(57)【要約】【課題】ラビング処理を行った後の液晶用基板の洗浄工程において、基板の洗浄ムラを抑制する。【解決手段】基板２０に対して液晶分子を配向させるためのラビング処理を行った後に、前記基板２０を洗浄処理する洗浄工程を含む液晶用基板の製造方法であって、前記洗浄工程において、搬送方向に搬送され前処理材２１が被膜された前記基板２０に対して、水系洗浄材２４を供給する第１洗浄材供給装置２２の前記搬送方向における位置は、前記基板に被膜された前記前処理材２１の被膜量、及び前記基板２０の搬送速度に応じて調整される。【選択図】図１
2020013127.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して液晶分子を配向させるためのラビング処理を行った後に、前記基板を洗浄する洗浄工程を含む液晶用基板の製造方法であって、
前記洗浄工程において、搬送方向に搬送され前処理材が被膜された前記基板に対して、水系洗浄材を供給する第１洗浄材供給装置の前記搬送方向における位置は、前記基板に被膜された前記前処理材の被膜量、及び前記基板の搬送速度に応じて調整される液晶用基板の製造方法。
【請求項２】
前記第１洗浄材供給装置より前記搬送方向の上流側に配され、前記前処理材が被膜された前記基板に対して気体を噴射するスリット部を有するエアナイフが設けられており、
前記エアナイフから前記第１洗浄材供給装置までの前記搬送方向における距離が、前記基板に被膜された前記前処理材の被膜量、及び前記基板の搬送速度に応じて調整される請求項１記載の液晶用基板の製造方法。
【請求項３】
前記第１洗浄材供給装置は、前記水系洗浄材を前記基板に垂直に供給し、前記搬送方向と直交する方向に延在する滝シャワーであり、
前記滝シャワーの前記搬送方向における位置が、前記基板における前記前処理材の被膜量、及び前記基板の搬送速度に応じて調整される請求項１記載の液晶用基板の製造方法。
【請求項４】
前記第１洗浄材供給装置は、前記水系洗浄材を前記基板に垂直に供給する供給部を備え、前記搬送方向と直交する方向に延在する滝シャワーであり、
前記エアナイフの前記スリット部から前記滝シャワーの前記供給部までの前記搬送方向における距離が、前記基板に被膜された前記前処理材の被膜量、及び前記基板の搬送速度に応じて調整される請求項２記載の液晶用基板の製造方法。
【請求項５】
前記基板の搬送速度は１．５m/分から３．５m/分である請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の液晶用基板の製造方法。
【請求項６】
前記基板における前記前処理材の被膜量は、１７５mL/m2から３２５mL/m2 である請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の液晶用基板の製造方法。
【請求項７】
前記第１洗浄材供給装置より前記搬送方向の下流側に配される第２洗浄材供給装置によって、前記水系洗浄材が前記基板に再供給される請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の液晶用基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に対して液晶分子を配向させるためのラビング処理を行った後に、基板を洗浄処理する洗浄工程を含む液晶用基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置の主要構成部品である液晶パネルの製造においては、液晶用ガラス基板の表面にポリイミド等の高分子膜（配向膜）を塗布し、ラビング処理法や偏光紫外線照射処理法等によって配向膜に一定方向の異方性を持たせる配向処理が行われている。このうちラビング処理法では、回転するラビングローラーによって配向膜の表面を一定方向に擦ることにより微細な粉塵や削りカス等が生じるため、ラビング処理後に基板の表面に付着した異物を除去するべく、基板表面を純水洗浄する。
【０００３】
ラビング処理後の洗浄を行う液晶用基板の洗浄工程の従来例として、下記特許文献１に記載されたものが知られている。この特許文献１に記載された液晶用基板の洗浄工程は、洗浄前の前処理として、親水性を有するイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）により基板表面に被膜処理を行うことによって、その後の純水洗浄における基板表面の洗浄ムラを抑制できるとしている。具体的には、まず基板表面にＩＰＡ（前処理材）の被膜を形成し、次にＩＰＡを純水と置換させて、基板表面を純水で均一に覆うことにより、その後の純水洗浄における洗浄ムラを抑制できるというものである。洗浄ムラが抑制されるのは、純水がＩＰＡと置換されることにより、配向膜表面に水分が偏在して部分的な加水分解がおきることを防止できるからだと考えられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平９−３３９２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、ＩＰＡは沸点が低く揮発性が高いという事情がある。一方、液晶用基板は近年益々大型化しているため、ＩＰＡ被膜形成後の液晶用基板が次の置換槽に到着するまでに従来と比較して時間を要し、先に形成された搬送方向の先頭側のＩＰＡ被膜が局所的に消失し始めるという問題がある。このような被膜ムラはひいては洗浄ムラにつながり、結果として基板の異物不良発生率の増大を招いてしまう。
【０００６】
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、ラビング処理を行った後の液晶用基板の洗浄工程において、基板の洗浄ムラを抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
（１）本発明の一実施形態は、基板に対して液晶分子を配向させるためのラビング処理を行った後に、前記基板を洗浄する洗浄工程を含む液晶用基板の製造方法であって、前記洗浄工程において、搬送方向に搬送され前処理材が被膜された前記基板に対して、水系洗浄材を供給する第１洗浄材供給装置の搬送方向における位置は、前記基板に被膜された前記前処理材の被膜量、及び、前記基板の搬送速度に応じて調整される液晶用基板の製造方法である。
【０００８】
基板に被膜されたＩＰＡ（前処理材の一例）が、揮発して局所的に消失し被膜ムラが発生するまでの時間は、基板の表面に被膜されたＩＰＡ被膜量、及び搬送速度に依存する。このため、これらに応じて第１洗浄材供給装置の位置を調整することによって、被膜ムラが発生する前に、水系洗浄材を供給することができるようになる。こうすることで、ＩＰＡの被膜ムラを抑えて、基板表面を水系洗浄材で均一に覆うことができるようになるため、洗浄ムラを抑制できる。
【０００９】
（２）また、本発明のある実施形態は、上記（１）に加え、前記第１洗浄材供給装置より前記搬送方向の上流側に配され、前記前処理材が被膜された前記基板に対して気体を噴射するスリット部を有するエアナイフが設けられており、前記エアナイフから前記第１洗浄材供給装置までの搬送方向における距離が、前記基板に被膜された前記前処理材の被膜量、及び、前記基板の搬送速度に応じて調整される液晶用基板の製造方法である。
【００１０】
（３）また、本発明のある実施形態は、上記（１）に加え、前記第１洗浄材供給装置が、前記水系洗浄材を前記基板に垂直に供給し、前記搬送方向と直交する方向に延在する滝シャワーであり、前記滝シャワーの搬送方向における位置が、前記基板に被膜された前記前処理材の被膜量、及び前記基板の搬送速度に応じて調整される液晶用基板の製造方法である。
【００１１】
（４）また、本発明のある実施形態は、上記（２）に加え、前記第１洗浄材供給装置が、前記水系洗浄材を前記基板に垂直に供給する供給部を備え、前記搬送方向と直交する方向に延在する滝シャワーであり、前記エアナイフの前記スリット部から前記滝シャワーの前記供給部までの搬送方向における距離が、前記基板に被膜された前記前処理材の被膜量及び前記基板の搬送速度に応じて調整される液晶用基板の製造方法である。
【００１２】
（５）また、本発明のある実施形態は、上記（１）から（４）のいずれか一つに加え、前記基板の搬送速度が１．５m/分から３．５m/分である液晶用基板の製造方法である。
【００１３】
（６）また、本発明のある実施形態は、上記（１）から（５）のいずれか一つに加え、前記基板における前記前処理材の被膜量が、１７５mL/m2から３２５mL/m2 である液晶用基板の製造方法である。
【００１４】
（７）また、本発明のある実施形態は、上記（１）から（６）のいずれか一つに加え、前記第１洗浄材供給装置より前記搬送方向の下流側に配される第２洗浄材供給装置によって、前記水系洗浄材が前記基板に再供給される液晶用基板の製造方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、ラビング処理を行った後の液晶用基板の洗浄処理において、基板の洗浄ムラを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態１に係る液晶用基板の処理装置の側面図
【図２】被膜処理槽において基板にＩＰＡを被膜させる被膜処理を示す斜視図
【図３】置換槽において滝シャワーにより基板に純水を供給する処理を示す斜視図
【図４】図３の側面図
【図５】ＩＰＡ被膜量に対する被膜ムラが発生するまでの時間を示す表
【図６】図５の表データのグラフ
【図７】比較実験１の実験結果を示す表１
【発明を実施するための形態】
【００１７】
＜実施形態１＞
本発明の実施形態１を図１から図４を参照して説明する。本実施形態では、基板を洗浄処理する液晶用基板の処理装置１００を用いた洗浄工程について例示する。なお、以下の説明においては、図１のＸ軸方向を基板２０の搬送方向とし、紙面に直交するＹ軸方向を左右方向とし、Ｚ軸方向を上下方向とする。また、各図の左側を搬送方向の上流側とし、右側を搬送方向の下流側とする。
【００１８】
液晶用基板の処理装置１００は、液晶用基板の製造方法において、基板に対して液晶分子を配向させるためのラビング処理を行った後に、前記基板を洗浄処理する洗浄工程に用いられるものである。具体的には、基板表面に塗布された配向膜がラビング法により配向処理（ラビング処理）されて、表面に微細な粉塵や削りカス等の異物が付着した状態の基板２０の異物を洗浄処理する。
【００１９】
液晶用基板の処理装置１００は、図１に示すように、複数の処理槽を備える。液晶用基板の処理装置１００において、板状の基板２０は、配向処理面２０Ａ（ラビング処理された面）が上側に向けられた水平状態で搬送方向の上流側に搬入され、その長辺方向がＸ軸方向に沿うとともにその短辺方向がＹ軸方向に沿った姿勢で、次述する搬送装置１５によって搬送方向の上流側から下流側へと搬送される。
【００２０】
液晶用基板の処理装置１００は、具体的には図１に示すように４つの処理槽を備えており、これらの槽は上流側（左側）から順に、被膜処理槽１１、置換槽１２、洗浄槽１３、乾燥槽１４とされている。液晶用基板の処理装置１００は搬送装置１５を備えており、この搬送装置１５には、基板２０を図示しない駆動源により搬送方向（Ｘ軸方向）に沿って搬送する複数の搬送ローラ１６が設けられている。基板２０は、配向処理面２０Ａとは反対側の板面（下面）が搬送ローラ１６によって断続的に支持されながら、搬送装置１５により各槽内を搬送方向に沿って順に搬送されるとともに、各槽内において処理される。なお、本実施形態において基板２０のサイズはＧ４．５からＧ６サイズとされ、搬送速度は１．５m/分〜３．５m/分とされている。
【００２１】
被膜処理槽１１は、ラビング処理後であって水洗前の基板２０の表面、すなわち、配向処理面２０Ａに、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ２１）（前処理材の一例）の薄膜を被膜させるための槽である。ＩＰＡ２１は、後述する置換槽１２において基板表面を純水２４（水系洗浄材の一例）で隙間なく覆うための前処理として被膜される。被膜処理槽１１内の搬送方向における上流側にカーテンシャワー１７（第１前処理材供給装置の一例）が設けられると共に、下流側にパイプシャワー１８（第２前処理材供給装置の一例）が設けられており、これらの二種類のシャワーにより、配向処理面２０ＡにＩＰＡ２１が供給され、ＩＰＡ２１は、基板２０の搬送方向に沿って流れる。
【００２２】
カーテンシャワー１７は、ＩＰＡ貯留槽から延びる配管（図示せず）と連結されるとともに、図２に示すように、基板２０の配向処理面２０Ａ（ＸＹ平面）に沿いかつ搬送方向と直交する方向（Ｙ方向）に細長く延びており、その下端に、ＩＰＡ２１をカーテン状に吐出するための細長いスリットが設けられている。このスリットは、ＩＰＡ２１が基板２０の配向処理面２０Ａ（ＸＹ平面）に対して所定の傾斜角度θで搬送方向の下流側（図１の右側）に向けて、いわゆる液カーテン状に供給されるように設定されている。このカーテンシャワー１７から傾斜した状態で吐出されたＩＰＡ２１により、基板２０の配向処理面２０Ａは、全体にムラが極めて少ない均一に近い状態でＩＰＡ薄膜により被覆される。
【００２３】
パイプシャワー１８は金属製であって、図示しないＩＰＡ貯留槽から延びる配管と連結されており、基板２０の配向処理面２０Ａ（ＸＹ平面）に沿いかつ搬送方向と直交する方向（Ｙ方向）に細長く延びる筒状とされている。このパイプシャワー１８のうち基板２０と対向する面（下面）には、複数の吐出孔（図示せず）が等間隔で一列に並んで設けられており、基板２０に対して垂直にＩＰＡ２１が吐出される。本実施形態においては、パイプシャワー１８は等間隔で一列に並んでおり、複数の吐出孔１８Ａの孔径は、いずれも同一とされている。具体的には、各吐出孔１８Ａの孔径は０．５mmφ〜１．０mmφとされており、隣り合う吐出孔１８Ａとの間隔は１０mm〜１５mmとされている。また、各吐出孔から吐出される吐出流量の総計は５〜２０リットル/分とされている。パイプシャワー１８から吐出されたＩＰＡ２１により、被膜処理槽１１から搬出される直前の基板２０の配向処理面２０Ａには、ＩＰＡ被膜が幅方向に亘って形成される。パイプシャワー１８によりＩＰＡ２１を再供給することで、ＩＰＡ２１の部分的な乾燥が抑制しやすくなる。
【００２４】
このようにＩＰＡ２１が供給された基板２０は、被覆処理槽１１の出口付近に設けられたＳＵＳ製のエアナイフ１９に搬送される。エアナイフ１９は基板２０に所定の圧力で気体２５（例えばＣＤＡ（クリーンドライエア））を噴射して過剰なＩＰＡ２１を液切りして除去する。エアナイフ１９は、図１に示すように、基板２０の配向処理面２０Ａ（ＸＹ平面）に沿いかつ搬送方向と直交する方向（Ｙ方向）に直線状に延びている。エアナイフ１９には、基板２０と対向する面（下面）に、ギャップ０．０５〜０．１mmを確保したスリット部１９Ａが設けられており、そこから気体２５が一様に噴射される。また、噴射圧力は０．００１MPaから０．１５MPa、スリット部１９Ａから噴射される気体２５の総計は約１０００リットル／分とされている。
【００２５】
基板２０は、カーテンシャワー１７、パイプシャワー１８、及びエアナイフ１９により、上面全体が所定の被膜量のＩＰＡ２１で被覆された状態で被膜処理槽１１から置換槽１２に搬送される。被膜処理槽１１から搬出直後の基板２０のＩＰＡ２１の被膜量は、１７５mL/m2〜３２５mL/m2 の範囲となるように、カーテンシャワー１７、パイプシャワー１８、及びエアナイフ１９の各パラメーターが設定される。ここで、ＩＰＡ２１の被膜量（ＩＰＡ被膜量）は、基板２０の上面に被膜されたＩＰＡ２１の液量を、基板２０の上面面積で除算した値、すなわち単位表面積当たりに被膜されたＩＰＡ液量と定義する。ＩＰＡ被膜量が３２５mL/m2を超えると、ＩＰＡ２１の液量が多すぎてしまい、次の置換槽１２においてＩＰＡ２１を純水２４に十分置換できなくなってしまう。また、ＩＰＡ被膜量が１７５mL/m2未満の場合、ＩＰＡ２１の液量が少ないため、これに応じるようにエアナイフ１９と後述する滝シャワー２２との距離を短くすると、滝シャワー２２から供給される純水２４が上流側のエアナイフ１９に衝突してしまい、ＩＰＡ２１の被膜ムラの別の原因となる。
【００２６】
置換槽１２は、基板２０に被膜されたＩＰＡ２１を純水２４に置換させ、基板２０の表面（配向処理面２０Ａ）を純水２４で均一に覆うための槽である。図２及び図３に示すように、置換槽１２内の上流側には、ＩＰＡ２１が被膜された基板２０の表面（配向処理面２０Ａ）に、置換用の純水２４を供給するＳＵＳ製の滝シャワー２２（第１洗浄材供給装置の一例）が設けられている。また、滝シャワー２２の下流側には、同じく基板２０上に置換用の純水２４を放射状に噴射する複数のノズルからなる樹脂製のノズルシャワー２３（第２洗浄材供給装置の一例）が複数列並んで設けられている（本実施形態においては２列）。第２洗浄装置により純水２４を再供給することによって、純水２４が基板２０の表面全体により行き届きやすくなる。この二種類のシャワーにより、基板２０の表面に純水２４が供給され、基板２０に被膜されたＩＰＡ２１が純水２４に置換される。純水２４は基板２０の搬送方向に沿って流れる。
【００２７】
滝シャワー２２は、図３及び図４に示すように、基板２０の配向処理面２０Ａ（ＸＹ平面）に沿いかつ搬送方向と直交する方向（Ｙ方向）に直線状に延在する。滝シャワー２２には、基板２０と対向する面（下面）に、純水が通り抜ける直線状の隙間である供給部２２Ａが搬送方向と直交する方向に沿って設けられており、基板２０に対して垂直に滝状に純水２４が供給される。滝シャワー２２に設けられている供給部２２Ａは、搬送方向に沿って０．５〜５．０mmのギャップが確保されており、通り抜ける液量の総計は５〜１５リットル／分とされている。
【００２８】
ノズルシャワー２３は、図３及び図４に示すように、基板２０と対向する面（下面）に、複数（本実施形態においては１２個）の高圧吐出孔２３Ａ（図示せず）が等間隔に並んで設けられており、基板２０に対して高圧で放射状に純水２４が吐出される。複数の高圧吐出孔２３Ａの孔径はいずれも同一であり、具体的には、各高圧吐出孔２３Ａの孔径は、０．３mmとされており、隣り合う高圧吐出孔２３Ａとの間隔は６０ｍｍとされている。また、吐出圧力は４MPaから１５MPa、各高圧吐出孔２３Ａから吐出される吐出液量の総計は８〜１７リットル／分とされている。
【００２９】
ところで、基板２０に被膜されたＩＰＡ２１は、搬送される間に、基板２０の搬送方向における先端側から徐々に揮発して、第１洗浄材供給装置である滝シャワー２２により純水２４が供給される前に、基板２０の先端側において局所的に消失してしまうことがある。このため、本実施形態においては、第１洗浄材供給装置の搬送方向における位置（滝シャワー２２の搬送方向における位置）を、基板２０の表面に被膜されたＩＰＡ２１の被膜量に応じて調整する。ＩＰＡ２１の被膜量が少ないほど、ＩＰＡ２１が局所的に消失しやすく、被膜ムラが生じやすくなるため、ＩＰＡ２１の被膜量が少ない場合には、滝シャワー２２の位置をより上流側に配置することによって、ＩＰＡ２１が局所的に消失する前に純水２４を供給することができる。
【００３０】
また、滝シャワー２２の搬送方向における位置は、基板２０の搬送速度に応じて調整される。搬送速度が遅いほど、基板２０にＩＰＡ２１が被膜されてから純水２４が供給されるまでの時間が長くなるため、ＩＰＡ２１が揮発して局所的に消失し、被膜ムラが生じやすくなる。このため、基板２０の搬送速度が遅い場合には、滝シャワー２２の位置をより上流側とし、純水２４をより上流側で供給することによって、基板２０におけるＩＰＡ２１の局所的な消失を防ぐことができる。
【００３１】
具体的には、基板２０の平面サイズがＧ４．５（６８０mm×８８０mm）である場合、被膜処理槽１１から搬出直後の基板２０のＩＰＡ被膜量と、エアナイフ１９通過後ＩＰＡ２１の被膜ムラが発生するまでの時間は、図５及び図６で示す関係にあることが分かっている。ＩＰＡ被膜量が約２５０mL/m2である場合、被膜ムラが発生するまでの時間は約１４．３秒である。このため、エアナイフ１９のスリット部１９Ａから滝シャワー２２の供給部２２Ａまでの搬送時間が約１４．３秒未満となるように、搬送速度に応じて、搬送方向におけるエアナイフ１９のスリット部１９Ａから滝シャワー２２の供給部２２Ａまでの距離を調整する。例えば、搬送速度が２．５m/分の場合には、この距離が約５９５．８mm未満となるように滝シャワー２２の供給部２２Ａを配置し、搬送速度が２．０m/分の場合には、この距離が約４７６．６mm未満となるように滝シャワー２２の供給部２２Ａを配置する。
【００３２】
すなわち、既述したように、ＩＰＡ被膜量は１７５mL/m2〜３２５mL/m2 の範囲であることが好ましいため、この範囲においてＩＰＡ被膜量を調整し、そのＩＰＡ被膜量の値に応じて図５及び図６を参照して被膜ムラ発生時間を見積もる。そして、エアナイフ１９のスリット部１９Ａから滝シャワー２２の供給部２２Ａまでの搬送時間がその被膜ムラ発生時間未満となるように、搬送速度に応じて、搬送方向におけるエアナイフ１９のスリット部１９Ａから滝シャワー２２の供給部２２Ａまでの距離を調整する。なお、当該距離は、スリット部１９Ａの搬送方向（Ｘ軸方向）における中心から供給部２２の搬送方向（Ｘ軸方向）における中心までの距離と規定される。
【００３３】
置換槽１２において表面が純水置換された基板２０は、図１に示すように、搬送装置１５により洗浄槽１３内に搬送される。洗浄槽１３には、置換槽１２と同様の形態のノズルシャワー２３が、搬送方向と直交するように複数列並んで設けられている（本実施形態においては３列）。これらのノズルシャワー２３から噴射される純水２４により、基板２０は高圧洗浄され、配向処理面２０Ａの異物が除去される。
【００３４】
洗浄槽１３の出口付近には被膜処理槽１１と同様のエアナイフ１９が設けられている。エアナイフ１９により純水２４が液切りされた基板２０は、搬送装置１５により乾燥槽１４に搬送される。基板２０は、乾燥槽１４内において、エアナイフ１９の液切りのみでは除去しきれていない吸湿水分が完全に除去される。そして、高温乾燥後、液晶用基板の処理装置１００から搬出される。
【００３５】
本実施形態は以上のような構成であって、続いて、液晶用基板の処理装置１００を用いた洗浄工程の作用及び効果について説明する。上記した洗浄工程において、基板２０に最初に純水２４を供給する滝シャワー２２の位置は、基板２０に被膜された前処理材２１の被膜量、及び、前記基板２０の搬送速度に応じて調整される。これによって、基板２０に被膜されたＩＰＡ２１が揮発して、局所的に消失してしまう前に、滝シャワー２２により純水２４が供給されるようになる。ＩＰＡ２１が局所的に消失せず、被膜ムラが生じないため、結果として洗浄ムラを抑制できるものとなる。
【００３６】
＜比較実験１＞
上記のような作用及び効果を実証するため、比較実験１を行った。比較実験１では、下記の条件において、被膜処理槽１１内のエアナイフ１９のスリット部１９Ａから置換槽１２内の滝シャワー２２の供給部２２Ａまでの距離が異なる例を実施例１〜実施例４、及び比較例１〜比較例２とし、これらの実施例及び比較例について被膜ムラを評価した。実験結果を表１に示す。
【００３７】
＜条件＞
・基板の平面サイズ：６８０mm×８８０mm（Ｇ４．５）
・被膜処理槽内のエアナイフを通過し置換槽に搬送される基板におけるＩＰＡの被膜量：１５０mL
・基板の搬送速度：２．０m/分、又は２．５m/分
【００３８】
＜被膜ムラの評価＞
作成した液晶表示パネルを配向検査（バックライト上で直交する二枚偏光板の間にパネルを挟持し表示品位を確認する方法）で確認しムラが視認されなかったものを〇、ムラが視認されたものを×と評価した。
【００３９】
比較実験１の実験結果について説明する。比較例１、及び比較例２に係る基板は、表１に示すように被膜ムラの評価は×となった。エアナイフ１９から滝シャワー２２に搬送される間に、ＩＰＡが揮発して局所的に消失してしまったためと考えられる。一方、実施例１〜実施例４に係る基板は、エアナイフ１９から滝シャワー２２までの搬送時間が、既述した被膜ムラが発生するまでの時間約１４．３秒未満となるように、エアナイフ１９のスリット部１９Ａから滝シャワー２２の供給部２２Ａまでの距離が調整されており、いずれも被膜ムラの評価は〇となった。
【００４０】
また、実施例１及び実施例２と、実施例３及び実施例４とを比較すると、エアナイフ１９から滝シャワー２２までの距離は、基板の搬送速度が２．０m/分と遅い場合（実施例１及び実施例２）には、搬送速度が２．５m/分と速い場合（実施例３及び実施例４）に比して、短く調整されており、これによって被膜ムラが抑えられていることも確認された。
【００４１】
なお、本実施形態において、基板２０の搬送速度は１．５m/分〜３．５m/分とされている。基板２０の搬送速度が１．５m/分未満の場合、洗浄工程に要する時間が長すぎて生産性が低下してしまい、３．５m/分を超える場合、基板２０に対する洗浄力が低下してしまう。搬送速度を１．５m/分〜３．５m/分とすることで、洗浄力を維持しつつ、生産性よく洗浄処理できるものとなる。
【００４２】
＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
【００４３】
（１）上記実施形態では、前処理材としてＩＰＡ、水系洗浄材として純水を使用する例を示したが、前処理材および水系洗浄材はこれらに限定されず、他のものを使用してもよい。
【００４４】
（２）上記実施形態では、第１洗浄材供給装置として滝シャワー、第２洗浄材供給装置としてノズルシャワーを使用する例を示したが、第１洗浄材供給装置をカーテンシャワー、第２洗浄材供給装置を高圧スプレーシャワー等の他の種類の供給装置を使用することもできる。さらに、各設置数についても適宜変更可能である。
【００４５】
（３）上記実施形態では、第１前処理材供給装置としてカーテンシャワー、第２前処理材供給装置としてパイプシャワーを使用する例を示したが、これに限るものではなく、また、各設置数についても適宜変更可能である。
【００４６】
（４）上記実施形態では、パイプシャワー、及びノズルシャワーは、同一孔径の供給孔（吐出孔、高圧吐出孔）が等間隔に一列に並んで設けられている例を示したが、供給孔（吐出孔、高圧吐出孔）の間隔、孔径は一部又は全部が異なっていてもよく、また列数も適宜変更可能である。
【００４７】
（５）滝シャワー、カーテンシャワー、パイプシャワー、及びノズルシャワーは搬送方向と直交する方向に配されていなくてもよい。例えば幅方向における中心が搬送方向の下流側に配され、両端部が上流側に配されたＶ字形状としてもよい。
【００４８】
（６）上記実施形態では、基板処理装置が１つの洗浄槽を有する構成としたが、洗浄槽の数については限定されない。また、各洗浄槽における洗浄方法は、ノズルシャワーに限らず、超音波シャワーやバブルジェット、キャビテーションジェット、高圧スプレーシャワー、二流体等、異物除去効果に応じて自由に選択できる。
【００４９】
（７）上記実施形態では、４つの処理槽をそれぞれ別個の槽としたが、洗浄槽が複数設けられる場合には、複数の洗浄槽は１つの槽を区切ることにより形成されていてもよい。
【００５０】
（８）上記した実施形態では、搬送方向が基板の長辺方向である例を示したが、短辺方向でもよい。
【００５１】
（９）上記した実施形態では、基板２０のサイズはＧ４．５からＧ６サイズとされる例を示したが、他の大きさの基板にも本発明は適用可能である。
【符号の説明】
【００５２】
１３…洗浄槽、１９…エアナイフ、１９Ａ…スリット部、２０…基板、２１…ＩＰＡ（前処理材）、２２…滝シャワー（第１洗浄材供給装置）、２２Ａ…供給部、２３…ノズルシャワー（第２洗浄材供給装置）、２４…純水（水系洗浄材）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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