(57)【要約】【課題】金属層の腐食を抑制でき、これにより、優れた信頼性を有する導電層を備える導電性シートを提供すること。【解決手段】透明導電性シート１は、導電層３と、導電層３を厚み方向一方側から支持する透明基材２とを備える。導電層３は、厚み方向に間隔を隔てて対向する一方面および他方面を有する金属層５と、一方面および他方面に接触する第１無機酸化物層４および第２無機酸化物層６とを備える。金属層５に含有される第１の金属元素（Ａｇ）の２５℃における標準電極電位Ｖ１から、第１無機酸化物層４および第２無機酸化物層６に含有される第２の金属元素（Ｚｎ）の２５℃における標準電極電位Ｖ２を差し引いた値が、１．２５Ｖ以上である。【選択図】図１
2020013727.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電層と、
前記導電層を厚み方向一方側から支持する基材と
を備え、
前記導電層は、
厚み方向に間隔を隔てて対向する一方面および他方面を有する金属層と、
前記一方面および前記他方面のうち少なくとも一方に接触する金属酸化物層とを備え、
前記金属層に含有される第１の金属元素の２５℃における標準電極電位Ｖ１から、前記金属酸化物層に含有される第２の金属元素の２５℃における標準電極電位Ｖ２を差し引いた値が、１．２５Ｖ以上であることを特徴とする、導電性シート。
【請求項２】
前記金属酸化物層は、
前記一方面に接触する第１金属酸化物層と、
前記他方面に接触する第２金属酸化物層とを備えることを特徴とする、請求項１に記載の導電性シート。
【請求項３】
前記金属層の厚みの、前記第１金属酸化物層の厚みに対する割合が、０．１５以上、０．８０以下であることを特徴とする、請求項２に記載の導電性シート。
【請求項４】
前記金属酸化物層は、前記他方面に接触する第２金属酸化物層からなることを特徴とする、請求項１に記載の導電性シート。
【請求項５】
前記金属層の厚みの、前記第２金属酸化物層の厚みに対する割合が、０．１５以上、０．８０以下であることを特徴とする、請求項２〜４のいずれか一項に記載の導電性シート。
【請求項６】
前記第１の金属元素が、Ａｇであり、
前記第２の金属元素が、Ｚｎであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の導電性シート。
【請求項７】
前記導電層は、幅１ｍｍ以下の配線に形成され、
前記配線の前記幅方向端面から、前記金属層が露出することを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の導電性シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、透明導電層を備える透明導電性フィルムが各種光学用途に用いられることが知られている。
【０００３】
例えば、光透過性基材の上に、第１のＩＴＯ層と、銀層と、第２のＩＴＯ層とが順に形成された光透過性導電層が積層されている光透過性導電フィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、特許文献１に記載の光透過性導電フィルムでは、光透過性導電層は、エッチングによって、所定の幅を有する配線に形成（パターンニング）される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１７−８３８３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかるに、光透過性導電層には、腐食の抑制、ひいては、優れた信頼性が要求される。
【０００７】
しかし、特許文献１に記載の配線の幅方向端面からは、銀層が露出しており、かかる露出面に、露出面を被覆する粘着層中、または、露出面を暴露する空気中に含まれる水分が接触し、さらに、高温雰囲気に曝されると、露出面から銀層の内部に向かって腐食（具体的には、銀の酸化）が進行してしまう。このような腐食が、幅狭の配線の銀層の端面で生じると、配線の断線を生じ、そのため、信頼性が大きく損なわれるという不具合がある。
【０００８】
本発明は、金属層の腐食を抑制でき、これにより、優れた信頼性を有する導電層を備える導電性シートを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明（１）は、導電層と、前記導電層を厚み方向一方側から支持する基材とを備え、前記導電層は、厚み方向に間隔を隔てて対向する一方面および他方面を有する金属層と、前記一方面および前記他方面のうち少なくとも一方に接触する金属酸化物層とを備え、前記金属層に含有される第１の金属元素の２５℃における標準電極電位Ｖ１から、前記金属酸化物層に含有される第２の金属元素の２５℃における標準電極電位Ｖ２を差し引いた値が、１．２５Ｖ以上である、導電性シートを含む。
【００１０】
この導電性シートでは、金属層に含有される第１の金属元素の２５℃における標準電極電位Ｖ１から、金属酸化物層に含有される第２の金属元素の２５℃における標準電極電位Ｖ２を差し引いた値が、１．２５Ｖ以上と高い。そのため、金属層の端面が、露出して、第１の金属元素が腐食する環境となっても、金属層に接触する金属酸化物層に含有される第２の金属元素が、第１の金属元素よりも優先的に腐食する（犠牲防食する）ことができる。そのため、金属層の腐食を抑制することができる。
【００１１】
その結果、このような金属層を備える導電層は、優れた信頼性を有する。
【００１２】
本発明（２）は、前記金属酸化物層は、前記一方面に接触する第１金属酸化物層と、前記他方面に接触する第２金属酸化物層とを備える、（１）に記載の導電性シートを含む。
【００１３】
この導電性シートでは、金属酸化物層が、第１金属酸化物層と、第２金属酸化物層とを備える。そのため、金属層の厚み方向両面から、第２の金属元素が、第１の金属元素よりも優先的に腐食する。そのため、金属層の腐食をより一層抑制することができる。
【００１４】
本発明（３）は、前記金属層の厚みの、前記第１金属酸化物層の厚みに対する割合が、０．１５以上、０．８０以下である、（２）に記載の導電性シートを含む。
【００１５】
この導電性シートでは、金属層の厚みの第１金属酸化物層の厚みに対する割合が０．１５以上であれば、透明導電層に十分な導電性を担保することができる。
【００１６】
一方、金属層の厚みの第１金属酸化物層の厚みに対する割合が０．８０以下であれば、透明導電層に十分な導電性を担保することができる。また、比較的厚い第１金属酸化物層が含有する十分な第２の金属元素が、金属層が含有する第１の金属元素に対して、確実に優先して腐食することができる。
【００１７】
本発明（４）は、前記金属酸化物層は、前記他方面に接触する第２金属酸化物層からなる、（１）に記載の導電性シートを含む。
【００１８】
この導電性シートでは、金属酸化物層は、他方面に接触する第２金属酸化物層からなる
ので、第２金属酸化物層が、金属層の他方面を被覆して保護することができる。
【００１９】
本発明（５）は、前記金属層の厚みの、前記第２金属酸化物層の厚みに対する割合が、０．１５以上、０．８０以下である、（２）〜（４）のいずれか一項に記載の導電性シートを含む。
【００２０】
この導電性シートでは、金属層の厚みの第２金属酸化物層の厚みに対する割合が０．１５以上であれば、透明導電層に十分な導電性を担保することができる。
【００２１】
一方、金属層の厚みの第２金属酸化物層の厚みに対する割合が０．８０以下であれば、透明導電層に十分な導電性を担保することができる。また、比較的厚い第２金属酸化物層が含有する十分な第２の金属元素が、金属層が含有する第１の金属元素に対して、確実に優先して腐食することができる。
【００２２】
本発明（６）は、前記第１の金属元素が、Ａｇであり、前記第２の金属元素が、Ｚｎである、（１）〜（５）のいずれか一項に記載の導電性シートを含む。
【００２３】
Ａｇは、低電気抵抗率（低抵抗）を有すべく透明導電層における金属層の材料として最適である一方、Ａｇは、標準電極電位Ｖ１が比較的小さく、そのため、腐食し易い。
【００２４】
しかし、この導電性シートでは、第１の金属元素が、Ａｇであり、第２の金属元素が、Ｚｎであるので、ＺｎがＡｇに対して、確実に優先的に腐食することができる。とりわけ、Ｚｎは、端面からの腐食をできるだけ抑制することができる。
【００２５】
本発明（７）は、前記導電層は、幅１ｍｍ以下の配線に形成され、前記配線の前記幅方向端面から、前記金属層が露出する、（１）〜（６）のいずれか一項に記載の導電性シートを含む。
【００２６】
この導電性シートでは、導電層は、幅１ｍｍ以下の細い配線に形成され、配線の幅方向端面から、金属層が露出している。
【００２７】
しかるに、幅１ｍｍ以下の細い配線の金属層において幅方向端面から上記した腐食が進行してしまうと、配線がより断線し易い。
【００２８】
しかし、この導電性シートでは、上記した犠牲防食によって、腐食の進行を抑制することができる。そのため、細い配線の断線も抑制することができる。その結果、配線の信頼性に優れる。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の導電性シートは、優れた信頼性を有する。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】図１は、本発明の透明導電性シートの一実施形態の断面図を示す。
【図２】図２Ａおよび図２Ｂは、配線に形成される導電層を備える透明導電性シートであり、図２Ａが、断面図、図２Ｂが、平面図を示す。
【図３】図３Ａ〜図３Ｃは、導電層の幅方向一端面における犠牲防食を説明する図面であり、図３Ａが、金属層の幅方向一端面が露出する態様、図３Ｂが、金属層の幅方向一端面において水との接触に起因する腐食が開始される態様、図３Ｃが、第１金属酸化物層および第２金属酸化物層の第２金属元素が、金属層の第１金属元素に対して、優先的に腐食する態様を示す。
【図４】図４は、図１に示す一実施形態の変形例（導電層が金属層および第２金属酸化物層を備える態様）を示す。
【図５】図５は、図１に示す一実施形態の変形例（導電層が第１金属酸化物層および金属層を備える態様）を示す。
【図６】図６は、腐食試験後の実施例１の配線の幅方向一端縁の写真の画像処理図を示す。
【図７】図７は、腐食試験後の比較例１の配線の幅方向一端縁の写真の画像処理図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
本発明の導電性シートの一実施形態である透明導電性シートを、図１〜図３Ｃを参照して説明する。なお、図２Ｂ中、太い仮想線で囲まれる領域は、実施例の評価において撮影された写真の領域を示す。
【００３２】
図１に示すように、透明導電性シート１は、厚み方向に対向する一方面および他方面を有しており、厚み方向に直交する面方向に延びる略シート（フィルム）形状を有する。透明導電性シート１は、導電層の一例としての透明導電層３と、基材の一例としての透明基材２とを厚み方向一方側に向かって順に備える。透明導電性シート１は、透明導電層３と、その厚み方向一方面に配置される透明基材２とを備える。好ましくは、透明導電性シート１は、透明導電層３と、透明基材２とのみを備える。
【００３３】
透明導電層３は、透明導電性シート１における厚み方向他方側部分に位置する。透明導電層３は、面方向に延びる。透明導電層３は、厚み方向他方側に向かって露出している。透明導電層３は、金属酸化物層の一例としての第１金属酸化物層４と、金属層５と、金属酸化物層の一例としての第２金属酸化物層６とを、厚み方向他方側に向かって順に備える。
【００３４】
第１金属酸化物層４は、金属層５の厚み方向一方面を、後述する透明基材２から発生するガスなどによる影響を低減するとともに、金属層５の腐食の進行を抑制する第１保護層である。第１金属酸化物層４は、透明導電層３における厚み方向一方側部分に位置する。第１金属酸化物層４は、面方向に延びる膜形状を有する。第１金属酸化物層４は、金属層５の厚み方向一方面（後述）全面に接触している。
【００３５】
第１金属酸化物層４の材料としては、第２の金属元素を含有する金属酸化物（後述）が挙げられる。つまり、第１金属酸化物層４は、第２の金属元素を含有する金属酸化物から形成されている。すなわち、第１金属酸化物層４は、金属酸化物からなる。
【００３６】
第１金属酸化物層４の厚みは、例えば、４ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上、より好ましくは、１０ｎｍ以上、さらに好ましくは、１０ｎｍ超過、さらには、１５ｎｍ以上、さらには、２０ｎｍ以上、さらには、２５ｎｍ以上、さらには、３０ｎｍ以上、さらには、３５ｎｍ以上が好適である。また、第１金属酸化物層４の厚みは、例えば、１００ｎｍ以下、好ましくは、５０ｎｍ以下、より好ましくは、５０ｎｍ未満、さらに好ましくは、４５ｎｍ以下である。
【００３７】
第１金属酸化物層４の厚みが上記した下限以上であれば、第１金属酸化物層４が含有する十分な第２の金属元素（後述）が、金属層５が含有する第１の金属元素（後述）に対して、確実に優先して腐食することができる。さらには、透明基材２から発生するガスなどによる影響をより有効に低減することができる。
【００３８】
一方、第１金属酸化物層４の厚みが上記した上限以下であれば、透明導電層３に優れた透明性を担保することができる。
【００３９】
金属層５は、透明導電層３の導電性を確保する導電層である。金属層５は、透明導電層３における厚み方向中間部分に位置する。金属層５は、第１金属酸化物層４の厚み方向他方面全面に接触している。金属層５は、面方向に延びる膜形状を有する。金属層５は、厚み方向に間隔を隔てて対向する一方面および他方面を有する。
【００４０】
金属層５の材料としては、第１の金属元素を含有する金属（後述）が挙げられる。つまり、金属層５は、第１の金属元素を含有する金属から形成されている。すなわち、金属層５は、金属からなる。
【００４１】
金属層５の厚みは、例えば、２ｎｍ以上、好ましくは、４ｎｍ以上、より好ましくは、５ｎｍ以上、さらに好ましくは、６ｎｍ以上であり、また、例えば、５０ｎｍ以下、好ましくは、好ましくは、２５ｎｍ以下、より好ましくは、２０ｎｍ以下、さらに好ましくは、１５ｎｍ以下である。
【００４２】
金属層５の厚みの、第１金属酸化物層４の厚みに対する割合（金属層５の厚み／第１金属酸化物層４の厚み）は、例えば、０．０１以上、好ましくは、０．１以上、より好ましくは、０．１２５以上、さらに好ましくは、０．１５以上、とりわけ好ましくは、０．１７５以上であり、また、例えば、１．０以下、好ましくは、１．０未満、より好ましくは、０．９以下、さらに好ましくは、０．８０以下、さらには、０．７５以下、さらには、０．７０以下、さらには、０．６０以下、さらには、０．５０以下、さらには、０．４以下が好適である。
【００４３】
金属層５の厚みの第１金属酸化物層４の厚みに対する割合が上記した下限以上であれば、透明導電層３に十分な導電性を担保することができる。
【００４４】
一方、金属層５の厚みの第１金属酸化物層４の厚みに対する割合が上記した上限以下であれば、透明導電層３に十分な導電性を担保することができる。また、比較的厚い第１金属酸化物層４が含有する十分な第２の金属元素が（後述）が、金属層５が含有する第１の金属元素（後述）に対して、確実に優先して腐食することができる。
【００４５】
第２金属酸化物層６は、金属層５の厚み方向他方面を外部から保護するとともに、金属層５の腐食の進行を抑制する第２保護層である。第２金属酸化物層６は、透明導電層３における厚み方向他方側部分に位置する。そのため、第２金属酸化物層６は、厚み方向他方側に向かって露出している。第２金属酸化物層６は、面方向に延びる膜形状を有する。第２金属酸化物層６は、金属層５の厚み方向他方面全面に接触している。
【００４６】
第２金属酸化物層６の材料としては、第２の金属元素を含有する金属酸化物が挙げられる。つまり、第２金属酸化物層６は、第２の金属元素を含有する金属酸化物から形成されている。すなわち、第２金属酸化物層６は、金属酸化物からなる。
【００４７】
第２金属酸化物層６の厚みは、例えば、４ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上、より好ましくは、１０ｎｍ以上、さらに好ましくは、１０ｎｍ超過、さらには、１５ｎｍ以上、さらには、２０ｎｍ以上、さらには、２５ｎｍ以上、さらには、３０ｎｍ以上、さらには、３５ｎｍ以上が好適である。また、第２金属酸化物層６の厚みは、例えば、１００ｎｍ以下、好ましくは、５０ｎｍ以下、より好ましくは、５０ｎｍ未満、さらに好ましくは、４５ｎｍ以下である。
【００４８】
第２金属酸化物層６の厚みが上記した下限以上であれば、第２金属酸化物層６が含有する十分な第２の金属元素（後述）が、金属層５が含有する第１の金属元素（後述）に対して、確実に優先して腐食することができる。さらには、金属層５の厚み方向他方面を外部からより一層確実に保護することができる。
【００４９】
第２金属酸化物層６の厚みが上記した上限以下であれば、透明導電層３に優れた透明性を担保することができる。
【００５０】
金属層５の厚みの、第２金属酸化物層６の厚みに対する割合（金属層５の厚み／第２金属酸化物層６の厚み）は、例えば、０．０１以上、好ましくは、０．１以上、より好ましくは、０．１２５以上、さらに好ましくは、０．１５以上、とりわけ好ましくは、０．１７５以上であり、また、例えば、１．０以下、好ましくは、１．０未満、より好ましくは、０．９以下、さらに好ましくは、０．８０以下、さらには、０．７５以下、さらには、０．７０以下、さらには、０．６０以下、さらには、０．５０以下、さらには、０．４以下が好適である。
【００５１】
金属層５の厚みの第２金属酸化物層６の厚みに対する割合が上記した下限以上であれば、透明導電層３に十分な導電性を担保することができる。
【００５２】
一方、金属層５の厚みの第２金属酸化物層６の厚みに対する割合が上記した上限以下であれば、透明導電層３に十分な導電性を担保することができる。また、比較的厚い第２金属酸化物層６が含有する十分な第２の金属元素が（後述）が、金属層５が含有する第１の金属元素（後述）に対して、確実に優先して腐食することができる。
【００５３】
第１金属酸化物層４の厚みの、第２金属酸化物層６の厚みに対する割合（第１金属酸化物層４の厚み／第２金属酸化物層６の厚み）は、例えば、０．１５以上、好ましくは、０．２０以上、より好ましくは、０．２５以上、さらに好ましくは、０．３０以上、とりわけ好ましくは、０．４０以上、さらには、０．５以上、さらには、０．７５以上が好適である。また、第１金属酸化物層４の厚みの、第２金属酸化物層６の厚みに対する割合は、例えば、５．０以下、好ましくは、４．０以下、より好ましくは、３．０以下、さらに好ましくは、２．５以下、とりわけ好ましくは、２．０以下、さらには、１．５以下、さらには、１．２５以下である。
【００５４】
次に、金属酸化物および金属を説明する。
【００５５】
金属酸化物は、第２の金属元素を含有する。金属は、第１の金属元素を含有する。
【００５６】
第１の金属元素および第２の金属元素は、第１の金属元素の２５℃における標準電極電位Ｖ１から第２の金属元素の２５℃における標準電極電位Ｖ２を差し引いた値（Ｖ１−Ｖ２）（以下、第１の金属元素および第２の金属元素の標準電極電位の差という場合がある。）が、１．２５Ｖ以上となるように、選択される。
【００５７】
具体的には、第１の金属元素および第２の金属元素は、例えば、Ｋ、Ｃａ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ａｇ、ＰｄおよびＡｕからなる群から、第１の金属元素および第２の金属元素の標準電極電位の差（Ｖ１−Ｖ２）が１．２５Ｖ以上となるように、選択される。
【００５８】
一方、第１の金属元素および第２の金属元素の標準電極電位の差（Ｖ１−Ｖ２）が１．２５Ｖ未満であれば、第２の金属元素が、第１の金属元素よりも優先的に腐食することができず、そのため、金属層５の腐食の進行を抑制することができない。
【００５９】
第１の金属元素および第２の金属元素の標準電極電位の差（Ｖ１−Ｖ２）は、好ましくは、１．３０Ｖ以上、より好ましくは、１．３５Ｖ以上、さらに好ましくは、１．４０Ｖ以上、とりわけ好ましくは、１．４５Ｖ以上、さらには、１．５０Ｖ以上、さらには、１．５５Ｖ以上が好適である。また、第１の金属元素および第２の金属元素の標準電極電位の差（Ｖ１−Ｖ２）は、例えば、４．００Ｖ以下である。
【００６０】
表１に、第１の金属元素および第２の金属元素の具体的な組合せを例示する。表１中、上欄（上行）は、第１の金属元素およびその２５℃における標準電極電位Ｖ１を示し、左欄（左列）は、第２の金属元素およびその２５℃における標準電極電位Ｖ２を示し、中央から右端および下端にかけては、上記第１の金属元素および第２の金属元素の組合せにおけるそれらの標準電極電位の差（Ｖ１−Ｖ２）を示す。表１中、標準電極電位およびその差の数値の単位は、ボルト（Ｖ）である。
【００６１】
好ましくは、標準電極電位Ｖ１が０．６０Ｖ以上である第１の金属元素、および、標準電極電位Ｖ２が−０．６５Ｖ以下、さらには、−０．７０Ｖ以下、さらには、−０．７５Ｖ以下である第２の金属元素の組合せが挙げられる。
【００６２】
また、標準電極電位Ｖ１が０．６５Ｖ以上である第１の金属元素、および、標準電極電位Ｖ２が−０．６０Ｖ以下、さらには、−０．６５Ｖ以下、さらには、−０．７０Ｖ以下、さらには、−０．７５Ｖ以下である第２の金属元素の組合せが挙げられる。
【００６３】
さらに、標準電極電位Ｖ１が０．７０Ｖ以上である第１の金属元素、および、標準電極電位Ｖ２が−０．５５Ｖ以下、さらには、−０．６０Ｖ以下、さらには、−０．６５Ｖ以下、さらには、−０．７０Ｖ以下、さらには、−０．７５Ｖ以下である第２の金属元素の組合せが挙げられる。
【００６４】
また、標準電極電位Ｖ１が０．７５Ｖ以上である第１の金属元素、および、標準電極電位Ｖ２が−０．５０Ｖ以下、さらには、−０．５５Ｖ以下、さらには、−０．６０Ｖ以下、さらには、−０．６５Ｖ以下、さらには、−０．７０Ｖ以下、さらには、−０．７５Ｖ以下である第２の金属元素の組合せが挙げられる。
【００６５】
具体的に例示すれば、第１の金属元素および第２の金属元素の組合せとして、例えば、第１の金属元素がＡｇ（標準電極電位Ｖ１が０．７９９Ｖ）の場合には、第２の金属元素として、Ｋ、Ｃａ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｆｅからなる群から少なくとも１元素が選択される。第１の金属元素がＡｕ（標準電極電位Ｖ１が１．５Ｖ）の場合には、第２の金属元素として、Ｋ、Ｃａ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｐｂからなる群から少なくとも１元素が選択される。
【００６６】
より好ましくは、第１の金属元素および第２の金属元素の組合せとして、Ａｇ（標準電極電位Ｖ１が０．７９９Ｖ）およびＺｎ（標準電極電位Ｖ２が−０．７６３Ｖ）が挙げられる。
【００６７】
Ａｇは、Ｃｕ（電気抵抗率：１．６８×１０-８Ωｍ）に比べて、電気抵抗率が１．５９×１０-８Ωｍと低いため、低電気抵抗率（低抵抗）である透明導電層３における金属層５の材料として最適である一方、Ａｇは、Ａｕに比べて、標準電極電位Ｖ１が小さく、そのため、腐食し易い。
【００６８】
しかし、第２の金属元素が上記した群から選択されれば（より好ましくは、Ｚｎであれば）、第２の金属元素がＡｇに対して、確実に優先的に腐食することができる。とりわけ、第２の金属元素がＺｎであれば、端面からの腐食をできるだけ抑制すること（例えば、５μｍ以下の腐食に抑制すること）もできる。
【００６９】
また、金属酸化物は、上記した第１の金属元素以外の第３の金属元素を含有することができる。第３の金属元素は、第２の金属元素の２５℃における標準電極電位Ｖ２から第３の金属元素の２５℃における標準電極電位Ｖ３を差し引いた値（Ｖ２−Ｖ３）（以下、第２の金属元素および第３の金属元素の標準電極電位の差という場合がある。）が、１．２５Ｖ未満、０Ｖ以上となるものが適宜選択される。第３の金属元素は、上記した第１の金属元素および第２金属元素で例示した金属元素から、適宜選択される。第３の金属元素は、第１無機酸化物において、酸化物を形成するための主な金属元素を構成する。例えば、第１の金属元素がＡｇの場合には、第３の金属元素として、例えば、Ｉｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｃｕからなる群から少なくとも１元素が選択される。第１の金属元素がＡｕ（標準電極電位Ｖ１が１．５Ｖ）の場合には、第３の金属元素として、Ｃｕ、Ａｇ、Ｐｄからなる群から少なくとも１元素が選択される。
【００７０】
なお、金属酸化物が複数の金属元素を含有する場合には、比較的低い（具体的には、最低の）標準電極電位を有する金属元素が第２の金属元素であり、比較的高い（具体的には、第２の金属元素の標準電極電位に比べて高い）標準電極電位を有する金属元素が第３の金属元素である。
【００７１】
さらには、次に説明する金属が単体であれば、金属を構成する第１の金属元素と、金属酸化物を構成する複数の金属元素のそれぞれとの差を求め、差が１．２５以上となる金属元素が第２の金属元素とし、差が１．２５未満となる金属元素が第３の金属元素とすることができる。なお、金属酸化物を構成する第２の金属元素は、複数であってもよい。この場合には、複数の第２の金属元素のいずれもが、標準電極電位の差（Ｖ１−Ｖ２）が１．２５以上を満足する。
【００７２】
好ましくは、第１の金属元素がＡｇ、第２の金属元素がＺｎの場合には、第３の金属元素としてＩｎが選択される。
【００７３】
具体的には、金属酸化物は、好ましくは、第３の金属元素の酸化物に、第２の金属元素がドープされているものであり、例えば、Ｉｎ２Ｏ３にＺｎがドープされたＩＺＯが挙げられる。なお、ＩＺＯは、インジウム−亜鉛酸化物と表記することもできる。
【００７４】
金属酸化物中の第２の金属元素の割合は、例えば、０．１質量％以上、好ましくは、５質量％以上であり、また、例えば、５０質量％以下、好ましくは、２０質量％以下である。また、金属酸化物中の第３の金属元素の割合は、例えば、０．１質量％以上、好ましくは、５質量％以上であり、また、例えば、５０質量％以下、好ましくは、２０質量％以下である。
【００７５】
第１金属酸化物層４を形成する金属酸化物と、第２金属酸化物層６を形成する金属酸化物とは、同じ種類であってもよく、あるいは、異なる種類であってもよい。好ましくは、同じ種類である。
【００７６】
金属は、第１の金属元素の単体であってもよく、さらには、第１の金属元素の標準電極電位Ｖ１に比べて高い標準電極電位を有する第４の金属元素と、第１の金属元素との合金であってもよい。合金としては、例えば、Ａｇ−Ｐｄ合金などが挙げられる。
【００７７】
好ましくは、金属として、第１の金属元素の単体が挙げられ、より好ましくは、Ａｇ単体が挙げられる。
【００７８】
透明導電層３の光透過性導電層４の表面抵抗は、例えば、４０Ω／□以下、好ましくは、２０Ω／□以下、より好ましくは、１０Ω／□以下であり、また、例えば、０．１Ω／□以上である。なお、表面抵抗は、ＪＩＳ    Ｋ７１９４（１９９４年）の４探針法に準拠して測定される。
【００７９】
透明導電層３の全光線透過率（ＪＩＳ  Ｋ  ７３７５−２００８）は、例えば、８０％以上、好ましくは、８５％以上である。
【００８０】
図１に示すように、透明基材２は、導電性シート１における厚み方向一方側部分に位置する。透明基材２は、透明導電層３の厚み方向一方側に配置されており、これにより、透明導電層３を厚み方向一方側から支持する。透明基材２は、面方向に延びる略シート形状を有する。透明基材２は、第１金属酸化物層４の厚み方向一方面全面に配置されている。透明基材２は、厚み方向一方側に向かって露出している。
【００８１】
透明基材２の材料は、透明であれば、特に限定されない。透明基材２の材料としては、例えば、樹脂（ポリマーを含む）が挙げられる。樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）などのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、例えば、ポリエーテルスルフォン樹脂、例えば、ポリアリレート樹脂、例えば、メラミン樹脂、例えば、ポリアミド樹脂、例えば、ポリイミド樹脂、例えば、セルロース樹脂、例えば、ポリスチレン樹脂、例えば、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。これら樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。好ましくは、優れた機械特性を確保する観点から、ＰＥＴが挙げられる。また、好ましくは、優れた等方性を確保する観点から、ＣＯＰが挙げられる。
【００８２】
透明基材２の全光線透過率（ＪＩＳ  Ｋ  ７３７５−２００８）は、例えば、８０％以上、好ましくは、８５％以上である。
【００８３】
透明基材２の厚みは、特に限定されず、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下である。
【００８４】
透明導電性シート１の厚みは、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下である。
【００８５】
この透明導電性シート１を得るには、まず、透明基材２を準備し、続いて、透明基材２の厚み方向他方面に、第１金属酸化物層４と、金属層５と、第２金属酸化物層６とを、例えば、スパッタリングなどのドライ方式の薄膜形成方法によって、順に形成する。
【００８６】
図１に示す透明導電性シート１は、タッチパネル用基材として用いられる。
【００８７】
図２Ａおよび図２Ｂに示すように、透明導電性シート１がタッチパネル用基材として用いられる場合には、透明伝導性シート１における透明導電層３が、エッチングなどによって、配線７に形成される。
【００８８】
配線７は、例えば、１ｍｍ以下、好ましくは、０．１ｍｍ以下、より好ましくは、０．０１ｍｍ以下の幅を有する。なお、配線７の幅は、通常、１μｍ以上である。
【００８９】
なお、配線７の幅は、配線７が延びる方向、および、厚み方向（導電性シート１の厚み方向）に直交する方向長さである。
【００９０】
また、配線７は、上記した幅方向に互いに間隔を隔てて複数整列配置されている。
【００９１】
また、配線７の幅方向一端面では、第１無機酸化物層４、金属層５および第２無機酸化物層６のそれぞれの幅方向一端面が面一に形成されている。そのため、少なくとも、金属層５の幅方向一端面は、幅方向一方側に向かって露出されている。
【００９２】
また、配線７の幅方向他端面でも、第１無機酸化物層４、金属層５および第２無機酸化物層６のそれぞれの幅方向他端面が面一に形成されている。そのため、少なくとも、金属層５の幅方向他端面は、幅方向他方側に向かって露出されている。
【００９３】
図２Ａおよび図２Ｂに示す透明導電性シート１は、例えば、タッチパネルなどに用いられる。
【００９４】
タッチパネルでは、例えば、透明基材２の厚み方向他方面に透明導電層３のパターン７を被覆（埋設）するように、図２Ａの仮想線で示す感圧接着層８を配置して、感圧接着層８の厚み方向他方面に、図示しない他の部材（例えば、カバーガラスなど）がさらに配置されていてもよい。
【００９５】
しかるに、透明導電性シート１において、第１金属酸化物層４および第２金属酸化物層６の材料が、例えば、第２の金属元素を含有せず、第３の金属元素を含有する金属酸化物である場合には、金属層５に含有される第１の金属元素の２５℃における標準電極電位Ｖ１から、第３の金属元素の２５℃における標準電極電位Ｖ３を差し引いた値（Ｖ１−Ｖ３）が、１．２５Ｖ未満と低い。そして、金属層５の端面が、図３Ａに示すように、露出して、第１の金属元素が腐食する環境になる場合、具体的には、金属層５の端面が、水分量が高い感圧接着層８や高湿雰囲気、さらには、高温に暴露される場合には、図示しないが、第１の金属元素がそのまま腐食され、より具体的には、金属層５において端面から内部に向かって腐食が進行し、これによって、金属層５が大きく欠落してしまい、そのため、透明導電層３の導電性を十分に確保することができない。
【００９６】
しかし、この透明導電性シート１では、第１金属酸化物層４および第２金属酸化物層６の材料が、第２の金属元素を含有する金属酸化物である。そして、金属層５に含有される第１の金属元素（例えば、Ａｇ）の２５℃における標準電極電位Ｖ１から、第１金属酸化物層４および第２金属酸化物層６に含有される第２の金属元素（例えば、Ｚｎ）の２５℃における標準電極電位Ｖ２を差し引いた値（Ｖ１−Ｖ２）が、１．２５Ｖ以上と高い。そのため、金属層５に接触する第１金属酸化物層４および第２金属酸化物層６に含有される第２の金属元素（Ｚｎ）が、第１の金属元素（Ａｇ）よりも優先的に腐食する（犠牲防食する）ことができる。つまり、金属層５の第１の金属元素（Ａｇ）の腐食が進行する前に、第２の金属元素（Ｚｎ）がイオン化して腐食する。そのため、金属層５の腐食を抑制することができる。なお、金属層５には、第２の金属元素の混入が許容される。金属層５における第２の金属元素の混入割合は、例えば、０．１質量％以下、さらには、０．０１質量％以下、さらには、０．００１質量％以下である。
【００９７】
その結果、このような金属層５を備える透明導電層３は、優れた信頼性を有する。
【００９８】
なお、第２の金属元素が犠牲防食したことは、例えば、エネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＸ）によって、金属層５に第２金属元素が存在することをもって、確認される。
【００９９】
また、この透明導電性シート１では、第１金属酸化物層４と、第２金属酸化物層６とを備える。そのため、金属層５の厚み方向両面から、第２の金属元素が、第１の金属元素よりも優先的に腐食する。その結果、金属層５の腐食をより一層抑制することができる。
【０１００】
また、この透明導電性シート１では、透明導電層３は、幅１ｍｍ以下の細い（ファインな）配線７に形成され、配線７の幅方向端面から、金属層５が露出する場合において、金属層５において幅方向端面から上記した腐食が進行してしまうと、細い配線７が断線してしまい、配線７の信頼性が大きく損なわれる。
【０１０１】
しかし、この透明導電性シート１では、上記した犠牲防食によって、腐食の進行を抑制することができる。そのため、細い配線７の断線も抑制することができる。その結果、配線７の信頼性に優れる。
【０１０２】
変形例
次に、一実施形態の変形例を説明する。以下の各変形例において、上記した一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、各変形例を適宜組み合わせることができる。さらに、各変形例は、特記する以外、一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
【０１０３】
一実施形態では、図１に示すように、透明導電性シート１は、２つの金属酸化物層（第１金属酸化物層４および第２金属酸化物層６）を備える。しかし、図４および図５に示すように、１つの金属酸化物層（第１金属酸化物層４または第２金属酸化物層６）のみを備えることができる。
【０１０４】
図４に示すように、この変形例では、透明導電層３が、金属層５と、第２金属酸化物層６とのみを備える。第２金属酸化物層６は、厚み方向他方側に向かって露出する。
【０１０５】
一方、図５に示すように、この変形例では、透明導電層３が、第１金属酸化物層４と、金属層５とのみを備える。金属層５は、厚み方向他方側に向かって露出する。
【０１０６】
図１に示す一実施形態、図４および図５の変形例のうち、図１に示す一実施形態が好適である。一実施形態であれば、金属層５の厚み方向両面から、第１金属酸化物層４および第２金属酸化物層６の第２の金属元素が、金属層５第１の金属元素よりも優先的に腐食することができる。
【０１０７】
なお、図４および図５の変形例のうち、図４の変形例が好適である。図４の変形例であれば、第２金属酸化物層６が金属層５を厚み方向他方側から被覆することができるので、金属層５の厚み方向他方面の露出に起因する腐食を抑制することができる。
【０１０８】
また、一実施形態では、図１に示す第１金属酸化物層４および第２金属酸化物層６のいずれの材料も、第２の金属元素を含有する金属酸化物であるが、変形例では、いずれか一方の材料が、第２の金属元素を含有しない金属酸化物であってもよい。具体的には、一方の材料が、第２の金属元素を含有しないが、第３の金属元素を含有する金属酸化物（例えば、ＩＴＯ）などであってもよい。
【０１０９】
また、一実施形態では、透明基材２は、複数層であってもよく、例えば、上記した光学調整層、アンチブロッキング層、ハードコート層などの機能層を含むことができる。
【０１１０】
一実施形態では、本発明の導電層および基材のそれぞれを、透明導電層３および透明基材２として説明しているが、ともに、あるいは、いずれかが、不透明であってもよい。この場合には、導電性シートの一例は、不透明な導電性シートとされる。
【実施例】
【０１１１】
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限（「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。
【０１１２】
実施例１
ＰＥＴフィルムからなる透明基材２を準備した。
【０１１３】
続いて、透明基材２の厚み方向他方面に、厚み４０ｎｍのＩＺＯ（Ｉｎ２Ｏ３にＺｎがドープされたＩＺＯ）からなる第１金属酸化物層４と、厚み８ｎｍのＡｇからなる金属層５と、厚み４０ｎｍのＩＺＯ（Ｉｎ２Ｏ３にＺｎがドープされたＩＺＯ）からなる第２金属酸化物層６とを、スパッタリングによって、順に形成した。
【０１１４】
金属層５に含有されるＡｇ（第１の金属元素）の２５℃における標準電極電位Ｖ１は、０．７９９Ｖである。
【０１１５】
第１金属酸化物層４および第２金属酸化物層６に含有されるＺｎ（第２の金属元素）の標準電極電位Ｖ２は、−０．７６３Ｖである。第１金属酸化物層４および第２金属酸化物層６に含有されるＩｎ（第３の金属元素）の標準電極電位は、−０．３３８Ｖである。
【０１１６】
Ａｇ（第１の金属元素）およびＺｎ（第２の金属元素）の標準電極電位の差（Ｖ１−Ｖ２）は、１．５６２Ｖである。
【０１１７】
透明導電層３の表面抵抗は、１０Ω／□であった。
【０１１８】
図１に示すように、これにより、透明基材２と、第１金属酸化物層４と、金属層５と、第２金属酸化物層６とを、厚み方向他方側に向かって順に備える透明導電性シート１を得た。
【０１１９】
図２Ａおよび図２Ｂに示すように、その後、透明導電層３を、エッチングによって、幅０．６ｍｍの配線７に形成した。
【０１２０】
比較例１
ＩＺＯからなる第１金属酸化物層４と、ＩＺＯからなる第２金属酸化物層６とに代えて、ＩＴＯ（Ｉｎ２Ｏ３にＳｎがドープされたＩＴＯ）からなる第１金属酸化物層４と、ＩＴＯ（Ｉｎ２Ｏ３にＳｎがドープされたＩＴＯ）からなる第２金属酸化物層６とを形成した以外は、実施例１と同様に処理して、透明導電性シート１を得、続いて、配線７を形成した。
【０１２１】
第１金属酸化物層４および第２金属酸化物層６に含有されるＩｎおよびＳｎ（いずれも第３の金属元素）の標準電極電位が、それぞれ、−０．３３８Ｖおよび−０．１３８Ｖである。
【０１２２】
Ａｇ（第１の金属元素）およびＩｎ（第３の金属元素）の標準電極電位の差（Ｖ１−Ｖ３）は、１．１４Ｖである。Ａｇ（第１の金属元素）およびＳｎ（第３の金属元素）の標準電極電位の差（Ｖ１−Ｖ３）は、０．６５Ｖである。
【０１２３】
透明導電層３の表面抵抗は、１０Ω／□であった。
【０１２４】
評価
実施例１および比較例１の透明導電性シート１のそれぞれについて、腐食試験を実施した。その結果を、表２に示す。
【０１２５】
腐食試験では、温度８５℃、相対湿度８５の雰囲気に５００時間静置し、配線７の幅方向一端縁を厚み方向他方側から観察した。また、平面視における実施例１および比較例１の写真の画像処理図を図６および図７のそれぞれで示す。
【０１２６】
図７から分かるように、比較例１では、平面視において、配線７の幅方向一端縁に大きな欠け（幅方向長さ１００μｍ以上の欠け）が確認された。
【０１２７】
一方、図６から分かるように、実施例１では、配線７の幅方向一端縁において上記した欠けが確認されなかった。
【０１２８】
【表１】
2020013727.tif 000003
【０１２９】
【表２】
2020013727.tif 000004
【符号の説明】
【０１３０】
１     透明導電性シート
２     透明導電層
３     透明基材
４     第１金属酸化物層（金属酸化物層）
５     金属層
６     第２金属酸化物層（金属酸化物層）
【図１】
2020013727.tif 000005
【図２】
2020013727.tif 000006
【図３】
2020013727.tif 000007
【図４】
2020013727.tif 000008
【図５】
2020013727.tif 000009
【図６】
2020013727.tif 000010
【図７】
2020013727.tif 000011