(57)【要約】【課題】厚さ１５０μｍ以下のガラス基板の両側の主面に薄膜が設けられたガラス物品の製造時に発生するクラックを抑制する。【解決手段】ガラス物品の製造方法は、厚さ１５０μｍ以下のガラス基板１１の第１主面１１ａに蒸着法又はスパッタリング法により第１薄膜１２を形成する第１薄膜形成工程Ｓ２と、第１薄膜１２が形成されたガラス基板１１の第２主面１１ｂにスパッタリング法又は蒸着法により第２薄膜１３を形成する第２薄膜形成工程Ｓ４とを有する。ガラス基板１１の第１主面１１ａ及び第２主面１１ｂの周縁部を挟み込む枠部材２０をガラス基板１１に取り付けた状態として第１薄膜形成工程Ｓ２及び第２薄膜形成工程Ｓ４を行うとともに、第１薄膜形成工程Ｓ２から第２薄膜形成工程Ｓ４までの間、ガラス基板１１に枠部材２０を取り付けた状態を維持している。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚さ１５０μｍ以下のガラス基板と、前記ガラス基板の第１主面に設けられた第１薄膜と、前記ガラス基板の第２主面に設けられた第２薄膜とを備えるガラス物品の製造方法であって、
前記ガラス基板の第１主面に蒸着法又はスパッタリング法により第１薄膜を形成する第１薄膜形成工程と、
前記第１薄膜が形成された前記ガラス基板の第２主面にスパッタリング法又は蒸着法により第２薄膜を形成する第２薄膜形成工程とを有し、
前記ガラス基板の第１主面及び第２主面の周縁部を挟み込む枠部材を前記ガラス基板に取り付けた状態として前記第１薄膜形成工程及び前記第２薄膜形成工程を行うとともに、前記第１薄膜形成工程から前記第２薄膜形成工程までの間、前記ガラス基板に前記枠部材を取り付けた状態を維持することを特徴とするガラス物品の製造方法。
【請求項２】
前記第１薄膜形成工程と前記第２薄膜形成工程との間に、前記ガラス基板に対して前記第１薄膜及び前記第２薄膜を形成する処理以外の処理を行う第３処理工程を有し、
前記ガラス基板に前記枠部材を取り付けた状態として前記第３処理工程を行うことを特徴とする請求項１に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項３】
前記第３処理工程は、前記ガラス基板を水洗する洗浄工程であることを特徴とする請求項２に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項４】
前記ガラス基板は、リン酸塩ガラスからなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項５】
厚さ１５０μｍ以下のガラス基板と、前記ガラス基板の第１主面に設けられた第１薄膜と、前記ガラス基板の第２主面に設けられた第２薄膜とを備えるガラス物品の製造に用いられる枠部材であって、
前記ガラス基板の第１主面の中央部を露出させた状態で第１主面の周縁部を覆う第１支持部と、
前記ガラス基板の第２主面の中央部を露出させた状態で第２主面の周縁部を覆うとともに、前記第１支持部との間で前記ガラス基板を挟み込む第２支持部とを備え、
前記第１支持部及び前記第２支持部の少なくとも一方には、前記ガラス基板の露出部分と前記第１支持部又は前記第２支持部の内側の縁との間に溜まる液体を排出する排出部が設けられていることを特徴とする枠部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス物品の製造方法、及び枠部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１に開示されるように、光学多層膜フィルタ等のガラス物品は、ガラス基板の主面に対して、スパッタリング法又は蒸着法を用いて光学薄膜を形成することにより製造される。スパッタリング法又は蒸着法により光学薄膜等の薄膜を形成する際には、成膜される薄膜の内部応力によるガラス基板の反りを抑制するために、ガラス基板を挟み込んで保持する枠部材が用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−９４０４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、ガラス基板の両側の主面に対して、スパッタリング法又は蒸着法を用いて薄膜を形成する場合がある。この場合、ガラス基板を枠部材に取り付けた状態として、ガラス基板の第１主面に対して第１薄膜を形成する。その後、ガラス基板を枠部材から取り外して洗浄等の処理を行った後、再度、ガラス基板を枠部材に取り付けた状態として、ガラス基板の第２主面に対して第２薄膜を形成する。
【０００５】
ガラス基板の両側の主面に薄膜を形成する際に、ガラス基板として薄いものが用いられていると、ガラス基板にクラックが発生しやすくなる。詳述すると、枠部材を用いて成膜した場合であっても、薄膜の内部応力によるガラス基板の反りを完全に抑制することは難しい。また、薄膜の内部応力によるガラス基板の反りは、ガラス基板の厚さが薄いほど（例えば、１５０μｍ以下）顕著になる。そのため、第２薄膜を形成する際には、反りが生じた状態のガラス基板を枠部材や成膜装置の基板保持部に取り付ける必要があり、その取り付け時に、ガラス基板自体が薄く強度が低いことも相まって、ガラス基板にクラックが発生しやすい。
【０００６】
この発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、厚さ１５０μｍ以下の板ガラスからなるガラス基板の両側の主面に薄膜が設けられたガラス物品を製造する際に発生するクラックを抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するガラス物品の製造方法は、厚さ１５０μｍ以下のガラス基板と、前記ガラス基板の第１主面に設けられた第１薄膜と、前記ガラス基板の第２主面に設けられた第２薄膜とを備えるガラス物品の製造方法であって、前記ガラス基板の第１主面に蒸着法又はスパッタリング法により第１薄膜を形成する第１薄膜形成工程と、前記第１薄膜が形成された前記ガラス基板の第２主面にスパッタリング法又は蒸着法により第２薄膜を形成する第２薄膜形成工程とを有し、前記ガラス基板の第１主面及び第２主面の周縁部を挟み込む枠部材を前記ガラス基板に取り付けた状態として前記第１薄膜形成工程及び前記第２薄膜形成工程を行うとともに、前記第１薄膜形成工程から前記第２薄膜形成工程までの間、前記ガラス基板に前記枠部材を取り付けた状態を維持する。
【０００８】
上記構成によれば、第１薄膜形成工程においてガラス基板に取り付けられた枠部材は、第２薄膜形成工程が終わるまでガラス基板に取り付けられた状態が維持される。そのため、ガラス基板に枠部材を取り付ける作業は、第１薄膜の内部応力による反りが生じていないガラス基板に対する１回のみでよく、第１薄膜が形成されたガラス基板に対して枠部材を取り付ける作業が省略される。これにより、第１薄膜形成工程において第１薄膜の内部応力が生じたとしても、枠部材がガラス基板に取り付けられた状態を維持するため、ガラス基板の反りやガラス物品の製造時に発生するクラックを抑制できる。
【０００９】
上記ガラス物品の製造方法において、前記第１薄膜形成工程と前記第２薄膜形成工程との間に、前記ガラス基板に対して前記第１薄膜及び前記第２薄膜を形成する処理以外の処理を行う第３処理工程を有し、前記ガラス基板に前記枠部材を取り付けた状態として前記第３処理工程を行うことが好ましい。前記第３処理工程は、例えば、前記ガラス基板を水洗する洗浄工程である。
【００１０】
ガラス物品の製造時にガラス基板に発生するクラックは、反りが生じた状態のガラス基板に対して力が加えられる機会が多いほど生じやすくなる。したがって、第３処理工程を有している場合には、ガラス基板に発生するクラックを抑制する効果がより顕著に得られる。
【００１１】
上記ガラス物品の製造方法において、前記ガラス基板は、リン酸塩ガラスからなることが好ましい。
厚さ１５０μｍ以下のガラス基板の中でも、リン酸塩ガラスからなるガラス基板は、特に強度が低い。したがって、ガラス基板に発生するクラックを抑制する効果がより顕著に得られる。
【００１２】
上記課題を解決する枠部材は、厚さ１５０μｍ以下のガラス基板と、前記ガラス基板の第１主面に設けられた第１薄膜と、前記ガラス基板の第２主面に設けられた第２薄膜とを備えるガラス物品の製造に用いられる枠部材であって、前記ガラス基板の第１主面の中央部を露出させた状態で第１主面の周縁部を覆う第１支持部と、前記ガラス基板の第２主面の中央部を露出させた状態で第２主面の周縁部を覆うとともに、前記第１支持部との間で前記ガラス基板を挟み込む第２支持部とを備え、前記第１支持部及び前記第２支持部の少なくとも一方には、前記ガラス基板の露出部分と前記第１支持部又は前記第２支持部の内側の縁との間に溜まる液体を排出する排出部が設けられている。
【００１３】
上記構成によれば、ガラス基板の露出部分に付着した水等の液体が、排出部を通じて、枠部材の外に効率的に排出される。したがって、枠部材に取り付けられたガラス基板の露出部分に付着した液体を除去する作業を含む処理（例えば、ガラス基板を水洗する洗浄工程）を行う場合に、当該処理の効率化を図ることができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、厚さ１５０μｍ以下のガラス基板の両側の主面に薄膜が設けられたガラス物品の製造時に発生するクラックを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】ガラス物品の説明図。
【図２】ガラス物品の製造方法の説明図。
【図３】（ａ）は枠部材の平面図、（ｂ）は３ｂ−３ｂ線断面図、（ｃ）は３ｃ−３ｃ線断面図。
【図４】（ａ）は図３の４ａ−４ａ線断面図、（ｂ）は図３の４ｂ−４ｂ線断面図。
【図５】枠部材の分解図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の一実施形態を説明する。
まず、本実施形態のガラス物品の製造方法により製造されるガラス物品について説明する。
【００１７】
図１に示すように、ガラス物品１０は、板状のガラス基板１１と、ガラス基板の第１主面１１ａに設けられた第１薄膜１２と、ガラス基板１１の第２主面１１ｂに設けられた第２薄膜１３とを備えている。
【００１８】
ガラス基板１１の厚さは、１５０μｍ以下であり、好ましくは１４５μｍ以下である。ガラス基板の厚さの下限値は例えば、２０μｍである。
ガラス基板１１の平面視形状は特に限定されるものではない。ガラス基板１１の平面視形状としては、例えば、正方形や長方形等の多角形状、円形状、楕円形状が挙げられる。
【００１９】
ガラス基板１１を構成するガラスとしては、例えば、リン酸塩ガラス、無アルカリガラス、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス等の公知のガラスを用いることができる。これらの中でも、リン酸塩ガラスは、強度が低く、ガラス物品１０の製造時にクラックが生じやすいことから、本実施形態のガラス物品１０の製造方法に適している。
【００２０】
第１薄膜１２及び第２薄膜１３は、スパッタリング法又は蒸着法により成膜される薄膜であれば特に限定されるものではない。第１薄膜１２及び第２薄膜１３としては、例えば、特定波長の光を選択的に透過又は反射させる誘電体多層膜等の光学薄膜が挙げられる。第１薄膜１２及び第２薄膜１３の膜の種類は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００２１】
ガラス物品の用途としては、例えば、ハイパスフィルタ、ローパスフィルタ、バンドパスフィルタ等の光学フィルタが挙げられる。
次に、本実施形態のガラス物品の製造方法について説明する。なお、以下では、平面視長方形状のガラス基板１１を用いてガラス物品を製造する場合について説明する。
【００２２】
図２に示すように、ガラス物品の製造方法は、ガラス基板１１を枠部材２０に取り付ける取付工程Ｓ１と、ガラス基板１１の第１主面１１ａに第１薄膜１２を形成する第１薄膜形成工程Ｓ２と、ガラス基板１１を水洗する洗浄工程Ｓ３と、ガラス基板１１の第２主面１１ｂに第２薄膜１３を形成する第２薄膜形成工程Ｓ４とを有している。
【００２３】
［取り付け工程Ｓ１］
図３〜図５に示すように、取り付け工程は、ガラス基板１１に対して、ガラス基板１１の第１主面１１ａ及び第２主面１１ｂの周縁部を挟み込む枠部材２０を取り付ける工程である。
【００２４】
図３（ａ）〜（ｃ）及び図５に示すように、枠部材２０は、ガラス基板１１の第１主面１１ａ側に取り付けられる第１支持部２１を備えている。図４（ａ）〜（ｂ）及び図５に示すように、第１支持部２１は、四角枠状の部材であり、ガラス基板１１の第１主面１１ａの中央部を露出させるとともに第１主面１１ａの周縁部を覆うようにして、ガラス基板１１の第１主面１１ａ側に配置される。第１支持部２１の内面（ガラス基板１１側の面）には、ガラス基板１１の角部付近の側縁に当接してガラス基板１１の面方向の移動を規制する複数の規制凸部２３が設けられている。
【００２５】
また、枠部材２０は、ガラス基板１１の第２主面１１ｂ側に取り付けられて、第１支持部２１との間でガラス基板１１を挟み込む第２支持部２２を備えている。第２支持部２２は、四角枠状の部材であり、ガラス基板１１の第２主面１１ｂの中央部を露出させるとともに第２主面１１ｂの周縁部を覆うようにして、ガラス基板１１の第２主面１１ｂ側に配置される。第２支持部２２の内面（ガラス基板１１側の面）には、規制凸部２３の先端部分が係合する係合凹部２４が設けられている。
【００２６】
また、枠部材２０は、第１支持部２１と第２支持部２２とを固定する固定部を備えている。固定部は、第１支持部２１及び第２支持部２２の四隅に設けられたねじ孔２５と、ねじ孔２５に挿通されるねじ２６とにより構成されている。第１支持部２１及び第２支持部２２の一方に設けられたねじ孔２５から同他方に設けられたねじ孔２５に向かってねじ２６を挿通して、ねじ孔２５にねじ２６を螺合させることにより、第１支持部２１と第２支持部２２とが一体に固定される。
【００２７】
図５に示すように、ガラス基板１１に枠部材２０を取り付ける場合には、先ず、ガラス基板１１の第１主面１１ａを第１支持部２１側に向けた状態として、ガラス基板１１の側縁の位置を第１支持部２１の規制凸部２３に合わせるようにして、第１支持部２１の内面側にガラス基板１１を配置する。そして、ガラス基板１１の第２主面１１ｂに第２支持部２２を重ねて、第１支持部２１の規制凸部２３と第２支持部２２の係合凹部２４とを係合させる。その後、第１支持部２１及び第２支持部２２の各ねじ孔２５にねじ２６を螺合させることにより、第１支持部２１と第２支持部２２とを一体に固定する。
【００２８】
図４に示すように、規制凸部２３の突出高さは、ガラス基板１１の厚さと係合凹部２４の深さの和と同じ、又はそれよりも僅かに大きい値に設定されている。これにより、規制凸部２３と係合凹部２４とを係合させたとき、第１支持部２１と第２支持部２２との間にガラス基板１１が収容される空間が形成される。
【００２９】
図３に示すように、ガラス基板１１は、第１主面１１ａ及び第２主面１１ｂの中央部が露出するとともに、第１主面１１ａ及び第２主面１１ｂの周縁部が第１支持部２１及び第２支持部２２により覆われた状態として上記の空間に収容される。また、ガラス基板１１は、第１支持部２１の規制凸部２３によりガラス基板１１の主面に沿った方向への移動が規制されるとともに、第１支持部２１及び第２支持部２２の各内面によりガラス基板１１の主面に直交する方向への移動が規制された状態で上記の空間に収容される。図３（ａ）に示すように、ガラス基板１１に枠部材２０を取り付けた状態において、ガラス基板１１の第１主面１１ａの周縁部と第１支持部２１及び第２支持部２２との重なり幅Ｈは、例えば、１〜５ｍｍ以上である。
【００３０】
また、図３〜図５に示すように、枠部材２０の第１支持部２１及び第２支持部２２の外面には、内側の周縁から外側の周縁に向かって、ガラス基板１１の第１主面１１ａ及び第２主面１１ｂから徐々に離間する傾斜面２７が設けられている。また、第１支持部２１及び第２支持部２２の外面側には、内側の周縁から外側の周縁に至る排出溝２８が設けられている。
【００３１】
［第１薄膜形成工程Ｓ２］
第１薄膜形成工程は、ガラス基板１１の第１主面１１ａに蒸着法又はスパッタリング法により第１薄膜１２を形成する工程であり、公知の蒸着装置やスパッタリング装置等の成膜装置を用いて行うことができる。具体的には、成膜装置の基板保持部（例えば、回転ドラム）に対して、ガラス基板１１が収容された枠部材２０を、ガラス基板１１の第１主面１１ａが成膜面となる向きに取り付ける。そして、ガラス基板１１の第１主面１１ａに第１薄膜１２を形成した後、基板保持部からガラス基板１１が収容された枠部材２０を取り外す。
【００３２】
［洗浄工程Ｓ３］
洗浄工程は、第１薄膜形成工程においてガラス基板１１に付着した不要物（例えば、第２主面１１ｂに付着した膜材料）を除去する工程である。本実施形態においては、洗浄工程が、ガラス基板に対して第１薄膜及び第２薄膜を形成する処理以外の処理を行う第３処理工程に該当する。
【００３３】
図２に示すように、洗浄工程では、枠部材２０を取り付けた状態のままでガラス基板１１を、水槽３０に溜めた水の中に浸漬させることにより、ガラス基板１１に付着した不要物を遊離させて除去する。その後、水槽３０からガラス基板１１及び枠部材２０を取り出し、ガラス基板１１の表面を乾燥させる。
【００３４】
このとき、ガラス基板１１の第１主面１１ａ及び第２主面１１ｂに付着した水は、傾斜面２７に沿って、第１支持部２１及び第２支持部２２の外面を外側の周縁に向かって流れるとともに、排出溝２８を通って第１支持部２１及び第２支持部２２から排出される。これにより、ガラス基板１１の第１主面１１ａ及び第２主面１１ｂの露出部分と第１支持部２１及び第２支持部２２の内側の周縁との間に溜まる水が効率的に排出される。本実施形態においては、第１支持部２１及び第２支持部２２に設けられた傾斜面２７及び排出溝２８により排出部が構成される。
【００３５】
また、ガラス基板１１の表面を乾燥させる方法は特に限定されるものではなく、スパッタリング法又は蒸着法により薄膜を形成する際に用いられる公知の乾燥方法を用いることができる。公知の乾燥方法としては、例えば、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を乾燥用溶媒とするＩＰＡ蒸気乾燥、温水引き上げ乾燥が挙げられる。
【００３６】
［第２薄膜形成工程Ｓ４］
第２薄膜形成工程は、ガラス基板１１の第２主面１１ｂに蒸着法又はスパッタリング法により第２薄膜１３を形成する工程であり、公知の蒸着装置やスパッタリング装置等の成膜装置を用いて行うことができる。具体的には、成膜装置の基板保持部（例えば、回転ドラム）に対して、ガラス基板１１が収容された枠部材２０を、ガラス基板１１の第２主面１１ｂが成膜面となる向きに取り付ける。そして、ガラス基板１１の第２主面１１ｂに第２薄膜１３を形成した後、基板保持部からガラス基板１１が収容された枠部材２０を取り外す。そして、ガラス基板１１から枠部材２０を取り外すことにより、ガラス基板１１と、ガラス基板１１の第１主面１１ａに設けられた第１薄膜１２と、ガラス基板１１の第２主面１１ｂに設けられた第２薄膜１３とを備えるガラス物品１０が得られる。
【００３７】
次に、本実施形態の作用及び効果について記載する。
（１）ガラス物品１０の製造方法は、厚さ１５０μｍ以下のガラス基板１１の第１主面１１ａに蒸着法又はスパッタリング法により第１薄膜１２を形成する第１薄膜形成工程と、第１薄膜１２が形成されたガラス基板１１の第２主面１１ｂにスパッタリング法又は蒸着法により第２薄膜１３を形成する第２薄膜形成工程とを有する。ガラス基板１１の第１主面１１ａ及び第２主面１１ｂの周縁部を挟み込む枠部材２０をガラス基板１１に取り付けた状態として第１薄膜形成工程及び第２薄膜形成工程を行うとともに、第１薄膜形成工程から第２薄膜形成工程までの間、ガラス基板１１に枠部材２０を取り付けた状態を維持している。
【００３８】
上記構成によれば、第１薄膜形成工程においてガラス基板１１に取り付けられた枠部材２０は、第２薄膜形成工程が終わるまでガラス基板１１に取り付けられた状態が維持される。そのため、ガラス基板１１に枠部材２０を取り付ける作業は、第１薄膜１２の内部応力による反りが生じていないガラス基板１１に対する１回のみでよく、第１薄膜１２が形成されたガラス基板１１に対して枠部材２０を取り付ける作業が省略される。これにより、第１薄膜形成工程において第１薄膜１２の内部応力が生じたとしても、枠部材２０がガラス基板１１に取り付けられた状態を維持するため、ガラス基板１１の反りやガラス物品１０の製造時に発生するクラックを抑制できる。
【００３９】
また、第１薄膜１２の内部応力による反りが生じた状態の厚さ１５０μｍ以下のガラス基板１１は、枠部材２０の取り付け以外のタイミングにおいても、クラックが生じないように丁寧に取り扱う必要がある。この点に関して、ガラス基板１１に枠部材２０が取り付けられた状態が維持される上記構成によれば、枠部材２０の部分を掴んでガラス基板１１を移動させたり、成膜装置に取り付けたりすることができ、ガラス基板１１の取り扱いの難度が下がる。
【００４０】
（２）第１薄膜形成工程と第２薄膜形成工程との間に、ガラス基板１１に対して第１薄膜１２及び第２薄膜１３を形成する処理以外の処理を行う第３処理工程（洗浄工程）を有し、ガラス基板１１に枠部材２０を取り付けた状態として第３処理工程を行っている。
【００４１】
ガラス物品１０の製造時にガラス基板１１に発生するクラックは、反りが生じた状態のガラス基板１１に対して反りを抑制するために力が加えられる機会が多いほど生じやすくなる。したがって、第３処理工程を有している場合には、ガラス基板１１に発生するクラックを抑制する効果がより顕著に得られる。
【００４２】
（３）ガラス基板１１は、リン酸塩ガラスからなるガラス基板である。
厚さ１５０μｍ以下のガラス基板１１の中でも、リン酸塩ガラスからなるガラス基板１１は、強度が特に低い。したがって、ガラス基板１１に発生するクラックを抑制する効果がより顕著に得られる。
【００４３】
（４）枠部材２０は、ガラス基板１１の第１主面１１ａの中央部を露出させた状態で第１主面１１ａの周縁部を覆う第１支持部２１と、ガラス基板１１の第２主面１１ｂの中央部を露出させた状態で第２主面１１ｂの周縁部を覆うとともに、第１支持部２１との間でガラス基板１１を挟み込む第２支持部２２とを備えている。
【００４４】
上記構成によれば、第１薄膜形成工程及び第２成膜工程において、ガラス基板１１の反りを抑制できるとともに、ガラス基板１１の薄膜が形成される主面と反対の主面側への膜材料の回り込みを抑制できる。例えば、第１薄膜形成工程において、ガラス基板１１の第２主面１１ｂ側に膜材料が回り込み、膜材料が第２主面１１ｂに付着した状態で第２薄膜形成工程を行うと、第２薄膜形成工程により形成される第２薄膜１３の密着性が低下してしまう。また、第２薄膜形成工程において、ガラス基板１１の第１主面１１ａ側に膜材料が回り込み、膜材料が第１薄膜１２に付着すると、第１薄膜１２の特性が変化するおそれがある。そのため、ガラス基板１１の薄膜が形成される主面と反対の主面側への膜材料の回り込みを抑制することにより、第２薄膜１３の密着性の向上及び第１薄膜１２の特性の安定性の向上を図ることができる。
【００４５】
（５）枠部材２０の第１支持部２１及び第２支持部２２には、ガラス基板１１の第１主面１１ａ及び第２主面１１ｂの露出部分と第１支持部２１及び第２支持部の内側の縁との間に溜まる液体を排出する排出部が設けられている。
【００４６】
上記構成によれば、洗浄工程において、ガラス基板１１の第１主面１１ａ及び第２主面１１ｂの露出部分に付着した水等の液体が、排出部を通じて、上記露出部分から枠部材２０側へ効率的に流れるとともに、枠部材２０の外に効率的に排出される。したがって、洗浄工程の効率化を図ることができる。
【００４７】
なお、本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
・第３処理工程は、洗浄工程に限定されるものではない。その他の第３処理工程としては、例えば、第１薄膜１２の上に防汚膜等の他の膜を形成する工程が挙げられる。第３処理工程は、１種の工程であってもよいし、２種以上の工程であってもよい。また、第３処理工程を省略してもよい。
【００４８】
・枠部材２０に関して、排出部の構成を変更してもよい。例えば、第１支持部２１及び第２支持部２２のうちの一方のみに排出部を設けてもよい。また、第１支持部２１及び第２支持部２２における排出部の形成箇所は、枠部材２０の周方向における一箇所又は一辺であってもよいし、複数箇所又は複数辺であってもよい。また、排出部を省略してもよい。
【００４９】
・枠部材２０の構成を変更してもよい。例えば、ねじ孔２５とねじ２６とによる固定部に代えて、クリップからなる固定部を採用してもよい。また、規制凸部２３及び係合凹部２４を省略してもよい。
【符号の説明】
【００５０】
１０…ガラス物品、１１…ガラス基板、１１ａ…第１主面、１１ｂ…第２主面、１２…第１薄膜、１３…第２薄膜、２０…枠部材、２１…第１支持部、２２…第２支持部、２７…傾斜面（排出部）、２８…排出溝（排出部）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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