(57)【要約】      （修正有）【課題】輝度ムラを充分に抑制することができる液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】基板の表示領域Ｘに第一の配向膜材料を塗布することにより第一の配向膜材料層２１１を形成するとともに、基板の周縁部に位置し、かつ、表示領域Ｘ外の領域である周縁領域Ｙの少なくとも一部に第二の配向膜材料を塗布することにより第二の配向膜材料層３１１を形成する配向膜材料層形成工程を備え、第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量よりも多い液晶表示装置の製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表示領域に第一の配向膜材料を塗布することにより第一の配向膜材料層を形成するとともに、前記基板の周縁部に位置し、かつ、前記表示領域外の領域である周縁領域の少なくとも一部に第二の配向膜材料を塗布することにより第二の配向膜材料層を形成する配向膜材料層形成工程を備え、
前記第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、前記第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量よりも多いことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記基板は、第一の辺、第二の辺、第三の辺及び第四の辺が周方向に沿って順に配置された矩形状の形状を有し、
前記配向膜材料形成工程において、前記第一の辺、前記第二の辺、前記第三の辺及び前記第四の辺に沿って前記第二の配向膜材料を塗布することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記第二の配向膜材料層は、前記基板の第一の辺に沿って前記周縁領域の一部に設けられ、
前記配向膜材料層形成工程において、前記基板の第二の辺に沿って前記周縁領域の一部に第三の配向膜材料を塗布することにより、前記第二の配向膜材料層と接しておらず、かつ、前記第二の配向膜材料層の幅よりも広い幅を有する第三の配向膜材料層を更に形成し、
前記第三の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、前記第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量と同じであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記基板は、前記表示領域を複数有し、
前記配向膜材料層形成工程において、前記表示領域毎に前記第一の配向膜材料層を形成し、かつ、隣接する表示領域の間の領域である境界領域の少なくとも一部に第四の配向膜材料を塗布することにより第四の配向膜材料層を更に形成し、
前記第四の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、前記第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量よりも多いことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、表示のために液晶組成物を利用する表示装置であり、その代表的な表示方式は、一対の基板間に液晶組成物を封入した液晶パネルに対してバックライトから光を照射し、液晶組成物に電圧を印加して液晶分子の配向を変化させることにより、液晶パネルを透過する光の量を制御するものである。液晶表示装置において、電圧が印加されていない状態における液晶分子の配向は、配向膜によって制御されるのが一般的である。上記配向膜は、例えば、基板上に配向膜材料を塗布して形成された配向膜材料層を乾燥させることにより得られる膜に、配向処理を施すことで得られる。
【０００３】
ここで、液晶表示装置の分野ではないが、塗膜形成に関する技術が特許文献１に開示されている。特許文献１には、揮発溶剤を含む第１のインクを被印刷物の実用領域内に塗布することにより実用塗膜を形成する実用塗膜形成工程と、揮発溶剤を含む第２のインクを、前記実用塗膜の最外端より外側に、又は前記最外端を囲むように塗布することにより外部ダミー塗膜を形成する外部ダミー塗膜形成工程と、前記実用塗膜及び前記外部ダミー塗膜を同時に乾燥する乾燥工程とを含む電子部品用印刷パターンの形成方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−６６５０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
以下では、上記特許文献１のパターン形成方法を用いて基板上に配向膜を形成する、比較形態１の液晶表示装置の製造方法について説明する。図１８は、比較形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程について説明した平面模式図である。図１９は、図１８の破線で囲まれた領域を示す拡大平面模式図である。
【０００６】
比較形態１の液晶表示装置の製造方法では、マザーガラスを用いて複数枚の液晶パネルを同時に製造する。具体的には、マザーガラスを用いて製造された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板、及び、マザーガラスを用いて製造されたカラーフィルタ（ＣＦ：Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ）基板上に、それぞれ配向膜を形成し、両基板を貼り合わせて両基板間に液晶層を設けた後、各液晶パネルに対応する領域でＴＦＴ基板及びＣＦ基板を切断することにより、複数枚の液晶パネルを同時に製造する。
【０００７】
比較形態１の液晶表示装置の製造方法は、図１８及び図１９に示すように、マザーガラス１１０上にＴＦＴが設けられたＴＦＴ基板１００Ｒを準備する工程と、ＴＦＴ基板１００Ｒ上に配向膜材料を塗布して第一の配向膜材料層２１１Ｒ及び第二の配向膜材料層３１１Ｒを形成する配向膜材料層形成工程と、を備える。ＴＦＴ基板１００Ｒには、複数枚の液晶パネルを同時に製造することができるよう、１枚の液晶パネルを構成する領域２００がマトリクス状に複数設けられている。以下、１枚の液晶パネルを構成する領域を、液晶パネル領域ともいう。
【０００８】
比較形態１の配向膜材料層形成工程では、液晶パネルとなった場合に画像が表示される領域である表示領域Ｘに第一の配向膜材料を塗布することにより、第一の配向膜材料層２１１Ｒが形成されるとともに、ＴＦＴ基板１００Ｒの周縁部Ｖに位置し、かつ、表示領域Ｘ外の領域である周縁領域Ｙの一部に、第二の配向膜材料を塗布することにより、第二の配向膜材料層３１１Ｒが形成される。第一の配向膜材料層２１１Ｒ及び第二の配向膜材料層３１１Ｒは、それぞれ、乾燥（プリベーク）することにより、配向膜２１０Ｒ及び３１０Ｒとなる。ここで、第二の配向膜材料層３１１Ｒは、周縁領域Ｙに形成された配向膜材料層であり、ダミーパターンともいう。
【０００９】
比較形態１の配向膜材料層形成工程では、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量と、第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量とを同じにしている。
【００１０】
図２０は、比較形態１の液晶表示装置の製造方法により形成された配向膜の膜厚分布を示すグラフである。図２１は、比較形態１の液晶表示装置の製造方法により製造された液晶パネルの輝度分布を示すグラフである。図２０及び図２１は、図１９のＡ１−Ａ２線における断面の状態を示したグラフであり、第一の配向膜材料層２１１Ｒが乾燥して配向膜２１０Ｒとなった状態を表している。
【００１１】
ＴＦＴ基板１００Ｒ上に第一及び第二の配向膜材料を塗布して第一及び第二の配向膜材料層２１１Ｒ及び３１１Ｒを形成した後、プリベークを行って配向膜２１０Ｒ及び３１０Ｒを形成すると、図１８〜図２０に示すように、ＴＦＴ基板１００Ｒの周縁部Ｖに位置する液晶パネル領域２００ＡＲの端部で配向膜２１０Ｒの膜厚が薄くなり、当該液晶パネル領域２００ＡＲの端部と中央部とで配向膜２１０Ｒの膜厚差が生じる。その結果、電圧−透過率曲線（Ｖ−Ｔカーブ）にずれが生じ、図２１に示すような輝度ムラが発生する。この理由は次のように考えられる。一般的に、マザーガラスを用いて複数枚の液晶パネルを同時に製造する液晶表示装置の製造方法では、基板の周縁部に位置する液晶パネル領域は、四方全てが他の液晶パネル領域により囲まれているわけではなく、少なくとも一方には隣接する液晶パネル領域が存在しない。そのため、プリベーク時の配向膜材料の乾燥速度は、基板の周縁部に位置する液晶パネル領域とその他の液晶パネル領域とで異なり、ＴＦＴ基板の周縁部に位置する液晶パネルでは配向膜の膜厚ムラが発生し易い。
【００１２】
この膜厚ムラを抑えるために、比較形態１の液晶表示装置の製造方法では、周縁領域Ｙに、ダミーパターンである第二の配向膜材料層３１１Ｒを設けているが、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量と第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量とが同じであるため、周縁領域Ｙの幅が狭い場合は、第二の配向膜材料を少量しか塗布できず、配向膜の乾燥ムラ対策として第二の配向膜材料層３１１Ｒを充分に機能させることができないと考えられる。その結果、図２０に示すような膜厚ムラが発生し、図２１に示すような輝度ムラが発生すると考えられる。このように、特許文献１の技術を用いても、ダミーパターンを配置する領域が狭い場合には、ダミーパターンを少量しか配置できず、配向膜の乾燥ムラ対策として機能させることができず、輝度ムラを充分に抑制することができない。
【００１３】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、輝度ムラを充分に抑制することができる液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
（１）本発明の一実施形態は、基板の表示領域に第一の配向膜材料を塗布することにより第一の配向膜材料層を形成するとともに、上記基板の周縁部に位置し、かつ、上記表示領域外の領域である周縁領域の少なくとも一部に第二の配向膜材料を塗布することにより第二の配向膜材料層を形成する配向膜材料層形成工程を備え、上記第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、上記第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量よりも多い液晶表示装置の製造方法。
【００１５】
（２）また、本発明のある実施形態は、上記（１）の構成に加え、上記基板は、第一の辺、第二の辺、第三の辺及び第四の辺が周方向に沿って順に配置された矩形状の形状を有し、上記配向膜材料形成工程において、上記第一の辺、上記第二の辺、上記第三の辺及び上記第四の辺に沿って上記第二の配向膜材料を塗布する、液晶表示装置の製造方法。
【００１６】
（３）また、本発明のある実施形態は、上記（１）の構成に加え、上記第二の配向膜材料層は、上記基板の第一の辺に沿って上記周縁領域の一部に設けられ、上記配向膜材料層形成工程において、上記基板の第二の辺に沿って上記周縁領域の一部に第三の配向膜材料を塗布することにより、上記第二の配向膜材料層と接しておらず、かつ、上記第二の配向膜材料層の幅よりも広い幅を有する第三の配向膜材料層を更に形成し、上記第三の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、上記第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量と同じである、液晶表示装置の製造方法。
【００１７】
（４）また、本発明のある実施形態は、上記（１）、上記（２）又は上記（３）の構成に加え、上記基板は、上記表示領域を複数有し、上記配向膜材料層形成工程において、上記表示領域毎に上記第一の配向膜材料層を形成し、かつ、隣接する表示領域の間の領域である境界領域の少なくとも一部に第四の配向膜材料を塗布することにより第四の配向膜材料層を更に形成し、上記第四の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、上記第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量よりも多い、液晶表示装置の製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、輝度ムラを充分に抑制することができる液晶表示装置の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】実施形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程について説明した平面模式図である。
【図２】図１の破線で囲まれた領域を示す拡大平面模式図である。
【図３】実施形態１及び比較形態１の液晶表示装置の製造方法により形成された配向膜の膜厚分布を示すグラフである。
【図４】実施形態１及び比較形態１の液晶表示装置の製造方法により製造された液晶パネルの輝度分布を示すグラフである。
【図５】実施形態１の液晶表示装置の製造方法で用いられるフレキソ印刷法について説明した模式図である。
【図６】実施形態１の液晶表示装置の製造方法で用いられる版胴と印刷版との関係を示した模式図である。
【図７】実施形態１の液晶表示装置の製造方法で用いられる印刷版の斜視模式図である。
【図８】比較形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程に関する図であり、上図は、配向膜材料層が設けられたＴＦＴ基板の平面模式図であり、下図は、印刷版の断面模式図である。
【図９】図８に示した印刷版の破線で囲まれた領域における拡大断面模式図である。
【図１０】図９に示した印刷版を用いて形成された第一の配向膜材料層及び第二の配向膜材料層の断面模式図である。
【図１１Ａ】実施形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程に関する図であり、上図は、配向膜材料層が設けられたＴＦＴ基板の平面模式図であり、下図は、印刷版の断面模式図である。
【図１１Ｂ】実施形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程で用いられる印刷版の、第二の配向膜材料層が形成される領域に対応して設けられた面の構造の一例を示した図であり、上図は、印刷版の平面模式図であり、下図は、印刷版の断面模式図である。
【図１１Ｃ】実施形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程で用いられる印刷版の、第一の配向膜材料層が形成される領域に対応して設けられた面の構造の一例を示した図であり、上図は、印刷版の平面模式図であり、下図は、印刷版の断面模式図である。
【図１１Ｄ】実施形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程で用いられる印刷版の、第二の配向膜材料層が形成される領域に対応して設けられた面の構造の他の例を示した断面模式図である。
【図１２】図１１Ａに示した印刷版の破線で囲まれた領域における拡大断面模式図である。
【図１３】図１２に示した印刷版を用いて形成された第一の配向膜材料層及び第二の配向膜材料層の断面模式図である。
【図１４】実施形態２の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程について説明した平面模式図である。
【図１５】実施形態２の液晶表示装置の製造方法で用いられる印刷版の斜視模式図である。
【図１６】実施形態３の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程について説明した平面模式図である。
【図１７】実施形態３の液晶表示装置の製造方法で用いられる印刷版の斜視模式図である。
【図１８】比較形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程について説明した平面模式図である。
【図１９】図１８の破線で囲まれた領域を示す拡大平面模式図である。
【図２０】比較形態１の液晶表示装置の製造方法により形成された配向膜の膜厚分布を示すグラフである。
【図２１】比較形態１の液晶表示装置の製造方法により製造された液晶パネルの輝度分布を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の実施形態について説明する。本発明は、以下の実施形態に記載された内容に限定されるものではなく、本発明の構成を充足する範囲内で、適宜設計変更を行うことが可能である。なお、実施形態に記載された各構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよいし、変更されてもよい。
【００２１】
本発明の実施形態の液晶表示装置の製造方法は、基板の表示領域に第一の配向膜材料を塗布することにより第一の配向膜材料層を形成するとともに、上記基板の周縁部に位置し、かつ、上記表示領域外の領域である周縁領域の少なくとも一部に第二の配向膜材料を塗布することにより第二の配向膜材料層を形成する配向膜材料層形成工程を備え、上記第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、上記第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量よりも多い。なお、本明細書では、配向膜材料をインクともいい、配向膜材料層をインク層ともいう。また、単位面積当たりの塗布量を、単に塗布量ともいう。
【００２２】
一般的に、インクを塗布することにより形成されたインク層を乾燥させる際は、インク層の中央部と比較して端部でインクの乾燥が早く進むため、端部と中央部とで濃度差が生じ、未乾燥であるインクがインク層の端部へ移動することにより当該端部が盛り上がる、いわゆるコーヒーステイン現象が発生する。
【００２３】
本実施形態の液晶表示装置の製造方法は、基板の表示領域に第一の配向膜材料を塗布することにより第一の配向膜材料層を形成するとともに、周縁領域の少なくとも一部に第二の配向膜材料を塗布することにより第二の配向膜材料層を形成する配向膜材料層形成工程を備えることにより、第二の配向膜材料層に含まれる溶剤を乾燥により揮発させて周縁領域における揮発溶剤の濃度を高め、第一の配向膜材料層の、第二の配向膜材料層が形成された側に位置する端部においてインクが乾燥する速度を抑えることができる。更に、本実施形態の液晶表示装置の製造方法は、第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量が、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量よりも多いため、周縁領域における揮発溶剤の濃度を充分に高めることができるため、第一の配向膜材料層の、第二の配向膜材料層が形成された側に位置する端部においてインクが乾燥する速度を充分に抑えることができる。その結果、コーヒーステイン現象の発生を充分に抑制することができ、第一の配向膜材料層を乾燥させた場合の膜厚ムラを充分に抑制することができる。したがって、配向膜の膜厚ムラを充分に抑えることが可能となり、液晶表示装置の輝度ムラを充分に抑えることができる。ここで、上記周縁領域に設けられたパターンは、ダミーパターンともいう。
【００２４】
上記基板としては、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を備えるＴＦＴ基板、カラーフィルタ（ＣＦ：Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ）を備えるＣＦ基板等が挙げられる。
【００２５】
配向膜材料の単位面積当たりの塗布量とは、基材上に塗布された配向膜材料の単位面積当たりの体積であり、溶剤を乾燥させる前の配向膜材料の単位面積当たりの体積である。
【００２６】
第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量が、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量よりも多いとは、第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量が、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量の１．１倍以上であることをいう。
【００２７】
第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量の１．１倍以上、３倍以下であることが好ましく、１．２倍以上、２．７倍以下であることがより好ましく、１．３倍以上、２．５倍以下であることが更に好ましい。
【００２８】
第二の配向膜材料層の厚みは、第一の配向膜材料層の厚みの１．１倍以上、３倍以下であることが好ましく、１．２倍以上、２．７倍以下であることがより好ましく、１．３倍以上、２．５倍以下であることが更に好ましい。
【００２９】
第一の配向膜材料層は、例えば、矩形状であり、第二の配向膜材料層は、例えば、帯状（線状）である。第二の配向膜材料層の幅は、０．３ｍｍ以上であることが好ましく、２ｍｍ以上であることがより好ましく、５ｍｍ以上であることが更に好ましい。第二の配向膜材料層の幅の上限は特に限定されず、広いほど輝度ムラを効果的に抑制することができるが、例えば、２０ｍｍ以下である。
【００３０】
上記第一の配向膜材料及び上記第二の配向膜材料は、それぞれ、配向膜用のインク（組成物）である。すなわち、第一の配向膜材料及び上記第二の配向膜材料をＴＦＴ基板上に塗布して第一の配向膜材料層及び第二の配向膜材料層を形成し、かつ、これらの配向膜材料層を乾燥させることにより配向膜を形成することができる。ここで、配向膜は、液晶表示装置が有する液晶層における液晶分子の配向を制御する機能を有し、液晶層への印加電圧が閾値電圧未満（電圧無印加を含む）のときには、主に配向膜の働きによって液晶層中の液晶分子の配向が制御される。
【００３１】
上記第一の配向膜材料及び上記第二の配向膜材料は、それぞれ、溶剤及びポリマーを含む。第一の配向膜材料及び第二の配向膜材料に含まれる溶剤は、互いに異なっていても同一であってもよく、第一の配向膜材料及び第二の配向膜材料に含まれるポリマーは、互いに異なっていても同一であってもよいが、第一の配向膜材料及び第二の配向膜材料は同一の組成であることが好ましい。このような態様とすることにより、上記第一の配向膜材料層及び上記第二の配向膜材料層を同時に形成することが可能となり、より簡便に液晶表示装置を製造することができる。
【００３２】
上記ポリマーは、例えば、ポリイミドを主鎖に有するポリマー、ポリアミック酸を主鎖に有するポリマー、ポリシロキサンを主鎖に有するポリマー等の液晶表示装置の配向膜の分野で一般的なポリマーである。上記溶剤は、これらのポリマーを溶解することができるものであれば特に限定されず、液晶表示装置の配向膜の分野で一般的に用いられる溶剤である。
【００３３】
上記第一の配向膜材料及び上記第二の配向膜材料を塗布する方法は特に限定されず、例えば、フレキソ印刷法及びインクジェット印刷法等の印刷法を用いてこれらの配向膜材料を基板上に塗布することができる。フレキソ印刷法では、印刷版に付与するインクの量を調整する方法等により、単位面積当たりのインクの塗布量を変えることができる。また、インクジェット印刷法では、吐出する液滴１つ当たりの体積を変える方法、単位面積当たりに吐出される液滴の数を変更する方法等により、単位面積当たりのインクの塗布量を変えることができる。
【００３４】
第一の配向膜材料を塗布する工程と第二の配向膜材料を塗布する工程とは、互いに異なるタイミングで実行されてもよいが、同時に実行されることが好ましい。このような態様とすることにより、より簡便に液晶表示装置を製造することができる。
【００３５】
上記表示領域とは、液晶パネルとなった場合に画像が表示される領域、すなわち画素が配列される領域である。上記基板は、表示領域を少なくとも１つ有し、複数の表示領域を有することが好ましい。このような態様とすることにより、複数の液晶パネルを同時に製造することが可能となる。
【００３６】
上記周縁領域は、上記基板の周縁部に位置し、かつ、上記表示領域外の領域である。なお、基板の周縁部とは、基板の端部に沿った額縁状の領域である。
【００３７】
上記基板は、通常、第一の辺、第二の辺、第三の辺及び第四の辺から構成される矩形状の形状を有する。
【００３８】
上記配向膜材料形成工程において、上記第一の辺、上記第二の辺、上記第三の辺及び上記第四の辺に沿って上記第二の配向膜材料を塗布することが好ましい。このような態様とすることにより、基板の周縁領域全周に渡って輝度ムラを抑えることが可能となる。
【００３９】
上記第一の辺に沿って上記第二の配向膜材料を塗布することにより形成される第一の辺の配向膜材料層、上記第二の辺に沿って上記第二の配向膜材料を塗布することにより形成される第二の辺の配向膜材料層、上記第三の辺に沿って上記第二の配向膜材料を塗布することにより形成される第三の辺の配向膜材料層、及び、上記第四の辺に沿って上記第二の配向膜材料を塗布することにより形成される第四の辺の配向膜材料層は、各々独立して設けられてもよく、隣接する辺に設けられた配向膜材料層は、互いに連続して設けられてもよい。例えば、第一の辺の配向膜材料層、第二の辺の配向膜材料層、第三の辺の配向膜材料層、及び、第四の辺の配向膜材料層が、それぞれ、隣接する配向膜材料層と繋がっていてもよい。
【００４０】
上記第二の配向膜材料層は、基板の第一の辺に沿って上記周縁領域の一部に設けられ、上記配向膜材料層形成工程において、基板の第二の辺に沿って周縁領域の一部に第三の配向膜材料を塗布することにより、第二の配向膜材料層と接しておらず、かつ、第二の配向膜材料層の幅よりも広い幅を有する第三の配向膜材料層を更に形成し、第三の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量と同じであることが好ましい。このような態様とすることにより、輝度ムラをより抑制したい領域に対応させてインクの塗布量を多くし、その他の領域でインクの使用量を抑えることが可能となるため、効率的に輝度ムラを抑制することができる。例えば、基板の第二の辺に沿った周縁領域の幅が、第一の辺に沿った周縁領域の幅よりも広い場合、より幅の広い領域に配置されるダミーパターン（第三の配向膜材料層）に比べてより幅の狭い領域に配置されるダミーパターン（第二の配向膜材料層）でインクの塗布量を多くすることにより、インクの使用量を抑えつつ、効率的に輝度ムラを抑えることができる。また、第二の配向膜材料層が、基板の第一の辺に沿って周縁領域の一部に設けられるとは、周縁領域のうち、基板の第一の辺と表示領域との間の領域内の一部に設けられることをいう。また、基板の第二の辺に沿って周縁領域の一部に第三の配向膜材料を塗布するとは、周縁領域のうち、基板の第二の辺と表示領域との間の領域内の一部に第三の配向膜材料を塗布することをいう。
【００４１】
第三の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量が、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量と同じであるとは、第三の配向膜材料の塗布量及び第一の配向膜材料の塗布量が実質的に同じである場合を含み、両者の塗布量に製造上の誤差程度の差が生じている場合を包含する。
【００４２】
より具体的には、第三の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量の０．８倍以上、１．１倍未満であることが好ましく、０．９倍以上、１．１倍未満であることがより好ましい。
【００４３】
第三の配向膜材料層の厚みは、第一の配向膜材料層の厚みの０．８倍以上、１．１倍未満であることが好ましく、０．９倍以上、１．１倍未満であることがより好ましい。
【００４４】
第三の配向膜材料層は、例えば、帯状（線状）である。第三の配向膜材料層の幅は、０．３ｍｍ以上であることが好ましく、２ｍｍ以上であることがより好ましく、５ｍｍ以上であることが更に好ましい。第三の配向膜材料層の幅の上限は特に限定されず、広いほど輝度ムラを効果的に抑制することができるが、例えば、２０ｍｍ以下である。
【００４５】
本明細書において、ある配向膜材料層の幅が他の配向膜材料層の幅よりも広いとは、ある配向膜材料層の幅が、他の配向膜材料層の幅の１．１倍以上であることをいい、好ましくは、ある配向膜材料層の幅が、他の配向膜材料層の幅の２倍以上であることをいい、より好ましくは、ある配向膜材料層の幅が、他の配向膜材料層の幅の５倍以上であることをいい、更に好ましくは、１０倍以上であることをいう。また、ある配向膜材料層の幅が他の配向膜材料層の幅と同じであるとは、両者の幅が実質的に同じである場合を含み、両者の幅に製造上の誤差程度の差が生じている場合を包含する。
【００４６】
また、本明細書において、基板のある辺に沿った周縁領域の幅が、基板の他の辺に沿った周縁領域の幅よりも広いとは、基板のある辺に沿った周縁領域の幅が、基板の他の辺に沿った周縁領域の幅の１．１倍以上であることをいい、好ましくは、ある配向膜材料層の幅が、他の配向膜材料層の幅の２倍以上であることをいい、より好ましくは、ある配向膜材料層の幅が、他の配向膜材料層の幅の５倍以上であることをいい、更に好ましくは、１０倍以上であることをいう。また、基板のある辺に沿った周縁領域の幅が、基板の他の辺に沿った周縁領域の幅と同じであるとは、両者の幅が実質的に同じである場合を含み、両者の幅に製造上の誤差程度の差が生じている場合を包含する。
【００４７】
上記基板の上記第一の辺に沿った周縁領域の幅が、上記第二の辺に沿った周縁領域の幅と同じである場合、上記第二の配向膜材料層は、基板の第一の辺に沿って周縁領域の一部に設けられ、かつ、基板の第二の辺に沿って周縁領域の一部に設けられることが好ましい。このような態様とすることにより、例えば、第一の辺に沿った周縁領域の幅及び第二の辺に沿った周縁領域の幅が同様に狭い場合に、液晶表示装置の輝度ムラをより充分に抑制することができる。
【００４８】
このように、本実施形態の液晶表示装置の製造方法は、周縁領域の幅が相対的に狭い領域には単位面積当たりの塗布量を相対的に多くしてインクを塗布してインク層を形成し、周縁領域の幅が相対的に広い領域には単位面積当たりの塗布量を相対的に少なくしてインクを塗布して第三の配向膜材料層を形成することにより、インクの使用量を抑えつつ、液晶表示装置の輝度ムラをより充分に抑制することができる。
【００４９】
上記基板は、上記表示領域を複数有し、上記配向膜材料層形成工程において、上記表示領域毎に上記第一の配向膜材料層を形成し、かつ、隣接する表示領域の間の領域である境界領域の少なくとも一部に第四の配向膜材料を塗布することにより第四の配向膜材料層を更に形成し、上記第四の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、上記第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量よりも多いことが好ましい。このような態様とすることにより、基板の周縁領域近傍だけでなく、その内側においても輝度ムラを抑えることが可能となる。
【００５０】
第四の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量が、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量よりも多いとは、第四の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量が、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量の１．１倍以上であることをいう。
【００５１】
第四の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量の１．１倍以上、３倍以下であることが好ましく、１．２倍以上、２．７倍以下であることがより好ましく、１．３倍以上、２．５倍以下であることが更に好ましい。
【００５２】
第四の配向膜材料層の厚みは、第一の配向膜材料層の厚みの１．１倍以上、３倍以下であることが好ましく、１．２倍以上、２．７倍以下であることがより好ましく、１．３倍以上、２．５倍以下であることが更に好ましい。
【００５３】
第四の配向膜材料層は、例えば、帯状（線状）である。第四の配向膜材料層の幅は、０．３ｍｍ以上であることが好ましく、２ｍｍ以上であることがより好ましく、５ｍｍ以上であることが更に好ましい。第四の配向膜材料層の幅の上限は特に限定されず、広いほど輝度ムラを効果的に抑制することができるが、例えば、２０ｍｍ以下である。
【００５４】
上記境界領域は、基板の周縁領域に位置せず、かつ、表示領域外の領域である。
【００５５】
上記第三の配向膜材料及び上記第四の配向膜材料は、溶剤及びポリマーを含む。第三の配向膜材料及び第四の配向膜材料に含まれる溶剤及びポリマーには、上記第一の配向膜材料及び上記第二の配向膜材料で挙げたものと同様のものを用いることができる。第一の配向膜材料、第二の配向膜材料、第三の配向膜材料及び第四の配向膜材料は、少なくとも１つのインクが他のインクと異なる組成であってもよいが、全てが同一の組成であることが好ましい。このような態様とすることにより、上記第一の配向膜材料層、上記第二の配向膜材料層、上記第三の配向膜材料層及び上記第四の配向膜材料層を同時に形成することが可能となり、より簡便に液晶表示装置を製造することができる。
【００５６】
第一の配向膜材料を塗布する工程と第二の配向膜材料を塗布する工程と第三の配向膜材料を塗布する工程と第四の配向膜材料を塗布する工程とは、少なくとも１つの工程が他の工程と異なるタイミングで実行されてもよいが、全ての工程が同時に実行されることが好ましい。このような態様とすることにより、より簡便に液晶表示装置を製造することができる。
【００５７】
本実施形態の液晶表示装置の製造方法は、上記配向膜材料層形成工程の後に、第一の配向膜材料層及び第二の配向膜材料層を乾燥させる乾燥工程を更に備える。また、上記第三の配向膜材料層が形成される場合は、上記乾燥工程において第三の配向膜材料層も乾燥させる。また、上記第四の配向膜材料層が形成される場合は、上記乾燥工程において第四の配向膜材料層も乾燥させる。乾燥工程は、配向膜を形成する際に一般的に用いられる方法により行うことができる。乾燥工程を行うことにより、第一の配向膜材料層、第二の配向膜材料層、第三の配向膜材料層及び第四の配向膜材料層から配向膜を形成することができる。
【００５８】
その後、配向膜（第二の配向膜）が設けられた上記基板としてのＴＦＴ基板と、配向膜（第一の配向膜）が設けられた上記基板としてのＣＦ基板とを貼り合わせて両基板間に液晶層を封入する工程と、各液晶パネルに対応する領域でＴＦＴ基板及びＣＦ基板を切断する工程と、各液晶パネルの観察面側に第一の偏光板を、背面側に第二の偏光板及びバックライトを配置する工程と、を順に行うことにより、液晶表示装置が完成する。
【００５９】
本実施形態の液晶表示装置の製造方法により製造される液晶表示装置は、観察面側から背面側に向かって順に、第一の偏光板と、上記基板としてのＣＦ基板と、第一の配向膜と、液晶層と、第二の配向膜と、上記基板としてのＴＦＴ基板と、第二の偏光板と、バックライトとを備える。本実施形態の液晶表示装置の製造方法は、第一の配向膜及び第二の配向膜を形成する際に用いることができる。
【００６０】
以下、図面を用いて、本発明の他の実施形態に係る表示装置についてより具体的に説明する。なお、以下の説明において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して適宜用い、その繰り返しの説明は適宜省略する。
【００６１】
（実施形態１）
図１は、実施形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程について説明した平面模式図である。図２は、図１の破線で囲まれた領域を示す拡大平面模式図である。図３は、実施形態１及び比較形態１の液晶表示装置の製造方法により形成された配向膜の膜厚分布を示すグラフである。図４は、実施形態１及び比較形態１の液晶表示装置の製造方法により製造された液晶パネルの輝度分布を示すグラフである。図３及び図４の実施形態１に関するグラフは、図２のＢ１−Ｂ２線における断面の状態を示したグラフであり、第一の配向膜材料層２１１が乾燥して配向膜２１０となった状態を表している。図３及び図４の比較形態１に関するグラフは、図１９のＡ１−Ａ２線における断面の状態を示したグラフであり、第一の配向膜材料層２１１Ｒが乾燥して配向膜２１０Ｒとなった状態を表している。
【００６２】
本実施形態の液晶表示装置の製造方法では、図１及び図２に示すように、まず、マザーガラス１１０上にＴＦＴが設けられたＴＦＴ基板１００を準備する。ＴＦＴ基板１００には、１枚の液晶パネルを構成する領域（液晶パネル領域）２００が、マトリクス状に複数設けられている。ＴＦＴ基板１００は、液晶パネルとした場合に観察面となる側から背面となる側に向かって順に、画素電極と、共通電極と、ＴＦＴを備えるＴＦＴ層と、互いに平行に延設された複数のソース線と、各ソース線と交差する方向に互いに平行に延設され複数のゲート線と、透明基材とを備える。複数のゲート線及び複数のソース線は、各画素を区画するように全体として格子状に形成されている。各ソース線と各ゲート線との交点にはスイッチング素子としてのＴＦＴが配置されている。なお、本実施形態では共通電極がＴＦＴ基板に設けられるが、共通電極はＣＦ基板に設けられてもよい。
【００６３】
次に、配向膜材料層形成工程を行う。具体的には、図１及び図２に示すように、各液晶パネル領域２００が有する表示領域Ｘに第一の配向膜材料を塗布することにより、第一の配向膜材料層２１１を形成するとともに、ＴＦＴ基板１００の周縁部Ｖに位置し、かつ、表示領域Ｘ外の領域である周縁領域Ｙの一部に、第二の配向膜材料を塗布することにより、第二の配向膜材料層３１１を形成する。なお、第一の配向膜材料層２１１及び第二の配向膜材料層３１１は、その後、それぞれ、乾燥（プリベーク）することにより、配向膜２１０及び３１０となる。
【００６４】
本実施形態では、上記配向膜材料層形成工程において、第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量を、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量よりも多くする。このような態様とすることにより、ＴＦＴ基板１００の周縁領域Ｙ近傍に位置する表示領域Ｘに塗布されたインクの乾燥速度を抑制することができる。その結果、図１〜図３に示すように、ＴＦＴ基板１００の周縁部Ｖに位置する液晶パネル領域２００Ａの端部で配向膜２１０の膜厚が薄くなるのを抑え、液晶パネル領域２００Ａの端部と中央部とで配向膜２１０の膜厚差が生じるのを抑えることが可能となり、比較形態１の液晶表示装置の製造方法を用いた場合に比べて表示領域Ｘに設けられた配向膜の膜厚ムラを抑えることができる。その結果、図４に示すように、本実施形態の液晶表示装置の製造方法により製造された液晶パネルの輝度ムラを、比較形態１よりも改善することができる。
【００６５】
ＴＦＴ基板１００（マザーガラス１１０）は、第一の辺１０１、第二の辺１０２、第三の辺１０３及び第四の辺１０４が周方向に沿って順に配置された矩形状の形状を有する。第一の辺１０１と表示領域Ｘとの間の幅ｗ１、及び、第三の辺１０３と表示領域Ｘとの間の幅ｗ３は同じであり、第二の辺１０２と表示領域Ｘとの間の幅ｗ２、及び、第四の辺１０４と表示領域との間の幅ｗ４は同じである。幅ｗ１及びｗ３は、幅ｗ２及びｗ４よりも狭い。
【００６６】
第二の配向膜材料層３１１は、第一の辺１０１に沿って周縁領域Ｙの一部に設けられ、かつ、第三の辺１０３に沿って周縁領域Ｙの一部に設けられている。また、第三の配向膜材料層４１１は、第二の辺１０２に沿って周縁領域Ｙの一部に設けられ、かつ、第四の辺１０４に沿って周縁領域Ｙの一部に設けられている。なお、第三の配向膜材料層４１１は、乾燥工程を経て配向膜４１０となる。第三の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量と同じである、すなわち、第三の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量よりも少ない。本実施形態では、ＴＦＴ基板１００を構成する辺と表示領域Ｘとの間の幅がより狭い領域に、単位面積当たりのインクの塗布量がより多い第二の配向膜材料層３１１を形成し、ＴＦＴ基板１００を構成する辺と表示領域Ｘとの間の幅がより広い領域に、単位面積当たりのインクの塗布量がより少ない第三の配向膜材料層４１１を形成することにより、効率的に配向膜２１０の膜厚ムラを抑制することができる。
【００６７】
配向膜材料層形成工程で用いられる塗布方法について具体的に説明する。本実施形態の液晶表示装置の製造方法では、フレキソ印刷法を用いてＴＦＴ基板１００上にインクを塗布する。
【００６８】
図５は、実施形態１の液晶表示装置の製造方法で用いられるフレキソ印刷法について説明した模式図である。図６は、実施形態１の液晶表示装置の製造方法で用いられる版胴と印刷版との関係を示した模式図である。上記配向膜材料層形成工程では、図５及び図６に示すように、ノズル１１から滴下されるインクＣＬが、アニックスロール１２及びドクターロール１３間を通過し、版胴１４上に設けられた印刷版２０上へ付与される。その後、版胴１４の回転軸Ｘ３が、版胴１４の回転による進行方向（図５の右から左方向）に移動することで、ステージ１６上のＴＦＴ基板１００に、ノズル１１から付与されるインクＣＬが転写される。
【００６９】
図７は、実施形態１の液晶表示装置の製造方法で用いられる印刷版の斜視模式図である。印刷版２０としては、例えば、図７に示すものを用いることができる。図７に示すように、印刷版２０は、ベース材２５上に、インクが転写されない面、すなわち、基板に転写しない面２１と、インクが転写される面、すなわち、基板の表示領域に転写する面２２及び基板の周縁領域に転写する面２３１及び２３２と、を備える。基板の周縁領域に転写する面２３１は、ＴＦＴ基板１００を構成する辺と表示領域Ｘとの間の幅がより狭い領域に対応して配置され、基板の周縁領域に転写する面２３２は、ＴＦＴ基板１００を構成する辺と表示領域Ｘとの間の幅がより広い領域に対応して配置されている。
【００７０】
本実施形態の配向膜材料層形成工程では、基板の周縁領域に転写する面２３１に付与されるインクの量を、基板の表示領域に転写する面２２に付与されるインクの量よりも多くすることにより、第二の配向膜材料層３１１を形成する第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量を、第一の配向膜材料層２１１を形成する第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量よりも多くしている。また、基板の周縁領域に転写する面２３２に付与されるインクの量を、基板の表示領域に転写する面２２に付与されるインクの量と同じにすることにより、第三の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量と第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量とを同じにしている。
【００７１】
図８は、比較形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程に関する図であり、上図は、配向膜材料層が設けられたＴＦＴ基板の平面模式図であり、下図は、印刷版の断面模式図である。図８では、配向膜材料層が設けられたＴＦＴ基板及び印刷版の位置関係を対応させている。図９は、図８に示した印刷版の破線で囲まれた領域における拡大断面模式図である。図１０は、図９に示した印刷版を用いて形成された第一の配向膜材料層及び第二の配向膜材料層の断面模式図である。
【００７２】
比較形態１の液晶表示装置の製造方法では、図８に示す印刷版２０Ｒが用いられる。印刷版２０Ｒは、ベース材２５上に、第一の配向膜材料層２１１Ｒが形成される領域に対応して設けられた面であり、基板の表示領域に転写する面２２Ｒと、第二の配向膜材料層３１１Ｒが形成される領域に対応して設けられた面であり、基板の周縁領域に転写する面２３１Ｒとを備える。図９に示すように、基板の表示領域に転写する面２２Ｒ、及び、基板の周縁領域に転写する面２３１Ｒには、同一のメッシュが設けられており、基板の表示領域に転写する面２２Ｒ及び基板の周縁領域に転写する面２３１Ｒでのインク保持量は同じである。そのため、印刷版２０Ｒを用いて形成される第一の配向膜材料層２１１Ｒのインクの塗布量と、第二の配向膜材料層３１１Ｒのインクの塗布量とは、図１０に示すように同じとなる。したがって、上述のように、ダミーパターンを配置する領域が狭い場合には、インクを少量しか配置できず、輝度ムラを充分に抑制することができない。
【００７３】
図１１Ａは、実施形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程に関する図であり、上図は、配向膜材料層が設けられたＴＦＴ基板の平面模式図であり、下図は、印刷版の断面模式図である。図１１Ｂは、実施形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程で用いられる印刷版の、第二の配向膜材料層が形成される領域に対応して設けられた面の構造の一例を示した図であり、上図は、印刷版の平面模式図であり、下図は、印刷版の断面模式図である。図１１Ｃは、実施形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程で用いられる印刷版の、第一の配向膜材料層が形成される領域に対応して設けられた面の構造の一例を示した図であり、上図は、印刷版の平面模式図であり、下図は、印刷版の断面模式図である。図１１Ｄは、実施形態１の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程で用いられる印刷版の、第二の配向膜材料層が形成される領域に対応して設けられた面の構造の他の例を示した断面模式図である。図１１Ａ〜図１１Ｃでは、配向膜材料層が設けられたＴＦＴ基板及び印刷版の位置関係を対応させている。図１２は、図１１Ａに示した印刷版の破線で囲まれた領域における拡大断面模式図である。図１３は、図１２に示した印刷版を用いて形成された第一の配向膜材料層及び第二の配向膜材料層の断面模式図である。
【００７４】
本実施形態の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程では、図１１Ａに示す印刷版２０が用いられる。印刷版２０は、ベース材２５上に、第一の配向膜材料層２１１が形成される領域に対応して設けられた面であり、基板の表示領域に転写する面２２と、第二の配向膜材料層３１１が形成される領域に対応して設けられた面であり、基板の周縁領域に転写する面２３１とを備える。
【００７５】
図１１Ｂ及び１１Ｃに示すように、印刷版２０は、突起部であるドットＤが規則的に設けられたドットパターンＤＰを有する。１つのドットＤは網点ともいい、ドットパターンＤＰはメッシュ（網目）ともいう。
【００７６】
第二の配向膜材料層３１１が形成される領域に対応して設けられた面であり、基板の周縁領域に転写する面２３１には、例えば、図１１Ｂに示す３００ｄｏｔ／インチのピッチのドットパターンＤＰが設けられ、第一の配向膜材料層２１１が形成される領域に対応して設けられた面であり、基板の表示領域に転写する面２２には、例えば、図１１Ｃに示す４００ｄｏｔ／インチのピッチのドットパターンＤＰが設けられる。図１１Ｂに示すドットパターンＤＰは、図１１Ｃに示すドットパターンＤＰよりも１インチ当たりのドットＤの数が少ない。その結果、ドットＤ間の空間（間隙）から形成されるインク保持部ＤＩの深さＤＤが、ピッチ数の多い図１１ＣのドットパターンＤＰよりピッチ数の少ない図１１ＢのドットパターンＤＰで深くなるため、図１１Ｂに示すドットパターンＤＰにおけるインク保持部ＤＩの容積をより大きくすることができる。その結果、図１１Ｂに示すドットパターンＤＰを有する面に保持されるインク量を、図１１Ｃに示すドットパターンＤＰを有する面に保持されるインク量よりも多くすることができる。このようにドットのサイズ（ピッチ）を変更することにより、ドットＤ間の空間（隙間）から形成されるインク保持部ＤＩの容積を変化させて、印刷版２０に保持されるインク量を変化させることができる。
【００７７】
また、図１１Ｃ及び図１１Ｄに示すように、１インチ当たりのドットＤの数が同じ、すなわち、ピッチが同じでも、図１１Ｃに示すドットパターンＤＰより図１１Ｄに示すドットパターンＤＰにおいて深さＤＤを深くしてインク保持部ＤＩを広げることで、図１１Ｄに示すドットパターンＤＰにおけるインク保持部ＤＩの容積をより大きくすることができる。その結果、図１１Ｄに示すドットパターンＤＰを有する面に保持されるインク量を、図１１Ｃに示すドットパターンを有する面に保持されるインク量よりも多くすることができる。
【００７８】
図１２に示すように、基板の周縁領域に転写する面２３１には、基板の表示領域に転写する面２２よりもインク保持部ＤＩの容積が大きなメッシュが形成されている。そのため、基板の周縁領域に転写する面２３１のインク保持量は、基板の表示領域に転写する面２２のインク保持量よりも多くなり、図１３に示すように、印刷版２０を用いて形成される第二の配向膜材料層３１１のインクの塗布量は、第一の配向膜材料層２１１のインクの塗布量よりも多くなる。その結果、上述のように第二の配向膜材料層３１１により、ＴＦＴ基板１００の周縁部に位置する液晶パネル領域２００Ａで第一の配向膜材料層２１１の乾燥速度を抑制して、配向膜２１０の膜厚ムラを充分に抑えることが可能となり、液晶表示装置の輝度ムラを充分に抑えることができる。
【００７９】
このように、比較形態１では、第一の配向膜材料層２１１Ｒに対応する領域と第二の配向膜材料層３１１Ｒに対応する領域とで印刷版２０Ｒのインク保持量が同じであるのに対して、本実施形態では、印刷版２０そのもののインク保持量を、第一の配向膜材料層２１１に対応する領域に対して第二の配向膜材料層３１１に対応する領域で多くして、ＴＦＴ基板１００の周縁部Ｖに位置する液晶パネル領域２００Ａで第一の配向膜材料層２１１の乾燥速度を遅くすることで、コーヒーステイン現象による表示領域Ｘの配向膜２１０の膜厚低下を抑制する。膜厚低下を抑制することで、従来発生していた輝度ムラを抑制することができ表示品位の改善ができる。
【００８０】
（実施形態２）
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態と重複する内容については説明を省略する。本実施形態の液晶表示装置の製造方法は、第三の配向膜材料層４１１を形成せず、かつ、第二の配向膜材料層３１１を形成する領域が異なること以外は、実施形態１と同様の構成を有する。
【００８１】
図１４は、実施形態２の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程について説明した平面模式図である。図１４に示すように、第一の辺１０１と表示領域Ｘとの間の幅ｗ１、第二の辺１０２と表示領域Ｘとの間の幅ｗ２、第三の辺１０３と表示領域Ｘとの間の幅ｗ３、及び、第四の辺１０４と表示領域Ｘとの間の幅ｗ４は同じである。
【００８２】
実施形態２の液晶表示装置の製造方法において、第二の配向膜材料層３１１は、第一の辺１０１、第二の辺１０２、第三の辺１０３及び第四の辺１０４に沿って周縁領域Ｙの一部に設けられる。本実施形態では、第一の辺１０１、第二の辺１０２、第三の辺１０３及び第四の辺１０４のそれぞれと表示領域Ｘとの間の幅が狭い。そのため、当該領域に、単位面積当たりのインクの塗布量が第一の配向膜材料よりも多い第二の配向膜材料を塗布して第二の配向膜材料層３１１を形成することにより、配向膜２１０の膜厚ムラを充分に抑制することが可能となり、液晶表示装置の輝度ムラを抑えることができる。
【００８３】
図１５は、実施形態２の液晶表示装置の製造方法で用いられる印刷版の斜視模式図である。実施形態２の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程では、図１５に示す印刷版２０を用いて第一の配向膜材料層２１１及び第二の配向膜材料層３１１を形成することができる。印刷版２０は、ベース材２５上に、基板に転写しない面２１と、基板の表示領域に転写する面２２と、第二の配向膜材料層３１１が形成される領域に対応して設けられた面であり、基板の周縁領域に転写する面２３１と、を備える。基板の周縁領域に転写する面２３１には、基板の表示領域に転写する面２２よりもインク保持部ＤＩの容積が大きなメッシュが形成されている。そのため、基板の周縁領域に転写する面２３１のインク保持量は、基板の表示領域に転写する面２２のインク保持量よりも多くなり、印刷版２０を用いて形成される第二の配向膜材料層３１１のインクの塗布量は、第一の配向膜材料層２１１のインクの塗布量よりも多くなる。その結果、上述のように第二の配向膜材料層３１１により、ＴＦＴ基板１００の周縁部Ｖに位置する液晶パネル領域２００Ａで第一の配向膜材料層２１１の乾燥速度を抑制して、配向膜２１０の膜厚ムラを充分に抑えることが可能となり、液晶表示装置の輝度ムラを充分に抑えることができる。
【００８４】
（実施形態３）
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態と重複する内容については説明を省略する。本実施形態の液晶表示装置の製造方法は、表示領域Ｘ間に、第四の配向膜材料層を形成すること以外は、実施形態２と同様の構成を有する。
【００８５】
図１６は、実施形態３の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程について説明した平面模式図である。図１６に示すように、第一の辺１０１と表示領域Ｘとの間の幅ｗ１、第二の辺１０２と表示領域Ｘとの間の幅ｗ２、第三の辺１０３と表示領域Ｘとの間の幅ｗ３、及び、第四の辺１０４と表示領域Ｘとの間の幅ｗ４は同じである。
【００８６】
本実施形態の液晶表示装置の製造方法では、図１６に示すように、表示領域Ｘの間の領域である境界領域Ｚの一部に、第四の配向膜材料を塗布することにより第四の配向膜材料層５１１を形成する。第四の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量は、第一の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量より多い。そのため、周縁領域Ｙの内側においても、配向膜２１０の膜厚ムラを充分に抑えることが可能となり、液晶表示装置の輝度ムラをより抑えることができる。
【００８７】
本実施形態では、第四の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量を、第二の配向膜材料の単位面積当たりの塗布量と同じにしている。なお、第四の配向膜材料層５１１は、乾燥工程を経て配向膜５１０となる。
【００８８】
図１７は、実施形態３の液晶表示装置の製造方法で用いられる印刷版の斜視模式図である。実施形態３の液晶表示装置の製造方法が備える配向膜材料層形成工程では、図１７に示す印刷版２０を用いて第一の配向膜材料層２１１、第二の配向膜材料層３１１及び第四の配向膜材料層５１１を形成することができる。印刷版２０は、ベース材２５上に、基板の表示領域に転写する面２２と、基板の周縁領域に転写する面２３１の他、第四の配向膜材料層５１１が形成される領域に対応して設けられた面であり、基板の境界領域に転写する面２４を備える。基板の境界領域に転写する面２４には、基板の周縁領域に転写する面２３１と同様に、基板の表示領域に転写する面２２よりもインク保持部ＤＩの容積が大きなメッシュが形成されている。そのため、基板の境界領域に転写する面２４のインク保持量は、基板の表示領域に転写する面２２のインク保持量よりも多くなり、印刷版２０を用いて形成される第四の配向膜材料層５１１のインクの塗布量は、第一の配向膜材料層２１１のインクの塗布量よりも多くなる。その結果、上述のように第四の配向膜材料層５１１により、ＴＦＴ基板１００の周縁部より内側に位置する液晶パネル領域２００においても、第一の配向膜材料層２１１の乾燥速度を抑制して、配向膜２１０の膜厚ムラを充分に抑えることが可能となり、液晶表示装置の輝度ムラをより充分に抑えることができる。
【００８９】
なお、図１６に示すように、本実施形態では、第二の配向膜材料層３１１は、第一の辺１０１、第二の辺１０２、第三の辺１０３及び第四の辺１０４毎に独立して設けられているが、隣接する辺に設けられた第二の配向膜材料層３１１は、互いに連続して設けられてもよい。また、本実施形態では、第四の配向膜材料層５１１は、表示領域Ｘを構成する辺毎に独立して設けられているが、表示領域Ｘの隣接する辺に設けられた第四の配向膜材料層５１１は、互いに連続して設けられてもよい。更に、本実施形態では、第二の配向膜材料層３１１と第四の配向膜材料層５１１とは互いに独立して設けられているが、隣接する第二の配向膜材料層３１１と第四の配向膜材料層５１１とは互いに連続して設けられてもよい。例えば、図１６に示す第二の配向膜材料層３１１及び第四の配向膜材料層５１１が全て繋がり、網目状の配向膜材料層を形成してもよい。
【００９０】
以上に示した本発明の各態様は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。
【符号の説明】
【００９１】
１１：ノズル
１２：アニックスロール
１３：クターロール
１４：版胴
１６：ステージ
２０：印刷版
２１：基板に転写しない面
２２、２２Ｒ、２３１、２３１Ｒ、２３２：基板の表示領域に転写する面
２４：基板の境界領域に転写する面
２５：ベース材
１００、１００Ｒ：ＴＦＴ基板
１１０：マザーガラス
２００、２００Ａ、２００ＡＲ：１枚の液晶パネルに用いられる領域（液晶パネル領域）
２１０、２１０Ｒ、３１０、３１０Ｒ、４１０、５１０：配向膜
２１１、２１１Ｒ、３１１、３１１Ｒ、４１１、５１１：配向膜材料層
ＣＬ：インク
Ｄ：ドット
ＤＤ：深さ
ＤＩ：インク保持部
ＤＰ：ドットパターン
Ｖ：周縁部
ｗ１、ｗ２、ｗ３、ｗ４：幅
Ｘ：表示領域
Ｘ３：回転軸
Ｙ：周縁領域
Ｚ：境界領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１１Ｄ】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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