(57)【要約】【課題】蒸着が実施される真空チャンバを大気開放することなく蒸着材料の補充ができて生産性の良い真空蒸着装置用の蒸着源を提供する。【解決手段】真空チャンバ１内で被蒸着物Ｓｗに対して蒸着するための本発明の真空蒸着装置Ｄｍ１用の蒸着源ＤＳ１は、真空チャンバ内に存して昇華または気化した蒸着材料Ｍｖを被蒸着物に向けて放出する放出開口４２を有する放出手段４と、真空チャンバ外に存して蒸着材料を放出手段に供給する供給手段５とを備え、供給手段は、固体の蒸着材料Ｍｓを収容する第１収容箱５１，５２と、第１収容箱内を大気圧より高い圧力に加圧する加圧手段５４，５５と、蒸着材料を加熱する第１加熱手段５３とを有し、第１収容箱内の加圧下で加熱して蒸着材料を昇華、気化または液化させて、放出手段と供給手段とを連通する供給管６を介して放出手段に供給するように構成した。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバ内で被蒸着物に対して蒸着するための真空蒸着装置用の蒸着源において、
真空チャンバ内に存して昇華または気化した蒸着材料を被蒸着物に向けて放出する放出開口を有する放出手段と、真空チャンバ外に存して蒸着材料を放出手段に供給する供給手段とを備え、
供給手段は、固体の蒸着材料を収容する第１収容箱と、第１収容箱内を大気圧より高い圧力に加圧する加圧手段と、蒸着材料を加熱する第１加熱手段とを有し、第１収容箱内の加圧下で加熱して蒸着材料を昇華、気化または液化させて、放出手段と供給手段とを連通する供給管を介して放出手段に供給するように構成したことを特徴とする真空蒸着装置用の蒸着源。
【請求項２】
請求項１記載の真空蒸着装置用の蒸着源であって、前記蒸着材料が加熱時に液相を経て気相に転移するものにおいて、
前記放出手段は、固体の蒸着材料を収容可能な第２収容箱と、第２収容箱に連通し、前記放出開口を有する放出箱と、蒸着材料を加熱する第２加熱手段とを備え、
第２収容箱内で液化させた蒸着材料が前記供給管を介して第１収容箱に供給されるように構成したことを特徴とする真空蒸着装置用の蒸着源。
【請求項３】
前記第２収容箱内を所定圧力に調整する圧力調整弁を更に備えることを特徴とする請求項２記載の真空蒸着装置用の蒸着源。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空蒸着装置用の蒸着源に関し、より詳しくは、真空チャンバを大気開放することなく蒸着材料の補充ができるようにしたものに関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の蒸着源を備えた真空蒸着装置は例えば特許文献１で知られている。このものでは、被蒸着物を矩形のガラス基板（以下、「基板」という）とし、また、この基板の蒸着源に対する相対移動方向をＸ軸方向、Ｘ軸方向に直交する基板の幅方向をＹ軸方向として、蒸着源は、蒸着材料を収容する収容箱と、収容箱を囲うように設けられる加熱手段とを有し、収容箱の基板との対向面（上面）には、筒状の放出開口がＹ軸方向に間隔を存して列設されている（所謂ラインソース）。蒸着材料としては、液相を経て気相に転移する気化性の材料や、昇華性の材料が広く利用される。
【０００３】
真空チャンバ内でガラス基板に対して所定の薄膜を蒸着する場合には、真空チャンバを大気雰囲気とした状態で、収容箱にその底面から所定の高さ位置まで蒸着材料を充填し、その後に、真空チャンバを所定圧力まで真空排気する。そして、真空雰囲気の真空チャンバ内で、収容箱に収容された蒸着材料を加熱手段により加熱して昇華または気化させ、この昇華または気化した蒸着材料を各放出ノズルから放出させ、所定の余弦則に従い各放出開口から放出させる蒸着材料を、蒸着源に対してＸ軸方向に相対移動する基板表面に付着、堆積させて所定の薄膜が蒸着される。
【０００４】
ここで、収容箱に収容された蒸着材料を加熱により昇華または気化させると、これに伴って収容箱内の蒸着材料が減少するため、蒸着材料を補充する必要がある。上記従来例のものでは、真空チャンバを大気雰囲気とした状態でしか収容箱への蒸着材料の補充ができないため、蒸着材料の定期的な補充により著しく生産性が損なわれるという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１４−７７１９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、以上の点に鑑み、蒸着が実施される真空チャンバを大気開放することなく蒸着材料の補充ができて生産性の良い真空蒸着装置用の蒸着源を提供することをその課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、真空チャンバ内で被蒸着物に対して蒸着するための本発明の真空蒸着装置用の蒸着源は、真空チャンバ内に存して昇華または気化した蒸着材料を被蒸着物に向けて放出する放出開口を有する放出手段と、真空チャンバ外に存して蒸着材料を放出手段に供給する供給手段とを備え、供給手段は、固体の蒸着材料を収容する第１収容箱と、第１収容箱内を大気圧より高い圧力に加圧する加圧手段と、蒸着材料を加熱する第１加熱手段とを有し、第１収容箱内の加圧下で加熱して蒸着材料を昇華、気化または液化させて、放出手段と供給手段とを連通する供給管を介して放出手段に供給するように構成したことを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、真空チャンバ外にある供給手段の第１収容箱内に固体の蒸着材料を充填した後、蒸着材料が充填された第１収容箱内に窒素ガスや希ガスなどの不活性ガスを導入してその内部を所定圧力に加圧し、第１収容箱内の加圧下で第１加熱手段により加熱して例えば蒸着材料を昇華または気化させる。このとき、真空チャンバは、所定圧力まで真空排気された状態となっている。次に、例えば供給管に介設した開閉弁を開弁すると、真空チャンバ内にある供給手段と第１収容箱との間の圧力差によって第１収容箱内で昇華または気化した蒸着材料が放出手段に供給され、放出開口から所定の余弦則に従い、昇華または気化した蒸着材料が被蒸着物に向けて放出され、被蒸着物表面に所定の薄膜が蒸着される。
【０００９】
ここで、第１収容箱に収容された蒸着材料は蒸着中に減少するが、第１収容箱への蒸着材料の補充に際しては、供給手段の第１収容箱が真空チャンバ外に設けられているため、真空チャンバを大気雰囲気に戻すといった操作を不要にでき、上記従来例のものと比較して生産性を飛躍的に向上させることができる。この場合、供給手段を少なくとも２個用意し、例えば切換弁を介して各供給手段の第１収容箱に対して供給管を並列接続しておけば、いずれかの第１収容箱に蒸着材料を補充する間でも、いずれか他の第１収容箱内で昇華または気化した蒸着材料が供給手段に供給できるため、より一層生産性を向上できてよい。
【００１０】
ところで、複数の被蒸着物に対して順次蒸着するような場合に、一枚の被蒸着物に対して所定の薄膜を蒸着した後、次の被蒸着物が搬送されてくるまでの間等、被蒸着物に対する蒸着に寄与しないときまで、蒸着材料の加熱を停止することなく、昇華または気化した蒸着材料を各放出開口から放出させると（通常は、シャッタを設けて蒸着材料の飛散を防止している）、蒸着材料が無駄に消費される。それに対して、本願発明では、上記の如く、供給管に開閉弁を介設されているような場合には、これを閉弁するだけで、昇華または気化した蒸着材料の放出手段への供給が停止できるので、蒸着材料が無駄に消費されることを防止できる。更に、第１収容箱内の加圧下で蒸着材料を加熱するため、蒸着材料の加熱温度を下げることができ、蒸着材料が熱劣化し易い有機材料であるような場合に、有利である。
【００１１】
本発明において、前記蒸着材料が加熱時に液相を経て気相に転移するものである場合、前記放出手段は、固体の蒸着材料を収容可能な第２収容箱と、第２収容箱に連通し、前記放出開口を有する放出箱と、蒸着材料を加熱する第２加熱手段とを備え、第２収容箱内で液化させた蒸着材料が前記供給管を介して第１収容箱に供給される構成を採用できる。
【００１２】
以上によれば、真空チャンバ内にある第２収容箱内の蒸着材料を第２加熱手段により加熱して気化させ、この気化したものが放出箱に供給されて、その放出開口から所定の余弦則に従い、気化した蒸着材料が被蒸着物に向けて放出され、被蒸着物表面に所定の薄膜が蒸着される。そして、第２収容箱内の蒸着材料が減少してくると、真空チャンバ外にある第１収容箱内の加圧下で蒸着材料を加熱することで液化させ、この液化した蒸着材料が供給管を介して第１収容箱に補充される。
【００１３】
ここで、第２収容箱内に例えば粉末状の蒸着材料をその底面から所定高さ位置まで充填し、第２収容箱を囲うように設けられる加熱手段により第２収容箱を加熱すると、主として第２収容箱の壁面から伝熱で蒸着材料が液化するが、このとき、充填された蒸着材料の上層部分からしか、気化した蒸着材料が収容箱の空間に放出されない。そして、第２収容箱内の蒸着材料が減少してくると、即ち、蒸着材料の上層部分の底面からの高さ位置が低くなると、充填された蒸着材料に対する第２収容箱の壁面からの伝熱面積が減少して蒸着材料に対する入熱量が低下する。このため、第２収容箱内での単位時間当たりの気化量が少なくなり、これでは、一定の蒸着レートで被蒸着物表面に所定の薄膜を形成することができない。このような場合、第２収容箱の加熱温度を高くして入熱量を増加させればよいが、第２収容箱内での蒸着材料の減少に伴って熱容量が小さくなることで、蒸着材料が受ける熱負荷が大きくなって蒸着材料が劣化する虞がある。
【００１４】
それに対して、本発明では、第２収容箱内の蒸着材料の減少に応じて蒸着材料が第１収容箱から補充されるため、蒸着材料の上層部分の底面からの高さ位置を常時同等に保持することができ、しかも、液相状態の蒸着材料が供給される構成を採用したため、第２収容箱の加熱温度を制御するといったことなしに、第２収容箱内での単位時間当たりの気化量を常時同等に保持することができる。この場合、前記第２収容箱内を所定圧力に調整する圧力調整弁を更に備えることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の第１実施形態の蒸着源を備える真空蒸着装置を説明する、一部を断面視とした部分斜視図。
【図２】図１に示す真空蒸着装置を正面側からみた部分断面図。
【図３】本発明の第２実施形態の蒸着源を備える真空蒸着装置を説明する、一部を断面視とした部分斜視図。
【図４】図３に示す真空蒸着装置を正面側からみた部分断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面を参照して、被蒸着物を矩形の輪郭を持つ所定厚さのガラス基板（以下、「基板Ｓｗ」という）とし、基板Ｓｗの片面に所定の薄膜を蒸着する場合を例に本発明の真空蒸着装置用の蒸着源ＤＳ１，ＤＳ２の実施形態を説明する。以下においては、「上」、「下」といった方向を指す用語は、図１に示す蒸着源の姿勢を基準とする。
【００１７】
図１及び図２を参照して、Ｄｍ１は、第１実施形態の蒸着源ＤＳ１を備える真空蒸着装置である。真空蒸着装置Ｄｍ１は、真空チャンバ１を備え、真空チャンバ１には、特に図示して説明しないが、排気管を介して真空ポンプが接続され、真空チャンバ１内を所定圧力（真空度）に真空排気して保持できるようになっている。また、真空チャンバ１の上部には基板搬送装置２が設けられている。基板搬送装置２は、蒸着面としての下面を開放した状態で基板Ｓｗを保持するキャリア２１を有し、図外の駆動装置によってキャリア２１、ひいては基板Ｓｗを真空チャンバ１内の一方向に所定速度で移動するようになっている。基板搬送装置２としては公知のものが利用できるため、これ以上の説明は省略する。また、以下においては、蒸着源ＤＳ１に対する基板Ｓｗの相対移動方向をＸ軸方向、Ｘ軸方向に直交する基板Ｓｗの幅方向をＹ軸方向とする。
【００１８】
基板搬送装置２によって搬送される基板Ｓｗと後述の蒸着源ＤＳ１との間には、板状のマスクプレート３が設けられている。本実施形態では、マスクプレート３は、基板Ｓｗと一体に取り付けられて基板Ｓｗと共に基板搬送装置２によって搬送されるようになっている。なお、マスクプレート３は、真空チャンバ１に予め固定配置しておくこともできる。マスクプレート３には、板厚方向に貫通する複数の開口３１が形成され、これら開口３１がない位置にて蒸着材料の基板Ｓｗに対する付着範囲が制限されることで所定のパターンで基板Ｓｗに蒸着されるようになっている。マスクプレート３としては、インバー、アルミ、アルミナやステンレス等の金属製の他、ポリイミド等の樹脂製のものが用いられる。そして、真空チャンバ１の底面には、Ｘ軸方向に移動される基板Ｓｗに対向させて第１実施形態の蒸着源ＤＳ１が設けられている。
【００１９】
蒸着源ＤＳ１は、真空チャンバ１内に存して昇華または気化した蒸着材料Ｍｖを基板Ｓｗに向けて放出する放出手段４と、真空チャンバ１外に存して昇華または気化した蒸着材料Ｍｖを放出手段４に供給する供給手段５と、放出手段４と供給手段５とを連通する供給管６とを備える。供給手段５は、その内部を気密に保持可能な外容器５１と、外容器５１内に設置される、上面を開口した内容器５２とを備え、内容器５２に固体の蒸着材料Ｍｓが収容されるようになっている。この場合、外容器５１と内容器５２とが本実施形態の第１収容箱を構成する。また、蒸着材料Ｍｓとしては、基板Ｓｗ表面に蒸着しようとする薄膜に応じて選択され、液相を経て気相に転移する気化性の材料や、昇華性の材料が利用される。
【００２０】
外容器５１内には、内容器５２の壁面を囲うようにしてシースヒータ等の加熱手段５３が設けられ、加熱により蒸着材料Ｍｓを昇華または気化できるようにしている。外容器５１にはまた、窒素、アルゴンやヘリウムといった不活性ガスを導入する、開閉弁５４を介設したガス管５５が接続されている。そして、開閉弁５４を開弁して、気密な外容器５１内に不活性ガスを導入してその内部を所定圧力に加圧できるようにしている。この場合、加熱手段５３が本実施形態の第１加熱手段を構成し、開閉弁５４及びガス管５５が本実施形態の加圧手段を構成する。外容器５１を加圧するときの圧力は、例えば、蒸着材料Ｍｓの種類（具体的には、蒸着材料Ｍｓの昇華温度または気化温度や、蒸着材料Ｍｓを昇華または気化させるときの蒸着材料Ｍｓに対する熱負荷）に応じて適宜選択される。そして、外容器５１に供給管６の一端が接続されている。供給管６には、開閉弁６１が介設され、その他端が真空チャンバ１の壁面を貫通してその内部まで突出している。
【００２１】
放出手段４は、供給管６の他端が接続される所定容積の放出箱４１を備え、放出箱４１は、外容器５１から供給管６を介して供給される昇華または気化した蒸着材料Ｍｖをその内部で一旦拡散させることができるようになっている。放出箱４１の上面（基板Ｓｗとの対向面）４１ａにはまた、所定高さの筒体で構成される放出開口（噴射ノズル）４２がＹ軸方向に所定の間隔で複数本（本実施形態では、６本）列設され、放出箱４１内に供給された、昇華または気化した蒸着材料Ｍｖを所定の余弦則に従い放出できるようになっている。
【００２２】
上記真空蒸着装置Ｄｍ１により基板Ｓｗの下面に所定の薄膜を蒸着するのに際しては、真空チャンバ１外にある供給手段５の内容器５２に固体の蒸着材料Ｍｓを充填した後、開閉弁５４を開弁して外容器５１内に不活性ガスを導入してその内部を所定圧力に加圧する。外容器５１内が所定圧力に達すると、開閉弁５４を一旦閉弁し、加熱手段５３により蒸着材料Ｍｓを加熱する。すると、蒸着材料Ｍｓが昇華または気化し、外容器５１内が、蒸着材料Ｍｖの昇華雰囲気または気化雰囲気となる。このとき、真空チャンバ１は、図外の真空ポンプにより所定圧力まで真空排気され、これに伴って、放出開口４２を通じて連通する放出箱４１内もまた、所定圧力まで真空排気された状態となる。
【００２３】
次に、供給管６に介設した開閉弁６１を開弁すると、放出箱４１と外容器５１との圧力差によって、外容器５１内で昇華または気化した蒸着材料Ｍｖが放出箱４１に供給されて、放出箱４１内で一旦拡散された後、各放出開口４２から所定の余弦則に従い放出される。これに併せて、基板搬送装置２によって一枚の基板ＳｗがＸ軸方向に搬送される。これにより、放出箱４１に対してＸ軸方向に相対移動する基板Ｓｗの下面に、各放出開口４２から所定の余弦則に従い放出された蒸着材料Ｍｖが付着、堆積して所定の薄膜が蒸着される。なお、一枚の基板Ｓｗに対する蒸着時間が長くなるような場合には、蒸着中、開閉弁５４を適宜開弁して、外容器５１の圧力を所定範囲内に維持されるようにしている。
【００２４】
一枚の基板Ｓｗに対する蒸着が終了すると、供給管６に介設した開閉弁６１が一旦開弁されて、外容器５１内で昇華または気化した蒸着材料Ｍｖの放出箱４１への供給が一旦停止される。このとき、加熱手段５３による蒸着材料Ｍｓの加熱は停止しないが、外容器５１内が所定の範囲を超えて圧力が低下しているような場合には、開閉弁５４を再度開弁して外容器５１内に不活性ガスを導入し、その内部が所定圧力に再加圧される。この操作を繰り返して、複数枚の基板Ｓｗに対して蒸着が施される。
【００２５】
ここで、内容器５２に収容された固体の蒸着材料Ｍｓは蒸着に伴って減少していくが、上記第１実施形態によれば、その補充に際して、供給手段５が真空チャンバ１外に設けられているため、真空チャンバ１を大気雰囲気に戻すといった操作を不要にでき、上記従来例のものと比較して生産性を飛躍的に向上させることができる。この場合、特に図示して説明しないが、供給手段５を複数用意し、図外の切換弁を介して複数の外容器５１を供給管６に並列接続しておけば、いずれか一の供給手段４の内容器５２に蒸着材料Ｍｓを補充する間でも、いずれか他の供給手段５により、昇華または気化した蒸着材料Ｍｖが供給手段４に供給できるため、より一層生産性を向上できてよい。また、一枚の基板Ｓｗに対して所定の薄膜を蒸着した後、次の基板Ｓｗが搬送されてくるまでの間等、蒸着に寄与しないときには、蒸着材料Ｍｖの放出箱４１への供給が一旦停止されるため、蒸着材料Ｍｓが無駄に消費されることもない。更に、供給手段５の加圧下で固体の蒸着材料Ｍｓを加熱するため、蒸着材料Ｍｓの加熱温度を下げることができ、蒸着材料Ｍｓが熱劣化し易い有機材料であるような場合、有利である。
【００２６】
次に、図３及び図４を参照して、真空蒸着装置Ｄｍ２は、蒸着材料Ｍｓが加熱時に液相を経て気相に転移するものである場合に利用できる第２実施形態の蒸着源ＤＳ２を備える。なお、図３及び図４中、上記第１実施形態と同一の部材、要素については、同一の符号を用いるものとし、重複した説明は省略する。
【００２７】
蒸着源ＤＳ２は、真空チャンバ１内に存して気化した蒸着材料Ｍｖを基板Ｓｗに向けて放出する放出手段８と、真空チャンバ１外に存して液化した蒸着材料Ｍｌを放出手段８に供給する供給手段７と、放出手段８と供給手段７とを連通する供給管６とを備える。供給手段７としては、上記第１実施形態の供給手段５と同等の構成を有するものが２個設けられている。各供給手段７は、外容器７１と内容器７２とを備え、内容器７２の壁面を囲うようにして設けた加熱手段７３により蒸着材料Ｍｓを液化させることができるようにしている。このとき、ガス管７５に開設した開閉弁７４を開弁して、気密な外容器７１内に不活性ガスを導入してその内部を所定圧力に加圧できるようにしている。外容器７１を加圧するときの圧力は、上記同様、蒸着材料Ｍｓの種類に応じて適宜選択される。そして、液化させた蒸着材料Ｍｌを排出できるように各内容器７２の壁面にその一端が夫々接続された供給管６は、外容器７１を貫通して三方弁６２に接続され、三方弁６２からのびる供給管６の部分が真空チャンバ１の壁面を貫通してその内部まで突出している。
【００２８】
放出手段８は、供給管６の他端が接続される所定容積の収容箱８１と、その上方に設けられる放出箱８２とを備え、収容箱８１と放出箱８２とが、開閉弁８３ａを介設した連通管８３により接続されている。収容箱８１には、固体の蒸着材料Ｍｓが所定の充填率で収容され、その壁面を囲うようにして収容箱８１にはシースヒータ等の加熱手段８４が設けられ、加熱により蒸着材料Ｅｍを気化できるようにしている。この場合、収容箱８１が本実施形態の第２収容箱を構成し、加熱手段８４が本実施形態の第２加熱手段を構成する。一方、放出箱８２は、上記第１実施形態の放出箱４１と同等の構成を有するものであり、その上面４１ａには放出開口４２がＹ軸方向に所定の間隔で複数本（本実施形態では、６本）列設され、放出箱８２内に供給された、気化した蒸着材料Ｍｖを所定の余弦則に従い放出できるようになっている。
【００２９】
上記真空蒸着装置Ｄｍ２により基板Ｓｗの下面に所定の薄膜を蒸着するのに際しては、真空チャンバ１の大気雰囲気中にて収容箱８１に固体の蒸着材料Ｍｓをその底面から所定高さ位置まで充填した後、図外の真空ポンプにより所定圧力まで真空排気する。このとき、連通管８３に介設した開閉弁８３ａは閉弁状態とされ、放出箱８２の内部は、真空チャンバ１内の真空排気に伴って所定圧力まで減圧される。そして、加熱手段８４により収容箱８１を加熱すると、収容箱８１内が蒸着材料Ｍｖの気化雰囲気となる。
【００３０】
次に、開閉弁８３ａを開弁すると、収容箱８１と放出箱８２との圧力差によって、収容箱８１内で気化した蒸着材料Ｍｖが放出箱８２に供給されて、放出箱８２内で一旦拡散された後、各放出開口４２から所定の余弦則に従い放出される。これに併せて、基板搬送装置２によって一枚の基板ＳｗがＸ軸方向に搬送される。これにより、放出箱８２に対してＸ軸方向に相対移動する基板Ｓｗの下面に、各放出開口４２から所定の余弦則に従い放出された蒸着材料Ｍｖが付着、堆積して所定の薄膜が蒸着される。
【００３１】
一枚の基板Ｓｗに対する蒸着が終了すると、開閉弁８３ａが一旦開弁されて、気化した蒸着材料Ｍｖの放出箱８２への供給が一旦停止される。このとき、加熱手段８４による蒸着材料Ｍｓの加熱は停止しない。この操作を繰り返して、複数枚の基板Ｓｗに対して蒸着が施される。この場合、収容箱８１に収容された固体の蒸着材料Ｍｓは、蒸着に伴って減少していく。このため、真空チャンバ１外にある供給手段７の内容器７２に固体の蒸着材料Ｍｓを充填した後、開閉弁７４を開弁して外容器７１内に不活性ガスを導入してその内部を所定圧力に加圧する。
【００３２】
外容器７１内が所定圧力に達すると、開閉弁７４を一旦閉弁し、この状態で加熱手段７３により蒸着材料Ｍｓを加熱して蒸着材料Ｍｓを液化させる。そして、収容箱８１内での蒸着材料Ｍｓの減少に応じて、三方弁６２を制御して、液化された蒸着材料Ｍｌを収容箱８１に補充する。これにより、蒸着材料の上層部分の底面からの高さ位置を常時同等に保持することができ、しかも、液相状態の蒸着材料Ｍｌが供給される構成を採用したため、収容箱８１の加熱温度を制御するといったことなしに、収容箱８１内での単位時間当たりの気化量を常時同等に保持することができる。なお、上記のようにして液化された蒸着材料Ｍｌを収容箱８１に補充する際、これと一緒に加圧に使用された不活性ガスも収容箱８１に供給され、その内部が不必要に加圧される可能性があり、これでは、収容箱８１内での単位時間当たりの気化量が変動する虞がある。このため、収容箱８１を、配管９１を介して圧力調整弁９２に接続し、その内圧の変動を抑制して収容箱８１内での単位時間当たりの気化量を常時同等に保持することができる。
【００３３】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の技術思想の範囲を逸脱しない限り、種々の変形が可能である。上記実施形態では、被蒸着物をガラス基板とし、基板搬送装置２によりガラス基板を一定の速度で搬送しながら蒸着するものを例に説明したが、真空蒸着装置の構成は、上記のものに限定されるものではない。例えば、被蒸着物をシート状の基材とし、駆動ローラ（繰出ローラ）と巻取りローラとの間で一定の速度で基材を移動させながら基材の片面に蒸着するような装置にも本発明は適用できる。また、真空チャンバ１内に基板Ｓｗとマスクプレート３を一体として固定し、蒸着源に公知の構造を持つ駆動手段を付設して、基板Ｓｗに対して蒸着源を相対移動させながら蒸着することにも本発明は適用できる。即ち、基板Ｓｗと蒸着源ＤＳ１，ＤＳ２を相対的に移動させれば、基板Ｓｗと蒸着源ＤＳ１，ＤＳ２のいずれか、もしくは両方を移動させてもよい。更に、放出箱４１，８２に放出開口（噴射ノズル）４２を一列で設けたものを例に説明したが、複数例設けることもできる。また、上記第２実施形態では、収容箱８１と放出箱８２とで放出手段８を構成したものを例に説明したが、単に上面開口した坩堝で構成することもできる。
【符号の説明】
【００３４】
ＤＳ１，ＤＳ２…真空蒸着装置用の蒸着源、Ｄｍ１，Ｄｍ２…真空蒸着装置、Ｍｓ…固体の蒸着材料、Ｍｖ…昇華または気化した蒸着材料、Ｓｗ…基板（被蒸着物）、１…真空チャンバ、２…基板搬送手段（移動手段）、５…供給手段、５１…外容器（第１収容箱）、５２…内容器（第１収容箱）、５３…加熱手段（第１加熱手段）、５４…開閉弁（加圧手段）、５５…ガス管（加圧手段）、６…供給管、８…放出手段、８１…収容箱（第２収容箱）、８２…放出箱、８４…加熱手段（第２加熱手段）、９２…圧力調整弁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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