(57)【要約】      （修正有）【課題】放電ギャップに加工液が十分に供給し、ワイヤ電極とワークとの間の放電現象を安定させ、加工速度を向上させることができる加工液吐出ノズル及びワイヤ放電加工機を提供する。【解決手段】加工液吐出ノズルは、ワイヤ電極とワークとの間に電圧を印加することで前記ワークを放電加工するワイヤ放電加工機に適用され、前記ワイヤ電極が挿通されるとともに前記ワイヤ電極と前記ワークとの間隙に向けて加工液を吐出する吐出口４４を有するものであって、上部ノズル４０の吐出口４４は、ワイヤ電極が挿通される中心部４５と、中心部４５の内周面において中心部４５の軸線Ｃを中心とする周方向に互いに間隔をおいて設けられ、吐出口４４の出口まで延在する複数の溝部４６とを有している。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワイヤ電極とワークとの間に電圧を印加することで前記ワークを放電加工するワイヤ放電加工機に適用され、前記ワイヤ電極が挿通されるとともに前記ワイヤ電極と前記ワークとの間隙に向けて加工液を吐出する吐出口を有する加工液吐出ノズルであって、
前記吐出口は、
前記ワイヤ電極が挿通される中心部と、
前記中心部の内周面において前記中心部の軸線を中心とする周方向に互いに間隔をおいて設けられ、前記吐出口の出口まで延在する複数の溝部と、を有している、
加工液吐出ノズル。
【請求項２】
前記複数の溝部は、前記周方向に等間隔にて設けられている、
請求項１に記載の加工液吐出ノズル。
【請求項３】
前記溝部の各々の前記周方向における幅は、前記軸線を中心とする径方向の外側ほど小さい、
請求項１または請求項２に記載の加工液吐出ノズル。
【請求項４】
前記軸線を中心とする径方向を径方向とするとき、
前記吐出口は、前記中心部の前記径方向の外側、且つ前記周方向における前記溝部同士の間に設けられ、前記中心部の軸線方向に貫通する貫通部を有している、
請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の加工液吐出ノズル。
【請求項５】
ワイヤ電極に電圧を印加することでワークを放電加工するワイヤ放電加工機であって、
前記ワークを挟む一方及び他方から前記ワイヤ電極と前記ワークとの間隙に向けて加工液を供給する一対のノズルを備え、
前記一対のノズルの少なくとも一方が、請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の加工液吐出ノズルである、
ワイヤ放電加工機。
【請求項６】
前記一対のノズルの双方が、前記加工液吐出ノズルである、
請求項５に記載のワイヤ放電加工機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワイヤ電極とワークとの間に電圧を印加することでワークを放電加工するワイヤ放電加工機に適用される加工液吐出ノズル及びワイヤ放電加工機に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、加工液中においてワイヤ電極とワークとの間にパルス電圧を印加するとともに、ワイヤ電極とワークとの相対位置を制御することでワークの放電加工を行うワイヤ放電加工機が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
ワイヤ放電加工機は、ワークを挟んで対向する一対のノズルを備えている。各ノズルからは、放電加工中におけるワイヤ電極とワークとの間隙、いわゆる放電ギャップに向けて加工液が吐出される。放電ギャップに供給される加工液によって、加工中に発生する加工屑が放電ギャップから排出されるとともに、ワイヤ電極及びワークが冷却される。
【０００４】
こうしたワイヤ放電加工機では、適切な放電ギャップが維持されるように、ワイヤ電極とワークとの間の電圧に基づいてこれらの相対位置が制御される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２０１３／５４３７７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、こうしたワイヤ放電加工においては、加工液を放電ギャップに対して効率的に供給するために、各ノズルをワークの表面に近接させる必要がある。しかしながら、各ノズルをワークの表面に近接させたとしても、ノズルから吐出された加工液の多くはワークの表面に沿って流れるため、放電ギャップに加工液が十分に供給されないといった問題がある。このため、ワイヤ電極とワークとの間の放電現象が安定しにくく、ワイヤ放電加工における加工速度を向上させる上では、改善の余地を残すものとなっている。
【０００７】
本発明の目的は、加工速度を向上させることができる加工液吐出ノズル及びワイヤ放電加工機を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するための加工液吐出ノズルは、ワイヤ電極とワークとの間に電圧を印加することで前記ワークを放電加工するワイヤ放電加工機に適用され、前記ワイヤ電極が挿通されるとともに前記ワイヤ電極と前記ワークとの間隙に向けて加工液を吐出する吐出口を有するものであって、前記吐出口は、前記ワイヤ電極が挿通される中心部と、前記中心部の内周面において前記中心部の軸線を中心とする周方向に互いに間隔をおいて設けられ、前記吐出口の出口まで延在する複数の溝部と、を有している。
【０００９】
同構成によれば、加工液は、吐出口の中心部よりも各溝部において流れにくくなる。このため、吐出口から吐出される加工液は、中心部の軸線に向かって集約されることで縮流されるようになる。これにより、加工液がワイヤ電極に沿って流れやすくなることで、放電加工中におけるワイヤ電極とワークとの間隙、いわゆる放電ギャップに加工液が供給されやすくなる。
【００１０】
したがって、ワイヤ放電加工における加工速度を向上させることができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ワイヤ放電加工における加工速度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】ワイヤ放電加工機の第１実施形態について、ワイヤ放電加工機の構成を示す概略図。
【図２】同実施形態のワイヤ電極とワークとの間の放電ギャップを示す平面図。
【図３】同実施形態の上部ノズルを示す図であって、（ａ）は、上部ノズルの斜視図、（ｂ）は、（ａ）の３ｂ−３ｂ線に沿った断面図、（ｃ）は、（ｂ）の３ｃ−３ｃ線に沿った断面図。
【図４】同実施形態の下部ノズルを示す図であって、（ａ）は、下部ノズルの斜視図、（ｂ）は、（ａ）の４ｂ−４ｂ線に沿った断面図、（ｃ）は、（ｂ）の４ｃ−４ｃ線に沿った断面図。
【図５】同実施形態のワイヤ放電加工機の作用を説明する図であって、放電ギャップにおける加工液の流れを示すワークの断面図。
【図６】変更例の加工液吐出ノズルを示す図であって、（ａ）は、上部ノズルを突部側から視た平面図、（ｂ）は、下部ノズルを突部側から視た平面図。
【図７】第２実施形態の上部ノズルを示す図であって、（ａ）は、上部ノズルの斜視図、（ｂ）は、（ａ）の７ｂ−７ｂ線に沿った断面図、（ｃ）は、（ｂ）の７ｃ−７ｃ線に沿った断面図。
【図８】同実施形態の下部ノズルを示す図であって、（ａ）は、下部ノズルの斜視図、（ｂ）は、（ａ）の８ｂ−８ｂ線に沿った断面図、（ｃ）は、（ｂ）の８ｃ−８ｃ線に沿った断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
＜第１実施形態＞
以下、図１〜図５を参照して、第１実施形態について説明する。
図２に示すように、本実施形態のワイヤ放電加工機は、ワイヤ電極１０とワーク１００との間にパルス電圧を印加することでワーク１００を放電加工するものである。なお、以降において、放電加工中におけるワイヤ電極１０とワーク１００との間隙を放電ギャップＧと称する。
【００１４】
図１に示すように、ワイヤ放電加工機は、ワーク１００が配置される加工槽２０と、ワーク１００を挟んで上下に対向するとともにワイヤ電極１０をそれぞれ支持する上部ガイド３０及び下部ガイド５０とを備えている。上部ガイド３０は、下部ガイド５０に対して進退可能に設けられている。
【００１５】
本実施形態のワイヤ放電加工機は、放電ギャップＧにおけるワイヤ電極１０とワーク１００との間の電圧が所定の電圧値となるように、ワイヤ電極１０とワーク１００との相対位置を制御している。なお、上記相対位置の変更は、加工槽２０を移動させることにより行ってもよいし、ワイヤ電極１０を支持する上部ガイド３０及び下部ガイド５０を移動させることにより行ってもよい。
【００１６】
ワイヤ放電加工機は、ワイヤ電極１０が巻回されたボビン（図示略）を備えている。ワイヤ電極１０は、上記ボビンからワイヤ電極１０の張力を調整するテンションローラ７０を介して上部ガイド３０に送給されている。
【００１７】
加工槽２０の内部には、ワーク１００が載置されるテーブル２１が設けられている。テーブル２１は、加工槽２０の底部に突設されたベース部２２と、ベース部２２上に固定された定盤２３とを備えている。ワーク１００は、定盤２３上に載置される。
【００１８】
ワーク１００の加工時における加工槽２０には、ワーク１００全体が浸漬するように加工液が充満する。加工液は、ワーク１００の加工屑を分離するフィルタやイオン交換樹脂（いずれも図示略）などを通じて加工槽２０内に循環して供給される。なお、本実施形態における加工液は水である。
【００１９】
上部ガイド３０は、ワイヤ電極１０に給電する上部ガイドブロック３１と、ワイヤ電極１０が挿通されるとともにワーク１００の上方から放電ギャップＧに向けて加工液を吐出する上部ノズル４０とを備えている。上部ガイドブロック３１の下部には、ワイヤ電極１０が挿通されることでワイヤ電極１０を支持する上部ダイス３２が設けられている（図５参照）。上部ダイス３２は、後述する上部ノズル４０の流入口４２内に位置している。
【００２０】
下部ガイド５０は、ワイヤ電極１０に給電する下部ガイドブロック５１と、ワイヤ電極１０が挿通されるとともにワーク１００の下方から放電ギャップＧに向けて加工液を供給する下部ノズル６０とを備えている。下部ガイドブロック５１の上部には、ワイヤ電極１０が挿通されることでワイヤ電極１０を支持する下部ダイス５２が設けられている（図５参照）。下部ダイス５２は、後述する下部ノズル６０の流入口６２内に位置している。
【００２１】
ここで、本実施形態では、上部ガイド３０と下部ガイド５０との間におけるワイヤ電極１０の軸線、上部ノズル４０の軸線、及び下部ノズル６０の軸線が一致している。以降において、これらの軸線を軸線Ｃと称する。また、軸線Ｃを中心とする周方向を単に周方向と称し、軸線Ｃを中心とする径方向を単に径方向と称する。なお、本実施形態では軸線Ｃと上下方向とが一致している。
【００２２】
次に、上部ノズル４０について詳細に説明する。
図３（ａ）に示すように、上部ノズル４０は、円環状のフランジ部４１ａを有する基部４１と、基部４１から突出した突部４３とを有している。上部ノズル４０は、環状の押さえ部材（図示略）により上部ガイドブロック３１に対して押し当てられることで固定されている。
【００２３】
図３（ｂ）に示すように、上部ノズル４０の基部４１は、加工液が流入する流入口４２を有している。なお、加工液は、加工液供給装置（図示略）から上部ガイドブロック３１内を経由して流入口４２に流入する。流入口４２は、軸線Ｃに直交する断面形状が円形状をなしており、突部４３側に向かうほど縮径している。
【００２４】
上部ノズル４０の突部４３は、基部４１の流入口４２に流入した加工液を吐出する吐出口４４を有している。吐出口４４は、軸線Ｃに沿って延在している。
図３（ｃ）に示すように、吐出口４４は、ワイヤ電極１０が挿通される中心部４５と、中心部４５の内周面において中心部４５の周方向に等間隔にて設けられた複数（本実施形態では８つ）の溝部４６とを有している。
【００２５】
中心部４５は、軸線Ｃに直交する断面形状が、同図に二点鎖線にて示す軸線Ｃを中心とする仮想円Ｖである円柱状の領域である。
各溝部４６は、軸線Ｃに沿って中心部４５の全体にわたって設けられている。より詳しくは、各溝部４６は、上部ノズル４０の軸線方向における途中の部分から、すなわち、流入口４２と吐出口４４との接続部分から吐出口４４の出口まで延在している。各溝部４６の周方向における幅は、径方向の外側ほど小さい。なお、流入口４２と吐出口４４とは滑らかに連なっている。
【００２６】
次に、下部ノズル６０について詳細に説明する。
図４（ａ）に示すように、下部ノズル６０は、円環状のフランジ部６１ａを有する基部６１と、基部６１から突出した突部６３とを有している。下部ノズル６０は、環状の押さえ部材（図示略）により下部ガイドブロック５１に対して押し当てられることで固定されている。
【００２７】
図４（ｂ）に示すように、下部ノズル６０の基部６１は、加工液が流入する流入口６２を有している。なお、加工液は、加工液供給装置（図示略）から下部ガイドブロック５１内を経由して流入口６２に流入する。流入口６２は、軸線Ｃに直交する断面形状が円形状をなしており、突部６３側に向かうほど縮径している。
【００２８】
下部ノズル６０の突部６３は、基部６１の流入口６２に流入した加工液を吐出する吐出口６４を有している。吐出口６４は、軸線Ｃに沿って延在している。
図４（ｃ）に示すように、吐出口６４は、ワイヤ電極１０が挿通される中心部６５と、中心部６５の内周面において中心部６５の周方向に等間隔にて設けられた複数（本実施形態では８つ）の溝部６６とを有している。
【００２９】
中心部６５は、軸線Ｃに直交する断面形状が、同図に二点鎖線にて示す軸線Ｃを中心とする仮想円Ｖである円柱状の領域である。
各溝部６６は、軸線Ｃに沿って中心部６５の全体にわたって設けられている。より詳しくは、各溝部６６は、下部ノズル６０の軸線方向における途中の部分から、すなわち、流入口６２と吐出口６４との接続部分から吐出口６４の出口まで延在している。各溝部６６の周方向における幅は、径方向の外側ほど小さい。なお、流入口６２と吐出口６４とは滑らかに連なっている。
【００３０】
なお、上部ノズル４０の吐出口４４の軸線Ｃに直交する断面形状と、下部ノズル６０の吐出口６４の軸線Ｃに直交する断面形状とは同一である。すなわち、軸線Ｃに直交する断面において、吐出口４４の中心部４５と吐出口６４の中心部６５とは同一の断面形状を有しており、吐出口４４の溝部４６と吐出口６４の溝部６６とは同一の断面形状を有している。
【００３１】
本実施形態の作用について説明する。
各ノズル４０，６０の吐出口４４，６４は、中心部４５，６５と、中心部４５，６５の内周面に設けられた複数の溝部４６，６６とを有している。このため、吐出口４４，６４から吐出される加工液は、中心部４５，６５よりも各溝部４６，６６において流れにくくなる。このため、吐出口４４，６４から吐出される加工液は、中心部４５，６５の軸線Ｃに向かって集約されることで縮流されるようになる。これにより、各ノズル４０，６０によりワーク１００の上方及び下方から吐出される加工液がワイヤ電極１０に沿って流れやすくなることで、放電ギャップＧに加工液が供給されやすくなる（以上、作用１）。
【００３２】
図５に示すように、各ノズル４０，６０によりワーク１００の上方及び下方から吐出される加工液がワイヤ電極１０に沿って流れやすくなることで、ワイヤ電極１０とワーク１００との対向面、すなわちワーク１００の加工面の全体に加工液が供給されやすくなる。
【００３３】
このとき、上部ノズル４０から吐出される加工液と、下部ノズル６０から吐出される加工液とがワーク１００の厚さ方向における中央部において衝突する。同図に矢印にて示すように、互いに衝突した加工液は、上記加工面から離れる方向に流れるようになる。これにより、ワーク１００の加工屑の排出が促進される（以上、作用２）。
【００３４】
本実施形態の効果について説明する。
（１）各ノズル４０，６０の吐出口４４，６４は、ワイヤ電極１０が挿通される中心部４５，６５と、中心部４５，６５の内周面において中心部４５，６５の周方向に互いに間隔をおいて設けられ、吐出口４４，６４の出口まで延在する複数の溝部４６，６６とを有している。
【００３５】
こうした構成によれば、上記作用１を奏することから、ワイヤ放電加工における加工速度を向上させることができる。
（２）複数の溝部４６，６６は、周方向に等間隔にて設けられている。
【００３６】
こうした構成によれば、吐出口４４，６４から吐出される加工液が中心部４５，６５の軸線Ｃに向かって均一に縮流されるようになる。これにより、加工液がワイヤ電極１０の全周にわたってワイヤ電極１０に沿って流れやすくなる。このため、ワイヤ電極１０とワーク１００との相対移動の方向によらず、加工速度を向上させることができる。
【００３７】
（３）各溝部４６，６６の周方向における幅は、径方向の外側ほど小さい。
こうした構成によれば、各溝部４６，６６の周方向における幅が径方向の外側ほど小さいため、各溝部４６，６６を通過する加工液は、径方向の外側ほど流れにくくなる。これにより、吐出口４４，６４から吐出される加工液が、中心部４５，６５の軸線Ｃに向かって一層集約されやすくなる。したがって、加工液が放電ギャップＧに供給されやすくなる。
【００３８】
（４）ワイヤ放電加工機は、ワーク１００を挟む上方及び下方から放電ギャップＧに向けて加工液をそれぞれ供給する上部ノズル４０及び下部ノズル６０を備えている。
こうした構成によれば、上記作用２を奏することから、ワイヤ放電加工における加工速度を向上させることができる。
【００３９】
また、上記構成によれば、放電ギャップＧにおける放電現象が安定しやすくなり、ワイヤ放電加工機の加工精度を向上させることができる。
＜第２実施形態＞
以下、図７及び図８を参照して、第２実施形態について説明する。
【００４０】
なお、本実施形態において、第１実施形態と同一の構成については同一の符号を付すとともに、第１実施形態と対応する構成については、第１実施形態の符号「＊＊」に「２００」を加算した「２＊＊」を付す。
【００４１】
第２実施形態では、上部ノズル２４０及び下部ノズル２６０の形状が第１実施形態と異なる。このため、以降においては、上部ノズル２４０及び下部ノズル２６０の構成について説明する。
【００４２】
まず、上部ノズル２４０について詳細に説明する。
図７（ａ）に示すように、上部ノズル２４０は、円環状のフランジ部４１ａを有する基部４１と、基部４１から突出した突部４３とを有している。上部ノズル２４０は、環状の押さえ部材（図示略）により上部ガイドブロック３１に対して押し当てられることで固定されている。
【００４３】
図７（ｂ）に示すように、上部ノズル２４０の基部４１は、加工液が流入する流入口４２を有している。なお、加工液は、加工液供給装置（図示略）から上部ガイドブロック３１内を経由して流入口４２に流入する。流入口４２は、軸線Ｃに直交する断面形状が円形状をなしており、突部４３側に向かうほど縮径している。
【００４４】
上部ノズル２４０の突部４３は、基部４１の流入口４２に流入した加工液を吐出する吐出口２４４を有している。吐出口２４４は、軸線Ｃに沿って延在している。
図７（ｃ）に示すように、吐出口２４４は、ワイヤ電極１０が挿通される中心部２４５と、中心部２４５の内周面において中心部２４５の周方向に等間隔にて設けられた複数（本実施形態では８つ）の溝部２４６とを有している。また、吐出口２４４は、中心部２４５の径方向の外側、且つ周方向における溝部２４６同士の間に設けられ、中心部２４５の軸線方向に貫通する複数（本実施形態では８つ）の貫通部２４７を有している。
【００４５】
中心部２４５は、軸線Ｃに直交する断面形状が、同図に二点鎖線にて示す軸線Ｃを中心とする仮想円Ｖ１である円柱状の領域である。
各溝部２４６は、軸線Ｃに沿って中心部２４５の全体にわたって設けられている。より詳しくは、各溝部２４６は、上部ノズル２４０の軸線方向における途中の部分から、すなわち、流入口４２と吐出口２４４との接続部分から吐出口２４４の出口まで延在している。各溝部４６の周方向における幅は、径方向の外側ほど小さい。なお、流入口４２と吐出口２４４とは滑らかに連なっている。
【００４６】
各貫通部２４７は、軸線Ｃに直交する断面形状が円形状をなしている。１つの貫通部２４７の断面積は、１つの溝部２４６の断面積よりも小さい。
各貫通部２４７は、突部４３を軸線方向に貫通しており、流入口４２に連なっている。各貫通部２４７の軸線は、各溝部２４６における径方向の最外側の縁同士を結ぶ仮想円Ｖ２よりも径方向の内側に位置している。したがって、図示は省略するが、各貫通部２４７の軸線を結ぶ仮想円の直径は、仮想円Ｖ１の直径よりも大きく、仮想円Ｖ２の直径よりも小さい。
【００４７】
次に、下部ノズル２６０について詳細に説明する。
図８（ａ）に示すように、下部ノズル２６０は、円環状のフランジ部６１ａを有する基部６１と、基部６１から突出した突部６３とを有している。下部ノズル２６０は、環状の押さえ部材（図示略）により下部ガイドブロック５１に対して押し当てられることで固定されている。
【００４８】
図８（ｂ）に示すように、下部ノズル２６０の基部６１は、加工液が流入する流入口６２を有している。なお、加工液は、加工液供給装置（図示略）から下部ガイドブロック５１内を経由して流入口６２に流入する。流入口６２は、軸線Ｃに直交する断面形状が円形状をなしており、突部６３側に向かうほど縮径している。
【００４９】
下部ノズル２６０の突部６３は、基部６１の流入口６２に流入した加工液を吐出する吐出口２６４を有している。吐出口２６４は、軸線Ｃに沿って延在している。
図８（ｃ）に示すように、吐出口２６４は、ワイヤ電極１０が挿通される中心部２６５と、中心部２６５の内周面において中心部２６５の周方向に等間隔にて設けられた複数（本実施形態では８つ）の溝部２６６とを有している。また、吐出口２６４は、中心部２６５の径方向の外側、且つ周方向における溝部２６６同士の間に設けられ、中心部２６５の軸線方向に貫通する複数（本実施形態では８つ）の貫通部２６７を有している。
【００５０】
中心部２６５は、軸線Ｃに直交する断面形状が、同図に二点鎖線にて示す軸線Ｃを中心とする仮想円Ｖ１である円柱状の領域である。
各溝部２６６は、軸線Ｃに沿って中心部２６５の全体にわたって設けられている。より詳しくは、各溝部２６６は、下部ノズル２６０の軸線方向における途中の部分から、すなわち、流入口６２と吐出口２６４との接続部分から吐出口２６４の出口まで延在している。各溝部２６６の周方向における幅は、径方向の外側ほど小さい。なお、流入口６２と吐出口２６４とは滑らかに連なっている。
【００５１】
各貫通部２６７は、軸線Ｃに直交する断面形状が円形状をなしている。１つの貫通部２６７の断面積は、１つの溝部２６６の断面積よりも小さい。
各貫通部２６７は、突部６３を軸線方向に貫通しており、流入口６２に連なっている。各貫通部２６７の軸線は、各溝部２６６における径方向の最外側の縁同士を結ぶ仮想円Ｖ２よりも径方向の内側に位置している。したがって、図示は省略するが、各貫通部２６７の軸線を結ぶ仮想円の直径は、仮想円Ｖ１の直径よりも大きく、仮想円Ｖ２の直径よりも小さい。
【００５２】
なお、上部ノズル２４０の吐出口２４４の軸線Ｃに直交する断面形状と、下部ノズル２６０の吐出口２６４の軸線Ｃに直交する断面形状とは同一である。すなわち、軸線Ｃに直交する断面において、吐出口２４４の中心部２４５と吐出口２６４の中心部２６５とは同一の断面形状を有しており、吐出口２４４の溝部２４６と吐出口２６４の溝部２６６とは同一の断面形状を有している。さらに、軸線Ｃに直交する断面において、吐出口２４４の貫通部２４７と吐出口２６４の貫通部２６７とは同一の断面形状を有している。
【００５３】
本実施形態の作用について説明する。
各ノズル２４０，２６０の吐出口２４４，２６４は、貫通部２４７，２６７を有している。このため、流入口４２，６２から流入された加工液は、中心部２４５，２６５及び溝部２４６，２６６と、貫通部２４７，２６７とから吐出される。ここで、各貫通部２４７，２６７から吐出される加工液によって、中心部２４５，２６５及び溝部２４６，２６６から吐出された加工液が径方向の外側に拡散しにくくなる。このため、吐出口２４４，２６４から吐出される加工液は、中心部２４５，２６５の軸線Ｃに向かって集約されることで縮流されるようになる。これにより、各ノズル２４０，２６０によりワーク１００の上方及び下方から吐出される加工液がワイヤ電極１０に沿って流れやすくなることで、放電ギャップＧに加工液が供給されやすくなる（以上、作用３）。
【００５４】
本実施形態の効果について説明する。
本実施形態の各ノズル２４０，２６０によれば、第１実施形態の効果（１）〜（４）に加えて、新たに以下に示す効果が得られるようになる。
【００５５】
（５）吐出口２４４，２６４は、中心部２４５，２６５の径方向の外側、且つ周方向における溝部２４６，２６６同士の間に設けられ、中心部２４５，２６５の軸線方向に貫通する貫通部２４７，２６７を有している。
【００５６】
こうした構成によれば、上記作用３を奏することから、ワイヤ放電加工における加工速度を向上させることができる。
＜変更例＞
上記実施形態は、以下のように変更して実施することができる。上記実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
【００５７】
・上部ノズル４０，２４０及び下部ノズル６０，２６０の一方のみが本発明に係る加工液吐出ノズルであってもよい。
・図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、各溝部４６，６６に代えて、周方向における幅が径方向において一定である複数の溝部１４６，１６６が設けられた吐出口１４４，１６４を有する上部ノズル１４０及び下部ノズル１６０を採用することもできる。なお、本変更例では、４つの溝部１４６，１６６が周方向に等間隔にて設けられている。
【００５８】
なお、本変更例において、第１実施形態と同一の構成については、同一の符号を付すとともに、対応する構成については、第１実施形態の符号「＊＊」に「１００」を加算した符号を付すことにより重複した説明を省略している。
【００５９】
・各溝部４６，６６，２４６，２６６の個数や配置は適宜変更することができる。
・中心部４５，６５，２４５，２６５及び各溝部４６，６６，２４６，２６６の形状は適宜変更することができる。
【００６０】
・上記実施形態では、上部ガイド３０と下部ガイド５０との間におけるワイヤ電極１０の軸線、上部ノズル４０，２４０の軸線、及び下部ノズル６０，２６０の軸線が一致するものとして説明したが、上記実施形態における「一致」とは、厳密に一致している場合のみでなく、上記実施形態における作用効果を奏する範囲内で概ね一致する場合も含まれる。
【００６１】
・軸線Ｃは上下方向に対して傾斜していてもよい。すなわち、ワイヤ電極１０の軸線と、各ノズル４０，６０，２４０，２６０の軸線とを一致させた状態で、ワーク１００に対してワイヤ電極１０を傾斜させて加工するテーパ加工に対しても本発明に係る加工液吐出ノズルを適用することができる。
【００６２】
・本発明は、油を主成分とする加工液を使用するワイヤ放電加工機に対しても適用することができる。
・１つの貫通部２４７，２６７の断面積は、１つの溝部２４６，２６６の断面積と同一であってもよいし、１つの溝部２４６，２６６の断面積よりも大きくてもよい。
【００６３】
・貫通部２４７，２６７の断面形状は、円形状でなくてもよく、三角形状や四角形状などの多角形状であってもよい。
・貫通部２４７，２６７の径方向における位置は適宜変更できる。例えば、各貫通部２４７，２６７の軸線を結ぶ仮想円の直径が仮想円Ｖ２の直径よりも大きくなるようにしてもよい。
【００６４】
・貫通部２４７，２６７の個数は、適宜変更できる。
【符号の説明】
【００６５】
１０…ワイヤ電極、２０…加工槽、２１…テーブル、２２…ベース部、２３…定盤、３０…上部ガイド、３１…上部ガイドブロック、３２…上部ダイス、４０，１４０，２４０…上部ノズル、４１…基部、４１ａ…フランジ部、４２…流入口、４３…突部、４４，１４４，２４４…吐出口、４５，１４５，２４５…中心部、４６，１４６，２４６…溝部、５０…下部ガイド、５１…下部ガイドブロック、５２…下部ダイス、６０，１６０，２６０…下部ノズル、６１…基部、６１ａ…フランジ部、６２…流入口、６３…突部、６４，１６４，２６４…吐出口、６５，１６５，２６５…中心部、６６，１６６，２６６…溝部、７０…テンションローラ、１００…ワーク、２４７…貫通部、２６７…貫通部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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