(57)【要約】【課題】金属材料、特にモリブデンを含む金属材料との接着性に優れた樹脂膜を形成可能な樹脂組成物を提供する。【解決手段】重合体（Ａ）と、式（ｂ１）に示す化合物（Ｂ）と、化合物（Ｂ）の官能基（ｂ）と反応可能な官能基（ｄ）を有する架橋剤（Ｄ）とを含有する樹脂組成物。2020079408.tif 000013  Ａｒは単環芳香族環および縮合多環芳香族環から選ばれる芳香族環であり；ＲB1はエチレン性不飽和二重結合を有する基、カチオン反応性基を有する基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基を有する基または水酸基であり、エチレン性不飽和二重結合、カチオン反応性基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基および水酸基から選ばれる少なくとも１種を官能基（ｂ）と記載し；ＲB2は直接結合または２価の基であり；ＲB3はハロゲン原子または炭素数１〜２０の炭化水素基であり；−ＯＨは香族環に結合しており；ａは１以上、ｂは０以上、ｃは２以上の整数である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
カチオン反応性基（ただしエチレン性不飽和二重結合は除く）を有する不飽和化合物、およびカルボキシル基またはカルボン酸無水物基を有する不飽和化合物から選ばれる少なくとも１種の不飽和化合物（ａ１）と、カチオン反応性基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基および水酸基を有さず、エステル部分にエチレン性不飽和二重結合を有しない（メタ）アクリル酸エステル、Ｎ位置換マレイミド、シアノ基含有不飽和化合物、不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステル、ならびにエチレン性不飽和二重結合を有する芳香族化合物から選ばれる少なくとも１種のその他の不飽和化合物（ａ２）との共重合体である重合体（Ａ）と、
式（ｂ１）に示す化合物（Ｂ）と、
化合物（Ｂ）の下記官能基（ｂ）と反応可能なエチレン性不飽和二重結合を有する架橋剤（Ｄ）と
を含有する樹脂組成物。
【化１】
2020079408.tif 000012
［式（ｂ１）中、
Ａｒは、ベンゼン環であり；
ＲB1は、エチレン性不飽和二重結合を有する基であり、ここでエチレン性不飽和二重結合を「官能基（ｂ）」と記載し、前記エチレン性不飽和二重結合を有する基が、−Ｘ−ＣＯ−ＣＲ＝ＣＨ2（Ｘは−Ｏ−または−ＮＨ−、Ｒは水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜４のアルキル基）であり；
ＲB2は、前記ベンゼン環に結合する基であり、炭素数１〜１０のアルカンジイル基であり；
ＲB3は、前記ベンゼン環に結合する基であり、ハロゲン原子または炭素数１〜２０の炭化水素基であり；
−ＯＨは、前記ベンゼン環に結合しており；
ａは１以上の整数であり；ｂは０以上の整数であり；ｃは２以上の整数であり、−ＯＨの少なくとも２つが、Ａｒにおける前記ベンゼン環を構成する隣り合う炭素原子にそれぞれ結合している。］
【請求項２】
さらに、光重合開始剤を含有する請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項３】
基板上に、請求項２に記載の樹脂組成物の塗膜を形成する工程（１）、前記塗膜の少なくとも一部を露光する工程（２）、および前記露光後の塗膜を現像する工程（３）を有するレジストパターンの製造方法。
【請求項４】
前記基板が、前記塗膜と接触する表面にモリブデン含有金属部材を有する請求項３に記載のレジストパターンの製造方法。
【請求項５】
請求項２に記載の樹脂組成物から形成されたレジストパターンにより、モリブデン含有金属部材が保護されているタッチパネル部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂組成物および感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、ならびにタッチパネル部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネル部材は、表示画面を操作者が指またはペン等でタッチすることにより、接触した位置を検出してデータ入力できる入力装置の構成要素である。タッチパネル部材は、直感的な入力が可能であるため、携帯電話機や、携帯情報端末、カーナビゲーションシステム装置を始め、様々な電子機器の操作部に使用されている。
【０００３】
タッチパネル部材には様々な方式があるが、近年、静電容量の変化を利用して、操作者のタッチ位置を検出する、静電容量式タッチパネルが普及している。静電容量式タッチパネル部材では、表面電極には、透明性に優れるインジウム−錫複合酸化物（ＩＴＯ）薄膜が使用されている。しかしながら、ＩＴＯは金属単体に比べて比抵抗が１０倍以上高い。このため、表面電極として、ＩＴＯに代わり、モリブデン膜／アルミニウム膜／モリブデン膜の３層構成等の導電性の高い金属材料を用いる方法が知られている。また、表面電極は表示領域に形成されるため、タッチパネル部材の視認性を向上させる必要がある。例えば、モリブデンを含む金属材料を表面電極に用いて、タッチパネル部材の視認性を向上させる方法が知られている（特許文献１および２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２００９／１０８７５８号
【特許文献２】特開２０１３−０２０３４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者の検討によると、金属材料、特にモリブデンを含む金属材料と、前記金属材料を保護するための樹脂膜との接着性が低く、問題があることが明らかになった。
本発明は、金属材料、特にモリブデンを含む金属材料との接着性に優れた樹脂膜を形成可能な樹脂組成物および感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いたレジストパターンの製造方法、ならびに前記レジストパターンによりモリブデン含有金属部材が保護されているタッチパネル部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、例えば以下の［１］〜［１３］に関する。
【０００７】
［１］式（ｂ１）に示す化合物（Ｂ）と、化合物（Ｂ）の下記官能基（ｂ）と反応可能な官能基（ａ）を有する重合体（Ａ）とを含有する樹脂組成物。
【０００８】
【化１】
2020079408.tif 000002
［式（ｂ１）中、Ａｒは、単環芳香族環および縮合多環芳香族環から選ばれる芳香族環であり；ＲB1は、エチレン性不飽和二重結合を有する基、カチオン反応性基を有する基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基を有する基、または水酸基であり、ここでエチレン性不飽和二重結合、カチオン反応性基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基および水酸基から選ばれる少なくとも１種を「官能基（ｂ）」と記載し；ＲB2は、前記芳香族環に結合する基であり、直接結合または２価の基であり；ＲB3は、前記芳香族環に結合する基であり、ハロゲン原子または炭素数１〜２０の炭化水素基であり；−ＯＨは、前記芳香族環に結合しており；ａは１以上の整数であり；ｂは０以上の整数であり；ｃは２以上の整数である。］
【０００９】
［２］重合体（Ａ）が有する前記官能基（ａ）が、カチオン反応性基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、水酸基およびエチレン性不飽和二重結合から選ばれる少なくとも１種のうち、化合物（Ｂ）が有する前記官能基（ｂ）と反応可能な基である前記［１］に記載の樹脂組成物。
【００１０】
［３］さらに、光重合開始剤および光カチオン発生剤から選ばれる少なくとも１種の光反応性化合物（Ｃ）を含有する前記［１］または［２］に記載の樹脂組成物。
【００１１】
［４］光反応性化合物（Ｃ）が、光重合開始剤である前記［３］に記載の樹脂組成物。
【００１２】
［５］さらに、１分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する不飽和化合物（Ｄ１）、および１分子中に少なくとも１個のカチオン反応性基を有するカチオン反応性化合物（Ｄ２）から選ばれる少なくとも１種の架橋剤（Ｄ）を含有する前記［３］または［４］に記載の樹脂組成物。
【００１３】
［６］重合体（Ａ）と、式（ｂ１）に示す化合物（Ｂ）と、化合物（Ｂ）の下記官能基（ｂ）と反応可能な官能基（ｄ）を有する架橋剤（Ｄ）とを含有する樹脂組成物。
【００１４】
【化２】
2020079408.tif 000003
［式（ｂ１）中、Ａｒは、単環芳香族環および縮合多環芳香族環から選ばれる芳香族環であり；ＲB1は、エチレン性不飽和二重結合を有する基、カチオン反応性基を有する基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基を有する基、または水酸基であり、ここでエチレン性不飽和二重結合、カチオン反応性基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基および水酸基から選ばれる少なくとも１種を「官能基（ｂ）」と記載し；ＲB2は、前記芳香族環に結合する基であり、直接結合または２価の基であり；ＲB3は、前記芳香族環に結合する基であり、ハロゲン原子または炭素数１〜２０の炭化水素基であり；−ＯＨは、前記芳香族環に結合しており；ａは１以上の整数であり；ｂは０以上の整数であり；ｃは２以上の整数である。］
【００１５】
［７］さらに、光重合開始剤および光カチオン発生剤から選ばれる少なくとも１種の光反応性化合物（Ｃ）を含有する前記［６］に記載の樹脂組成物。
【００１６】
［８］光反応性化合物（Ｃ）が、光重合開始剤である前記［７］に記載の樹脂組成物。
【００１７】
［９］架橋剤（Ｄ）が有する前記官能基（ｄ）が、エチレン性不飽和二重結合およびカチオン反応性基から選ばれる少なくとも１種のうち、化合物（Ｂ）が有する前記官能基（ｂ）と反応可能な基である前記［７］または［８］に記載の樹脂組成物。
【００１８】
［１０］式（ｂ１）中の−ＯＨの少なくとも２つが、Ａｒにおける前記芳香族環を構成する隣り合う炭素原子にそれぞれ結合している前記［１］〜［９］のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００１９】
［１１］基板上に、前記［３］〜［５］および［７］〜［９］のいずれか１項に記載の樹脂組成物の塗膜を形成する工程（１）、前記塗膜の少なくとも一部を露光する工程（２）、および前記露光後の塗膜を現像する工程（３）を有するレジストパターンの製造方法。
【００２０】
［１２］前記基板が、前記塗膜と接触する表面にモリブデン含有金属部材を有する前記［１１］に記載のレジストパターンの製造方法。
【００２１】
［１３］前記［３］〜［５］および［７］〜［９］のいずれか１項に記載の樹脂組成物から形成されたレジストパターンにより、モリブデン含有金属部材が保護されているタッチパネル部材。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、金属材料、特にモリブデンを含む金属材料との接着性に優れた樹脂膜を形成可能な樹脂組成物および感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いたレジストパターンの製造方法、ならびに前記レジストパターンによりモリブデン含有金属部材が保護されているタッチパネル部材を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、発明を実施するための形態について好適態様も含めて説明する。
〔樹脂組成物および感光性樹脂組成物〕
本発明の樹脂組成物は、以下に説明する重合体（Ａ）および化合物（Ｂ）を含有する。前記樹脂組成物が光反応性化合物（Ｃ）をさらに含有する場合、前記樹脂組成物を特に「感光性樹脂組成物」ともいう。本発明の樹脂組成物は、金属材料およびその金属部材、特にモリブデンを含む金属材料およびその金属部材に対する接着性に優れた、樹脂膜または保護膜を形成することができる。
【００２４】
本発明の樹脂組成物の第１の態様は、後述する式（ｂ１）に示す化合物（Ｂ）と、化合物（Ｂ）の官能基（ｂ）と反応可能な官能基（ａ）を有する重合体（Ａ）とを含有する。
本発明の樹脂組成物の第２の態様は、重合体（Ａ）と、後述する式（ｂ１）に示す化合物（Ｂ）と、化合物（Ｂ）の官能基（ｂ）と反応可能な官能基（ｄ）を有する架橋剤（Ｄ）とを含有する。
以下の説明において、第１および第２の態様を特に区別しない場合は、単に「本発明の樹脂組成物」といい、各成分の説明は、特に言及しない限り、両者の態様に該当する。
【００２５】
［重合体（Ａ）］
第１の態様における重合体（Ａ）は、化合物（Ｂ）が有する官能基（ｂ）と反応可能な官能基（ａ）を有する。官能基（ａ）は、例えば、カチオン反応性基（ただしエチレン性不飽和二重結合は除く）、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、水酸基およびエチレン性不飽和二重結合から選ばれる少なくとも１種である。
【００２６】
第２の態様における重合体（Ａ）は、カチオン反応性基（ただしエチレン性不飽和二重結合は除く）、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、水酸基およびエチレン性不飽和二重結合から選ばれる少なくとも１種を有してもよい。
【００２７】
カチオン反応性基としては、例えば、オキシラニル基、オキセタニル基、オキソラニル基等の環状エーテル基、チイラニル基、チエタニル基等の環状チオエーテル基、アルキルエーテル化されたアミノ基、イソシアネート基、アルデヒド基、メチロール基、環状アセタール構造、環状ラクトン構造、スピロオルソエステル構造が挙げられる。これらの中でも、環状エーテル基が好ましい。
【００２８】
第１の態様における重合体（Ａ）としては、例えば、カチオン反応性基を有する不飽和化合物、カルボキシル基またはカルボン酸無水物基を有する不飽和化合物、水酸基を有する不飽和化合物、およびエチレン性不飽和二重結合を有する不飽和化合物から選ばれる少なくとも１種の不飽和化合物（ａ１）と、その他の不飽和化合物（ａ２）との共重合体が挙げられる。
【００２９】
第２の態様における重合体（Ａ）としては、その他の不飽和化合物（ａ２）の重合体が挙げられ、具体的には不飽和化合物（ａ１）とその他の不飽和化合物（ａ２）との共重合体が挙げられる。
【００３０】
カチオン反応性基を有する不飽和化合物としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ化（シクロ）アルキル（メタ）アクリレート、エポキシ化シクロアルキルアルキル（メタ）アクリレート、α−アルキルアクリル酸エポキシ化（シクロ）アルキルエステル、ビニルベンジルグリシジルエーテル等のオキシラニル基含有不飽和化合物；３−（（メタ）アクリロイルオキシアルキル）オキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシアルキル）−３−アルキルオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシアルキル）−２−アルキルオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシアルキル）−２−アリールオキセタン、およびこれらのフッ素化物等のオキセタニル基含有不飽和化合物が挙げられる。
【００３１】
カルボキシル基またはカルボン酸無水物基を有する不飽和化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等の不飽和モノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸；無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水イタコン酸等の前記ジカルボン酸の酸無水物が挙げられる。また、カルボキシル基がトリアルキルシリル基等の保護基により保護された不飽和化合物を重合し、次いで脱保護することによりカルボキシル基を再生してもよい。
【００３２】
水酸基を有する不飽和化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート等の水酸基および脂環式構造を有する（メタ）アクリレート；ジヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等のジヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；（ポリ）アルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート；ヒドロキシスチレン等の水酸基およびエチレン性不飽和二重結合を有する芳香族化合物が挙げられる。前記（メタ）アクリレートにおけるヒドロキシアルキル基、ジヒドロキシアルキル基およびアルキレン基の炭素数は、例えば２〜１２である。脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン環、ノルボルナン環、アダマンタン環が挙げられる。
【００３３】
エチレン性不飽和二重結合を有する不飽和化合物としては、例えば、アリル（メタ）アクリレート、クロトン酸アリル等のアリル基を有する不飽和化合物が挙げられる。なお、前記不飽和化合物は共重合を行う不飽和基の他、さらにエチレン性不飽和二重結合を有する化合物である。
【００３４】
その他の不飽和化合物（ａ２）としては、例えば、カチオン反応性基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基および水酸基を有さず、エステル部分にエチレン性不飽和二重結合を有しない（メタ）アクリル酸エステルが挙げられ、例えば、メチル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート等のアリール（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル（メタ）アクリレート；アルコキシ（ポリ）アルキレングリコール（メタ）アクリレート；アリーロキシ（ポリ）アルキレングリコール（メタ）アクリレート；が挙げられる。その他、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のＮ−（シクロ）アルキルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等のＮ−アリールマレイミドに代表されるＮ位置換マレイミド；（メタ）アクリロニトリル等のシアノ基含有不飽和化合物；マレイン酸ジアルキルエステル等の不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステル；スチレン、α−メチルスチレン、ｏ，ｍ又はｐ−メチルスチレン、ｏ，ｍ又はｐ−メトキシスチレン等のエチレン性不飽和二重結合を有する芳香族化合物が挙げられる。
【００３５】
上記共重合体は、不飽和化合物（ａ１）由来の構造単位を、好ましくは１〜９０モル％、より好ましくは１０〜８０モル％、さらに好ましくは２０〜７０モル％の範囲で有し、不飽和化合物（ａ２）由来の構造単位を、好ましくは９９〜１０モル％、より好ましくは９０〜２０モル％、さらに好ましくは８０〜３０モル％の範囲で有する。ここで、不飽和化合物（ａ１）および（ａ２）由来の構造単位の合計を１００モル％とし、これらの含有量はＮＭＲにより測定することができる。
【００３６】
重合体（Ａ）は、例えば、適当な有機溶媒中、ラジカル重合開始剤の存在下で上記不飽和化合物を重合することにより製造することができる。ラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、ベンゾイルペルオキシド等の有機過酸化物が挙げられる。重合体（Ａ）は、特開２０１５−６９１４１号公報、特開２０１５−１４３８１３号公報、特開２００８−２０５６６号公報に記載された方法で製造することができる。
【００３７】
エチレン性不飽和二重結合を有する重合体は、また、水酸基を有する重合体中の水酸基に、（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物を反応させることにより得ることもできる。
【００３８】
重合体（Ａ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
重合体（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常は３，０００〜１００，０００、好ましくは５，０００〜５０，０００、より好ましくは８，０００〜３０，０００である。この場合、得られる樹脂膜の耐熱性、現像性、残膜率、パターン形状の点で好ましい。Ｍｗはゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定され、標準ポリスチレン換算の値である。
【００３９】
［化合物（Ｂ）］
化合物（Ｂ）は、式（ｂ１）で表される。
【００４０】
【化３】
2020079408.tif 000004
式（ｂ１）中の各記号は以下のとおりである。
【００４１】
Ａｒは、単環芳香族環および縮合多環芳香族環から選ばれる芳香族環である。
ＲB1は、エチレン性不飽和二重結合を有する基、カチオン反応性基を有する基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基を有する基、または水酸基である。化合物（Ｂ）が有する、エチレン性不飽和二重結合、カチオン反応性基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基および水酸基から選ばれる少なくとも１種を「官能基（ｂ）」ともいう。ＲB2は、前記芳香族環に結合する基であり、直接結合または２価の基である。ＲB3は、前記芳香族環に結合する基であり、ハロゲン原子または炭素数１〜２０の炭化水素基であり、ただしエチレン性不飽和二重結合を有する基を除く。
【００４２】
−ＯＨは、前記芳香族環に結合している。−ＯＨの少なくとも２つは、樹脂膜と金属部材との接着性の観点から、前記芳香族環を構成する隣り合う炭素原子にそれぞれ結合していることが好ましい。
【００４３】
ａは１以上の整数であり、ｂは０以上の整数であり、ｃは２以上の整数である。
化合物（Ｂ）は、露光または加熱時に、前述した重合体（Ａ）および／または後述する架橋剤（Ｄ）と反応すると考えられる。すなわち化合物（Ｂ）の官能基（ｂ）と、重合体（Ａ）の官能基（ａ）および／または架橋剤（Ｄ）の官能基（ｄ）とが反応して、共有結合または官能基間相互作用（以下「共有結合等」ともいう）を形成すると考えられる。
【００４４】
化合物（Ｂ）は、本発明の樹脂組成物から形成された樹脂膜の、基板および金属部材に対する接着力を高める接着助剤として作用する。このため前記樹脂膜は、タッチパネル部材が有する金属部材、例えばモリブデンおよび／またはアルミニウムを含む金属部材に対して高い接着力を有する。この理由は、化合物（Ｂ）において芳香族環に結合した２つ以上の水酸基が金属部材と前記樹脂膜との接着性を高め、また化合物（Ｂ）の官能基（ｂ）が重合体（Ａ）および架橋剤（Ｄ）等の成分との結合に寄与することに基づくと推測される。
【００４５】
第１の態様では、化合物（Ｂ）が有する官能基（ｂ）と重合体（Ａ）が有する官能基（ａ）とが反応して共有結合等を形成可能な組み合わせを用い、第２の態様では、化合物（Ｂ）が有する官能基（ｂ）と架橋剤（Ｄ）が有する官能基（ｄ）とが反応して共有結合等を形成可能な組み合わせを用いる。
【００４６】
化合物（Ｂ）がカルボキシル基、カルボン酸無水物基および水酸基から選ばれる少なくとも１種の官能基を有する場合、当該官能基と反応して共有結合等を形成可能な、カチオン反応性基を有する重合体（Ａ）および／またはカチオン反応性基を有する架橋剤（Ｄ）（具体的には後述するカチオン反応性化合物（Ｄ２））を用いることが好ましい。
【００４７】
化合物（Ｂ）がカチオン反応性基を有する場合、当該官能基と反応して共有結合等を形成可能な、カルボキシル基、カルボン酸無水物基および水酸基から選ばれる少なくとも１種の官能基を有する重合体（Ａ）を用いることが好ましい。
【００４８】
化合物（Ｂ）がエチレン性不飽和二重結合を有する場合、当該官能基と反応して共有結合等を形成可能な、エチレン性不飽和二重結合を有する重合体（Ａ）および／またはエチレン性不飽和二重結合を有する架橋剤（Ｄ）（具体的には後述する不飽和化合物（Ｄ１））を用いることが好ましい。
【００４９】
式（ｂ１）中のＡｒにおいて、単環芳香族環としてはベンゼン環等が挙げられ、縮合多環芳香族環としてはナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環等が挙げられる。これらの中でも、モリブデンを含む金属材料との接着性に優れた樹脂膜を形成できることから、ベンゼン環が好ましい。
【００５０】
エチレン性不飽和二重結合を有する基としては、例えば、ビニル基、１−メチルビニル基、アリル基、−Ｘ−ＣＯ−ＣＲ＝ＣＨ2（Ｘは−Ｏ−または−ＮＨ−、Ｒは水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜４のアルキル基）が挙げられる。
【００５１】
カチオン反応性基としては、例えば、重合体（Ａ）の欄で記載した基が挙げられ、特にオキシラニル基、オキセタニル基が挙げられ、カチオン反応性基を有する基としては、例えば、エポキシ化アルキル基、エポキシ化シクロアルキル基、アルキル基中の同一炭素原子に結合した２つの水素原子を１つのオキセタン環に置換した基が挙げられ、これらの基を構成するアルキル基の炭素数は例えば１〜３０であり、シクロアルキル基の炭素数は例えば４〜２０である。
【００５２】
ＲB2において、２価の基としては、例えば、炭素数１〜１０のアルカンジイル基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−および−Ｃ（Ｓ）−から選ばれる少なくとも１種を有する基であり、前記アルカンジイル基が有する少なくとも１つの水素原子は、−ＯＨ、アルコキシ基またはアリーロキシ基で置換されていてもよい。
【００５３】
ＲB3において、ハロゲン原子としてはフッ素、臭素、塩素等が挙げられ、炭素数１〜２０の炭化水素基としてはアルキル基、アリール基等が挙げられる。
ａは１以上の整数であり、好ましくは１〜２、より好ましくは１である。ｂは０以上の整数であり、好ましくは０〜２、より好ましくは０〜１である。ｃは２以上の整数であり、好ましくは２〜４、より好ましくは２である。なお、ＲB1が水酸基でＲB2が直接結合である場合（ピロガロールの場合等）、当該水酸基はｃとしてカウントしない（ピロガロールの場合、ａ＝１、ｃ＝２となる）。
化合物（Ｂ）としては、式（ｂ１１）〜（ｂ１６）に示す化合物が好ましい。
【００５４】
【化４】
2020079408.tif 000005
上記式（ｂ１１）〜（ｂ１６）中、ＲB21は、式（ｂ１）中のＲB2と同義である。ＲB31は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数６〜２０のアリール基である。ＲB4は、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜４のアルキル基である。ｎは０または１である。
【００５５】
式（ｂ１１）〜（ｂ１６）に示す化合物としては、例えば、３，４−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、３，４−ジヒドロキシフェニル酢酸、ピロガロール、ヒドロキシキノール、２’，３’−エポキシプロピル−３，４−ジヒドロキシベンゼン、３，４−ジヒドロキシアリルベンゼン、１，２−ジヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシベンゼン、１，２−ジヒドロキシ−４−（メタ）アクリロイルオキシベンゼンが挙げられる。その他、下記化合物が挙げられる。
【００５６】
【化５】
2020079408.tif 000006
上記式中、Ｒａは水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒｂは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数６〜１０のアリール基である。
【００５７】
上記化合物は、市販品を用いることができ、また、国際公開第２０１２／１３１７１７号、国際公開第２０１５／１７５６２号、特開昭６２−３９５４５号公報に記載された方法で合成することもできる。
化合物（Ｂ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５８】
本発明の樹脂組成物は、化合物（Ｂ）を、重合体（Ａ）１００質量部に対して、１〜５０質量部含有することが好ましく、より好ましくは３〜３０質量部、さらに好ましくは５〜１０質量部である。化合物（Ｂ）の含有量を前記範囲とすることで、モリブデンを含む金属材料との接着性に優れた樹脂膜を形成できることができる。
【００５９】
［光反応性化合物（Ｃ）］
光反応性化合物（Ｃ）（以下「成分（Ｃ）」ともいう）としては、例えば、光重合開始剤および光カチオン発生剤が挙げられる。光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線等の光照射によって、エチレン性不飽和二重結合の重合を開始しうる活性種を発生する成分である。光カチオン発生剤は、光照射を含む処理によってカチオンを発生する化合物である。
【００６０】
本発明の樹脂組成物が光反応性化合物（Ｃ）を含有することで、樹脂組成物に感光性が付与され、本発明の感光性樹脂組成物となり、好ましくはネガ型組成物となる。
例えば、光重合開始剤と、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物（Ｂ）と、エチレン性不飽和二重結合を有する重合体（Ａ）および／または後述する不飽和化合物（Ｄ１）とを含有する感光性樹脂組成物；光重合開始剤と、後述する不飽和化合物（Ｄ１）とを含有する感光性樹脂組成物；光カチオン発生剤と、カルボキシル基、カルボン酸無水物基および水酸基から選ばれる少なくとも１種を有する化合物（Ｂ）と、カチオン反応性基を有する重合体（Ａ）および／または後述するカチオン反応性化合物（Ｄ２）とを含有する感光性樹脂組成物が挙げられる。
【００６１】
また、光反応性化合物（Ｃ）は、光照射によって、エチレン性不飽和二重結合の重合を開始しうる活性種や、カチオン反応性基の架橋反応を促進するカチオンを発生させることから、化合物（Ｂ）の官能基（ｂ）と、重合体（Ａ）の官能基（ａ）、不飽和化合物（Ｄ１）のエチレン性不飽和二重結合、カチオン反応性化合物（Ｄ２）のカチオン反応性基等との反応促進剤として機能するものと推定される。
【００６２】
光重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル化合物、アセトフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、ベンゾイン化合物、α−ジケトン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、多核キノン化合物、キサントン化合物、トリアジン化合物が挙げられる。これらの具体例としては、例えば、特開２０１５−６９１４１号公報、特開２０１５−１４３８１３号公報、特開２００８−２０５６６号公報に記載された光重合開始剤が挙げられ、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、１，２−プロパンジオン，１−［４−［［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］チオ］フェニル］，２−（Ｏ−アセトキシオキシム）等である。
【００６３】
光カチオン発生剤としては、例えば、オキシムスルホネート化合物、オニウム塩、Ｎ−スルホニルオキシイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物が挙げられる。これらの具体例としては、例えば、特開２０１５−１９４５８３号公報、特開２０１５−１７６１２４号公報、特開２０１５−１７５９２３号公報に記載された光カチオン発生剤が挙げられる。
成分（Ｃ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６４】
本発明の感光性樹脂組成物は、成分（Ｃ）を、重合体（Ａ）１００質量部に対して、１〜３０質量部含有することが好ましく、より好ましくは２〜２０質量部、さらに好ましくは３〜１５質量部、特に好ましくは５〜１０質量部である。成分（Ｃ）の含有量を前記範囲とすることで、現像液に対する露光部分と非露光部分との溶解度の差を大きくし、パターニング性能を向上させることができる。
【００６５】
［架橋剤（Ｄ）］
架橋剤（Ｄ）（以下「成分（Ｄ）」ともいう）は、例えば、光照射により光重合開始剤から発生する活性種により重合する成分または光照射により光カチオン発生剤から発生するカチオンにより架橋反応する成分である。第１の態様の樹脂組成物は、架橋剤（Ｄ）をさらに含有することが好ましく、第２の態様の樹脂組成物は、架橋剤（Ｄ）を含有する。
【００６６】
第２の態様における架橋剤（Ｄ）は、化合物（Ｂ）の官能基（ｂ）と反応可能な官能基（ｄ）を有し、官能基（ｄ）としては、例えば、エチレン性不飽和二重結合およびカチオン反応性基から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。
【００６７】
第１および第２の態様における架橋剤（Ｄ）としては、例えば、１分子中に少なくとも１個の、例えば２個以上のエチレン性不飽和二重結合を有する不飽和化合物（Ｄ１）と、１分子中に少なくとも１個の、例えば２個以上のカチオン反応性基を有するカチオン反応性化合物（Ｄ２）が挙げられる。
【００６８】
カチオン反応性基としては、例えば、重合体（Ａ）の欄で記載した基が挙げられる。
成分（Ｄ）としては、モリブデンを含む金属材料との接着性に優れた樹脂膜を形成できることから不飽和化合物（Ｄ１）が好ましく、不飽和化合物（Ｄ１）としては、（メタ）アクリレートが好ましい。（メタ）アクリレートとしては、例えば、（メタ）アクリロイル基を２つ以上有する多官能（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイル基を１つ有する単官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００６９】
多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートが挙げられ、具体的には、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンアルキレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。その他、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、アルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレート骨格含有ジまたはトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ骨格含有ジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００７０】
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の脂環式基含有（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の芳香環含有（メタ）アクリレートが挙げられる。その他、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミドおよびそのアルキル置換体、アミノアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００７１】
不飽和化合物（Ｄ１）としては、その他、例えば、特開２０１５−６９１４１号公報、特開２０１５−１４３８１３号公報、特開２００８−２０５６６号公報に記載された、１分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物が挙げられる。
【００７２】
多官能（メタ）アクリレートの含有割合は、多官能（メタ）アクリレートおよび単官能（メタ）アクリレートの合計に対して、レジストパターンの硬化性の観点から、通常は２０質量％以上、好ましくは５０質量％以上である。
【００７３】
カチオン反応性化合物（Ｄ２）としては、アルキルエーテル化されたアミノ基を２つ以上有する化合物、オキシラン環含有化合物、オキセタン環含有化合物、イソシアネート基含有化合物（ブロック化されたものを含む。）、アルデヒド基含有フェノール化合物、メチロール基含有フェノール化合物等が挙げられ、例えば、特開２０００−３２１４１６号公報、特開平６−１８０５０１号公報、特開２００６−１７８０５９号公報および特開２０１２−２２６２９７号公報に記載されたカチオン反応性化合物が挙げられる。
【００７４】
成分（Ｄ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
成分（Ｄ）を用いる場合、本発明の樹脂組成物は、成分（Ｄ）を、重合体（Ａ）１００質量部に対して、５０〜４００質量部含有することが好ましく、より好ましくは８０〜３００質量部、さらに好ましくは１００〜２００質量部である。
【００７５】
なお、成分（Ｄ）には、カチオン反応性基および／またはエチレン性不飽和二重結合を有する重合体（Ａ）は含まれない。また、成分（Ｄ）には、式（ｂ１）に示す化合物（Ｂ）は含まれない。
【００７６】
［添加剤］
本発明の樹脂組成物は、必要に応じてさらに種々の添加剤を含有することができる。添加剤としては、例えば、重合禁止剤、界面活性剤、分散剤、耐熱性向上剤、有機または無機粒子、シランカップリング剤が挙げられる。
【００７７】
重合禁止剤としては、例えば、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン等のハイドロキノン化合物、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンおよびそのアルミニウム塩等のニトロソ化合物が挙げられる。重合禁止剤は１種単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。重合禁止剤の含有量は、重合体（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１質量部以下、より好ましくは０．０１〜０．５質量部である。
【００７８】
界面活性剤としては、例えば、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤が挙げられ、好ましくはポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリエーテル変性シリコーンが挙げられる。界面活性剤は１種単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。界面活性剤の含有量は、重合体（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは５質量部以下、より好ましくは０．００１〜１質量部である。
【００７９】
［溶剤］
溶剤は、例えば、本発明の樹脂組成物の固形分濃度を所望の範囲に調整するためや、前記樹脂組成物を基板に塗布する際の塗布性および成膜性を向上させるために用いることができる。
【００８０】
溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、オクタノール等のアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等のエステル；エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のエーテル；ジメチルフォルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のアミド；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
【００８１】
溶剤は１種単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。
本発明の樹脂組成物において、溶剤の含有量は、通常は１０〜９０質量％、好ましくは３０〜８０質量％、より好ましくは４０〜７０質量％となる量である。
【００８２】
［樹脂組成物の調製］
本発明の樹脂組成物は、上述の各成分を混合することによって調製することができる。また、異物を取り除くために、各成分を均一に混合した後、得られた混合物をフィルター等で濾過してもよい。
【００８３】
本発明の樹脂組成物は、タッチパネルが有する金属部材、特にモリブデン含有金属部材に対して優れた接着性を有することから、前記金属部材の保護膜を形成するために好適に用いることができる。
【００８４】
〔レジストパターンの製造方法〕
本発明のレジストパターンの製造方法は、基板上に、本発明の感光性樹脂組成物の塗膜を形成する工程（１）、前記塗膜の少なくとも一部を露光する工程（２）、および前記露光後の塗膜を現像する工程（３）を有する。
【００８５】
［工程（１）］
工程（１）では、本発明の感光性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する。
基板としては、例えば、透明基板が挙げられ、具体的には、ガラス基板等の無機基板；ポリエチレンテレフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリイミドフィルム、環状オレフィンの開環重合体フィルムおよびその水素添加物からなるフィルム等の樹脂基板が挙げられ；その他、シリコン基板、セラミックス基板、アルミ基板等を用いることもできる。
【００８６】
基板の厚さは、通常は０．０１〜３ｍｍである。
前記基板は、その表面に、ＩＴＯ；モリブデン、アルミニウム、銀、銅等の金属材料から形成された金属部材を有しており、モリブデン含有金属部材を有することがより好ましい。例えば、モリブデン（Ｍｏ）およびアルミニウム（Ａｌ）を含む金属部材、特にＭｏ／Ａｌ／Ｍｏとなる積層構造を有する金属部材が挙げられる。金属部材としては、例えば、金属配線および金属電極が挙げられる。
【００８７】
金属部材は、タッチパネルの視認性の観点から、メッシュ状の形状を有することが好ましく、例えば、矩形状グリッドや、規則的な多角形ネットワークを有する金属配線が挙げられる。
【００８８】
塗膜は、本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布することにより形成してもよく、支持フィルムと、支持フィルム上に形成された本発明の感光性樹脂組成物からなる塗膜とを有する感光性フィルムから、前記塗膜を基板上に転写することにより形成してもよい。支持フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン等の合成樹脂からなるフィルムが挙げられる。
【００８９】
感光性樹脂組成物の塗布方法としては、例えば、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、インクジェット法が挙げられる。
【００９０】
塗膜形成の際には、必要に応じて加熱を行い、溶剤を除去する。感光性樹脂組成物の組成によっても異なるが、例えば、加熱温度が６０〜２５０℃、加熱時間が１〜６０分間である。
【００９１】
［工程（２）］
工程（２）では、前記塗膜の少なくとも一部を露光する。露光は、通常、タッチパネルの保護膜の形成に好適な所定のパターンを有するフォトマスクを介して行う。
【００９２】
露光には、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線が用いられる。これらの中でも、波長が１９０〜４５０ｎｍの範囲にある光が好ましく、特に３６５ｎｍの紫外線を含む光が好ましい。露光量は、波長３６５ｎｍにおける光強度を、照度計により測定した値として、好ましくは５０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ2、より好ましくは１００〜５００ｍＪ／ｃｍ2である。
【００９３】
［工程３］
工程（３）では、前記露光後の塗膜を現像する。これにより、例えば、ネガ型組成物を用いた場合は非露光部分を除去し、所望のレジストパターンを得る。
【００９４】
現像に用いる現像液としては、アルカリ性化合物の水溶液からなるアルカリ現像液が好ましい。アルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等の特開２０１２−８８４５９号公報の段落［０２４０］に記載された化合物が挙げられる。アルカリ現像液におけるアルカリ性化合物の濃度は、通常は０．１〜５質量％である。
【００９５】
現像方法としては、例えば、液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法が挙げられる。現像時間は、感光性樹脂組成物の組成によって異なるが、通常は１０〜１８０秒間である。
【００９６】
現像処理に続いて、例えば、流水洗浄を３０〜９０秒間行った後、風乾させることによって、所望のレジストパターンを形成することができる。現像処理後、必要に応じて、さらなる露光によりレジストパターンをさらに硬化させてもよい。また、現像処理後の露光の代わりに、または露光と併せて、例えば８０〜２８０℃、１０〜１００分の加熱処理を施してもよい。
【００９７】
形成されたレジストパターンの膜厚は、好ましくは０．１〜２０．０μｍ、より好ましくは０．５〜１０．０μｍ、さらに好ましくは１．０〜５．０μｍである。膜厚は、例えば接触式膜厚計により測定することができる。
【００９８】
なお、本発明の樹脂組成物を用いたパターンを有さない樹脂膜も、工程（２）の露光および工程（３）の現像処理を行わない以外は上記記載と同様にして、塗膜形成および加熱処理等を行い、製造することができる。なお、樹脂膜の硬化のために光照射を行ってもよい。
【００９９】
〔タッチパネル部材〕
本発明のタッチパネル部材は、基板と、前記基板表面に配置された金属部材と、前記金属部材の少なくとも一部を覆う保護膜とを有し、前記保護膜は、本発明の樹脂組成物または感光性樹脂組成物から形成されている。
【０１００】
本発明のタッチパネル部材は、金属部材を有する基板上に、上記レジストパターンの製造方法に従い、前記金属部材の少なくとも一部を被覆するレジストパターンからなる保護膜を形成することにより、製造することができる。
【０１０１】
金属部材は、例えば、ＩＴＯ；モリブデン、アルミニウム、銀、銅等の金属材料から形成されたパターン膜であり、モリブデン含有金属部材であることがより好ましい。例えば、モリブデン（Ｍｏ）およびアルミニウム（Ａｌ）を含む金属部材、特にＭｏ／Ａｌ／Ｍｏとなる積層構造を有する金属部材が挙げられる。金属部材としては、例えば、金属配線および金属電極が挙げられる。
【０１０２】
本発明のタッチパネル部材は、例えば、静電容量式タッチパネル部材である。
保護膜は、タッチパネル部材における操作領域で、金属部材を被覆し保護するようにパターニングされて形成されている。保護膜の膜厚は、好ましくは０．１〜２０．０μｍ、より好ましくは０．５〜１０．０μｍ、さらに好ましくは１．０〜５．０μｍである。
【０１０３】
保護膜は、光透過性に優れ、金属部材、特にモリブデン含有金属部材に対して優れた接着性を有する。また保護膜は、金属部材の腐食等の劣化を抑制することができる。
本発明のタッチパネル部材は、液晶表示装置および有機ＥＬ装置等のディスプレイに搭載され、前記ディスプレイへの入力装置として好適に使用することが可能である。前記ディスプレイを備える電子機器としては、例えば、携帯電話機、携帯情報端末、カーナビゲーションシステム装置が挙げられる。
【実施例】
【０１０４】
以下、本発明を実施例に基づいてさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。以下の実施例等の記載において、特に言及しない限り、「部」は「質量部」の意味で用いる。
【０１０５】
重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、東ソー（株）製のＧＰＣカラム（Ｇ２０００ＨＸＬ  ２本、Ｇ３０００ＨＸＬ  １本、Ｇ４０００ＨＸＬ  １本）を使用し、ポリスチレン換算で、測定装置「ＨＬＣ−８２２０−ＧＰＣ」（東ソー（株）製）を用いて測定した。
【０１０６】
１．感光性樹脂組成物の製造
［実施例１〜３および比較例１〜２］
表２に示す成分を均一に混合することにより感光性樹脂組成物を製造した。
実施例および比較例で用いた各成分の詳細は以下のとおりである。
Ａ１：下記式（Ａ１）に示す、記号ａを付した構造単位、記号ｂを付した構造単位、記号ｃを付した構造単位、および記号ｄを付した構造単位を有し、これらの構造単位の含有割合がａ／ｂ／ｃ／ｄ＝２１モル％／２９モル％／１５モル％／３５モル％である、重量平均分子量１０，０００の共重合体。
【０１０７】
【化６】
2020079408.tif 000007
Ｂ１：下記式（Ｂ１）に示す化合物
Ｂ２：下記式（Ｂ２）に示す化合物
Ｂ３：下記式（Ｂ３）に示す化合物
【０１０８】
【化７】
2020079408.tif 000008
ＢＲ１：３−グリシドキプロピルトリメトキシシラン
Ｃ１：２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン
Ｃ２：下記式（Ｃ２）に示す化合物
【０１０９】
【化８】
2020079408.tif 000009
Ｄ１−１：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（商品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬（株）製）
Ｅ１：アルミニウム，Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン
Ｅ２：２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン
Ｅ３：ポリエーテル変性シリコーン（商品名「ＤＯＷ  ＣＯＲＮＩＮＧ  ＴＯＲＡＹ  ８０１９  ＡＤＤＩＴＩＶＥ」、東レ・ダウコーニング社製）
Ｆ１：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
Ｆ２：シクロペンタノン
Ｆ３：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
【０１１０】
２．接着性評価
モリブデン基板上に、スピンコート法にて、各感光性樹脂組成物を塗布した後、ホットプレートにて、９０℃で２分間、次いで２３０℃で３０分間加熱し、膜厚１．５μｍの樹脂膜を有する接着性評価用基板を準備した。
接着性は、前記接着性評価用基板をＳＡＩＣＡＳ法にて剥離強度（ｋＮ／ｍ）を測定し評価した。評価結果を表２に示す。ＳＡＩＣＡＳ法の測定条件は以下の通りである。
【０１１１】
【表１】
2020079408.tif 000010
【０１１２】
３．レジストパターンの製造
シリコン板上に銅スパッタ膜を備えてなる基板上に、スピンコーターを用いて、各感光性樹脂組成物を塗布した後、ホットプレート上で、９０℃で２分間加熱して、塗膜を形成した。次いで、マスクを介して、マスクアライナー装置（Ｓｕｓｓ社製、型式「ＭＡ−２００」）を用いて露光（波長：３６５ｎｍ、照射量：５００ｍＪ／ｃｍ2）した。露光後の塗膜を、２．３８質量％のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液に４５秒間接触させた後、流水で洗浄し、次いで窒素ブローした。次いで、２３０℃で３０分間加熱し、厚さ１．５μｍのレジストパターンを製造した。このように実施例において、レジストパターンを良好に製造できたことを確認した。
【０１１３】
【表２】
2020079408.tif 000011