(57)【要約】【課題】本開示は、二次側でのパーティクル量を低減することが可能なフィルタユニット、液処理システム及び液処理方法を提供する。【解決手段】フィルタユニットは、互いに着脱可能に構成された第１〜第Ｎ（Ｎは２以上の自然数）のフィルタ装置を備える。第ｎ（ｎは１〜Ｎの自然数）のフィルタ装置は、処理液を濾過するように構成された第ｎのフィルタ本体と、第ｎのフィルタ本体を内部に保持するように構成された第ｎの筐体と、第ｎのフィルタ本体の上流側において第ｎの筐体に設けられた第ｎの入口部と、第ｎのフィルタ本体の下流側において第ｎの筐体に設けられた第ｎの出口部とを含む。第ｍ（ｍは１〜Ｎ−１の自然数）のフィルタ装置と、第ｍ＋１のフィルタ装置とは、第ｍの出口部と第ｍ＋１の入口部とが水密に連通し且つ第ｍの筐体と第ｍ＋１の筐体とが当接するように組立可能とされている。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに着脱可能に構成された第１〜第Ｎ（Ｎは２以上の自然数）のフィルタ装置を備え、
前記第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｎ（ｎは１〜Ｎの自然数）のフィルタ装置は、
処理液を濾過するように構成された第ｎのフィルタ本体と、
前記第ｎのフィルタ本体を内部に保持するように構成された第ｎの筐体と、
前記第ｎのフィルタ本体の上流側において前記第ｎの筐体に設けられた第ｎの入口部と、
前記第ｎのフィルタ本体の下流側において前記第ｎの筐体に設けられた第ｎの出口部とを含み、
前記第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｍ（ｍは１〜Ｎ−１の自然数）のフィルタ装置と、前記第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｍ＋１のフィルタ装置とは、前記第ｍの出口部と前記第ｍ＋１の入口部とが水密に連通し且つ前記第ｍの筐体と前記第ｍ＋１の筐体とが当接するように組立可能とされている、フィルタユニット。
【請求項２】
前記第Ｎのフィルタ本体から溶出するパーティクル量は前記第１〜第Ｎ−１のフィルタ本体から溶出するパーティクル量よりも少ない、請求項１に記載のユニット。
【請求項３】
前記第Ｎの筐体の容積は前記第１〜第Ｎ−１の筐体の容積よりも小さい、請求項１又は２に記載のユニット。
【請求項４】
前記第Ｎのフィルタ本体はシービングタイプの濾材で構成されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載のユニット。
【請求項５】
前記第Ｎのフィルタ本体は共役系高分子化合物によって構成されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載のユニット。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のユニットと、
前記第１の入口部と処理液の液源とを接続する第１の送液ラインと、
前記第Ｎの出口部と吐出ノズルとを接続する第２の送液ラインとを備える、液処理システム。
【請求項７】
前記第１の送液ラインの下流端が取り付けられた第１のジョイント部材と、
前記第２の送液ラインの上流端が取り付けられた第２のジョイント部材とをさらに備え、
前記第１のジョイント部材は、前記第１の入口部と水密に連通するように前記第１の筐体と接続されており、
前記第２のジョイント部材は、前記第Ｎの出口部と水密に連通するように前記第Ｎの筐体と接続されている、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
内部が区画壁により第１の空間と第２の空間とに区画されているジョイント部材をさらに備え、
前記第１の送液ラインの下流端は、前記第１の送液ラインが前記第１の空間と連通するように前記ジョイント部材に取り付けられており、
前記第２の送液ラインの上流端は、前記第２の送液ラインが前記第２の空間と連通するように前記ジョイント部材に取り付けられており、
前記ジョイント部材は、前記第１の空間が前記第１の入口部と水密に連通するように前記第１の筐体と接続されていると共に、前記第２の空間が前記第Ｎの出口部と水密に連通するように前記第Ｎの筐体と接続されている、請求項６に記載のシステム。
【請求項９】
第１〜第Ｎ（Ｎは２以上の自然数）のフィルタ装置を用意することであって、前記第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｎ（ｎは１〜Ｎの自然数）のフィルタ装置は、処理液を濾過するように構成された第ｎのフィルタ本体と、前記第ｎのフィルタ本体を内部に保持するように構成された第ｎの筐体と、前記第ｎのフィルタ本体の上流側において前記第ｎの筐体に設けられた第ｎの入口部と、前記第ｎのフィルタ本体の下流側において前記第ｎの筐体に設けられた第ｎの出口部とを含むことと、
前記第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｍ（ｍは１〜Ｎ−１の自然数）のフィルタ装置と、前記第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｍ＋１のフィルタ装置とを、前記第ｍの出口部と前記第ｍ＋１の入口部とが水密に連通し且つ前記第ｍの筐体と前記第ｍ＋１の筐体とが当接するように組み立てて、フィルタユニットを構成することと、
前記第１の入口部から流入した処理液が前記第１のフィルタ装置から前記第Ｎのフィルタ装置へと順次流れて前記第Ｎの出口部から排出されるように、前記フィルタユニットに処理液を供給することとを含む、液処理方法。
【請求項１０】
前記第１〜第Ｎのフィルタ装置を個々に洗浄処理することをさらに含み、
前記第ｍのフィルタ装置と前記第ｍ＋１のフィルタ装置とを組み立てることは、洗浄処理後の前記第ｍのフィルタ装置と洗浄処理後の前記第ｍ＋１のフィルタ装置とを組み立てることを含む、請求項９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、フィルタユニット、液処理システム及び液処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板（例えば、半導体基板）の微細加工などを行うにあたり、基板の表面に基板処理のための各種液体（処理液）を吐出することが一般に行われている。この液体中には、元来パーティクル（微細粒子）等の異物が含まれうる。また、液体が配管を流れる際に、配管から液体中にパーティクル等の異物が混入しうる。そのため、特許文献１は、フィルタを処理液の流路の途中に配置し、ポンプによって液体をノズルに送り出す過程で当該フィルタによってパーティクル等の異物の除去を行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−２２３６６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、フィルタに求められる性能としては、主として次の２つが挙げられる。第１に、処理液がフィルタを流通する際に、処理液に含まれるパーティクルを効率的に捕捉できること（パーティクルの捕捉率が高いこと）である。以下では、処理液に含まれるパーティクルを「液中パーティクル」という。第２に、処理液がフィルタを流通すると、処理液に含まれる有機溶剤の影響でフィルタ自体からパーティクルが溶出することがあるので、フィルタ自体からのパーティクルの溶出量が少ないことである。以下では、フィルタ自体から溶出するパーティクルを「溶出パーティクル」という。
【０００５】
これらの各種のパーティクルを一つのフィルタで低減させることができれば理想的である。しかしながら、フィルタの材質の種類、処理液の種類等に応じて、フィルタが効率的に処理可能なパーティクルの種類が異なることがある。
【０００６】
そこで、本開示は、二次側でのパーティクル量を低減することが可能なフィルタユニット、液処理システム及び液処理方法を説明する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の一つの観点に係るフィルタユニットは、互いに着脱可能に構成された第１〜第Ｎ（Ｎは２以上の自然数）のフィルタ装置を備える。第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｎ（ｎは１〜Ｎの自然数）のフィルタ装置は、処理液を濾過するように構成された第ｎのフィルタ本体と、第ｎのフィルタ本体を内部に保持するように構成された第ｎの筐体と、第ｎのフィルタ本体の上流側において第ｎの筐体に設けられた第ｎの入口部と、第ｎのフィルタ本体の下流側において第ｎの筐体に設けられた第ｎの出口部とを含む。第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｍ（ｍは１〜Ｎ−１の自然数）のフィルタ装置と、第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｍ＋１のフィルタ装置とは、第ｍの出口部と第ｍ＋１の入口部とが水密に連通し且つ第ｍの筐体と第ｍ＋１の筐体とが当接するように組立可能とされている。
【発明の効果】
【０００８】
本開示に係るフィルタユニット、液処理システム及び液処理方法によれば、二次側でのパーティクル量を低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、基板処理システムの一例を示す斜視図である。
【図２】図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【図３】図３は、処理モジュールを示す上面図である。
【図４】図４は、液処理用のユニットを示す模式図である。
【図５】図５は、送液システムの一例を示す図である。
【図６】図６は、フィルタユニットの一例を示す分解斜視図である。
【図７】図７は、ノズル先端から上流側に向かうにつれてパーティクルの数がどのように変化するのかを、フィルタ本体の種類に応じて示すグラフである。
【図８】図８は、ノズルからの吐出の時間間隔（インターバル）が長くなるにつれてパーティクルの数がどのように変化するのかを、フィルタ本体の種類に応じて示すグラフである。
【図９】図９は、パーティクル除去率及び溶出パーティクルの数をフィルタ本体の種類ごとに示すグラフである。
【図１０】図１０は、パーティクルの数及びエッチング後の欠陥数をフィルタ本体の種類ごとに示すグラフである。
【図１１】図１１は、フィルタユニットの他の例を示す分解斜視図である。
【図１２】図１２は、フィルタユニットの他の例を示す断面図である。
【図１３】図１３は、フィルタユニットの他の例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、本開示に係る実施形態の一例について、図面を参照しつつより詳細に説明する。以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
［基板処理システム］
図１に示されるように、基板処理システム１は、塗布現像装置２と、露光装置３と、コントローラ１０（制御部）とを備える。
【００１１】
露光装置３は、ウエハＷ（基板）の表面Ｗａ（図４参照）に形成されたレジスト膜Ｒ（同参照）の露光処理（パターン露光）を行うように構成されている。具体的には、液浸露光等の方法によりレジスト膜の露光対象部分に選択的にエネルギー線を照射する。エネルギー線としては、例えば、ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、ｇ線、ｉ線又は極端紫外線（ＥＵＶ：Extreme Ultraviolet）が挙げられる。
【００１２】
塗布現像装置２は、露光装置３による露光処理の前に、ウエハＷの表面Ｗａにレジスト膜Ｒを形成する処理を行い、露光処理後にレジスト膜Ｒの現像処理を行う。ウエハＷは、円板状を呈してもよいし、円形の一部が切り欠かれていてもよいし、多角形など円形以外の形状を呈していてもよい。ウエハＷは、例えば、半導体基板、ガラス基板、マスク基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）基板その他の各種基板であってもよい。ウエハＷの直径は、例えば２００ｍｍ〜４５０ｍｍ程度であってもよい。
【００１３】
図１〜図３に示されるように、塗布現像装置２は、キャリアブロック４と、処理ブロック５と、インターフェースブロック６とを備える。キャリアブロック４、処理ブロック５及びインターフェースブロック６は、水平方向に並んでいる。
【００１４】
キャリアブロック４は、図１及び図３に示されるように、キャリアステーション１２と、搬入搬出部１３とを有する。キャリアステーション１２は複数のキャリア１１を支持する。キャリア１１は、少なくとも一つのウエハＷを密封状態で収容する。キャリア１１の側面１１ａには、ウエハＷを出し入れするための開閉扉（図示せず）が設けられている。キャリア１１は、側面１１ａが搬入搬出部１３側に面するように、キャリアステーション１２上に着脱自在に設置される。
【００１５】
搬入搬出部１３は、キャリアステーション１２及び処理ブロック５の間に位置している。搬入搬出部１３は、複数の開閉扉１３ａを有する。キャリアステーション１２上にキャリア１１が載置される際には、キャリア１１の開閉扉が開閉扉１３ａに面した状態とされる。開閉扉１３ａ及び側面１１ａの開閉扉を同時に開放することで、キャリア１１内と搬入搬出部１３内とが連通する。搬入搬出部１３は、搬送アームＡ１を内蔵している。搬送アームＡ１は、キャリア１１からウエハＷを取り出して処理ブロック５に渡し、処理ブロック５からウエハＷを受け取ってキャリア１１内に戻すように構成されている。
【００１６】
処理ブロック５は、図１〜図３に示されるように、処理モジュール１４〜１７を有する。これらの処理モジュールは、床面側から処理モジュール１７、処理モジュール１４、処理モジュール１５、処理モジュール１６の順に並んでいる。
【００１７】
処理モジュール１４は、ウエハＷの表面Ｗａ上に下層膜を形成するように構成されており、ＢＣＴモジュールとも呼ばれる。処理モジュール１４は、図２及び図３に示されるように、複数のユニットＵ１，Ｕ２と、これらのユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送する搬送アームＡ２とを内蔵している。処理モジュール１４のユニットＵ１は、液処理用のユニットであり、下層膜形成用の塗布液をウエハＷの表面Ｗａに塗布して塗布膜を形成するように構成されている。処理モジュール１４のユニットＵ２は、熱処理用のユニットであり、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却して熱処理を行うように構成されている。処理モジュール１４において行われる熱処理の具体例としては、塗布膜を硬化させて下層膜とするための加熱処理が挙げられる。下層膜としては、例えば、反射防止（ＳｉＡＲＣ）膜が挙げられる。
【００１８】
処理モジュール１５は、下層膜上に中間膜（ハードマスク）を形成するように構成されており、ＨＭＣＴモジュールとも呼ばれる。処理モジュール１５は、図２及び図３に示されるように、複数のユニットＵ１，Ｕ２と、これらのユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送する搬送アームＡ３とを内蔵している。処理モジュール１５のユニットＵ１は、液処理用のユニットであり、中間膜形成用の塗布液をウエハＷの下層膜上に塗布して塗布膜を形成するように構成されている。処理モジュール１５のユニットＵ２は、熱処理用のユニットであり、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却して熱処理を行うように構成されている。処理モジュール１５において行われる熱処理の具体例としては、塗布膜を硬化させて中間膜とするための加熱処理が挙げられる。中間膜としては、例えば、ＳＯＣ（Spin On Carbon）膜、アモルファスカーボン膜が挙げられる。
【００１９】
処理モジュール１６は、中間膜上に熱硬化性且つ感光性のレジスト膜を形成するように構成されており、ＣＯＴモジュールとも呼ばれる。処理モジュール１６は、図２及び図３に示されるように、複数のユニットＵ１，Ｕ２と、これらのユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送する搬送アームＡ４とを内蔵している。処理モジュール１６のユニットＵ１は、液処理用のユニットであり、レジスト膜形成用の塗布液（レジスト液）を中間膜の上に塗布して塗布膜を形成するように構成されている。処理モジュール１６のユニットＵ２は、熱処理用のユニットであり、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却して熱処理を行うように構成されている。処理モジュール１６において行われる熱処理の具体例としては、塗布膜を硬化させてレジスト膜Ｒとするための加熱処理（ＰＡＢ：Pre Applied Bake）が挙げられる。
【００２０】
処理モジュール１７は、露光されたレジスト膜の現像処理を行うように構成されており、ＤＥＶモジュールとも呼ばれる。処理モジュール１７は、図２及び図３に示されるように、複数のユニットＵ１，Ｕ２と、搬送アームＡ５，Ａ６とを内蔵している。搬送アームＡ５は、ユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送するように構成されている。搬送アームＡ６は、ユニットＵ１，Ｕ２を経ずにウエハＷを棚ユニットＵ１１，Ｕ１０（後述する）間において直接搬送するように構成されている。処理モジュール１７のユニットＵ１は、液処理用のユニットであり、レジスト膜Ｒに現像液を供給してレジスト膜Ｒを部分的に除去することにより、レジストパターンを形成するように構成されている。処理モジュール１７のユニットＵ２は、熱処理用のユニットであり、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却して熱処理を行うように構成されている。処理モジュール１７において行われる熱処理の具体例としては、現像処理前の加熱処理（ＰＥＢ：post exposure bake）、現像処理後の加熱処理（ＰＢ：post bake）等が挙げられる。
【００２１】
処理ブロック５内におけるキャリアブロック４側には、図２及び図３に示されるように、棚ユニットＵ１０が設けられている。棚ユニットＵ１０は、床面から処理モジュール１５にわたって設けられており、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。棚ユニットＵ１０の近傍には搬送アームＡ７が設けられている。搬送アームＡ７は、棚ユニットＵ１０のセル同士の間でウエハＷを昇降させる。
【００２２】
処理ブロック５内におけるインターフェースブロック６側には、棚ユニットＵ１１が設けられている。棚ユニットＵ１１は床面から処理モジュール１７の上部にわたって設けられており、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。
【００２３】
インターフェースブロック６は、搬送アームＡ８を内蔵しており、露光装置３に接続される。搬送アームＡ８は、棚ユニットＵ１１のウエハＷを取り出して露光装置３に渡し、露光装置３からウエハＷを受け取って棚ユニットＵ１１に戻すように構成されている。
【００２４】
コントローラ１０は、基板処理システム１を部分的又は全体的に制御する。コントローラ１０のハードウェアは、例えば一つ又は複数の制御用のコンピュータにより構成されていてもよい。
【００２５】
［液処理用のユニットの構成］
続いて、図４を参照して、液処理用のユニットＵ１についてさらに詳しく説明する。ユニットＵ１は、回転保持部２０と、駆動部３０と、送液部１１０と、液源１２０とを備える。
【００２６】
回転保持部２０は、回転部２１と、シャフト２２と、保持部２３とを有する。回転部２１は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて動作し、シャフト２２を回転させる。回転部２１は、例えば電動モータ等の動力源である。保持部２３は、シャフト２２の先端部に設けられている。保持部２３上にはウエハＷが配置される。保持部２３は、例えば吸着等によりウエハＷを略水平に保持する。すなわち、回転保持部２０は、ウエハＷの姿勢が略水平の状態で、ウエハＷの表面Ｗａに対して垂直な中心軸Ａｘ（回転軸）周りでウエハＷを回転させる。図４の例では、回転保持部２０は、上方から見て反時計回りにウエハＷを所定の回転数で回転させる。
【００２７】
駆動部３０は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて動作し、ノズルＮ（吐出ノズル）を駆動するように構成されている。駆動部３０は、例えば電動モータ等の動力源（図示せず）である。平面視において、ノズルＮは、処理液（塗布液、現像液を含む。）の吐出時において、ウエハＷの回転軸に直交する直線上をウエハＷの径方向に沿って移動する。ノズルＮは、ウエハＷの上方に位置しており、ウエハＷの表面Ｗａに向けて下方に開口している。
【００２８】
送液部１１０は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて動作し、処理液を液源１２０（例えば、後述の液ボトル４２）からノズルＮに送液し、ノズルＮからウエハＷの表面Ｗａに吐出させる。詳しくは後述するが、送液部１１０、ノズルＮ及び液源１２０は、処理液を目的物（本実施形態ではウエハＷ）に供給するための送液システム１００の要素である。
【００２９】
［送液システムの構成］
次に、送液システム１００（液処理システム）の構成について、図５を参照して説明する。送液システム１００は、図５に示されるように、配管Ｄ１〜Ｄ７と、バルブＶ１〜Ｖ３と、ノズルＮと、ガス源４１、液ボトル４２と、液タンク４３と、ポンプ４４と、フィルタユニット２００とを備える。
【００３０】
配管Ｄ１の上流端は、ガス源４１に接続されている。配管Ｄ１の下流端は、液ボトル４２の上蓋近傍に位置するように、液ボトル４２接続されている。ガス源４１は、窒素ガスを貯留しており、コントローラ１０からの動作信号に基づいて窒素ガスを液ボトル４２に吹き込むように構成されている。液ボトル４２は、処理液を貯留しており、処理液の供給源（液源）として機能する。
【００３１】
配管Ｄ２（第１の送液ライン）の上流端は、液ボトル４２の底面近傍に位置するように、液ボトル４２の上蓋部分に接続されている。配管Ｄ２の下流端は、液タンク４３の上蓋寄りに位置するように、液タンク４３の上蓋部分に接続されている。ガス源４１から窒素ガスが吹き込まれて液ボトル４２内の圧力が高まると、液ボトル４２内の処理液が、配管Ｄ２を通じて液タンク４３に供給される。液タンク４３は、液ボトル４２から排出された処理液を一時的に貯留する貯留部として機能する。
【００３２】
配管Ｄ３（第１の送液ライン）の上流端は、液タンク４３の下底部分に接続されている。配管Ｄ３の下流端は、ポンプ４４の入口部に接続されている。ポンプ４４は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて液タンク４３から処理液を吸引し、配管Ｄ４〜Ｄ６、フィルタユニット２００及びバルブＶ１を通じてノズルＮに処理液を送り出すように構成されている。
【００３３】
配管Ｄ４（第１の送液ライン）の上流端は、ポンプ４４の出口部に接続されている。配管Ｄ４の下流端には、図５に示されるように、ジョイント部材５０（第１のジョイント部材）が取り付けられている。すなわち、配管Ｄ４の下流端は、ジョイント部材５０を介して、フィルタユニット２００を構成するフィルタ装置２１０に接続されている。
【００３４】
ジョイント部材５０は、筐体５１と、入口部５２と、出口部５３とを含む。筐体５１は、図５に示される例において、直方体形状を呈している。筐体５１は、処理液が流通可能な内部空間を含んでいる。入口部５２は、筐体５１の内部空間と連通するように筐体５１の上面に設けられており、配管Ｄ４に対して着脱可能に構成されている。出口部５３は、筐体５１の内部空間と連通するように筐体５１の側面５１ａに設けられている。
【００３５】
配管Ｄ５（第２の送液ライン）の上流端には、図５に示されるように、ジョイント部材６０（第２のジョイント部材）が取り付けられている。すなわち、配管Ｄ５の上流端は、ジョイント部材６０を介して、フィルタユニット２００を構成するフィルタ装置２２０に接続されている。
【００３６】
ジョイント部材６０は、筐体６１と、入口部６２と、出口部６３とを含む。筐体６１は、図５に示される例において、直方体形状を呈している。筐体６１は、処理液が流通可能な内部空間を含んでいる。入口部６２は、筐体６１の内部空間と連通するように筐体６１の側面６１ａに設けられている。出口部６３は、筐体６１の内部空間と連通するように筐体６１の上面に設けられており、配管Ｄ５に対して着脱可能に構成されている。
【００３７】
図４に戻って、配管Ｄ５の下流端は、バルブＶ１を介して、ノズルＮに接続されている。バルブＶ１は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて弁の開放及び閉鎖を行う。バルブＶ１は、弁の開放時にノズルＮから処理液を吐出させると共に、弁の閉鎖時にノズルＮからの処理液の吐出を停止させる。バルブＶ１は、例えば、空気を利用して弁を開閉（オン／オフ）させるエアオペレートバルブであってもよい。
【００３８】
配管Ｄ６の上流端は、フィルタユニット２００を構成するフィルタ装置２１０の排液部２１４（後述する）に接続されている。配管Ｄ６の下流端は、バルブＶ２を介して、送液システム１００の外部に通じている。バルブＶ２は、例えば、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブであってもよい。
【００３９】
配管Ｄ７の上流端は、フィルタユニット２００を構成するフィルタ装置２２０の排液部２２４（後述する）に接続されている。配管Ｄ７の下流端は、バルブＶ３を介して、送液システム１００の外部に通じている。バルブＶ３は、例えば、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブであってもよい。
【００４０】
［フィルタユニットの構成］
フィルタユニット２００は、処理液に含まれるパーティクルなどの異物を除去する機能を有する。フィルタユニット２００は、図５及び図６に示されるように、フィルタ装置２１０，２２０を含む。
【００４１】
フィルタ装置２１０は、図６に示されるように、筐体２１１と、入口部２１２と、出口部２１３と、排液部２１４と、フィルタ本体２１５とを含む。筐体２１１は、図６に示される例において、直方体形状を呈している。筐体２１１は、処理液が流通可能な内部空間を含んでいる。筐体２１１の内部空間に、フィルタ本体２１５が配置されている。そのため、筐体２１１の内部空間は、フィルタ本体２１５によって、上流側空間と下流側空間とに区画されている。
【００４２】
入口部２１２は、筐体２１１の上流側空間と連通するように筐体２１１の側面２１１ａに設けられている。入口部２１２は、ジョイント部材５０の出口部５３と着脱可能に構成されている。入口部２１２と出口部５３とが嵌合した状態において、入口部２１２と出口部５３とは水密に連通し、且つ、筐体２１１の側面２１１ａと筐体５１の側面５１ａとは互いに当接するように対向する。
【００４３】
出口部２１３は、筐体２１１の下流側空間と連通するように筐体２１１の側面２１１ｂに設けられている。出口部２１３からは、フィルタ本体２１５を通過した処理液がフィルタ装置２１０の外部に排出される。
【００４４】
排液部２１４は、筐体２１１の上流側空間と連通するように筐体２１１の上面に設けられており、配管Ｄ６に対して着脱可能に構成されている。排液部２１４からは、フィルタ本体２１５を通過しない処理液がフィルタ装置２１０の外部に排出される。
【００４５】
フィルタ本体２１５は、パーティクルなどの異物を捕捉するように構成されている。フィルタ本体２１５は、例えば０．０５μｍ以下のパーティクルを除去可能な性能を有していてもよい。フィルタ本体２１５は、その孔径よりも大きな粒子を捕捉するように構成されたシービング（sieving）タイプの濾材で構成されていてもよいし、電気的又は化学的にパーティクルを捕捉するように構成されたノンシービング（non-sieving）タイプの濾材で構成されていてもよい。フィルタ本体２１５は、捕捉しようとするパーティクルの種類に応じた適切な材料によって構成されていてもよい。
【００４６】
フィルタ装置２２０は、筐体２２１と、入口部２２２と、出口部２２３と、排液部２２４と、フィルタ本体２２５とを含む。筐体２２１は、図６に示される例において、直方体形状を呈している。筐体２２１は、処理液が流通可能な内部空間を含んでいる。筐体２２１の内部空間に、フィルタ本体２２５が配置されている。そのため、筐体２２１の内部空間は、フィルタ本体２２５によって、上流側空間と下流側空間とに区画されている。
【００４７】
入口部２２２は、筐体２２１の上流側空間と連通するように筐体２２１の側面２２１ａに設けられている。入口部２２２は、フィルタ装置２１０の出口部２１３と着脱可能に構成されている。入口部２２２と出口部２１３とが嵌合した状態において、入口部２２２と出口部２１３とは水密に連通し、且つ、筐体２２１の側面２２１ａと筐体２１１の側面２１１ｂとは互いに当接するように対向する。
【００４８】
出口部２２３は、筐体２２１の下流側空間と連通するように筐体２２１の側面２２１ｂに設けられている。出口部２２３は、ジョイント部材６０の入口部６２と着脱可能に構成されている。出口部２２３と入口部６２とが嵌合した状態において、出口部２２３と入口部６２とは水密に連通し、且つ、筐体２２１の側面２２１ｂと筐体６１の側面６１ａとは互いに当接するように対向する。出口部２２３からは、フィルタ本体２２５を通過した処理液がフィルタ装置２２０の外部に排出される。
【００４９】
排液部２２４は、筐体２２１の上流側空間と連通するように筐体２２１の上面に設けられており、配管Ｄ７に対して着脱可能に構成されている。排液部２２４からは、フィルタ本体２２５を通過しない処理液がフィルタ装置２２０の外部に排出される。
【００５０】
フィルタ本体２２５は、パーティクルなどの異物を捕捉するように構成されている。フィルタ本体２２５の構成はフィルタ本体２１５と同様であるので、その説明を省略する。なお、フィルタ本体２２５の材質はフィルタ本体２１５の材質と異なっていてもよい。すなわち、フィルタ本体２１５によるパーティクルの捕捉性能は、フィルタ本体２１５とは異なっていてもよい。
【００５１】
ここで、図７〜図１０を参照して、フィルタの種類に応じてパーティクルの捕捉性能が異なることについて、４種類のフィルタ本体Ａ〜Ｄを例にとって説明する。フィルタ本体Ａ〜Ｄは、それぞれ異なる材質で構成されている。
【００５２】
図７は、ノズルＮ先端から上流側に向かうにつれてパーティクルの数がどのように変化するのかを、フィルタ本体Ａ〜Ｃのそれぞれについて示すグラフである。具体的には、送液システム１００内に処理液を３時間滞留させた後、ノズルＮから処理液を所定量ずつ（例えば数ｍｌずつ）吐出し、それぞれの吐出液に含まれるパーティクルの数を計測した。その結果、溶出パーティクルの数は、フィルタ本体Ａが最も多く、フィルタ本体Ｂが最も少なかった。すなわち、フィルタ本体Ａは処理液に対して溶解しやすく、フィルタ本体Ｂは処理液に対して溶解し難いことが判明した。
【００５３】
図８は、ノズルＮからの吐出の時間間隔（インターバル）が長くなるにつれてパーティクルの数がどのように変化するのかを、フィルタ本体Ａ〜Ｃのそれぞれについて示すグラフである。その結果、吐出間隔が長くなるほどフィルタ本体Ａ，Ｃからの溶出パーティクルの数が多くなり、フィルタ本体Ａの方がフィルタ本体Ｂよりも吐出間隔に応じた溶出パーティクルの増加量が大きかった。一方、フィルタ本体Ｂからの溶出パーティクルの数は吐出間隔の変化によらず略一定であった。すなわち、フィルタ本体Ａは処理液に対して溶解しやすく、フィルタ本体Ｂは処理液に対して溶解し難いことが判明した。
【００５４】
図９は、パーティクル除去率及び溶出パーティクルの数をフィルタ本体Ｂ〜Ｄのそれぞれについて示すグラフである。フィルタ本体Ｂにおいては、パーティクル除去率（一次側と二次側とのパーティクルの数の差を、一次側のパーティクルの数で除算した値）が相対的に低く、溶出パーティクルの数が相対的に多かった。フィルタ本体Ｃにおいては、パーティクル除去率が極めて高く、溶出パーティクルの数が相対的に少なかった。フィルタ本体Ｄにおいては、パーティクル除去率が相対的に低いものの、溶出パーティクルの数が相対的に少なかった。
【００５５】
図１０は、パーティクルの数及びエッチング後の欠陥数を、フィルタ本体Ａ，Ｂのそれぞれについて、処理液が滞留していない場合と処理液が３時間滞留した場合とに分けて示すグラフである。ここで、エッチング後の欠陥数は、フィルタ本体Ａ，Ｂを通じてノズルからウエハに処理液を吐出してレジスト膜をウエハ表面に形成し、現像後（パターニング後）にウエハをエッチングしたときに、パーティクルの存在によりエッチング不良が生じた箇所の数をいう。図１０において、＃１〜＃３はサンプルの番号を示しており、それぞれの条件で３回ずつ試験を行ったことを意味する。フィルタ本体Ａにおいては、処理液がフィルタ本体Ａに滞留することにより溶出パーティクルの数が大幅に増加し、エッチング後の欠陥数が相対的に多かったが、処理液の滞留の有無にかかわらずエッチング後の欠陥数が同程度であった。一方、フィルタ本体Ｂにおいては、処理液の滞留の有無にかかわらず、溶出パーティクルの数及びエッチング後の欠陥数が同程度であり、共に相対的に少なかった。
【００５６】
ところで、パーティクルは、粒子状のみならず、様々な形態で存在している。そのため、あるフィルタ本体では捕捉しやすい形態のパーティクルが、他のフィルタ本体では捕捉しにくいという現象が生じている。換言すれば、パーティクルの形態に応じて適切な種類のフィルタ本体の組み合わせが存在する。図９に示されるように、必ずしも、パーティクル除去率が高いほど溶出パーティクルの数が少なくなってはいないのは、これが理由である。図１０に示されるように、必ずしも、溶出パーティクルの数が少ないほどエッチング後の欠陥数が少なくなってはいないのも、同じ理由である。
【００５７】
［送液システムによる液処理方法］
続いて、送液システム１００による液処理方法について説明する。まず、組立前のフィルタ装置２１０，２２０を個々に前洗浄処理する。このとき、フィルタ装置２１０，２２０に含まれるフィルタ本体２１５，２２５の種類に応じて、異なる薬液で各フィルタ本体２１５，２２５を洗浄してもよい。これにより、送液システム１００の稼働前に各フィルタ本体２１５，２２５からの溶出パーティクル量を減らすことができる。
【００５８】
次に、前洗浄処理が完了したフィルタ装置２１０，２２０を組み立てる。具体的には、フィルタ装置２１０の出口部２１３にフィルタ装置２２０の入口部２２２を取り付けてフィルタ装置２１０，２２０を一体化し、フィルタユニット２００を構成する。これにより、入口部２２２と出口部２１３とは水密に連通し、且つ、筐体２２１の側面２２１ａと筐体２１１の側面２１１ｂとは互いに当接するように対向する。
【００５９】
次に、フィルタユニット２００を送液システム１００に設置する。具体的には、フィルタ装置２１０の入口部２１２にジョイント部材５０の出口部５３を取り付けてフィルタ装置２１０及びジョイント部材５０を一体化する。これにより、入口部２１２と出口部５３とは水密に連通し、且つ、筐体２１１の側面２１１ａと筐体５１の側面５１ａとは互いに当接するように対向する。同様に、フィルタ装置２２０の出口部２２３にジョイント部材６０の入口部６２を取り付けてフィルタ装置２２０及びジョイント部材６０を一体化する。これにより、出口部２２３と入口部６２とは水密に連通し、且つ、筐体２２１の側面２２１ｂと筐体６１の側面６１ａとは互いに当接するように対向する。
【００６０】
次に、コントローラ１０が送液システム１００を制御して、配管Ｄ２〜Ｄ５を通じて液源１２０から処理液をノズルＮに向けて送液する。このとき、処理液は、配管Ｄ４の下端部に設けられているジョイント部材５０に到達すると、出口部５３及び入口部２１２を通じてフィルタ装置２１０の筐体２１１内に流入する。処理液は、フィルタ本体２１５にて濾過された後、出口部２１３及び入口部２２２を通じてフィルタ装置２２０の筐体２２１内に流入する。処理液は、フィルタ本体２２５にて濾過された後、出口部２２３及び入口部６２を通じてジョイント部材６０に流入する。その後、処理液は、ジョイント部材６０に接続されている配管Ｄ５を通じてノズルＮから吐出される。
【００６１】
［作用］
以上の実施形態では、隣り合うフィルタ装置２１０，２２０は、出口部２１３と入口部２２２とが水密に連通し且つ筐体２１１の側面２１１ｂと筐体２２１の側面２２１ａとが当接するように組み立て可能である。そのため、配管を用いずにフィルタ装置２１０，２２０同士が一体化される。したがって、フィルタユニット２００の小型化と、フィルタユニット２００の設置又は交換の省力化とを図ることが可能となる。
【００６２】
以上の実施形態では、個々のフィルタ装置２１０，２２０が着脱可能である。そのため、前洗浄処理において各フィルタ装置２１０，２２０を個別に洗浄することができることに加え、寿命に達したフィルタ装置２１０，２２０のみを交換することができる。したがって、前洗浄処理に要する時間及びコストの大幅な削減と、フィルタユニット２００の全体としての長寿命化を図ることが可能となる。
【００６３】
以上の実施形態では、フィルタ装置２１０及びジョイント部材５０は、入口部２１２と出口部５３とが水密に連通し且つ筐体２１１の側面２１１ａと筐体５１の側面５１ａとが当接するように組み立て可能である。同様に、フィルタ装置２２０及びジョイント部材６０は、出口部２２３と入口部６２とが水密に連通し且つ筐体２２１の側面２２１ｂと筐体６１の側面６１ａとが当接するように組み立て可能である。そのため、ジョイント部材５０，６０を介して、フィルタユニット２００を容易に送液システム１００に設置することが可能となる。
【００６４】
以上の実施形態では、フィルタ装置２１０，２２０を個々に前洗浄処理した後に、これらを組み立ててフィルタユニット２００を構成している。そのため、前洗浄処理において、各フィルタ装置２１０，２２０をそれぞれに適した薬液で個別に洗浄することができる。したがって、洗浄処理後のフィルタユニット２００が設置された送液システム１００の稼働後において、いずれのフィルタ本体２１５，２２５からも溶出パーティクルが発生し難くなる。その結果、二次側でのパーティクル量をさらに低減することが可能となる。
【００６５】
［変形例］
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
【００６６】
（１）上記の実施形態では、２つのフィルタ装置２１０，２２０によってフィルタユニット２００が構成されていたが、直列に接続された３つ以上のフィルタ装置によってフィルタユニット２００が構成されていてもよい。
【００６７】
（２）最下流に位置するフィルタ本体２２５からの溶出パーティクルの数が、上流側の他のフィルタ本体２１５からの溶出パーティクルの数よりも少なくなるように、フィルタ本体２２５の材質等が選定されてもよい。この場合、最下流のフィルタ本体２２５からの溶出パーティクル量を低減しつつ、それよりも上流側のフィルタ本体２１５からの溶出パーティクルを最下流のフィルタ本体２２５で捕捉できる。そのため、二次側でのパーティクル量をさらに低減することが可能となる。
【００６８】
（３）少なくとも最下流のフィルタ本体２２５がシービングタイプの濾材で構成されていてもよい。この場合、最下流のフィルタ本体２２５は、処理液の流速によらずに所定径以上の粒子を捕捉することができる。そのため、最下流のフィルタ本体２２５におけるパーティクルの捕捉率が処理液の流速に依存しない。したがって、二次側でのパーティクル量をさらに低減することが可能となる。
【００６９】
（４）少なくとも最下流のフィルタ本体２２５が共役系高分子化合物によって構成されていてもよい。この場合、第Ｎのフィルタ本体に処理液が接しても第Ｎのフィルタ本体からのパーティクルの溶出が抑制されるので、最下流のフィルタ装置から溶出パーティクルが発生し難くなる。したがって、二次側でのパーティクル量をさらに低減することが可能となる。
【００７０】
（５）フィルタユニット２００は、一つのジョイント部材を介して、送液システム１００に設置されてもよい。具体的には、図１１に示されるように、一つのジョイント部材７０が、フィルタ装置２１０の入口部２１２とフィルタ装置２２０の出口部２２３との双方に取付可能に構成されていてもよい。
【００７１】
ジョイント部材７０は、筐体７１と、第１入口部７２と、第１出口部７３と、第２入口部７４と、第２出口部７５と、区画壁７６とを含む。筐体７１は、上方から見て円弧状を呈している。筐体７１は、処理液が流通可能な内部空間を含んでいる。当該内部空間は、区画壁７６によって上流側空間Ｓ１（第１の空間）と下流側空間Ｓ２（第２の空間）との２つに区画されている。
【００７２】
第１入口部７２は、上流側空間Ｓ１と連通するように筐体７１の上面に設けられており、配管Ｄ４に対して着脱可能に構成されている。第１出口部７３は、上流側空間Ｓ１と連通するように筐体７１の側面７１ａに設けられている。第１出口部７３は、フィルタ装置２１０の入口部２１２と着脱可能に構成されている。入口部２１２と第１出口部７３とが嵌合した状態において、入口部２１２と第１出口部７３とは水密に連通し、且つ、筐体２１１の側面２１１ａと筐体７１の側面７１ａとは互いに当接するように対向する。
【００７３】
第２入口部７４は、下流側空間Ｓ２と連通するように筐体７１の側面７１ｂに設けられている。第２入口部７４は、フィルタ装置２２０の出口部２２３と着脱可能に構成されている。出口部２２３と第２入口部７４とが嵌合した状態において、出口部２２３と第２入口部７４とは水密に連通し、且つ、筐体２２１の側面２２１ａと筐体７１の側面７１ｂとは互いに当接するように対向する。第２出口部７５は、下流側空間Ｓ２と連通するように筐体７１の上面に設けられており、配管Ｄ５に対して着脱可能に構成されている。
【００７４】
図１１に例示される形態では、組立後のフィルタ装置２１０，２２０及びジョイント部材７０を上方から見たときに、これらが全体として環状を呈している。すなわち、図１１に示される形態において、筐体２１１，２２１は、上方から見て円弧状を呈している。
【００７５】
図１１に例示される形態によれば、一つのジョイント部材７０を介して、フィルタユニット２００を容易に送液システム１００に着脱することが可能となる。また、ジョイント部材７０を一つしか要しないので、送液システム１００の小型化を図ることが可能となる。
【００７６】
（６）フィルタユニット２００は、ジョイント部材を介さずに配管に直接接続されていてもよい。
【００７７】
（７）出口部２１３と入口部２２２とが水密に連通した状態において、筐体２１１の側面２１１ｂのうち出口部２１３の近傍の領域と筐体２２１の側面２２１ａのうち入口部２２２の近傍の領域とが部分的に当接してもよい。
【００７８】
（８）図１２及び図１３に例示されるように、入口部２１２及び排液部２１４が上向きとなるように筐体２１１に設けられており、且つ、出口部２２３及び排液部２２４が上向きとなるように筐体２２１に設けられていてもよい。この場合、使用後のフィルタユニット２００を送液システム１００から取り外す際に、フィルタユニット２００内に残る処理液の溢流を抑制することが可能となる。
【００７９】
図１２に例示されるフィルタユニット２００において、フィルタ本体２１５，２２５はそれぞれ円筒形状を呈している。すなわち、入口部２１２から流入した処理液は、フィルタ本体２１５の外周面から内周面に向かうようにフィルタ本体２１５を通過して、出口部２１３から排出される。フィルタ本体２２５においても同様に、外周面から内周面に向けて処理液が流通する。
【００８０】
図１３に例示されるフィルタユニット２００において、フィルタ装置２１０は全体として有底筒状を呈しており、フィルタ装置２２０はフィルタ装置２１０の内部に配置されている。フィルタ装置２１０の出口部２１３は、筐体２１１の底壁上面２１１ｂに設けられている。フィルタ装置２２０の入口部２２２は、筐体２２１の底壁下面２２１ａに設けられている。フィルタ装置２２０がフィルタ装置２１０に取り付けられた状態において、これらの出口部２１３及び入口部２２２は水密に連通しており、筐体２１１の底壁上面２１１ｂと筐体２２１の底壁下面２２１ａとは当接している。図１３に例示されるフィルタユニット２００によれば、最下流のフィルタ装置２２０が小型化されるので、最下流のフィルタ本体２２５に接する処理液の量が少なくなる。そのため、最下流のフィルタ装置２２０から溶出パーティクルが発生し難くなる。したがって、二次側でのパーティクル量をさらに低減することが可能となる。
【００８１】
［例示］
例１．本開示の一つの例に係るフィルタユニットは、互いに着脱可能に構成された第１〜第Ｎ（Ｎは２以上の自然数）のフィルタ装置を備える。第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｎ（ｎは１〜Ｎの自然数）のフィルタ装置は、処理液を濾過するように構成された第ｎのフィルタ本体と、第ｎのフィルタ本体を内部に保持するように構成された第ｎの筐体と、第ｎのフィルタ本体の上流側において第ｎの筐体に設けられた第ｎの入口部と、第ｎのフィルタ本体の下流側において第ｎの筐体に設けられた第ｎの出口部とを含む。第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｍ（ｍは１〜Ｎ−１の自然数）のフィルタ装置と、第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｍ＋１のフィルタ装置とは、第ｍの出口部と第ｍ＋１の入口部とが水密に連通し且つ第ｍの筐体と第ｍ＋１の筐体とが当接するように組立可能とされている。この場合、フィルタユニットは、互いに着脱可能に構成された複数のフィルタ装置によって構成されている。そのため、性能の異なる種々のフィルタ本体を組み合わせることができる。したがって、パーティクルの種類に応じて適切なフィルタ本体を組み合わせることにより、二次側でのパーティクル量を低減することが可能となる。
【００８２】
ところで、複数のフィルタ装置を配管で接続することにより、同様の効果を得ようとすることも考えられる。しかしながら、この場合、配管の敷設スペースが必要となるので、フィルタユニットの大型化、ひいては、フィルタユニットが搭載される液処理システムの大型化が懸念される。また、液処理システムにフィルタユニットを設置又は交換する際には、配管の取り回し等を考慮する必要があるので、設置又は交換に手間を要することが懸念される。これに対し、例１のユニットによれば、隣り合う第ｍのフィルタ装置と第ｍ＋１のフィルタ装置とは、第ｍの出口部と第ｍ＋１の入口部とが水密に連通し且つ第ｍの筐体と第ｍ＋１の筐体とが当接するように組み立てられる。そのため、配管を用いずにフィルタ装置同士が一体化される。したがって、フィルタユニットの小型化と、フィルタユニットの設置又は交換の省力化とを図ることが可能となる。
【００８３】
また、性能の異なる複数のフィルタ本体を一体化して一つの筐体に収容することにより、フィルタユニットの小型化を図りつつ、各種のパーティクル量を低減することも考えられる。ところが、通常、フィルタユニットが液処理システムに新たに設置された場合には、当該システムの稼働前にできる限りフィルタユニットからの溶出パーティクル量を減らすために、予め薬液をフィルタユニットに通液してフィルタユニットを洗浄する前洗浄処理が行われる。そのため、上記のように、性能の異なる複数のフィルタ本体が一体化されている場合には、それぞれのフィルタ本体に適した薬液をフィルタユニットに通液しなければならず、前洗浄処理に倍以上の時間を要することが懸念される。しかも、複数のフィルタ本体のうちの一部のみを交換することができないので、フィルタユニットの寿命は、複数のフィルタ本体のうち最も寿命が短いフィルタ本体に左右されてしまうことが懸念される。これに対し、例１のユニットによれば、個々のフィルタ装置が着脱可能であるので、前洗浄処理において各フィルタ装置を個別に洗浄することができることに加え、寿命に達したフィルタ装置のみを交換することができる。そのため、前洗浄処理に要する時間及びコストの大幅な削減と、フィルタユニットの全体としての長寿命化を図ることが可能となる。
【００８４】
例２．例１のユニットにおいて、第Ｎのフィルタ本体から溶出するパーティクル量は第１〜第Ｎ−１のフィルタ本体から溶出するパーティクル量よりも少なくてもよい。この場合、最下流のフィルタ本体からの溶出パーティクル量を低減しつつ、それよりも上流側のフィルタ本体からの溶出パーティクルを最下流のフィルタ本体で捕捉できる。そのため、二次側でのパーティクル量をさらに低減することが可能となる。
【００８５】
例３．例１又は例２のユニットにおいて、第Ｎの筐体の容積は第１〜第Ｎ−１の筐体の容積よりも小さくてもよい。この場合、最下流のフィルタ装置が小型化されるので、第Ｎのフィルタ本体に接する処理液の量が少なくなる。そのため、最下流のフィルタ装置から溶出パーティクルが発生し難くなる。したがって、二次側でのパーティクル量をさらに低減することが可能となる。
【００８６】
例４．例１〜例３のいずれかのユニットにおいて、第Ｎのフィルタ本体はシービングタイプの濾材で構成されていてもよい。ここで、シービング（sieving：篩い分け）タイプの濾材は、その孔径よりも大きな粒子を捕捉する機能を有する。すなわち、例４によれば、最下流のフィルタ本体は、流速によらずに所定径以上の粒子を捕捉することができる。そのため、最下流のフィルタ本体におけるパーティクルの捕捉率が処理液の流速に依存しない。したがって、二次側でのパーティクル量をさらに低減することが可能となる。
【００８７】
例５．例１〜例４のいずれかのユニットにおいて、第Ｎのフィルタ本体は共役系高分子化合物によって構成されていてもよい。この場合、第Ｎのフィルタ本体に処理液が接しても第Ｎのフィルタ本体からのパーティクルの溶出が抑制されるので、最下流のフィルタ装置から溶出パーティクルが発生し難くなる。したがって、二次側でのパーティクル量をさらに低減することが可能となる。
【００８８】
例６．本開示の他の例に係るフィルタユニットは、例１〜例５のいずれかのユニットと、第１の入口部と処理液の液源とを接続する第１の送液ラインと、第Ｎの出口部と吐出ノズルとを接続する第２の送液ラインとを備える。この場合、例１と同様の作用効果が得られる。
【００８９】
例７．例６のシステムは、第１の送液ラインの下流端が取り付けられた第１のジョイント部材と、第２の送液ラインの上流端が取り付けられた第２のジョイント部材とをさらに備え、第１のジョイント部材は、第１の入口部と水密に連通するように第１の筐体と接続されており、第２のジョイント部材は、第Ｎの出口部と水密に連通するように第Ｎの筐体と接続されていてもよい。この場合、第１及び第２のジョイント部材を介して、フィルタユニットを容易に液処理システムに着脱することが可能となる。
【００９０】
例８．例６のシステムは、内部が区画壁により第１の空間と第２の空間とに区画されているジョイント部材をさらに備え、第１の送液ラインの下流端は、第１の送液ラインが第１の空間と連通するようにジョイント部材に取り付けられており、第２の送液ラインの上流端は、第２の送液ラインが第２の空間と連通するようにジョイント部材に取り付けられており、ジョイント部材は、第１の空間が第１の入口部と水密に連通するように第１の筐体と接続されていると共に、第２の空間が第Ｎの出口部と水密に連通するように第Ｎの筐体と接続されていてもよい。この場合、一つのジョイント部材を介して、フィルタユニットを容易に液処理システムに着脱することが可能となる。また、ジョイント部材を一つしか要しないので、液処理システムの小型化を図ることが可能となる。
【００９１】
例９．本開示の他の例に係る液処理方法は、第１〜第Ｎ（Ｎは２以上の自然数）のフィルタ装置を用意することであって、第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｎ（ｎは１〜Ｎの自然数）のフィルタ装置は、処理液を濾過するように構成された第ｎのフィルタ本体と、第ｎのフィルタ本体を内部に保持するように構成された第ｎの筐体と、第ｎのフィルタ本体の上流側において第ｎの筐体に設けられた第ｎの入口部と、第ｎのフィルタ本体の下流側において第ｎの筐体に設けられた第ｎの出口部とを含むことと、第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｍ（ｍは１〜Ｎ−１の自然数）のフィルタ装置と、第１〜第Ｎのフィルタ装置のうち第ｍ＋１のフィルタ装置とを、第ｍの出口部と第ｍ＋１の入口部とが水密に連通し且つ第ｍの筐体と第ｍ＋１の筐体とが当接するように組み立てて、フィルタユニットを構成することと、第１の入口部から流入した処理液が第１のフィルタ装置から第Ｎのフィルタ装置へと順次流れて第Ｎの出口部から排出されるように、フィルタユニットに処理液を供給することとを含む。この場合、例１と同様の作用効果が得られる。
【００９２】
例１０．例９の方法は、第１〜第Ｎのフィルタ装置を個々に洗浄処理することをさらに含み、第ｍのフィルタ装置と第ｍ＋１のフィルタ装置とを組み立てることは、洗浄処理後の第ｍのフィルタ装置と洗浄処理後の第ｍ＋１のフィルタ装置とを組み立てることを含んでいてもよい。この場合、前洗浄処理において各フィルタ装置をそれぞれに適した薬液で個別に洗浄することができる。そのため、洗浄処理後のフィルタユニットが設置された液処理システムの稼働後において、いずれのフィルタ本体からも溶出パーティクルが発生し難くなる。したがって、二次側でのパーティクル量をさらに低減することが可能となる。
【符号の説明】
【００９３】
１…基板処理システム、２…塗布現像装置、１０…コントローラ（制御部）、５０…ジョイント部材（第１のジョイント部材）、６０…ジョイント部材（第２のジョイント部材）、７０…ジョイント部材、７６…区画壁、１００…送液システム（液処理システム）、１２０…液源、２００…フィルタユニット、２１０，２２０…フィルタ装置、２１１，２２１…筐体、２１２，２２２…入口部、２１３，２２３…出口部、２１５，２２５…フィルタ本体、Ｄ２〜Ｄ４…配管（第１の送液ライン）、Ｄ５…配管（第２の送液ライン）、Ｎ…ノズル（吐出ノズル）、Ｓ１…上流側空間（第１の空間）、Ｓ２…下流側空間（第２の空間）、Ｕ１…ユニット、Ｗ…ウエハ（基板）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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