(57)【要約】【課題】配向膜などが剥がれたことによって生じた異物の表示領域への拡散を適切に防止すること。【解決手段】液晶表示装置は、第１基板５１と、第２基板５２と、第１基板５１と、第２基板５２との間に注入された液晶層とを含む液晶表示装置であって、第１基板５１と、第２基板５２のいずれか一方に、第１基板５１と、第２基板５２との間の距離を規定する第１柱状スペーサ１１と、第１柱状スペーサ１１を囲うように第１柱状スペーサ１１と一体的に形成され、かつ第１柱状スペーサよりも高さの低いリング状スペーサ１２と、を備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、第２基板と、前記第１基板と、前記第２基板との間に注入された液晶層とを含む液晶表示装置であって、
前記第１基板と、前記第２基板のいずれか一方に、
前記第１基板と、前記第２基板との間の距離を規定する第１柱状スペーサと、
前記第１柱状スペーサを囲うように前記第１柱状スペーサと一体的に形成され、かつ前記第１柱状スペーサよりも高さの低いリング状スペーサと、を備える、
液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１柱状スペーサと、前記リング状スペーサとは、単一の部材によって形成されている、
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１柱状スペーサは、配向膜と対向している、
請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１柱状スペーサと対向する部分は、平面形状である、
請求項１から３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１柱状スペーサの頂点と、前記リング状スペーサの頂点との差は、前記第１柱状スペーサと、前記リング状スペーサとの間に存在する異物の大きさに応じて規定される、
請求項１から４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記リング状スペーサの頂点から、前記第１柱状スペーサと、前記リング状スペーサとの間の溝部の底まで深さは、前記第１柱状スペーサと、前記リング状スペーサとの間に存在する異物の大きさに応じて規定される、
請求項１から５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１柱状スペーサよりも高さの低い第２柱状スペーサをさらに備え、
前記リング状スペーサは、前記第１柱状スペーサの周囲にのみ形成されている、
請求項１から６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第１柱状スペーサと、前記リング状スペーサとの間に対向する領域および前記リング状スペーサの外部領域の近傍に対向する領域の少なくとも一方にリング状の凸部をさらに備える、
請求項１から７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＴＦＴ（Thin  Film  Transistor）基板と、カラーフィルタ基板との間の間隔が柱状スペーサ(ＳＰ)によって規定されている場合、柱状スペーサと擦れるなどして剥がれた配向膜やその他の膜が、液晶中を異物となって浮遊する問題が知られている。このような異物は、液晶中の微輝点の原因となるため、異物の発生を抑制することが求められている。
【０００３】
特許文献１は、配向膜などが削れたことによって生じた異物が表示領域に拡散することを抑制する液晶表示装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０―２３７５０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１は、柱状のスペーサを囲むように堰を形成し、スペーサと、堰との間の領域に異物を閉じ込めることによって、異物が外部領域に拡散することを防止している。しかしながら、スペーサの位置と、堰の位置とは、各基板の貼り合わせや、パターンの寸法公差によって変化する。この場合、特許文献１には、寸法公差のずれによっては、スペーサと、堰とが接触してしまい、異物の外部領域への拡散を適切に防止することができない可能性がある。
【０００６】
そこで、本発明は、配向膜などが剥がれたことによって生じた異物の表示領域への拡散を適切に防止することのできる液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の液晶表示装置は、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と、前記第２基板との間に注入された液晶層とを含む液晶表示装置であって、前記第１基板と、前記第２基板のいずれか一方に、前記第１基板と、前記第２基板との間の距離を規定する第１柱状スペーサと、前記第１柱状スペーサを囲うように前記第１柱状スペーサと一体的に形成され、かつ前記第１柱状スペーサよりも高さの低いリング状スペーサと、を備える。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、異物の表示領域への拡散を適切に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、本実施形態に係る液晶表示装置の詳細構成を示す斜視模式図である。
【図２】図２は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの画素の配列の一例を示す図である。
【図３】図３は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置のメイン柱状スペーサを示す模式図である。
【図４】図４は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置のメイン柱状スペーサを示す斜視図である。
【図５】図５は、メイン柱状スペーサを作成するためのフォトマスクの一例を説明するための図である。
【図６】図６は、メイン柱状スペーサを作成するためのフォトマスクの寸法の一例を示す表である。
【図７】図７は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置のメイン柱状スペーサの寸法を説明するための図である。
【図８】図８は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置のサブ柱状スペーサを示す図である。
【図９】図９は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の変形例を示す図である。
【図１０】図１０は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に図面を参照して、本発明に係る実施形態を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではなく、また、実施形態が複数ある場合には、各実施形態を組み合わせて構成するものも含む。
【００１１】
図１は、本実施形態に係る表示装置の詳細構成を示す斜視模式図である。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸は、それぞれ互いに直交する。本開示において、Ｘ軸方向は「第１方向」に相当し、Ｙ軸方向は「第２方向」に相当し、Ｚ軸方向は「第３方向」に相当する。また、本開示において、Ｘ軸及びＹ軸を含むＸＹ平面をＺ軸方向から見るＸＹ平面視は「平面視」に相当する。
【００１２】
図１に示す例において、液晶表示装置１００は、Ｘ軸方向（第１方向）に延びる二辺と、Ｙ軸方向（第２方向）に延びる二辺と、を有する。液晶表示装置１００は、表示パネル５と、表示パネル５を照明するバックライト（照明装置）６と、を含み、表示パネル５とバックライト６とがＺ軸方向（第３方向）に積層されている。
【００１３】
なお、液晶表示装置１００は、ＸＹ平面視で矩形状であっても良い。本実施形態において、矩形とは、角丸の長方形を含む。つまり、四隅において、各辺が直交せずに、曲線である形状の四角を含む。例えば、ＸＹ平面視で長方形であっても良いし、角部の少なくとも１つが曲率を有していても良い。さらにあるいは、液晶表示装置１００は、ＸＹ平面視で矩形状以外の形状を有していてもよい。
【００１４】
表示パネル５は、ＸＹ平面に平行に設けられた表示領域と、表示領域の外周に設けられた周辺領域と、を有する。表示領域は、Ｚ軸方向（第３方向）から観察者より表示が確認できる。
【００１５】
バックライト６は、表示パネル５の背面から、少なくとも表示領域に対して光を照射する。
【００１６】
バックライト６は、ＸＹ平面視で表示領域に対応する位置に設けられた導光板（図示せず）に対して、Ｘ軸方向（第１方向）及びＹ軸方向（第２方向）の一方端又は両端に並ぶ複数の光源（例えば、白色光を発する発光ダイオード（ＬＥＤ：Light  Emitting  Diode））を有する、所謂サイドライト型のバックライトであっても良い。また、バックライト６は、ＸＹ平面視で表示領域の直下に設けられた光源（例えば、白色光を発するＬＥＤ）を有する、所謂直下型のバックライトであっても良い。なお、バックライト６の光源への電力供給及び制御信号は、表示パネル５から供給される。
【００１７】
バックライト６と表示パネル５とは、例えば、接着テープを介して貼り合わされる。接着テープとしては、例えば、透光性の両面粘着シート（ＯＣＡ：Optical  Clear  Adhesive）であることが好ましい。
【００１８】
図１に示すように、表示パネル５は、ＴＦＴ基板５１と、ＴＦＴ基板５１に対向配置されるカラーフィルタ基板５２と、第１偏光板５３と、第２偏光板５５と、ドライバＩＣ５９と、ＦＰＣ（Flexible  Printed  Circuit）基板９と、を備える。
【００１９】
図１に示す例において、表示パネル５は、バックライト６側から、第２偏光板５５、ＴＦＴ基板５１、カラーフィルタ基板５２、第１偏光板５３の順で、Ｚ軸方向（第３方向）に積層されている。本開示において、ＴＦＴ基板５１は「第１基板」に相当し、カラーフィルタ基板５２は「第２基板」に相当する。
【００２０】
カラーフィルタ基板５２及びＴＦＴ基板５１は、透光性を有するガラスなどの基体である。ＴＦＴ基板５１は、基体上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin  Film  Transistor）素子が形成されている。カラーフィルタ基板５２には、カラーフィルタ、遮光層などが設けられている。ＴＦＴ基板５１と、カラーフィルタ基板５２との間には、液晶層が注入されている。
【００２１】
ＴＦＴ基板５１は、カラーフィルタ基板５２より、ＸＹ平面視で面積が大きい。Ｘ軸方向（第１方向）に延びるＴＦＴ基板５１の一辺がカラーフィルタ基板５２に対して張り出した状態で、ＴＦＴ基板５１とカラーフィルタ基板５２とが貼り合わされる。ＴＦＴ基板５１には、マトリクス状に配設された複数の画素電極と、この画素電極と絶縁して形成された共通電極とを有する。ＴＦＴ基板５１には、ＴＦＴ素子を介して、画素電極に画素信号を供給する画素信号線、各ＴＦＴ素子を駆動する走査信号線等の配線が形成される。なお、共通電極がＴＦＴ基板５１になくて、共通電極がカラーフィルタ基板５２に設けられても良い。
【００２２】
具体的に、図１に示す例では、ＴＦＴ基板５１のＸ軸方向（第１方向）の大きさと、カラーフィルタ基板５２のＸ軸方向（第１方向）の大きさとが等しく、ＴＦＴ基板５１のＹ軸方向（第２方向）の大きさが、カラーフィルタ基板５２のＸ軸方向（第１方向）の大きさよりも大きい。
【００２３】
また、図１に示すように、ＴＦＴ基板５１のＸ軸方向（第１方向）の両端の二辺と、カラーフィルタ基板５２のＸ軸方向（第１方向）の両端の二辺とがそれぞれ重なり、ＴＦＴ基板５１のＹ軸方向（第２方向）の一方端の一辺と、カラーフィルタ基板５２のＹ軸方向（第２方向）の一方端の一辺とが重なる。そしてＴＦＴ基板５１のＹ軸方向（第２方向）の他方端の一辺と、カラーフィルタ基板５２のＹ軸方向（第２方向）の他方端の一辺とがずれて貼り合わされる。
【００２４】
ＸＹ平面視において、カラーフィルタ基板５２から張り出したＴＦＴ基板５１の張り出し部５１ａを除く領域では、ＴＦＴ基板５１とカラーフィルタ基板５２とがＺ軸方向（第３方向）に重なる。これにより、表示パネル５のＸＹ平面視における外周端の端面は、ＴＦＴ基板５１の外周端の端面とＸＹ平面視で一致する。
【００２５】
図２を用いて、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの画素の配列の一例について説明する。図２は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの画素の配列の一例を示す図である。
【００２６】
図２に示すように、本実施形態の表示パネル５の表示領域では、横方向には、青画素６１Ｂと、赤画素６１Ｒと、緑画素６１Ｇとが、所定の間隔で順に配置されている。また、縦方向には同一色の画素が所定の間隔で配置されている。
【００２７】
本実施形態では、縦方向における画素間のブラックマトリックス６０上には、メイン柱状スペーサ１０と、サブ柱状スペーサ７０とが配置されている。具体的には後述するが、メイン柱状スペーサ１０は、ＴＦＴ基板５１と、カラーフィルタ基板５２との間の距離を規定する。サブ柱状スペーサ７０は、メイン柱状スペーサ１０よりも高さの低い柱状スペーサであり、メイン柱状スペーサ１０よりも多くの数が配置されている。
【００２８】
図２に示すメイン柱状スペーサ１０と、サブ柱状スペーサ７０とのレイアウト構成は例示であり、本発明を限定するものではない。メイン柱状スペーサ１０と、サブ柱状スペーサ７０とのレイアウト構成は、任意に変更することができる。具体的には、メイン柱状スペーサ１０は、リング状スペーサ１２を備えている分、径が大きいので、多数配置してしまうと液晶パネルの透過率が低下する。そのため、例えば、液晶パネルの透過率などを考慮してメイン柱状スペーサ１０の配置位置を決め、残りの位置にサブ柱状スペーサ７０を配置するようにすればよい。
【００２９】
図３を用いて、メイン柱状スペーサ１０について説明する。図３に示すように、本発明の実施形態に係る液晶表示装置のメイン柱状スペーサ１０は、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２とを含む。なお、図３では、本発明と直接的に関連の薄い構成要素については省略して記載している。
【００３０】
第１柱状スペーサ１１は、例えば、カラーフィルタ基板５２上に形成されており、ＴＦＴ基板５１と、カラーフィルタ基板５２との間の距離を規定する。図３に示すように、第１柱状スペーサ１１の頂点部は、ＴＦＴ基板５１上に形成されている配向膜４０に接触している。第１柱状スペーサ１１と接触している配向膜４０は、平面形状を有している。ここで、平面形状とは、ＴＦＴ基板５１が有する薄膜トランジスタなどに起因する凹凸形状も含むものとする。第１柱状スペーサ１１の接触部の構造が平面形状であるため、ＴＦＴ基板５１と、カラーフィルタ基板５２とを貼り合わせる際の製品ごとの変動は、小さくなる。これにより、本実施形態は、精度よくＴＦＴ基板５１と、カラーフィルタ基板５２とを貼り合わせることができるので、例えば、遮光面積も小さくすることができる。図３では、第１柱状スペーサ１１は、カラーフィルタ基板５２上に形成されているが、これは例示であり、本発明を限定するものではない。第１柱状スペーサ１１は、例えば、ＴＦＴ基板５１側に形成してもよい。すなわち、本実施形態では、第１柱状スペーサ１１は、ＴＦＴ基板５１と、カラーフィルタ基板５２のどちらに形成してもよい。
【００３１】
リング状スペーサ１２は、第１柱状スペーサ１１の周囲を囲うように、第１柱状スペーサ１１と一体的に形成され、かつ第１柱状スペーサ１１よりも高さの低いリング状のスペーサである。図３では明らかでないが、図４に示すように、リング状スペーサ１２は、第１柱状スペーサ１１の周囲を囲うように形成されている。
【００３２】
第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２との間の領域には、溝部１３が形成されている。このため、第１柱状スペーサ１１と、配向膜４０との接触部分から発生した、配向膜４０の削りかすなどの異物は、溝部１３の領域Ａに溜め込まれる。すなわち、本実施形態は、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２との間の溝部１３の領域Ａに異物を溜め込むことによって、異物が表示領域に拡散してしまうことを防止する。本実施形態において、異物は、例えば、１〜１０μｍ程度を想定しているが、これに限定されない。
【００３３】
図５と、図６とを用いて、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２とを一体的に形成する方法について説明する。図５は、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２とを一体的に形成するためのフォトマスクパターンの一例を示す図である。図６は、フォトマスクパターンの寸法の一例を示す表である。
【００３４】
図５は、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２とを一体的に形成するためのフォトマスクパターンの一例を示している。図５に示すように、フォトマスクパターン９０は、第１領域９１と、第２領域９２と、第３領域９３とを有している。
【００３５】
第１領域９１は、第１柱状スペーサ１１を形成するために使用する領域である。このため、第１領域９１は、フォトマスクパターン９０において、最も高い透過率を有する領域である。第１領域９１の幅ｄ１は、図６に示すように、例えば、１０〜１６μｍである。特に、第１領域９１の幅ｄ１は、１３μｍであることが最適である。なお、図６に示す寸法は例示であり、本発明を限定するものではない。
【００３６】
第２領域９２は、溝部１３を形成するために使用する領域である。このため、第２領域９２は、フォトマスクパターン９０において、最も低い透過率を有する領域である。第２領域９２の一端から他端までの距離ｄ２は、図６に示すように、例えば、１８〜２８μｍである。特に、第２領域９２の一端から他端までの距離ｄ２は、２３μｍであることが最適である。なお、図６に示す寸法は例示であり、本発明を限定するものではない。
【００３７】
第３領域９３は、リング状スペーサ１２を形成するために使用する領域であり、ハーフトーンマスクからなる。このため、第３領域９３は、フォトマスクパターン９０において、第１領域９１と、第２領域９２との間の透過率を有する。第３領域９３の一端から他端までの距離ｄ３は、図６に示すように、例えば、２８〜３８μｍである。特に、第３領域９３の一端から他端までの距離ｄ３は、３３μｍであることが最適である。なお、図６に示す寸法は例示であり、本発明を限定するものではない。
【００３８】
本実施形態では、フォトレジストに対し、第１柱状スペーサ１１に対応する部分を第１領域９１で露光し、溝部１３に対応する部分を第２領域９２で露光し、リング状スペーサ１２に対応する部分を第３領域９３で露光して現像する。そして、不要なフォトレジストを除去することによって第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２とを一体的に形成することができる。すなわち、本実施形態では、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２とは、単一の部材から構成されている。
【００３９】
図７を用いて、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサと１２との寸法について説明する。図７は、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２との寸法の一例を説明するための模式図である。
【００４０】
第１柱状スペーサ１１の高さＬ１は、例えば、２．４〜２．８μｍ程度に形成される。リング状スペーサ１２の高さＬ２は、例えば、２．２〜２．５μｍ程度に形成される。リング状スペーサ１２から溝部１３までの深さＬ３は、例えば、０．２〜２．５μｍ程度に形成される。第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２との段差Ｌ４は、例えば、０．２〜０．６μｍ程度に形成される。なお、これら各部の寸法は例示であり、本発明を限定するものではない。具体的には、各部の寸法は、上述した値よりも大きくしてもよいし、小さくしてもよい。
【００４１】
メイン柱状スペーサ１０は、第１柱状スペーサ１１の周囲に、例えば、０．２〜０．６μｍ程度高さの低いリング状スペーサ１２が形成された形状を有している。ここで、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２とは一体的に形成されているため、第１柱状スペーサ１１の位置は、リング状スペーサ１２との関係では、常に一定である。このため、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２との接触の可能性を小さくすることができる。また、本実施形態では、第１柱状スペーサ１１と対向する部分は平坦形状なので、ＴＦＴ基板５１と、カラーフィルタ基板５２との貼り合わせのズレに起因するセルギャップの変動が防止される。
【００４２】
メイン柱状スペーサ１０において、リング状スペーサ１２は、ハーフトーンマスクで作成される。このため、本実施形態は、ハーフトーンマスクの露光率を調整することによってリング状スペーサ１２の高さを自由に変更することができる。すなわち、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２との段差Ｌ４を自由に設定することができる。これにより、本実施形態は、例えば、異物の大きさに応じて、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２との段差Ｌ４を最適に設定することが可能となる。
【００４３】
上述したように、メイン柱状スペーサ１０において、リング状スペーサ１２は、ハーフトーンマスクで作成される。このため、本実施形態は、ハーフトーンマスクの露光率を調整することによってリング状スペーサ１２の上部から溝部１３の底までの深さＬ３を自由に変更することができる。これにより、本実施形態は、例えば、異物の大きさに応じて、リング状スペーサ１２から溝部１３までの深さＬ３を最適に設定することが可能となる。
【００４４】
また、本実施形態のメイン柱状スペーサ１０は、既存の設備を用いて作成することができる。そのため、本実施形態は、コストの観点からも有利となる。
【００４５】
また、本実施形態では、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２とには段差が設けられている。このため、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２との段差を広く設定した場合、ＴＦＴ基板５１の部品との接触の可能性が小さくなるので、ＴＦＴ基板５１の画素電極などのパターンをメイン柱状スペーサ１０に近づけて配置することができるようになる。これにより、本実施形態では、製品の設計の自由度を向上させることができる。
【００４６】
次に、図８を用いて、サブ柱状スペーサ７０について説明する。図８は、サブ柱状スペーサ７０を示す模式図である。
【００４７】
図８に示すように、サブ柱状スペーサ７０は、メイン柱状スペーサ１０の第１柱状スペーサ１１よりも高さの低い第２柱状スペーサ７１を備える。具体的には、第２柱状スペーサ７１の高さは、第１柱状スペーサ１１よりも、０．３〜０．４μｍ程度低い。これにより、第２柱状スペーサ７１は、対向する基板に力がかかった際に、メイン柱状スペーサ１０の第１柱状スペーサ１１が潰れてしまうのを防止する。このような第２柱状スペーサ７１は、例えば、ハーフトーンマスクで形成することができる。すなわち、第２柱状スペーサ７１の高さは、ハーフトーンマスクの露光率を調整することによって、調整することができる。
【００４８】
サブ柱状スペーサ７０は、第２柱状スペーサ７１と一体的に形成された、リング状スペーサを備えていない。これは、第２柱状スペーサ７１の高さＬ５は、メイン柱状スペーサ１０の第１柱状スペーサ１１の高さＬ１よりも低いためである。具体的には、第２柱状スペーサ７１は、対抗する基板の配向膜４０に接触することがなく、配向膜を削るなどして異物を発生させることがないので、第２柱状スペーサ７１の周囲にリング状のスペーサを形成する必要がないためである。換言すれば、本実施形態は、配向膜を削って異物を生じさせる恐れのある柱状スペーサの周囲にのみに、リング状スペーサが形成されている。
【００４９】
ここで、サブ柱状スペーサ７０の高さは、リング状スペーサ１２の高さと同じであってもよいし、異なっていてもよい。サブ柱状スペーサ７０と、リング状スペーサ１２との高さの関係は、設計に応じて任意に変更してもよい。
【００５０】
上述のとおり、本実施形態は、第１柱状スペーサ１１と、第１柱状スペーサ１１を囲うように第１柱状スペーサ１１と一体的に形成されたリング状スペーサ１２とを備えている。これにより、本実施形態は、第１柱状スペーサ１１と、リング状スペーサ１２との間の溝部１３に異物を溜め込むことができるので、配向膜などが剥がれたことによって生じた異物の表示領域への拡散を適切に防止することができる。
【００５１】
また、本実施形態では、第１柱状スペーサ１１の頂点と、リング状スペーサ１２の頂点との段差を、異物の大きさに応じて適切に変更することができる。これにより、本実施形態は、配向膜などが剥がれたことによって生じた異物の表示領域への拡散をより適切に防止することができる。
【００５２】
また、本実施形態では、リング状スペーサ１２の頂点から溝部１３の底までの深さを、異物の大きさに応じて適切に変更することができる。これにより、本実施形態は、配向膜などが剥がれたことによって生じた異物の表示領域への拡散をより適切に防止することができる。
【００５３】
また、本実施形態では、ブラックマトリックス６０上に配置された柱状スペーサのうち、対向する基板の配向膜に達す柱状スペーサの周囲にのみ、リング状のスペーサが形成されている。これにより、本実施形態は、配向膜などが剥がれたことによって生じた異物の表示領域への拡散をより適切に防止することができる。
【００５４】
[変形例]
図９を用いて、本発明の実施形態の変形例について説明する。図９は、本発明の実施形態に係る変形例の構成を示す模式図である。
【００５５】
図９に示すように、実施形態の変形例は、メイン柱状スペーサ１０の溝部１３に対向する面に、リング状の凸部８０を備えている点で液晶表示装置１と異なっている。
【００５６】
図９に示す例では、溝部１３に溜め込まれた異物は、リング状の凸部８０によって移動が規制される。すなわち、図９に示す例では、リング状の凸部８０によって、溝部１３に溜め込まれた異物が、外部に拡散し難くなり、かつ外部に拡散するために必要な移動距離が長くなる。これにより、本実施形態の変形例は、配向膜４０などが剥がれたことによって生じた異物の表示領域への拡散をより適切に防止することができる。
【００５７】
図１０を用いて、本発明の実施形態の他の変形例について説明する。図１０は、本発明の実施形態に係る他の変形例の構成を示す模式図である。
【００５８】
図１０に示すように、実施形態の他の変形例は、リング状スペーサ１２の外周にリング状の凸部８０が設けられていてもよい。この場合であっても、リング状の凸部８０によって、溝部１３に溜め込まれた異物が、外部に拡散し難くなり、かつ外部に拡散するために必要な移動距離が長くなる。これにより、本実施形態の変形例は、配向膜４０などが剥がれたことによって生じた異物の表示領域への拡散をより適切に防止することができる。
【００５９】
上述した内容により実施形態が限定されるものではない。また、上述した実施形態の構成要素には、当業者が容易に想到できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、上述の実施形態の要旨を逸脱しない範囲で構成要素の種々の省略、置換及び変更を行うことができる。
【符号の説明】
【００６０】
５  表示パネル
６  バックライト（照明装置）
１０  メイン柱状スペーサ
１１  第１柱状スペーサ
１２  リング状スペーサ
１３  溝部
４０  配向膜
５１  ＴＦＴ基板（第１基板）
５２  カラーフィルタ基板（第２基板）
５３  第１偏光板
５５  第２偏光板
６０  ブラックマトリックス
６１Ｂ  青画素
６１Ｒ  赤画素
６１Ｇ  緑画素
７０  サブ柱状スペーサ
７１  第２柱状スペーサ
８０  凸部
９０  フォトマスクパターン
９１  第１領域
９２  第２領域
９３  第３領域
１００  液晶表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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