(57)【要約】【課題】本開示は、小型化を図りつつパーティクルの発生を抑制することが可能なフィルタ装置及び送液システムを説明する。【解決手段】フィルタ装置は、筒状のフィルタと、可撓性を有するチューブと、上下方向に延びるように同軸状に配置されたフィルタ及びチューブを収容する筐体とを備える。筐体は、フィルタの外側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第１の開口と、フィルタの内側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第２の開口と、チューブの内部と連通し且つチューブを膨張及び収縮させる作動流体が流通可能な第３の開口とを含む。【選択図】図６
2020037086.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筒状のフィルタと、
可撓性を有するチューブと、
上下方向に延びるように同軸状に配置された前記フィルタ及びチューブを収容する筐体とを備え、
前記筐体は、
前記フィルタの外側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第１の開口と、
前記フィルタの内側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第２の開口と、
前記チューブの内部と連通し且つ前記チューブを膨張及び収縮させる作動流体が流通可能な第３の開口とを含む、フィルタ装置。
【請求項２】
前記チューブは前記フィルタの内側空間に配置されており、
前記第１及び第２の開口のうち一方が入口として機能し、前記第１及び第２の開口のうち他方が出口として機能する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
可撓性を有し且つ前記筐体内に収容された別のチューブをさらに備え、
前記別のチューブは前記フィルタの外側空間に配置されており、
前記筐体は、前記別のチューブの内部と連通し且つ前記別のチューブを膨張及び収縮させる作動流体が流通可能な第４の開口をさらに含む、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記チューブは前記フィルタの外側空間に配置されており、
前記第１及び第２の開口のうち一方が入口として機能し、前記第１及び第２の開口のうち他方が出口として機能する、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記第１及び第２の開口は前記筐体の上面に設けられており、
前記第３の開口は前記筐体の下面に設けられている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記筐体は、
前記外側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第１のベント開口と、
前記内側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第２のベント開口とを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記筐体の容積は３リットル以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の装置と、
前記第１及び第２の開口の一方と移送対象の液源とを接続する第１の送液ラインと、
前記第１及び第２の開口の他方とノズルとを接続する第２の送液ラインと、
前記第３の開口と作動流体源とを接続する第３の送液ラインとを備える、送液システム。
【請求項９】
作動流体を介して前記チューブを膨張及び収縮させるように前記チューブを動作させる駆動部と、
前記第１及び第２の開口の一方から他方へと移送対象の液体を送液するように前記駆動部を制御する処理と、前記第１及び第２の開口の他方から一方へと移送対象の液体を送液するように前記駆動部を制御する処理とを実行する制御部とをさらに備える、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
循環ラインをさらに備え、
前記筐体は、前記フィルタよりも上流側に配置されたベント開口をさらに含み、
前記循環ラインは前記ベント開口と前記第１の送液ラインとを接続している、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
請求項６に記載の装置と、
前記第１及び第２の開口の一方と移送対象の液源とを接続する第１の送液ラインと、
前記第１及び第２の開口の他方とノズルとを接続する第２の送液ラインと、
前記第３の開口と作動流体源とを接続する第３の送液ラインと、
前記第１のベント開口に接続された第１のバルブと、
前記第２のベント開口に接続された第２のバルブと、
作動流体を介して前記チューブを膨張及び収縮させるように前記チューブを動作させる駆動部と、
制御部とを備え、
前記制御部は、
前記外側空間における圧力が相対的に低下した状態で前記第１のバルブを開放して、前記第１のベント開口を通じて前記外側空間の液体を排出するように前記第１のバルブを制御する第１の処理と、
前記内側空間における圧力が相対的に低下した状態で前記第２のバルブを開放して、前記第２のベント開口を通じて前記内側空間の液体を排出するように前記第２のバルブを制御する第２の処理とを実行する、送液システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、フィルタ装置及び送液システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
基板（例えば、半導体基板）の微細加工などを行うにあたり、基板の表面に基板処理のための各種液体を吐出することが一般に行われている。この液体中には、元来パーティクル（微細粒子）等の異物が含まれうる。また、液体が配管を流れる際に、配管から液体中にパーティクル等の異物が混入しうる。そのため、特許文献１は、フィルタを処理液の流路の途中に配置し、ポンプによって液体をノズルに送り出す過程で当該フィルタによってパーティクル等の異物の除去を行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−２２３６６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、小型化を図りつつパーティクルの発生を抑制することが可能なフィルタ装置及び送液システムを説明する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一つの観点に係るフィルタ装置は、筒状のフィルタと、可撓性を有するチューブと、上下方向に延びるように同軸状に配置されたフィルタ及びチューブを収容する筐体とを備える。筐体は、フィルタの外側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第１の開口と、フィルタの内側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第２の開口と、チューブの内部と連通し且つチューブを膨張及び収縮させる作動流体が流通可能な第３の開口とを含む。
【発明の効果】
【０００６】
本開示に係るフィルタ装置及び送液システムによれば、小型化を図りつつパーティクルの発生を抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、基板処理システムの一例を示す斜視図である。
【図２】図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【図３】図３は、処理モジュールを示す上面図である。
【図４】図４は、液処理用のユニットを示す模式図である。
【図５】図５は、送液システムの一例を示す図である。
【図６】図６は、フィルタ装置の一例を示す断面図である。
【図７】図７は、チューブの一例を示す断面図である。
【図８】図８は、フィルタ装置の動作を説明するための図である。
【図９】図９は、フィルタ装置の他の例を示す断面図である。
【図１０】図１０は、フィルタ装置の他の例を示す断面図である。
【図１１】図１１は、フィルタ装置の他の例を示す断面図である。
【図１２】図１２は、フィルタ装置の他の例を示す断面図である。
【図１３】図１３は、送液システムの他の例を示す図である。
【図１４】図１４は、フィルタ装置の他の例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、本開示に係る実施形態の一例について、図面を参照しつつより詳細に説明する。以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
【０００９】
［基板処理システム］
図１に示されるように、基板処理システム１は、塗布現像装置２と、露光装置３と、コントローラ１０（制御部）とを備える。
【００１０】
露光装置３は、ウエハＷ（基板）の表面Ｗａ（図４参照）に形成されたレジスト膜Ｒ（同参照）の露光処理（パターン露光）を行うように構成されている。具体的には、液浸露光等の方法によりレジスト膜の露光対象部分に選択的にエネルギー線を照射する。エネルギー線としては、例えば、ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、ｇ線、ｉ線又は極端紫外線（ＥＵＶ：Extreme Ultraviolet）が挙げられる。
【００１１】
塗布現像装置２は、露光装置３による露光処理の前に、ウエハＷの表面Ｗａにレジスト膜Ｒを形成する処理を行い、露光処理後にレジスト膜Ｒの現像処理を行う。ウエハＷは、円板状を呈してもよいし、円形の一部が切り欠かれていてもよいし、多角形など円形以外の形状を呈していてもよい。ウエハＷは、例えば、半導体基板、ガラス基板、マスク基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）基板その他の各種基板であってもよい。ウエハＷの直径は、例えば２００ｍｍ〜４５０ｍｍ程度であってもよい。
【００１２】
図１〜図３に示されるように、塗布現像装置２は、キャリアブロック４と、処理ブロック５と、インターフェースブロック６とを備える。キャリアブロック４、処理ブロック５及びインターフェースブロック６は、水平方向に並んでいる。
【００１３】
キャリアブロック４は、図１及び図３に示されるように、キャリアステーション１２と、搬入搬出部１３とを有する。キャリアステーション１２は複数のキャリア１１を支持する。キャリア１１は、少なくとも一つのウエハＷを密封状態で収容する。キャリア１１の側面１１ａには、ウエハＷを出し入れするための開閉扉（図示せず）が設けられている。キャリア１１は、側面１１ａが搬入搬出部１３側に面するように、キャリアステーション１２上に着脱自在に設置される。
【００１４】
搬入搬出部１３は、キャリアステーション１２及び処理ブロック５の間に位置している。搬入搬出部１３は、複数の開閉扉１３ａを有する。キャリアステーション１２上にキャリア１１が載置される際には、キャリア１１の開閉扉が開閉扉１３ａに面した状態とされる。開閉扉１３ａ及び側面１１ａの開閉扉を同時に開放することで、キャリア１１内と搬入搬出部１３内とが連通する。搬入搬出部１３は、搬送アームＡ１を内蔵している。搬送アームＡ１は、キャリア１１からウエハＷを取り出して処理ブロック５に渡し、処理ブロック５からウエハＷを受け取ってキャリア１１内に戻すように構成されている。
【００１５】
処理ブロック５は、図１〜図３に示されるように、処理モジュール１４〜１７を有する。これらの処理モジュールは、床面側から処理モジュール１７、処理モジュール１４、処理モジュール１５、処理モジュール１６の順に並んでいる。
【００１６】
処理モジュール１４は、ウエハＷの表面Ｗａ上に下層膜を形成するように構成されており、ＢＣＴモジュールとも呼ばれる。処理モジュール１４は、図２及び図３に示されるように、複数のユニットＵ１，Ｕ２と、これらのユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送する搬送アームＡ２とを内蔵している。処理モジュール１４のユニットＵ１は、液処理用のユニットであり、下層膜形成用の塗布液をウエハＷの表面Ｗａに塗布して塗布膜を形成するように構成されている。処理モジュール１４のユニットＵ２は、熱処理用のユニットであり、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却して熱処理を行うように構成されている。処理モジュール１４において行われる熱処理の具体例としては、塗布膜を硬化させて下層膜とするための加熱処理が挙げられる。下層膜としては、例えば、反射防止（ＳｉＡＲＣ）膜が挙げられる。
【００１７】
処理モジュール１５は、下層膜上に中間膜（ハードマスク）を形成するように構成されており、ＨＭＣＴモジュールとも呼ばれる。処理モジュール１５は、図２及び図３に示されるように、複数のユニットＵ１，Ｕ２と、これらのユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送する搬送アームＡ３とを内蔵している。処理モジュール１５のユニットＵ１は、液処理用のユニットであり、中間膜形成用の塗布液をウエハＷの下層膜上に塗布して塗布膜を形成するように構成されている。処理モジュール１５のユニットＵ２は、熱処理用のユニットであり、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却して熱処理を行うように構成されている。処理モジュール１５において行われる熱処理の具体例としては、塗布膜を硬化させて中間膜とするための加熱処理が挙げられる。中間膜としては、例えば、ＳＯＣ（Spin On Carbon）膜、アモルファスカーボン膜が挙げられる。
【００１８】
処理モジュール１６は、中間膜上に熱硬化性且つ感光性のレジスト膜を形成するように構成されており、ＣＯＴモジュールとも呼ばれる。処理モジュール１６は、図２及び図３に示されるように、複数のユニットＵ１，Ｕ２と、これらのユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送する搬送アームＡ４とを内蔵している。処理モジュール１６のユニットＵ１は、液処理用のユニットであり、レジスト膜形成用の塗布液（レジスト液）を中間膜の上に塗布して塗布膜を形成するように構成されている。処理モジュール１６のユニットＵ２は、熱処理用のユニットであり、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却して熱処理を行うように構成されている。処理モジュール１６において行われる熱処理の具体例としては、塗布膜を硬化させてレジスト膜Ｒとするための加熱処理（ＰＡＢ：Pre Applied Bake）が挙げられる。
【００１９】
処理モジュール１７は、露光されたレジスト膜の現像処理を行うように構成されており、ＤＥＶモジュールとも呼ばれる。処理モジュール１７は、図２及び図３に示されるように、複数のユニットＵ１，Ｕ２と、搬送アームＡ５，Ａ６とを内蔵している。搬送アームＡ５は、ユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送するように構成されている。搬送アームＡ６は、ユニットＵ１，Ｕ２を経ずにウエハＷを棚ユニットＵ１１，Ｕ１０（後述する）間において直接搬送するように構成されている。処理モジュール１７のユニットＵ１は、液処理用のユニットであり、レジスト膜Ｒに現像液を供給してレジスト膜Ｒを部分的に除去することにより、レジストパターンを形成するように構成されている。処理モジュール１７のユニットＵ２は、熱処理用のユニットであり、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却して熱処理を行うように構成されている。処理モジュール１７において行われる熱処理の具体例としては、現像処理前の加熱処理（ＰＥＢ：post exposure bake）、現像処理後の加熱処理（ＰＢ：post bake）等が挙げられる。
【００２０】
処理ブロック５内におけるキャリアブロック４側には、図２及び図３に示されるように、棚ユニットＵ１０が設けられている。棚ユニットＵ１０は、床面から処理モジュール１５にわたって設けられており、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。棚ユニットＵ１０の近傍には搬送アームＡ７が設けられている。搬送アームＡ７は、棚ユニットＵ１０のセル同士の間でウエハＷを昇降させる。
【００２１】
処理ブロック５内におけるインターフェースブロック６側には、棚ユニットＵ１１が設けられている。棚ユニットＵ１１は床面から処理モジュール１７の上部にわたって設けられており、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。
【００２２】
インターフェースブロック６は、搬送アームＡ８を内蔵しており、露光装置３に接続される。搬送アームＡ８は、棚ユニットＵ１１のウエハＷを取り出して露光装置３に渡し、露光装置３からウエハＷを受け取って棚ユニットＵ１１に戻すように構成されている。
【００２３】
コントローラ１０は、基板処理システム１を部分的又は全体的に制御する。コントローラ１０のハードウェアは、例えば一つ又は複数の制御用のコンピュータにより構成されていてもよい。
【００２４】
［液処理用のユニットの構成］
続いて、図４を参照して、液処理用のユニットＵ１についてさらに詳しく説明する。ユニットＵ１は、回転保持部２０と、駆動部３０と、送液部１１０と、液源１２０とを備える。
【００２５】
回転保持部２０は、回転部２１と、シャフト２２と、保持部２３とを有する。回転部２１は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて動作し、シャフト２２を回転させる。回転部２１は、例えば電動モータ等の動力源である。保持部２３は、シャフト２２の先端部に設けられている。保持部２３上にはウエハＷが配置される。保持部２３は、例えば吸着等によりウエハＷを略水平に保持する。すなわち、回転保持部２０は、ウエハＷの姿勢が略水平の状態で、ウエハＷの表面Ｗａに対して垂直な中心軸Ａｘ（回転軸）周りでウエハＷを回転させる。図４の例では、回転保持部２０は、上方から見て時計回りにウエハＷを所定の回転数で回転させる。
【００２６】
駆動部３０は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて動作し、ノズルＮを駆動するように構成されている。駆動部３０は、例えば電動モータ等の動力源（図示せず）である。平面視において、ノズルＮは、処理液（塗布液、現像液を含む。）の吐出時において、ウエハＷの回転軸に直交する直線上をウエハＷの径方向に沿って移動する。ノズルＮは、ウエハＷの上方に位置しており、ウエハＷの表面Ｗａに向けて下方に開口している。
【００２７】
送液部１１０は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて動作し、処理液を液源１２０（例えば、後述の液ボトルＢ）からノズルＮに送液し、ノズルＮからウエハＷの表面Ｗａに吐出させる。詳しくは後述するが、送液部１１０、ノズルＮ及び液源１２０は、処理液を目的物（本実施形態ではウエハＷ）に供給するための送液システム１００の要素である。
【００２８】
［送液システムの構成］
次に、送液システム１００の構成について、図５〜図７を参照して説明する。送液システム１００は、図５に示されるように、配管Ｄ１〜Ｄ６と、バルブＶ１〜Ｖ４と、ノズルＮと、液ボトルＢと、液タンクＴと、フィルタ装置２００と、電空レギュレータＲＥとを備える。
【００２９】
配管Ｄ１（第１の送液ライン）の上流端は、Ｎ２ガス源に接続されている。配管Ｄ１の下流端は、液ボトルＢの上蓋近傍に位置するように、液ボトルＢの上蓋部分に接続されている。液ボトルＢは、処理液の供給源（液源）として機能する。配管Ｄ１上にはバルブＶ１が設けられている。バルブＶ１は、例えば、空気を利用して弁を開閉（オン／オフ）させるエアオペレートバルブであってもよい。
【００３０】
配管Ｄ２（第１の送液ライン）の上流端は、液ボトルＢの底面近傍に位置するように、液ボトルＢの上蓋部分に接続されている。配管Ｄ２の下流端は、液タンクＴの上蓋寄りに位置するように、液タンクＴの上蓋部分に接続されている。液タンクＴは、液ボトルＢから排出された処理液を一時的に貯留する貯留部として機能する。
【００３１】
配管Ｄ３（第１の送液ライン）の上流端は、液タンクＴの下底部分に接続されている。配管Ｄ３の下流端は、フィルタ装置２００の入口ＯＰ１（後述する）に接続されている。配管Ｄ３上には、バルブＶ２が設けられている。バルブＶ２は、例えば、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブであってもよい。
【００３２】
配管Ｄ４（第２の送液ライン）の上流端は、フィルタ装置２００の出口ＯＰ２（後述する）に接続されている。配管Ｄ４の下流端は、ノズルＮに接続されている。配管Ｄ４上には、バルブＶ３が設けられている。バルブＶ３は、例えば、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブであってもよい。
【００３３】
配管Ｄ５の上流端は、フィルタ装置２００の排液口ＯＰ３（後述する）に接続されている。配管Ｄ５の下流端は、送液システム１００の外部に通じている。配管Ｄ５上には、バルブＶ４（第１のバルブ）が設けられている。バルブＶ４は、例えば、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブであってもよい。
【００３４】
フィルタ装置２００は、処理液に含まれるパーティクルなどの異物を除去する機能を有する。フィルタ装置２００は、図６に示されるように、筒状を呈する筐体２１０と、フィルタ２２０と、チューブ２３０とを含む。
【００３５】
筐体２１０は、円筒状の側壁２１１と、側壁２１１の頂部に配置された天壁２１２と、側壁２１１の底部を閉塞する底壁２１３とを含む。天壁１２１には、処理液が導入される入口ＯＰ１（第１の開口）と、フィルタ２２０を通過した処理液が排出される出口ＯＰ２（第２の開口）と、フィルタ２２０を通過しない処理液が外部に排出される排液口ＯＰ３（第５の開口）とが形成されている。底壁２１３には、空気が供給及び排出される出入口ＯＰ４（第３の開口）が形成されている。筐体２１０内の容積は、例えば３リットル以下であってもよい。筐体２１０内のサイズは、例えば、２５０ｍｍ×２００ｍｍ×６０ｍｍ程度であってもよいし、１００ｍｍ×１００ｍｍ×３００ｍｍ程度であってもよい。
【００３６】
フィルタ２２０は、筐体２１０内に保持されている。フィルタ２２０は、フィルタ容器２２１と、フィルタ本体２２２とを有する。フィルタ容器２２１は、円筒形状を呈する外側側壁２２３と、円筒形状を呈する内側側壁２２４と、外側側壁２２３及び内側側壁２２４の一端側に配置された天壁２２５と、外側側壁２２３及び内側側壁２２４の他端側に配置された底壁２２６とで構成されている。
【００３７】
内側側壁２２４は、外側側壁２２３と略同軸となるように、外側側壁２２３の内側に配置されている。外側側壁２２３及び内側側壁２２４には、多数の貫通孔が形成されており、フィルタ容器２２１の内外において処理液が通過可能とされている。外側側壁２２３と側壁２１１との間の空間Ｓ１（外側空間）は、略円筒状を呈しており、入口ＯＰ１と連通している。
【００３８】
天壁２２５は、略中央部に位置する貫通孔２２５ａを含む。すなわち、天壁２２５は円環状を呈している。貫通孔２２５ａは、出口ＯＰ２と連通している。底壁２２６は、略中央部に位置する貫通孔２２６ａを含む。すなわち、底壁２２６は円環状を呈している。貫通孔２２６ａは、平面視において貫通孔２２５ａと重なり合っていなくてもよい。
【００３９】
フィルタ本体２２２は、円筒形状を呈している。フィルタ本体２２２は、外側側壁２２３、内側側壁２２４、天壁２２５及び底壁２２６で囲まれる空間内に配置されている。フィルタ本体２２２の材質は、例えば、ナイロン、ポリエチレン等であってもよい。フィルタ本体２２２は、例えば０．０５μｍ程度のパーティクルを除去可能な性能を有していてもよい。
【００４０】
チューブ２３０は、可撓性及び弾性を有している。すなわち、チューブ２３０は、内側や外側から外力が付与されると、元の形状に戻ろうとする性質を有する。チューブ２３０は、例えばフッ素樹脂によって構成されていてもよい。チューブ２３０の一端は天壁２２５によって閉塞されている。チューブ２３０の他端は貫通孔２２６ａに取り付けられており、出入口ＯＰ４と連通している。すなわち、チューブ２３０は、側壁２１１、外側側壁２２３及び内側側壁２２４と略同軸となるように、内側側壁２２４の内側の空間を延びている。チューブ２３０と内側側壁２２４との間の空間Ｓ２（内側空間）は、略円筒状を呈しており、貫通孔２２５ａを介して出口ＯＰ２と連通している。チューブ２３０内の空間は、出入口ＯＰ４と連通している。
【００４１】
チューブ２３０は、図７に示されるように、凹溝２３１を含んでいる。凹溝２３１は、チューブ２３０の中心軸に沿って延びている。凹溝２３１は、チューブ２３０の中心軸側（チューブ２３０の内側）に向けて窪んでいる。チューブ２３０は、凹溝２３１を複数有していてもよい。図７に示される例では、チューブ２３０は、４つの凹溝２３１を含んでいる。これらの４つの凹溝２３１は、チューブ２３０の周方向において略同一間隔となるように配置されている。すなわち、チューブ２３０は、その周方向において、凹部と凸部とが１つずつ略同一間隔に並んだ形状を呈していてもよい。このような形状であると、チューブ２３０の膨張及び収縮が容易に行われる。
【００４２】
電空レギュレータＲＥ（供給排出部）は、配管Ｄ６（第３の送液ライン）を介して出入口ＯＰ４に接続されている。電空レギュレータＲＥは、コントローラ１０からの制御信号に基づいて開閉動作する電磁弁を有している。電空レギュレータＲＥは、電磁弁の開度に応じて、空気源から空気（作動流体）を吸入し又は外部に空気を排出する。これにより、電空レギュレータＲＥは、チューブ２３０内における空気の圧力（気圧）を調節する。出入口ＯＰ４を介してチューブ２３０内に空気が供給されると、チューブ２３０が外側に向けて（内側側壁２２４に向けて）膨らむ。一方、出入口ＯＰ４を介してチューブ２３０内から空気が排出されると、チューブ２３０が内側に向けて縮む。
【００４３】
［送液システムの動作］
続いて、図８を参照して、送液システム１００の動作について説明する。まず、液タンクＴ内に処理液が存在している状態で、コントローラ１０がバルブＶ２〜Ｖ４に指示して、バルブＶ２を開放させると共に、バルブＶ３，Ｖ４を閉鎖させる。この状態で、コントローラ１０が電空レギュレータＲＥに指示して、チューブ２３０内から空気を排出する。これにより、図８（ａ）に示されるように、チューブ２３０が内側に向けて縮んで、チューブ２３０と内側側壁２２４との間の空間Ｓ２が負圧となる。そうすると、液タンクＴ内の処理液が筐体２１０内に吸引される。吸引された処理液は、フィルタ本体２２２を通じて濾過されて、チューブ２３０と内側側壁２２４との間の空間Ｓ２に至る。
【００４４】
続いて、コントローラ１０がバルブＶ２〜Ｖ４に指示して、バルブＶ２，Ｖ４を閉鎖させると共に、バルブＶ３を開放させる。この状態で、コントローラ１０が電空レギュレータＲＥに指示して、チューブ２３０内に空気を供給する。これにより、図８（ｂ）に示されるように、チューブ２３０が外側に向けて膨らんで、チューブ２３０と内側側壁２２４との間の空間Ｓ２に存在する処理液が出口ＯＰ２に向けて押し出される。そうすると、処理液は、配管Ｄ４を通じてノズルＮから吐出される。
【００４５】
続いて、コントローラ１０がバルブＶ２〜Ｖ４に指示して、バルブＶ２を開放させると共に、バルブＶ３，Ｖ４を閉鎖させる。この状態で、コントローラ１０が電空レギュレータＲＥに指示して、チューブ２３０内に空気をさらに供給する。これにより、図８（ｃ）に示されるように、チューブ２３０がさらに外側に向けて膨らんで、チューブ２３０と内側側壁２２４との間の空間Ｓ２に存在する処理液がフィルタ本体２２２を通じて入口ＯＰ１に向けて押し出される。そうすると、処理液は、フィルタ本体２２２によって再び濾過されつつ、配管Ｄ３を通じて逆流する。フィルタ本体２２２の上流側にはパーティクルが比較的多く捕集されているので、逆流した当該処理液内には多くのパーティクルが含まれうる。
【００４６】
続いて、コントローラ１０がバルブＶ２〜Ｖ４に指示して、バルブＶ２，Ｖ４を開放させると共に、バルブＶ３を閉鎖させる。この状態で、コントローラ１０が電空レギュレータＲＥに指示して、チューブ２３０内から空気を排出する。これにより、図８（ｄ）に示されるように、チューブ２３０が内側に向けて縮んで、バルブＶ２側に逆流した処理液が再び筐体２１０内に流入する。バルブＶ３は閉鎖されているので、筐体２１０内に流入した当該処理液は、配管Ｄ５を通じて送液システム１００の外に排出される。従って、多くのパーティクルを含みうる処理液が送液システム１００から除去されるので、送液システム１００の清浄度が高まる。
【００４７】
［作用］
以上の実施形態では、チューブ２３０内から空気が排出されてチューブ２３０が収縮することにより、筐体２１０の外部から処理液が吸引され、当該処理液が筐体２１０内に流入する。その後、チューブ２３０内に空気が供給されてチューブ２３０が膨張することにより、筐体２１０内の当該処理液が加圧され、当該処理液が筐体２１０外へと流出する。このように、送液手段（例えば、シリンジ、ダイアフラムなど）が筐体の外側において接続される一般的なフィルタ装置とは異なり、ポンプとして機能するチューブ２３０がフィルタ２２０と同じ筐体内に配置されている。そのため、送液手段をフィルタ装置２００に統合して部品点数を削減でき、フィルタ装置２００を小型化することが可能となる。また、小型化に伴い、従来と同等のスペースにフィルタ装置２００を設置できるので、従来のフィルタ装置との置き換えを容易に行うことが可能となる。加えて、フィルタ２２０とポンプ（チューブ２３０）とを接続する流路が不要となるので、処理液が滞留し難くなり、パーティクルの発生を抑制することが可能となる。さらには、フィルタ２２０とポンプ（チューブ２３０）とを接続する流路が不要であるので、フィルタ装置２００の洗浄時間を短縮できると共に、洗浄のための処理液の使用量を削減できる。
【００４８】
以上の実施形態では、チューブ２３０が円筒状のフィルタ２２０の空間Ｓ２に位置しているので、フィルタ装置２００のさらなる小型化が可能となる。
【００４９】
以上の実施形態では、チューブ２３０がフィルタ２２０よりも出口ＯＰ２側（下流側）に位置するので、フィルタ２２０を流通する液体の速度が遅くなる傾向にある。そのため、パーティクル等の異物をより効果的にフィルタ２２０で除去することが可能となる。
【００５０】
以上の実施形態では、入口ＯＰ１、出口ＯＰ２及び排液口ＯＰ３は筐体２１０の上面（天壁２１２）に設けられており、出入口ＯＰ４が筐体２１０の下面（底壁２１３）に設けられている。そのため、筐体２１０の周面には送液ライン等が接続されないので、上下方向においてフィルタ装置２００の移動が妨げられ難くなる。従って、フィルタ装置２００の交換作業を極めて容易に行うことが可能となる。
【００５１】
以上の実施形態では、処理液が、入口ＯＰ１からフィルタ２２０を介して出口ＯＰ２に向けて流通した後に、出口ＯＰ２からフィルタ２２０を介して入口ＯＰ１に向けて流通する。すなわち、処理液がフィルタ２２０を順方向と逆方向とに流通する。そのため、パーティクル等の異物がフィルタ２２０で捕集されやすくなる。従って、パーティクル等の異物をいっそう効果的にフィルタ２２０で除去することが可能となる。
【００５２】
［変形例］
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
【００５３】
（１）上記の実施形態では、チューブ２３０内に供給される作動流体として空気が用いられていたが、他の気体が用いられてもよいし、オイル等の液体が用いられてもよい。
【００５４】
（２）チューブ２３０内に供給される作動流体が温調されていてもよい。この場合、作動流体の熱によってフィルタ２２０及び処理液も温調される。処理液が所定の温度とされることにより、パーティクル等の異物が処理液内において発生し難くなる。
【００５５】
（３）筐体２１０、フィルタ２２０及びチューブ２３０は、いずれも筒状（例えば、円筒状、角筒状など）であってもよい。
【００５６】
（４）上記の実施形態において、入口ＯＰ１が出口として機能し、出口ＯＰ２が入口として機能してもよい。すなわち、処理液は、出口ＯＰ２から筐体２１０内に流入し、フィルタ２２０を介して入口ＯＰ１からノズルＮに向けて排出されてもよい。
【００５７】
（５）フィルタ装置２００は、チューブ２３０の過膨張又は過収縮を防止するための規制部材を含んでいてもよい。例えば、チューブ２３０の外周側に筒状の網状体が規制部材として配置されていてもよい。この場合、移送対象の液体の流通が規制部材によって妨げられることなく、チューブ２３０の膨張が所定の時点で規制部材によって規制される。一方、チューブ２３０の内周側に筒状の網状体が規制部材として配置されていてもよい。この場合、作動流体の流通が規制部材によって妨げられることなく、チューブ２３０の収縮が所定の時点で規制部材によって規制される。
【００５８】
（６）図９に示されるように、チューブ２３０がフィルタ２２０の上流側（入口ＯＰ１側）に取り付けられていてもよい。図９に示される形態について、上記の実施形態との相違点を中心に、以下に説明する。フィルタ２２０は、底壁２２６が底壁２１３と離間するように筐体２１０内に保持されている。底壁２２６には、貫通孔２２６ａが設けられていないが、貫通孔２２６ｂが周縁部に設けられている。チューブ２３０は、側壁２１１の内側で且つフィルタ２２０を外側から取り囲むように配置されている。チューブ２３０の他端（下端）は底壁２２６と接続されている。チューブ２３０と側壁２１１との間の空間は、貫通孔２２６ｂ及び底壁２２６と底壁２１３との間の空間を介して、出入口ＯＰ４と連通している。この場合、チューブ２３０がフィルタ２２０よりも入口ＯＰ１側（上流側）に位置するので、処理液がフィルタ２２０を流通する際に発泡が生じ難い傾向にある。そのため、ノズルＮからの処理液の吐出量をより精度よくコントロールすることが可能となる。
【００５９】
（７）図１０に示されるように、フィルタ装置２００は、筐体２１０内に収容された別のチューブ２４０をさらに備えていてもよい。図１０に示される形態について、上記の実施形態との相違点を中心に、以下に説明する。底壁２１３には、空気が供給及び排出される出入口ＯＰ５（第４の開口）が形成されている。底壁２２６には、貫通孔２２６ａが設けられていないが、貫通孔２２６ｂが周縁部に設けられている。チューブ２４０は、可撓性及び弾性を有している。チューブ２４０は、円筒状を呈しており、側壁２１１の内側で且つフィルタ２２０を外側から取り囲むように配置されている。チューブ２４０の一端（上端）は天壁２２５によって閉塞されている。チューブ２４０の他端（下端）は底壁２２６と接続されている。チューブ２４０と側壁２１１との間の空間は、貫通孔２２６ｂ及び出入口ＯＰ５と連通している。出入口ＯＰ５には、図示しない他の電空レギュレータが配管を介して接続されている。そのため、チューブ２４０は、チューブ２３０とは独立して膨張及び収縮できるように構成されている。図１０の形態によれば、フィルタ２２０の上流側と下流側とにそれぞれチューブ２３０，２３０が存在し、これらのチューブ２３０，２４０が独立してポンプとして動作する。そのため、フィルタ２２０の前後における差圧を任意に設定しうる。従って、フィルタ２２０による処理液の濾過速度をコントロールすることが可能となる。
【００６０】
（８）上記の実施形態では、フィルタ２２０の外周側に入口ＯＰ１が位置し、フィルタ２２０の内周側に出口ＯＰ２が位置していた。すなわち、フィルタ２２０の外周側が上流側とされ、フィルタ２２０の内周側が下流側とされていた。しかしながら、図１１及び図１２に示されるように、フィルタ２２０の内周側が上流側とされ、フィルタ２２０の外周側が下流側とされていてもよい。
【００６１】
図１１に示される形態について、上記の実施形態との相違点を中心に、以下に説明する。フィルタ２２０は、底壁２２６が底壁２１３と離間するように筐体２１０内に保持されている。天壁２２５には貫通孔２２５ｂが設けられている。貫通孔２２５ｂは、貫通孔２２５ａよりも内側側壁２２４側に位置しており、出口ＯＰ２と連通している。底壁２２６には、内側側壁２２４の内側で且つ平面視において貫通孔２２５ａと重なり合わない位置に貫通孔２２６ｂが設けられている。フィルタ容器２２１は、貫通孔２２５ａと貫通孔２２６ａとを接続する筒体２２７をさらに含んでいる。筒体２２７内の空間は、貫通孔２２５ａを介して入口ＯＰ１と連通している。筒体２２７内の空間は、貫通孔２２６ｂを介して、底壁２２６と底壁２１３との間の空間及び外側側壁２２３と側壁２１１との間の空間Ｓ１と連通している。チューブ２３０は、内側側壁２２４の内側で且つ筒体２２７を外側から取り囲むように配置されている。チューブ２３０の一端（上端）は天壁２２５によって閉塞されている。チューブ２３０の他端（下端）は底壁２２６と接続されている。チューブ２３０と筒体２２７との間の空間は、貫通孔２２６ａを介して出入口ＯＰ４と連通している。この場合、ポンプとして機能するチューブ２３０がフィルタ２２０よりも出口ＯＰ２側（下流側）に位置するので、フィルタ２２０を流通する液体の速度が遅くなる傾向にある。そのため、パーティクル等の異物をより効果的にフィルタ２２０で除去することが可能となる。
【００６２】
図１２に示される形態について、上記の実施形態との相違点を中心に、以下に説明する。フィルタ２２０は、底壁２２６が底壁２１３と離間するように筐体２１０内に保持されている。天壁２２５には貫通孔２２５ｂが設けられている。貫通孔２２５ｂは、貫通孔２２５ａよりも内側側壁２２４側に位置しており、出口ＯＰ２と連通している。底壁２２６には、内側側壁２２４の内側で且つ平面視において貫通孔２２５ａと重なり合う位置に貫通孔２２６ｂが設けられている。チューブ２３０は、貫通孔２２５ａと貫通孔２２６ａとを接続している。チューブ２３０内の空間は、貫通孔２２５ａを介して入口ＯＰ１と連通している。チューブ２３０内の空間は、貫通孔２２６ｂを介して、底壁２２６と底壁２１３との間の空間及び外側側壁２２３と側壁２１１との間の空間Ｓ１と連通している。フィルタ容器２２１は、貫通孔２２５ｂ，２２６ａよりも内側で且つチューブ２３０を外側から取り囲むように配置された筒体２２７をさらに含んでいる。筒体２２７の一端（上端）は天壁２２５によって閉塞されている。筒体２２７の他端（下端）は底壁２２６と接続されている。チューブ２３０と筒体２２７との間の空間は、貫通孔２２６ａを介して出入口ＯＰ４と連通している。この場合、ポンプとして機能するチューブ２３０がフィルタ２２０よりも入口ＯＰ１側（上流側）に位置するので、処理液がフィルタ２２０を流通する際に発泡が生じ難い傾向にある。そのため、ノズルＮからの処理液の吐出量をより精度よくコントロールすることが可能となる。
【００６３】
（９）図１３に示されるように、送液システム１００（送液部１１０）は、配管Ｄ７をさらに含んでいてもよい。配管Ｄ７は、配管Ｄ５のうちバルブＶ４の上流側から分岐して、配管Ｄ３のうちバルブＶ２の上流側に接続されている。すなわち、配管Ｄ７は、配管Ｄ５と共に、処理液を排液口ＯＰ３から入口ＯＰ１側に戻す循環ラインを構成している。この場合、フィルタ２２０を逆方向に流通した後の処理液が、循環ラインを通じて入口ＯＰ１側に戻される。そのため、フィルタ装置２００内において処理液が滞留し難くなる。従って、パーティクルの発生を抑制することが可能となる。
【００６４】
（１０）図１４に例示されるように、フィルタ装置２００には排液口ＯＰ６（第２のベント開口）がさらに設けられていてもよい。図１４に示される例では、排液口ＯＰ６は、底壁２１３及び底壁２２２６に形成されているが、天壁２１２及び天壁２２５に形成されていてもよい。排液口ＯＰ６は、チューブ２３０と内側側壁２２４との間の空間Ｓ２と連通している。排液口ＯＰ６は配管Ｄ８と接続されている。配管Ｄ８上にはバルブＶ５（第２のバルブ）が設けられている。バルブＶ５は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブであってもよい。
【００６５】
図１４に例示される形態において、排液口ＯＰ３，ＯＰ６を通じて液体を排液する処理について説明する。空間Ｓ１における液体を排液口ＯＰ３から排液する場合には、まず、コントローラ１０が電空レギュレータＲＥに指示して、チューブ２３０内に空気を供給する。これにより、空間Ｓ２が相対的に高圧となり、空間Ｓ１が相対的に低圧となる。そのため、空間Ｓ１において、液体に溶存している気泡が膨張（発泡）しやすくなる。コントローラ１０は、チューブ２３０内への空気の供給と同時に又はその後にバルブＶ４に指示して、バルブＶ４を開放する。これにより、成長した気泡を含む空間Ｓ１内の液体が、排液口ＯＰ３を通じて外部に排出される。
【００６６】
一方、空間Ｓ２における液体を排液口ＯＰ６から排液する場合には、まず、コントローラ１０が電空レギュレータＲＥに指示して、チューブ２３０内の空気を排出する。これにより、空間Ｓ１が相対的に高圧となり、空間Ｓ２が相対的に低圧となる。そのため、空間Ｓ２において、液体に溶存している気泡が膨張（発泡）しやすくなる。コントローラ１０は、チューブ２３０内からの空気の排出と同時に又はその後にバルブＶ５に指示して、バルブＶ５を開放する。これにより、成長した気泡を含む空間Ｓ２内の液体が、排液口ＯＰ６を通じて外部に排出される。
【００６７】
図１４に例示される形態では、バルブＶ４，Ｖ５を制御することで、成長した気泡を含む液体が排液口ＯＰ３，ＯＰ６を通じて排液される。したがって、液体に溶存している気泡を効果的に除去することが可能となる。また、成長した気泡を含む液体は、フィルタ２２０を通らずに排液口ＯＰ３，ＯＰ６から排液されるので、気泡によるフィルタ２２０の目詰まりを抑制することが可能となる。
【００６８】
空間Ｓ１からの排液と、空間Ｓ２からの排液とが交互に繰り返されてもよい。この場合、液体からより効果的に気泡を除去することが可能となる。空間Ｓ１，Ｓ２内の圧力を相対的に低下させるために、例えば、液源１２０からの処理液の供給圧力を低下させることで空間Ｓ１を相対的に低圧にしてもよいし、液源１２０からの処理液の供給圧力を高めることで空間Ｓ２を相対的に低圧にしてもよい。空間Ｓ１，Ｓ２内の圧力を相対的に低下させるために、例えば、フィルタ装置２００に向かう処理液の流速を上げることで空間Ｓ１を相対的に低圧にしてもよいし、フィルタ装置２００に向かう処理液の流速を下げることで空間Ｓ２を相対的に低圧にしてもよい。
【００６９】
［例示］
例１．本開示の一つの例に係るフィルタ装置は、筒状のフィルタと、可撓性を有するチューブと、上下方向に延びるように同軸状に配置されたフィルタ及びチューブを収容する筐体とを備える。筐体は、フィルタの外側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第１の開口と、フィルタの内側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第２の開口と、チューブの内部と連通し且つチューブを膨張及び収縮させる作動流体が流通可能な第３の開口とを含む。この場合、チューブ内から作動流体が排出されてチューブが収縮することにより、筐体の外部から移送対象の液体が吸引され、当該液体が筐体内に流入する。その後、チューブ内に作動流体が供給されてチューブが膨張することにより、筐体内の当該液体が加圧され、当該液体が筐体外へと流出する。このように、ポンプとして機能するチューブがフィルタと同じ筐体内に配置されているので、フィルタ装置を小型化することが可能となる。加えて、フィルタとポンプとを接続する流路が不要となるので、液体が滞留し難くなり、パーティクルの発生を抑制することが可能となる。さらには、フィルタとポンプとを接続する流路が不要であるので、フィルタ装置の洗浄時間を短縮できると共に、洗浄のための液体の使用量を削減できる。
【００７０】
例２．例１の装置において、チューブはフィルタの内側空間に配置されており、第１及び第２の開口のうち一方が入口として機能し、第１及び第２の開口のうち他方が出口として機能してもよい。この場合、チューブがフィルタの内側空間に位置しているので、フィルタ装置のさらなる小型化が可能となる。また、第１の開口が入口として機能し、第２の開口が出口として機能する場合、チューブがフィルタよりも出口側（下流側）に位置するので、フィルタを流通する液体の速度が遅くなる傾向にある。そのため、パーティクル等の異物をより効果的にフィルタで除去することが可能となる。一方、第１の開口が出口として機能し、第２の開口が入口として機能する場合、チューブがフィルタよりも入口側（上流側）に位置するので、液体がフィルタを流通する際に発泡が生じ難い傾向にある。そのため、ノズルからの液体の吐出量をより精度よくコントロールすることが可能となる。
【００７１】
例３．例２の装置は、可撓性を有し且つ筐体内に収容された別のチューブをさらに備え、別のチューブはフィルタの外側空間に配置されており、筐体は、別のチューブの内部と連通し且つ別のチューブを膨張及び収縮させる作動流体が流通可能な第４の開口をさらに含んでいてもよい。この場合、フィルタの上流側と下流側とにそれぞれチューブが存在し、これらのチューブが独立してポンプとして動作する。そのため、フィルタの前後における差圧を任意に設定しうる。従って、フィルタによる液体の濾過速度をコントロールすることが可能となる。
【００７２】
例４．例１の装置において、チューブはフィルタの外側空間に配置されており、第１及び第２の開口のうち一方が入口として機能し、第１及び第２の開口のうち他方が出口として機能してもよい。第１の開口が入口として機能し、第２の開口が出口として機能する場合、チューブがフィルタよりも入口側（上流側）に位置するので、液体がフィルタを流通する際に発泡が生じ難い傾向にある。そのため、ノズルからの液体の吐出量をより精度よくコントロールすることが可能となる。一方、第１の開口が出口として機能し、第２の開口が入口として機能する場合、チューブがフィルタよりも出口側（下流側）に位置するので、フィルタを流通する液体の速度が遅くなる傾向にある。そのため、パーティクル等の異物をより効果的にフィルタで除去することが可能となる。
【００７３】
例５．例１〜例４のいずれかの装置において、第１及び第２の開口は筐体の上面に設けられており、第３の開口は筐体の下面に設けられていてもよい。この場合、筐体の周面には送液ライン等が接続されないので、上下方向においてフィルタ装置の移動が妨げられ難くなる。そのため、フィルタ装置の交換作業を極めて容易に行うことが可能となる。
【００７４】
例６．例１〜５のいずれかの装置において、筐体は、外側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第１のベント開口と、内側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第２のベント開口とを含んでいてもよい。この場合、第１及び第２のベント開口を介して、外側空間と内側空間とのそれぞれから液体を排液できる。そのため、外側空間と内側空間とのどちらかにおいて液体に気泡が発生したとしても、第１又は第２のベント開口を通じて排液することにより、気泡を含む液体がノズルに向けて流れることを抑制することが可能となる。
【００７５】
例７．例１〜例６のいずれかの装置において、筐体の容積は３リットル以下であってもよい。
【００７６】
例８．本開示の他の例に係る送液システムは、例１〜例７のいずれかの装置と、第１及び第２の開口の一方と移送対象の液源とを接続する第１の送液ラインと、第１及び第２の開口の他方とノズルとを接続する第２の送液ラインと、第３の開口と作動流体源とを接続する第３の送液ラインとを備える。この場合、例１と同様の作用効果が得られる。
【００７７】
例９．例８のシステムは、作動流体を介してチューブを膨張及び収縮させるようにチューブを動作させる駆動部と、第１及び第２の開口の一方から他方へと移送対象の液体を送液するように駆動部を制御する処理と、第１及び第２の開口の他方から一方へと移送対象の液体を送液するように駆動部を制御する処理とを実行する制御部とをさらに備えていてもよい。この場合、液体がフィルタを順方向と逆方向とに流通可能となる。このように、液体が順方向と逆方向とで交互にフィルタを流通することにより、パーティクル等の異物がフィルタで捕集されやすくなる。そのため、パーティクル等の異物をいっそう効果的にフィルタで除去することが可能となる。
【００７８】
例１０．例９のシステムは循環ラインをさらに備え、筐体は、フィルタよりも上流側に配置された第５の開口をさらに含み、循環ラインは第５の開口と第１の送液ラインとを接続していてもよい。この場合、フィルタを逆方向に流通した後の流体が、循環ラインを通じて第１の送液ライン（入口側）に戻される。そのため、フィルタ装置内において液体が滞留し難くなる。従って、パーティクルの発生を抑制することが可能となる。
【００７９】
例１１．本開示の他の例に係る送液システムは、例６の装置と、第１及び第２の開口の一方と移送対象の液源とを接続する第１の送液ラインと、第１及び第２の開口の他方とノズルとを接続する第２の送液ラインと、第３の開口と作動流体源とを接続する第３の送液ラインと、第１のベント開口に接続された第１のバルブと、第２のベント開口に接続された第２のバルブと、作動流体を介してチューブを膨張及び収縮させるようにチューブを動作させる駆動部と、制御部とを備える。制御部は、外側空間における圧力が相対的に低下した状態で第１のバルブを開放して、第１のベント開口を通じて外側空間の液体を排出するように第１のバルブを制御する第１の処理と、内側空間における圧力が相対的に低下した状態で第２のバルブを開放して、第２のベント開口を通じて内側空間の液体を排出するように第２のバルブを制御する第２の処理とを実行する。この場合、圧力が相対的に低下した側の空間において、液体に溶存している気泡が膨張（発泡）しやすくなる。そのため、この状態で第１及び第２のバルブを制御することで、成長した気泡を含む液体が第１又は第２のベント開口を通じて排液される。したがって、液体に溶存している気泡を効果的に除去することが可能となる。また、成長した気泡を含む液体は、フィルタを通らずに第１又は第２のベント開口から排液されるので、気泡によるフィルタの目詰まりを抑制することが可能となる。
【符号の説明】
【００８０】
１…基板処理システム、２…塗布現像装置、１０…コントローラ（制御部）、１４〜１７…処理モジュール、１００…送液システム、１１０…送液部、１２０…液源、２００…フィルタ装置、２１０…筐体、２２０…フィルタ、２２２…フィルタ本体、２３０…チューブ、２４０…チューブ（別のチューブ）、Ｄ１〜Ｄ３…配管（第１の送液ライン）、Ｄ４…配管（第２の送液ライン）、Ｄ６…配管（第３の送液ライン）、Ｄ５，Ｄ７…配管（循環ライン）、Ｎ…ノズル、ＯＰ１…入口（第１の開口）、ＯＰ２…出口（第２の開口）、ＯＰ３…排液口（ベント開口、第１のベント開口）、ＯＰ４…出入口（第３の開口）、ＯＰ５…出入口（第４の開口）、ＯＰ６…排液口（第２のベント開口）、Ｓ１…空間（外側空間）、Ｓ２…空間（内側空間）、Ｕ１…ユニット、Ｖ１〜Ｖ３…バルブ、Ｖ４…バルブ（第１のバルブ）、Ｖ５…バルブ（第２のバルブ）。
【図１】
2020037086.tif 000003
【図２】
2020037086.tif 000004
【図３】
2020037086.tif 000005
【図４】
2020037086.tif 000006
【図５】
2020037086.tif 000007
【図６】
2020037086.tif 000008
【図７】
2020037086.tif 000009
【図８】
2020037086.tif 000010
【図９】
2020037086.tif 000011
【図１０】
2020037086.tif 000012
【図１１】
2020037086.tif 000013
【図１２】
2020037086.tif 000014
【図１３】
2020037086.tif 000015
【図１４】
2020037086.tif 000016