(57)【要約】【課題】視認性に優れ、太陽光の照射に伴う抵抗値変動が改善された光透過性電極積層体を提供する。【解決手段】光透過性支持体上に網目状金属銀細線パターンを有する光透過性電極を少なくとも有し、該光透過性電極上に粘着剤層と機能材料を少なくともこの順に有する光透過性電極積層体であって、該網目状金属銀細線パターンが２０μｍ以下の線幅の銀細線を有し、該粘着剤層が銅塩および／または銅錯体を含有することを特徴とする光透過性電極積層体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性支持体上に網目状金属銀細線パターンを有する光透過性電極を少なくとも有し、該光透過性電極上に粘着剤層と機能材料を少なくともこの順に有する光透過性電極積層体であって、該網目状金属銀細線パターンが２０μｍ以下の線幅の銀細線を有し、該粘着剤層が銅塩および／または銅錯体を含有することを特徴とする光透過性電極積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、視認性に優れ、抵抗値変動が改善された光透過性電極積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
スマートフォン、パーソナル・デジタル・アシスタント（ＰＤＡ）、ノートＰＣ、タブレットＰＣ、ＯＡ機器、医療機器、あるいはカーナビゲーションシステム等の電子機器においては、これらのディスプレイに入力手段としてタッチパネルセンサーが広く用いられている。
【０００３】
タッチパネルセンサーには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、抵抗膜方式、表面型静電容量方式、投影型静電容量方式等があり、上記したディスプレイ用途においては抵抗膜方式と投影型静電容量方式が好適に利用されている。抵抗膜方式のタッチパネルセンサーは、支持体上に光透過性導電層を有する光透過性電極を２枚利用し、これら光透過性電極をドットスペーサーを介して対向配置した構造を有しており、タッチパネルセンサーの１点に力を加えることにより光透過性導電層同士が接触し、光透過性導電層に印加された電圧をもう一方の光透過性導電層を通して測定することで、力の加えられた位置の検出を行うものである。一方、投影型静電容量方式のタッチパネルセンサーは、２層の光透過性導電層を有する光透過性電極を１枚、または１層の光透過性導電層を有する光透過性電極を２枚利用し、指等を接近させた際の光透過性導電層間の静電容量変化を検出し、指を接近させた位置の検出を行うものである。後者は可動部分がないため耐久性に優れる他、多点同時検出ができることから、スマートフォンやタブレットＰＣ等で、とりわけ広く利用されている。
【０００４】
投影型静電容量方式のタッチパネルセンサーにおいては、支持体上に光透過性導電層をパターニングすることで得られた複数のセンサーからなるセンサー部を配することで、多点同時検出や移動点の検出を可能にしている。このセンサー部が検出した静電容量の変化を電気信号として外部に取り出すため、光透過性電極が有する全てのセンサーと、外部に電気信号を取り出すために設けられる複数の端子からなる端子部との間には、これらを電気的に接続する複数の周辺配線からなる周辺配線部が設けられる。通常、前述した光透過性導電層はディスプレイ上に位置し、周辺配線部や端子部はディスプレイの外、いわゆる額縁部に位置する。従来技術においては、光透過性導電層はＩＴＯ（インジウム−錫酸化物）導電膜により形成されるのが一般的であり、周辺配線部や端子部は、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム等の金属により形成されるのが一般的であった。例えば特開２０１５−３２１８３号公報（特許文献１）には、光透過性導電層の材料としてＩＴＯやＩＺＯ（インジウム−亜鉛酸化物）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）等の透明導電体を使用し、取出配線（周辺配線部）の材料として銅等の金属を使用したタッチパネルセンサー部材が開示されている。
【０００５】
一方、近年では光透過性導電層として網目状金属銀細線パターンを用いた光透過性電極も開示されている。例えば特開２０１５−１３３２３９号公報（特許文献２）には、網目状金属銀細線パターンと周辺配線部を、銀微粒子を含有するインクを印刷して形成する方法や、無電解めっき触媒を含有する樹脂塗料を印刷した後に無電解めっきを施す方法、金属層上にフォトレジスト層を設け、レジストパターンを形成した後、金属層をエッチング除去するサブトラクティブ法、銀塩感光材料を用いる方法等、様々な方法により形成できることが記載されている。また、該光透過性電極の網目状金属銀細線パターンを有する側の面に、粘着剤層と、該粘着剤層上に機能材料とを有する光透過性電極積層体も知られており、例えば特開２０１４−１９８８１１号公報（特許文献３）にはタッチパネルセンサー上に粘着シートからなる粘着剤層と、該粘着剤層上に保護基板を有するタッチパネル用積層体が開示されている。該粘着剤層は一般的に、表示装置やタッチパネルセンサー等の各部材間を密着させるために利用されている。
【０００６】
上記したような光透過性電極積層体は様々な場所で用いられ、例えば太陽光が照射される場所でも使用される。ところが、網目状金属銀細線パターン上に粘着剤層を設け光透過性電極積層体とした場合、太陽光が照射されると該網目状金属銀細線パターンの抵抗値が変動するという問題があった。近年は網目状金属銀細線パターンの視認性（パターンが見えにくい、いわゆる難視認性。以下、単に視認性と記載する。）の改善を目的として、網目状金属銀細線パターンを構成する金属銀細線の一層の細線化が進められている。そして金属銀細線を細線化すると、太陽光の照射による網目状金属銀細線パターンの抵抗値変動はとりわけ顕著になることから、改善が求められていた。
【０００７】
太陽光の照射に伴う網目状金属銀細線パターンの抵抗値変動を改善する方法として、特開２０１５−５８６６２号公報（特許文献４）には、網目状金属銀細線パターンの下引き層がアミノ基を有する化合物を含有し、粘着剤層がカチオン重合型光硬化性樹脂を含有する光透過性導電材料積層体が開示され、特開２０１５−１０６５００号公報（特許文献５）には網目状金属銀細線パターンの下引き層がアミノ基を有する化合物を含有し、粘着剤層がアシルホスフィン系化合物やトリハロアルキル化合物を用いて重合された樹脂を含有する光透過性導電材料積層体が開示されている。また特開２０１６−２１０９１６号公報（特許文献６）には紫外線吸収能または光安定性能を有する分子骨格を有するアクリルモノマー等を重合させて得られるアクリル系粘着剤を含有するタッチパネル用層間充填材料を、銀を用いたメタルメッシュ（網目状金属銀細線パターン）上に貼合することが開示され、国際公開第２０１５／１４３３８３号パンフレット（特許文献７）には、銀メッシュ（網目状金属銀細線パターン）と、遷移金属塩または遷移金属錯体を含有する光安定化剤を含有する光学積層体が開示される。しかしながら、太陽光の照射に伴う網目状金属銀細線パターンの抵抗値変動に関しては、さらなる改善が望まれていた。
【０００８】
他方、特開２０１３−１２９７０１号公報（特許文献８）には、テトラアザポルフィリン系色素と、該色素の耐光性を改善する光安定剤として、銅錯体を含有する光学フィルター用の粘着剤組成物が開示され、銀や銀合金を含有する電磁波遮蔽膜や、銅メッシュが形成された電磁波遮蔽フィルム等の機能フィルム上に、該粘着剤組成物からなる粘着剤層を設けることが記載される、
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１５−３２１８３号公報
【特許文献２】特開２０１５−１３３２３９号公報
【特許文献３】特開２０１４−１９８８１１号公報
【特許文献４】特開２０１５−５８６６２号公報
【特許文献５】特開２０１５−１０６５００号公報
【特許文献６】特開２０１６−２１０９１６号公報
【特許文献７】国際公開第２０１５／１４３３８３号パンフレット
【特許文献８】特開２０１３−１２９７０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の課題は、視認性に優れ、太陽光の照射に伴う抵抗値変動が改善された光透過性電極積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記課題は、以下の発明によって達成される。
光透過性支持体上に網目状金属銀細線パターンを有する光透過性電極を少なくとも有し、該光透過性電極上に粘着剤層と機能材料を少なくともこの順に有する光透過性電極積層体であって、該網目状金属銀細線パターンが２０μｍ以下の線幅の銀細線を有し、該粘着剤層が銅塩および／または銅錯体を含有することを特徴とする光透過性電極積層体。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、視認性に優れ、太陽光の照射に伴う抵抗値変動が改善された光透過性電極積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施例で用いたポジ型透過原稿の概略図
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明について説明する。本発明の光透過性電極積層体は、光透過性支持体上に網目状金属銀細線パターンを有する光透過性電極を少なくとも有し、該光透過性電極上に粘着剤層と機能材料を少なくともこの順に有する光透過性電極積層体であって、該網目状金属銀細線パターンが２０μｍ以下の線幅の銀細線を有し、該粘着剤層が銅塩および／または銅錯体を含有することを特徴とする。
【００１５】
＜銅塩および銅錯体＞
本発明における銅塩は特に限定されず、硝酸銅（II）、硫酸銅（II）、塩化銅（II）、リン酸銅（II）等の無機酸銅塩、ギ酸銅（II）、酢酸銅（II）、プロピオン酸銅（II）、オレイン酸銅（II）、ステアリン酸銅（II）等の有機酸銅塩が例示でき、いずれも好ましく用いることができる。
【００１６】
本発明における銅錯体は特に限定されず、公知のキレート剤と銅（II）イオンによる錯体が例示できる。キレート剤の具体例としては、エチレンジアミン四酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、１，３−プロパンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、ニトリロ三酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸等のアミノカルボン酸、ピロリン酸、トリポリリン酸、ヘキサメタリン酸等の縮合リン酸、クエン酸、酒石酸、グルコン酸等のヒドロキシ酸、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、トリアミノトリエチルアミン等のポリアミン、アセチルアセトン、トリフルオロアセチルアセトン等の１，３−ジケトン、フタロシアニン、テトラフェニルポルフィリン、クラウンエーテル等の環状化合物、等が挙げられる。上記したキレート剤は塩として用いてもよい。
【００１７】
上記した銅塩および銅錯体はそれぞれ２種類以上を併用してもよく、銅塩および銅錯体を併用してもよい。上記した銅塩、銅錯体の中でも、粘着剤との相溶性が優れることから、有機酸銅塩、銅錯体を用いることが好ましく、太陽光の照射に伴う網目状金属銀細線パターンの抵抗値変動を効果的に抑制できることから、有機酸銅塩を用いることが特に好ましい。
【００１８】
粘着剤層中における銅塩および／または銅錯体の含有量は特に限定されないが、下限は０．０２質量％以上であることが太陽光の照射に伴う網目状金属銀細線パターンの抵抗値変動を抑制する効果が優れることから好ましく、より好ましくは０．０７質量％以上であり、特に好ましくは０．１５質量％以上である。上限は特に限定されないが、３質量％以下であることが粘着剤層の光学特性が優れる（ヘイズが低い、全光線透過率が高い、着色が無い、等）ことから好ましい。
【００１９】
＜粘着剤層＞
本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層は、上記銅塩および／または銅錯体以外に樹脂を好ましく含有する。該樹脂は特に限定されず、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂等の公知の樹脂を例示できる。上記樹脂は、樹脂前駆体を重合開始剤により重合させることで得られる。
【００２０】
樹脂前駆体は特に限定されず、各種樹脂のモノマーやオリゴマーを用いることができる。中でもアクリル系モノマーは、重合により得られる樹脂が透明性に優れ、またモノマーの重合を制御して樹脂に粘着性を付与することも容易であることから、特に好ましい。従って本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層が含有する好ましい樹脂はアクリル系樹脂である。樹脂前駆体として単一のアクリル系モノマーを用いてもよく、２種類以上のアクリル系モノマーを用いてもよく、アクリル系モノマーとアクリル系モノマー以外のモノマーやオリゴマーを用いてもよい。アクリル系モノマーとしては、直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルと、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルとが例示できる。なお、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」または「メタクリル」を表し、他も同様である。
【００２１】
上記直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｓ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸イソペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸トリデシル、（メタ）アクリル酸テトラデシル、（メタ）アクリル酸ペンタデシル、（メタ）アクリル酸ヘキサデシル、（メタ）アクリル酸ヘプタデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸イソステアリル、（メタ）アクリル酸ノナデシル、（メタ）アクリル酸エイコシル等の炭素数が１〜２０の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。上記直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルは、２種類以上混合して用いてもよい。
【００２２】
上記（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸−２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸−３−メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸−３−エトキシプロピル、（メタ）アクリル酸−４−メトキシブチル、（メタ）アクリル酸−４−エトキシブチル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルは、２種類以上混合して用いてもよい。
【００２３】
上記アクリル系モノマーの中でも、アクリル系モノマーとして（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルを用いることが、上記銅塩および／または銅錯体と、アクリル系樹脂との相溶性の観点から好ましく、具体的には重合に供する樹脂前駆体の全量１００質量部のうち、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルの質量は、３０〜９０質量部が好ましく、より好ましくは３５〜９０質量部であり、特に好ましくは４０〜８５質量部である。
【００２４】
上記したアクリル系モノマー以外のモノマーとしては、極性基含有モノマー、多官能性モノマー等が例示できる。
【００２５】
上記極性基含有モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イソクロトン酸等のカルボキシ基含有モノマーまたはその無水物（無水マレイン酸等）、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸−６−ヒドロキシヘキシル等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル、ビニルアルコール、アリルアルコール等のヒドロキシ基含有モノマー、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド等のアミド基含有モノマー、（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸−ｔ−ブチルアミノエチル等のアミノ基含有モノマー、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸メチルグリシジル等のグリシジル基含有モノマー、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のシアノ基含有モノマー、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、（メタ）アクリロイルモルホリンの他、Ｎ−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピペリドン、Ｎ−ビニルピリミジン、Ｎ−ビニルピペラジン、Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルオキサゾール等の複素環含有ビニル系モノマー、ビニルスルホン酸ナトリウム等のスルホン酸基含有モノマー、２−ヒドロキシエチルアクリロイルフォスフェート等のリン酸基含有モノマー、シクロヘキシルマレイミド、イソプロピルマレイミド等のイミド基含有モノマー、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート等のイソシアネート基含有モノマー等が挙げられる。上記極性基含有モノマーは、２種類以上混合して用いてもよい。
【００２６】
上記多官能性モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、ジ（メタ）アクリル酸ヘキサンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ブタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸（ポリ）エチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸（ポリ）プロピレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸ネオペンチルグリコール、ジ（メタ）アクリル酸ペンタエリスリトール、トリ（メタ）アクリル酸ペンタエリスリトール、ヘキサ（メタ）アクリル酸ジペンタエリスリトール、トリ（メタ）アクリル酸トリメチロールプロパン、トリ（メタ）アクリル酸テトラメチロールメタン、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸ビニル等が挙げられる。上記多官能性モノマーは、２種類以上混合して用いてもよい。
【００２７】
上記アクリル系モノマー以外のモノマーの中でも、極性基含有モノマーを用いることが太陽光の照射に伴う網目状金属銀細線パターンの抵抗値変動を効果的に抑制できることから好ましく、ヒドロキシ基含有モノマーを用いることが特に好ましい。
【００２８】
上記モノマー以外にも、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル等の環状アルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル等の、公知の共重合性モノマーを用いることができる。
【００２９】
前述した樹脂前駆体として用いられるオリゴマーとしては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、イソプレンアクリレート、ブタジエンアクリレート等のアクリル系オリゴマーが例示できる。本発明におけるアクリル系オリゴマーとは、アクリル基を少なくとも１つ以上有するオリゴマーを意味する。
【００３０】
上記アクリル系オリゴマーは市販されており、いずれも好ましく用いることができる。ウレタンアクリレートとしては東亞合成（株）製アロニックス（登録商標）Ｍ−１１００、アロニックスＭ−１２００、新中村化学工業（株）製ＵＡ−１１００Ｈ、ＵＡ−１６０ＴＭ、ダイセル・オルネクス（株）製ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）２１０、ＥＢＥＣＲＹＬ２３０、ＥＢＥＣＲＹＬ２７０、荒川化学工業（株）製ビームセット（登録商標）５０５Ａ−６、ビームセット５５０Ｂ、ビームセット５７５等が例示できる。エポキシアクリレートとしてはＤＩＣ（株）製ユニディック（登録商標）Ｖ−５５００、ユニディックＶ−５５０２、共栄社化学（株）製エポキシエステル８０ＭＦＡ、エポキシエステル３０００ＭＫ等が例示できる。ポリエステルアクリレートとしては東亞合成（株）製アロニックスＭ−７１００、アロニックスＭ−８１００、ダイセル・オルネクス（株）製ＥＢＥＣＲＹＬ４３６、ＥＢＥＣＲＹＬ４５０、ＥＢＥＣＲＹＬ８１０等が例示できる。イソプレンアクリレートとしては、（株）クラレ製ＵＣ−１０２、ＵＣ−２０３等が例示できる。ブタジエンアクリレートとしては、日本曹達（株）製ＮＩＳＳＯ（登録商標）−ＰＢ  ＴＥ−２０００等が例示できる。
【００３１】
樹脂前駆体の重合に用いる重合開始剤は特に限定されず、公知の重合開始剤が例示できる。ここで重合開始剤とは、熱や電離放射線により、上記樹脂前駆体の重合反応を開始させる化合物を意味する。熱により重合反応を開始させる重合開始剤としては、メチルエチルケトンペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、（２−エチルヘキサノイル）（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド等の有機過酸化物、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、２，２’−アゾビス−２−メチルブチロニトリル等のアゾ化合物が例示でき、電離放射線により重合反応を開始させる重合開始剤としては、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン｝、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン等のアセトフェノン化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン化合物、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロリド等のチオキサントン化合物等が例示できる。なお、電離放射線とは、樹脂前駆体の重合反応を開始させうるエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、紫外線、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等が例示でき、中でも紫外線を用いることが生産性の観点から好ましい。
【００３２】
上記重合開始剤は市販されており、いずれも好ましく用いることができる。具体的にはＢＡＳＦジャパン（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１２７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１１７３等、大塚化学（株）製ＡＩＢＮ、ＡＤＶＮ、ＡＭＢＮ等が例示できる。
【００３３】
樹脂前駆体の重合に用いる重合開始剤の量は特に限定されないが、重合に供する樹脂前駆体の全量１００質量部に対し、重合開始剤は０．０５〜５質量部であることが重合速度の観点から好ましく、０．１〜３質量部が特に好ましい。
【００３４】
樹脂前駆体の重合方法としては、溶液重合方法、乳化重合方法、塊状重合方法、電離放射線照射重合方法等の公知の重合方法が例示でき、熱により重合反応を開始させる重合開始剤を用いる場合は溶液重合方法を、電離放射線により重合反応を開始させる重合開始剤を用いる場合は電離放射線照射重合方法を、といったように使用する重合開始剤の特性に合わせて選択すればよい。
【００３５】
本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層は、上記した樹脂、銅塩および／または銅錯体以外に、架橋剤（例えばイソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤等）、シランカップリング剤（例えば３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシ基を有するシランカップリング剤、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト基を有するシランカップリング剤、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリル基を有するシランカップリング剤等）、粘着付与剤（例えば、ロジン誘導体樹脂、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノール樹脂等）、酸化防止剤（ヒンダードフェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物等）、紫外線吸収剤（トリアジン化合物、ベンゾフェノン化合物等）、光安定剤（ヒンダードアミン化合物等）、充填剤、着色剤（顔料や染料等）、連鎖移動剤、可塑剤、軟化剤、界面活性剤、帯電防止剤等の公知の樹脂用添加剤を含有していてもよい。上記樹脂用添加剤の中でも、架橋剤を含有することが粘着剤層の粘着性の観点から好ましく、イソシアネート系架橋剤を含有することが特に好ましい。
【００３６】
イソシアネート系架橋剤は特に限定されず、１，２−エチレンジイソシアネート、１，４−ブチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加キシレンジイソシアネート等の脂環族ポリイソシアネート類、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート類等の公知のイソシアネート系架橋剤が例示できる。また、トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート付加物（東ソー（株）製、商品名「コロネート（登録商標）Ｌ」）、トリメチロールプロパン／ヘキサメチレンジイソシアネート付加物（東ソー（株）製、商品名「コロネートＨＬ」）等も好ましく用いることができる。
【００３７】
本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層は、２層以上の組成の異なる粘着剤層からなっていてもよい。例えば、光透過性電極の網目状金属銀細線パターンを有する側の面に、上記銅塩および／または銅錯体を含有する粘着剤層Ａを設け、該粘着剤層Ａ上に銅塩および／または銅錯体を含有しない粘着剤層Ｂを設けて、１つの粘着剤層としてもよい。
【００３８】
粘着剤層の厚みは特に限定されないが、薄すぎると網目状金属銀細線パターンを有する側の光透過性電極表面の凹凸へ追従しきれず、光透過性電極積層体中に泡が入る場合があり、また厚すぎると光透過性電極積層体の透明性が損なわれる場合がある。よって粘着剤層の厚みは５〜３００μｍが好ましく、より好ましくは１０〜２５０μｍである。また、光透過性電極積層体の透明性の観点から、粘着剤層の全光線透過率は９０％以上であることが好ましく、特に好ましくは９５％以上である。同様の観点から、粘着剤層のヘイズは０〜３％が好ましく、特に好ましくは０〜２％である。
【００３９】
本発明において粘着剤層は、光透過性電極の網目状金属銀細線パターンを有する面や、後述する機能材料の一方の面に直接形成してもよく、剥離加工済み支持体上に粘着剤層を形成し、該粘着剤層を剥離加工済み支持体より剥離し、光透過性電極の網目状金属銀細線パターンを有する面や後述する機能材料の一方の面に貼合してもよい。
【００４０】
剥離加工済み支持体の支持体は特に限定されず、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、フッ素樹脂、フェノキシ樹脂、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、セロファン、ナイロン、ポリスチレン系樹脂、ＡＢＳ樹脂等の各種樹脂フィルム、各種金属、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス等が例示できる。剥離加工方法としては、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の公知の剥離処理剤で支持体表面を処理する方法が例示できる。
【００４１】
＜支持体＞
本発明の光透過性電極積層体が有する支持体は特に限定されないが、光透過性電極積層体をタッチパネルセンサー等の光透過性が必要な用途に利用する場合、光透過性電極積層体には透明性が求められるため、支持体は光透過性を有することが特に好ましい。光透過性を有する支持体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、フッ素樹脂、フェノキシ樹脂、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、セロファン、ナイロン、ポリスチレン系樹脂、ＡＢＳ樹脂等の各種樹脂フィルム、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス等が例示できる。光透過性電極積層体の光透過性の観点から、支持体の全光線透過率は６０％以上であることが好ましく、特に好ましくは７０％以上であり、同様の観点から支持体のヘイズは０〜３％であることが好ましく、特に好ましくは０〜２％である。支持体の厚さは１０〜３００μｍであることが取り扱い性や光透過性の観点から好ましい。支持体はその表面の少なくとも一方の面に、易接着層、ハードコート層、反射防止層、防眩層、帯電防止層等の公知の層を有していてもよく、コロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理、ケン化処理等の公知の表面改質処理が施されていてもよい。
【００４２】
＜網目状金属銀細線パターン＞
本発明において網目状金属銀細線パターンを構成する金属銀細線の金属組成は、全金属量に対する銀の質量比が５０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは８０質量％以上であり、９０質量％以上が特に好ましい。また、金属銀細線を構成するバインダー成分の質量比は２０質量％未満であることが好ましく、より好ましくは１０質量％未満である。上記のような金属銀細線は高い導電性が得られる反面、太陽光の照射に伴う抵抗値変動がとりわけ大きいことから、このような場合において、本発明はとりわけ有効に作用する。
【００４３】
支持体上に網目状金属銀細線パターンを形成する方法は特に限定されず、例えば特開２０１５−６９８７７号公報に開示される方法に従い、銀およびバインダーを含有する導電性インキや導電性ペーストを、支持体上に印刷等の方法で付与し網目状金属銀細線パターンを形成する方法や、特開２００７−５９２７０号公報に開示される方法に従い、支持体上にハロゲン化銀乳剤層を設けた銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用い、硬化現像方式を用いて網目状金属銀細線パターンを形成する方法、特開２００４−２２１５６４号公報、特開２００７−１２３１４号公報等に開示される方法に従い、支持体上にハロゲン化銀乳剤層を設けた銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用い、直接現像方式を用いて網目状金属銀細線パターンを形成する方法、特開２００３−７７３５０号公報、特開２００５−２５０１６９号公報、特開２００７−１８８６５５号公報、特開２００４−２０７００１号公報等に開示される方法に従い、支持体上に物理現像核層と、ハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用い、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させる、いわゆる銀塩拡散転写法を用いて網目状金属銀細線パターンを形成する方法、特開２０１４−１９７５３１号公報に開示される方法に従い、支持体上に下地層、感光性レジスト層を積層した感光性レジスト材料を光透過性電極前駆体として用い、感光性レジスト層を任意のパターン状に露光後、現像し、レジスト画像を形成した後、無電解銀めっきを施してレジスト画像に被覆されていない下地層上に銀を局在化させ、その後レジスト画像を除去し網目状金属銀細線パターンを形成する方法、特開２０１５−８２１７８号公報に開示されている方法に従い、支持体上に銀膜、レジスト膜を設け、該レジスト膜を露光および現像して開口部を形成し、該開口部の銀膜をエッチングして除去して網目状金属銀細線パターンを形成する方法等が例示できる。
【００４４】
上記した方法の中でも、銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用いる方法が、網目状金属銀細線パターンを容易に形成できることから好ましく、金属銀細線の微細化が容易であることから銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用いた銀塩拡散転写法を用いる方法が特に好ましい。
【００４５】
網目状金属銀細線パターンを構成する金属銀細線の表面に対し、公知の金属表面処理を施してもよい。例えば特開２００８−３４３６６号公報に記載されているような還元性物質、水溶性リンオキソ酸化合物、水溶性ハロゲン化合物を作用させてもよく、特開２０１３−１９６７７９号公報に記載されているような分子内に２つ以上のメルカプト基を有するトリアジンもしくはその誘導体を作用させてもよく、特開２０１１−２０９６２６号公報に記載されているように硫化反応による黒化処理を施してもよい。また、銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用いて網目状金属銀細線パターンを形成する場合、網目状金属銀細線パターンと粘着剤層との接着性を改善する観点から、特開２００７−１２４０４号公報に記載されているように網目状金属銀細線パターンをタンパク質分解酵素等の酵素を含有する処理液で処理し、残存するゼラチン等を低減してもよい。
【００４６】
本発明の光透過性電極積層体をタッチパネルセンサーに利用する場合、網目状金属銀細線パターンは、互いに電気的に絶縁された複数のセンサーを有するセンサー部として有することが好ましい。網目状金属銀細線パターンは、複数の単位格子を網目状に配置した幾何学形状を有することがセンサーの感度、視認性（パターンの難視認性、以下、単に視認性と記載する。）に優れることから好ましい。単位格子の形状としては、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形等の四角形、六角形、八角形、十二角形、二十角形等のｎ角形、星形等を組み合わせた形状が挙げられ、またこれらの形状の単独の繰り返し、あるいは２種類以上の複数の形状の組み合わせが挙げられる。中でも単位格子の形状としては正方形もしくは菱形が好ましい。またボロノイ図形やドロネー図形、ペンローズタイル図形等に代表される不規則幾何学形状も好ましい網目状金属銀細線パターンの形状の一つである。
【００４７】
網目状金属銀細線パターンを構成する金属銀細線の線幅は２０μｍ以下であることが優れた視認性を確保するためには必要であり、好ましくは１２．５μｍ以下であり、特に好ましくは７．５μｍ以下である。金属銀細線の線幅が２０μｍを超える場合、視認性が不良となる。線幅が２０μｍ以下の金属銀細線は視認性に優れる反面、太陽光の照射に伴う抵抗値変動がとりわけ大きくなることから、このような場合において、本発明は特に有効に作用する。金属銀細線の線幅の下限は特に限定されないが、１μｍ以上であることが金属銀細線の導電性が優れることから好ましい。金属銀細線の線幅は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００４８】
単位格子の繰り返し間隔は５０〜６００μｍであることがセンサーの感度、視認性に優れることから好ましく、さらに好ましくは５０〜４００μｍである。網目状金属銀細線パターンの開口率は８５％以上であることが光透過性に優れるため好ましく、８８〜９９％がより好ましい。
【００４９】
網目状金属銀細線パターンを構成する金属銀細線の厚みは特に限定されないが、厚すぎると金属銀細線の視認性が悪化する場合があり、薄すぎると金属銀細線の導電性が不足する場合がある。よって、金属銀細線の厚みは０．０５〜５μｍが好ましく、より好ましくは０．０７〜３μｍであり、特に好ましくは０．１〜１μｍである。
【００５０】
本発明の光透過性電極積層体をタッチパネルセンサーに利用する場合、外部のコントローラー基板をフレキシブル配線板等を介して電気的に接続するための複数の端子を有する端子部や、複数のセンサーと端子とを電気的に接続するための複数の周辺配線を有する周辺配線部を有することが好ましい。端子部を構成する端子の幅や、周辺配線部を構成する周辺配線の線幅は特に限定されないが、導電性に優れることから１０〜１０００μｍであることが好ましく、より好ましくは１５〜７５０μｍであり、特に好ましくは２０〜５００μｍである。
【００５１】
＜機能材料＞
本発明の光透過性電極積層体が有する機能材料としては、前述した光透過性電極や、ガラスや樹脂フィルムからなる保護板、および上記ガラスや樹脂フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層、反射防止層、防眩層、ＩＴＯ等からなる導電性非金属層、遮光層、加飾層等の公知の機能層を有する材料が例示できる。
【実施例】
【００５２】
以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【００５３】
＜銀塩感光材料の作製＞
支持体として、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。該支持体の全光線透過率およびヘイズをスガ試験機（株）製ヘーズメーターＨＺ−Ｖ３で測定したところ、全光線透過率は９１．８％、ヘイズは０．６％であった。
【００５４】
次に下記組成の物理現像核層塗液を支持体上に塗布、乾燥して、硫化パラジウムを物理現像核として含有する物理現像核層を設けた。
【００５５】
＜硫化パラジウムゾルの調製＞
Ａ液    塩化パラジウム                                  ５ｇ
塩酸                                          ４０ｍＬ
蒸留水                                    １０００ｍＬ
Ｂ液    硫化ソーダ                                  ８．６ｇ
蒸留水                                    １０００ｍＬ
Ａ液とＢ液を撹拌しながら混合し、３０分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
【００５６】
＜物理現像核層塗液／１ｍ２あたり＞
前記硫化パラジウムゾル（固形分として）              ０．５ｍｇ
２質量％グリオキサール水溶液                        ０．２ｍＬ
界面活性剤（Ｓ−１）                                    ４ｍｇ
デナコール（登録商標）ＥＸ−８３０                    ２５ｍｇ
（ナガセケムテックス（株）製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル）
１０質量％エポミン（登録商標）ＳＰ−２００水溶液    ０．５ｇ
（（株）日本触媒製ポリエチレンイミン；数平均分子量１００００）
【００５７】
【化１】
2020021569.tif 000002
【００５８】
続いて、支持体に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、および保護層を上記物理現像核層の上に塗布、乾燥して、銀塩感光材料を得た。ハロゲン化銀乳剤層が含有するハロゲン化銀乳剤は、コントロールドダブルジェット法で製造した。このハロゲン化銀乳剤が含有するハロゲン化銀粒子は、塩化銀９５ｍｏｌ％と臭化銀５ｍｏｌ％で、平均粒径が０．１５μｍになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀粒子を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は、銀１ｇあたり０．５ｇのゼラチンを保護コロイド（バインダー）として含有する。
【００５９】
＜中間層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                            ０．５ｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                    ５ｍｇ
染料１                                                  ５ｍｇ
【００６０】
【化２】
2020021569.tif 000003
【００６１】
＜ハロゲン化銀乳剤層組成／１ｍ２あたり＞
ハロゲン化銀乳剤                                    ３．０ｇ銀相当
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール                ３ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                  ２０ｍｇ
【００６２】
＜保護層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                                １ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径３．５μｍ）            １０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                  １０ｍｇ
【００６３】
＜光透過性電極１の作製＞
上記した銀塩感光材料と、図１で示したポジ型透過原稿とを密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで４００ｎｍ以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。該ポジ型透過原稿は網目状パターン１１と塗りつぶしパターン１２、１２’から構成される試験パターン１３（１３ａ〜１３ｅの５本）を有する。試験パターン１３を構成する塗りつぶしパターン１２と１２’は、線幅５．０μｍ、一辺の長さが３００μｍで狭い方の角度が６０°の菱形の単位格子による網目状パターン１１を介して接続されている。なお図中、破線は後述する機能材料の貼合領域２０を表し、ポジ型透過原稿に破線は存在しない。その後、下記拡散転写現像液中に２０℃で６０秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を４０℃の温水で水洗除去し、乾燥処理した。このようにして網目状金属銀細線パターンを有する光透過性電極１を得た。デジタルマイクロスコープによる観察の結果、得られた光透過性電極１が有するパターンの形状、線幅等はポジ型透過原稿と同様であり、網目状金属銀細線パターンの線幅は５．０μｍであった。
【００６４】
＜拡散転写現像液組成＞
水酸化カリウム                                        ２５ｇ
ハイドロキノン                                        １８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン                          ２ｇ
亜硫酸カリウム                                        ８０ｇ
Ｎ−メチルエタノールアミン                            １５ｇ
臭化カリウム                                        １．２ｇ
全量を水で１０００ｍＬに、ｐＨ＝１２．２に調整した。
【００６５】
＜光透過性電極２の作製＞
ポジ型透過原稿が有する網目状パターン１１の線幅を１０μｍとした以外は光透過性電極１と同様にして、光透過性電極２を得た。デジタルマイクロスコープによる観察の結果、得られた光透過性電極２が有するパターンの形状、線幅等はポジ型透過原稿と同様であり、網目状金属銀細線パターンの線幅は１０μｍであった。
【００６６】
＜光透過性電極３の作製＞
ポジ型透過原稿が有する網目状パターン１１の線幅を１５μｍとした以外は光透過性電極１と同様にして、光透過性電極３を得た。デジタルマイクロスコープによる観察の結果、得られた光透過性電極３が有するパターンの形状、線幅等はポジ型透過原稿と同様であり、網目状金属銀細線パターンの線幅は１５μｍであった。
【００６７】
＜光透過性電極４の作製＞
ポジ型透過原稿が有する網目状パターン１１の線幅を２５μｍとした以外は光透過性電極１と同様にして、光透過性電極４を得た。デジタルマイクロスコープによる観察の結果、得られた光透過性電極４が有するパターンの形状、線幅等はポジ型透過原稿と同様であり、網目状金属銀細線パターンの線幅は２５μｍであった。
【００６８】
＜粘着剤層１の作製＞
アクリル酸−２−メトキシエチルを５３質量部、アクリル酸−２−エチルヘキシルを４２質量部、アクリル酸−４−ヒドロキシブチルを５質量部、重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１１７３）を０．２質量部、４つ口フラスコに投入し、窒素雰囲気下で紫外線に曝露して部分的に重合させた部分重合物を得た。
【００６９】
この部分重合物１００質量部（固形分換算）に、イソシアネート系架橋剤（東ソー（株）製、コロネートＬ）を０．１質量部（固形分換算）添加・混合し粘着剤層形成用塗液１とした。厚み７５μｍのシリコーン系剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルムの剥離加工面上に粘着剤層形成用塗液１を塗布し、別の厚み７５μｍのシリコーン系剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルムの剥離加工面で塗布物を挟んだ。次に、ブラックライトを用いて、強度５ｍＷ／ｃｍ２の紫外線をポリエチレンテレフタレートフィルム上から照射した。光量で４０００ｍＪ／ｃｍ２照射されるまで継続し、塗布物を重合・硬化させ、粘着剤層１を作製した。マイクロメーターで測定した結果、粘着剤層１の厚みは１００μｍであった。
【００７０】
＜粘着剤層２の作製＞
粘着剤層形成用塗液１に対し、ステアリン酸銅（II）を、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対する含有量が０．３０質量％になるように混合、溶解した以外は粘着剤層１と同様にして、粘着剤層２を得た。マイクロメーターで測定した結果、粘着剤層２の厚みは１００μｍであった。
【００７１】
＜粘着剤層３の作製＞
粘着剤層形成用塗液１に対し、塩化銅（II）を、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対する含有量が０．３０質量％になるように混合、溶解した以外は粘着剤層１と同様にして、粘着剤層３を得た。マイクロメーターで測定した結果、粘着剤層３の厚みは１００μｍであった。
【００７２】
＜粘着剤層４の作製＞
粘着剤層形成用塗液１に対し、アセチルアセトン銅（II）を、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対する含有量が０．３０質量％になるように混合、溶解した以外は粘着剤層１と同様にして、粘着剤層４を得た。マイクロメーターで測定した結果、粘着剤層４の厚みは１００μｍであった。
【００７３】
＜粘着剤層５の作製＞
粘着剤層形成用塗液１に対し、オレイン酸銅（II）を、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対する含有量が０．３０質量％になるように混合、溶解した以外は粘着剤層１と同様にして、粘着剤層５を得た。マイクロメーターで測定した結果、粘着剤層５の厚みは１００μｍであった。
【００７４】
＜粘着剤層６の作製＞
粘着剤層形成用塗液１に対し、ステアリン酸銅（II）を、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対する含有量が０．２０質量％になるように混合、溶解した以外は粘着剤層１と同様にして、粘着剤層６を得た。マイクロメーターで測定した結果、粘着剤層６の厚みは１００μｍであった。
【００７５】
＜粘着剤層７の作製＞
粘着剤層形成用塗液１に対し、ステアリン酸銅（II）を、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対する含有量が０．１０質量％になるように混合、溶解した以外は粘着剤層１と同様にして、粘着剤層７を得た。マイクロメーターで測定した結果、粘着剤層７の厚みは１００μｍであった。
【００７６】
＜粘着剤層８の作製＞
粘着剤層形成用塗液１に対し、ステアリン酸銅（II）を、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対する含有量が０．０４質量％になるように混合、溶解した以外は粘着剤層１と同様にして、粘着剤層８を得た。マイクロメーターで測定した結果、粘着剤層８の厚みは１００μｍであった。
【００７７】
＜粘着剤層９の作製＞
粘着剤層形成用塗液１に対し、アセチルアセトンコバルト（II）を、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対する含有量が０．３０質量％になるように混合、溶解した以外は粘着剤層１と同様にして、粘着剤層９を得た。マイクロメーターで測定した結果、粘着剤層９の厚みは１００μｍであった。
【００７８】
＜粘着剤層１０の作製＞
粘着剤層形成用塗液１に対し、アセチルアセトンマンガン（III）を、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対する含有量が０．３０質量％になるように混合、溶解した以外は粘着剤層１と同様にして、粘着剤層１０を得た。マイクロメーターで測定した結果、粘着剤層１０の厚みは１００μｍであった。
【００７９】
＜光透過性電極積層体１〜１６の作製＞
光透過性電極１〜４の機能材料の貼合領域２０に、粘着剤層１〜１０を表１に示した組み合わせで貼合し、さらに機能材料としてＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）（コーニングジャパン（株）製無アルカリガラス）を粘着剤層上に貼合して光透過性電極積層体１〜１６を作製した。
【００８０】
【表１】
2020021569.tif 000004
【００８１】
＜抵抗値変動率評価＞
光透過性電極積層体１〜１６の試験パターン１３ａ〜１３ｅの５本それぞれについて、塗りつぶしパターン１２と１２’の間の抵抗値を測定し、試験パターン１３ａ〜１３ｅの初期抵抗値Ｒａ〜Ｒｅ（単位：ｋΩ）をそれぞれ得た。次に、光透過性電極積層体に対して、スガ試験機（株）製キセノンウェザーメーターＮＸ２５を用いてキセノンランプ光（太陽光と類似した分光分布を有する光）を１０００時間照射した。条件はＪＩＳ  Ｋ７３５０−２に従い、放射照度６０Ｗ／ｍ２（波長３００ｎｍ〜４００ｎｍ）、槽内温度３８℃、槽内湿度５０％ＲＨ、ブラックパネル温度６３℃とした。照射終了後、試験パターン１３ａ〜１３ｅの５本それぞれについて抵抗値を再測定し、抵抗値Ｒ’ａ〜Ｒ’ｅ（単位：ｋΩ）を得た。そして以下の式に従い、個々の試験パターン（試験パターン１３ａ〜１３ｅ）のそれぞれについて、キセノンランプ光照射前後での抵抗値変動率（単位：％）を算出し、さらに試験パターン１３ａ〜１３ｅの抵抗値変動率を平均して光透過性電極積層体１〜１６の平均抵抗値変動率（単位：％）とした。この結果を表１に示す。
試験パターン１３ｘの抵抗値変動率（単位：％）＝｛（Ｒ’ｘ−Ｒｘ）／Ｒｘ｝×１００
式中ｘはａ〜ｅを表す。
【００８２】
＜網目状金属銀細線パターンの視認性評価＞
無光沢な黒色樹脂板を用意し、光透過性電極積層体１〜１６それぞれを、機能材料を上になるように無光沢な黒色樹脂板上に設置し、約５００ルクスの白色蛍光灯照明で照らした。この条件で光透過性電極積層体１〜１６を３０ｃｍの距離から目視で観察し、試験パターン１３ａ〜１３ｅが有する網目状金属銀細線パターンの視認性を評価した。以下の基準で評価した結果を表１に示す。
【００８３】
網目状金属銀細線パターンの視認性評価基準
「５」：観察者１０名全員が網目状金属銀細線パターンを視認できなかった場合
「４」：観察者１０名中、１〜２名が網目状金属銀細線パターンを視認した場合
「３」：観察者１０名中、３〜４名が網目状金属銀細線パターンを視認した場合
「２」：観察者１０名中、５〜６名が網目状金属銀細線パターンを視認した場合
「１」：観察者１０名中、７名以上が網目状金属銀細線パターンを視認した場合
【００８４】
表１の結果から本発明の有効性が判る。
【符号の説明】
【００８５】
１１            網目状パターン
１２、１２’    塗りつぶしパターン
１３ａ〜１３ｅ  試験パターン
２０            機能材料の貼合領域
【図１】
2020021569.tif 000005