(57)【要約】      （修正有）【課題】優れた均質性を有する光学フィルム、該光学フィルムを備えるフレキシブル画像表示装置、及び該光学フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】重量平均分子量が２３万以上であるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂、ならびに平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラーを含む光学フィルムであって、該光学フィルムを用いて投影法により得た投影画像をフーリエ変換して得たフィルム逆空間像において互いに直交する方向ｈ及び方向ｖにおけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルｈ及びラインプロファイルｖとし、前記投影法において前記光学フィルムを用いずに得た背景画像をフーリエ変換して得た背景逆空間像において互いに直交する方向ｈ’及び方向ｖ’におけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルｈ’及びラインプロファイルｖ’とした場合にこれらが一定の関係を満たす、光学フィルム。【選択図】図３
2020055994.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重量平均分子量が２３万以上であるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂、ならびに平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラーを含む光学フィルムであって、該光学フィルムを用いて投影法により得た投影画像をフーリエ変換して得たフィルム逆空間像において互いに直交する方向ｈ及び方向ｖにおけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルｈ及びラインプロファイルｖとし、前記投影法において前記光学フィルムを用いずに得た背景画像をフーリエ変換して得た背景逆空間像において互いに直交する方向ｈ’及び方向ｖ’におけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルｈ’及びラインプロファイルｖ’とし、ラインプロファイルｈからラインプロファイルｈ’を引いて得たラインプロファイル（ｈ−ｈ’）の最大強度をＹｍｈとし、最大強度Ｙｍｈを示す周波数をＸｍｈとし、ラインプロファイルｖからラインプロファイルｖ’を引いて得たラインプロファイル（ｖ−ｖ’）の最大強度をＹｍｖとし、最大強度Ｙｍｖを示す周波数をＸｍｖとすると、Ｙｍｈ及びＹｍｖはいずれも３０以下であり、Ｙｍｈ、Ｙｍｖ、Ｘｍｈ及びＸｍｖは、次の関係：
【数１】
2020055994.tif 000027
を満たす、光学フィルム。
【請求項２】
フィルムのＭＤ方向の引裂き強度をＥＭＤ（Ｎ／ｍｍ）とし、ＴＤ方向の引裂き強度をＥＴＤ（Ｎ／ｍｍ）とすると、ＥＴＤに対するＥＭＤの割合（ＥＭＤ／ＥＴＤ）は０．９３以上である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
フィルムの黄色度は３以下である、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
フィラーはシリカ粒子である、請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項５】
フィラーの含有量は、光学フィルムの質量に対して５〜６０質量％である、請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項６】
フレキシブル表示装置の前面板用のフィルムである、請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置。
【請求項８】
タッチセンサをさらに備える、請求項７に記載のフレキシブル表示装置。
【請求項９】
偏光板をさらに備える、請求項７又は８に記載のフレキシブル表示装置。
【請求項１０】
（ａ）重量平均分子量が２３万以上であるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂、平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラー、ならびに溶媒を少なくとも含有するワニスを支持体上に塗布し、乾燥させ、塗膜を形成させる工程、
（ｂ）支持体から塗膜を剥離する工程、及び
（ｃ）剥離した塗膜を加熱し、フィルムを得る工程、
を少なくとも含む、請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置、及び該光学フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置において使用される光学フィルムは、該光学フィルムを介して使用者が直接目視で表示された画像を視認するため、非常に高い光学的均質性が要求される。
【０００３】
このような光学フィルムの製造方法として、揮発性溶媒と光学フィルムを構成する樹脂とを含有する溶液を基材上に塗工し、乾燥後、剥離する方法が使用されている（例えば、特許文献１）。このような塗工及び乾燥を伴う製造方法では、塗工条件や乾燥条件によって厚みムラ及び配向ムラが生じることがある。フィルムが、目視では確認できないようなレベルのムラを有する場合であっても、最終的に画像表示装置における光学フィルムとして組み込んだ際に、かかるムラに起因して光学的均質性が損なわれ、画像の歪み等が視認される場合もある。そのため、画像表示装置において光学フィルムとして使用されるフィルムには、目視では確認が困難なレベルの非常に高い精度の均質性が要求される。そのため、フィルムの光学的均質性のさらなる向上に対する要求がなお存在する。
【０００４】
フィルムのムラを抑制した光学フィルムとして、例えば特許文献１には、ポリイミド系光学フィルムの投影画像から切り取った矩形エリアにおいて、グレースケールの標準偏差σ及び該矩形エリアの二値化画像における黒部分の面積が所定の範囲内に調整されたポリイミド系光学フィルムが記載されている。特許文献２には、フィルム面内の透過光の輝度のばらつきが、標準偏差で平均輝度の１５％以内である光学用透明フィルムが記載されている。特許文献３には、光源部からの光を格子板に照射し、該格子板を透過した光を格子像として投影し、該格子像を撮影して格子像の歪みから被測定物の３次元系形状を数値化するフリンジ投影法による形状測定方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２０１６／１５２４５９号
【特許文献２】特開平９−４８８６６号公報
【特許文献３】特開２０１１−２２６８７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記特許文献に記載される方法は、いずれも、画像表示装置において使用されるような光学フィルムに要求される非常に高い精度で、フィルムの光学的均質性を評価するに十分な方法とはいえない。特許文献１に記載の方法は、１ｃｍ×５ｃｍの解析エリアでの評価であるために、縦方向に生じるムラに起因する光学的均質性の低下を十分に評価できる方法ではない。特許文献２に記載の方法は、透過光の輝度の差が小さい濃淡の薄いムラに起因する光学的均質性の低下を精度よく評価できる方法ではない。
特許文献３に記載の方法は、形状を検出する方法であるために、屈折率のムラに起因する光学的均質性の低下を評価することはできない。したがって、これら方法で評価して得たフィルムはいずれも、十分な光学的均質性を有するとはいえない。
【０００７】
さらに、光学フィルムには、フィルムが光学的に均質であることに加えて、物理的性質においても均質であることが求められる。しかし、例えばロール・ツー・ロール法などにより、フィルムを搬送しながら連続的に光学フィルムを製造する場合、ＭＤ方向及びＴＤ方向で均質な光学的性質及び物理的性質を達成することが難しい場合がある。
【０００８】
本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、画像表示装置における光学フィルムとして好適に使用される、高い均質性を有する光学フィルム、該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置、及び該フィルムの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解決すべく、光学フィルムの均質性を高い精度で評価することができる評価方法、並びに光学フィルムの均質性を高める方法について鋭意検討を行った。その結果、フィルムの投影法による投影画像からフーリエ変換により得た逆空間像に着目し、特定の要件を満たす光学フィルムが優れた均質性を有することを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１０】
すなわち、本発明は、以下の好適な態様を包含する。
〔１〕重量平均分子量が２３万以上であるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂、ならびに平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラーを含む光学フィルムであって、該光学フィルムを用いて投影法により得た投影画像をフーリエ変換して得たフィルム逆空間像において互いに直交する方向ｈ及び方向ｖにおけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルｈ及びラインプロファイルｖとし、前記投影法において前記光学フィルムを用いずに得た背景画像をフーリエ変換して得た背景逆空間像において互いに直交する方向ｈ’及び方向ｖ’におけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルｈ’及びラインプロファイルｖ’とし、ラインプロファイルｈからラインプロファイルｈ’を引いて得たラインプロファイル（ｈ−ｈ’）の最大強度をＹｍｈとし、最大強度Ｙｍｈを示す周波数をＸｍｈとし、ラインプロファイルｖからラインプロファイルｖ’を引いて得たラインプロファイル（ｖ−ｖ’）の最大強度をＹｍｖとし、最大強度Ｙｍｖを示す周波数をＸｍｖとすると、Ｙｍｈ及びＹｍｖはいずれも３０以下であり、Ｙｍｈ、Ｙｍｖ、Ｘｍｈ及びＸｍｖは、次の関係：
【数１】
2020055994.tif 000003
を満たす、光学フィルム。
〔２〕フィルムのＭＤ方向の引裂き強度をＥＭＤ（Ｎ／ｍｍ）とし、ＴＤ方向の引裂き強度をＥＴＤ（Ｎ／ｍｍ）とすると、ＥＴＤに対するＥＭＤの割合（ＥＭＤ／ＥＴＤ）は０．９３以上である、前記〔１〕に記載の光学フィルム。
〔３〕フィルムの黄色度は３以下である、前記〔１〕又は〔２〕に記載の光学フィルム。
〔４〕フィラーはシリカ粒子である、前記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔５〕フィラーの含有量は、光学フィルムの質量に対して５〜６０質量％である、前記〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔６〕フレキシブル表示装置の前面板用のフィルムである、前記〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔７〕前記〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置。
〔８〕タッチセンサをさらに備える、前記〔７〕に記載のフレキシブル表示装置。
〔９〕偏光板をさらに備える、前記〔７〕又は〔８〕に記載のフレキシブル表示装置。
〔１０〕（ａ）重量平均分子量が２３万以上であるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂、平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラー、ならびに溶媒を少なくとも含有するワニスを支持体上に塗布し、乾燥させ、塗膜を形成させる工程、
（ｂ）支持体から塗膜を剥離する工程、及び
（ｃ）剥離した塗膜を加熱し、フィルムを得る工程
を少なくとも含む、前記〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、優れた均質性を有する光学フィルム、該光学フィルムを備えるフレキシブル画像表示装置、及び該光学フィルムの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】投影画像を得る工程における配置例を示す概略図である。
【図２】実施例及び比較例での投影画像を得る工程における配置を説明するための概略図である。
【図３】ラインプロファイルにおけるＹｍａｘ、Ｘｍａｘ及びＸｃｅｎを説明するための図である。
【図４】実施例１の投影画像から得た規格化前のラインプロファイルを示す図である。
【図５】実施例１の投影画像から得た規格化後のラインプロファイルを示す図である。
【図６】実施例１の背景画像から得た規格化後のラインプロファイルを示す図である。
【図７】実施例１の投影画像から得た規格化後のラインプロファイルから、実施例１の背景画像から得た規格化後のラインプロファイルを引いて得たラインプロファイルを示す図である。
【図８】実施例１の投影画像から得た規格化後のラインプロファイルから、実施例１の背景画像から得た規格化後のラインプロファイルを引いて得たラインプロファイルをスムージング化して得たラインプロファイルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更をすることができる。
【００１４】
本発明の光学フィルムは、重量平均分子量が２３万以上であるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂、ならびに平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラーを含む光学フィルムであり、該光学フィルムを用いて投影法により得た投影画像をフーリエ変換して得たフィルム逆空間像において互いに直交する方向ｈ及び方向ｖにおけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルｈ及びｖとし、前記投影法において前記光学フィルムを用いずに得た背景画像をフーリエ変換して得た背景逆空間像において互いに直交する方向ｈ’及び方向ｖ’におけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルｈ’及びｖ’とし、ラインプロファイルｈからラインプロファイルｈ’を引いて得たラインプロファイル（ｈ−ｈ’）の最大強度をＹｍｈとし、最大強度Ｙｍｈを示す周波数をＸｍｈとし、ラインプロファイルｖからラインプロファイルｖ’を引いて得たラインプロファイル（ｖ−ｖ’）の最大強度をＹｍｖとし、最大強度Ｙｍｖを示す周波数をＸｍｖとすると、Ｙｍｈ及びＹｍｖはいずれも３０以下であり、Ｙｍｈ、Ｙｍｖ、Ｘｍｈ及びＸｍｖは、次の関係：
【数２】
2020055994.tif 000004
を満たす光学フィルムである。ここで、方向ｈ及び方向ｈ’は互いに対応する方向であり、方向ｖ及び方向ｖ’は互いに対応する方向である。これら方向が対応するとは、方位角が同じであることを意味する。上記特徴を満たす本発明の光学フィルムは、優れた均質性を有し、特に画像表示装置における光学フィルムとして好ましく使用される。ここで、光学フィルムの光学的均質性は、フィルムの面状ムラ、厚みムラ、配向ムラなどと密接に関係し、これらのムラが生じると光学的均質性が低下する。そのため、優れた光学的均質性を有する本発明の光学フィルムは、面状ムラ、厚みムラ、配向ムラ等のムラが低減されたフィルムであるといえる。また、光学フィルムの物理的性質の均質性も、フィルムの厚みムラ及び配向ムラと密接に関係し、これらのムラが生じると物理的性質の均質性が低下する。光学フィルムの物理的性質としては、弾性率、表面硬度、引裂き強度等である。上記特徴を有する本発明の光学フィルムは、これらの物理的性質の同一フィルム内でのばらつきが低減されたフィルムであるといる。なお、本明細書において、光学的均質性と物理的性質の均質性を併せて単に「均質性」とも称する。また、本発明の光学フィルムを単に「フィルム」とも称する。
【００１５】
本発明の光学フィルムを用いて投影法により得た投影画像をフーリエ変換して得たフィルム逆空間像、及び、前記投影法において前記フィルムを用いずに得た背景画像をフーリエ変換して得た背景逆空間像とは、それぞれ、投影画像及び背景画像からフーリエ変換により得たものである限り特に限定されないが、例えば、
（１）光源からの光をフィルムに照射し、フィルムを透過した光を投影面に投影する投影法により投影画像を得る工程、
（２）工程（１）の投影法においてフィルムを用いずに、光源からの光を投影面に投影して、背景画像を得る工程、
及び、
（３）工程（１）で得た投影画像及び工程（２）で得た背景画像をそれぞれグレースケール化により数値化し、数値化された画像データをフーリエ変換して逆空間像（フィルム逆空間像及び背景逆空間像）を得る工程、により得ることができる。上記逆空間像を用いて光学フィルムの面品質を評価することにより、ムラの濃淡と周期を解析することができる。
【００１６】
フィルムの投影法による投影画像からフーリエ変換により逆空間像を得る方法は、特に限定されないが、例えば、評価工程について後述する方法を用いてよい。
【００１７】
次に、（４）投影画像の逆空間像において直交する２方向の各ラインプロファイルから、背景画像の逆空間像において直交する前記２方向の各ラインプロファイルをそれぞれ引いて、ブランク補正されたラインプロファイルを得る工程、及び、（５）工程（４）で得たブランク補正されたラインプロファイルの最大強度Ｙｍａｘ（それぞれ、Ｙｍｈ及びＹｍｖ）、ならびに各ラインプロファイルにおいて最大強度Ｙｍａｘ（Ｙｍｈ及びＹｍｖ）を示す周波数Ｘｍａｘ（Ｘｍｈ及びＸｍｖ）を測定する。例えば、逆空間像の中心を通る水平方向（ｈ１方向）及び垂直方向（ｖ１方向）のそれぞれの方向についてラインプロファイルを作成する場合について以下に説明する。ラインプロファイルは、例えば図３に示されるような、Ｘ軸に周波数、Ｙ軸に強度を表すグラフとして示される。そして、水平方向（ｈ１方向）のラインプロファイルにおける最大強度ＹｍａｘをＹｍｈ１とし、最大強度Ｙｍｈ１を示す周波数からブランク補正されたラインプロファイルにおける全周波数の中央値Ｘｃｅｎを引いた値ＸｍａｘをＸｍｈ１とする。また、垂直方向（ｖ１方向）のラインプロファイルにおける最大強度ＹｍａｘをＹｍｖ１とし、最大強度Ｙｍｖ１を示す周波数からブランク補正されたラインプロファイルにおける全周波数の中央値Ｘｃｅｎを引いた値ＸｍａｘをＸｍｖ１とする。なお、上記例においては、空間像の中心を通る水平方向（ｈ１方向）及び垂直方向（ｖ１方向）を直交する２方向として選択したが、該２方向（ｈ方向及びｖ方向）は互いに直交していれば特に限定されず、中心を通らない二方向であってもよいし、水平方向及び垂直方向でなくてもよい。なお、本明細書において、「ブランク補正されたラインプロファイル」とは、投影画像の逆空間像において直交する２方向の各ラインプロファイルから、背景画像の逆空間像において直交する前記２方向の各ラインプロファイルをそれぞれ引いて得たラインプロファイルを意味する。上記の操作により、投影画像の逆空間像におけるラインプロファイルのベースラインを補正することができる。
【００１８】
本発明の光学フィルムにおいて、上記Ｙｍｈ及びＹｍｖはいずれも３０以下である。Ｙｍｈ又はＹｍｖが３０を超える場合、光学フィルムの均質性が十分であるとはいえない。特に、フィルムの光学的均質性が画像表示装置における光学フィルムとして使用するに十分であるとはいえず、画像の歪み等を十分に低減することができない。光学フィルムの光学的均質性を高めやすく、画像表示装置において画像の視認性を向上しやすい観点から、Ｙｍｈ及びＹｍｖは、好ましくは２８以下、より好ましくは２６以下である。Ｙｍｈ及びＹｍｖは小さければ小さいほどよく、その下限値は特に限定されず０以上であればよく、通常は１以上である。
【００１９】
本発明の光学フィルムにおいて、上記のようにして得たＹｍｈ、Ｙｍｖ、Ｘｍｈ及びＸｍｖは、次の関係：
【数３】
2020055994.tif 000005
を満たす。（Ｙｍｈ＋Ｙｍｖ）／（Ｘｍｈ＋Ｘｍｖ）１／２の値が３０を超えると、光学的均質性が十分でないために画面の歪み等が生じる。また、物理的均質性が十分でないために、例えば光学フィルムをフレキシブル表示装置において使用する場合、十分な耐屈曲性又は強度が得られない場合がある。（Ｙｍｈ＋Ｙｍｖ）／（Ｘｍｈ＋Ｘｍｖ）１／２の値の上限は、フィルムの均質性をより高める観点から、好ましくは２５以下、より好ましくは２２以下、さらに好ましくは２０以下、さらに好ましくは１９．５以下、さらに好ましくは１９以下、さらに好ましくは１８以下、さらに好ましくは１７以下、さらに好ましくは１６以下、さらに好ましくは１３以下、特に好ましくは９以下である。（Ｙｍｈ＋Ｙｍｖ）／（Ｘｍｈ＋Ｘｍｖ）１／２の値は小さければ小さいほどよく、その下限値は特に限定されず０以上であればよく、通常は０．５以上である。
【００２０】
本発明の光学フィルムにおいて、上記のようにして得たブランク補正されたラインプロファイルにおける全周波数の中央値をＸｃｅｎとする。例えば図３に示されるラインプロファイルにおいては、全周波数が９０ｃｍ−１であり、その中央値である４５ｃｍ−１がＸｃｅｎとなる。ここで、Ｘｃｅｎと上記のようにして得たＸｍｈ及びＸｍｖとが、次の関係：
【数４】
2020055994.tif 000006
を満たすことが好ましい。なお、上記の式中、ＸｍはＸｍｈ又はＸｍｖを表し、Ｘｍｈ及びＸｍｖのいずれもが上記式を満たすことが好ましい。｜Ｘｍ−Ｘｃｅｎ｜の下限は、より好ましくは０．５ｃｍ−１以上、さらに好ましくは１．０ｃｍ−１以上である。また、｜Ｘｍ−Ｘｃｅｎ｜の上限は、より好ましくは８．０ｃｍ−１以下、さらに好ましくは６．０ｃｍ−１以下である。ムラとして視認されない光学的均質性を備えることと、生産性とを考慮すると、Ｘｍｈ及びＸｍｖが上記関係を満たすフィルムであることが好ましい。
【００２１】
Ｙｍｈ等に関する上記特徴を有する本発明の光学フィルムは、高い均質性を有し、物理的性質においても高い均質性を有している。そのため、本発明の光学フィルムにおいて、フィルムのＭＤ方向の引裂き強度をＥＭＤ（Ｎ／ｍｍ）とし、ＴＤ方向の引裂き強度をＥＴＤ（Ｎ／ｍｍ）とすると、ＥＴＤに対するＥＭＤの割合（ＥＭＤ／ＥＴＤ）は、好ましくは０．９３以上、より好ましくは０．９５以上である。ＥＭＤ／ＥＴＤの値が１に近づくにつれて、フィルムのＭＤ方向の引裂き強度とＴＤ方向の引裂き強度の値に差がないことを表し、本発明のフィルムが物理的性質においても高い均質性を有していることを表す。なお、ＭＤ方向とは、本発明の光学フィルムを製造する際の樹脂基材の流れ方向であり、ＴＤ方向は、樹脂基材の流れ方向に対する直角方向である。引裂き強度は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２８−１に準拠し、トラウザー試験法に従い測定される。測定条件の詳細は、実施例に記載するとおりである。
【００２２】
本発明の光学フィルムにおいて、ＭＤ方向及びＴＤ方向がない場合、又は、ＭＤ方向及びＴＤ方向が定まらない場合、互いに直交する２方向をＡ方向及びＢ方向とし、該光学フィルムのＡ方向の引裂き強度をＥＡ（Ｎ／ｍｍ）とし、Ｂ方向の引裂き強度をＥＢ（Ｎ／ｍｍ）とする。その場合、ＥＢに対するＥＡの割合（ＥＡ／ＥＢ）が、好ましくは０．９３以上、より好ましくは０．９５以上である。なお、直交する２方向のうち、引裂き強度がより低い方向をＡ方向とし、引き裂き強度がより高い方向をＢ方向とする。光学フィルムの面内の複数の方向に対してＡ方向及び該Ａ方向に直交するＢ方向を定め、複数の方向（好ましくは１０以上の方向）に対して得たＥＢに対するＥＡの割合（ＥＡ／ＥＢ）の全てが、上記の下限以上であることが好ましい。
【００２３】
本発明の光学フィルムの引裂き強度は、光学フィルムの強度を高め、耐久性を向上させやすい観点から、好ましくは０．５Ｎ／ｍｍ以上、より好ましくは０．７Ｎ／ｍｍ以上、さらに好ましくは０．９Ｎ／ｍｍ以上である。また、本発明の光学フィルムの引裂き強度の上限は特に限定されないが、屈曲性の観点から、好ましくは１０Ｎ／ｍｍ以下、より好ましくは８Ｎ／ｍｍ以下、さらに好ましくは５Ｎ／ｍｍ以下である。また、上記と同様の観点から、好ましくは１５Ｎ／ｍｍ２以上、より好ましくは１７Ｎ／ｍｍ２以上、さらに好ましくは２０Ｎ／ｍｍ２以上であり、好ましくは１００Ｎ／ｍｍ２以下、より好ましくは７０Ｎ／ｍｍ２以下、さらに好ましくは５０Ｎ／ｍｍ２以下である。光学フィルムがＴＤ方向及びＭＤ方向において、上記引裂き強度を有することが好ましい。引裂き強度の測定は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２８−１に準拠し、トラウザー試験法に従い測定される。測定条件の詳細は、実施例に記載するとおりである。
【００２４】
本発明の光学フィルムは、平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラーを含む。かかる光学フィルムは、高い均質性、透明性を有することに加えて、高い引張弾性率も有する。光学フィルムの引張弾性率は、好ましくは４，０００ＭＰａ以上、より好ましくは５，０００ＭＰａ以上、さらに好ましくは５，５００ＭＰａ以上、特に好ましくは６，０００ＭＰａ以上である。引張弾性率が上記の下限以上であると、光学フィルムに凹み等の欠陥が生じにくくなると共に、光学フィルムの強度を高めやすく、耐久性を向上させやすい。引張弾性率は、好ましくは１０，０００ＭＰａ以下、より好ましくは９，０００ＭＰａ以下である。引張弾性率が上記の上限以下であると、光学フィルムの耐屈曲性を向上させやすい。なお、光学フィルムの引張弾性率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に準拠して、室温で、引張試験機を用いて測定でき、例えば実施例の記載の方法により測定できる。
【００２５】
本発明の光学フィルムの黄色度（ＹＩ値）は、好ましくは３以下、より好ましくは３．０以下、さらに好ましくは２．５以下、特に好ましくは２以下である。光学フィルムの黄色度が上記の上限以下であると透明性を向上させやすく、例えば表示装置の前面板に使用した場合に視認性を高めやすい。黄色度は、通常−５以上、好ましくは−２以上、より好ましくは０以上、さらに好ましくは０．３以上、さらに好ましくは０．５以上、特に好ましくは０．７以上である。黄色度（ＹＩ）は、ＪＩＳ  Ｋ  ７３７３：２００６に準拠して、紫外可視近赤外分光光度計を用いて３００〜８００ｎｍの光に対する透過率測定を行い、３刺激値（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を求め、ＹＩ＝１００×（１．２７６９Ｘ−１．０５９２Ｚ）／Ｙの式に基づいて算出できる。
【００２６】
本発明の光学フィルムの全光線透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上、特に好ましくは９２％以上である。全光線透過率が上記の下限以上であると、光学フィルムを画像表示装置に組み込んだ際に視認性を高めやすい。本発明の光学フィルムは、光学的均質性が高く、高い透過率を示すので、例えば、透過率の低いフィルムを用いた場合と比べて、一定の明るさを得るため必要な表示素子等の発光強度を抑えることが可能となる。このため、消費電力を削減することができる。例えば、本発明の光学フィルムを表示装置に組みこむ場合、バックライトの光量を減らしても明るい表示を得られる傾向があり、エネルギーの節約に貢献できる。全光線透過率の上限は、通常１００％以下である。なお、全光線透過率は、例えばＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠してヘイズコンピュータを用いて測定できる。全光線透過率は、後述する光学フィルムの膜厚の範囲における全光線透過率であってよい。
【００２７】
本発明の光学フィルムのヘイズは、好ましくは３．０％以下、より好ましくは２．０％以下、さらに好ましくは１．０％以下、さらに好ましくは０．５％以下、特に好ましくは０．３％以下である。光学フィルムのヘイズが上記の上限以下であると透明性が良好となり、例えば画像表示装置の前面板に使用した場合に、画像の視認性を高めやすい。またヘイズの下限は通常０．０１％以上である。なお、ヘイズは、ＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠してヘイズコンピュータを用いて測定できる。
【００２８】
本発明の光学フィルムの膜厚は、用途に応じて適宜調整してよいが、好ましくは２５μｍ以上、より好ましくは２７μｍ以上、さらに好ましくは３０μｍ以上であり、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは９０μｍ以下、さらに好ましくは８５μｍ以下である。光学フィルムの膜厚は、膜厚計などで測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。
【００２９】
本発明の光学フィルムは、重量平均分子量が２３万以上であるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂、ならびに平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラーを含む光学フィルムである。Ｙｍｈ等に関する上記特徴を有する均質性の高い光学フィルムを製造しやすい観点からは、本発明の光学フィルムは、好ましくはキャストフィルムである。本明細書において、キャストフィルムとは、例えば、上記樹脂及びフィラーを含む溶液、分散液、又は溶融物を、適当な支持体上に流延、塗布等し、加熱、冷却、乾燥等により塗膜化させて、必要に応じて該塗膜を該支持体から剥離して得られるフィルムを表す。このようにして得たフィルムは、ポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂並びに平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラーを少なくとも含有し、場合によりさらに微量の溶媒を含有する。
【００３０】
本発明の光学フィルムは、重量平均分子量が２３万以上であるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂、ならびに平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラーを含む。本発明の光学フィルムは１種類のポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂を含有してもよいし、２種以上のポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂を含有してもよい。また、本発明の光学フィルムは平均一次粒子径が５〜３５ｎｍの１種類のフィラーを含有してもよいし、平均一次粒子径が５〜３５ｎｍの２種以上のフィラーを含有してもよい。
【００３１】
＜ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂＞
本発明の光学フィルムは、重量平均分子量が２３万以上であるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂を含む。ポリイミド系樹脂とは、イミド基を含む繰返し構造単位を含有する樹脂（以下、ポリイミド樹脂ということがある）、並びにイミド基及びアミド基の両方を含む繰返し構造単位を含有する樹脂（以下、ポリアミドイミド樹脂ということがある）からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を示す。また、ポリアミド系樹脂とは、アミド基を含む繰り返し構造単位を含有する樹脂を示す。
【００３２】
本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、式（１）で表される構成単位を有するポリイミド樹脂であるか、又は、式（１）で表される構成単位及び式（２）で表される構成単位を有するポリアミドイミド樹脂であることが好ましい。また、ポリアミド系樹脂は、式（２）で表される構成単位を有するポリアミド樹脂であることが好ましい。以下において式（１）及び式（２）について説明するが、式（１）についての説明は、ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂の両方に関し、式（２）についての説明は、ポリアミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂の両方に関する。
【化１】
2020055994.tif 000007
【００３３】
式（１）で表される構成単位は、テトラカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位であり、式（２）で表される構成単位は、ジカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位である。
【００３４】
式（２）において、Ｚは、互いに独立に、２価の有機基であり、好ましくは炭素数１〜８の炭化水素基又はフッ素置換された炭素数１〜８の炭化水素基で置換されていてもよい、炭素数４〜４０の有機基であり、より好ましくは炭素数１〜８の炭化水素基又はフッ素置換された炭素数１〜８の炭化水素基で置換されていてもよい、環状構造を有する炭素数４〜４０の２価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。Ｚの有機基として、後述する式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基の結合手のうち、隣接しない２つが水素原子に置き換わった基及び炭素数６以下の２価の鎖式炭化水素基が例示され、Ｚのヘテロ環構造としてはチオフェン環骨格を有する基が例示される。得られる光学フィルムの黄色度を抑制（ＹＩ値を低減）しやすい観点から、式（２０）〜式（２７）で表される基、及び、チオフェン環骨格を有する基が好ましい。
【００３５】
本発明の一実施形態において、ポリアミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂は、複数種のＺを含み得、複数種のＺは、互いに同一であっても異なっていてもよい。特に、光学フィルムの高い表面硬度及び優れた光学特性を発現しやすい観点から、Ｚの少なくとも一部が、式（３）
【化２】
2020055994.tif 000008
［式（３）中、Ｒ１〜Ｒ８は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ１〜Ｒ８に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Ａは、互いに独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−、−Ｓ−、−ＣＯ−又は−Ｎ（Ｒ９）−を表し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の１価の炭化水素基を表し、
ｍは０〜４の整数であり、
＊は結合手を表す］
で表されることが好ましい。
【００３６】
式（３）において、Ａは、互いに独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−、−Ｓ−、−ＣＯ−又は−Ｎ（Ｒ９）−を表し、光学フィルムの耐屈曲性の観点から、好ましくは−Ｏ−又は−Ｓ−を表し、より好ましくは−Ｏ−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メチル−ブチル基、３−メチルブチル基、２−エチル−プロピル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。炭素数６〜１２のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。光学フィルムの表面硬度及び柔軟性の観点から、Ｒ１〜Ｒ８は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。ここで、Ｒ１〜Ｒ８に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の１価の炭化水素基を表す。炭素数１〜１２の１価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メチル−ブチル基、３−メチルブチル基、２−エチル−プロピル基、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
【００３７】
式（３）において、ｍは、０〜４の範囲の整数であり、ｍがこの範囲内であると、光学フィルムの耐屈曲性や弾性率が良好になりやすい。また、式（３）において、ｍは、好ましくは０〜３の範囲の整数、より好ましくは０〜２、さらに好ましくは０又は１、特に好ましくは０である。ｍがこの範囲内であると、光学フィルムの耐屈曲性や弾性率を向上させやすい。また、Ｚは、式（３）で表される構成単位を１種又は２種類以上含んでいてもよく、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性の向上、黄色度（ＹＩ値）低減の観点から、特にｍの値が異なる２種類以上の構成単位、好ましくはｍの値の異なる２種類の構成単位を含んでいてもよい。その場合、光学フィルムの高い弾性率や耐屈曲性及び低い黄色度（ＹＩ値）を発現しやすい観点から、樹脂がＺにおいて、ｍが０である式（３）で表される構成単位を含有することが好ましく、該構成単位に加えてｍが１である式（３）で表される構成単位をさらに含有することがより好ましい。
【００３８】
本発明の好ましい一実施形態において、樹脂は、式（３）で表される構成単位として、ｍ＝０であり、かつＲ５〜Ｒ８が水素原子である構成単位を有する。より好ましい本発明の一実施形態において、樹脂は、式（３）で表される構成単位として、ｍ＝０であり、かつＲ５〜Ｒ８が水素原子である構成単位と、式（３’）：
【化３】
2020055994.tif 000009
で表される構成単位を有する。この場合、光学フィルムの表面硬度及び耐屈曲性を向上させやすく、黄色度を低減しやすい。
【００３９】
光学フィルムがポリアミドイミド樹脂を含む本発明の好ましい一実施形態において、式（３）で表される構成単位の割合は、ポリアミドイミド樹脂の式（１）で表される構成単位及び式（２）で表される構成単位の合計に対して、好ましくは２０モル％以上、より好ましくは３０モル％以上、さらに好ましくは４０モル％以上、特に好ましくは５０モル％以上、最も好ましくは６０モル％以上であり、好ましくは９０モル％以下、より好ましくは８５モル％以下、さらに好ましくは８０モル％以下である。式（３）で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学フィルムの表面硬度を高めやすく、かつ耐屈曲性や弾性率を高めやすい。式（３）で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式（３）由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。
【００４０】
また、ポリアミドイミド樹脂がｍ＝１〜４である式（３）の構成単位を有する場合、ｍが１〜４である式（３）の構成単位の割合は、ポリアミドイミド樹脂の式（１）で表される構成単位及び式（２）で表される構成単位の合計に対して、好ましくは３モル％以上、より好ましくは５モル％以上、さらに好ましくは７モル％以上、特に好ましくは９モル％以上であり、好ましくは９０モル％以下、より好ましくは７０モル％以下、さらに好ましくは５０モル％以下、特に好ましくは３０モル％以下である。ｍが１〜４である式（３）の構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学フィルムの表面硬度及び耐屈曲性を高めやすい。ｍが１〜４である式（３）の構成単位の割合が上記の上限以下であると、式（３）由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお、式（１）、式（２）又は式（３）で表される構成単位の含有量は、例えば１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
【００４１】
本発明の好ましい一実施形態において、上記ポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂中のＺの、好ましくは３０モル％以上、より好ましくは４０モル％以上、さらに好ましくは４５モル％以上、特に好ましくは５０モル％以上が、ｍが０〜４である式（３）で表される構成単位である。Ｚの上記の下限以上が、ｍが０〜４である式（３）で表される構成単位であると、光学フィルムの表面硬度を高めやすいと共に、耐屈曲性及び弾性率も高めやすい。また、ポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂中のＺの１００モル％以下が、ｍが０〜４である式（３）で表される構成単位であればよい。なお、樹脂中の、ｍが０〜４である式（３）で表される構成単位の割合は、例えば１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
【００４２】
本発明の好ましい一実施形態において、上記ポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂中のＺの、好ましくは５モル％以上、より好ましくは８モル％以上、さらに好ましくは１０モル％以上、特に好ましくは１２モル％以上が、ｍが１〜４である式（３）で表される。ポリアミドイミド樹脂のＺの上記の下限以上が、ｍが１〜４である式（３）で表されると、光学フィルムの表面硬度を高めやすく、かつ耐屈曲性及び弾性率を高めやすい。また、Ｚの、好ましくは９０モル％以下、より好ましくは７０モル％以下、さらに好ましくは５０モル％以下、特に好ましくは３０モル％以下が、ｍが１〜４である式（３）で表されることが好ましい。Ｚの上記の上限以下が、ｍが１〜４である式（３）で表されると、ｍが１〜４である式（３）由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお樹脂中のｍが１〜４である式（３）で表される構成単位の割合は、例えば１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
【００４３】
式（１）及び式（２）において、Ｘは、互いに独立に、２価の有機基を表し、好ましくは炭素数４〜４０の２価の有機基、より好ましくは環状構造を有する炭素数４〜４０の２価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは１〜８である。本発明の一実施形態において、ポリイミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、複数種のＸを含み得、複数種のＸは、互いに同一でよく、異なっていてもよい。Ｘとしては、式（１０）、式（１１）、式（１２）、式（１３）、式（１４）、式（１５）、式（１６）、式（１７）及び式（１８）で表される基；それらの式（１０）〜式（１８）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基；並びに炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。
【００４４】
【化４】
2020055994.tif 000010
【００４５】
式（１０）〜式（１８）中、＊は結合手を表し、
Ｖ１、Ｖ２及びＶ３は、互いに独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−又は−Ｎ（Ｑ）−を表す。ここで、Ｑはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の１価の炭化水素基を表す。炭素数１〜１２の１価の炭化水素基としては、Ｒ９について上記に述べた基が挙げられる。
１つの例は、Ｖ１及びＶ３が単結合、−Ｏ−又は−Ｓ−であり、かつ、Ｖ２が−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−又は−ＳＯ２−である。Ｖ１とＶ２との各環に対する結合位置、及び、Ｖ２とＶ３との各環に対する結合位置は、互いに独立に、好ましくは各環に対してメタ位又はパラ位であり、より好ましくはパラ位である。
【００４６】
式（１０）〜式（１８）で表される基の中でも、光学フィルムの表面硬度及び耐屈曲性を高めやすい観点から、式（１３）、式（１４）、式（１５）、式（１６）及び式（１７）で表される基が好ましく、式（１４）、式（１５）及び式（１６）で表される基がより好ましい。また、Ｖ１、Ｖ２及びＶ３は、光学フィルムの表面硬度及び柔軟性を高めやすい観点から、互いに独立に、単結合、−Ｏ−又は−Ｓ−であることが好ましく、単結合又は−Ｏ−であることがより好ましい。
【００４７】
本発明の好ましい一実施形態において、式（１）及び式（２）中の複数のＸの少なくとも一部は、式（４）：
【化５】
2020055994.tif 000011
［式（４）中、Ｒ１０〜Ｒ１７は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ１０〜Ｒ１７に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、＊は結合手を表す］
で表される構成単位である。式（１）及び式（２）中の複数のＸの少なくとも一部が式（４）で表される基であると、光学フィルムの表面硬度及び透明性を高めやすい。
【００４８】
式（４）において、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基としては、式（３）における炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基として例示のものが挙げられる。Ｒ１０〜Ｒ１７は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、ここで、Ｒ１０〜Ｒ１７に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Ｒ１０〜Ｒ１７は、互いに独立に、光学フィルムの表面硬度、透明性及び耐屈曲性の観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはＲ１０、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、及びＲ１６が水素原子、Ｒ１１及びＲ１７が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、特に好ましくはＲ１１及びＲ１７がメチル基又はトリフルオロメチル基である。
【００４９】
本発明の好ましい一実施形態において、式（４）で表される構成単位は式（４’）：
【化６】
2020055994.tif 000012
で表される構成単位であり、すなわち、複数のＸの少なくとも一部は、式（４’）で表される構成単位である。この場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。
【００５０】
本発明の好ましい一実施形態において、上記ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂中のＸの、好ましくは３０モル％以上、より好ましくは５０モル％以上、さらに好ましくは７０モル％以上が式（４）、特に式（４’）で表される。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂における上記範囲内のＸが式（４）、特に式（４’）で表されると、得られる光学フィルムは、フッ素元素を含有する骨格により樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性も向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂中のＸの１００モル％以下が式（４）、特に式（４’）で表される。上記ポリアミドイミド樹脂中のＸは式（４）、特に式（４’）であってもよい。上記樹脂中のＸの式（４）で表される構成単位の割合は、例えば１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
【００５１】
式（１）において、Ｙは４価の有機基を表し、好ましくは炭素数４〜４０の４価の有機基を表し、より好ましくは環状構造を有する炭素数４〜４０の４価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは１〜８である。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のＹを含み得、複数種のＹは、互いに同一でよく、異なっていてもよい。Ｙとしては、以下の式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基；それらの式（２０）〜式（２９）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基；並びに４価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。
【００５２】
【化７】
2020055994.tif 000013
【００５３】
式（２０）〜式（２９）中、
＊は結合手を表し、
Ｗ１は、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ａｒ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−Ｏ−Ａｒ−Ｏ−、−Ａｒ−Ｏ−Ａｒ−、−Ａｒ−ＣＨ２−Ａｒ−、−Ａｒ−Ｃ（ＣＨ３）２−Ａｒ−又は−Ａｒ−ＳＯ２−Ａｒ−を表す。Ａｒは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。
【００５４】
式（２０）〜式（２９）で表される基の中でも、光学フィルムの表面硬度及び耐屈曲性の観点から、式（２６）、式（２８）又は式（２９）で表される基が好ましく、式（２６）で表される基がより好ましい。また、Ｗ１は、光学フィルムの表面硬度及び耐屈曲性を高めやすく、黄色度を低減しやすい観点から、互いに独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−又は−Ｃ（ＣＦ３）２−であることが好ましく、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−又は−Ｃ（ＣＦ３）２−であることがより好ましく、単結合、−Ｃ（ＣＨ３）２−又は−Ｃ（ＣＦ３）２−であることがさらに好ましい。
【００５５】
本発明の好ましい一実施形態において、式（１）中の複数のＹの少なくとも一部は、式（５）：
【化８】
2020055994.tif 000014
［式（５）中、Ｒ１８〜Ｒ２５は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ１８〜Ｒ２５に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
＊は結合手を表す］
で表される構成単位である。式（１）中の複数のＹの少なくとも一部が式（５）で表される基であると、ポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、ポリイミド系樹脂を含有するワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。
【００５６】
式（５）において、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基としては、式（３）における炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基として上記に例示のものが挙げられる。Ｒ１８〜Ｒ２５は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、ここで、Ｒ１８〜Ｒ２５に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Ｒ１８〜Ｒ２５は、互いに独立に、光学フィルムの表面硬度、耐屈曲性及び透明性を向上しやすい観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、よりさらに好ましくはＲ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２３、Ｒ２４、及びＲ２５が水素原子、Ｒ２１及びＲ２２が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはＲ２１及びＲ２２がメチル基又はトリフルオロメチル基である。
【００５７】
本発明の好ましい一実施形態においては、式（５）で表される構成単位は、式（５’）：
【化９】
2020055994.tif 000015
で表される基であり、すなわち、複数のＹの少なくとも一部は、式（５’）で表される構成単位である。この場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。
【００５８】
本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂中のＹの、好ましくは５０モル％以上、より好ましくは６０モル％以上、さらに好ましくは７０モル％以上が、式（５）、特に式（５’）で表される。ポリイミド系樹脂における上記範囲内のＹが式（５）、特に式（５’）で表されると、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリイミド系樹脂中のＹの１００モル％以下が式（５）、特に式（５’）で表される。ポリイミド系樹脂中のＹは式（５）、特に式（５’）であってもよい。ポリイミド系樹脂中のＹの式（５）で表される構成単位の割合は、例えば１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
【００５９】
ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂は、式（１）及び式（２）で表される構成単位の他に、式（３０）で表される構成単位及び／又は式（３１）で表される構成単位を含むことができる。
【化１０】
2020055994.tif 000016
【００６０】
式（３０）において、Ｙ１は４価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｙ１としては、式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基、それらの式（２０）〜式（２９）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基、並びに４価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂は、複数種のＹ１を含み得、複数種のＹ１は、互いに同一でよく、異なっていてもよい。
【００６１】
式（３１）において、Ｙ２は３価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｙ２としては、上記の式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基の結合手のいずれか１つが水素原子に置き換わった基、及び３価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂は、複数種のＹ２を含み得、複数種のＹ２は、互いに同一でよく、異なっていてもよい。
【００６２】
式（３０）及び式（３１）において、Ｘ１及びＸ２は、互いに独立に、２価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｘ１及びＸ２としては、上記の式（１０）、式（１１）、式（１２）、式（１３）、式（１４）、式（１５）、式（１６）、式（１７）、及び式（１８）で表される基；それら式（１０）〜式（１８）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基；並びに炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。
【００６３】
本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂は、式（１）及び／又は式（２）で表される構成単位、並びに場合により式（３０）及び／又は式（３１）で表される構成単位からなる。また、光学フィルムの光学特性、表面硬度及び耐屈曲性の観点から、上記ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂において、式（１）及び式（２）で表される構成単位は、式（１）及び式（２）、並びに場合により式（３０）及び式（３１）で表される全構成単位に基づいて、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは９０モル％以上、さらに好ましくは９５モル％以上である。なお、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂において、式（１）及び式（２）で表される構成単位は、式（１）及び式（２）、並びに場合により式（３０）及び／又は式（３１）で表される全構成単位に基づいて、通常１００％以下である。なお、上記割合は、例えば、１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
【００６４】
ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、標準ポリスチレン換算で、２３万以上である。重量平均分子量が２３万より低い場合、光学フィルムの十分な耐屈曲性を得ることができない。光学フィルムの表面硬度及び耐屈曲性を高めやすい観点から、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、好ましくは２３０，０００以上、より好ましくは２５０，０００以上、さらに好ましくは２７０，０００以上、特に好ましくは３００，０００以上である。また、ポリアミド系樹脂又はポリイミド系樹の溶媒に対する溶解性を向上しやすいと共に、光学フィルムの延伸性及び加工性を向上しやすい観点から、該樹脂の重量平均分子量は、好ましくは１，０００，０００以下、より好ましくは８００，０００以下、さらに好ましくは７００，０００以下、特に好ましくは５００，０００以下である。重量平均分子量は、例えばＧＰＣ測定を行い、標準ポリスチレン換算によって求めることができ、例えば実施例に記載の方法により算出してよい。
【００６５】
ポリアミドイミド樹脂において、式（２）で表される構成単位の含有量は、式（１）で表される構成単位１モルに対して、好ましくは０．１モル以上、より好ましくは０．５モル以上、さらに好ましくは１．０モル以上、特に好ましくは１．５モル以上であり、好ましくは６．０モル以下、より好ましくは５．０モル以下、さらに好ましくは４．５モル以下である。式（２）で表される構成単位の含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの表面硬度を高めやすい。また、式（２）で表される構成単位の含有量が上記の上限以下であると、式（２）中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、光学フィルムの加工性を向上させやすい。
【００６６】
本発明の好ましい一実施形態において、本発明の光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂は、例えば上記の含フッ素置換基等によって導入することができる、フッ素原子等のハロゲン原子を含んでよい。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂がハロゲン原子を含む場合、光学フィルムの弾性率を向上させ、かつ黄色度（ＹＩ値）を低減させやすい。光学フィルムの弾性率が高いと、該フィルムにおけるキズ及びシワ等の発生を抑制しやすく、また、光学フィルムの黄色度が低いと、該フィルムの透明性及び視認性を向上させやすくなる。ハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂にフッ素原子を含有させるために好ましい含フッ素置換基としては、例えばフルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
【００６７】
ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の質量を基準として、好ましくは１〜４０質量％、より好ましくは５〜４０質量％、さらに好ましくは５〜３０質量％である。ハロゲン原子の含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの弾性率をより向上させ、吸水率を下げ、黄色度をより低減し、透明性及び視認性をより向上させやすい。ハロゲン原子の含有量が上記の上限以下であると、合成がしやすくなる。
【００６８】
ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂のイミド化率は、好ましくは９０％以上、より好ましくは９３％以上、さらに好ましくは９６％以上である。光学フィルムの光学的均質性を高めやすい観点から、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。また、イミド化率の上限は１００％以下である。イミド化率は、ポリイミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の２倍の値に対する、ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。なお、ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂がトリカルボン酸化合物を含む場合には、ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の２倍の値と、トリカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量との合計に対する、ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。また、イミド化率は、ＩＲ法、ＮＭＲ法などにより求めることができ、例えば、ＮＭＲ法においては、実施例に記載の方法により測定できる。
【００６９】
ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は、市販品を使用してもよい。ポリイミド樹脂の市販品としては、例えば三菱瓦斯化学（株）製ネオプリム（登録商標）、河村産業（株）製ＫＰＩ−ＭＸ３００Ｆ等が挙げられる。
【００７０】
＜樹脂の製造方法＞
ポリイミド樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造でき、ポリアミドイミド樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造でき、ポリアミド樹脂は、例えば、ジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造できる。ここで、ジカルボン酸化合物は少なくとも式（３”）で表される化合物を含むことが好ましい。
【化１１】
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［式（３”）中、Ｒ１〜Ｒ８は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ１〜Ｒ８に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Ａは、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−、−Ｓ−、−ＣＯ−又は−Ｎ（Ｒ９）−を表し、
Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の１価の炭化水素基を表し、
ｍは０〜４の整数であり、
Ｒ３１及びＲ３２は、互いに独立に、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基又は塩素原子を表す。］
【００７１】
本発明の好ましい一実施形態において、ジカルボン酸化合物は、ｍが０である、式（３”）で表される化合物である。ジカルボン酸化合物として、ｍが０である式（３”）で表される化合物に加えて、Ａが酸素原子である式（３”）で表される化合物を使用することがより好ましい。また、別の好ましい一実施形態においては、ジカルボン酸化合物は、Ｒ３１、Ｒ３２が塩素原子である、式（３”）で表される化合物である。また、ジアミン化合物に代えて、ジイソシアネート化合物を用いてもよい。
【００７２】
樹脂の製造に使用されるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及びこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環である。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。
【００７３】
脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン、並びに１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン及び４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。
【００７４】
芳香族ジアミンとしては、例えばｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、２，４−トルエンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、１，５−ジアミノナフタレン、２，６−ジアミノナフタレン等の、芳香環を１つ有する芳香族ジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、ビス〔４−（３−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢと記載することがある）、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−クロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−フルオロフェニル）フルオレン等の、芳香環を２つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。
【００７５】
芳香族ジアミンは、好ましくは４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、ビス〔４−（３−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニルであり、より好ましくは４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニルである。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。
【００７６】
上記ジアミン化合物の中でも、光学フィルムの高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高屈曲耐性及び低着色性の観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる１種以上を用いることが好ましい。２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル及び４，４’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる１種以上を用いることがより好ましく、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）を用いることがよりさらに好ましい。
【００７７】
樹脂の製造に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物；及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。
【００７８】
芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡと記載することがある）、１，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、４，４’−（ｐ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物、４，４’−（ｍ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば１，２，４，５−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００７９】
これらの中でも、好ましくは４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）、１，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、４，４’−（ｐ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物及び４，４’−（ｍ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物及び４，４’−（ｐ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。
【００８０】
脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル３，３’−４，４’−テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、及び１，２，３，４−ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。
【００８１】
上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、光学フィルムの高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高屈曲耐性、及び低着色性の観点から、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物が好ましく、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及び４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物がより好ましく、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）がさらに好ましい。
【００８２】
樹脂の製造に用いられるジカルボン酸化合物としては、好ましくはテレフタル酸、４，４’−オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物が用いられる。テレフタル酸や４，４’−オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物に加えて、他のジカルボン酸化合物が用いられてもよい。他のジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、２種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、イソフタル酸；ナフタレンジカルボン酸；４，４’−ビフェニルジカルボン酸；３，３’−ビフェニルジカルボン酸；炭素数８以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物及び２つの安息香酸が単結合、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−若しくはフェニレン基で連結された化合物並びに、それらの酸クロリド化合物が挙げられる。具体例としては、４，４’−オキシビス（ベンゾイルクロリド）、テレフタロイルクロリドが好ましく、４，４’−オキシビス（ベンゾイルクロリド）とテレフタロイルクロリドとを組合せて用いることがさらに好ましい。
【００８３】
なお、上記ポリイミド系樹脂は、光学フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記テトラカルボン酸化合物に加えて、テトラカルボン酸及びトリカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体をさらに反応させたものであってもよい。
【００８４】
テトラカルボン酸としては、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。
【００８５】
トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、２種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、１，２，４−ベンゼントリカルボン酸の無水物；２，３，６−ナフタレントリカルボン酸−２，３−無水物；フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−若しくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。
【００８６】
樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及び／又はジカルボン酸化合物の使用量は、所望とするポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の各構成単位の比率に応じて適宜選択できる。
【００８７】
樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の反応温度は、特に限定されないが、例えば２０〜２００℃、好ましくは２５〜１００℃である。反応時間も特に限定されないが、例えば３０分〜１０時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。好ましい態様では、反応は、常圧及び／又は不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。また、反応は、反応に不活性な溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒；及びそれらの組合せ（混合溶媒）などが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、アミド系溶媒を好適に使用できる。
【００８８】
ポリイミド系樹脂の製造におけるイミド化工程では、イミド化触媒の存在下で、イミド化することができる。イミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン；Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ−プロピルピペリジン、Ｎ−ブチルピロリジン、Ｎ−ブチルピペリジン、及びＮ−プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン（単環式）；アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン、アザビシクロ［３．２．１］オクタン、アザビシクロ［２．２．２］オクタン、及びアザビシクロ［３．２．２］ノナン等の脂環式アミン（多環式）；並びにピリジン、２−メチルピリジン（２−ピコリン）、３−メチルピリジン（３−ピコリン）、４−メチルピリジン（４−ピコリン）、２−エチルピリジン、３−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２，４−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、３，４−シクロペンテノピリジン、５，６，７，８−テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。
【００８９】
ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手段により単離（分離精製）してもよく、好ましい態様では、透明ポリアミドイミド樹脂を含む反応液に、多量のメタノール等のアルコールを加え、樹脂を析出させ、濃縮、濾過、乾燥等を行うことにより単離することができる。
【００９０】
＜フィラー＞
本発明の光学フィルムは、平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラーを含む。平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラーを含有する本発明の光学フィルムは、透明性及び光学的均質性と、高い弾性率及び強度とを兼ね備えた光学フィルムであり、フレキシブル表示装置等において使用するに特に適する。フィラーの平均一次粒子径が５ｎｍより小さい場合、フィラーの粒子が凝集しやすいため、フィラーが均一に分散した光学フィルムを得ることが難しい。その結果、光学フィルムの光学的均質性及び物理的性質の均質性が損なわれたり、光学フィルムの透明性、弾性率及び強度が低下したりしやすい。フィラーの平均一次粒子径が３５ｎｍより大きい場合、フィラー自体が有する光学特性が光学フィルムの光学特性に影響し、光学フィルムの透明性を十分に高めることができない。光学フィルムの均質性、透明性、弾性率及び強度を高めやすい観点からは、フィラーの平均一次粒子径は、好ましくは１０ｎｍ以上、より好ましくは１５ｎｍ以上、さらに好ましくは２０ｎｍ以上である。また、光学フィルムの透明性を高めやすい観点から、フィラーの平均一次粒子径は、好ましくは３０ｎｍ以下である。
【００９１】
フィラーの平均一次粒子径は、ＢＥＴ法により測定できる。具体的には、ＢＥＴ法（窒素吸着ＢＥＴ法）により測定した比表面積（ＢＥＴ比表面積）を、平均一次粒子径に換算して算出することができる。ここで、平均一次粒子径をｄ（ｎｍ）とし、フィラーの密度をρ（ｇ／ｃｍ３）とし、ＢＥＴ比表面積をＳ（ｍ２／ｇ）とすると、これらの間には、ｄ＝６０００／（Ｓ×ρ）の関係が成り立つ。例えばフィラーがシリカである場合、ｄ＝２０７０／Ｓの式より、ＢＥＴ比表面積から平均一次粒子径を算出することができる。なお、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）や走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の画像解析により、一次粒子径（平均一次粒子径）を測定してもよい。光学フィルムに含まれるフィラーの平均一次粒子径は、原料として用いるフィラーの平均一次粒子径であってもよいし、光学フィルムから測定した平均一次粒子径であってもよい。光学フィルムからフィラーの平均一次粒子径を測定する場合、フィルムを測定試料として透過型電子顕微鏡や走査型電子顕微鏡の画像解析により、光学フィルム中のフィラーの平均一次粒子径を測定してもよいし、フィルムを必要に応じて粉砕し、破砕したフィルムを、フィルム中の樹脂を溶解可能な溶媒（例えばγ−ブチロラクトン）に溶解させた状態で、分散された粒子を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察して測定してもよいし、フィルムからフィラーを取り出し、乾燥させて、上記と同様にしてＢＥＴ比表面積から平均一次粒子径を算出してもよい。平均一次粒子径を例えば電子顕微鏡の画像解析により測定する場合、一定面積内に存在する１００個の粒子のそれぞれについて一次粒子径を測定した結果の平均値を、平均一次粒子径としてよい。
【００９２】
フィラーとしては、例えば有機粒子、無機粒子などが挙げられ、好ましくは無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物粒子などが挙げられ、これらの中でも、得られる光学フィルムの弾性率及び／又は引裂き強度を高め、耐衝撃性を向上しやすい観点から、好ましくはシリカ粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子が挙げられ、より好ましくはシリカ粒子が挙げられる。これらのフィラーは単独又は２種以上を組合せて使用できる。
【００９３】
平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラーの含有量は、光学フィルムの質量に対して、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上、さらに好ましくは１５質量％以上、さらに好ましくは２０質量％以上、さらに好ましくは２５質量％以上、特に好ましくは３０質量％以上である。フィラーの含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの耐衝撃性及び耐久性を向上させやすい。平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラーの含有量は、光学フィルムの質量に対して、好ましくは６０質量％以下、より好ましくは５０質量％以下、さらに好ましくは４５質量％以下である。フィラーの含有量が上記の上限以下であると、光学フィルムのヘイズや黄色度を低減しやすく、透明性及び光学特性を向上させやすいと共に、耐屈曲性を向上させやすい。
【００９４】
＜紫外線吸収剤＞
本発明の光学フィルムは、少なくとも１種の紫外線吸収剤を含んでもよい。紫外線吸収剤は、樹脂材料の分野で紫外線吸収剤として通常用いられているものから、適宜選択することができる。紫外線吸収剤は、４００ｎｍ以下の波長の光を吸収する化合物を含んでいてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。紫外線吸収剤は単独又は二種以上を組合せて使用できる。光学フィルムが紫外線吸収剤を含有することにより、樹脂の劣化が抑制されるため、本発明の光学フィルムを画像表示装置等に適用した場合に視認性を高めることができる。本明細書において、「系化合物」とは、当該「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す。
【００９５】
本発明の光学フィルムが紫外線吸収剤を含有する場合、紫外線吸収剤の含有量は、光学フィルムに含まれる樹脂の質量に対して、好ましくは０．０１〜１０質量部、より好ましくは１〜８質量部、さらに好ましくは２〜７質量部である。紫外線吸収剤の含有量が上記の下限値以上であると、紫外線吸収性を向上させやすい。紫外線吸収剤の含有量が上記の上限値以下であると、基材製造時の熱による紫外線吸収剤の分解を抑制でき、光学特性を向上させやすく、例えばヘイズを低減させやすい。
【００９６】
＜他の添加剤＞
本発明の光学フィルムは、フィラー、紫外線吸収剤以外の他の添加剤をさらに含有していてもよい。他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤等の着色剤、難燃剤、ｐＨ調整剤、シリカ分散剤、滑剤、増粘剤、及びレベリング剤等が挙げられる。他の添加剤を含有する場合、その含有量は、光学フィルムの質量に対して、好ましくは０．００５〜２０質量部、より好ましくは０．０１〜１５質量部、さらに好ましくは０．１〜１０質量部であってよい。
【００９７】
＜光学フィルムの製造方法＞
上記特徴を有する本発明の光学フィルムの製造方法は特に限定されないが、例えば、次の工程：
（ａ）重量平均分子量が２３万以上であるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂、平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラー、ならびに溶媒を少なくとも含有するワニスを支持体上に塗布し、乾燥させ、塗膜を形成させる工程、
（ｂ）支持体から塗膜を剥離する工程、及び
（ｃ）剥離した塗膜を加熱し、フィルムを得る工程
を少なくとも含む製造方法により製造することができる。本発明は、上記の工程を少なくとも含む、光学フィルムの製造方法も提供する。
【００９８】
本発明の光学フィルムの製造方法は、工程（ｃ）の後、
（ｄ）得られたフィルムを用いて投影法により得た投影画像をフーリエ変換して得たフィルム逆空間像において互いに直交する方向ｈ及び方向ｖにおけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルｈ及びラインプロファイルｖとし、前記投影法において前記フィルムを用いずに得た背景画像をフーリエ変換して得た背景逆空間像において互いに直交する方向ｈ’及び方向ｖ’におけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルｈ’及びラインプロファイルｖ’とし、ラインプロファイルｈからラインプロファイルｈ’を引いて得たラインプロファイル（ｈ−ｈ’）の最大強度をＹｍｈとし、最大強度Ｙｍｈを示す周波数をＸｍｈとし、ラインプロファイルｖからラインプロファイルｖ’を引いて得たラインプロファイル（ｖ−ｖ’）の最大強度をＹｍｖとし、最大強度Ｙｍｖを示す周波数をＸｍｖとしたときの、Ｙｍｈ及びＹｍｖの値、並びに、Ｙｍｈ、Ｙｍｖ、Ｘｍｈ及びＸｍｖから算出される（Ｙｍｈ＋Ｙｍｖ）／（Ｘｍｈ＋Ｘｍｖ）１／２の値に基づいて、フィルムを評価する工程
をさらに含んでもよい。
【００９９】
上記の工程（ａ）で使用するワニスは、重量平均分子量が２３万以上であるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂、平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラー、ならびに溶媒を少なくとも含有する。ここで、ワニスの粘度（ｃｐｓ）とワニスの固形分濃度（質量％）は、次の関係：
【数５】
2020055994.tif 000018
を満たすことが好ましい。
【０１００】
まず、ワニスを支持体上に塗布し、乾燥させ、塗膜を形成させる工程（ａ）について説明する。ワニスに含有される樹脂及びフィラーとしては、本発明の光学フィルムに含まれる樹脂及びフィラーとして上記に記載した樹脂及びフィラーが挙げられる。また、ワニスには、上記に述べた紫外線吸収剤、その他の添加剤が含有されていてもよい。
【０１０１】
ワニスに含有される溶媒は、上記樹脂を溶解可能であれば特に限定されない。かかる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒；γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）、γ−バレロラクトン等のラクトン系溶媒；ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒；及びそれらの組合せ（混合溶媒）が挙げられる。これらの中でも、光学フィルムの均質性、特に光学的均質性を高めやすい観点から、アミド系溶媒又はラクトン系溶媒が好ましい。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。また、ワニスには水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、非環状エステル系溶媒、エーテル系溶媒などが含まれてもよい。ワニスの固形分濃度は、好ましくは１〜２５質量％、より好ましくは５〜２０質量％である。
【０１０２】
ワニスは、上記樹脂、フィラー、溶媒及び必要に応じて用いられる紫外線吸収剤及びその他の添加剤を混合し、撹拌することにより調製することができる。例えば、上記のジカルボン酸化合物、テトラカルボン酸化合物、及び／又はジアミン化合物、ならびに上記のその他の原料を反応させて得た、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の反応液を、溶媒及び場合により他の添加剤と共に混合し、撹拌することにより、ワニスを調製してよい。反応液からポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂を単離して、溶媒等と混合することにより、ワニスを調製してもよいし、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の溶液や固体を購入し、必要に応じて溶媒等と混合することにより、ワニスを調製してもよい。また、フィラーとしてシリカを用いる場合、シリカを含むシリカゾルの分散液を、前記樹脂が溶解可能な溶媒、例えば下記のワニスの調製に用いられる溶媒で置換したシリカゾルを用いてワニスを調製してもよい。
【０１０３】
上記のようにして調製したワニスの粘度（ｃｐｓ）と、ワニスの固形分濃度（質量％）は特に限定されないが、優れた均質性を有する本発明のフィルムを得やすい観点からは、これらが次の関係：
【数６】
2020055994.tif 000019
を満たすことが好ましい。ここで、ワニスの粘度（ｃｐｓ）は、ＪＩＳ  Ｋ８８０３：２０１１に従い、Ｅ型粘度計を用いて、２５℃で測定される。また、ワニスの固形分濃度は、ワニスに含有される樹脂、フィラー及び添加剤等の濃度（質量％）を表し、ワニスの全質量に基づくワニスに含有される固形分の質量から算出される。上記式で表されるワニスの粘度とワニスの固形分濃度との積は、フィルムの光学的均質性を高めやすい観点から、好ましくは３，０００以上、より好ましくは３，５００以上である。上記式で表されるワニスの粘度とワニスの固形分濃度との積の上限は特に限定されないが、ワニスのハンドリングの観点からは、好ましくは１０，０００以下、より好ましくは７，０００以下である。
【０１０４】
ワニスの粘度は、好ましくは５，０００〜６０，０００ｃｐｓ、より好ましくは１０，０００〜５０，０００ｃｐｓ、さらに好ましくは１５，０００〜４５，０００ｃｐｓである。ワニスの粘度が上記の下限以上であると、本発明の効果を得られやすく、上記の上限以下であることが、ワニスのハンドリングしやすさの観点から好ましい。
【０１０５】
ワニスの固形分濃度は、好ましくは５〜２５質量％、より好ましくは７〜２３質量％、さらに好ましくは９〜２０質量％である。ワニスの固形分濃度が上記の下限以上であることが、厚い膜厚を得る観点から好ましく、上記の上限以下であることが、ワニスのハンドリングしやすさの観点から好ましい。
【０１０６】
支持体としては、例えば樹脂基材、ステンテレス鋼ベルト、ガラス基材等が挙げられる。支持体として、樹脂フィルム基材を使用することが好ましい。樹脂フィルム基材としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、シクロオレフィン系（ＣＯＰ）フィルム、アクリル系フィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム等が挙げられる。中でも、平滑性、耐熱性に優れる観点から、ＰＥＴフィルム、ＣＯＰフィルム等が好ましく、さらに光学フィルムとの密着性及びコストの観点から、ＰＥＴフィルムがより好ましい。
【０１０７】
支持体の膜厚は、特に制限されないが、好ましくは５０〜２５０μｍ、より好ましくは１００〜２００μｍ、さらに好ましくは１５０〜２００μｍである。支持体の膜厚が上記の上限以下である場合、フィルムの製造コストを抑え易いため好ましい。また、支持体の膜厚が上記の下限以上であることが、溶媒の少なくとも一部を除去する工程で生じ得るフィルムのカールを抑制しやすいため好ましい。ここで、支持体の膜厚は、接触式の膜厚計などにより測定される。フィルムの面品質を向上し、本発明の光学フィルムを製造しやすい観点から、支持体の膜厚分布は、好ましくは±３μｍ以下、より好ましくは±２．５μｍ以下、さらに好ましくは±２μｍ以下である。支持体の膜厚分布は、上記膜厚の測定方法に従い、フィルムの少なくとも２０箇所において膜厚を測定し、２０箇所の平均膜厚を算出し、各箇所における膜厚と平均膜厚との差から算出する。
【０１０８】
ワニスを支持体上に塗布する際、公知の塗布方法により支持体への塗布を行ってよい。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法、流涎成形法等が挙げられる。
【０１０９】
次に、支持体上に塗布したワニスの塗膜を乾燥させることにより、塗膜を形成させることができる。乾燥は、ワニスの塗膜から少なくとも一部の溶媒を除去することにより行われ、乾燥方法は特に限定されない。例えば支持体上に塗布したワニスの塗膜を加熱することにより乾燥を行ってよい。以下において、工程（ａ）における乾燥を「第１乾燥」とも称し、乾燥後に支持体上に形成された塗膜を、「乾燥塗膜」とも称する。乾燥塗膜は、ワニスに含まれていた溶媒が全て乾燥された塗膜であってもよいし、一部の溶媒が乾燥された半乾燥状態の塗膜であってもよい。第１乾燥は、必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において実施してもよい。第１乾燥は比較的低温で時間をかけて行うことが好ましい。比較的低温で時間をかけて第１乾燥を行うと、上記の式におけるＹｍｈ及びＹｍｖの値を低下させやすく、（Ｙｍｈ＋Ｙｍｖ）／（Ｘｍｈ＋Ｘｍｖ）１／２の値を低下させやすく、光学フィルムの光学的均質性を高めやすい。加熱により乾燥を行う場合、第１乾燥の際の加熱温度は、好ましくは５０〜１５０℃、より好ましくは６０〜１３０℃、さらに好ましくは７０〜１２０℃である。第１乾燥の時間は好ましくは５〜６０分、より好ましくは１０〜４０分である。第１乾燥は、１段階又は多段階の条件下で実施してもよい。多段階の条件下で乾燥を行う場合、好ましくは、それぞれの段階において、同一又は異なる温度条件及び／又は乾燥時間で乾燥を実施することができ、例えば２〜１０段階、好ましくは３〜８段階の条件下で乾燥を行ってもよい。第１乾燥を多段階の条件で実施すると、光学フィルムの光学的均質性を高めやすい。３段階以上の多段階の条件下で第１乾燥を行う本発明の好ましい一実施形態では、第１乾燥の温度プロファイルが昇温及び降温を含むことが好ましい。このような温度プロファイルとして、４段階の場合を例に挙げると、第１乾燥の温度は、順に７０〜９０℃（第１の温度）、９０〜１２０℃（第２の温度）、８０〜１２０℃（第３の温度）及び８０〜１００℃（第４の温度）である。この例では、第１乾燥の温度は、第１の温度から第２の温度へ昇温し、次いで第２の温度から第３の温度へ降温し、さらに第３の温度から第４の温度に降温する。ここで第１乾燥の時間は各段階において、例えば、５〜１５分である。乾燥塗膜の溶媒残存量が、乾燥塗膜の質量に対して、好ましくは５〜１５質量％、より好ましくは６〜１２質量％となるように、第１乾燥を実施することが好ましい。溶媒残存量が上記の範囲であると、光学フィルムの上記の式におけるＹｍｈ及びＹｍｖの値を低下させやすく、（Ｙｍｈ＋Ｙｍｖ）／（Ｘｍｈ＋Ｘｍｖ）１／２の値を低下させやすい。また、続く工程（ｂ）において、支持体から塗膜を剥離する際の剥離性を高めやすい。その結果、光学フィルムの均質性を高めやすい。溶媒の残存量は、各工程の乾燥温度を高くすること及び乾燥時間を長くすることによって、低下する。そのため、所望の範囲の溶媒残存量となるように、乾燥温度や乾燥時間を調整し、光学フィルムの均質性を高めることができる。
【０１１０】
次に、工程（ｂ）において、支持体から乾燥させた塗膜を剥離する。剥離方法は特に限定されず、支持体を固定させた状態で塗膜を移動させて剥離を行ってもよいし、塗膜を固定させた状態で支持体を移動させて剥離を行ってもよいし、塗膜及び支持体の両方を移動させることにより剥離を行ってもよい。
【０１１１】
次に、工程（ｃ）において、工程（ｂ）で剥離した塗膜を加熱することにより、本発明のフィルムを得ることができる。工程（ｃ）における加熱工程を、以下において、「第２乾燥」又は「ポストベーク」とも称し、工程（ｂ）で剥離した塗膜を、以下において、「剥離塗膜」とも称する。工程（ｃ）において、剥離塗膜を面内方向に伸張させた状態で、ポストベークを実施することが好ましい。第２乾燥の際の加熱温度は、好ましくは１５０〜３００℃、より好ましくは１８０〜２５０℃、さらに好ましくは１８０〜２３０℃である。第２乾燥における加熱時間は、好ましくは１０〜６０分、より好ましくは３０〜５０分である。乾燥塗膜を面内方向に均一に伸長させた状態でポストベーク処理を実施すると、光学フィルムの上記の式におけるＹｍｈ及びＹｍｖの値を低下させやすく、（Ｙｍｈ＋Ｙｍｖ）／（Ｘｍｈ＋Ｘｍｖ）１／２の値を低下させやすい。
【０１１２】
工程（３）において塗膜を加熱する際、塗膜に張力をかけて、塗膜を面内方向に伸張させた状態で加熱を行うことが好ましい。張力をかけながら加熱することにより、乾燥による塗膜の収縮により得られる光学フィルムの光学的均質性の低下を抑制しやすく、その結果、光学フィルムの上記の式におけるＹｍｈ及びＹｍｖの値を低下させやすく、（Ｙｍｈ＋Ｙｍｖ）／（Ｘｍｈ＋Ｘｍｖ）１／２の値を低下させやすく、光学フィルムの均質性、特に光学的均質性を高めやすい。
【０１１３】
本発明の一実施形態において、ロール・ツー・ロール方式で光学フィルムを製造する場合、剥離塗膜を搬送方向に伸長させた状態で乾燥させてよい。また、枚葉式に光学フィルムを製造する場合、面内方向に均一に伸長させた状態で乾燥させてもよい。ロール・ツー・ロール方式における搬送速度は、得られる光学フィルムの均質性、特に光学的均質性を高めやすい観点から、好ましくは０．１〜５ｍ／分、より好ましくは０．５〜３ｍ／分、更に好ましくは０．７〜１．５ｍ／分である。
【０１１４】
例えばロール・ツー・ロール方式により光学フィルムを製造する場合、所定の幅を有する長尺帯状の塗膜を搬送しながら加熱することにより、本発明の光学フィルムを得ることができる。ここで、塗膜に張力をかけながら加熱を行う場合、その方法は何ら限定されないが、例えば搬送される長尺帯状のフィルムの両端部をそれぞれ把持し、把持されたフィルムを搬送しつつ、把持されたフィルムの幅を所定の距離として、例えば乾燥機内を搬送しつつ、熱処理を行う。このときに、熱処理前のフィルムの幅（ただし、把持部を幅に含めない）に対する熱処理後のフィルムの幅（ただし、把持部を幅に含めない）の比を１．１以下とし、そして、乾燥機から出た樹脂フィルムの把持を解除することにより、工程（３）を行うことが好ましい。
【０１１５】
熱処理前のフィルムの幅（ただし、把持部を幅に含めない）に対する熱処理後のフィルムの幅（ただし、把持部を幅に含めない）の比（以下、延伸倍率ということがある）は、好ましくは０．７０〜１．１０であり、より好ましくは０．８〜１．０５であり、さらに好ましくは、０．８０〜１．００である。
【０１１６】
フィルムの把持は、例えば、複数のクリップを用いることによって行われる。
該複数のクリップは、搬送装置の大きさに応じて、所定の長さのエンドレスチェーンに固定されることができ、該チェーンがフィルムと同じ速度で動き、該チェーンの適切な位置に、クリップが設置されており、乾燥機に入る前に透明樹脂フィルムを把持し、乾燥機を出た時点で把持が解除される。
【０１１７】
フィルムの一方端に設置される複数のクリップは、その隣接するクリップ間の空間が例えば、１〜５０ｍｍ、好ましくは３〜２５ｍｍ、より好ましくは５〜１０ｍｍｍとなるように、設置される。
【０１１８】
また、フィルム搬送軸に直交する直線を、フィルムの一方端の任意のクリップの把持部中央に合わせたとき、該直線とフィルムの他端との交点と、該交点に最も近いクリップの把持部中央との距離が、好ましくは３ｍｍ以下、より好ましくは２ｍｍ以下、さらに好ましくは１ｍｍ以下となるようにできる。該距離が前記の範囲にあることにより、光学フィルムの特に左右での均質性を高めやすい。
【０１１９】
熱処理前のフィルムの幅に対する熱処理後のフィルムの幅の比が前記の範囲にあると、フィルム外観が良好となる傾向がある。
【０１２０】
熱処理後のフィルム中の溶媒量は、フィルムの質量を基準として、好ましくは０．００１〜３質量％、より好ましくは０．００１〜２質量％、さらに好ましくは０．００１〜１．５質量％、とりわけ好ましくは０．００１〜１．３質量％である。熱処理後のフィルム中の溶媒量が前記の範囲にあると、光学フィルムの外観が良好となる傾向がある。
熱処理が終わり、乾燥機からフィルムが出るとフィルムの把持が解除され、好ましくはすぐに、フィルム端部をスリットされる。スリットを行うことにより、フィルム端部における、把持部と把持されていなかった部分との間で生じやすい割れをフィルムから除去することにより、その後フィルムが搬送されてその温度が低下することによるフィルムの割れの広がりをあらかじめ防止できる。
【０１２１】
フィルムが乾燥機を出ると、フィルムが急冷されて収縮し、割れが生じることがある。そのため、乾燥機出口からフィルムの把持が解放される位置までに一定割合のフィルムを弛緩する工程があることが好ましい。その割合は、乾燥機から出てきたフィルムの幅（但し、把持された幅を除く）（Ｗ）と乾燥機出口からフィルムを開放するまでに把持部が弛緩される距離（Ｆ）が、好ましくは１．７≦Ｆ／Ｗ×１００≦６．９、よりこのましくは１．８≦Ｆ／Ｗ×１００≦６．８、さらに好ましくは、１．９≦Ｆ／Ｗ×１００≦６．７、さらにより好ましくは、２．０≦Ｆ／Ｗ×１００≦６．７である。
フィルムの搬送方向に対して一方端側の弛緩される距離をＦａ、他方端側の弛緩される距離をＦｂとし、それらを合わせて弛緩される距離Ｆとする。
乾燥機出口からフィルムの把持が解放されるまでの距離は、好ましくは２００〜１，０００ｍｍ、より好ましくは３００〜９００ｍｍ、さらに好ましくは３００〜８００ｍｍである。該距離が前記の範囲にあると、フィルムに割れが生じにくく、また垂水など外観不良が生じにくい傾向にある。
【０１２２】
なお、本発明の製造方法においては、上記特徴を有する光学フィルムを製造しやすい観点から、工程（ｂ）において支持体から塗膜を剥離した後、工程（ｃ）において剥離した塗膜を加熱することにより、フィルムを製造している。しかし、本発明の光学フィルムは、上記Ｙｍｈ等に関する特徴を有する限り、いずれの製造方法により製造されたフィルムであってもよい。例えば、支持体から塗膜を剥離する前に塗膜をポストベークし、ポストベーク後のフィルムを支持体から剥離して製造したものであってもよい。
【０１２３】
本発明の製造方法は、上記工程（ａ）〜（ｃ）の後に、後述するフィルムを評価する工程（ｄ）をさらに含んでいてもよい。工程（ｄ）は、得られたフィルムを用いて投影法により得た投影画像をフーリエ変換して得たフィルム逆空間像において互いに直交する方向ｈ及び方向ｖにおけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルｈ及びラインプロファイルｖとし、前記投影法において前記フィルムを用いずに得た背景画像をフーリエ変換して得た背景逆空間像において互いに直交する方向ｈ’及び方向ｖ’におけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルｈ’及びラインプロファイルｖ’とし、ラインプロファイルｈからラインプロファイルｈ’を引いて得たラインプロファイル（ｈ−ｈ’）の最大強度をＹｍｈとし、最大強度Ｙｍｈを示す周波数をＸｍｈとし、ラインプロファイルｖからラインプロファイルｖ’を引いて得たラインプロファイル（ｖ−ｖ’）の最大強度をＹｍｖとし、最大強度Ｙｍｖを示す周波数をＸｍｖとしたときの、Ｙｍｈ及びＹｍｖの値、並びに、Ｙｍｈ、Ｙｍｖ、Ｘｍｈ及びＸｍｖから算出される（Ｙｍｈ＋Ｙｍｖ）／（Ｘｍｈ＋Ｘｍｖ）１／２値に基づいて、フィルムを評価する工程である。
【０１２４】
工程（ｄ）において、Ｙｍｈ及びＹｍｖの値、並びに（Ｙｍｈ＋Ｙｍｖ）／（Ｘｍｈ＋Ｘｍｖ）１／２の値に基づいて、フィルムの均質性、特に光学的均質性を評価することができる。例えば、求める均質性に応じて所定の値を設定し、該値と、フィルムについて得た結果とを比較することにより、フィルムの良否を判断し、フィルムを分別することにより、Ｙｍｈ及びＹｍｖの値、並びに（Ｙｍｈ＋Ｙｍｖ）／（Ｘｍｈ＋Ｘｍｖ）１／２の値が、所定の値以下である、優れた均質性を有する光学フィルムを製造することができる。また、上記値を評価しながら、乾燥条件等を調整し、上記特徴を有する本発明のフィルムを製造することもできる。
【０１２５】
フィルムを評価する工程（ｄ）において、上記本発明の評価方法により測定された最大強度Ｙｍｈ及びＹｍｖに基づいて、フィルムの均質性を評価し、フィルムの品質の良否を判断することが、均質性に優れたフィルムを効率的に製造することができる観点から好ましい。フィルムの品質の良否の判断基準は、製造したフィルムの用途や、フィルムに求められる光学的均質性に応じて適宜設定してよく、特に限定されない。光学フィルム等において好適に使用される、優れた均質性を有するフィルムを得ることを目的にフィルムの品質の良否判断を行う場合には、本発明のフィルムについて上記に記載した特性を有するか否かを基準として、フィルムの良否の判断を行うことが好ましい。
【０１２６】
上記評価工程によれば、従来の評価方法と比べてより高い精度でフィルムの均質性、特に光学的均質性を評価することが可能となる。具体的には、当該評価工程によれば、従来の評価方法では十分な精度で評価できなかったＴＤ方向及びＭＤ方向の両方向のムラや幅の広さが異なるムラなどに起因して生じる、光学的性質及び／又は物理的性質のばらつきを評価することができ、ムラの種類によらず精度よくフィルムの均質性を評価することが可能である。また、当該評価工程により、フィルムの均質性を定量することも可能である。工程（ｄ）における評価工程は、具体的には、次の工程（１）〜（５）：
（１）光源からの光をフィルムに照射し、フィルムを透過した光を投影面に投影する投影法により投影画像を得る工程、
（２）工程（１）の投影法においてフィルムを用いずに、光源からの光を投影面に投影して、背景画像を得る工程、
（３）工程（１）で得た投影画像及び工程（２）で得た背景画像をそれぞれグレースケール化により数値化し、数値化された画像データをフーリエ変換して逆空間像（フィルム逆空間像及び背景逆空間像）を得る工程、
（４）投影画像の逆空間像において直交する２方向の各ラインプロファイルから、背景画像の逆空間像において直交する前記２方向の各ラインプロファイルをそれぞれ引いて、ブランク補正されたラインプロファイルを得る工程、
及び、
（５）工程（４）で得たブランク補正されたラインプロファイルの最大強度（Ｙｍｈ及びＹｍｖ）を測定する工程
を少なくとも含む。
【０１２７】
工程（１）において、光源からの光をフィルムに照射し、フィルムを透過した光を投影面に投影して投影画像を得る。工程（１）において、例えば図１に示されるように、フィルム、投影面等を配置してよい。具体的には、光源１、フィルム２及び投影面３を配置し、投影面３に投影された投影画像４をカメラ６にて撮影し、投影画像を得る。光源１から出力された光５は、フィルム２を透過し、透過した光が投影面３に投影画像４として投影される。光５がフィルム２を透過する際、フィルム２が均質であれば、光５は均質にフィルム２を透過し投影面３に達するが、フィルム２が均質でなく、面状ムラ、厚みムラ、配向ムラ等がある場合には、光５がフィルム２を透過する際に反射及び／又は屈折等を生じ、光源から出力された状態と比較して歪んだ状態の光が投影面３に達する。このようにして得られる投影画像４を後述する方法で評価することにより、フィルムの光学的均質性を高い精度で評価又は定量化することができる。鮮明な投影画像を得やすい観点から、暗室内で、光源からの光のみをフィルムに透過させて撮影を行うことが好ましい。光源の種類は特に限定されず、例えばＬＥＤ光源やハロゲンランプ等を使用してよい。点光源に近い光源が好ましく、発光部は１ｃｍ径以下であることが好ましい。フィルターやレンズなどを通過すると投影像が不鮮明になりやすい傾向があるので、フィルターやレンズを通過させない光が好ましい。投影面としては、フィルムの投影画像が視認される限り特に限定されないが、例えばアクリル板、塩化ビニル板、ポリエチレン板、映画用のスクリーン等を使用してよい。投影面に投影された画像の撮影方法は特に限定されないが、例えば図１に示されるように、投影面３とフィルム２と光源１とを一直線上に配置し、投影面３に投影された投影画像４を斜めから撮影する位置にカメラ６を固定し撮影してよい。撮影モードは適宜設定してよく、例えば実施例に記載されるような設定を使用してよい。このようにして投影画像が得られる。
【０１２８】
工程（２）において、工程（１）の投影法においてフィルムを用いずに、光源からの光を投影面に投影して投影画像を得る。具体的には、例えば図１において、フィルム２のみを取り除いた状態で撮影を行い、背景画像を得る。
【０１２９】
工程（３）において、工程（１）で得た投影画像及び工程（２）で得た背景画像をそれぞれグレースケール化により数値化し、数値化された画像データをフーリエ変換して逆空間像を得る。グレースケール化は、画像解析ソフト（例えばアメリカ国立衛生研究所製「Ｉｍａｇｅ−Ｊ」）を用いて、例えば８−ｂｉｔのグレースケール化することにより行うことができる。グレースケール化により、投影画像及び背景画像を数値化することができる。次に、数値化された画像データをフーリエ変換して逆空間像（フィルム逆空間像及び背景逆空間像）を得る。数値化された画像データをフーリエ変換することにより、画像の濃淡の周期と振幅を得ることができる。フーリエ変換の方法としては、例えば画像解析ソフト（Ｉｍａｇｅ−Ｊ）のフーリエ変換機能を用いるなどが挙げられる。
【０１３０】
工程（４）において、投影画像の逆空間像において直交する２方向の各ラインプロファイルから、背景画像の逆空間像において直交する前記２方向の各ラインプロファイルをそれぞれ引いて、ブランク補正されたラインプロファイルを得る。
【０１３１】
工程（５）において、工程（４）で得たブランク補正されたラインプロファイルの最大強度Ｙｍａｘ（それぞれ、Ｙｍｈ及びＹｍｖ）を測定する。Ｙｍｈ及びＹｍｖの測定方法は、上記において本発明のフィルムについて記載した通りであり、例えば、逆空間像の中心を通る水平方向（ｈ１方向）及び垂直方向（ｖ１方向）のそれぞれの方向についてラインプロファイルを作成する場合、例えば図３に示されるような、Ｘ軸に周波数、Ｙ軸に強度を表すグラフとして示される。そして、水平方向（ｈ１方向）のラインプロファイルにおける最大強度ＹｍａｘをＹｍｈ１とし、最大強度Ｙｍｈ１を示す周波数からブランク補正されたラインプロファイルにおける全周波数の中央値Ｘｃｅｎを引いた値であるＸｍａｘをＸｍｈ１とする。また、垂直方向（ｖ１方向）のラインプロファイルにおける最大強度ＹｍａｘをＹｍｖ１とし、最大強度Ｙｍｖ１を示す周波数からブランク補正されたラインプロファイルにおける全周波数の中央値Ｘｃｅｎを引いた値であるＸｍａｘをＸｍｖ１とする。なお、該２方向は互いに直交していれば特に限定されず、中心を通らない二方向であってもよいし、水平方向及び垂直方向でなくてもよい。
【０１３２】
上記Ｙｍｈ及びＹｍｖを測定することにより、フィルムの２次元方向で均質性を評価することができる。フィルムの光学的均質性を低下させる一因となる面状ムラには、例えば縞状のムラ等のように、一次元の評価では十分に検出できない種類のムラがある。本発明の評価方法によれば、二次元方向で光学的均質性を評価することができるため、フィルムのムラの種類によらず高い精度で評価を行うことができる。また、上記Ｙｍｈ及びＹｍｖを測定して値を得ることにより、フィルムの均質性を定量することも可能である。
【０１３３】
さらに、上記最大強度Ｙｍｈ及びＹｍｖに加えて、これらの最大強度を示す周波数からブランク補正されたラインプロファイルにおける全周波数の中央値Ｘｃｅｎを引いた値であるＸｍｈ及びＸｍｖを用いて評価を行うことで、フィルムの光学的均質性に影響する一因となる面状ムラが生じる周期を検出することもできる。
【０１３４】
なお、本発明の光学フィルムが多層構造を有する場合、本発明の製造方法は、上記工程（ｃ）及び（ｄ）の間に、工程（ｃ）で得たフィルムに少なくとも１種の機能層等を積層させる工程を含んでいてもよいし、上記工程（ｄ）の後に、フィルムに少なくとも１種の機能層等を積層させる工程を含んでいてもよい。
【０１３５】
＜層構成＞
本発明の光学フィルム及び本発明の製造方法により製造された光学フィルムは、重量平均分子量が２３万以上であるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂、ならびに平均一次粒子径が５〜３５ｎｍのフィラーを含む限り、単層であっても、多層の積層体であってもよい。なお、本発明の光学フィルムが多層の積層体である場合、該積層体は、上記樹脂及びフィラーの両方を含む少なくとも１つの層を有する。本発明の光学フィルムは、上記樹脂及びフィラーの両方を含む層である単層の状態で、Ｙｍｈ及びＹｍｖの値、ならびに（Ｙｍｈ＋Ｙｍｖ）／（Ｘｍｈ＋Ｘｍｖ）１／２の値が上記所定の範囲内であってもよいし、上記樹脂及びフィラーの両方を含む層を少なくとも１層有し、該層に、少なくとも１層の機能層等を積層させた多層構成を有する積層体の状態で、Ｙｍｈ及びＹｍｖの値、ならびに（Ｙｍｈ＋Ｙｍｖ）／（Ｘｍｈ＋Ｘｍｖ）１／２の値が上記所定の範囲内であってもよい。なお、以下において本発明の光学フィルムに、少なくとも１層の機能層等の他の層を積層させた多層構造を有する本発明の光学フィルムを、「光学積層体」とも称する。
【０１３６】
＜光学積層体＞
本発明の光学フィルムは、上記樹脂及びフィラーの両方を含む層を少なくとも１層有し、該層の少なくとも一方の面に１以上の機能層を積層させた多層構造を有する光学積層体であってもよい。機能層としては、例えば紫外線吸収層、ハードコート層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層、プライマー層、ガスバリア層などが挙げられる。機能層は単独又は二種以上組合せて使用できる。なお、各種物性を測定する際には、光学積層体よりも、本発明の光学フィルム単独で（単層の状態で）測定することが好ましい。
【０１３７】
紫外線吸収層は、紫外線吸収の機能を有する層であり、例えば、紫外線硬化型の透明樹脂、電子線硬化型の透明樹脂、及び熱硬化型の透明樹脂から選ばれる主材と、この主材に分散した紫外線吸収剤とから構成される。
【０１３８】
粘着層は、粘着性の機能を有する層であり、光学フィルムを他の部材に接着させる機能を有する。粘着層の形成材料としては、通常知られたものを用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いることができる。この場合、事後的にエネルギーを供給することで熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を高分子化し硬化させることができる。
【０１３９】
粘着層は、感圧型接着剤（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ、ＰＳＡ）と呼ばれる、押圧により対象物に貼着される層であってもよい。感圧型接着剤は、「常温で粘着性を有し、軽い圧力で被着材に接着する物質」（ＪＩＳ  Ｋ６８００）である粘着剤であってもよく、「特定成分を保護被膜（マイクロカプセル）に内容し、適当な手段（圧力、熱等）によって被膜を破壊するまでは安定性を保持できる接着剤」（ＪＩＳ  Ｋ６８００）であるカプセル型接着剤であってもよい。
【０１４０】
色相調整層は、色相調整の機能を有する層であり、光学積層体を目的の色相に調整することができる層である。色相調整層は、例えば、樹脂及び着色剤を含有する層である。この着色剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、チタニウムオキサイド系焼成顔料、群青、アルミン酸コバルト、及びカーボンブラック等の無機顔料；アゾ系化合物、キナクリドン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合物、イソインドリノン系化合物、フタロシアニン系化合物、キノフタロン系化合物、スレン系化合物、及びジケトピロロピロール系化合物等の有機顔料；硫酸バリウム、及び炭酸カルシウム等の体質顔料；並びに塩基性染料、酸性染料、及び媒染染料等の染料を挙げることができる。
【０１４１】
屈折率調整層は、屈折率調整の機能を有する層であり、例えば上記樹脂及びフィラーの両方を含む層とは異なる屈折率を有し、光学積層体に所定の屈折率を付与することができる層である。屈折率調整層は、例えば、適宜選択された樹脂、及び場合によりさらに顔料を含有する樹脂層であってもよいし、金属の薄膜であってもよい。屈折率を調整する顔料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化タンタルが挙げられる。該顔料の平均一次粒子径は、０．１μｍ以下であってもよい。顔料の平均一次粒子径を０．１μｍ以下とすることにより、屈折率調整層を透過する光の乱反射を防止し、透明度の低下を防止することができる。屈折率調整層に用いられる金属としては、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸窒化チタン、窒化チタン、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素等の金属酸化物又は金属窒化物が挙げられる。
【０１４２】
本発明の好ましい一実施形態において、光学フィルムは、上記樹脂及びフィラーを含む層の少なくとも一方の面（片面又は両面）にハードコート層を有する。両面にハードコート層を有する場合、２つのハードコート層は、含まれる成分が互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１４３】
ハードコート層としては、例えばアクリル系、エポキシ系、ウレタン系、ベンジルクロライド系、ビニル系等の公知のハードコート層が挙げられる。これらの中でも光学フィルムの広角方向の視認性の低下を抑制し、かつ耐屈曲性を向上させる観点から、アクリル系、ウレタン系、及びそれらの組合せのハードコート層を好ましく用いることができる。ハードコート層は、硬化性化合物を含む硬化性組成物の硬化物であることが好ましく、活性エネルギー線の照射により、該硬化性化合物を重合して形成される。硬化性化合物としては、例えば、多官能（メタ）アクリレート系化合物が挙げられる。多官能（メタ）アクリレート系化合物とは、分子中に少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。
【０１４４】
多官能（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリス（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、；ホスファゼン化合物のホスファゼン環に（メタ）アクリロイル基が導入されたホスファゼン系（メタ）アクリレート化合物；分子中に少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと少なくとも１個の（メタ）アクリロイル基及び水酸基を有するポリオール化合物との反応により得られるウレタン（メタ）アクリレート化合物；分子中に少なくとも２個のカルボン酸ハロゲン化物と少なくとも１個の（メタ）アクリロイル基及び水酸基を有するポリオール化合物との反応により得られるポリエステル（メタ）アクリレート化合物；ならびに、上記各化合物の２量体、３量体などのようなオリゴマーなどである。これらの化合物はそれぞれ単独又は２種以上を混合して用いられる。
【０１４５】
硬化性化合物には、上記の多官能（メタ）アクリレート系化合物の他に、単官能（メタ）アクリレート系化合物を含んでよい。単官能（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。これらの化合物は単独又は２種類以上を混合して用いられる。単官能（メタ）アクリレート系化合物の含有量は、硬化性組成物に含まれる化合物の固形分を１００質量％としたとき、好ましくは１０質量％以下である。なお、本明細書において、固形分とは、硬化性組成物に含まれる溶媒を除く、全ての成分を意味する。
【０１４６】
また、硬化性化合物は、重合性オリゴマーを含有していてもよい。重合性オリゴマーを含有させることにより、ハードコート層の硬度を調整することができる。重合性オリゴマーとしては、末端（メタ）アクリレートポリメチルメタクリレート、末端スチリルポリ（メタ）アクリレート、末端（メタ）アクリレートポリスチレン、末端（メタ）アクリレートポリエチレングリコール、末端（メタ）アクリレートアクリロニトリル−スチレン共重合体、末端（メタ）アクリレートスチレン−メチル（メタ）アクリレート共重合体などのマクロモノマーを挙げることができる。重合性オリゴマーの含有量は、硬化性組成物に含まれる化合物の固形分を１００質量％としたとき、好ましくは５〜５０質量％である。
【０１４７】
ハードコート層を形成する硬化性組成物は、多官能（メタ）アクリレート系化合物及び重合性オリゴマーの他に、添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、重合開始剤、シリカ、レベリング剤、溶媒等が挙げられる。溶媒としては、例えばメチルエチルケトン、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
【０１４８】
ハードコート層の膜厚は、光学フィルムの硬度、耐屈曲性及び視認性を向上させる観点から、好ましくは３〜３０μｍ、より好ましくは５〜２５μｍ、更に好ましくは５〜２０μｍである。
【０１４９】
＜保護フィルム＞
本発明の光学フィルムには、保護フィルムが積層されていてもよい。保護フィルムは、光学フィルムの片面又は両面に積層されていてよい。本発明の光学フィルムが、上記樹脂及びフィラーの両方を含む層の片面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、上記樹脂及びフィラーの両方を含む層側の表面又は機能層側の表面に積層されていてもよく、これら両方の表面に積層されていてもよい。光学フィルムが、上記樹脂及びフィラーの両方を含む層の両面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、片方の機能層側の表面に積層されていてもよく、両方の機能層側の表面に積層されていてもよい。保護フィルムは、光学フィルム又は機能層の表面を一時的に保護するためのフィルムであり、光学フィルム又は機能層の表面を保護できる剥離可能なフィルムである限り特に限定されない。保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム；ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィン系樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルム等が挙げられ、ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルム及びアクリル系樹脂フィルムからなる群から選択されることが好ましい。本発明の光学フィルムに、保護フィルムが２つ積層される場合、各保護フィルムは同一又は異なっていてもよい。
【０１５０】
保護フィルムの厚みは、特に限定されるものではないが、通常、１０〜１２０μｍ、好ましくは１５〜１１０μｍ、より好ましくは２０〜１００μｍである。本発明の光学フィルムに、保護フィルムが２つ積層される場合、各保護フィルムの厚みは同じであってもよく、異なっていてもよい。
【０１５１】
＜フレキシブル表示装置＞
本発明は、前記光学フィルムを備える、フレキシブル表示装置も提供する。本発明の光学フィルムは、好ましくはフレキシブル表示装置において前面板として用いられ、該前面板はウインドウフィルムと称されることがある。該フレキシブル表示装置は、フレキシブル表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなり、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側にフレキシブル表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル表示装置用積層体としては、さらに偏光板、好ましくは円偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサ又はウインドウフィルム、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサよりも視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、前記ウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
【０１５２】
＜円偏光板＞
本発明のフレキシブル表示装置は、上記の通り、偏光板、中でも円偏光板を備えることが好ましい。円偏光板は、直線偏光板にλ／４位相差板を積層することにより、右若しくは左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ＥＬパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ＥＬの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ／４位相差板の遅相軸は理論上４５°である必要があるが、実用的には４５±１０°である。直線偏光板とλ／４位相差板は必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ／４位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。
【０１５３】
直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独又は直線偏光子及びその少なくとも一面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、２００μｍ以下であってもよく、好ましくは、０．５〜１００μｍである。直線偏光板の厚さが前記の範囲にあると直線偏光板の柔軟性が低下し難い傾向にある。
【０１５４】
前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略すことがある）系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したＰＶＡ系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、又はＰＶＡに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はＰＶＡ系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルムと積層された状態で行うこともできる。用いられるＰＶＡ系フィルムの膜厚は好ましくは１０〜１００μｍであり、前記延伸倍率は好ましくは２〜１０倍である。
さらに前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子が挙げられる。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は、液晶状態を示す性質を有していればよく、特にスメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は、重合性官能基を有することが好ましい。
前記二色性色素化合物は、前記液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、重合性官能基を有していてもよく、また、二色性色素自身が液晶性を有していてもよい。
液晶偏光組成物に含まれる化合物のいずれかは重合性官能基を有する。前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができ、その厚さは好ましくは０．５〜１０μｍ、より好ましくは１〜５μｍである。
【０１５５】
前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することにより製造される。前記配向膜形成組成物は、配向剤を含み、さらに溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類が挙げられる。偏光照射により配向性を付与する配向剤を用いる場合、シンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量は、例えば、１０，０００〜１，０００，０００程度である。前記配向膜の膜厚は、好ましくは５〜１０，０００ｎｍであり、配向規制力が十分に発現される点で、より好ましくは１０〜５００ｎｍである。
前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
【０１５６】
前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく前記ウインドウフィルムの透明基材に使用される材料や添加剤と同じものが使用できる。また、エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。該保護フィルムは、必要により可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。該保護フィルムの厚さは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１〜１００μｍである。保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、該フィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。
【０１５７】
前記λ／４位相差板は、入射光の進行方向に直行する方向（フィルムの面内方向）にλ／４の位相差を与えるフィルムである。前記λ／４位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。前記λ／４位相差板は、必要により位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。
前記延伸型位相差板の厚さは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１〜１００μｍである。延伸型位相差板の厚さが前記の範囲にあると、該延伸型位相差板の柔軟性が低下し難い傾向にある。
さらに前記λ／４位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板が挙げられる。
前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す液晶性化合物を含む。前記液晶性化合物は、重合性官能基を有する。
前記液晶組成物は、さらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層と同様に、液晶組成物を下地上に塗布、硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは０．５〜１０μｍ、より好ましくは１〜５μｍである。
前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
【０１５８】
一般的には、短波長ほど複屈折が大きく長波長になるほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ／４の位相差を達成することはできないので、視感度の高い５６０ｎｍ付近に対してλ／４となるように、面内位相差は、好ましくは１００〜１８０ｎｍ、より好ましくは１３０〜１５０ｎｍとなるように設計される。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ／４位相差板は、視認性が良好となる点で好ましい。このような材料としては、例えば延伸型位相差板は特開２００７‐２３２８７３号公報等に、液晶塗布型位相差板は特開２０１０‐３０９７９号公報等に記載されているものを用いることができる。
また、他の方法としてはλ／２位相差板と組合せることで広帯域λ／４位相差板を得る技術も知られている（例えば、特開平１０−９０５２１号公報など）。λ／２位相差板もλ／４位相差板と同様の材料方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板の組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることにより膜厚を薄くすることができる。
前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のＣプレートを積層する方法が知られている（例えば、特開２０１４‐２２４８３７号公報など）。正のＣプレートは、液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。該位相差板の厚み方向の位相差は、好ましくは−２００〜−２０ｎｍ、より好ましくは−１４０〜−４０ｎｍである。
【０１５９】
＜タッチセンサ＞
本発明のフレキシブル表示装置は、上記の通り、タッチセンサを備えることが好ましい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が挙げられ、好ましくは静電容量方式が挙げられる。
静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と、前記基板の活性領域に形成された感知パターンと、前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウフィルムの透明基板と同様の材料が使用できる。
【０１６０】
前記感知パターンは、第１方向に形成された第１パターン及び第２方向に形成された第２パターンを備えることができる。第１パターンと第２パターンとは互いに異なる方向に配置される。第１パターン及び第２パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第１パターンは複数の単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第２パターンは複数の単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第２パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。第２パターンの接続のための電極には、周知の透明電極を適用することができる。該透明電極の素材としては、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＺＴＯ）、インジウムガリウム亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ）、カドミウムスズ酸化物（ＣＴＯ）、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、グラフェン、金属ワイヤなどが挙げられ、好ましくはＩＴＯが挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して使用できる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テレニウム、クロムなどが挙げられ、これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。
ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成されることができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの２種以上の合金で形成することもできる。
第１パターンと第２パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。該絶縁層は、第１パターンの継ぎ手とブリッジ電極との間にのみ形成することや、感知パターン全体を覆う層として形成することもできる。感知パターン全体を覆う層の場合、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第２パターンを接続することができる。
【０１６１】
前記タッチセンサは、感知パターンが形成されたパターン領域と、感知パターンが形成されていない非パターン領域との間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができる。該光学調節層は、無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を高くすることができる。
前記光硬化性有機バインダーは、本発明の効果を損ねない範囲で、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
前記無機粒子としては、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などが挙げられる。
前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。
【０１６２】
＜接着層＞
前記フレキシブル画像表示装置用積層体を形成する各層（ウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサ）並びに各層を構成するフィルム部材（直線偏光板、λ／４位相差板等）は接着剤によって接合することができる。該接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤（粘着剤）、再湿型接着剤等、通常使用されている接着剤等が使用でき、好ましくは水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤を使用できる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、好ましくは０．０１〜５００μｍ、より好ましくは０．１〜３００μｍである。前記フレキシブル画像表示装置用積層体には、複数の接着層が存在するが、それぞれの厚みや種類は、同じであっても異なっていてもよい。
【０１６３】
前記水系水系溶剤揮散型接着剤としては、ポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン−酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン−ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。前記主剤ポリマーと水とに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜１μｍである。前記水系水系溶剤揮散型接着剤を複数層に用いる場合、それぞれの層の厚みや種類は同じであっても異なっていてもよい。
【０１６４】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物に含まれるものと同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物は、ハードコート組成物におけるラジカル重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物におけるカチオン重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物が特に好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。
【０１６５】
活性エネルギー線組成物は、粘度を低下させるために、単官能の化合物を含むことができる。該単官能の化合物としては、１分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート系単量体や、１分子中に１個のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、例えば、グリシジル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
活性エネルギー線組成物は、さらに重合開始剤を含むことができる。該重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、これらは適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。
前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって２つの被接着層を接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか一方又は両方に塗布後、貼合し、いずれかの被着層又は両方の被接着層に活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、で接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１〜２０μｍ、より好ましくは０．１〜１０μｍである。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数の接着層形成に用いる場合、それぞれの層の厚みや種類は同じであっても異なっていてもよい。
【０１６６】
前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類され何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着剤層接着層が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．１〜５００μｍ、より好ましくは１〜３００μｍである。前記粘着剤を複数層用いる場合には、それぞれの層の厚み種類は同じであっても異なっていてもよい。
【０１６７】
＜遮光パターン＞
前記遮光パターンは、前記フレキシブル画像表示装置のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記フレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーであってもよい。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は２種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、好ましくは１〜１００μｍ、より好ましくは２〜５０μｍである。また、遮光パターンの厚み方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。
【実施例】
【０１６８】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部を意味する。まず始めに物性値の測定方法を説明する。
【０１６９】
＜重量平均分子量＞
ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定
（１）前処理方法
試料をγ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）に溶解させて２０質量％溶液とした後、ＤＭＦ溶離液にて１００倍に希釈し、０．４５μｍメンブレンフィルターろ過したものを測定溶液とした。
（２）測定条件
カラム：ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ×２＋ＳｕｐｅｒＡＷ２５００×１（６．０ｍｍ  Ｉ．Ｄ．×１５０ｍｍ×３本）
溶離液：ＤＭＦ（１０ｍＭの臭化リチウム添加）
流量：０．６ｍＬ／ｍｉｎ．
検出器：ＲＩ検出器
カラム温度：４０℃
注入量：２０μＬ
分子量標準：標準ポリスチレン
【０１７０】
＜イミド化率＞
イミド化率は、１Ｈ−ＮＭＲ測定により以下のようにして求めた。
（１）前処理方法
試料を重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ−ｄ６）に溶解させて２質量％溶液としたものを測定溶液とした。
（２）測定条件
測定装置：ＪＥＯＬ製  ４００ＭＨｚ  ＮＭＲ装置  ＪＮＭ−ＥＣＺ４００Ｓ／Ｌ１
標準物質：ＤＭＳＯ−ｄ６（２．５ｐｐｍ）
試料温度：室温
積算回数：２５６回
緩和時間：５秒
（３）イミド化率解析方法
得られた１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、ベンゼンプロトンが７．０〜９．０ｐｐｍに観測され、このうちイミド化前後で変化しない構造に由来するベンゼンプロトンＡの積分比をＩｎｔＡとした。また、ポリイミド中に残存するアミック酸構造のアミドプロトンが１０．５〜１１．５ｐｐｍに観測され、この積分比をＩｎｔＢとした。これらの積分比から以下の式によりイミド化率を求めた。
【数７】
2020055994.tif 000020
上記式において、αはポリアミド酸（イミド化率０％）の場合におけるアミドプロトン１個に対するベンゼンプロトンＡの個数割合である。
【０１７１】
＜平均一次粒子径＞
シリカゾルを３００℃で乾燥させた粉末の比表面積をユアサアイオクニス（株）社製、比表面積測定装置モノソーブＭＳ−１６を用いて測定し、測定された比表面積Ｓ（ｍ２／ｇ）を用いてＤ（ｎｍ）＝２７２０／Ｓの式で平均一次粒子径を算出した。
【０１７２】
＜ワニスの粘度＞
ＪＩＳ  Ｋ８８０３：２０１１に準拠して、ブルックフィールド社製Ｅ型粘度計ＤＶ−ＩＩ＋Ｐｒｏを用いて測定した。測定温度は２５℃とした。
【０１７３】
＜支持体の膜厚及び膜厚分布＞
（株）ミツトヨ製ＩＤ−Ｃ１１２ＸＢＳを用いて、支持体の幅方向に２０点以上の膜厚を測定し、その平均値と各データの差を算出し、膜厚分布を得た。
【０１７４】
＜フィルムの膜厚＞
（株）ミツトヨ製ＩＤ−Ｃ１１２ＸＢＳを用いて、１０点以上のフィルム膜厚を測定し、その平均値を算出した。
【０１７５】
＜フィルムの全光線透過率＞
フィルムの全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７１０５：１９８１に準拠して、スガ試験機（株）製の全自動直読ヘイズコンピュータＨＧＭ−２ＤＰにより測定した。
【０１７６】
＜フィルムの黄色度＞
光学フィルムの黄色度（Ｙｅｌｌｏｗ  Ｉｎｄｅｘ：ＹＩ値）を、日本分光（株）製の紫外可視近赤外分光光度計「Ｖ−６７０」を用いて測定した。サンプルがない状態でバックグランド測定を行った後、光学フィルムをサンプルホルダーにセットして、３００〜８００ｎｍの光に対する透過率測定を行い、３刺激値（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を求め、下記式に基づいてＹＩ値を算出した。
ＹＩ＝１００×（１．２７６９Ｘ−１．０５９２Ｚ）／Ｙ
【０１７７】
＜フィルムの耐屈曲性＞
ＪＩＳ  Ｐ８１１５に準拠して、ＭＩＴ耐折疲労試験機  Ｄ型（（株）東洋精機製作所）を用いて、破断するまでの回数を測定した。曲率半径Ｒは１で測定を行った。
【０１７８】
＜フィルムの引裂き強度＞
フィルムの引裂き強度は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２８−１に準拠し、以下の条件でトラウザー試験法に従い測定した。引裂き方向をＭＤ方向として得た強度を試料の長さで除して得られる単位長さあたりの強度を引裂き強度ＥＭＤ（Ｎ／ｍｍ）とした。引裂き方向をＴＤ方向として、同様にして得た強度をＥＴＤ（Ｎ／ｍｍ）とした。また、引裂き方向をＭＤ方向として得た強度を試料の断面積で除して得られる単位断面積あたりの強度を引裂き強度ＦＭＤ（Ｎ／ｍｍ２）とした。引裂き方向をＴＤ方向として、同様にして得た強度をＦＴＤ（Ｎ／ｍｍ２）とした。
（測定条件）
試料寸法：Ｌ１５０ｍｍ×Ｗ５０ｍｍ、中央部切込み７５ｍｍ
試験条件：試験速度；２００ｍｍ／分
測定数；ｎ＝５
試験環境：２５℃±２℃、５０％ＲＨ±１０％ＲＨ
測定装置：万能材料試験機５９８２（インストロン社製）
【０１７９】
＜フィルムの引張弾性率＞
フィルムを１００×１０ｍｍのダンベル状に切り出し、ＪＩＳ  Ｋ７１２７に準拠して、電気機械式万能試験機（インストロン社製）を用いて、試験速度５ｍ／分及びロードセル５ｋＮで引っ張り試験を行い、光学フィルムの引張弾性率を測定した。
【０１８０】
＜フィルムの光学的均質性の評価方法＞
１．投影画像及び背景画像の撮影
暗室中に、図２に示すように、光源１、フィルム２、投影面３及びカメラ６を配置し、投影画像４の撮影を行った。光源１とフィルム２との距離は２５０ｃｍであり、フィルム２と投影面３との距離は３０ｃｍであり、フィルム２と投影面３とは平行に配置され、カメラ６は光源１からスクリーンへの法線の真下に設置しており、カメラ６と投影面３（スクリーン）との距離は３０ｃｍであり、カメラ角度７（カメラをスクリーンに対して垂直となるように向けた状態から、上側に傾斜させる角度）は２５°であった。また、背景画像の撮影は、図２においてフィルム２を取り除いたこと以外は投影画像の撮影と同様にして行った。測定条件及び撮影条件の詳細を以下に示す。
光源：ＬＥＤ光源（林時計工業（株）製「ＬＡ−ＨＤＦ１５Ｔ」）
フィルム：以下の実施例及び比較例で製造したフィルムを２００ｍｍ×３００ｍｍに切り出したフィルムを測定試料とした。
投影面：白色の市販の映画観賞用のスクリーン（（株）シアターハウス製、「ＢＴＰ６００ＦＨＤ−ＳＨ１０００」）
カメラ：（株）ニコン製「ＣＯＯＬＰＩＸ（登録商標）  Ｐ６００」
カメラの詳細設定：撮影モード  マニュアル撮影
画像サイズ  ２Ｍ
フォーカス  マニュアルフォーカス（距離０．３ｍ）
シャッタースピード  １／２秒
絞り値（Ｆ値）  ４．２
フラッシュ  ＯＦＦ
【０１８１】
２．フーリエ変換
本実施例ではカメラを上記カメラ角度の位置に設置しているため、投影画像に傾斜が生じている。そのため、まず投影画像の傾斜を補正するために、傾斜補正条件を決定した。
なお、投影像のゆがみがない場合には補正は不要である。
（傾斜補正条件の決定）
透明なフィルムに１０ｃｍ×１０ｃｍの正方形を書き、上記１の条件にて基準投影画像を撮影した。得られた基準投影画像をＡｄｏｂｅ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製のＰｈｏｔｏｓｈｏｐ（登録商標）  ＣＳ４にて読み込み、レンズ補正のゆがみ補正機能を用いて、カメラとスクリーンとのが９０°に相当するように補正し、ＴＩＦＦ形式で保存した。このときの条件を傾斜補正条件とした。傾斜補正後の基準投影画像から、縦、横それぞれのピクセルあたりの長さを計算した（縦：８１６ｐｉｘｅｌ＝１０ｃｍ、横：９０６ｐｉｘｅｌ＝１０ｃｍ）。
（フーリエ変換）
実施例及び比較例のフィルムについて上記のようにして得た投影画像について、上記のようにして決定した傾斜補正条件で補正を行い、補正後の画像をＴＩＦＦ形式で保存した。得られた傾斜補正後の投影画像を、画像解析ソフト「Ｉｍａｇｅ−Ｊ、ｖｅｒ．１．４８」を用いて８−ｂｉｔのグレースケールへ変換することにより数値化した。なお、傾斜補正後の基準投影画像から得た、縦、横それぞれのピクセルあたりの長さを、Ｓｅｔ  Ｓｃａｌｅとして使用した。グレースケール画像中１０．２ｃｍ×１１．２ｃｍ（縦×横）のサイズの矩形の範囲を選択し、該選択された範囲の画像を、Ｉｍａｇｅ−Ｊを用いてフーリエ変換し、逆空間像を得た。フーリエ変換後の逆空間像について、Ｓｅｔ  Ｓｃａｌｅに正しい値（水平方向：１ｐｉｘｅｌ＝１１．３ｃｍ−１、垂直方向：１ｐｉｘｅｌ＝１２．５５ｃｍ−１）を入力した。
【０１８２】
３．ブランク補正したラインプロファイルの最大強度（Ｙｍｈ１及びＹｍｖ１）の測定
上記のようにして得た逆空間像において、逆空間像の中心を通る水平方向（ｈ１方向）及び垂直方向（ｖ１方向）のそれぞれの方向についてラインプロファイルを作成した。
ライン幅は１０ピクセルとした。得られたラインプロファイルをｔｅｘｔ形式で保存した。次に、該ｔｅｘｔ形式のデータをＭｉｃｒｏｓｏｆｔ社のＥｘｃｅｌ（ｖｅｒ．１４．０）で読み込み、次のようにしてラインプロファイルを規格化して、水平方向（ｈ１方向）及び垂直方向（ｖ１方向）のそれぞれの方向について、Ｙ”のラインプロファイルを得て、各ラインプロファイルにおいて最大強度ＹｍａｘをＹｍｈ１及びＹｍｖ１とし、最大強度Ｙｍｈ１及びＹｍｖ１を示す周波数からブランク補正されたラインプロファイルにおける全周波数の中央値Ｘｃｅｎを引いた値であるＸｍａｘをそれぞれＸｍｈ１及びＸｍｖ１とした。規格化方法を実施例１で得た水平方向（ｈ１方向）のラインプロファイルを例として用いて説明する。
（規格化方法）
Ｙの値が最大となる周波数をＸの中心（Ｘｃｅｎ）とし、その時のＹの値をＹｃｅｎとする。次に、Ｘｃｅｎを中心とし、両端５０ピクセル分ずつの合計１００ピクセルの領域について、Ｙの平均値を求め、該平均値をベースライン（Ｙｂａｓｅ）とする。そして、Ｙｃｅｎ＝１００、Ｙｂａｓｅ＝０となるように、次の式に従いデータＹを補正しＹ’を得る。
【数８】
2020055994.tif 000021
図４に示される実施例１で得たラインプロファイル（データＹ）について、上記補正を行うことにより、図５に示されるようなラインプロファイルＡ（データＹ’）が得られる。
次に、１で得た背景画像についても同様の操作を行い、背景画像のラインプロファイルを得た。具体的には、図６に示されるようなラインプロファイルＢが得られた。
次いで、上記のプロファイルＡから、バックグラウンドのプロファイルＢをＥｘｃｅｌにより引いて、ブランク補正を行った。実施例１では、図５に示されるラインプロファイルＡのデータＹ’から、図６に示されるようなラインプロファイルＢのデータを引いて、図７に示されるようなブランク補正されたラインプロファイルＡ−Ｂを得た。
このようにして得たラインプロファイルをスムージングして、Ｙ”のプロファイルを得、これをラインプロファイルの最大強度（Ｙｍｈ１及びＹｍｖ１）の測定に使用した。グラフのスムージングは、次の式に従い、２１個のデータの平均値であるｙｉを算出して行った。
【数９】
2020055994.tif 000022
【０１８３】
（視認性の官能評価）
５０〜１００ルクスに調光した室内環境にて、仰角８０°の角度より、作製したフィルムを目視検査し、映り込む背景の歪みより視認性を評価した。その結果を表２に示す。なお、視認性の評価基準は以下の通りである。
◎：背景に歪みは確認されない。
〇：背景に非常に僅かな歪みが確認されるが、問題のないレベル。
×：背景に明確な歪みが確認される。
【０１８４】
＜残存溶媒量＞
ＴＧ−ＤＴＡ（ＳＩＩ（株）製  ＥＸＳＴＡＲ６０００  ＴＧ／ＤＴＡ６３００）を用いて、実施例１及び２並びに比較例及び２で得られた透明樹脂フィルムを３０℃から１２０℃まで昇温し、１２０℃で５分間保持し、その後５℃／分の昇温速度で４００℃まで昇温した。１２０℃におけるフィルムの質量に対する１２０℃から２５０℃でのフィルムの質量減少の比を、溶媒の含有量（残存溶媒量と称する）として算出した。
【０１８５】
以下の製造例及び実施例において使用する略称は、次のとおりである。
ＴＦＭＢ：２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル
６ＦＤＡ：４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物
ＴＰＣ：テレフタロイルクロリド
ＯＢＢＣ：４，４’−オキシビス（ベンゾイルクロリド）
ＤＭＡｃ：Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
ＧＢＬ：γ−ブチロラクトン
ＰＥＴ：ポリエチレンテレフタレート
【０１８６】
＜製造例＞
製造例１：ポリアミドイミド樹脂１の製造
窒素ガス雰囲気下、セパラブルフラスコに撹拌翼を備えた反応容器と、オイルバスとを準備した。オイルバスに設置した反応容器に、ＴＦＭＢ４５部と、ＤＭＡｃ７６８．５５部とを投入した。反応容器内の内容物を室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃに溶解させた。次に、反応容器内に６ＦＤＡ１９．０１部を更に投入し、反応容器内の内容物を室温で３時間撹拌した。その後、ＯＢＢＣ４．２１部、次いでＴＰＣ１７．３０部を反応容器に投入し、反応容器内の内容物を室温で１時間撹拌した。次いで、反応容器内に４−メチルピリジン４．６３部と無水酢酸１３．０４部とを更に投入し、反応容器内の内容物を室温で３０分間撹拌した。撹拌した後、オイルバスを用いて容器内温度を７０℃に昇温し、７０℃に維持してさらに３時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、沈殿物を析出させた。析出した沈殿物を取り出し、メタノールで６時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、１００℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂１を得た。得られたポリアミドイミド樹脂１の重量平均分子量は３７０，０００であり、イミド化率は９８．９％であった。
【０１８７】
製造例２：ポリアミドイミド樹脂２の製造
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えたセパラブルフラスコに、ＴＦＭＢ５０部及びＤＭＡｃ６４２．０７部を加え、室温で撹拌しながらＴＦＭＢをＤＭＡｃに溶解させた。次に、フラスコに６ＦＤＡ２０．８４部を添加し、室温で３時間撹拌した。その後、ＯＢＢＣ９．２３部、次いでＴＰＣ１５．８７部をフラスコに加え、室温で１時間撹拌した。次いで、フラスコに４−メチルピリジン９．８９部と無水酢酸１４．３７部とを加え、室温で３０分間撹拌後、オイルバスを用いて７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで６時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、１００℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂２を得た。得られたポリアミドイミド樹脂２の重量平均分子量は４２０，０００であり、イミド化率は９９．０％であった。
【０１８８】
製造例３：ポリイミド樹脂の製造
セパラブルフラスコにシリカゲル管、撹拌装置及び温度計を取り付けた反応器と、オイルバスとを準備した。このフラスコ内に、６ＦＤＡ７５．５２部と、ＴＦＭＢ５４．４４部とを投入した。これを４００ｒｐｍで撹拌しながらＤＭＡｃ５１９．８４部を加え、フラスコの内容物が均一な溶液になるまで撹拌を続けた。続いて、オイルバスを用いて容器内温度が２０〜３０℃の範囲になるように調整しながらさらに２０時間撹拌を続け、反応させてポリアミック酸を生成させた。３０分後、撹拌速度を１００ｒｐｍに変更した。２０時間撹拌後、反応系温度を室温に戻し、ＤＭＡｃ６４９．８部を加えてポリマー濃度が１０質量％となるように調整した。さらに、ピリジン３２．２７部、無水酢酸４１．６５部を加え、室温で１０時間撹拌してイミド化を行った。反応容器からポリイミドワニスを取り出した。得られたポリイミドワニスをメタノール中に滴下して再沈殿を行い、得られた粉体を加熱乾燥して溶媒を除去し、固形分としてポリイミド樹脂を得た。得られたポリイミド樹脂の重量平均分子量は３６０，０００であり、イミド化率は９８．９％であった。
【０１８９】
製造例４：シリカゾル１の調製
ゾル−ゲル法により作製された平均一次粒子径（ＢＥＴ法で測定された平均一次粒子径）２７ｎｍのアモルファスシリカゾルを原料とし、溶媒置換により、ＧＢＬ置換シリカゾルを調製した。得られたゾルを目開き１０μｍのメンブレンフィルターでろ過し、ＧＢＬ置換シリカゾル１を得た。得られたＧＢＬ置換シリカゾル１中、シリカ粒子の含有量は３０〜３２質量％であった。
【０１９０】
製造例５：シリカゾル２の調製
ゾル−ゲル法により作製された平均一次粒子径２５ｎｍのアモルファスシリカゾルを原料とし、溶媒置換により、ＧＢＬ置換シリカゾルを調製した。得られたゾルを目開き１０μｍのメンブレンフィルターでろ過し、ＧＢＬ置換シリカゾル２を得た。得られたＧＢＬ置換シリカゾル２中、シリカ粒子の含有量は３０〜３２質量％であった。
【０１９１】
製造例６：ワニス（１）の調製
製造例１で得たポリアミドイミド樹脂１と、製造例４で得たシリカゾル１を用い、ＧＢＬ溶媒にポリアミドイミド樹脂とシリカ粒子の組成比が６０：４０となるように混合した。得られた混合液に、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  ３４０（ＵＶＡ吸収剤）及びＳｕｍｉｐｌａｓｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  Ｂ（ＢＡ、ブルーイング剤）を、ポリマーとシリカの合計質量に対して、それぞれ５．７ｐｈｒ及び３５ｐｐｍとなる量で添加し、均一になるまで撹拌し、ワニス（１）を得た。ワニス（１）の固形分は１１．０質量％であり、２５℃における粘度は３８，５００ｃｐｓであった。
【０１９２】
製造例７：ワニス（２）の調製
製造例２で得たポリアミドイミド樹脂２を用いたこと以外、製造例６と同様の方法で、固形分９．９質量％、２５℃における粘度３８，０００ｃｐｓであるワニス（２）を得た
【０１９３】
製造例８：ワニス（３）の調製
製造例３で得たポリイミド樹脂を用いたこと以外、製造例６と同様の方法で、固形分１８．０質量％、２５℃における粘度３５，０００ｃｐｓであるワニス（３）を得た。
【０１９４】
実施例１
ワニス（１）を、ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」、膜厚１８８μｍ、膜厚分布±２μｍ）上に塗布し、流涎成形し、ワニスの塗膜を成形した。この時、線速は０．３ｍ／分であった。ワニスの塗膜を、８０℃で１０分加熱した後、１００℃で１０分加熱し、次いで９０℃で１０分加熱し、最後に８０℃で１０分加熱するという乾燥条件で乾燥させ、乾燥塗膜を形成させた。その後、ＰＥＴフィルムから塗膜を剥離し、膜厚５８μｍ、幅７００ｍｍの原料フィルム１を得た。原料フィルム１中の残存溶媒量は９．７質量％であった。次いで、原料フィルム１をフィルム横延伸装置（テンター）にて２００℃で２５分、延伸倍率０．９８倍の条件で加熱することにより、膜厚５０μｍのポリアミドイミドフィルム１を得た。ポリアミドイミドフィルム１中の残存溶媒量は０．８質量％であった。
【０１９５】
実施例２
乾燥条件を８０℃で１０分加熱した後、１００℃で１０分加熱し、次いで９０℃で１０分加熱し、最後に８５℃で１０分加熱する条件に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、膜厚５８μｍ、幅７００ｍｍの原料フィルム２を得た。原料フィルム２中の残存溶媒量は９．８質量％であった。次いで、原料フィルム１に代えて原料フィルム２を用いたこと以外は実施例１と同様にして、膜厚５０μｍのポリアミドイミドフィルム２を得た。ポリアミドイミドフィルム２中の残存溶媒量は０．７質量％であった。
【０１９６】
実施例３
ワニス（３）を、ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」、膜厚１８８μｍ、膜厚分布±２μｍ）上に塗布し、流涎成形し、ワニスの塗膜を成形した。この時、線速は０．８ｍ／分であった。ワニスの塗膜を、１００℃で３．５分加熱した後、１２０℃で３．５分加熱し、次いで９０℃で３．５分加熱し、最後に８０℃で３．５分加熱するという乾燥条件で乾燥させ、乾燥塗膜を形成させた。その後、ＰＥＴフィルムから塗膜を剥離し、膜厚５８μｍ、幅７００ｍｍの原料フィルム３を得た。原料フィルム３中の残存溶媒量は９．５質量％であった。次いで、原料フィルム１に代えて原料フィルム３を用いたこと以外は実施例１と同様にして、膜厚５０μｍのポリイミドフィルムを得た。ポリイミドフィルム中の残存溶媒量は１．０質量％であった。
【０１９７】
比較例１
ワニス（２）を用い、乾燥条件を、７０℃で１０分加熱した後、８０℃で１０分加熱し、次いで１００℃で１０分加熱し、最後に１００℃で１０分加熱する条件に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、膜厚５８μｍ、幅７００ｍｍの原料フィルム４を得た。原料フィルム４中の残存溶媒量は９．７質量％であった。次いで、原料フィルム１に代えて原料フィルム３を用いたこと以外は実施例１と同様にして、膜厚５０μｍのポリアミドイミドフィルム３を得た。得られたポリアミドイミドフィルム３中の残存溶媒量は０．７質量％であった。
【０１９８】
参考例１
ＤＭＡｃの仕込量を１６５０部とした以外は製造例1と同様にして、ポリアミドイミド樹脂３を得た。得られたポリアミドイミド樹脂３の重量平均分子量は１８０，０００であった。ポリアミドイミド樹脂１に代えてポリアミドイミド樹脂３を用いたこと以外は製造例６と同様にしてワニスを調製し、該ワニスを用いて実施例１と同様にして参考用の膜厚５０μｍフィルムを作成した。
【０１９９】
実施例及び比較例のフィルムの製造に使用したワニスの物性値、及び、第１乾燥の条件を表１に示す。また、実施例及び比較例で得たフィルムについて、上記測定方法に従い各種物性値を測定した結果を、表２〜表４に示す。また、参考例１に示すフィルムについて、耐屈曲性試験を行った結果を、表３に示す。
【０２００】
【表１】
2020055994.tif 000023
【０２０１】
【表２】
2020055994.tif 000024
【０２０２】
【表３】
2020055994.tif 000025
【０２０３】
【表４】
2020055994.tif 000026
【０２０４】
実施例１〜３の光学フィルムは、Ｙｍｈ及びＹｍｖが３０未満であり、Ａ／Ｂが３０未満であり、視認性の評価はいずれも◎又は○であった。これに対し、比較例１の光学フィルムはＡ／Ｂが３０以上であり、視認性の評価結果は×であった。また、重量平均分子量が２３万未満である樹脂を含有する参考例１のフィルムは、十分な耐屈曲性を有するものではなかった。
【符号の説明】
【０２０５】
１  光源
２  フィルム
３  投影面
４  投影画像
５  光
６  カメラ
７  カメラ角度
【図１】
2020055994.tif 000028
【図２】
2020055994.tif 000029
【図３】
2020055994.tif 000030
【図４】
2020055994.tif 000031
【図５】
2020055994.tif 000032
【図６】
2020055994.tif 000033
【図７】
2020055994.tif 000034
【図８】
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