(57)【要約】【課題】ＵＶ等の特定の光に対する分解性が高く、光分解による重量平均分子量低減効果が大きい重合体を提供すること。【解決手段】下記一般式（I）で表される構成単位を有する重合体。上記一般式（I）で表される構成単位合計の割合が、重合体に対して１０〜１００質量％であることが好ましい。重量平均分子量が１，０００〜５００，０００であることも好ましい。【化１】2020172619.tif 000036（式中、Ａｒ1、Ｒ1、Ｘ1、Ｙ1及びｎ1の定義は明細書を参照。＊は結合手を表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（I）で表される構成単位を有する重合体。
【化１】
2020172619.tif 000034
（式中、Ａｒ1は、炭素原子数６〜３０のアリール基含有基、炭素原子数１〜３０のアル
キレン基又は炭素原子数２〜３０の複素環含有基を表し、  Ｒ1は、水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、又は、該炭化水素基若しくは該複素環含有基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が隣り合わない条件で下記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基を表し、
群Ｉは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ3−、−ＮＲ3ＣＯ−、−Ｓ−、−ＣＳ−、−ＳＯ2−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−、−ＯＣＳ−及び−ＣＳＯ−であり、Ｒ3は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
Ｒ1で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基及び該炭化水素基のメチレン基が上記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２〜３０の複素環含有基で置換される場合があり、
Ｒ1で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基及び該複素環含有基のメチレン基が上記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合があり、
Ｘ1は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、又は、該炭化水素基若しくは該複素環含有基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が隣り合わない条件で下記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基を表し、
群ＩＩは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ21−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−であり、Ｒ21は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
Ｘ1で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基及び該炭化水素基のメチレン基が上記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つまたは２つ以上は、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合があり、
Ｘ1で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基及び該複素環含有基のメチレン基が上記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つまたは２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタアクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合があり、
Ｙ1は、−Ｏ−Ｒ2−又は下記一般式（II）で表される２価の基を表し、
Ｒ2は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、又は、該炭化水素基若しくは該複素環含有基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が隣り合わない条件で上記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基を表し、
Ｒ2で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基及び該炭化水素基のメチレン基が上記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つまたは２つ以上は、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合があり、
Ｒ2で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基及び該複素環含有基のメチレン基が上記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つまたは２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合があり、
ｎ1は、０又は１を表し、＊は結合手を表す。）
【化２】
2020172619.tif 000035
（式中、Ｒ11は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、又は、該炭化水素基若しくは該複素環含有基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が隣り合わない条件で上記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基を表し、
Ｒ11で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基及び該炭化水素基のメチレン基が上記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２〜３０の複素環含有基で置換される場合があり、
Ｒ11で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基及び該複素環含有基のメチレン基が上記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合があり、
ｎ2は、０又は１を表し、＊は結合手を表す。）
【請求項２】
上記一般式（I）中のＡｒ1が、カルバゾール基、ジフェニルスルフィド基、フルオレン基又はフェニレン基である請求項１に記載の重合体。
【請求項３】
上記一般式（I）中のＲ1が、炭素原子数１〜１０のアルキル基又は炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基である請求項１又は２に記載の重合体。
【請求項４】
上記一般式（I）中のＸ1が、炭素原子数１〜１０の炭化水素基である請求項１〜３の何れか一項に記載の重合体。
【請求項５】
上記一般式（I）で表される構成単位合計の割合が、重合体に対して１０〜１００質量％である請求項１〜４の何れか１項に記載の重合体。
【請求項６】
重量平均分子量が１，０００〜５００，０００である請求項１〜５の何れか１項に記載の重合体。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか１項に記載の重合体を含有する光分解樹脂。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の重合体を含有する光重合開始剤。
【請求項９】
請求項７に記載の光分解樹脂を含有する組成物。
【請求項１０】
請求項９に記載の組成物を含有する光易解体性接着剤。
【請求項１１】
請求項９に記載の組成物を含有するパターン形成剤。
【請求項１２】
請求項９に記載の組成物及び活性種を含有する光潜在性触媒。
【請求項１３】
光源としてＬＥＤを用いて請求項９に記載の組成物を分解させる工程を含む組成物の分解方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、重合体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、環境低負荷、コスト低減のために光易解体性接着剤や、微細なパターンを形成できるパターン形成剤及び保存安定性に優れる光潜在性触媒に対するニーズが高まっている。
【０００３】
特許文献１には、ｏ−ニトロベンジル基を有する光分解性高分子化合物の製造方法が開示されている。特許文献２には特定構造のオキシムメタクリレートを共重合成分として含有する、光分解性高分子化合物が記載されている。特許文献３にはピリチオン誘導体の光分解性を利用したマイクロカプセルが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１３１７１０号公報
【特許文献２】特開昭６３−２６０９１２号公報
【特許文献３】特開２００５−３４３８２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、既存の技術は、光分解の感度が低かったり、光分解による分子量低減効果が小さかったりするという問題があった。
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、上記の問題を解決できる重合体、光分解樹脂、組成物、光易解体性接着剤、パターン形成剤及び光潜在性触媒を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を行い、下記［１］〜［１３］を提供することにより、上記課題の解決を達成した。
【０００８】
［１］  下記一般式（I）で表される構成単位を有する重合体。
【化１】
2020172619.tif 000002
（式中、Ａｒ1は、炭素原子数６〜３０のアリール基含有基、炭素原子数１〜３０のアル
キレン基又は炭素原子数２〜３０の複素環含有基を表し、
Ｒ1は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１〜３０の炭化水
素基、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、又は、該炭化水素基若しくは該複素環含有基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が隣り合わない条件で下記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基を表し、
群Ｉは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ3−、−ＮＲ3ＣＯ−、−Ｓ−、−ＣＳ−、−ＳＯ2−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−、−ＯＣＳ−及び−ＣＳＯ−であり、Ｒ3は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
Ｒ1で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基及び該炭化水素基のメチレン基が上記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２〜３０の複素環含有基で置換される場合があり、
Ｒ1で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基及び該複素環含有基のメチレン基が上記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合があり、
Ｘ1は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、又は、該炭化水素基若しくは該複素環含有基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が隣り合わない条件で下記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基を表し、
群ＩＩは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ21−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−であり、Ｒ21は、水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
Ｘ1で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基及び該炭化水素基のメチレン基が上記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つまたは２つ以上は、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合があり、
Ｘ1で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基及び該複素環含有基のメチレン基が上記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つまたは２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合があり、
Ｙ1は、−Ｏ−Ｒ2−又は下記一般式（II）で表される２価の基を表し、
Ｒ2は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、又は、該炭化水素基若しくは該複素環含有基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が隣り合わない条件で上記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基を表し、
Ｒ2で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基及び該炭化水素基のメチレン基が上記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つまたは２つ以上は、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合があり、
Ｒ2で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基及び該複素環含有基のメチレン基が上記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つまたは２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合があり、
ｎ1は、０又は１を表し、＊は結合手を表す。）
【化２】
2020172619.tif 000003
（式中、Ｒ11は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、又は、該炭化水素基若しくは該複素環含有基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が隣り合わない条件で上記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基を表し、
Ｒ11で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基及び該炭化水素基のメチレン基が上記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２〜３０の複素環含有基で置換される場合があり、
Ｒ11で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基及び該複素環含有基のメチレン基が上記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合があり、
ｎ2は、０又は１を表し、＊は結合手を表す。）
【０００９】
［２］上記一般式（I）中のＡｒ1が、カルバゾール基、ジフェニルスルフィド基、フルオレン基又はフェニレン基である［１］に記載の重合体は、光分解性に優れＬＥＤ光源でも分解可能であることから好ましく、カルバゾール基、ジフェニルスルフィド基又はフルオレン基が特に好ましい。
【００１０】
［３］  上記一般式（I）中のＲ1が、炭素原子数１〜１０のアルキル基又は炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基である［１］又は［２］に記載の重合体は、溶媒溶解性、成膜性に優れることから好ましい。
【００１１】
［４］  上記一般式（I）中のＸ1が、炭素原子数１〜１０の炭化水素基である［１］〜［３］の何れか一項に記載の重合体は、溶媒溶解性、成膜性、加工性に優れるほか、光分解後の物性（溶媒溶解性、融点等）の変化が大きいことから好ましい。
【００１２】
［５］  上記一般式（I）で表される構成単位合計の割合が、重合体に対して１０〜１０
０質量％である［１］〜［４］の何れか１項に記載の重合体は、光分解性に優れることから好ましい。
【００１３】
［６］  重量平均分子量が１，０００〜５００，０００である［１］〜［５］の何れか１項に記載の重合体は、光分解による物性（物性：例えば、溶媒溶解性、融点、膜の強度等）の変化が大きい為、好ましい。
【００１４】
［７］  ［１］〜［６］の何れか１項に記載の重合体を含有する光分解樹脂。
【００１５】
［８］  ［１］〜［６］の何れか１項に記載の重合体を含有する光重合開始剤。
【００１６】
［９］  ［７］に記載の光分解樹脂を含有する組成物。
【００１７】
［１０］  ［９］に記載の組成物を含有する光易解体性接着剤。
【００１８】
［１１］  ［９］に記載の組成物を含有するパターン形成剤。
【００１９】
［１２］  ［９］に記載の組成物及び活性種を含有する光潜在性触媒。
【００２０】
［１３］  光源としてＬＥＤをもちいて［９］に記載の組成物を分解させる工程を含む組成物の分解方法。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、ＵＶ等の特定の光に対する分解性が高く、光分解による重量平均分子量低減効果が大きい重合体を提供できる。本発明の化合物を用いれば、優れた光易解体性接着剤、パターン形成剤及び光潜在性触媒などの用途に有望な組成物を形成できる。また本発明の重合体は、光重合開始剤としても使用できる。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明について、その好ましい実施形態について詳細に説明する。本発明は、特定の波長の光に対して分解性を示す繰り返し単位を有する重合体に関するものである。該重合体を含有する組成物は、特定の波長の光に対し分解性を有し、光照射前後で重合体の性状が変化するために、光易解体性接着剤、パターン形成剤及び光潜在性触媒として活用できる。また本発明の重合体は、光重合開始剤としても使用できる。
【００２３】
なお以下の説明において本明細書において、アリール基含有基及び複素環含有基について規定する炭素原子数は、それぞれアリール基及び複素環部分の炭素原子数を規定しているのではなく、アリール基含有基及び複素環含有基の全体の炭素原子数を規定するものである。また本明細書に記載する各炭化水素基又は複素環含有基の炭素原子数の上限は、それらの基が置換基を有する場合、該置換基の炭素原子数を含んだ数値が前記の上限を満たすことを要しない。例えばＡｒ1の例として、炭素数の多いフルオレン基やカルバゾール基の置換基としては、当然のことながら、置換基を含めた合計炭素原子数が３０を超えることが許容される。しかしながら、本明細書に記載する各炭化水素基又は複素環含有基の炭素原子数の上限が、置換基の炭素原子数を含んだ場合においても満たされることは、当然本発明において許容されるものである。
なお、原料化合物の入手容易性等の点から、Ａｒ1で表される基が炭素を含む基で置換されている場合、Ａｒ1で表される基の炭素原子数と置換基の炭素原子数の合計数は３０以下であることが好ましく、２５以下であることがより好ましく、２０以下であることが更に一層好ましい。
【００２４】
＜重合体＞
本発明の重合体は、上記一般式（I）で表される繰り返し単位を１つ以上有する。
【００２５】
上記一般式（I）におけるＡｒ1は、二価の基であり、炭素原子数６〜３０のアリール基含有基、炭素原子数１〜３０のアルキレン基又は炭素原子数２〜３０の複素環含有基を表す。
【００２６】
Ａｒ1で表される炭素原子数６〜３０のアリール基含有基は、換言すると炭素原子数６〜３０の芳香環含有基であり、
単環芳香環から水素原子を２つ除いた基、又は水素原子を２つ除いた単環芳香環の結合手の一方又は両方に二価の脂肪族炭化水素基が結合している基である単環芳香族炭化水素基、
単環芳香環が縮合した縮合芳香環から水素原子を２つ除いた基又は水素原子を２つ除いた縮合芳香環の一方又は両方に二価の脂肪族炭化水素基が結合している基である縮合環芳香族炭化水素基、
単環芳香環及び／又は縮合芳香環が、単結合又はカルボニル基等の連結基を介して結合した集合芳香環から水素原子を２つ除いた基又は水素原子を２つ除いた集合芳香環の一方又は両方に二価の脂肪族炭化水素基が結合している基である環集合芳香族炭化水素基、等が挙げられる。
前記の単環芳香族炭化水素基の例としては、二価のアリーレン基として、フェニレン基、トリレン基、キシリレン基、メチルフェニレン基、エチルフェニレン基が挙げられる。
前記の縮合環芳香族炭化水素基の例としては、二価のアリーレン基として、ナフチレン基、アンスリレン基、フェナントリレン基が挙げられる。
前記の環集合芳香族炭化水素基の例としては、フルオレン基、ビフェニレン基、ジフェニルスルフィド基、ジフェニルエーテル基、ベンゾフェノン基、ジフェニルメタン基、２，２−ジフェニルプロパン基が挙げられる。
前記の二価の脂肪族炭化水素基としては、後述するＡｒ1で表されるアリール基含有基の置換基であるアリール基を非含有の炭化水素基として挙げた各種の脂肪族炭化水素基から水素原子を一つ除いたものが挙げられる。
前記の各アリール基含有基（芳香環含有基）はいずれも二価の基である。これらの基の１又は２以上の水素原子は置換基で置換されていてもよい。なお本明細書では、炭素原子数６〜３０のアリール基含有基は主鎖に複素環を含まないものとする。
【００２７】
上記の各種アリール基含有基（芳香環含有基）を置換する置換基としては、アリール基を非含有の炭化水素基類、炭素原子数２〜３０の複素環含有基類、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基が挙げられる。上記のアリール基を非含有の炭化水素基類及び炭素原子数２〜３０の複素環含有基類は更に置換基を有する場合がある。
上記のアリール基を非含有の炭化水素基類とは、アリール基を非含有の炭化水素基及び該炭化水素基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が隣り合わない条件で上記群Ｉから選ばれる二価の基により置換された基を指す。上記アリール基を非含有の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、具体的には炭素原子数１〜３０の直鎖又は分岐鎖状の鎖状アルキル基、炭素原子数２〜３０のアルケニル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数４〜３０のシクロアルキルアルキル基が挙げられ、それらの例及びその好ましいものとしては、後述するＲ1で表される該当する基と同様のものが挙げられる。
上記の炭素原子数２〜３０の複素環含有基類とは、炭素原子数２〜３０の複素環含有基及び該複素環含有基中の１又は２以上のメチレン基が、互いに隣り合わせない条件で、上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を指す。上記炭素原子数２〜３０の複素環含有基としては後述したＲ1で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基と同様の基が挙げられる。
上記のアリール基を非含有の炭化水素基類又は複素環含有基類が置換基を有している場合、当該置換基としてはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基が挙げられる。
なお、本明細書中、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００２８】
Ａｒ1で表される炭素原子数１〜３０のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基、及び、これらの１又は２以上の水素原子が置換基で置換された基が挙げられる。
【００２９】
上記各種のアルキレン基を置換する置換基としては、アルキル基以外の炭化水素基類、炭素原子数２〜３０の複素環含有基類、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基が挙げられる。上記のアルキル基を非含有の炭化水素基類及び炭素原子数２〜３０の複素環含有基類は更に置換基を有する場合がある。
上記アルキル基以外の炭化水素基類は、アルキル基以外の炭化水素基及び、当該炭化水素基中の１又は２以上のメチレン基が、互いに隣り合わせない条件で、上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を指す。アルキル基以外の炭化水素基としては、炭素原子数３０以下のもの、具体的には炭素原子数２〜３０のアルケニル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数４〜３０のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基及び炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基が挙げられ、それらの例及びその好ましいものとしては、後述するＲ1で表されるアルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アリールアルキル基と同様のものが挙げられる。
上記炭素原子数２〜３０の複素環含有基類としては、炭素原子数２〜３０の複素環含有基及び該複素環含有基中の１又は２以上のメチレン基が、互いに隣り合わせない条件で、上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられている基を指す。上記炭素原子数２〜３０の複素環含有基としては後述したＲ1で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基と同様の基が挙げられる。
上記のアルキル基以外の炭化水素基類又は複素環含有基類が置換基を有している場合、当該置換基としてはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基が挙げられる。
【００３０】
Ａｒ1で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基としては、特に限定されるものではないが、例えば、２価のピラン基、ピロリジン基、ピリジン基、ピラジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、ピラゾリン基、ピリミジン基、ピリダジン基、トリアジン基、ヘキサヒドロトリアジン基、フラン基、ベンゾフラン基、テトラヒドロフラン基、クロマン基、キサンテン基、チオフェン基、ベンゾチオフェン基、チオフラン基、カルバゾール基、ベンゾカルバゾール基、ジベンゾカルバゾール基、ジベンゾフラン基、ジベンゾチオフェン基、ピロール基、インドール基、１，３−ジオキソラン基、テトラヒドロチオフェン基、オキシラン基、アジリジン基、チアゾール基、イミダゾール基、ベンゾイミダゾール基、ピラゾール基、オキサゾール基、キノリン基、イソキノリン基、チアジアゾール基、チアゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、イソチアゾール基、イソオキサゾール基、モルフォリン基、チオモルフォリン基、ピロリドン基、ピペリドン基、ジオキシイミダゾリジン基及びジオキシオキサゾリジン基、及びこれらを組み合わせた基や、これらに二価の脂肪族炭化水素基が結合した基、これらの１又は２以上の水素原子が置換基で置換された基が挙げられる。
前記の二価の脂肪族炭化水素基としては、前述したＡｒ1で表されるアリール基含有基の置換基であるアリール基を非含有の炭化水素基として挙げた各種の脂肪族炭化水素基から水素原子を一つ除いたものが挙げられる。
【００３１】
上記各種の複素環含有基を置換する置換基としては炭素原子数１〜３０の炭化水素基類、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基が挙げられる。上記の炭素原子数１〜３０の炭化水素基類及び炭素原子数２〜３０の複素環含有基類は更に置換基を有する場合がある。
上記炭素原子数１〜３０の炭化水素基類は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基及び該炭素原子数１〜３０の炭化水素基中の１又は２以上のメチレン基が、互いに隣り合わせない条件で、上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を指す。
【００３２】
上記Ａｒ1で表される複素環含有基における置換基としての上記の炭素原子数１〜３０の炭化水素基の例としては、後述するＲ1で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基の例が挙げられる。
上記の炭素原子数１〜３０の炭化水素基類が置換基を有している場合、当該置換基としてはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基が挙げられる。
【００３３】
上記Ｒ1及びＲ11は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、又は、該炭化水素基若しくは該複素環含有基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が隣り合わない条件で上記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基を表す。
【００３４】
Ｒ1、Ｒ3、Ｒ11及びＲ21で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基としては、本発明の重合体の製造容易性や溶媒溶解性、加工性、成膜性等の点から、好ましくは、炭素原子数１〜３０の直鎖又は分岐の鎖状アルキル基、炭素原子数２〜３０のアルケニル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数４〜３０のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基及び炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基等を表す。本発明の重合体の製造容易性の点から、上記直鎖又は分岐の鎖状アルキル基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましく、上記アルケニル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましく、上記シクロアルキル基の炭素原子数は３〜６であることが好ましく、シクロアルキルアルキル基の炭素原子数は、４〜７であることが好ましく、アリール基の炭素原子数は６〜１８であることが好ましく、アリールアルキル基の炭素原子数は７〜１９であることが好ましい。
【００３５】
上記炭素原子数１〜３０の直鎖又は分岐の鎖状アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル及びイコシル等が挙げられる。
【００３６】
上記炭素原子数２〜３０のアルケニル基としては、例えば、ビニル、２−プロペニル、３−ブテニル、２−ブテニル、４−ペンテニル、３−ペンテニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、５−ヘキセニル、２−ヘプテニル、３−ヘプテニル、４−ヘプテニル、３−オクテニル、３−ノネニル、４−デセニル、３−ウンデセニル、４−ドデセニル、３−シクロヘキセニル、２，５−シクロヘキサジエニル−１−メチル、及び４，８，１２−テトラデカトリエニルアリル等が挙げられる。
【００３７】
上記炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基とは、３〜３０の炭素原子を有する、飽和単環式又は飽和多環式アルキル基を意味する。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、アダマンチル、デカハイドロナフチル、オクタヒドロペンタレン、ビシクロ［１．１．１］ペンタニル及びテトラデカヒドロアントラセニル等が挙げられる。
【００３８】
上記炭素原子数４〜３０のシクロアルキルアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、シクロアルキル基で置換された４〜３０の炭素原子を有する基を意味する。例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチルメチル、シクロオクチルメチル、シクロノニルメチル、シクロデシルメチル、２−シクロブチルエチル、２−シクロペンチルエチル、２−シクロヘキシルエチル、２−シクロヘプチルエチル、２−シクロオクチルエチル、２−シクロノニルエチル、２−シクロデシルエチル、３−シクロブチルプロピル、３−シクロペンチルプロピル、３−シクロヘキシルプロピル、３−シクロヘプチルプロピル、３−シクロオクチルプロピル、３−シクロノニルプロピル、３−シクロデシルプロピル、４−シクロブチルブチル、４−シクロペンチルブチル、４−シクロヘキシルブチル、４−シクロヘプチルブチル、４−シクロオクチルブチル、４−シクロノニルブチル、４−シクロデシルブチル、３−３−アダマンチルプロピル及びデカハイドロナフチルプロピル等が挙げられる。
【００３９】
上記炭素原子数６〜３０のアリール基の例としては、上記のＡｒ1で表される炭素原子数６〜３０のアリール基含有基で説明した各アリーレン基において一つの結合手に水素原子を結合させた基等が挙げられる。
【００４０】
上記炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、アリール基で置換された７〜３０の炭素原子を有する基を意味する。例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、α、α−ジメチルベンジル、フェニルエチル及びナフチルプロピル等が挙げられる。
【００４１】
Ｒ1及びＲ11で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基としては、例えば、ピロリル、ピリジル、ピリジルエチル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラニルエチル、ピラゾリル、トリアジル、トリアジルメチル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、２−ピロリジノン−１−イル、２−ピペリドン−１−イル、２，４−ジオキシイミダゾリジン−３−イル及び２，４−ジオキシオキサゾリジン−３−イルが挙げられる。Ｒ1及びＲ11で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基の炭素原子数としては、２〜１８がより好ましい。またＲ1及びＲ11で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基はこれらの各種の基における１又は２以上の水素原子が炭化水素基に置換された基を含んでいてもよい。当該炭化水素基及びその好ましいものとしては、Ｒ1で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基の例として上記で挙げた基が挙げられる。
【００４２】
Ｒ1、Ｒ11及びＲ21で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基及び該炭化水素基のメチレン基が上記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２〜３０の複素環含有基で置換される場合がある。
置換基としての炭素原子数２〜３０の複素環含有基の例としては、前述するＲ1で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基の例として挙げた基が挙げられる。
Ｒ1及びＲ11で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基及び該複素環含有基のメチレン基が上記群Ｉから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合がある。
【００４３】
Ｘ1及びＲ2は、二価の基であり、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、又は、該炭化水素基若しくは該複素環含有基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が隣り合わない条件で上記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基を表す。Ｘ1及びＲ2で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基としてはＲ1の説明で挙げた炭素原子数１〜３０のアルキル基、炭素原子数２〜３０のアルケニル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数４〜３０のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基及び炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基からそれぞれ任意の炭素原子上の水素原子を一つ除いた基が挙げられる。Ｘ1及びＲ2で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基の例としては、前述するＡｒ1で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基と同様の基が挙げられる。
【００４４】
Ｘ1及びＲ2で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基及び該炭化水素基のメチレン基が上記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つまたは２つ以上は、炭素原子数２〜３０の複素環含有基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合がある。
Ｘ1及びＲ2で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基及び該複素環含有基のメチレン基が上記群ＩＩから選ばれる二価の基に置き換えられた基中の水素原子の１つまたは２つ以上は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基で置換される場合がある。
置換基としての炭素原子数１〜３０の炭化水素基、及び、置換基としての炭素原子数２〜３０の複素環含有基としては、それぞれ、Ｒ1で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基及び炭素原子数２〜３０の複素環含有基として挙げたものと同様の基が挙げられる。
【００４５】
光分解性の点から、本発明の重合体は、上記一般式（Ｉ）において、Ａｒ1が炭素原子数６〜３０のアリール基含有基又は炭素原子数２〜３０の複素環含有基であることが好ましい。
【００４６】
光分解性及び溶媒溶解性、加工性、成膜性の点から、Ａｒ1で表される炭素原子数６〜３０のアリール基含有基は、フェニル基含有基であることが好ましく、１つ又は２つ以上のベンゼン環を含有する基であることがより好ましく、２つ以上のベンゼン環を含有する基であることが更に好ましく、２つのベンゼン環を含有する基であることが特に好ましい。光分解性及び光分解前後の物性変化が大きく、ＬＥＤ光源が使用可能である点から、２つのベンゼン環を含有する基としては、フルオレン基のように２つのベンゼン環が互いに結合して環を形成している基や、ビフェニル基、ジフェニルスルフィド基、ジフェニルエーテル基、ベンゾフェノン基、ジフェニルメタン基、２，２−ジフェニルプロパン基のように２つのベンゼン環が−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−ＣＲ2−（Ｒは炭素原子数１〜３のアルキル基であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。）、硫黄原子、又は酸素原子を介して結合している基が好ましい。
なおＬＥＤ光源の波長としては、３６５ｍ〜４０５ｎｍが挙げられる。
【００４７】
光分解性及び溶媒溶解性、加工性、成膜性の点から、Ａｒ1で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基は、芳香族複素環含有基であることが好ましい。
また同様の点から、Ａｒ1で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基は、二環式以上の基であることがより好ましく、二環式以上五環式以下の基であることが更に好ましく、二環式又は三環式の基であることが特に好ましく、三環式の基であることが最も好ましい。
特に光分解性及び光分解前後の物性変化が大きく、ＬＥＤ光源が使用可能である点から、Ａｒ1で表される炭素原子数２〜３０の複素環含有基は、少なくとも２つのベンゼン環を有しており、２つのベンゼン環それぞれが結合手を有する基であることが好ましい。２つのベンゼン環がそれぞれ結合手を有する基とは、２つのベンゼン環が連結基を介して互いと結合した環集合構造を有することを意味する。特に炭素原子数２〜３０の複素環含有基は、ベンゼン環又はその縮合環同士が、単結合又は酸素原子若しくは窒素原子等の連結基を介して互いに結合して環を形成している構造を有する基であることが好ましい。このような複素環含有基としては、ジベンゾチオフェン基、カルバゾール基、ジベンゾフラン基、ベンゾカルバゾール基、ジベンゾカルバゾール基が挙げられる。また光分解性やＬＥＤ光源使用可能の点から、複素環含有基の複素環は、含窒素含有環であることが好ましく、カルバゾール基、ベンゾカルバゾール基及びジベンゾカルバゾール基がより好ましい。
【００４８】
上記の各観点、特に光分解性に優れＬＥＤ光源でも分解可能である点からＡｒ1で表される基は、炭素原子数６〜３０のアリール基含有基又は炭素原子数２〜３０の複素環含有基であることが好ましく、特に式（Ｉ）中のＹ１基及び（ＣＯ）ｎ１−Ｒ１＝基それぞれに、アリール基含有基又は複素環含有基の環が直接に結合している基がより好ましく、カルバゾール基、ジフェニルスルフィド基、フルオレン基又はフェニレン基であることが特に好ましく、ジフェニルスルフィド基又はフルオレン基であることが最も好ましい。
【００４９】
カルバゾール基としては、下記式（α）で表される基が好ましく挙げられる。フルオレン基としては、下記式（β）で表される基が好ましく挙げられる。ジフェニルスルフィド基としては、下記式（γ）で表される基が好ましく挙げられる。フェニレン基としては、下記式（δ）で表される基が好ましく挙げられる。これらの式中のＲ51〜Ｒ53、Ｒ61〜Ｒ64、Ｒ71、Ｒ72及びＲ81で表される炭化水素基及び複素環含有基、並びにＲ51〜Ｒ53、Ｒ61〜Ｒ64、Ｒ71、Ｒ72及びＲ81で表される炭化水素基中の水素原子を置換してもよい複素環含有基の例としては、上記Ｒ1として表される炭化水素基及び複素環含有基のうち、該当する炭素原子数のものが挙げられる。
【００５０】
【化３】
2020172619.tif 000004
（式中、Ｒ51及びＲ52はそれぞれ独立して、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基、炭素原子数１〜１８の炭化水素基又は炭素原子数２〜１８の複素環含有基であるか、或いは該炭化水素基又は複素環含有基中の１又は２以上のメチレン基が隣り合わない条件で上記群Ｉから選ばれる二価の基に置換された基であり、
Ｒ53は水素原子、炭素原子数１〜１８の炭化水素基又は該炭化水素基中の１又は２以上のメチレン基が隣り合わない条件で上記群Ｉの基に置換された基である。
上記の炭素原子数１〜１８の炭化水素基及び該炭化水素基中のメチレン基が群Ｉから選ばれる基に置換された基の１又は２以上の水素原子は、更にハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基、炭素原子数２〜１７の複素環含有基に置き換えられていてもよく、
上記の炭素原子数２〜１８の複素環含有基及び該複素環含有基中のメチレン基が群Ｉから選ばれる基に置換された基の１又は２以上の水素原子は、更に、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基に置換されていてもよい。Ｒ51又はＲ52が複数存在する場合、該複数のＲ51又はＲ52はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。ｐ１は０〜３の数であり、ｑ１は０〜３の数である。＊は結合手を表す。）
【００５１】
【化４】
2020172619.tif 000005
（式中、Ｒ61及びＲ62はそれぞれ独立して、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基、炭素原子数１〜１７の炭化水素基又は炭素原子数２〜１７の複素環含有基であるか、或いは該炭化水素基又は複素環含有基中の１又は２の以上メチレン基が隣り合わない条件で上記群Ｉの基に置換された基であり、
Ｒ63及びＲ64はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜１７の炭化水素基又は該炭化水素基中の１又は２以上のメチレン基が隣り合わない条件で上記群Ｉの基に置換された基である。
上記の炭素原子数１〜１７の炭化水素基及び該炭化水素基中のメチレン基が群Ｉから選ばれる基に置換された基の１又は２以上の水素原子は、更にハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基、炭素原子数２〜１６の複素環含有基に置き換えられていてもよく、
上記の炭素原子数２〜１７の複素環含有基及び該複素環含有基中のメチレン基が群Ｉから選ばれる基に置換された基の１又は２以上の水素原子は、更に、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基に置換されていてもよい。Ｒ61又はＲ62が複数存在する場合、該複数のＲ61又はＲ62はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。ｐ２は０〜３の数であり、ｑ２は０〜３の数である。＊は結合手を表す。）
【００５２】
【化５】
2020172619.tif 000006
（式中、Ｒ71及びＲ72はそれぞれ独立して、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基、炭素原子数１〜１８の炭化水素基又は炭素原子数２〜１８の複素環含有基であるか、或いは該炭化水素基又は複素環含有基中の１又は２以上のメチレン基が隣り合わない条件で上記群Ｉの基に置換された基であり、
上記の炭素原子数１〜１８の炭化水素基及び該炭化水素基中のメチレン基が群Ｉから選ばれる基に置換された基の１又は２以上の水素原子は、更にハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基、炭素原子数２〜１７の複素環含有基に置き換えられていてもよく、
上記の炭素原子数２〜１８の複素環含有基及び該複素環含有基中のメチレン基が群Ｉから選ばれる基に置換された基の１又は２以上の水素原子は、更に、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基に置換されていてもよい。Ｒ71又はＲ72が複数存在する場合、該複数のＲ71又はＲ72はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。ｐ３は０〜３の数であり、ｑ３は０〜３の数である。＊は結合手を表す。）
【００５３】
【化６】
2020172619.tif 000007
（式中、Ｒ81は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基、炭素原子数１〜２４の炭化水素基又は炭素原子数２〜２４の複素環含有基であるか、或いは該炭化水素基又は複素環含有基中の１又は２以上のメチレン基が隣り合わない条件で上記群Ｉから選ばれる基に置換された基である。
上記の炭素原子数１〜２４の炭化水素基及び該炭化水素基中のメチレン基が群Ｉから選ばれる基に置換された基の１又は２以上の水素原子は、更にハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２〜２３の複素環含有基に置き換えられていてもよく、
上記の炭素原子数２〜２４の複素環含有基及び該複素環含有基中のメチレン基が群Ｉから選ばれる基に置換された基の１又は２以上の水素原子は、更に、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、メルカプト基又はイソシアネート基に置換されていてもよい。複数のＲ81はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。ｐ４は０〜３の数である。＊は結合手を表す。）
【００５４】
式（α）で表されるカルバゾール基としては、本発明の重合体の製造容易性の点からＲ53が水素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数１〜１８の炭化水素基であるものが好ましく、とりわけ、Ｒ53が水素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数１〜１０の炭化水素基であるものが好ましく、Ｒ53が水素原子又は非置換の炭素原子数１〜１０の炭化水素基であるものが最も好ましい。
【００５５】
式（β）で表されるフルオレン基としては、本発明の重合体の製造容易性の点からＲ63及びＲ64が水素原子、置換若しくは非置換の炭素原子数１〜１７のアルキル基又は該アルキル基中の１若しくは２以上のメチレン基が−Ｏ−で置換された基であることが好ましく、特に水素原子、置換若しくは非置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基又は該アルキル基中の１若しくは２以上のメチレン基が−Ｏ−で置換された基であることが好ましく、とりわけ、水素原子、非置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基又は該アルキル基中の１若しくは２以上のメチレン基が−Ｏ−で置換された基であることが好ましい。
【００５６】
重合体の原料の入手容易性等の点から、
式（α）におけるｐ１及びｑ２は２以下であることが好ましく、１以下であることが好ましく、０であることが最も好ましい。
式（β）におけるｐ２及びｑ２は２以下であることが好ましく、１以下であることが好ましく、０であることが最も好ましい。
式（γ）におけるｐ３及びｑ３は２以下であることが好ましく、１以下であることが好ましく、０であることが最も好ましい。
式（δ）におけるｐ４は２以下であることが好ましく、１以下であることが好ましく、０であることが最も好ましい。
【００５７】
重合体の原料の入手容易性等の点から、
式（α）、式（β）、式（γ）及び式（δ）におけるＲ51、Ｒ52、Ｒ61、Ｒ62、Ｒ71、Ｒ72及びＲ81は、炭素数１〜１０の置換若しくは非置換の炭化水素基であることが好ましく、炭素数１〜１０の置換若しくは非置換のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜５の置換若しくは非置換のアルキル基であることが更に好ましい。
【００５８】
カルバゾール基及びフルオレン基において、２つの結合手は、１〜４位の何れか、及び５〜８位の何れかに結合していればよいが、特に、２〜４位の何れか、及び５〜７位の何れかに結合していることが、重合体の原料の入手容易性の点で好ましい。
ジフェニルスルフィド基において、２つの結合手は、硫黄原子に対し、オルト、メタ、パラのいずれの位置に結合していてもよいが、メタ又はパラの位置であることが、重合体の原料の入手容易性の点で好ましい。
フェニレン基において、２つの結合手は、互いにオルト、メタ、パラのいずれの位置に結合していてもよいが、メタ又はパラの位置であることが、重合体の原料の入手容易性の点で好ましい。
【００５９】
溶媒溶解性、成膜性の点で、式（Ｉ）においてＲ1で表される基としては、水素原子、置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は当該炭化水素基中のメチレン基が群Ｉから選ばれる二価の基で置換されたものが好ましく、水素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基であるものがより好ましく、置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基であるものが更に好ましい。とりわけ、置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０のアルキル基又は置換若しくは非置換の炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基であるものが特に好ましく、中でも置換若しくは非置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基又は置換若しくは非置換の炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基であるものが更に一層好ましく、置換若しくは非置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基又は置換若しくは非置換の炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基であるものが最も好ましい。
【００６０】
溶媒溶解性、成膜性、加工性に優れるほか、光分解後の物性（溶媒溶解性、融点等）の変化が大きいことから、式（Ｉ）においてＸ1で表される基としては、置換若しくは非置換の炭素原子数１〜１０の炭化水素基、炭素原子数２〜１０の複素環含有基、又はこれらの基中のメチレン基が群ＩＩから選ばれる二価の基で置換された基が好ましく、とりわけ、置換若しくは非置換の炭素原子数１〜１０の炭化水素基又は炭素原子数２〜１０の複素環含有基が好ましく、置換又は非置換の炭素原子数１〜１０の炭化水素基が最も好ましい。炭素原子数１〜１０の炭化水素基としては、炭素原子数１〜１０のアルキレン基、炭素数１〜１０のアリーレン基及びアルキレン基及びアリーレン基が組み合わされた炭素原子数１〜１０の基が好ましく挙げられる。炭素数１〜１０のアリーレン基としては置換又は非置換のフェニレン基が特に好ましい。また炭素原子数２〜１０の複素環含有基としては、チオフェン基、ピリジン基、ピロール基、フラン基やこれらにアルキレン基が組み合わされた基が挙げられる。
【００６１】
Ｙ1は、−Ｏ−Ｒ2−である場合、光分解性、溶媒溶解性、加工性、成膜性の点で好ましく、Ｙ1が式（II）で表される基である場合、溶媒溶解性、加工性、成膜性の点で好ましい。Ｙ1が式（II）で表される基である場合、式（II）中のＲ11で表される基としては、Ｒ1で挙げた好ましい基と同様の基とすることができる。Ｒ1について上記で好ましいものとしてあげた基は、全てＲ11に当てはまる。なお、Ｒ1とＲ11は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００６２】
Ｙ1は、−Ｏ−Ｒ2−である場合、溶媒溶解性、成膜性、加工性の点で、式（Ｉ）においてＲ2で表される基としては、置換又は非置換の炭素原子数１〜１０の炭化水素基又は炭素原子数２〜１０の複素環含有基、又はこれらの基中のメチレン基が群ＩＩから選ばれる二価の基で置換された基が好ましく、とりわけ、置換又は非置換の炭素原子数１〜１０の炭化水素基又は炭素原子数２〜１０の複素環含有基が好ましく、置換又は非置換の炭素原子数１〜１０の炭化水素基が最も好ましい。炭素原子数１〜１０の炭化水素基としては、炭素原子数１〜１０のアルキレン基、炭素数１〜１０のアリーレン基及びアルキレン基及びアリーレン基が組み合わされた炭素原子数１〜１０の基が好ましく挙げられる。また炭素原子数２〜１０の複素環含有基としては、チオフェン基、ピリジン基、ピロール基、フラン基やこれらにアルキレン基が組み合わされた基が挙げられる。
【００６３】
ｎ1は、０及び１のいずれの場合であっても本発明の重合体は光分解性、溶媒溶解性、加工性、成膜性の点で優れるが、特に、Ｙ1が式（II）で表される基である場合、ｎ1及びｎ2が１であると、光分解性が高くなる傾向にある。Ｙ1が式（II）で表される基である場合、ｎ2とｎ1は同じであってもよく異なっていてもよい。
【００６４】
本発明の重合体は、上記一般式（Ｉ）で表される構成単位合計の割合が該重合体に対し１０質量％以上であることが、光分解性に優れ、効率よく重合体の分子量が低下することから好ましく、２０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることが更に好ましく、８０質量％以上であることが特に好ましい。重合体における、上記一般式（Ｉ）で表される構成単位合計の割合の上限は１００質量％である。
【００６５】
本発明の重合体は、その重量平均分子量が１，０００〜５００，０００であると、光分解前後で重合体の物性、例えば溶媒溶解性、融点、力学的強度などが大きく変化することから好ましく、溶媒溶解性、加工性、成膜性の点から、２，０００〜２００，０００であると特に好ましく、１００，０００以下であることが更に好ましく、５０，０００以下であることが最も好ましい。
【００６６】
本発明の重合体は、その多分散度［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］が１〜３であることが、光分解性をコントロールしやすいので好ましく、特に１〜２．５が好ましい。
【００６７】
重合体の数平均分子量及び重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、標準ポリスチレン換算値として求めることができる。
上記数平均分子量Ｍｎ及び重量平均分子量Ｍｗは、例えば、日本分光（株）製のＧＰＣ（ＬＣ−２０００ｐｌｕｓシリーズ）を用い、溶出溶剤をテトラヒドロフランとし、校正曲線用ポリスチレンスタンダードをＭｗ１１１００００、７０７０００、３９７０００、１８９０００、９８９００、３７２００、１３７００、９４９０、５４３０、３１２０、１０１０、５８９（東ソー（株）社製  ＴＳＫｇｅｌ標準ポリスチレン）とし、測定カラムをＫＦ−８０４、ＫＦ−８０３、ＫＦ−８０２（昭和電工（株）製）として測定して得ることができる。
また、測定温度は４０℃とすることができ、流速は１．０ｍＬ／分とすることができる。
【００６８】
本発明の重合体は、Ａｒ1に２つのヒドロキシイミノ基が結合した化合物又はＡｒ1にヒドロキシイミノ基及び−ＯＲ2ＯＨ基が１つずつ結合した化合物と、ジクロリド化合物又はジカルボン酸化合物とをモノマーとして適時共重合することで得られる。Ａｒ1にヒドロキシイミノ基が結合した化合物としては、ヒドロキシイミノ基がＡｒ1に対し−ＣＯ−を介して又は介さずに結合したものを用いることができる。反応が速やかに進行し、高分子量体が得やすいことから、ジカルボン酸化合物よりジクロリド化合物の方が好ましい。
【００６９】
上記Ａｒ1に２つのヒドロキシイミノ基が結合した化合物又はＡｒ1にヒドロキシイミノ基及び−ＯＲ2ＯＨ基が１つずつ結合した化合物としては、例えば、１，１'−（１，３−フェニレン）ビス（エタン−１−オン）ジオキシム、１，１'−（１，４−フェニレン）ビス（エタン−１−オン）ジオキシム、１，１'−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）ジオキシム、１，１'−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス［２−（ヒドロキシイミノ）オクタン−１−オン］、１，１'−［９，９−ビス（２−メトキシエチル）−９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイル］ビス［２−（ヒドロキシイミノ）ブタン−１−オン］、１−｛６−［３−シクロヘキシル−２−（ヒドロキイミノ）プロパノイル］−９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル｝−２−（ヒドロキシイミノ）オクタン−１−オン、１−（４−｛［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］チオ｝フェニル）−２−（ヒドロキシイミノ）プロパン−１−オンが好ましく挙げられる。
【００７０】
上記ジクロリド化合物としては、例えば、チオフェン−２，５−ジカルボニルジクロリド、ナフタレン−２，６−ジカルボニルジクロリド、１，８−オクタンジカルボニルジクロリド、１，６−ヘキサンジカルボニルジクロリド、１，４−ブタンジカルボニルジクロリド等が挙げられ、高分子量の重合体が得られ、重合体の安定性、光分解性に優れることから、１，８−オクタンジカルボニルジクロリド、１，６−ヘキサンジカルボニルジクロリド、１，４−ブタンジカルボニルジクロリド等が特に好ましい。
【００７１】
上記ジカルボン酸化合物としては、例えば、チオフェン−２，５−ジカルボン酸、ナフタレン−２，６−ジカルボニルジカルボン酸、１，６−ヘキサンジカルボン酸、１，４−ブタンジカルボン酸、１，８−オクタンジカルボン酸等が挙げられ、高分子量の重合体が得られ、重合体の安定性、光分解性に優れることから、１，８−オクタンジカルボン酸、１，６−ヘキサンジカルボン酸、１，４−ブタンジカルボン酸等が特に好ましい。
【００７２】
本発明の重合体の製造方法については、特に限定されないが、例えば、Ａｒ1に対し２つのヒドロキシイミノ基が結合した化合物又はＡｒ1にヒドロキシイミノ基及び−ＯＲ2ＯＨ基が１つずつ結合した化合物とジクロリド化合物とを、トリエチルアミン、４−メチルアミノピリジン存在下で反応させる公知の方法によって本発明の重合体を得ることができる。
【００７３】
＜光分解樹脂＞
本発明の重合体は、光分解性に優れることから光分解樹脂として有用である。光分解樹脂とは、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線、高周波のような活性エネルギー線により、容易に分解する重合体を意味する。保存安定性が悪いことから可視光線のみで分解する重合体は好ましくなく、取扱いの容易さから紫外線で分解する光分解樹脂が好ましい。
【００７４】
光分解樹脂を紫外線によって分解する場合、好ましい照射量は０．１〜１００Ｊ／ｃｍ2であり、さらに好ましくは０．５〜１０Ｊ／ｃｍ2である。上記の照射量において分解する光分解樹脂は、保存安定性と光分解性のバランスがよく幅広い用途で使用できる。
【００７５】
＜光重合開始剤＞
本発明の重合体は、光重合開始剤として用いることもできる。本発明の重合体を含む光重合開始剤は、組成物中の樹脂やモノマーとの相溶性が良く、アウトガスが少ない点で有利である。本発明の光重合開始剤の適用対象である重合性化合物としては、例えば、ラジカル重合性を有する炭素−炭素二重結合を少なくとも１つ有するモノマーが挙げられる。そのようなモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸トリデシル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸イソボニル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチルなどの（メタ）アクリル酸エステル類；（メタ）アクリル酸などのモノカルボン酸類；イタコン酸、マレイン酸、コハク酸等のジカルボン酸類又はこれらのハーフエステル（モノエステル）やジエステル；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類；スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン類等の単官能重合性モノマー、１，１０−デカンジオールジアクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジアクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，８−オクタンジオールジアクリレート、１，７−ヘプタンジオールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、及びジアリルベンゼン等の二官能性重合性モノマー、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性ジグリセリンテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能性重合性モノマーが挙げられる。本発明の光重合開始剤を重合性化合物と混合させて光照射する場合、重合性化合物が多官能性重合性モノマーを含むことが反応性の点から好ましく、重合性化合物中の多官能性重合性モノマーの割合が１質量％以上であることが好ましい。本発明の重合体を光重合開始剤として用いる場合、重合性化合物１００質量部に対し、本発明の重合体を０．１〜２０質量部、特に、０．３〜１０質量部の量で用いることが反応性や硬化物の耐久性���点で好ましい。本発明の重合体及び重合性化合物を含む組成物に対し紫外線を照射する場合、反応性や硬化物の耐久性の点から、好ましい照射量は０．０１〜５０Ｊ／ｃｍ２であり、さらに好ましくは０．１〜３０Ｊ／ｃｍ２である。
【００７６】
＜組成物＞
本発明の組成物は、上記光分解樹脂を含有すればよく、特に制限されないが、組成物１００質量部中に光分解樹脂を５０質量％以上含有する組成物は分解性に優れることから好ましい。
【００７７】
また、本発明の組成物には、必要に応じて、重合性化合物、重合開始剤、着色剤、無機化合物、潜在性添加剤、有機重合体、連鎖移動剤、増感剤、界面活性剤、シランカプリング剤、メラミン化合物、熱重合抑制剤；可塑剤；接着促進剤；充填剤；消泡剤；レベリング剤；表面調整剤；酸化防止剤；紫外線吸収剤；分散助剤；凝集防止剤；触媒；効果促進剤；架橋剤；増粘剤等の慣用の添加物を加えることができる。
【００７８】
本発明の組成物の用途は、光易解体性接着剤、パターン形成剤、光潜在性触媒、記録媒体、液晶表示装置、配線基板、インク組成物、防塵膜など多岐にわたるが、本発明の組成物の用途としては、光易解体性接着剤、パターン形成剤、光潜在性触媒が特に好ましい。
【００７９】
＜光易解体性接着剤＞
上記光易解体性接着剤とは、光分解樹脂を含有する接着剤であればよく特に限定されない。光易解体性接着剤を用いることで、一度接着させた２種の部材の光易解体性接着剤層に特定の活性エネルギー線を照射することにより、接着剤が分解することで２種の部材を分離できる。操作が容易なことから、紫外線によって分解する光易解体性接着剤が好ましい。また、光を透過することから２種の部材のうち１つ以上が、透明な用途が特に好ましい。
光易解体性接着剤には、本発明の組成物と同様の添加物を適時加えることができる。
【００８０】
＜パターン形成剤＞
本発明のパターン形成剤は、本発明の光分解樹脂を含有するものである。本発明のパターン形成剤は、フォトリソ性を有するものであり、具体的には、マスクを介して光照射した後、現像液を用いて現像することにより、１，０００μｍ以下のパターンを±１０％以内の精度で再現よく形成できる。本発明のパターン形成剤を用いることで、従来の酸発生剤を使用する手法に比べ、酸又は酸発生剤がパターン部に残存しないというメリットがある。操作が容易なことから、紫外線によって分解するパターン形成剤が好ましい。パターン形成剤には、本発明の組成物と同様の添加物を適時加えることができる。
【００８１】
＜光潜在性触媒＞
上記光潜在性触媒とは、特定の活性エネルギー線を照射することにより、活性種を提供できる触媒である。本発明の光潜在性触媒は、活性種を本発明の光分解樹脂又は本発明の組成物で包括しており、特定の活性エネルギー線を照射することにより、光分解樹脂が分解し、内包されていた活性種が系内に溶出することで、重合反応などを起こすことができる。従来の光重合開始剤などと比較して、より活性の高い活性種を内包させることができることから、光分解樹脂が分解後に瞬時に重合する性能を有しながら、保存時は安定性に優れた組成物を形成できるというメリットがある。
【００８２】
光潜在性触媒に使用する光分解樹脂としては、常温常圧で固体のもの、組成物、内包する活性種に対して溶解性の少ないことから重量平均分子量３，０００〜５００，０００のものが好ましく、作業性の点から、５，０００〜１００，０００のものが特に好ましい。
【００８３】
光分解性触媒の製造方法としては、特に限定されないが、光分解樹脂と活性種を混練する方法や、活性種を光分解樹脂でコーティングしたカプセルを形成する方法などが挙げられる。
【００８４】
＜組成物の分解方法＞
本発明の組成物の分解方法について説明する。本発明の光分解樹脂又は本発明の組成物に対して活性エネルギー線を照射することによって組成物、具体的には本発明の重合体を分解することができる。活性エネルギー線を照射する工程において、本発明の光分解樹脂又は本発明の組成物に対して直接照射しても、基材などの透明材料を介して照射しても構わない。活性エネルギー線としては、取扱いの容易さから紫外線が好ましい。
【実施例】
【００８５】
以下に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何らの制限を受けるものではない。
【００８６】
＜製造例１：１，１'−（１，３−フェニレン）ビス（エタン−１−オン）ジオキシムの合成＞
還流管付反応フラスコに、１，３−ジアセチルベンゼン  ４．０ｇ（２４．７ｍｍｏｌ）、メタノール２４．０ｇ、水２．４ｇを入れ攪拌しているところに、塩酸ヒドロキシルアミン  ４．１ｇ（５８．４ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液が均一になったことを確認後、昇温し、還流下で４時間反応を行なった。室温まで冷却後、水酸化ナトリウム（粉末）２．３ｇ（５８．０ｍｍｏｌ）を添加し、還流温度迄昇温後、２時間反応を継続した。反応液を２０℃迄冷却し、析出物をろ別した。ろ物を水５０ｍｌで洗浄後、乾燥し、１，１'−（１，３−フェニレン）ビス（エタン−１−オン）ジオキシム（下記構造の化合物
）を白色の結晶として得た。収量３．９ｇ（収率８３．０％）
・1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ／ｐｐｍ：２．２６（ｓ，６Ｈ），  ７．９３（ｓ，４Ｈ），１１．０（ｓ，２Ｈ）
【００８７】
【化７】
2020172619.tif 000008
【００８８】
＜製造例２：１，１'−（１，４−フェニレン）ビス（エタン−１−オン）ジオキシムの合成＞
還流管付反応フラスコに、１，４−ジアセチルベンゼン  １６．２ｇ（１００ｍｍｏｌ）、メタノール１００ｇ、水１０ｇを入れ攪拌しているところに、塩酸ヒドロキシルアミン  １６．４ｇ（２３６ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液が均一になったことを確認後、昇温し、還流下で２時間反応を行なった。反応液を１０℃迄冷却し、析出物をろ別した。ろ物を水５０ｍｌで洗浄後、乾燥し、１，１'−（１，４−フェニレン）ビス（エタン−１−オン）ジオキシム（下記構造の化合物）を白色の結晶として得た。収量１７．１ｇ（収率８６．５％）
・1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ／ｐｐｍ  ：２．１６（ｓ，６Ｈ），  ７．６７（ｓ，４Ｈ），１１．３（ｓ，２Ｈ）
【００８９】
【化８】
2020172619.tif 000009
【００９０】
＜製造例３：１，１'−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）ジオキシムの合成＞
還流管付反応フラスコに、９−エチル−９Ｈ−カルバゾール  １９．５ｇ（０．１０ｍｏｌ）、塩化アルミニウム  ３７．３ｇ（０．２３ｍｏｌ）、１，２−ジクロロエタン１００ｇを入れ攪拌しながら０℃迄冷却し、オクタノイルクロリド  ３７．４ｇ（０．２３ｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温まで戻し、そのまま１時間反応を継続した。塩酸を滴下し、不溶物が無くなったことを確認後、油水分離し、有機層を１００ｇの水で３回洗浄した。脱溶媒後の残渣をエタノールで再結晶することによって１，１'−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）を白色結晶として得た。収量４２．８ｇ（収率９５．５％）
還流管付反応フラスコに、１，１'−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３，６−ジ
イル）ビス（オクタン−１−オン）  １０．０ｇ（２２．３ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド  ５０．０ｇを入れ攪拌しながら溶解させた。塩酸ヒドロキシルアミン  ９．９ｇ（１４３ｍｍｏｌ）を添加し、更に水酸化ナトリウムの粉末を５．７ｇ（１４３ｍｍｏｌ）を添加した。７０℃迄昇温し、そのまま７時間反応を行なった。室温まで冷却後、クロロホルム７０ｇ、水５０ｇを加え、油水分離し、有機層を水３０ｇで３回洗浄した。有機層の溶液をそのまま５℃迄冷却し、析出物を濾別し、乾燥させることで１，１'−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）ジオキシム（下記構造の化合物）を淡黄色の結晶で得た。収量８．６ｇ（収率８１．１％）・1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ／ｐｐｍ  ：０．８３（ｔ，６Ｈ），  １．２３−１．５０（ｍ，１９Ｈ），  ２．８８（ｔ，４Ｈ），  ４．４６（ｑ，２Ｈ），  ７．６０−８．４３（ｍ，６Ｈ），  １０．８８（ｓ，２Ｈ）
【００９１】
【化９】
2020172619.tif 000010
【００９２】
＜製造例４：１，１'−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス［２−（ヒドロキシイミノ）オクタン−１−オン］の合成＞
還流管付反応フラスコに、１，１'−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）  １０．０ｇ（２２．３ｍｍｏｌ）とＴＨＦ３５．０ｇを入れ攪拌しながら溶解させた。室温で塩化水素・酢酸エチル溶液（４ｍｏｌ／Ｌ）  １１．９ｇを滴下した後に、亜硝酸イソブチル  ５．０ｇ（４８．０ｍｍｏｌ）を滴下し、そのまま４時間反応を行なった。メチルイソブチルケトン５０ｇ、水５０ｇを加え、油水分離し、有機層を水５０ｇで３回洗浄した。脱溶媒した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／４）で精製し、ｎ−ヘキサン５０ｍｌで洗浄後、乾燥させることで目的物（下記構造の化合物）を淡黄色の結晶で得た。収量７．０ｇ（収率６１．９％）
・1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ／ｐｐｍ  ：０．８４（ｔ，６Ｈ），  １．２８−１．３８（ｍ，１６Ｈ），１．５６（ｔ，３Ｈ），  ２．６８（ｔ，４Ｈ），  ４．５４（ｑ，２Ｈ），  ７．７７−８．８３（ｍ，６Ｈ），  １２．１６（ｓ，２Ｈ）
【００９３】
【化１０】
2020172619.tif 000011
【００９４】
＜製造例５：１，１'−［９，９−ビス（２−メトキシエチル）−９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイル］ビス［２−（ヒドロキシイミノ）ブタン−１−オン］の合成＞
還流管付反応フラスコに、塩化アルミニウム  ２２．２ｇ（１３７ｍｍｏｌ）、１，２−ジクロロエタン  ６０．０ｇを入れ、攪拌しながら１０℃以下迄冷却した。９Ｈ−フルオレン  １０．９ｇ（６５．３ｍｍｏｌ）を添加し、１０℃以下を保持しながらブチリルクロリド  １４．６ｇ（１３７ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。室温に戻し、そのまま１時間撹拌後、反応液を砕氷に注いだ。そのまま１０分攪拌後、析出した固体をろ別し、イオン交換水、メタノールの順に洗浄し、乾燥させ、１，１'−（９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイル）ビス（ブタン−１−オン）を淡黄色固体で得た。収量：１４．９ｇ（収率７４．５％）
還流管付反応フラスコに、１，１'−（９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイル）ビス（ブタン−１−オン）  １４．５ｇ（４７．３ｍｏｌ）、テトラｎ−ブチルアンモニウムブロミド  １．５ｇ（４．７ｍｍｏｌ）、ブロモメチルエーテル  １６．４ｇ（１１８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ  ４０．０ｇを入れ攪拌しているところに、水酸化ナトリウム水溶液（４８％）  １９．７ｇ（２３６ｍｍｏｌ）を添加し、そのまま６時間反応を行なった。イオン交換水４０ｇを添加し、攪拌後、析出物をろ別し、イオン交換水、メタノールの順に洗浄した。結晶を乾燥させ、１，１'−［９，９−ビス（２−メトキシエチル）−９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイル］ビス（ブタン−１−オン）を淡緑色固体で得た。収量：１６．６ｇ（収率８３．０％）
還流管付反応フラスコに、１，１'−［９，９−ビス（２−メトキシエチル）−９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイル］ビス（ブタン−１−オン）  １１．２ｇ（２６．６ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ  ４５．０ｇを入れ攪拌しながら溶解させた。室温で塩化水素・酢酸エチル溶液（４ｍｏｌ／Ｌ）  １４．５ｇを滴下した後に、亜硝酸イソブチル  ５．８ｇ（５５．８ｍｍｏｌ）を滴下し、そのまま５時間反応を行なった。酢酸エチル５０ｇ、水５０ｇを加え、油水分離し、有機層を水５０ｇで３回洗浄した。脱溶媒後の残渣を酢酸エチル／ｎ−ヘキサン混合溶媒で再結晶させ、乾燥後、目的物（下記構造の化合物）を黄色固体で得た。
収量４．９ｇ（収率３８．３％）
・1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ／ｐｐｍ  ：１．１０（ｔ，６Ｈ），  ２．３８（ｔ，４Ｈ），  ２．６４（ｑ，４Ｈ），  ２．８３（ｓ，６Ｈ），  ２．８８（ｔ，４Ｈ），  ７．９０−８．０８（ｍ，６Ｈ），  １２．３２（ｓ，２Ｈ）
【００９５】
【化１１】
2020172619.tif 000012
【００９６】
＜製造例６：１−｛６−［３−シクロヘキシル−２−（ヒドロキイミノ）プロパノイル］−９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル｝−２−（ヒドロキシイミノ）オクタン−１−オンの合成＞
還流管付反応フラスコに、９−エチル−９Ｈ−カルバゾール  １９．５ｇ（０．１０ｍｏｌ）、塩化アルミニウム  １７．８ｇ（０．１１ｍｏｌ）、１，２−ジクロロエタン１００ｇを入れ攪拌しながら５℃迄冷却し、１，２−ジクロロエタン３０ｇに溶解させた３−シクロヘキシルプロパノイルクロリド１９．２ｇ（０．１１ｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温まで戻し、そのまま１時間反応を継続した。反応液を２００ｇの氷水に滴下し、油水分離後、有機層を１００ｇの温水で５回洗浄した。脱溶媒後の残渣をエタノールで再結晶することによって３−シクロヘキシル−１−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）プロパン−１−オンを３０．６ｇ得た。還流管付反応フラスコに、３−シクロヘキシル−１−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）プロパン−１−オン１６．７ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）、塩化アルミニウム  １３．７ｇ（１０２．５ｍｍｏｌ）、１，２−ジクロロエタン５０ｇを入れ攪拌しながら５℃迄冷却し、１，２−ジクロロエタン１５ｇに溶解させたオクタノイルクロリド  ８．５ｇ（５２．５ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温まで戻し、そのまま２時間反応を継続した。反応液を１２０ｇの氷水に滴下し、油水分離後、有機層を５０ｇの温水で５回洗浄した。脱溶媒後の残渣をエタノールで再結晶することによって１−［６−（３−シクロヘキシルプロパノイル）−９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］オクタン−１−オンを定量的に得た。
還流管付反応フラスコに、１−［６−（３−シクロヘキシルプロパノイル）−９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］オクタン−１−オン２３．０ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド９０ｇを入れ、攪拌しているところに、室温で塩化水素・酢酸エチル溶液（４ｍｏｌ／Ｌ）  ２５．４ｇを滴下した後に、亜硝酸イソブチル  １１．３ｇ（１１０ｍｍｏｌ）を滴下し、３５℃に昇温させ、そのまま１時間反応を行なった。メチルエチルケトン１３０ｇ、水３０ｇを加え、油水分離し、有機層を水３０ｇで３回洗浄した。脱溶媒した残渣を酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝２／３混合溶媒で再結晶することによって乾燥させることで目的物（下記構造の化合物）を淡黄色の結晶で得た。収量１１．７ｇ（収率４５．２％）
・1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ／ｐｐｍ  ：０．８４（ｔ，３Ｈ），  １．０２−１．７２（ｍ，２２Ｈ），  ２．７０−２．７６（ｍ，４Ｈ），  ４．３６（ｑ，２Ｈ），  ７．３９−８．１７（ｍ，４Ｈ），  ８．７４（ｍ，２Ｈ），  ８．７８（ｓ，２Ｈ）
【００９７】
【化１２】
2020172619.tif 000013
【００９８】
＜製造例７：１，１’（９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）ジオキシムの合成＞
還流管付反応フラスコに、塩化アルミニウム  ３２．０ｇ（２４０ｍｍｏｌ）、１，２−ジクロロエタン  １６７ｇを入れ、攪拌しながら１０℃以下迄冷却した。９Ｈ−フルオレン  １３．３ｇ（８０ｍｍｏｌ）を添加し、１０℃以下を保持しながらｎ−オクタノイルクロリド  ３９．０ｇ（２４０ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。室温に戻し、そのまま５時間撹拌後、反応液を１０℃迄冷却し、水１２０ｇをゆっくりと滴下した。発熱が無いことを確認後、攪拌しながら５０℃迄昇温し、静置させた。下層を除去後、イソプロピルアルコール６６ｇを添加し、２０℃迄冷却し、析出物をろ過した。６０℃で減圧乾燥し、１，１’−（９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）を淡黄色固体で得た。
収量：１８．８ｇ（収率５６．３％）
・１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ／ｐｐｍ  ：０．８９（ｔ，６Ｈ），１．２５−１．４５（ｍ，１６Ｈ），１．７７（ｍ，４Ｈ），  ３．０２（ｔ，４Ｈ），  ４．０２（ｓ，２Ｈ），７．８９−８．１８（ｍ，６Ｈ）
還流管付反応フラスコに、１，１’−（９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）６．２８ｇ（１５．０ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５０．０ｇを入れ攪拌しているところに、塩酸ヒドロキシルアミン６．６７ｇ（９６．０ｍｍｏｌ）を添加し、更に水酸化ナトリウムの粉末３．８４ｇ（９６．０ｍｍｏｌ）を添加した。６５℃迄昇温し、そのまま６時間反応を行なった。室温まで冷却後、酢酸エチル４０ｇ、水４０ｇを加え、油水分離し、有機層を水２０ｇで３回洗浄した。有機層の溶液にｎ−ヘキサン１４ｇを加え、室温で３０分間攪拌した後に、１０℃迄冷却し、析出物を濾別した。５０℃、減圧下で乾燥させることで目的物（下記構造の化合物）を淡黄色結晶で得た。収量３．４０ｇ（収率５０．７％）
・１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ／ｐｐｍ：０．８５（ｔ，６Ｈ），１．１６−１．５２（ｍ，１０Ｈ），２．７７（ｔ，４Ｈ），３．９８（ｓ，２Ｈ），７．６６−７．９２（ｍ，６Ｈ），１１．１０（ｓ，２Ｈ）
【化１２Ａ】
2020172619.tif 000014
【００９９】
＜実施例１：重合体Ｐ−１の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，１'−（１，３−フェニレン）ビス（エタン−１−オン）  ジオキシム  ０．７７ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  １．２１ｇ（１２ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０５ｇ（０．４０ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  １５ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ２．５ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．９６ｇ（４．０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、還流下で５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール２０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ３ｇに溶解させ、メタノール  ２０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ淡黄色固体を０．９３ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６，１４５、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝１．４７）であった。得られた重合体Ｐ−１は、下記の構造を有するものであった。重合体Ｐ−１における一般式（I）で表される構成単位の割合は、１００質量％であった。
【０１００】
【化１３】
2020172619.tif 000015
【０１０１】
＜実施例２：重合体Ｐ−２の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，１'−（１，４−フェニレ
ン）ビス（エタン−１−オン）  ジオキシム  １．６１ｇ（８．４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ２．５４ｇ（２５．１ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．１１ｇ（０．８ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  ３０ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  １０ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ２．０２ｇ（８．４ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、還流下で５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール２０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ３ｇに溶解させ、メタノール  ４０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ淡黄色固体を１．７５ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１８，９４５、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝２．３４）であった。得られた重合体Ｐ−２は、下記の構造を有するものであった。重合体Ｐ−２における一般式（I）で表される構成単位の割合は、１００質量％であった。
【０１０２】
【化１４】
2020172619.tif 000016
【０１０３】
＜実施例３：重合体Ｐ−３の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，１'−（９−エチル−９Ｈ
−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）ジオキシム  １．００ｇ（２．１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ０．６４ｇ（６．３ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０２６ｇ（０．２１ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  １０ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ２．５ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．５ｇ（２．１ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、還流下で５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール１０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ２ｇに溶解させ、メタノール  １０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ黄色固体を０．９０ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１０，５４９、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝１．８７）であった。得られた重合体Ｐ−３は、下記の構造を有するものであった。重合体Ｐ−３における一般式（I）で表される構成単位の割合は、１００質量％であった。
【０１０４】
【化１５】
2020172619.tif 000017
【０１０５】
＜実施例４：重合体Ｐ−４の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，１'−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）ジオキシム１．００ｇ（２．１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ０．６４ｇ（６．３ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０２６ｇ（０．２１ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  １０ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ２．５ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．２５ｇ（１．１ｍｍｏｌ）とテレフタロイルジクロリド  ０．２１ｇ（１．１ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、還流下で５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール１０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ２ｇに溶解させ、メタノール  １０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ黄色固体を１．１ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１２，１１６、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝１．８５）であった。得られた重合体Ｐ−４は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｐ−４における一般式（I）で表される構成単位の割合は、１００質量％であった。
【０１０６】
【化１６】
2020172619.tif 000018
【０１０７】
＜実施例５：重合体Ｐ−５の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，１'−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス［２−（ヒドロキシイミノ）オクタン−１−オン］１．０１ｇ（２．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ０．６１ｇ（６．０ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０２４ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  １０ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ２．５ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．４８ｇ（２．０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、１０℃以下で１時間攪拌後、室温に戻し、そのまま５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール１０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ２ｇに溶解させ、メタノール  １０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ黄色固体を０．９０ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４，０７９、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝１．９０）であった。得られた重合体Ｐ−５は、下記の構造を有するものであった。重合体Ｐ−５における一般式（I）で表される構成単位
の割合は、１００質量％であった。
【０１０８】
【化１７】
2020172619.tif 000019
【０１０９】
＜実施例６：重合体Ｐ−６の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，１'−［９，９−ビス（２
−メトキシエチル）−９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイル］ビス［２−（ヒドロキシイミノ）ブタン−１−オン］  ０．９１ｇ（１．９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ０．５８ｇ（５．７ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０２３ｇ（０．１９ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  １０ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ２．５ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．４５ｇ（１．９ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、１０℃以下で１時間攪拌後、室温に戻し、そのまま５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール１０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ２ｇに溶解させ、メタノール  １０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ黄色固体を１．０ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝８，２８１、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝２．０６）であった。得られた重合体Ｐ−６は、下記の構造を有するものであった。重合体Ｐ−６における一般式（I
）で表される構成単位の割合は、１００質量％であった。
【０１１０】
【化１８】
2020172619.tif 000020
【０１１１】
＜実施例７：重合体Ｐ−７の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１−（４−｛［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］チオ｝フェニル）−２−（ヒドロキシイミノ）プロパン−１−オン（下記化１９Ａの化合物）  ０．９９ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ０．９１ｇ（９．０ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０３７ｇ（０．３０ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  １０ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ３．０ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．７２ｇ（３．０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、１０℃以下で１時間攪拌後、室温に戻し、そのまま５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール１０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ２ｇに溶解させ、メタノール  １０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ黄橙色粘稠体を１．０ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝２，５４３、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝１．７２）であった。得られた重合体Ｐ−７は、下記化１９Ｂの構造を有するものであった。重合体Ｐ−７における一般式（I）で表される構成単位の割合は、１００質量％であった。
【０１１２】
【化１９Ａ】
2020172619.tif 000021
【化１９Ｂ】
2020172619.tif 000022
【０１１３】
＜実施例８：重合体Ｐ−８の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１−｛６−［３−シクロヘキシル−２−（ヒドロキイミノ）プロパノイル］−９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル｝−２−（ヒドロキシイミノ）オクタン−１−オン  ０．９８ｇ（１．９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  １．３８ｇ（１３．６ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０２４ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  ２０ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ４．６ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．４７ｇ（１．９ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、還流下で５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール１０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ２ｇに溶解させ、メタノール  １０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ黄色固体を０．９５ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３，１０３、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝２．１８）であった。得られた重合体Ｐ−８は、下記の構造を有するものであった。重合体Ｐ−８における一般式（I）で表される構成単位の割合は、１００質量％であった。
【０１１４】
【化２０】
2020172619.tif 000023
【０１１５】
＜実施例９：重合体Ｐ−９の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，１'−（１，３−フェニレン）ビス（エタン−１−オン）  ジオキシム  ０．５８ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、２，６−ピリジンジメタノール  ０．１４ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  １．２１ｇ（１２ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０５ｇ（０．４０ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  １０ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ２．５ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．９６ｇ（４．０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、４０℃で５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール２０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ３ｇに溶解させ、メタノール  ２０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ淡黄色高粘稠体を１．１ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝８，９０７、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝１．９２）であった。得られた重合体Ｐ−９は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体Ｐ−９における一般式（I）で表される構成単位の割合は、７８質量％であった。
【０１１６】
【化２１】
2020172619.tif 000024
【０１１７】
＜実施例１０：重合体Ｐ−１０の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，１'−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）ジオキシム  ０．８６ｇ（１．８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ０．５５ｇ（５．４ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０２２ｇ（０．１８ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  ８ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ４ｇに溶解させたチオフェン−２，５−ジカルボニルジクロリド  ０．３８ｇ（１．８ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、そのまま１時間攪拌後、還流下迄昇温し、そのまま５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール１０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  １ｇに溶解させ、メタノール  １０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ黄色粘稠体を０．５０ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３，３８５、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝１．１７）であった。得られた重合体Ｐ−１０は、下記の構造を有するものであった。重合体Ｐ−１０における一般式（I）で表される構成単位の割合は、１００質量％であった。
【０１１８】
【化２２】
2020172619.tif 000025
【０１１９】
＜実施例１１：重合体Ｐ−１１の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，１'−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス［２−（ヒドロキシイミノ）オクタン−１−オン］  ０．９１ｇ（１．８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ０．５５ｇ（５．４ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０２２ｇ（０．１８ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  １０ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ５．０ｇに溶解させたナフタレン−２，６−ジカルボニルジクロリド  ０．４６ｇ（１．８ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、１０℃以下で１時間攪拌後、４０℃に昇温し、そのまま５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール２０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ２ｇに溶解させ、メタノール  ２０ｇを滴下、攪拌後、析出物をろ別した。ろ別した結晶を水１０ｇ、メタノール２０ｇの順に洗浄した後、減圧乾燥し、黄色粉体を１．０ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４，２８９、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝１．６２）であった。得られた重合体Ｐ−１１は、下記の構造を有するものであった。重合体Ｐ−１１における一般式（I）で表される構成単位の割合は、１００質量％であった。
【０１２０】
【化２３】
2020172619.tif 000026
【０１２１】
＜実施例１２：重合体Ｐ−１２の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，１'−（９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）ジオキシム０．９６ｇ（２．０ｍｍｏｌ）、１，４−ベンゼンジメタノール０．２８ｇ（２．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  １．２１ｇ（１２ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０５ｇ（０．４ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  １０ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ３．０ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．９６ｇ（４．０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、還流下で５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール１０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ２ｇに溶解させ、メタノール  １０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ黄色粘稠体を１．７ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１１，５９１、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝１．８６）であった。得られた重合体は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体における一般式（I）で表される構成単位の割合は、６８質量％であった。
【０１２２】
【化２４】
2020172619.tif 000027
【０１２３】
＜実施例１３：重合体Ｐ−１３の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，１'−（９−エチル−９Ｈ
−カルバゾール−３，６−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）ジオキシム０．１９ｇ（０．４ｍｍｏｌ）、１，４−ベンゼンジメタノール０．５０ｇ（３．６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  １．２１ｇ（１２ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０５ｇ（０．４ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  １０ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ３．０ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．９６ｇ（４．０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温し、還流下で５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール１０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ２ｇに溶解させ、メタノール  １０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ淡黄色粉体を１．０ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝８，９５８、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝１．５９）であった。得られた重合体は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体における一般式（I）で表される構成単位の割合は、１９質量％であった。
【０１２４】
【化２５】
2020172619.tif 000028
【０１２５】
＜実施例１４：重合体Ｐ−１４の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，１’−［９，９−ビス（２−メトキシエチル）−９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイル］ビス〔２−（ヒドロキシイミノ）ブタン−１−オン〕  ０．５９５ｇ（１．２４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ０．３７６ｇ（３．７２ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン０．０１５ｇ（０．１２ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ  ８ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ３ｇに溶解させたセバコイルクロリド０．１４８ｇ（０．６２ｍｍｏｌ）とテレフタロイルクロリド  ０．１２６ｇ（６２ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、１０℃以下で１時間攪拌後、室温に戻し、そのまま５時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール１０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ２ｇに溶解させ、メタノール  １０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ黄色固体を０．５５ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝２，９９６、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝２．２１）であった。得られた重合体Ｐ−１４は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体における一般式（I）で表される構成単位の割合は、１００質量％であった。
【０１２６】
【化２６】
2020172619.tif 000029
【０１２７】
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，１’−（９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイル）ビス（オクタン−１−オン）ジオキシム  ０．９００ｇ（２．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ０．６１０ｇ  （６．０ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０２４ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  ７ｇを量り取り、室温で攪拌させながら溶解させた。溶液を５℃に冷却後、ＴＨＦ  ３ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．２３９ｇ（１．０ｍｍｏｌ）とテレフタロイルクロリド  ０．２０３ｇ（１．０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、そのまま１時間反応を行なった。続いて、６５℃迄昇温し、６時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール１０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣をＴＨＦ  ２ｇに溶解させ、メタノール  １０ｇを滴下、攪拌後、上澄み液を除去した。残渣を減圧乾燥させ黄色固体を０．９０ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１２，６８８、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝２．２７）であった。得られた重合体Ｐ−１５は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。重合体における一般式（I）で表される構成単位の割合は、１００質量％であった。
【０１２８】
【化２７】
2020172619.tif 000030
【０１２９】
＜比較例１：重合体Ｒ−１の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、１，４−ベンゼンジメタノール  ０．４１ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ０．９１ｇ（９．０ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０４ｇ（０．３ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  １８ｇを量り取った。５℃に冷却後、ＴＨＦ  ４．０ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．３６ｇ（１．５ｍｍｏｌ）とテレフタロイルジクロリド  ０．３０ｇ（１．５ｍｍｏｌ）の混合溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温して還流下で７時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール２０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣にメタノール２０ｇを加え、攪拌後、析出物を濾別し、乾燥させ淡黄色粉体０．４９ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３２００、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝１．３８）であった。得られた重合体Ｒ−１は、下記の構成単位を主鎖に有するものであった。
【０１３０】
【化２８】
2020172619.tif 000031
【０１３１】
＜比較例２：重合体Ｒ−２の合成＞
乾燥させ窒素ガスで置換した還流管付反応フラスコに、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン  １．０５ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン  ０．９１ｇ（９．０ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン  ０．０４ｇ（０．３ｍｍｏｌ）、  ＴＨＦ  １０ｇを量り取った。５℃に冷却後、ＴＨＦ  ５．０ｇに溶解させたセバコイルクロリド  ０．７６ｇ（３．０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻し、１時間攪拌後、昇温して還流下で７時間反応を行なった。反応液を室温まで冷却後、析出物を濾過し、濾液にメタノール２０ｇを加え３０分間攪拌後、脱溶媒した。残渣にメタノール２０ｇを加え、攪拌後、析出物を濾別し、乾燥させ白色粉体１．４５ｇ得た。ＧＰＣ測定によって分子量を算出したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）＝２５，８９９、分散（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）＝２．０５）であった。得られた重合体Ｒ−２は、下記の構造を有するものであった。
【０１３２】
【化２９】
2020172619.tif 000032
【０１３３】
得られた重合体について、光分解による分子量の低下、接着性の変化、パターン形成及び光潜在性触媒能を下記の手順で評価した。評価の詳細を下記に示す。
【０１３４】
（光分解による分子量の低下）
重合体Ｐ−１〜Ｐ−８、Ｐ−１４、Ｐ−１５、Ｒ−１及びＲ−２のクロロホルム溶液（濃度：１．０×１０-2ｍｏｌ／Ｌ）をそれぞれ調製した。調製した溶液に、高圧水銀ランプ（２０ｍＷ／ｃｍ2（＠３６５ｎｍ））を使用し、紫外線を１０Ｊ／ｃｍ2照射した。その後、照射後の重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）をＧＰＣ測定で算出し、下記の計算式でＭｗ残存率（％）を求めた。
Ｍｗ残存率（％）＝光照射後のＭｗ／光照射前のＭｗ×１００
結果を［表１］に示す。
【０１３５】
【表１】
2020172619.tif 000033
【０１３６】
［表１］より、本発明の重合体Ｐ−１〜Ｐ−８、Ｐ−１４及びＰ−１５は何れも光照射によって分子量が小さくなったが、光分解基を導入していないＲ−１及びＲ−２は分子量がほとんど変わらなかった。よって、本発明の重合体が光分解樹脂として優れることは明らかである。
【０１３７】
（光分解による接着性の変化）
基板の作成：１００℃に加熱したガラス基板（コーニング製イーグルＸＧ）上に重合体Ｐ−１、Ｐ−３、Ｐ−６及び比較重合体Ｒ−２それぞれを載せて溶融させ、もう一枚のガラス基板の間に挟み込み、評価用基板とした。その後、高圧水銀ランプ（２０ｍＷ／ｃｍ2（＠３６５ｎｍ））を使用し、評価基盤に紫外線を１０Ｊ／ｃｍ2照射した。
その結果、重合体Ｐ−１、Ｐ−３、Ｐ−６を用いた基板は、光照射前はガラス基板の間に挟んだ重合体が接着していたが、光照射後、一部が剥がれた。これに対し、比較重合体Ｒ−２は光照射後、剥がれ等の変化が確認出来なかった。
このことから、本発明の重合体は光照射により接着力が低下する材料であり、光易解体性接着剤として有用であることがわかった。
【０１３８】
（ＬＥＤ光源照射による分解性評価）
Ｐ−３、Ｐ−４、Ｐ−５、Ｐ−６、Ｐ−７、Ｐ−８およびＰ−１２のクロロホルム溶液（１０質量％）をガラス基板（コーニング製イーグルＸＧ）上にキャストし、１００℃で１分乾燥させ、各重合体の膜を作製した。膜の一部をマスクした試験片を作製し、ＬＥＤ光源（３６５ｎｍ、２０ｍＷ）で１０Ｊ／ｃｍ2に相当する光を照射した。露光部は目視
で表面が脆化していることが確認され、一部がアセトンに溶解した。一方、未露光部は表面に変化が無く、アセトンに不溶であった。それに対し、Ｒ−２で作製した膜で同様の評価を実施したが、露光部の表面に脆化が確認されず、露光／未露光部で溶媒（アセトン）に対する溶解性の差も無かった。このことより、本発明の重合体はＬＥＤ光源でも光分解性がある。
【０１３９】
（パターン形成）
重合体Ｐ−１、Ｐ−３、Ｐ−６及び比較重合体Ｒ−２の重合体それぞれクロロホルム溶液（濃度：１０質量％）を調製した。調製した溶液をガラス基板（コーニング製イーグルＸＧ）上に膜厚が約１μｍとなるようスピンコーターの回転数を調整して塗布した。溶液を塗工したガラス基板を１００℃で１分加熱、乾燥を行い評価サンプルを作成した。
評価サンプルを室温まで冷却し、フォトマスク（ＬＩＮＥ／ＳＰＡＣＥ＝５０μｍ／５０μｍ）を介し、高圧水銀ランプ（２０ｍＷ／ｃｍ2（＠３６５ｎｍ））を用い、紫外光
を１０Ｊ／ｃｍ2照射し、２３℃のアセトンに１分間浸漬した後、エアーガンで付着した
溶媒を除去し、基板を１００℃で１分乾燥させた。
乾燥後のパターンをレーザー顕微鏡で確認したところ、重合体Ｐ−１、Ｐ−３、Ｐ−６は、露光部の膜が現像され、未露光部の膜はそのままの状態でパターンが形成されていた。一方、Ｒ−２は露光部が現像されなかった。このことから本発明の重合体は、露光部を現像液で除去する工程でパターンを作製する、ポジ型パターン形成材料として有用である。
【０１４０】
（光潜在性触媒能）
１）調製：重合体（Ｐ−６）０．５ｇとｍ−キシリレンジアミン０．５ｇをジクロロメタン５．０ｍｌに溶解させた。室温で１０分攪拌した後、減圧留去し、淡黄色不定形固体状組成物を得た。
２）組成物Ａの調製：上記１）で調製した組成物に、エポキシ樹脂組成物（ＥＰ−４１００Ｅ  （（株）ＡＤＥＫＡ製  ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂）とＥＤ−５２３Ｔ  （（株）ＡＤＥＫＡ製  ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル）の６０／４０（質量比）混合物）５．０ｇを混合させて組成物Ａを得た。
３）組成物Ｂの調製：上記２）で使用したエポキシ樹脂組成物５．０ｇにｍ−キシリレンジアミン１．０ｇを混合させて組成物Ｂを得た。
４）組成物ＡとＢを室温下で放置し、２４時間後の状態を確認した所、組成物Ｂは固化し、流動性が消失していたが、組成物Ａは調製後と変わらず流動性を有しており、変化が確認出来なかった。組成物Ａをガラス基板（コーニング製イーグルＸＧ）上に塗工し、高圧水銀ランプ（２０ｍＷ／ｃｍ2（＠３６５ｎｍ））を用い、紫外光を５Ｊ／ｃｍ2照射した所、表面にタックが無くなった。このことから、本発明の重合体で反応性物質（触媒）を被覆することでその機能（反応性）を潜在化させることが出来、光照射によってその反応性物質の機能を発現させることが出来た。本発明の重合体は、光によって反応性物質の機能を発現させることが可能であり、光潜在化剤として有用である。
【０１４１】
（光重合開始剤としての評価）
グリセリントリアクリレート（ＭＴ−３５４７：東亞合成製）１．５０ｇ、Ｐ−１、Ｐ−５、Ｐ−６、Ｐ−１４、Ｐ−１５の各重合体０．０７５ｇを３．００ｇのクロロホルムに溶解させ、溶液を０．４５μｍフィルターでろ過した。調製した溶液をガラス基板（コーニング製イーグルＸＧ）上に膜厚が約１μｍとなるようスピンコーターの回転数を調整して塗布した。溶液を塗工したガラス基板を１００℃で１分加熱、乾燥を行ない、評価用基板とした。この基板に高圧水銀ランプ（２０ｍＷ／ｃｍ２（＠３６５ｎｍ））を用い、紫外光を１０Ｊ／ｃｍ２照射した後の基板上の状態を確認した。重合体Ｐ−１、Ｐ−５、Ｐ−６、Ｐ−１４、Ｐ−１５を用いたものは表面にタックが無くなっていたが、Ｒ−１を用いたものはタックが残っていた。
以上のことから、本発明の重合体は、紫外光照射により、モノマーを重合させることが可能であり、光重合開始剤として有用である。