(57)【要約】【課題】部分的な膜厚のバラツキが小さく、フィルム表面の平坦性に優れた光学フィルムを提供する。【解決手段】式（Ａ）2020037675.tif 000030［式（Ａ）中、＊は結合手を示す］で表される構造を有するポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含み、該樹脂が式（Ｘ）Ａ／Ｂ×１００≧０．０３（％）    （Ｘ）［式（Ｘ）中、Ａは、該樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、式（Ａ）で表される構造中の窒素原子に結合する水素原子に由来するピーク面積を表し、Ｂは、該樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、化学シフト値が６．５〜１１．５ｐｐｍの範囲におけるピーク面積を表す］を満たす、光学フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ａ）
【化１】
2020037675.tif 000025
［式（Ａ）中、＊は結合手を示す］
で表される構造を有するポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含み、該樹脂が式（Ｘ）
Ａ／Ｂ×１００≧０．０３（％）    （Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ａは、該樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、式（Ａ）で表される構造中の窒素原子に結合する水素原子に由来するピーク面積を表し、Ｂは、該樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、化学シフト値が６．５〜１１．５ｐｐｍの範囲におけるピーク面積を表す］
を満たす、光学フィルム。
【請求項２】
式（Ａ）で表される構造を有するポリイミド系樹脂は、式（１）
【化２】
2020037675.tif 000026
［式（１）中、Ｙは４価の有機基であり、Ｘは２価の有機基である］
で表される構成単位を含み、
式（Ａ）で表される構造を有するポリアミド系樹脂は、式（２）
【化３】
2020037675.tif 000027
［式（２）中、Ｚ及びＸは、それぞれ独立に、２価の有機基である］
で表される構成単位を含む、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
式（Ａ）で表される構造の少なくとも一部は、式（Ｂ）
【化４】
2020037675.tif 000028
［式（B）中、＊は結合手を示す］
で表される構造である、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
式（Ａ）で表される構造を有するポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂の重量平均分子量は、２００，０００以上である、請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項５】
さらにシリカ粒子を含む、請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項６】
膜厚は２５〜１００μｍである、請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルムを備える、フレキシブル表示装置。
【請求項８】
さらに、タッチセンサを備える、請求項７に記載のフレキシブル表示装置。
【請求項９】
さらに、偏光板を備える、請求項７又は８に記載のフレキシブル表示装置。
【請求項１０】
式（Ａ）
【化５】
2020037675.tif 000029
［式（Ａ）中、＊は結合手を表す］
で表される構造を有するポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含む光学用樹脂であって、式（Ｘ）
Ａ／Ｂ×１００≧０．０３（％）    （Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ａは、該光学用樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、式（Ａ）で表される構造中の窒素原子に結合する水素原子に由来するピーク面積を表し、Ｂは、該光学用樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、化学シフト値が６．５〜１１．５ｐｐｍの範囲におけるピーク面積を表す］
を満たす、光学用樹脂。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置の前面板等として用いられる光学フィルム、該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置、及び該光学フィルムを形成可能な光学用樹脂に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置は、携帯電話やスマートウォッチといった種々の用途に広く活用されている。このような画像表示装置の前面板としてガラスが用いられてきたが、ガラスは非常に剛直であり、割れやすいため、例えばフレキシブルディスプレイ等の前面板材料としての利用は難しい。ガラスに代わる材料の一つとして、ポリイミド系樹脂やポリアミド系樹脂があり、これらの樹脂を用いた光学フィルムが検討されている（例えば特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特表２０１５−５２１６８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような光学フィルムは、ポリイミド系樹脂やポリアミド系樹脂を溶媒に溶解させて調製したワニスを支持材に塗布後、乾燥等させて得られる。しかし、本発明者の検討によれば、光学フィルム製造工程においてワニスの一部がゲル化することがあり、その結果、得られる光学フィルムにおける部分的な膜厚のバラツキが生じやすくなり、フィルム表面の平坦性が損なわれる場合があることがわかった。
【０００５】
従って、本発明の目的は、部分的な膜厚のバラツキが小さく、フィルム表面の平坦性に優れた光学フィルム及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、部分的な膜厚のバラツキが小さく、フィルム表面の平坦性に優れた光学フィルムを形成可能な光学用樹脂を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、式（Ａ）で表される構造を有するポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含む光学フィルムにおいて、該樹脂が式（Ｘ）を満たせば、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明には、以下の態様が含まれる。
【０００７】
［１］式（Ａ）
【化１】
2020037675.tif 000002
［式（Ａ）中、＊は結合手を示す］
で表される構造を有するポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含み、該樹脂が式（Ｘ）
Ａ／Ｂ×１００≧０．０３（％）    （Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ａは、該樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、式（Ａ）で表される構造中の窒素原子に結合する水素原子に由来するピーク面積を表し、Ｂは、該樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、化学シフト値が６．５〜１１．５ｐｐｍの範囲におけるピーク面積を表す］
を満たす、光学フィルム。
［２］式（Ａ）で表される構造を有するポリイミド系樹脂は、式（１）
【化２】
2020037675.tif 000003
［式（１）中、Ｙは４価の有機基であり、Ｘは２価の有機基である］
で表される構成単位を含み、
式（Ａ）で表される構造を有するポリアミド系樹脂は、式（２）
【化３】
2020037675.tif 000004
［式（２）中、Ｚ及びＸは、それぞれ独立に、２価の有機基である］
で表される構成単位を含む、［１］に記載の光学フィルム。
［３］式（Ａ）で表される構造の少なくとも一部は、式（Ｂ）
【化４】
2020037675.tif 000005
［式（B）中、＊は結合手を示す］
で表される構造である、［１］又は［２］に記載の光学フィルム。
［４］式（Ａ）で表される構造を有するポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂の重量平均分子量は、２００，０００以上である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルム。
［５］さらにシリカ粒子を含む、［１］〜［４］のいずれかに記載の光学フィルム。
［６］膜厚は２５〜１００μｍである、［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルム。
［７］［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルムを備える、フレキシブル表示装置。
［８］さらに、タッチセンサを備える、［７］に記載のフレキシブル表示装置。
［９］さらに、偏光板を備える、［７］又は［８］に記載のフレキシブル表示装置。
［１０］式（Ａ）
【化５】
2020037675.tif 000006
［式（Ａ）中、＊は結合手を表す］
で表される構造を有するポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含む光学用樹脂であって、式（Ｘ）
Ａ／Ｂ×１００≧０．０３（％）    （Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ａは、該光学用樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、式（Ａ）で表される構造中の窒素原子に結合する水素原子に由来するピーク面積を表し、Ｂは、該光学用樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、化学シフト値が６．５〜１１．５ｐｐｍの範囲におけるピーク面積を表す］
を満たす、光学用樹脂。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光学フィルムは、部分的な膜厚のバラツキが小さく、フィルム表面の平坦性に優れる。また、本発明の光学用樹脂は、部分的な膜厚のバラツキが小さく、フィルム表面の平坦性に優れた光学フィルムを形成できる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
〔光学フィルム〕
本発明の光学フィルムは、式（Ａ）
【化６】
2020037675.tif 000007
［式（Ａ）中、＊は結合手を示す］
で表される構造を有するポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含む。
【００１０】
＜樹脂＞
前記ポリイミド系樹脂は、イミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体、並びにイミド基及びアミド基の両方を含む繰返し構造単位を含有する重合体（ポリアミドイミドと称する場合がある）からなる群から選択される少なくとも１種の重合体を示す。また、前記ポリアミド系樹脂は、アミド基を含む繰り返し構造単位を含有する重合体を示す。
ポリイミド系樹脂は、光学フィルムの表面平坦性及び光学特性を向上しやすい観点から、ポリアミドイミドであることが好ましい。なお、本明細書において、繰り返し構造単位を構成単位ということがある。式（１）で表される構成単位を構成単位（１）と表記することがある。式（Ａ）で表される構造を構造（Ａ）と表記する場合がある。括弧内の番号が変わった場合も同様である。
前記樹脂に含まれる構造（Ａ）（アセトアミド基（Ａ）ということがある）は、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂中のアミン末端がアセチル化されて形成されたアセトアミド基を示す。
【００１１】
本発明の光学フィルムにおいて、前記樹脂は、式（Ｘ）
Ａ／Ｂ×１００≧０．０３（％）    （Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ａは、該樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、式（Ａ）で表される構造中の窒素原子に結合する水素原子に由来するピーク面積を表し、Ｂは、該樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、化学シフト値が６．５〜１１．５ｐｐｍの範囲におけるピーク面積を表す］
を満たす。該樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、例えば、該樹脂の重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ−ｄ６と称する）溶液の１Ｈ−ＮＭＲを以下の条件で測定することにより得ることができ、例えば実施例に記載の方法により得ることができる。
測定溶液：樹脂のＤＭＳＯ−ｄ６溶液（樹脂濃度２質量％）
測定装置：ＮＭＲ装置
測定溶液温度：３０３Ｋ
測定手法：１Ｈ−ＮＭＲ
化学シフトリファレンス：ＤＭＳＯ（２．５０ｐｐｍ）
得られた１Ｈ−ＮＭＲスペクトルから面積値を得る際には、式（Ａ）で表される構造中の窒素原子に結合する水素原子に由来するピーク及び６．５〜１１．５ｐｐｍの範囲それぞれにつき、適当なベースライン補正を行うことが好ましい。
【００１２】
構造（Ａ）中の窒素原子に結合する水素原子に由来するピークは、構造（Ａ）を有する構成単位の化学構造により変化し得るが、二次元ＮＭＲ測定を行うことにより構造（Ａ）中の窒素原子に結合する水素原子であることを確認できる。例えば、該測定溶液のＨＭＢＣ測定を行うと、構造（Ａ）中の窒素原子に結合する水素原子の化学シフトと、構造（Ａ）中のメチル基の炭素原子の化学シフトとの間に、互いが３結合以内に存在することを示すＨＭＢＣシグナルが検出されることにより確認できる。構造（Ａ）中の窒素原子に結合する水素原子に由来するピークの化学シフト値は、例えば１０．１〜１０．７ｐｐｍ、好ましくは１０．２〜１０．６ｐｐｍ、より好ましくは１０．３〜１０．４ｐｐｍである。
【００１３】
式（Ｘ）のＡ／Ｂ×１００は、前記樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、化学シフト値が６．５〜１１．５ｐｐｍの範囲におけるピーク面積を基準として、構造（Ａ）中の窒素原子に結合する水素原子に由来するピーク面積を百分率で表したものであり、すなわち、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおける化学シフト値が６．５〜１１．５ｐｐｍに検出される水素原子の樹脂中の含有量を基準として、構造（Ａ）中の窒素原子に結合する水素原子の含有量を百分率で表したものということもできる。そのため、式（Ｘ）のＡ／Ｂ×１００の値は、例えば、樹脂中の構造（Ａ）の含有量を変化させることにより調整でき、構造（Ａ）の含有量を大きくすると、Ａ／Ｂ×１００の値は増加し、構造（Ａ）の含有量を小さくすると、Ａ／Ｂ×１００の値は減少する。また、構造（Ａ）の含有量を大きくするには、例えば樹脂中のアミン末端のアセチル化量を増加させればよい。
【００１４】
本発明では、前記樹脂が式（Ｘ）の関係を満たす、すなわち、Ａ／Ｂ×１００が０．０３％以上であって、該樹脂が構造（Ａ）を所定量以上有するため、フィルム製造工程において樹脂ワニスのゲル化を有効に抑制できる。そのため、本発明の光学フィルムは、部分的な膜厚のバラツキが小さく、フィルム表面の優れた平坦性を有することができる。このようなゲル化抑制効果は、樹脂中のアミン末端が所定量以上アセチル化されて、所定量以上のアセトアミド基（Ａ）を有しているからだと推定される。なお、本明細書において、平坦性は、フィルムの部分的な膜厚のバラツキで評価することができ、平坦性が向上するとは、フィルムの部分的な膜厚のバラツキがより小さくなることを意味する。フィルムの部分的な膜厚のバラツキは、例えば実施例のように膜厚分布を測定することにより評価できる。また、本明細書において、「光学特性」とは、例えば全光線透過率、黄色度及びヘーズを含む光学的に評価し得る特性を示す。
【００１５】
本発明の光学フィルムは、式（Ｘ）の関係を満たす樹脂を含むため、フィルム製造工程において樹脂ワニスのゲル化を有効に抑制できることから、高い全光線透過率、低い黄色度（ＹＩ値）及び低いヘーズ等の優れた光学特性を有することができる。
【００１６】
式（Ｘ）において、Ａ／Ｂ×１００は、好ましくは０．０４％以上、より好ましくは０．０５％以上である。Ａ／Ｂ×１００が上記の下限以上であると、光学フィルムの平坦性及び光学特性をより向上しやすい。また、Ａ／Ｂ×１００の上限は、特に限定されないが、例えば１．０％以下、好ましくは０．５％以下である。Ａ／Ｂ×１００が上記の上限以下であると、耐屈曲性などの機械物性が良好になりやすい傾向がある。
【００１７】
本発明の好適な実施態様において、樹脂ワニスのゲル化を抑制しやすく、光学フィルムの平坦性及び光学特性をより向上しやすい観点から、式（Ａ）で表される構造の少なくとも一部は、式（Ｂ）
【化７】
2020037675.tif 000008
［式（B）中、＊は結合手を示す］
で表される構造であることが好ましい。
【００１８】
前記樹脂中の構造（Ａ）の、好ましくは３０モル％以上、より好ましくは５０モル％以上、さらに好ましくは７０モル％以上、特に好ましくは９０モル％以上が構造（Ｂ）である。樹脂中の構造（Ａ）の上記の下限以上が、構造（Ｂ）であると、光学フィルムの平坦性及び光学特性をより向上しやすい。また、前記樹脂中の構造（Ａ）の、好ましくは１００モル％以下が構造（Ｂ）である。構造（Ｂ）の構造（Ａ）に対する比率は、例えば１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定でき、又は原料の仕込み比から算出できる。
【００１９】
以下に、本発明における構造（Ａ）を有するポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂（以下、樹脂（Ｐ）という場合がある）の具体的な実施態様を示す。しかし、本発明は以下の態様に限定されない。
【００２０】
本発明の好適な実施態様において、前記ポリイミド系樹脂は、式（１）で表される構成単位を含み、ポリアミドイミドは、式（１）で表される構成単位と式（２）で表される構成単位とを含む。また、ポリアミド系樹脂は、式（２）で表される構成単位を含む。
【化８】
2020037675.tif 000009
［式（１）及び式（２）中、Ｙ及びＺは、それぞれ独立に、４価の有機基であり、Ｘは、それぞれ独立に、２価の有機基である］
【００２１】
式（１）で表される繰り返し構造単位は、式（Ｘ）の関係を満たすように、樹脂の末端において式（１）のＸが構造（Ａ）と結合した式（１’）で表される構成単位を含み、式（２）で表される繰り返し構造単位は、式（Ｘ）の関係を満たすように、樹脂の末端において式（２）のＸが構造（Ａ）と結合した式（２’）で表される構成単位を含む。
【化９】
2020037675.tif 000010
［式（１’）及び式（２’）中、Ｙ及びＺは、それぞれ独立に、４価の有機基であり、Ｘは、それぞれ独立に、２価の有機基である］
【００２２】
ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂が、式（Ｘ）の関係を満たすように、構成単位（１’）及び／又は構成単位（２’）を含むことで、フィルム製造工程において樹脂ワニスのゲル化を有効に抑制でき、結果として、フィルム表面の平坦性に優れた光学フィルムを得ることができる。さらに、該光学フィルムは、高光線透過率、低黄色度及び低ヘーズ等の優れた光学特性を発現することもできる。
【００２３】
式（１）、式（１’）、式（２）及び式（２’）［以下、式（１）〜式（２’）と表記することがある］において、Ｘは、それぞれ独立に、２価の有機基を表し、好ましくは炭素数４〜４０の２価の有機基、より好ましくは環状構造を有する炭素数４〜４０の２価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは１〜８である。本発明の一実施態様であるポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂は、複数種のＸを含み得、複数種のＸは、互いに同一でよく、異なっていてもよい。Ｘとしては、式（１０）、式（１１）、式（１２）、式（１３）、式（１４）、式（１５）、式（１６）、式（１７）及び式（１８）で表される基；それらの式（１０）〜式（１８）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基；並びに炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。
【００２４】
【化１０】
2020037675.tif 000011
【００２５】
式（１０）〜式（１８）中、＊は結合手を表し、
Ｖ１、Ｖ２及びＶ３は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−又は−ＮＱ−を表す。ここで、Ｑはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。
１つの例は、Ｖ１及びＶ３が単結合、−Ｏ−又は−Ｓ−であり、かつ、Ｖ２が−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−又は−ＳＯ２−である。Ｖ１とＶ２との各環に対する結合位置、及び、Ｖ２とＶ３との各環に対する結合位置は、それぞれ、各環に対して好ましくはメタ位又はパラ位、より好ましくはパラ位である。
【００２６】
式（１０）〜式（１８）で表される基の中でも、光学フィルムの表面硬度及び耐屈曲性を向上しやすい観点から、式（１３）、式（１４）、式（１５）、式（１６）及び式（１７）で表される基が好ましく、式（１４）、式（１５）及び式（１６）で表される基がより好ましい。また、Ｖ１、Ｖ２及びＶ３は、光学フィルムの表面硬度及び柔軟性を向上しやすい観点から、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−又は−Ｓ−であることが好ましく、単結合又は−Ｏ−であることがより好ましい。
【００２７】
本発明の好適な実施態様において、式（１）〜式（２’）中の複数のＸの少なくとも一部は、式（４）：
【化１１】
2020037675.tif 000012
［式（４）中、Ｒ１０〜Ｒ１７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ１０〜Ｒ１７に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、＊は結合手を表す］
で表される基である。式（１）〜式（２’）中の複数のＸの少なくとも一部が式（４）で表される基であると、光学フィルムの表面硬度、平坦性及び光学特性等を向上しやすい。
【００２８】
式（４）において、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メチル−ブチル基、３−メチルブチル基、２−エチル−プロピル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。炭素数６〜１２のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。Ｒ１０〜Ｒ１７は、それぞれ独立に、好ましくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、ここで、Ｒ１０〜Ｒ１７に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Ｒ１０〜Ｒ１７は、それぞれ独立に、光学フィルムの平坦性、光学特性、表面硬度又は耐屈曲性を向上しやすい観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、特に好ましくはＲ１０、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、及びＲ１６が水素原子、Ｒ１１及びＲ１７が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、特にＲ１１及びＲ１７がメチル基又はトリフルオロメチル基であることが好ましい。
【００２９】
本発明の好適な実施態様においては、式（４）で表される基は式（４’）：
【化１２】
2020037675.tif 000013
で表される基であり、すなわち、複数のＸの少なくとも一部は、式（４’）で表される基である。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂が、構成単位（１’）及び／又は構成単位（２’）中の複数のＸの少なくとも一部に（４’）で表される基を有している場合、該ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂は、構造（Ｂ）を有することになる。この場合、フッ素元素を含有する骨格により樹脂の溶媒への溶解性が向上し、樹脂ワニスのゲル化を抑制しやすいため、光学フィルムの平坦性及び光学特性を向上しやすい。
【００３０】
本発明の好適な実施態様において、樹脂（Ｐ）のＸの、好ましくは３０モル％以上、より好ましくは５０モル％以上、さらに好ましくは７０モル％以上が式（４）、特に式（４’）で表される。該樹脂における上記範囲内のＸが式（４）、特に式（４’）で表されると、フッ素元素を含有する骨格により該樹脂の溶媒への溶解性が向上し、樹脂ワニスのゲル化を抑制しやすいため、光学フィルムの平坦性及び光学特性を向上しやすい。なお、好ましくは、樹脂（Ｐ）中のＸの１００モル％以下が式（４）、特に式（４’）で表される。樹脂（Ｐ）中のＸは式（４）、特に式（４’）であってもよい。樹脂（Ｐ）中のＸの式（４）で表される基の比率は、例えば１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
【００３１】
式（２）及び式（２’）において、Ｚは、それぞれ独立に、２価の有機基であり、好ましくは炭素数１〜８の炭化水素基又はフッ素置換された炭素数１〜８の炭化水素基で置換されていてもよい、炭素数４〜４０の有機基であり、より好ましくは炭素数１〜８の炭化水素基又はフッ素置換された炭素数１〜８の炭化水素基で置換されていてもよい、環状構造を有する炭素数４〜４０の２価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。Ｚの有機基として、後述する式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基の結合手のうち、隣接しない２つが水素原子に置き換わった基及び炭素数６以下の２価の鎖式炭化水素基が例示される。特に光学フィルムの黄色度を抑制（ＹＩ値を低減）しやすく、光学特性を向上しやすい観点から、式（２０）〜式（２７）で表される基が好ましい。
【００３２】
本発明の一実施態様において、構造（Ａ）を有するポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂は、複数種のＺを含み得、複数種のＺは、互いに同一であっても異なっていてもよい。特に、光学フィルムがより高い平坦性及び表面硬度に加えて、優れた光学特性を発現しやすい観点から、Ｚの少なくとも一部が、式（３）
【化１３】
2020037675.tif 000014
［式（３）中、Ｒ１〜Ｒ８はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ１〜Ｒ８に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Ａは、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−、−Ｓ−、−ＣＯ−又は−ＮＲ９−を表し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の炭化水素基を表し、ｍは０〜４の整数であり、＊は結合手を表す］
で表されることが好ましい。
【００３３】
式（３）において、Ａは、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−、−Ｓ−、−ＣＯ−又は−ＮＲ９−を表し、光学フィルムの耐屈曲性の観点から、好ましくは−Ｏ−又は−Ｓ−を表し、より好ましくは−Ｏ−を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基及び炭素数６〜１２のアリール基としては、式（４）における炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基として上記に例示のものが挙げられる。光学フィルムの表面硬度及び柔軟性の観点から、Ｒ１〜Ｒ８は、それぞれ独立に、好ましくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。ここで、Ｒ１〜Ｒ８に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。
【００３４】
式（３）において、ｍは、０〜４の範囲の整数であり、ｍがこの範囲内であると、光学フィルムの耐屈曲性や弾性率が良好である。また、式（３）において、ｍは、好ましくは０〜３の範囲の整数、より好ましくは０〜２、さらに好ましくは０又は１であり、ｍがこの範囲内であると、光学フィルムの耐屈曲性や弾性率が良好であると同時に、原料の入手性が比較的良好である。また、Ｚは、式（３）で表される基を１種又は２種類以上含んでいてもよく、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性の向上、並びに黄色度（ＹＩ値）低減の観点から、特にｍの値が異なる２種類以上の基、好ましくはｍの値の異なる２種類の基を含んでいてもよい。その場合、光学フィルムが高い弾性率や耐屈曲性、低い黄色度（ＹＩ値）を発現しやすい観点から、ｍが０と１の基を両方含むことが好ましい。
【００３５】
本発明の好適な実施態様においては、式（３）は式（３’）：
【化１４】
2020037675.tif 000015
で表される基であり、すなわち、複数のＺの少なくとも一部は式（３’）で表される基である。この場合、光学フィルムは、表面硬度及び耐屈曲性を向上しやすく、かつ黄色度を低減しやすい。
【００３６】
本発明の好適な実施態様において、樹脂（Ｐ）中の式（１）で表される構成単位及び式（２）で表される構成単位の合計に対して、式（３）で表される基は、好ましくは２０モル％以上、より好ましくは３０モル％以上、さらに好ましくは４０モル％以上、特に好ましくは５０モル％以上、最も好ましくは６０モル％以上であり、好ましくは９０モル％以下、より好ましくは８５モル％以下、さらに好ましくは８０モル％以下である。樹脂（Ｐ）中の式（１）で表される構成単位及び式（２）で表される構成単位の合計に対して、式（３）で表される基が上記の下限値以上であると、光学フィルムは、表面硬度、耐屈曲性及び弾性率等に優れることができる。樹脂（Ｐ）中の式（１）で表される構成単位及び式（２）で表される構成単位の合計に対して、式（３）で表される基が上記の上限値以下であると、式（３）由来のアミド結合間水素結合に起因するゲル化を抑制しやすく、光学フィルムの平坦性及び光学特性を高めやすい。
また、本発明の好適な実施態様において、樹脂（Ｐ）の式（１）で表される構成単位及び式（２）で表される構成単位の合計に対して、式（３）のｍが１〜４で表される基は、好ましくは３モル％以上、より好ましくは５モル％以上、さらに好ましくは７モル％以上、特に好ましくは９モル％以上であり、好ましくは９０モル％以下、より好ましくは７０モル％以下、さらに好ましくは５０モル％以下、特に好ましくは３０モル％以下である。樹脂（Ｐ）中の式（１）で表される構成単位及び式（２）で表される構成単位の合計に対して、式（３）のｍが１〜４で表される基が上記の下限値以上であると、光学フィルムの表面硬度及び耐屈曲性をより向上しやすい。樹脂（Ｐ）中の式（１）で表される構成単位及び式（２）で表される構成単位の合計に対して、式（３）のｍが１〜４で表される基が上記の上限値以下であると、式（３）由来のアミド結合間水素結合に起因するゲル化を抑制しやすく、光学フィルムの平坦性及び光学特性を高めやすい。なお、式（３）で表される基の含有量は、例えば１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
【００３７】
本発明の好適な実施態様において、樹脂（Ｐ）中のＺの、好ましくは３０モル％以上、より好ましくは５０モル％以上、さらに好ましくは５０モル％以上、特に好ましくは７０モル％以上が、式（３）で表される。樹脂（Ｐ）のＺの上記の下限値以上が、式（３）で表されると、光学フィルムの表面硬度及び耐屈曲性を向上しやすい。また、樹脂（Ｐ）中のＺの、好ましくは１００モル％以下が、式（３）で表されることが好ましい。樹脂（Ｐ）のＺの上記の上限以下が、式（３）で表されると、式（３）由来のアミド結合間水素結合に起因するゲル化を抑制しやすく、光学フィルムの平坦性及び光学特性を高めやすい。
本発明の好適な実施態様において、樹脂（Ｐ）中のＺの、好ましくは５モル％以上、より好ましくは８モル％以上、さらに好ましくは１０モル％以上、特に好ましくは１２モル％以上が、ｍが１〜４の場合の式（３）で表される。樹脂（Ｐ）のＺの上記の下限値以上が、ｍが１〜４の場合の式（３）で表されると、光学フィルムの表面硬度及び耐屈曲性を向上しやすい。また、樹脂（Ｐ）中のＺの、好ましくは９０モル％以下、より好ましくは７０モル％以下、さらに好ましくは５０モル％以下、特に好ましくは３０モル％以下が、ｍが１〜４の場合の式（３）で表されることが好ましい。樹脂（Ｐ）のＺの上記の上限以下が、ｍが１〜４の場合の式（３）で表されると、ｍが１〜４の場合の式（３）由来のアミド結合間水素結合に起因するゲル化を抑制しやすく、光学フィルムの平坦性及び光学特性を高めやすい。なお、樹脂（Ｐ）中の、ｍが１〜４の場合の式（３）で表される基の比率は、例えば１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
【００３８】
式（１）及び式（１’）において、Ｙは、それぞれ独立に、４価の有機基を表し、好ましくは炭素数４〜４０の４価の有機基を表し、より好ましくは環状構造を有する炭素数４〜４０の４価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは１〜８である。本発明の一実施態様である構造（Ａ）を有するポリイミド系樹脂は、複数種のＹを含み得、複数種のＹは、互いに同一でよく、異なっていてもよい。Ｙとしては、以下の式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基；それらの式（２０）〜式（２９）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基；並びに４価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。
【００３９】
【化１５】
2020037675.tif 000016
【００４０】
式（２０）〜式（２９）中、
＊は結合手を表し、
Ｗ１は、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ａｒ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−Ｏ−Ａｒ−Ｏ−、−Ａｒ−Ｏ−Ａｒ−、−Ａｒ−ＣＨ２−Ａｒ−、−Ａｒ−Ｃ（ＣＨ３）２−Ａｒ−又は−Ａｒ−ＳＯ２−Ａｒ−を表す。Ａｒは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。
【００４１】
式（２０）〜式（２９）で表される基の中でも、光学フィルムの表面硬度及び耐屈曲性の観点から、式（２６）、式（２８）又は式（２９）で表される基が好ましく、式（２６）で表される基がより好ましい。また、Ｗ１は、光学フィルムの表面硬度及び耐屈曲性、黄色度を抑制しやすい観点から、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−又は−Ｃ（ＣＦ３）２−であることが好ましく、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−又は−Ｃ（ＣＦ３）２−であることがより好ましく、単結合、−Ｃ（ＣＨ３）２−又は−Ｃ（ＣＦ３）２−であることがさらに好ましく、単結合又は−Ｃ（ＣＦ３）２−であることが特に好ましい。
【００４２】
本発明の好適な実施態様において、式（１）及び式（１’）中の複数のＹの少なくとも一部は、式（５）：
【化１６】
2020037675.tif 000017
［式（５）中、Ｒ１８〜Ｒ２５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ１８〜Ｒ２５に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、＊は結合手を表す］
で表される基である。式（１）及び式（１’）中の複数のＹの少なくとも一部が式（５）で表される基であると、光学フィルムは平坦性及び光学特性を向上しやすい。
【００４３】
式（５）において、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基及び炭素数６〜１２のアリール基としては、式（４）における炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基として上記に例示のものが挙げられる。Ｒ１８〜Ｒ２５は、それぞれ独立に、好ましくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、ここで、Ｒ１８〜Ｒ２５に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Ｒ１８〜Ｒ２５は、それぞれ独立に、光学フィルムの表面硬度、耐屈曲性、平坦性又は光学特性を向上しやすい観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、よりさらに好ましくはＲ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２３、Ｒ２４、及びＲ２５が水素原子、Ｒ２１及びＲ２２が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、特にＲ２１及びＲ２２がメチル基又はトリフルオロメチル基であることが好ましい。
【００４４】
本発明の好適な実施態様においては、式（５）で表される基は、式（５’）：
【化１７】
2020037675.tif 000018
で表される基であり、すなわち、複数のＹの少なくとも一部は、式（５’）で表される基である。この場合、光学フィルムは、より優れた平坦性及び光学特性を有することができる。
【００４５】
本発明の好適な実施態様において、構造（Ａ）を有するポリイミド系樹脂中のＹの、好ましくは５０モル％以上、より好ましくは６０モル％以上、さらに好ましくは７０モル％以上が式（５）、特に式（５’）で表される。該ポリイミド系樹脂における上記範囲内のＹが式（５）、特に式（５’）で表されると、光学フィルムは平坦性及び光学特性を向上しやすい。なお、好ましくは、該ポリイミド系樹脂中のＹの１００モル％以下が式（５）、特に式（５’）で表される。該ポリイミド系樹脂中のＹは式（５）、特に式（５’）であってもよい。該ポリイミド系樹脂中のＹの式（５）で表される基の比率は、例えば１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
【００４６】
構造（Ａ）を有するポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂は、式（１）及び式（２）で表される構成単位の他に、式（３０）で表される構成単位及び／又は式（３１）で表される構成単位を含むことができる。
【化１８】
2020037675.tif 000019
【００４７】
式（３０）で表される繰り返し構造単位は、式（Ｘ）の関係を満たすように、樹脂の末端において式（３０）のＸ１が構造（Ａ）と結合した式（３０’）で表される構成単位を含み、式（３１）で表される繰り返し構造単位は、式（Ｘ）の関係を満たすように、樹脂の末端において式（３１）のＸ２が構造（Ａ）と結合した式（３１’）で表される構成単位を含む。
【化１９】
2020037675.tif 000020
【００４８】
式（３０）及び式（３０’）において、Ｙ１は、それぞれ独立に、４価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｙ１としては、式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基、それらの式（２０）〜式（２９）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基、並びに４価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施態様である樹脂（Ｐ）は、複数種のＹ１を含み得、複数種のＹ１は、互いに同一でよく、異なっていてもよい。
【００４９】
式（３１）及び式（３１’）において、Ｙ２は３価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｙ２としては、上記の式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基の結合手のいずれか１つが水素原子に置き換わった基、及び３価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施態様である樹脂（Ｐ）は、複数種のＹ２を含み得、複数種のＹ２は、互いに同一でよく、異なっていてもよい。
【００５０】
式（３０）、式（３０’）、式（３１）及び式（３１’）において、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、２価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｘ１及びＸ２としては、上記の式（１０）、式（１１）、式（１２）、式（１３）、式（１４）、式（１５）、式（１６）、式（１７）、及び式（１８）で表される基；それら式（１０）〜式（１８）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基；並びに炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。
【００５１】
本発明の好適な実施態様において、構造（Ａ）を有するポリアミドイミドは、式（１）及び式（２）で表される構成単位、並びに場合により式（３０）及び／又は式（３１）で表される構成単位からなる。また、光学フィルムの表面硬度及び耐屈曲性の観点から、該ポリアミドイミドにおいて、式（１）及び式（２）で表される構成単位は、式（１）及び式（２）、並びに場合により式（３０）及び式（３１）で表される全構成単位に基づいて、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは９０モル％以上、さらに好ましくは９５モル％以上である。なお、該ポリアミドイミドにおいて、式（１）及び式（２）で表される構成単位は、式（１）及び式（２）、並びに場合により式（３０）及び式（３１）で表される全構成単位に基づいて、通常１００％以下である。なお、上記割合は、例えば、１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
【００５２】
構造（Ａ）を有するポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、標準ポリスチレン換算で、好ましくは２００，０００以上、より好ましくは３００，０００以上、さらに好ましくは３５０，０００以上、特に好ましくは４００，０００以上であり、好ましくは１，０００，０００以下、より好ましくは８００，０００以下、さらに好ましくは７００，０００以下、さらにより好ましくは５００，０００以下、とりわけ好ましくは４５０，０００以下である。該樹脂の重量平均分子量が上記の下限以上であると、光学フィルムの耐屈曲性を向上し得る。また、該樹脂の重量平均分子量が上記の上限以下であると、光学フィルムの製造工程で樹脂ワニスのゲル化を抑制しやすく、光学フィルムの平坦性を向上し得る。なお、本明細書において重量平均分子量は、例えばＧＰＣ測定を行い、標準ポリスチレン換算によって求めることができ、例えば実施例に記載の方法により算出してよい。
【００５３】
構造（Ａ）を有するポリアミドイミドにおいて、式（２）で表される構成単位の含有量は、式（１）で表される構成単位１モルに対して、好ましくは０．１モル以上、より好ましくは０．５モル以上、さらに好ましくは１．０モル以上、特に好ましくは１．５モル以上であり、好ましくは６．０モル以下、より好ましくは５．０モル以下、さらに好ましくは４．５モル以下である。式（２）で表される構成単位の含有量が上記の下限以上であると、表面硬度を向上しやすい。式（２）で表される構成単位の含有量が上記の上限以下であると、樹脂ワニスのゲル化を抑制しやすく、光学フィルムの平坦性及び光学特性を向上しやすい。
【００５４】
構造（Ａ）を有するポリアミドイミドのイミド化率は、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上、さらに好ましくは９８％以上である。光学フィルムの平坦性向上の観点から、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。また、イミド化率の上限は１００％以下である。なお、イミド化率は、ＩＲ法、ＮＭＲ法などにより求めることができる。
【００５５】
＜樹脂の製造方法＞
構造（Ａ）を有するポリアミドイミドは、例えば、後述するテトラカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料としてポリアミドイミドを製造後、ポリアミドイミドの末端アミンを、式（Ｘ）の関係を満たすように、所定量以上アセチル化することにより得ることができる。ポリイミドは、例えば、後述するテトラカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料としてポリイミドを製造後、ポリイミドの末端アミンを、式（Ｘ）の関係を満たすように、所定量以上アセチル化することにより得ることができる。ポリアミドは、例えば、後述するジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造後、ポリアミドの末端アミンを、式（Ｘ）の関係を満たすように、所定量以上アセチル化することにより得ることができる。ここで、ジカルボン酸化合物は少なくとも式（３”）で表される化合物を含むことが好ましい。
【化２０】
2020037675.tif 000021
［式（３”）中、Ｒ１〜Ｒ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ１〜Ｒ８に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Ａは、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−、−Ｓ−、−ＣＯ−又は−ＮＲ９−を表し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の炭化水素基を表し、
ｍは０〜４の整数であり、
Ｒ３１及びＲ３２は、それぞれ独立に、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基又は塩素原子である］
【００５６】
好適な実施態様においては、ジカルボン酸化合物は、Ａが酸素原子である、式（３”）で表される化合物である。また、別の好適な実施態様においては、ジカルボン酸化合物は、Ｒ３１、Ｒ３２が塩素原子である、式（３”）で表される化合物である。また、ジアミン化合物に代えて、ジイソシアネート化合物を用いてもよい。
【００５７】
ポリイミド系樹脂の合成に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物；及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。
【００５８】
芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡと記載することがある）、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡと記載することがある）、１，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、４，４’−（ｐ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物、４，４’−（ｍ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば１，２，４，５−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）、１，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、４，４’−（ｐ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物及び４，４’−（ｍ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物及び４，４’−（ｐ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。
【００５９】
脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル−３，３’，４，４’−テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、及び１，２，３，４−ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。
【００６０】
上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、光学フィルムの高表面硬度、高光学特性、高柔軟性及び高耐屈曲性等の観点から、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物が好ましく、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）及び４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物がより好ましく、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）及び４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）がさらに好ましい。
【００６１】
ポリイミド樹脂又はポリアミド系樹脂の合成に用いられるジカルボン酸化合物としては、好ましくは４，４’−オキシビス安息香酸及び／又はその酸クロリド化合物が用いられる。４，４’−オキシビス安息香酸又はその酸クロリド化合物に加えて、他のジカルボン酸化合物が用いられてもよい。他のジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、２種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、テレフタル酸；イソフタル酸；ナフタレンジカルボン酸；４，４’−ビフェニルジカルボン酸；３，３’−ビフェニルジカルボン酸；炭素数８以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物及び２つの安息香酸が単結合、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−若しくはフェニレン基で連結された化合物並びに、それらの酸クロリド化合物が挙げられる。これらの他のジカルボン酸化合物の中でも、テレフタル酸が好ましい。具体例としては、４，４’−オキシビス（ベンゾイルクロリド）、テレフタロイルクロリドが好ましく、４，４’−オキシビス（ベンゾイルクロリド）とテレフタロイルクロリドとを組合せて用いることがさらに好ましい。
【００６２】
なお、ポリイミド系樹脂は、光学フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記のポリイミド系樹脂合成に用いられるテトラカルボン酸化合物に加えて、テトラカルボン酸及びトリカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体を更に反応させたものであってもよい。
【００６３】
テトラカルボン酸としては、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。
【００６４】
トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、２種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、１，２，４−ベンゼントリカルボン酸の無水物；２，３，６−ナフタレントリカルボン酸−２，３−無水物；フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−若しくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。
【００６５】
ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の合成に用いられるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及びこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環である。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。
【００６６】
脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン、並びに１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン及び４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。
【００６７】
芳香族ジアミンとしては、例えばｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、２，４−トルエンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、１，５−ジアミノナフタレン、２，６−ジアミノナフタレン等の、芳香環を１つ有する芳香族ジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、ビス〔４−（３−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢと記載することがある）、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−クロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−フルオロフェニル）フルオレン等の、芳香環を２つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。
【００６８】
芳香族ジアミンとしては、好ましくは４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、ビス〔４−（３−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニルであり、より好ましくは４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニルである。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。
【００６９】
上記ジアミン化合物の中でも、光学フィルムの高表面硬度、高光学特性、高柔軟性及び高耐屈曲性等の観点から、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる１種以上を用いることが好ましい。２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル及び４，４’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる１種以上を用いることがより好ましく、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）を用いることがよりさらに好ましい。
【００７０】
本発明の一実施態様であるポリアミドイミドは、ジアミン化合物と、テトラカルボン酸化合物（酸クロリド化合物、テトラカルボン酸二無水物等のテトラカルボン酸化合物類縁体）及びジカルボン酸化合物（酸クロリド化合物等のジカルボン酸化合物類縁体）、並びに場合によりトリカルボン酸化合物（酸クロリド化合物、トリカルボン酸無水物等のトリカルボン酸化合物類縁体）との重縮合生成物である縮合型高分子である。式（１）及び式（３０）で表される構成単位は、通常、ジアミン及びテトラカルボン酸化合物から誘導される。式（２）で表される構成単位は、通常、ジアミン及びジカルボン酸化合物から誘導される。式（３１）で表される構成単位は、通常、ジアミン及びトリカルボン酸化合物から誘導される。
【００７１】
本発明の好ましい実施態様において、構造（Ａ）を有するポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂には、上記の通り、ハロゲン原子が含まれ得る。含フッ素置換基の具体例としては、フルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。構造（Ａ）を有するポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂がハロゲン原子を含むことにより、光学フィルムの平坦性及び光学特性を向上、特に黄色度（ＹＩ値）を低減させることができる場合があり、さらに高い柔軟性及び耐屈曲性を両立させることができる傾向がある。また、光学フィルムの平坦性及び光学特性の向上、特に黄色度の低減、吸水率の低減、及び耐屈曲性の観点から、ハロゲン原子は好ましくはフッ素原子である。
【００７２】
ポリイミド系樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、光学フィルムの平坦性及び光学特性の向上、特に黄色度の低減、吸水率の低減、及び耐屈曲性の観点から、ポリイミド系樹脂の質量に対して、好ましくは１〜４０質量％、より好ましくは３〜３５質量％、さらに好ましくは５〜３２質量％である。
【００７３】
ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の反応温度は、特に限定されないが、例えば５０〜３５０℃である。反応時間も特に限定されないが、例えば３０分〜１０時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。また、反応は、反応に不活性な溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒；及びそれらの組合せ（混合溶媒）などが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、アミド系溶媒を好適に使用できる。
【００７４】
ポリイミド系樹脂の製造におけるイミド化工程では、イミド化触媒の存在下で、イミド化することができる。イミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン；Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ−プロピルピペリジン、Ｎ−ブチルピロリジン、Ｎ−ブチルピペリジン、及びＮ−プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン（単環式）；アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン、アザビシクロ［３．２．１］オクタン、アザビシクロ［２．２．２］オクタン、及びアザビシクロ［３．２．２］ノナン等の脂環式アミン（多環式）；並びにピリジン、２−メチルピリジン（２−ピコリン）、３−メチルピリジン（３−ピコリン）、４−メチルピリジン（４−ピコリン）、２−エチルピリジン、３−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２，４−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、３，４−シクロペンテノピリジン、５，６，７，８−テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。
【００７５】
得られたポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の末端アミンを、式（Ｘ）の関係を満たすように、所定量以上アセチル化することにより、構造（Ａ）を有するポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂を製造できる。末端アミンをアセチル化するアセチル化工程では、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂を溶媒させた樹脂溶液に、例えば無水酢酸、塩化アセチル等のアセチル化剤を加えて反応させることにより、構造（Ａ）を有するポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂を得ることができる。アセチル化工程の反応温度は、特に限定されないが、例えば２０〜１００℃、好ましくは２５〜８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、例えば３０分〜１０時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。溶媒としては例えば、樹脂の製造に使用できる上記に例示の溶媒等が挙げられる。構造（Ａ）を有するポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂は、例えば、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂を含む反応液に多量のメタノール等を加え、該樹脂を析出させ、濾過、濃縮、乾燥等を行うことにより単離できる。
【００７６】
アセチル化剤の含有量は、設定されるＡ／Ｂ×１００の値に応じて適宜選択でき、例えば、合成に用いるアミン化合物１モルに対して、好ましくは１モル以上、より好ましくは３モル以上、さらに好ましくは７モル以上、さらにより好ましくは１０モル以上である。アセチル化剤の含有量が上記の下限以上であると、Ａ／Ｂ×１００の値が増加し得るため、樹脂のゲル化が抑制され、光学フィルムの平坦性及び光学特性を向上しやすい。また、アセチル化剤の含有量の上限は、特に限定されないが、好ましくは１００モル以下、より好ましくは５０モル以下である。
【００７７】
＜添加剤＞
本発明の光学フィルムは、フィラーを含むことができる。フィラーとしては、例えば有機粒子、無機粒子などが挙げられ、特に無機粒子が好ましい。無機粒子としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物粒子などが挙げられ、これらの中でも、耐衝撃性を向上しやすい観点から、シリカ粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子が好ましく、シリカ粒子が特に好ましい。これらのフィラーは単独又は２種以上組合せて使用できる。
【００７８】
フィラー、好ましくはシリカ粒子の平均一次粒子径は、好ましくは１０ｎｍ以上、より好ましくは１５ｎｍ以上、さらに好ましくは２０ｎｍ以上であり、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは９０ｎｍ以下、さらに好ましくは８０ｎｍ以下、よりさらに好ましくは７０ｎｍ以下、特に好ましくは６０ｎｍ以下、より特に好ましくは５０ｎｍ以下、とりわけ好ましくは４０ｎｍ以下である。シリカ粒子の平均一次粒子径が上記範囲であると、シリカ粒子の凝集を抑制し、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。平均一次粒子径は、ＢＥＴ法により測定できる。なお、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）や走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の画像解析により、平均一次粒子径を測定してもよい。
【００７９】
光学フィルムがフィラー、好ましくはシリカ粒子を含有する場合、フィラー、好ましくはシリカ粒子の含有量は、光学フィルム１００質量部に対して、通常０．１質量部以上、好ましくは１質量部以上、より好ましくは５質量部以上、さらに好ましくは１０質量部以上、特に好ましくは２０質量部以上、とりわけ３０質量部以上であり、好ましくは６０質量部以下である。フィラーの含有量が上記の下限以上であると、弾性率を向上しやすい。また、フィラーの含有量が上記の上限以下であると、ゲル化をより抑制しやすく、光学フィルムの平坦性及び光学特性を向上しやすい。
【００８０】
本発明の光学フィルムは、紫外線吸収剤をさらに含んでいてもよい。紫外線吸収剤は、樹脂材料の分野で紫外線吸収剤として通常用いられているものから、適宜選択することができる。紫外線吸収剤は、４００ｎｍ以下の波長の光を吸収する化合物を含んでいてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。紫外線吸収剤は単独又は二種以上組合せて使用できる。光学フィルムが紫外線吸収剤を含有することにより、樹脂の劣化が抑制されるため、光学フィルムを画像表示装置等に適用した場合に視認性を高めることができる。本明細書において、「系化合物」とは、当該「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す。
【００８１】
光学フィルムが紫外線吸収剤を含有する場合、紫外線吸収剤の含有量は、光学フィルム１００質量部に対して、好ましくは１質量部以上、より好ましくは２質量部以上、さらに好ましくは３質量部以上であり、好ましくは１０質量部以下、より好ましくは８質量部以下、さらに好ましくは６質量部以下である。好適な含有量は用いる紫外線吸収剤により異なるが、４００ｎｍの光線透過率が２０〜６０％程度になるように紫外線吸収剤の含有量を調節すると、光学フィルムの耐光性が高められるとともに、透明性の高い光学フィルムを得ることができる。
【００８２】
光学フィルムは、フィラー、紫外線吸収剤以外の他の添加剤をさらに含有していてもよい。他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤、難燃剤、ｐＨ調整剤、シリカ分散剤、滑剤、増粘剤、及びレベリング剤等が挙げられる。他の添加剤を含有する場合、その含有量は、光学フィルム１００質量部に対して、好ましくは０．００５〜２０質量部、より好ましくは０．０１〜１５質量部、さらに好ましくは０．１〜１０質量部であってよい。
【００８３】
＜光学フィルム＞
本発明の光学フィルムは、式（Ｘ）の関係を満たす樹脂を有するため、部分的な膜厚のバラツキが小さく、フィルム表面の優れた平坦性を有することができる。さらに、本発明の光学フィルムは、優れた光学特性も有するため、優れた表面平坦性と優れた光学特性とを両立することができる。
【００８４】
本発明の光学フィルムの膜厚は、用途に応じて適宜調整されるが、好ましくは２５μｍ以上、より好ましくは２７μｍ以上、さらに好ましくは３０μｍ以上であり、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは８０μｍ以下、さらに好ましくは６５μｍ以下、特に好ましくは５５μｍ以下である。光学フィルムの膜厚は、膜厚計等で測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。
【００８５】
本発明の光学フィルムにおいて、厚さ４８〜５２μｍ、好ましくは厚さ５０μｍにおける全光線透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上、特に好ましくは９１％以上である。全光線透過率が上記の下限以上であると透明性が良好となり、例えば画像表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。また全光線透過率の上限は通常１００％以下である。なお、全光線透過率は、例えばＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１：１９９７に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。
【００８６】
本発明の光学フィルムのヘーズは、好ましくは３．０％以下、より好ましくは２．０％以下、さらに好ましくは１．０％以下、特に好ましくは０．５％以下である。光学フィルムのヘーズが上記の上限以下であると透明性が良好となり、例えば画像表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。またヘーズの下限は通常０．０１％以上である。なお、ヘーズは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６：２０００に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。
【００８７】
本発明の光学フィルムの黄色度（ＹＩ値）は、好ましくは８以下、より好ましくは５以下、さらに好ましくは３以下、特に好ましくは２以下である。光学フィルムの黄色度が上記の上限以下であると透明性が良好となり、例えば画像表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。また黄色度は通常−５以上であり、好ましくは−２以上である。なお、黄色度（ＹＩ値）は紫外可視近赤外分光光度計を用いて３００〜８００ｎｍの光に対する透過率測定を行い、３刺激値（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を求め、ＹＩ＝１００×（１．２７６９Ｘ−１．０５９２Ｚ）／Ｙの式に基づいて算出できる。
【００８８】
〔光学フィルムの製造方法〕
本発明の光学フィルムは、特に限定されないが、例えば以下の工程：
（ａ）前記樹脂を含む液（樹脂ワニスと称する場合がある）を調製する工程（ワニス調製工程）、
（ｂ）該樹脂ワニスを支持材に塗布して塗膜を形成する工程（塗布工程）、及び
（ｃ）塗布された液（塗膜）を乾燥させて、光学フィルムを形成する工程（フィルム形成工程）
を含む方法によって製造することができる。
【００８９】
ワニス調製工程において、前記樹脂を溶媒に溶解し、必要に応じて、フィラー、紫外線吸収剤及び他の添加剤等を添加して撹拌混合することにより樹脂ワニスを調製する。
【００９０】
ワニスの調製に用いられる溶媒は、樹脂を溶解可能であれば特に限定されない。かかる溶媒としては、例えば＜樹脂の製造方法＞の項に例示の溶媒等が挙げられる。これらの溶媒の中でも、アミド系溶媒又はラクトン系溶媒を好適に使用できる。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。樹脂ワニスの固形分濃度は、好ましくは１〜２５質量％、より好ましくは５〜１５質量％である。
【００９１】
塗布工程において、公知の塗布方法により、支持材上に樹脂ワニスを塗布して塗膜を形成する。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法、流涎成形法等が挙げられる。
【００９２】
フィルム形成工程において、塗膜を乾燥し、支持材から剥離することによって、光学フィルムを形成することができる。剥離後にさらに光学フィルムを乾燥する工程を設けてもよい。塗膜の乾燥は、通常５０〜３５０℃の温度にて行うことができる。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において塗膜の乾燥を行ってよい。
【００９３】
支持材の例としては、ＳＵＳ等の金属ベルト、及び、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルム、他のポリイミドフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム等の樹脂フィルムが挙げられる。中でも、耐熱性に優れる観点から、ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルム等が好ましく、さらに光学フィルムとの成膜時密着性、易剥離性、及びコストの観点から、ＰＥＴフィルムがより好ましい。
【００９４】
〔光学用樹脂〕
本発明は、式（Ａ）
【化２１】
2020037675.tif 000022
［式（Ａ）中、＊は結合手を表す］
で表される構造を有するポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含む光学用樹脂であって、式（Ｘ）
Ａ／Ｂ×１００≧０．０３（％）    （Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ａは、該光学用樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、式（Ａ）で表される構造中の窒素原子に結合する水素原子に由来するピーク面積を表し、Ｂは、該光学用樹脂の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、化学シフト値が６．５〜１１．５ｐｐｍの範囲におけるピーク面積を表す］
で表される光学用樹脂を包含する。
【００９５】
本発明の光学用樹脂は、式（Ｘ）の関係を満たす、すなわち、Ａ／Ｂ×１００が０．０３％以上であって構造（Ａ）を所定量以上有するため、該樹脂を含む光学フィルムを形成する場合に、樹脂ワニスのゲル化を有効に抑制できる。そのため、部分的な膜厚のバラツキが小さく、フィルム表面の平坦性に優れた光学フィルムを形成できる。さらに、得られる光学フィルムは、ゲルの混入が抑制されているため、優れた光学特性を発現することもできる。
【００９６】
本発明の光学用樹脂は、上記＜樹脂＞の項に記載のポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂であることが好ましい。
【００９７】
〔光学積層体〕
本発明の光学フィルムは、単層であっても、積層体であってもよく、光学フィルムをそのまま使用してもよいし、さらに他のフィルムや層との積層体として使用してもよい。本発明では、光学フィルムが積層体である場合、光学フィルムの片面又は両面に積層された全ての層を含めて光学フィルムと称される。なお、便宜上、積層体形態の光学フィルムを光学積層体（又は積層体）ということもある。
【００９８】
本発明の光学フィルムの少なくとも一方の面に１以上の機能層を積層して光学積層体を形成することもできる。機能層としては、例えば紫外線吸収層、ハードコート層、プライマー層、ガスバリア層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層などが挙げられる。機能層は単独又は二種以上組合せて使用できる。
【００９９】
紫外線吸収層は、紫外線吸収の機能を有する層であり、例えば、紫外線硬化型の透明樹脂、電子線硬化型の透明樹脂、及び熱硬化型の透明樹脂から選ばれる主材と、この主材に分散した紫外線吸収剤とから構成される。
【０１００】
粘着層は、粘着性の機能を有する層であり、光学フィルムを他の部材に接着させる機能を有する。粘着層の形成材料としては、通常知られたものを用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いることができる。この場合、事後的にエネルギーを供給することで樹脂組成物を高分子化し硬化させることができる。
【０１０１】
粘着層は、感圧型接着剤（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ、ＰＳＡ）と呼ばれる、押圧により対象物に貼着される層であってもよい。感圧型接着剤は、「常温で粘着性を有し、軽い圧力で被着材に接着する物質」（ＪＩＳ  Ｋ  ６８００）である粘着剤であってもよく、「特定成分を保護被膜（マイクロカプセル）に内容し、適当な手段（圧力、熱等）によって被膜を破壊するまでは安定性を保持できる接着剤」（ＪＩＳ  Ｋ  ６８００）であるカプセル型接着剤であってもよい。
【０１０２】
色相調整層は、色相調整の機能を有する層であり、光学積層体を目的の色相に調整することができる層である。色相調整層は、例えば、樹脂及び着色剤を含有する層である。この着色剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、チタニウムオキサイド系焼成顔料、群青、アルミン酸コバルト、及びカーボンブラック等の無機顔料；アゾ系化合物、キナクリドン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合物、イソインドリノン系化合物、フタロシアニン系化合物、キノフタロン系化合物、スレン系化合物、及びジケトピロロピロール系化合物等の有機顔料；硫酸バリウム、及び炭酸カルシウム等の体質顔料；並びに塩基性染料、酸性染料、及び媒染染料等の染料を挙げることができる。
【０１０３】
屈折率調整層は、屈折率調整の機能を有する層であり、例えば光学フィルムとは異なる屈折率を有し、光学積層体に所定の屈折率を付与することができる層である。屈折率調整層は、例えば、適宜選択された樹脂、及び場合によりさらに顔料を含有する樹脂層であってもよいし、金属の薄膜であってもよい。屈折率を調整する顔料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化タンタルが挙げられる。該顔料の平均一次粒子径は、０．１μｍ以下であってもよい。顔料の平均一次粒子径を０．１μｍ以下とすることにより、屈折率調整層を透過する光の乱反射を防止し、透明度の低下を防止することができる。屈折率調整層に用いられる金属としては、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸窒化チタン、窒化チタン、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素等の金属酸化物又は金属窒化物が挙げられる。
【０１０４】
光学積層体は、保護フィルムをさらに含んでいてもよい。保護フィルムは、光学フィルムの片面又は両面に積層されていてもよい。光学フィルムの片面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、光学フィルム側の表面又は機能層側の表面に積層されていてもよく、光学フィルム側と機能層側の両方に積層されていてもよい。光学フィルムの両面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、片方の機能層側の表面に積層されていてもよく、両方の機能層側の表面に積層されていてもよい。保護フィルムは、光学フィルム又は機能層の表面を一時的に保護するためのフィルムであり、光学フィルム又は機能層の表面を保護できる剥離可能なフィルムである限り特に限定されない。保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム；ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィン系樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルム等が挙げられ、ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルム及びアクリル系樹脂フィルムからなる群から選択されることが好ましい。光学積層体が保護フィルムを２つ有する場合、各保護フィルムは同一又は異なっていてもよい。
【０１０５】
保護フィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、通常、１０〜１００μｍ、好ましくは１０〜８０μｍ、より好ましくは１０〜５０μｍである。光学積層体が保護フィルムを２つ有する場合、各保護フィルムの厚さは同じであってもよく、異なっていてもよい。
【０１０６】
本発明の一実施態様において、光学積層体は、巻芯にロール状に巻回された形態であってもよく、該形態を積層体フィルムロールと称する。巻芯を構成する材料としては、例えばポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ＡＢＳ樹脂等の合成樹脂；アルミニウム等の金属；繊維強化プラスチック（ＦＲＰ：ガラス繊維等の繊維をプラスチックに含有させて強度を向上させた複合材料）等が挙げられる。巻芯は円筒状又は円柱状等の形状をなし、その直径は、例えば８０〜１７０ｍｍである。また、積層体フィルムロールの直径（巻取り後の直径）は、特に限定されるものではないが、通常２００〜８００ｍｍである。本発明の一実施態様において、積層体フィルムロールは、光学フィルムの製造工程において、光学フィルムから支持材を剥離せず、支持材、光学フィルム並びに任意に機能層及び保護フィルムを有する積層体が、巻芯にロール状に巻回された形態を有していてもよい。積層体フィルムロールは、連続的な製造において、スペースその他の制約から一旦フィルムロールの形で保管することが多く、積層体フィルムロールの形態では、積層体がより強く巻き締められているので、支持材上の白濁原因物質が光学フィルム上に転写されやすくなる。しかし、所定の対水接触角を有する支持材を用いると、支持材からの白濁物質が基材に転写されにくく、それが積層体フィルムロールで巻き締められても、白濁が生じにくい。
【０１０７】
〔画像表示装置〕
本発明の光学フィルムは、優れた表面平坦性及び光学特性を有するため、画像表示装置の前面板（ウィンドウフィルム）として好適に使用できる。本発明の光学フィルムは、画像表示装置、特にフレキシブルディスプレイ（フレキシブル表示装置）の視認側表面に前面板として配置することができる。該前面板は、フレキシブルディスプレイ内の画像表示素子を保護する機能を有する。画像表示装置としては、テレビ、スマートフォン、携帯電話、カーナビゲーション、タブレットＰＣ、携帯ゲーム機、電子ペーパー、インジケーター、掲示板、時計、及びスマートウォッチ等のウェアラブルデバイス等が挙げられる。フレキシブルディスプレイとしては、フレキシブル特性を有する画像表示装置、例えばテレビ、スマートフォン、携帯電話、スマートウォッチ等が挙げられる。従って、本発明は、前記光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置を包含する。なお、以下、本発明の光学フィルムをウィンドウフィルムと称することがある。
【０１０８】
本発明の一実施態様において、画像表示装置、特にフレキシブル表示装置は、本発明の光学フィルム、並びに、偏光板、タッチセンサ及び表示パネルからなる群から選択される少なくとも１つを含んでいてもよい。例えば、該光学フィルムの片面に、透明接着剤又は透明粘着剤を介するか、若しくは介さずに、偏光板、タッチセンサ及び表示パネルが積層された画像表示装置であってもよい。なお、本発明の光学フィルムは、上記光学積層体として画像表示装置に組み込まれていてもよく、以下、画像表示装置に含まれる光学フィルムは、上記光学積層体であってもよい。
【０１０９】
本発明の一実施態様において、画像表示装置は、前記光学フィルム又は前記偏光板の少なくとも一面に、枠を取り囲んで印刷された有色の遮光パターンを具備することができ、該遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。前記偏光板は前記非表示領域又はベゼル部にかけて連続的に延長することができ、ポリビニルアルコール系偏光子及び前記ポリビニルアルコール系偏光子の少なくとも一面に積層（又は貼合）された保護層を含む通常の偏光板であってもよい。
【０１１０】
本発明の一実施態様では、前記光学フィルムの一面に偏光板及びタッチセンサが一体化された構造において、偏光板及びタッチセンサの配置順序は限定されず、光学フィルム、偏光板、タッチセンサ及び表示パネルの順に配置することもでき、光学フィルム、タッチセンサ、偏光板及び表示パネルの順に配置することもできる。光学フィルム、偏光板、タッチセンサ及び表示パネルの順に配置した場合は、画像表示装置を視認側から見た際にタッチセンサが偏光板の下側に存在するので、タッチセンサのパターンが視認されにくい長所がある。このような場合、タッチセンサの基板は正面位相差が±２．５ｎｍ以下であることが好ましい。該基板の素材としては無延伸フィルムとして、例えば、トリアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、シクロオレフィン、シクロオレフィン共重合体、ポリノルボルネン共重合体などの素材からなる群から選択された1以上の素材のフィルムであってもよい。一方、タッチセンサの基板なしにパターンのみ光学フィルム及び偏光板に転写した構造を有することができる。
【０１１１】
前記偏光板及びタッチセンサは、透明粘着剤層又は透明接着剤層によって光学フィルムと表示パネルの間に配置することができるが、透明粘着剤層が好適である。光学フィルム、偏光板、タッチセンサ及び表示パネルの順に配置された場合は、光学フィルムと偏光板の間、タッチセンサと表示パネルの間に透明粘着層が位置することができる。光学フィルム、タッチセンサ、偏光板及び表示パネルの順に配置された場合は、光学フィルムとタッチセンサの間、タッチセンサと偏光板の間、偏光板と表示パネルの間に透明粘着剤層が位置することができる。
【０１１２】
前記透明粘着層の厚さは特に限定されず、例えば１〜１００μｍであってもよい。該透明粘着剤層において、下部（表示パネル側）の透明粘着剤層の厚さが上部（光学フィルム側）の透明粘着剤層の厚さ以上であり、−２０〜８０℃で粘弾性が０．２ＭＰａ以下であることが好ましい。その場合、タッチセンサと表示パネル間の干渉によって発生するノイズを低減することができ、屈曲時の界面応力を緩和して上下部の他の機能層の破壊を抑制することができる。透明粘着剤の凝集破壊を抑制すると同時に界面応力を緩和させるという面から、より好ましくは、前記粘弾性は０．０１〜０．１５ＭＰａであってもよい。
【０１１３】
＜偏光板＞
前記画像表示装置、特にフレキシブル表示装置は、上記の通り、偏光板を備えていてもよい。前記偏光板は、例えば、偏光子、並びに、必要に応じて、支持体、配向膜、位相差コーティング層、接着剤層、粘着剤層及び保護層から選択される少なくとも１つを含んでいてもよい。前記偏光板の厚さは特に限定されず、例えば１００μｍ以下であってもよい。厚さが１００μｍ以下であると柔軟性が低下しにくい。前記範囲内で、例えば５〜１００μｍであってもよい。
【０１１４】
前記偏光子は、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤、染色、架橋、延伸、水洗、乾燥するなどの段階を含む工程によって製造された当分野で通常使用されるフィルム型偏光子であってもよく、重合性液晶及び二色性染料を含む偏光コーティング層形成組成物を塗布して形成される塗布型偏光子（偏光コーティング層という場合がある）であってもよい。前記偏光コーティング層（単に偏光層という場合がある）は、例えば、支持体上に配向膜形成組成物を塗布し、配向性を付与して配向膜を形成し、前記配向膜上に重合性液晶化合物及び二色性染料を含む偏光コーティング層形成組成物を塗布し、液晶コーティング層を形成することで製造することができる。このような偏光コーティング層は、フィルム型偏光子の両面に接着剤によって貼り付けられた保護層を含む偏光板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記偏光コーティング層の厚さは０．５〜１０μｍ、好ましくは２〜４μｍであってもよい。
【０１１５】
（配向膜）
前記配向膜は、配向膜形成組成物を塗布して形成することができる。配向膜形成組成物は、当該分野で通常使用される配向剤、光重合開始剤及び溶剤を含むことができる。前記配向剤としては、当該分野で通常使用される配向剤を特に制限なく使用することができる。例えば、ポリアクリレート系高分子、ポリアミック酸、ポリイミド系高分子又はシンナメート基を含む高分子を配向剤として使用することができ、光配向を適用する場合にはシンナメート基を含む高分子を使用することが好ましい。溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤、及び、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤などが挙げられる。溶剤は、単独又は二種以上組合せて使用できる。
【０１１６】
前記配向膜形成組成物の塗布は、例えば、スピンコーティング法、押出成形法、ディップコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティングなどを挙げることができ、好ましくはインラインコーティング方式を使用する。前記配向膜形成組成物が塗布及び必要に応じて乾燥された後には配向処理を行う。前記配向処理は、当該分野において周知の多様な方法を制限なく採用することができ、好ましくは、光配向膜化を使用することができる。光配向膜は通常、光反応性基を有する重合体又は単量体と溶剤を含む光配向膜形成用組成物を支持体に塗布し、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は照射する偏光の偏光方向を選択することで、配向規制力の方向を任意に制御できる点で、さらに好ましい。
【０１１７】
前記光配向膜の厚さは、通常１０〜１０，０００ｎｍ、好ましくは１０〜１，０００ｎｍ、より好ましくは１０〜５００ｎｍである。前記範囲にすると、配向規制力が十分に発現される。
【０１１８】
（偏光コーティング層）
前記偏光コーティング層は、偏光コーティング層形成組成物を塗布して形成することができる。具体的には、偏光コーティング層形成組成物は二色性色素に加えてホスト化合物となる１以上の重合性液晶（以下、重合性液晶（Ｂ）と呼ぶ場合がある）を含む組成物（以下、組成物Ｂと呼ぶ場合がある）である。
【０１１９】
「二色性色素」とは、分子の長軸方向における吸光度と短軸方向における吸光度が異なる性質を有する色素を意味する。このような性質を有するものであれば、二色性色素は制限がなく、染料でもよく、顔料でもよい。２種以上の染料を組合せて用いてもよく、２種以上の顔料を組合せて用いてもよく、染料と顔料を組合せて用いてもよい。
【０１２０】
二色性色素は、３００〜７００ｎｍの範囲に極大吸収波長（λＭＡＸ）を有することが好ましい。このような二色性色素としては、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素及びアントラキノン色素を挙げることができ、その中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素及びスチルベンアゾ色素を挙げることができ、ビスアゾ色素及びトリスアゾ色素が好ましい。
【０１２１】
重合性液晶（Ｂ）が示す液晶状態は、スメクチック相であることが好ましく、配向秩序度がより高い偏光層を製造することができるという点で、高次スメクチック相であることがより好ましい。スメクチック相を示す重合性液晶（Ｂ）を重合性スメクチック液晶化合物という。重合性液晶（Ｂ）は単独、又は組合せて使用することができる。また、２種以上の重合性液晶を組合せる場合は、少なくとも１種が重合性液晶（Ｂ）であることが好ましく、２種以上が重合性液晶（Ｂ）であることがより好ましい。これらを組合せることで、液晶-結晶相転移温度以下の温度でも一時的に液晶性を保持することができる場合がある。重合性液晶（Ｂ）は、例えば、Ｌｕｂ  ｅｔ  ａｌ．Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ−Ｂａｓ、１１５、３２１−３２８（１９９６）又は日本特許第４７１９１５６号などに記載の公知の方法で製造される。組成物Ｂにおける二色性色素の含有量は、二色性色素の種類などに応じて適切に調節できるが、重合性液晶（Ｂ）１００質量部に対して好ましくは０．１〜５０質量部、より好ましくは０．１〜２０質量部、さらに好ましくは０．１〜１０質量部である。二色性色素の含有量が前記範囲内であると、重合性液晶（Ｂ）の配向を乱すことなく、重合させることができ、また重合性液晶（Ｂ）の配向を阻害する傾向が小さい。
【０１２２】
組成物Ｂは溶剤を含むことが好ましい。一般的に、スメクチック液晶化合物は粘度が高いため、溶剤を含む組成物は塗布が容易であり、結果として偏光膜の形成をしやすくする場合が多い。溶剤としては前述の配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤と同様のものを挙げることができ、重合性液晶（Ｂ）及び二色性色素の溶解性に応じて適切に選択することができる。溶剤の含有量は、組成物Ｂの総量に対して好ましくは５０〜９８質量％である。言い換えれば、組成物Ｂにおける固形分は好ましくは２〜５０質量％である。
【０１２３】
組成物Ｂは１種以上のレベリング剤を含有することが好ましい。レベリング剤は組成物Ｂの流動性を調整し、組成物Ｂを塗布することで得られる塗布膜をより平坦にする機能を有し、具体的には、界面活性剤を挙げることができる。組成物Ｂがレベリング剤を含有する場合、その含有量は重合性液晶１００質量部に対して、好ましくは０．０５〜５質量部、より好ましくは０．０５〜３質量部である。レベリング剤の含有量が前記の範囲内なら、重合性液晶を水平配向させることが容易であり、また、得られる偏光層がより平滑になる傾向がある。重合性液晶に対するレベリング剤の含有量が前記の範囲内なら、得られる偏光層にむらがあまり生じない傾向がある。
【０１２４】
組成物Ｂは１種以上の重合開始剤を含有することが好ましい。重合開始剤は重合性液晶（Ｂ）の重合反応を開始できる化合物であり、より低温条件下で重合反応を開始することができるという点で光重合開始剤が好ましい。具体的には光の作用によって活性ラジカル又は酸を発生できる光重合開始剤を挙げることができ、その中でも光の作用によってラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩を挙げることができる。
【０１２５】
組成物Ｂが重合開始剤を含有する場合、その含有量は、その組成物に含有される重合性液晶の種類及びその量に応じて適切に調節できるが、重合性液晶１００質量部に対して、好ましくは０．１〜３０質量部、より好ましくは０．５〜１０質量部、さらに好ましくは０．５〜８質量部である。重合開始剤の含有量がこの範囲内なら、重合性液晶（Ｂ）の配向を乱すことなく重合させることができる。組成物Ｂが光重合開始剤を含有する場合、前記組成物は光増減剤をさらに含有していてもよい。組成物Ｂが光重合開始剤及び光増減剤を含有する場合、その組成物に含有される重合性液晶の重合反応をより促進することができる。光増減剤の使用量は光重合開始剤及び重合性液晶の種類及びその量に応じて適切に調節できるが、重合性液晶１００質量部に対して、好ましくは０．１〜３０質量部、より好ましくは０．５〜１０質量部、さらに好ましくは０．５〜８質量部である。
【０１２６】
重合性液晶の重合反応をより安定的に進行させるために、組成物Ｂは、適量の重合禁止剤を含有してもよく、これにより、重合性液晶の重合反応の進行程度を制御しやすくなる。組成物Ｂが重合禁止剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶の種類及びその量、及び光増減剤の使用量などに応じて適切に調節できるが、重合性液晶１００質量部に対して、好ましくは０．１〜３０質量部、より好ましくは０．５〜１０質量部、さらに好ましくは０．５〜８質量部である。重合禁止剤の含有量がこの範囲内なら、重合性液晶の配向を乱すことなく重合させることができる。
【０１２７】
偏光コーティング層は通常、偏光コーティング層形成組成物を配向処理が施された支持体上に塗布し、得られた塗布膜中の重合性液晶を重合させることで形成される。前記偏光コーティング層形成組成物を塗布する方法は限定されない。配向処理としては先に例示したものを挙げることができる。偏光コーティング層形成組成物を塗布し、得られた塗布膜中に含まれる重合性液晶が重合しない条件で溶剤を乾燥除去することで乾燥被膜が形成される。乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法を挙げることができる。重合性液晶が重合性スメクチック液晶化合物である場合、乾燥被膜に含まれる重合性スメクチック液晶化合物の液晶状態をネマチック相（ネマチック液晶状態）にした後、スメクチック相に転移させることが好ましい。ネマチック相を経てスメクチック相を形成させるためには、例えば、乾燥被膜に含まれる重合性スメクチック液晶化合物がネマチック相の液晶状態に相転移する温度以上に乾燥被膜を加熱し、続いて、重合性スメクチック液晶化合物がスメクチック相の液晶状態を示す温度まで冷却するという方法が採用される。続いて、乾燥被膜中の重合性液晶の液晶状態をスメクチック相にした後、スメクチック相の液晶状態を保持したまま重合性液晶を光重合させる方法について説明する。光重合において、乾燥被膜に照射する光は、前記乾燥被膜に含まれる光重合開始剤の種類、重合性液晶の種類（特に、重合性液晶が有する光重合基の種類）及びその量に応じて適切に選択でき、その具体例としては、可視光、紫外光及びレーザー光からなる群から選択される活性エネルギー線を挙げることができる。これらのうち、重合反応の進行を制御しやすいという点や光重合装置として当分野で広範囲に用いられているものを使用することができるという点で紫外光が好ましい。光重合を行うことで、重合性液晶は、スメクチック相、好ましくは高次のスメクチック相の液晶状態を保持したまま重合して偏光層が形成される。
【０１２８】
（位相差コーティング層）
前記偏光板は、位相差コーティング層（単に位相差層という場合がある）を含んでいてもよい。位相差層は、光学特性に応じて、λ／２層、λ／４層、ポジティブＣ層等と総称する。位相差層は、例えば、表面に配向膜が形成された支持体の配向膜上に液晶化合物を含む位相差層形成組成物を塗布して液晶コーティング層を形成した後、該液晶コーティング層を、接着層を介して偏光層と貼り付けてから支持体を剥離することで形成することができるが、この方法に制限されるものではない。配向膜及び位相差層が形成される側の支持体面には、配向膜を形成する前に表面処理を施すこともできる。前記配向膜形成組成物及びその塗布及び乾燥方法などは、偏光コーティング層で説明したものと同様である。位相差層形成組成物の組成は、二色性染料を含んでいないことを除いては、前記偏光コーティング層で説明したものと同様である。また、位相差層形成組成物の塗布、乾燥及び硬化方法なども、前記偏光コーティング層で説明したものと同様である。
【０１２９】
位相差層の厚さは、好ましくは０．５〜１０μｍ、より好ましくは１〜４μｍであってもよい。
【０１３０】
本発明の一実施形態において、位相差層は、その厚さ、重合性液晶化合物の配向状態などによって光学特性を調節することができる。具体的に、位相差層の厚さを調節することで、所望の面内位相差を付与する位相差層を製作することができる。面内位相差値（面内リタデーション値、Ｒｅ）は、数式（１）で定義される値であり、所望のＲｅを得るためには、Δｎと厚さ（ｄ）を調節するとよい。
Ｒｅ=ｄ×Δｎ（λ）・・・数式（１）（ここでΔｎ＝ｎｘ−ｎｙ）
（数式（１）中、Ｒｅは位相差層の面内位相差値を表し、ｄは位相差層の厚さを表し、Δｎは位相差層の複屈折率を表す。重合性液晶化合物の配向によって形成される屈折率楕円体を考慮する場合、３方向の屈折率、即ち、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚを次のように定義する。ｎｘは位相差層が形成する屈折率楕円体における該位相差層平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙは位相差層が形成する屈折率楕円体における該位相差層平面に対して平行であり、ｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは位相差層が形成する屈折率楕円体における該位相差層平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。位相差層がλ／４層である場合、面内位相差値Ｒｅ（５５０）は、通常１１３〜１６３ｎｍの範囲、好ましくは１３０〜１５０ｎｍの範囲である。位相差層がλ／２層である場合、Ｒｅ（５５０）は、通常２５０〜３００ｎｍの範囲である。
【０１３１】
また、重合性液晶化合物の配向状態に応じて、厚さ方向の位相差を発現する位相差層を製作することができる。厚さ方向の位相差を発現するということは、数式（２）で厚さ方向の位相差値Ｒｔｈが負となる特性を表すことである。
Ｒｔｈ=［（ｎｘ＋ｎｙ）/２−ｎｚ］×ｄ・・・数式（２）
（数式（２）中、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ及びｄは、前述の定義と同じである）
ポジティブＣ層の面内位相差値Ｒｅ（５５０）は、通常０〜１０ｎｍの範囲、好ましくは０〜５ｎｍの範囲であり、厚さ方向の位相差値Ｒｔｈは、通常−１０〜−３００ｎｍの範囲、好ましくは−２０〜−２００ｎｍの範囲である。偏光板は、２以上の位相差層を有していてもよく、位相差層を２層有する場合は、第１位相差層は円偏光を作るためのλ／４層であり、第２位相差層は斜めから見た色味を改善するためのポジティブＣ層であってもよい。また、第１位相差層は斜めから見た色味を改善するためのポジティブＣ層であり、第２位相差層は円偏光を作るためのλ／４層であってもよい。
【０１３２】
（接着剤層及び粘着剤層）
前記偏光板は接着剤層及び／又は粘着剤層を含んでいてもよい。本発明の一実施形態において、偏光コーティング層と第１位相差層、又は第１位相差層と第２位相差層は、粘着剤又は接着剤を介して貼合することができる。接着剤層を形成する接着剤としては、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤又は熱硬化性接着剤を用いることができ、好ましくは水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤である。粘着剤層としては後述のものが使用できる。
【０１３３】
水系接着剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる接着剤、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等が挙げられる。中でもポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる水系接着剤が好適に用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルをケン化処理して得られるビニルアルコールホモポリマーのほか、酢酸ビニルとこれに共重合可能な他の単量体との共重合体をケン化処理して得られるポリビニルアルコール系共重合体、又はそれらの水酸基を部分的に変性した変性ポリビニルアルコール系重合体等を用いることができる。水系接着剤は、アルデヒド化合物（グリオキザール等）、エポキシ化合物、メラミン系化合物、メチロール化合物、イソシアネート化合物、アミン化合物、多価金属塩等の架橋剤を含むことができる。
【０１３４】
水系接着剤を使用する場合は、コーティング層を貼合した後、水系接着剤中に含まれる水を除去するための乾燥工程を実施することが好ましい。
【０１３５】
上記活性エネルギー線硬化性接着剤とは、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線のような活性エネルギー線の照射によって硬化する硬化性化合物を含有する接着剤であり、好ましくは紫外線硬化性接着剤である。
【０１３６】
上記硬化性化合物は、カチオン重合性の硬化性化合物やラジカル重合性の硬化性化合物であることができる。カチオン重合性の硬化性化合物としては、例えば、エポキシ系化合物（分子内に１個又は２個以上のエポキシ基を有する化合物）や、オキセタン系化合物（分子内に１個又は２個以上のオキセタン環を有する化合物）、又はこれらの組合せを挙げることができる。ラジカル重合性の硬化性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル系化合物（分子内に１個又は２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物）や、ラジカル重合性の二重結合を有するその他のビニル系化合物、又はこれらの組合せを挙げることができる。カチオン重合性の硬化性化合物とラジカル重合性の硬化性化合物とを併用してもよい。活性エネルギー線硬化性接着剤は通常、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるためのカチオン重合開始剤及び／又はラジカル重合開始剤をさらに含む。
【０１３７】
コーティング層を貼合するにあたっては、接着性を高めるために、接着する面の少なくともいずれか一方の貼合面に表面活性化処理を施してもよい。表面活性化処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、放電処理（グロー放電処理等）、火炎処理、オゾン処理、ＵＶオゾン処理、電離活性線処理（紫外線処理、電子線処理等）のような乾式処理；水やアセトン等の溶媒を用いた超音波処理、ケン化処理、アンカーコート処理のような湿式処理を挙げることができる。これらの表面活性化処理は、単独で行ってもよいし、２つ以上を組合せてもよい。
【０１３８】
前記接着層の厚さは、その接着力に応じて調節することができ、好ましくは０．１〜１０μｍ、より好ましくは１〜５μｍであってもよい。本発明の一実施形態において、前記接着層が複数個使用される構成の場合、同じ材料で又は異なる材料で製造することができ、同じ厚さ又は異なる厚さを有することができる。
【０１３９】
粘着剤層は、（メタ）アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物で構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れるポリエステル系樹脂又は（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。
本発明で使用する粘着剤樹脂としては、通常、重量平均分子量が３０万〜４００万の範囲であるものが用いられる。耐久性、特に耐熱性を考慮すれば、該粘着剤の重量平均分子量は、好ましくは５０万〜３００万、より好ましくは６５万〜２００万である。重量平均分子量が３０万よりも大きいと、耐熱性の点で好ましく、重量平均分子量が４００万よりも小さいと貼り合せ性、接着力が低下する点でも好ましい。なお、重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定し、ポリスチレン換算により算出された値をいう。
【０１４０】
さらに、粘着剤組成物には、架橋剤を含有することできる。架橋剤としては、有機系架橋剤や多官能性金属キレートを用いることができる。有機系架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、過酸化物系架橋剤、エポキシ系架橋剤、イミン系架橋剤などが挙げられる。多官能性金属キレートは、多価金属が有機化合物と共有結合又は配位結合しているものである。多価金属原子としては、Ａｌ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｙ、Ｃｅ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｌａ、Ｓｎ、Ｔｉ等があげられる。共有結合又は配位結合する有機化合物中の原子としては酸素原子等があげられ、有機化合物としてはアルキルエステル、アルコール化合物、カルボン酸化合物、エーテル化合物、ケトン化合物等が挙げられる。
【０１４１】
架橋剤を含有する場合、その含有量は、粘着剤樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜２０質量部、より好ましくは０．０３〜１０質量部である。なお、架橋剤が０．０１質量部を超えると、粘着剤層の凝集力が不足しない傾向があり、加熱時に発泡が生じるおそれが少なく、一方、２０質量部より少ないと、耐湿性が十分であり、信頼性試験等で剥がれが生じにくくなる。
【０１４２】
粘着剤組成物は、添加剤として、シランカップリング剤を配合することが好ましい。シランカップリング剤としては、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシ構造を有するケイ素化合物；３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミノ基含有ケイ素化合物；３−クロロプロピルトリメトキシシラン；アセトアセチル基含有トリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシランなどの（メタ）アクリル基含有シランカップリング剤；３‐イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどのイソシアネート基含有シランカップリング剤などが挙げられる。シランカップリング剤は、耐久性、特に加湿環境下で剥がれを抑える効果を付与できる。シランカップリング剤の使用量は、粘着剤樹脂１００質量部に対して、好ましくは１質量部以下、より好ましくは０．０１〜１質量部、さらに好ましくは０．０２〜０．６質量部である。
【０１４３】
さらに、粘着剤組成物は、その他の公知の添加剤を含有していてもよく、たとえば、粘着剤組成物に、着色剤、顔料などの粉体、染料、界面活性剤、可塑剤、粘着性付与剤、表面潤滑剤、レベリング剤、軟化剤、酸化防止剤、老化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、無機又は有機の充填剤、金属粉、粒子状、箔状物などを、使用する用途に応じて適宜添加することができる。また、制御できる範囲内で、還元剤を加えてのレドックス系を採用してもよい。
【０１４４】
粘着剤層の厚さは、特に制限されず、例えば、１〜１００μｍ程度、好ましくは２〜５０μｍ、より好ましくは３〜３０μｍである。
【０１４５】
（保護層）
前記偏光板は、保護層を含んでいてもよい。本発明の一実施形態において、偏光板は少なくとも一以上の保護層を有する形態であってもよく、偏光板をなしている偏光子の一面、又は偏光子が位相差層を有する場合は、位相差層の偏光子と反対の面に位置することができる。
【０１４６】
保護層としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れたフィルムなら特に制限はない。具体的に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系フィルム；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロースなどのセルロース系フィルム；ポリカーボネート系フィルム；ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチル（メタ）アクリレートなどのアクリル系フィルム；ポリスチレン、アクリロニトリル-スチレン共重合体などのスチレン系フィルム；シクロオレフィン、シクロオレフィン共重合体、ポリノルボルネン、ポリプロピレン、ポリエチレン、エチレンプロピレン共重合体などのポリオレフィン系フィルム；塩化ビニル系フィルム；ナイロン、芳香族ポリアミドなどのポリアミド系フィルム；イミド系フィルム；スルホン系フィルム；ポリエーテルケトン系フィルム；硫化ポリフェニレン系フィルム；ビニルアルコール系フィルム；塩化ビニリデン系フィルム；ビニルブチラール系フィルム；アリレート系フィルム；ポリオキシメチレン系フィルム；ウレタン系フィルム；エポキシ系フィルム；シリコーン系フィルムなどを挙げることができる。これらの中でも特にアルカリなどによって鹸化された表面を有するセルロース系フィルムが偏光特性又は耐久性を考慮すると好ましい。また、保護層は位相差機能のような光学補償機能を兼ね備えたものであってもよい。
【０１４７】
前記保護層は、前記偏光子又は前記位相差コーティング層と接着される面に接着力向上のための易接着処理が施されたものであってもよい。易接着処理は、接着力を向上させることができるものなら特に限定されず、例えば、プライマー処理、プラズマ処理、コロナ処理などのドライ処理；アルカリ処理（鹸化処理）などの化学処理；低圧ＵＶ処理などを挙げることができる。
【０１４８】
＜タッチセンサ＞
前記画像表示装置、特にフレキシブル表示装置は、上記の通り、タッチセンサを備えていてもよい。タッチセンサは、支持体、支持体上に設けられた下部電極、下部電極に対向する上部電極、下部電極と上部電極とに挟持された絶縁層を有する。
【０１４９】
支持体は、光透過性を有する可撓性の樹脂フィルムであれば、種々のものを採用することができる。
【０１５０】
下部電極は、例えば平面視で正方形状の複数の小電極を有する。複数の小電極は、マトリクス状に配列している。
【０１５１】
また、複数の小電極は、小電極の一方の対角線方向に隣り合う小電極同士で接続され、複数の電極列を形成している。複数の電極列は、端部で相互に接続され、となり合う電極列間の電気容量を検出可能となっている。
【０１５２】
上部電極は、例えば平面視で正方形状の複数の小電極を有する。複数の小電極は、平面視で下部電極が配置されていない位置に、相補的にマトリクス状に配列している。すなわち、上部電極と下部電極とは、平面視で隙間なく配置されている。
【０１５３】
また、複数の小電極は、小電極の他方の対角線方向に隣り合う小電極同士で接続され、複数の電極列を形成している。複数の電極列は、端部で相互に接続され、となり合う電極列間の電気容量を検出可能となっている。
【０１５４】
絶縁層は、下部電極と上部電極とを絶縁している。絶縁層の形成材料は、タッチセンサの絶縁層の材料として通常知られた材料を使用可能である。
【０１５５】
なお、本実施形態においては、タッチセンサが、いわゆる投影型静電容量方式のタッチセンサであることとして説明したが、発明の効果を損なわない範囲において、膜抵抗方式など、他の方式のタッチセンサを採用することもできる。
【０１５６】
＜遮光パターン＞
前記遮光パターンは光学フィルム又は光学フィルムが適用される表示装置のベゼル又はハウジングの少なくとも一部であってもよい。例えば、遮光パターンによって前記表示装置の各配線が隠されて使用者に視認されないことがある。遮光パターンのカラー及び／又は材質は特に制限されることはなく、黒色、白色、金色などの多様なカラーを有する樹脂物質で形成することができる。例えば、遮光パターンはカラーを具現するための顔料を混合しているアクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの樹脂物質で形成することができる。前記遮光パターンの材質及び厚さは光学フィルム又は表示装置の保護及びフレキシブル特性を考慮して決定することができる。また、これらの単独又は２種類以上の混合物で使用することもできる。
【実施例】
【０１５７】
＜重量平均分子量（Ｍｗ）の測定＞
ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定
（１）前処理方法
ポリアミドイミド：ＤＭＦ溶離液（１０ｍｍｏｌ／Ｌ臭化リチウム溶液）を濃度２ｍｇ／ｍＬとなるように加え、８０℃にて３０分間攪拌しながら加熱し、冷却後、０．４５μｍメンブランフィルターろ過したものを測定溶液とした。
【０１５８】
（２）測定条件
カラム：東ソー（株）製  ＴＳＫｇｅｌ  α−２５００（（７）７．８ｍｍ径×３００ｍｍ）×１本、α−Ｍ（（１３）７．８ｍｍ径×３００ｍｍ）×２本
溶離液：ＤＭＦ（１０ｍｍｏｌ／Ｌの臭化リチウム添加）
流量：１．０ｍＬ／分
検出器：ＲＩ検出器
カラム温度：４０℃
注入量：１００μＬ
分子量標準：標準ポリスチレン
【０１５９】
＜アセトアミド基含有量＞
（１）前処理方法
実施例及び比較例で得られたポリアミドイミドを重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ−ｄ６）に溶解させて２質量％溶液としたものを測定試料とした。
（２）ＮＭＲ測定条件
測定装置：Ｂｒｕｋｅｒ社製６００ＭＨｚＮＭＲ装置「ＡＶＡＮＣＥ６００」
試料温度：３０３Ｋ
測定手法：１Ｈ−ＮＭＲ
化学シフトリファレンス：ＤＭＳＯ（２．５０ｐｐｍ）
（３）アセトアミドパラメータの算出方法
上記測定条件により、測定試料の１Ｈ−ＮＭＲを測定した。該測定により得られた１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、式（Ａ）で表される構造中の窒素原子に結合する水素原子に由来する化学シフト値１０．３〜１０．４ｐｐｍの範囲におけるピーク面積をＡとし、化学シフト値６．５〜１１．５ｐｐｍの範囲におけるピーク面積をＢとし、ＡのＢに対する百分率Ａ／Ｂ×１００（％）を求めた。
【０１６０】
＜光学フィルムの全光線透過率及びヘーズ＞
光学フィルムの全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１：１９９７に準拠し、ヘーズは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６：２０００に準拠して、スガ試験機（株）製の全自動直読ヘーズコンピュータ「ＨＧＭ−２ＤＰ」を用いて測定した。測定試料は、実施例及び比較例で得られた光学フィルムを３０ｍｍ×３０ｍｍの大きさにカットして作製した。
【０１６１】
＜光学フィルムの黄色度＞
光学フィルムの黄色度（Ｙｅｌｌｏｗ  Ｉｎｄｅｘ：ＹＩ値）は、紫外可視近赤外分光光度計（日本分光（株）製「Ｖ−６７０」）を用いて測定した。サンプルがない状態でバックグランド測定を行った後、実施例及び比較例で得られた光学フィルムをサンプルホルダーにセットして、３００〜８００ｎｍの光に対する透過率測定を行い、３刺激値（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を求めた。得られた３刺激値から、ＡＳＴＭ  Ｄ１９２５の規格に基づき、下記の式に基づいてＹＩ値を算出した。
ＹＩ＝１００×（１．２７６９Ｘ−１．０５９２Ｚ）／Ｙ
【０１６２】
＜光学フィルムの膜厚分布＞
光学フィルムの中央部を５ｃｍ角に切り出し、外周から５ｍｍの箇所を１ｃｍ間隔で１２カ所、マイクロメーター（（株）ミツトヨ製「ＩＤ−Ｃ１１２ＸＢＳ」）又はデジマイクロスタンド（（株）ニコン製「ＭＳ−５Ｃ」）を用いて膜厚を測定し、これらの膜厚の最大値と最小値の差の絶対値を膜厚分布とした。
【０１６３】
［実施例１］
十分に乾燥させた撹拌機と温度計が付いた１Ｌセパラブルフラスコに、３０分以上窒素を導通させ、容器内を窒素で置換した。ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）  ２５０ｇをフラスコに入れ、室温下、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（ＴＦＭＢ）  １４．７ｇ（４５．８２ｍｍｏｌ）と４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）  ６．１４ｇ（１３．８２ｍｍｏｌ）を加え、１５分以上撹拌した後、１６時間放置した。
次いで、室温下、４，４’−オキシビス（ベンゾイルクロリド）（ＯＢＢＣ）  ０．３４０ｇ（１．１５ｍｍｏｌ）とテレフタロイルクロリド（ＴＰＣ）  １．１２ｇ（５．５２ｍｍｏｌ）を加え、室温下１０分撹拌し、同量のＯＢＢＣ及びＴＰＣを添加し、同時間撹拌する操作をさらに３回繰り返した。反応液をさらに３０分撹拌した後に、ＴＰＣ  １．１２ｇ（５．５２ｍｍｏｌ）を加え、更に室温で６０分撹拌した。次いで、無水酢酸  ９．９３ｇ（９７．２７ｍｍｏｌ）と４−ピコリン  ３．０２ｇ（３２．４３ｍｍｏｌ）を加え、室温下で３０分撹拌した後、７０℃まで１時間かけて昇温し、７０℃で３時間保持した。反応液の質量に対して、１０倍量のメタノールを加え、白色固体を得た。得られた固体を室温下１日かけて風乾させた。
得られた固体をジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）  ２５０ｇに溶解させたのち、無水酢酸４７．１９ｇ（４６２．２０ｍｍｏｌ）を加え、室温下で３０分撹拌した後、７０℃まで１時間かけて昇温し、７０℃で３時間保持した。反応液の質量に対して、１０倍量のメタノールを加え、白色固体を得た。得られた固体を室温下１日かけて風乾させて、式（Ａ）で表される構造を有するポリアミドイミドを得た。得られた式（Ａ）で表される構造を有するポリアミドイミドの重量平均分子量（Ｍｗ）は４４５，０００であり、式（Ｘ）におけるＡ／Ｂ×１００は０．０５％であり、式（Ｘ）の関係式を満たす。
【０１６４】
［実施例２］
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた１Ｌセパラブルフラスコに、ＴＦＭＢ  ４０ｇ（１２４．９１ｍｍｏｌ）及びＤＭＡｃ  ６８２．５１ｇを加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃに溶解させた。次に、フラスコに６ＦＤＡ  １６．７８ｇ（３７．７７ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３時間撹拌した。その後、ＯＢＢＣ  ３．７２ｇ（１２．５９ｍｍｏｌ）、次いでテレフタロイルクロリド（ＴＰＣ）  １５．３４ｇ（７５．５５ｍｍｏｌ）をフラスコに加え、室温で１時間撹拌した。次いで、フラスコに４−メチルピリジン  ８．２１ｇ（８８．１４ｍｍｏｌ）と無水酢酸  １５．４３ｇ（１５１．１０ｍｍｏｌ）とを加え、室温で３０分間撹拌後、オイルバスを用いて７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで６時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、１００℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、白色固体を得た。
得られた固体をジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）  ６８０ｇに溶解させたのち、無水酢酸  １２７．６０ｇ（１２５０．０ｍｍｏｌ）を加え、室温下で３０分撹拌した後、７０℃まで１時間かけて昇温し、７０℃で３時間保持した。液の質量に対して、１０倍量のメタノールを加え、白色固体を得た。得られた固体を室温下１日かけて風乾させて、式（Ａ）で表される構造を有するポリアミドイミドを得た。得られた式（Ａ）で表される構造を有するポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は４００，０００であり、式（Ｘ）におけるＡ／Ｂ×１００は０．０５％であり、式（Ｘ）の関係式を満たす。
【０１６５】
［比較例１］
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた１Ｌセパラブルフラスコに、ＴＦＭＢ  ５２ｇ（１６２．３８ｍｍｏｌ）及びＤＭＡｃ  ８４９．２３ｇを加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃに溶解させた。次に、フラスコに６ＦＤＡ  １４．４５ｇ（３２．５２ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３時間撹拌した。その後、ＯＢＢＣ  ４．８０ｇ（１６．２６ｍｍｏｌ）、次いでＴＰＣ  ２３．１１ｇ（１１３．８４ｍｍｏｌ）をフラスコに加え、室温で１時間撹拌した。次いで、フラスコにピリジン  ９．９８ｇ（１２６．２０ｍｍｏｌ）と無水酢酸  １３．２８ｇ（１３０．１０ｍｍｏｌ）とを加え、室温で３０分間撹拌後、オイルバスを用いて７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで６時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、１００℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、式（Ａ）で表される構造を有するポリアミドイミドを得た。得られたポリアミドイミドの重量平均分子量（Ｍｗ）は２４０，０００であり、式（Ｘ）におけるＡ／Ｂ×１００は０．０２％であり、式（Ｘ）の関係式を満たさない。
【０１６６】
＜光学フィルムの製造＞
γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）を分散媒とするシリカゾル（シリカ粒子の平均一次粒子径：２７ｎｍ）にＧＢＬを加え、さらに実施例１、２及び比較例１で得られたポリアミドイミドをそれぞれ溶解させ、ポリアミドイミドとシリカの合計質量が、ワニスの質量に対して１０質量％となり、ポリアミドイミドとシリカの固形分の比率（質量比）が６：４となるように、ポリアミドイミドワニスを作製した。得られたポリアミドイミドワニスをポリエステル基材（東洋紡（株）製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の平均膜厚が５２μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗工し、５０℃３０分間、次いで１４０℃１５分間乾燥し、自立膜を得た。自立膜をＡ４サイズの金枠に固定し、４０分かけて２００℃まで昇温し、２００℃で２０分間維持して乾燥し、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの全光線透過率、ＹＩ、ヘーズ、及び膜厚分布の評価結果を表１に示した。なお、膜厚分布の欄における括弧内は（膜厚の最小値（μｍ），膜厚の最大値（μｍ））を示す。
【０１６７】
［実施例３］
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた１Ｌセパラブルフラスコに、ＴＦＭＢ  １４．６４ｇ（４５．７２ｍｍｏｌ）及びＤＭＡｃ  ５００ｇを加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃに溶解させた。次に、フラスコに６ＦＤＡ  ６．１５ｇ（１３．８５ｍｍｏｌ）と３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）  １．３６ｇ（４．６３ｍｍｏｌ）とを添加し、室温で１６時間撹拌した。
次いで、テレフタロイルクロリド（ＴＰＣ）  ２．５３ｇ（１２．４６ｍｍｏｌ）を添加し、１０分撹拌したのちに、更にＴＰＣ  ２．５３ｇ（１２．４６ｍｍｏｌ）を添加して２０分撹拌した。次いで更にＴＰＣ  ０．５６ｇ（２．７６ｍｍｏｌ）を添加して室温で２時間撹拌した。
次いで、無水酢酸  １３．２０ｇ（１２９．３０ｍｍｏｌ）と４−ピコリン  ２．５８ｇ（２７．７１ｍｍｏｌ）とを加え、室温で３０分間撹拌後、オイルバスを用いて７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。
反応液を冷却し、４０℃以下に下がったところで、反応液をメタノール  ５４ｇで希釈し、メタノール  ８９８ｇを更に滴下した。次いでイオン交換水  ３５９ｇを滴下し、白色固体を析出させた。析出した白色固体を減圧ろ過により捕集し、メタノールで洗浄することにより、ポリアミドイミドを含むウェットケーキを得た。次に、室温にて沈殿物の減圧乾燥を行い、式（Ａ）で表される構造を有するポリアミドイミド（白色固体）を得た。
得られた式（Ａ）で表される構造を有するポリアミドイミドの重量平均分子量（Ｍｗ）は３２５，０００であり、式（Ｘ）におけるＡ／Ｂ×１００は０．０３％であり、式（Ｘ）の関係式を満たす。
【０１６８】
［実施例４］
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた１Ｌセパラブルフラスコに、ＴＦＭＢ  １４．６４ｇ（４５．７２ｍｍｏｌ）及びＤＭＡｃ  ２５０ｇを加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃに溶解させた。次に、フラスコに６ＦＤＡ  ６．１５ｇ（１３．８５ｍｍｏｌ）とＢＰＤＡ  １．３６ｇ（４．６３ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１６時間撹拌した。
次いで、テレフタロイルクロリド（ＴＰＣ）  ２．５３ｇ（１２．４６ｍｍｏｌ）を添加し、１０分撹拌したのちに、更にＴＰＣ  ２．５３ｇ（１２．４６ｍｍｏｌ）を添加して２０分撹拌した。ＤＭＡｃ  ２５０．００ｇを添加し、１０分撹拌したのちに、更にＴＰＣ  ０．５６ｇ（２．７６ｍｍｏｌ）を添加して室温で２時間撹拌した。
次いで、無水酢酸  １３．２３ｇ（１２９．５５ｍｍｏｌ）と４−ピコリン  ２．６０ｇ（２７．９２ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌後、オイルバスを用いて７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。
反応液を冷却し、４０℃以下に下がったところで、反応液をメタノール２９ｇで希釈し、メタノール  ８６０ｇを更に滴下した。次いでイオン交換水を３４４ｇ滴下し、白色固体を析出させた。析出した白色固体を減圧ろ過により捕集し、メタノールで洗浄することにより、ポリアミドイミドを含むウェットケーキを得た。次に、室温にて沈殿物の減圧乾燥を行い、式（Ａ）で表される構造を有するポリアミドイミド（白色固体）を得た。
得られた式（Ａ）で表される構造を有するポリアミドイミドの重量平均分子量（Ｍｗ）は２１９，０００であり、式（Ｘ）におけるＡ／Ｂ×１００は０．０３％であり、式（Ｘ）の関係式を満たす。
【０１６９】
［比較例２］
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた１Ｌセパラブルフラスコに、ＴＦＭＢ  １９．１７ｇ（５９．８７ｍｍｏｌ）及びＤＭＡｃ  ３２１．０ｇを加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃに溶解させた。次に、フラスコに６ＦＤＡ  ５．３５ｇ（１２．０４ｍｍｏｌ）とＢＰＤＡ  １．７７ｇ（６．００ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１６時間撹拌した。その後、ＴＰＣ  ３．８５ｇ（１８．９６ｍｍｏｌ）をフラスコに加え、１０分撹拌した後に、更にＴＰＣ  ３．８５ｇ（１８．９６ｍｍｏｌ）を添加して２０分撹拌した。ＤＭＡｃ  ３１４．１ｇを添加し、１０分撹拌したのちに、更にＴＰＣ  ０．８６ｇ（４．２２ｍｍｏｌ）を添加して室温で２時間撹拌した。
次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）  ６．２３ｇ（４８．２２ｍｍｏｌ）をフラスコに添加し、１０分撹拌した後に無水酢酸  ８．６２ｇ（８４．４６ｍｍｏｌ）と４−ピコリン４．５１ｇ（４８．４４ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌後、オイルバスを用いて７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。
反応液を冷却し、５０℃以下に下がったところで、メタノール  ９４３ｇを滴下し、次いでイオン交換水  ４９３gを滴下し、白色固体を析出させた。析出した白色固体を減圧ろ過により捕集し、メタノールで洗浄することにより、ポリアミドイミドを含むウェットケーキを得た。次に、６０℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、式（Ａ）で表される構造を有するポリアミドイミド（白色固体）を得た。
得られた式（Ａ）で表される構造を有するポリアミドイミドの重量平均分子量（Ｍｗ）は８２６，０００であり、式（Ｘ）におけるＡ／Ｂ×１００は０．０２％であり、式（Ｘ）の関係式を満たさない。
【０１７０】
＜光学フィルムの製造＞
ＧＢＬに実施例３及び４で得られたポリアミドイミドをそれぞれ溶解させ、ポリアミドイミドの合計質量が、ワニスの質量に対して８．５質量％となるように、ポリアミドイミドワニスを作製した。
ＧＢＬに比較例２で得られたポリアミドイミドを溶解させ、ポリアミドイミドの合計質量が、ワニスの質量に対して６．０質量％となるように、ポリアミドイミドワニスを作製した。
得られたポリアミドイミドワニスをポリエステル基材（東洋紡（株）製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の平均膜厚が５２〜５６μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗工し、５０℃３０分間、次いで１４０℃１５分間乾燥し、自立膜を得た。自立膜をＡ４サイズの金枠に固定し、４０分かけて２００℃まで昇温し、２００℃で２０分間維持して乾燥し、光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの全光線透過率、ＹＩ、ヘーズ、及び膜厚分布の評価結果を表２に示した。なお、膜厚分布の欄における括弧内は（膜厚の最小値（μｍ），膜厚の最大値（μｍ））を示す。
【０１７１】
【表１】
2020037675.tif 000023
【０１７２】
【表２】
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【０１７３】
実施例１〜４で得られた光学フィルムは、比較例１及び２で得られた光学フィルムと比べ、膜厚分布が小さいことから、部分的な膜厚のバラツキが小さく、フィルム表面の平坦性に優れることが確認された。また、実施例１〜４で得られた光学フィルムは、比較例１及び２で得られた光学フィルムと比べ、全光線透過率が高く、ＹＩ値及びヘーズが低いことが確認された。従って、本発明の光学フィルムは、フィルム表面の平坦性及び光学特性に優れていることがわかった。