(57)【要約】      （修正有）【課題】排気サンプリングシステムの多孔壁を通る希釈空気の流量を制御するためのシステム及び方法を提供する。【解決手段】希釈トンネル及び流量制御モジュールを含む。排気ガスは、希釈トンネルにおいて希釈ガスと混合される。希釈トンネルは、希釈トンネルに対して軸方向に流れる希釈ガスと、希釈トンネルに対して半径方向に流れる希釈ガスとを受け取るように構成されている。流量制御モジュールは、排気ガス中の汚染粒子の濃度、排気ガス中の汚染粒子のサイズ、排気ガス中のガス状排出物の濃度、排気ガスを生成するエンジンによって燃焼される燃料のタイプ、及びエンジンのシリンダーへの燃料流量のうち少なくとも１つに基づいて、半径方向の希釈ガス流量を調整するように構成されている。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
排気ガスが希釈ガスと混合される希釈トンネルであって、前記希釈トンネルは、前記希釈トンネルに対して軸方向に流れる希釈ガス、及び前記希釈トンネルに対して半径方向に流れる希釈ガスを受け取るように構成され；かつ
前記排気ガス中の汚染粒子の濃度、前記排気ガス中の汚染粒子のサイズ、前記排気ガス中のガス状排出物の濃度、前記排気ガスを生成するエンジンによって燃焼される燃料のタイプ、及び前記エンジンのシリンダーへの燃料流量のうち少なくとも１つに基づいて、前記半径方向の希釈ガス流量を調整するように構成された流量制御モジュール
を含む排出物検査システム。
【請求項２】
前記流量制御モジュールは、前記排気ガス中の汚染粒子の濃度に基づいて、前記半径方向の希釈ガス流量を調整するように構成されている請求項１に記載の排出物検査システム。
【請求項３】
前記流量制御モジュールは、
前記排気ガス中の汚染粒子の濃度が増加すると、前記半径方向の希釈ガス流量を増加させ、
前記排気ガス中の汚染粒子の濃度が減少すると、前記半径方向の希釈ガス流量を減少させるように構成されている請求項２に記載の排出物検査システム。
【請求項４】
前記流量制御モジュールは、所定のサイズより大きいサイズを有する前記排気ガス中の汚染粒子の総数に基づいて、前記半径方向の希釈ガス流量を調整するように構成されている請求項１に記載の排出物検査システム。
【請求項５】
前記流量制御モジュールは、
前記排気ガス中の汚染粒子の総数が増加すると、前記半径方向の希釈ガス流量を増加させ、
前記排気ガス中の汚染粒子の総数が減少すると、前記半径方向の希釈ガス流量を減少させるように構成されている請求項４に記載の排出物検査システム。
【請求項６】
前記流量制御モジュールは、前記エンジンによって燃焼される燃料のタイプに基づいて、前記半径方向の希釈ガス流量を調整するように構成されている請求項１に記載の排出物検査システム。
【請求項７】
前記流量制御モジュールは、
第１のタイプの燃料が前記エンジンによって燃焼されると、前記半径方向の希釈ガス流量を第１の値に調整し、
第２のタイプの燃料が前記エンジンによって燃焼されると、前記半径方向の希釈ガス流量を前記第１の値より大きい第２の値に調整するように構成され、前記第２のタイプの燃料の燃焼は、前記第１のタイプの燃料の燃焼に対して、燃焼した燃料の質量当たりより多くの水を生成する請求項６に記載の排出物検査システム。
【請求項８】
前記流量制御モジュールは、前記シリンダーへの燃料流量に基づいて、前記半径方向の希釈ガス流量を調整するように構成されている請求項１に記載の排出物検査システム。
【請求項９】
前記流量制御モジュールは、
前記シリンダーへの燃料流量が増加すると、前記半径方向の希釈ガス流量を増加させ、
前記シリンダーへの燃料流量が減少すると、前記半径方向の希釈ガス流量を減少させるように構成されている請求項８に記載の排出物検査システム。
【請求項１０】
前記希釈トンネルは、内管と前記内管を囲む外管とを含み、前記内管は、前記軸方向に流れる希釈ガスを受け取るように構成された入口端部を有し、前記内管は、前記内管を前記半径方向に貫通し、前記半径方向に流れる希釈ガスを受け取るように構成された孔を有し、前記排出物検査システムは、前記外管を前記半径方向に流れる希釈ガスを送るように構成されたプレナムをさらに含み、前記プレナムは、
前記外管へ前記半径方向に延びている複数のライン；及び
前記複数のラインの１つにそれぞれ配置されている複数のバルブを含み、
前記流量制御モジュールは、前記複数のバルブの位置を調整して、前記複数のラインを通る前記半径方向の希釈ガス流量を調整するように構成されている請求項１に記載の排出物検査システム。
【請求項１１】
排気ガスを希釈トンネルに送ること；
前記希釈トンネルに対して軸方向に、希釈ガスを前記希釈トンネルに送ること；
前記希釈トンネルに対して半径方向に、希釈ガスを前記希釈トンネルに送ること；並びに
前記排気ガス中の汚染粒子の濃度、前記排気ガス中の汚染粒子のサイズ、前記排気ガス中のガス状排出物の濃度、前記排気ガスを生成するエンジンによって燃焼される燃料のタイプ、及び前記エンジンのシリンダーへの燃料流量のうち少なくとも１つに基づいて、前記半径方向の希釈ガス流量を調整すること
を含む排出物検査方法。
【請求項１２】
前記排気ガス中の汚染粒子の濃度に基づいて、前記半径方向の希釈ガス流量を調整することをさらに含む請求項１１に記載の排出物検査方法。
【請求項１３】
所定のサイズより大きいサイズを有する前記排気ガス中の汚染粒子の総数に基づいて、前記半径方向の希釈ガス流量を調整することをさらに含む請求項１１に記載の排出物検査方法。
【請求項１４】
前記エンジンによって燃焼される燃料のタイプに基づいて、前記半径方向の希釈ガス流量を調整することをさらに含む請求項１１に記載の排出物検査方法。
【請求項１５】
前記シリンダーへの燃料流量に基づいて、前記半径方向の希釈ガス流量を調整することをさらに含む請求項１１に記載の排出物検査方法。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本出願は、２０１８年１１月５日に出願された米国仮出願第６２／７５５，７１７号の利益を主張する。上記で参照された出願の全開示は、参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
分野
本開示は、排出物検査システムに関し、より具体的には、排気サンプリングシステムの多孔壁を通る希釈空気の流量を制御するためのシステム及び方法に関する。
【０００３】
背景
ここで提供される背景の説明は、一般に本開示の文脈を提示する目的のためのものである。この背景部分に記載されている限り、現在の発明者の研究、及び出願時に先行技術として適格ではない可能性のある説明の態様は、本開示に対する先行技術として明示的又は暗示的に認められていない。
【０００４】
排出物検査システムは、エンジンによって生成される排気ガスを収集し、排気ガス中の排出物の濃度を測定する。ある期間中に測定される排出物の濃度に、その期間中の排気ガスの質量流量を掛けて、排出物の質量流量を得る。次に、排出物の質量流量に、期間の長さを掛けて、期間中にエンジンによって生成される排気ガス中の排出物の総質量を得る。
【０００５】
定容量採取（ＣＶＳ）システムは、排気ガスの流量を測定せずに排気ガス中の排出物の質量を決定可能なタイプの排出物検査システムであり、排出物の質量測定を簡素化する。通常、ＣＶＳシステムは、排気ガスと希釈ガスが混合される希釈トンネル、希釈された排気ガスのサンプルを希釈トンネルからサンプル採取器に向けるサンプルプローブ、及び希釈トンネルの下流側に配置される送風機を含む。送風機は、希釈トンネルを通して一定容積の希釈された排気ガスを引き込む。従って、排気ガス流量を、希釈された排気ガスの流量から希釈ガスの流量を引くことによって決定し得る。
【０００６】
典型的なＣＶＳシステムにおいて、希釈トンネルは、希釈トンネルの外壁を形成する管又はチューブを含み、排気ガスを、管の長手方向中心軸に沿って希釈トンネルに導入する。希釈ガスをまた、同軸に沿って希釈トンネルに導入し、排気ガスを環状の流れパターンで希釈ガスと混合する。排気ガスと希釈ガスの混合物が、十分な長さの希釈トンネル（例えば、希釈トンネルの直径の１０倍）を通過した後、混合物を、排出物サンプリングのために均質であると推定する。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Electronic Code of Federal Regulations, Title 40, PART 1066, Subpart I, §1066.815, Exhaust emission test procedures for FTP testing, ［令和2年1月16日検索］，インターネット＜URL：https://gov.ecfr.io/cgi-bin/text-idx?SID=372eff443ff9a1836613934209cacbdd&mc=true&node=se40.37.1066_1815&rgn=div8＞
【非特許文献２】United States Environmental Protection Agency, Vehicle and Fuel Emissions Testing, Dynamometer Drive Schedules, EPA Federal Test Procedure, ［令和 2年1月16日検索］，インターネット＜URL：https://www.epa.gov/vehicle-and-fuel-emissions-testing/dynamometer-drive-schedules#calforniaEPA＞
【非特許文献３】United States Environmental Protection Agency, Emission Standards Reference Guide, EPA Federal Test Procedure (FTP) ［令和 2年1月16日検索］，インターネット＜URL：https://www.epa.gov/emission-standards-reference-guide/epa-federal-test-procedure-ftp＞
【非特許文献４】Carl J. Ryan, Joseph McDonald, William Silvis, James Williamson, Gerald Marek, Norbert Kreft., "CMS - An Evolution of the CVS - A Full Flow, Constant Mass Flow, Sampling System", SAE Technical Paper 2006-01-1514, 2006
【０００８】
概要
本開示の原理に係る排出物検査システムの例は、希釈トンネル及び流量制御モジュールを含む。排気ガスは、希釈トンネルにおいて希釈ガスと混合される。希釈トンネルは、希釈トンネルに対して軸方向に流れる希釈ガスと、希釈トンネルに対して半径方向に流れる希釈ガスとを受け取るように構成されている。流量制御モジュールは、排気ガス中の汚染粒子の濃度、排気ガス中の汚染粒子のサイズ、排気ガス中のガス状排出物の濃度、排気ガスを生成するエンジンによって燃焼される燃料のタイプ、及びエンジンのシリンダーへの燃料流量のうち少なくとも１つに基づいて、半径方向の希釈ガス流量を調整するように構成されている。
【０００９】
１つの例において、流量制御モジュールは、排気ガス中の汚染粒子の濃度に基づいて、半径方向の希釈ガス流量を調整するように構成されている。
【００１０】
１つの例において、流量制御モジュールは、排気ガス中の汚染粒子の濃度が増加すると、半径方向の希釈ガス流量を増加させ、排気ガス中の汚染粒子の濃度が減少すると、半径方向の希釈ガス流量を減少させるように構成されている。
【００１１】
１つの例において、流量制御モジュールは、所定のサイズより大きいサイズを有する排気ガス中の汚染粒子の総数に基づいて、半径方向の希釈ガス流量を調整するように構成されている。
【００１２】
１つの例において、流量制御モジュールは、排気ガス中の汚染粒子の総数が増加すると、半径方向の希釈ガス流量を増加させ、排気ガス中の汚染粒子の総数が減少すると、半径方向の希釈ガス流量を減少させるように構成されている。
【００１３】
１つの例において、流量制御モジュールは、エンジンによって燃焼される燃料のタイプに基づいて、半径方向の希釈ガス流量を調整するように構成されている。
【００１４】
１つの例において、流量制御モジュールは、第１のタイプの燃料がエンジンによって燃焼されると、半径方向の希釈ガス流量を第１の値に調整し、第２のタイプの燃料がエンジンによって燃焼されると、半径方向の希釈ガス流量を第１の値より大きい第２の値に調整するように構成され、ここで、第２のタイプの燃料の燃焼は、第１のタイプの燃料の燃焼に対して、燃焼した燃料の質量当たりより多くの水を生成する。
【００１５】
１つの例において、流量制御モジュールは、シリンダーへの燃料流量に基づいて、半径方向の希釈ガス流量を調整するように構成されている。
【００１６】
１つの例において、流量制御モジュールは、シリンダーへの燃料流量が増加すると、半径方向の希釈ガス流量を増加させ、シリンダーへの燃料流量が減少すると、半径方向の希釈ガス流量を減少させるように構成されている。
【００１７】
１つの例において、希釈トンネルは、内管と内管を囲む外管とを含み、内管は、軸方向に流れる希釈ガスを受け取るように構成された入口端部を有し、内管は、内管を半径方向に貫通し、半径方向に流れる希釈ガスを受け取るように構成された孔を有する。
【００１８】
１つの例において、希釈トンネルは、その入口端部に配置され、軸方向に流れる希釈ガスが通過するオリフィスを規定するオリフィスプレートをさらに含む。
【００１９】
１つの例において、排出物検査システムは、外管を半径方向に流れる希釈ガスを送るように構成されたプレナムをさらに含む。
【００２０】
１つの例において、プレナムは、外管へ半径方向に延びている少なくとも１つのライン、及び少なくとも１つのラインに配置された少なくとも１つのバルブを含み、ここで、流量制御モジュールは、少なくとも１つのバルブの位置を調整して、少なくとも１つのラインを通る半径方向の希釈ガス流量を調整するように構成されている。
【００２１】
１つの例において、少なくとも１つのラインは、外管へ半径方向に延びている複数のラインを含み、少なくとも１つのバルブは、それぞれが複数のラインの１つに配置されている複数のバルブを含み、ここで、流量制御モジュールは、複数のバルブの位置を調整して、複数のラインを通る半径方向の希釈ガス流量をするように構成されている。
【００２２】
１つの例において、流量制御モジュールは、排気ガス中の汚染粒子の濃度、排気ガス中の汚染粒子のサイズ、エンジンによって燃焼される燃料のタイプ、及びエンジンのシリンダーへの燃料流量のうち少なくとも１つの変化に応じて、複数のラインにおける各ラインを通る半径方向の希釈ガス流量を同じ量だけ調整するように構成されている。
【００２３】
本開示の原理に係る排出物検査方法の例は、排気ガスを希釈トンネルに送ること、希釈トンネルに対して軸方向に、希釈ガスを希釈トンネルに送ること、希釈トンネルに対して半径方向に、希釈ガスを希釈トンネルに送ること、並びに排気ガス中の汚染粒子の濃度、排気ガス中の汚染粒子のサイズ、排気ガス中のガス状排出物の濃度、排気ガスを生成するエンジンによって燃焼される燃料のタイプ、及びエンジンのシリンダーへの燃料流量のうち少なくとも１つに基づいて、半径方向の希釈ガス流量を調整することを含む。
【００２４】
１つの例において、排出物検査方法は、排気ガス中の汚染粒子の濃度に基づいて、半径方向の希釈ガス流量を調整することをさらに含む。
【００２５】
１つの例において、排出物検査方法は、排気ガス中の汚染粒子の濃度が増加すると、半径方向の希釈ガス流量を増加させること、及び排気ガス中の汚染粒子の濃度が減少すると、半径方向の希釈ガス流量を減少させることをさらに含む。
【００２６】
１つの例において、排出物検査方法は、所定のサイズより大きいサイズを有する排気ガス中の汚染粒子の総数に基づいて、半径方向の希釈ガス流量を調整することをさらに含む。
【００２７】
１つの例において、排出物検査方法は、排気ガス中の汚染粒子の総数が増加すると、半径方向の希釈ガス流量を増加させること、及び排気ガス中の汚染粒子の総数が減少すると、半径方向の希釈ガス流量を減少させることをさらに含む。
【００２８】
１つの例において、排出物検査方法は、エンジンによって燃焼される燃料のタイプに基づいて、半径方向の希釈ガス流量を調整することをさらに含む。
【００２９】
１つの例において、排出物検査方法は、第１のタイプの燃料がエンジンによって燃焼されると、半径方向の希釈ガス流量を第１の値に調整すること、及び第２のタイプの燃料がエンジンによって燃焼されると、半径方向の希釈ガス流量を第１の値より大きい第２の値に調整することをさらに含み、ここで、第２のタイプの燃料の燃焼は、第１のタイプの燃料の燃焼に対して、燃焼した燃料の質量当たりより多くの水を生成する。
【００３０】
１つの例において、排出物検査方法は、シリンダーへの燃料流量に基づいて、半径方向の希釈ガス流量を調整することをさらに含む。
【００３１】
１つの例において、排出物検査方法は、シリンダーへの燃料流量が増加すると、半径方向の希釈ガス流量を増加させること、及びシリンダーへの燃料流量が減少すると、半径方向の希釈ガス流量を減少させることをさらに含む。
【００３２】
１つの例において、排出物検査方法は、希釈トンネルへ半径方向に延び、希釈トンネルに対して軸方向に互いに間隔をあけた複数のラインを通して希釈ガスを送ること、並びに排気ガス中の汚染粒子の濃度、排気ガス中の汚染粒子のサイズ、排気ガス中のガス状排出物の濃度、エンジンによって燃焼される燃料のタイプ、及びエンジンのシリンダーへの燃料流量のうち少なくとも１つの変化に応じて、同じ量だけ複数のラインにおける各ラインを通る半径方向の希釈ガス流量を調整することをさらに含む。
【００３３】
本開示の適用性の更なる領域は、詳細な説明、特許請求の範囲及び図面から明らかになるだろう。詳細な説明及び具体例は、例示のみを目的とするものであり、本開示の範囲を限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
本開示は、詳細な説明及び添付の図面からより完全に理解されるであろう。
【００３５】
【図１】図１は、本開示に係る例示的な排出物検査システムの概略図である。
【図２】図２は、外管と本開示に係る多孔壁を有する内管とを含む例示的な希釈トンネルの概略図である。
【図３】図３は、本開示に係る例示的な検査システム制御モジュールの機能ブロック図である。
【図４】図４は、排気サンプリングシステムの希釈トンネルの多孔壁を通る希釈空気の流量を制御するための例示的な方法を示すフローチャートである。
【図５】図５は、排気サンプリングシステムの希釈トンネルの多孔壁を通る希釈空気の流量を制御するための例示的な方法を示すフローチャートである。
【００３６】
図面では、参照番号を再使用して、類似及び／又は同一の要素を特定し得る。
【００３７】
詳細な説明
上述のように、ＣＶＳシステムは、一般的に、希釈トンネルに対して軸方向に（例えば、希釈トンネルの長手方向軸に沿って）、希釈トンネルに希釈ガスを導入する。いくつかのＣＶＳシステムは、希釈ガスを軸方向に希釈トンネルへ導入することに加えて、希釈トンネルに対して半径方向に、希釈ガスを希釈トンネルへ導入する。そのようなＣＶＳシステムは、一般的に、希釈トンネルの外壁を形成する固体チューブ、及び固体チューブの内側に配置され、半径方向希釈ガス流のマニホールドとして機能する多孔チューブを含む。
【００３８】
希釈ガスを半径方向に希釈トンネルへ導入すると、排気プルームが希釈トンネルの壁から遠ざかるため、希釈トンネル内の粒子状物質及び有機化合物の損失が減少又は排除され、それによって排出物検査の精度が向上する。加えて、希釈ガスを希釈トンネルへ半径方向に導入すると、均一な排出物サンプルを達成するために必要な混合距離が減少し得る。しかしながら、希釈トンネルの壁での汚染又は結露を回避するために、希釈トンネルへの目標の半径方向希釈ガス流量を決定するための方法で改善がなされ得る。
【００３９】
伝統的なアプローチは、希釈トンネルへの半径方向希釈ガス流量を高レベルに固定して、希釈トンネルの壁での汚染及び結露の両方が防止されていることを確実にする。しかしながら、このアプローチは、希釈トンネルの多孔壁を通る圧力降下によってエネルギーを大量消費する。従って、本開示に係るシステム及び方法は、希釈トンネルへの半径方向希釈ガス流量を最適化して、そのために必要な総エネルギー消費量を最小限に抑えながら、希釈トンネルの壁での汚染／結露を防止する。
【００４０】
１つの例において、システム及び方法は、排気ガス中の粒子の濃度及び／又は排気ガス中の粒子のサイズに基づいて、希釈トンネルへの半径方向希釈ガス流量を調整する。システム及び方法は、粒子の濃度が増加するにつれて、より大きい粒子の数もまた増加し、従って粒子がより大きい慣性を有し、それらを希釈トンネルの壁に向かって強制する可能性があると仮定し得る。従って、システム及び方法は、粒子濃度が増加すると半径方向希釈流量を増加させてもよく、システム及び方法は、粒子濃度が減少すると半径方向希釈流量を減少させてもよい。
【００４１】
別の例において、システム及び方法は、エンジンによって燃焼される燃料のタイプ及び／又は燃料がエンジンのシリンダーに流れる速度に基づいて、希釈トンネルへの半径方向希釈ガス流量を調整する。天然ガスを燃焼させるエンジンは、一般的に、粒子の排出レベルが低いため、ＣＶＳシステムを汚染することはない。しかしながら、これらのエンジンは、一般的に、天然ガスと空気の化学量論的混合物を燃焼させ、大量の水を含む排気ガスを生成する。従って、ＣＶＳシステムにおける水の凝縮は、大きな懸念である。この懸念に対処するために、システム及び方法は、ガソリン又はディーゼルエンジンに使用される半径方向希釈ガス流量と比較して、天然ガスエンジンに対してより高い半径方向希釈ガス流量を使用し得る。システム及び方法は、燃料流量がそれぞれ増減するにつれて排気ガス中の水の量が増減するため、燃料流量を調整して半径方向希釈ガス流量を調節又は調整し得る。
【００４２】
ここで図１を参照すると、排出物検査システム１００は、希釈トンネル１０２、希釈ガス送風機１０４、希釈済排気送風機１０６、希釈剤回路１０８、希釈済排気回路１１０、及び排出物分析器１１２を含む。希釈トンネル１０２は、排気ガス供給ライン１１６を介して、エンジン１１４によって生成される排気ガスを受け取る。希釈トンネル１０２は、希釈ガス供給ライン１１８を介して、希釈トンネル１０２へ軸方向に流れる希釈ガスを受け取る。希釈トンネル１０２は、希釈ガスプレナム１２０を介して、希釈トンネル１０２へ半径方向に流れる希釈ガスを受け取る。希釈トンネル１０２において、エンジン１１４からの排気ガスは、軸方向に流れる希釈ガス及び半径方向に流れる希釈ガスと混合される。
【００４３】
希釈済排気送風機１０６を希釈トンネル１０２の下流側に配置し、希釈済排気送風機１０６は、希釈ガス供給ライン１１８を通して希釈ガスを希釈トンネル１０２に引き込む。希釈ガスは、周囲空気であってもよく、この場合、希釈済排気送風機１０６は、周囲の環境から希釈ガスを引いてもよい。希釈済排気送風機１０６は可変速度送風機であってもよく、希釈済排気送風機１０６の速度を調整して、希釈ガスが希釈トンネル１０２を流れる速度を調整してもよい。追加として又は代替として、バルブ１２２を希釈ガス供給ライン１１８に配置してもよく、バルブ１２２の位置を調整して、希釈ガス供給ライン１１８を経由した希釈トンネル１０２への希釈ガスの流量を調整してもよい。
【００４４】
様々な実装形態において、排出物検査システム１００は、希釈済排気送風機１０６の代わりに、又はそれに加えて、希釈トンネル１０２の上流側の希釈ガス供給ライン１１８に配置される第２希釈ガス送風機（図示せず）を含み得る。第２希釈ガス送風機は可変速度送風機であってもよく、第２希釈ガス送風機の速度を調整して、希釈ガスが希釈ガス供給ライン１１８を経由して希釈トンネル１０２に流入する速度を調整してもよい。希釈済排気送風機１０６及び／又は第２希釈ガス送風機を、一定容積の希釈済排気ガスを希釈トンネル１０２に強制的に通すように制御し得る。これに関して、排出物検査システム１００は、ＣＶＳシステムであり得る。
【００４５】
希釈ガスプレナム１２０は、希釈ガス送風機１０４から軸方向に延びている希釈ガス供給ライン１２４、希釈ガス供給ライン１２４から希釈トンネル１０２まで半径方向に延びている希釈ガス供給ライン１２６、及び希釈ガス供給ライン１２６の１つにそれぞれ配置されているバルブ１２８を含む。希釈ガス送風機１０４は、希釈ガスを、希釈ガス供給ライン１２４を通し、希釈ガス供給ライン１２６を通して、希釈トンネル１０２に送る。希釈ガスは、周囲空気であってもよく、この場合、希釈ガス送風機１０４は、周囲の環境から希釈ガスを引いてもよい。希釈ガス送風機１０４は可変速度送風機であってもよく、希釈ガス送風機１０４の速度を調整して、希釈ガスが希釈ガス供給ライン１２６を流れる速度を調整してもよい。追加として又は代替として、バルブ１２８の位置を調整して、希釈ガス供給ライン１２６を通る希釈ガスの流量を調整してもよい。１つの例において、希釈ガス送風機１０４を一定速度で動作させ、バルブ１２８の位置を調整して、希釈ガス供給ライン１２６を通る希釈ガスの流量を調整する。
【００４６】
希釈済排気サンプルプローブ１３０は、希釈トンネル１０２から希釈済排気ガスのサンプルを抽出し、希釈済排気供給ライン１３２は、希釈済排気サンプルプローブ１３０から希釈済排気回路１１０に希釈済排気ガスサンプルを供給する。希釈済排気抽出バルブ１３４を希釈済排気供給ライン１３２に配置してもよく、希釈済排気抽出バルブ１３４の位置を調整して、希釈済排気サンプルプローブ１３０を通して希釈済排気ガスサンプルを抽出する速度を調整してもよい。追加として又は代替として、希釈済排気抽出ポンプ１３６を、希釈済排気供給ライン１３２に配置してもよく、希釈済排気抽出ポンプ１３６の速度を調整して、希釈済排気サンプルプローブ１３０を通して希釈済排気ガスサンプルを抽出する速度を調整してもよい。１つの例において、希釈済排気抽出ポンプ１３６を一定速度で動作させ、希釈済排気抽出バルブ１３４の位置を調整して、希釈済排気サンプルプローブ１３０を通る希釈済排気ガスの抽出速度を調整する。希釈済排気サンプルプローブ１３０、希釈済排気供給ライン１３２、希釈済排気抽出バルブ１３４、及び希釈済排気抽出ポンプ１３６を、希釈済排気回路１１０の一部とみなし得る。
【００４７】
希釈済排気サンプルプローブ１３０によって抽出されない希釈済排気ガス部分を、希釈トンネル排気ライン１４０を通して、希釈トンネル１０２から大気に、又は施設排気システムに排出する。希釈済排気送風機１０６の速度を調整して、希釈済排気ガスが希釈トンネル１０２及び希釈トンネル排気ライン１４０を流れる速度を調整し得る。追加として、バルブ１４２を希釈トンネル排気ライン１４０に配置してもよく、バルブ１４２を開閉して、希釈トンネル排気ライン１４０を通る希釈済排気ガスの流れを許容又は防止してもよい。
【００４８】
希釈済排気回路１１０は、希釈済排気サンプルプローブ１３０によって抽出された希釈済排気ガスサンプルを収集する希釈済排気サンプル採取器１４４を含む。希釈済排気サンプル採取器１４４は、サンプルバッグ又はサンプルフィルタであり得る。希釈済排気充填バルブ１４６を希釈済排気供給ライン１３２に配置してもよく、希釈済排気充填バルブ１４６を開閉して、希釈済排気サンプル採取器１４４への希釈済排気ガスサンプルの流れを許容又は防止してもよい。希釈済排気サンプル採取器１４４は１つしか示されていないが、排出物検査システム１００は複数の希釈済排気サンプル採取器を含んでもよく、各希釈済排気サンプル採取器は、排出物検査スケジュールの１つの検査段階中に希釈済排気ガスのサンプルを収集してもよい。加えて、サンプル採取器バルブ１４７を、各希釈済排気サンプル採取器の入口／出口に又はその近くに配置して、希釈済排気ガスの、各希釈済排気サンプル採取器への流入又は、それらからの流出を制御し得る。
【００４９】
排出物分析器１１２は、希釈済排気サンプル採取器１４４によって収集される希釈済排気ガスサンプルを分析して、そこに含まれる排出物の濃度を決定する。排出物分析器１１２は、一酸化炭素、二酸化炭素、窒素酸化物、及び炭化水素などのガス状排出物の濃度を測定するガス状排出物分析器であり得る。希釈済排気ガスサンプルを、希釈済排気リードライン１４８を通して希釈済排気サンプル採取器１４４から排出物分析器１１２に送る。希釈済排気リードバルブ１５０を希釈済排気リードライン１４８に配置してもよく、希釈済排気リードバルブ１５０を開閉して、第１クリーン希釈済排気サンプル採取器１４４から排出物分析器１１２への希釈済排気ガスサンプルの流れを許容又は防止してもよい。追加として又は代替として、希釈済排気リードポンプ１５２を希釈済排気リードライン１４８に配置してもよく、希釈済排気リードポンプ１５２の速度を調整して、希釈済排気ガスサンプルが希釈済排気サンプル採取器１４４から排出物分析器１１２に流れる速度を調整してもよい。
【００５０】
希釈剤回路１０８は、希釈ガス供給ライン１１８を流れる希釈ガスのサンプルを収集する希釈剤サンプル採取器１５４を含む。希釈剤サンプル供給ライン１５６は、希釈ガスサンプルを希釈ガス供給ライン１１８から希釈剤サンプル採取器１５４に供給する。希釈剤抽出バルブ１５８を希釈剤サンプル供給ライン１５６に配置してもよく、希釈剤抽出バルブ１５８の位置を調整して、希釈ガスサンプルを希釈ガス供給ライン１１８から抽出する速度を調整してもよい。追加として又は代替として、希釈剤抽出ポンプ１６０を希釈剤サンプル供給ライン１５６に配置してもよく、希釈剤抽出ポンプ１６０の速度を調整して、希釈ガスサンプルを希釈ガス供給ライン１１８から抽出する速度を調整してもよい。１つの例において、希釈剤抽出ポンプ１６０を一定速度で動作させ、希釈剤抽出バルブ１５８の位置を調整して、希釈ガスサンプルの抽出速度を調整する。希釈剤サンプル供給ライン１５６、希釈剤抽出バルブ１５８、及び希釈剤抽出ポンプ１６０を、希釈剤回路１０８の一部とみなし得る。
【００５１】
希釈剤サンプル採取器１５４は、サンプルバッグ又はサンプルフィルタであり得る。希釈剤充填バルブ１６２を希釈剤サンプル供給ライン１５６に配置してもよく、希釈剤充填バルブ１６２を開閉して、希釈剤サンプル採取器１５４への希釈ガスサンプルの流れを許容又は防止してもよい。希釈剤サンプル採取器１５４は１つしか示されていないが、排出物検査システム１００は複数の希釈剤サンプル採取器を含んでもよく、各希釈剤サンプル採取器は、排出物検査スケジュールの１つの検査段階中に希釈ガスのサンプルを収集してもよい。
【００５２】
排出物分析器１１２は、希釈剤サンプル採取器１５４によって収集される希釈ガスサンプルを分析して、そこに含まれる排出物の濃度を決定する。排出物分析器１１２は、希釈済排気ガスサンプルに含まれる排出物の濃度を決定するときに、希釈ガスサンプルに含まれる排出物の濃度を考慮に入れ得る。例えば、希釈済排気ガスサンプル中の希釈ガスの質量が、希釈ガスサンプル中の希釈ガスの質量と等しい場合、排出物分析器１１２は、希釈済排気ガスサンプル中の排出物の濃度から希釈ガスサンプル中の排出物の濃度を差し引いて、希釈済排気ガスサンプルに含まれる排気ガス中の排出物の濃度を得てもよい。
【００５３】
希釈済排気ガスサンプルを、希釈剤リードライン１６４を通して希釈剤サンプル採取器１５４から排出物分析器１１２に送る。希釈剤リードバルブ１６６を希釈剤リードライン１６４に配置してもよく、希釈剤リードバルブ１６６を開閉して、希釈剤サンプル採取器１５４から排出物分析器１１２への希釈ガスサンプルの流れを許容又は防止してもよい。追加として又は代替として、希釈剤リードポンプ１６８を希釈剤リードライン１６４に配置してもよく、希釈剤リードポンプ１６８の速度を調整して、希釈ガスサンプルが希釈剤サンプル採取器１５４から排出物分析器１１２に流れる速度を調整してもよい。
【００５４】
排出物検査システム１００は、希釈剤サンプル採取器１５４及び希釈済排気サンプル採取器１４４からそれぞれガスを排出するための希釈剤ベントライン１７０及び希釈済排気ベントライン１７２をさらに含む。示された例において、希釈剤ベントライン１７０及び希釈済排気ベントライン１７２は、施設排気システムに延びる単一のベントライン１７４に合流し、ベントポンプ１７６は、ベントライン１７４に配置され、ベントライン１７４を通してガスサンプルを引き込む。様々な実装形態において、希釈剤ベントライン１７０及び希釈済排気ベントライン１７２は、単一のベントラインに合流しなくてもよく、及び／又はガスを大気に直接排出してもよい。加えて、ベントポンプ（図示せず）を、ベントポンプ１７６の代わりに、ベントライン１７０、１７２のそれぞれに配置し得る。
【００５５】
希釈剤ベントバルブ１７８を希釈剤ベントライン１７０に配置してもよく、希釈剤ベントバルブ１７８を開閉して、希釈剤サンプル採取器１５４から希釈トンネル排気ライン１４０への希釈ガスサンプルの流れを許容又は防止してもよい。同様に、希釈済排気ベントバルブ１８０を希釈済排気ベントライン１７２に配置してもよく、希釈済排気ベントバルブ１８０を開閉して、希釈済排気サンプル採取器１４４から希釈トンネル排気ライン１４０への希釈済排気ガスサンプルの流れを許容又は防止してもよい。
【００５６】
排出物検査システム１００は、希釈剤サンプル採取器１５４及び希釈済排気サンプル採取器１４４にそれぞれパージガスを供給するための希釈剤パージライン１８２及び希釈済排気パージライン１８４をさらに含む。パージガスは、排気ガスと混合されていない周囲空気などのクリーンガスであり得る。パージガスは、パージガス源１８６によって提供され、これは単に大気であってもよく、或いは周囲空気をろ過してパージガスを生成するフィルタであってもよい。示された実装形態において、単一のパージライン１８８は、パージガス源１８６から延び、希釈剤パージライン１８２と希釈済排気パージライン１８４とに分かれ、パージポンプ１９０はパージライン１８８に配置され、パージライン１８８を通してパージガスを送る。様々な実装形態において、希釈剤パージライン１８２及び希釈済排気パージライン１８４は、互いに独立してパージガス源１８６から延びていてもよく、パージポンプ（図示せず）をパージライン１８２、１８４のそれぞれに配置してもよい。
【００５７】
希釈剤パージバルブ１９２を希釈剤パージライン１８２に配置してもよく、希釈剤パージバルブ１９２を開閉して、パージガス源１８６から希釈剤サンプル採取器１５４へのパージガスの流れを許容又は防止してもよい。同様に、希釈済排気パージバルブ１９４を希釈済排気パージライン１８４に配置してもよく、希釈済排気パージバルブ１９４を開閉して、パージガス源１８６から希釈済排気サンプル採取器１４４へのパージガスの流れを許容又は防止してもよい。
【００５８】
排出物検査システム１００は、排出物検査システム１００の様々なセンサから受信した信号に基づいて、排出物検査システム１００の様々なアクチュエータを制御する検査システム制御モジュール２００をさらに含む。排出物検査システム１００のアクチュエータは、送風機１０４、１０６、バルブ１２２、１２８、１３４、１４２、１４６、１５０、１５８、１６２、１６６、１７８、１８０、１９２、１９４、及びポンプ１３６、１５２、１６０、１６８、１７６、１９０を含む。排出物検査システム１００のセンサは、排出物分析器１１２、粒子濃度センサ２０２、粒子カウンター２０４、粒子径分析計２０６、ガス状排出物濃度センサ２０７、軸方向希釈剤流量計２０８、半径方向希釈剤流量計２０９、希釈済排気流量計２１０、希釈剤サンプル流量計２１２、及び希釈済サンプル流量計２１４を含む。希釈剤サンプル流量計２１２及び希釈済サンプル流量計２１４を、それぞれ希釈剤回路１０８及び希釈済排気回路１１０の一部とみなし得る。
【００５９】
検査システム制御モジュール２００は、様々な制御信号を出力して、排出物検査システム１００のアクチュエータを制御する。検査システム制御モジュール２００は、送風機制御信号（図３）を各送風機１０４、１０６に出力し、送風機制御信号は、各送風機の目標デューティサイクル又は目標速度を示す。検査システム制御モジュール２００は、バルブ制御信号（図３）を各バルブ１２２、１２８、１３４、１４２、１４６、１５０、１５８、１６２、１６６、１７８、１８０、１９２、１９４に出力し、バルブ制御信号は、各バルブの目標位置を示す。検査システム制御モジュール２００は、ポンプ制御信号（図３）を各ポンプ１３６、１５２、１６０、１６８、１７６、１９０に出力し、ポンプ制御信号は、各ポンプの目標デューティサイクル又は目標速度を示す。
【００６０】
粒子濃度センサ２０２は、排気ガス供給ライン１１６を流れる排気ガス中の粒子の濃度を測定し、粒子濃度を示す粒子濃度信号（図３）を出力する。粒子濃度センサ２０２は、ＡＶＬマイクロスートセンサ（登録商標）などの質量濃度センサであってもよく、この場合、粒子濃度は、排気ガスの全質量に対する排気ガス中の汚染粒子の質量の比率を示す質量濃度であってもよい。代替として、粒子濃度センサ２０２は、個数濃度センサであってもよく、この場合、粒子濃度は、排気ガス中の粒子の総数に対する排気ガス中の汚染粒子の数の比率を示す個数濃度であってもよい。
【００６１】
粒子カウンター２０４は、排気ガス供給ライン１１６を流れる排気ガス中の汚染粒子の数をカウントし、粒子数を示す粒子数信号（図３）を出力する。粒子カウンター２０４は、ＡＶＬパーティクルカウンタ（登録商標）であり得る。粒子径分析計２０６は、排気ガス供給ライン１１６を流れる排気ガス中の汚染粒子のサイズを測定し、粒子径を示す粒子径信号（図３）を出力する。ガス状排出物濃度センサ２０７は、排気ガス供給ライン１１６を流れる排気ガス中のガス状排出物（例えば、水蒸気、二酸化炭素）の濃度を測定し、ガス状排出物濃度を示すガス状排出物濃度信号（図３）を出力する。粒子濃度センサ２０２、粒子カウンター２０４、粒子径分析計２０６、及びガス状排出物濃度センサ２０７は、それぞれ粒子濃度信号、粒子数信号、粒子径信号、及びガス状排出物濃度信号を検査システム制御モジュール２００に出力する。
【００６２】
軸方向希釈剤流量計２０８は、希釈ガス供給ライン１１８を通る軸方向の希釈ガス流量を測定し、軸方向希釈剤流量を示す軸方向希釈剤流量信号（図３）を出力する。半径方向希釈剤流量計２０９は、希釈ガス供給ライン１２４を通る軸方向の希釈ガス流量を測定し、これは希釈ガス供給ライン１２６を通る半径方向の希釈ガス流量の合計に等しい。半径方向希釈剤流量計２０９は、半径方向希釈剤流量を示す半径方向希釈剤流量信号（図３）を出力する。希釈済排気流量計２１０は、希釈トンネル排気ライン１４０中の希釈済排気ガスの流量を測定し、希釈済排気流量を示す希釈済排気流量信号（図３）を出力する。
【００６３】
様々な実装形態において、希釈済排気流量計２１０は、１つ又は複数のベンチュリノズルを含んでもよく、バルブ１４２は、ベンチュリノズルの対応する１つを通る希釈済排気ガスの流れを制御する１つ又は複数のバルブを含んでもよい。例えば、各バルブを開閉して、ベンチャーノズルの対応する１つを通る希釈済排気の流れを許容又は防止し得る。このような方法で、バルブの位置を調整して、希釈済排気ガスが希釈トンネル１０２及び希釈トンネル排気ライン１４０を流れる速度を調整し得る。
【００６４】
希釈剤サンプル流量計２１２は、希釈剤サンプル供給ライン１５６を流れる希釈ガスサンプルの流量を測定し、希釈剤サンプル流量を示す希釈剤サンプル流量信号を出力する。希釈済サンプル流量計２１４は、希釈済排気供給ライン１３２を流れる希釈済排気ガスサンプルの流量を測定し、希釈済サンプル流量を示す希釈済サンプル流量信号を出力する。軸方向希釈剤流量計２０８、半径方向希釈剤流量計２０９、希釈済排気流量計２１０、希釈剤サンプル流量計２１２、及び希釈済サンプル流量計２１４は、それぞれの流量信号を検査システム制御モジュール２００に出力する。
【００６５】
検査システム制御モジュール２００は、希釈ガスが希釈ガス供給ライン１２６を半径方向に流れる速度を調整して、希釈トンネル１０２の内面の汚染を防ぎ、内面に結露が形成されることを防ぐ。検査システム制御モジュール２００は、下記パラメータ：粒子濃度、粒子数、粒子径、エンジン１１４によって燃焼される燃料のタイプ、及び燃料がエンジン１１４のシリンダーに送られる速度のうちの１つ又は複数（例えば、全て）に基づいて、半径方向希釈剤流量を調整する。１つの例において、検査システム制御モジュール２００は、粒子濃度及び粒子数を使用して所定のサイズより大きい汚染粒子の総数を決定し、総数がそれぞれ増加又は減少すると、半径方向希釈剤流量を増加又は減少させる。別の例において、検査システム制御モジュール２００は、燃料タイプに基づいて複数の所定の流量から目標流量を選択し、半径方向希釈剤流量を目標流量に設定し、次いで燃料供給率に基づいて半径方向希釈剤流量を調整する。
【００６６】
図２をさらに参照すると、希釈トンネル１０２は、内管２１６、内管２１６を囲む外管２１８、及び外管２１８内に配置されたオリフィスプレート２２０を含む。内管２１６は、入口端部２２２及び出口端部２２４（図１）を有する。オリフィスプレート２２０は、内管２１６の入口端部２２２に、又はその近くに配置され、オリフィス２２６を規定する。排気ガス供給ライン１１６を流れる排気ガス（図２において、
【００６７】
【数１】
2020076776.tif 000002
と表示）及び希釈ガス供給ライン１１８を軸方向に流れる希釈ガス（図２において、
【００６８】
【数２】
2020076776.tif 000003
と表示）は、オリフィスプレート２２０のオリフィス２２６を通って、内管２１６の内部２２８に入る。
【００６９】
図２に最もよく示されているように、内管２１６は、内管２１６を半径方向に貫通する複数の孔２３０を有し、外管２１８は、外管２１８を半径方向に貫通する複数の開口部２３２を有する。希釈ガス供給ライン１２６を半径方向に流れる希釈ガス（図２において、
【００７０】
【数３】
2020076776.tif 000004
と表示）は、外管２１８の開口部２３２及び内管２１６の孔２３０を通って、内管２１６の内部２２８に入る。外管２１８の開口部２３２の数は、希釈ガス供給ライン１２６の数に等しくてもよく、各開口部２３２は、希釈ガス供給ライン１２６の１つと一直線になっていてもよく、開口部２３２の直径は、希釈ガス供給ライン１２６の直径に等しくてもよい。一方、内管２１６の孔２３０の数は、希釈ガス供給ライン１２６の数よりも有意に大きくてもよく、孔２３０は、内管２１６の全長及び円周に沿って均一に分布してもよく、孔２３０の直径は、希釈ガス供給ライン１２６の直径よりも小さくてもよい。内管２１６を、多孔壁と呼んでもよい。
【００７１】
内管２１６の孔２３０は、内管に穴を開けることによって形成され得る。代替として、内管２１５は、金属粉末から焼結され、多孔チューブを形成する互いに積み重ねられた複数の多孔質層を生成してもよい。
【００７２】
ここで図３を参照すると、検査システム制御モジュール２００の例示的な実装形態は、粒子径分布モジュール２４０、燃料タイプモジュール２４２、流量制御モジュール２４４、送風機制御モジュール２４６、バルブ制御モジュール２４８、ポンプ制御モジュール２５０、及びサンプリング制御モジュール２５２を含む。粒子径分布モジュール２４０は、排気ガス供給ライン１１６を流れる排気ガス中の汚染粒子のサイズの分布を決定する。例えば、粒子径分布モジュール２４０は、任意の所与の瞬間にいくつの汚染粒子が所定のサイズ範囲内に入るかを決定し得る。粒子径分布モジュール２４０は、粒子径分布を示す信号２５４を出力する。
【００７３】
粒子径分布モジュール２４０は、粒子濃度センサ２０２によって測定される粒子濃度（例えば、質量濃度）と、粒子カウンター２０４によって測定される粒子数とに基づいて、粒子径分布を決定し得る。粒子径分布モジュール２４０は、粒子濃度、粒子数、及び粒子径分布間の所定の関係に基づいて、粒子径分布を決定し得る。例えば、粒子径分布モジュール２４０は、粒子径を表すｘ軸及び粒子数を表すｙ軸についてプロットされたとき、粒子径分布が釣鐘曲線形状を有すると仮定し得る。従って、最も多い粒子は、平均又は中央のサイズ範囲内に入ってもよく、最も少ない粒子は、最小及び最大のサイズ範囲内に入ってもよい。粒子径分布モジュール２４０は、粒子数に基づいて釣鐘曲線の高さを決定してもよく、粒子径分布モジュール２４０は、粒子濃度が増加又は減少すると、釣鐘曲線を右又は左にシフトさせてもよい。
【００７４】
追加として又は代替として、粒子径分布モジュール２４０は、粒子径分析計２０６によって測定される粒子径と、粒子カウンター２０４によって測定される粒子数とに基づいて、粒子径分布を決定し得る。例えば、粒子径分析計２０６によって出力される信号は、任意の所定の時間における排気ガス中の粒子の総数に対して所定のサイズ範囲内に入る汚染粒子の割合を示し得る。従って、粒子径分布モジュール２４０は、この情報を粒子カウンター２０４からの粒子数と組み合わせて使用して、各所定のサイズ範囲内に入る汚染粒子の数を決定し得る。粒子径分布モジュール２４０が、粒子径及び粒子数に基づいて粒子径分布を決定する場合、粒子濃度センサ２０２を省略してもよい。一方、粒子径分布モジュール２４０が、粒子濃度及び粒子数に基づいて粒子径分布を決定する場合、粒子径分析計２０６を省略してもよい。
【００７５】
バルブ制御モジュール２４８は、バルブ１２２の位置を調整して、希釈ガスが希釈トンネル１０２に、軸方向に流れる速度を調整し得る。追加として又は代替として、バルブ制御モジュール２４８は、バルブ１４２の位置を調整して、希釈済排気ガスが希釈トンネル１０２を流れる速度を調整し得る。追加として又は代替として、送風機制御モジュール２４６は、希釈済排気送風機１０６のデューティサイクル又は速度を調整して、希釈済排気ガスが希釈トンネル１０２を流れる速度を調整し得る。バルブ制御モジュール２４８は、バルブ制御信号をバルブ１２２、１４２に出力することによって、バルブ１２２、１４２の位置を調整する。送風機制御モジュール２４６は、送風機制御信号の１つを希釈済排気送風機１０６に出力することによって、希釈済排気送風機１０６のデューティサイクル又は速度を調整する。
【００７６】
１つの例において、送風機制御モジュール２４６は、一定速度で希釈済排気送風機１０６を動作させ、バルブ制御モジュール２４８は、バルブ１４２の位置を調整して目標流量を達成する。バルブ制御モジュール２４８は、バルブ１４２の位置調整によってこれを達成して、希釈済排気流量計２１０によって測定される希釈済排気流量と目標流量との差を最小にし得る。目標流量を、予め決定してもよく、及び／又は流量制御モジュール２４４によって設定してもよい。
【００７７】
送風機制御モジュール２４６及びバルブ制御モジュール２４８は、希釈済排気送風機１０６及びバルブ１４２をそれぞれ制御して、検査スケジュールの全期間にわたって、希釈済排気流量を目標流量に維持し得る。例えば、送風機制御モジュール２４６は、希釈済排気送風機１０６を起動させてもよく、バルブ制御モジュール２４８は、検査スケジュールの最初の検査段階が開始するときにバルブ１４２を開けてもよい。次に、検査スケジュールの最後の検査段階が終了すると、送風機制御モジュール２４６は、希釈済排気送風機１０６を停止させてもよく、バルブ制御モジュール２４８は、バルブ１４２を閉じてもよい。送風機制御モジュール２４６及びバルブ制御モジュール２４８はそれぞれ、検査スケジュールの各検査段階の開始時及び終了時と、検査段階の順序（第１、第２など）を示す検査段階ステータス信号を受け取ってもよく、従って検査スケジュールがいつ開始及び終了するかを示す。
【００７８】
検査段階ステータス信号は、ユーザ入力（例えば、ユーザがボタンを押す、又はタッチスクリーンのアイコンに触れる）に応じて検査スケジュールを実行する検査スケジュール実行モジュール（図示せず）によって生成され得る。検査スケジュール実行モジュールは、検査システム制御モジュール２００の一部であってもよく、或いは検査システム制御モジュール２００と通信する別個のモジュールであってもよい。検査スケジュール実行モジュールは、複数の検査スケジュールを保存し、ユーザ入力に基づいて、複数の検査スケジュールから実行する検査スケジュールを選択し得る。各検査スケジュールは、所定数の検査段階を含み得る。各検査段階は、所定の期間を有してもよく、及び／又は時間に対する目標車両速度を指定してもよい。
【００７９】
検査段階ステータス信号は、各検査段階の開始時と終了時、及び各検査段階の順序を示すことに加えて、時間に対する目標車両速度を示し得る。検査スケジュールモジュールは、パワートレイン制御モジュール（図示せず）に検査段階ステータス信号を出力してもよく、これはエンジン１１４及び／又は電動機（図示せず）を制御して、検査スケジュールに従って車両（図示せず）を動かしてもよい。検査スケジュールモジュールはまた、動力計制御モジュール（図示せず）に検査段階ステータス信号を出力してもよく、これは動力計（図示せず）を制御して、エンジン１１４及び／又は車両の車輪に加えられる負荷を調整してもよい。例えば、検査段階ステータス信号はまた、時間に対する道路勾配の変化を示してもよく、動力計制御モジュールは、エンジン１１４及び／又は車輪に加えられる負荷を調整して、道路勾配のこれらの変化をシミュレートしてもよい。
【００８０】
サンプリング制御モジュール２５２は、バルブ制御モジュール２４８及びポンプ制御モジュール２５０の動作を調整し、検査スケジュールの各検査段階中にサンプルガスをサンプル採取器１４４、１５４に向ける。加えて、サンプリング制御モジュール２５２は、バルブ制御モジュール２４８及びポンプ制御モジュール２５０の動作を調整し、各検査段階後にサンプル採取器１４４、１５４から排出物分析器１１２にガスサンプルを送る。さらに、サンプリング制御モジュール２５２は、バルブ制御モジュール２４８及びポンプ制御モジュール２５０の動作を調整し、ガスサンプルを排出物分析器１１２に送った後にパージガスをサンプル採取器１４４、１５４に送る。さらに、サンプリング制御モジュール２５２は、バルブ制御モジュール２４８及びポンプ制御モジュール２５０の動作を調整し、サンプル採取器１４４、１５４からガスを排出する。サンプリング制御モジュール２５２は、検査段階ステータス信号を使用し、検査スケジュールの各検査段階がいつ開始及び終了するかを決定し得る。
【００８１】
以下の議論において、サンプリング制御モジュール２５２は、バルブ１３４、１４６、１５０、１５８、１６２、１６６、１７８、１８０、１９２、１９４を開閉する。サンプリング制御モジュール２５２は、各バルブの所望の位置（例えば、開又は閉）を示す信号２５６をバルブ制御モジュール２４８に送ることによってこれを達成し得る。また、以下の議論において、サンプリング制御モジュール２５２は、ポンプ１３６、１５２、１６０、１６８、１７６、１９０を起動及び停止する。サンプリング制御モジュール２５２は、各ポンプの所望の状態（例えば、起動又は停止）を示す信号２５８をポンプ制御モジュール２５０に送ることによってこれを達成し得る。
【００８２】
排出物検査スケジュールは、複数の検査段階を含み得る。例えば、アメリカ合衆国環境保護庁（ＥＰＡ）の連邦テスト法は、コールドスタート段階、低温安定化段階、及びホットスタート段階を含む。各検査段階中に、サンプリング制御モジュール２５２は、希釈済排気抽出バルブ１３４を開いて、希釈済排気抽出ポンプ１３６を起動させて希釈トンネル１０２から希釈済排気ガスのサンプルを抽出する。加えて、サンプリング制御モジュール２５２は、希釈済排気充填バルブ１４６及びサンプル採取器バルブ１４７を開いて、希釈済排気ガスサンプルを希釈済排気サンプル採取器１４４に送る。排出物検査システム１００は、上述のように複数の希釈済排気サンプル採取器を含んでもよく、サンプリング制御モジュール２５２は、各検査段階中にサンプル採取器の１つに希釈済排気サンプルを向けてもよい。
【００８３】
また、各検査段階中に、サンプリング制御モジュール２５２は、希釈剤抽出バルブ１５８を開いて、希釈剤抽出ポンプ１６０を起動させて希釈ガス供給ライン１１８から希釈ガスのサンプルを抽出する。加えて、サンプリング制御モジュール２５２は、希釈済排気充填バルブ１４６を開いて、希釈ガスサンプルを希釈剤サンプル採取器１５４に送る。排出物検査システム１００は、上述のように複数の希釈剤サンプル採取器を含んでもよく、サンプリング制御モジュール２５２は、各検査段階中にサンプル採取器の１つに希釈ガスサンプルを向けてもよい。
【００８４】
様々な実装形態において、検査段階中にエンジン１１４がオンである場合、サンプリング制御モジュール２５２は、希釈済排気ガス及び希釈ガスをそれぞれ希釈済排気サンプル採取器１４４及び希釈剤サンプル採取器１５４にのみ向け得る。しかしながら、サンプリング制御モジュール２５２は、検査段階のある時点でエンジン１１４がオンであるかオフであるかに関わらず、希釈ガスをサンプル採取器１４４、１５４に向けて、サンプルのサイズが排出物分析器１１２に十分であることを保証し得る。サンプル制御モジュール２２４は、検査段階において収集されるガスの量及び残っている時間の量に基づいて、この時点を決定し得る。サンプル制御モジュール２２４は、パワートレイン制御モジュールからの入力に基づいて、エンジン１１４がオンであるかオフであるかを判定し得る。
【００８５】
サンプルを収集した後、サンプル採取器１４４、１５４、サンプリング制御モジュール２５２は、リードバルブ１５０、１６６を開いて、リードポンプ１５２、１６８を作動させてサンプルを排出物分析器１１２に向ける。次に、サンプリング制御モジュール２５２は、パージポンプ１９０を作動し、パージバルブ１９２、１９４を開いてパージガスをサンプル採取器１４４、１５４に送る。次いで、サンプリング制御モジュール２５２は、ベントポンプ１７６を作動し、ベントバルブ１７８、１８０を開いて、サンプル採取器１４４、１５４からパージガスを排出する。
【００８６】
燃料タイプモジュール２４２は、エンジン１１４によって燃焼される燃料のタイプを判定し、燃料タイプを示す信号２６０を出力する。燃料タイプモジュール２４２は、ガス状排出物濃度を燃料タイプに関連付ける関数又はマッピング（例えば、ルックアップテーブル）を使用して、ガス状排出物濃度センサ２０７によって測定されるガス状排出物濃度に基づいて、燃料タイプを決定し得る。この目的を達成するために、一定量の燃料を燃焼させると、様々なタイプの燃料の燃焼により、様々な量の水分濃度が生成する。従って、ガス状排出物濃度センサ２０７は、水分濃度センサ又は湿度センサであってもよく、燃料タイプモジュール２４２は、エンジン１１４からの排気ガスの水分濃度（又は湿度）及び燃料がエンジン１１４のシリンダーに送られる速度に基づいて、燃料タイプを決定してもよい。様々な実装形態において、ガス状排出物濃度センサ２０７を、希釈トンネル１０２に配置してもよく、燃料タイプモジュール２４２は、排気ガスと希釈ガスの混合物の水分濃度（又は湿度）、並びに燃料がエンジン１１４のシリンダーに送られる速度に基づいて、燃料タイプを決定してもよい。燃料タイプモジュール２４２は、パワートレイン制御モジュールから燃料供給率を受け取り得る。ガス状排出物濃度センサ２０７は、絶対湿度センサ又は相対湿度センサであり得る。後者の場合、排出物検査システム１００は、排気ガス供給ライン１１６又は希釈トンネル１０２に圧力及び温度センサを含んでもよく、燃料タイプモジュール２４２は、排気ガス供給ライン１１６中で測定される相対湿度、圧力、及び温度に基づいて、その中の絶対湿度を決定してもよい。
【００８７】
加えて、二酸化炭素などのガス状排出物の濃度は、生成される水分濃度と相関している。例えば、一定量の燃料を燃焼させると、ガソリンの燃焼は、ディーゼルの燃焼よりも多くの水分濃度（従って、より多くの二酸化炭素）を生成し、天然ガスの燃焼は、ガソリンの燃焼よりも多くの水分濃度（従って、より多くの二酸化炭素）を生成する。従って、ガス状排出物濃度センサ２０７は、二酸化炭素センサであってもよく、燃料タイプモジュール２４２は、エンジン１１４からの排気ガスの二酸化炭素濃度及び燃料供給率に基づいて、燃料タイプを決定してもよい。燃料タイプモジュール２４２は、パワートレイン制御モジュールから燃料供給率を受け取り得る。
【００８８】
流量制御モジュール２４４は、希釈ガス供給ライン１２６を通る目標の半径方向希釈ガス流量を決定し、バルブ制御モジュール２４８及びポンプ制御モジュール２５０の動作を調整して、目標の半径方向希釈剤流量を達成する。流量制御モジュール２４４は、粒子径分布、燃料タイプ、ガス状排出物濃度、及び／又は燃料がエンジン１１４のシリンダーに送られる速度に基づいて、目標の半径方向希釈剤流量を決定し得る。流量制御モジュール２４４は、パワートレイン制御モジュールから燃料供給率を受け取り得る。
【００８９】
流量制御モジュール２４４は、各希釈ガス供給ライン１２６を通る固有の目標の半径方向希釈ガス流量を決定してもよく、バルブ制御モジュール２４８は、バルブ１２８の対応する１つの位置を調整して、目標の半径方向希釈剤流量を達成してもよい。例えば、流量制御モジュール２４４は、汚染及び結露がより懸念される希釈トンネル１０２の入口端部２２２により近い希釈ガス供給ライン１２６の目標の半径方向希釈剤流量をより高い値に設定してもよい。一方、流量制御モジュール２４４は、汚染及び結露がそれほど懸念されない希釈トンネル１０２の出口端部２２４により近い希釈ガス供給ライン１２６の目標の半径方向希釈剤流量をより低い値に設定してもよい。
【００９０】
検査段階が開始すると、流量制御モジュール２４４は、例えば、燃料タイプ及び燃料供給率を目標の半径方向希釈剤流量に関連付ける関数又はマッピングを使用して、燃料タイプ及び燃料供給率に基づいて、目標の半径方向希釈剤流量を決定し得る。次いで、検査段階が進行すると、流量制御モジュール２４４は、燃料供給率及び／又は粒子径分布に基づいて、目標の半径方向希釈剤流量を調整し得る。例えば、流量制御モジュール２４４は、燃料供給率及び／又は粒子径分布が増加すると目標の半径方向希釈剤流量を増加させてもよく、流量制御モジュール２４４は、燃料供給率及び／又は粒子径分布が減少すると目標の半径方向希釈剤流量を減少させてもよい。
【００９１】
別の例において、流量制御モジュール２４４は、粒子径分布を使用し、所定のサイズより大きい汚染粒子の総数を決定して、その総数に基づいて、目標の半径方向希釈剤流量を調整し得る。議論を簡単にするために、所定のサイズより大きい汚染粒子を、本明細書では大きい汚染粒子と呼ぶ。流量制御モジュール２４４は、大きい汚染粒子の総数が増加すると目標の半径方向希釈剤流量を増加させてもよく、流量制御モジュール２４４は、大きい汚染粒子の総数が減少すると目標の半径方向希釈剤流量を減少させてもよい。流量制御モジュール２４４は、目標の半径方向希釈剤流量を示す信号２６２を出力する。
【００９２】
送風機制御モジュール２４６は、希釈ガス送風機１０４を制御して、希釈ガスを、希釈ガス供給ライン１２６を通して目標の半径方向希釈剤流量で強制的に通し得る。例えば、送風機制御モジュール２４６は、希釈ガス送風機１０４の目標のデューティサイクル又は目標の速度を調整して、例えば、目標のデューティサイクル又は目標の速度を目標の半径方向希釈剤流量に関連付ける関数又はマッピングを使用して、目標の半径方向希釈剤流量を達成し得る。追加として又は代替として、バルブ制御モジュール２４８は、バルブ１２８の目標の位置を調整して、例えば、目標のバルブ位置を目標の半径方向希釈剤流量に関連付ける関数又はマッピングを使用して、目標の半径方向希釈剤流量を達成し得る。
【００９３】
１つの例において、送風機制御モジュール２４６は、一定速度で希釈ガス送風機１０４を動作させ、バルブ制御モジュール２４８は、バルブ１２８の位置を調整して、目標の半径方向希釈剤流量を達成する。バルブ制御モジュール２４８は、バルブ１２８の位置を調整して、半径方向希釈剤流量計２０９によって測定される半径方向希釈剤流量と目標の半径方向希釈剤流量との差を最小にし得る。送風機制御モジュール２４６は、送風機制御信号の１つを希釈ガス送風機１０４に出力することによって、希釈ガス送風機１０４のデューティサイクル又は速度を制御する。バルブ制御モジュール２４８は、バルブ制御信号をバルブ１２８に出力することによって、バルブ１２８の位置を制御する。
【００９４】
希釈済排気ガスを、一定速度で希釈トンネル１０２を通して引き込み得る。従って、希釈トンネル１０２への排気流量が比較的一定のままであれば、希釈トンネル１０２への軸方向希釈剤流量と希釈トンネル１０２への半径方向希釈剤流量の合計は、一定、又はほぼ一定のままであり得る。従って、流量制御モジュール２４４が希釈トンネル１０２への半径方向希釈剤流量を調整すると、流量制御モジュール２４４は、等しく反対の量だけ希釈トンネル１０２への軸方向希釈剤流量を調整する。
【００９５】
流量制御モジュール２４４は、粒子濃度、粒子径、ガス状排出物濃度、燃料タイプ、及び／又は燃料供給率の変化に応じて、各希釈ガス供給ライン１２６を通る半径方向の希釈ガス流量を同じ量だけ調整し得る。例えば、流量制御モジュール２４４によって出力される信号２６２は、希釈ガス供給ライン１２６を通る目標の半径方向希釈剤流量の総量を示してもよく、バルブ制御モジュール２４８は、各バルブ１２８の位置を同じ量だけ調整して、目標の速度を達成してもよい。代替として、信号２６２は、各希釈ガス供給ライン１２６を通る目標の半径方向希釈剤流量を示してもよく、バルブ制御モジュール２４８は、バルブ１２８の位置を異なる量だけ調整して、目標の速度を達成してもよい。
【００９６】
ここで図４を参照すると、希釈トンネル１０２の内管２１６を通る半径方向希釈ガス流量を制御するための例示的な方法は、２７２において開始し、これはまた検査段階の開始を表し得る。２７４において、流量制御モジュール２４４は、希釈トンネル１０２を通る目標の希釈済排気ガス流量と、希釈ガス供給ライン１２６を通る目標の半径方向希釈ガス流量とを所定の値に設定する。流量制御モジュール２４４は、エンジン１１４によって燃焼される燃料のタイプ及び／又は燃料がエンジン１１４のシリンダーに送られる速度に基づいて、複数の所定の値から所定の値を選択し得る。
【００９７】
２７６において、粒子カウンター２０４は、排気ガス供給ライン１１６を流れる排気ガス中の汚染粒子の数をカウントする。２７８において、粒子濃度センサ２０２は、排気ガス供給ライン１１６を流れる排気ガス中の粒子の質量濃度を測定する。２８０において、粒子径分布モジュール２４０は、粒子数及び粒子質量濃度に基づいて、排気ガス供給ライン１１６を流れる排気ガス中の汚染粒子のサイズの分布を決定する。
【００９８】
２８２において、粒子径分布モジュール２４０又は流量制御モジュール２４４は、粒子径分布に基づいて、第１のサイズより大きい汚染粒子の総数を決定する。様々な実装形態において、粒子径分布は、所定のサイズより大きい汚染粒子の総数からなり得る。第１のサイズは予め決定され得る。代替として、粒子径分布モジュール２４０又は流量制御モジュール２４４は、希釈トンネル１０２を通る希釈済排気ガスの目標流量に基づいて、第１のサイズを決定し得る。議論を簡単にするために、第１のサイズより大きい汚染粒子を、本明細書では大きい汚染粒子と呼ぶ。
【００９９】
２８４において、流量制御モジュール２４４は、大きい汚染粒子の総数が増加しているかどうかを判定する。例えば、流量制御モジュール２４４は、現在の反復で決定された大きい汚染粒子の総数が、前の反復で決定された大きい汚染粒子の総数よりも多いかどうかを判定し得る。検査段階が開始すると、流量制御モジュール２４４は、目標の半径方向希釈剤流量を、大きい汚染粒子の仮定した総数に基づいて複数の所定の値から選択される所定の値に設定し得る。従って、第１の反復において、流量制御モジュール２４４は、大きい汚染粒子の決定された総数が、大きい汚染粒子の仮定した総数よりも多い場合、大きい汚染粒子の総数が増加していると判定し得る。大きい汚染粒子の総数が増加している場合、方法は２８６に続く。そうでない場合、方法は２８８に続く。２８６において、流量制御モジュール２４４は、希釈ガス供給ライン１２６を通る目標の半径方向希釈ガス流量を増加させ、希釈トンネル１０２への半径方向希釈ガス流量を増加させる。
【０１００】
２８８において、流量制御モジュール２４４は、大きい汚染粒子の総数が減少しているかどうかを判定する。例えば、流量制御モジュール２４４は、現在の反復で決定された大きい汚染粒子の総数が、前の反復で決定された大きい汚染粒子の総数よりも少ないかどうかを判定し得る。第１の反復において、流量制御モジュール２４４は、第１の反復で決定された大きい汚染粒子の総数が、大きい汚染粒子の仮定した総数よりも少ない場合、大きい汚染粒子の総数が減少していると判定し得る。大きい汚染粒子の総数が減少している場合、方法は２９０に続く。そうでない場合、方法は２９２に続く。２９０において、流量制御モジュール２４４は、希釈ガス供給ライン１２６を通る目標の半径方向希釈ガス流量を減少させ、希釈トンネル１０２への半径方向希釈ガス流量を減少させる。
【０１０１】
２９２において、流量制御モジュール２４４は、検査段階が終了したかどうかを判定する。流量制御モジュール２４４は、検査段階ステータス信号（図３）を使用して、検査スケジュールの各検査段階がいつ開始及び終了するかを決定し得る。検査段階が終了した場合、方法は２９４で終了する。そうでない場合、方法は２７６に戻る。
【０１０２】
ここで図５を参照すると、希釈トンネル１０２の内管２１６を通る半径方向希釈ガス流量を制御するための別の例示的な方法は３０２で開始し、これもまた検査段階の開始を表し得る。３０４において、流量制御モジュール２４４は、希釈トンネル１０２を通る目標の希釈済排気ガス流量と、希釈ガス供給ライン１２６を通る目標の半径方向希釈ガス流量とを、所定の値に設定する。流量制御モジュール２４４は、エンジン１１４によって燃焼される燃料の仮定したタイプ及び／又はエンジン１１４のシリンダーへの仮定した燃料供給率又は燃料流量に基づいて、複数の所定の値から所定の値を選択し得る。
【０１０３】
３０６において、ガス状排出物濃度センサ２０７は、排気ガス供給ライン１１６を流れる排気ガス中のガス状排出物（例えば、二酸化炭素）の濃度を測定する。３０８において、燃料タイプモジュール２４２は、ガス状排出物濃度に基づいて、エンジン１１４によって燃焼される燃料の実際のタイプを判定する。例えば、燃料タイプモジュール２４２は、二酸化炭素（ＣＯ２）濃度が第１の所定の範囲内にある場合、実際の燃料タイプがディーゼルであると判定してもよく、ＣＯ２濃度が第２の所定の範囲内にある場合、実際の燃料タイプがガソリンであると判定してもよく、ＣＯ２濃度が第３の所定の範囲内にある場合、実際の燃料タイプが天然ガスであると判定してもよい。第２の所定の範囲の下限は、第１の所定の範囲の上限よりも大きくてもよく、第３の所定の範囲の下限は、第２の所定の範囲の上限よりも大きくてもよい。
【０１０４】
３１０において、流量制御モジュール２４４は、実際の燃料タイプが仮定した燃料タイプと同じかどうかを判定する。実際の燃料タイプが仮定した燃料タイプと同じである場合、方法は３１２に続く。そうでない場合、方法は３１４に続く。３１４において、流量制御モジュール２４４は、希釈ガス供給ライン１２６を通る目標の半径方向希釈ガス流量を調整して、希釈トンネル１０２への半径方向希釈ガス流量を調整する。例えば、仮定した燃料タイプがディーゼルであり、実際の燃料タイプがガソリンである場合、流量制御モジュール２４４は、目標の半径方向希釈剤流量を増加させ得る。一方、仮定した燃料タイプがガソリンであり、実際の燃料タイプがディーゼルである場合、流量制御モジュール２４４は、目標の半径方向希釈剤流量を減少させ得る。
【０１０５】
３１２において、流量制御モジュール２４４は、エンジン１１４のシリンダーへの燃料流量又は燃料供給率を得る。上記に示すように、流量制御モジュール２４４は、パワートレイン制御モジュールから燃料流量を受け取り得る。３１６において、流量制御モジュール２４４は、燃料流量が増加しているかどうかを判定する。例えば、流量制御モジュール２４４は、現在の反復で得られた燃料流量が前の反復で得られた燃料流量よりも大きいかどうかを判定し得る。上記に示すように、検査段階が開始すると、流量制御モジュール２４４は、目標の半径方向希釈剤流量を、仮定した燃料流量に基づいて複数の所定の値から選択される所定の値に設定し得る。従って、第１の反復において、流量制御モジュール２４４は、第１の反復で得られた燃料流量が仮定した燃料流量よりも大きい場合、燃料流量が増加していると判定し得る。燃料流量が増加している場合、方法は３１８に続く。そうでない場合、方法は３２０に続く。３１８において、流量制御モジュール２４４は、希釈ガス供給ライン１２６を通る目標の半径方向希釈ガス流量を増加させ、希釈トンネル１０２への半径方向希釈ガス流量を増加させる。
【０１０６】
３２０において、流量制御モジュール２４４は、燃料流量が減少しているかどうかを判定する。例えば、流量制御モジュール２４４は、現在の反復で得られた燃料流量が、前の反復で得られた燃料流量よりも小さいかどうかを判定し得る。第１の反復において、流量制御モジュール２４４は、第１の反復で得られた燃料流量が仮定した燃料流量よりも小さい場合、燃料流量が減少していると判定し得る。燃料流量が減少している場合、方法は３２２に続く。そうでない場合、方法は３２４に続く。３２２において、流量制御モジュール２４４は、希釈ガス供給ライン１２６を通る目標の半径方向希釈ガス流量を減少させ、希釈トンネル１０２への半径方向希釈ガス流量を減少させる。
【０１０７】
３２４において、流量制御モジュール２４４は、検査段階が終了したかどうかを判定する。流量制御モジュール２４４は、検査段階ステータス信号（図３）を使用して、検査スケジュールの各検査段階がいつ開始及び終了するかを決定し得る。検査段階が終了した場合、方法は３２６で終了する。そうでない場合、方法は３１２に戻る。
【０１０８】
前述の説明は、本質的に単なる例示であり、開示、その適用、又は使用を限定することを決して意図していない。本開示の広範な教示は、様々な形態で実施できる。従って、本開示は特定の例を含むが、図面、明細書、及び下記特許請求の範囲を検討すると、他の変更が明らかになるため、本開示の真の範囲はそのように限定されるべきではない。方法内の１つ又は複数のステップを、本開示の原理を変更することなく、異なる順序で（又は同時に）実行し得ることを理解されたい。さらに、各実施形態は特定の特徴を有するものとして上記で記載されているが、本開示の任意の実施形態に関して説明されるこれらの特徴の任意の１つ又は複数は、たとえその組み合わせが明示的に説明されていなくても、他の実施形態の任意の特徴に実装及び／又は組み合わせることができる。言い換えれば、記載された実施形態は、相互に排他的ではなく、１つ又は複数の実施形態の相互の置換は、本開示の範囲内に留まる。
【０１０９】
要素間（例えば、モジュール間、回路要素間、半導体層間など）の空間的及び機能的関係を、「接続」、「係合」、「連結」、「隣接」、「隣」、「上」、「上方」、「下」、及び「配置」などの様々な用語を使用して説明する。「直接」であると明示的に記載されていない限り、上記の開示で第１要素と第２要素の関係を説明している場合、その関係は、第１要素と第２要素の間に他の介在要素が存在しない直接的な関係である場合があるが、１つ又は複数の介在要素が（空間的又は機能的に）第１要素と第２要素の間に存在する間接的な関係である場合もある。本明細書で使用される場合、Ａ、Ｂ、及びＣのうち少なくとも１つという表現は、非排他的論理ＯＲを使用する論理（Ａ  ＯＲ  Ｂ  ＯＲ  Ｃ）を意味すると解釈されるべきであり、「Ａのうち少なくとも１つ、Ｂのうち少なくとも１つ、及びＣのうち少なくとも１つ」を意味すると解釈すべきではない。
【０１１０】
図面において、矢印で示される矢の方向は、一般に図に関係のある情報（データ又は指示など）の流れを示す。例えば、要素Ａ及び要素Ｂが様々な情報を交換するが、要素Ａから要素Ｂに送信される情報が図に関連している場合、矢は要素Ａから要素Ｂを指し得る。この一方向の矢は、他の情報が要素Ｂから要素Ａに送信されないことを意味するものではない。さらに、要素Ａから要素Ｂに送られる情報の場合、要素Ｂは、その情報の要求又は受信確認を要素Ａに送り得る。
【０１１１】
以下の定義を含む本出願において、「モジュール」という用語又は「コントローラ」という用語を、「回路」という用語に置き換えてもよい。「モジュール」という用語は、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）；デジタル、アナログ、又はアナログ／デジタル混合ディスクリート回路；デジタル、アナログ、又はアナログ／デジタル混合集積回路；組み合わせ論理回路；フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）；コードを実行するプロセッサ回路（共有、専用、又はグループ）；プロセッサ回路によって実行されるコードを保存するメモリ回路（共有、専用、又はグループ）；説明した機能を提供する他の適切なハードウェアコンポーネント；又はシステムオンチップなど、上記の一部又は全ての組み合わせを指してもよく、その一部であってもよく、又は含んでもよい。
【０１１２】
モジュールは、１つ又は複数のインターフェース回路を含み得る。いくつかの例において、インターフェース回路は、ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）、インターネット、ワイドエリアネットワーク（ＷＡＮ）、又はそれらの組み合わせに接続される有線又は無線インターフェースを含み得る。本開示の任意の所与のモジュールの機能を、インターフェース回路を介して接続される複数のモジュールに分散し得る。例えば、複数のモジュールは、ロードバランシングを可能にし得る。さらなる例において、サーバー（リモート、又はクラウドとしても知られている）モジュールは、クライアントモジュールに代わって一部の機能を達成し得る。
【０１１３】
上記で使用されるコードという用語は、ソフトウェア、ファームウェア、及び／又はマイクロコードを含んでもよく、プログラム、ルーチン、関数、クラス、データ構造、及び／又はオブジェクトを指してもよい。共有プロセッサ回路という用語は、複数のモジュールからの一部又は全てのコードを実行する単一のプロセッサ回路を含む。グループプロセッサ回路という用語は、追加のプロセッサ回路と組み合わせて、１つ又は複数のモジュールからの一部又は全てのコードを実行するプロセッサ回路を含む。複数のプロセッサ回路への言及は、個別のダイ上の複数のプロセッサ回路、単一のダイ上の複数のプロセッサ回路、単一のプロセッサ回路の複数のコア、単一のプロセッサ回路の複数のスレッド、又は上記の組み合わせを含む。共有メモリ回路という用語は、複数のモジュールからの一部又は全てのコードを格納する単一のメモリ回路を含む。グループメモリ回路という用語は、追加のメモリと組み合わせて、１つ又は複数のモジュールからの一部又は全てのコードを格納するメモリ回路を含む。
【０１１４】
メモリ回路という用語は、コンピュータ可読媒体という用語のサブセットである。本明細書で使用されるコンピュータ可読媒体という用語は、（搬送波などの）媒体を介して伝播する一時的な電気又は電磁気信号を含まず、従ってコンピュータ可読媒体という用語を、有形かつ非一時的とみなし得る。非一時的で有形のコンピュータ可読媒体の非限定的な例は、不揮発性メモリ回路（フラッシュメモリ回路、消去可能プログラマブル読み取り専用メモリ回路、又はマスク読み取り専用メモリ回路）、揮発性メモリ回路（スタティックランダムアクセスメモリ回路又はダイナミックランダムアクセスメモリ回路など）、磁気記憶媒体（アナログ若しくは又はデジタル磁気テープ又はハードディスクドライブなど）、及び光記憶媒体（ＣＤ、ＤＶＤ、又はブルーレイディスクなど）である。
【０１１５】
本出願に記載される装置及び方法は、コンピュータプログラムに組み込まれた１つ又は複数の特定の機能を実行するように汎用コンピュータを構成することによって作成された専用コンピュータによって部分的に又は完全に実装し得る。上記の機能ブロック、フローチャートコンポーネント、及び他の要素を、ソフトウェア仕様として機能し、これは、熟練した技術者又はプログラマーの定常業務によってコンピュータプログラムに変換し得る。
【０１１６】
コンピュータプログラムは、少なくとも１つの非一時的な有形のコンピュータ可読媒体に保存されたプロセッサ実行可能命令を含む。コンピュータプログラムはまた、保存されたデータを含むか、それに依存し得る。コンピュータプログラムは、専用コンピュータのハードウェアと相互作用する基本入出力システム（ＢＩＯＳ）、専用コンピュータの特定の装置と相互作用するデバイスドライバ、１つ又は複数のオペレーティングシステム、ユーザアプリケーション、バックグラウンドサービス、バックグラウンドアプリケーションなどを含み得る。
【０１１７】
コンピュータプログラムは、（ｉ）ＨＴＭＬ（ハイパーテキストマークアップ言語）、ＸＭＬ（エクステンシブルマークアップ言語）、又はＪＳＯＮ（JavaScript Object Notation）などの、解析される説明テキスト、（ｉｉ）アセンブリコード、（ｉｉｉ）コンパイラによってソースコードから生成されたオブジェクトコード、（ｉｖ）インタープリターによる実行のためのソースコード、（ｖ）ジャストインタイムコンパイラによるコンパイルと実行のためのソースコード、などを含み得る。単なる例として、ソースコードを、C、C++、C#、Objective−C、Swift、Haskell、Go、SQL、R、Lisp、Java（登録商標）、Fortran、Perl、Pascal、Curl、OCaml、Javascript（登録商標）、HTML5（ハイパーテキストマークアップ言語第５版）、Ada、ASP（アクティブサーバーページ）、PHP（PHP：ハイパーテキストプリプロセッサ）、Scala、Eiffel、Smalltalk、Erlang、Ruby、Flash（登録商標）、Visual Basic（登録商標）、Lua、MATLAB、SIMULINK、及びPython（登録商標）などの言語の構文を使用して記載し得る。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【外国語明細書】
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