(57)【要約】【課題】列状の機能層が並設されたパネル構造において、列方向における機能層の膜厚の変化に起因する行方向の筋状の輝度ムラを目立たなくする。【解決手段】  基板上に行列状に配された複数の画素電極と、基板上方であって、少なくとも画素電極の間に列方向に延伸して行方向に並設された複数の列バンクと、行方向に隣接する列バンク間の間隙のそれぞれに列方向に連続して配されている有機発光層と、有機機能層上方に配された対向電極とを備え、同一発光色の有機材料を含むインクを塗布対象となる間隙に塗布する際のノズルパターンを変更する。これにより、間隙の列方向における膜厚の変動が、行方向の同じ位置に連続して現出しにくくなり、発光層の膜厚の変動に起因する行方向の筋状の輝度ムラを目立たなくすることができる。【選択図】図８
2020087909.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素が行列状に配された有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、
基板を準備する工程と、
前記基板上に行列状に複数の画素電極を形成する工程と、
前記基板上方であって、少なくとも前記画素電極の行方向における間に列方向に延伸する列隔壁を並設する工程と、
行方向に隣接する前記列隔壁間の間隙に、複数のノズルが列方向に配設されたヘッドを、前記基板に対して行方向に相対的に移動させ、前記複数のノズルのうち選択された一部のノズルから有機材料を含む１種または複数種のインクを吐出する塗布処理を実行して有機発光層を含む機能層を形成する工程と、
前記機能層上方に対向電極を形成する工程とを含み、
前記機能層を形成する工程において、
同一種のインクを供給すべき間隙群のうち、行方向に隣接する間隙と比べてインクを吐出する吐出ノズルの組み合わせのパターンが異なっている間隙がある
ことを特徴とする有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記機能層を形成する工程において、
前記有機材料は、有機発光材料であり、前記機能層は、前記有機発光層である
ことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記同一種のインクを供給すべき間隙群のうち、行方向に連続して隣接するＮ列（Ｎは２以上の自然数）の間隙について各列毎の吐出ノズルの組み合わせのパターンが異なるように予め決められており、Ｎ列分の前記吐出ノズルの組み合わせのパターンを行方向に繰り返しながら、前記間隙群に対して塗布処理を実行する
ことを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記Ｎは、６以上の自然数である
ことを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項５】
前記間隙ごとの吐出ノズルの組み合わせのパターンは、一の間隙において１回吐出に使用したノズルは、少なくとも、同一種のインクを供給すべき次の間隙へのインクの吐出に使用しないように設定されている
ことを特徴とする請求項１から４までのいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項６】
前記機能層を形成する工程において、
前記ヘッドの位置を前記行方向において固定し、前記基板を前記ヘッドに対し行方向に移動させながら、前記塗布処理を実行する
ことを特徴とする請求項１から５までのいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項７】
前記機能層を形成する工程は、
発光色の異なる第１の有機発光層と第２の有機発光層を形成する工程を含み、前記第１の有機発光層を形成する工程で使用する吐出ノズルの組み合わせパターンと前記第２の有機発光層を形成する工程で使用する吐出ノズルの組み合わせパターンとが異なる
ことを特徴とする請求項１から６までのいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項８】
前記第１の有機発光層を形成する工程で使用する吐出ノズルの組み合わせパターンと前記第２の有機発光層を形成する工程で使用する吐出ノズルの組み合わせパターンは、一つの間隙にインクを供給するために使用される吐出ノズルの個数が異なる
ことを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項９】
複数の画素が行列状に配された表示パネルの製造方法であって、
基板を準備する工程と、
前記基板上に行列状に複数の画素電極を形成する工程と、
前記基板上方であって、少なくとも前記画素電極の行方向における間に列方向に延伸する列隔壁を並設する工程と、
行方向に隣接する前記列隔壁間の間隙に、複数のノズルが列方向に配設されたヘッドを、前記基板に対して行方向に相対的に移動させ、前記複数のノズルのうち選択された一部のノズルから、機能性材料を含む１種または複数種のインクを吐出する塗布処理を実行して機能層を形成する工程と、
前記機能層上方に対向電極を形成する工程とを含み、
前記機能層を形成する工程において、同一種のインクを供給すべき間隙群のうち、行方向に隣接する間隙と比べてインクを吐出する吐出ノズルの組み合わせのパターンが異なっている間隙がある
ことを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項１０】
複数の画素が行列状に配されてなる表示パネルにおける機能層を形成する機能層形成装置であって、
前記基板上方であって、少なくとも複数の画素電極の行方向における間に列方向に延在する複数の列隔壁のうち、行方向に隣接する行隔壁間の間隙のそれぞれに、機能性材料を含む１種または複数種のインクを塗布する塗布装置を備え、
前記塗布装置は、
複数のノズルが前記列方向と並行に配設されたヘッドと、
前記ヘッドを前記基板に対して前記行方向に相対的に移動させる移動部と、
前記複数のノズルのうち選択された一部のノズルによりインクの供給を実行する場合に、同一種のインクを供給すべき間隙群のうち、行方向に隣接する間隙と比べてインクを吐出するノズルの組み合わせのパターンが異なっている間隙があるようにノズルを選択してインクを供給させる供給制御部と
を有することを特徴とする機能層形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、表示パネル、特に、有機材料の電界発光現象を利用した有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネルの製造方法および機能層形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、デジタルテレビ等の表示装置に用いられる表示パネルとして、基板上に有機ＥＬ素子をマトリックス状に複数配列した有機ＥＬ表示パネルが実用化されている。この有機ＥＬ表示パネルは、各有機ＥＬ素子が自発光を行うので視認性が高い。
【０００３】
この有機ＥＬ表示パネルでは、一般に各有機ＥＬ素子の発光層と、隣接する有機ＥＬ素子の発光層とは、絶縁材料からなる隔壁で仕切られている。カラー表示用の有機ＥL表示パネルにおいては、このような有機ＥＬ素子が、ＲＧＢ各色の画素を形成し、隣り合うＲＧＢの画素が合わさってカラー表示における単位画素が形成されている。各有機ＥＬ素子は、陽極と陰極の一対の電極の間に有機発光材料を含む発光層等の機能膜が配設された素子構造を有し、駆動時には、一対の電極対間に電圧を印加し、陽極から発光層に注入されるホールと、陰極から発光層に注入される電子との再結合に伴って発光する。
【０００４】
近年、デバイスの大型化が進み、効率の良い機能膜の成膜方法として、機能性材料を含むインクをインクジェット法等に基づいて塗布するウエットプロセスが提案されている。
【０００５】
例えば、特許文献１では、列方向に延びる隔壁間に同一濃度の有機材料溶液を滴下し、隔壁内容積に応じた溶液量を塗布することによって成膜することができるので、簡単で且つ容易なプロセスで均質な有機発光層の形成が可能となることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−２３４２３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の技術では、列方向に発光層の微小な膜厚バラツキが残存する場合があり、表示画像に筋状の輝度ムラが視認され得るという課題があった。
【０００８】
本開示は、上記課題に鑑みてなされたものであって、列方向における機能層の膜厚の変化に起因する、行方向の筋状の輝度ムラが目立たない有機ＥＬ表示パネルの製造方法および機能層形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本開示の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、複数の画素が行列状に配された有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、基板を準備する工程と、前記基板上に行列状に複数の画素電極を形成する工程と、前記基板上方であって、少なくとも前記画素電極の行方向における間に列方向に延伸する列隔壁を並設する工程と、行方向に隣接する前記列隔壁間の間隙に、複数のノズルが列方向に配設されたヘッドを、前記基板に対して行方向に相対的に移動させ、前記複数のノズルのうち選択された一部のノズルから有機材料を含む１種または複数種のインクを吐出する塗布処理を実行して有機発光層を含む機能層を形成する工程と、前記機能層上方に対向電極を形成する工程とを含み、前記機能層を形成する工程において、同一種のインクを供給すべき間隙群のうち、行方向に隣接する間隙と比べてインクを吐出する吐出ノズルの組み合わせのパターンが異なっている間隙があることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本開示の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、有機発光層を含む列状の機能層が並設されたパネル構造において、同一種のインクを塗布する機能層において列方向に生じる膜厚の変化が行方向に連続して生じるのを抑制して、行方向の筋状の輝度ムラを目立たなくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の回路構成を示す模式ブロック図である。
【図２】有機ＥＬ表示装置に用いる表示パネルの各副画素における回路構成を示す模式回路図である。
【図３】表示パネルの模式平面図である。
【図４】図３におけるＡ０部の拡大平面図である。
【図５】列バンクと行バンクを形成した段階における基板の斜視図である。
【図６】（ａ）は、発光層の塗布装置の側面図、（ｂ）は同装置の正面図を、それぞれ示す。
【図７】表示パネルの製造方法において、基板上の隣接する列バンク５２２Ｙ間の間隙に発光層形成用のインクを塗布する工程を示す模式平面図である。
【図８】（ａ）は、従来の吐出ノズルのパターン、（ｂ）は、本開示に係る吐出ノズルのパターンをそれぞれ示す図である。
【図９】発光層の塗布装置における制御部の構成を示すブロック図である。
【図１０】制御部における、塗布装置の塗布動作の制御内容を示すフローチャートである。
【図１１】本実施の形態により形成した、有機ＥＬパネルの表示画像を示す写真である。
【図１２】図４における有機ＥＬパネルをＡ２−Ａ２で切断した模式断面図である。
【図１３】表示パネルの製造工程を示すフローチャートである。
【図１４】（ａ）〜（ｄ）は、表示パネルの製造における各工程での状態を示す模式断面図である。
【図１５】（ａ）〜（ｃ）は、図１４に続く表示パネルの製造工程を示す模式断面図である。
【図１６】（ａ）〜（ｄ）は、図１５に続く表示パネルの製造工程を示す模式断面図である。
【図１７】（ａ）〜（ｇ）は、表示パネルの製造において、別途カラーフィルタ基板を製造する工程を示す模式断面図である。
【図１８】（ａ）〜（ｂ）は、図１６に続く表示パネルの製造工程を示す模式断面図である。
【図１９】（ａ）は、インクジェット法により、基板上の隣接する列バンク５２２Ｙ間の間隙５２２ｚＸに発光層形成用のインクを塗布する工程を示す模式的な側面図であり、（ｂ）は、その平面図である。
【図２０】（ａ）は、従来の表示パネルの表示画像を示す写真、（ｂ）は、（ａ）のＸ１〜Ｘ４の位置におけるＹ方向の輝度分布の測定結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
≪本開示の一態様に至った経緯≫
効率の良い機能膜の成膜方法として、機能性材料を含むインクをインクジェット法等に基づいて塗布するウエットプロセスが提案されている。ウエットプロセスは機能膜を塗り分ける際の位置精度が基板サイズに依存せず、デバイスの大型化への技術的障壁が比較的低いメリットがある。
【００１３】
図１９（ａ）は、代表的なウエットプロセスのインクジェット法により、基板上の隣接する列バンク５２２Ｙ間の間隙５２２ｚＸに発光層形成用のインクを塗布する工程を示す側面図、図１９（ｂ）は、その模式平面図である。
【００１４】
同工程では、図１９（ａ）に示すように、基板１００ｘ表面に対してインクヘッドＩを一方向に相対的に走査し、インクジェトヘッドＩの複数のノズルから基板表面の所定領域にインクＤ‘を滴下し、インクの溶媒を蒸発乾燥させて発光層１２３Ｘを成膜する。
【００１５】
その際、図１９（ｂ）に示すように、基板上にインクを滴下して塗布するプロセスにおいて、インクヘッドの複数のノズルから吐出されるインクＤ’の滴下量のバラツキ等に起因して形成される発光層１２３Ｘの膜厚１１〜１３がノズル列に平行な方向（Ｙ方向）で変動する傾向がある。
【００１６】
これは、主にインクヘッドのノズルから吐出されるインク滴の大きさのばらつき、ノズル間隔のばらつき、インク塗布面における濡れ広がりの不均一などに起因すると考えられる。
【００１７】
これに対して、特許文献１では、上述のとおり、Ｙ方向の隔壁間に同一濃度の有機材料溶液を滴下し、隔壁内容積に応じた溶液量を塗布することによって成膜するようにしているので、簡単で且つ容易なプロセスで均質な有機発光層の形成が可能となるとしている。
【００１８】
すなわち、塗布されたインクがノズル列に平行な方向に画素間の流動を許容するライン状のバンク間隙からなる列状塗布領域を設けることにより、塗布されたインクがノズル列に平行な方向（Ｙ方向）でレべリングされて機能層の膜厚バラツキが低減し、有機ＥＬ表示パネルにおいて筋状の輝度ムラを低減されることが可能となるものと考えられる。
【００１９】
しかしながら、発明者の検討によると、インクジェット装置のノズル列に平行な列状塗布領域を設けて塗布されたインクのレべリングした場合でも、機能層の微小な膜厚バラツキを完全に解消することは難しく、表示画面にＸ方向に伸びる筋状の輝度ムラが認識されるという課題があることが判明した。
【００２０】
図２０（ａ）は、従来の有機ＥＬ表示パネルの表示画像を示す写真であり、Ｘ、Ｙ方向とも、基板１００ｘ上の１５０副画素の領域を示した写真である。このように、発光層１２３Ｘの膜厚が異なると発光特性が異なるため、有機ＥＬ表示パネルとしてノズル走査方向に平行な筋状の輝度ムラ発生の原因となっていた。
【００２１】
特に、トップエミッション型の有機ＥＬ素子は、画素電極の表面部が高い光反射性を有する材料を用いるとともに、膜厚方向における光学的距離を最適に設定して光共振器構造を採用することにより出射される発光効率を向上させるように各機能層の膜厚が設計されているため、上述のように膜厚のムラが輝度ムラに与える影響は大きい。
【００２２】
図２０（ｂ）は、図２０（ａ）のＸ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４の各位置における、Ｙ方向の１５０副画素に相当する領域の輝度分布の測定結果である。図２０（ｂ）によると、インクヘッドＩの走査方向（Ｘ方向）における異なる位置Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４での輝度分布は、列方向（Ｙ方向）に類似した分布形状をなし、行方向に筋状の輝度ムラとして認識されることがわかる。
【００２３】
そこで、発明者らは、上記課題に鑑み、発光層を含む列状の機能層が並設されたパネル構造において、列方向における機能層の膜厚の変化に起因する行方向の筋状の輝度ムラを目立たなくする構成について鋭意検討を行い、以下の開示の形態に至ったものである。
【００２４】
≪本開示の一態様の概要≫
本開示の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、複数の画素が行列状に配された有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、基板を準備する工程と、前記基板上に行列状に複数の画素電極を形成する工程と、前記基板上方であって、少なくとも前記画素電極の行方向における間に列方向に延伸する列隔壁を並設する工程と、行方向に隣接する前記列隔壁間の間隙に、複数のノズルが列方向に配設されたヘッドを、前記基板に対して行方向に相対的に移動させ、前記複数のノズルのうち選択された一部のノズルから有機材料を含む１種または複数種のインクを吐出する塗布処理を実行して有機発光層を含む機能層を形成する工程と、前記機能層上方に対向電極を形成する工程とを含み、前記機能層を形成する工程において、同一種のインクを供給すべき間隙群のうち、行方向に隣接する間隙と比べてインクを吐出する吐出ノズルの組み合わせのパターンが異なっている間隙があることを特徴とする。
【００２５】
本開示の態様によれば、列状の機能層が並設されたパネル構造において、同一種のインクを供給すべき間隙群のうち、行方向に隣接する間隙と比べてインクを吐出する吐出ノズルの組み合わせのパターンが異なっている間隙があるので、有機発光層を含む機能層の膜厚の変化の状態が行方向に連続しなくなり、筋状の輝度ムラの発生が軽減された有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。
【００２６】
また、本開示の別の態様は、上記機能層を形成する工程において、前記有機材料は、有機発光材料であり、前記機能層は、前記有機発光層である。
【００２７】
係る態様により、輝度に大きな影響を与える有機発光層の膜厚の列方向における変化が、行方向に連続するのを抑制でき、筋状の輝度ムラとしてより目立ちにくくすることができる。
【００２８】
本開示の別の態様は、上記態様において、前記同一種のインクを供給すべき間隙群のうち、行方向に連続して隣接するＮ列（Ｎは２以上の自然数）の間隙について各列毎の吐出ノズルの組み合わせのパターンが異なるように予め決められており、Ｎ列分の前記吐出ノズルの組み合わせのパターンを行方向に繰り返しながら、前記間隙群に対して塗布処理を実行する。
【００２９】
係る態様により、Ｎ列分の吐出ノズルの組み合わせパターンだけを予め決定しておくだけで、全体の表示画面に筋状の輝度ムラが発生しないようにすることができる。
【００３０】
ここで、前記Ｎは、６以上の自然数であることが望ましい。
【００３１】
吐出ノズルの組み合わせの異なるパターンが６列分以上あれば、これを行方向に繰り返しても、筋状の輝度ムラがほとんど視認されることはなく表示画面を劣化させないようにすることができる。
【００３２】
また、本開示の別の態様は、上記態様において、前記間隙ごとの吐出ノズルの組み合わせのパターンは、一の間隙において１回吐出に使用したノズルは、少なくとも、同一種のインクを供給すべき次の間隙へのインクの吐出に使用しないように設定されている。
【００３３】
係る態様により、同一種のインクを供給すべき間隙群において、行方向に吐出ノズルが隣接することがなくなるので、有機ＥＬ表示パネルの全面に亘って筋状の輝度ムラが同程度に目立たないようにすることができる。
【００３４】
また、本開示の別の態様では、前記機能層を形成する工程において、前記ヘッドの位置を前記行方向において固定し、前記基板を前記ヘッドに対し行方向に移動させながら、前記塗布処理を実行する。
【００３５】
係る態様によれば、基板へのインクの塗布処理の精度をより安定させることができる。
【００３６】
また、本開示の別の態様では、前記機能層を形成する工程は、発光色の異なる第１の有機発光層と第２の有機発光層を形成する工程を含み、前記第１の有機発光層を形成する工程で使用する吐出ノズルの組み合わせパターンと前記第２の有機発光層を形成する工程で使用する吐出ノズルの組み合わせパターンとが異なる。
【００３７】
係る態様により、異なる発光色の発光層同士でも吐出ノズルの組み合わせパターンが異なるので、より筋状の輝度ムラの解消に資する。
【００３８】
また、本開示の別の態様では、上記態様において、前記第１の有機発光層を形成する工程で使用する吐出ノズルの組み合わせパターンと前記第２の有機発光層を形成する工程で使用する吐出ノズルの組み合わせパターンは、一つの間隙にインクを供給するために使用される吐出ノズルの個数が異なる。
【００３９】
係る態様によれば、異なる発光色の有機発光層ごとに異なる膜厚を形成することができ、光共振器構造を構築しつつ、筋状の輝度ムラの発生を低減することができる。
【００４０】
また、本開示の別の態様では、複数の画素が行列状に配された表示パネルの製造方法であって、基板を準備する工程と、前記基板上に行列状に複数の画素電極を形成する工程と、前記基板上方であって、少なくとも前記画素電極の行方向における間に列方向に延伸する列隔壁を並設する工程と、行方向に隣接する前記列隔壁間の間隙に、複数のノズルが列方向に配設されたヘッドを、前記基板に対して行方向に相対的に移動させ、前記複数のノズルのうち選択された一部のノズルから、機能性材料を含む１種または複数種のインクを吐出する塗布処理を実行して機能層を形成する工程と、前記機能層上方に対向電極を形成する工程とを含み、前記機能層を形成する工程において、同一種のインクを供給すべき間隙群のうち、行方向に隣接する間隙と比べてインクを吐出する吐出ノズルの組み合わせのパターンが異なっている間隙がある。
【００４１】
係る態様により、有機ＥＬ表示パネル以外の表示パネルを含めて、筋状の輝度ムラの発生が抑制された表示パネルの製造が可能となる。
【００４２】
なお、ここで、「機能性材料」とは、特定の発光特性を有する材料や、正孔注入機能、正孔輸送機能、電子注入機能、電子輸送機能など、目的の表示パネルを構成するため特定の機能を発揮する材料を意味している。
【００４３】
また、本開示の別の態様では、複数の画素が行列状に配されてなる表示パネルにおける機能層を形成する機能層形成装置であって、前記基板上方であって、少なくとも複数の画素電極の行方向における間に列方向に延在する複数の列隔壁のうち、行方向に隣接する行隔壁間の間隙のそれぞれに、機能性材料を含む１種または複数種のインクを塗布する塗布装置を備え、前記塗布装置は、複数のノズルが前記列方向と並行に配設されたヘッドと、前記ヘッドを前記基板に対して前記行方向に相対的に移動させる移動部と、前記複数のノズルのうち選択された一部のノズルによりインクの供給を実行する場合に、同一種のインクを供給すべき間隙群のうち、行方向に隣接する間隙と比べてインクを吐出するノズルの組み合わせのパターンが異なっている間隙があるようにノズルを選択してインクを供給させる供給制御部とを有する。
【００４４】
係る態様の機能層形成装置により、同一種のインクを供給すべき間隙群に塗布された機能層に列方向の膜厚の変化が生じたとしても、筋状の輝度ムラとして認識しにくい表示パネルを製造することができる。
【００４５】
≪実施の形態≫
１．表示装置の構成
（１）表示装置１の回路構成
以下では、実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置１（以後、「表示装置１」と称する）の回路構成について、図１を用い説明する。
【００４６】
図１に示すように、表示装置１は、有機ＥＬ表示パネル１０（以後、「表示パネル１０」と称する）と、これに接続された駆動制御回路部２０とを有して構成されている。
【００４７】
表示パネル１０は、有機材料の電界発光現象を利用した有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）パネルであって、複数の有機ＥＬ素子が、例えば、マトリクス状に配列され構成されている。
【００４８】
駆動制御回路部２０は、４つの駆動回路２１〜２４と制御回路２５とにより構成されている。
【００４９】
（２）表示パネル１０の回路構成
表示パネル１０においては、複数の単位画素１００ｅが行列状に配されて表示領域を構成している。各単位画素１００ｅは、３個の有機ＥＬ素子、つまり、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色に発光する３個の副画素１００ｓｅから構成される。各副画素１００ｓｅの回路構成について、図２を用い説明する。
【００５０】
図２は、表示装置１に用いる表示パネル１０の各副画素１００ｓｅに対応する有機ＥＬ素子１００における回路構成を示す回路図である。
【００５１】
図２に示すように、本実施の形態に係る表示パネル１０では、各副画素１００ｓｅが２つのトランジスタＴｒ1、Ｔｒ2と一つのキャパシタＣ、及び発光部としての有機ＥＬ素子部ＥＬとを有し構成されている。トランジスタＴｒ1は、駆動トランジスタであり、トランジスタＴｒ2は、スイッチングトランジスタである。
【００５２】
スイッチングトランジスタＴｒ2のゲートＧ2は、走査ラインＶｓｃｎに接続され、ソースＳ2 は、データラインＶｄａｔに接続されている。スイッチングトランジスタＴｒ2 のドレインＤ2は、駆動トランジスタＴｒ1のゲートＧ1に接続されている。
【００５３】
駆動トランジスタＴｒ1のドレインＤ1は、電源ラインＶａに接続されており、ソースＳ1 は、有機ＥＬ素子部ＥＬの画素電極（アノード）に接続されている。有機ＥＬ素子部ＥＬにおける共通電極（対向電極：カソード）は、接地ラインＶｃａｔに接続されている。
【００５４】
なお、キャパシタＣの第１端は、スイッチングトランジスタＴｒ2のドレインＤ2及び駆動トランジスタＴｒ1のゲートＧ1と接続され、キャパシタＣの第２端は、電源ラインＶａと接続されている。
【００５５】
表示パネル１０においては、隣接する複数の副画素１００ｓｅ（例えば、赤色（Ｒ）と緑色（Ｇ）と青色（Ｂ）の発光色の３つの副画素１００ｓｅ）を組み合せて１つの単位画素１００ｅを構成し、各単位画素１００ｅが分布するように配されて画素領域を構成している。そして、各副画素１００ｓｅのゲートＧ2からゲートラインが各々引き出され、表示パネル１０の外部から接続される走査ラインＶｓｃｎに接続されている。同様に、各副画素１００ｓｅのソースＳ2からソースラインが各々引き出され表示パネル１０の外部から接続されるデータラインＶｄａｔに接続されている。
【００５６】
また、各副画素１００ｓｅの電源ラインＶａ及び各副画素１００ｓｅの接地ラインＶｃａｔは集約されて、表示装置１の電源ライン及び接地ラインに接続されている。
【００５７】
（３）表示パネル１０の全体構成
（３−１）表示パネル１０の概要
本実施の形態に係る表示パネル１０について、図面を用いて説明する。なお、図面は模式図であって、その縮尺は実際とは異なる場合がある。
【００５８】
図３は、表示パネル１０の模式平面図である。表示パネル１０は、有機化合物の電界発光現象を利用した有機ＥＬ表示パネルであり、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が形成された基板１００ｘ（ＴＦＴ基板）に、各々が画素を構成する複数の有機ＥＬ素子１００が行列状に配され、上面より光を発するトップエミッション型の構成を有する。ここで、本明細書では、図３におけるＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向を、それぞれ表示パネル１０における、行方向、Ｙ方向、厚み方向とする。
【００５９】
図３に示すように、表示パネル１０は、基板１００ｘ上をマトリックス状に区画してＲＧＢ各色の発光単位を規制する列バンク５２２Ｙ（列隔壁）と行バンク１２２Ｘ（行絶縁層）とが配された区画領域１０ａ（Ｘ、Ｙ方向にそれぞれ１０Ｘａ、１０Ｙａ、区別を要しない場合は１０ａとする）と、区画領域１０ａの周囲に非区画領域１０ｂ（Ｘ、Ｙ方向にそれぞれ１０Ｘｂ、１０Ｙｂ、区別を要しない場合は１０ｂとする）とから構成されている。区画領域１０ａの列方向の外周縁は列バンク５２２Ｙの列方向の端部に相当する。非区画領域１０ｂには、区画領域１０ａを取り囲む矩形状の封止部材（不図示）が形成されている。
【００６０】
（３−２）有機ＥＬ素子１００の概要
図４は、図３におけるＡ０部の拡大平面図である。
【００６１】
表示パネル１０の区画領域１０ａには、複数の有機ＥＬ素子１００から構成される単位画素１００ｅが行列状に配されている。各単位画素１００ｅには、有機化合物により光を発する領域である、赤色に発光する１００ａＲ、緑色に発光する１００ａＧ、青色に発光する１００ａＢ（以後、１００ａＲ、１００ａＧ、１００ａＢを区別しない場合は、「１００ａ」と略称する）の３種の自己発光領域１００ａが形成されている。すなわち、行方向に並んだ自己発光領域１００ａＲ、１００ａＧ、１００ａＢのそれぞれに対応する３つの副画素１００ｓｅが１組となりカラー表示における単位画素１００ｅを構成している。
【００６２】
表示パネル１０には、複数の画素電極１１９が基板１００ｘ上に行及び列方向にそれぞれ所定の距離だけ離れた状態で行列状に配されている。複数の画素電極１１９は、平面視において例えば、概矩形形状であり、画素電極１１９は光反射材料からなる。行方向に順に３つ並んだ画素電極１１９は、行方向に順に並んだ３つの自己発光領域１００ａＲ、１００ａＧ、１００ａＢに対応する。
【００６３】
画素電極１１９とこれに隣接する画素電極１１９とは、互いに絶縁されている。隣接する画素電極１１９間には、絶縁層形式のライン状に延伸する絶縁層が設けられている。
【００６４】
１つの画素電極１１９と、これに行方向に隣接する画素電極１１９との間（１つの画素電極１１９の行方向の外縁１１９ａ３と、この画素電極１１９に行方向に隣接する画素電極１１９の行方向の外縁１１９ａ４との間）に位置する基板１００ｘ上の領域上方には、各条が列方向（図３のＹ方向）に延伸する列バンク５２２Ｙが複数列並設されている。そのため、自己発光領域１００ａの行方向外縁は、列バンク５２２Ｙの行方向外縁により規定される。
【００６５】
一方、１つの画素電極１１９と、これに列方向に隣接する画素電極１１９との間（１つの画素電極１１９の列方向の外縁１１９ａ２と、この画素電極１１９に列方向に隣接する画素電極１１９の列方向の外縁１１９ａ１との間）に位置する基板１００ｘ上の領域上方には、各条が行方向（図３のＸ方向）に延伸する行バンク１２２Ｘが複数行並設されている。行バンク１２２Ｘが形成される領域は、画素電極１１９上方の発光層１２３において有機電界発光が生じないために非自己発光領域１００ｂとなる。そのため、自己発光領域１００ａの列方向における外縁は、行バンク１２２Ｘの列方向外縁により規定される。
【００６６】
隣り合う列バンク５２２Ｙ間を間隙と定義したとき、間隙５２２ｚには、自己発光領域１００ａＲに対応する赤色間隙５２２ｚＲ、自己発光領域１００ａＧに対応する緑色間隙５２２ｚＧ、自己発光領域１００ａＢに対応する青色間隙５２２ｚＢ（以後、間隙５２２ｚＲ、間隙５２２ｚＧ、間隙５２２ｚＢを区別しない場合は、「間隙５２２ｚ」と称する）が存在し、表示パネル１０は、列バンク５２２Ｙと間隙５２２ｚとが交互に多数並んだ構成を採る。
【００６７】
表示パネル１０では、複数の自己発光領域１００ａと非自己発光領域１００ｂとが、間隙５２２ｚＲ、間隙５２２ｚＧ、間隙５２２ｚＢに沿って列方向に交互に並んで配されている。非自己発光領域１００ｂには、画素電極１１９とＴＦＴのソースＳ1 とを接続する接続凹部（コンタクトホール、不図示）があり、画素電極１１９に対して電気接続するための画素電極１１９上のコンタクト領域（コンタクトウインドウ、不図示）が設けられている。
【００６８】
１つの副画素１００ｓｅにおいて、列方向に設けられた列バンク５２２Ｙと行方向に設けられた行バンク１２２Ｘとは直交し、自己発光領域１００ａは、列方向において行バンク１２２Ｘと、この行バンク１２２Ｘに隣接する行バンク１２２Ｘの間に位置している。
【００６９】
図５は、列バンク５２２Ｙと行バンク１２２Ｘの形成状態を説明するため、上記表示パネル１０の一部の斜視図である。同図に示すように、行バンク１２２Ｘの高さが列バンク５２２Ｙの高さよりも十分低い構造となっている（ラインバンク方式）。塗布装置のノズルから間隙５２２ｚＧ、５２２ｚＢに吐出されたインクの液面が、行バンク１２２Ｘよりも高くなり、インクが列方向（Ｙ方向）に流動して、インクの液面がレベリングされ、膜厚の列方向における変動が少なくなるようになっている。
【００７０】
２．塗布装置２００
（１）塗布装置２００の構成
機能層がウエットプロセスにより形成されるとき、機能層を形成する装置（機能層形成装置）の一態様として、以下のような塗布装置が用いられる。
【００７１】
図６（ａ）は、有機発光材料を含むインクを間隙５２２ｚに塗布して有機発光層を形成するための塗布装置２００の構成を示す側面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）をＸ方向から見た正面図である。
【００７２】
図６（ａ）に示すように、塗布装置２００は、インクヘッド２１１を有するインク塗布部２１０と、貯留したインクをインクヘッド２１１に供給するインクタンク２２０と、列バンク５２２Ｙと行バンク１２２Ｘが形成され、発光層形成の前段階の基板（有機ＥＬ表示パネル１０の中間製品。以下、「バンク形成後基板」と称する。）１１０をＨ方向に移動させる基板移動部２３０と、インクヘッド２１１におけるインク吐出動作や基板移動部２３０によるバンク形成後基板１１０の移動のタイミングおよび移動距離を制御する制御部２５０とからなる。
【００７３】
インク塗布部２１０は、水平に載置された台座２３１のＹ方向両端部に立設された一対の脚部２１２の上部にインクヘッド２１１を水平に横架してなる。インクヘッド２１１には、列方向（Ｙ方向）に、インク滴を吐出するための複数のノズル２１１１が配され、それぞれピエゾ素子を駆動させて目標量のインク滴を吐出するように構成されている。
【００７４】
基板移動部２３０は、バンク形成後基板１１０を載置するテーブル２３４を備え、テーブル２３４は、台座２３１の上面に形成された２本のガイドレール２３２に案内されてＸ軸方向に移動可能なように台座２３１上に載置される。
【００７５】
台座２３１内部には、駆動源として、例えば、サーボモーター２３３が設けられており、ネジ送り機構やワイヤ駆動機構などの公知の駆動機構を介して、テーブル２３４が、ガイドレール２３２に沿ってＸ軸方向に移動するように構成される。
【００７６】
制御部２５０により、インク塗布部２１０によるインクのノズル２１１１からの吐出動作を制御すると共に、サーボモーター２３３を駆動制御して、バンク形成後基板１１０を所定量ずつ移動してインクを塗布する。
【００７７】
なお、本実施の形態において、インクヘッド２１１を固定し、バンク形成後基板１１０をＸ方向（行方向）に移動させるようにしているのは、バンク形成後基板１１０を載置するテーブル２３４が台座２３１の上面（基準面）に形成された２本のガイドレール２３２に案内されてＸ軸方向に移動するように形成されているため、２本の脚部２１２の上部に横架されたインクヘッド２１１を移動させるよりも、緻密な移動制御が可能になり、高い加工精度を確保できるからである。
【００７８】
もっとも、塗布装置の装置構成によっては、必ずしも、バンク形成後基板１１０を移動させずに、インクヘッド２１１をＸ方向に移動させるように構成しても構わない。要するに、インクヘッド２１１がバンク形成後基板１１０に対してＸ方向に相対的に移動できるように構成されていればよい。
【００７９】
（２）塗布方法
図７は、基板１００ｘ上の行方向（Ｘ方向）に隣接する列バンク５２２Ｙ間の間隙５２２ｚに、塗布装置２００のインクヘッド２１１に配された全部のノズル２１１１を使用して発光材料を含むインクを吐出して塗布する様子を示す模式図である。
【００８０】
基板１００ｘに対して赤色発光層、緑色発光層、青色発光層の何れか１つの色の発光層を形成するためのインクの塗布が終わると、次に、その基板に２色目の色のインクを塗布し、次にその基板に３色目のインクを塗布する工程が繰り返し行われ、３色のインクをその色に対応する間隙５２２ｚに順次塗布する。
【００８１】
これにより、基板１００ｘ上には、赤色発光層、緑色発光層、青色発光層が、図の紙面横方向（Ｘ方向）に繰り返して並んで形成される。
【００８２】
基板１００ｘは、列バンク５２２ＹがＹ方向に沿った状態で、塗布装置２００のテーブル２３４上に載置され、Ｙ方向に沿って複数のノズル２１１１がライン状に配置されたインクヘッド２１１をＸ方向に基板１００ｘに対し相対的に移動しながら、各ノズル２１１１から列バンク５２２Ｙ同士の間隙５２２ｚ内に設定された着弾目標を狙ってインクを着弾させることによって行う。
【００８３】
上述のように、Ｘ方向に延伸した行バンク１２２Ｘは高さが列バンク１２２Ｙより十分低いので、間隙５２２ｚ内でインクの流動が程良く行われてレベリングされ、列方向に大きな膜厚むらが発生しにくく画素毎の輝度むらや寿命低下が改善される。
【００８４】
ＲＧＢ３色の発光層の膜厚を変えて形成する場合に、例えば、ノズルから吐出するインクの量を第１の条件に設定して基板上の複数の第１色目の間隙にインクを塗布し、次に、ノズルから吐出するインクの量を第２の条件に設定してその基板上の複数の第２色目の間隙にインクを塗布し、次にノズルから吐出するインクの量を第３の条件に設定してその基板上の複数の第３色目の間隙にインクを塗布する方法で、３色全部の間隙にインクを順次塗布する。
【００８５】
また、上記において、複数の基板に対して第１色目の間隙へのインクの塗布が終わると、次に、その複数の基板に第２色目の間隙にインクを塗布し、次にその複数の基板の第３色目の間隙にインクを塗布する工程を繰り返し行って、３色の間隙用のインクを順次塗布してもよい。
【００８６】
基本的に、図７のようにインクヘッド２１１のノズル２１１１を全て使用して、各間隙５２２ｚへのインクの塗布が行われるが、しかし、最近では、表示パネル１０のさらなる高精細化が求められており、そのため各間隙の幅が狭くなって、一つの間隙に供給するインク量が少なくなってきている。さらに光共振器構造をとると、特に波長の短い青色を発光する画素について機能層ないしは発光層の膜厚を薄くする必要があるため、ますます間隙５２２ｚに供給するインク量が少なくなる傾向にある。
【００８７】
その一方で各ノズル２１１１から滴下するインク量を少なくすることにも限界があるため、複数のノズル２１１１のうち吐出に使用するノズルの数を選択して、間隙５２２ｚに供給するインク量を調整する必要が生じる。
【００８８】
図８（ａ）は、このときの従来の吐出ノズルの選択を模式的に示す図である。
【００８９】
同図では、仮に、ノズルの総数が５２個であって、目的のインク量を供給するため、１１個のノズルで足る場合のノズルの選択パターンを示している。
【００９０】
一番上の欄がノズル番号を示すと共に、Ａ〜Ｆ列は、同一種のインク（例えば、緑色発光用のインク）が供給されるべき間隙（間隙群）５２２ｚＧが示されており、各間隙５２２ｚＧにはクロ丸を付したノズルを使用してインクを供給するようになっている。
【００９１】
この例を見ても分かるように各間隙５２２ｚＧには、同じノズルの組み合わせ（以下、「ノズルパターン」という）Ｐ０で、インクが供給されている。
【００９２】
ラインバンク方式の構成を採用していても、インクを吐出しないノズルが固定されていれば、他の要因と相俟って、間隙５２２ｚＧ内の列方向に膜厚の変動が生じ、これが筋状の輝度ムラの原因となる。
【００９３】
そこで、本実施の形態では、図８（ｂ）に示すように、間隙５２２ｚごとに吐出するノズルパターンを変化させて、同一発光色の間隙５２２ｚで、隣接するもの同士で吐出するノズルが重ならないように制御している。同図では、Ａ列からＦ列までの６列までに、吐出するノズルを列ごとに２つずつ列方向にずらしてインクを塗布し、この６列分のノズルパターンを繰り返し使用して、表示パネル１０のうち同一発光色の間隙５２２ｚ（なお、平面視において、この間隙５２２ｚは、列方向に伸びる細長い開口ともみなすことができるので、以下では、「列開口」と呼ぶ場合もある。）の全部にインクを塗布するようにしている。
【００９４】
このようにすれば、一の列開口で発生した列方向における膜厚の変動のパターンが行方向に重なる度合いが低くなるので、同一発光色の筋状の輝度ムラの発生を抑えることができる。
【００９５】
（３）制御部２５０の構成と塗布制御のフローチャート
図９は、上記塗布装置２００における制御部２５０の構成を示すブロック図である。
【００９６】
同図に示すように制御部２５０は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）２５１、ＲＡＭ(Random Access Memory)２５２、ＲＯＭ(Read Only Memory)２５３、パターンメモリ２５４などからなる。
【００９７】
ＣＰＵ２５１は、操作パネル２４０から操作者の指示を受付けると、ＲＯＭ２５３から塗布制御のプログラムを読み出して、ＲＡＭ２５２を作業用記憶領域として当該プログラムを実行し、インク塗布部２１０における吐出に用いるノズルの選択や基板移動部２３０によるバンク形成後基板１１０の移動の制御などを行う。特に、ＣＰＵ２５１が、吐出に用いるノズルを選択してインクを供給する制御を実行するときに、本発明における「供給制御部」として機能する。
【００９８】
図１０は、制御部２５０で実行される緑色（Ｇ）の有機発光層の塗布処理の制御手順を示すフローチャートである。
【００９９】
まず、変数ｍを「０」に設定し（ステップＳ１０１）、次に、変数ｎを「１」に設定する（ステップＳ１０２）。
【０１００】
そして、Ｐｎのノズルパターンに該当するノズルを順次駆動させて、（ｍ＋ｎ）番目の列開口にインクを塗布する（ステップＳ１０３）。この段階では、まだ、ｍ＝０、ｎ＝１なので、Ｐ１のノズルパターン（図８（ｂ）のＡ列のノズルパターンＰ１参照）で、１番目（Ａ列）の列開口にインクを塗布することになる。
【０１０１】
次に、全ての緑（Ｇ）の列開口にインクを塗布したか否かを判断し（ステップＳ１０４）、そうでなれば（ステップＳ１０４：ＮＯ）、基板移動部２３０によりバンク形成後基板１１０を副走査方向（図６（ａ）のＨ方向）に１ピッチ（ここで、１ピッチは、隣接する緑色の副画素のＸ方向に中心間の距離ｈ１（図７参照））だけ移動し（ステップＳ１０５）、ｎの値を１だけインクリメントする（ステップＳ１０６）。インクリメントされたｎの値が「６」を超えていなければ（ステップＳ１０７：ＮＯ）、ステップＳ１０３に戻って、Ｐｎのノズルパターンに基づいて、（ｍ＋ｎ）番目の列開口を塗布する。
【０１０２】
もし、ステップＳ１０７で、「ｎ＞６」であれば（ステップＳ１０７：ＹＥＳ）、次に、Ｐ１のノズルパターンに戻るべく、ステップＳ１０８で、ｍに「６」をインクリメントすると共に、ステップＳ１０２に戻って、ｎを「１」にリセットする。これにより、７番目の列開口への塗布にＰ１のノズルパターンが採用されることになる。
【０１０３】
このようにＰ１〜Ｐ６の６列のノズルパターンを繰り返しつつ、緑の発光材料を塗布すべき列開口に順次塗布していき、ステップＳ１０４で全ての緑の列開口にインクを塗布したと判断された場合には（ステップＳ１０４：ＹＥＳ）、緑の有機発光層塗布処理を終了する。
【０１０４】
そして、残りの色について上記有機発光層塗布処理を繰り返し実行する。この場合、インクタンク２２０に他の色の発光材料を含むインク（他の種類のインク）を充填した他の塗布装置２００を使用してもよいし、緑の発光層塗布処理に使用した塗布装置２００のインクタンクを、他の色のインクを充填したインクタンクに交換して使用するようにしても構わない。
【０１０５】
図１１は、上記塗布方法により、各色の発光層を塗布して、発光させたときの表示パネル１０の表示画像を示す写真である（Ｘ、Ｙ方向とも、図２０（ａ）と同様の範囲）。このように、本実施の形態によれば、図２０（ａ）の従来例に比して、ノズル走査方向に平行な筋状の輝度ムラがほとんど目立たなくなっているのが分かる。
【０１０６】
３．表示パネル１０の構成
図１２は、図４における表示パネル１０をＡ２−Ａ２で切断した模式的な部分断面図である。
【０１０７】
本実施の形態に係る表示パネル１０は、Ｚ軸方向下方に薄膜トランジスタが形成された基板（ＴＦＴ基板）上に、複数の有機ＥＬ素子が配されてなる。
【０１０８】
（１）基板１００ｘ
基板１００ｘは表示パネル１０の支持部材であり、基材（不図示）と、基材上に形成された薄膜トランジスタ層（ＴＦＴ層：不図示）とを有する。
【０１０９】
基材は、表示パネル１０の支持部材であり、平板状である。基材の材料としては、電気絶縁性を有する材料、例えば、ガラス材料、樹脂材料、半導体材料、絶縁層をコーティングした金属材料などを用いることができる。
【０１１０】
ＴＦＴ層は、基材上面に形成された複数のＴＦＴ及び配線（ＴＦＴのソースＳ１と、対応する画素電極１１９を接続する）を含む複数の配線からなる。ＴＦＴは、表示パネル１０の外部回路からの駆動信号に応じ、対応する画素電極１１９と外部電源とを電気的に接続するものであり、電極、半導体層、絶縁層などの多層構造からなる。
【０１１１】
（２）平坦化層１１８
基板１００ｘの上面には平坦化層１１８が設けられている。基板１００ｘの上面に位置する平坦化層１１８は、ＴＦＴ層によって凹凸が存在する基板１００ｘの上面を平坦化するものである。また、平坦化層１１８は、配線及びＴＦＴの間を埋め、配線及びＴＦＴの間を電気的に絶縁している。
【０１１２】
平坦化層１１８には、画素電極１１９と対応する画素のソースＳ１に接続される配線とを接続するために、当該配線の上方の一部にコンタクトホール（不図示）が開設されている。
【０１１３】
（３）画素電極１１９
基板１００ｘの上面に位置する平坦化層１１８上には、図４に示すように、副画素１００ｓｅ単位で画素電極１１９が設けられている。
【０１１４】
画素電極１１９は、発光層１２３へキャリアを供給するためのものであり、例えば陽極として機能した場合は、発光層１２３へホールを供給する。また、表示パネル１０がトップエミッション型であるため、画素電極１１９は光反射性を有する。画素電極１１９の形状は、例えば、概矩形形状をした平板状である。平坦化層１１８のコンタクトホール（不図示）上には、画素電極１１９の一部を基板１００ｘ方向に凹入された画素電極１１９の接続凹部（不図示）が形成されており、接続凹部の底で画素電極１１９と対応する画素のソースＳ１に接続される配線とが接続される。
【０１１５】
（４）ホール注入層１２０
画素電極１１９上には、図１２に示すように、ホール注入層１２０が積層されている。ホール注入層１２０は、画素電極１１９から注入されたホールをホール輸送層１２１へ輸送する機能を有する。
【０１１６】
ホール注入層１２０は、基板１００ｘ側から順に、画素電極１１９上に形成された金属酸化物からなるホール注入層１２０Ａと、後述する間隙５２２ｚＲ、間隙５２２ｚＧ、間隙５２２ｚＢ内のホール注入層１２０Ａ上それぞれに積層された有機物からなるホール注入層１２０Ｂとを含む。
【０１１７】
本実施の形態では、後述する間隙５２２ｚＲ、間隙５２２ｚＧ、間隙５２２ｚＢ内では、ホール注入層１２０Ｂは列方向に延伸するように線状に設けられている構成を採る。しかしながら、ホール注入層１２０Ｂは、画素電極１１９上に形成されたホール注入層１２０Ａ上にのみ形成され、間隙５２２ｚ内では列方向に断続して設けられている構成としてもよい。
【０１１８】
（５）バンク１２２
画素電極１１９、ホール注入層１２０のＸＹ方向端縁を被覆するように絶縁物からなるバンクが形成されている。図４に示すように、バンクには、列方向に延伸して行方向に複数並設されている列バンク５２２Ｙと、行方向に延伸して列方向に複数並設されている行バンク１２２Ｘとがある。列バンク５２２Ｙは、行バンク１２２Ｘと直交する行方向に沿った状態で設けられており、列バンク５２２Ｙと行バンク１２２Ｘとで格子状をなしている（以後、行バンク１２２Ｘ、列バンク５２２Ｙを区別しない場合は「バンク１２２」と称する）。
【０１１９】
行バンク１２２Ｘの形状は、行方向に延伸する線状であり、列方向に平行に切った断面は、上方を先細りとする順テーパー台形状である。行バンク１２２Ｘは、各列バンク５２２Ｙを貫通するようにして、列方向と直交する行方向に沿った状態で設けられており、各々が列バンク５２２Ｙの上面５２２Ｙｂよりも低い位置に上面を有する。
【０１２０】
行バンク１２２Ｘは、発光層１２３の材料となる有機化合物を含んだインクの列方向への流動を制御するためのものである。そのため、行バンク１２２Ｘは、インクに対する親液性が所定の値以上であることが必要である。係る構成により、副画素間のインク塗布量の変動を抑制することができる。
【０１２１】
行バンク１２２Ｘは、画素電極１１９の列方向（Ｙ方向）における外縁の上方に存在することにより、共通電極１２５との間の電気的リークを防止する。行バンク１２２Ｘは、その列方向の基部により列方向における各副画素１００ｓｅの自己発光領域１００ａの外縁を規定する。
【０１２２】
列バンク５２２Ｙの形状は、列方向に延伸する線状であり、行方向に平行に切った断面は、上方を先細りとする順テーパー台形状である。列バンク５２２Ｙは、発光層１２３の材料となる有機化合物を含んだインクの行方向への流動を堰き止めて発光層１２３の行方向外縁を規定するものである。
【０１２３】
列バンク５２２Ｙは、画素電極１１９の行方向における外縁上方に存在することにより、共通電極１２５との間の電気的リークを防止する。列バンク５２２Ｙは、その行方向の基部において、行方向における各副画素１００ｓｅの自己発光領域１００ａの外縁を規定する。
【０１２４】
列バンク５２２Ｙは、インクに対する撥液性が所定の値以上であることが必要である。
【０１２５】
（６）ホール輸送層１２１
図１２に示すように、間隙５２２ｚＲ、５２２ｚＧ、５２２ｚＢ内におけるホール注入層１２０上には、ホール輸送層１２１が積層される。また、行バンク１２２Ｘにおけるホール注入層１２０上にも、ホール輸送層１２１が積層される（不図示）。ホール輸送層１２１は、ホール注入層１２０Ｂに接触している。ホール輸送層１２１は、ホール注入層１２０から注入されたホールを発光層１２３へ輸送する機能を有する。
【０１２６】
本実施の形態では、後述する間隙５２２ｚ内では、ホール輸送層１２１は、ホール注入層１２０Ｂと同様、列方向に延伸するように線状に設けられている構成を採る。
【０１２７】
（７）発光層
図１２に示すように、ホール輸送層１２１上には、発光層１２３が積層されている。発光層１２３は、有機化合物からなる層であり、内部でホールと電子が再結合することで光を発する機能を有する。列バンク５２２Ｙにより規定された間隙５２２ｚＲ、間隙５２２ｚＧ、間隙５２２ｚＢ内では、発光層１２３は、列方向に延伸するように線状に設けられている。
【０１２８】
赤色副画素１００ｓｅＲ内の自己発光領域１００ａＲに対応する赤色間隙５２２ｚＲ（図４参照）、緑色副画素１００ｓｅＧ内の自己発光領域１００ａＧに対応する緑色間隙５２２ｚＧ、青色副画素１００ｓｅＢ内の自己発光領域１００ａＢに対応する青色間隙５２２ｚＢには、それぞれ各色に発光する発光層１２３Ｒ、１２３Ｇ、１２３Ｂが形成されている。
【０１２９】
発光層１２３は、画素電極１１９からキャリアが供給される部分のみが発光するので、層間に絶縁物である行バンク１２２Ｘが存在する範囲では、有機化合物の電界発光現象が生じない。そのため、発光層１２３は、行バンク１２２Ｘがない部分のみが発光して、この部分が自己発光領域１００ａとなり、自己発光領域１００ａの列方向における外縁は、行バンク１２２Ｘの列方向外縁により規定される。
【０１３０】
なお、発光層１２３は、自己発光領域１００ａだけでなく、列方向に隣接する非自己発光領域１００ｂまで連続して延伸されている。このようにすると、発光層１２３の形成時に、自己発光領域１００ａに塗布されたインクが、非自己発光領域１００ｂに塗布されたインクを通じて列方向に流動でき、列方向の画素間でその膜厚を平準化することができる。但し、非自己発光領域１００ｂでは、行バンク１２２Ｘによって、インクの流動が程良く抑制される。よって、列方向に大きな膜厚むらが発生しにくく、画素毎の輝度むらが改善される。
【０１３１】
（８）電子輸送層
図４、図１２に示すように、列バンク５２２Ｙ及び列バンク５２２Ｙにより規定された間隙５２２ｚを被覆するように電子輸送層１２４が積層して形成されている。電子輸送層１２４については、表示パネル１０の少なくとも表示領域全体に連続した状態で形成されている。
【０１３２】
電子輸送層１２４は、基板１００ｘ側から順に金属酸化物又はフッ化物等からなる電子輸送層１２４Ａと、電子輸送層１２４Ａ上に積層された有機物を主成分とする電子輸送層１２４Ｂとを含む（以後において、電子輸送層１２４Ａ、１２４Ｂを総称する場合は「電子輸送層１２４」と表記する）。
【０１３３】
電子輸送層１２４は、図１２に示すように、発光層１２３上に形成されている。電子輸送層１２４は、共通電極１２５からの電子を発光層１２３へ輸送するとともに、発光層１２３への電子の注入を制限する機能を有する。
【０１３４】
（９）共通電極１２５（対向電極）
図１２に示すように、電子輸送層１２４上に、共通電極１２５が形成されている。共通電極１２５は、各発光層１２３に共通の電極となっている。共通電極１２５は、基板１００ｘ側から順に金属酸化物からなる共通電極１２５Ａと、共通電極１２５Ａ上に積層された金属を主成分とする共通電極１２５Ｂとを含む（以後において、共通電極１２５Ａ、１２５Ｂを総称する場合は「共通電極１２５」と表記する）。
【０１３５】
共通電極１２５は、図１２に示すように、電子輸送層１２４上の画素電極１１９上方の領域にも形成される。共通電極１２５は、画素電極１１９と対になって発光層１２３を挟むことで通電経路を作り、発光層１２３へキャリアを供給するものであり、例えば、陰極として機能した場合は、発光層１２３へ電子を供給する。
【０１３６】
（１０）封止層１２６
共通電極１２５を被覆するように、封止層１２６が積層形成されている。封止層１２６は、発光層１２３が水分や空気などに触れて劣化することを抑制するためのものである。封止層１２６は、共通電極１２５の上面を覆うように設けられている。
【０１３７】
（１１）接合層１２７
封止層１２６のＺ軸方向上方には、上部基板１３０のＺ軸方向下側の主面にカラーフィルタ層１２８が形成されたカラーフィルタ基板１３１が配されており、接合層１２７により接合されている。接合層１２７は、基板１００ｘから封止層１２６までの各層からなる背面パネルとカラーフィルタ基板１３１とを貼り合わせるとともに、各層が水分や空気に晒されることを防止する機能を有する。
【０１３８】
（１２）カラーフィルタ（ＣＦ）基板１３１
接合層１２７の上に、上部基板１３０にカラーフィルタ層１２８が形成されたカラーフィルタ基板１３１が設置・接合されている。上部基板１３０には、表示パネル１０がトップエミッション型であるため、例えば、カバーガラス、透明樹脂フィルムなどの光透過性材料が用いられる。また、上部基板１３０により、表示パネル１０の剛性向上、水分や空気などの侵入防止などを図ることができる。
【０１３９】
上部基板１３０には、画素の各色自己発光領域１００ａに対応する位置にカラーフィルタ層１２８が形成されている。カラーフィルタ層１２８は、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する波長の可視光を透過させるために設けられる透明層であり、各色画素から出射された光を透過させて、その色度を矯正する機能を有する。例えば、本例では、赤色間隙５２２ｚＲ内の自己発光領域１００ａＲ、緑色間隙５２２ｚＧ内の自己発光領域１００ａＧ、青色間隙５２２ｚＢ内の自己発光領域１００ａＢの上方に、赤色、緑色、青色のフィルタ層１２８Ｒ、１２８Ｇ、１２８Ｂが各々形成されている。
【０１４０】
上部基板１３０には、各画素の発光領域１００ａ間の境界に対応する位置に遮光層１２９が形成されている。遮光層１２９は、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する波長の可視光を透過させないために設けられる黒色樹脂層であって、例えば光吸収性及び遮光性に優れる黒色顔料を含む樹脂材料からなる。
【０１４１】
４．表示パネル１０の製造方法
表示パネル１０の製造方法について、図１３の製造工程を示すフローチャート、および図１４〜図１８の表示パネル１０の各製造工程における状態を示す模式断面図に基づき説明する。
【０１４２】
（１）基板準備工程（図１３：ステップＳ１）
複数のＴＦＴや配線が形成された基板１００ｘを準備する。基板１００ｘは、公知のＴＦＴの製造方法により製造することができる（図１４（ａ））。
【０１４３】
（２）平坦化層形成工程（図１３：ステップＳ２）
基板１００ｘを被覆するように、上述の平坦化層１１８の構成材料（感光性の樹脂材料）をフォトレジストとして塗布し、表面を平坦化することにより平坦化層１１８を形成する（図１４（ｂ））。
【０１４４】
（３）画素電極・ホール注入層形成工程（図１３：ステップＳ３）
スパッタリング法、真空蒸着法などの気相成長法を用い金属膜を積層して形成した後、フォトリソグラフィー法及びエッチング法を用いパターニングすることでなされる。
【０１４５】
具体的には、先ず、平坦化層１１８の表面にドライエッチング処理を行い製膜前洗浄を行う。次に、画素電極１１９を形成するための第２金属層１１９ｘを気相成長法により平坦化層１１８の表面に製膜する（図１４（ｃ））。本例では、アルミニウム又はアルミニウムを主成分とする合金からなる膜をスパッタリング法により製膜する。
【０１４６】
さらに、第２金属層１１９ｘの表面に製膜前洗浄を行った後、ホール注入層１２０Ａを形成するための第３金属層１２０ＡＸを気相成長法により第２金属層１１９ｘの表面に製膜する（図１４（ｃ））。本例では、タングステンをスパッタリング法により製膜する。
【０１４７】
その後、感光性樹脂等からなるフォトレジスト層ＦＲを塗布したのち、所定の開口部が施されたフォトマスクＰＭを載置し、その上から紫外線照射を行いフォトレジストを露光し、そのフォトレジストにフォトマスクＰＭが有するパターンを転写する（図１４（ｄ））。次に、フォトレジスト層ＦＲを現像によってパターニングする。
【０１４８】
その後、パターニングされたフォトレジスト層ＦＲを介して、第３金属層１２０ＡＸ、第２金属層１１９Ｘにエッチング処理を施してパターニングを行い、ホール注入層１２０Ａ、画素電極１１９を形成する。
【０１４９】
最後に、フォトレジスト層ＦＲを剥離して、同一形状にパターニングされた画素電極１１９及びホール注入層１２０Ａの積層体を形成する（図１５（ａ））。
【０１５０】
（４）バンク形成工程（図１３：ステップＳ４）
ホール注入層１２０のホール注入層１２０Ａを形成した後、ホール注入層１２０Ａを覆うようにバンクを形成する。バンクの形成では、先ず行バンク１２２Ｘを形成し、その後、間隙５２２ｚを形成するように列バンク５２２Ｙを形成する（図１５（ｂ））。
【０１５１】
行バンク１２２ｘの形成は、先ず、ホール注入層１２０Ａ上に、スピンコート法などを用い、バンク１２２Ｘの構成材料（例えば、感光性樹脂材料）からなる膜を積層形成する。そして、樹脂膜をパターニングして行バンク１２２Ｘを形成する。
【０１５２】
行バンク１２２ｘのパターニングは、樹脂膜の上方にフォトマスクを利用し露光を行い、現像工程、焼成工程（約２３０℃、約６０分）をすることによりなされる。
【０１５３】
次に、列バンク５２２Ｙの形成工程では、ホール注入層１２０Ａ上及び行バンク１２２Ｘ上に、スピンコート法などを用い、列バンク５２２Ｙの構成材料（例えば、感光性樹脂材料）からなる膜を積層形成する。そして、間隙５２２ｚの形成は、樹脂膜の上方にマスクを配して露光し、その後で現像することにより、樹脂膜をパターニングして間隙５２２ｚを開設して列バンク５２２Ｙを形成する。
【０１５４】
具体的には、列バンク５２２Ｙの形成工程では、先ず、有機系の感光性樹脂材料、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等からなる感光性樹脂膜を形成した後、乾燥し、溶媒をある程度揮発させてから、所定の開口部が施されたフォトマスクを重ね、その上から紫外線照射を行い感光性樹脂等からなるフォトレジストを露光し、そのフォトレジストにフォトマスクが有するパターンを転写する。
【０１５５】
次に、感光性樹脂を現像によって列バンク５２２Ｙをパターニングした絶縁層を、焼成（約２３０℃、約６０分）することにより形成する。一般にはポジ型と呼ばれるフォトレジストが使用される。ポジ型は露光された部分が現像によって除去される。露光されないマスクパターンの部分は、現像されずに残存する。
【０１５６】
ここで、ホール注入層１２０Ａは、上述のとおり、スパッタリング法あるいは真空蒸着法などの気相成長法を用い金属（例えば、タングステン）からなる膜を形成した後、フォトリソグラフィー法及びエッチング法を用い各画素単位にパターニングされるが、行バンク１２２Ｘ、列バンク５２２Ｙに対する焼成工程において、金属が酸化されホール注入層１２０Ａとして完成する。
【０１５７】
列バンク５２２Ｙは、列方向に延設され、行方向に間隙５２２ｚを介して並設される。
【０１５８】
（５）有機機能層形成工程（図１３：ステップＳ５）
列バンク５２２Ｙにより規定される間隙５２２ｚ内に形成されたホール注入層１２０のホール注入層１２０Ａ上に対して、ホール注入層１２０のホール注入層１２０Ｂ、ホール輸送層１２１、発光層１２３などの有機機能層を順に積層形成する。
【０１５９】
ホール注入層１２０Ｂは、インクジェット法を用い、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ（ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物）などの導電性ポリマー材料を含むインクを列バンク５２２Ｙにより規定される間隙５２２ｚ内に塗布した後、溶媒を揮発除去させる（図１５（ｃ））。あるいは、焼成することによりなされる。その後、フォトリソグラフィー法およびエッチング法を用い各画素単位にパターニングしてもよい。
【０１６０】
ホール輸送層１２１は、インクジェット法やグラビア印刷法によるウェットプロセスを用い、構成材料を含むインクを列バンク５２２Ｙにより規定される間隙５２２ｚ内に塗布した後、溶媒を揮発除去させる、あるいは、焼成することによりなされる。ホール輸送層１２１のインクを間隙５２２ｚ内に塗布する方法は、上述したホール注入層１２０Ｂにおける方法と同じである。
【０１６１】
発光層１２３の形成は、インクジェット法を用い、構成材料を含むインクを列バンク５２２Ｙにより規定される間隙５２２ｚ内に塗布した後、焼成することによりなされる（図１６（ａ））。具体的には、この工程では、副画素形成領域となる間隙５２２ｚに、インクジェット法によりＲ、Ｇ、Ｂいずれかの有機発光層の材料を含むインク１２３ＲＩ、１２３ＧＩ、１２３ＢＩをそれぞれ充填し、充填したインクを減圧下で乾燥させ、ベーク処理することによって、発光層１２３Ｒ、１２３Ｇ、１２３Ｂを形成する。
【０１６２】
このとき、発光層１２３のインクの塗布では、塗布装置２００を用いて、上述の方法でインクを塗布することにより、筋状の輝度ムラが発生しにくい。
【０１６３】
なお、発光層１２３以外の、ホール注入層１２０のホール注入層１２０Ｂ、ホール輸送層１２１などの有機機能層のいずれかについても、塗布装置２００を使用して発光層１２３の形成と同様な方法により形成するようにしてもよい。これにより、間隙５２２ｚ内で列方向にそれらの機能層の膜厚の変動が生じたとしても、それが行方向に連続しないようにできるので、行方向における筋状の輝度ムラをより一層生じにくくすることができる。
【０１６４】
（６）電子輸送層形成工程（図１３：ステップＳ６）
発光層１２３を形成した後、表示パネル１０の発光エリア（表示領域）全面にわたって、真空蒸着法などにより電子輸送層１２４を形成する（図１６（ｂ））。
【０１６５】
真空蒸着法を用いる理由は、有機膜である発光層１２３に損傷を与えないためと、高真空化で行う真空蒸着法は成膜対象の分子が基板に向かって垂直方向に直進的に成膜されるため、膜厚を均一に形成しやすいからである。
【０１６６】
電子輸送層１２４Ａは、発光層１２３の上に、金属酸化物又はフッ化物を真空蒸着法などにより、例えば、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の膜厚で成膜する。電子輸送層１２４Ａの上に、有機材料と金属材料との共蒸着法により、電子輸送層１２４Ｂを、例えば１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の膜厚で成膜する。
【０１６７】
なお、電子輸送層１２４Ａ、１２４Ｂの膜厚は、一例であり、上記数値に限られるものではなく、光学的な光取り出しとして最も有利となる適切な膜厚とする。
【０１６８】
（７）共通電極形成工程（図１３：ステップＳ７）
電子輸送層１２４を形成した後、電子輸送層１２４を被覆するように、共通電極１２５を形成する。共通電極１２５は、基板１００ｘ側から順に金属酸化物からなる共通電極１２５Ａと、共通電極１２５Ａ上に積層された金属を主成分とする共通電極１２５Ｂとを含む。
【０１６９】
このうち、先ず、共通電極１２５Ａは、電子輸送層１２４を被覆するように、スパッタリング法などにより形成する（図１６（ｃ））。本例では、共通電極１２５Ａはスパッタリング法を用いてＩＴＯ又はＩＺＯなどの透明導電層を形成する構成としている。
【０１７０】
次に、共通電極１２５Ｂは、共通電極１２５Ａ上に、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、スパッタリング法、又は真空蒸着法により形成する（図１６（ｃ））。本例では、共通電極１２５Ｂを真空蒸着法により銀を堆積することにより形成する構成としている。
【０１７１】
（８）封止層形成工程（図１３：ステップＳ８）
共通電極１２５を形成した後、共通電極１２５を被覆するように、封止層１２６を形成する（図１６（ｄ））。封止層１２６は、ＣＶＤ法、スパッタリング法などを用い形成できる。
【０１７２】
（９）カラーフィルタ基板の貼着工程（図１３：ステップＳ９）
次に、カラーフィルタ基板１３１を形成して、封止層１２６上に貼着する。
【０１７３】
透明な上部基板１３０を準備し、紫外線硬化樹脂（例えば紫外線硬化アクリル樹脂）材料を主成分とし、これに黒色顔料を添加してなる遮光層１２９の材料を透明な上部基板１３０の一方の面に塗布する（図１７（ａ））。
【０１７４】
塗布した遮光層１２９の上面に所定の開口部が施されたパターンマスクＰＭを重ね、その上から紫外線照射を行う（図１７（ｂ））。
【０１７５】
その後、パターンマスクＰＭ及び未硬化の遮光層１２９を除去して現像し、キュアすると、例えば、概矩形状の断面形状の遮光層１２９が完成する（図１７（ｃ））。
【０１７６】
次に、遮光層１２９を形成した上部基板１３０表面に、紫外線硬化樹脂成分を主成分とするカラーフィルタ層１２８（例えば、Ｇ）の材料１２８Ｇを塗布し（図１７（ｄ））、所定のパターンマスクＰＭを載置し、紫外線照射を行う（図１７（ｅ））。
【０１７７】
その後はキュアを行い、パターンマスクＰＭ及び未硬化のペースト１２８Ｇを除去して現像すると、カラーフィルタ層１２８（Ｇ）が形成される（図１７（ｆ））。
【０１７８】
この図１７（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）の工程を赤色と青色のカラーフィルタ材料について同様に繰り返すことで、カラーフィルタ層１２８（Ｒ）、１２８（Ｂ）を形成する（図１７（ｇ））。
【０１７９】
なお、各色のペーストを用いる代わりに市販されているカラーフィルタ製品を利用してもよい。以上でカラーフィルタ基板１３１が形成される。
【０１８０】
次に、基板１００ｘから封止層１２６までの各層からなる背面パネルに、アクリル樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂などの紫外線硬化型樹脂を主成分とする接合層１２７の材料を塗布する（図１８（ａ））。
【０１８１】
続いて、塗布した材料に紫外線照射を行い、背面パネルとカラーフィルタ基板１３１との相対的位置関係を合せた状態で両基板を貼り合わせる。このとき、両者の間にガスが入らないように注意する。その後、両基板を焼成して封止工程を完了すると、表示パネル１０が完成する（図１８（ｂ））。
【０１８２】
なお、上記の工程が実行される順序は、本発明を具体的に説明するために例示するためのものであり、上記以外の順序であってもよい。また、上記工程の一部が、他の工程と同時（並列）に実行されてもよい。
【０１８３】
５．小  括
以上、説明したように、本実施の形態では、基板１００ｘ上に行列状に配された複数の画素電極１１９と、基板上方であって、少なくとも画素電極１１９の間に列方向に延伸して行方向に並設された複数の列バンク５２２Ｙと、行方向に隣接する列バンク５２２Ｙ間の間隙５２２ｚのそれぞれに列方向に連続して配されている有機発光層１２３を含む有機機能層と、有機機能層上方に配された共通電極１２５とを備えた有機ＥＬ表示パネル１０の製造において、同一発光色の有機材料を含むインクを塗布対象となる間隙群に塗布する際における塗布装置のノズルパターンを変更するようにしているので、一つの間隙５２２ｚの列方向における膜厚の変動が、行方向の同じ位置に連続して現出しにくくなり、発光層の膜厚の変動に起因する行方向の筋状の輝度ムラが発生しなようにすることができる。
【０１８４】
６．変形例
実施の形態に係る表示パネル１０を説明したが、本開示は、その本質的な特徴的構成要素を除き、以上の実施の形態に何ら限定を受けるものではない。例えば、実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本開示に含まれる。以下では、そのような形態の一例として、本開示の変形例を説明する。
【０１８５】
（１）塗布装置２００におけるノズルパターンは、図８（ｂ）に示すものに限らない。同一種のインクを塗布すべき列開口（間隙５２２ｚ）のうち、隣接する列開口の塗布に採用されるノズルパターンが何らかの形で異なって塗布される列開口があれば、どのようなノズルパターンが採用されても構わない。少なくとも、従来のノズルパターンを固定して塗布する場合よりは、筋状の輝度ムラが発生しにくいと考えられるからである。
【０１８６】
すなわち、同一種のインクを供給すべき、行方向に連続して隣接するＮ列（Ｎは２以上の自然数）の間隙について、吐出すべきノズルの組み合わせのパターン（ノズルパターン）が異なるように予め決められており、前記組み合わせのパターンを繰り返して当該インクの塗布対象となる間隙群にインクを供給するようにすれば、少なくともノズルパターンを固定して各間隙を塗布する場合よりも、筋状の輝度ムラの発生が抑えられるものである。
【０１８７】
また、上記Ｎの値が大きいほど、輝度ムラが発生しにくく、具体的には、Ｎが６以上であることが望ましい。この場合には、筋状の輝度ムラによる表示画質の劣化を十分抑制することができる（図１１参照）。
【０１８８】
なお、吐出すべきノズルの組み合わせのパターンは、１回吐出に使用したノズルは、少なくとも、同一種のインクを供給すべき次の間隙へのインクの吐出に使用しないように設定することにより、より確実に、筋状の輝度ムラの発生の抑止が達成される。
【０１８９】
また、発光色の異なる第１と第２の有機発光層を形成する工程で使用する吐出ノズルの組み合わせパターン（ノズルパターン）が、異なるようにすれば、より筋状の輝度ムラの発生を抑制することができる。
【０１９０】
ここで、前記第１の有機発光層を形成する工程で使用する吐出ノズルの組み合わせパターンと前記第２の有機発光層を形成する工程で使用する吐出ノズルの組み合わせパターンとで、一つの間隙にインクを供給するために使用される吐出ノズルの個数が異なるようにすれば、異なる発光色の第１と第２の有機発光層ごとに異なる膜厚を形成することができ、光共振器構造を構築しつつ、筋状の輝度ムラの発生を低減することができる。
【０１９１】
さらに、ノズルパターンは、たとえば乱数装置などを応用して、間隙ごとにランダムに設定するようにしても構わない。
【０１９２】
（２）上記実施の形態では、機能層形成装置に含まれる塗布装置として、特に発光層の塗布装置２００について説明したが、上述したように他の機能層であっても有機材料を用いて塗布法により形成可能なものにあっては、同様な塗布装置を用いて形成するようにしてもかまわない。
【０１９３】
機能層の膜厚の変動は、特に光共振器構造を採用する場合に輝度ムラに影響するからである。
【０１９４】
（３）上記実施の形態における表示パネル１０では、発光層１２３は、行バンク上を列方向に連続して延伸している構成としている。しかしながら、発光層１２３が、行バンク上によって一定数の副画素ごとに仕切られている構成としてもよい。少なくとも、行バンクで仕切られた複数の副画素の範囲については、レベリングが可能であるし、仕切られた複数の副画素の範囲内で塗布に使用するノズルのパターンを変化させることにより、筋状の輝度ムラの発生を抑制することが可能であるからである。
【０１９５】
（４）実施の形態に係る表示パネル１０では、副画素１００ｓｅには、赤色画素、緑色画素、青色画素の３種があったが、本発明はこれに限られない。例えば、発光層が１種であってもよいし、発光層が赤、緑、青、白色などに発光する４種であってもよい。
【０１９６】
なお、本発明は、同一種のインクを塗布すべき隣接隔壁間でノズルパターンを変更することに特徴があるので、発光層の発光色が１色である場合や、機能層の形成の場合には、それぞれ全間隙について同一種のインクが塗布されることになると解され、この場合には、１列毎に隣接する間隙５２２ｚ間で塗布するためのノズルパターンを変更することが望ましい。
【０１９７】
（５）上記実施の形態では、単位画素１００ｅが、マトリクス状に並んだ構成であったが、本発明はこれに限られない。例えば、画素領域の間隔を１ピッチとするとき、隣り合う間隙同士で画素領域が列方向に半ピッチずれている構成に対しても効果を有する。高精細化が進む表示パネルにおいて、多少の列方向のずれは視認上判別が難しく、ある程度の幅を持った直線上（あるいは千鳥状）に膜厚むらが並んでも、視認上は帯状となる。したがって、このような場合も輝度むらが上記千鳥状に並ぶことを抑制することで、表示パネルの表示品質を向上できる。
【０１９８】
（６）上記実施の形態では、画素電極１１９と共通電極１２５の間に、ホール注入層１２０、ホール輸送層１２１、発光層１２３及び電子輸送層１２４が存在する構成であったが、本発明はこれに限られない。例えば、ホール注入層１２０、ホール輸送層１２１及び電子輸送層１２４を用いずに、画素電極１１９と共通電極１２５との間に発光層１２３のみが存在する構成としてもよい。また、例えば、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層などを備える構成や、これらの複数又は全部を同時に備える構成であってもよい。また、これらの層はすべてが有機化合物からなる必要はなく、有機発光層以外の一部の層において無機物などで構成されていてもよい。
【０１９９】
（７）上記実施の形態では、発光層１２３の形成のため、塗布装置２００を用いたが、フレキシブルな有機ＥＬ表示パネルなどの封止膜として、無機材料の薄膜と樹脂材料の薄膜を交互に重ねて形成し、当該樹脂材料の薄膜をインクジェット方式の塗布装置で形成するような場合にも、本実施の形態に係る塗布装置を適用することができる。
【０２００】
この場合には、ノズルパターンは隣接する列開口ごとに変更するのではなく、たとえば、何本かの主走査方向（Ｙ方向：ノズルの列設方向）の塗布ごとに周期的もしくは非周期的に変更することになる。
【０２０１】
（８）上記実施の形態では、一つの副画素１００ｓｅに対して２つのトランジスタＴｒ1、Ｔｒ2が設けられてなる構成を採用したが、本発明はこれに限定を受けるものではない。例えば、一つのサブピクセルに対して一つのトランジスタを備える構成でもよいし、三つ以上のトランジスタを備える構成でもよい。
【０２０２】
（９）さらに、上記実施の形態では、トップエミッション型のＥＬ表示パネルを一例としたが、本発明はこれに限定を受けるものではない。例えば、ボトムエミッション型の表示パネルなどに適用することもできる。その場合には、各構成について、適宜の変更が可能である。
【０２０３】
（１０）なお、上記実施の形態では、発光層として有機ＥＬを使用した有機ＥＬ表示パネルの製造方法について説明したが、その他、発光層として無機ＥＬを使用した無機ＥＬ表示パネルや、発光層として量子ドット発光素子（ＱＬＥＤ：Quantum dot Light Emitting Diode）を使用した量子ドット表示パネル（例えば、特開２０１０−１９９０６７号公報参照）などの表示パネルについても、発光層の構造や種類が異なるだけで、画素電極と対向電極との間に発光層やその他の機能層を介在させるという構成において有機ＥＬ表示パネルと同じであり、当該発光層やその他の機能層の形成に塗布方式を採用する場合には、本発明を適用することが可能である。
【０２０４】
≪補足≫
以上で説明した実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。製造方法で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、工程、工程の順序などは一例であり、本発明を限定する趣旨ではない。
【０２０５】
また、実施の形態における構成要素のうち、本発明の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない工程については、より好ましい形態を構成する任意の構成要素として説明される。
【０２０６】
また、発明の理解の容易のため、上記各実施の形態で挙げた各図の構成要素の縮尺は実際のものと異なる場合がある。また本発明は上記各実施の形態の記載によって限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
【０２０７】
また、各実施の形態及びその変形例の機能のうち少なくとも一部を組み合わせてもよい。
【産業上の利用可能性】
【０２０８】
本発明に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、テレビジョンセット、パーソナルコンピュータ、携帯電話などの電子機器における表示パネルの製造に広く利用することができる。
【符号の説明】
【０２０９】
１  有機ＥＬ表示装置
１０  有機ＥＬ表示パネル
１００  有機ＥＬ素子
１００ｅ  単位画素
１００ｓｅ  副画素
１００ｘ  基板（ＴＦＴ基板）
１１８  層間絶縁層
１１９  画素電極
１２０、１２０Ａ、１２０Ｂ  ホール注入層
１２１  ホール輸送層
１２２  バンク
１２２Ｘ  行バンク
５２２Ｙ  列バンク（列隔壁）
５２２ｚ  間隙（列開口）
１２３  発光層
１２４、１２４Ａ、１２４Ｂ  電子輸送層
１２５、１２５Ａ、１２５Ｂ  共通電極（対向電極）
１２６  封止層
１２７  接合層
１２８  カラーフィルタ層
１３０  上部基板
１３１  カラーフィルタ基板
２００  塗布装置
２１０  インク塗布部
２１１  インクヘッド
２１１１  ノズル
２２０  インクタンク
２３０  基板移動部
２５０  制御部
【図１】
2020087909.tif 000003
【図２】
2020087909.tif 000004
【図３】
2020087909.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2020087909.tif 000009
【図８】
2020087909.tif 000010
【図９】
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【図１０】
2020087909.tif 000012
【図１１】
2020087909.tif 000013
【図１２】
2020087909.tif 000014
【図１３】
2020087909.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
2020087909.tif 000017
【図１６】
2020087909.tif 000018
【図１７】
2020087909.tif 000019
【図１８】
2020087909.tif 000020
【図１９】
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【図２０】
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