(57)【要約】【課題】光軸シフト素子を用いる場合であっても、表示される画像の品質の低下を抑制する。【解決手段】光源と、第１画素と第２画素を有する電気光学パネルと、第１画素からの第１出射光と第２画素からの第２出射光の光軸をシフトする光軸シフト素子と、画素駆動部と、を備え、画素駆動部は、第１出射光に基づく投射面上の光の位置が第１位置および第２位置に位置する場合に第１投射画素の階調に応じた信号を書き込み、当該光の位置が第３位置および第４位置に位置する場合に第２投射画素の階調に応じた信号を書き込む第１態様で、第１画素に書き込み、第２出射光に基づく投射面上の光の位置が第６位置および第７位置に位置する場合に第３投射画素の階調に応じた信号を書き込み、当該光の位置が第８位置および第５位置に位置する場合に第４投射画素の階調に応じた信号を書き込む第２態様で、第２画素に書き込む。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を照射する光源と、
前記光源からの光を入射して出射する第１画素と前記第１画素と隣り合う第２画素を有する電気光学パネルと、
前記第１画素からの第１出射光と前記第２画素からの第２出射光の光軸をシフトする光軸シフト素子と、
前記第１画素と前記第２画素に、階調に応じた信号を書き込む画素駆動部と、
を備え、
前記光軸シフト素子は、
前記第１出射光に基づく投射面上の光の位置を、第１位置、前記第１位置から第１方向に沿う第２位置、前記第２位置から前記第１方向と交差する第２方向に沿う第３位置、および、前記第３位置から前記第１方向とは反対の第３方向に沿っており且つ前記第１位置から前記第２方向に沿う第４位置にシフトし、
前記第２出射光に基づく前記投射面上の光の位置を、第５位置、前記第５位置から前記第１方向に沿う第６位置、前記第６位置から前記第２方向に沿う第７位置、および、前記第７位置から前記第３方向に沿っており且つ前記第１位置から前記第２方向に沿う第８位置にシフトし、
前記画素駆動部は、
前記第１出射光に基づく前記投射面上の光の位置が前記第１位置および前記第２位置に位置する場合に第１投射画素の階調に応じた信号を書き込み、当該光の位置が前記第３位置および前記第４位置に位置する場合に第２投射画素の階調に応じた信号を書き込む第１態様で、前記第１画素に書き込み、
前記第２出射光に基づく前記投射面上の光の位置が前記第６位置および前記第７位置に位置する場合に第３投射画素の階調に応じた信号を書き込み、当該光の位置が前記第８位置および前記第５位置に位置する場合に第４投射画素の階調に応じた信号を書き込む第２態様で、前記第２画素に書き込む、
電気光学装置。
【請求項２】
前記電気光学パネルは、前記第２画素と隣り合う第３画素と、前記第３画素と前記第１画素と隣り合う第４画素と、前記第４画素と隣り合う第５画素と、前記第５画素と前記第１画素と隣り合う第６画素とを備え、
前記画素駆動部は、
前記第１態様で、前記第３画素、前記第４画素、および、前記第６画素に書き込み、
前記第２態様で、前記第５画素に書き込む、
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記画素駆動部は、
前記投射面における一の投射画素の表示期間を２つに分割したフィールド期間のうち一方のフィールド期間において当該一の投射画素の階調に応じた正極性の信号を書き込み、他方のフィールド期間において当該一の投射画素の階調に応じた負極性の信号を書き込む、
請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
光を照射する光源と、
前記光源からの光を入射して出射する第１画素と前記第１画素と隣り合う第２画素を有する電気光学パネルと、
前記第１画素からの第１出射光と前記第２画素からの第２出射光の光軸をシフトする光軸シフト素子と、
前記第１画素と前記第２画素に、階調に応じた信号を書き込む画素駆動部と、
を備える電気光学装置の駆動方法であって、
前記光軸シフト素子は、
前記第１出射光に基づく投射面上の光の位置を、第１位置、前記第１位置から第１方向に沿う第２位置、前記第２位置から前記第１方向と交差する第２方向に沿う第３位置、および、前記第３位置から前記第１方向とは反対の第３方向に沿っており且つ前記第１位置から前記第２方向に沿う第４位置にシフトし、
前記第２出射光に基づく前記投射面上の光の位置を、第５位置、前記第５位置から前記第１方向に沿う第６位置、前記第６位置から前記第２方向に沿う第７位置、および、前記第７位置から前記第３方向に沿っており且つ前記第１位置から前記第２方向に沿う第８位置にシフトし、
前記画素駆動部は、
前記第１出射光に基づく前記投射面上の光の位置が前記第１位置および前記第２位置に位置する場合に第１投射画素の階調に応じた信号を書き込み、当該光の位置が前記第３位置および前記第４位置に位置する場合に第２投射画素の階調に応じた信号を書き込む第１態様で、前記第１画素に書き込み、
前記第２出射光に基づく前記投射面上の光の位置が前記第６位置および前記第７位置に位置する場合に第３投射画素の階調に応じた信号を書き込み、当該光の位置が前記第８位置および前記第５位置に位置する場合に第４投射画素の階調に応じた信号を書き込む第２態様で、前記第２画素に書き込む、
電気光学装置の駆動方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置および電気光学装置の駆動方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶パネルは、一対の電極間に液晶が挟持された液晶素子を複数有し、ひとつの液晶素子は、当該液晶素子に印加された電圧に応じた透過率、すなわち明るさとなる。そして、複数の液晶素子の各々に、目的とする画像の画素の階調レベルの応じた電圧を制御することによって、液晶素子の透過率が制御されて、当該画像が表示される。
なお、液晶素子は、反射型で用いられる場合もあるが、本説明では、説明の簡易化のために透過型として説明する。このため、液晶素子を通過する光の相対比率については、透過率として説明するが、反射型を用いる場合であれば、反射率に読み替えればよい。
【０００３】
一方、近年では、このような液晶パネルを用いて、スクリーンに大画面を投射する液晶プロジェクターが普及している。液晶プロジェクターは、光源からの光を例えば３原色の赤、緑、青に分解し、各色の光を液晶パネルの１つずつに割り当てて透過させ、各色の透過像を合成して、レンズ等の光学系によって拡大してスクリーン等の投射面に投射する構成となっている。
また、液晶プロジェクターでは、擬似的に解像度を高めるために、投射面に投射される投射画素の位置を、光軸シフト素子によってシフトさせる技術が知られている。例えば、特許文献１には、１フレーム期間が複数のフィールド期間に分割され、フィールド期間ごとに、スクリーン等に投射される投射画素の位置がシフトするように光軸シフト素子を制御して、液晶パネルが有する液晶素子の個数よりも多くの投射画素が投射されたかのようにみせる技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平４−０６３３３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、液晶素子に電圧が印加されても、当該液晶素子の透過率は、印加電圧に応じた値に直ちに変化せず、比較的に緩慢に変化する。このため、１つのフィールド期間の時間が短くなると、目的とする透過率に到達する前にフィールド期間の時間が満了し、光軸シフト素子によって投射画素の位置が次のフィールド期間の位置にシフトされる場合がある。この場合、目的とする透過率に到達できず、表示される画像の品質の低下を招くという問題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様に係る電気光学装置は、光を照射する光源と、前記光源からの光を入射して出射する第１画素と前記第１画素と隣り合う第２画素を有する電気光学パネルと、前記第１画素からの第１出射光と第２画素からの第２出射光の光軸をシフトする光軸シフト素子と、前記第１画素と第２画素に、階調に応じた信号を書き込む画素駆動部と、を備え、前記光軸シフト素子は、前記第１出射光に基づく投射面上の光の位置を、第１位置、前記第１位置から第１方向に沿う第２位置、前記第２位置から前記第１方向と交差する第２方向に沿う第３位置、および、前記第３位置から前記第１方向とは反対の第３方向に沿っており且つ前記第１位置から前記第２方向に沿う第４位置にシフトし、前記第２出射光に基づく前記投射面上の光の位置を、第５位置、前記第５位置から第１方向に沿う第６位置、前記第６位置から前記第２方向に沿う第７位置、および、前記第７位置から前記第３方向に沿っており且つ前記第１位置から前記第２方向に沿う第８位置にシフトし、前記画素駆動部は、前記第１出射光に基づく前記投射面上の光の位置が前記第１位置および前記第２位置に位置する場合に第１画素の階調に応じた信号を書き込み、当該光の位置が前記第３位置および前記第４位置に位置する場合に第２投射画素の階調に応じた信号を書き込む第１態様で、第１画素に書き込み、前記第２出射光に基づく前記投射面上の光の位置が前記第６位置および前記第７位置に位置する場合に第３投射画素の階調に応じた信号を書き込み、当該光の位置が前記第８位置および前記第５位置に位置する場合に第４投射画素の階調に応じた信号を書き込む第２態様で、第２画素に書き込む。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本実施形態に係る液晶プロジェクターの光学系の構成の一例を示す図である。
【図２】液晶プロジェクターの制御系の構成例を示すブロック図である。
【図３】画素の等価回路を示す図である。
【図４】６個の画素４０の位置関係を示す図である。
【図５】６個の画素４０によって表示される画素を示す図である。
【図６】光軸シフト素子による光軸シフトを説明するための図である。
【図７】光軸シフト素子による光軸シフトを説明するための図である。
【図８】第１書き込み態様による画素の表示例を示す図である。
【図９】第２書き込み態様による画素の表示例を示す図である。
【図１０】光軸シフトの動作と画素の書き込み動作との関係を示す図である。
【図１１】光軸シフトの動作と書き込み動作とを示すフローチャートを示す図である。
【図１２】光軸シフトの動作と書き込み動作とを示すフローチャートを示す図である。
【図１３】光軸シフトの動作と６個の画素の書き込み動作との関係を示す図である。
【図１４】投射面上の画素の表示を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。ただし、各図において、各部の寸法および縮尺は、実際のものと適宜に異ならせてある。また、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
【０００９】
まず、本実施形態に係る電気光学装置を説明する。
【００１０】
図１は、本実施形態に係る液晶プロジェクター１の光学系の構成の一例を示す図である。図１に示されるように、液晶プロジェクター１の光学系は、照明装置９０、分離光学系７０、３個の液晶パネル１０Ｒ、１０Ｇ、１０Ｂ、および、投射光学系６０を備える。照明装置９０は、例えばハロゲンランプを用いた白色光源であり、光を照射する。なお、液晶プロジェクター１は、電気光学装置の一例である。照明装置９０は、光源の一例である。
【００１１】
分離光学系７０は、３個のミラー７１、７２、７５、ダイクロイックミラー７３および７４を含む。分離光学系７０は、照明装置９０から出射された白色光を、赤色、緑色、青色の３原色に分離する。以下、赤色を「Ｒ」と称し、緑色を「Ｇ」と称し、青色を「Ｂ」と称する。具体的には、ダイクロイックミラー７４は、白色光のうち、Ｒの波長域の光を透過し、ＧおよびＢの波長域の光を反射する。ダイクロイックミラー７３は、ダイクロイックミラー７４によって反射するＧおよびＢの波長域の光のうち、Ｂの波長域の光を透過し、Ｇの波長域の光を反射する。
【００１２】
分離されたＲ、Ｇ、およびＢに対応する光は、それぞれ液晶パネル１０Ｒ、１０Ｇ、および１０Ｂに導かれる。液晶パネル１０Ｒ、１０Ｇ、および１０Ｂは、空間光変調器として用いられる。なお、以下では、液晶パネル１０Ｒ、１０Ｇ、および１０Ｂを区別しない場合には、液晶パネル１０と称することがある。
【００１３】
投射光学系６０は、ダイクロイックプリズム６１、投射レンズ系６２、および光軸シフト素子１００を含む。ダイクロイックプリズム６１には、液晶パネル１０Ｒ、１０Ｇ、１０Ｂによってそれぞれ変調される光が三方向から入射する。このダイクロイックプリズム６１においてＲ、Ｇ、およびＢの透過像が合成されて、フルカラーの画像が出射される。
【００１４】
ダイクロイックプリズム６１の出射側には、光軸シフト素子１００および投射レンズ系６２が配置されている。光軸シフト素子１００は、ダイクロイックプリズム６１からの出射方向の光軸をシフトさせ、投射レンズ系６２は、光軸シフト素子１００からの出射光をスクリーン等の投射面ＳＣに拡大投射させる。
【００１５】
図２は、液晶プロジェクター１の制御系の構成例を示すブロック図である。液晶プロジェクター１の制御系は、３つの液晶パネル１０Ｒ、１０Ｇ、１０Ｂ、制御部５０、光軸シフト素子駆動部１４、および光軸シフト素子１００を備える。液晶パネル１０Ｒ、１０Ｇ、および１０Ｂの１つについて着目すると、当該液晶パネル１０は、複数の画素４０が配列される表示部３０と、各画素４０を駆動する駆動回路２０と、を備える。なお、液晶パネル１０は、電気光学パネルの一例である。
【００１６】
図２に示されるように、液晶パネル１０の表示部３０には、V方向に延在するＭ本の走査線３２と、V方向に交差するVI方向に延在するＮ本のデータ線３４とが形成される。ここでＭおよびＮは、２以上の整数である。複数の画素４０は、表示部３０において、走査線３２とデータ線３４との交差点に対応して設けられる。このため、画素４０は、縦Ｍ行×横Ｎ列で配列する。
なお、以下の記載では、特定の画素４０を区別して説明するために、ｉ行目の走査線３２とｊ列目のデータ線３４との交差に対応する画素４０を[ｉ，ｊ]と表記することがある。ここで、ｉは、１≦ｉ≦Ｍを満たす整数であり、ｊは、１≦ｊ≦Ｎを満たす整数である。
【００１７】
駆動回路２０は、走査線駆動回路２２およびデータ線駆動回路２４を含み、各画素４０にデータ信号に応じた電圧を書き込む。具体的には、駆動回路２０のうち、走査線駆動回路２２は、タイミング信号生成部１２に従って、走査信号Ｙ[１]、Ｙ[２]、Ｙ[３]、…、Ｙ[Ｍ]を、順に１行目、２行目、３行目、…、Ｍ行目の走査線３２に供給する。詳細には、走査線駆動回路２２は、各フィールド期間にわたって１行目からＭ行目までの走査線３２を順次排他的に選択して、選択される走査線３２にアクティブレベルの走査信号を供給し、選択していない走査線３２にノンアクティブレベルの走査信号を供給する。このため、走査信号Ｙ[１]〜Ｙ[Ｍ]は、各フィールド期間にわたって順次排他的にアクティブレベルとなる。駆動回路２０は、選択スイッチＳｗをＮチャネル型の薄膜トランジスターとするので、アクティブレベルをＨレベル、ノンアクティブレベルをＬレベルと記載することがある。
データ線駆動回路２４は、走査線駆動回路２２による走査線３２の選択に同期して、第１列〜第Ｎ列のデータ線３４に、データ信号ＶＤ[１]〜ＶＤ[Ｎ]を供給する。
なお、駆動回路２０は、画素駆動部の一例である。
【００１８】
ここで、便宜的に画素４０について説明する。なお、Ｍ行Ｎ列で配列する画素４０は、電気的には互いに同一構成であるので、ｉ行ｊ列の画素４０[ｉ，ｊ]を例にとって説明する。
【００１９】
図３は、画素４０[ｉ，ｊ]の等価回路を示す図である。図３に示されるように、画素４０[ｉ，ｊ]は、液晶素子ＣＬ、選択スイッチＳｗ、および蓄積容量Ｃｏを含む。
このうち、選択スイッチＳｗは、例えばＮチャネル型の薄膜トランジスターであり、ゲートノードがｉ行目の走査線３２に接続され、ソースノードがｊ列目のデータ線３４に接続され、ドレインノードが画素電極４１および蓄積容量Ｃｏの一端にそれぞれ接続されている。このため、ｉ行目の走査線３２に供給される走査信号Ｙ[ｉ]がＨレベルになると、選択スイッチＳｗがオンするので、ｊ列目のデータ線３４に供給されたデータ信号ＶＤ[ｊ]が当該スイッチＳｗを介して画素電極４１に供給される。
【００２０】
液晶素子ＣＬは、画素電極４１および共通電極４２とで液晶４３が挟持された構成となっている。共通電極４２は、Ｍ行Ｎ列で配列する画素４０にわたって共通であり、電圧Ｖcomに保たれている。
このような液晶素子ＣＬにおいて、走査信号Ｙ[ｉ]がＨレベルになると、選択スイッチＳｗがオンとなって、データ信号ＶＤ[ｊ]の電圧が画素電極４１に印加される。画素電極４１に印加された電圧は、走査信号Ｙ[ｉ]がＬレベルになって選択スイッチＳｗがオフしても、液晶素子ＣＬおよび蓄積容量Ｃｏの容量性によって保持される。液晶素子ＣＬにおいて画素電極４１および共通電極４２とで挟持された液晶４３の分子配列は、画素電極４１および共通電極４２との間における電圧に応じた方向に配列する。このため、液晶素子ＣＬでは、図示省略された偏光子によって、例えば液晶素子ＣＬに印加される電圧実効値がゼロであれば、透過率が最小となる一方、電圧実効値が大きくなるにつれて、透過率が徐々に増加し、ついには透過率が最大となる。電圧実効値がゼロである場合に透過率が最小となる制御方法は、ノーマリーブラックモードと称される。
このように画素４０[ｉ，ｊ]では、走査信号Ｙ[ｉ]がＨレベルになったときのデータ信号ＶＤ[ｊ]の電圧が書き込まれて、当該電圧に応じた透過率となる。
なお、液晶素子ＣＬの容量を見掛け上増加させるために、液晶素子ＣＬと並列に蓄積容量Ｃｏが設けられている。すなわち、蓄積容量Ｃｏにおいて一端は画素電極４１に接続され、他端が共通電極４２に接続される。蓄積容量Ｃｏの他端は、一定の電圧であれば、電圧Ｖcom以外の電圧に保たれる構成でもよい。
【００２１】
説明を図２に戻す。制御部５０は、画像処理部１１とタイミング信号生成部１２とを含み、図示省略された上位回路から、同期信号と、当該同期信号に同期して供給される映像信号Ｖinとに基づいて、液晶パネル１０Ｒ、１０Ｇ、１０Ｂでの駆動回路２０による書込、および、当該書込に同期してデータ信号ＶＤの供給を制御するとともに、光軸シフト素子駆動部１４を介して光軸シフト素子１００の光軸シフトを制御する。
タイミング信号生成部１２は、同期信号に基づいて、制御信号ＣＬＴ、ＣＬＤを生成して、生成される制御信号ＣＬＴを駆動回路２０および画像処理部１１に供給し、生成される制御信号ＣＬＤを光軸シフト素子駆動部１４に供給する。
【００２２】
本実施形態では、１フレーム期間Ｆｒが４つのフィールド期間に分割される。そして、タイミング信号生成部１２は、各フィールド期間において、Ｍ行Ｎ列の画素４０の各々にデータ信号に応じた電圧がそれぞれ書き込まれるように駆動回路２０を制御する。一方、各フィールド期間における書込に合わせた光軸シフトがなされるように、制御信号ＣＬＤを生成する。
ここで、１フレーム期間Ｆｒとは、映像信号Ｖinで規定される１フレーム分の画像を液晶パネル１０で表示するのに要する期間をいう。本実施形態において、フレームの周波数は、６０Ｈｚとする。従って、フレームの周期は、約１６．７ｍ秒であり、フィールド期間の周波数は２４０Ｈｚであり、フィールド期間の周期は約４．２ｍ秒である。
【００２３】
また、タイミング信号生成部１２は、制御信号ＣＬＴに従って画像処理部１１に映像信号Ｖinを信号処理させて、各フィールド期間において、シフトさせる位置の投射画素に対応するデータ信号ＶＤを、駆動回路２０の書込に合わせて供給させる。
なお、図２では、簡略化されているが、実際には、映像信号Ｖinのうち、信号処理されたＲ成分のデータ信号が液晶パネル１０Ｒに供給される。同様に、信号処理されたＧ成分のデータ信号が液晶パネル１０Ｇに供給され、信号処理されたＢ成分のデータ信号が液晶パネル１０Ｂに供給される。
【００２４】
本実施形態では、図４に示されるように、VI方向に３個、V方向に２個の合計６個の画素４０を用いて、図５に示されるように、投射面ＳＣの水平方向に４個、垂直方向に３個の合計１２個の投射画素Ｐｘを表示する。
【００２５】
図４は、６個の画素４０の位置関係を示す図である。図４で示すように、液晶プロジェクター１は、画素４０[ｉ，ｊ]、画素４０[ｉ，ｊ＋１]、画素４０[ｉ＋１，ｊ＋１]、画素４０[ｉ＋１，ｊ]、画素４０[ｉ＋１，ｊ−１]、および、画素４０[ｉ，ｊ−１]という６個の画素４０を用いて、１２個の投射画素Ｐｘを表示する。
なお、画素４０[ｉ，ｊ]は、第１画素の一例である。画素４０[ｉ，ｊ＋１]は、第２画素の一例である。画素４０[ｉ＋１，ｊ＋１]は、第３画素の一例である。画素４０[ｉ＋１，ｊ]は、第４画素の一例である。画素４０[ｉ＋１，ｊ−１]は、第５画素の一例である。画素４０[ｉ，ｊ−１]は、第６画素の一例である。
【００２６】
この６つの画素４０の位置関係について、図４に示すように、画素４０[ｉ，ｊ＋１]は、画素４０［ｉ，ｊ］と隣り合う。より詳細には、画素４０[ｉ，ｊ＋１]は、画素４０[ｉ，ｊ]に対して＋V方向に位置する。同様に、画素４０[ｉ＋１，ｊ＋１]は、画素４０[ｉ，ｊ＋１]と隣り合う。より詳細には、画素４０[ｉ＋１，ｊ＋１]は、画素４０[ｉ，ｊ＋１]に対して＋VI方向に位置する。画素４０[ｉ＋１，ｊ]は、画素４０[ｉ＋１，ｊ＋１]と画素４０［ｉ，ｊ］と隣り合う。より詳細には、画素４０[ｉ＋１，ｊ]は、画素４０［ｉ，ｊ］に対して＋VI方向に位置し、かつ、画素４０[ｉ＋１，ｊ＋１]に対して−V方向に位置する。画素４０[ｉ＋１，ｊ−１]は、画素４０[ｉ＋１，ｊ]と隣り合う。より詳細には、画素４０[ｉ＋１，ｊ−１]は、画素４０[ｉ＋１，ｊ]に対して−V方向に位置する。画素４０[ｉ，ｊ−１]は、画素４０［ｉ＋１，ｊ−１］と画素４０［ｉ，ｊ］と隣り合う。より詳細には、画素４０[ｉ，ｊ−１]は、画素４０[ｉ＋１，ｊ−１]に対して−VI方向に位置し、かつ、画素４０［ｉ，ｊ］に対して−V方向に位置する。画素４０[ｉ，ｊ]は、画素４０[ｉ，ｊ−１]に対して＋V方向に位置する。
【００２７】
図５は、６個の画素４０によって表示される１２個の投射画素Ｐｘを示す図である。説明の便宜のために、投射面ＳＣにおける水平右側方向を＋Ｘ方向とし、垂直上側方向を＋Ｙ方向とする。同様に、水平左側方向を−Ｘ方向とし、垂直下側方向を−Ｙ方向とする。＋Ｘ方向および−Ｘ方向を総称してＸ方向とし、＋Ｙ方向および−Ｙ方向を総称してＹ方向とする。駆動回路２０の書き込みおよび光軸シフト素子１００による光軸シフトにより、投射面ＳＣ上に、Ｘ方向に４画素分、Ｙ方向に３画素分の１２個の投射画素Ｐｘが表示される。
【００２８】
より詳細には、駆動回路２０が画素４０[ｉ，ｊ]に書き込み、さらに光軸シフト素子１００が画素４０[ｉ，ｊ]からの出射光の光軸をシフトすることにより、投射面ＳＣに、位置Ｖｅ１に応じた投射画素Ｐｘと、位置Ｖｅ２に応じた投射画素Ｐｘとが表示される。同様に、駆動回路２０が画素４０[ｉ，ｊ＋１]に書き込み、さらに光軸シフト素子１００が画素４０［ｉ，ｊ＋１］からの出射光の光軸をシフトすることにより、投射面ＳＣに、位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘと、位置Ｈｏ２に応じた投射画素Ｐｘとが表示される。駆動回路２０が画素４０[ｉ＋１，ｊ＋１]に書き込み、さらに光軸シフト素子１００が画素４０［ｉ＋１，ｊ＋１］からの出射光の光軸をシフトすることにより、投射面ＳＣに、位置Ｖｅ３に応じた投射画素Ｐｘと、位置Ｖｅ４に応じた投射画素Ｐｘとが表示される。駆動回路２０が画素４０[ｉ＋１，ｊ]に書き込み、さらに光軸シフト素子１００が画素４０［ｉ＋１，ｊ］からの出射光の光軸をシフトすることにより、投射面ＳＣに、位置Ｖｅ５に応じた投射画素Ｐｘと、位置Ｖｅ６に応じた投射画素Ｐｘとが表示される。駆動回路２０が画素４０[ｉ＋１，ｊ−１]に書き込み、さらに光軸シフト素子１００が画素４０［ｉ＋１，ｊ−１］からの出射光の光軸をシフトすることにより、投射面ＳＣに、位置Ｈｏ３に応じた投射画素Ｐｘと、位置Ｈｏ４に応じた投射画素Ｐｘとが表示される。駆動回路２０が画素４０[ｉ，ｊ−１]に書き込み、さらに光軸シフト素子１００が画素４０［ｉ，ｊ−１］からの出射光の光軸をシフトすることにより、投射面ＳＣに、位置Ｖｅ７に応じた投射画素Ｐｘと、位置Ｖｅ８に応じた投射画素Ｐｘとが表示される。
【００２９】
６つの画素４０の位置関係を、光軸シフト素子１００による光軸シフトを用いて言い換えると、画素４０[ｉ，ｊ]からの出射光の光軸は、光軸シフト素子１００によって、画素４０[ｉ，ｊ＋１]からの出射光の光軸から−Ｘ方向に沿うようにシフトする。同様に、画素４０[ｉ＋１，ｊ＋１]からの出射光の光軸は、光軸シフト素子１００によって、画素４０[ｉ，ｊ＋１]からの出射光の光軸から−Ｙ方向に沿うようにシフトする。画素４０[ｉ＋１，ｊ]からの出射光の光軸は、光軸シフト素子１００によって、画素４０[ｉ＋１，ｊ＋１]からの出射光の光軸から−Ｘ方向に沿うようにシフトする。画素４０[ｉ＋１，ｊ−１]からの出射光の光軸は、光軸シフト素子１００によって、画素４０[ｉ＋１，ｊ]からの出射光の光軸から−Ｘ方向に沿うようにシフトする。画素４０[ｉ，ｊ−１]からの出射光の光軸は、光軸シフト素子１００によって、画素４０[ｉ＋１，ｊ−１]からの出射光の光軸から＋Ｙ方向に沿うようにシフトする。画素４０[ｉ，ｊ]からの出射光の光軸は、光軸シフト素子１００によって、画素４０[ｉ，ｊ−１]からの出射光の光軸から＋Ｘ方向に沿うようにシフトする。
なお、画素４０[ｉ，ｊ]からの出射光は、第１出射光の一例である。画素４０[ｉ，ｊ＋１]からの出射光は、第２出射光の一例である。画素４０[ｉ＋１，ｊ＋１]からの出射光は、第３出射光の一例である。画素４０[ｉ＋１，ｊ]からの出射光は、第４出射光の一例である。画素４０[ｉ＋１，ｊ−１]からの出射光は、第５出射光の一例である。画素４０[ｉ，ｊ−１]からの出射光は、第６出射光の一例である。
【００３０】
図５に示すように、画素４０[ｉ，ｊ]によって、位置Ｖｅ１に応じた投射画素Ｐｘと、位置Ｖｅ２に応じた投射画素Ｐｘという、Ｙ方向に沿った２個の投射画素Ｐｘが表示される。これに対し、画素４０[ｉ，ｊ＋１]によって、位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘと、位置Ｈｏ２に応じた投射画素Ｐｘという、Ｘ方向に沿った２個の投射画素Ｐｘが表示される。このように、画素４０に応じて異なる方向に沿った投射画素Ｐｘが表示される仕組みとして、駆動回路２０は、第１書き込み態様で画素４０[ｉ，ｊ]に書き込み、第２書き込み態様で画素４０[ｉ，ｊ＋１]に書き込む。同様に、駆動回路２０は、第１書き込み態様で、画素４０[ｉ＋１，ｊ＋１]、画素４０[ｉ＋１，ｊ]、および、画素４０[ｉ，ｊ−１]に書き込み、第２書き込み態様で、画素４０[ｉ＋１，ｊ−１]に書き込む。
なお、第１書き込み態様は、第１態様の一例である。第２書き込み態様は、第２態様の一例である。
第１書き込み態様および第２書き込み態様を説明するために、まずは、光軸シフト素子１００による光軸シフトを説明する。
【００３１】
図６および図７は、光軸シフト素子１００による光軸シフトを説明するための図である。ある画素４０からの出射光が投射面ＳＣに投射され、投射面ＳＣに表示された光の領域を、「単位領域」と称し、単位領域Ｒと表記する。図６および図７では、２個ずつの単位領域Ｒを示すが、これらの単位領域Ｒは、光軸シフト素子１００によって順次シフトされる位置を説明するためのものに過ぎず、１つの画素４０から、４つの位置に同時に分離されて投射されることを意味するのではない。また、単位領域Ｒの形状は、ここでは説明を簡略化するために、略正方形としている。
なお、単位領域Ｒの形状は、正方形に限らず、正方形および長方形を含む矩形でもよいし、平行四辺形、円形、または楕円形でもよい。
【００３２】
光軸シフト素子１００は、印加電圧に応じた複屈折によって、入射光の光軸に対する出射光の光軸を、Ｘ方向およびＹ方向にわたった二次元方向に任意の量でシフト可能な構成となっている。実際には、制御信号ＣＬＤに従った電圧を光軸シフト素子駆動部１４が光軸シフト素子１００に印加するので、タイミング信号生成部１２が、光軸シフト素子駆動部１４を介して、光軸シフト素子１００による光軸シフトを制御する構成となっている。
【００３３】
本実施形態では、ダイクロイックプリズム６１の出射面に設けられた光軸シフト素子１００は、画素４０[ｉ，ｊ]からの出射光による単位領域Ｒ１を、１フレーム期間Ｆｒを分割する４つのフィールド期間にわたって順番に、次の４位置にシフトさせる。
【００３４】
詳細には、光軸シフト素子１００によって光軸をシフトさせない場合において投射面ＳＣ上の単位領域Ｒ１の位置をＡと表記する場合、当該位置Ａを基準に＋Ｘ方向に、単位領域Ｒの１／２個分だけシフトさせた位置をＢと表記し、位置Ｂを基準に−Ｙ方向に、単位領域Ｒの１／２個分だけシフトさせた位置をＣと表記し、位置Ｃを基準に−Ｘ方向に、単位領域Ｒの１／２個分だけシフトさせた位置をＤと表記している。図６および図７に示す範囲ＳＲ１は、単位領域Ｒ１がシフトする範囲である。
なお、＋Ｘ方向は、第１方向の一例である。−Ｙ方向は、第２方向の一例である。−Ｘ方向は、＋Ｘ方向の反対の方向であり、第３方向の一例である。＋Ｙ方向は、−Ｙ方向の反対の方向であり、第４方向の一例である。位置Ａは、第１位置の一例である。位置Ｂは、第２位置の一例である。位置Ｃは、第３位置の一例である。位置Ｄは、第４位置の一例である。第２方向は、本実施形態では第１方向と直交するが、単に交差してもよい。
また、位置Ａ〜位置Ｄは、相対的な関係であればよいので、光軸をシフトさせない場合の位置Ａを基準にしないでもよい。
【００３５】
本実施形態では、連続する２つのフィールド期間における単位領域Ｒによって、１つの投射画素Ｐｘが表示される。駆動回路２０は図８に示されるような第１書き込み態様、または、図９に示されるような第２書き込み態様のいずれか一方で、画素４０に書き込む。
【００３６】
図８は、第１書き込み態様による投射画素Ｐｘの表示例を示す図である。第１書き込み態様は、単位領域Ｒ１が位置Ａおよび位置Ｂに位置する場合に、位置Ｖｅ１に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた信号を書き込み、単位領域Ｒ１が位置Ｃおよび位置Ｄに位置する場合に、位置Ｖ２に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた信号を書き込む態様である。位置Ｖｅ１に応じた投射画素Ｐｘは、位置Ａにおける単位領域Ｒ１と位置Ｂにおける単位領域Ｒ１とによって表示される。位置Ｖｅ２に応じた投射画素Ｐｘは、位置Ｃにおける単位領域Ｒ１と位置Ｄにおける単位領域Ｒ１とによって表示される。位置Ｖｅ２は、位置Ｖｅ１を基準に−Ｙ方向に、単位領域Ｒの１／２個分だけシフトさせた位置である。
なお、位置Ｖｅ１に応じた投射画素Ｐｘは、第１投射画素の一例である。位置Ｖｅ２に応じた投射画素Ｐｘは、第２投射画素の一例である。
【００３７】
図９は、第２書き込み態様による投射画素Ｐｘの表示例を示す図である。画素４０[ｉ，ｊ＋１]からの出射光による単位領域Ｒ２は、単位領域Ｒ１と同様に、フィールド期間Ｔａ、Ｔｂ、Ｔｃ、Ｔｄにわたって順番に、位置Ｅ、位置Ｆ、位置Ｇ、位置Ｈにシフトされる。図９に示す範囲ＳＲ２は、単位領域Ｒ２がシフトする範囲である。位置Ｅは、光軸シフト素子１００によって光軸をシフトさせない場合における投射面ＳＣ上の単位領域Ｒ２の位置である。位置Ｆは、位置Ｅを基準に＋Ｘ方向に、単位領域Ｒの１／２個分だけシフトさせた位置である。位置Ｇは、位置Ｆを基準に−Ｙ方向に、単位領域Ｒの１／２個分だけシフトさせた位置である。位置Ｈは、位置Ｇを基準に＋Ｙ方向に、単位領域Ｒの１／２個分だけシフトさせた位置である。
なお、位置Ｅは、第５位置の一例である。位置Ｆは、第６位置の一例である。位置Ｇは、第７位置の一例である。位置Ｈは、第８位置の一例である。
【００３８】
第２書き込み態様は、単位領域Ｒ２が位置Ｆおよび位置Ｇに位置する場合に、位置Ｈｏ２に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた信号を書き込み、単位領域Ｒ２が位置Ｅおよび位置Ｈに位置する場合に、位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた信号を書き込む態様である。位置Ｈｏ２に応じた投射画素Ｐｘは、位置Ｆにおける単位領域Ｒ２と位置Ｇにおける単位領域Ｒ２とによって表示される。位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘは、位置Ｈにおける単位領域Ｒ２と位置Ｅにおける単位領域Ｒ２とによって表示される。位置Ｈｏ２は、位置Ｈｏ１を基準に＋Ｘ方向に、単位領域Ｒの１／２個分だけシフトさせた位置である。
なお、位置Ｈｏ２に応じた投射画素Ｐｘは、第３投射画素の一例である。位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘは、第４投射画素の一例である。
位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘを表示する単位領域Ｒ２の組み合わせには、以下に示す２つの態様がある。第１の態様において、位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘは、位置Ｈｏ２に応じた投射画素Ｐｘのフレーム期間Ｆｒと同一のフレーム期間Ｆｒにおいて位置Ｅにおける単位領域Ｒ２と、前のフレーム期間Ｆｒの位置Ｈにおける単位領域Ｒ２との組み合わせにより表示される。第２の態様において、位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘは、位置Ｈｏ２に応じた投射画素Ｐｘのフレーム期間Ｆｒと同一のフレーム期間Ｆｒにおける位置Ｈにおける単位領域Ｒ２と次のフレーム期間Ｆｒの位置Ｅにおける単位領域Ｒ２との組み合わせにより表示される。以下の説明では、位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘを表示する単位領域Ｒ２の組み合わせは、第１の態様であるとする。
【００３９】
なお、図８における単位領域Ｒ１および図９における単位領域Ｒ２内の模様は、画素４０からの出射光に応じた明るさを示す。明るい箇所程、より白く表示してある。位置Ｖｅ１に応じた投射画素Ｐｘ内の模様は、投射画素Ｐｘの中心で白く表示されている。投射画素Ｐｘの中心で常に明るくなるとは限らず、光軸シフト素子１００の光軸シフトの動作と、駆動回路２０による画素４０への書き込み動作とのタイミングの相違によって、投射画素Ｐｘ内で最も明るくなる箇所が変わる。位置Ｖｅ２に応じた投射画素Ｐｘ、位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘ、および、位置Ｈｏ２に応じた投射画素Ｐｘについても同様である。
【００４０】
本実施形態において、いわゆる焼き付きを抑制するため、駆動回路２０は、連続する２フィールド期間のうち、一方のフィールド期間において投射画素Ｐｘの階調に応じた正極性の信号を画素４０に書き込み、他方のフィールド期間において投射画素Ｐｘの階調に応じた負極性の信号を画素４０に書き込む。正極性の信号とは、画素電極４１が共通電極４２よりも高電位となる信号であり、負極性の信号とは、画素電極４１が共通電極４２よりも低電位となる信号である。
【００４１】
次に、光軸シフト素子１００の光軸シフトの動作と、第１書き込み態様で書き込まれる画素４０[ｉ，ｊ]と、第２書き込み態様で書き込まれる画素４０[ｉ，ｊ＋１]との関係について説明する。
【００４２】
図１０は、光軸シフト素子１００の光軸シフトの動作と、駆動回路２０による画素４０への書き込み動作との関係を示す図である。１フレーム期間Ｆｒとは、上述のように、映像信号Ｖinで規定される１フレーム分の画像を液晶パネル１０で表示するのに要する期間である。本実施形態では、この１フレーム期間Ｆｒが４つのフィールド期間Ｔａ、Ｔｂ、Ｔｃ、Ｔｄに分割される。図１０では、フレーム期間Ｆｒ[ｋ−１]の一部、フレーム期間Ｆｒ[ｋ]、およびフレーム期間Ｆｒ[ｋ＋１]の一部における光軸シフト素子１００の動作と駆動回路２０の動作とを示す。ｋは、２以上の整数である。フレーム期間Ｆｒ[１]が、液晶プロジェクター１が駆動開始する時のフレーム期間である。
【００４３】
走査線駆動回路２２は、図１０に示す期間Ｔ１、期間Ｔ２、期間Ｔ３および期間Ｔ４において、１行目からＭ行目までの走査線３２を順次選択するとともに、画像処理部１１は、投射画素Ｐｘであって、選択された走査線３２に位置する１行分のデータ信号ＶＤをデータ線駆動回路２４に供給し、データ線駆動回路２４は、供給された１行分のデータ信号ＶＤを、対応する列のデータ線３４にそれぞれ供給する。本実施形態では、説明を容易にするため、１行目の走査線３２が選択されると同時に、光軸シフト素子１００による光軸シフトが開始するとする。
フレーム期間の開始時刻は、画素４０[ｉ，ｊ]において、位置Ｖｅ１に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた正極性の信号の書き込みのために、１行目の走査線３２が選択された時刻である。フィールド期間Ｔａの開始時刻は、フレーム期間Ｆの開始時刻と同一である。フィールド期間Ｔｂの開始時刻は、画素４０[ｉ，ｊ]において、位置Ｖｅ１に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた負極性の信号の書き込みのために、１行目の走査線３２が選択された時刻である。フィールド期間Ｔｃの開始時刻は、画素４０[ｉ，ｊ]において、位置Ｖｅ２に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた正極性の信号の書き込みのために、１行目の走査線３２が選択された時刻である。フィールド期間Ｔｄの開始時刻は、画素４０[ｉ，ｊ]において、位置Ｖｅ２に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた負極性の信号の書き込みのために、１行目の走査線３２が選択された時刻である。
期間Ｔ１は、フィールド期間Ｔａにおいて、１行目の走査線３２が選択された時刻からＭ行目の走査線３２の選択が終了するまでの期間である。期間Ｔ２は、フィールド期間Ｔｂにおいて、１行目の走査線３２が選択された時刻からＭ行目の走査線３２の選択が終了するまでの期間である期間Ｔ３は、フィールド期間Ｔｃにおいて、１行目の走査線３２が選択された時刻からＭ行目の走査線３２の選択が終了するまでの期間である。期間Ｔ４は、フィールド期間Ｔｄにおいて、１行目の走査線３２が選択された時刻からＭ行目の走査線３２の選択が終了するまでの期間である。
【００４４】
なお、図１０において選択される走査線は、走査線３２の行数である１行目からＭ行目までを縦軸にとり、時間経過を横軸にとったときに、走査信号Ｙ[１]〜Ｙ[Ｍ]によって選択される走査線の時間的推移を示す図である。
走査線の選択される期間を仮に走査線ごとの黒線で示すとき、走査線３２は１行ずつ順次排他的に選択されるので、選択される走査線は、時間経過とともに１行目からＭ行目まで移行する。このため、選択される走査線を示す黒線の集合体は、時間経過とともに、右下がりの連続点で示されることになる。これを図１０では、簡略的に表記するために、選択される走査線が、右下がりの実線で示されている。説明の簡略化のため、光軸シフト素子１００による光軸シフトにかかる時間が、期間Ｔ１、期間Ｔ２、期間Ｔ３および期間Ｔ４の１／２の時間であるとし、光軸シフト素子１００による光軸シフトは、期間Ｔ１、期間Ｔ２、期間Ｔ３および期間Ｔ４のそれぞれの開始時刻に開始し、ｉがＭ／２を超える最小の整数であるとする。従って、ｉ行目の走査線３２が選択される時刻が、光軸シフト素子１００による光軸シフトが終了する時刻と略一致する。
【００４５】
図１０に示すように、フレーム期間Ｆｒ[ｋ]のフィールド期間Ｔａ内のｉ番目の走査線３２が選択される期間において、駆動回路２０は、画素４０[ｉ，ｊ]に、位置Ｖｅ１に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた正極性の信号を書き込むとともに、画素４０[ｉ，ｊ＋１]に、位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた正極性の信号を書き込む。図１０に示す画素４０[ｉ，ｊ]の電圧の保持状態における文字列「Ｖｅ１＋」は、画素４０[ｉ，ｊ]が保持する、位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた正極性の信号の電圧を示す。同様に、図１０に示す画素４０[ｉ，ｊ＋１]または画素４０[ｉ，ｊ＋１]の電圧の保持状態における文字列のうち、先頭から１文字目、２文字目および３文字目が投射画素Ｐｘの位置を示し、４文字目が「＋」であれば正極性を示し、４文字目が「−」であれば負極性を示す。
なお、位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた正極性の信号に対応する負極性の信号について、フレーム期間Ｆｒ[ｋ−１]のフィールド期間Ｔｄ内のｉ番目の走査線３２が選択される期間において、駆動回路２０は、画素４０[ｉ，ｊ＋１]に、フレーム期間Ｆｒ[ｋ−１]における位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた負極性の信号を書き込む。
【００４６】
タイミング信号生成部１２は、光軸シフト素子駆動部１４を介して、光軸シフト素子１００による光軸シフトを制御する。詳細には、単位領域Ｒ１は、期間Ｔ１が開始するまでは位置Ｄに固定され、期間Ｔ１の開始から期間Ｔ１の１／２の期間が経過するまでの間に、位置Ｄから位置Ａまでシフトする。同様に、単位領域Ｒ２は、期間Ｔ１が開始するまでは位置Ｈに固定され、期間Ｔ１の開始から期間Ｔ１の１／２の期間が経過するまでの間に、位置Ｈから位置Ｅまでシフトする。位置Ｅは、位置Ａを基準に＋Ｘ方向に単位領域Ｒの１個分だけ離れた位置である。
【００４７】
フィールド期間Ｔｂ内のｉ番目の走査線３２が選択される期間において、駆動回路２０は、画素４０[ｉ，ｊ]に、位置Ｖｅ１に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた負極性の信号を書き込むとともに、画素４０[ｉ，ｊ＋１]に、位置Ｈｏ２に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた負極性の信号を書き込む。単位領域Ｒ１は、期間Ｔ２が開始するまでは位置Ａに固定され、期間Ｔ２の開始から期間Ｔ２の１／２の期間が経過するまでの間に、位置Ａから位置Ｂまでシフトする。単位領域Ｒ２は、期間Ｔ２が開始するまでは位置Ｅに固定され、期間Ｔ２の開始から期間Ｔ２の１／２の期間が経過するまでの間に、位置Ｅから位置Ｆまでシフトする。
【００４８】
フィールド期間Ｔｃ内のｉ番目の走査線３２が選択される期間において、駆動回路２０は、画素４０[ｉ，ｊ]に、位置Ｖｅ２に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた正極性の信号を書き込むとともに、画素４０[ｉ，ｊ＋１]に、位置Ｈｏ２に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた正極性の信号を書き込む。単位領域Ｒ１は、期間Ｔ３が開始するまでは位置Ｂに固定され、期間Ｔ３の開始から期間Ｔ３の１／２の期間が経過するまでの間に、位置Ｂから位置Ｃまでシフトする。単位領域Ｒ２は、期間Ｔ３が開始するまでは位置Ｆに固定され、期間Ｔ３の開始から期間Ｔ３の１／２の期間が経過するまでの間に、位置Ｆから位置Ｇまでシフトする。
【００４９】
フィールド期間Ｔｄ内のｉ番目の走査線３２が選択される期間において、駆動回路２０は、画素４０[ｉ，ｊ]に、位置Ｖｅ２に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた負極性の信号を書き込むとともに、画素４０[ｉ，ｊ＋１]に、フレーム期間Ｆｒ[ｋ＋１]における位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた負極性の信号を書き込む。単位領域Ｒ１は、期間Ｔ４が開始するまでは位置Ｃに固定され、期間Ｔ４の開始から期間Ｔ４の１／２の期間が経過するまでの間に、位置Ｃから位置Ｄまでシフトする。単位領域Ｒ２は、期間Ｔ４が開始するまでは位置Ｇに固定され、期間Ｔ４の開始から期間Ｔ４の１／２の期間が経過するまでの間に、位置Ｇから位置Ｈまでシフトする。
【００５０】
フレーム期間Ｆｒ[ｋ＋１]のフィールド期間Ｔａ内のｉ番目の走査線３２が選択される期間において、駆動回路２０は、画素４０[ｉ，ｊ]に、フレーム期間Ｆｒ[ｋ＋１]の位置Ｖｅ１に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた正極性の信号を書き込むとともに、フレーム期間Ｆｒ[ｋ＋１]の位置Ｈｏ１に応じた投射画素Ｐｘの階調に応じた正極性の信号を書き込む。単位領域Ｒ１は、フレーム期間Ｆｒ[ｋ＋１]の期間Ｔ１が開始するまでは位置Ｄに固定され、フレーム期間Ｆｒ[ｋ＋１]の期間Ｔ１の開始から期間Ｔ１の１／２の期間が経過するまでの間に、位置Ｄから位置Ａまでシフトする。単位領域Ｒ２は、フレーム期間Ｆｒ[ｋ＋１]の期間Ｔ１が開始するまでは位置Ｈに固定され、フレーム期間Ｆｒ[ｋ＋１]の期間Ｔ１の開始から期間Ｔ１の１／２の期間が経過するまでの間に、位置Ｈから位置Ｅまでシフトする。
【００５１】
図１０に示すように、駆動回路２０は、フィールド期間Ｔａおよびフィールド期間Ｔｃでは正極性の信号を画素４０に書き込み、フィールド期間Ｔｂおよびフィールド期間Ｔｄでは負極性の信号を画素４０に書き込む。すなわち、駆動回路２０は、フィールド期間ごとに極性を反転しており、１フレーム期間Ｆｒ内で極性のバランスが取れている。
また、図１０に示すように、各フィールド期間における書き込みの極性は、画素４０同士で同一であることが好ましい。各フィールド期間における書き込みの極性が画素４０同士で同一であることにより、制御が容易になり、駆動回路２０の回路構造を簡素化することが可能になる。
【００５２】
なお、このような光軸シフト素子１００の光軸シフトの動作と、駆動回路２０による画素４０への書き込み動作とは、次のようなフローチャートで表すことができる。
【００５３】
図１１および図１２は、光軸シフトの動作と書き込み動作とを示すフローチャートである。１フレーム期間Ｆｒの開始直前において、単位領域Ｒ１は位置Ｄにあり、単位領域Ｒ２は位置Ｈにある。
１フレーム期間Ｆｒの開始時点、すなわちフィールド期間Ｔａの開始時点となるステップＳ１において、タイミング信号生成部１２は、光軸シフト素子駆動部１４を介して、光軸シフト素子１００による光軸を＋Ｙ方向にシフトさせる動作を開始させる。なお、このシフト動作は、ステップＳ２において、単位領域Ｒ１が位置Ａに到達するまで継続される。フィールド期間Ｔａ内のｉ番目の走査線３２が選択される期間となるステップＳ３において、駆動回路２０は、画素４０[ｉ，ｊ]に、位置Ｖｅ１の投射画素Ｐｘに応じた正極性の信号を書き込むとともに、ステップＳ４において、画素４０[ｉ，ｊ＋１]に、位置Ｈｏ１の投射画素Ｐｘに応じた正極性の信号を書き込む。ステップＳ５において、期間Ｔ２が開始するまで待機することによって、期間Ｔ２が開始するまで、単位領域Ｒ１が位置Ａに固定され、単位領域Ｒ２が位置Ｅに固定される。
【００５４】
期間Ｔ２が開始すると、ステップＳ６において、タイミング信号生成部１２は、光軸シフト素子駆動部１４を介して、光軸シフト素子１００による光軸を＋Ｘ方向にシフトさせる動作を開始させる。なお、このシフト動作は、ステップＳ７において、単位領域Ｒ１が位置Ｂに到達するまで継続される。
【００５５】
次のフィールド期間Ｔｂ内のｉ番目の走査線３２が選択される期間となるステップＳ８において、駆動回路２０は、画素４０[ｉ，ｊ]に、位置Ｖｅ１の投射画素Ｐｘに応じた負極性の信号を書き込むとともに、ステップＳ９において、画素４０[ｉ，ｊ＋１]に、位置Ｈｏ２の投射画素Ｐｘに応じた負極性の信号を書き込む。ステップＳ１０において、期間Ｔ３が開始するまで待機することによって、期間Ｔ３が開始するまで、単位領域Ｒ１が位置Ｂに固定され、単位領域Ｒ２が位置Ｆに固定される。
【００５６】
期間Ｔ３が開始すると、ステップＳ１１において、タイミング信号生成部１２は、光軸シフト素子駆動部１４を介して、光軸シフト素子１００による光軸を−Ｙ方向にシフトさせる動作を開始させる。なお、このシフト動作は、ステップＳ１２において、単位領域Ｒ１が位置Ｃに到達するまで継続される。
【００５７】
次のフィールド期間Ｔｃ内のｉ番目の走査線３２が選択される期間となるステップＳ２１において、駆動回路２０は、画素４０[ｉ，ｊ]に、位置Ｖｅ２の投射画素Ｐｘに応じた正極性の信号を書き込むとともに、ステップＳ２２において、画素４０[ｉ，ｊ＋１]に、位置Ｈｏ２の投射画素Ｐｘに応じた正極性の信号を書き込む。ステップＳ２３において、期間Ｔ４が開始するまで待機することによって、期間Ｔ４が開始するまで、単位領域Ｒ１が位置Ｃに固定され、単位領域Ｒ２が位置Ｇに固定される。
【００５８】
期間Ｔ４が開始すると、ステップＳ２４において、タイミング信号生成部１２は、光軸シフト素子駆動部１４を介して、光軸シフト素子１００による光軸を−Ｘ方向にシフトさせる動作を開始させる。なお、このシフト動作は、ステップＳ２５において、単位領域Ｒ１が位置Ｄに到達するまで継続される。
【００５９】
次のフィールド期間Ｔｄ内のｉ番目の走査線３２が選択される期間となるステップＳ２６において、駆動回路２０は、画素４０[ｉ，ｊ]に、位置Ｖｅ２の投射画素Ｐｘに応じた負極性の信号を書き込むとともに、ステップＳ２７において、画素４０[ｉ，ｊ＋１]に、次のフレーム期間Ｆｒの位置Ｈｏ２の投射画素Ｐｘに応じた負極性の信号を書き込む。ステップＳ２８において、次のフレーム期間Ｆｒの期間Ｔ１が開始するまで待機することによって、次のフレーム期間Ｆｒの期間Ｔ１が開始するまで、単位領域Ｒ１が位置Ｄに固定され、単位領域Ｒ２が位置Ｈに固定される。
【００６０】
なお、単位領域Ｒ１が位置Ｄに到達する時点で、液晶プロジェクター１の動作終了指示がなされていないことを条件として、言い換えれば、ステップＳ２９の判別結果が「Ｎｏ」となることを条件として、次の１フレーム期間Ｆｒでも同様な動作を繰り返すために、処理手順がステップＳ１に戻る。
【００６１】
本実施形態によれば、連続する２フィールド期間で１つの投射画素Ｐｘを表示するため、１つのフィールド期間で１つの投射画素Ｐｘを表示する場合と比較して、液晶素子ＣＬの透過率が印加電圧に応じた値に変化するまでにかかる時間を十分に確保することができる。具体的には、本実施形態では、１フィールド期間の期間が約４．２ｍ秒であるため、８．４ｍ秒間を確保することができる。従って、液晶素子ＣＬは、目的とする透過率に到達しやすくなり、投射面ＳＣ上に表示される画像の品質の低下を抑制することが可能になる。
【００６２】
また、本実施形態は、図１０に示すように、駆動回路２０は、投射画素Ｐｘの表示期間を２つに分割したフィールド期間のうち一方のフィールド期間において投射画素Ｐｘの階調に応じた正極性の信号を書き込み、他方のフィールド期間において投射画素Ｐｘの階調に応じた負極性の信号を書き込む。本実施形態によれば、前述の焼き付きを抑制することが可能になる。
【００６３】
図１３は、光軸シフト素子１００の光軸シフトの動作と、駆動回路２０による６個の画素４０への書き込み動作との関係を示す図である。
ｉ行目の走査線３２の選択後に、ｉ＋１行目の走査線３２が選択されるため、図１３に示すように、駆動回路２０は、ｉ行目の走査線３２が選択される期間において画素４０[ｉ，ｊ−１]、画素４０[ｉ，ｊ]、および画素４０[ｉ，ｊ＋１]に書き込み、ｉ＋１行目の走査線３２が選択される期間において画素４０[ｉ＋１，ｊ−１]、画素４０[ｉ＋１，ｊ]、および画素４０[ｉ＋１，ｊ＋１]に書き込む。
【００６４】
図１４は、投射面ＳＣ上の投射画素Ｐｘの表示を示す図である。投射面ＳＣ内の破線は、単位領域Ｒの１／２個分の幅を示すために設けたものであり、実際には表示されない。
【００６５】
図１４に示すように、第１書き込み態様による投射画素Ｐｘの形状は、横長の矩形であるのに対し、第２書き込み態様による投射画素Ｐｘの形状は、縦長の矩形である。従って、例えば、映像信号Ｖinが示す画像が、Ｘ方向またはＹ方向に沿う線分を示す場合、投射面ＳＣ上で表示される線分は歪む。しかしながら、この歪みは、投射面ＳＣ上において、人間の目では太さの差を視認できないほど細かい違いとなるため、画像を表示する上で支障はない。
前述のように、投射面ＳＣ上に表示される画像の形状が歪むため、この形状は、映像信号Ｖinが示す画像の形状と必ずしも一致しない。しかしながら、投射面ＳＣ上に表示される画像には、映像信号Ｖinが有する情報全てが含まれており、失われる情報がない。
【００６６】
なお、本実施形態では、図１０の説明において、１行目の走査線３２が選択されると同時に、光軸シフト素子１００による光軸シフトが開始するが、これに限らない。例えば、Ｍ／２行目の走査線３２が選択されると同時に、または、Ｍ行目の走査線３２が選択されると同時に光軸シフト素子１００による光軸シフト素子による光軸シフトが開始してもよい。
【００６７】
以上、本実施形態によれば、縦方向に３個、横方向に４個の計１２個の投射画素Ｐｘを投射面ＳＣ上に表示することが可能になる。さらに、本実施形態では、駆動回路２０は、図５で示すように、第２書き込み態様で画素４０[ｉ，ｊ＋１]および画素４０[ｉ＋１，ｊ−１]に書き込む。第２書き込み態様で書き込む画素４０を、図５に示す６つの画素４０における対角の位置に配置することにより、第２書き込み態様で書き込む画素４０を対角でない位置に配置する場合と比較して、画像の視認性を向上することが可能になる。
また、擬似的な解像度を向上させる方法として、解像度が、表示させたい解像度の１／２となる液晶パネル１０を用いて、＋Ｘ方向の時計回りに４５度回転させた方向にシフトする方法が考えられる。しかしながら、この方法では、シフトする位置に応じた投射画素Ｐｘと、映像信号Ｖinの画素とが１対１対応しない、いわゆるドットバイドットにはならないため、複雑な信号処理が発生する。複雑な信号処理は、例えば、映像信号Ｖinに基づいて、シフトする位置に応じた投射画素Ｐｘの値を算出する処理である。一方、本実施形態によれば、ドットバイドットとなり、複雑な信号処理も不要となる。
【００６８】
なお、上述の各形態は、電気光学装置の駆動方法としても特定できる。
【符号の説明】
【００６９】
１…液晶プロジェクター、１０Ｂ…液晶パネル、１０Ｇ…液晶パネル、１０Ｒ…液晶パネル、１４…光軸シフト素子駆動部、２０…駆動回路、４０…画素、Ａ…位置、Ｂ…位置、Ｃ…位置、Ｄ…位置、Ｅ…位置、Ｆ…位置、Ｇ…位置、Ｈ…位置、Ｒ…単位領域、Ｐｘ…投射画素。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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