，０．８９ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（１７０ｍｇ，０．８９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２００ｍＬ）を混合し、１０−ウンデシン−１−オール（５．０ｇ，２９．７ｍｍｏｌ）を添加した。室温で４時間、さらに４０℃で１時間加熱した後、室温まで放冷した。水−エーテル抽出した後、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸でさらに洗浄し、分液、濃縮して粗精製の茶色油状化合物（Ｉ−２−ａ）を得た。
【０１５４】
（Ｉ−２−ｂ）の合成：
上記操作で得られた粗精製の（Ｉ−２−ａ）、水酸化カリウム（５．０ｇ，９０ｍｍｏｌ）の５０ｍＬ水溶液を混合し、１００℃で５時間加熱した。室温まで放冷した後、氷浴下、水を２０ｍＬ添加した後、ｐＨ＝１になるまで濃塩酸を添加した。析出した白色固体をろ別し、熱アセトニトリルで再結晶を行い、乳白色固体（Ｉ−２−ｂ）を７．５ｇ得た。
【０１５５】
（Ｉ−２−ｃ）の合成：
（Ｉ−２−ｂ）（７．４ｇ，２５．７ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（３．７８ｇ，３１．２ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール（８９ｍｇ）を混合し、水浴下、内温が１５℃以下となったことを確認した後、アクリロイルクロリド（２．８２ｇ，３１．２ｍｍｏｌ）をゆっくり添加した。３０分間経過後、水浴を外し、さらに２時間撹拌した。反応液を１００ｍＬの水に放出し、濃塩酸（０．８ｍＬ）を加えた後、酢酸エチルで抽出した。濃縮により得られた褐色粉末の半量をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、乳白色粉末の（Ｉ−２−ｃ）を３．０ｇ得た。
【０１５６】
（Ｉ−２−ｄ）の合成：
（Ｉ−２−ｃ）（２．９５ｇ，８．６ｍｍｏｌ）、（Ｉ−１−ｅ）(１．７０ｇ，８．８ｍｍｏｌ)、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（０．２１ｇ，１．７５ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（１３ｍＬ）を混合し、氷浴下、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（１．８４ｇ，９．６ｍｍｏｌ）を添加した。氷浴下３０分間撹拌の後、室温でさらに１時間撹拌した。反応液を塩化アンモニウム飽和水溶液、続いて飽和食塩水で抽出した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、白色固体の（Ｉ−２−ｄ）を４．４ｇ得た。
【０１５７】
（Ｉ−２−ｅ）の合成：
（Ｉ−２−ｄ）（４．１ｇ，７．９ｍｍｏｌ）、エタノール（２０ｍＬ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩（０．４０ｇ，１．５８ｍｍｏｌ）を混合し、６０℃で１時間加熱した。室温まで放冷した後、水（１００ｍＬ）に放出し、得られた固体をろ別した。得られた固体を再結晶（エタノール−水）し、ろ別し、（Ｉ−２−ｅ）を固体として３．３ｇ得た。
【０１５８】
（Ｉ−２−ｆ）の合成：
（Ｉ−２−ｅ）（４３５ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、（Ｉ−１−ｉ）（トランス／シス＝６７：３３の混合物）（４３８ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（２４ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（１０ｍＬ）を入れ、氷浴下、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（２１１ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を添加した。氷浴下３０分間撹拌の後、室温でさらに２時間撹拌した。反応液を塩化アンモニウム飽和水溶液、続いて飽和食塩水で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、トランス体の（Ｉ−２−ｆ）を０．４６ｇ得た。
【０１５９】
（Ｉ−２−ｇ）の合成：
（Ｉ−２−ｆ）（０．４６ｇ，０．５６ｍｍｏｌ）、エタノール（１０ｍＬ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩（２８ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）を混合し、６０℃で２時間加熱した。室温まで放冷した後、水（２０ｍＬ）を添加し、得られた固体をろ別した。得られた固体を再結晶（エタノール−水）し、（Ｉ−２−ｇ）を固体として０．３６ｇ得た。
【０１６０】
（Ｉ−２）の合成：
（Ｉ−２−ｇ）（０．３６ｇ，０．４９ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（７２ｍｇ，０．５９ｍｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェノール（３．６ｍｇ）を混合し、水浴下、アクリロイルクロリド（５３ｍｇ，０．５９ｍｍｏｌ）をゆっくり添加した。水浴下で３０分間撹拌後、さらに２時間撹拌した。反応液を水（２０ｍＬ）に放出し、濃塩酸（０．２ｍＬ）を加えた後、酢酸エチルで抽出した。濃縮により得られた褐色粉末の半量をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、液晶化合物（Ｉ−２）を白色粉末として１８３ｍｇ得た。
【０１６１】
＜液晶化合物（Ｉ−３）＞
下記に記載の合成法に従い、液晶化合物（Ｉ−３）を合成した。
【０１６２】
【化２０】
2020042305.tif 000021
【０１６３】
（Ｉ−３−ａ）の合成：
ｐ−アセトキシ安息香酸（３．６０ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）、（Ｉ−１−ｅ）（３．８８ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（４８９ｍｇ，４．０ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（５０ｍＬ）を混合し、２℃で、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（４．２２ｇ，２２．０ｍｍｏｌ）を添加した。２℃で３０分間撹拌の後、室温でさらに１７時間撹拌した。反応液を塩化アンモニウム飽和水溶液、続いて飽和食塩水で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、白色固体の（Ｉ−３−ａ）を３．６３ｇ得た。
【０１６４】
（Ｉ−３−ｂ）の合成：
（Ｉ−３−ａ）（０．９５ｇ，２．７ｍｍｏｌ）、エタノール（２０ｍＬ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩（１３４ｍｇ，０．５３ｍｍｏｌ）を混合し、７８℃で３時間加熱した。室温まで放冷した後、水（６０ｍＬ）を添加し、得られた固体をろ別、減圧下、５０℃で乾燥し、白色固体（Ｉ−３−ｂ）を０．３１ｇ得た。
【０１６５】
（Ｉ−３−ｃ）の合成：
（Ｉ−３−ｂ）（２３０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、（Ｉ−１−ｉ）（トランス体のみ）（８１０ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（５８ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（６ｍＬ）を混合し、２℃で、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（４２８ｍｇ，２．２ｍｍｏｌ）を添加した。２℃で３０分間撹拌の後、室温でさらに２０時間撹拌した。反応液を塩化アンモニウム飽和水溶液、続いて飽和食塩水で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン／酢酸エチル）により精製し、白色固体の（Ｉ−３−ｃ）を６６２ｍｇ得た。
【０１６６】
（Ｉ−３−ｄ）の合成：
（Ｉ−３−ｃ）（６６２ｍｇ，０．６７ｍｍｏｌ）、エタノール（１５ｍＬ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩（６９ｍｇ，０．２７ｍｍｏｌ）を混合し、７８℃で１時間加熱した。室温まで放冷した後、水（７０ｍＬ）を添加し、得られた固体をろ別、減圧下、５０℃で乾燥し、白色固体（Ｉ−３−ｄ）を５５５ｍｇ得た。
【０１６７】
（Ｉ−３）の合成：
（Ｉ−３−ｄ）（５５５ｍｇ，０．６７ｍｍｏｌ）、塩化メチレン（１２ｍＬ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（２２５ｍｇ，１．８５ｍｍｏｌ）を混合し、２℃で、アクリロイルクロリド（１６９ｍｇ，１．８７ｍｍｏｌ）をゆっくり添加した。２℃で３０分間撹拌後、さらに室温で１８時間撹拌した。反応液を塩化アンモニウム飽和水溶液、続いて飽和食塩水で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル）により精製し、液晶化合物（Ｉ−３）を白色固体として４２４ｍｇ得た。
【０１６８】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ８．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．２１（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．１２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），６.４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１７．２，１．６Ｈｚ），６.１２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１７．２，１０．４Ｈｚ），５．８１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．４，１．６Ｈｚ），４．１５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．４７（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．３２−３．２１（ｍ，２Ｈ），２．６２−２．４９（ｍ，２Ｈ），２．２５−２．１０（ｍ，８Ｈ），１．７１−１．５２（ｍ，１６Ｈ），１．４２−１．２５（ｍ，２８Ｈ）
【０１６９】
＜液晶化合物（Ｉ−４）＞
下記に記載の合成法に従い、液晶化合物（Ｉ−４）を合成した。
【０１７０】
【化２１】
2020042305.tif 000022
【０１７１】
（Ｉ−４−ｂ）の合成：
日本国特開２０１５−８９６号公報に記載の合成法により（Ｉ−４−ｂ）を合成した。
【０１７２】
（Ｉ−４−ｃ）の合成：
（Ｉ−４−ｂ）（５０．３ｇ，１６２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３２０ｍＬ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（２３．６ｍｇ，１９５ｍｍｏｌ）、４−メトキシフェノール（３０７ｍｇ）を混合し、１５℃で、アクリロイルクロリド（１７．６ｇ，１９５ｍｍｏｌ）を４０分間かけて添加した。室温で１８時間撹拌後、反応液を水（９４０ｍＬ）に放出し、濃塩酸でｐＨを１．２にした後、析出した固体をろ取した。得られた固体を水で洗浄し、５０℃で減圧下、乾燥して、白色固体の（Ｉ−４−ｃ）を５８．５ｇ得た。
【０１７３】
（Ｉ−４−ｄ）の合成：
（Ｉ−４−ｃ）（３５．８ｇ，９８．７ｍｍｏｌ）、（Ｉ−１−ｅ）(１９．２ｇ，９８．７ｍｍｏｌ)、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（２．４１ｇ，１９．７ｍｍｏｌ）、４−メトキシフェノール（４７ｍｇ）、ジクロロメタン（１５０ｍＬ）を混合し、３℃で、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（１６．９ｇ，１０９ｍｍｏｌ）を添加した。氷浴下３０分間撹拌の後、室温でさらに２１時間撹拌した。反応液を塩化アンモニウム飽和水溶液、続いて水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して、薄褐色固体を得た。この薄褐色固体をエタノール（２２０ｍＬ）に６０℃で溶解した後、０℃で１５時間静置し、生じた固体をろ取、５０℃で減圧下乾燥して、白色固体の（Ｉ−４−ｄ）を３９．１ｇ得た。
【０１７４】
（Ｉ−４−ｅ）の合成：
（Ｉ−４−ｄ）（３９．０ｇ，７２．４ｍｍｏｌ）、エタノール（１８０ｍＬ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩（３．７１ｇ，１４．８ｍｍｏｌ）を混合し、６０℃で１時間加熱した。室温まで放冷した後、水（４９０ｍＬ）に放出し、得られた固体をろ別、減圧下、５０℃で乾燥し、白色固体（Ｉ−４−ｅ）を３２．８ｇ得た。
【０１７５】
（Ｉ−４−ｆ）の合成：
下記に記載の合成法に従い、化合物（Ｉ−４−ｆ）を合成した。
【０１７６】
【化２２】
2020042305.tif 000023
【０１７７】
トランス−４−ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸（４．３３ｇ，３０．０ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（１００ｍＬ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩（１．５１ｇ，６．０ｍｍｏｌ）を混合し、１５℃で３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（５．０５ｇ，６０ｍｍｏｌ）を１０分間かけて滴下した。室温で１５時間撹拌後、反応液を７．５ｗｔ％炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、透明液体の（Ｉ−４−ｉ）を８．４７ｇ得た。
上記で得られた（Ｉ−４−ｉ）（８．１４ｇ、２６．０ｍｍｏｌ）を１０ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（７３ｇ）と混合し、１００℃で５時間撹拌した。室温まで放冷した後、３３ｗｔ％クエン酸水溶液（７５ｇ）を添加し、撹拌後、塩化メチレン（２００ｍＬ）で抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／酢酸エチル）により精製し、白色固体の（Ｉ−４−ｆ）を４．３５ｇ得た。
【０１７８】
（Ｉ−４−ｇ）の合成：
（Ｉ−４−ｅ）（１．３９ｇ，３．１ｍｍｏｌ）、（Ｉ−４−ｆ）（７００ｍｇ，３．１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（７５ｍｇ，０．６１ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（７．５ｍＬ）を混合し、２℃で、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（６４７ｍｇ，３．４ｍｍｏｌ）を添加した。２℃で３０分間撹拌の後、室温でさらに１６時間撹拌した。反応液を塩化アンモニウム飽和水溶液、続いて飽和食塩水で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル）により精製し、白色固体の（Ｉ−４−ｇ）を１．６８ｇ得た。
【０１７９】
（Ｉ−４−ｈ）の合成：
（Ｉ−４−ｇ）（１．６８ｇ，２．５３ｍｍｏｌ）、エタノール（２０ｍＬ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩（６４ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）を混合し、６０℃で１時間加熱した。室温まで放冷した後、水（４０ｍＬ）を添加し、得られた固体をろ別、減圧下、５０℃で乾燥し、白色固体（Ｉ−４−ｈ）を１．４２ｇ得た。
【０１８０】
（Ｉ−４）の合成：
（Ｉ−４−ｈ）（１．３９ｇ，２．４ｍｍｏｌ）、（Ｉ−１−ｈ）（８８８ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（５８ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（７．５ｍＬ）を混合し、２℃で、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（５２３ｍｇ，２．７ｍｍｏｌ）を添加した。２℃で１時間撹拌の後、室温でさらに６時間撹拌した。反応液を塩化アンモニウム飽和水溶液、続いて飽和食塩水で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル）により精製し、液晶化合物（Ｉ−４）を白色固体として１．１３ｇ得た。
【０１８１】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ８．１２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．９６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１７．２，１．２Ｈｚ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１７．２，１０．４Ｈｚ），５．８１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．４，１．２Ｈｚ），４．８１−４．６８（ｍ，１Ｈ），４．１５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．０４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．２５−３．２５（ｍ，１Ｈ），２．６２−２．４８（ｍ，１Ｈ），２．３０−１．９６（ｍ，９Ｈ），１．８６−１．２０（ｍ，４４Ｈ）
【０１８２】
＜液晶化合物（Ｉ−５）＞
液晶化合物（Ｉ−５）は、Ｌｕｂ  ｅｔ  ａｌ．，Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ−Ｂａｓ，１１５，３２１−３２８（１９９６）に記載の化合物に準じた方法を使用して合成した。
【０１８３】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ１．２３−１．７２（ｍ，３８Ｈ），１．７６−１．８６（ｍ，２Ｈ），２．１１−２．２３（ｍ，４Ｈ），２．４８−２．６０（ｍ，１Ｈ），３．２０−３．３０（ｍ，１Ｈ），３．４７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．０４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．１５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）５．８２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．４，１７．４Ｈｚ），６．４０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ），６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．１１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．２１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．１３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）
【０１８４】
＜液晶化合物（Ｉ−６）＞
下記に記載の合成法に従い、液晶化合物（Ｉ−６）を合成した。
【０１８５】
【化２３】
2020042305.tif 000024
【０１８６】
（Ｉ−６−ａ）の合成：
４−ヨードフェノール（２５ｇ，１１４ｍｍｏｌ）、４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（１３．４ｇ，１６０ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン溶液（１２５ｍＬ）を混合し、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩（ＰＰＴＳ）（２．８５ｇ，１１．４ｍｍｏｌ）を加えて室温で５時間撹拌後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）を加え、塩化メチレンで抽出をおこなった。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムを加えて乾燥後、ろ過濃縮をおこなうことにより、粗体を得た。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、白色固体（Ｉ−６−ａ）を３２．７ｇ得た。
【０１８７】
（Ｉ−６−ｂ）の合成：
（Ｉ−６−ａ）（３２．７ｇ，１０７．５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３７０ｍＬ）にトリメチルシリルアセチレン（１１．６ｇ，１１８．３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３１．６ｍＬ，２２５．８ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（２．０３ｇ，１０．７ｍｍｏｌ）を加え、撹拌した。その後、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）（３．８ｇ，５．３８ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１２時間撹拌後、水−酢酸エチルで抽出をおこなった。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムを加えて乾燥後、ろ過濃縮をおこない、粗体を得た。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、白色固体（Ｉ−６−ｂ）を３０．６ｇ得た。
【０１８８】
（Ｉ−６−ｃ）の合成：
（Ｉ−６−ｂ）（３０．６ｇ，１１１．５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２５０ｍＬ）を混合し、氷浴で冷却した。フッ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムテトラヒドロフラン溶液（１ｍｏｌ／Ｌ，１３３．８ｍＬ）を添加し、室温で１時間撹拌した。水−酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、ろ過濃縮をおこなうことにより、（Ｉ−６−ｃ）２２．１ｇを得た。
【０１８９】
（Ｉ−６−ｄ）の合成：
上記操作で得られた（Ｉ−６−ｃ）（２２．１ｇ，１０９．３ｍｍｏｌ）、４−ヨードフェノール（２６．４ｇ，１０２．２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３００ｍＬ）を混合し、トリエチルアミン（２３ｍＬ，２２９．５ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液にヨウ化銅（Ｉ）（２．１ｇ，１０．９ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）（３．８ｇ，５．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で４時間撹拌をおこなった。反応溶液をセライトろ過したのち、ろ液を減圧濃縮した。得られた粗体を塩化メチレンを用いて懸洗することにより（Ｉ−６−ｄ）２２．１ｇを得た。
【０１９０】
（Ｉ−６−ｅ）の合成：
（Ｉ−６−ｄ）（１１．０ｇ，３７．４ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２２ｍＬ）を混合し、１１−ブロモ−１−ウンデカノール（９．３９ｇ，３７．４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２５．８ｇ，１８７ｍｍｏｌ）を加えて９０℃で１時間撹拌した。放冷後氷水に加え、析出した固体をろ取し、ヘキサンで洗浄することにより粗体を得た。得られた粗体を酢酸エチルに溶解後、硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、セライト濾過を行い、溶媒留去を行うことにより、（Ｉ−６−ｅ）１７．０ｇを得た。
【０１９１】
（Ｉ−６−ｆ）の合成：
（Ｉ−６−ｅ）（４．０ｇ，８．６１ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（４０ｍＬ）、トリエチルアミン（２．４ｍＬ，１７．２ｍｍｏｌ）を混合し、氷浴で冷却後、アクリロイルクロリド（１．０４ｍＬ，１２．９ｍｍｏｌ）を加え、１０分間撹拌した。反応液を氷水に加えたのち、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層に硫酸ナトリウムを加えて乾燥後、ろ過濃縮することにより（Ｉ−６−ｆ）４．４４ｇを得た。
【０１９２】
（Ｉ−６−ｇ）の合成：
（Ｉ−６−ｆ）（４．４４ｇ，８．５６ｍｍｏｌ）、エタノール（４５ｍＬ）を混合し、ＰＰＴＳ（２１５ｍｇ，０．８５６ｍｍｏｌ）を加えて５０℃で１時間撹拌した。放冷後、減圧濃縮したのち、粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、（Ｉ−６−ｇ）３．３６ｇを得た。
【０１９３】
（Ｉ−６）の合成：
（Ｉ−６−ｇ）（１．０ｇ，２．３ｍｍｏｌ）、（Ｉ−１−ｉ）（０．８５ｇ，２．３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−４−ピリジン（５６ｍｇ，０．４６ｍｍｏｌ）、塩化メチレン（１０ｍＬ）を混合し、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）（０．５７ｇ，３．０ｍｍｏｌ）を０℃で加え、室温で２時間撹拌した。得られた反応溶液を氷水（２０ｍＬ）に注いだのち、塩化メチレンで抽出おこなった。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムを加えて乾燥後、ろ過濃縮を行なうことにより粗体を得た。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／塩化メチレン／酢酸エチル）で精製し、（Ｉ−６）０．９８ｇを得た。
【０１９４】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．５０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．４４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．０４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．８６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），６．３９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１７．２，１０．４Ｈｚ），５．８２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），４．１５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．９９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．４７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．２９−３．２１（ｍ，１Ｈ），２．５７−２．４９（ｍ，１Ｈ），２．２５−２．１０（ｍ，４Ｈ），１．８８−１．７０（ｍ，２Ｈ），１．７０−１．２４（ｍ，３８Ｈ）
【０１９５】
＜液晶化合物（Ｉ−７）＞
下記に記載の合成法に従い、液晶化合物（Ｉ−７）を合成した。
【０１９６】
【化２４】
2020042305.tif 000025
【０１９７】
（Ｉ−７）の合成：
出発原料として１２−ブロモ−１−ドデカノールを用いた以外は（Ｉ−１−ｇ）と同様の方法で合成した（Ｉ−７−ａ）（２ｇ，４．０ｍｍｏｌ）、出発原料として１２−ブロモ−１−ドデカノールを用いた以外は（Ｉ−１−ｈ）と同様の方法で合成した（Ｉ−７−ｂ）（１．６８ｇ，４．４ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（９７．７ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（３０ｍＬ）と混合し、ＥＤＣ（０．９２ｇ，４．８ｍｍｏｌ）を０℃で加え、室温で１２時間撹拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えたのち、塩化メチレンで抽出をおこない、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて乾燥後、ろ過濃縮を行った。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／塩化メチレン／酢酸エチル）で精製を行うことにより、（Ｉ−７）２．１７ｇを得た。
【０１９８】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．５５（ｄ，２Ｈ），７．１９（ｄ，２Ｈ），７．１１（ｄ，２Ｈ），６．８９（ｄ，２Ｈ），６．３９（ｄｄ，２Ｈ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ），５．８１（ｄｄ，２Ｈ），４．１５（ｔ，４Ｈ），３．９９（ｔ，２Ｈ），３．４６（ｔ，２Ｈ），３．２１−３．２９（ｍ，１Ｈ），２．４９−２．５７（ｍ，１Ｈ），２．１５（ｍ４Ｈ），１．７９（ｍ，２Ｈ），１．５２−１．７２（ｍ，１２Ｈ），１．２４−１．４９（ｍ，４２Ｈ）
【０１９９】
＜液晶化合物（Ｉ−８）＞
下記に記載の合成法に従い、液晶化合物（Ｉ−８）を合成した。
【０２００】
【化２５】
2020042305.tif 000026
【０２０１】
（Ｉ−８−ａ）の合成：
ｔｒａｎｓ−４−ヒドロキシシクロヘキシルフェノール（１０．０ｇ，５２．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２８．８ｇ，２０８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（１００ｍＬ）にクロロメチルメチルエーテル（６．３０ｇ，７８．０ｍｍｏｌ）を加えて６時間撹拌した。反応溶液に水（１００ｍＬ）を加えたのち、ジイソプロピルエーテル（１００ｍＬ）で３回抽出をおこなった。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムを加えて撹拌した。ろ過濃縮を行った後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン／酢酸エチル）を行うことにより、（Ｉ−８−ａ）５．７９ｇを得た。
【０２０２】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．１２（ｄ，２Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ），５．１５（ｓ，２Ｈ），３．６−３．７（ｍ，１Ｈ），３．４７（ｄ，３Ｈ），２．６−２．７（ｍ，１Ｈ），２．０−２．１（ｍ，２Ｈ），１．８５−１．９５（ｍ，２Ｈ），１．３−１．６（ｍ，６Ｈ）
【０２０３】
（Ｉ−８−ｂ）の合成：
（Ｉ−８−ａ）（５．３０ｇ，２２．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（３０ｍＬ）に溶解し、ヨウ化ドデカン（１３．０ｇ，４４．０ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（油性５０−７０％、２．０ｇ）を加えて室温で８時間撹拌した。反応溶液に水を加えてジイソプロピルエーテルを用いて抽出したのち、有機層を飽和食塩水で洗浄をおこなった。さらに硫酸マグネシウムを加えて乾燥後、ろ過濃縮を行い、粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製を行うことにより、（Ｉ−８−ｂ）４．５８ｇを得た。
【０２０４】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．１１（ｄ，２Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ），５．１４（ｓ，２Ｈ），３．４７（ｍ，５Ｈ），３．２−３．３（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１−２．２（ｍ，２Ｈ），１．９−２．０（ｍ，２Ｈ），１．２−１．６（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，３Ｈ）
【０２０５】
（Ｉ−８−ｃ）の合成：
（Ｉ−８−ｂ）（４．５８ｇ，１１．７ｍｍｏｌ）をメタノール（６０ｍＬ）に溶解し、に濃塩酸（１８ｍＬ）を加えて４０℃で２時間、室温で２４時間撹拌した。生成した沈殿をろ過したのち、水で洗浄することにより、（Ｉ−８−ｃ）３．９３ｇを得た。
【０２０６】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．０７（ｄ，２Ｈ），６．７５（ｄ，２Ｈ），３．４９（ｔ，２Ｈ），３．２−３．３（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１−２．２（ｍ，２Ｈ），１．９−２．０（ｍ，２Ｈ），１．２−１．６（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，３Ｈ）
【０２０７】
（Ｉ−８）の合成：
（Ｉ−８−ｃ）（４３８ｍｇ，１．２６ｍｍｏｌ）、（Ｉ−１−ｄ）（４６５ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（２９．３ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（３０ｍＬ）に溶解し、ＥＤＣ（２７６ｍｇ，１．４４ｍｍｏｌ）を０℃で加え、室温で４時間撹拌した。反応溶液に炭酸水素ナトリウム飽和水溶液を加えたのち、塩化メチレンで抽出をおこない、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて乾燥後、ろ過濃縮を行った。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）でカラム精製を行うことにより、（Ｉ−８）４４７ｍｇを得た。
【０２０８】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．６（ｄ，２Ｈ），６．９５（ｄ，２Ｈ），３．４７（ｔ，２Ｈ），３．２−３．３（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１−２．２（ｍ，２Ｈ），１．８−１．９（ｍ，１Ｈ），１．２−１．６（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，３Ｈ）
【０２０９】
＜液晶化合物（Ｉ−９）＞
下記に記載の合成法に従い、液晶化合物（Ｉ−９）を合成した。
【０２１０】
【化２６】
2020042305.tif 000027
【０２１１】
（Ｉ−９−ａ）の合成：
下記で合成した（Ｉ−１０−ｂ）（３．２５ｇ，１０．７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（２０ｍＬ）に水素化ナトリウム（油性５０−７０％、１．０３ｇ）を加え１時間撹拌した。その後、１−ブロモウンデカン（７．８０ｇ，３１．４ｍｍｏｌ）を加え、室温でさらに４時間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（５０ｍＬ）と水（５０ｍＬ）を加えてジイソプロピルエーテルを用いて抽出をおこなった。有機層を飽和食塩水で洗浄したのち、硫酸マグネシウムを加えて乾燥後、ろ過し減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液:ヘキサン）で精製したのち、メタノールで懸洗することにより、（Ｉ−９−ａ）３．６１ｇを得た。
【０２１２】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．６（ｄ，２Ｈ），６．９５（ｄ，２Ｈ），３．４７（ｔ，２Ｈ），３．２−３．３（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１−２．２（ｍ，２Ｈ），１．８−１．９（ｍ，１Ｈ），１．２−１．６（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，３Ｈ）
【０２１３】
（Ｉ−９−ｂ）の合成：
（Ｉ−９−ａ）（１．８８ｇ，４．０ｍｍｏｌ）、酸化銅（Ｉ）（８５８ｍｇ，６．０ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（１０ｍＬ）を混合し、プロピオン酸（７８５ｍｇ，８．０ｍｍｏｌ）を加えて、窒素気流下、１１０℃で１０．５時間加熱撹拌した。室温まで冷却したのち、水（１００ｍＬ）を加え、ジイソプロピルエーテルで抽出を行った。有機層に硫酸マグネシウムを加えて乾燥後、ろ過し、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル）により精製することにより、（Ｉ−９−ｂ）７９１ｍｇを得た。
【０２１４】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．５（ｄ，２Ｈ），７．２（ｄ，２Ｈ），４．２８（ｑ，２Ｈ），３．４７（ｔ，２Ｈ），３．２−３．３（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１−２．２（ｍ，２Ｈ），１．８−１．９（ｍ，１Ｈ），１．２−１．６（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，３Ｈ）
【０２１５】
（Ｉ−９−ｃ）の合成：
（Ｉ−９−ｂ）（４２０ｍｇ，０．９５ｍｍｏｌ）、水酸化カリウム（１０４ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）、塩化メチレン（４ｍＬ）と水（１０ｍＬ）を加えて１００℃で1時間加熱撹拌したのち、室温まで冷やし、２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を加え、生成した沈殿物をエタノールで洗浄することにより（Ｉ−９−ｃ）２３７ｍｇを得た。
【０２１６】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．５（ｄ，２Ｈ），７．２（ｄ，２Ｈ），３．４７（ｔ，２Ｈ），３．２−３．３（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１−２．２（ｍ，２Ｈ），１．８−１．９（ｍ，１Ｈ），１．２−１．６（ｍ，２０Ｈ），０．８８（ｔ，３Ｈ）
【０２１７】
（Ｉ−９）の合成：
（Ｉ−９−ｃ）（６９７ｍｇ，１．６ｍｍｏｌ）、（Ｉ−１０−ｇ）（６０２ｍｇ，１．８ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（３９．０ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）、塩化メチレン（３０ｍＬ）を混合し、ＥＤＣ（３６４ｍｇ，１．９ｍｍｏｌ）を窒素気流下中、０℃で加えたのち、室温まで昇温し、６時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて塩化メチレン溶液で抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後、硫酸マグネシウムを加え乾燥後、ろ過し、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル）により精製をおこない、（Ｉ−９）７７４ｍｇを得た。
【０２１８】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．５４（ｄ，２Ｈ），７．２３（ｄ，２Ｈ），７．０８（ｄ，２Ｈ），６．８９（ｄ，２Ｈ），６．３９（ｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），５．８（ｄ，１Ｈ），４．１５（ｔ，２Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），３．４８（ｔ，２Ｈ），３．２−３．３（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１−２．２（ｍ，２Ｈ），１．９−２．０（ｍ，１Ｈ），１．７−１．８（ｍ，２Ｈ），１．６−１．７（ｍ，２Ｈ），１．２−１．６（ｍ，３４Ｈ），０．８８（ｔ，３Ｈ）
【０２１９】
＜液晶化合物（Ｉ−１０）＞
下記に記載の合成法に従い、液晶化合物（Ｉ−１０）を合成した。
【０２２０】
【化２７】
2020042305.tif 000028
【０２２１】
（Ｉ−１０−ａ）の合成：
４−シクロヘキシルフェニル（３６．８ｇ、２１１ｍｍｏｌ）、１−クロロメチル−４−フルオロ−１，４−ジアゾニアビシクロ［２．２．２］オクタンビス（テトラフルオロボラート）（３０．０ｇ，８４．０ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（８００ｍＬ）を混合し、ヨウ素（２１．３ｇ，８４．０ｍｍｏｌ）を加えて６０℃で３時間加熱撹拌をおこなった。室温まで冷却させたのち、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（４００ｍＬ）を加えたのち、ジイソプロピルエーテル（２００ｍＬ）で３回抽出をおこなった。得られた有機層を飽和食塩水（２００ｍＬ）で洗浄したのち、硫酸マグネシウムを加えて乾燥後、減圧下で濃縮をおこなった。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル）により精製することにより、（Ｉ−１０−ａ）２８．０ｇを得た。
【０２２２】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．６４（ｄ，２Ｈ），６．９９（ｄ，２Ｈ），２．９４−３．０１（ｍ，１Ｈ），２．４８−２．５１（ｍ，４Ｈ），２．０４−２．１６（ｍ，２Ｈ），１．５６−１．８５（ｍ，２Ｈ）
【０２２３】
（Ｉ−１０−ｂ）の合成：
（Ｉ−１０−ａ）（１７．６ｇ，５８．６ｍｍｏｌ）、炭酸水素ナトリウム（１．６２ｇ，１１．７ｍｍｏｌ）とアセトニトリル（３３０ｍＬ）を混合し、水素化ホウ素ナトリウム（４．４０ｇ，１０７ｍｍｏｌ）を４０℃で加えたのち、７４℃まで昇温し、１時間加熱撹拌をおこなった。室温まで冷却し、飽和塩化アンモニウム水溶液（２０ｍＬ）を加え撹拌した。その後、水（２００ｍＬ）を加えたのち、ジイソプロピルエーテル（２００ｍＬ）を用いて抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層に硫酸マグネシウムを加え乾燥後ろ過をおこない、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をアセトンで洗浄することにより（Ｉ−１０−ｂ）８．９３ｇを得た。
【０２２４】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．６（ｄ，２Ｈ），６．９５（ｄ，２Ｈ），３．６−３．７（ｍ，２Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１−２．２（ｍ，２Ｈ），１．９−２．０（ｍ，２Ｈ），１．３９−１．５１（ｍ，４Ｈ）
【０２２５】
（Ｉ−１０−ｃ）の合成：
（Ｉ−１０−ｂ）（８．９３ｇ，２９．６ｍｍｏｌ）とＤＭＦ（６０ｍＬ）を混合し、水素化ナトリウム（油性５０％，３．４０ｇ）を加え、窒素気流下中、泡の発生がなくなるまで撹拌した。その後、２−（１１−ブロモウンデコキシ）オキサン（２９．５ｇ，８８．０ｍｍｏｌ）を加えて６０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却したのち、水（１００ｍＬ）を加え、ジイソプロピルエーテル（２００ｍＬ）を加え、抽出をおこなった。２回繰り返したのち、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムを加えて乾燥を行い、ろ過後減圧で濃縮をおこなった。得られえた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、（Ｉ−１０−ｃ）１３．８ｇを得た。
【０２２６】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．５９（ｄ，２Ｈ），６．９５（ｄ，２Ｈ），４．５−４．６（ｍ，１Ｈ），３．８３−３．９（ｍ，１Ｈ），３．６９−３．７４（ｍ，１Ｈ），３．２−３．５（ｍ，５Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１３−２．１８（ｍ，２Ｈ），１．２−１．９２（ｍ，２２Ｈ）
【０２２７】
（Ｉ−１０−ｄ）の合成：
（Ｉ−１０−ｃ）（２．２２ｇ，４．０ｍｍｏｌ）、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（８４．０ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（４４．０ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（１．６６ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（２０ｍＬ）を混合し、窒素気流下中、プロピオン酸エチル（５８８ｍｇ，６．０ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却したのち、水（１００ｍＬ）を加え、ジイソプロピルエーテルで抽出をおこなった。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて乾燥後、ろ過をおこない、減圧下で濃縮をおこなった。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル）により精製することにより、（Ｉ−１０−ｄ）１．７８ｇを得た。
【０２２８】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．５９（ｄ，２Ｈ），７．１９（ｄ，２Ｈ），４．５−４．６（ｍ，１Ｈ），４．２９（ｑ，２Ｈ），３．８３−３．９（ｍ，１Ｈ），３．６９−３．７４（ｍ，１Ｈ），３．２−３．５（ｍ，５Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１３−２．１８（ｍ，２Ｈ），１．２−１．９２（ｍ，２５Ｈ）
【０２２９】
（Ｉ−１０−ｅ）の合成：
（Ｉ−１０−ｄ）（６０２ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）にＴＨＦ（５ｍＬ）、エタノール（２．５ｍＬ）を加えて、完溶させたのち、水酸化カリウム（１８８ｍｇ，３．３ｍｍｏｌ）を水（５ｍＬ）に溶解した液を加えて室温で１時間撹拌した。２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（２０ｍＬ）を加えたのち、室温でさらに１０分間撹拌した。その溶液にジイソプロピルエーテルを加えて抽出を行い、有機層を飽和食塩水で洗浄したのち、硫酸マグネシウムを加えて乾燥し、ろ過後減圧下で濃縮をおこなった。得られた粗生成物とエタノール（２０ｍＬ）、ＰＰＴＳ（３０ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）を混合して、５０℃で１時間撹拌した。溶媒を濃縮したのち、水洗することにより（Ｉ−１０−ｅ）４３５ｍｇ得た。
【０２３０】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，４００ＭＨｚ）δ７．５２（ｄ，２Ｈ），７．３０（ｄ，２Ｈ），３．５２−３．５７（ｍ，４Ｈ），３．３２−３．３６（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１３−２．１８（ｍ，２Ｈ），１．３４−１．５９（ｍ，２２Ｈ）
【０２３１】
（Ｉ−１０−ｆ）の合成：
（Ｉ−１０−ｅ）（１．２０ｇ，３．０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（９０９ｍｇ，７．５ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（３０ｍＬ）を混合し、塩化アクリロイル（４５２ｍｇ，５．０ｍｍｏｌ）を０℃で加え、５０℃で２．５時間撹拌した。その後、氷冷した２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（５０ｍＬ）に反応液を加えて撹拌後、ジイソプロピルエーテルを用いて抽出を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムを加え乾燥させたのち、ろ過後減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にヘキサンを加えてろ過、懸洗することにより、（Ｉ−１０−ｆ）６９１ｍｇを得た。
【０２３２】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．５３（ｄ，２Ｈ），７．２３（ｄ，２Ｈ），６．３９（ｄ，１Ｈ），６．１１（ｄｄ，１Ｈ），５．８１（ｄ，１Ｈ），４．１５（ｔ，２Ｈ），３．４８（ｔ，２Ｈ），３．３２−３．３６（ｍ，１Ｈ），２．４５−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１３−２．１８（ｍ，２Ｈ），１．２８−１．６９（ｍ，２２Ｈ）
【０２３３】
（Ｉ−１０−ｇ）の合成：
下記に記載の合成法に従い、化合物（Ｉ−１０−ｇ）を合成した。
【０２３４】
【化２８】
2020042305.tif 000029
【０２３５】
（１−１０−ｈ）の合成:
（Ｉ−１−ｅ）（３１．１ｇ，１６０ｍｍｏｌ）、１１−ブロモ−１−ウンデカノール（４４．２ｇ、１７６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（４４．２ｇ，３２０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１２５ｍＬ）と混合し、１００℃で１．５時間撹拌した。撹拌後、室温まで冷却したのち、水（２Ｌ）に加え、固形物をろ取し、水で洗浄した。その後固形物をジクロロメタンに溶解し、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムを加えて乾燥後、減圧下濃縮した。濃縮後、イソプロパノールを加えて懸濁させ、固形物をろ取することで（Ｉ−１０−ｈ）４７．６ｇを得た。
【０２３６】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ６．９６（ｄ，２Ｈ），６．９２（ｄ，２Ｈ），５．２８（ｍ，１Ｈ），３．３８−３．９４（ｍ，３Ｈ），３．３−３．６（ｍ，３Ｈ），１．１４−２．０（ｍ，２２Ｈ）
【０２３７】
（１−１０−i）の合成:
（Ｉ−１０−ｈ）（４７．６ｇ，１３１ｍｍｏｌ）とＴＨＦ（４８０ｍＬ）を混合し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（３１．６ｇ，２６１ｍｍｏｌ）と塩化アクリロイル（１７．７ｇ，１９６ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムを加えて乾燥後、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）により精製することにより、（Ｉ−１０−ｉ）４８．６ｇを得た。
【０２３８】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ６．９６（ｄ，２Ｈ），６．９２（ｄ，２Ｈ），６．３（ｄ，１Ｈ），６．１５（ｄｄ，１Ｈ），５．８（ｄ，１Ｈ），５．２８（ｍ，１Ｈ），４．１５（ｔ，２Ｈ），３．８−４．０（ｍ，３Ｈ），３．５−３．６（ｍ，１Ｈ），１．２−２．１（ｍ，２４Ｈ）
【０２３９】
（１−１０−ｇ）の合成:
（Ｉ−１０−ｉ）（４８．６ｇ，１１６ｍｍｏｌ）をエタノール（２６０ｍＬ）と混合し、ＰＰＴＳ（２．９ｇ，１１．６ｍｍｏｌ）を加え、１時間、加熱還流をおこなった。室温まで冷却したのち、反応液を減圧下濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／塩化メチレン／酢酸エチル）で精製し（Ｉ−１０−ｇ）２５．９ｇを得た。
【０２４０】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ６．７−６．８（ｍ，４Ｈ），６．３７（ｄ，２Ｈ），６．１４（ｄ，１Ｈ），６．８０（ｄｄ，１Ｈ），５．８（ｄ，１Ｈ），４．１５（ｔ，２Ｈ），３．７５（ｔ，２Ｈ），１．２−２．１（ｍ，１８Ｈ）
【０２４１】
（Ｉ−１０）の合成：
（Ｉ−１０−ｆ）（８２９ｍｇ，１．７７ｍｍｏｌ）、（Ｉ−１０−ｇ）（６６９ｍｇ，２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（４３ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（２０ｍＬ）と混合し、ＥＤＣ（４０３ｍｇ，２．１ｍｍｏｌ）を窒素気流下中、０℃で加えたのち、室温まで昇温し、３時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて塩化メチレン溶液で抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後、硫酸マグネシウムを加え乾燥後、ろ過し、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、（Ｉ−１０）７４０ｍｇを得た。
【０２４２】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．５３（ｄ，２Ｈ），７．２３（ｄ，２Ｈ），７．０７（ｄ，２Ｈ），６．９０（ｄ，２Ｈ），６．３９（ｄ，２Ｈ），６．１１（ｄｄ，２Ｈ），５．８１（ｄ，４Ｈ），４．１５（ｔ，２Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），３．４８（ｔ，２Ｈ），３．２４−３．２７（ｍ，１Ｈ），２．４５−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１３−２．１８（ｍ，２Ｈ），１．９２−１．９５（ｍ，２Ｈ），１．２−１．８（ｍ，４０Ｈ）
【０２４３】
＜液晶化合物（Ｉ−１１）＞
下記に記載の合成法に従い、液晶化合物（Ｉ−１１）を合成した。
【０２４４】
【化２９】
2020042305.tif 000030
【０２４５】
（Ｉ−１１−ａ）の合成：
（Ｉ−８−ａ）（７．２０ｇ、３０．５ｍｍｏｌ）とＤＭＦ（３５ｍＬ）を混合し、水素化ナトリウム（油性：含有量５０％、３．６ｇ、９１．４ｍｍｏｌ）を加え、窒素気流下中、泡の発生がなくなるまで撹拌した。その後、２−（１１−ブロモウンデコキシ）オキサン（１９．３ｇ，５４．５ｍｍｏｌ）を加えて６時間加熱撹拌した。室温まで冷却したのち、水（１００ｍＬ）を加え、酢酸エチルを用いて抽出をおこなった。３回繰り返したのち、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムを加えて乾燥を行い、ろ過後減圧で濃縮をおこなった。得られえた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、（Ｉ−１１−ａ）１２．４ｇを得た。
【０２４６】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．１２（ｄ，２Ｈ），６．９７（ｄ，２Ｈ），５．１５（ｓ，２Ｈ），４．５６−４．５８（ｍ，１Ｈ），３．８５−３．９（ｍ，１Ｈ），３．７−３．７５（ｍ，１Ｈ），３．４１−３．５２（ｍ，６Ｈ），３．３５−３．３９（ｍ，１Ｈ），３．２２−３．３５（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１−２．２（ｍ，２Ｈ），１．８−１．９３（ｍ，３Ｈ），１．６８−１．７５（ｍ，１Ｈ），１．２−１．６（ｍ，２９Ｈ）
【０２４７】
（Ｉ−１１−ｂ）の合成：
窒素気流下、（Ｉ−１１−ａ）（１８．６ｇ、３７．９ｍｍｏｌ）、ＰＰＴＳ（１．０ｇ、３．８ｍｍｏｌ）をエタノール（２００ｍＬ）と混合し、４０℃で撹拌した。溶媒を減圧蒸留したのち、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン：酢酸エチル）を用いて精製し、（Ｉ−１１−ｂ）１０．５ｇを得た。
【０２４８】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．１２（ｄ，２Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ），５．１５（ｓ，２Ｈ），３．６５（ｔ，２Ｈ），３．４８（ｔ，３Ｈ），３．２３−３．２８（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１−２．２（ｍ，２Ｈ），１．８９−１．９３（ｍ，２Ｈ），１．２−１．６（ｍ，１９Ｈ）
【０２４９】
（Ｉ−１１−ｃ）の合成：
窒素気流下、（Ｉ−１１−ｂ）（１．２ｇ，３．０ｍｍｏｌ）とＴＨＦ（１２ｍＬ）を混合し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（０．５６ｍＬ，４．５ｍｍｏｌ）を加え、氷冷しながら塩化アクリロイル（０．２９ｍＬ，３．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応溶液を２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（２．３ｍＬ）と氷水（１０ｍＬ）を混合した溶液に加えｐＨを１としたのち、酢酸エチルで３回抽出を行った。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、ろ過後、減圧下で濃縮することにより（Ｉ−１１−ｃ）１．３６ｇを得た。
【０２５０】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．１２（ｄ，２Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ），６．３９（ｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），５．８１（ｄ，１Ｈ），５．１５（ｓ，２Ｈ），４．１２（ｔ，２Ｈ），３．４６（ｔ，２Ｈ），３．２３−３．２８（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．１−２．２（ｍ，２Ｈ），１．８９−１．９３（ｍ，２Ｈ），１．２−１．６（ｍ，１９Ｈ）
【０２５１】
（Ｉ−１１−ｄ）の合成：
（Ｉ−１１−ｃ）（０．０５ｇ，０．１１ｍｍｏｌ）をメタノール（１ｍＬ）と混合し、氷冷後、クロロトリメチルシラン（１９μＬ，０．１１ｍｍｏｌ）を加えて室温で４時間撹拌した。減圧濃縮したのち、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）により精製することにより、（Ｉ−１１−ｄ）３５ｍｇを得た。
【０２５２】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．０８（ｄ，２Ｈ），６．７７（ｄ，２Ｈ），６．３９（ｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），５．８１（ｄ，１Ｈ），４．８（ｓ，１Ｈ），４．１５（ｔ，２Ｈ），３．４８（ｔ，２Ｈ），３．２２−３．３（ｍ，１Ｈ），２．４−２．４７（ｍ，１Ｈ），２．１−２．２（ｍ，２Ｈ），１．８９−１．９３（ｍ，２Ｈ），１．２−１．６（ｍ，１９Ｈ）
【０２５３】
（Ｉ−１１）の合成：
（Ｉ−１１−ｄ）（３．５５ｇ，８．５ｍｍｏｌ）、（Ｉ−１−ｄ）（３．０５ｇ，７．７ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（１８８ｍｇ，１．５４ｍｍｏｌ）、を塩化メチレン（５０ｍＬ）と混合し、ＥＤＣ（１．７７ｇ，９．２４ｍｍｏｌ）を０℃で加え、室温で４時間撹拌した。反応溶液に炭酸水素ナトリウムの飽和溶液を加えたのち、塩化メチレンで抽出をおこない、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて乾燥後、ろ過濃縮を行った。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、（Ｉ−１１）１．６０ｇを得た。
【０２５４】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．５４（ｄ，２Ｈ），７．２２（ｄ，２Ｈ），７．０９（ｄ，２Ｈ），６．８８（ｄ，２Ｈ），６．３９（ｄ，２Ｈ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ），５．８１（ｄ，１Ｈ），４．１５（ｔ，４Ｈ），３．９８（ｔ，２Ｈ），３．４８（ｔ，２Ｈ），３．２２−３．３（ｍ，１Ｈ），２．４−２．４７（ｍ，１Ｈ），２．１−２．２（ｍ，２Ｈ），１．８９−１．９３（ｍ，２Ｈ），１．７５−１．８１（ｍ，２Ｈ），１．２−１．６（ｍ，３８Ｈ）
【０２５５】
＜液晶化合物（Ｉ−１２）＞
下記に記載の合成法に従い、液晶化合物（Ｉ−１２）を合成した。
【０２５６】
【化３０】
2020042305.tif 000031
【０２５７】
（１−１２）の合成:
（Ｉ−１−ｇ）（１．４４ｇ，３．０ｍｍｏｌ）、（Ｉ−７−ｂ）（１．２６ｇ，３．３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（８０ｍｇ，０．６０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（３０ｍＬ）と混合し、ＥＤＣ（６３２ｍｇ，３．３ｍｍｏｌ）を０℃で加え、室温で１７時間撹拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えたのち、塩化メチレンで抽出をおこない、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて乾燥後、ろ過濃縮を行った。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／塩化メチレン／酢酸エチル）で精製し、（Ｉ−１２）１．２６ｇを得た。
【０２５８】
ＮＭＲによる構造確認をおこなった。結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ７．５５（ｄ，２Ｈ），７．１９（ｄ，２Ｈ），７．１１（ｄ，２Ｈ），６．８９（ｄ，２Ｈ），６．３９（ｄｄ，２Ｈ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ），５．８１（ｄｄ，２Ｈ），４．１５（ｔ，４Ｈ），３．９９（ｔ，２Ｈ），３．４６（ｔ，２Ｈ），３．２１−３．２９（ｍ，１Ｈ），２．４９−２．５７（ｍ，１Ｈ），２．１５（ｍ４Ｈ），１．７９（ｍ，２Ｈ），１．５２−１．７２（ｍ，１２Ｈ），１．２４−１．４９（ｍ，４０Ｈ）
【０２５９】
上記で合成した液晶化合物、ならびに下記実施例または比較例で使用した色素の化学構造式を以下に示す。なお、式中、Ｃ１１Ｈ２２は、メチレン鎖が直鎖状に１１個結合していることを意味し、Ｃ９Ｈ１８は、メチレン鎖が直鎖状に９個結合していることを意味し、Ｃ１２Ｈ２４は、メチレン鎖が直鎖状に１２個結合していることを意味する。
【０２６０】
【化３１】
2020042305.tif 000032
【０２６１】
【化３２】
2020042305.tif 000033
【０２６２】
【化３３】
2020042305.tif 000034
【０２６３】
【化３４】
2020042305.tif 000035
【０２６４】
【化３５】
2020042305.tif 000036
【０２６５】
【化３６】
2020042305.tif 000037
【０２６６】
【化３７】
2020042305.tif 000038
【０２６７】
【化３８】
2020042305.tif 000039
【０２６８】
【化３９】
2020042305.tif 000040
【０２６９】
【化４０】
2020042305.tif 000041
【０２７０】
【化４１】
2020042305.tif 000042
【０２７１】
【化４２】
2020042305.tif 000043
【０２７２】
【化４３】
2020042305.tif 000044
【０２７３】
【化４４】
2020042305.tif 000045
【０２７４】
液晶化合物（Ｉ−１）〜液晶化合物（Ｉ−１２）について、等方相出現温度（液晶から液体への相転移温度および液体から液晶への相転移温度）を示差走査熱量測定により求めた。示差走査熱量測定は、サンプル量は０．５ｍｇ〜１０ｍｇ、アルミパンを使用し、昇温過程および冷却過程は５℃／分または１０℃／分とし、−５０℃から任意の温度までの加熱と冷却を３回繰り返し測定し、３回目の測定値を相転移温度とした。
なお、示差走査熱量測定には、液晶化合物（Ｉ−１）〜液晶化合物（Ｉ−８）および（Ｉ−１２）については、液晶化合物１００重量部に対して、重合禁止剤として４−メトキシフェノールを０．２重量部添加したものを用いた。液晶化合物（Ｉ−９）については、後述の異方性色素膜形成用組成物１１を用いた。液晶化合物（Ｉ−１０）については、後述の異方性色素膜形成用組成物１２を用いた。液晶化合物（Ｉ−１１）については後述の異方性色素膜形成用組成物１３を用いた。
その結果を、表１に示す。
なお、この温度が等方相出現温度であることは、偏光顕微鏡観察およびＸ線構造解析により確認した。
【０２７５】
【表１】
2020042305.tif 000046
【０２７６】
前記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物である、液晶化合物（Ｉ−１）、液晶化合物（Ｉ−２）、液晶化合物（Ｉ−７）、液晶化合物（Ｉ−８）、液晶化合物（Ｉ−９）、液晶化合物（Ｉ−１０）、液晶化合物（Ｉ−１１）および液晶化合物（Ｉ−１２）は、前記式（１）で表される部分構造を有さない液晶化合物である、液晶化合物（Ｉ−３）、液晶化合物（Ｉ−４）、および液晶化合物（Ｉ−５）と比べて、等方相出現温度が低く、プロセスの取り扱いやすさ、エネルギー消費の観点、等方相へ加熱する再配向プロセスや、基材の選定自由度に優れていることが明らかである。
【０２７７】
実施例１
クロロホルム７９．８０部に、液晶化合物（Ｉ−１）の２０．００部、式（ＩＩ−１）のアゾ色素（株式会社林原製）の０．１２部、式（ＩＩ−２）のアゾ色素（昭和化工株式会社製）の０．０８部を加え、撹拌して相溶させた後、溶媒を除去することにより、異方性色素膜形成用組成物１を得た。
得られた異方性色素膜形成用組成物１を用いて、上述の方法で二色比を決定するため、異方性色素膜１を作製し、異方性色素膜１の二色比を決定した。
その結果を、表２に示す。なお、異方性色素膜１の二色比は、４０．０℃、５７０ｎｍにおいて、４６．３４であった。
【０２７８】
実施例２
液晶化合物（Ｉ−１）に代えて、液晶化合物（Ｉ−２）を用いたほかは実施例１と同様にして、異方性色素膜形成用組成物２および異方性色素膜２を得た。異方性色素膜２について、異方性色素膜２の二色比を決定した。
その結果を、表２に示す。
【０２７９】
実施例３
液晶化合物（Ｉ−１）に代えて、液晶化合物（Ｉ−７）を用いたほかは実施例１と同様にして、異方性色素膜形成用組成物９および異方性色素膜９を得た。異方性色素膜９について、異方性色素膜９の二色比を決定した。
その結果を、表２に示す。
【０２８０】
実施例４
液晶化合物（Ｉ−１）に代えて、液晶化合物（Ｉ−８）を用いたほかは実施例１と同様にして、異方性色素膜形成用組成物１０および異方性色素膜１０を得た。異方性色素膜１０について、異方性色素膜１０の二色比を決定した。
その結果を、表２に示す。
【０２８１】
実施例５
クロロホルム７９．８０部に、液晶化合物（Ｉ−１）の８．００部、液晶化合物（Ｉ−９）の１２．００部、式（ＩＩ−１）のアゾ色素（株式会社林原製）の０．１２部、式（ＩＩ−２）のアゾ色素（昭和化工株式会社製）の０．０８部を加え、撹拌して相溶させた後、溶媒を除去することにより、異方性色素膜形成用組成物１１を得た。
得られた異方性色素膜形成用組成物１１を用いて、上述の方法で二色比を決定するため、異方性色素膜１１を作製し、異方性色素膜１１の二色比を決定した。
その結果を、表２に示す。
【０２８２】
実施例６
液晶化合物（Ｉ−９）に代えて、液晶化合物（Ｉ−１０）を用いたほかは実施例５と同様にして、異方性色素膜形成用組成物１２および異方性色素膜１２を得た。異方性色素膜１２について、異方性色素膜１２の二色比を決定した。
その結果を、表２に示す。
【０２８３】
実施例７
液晶化合物（Ｉ−９）に代えて、液晶化合物（Ｉ−１１）を用いたほかは実施例５と同様にして、異方性色素膜形成用組成物１３および異方性色素膜１３を得た。異方性色素膜１３について、異方性色素膜１３の二色比を決定した。
その結果を、表２に示す。
【０２８４】
比較例１
液晶化合物（Ｉ−１）に代えて、液晶化合物（Ｉ−３）を用いたほかは実施例１と同様にして、異方性色素膜形成用組成物３および異方性色素膜３を得た。異方性色素膜３について、異方性色素膜３の二色比を決定した。
その結果を、表２に示す。
【０２８５】
比較例２
液晶化合物（Ｉ−１）に代えて、液晶化合物（Ｉ−４）を用いたほかは実施例１と同様にして、異方性色素膜形成用組成物４および異方性色素膜４を得た。異方性色素膜４について、異方性色素膜４の二色比を決定した。
その結果を、表２に示す。
【０２８６】
比較例３
液晶化合物（Ｉ−１）に代えて、液晶化合物（Ｉ−５）を用いたほかは実施例１と同様にして、異方性色素膜形成用組成物５および異方性色素膜５を得た。異方性色素膜５について、異方性色素膜５の二色比を決定した。
その結果を、表２に示す。
【０２８７】
参考例１
液晶化合物（Ｉ−１）に代えて、液晶化合物（Ｉ−６）を用いたほかは実施例１と同様にして、異方性色素膜形成用組成物８および異方性色素膜８を得た。異方性色素膜８について、異方性色素膜８の二色比を決定した。
その結果を、表２に示す。
【０２８８】
【表２】
2020042305.tif 000047
【０２８９】
実施例８
シクロペンタノンの６９．９９部に、液晶化合物（Ｉ−１）の２８．５７部、式（ＩＩ−１）のアゾ色素の０．４３部、式（ＩＩ−２）のアゾ色素の０．２９部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）３６９（ＢＡＳＦ社製品）の０．２９部、ＢＹＫ−３６１Ｎ（ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）の０．４３部を加え、８０℃で加熱撹拌後、シリンジフィルター（Ｍｅｍｂｒａｎｅ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ社製、ＰＴＦＥ１３０４５、口径０．４５μｍ）を備えたシリンジを用いて濾過することで異方性色素膜用組成物６を得た。
異方性色素膜用組成物６をスピンコート法により、ガラス上にポリイミドの配向膜（ＬＸ１４００、日立化成デュポンマイクロシステムズ社製、ラビング法で配向膜を作製）が形成された基板に成膜し、１２０℃で２分間加熱乾燥した後、液晶相まで冷却し露光量５００ｍｊ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）で重合し異方性色素膜６を得た。得られた異方性色素膜６を市販の偏光板の上にかざし回転させると明暗し、偏光膜として利用しうる良好な性能を示すことが確認できた。
【０２９０】
実施例９
用いた基板を、ポリイミドフィルム（膜厚１００μｍ）上にポリイミドの配向膜（ＬＸ１４００、日立化成デュポンマイクロシステムズ社製、ラビング法で配向膜を作製）が形成された基板を用いたほかは実施例８と同様にして、異方性色素膜用組成物６から異方性色素膜７を得た。得られた異方性色素膜７を市販の偏光板の上にかざし回転させると明暗し、偏光膜として利用しうる良好な性能を示すことが確認できた。
【０２９１】
上記より、前記式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物である、液晶化合物（Ｉ−１）または液晶化合物（Ｉ−２）を用いて作成した膜は、偏光膜として十分に機能しうることが明らかとなった。
【産業上の利用可能性】
【０２９２】
本発明の異方性色素膜形成用組成物は、優れた光学性能、特に十分な二色比を維持したまま、低い等方相出現温度を実現できる。
本発明の異方性色素膜は、本発明の異方性色素膜形成用組成物を用いて形成されるため、優れた光学性能、特に十分な二色比を維持でき、より低い温度で形成することが可能である。
本発明の光学素子は、本発明の異方性色素膜を含むため、優れた光学性能、特に十分な二色比を維持でき、より低い温度で形成することが可能な異方性色素膜を含むことができる。
【０２９３】
本発明の別の態様は以下である。
［１］  色素および液晶化合物を含有する異方性色素膜形成用組成物であって、
前記液晶化合物は、式（１）で表される部分構造を有する液晶化合物を含む異方性色素膜形成用組成物。
−Ｃｙ−Ｘ２−Ｃ≡Ｃ−Ｘ−    ・・・（１）
（式中、
Ｃｙは、炭化水素環基または複素環基を表し；
−Ｘ−は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−を表し；
−Ｘ２−は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−を表す。）
［２］  −Ｘ−が、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−である、［１］に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［３］  Ｃｙが、炭化水素環基であり、−Ｘ２−が、単結合である、［１］または［２］に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［４］  前記液晶化合物が、式（２）で表される液晶化合物である、［１］〜［３］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
Ｒ１−Ａ１−Ｙ１−Ａ２−Ｙ２−Ａ３−Ｒ２    ・・・（２）
（式中、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、鎖状有機基を表し；
Ａ１およびＡ３は、それぞれ独立に、前記式（１）で表される部分構造、２価有機基、または単結合を表し；
Ａ２は、前記式（１）で表される部分構造または２価有機基を表し；
−Ｙ１−および−Ｙ２−は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−を表し；
Ａ１およびＡ３の一方は、前記式（１）で表される部分構造または２価有機基であり；  Ａ１、Ａ２、およびＡ３のうち、少なくとも一つは、前記式（１）で表される部分構造である。）
［５］  Ａ１、Ａ２、およびＡ３のうち、一つが、前記式（１）で表される部分構造であり、Ｃｙが炭化水素環基であり、−Ｘ２−が単結合であり；それ以外の二つが、それぞれ独立に、２価有機基であり、前記２価有機基が炭化水素環基である、［４］に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［６］  前記炭化水素環基が、１，４−フェニレン基またはシクロヘキサン−１，４−ジイル基である、［５］に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［７］  −Ｙ１−および−Ｙ２−が、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−であり、−Ｘ−が、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−である、［４］〜［６］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［８］  Ｃｙが、１，４−フェニレン基である、［４］〜［７］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［９］  Ａ１およびＡ３の一方が、シクロヘキサン−１，４−ジイル基である、［４］〜［８］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［１０］  Ａ１およびＡ３の一方が、前記式（１）で表される部分構造であり、
他方が、シクロヘキサン−１，４−ジイル基である、［４］〜［９］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物。
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれか一項に記載の異方性色素膜形成用組成物を用いて形成された、異方性色素膜。
［１２］  ［１１］に記載の異方性色素膜を含む、光学素子。