(57)【要約】      （修正有）【課題】透明性と酸素透過性の低いパッケージの提供。【解決手段】製品の包装方法であり、（ｉ）開口部を有するパッケージを提供する工程で、少なくとも１つのシートを含み、前記シートが、少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ１）］を含む、前記層（Ｌ１）は、２つの反対面を有し、１つの表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）は、１個以上のグラフト化官能基を含む、層（Ｌ１）、表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）に直接接着された、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ１）］からなる層［層（Ｌ２）］、任意に、層（Ｌ２）に直接接着された、少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ２）］を含む、ポリマー（Ｔ２）は、ポリマー（Ｔ１）に等しいかもしくはそれとは異なる、層（Ｌ３）を含む工程と、（ｉｉ）工程（ｉ）で提供されたパッケージに１つ以上の製品を供給する工程と、（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）で提供されたパッケージを密封する工程とを含む方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
パッケージの製造方法であって、前記方法が、以下の工程：
（１）少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ１）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ１）］からなる層［層（Ｌ１）］であって、２つの反対面を有する層（Ｌ１）を含む少なくとも１つのシートを提供する工程と；
（２）前記層（Ｌ１）の一表面を、エッチングガス媒体の存在下で高周波グロー放電法で処理する工程と；
（３）工程（２）で提供された前記層（Ｌ１）の前記表面上へ、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ１）］からなる層（Ｌ２）を、無電解析出によって塗布する工程と；
（４）任意選択的に、前記ポリマー（Ｔ１）に等しいかもしくはそれとは異なる少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ２）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ３）］からなる層［層（Ｌ３）］を前記層（Ｌ２）に直接接着させる工程と；
（５）もしあれば、工程（３）か（４）のどちら かで提供された前記シートを造形し、それによって開口部を有するパッケージを提供する工程と
を含む方法。
【請求項２】
互いに等しいかもしくは異なる、前記ポリマー（Ｔ１）および前記ポリマー（Ｔ２）が、
−  ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと１つ以上の他のコモノマーとのコポリマーおよびそれらの混合物からなる群から選択される塩化ビニルベースのポリマー［（ＰＶＣ）ポリマー］、
−  ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンと１，１−ジクロロエタンなどの１つ以上の他のコモノマーとのコポリマーおよびそれらの混合物からなる群から選択される塩化ビニリデンベースのポリマー［（ＰＶＤＣ）ポリマー］、
−  ポリクロロトリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンと１つ以上の他のコモノマーとのコポリマーおよびそれらの混合物からなる群から選択されるクロロトリフルオロエチレンベースのポリマー［（ＰＣＴＦＥ）ポリマー］、
−  低密度、線状低密度および高密度ポリエチレン、ポリプロピレンおよび二軸配向ポリプロピレン、ならびにポリブチレンなどのポリオレフィン、
−  エチレン−酢酸ビニル、エチレン−ビニルアルコールおよびエチレン−アクリル酸などのエチレンのコポリマー、
−  ポリスチレンおよびポリ（ビニルアルコール）などの置換ポリオレフィン、
−  ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートおよびそれらのコポリマーなどのポリエステル、
−  ポリカーボネート、
−  ポリアミド６、ポリアミド６．６およびポリアミド６．１０などのポリアミド、
−  ポリアクリロニトリル、
−  セルロース、ならびに
−  ポリ乳酸
からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程（２）下で、前記高周波グロー放電法が、１ｋＨｚ〜１００ｋＨｚに含まれる高周波で実施される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
工程（２）下で、前記高周波グロー放電法が、１ｋＶ〜５０ｋＶに含まれる電圧で実施される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
工程（２）下で、前記エッチングガス媒体が、空気、Ｎ２、ＮＨ３、ＣＨ４、ＣＯ２、Ｈｅ、Ｏ２、Ｈ２およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
工程（２）下で、前記エッチングガス媒体が、Ｎ２および／またはＮＨ３ならびに、任意選択的に、Ｈ２を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記方法が、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ２）］であって、前記化合物（Ｍ１）に等しいかもしくはそれとは異なる化合物（Ｍ２）からなる層［層（Ｌ４）］を前記層（Ｌ２）上へ電着によって塗布する工程をさらに含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
少なくとも１つのシートを含むパッケージであって、前記シートが、以下の層：
−  少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ１）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ１）］からなる層［層（Ｌ１）］であって、前記層（Ｌ１）は、２つの反対面を有し、ここで、１つの表面［表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）］は、１個以上のグラフト化官能基を含む、層（Ｌ１）、
−  前記表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）に直接接着された、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ１）］からなる層［層（Ｌ２）］、ならびに
−  任意選択的に、前記層（Ｌ２）に直接接着された、少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ２）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ３）］からなる層（Ｌ３）であって、前記ポリマー（Ｔ２）は、前記ポリマー（Ｔ１）に等しいかもしくはそれとは異なる、層（Ｌ３）
を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法によって得られ得るパッケージ。
【請求項９】
前記パッケージが、前記層（Ｌ２）に直接接着された、少なくとも１種の金属化合物（前記化合物（Ｍ２）は、前記化合物（Ｍ１）に等しいかもしくはそれとは異なる）からなる層［層（Ｌ４）］をさらに含む、請求項７に記載の方法によって得られ得るパッケージ。
【請求項１０】
前記表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）が、アミン基（−ＮＨ２）、イミン基（−ＣＨ＝ＮＨ）、ニトリル基（−ＣＮ）およびアミド基（−ＣＯＮＨ２）からなる群から選択される１つ以上のグラフト化官能基を含む、請求項６に記載の方法によって得られ得るパッケージ。
【請求項１１】
前記パッケージの前記少なくとも１つのシートの前記層（Ｌ１）が、前記パッケージの内層である、請求項８〜１０のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項１２】
前記層（Ｌ２）が、０．０５μｍ〜５μｍ、好ましくは０．５μｍ〜１．５μｍに含まれる厚さを有する、請求項８〜１１のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項１３】
前記層（Ｌ２）が、
（ａ’）Ｃｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ａｇ、Ａｕおよびそれらの合金と、
（ｂ’）
−  ＳｉＯｘ、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２およびそれらの混合物（式中、ｘは、０．５〜２に含まれる）、
−  ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＣｄＯおよびそれらの混合物からなる群から選択されるＳｎドープ金属酸化物ならびにＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＣｄＯおよびそれらの混合物からなる群から選択されるＡｌドープ金属酸化物などのＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＣｄＯおよびそれらの混合物からなる群から選択される不純物ドープ金属酸化物、ならびに
−  Ｚｎ２ＳｎＯ４、ＺｎＳｎＯ３、Ｚｎ２Ｉｎ２Ｏ５、Ｚｎ３Ｉｎ２Ｏ６、Ｉｎ２ＳｎＯ４、ＣｄＳｎＯ３およびそれらの混合物
からなる群から選択される金属酸化物と
からなる群から選択される化合物（Ｍ１）からなる、請求項８〜１２のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項１４】
前記パッケージが、
（Ａ）１つ以上のブリスターを含むベースシートであって、少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ１）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ１）］からなる層［層（Ｌ１）］を含み、前記層（Ｌ１）は、２つの反対面を有する、ベースシートと、
（Ｂ）前記ベースシートに直接接着された、リッドシートであって、以下の層：
−  少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ１）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ１）］からなる層［層（Ｌ１）］であって、前記層（Ｌ１）は、２つの反対面を有し、ここで、１つの表面［表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）］は、１個以上のグラフト化官能基を含む、層（Ｌ１）、
−  前記表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）に直接接着された、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ１）］からなる層［層（Ｌ２）］、ならびに
−  任意選択的に、前記層（Ｌ２）に直接接着された、少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ２）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ３）］からなる層（Ｌ３）であって、ポリマー（Ｔ２）は、前記ポリマー（Ｔ１）に等しいかもしくはそれとは異なる、層（Ｌ３）
を含む、リッドシートと
を含むブリスターパッケージである、請求項８〜１３のいずれか一項に記載のパッケージ。
【請求項１５】
１つ以上の医薬製品を含む製薬ブリスターパッケージとしての請求項１４に記載の前記ブリスターパッケージの使用。
【請求項１６】
１つ以上の食品を含む食品ブリスターパッケージとしての請求項１４に記載の前記ブリスターパッケージの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１３年１２月２３日出願の欧州特許出願第１３１９９３６７．７号に対する優先権を主張するものであり、この出願の全内容は、あらゆる目的のために参照により本明細書に援用される。
【０００２】
本発明は、パッケージに、その製造方法に、および様々な用途でのその使用に関する。
【背景技術】
【０００３】
パッケージは、容器の内部へのアクセスを提供するのに役立つ開口部を備えたフレキシブルバッグまたは堅い壁付きハウジングの形態での容器であるとして当技術分野では知られている。リッドまたはカバーシートが、外部環境から容器内部およびその内容物を囲み、そして密封するために、開口部一面に配置され、典型的にはヒートシーリングによって、容器に接合されている。
【０００４】
食品および飲料、薬剤ならびに他の製品の包装および貯蔵に好適なブリスターパッケージは、水分およびガス、特に酸素に対するバリア特性の観点から特有の要件に適合しなければならず、第一に水分およびガスの包装製品中への包装壁を通っての侵入、そして第二に包装の内部から環境への進入を防がなければならない。
【０００５】
例として、多種多様な薬剤は、０．０６ｇ／（ｍ２×２４ｈ）よりも下、好ましくは０．０４ｇ／（ｍ２×２４ｈ）よりも下の水蒸気透過性値を典型的には示すパッケージ中へ貯蔵されることを必要とする。
【０００６】
ブリスターパッケージは通常、互いにしっかりと接合している２つのシート：平らな、好ましくは光学的に透明な、熱可塑性ポリマーフィルムを熱成形することによって典型的には得られる、パックされる製品にマッチする空洞を含有する第１のベースシートと、製品があらかじめ形成されたベースシートに適切に供給されてしまった後に、典型的にはヒートシーリングによってベースシート上へ密封される、第２のリッドシートとを含む。
【０００７】
ベースシートは一般に、ブリスターパッケージの総重量の８０〜８５重量％を占め、リッドシートは一般に、前記ブリスターパッケージの総重量の残りの１５〜２０重量％を構成する。
【０００８】
ブリスターパッケージは一般に、包装製品を、ベースシートへの圧力によってリッドシートを通してプッシュし、そしてブリスターパッケージから個別に取り出すことができる場合には、プッシュ−スルーパッケージと言われる。
【０００９】
別の状況では、ブリスターパッケージは一般に、リッドシートを、ベースシートをプッシュすることによって包装製品の取出し前に少なくとも部分的に剥離することができる場合には、ピール−プッシュパッケージと言われる。
【００１０】
ベースシートは通常、光学的に透明であるが、それは、子供が操作できないパッケージでの使用のためにまたは光感受性薬を保護するために覆い隠すことができる。
【００１１】
いくつかの熱可塑性ポリマーフィルムがこの目的のために一般に使用される。ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）およびポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）ポリマーが、水分および／またはガス、特に酸素に対するそれらの低い透過性のためにブリスターパッケージ用の光学的に透明なベースシートの製造での使用に特に好適である。
【００１２】
例えば、米国特許第４，４２４，２５６号明細書（ＡＭＥＲＩＣＡＮ  ＣＡＮ  ＣＯＭＰＡＮＹ）１９８４年１月３日は、線状低密度ポリエチレンから製造されたヒートシール可能な層（１２）と、２０％〜８０％の線状低密度ポリエチレンおよび８０％〜２０％のプロピレンエチレンコポリマーから製造された接着剤層（１４）と、無水物変性プロピレンベースのプライマーから製造された層（１６）とアルミ箔から製造された層（１８）とを含むヒートシール可能な可撓性包装フィルムを開示している。保護ポリマー材料の追加の層（２０）が、層（１２）の向かい側の層（１８）の表面上に存在してもよい。シートは、ポーチに容易にされ得るし、前記ポーチは、製品がパッケージ中へ入れられ、パッケージが密封された後に滅菌プロセスにかけられるであろう製品を包装するのに好適である。
【００１３】
また、米国特許第６，２７０，８６９号明細書（ＡＬＵＳＵＩＳＳＥ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ  ＭＡＮＡＧＥＭＥＮＴ  ＬＴＤ．）２００１年８月７日は、プッシュ−スルーもしくはブリスターパック用の積層フィルム開示しており、前記積層フィルムは、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリアミドまたはシクロオレフィンコポリマーのいずれかから製造されたプラスチック層と、金属箔と、２５μｍ〜３２μｍの厚さを有する延伸ポリアミドフィルムとを、相次いで、含む。金属箔は、その一面または両面上をプライマーで前処理されてもよい。
【００１４】
さらに、米国特許第５，２５０，３４９号明細書（ＭＩＴＳＵＩ  ＰＥＴＲＯＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ，  ＬＴＤ．）１９９３年１０月５日は、パッケージ用の積層品を開示しており、前記積層品は、とりわけ、不飽和カルボン酸またはその誘導体でグラフト変性された１〜１５重量部のポリエチレンを含む接着樹脂組成物によって金属層に接着している熱可塑性樹脂層を含む。
【００１５】
しかし、０．０６ｇ／（ｍ２×２４ｈ）よりも下の水蒸気透過性値を有する光学的に透明なベースシートは、１００μｍよりも大きい厚さを有するＰＣＴＦＥフィルムを使用することによって一般に達成可能である。
【００１６】
反対側に、アルミニウムフィルムが、０．０４ｇ／（ｍ２×２４ｈ）よりも下の水蒸気透過性値を有利には有するリッドシートとして典型的には使用される。
【００１７】
しかし、アルミニウムフィルムは、光学的に透明ではなく、低い変形能を有し、それ故比較的小さいブリスターパッケージを製造するために使用することができない。
【００１８】
ピール−プッシュブリスターパッケージのリッドシートは、パッケージの開封中におよびベースシートから分離されるとすぐにリッドシートの任意の巻付けまたは巻取り中などのブリスターパッケージの使用の全寿命中にその完全性を維持することがまた望ましい。
【００１９】
先行技術のブリスターパッケージの欠点を覆すために、リッドシートが、とりわけ、アルミニウム層を含むプラスチックフィルムとの積層品の形態で開発されている。例えば、米国特許出願公開第２０１１／０２１００３７号明細書（Ｊ．ＭＵＥＮＳＴＥＲら）２０１１年９月１日および米国特許出願公開第２００８／０２５１４１１号明細書（ＧＬＡＸＯＳＭＩＴＨＫＬＩＮＥ  ＣＯＲＰＯＲＡＴＥ）２００８年１０月１６日を参照されたい。
【００２０】
それにもかかわらず、良好な層間接着特性を維持しながら、外部環境からの高いバリア特性、低い厚さ、良好な光学的透明性および密封性を有するパッケージを提供する熱可塑性ポリマー材料ベースのフィルムアセンブリが、ならびに原材料の可能な限り低い消費を可能にする前記パッケージの費用効率の高い、かつ、環境にやさしい製造方法が当技術分野で依然として必要とされている。
【発明の概要】
【００２１】
本発明のパッケージは、外部環境からの高いバリア特性および、好ましくは、長期にわたる良好な光学的透明性を確実にしながら傑出した可撓特性を提供するほどに低い厚さを有利にも有することが今意外にも分かった。
【００２２】
特に、本発明のパッケージは水蒸気およびガスに対する、特に酸素に対する低い透過性に恵まれていることが分かった。
【００２３】
また、本発明のパッケージは良好な層間接着特性を示すことが分かった。
【００２４】
さらに、本発明のパッケージは本発明の方法によって容器に得ることができることが分かった。
【００２５】
第１の例において、本発明は、パッケージの製造方法であって、前記方法が、以下の工程：
（１）少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ１）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ１）］からなる層［層（Ｌ１）］であって、２つの反対面を有する層（Ｌ１）を含む少なくとも１つのシートを提供する工程と；
（２）層（Ｌ１）の一表面を、エッチングガス媒体の存在下で高周波グロー放電法で処理する工程と；
（３）工程（２）で提供された層（Ｌ１）の表面上へ、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ１）］からなる層［層（Ｌ２）］を、無電解析出によって塗布する工程と；
（４）任意選択的に、ポリマー（Ｔ１）に等しいかもしくはそれとは異なる少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ２）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ３）］からなる層［層（Ｌ３）］を層（Ｌ２）に直接接着させる工程と
を含む方法に関する。
【００２６】
第２の例において、本発明は、本発明の方法によって得られ得るパッケージであって、前記パッケージが少なくとも１つのシートを含み、前記シートが、以下の層：
−  少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ１）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ１）］からなる層［層（Ｌ１）］であって、前記層（Ｌ１）は、２つの反対面を有し、ここで、１つの表面［表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）］は、１個以上のグラフト化官能基を含む、層（Ｌ１）、
−  表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）に直接接着された、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ１）］からなる層［層（Ｌ２）］、ならびに
−  任意選択的に、層（Ｌ２）に直接接着された、少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ２）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ３）］からなる層（Ｌ３）であって、前記ポリマー（Ｔ２）は、ポリマー（Ｔ１）に等しいかもしくはそれとは異なる、層（Ｌ３）
を含む、パッケージに関する。
【００２７】
第３の例において、本発明は、１つ以上の製品の包装方法であって、前記方法が、以下の工程：
（ｉ）上に定義されたようなパッケージの少なくとも１つのシートを造形し、それによって開口部を有するパッケージを提供する工程と；
（ｉｉ）工程（ｉ）で提供されたパッケージに１つ以上の製品を供給する工程と；
（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）で提供されたパッケージを密封する工程と
を含む方法に関する。
【００２８】
本発明の目的のためには、用語「パッケージ」は、フレキシブルバッグのか堅い壁付きハウジングのかのいずれかの形態の容器を意味することを意図する。
【００２９】
本発明のパッケージは典型的には、上に定義されたような少なくとも２つのシート（前記シートは、互いに接着している）を含むアセンブリである。
【００３０】
本発明の目的のためには、用語「シート」は、平らな多層フィルムを意味することを意図する。
【００３１】
本発明の目的のためには、用語「層」とは、その長さかその幅かのいずれかよりも小さい厚さを有する別のものの上にもしくは下に横たわる材料もしくは部品の被覆ピースを意味する。
【００３２】
本発明の目的のためには、用語「製品」は、本パッケージの形状にマッチする製品を意味することを意図する。本発明のパッケージでの使用に好適な製品は、固体状態にか液体状態にかのいずれかにあってもよい。
【００３３】
第４の例において、本発明は、薬物および食品用途などの様々な用途での本発明のパッケージの使用に関する。
【００３４】
したがって、本発明は、１つ以上の医薬製品を含む製薬パッケージとしての本発明のパッケージの使用に関する。
【００３５】
医薬製品の非限定的な例としては、とりわけ、錠剤およびカプセルが挙げられる。
【００３６】
本発明はまた、１つ以上の食品を含む食品パッケージとしての本発明のパッケージの使用に関する。
【００３７】
本発明のパッケージは、層（Ｌ２）に直接接着された、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ２）］であって、化合物（Ｍ１）に等しいかもしくはそれとは異なる化合物（Ｍ２）からなる層［層（Ｌ４）］をさらに含んでもよい。
【００３８】
本発明のパッケージの層（Ｌ４）は、もしあれば、好ましくは層（Ｌ２）上への電着によって得られ得る。
【００３９】
本発明のパッケージは好ましくは、
（Ａ）１つ以上のブリスターを含むベースシートであって、少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ１）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ１）］からなる層［層（Ｌ１）］を含み、前記層（Ｌ１）は、２つの反対面を有する、ベースシートと、
（Ｂ）前記ベースシートに直接接着された、リッドシートであって、以下の層：
−  少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ１）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ１）］からなる層［層（Ｌ１）］であって、前記層（Ｌ１）は、２つの反対面を有し、ここで、１つの表面［表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）］は、１個以上のグラフト化官能基を含む、層（Ｌ１）、
−  表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）に直接接着された、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ１）］からなる層［層（Ｌ２）］、ならびに
−  任意選択的に、層（Ｌ２）に直接接着された、少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ２）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ３）］からなる層（Ｌ３）であって、前記ポリマー（Ｔ２）は、ポリマー（Ｔ１）に等しいかもしくはそれとは異なる、層（Ｌ３）
を含むリッドシートと
を含むブリスターパッケージである。
【００４０】
本発明のブリスターパッケージは有利には、以下の工程：
（１’）少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ１）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ１）］からなる層［層（Ｌ１）］であって、２つの反対面を有する層（Ｌ１）を含むベースシートを提供する工程と；
（２’）工程（１’）で提供されたベースシートを熱成形し、それによって１つ以上のブリスターを含むベースシートを提供する工程と；
（３’）工程（２’）で提供されたベースシートの１つ以上のブリスターに１つ以上の製品を供給する工程と；
（４’）少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ１）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ１）］からなる層［層（Ｌ１）］であって、２つの反対面を有する層（Ｌ１）を含みリッドシートを提供する工程と；
（５’）層（Ｌ１）の一表面を、エッチングガス媒体の存在下で高周波グロー放電法で処理する工程と；
（６’）工程（５’）で提供された層（Ｌ１）の表面上へ、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ１）］からなる層［層（Ｌ２）］を、無電解析出によって塗布する工程と；
（７’）任意選択的に１つ以上の接着剤層によって、工程（６’）で提供されたリッドシートの層（Ｌ１）を、工程（３’）で提供されたベースシートの層（Ｌ１）上へ密封する工程と
を含む方法によって得られ得る。
【００４１】
本発明のブリスターパッケージは典型的には、１つ以上のブリスターを含むベースシート（Ａ）を含み、前記ベースシート（Ａ）は、次の層：
−  少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ１）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ１）］からなる層［層（Ｌ１）］であって、前記層（Ｌ１）は、２つの反対面を有し、ここで、１つの表面［表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）］は、１個以上のグラフト化官能基を含む、層（Ｌ１）、
−  表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）に直接接着された、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ１）］からなる層［層（Ｌ２）］、ならびに
−  任意選択的に、層（Ｌ２）に直接接着された、少なくとも１種の熱可塑性ポリマー［ポリマー（Ｔ２）］を含む、好ましくはそれからなる組成物［組成物（Ｃ３）］からなる層（Ｌ３）であって、前記ポリマー（Ｔ２）は、ポリマー（Ｔ１）に等しいかもしくはそれとは異なる、層（Ｌ３）
を含む。
【００４２】
本発明のパッケージの実施形態によれば、層（Ｌ１）の表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）は有利には、層（Ｌ１）の一表面を、エッチングガス媒体の存在下で高周波グロー放電法で処理することによって得られ得る。
【００４３】
用語「官能基」は、その通常の意味に従って本明細書では用いられ、ポリマー（Ｔ１）の表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）の反応性に関与する共有結合によって互いに結合した原子の基を意味する。
【００４４】
本発明の目的のためには、用語「グラフト化官能基」は、ポリマー（Ｔ１）の主鎖上へグラフトすることによって得られ得る官能基を意味することを意図する。
【００４５】
本発明の目的のためには、用語「グラフト化」は、その通常の意味に従って用いられ、１つ以上の官能基がポリマー骨格の表面上へそれによって挿入されるラジカルプロセスを意味する。
【００４６】
層（Ｌ１）の一表面をエッチングガス媒体の存在下で高周波グロー放電法で処理することによって得られ得るグラフト化官能基は典型的には、前記エッチングガス媒体の少なくとも１種の原子を含む。
【００４７】
本発明のパッケージのこの実施形態の好ましい変形によれば、層（Ｌ２）は有利には、層（Ｌ１）の表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）上への無電解析出によって得られ得る。
【００４８】
本発明のブリスターパッケージは、層（Ｌ２）に直接接着された、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ２）］であって、化合物（Ｍ１）に等しいかもしくはそれとは異なる化合物（Ｍ２）からなる層［層（Ｌ４）］をさらに含んでもよい。
【００４９】
本発明のブリスターパッケージの層（Ｌ４）は、もしあれば、層（Ｌ２）上への電着によって好ましくは得られる。
【００５０】
本発明のパッケージのシートの層（Ｌ１）は通常、前記パッケージの内層である。
【００５１】
互いに等しいかもしくは異なる、本発明のブリスターパッケージのベースシート（Ａ）の層（Ｌ１）およびリッドシート（Ｂ）の層（Ｌ１）は典型的には、本発明のブリスターパッケージの内層である。
【００５２】
本発明のブリスターパッケージのリッドシート（Ｂ）は有利には、前記ブリスターパッケージのベースシート（Ａ）から機械的に剥離可能である。
【００５３】
本発明の目的のためには、用語「ブリスター」は、ブリスターパッケージのベースシート（Ａ）内のポケットを意味することを意図する。ポケットは、正方形、円形もしくは長方形プロフィルのものまたは正方形および長方形プロフィルドの丸角変型のものなどの任意の好適なプロフィルを画定してもよい。
【００５４】
本発明のある種の実施形態によれば、本発明のブリスターパッケージのベースシート（Ａ）内の２つ以上のブリスターは、互いに連結していてもよい。
【００５５】
本発明のブリスターパッケージは典型的には、１つ以上のブリスターがベースシート（Ａ）の長さに沿って線系列配列またはジグザグ配列または円形配列に配列しているブリスターパッケージ・ストリップの形態にある。
【００５６】
本発明のパッケージのシートは好ましくは、光学的に透明である。
【００５７】
本発明のブリスターパッケージのベースシート（Ａ）およびリッドシート（Ｂ）は好ましくは、光学的に透明であり、それによって光学的に透明なブリスターパッケージを提供する。
【００５８】
本発明の目的のためには、用語「光学的に透明な」とは、入射電磁放射線が散乱されることなくそこを通過するのをシートが可能にすることを意味する。
【００５９】
本発明のパッケージのシートは有利には、約１００ｎｍ〜約２５００ｎｍの、好ましくは約４００ｎｍ〜約８００ｎｍの波長を有する入射電磁放射線に対して光学的に透明である。
【００６０】
本発明のパッケージのシートは好ましくは、約１００ｎｍ〜約４００ｎｍの波長を有する入射電磁放射線に対して光学的に透明ではない。
【００６１】
本発明のパッケージのシートは有利には、入射電磁放射線の少なくとも５０％の、好ましくは少なくとも５５％の、より好ましくは少なくとも６０％の透過率を有する。
【００６２】
透過率は、任意の適切な技術に従って分光光度計を用いて測定することができる。
【００６３】
本発明の目的のためには、用語「熱可塑性ポリマー」は、それが非晶質である場合は、室温で、そのガラス転移温度よりも下で、またはそれが半結晶性である場合は、その融点よりも下で存在する、そして線状もしくは分岐している（すなわち、網状ではない）いずれかのポリマーを意味することを意図する。熱可塑性ポリマーは、感知できるほどの化学変化なしに、それが加熱されると軟化し、それが冷却されると再び硬くなる特性を有する。そのような定義は、例えば、１９８９年にＥｌｓｅｖｉｅｒ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅによって出版された、「Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  Ｄｉｃｔｉｏｎａｒｙ」と呼ばれる百科事典，Ｍａｒｋ  Ｓ．Ｍ．Ａｌｇｅｒ，Ｌｏｎｄｏｎ  Ｓｃｈｏｏｌ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｐｏｌｙｔｅｃｈｎｉｃ  ｏｆ  Ｎｏｒｔｈ  Ｌｏｎｄｏｎ，ＵＫに見いだすことができる。
【００６４】
層（Ｌ１）の厚さは特に限定されない；それにもかかわらず、層（Ｌ１）は典型的には、少なくとも５μｍの、好ましくは少なくとも１０μｍの厚さを有するであろう。５μｍ未満の厚さを有する層（Ｌ１）は、本発明の絶縁システムに依然として好適であるが、十分な機械抵抗が必要とされる場合には使用されないであろう。
【００６５】
層（Ｌ１）の厚さの上限の通り、これは、前記層（Ｌ１）が標的とされる特定の使用分野にとって必要とされる可撓性を依然として提供することができるならば、特に制限されない。
【００６６】
当業者は、ポリマー（Ｔ１）の性質に応じて、必要とされる透過性および可撓特性を提供するように層（Ｌ１）の適切な厚さを選択するであろう。
【００６７】
また、当業者は、ポリマー（Ｔ１）の性質に応じて、必要とされる光学的透明性を提供するように層（Ｌ１）の適切な厚さを選択するであろう。
【００６８】
また、もしあれば、層（Ｌ３）の厚さは特に限定されない；それにもかかわらず、層（Ｌ３）は典型的には、少なくとも５μｍの、好ましくは少なくとも１０μｍの厚さを有するであろうと理解される。５μｍ未満の厚さを有する層（Ｌ３）は、本発明のパッケージに依然として好適であるが、十分な機械抵抗が必要とされる場合には使用されないであろう。
【００６９】
もしあれば、層（Ｌ３）の厚さの上限の通り、これは、前記層（Ｌ３）が標的とされる特定の使用分野にとって必要とされる可撓性を依然として提供することができるならば、特に制限されない。
【００７０】
当業者は、ポリマー（Ｔ２）の性質に応じて、必要とされる透過性および可撓特性を提供するように層（Ｌ３）の適切な厚さを選択するであろう。
【００７１】
また、当業者は、ポリマー（Ｔ２）の性質に応じて、必要とされる光学的透明性を提供するように層（Ｌ３）の適切な厚さを選択するであろう。
【００７２】
もしあれば、互いに等しいかもしくは異なる、層（Ｌ１）および層（Ｌ３）は好ましくは、光学的に透明である。
【００７３】
互いに等しいかもしくは異なる、ポリマー（Ｔ１）およびポリマー（Ｔ２）は、好ましくは、
−  ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと１つ以上の他のコモノマーとのコポリマーおよびそれらの混合物からなる群から選択される塩化ビニルベースのポリマー［（ＰＶＣ）ポリマー］、
−  ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンと１，１−ジクロロエタンなどの１つ以上の他のコモノマーとのコポリマーおよびそれらの混合物からなる群から選択される塩化ビニリデンベースのポリマー［（ＰＶＤＣ）ポリマー］、
−  ポリクロロトリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンと１つ以上の他のコモノマーとのコポリマーおよびそれらの混合物からなる群から選択されるクロロトリフルオロエチレンベースのポリマー［（ＰＣＴＦＥ）ポリマー］、
−  低密度、線状低密度および高密度ポリエチレン、ポリプロピレンおよび二軸延伸ポリプロピレン、ならびにポリブチレンなどのポリオレフィン、
−  エチレン−酢酸ビニル、エチレン−ビニルアルコールおよびエチレン−アクリル酸などのエチレンのコポリマー、
−  ポリスチレンおよびポリ（ビニルアルコール）などの置換ポリオレフィン、
−  ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートおよびそれらのコポリマーなどのポリエステル、
−  ポリカーボネート、
−  ポリアミド６、ポリアミド６．６およびポリアミド６．１０などのポリアミド、
−  ポリアクリロニトリル、
−  セルロース、ならびに
−  ポリ乳酸
からなる群から選択される。
【００７４】
（ＰＣＴＦＥ）ポリマーは好ましくは、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）に、エチレン、プロピレンおよびイソブチレンから選択される少なくとも１種の含水素モノマーならびに、任意選択的に、ＣＴＦＥおよび前記含水素モノマーの総量を基準として、典型的には０．０１モル％〜３０モル％の量での、１つ以上の追加のモノマーに由来する繰り返し単位を含む。
【００７５】
（ＰＣＴＦＥ）ポリマーはより好ましくは：
（ａ）５０モル％〜７０モル％のクロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）と；
（ｂ）３０モル％〜５０モル％のエチレン（Ｅ）と；
（ｃ）任意選択的に、モノマー（ａ）および（ｂ）の総量を基準として、５モル％以下、好ましくは２．５モル％以下の１つ以上のフッ素化モノマーおよび／または含水素コモノマーと
を含む。
【００７６】
組成物（Ｃ１）は、顔料などの、しかしそれらに限定されない１つ以上の添加剤をさらに含んでもよい。当業者は、層（Ｌ１）の厚さに応じて、組成物（Ｃ１）中の１つ以上の添加剤の適切な量を選択するであろう。
【００７７】
組成物（Ｃ１）は典型的には、溶融加工技術を用いて溶融相で加工される。組成物（Ｃ１）は通常、ストランドを生成するために１００℃〜３００℃に一般に含まれる温度でのダイを通しての押出によって加工され、ストランドは通常、ペレットを提供するためにカットされる。二軸スクリュー押出機が、本組成物（Ｃ１）の溶融配合を成し遂げるための好ましい装置である。
【００７８】
層（Ｌ１）は典型的には、そのようにして得られたペレットを従来のフィルム押出技術によって加工することによって製造される。フィルム押出は好ましくは、フラットキャストフィルム押出法またはホットインフレートフィルム押出法を用いて成し遂げられる。
【００７９】
本発明の方法の工程（２’）下で、工程（１’）で提供されたベースシートは、典型的には、ピン、またはスパイクを組み入れている、ベースシートに穴を開け、そして成形温度まで加熱するためのオーブンを通ってそれを運ぶインデクシング・チェーン一式へロールからまたは押出機からの前記ベースシートを供給することによって熱成形され、それによって１つ以上のブリスターを含むベースシート（Ａ）を提供する。
【００８０】
当業者は、ベースシートの性質に応じて、その熱成形加工のための適切な温度を選択するであろう。
【００８１】
組成物（Ｃ３）は典型的には、溶融加工技術を用いて溶融相で加工される。組成物（Ｃ３）は通常、ストランドを生成するために１００℃〜３００℃に一般に含まれる温度でのダイを通しての押出によって加工され、ストランドは通常、ペレットを提供するためにカットされる。二軸スクリュー押出機が、本組成物（Ｃ３）の溶融配合を成し遂げるための好ましい装置である。
【００８２】
層（Ｌ３）は典型的には、そのようにして得られたペレットを従来のフィルム押出技術によって加工することによって製造される。フィルム押出は好ましくは、フラットキャストフィルム押出法またはホットインフレートフィルム押出法を用いて成し遂げられる。
【００８３】
層（Ｌ１）は好ましくは、１つ以上の平坦化技術によってさらに加工される。
【００８４】
好適な平坦化技術の非限定的な例としては、とりわけ、二軸延伸、研磨および平坦化コーティング処理が挙げられる。
【００８５】
１つ以上の平坦化技術により層（Ｌ１）をさらに加工することによって、その表面は、層（Ｌ２）とのより高い層間接着を確実にするように平滑にされることが分かった。
【００８６】
「高周波グロー放電法」とは、エッチングガスを含有するセル中で２つの電極間に電圧をかけることによってグロー放電が発生する、高周波増幅器で動く方法を意味することが本明細書によって意図される。そのように発生したグロー放電は次に典型的には、噴射ヘッドを通過して処理される材料の表面に到達する。
【００８７】
「エッチングガス媒体」とは、高周波グロー放電法での使用に好適なガスかガスの混合物かのいずれかを意味することが本明細書によって意図される。
【００８８】
エッチングガス媒体は好ましくは、空気、Ｎ２、ＮＨ３、ＣＨ４、ＣＯ２、Ｈｅ、Ｏ２、Ｈ２およびそれらの混合物から選択される。
【００８９】
エッチングガス媒体はより好ましくは、Ｎ２および／またはＮＨ３ならびに、任意選択的に、Ｈ２を含む。
【００９０】
高周波グロー放電法は典型的には、減圧下または大気圧下で実施される。
【００９１】
高周波グロー放電法は好ましくは、約７６０トルで大気圧下に実施される。
【００９２】
大気圧プラズマは、低圧プラズマまたは高圧プラズマとは対照的に、反応容器が、大気圧とは異なる圧力レベルの維持を確実にすることを必要とされないので、顕著な技術的重要性を有する。
【００９３】
高周波グロー放電法は典型的には、１ｋＨｚ〜１００ｋＨｚに含まれる高周波で実施される。
【００９４】
高周波グロー放電法は典型的には、１ｋＶから５０ｋＶに含まれる電圧で実施される。
【００９５】
本発明の方法の第１実施形態によれば、高周波グロー放電法は、コロナ放電を発生させる。
【００９６】
本発明の方法の第１実施形態の高周波グロー放電法は典型的には、５ｋＨｚ〜１５ｋＨｚに含まれる高周波で実施される。
【００９７】
本発明の方法のこの第１実施形態の高周波グロー放電法は典型的には、１ｋＶ〜２０ｋＶに含まれる電圧で実施される。
【００９８】
コロナ放電は典型的には、１×１０９〜１×１０１３ｃｍ−３に含まれる密度を有する。
【００９９】
本発明の方法の第２実施形態によれば、高周波グロー放電法は、プラズマ放電を発生させる。
【０１００】
本発明の方法のこの第２実施形態の高周波グロー放電法は典型的には、１０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚに含まれる高周波で実施される。
【０１０１】
本発明の方法のこの第２実施形態の高周波グロー放電法は典型的には、５ｋＶ〜１５ｋＶに含まれる電圧で実施される。
【０１０２】
プラズマ放電は典型的には、１×１０１６〜１×１０１９ｃｍ−３に含まれる密度を有する。
【０１０３】
本出願人は、エッチングガス媒体の存在下での高周波グロー放電法での層（Ｌ１）の一表面の処理後に、層（Ｌ１）は、その可撓特性およびその光学的透明性などのそのバルク特性を成功裡に維持することを見いだした。
【０１０４】
典型的には大気圧下で、Ｎ２および／またはＮＨ３ならびに、任意選択的に、Ｈ２を含むエッチングガス媒体の存在下での高周波グロー放電法での層（Ｌ１）の表面の処理によって得られ得る、層（Ｌ１）の表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）のグラフト化官能基の非限定的な例としては、とりわけ、アミン基（−ＮＨ２）、イミン基（−ＣＨ＝ＮＨ）、ニトリル基（−ＣＮ）およびアミド基（−ＣＯＮＨ２）からなる群から選択されるものが挙げられる。
【０１０５】
層（Ｌ１）の表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）のグラフト化官能基の種類は、任意の好適な技術によって、典型的には、ＦＴ−ＩＲ技術と結合した全反射減衰分光法（ＡＴＲ）などのＦＴ−ＩＲ技術によってまたはＸ線誘導光電子分光法（ＸＰＳ）技術によって決定することができる。
【０１０６】
本出願人は、層（Ｌ１）の表面（Ｌ１―Ｓ１―ｆ）が、無電解析出によってそれに塗布される層（Ｌ２）と傑出した層間接着を有利にも提供することを見いだした。
【０１０７】
互いに等しいかもしくは異なる、化合物（Ｍ１）および化合物（Ｍ２）は、典型的には、
（ａ）Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｔｉ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｃｄ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｖ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｇａ、それらの合金、およびそれらの誘導体と、
（ｂ）
−  ＳｉＯｘ、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２およびそれらの混合物（式中、ｘは、０．５〜２に含まれる）、
−  ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＣｄＯおよびそれらの混合物からなる群から選択されるＳｎドープ金属酸化物ならびにＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＣｄＯおよびそれらの混合物からなる群から選択されるＡｌドープ金属酸化物などのＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＣｄＯおよびそれらの混合物からなる群から選択される不純物ドープ金属酸化物、ならびに
−  Ｚｎ２ＳｎＯ４、ＺｎＳｎＯ３、Ｚｎ２Ｉｎ２Ｏ５、Ｚｎ３Ｉｎ２Ｏ６、Ｉｎ２ＳｎＯ４、ＣｄＳｎＯ３およびそれらの混合物
からなる群から選択される金属酸化物と
からなる群から選択される。
【０１０８】
本発明の目的のためには、「無電解析出」とは、めっき浴で典型的には実施される、酸化還元プロセスであって、金属化合物が、適切な化学還元剤の存在下でその酸化状態からその元素状態に還元されるプロセスを意味する。
【０１０９】
層（Ｌ１）の表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）は典型的には、無電解金属化触媒と接触させられ、それによって触媒層［層（Ｌ１ｃ）］を提供する。
【０１１０】
層（Ｌ２）が次に、少なくとも１種の金属化合物（Ｍ１）に由来する少なくとも１種の金属イオンを含む組成物（Ｃ２）を使用する層（Ｌ１ｃ）上への無電解析出によって典型的には得られる。
【０１１１】
本出願人は、これが本発明の範囲を限定することなく、層（Ｌ２）が層（Ｌ１）の表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）に最終的には直接接着するように層（Ｌ１ｃ）が無電解析出プロセスの一時的中間体であると考えている。
【０１１２】
無電解金属化触媒は典型的には、パラジウム、白金、ロジウム、イリジウム、ニッケル、銅、銀および金をベースとする触媒からなる群から選択される。
【０１１３】
無電解金属化触媒は好ましくは、ＰｄＣｌ２などのパラジウム触媒から選択される。
【０１１４】
層（Ｌ１）の表面（Ｌ１−Ｓ１−ｆ）は典型的には、少なくとも１種の液体媒体の存在下で液相で無電解金属化触媒と接触させられる。
【０１１５】
組成物（Ｃ２）は典型的には、少なくとも１種の化合物（Ｍ１）に由来する少なくとも１種の金属イオンと、少なくとも１種の還元剤と、少なくとも１種の液体媒体と、任意選択的に、１つ以上の添加剤とを含む。
【０１１６】
好適な液体媒体の非限定的な例としては、とりわけ、水、有機溶媒およびイオン液体が挙げられる。
【０１１７】
有機溶媒の中で、エタノールなどのアルコールが好ましい。
【０１１８】
好適な還元剤の非限定的な例としては、とりわけ、ホルムアルデヒド、次亜リン酸ナトリウムおよびヒドラジンが挙げられる。
【０１１９】
好適な添加剤の非限定的な例としては、とりわけ、塩、緩衝剤、および液体組成物中での触媒の安定性を高めるのに好適な他の材料が挙げられる。
【０１２０】
化合物（Ｍ１）が、上に定義されたような金属酸化物（ｂ）から選択される場合には、層（Ｌ２）は有利には、光学的に透明である。
【０１２１】
層（Ｌ２）は典型的には、０．０５μｍ〜５μｍ、好ましくは０．５μｍ〜１．５μｍに含まれる厚さを有する。
【０１２２】
層（Ｌ２）の厚さは、任意の好適な技術によって、典型的に走査電子顕微鏡法（ＳＥＭ）技術によって測定することができる。
【０１２３】
本発明のブリスターパッケージの層（Ｌ２）は好ましくは、
（ａ’）Ｃｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ａｇ、Ａｕおよびそれらの合金と、
（ｂ’）
−  ＳｉＯｘ、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２およびそれらの混合物（式中、ｘは、０．５〜２に含まれる）、
−  ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＣｄＯおよびそれらの混合物からなる群から選択されるＳｎドープ金属酸化物ならびにＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＣｄＯおよびそれらの混合物からなる群から選択されるＡｌドープ金属酸化物などのＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＣｄＯおよびそれらの混合物からなる群から選択される不純物ドープ金属酸化物、ならびに
−  Ｚｎ２ＳｎＯ４、ＺｎＳｎＯ３、Ｚｎ２Ｉｎ２Ｏ５、Ｚｎ３Ｉｎ２Ｏ６、Ｉｎ２ＳｎＯ４、ＣｄＳｎＯ３およびそれらの混合物
からなる群から選択される金属酸化物と
からなる群から選択される化合物（Ｍ１）からなる。
【０１２４】
それによって提供されたパッケージは次に、好ましくは５０℃〜１５０℃に含まれる温度で、より好ましくは１００℃〜１５０℃に含まれる温度で典型的には乾燥させられる。
【０１２５】
層（Ｌ４）は典型的には、少なくとも１種の化合物（Ｍ２）に由来する少なくとも１種の金属イオンを含む組成物（Ｃ４）を使用して電着によって層（Ｌ２）上へ塗布される。
【０１２６】
本発明の目的のためには、「電着」とは、電解質溶液を使用する、電解槽で典型的には実施される、プロセスであって、電流が金属化合物をその酸化状態からその元素状態に還元するために用いられるプロセスを意味する。
【０１２７】
組成物（Ｃ４）は好ましくは、少なくとも１種の化合物（Ｍ２）に由来する少なくとも１種の金属イオンと、少なくとも１種の金属ハロゲン化物と、任意選択的に、少なくとも１種のイオン液体とを含む。
【０１２８】
好適なイオン液体の非限定的な例としては、とりわけ、
−  スルホニウムイオンまたはイミダゾリウム環、ピリジニウム環、ピロリジニウム環もしくはピペリジニウム環（前記環は、特に、１〜８個の炭素原子を持った１個以上のアルキル基によって、窒素原子上に、および特に、１〜３０個の炭素原子を持った１個以上のアルキル基によって、炭素原子上に任意選択的に置換されている）からなる群から選択されるカチオンと、
−  ハロゲン化物アニオン、過フッ素化アニオンおよびホウ酸塩からなる群から選択されるアニオンと
を含むものが挙げられる。
【０１２９】
本出願人はまた、層（Ｌ２）が電着によってそれに塗布される層（Ｌ４）と傑出した層間接着を有利にも提供することを見いだした。
【０１３０】
化合物（Ｍ２）が、上に定義されたような金属酸化物（ｂ）から選択される場合には、層（Ｌ４）は有利には光学的に透明である。
【０１３１】
層（Ｌ４）は、もしあれば、典型的には０．０５μｍ〜５μｍ、好ましくは０．５μｍ〜１．５μｍに含まれる厚さを有する。
【０１３２】
層（Ｌ４）の厚さは、任意の好適な技術によって、典型的に走査電子顕微鏡法（ＳＥＭ）技術によって測定することができる。
【０１３３】
それによって提供されたパッケージは次に、好ましくは５０℃〜１５０℃に含まれる温度で、より好ましくは１００℃〜１５０℃に含まれる温度で典型的には乾燥させられる。
【０１３４】
密封は、当技術分野で一般に公知の任意の技術によって１５０℃〜３００℃に典型的には含まれる温度で実施される。
【０１３５】
従来技術の中に、共積層、共押出、例えば共押出−積層、共押出−ブロー成形および共押出−成形、押出−コーティング、コーティング、二重射出−成形または共射出−成形法などの溶融加工技術を挙げることができる。
【０１３６】
密封は典型的には、１つ以上の接着剤層によって実施される。
【０１３７】
接着剤層は典型的には、
−  ポリエチレンおよびポリプロピレンなどのポリオレフィン、
−  エチレン−酢酸ビニル、エチレン−ビニルアルコールおよびエチレン−アクリル酸などのエチレンのコポリマー、ならびに
−  シラン−グラフトポリオレフィン
からなる群から選択される少なくとも１種のポリマーからなる。
【０１３８】
本発明のブリスターパッケージのベースシート（Ａ）の層（Ｌ１）およびリッドシート（Ｂ）の層（Ｌ１）がブリスターの領域においてを除いて互いに密封されることは理解される。
【０１３９】
参照により本明細書に援用される特許、特許出願、および刊行物のいずれかの開示が用語を不明瞭にさせ得る程度まで本出願の記載と矛盾する場合、本記載が優先するものとする。
【０１４０】
本発明は、以下の実施例に関連してこれからより詳細に説明されるが、実施例の目的は、例示的なものであるにすぎず、本発明の範囲を限定するものではない。
【０１４１】
原材料
ＥＣＴＦＥ（５０：５０モル比）
【０１４２】
実施例１−フルオロポリマー層の製造
薄フィルムを製造するために、ＥＣＴＦＥのペレットを、２．５インチ単段押出機を備えたキャスト押出フィルムラインで加工した。押出機は、ブレーカープレートを備えたアダプターを介してダイと連結されている。ダイは、１３７０ｍｍ幅のオートゲージ・ダイであった。ダイから出るとき、溶融テープを、フィルムを得るようにその速度が調整された、３つの後続冷却ロール上にキャストした。全厚さおよび幅に沿った厚さ変動は、ダイに組み込んだベータ線制御計測システムによって制御される。縁切り後の、フィルムの最終幅は、約１０５０ｍｍであった。
【０１４３】
以下の加工条件を、５０μｍ厚さフィルムのために用いた（本明細書で下の表１および表２を参照されたい）。
【０１４４】
2020037455.tif 000002
【０１４５】
2020037455.tif 000003
【０１４６】
実施例２−フルオロポリマー層の表面改質
そのようにして得られたフルオロポリマーフィルムを、高周波プラズマ放電法によって処理した。使用したエッチングガスは、Ｎ２であった。動作高周波および電圧は、それぞれ、４０ｋＨｚおよび２０ｋＶの値を有した。
【０１４７】
実施例３−フルオロポリマー層の金属化プロセス
本明細書で上に詳述されたようにプラズマによって処理されたフルオロポリマーフィルムを、無電解めっきによって金属銅でコートした。銅沈着の前に、フルオロポリマー層を、Ｐｄ活性化の湿式プロセスによって触媒化した。この活性化プロセスは、１分間、０．０３ｇ／ＬのＰｄＣｌ２を含有する水溶液へのフルオロポリマー層の浸漬によって実施し、高密度でＰｄ粒子に完全に覆われている基材をもたらした。
活性化フルオロポリマーフィルムを次に、６ｇ／ＬのＣｕＳＯ４、２７ｇ／ｌのＥＤＴＡ二ナトリウム塩水和物、ホルムアルデヒド７．４ｍｌ／ｌおよび５．６ｇ／ｌの水酸化ナトリウムを含有する水性めっき浴に浸漬した。めっき温度は６０℃であり、そのｐＨ値は１０であった。
【０１４８】
比較例１−フルオロポリマー層§の金属化プロセス
フルオロポリマーフィルムを、実施例３下で上に詳述されたのと同じ手順に従って、しかしフルオロポリマーフィルムのプラズマによる表面改質なしで製造した。
【０１４９】
比較例２−フルオロポリマー層の金属化プロセス
実施例２で詳述されたようにプラズマによって処理されたフルオロポリマーフィルムを、通常技術に従ったスパッタリングによって金属ニッケルでコートした。
【０１５０】
金属化フルオロポリマーアセンブリの接着性の評価
フルオロポリマー基材上の金属層の接着性を、ＡＳＴＭ  Ｄ３３５９クロスカット試験標準手順によって特性評価した。カッティング工具を用いて、格子模様をその上に生み出すために金属層上に２シリーズの垂直な切込みを入れた。その後、テープ片を貼って格子上で平らにし、金属層に対して１８０°の角度で剥がす。その後、フルオロポリマー上の金属層の接着性を、ＡＳＴＭ  Ｄ３３５９標準手順の切込み格子と比較することによって評価した。試験結果の分類は、５Ｂ〜０Ｂの範囲であり、その説明は表３に記載されている。
【０１５１】
2020037455.tif 000004
【０１５２】
実施例１ならびに比較例１および２に従って得られた金属化フルオロポリマーアセンブリの接着性値は、本明細書で下の表４に記載されている。
【０１５３】
2020037455.tif 000005
【０１５４】
このように、本発明による多層アセンブリは、比較例１および２による多層アセンブリと比べて傑出した層間接着を有利にも提供することが分かった。フルオロポリマーフィルムの表面がプラズマ処理によって改質されなかった、比較例１に従って得られた多層アセンブリについては層間接着がまったく観察されなかった。
【０１５５】
プラズマ処理後のＸＰＳによる表面官能化の評価
上に記載されたように実施例１に従って得られたフルオロポリマーフィルムをそのようなものとして提供した。実施例２に従って得られた表面改質フルオロポリマー層は、その表面が、ＸＰＳ分析によって確認されるように、窒素原子を含有する官能基を含まない、実施例１に従って得られた裸フルオロポリマーフィルムと比べて窒素原子（２．８７Ａｔ％）を含有する官能基を含むことがＸＰＳ分析によって分かった。
【０１５６】
金属化フルオロポリマーアセンブリの水蒸気透過特性の評価
上に記載されたように実施例１に従って得られたフルオロポリマーフィルムをそのようなものとして提供した。
水蒸気透過性は、水蒸気透過速度（ＷＶＴＲ）によってＡＳＴＭ  Ｆ１２４９標準試験手順に従って測定した。
とりわけ実施例３に従って得られるような本発明の金属化フルオロポリマー層は、実施例１に従って得られた裸フルオロポリマーフィルムと比べてより低い水蒸気透過性を有利にも提供することが分かった（下の表５を参照されたい）。
【０１５７】
2020037455.tif 000006
【０１５８】
５０．２μｍの多層アセンブリの総厚さをもたらす、０．２μｍの銅の沈着が、実施例１に従って得られた５０μｍの厚さを有する裸フルオロポリマーフィルムに対して水蒸気透過を非常に低減するのに有利にも十分であった。
【０１５９】
上記を考慮して、本発明による多層アセンブリは包装用途での使用に特に好適であることが分かった。
【外国語明細書】
2020037455000001.pdf