(57)【要約】【課題】装置の大型化を回避するとともに被検者の負担を増加させることなく、被検眼に対するライン状の測定光を所望の方向（向き）に調整できる光干渉断層撮像装置を提供する。【解決手段】光源１１０からの光を測定光と参照光とに分岐するカプラ１２０と、測定光を被検眼に導く測定光学系１３０と、参照光を伝搬させる参照光学系１４０と、測定光学系１３０を伝搬した測定光の被検眼Ｅからの戻り光と参照光学系１４０を伝搬した参照光とを合波させるビームスプリッタ１５０と、ビームスプリッタ１５０の合波により得られた戻り光と参照光との干渉光を干渉信号として検出するラインセンサ１６２とを備え、測定光学系１３０は、被検眼Ｅに対してライン状の測定光を照射する際に被検眼Ｅに対するライン状の測定光における向きの調整を行うイメージローテータ１３５を含み構成されている。【選択図】図１
2020156570.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を測定光と参照光とに分岐する光分岐手段と、
前記測定光を被検眼に導く測定光学系と、
前記参照光を伝搬させる参照光学系と、
前記測定光学系を伝搬した前記測定光の前記被検眼からの戻り光と前記参照光学系を伝搬した前記参照光とを合波させる合波手段と、
前記合波により得られた前記戻り光と前記参照光との干渉光を干渉信号として検出する検出手段と、
を有し、
前記測定光学系は、前記被検眼に対してライン状の前記測定光を照射する際に前記被検眼に対する前記ライン状の測定光における向きの調整を行うイメージローテータを含み構成されていることを特徴とする光干渉断層撮像装置。
【請求項２】
前記測定光学系は、前記被検眼に対して前記ライン状の測定光を走査するガルバノメトリックミラーと、前記被検眼に対向する位置に配置される対物レンズと、を更に含み構成されており、
前記イメージローテータは、前記ガルバノメトリックミラーと前記対物レンズとの間に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項３】
前記イメージローテータは、前記測定光学系の光軸を中心として回転することによって、前記調整を行うことを特徴とする請求項１または２に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項４】
前記測定光学系は、前記被検眼に対して前記ライン状の測定光を照射する光学系であり、
前記参照光学系は、ライン状の前記参照光を伝搬させる光学系であり、
前記合波手段は、前記測定光学系を伝搬した前記ライン状の測定光の前記被検眼からの戻り光と前記参照光学系を伝搬した前記ライン状の参照光とを合波させ、
前記検出手段は、前記合波により得られた前記戻り光と前記ライン状の参照光との干渉光を前記干渉信号として検出することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項５】
前記干渉信号を信号処理して、前記被検眼の断層画像を生成する信号処理手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光干渉断層撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被検眼の検査を行う光干渉断層撮像装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、眼科装置として、非侵襲で被検眼の眼底や前眼部の断層を観察／計測できる光干渉断層撮像（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ  Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ：ＯＣＴ）装置が普及しており、医療において研究から臨床まで広く使われている。このＯＣＴ装置は、タイムドメインＯＣＴ装置とフーリエドメインＯＣＴ装置の２種に大別されている。さらに、フーリエドメインＯＣＴ装置には、スペクトラルドメインＯＣＴ（ＳＤ−ＯＣＴ）装置とスウェプトソースＯＣＴ（ＳＳ−ＯＣＴ）装置とがある。これらのフーリエドメインＯＣＴ装置は、広い波長帯域を有する光源を使用し、光を分光して信号の取得を行うものであり、分光器によって空間的に分光するものがＳＤ−ＯＣＴ装置、時間的に異なる波長の光を発する光源を用いて時間的に分光するものがＳＳ−ＯＣＴ装置とされている。
【０００３】
例えば、非特許文献１には、ＳＳ−ＯＣＴ装置の一例として、ライン走査型のＳＳ−ＯＣＴ装置が紹介されている。具体的に、非特許文献１には、スウェプトソース光源（ＳＳ光源）から射出した光を測定光と参照光とに分岐し、測定光学系においてライン状の測定光を被検眼に導くＯＣＴ装置が記載されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】D. J. Fechtig, B. Grajciar, T. Schmoll, C. Blatter, R. M. Werkmeister, W. Drexler, and R. a Leitgeb, "Line-field parallel swept source MHz OCT for structural and functional retinal imaging.," Biomed. Opt. Express, vol. 6, no. 3, pp. 716-35, Mar. 2015.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、非特許文献１に記載のライン走査型のＯＣＴ装置では、被検眼に対してライン状の測定光を走査する際に、被検眼におけるライン状の測定光を所望の方向（向き）に調整する場合、測定光学系を含むＯＣＴ装置全体を傾ける（回転させる）か、或いは、被検眼自体を傾ける（回転させる）必要がある。臨床では、例えば、被検眼の視神経乳頭の中心から黄斑の中心を結ぶ直線にライン状の測定光を照射して視神経乳頭から黄斑に至る断層画像を取得する場合もあれば、任意の方向（向き）にライン状の測定光を照射して例えば血管部の断層画像を取得する場合もある。
【０００６】
即ち、非特許文献１に記載のライン走査型のＯＣＴ装置では、被検眼に対するライン状の測定光を所望の方向（向き）に調整する必要がある場合に、ＯＣＴ装置全体を傾ける必要性に基づく装置の大型化や、或いは、被検眼自体を傾ける必要性に基づく被検者の負担の増加を招くという問題があった。
【０００７】
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、装置の大型化を回避するとともに被検者の負担を増加させることなく、被検眼に対するライン状の測定光を所望の方向（向き）に調整できる光干渉断層撮像装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の光干渉断層撮像装置は、光源からの光を測定光と参照光とに分岐する光分岐手段と、前記測定光を被検眼に導く測定光学系と、前記参照光を伝搬させる参照光学系と、前記測定光学系を伝搬した前記測定光の前記被検眼からの戻り光と前記参照光学系を伝搬した前記参照光とを合波させる合波手段と、前記合波により得られた前記戻り光と前記参照光との干渉光を干渉信号として検出する検出手段と、を有し、前記測定光学系は、前記被検眼に対してライン状の前記測定光を照射する際に前記被検眼に対する前記ライン状の測定光における向きの調整を行うイメージローテータを含み構成されている。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、装置の大型化を回避するとともに被検者の負担を増加させることなく、被検眼に対するライン状の測定光を所望の方向（向き）に調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る光干渉断層撮像装置に含まれるライン走査型ＯＣＴ光学系の概略構成の一例を示す図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る光干渉断層撮像装置の概略構成の一例を示す図である。
【図３】図１に示すイメージローテータの駆動状態の一例を示す図である。
【図４】図１に示すイメージローテータによって行われる、被検眼に対するライン状の測定光における向きの調整を説明する図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る光干渉断層撮像装置に含まれるライン走査型ＯＣＴ光学系の概略構成の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に、図面を参照しながら、本発明を実施するための形態（実施形態）について説明する。なお、以下に記載する本発明の実施形態では、本発明に係る光干渉断層撮像装置（ＯＣＴ装置）として、ライン走査型のマイケルソン式ＳＳ−ＯＣＴ装置を適用した例について説明を行うが、本発明においてはこの装置に限定されるものではない。本発明においては、例えば、被検眼に対してライン状の測定光を照射する光干渉断層撮像装置（ＯＣＴ装置）であれば、上述したライン走査型のマイケルソン式ＳＳ−ＯＣＴ装置以外の他の光干渉断層撮像装置（ＯＣＴ装置）も適用可能である。
【００１２】
（第１の実施形態）
まず、本発明の第１の実施形態について説明する。
【００１３】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る光干渉断層撮像装置に含まれるライン走査型ＯＣＴ光学系１００の概略構成の一例を示す図である。ここで、図１に示す第１の実施形態におけるライン走査型ＯＣＴ光学系１００を、「ライン走査型ＯＣＴ光学系１００−１」として記載する。また、図１では、被検眼Ｅの前眼部から眼底Ｅｆに向かう被検眼Ｅの深さ方向をＺ方向とし、Ｚ方向と直交する２方向をＸ方向及びＹ方向とするＸＹＺ座標系を記載している。
【００１４】
ライン走査型ＯＣＴ光学系１００−１は、図１に示すように、スウェプトソース光源（以下、「ＳＳ光源」と記載する）１１０、カプラ１２０、測定光学系１３０、参照光学系１４０、ビームスプリッタ１５０、撮影光学系１６０、フォーカス駆動部１７１、ガルバノ駆動部１７２、イメージローテータ駆動部１７３、リフレクタ駆動部１７４、及び、偏光調整駆動部１７５を有して構成されている。
【００１５】
ＳＳ光源１１０は、時間的に異なる波長の光を発する波長掃引光源である。
【００１６】
カプラ１２０は、所望の分岐比で、ＳＳ光源１１０からの光を測定光と参照光とに分岐する光分岐手段である。
【００１７】
次に、測定光学系１３０について、以下に詳しく説明する。
測定光学系１３０は、カプラ１２０で分岐された測定光を被検眼Ｅに導く光学系である。この測定光学系１３０は、図１に示すように、ライン像形成光学系１３１、レンズ１３２、フォーカスレンズ１３３、ガルバノメトリックミラー１３４、イメージローテータ１３５、レンズ１３６、及び、対物レンズ１３７を含み構成されている。
【００１８】
ライン像形成光学系１３１は、ライン状の測定光であるライン像を形成する光学系である。このライン像形成光学系１３１は、コリメータレンズ１３１１、シリンドリカルレンズ１３１２、及び、レンズ１３１３を含み構成されている。このライン像形成光学系１３１では、カプラ１２０から射出した測定光をコリメータレンズ１３１１でコリメートした後、シリンドリカルレンズ１３１２及びレンズ１３１３によって、所定視度（例えば０ディオプタ）の被検眼Ｅの眼底Ｅｆと共役な位置でライン像を形成する。例えば、ライン像形成光学系１３１は、平面１３１４上にライン像を形成する。
【００１９】
ライン像形成光学系１３１で形成されたライン像であるライン状の測定光は、ビームスプリッタ１５０を通過して、レンズ１３２に入射し、その後、フォーカスレンズ１３３、ガルバノメトリックミラー１３４、イメージローテータ１３５、レンズ１３６及び対物レンズ１３７を介して、被検眼Ｅの眼底Ｅｆに導かれる。これにより、被検眼Ｅの眼底Ｅｆ上に、ライン状の測定光であるライン像が照射される。
【００２０】
ここで、本実施形態においては、平面１３１４と被検眼Ｅの眼底Ｅｆとが光学的に共役になるように、フォーカスレンズ１３３は、フォーカス駆動部１７１によって、測定光学系１３０の光軸上を、例えばＸ方向に移動する。また、ガルバノメトリックミラー１３４は、ガルバノ駆動部１７２によって、被検眼Ｅの眼底Ｅｆに対してライン状の測定光を走査する。このガルバノメトリックミラー１３４は、例えば被検眼Ｅの前眼部と略共役な位置に配置された向き（角度）が可変に構成されたミラーである。
【００２１】
イメージローテータ１３５は、被検眼Ｅ（より詳細に、本実施形態の例では、被検眼Ｅの眼底Ｅｆ）に対してライン状の測定光を走査するガルバノメトリックミラー１３４と、被検眼Ｅに対向する位置に配置される対物レンズ１３７との間に設けられている。そして、イメージローテータ１３５は、被検眼Ｅ（被検眼Ｅの眼底Ｅｆ）に対してライン状の測定光を照射する際に被検眼Ｅに対するライン状の測定光における向き（方向）の調整を行う。具体的に、イメージローテータ１３５は、イメージローテータ駆動部１７３により、例えば、測定光学系１３０の光軸の方向（図１に示す例では、Ｚ方向）を中心として回転することによって、被検眼Ｅに対するライン状の測定光における向きの調整を行う。
【００２２】
そして、被検眼Ｅの眼底Ｅｆで反射・散乱したライン状の測定光は、戻り光となって測定光学系１３０の対物レンズ１３７からレンズ１３２を通過して、ビームスプリッタ１５０で反射されて、撮影光学系１６０に導かれる。このライン状の測定光の被検眼Ｅからの戻り光は、撮影光学系１６０の平面１６３上に測定光に係るライン像を形成する。
【００２３】
次に、参照光学系１４０について、以下に詳しく説明する。
参照光学系１４０は、カプラ１２０で分岐された参照光を伝搬させる光学系である。参照光学系１４０は、図１に示すように、偏光調整用パドル１４１、コリメータレンズ１４２、ＮＤフィルター１４３、ミラー１４４、ミラー１４５、レトロリフレクタ１４６、ミラー１４７、ミラー１４８、及び、ライン像形成光学系１４９を含み構成されている。
【００２４】
参照光学系１４０に導かれた参照光は、コリメータレンズ１４２によってコリメートされ、ＮＤフィルター１４３を通過して所定光量に減衰された後、ミラー１４４及びミラー１４５で所定方向に反射され、光軸の方向（図１に示す例では、Ｚ方向）に移動可能であって測定光学系１３０の測定光の光路との光路長差を補正するためのレトロリフレクタ１４６で折り返される。ここで、本実施形態においては、レトロリフレクタ１４６は、リフレクタ駆動部１７４によって、参照光学系１４０を伝搬する参照光と測定光学系１３０を伝搬する測定光との光路長差を補正（例えば、参照光の光路長と測定光の光路長が等しくなるように補正）する形態を採る。レトロリフレクタ１４６で折り返された参照光は、ミラー１４５、ミラー１４４、ミラー１４７及びミラー１４８においてそれぞれ所定方向に反射されて、シリンドリカルレンズ１４９１とレンズ１４９２を含み構成されるライン像形成光学系１４９に入射する。ライン像形成光学系１４９は、ライン状の参照光であるライン像を形成する。ライン像形成光学系１４９で形成されたライン状の参照光は、ビームスプリッタ１５０を透過して、撮影光学系１６０の平面１６３上に参照光に係るライン像を形成する。
【００２５】
また、図１に示す例では、参照光学系１４０において、偏光調整用パドル１４１は、光ファイバを複数の環状に束ねて構成されている。この偏光調整用パドル１４１は、偏光調整駆動部１７５によって、測定光と参照光との干渉状態が良くなるように、測定光の偏光状態に対する参照光の偏光状態を調整できるようになっている。この偏光調整用パドル１４１及び偏光調整駆動部１７５を設けることによって、偏光状態の調整が可能となるため、シンプルな構成で被検眼Ｅの良好な断層画像を取得することができる。
【００２６】
ビームスプリッタ１５０は、測定光学系１３０を伝搬したライン状の測定光の被検眼Ｅからの戻り光と参照光学系１４０を伝搬したライン状の参照光とを合波させる合波手段である。このビームスプリッタ１５０による合波によって、撮影光学系１６０の平面１６３上では、測定光に係るライン像と参照光に係るライン像とが干渉する。
【００２７】
撮影光学系１６０は、被検眼Ｅ（より詳細に、本実施形態の例では、被検眼Ｅの眼底Ｅｆ）における断層画像を撮影する光学系である。この撮影光学系１６０は、レンズ群１６１、及び、ラインセンサ１６２を含み構成されている。ラインセンサ１６２は、ビームスプリッタ１５０による合波により得られた、ライン状の測定光における戻り光（測定光に係るライン像）とライン状の参照光（参照光に係るライン像）との干渉光を干渉信号として検出する検出手段である。撮影光学系１６０において、平面１６３は、例えば被検眼Ｅの眼底Ｅｆ及び平面１３１４と光学的に共役な平面である。さらに、平面１６３は、レンズ群１６１を介してラインセンサ１６２の受光面とも共役となっているため、被検眼Ｅの眼底Ｒｆから反射・散乱されたライン状の測定光がラインセンサ１６２へと達することになる。
【００２８】
図２は、本発明の第１の実施形態に係る光干渉断層撮像装置１０の概略構成の一例を示す図である。この図２では、図１に示すライン走査型ＯＣＴ光学系１００−１を、「ライン走査型ＯＣＴ光学系１００」として記載している。
【００２９】
光干渉断層撮像装置１０は、図２に示すように、ライン走査型ＯＣＴ光学系１００、制御部２００、サンプリング部３００、メモリ４００、信号処理部５００、操作入力部６００、及び、表示部７００を有して構成されている。ここで、図２に示すライン走査型ＯＣＴ光学系１００では、図１に示すＳＳ光源１１０、ラインセンサ１６２、フォーカス駆動部１７１、ガルバノ駆動部１７２、イメージローテータ駆動部１７３、リフレクタ駆動部１７４及び偏光調整駆動部１７５のみを図示し、他の構成の記載は省略している。
【００３０】
フォーカス駆動部１７１は、制御部２００の制御に基づいて、フォーカスレンズ１３３を駆動させる。ガルバノ駆動部１７２は、制御部２００の制御に基づいて、ガルバノメトリックミラー１３４を駆動させる。イメージローテータ駆動部１７３は、制御部２００の制御に基づいて、イメージローテータ１３５を駆動させる。リフレクタ駆動部１７４は、制御部２００の制御に基づいて、レトロリフレクタ１４６を駆動させる。偏光調整駆動部１７５は、制御部２００の制御に基づいて、偏光調整用パドル１４１を駆動させて、参照光の偏光状態を調整する。
【００３１】
制御部２００は、例えば操作入力部６００から入力された情報に基づいて、光干渉断層撮像装置１０の各構成部の制御を行うとともに、各種の処理を行う。
【００３２】
サンプリング部３００は、ラインセンサ１６２からの干渉信号をサンプリングする構成部である。具体的に、サンプリング部３００は、ガルバノ駆動部１７２によるガルバノメトリックミラー１３４の駆動位置における各画素ごとに、ＳＳ光源１１０による１回の波長掃引に対応して１つの干渉信号をサンプリングする。次いで、サンプリング部３００は、ガルバノ駆動部１７２によるガルバノメトリックミラー１３４の次の駆動位置における各画素ごとに、ＳＳ光源１１０による次の波長掃引に対応して次の干渉信号をサンプリングする。以降、サンプリング部３００は、この繰り返しにより、ラインセンサ１６２からの干渉信号を次々にサンプリングする。サンプリング部３００でサンプリングされた干渉信号は、制御部２００の処理によって、メモリ４００に、その際のガルバノメトリックミラー１３４の駆動位置の情報とともに記憶される。信号処理部５００は、メモリ４００に記憶された干渉信号に対して、周波数解析等を含む信号処理を施して、被検眼Ｅの眼底Ｅｆの断層画像を生成する。そして、制御部２００は、信号処理部５００で生成された断層画像を表示部７００に表示する制御や、メモリ４００に記憶する制御を行う。なお、本実施形態では、例えば信号処理部５００において、ガルバノメトリックミラー１３４の駆動位置の情報を用いて、三次元の眼底ボリューム画像を生成し、制御部２００がこの三次元の眼底ボリューム画像を表示部７００に表示する制御等を行ってもよい。
【００３３】
次に、図１に示すイメージローテータ１３５について、詳細に説明する。
図３は、図１に示すイメージローテータ１３５の駆動状態の一例を示す図である。イメージローテータ１３５は、図１に示すように、ガルバノメトリックミラー１３４と対物レンズ１３７（より詳細には、レンズ１３６）との間に設けられており、また、イメージローテータ駆動部１７３によって駆動可能に構成されている。
【００３４】
イメージローテータ１３５は、上述したように、イメージローテータ駆動部１７３により、例えば、測定光学系１３０の光軸の方向（図１に示す例では、Ｚ方向）を中心として回転することによって、被検眼Ｅに対するライン状の測定光における向きの調整を行う。この様子を、図３（ａ）と図３（ｂ−１）及び図３（ｂ−２）を用いて説明する。
【００３５】
図３（ａ）は、調整前の状態１におけるイメージローテータ１３５を、「イメージローテータ１３５−１」として図示している。この図３（ａ）には、イメージローテータ１３５−１に入射し且つ出射するライン状の測定光３１０を図示している。
【００３６】
図３（ｂ−１）は、イメージローテータ駆動部１７３によって、図３（ａ）に示すイメージローテータ１３５−１を、測定光学系１３０の光軸３１１を中心として回転３１２させて、被検眼Ｅに対するライン状の測定光における向きの調整を行う様子を示している。図３（ｂ−１）では、調整後の状態２におけるイメージローテータ１３５を、「イメージローテータ１３５−２」として図示している。図３（ｂ−２）は、図３（ｂ−１）に示すイメージローテータ１３５−２を、図３（ａ）に示すイメージローテータ１３５−１の向きで配置し、状態２においてイメージローテータ１３５−２に入射し且つ出射するライン状の測定光３２０を図示している。即ち、ライン状の測定光３２０は、被検眼Ｅに対する向きを調整した後のライン状の測定光を示している。例えば、図３（ａ）に示す状態１のライン像回転角度を０°とし、図３（ｂ−１）及び図３（ｂ−２）に示す状態２において例えばイメージローテータ１３５を４５°回転させると、この場合のライン像回転角度は９０°となる。
【００３７】
図４は、図１に示すイメージローテータ１３５によって行われる、被検眼Ｅに対するライン状の測定光における向きの調整を説明する図である。この図４には、被検眼Ｅの眼底Ｅｆにおける眼底平面領域４０を図示しており、また、図１に示すＸＹＺ座標系に対応するＸＹＺ座標系の一例も記載している。
【００３８】
眼底平面領域４０には、Ｘ方向に沿った線４１０と、Ｙ方向に沿った線４２０を図示している。例えば図３（ａ）に示す状態１では、イメージローテータ１３５を介して、被検眼Ｅの眼底Ｅｆに対して線４１０に沿ったライン状の測定光３１０が照射されるものとする。そして、図４では、この状態１から、被検眼Ｅの視神経乳頭４０１から黄斑４０２に至る断層画像を取得するべく、図３（ｂ−１）及び図３（ｂ−２）に示す状態２において、イメージローテータ１３５を測定光学系１３０の光軸３１１の方向であるＺ軸を中心として回転３１２させることにより、被検眼Ｅに対する向きが調整されたライン状の測定光３２０を示している。
【００３９】
上述した第１の実施形態に係る光干渉断層撮像装置１０では、測定光学系１３０に、被検眼Ｅに対するライン状の測定光における向きの調整を行うイメージローテータ１３５を設けるように構成している。
かかる構成によれば、被検眼Ｅに対するライン状の測定光を所望の向きに調整する場合に、測定光学系１３０に設けたイメージローテータ１３５によって当該調整を行うことができるため、光干渉断層撮像装置全体を傾けたり被検眼自体を傾けたりすることを回避できる。これにより、光干渉断層撮像装置全体を傾ける必要性に基づく装置の大型化を回避するとともに被検者の負担を増加させることなく、被検眼に対するライン状の測定光を所望の向きに調整することができる。さらに、例えば、装置の大型化を回避できることにより、装置の煩雑化も回避でき、また、被検眼自体を傾けることを回避できることにより、被検眼に対するライン状の測定光の向き調整にかかる時間を短くすることも可能になる。
【００４０】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。なお、以下に記載する第２の実施形態の説明においては、上述した第１の実施形態と共通する事項については説明を省略し、上述した第１の実施形態と異なる事項について説明を行う。具体的に、第２の実施形態は、光干渉断層撮像装置に含まれるライン走査型ＯＣＴ光学系１００が、図１に示す構成と異なる形態である。
【００４１】
図５は、本発明の第２の実施形態に係る光干渉断層撮像装置に含まれるライン走査型ＯＣＴ光学系１００の概略構成の一例を示す図である。ここで、図５に示す第２の実施形態におけるライン走査型ＯＣＴ光学系１００を、「ライン走査型ＯＣＴ光学系１００−２」として記載する。なお、この図５において、図１に示す構成と同様の構成については同じ符号を付しており、その詳細な説明は省略する。
【００４２】
ライン走査型ＯＣＴ光学系１００−２は、図５に示すように、ＳＳ光源１１０、コリメータレンズ２１０、ビームスプリッタ２２０、測定光学系２３０、参照光学系２４０、ビームスプリッタ１５０、撮影光学系１６０、フォーカス駆動部１７１、ガルバノ駆動部１７２、イメージローテータ駆動部１７３、及び、リフレクタ駆動部１７４を有して構成されている。
【００４３】
コリメータレンズ２１０は、ＳＳ光源１１０からの光をコリメートする光学系である。即ち、コリメータレンズ２１０は、コリメート光を出射する。
【００４４】
ビームスプリッタ２２０は、所望の分岐比で、コリメータレンズ２１０を介して入射したＳＳ光源１１０からの光を測定光と参照光とに分岐する光分岐手段である。
【００４５】
次に、測定光学系２３０について、以下に詳しく説明する。
測定光学系２３０は、ビームスプリッタ２２０で分岐された測定光を被検眼Ｅに導く光学系である。この測定光学系２３０は、図５に示すように、ライン像形成光学系２３１、レンズ１３２、フォーカスレンズ１３３、ガルバノメトリックミラー１３４、イメージローテータ１３５、レンズ１３６、及び、対物レンズ１３７を含み構成されている。
【００４６】
ライン像形成光学系２３１は、ライン状の測定光であるライン像を形成する光学系である。このライン像形成光学系２３１は、シリンドリカルレンズ１３１２、及び、レンズ１３１３を含み構成されている。このライン像形成光学系２３１では、シリンドリカルレンズ１３１２及びレンズ１３１３によって、所定視度（例えば０ディオプタ）の被検眼Ｅの眼底Ｅｆと共役な位置でライン状の測定光であるライン像を形成する。例えば、ライン像形成光学系２３１は、平面１３１４上にライン像を形成する。
【００４７】
ライン像形成光学系２３１で形成されたライン像であるライン状の測定光は、第１の実施形態と同様に、ビームスプリッタ１５０を通過して、レンズ１３２に入射し、その後、フォーカスレンズ１３３、ガルバノメトリックミラー１３４、イメージローテータ１３５、レンズ１３６及び対物レンズ１３７を介して、被検眼Ｅの眼底Ｅｆに導かれる。これにより、被検眼Ｅの眼底Ｅｆ上に、ライン状の測定光であるライン像が照射される。
【００４８】
イメージローテータ１３５は、第１の実施形態と同様に、被検眼Ｅ（より詳細には、被検眼Ｅの眼底Ｅｆ）に対してライン状の測定光を走査するガルバノメトリックミラー１３４と、被検眼Ｅに対向する位置に配置される対物レンズ１３７との間に設けられている。そして、イメージローテータ１３５は、被検眼Ｅ（被検眼Ｅの眼底Ｅｆ）に対してライン状の測定光を照射する際に被検眼Ｅに対するライン状の測定光における向き（方向）の調整を行う。具体的に、イメージローテータ１３５は、イメージローテータ駆動部１７３により、例えば、測定光学系１３０の光軸の方向（図５に示す例では、Ｚ方向）を中心として回転することによって、被検眼Ｅに対するライン状の測定光における向きの調整を行う。
【００４９】
そして、被検眼Ｅの眼底Ｅｆで反射・散乱したライン状の測定光は、戻り光となって測定光学系２３０の対物レンズ１３７からレンズ１３２を通過して、ビームスプリッタ１５０で反射されて、撮影光学系１６０に導かれる。このライン状の測定光の被検眼Ｅからの戻り光は、撮影光学系１６０の平面１６３上に測定光に係るライン像を形成する。
【００５０】
次に、参照光学系２４０について、以下に詳しく説明する。
参照光学系２４０は、ビームスプリッタ２２０で分岐された参照光を伝搬させる光学系である。参照光学系２４０は、図５に示すように、ミラー２４１、コリメータレンズ２４２、ミラー２４３、ＮＤフィルター１４３、ミラー１４４、ミラー１４５、レトロリフレクタ１４６、ミラー１４７、ミラー１４８、及び、ライン像形成光学系１４９を含み構成されている。
【００５１】
参照光学系２４０に導かれた参照光は、ミラー２４１で所定方向に反射された後、コリメータレンズ２４２を介してミラー２４３で所定方向に反射され、ＮＤフィルター１４３を通過して所定光量に減衰される。その後、参照光は、ミラー１４４及びミラー１４５で所定方向に反射され、光軸の方向（図５に示す例では、Ｚ方向）に移動可能であって測定光学系２３０の測定光の光路との光路長差を補正するためのレトロリフレクタ１４６で折り返される。ここで、本実施形態においては、レトロリフレクタ１４６は、リフレクタ駆動部１７４によって、参照光学系２４０を伝搬する参照光と測定光学系２３０を伝搬する測定光との光路長差を補正（例えば、参照光の光路長と測定光の光路長が等しくなるように補正）する形態を採る。レトロリフレクタ１４６で折り返された参照光は、ミラー１４５、ミラー１４４、ミラー１４７及びミラー１４８においてそれぞれ所定方向に反射されて、シリンドリカルレンズ１４９１とレンズ１４９２を含み構成されるライン像形成光学系１４９に入射する。ライン像形成光学系１４９は、ライン状の参照光であるライン像を形成する。ライン像形成光学系１４９で形成されたライン状の参照光は、ビームスプリッタ１５０を透過して、撮影光学系１６０の平面１６３上に参照光に係るライン像を形成する。
【００５２】
ビームスプリッタ１５０は、測定光学系２３０を伝搬したライン状の測定光の被検眼Ｅからの戻り光と参照光学系２４０を伝搬したライン状の参照光とを合波させる合波手段である。このビームスプリッタ１５０による合波によって、撮影光学系１６０の平面１６３上では、測定光に係るライン像と参照光に係るライン像とが干渉する。
【００５３】
撮影光学系１６０は、被検眼Ｅ（より詳細に、本実施形態の例では、被検眼Ｅの眼底Ｅｆ）における断層画像を撮影する光学系である。この撮影光学系１６０は、レンズ群１６１、及び、ラインセンサ１６２を含み構成されている。ラインセンサ１６２は、ビームスプリッタ１５０による合波により得られた、ライン状の測定光における戻り光（測定光に係るライン像）とライン状の参照光（参照光に係るライン像）との干渉光を干渉信号として検出する検出手段である。撮影光学系１６０において、平面１６３は、例えば被検眼Ｅの眼底Ｅｆ及び平面１３１４と光学的に共役な平面である。さらに、平面１６３は、レンズ群１６１を介してラインセンサ１６２の受光面とも共役となっているため、被検眼Ｅの眼底Ｒｆから反射・散乱されたライン状の測定光がラインセンサ１６２へと達することになる。
【００５４】
第２の実施形態に係る光干渉断層撮像装置の概略構成は、基本的には、図２に示す第１の実施形態に係る光干渉断層撮像装置１０の概略構成と同様である。但し、図５に示すライン走査型ＯＣＴ光学系１００−２では、図１に示す偏光調整用パドル１４１は構成されないため、第２の実施形態に係る光干渉断層撮像装置１０の概略構成は、図２に示す概略構成のうち、偏光調整駆動部１７５は具備しない形態を採る。
【００５５】
上述した第２の実施形態に係る光干渉断層撮像装置１０では、測定光学系２３０に、被検眼Ｅに対するライン状の測定光における向きの調整を行うイメージローテータ１３５を設けるように構成している。
かかる構成によれば、被検眼Ｅに対するライン状の測定光を所望の向きに調整する場合に、測定光学系２３０に設けたイメージローテータ１３５によって当該調整を行うことができるため、光干渉断層撮像装置全体を傾けたり被検眼自体を傾けたりすることを回避できる。これにより、光干渉断層撮像装置全体を傾ける必要性に基づく装置の大型化を回避するとともに被検者の負担を増加させることなく、被検眼に対するライン状の測定光を所望の向きに調整することができる。さらに、例えば、装置の大型化を回避できることにより、装置の煩雑化も回避でき、また、被検眼自体を傾けることを回避できることにより、被検眼に対するライン状の測定光の向き調整にかかる時間を短くすることも可能になる。
【００５６】
（その他の実施形態）
上述した本発明の実施形態では、検査対象の部位として被検眼Ｅの眼底Ｅｆを適用した例について説明したが、本発明においてはこれに限定されるものではなく、例えば被検眼Ｅの前眼部を検査対象の部位として適用してもよい。
【００５７】
なお、上述した本発明の実施形態は、いずれも本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。即ち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。
【符号の説明】
【００５８】
１０：光干渉断層撮像装置、１００：ライン走査型ＯＣＴ光学系、１１０：ＳＳ光源、１２０：カプラ、１３０：測定光学系、１３１：ライン像形成光学系、１３２：レンズ、１３３：フォーカスレンズ、１３４：ガルバノメトリックミラー、１３５：イメージローテータ、１３６：レンズ、１３７：対物レンズ、１４０：参照光学系、１４１：偏光調整用パドル、１４２：コリメータレンズ、１４３：ＮＤフィルター、１４４：ミラー、１４５：ミラー、１４６：レトロリフレクタ、１４７：ミラー、１４８：ミラー、１４９：ライン像形成光学系、１５０：ビームスプリッタ、１６０撮影光学系、１７１：フォーカス駆動部、１７２：ガルバノ駆動部、１７３：イメージローテータ駆動部、１７４：リフレクタ駆動部、１７５：偏光調整駆動部、２００：制御部、３００：サンプリング部、４００：メモリ、５００：信号処理部、６００：操作入力部、７００：表示部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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