(57)【要約】【課題】  本発明は位相差フィルム等に好適に用いることのできる光学フィルムの製造方法に関するものであり、さらに詳しくは、位相差特性、波長依存性、延伸加工性に優れる光学フィルムを製造する方法に関する。【解決手段】  一般式（１）で表される残基単位Ａ、一般式（２）で表される残基単位Ｂおよび一般式（３）で表される残基単位Ｃを含むことを特徴とする共重合体および正の固有複屈折を有する樹脂を含有する樹脂組成物を、溶剤に溶解した後、得られた樹脂溶液を基材にキャストし塗工膜を得る塗工工程、塗工工程で得られた塗工膜を２０℃以上７９℃以下で乾燥する第１の乾燥工程、８０℃以上２００℃以下で乾燥する第２の乾燥工程及び第２の乾燥工程で得られた塗工膜を延伸してフィルムを得る延伸工程を有する光学フィルムの製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表される残基単位Ａ、一般式（２）で表される残基単位Ｂおよび一般式（３）で表される残基単位Ｃを含む共重合体並びに正の固有複屈折を有する樹脂を含有する樹脂組成物を、溶剤に溶解した後、得られた樹脂溶液を基材にキャストし塗工膜を得る塗工工程、塗工工程で得られた塗工膜を２０℃以上７９℃以下で乾燥する第１の乾燥工程、８０℃以上２００℃以下で乾燥する第２の乾燥工程及び第２の乾燥工程で得られた塗工膜を延伸してフィルムを得る延伸工程を有する光学フィルムの製造方法。
【化１】
2020076009.tif 000010
（ここで、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して水素（ただし、Ｒ１、Ｒ２が共に水素である場合を除く。）、シアノ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ２）（Ｘ３））、またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ４）（ここで、Ｘ１〜Ｘ３はそれぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、Ｘ４は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群の１種を示す。）からなる群の１種を示す。Ｒ３〜Ｒ７はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基（−ＯＸ５）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ６）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ７）（Ｘ８））、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ９）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ１０）（Ｘ１１））、またはスルホン酸基（−ＳＯＯＸ１２）（ここで、Ｘ５〜Ｘ８は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、Ｘ９〜Ｘ１２はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基からなる群の１種を示す。）からなる群の１種を示し、少なくともＲ３〜Ｒ７の１以上がヒドロキシ基またはカルボキシ基を示す。また、Ｒ３〜Ｒ７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
【化２】
2020076009.tif 000011
（ここで、Ｒ８はヘテロ原子を１つ以上含むｍ員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない５員環残基もしくは６員環残基を示し（ただし、Ｒ８がヘテロ原子を含まない６員環残基のとき、一般式（１）におけるＲ３〜Ｒ７のいずれか１以上がヒドロキシ基を示す。）、ｍは５〜１０の整数を示す。前記ｍ員環複素環残基、前記５員環残基、および前記６員環残基は縮合環構造を形成してもよい。）
【化３】
2020076009.tif 000012
（ここで、Ｒ９、Ｒ１０はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基からなる群の１種を示す。）
【請求項２】
一般式（１）のＲ１およびＲ２がそれぞれ独立してシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基からなる群より選択されることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
一般式（１）で表される残基単位Ａおよび一般式（３）で表される残基単位Ｃを含み、さらに残基単位Ｂが、一般式（４）で表される残基単位であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
【化４】
2020076009.tif 000013
（ここで、Ｒ１１〜Ｒ１８はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基（−ＯＸ１３）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１４または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ１５）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ１６）（Ｘ１７）または−ＮＸ１８Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１９）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ２０）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ２１）（Ｘ２２））（ここで、Ｘ１３〜Ｘ１５は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ１６〜Ｘ２２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群の１種を示す。）からなる群の１種を示す。また、Ｒ１１〜Ｒ１８は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、Ｒ１１とＲ１７およびＲ１２とＲ１８は同一原子であって環構造を形成していてもよい。）
【請求項４】
共重合体の組成が、一般式（１）で表される残基単位Ａと一般式（２）で表される残基単位Ｂのモル比Ａ／Ｂが０．０５〜６の範囲であり、一般式（１）で表される残基単位Ａと一般式（３）で表される残基単位Ｃのモル比Ａ／Ｃが０．０２〜５０の範囲であることを特徴とする請求項１乃至３いずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
正の固有複屈折を有する樹脂が下記一般式（５）で示されるセルロース系樹脂である請求項１乃至４いずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【化５】
2020076009.tif 000014
（式中、Ｒ１９〜Ｒ２１はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ２３）（ここで、Ｘ２３は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群の１種を示す。）からなる群の１種を示す。）
【請求項６】
樹脂組成物における共重合体と正の固有複屈折を有する樹脂の組成の割合が、共重合体１重量％以上７０重量％以下、正の固有複屈折を有する樹脂３０重量％以上９９重量％以下であることを特徴とする請求項１乃至５いずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
延伸工程において、第２の乾燥工程で得られた塗工膜を縦一軸延伸法、横一軸延伸法、斜め延伸法、またはこれらの組み合わせによるアンバランス二軸延伸からなる群の少なくとも１種の方法で延伸することを特徴とする請求項１乃至６いずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項８】
下記式（Ａ）で示される面内位相差（Ｒｅ）が５０〜５００ｎｍで、下記式（Ｂ）で示されるＮｚ係数が、０≦Ｎｚ≦２．０であり、かつ、光の波長４５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）と光の波長５５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．１０であることを特徴とする請求項１乃至７いずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
Ｒｅ＝（ｎｙ−ｎｘ）×ｄ                          （Ａ）
Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）              （Ｂ）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は位相差フィルム等に好適に用いることのできる光学フィルムの製造方法に関するものであり、さらに詳しくは、位相差特性、波長依存性、加熱時の位相差安定性に優れる光学フィルムを製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、スマートフォン、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。
【０００３】
液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償等大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は以下に示すように定義される。
【０００４】
延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした屈折率楕円体で表すことができる。
【０００５】
つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく（進相軸：延伸方向）、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい（進相軸：延伸方向と垂直方向）。
【０００６】
多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。
【０００７】
負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えばスーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ（ＳＴＮ−ＬＣＤ）や垂直配向型液晶ディスプレイ（ＶＡ−ＬＣＤ）、面内配向型液晶ディスプレイ（ＩＰＳ−ＬＣＤ）、反射型液晶ディスプレイ（反射型ＬＣＤ）等のディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。
【０００８】
正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法（例えば、特許文献１〜３参照）である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている（例えば、特許文献４参照）。
【０００９】
それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献５参照）。
【００１０】
しかし、特許文献１〜４において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性等の制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。
【００１１】
特許文献５で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。
【００１２】
また、フマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなるフィルムが提案されている（例えば、特許文献６〜１２参照）。
【００１３】
特許文献６〜１２で提案されたフマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなるフィルムは高い位相差を有しているものの、現状においては、より薄膜においても高い位相差を有するフィルムが求められている。
【００１４】
さらには、正の複屈折材料と負の複屈折材料の複合化による単膜型光学補償フィルム材料が提案されており（例えば、特許文献１３及び１４参照）、より高性能な光学特性を達成するために複合化可能な負の複屈折を示す高分子材料が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】特許２８１８９８３号公報
【特許文献２】特開平５−２９７２２３号公報
【特許文献３】特開平５−３２３１２０号公報
【特許文献４】特開平６−８８９０９号公報
【特許文献５】特開２００５−１５６８６２号公報
【特許文献６】特開２００８−１１２１４１号公報
【特許文献７】特開２０１２−０３２７８４号公報
【特許文献８】ＷＯ２０１２／００５１２０号公報
【特許文献９】特開２００８−１２９４６５号公報
【特許文献１０】特開２００６−１９３６１６号公報
【特許文献１１】ＷＯ２０１４／０１３９８２号公報
【特許文献１２】ＷＯ２０１４／０８４１７８号公報
【特許文献１３】ＷＯ２０１４／１９６５５２号公報
【特許文献１４】ＷＯ２０１６／０６０１１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、位相差特性、波長依存性、延伸加工性に優れた光学補償フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の共重合体を含む樹脂組成物を特定の条件で製膜、延伸加工する製造方法が上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１８】
すなわち、本発明は、一般式（１）で表される残基単位Ａ、一般式（２）で表される残基単位Ｂ及び一般式（３）で表される残基単位Ｃを含む共重合体並びに正の固有複屈折を有する樹脂を含有する樹脂組成物を、溶剤に溶解した後、得られた樹脂溶液を基材にキャストし塗工膜を得る塗工工程、塗工工程で得られた塗工膜を２０℃以上７９℃以下で乾燥する第１の乾燥工程、第１の乾燥工程で得られた塗工膜を８０℃以上２００℃以下で乾燥する第２の乾燥工程及び第２の乾燥工程で得られた塗工膜を延伸してフィルムを得る延伸工程を有する光学フィルムの製造方法に関するものである。
【００１９】
【化１】
2020076009.tif 000002
【００２０】
（ここで、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して水素（ただし、Ｒ１、Ｒ２が共に水素である場合を除く。）、シアノ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ２）（Ｘ３））、またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ４）（ここで、Ｘ１〜Ｘ３はそれぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、Ｘ４は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群の１種を示す。）からなる群の１種を示す。Ｒ３〜Ｒ７はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基（−ＯＸ５）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ６）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ７）（Ｘ８））、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ９）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ１０）（Ｘ１１））、またはスルホン酸基（−ＳＯＯＸ１２）（ここで、Ｘ５〜Ｘ８は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、Ｘ９〜Ｘ１２はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基からなる群の１種を示す。）からなる群の１種を示し、少なくともＲ３〜Ｒ７の１以上がヒドロキシ基またはカルボキシ基のいずれかを示す。また、Ｒ３〜Ｒ７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
【００２１】
【化２】
2020076009.tif 000003
【００２２】
（ここで、Ｒ８はヘテロ原子を１つ以上含むｍ員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない５員環残基もしくは６員環残基を示し（ただし、Ｒ８がヘテロ原子を含まない６員環残基のとき、一般式（１）におけるＲ３〜Ｒ７のいずれか１以上がヒドロキシ基を示す。）、ｍは５〜１０の整数を示す。前記ｍ員環複素環残基、前記５員環残基、および前記６員環残基は縮合環構造を形成してもよい。）
【００２３】
【化３】
2020076009.tif 000004
【００２４】
（ここで、Ｒ９、Ｒ１０はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基からなる群の１種を示す。）
【００２５】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００２６】
一般式（１）で表される残基単位Ａ、一般式（２）で表される残基単位Ｂ及び一般式（３）で表される残基単位Ｃを含む共重合体並びに正の固有複屈折を有する樹脂を含有する樹脂組成物を、溶剤に溶解した後、得られた樹脂溶液を基材にキャストし塗工膜を得る塗工工程、塗工工程で得られた塗工膜を２０℃以上７９℃以下で乾燥する第１の乾燥工程、第１の乾燥工程で得られた塗工膜を８０℃以上２００℃以下で乾燥する第２の乾燥工程及び第２の乾燥工程で得られた塗工膜を延伸してフィルムを得る延伸工程を有する光学フィルムの製造方法である。
【００２７】
【化４】
2020076009.tif 000005
【００２８】
（ここで、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して水素（ただし、Ｒ１、Ｒ２が共に水素である場合を除く。）、シアノ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ２）（Ｘ３））、またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ４）（ここで、Ｘ１〜Ｘ３はそれぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、Ｘ４は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群の１種を示す。）からなる群の１種を示す。Ｒ３〜Ｒ７はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基（−ＯＸ５）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ６）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ７）（Ｘ８））、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ９）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ１０）（Ｘ１１））、またはスルホン酸基（−ＳＯＯＸ１２）（ここで、Ｘ５〜Ｘ８は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、Ｘ９〜Ｘ１２はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基からなる群の１種を示す。）からなる群の１種を示し、少なくともＲ３〜Ｒ７の１以上がヒドロキシ基またはカルボキシ基のいずれかを示す。また、Ｒ３〜Ｒ７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
【００２９】
【化５】
2020076009.tif 000006
【００３０】
（ここで、Ｒ８はヘテロ原子を１つ以上含むｍ員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない５員環残基もしくは６員環残基を示し（ただし、Ｒ８がヘテロ原子を含まない６員環残基のとき、一般式（１）におけるＲ３〜Ｒ７のいずれか１以上がヒドロキシ基を示す。）、ｍは５〜１０の整数を示す。前記ｍ員環複素環残基、前記５員環残基、および前記６員環残基は縮合環構造を形成してもよい。）
【００３１】
【化６】
2020076009.tif 000007
【００３２】
（ここで、Ｒ９、Ｒ１０はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基からなる群の１種を示す。）。
【００３３】
本発明の塗工工程において使用する原料は、一般式（１）で表される残基単位Ａ、一般式（２）で表される残基単位Ｂ及び一般式（３）で表される残基単位Ｃを含む共重合体並びに正の固有複屈折を有する樹脂を含有する樹脂組成物を有する。このような組成物を原料として得られたフィルムは高い位相差を発現する。
【００３４】
本発明の原料に用いる組成物は、一般式（１）で表される残基単位Ａ、一般式（２）で表される残基単位Ｂ及び一般式（３）で表される残基単位Ｃを含む共重合体を含む。当該共重合体は負の固有複屈折を有することが好ましい。
【００３５】
一般式（１）〜（３）についてより詳細に説明する。
【００３６】
本発明の一般式（１）におけるＲ１及びＲ２に関して、Ｘ１〜Ｘ４における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、Ｘ１〜Ｘ３における炭素数３〜６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、Ｘ４における炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。  本発明の一般式（１）におけるＲ１およびＲ２がそれぞれ独立してシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基からなる群の一つであることが好ましい。
【００３７】
本発明の一般式（１）におけるＲ１としては、より高い位相差を発現することから、シアノ基；メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基等のエステル基；ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジｎ−プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基等のアミド基；アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基からなる群の一種であることが好ましく、シアノ基、メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジｎ−プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ベンゾイル基からなる群の１種であることがさらに好ましく、シアノ基、メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基からなる群の１種であることが特に好ましい。
【００３８】
本発明の一般式（１）におけるＲ２としては、より高い位相差を発現することから、水素；シアノ基；メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基等のエステル基からなる群の１種であることが好ましく、水素、シアノ基、メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、イソブチルエステル基からなる群の１種であることがさらに好ましく、シアノ基、イソブチルエステル基のいずれかであることが特に好ましい。
【００３９】
本発明の一般式（１）におけるＲ３〜Ｒ７はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状アルキル基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基（−ＯＸ５）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ６）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ７）（Ｘ８））、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ９）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ１０）（Ｘ１１））、またはスルホニル基（−ＳＯＯＸ１２）（ここで、Ｘ５〜Ｘ８は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基からなる群の１種を示し、Ｘ９〜Ｘ１２はそれぞれ独立して、水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示す。）からなる群の１種を示し、少なくともＲ３〜Ｒ７の１以上がヒドロキシ基またはカルボキシ基からなる群の１種を示す。また、Ｒ３〜Ｒ７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。
【００４０】
Ｒ３〜Ｒ７における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数３〜１４の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００４１】
Ｒ３〜Ｒ７におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられる。
【００４２】
Ｘ５〜Ｘ１２における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数３〜６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００４３】
本発明では、少なくともＲ３〜Ｒ７の１以上がヒドロキシ基またはカルボキシ基を示すことで、異種ポリマーとの複合化が容易なものとなる。
【００４４】
本発明の一般式（１）におけるＲ３〜Ｒ７としては、より高い位相差を発現することから、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ―プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジｎ−プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、スルホン酸基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基からなる群の１種が好ましい。
【００４５】
具体的な一般式（１）で表される残基単位Ａとしては、例えば、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシ−ケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２，３−ジヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−３，４−ジヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２，３−ジカルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−３，４−ジカルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシ−３−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシ−２−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシ−３−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシ−２−ヒドロキシケ
イ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２，３−ジヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３，４−ジヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２，３−ジカルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３，４−ジカルボキシケイ皮酸エチル残基単位、３−ヒドロキシ−α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシ−２−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシ−３−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシ−２−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−２，３−ジヒドロキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−３，４−ジヒドロキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−２，３−ジカルボキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−３，４−ジカルボキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−２，３−ジヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−３，４−ジヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−２，３−ジカルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−３，４−ジカルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α���シアノ−４−カルボキシ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソプロ
ピル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−２，３−ジヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−３，４−ジヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−２，３−ジカルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−３，４−ジカルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、３−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、４−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、３，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２−カルボキシ−３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３−カルボキシ−２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３−カルボキシ−４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、４−カルボキシ−３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２−カルボキシ−４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、４−カルボキシ−２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、３−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、４−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、２−カルボキシシンナモニトリル残基単位、３−カルボキシシンナモニトリル残基単位、４−カルボキシシンナモニトリル残基単位、２−ヒドロキシカルコン残基単位、３−ヒドロキシカルコン残基単位、４−ヒドロキシカルコン残基単位、２−カルボキシカルコン残基単位、３−カルボキシカルコン残基単位、４−カルボキシカルコン残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエ���ル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｎ−プロピル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｎ−プロピル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｎ−プロピル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｎ−プロピル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｎ−プロピル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｎ−プロピル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ
，Ｎ−ジエチル−３−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−２−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−３−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−４−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−２−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−３−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−４−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−２−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−３−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−４−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−２−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−３−カルボキシシンナムアミド残基単位、
Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−４−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−２−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−３−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−４−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−２−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−３−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−４−カルボキシシンナムアミド残基単位等からなる群の少なくとも１種が挙げられる。本発明において、一般式（１）で表される残基単位Ａは１種含まれていても良いし、複数種含まれていても良い。
【００４６】
これらの中でも高い位相差及び異種ポリマーとの高い相溶性を発現することから、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２，４−ジヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位等のα−シアノ−ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位；α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２，３−ジカルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２，３−ジカルボキシケイ皮酸エチル残基単位等のα−シアノ−カルボキシケイ皮酸エステル残基単位；α−シアノ−２−カルボキシ−３−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシ−３−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位等のα−シアノ−カルボキシ−ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位；４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３−ジヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位等のヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位；４−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３−ジカ
ルボキシベンザルマロノニトリル残基単位等のカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位；２−カルボキシ−３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位等のカルボキシ−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位；ヒドロキシシンナモニトリル残基単位；カルボキシシンナモニトリル残基単位；ヒドロキシカルコン残基単位；カルボキシカルコン残基単位；ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｎ−プロピル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位等のヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位；カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジｎ−プロピル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位等のカルボキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位；Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−ヒドロキシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−４−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−４−ヒドロキシシンナムアミド残基単位等のＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシシンナムアミド残基単位；Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−カルボキシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジｎ−プロピル−４−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−４−カルボキシシンナムアミド残基単位等のＮ，Ｎ−ジアルキルカルボキシキシシンナムアミド残基単位からなる群の少なくとも１種が好ましく、α−シアノ−ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位；ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、α−シアノ−カルボキシケイ皮酸エステル残基単位；カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位、カルボキシベンジリデンマロン酸ジエステル残基単位からなる群の少なくとも１種がさらに好ましい。
【００４７】
本発明の一般式（２）におけるＲ８はヘテロ原子を１つ以上含むｍ員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない５員環残基もしくは６員環残基を示し（ただし、Ｒ８がヘテロ原子を含まない６員環残基のとき、一般式（１）におけるＲ３〜Ｒ７のいずれか１以上がヒドロキシ基を示す。）、ｍは５〜１０の整数を示す。前記ｍ員環複素環残基、前記５員環残基、および前記６員環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい。
【００４８】
本発明の一般式（２）におけるＲ８は、より高い位相差が発現することから、ヘテロ原子を１つ以上含む５員環複素環残基または６員環複素環残基であることが好ましく、窒素原子または酸素原子を１つ以上含む５員環複素環残基または６員環複素環残基であることがさらに好ましい。ここで、本発明の一般式（２）におけるＲ８が前記ｍ員環複素環残基であるときのヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等が挙げられるものである。また、Ｒ８がヘテロ原子を含まない６員環残基である場合、一般式（１）におけるＲ３〜Ｒ７のいずれか１以上がヒドロキシ基である共重合体は、本発明に係る効果を奏し、本発明に含まれるものである。
【００４９】
具体的な一般式（２）で表される残基単位Ｂとしては、例えば、１−ビニルピロール残基単位、２−ビニルピロール残基単位、１−ビニルインドール残基単位、９−ビニルカルバゾール残基単位、２−ビニルキノリン残基単位、４−ビニルキノリン残基単位、１−ビニルイソキノリン残基単位、２−ビニルピリジン残基単位、３−ビニルピリジン残基単位、４−ビニルピリジン残基単位、１−ビニルイミダゾール残基単位、２−ビニルイミダゾール残基単位、４−ビニルイミダゾール残基単位、５−ビニル−２−ピラゾリン残基単位、２−ビニルピラジン残基単位、ビニル−ｓ−トリアジン残基単位、１０−ビニル−９−ヒドロアクリジン残基単位、１−ビニルテトラゾール残基単位、５−ビニルテトラゾール残基単位、Ｎ−ビニルピロリドン残基単位、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム残基単位、Ｎ−ビニルスクシンイミド残基単位、Ｎ−ビニルフタルイミド残基単位、Ｎ−ビニルサッカリン残基単位、２−ビニルフラン残基単位、３−ビニルフラン残基単位、２−ビニルベンゾフラン残基単位、２−ビニルチオフェン残基単位、３−ビニルチオフェン残基単位、２−ビニルベンゾチオフェン残基単位、２−ビニルベンゾオキサゾール残基単位、Ｎ−ビ
ニルオキサゾリドン残基単位、２−ビニルチアゾール残基単位、２−ビニルベンゾチアゾール残基単位、スチレン残基単位、２−ビニルナフタレン残基単位等およびその置換基付加物等からなる群の少なくとも１種が挙げられる。本発明において、一般式（２）で表される残基単位Ｂは１種含まれていても良いし、複数種含まれていても良い。
【００５０】
これらの中でも、高い位相差を発現することから、１−ビニルピロール残基単位、２−ビニルピロール残基単位、１−ビニルインドール残基単位、９−ビニルカルバゾール残基単位、２−ビニルキノリン残基単位、４−ビニルキノリン残基単位、Ｎ−ビニルフタルイミド残基単位、Ｎ−ビニルスクシンイミド残基単位、２−ビニルフラン残基単位、２−ビニルベンゾフラン残基単位、スチレン残基単位、２−ビニルナフタレン残基単位からなる群の少なくとも１種が好ましく、９−ビニルカルバゾール残基単位、Ｎ−ビニルフタルイミド残基単位の少なくともいずれかがさらに好ましい。
【００５１】
本発明の一般式（３）におけるＲ９、Ｒ１０はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基からなる群の１種を示す。
【００５２】
Ｒ９、Ｒ１０における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数３〜６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００５３】
本発明の一般式（３）におけるＲ９、Ｒ１０としては、光の波長４５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）と光の波長５５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が良好となることから、水素、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、３−ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソへキシル基、ネオへキシル基からなる群の１種が好ましく、水素、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基からなる群の１種がさらに好ましい。
【００５４】
具体的な一般式（３）で表される残基単位Ｃとしては、例えば、アクリル酸残基単位、メタクリル酸残基単位、２−エチルアクリル酸残基単位、２−プロピルアクリル酸残基単位、２−イソプロピルアクリル酸残基単位、２−ペンチルアクリル酸残基単位、２−ヘキシルアクリル酸残基単位、アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸プロピル残基単位、アクリル酸イソプロピル残基単位、アクリル酸ブチル残基単位、アクリル酸イソブチル残基単位、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、アクリル酸ペンチル残基単位、アクリル酸イソペンチル残基単位、アクリル酸ｓｅｃ−ペンチル残基単位、アクリル酸３−ペンチル残基単位、アクリル酸ネオペンチル残基単位、アクリル酸へキシル残基単位、アクリル酸イソへキシル残基単位、アクリル酸ネオへキシル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、メタクリル酸ペンチル残基単位、メタクリル酸イソペンチル残基単位、メタクリル酸ｓｅｃ−ペンチル残基単位、メタクリル酸３−ペンチル残基単位、メタクリル酸ネオペンチル残基単位、メタクリル酸へキシル残基単位、メタクリル酸イソへキシル残基単位、メタクリル酸ネオへキシル残基単位、２−エチルアクリル酸メチル残基単位、２−エチルアクリル酸エチル残基単位、２−エチルアクリル酸プロピル残基単位、２−エチルアクリル酸イソプロピル残基単位、２−エチルアクリル酸ブチル残基単位、２−エチルアクリル酸イソブチル残基単位、２−エチルアクリル酸ｓｅｃ−ブチル残基単位等からなる群の少なくとも１種が挙げられる。
【００５５】
このなかでも、光の波長４５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）と光の波長５５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が良好となることから、アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸プロピル残基単位、アクリル酸イソプロピル残基単位、アクリル酸ブチル残基単位、アクリル酸イソブチル残基単位、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル残基単位が好ましく、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル残基単位からなる群の少なくとも１種がさらに好ましい。
【００５６】
本発明の共重合体は、一般式（１）で表される残基単位Ａ、一般式（２）で表される残基単位Ｂおよび一般式（３）で表される残基単位Ｃを含む限り特に制限はないが、良好な相溶性を発現し、異種ポリマーとの複合化を容易にするのにより好適なものとなることから、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−スチレン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン−アクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン−アクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン−アクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール−アクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾール−アクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド−アクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド−アクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン−アクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−スチレン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン−アクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン−アクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン−アクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール−アクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾ���ル−アクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド−アクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド−アクリル酸エステル共重合体、３
−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン−アクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン−アクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン−アクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン−アクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン−アクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン−アクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール−アクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾール−アクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド−アクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド−アクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン−アクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン−アクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ
−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン−メタクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン−メタクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール−メタクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾール−メタクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド−メタクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド−メタクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン−メタクリル酸エステル共重合体、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン−メタクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン−メタクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール−メタクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾール−メタクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド−メタクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド−メタクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン−メタクリル酸エステル共重合体、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン−メタクリル酸エステル���重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒ
ドロキシケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン−メタクリル酸エステル共重合体、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン−メタクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン−メタクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール−メタクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾール−メタクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド−メタクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド−メタクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン
−メタクリル酸エステル共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン−メタクリル酸エステル共重合体からなる群の少なくとも１種が好ましい。
【００５７】
また、本発明の共重合体としては、良好な光学特性を発現するため、一般式（１）で表される残基単位Ａおよび一般式（３）で表される残基単位Ｃを含み、さらに残基単位Ｂが、一般式（４）で表される残基単位を含むことが好ましい。
【００５８】
【化７】
2020076009.tif 000008
【００５９】
（ここで、Ｒ１１〜Ｒ１８はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基（−ＯＸ１３）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１４または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ１５）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ１６）（Ｘ１７）または−ＮＸ１８Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１９）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ２０）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ２１）（Ｘ２２））（ここで、Ｘ１３〜Ｘ１５は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ１６〜Ｘ２２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群の１種を示す。）からなる群の１種を示す。また、Ｒ１１〜Ｒ１８は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、Ｒ１１とＲ１７およびＲ１２とＲ１８は同一原子で環構造を形成していてもよい。）
【００６０】
本発明における一般式（４）におけるＲ１１〜Ｒ１８はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基（−ＯＸ１３）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１４または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ１５）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ１６）（Ｘ１７）または−ＮＸ１８Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１９）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ２０）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ２１）（Ｘ２２））（ここで、Ｘ１３〜Ｘ１５は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群の１種を示し、Ｘ１６〜Ｘ２２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群の１種を示す。）からなる群の１種を示す。また、Ｒ１１〜Ｒ１８は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、Ｒ１１とＲ１７およびＲ１２とＲ１８は同一原子であって環構造を形成していてもよい。
【００６１】
Ｒ１１〜Ｒ１８におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜１２の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数３〜１４の環状基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
【００６２】
Ｘ１３〜Ｘ２２における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００６３】
そして、具体的な一般式（４）で表される残基単位としては、例えば、Ｎ−ビニルインドール残基単位、Ｎ−メチル−３−ビニルインドール残基単位等のインドール類残基単位；９−ビニルカルバゾール残基単位、３−メチル−Ｎ−ビニルカルバゾール、３−クロロ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の９−ビニルカルバゾール類残基単位等からなる群の少なくとも１種を例示することができる。この中でも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、９−ビニルカルバゾール類残基単位が好ましく、９−ビニルカルバゾール残基単位がさらに好ましい。
【００６４】
本発明の共重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、α−メチルスチレン残基単位、ｔｒａｎｓ−スチルベン等のスチレン類残基単位；酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位；アクリロニトリル残基単位；メタクリロニトリル残基単位；メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位；フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸エステル残基単位；Ｎ−メチルマレイミド残基単位、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−フェニルマレイミド残基単位等のＮ−置換マレイミド類残基単位；エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位等より選ばれる１種または２種以上を挙げることができる。
【００６５】
本発明の共重合体の組成は、位相差フィルムとしたときの位相差特性が優れたものとなることから、一般式（１）で表される残基単位Ａと一般式（２）で表される残基単位Ｂとのモル比Ａ／Ｂが０．０５〜６であることが好ましく、０．１〜３であることがさらに好ましく、０．１８〜２であることが特に好ましく、０．２５〜１であることが最も好ましい。
【００６６】
本発明の共重合体の組成は、光の波長４５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）と光の波長５５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が良好となることから、一般式（１）で表される残基単位Ａと一般式（３）で表される残基単位Ｃとのモル比Ａ／Ｃが０．０２〜５０であることが好ましく、０．１〜２５であることがさらに好ましく、０．２５〜２０であることが特に好ましく、０．５〜１５であることが最も好ましい。
【００６７】
本発明の共重合体のうち、残基単位Ｂが一般式（４）で表される残基単位以外の残基単位Ｂである共重合体については、機械特性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が３，０００〜５００，０００であることが好ましく、５，０００〜４００，０００であることがさらに好ましく、１０，０００〜３００，０００であることが特に好ましい。本発明の共重合体のうち、残基単位Ｂが一般式（４）で表される残基単位である共重合体については、機械特性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準プルラン換算の数平均分子量が３，０００〜５００，０００であることが好ましく、５，０００〜４００，０００であることがさらに好ましく、１０，０００〜３００，０００であることが特に好ましい。
【００６８】
本発明の共重合体のガラス転移温度は、位相差フィルムとしたときの位相差特性が優れたものとなることから、１５０℃以上であることが好ましく、１７０℃以上であることがさらに好ましく、１８０℃以上であることが特に好ましい。
【００６９】
本発明の共重合体の具体的な製造方法としては、一般式（１）で表される残基単位Ａ、一般式（２）で表される残基単位Ｂおよび一般式（３）で表される残基単位Ｃを含む共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えば、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。
【００７０】
前記ラジカル重合としては公知の重合方法を採用でき、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。
【００７１】
ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等のアゾ系開始剤等が挙げられる。
【００７２】
そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法を採用する場合において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン；アセトン；メチルエチルケトン；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド；酢酸イソプロピル；水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。
【００７３】
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には３０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。
【００７４】
本発明の樹脂組成物は、本発明の共重合体と正の固有複屈折を有する樹脂とをブレンドすることによって得られるものであり、該正の固有複屈折を有する樹脂としては、該樹脂を用いて位相差特性に優れる光学フィルムが得られる限り特に制限はなく、例えば、セルロース系樹脂、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリウレタン等が挙げられ、より位相差特性に優れる光学フィルムが得られることから、セルロース系樹脂が好ましい。
【００７５】
セルロース系樹脂としては、光学フィルムとした際に透明性および位相差特性に優れ、かつ延伸加工性に優れるものとなることから、下記一般式（５）で示されるセルロース系樹脂であることが好ましい。
【００７６】
【化８】
2020076009.tif 000009
【００７７】
（式中、Ｒ１９〜Ｒ２１はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ２３）（ここで、Ｘ２３は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群の１種を示す。）からなる群の１種を示す。）
【００７８】
本発明の樹脂組成物が含有するセルロース樹脂としては、例えば、アルキルセルロース（メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース等）、ヒドロキシアルキルセルロース（ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等）、アラルキルセルロース（ベンジルセルロース、トリチルセルロース等）、シアノアルキルセルロース（シアンエチルセルロース等）、カルボキシアルキルセルロース（カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース等）、カルボキシアルキルアルキルセルロース（カルボキシメチルメチルセルロース、カルボキシメチルエチルセルロース等）、アミノアルキルセルロース（アミノエチルセルロース等）、セルロースエステル（トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等）等からなる群の少なくとも１種が挙げられ、位相差特性および透明性により優れた光学フィルムが得られることから、エチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートからなる群の少なくとも１種が好ましい。
【００７９】
セルロースの水酸基の酸素原子を介して置換している置換度は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロースが置換されている割合（１００％の置換は置換度３）を意味し、置換度、有機溶剤への溶解性、異種ポリマーとの相溶性、延伸加工性が良好なことから、好ましくは１．５〜３．０であり、さらに好ましくは１．８〜２．８である。
【００８０】
本発明のセルロース系樹脂は、機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１，０００〜１，０００，０００であることが好ましく、５，０００〜２００，０００であることがさらに好ましい。
【００８１】
本発明の樹脂組成物における本発明の共重合体と正の固有複屈折を有する樹脂の組成の割合は、光学フィルムとする際の位相差の制御に好適なため、本発明の共重合体１重量％以上７０重量％以下かつ正の固有複屈折を有する樹脂３０重量％以上９９重量％以下であることが好ましい。
【００８２】
さらに好ましくは本発明の共重合体１０重量％以上６５重量％以下かつ正の固有複屈折を有する樹脂３５重量％以上９０重量％以下であり、特に好ましくは本発明の共重合体１８重量％以上６０重量％以下かつ正の固有複屈折を有する樹脂４０重量％以上８２重量％以下である。
【００８３】
本発明の樹脂組成物は、前述の共重合体と前述の正の固有複屈折を有する樹脂をブレンドすることにより得ることができる。
【００８４】
ブレンドの方法としては、溶液ブレンド法を用いることができる。溶液ブレンド法とは樹脂等を溶剤に溶解しブレンドする方法である。溶液ブレンドに用いる溶剤としては、共重合体および正の固有複屈折を有する樹脂を溶解できる溶剤であればいかなる溶剤であっても構わないが、乾燥工程において、残溶剤が残りにくい様、溶剤の沸点は２００℃以下が好ましく、１７０℃以下がより好ましい。
【００８５】
該溶剤としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；フェノール、バラクロロフエノールなどのフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、メシチレン、１，２−ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどのケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒；二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブからなる群の少なくとも１種をあげることができ、それらを単独または混合した溶媒が挙げられる。
【００８６】
本発明の樹脂組成物を用いたフィルムを製造する際の樹脂組成物の溶液（以下、「樹脂溶液」という）は、共重合体および正の固有複屈折を有する樹脂を溶剤に溶解し調製することができる。
【００８７】
樹脂溶液の粘度は、重合体の分子量、重合体の濃度、溶剤の種類で調整可能である。樹脂溶液の粘度としては特に制限はないが、フィルム塗工性をより容易にするため、好ましくは５０〜３００００ｃｐｓ、さらに好ましくは１００〜２００００ｃｐｓ、特に好ましくは３００〜１００００ｃｐｓである。
【００８８】
該樹脂溶液は、粘度の点より、溶媒１００重量部に対して、上記共重合体および正の固有複屈折を有する樹脂の合計が５重量部以上６０重量部以下であることが好ましく、１０重量部以上５０重量部以下であることがさらに好ましい。
【００８９】
樹脂等を溶剤に溶解したのちブレンドすることも可能であり、各樹脂の粉体、ペレット等を混練後、溶剤に溶解させることも可能である。得られたブレンド樹脂溶液を貧溶剤に投入し、樹脂組成物を析出させることも可能であり、またブレンド樹脂溶液のまま光学フィルムの製造に用いることも可能である。
【００９０】
塗工工程においては、溶液キャスト法を用いて塗工することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液（一般にはド−プと称する。）を支持基材上に流延し塗工した後、加熱することにより溶媒を蒸発させてフィルムを得る方法である。塗工方法は特に制限されず、通常の方法を採用できる。例えば、Ｔダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、スロットダイ法、リップコーター法、リバースグラビアコート法、マイクログラビア法、スピンコート法、刷毛塗り法、ロールコート法、フレキソ印刷法などがあげられる。また、用いられる支持基材としては、特に制限はないが、例えばポリエステルやポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレンやポリプロピレン、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロースやポリビニルアルコール、ポリイミドやポリアリレート、ポリスルホンやポリエーテルスルホン、エポキシ系樹脂等からなる高分子基材、ガラス板や石英基板などのガラス基材、アルミやステンレスやフェロタイプ等の金属基材、セラミックス基板などの無機基材等が挙げられる。上記基材として好ましくは、高分子基材または金属基材である。
【００９１】
乾燥工程における乾燥方法は特に制限されず、通常の加熱手段を採用できる。例えば、熱風器、加熱ロール、遠赤外線ヒーター等により塗工膜を処理する方法があげられる。
【００９２】
本発明の製造方法では、第１の低温乾燥工程と第２の高温乾燥工程の２段階以上の乾燥工程を有し、３段階以上の乾燥工程が好ましい。第１の低温乾燥工程を２段階以上に分けてもよく、第２の高温乾燥工程を２段階以上に分けてもよい。
【００９３】
具体的には第１の乾燥工程における乾燥温度は２０℃以上７９℃℃以下であり、３０℃以上７９℃以下が好ましく、４０℃以上７９℃以下がさらに好ましい。第１の乾燥工程における温度が２０℃以上未満であると溶剤の揮発が速くなり、生産性に優れる。一報、７９℃以下である場合、外観悪化を抑止でき、位相差の制御が容易となる。
【００９４】
また第１の乾燥工程により得られた塗工膜における溶剤を含む樹脂組成物に対する残溶剤量は３重量％以上５０重量％以下であることが好ましく、５重量％以上３０重量％以下がさらに好ましい。該残溶剤量が３重量％以上である場合、より短時間で乾燥することができ、生産性が向上する。また、残溶剤量が５０重量％以下である場合、外観悪化を抑制でき、位相差制御がより容易となる。
【００９５】
第２の乾燥工程における乾燥温度は８０℃以上２００℃以下である。本発明において、第２の乾燥工程以降の乾燥温度が第１の乾燥工程より高いことで、乾燥時間が短時間となり、生産性が向上する。また乾燥温度が２００℃よりも低いことにより、樹脂組成物の構成成分の分解（フィルムの脆化、着色）や外観の悪化を抑制することができる。
【００９６】
本発明の乾燥工程を３段階で行う場合、前述の第２の乾燥工程を２段に分けることが好ましい。この際、乾燥温度８０℃以上１４０℃以下の工程と、乾燥温度１４０℃を超え２００℃以下の工程とすることが好ましい。この際、乾燥温度８０℃以上１４０℃以下の工程を第２の乾燥工程と称し、乾燥温度１４０℃を超え２００℃以下の工程を第３の乾燥工程と称してもよい。第２の乾燥工程における乾燥時間は３０秒以上１５分以下が好ましい。また、第３の乾燥工程における乾燥時間は１分以上１５分以下が好ましい。
【００９７】
第１の乾燥工程の乾燥時間は１分以上１５分以下であることが好ましく、１分以上１０分以下がさらに好ましい。１分以上であると溶剤の揮発が十分となり、得られるフィルムの外観悪化をより抑制できる。また、１５分以下であることにより生産性が向上する。
【００９８】
本発明の製造方法では、第２の乾燥工程の後、基材より塗工膜を剥離するものである。
【００９９】
第２の乾燥工程の乾燥時間は１分以上２０分以下であることが好ましく、１分以上１５分以下が好ましい。１分以上であると溶剤の揮発が十分となり、外観悪化を抑制でき、かつ、位相差制御がより容易となる。また、１５分以下の場合は生産性がより向上する。
【０１００】
本発明の樹脂組成物は、光学フィルムとして用いることができる。
【０１０１】
本発明の製造方法により得られた透明光学フィルムは、フィルムの取扱い性及び光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが５μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上１００μｍ以下がさらに好ましく、２０μｍ以上８０μｍ以下が特に好ましい。
【０１０２】
本発明の製造方法を用いて得られた光学フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）を発現するために少なくとも一軸方法に延伸していれば如何なる延伸方法でもよく、一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが好ましい。塗工膜を延伸する方法としては、ロ−ル延伸による縦一軸延伸法やテンタ−延伸による横一軸延伸法、斜め延伸法、これらの組み合わせによるアンバランス逐次二軸延伸法やアンバランス同時二軸延伸法等を用いることができるが、フィルムを偏光板と積層する際の生産性に優れることから特にテンタ−延伸による横一軸延伸法が好ましい。また、延伸後にフィルムを収縮させる処理を施しても良い。
【０１０３】
延伸工程に供する、乾燥工程を経た塗工膜の厚みは、延伸処理のし易さおよび光学部材の薄膜化への適合性の観点から、１０μｍ以上２００μｍ以下が好ましく、１５μｍ以上１５０μｍ以下がさらに好ましく、１５μｍ以上１１０μｍ以下が特に好ましい。
【０１０４】
延伸の際の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは５０℃以上２００℃以下、さらに好ましくは１００℃以上１８０℃以下である。一軸延伸の延伸倍率は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、１．０５〜４．０倍が好ましく、１．１〜３．５倍がさらに好ましい。アンバランス二軸延伸の延伸倍率は特に制限はないが、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから長さ方向には１．０５〜４．０倍が好ましく、１．１〜３．５倍がさらに好ましく、光学特性に優れた光学フィルムとなることから、幅方向には１．０〜１．２倍が好ましく、１．０〜１．１倍がさらに好ましい。特に、フィルムを偏光板と積層する際の生産性に優れることからテンタ−延伸による横一軸延伸法が好ましく、光学特性に優れた光学フィルムとなることから延伸倍率は１．０５〜４．０倍が好ましく、１．１〜３．５倍がさらに好ましい。延伸倍率により面内位相差（Ｒｅ）を制御することができる。
【０１０５】
本発明の塗工膜を延伸することで得られた光学フィルムは、位相差フィルムとして好適に用いることができる。
【０１０６】
本発明の光学フィルムは、画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。
【０１０７】
本発明の光学フィルムは、画質の特性が良好なものとなることから、フィルムのヘーズ（曇り度）が２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。
【０１０８】
本発明の光学フィルムの位相差特性は、下記式（Ａ）で示される面内位相差（Ｒｅ）が好ましくは５０〜５００ｎｍ、さらに好ましくは１００〜４５０ｎｍ、特に好ましくは１００〜４００ｎｍであって、下記式（Ｂ）で示されるＮｚ係数が好ましくは０≦Ｎｚ≦２．０、特に好ましくは０．３０≦Ｎｚ≦１．９０であるものが好ましい。このときの位相差特性は全自動複屈折計（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ製、商品名ＡｘｏＳｃａｎ）を用い、測定波長５８９ｎｍの条件で測定されるものである。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ                          （Ａ）
Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）              （Ｂ）
（式中、ｎｘはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
【０１０９】
本発明の光学フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、４５０ｎｍにおけるレターデーションと５５０ｎｍにおけるレターデーションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が好ましくは０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．１０であり、さらに好ましくは０．７０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０２であり、特に好ましくは０．７５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００である。
【０１１０】
樹脂組成物は、フィルム成形時又はフィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤等が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤１００重量部に対してリン系酸化防止剤を１００〜５００重量部で混合して使用することが好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、樹脂組成物１００重量部に対して０．０１〜１０重量部が好ましく、０．５〜１重量部がさらに好ましい。
【０１１１】
さらに、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエートなどの紫外線吸収剤を必要に応じて配合していてもよい。
【０１１２】
該光学補償フィルムは、その他ポリマー、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が配合されたものであってもよい。
【０１１３】
本発明の光学フィルムは、偏光板と積層して円又は楕円偏光板として用いることもできるし、さらに、ポリビニルアルコール／沃素等からなる偏光子と積層し偏光板とすることもできる。また、本発明の光学フィルム同士又は他の光学フィルムと積層することもできる。
【発明の効果】
【０１１４】
本発明によると、位相差フィルムに適した光学フィルムであり、特に位相差特性、波長依存性、延伸加工性に優れる光学フィルムを提供することができる。
【実施例】
【０１１５】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、断りのない限り用いた試薬は市販品を用いた。
なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。
【０１１６】
＜数平均分子量の測定＞
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、商品名：Ｃ０−８０１１（カラムＧＭＨＨＲ―Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフランを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
【０１１７】
＜共重合体の組成＞
重合体の構造解析は核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名：ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。
【０１１８】
＜光学補償フィルムの光線透過率およびヘーズの測定＞
作製した光学フィルムの光線透過率およびヘーズの測定は、ヘーズメーター（日本電色工業製、商品名：ＮＤＨ２０００）を使用し、光線透過率の測定はＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１（１９９７版）に、ヘーズの測定はＪＩＳ−Ｋ  ７１３６（２０００年版）に、それぞれ準拠して測定した。
【０１１９】
＜位相差特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用い、波長５８９ｎｍの光を用いて光学フィルムの位相差特性を測定した。
【０１２０】
＜波長分散特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用い、波長４５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（５５０）との比として光学フィルムの波長分散特性を測定した。
【０１２１】
実施例１（α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸イソブチル共重合体の合成）
容量５０ｍＬのガラスアンプルにα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル１．９４ｇ（０．０１５７モル）、９−ビニルカルバゾール６．０５ｇ（０．０３１３モル）、アクリル酸イソブチル２．０１ｇ（０．０１５７モル）、重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１９２ｇ（０．０００４２モル）およびテトラヒドロフラン１０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸イソブチル共重合体８．６ｇを得た（収率：８６％）。
【０１２２】
得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸イソブチル共重合体の数平均分子量は、標準ポリスチレン換算で１４，０００であった。
【０１２３】
また、１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位／９−ビニルカルバゾール残基単位／アクリル酸イソブチル残基単位＝２４／５１／２５（モル％）（残基単位Ａ／残基単位Ｂ＝０．４７、残基単位Ａ／残基単位Ｃ＝０．９６）であることを確認した。
【０１２４】
得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸イソブチル共重合体のガラス転移温度は、１９０℃であった。
【０１２５】
実施例２（α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸メチル共重合体の合成）
容量５０ｍＬのガラスアンプルにα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル２．８４ｇ（０．０２２９モル）、９−ビニルカルバゾール６．３１ｇ（０．０３２７モル）、アクリル酸メチル０．８４ｇ（０．００９８モル）、重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．２０ｇ（０．０００４４モル）およびテトラヒドロフラン１０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン２５ｇで溶解させた。このポリマー溶液を５００ｍＬのメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸メチル共重合体９．１ｇを得た（収率：９１％）。
【０１２６】
得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸メチル共重合体の数平均分子量は、標準ポリスチレン換算で１６，０００であった。
【０１２７】
また、１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位／９−ビニルカルバゾール残基単位／アクリル酸メチル残基単位＝３０／５６／１４（モル％）（残基単位Ａ／残基単位Ｂ＝０．５４、残基単位Ａ／Ｃ＝２．１４）であることを確認した。
【０１２８】
得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸メチル共重合体のガラス転移温度は、２２０℃以上であった。
【０１２９】
実施例３（α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸イソブチル共重合体を含有する樹脂組成物を用いた光学フィルムの作製）
実施例１で得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸イソブチル共重合体２．０ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製  エトセル  スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ  ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）８．０ｇをトルエン／酢酸エチル＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度７０℃で２分乾燥の後１６５℃で５分乾燥にて２段乾燥した後、膜厚３５μｍ、幅１５０ｍｍのを得た（エチルセルロース：８０重量％、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸イソブチル共重合体：２０重量％）。得られた塗工膜を５０ｍｍ角に切り出し、１５２℃で３．０倍延伸した（延伸後の厚み２５μｍ）。
【０１３０】
得られた光学フィルムは全光線透過率９１％、ヘーズ０．５％、位相差Ｒｅ＝１６５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８６、Ｎｚ係数１．０３であり、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、目的とする光学特性を有するものであった。
【０１３１】
実施例４（α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸イソブチル共重合体を含有する樹脂組成物を用いた光学フィルムの作製）
実施例１で得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸イソブチル共重合体２．０ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製  エトセル  スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ  ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）８．０ｇをトルエン／酢酸エチル＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃で４分乾燥、１３０℃で１分乾燥、１５５℃で５分乾燥の順に３段乾燥した後、膜厚９０μｍ、幅１５０ｍｍの塗工膜を得た（エチルセルロース：８０重量％、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸イソブチル共重合体：２０重量％）。得られた塗工膜を５０ｍｍ角に切り出し、１５２℃でテンター延伸法による横延伸で２．０倍延伸した（延伸後の厚み４９μｍ）。
【０１３２】
得られた光学フィルムは全光線透過率９１％、ヘーズ０．５％、位相差Ｒｅ＝９９ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８５、Ｎｚ係数１．８であり、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、目的とする光学特性を有するものであった。
【０１３３】
実施例５（α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸メチル共重合体を含有する樹脂組成物を用いた光学フィルムの作製）
実施例２で得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸メチル共重合体１．９ｇ、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製  エトセル  スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ  ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）８．１ｇをトルエン／酢酸エチル＝６／４（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃で４分乾燥、１３０℃で１分乾燥、１６０℃で５分乾燥の順に３段乾燥した後、膜厚３４μｍ、幅１５０ｍｍの塗工膜を得た（エチルセルロース：８１重量％、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル／９−ビニルカルバゾール／アクリル酸メチル共重合体：１９重量％）。得られた塗工膜を５０ｍｍ角に切り出し、１５４℃で長さ方向に２．８倍延伸した（延伸後の厚み２７μｍ）。
【０１３４】
得られた光学フィルムは全光線透過率９１％、ヘーズ０．５％、位相差Ｒｅ＝１６０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８６、Ｎｚ係数１．０５であり、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、目的とする光学特性を有するものであった。
【０１３５】
比較例１
乾燥温度１００℃にて１０分、１段乾燥した他は実施例１と同様にフィルムを作成した。
【０１３６】
得られたフィルムは光線透過率２３％、ヘーズ５６％であり、光学特性に劣り、位相差フィルムに適したものではなかった。
【０１３７】
比較例２
乾燥温度４０℃で５分乾燥の後７０℃にて１０分乾燥して２段乾燥した他は実施例１と同様にフィルムを作成した。フィルムは延伸時に破断し、延伸加工性に劣るものであった。
【０１３８】
比較例３
第２の乾燥工程を行わずに乾燥温度５０℃で１時間乾燥し第１の乾燥工程のみを行った他は実施例１と同様にフィルムを作成した。フィルムは延伸時に破断し、延伸加工性に劣るものであった。
【０１３９】
比較例４
第１の乾燥工程を行わずに乾燥温度１５０℃で１０分乾燥し第２の乾燥工程のみを行った他は実施例１と同様にフィルムを作成した。フィルムは延伸時に破断し、延伸加工性に劣るものであった。
【０１４０】
得られたフィルムは光線透過率２０％、ヘーズ６１％であり、光学特性に劣り、位相差フィルムに適したものではなかった。