(57)【要約】【課題】少ない工程数で簡便かつ短時間に、しかも、効率良く安価にシリルナトリウム化合物を合成できる技術の構築、特に取扱いが困難で毒性のある試薬類を用いず、かつ、サステナビリティの観点からも入手容易な試薬類を用いてシリルナトリウム化合物を合成する技術の構築。【解決手段】シリルナトリウム化合物の合成方法であって、反応溶媒中で、シリルハライド化合物又はジシラン化合物を出発化合物として、前記シリルハライド化合物又はジシラン化合物とナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体を反応させて、シリルナトリウム化合物を得る工程、を有するシリルナトリウム化合物の合成方法、及び、シリルナトリウム化合物の合成方法によって得られたシリルナトリウム化合物をエポキシ化合物と反応させてエポキシ化合物を脱酸素し立体選択的にアルケン化合物を生成する工程、を有するエポキシ化合物の脱酸素方法。【選択図】図１
2020055769.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリルナトリウム化合物の合成方法であって、
反応溶媒中で、下記一般式I
【化１】
2020055769.tif 000014
（一般式I）
〔ここで、式中、R1、R2、及び、R3は、それぞれ独立的に、ナトリウムと反応しない置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Xは、ハロゲン原子である〕に示すシリルハライド化合物を出発化合物として、前記シリルハライド化合物とナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体とを反応させて、下記一般式II
【化２】
2020055769.tif 000015
（一般式II）
〔ここで、式中、R1、R2、及び、R3は、それぞれ一般式IのR1、R2、及び、R3と同様である〕
に示すシリルナトリウム化合物を得る工程、を有するシリルナトリウム化合物の合成方法。
【請求項２】
シリルナトリウム化合物の合成方法であって、
反応溶媒中で、下記一般式III
【化３】
2020055769.tif 000016
（一般式III）
〔ここで、式中、R4、R5、R6、R7、R8、及び、R9は、それぞれ独立的に、ナトリウムと反応しない置換基を有していてもよい炭化水素基である〕
に示すジシラン化合物を出発化合物として、前記ジシラン化合物とナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体とを反応させて、下記一般式IV
【化４】
2020055769.tif 000017
（一般式IV）
〔ここで、式中、R4、R5、及び、R6、並びに、Si2は、それぞれ一般式IIIのR4、R5、及び、R6、並びに、Si2と同様である〕
に示すシリルナトリウム化合物を得る工程、を有するシリルナトリウム化合物の合成方法。
【請求項３】
前記出発化合物に対する前記ナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体のモル比は、2.0以上2.5以下である請求項１又は２に記載のシリルナトリウム化合物の合成方法。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載のシリルナトリウム化合物の合成方法によって得られたシリルナトリウム化合物をエポキシ化合物と反応させてエポキシ化合物を脱酸素し立体選択的にアルケン化合物を得る工程、を有するエポキシ化合物の脱酸素方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリルナトリウム化合物の合成方法及びエポキシ化合物の脱酸素方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
シリルナトリウム化合物は求核剤等として利用され、天然物の全合成や、医農薬、電子材料、及び、それらの中間体等の機能性材料の有機合成等の広範な分野において利用可能な有用な化合物である。
【０００３】
従来において、シリルナトリウム化合物は、シリルクロライド等のシリルハライド化合物やジシラン化合物に、固体の金属ナトリウム、及び、ナフタレン又はビフェニルを添加して合成していた（非特許文献１）。しかしながら、非特許文献１の合成方法では、固体の金属ナトリウムを4倍当量添加する必要があり、金属ナトリウムの溶解のためにナフタレン又はビフェニルのような添加剤を必要とし、しかも、長時間の反応を要する。このため、試薬費の増大等によりコスト面で不利になる。また、添加剤として添加したナトリウムやビフェニルが固体ナトリウムから電子を受け取りラジカルアニオンを生成する。生成したラジカルアニオンは、下段の反応工程において副反応を誘発する可能性があり、目的化合物の収率の面でも不利になる。更に、反応終了後にナフタレンやビフェニルを別途除去する工程を設ける必要があり、除去のための装置や設備等が必要となり、工程の複雑化及びコストの増大を招くという問題点がある。
【０００４】
シリルナトリウム化合物の類縁化合物として、シリルカリウム化合物及びシリルリチウム化合物がある。これらの化合物は、シリルナトリウム化合物とアルカリ金属を含む有機ケイ素化合物として共通する。シリルカリウム化合物は、ヘキサメチルリン酸トリアミド（HMPA）溶媒中で、ヘキサメチルジシラン（Me3SiSiMe3）とメトキシカリウム（MeOK）とを反応させて合成していた（非特許文献２）。しかしながら、反応溶媒であるHMPAは発がん性の疑いあり、また、メトキシカリウムの調製に際して必要となる金属カリウムは、反応性が非常に高く僅かな水分や酸素とも反応することから取り扱いに注意を要する。シリルリチウム化合物について、その構成元素であるリチウムが、リチウムイオン電池の需要の増大による需要のひっ迫及び可採埋蔵量の限界等により、サステナビリティの観点から問題がある。また、シリルリチウム化合物の反応性自体も、例えばエポキシ化合物の脱酸素反応において反応が完結せず中間生成物のまま反応が終了する等、市場が要求するレベルには達していないという問題もある。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】F.W.G.Fearon, HenryGilman著、Journal of Organometallic Chemistry, 9(3), 1967, P403-411
【非特許文献２】Peter B. Dervan及びMichael A. Shippey著、Journal of the American Chemical Society, 1976, 98 (5), p 1265-1267
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記した通り、種々の有機合成において反応性及び取り扱い性の観点から良好であるシリルナトリウム化合物を簡便かつ安価に提供できる技術が依然として求められていた。
【０００７】
そこで、本発明は、少ない工程数で簡便かつ短時間に、しかも、効率良く安価にシリルナトリウム化合物を合成できる技術の構築を課題とし、特に、取扱いが困難で毒性のある試薬類を用いず、かつ、サステナビリティの観点からも入手容易な試薬類を用いてシリルナトリウム化合物を合成する技術の構築を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決すべく研究を重ねた結果、反応溶媒中でシリルハライド化合物又はジシラン化合物とナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体とを反応させることにより、シリルナトリウム化合物を効率よく合成できることを見出した。かかるシリルナトリウム化合物の合成方法は、必要とする試薬類の種類及び量を最小限に抑えることができ、かつ、取扱いが困難で毒性のある試薬類を必要とせず、温和な条件下でシリルナトリウム化合物の合成を行うことができる。更に、煩雑な合成処理工程や精製工程等を必要とせず、少ない工程数で安価かつ短時間にシリルナトリウム化合物を合成することができる。本発明者らは、これらの知見に基づき本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明は、シリルナトリウム化合物の合成方法に関するものであり、その特徴構成は、反応溶媒中で、下記一般式I
【化１】
2020055769.tif 000003
（一般式I）
〔ここで、式中、R1、R2、及び、R3は、それぞれ独立的に、ナトリウムと反応しない置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Xは、ハロゲン原子である〕に示すシリルハライド化合物を出発化合物として、前記シリルハライド化合物とナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体とを反応させて、下記一般式II
【化２】
2020055769.tif 000004
（一般式II）
〔ここで、式中、R1、R2、及び、R3は、それぞれ一般式IのR1、R2、及び、R3と同様である〕
に示すシリルナトリウム化合物を得る工程、を有する点にある。
【００１０】
本構成によれば、シリルハライド化合物からシリルナトリウム化合物を合成するシリルナトリウム化合物の合成方法を提供することができる。本構成によれば、取り扱いが容易なナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体を使用することにより、温和な条件下で、煩雑な化学的手法を必要とせず少ない工程数で簡便かつ短時間にシリルナトリウム化合物を合成できることから、経済的かつ工業的にも非常に有利である。また、温和な条件下で反応が進行するため、望ましくない副反応を誘発することなく効率的にシリルナトリウム化合物を得ることができる。更に、ナフタレンやビフェニル等の添加剤や過剰量のナトリウムの添加を必要とせず、試薬の種類及び量を最小限に抑えることができ、コスト面でも非常に有利である。また、ナトリウムは、地球上に極めて広く分布していることからサステナビリティの観点からも優れた技術であり、また、環境への負荷も低減できる。更に、本構成のシリルナトリウム化合物の合成方法は、良好な反応性と取り扱い性を有するシリルナトリウム化合物を提供できることから、医農薬及び電子材料等の機能性材料の合成等、広範な技術分野において利用することができる。
【００１１】
更に、本発明は、シリルナトリウム化合物の合成方法に関するものであり、その特徴構成は、反応溶媒中で、下記一般式III
【化３】
2020055769.tif 000005
（一般式III）
〔ここで、式中、R4、R5、R6、R7、R8、及び、R9は、それぞれ独立的に、ナトリウムと反応しない置換基を有していてもよい炭化水素基である〕に示すジシラン化合物を出発化合物として、前記ジシラン化合物とナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体とを反応させて、下記一般式IV
【化４】
2020055769.tif 000006
（一般式IV）
〔ここで、式中、R4、R5、及び、R6、並びに、Si2は、それぞれ一般式IIIのR4、R5、及び、R6、並びに、Si2と同様である〕
に示すシリルナトリウム化合物を得る工程、を有する点にある。
【００１２】
本構成によれば、ジシラン化合物からシリルナトリウム化合物を合成するシリルナトリウム化合物の合成方法を提供することができる。本構成によれば、取り扱いが容易なナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体を使用することにより、温和な条件下で、煩雑な化学的手法を必要とせず少ない工程数で簡便かつ短時間にシリルナトリウム化合物を合成できることから、経済的かつ工業的にも非常に有利である。また、温和な条件下で反応が進行するため、望ましくない副反応を誘発することなく効率的にシリルナトリウム化合物を得ることができる。更に、ナフタレンやビフェニル等の添加剤や過剰量のナトリウムの添加を必要とせず、試薬の種類及び量を最小限に抑えることができ、コスト面でも非常に有利である。また、ナトリウムは、地球上に極めて広く分布していることからサステナビリティの観点からも優れた技術であり、また、環境への負荷も低減できる。更に、本構成のシリルナトリウム化合物の合成方法は、良好な反応性と取り扱い性を有するシリルナトリウム化合物を提供できることから、医農薬及び電子材料等の機能性材料の合成等、広範な技術分野において利用することができる。
【００１３】
他の特徴構成は、前記出発化合物に対する前記ナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体のモル比は、2.0以上2.5以下である、点にある。
【００１４】
本構成によれば、出発化合物であるシリルハライド化合物又はジシラン化合物、及び、ナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体の使用量の最適化を図ることにより、シリルナトリウム化合物を更に高効率かつ高純度に合成することができる。
【００１５】
また、本発明は、エポキシ化合物の脱酸素方法であり、その特徴構成は、上記シリルナトリウム化合物の合成方法によって得られたシリルナトリウム化合物をエポキシ化合物と反応させてエポキシ化合物を脱酸素し立体選択的にアルケン化合物を得る工程、を有する、点にある。
【００１６】
本構成によれば、上記シリルナトリウム化合物の合成方法に得られたシリルナトリウム化合物を用いて、エポキシ化合物を脱酸素する方法を提供することができる。本構成によれば、温和な条件下でエポキシ化合物を脱酸素でき、対応するアルケン化合物を高効率かつ高純度に得ることができる。更に、本構成によれば、目的とするアルケン化合物を立体選択的に得ることができる。したがって、本構成のエポキシ化合物の脱酸素方法は、医農薬及び電子材料等の機能性材料の合成等、広範な技術分野において利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】SDを用いるシリルナトリウム化合物の合成検討を行った実施例１の合成条件及び結果を要約する図であり、シリルハライド化合物を出発化合物とする。
【図２】SDを用いるシリルナトリウム化合物の合成検討を行った実施例２の合成条件及び結果を要約する図であり、ジシラン化合物を出発化合物とする。
【図３】シリルナトリウム化合物を用いるエポキシ化合物の脱酸素方法の検討を行った実施例３の反応条件及び結果を要約する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
〔シリルナトリウム化合物の合成方法〕
以下、本発明の実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法について詳細に説明する。ただし、本発明は、後述する実施形態に限定されるものではない。
【００１９】
（シリルハライド化合物からのシリルナトリウム化合物の合成方法）
本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法は、反応溶媒中で、下記一般式Iに示すシリルハライド化合物とナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体とを反応させて、下記一般式IIに示すシリルナトリウム化合物を得る工程を有するものである。
【００２０】
本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法は、下記一般式Iに示すシリルハライド化合物を出発化合物とする。
【化５】
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（一般式I）
【００２１】
一般式Iに示すシリルハライド化合物において、R1、R2、及び、R3は、それぞれ独立的にナトリウムと反応しない置換基を有していてもよい炭化水素基である。ナトリウムと反応性を有する置換基を有すると、当該置換基とナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体が反応し、副反応を誘発するため好ましくない。したがって、R1、R2、及び、R3としてナトリウムと反応性を有する置換基を有するものを用いる場合には、当該置換基を適切な保護基等で保護することが必要となる。
【００２２】
R1、R2、及び、R3は、全てが異なる構造を有する炭化水素基であっても、また、1つを除いて他の2つが同一の構造を有する炭化水素基であっても、更に、全てが同一の構造を有する炭化水素基であってもよい。
【００２３】
炭化水素基は、炭化水素から水素原子1個又は2個以上を取り除いてできる基である限り特に制限はなく、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、及び、芳香族炭化水素基等が例示される。したがって、炭化水素基を構成する炭素原子の数、分枝の有無、及び、飽和結合の有無等を問わない。
【００２４】
脂肪族炭化水素基は、直鎖及び分枝の別を問わず、飽和及び不飽和の別も問わない。また、その鎖長についても特に制限はない。脂肪族炭化水素基としては、これらに限定するものではないが、好ましくは炭素原子数1〜20個、特に好ましくは炭素原子数1〜10個のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基が例示される。具体的には、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、t-ペンチル基、s-ペンチル基、2-メチルブチル基、1-エチルプロピル基、2-エチルプロピル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル基、t-ヘキシル基、2,2-ジメチルブチル基、2-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、1-エチルブチル基、2-エチルブチル基、1-プロピルプロピル基、n-ヘプチル基、イソヘプチル基、s-ヘプチル基、t-ヘプチル基、2,2-ジメチルペンチル基、3,3-ジメチルペンチル基、1-メチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、3-メチルヘキシル基、4-メチルヘキシル基、1-エチルペンチル基、2-エチルペンチル基、3-エチルペンチル基、1-プロピルブチル基、2-プロピルブチル基、n-オクチル基、イソオクチル基、t-オクチル基、ネオオクチル基、2,2-ジメチルヘキシル基、3,3-ジメチルヘキシル基、4,4-ジメチルヘキシル基、1-メチルヘプチル基、2-メチルヘプチル基、3-メチルヘプチル基、4-メチルヘプチル基、5-メチルヘプチル基、1-エチルヘキシル基、2-エチルヘキシル基、3-エチルヘキシル基、4-エチルヘキシル基、1-プロピルペンチル基、2-プロピルペンチル基、3-プロピルペンチル基、n-ノニル基、イソノニル基、t-ノニル基、1-メチルオクチル基、2-メチルオクチル基、3-メチルオクチル基、4-メチルオクチル基、5-メチルオクチル基、6-メチルオクチル基、n-デシル基、イソデシル基、t-デシル基、1-メチルノニル基、2-メチルノニル基、3-メチルノニル基、4-メチルノニル基、5-メチルノニル基、6-メチルノニル基、7-メチルノニル基等が挙げられるが、これらに限定するものではない。アルケニル基としては、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基等が挙げられるが、これらに限定するものではない。アルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘプチニル基、オクチニル基等が挙げられるが、これらに限定するものではない。特に好ましくは、メチル基である。
【００２５】
脂環式炭化水素基は、環構成原子間の結合は飽和及び不飽和の別は問わず、環員数についても特に制限はない。また、単環だけでなく、縮合環やスピロ環等の環集合を持つものも含まれる。脂環式炭化水素基としては、これらに制限するものではないが、好ましくは炭素原子数3〜10個、特に好ましくは3〜7個のシクロアルキル基、及び、シクロアルケニル基、好ましくは炭素原子数4〜10個、特に好ましくは4〜7個のシクロアルキニル基等が例示される。具体的には、シクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられるが、これらに限定するものではない。シクロアルケニル基としては、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基等が挙げられるが、これらに限定するものではない。
【００２６】
芳香族炭化水素基は、芳香環を有する限り特に制限はない。単環だけでなく、縮合環やスピロ環等の環集合を持つものも含まれる。環員数についても特に制限はない。例えば、炭素原子数が、好ましくは6〜22個、特に好ましくは、6〜14個である芳香族炭化水素基が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、単環式の六員環フェニル基等、二環式のナフチル基、ペンタレニル基、インデニル基、アズレニル基等、三環式のビフェニレニル基、インダセニル基、アセナフチレニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基等、四環式のフルオランテニル、アセアントリレニル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、ナフタセニル基等、五環式のペリレニル基、テトラフェニレニル等、六環式のペンタセニル基等、七環式のルビセニル基、コロネニル基、ヘプタセニル基等が挙げられるが、これらに限定するものではない。特に好ましくは、フェニル基である。
【００２７】
炭化水素基は、更に、置換基を有していてもよい。置換基は、1個又は複数個を有していてよく、複数個の置換基を有する場合には、互いに同一又は異なっていてもよい。また、置換基の位置についても特に制限はない。置換基としては、置換基を有してもよい炭化水素基が例示されるが、これらに限定するものではない。炭化水素基の詳細については、上記した通りである。したがって、R1、R2、及び、R3には、脂肪族炭化水素基と脂環式炭化水素基が結合したもの、脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基が結合したもの、脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基が結合したもの、脂肪族炭化水素基と脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基とが結合したもの等も好適に含まれる。
【００２８】
Xは、ハロゲン原子であり、具体的には、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は、フッ素原子であるが、好ましくは、塩素原子である。安価な塩化物を用いることにより経済的に更に有利となる。臭化物において問題となるような、原料である臭素の産地の偏在や入手の困難性等の問題もなく、工業化に際しての高負荷な廃棄処理施設の必要性等の問題もない。
【００２９】
一般式Iに示すシリルハライド化合物の具体例としては、メチルジフェニルシリルクロリド、トリフェニルシリルクロリド、ジメチルフェニルシリルクロリド、トリメチルシリルクロリド、トリエチルシリルクロリド、トリス（トリメチルシリル）シリルクロリド等が例示されるが、これらに限定するものではない。
【００３０】
一般式Iに示すシリルハライド化合物は、市販されているものを使用してもよいし、当該技術分野で公知の方法により製造されたものを使用してよい。
【００３１】
ナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体（以下、Sodium Dispersionの略号である「SD」と略する場合がある。）は、ナトリウムを微粒子として不溶性溶媒に分散させたもの、又は、ナトリウムを液体の状態で不溶性溶媒に分散させたものである。ナトリウムとしては、金属ナトリウムのほか、金属ナトリウムを含む合金などが挙げられる。微粒子の平均粒子径として、好ましくは、10μm未満であり、特に好ましくは、5μm未満のものを使用することができる。平均粒子径は、顕微鏡写真の画像解析によって得られた投影面積と同等の投影面積を有する球の径で表した。
【００３２】
分散溶媒としては、ナトリウムを微粒子として分散、又はナトリウムを液体の状態で不溶性溶媒に分散でき、かつ、シリルハライド化合物とSDとの反応を阻害しない限り、当該技術分野で公知の溶媒を使用することができる。例えば、例えば、キシレン、トルエン等の芳香族系溶媒や、ノルマルデカン等のノルマルパラフィン系溶媒、テトラヒドロチオフェン等の複素環化合物溶媒、又はそれらの混合溶媒等が挙げられる。
【００３３】
SDは、クロロベンゼンに対して2.1モル当量以上で反応溶媒中で反応させた場合に、添加したクロロベンゼンに対するフェニルナトリウムの収率が99.0％以上となる活性を有するものを使用することが好ましい。このような高活性なSDを使用することにより、シリルハライド化合物からシリルナトリウム化合物の合成反応を更に円滑かつ効率的に進行させることができる。ここで、SDの活性を高く維持するためには、好ましくは、ガラスバイアル等のガスバリア性の高い容器に保管することが好ましい。しかしながら、ガスバリア性の低い容器に保管することを排除するものではなく、その場合には、SDの製造後、速やかに、例えば数週間内、好ましくは３週間内に使用する。
【００３４】
反応溶媒としては、シリルハライド化合物とSDとの反応を阻害しない限り、当該技術分野で公知の溶媒を使用することができる。例えば、エーテル系溶媒、ノルマルパラフィン系やシクロパラフィン系等のパラフィン系溶媒、芳香族系溶媒、アミン系溶媒、複素環化合物溶媒を使用することができる。エーテル系溶媒としては、環状エーテル溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン（以下、「THF」と略する場合がある）等を好ましく使用することができる。パラフィン系溶媒としては、シクロヘキサン、ノルマルヘキサン、及び、ノルマルデカン等が特に好ましい。芳香族系溶媒としては、キシレン、トルエン及びベンゼン等を好ましく利用することができる。アミン系溶媒としては、エチレンジアミン等を好ましく使用することができる。複素環化合物溶媒としては、テトラヒドロチオフェン等を利用することができる。また、これらは1種類のみを使用してもよいし、2種以上を併用し混合溶媒として使用することもできる。ここで、前述の分散溶媒と反応溶媒とは同一の種類のものを使用してもよいし、異なる種類のものを使用してもよい。
【００３５】
反応温度は、シリルハライド化合物、SD及び反応溶媒の種類や量、並びに反応圧力等により適宜設定することができる。具体的には、反応温度は、反応溶媒の沸点を越えない温度に設定することが好ましい。加圧下では大気圧下での沸点よりも高くなるため反応温度を高い温度で設定することができる。反応は、室温で行うこともでき、好ましくは0〜100℃であり、特に好ましくは20〜80℃、更に好ましくは室温〜50℃、最も好ましいのは30℃である。特段の加熱や冷却等のための温度制御手段を設ける必要はないが、必要に応じて、温度制御手段を設けても良い。反応溶媒の種類及び添加量を適切に制御することで、更に効率的に目的化合物を合成することができる。
【００３６】
反応時間についても、特に限定されず、シリルハライド化合物、SD、及び反応溶媒の種類や量、並びに反応圧力や反応温度等に応じて適宜設定すればよい。通常は、15分間〜24時間、好ましくは20分間〜15時間、特に好ましいのは10時間で行われる。
【００３７】
本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法は、アルゴンガスや窒素ガス等を充填した不活性ガス雰囲気下で行う必要がある。
【００３８】
本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法においてSD及びシリルハライド化合物の使用量は、出発化合物であるシリルハライド化合物、及び反応溶媒の種類や量に応じて適宜設定することができる。好ましくは、シリルハライド化合物に対するSDのモル比は、2.0以上2.5以下となる量で反応させることが好ましい。この量で反応させることにより、シリルナトリウム化合物を高効率かつ高純度に合成することができる。ここで、SDの物質量は、SD中に含まれるアルカリ金属換算での物質量を意味する。
【００３９】
本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法によって、下記一般式IIに示すシリルナトリウム化合物が得られる。
【化６】
2020055769.tif 000008
（一般式II）
【００４０】
一般式IIに示すシリルナトリウム化合物は、一般式Iに示すシリルハライド化合物のハロゲン原子がナトリウムに置換されたものである。したがって、一般式IIに示すシリルナトリウム化合物において、R1、R2、及び、R3は、それぞれ上記した一般式IのR1、R2、及び、R3と同様であり、Naは、ナトリウム原子である。得られたシリルナトリウム化合物は、カラムクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等、当該技術分野で公知の精製手段により精製してもよい。また、未反応で残存したシリルハライド化合物を回収し、再度、上記工程の反応に供するように構成してもよい。また、精製は合成時と同様にアルゴンガスや窒素ガスなどを充填した不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。
【００４１】
（ジシラン化合物からのシリルナトリウム化合物の合成方法）
本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法は、反応溶媒中で、下記一般式IIIに示すジシラン化合物とナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体とを反応させて、下記一般式IVに示すシリルナトリウム化合物を得る工程を有するものである。
【００４２】
本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法は、下記一般式IIIに示すジシラン化合物を出発化合物とする。
【化７】
2020055769.tif 000009
（一般式III）
【００４３】
一般式IIIに示すジシラン化合物において、R4、R5、R6、R7、R8、及び、R9は、それぞれ独立的にナトリウムと反応しない置換基を有していてもよい炭化水素基である。ナトリウムと反応性を有する置換基を有すると、当該置換基とナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体が反応し、副反応を誘発するため好ましくない。したがって、R4、R5、R6、R7、R8、及び、R9としてナトリウムと反応性を有するものを用いる場合には、当該置換基を適切な保護基等で保護することが必要となる。
【００４４】
R4、R5、R6、R7、R8、及び、R9は、全てが異なる構造を有する炭化水素基であっても、全てが同一の構造を有する炭化水素基であってもよい。更に、一部が同一であり他のものが異なる構造を有する炭化水素基であってもよく、その組み合わせには特に制限はない。
【００４５】
炭化水素基は、炭化水素から水素原子1個又は2個以上を取り除いてできる基である限り特に制限はなく、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、及び、芳香族炭化水素基等が例示される。したがって、炭化水素基を構成する炭素原子の数、分枝の有無、及び、飽和結合の有無等を問わない。炭化水素基の詳細については、（シリルハライド化合物からのシリルナトリウム化合物の合成方法）の項で説明した通りである。
【００４６】
一般式IIIに示すジシラン化合物の具体例としては、1,2-ジメチル-1,1,2,2-テトラフェニルジシラン、ヘキサフェニルジシラン、1,1,2,2-テトラメチル-1,2-ジフェニルジシラン、1,1,1-トリメチル-2,2,2-トリフェニルジシラン、1,1,1,2-テトラメチル-2,2-ジフェニルジシラン、1,1,1,2,2-ペンタメチル-2-フェニルジシラン、1-メチル-1,1,2,2,2-ペンタフェニルジシラン、1,2-ジメチル-1,2,2,2-テトラフェニルジシラン、1,1,2-トリメチル-1,2,2-トリフェニルジシラン等が例示されるが、これらに限定するものではない。
【００４７】
一般式IIIに示すジシラン化合物は、市販されているものを使用してもよいし、当該技術分野で公知の方法により製造されたものを使用してよい。
【００４８】
ナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体（以下、Sodium Dispersionの略号である「SD」と略する場合がある。）は、ナトリウムを微粒子として不溶性溶媒に分散させたもの、又は、ナトリウムを液体の状態で不溶性溶媒に分散させたものであり、詳細は上記（シリルハライド化合物からのシリルナトリウム化合物の合成方法）の項で説明した通りである。
【００４９】
反応溶媒としては、ジシラン化合物とSDとの反応を阻害しない限り、当該技術分野で公知の溶媒を使用することができる。例えば、エーテル系溶媒、ノルマルパラフィン系やシクロパラフィン系等のパラフィン系溶媒、芳香族系溶媒、アミン系溶媒、複素環化合物溶媒を使用することができる。エーテル系溶媒としては、環状エーテル溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン（以下、「THF」と略する場合がある）等を好ましく使用することができる。パラフィン系溶媒としては、シクロヘキサン、ノルマルヘキサン、及び、ノルマルデカン等が特に好ましい。芳香族系溶媒としては、キシレン、トルエン及びベンゼン等を好ましく利用することができる。アミン系溶媒としては、エチレンジアミン等を好ましく使用することができる。複素環化合物溶媒としては、テトラヒドロチオフェン等を利用することができる。また、これらは1種類のみを使用してもよいし、2種以上を併用し混合溶媒として使用することもできる。ここで、前述の分散溶媒と反応溶媒とは同一の種類のものを使用してもよいし、異なる種類のものを使用してもよい。
【００５０】
反応温度は、ジシラン化合物、SD及び反応溶媒の種類や量、並びに反応圧力等により適宜設定することができる。具体的には、反応温度は、反応溶媒の沸点を越えない温度に設定することが好ましい。加圧下では大気圧下での沸点よりも高くなるため反応温度を高い温度で設定することができる。反応は、室温で行うこともでき、好ましくは0〜100℃であり、特に好ましくは20〜80℃、更に好ましくは室温〜50℃、最も好ましいのは30℃である。特段の加熱や冷却等のための温度制御手段を設ける必要はないが、必要に応じて、温度制御手段を設けても良い。反応溶媒の種類及び添加量を適切に制御することで、更に効率的に目的化合物を合成することができる。
【００５１】
反応時間についても、特に限定されず、ジシラン化合物、SD、及び反応溶媒の種類や量、並びに反応圧力や反応温度等に応じて適宜設定すればよい。通常は、15分間〜24時間、好ましくは20分間〜15時間、特に好ましいのは10時間で行われる。
【００５２】
本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法は、アルゴンガスや窒素ガス等を充填した不活性ガス雰囲気下で行う必要がある。
【００５３】
本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法においてSD及びジシラン化合物の使用量は、出発化合物であるジシラン化合物、及び反応溶媒の種類や量に応じて適宜設定することができる。好ましくは、ジシラン化合物に対するSDのモル比は、2.0以上2.5以下となる量で反応させることが好ましい。この量で反応させることにより、シリルナトリウム化合物を高効率かつ高純度に合成することができる。ここで、SDの物質量は、SD中に含まれるアルカリ金属換算での物質量を意味する。
【００５４】
本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法によって、下記一般式IVに示すシリルナトリウム化合物が得られる。
【化８】
2020055769.tif 000010
（一般式IV）
【００５５】
一般式IVに示すシリルナトリウム化合物は、一般式IIIに示すジシラン化合物の一方のシリル基（-Si3-R7R8R9基）がナトリウムに置換されたものである。したがって、一般式IVに示すシリルナトリウム化合物において、R4、R5、及び、R6、並びに、Si2は、それぞれ上記した一般式IIIのR4、R5、及び、R6、並びに、Si2と同様であり、Naは、ナトリウム原子である。得られたシリルナトリウム化合物は、カラムクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等、当該技術分野で公知の精製手段により精製してもよい。また、未反応で残存したジシラン化合物を回収し、再度、上記工程の反応に供するように構成してもよい。また、精製は合成時と同様にアルゴンガスや窒素ガスなどを充填した不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。
【００５６】
本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法によれば、シリルハライド化合物又はジシラン化合物からシリルナトリウム化合物を合成するシリルナトリウム化合物の合成方法を提供することができる。本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法は、取り扱いが容易なナトリウムを分散溶媒に分散させた分散体を使用することにより、温和な条件下で、煩雑な化学的手法を必要とせず少ない工程数で簡便かつ短時間にシリルナトリウム化合物を合成できることから、経済的かつ工業的にも非常に有利である。また、温和な条件下で反応が進行するため、望ましくない副反応を誘発することなく効率的にシリルナトリウム化合物を得ることができる。更に、ナフタレンやアントラセン、フェナントレン、4,4’-ジ-tert-ブチルビフェニルのようなビフェニル等の添加剤や過剰量のナトリウムの添加を必要とせず、試薬の種類及び量を最小限に抑えることができ、コスト面でも非常に有利である。また、ナトリウムは、地球上に極めて広く分布していることからサステナビリティの観点からも優れた技術であり、また、環境への負荷も低減できる。
【００５７】
更に、本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法は、良好な反応性と取り扱い性を有するシリルナトリウム化合物を提供できることから、医農薬及び電子材料等の機能性材料の合成等、広範な技術分野において利用することができる。
【００５８】
〔エポキシ化合物の脱酸素方法〕
以下、本発明の実施形態に係るエポキシ化合物の脱酸素方法について詳細に説明する。ただし、本発明は、後述する実施形態に限定されるものではない。
【００５９】
本実施形態に係るエポキシ化合物の脱酸素方法は、上記〔シリルナトリウム化合物の合成方法〕の項で説明したシリルナトリウム化合物の合成方法を含み、当該シリル合成方法によって得られたシリルナトリウム化合物をエポキシ化合物と反応させてエポキシ化合物を脱酸素し立体選択的にアルケン化合物を得る工程を有するものである。
【００６０】
本実施形態に係るエポキシ化合物の脱酸素方法は、上記〔シリルナトリウム化合物の合成方法〕の項で説明したシリルナトリウム化合物の合成方法で得られたシリルナトリウム化合物を用いる。当該シリルナトリウム化合物としては、当該シリルナトリウム化合物の合成を行った反応液をそのまま用いてもよいし、反応液をカラムクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等、当該技術分野で公知の精製手段により精製したものを用いてもよい。
【００６１】
本実施形態に係るエポキシ化合物の脱酸素方法において、下記一般式Vに示すエポキシ化合物を脱酸素方法の対象とする。エポキシ化合物において、エポキシ環の環平面に対する置換基の相対位置により生じるシス−トランス異性体は、シス体及びトランス体の何れであってもよい。
【化９】
2020055769.tif 000011
（一般式V）
【００６２】
一般式Vに示すエポキシ化合物において、R10、R11、R12、及び、R13は、それぞれ独立的に、水素原子、又は、ナトリウムと反応しない置換基を有していてもよい炭化水素基である。更に、R10、R11、R12、及び、R13から選択された２つの基が互いに結合して、エポキシ環を形成する炭素原子と共に環を形成していてもよい。ここで、ナトリウムと反応性を有する置換基を有すると、当該置換基とシリルナトリウム化合物が反応し、副反応を誘発するため好ましくない。したがって、R10、R11、R12、及び、R13としてナトリウムと反応性を有する置換基を有するものの場合には、当該置換基を適切な保護基等で保護することが必要となる。
【００６３】
R10、R11、R12、及び、R13が炭化水素基である場合には、これら全てが異なる構造を有する炭化水素基であっても、また、1つを除いて他の3つ、若しくは、2つを除いて他の2つが同一の構造を有する炭化水素基であっても、更に、全てが同一の構造を有する炭化水素基であってもよい。
【００６４】
炭化水素基は、炭化水素から水素原子1個又は2個以上を取り除いてできる基である限り特に制限はなく、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、及び、芳香族炭化水素基等が例示される。したがって、炭化水素基を構成する炭素原子の数、分枝の有無、及び、飽和結合の有無等を問わない。炭化水素基の詳細については、〔シリルナトリウム化合物の合成方法〕の項で説明した通りである。
【００６５】
一般式Vに示すエポキシ化合物は、市販されているものを使用してもよいし、当該技術分野で公知の方法により製造されたものを使用してよい。
【００６６】
エポキシ化合物の具体例としては、シス-1,6-ジフェニル-3,4-エポキシヘキサン、トランス-1,6-ジフェニル-3,4-エポキシヘキサン、シス-スチルベンオキシド、トランス-スチルベンオキシド、シス-シクロデセンオキシド、トランス-シクロデセンオキシド等を挙げることができる。
【００６７】
反応溶媒としては、シリルナトリウム化合物とエポキシ化合物との反応を阻害しない限り、当該技術分野で公知の溶媒を使用することができる。例えば、エーテル系溶媒、ノルマルパラフィン系やシクロパラフィン系等のパラフィン系溶媒、芳香族系溶媒、アミン系溶媒、複素環化合物溶媒を使用することができる。エーテル系溶媒としては、環状エーテル溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン（以下、「THF」と略する場合がある）等を好ましく使用することができる。パラフィン系溶媒としては、シクロヘキサン、ノルマルヘキサン、及び、ノルマルデカン等が特に好ましい。芳香族系溶媒としては、キシレン、トルエン及びベンゼン等を好ましく利用することができる。アミン系溶媒としては、エチレンジアミン等を好ましく使用することができる。複素環化合物溶媒としては、テトラヒドロチオフェン等を利用することができる。また、これらは1種類のみを使用してもよいし、2種以上を併用し混合溶媒として使用することもできる。
【００６８】
反応温度は、シリルナトリウム化合物、エポキシ化合物及び反応溶媒の種類や量、並びに反応圧力等により適宜設定することができる。具体的には、反応温度は、反応溶媒の沸点を越えない温度に設定することが好ましい。加圧下では大気圧下での沸点よりも高くなるため反応温度を高い温度で設定することができる。反応は、室温で行うこともでき、好ましくは0〜100℃であり、特に好ましくは20〜80℃、更に好ましくは室温〜50℃である。特段の加熱や冷却等のための温度制御手段を設ける必要はないが、必要に応じて、温度制御手段を設けても良い。反応溶媒の種類及び添加量を適切に制御することで、更に効率的に目的化合物を合成することができる。
【００６９】
反応時間についても、特に限定されず、シリルナトリウム化合物、エポキシ化合物、及び反応溶媒の種類や量、並びに反応圧力や反応温度等に応じて適宜設定すればよい。通常は、15分間〜24時間、好ましくは20分間〜6時間で行われる。
【００７０】
本実施形態に係るエポキシ化合物の脱酸素方法は、アルゴンガスや窒素ガス等を充填した不活性ガス雰囲気下で行う必要がある。
【００７１】
本実施形態に係るエポキシ化合物の脱酸素方法により、一般式VIに示すアルケン化合物を得ることができる。
【化１０】
2020055769.tif 000012
（一般式VI）
【００７２】
本実施形態に係るエポキシ化合物の脱酸素方法は、下記の反応スキーム（反応スキーム１）に従って進行すると考えられる。なお、反応スキーム１は、対象化合物のエポキシ化合物がシス体である場合を例示したものである。
【００７３】
【化１１】
2020055769.tif 000013
（反応スキーム１）
【００７４】
反応スキーム１に示す通り、一般式Vに示すエポキシ化合物にシリル化合物を反応させることにより、当該エポキシ化合物のエポキシ環が環構成原子の酸素原子と炭素原子の間で開環し、当該炭素原子にシリル基が付加される。続いて、当該酸素原子とシリル基が共に脱離し、対応するアルケン化合物が生成する。
【００７５】
本実施形態に係るエポキシ化合物の脱酸素方法は、後述の実施例で確認された通り立体選択的に行われる。シス体のエポキシ化合物から、立体選択的にトランス体のアルケン化合物が生成し、トランス体のエポキシ化合物から、立体選択的にシス体のアルケン化合物が生成する。したがって、シス−トランス異性体構造を制御することができ、立体選択的に目的化合物を取得することができる。
【００７６】
本実施形態に係るエポキシ化合物の脱酸素方法によれば、本実施形態に係るシリルナトリウム化合物の合成方法に得られたシリルナトリウム化合物を用いて、エポキシ化合物を脱酸素する方法を提供することができる。本実施形態に係るエポキシ化合物の脱酸素方法によれば、温和な条件下でエポキシ化合物を脱酸素でき、対応するアルケン化合物を高効率かつ高純度に得ることができる。更に、本構成によれば、目的とするアルケン化合物を立体選択的に得ることができる。
【００７７】
一方、シリルナトリウム化合物の類縁化合物であるシリルリチウム化合物は、リチウムイオンのルイス酸の強さがナトリウムイオンと比較して強く、中間体で安定化し脱酸素反応が進行しないことから効率良く対応のアルケン化合物を合成できないという問題がある。また、類縁化合物であるシリルカリウム化合物は、カリウムの反応性が非常に高いことから、従来技術の項で説明した通り、その調製等に際し取り扱いに注意を要するという問題がある。
【００７８】
このような背景より、本実施形態に係るエポキシ化合物の脱酸素方法は、医農薬及び電子材料等の機能性材料の合成等、広範な技術分野において利用することができる。
【実施例】
【００７９】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。なお、以下の実施例におけるSDとしては、金属ナトリウムを微粒子としてノルマルパラフィン油に分散させた分散体を使用し、SDの物質量は、SDに含まれる金属ナトリウム換算での数値である。
【００８０】
実施例１．SDを用いるシリルナトリウム化合物の合成条件の検討−１
本実施例では、SDを用いるシリルナトリウム化合物の合成について、シリルハライド化合物を出発化合物として反応条件の検討を行った（図１を参照のこと）。
【００８１】
（実験番号１）
THF 0.5 ml中に、シリルハライド化合物である0.5 mmolのメチルジフェニルシリルクロリドと2.0モル当量のSDを添加して30℃で10時間反応させ、シリルナトリウム化合物であるメチルジフェニルシリルナトリウムを合成した。このとき、上記以外の添加剤等は添加せずに反応を行った。
【００８２】
メチルジフェニルシリルナトリウムの収率は、得られたメチルジフェニルシリルナトリウムを、塩化水素を溶解させた1,4-ジオキサン溶液中で塩化水素と反応させてメチルジフェニルシランを合成し、メチルジフェニルシランの収率をNMRで算出することにより、間接的に算出した。メチルジフェニルシリルナトリウムの収率は、反応系に添加したメチルジフェニルシリルクロリドから理論的に生成することができるメチルジフェニルシリルナトリウムに対する、実際に取得できたメチルジフェニルシリルナトリウムの割合（％）である。
【００８３】
図１に、反応スキーム、反応条件、及び、収率を要約する。その結果、91％との高収率でメチルジフェニルシリルナトリウムを合成できていることが判明した。
【００８４】
（実験番号２）
THF 0.5 ml中に、シリルハライド化合物である0.5 mmolのメチルジフェニルシリルクロリドと2.0モル当量のSDを添加して30℃で10時間反応させ、シリルナトリウム化合物であるメチルジフェニルシリルナトリウムを合成した。このとき、上記以外の添加剤等は添加せずに反応を行った。
【００８５】
メチルジフェニルシリルナトリウムの収率は、得られたメチルジフェニルシリルナトリウムを、トリメチルシリルクロリドと反応させてジシラン化合物を合成し、ジシリル化合物の収率をNMRで算出することにより、間接的に算出した。メチルジフェニルシリルナトリウムの収率は、反応系に添加したメチルジフェニルシリルクロリドから理論的に生成することができるメチルジフェニルシリルナトリウムに対する、実際に取得できたメチルジフェニルシリルナトリウムの割合（％）である。
【００８６】
図１に、反応スキーム、反応条件、及び、収率を要約する。その結果、88％との高収率でメチルジフェニルシリルナトリウムを合成できていることが判明した。
【００８７】
（実験番号３）
THF 0.5 ml中に、シリルハライド化合物である0.5 mmolのトリフェニルシリルクロリドと2.0モル当量のSDを添加して30℃で10時間反応させ、シリルナトリウム化合物であるトリフェニルシリルナトリウムを合成した。このとき、上記以外の添加剤等は添加せずに反応を行った。
【００８８】
トリフェニルシリルナトリウムの収率は、得られたトリフェニルシリルナトリウムを、トリメチルシリルクロリドと反応させてジシラン化合物を合成し、ジシリル化合物の収率をNMRで算出することにより、間接的に算出した。トリフェニルシリルナトリウムの収率は、反応系に添加したトリフェニルシリルクロリドから理論的に生成することができるトリフェニルシリルナトリウムに対する、実際に取得できたトリフェニルシリルナトリウムの割合（％）である。
【００８９】
図１に、反応スキーム、反応条件、及び、収率を要約する。その結果、68％との高収率でトリフェニルシリルナトリウムを合成できていることが判明した。
【００９０】
（実験番号４）
THF 0.5 ml中に、シリルハライド化合物である0.5 mmolのジメチルフェニルシリルクロリドと2.0モル当量のSDを添加して30℃で10時間反応させ、シリルナトリウム化合物であるジメチルフェニルシリルナトリウムを合成した。このとき、上記以外の添加剤等は添加せずに反応を行った。
【００９１】
ジメチルフェニルシリルナトリウムの収率は、得られたジメチルフェニルシリルナトリウムを、ジメチルフェニルシリルクロリドと反応させてジシラン化合物を合成し、ジシリル化合物の収率をNMRで算出することにより、間接的に算出した。ジメチルフェニルシリルナトリウムの収率は、反応系に添加したジメチルフェニルシリルクロリドから理論的に生成することができるジメチルフェニルシリルナトリウムに対する、実際に取得できたジメチルフェニルシリルナトリウムの割合（％）である。
【００９２】
図１に、反応スキーム、反応条件、及び、収率を要約する。その結果、8％との収率でジメチルフェニルシリルナトリウムを合成できていることが判明した。
【００９３】
上記実験番号１〜４より、SDを用いることにより、複数のフェニル基を有するシリルハライド化合物からシリルナトリウム化合物を高収率で合成できることが理解できる。
【００９４】
実施例２．SDを用いるシリルナトリウム化合物の合成条件の検討−２
本実施例では、SDを用いるシリルナトリウム化合物の合成について、ジシラン化合物を出発化合物として反応条件の検討を行った（図２を参照のこと）。
【００９５】
THF 0.6 ml中に、ジシラン化合物である0.3 mmolのジメチルテトラフェニルジシランと2モル当量のSDを添加して30℃で12時間反応させ、シリルナトリウム化合物であるメチルジフェニルシリルナトリウムを合成した。このとき、上記以外の添加剤等は添加せずに反応を行った。
【００９６】
メチルジフェニルシリルナトリウムの収率は、得られたメチルジフェニルシリルナトリウムを、塩化水素を溶解させた1,4-ジオキサン溶液中で塩化水素と反応させてメチルジフェニルシランを合成し、メチルジフェニルシランの収率をNMRで算出することにより、間接的に算出した。メチルジフェニルシリルナトリウムの収率は、反応系に添加したジメチルテトラフェニルジシランから理論的に生成することができるメチルジフェニルシリルナトリウムに対する、実際に取得できたメチルジフェニルシリルナトリウムの割合（％）である。
【００９７】
図２に、反応スキーム、反応条件、及び、収率を要約する。その結果、87％との高収率でメチルジフェニルシリルナトリウムを合成できていることが判明した。したがって、SDを用いることにより、ジシラン化合物からもシリルナトリウム化合物を高収率で合成できることが理解できる。
【００９８】
実施例３．シリルナトリウム化合物を用いるエポキシ化合物の脱酸素反応条件の検討
本実施例では、シリルナトリウム化合物を用いるエポキシ化合物の脱酸素反応条件の検討を行った（図３を参照のこと）。
【００９９】
エポキシ化合物である0.3 mmolのシス-1,6-ジフェニル-3,4-エポキシヘキサン、又はトランス-1,6-ジフェニル-3,4-エポキシヘキサンが含まれるTHF溶液1mlに、1.2モル当量のメチルジフェニルシリルナトリウムが含まれるTHF溶液0.6mlを滴下して25℃で30分間反応させ、脱酸素反応を行った後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させ、対応のアルケン化合物を得た。
【０１００】
反応を停止させた反応液に酢酸エチルを添加して有機層を抽出し、有機層をシリカゲルカラムクロマログラフィーで処理して得られたアルケン化合物の単離収率を得た。単離収率は、出発原料の量から、反応後に回収された原料の量の差（正味使用した量）で生成物の量を除した値である。なお、E/Z比はガスクロマトグラフィーで算出した。
【０１０１】
図３に、反応スキーム、反応条件、及び、収率を要約する。その結果、シス-1,6-ジフェニル-3,4-エポキシヘキサンからは対応のアルケン化合物を95％との高収率で得ることができ、脱酸素反応が円滑に進行したことが判明した。また、アルケン化合物のトランス体：シス体（E:Z）の比率は97:3であった。また、トランス-1,6-ジフェニル-3,4-エポキシヘキサンからは対応のアルケン化合物を89％との高収率で得ることができ、脱酸素反応が円滑に進行したことが判明した。また、アルケン化合物のトランス体：シス体（E:Z）の比率は1:99であった。したがって、SDを用いて合成されたシリルナトリウム化合物を用いることで、効率的にエポキシ化合物の脱酸素反応を行うことができ、しかも、立体選択的にアルケン化合物を合成できることが理解できる。
【０１０２】
一方、上記と同様にして、シリルリチウム化合物を用いて反応を行った場合には、エポキシ化合物の脱酸素反応が円滑に進行せず、目的とするアルケン化合物の収率は非常に低いものとなった（図３を参照のこと）。
【産業上の利用可能性】
【０１０３】
本発明は、シリルナトリウム化合物の合成方法、及び、当該合成方法により得られるシリルナトリウム化合物を利用する全ての技術分野、エポキシ化合物の脱酸素方法を利用する全ての技術分野、特には、医農薬や電子材料の製造分野において特に有用である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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