(57)【要約】【課題】複数の凸領域が配列された表現において、これまでとは異なる外観を得ることができる化粧材を提供する。【解決手段】表面に凹凸模様が形成されてなる化粧材であって、基材、及び、基材の一方の面に具備された凹凸を有した模様形成層を備え、模様形成層には、化粧材の平面視において区画された領域が、厚さ方向に突出してなる凸領域が備えられ、該凸領域が複数配列されており、模様形成層のうち凸領域以外の部位は凹領域とされ、凸領域の頂部、及び、凹領域の表面には、複数の凸条が配列されている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に凹凸模様が形成されてなる化粧材であって、
基材、及び、前記基材の一方の面に具備された凹凸を有した模様形成層を備え、
前記模様形成層には、前記化粧材の平面視において区画された領域が、厚さ方向に突出してなる凸領域が備えられ、
該凸領域が複数配列されており、
前記模様形成層のうち前記凸領域以外の部位は凹領域とされ、
前記凸領域の頂部、及び、前記凹領域の表面には、複数の凸条が配列されている、化粧材。
【請求項２】
前記凸領域の頂部における前記凸条と、前記凹領域における前記凸条とは、同じ方向に延びるとともに、幅、高さ、断面形状、及び、配列ピッチのうち少なくとも１つが異なるように形成されている、請求項１に記載の化粧材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は化粧材に関する。
【背景技術】
【０００２】
化粧材における意匠表現は多岐に亘るが、その中で、例えば特許文献１のように、エンボスを施してなる凹凸を具備するものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】実開昭６２−１１４７３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年における嗜好の多様化より、単調な印象を回避した表現や、従来とは異なる印象を与える外観を有する化粧材が望まれる場面がある。
【０００５】
このような問題を鑑み、本発明は、複数の凸領域が配列された表現において、これまでとは異なる外観を得ることができる化粧材を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
以下、本発明について説明する。
【０００７】
本発明の１つの態様は、表面に凹凸模様が形成されてなる化粧材であって、基材、及び、基材の一方の面に具備された凹凸を有した模様形成層を備え、模様形成層には、化粧材の平面視において区画された領域が、厚さ方向に突出してなる凸領域が備えられ、該凸領域が複数配列されており、模様形成層のうち凸領域以外の部位は凹領域とされ、凸領域の頂部、及び、凹領域の表面には、複数の凸条が配列されている、化粧材である。
【０００８】
凸領域の頂部における凸条と、凹領域における凸条とは、同じ方向に延びるとともに、幅、高さ、断面形状、及び、配列ピッチのうち少なくとも１つが異なるように形成されてもよい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、複数の凸領域が配列された表現において、これまでとは異なる外観の化粧材とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、化粧材１０の表面の一部を拡大して表した平面図である。
【図２】図２は、図１の一部を拡大して表した図である。
【図３】図３は、図２を模式的に斜視図で表した図である。
【図４】図４は、図２、図３に矢印ＩＶで示した方向から見た図である。
【図５】図５は、濃淡画像データの例を示す図である。
【図６】図６は、レーザにより型に凹凸を形成する場面を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、各形態を図面に基づき説明する。ただし、本発明はこれら形態に限定されるものではない。なお、以下に示す図面では分かりやすさのため部材の大きさや比率を変更又は誇張して記載することがある。また、見やすさのため説明上不要な部分の図示や繰り返しとなる符号を省略することがある。
【００１２】
図１は１つの形態にかかる化粧材１０の一部を拡大し、模様形成層１２側から平面視した図（平面図）である。
なお、図１及び以降に示す図には必要に応じて便宜のため、方向を表す矢印（ｘ、ｙ、ｚ）、即ち座標系も併せて表記した。ここでｘｙ方向は化粧材１０における面内方向、ｚ方向は厚さ方向で、ｘｙ面の法線方向である。従って図１は化粧材１０を模様形成層１２側の特にz方向から見た（平面視した）図ということになる。
図２には図１にＡで示した部位を抜き出して拡大した図を示した。また、図３には、化粧材１０の構成をよりわかり易く説明するため、図２で表れた部分を模式的に斜視図で示した。図４には、図２、図３に矢印ＩＶで示した方向から見た化粧材１０の側面図を表した。
図１乃至図４よりわかるように、化粧材１０は、基材１１及び該基材１１の一方の面側に具備された模様形成層１２を有して構成されている。
【００１３】
以下、各構成についてさらに詳しく説明する。
【００１４】
基材１１は、模様形成層１２を保持するとともに化粧材１０に強度を付与する機能を有するシート状の部材である。基材１１の形態としてはフィルム、シート、或いは板の何れでも良い。一般的には、厚みが比較的薄いものから、順次、フィルム、シート、板と呼称されるが、本形態においては、これら基材の厚み形態による差異は本質的な事項では無く重要な事項でも無い。そのため、本明細書中においてはフィルム、シート、及び板の何れかの用語は適宜他の用語に読み換えても本発明の本質も特許請求の範囲の解釈も不変である。
【００１５】
基材１１は従来公知の化粧材と同様の機能を有するものであればよいので、その材料は特に限定されない。例えば、基材の材料としては、通常、ポリエチレン、ポリプロピレン、オレフィン系熱可塑性エラストマー、アイオノマー等のポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の熱可塑性ポリエステル樹脂、熱可塑性ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）、スチレン樹脂等の熱可塑性樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、２液硬化型ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂、或いは、ラジカル重合型のアクリレート系やカチオン重合型のエポキシ系等の単量体やプレポリマーで電離放射線（紫外線、電子線等）で硬化する電離放射線硬化性樹脂等が用いられる。なお、基材の材料が樹脂の場合、公知の着色剤で着色しても良い。この他、紙、不織布、金属、木等もシート、板、立体物等の形状で、適宜上記樹脂材料と積層させて、使用することもできる。
【００１６】
基材の厚さには特に制限は無いが、シート状の基材又はフィルム状の基材の場合は、例えば、厚さ２０μｍ以上１０００μｍ以下程度、板状の基材の場合は、例えば、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下程度のものが使用される。
【００１７】
模様形成層１２は、基材１１の一方の面側に具備され、化粧材に凹凸模様を付与する層である。本形態で模様形成層１２は次のような形態を備えている。
【００１８】
模様形成層１２は、図１乃至図４よりわかるように、平面視において区画された所定の領域が厚さ方向に突出して凸となる凸領域１３を有しており、この凸領域１３が複数配列されている。当該凸領域１３以外の凹となる部位を凹領域１４とする。
【００１９】
本形態で凸領域１３は、平面視において四角形で区画された領域が厚さ方向に突出して凸となった凸領域である。そして、この凸領域１３が複数所定の間隔でｘｙ面内に配列されている。
凸領域の平面視形状は本形態のような長方形である他、正方形、平行四辺形、菱型、台形等の四角形とすることができる。また、凸領域は四角形である他、三角形、円形、その他の多角形、上記が複合した幾何学形状としてもよい。
【００２０】
その他、凸領域が具備する形状は特に限定されることはないが、例えば次のような範囲で凸領域を構成することができる。
図４にＴ１で示した凸領域の厚さ（ｚ方向大きさ）は２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲とすることができる。また、その中でも、図４にＴ２で示した化粧材１０の厚さに占めるＴ１の割合は３０％以上６０％以下の範囲とすることができる。
また、図２にＷ１で示した凸領域の幅方向（ｙ方向）の大きさ、及び、Ｌ１で示した長さ（ｘ方向の大きさ）は１ｍｍ以上５ｍｍ以下の範囲とすることができる。また、隣り合う凸領域とのピッチはｘ方向、ｙ方向とも隣り合う凸領域間に間隙ができることを条件として１ｍｍ以上５ｍｍ以下とすることができる。
【００２１】
化粧材の平面視（図１の視点）で化粧材全体の面積に対する凸領域が占める面積の割合は、２５％以上７５％以下としてもよい。この範囲とすることで、凸領域の存在をより顕著に感じさせることができる。
【００２２】
また、凸領域１３の頂部には、微小な複数の凸条１３ａが配列されている。本形態の凸条１３ａは、ｘ方向に延び、当該延びる方向に直交する方向の断面が四角形である。このような凸条１３ａが複数ｙ方向に所定の間隔を有して配列されている。
このような微小な複数の凸条１３ａは回折格子として機能するように形状を構成してもよい。これによれば、さらにこれまでとは異なる外観を提供することができる。
【００２３】
凸条１３ａの長手方向に直交する方向の断面形状は特に限定されることはなく、上記のような四角形の他、半円形、半楕円形、三角形、その他多角形等の形を取り得る。
凸条の断面形状はその長手方向で一定であってもよいし、変化してもよい。また、隣り合う凸条で断面形状が同じであっても良いし、異なっていてもよい。その中でも、凸条の長手方向及び隣り合う凸条で断面形状を同じとすることで、その規則性によってさらに特有の意匠的な効果を奏することが期待できる。
【００２４】
また、凸条は一直線状に延びる形状である他、円弧状、曲線状、波型、折れ線状等に延びる形態としてもよい。
【００２５】
その他、凸条が具備する形状は特に限定されることはないが、例えば次のような範囲で凸条を構成することができる。
図４にＴ３で示した凸条の厚さ（ｚ方向大きさ）は５μｍ以上５０μｍ以下の範囲とすることができる。この範囲とすることで、個々の凸条が明確に視認されてしまうことを抑制することができる。
図４にＷ２で示した凸条の幅方向（ｙ方向、複数の凸条が配列される方向）の大きさは５０μｍ以上１５０μｍ以下の範囲とすることができる。また、隣り合う凸条のピッチは凸条間に間隙ができることを条件として５０μｍ以上５００μｍｍ以下とすることができる。この範囲とすることで、個々の凸条が明確に視認されてしまうことを抑制することができる。
【００２６】
また、本形態で凸領域１３は、その頂部において最も高い位置（ｚ座標が大きい位置）のｚ座標が、ｘｙ面内方向位置において概ね一定値である。すなわち、凸条１３ａの頂部を結んだ包絡面のｚ座標はいずれの部位でも概ね一定であり、当該包絡面はいわゆる平坦面となるように構成されている。
【００２７】
模様形成層１２のうち凸領域１３が配置されていない部位は、その面が凸領域１３の頂部に対してｚ方向に低い位置（ｚ座標が小さい位置）にあり、これを凹領域１４とする。従って、凹領域１４の平面視形状やその範囲は凸領域１３の形態によって決まる。
【００２８】
そして、本形態では、凹領域１４の表面にも回折格子として機能する複数の凸条１４ａが配列されている。本形態において凸条１４ａは、ｘ方向に延び、当該延びる方向に直交する方向の断面が四角形である。このような凸条１４ａが複数ｙ方向に所定の間隔を有して配列されている。
従って本形態では、凸領域１３の凸条１３ａと凹領域１４の凸条１４ａとは同じ方向に延び、概ね平行とされている。
一方で、凸条１３ａと凸条１４ａとはその幅（ｙ方向大きさ）及び、配列ピッチも異なるものとされている。
このように、凸条１３ａと凸条１４ａとは、延びる方向を同じとして平行に形成し、その幅、高さ、断面形状、及び、配列ピッチの少なくとも１つが異なるように構成することができる。これにより、複数の凸領域が配列された表現において、これまでとは異なる特有の外観を有する化粧材となる。
凸条１４ａの形状は特に限定されることはないが、上記した凸条１３ａと同様に考えることができる。ただし、凸条１４ａと凸条１３ａとは同じであっても良いし、異なっていても良い。
【００２９】
また、本形態では、凸条１３ａ及び凸条１４ａが平行に延びている。このように両者を平行に延びるように構成することで、規則性が高まり、さらに特有の意匠的な効果を奏することも期待できる。
【００３０】
以上のような模様形成層を有する化粧材によれば、複数の凸領域が配列された表現において、これまでとは異なる特有の外観を有する化粧材を提供することができる。
【００３１】
次に化粧材１０を例に、化粧材の製造方法の例を説明する。ただし、化粧材を製造する方法がこれに限定されることはない。
以下に説明する製造方法には、濃淡画像を作製する工程、版下画像を作製する工程、版を作製する工程、模様形成層を形成する工程を含んでいる。
【００３２】
濃淡画像を作製する工程では、模様形成層１２に表現すべき平面視における模様を濃淡画像として作成する。例えば、本形態では、アドビシステムズ社製のグラフィックデザイン描画ソフトウエア「Illustrator」を用い、ＴＩＦＦ形式で８ｂｉｔの画像濃淡階調（２５６階調）で２５４０ｄｐｉの解像度の濃淡画像データを作成した。
【００３３】
版下画像を作製する工程では、得られた濃淡画像を、濃度から凹凸への変換プログラムによって、模様の階調画像に対応して二値画像としての凸領域や凸条のパターンを二次元仮想平面上に生成して配置し、デジタルデータとして版下画像を得る。
【００３４】
ここでは、凸領域及び凸条の生成条件に従い、二値画像として図１の如き模様形成層の平面視画像を生成する。このようにして生成された凹凸形状は、その線分部分が、化粧材における凸条に該当する。このようにして版下画像が得られる。
【００３５】
版を作製する工程では、版下画像に基づいて平面視形状の模様を表面に有するエンボス版（化粧材用成形型）の作製を行う。具体的には凹凸模様の製造工程は以下の手順（１）乃至（５）からなる。
【００３６】
（１）濃淡画像データ作成工程
アドビシステムズ社製のグラフィックデザイン描画ソフトウエア「Ｐｈｏｔｏｓｈｏｐ」を用い、ＴＩＦＦ形式で８ｂｉｔの画像濃淡階調（２５６階調）で２５４０ｄｐｉの解像度の濃淡画像データを作成した。この濃淡画像データを凹凸模様画像データともいう。図５に濃淡画像データの例を示した。この例では、小さい菱型の凸領域Ｐと大きい菱型の凸領域Ｑが図５に示したように所定の間隔で配置され、その間は凹領域Ｒとされ、各領域に同じ形状の凸条が具備されている。
【００３７】
（２）金属ロール準備工程
図６に示したようなエンボス版彫刻用の金属ロール２０を準備した。金属ロール２０は、軸方向両端部に回転駆動軸（ｓｈａｆｔ）２１を有する中空の鉄製の円筒の表面に銅層をメッキ形成したものである。砥石で金属ロール２０の表面を研磨して粗面化し、彫刻用レーザ光の鏡面反射による彫刻効率の低下を防止する処理をした。
【００３８】
（３）レーザ光彫刻工程
図６に模式的に示したように、レーザ光直接彫刻機を用い、工程（２）で用意した金属ロール２０の表面を工程（１）で作成した凹凸模様画像データに基づき彫刻する。これによりその表面に化粧材表面の凹凸模様と同一平面視形状で且つ逆凹凸（化粧材の凸条に対応する部分がエンボス版面上では凹条となる関係）の凹凸形状を形成した。
従ってエンボス版における凹凸模様が備えるべき形状は、上記した化粧材における凹凸模様の凹凸関係が反転した態様であり、同様に考えることができる。
【００３９】
金属ロール２０をその回転駆動軸２１を介して電動機で駆動し、回転駆動軸２１を中心軸として回転する。レーザーヘッド２２から出射される発振波長１０２４ｎｍ、レーザスポット径１０μｍ、出力３６０Ｗのファイバーレーザ光Ｐで金属ロール２０の表面を走査する。その際には工程（１）で作成した凹凸模様画像データの濃度値に応じてレーザ光をＯＮ−ＯＦＦ切換（照射又は非照射の切換）を行い、照射位置には１回のレーザ光照射による金属の蒸発で深さ１０μｍの凹部を形成する。本例ではかかるレーザ光による金属ロール表面に対する走査を例えば１０回繰り返す。また、蒸発した金属が粉体となって金属ロール２０の表面に残留又は付着することを防止するため、彫刻液吐出口２３から彫刻液Ｔを金属ロール２０の表面のレーザ光照射領域に吹き付けた状態でレーザ光照射を行った。
その際に、例えば、凹凸模様画像データ上で版深５０μｍに対応する画像濃度の位置座標においては、合計１０回の走査のうち、最初の５回分のみレーザ光を照射（ＯＮ）し、残り５回分についてはレーザ光は非照射（ＯＦＦ）となるよう制御して所望の深さを得る。
かかるレーザ光の走査を完了させ、金属ロール２０の表面に所望の凹凸形状を形成した。
【００４０】
（４）電界研磨工程
彫刻液を洗浄した後、電解研磨を行い、金属ロール２０の表面に付着した金属の残渣を除去した。
【００４１】
（５）クロムメッキ工程
工程（４）の後、金属ロール表面にメッキにより厚さ１０μｍのクロム層を形成した。
【００４２】
以上により模様形成層１２の表面に形成された凹凸模様の凹凸が反転した凹凸形状を表面に備える版（化粧材用成形型、本形態ではエンボス版）を得ることができる。
【００４３】
次に、模様形成層を形成する工程では、作製された版（エンボス版）を用いて、基材１１にエンボス加工を行えば化粧材１０が得られる。エンボス加工は、適宜な公知の方法によれば良く、特に制限はない。エンボス加工の代表的な方法は例えば次のようなものである。
基材としてポリオレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂からなる樹脂シートを用いる。この基材を加熱軟化させ、その表面にエンボス版を押圧して該樹脂シート表面にエンボス版表面の凹凸模様を賦形する。そして樹脂シートを冷却して固化させて樹脂シート上の凹凸模様を固定する。その後に凹凸模様が賦形された樹脂シートをエンボス版から離型する。
ここで、各種エンボス加工法について、さらに説明すると例えば次の（Ａ）乃至（Ｅ）のような方法がある。
【００４４】
（Ａ）基材となる樹脂シートを加熱軟化させ、エンボス版を押圧して、エンボス加工する。
（Ｂ）エンボス版を押圧する時の熱圧で表面シートとなる樹脂シート（基材）とベースシートとする樹脂シート（第２の基材）とを熱融着することにより、エンボス加工とラミネートとを同時に行うダブリングエンボス法によりエンボス加工する。
（Ｃ）表面シートとする樹脂シート（基材）を、Ｔダイから溶融押出しをし、冷却ローラを兼ねるシリンダ状のエンボス版上に接触させて表面シートの成膜と同時にエンボス加工する。このとき、さらに表面シートの裏面側に挿入したベースシートとする樹脂シート（第２の基材）を熱融着させてダブリングエンボスを成膜と同時に行う。
（Ｄ）特開昭５７−８７３１８号公報、特開平７−３２４７６号公報等に開示の如く、シリンダ状のエンボス版の表面に電離放射線硬化性樹脂の未硬化液状物を塗工する。さらにその上に、樹脂シート等からなるベースシートを重ねた状態で電離放射線を照射して未硬化液状物を硬化させて硬化物とする。その際、該硬化物をベースシートと接着させた後、エンボス版から離型して、ベースシートと該ベースシート上の硬化物とからなる基材とすることで、基材にエンボス加工する。
（Ｅ）チタン紙等の紙にメラミン樹脂等の熱硬化性樹脂の未硬化物を含浸した含浸紙を、コア紙、木材合板上等の裏打材上に載置して、これら載置した複数層を熱プレス成形することによって各層を積層一体化して熱硬化性樹脂化粧材を作製する。そのとき、含浸紙表面側にエンボス版を挿入することによって、熱硬化性樹脂を含浸硬化させて化粧材とする際にその表面に熱プレスと同時にエンボス加工する。
【００４５】
なお、（Ａ）乃至（Ｃ）のエンボス加工法で用いる基材の材料としては代表的には熱可塑性樹脂が使用され、（Ｄ）のエンボス加工法で用いる基材の材料としては代表的には電離放射線硬化性樹脂が使用され、（Ｅ）のエンボス加工法で用いる基材の材料としては代表的には熱硬化性樹脂が使用される。
【００４６】
以上のようにして化粧材１０を得ることができる。
【００４７】
以上説明した化粧材の用途は特に制限は無いが、例えば、壁、床、天井等の建築物の内装材、建築物の外壁、屋根、門扉、塀、柵等の外裝材、扉、窓枠、扉枠等の建具、廻り縁、幅木、手摺等の造作部材の表面材、テレビ受像機、冷蔵庫等の家電製品や複写機等の事務機器の筐体の表面材、箪笥等の家具の表面材、箱、樹脂瓶等の容器の表面材、車両等の内装材又は外装材、船舶の内装材又は外装材等である。
【符号の説明】
【００４８】
１０  化粧材
１１  基材
１２  模様形成層
１３  凸領域
１３ａ  凸条
１４  凹領域
１４ａ  凸条
【図１】
2020168768.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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