(57)【要約】      （修正有）【課題】優れた耐候性及び耐ＵＶ性に加え、十分な撥水性および撥油性、滑り性、摩擦耐久性、耐薬品性を有する物品、及びその製造方法の提供。【解決手段】基材と、該基材の表面に、ポリエーテル基含有シラン化合物を含んで成る表面処理剤より形成された層とを含む物品の製造方法であって、ポリエーテル基含有シラン化合物は、イソシアヌル酸ポリエーテル基含有シラン化合物であり、表面処理剤を、湿潤被覆法により基材の表面に適用することを含む、製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、該基材の表面に、ポリエーテル基含有シラン化合物を含んで成る表面処理剤より形成された層とを含む物品の製造方法であって、
上記ポリエーテル基含有シラン化合物は、（α）下記式（α１）又は式（α２）：
【化１】
2020089872.tif 000088
（式中：
Ｒ１はポリエーテル鎖を含む一価の有機基であり、
Ｒ１’はポリエーテル鎖を含む二価の有機基であり、
前記ポリエーテル鎖は、
式：−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数であり、
Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌであり、
各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される鎖であり、
Ｘ１は、独立に、含シラン反応性架橋基であり、
Ｘ２は、独立に、一価の基を表す。）
で表される化合物であり、
上記表面処理剤を、湿潤被覆法により基材の表面に適用することを含む、製造方法。
【請求項２】
前記湿潤被覆法は、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、及びグラビアコーティングから選択される方法である、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記湿潤被覆法は、スプレーコーティングである、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
表面処理剤を基材の表面に適用する前に、前記基材を大気圧プラズマ処理することを含む、請求項１〜３のいずれか１項に製造方法。
【請求項５】
前記大気圧プラズマ処理で用いる放電ガスと反応ガスの流量比は、１：５〜５：１である、請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
前記大気圧プラズマ処理で用いる放電ガスは、アルゴンガス又は窒素ガスである、請求項４又は５に記載の製造方法。
【請求項７】
前記大気圧プラズマ処理で用いる反応ガスは、酸素ガスである、請求項４〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
前記大気圧プラズマ処理の出力は、７００〜８００Ｗである、請求項４〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
前記表面処理剤は、さらに、下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は（Ｅ１）
【化２】
2020089872.tif 000089
［式中、
Ｒｆは、それぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基であり、
ＰＦＰＥは、
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１−（ＯＣＦ２）ｆ１−
（式中、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり、
Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２２のアルキル基であり、
Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又はハロゲン原子であり、
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｎは、（−ＳｉＲ１４ｎＲ１５３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）及び（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ１５が存在し； 
Ｘ１０１は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
Ｘ１０２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり、
ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α’は、１〜９の整数であり；
Ｘ１０５は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、１〜９の整数であり；
Ｘ１０７は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、１〜９の整数であり；
Ｒａ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒであり、
Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり、
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’であり、
Ｒａ’は、Ｒａ３と同意義であり、
Ｒａ３中、Ｚ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ただし、−Ｚ３−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒ毎において、ｐ、ｑ及びｒの和は３であり、式（Ｃ１）及び（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ７２が存在し；
Ｒｂ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒｃ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌ及びｍの和は３であり；
Ｘ１０９は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
δは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
δ’は、１〜９の整数である。
Ｒｄ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３’−ＣＲ８１ｐ’Ｒ８２ｑ’Ｒ８３ｒ’であり、
Ｚ３’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり、
Ｒ８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ３”であり、
Ｒｄ３”は、Ｒｄ３と同意義であり、
Ｒｄ３中、Ｚ３’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり、
Ｒ８２は、−Ｙ３−ＳｉＲ８５ｊＲ８６３−ｊであり、
Ｙ３は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり、
Ｒ８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｊは、（−Ｙ３−ＳｉＲ８５ｊＲ８６３−ｊ）単位毎に独立して、１〜３の整数であり、
Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基であり、
ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
Ｒｅ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ３−ＳｉＲ８５ｊＲ８６３−ｊであり、
Ｒｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基であり、
ｋ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｍ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ただし、式中、少なくとも１つのｑ’は２又は３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ’は２又は３であり；
Ｇ５は、−Ｒ１７−Ｏ−、−Ｒ１７−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮＨ−又は単結合であり、
Ｒ１７は、アルキレン基であり、
Ｚ５は、（ａ５＋ｂ５）価の炭化水素基、又は炭化水素基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を１つ以上有する、炭素数２以上で（ａ５＋ｂ５）価の基であり、
Ｒ１６は、アルキレン基であり、
ａ５は、１以上の整数であり
ｂ５は、１以上の整数であり、
ただし、（ａ５＋ｂ５）は３以上であり、
ｃ５は０又は１である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記表面処理剤は、さらに、ＯＣＦ２ユニットを有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記基材は、ガラス基材である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記物品が、屋外で使用されるガラスである、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記物品が、車載ガラスである、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１４】
基材と、該基材の表面に、ポリエーテル基含有シラン化合物を含んで成る表面処理剤より形成された層とを含む物品であって、
上記ポリエーテル基含有シラン化合物は、（α）下記式（α１）又は式（α２）：
【化３】
2020089872.tif 000090
（式中：
Ｒ１はポリエーテル鎖を含む一価の有機基であり、
Ｒ１’はポリエーテル鎖を含む二価の有機基であり、
前記ポリエーテル鎖は、
式：−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数であり、
Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌであり、
各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される鎖であり、
Ｘ１は、独立に、含シラン反応性架橋基であり、
Ｘ２は、独立に、一価の基を表す。）
で表される化合物である、物品。
【請求項１５】
屋外で使用するための物品である、請求項１４に記載の物品。
【請求項１６】
車輌用、船舶用又は航空機用である、請求項１４又は１５に記載の物品。
【請求項１７】
基材はガラスである、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、表面処理方法及び表面処理物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基材等の基材に撥水性などの機能性を与えるために、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤で基材を処理し、基材の表面に表面処理層を形成することが知られている。
【０００３】
基材の表面に表面処理層が形成された物品の用途の例として、車載用、建材用などが挙げられる。このような用途においては、その表面に汚れ、水滴などが付着しない、また、付着した場合であっても容易に除去できるような機能が求められる。例えば、車載用、建材用に基材の表面を表面処理した物品として、特許文献１には、ガラス基材に、反応性基を有する有機金属化合物を乾式塗布して下引層を形成し、かかる下引層上にフルオロエーテル高分子Ｓｉ化合物を塗布して撥水層を形成した、車載用ガラスが開示されている。特許文献１のガラス基材は、撥水性、滑り性に優れていると記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１０/１２５９６４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基材の表面に表面処理層を有する物品は、特許文献１に記載のような撥水性等に加え、特に屋外で使用される用途においては、例えば車載ガラスとして用いる場合には、高い耐候性、及び高い紫外線耐性（以下「耐ＵＶ性」ともいう）等が求められる。しかしながら、特許文献１においては、これらの機能が十分であるとは言えなかった。
【０００６】
従って、本開示の目的は、優れた耐候性及び耐ＵＶ性に加え、十分な撥水性、撥油性、滑り性、摩擦耐久性、耐薬品性を有する物品、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は、以下の態様を含む。
［１］  基材と、該基材の表面に、ポリエーテル基含有シラン化合物を含んで成る表面処理剤より形成された層とを含む物品の製造方法であって、
上記ポリエーテル基含有シラン化合物は、（α）下記式（α１）又は式（α２）：
【化１】
2020089872.tif 000002
（式中：
Ｒ１はポリエーテル鎖を含む一価の有機基であり、
Ｒ１’はポリエーテル鎖を含む二価の有機基であり、
前記ポリエーテル鎖は、
式：−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数であり、
Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌであり、
各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される鎖であり、
Ｘ１は、独立に、含シラン反応性架橋基であり、
Ｘ２は、独立に、一価の基を表す。）
で表される化合物であり、
上記表面処理剤を、湿潤被覆法により基材の表面に適用することを含む、製造方法。
［２］  前記湿潤被覆法は、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、及びグラビアコーティングから選択される方法である、上記［１］に記載の製造方法。
［３］  前記湿潤被覆法は、スプレーコーティングである、上記［１］又は［２］に記載の製造方法。
［４］  表面処理剤を基材の表面に適用する前に、前記基材を大気圧プラズマ処理することを含む、上記［１］〜［３］のいずれか１つに製造方法。
［５］  前記大気圧プラズマ処理で用いる放電ガスと反応ガスの流量比は、１：５〜５：１である、上記［４］に記載の製造方法。
［６］  前記大気圧プラズマ処理で用いる放電ガスは、アルゴンガス又は窒素ガスである、上記［４］又は［５］のいずれか１つに記載の製造方法。
［７］  前記大気圧プラズマ処理で用いる反応ガスは、酸素ガスである、上記［４］〜［６］のいずれか１つに記載の製造方法。
［８］  前記大気圧プラズマ処理の出力は、７００〜８００Ｗである、上記［４］〜［７］のいずれか１つに記載の製造方法。
［９］  前記表面処理剤は、さらに、下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は（Ｅ１）
【化２】
2020089872.tif 000003
［式中、
Ｒｆは、それぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基であり、
ＰＦＰＥは、
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１−（ＯＣＦ２）ｆ１−
（式中、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり、
Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２２のアルキル基であり、
Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又はハロゲン原子であり、
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｎは、（−ＳｉＲ１４ｎＲ１５３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）及び（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ１５が存在し； 
Ｘ１０１は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
Ｘ１０２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり、
ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α’は、１〜９の整数であり；
Ｘ１０５は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、１〜９の整数であり；
Ｘ１０７は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、１〜９の整数であり；
Ｒａ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒであり、
Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり、
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’であり、
Ｒａ’は、Ｒａ３と同意義であり、
Ｒａ３中、Ｚ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ただし、−Ｚ３−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒ毎において、ｐ、ｑ及びｒの和は３であり、式（Ｃ１）及び（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ７２が存在し；
Ｒｂ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒｃ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌ及びｍの和は３であり；
Ｘ１０９は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
δは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
δ’は、１〜９の整数である。
Ｒｄ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３’−ＣＲ８１ｐ’Ｒ８２ｑ’Ｒ８３ｒ’であり、
Ｚ３’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり、
Ｒ８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ３”であり、
Ｒｄ３”は、Ｒｄ３と同意義であり、
Ｒｄ３中、Ｚ３’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり、
Ｒ８２は、−Ｙ３−ＳｉＲ８５ｊＲ８６３−ｊであり、
Ｙ３は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり、
Ｒ８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｊは、（−Ｙ３−ＳｉＲ８５ｊＲ８６３−ｊ）単位毎に独立して、１〜３の整数であり、
Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基であり、
ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
Ｒｅ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ３−ＳｉＲ８５ｊＲ８６３−ｊであり、
Ｒｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基であり、
ｋ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｍ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ただし、式中、少なくとも１つのｑ’は２又は３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ’は２又は３であり；
Ｇ５は、−Ｒ１７−Ｏ−、−Ｒ１７−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮＨ−又は単結合であり、
Ｒ１７は、アルキレン基であり、
Ｚ５は、（ａ５＋ｂ５）価の炭化水素基、又は炭化水素基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を１つ以上有する、炭素数２以上で（ａ５＋ｂ５）価の基であり、
Ｒ１６は、アルキレン基であり、
ａ５は、１以上の整数であり
ｂ５は、１以上の整数であり、
ただし、（ａ５＋ｂ５）は３以上であり、
ｃ５は０又は１である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む、上記［１］〜［８］のいずれか１つに記載の製造方法。
［１０］  前記表面処理剤は、さらに、ＯＣＦ２ユニットを有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む、上記［１］〜［９］のいずれか１つに記載の製造方法。
［１１］  前記基材は、ガラス基材である、上記［１］〜［１０］のいずれか１つに記載の製造方法。
［１２］  前記物品が、屋外で使用されるガラスである、上記［１］〜［１１］のいずれか１つに記載の製造方法。
［１３］  前記物品が、車載ガラスである、上記［１］〜［１２］のいずれか１つに記載の製造方法。
［１４］  基材と、該基材の表面に、ポリエーテル基含有シラン化合物を含んで成る表面処理剤より形成された層とを含む物品であって、
上記ポリエーテル基含有シラン化合物は、（α）下記式（α１）又は式（α２）：
【化３】
2020089872.tif 000004
（式中：
Ｒ１はポリエーテル鎖を含む一価の有機基であり、
Ｒ１’はポリエーテル鎖を含む二価の有機基であり、
前記ポリエーテル鎖は、
式：−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数であり、
Ｘ１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌであり、
各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される鎖であり、
Ｘ１は、独立に、含シラン反応性架橋基であり、
Ｘ２は、独立に、一価の基を表す。）
で表される化合物である、物品。
［１５］  屋外で使用するための物品である、上記［１４］に記載の物品。
［１６］  車輌用、船舶用又は航空機用である、上記［１４］又は［１５］に記載の物品。
［１７］  基材はガラスである、上記［１４］〜［１６］のいずれか１つに記載の物品。
【発明の効果】
【０００８】
本開示の物品の製造方法によれば、優れた耐候性及び耐ＵＶ性に加え、十分な撥油性、滑り性、摩擦耐久性、耐薬品性を有する物品を提供することができる。本開示の物品は、優れた耐候性及び耐ＵＶ性に加え、十分な撥油性、滑り性、摩擦耐久性、耐薬品性を有することにより、様々な環境、例えば紫外線、風雨、拭き取り等による摩擦に曝される屋外用途においても、撥水性及び撥油性等の防汚性を長期間維持することができる。特に、本開示の物品は、屋外用途、例えば建材、車載品、特に車載ガラスとして優れている。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、撥水基材１〜７の試験例９の評価結果を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本開示は、基材と、該基材の表面に、ポリエーテル基含有シラン化合物を含んで成る表面処理剤より形成された層とを含む物品の製造方法を提供する。
【００１１】
以下、本開示の物品の製造方法について具体的に説明する。
【００１２】
まず、基材を準備する。本開示に使用可能な基材は、好ましくは、少なくともその表面部分に水酸基を有する材料から成るものであってよい。かかる水酸基は、基材を構成する材料が元々有するものであってもよく、別途導入されたものであってもよい。また、該基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
【００１３】
上記基材は、例えばガラス、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体又は合金等の複合体であってよい）等、任意の適切な材料で構成され得る。
【００１４】
一の態様において、上記基材はガラス又はサファイアガラスである。
【００１５】
上記ガラスとしては、表面に官能基（水酸基、アミノ基、チオール基等）を有する無機ガラスや有機ガラス、ソーダライムシリケートガラス等のアルカリ含有ガラスが好ましい。ホウケイ酸ガラス等の無アルカリガラス等を挙げることができる。また、ガラスは、合わせガラス、強化ガラス等であってもよい。
【００１６】
上記ガラスとしては、例えば、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
【００１７】
上記ガラスとしては、車両用、船舶用、航空機用あるいは建築用等に用いられる市販のソーダライムガラスであり得る。
【００１８】
上記基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【００１９】
一の態様において、ガラスとしては、建築用窓ガラスや自動車用窓ガラス等に使用されているフロ−トガラス、特にそのトップ面、あるいはロ−ルアウトガラス等各種無機質の透明性がある板ガラスが好ましい。また、当該ガラスは、無色又は着色、ならびにその種類あるいは色調、他の機能性膜との別面での組み合わせ、形状等に特に限定されるものではない。さらに、当該ガラスは、曲げ板ガラスに加え、各種強化ガラスや強度アップガラスであってもよく、平板や単板で使用でき、あるいは複層ガラスあるいは合わせガラスとしても使用できる。
【００２０】
上記基材に表面処理剤を適用する前に、上記基材に、前処理を施してもよい。かかる前処理の例としては、プラズマ処理、イオンビーム照射が挙げられる。
【００２１】
好ましい態様において、上記前処理は、プラズマ処理であり得る。かかるプラズマ処理は、基材表面に表面処理剤との反応点を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。
【００２２】
上記プラズマ処理は、大気圧下、減圧下または真空下のいずれで行ってもよく、好ましくは、上記プラズマ処理は、大気圧プラズマ処理、より具体的には大気圧プラズマＣＶＤ法である。
【００２３】
上記大気圧プラズマ処理に用いられる装置及び条件は、基材表面を所望の状態にすることができる装置及び条件であれば特に限定されない。
【００２４】
好ましい態様において、上記大気圧プラズマ処理は、ジェット方式大気圧プラズマ放電処理装置又はダイレクト型大気圧プラズマ放電処理装置を用いて行うことができる。上記大気圧プラズマ処理は、好ましくはジェット方式大気圧プラズマ放電処理装置である。
【００２５】
上記ジェット方式の大気圧プラズマ放電処理装置は、プラズマ放電処理部、二つの電源を有する電界印加部、ガス供給部、電極温度調節部を有している装置である。このような大気圧プラズマ放電処理装置は、例えば、国際公開第２０１０／１２５９６４号に記載されている装置であり得る。
【００２６】
上記大気圧プラズマ放電処理装置において、第１電極（例えば、ロール回転電極）と第２電極（例えば、角筒型固定電極群）との間の放電空間（即ち、対向電極間）に、第１電極には第１電源から周波数ω１、電界強度Ｖ１、電流Ｉ１の第１の高周波電界が印加されている。また第２電極にはそれぞれに対応する各第２電源から周波数ω２、電界強度Ｖ２、電流Ｉ２の第２の高周波電界が印加されている。なお、大気圧プラズマ放電処理装置において、ロール回転電極を第２電極とし、角筒型固定電極群を第１電極としてもよい。
【００２７】
上記第１電極には第１電源が接続され、第２電極には第２電源が接続されている。第１電源は第２電源より高い高周波電界強度（Ｖ１＞Ｖ２）を印加することが好ましい。また、周波数はω１＜ω２となる能力を有している。
【００２８】
一の態様において、電流はＩ１＜Ｉ２となり得る。第１の高周波電界の電流Ｉ１は、好ましくは０．３〜２０ｍＡ／ｃｍ２、さらに好ましくは１．０〜２０ｍＡ／ｃｍ２である。また、第２の高周波電界の電流Ｉ２は、好ましくは１０〜１００ｍＡ／ｃｍ２、さらに好ましくは２０〜１００ｍＡ／ｃｍ２である。
【００２９】
上記大気圧プラズマ放電処理装置に設置する第１電源（具体的には、高周波電源）としては、下記表に記載のものが好適に用いられる。
【００３０】
【表１】
2020089872.tif 000005
【００３１】
上記大気圧プラズマ放電処理装置に設置する第２電源（具体的には、高周波電源）としては、下記表に記載のものが好適に用いられる。
【００３２】
【表２】
2020089872.tif 000006
【００３３】
なお、上記電源のうち、＊印はハイデン研究所インパルス高周波電源（連続モードで１００ｋＨｚ）である。それ以外は連続サイン波のみ印加可能な高周波電源である。
【００３４】
本開示においては、このような電界を印加して、均一で安定な放電状態を保つことができる電極を大気圧プラズマ放電処理装置に採用することが好ましい。
【００３５】
上記大気圧プラズマ処理において、対向する電極間に印加する電力は、第２電極（第２の高周波電界）に１Ｗ／ｃｍ２以上の電力（出力密度）を供給し、放電ガスを励起してプラズマを発生させ、エネルギーを薄膜形成ガスに与え、薄膜を形成する。第２電極に供給する電力の上限値としては、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ２、より好ましくは２０Ｗ／ｃｍ２である。下限値は、好ましくは１．２Ｗ／ｃｍ２である。なお、放電面積（ｃｍ２）は、電極において放電が起こる範囲の面積のことを指す。
【００３６】
また、第１電極（第１の高周波電界）にも、１Ｗ／ｃｍ２以上の電力（出力密度）を供給することにより、第２の高周波電界の均一性を維持したまま、出力密度を向上させることができる。これにより、更なる均一高密度プラズマを生成でき、更なる製膜速度の向上と膜質の向上が両立できる。好ましくは５Ｗ／ｃｍ２以上である。第１電極に供給する電力の上限値は、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ２である。
【００３７】
上記高周波電界の波形としては、特に限定されない。連続モードと呼ばれる連続サイン波状の連続発振モードと、パルスモードと呼ばれるＯＮ／ＯＦＦを断続的に行う断続発振モード等があり、そのどちらを採用してもよいが、少なくとも第２電極側（第２の高周波電界）は連続サイン波の方がより緻密で良質な膜が得られるので好ましい。
【００３８】
上記大気圧プラズマ処理において、膜質をコントロールする際には、第２電源側の電力を制御することによっても達成できる。
【００３９】
上記大気圧プラズマ処理に適用できる大気圧プラズマ放電処理装置としては、例えば、Creating Nano Tech. Inc.製、Si-Plasma（登録商標）、エネルコン・インダストリーズ社製、Dyne-A-Mite IT等が挙げられる。さらに、上記以外に、例えば、特開２００４−６８１４３号公報、同２００３−４９２７２号公報、国際公開第０２／４８４２８号パンフレット等に記載されている大気圧プラズマ放電処理装置を挙げることができる。
【００４０】
上記大気圧プラズマ処理で用いられる放電ガスは、例えば、不活性ガス、例えばヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン、窒素等であり得、好ましくはヘリウム、アルゴン、窒素であり、より好ましくはアルゴンである。
【００４１】
上記大気圧プラズマ処理で用いられる反応ガスは、例えば酸素、オゾン、過酸化水素、二酸化炭素、一酸化炭素、水素、メタン、アセチレン、一酸化炭素、二酸化炭素、アンモニア、亜酸化窒素、酸化窒素、二酸化窒素、酸素、水（水蒸気）、フッ素、フッ化水素、トリフルオロアルコール、トリフルオロトルエン、硫化水素、二酸化硫黄、二硫化炭素、塩素等であり、好ましくは酸素である。
【００４２】
一の態様において、上記大気圧プラズマ処理は、ケイ素化合物の存在下で、即ち、ケイ素化合物を上記反応ガス及び放電ガスと共存させて行ってもよい。ケイ素化合物の存在下で大気圧プラズマ処理を行うことにより、表面処理層の機能、特に耐候性及び摩擦耐久性に優れた表面処理層を得ることができる。
【００４３】
分解ガスを適宜選択することで、各種のケイ素炭化物、ケイ素窒化物、ケイ素酸化物、ケイ素ハロゲン化物、ケイ素硫化物を得ることができる。
【００４４】
一の態様において、上記ケイ素化合物を原料化合物として用い、反応ガスに酸素を用いることにより、ケイ素酸化物を得ることができ、また、反応ガスに二酸化炭素を用いることにより、ケイ素炭酸化物が生成する。
【００４５】
上記ケイ素化合物としては、例えば、シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラｔ−ブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ジエチルアミノトリメチルシラン、ジメチルアミノジメチルシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、テトラキスジメチルアミノシラン、テトライソシアナートシラン、テトラメチルジシラザン、トリス（ジメチルアミノ）シラン、トリエトキシフルオロシラン、アリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、ベンジルトリメチルシラン、ビス（トリメチルシリル）アセチレン、１，４−ビストリメチルシリル−１，３−ブタジイン、ジ−ｔ−ブチルシラン、１，３−ジシラブタン、ビス（トリメチルシリル）メタン、シクロペンタジエニルトリメチルシラン、フェニルジメチルシラン、フェニルトリメチルシラン、プロパルギルトリメチルシラン、テトラメチルシラン、トリメチルシリルアセチレン、１−（トリメチルシリル）−１−プロピン、トリス（トリメチルシリル）メタン、トリス（トリメチルシリル）シラン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、Ｍシリケート５１等が挙げられる。
【００４６】
上記大気圧プラズマ処理で用いられる放電ガスと反応ガスの組み合わせは、好ましくは、アルゴンガスと酸素ガスである。
【００４７】
上記大気圧プラズマ処理で用いる放電ガスと反応ガスの流量比は、１：５〜５：１、好ましくは１：３〜３：１、より好ましくは２：３〜３：２であり得る。
【００４８】
上記大気圧プラズマ処理における処理圧力は、２０ｋＰａ〜１１０ｋＰａ程度であり、好ましくは９０ｋＰａ〜１０５ｋＰａであり得る。
【００４９】
上記大気圧プラズマ処理の出力は、例えば７００〜８００Ｗ、好ましくは７２０〜７７０Ｗである。
【００５０】
次に、かかる基材の表面に、表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、表面処理剤から表面処理層を形成する。
【００５１】
本開示の製造方法に用いられる表面処理剤は、イソシアヌル骨格に、フルオロポリエーテル基及び含シラン反応性架橋基を有する化合物（以下、「化合物α」とも称する。）を含む。
【００５２】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
【００５３】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−１０シクロアルキル基、Ｃ３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【００５４】
本明細書において用いられる場合、「有機基」とは、炭素を含有する基を意味する。有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基であり得る。また、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【００５５】
一の態様において、上記化合物αは、下記式（α１）又は式（α２）：
【化４】
2020089872.tif 000007
（式中：
Ｒ１はポリエーテル鎖を含む一価の有機基であり、
Ｒ１’はポリエーテル鎖を含む二価の有機基であり、
前記ポリエーテル鎖は、
式：−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数であり、
Ｘ１０は、独立にＨ、Ｆ又はＣｌであり、
各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される鎖であり、
Ｘ１は、独立に、含シラン反応性架橋基であり、
Ｘ２は、独立に、一価の基を表す。）
で表される化合物であり得る。
【００５６】
Ｒ１としては、ポリエーテル鎖を含む一価の有機基（但し、ウレタン結合を含むものを除く）が好ましい。
【００５７】
Ｒ１’としては、ポリエーテル鎖を含む二価の有機基（但し、ウレタン結合を含むものを除く）が好ましい。
【００５８】
Ｘ１０としては、Ｆが好ましい。
【００５９】
ｍ１１〜ｍ１６は、それぞれ、０〜２００の整数であることが好ましく、０〜１００の整数であることがより好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、１以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましく、１０以上であることが更に好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、２００以下であることが好ましく、１００以下であることがより好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、１０〜２００であることが好ましく、１０〜１００であることがより好ましい。
【００６０】
上記ポリエーテル鎖において、各繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ６Ｆ１２）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ５Ｆ１０）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−及び−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−及び−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。また、−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−及び−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【００６１】
一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。上記ポリエーテル鎖は、好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖又は−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。ｍ１４は、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。
【００６２】
別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−（式中、ｍ１３及びｍ１４は、それぞれ、０〜３０の整数であり、ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、５以上である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖である。ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、１０以上であることが好ましい。上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１３−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−であることが好ましい。一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−（式中、ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖であってもよい。ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。
【００６３】
さらに別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（Ｒｍ１−Ｒｍ２）ｍ１７−で表される基である。式中、Ｒｍ１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、好ましくはＯＣ２Ｆ４である。式中、Ｒｍ２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒｍ１は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、及び−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記ｍ１７は、２以上の整数であり、好ましくは３以上の整数であり、より好ましくは５以上の整数であり、１００以下の整数であり、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ポリエーテル鎖は、好ましくは、−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｍ１７−又は−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｍ１７−である。
【００６４】
さらに別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−（式中、ｍ１５は、１以上２００以下の整数であり、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、及びｍ１６は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６の和は少なくとも１であり、また、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５又はｍ１６を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）で表される基である。ｍ１５は、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６の和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【００６５】
さらに別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−（式中、ｍ１６は、１以上２００以下の整数であり、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、及びｍ１５は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６の和は少なくとも１であり、また、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５又はｍ１６を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）で表される基である。ｍ１６は、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６の和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【００６６】
上記ポリエーテル鎖において、ｍ１６に対するｍ１５の比（以下、「ｍ１５／ｍ１６比」という）は、０．１〜１０であり、好ましくは０．２〜５であり、より好ましくは０．２〜２であり、さらに好ましくは０．２〜１．５であり、さらにより好ましくは０．２〜０．８５である。ｍ１５／ｍ１６比を１０以下にすることにより、表面処理層の滑り性、摩擦耐久性及び耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｍ１５／ｍ１６比がより小さいほど、上記表面処理層の滑り性及び摩擦耐久性はより向上する。一方、ｍ１５／ｍ１６比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｍ１５／ｍ１６比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
【００６７】
上記ポリエーテル鎖は、下記式
式：−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＸ１１２）ｎ１１（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｎ１２（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎ１３（ＯＣＦ２）ｎ１４（ＯＣ４Ｆ８）ｎ１５−
（式中、ｎ１１、ｎ１２、ｎ１３、ｎ１４及びｎ１５は、独立に、０又は１以上の整数であり、
Ｘ１１は独立にＨ、Ｆ又はＣｌであり、
各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される鎖、及び、下記式
式：−（ＯＣＦ２−Ｒ１１）ｆ−
（式中、Ｒ１１は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から選択される基であり、ｆは、２〜１００の整数である）
で表される鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖であってもよい。
【００６８】
Ｘ１１としては、Ｆが好ましい。
【００６９】
ｎ１１〜ｎ１５は、それぞれ、０〜２００の整数であることが好ましい。ｎ１１〜ｎ１５は、合計で、２以上であることが好ましく、５〜３００であることがより好ましく、１０〜２００であることが更に好ましく、１０〜１００であることが特に好ましい。
【００７０】
Ｒ１１は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、及び−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記ｆは、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、式：−（ＯＣ２Ｆ４−Ｒ１１）ｆ−は、好ましくは、式：−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｆ−又は式：−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｆ−である。
【００７１】
上記イソシアヌル化合物において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。上記数平均分子量は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
【００７２】
別の態様において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜６，０００であり得る。
【００７３】
別の態様において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００、より好ましくは６，０００〜１０，０００であり得る。
【００７４】
Ｒ１としては、
式：Ｒ３−（ＯＲ２）ａ−Ｌ−
（式中、（ＯＲ２）ａは上記ポリエーテル鎖であり、
Ｒ３は、アルキル基又はフッ素化アルキル基であり、
Ｌは単結合又は二価の連結基である。）
で表される一価の有機基であることが好ましい。
【００７５】
Ｒ１’としては、
式：−Ｌ’−（ＯＲ２）ａ−Ｌ−
（式中、（ＯＲ２）ａは上記ポリエーテル鎖であり、
Ｌは、独立に、単結合又は二価の連結基であり、
Ｌ’は、独立に、単結合又は二価の連結基であり、
Ｌが式（α２）の右側のイソシアヌル環に結合し、Ｌ’が左側のイソシアヌル環に結合する。）
で表される一価の有機基であることが好ましい。
【００７６】
Ｒ３の炭素数としては、１〜１６が好ましく、１〜８が好ましい。
【００７７】
Ｒ３としては、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜１６のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることが好ましく、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜８のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることがより好ましく、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜６のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることが更に好ましく、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜３のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることが更により好ましく、直鎖の炭素数１〜３のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることが特に好ましい。
【００７８】
Ｒ３は、炭素数１〜１６のフッ素化アルキル基であることが好ましく、ＣＦ２Ｈ−Ｃ１−１５フルオロアルキレン基又は炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基であることが更に好ましい。
【００７９】
炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、又は−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【００８０】
Ｌは、式（α１）のイソシアヌル環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌとしては、単結合、アルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１〜１０の二価の炭化水素基がより好ましい。
【００８１】
Ｌとしては、
式：−（ＣＸ１２１Ｘ１２２）ｏ−（Ｌ１）ｐ−（ＣＸ１２３Ｘ１２４）ｑ−
（式中、Ｘ１２１〜Ｘ１２４は、独立に、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、又は、−ＯＳｉ（ＯＲ１２５）３であり（ここに、３つのＲ１２５は独立に炭素数１〜４のアルキル基である。）、
Ｌ１は、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、又は、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−（各結合の左側がＣＸ１２１Ｘ１２２に結合）、
ｏは０〜１０の整数、
ｐは０又は１、
ｑは１〜１０の整数）
で表される基が更に好ましい。
【００８２】
Ｌ’としては、
−（ＣＸ１２６Ｘ１２７）ｒ−（ＣＸ１２１Ｘ１２２）ｏ−（Ｌ１）ｐ−（ＣＸ１２３Ｘ１２４）ｑ−
（式中、Ｘ１２１〜Ｘ１２４、Ｌ１、ｏ、ｐ及びｑは、上記Ｌにおける規定と同意義であり、
Ｘ１２６及びＸ１２７は、独立に、Ｈ、Ｆ又はＣｌであり、好ましくはＦであり、
ｒは１〜６の整数であり、
−（ＣＸ１２６Ｘ１２７）ｒ−が（ＯＲ２）ａに結合し、（ＣＸ１２３Ｘ１２４）ｑがイソシアヌル環に結合する。）
で表される基が更に好ましい。
【００８３】
Ｌ１としては、−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−が好ましい。
【００８４】
Ｌとしては、
式：−（ＣＦ２）ｍ１１−（ＣＨ２）ｍ１２−Ｏ−（ＣＨ２）ｍ１３−
（式中、ｍ１１は１〜３の整数、ｍ１２は１〜３の整数、ｍ１３は１〜３の整数）
で表される基、
式：−（ＣＦ２）ｍ１４−（ＣＨ２）ｍ１５−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）−（ＣＨ２）ｍ１６−
（式中、ｍ１４は１〜３の整数、ｍ１５は１〜３の整数、ｍ１６は１〜３の整数）
で表される基、
式：−（ＣＦ２）ｍ１７−（ＣＨ２）ｍ１８−
（式中、ｍ１７は１〜３の整数、ｍ１８は１〜３の整数）
で表される基、又は、
式：−（ＣＦ２）ｍ１９−（ＣＨ２）ｍ２０−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ３）３）−（ＣＨ２）ｍ２１−
（式中、ｍ１９は１〜３の整数、ｍ２０は１〜３の整数、ｍ２１は１〜３の整数）
で表される基が特に好ましい。
【００８５】
Ｌとして、特に限定されないが、具体的には、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、−Ｃ４Ｈ８−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−、−（ＣＦ２）ｎ−（ｎは０〜４の整数）、−ＣＨ２−、−Ｃ４Ｈ８−、−（ＣＦ２）ｎ−（ＣＨ２）ｍ−（ｎ、ｍは独立していずれも０〜４の整数）、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ３）３）ＣＨ２−等が挙げられる。
【００８６】
Ｘ１は、一価の含シラン反応性架橋基である。
【００８７】
上記含シラン反応性架橋基は、基材との接着性に寄与する。上記架橋性基は、上記基材の材料と化学的に反応してもよい。
【００８８】
一の態様において、上記含シラン反応性架橋基としては、
式：−Ｌ２−｛Ｓｉ（Ｒａ）ｓ（Ｒｂ）ｔ（Ｒｃ）ｕ（Ｒｄ）ｖ｝ｎ
（式中、Ｌ２は単結合又は二価の連結基、
Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃは、同一又は異なり、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、又は炭素数３〜１０のグリシジル基である。
Ｒｄは、同一又は異なり、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は、シラン結合である。
ｓ、ｔ及びｕは、同一又は異なり０又は１であり、ｖは０〜３の整数であり、ｎは、１〜２０の整数である。ｎが１である場合、ｓ＋ｔ＋ｕは３であり、ｖは０である。ｎが２〜２０である場合、ｓ＋ｔ＋ｕは、同一又は異なり０〜２であり、ｖは、同一又は異なり０〜２であり、ｖが１以上の整数である場合、少なくとも２個のＳｉはＲｄを介して、直鎖、梯子型、環状、又は複環状に結合している。）
で表される基が好ましい。Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃは、Ｓｉに結合している１価の基である。Ｒｄは、２個のＳｉに結合している２価の基である。
【００８９】
Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃは、同一又は異なり、少なくとも１つは、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、又は炭素数１〜１０のアミノ基であり、それ以外は炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、又は炭素数３〜１０のグリシジル基であることが好ましく、更に好ましくは、炭素数１〜４のアルコキシ基である。ｎが２〜２０である場合、ｓ＋ｔ＋ｕは、同一又は異なり、０〜２であり、ｖは０〜２であることが好ましい。
【００９０】
Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃにおいて、ハロゲンとしては、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩが好ましく、Ｃｌがより好ましい。
【００９１】
Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃにおいて、アルコキシ基の炭素数は、１〜５であることが好ましい。上記アルコキシ基は鎖状でも、環状でも、分岐していてもよい。また、水素原子がフッ素原子等に置換されていてもよい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピロキシ基、又はブトキシ基が好ましく、より好ましくは、メトキシ基、又はエトキシ基である。
【００９２】
Ｒｄは、同一又は異なり、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は、シラン結合である。Ｒｄとしては、−Ｏ−、−ＮＨ−、又は、−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。Ｒｄは、２個のＳｉに結合している２価の基であり、Ｒｄによって２以上のケイ素原子がＲｄを介して、直鎖、梯子型、環状、又は複環状に結合することができる。ｎが２以上の整数である場合、ケイ素原子同士で結合していてもよい。
【００９３】
一の態様において、Ｘ１は、式：
−Ｌ２−｛Ｓｉ（Ｒａ）ｓ（Ｒｂ）ｔ（Ｒｃ）ｕ（Ｒｄ’）ｖ｝ｎ
（式中、Ｌ２は単結合又は二価の連結基であり、
Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃは、同一又は異なり、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、又は炭素数３〜１０のグリシジル基であり、
Ｒｄ’は、同一又は異なり、−Ｚ−ＳｉＲｄ１ｐ’Ｒｄ２ｑ’Ｒｄ３ｒ’
（式中、Ｚは、同一又は異なり、単結合又は二価の連結基であり、
Ｒｄ１は、同一又は異なり、Ｒｄ”であり、
Ｒｄ”は、Ｒｄ’と同意義であり、
Ｒｄ’中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
Ｒｄ２は、同一又は異なり、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒｄ３は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｐ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
ｑ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
ｒ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
ただし、ｐ’、ｑ’及びｒ’の和は３である。）
で表される基であり、
ｓ、ｔ及びｕは、同一又は異なり０又は１であり、
ｖは０〜３の整数であり、
ｎは、１〜２０の整数である。）
で表される含シラン反応性架橋基である。
【００９４】
式中、Ｚは、同一又は異なり、単結合又は二価の連結基を表す。
【００９５】
Ｚとして、具体的には、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−、−Ｃ４Ｈ８−等が挙げられる。
【００９６】
式中、Ｒｄ１は、同一又は異なり、Ｒｄ”を表す。Ｒｄ”は、Ｒｄ’と同意義である。
【００９７】
Ｒｄ’中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒｄ’において、Ｒｄ１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒｄ’中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒｄ’中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒｄ’中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。
【００９８】
例えば、下記にＲｄ’中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。
【００９９】
【化５】
2020089872.tif 000008
【０１００】
上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒｄ’中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ３、Ｓｉ４及びＳｉ５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒｄ’中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４及び５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒｄ’中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。
【０１０１】
好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒｄ’中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）又は２個（右式）である。
【０１０２】
【化６】
2020089872.tif 000009
【０１０３】
一の態様において、Ｒｄ’中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個又は２個、好ましくは１個である。
【０１０４】
式中、Ｒｄ２は、同一又は異なり、水酸基又は加水分解可能な基を表す。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
【０１０５】
好ましくは、Ｒｄ２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換又は非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【０１０６】
式中、Ｒｄ３は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１０７】
式中、ｐ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり；ｑ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり；ｒ’は、同一又は異なり、０〜３の整数である。ただし、ｐ’、ｑ’及びｒ’の和は３である。
【０１０８】
好ましい態様において、Ｒｄ中の末端のＲｄ’（Ｒｄ’が存在しない場合、Ｒｄ）において、上記ｑ’は、好ましくは２以上、例えば２又は３であり、より好ましくは３である。
【０１０９】
好ましい態様において、Ｒｄは、末端部に、少なくとも１つの、−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲｄ２ｑ’Ｒｄ３ｒ’）２又は−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲｄ２ｑ’Ｒｄ３ｒ’）３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲｄ２ｑ’Ｒｄ３ｒ’）３を有し得る。式中、（−Ｚ−ＳｉＲｄ２ｑ’Ｒｄ３ｒ’）の単位は、好ましくは（−Ｚ−ＳｉＲｄ２３）である。さらに好ましい態様において、Ｒｄの末端部は、すべて−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲｄ２ｑ’Ｒｄ３ｒ’）３ことが好ましく、より好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲｄ２３）３であり得る。末端部の各Ｓｉに結合したＲｄ２を多くするほど、基材への密着性が高くなり、優れた耐久性を得ることができる。
【０１１０】
好ましい態様において、式中、水酸基又は加水分解可能な基を有するＳｉ原子の数は、式（α１）においては、好ましくは１〜６個、より好ましくは２〜４個、さらに好ましくは３個であり得、式（α２）においては、好ましくは２〜１２個、より好ましくは４〜８個、さらに好ましくは６個であり得る。
【０１１１】
好ましい態様において、ｖは３であり、Ｒｄは、それぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲｄ２ｑ’Ｒｄ３ｒ’である。
【０１１２】
Ｌ２は、式（α１）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ２としては、単結合、アルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１〜１０の二価の炭化水素基がより好ましい。
【０１１３】
Ｌ２として、具体的には、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、−Ｃ４Ｈ８−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−、−Ｃ４Ｈ８−等が挙げられる。
【０１１４】
上記含シラン反応性架橋基としては、−Ｌ２−ＳｉＲ５３、−Ｌ２−Ｓｉ（ＯＲ６）３、−Ｌ２−Ｓｉ（ＮＲ６２）３、−Ｌ２−Ｓｉ（ＯＣＯＲ６）３（各式中、Ｌ２は上述のとおり、Ｒ５はハロゲン原子、Ｒ６は独立に炭素数１〜４のアルキル基）が挙げられる。
【０１１５】
一の態様において、上記含シラン反応性架橋基としては、
式：−Ｌ６−｛Ｃ（Ｒａ６）ｓ６（Ｒｂ６）ｔ６（Ｒｃ６）ｕ６（Ｒｄ６）ｖ６｝ｎ６
（式中、Ｌ６は単結合又は二価の連結基、
Ｒａ６、Ｒｂ６及びＲｃ６は、同一又は異なり、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、炭素数３〜１０のグリシジル基、ＯＣＯＲ６７（式中、Ｒ６７は、炭素数１〜６のアルキル基）、ＯＨ又は−Ｙ６−ＳｉＲ６５ｊ６Ｒ６６３−ｊ６である。
Ｒｄ６は、同一又は異なり、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は、−Ｚ６−ＣＲ６１ｐ６Ｒ６２ｑ６Ｒ６３ｒ６である。
Ｚ６は、同一又は異なり、酸素原子又は２価の有機基である。
式中、Ｒ６１は、同一又は異なり、Ｒｄ６’を表す。
Ｒｄ６’は、Ｒｄ６と同意義である。
Ｒｄ６中、Ｚ６基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。
Ｒ６２は、同一又は異なり、−Ｙ６−ＳｉＲ６５ｊ６Ｒ６６３−ｊ６である。
Ｙ６は、同一又は異なり、２価の有機基である。
Ｒ６５は、同一又は異なり、水酸基又は加水分解可能な基である。
Ｒ６６は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基である。
ｊ６は、（−Ｙ６−ＳｉＲ６５ｊ６Ｒ６６３−ｊ６）単位毎に独立して、１〜３の整数である。
Ｒ６３は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基である。
ｐ６は、同一又は異なり、０〜３の整数である。
ｑ６は、同一又は異なり、０〜３の整数である。
ｒ６は、同一又は異なり、０〜３の整数である。
ｓ６、ｔ６及びｕ６は、同一又は異なり０又は１であり、ｖ６は０〜３の整数であり、ｎ６は、１〜２０の整数である。
ただし、式中、少なくとも２つの（−Ｙ６−ＳｉＲ６５ｊ６Ｒ６６３−ｊ６）が存在する。）
で表される基が好ましい。
【０１１６】
Ｌ６は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ６としては、単結合、アルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１〜１０の二価の炭化水素基がより好ましい。
【０１１７】
Ｌ６として、具体的には、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、−Ｃ４Ｈ８−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−、−Ｃ４Ｈ８−等が挙げられる。
【０１１８】
Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒａ６、Ｒｂ６及びＲｃ６において、ハロゲンとしては、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩが好ましく、Ｃｌがより好ましい。
【０１１９】
Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒａ６、Ｒｂ６及びＲｃ６において、アルコキシ基の炭素数は、１〜５であることが好ましい。上記アルコキシ基は鎖状でも、環状でも、分岐していてもよい。また、水素原子がフッ素原子等に置換されていてもよい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピロキシ基、又はブトキシ基が好ましく、より好ましくは、メトキシ基、又はエトキシ基である。
【０１２０】
上記Ｚ６は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ−（式中、ｇは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）、又は、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、及びＣ２−６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０１２１】
式中、Ｒ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ６’を表す。Ｒｄ６’は、Ｒｄ６と同意義である。
【０１２２】
Ｒｄ６中、Ｚ６基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒｄ６において、Ｒ６１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒｄ６中にＺ６基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ６基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒｄ６中のＺ６基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒｄ６中において直鎖状に連結される−Ｚ６−Ｃ−の繰り返し数と等しくなる。
【０１２３】
好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒｄ６中のＺ６基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）又は２個（右式）である。
【化７】
2020089872.tif 000010
【０１２４】
一の態様において、Ｒｄ６中のＺ６基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個又は２個、好ましくは１個である。
【０１２５】
式中、Ｒ６２は、−Ｙ６−ＳｉＲ６５ｊ６Ｒ６６３−ｊ６を表す。
【０１２６】
Ｙ６は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表す。
【０１２７】
好ましい態様において、Ｙ６は、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ’−（式中、ｇ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）又は、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ’−（式中、ｉ’は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、及びＣ２−６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０１２８】
一の態様において、Ｙ６は、Ｃ１−６アルキレン基又は−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ’−であり得る。Ｙが上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【０１２９】
上記Ｒ６５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基を表す。上記「加水分解可能な基」としては、上記と同様のものが挙げられる。
【０１３０】
好ましくは、Ｒ６５は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換又は非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはエチル基又はメチル基、特にメチル基を表す）である。
【０１３１】
上記Ｒ６６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１３２】
ｊ６は、（−Ｙ−ＳｉＲ６５ｊ６Ｒ６６３−ｊ６）単位毎に独立して、１〜３の整数を表し、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。
【０１３３】
上記Ｒ６３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１３４】
式中、ｐ６は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ６は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ６は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ６、ｑ６及びｒ６の和は３である。
【０１３５】
好ましい態様において、Ｒｄ６中の末端のＲｄ６’（Ｒｄ６’が存在しない場合、Ｒｄ６それ自体）において、上記ｑ６は、好ましくは２以上、例えば２又は３であり、より好ましくは３である。
【０１３６】
一の態様において、Ｘ１基は、式：
−Ｌ２−｛Ｓｉ（Ｒａ）ｓ（Ｒｂ）ｔ（Ｒｃ）ｕ（Ｒｄ）ｖ｝ｎ、又は
−Ｌ６−｛Ｃ（Ｒａ６）ｓ６（Ｒｂ６）ｔ６（Ｒｃ６）ｕ６（Ｒｄ６）ｖ６｝ｎ６
（式中、各記号は、上記と同意義である。）
で表される基である。
【０１３７】
一の態様において、Ｘ２は、独立に、上記ポリエーテル鎖を含む一価の有機基であってよい。上記有機基の好適な基は、Ｒ１と同じである。
【０１３８】
別の態様において、Ｘ２は、独立に、上記含シラン反応性架橋基であってもよい。
【０１３９】
別の態様において、Ｘ２は、独立に、シリコーン残基、シルセスキオキサン残基及びシラザン基からなる群より選択される少なくとも１種の基であってもよい。
【０１４０】
上記シリコーン残基としては、次の基が挙げられる。
【０１４１】
【化８】
2020089872.tif 000011
【０１４２】
【化９】
2020089872.tif 000012
【０１４３】
【化１０】
2020089872.tif 000013
【０１４４】
【化１１】
2020089872.tif 000014
【０１４５】
【化１２】
2020089872.tif 000015
【０１４６】
各式中、Ｌ２は単結合又は二価の連結基、ｎは１〜２０の整数、ｍは０〜１０の整数、Ｒ３１は、各々独立して、一価の基であり、各基が有するＲ３１のうち、少なくとも１つは反応性基である。
【０１４７】
各基に含まれる複数のＲ３１は、各々独立して、一価の基であり、上記反応性基であってもよいし、上記反応性基以外の基であってもよい。但し、各基に含まれる複数のＲ３１のうち、少なくとも１つは、上記反応性基である。
【０１４８】
上記反応性基としては、Ｈ、ハロゲン原子又は−ＯＲ３２（Ｒ３２は炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数６〜２０のアリール基）、−Ｌ３−ＳｉＲ５３（Ｌ３は単結合又は炭素数１〜１０のアルキレン基、Ｒ５はハロゲン原子）、−Ｌ３−Ｓｉ（ＯＲ６）３（Ｌ３は上記のとおり、Ｒ６は独立に炭素数１〜４のアルキル基）、−Ｌ３−Ｓｉ（ＮＲ６２）３（Ｌ３及びＲ６は上記のとおり）、−Ｌ３−Ｓｉ（ＯＣＯＲ６）３（Ｌ３及びＲ６は上記のとおり）及びこれらの基のいずれかを含む基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
【０１４９】
上記反応性基以外の基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＣＯＮＲｋＣＯＲｌ（Ｒｋ及びＲｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、及び、ハロゲン化アリール基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
【０１５０】
Ｌ２は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ２として好適なものは、上述したとおりである。
【０１５１】
上記シリコーン残基としては、また、次の基も挙げられる。
【０１５２】
【化１３】
2020089872.tif 000016
【０１５３】
【化１４】
2020089872.tif 000017
【０１５４】
【化１５】
2020089872.tif 000018
【０１５５】
【化１６】
2020089872.tif 000019
【０１５６】
【化１７】
2020089872.tif 000020
【０１５７】
【化１８】
2020089872.tif 000021
【０１５８】
【化１９】
2020089872.tif 000022
【０１５９】
【化２０】
2020089872.tif 000023
【０１６０】
【化２１】
2020089872.tif 000024
【０１６１】
各式中、Ｌ２は単結合又は二価の連結基、Ｒ３４は、各々独立して、一価の基であり、各基が有するＲ３４のうち、少なくとも１つは反応性基である。
【０１６２】
各基に含まれる複数のＲ３４は、各々独立して、一価の基であり、上記反応性基であってもよいし、上記反応性基以外の基であってもよい。但し、各基に含まれる複数のＲ３４のうち、少なくとも１つは、上記反応性基である。
【０１６３】
上記反応性基としては、−Ｈ、−ＯＲ３５（Ｒ３５は炭素数１〜４のアルキル基）、ハロゲン原子、−ＯＨ、−Ｏ−ＣＲ３５＝ＣＨ２（Ｒ３５は上記のとおり）、−ＯＣＯＲ３５（Ｒ３５は上記のとおり）、−ＯＣＯＯＲｊ（Ｒｊはアルキル基又はハロゲン化アルキル基）、−ＮＲ３５２（Ｒ３５は上記のとおり）及びこれらの基のいずれかを含む基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
【０１６４】
上記反応性基以外の基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＣＯＮＲｋＣＯＲｌ（Ｒｋ及びＲｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、及び、ハロゲン化アリール基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
【０１６５】
Ｌ２は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ２として好適なものは、上述したとおりである。
【０１６６】
上記シルセスキオキサン残基としては、次の基が挙げられる。
【０１６７】
【化２２】
2020089872.tif 000025
【０１６８】
【化２３】
2020089872.tif 000026
【０１６９】
【化２４】
2020089872.tif 000027
【０１７０】
【化２５】
2020089872.tif 000028
【０１７１】
【化２６】
2020089872.tif 000029
【０１７２】
各式中、Ｌ２は単結合又は二価の連結基、Ｒ３７は、各々独立して、一価の基であり、各基が有するＲ３７のうち、少なくとも１つは反応性基、ｐは独立して０〜５０００の整数である。
【０１７３】
各基に含まれる複数のＲ３７は、各々独立して、一価の基であり、上記反応性基であってもよいし、上記反応性基以外の基であってもよい。但し、各基に含まれる複数のＲ３７のうち、少なくとも１つは、上記反応性基である。
【０１７４】
上記反応性基としては、−Ｈ、−ＯＲ３５（Ｒ３５は炭素数１〜４のアルキル基）、ハロゲン原子、−ＯＨ、−Ｏ−ＣＲ３５＝ＣＨ２（Ｒ３５は上記のとおり）、−ＯＣＯＲ３５（Ｒ３５は上記のとおり）、−ＯＣＯＯＲｊ（Ｒｊはアルキル基又はハロゲン化アルキル基）、−ＮＲ３５２（Ｒ３５は上記のとおり）及びこれらの基のいずれかを含む基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
【０１７５】
上記反応性基以外の基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＣＯＮＲｋＣＯＲｌ（Ｒｋ及びＲｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、及び、ハロゲン化アリール基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
【０１７６】
Ｌ２は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ２として好適なものは、上述したとおりである。
【０１７７】
Ｘ２は、上述したポリエーテル鎖を含む一価の有機基、含シラン反応性架橋基、シリコーン残基、シルセスキオキサン残基及びシラザン基とは異なる基であってもよい。
【０１７８】
すなわち、Ｘ２は、独立に、Ｈ、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＯＣＯＯＲｊ（Ｒｊはアルキル基又はハロゲン化アルキル基）、−ＣＯＮＲｋＣＯＲｌ（Ｒｋ及びＲｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、ハロゲン化アリール基、シリコーン残基（但し反応性基を有するものを除く）及びシルセスキオキサン残基（但し反応性基を有するものを除く）からなる群より選択される少なくとも１種であってよい。
【０１７９】
上記シリコーン残基（但し反応性基を有するものを除く）としては、次の基が挙げられる。なお、上記反応性基とは、Ｒ３７を構成し得る反応性基として例示したものである。
【０１８０】
【化２７】
2020089872.tif 000030
【０１８１】
【化２８】
2020089872.tif 000031
【０１８２】
【化２９】
2020089872.tif 000032
【０１８３】
【化３０】
2020089872.tif 000033
【０１８４】
【化３１】
2020089872.tif 000034
【０１８５】
【化３２】
2020089872.tif 000035
【０１８６】
【化３３】
2020089872.tif 000036
【０１８７】
【化３４】
2020089872.tif 000037
【０１８８】
【化３５】
2020089872.tif 000038
【０１８９】
各式中、Ｌ４は単結合又は二価の連結基、Ｒ４１は、各々独立して、一価の反応性基以外の基である。
【０１９０】
上記反応性基以外の基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＣＯＮＲｋＣＯＲｌ（Ｒｋ及びＲｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、及び、ハロゲン化アリール基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
【０１９１】
Ｌ４は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ４としては、単結合、アルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１〜１０の二価の炭化水素基がより好ましい。
【０１９２】
Ｌ４として、具体的には、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、−Ｃ４Ｈ８−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−等が挙げられる。
【０１９３】
上記シルセスキオキサン残基（但し反応性基を有するものを除く）としては、次の基が挙げられる。なお、上記反応性基とは、Ｒ３７を構成し得る反応性基として例示したものである。
【０１９４】
【化３６】
2020089872.tif 000039
【０１９５】
【化３７】
2020089872.tif 000040
【０１９６】
【化３８】
2020089872.tif 000041
【０１９７】
【化３９】
2020089872.tif 000042
【０１９８】
【化４０】
2020089872.tif 000043
【０１９９】
各式中、Ｌ４は単結合又は二価の連結基、Ｒ４１は、各々独立して、一価の反応性基以外の基、ｐは独立して０〜５０００の整数である。
【０２００】
上記反応性基以外の基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＣＯＮＲｋＣＯＲｌ（Ｒｋ及びＲｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、及び、ハロゲン化アリール基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
【０２０１】
Ｌ４は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ４として好適なものは、上述したとおりである。
【０２０２】
上記シラザン基としては、次の基が挙げられる。
【０２０３】
【化４１】
2020089872.tif 000044
【０２０４】
【化４２】
2020089872.tif 000045
【０２０５】
各式中、Ｌ５は単結合又は二価の連結基、ｍは２〜１００の整数、ｎは１００以下の整数、Ｒ４２は、各々独立して、Ｈ、炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、アルキルシリル基、アルキルシアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基である。
【０２０６】
Ｌ５は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ５としては、単結合、アルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１〜１０の二価の炭化水素基がより好ましい。
【０２０７】
Ｌ５として、具体的には、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、−Ｃ４Ｈ８−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−等が挙げられる。
【０２０８】
上記シラザン基としては、具体的には、次の基が挙げられる。
【０２０９】
【化４３】
2020089872.tif 000046
【０２１０】
【化４４】
2020089872.tif 000047
【０２１１】
【化４５】
2020089872.tif 000048
【０２１２】
【化４６】
2020089872.tif 000049
【０２１３】
【化４７】
2020089872.tif 000050
【０２１４】
【化４８】
2020089872.tif 000051
【０２１５】
【化４９】
2020089872.tif 000052
【０２１６】
上記化合物において、Ｒ１の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。
【０２１７】
上記化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０２〜１×１０５の平均分子量を有し得る。なかでも、好ましくは２，０００〜３０，０００、より好ましくは２，５００〜１２，０００の平均分子量を有することが、耐ＵＶ性及び摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本開示において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
【０２１８】
一の態様において、化合物αは、上記式（α１）で表される化合物である。
【０２１９】
別の態様において、化合物αは、上記式（α１）で表される化合物と式（α２）で表される化合物の混合物であってもよい。当該混合物中、式（α１）で表される化合物は、式（α１）で表される化合物と式（α２）で表される化合物の合計に対して、好ましくは１ｍｏｌ％以上、より好ましくは１０ｍｏｌ％以上、さらに好ましくは５０ｍｏｌ％以上、さらにより好ましくは８０ｍｏｌ％以上、例えば９０ｍｏｌ％以上、９５ｍｏｌ％以上又は９９ｍｏｌ％以上であり得、上限は特に限定されず、１００ｍｏｌ％未満、例えば、９９ｍｏｌ％以下、９５ｍｏｌ％以下、９０ｍｏｌ％以下、８５ｍｏｌ％以下又は８０ｍｏｌ％以下であり得る。
【０２２０】
本開示の表面処理剤中、上記化合物αは、０．０１質量％〜９９．９質量％、好ましくは０．１質量％〜５０質量％、より好ましくは０．１質量％〜３０質量％、さらに好ましくは０．１質量％〜２０質量％、例えば１質量％〜３０質量％または５質量％〜２０質量％含まれ得る。また、本開示の表面処理剤中、上記化合物αは、溶剤を除いた成分（化合物αも含む）に対して、１００モル％（即ち、化合物αのみを含む）であってもよく、１モル％〜９９．９モル％、好ましくは１０モル％〜９９モル％、より好ましくは３０モル％〜９９モル％、さらに好ましくは５０モル％〜９８モル％、例えば６０モル％〜９５モル％、７０モル％〜９５モル％、または８０モル％〜９５モル％であってもよい。
【０２２１】
上記したイソシアヌル化合物は、例えば、国際公開第２０１８／０５６４１０号に記載の方法により製造することができる。
【０２２２】
一の態様において、上記表面処理剤は、さらに、化合物α以外のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（以下、「化合物β」とも称する。）を含んでいてもよい。
【０２２３】
上記化合物βは、パーフルオロポリエーテル基と、水酸基又は加水分解可能な基を有するＳｉとを有する。ただし、上記したように、化合物βは、化合物αに該当するものを除く。
【０２２４】
一の態様において、上記パーフルオロポリエーテル基は、下記式
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１−（ＯＣＦ２）ｆ１−
で表される基である。式中、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
【０２２５】
好ましい態様において、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数であり、ｆ１は、１以上２００以下の整数である。好ましくは、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【０２２６】
パーフルオロポリエーテル基中の繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ６Ｆ１２）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ５Ｆ１０）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−及び−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−及び−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。また、−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−及び−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【０２２７】
別の態様において、パーフルオロポリエーテル基は、それぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ２−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ２−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ２−（ＯＣＦ２）ｆ２−（式中、ｃ２及びｄ２は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ２及びｆ２は、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｃ２、ｄ２、ｅ２又はｆ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、パーフルオロポリエーテル基は、それぞれ独立して、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ２−（ＯＣＦ２）ｆ２−である。一の態様において、ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ２−（ＯＣＦ２）ｆ２−（式中、ｅ２及びｆ２は、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅ２又はｆ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。
【０２２８】
さらに別の態様において、パーフルオロポリエーテル基は、それぞれ独立して、−（Ｒ１０６−Ｒ１０７）ｑ１−で表される基である。式中、Ｒ１０６は、ＯＣＦ２又はＯＣＦ２である。式中、Ｒ１０７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ１０７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、及び−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記ｑ１は、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、パーフルオロポリエーテル基は、好ましくは、それぞれ独立して、−（ＯＣＦ２−ＯＣ３Ｆ６）ｑ１−又は−（ＯＣＦ２−ＯＣ４Ｆ８）ｑ１−である。
【０２２９】
好ましい態様において、上記化合物βのパーフルオロポリエーテル基は、少なくとも１つの、好ましくは５以上、より好ましくは１０以上のＯＣＦ２ユニットを有する。
【０２３０】
水酸基又は加水分解可能な基を有するＳｉにおける「加水分解可能な基」とは、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ２、−ＮＲ２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換又は非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
【０２３１】
一の態様において、化合物（β）は、下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は（Ｅ１）で表される化合物であり得る。
【化５０】
2020089872.tif 000053
【０２３２】
上記式中、Ｒｆは、それぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。
【０２３３】
上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。
【０２３４】
上記Ｒｆは、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ−Ｃ１−１５フルオロアルキレン基又は炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である。
【０２３５】
該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、又は−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【０２３６】
上記式中、ＰＦＰＥは、パーフルオロポリエーテル基を表す。パーフルオロポリエーテル基は、上記の通りである。
【０２３７】
上記式中、Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２２のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表す。
【０２３８】
上記式中、Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基を表す。
【０２３９】
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ２、−ＮＲ２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換又は非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
【０２４０】
上記式中、Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又はハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
【０２４１】
上記式中、Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【０２４２】
上記式中、ｎは、（−ＳｉＲ１４ｎＲ１５３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、好ましくは０〜２の整数であり、より好ましくは０である。ただし、式中、すべてのｎが同時に０になることはない。換言すれば、式中、少なくとも１つはＲ１５が存在する。
【０２４３】
上記式中、ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数である。好ましい態様において、ｔは１〜６の整数である。別の好ましい態様において、ｔは２〜１０の整数であり、好ましくは２〜６の整数である。
【０２４４】
上記式中、Ｘ１０２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基を表す。Ｘ１０２は、好ましくは、炭素数１〜２０のアルキレン基であり、より好ましくは、−（ＣＨ２）ｕ−（式中、ｕは、０〜２の整数である）である。
【０２４５】
上記式中、Ｒａ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒを表す。
【０２４６】
上記Ｚ３は、好ましくは、２価の有機基である。好ましい態様において、上記Ｚ３は、式（Ｃ１）又は式（Ｃ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒａ３が結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。
【０２４７】
上記Ｚ３は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）又は、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基、特に好ましくはＣ２−３アルキレン基、例えば−ＣＨ２ＣＨ２−である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、及びＣ２−６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０２４８】
式中、Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表す。Ｒａ’は、Ｒａ３と同意義である。
【０２４９】
Ｒａ３中、Ｚ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒａ３において、Ｒ７１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒａ３中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒａ３中のＺ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒａ３中において直鎖状に連結される−Ｚ３−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。
【０２５０】
好ましい態様において、「Ｒａ３中のＺ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）又は２個（右式）である。換言すれば、式（Ｃ１）及び（Ｃ２）中のＸ１０７に結合するＳｉを含む−Ｓｉ−Ｒａ３部分において、左式はＳｉが２個、右式はＳｉが３個連結している。
【化５１】
2020089872.tif 000054
好ましい態様において、「Ｒａ３中のＺ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個又は２個、好ましくは１個である。
【０２５１】
好ましい態様において、ｋは３であり、「Ｒａ３中のＺ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において１個である。
【０２５２】
式中、Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基を表す。
【０２５３】
好ましくは、Ｒ７２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換又は非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【０２５４】
式中、Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０２５５】
式中、ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ、ｑ及びｒの和は３である。
【０２５６】
好ましい態様において、Ｒａ３中の末端のＲａ３’（Ｒａ３’が存在しない場合、Ｒａ３それ自体）において、上記ｑは、好ましくは２以上、例えば２又は３であり、より好ましくは３である。
【０２５７】
好ましい態様において、Ｒａ３は、末端部に、少なくとも１つの、−Ｓｉ（−Ｚ３−ＳｉＲ７２ｑＲ７３ｒ）２又は−Ｓｉ（−Ｚ３−ＳｉＲ７２ｑＲ７３ｒ）３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ３−ＳｉＲ７２ｑＲ７３ｒ）３を有し得る。式中、（−Ｚ３−ＳｉＲ７２ｑＲ７３ｒ）の単位は、好ましくは（−Ｚ３−ＳｉＲ７２３）である。さらに好ましい態様において、Ｒａの末端部は、すべて−Ｓｉ（−Ｚ３−ＳｉＲ７２ｑＲ７３ｒ）３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ３−ＳｉＲ７２３）３であり得る。
【０２５８】
上記式（Ｃ１）及び（Ｃ２）においては、少なくとも１つのＲ７２が存在する。
【０２５９】
上記式中、Ｒｂ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基を表す。
【０２６０】
上記Ｒｂ３は、好ましくは、水酸基、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、−Ｎ（Ｒ）２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換又は非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒｃは、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換又は非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【０２６１】
上記式中、Ｒｃ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０２６２】
式中、ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ、ｌ及びｍの和は、３である。
【０２６３】
上記式中、Ｒｄ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３’−ＣＲ８１ｐ’Ｒ８２ｑ’Ｒ８３ｒ’を表す。
【０２６４】
式中、Ｚ３’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基を表す。
【０２６５】
上記Ｚ３’は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ−（式中、ｇは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）、又は、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基、さらに好ましくはＣ２−３アルキレン基であり、例えばＣＨ２ＣＨ２である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、及びＣ２−６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０２６６】
式中、Ｒ８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ３”を表す。Ｒｄ３”は、Ｒｄ３と同意義である。
【０２６７】
Ｒｄ３中、Ｚ３’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒｄ３において、Ｒ８１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒｄ３中にＺ３’基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ３’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒｄ３中のＺ３’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒｄ３中において直鎖状に連結される−Ｚ３’−Ｃ−の繰り返し数と等しくなる。
【０２６８】
好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒｄ３中のＺ３’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）又は２個（右式）である。
【化５２】
2020089872.tif 000055
【０２６９】
一の態様において、Ｒｄ３中のＺ３’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個又は２個、好ましくは１個である。
【０２７０】
式中、Ｒ８２は、−Ｙ３−ＳｉＲ８５ｊＲ８６３−ｊを表す。
【０２７１】
Ｙ３は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表す。
【０２７２】
好ましい態様において、Ｙ３は、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ’−（式中、ｇ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）又は、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ’−（式中、ｉ’は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、及びＣ２−６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０２７３】
一の態様において、Ｙ３は、Ｃ１−６アルキレン基又は−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ’−であり得る。Ｙ３が上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【０２７４】
上記Ｒ８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基を表す。上記「加水分解可能な基」としては、上記と同様のものが挙げられる。
【０２７５】
好ましくは、Ｒ８５は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換又は非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはエチル基又はメチル基、特にメチル基を表す）である。
【０２７６】
上記Ｒ８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０２７７】
ｊは、（−Ｙ３−ＳｉＲ８５ｊＲ８６３−ｊ）単位毎に独立して、１〜３の整数を表し、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。
【０２７８】
上記Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基を表す。Ｒ８３は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０２７９】
式中、ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ’、ｑ’及びｒ’の和は３である。
【０２８０】
好ましい態様において、Ｒｄ３中の末端のＲｄ３”（Ｒｄ３”が存在しない場合、Ｒｄ３それ自体）において、上記ｑ’は、好ましくは２以上、例えば２又は３であり、より好ましくは３である。
【０２８１】
上記式中、Ｒｅ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ３−ＳｉＲ８５ｊＲ８６３−ｊを表す。ここに、Ｙ３、Ｒ８５、Ｒ８６及びｊは、上記Ｒ８２における記載と同意義である。
【０２８２】
上記式中、Ｒｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基を表す。Ｒｆ３は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０２８３】
式中、ｋ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ’、ｌ’及びｍ’の和は３である。
【０２８４】
一の態様において、少なくとも１つのｋ’は２又は３であり、好ましくは３である。
【０２８５】
一の態様において、ｋ’は２又は３であり、好ましくは３である。
【０２８６】
一の態様において、ｌ’は２又は３であり、好ましくは３である。
【０２８７】
上記式（Ｄ１）及び（Ｄ２）中、少なくとも１つのｑ’は２又は３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ’は２又は３である。即ち、式中、少なくとも２つの−Ｙ３−ＳｉＲ８５ｊＲ８６３−ｊ基が存在する。
【０２８８】
上記式中、Ｇ５は、−Ｒ１７−Ｏ−、−Ｒ１７−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮＨ−又は単結合である。Ｇ５は、耐光性に優れる点からは、−Ｒ１７−ＣＯＮＨ−又は−ＣＯＮＨ−が好ましく、耐薬品性に優れる点からは、−Ｒ１７−Ｏ−が好ましい。
【０２８９】
上記Ｒ１７は、アルキレン基である。Ｒ１７は、製造のしやすさの点から、炭素数１〜４のアルキレン基が好ましく、−ＣＨ２−が特に好ましい。
【０２９０】
上記式中、Ｚ５は、（ａ５＋ｂ５）価の炭化水素基、又は炭化水素基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を１つ以上有する、炭素数２以上で（ａ５＋ｂ５）価の基である。Ｚ５は、Ｇ５が−Ｒ１７−Ｏ−であり、ｃ５が１である場合、（ａ５＋ｂ５）個の水酸基を有する多価アルコールから水酸基を除いた残基である。
【０２９１】
一の態様において、Ｚ５は、以下の基であり得る。
【０２９２】
【化５３】
2020089872.tif 000056
【０２９３】
Ｚ５は、水酸基の反応性に優れる点から、１級の水酸基を有する多価アルコールから水酸基を除いた残基が好ましい。Ｚ５は、原料の入手容易性の点から、下記式（Ｚ−１）で表される基、下記式（Ｚ−２）で表される基、下記式（Ｚ−３）で表される基、下記式（Ｚ−４）で表される基又は下記式（Ｚ−５）で表される基が特に好ましい。ただし、Ｒ４は、アルキル基であり、メチル基又はエチル基が好ましい。
【０２９４】
【化５４】
2020089872.tif 000057
【０２９５】
上記式中、Ｒ１６は、アルキレン基である。Ｒ１６は、製造のしやすさの点から、炭素数４〜１４のアルキレン基が好ましい。さらに、製造におけるヒドロシリル化の際に、アリル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）の一部又は全部がインナーオレフィン（−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３）に異性化した副生物が生成しにくい点から、炭素数４〜１０のアルキレン基が特に好ましい。
【０２９６】
上記式中、ａ５は、１以上の整数である。ｂ５は、１以上の整数である。（ａ５＋ｂ５）は３以上である。ａ５が１のときｂ５は４以上であり、ａ５が２以上のときｂ５は１以上である。ａ５が２以上のときａ５個の［Ｒｆ−ＰＦＰＥ−Ｇ５］は、同一であっても異なっていてもよい。ｂ５が２以上のときｂ５個の［（Ｏ−Ｒ１６）ｃ５−ＳｉＲ１４ｎＲ１５３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。ｃ５は０又は１である。
【０２９７】
ａ５は、１〜１０が好ましく、１〜４が特に好ましい。ａ５が下限値以上であれば、表面処理層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性に優れる。ａ５が上限値以下であれば、表面処理層の外観に優れる。（ａ５＋ｂ５）は、３〜１５が好ましく、３〜１２が特に好ましい。
【０２９８】
ａ５が１のときｂ５は４以上であり、４〜１０が好ましく、４〜５が特に好ましい。ａ５が１のときｂ５が４以上でなければ、表面処理層の耐摩擦性が不充分となり得る。ｂ５が上限値以下であれば、表面処理層の外観、化合物の安定性に優れる。
【０２９９】
ａ５が２以上の整数のときｂ５は１以上の整数であり、１〜１０の整数が好ましく、１〜４の整数が特に好ましい。ａ５が２以上の整数であれば、表面処理層の潤滑性に優れるため、表面処理層に摩擦力が加わりにくい。そのため、ｂ５が１であっても、表面処理層の耐摩擦性に優れる。ｂ５が上限値以下であれば、表面処理層の外観、化合物の安定性に優れる。
【０３００】
ｃ５は、０又は１である。ｃ５は、化合物の耐光性に優れる点からは、０が好ましく、化合物の製造のしやすさの点からは、１が好ましい。
【０３０１】
上記式中、Ｘ１０１は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ１０１は、式（Ａ１）及び（Ａ２）で表される化合物において、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部又は−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（即ち、αを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ１０１は、式（Ａ１）及び（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であっても、いずれの有機基であってもよい。
【０３０２】
上記式中、αは１〜９の整数であり、α’は１〜９の整数である。これらα及びα’は、Ｘ１０１の価数に応じて変化し得る。式（Ａ１）においては、α及びα’の和は、Ｘ１０１の価数と同じである。例えば、Ｘ１０１が１０価の有機基である場合、α及びα’の和は１０であり、例えばαが９かつα’が１、αが５かつα’が５、又はαが１かつα’が９となり得る。また、Ｘ１０１が単結合または２価の有機基である場合、α及びα’は１である。式（Ａ２）においては、αはＸ１０１の価数から１を引いた値である。
【０３０３】
上記Ｘ１０１は、好ましくは２〜７価であり、より好ましくは２〜４価であり、さらに好ましくは２価の有機基である。
【０３０４】
一の態様において、Ｘ１０１は２〜４価の有機基であり、αは１〜３であり、α’は１である。
【０３０５】
別の態様において、Ｘ１０１は２価の有機基であり、αは１であり、α’は１である。この場合、式（Ａ１）及び（Ａ２）は、下記式（Ａ１’）及び（Ａ２’）で表される。
【化５５】
2020089872.tif 000058
【０３０６】
上記式中、Ｘ１０５は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ１０５は、式（Ｂ１）及び（Ｂ２）で表される化合物において、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ−ＰＦＰＥ部又は−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲ１４ｎＲ１５３−ｎ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ１０５は、式（Ｂ１）及び（Ｂ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であっても、いずれの有機基であってもよい。
【０３０７】
上記式中のβは、１〜９の整数であり、β’は、１〜９の整数である。これらβ及びβ’は、Ｘ１０５の価数に応じて決定され、式（Ｂ１）において、β及びβ’の和は、Ｘ１０５の価数と同じである。例えば、Ｘ１０５が１０価の有機基である場合、β及びβ’の和は１０であり、例えばβが９かつβ’が１、βが５かつβ’が５、又はβが１かつβ’が９となり得る。また、Ｘ１０５が単結合または２価の有機基である場合、β及びβ’は１である。式（Ｂ２）において、βはＸ１０５の価数の値から１を引いた値である。
【０３０８】
上記Ｘ１０５は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
【０３０９】
一の態様において、Ｘ１０５は２〜４価の有機基であり、βは１〜３であり、β’は１である。
【０３１０】
別の態様において、Ｘ１０５は２価の有機基であり、βは１であり、β’は１である。この場合、式（Ｂ１）及び（Ｂ２）は、下記式（Ｂ１’）及び（Ｂ２’）で表される。
【化５６】
2020089872.tif 000059
【０３１１】
上記式中、Ｘ１０７は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ１０７は、式（Ｃ１）及び（Ｃ２）で表される化合物において、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ−ＰＦＰＥ部又は−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲａ３ｋＲｂ３ｌＲｃ３ｍ基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ１０７は、式（Ｃ１）及び（Ｃ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であっても、いずれの有機基であってもよい。
【０３１２】
上記式中、γは、１〜９の整数であり、γ’は、１〜９の整数である。これらγ及びγ’は、Ｘ１０７の価数に応じて決定され、式（Ｃ１）において、γ及びγ’の和は、Ｘ１０７の価数と同じである。例えば、Ｘ１０７が１０価の有機基である場合、γ及びγ’の和は１０であり、例えばγが９かつγ’が１、γが５かつγ’が５、又はγが１かつγ’が９となり得る。また、Ｘ１０７が単結合または２価の有機基である場合、γ及びγ’は１である。式（Ｃ２）において、γはＸ１０７の価数の値から１を引いた値である。
【０３１３】
上記Ｘ１０７は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
【０３１４】
一の態様において、Ｘ１０７は２〜４価の有機基であり、γは１〜３であり、γ’は１である。
【０３１５】
別の態様において、Ｘ１０７は２価の有機基であり、γは１であり、γ’は１である。この場合、式（Ｃ１）及び（Ｃ２）は、下記式（Ｃ１’）及び（Ｃ２’）で表される。
【化５７】
2020089872.tif 000060
【０３１６】
上記式中、Ｘ１０９は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ１０９は、式（Ｄ１）及び（Ｄ２）で表される化合物において、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部又は−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供する部（即ち、δを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ１０９は、式（Ｄ１）及び（Ｄ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であっても、いずれの有機基であってもよい。
【０３１７】
上記式中、δは１〜９の整数であり、δ’は１〜９の整数である。これらδ及びδ’は、Ｘ１０９の価数に応じて変化し得る。式（Ｄ１）においては、δ及びδ’の和は、Ｘ１０９の価数と同じである。例えば、Ｘ１０９が１０価の有機基である場合、δ及びδ’の和は１０であり、例えばδが９かつδ’が１、δが５かつδ’が５、又はδが１かつδ’が９となり得る。また、Ｘ１０９が２価の有機基である場合、δ及びδ’は１である。式（Ｄ２）においては、δはＸ１０９の価数から１を引いた値である。
【０３１８】
上記Ｘ１０９は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
【０３１９】
一の態様において、Ｘ１０９は２〜４価の有機基であり、δは１〜３であり、δ’は１である。
【０３２０】
別の態様において、Ｘ１０９は２価の有機基であり、δは１であり、δ’は１である。この場合、式（Ｄ１）及び（Ｄ２）は、下記式（Ｄ１’）及び（Ｄ２’）で表される。
【化５８】
2020089872.tif 000061
【０３２１】
好ましい態様において、上記Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９は、それぞれ独立して、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ３１）ｐ１−（Ｘａ）ｑ１−
［式中：
Ｒ３１は、単結合、−（ＣＨ２）ｓ’−又はｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ２）ｓ’−であり、
ｓ’は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１又は２であり、
Ｘａは、−（Ｘｂ）ｌ’−を表し、
Ｘｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、−ＣＯＮＲ３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、−ＮＲ３４−及び−（ＣＨ２）ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基又はＣ１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基又はＣ１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ”は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ１は、０又は１であり、
ｑ１は、０又は１であり、
ここに、ｐ１及びｑ１の少なくとも一方は１であり、ｐ１又はｑ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基であり得る。ここに、Ｒ３１及びＸａ（典型的にはＲ３１及びＸａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基及びＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０３２２】
一の態様において、上記Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９は、それぞれ独立して、
−（Ｒ３１）ｐ１−（Ｘａ）ｑ１−
［式中：
Ｒ３１は、−（ＣＨ２）ｓ’−を表し、
ｓ’は、１〜２０の整数であり、
Ｘａは、−（Ｘｂ）ｌ’−を表し、
Ｘｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯＮＲ３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、及び−（ＣＨ２）ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１−６アルキル基を表し、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数であり、
ｐ１は、０又は１であり、
ｑ１は、０又は１であり、
ここに、ｐ１及びｑ１の少なくとも一方は１であり、ｐ１又はｑ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。］
で表される２価の基であり得る。ここに、Ｒ３１及びＸａ（典型的にはＲ３１及びＸａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基及びＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０３２３】
好ましくは、上記Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９は、それぞれ独立して、−（Ｒ３１）ｐ１−（Ｘａ）ｑ１−Ｒ３２−である。Ｒ３２は、単結合、−（ＣＨ２）ｔ’−又はｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ２）ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ３２（典型的にはＲ３２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基及びＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０３２４】
好ましくは、上記Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９は、それぞれ独立して、
単結合、
−Ｘｆ−Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｘｆ−Ｒ３１−Ｘｃ−Ｒ３２−、又は
−Ｘｆ−Ｘｄ−Ｒ３２−
［式中、Ｒ３１及びＲ３２は、上記と同意義であり、
Ｘｆは、単結合または炭素原子数１〜６、好ましくは炭素原子数１〜４、より好ましくは炭素原子数１〜２のパーフルオロアルキレン基、例えばジフルオロメチレン基である。］
であり得る。
【０３２５】
より好ましくは、上記Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９は、それぞれ独立して、
単結合、
−Ｘｆ−Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−、
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−
−Ｘｆ−Ｘｄ−、又は
−Ｘｆ−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、Ｘｆ、ｓ’及びｔ’は、上記と同意義である。］
である。
【０３２６】
上記式中、Ｘｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、
−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ３３）２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ３３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−Ｎ（Ｒ３４）−、又は
−ＣＯＮＲ３４−（ｏ−、ｍ−又はｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ３３）２−
［式中、Ｒ３３、Ｒ３４及びｍ”は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘｃは、好ましくは−Ｏ−である。
【０３２７】
上記式中、Ｘｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−Ｎ（Ｒ３４）−、又は
−ＣＯＮＲ３４−（ｏ−、ｍ−又はｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ３３）２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。
【０３２８】
より好ましくは、上記Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９は、それぞれ独立して、
単結合、
−Ｘｆ−Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−、又は
−Ｘｆ−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。
【０３２９】
好ましい態様において、上記Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９は、それぞれ独立して、
単結合
−Ｘｆ−Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−、又は
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、
Ｘｃは、−Ｏ−、−ＣＯＮＲ３４−、又は−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−であり、
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１−６アルキル基を表し、
ｓ’は、１〜２０の整数であり、
ｔ’は、１〜２０の整数である。］
であり得る。
【０３３０】
一の態様において、上記Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９は、それぞれ独立して、
単結合、
−Ｘｆ−Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−、
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、又は
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２ −（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣvＨ２v）−
［式中、Ｘｆ、Ｒ３３、ｍ”、ｓ’、ｔ’及びｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。
【０３３１】
上記式中、−（ＣvＨ２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−であり得る。
【０３３２】
上記Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９基は、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基及びＣ１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０３３３】
尚、上記Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９は、各式の左側がＰＦＰＥ基に結合する。
【０３３４】
上記式中、Ｘｆは、式（Ａ１）、（Ｂ１）、（Ｃ１）および（Ｄ１）については単結合が好ましく、式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）および（Ｄ２）については炭素原子数１〜６、好ましくは炭素原子数１〜４、より好ましくは炭素原子数１〜２のパーフルオロアルキレン基、例えばジフルオロメチレン基である。
【０３３５】
一の態様において、Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９基は、それぞれ独立して、−Ｏ−Ｃ１−６アルキレン基以外であり得る。
【０３３６】
別の態様において、Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９基としては、例えば下記の基が挙げられる：
【化５９】
2020089872.tif 000062
【化６０】
2020089872.tif 000063
［式中、Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、又はＣ１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、及び
【化６１】
2020089872.tif 000064
（式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６のアルキル基又はＣ１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基又はメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ２）ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］
【０３３７】
上記Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９の具体的な例としては、例えば：
単結合、
−ＣＨ２ＯＣＨ２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）４−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）５−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
【化６２】
2020089872.tif 000065
などが挙げられる。
【０３３８】
さらに別の態様において、Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９は、それぞれ独立して、式：−（Ｒ１８）ｘ−（ＣＦＲ１７）ｙ−（ＣＨ２）ｚ−で表される基である。式中、ｘ、ｙ及びｚは、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ、ｙ及びｚの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
【０３３９】
上記式中、Ｒ１８は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ２６−（式中、Ｒ２６は、水素原子又は有機基を表す）又は２価の有機基である。好ましくは、Ｒ１８は、酸素原子又は２価の極性基である。
【０３４０】
上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ２７）−、及び−Ｃ（Ｏ）ＮＲ２７−（これらの式中、Ｒ２７は、水素原子又は低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。
【０３４１】
上記式中、Ｒ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。
【０３４２】
さらに別の態様において、Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９基の例として、下記の基が挙げられる：
【化６３】
2020089872.tif 000066
［式中、
Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、又はＣ１−６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
各Ｘ１０１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、又は
【化６４】
2020089872.tif 000067
［式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６のアルキル基又はＣ１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基又はメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対の基（即ち、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｄ１）及び（Ｄ２）においては炭素原子、また、下記する式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）及び（Ｃ２）においてはＳｉ原子、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ１−６アルコキシ基又はラジカル捕捉基又は紫外線吸収基である。
【０３４３】
ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、又はトリアジン類の残基が挙げられる。
【０３４４】
紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換及び未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレート又はアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。
【０３４５】
好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基又は紫外線吸収基としては、
【化６５】
2020089872.tif 000068
が挙げられる。
【０３４６】
この態様において、Ｘ１０１、Ｘ１０５、Ｘ１０７、及びＸ１０９は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基であり得る。
【０３４７】
本開示の表面処理剤中、式（Ａ１）、（Ｂ１）、（Ｃ１）、（Ｄ１）及び（Ｅ１）で表される化合物（以下、「（１）成分」ともいう）と、式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）、及び（Ｄ２）で表される化合物（以下、「（２）成分」ともいう）との合計に対して、式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）、及び（Ｄ２）で表される化合物が、０．１モル％以上３５モル％以下である。（２）成分に対する式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）、及び（Ｄ２）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。（２）成分に対する式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）、及び（Ｄ２）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％又は１０モル％であり得る。（２）成分に対する式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）、及び（Ｄ２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下又は５モル％以上１０モル％以下である。（２）成分をかかる範囲とすることにより、より摩擦耐久性を向上させることができる。
【０３４８】
上記表面処理剤中、（１）成分と（２）成分の組み合わせは、好ましくは式（Ａ１）で表される化合物と式（Ａ２）で表される化合物の組み合わせ、式（Ｂ１）で表される化合物と式（Ｂ２）で表される化合物の組み合わせ、式（Ｃ１）で表される化合物と式（Ｃ２）で表される化合物の組み合わせ、式（Ｄ１）で表される化合物と式（Ｄ２）で表される化合物の組み合わせである。
【０３４９】
式（Ａ１）及び式（Ａ２）で表される化合物は、好ましくはｔが２以上、より好ましくは２〜１０の整数、さらに好ましくは２〜６の整数である。ｔを２以上とすることにより、Ｒ１５を有するＳｉ原子が複数存在することになり、より高い耐久性を得ることができる。
【０３５０】
式（Ｃ１）及び式（Ｃ２）で表される化合物は、好ましくはｋが２又は３、より好ましくは３である。
【０３５１】
好ましい態様において、式（Ｃ１）及び式（Ｃ２）で表される化合物は、末端に、−Ｓｉ−（Ｚ−ＳｉＲ７２３）２又は−Ｓｉ−（Ｚ−ＳｉＲ７２３）３構造を有し、さらに好ましくは−Ｓｉ−（Ｚ−ＳｉＲ７２３）３構造を有する。末端をかかる構造とすることにより、より高い耐久性を得ることができる。
【０３５２】
式（Ｄ１）及び式（Ｄ２）で表される化合物は、好ましくはｌ’が２又は３、より好ましくは３である。
【０３５３】
好ましい態様において、式（Ｄ１）及び式（Ｄ２）で表される化合物は、末端に、−Ｃ−（Ｙ−ＳｉＲ８５３）２又は−Ｓｉ−（Ｙ−ＳｉＲ８５）３構造を有し、さらに好ましくは−Ｓｉ−（Ｙ−ＳｉＲ８５）３構造を有する。末端をかかる構造とすることにより、より高い耐久性を得ることができる。
【０３５４】
一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ａ１）、（Ｂ１）、（Ｃ１）、（Ｄ１）、又は（Ｅ１）で表される化合物である。
【０３５５】
一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）、又は（Ｄ２）で表される化合物である。
【０３５６】
一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は（Ｅ１）で表される化合物である。これらの化合物は、末端に水酸基又は加水分解可能な基を有するＳｉを複数有し得るので、より高い摩擦耐久性を得ることができる。
【０３５７】
一の態様において、化合物（β）は、上記（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は（Ｅ１）で表される化合物である。
【０３５８】
一の態様において、化合物（β）は、上記（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、又は（Ｄ２）で表される化合物である。
【０３５９】
一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ａ１）及び（Ａ２）で表される化合物である。
【０３６０】
一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ｂ１）及び（Ｂ２）で表される化合物である。
【０３６１】
一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ｃ１）及び（Ｃ２）で表される化合物である。化合物（β）として、上記式（Ｃ１）及び（Ｃ２）で表される化合物を用いることにより、摩擦耐久性及び表面滑り性が向上する。さらに上記化合物（α）のようなイソシアヌル骨格を含む化合物との混合性が向上する。
【０３６２】
一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ｄ１）及び（Ｄ２）で表される化合物である。
【０３６３】
一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ｅ１）で表される化合物である。
【０３６４】
好ましい化合物（Ｅ１）としては、たとえば、下式の化合物（１−１）〜（１−８）が挙げられる。該化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面処理層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、外観にさらに優れる点から好ましい。
【０３６５】
【化６６】
2020089872.tif 000069
【０３６６】
本開示で用いられる化合物（β）の数平均分子量は、好ましくは１，０００〜３０，０００、より好ましくは１，５００〜３０，０００、さらに好ましくは２，０００〜１０，０００である。
【０３６７】
本開示の表面処理剤中、化合物（α）と化合物（β）の重量比は、好ましくは１：９９〜９９：１であり、より好ましくは５：９５〜９０：１０であり、さらに好ましくは３０：７０〜９０：１０であり、さらにより好ましくは３０：７０〜７０：３０であり得る。化合物（α）と化合物（β）の重量比をかかる範囲内とすることにより、優れた紫外線耐久性と表面滑り性、摩耗耐久性、例えば消しゴム耐久性、スチールウール耐久性等を両立することができる。
【０３６８】
一の態様において、化合物（α）の数平均分子量と化合物（β）の数平均分子量の比は、好ましくは９：１〜１：９、より好ましくは７：３〜３：７、さらに好ましくは６：４〜４：６であり得る。
【０３６９】
一の態様において、化合物（α）の数平均分子量は、化合物（β）の数平均分子量よりも大きい。化合物（α）の数平均分子量が化合物（β）の数平均分子量よりも大きい場合、好ましくは数平均分子量比が７：３〜６：４（化合物（α）：化合物（β））の関係にある場合、動摩擦係数が低下して表面滑り性を向上させることができる。
【０３７０】
別の態様において、化合物（α）の数平均分子量は、化合物（β）の数平均分子量以下である。化合物（α）の数平均分子量が化合物（β）の数平均分子量以下である場合、好ましくは数平均分子量比が５：５〜２：８（化合物（α）：化合物（β））の場合、動摩擦係数が低下して表面滑り性を向上させることができることに加え、耐摩耗性を向上させることができる。
【０３７１】
上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、及び（Ｅ１）で表される化合物は、公知の方法により製造することができる。
【０３７２】
本開示の表面処理剤には、化合物（α）及び化合物（β）以外に、他のシラン化合物を含み得る。
【０３７３】
他のシラン化合物としては、式（α１）で表される化合物及び式（α２）で表される化合物のイソシアヌル環が開環した、式（α１’）で表される化合物及び式（α２’）
【化６７】
2020089872.tif 000070
（式中、各記号は、式（α１）及び式（α２）と同意義である。）
で表される化合物、並びに、
パーフルオロポリエーテル基がＯＣＦ２ユニットを有しない以外は、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）及び（Ｅ１）と同様の構造を有するシラン化合物が挙げられる。
【０３７４】
上記ＯＣＦ２ユニットを有しないパーフルオロポリエーテル基は、例えば、
−（ＯＣ６Ｆ１２）ｍ１１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｍ１２−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−
（式中、各記号は、上記ポリエーテル鎖と同意義である。）
で表される化合物が挙げられる。
【０３７５】
上記ＯＣＦ２ユニットを有しないパーフルオロポリエーテル基は、下記式：
−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｍ１４−
（式中、ｍ１４及びＸ１１は、上記と同意義であり、好ましくはＸ１１はＦである）
で表される基
及び、下記式：
−（ＯＣ２Ｆ４−Ｒ１１）ｆ−
（式中、Ｒ１１は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から選択される基であり、ｆは、２〜１００の整数である）
で表される基であってもよい。
【０３７６】
−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｍ１４−は、好ましくは−（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４−であり、より好ましくは−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｍ１４−又は−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４−であり、特に好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ１４−である。
【０３７７】
これらの他のシラン化合物は、表面処理剤中、含まれていても踏まれていなくてもよく、含まれる場合には、化合物（α）の合計１００ｍｏｌ部に対して、好ましくは０．０１〜２０ｍｏｌ部、より好ましくは０．１〜１５ｍｏｌ部、例えば、１〜１０ｍｏｌ部又は３〜５ｍｏｌ部であり得る。
【０３７８】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、上記化合物（α）及び化合物（β）に加え、その化合物の合成に由来する化合物、例えば、Ｒ１−ＯＳＯ２ＣＦ３又はＣＦ３ＳＯ２Ｏ−Ｒ１’−ＯＳＯ２ＣＦ３で表される化合物を含んでいてもよい。
【０３７９】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、上記化合物（α）及び化合物（β）に加え、ゾル−ゲル反応を生じるシラン化合物（以下、「ゾル−ゲル化合物」ともいう。）を含んでいてもよい。かかるゾル−ゲル化合物としては、例えば、フルオロアルキルシラン化合物、脂肪族シラン化合物、アルコキシシラン化合物、イソシアネートシラン化合物、アミノシラン化合物等が挙げられる。かかるゾル−ゲル化合物は、１種又は２種以上であってもよい。
【０３８０】
上記フルオロアルキルシラン化合物としては、例えば下記式：
Ｂ（ＣＦ２）ｒＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）３−ｓＸｓ
（式中、Ｂは、−ＣＦ３又は−ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）３−ｔＸｔ、Ｘは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、又は、クロロ基やイソシアネート基等の１価の加水分解可能な基、ｔは１〜３の整数、ｒは０〜１２の整数、ｓは１〜３の整数である。）
で表される化合物である。例えば、フルオロアルキルシラン化合物は、ＣＦ３（ＣＦ２）１１ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）１１ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３Ｃｌ２、ＣＦ３（ＣＦ２）１１ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ、ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３Ｃｌ２、ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３Ｃｌ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ、ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３Ｃｌ２、ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ、ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３Ｃｌ２、ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２ＳｉＣＨ３Ｃｌ２、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２等の片末端に加水分解性基を有するフルオロアルキルシランや、Ｃｌ３ＳｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）１２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、Ｃｌ２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）１２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２、Ｃｌ（ＣＨ３）２ＳｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）１２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ、Ｃｌ３ＳｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）１０ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、Ｃｌ２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）１０ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２、Ｃｌ（ＣＨ３）２ＳｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）１０ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ、Ｃｌ３ＳｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、Ｃｌ２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２、Ｃｌ（ＣＨ３）２ＳｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ、Ｃｌ３ＳｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、Ｃｌ２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２、Ｃｌ（ＣＨ３）２ＳｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ、Ｃｌ３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３、Ｃｌ２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２、Ｃｌ（ＣＨ３）２ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ、等の両末端に加水分解性基を有するフルオロアルキルシランを用いることができる。
【０３８１】
上記脂肪族シラン化合物としては、例えばＣＨ３（ＣＨ２）５Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）５ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）１１Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、（ＣＨ３）２ＣＨＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３等である。好ましくはＣＨ３（ＣＨ２）５Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン）、ＣＨ３（ＣＨ２）１１Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３（ｎ−ドデシルトリエトキシシラン）、（ＣＨ３）２ＣＨＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（イソブチルトリメトキシシラン）等が挙げられる。
【０３８２】
上記アルコキシシラン化合物としては、例えば低級アルコキシシラン化合物、例えばＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｓｉ（ＯＣＨ３）４、ＣＨ３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）４等が挙げられ、加水分解するシラン化合物であればよい。なお、当該アルコキシシラン化合物は、上記した化合物（α）及び化合物（β）以外の化合物である。
【０３８３】
上記イソシアネートシラン化合物としては、例えば（ＣＨ３）３ＳｉＮＣＯ、（ＣＨ３）３Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＮＣＯ）３、フェニル−Ｓｉ（ＮＣＯ）３、Ｓｉ（ＮＣＯ）４、Ｃ２Ｈ５ＯＳｉ（ＮＣＯ）３等である。好ましくはＣＨ３Ｓｉ（ＮＣＯ）３（メチルシリルトリイソシアネート）、あるいは該ＣＨ３Ｓｉ（ＮＣＯ）３等が挙げられる
【０３８４】
上記アミノシラン化合物は、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【０３８５】
上記ゾル−ゲル化合物を含む表面処理剤は、酸触媒を０．１〜５部、好ましくは０．５〜３部含んでいてもよい。かかる酸触媒としては、硝酸、塩酸、硫酸などの無機酸類；シュウ酸、ヘキサフルオログルタル酸などのジカルボン酸類；Ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸類等である。好ましくは、酸触媒は、シュウ酸、硝酸等である。
【０３８６】
上記ゾル−ゲル化合物を含む表面処理剤は、有機溶剤で希釈されていてもよい。かかる有機溶剤としては、上記フルオロアルキルシラン化合物等を均一に分散溶解できるものであれば特に限定されず、エタノール、ブタノール、イソプロピルアルコールなどの低級アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソルブ類；キシレン、トルエンなどの芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘブタンなどの脂肪族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類等である。
【０３８７】
本開示の表面処理剤は、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）を含んでいてもよい。かかる含フッ素オイルを含む場合、表面処理剤を用いて形成される表面処理層の表面滑り性をより向上させることができる。
【０３８８】
上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロポリエーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ１−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒｆ２        ・・・（３）
式中、Ｒｆ１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ１−１６のパーフルオロアルキル基）、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒｆ１及びＲｆ２は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１−３のパーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−及び−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−及び−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−及び−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【０３８９】
上記一般式（３）で表されるパーフルオロポリエーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）及び（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ１−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−Ｒｆ２                  ・・・（３ａ）
Ｒｆ１−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ’’−（ＯＣＦ２）ｄ’’−Ｒｆ２              ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ１及びＲｆ２は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ’’及びｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下、例えば１以上３０以下の整数であり、ｃ’’及びｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【０３９０】
上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の数平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。
【０３９１】
本開示の表面処理剤中、含フッ素オイルは、含まれていても含まれていなくてもよく、含まれる場合、上記パーフルオロポリエーテル基含有化合物の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０．１〜５００質量部、好ましくは１〜４００質量部、より好ましくは５〜３００質量部で含まれ得る。
【０３９２】
一般式（３ａ）で示される化合物及び一般式（３ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（３ａ）で示される化合物よりも、一般式（３ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（３ａ）で表される化合物と、一般式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。
【０３９３】
一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（３ｂ）で表される１種又はそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中のフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物の合計と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１０：１〜１：１０が好ましく、４：１〜１：４がより好ましい。
【０３９４】
一の態様において、式（３ａ）で表される化合物の平均分子量は、２，０００〜８，０００であることが好ましい。
【０３９５】
一の態様において、式（３ｂ）で表される化合物の平均分子量は、８，０００〜３０，０００であることが好ましい。
【０３９６】
別の態様において、式（３ｂ）で表される化合物の平均分子量は、３，０００〜８，０００であることが好ましい。
【０３９７】
好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、化合物（α）の平均分子量及び化合物（β）の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。
【０３９８】
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ３−Ｆ（式中、Ｒｆ３はＣ５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ３−Ｆで表される化合物及びクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、末端がＣ１−１６パーフルオロアルキル基である上記分子末端に炭素−炭素不飽和結合を有する含フッ素化合物で表される化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。
【０３９９】
本開示の表面処理剤が、上記（ｄ）シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）を含む場合、表面処理剤を用いて形成される表面処理層の表面滑り性をより向上させることができる。
【０４００】
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【０４０１】
本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、化合物（α）の平均分子量及び化合物（β）の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは０〜２００質量部で含まれ得る。
【０４０２】
本開示の表面処理剤は、上記したように触媒、溶媒、アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などを含んでいてもよい。
【０４０３】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
【０４０４】
触媒は、上記シラン化合物の加水分解及び脱水縮合を促進し、被覆層の形成を促進する。
【０４０５】
上記遷移金属としては、白金、ルテニウム、ロジウム等が挙げられる。
【０４０６】
上記ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン等が挙げられる。
【０４０７】
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、窒素原子、酸素原子、リン原子及び硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも１つの原子を含むことが好ましく、硫黄原子、又は窒素原子を含むことがより好ましい。
【０４０８】
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、分子構造内に、アミノ基、アミド基、スルフィニル基、Ｐ＝Ｏ基、Ｓ＝Ｏ基及びスルホニル基からなる群より選ばれる少なくとも１つの官能基を含むことが好ましく、Ｐ＝Ｏ基及びＳ＝Ｏ基からなる群より選ばれる少なくとも１つの官能基を含むことがより好ましい。
【０４０９】
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物及びスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることが好ましく、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン類、リン酸アミド、尿素化合物及びスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることがより好ましく、スルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物及び芳香族アミン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることが特に好ましく、スルホキシド化合物であることがさらに好ましい。
【０４１０】
上記脂肪族アミン化合物としては、例えば、ジエチルアミン、トリエチルアミン等を挙げることができる。上記芳香族アミン化合物としては、例えば、アニリン、ピリジン等を挙げることができる。上記リン酸アミド化合物としては、例えば、ヘキサメチルホスホルアミド等を挙げることができる。上記アミド化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。上記尿素化合物としては、テトラメチル尿素等を挙げることができる。上記スルホキシド化合物としては、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等を挙げることができる。これらの化合物の中で、ジメチルスルホキシド、又はテトラメチレンスルホキシドを用いることが好ましい。
【０４１１】
上記アルコールとしては、例えば、炭素数１〜６のアルコール化合物が挙げられる。
【０４１２】
上記溶媒としては、例えば、以下の溶媒が使用される：Ｃ５−１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン及びパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）（例えば、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン（ＨＦＣ−３６５ｍｆｃ））；ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＨＣＦＣ−２２５（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５））；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。
【０４１３】
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
【０４１４】
本開示の表面処理剤において、上記化合物（α）及び化合物（β）の濃度は、合計で、０．００１〜１質量％が好ましく、０．００５〜０．５質量％がより好ましく、０．０１〜０．２質量％が更に好ましい。
【０４１５】
基材表面に表面処理剤の膜を形成する方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法を使用できる。
【０４１６】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング及び類似の方法が挙げられ、好ましくはスプレーコーティングである。本開示の方法に用いられる化合物αを含む表面処理剤は、スプレーの噴射口の詰まりを起こしにくいので、スプレーコーティングに適している。
【０４１７】
膜形成は、膜中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。
【０４１８】
上記表面処理剤を希釈する溶媒は、表面処理剤の安定性及び溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン及びパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））など。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）及び／又はパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）が特に好ましい。上記希釈溶媒は、回収して再利用してもよい。例えば、処理装置を閉鎖系とし、コンデンサー、蒸留装置などにより、揮発成分である溶媒のみを回収することができる。
【０４１９】
触媒には、任意の適切な酸又は塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
【０４２０】
上記後処理としては、例えば、熱処理が挙げられる。熱処理の温度は、特に限定されないが、例えば、６０〜２５０℃、好ましくは１００℃〜１８０℃であってもよい。熱処理の時間は、特に限定されないが、例えば３０分〜５時間、好ましくは１〜３時間であってもよい。
【０４２１】
また、後処理は、例えば、水分供給及び乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。
【０４２２】
尚、後処理は必須の工程ではなく、後処理は行わなくてもよい。後処理を行わない場合、表面処理剤の膜を形成した後、８時間以上、好ましくは１２時間以上、より好ましくは１５時間以上静置することが好ましい。静置中の温度は、室温であり得、例えば２０〜３５℃である。
【０４２３】
上記のようにして基材表面に本開示の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体層」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体層（及び基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。
【０４２４】
前駆体層に水分が供給されると、本開示の表面処理剤中のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物のＳｉに結合した加水分解可能な基に水が作用し、当該化合物を速やかに加水分解させることができると考えられる。
【０４２５】
水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
【０４２６】
次に、該前駆体層を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体層を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
【０４２７】
このような雰囲気下では、化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。この結果、化合物間で結合が形成され、また、当該化合物と基材との間で結合が形成される。
【０４２８】
上記の水分供給及び乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。
【０４２９】
過熱水蒸気は、飽和水蒸気を沸点より高い温度に加熱して得られるガスであって、常圧下では、１００℃を超え、一般的には２５０℃以下、例えば１８０℃以下の温度で、かつ、沸点を超える温度への加熱により不飽和水蒸気圧となったガスである。前駆体層を形成した基材を過熱水蒸気に曝すと、まず、過熱水蒸気と、比較的低温の前駆体層との間の温度差により、前駆体層表面にて結露が生じ、これによって前駆体層に水分が供給される。やがて、過熱水蒸気と前駆体層との間の温度差が小さくなるにつれて、前駆体層表面の水分は過熱水蒸気による乾燥雰囲気中で気化し、前駆体層表面の水分量が次第に低下する。前駆体層表面の水分量が低下している間、即ち、前駆体層が乾燥雰囲気下にある間、基材の表面の前駆体層は過熱水蒸気と接触することによって、この過熱水蒸気の温度（常圧下では１００℃を超える温度）に加熱されることとなる。従って、過熱水蒸気を用いれば、前駆体層を形成した基材を過熱水蒸気に曝すだけで、水分供給と乾燥加熱とを連続的に実施することができる。
【０４３０】
以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、表面処理層の耐久性を向上させるために実施され得るが、本開示の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本開示の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。
【０４３１】
上記のようにして、基材と、該基材の表面に、ポリエーテル基含有シラン化合物を含んで成る表面処理剤より形成された層とを含む物品が形成される。
【０４３２】
表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜５０ｎｍ、好ましくは１〜３０ｎｍ、より好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性及び防汚性の点から好ましい。
【０４３３】
本開示は、本開示の製造方法により製造される表面処理層を有する物品も提供する。
【０４３４】
本開示の物品は、基材と、該基材の表面に、ポリエーテル基含有シラン化合物を含んで成る表面処理剤より形成された層とを含む。本開示の製造方法により得られる物品の表面処理層は、優れた耐候性及び耐ＵＶ性に加え、十分な撥油性、滑り性、摩擦耐久性、耐薬品性、例えば耐塩水性を有する。
【０４３５】
従って、本開示の物品は、風雨や汚染物質の付着等、屋外での苛酷な環境条件下による長期間の使用によっても、耐摩耗性、撥水性、防汚性を維持することが必要な用途に有用である。
【０４３６】
好ましい態様において、本開示の物品は、ガラス、特に、建築用ガラス、車輌用、船舶用又は航空機用等のガラス又はミラーガラス、例えば自動車用ガラス、自動車用ドアミラーもしくは自動車用フェンダミラー等、あるいは車載カメラに用いられるガラスなどに有用である。
【実施例】
【０４３７】
次に本開示を、実施例をあげて説明するが、本開示はかかる実施例のみに限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示し、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２Ｏ）等）の存在順序は任意である。
【０４３８】
合成例１
特許文献１に記載の方法に準じて、以下の化合物（Ａ）を合成した。当該合成により得られた生成物（Ａ）中には、以下に示す化合物（Ｂ）〜（Ｉ）を含んでいた。
【０４３９】
化合物（Ａ）
【化６８】
2020089872.tif 000071
【０４４０】
化合物（Ｂ）
【化６９】
2020089872.tif 000072
【０４４１】
化合物（Ｃ）
【化７０】
2020089872.tif 000073
【０４４２】
化合物（Ｄ）
【化７１】
2020089872.tif 000074
【０４４３】
化合物（Ｅ）
【化７２】
2020089872.tif 000075
【０４４４】
化合物（Ｆ）
【化７３】
2020089872.tif 000076
【０４４５】
化合物（Ｇ）
【化７４】
2020089872.tif 000077
【０４４６】
化合物（Ｈ）
【化７５】
2020089872.tif 000078
【０４４７】
化合物（Ｉ）
【化７６】
2020089872.tif 000079
【０４４８】
生成物（Ａ）の組成（モル比）は、化合物（Ａ）が６１％、化合物（Ｂ）が２％、化合物（Ｄ）が２％、化合物（Ｅ）が２％、化合物（Ｆ）が２０％、化合物（Ｉ）が１３％であった。
【０４４９】
合成例１で得た生成物（Ａ）を、生成物（Ａ）の濃度が０．１ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ａ）とした。
【０４５０】
合成例２
次に、公報ＷＯ２０１８／０５６４１０に記載の方法に準じ、精製工程も行うことで、以下の化合物（Ａ）を主成分とする生成物（Ｂ）を合成した。生成物（Ｂ）の組成（モル比）は、化合物（Ａ）が９１％、化合物（Ｂ）が４％、化合物（Ｄ）が５％であった。
【０４５１】
合成例２で得た生成物（Ｂ）を、生成物（Ｂ）の濃度が濃度０．１ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ｂ）とした。
【０４５２】
合成例３
次に、公報ＷＯ２０１８／０５６４１０に記載の方法に準じ、以下の化合物（Ｊ）を主成分とするＰＦＰＥ含有化合物（Ｃ）を合成した。
化合物（Ｊ）
【化７７】
2020089872.tif 000080
化合物（Ｋ）
【化７８】
2020089872.tif 000081
【０４５３】
ＰＦＰＥ含有化合物（Ｃ）の組成（モル比）は、化合物（Ｊ）が９５％、化合物（Ｋ）が５％であった。
【０４５４】
合成例３で得たＰＦＰＥ含有化合物（Ｃ）を、濃度０．１ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ｃ）とした。
【０４５５】
対照化合物の薬剤（Ｄ）
対照化合物として、以下の化合物（Ｌ）を、濃度０．１ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ｄ）とした。
【０４５６】
化合物（Ｌ）
【化７９】
2020089872.tif 000082
【０４５７】
対照化合物の薬剤（Ｅ）
対照化合物として、以下の化合物（Ｍ）を、濃度０．１ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ｅ）とした。
【０４５８】
化合物（Ｍ）
【化８０】
2020089872.tif 000083
【０４５９】
対照化合物の薬剤（Ｆ）
対照化合物として、以下の化合物（Ｎ）を、濃度０．１ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ｆ）とした。
【０４６０】
化合物（Ｎ）
【化８１】
2020089872.tif 000084
【０４６１】
実施例１
【０４６２】
・撥水基材１の形成
厚さ２．０ｍｍのフロートガラス（クリア）基板（平面寸法７０ｍｍ×１５０ｍｍ）のトップ面を水とアルコールで洗浄し、乾燥して撥水層形成用の基材１とした。
【０４６３】
大気圧プラズマ洗浄
前記基材１のトップ面に大気圧プラズマ放電処理装置（Creating Nano Tech. Inc.製、Si-PlasmaR）を用い、下記の条件で大気圧プラズマ処理を行い、洗浄及び活性化を行った。
【０４６４】
＜ガス条件＞
放電ガス：アルゴンガス（Ａｒ）、反応ガス：酸素ガス（Ｏ２）
＜プラズマ照射条件＞
Plasma power：７４４Ｗ（７４０〜７５０Ｗの範囲で出力制御）
Ａｒ流：３４Ｌ／分（３０〜４０Ｌ／分で流量制御）
Ｏ２流：３４Ｌ／分（３０〜４０Ｌ／分で流量制御）
ＰＣＷ（冷却水）：２．６Ｌ／分（２．０〜３．０Ｌ／分で流量制御）
プラズマ照射面と基材のトップ面との距離は０．５〜３．０ｍｍの範囲内として、プラズマ照射を行った。
【０４６５】
・撥水層の形成
続けて、すぐに市販の２流体ノズルを搭載したスプレー塗布装置を用いて、上記で調製した薬液（Ａ）を、ヘッドスピード７０ｍｍ／ｓｅｃとして基材の表面に均一にスプレー塗布した。薬液（Ａ）としての塗布量は、基材の単位ｍ2あたり５０ｇになるように処理した。その後、基材を取り出し、大気中、室温で２４時間静置することで、撥水基材１を得た。
【０４６６】
実施例２
・撥水基材２の形成
薬液（Ａ）中に、ＰＦＰＥ含有化合物（Ａ）に対して１００ｗｔｐｐｍの割合でトリフルオロ酢酸を添加してスプレー塗布したこと以外は、実施例１と同様にして、撥水基材２を得た。
【０４６７】
実施例３
・撥水基材３の形成
薬液（Ａ）に代えて、薬液（Ｂ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、撥水基材３を得た。
【０４６８】
実施例４
・撥水基材４の形成
薬液（Ａ）に代えて、薬液（Ｃ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、撥水基材４を得た。
【０４６９】
比較例１
・撥水基材５の形成
薬液（Ａ）に代えて、薬液（Ｄ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、撥水基材５を得た。
【０４７０】
比較例２
・撥水基材６の形成
薬液（Ａ）に代えて、薬液（Ｅ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、撥水基材６を得た。
【０４７１】
比較例３
・撥水基材７の形成
薬液（Ａ）に代えて、薬液（Ｆ）を用い、化合物（Ｎ）に対して１００ｗｔｐｐｍの割合でトリフルオロ酢酸を添加してスプレー塗布したこと以外は、実施例１と同様にして、撥水基材７を得た。
【０４７２】
得られた各基材（撥水基材１〜７）について下記の評価を行った。
＜初期特性＞
（試験例１）
・水の静的接触角の測定
水の静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いて次の方法で測定した。水平に置いた基板にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。水の静的接触角の測定値について、基材の表面処理層の異なる５点を測定し、その平均値を算出して用いた。撥水基材１〜７について、初期の値を測定したので、結果を表３に示す。
【０４７３】
（試験例２）
・水の動的接触角（滑落性）の測定
試験例１と同じ装置を用いて、次の方法で測定した。水平に置いた基板にマイクロシリンジから水を２０μＬ滴下し、傾斜角度１．６度 / 秒で傾けながら、水が滑落し始めた直後の角度を測定した。水の動的接触角の測定値について、基材の表面処理層の異なる３点を測定し、その平均値を算出して用いた。撥水基材１〜７について測定した結果を表３に示す。
【０４７４】
（試験例３）
・表面滑り性評価（動摩擦係数（ＣＯＦ）の測定）
上記の撥水基材１〜７の表面に形成された表面処理層について、動摩擦係数を測定した。具体的には、表面性測定機（Ｌａｂｔｈｉｎｋ社製  ＦＰＴ−１）を用いて、摩擦子として紙を使用し、ＡＳＴＭ  Ｄ４９１７に準拠し、動摩擦係数（−）を測定した。具体的には、表面処理層を形成した機材を水平配置し、摩擦紙（２ｃｍ×２ｃｍ）を表面処理層の露出上面に接触させ、その上に２００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状況で摩擦紙を５００ｍｍ／秒の速度で平衡移動させて動摩擦係数を測定した。結果を表３に示す。
【０４７５】
（試験例４）
・Hazeの測定
上記の撥水基材１〜７について、Ｈａｚｅと平均透過率を測定した。具体的には、ヘイズメーター（東洋精機製作所（株）製、ＨＡＺＥ−ＧＡＲＤII）を用いて、ＡＳＴＭに準拠した測定方法で、基材上の異なる３点を測定し、その平均値を算出して用いた。測定結果を表３に示す。
【０４７６】
（試験例５）
・平均透過率（％）の測定
上記の撥水基材１〜７について、平均透過率を測定した。具体的には、日立分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクサイエンス（株）製）を用いて、基材上の異なる３点を測定し、その平均値を算出して用いた。本開示でいう可視光領域における平均透過率とは、４００〜７００nmまでの可視光領域の透過率を、少なくとも５nm毎に測定して求めた可視光域の各透過率を積算し、その平均値として求めたものとして定義する。測定結果を表３に示す。
【０４７７】
下記表３に、撥水基材１〜７の初期特性の評価結果を示す。
【０４７８】
【表３】
2020089872.tif 000085
【０４７９】
（試験例６）
・耐塩水性評価
上記の撥水基材１〜７について、塩水噴霧試験を実施した。具体的には、各基材を複合サイクル試験機ＣＹＰ−９０Ｚ（スガ試験機（株）製）の内部に固定し、槽内温度を４７度一定に維持し、５ｗｔ％の塩水（一級塩化ナトリウムを純水に希釈した溶液）を噴霧圧力０．１ＭＰａＧ未満で霧状に噴射させて維持した。開始から１００時間毎に基材を取り出し、純水で基材全体を濯いだ後、表面処理層をキムワイプ（商品名、十條キンバリー社製）に純水を十分に染み込ませて５往復拭いた後、さらに別のキムワイプにエタノールを十分に染み込ませて５往復拭き、乾燥させた。その後すぐに水の静的接触角を測定した。試験は最終的に９００時間まで継続して行ったが、各種基材の最後に接触角が１００度を超えた時の累積の塩水噴霧時間と、同じく最後に８０度を超えた時の累積の塩水噴霧時間を表４に示す。
【０４８０】
（試験例７）
・スチールウール（ＳＷ）摩擦耐久性評価
上記の撥水基材１〜７について、スチールウール摩擦耐久性評価を実施した。具体的には、表面処理層を形成した基材を水平配置し、スチールウール（番手♯００００、寸法５ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍ）を基材の表面処理層に接触させ、その上に１，０００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態でスチールウールを１４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。往復回数２０００回毎に水の静的接触角（度）を測定し、接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。最後に接触角が１００度を超えた時の往復回数を、表４に示す。（表中、記号「−」は測定せず）。
【０４８１】
（試験例８）
・促進耐候性の評価
上記の撥水基材１〜７について、促進耐候性試験を行った。促進耐候性試験とは、次のとおりＵＶＢ照射を行う試験である。ＵＶＢ照射は、ＵＶＢ−３１３ランプ（Ｑ−Ｌａｂ社製、３１０ｎｍにおいて放射照度０．６３Ｗ／ｍ２）を用い、ランプと基材の表面処理層との距離を５ｃｍとし、基材を載せている板の温度は６３℃で行った。ＵＶＢ照射は連続的に行うが、水の静的接触角の測定時には、基材をいったん取り出し、所定の時間ＵＶＢを照射した後の表面処理層をキムワイプ（商品名、十條キンバリー社製）に純水を十分に染み込ませて５往復拭いた後、さらに別のキムワイプにエタノールを十分に染み込ませて５往復拭き、乾燥させた。その後すぐに水の静的接触角を測定した。評価は、ＵＶＢ照射開始から２４時間毎に、水の静的接触角が９０度を下回るまで行った。最後に接触角が９０度を超えた時の累積のＵＶＢ照射時間を、表４に示す。
【０４８２】
下記表４に、撥水基材１〜７の試験例６〜８の評価結果を示す。
【０４８３】
【表４】
2020089872.tif 000086
【０４８４】
（試験例９）
・耐候性の評価（屋外暴露試験）
上記の撥水基材１〜７について、屋外暴露試験を行った。具体的には、JIS Z２３８１に準拠し、大阪府摂津市の建築物の屋上に暴露試験場を設置し、南向きに仰角３０度で各基材をそれぞれ３枚ずつ固定して設置し、初期の接触角を測定した後、開始から２週間毎に基材を都度取り出して測定した。取り出した基材の測定方法としては、表面処理層をキムワイプ（商品名、十條キンバリー社製）に純水を十分に染み込ませて５往復拭いた後、さらに別のキムワイプにエタノールを十分に染み込ませて５往復拭き、乾燥させた。その後すぐに水の静的接触角を測定し、各基材３枚の測定値の平均値を算出して用いた。評価期間は、開始から４６週間継続したが、水の静的接触角が８０度を下回った基材についてはその時点で終了した。測定結果を、表５と図１に示す。
【０４８５】
下記表５に、撥水基材１〜７の試験例９の評価結果を示す。また、図１に、撥水基材１〜７の試験例９の評価結果を示す。
【０４８６】
【表５】
2020089872.tif 000087
【０４８７】
表３の結果から理解されるように、本開示の合成例１〜３で得たパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（化合物（α））を含む組成物を用いた表面処理剤を処理した基材（実施例１〜４）は、優れた撥水性、水の滑落性、表面滑り性、Ｈａｚｅ、及び透過性を示すことが示された。また、表４及び５、及び図１の結果から理解されるように、実施例１〜４の基材は、優れた耐塩水性、摩擦耐久性、耐ＵＶ性及び耐候性を示すことが示された。即ち、これらの基材は、長期間に亘り撥水性、防汚性を持続できることが確認された。一方、化合物αの代わりに他の含フッ素シラン化合物を含む組成物を用いた表面処理剤（比較例１〜３）は、上記実施例１〜４の基材と比較すると、Ｈａｚｅ、透過性、耐塩水性、摩擦耐久性、及び耐候性が劣っていた。また、比較例３に関しては、滑落性及び表面滑り性も劣っていた。従って、本開示に係る処理基材は、車載用、船舶用又は航空機用等のガラス又はミラーガラス、例えば自動車用ガラス、自動車用ドアミラーもしくは自動車用フェンダミラー等のガラス、あるいは車載カメラに用いられるガラス、建築用ガラス、屋外ディスプレイガラス、その他屋外用途の基材に好適に用いられる。
【産業上の利用可能性】
【０４８８】
本開示の製造方法は、主に屋外環境下で使用される物品の製造に好適に用いられ、本開示の物品は、特に屋外での用途に適している。
【図１】
2020089872.tif 000091
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月3日(2020.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、該基材の表面に、ポリエーテル基含有シラン化合物を含んで成る表面処理剤より形成された層とを含む物品の製造方法であって、
上記ポリエーテル基含有シラン化合物は、（α）下記式（α１）又は式（α２）：
【化１】
2020089872.tif 000092
（式中：
Ｒ１は、Ｒ３−（ＯＲ２）ａ−Ｌ−
（式中、（ＯＲ２）ａはポリエーテル鎖であり、
Ｒ３は、炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基であり、
Ｌは、単結合、又は、−（ＣＸ１２１Ｘ１２２）ｏ−（Ｌ１）ｐ−（ＣＸ１２３Ｘ１２４）ｑ−
（式中、Ｘ１２１〜Ｘ１２４は、独立に、ＨまたはＦであり、
Ｌ１は、−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−であり、
ｏは０〜１０の整数であり、
ｐは０又は１であり、
ｑは１〜１０の整数である。）
で表される基である。）
で表されるポリエーテル鎖を含む一価の有機基であり、
Ｒ１’は、−Ｌ’−（ＯＲ２）ａ−Ｌ−
（式中、（ＯＲ２）ａはポリエーテル鎖であり、
Ｌは、単結合、又は、−（ＣＸ１２１Ｘ１２２）ｏ−（Ｌ１）ｐ−（ＣＸ１２３Ｘ１２４）ｑ−
（式中、Ｘ１２１〜Ｘ１２４は、独立に、Ｈ又はＦであり、
Ｌ１は、−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−であり、
ｏは０〜１０の整数であり、
ｐは０又は１であり、
ｑは１〜１０の整数である。）
で表される基であり、
Ｌ’は、単結合、又は、−（ＣＸ１２６Ｘ１２７）ｒ−（ＣＸ１２１Ｘ１２２）ｏ−（Ｌ１）ｐ−（ＣＸ１２３Ｘ１２４）ｑ−
（式中、Ｘ１２１〜Ｘ１２４、Ｌ１、ｏ、ｐ及びｑは、上記Ｌにおける規定と同意義であり、
Ｘ１２６及びＸ１２７は、独立に、Ｈ又はＦであり、
ｒは１〜６の整数であり、
−（ＣＸ１２６Ｘ１２７）ｒ−が（ＯＲ２）ａに結合し、（ＣＸ１２３Ｘ１２４）ｑがイソシアヌル環に結合する。）
で表される基であり、
Ｌが式（α２）の右側のイソシアヌル環に結合し、Ｌ’が左側のイソシアヌル環に結合する。）
で表されるポリエーテル鎖を含む二価の有機基であり、
前記（ＯＲ２）ａで表されるポリエーテル鎖は、
−（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４−（式中、ｍ１４は５〜２００の整数である）で表される鎖、または
−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−（式中、ｍ１３及びｍ１４は、それぞれ、０〜３０の整数であり、ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数であり、ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、５以上であり、各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される鎖であり、
Ｘ１は、独立に、−Ｌ２−Ｓｉ（ＯＲ６）３であり、
Ｘ２は、独立に、−Ｌ２−Ｓｉ（ＯＲ６）３であり、
Ｌ２は、独立に、−ＣＨ２−、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、又は−Ｃ４Ｈ８−であり、
Ｒ６は、独立に、炭素数１〜４のアルキル基である。）
で表される化合物であり、
上記表面処理剤を、湿潤被覆法により基材の表面に適用することを含む、製造方法。
【請求項２】
前記湿潤被覆法は、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、及びグラビアコーティングから選択される方法である、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記湿潤被覆法は、スプレーコーティングである、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
表面処理剤を基材の表面に適用する前に、前記基材を大気圧プラズマ処理することを含む、請求項１〜３のいずれか１項に製造方法。
【請求項５】
前記大気圧プラズマ処理で用いる放電ガスと反応ガスの流量比は、１：５〜５：１である、請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
前記大気圧プラズマ処理で用いる放電ガスは、アルゴンガス又は窒素ガスである、請求項４又は５に記載の製造方法。
【請求項７】
前記大気圧プラズマ処理で用いる反応ガスは、酸素ガスである、請求項４〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
前記大気圧プラズマ処理の出力は、７００〜８００Ｗである、請求項４〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
前記表面処理剤は、さらに、下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は（Ｅ１）
【化２】
2020089872.tif 000093
［式中、
Ｒｆは、それぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基であり、
ＰＦＰＥは、
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１−（ＯＣＦ２）ｆ１−
（式中、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は５以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり、
Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２２のアルキル基であり、
Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又はハロゲン原子であり、
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｎは、（−ＳｉＲ１４ｎＲ１５３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）及び（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ１５が存在し； 
Ｘ１０１は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
Ｘ１０２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり、
ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α’は、１〜９の整数であり；
Ｘ１０５は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、１〜９の整数であり；
Ｘ１０７は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、１〜９の整数であり；
Ｒａ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒであり、
Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり、
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’であり、
Ｒａ’は、Ｒａ３と同意義であり、
Ｒａ３中、Ｚ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ただし、−Ｚ３−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒ毎において、ｐ、ｑ及びｒの和は３であり、式（Ｃ１）及び（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ７２が存在し；
Ｒｂ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒｃ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌ及びｍの和は３であり；
Ｘ１０９は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
δは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
δ’は、１〜９の整数である。
Ｒｄ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３’−ＣＲ８１ｐ’Ｒ８２ｑ’Ｒ８３ｒ’であり、
Ｚ３’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり、
Ｒ８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ３”であり、
Ｒｄ３”は、Ｒｄ３と同意義であり、
Ｒｄ３中、Ｚ３’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり、
Ｒ８２は、−Ｙ３−ＳｉＲ８５ｊＲ８６３−ｊであり、
Ｙ３は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり、
Ｒ８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｊは、（−Ｙ３−ＳｉＲ８５ｊＲ８６３−ｊ）単位毎に独立して、１〜３の整数であり、
Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基であり、
ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
Ｒｅ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ３−ＳｉＲ８５ｊＲ８６３−ｊであり、
Ｒｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基であり、
ｋ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｍ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ただし、式（Ｄ１）および（Ｄ２）において、少なくとも１つのｑ’は２又は３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ’は２又は３であり；
Ｇ５は、−Ｒ１７−Ｏ−、−Ｒ１７−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮＨ−又は単結合であり、
Ｒ１７は、アルキレン基であり、
Ｚ５は、（ａ５＋ｂ５）価の炭化水素基、又は炭化水素基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を１つ以上有する、炭素数２以上で（ａ５＋ｂ５）価の基であり、
Ｒ１６は、アルキレン基であり、
ａ５は、１以上の整数であり
ｂ５は、１以上の整数であり、
ただし、（ａ５＋ｂ５）は３以上であり、
ｃ５は０又は１である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記表面処理剤は、さらに、ＯＣＦ２ユニットを有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記基材は、ガラス基材である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記物品が、屋外で使用されるガラスである、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記物品が、車載ガラスである、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１４】
基材と、該基材の表面に、ポリエーテル基含有シラン化合物を含んで成る表面処理剤より形成された層とを含む物品であって、
上記ポリエーテル基含有シラン化合物は、（α）下記式（α１）又は式（α２）：
【化３】
2020089872.tif 000094
（式中：
Ｒ１は、Ｒ３−（ＯＲ２）ａ−Ｌ−
（式中、（ＯＲ２）ａはポリエーテル鎖であり、
Ｒ３は、炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基であり、
Ｌは、単結合、又は、−（ＣＸ１２１Ｘ１２２）ｏ−（Ｌ１）ｐ−（ＣＸ１２３Ｘ１２４）ｑ−
（式中、Ｘ１２１〜Ｘ１２４は、独立に、ＨまたはＦであり、
Ｌ１は、−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−であり、
ｏは０〜１０の整数であり、
ｐは０又は１であり、
ｑは１〜１０の整数である。）
で表される基である。）
で表されるポリエーテル鎖を含む一価の有機基であり、
Ｒ１’は、−Ｌ’−（ＯＲ２）ａ−Ｌ−
（式中、（ＯＲ２）ａはポリエーテル鎖であり、
Ｌは、単結合、又は、−（ＣＸ１２１Ｘ１２２）ｏ−（Ｌ１）ｐ−（ＣＸ１２３Ｘ１２４）ｑ−
（式中、Ｘ１２１〜Ｘ１２４は、独立に、Ｈ又はＦであり、
Ｌ１は、−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−であり、
ｏは０〜１０の整数であり、
ｐは０又は１であり、
ｑは１〜１０の整数である。）
で表される基であり、
Ｌ’は、単結合、又は、−（ＣＸ１２６Ｘ１２７）ｒ−（ＣＸ１２１Ｘ１２２）ｏ−（Ｌ１）ｐ−（ＣＸ１２３Ｘ１２４）ｑ−
（式中、Ｘ１２１〜Ｘ１２４、Ｌ１、ｏ、ｐ及びｑは、上記Ｌにおける規定と同意義であり、
Ｘ１２６及びＸ１２７は、独立に、Ｈ又はＦであり、
ｒは１〜６の整数であり、
−（ＣＸ１２６Ｘ１２７）ｒ−が（ＯＲ２）ａに結合し、（ＣＸ１２３Ｘ１２４）ｑがイソシアヌル環に結合する。）
で表される基であり、
Ｌが式（α２）の右側のイソシアヌル環に結合し、Ｌ’が左側のイソシアヌル環に結合する。）
で表されるポリエーテル鎖を含む二価の有機基であり、
前記（ＯＲ２）ａで表されるポリエーテル鎖は、
−（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４−（式中、ｍ１４は５〜２００の整数である）で表される鎖、または
−（ＯＣ４Ｆ８）ｍ１３−（ＯＣ３Ｆ６）ｍ１４−（ＯＣ２Ｆ４）ｍ１５−（ＯＣＦ２）ｍ１６−（式中、ｍ１３及びｍ１４は、それぞれ、０〜３０の整数であり、ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数であり、ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、５以上であり、
各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される鎖であり、
Ｘ１は、独立に、−Ｌ２−Ｓｉ（ＯＲ６）３であり、
Ｘ２は、独立に、−Ｌ２−Ｓｉ（ＯＲ６）３であり、
Ｌ２は、独立に、−ＣＨ２−、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ３Ｈ６−、又は−Ｃ４Ｈ８−であり、
Ｒ６は、独立に、炭素数１〜４のアルキル基である。）
で表される化合物である、物品。
【請求項１５】
屋外で使用するための物品である、請求項１４に記載の物品。
【請求項１６】
車輌用、船舶用又は航空機用である、請求項１４又は１５に記載の物品。
【請求項１７】
基材はガラスである、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の物品。