(57)【要約】      （修正有）【課題】再生処理をより適切に行う。【解決手段】内燃機関１の排気浄化装置２０は、排気ガス中の粒子状物質を捕集するように構成されたパティキュレートフィルタ２６と、電子制御ユニット３０と、を備える。パティキュレートフィルタ２６上に捕集されている粒子状物質の結晶度を決定し、フィルタ上に捕集されている粒子状物質をパティキュレートフィルタ２６から燃焼除去するための再生処理における制御目標を粒子状物質の結晶度に基づいて算出し、制御目標に従って再生処理を実行する。【選択図】図１
2020153250.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
排気ガス中の粒子状物質を捕集するように構成されたフィルタと、
電子制御ユニットであって、
前記フィルタ上に捕集されている粒子状物質の結晶度を決定し、
前記フィルタ上に捕集されている粒子状物質を前記フィルタから燃焼除去するための再生処理における制御目標を前記粒子状物質の結晶度に基づいて算出し、
前記制御目標に従って前記再生処理を実行する、
ように構成された電子制御ユニットと、
を備える、内燃機関の排気浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は内燃機関の排気浄化装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
排気ガス中の粒子状物質を捕集するためのフィルタを備え、フィルタ上に捕集されている粒子状物質をフィルタから燃焼除去するための再生処理を行う、内燃機関であって、再生処理中に、フィルタ上に捕集されている粒子状物質の量、すなわちＰＭ捕集量が少なくなるにつれて、排気ガス中の酸素濃度を高くする、内燃機関が公知である（例えば、特許文献１参照）。再生処理によりフィルタ上のＰＭ捕集量が少なくなるにつれて、粒子状物質の燃焼速度が低くなる。このため、再生処理によりＰＭ捕集量をより少なくしようとすると、再生処理を完了するのに必要な時間が過度に長くなるおそれがある。一方、再生処理中に排気ガス中の酸素濃度を高めると、粒子状物質の燃焼速度が高くなる。そこで、特許文献１では、ＰＭ捕集量が少なくなるにつれて排気ガス中の酸素濃度を高め、再生処理に要する時間が短縮されるようにしている。
【０００３】
この点、排気ガス中の酸素濃度を大幅に高めれば、粒子状物質の燃焼速度が大幅に高められ、再生処理による時間が大幅に短縮されると考えられる。しかしながら、粒子状物質の燃焼速度が過度に高くなると、フィルタの温度が過度に高くなり、フィルタが破損するおそれがある。特許文献１では、フィルタの温度が許容値を越えない範囲で、排気ガス中の酸素濃度が高められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１９５００３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１において、再生処理中の排気ガス中の酸素濃度は、粒子状物質の燃焼速度に応じて決定すべきである。この点、粒子状物質の燃焼速度は種々のパラメータに依存する。しかしながら、特許文献１では、再生処理中の排気ガス中の酸素濃度は、再生処理によって除去された粒子状物質の量（ＰＭ再生量）のみに基づいて算出される（段落００４９，図１０等）。このため、特許文献１では、再生処理中に、フィルタの温度が許容値を越えるおそれがあり、又は、フィルタ上の粒子状物質を除去するのに要する時間を十分に短縮できないおそれがある。言い換えると、再生処理が適切に行われないおそれがある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示によれば、排気ガス中の粒子状物質を捕集するように構成されたフィルタと、電子制御ユニットであって、前記フィルタ上に捕集されている粒子状物質の結晶度を決定し、前記フィルタ上に捕集されている粒子状物質を前記フィルタから燃焼除去するための再生処理における制御目標を前記粒子状物質の結晶度に基づいて算出し、前記制御目標に従って前記再生処理を実行する、ように構成された電子制御ユニットと、を備える、内燃機関の排気浄化装置が提供される。
【発明の効果】
【０００７】
再生処理をより適切に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本開示による実施例の内燃機関の概略全体図である。
【図２】本開示による実施例のパティキュレートフィルタの（Ａ）正面図及び（Ｂ）側面断面図である。
【図３】（Ａ）ＰＭ燃焼性とＰＭ結晶度との関係を示す線図、（Ｂ）ＰＭ燃焼性とＰＭ内ＯＨ基数との関係を示す線図である。
【図４】本開示による実施例のＰＭ結晶度の算出手順を説明するための概略図である。
【図５】本開示による実施例の制御目標の算出手順を説明するための概略図である。
【図６】本開示による実施例の再生処理制御ルーチンを実行するためのフローチャートである。
【図７】本開示による実施例の再生前演算ルーチンを実行するためのフローチャートである。
【図８】本開示による実施例の再生中演算ルーチンを実行するためのフローチャートである。
【図９】本開示による別の実施例の制御目標の算出手順を説明するための概略図である。
【図１０】本開示による別の実施例の再生処理制御ルーチンを実行するためのフローチャートである。
【図１１】本開示による別の実施例の再生前演算ルーチンを実行するためのフローチャートである。
【図１２】本開示による別の実施例の再生中演算ルーチンを実行するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
図１を参照すると、本開示による実施例の内燃機関本体１は複数の燃焼室２を備える。本開示による実施例の燃焼室２は、吸気マニホルド３及び吸気ダクト４を介して排気ターボチャージャ５のコンプレッサ５ｃの出口に連結され、コンプレッサ５ｃの入口は吸気導入管６を介してエアクリーナ７に連結される。本開示による実施例の吸気ダクト４内には、吸入空気量を調節するための電気制御式スロットル弁８が配置される。また、本開示による実施例の吸気ダクト４には、吸気ダクト４内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置９が取り付けられる。本開示による実施例の燃焼室２は更に、排気マニホルド１１を介して排気ターボチャージャ５の排気タービン５ｔの入口に連結され、排気タービン５ｔの出口は排気後処理装置２０に連結される。なお、本開示による実施例の排気ターボチャージャ５は過給圧を変更可能に構成される。具体的には、排気タービン５ｔに流入する排気ガスの流速、排気タービン５ｔを迂回する排気ガスの量、コンプレッサ５ｃを迂回する空気の量、などの１つ又は複数が変更され、それによって過給圧が変更される。
【００１０】
本開示による実施例の機関本体１は更に、燃焼室２内にそれぞれ配置された電磁式燃料噴射弁１２及び点火栓１３を備える。本開示による実施例の燃料噴射弁１２は燃焼室２内に燃料を直接噴射する。別の実施例（図示しない）では、燃料噴射弁は吸気ポート内に燃料を噴射するように配置される。また、本開示の実施例による内燃機関本体１は、火花点火式内燃機関から構成される。別の実施例（図示しない）では、内燃機関は圧縮着火式内燃機から構成される。
【００１１】
本開示による実施例では、排気マニホルド１１と吸気マニホルド３とが、排気ガス再循環（以下、ＥＧＲという。）管１４を介して互いに連結され、ＥＧＲ管１４内には電気制御式ＥＧＲ制御弁１５が配置される。また、本開示による実施例のＥＧＲ管１４には、ＥＧＲ管１４内を流れるＥＧＲガスを冷却するための冷却装置１６が取り付けられる。
【００１２】
本開示による実施例の排気後処理装置２０は、排気タービン５ｔの出口に連結された排気管２１と、排気管２１の出口に連結されたケーシング２２と、ケーシング２２内に収容された前段触媒２３と、ケーシング２３の出口に連結された排気管２４と、排気管２４の出口に連結されたケーシング２５と、ケーシング２５内に収容されたパティキュレートフィルタ２６と、ケーシング２５の出口に連結された排気管２７と、を備える。本開示による実施例の排気後処理装置２０は更に、例えば前段触媒２３上流の排気管２１内に二次空気を供給するための二次空気供給装置２８を備える。別の実施例（図示しない）では、二次空気供給装置２８は排気管２４に取り付けられる。
【００１３】
本開示による実施例の電子制御ユニット３０は１又は複数のコンピュータを備える。１又は複数のコンピュータは、双方向性バスによって互いに接続されたＲＯＭ（リードオンリメモリ）、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）、ＣＰＵ（マイクロプロセッサ）、入力ポート、出力ポート、などを含む。
【００１４】
本開示による実施例の電子制御ユニット３０には１又は複数のセンサが接続され、センサの出力が電子制御ユニット３０に入力される。本開示による実施例のセンサの例には、アクセルペダル３９の踏み込み量、すなわちアクセル開度を検出するためのアクセル開度センサ４０、機関回転数を検出するための回転数センサ４１、コンプレッサ５ｃ下流の吸気ダクト４内の圧力、すなわち過給圧を検出するために吸気ダクト４に取り付けられた過給圧センサ４２、吸入空気量を検出するために吸気導入管６に取り付けられたエアフロメータ４３、パティキュレートフィルタ２６に流入する排気ガス中の酸素濃度を検出するために排気管２４に取り付けられた酸素濃度センサ４４、パティキュレートフィルタ２６上流の圧力を検出するためにケーシング２５に取り付けられた圧力センサ４５、パティキュレートフィルタ２６に流入する排気ガスの温度、すなわち入ガス温度を検出するためにケーシング２５に取り付けられた温度センサ４６が含まれる。一方、本開示による実施例の電子制御ユニット３０には、排気ターボチャージャ５、スロットル弁８、燃料噴射弁１２、点火栓１３、ＥＧＲ制御弁１５、二次空気供給装置２８が接続され、これらは電子制御ユニット３０から出力された制御信号に基づいて制御される。
【００１５】
図２（Ａ）及び図２（Ｂ）は本開示による実施例のパティキュレートフィルタ２６の構造を示している。なお、図２（Ａ）はパティキュレートフィルタ２６の正面図を示しており、図２（Ｂ）はパティキュレートフィルタ２６の側面断面図を示している。図２（Ａ）及び図２（Ｂ）に示されるように、本開示による実施例のパティキュレートフィルタ２６はハニカム構造をなしており、互いに平行をなして延びる複数個の排気流通路２６ｉ，２６ｏと、これら排気流通路２６ｉ，２６ｏを互いに隔てる隔壁２６ｐと、を備える。本開示による実施例の排気流通路２６ｉ，２６ｏは、上流端が開放されかつ下流端が栓２６ｄにより閉塞された排気ガス流入通路２６ｉと、上流端が栓２６ｕにより閉塞されかつ下流端が開放された排気ガス流出通路２６ｏとにより構成される。なお、図２（Ａ）においてハッチングを付した部分は栓２６ｕを示している。したがって、排気ガス流入通路２６ｉ及び排気ガス流出通路２６ｏは薄肉の隔壁２６ｐを介して交互に配置される。云い換えると排気ガス流入通路２６ｉ及び排気ガス流出通路２６ｏは各排気ガス流入通路２６ｉが４つの排気ガス流出通路２６ｏによって包囲され、各排気ガス流出通路２６ｏが４つの排気ガス流入通路２６ｉによって包囲されるように配置される。
【００１６】
本開示による実施例の隔壁２６ｐは多孔質材料から形成される。したがって、図２（Ｂ）に矢印で示されるように、排気ガスはまず排気ガス流入通路２６ｉ内に流入し、次いで周囲の隔壁２６ｐ内を通って隣接する排気ガス流出通路２６ｏ内に流出する。本開示による実施例の隔壁２６ｐには、白金、パラジウム、ラジウムのような貴金属触媒が担持されている。
【００１７】
一方、本開示による実施例の前段触媒２３はハニカム構造をなしており、互いに平行をなして延びる複数個の排気流通路と、これら排気流通路を互いに隔てる隔壁と、を備える。本開示による実施例の前段触媒２３の隔壁には白金、パラジウム、ラジウムのような貴金属触媒が担持されている。
【００１８】
さて、排気ガス中に含まれる粒子状物質はパティキュレートフィルタ２６に捕集される。粒子状物質には、例えば固体炭素、有機可溶成分が含まれる。パティキュレートフィルタ２６上に捕集されている粒子状物質の量、すなわちＰＭ捕集量が多くなると、パティキュレートフィルタ２６の圧力損失が増大し、機関出力が低下するおそれがある。そこで、本開示による実施例では、ＰＭ捕集量が推定又は算出され、ＰＭ捕集量ＱＰＭがあらかじめ定められた上限量ＱＰＭＵを越えたときに、パティキュレートフィルタ２６から粒子状物質を除去するための再生処理が行われる。
【００１９】
本開示による実施例の再生処理では、パティキュレートフィルタ２６の温度があらかじめ定められた処理温度（例えば、６００℃）まで上昇され保持されるとともに、二次空気供給装置２８からパティキュレートフィルタ２６に空気が供給される。具体亭には、本開示による実施例では、理論空燃比よりもリッチの空燃比のもとで燃焼が行われる。あるいは、理論空燃比又は理論空燃比よりもリーンの空燃比のもとで燃焼が行われつつ、排気行程に追加の燃料が燃料噴射弁１２から燃焼室２内に噴射される。この追加の燃料は燃焼室２内でほとんど燃焼することなく前段触媒２３に到達し、前段触媒２３で酸化又は燃焼される。いずれにしても、パティキュレートフィルタ２６に流入する排気ガス、すなわち入ガス温度が高められ、それによってパティキュレートフィルタ２６の温度が高く維持される。その結果、パティキュレートフィルタ２６上に捕集されている粒子状物質が速やかに燃焼、除去される。本開示による実施例では、次いで、再生処理によりＰＭ捕集量が下限量以下になると、再生処理が終了される。下限量は一例ではゼロに設定される。
【００２０】
ＰＭ捕集量の推定は例えば次のようにして行われる。すなわち、ＰＭ捕集量の単位時間当たりの増加分が例えば機関負荷及び機関回転数に基づいて算出される。また、ＰＭ捕集量の単位時間当たりの減少分が例えばパティキュレートフィルタ２６の温度及びパティキュレートフィルタ２６に流入する排気ガスの流量、すなわち入ガス流量に基づいて算出される。これら増加分及び減少分が繰り返し積算され、それによってＰＭ捕集量が算出される。別の実施例（図示しない）では、パティキュレートフィルタ２６前後の圧力差を検出する圧力差センサが設けられ、圧力差に基づいてＰＭ捕集量が算出される。なお、入ガス流量はエアフロメータ４３により検出される吸入空気量から算出される。
【００２１】
本開示による実施例では、再生処理中の粒子状物質の燃焼速度であるＰＭ燃焼速度が目標ＰＭ燃焼速度になるように、再生処理が行われる。具体的には、ＰＭ燃焼速度を目標ＰＭ燃焼速度にするのに必要な制御対象の目標値、すなわち制御目標が算出され、制御対象が制御目標になるように再生処理が実行される。本開示による実施例の制御対象には、再生処理中の空気量、空気温度、二次空気量の増加幅、パティキュレートフィルタ２６の昇温幅、空燃比補正量、機関負荷補正量、などが含まれる。なお、空気量は、例えばスロットル弁８及び排気ターボチャージャ５のうちの少なくとも１つを制御することにより制御される。空気温度は、例えば排気ターボチャージャ５を制御して過給圧を制御することにより制御される。パティキュレートフィルタ２６の温度は、例えば追加の燃料の噴射量及び噴射時期のうちの少なくとも１つを制御することにより制御される。また、本開示による実施例の目標ＰＭ燃焼速度は、再生処理によってパティキュレートフィルタ２６の温度が許容温度を越えないようにする、ＰＭ燃焼速度の目標値である。
【００２２】
ところで、パティキュレート２６上に捕集されている粒子状物質は部分的に結晶化する場合があり、パティキュレート２６上に捕集されている粒子状物質の燃焼のしやすさであるＰＭ燃焼性は、パティキュレート２６上に捕集されている粒子状物質の結晶化の程度であるＰＭ結晶度に依存する。すなわち、図３（Ａ）に示されるように、ＰＭ結晶度が高いときにはＰＭ結晶度が低いときに比べて、ＰＭ燃焼性は低い。なお、ＰＭ結晶度は、粒子状物質内に含まれるＯＨ基の数であるＰＭ内ＯＨ基数と相関がある。すなわち、図３（Ｂ）に示されるように、ＰＭ内ＯＨ基数が多いときにはＰＭ内ＯＨ基数が少ないときに比べて、ＰＭ燃焼性は低い。したがって、ＰＭ内ＯＨ基数を算出又は推定することによって、ＰＭ結晶度を算出又は推定することができる。
【００２３】
そこで本開示による実施例では、ＰＭ結晶度が推定又は算出され、ＰＭ結晶度に基づいてＰＭ燃焼速度が推定又は算出され、ＰＭ燃焼速度に基づいて制御目標が算出される。このようにすると、ＰＭ燃焼速度がより正確に算出される。
【００２４】
図４には、本開示による実施例におけるＰＭ結晶度の算出手順が模式的に示される。本開示による実施例では、図４に示されるように、機関回転数及び機関負荷に基づいてＰＭベース結晶度が算出される。また、アクセル開度、吸入空気量、及び過給圧に基づいてＰＭ結晶度補正量が算出される。次いで、ＰＭベース結晶度及びＰＭ結晶度補正量に基づいてＰＭ結晶度が算出される。
【００２５】
本開示による実施例では、再生処理が行われていない機関運転時に、すなわち再生処理前に、ＰＭ結晶度が繰り返し算出され、更新される。一例では、ＰＭ結晶度が算出されるたびに、新たに算出されたＰＭ結晶度と従前のＰＭ結晶度とを加重平均することにより、ＰＭ結晶度が更新される。ＰＭ結晶度は、時間の経過とともに変化しうるので、このようにすると、ＰＭ結晶度をより正確に算出することができ、再生処理中のＰＭ燃焼速度をより正確に算出することができる。
【００２６】
図５には、本開示による実施例における再生処理中の制御目標の算出手順が模式的に示される。図５を参照すると、本開示による実施例では、ＰＭ結晶度、ＰＭ捕集量、酸素量、及び、入ガス温度に基づいてＰＭ燃焼速度が算出される。この場合のＰＭ結晶度は、一例では、再生処理が開始される時点のＰＭ結晶度である。また、ＰＭ捕集量及び入ガス流量に基づいて目標ＰＭ燃焼速度が算出される。次いで、ＰＭ燃焼速度及び目標ＰＭ燃焼速度に基づいて再生処理の制御目標が算出される。
【００２７】
このように本開示による実施例では、ＰＭ結晶度を考慮して算出されたＰＭ燃焼速度に基づいて再生処理が行われる。その結果、再生処理がより適切に行われる。すなわち、例えばパティキュレートフィルタ２６が破損するのをより確実に制限しつつ、パティキュレートフィルタ２６上の粒子状物質をより速やかに除去することができる。
【００２８】
したがって、概念的に表現すると、本開示による実施例の電子制御ユニット３０は、パティキュレートフィルタ２６上に捕集されている粒子状物質の結晶度を決定し、パティキュレートフィルタ２６上に捕集されている粒子状物質をパティキュレートフィルタ２６から燃焼除去するための再生処理における制御目標を粒子状物質の結晶度に基づいて算出し、制御目標に従って再生処理を実行する、ように構成されている。
【００２９】
図６は、上述した本開示による実施例の再生処理を制御するためのルーチンを示している。図６を参照すると、ステップ１００では再生前演算ルーチンが実行される。本開示による実施例の再生前演算ルーチンは図７に示されている。
【００３０】
図７を参照すると、ステップ２００ではＰＭ捕集量が算出又は更新される。続くステップ２０１ではＰＭベース結晶度が算出される。続くステップ２０２ではＰＭ結晶度補正量が算出される。続くステップ２０３では、ＰＭベース結晶度及びＰＭ結晶度補正量からＰＭ結晶度が算出される。
【００３１】
ステップ１００に続くステップ１０１（図６）では、ＰＭ捕集量ＱＰＭが上限量ＱＰＭＵを上回ったか否かが判別される。ＱＰＭ≦ＱＰＭＵのときには次いでステップ１００に戻る。ＱＰＭ＞ＱＰＭＵのときには次いでステップ１０２に進み、再生中演算ルーチンが実行される。本開示による実施例の再生中演算ルーチンは図８に示されている。
【００３２】
図８を参照すると、ステップ２２０では、ＰＭ捕集量が算出される。続くステップ２２１では、ＰＭ燃焼速度が算出される。続くステップ２２２では目標ＰＭ燃焼速度が算出される。続くステップ２２３ではＰＭ燃焼速度及び目標ＰＭ燃焼速度に基づいて制御目標が算出される。
【００３３】
ステップ１０２に続くステップ１０３では、算出された制御目標に従って再生処理が実行される。続くステップ１０４では、ＰＭ捕集量ＱＰＭが下限量ＱＰＭＬを下回ったか否かが判別される。ＱＰＭ≧ＱＰＭＬのときには次いでステップ１０２に戻る。ＱＰＭ＜ＱＰＭＬのときには次いでステップ１０５に進み、再生処理が停止される。次いでステップ１００に戻る。
【００３４】
次に、本開示による別の実施例を説明する。図９には、本開示による別の実施例におけるＰＭ結晶度の算出手順が模式的に示される。図９に示される算出手順は次の点で図４に示される算出手順と相違している。すなわち、図９に示される算出手順では、上述のＰＭベース結晶度及びＰＭ結晶度補正量の他に、ＰＭ結晶度、ＰＭ捕集量、酸素量、及び入ガス温度に基づいてＰＭ結晶度変化量が算出される。次いで、ＰＭベース結晶度、ＰＭ結晶度補正量、及びＰＭ結晶度変化量に基づいてＰＭ結晶度が算出される。
【００３５】
本開示による別の実施例でも、再生処理中にＰＭ捕集量が下限量以下になると、再生処理が終了される。ところが、何らかの理由により、ＰＭ捕集量が下限量以下になる前に再生処理が中断される場合がある。この場合、パティキュレートフィルタ２６上に一定量の粒子状物質が残存することになる。上述のＰＭ結晶度変化量は、この中断された再生処理の実行前後のＰＭ結晶度の変化量であり、パティキュレートフィルタ２６上に残存している粒子状物質の結晶度を表している。
【００３６】
ＰＭ結晶度、すなわちパティキュレートフィルタ２６上の粒子状物質の結晶度は、再生処理が中断されたときにパティキュレートフィルタ２６上に残存した粒子状物質の影響を受けるおそれがある。この場合、再生処理が中断されたときにパティキュレートフィルタ２６上に残存した粒子状物質の結晶度は、中断された再生処理の実行前後のＰＭ結晶度の変化量であるＰＭ結晶度変化量によって表される。
【００３７】
すなわち、本開示による別の実施例では、例えばＮ回目の再生処理が中断されたと仮定すると、Ｎ回目の再生処理の開始時におけるＰＭ結晶度を用いて、Ｎ回目の再生処理についてのＰＭ結晶度変化量が算出され、Ｎ回目の再生処理についてのＰＭ結晶度変化量を用いて、（Ｎ＋１）回目の再生処理の開始時におけるＰＭ結晶度が算出される。その結果、ＰＭ結晶度がより正確に算出され、その後の再生処理におけるＰＭ燃焼速度がより正確に算出される。したがって、再生処理がより適切に実行される。
【００３８】
図１０は、上述した本開示による別の実施例の再生処理を制御するためのルーチンを示している。図１０に示されるルーチンは、次の点で図６に示されるルーチンと相違している。すなわち、図１０に示されるルーチンでは、ステップ１０２に続いてステップ１０２ａに進み、再生処理を継続すべきか否かが判別される。再生処理を継続すべきときには次いでステップ１０３に進む。これに対し、再生処理を中断すべきときにはステップ１０５にジャンプし、再生処理を終了する。
【００３９】
図１１は、本開示による別の実施例の再生前演算ルーチンを示している。図１１に示されるルーチンは、次の点で、図７に示されるルーチンと相違している。すなわち、例えばステップ２０２に続いてステップ２０２ａに進み、前回の再生処理についてのＰＭ結晶度変化量が読み込まれる。このＰＭ結晶度変化量は図１２のルーチンで算出される。次いでステップ２０３に進む。
【００４０】
図１２は、本開示による別の実施例の再生中演算ルーチンを示している。図１２に示されるルーチンは、次の点で、図８に示されるルーチンと相違している。すなわち、例えばステップ２２０に続いてステップ２２０ａに進み、ＰＭ結晶度変化量が算出される。次いでステップ２２１に進む。
【符号の説明】
【００４１】
１    機関本体
２０    排気後処理装置
２６    パティキュレートフィルタ
３０    電子制御ユニット
【図１】
2020153250.tif 000003
【図２】
2020153250.tif 000004
【図３】
2020153250.tif 000005
【図４】
2020153250.tif 000006
【図５】
2020153250.tif 000007
【図６】
2020153250.tif 000008
【図７】
2020153250.tif 000009
【図８】
2020153250.tif 000010
【図９】
2020153250.tif 000011
【図１０】
2020153250.tif 000012
【図１１】
2020153250.tif 000013
【図１２】
2020153250.tif 000014