(57)【要約】      （修正有）【課題】ＰＳＡやＰＳＶＡ型等の液晶表示素子において、液晶表示素子の電圧保持率低下や、焼き付けを抑制し、信頼性を向上させることが出来る液晶組成物、及び液晶表示素子の提供。【解決手段】式（４）で例示される化合物、及び該化合物を含有する液晶組成物、及び液晶表示素子。2020100600.tif 000086【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（ｉ）：
【化１】
2020100600.tif 000082
上記一般式（ｉ）中、Ｒｉ１は、水素、水酸基、炭素原子数１〜１５個のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、又はＲｉ１は一般式（ｉｉ−１）若しくは一般式（ｉｉ−２）のいずれか一方を表し
【化２】
2020100600.tif 000083
Ｒｉｉ１は、水素、水酸基、−Ｏ・、炭素原子数１〜１５個のアルキル基、該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、
Ｚｉ１及びＺｉｉ１はそれぞれ独立して単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＲａ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＲａ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−Ｃ≡Ｃ−、又は炭素原子数１〜４のアルキル基、該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く）を表し、  
Ａｉ１は１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、前記Ａｉ１は、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又は−Ｓｐｉ２−Ｐｉ２により置換されていても良く、
Ｂｉ１は以下の式（Ｂ−１）又は（Ｂ−２）：
【化３】
2020100600.tif 000084
（式中の＊はＲｉ１、Ｚｉ１又はＺｉ１との結合手を表し、＊＊はＯＨとの結合基を表す。）
のいずれかを表し、
Ｘ１１、Ｘ１２、Ｘ１３、Ｘ１４、Ｘ２１、Ｘ２２、Ｘ２３、Ｘ２４、Ｘ２５及びＸ２６はそれぞれ独立して水素、炭素原子数１〜１５個のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、又は−Ｓｐｉ１−Ｐｉ１を表すが、Ｘ１１、Ｘ１２、Ｘ１３又はＸ１４の少なくともいずれか一つは−Ｓｐｉ１−Ｐｉ１を表し、また、Ｘ２１、Ｘ２２、Ｘ２３、Ｘ２４、Ｘ２５及びＸ２６の少なくともいずれか一つは−Ｓｐｉ１−Ｐｉ１を表し、
Ｐｉ１及びＰｉ２はそれぞれ独立して以下の式（Ｒ−１）から式（Ｒ−１５）：
【化４】
2020100600.tif 000085
のいずれかを表し、
Ｓｐｉ１及びＳｐｉ２はそれぞれ独立してスペーサー基又は単結合を表し、
ｍｉ１は０、１，２又は３の整数を表し、
ｎｉｉ１及びｎｉｉ２はそれぞれ独立して０、１，２又は３の整数を表すが、ｎｉｉ１＋ｎｉｉ２１は１〜４の整数を表すが、
Ａｉ１、Ｚｉ１、Ｓｐｉ１、Ｓｐｉ２、Ｐｉ１及び／又はＰｉ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物。
【請求項２】
前記一般式（ｉ）中、Ｚｉ１が−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−又は単結合を表し、
Ａｉ１はそれぞれ独立して、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基又はナフタレン−２，６−ジイル基を表すが、それぞれ独立して、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン、シアノ基又はＳｐｉ２−Ｐｉ２により置換されていても良く、ｍｉ１が１又は２を表す、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
前記一般式（ｉ）中、Ｘ１１及び／又はＸ１２が水素以外の基を表すか、又は、Ｘ２１及び／又はＸ２２が水素以外の基を表す、請求項１記載及び２記載の化合物。
【請求項４】
前記一般式（ｉ）中、Ｒｉ１は、炭素原子数１〜１２個のアルキル基、該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良い、請求項１〜３記載の化合物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物を含有する液晶組成物。
【請求項６】
請求項５記載の液晶組成物を使用し、前記液晶組成物中の重合性化合物を重合することにより作製される液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、重合性安定剤、及び当該化合物を含有する液晶組成物、更に当該液晶組成物の硬化物である光学異方体又は該液晶分子の配向を制御する硬化物を含有する液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、高速応答性や高いコントラストが得られる液晶表示素子としてＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型液晶表示装置、ＰＳＶＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｔａｂｉｌｉｓｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型液晶表示装置が開発されている。ＰＳＡやＰＳＶＡ型液晶表示素子は、非重合性液晶性組成物及び重合性化合物からなる重合性化合物含有液晶組成物を基板間に配した状態で、場合により基板間に電圧を印加して液晶分子を配向させ、配向した状態で紫外線等を照射することにより、重合性化合物を重合させて液晶の配向状態を硬化物に記憶させている。またＩＰＳ（インプレーンスイッチング）型液晶表示素子に適用する場合は、無印加状態で硬化させることにより作成できる。
【０００３】
このような液晶表示素子の課題として、同一の表示を長時間継続した場合に発生する「焼き付き」などの信頼性の問題や保存安定性、及び製造プロセスに起因する生産性等の課題も残されている。信頼性の問題は、単純なものではなく、幾つかの複合的な要因によって引き起こされるものであるが特に、（１）残存した重合性化合物に起因するもの、（２）液晶分子の傾斜の変化（プレチルト角の変化）に起因するもの、及び（３）紫外線照射による液晶分子、ポリマー層等の劣化に起因するものが挙げられる。
【０００４】
信頼性に関しては、添加する重合性化合物や、重合性開始剤等の分解物が、液晶表示素子の電圧保持率が低下や、焼き付けの原因となってしまう。焼き付きの発生には、重合性化合物を含有する液晶組成物における、液晶分子のプレチルト角の変化に起因するものも知られている。信頼性を向上させるためにヒンダードフェノールなどの酸化防止剤を添加することも知られているが、液晶組成物中に含まれるため、添加量が多いと電圧保持率の低下や表示ムラを起こし易い。また、バックライトの光によりポリマーが劣化し構造が変化してしまう場合は、結果としてプレチルト角が変化してしまい応答速度が変化して焼き付きの原因となる。以上のように、従来の重合性化合物含有液晶組成物を使用した液晶表示素子では、信頼性において満足できるものではなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許４１７５８２６号公報
【特許文献２】特許５０２７７６６号公報
【特許文献３】国際特許出願ＷＯ２００９／１２９９１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、ＰＳＡやＰＳＶＡ型等の液晶表示素子において、液晶表示素子の電圧保持率が低下や、焼き付けを抑制し、信頼性を向上させことが出来る液晶組成物、及び液晶表示素子を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本願発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造を有する重合性安定剤が前述の課題を解決できることを見出して本願発明を完成するに至った。
【０００８】
また本願発明は、併せて当該重合性安定剤を用いた重合性安定剤含有液晶組成物、重合性安定剤含有液晶組成物中の重合性化合物を重合することにより液晶配向能を付与した液晶表示素子を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本願発明の重合性安定剤又は当該重合性安定剤を含む組成物は、信頼性が向上し、液晶表示の途に有用である。本願発明の重合性安定剤は、基板表面のポリマー層に取り込まれるため、液晶層中に浮遊することなく、劣化の原因となる各種ラジカル種を補足することが可能となる。特に配向膜を用いない表示素子においては、信頼性向上が大きな課題であることからプレチルト角の安定性も改善された液晶表示素子の提供が可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の重合性安定剤は、一般式（ｉ）：
【００１１】
【化１】
2020100600.tif 000002
【００１２】
上記一般式（ｉ）中、Ｒｉ１は、水素、水酸基、炭素原子数１〜１５個のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、又はＲｉ１は一般式（ｉｉ−１）若しくは一般式（ｉｉ−２）のいずれか一方を表し
【００１３】
【化２】
2020100600.tif 000003
【００１４】
Ｒｉｉ１は、水素、水酸基、−Ｏ・、炭素原子数１〜１５個のアルキル基、該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、
Ｚｉ１及びＺｉｉ１はそれぞれ独立して単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＲａ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＲａ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−Ｃ≡Ｃ−、又は炭素原子数１〜４のアルキル基、該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く）を表し、  
Ａｉ１は１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、前記Ａｉ１は、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又は−Ｓｐｉ２−Ｐｉ２により置換されていても良く、
Ｂｉ１は以下の式（Ｂ−１）又は（Ｂ−２）：
【００１５】
【化３】
2020100600.tif 000004
【００１６】
（式中の＊はＲｉ１、Ｚｉ１又はＺｉ１との結合手を表し、＊＊はＯＨとの結合基を表す。）
のいずれかを表し、
Ｘ１１、Ｘ１２、Ｘ１３、Ｘ１４、Ｘ２１、Ｘ２２、Ｘ２３、Ｘ２４、Ｘ２５及びＸ２６はそれぞれ独立して水素、炭素原子数１〜１５個のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、又は−Ｓｐｉ１−Ｐｉ１を表すが、Ｘ１１、Ｘ１２、Ｘ１３又はＸ１４の少なくともいずれか一つは−Ｓｐｉ１−Ｐｉ１を表し、また、Ｘ２１、Ｘ２２、Ｘ２３、Ｘ２４、Ｘ２５及びＸ２６の少なくともいずれか一つは−Ｓｐｉ１−Ｐｉ１を表し、
Ｐｉ１及びＰｉ２はそれぞれ独立して以下の式（Ｒ−１）から式（Ｒ−１５）：
【００１７】
【化４】
2020100600.tif 000005
【００１８】
のいずれかを表し、
Ｓｐｉ１及びＳｐｉ２はそれぞれ独立してスペーサー基又は単結合を表し、
ｍｉ１は０、１，２又は３の整数を表し、
ｎｉｉ１及びｎｉｉ２はそれぞれ独立して０、１，２又は３の整数を表すが、ｎｉｉ１＋ｎｉｉ２１は１〜４の整数を表すが、
Ａｉ１、Ｚｉ１、Ｓｐｉ１、Ｓｐｉ２、Ｐｉ１及び／又はＰｉ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物である。
【００１９】
本発明の重合性安定剤が上記一般式（ｉ）の化学構造を有することにより、重合性化合物含有液晶組成物を重合させることにより形成されるポリマー層に取り込まれるため、信頼性を向上させることが可能であり、また液晶組成物への溶解性も向上させることができる。
【００２０】
本発明に係る一般式（ｉ）中、Ｓｐｉ１及びＳｐｉ２はスペーサー基又は単結合を表す。スペーサー基としては、直鎖状であっても分岐状のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良い。具体的には、Ｓｐｉ１及びＳｐｉ２は炭素原子数１〜１２のアルキレン基又は単結合が好ましく、炭素原子数１〜６のアルキレン基又は単結合がより好ましく、炭素原子数２〜４アルキレン基を表すことが特に好ましい。
【００２１】
本発明に係る一般式（ｉ）中、Ｐｉ１及び／又はＰｉ２は重合性基を表すが、ラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合、及びアニオン重合により硬化する重合性基であることが好ましい。重合性基の具体的な例としては、下記に示す構造が挙げられる。
【００２２】
【化５】
2020100600.tif 000006
【００２３】
これらの重合基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合、及びアニオン重合により硬化するが、特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）、式（Ｒ−４）、式（Ｒ−５）、式（Ｒ−７）、式（Ｒ−１１）、式（Ｒ−１３）又は式（Ｒ−１５）が好ましく、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）、式（Ｒ−７）、式（Ｒ−１１）又は式（Ｒ−１３）がより好ましく、式（Ｒ−１）、式（Ｒ−２）がより好ましい。
【００２４】
本発明に係る一般式（ｉ）中、Ｚｉ１は、単結合、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯＣ２Ｈ４−、−ＯＣＯＣ２Ｈ４−、−Ｃ２Ｈ４ＯＣＯ−が好ましく、単結合、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＦ２Ｏ−又は−ＯＣＦ２−であることがより好ましい。Ｚ１が単結合、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＦ２Ｏ−又は−ＯＣＦ２−である化合物を使用すると、液晶との相溶性が良く低温保存においても析出が抑制されるというメリットがある。
【００２５】
本発明に係る一般式（ｉ）中、Ａｉ１は、それぞれ独立して無置換であっても良いし、または必要により、直鎖状または分岐状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状または分岐状の炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基、直鎖状または分岐状の炭素原子数１〜５のアルコキシ基、直鎖状または分岐状の炭素原子数１〜５のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又は−Ｓｐｉ２−Ｐｉ２により置換されていても良い。また、Ａｉ１は、それぞれ独立的に１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基が好ましく、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基がさらに好ましい。また本発明に係る一般式（ｉ）で表される化合物における環構造が全て芳香族であると、ＵＶ反応性に優れるという効果がある。
【００２６】
Ｂｉ１は式（Ｂ−１）又は式（Ｂ−２）を表す。式（Ｂ−１）中のＸ１１、Ｘ１２、Ｘ１３又はＸ１４の少なくともいずれか一つは−Ｓｐｉ１−Ｐｉ１を表し、又は式（Ｂ−２）中のＸ２１、Ｘ２２、Ｘ２３、Ｘ２４、Ｘ２５及びＸ２６の少なくともいずれか一つは−Ｓｐｉ１−Ｐｉ１を表すが、−Ｓｐｉ１−Ｐｉ１が二つ以上有することが特に好ましい。Ｂ１１が式（Ｂ−１）を表す場合は、式（Ｂ−１）に結合する−ＯＨ基に隣接する位置、すなわち、Ｘ１１又はＸ１２のいずれか一方が炭素原子数１〜１５個のアルキル基又は−Ｓｐｉ１−Ｐｉ１を表すことが好ましく、Ｘ１１又はＸ１２の両方が炭素原子数１〜１５個のアルキル基又は−Ｓｐｉ１−Ｐｉ１を表すことが好ましい。同様に、Ｂ１１が式（Ｂ−２）を表す場合は、式（Ｂ−２）に結合する−ＯＨ基に隣接する位置、すなわち、Ｘ２１又はＸ２２のいずれか一方が炭素原子数１〜１５個のアルキル基又は−Ｓｐｉ１−Ｐｉ１を表すことが好ましく、Ｘ２１又はＸ２２の両方が炭素原子数１〜１５個のアルキル基又は−Ｓｐｉ１−Ｐｉ１を表すことが好ましい。Ｘ２１、Ｘ２２、Ｘ２３、Ｘ２４、Ｘ２５又はＸ２６がアルキル基を表す場合、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
【００２７】
Ｒｉ１は、水素、水酸基、炭素原子数１〜１５個のアルキル基式（ｉｉ−１）若しくは一般式（ｉｉ−２）のいずれか一方を表す。アルキル基は直鎖状であっても分岐状であってもよく、また、アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯＯ−に置き換えられてもよい。液晶との相溶性、又は信頼性向上として、炭素原子数１〜８個のアルキル基を表すことが好ましく、該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、又はＲｉ１は一般式（ｉｉ−１）若しくは一般式（ｉｉ−２）のいずれか一方を表す。一般式（ｉｉ−１）又は一般式（ｉｉ−２）中のｎｉｉ１及びｎｉｉ２はそれぞれ独立して１を表すことがより好ましい。
【００２８】
【化６】
2020100600.tif 000007
【００２９】
本発明に係る一般式（ｉ）中、ｍｉ１は０、１，２又は３の整数を表すが、１，２又は３の整数がより好ましい。
【００３０】
このような化学構造を備えた重合性安定剤を液晶組成物に添加すると、液晶組成物との相溶性に優れるだけでなく、他の重合性化合物との共重合により架橋密度が高く剛直な高分子を生成することが可能となるため共存する液晶化合物の配向規制力を強く保持できる。また、液晶支持層に固定化されるため液晶組成物に悪影響を及ぼす不要なラジカル種等を捕捉することが可能となり、長期信頼性を向上させることができる。
【００３１】
本発明に係る一般式（ｉ）で表される化合物は、具体的には下記の一般式（ｉ−１）〜（ｉ−２６）で表される化合物が好ましい。
【００３２】
【化７】
2020100600.tif 000008
【００３３】
【化８】
2020100600.tif 000009
【００３４】
【化９】
2020100600.tif 000010
【００３５】
より具体的な化合物は、下記の一般式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３４）に表される。
【００３６】
【化１０】
2020100600.tif 000011
【００３７】
【化１１】
2020100600.tif 000012
【００３８】
【化１２】
2020100600.tif 000013
【００３９】
【化１３】
2020100600.tif 000014
【００４０】
【化１４】
2020100600.tif 000015
【００４１】
【化１５】
2020100600.tif 000016
【００４２】
【化１６】
2020100600.tif 000017
【００４３】
本発明の重合性安定剤は以下に記載する合成方法で合成することができる。
【００４４】
（製法１）  一般式（Ｉ−１）で表される化合物の製造
２−エチル−４（４−ヘプチルシクロヘキシル）フェノールにＮ−ヨードスクシンイミド（ＮＩＳ）のアセトニトリル溶液を１０℃以下で滴下してヨウ素化を行い、フェノール誘導体（Ｓ−１）を得る。次いでプロパルギルアルコールを用いた薗頭反応、パラジウムカーボンによる接触水素添加反応によりフェノール誘導体（Ｓ−２）を得た後、メタクリル酸との脱水エステル化反応により（Ｉ−１）で表される目的化合物を得る。
【００４５】
【化１７】
2020100600.tif 000018
【００４６】
（製法２）  一般式（Ｉ−６）で表される化合物の製造
ビフェノール誘導体（Ｓ−３）にＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）のアセトニトリル溶液を１０℃以下で滴下して臭素化を行いによりビフェノール誘導体（Ｓ−４）を得て、更に、プロパルギルアルコールを用いた薗頭反応、パラジウムカーボンによる接触水素添加反応によりビフェノール誘導体（Ｓ−５）を得る。次いでメタクリル酸との脱水エステル化反応により（Ｉ−６）で表される目的化合物を得る。
【００４７】
【化１８】
2020100600.tif 000019
【００４８】
（製法３）  一般式（Ｉ−１７）で表される化合物の製造
ベンズアルデヒド誘導体（Ｓ−６）と２−ブチルプロパン−１，３−ジオールとをｐ−トルエンスルホン酸を用いてアセタール化を行い、ジオキサン骨格を有するヒドロキシビフェニル誘導体（Ｓ−７）を得る。次いでピリジン存在下でトリフルオロメタンスルホン酸無水物を滴下し、フェノール部をトリフラート化し、ヒドロキシフェニルホウ酸との鈴木カップリング反応によりヒドロキシテルフェニル誘導体（Ｓ−９）を得る。更にＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）のアセトニトリル溶液を１０℃以下で滴下して臭素化を行いによりヒドロキシテルフェニル誘導体（Ｓ−１０）を得て、更に、プロパルギルアルコールを用いた薗頭反応、パラジウムカーボンによる接触水素添加反応により前駆体（Ｓ−１１）を得る。次いでメタクリル酸との脱水エステル化反応により（Ｉ−１７）で表される目的化合物を得る。
【００４９】
【化１９】
2020100600.tif 000020
【００５０】
（製法４）  一般式（Ｉ−２８）で表される化合物の製造
１−ベンジルオキシ−４−ブロモベンゼンとヒドロキシフェニルホウ酸との鈴木カップリング反応によりビフェノール誘導体（Ｓ−１２）を得る。アリルクロリドと炭酸カリウムによるエーテル化、更にＮ，Ｎ−ジメチルアニリンを溶媒に用いたクライゼン反応によりビフェノール誘導体（Ｓ−１３）を得る。同様な反応を再度行い、アリル基を転移させたビフェノール誘導体（Ｓ−１４）を得る。次いで、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランによりフェノール部をテトラヒドロピラニル基で保護し、ｍ−クロロ過安息香酸によりエポキシ化してビフェノール誘導体（Ｓ−１５）を得る。その後パラジウムカーボンによる接触水素添加反応による脱ベンジル化（Ｓ−１６）、４−クロロブタン酸メチルと炭酸カリウムによりエーテル化反応、更に塩酸１０％メタノール溶液にてテトラヒドロピラニル基を脱離させ、ビフェノール誘導体（Ｓ−１７）を得る。次いで酸化ジブチル錫を触媒とした２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オールとのエステル交換反応により（Ｉ−２８）で表される目的化合物を得る。
【００５１】
【化２０】
2020100600.tif 000021
【００５２】
本発明の重合性安定剤を液晶表示素子として用いる場合の非重合性の液晶組成物としては、一般に知られている誘電率異方性が正又は負のフッ素系ネマチック液晶組成物、誘電率異方性が正又は負のトラン系ネマチック液晶組成物、誘電率異方性が正のシアノ系ネマチック液晶組成物、強誘電液晶組成物、ブルー相液晶組成物、コレステリック液晶組成物等を用いることができる。
（液晶組成物）
一般式（ｉ）で表される化合物を液晶組成物用に添加する場合は、本発明の一般式（ｉ）で表される化合物を１種又は２種以上添加してもよく、一般式（ｉ）で表される化合物に加えて、液晶組成物に用いられる公知の重合性化合物、酸化防止剤等を更に含有していてもよい。
【００５３】
一般式（ｉ）の含有量は、好ましくは０．０１〜５０質量％であるが、その下限値は、液晶分子を更に好適に配向させられる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、０．０１質量％以上、０．１質量％以上、０．５質量％以上、０．７質量％以上、又は１質量％以上である。化合物（ｉ）の含有量の上限値は、応答特性に優れる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、５０質量％以下、３０質量％以下、１０質量％以下であり、７質量％以下、５質量％以下、４質量％以下、又は３質量％以下である。  本願発明の液晶組成物として使用する液晶分子は、単独で液晶相を示す化合物であっても、２種以上を勘合した際に液晶相を示す化合物であっても良い。
【００５４】
２種以上の液晶分子を混合して使用する場合には、種々の組み合わせが可能であるが、少なくとも１種類は以下の一般式（ＩＩ）を含み、液晶組成物の誘電率異方性が正の場合は、更に以下の一般式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）又は（ＩＩＩｃ）を含み、液晶組成物の誘電率異方性が負の場合は、以下の一般式（ＩＶａ）、（ＩＶｂ）又は（ＩＶｃ）で表される化合物を含有しても良い。
【００５５】
一般式（ＩＩ）で表される化合物を以下に示す。
【００５６】
【化２１】
2020100600.tif 000022
【００５７】
（式中、Ｒ２１及びＲ２２はお互い独立して炭素原子数１から１０のアルキル基又は炭素原子数２から１０のアルケニル基を表し、これらの基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されても良く、またこれらの基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良く、
Ｍ２１、Ｍ２２及びＭ２３はお互い独立して
（ａ）  トランス−１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい）、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は窒素原子に置き換えられてもよい）、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基及び
（ｃ）  １，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２]オクチレン基、ピペリジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基
からなる群より選ばれる基を表し、
ｏは０、１又は２を表し、
Ｌ２１及びＬ２２はお互い独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ２２が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良く、Ｍ２３が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良い。）
一般式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｒ２１及びＲ２２はお互い独立して炭素原子数１から１０のアルキル基又は炭素原子数２から１０のアルケニル基（これらの基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されたもの、またこれらの基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されたものも含む。）が好ましく、炭素原子数１から５のアルキル基、炭素原子数１から５のアルコキシ基、炭素原子数２から５のアルケニル基又は炭素原子数３から６のアルケニルオキシ基がより好ましく、炭素原子数１から５のアルキル基又は炭素原子数１から５のアルコキシ基が特に好ましい。
【００５８】
Ｍ２１、Ｍ２２及びＭ２３はお互い独立してトランス−１，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個のＣＨ２基又は隣接していない２個のＣＨ２基が酸素原子に置換されているものを含む）、１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個又は２個以上のＣＨ基は窒素原子に置換されているものを含む）、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、ピペリジン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基が好ましく、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基又は１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基がより好ましく、トランス−１，４−シクロヘキシレン基又は１，４−フェニレン基が特に好ましい。ｏは０、１又は２が好ましく、０又は１がより好ましい。Ｌ２１及びＬ２２はお互い独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−又は−ＣＨ２Ｏ−がより好ましく、単結合又は−ＣＨ２ＣＨ２−が更に好ましい。
【００５９】
上記の選択肢の組み合わせにより形成される構造のうち、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−及び−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−は化学的な安定性から好ましくない。またこれら構造中の水素原子がフッ素原子に置き換わったものも同様に好ましくない。また酸素同士が結合する構造、硫黄原子同士が結合する構造及び硫黄原子と酸素原子が結合する構造となることも同様に好ましくない。また窒素原子同士が結合する構造、窒素原子と酸素原子が結合する構造及び窒素原子と硫黄原子が結合する構造も同様に好ましくない。
【００６０】
更に詳述すると、一般式（ＩＩ）は具体的な構造として以下の一般式（ＩＩ−Ａ）から一般式（ＩＩ−Ｐ）からなる群で表される化合物が好ましい。
【００６１】
【化２２】
2020100600.tif 000023
【００６２】
（式中、Ｒ２３及びＲ２４はそれぞれ独立的に炭素数１から１０のアルキル基、炭素数１から１０のアルコキシ基、炭素数２から１０のアルケニル基又は炭素数３から１０のアルケニルオキシ基を表す。）
Ｒ２３及びＲ２４はそれぞれ独立的に炭素数１から１０のアルキル基、炭素数１から１０のアルコキシ基又は炭素数２から１０のアルケニル基がより好ましく、炭素数１から５のアルキル基又は炭素数１から１０のアルコキシ基が更に好ましい。
【００６３】
一般式（ＩＩ−Ａ）から一般式（ＩＩ−Ｐ）で表される化合物中、一般式（ＩＩ−Ａ）、一般式（ＩＩ−Ｂ）、一般式（ＩＩ−Ｃ）、一般式（ＩＩ−Ｅ）、一般式（ＩＩ−Ｈ）、  一般式（ＩＩ−Ｉ）、一般式（ＩＩ−Ｉ）又は一般式（ＩＩ−Ｋ）で表される化合物が好ましく、一般式（ＩＩ−Ａ）、一般式（ＩＩ−Ｃ）、一般式（ＩＩ−Ｅ）、一般式（ＩＩ−Ｈ）又は一般式（ＩＩ−Ｉ）で表される化合物が更に好ましい。
【００６４】
本願発明では一般式（ＩＩ）で表される化合物を少なくとも１種を含有するが、１種〜１０種含有することが好ましく、２種〜８種含有することが特に好ましく、一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有率の下限値は５質量％であることが好ましく、１０質量％であることがより好ましく、２０質量％であることが更に好ましく、３０質量％であることが特に好ましく、上限値としては８０質量％が好ましく、７０質量％が更に好ましく、６０質量％が更に好ましい。
【００６５】
液晶組成物の誘電率異方性が正の場合は、更に一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）
【００６６】
【化２３】
2020100600.tif 000024
【００６７】
（式中Ｒ３１、Ｒ３２及びＲ３３はお互い独立して炭素原子数１から１０のアルキル基又は炭素原子数２から１０のアルケニル基を表し、これらの基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されても良く、またこれらの基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良く、
Ｍ３１、Ｍ３２、Ｍ３３、Ｍ３４、Ｍ３５、Ｍ３６、Ｍ３７及びＭ３８はお互い独立して、
（ｄ）  トランス−１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい）、
（ｅ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基及び、
（ｆ）  １，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２]オクチレン基、ピペリジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及びデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）、基（ｅ）又は基（ｆ）に含まれる水素原子はそれぞれシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されていても良く、
Ｌ３１、Ｌ３２、Ｌ３３、Ｌ３４、Ｌ３５、Ｌ３６、Ｌ３７及びＬ３８はお互い独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｍ３２、Ｍ３４、Ｍ３５、Ｍ３７、Ｍ３８、Ｌ３１、Ｌ３３、Ｌ３５、Ｌ３６及び／又はＬ３８が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良く、
Ｘ３１、Ｘ３２、Ｘ３３、Ｘ３４、Ｘ３５、Ｘ３６及びＸ３７はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表し、
Ｙ３１、Ｙ３２及びＹ３３はお互い独立してフッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基又はジフルオロメトキシ基を表し、
ｐ、ｑ、ｒ、ｓ及びｔはお互い独立して、０、１又は２を表すが、ｑ＋ｒ及びｓ＋ｔは２以下である。）で表される化合物からなる群から選ばれる化合物を含有することが好ましい。
【００６８】
一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）で表される化合物において、Ｒ３１、Ｒ３２及びＲ３３はお互い独立して炭素原子数１から１０のアルキル基又は炭素原子数２から１０のアルケニル基、炭素数１〜１５の直鎖状アルキル基又は炭素数２〜１５のアルケニル基（これらの基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されているもの、またこれらの基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されているものも含む。）が好ましく、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１０の直鎖状アルコキシ基又は炭素数２〜１０アルケニル基がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖状アルキル基又は炭素数１〜８のアルコキシ基が特に好ましい。
【００６９】
Ｍ３１、Ｍ３２、Ｍ３３、Ｍ３４、Ｍ３５、Ｍ３６、Ｍ３７及びＭ３８はお互い独立して、トランス−１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられているものも含む。）、１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は窒素原子に置き換えられているものも含む）、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２]オクチレン基、ピペリジン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及びデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基で表す基（各々の基はそれぞれ水素原子がシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されているものも含む。）が好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基又は３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基がより好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基が更に好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基が特に好ましい。
【００７０】
Ｌ３１、Ｌ３２、Ｌ３３、Ｌ３４、Ｌ３５、Ｌ３６、Ｌ３７及びＬ３８はお互い独立して単結合、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−又は−Ｃ≡Ｃ−がより好ましく、単結合又は−ＣＨ２ＣＨ２−が特に好ましい。Ｘ３１、Ｘ３２、Ｘ３３、Ｘ３４、Ｘ３５、Ｘ３６及びＸ３７はお互い独立して水素原子又はフッ素原子をし、Ｙ３１、Ｙ３２及びＹ３３はお互い独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、チオシアナト基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ジフルオロメトキシ基又は炭素原子数１〜１２のアルキル基を表すことが好ましく、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基又は炭素原子数１〜１２のアルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子を表すことが特に好ましい。ｐ、ｑ、ｒ、ｓ及びｔはお互い独立して、０、１又は２を表すが、ｑ＋ｒ及びｓ＋ｔは２以下を表す。
【００７１】
上記の選択肢の組み合わせにより形成される構造のうち、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−及び−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−は化学的な安定性から好ましくない。またこれら構造中の水素原子がフッ素原子に置き換わったものも同様に好ましくない。また酸素同士が結合する構造、硫黄原子同士が結合する構造及び硫黄原子と酸素原子が結合する構造となることも同様に好ましくない。また窒素原子同士が結合する構造、窒素原子と酸素原子が結合する構造及び窒素原子と硫黄原子が結合する構造も同様に好ましくない。
【００７２】
具体的には以下の一般式（ＩＩＩａ−１）で示される構造を表すことが好ましい。
【００７３】
【化２４】
2020100600.tif 000025
【００７４】
（式中、Ｒ３４は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｌ３９及びＬ４０はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｍ３８は１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表し、Ｘ３２は水素原子又はフッ素原子を表し、ｐ１は０又は１を表し、Ｙ３４はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。）
更に具体的には以下の一般式（ＩＩＩａ−２ａ）〜一般式（ＩＩＩａ−４ｄ）
【００７５】
【化２５】
2020100600.tif 000026
【００７６】
【化２６】
2020100600.tif 000027
【００７７】
【化２７】
2020100600.tif 000028
【００７８】
（式中、Ｒ３４は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｘ３１及びＸ３２はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ｙ３１はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。）で表される構造が好ましく、
【００７９】
【化２８】
2020100600.tif 000029
【００８０】
（式中、Ｒ３４は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｙ３１はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。）で表される構造も好ましい。
【００８１】
一般式（ＩＩＩｂ）は具体的な構造として以下の一般式
【００８２】
【化２９】
2020100600.tif 000030
【００８３】
【化３０】
2020100600.tif 000031
【００８４】
【化３１】
2020100600.tif 000032
【００８５】
（式中、Ｒ３５は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｙ３５はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。）で表される構造が好ましく、
一般式（ＩＩＩｃ）は具体的な構造として以下の一般式
【００８６】
【化３２】
2020100600.tif 000033
【００８７】
【化３３】
2020100600.tif 000034
【００８８】
【化３４】
2020100600.tif 000035
【００８９】
（式中、Ｒ３６は炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｙ３６はシアノ基、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基を表す。）で表される構造が好ましい。
【００９０】
一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）で表される化合物からなる群から選ばれる化合物を少なくとも１種を含有するが、１種〜１０種含有することが好ましく、２種〜８種含有することが特に好ましく、一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）で表される化合物からなる群の含有率の下限値は５質量％であることが好ましく、１０質量％であることがより好ましく、２０質量％であることが好ましく、上限値は８０質量％が好ましく、７０質量％が好ましく、６０質量％が好ましく、５０質量％が更に好ましい。
液晶組成物の誘電率異方性が負の場合は、更に一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）
【００９１】
【化３５】
2020100600.tif 000036
【００９２】
（式中Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５及び、Ｒ４６はお互い独立して炭素原子数１から１０のアルキル基又は炭素原子数２から１０のアルケニル基を表し、これらの基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されていても良く、またこれらの基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良く、
Ｍ４１、Ｍ４２、Ｍ４３、Ｍ４４、Ｍ４５、Ｍ４６、Ｍ４７、Ｍ４８及びＭ４９はお互い独立して、
（ｇ）  トランス−１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい）、
（ｈ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は窒素原子に置き換えられてもよい）及び、
（ｉ）  １，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２]オクチレン基、ピペリジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及びデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｇ）、基（ｈ）又は基（ｉ）に含まれる水素原子はそれぞれシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されていても良く、
Ｌ４１、Ｌ４２、Ｌ４３、Ｌ４４、Ｌ４５、Ｌ４６、Ｌ４７、Ｌ４８及びＬ４９はお互い独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｍ４２、Ｍ４３、Ｍ４５、Ｍ４６、Ｍ４８、Ｍ４９、Ｌ４１、Ｌ４３、Ｌ４４、Ｌ４６、Ｌ４７及び／又はＬ４９が複数存在する場合は、それらは同一でも良く異なっていても良く、
Ｘ４１、Ｘ４２、Ｘ４３、Ｘ４４、Ｘ４５、Ｘ４６、Ｘ４７及びＸ４８はお互い独立して水素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又はフッ素原子を表すが、Ｘ４１及びＸ４２の何れか一つはフッ素原子を表し、Ｘ４３、Ｘ４４及びＸ４５の何れか一つはフッ素原子を表し、Ｘ４６、Ｘ４７及びＸ４８の何れか一つはフッ素原子を表すが、Ｘ４６及びＸ４７は同時にフッ素原子を表すことはなく、Ｘ４６及びＸ４８は同時にフッ素原子を表すことはなく、Ｇはメチレン基又は−Ｏ−を表し、
ｕ、ｖ、ｗ、ｘ、ｙ及びｚはお互い独立して、０、１又は２を表すが、ｕ＋ｖ、ｗ＋ｘ及びｙ＋ｚは２以下である。）で表される化合物からなる群から選ばれる化合物を含有することが好ましい。
【００９３】
また、一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）で表される化合物において、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５及びＲ４６はお互い独立して炭素原子数１から１０のアルキル基又は炭素原子数２から１０のアルケニル基、炭素数１〜１５の直鎖状アルキル基又は炭素数２〜１５のアルケニル基（これらの基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されているもの、またこれらの基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されているものも含む。）が好ましく、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１０の直鎖状アルコキシ基又は炭素数２〜１０アルケニル基がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖状アルキル基又は炭素数１〜８のアルコキシ基が特に好ましい。Ｍ４１、Ｍ４２、Ｍ４３、Ｍ４４、Ｍ４５、Ｍ４６、Ｍ４７、Ｍ４８及びＭ４９はお互い独立して、トランス−１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換えられているものも含む。）、１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられているものも含む）、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２]オクチレン基、ピペリジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及びデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基で表す基（各々の基に含まれる水素原子がそれぞれシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又は塩素原子で置換されているものも含む。）が好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基又は２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基がより好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基が更に好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基が特に好ましい。Ｌ４１、Ｌ４２、Ｌ４３、Ｌ４４、Ｌ４５、Ｌ４６、Ｌ４７、Ｌ４８及びＬ４９はお互い独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−又は−ＣＨ２Ｏ−がより好ましい。Ｘ４１、Ｘ４２、Ｘ４３、Ｘ４４、Ｘ４５、Ｘ４６及びＸ４７はお互い独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ｇはメチレン基又は−Ｏ−を表し、ｕ、ｖ、ｗ、ｘ、ｙ及びｚはお互い独立して、０、１又は２を表すが、ｕ＋ｖ、ｗ＋ｘ及びｙ＋ｚは２以下で表す。
【００９４】
上記の選択肢の組み合わせにより形成される構造のうち、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−及び−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−は化学的な安定性から好ましくない。またこれら構造中の水素原子がフッ素原子に置き換わったものも同様に好ましくない。また酸素同士が結合する構造、硫黄原子同士が結合する構造及び硫黄原子と酸素原子が結合する構造となることも同様に好ましくない。また窒素原子同士が結合する構造、窒素原子と酸素原子が結合する構造及び窒素原子と硫黄原子が結合する構造も同様に好ましくない。
【００９５】
一般式（ＩＶａ）で表される化合物において、具体的には以下の一般式（ＩＶａ−１）で示される構造を表すことが好ましい。
【００９６】
【化３６】
2020100600.tif 000037
【００９７】
（式中、Ｒ４７及びＲ４８はお互い独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｌ５０、Ｌ５１及びＬ５２はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｍ５０は１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表し、ｕ１及びｖ１はそれぞれ独立して０又は１を表す。）
更に具体的には以下の一般式（ＩＶａ−２ａ）〜一般式（ＩＶａ−３ｉ）
【００９８】
【化３７】
2020100600.tif 000038
【００９９】
【化３８】
2020100600.tif 000039
【０１００】
（式中、Ｒ４７及びＲ４８はそれぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表す。）で表される構造が好ましく、Ｒ４７及びＲ４８がそれぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシル基が更に好ましい。
【０１０１】
一般式（ＩＶｂ）で表される化合物において、具体的には以下の一般式（ＩＶｂ−１）で示される構造を表すことが好ましい。
【０１０２】
【化３９】
2020100600.tif 000040
【０１０３】
（式中、Ｒ４９及びＲ５０はお互い独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｌ５２、Ｌ５３及びＬ５４はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｍ５１、Ｍ５２及びＭ５３は１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表し、ｗ１及びｘ１は独立して０、１又は２を表すが、ｗ１＋ｘ１は２以下を表す。）
更に具体的には以下の一般式（ＩＶｂ−２ａ）〜（ＩＶｂ−３ｌ）
【０１０４】
【化４０】
2020100600.tif 000041
【０１０５】
【化４１】
2020100600.tif 000042
【０１０６】
（式中、Ｒ４９及びＲ５０はそれぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表す。）で表される構造が好ましい。
【０１０７】
一般式（ＩＶｃ）で表される化合物において、具体的には以下の一般式（ＩＶｃ−１ａ）及び一般式（ＩＶｃ−１ｂ）で示される構造を表すことが好ましい。
【０１０８】
【化４２】
2020100600.tif 000043
【０１０９】
（式中、Ｒ５１及びＲ５２はお互い独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表し、Ｌ５６、Ｌ５７及びＬ５８はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｍ５４、Ｍ５５及びＭ５６は１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表し、ｙ１及びｚ１は独立して０、１又は２を表すが、ｙ１＋ｚ１は２以下を表す。）
更に具体的には以下の一般式（ＩＶｃ−２ａ）〜（ＩＶｃ−２ｇ）
【０１１０】
【化４３】
2020100600.tif 000044
【０１１１】
（式中、Ｒ５１及びＲ５２はお互い独立して炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基を表す。）
第三成分として使用する一般式（ＩＩＩａ）、一般式（ＩＩＩｂ）及び一般式（ＩＩＩｃ）で表される化合物からなる群から選ばれる化合物又は一般式（ＩＶａ）、一般式（ＩＶｂ）及び一般式（ＩＶｃ）で表される化合物からなる群から選ばれる化合物を少なくとも１種を含有するが、２種〜１０種含有することが好ましく、２種〜８種含有することが特に好ましく、含有率の下限値が５質量％であることが好ましく、１０質量％であることがより好ましく、２０質量％であることがより好ましく、上限値が８０質量％であることが好ましく、７０質量％であることが好ましく、６０質量％であることが好ましく、５０質量％であることが好ましい。
【０１１２】
本願発明の液晶組成物において、Δｎは０．０８〜０．２５の範囲であることが好ましい。
【０１１３】
本願発明の液晶組成物において、Δεは液晶表示素子の表示モードによって、正又は負のΔεを有するものを用いることができる。ＶＡモードの液晶表示素子においては、負のΔεを有する液晶組成物を使用する。その場合のΔεは、−１以下が好ましく、−２以下がより好ましい。
【０１１４】
本願発明の液晶組成物は、広い液晶相温度範囲（液晶相下限温度と液晶相上限温度の差の絶対値）を有するが、液晶相温度範囲が１００℃以上であることが好ましく、１２０℃以上がより好ましい。また、液晶相上限温度は７０℃以上であることが好ましく、８０℃以上がより好ましい。更に、液晶相下限温度は−２０℃以下であることが好ましく、−３０℃以下がより好ましい。本願発明の液晶組成物は、上記の化合物以外に、STN液晶用のネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶などを含有していてもよい。
本願発明の重合性安定剤は、重合性化合物で液晶分子の配向を制御するＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型液晶表示装置、ＰＳＶＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｔａｂｉｌｉｓｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型液晶表示装置や、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）−ＬＣＤ及びＩＰＳ−ＬＣＤ（インプレーンスイッチング液晶表示素子）以外でも偏向板、位相差板などに用いられる光学補償フイルムを作成する際の構成成分としても有効である。ＰＳＡ、及びＰＳＶＡ表示素子に液晶の配向安定性を向上させるにはメソゲン構造を有する重合性液晶化合物を併用することが好ましい。重合性化合物は、液晶組成物に用いられる公知の重合性化合物であってよい。重合性化合物の例としては、一般式（Ｐ）で表される化合物を１種又は２種以上含有することが好ましい。
【０１１５】
【化４４】
2020100600.tif 000045
【０１１６】
（上記一般式（Ｐ）中、Ｒｐ１は、水素原子、フッ素原子、シアノ基、炭素原子数１〜１５のアルキル基又は−Ｓｐｐ２−Ｐｐ２を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の−ＣＨ２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、該アルキル基中の１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
Ｐｐ１及びＰｐ２はそれぞれ独立して、一般式（Ｐｐ１−１）〜式（Ｐｐ１−９）
【０１１７】
【化４５】
2020100600.tif 000046
【０１１８】
（式中、Ｒｐ１１及びＲｐ１２はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基を表し、Ｗｐ１１は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又はメチレン基を表し、ｔｐ１１は、０、１又は２を表すが、分子内にＲｐ１１、Ｒｐ１２、Ｗｐ１１及び／又はｔｐ１１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。）
のいずれかを表し、
Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２はそれぞれ独立して、単結合又はスペーサー基を表し、
Ｚｐ１及びＺｐ２はそれぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＯＯ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲＺＰ１−、−ＮＲＺＰ１−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＲＺＰ１−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＲＺＰ１−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲＺＰ１＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＲＺＰ１＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＲＺＰ１＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲＺＰ１＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲＺＰ１＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲＺＰ１＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−（ＣＨ２）ｚ−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）２−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、ｚはそれぞれ独立して１〜４の整数を表し、ＲＺＰ１はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基を表すが、分子内にＲＺＰ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。）
を表し、
Ａｐ１、Ａｐ２及びＡｐ３はそれぞれ独立して、
（ａｐ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置き換えられてもよい。）
（ｂｐ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい。）及び
（ｃｐ）  ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基又はアントラセン−２，６−ジイル基（これら基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子は、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルケニル基で置換されていてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａｐ）、基（ｂｐ）及び基（ｃｐ）は、それぞれ独立して、この基中に存在する水素原子は、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基又は炭素原子数１〜８のアルケニル基で置換されていてもよい。シアノ基、フッ素原子、塩素原子又は−Ｓｐｐ２−Ｐｐ２で置換されていても良く、
ｍｐ１は、０、１、２又は３を表し、分子内にＺｐ１、Ａｐ２、Ｓｐｐ２及び／又はＰｐ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良いが、Ａｐ３は、ｍｐ１が０で、Ａｐ１がフェナントレン−２，７−ジイル基又はアントラセン−２，６−ジイル基である場合には単結合を表す。
ただし、一般式（Ｉ）で表される化合物を除く。）
で表される化合物が好ましい。また、当該重合性モノマーは１種又は２種以上含有することが好ましい。
【０１１９】
本発明に係る一般式（Ｐ）において、Ｒｐ１は−Ｓｐｐ２−Ｐｐ２であることが好ましい。
【０１２０】
Ｐｐ１及びＰｐ２はそれぞれ独立して式（Ｐｐ１−１）〜式（Ｐｐ１−３）のいずれかであることが好ましく、（Ｐｐ１−１）であることが好ましい。
【０１２１】
Ｒｐ１１及びＲｐ１２はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
【０１２２】
ｔｐ１１は、０又は１が好ましい。
【０１２３】
Ｗｐ１１は、単結合、メチレン基又はエチレン基が好ましい。
【０１２４】
ｍｐ１は０、１又は２であることが好ましく、０又は１が好ましい。
【０１２５】
Ｚｐ１及びＺｐ２はそれぞれ独立して、単結合、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣ２Ｈ４−、−ＯＣＯＣ２Ｈ４−、−Ｃ２Ｈ４ＯＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−（ＣＨ２）２−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−（ＣＨ２）２−、−ＯＣＦ２−又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣ２Ｈ４−、−ＯＣＯＣ２Ｈ４−、−Ｃ２Ｈ４ＯＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ２）２−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−（ＣＨ２）２−又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、分子内に存在する１つのみが−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣ２Ｈ４−、−ＯＣＯＣ２Ｈ４−、−Ｃ２Ｈ４ＯＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ２）２−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−（ＣＨ２）２−又は−Ｃ≡Ｃ−であり、他がすべて単結合であることが好ましく、分子内に存在する１つのみが、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−であり、他がすべて単結合であることが好ましく、すべてが単結合であることが好ましい。
【０１２６】
また、分子内に存在するＺｐ１及びＺｐ２の１つのみが、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ２）２−ＣＯＯ−、−（ＣＨ２）２−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ２）２−、−ＣＯＯ−（ＣＨ２）２−からなる群から選択される連結基であり、他は単結合であることが好ましい。
【０１２７】
Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２はそれぞれ独立して、単結合又はスペーサー基を表すが、スペーサー基は、炭素原子数１〜３０のアルキレン基が好ましく、該アルキレン基中の−ＣＨ２−は酸素原子同士が直接連結しない限りにおいて−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されていてもよく、該アルキレン基中の水素原子はハロゲン原子で置換されていても良いが、直鎖の炭素原子数１〜１０のアルキレン基又は単結合が好ましい。
Ａｐ１、Ａｐ２及びＡｐ３はそれぞれ独立して、１，４−フェニレン基又は１，４−シクロヘキシレン基が好ましく、１，４−フェニレン基が好ましい。１，４−フェニレン基は液晶化合物との相溶性を改善するために、１個のフッ素原子、１個のメチル基又は１個のメトキシ基で置換されていることが好ましい。
【０１２８】
一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量は、本願の一般式（Ｐ）で表される化合物を含む組成物に対して、０．０５〜１０％含んでいることが好ましく、０．１〜８％含んでいることが好ましく、０．１〜５％含んでいることが好ましく、０．１〜３％含んでいることが好ましく、０．２〜２％含んでいることが好ましく、０．２〜１．３％含んでいることが好ましく、０．２〜１％含んでいることが好ましく、０．２〜０．５６％含んでいることが好ましい。
【０１２９】
一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量の好ましい下限値は、本願の一般式（Ｐ）で表される化合物を含む組成物に対して、０．０１％であり、０．０３％であり、０．０５％であり、０．０８％であり、０．１％であり、０．１５％であり、０．２％であり、０．２５％であり、０．３％である。
【０１３０】
一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量の好ましい上限値は、本願の一般式（Ｐ）で表される化合物を含む組成物に対して、１０％であり、８％であり、５％であり、３％であり、１．５％であり、１．２％であり、１％であり、０．８％であり、０．５％である。
【０１３１】
含有量が少ないと一般式（Ｐ）で表される化合物を加える効果が現れにくく、液晶組成物の配向規制力が弱い又は経時的に弱くなってしまうなどの問題が発生し、多すぎると硬化後に残存する量が多くなる、硬化に時間がかかる、液晶の信頼性が低下する等の問題が生じる。このため、これらのバランスを考慮し含有量を設定する。
【０１３２】
一般式（Ｉ）で表される化合物及び一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量は、それら化合物を含む組成物に対して、０．０５〜１０％含んでいることが好ましく、０．１〜８％含んでいることが好ましく、０．１〜５％含んでいることが好ましく、０．１〜３％含んでいることが好ましく、０．２〜２％含んでいることが好ましく、０．２〜１．３％含んでいることが好ましく、０．２〜１％含んでいることが好ましく、０．２〜０．５６％含んでいることが好ましい。
【０１３３】
一般式（Ｉ）で表される化合物及び一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量の好ましい下限値は、それら化合物を含む組成物に対して、０．０１％であり、０．０３％であり、０．０５％であり、０．０８％であり、０．１％であり、０．１５％であり、０．２％であり、０．２５％であり、０．３％である。
【０１３４】
一般式（Ｉ）で表される化合物及び一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量の好ましい上限値は、それら化合物を含む組成物に対して、１０％であり、８％であり、５％であり、３％であり、１．５％であり、１．２％であり、１％であり、０．８％であり、０．５％である。
【０１３５】
含有量が少ないと一般式（Ｉ）で表される化合物及び一般式（Ｐ）で表される化合物を加える効果が現れにくく、液晶組成物の配向規制力が弱い又は経時的に弱くなってしまうなどの問題が発生し、多すぎると硬化後に残存する量が多くなる、硬化に時間がかかる、液晶の信頼性が低下する等の問題が生じる。このため、これらのバランスを考慮し含有量を設定する。
【０１３６】
本発明に係る一般式（Ｐ）で表される化合物の好ましい例として、下記式（Ｐ−１−１）〜式（Ｐ−１−４６）で表される重合性化合物が挙げられる。
【０１３７】
【化４６】
2020100600.tif 000047
【０１３８】
【化４７】
2020100600.tif 000048
【０１３９】
【化４８】
2020100600.tif 000049
【０１４０】
【化４９】
2020100600.tif 000050
【０１４１】
【化５０】
2020100600.tif 000051
【０１４２】
（式中、Ｐｐ１１、Ｐｐ１２、Ｓｐｐ１１及びＳｐｐ１２はそれぞれ、一般式（Ｐ）におけるＰｐ１、Ｐｐ２、Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２と同じ意味を表す。）
本発明に係る一般式（Ｐ）で表される化合物の好ましい例として、下記式（Ｐ−２−１）〜式（Ｐ−２−１４）で表される重合性化合物が挙げられる。
【０１４３】
【化５１】
2020100600.tif 000052
【０１４４】
（式中、Ｐｐ２１、Ｐｐ２２、Ｓｐｐ２１及びＳｐｐ２２はそれぞれ、一般式（Ｐ）におけるＰｐ１、Ｐｐ２、Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２と同じ意味を表す。）
本発明に係る一般式（Ｐ）で表される化合物の好ましい例として、下記式（Ｐ−３−１）〜式（Ｐ−３−１５）で表される重合性化合物が挙げられる。
【０１４５】
【化５２】
2020100600.tif 000053
【０１４６】
【化５３】
2020100600.tif 000054
【０１４７】
（式中、Ｐｐ３１、Ｐｐ３２、Ｓｐｐ３１及びＳｐｐ３２は、一般式（Ｐ）におけるＰｐ１、Ｐｐ２、Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２と同じ意味を表す。）
本発明に係る一般式（Ｐ）で表される化合物の好ましい例として、下記式（Ｐ−４−１）〜式（Ｐ−４−２１）で表される重合性化合物が挙げられる。
【０１４８】
【化５４】
2020100600.tif 000055
【０１４９】
【化５５】
2020100600.tif 000056
【０１５０】
【化５６】
2020100600.tif 000057
【０１５１】
【化５７】
2020100600.tif 000058
【０１５２】
（式中、Ｐｐ４１、Ｐｐ４２、Ｓｐｐ４１及びＳｐｐ４２は、一般式（Ｐ）におけるＰｐ１、Ｐｐ２、Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２と同じ意味を表す。式中の複数のＰｐ４１、Ｐｐ４２、Ｓｐｐ４１及びＳｐｐ４２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。）
また本願発明の重合性化合物を含有する液晶組成物は、光重合開始剤が存在しない場合でも重合は進行するが、重合を促進するために光重合開始剤を含有しても良い。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。特にアセトフェノン類、ベンジルケタール類が好ましく、例えば１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン「オムニラッド１８４」、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン「オムニラッド１１７３」、２−メチル−１−［（メチルチオ）フェニル］−２−モリホリノプロパン−１「オムニラッド９０７」、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン「オムニラッド３６９」）、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリノ−フェニル）ブタン−１−オン「オムニラッド３７９」、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ジフェニルフォスフィンオキサイド「オムニラッドＴＰＯ」、２，４，６−トリメチルベンゾイル−フェニル−フォスフィンオキサイド「オムニラッド８１９」（ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ株式会社製）、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］，２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン「イルガキュア６５１」、エタノン「イルガキュアＯＸＥ０１」）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）「イルガキュアＯＸＥ０２」、「イルガキュアＯＸＥ０４」（ＢＡＳＦ株式会社製）、「アデカアークルズＮＣＩ−８３１」、「アデカアークルズＮＣＩ−９３０」、「アデカアークルズＮ−１９１９」（ＡＤＥＫＡ社製）、２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサントン（ワ−ドプレキンソップ社製「カンタキュア−ＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物、「エサキュア  ＯＮＥ」、「エサキュアＫＩＰ１５０」、「エサキュアＫＩＰ１６０」、「エサキュア１００１Ｍ」、「エサキュアＡ１９８」、「エサキュアＫＩＰ  ＩＴ」、「エサキュアＫＴＯ４６」、「エサキュアＴＺＴ」（ｌａｍｂｅｒｔｉ株式会社製）、「スピードキュアＢＭＳ」、「スピードキュアＰＢＺ」、「ベンゾフェノン」（ＬＡＭＢＳＯＮ社製）等が挙げられる。さらに、光カチオン開始剤としては、光酸発生剤を用いることができる。光酸発生剤としてはジアゾジスルホン系化合物、トリフェニルスルホニウム系化合物、フェニルスルホン系化合物、スルフォニルピリジン系化合物、トリアジン系化合物及びジフェニルヨードニウム化合物などが挙げられる。
【０１５３】
本願発明の液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン類、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等や下記（ＡＤ−１）〜（ＡＤ−１１）等のヒンダードフェノール類、ヒンダードアミン類が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、液晶組成物に対して０．００５〜１質量％の範囲が好ましく、０．０２〜０．５質量％が更に好ましく、０．０３〜０．１質量％が特に好ましい。安定剤の具体的構造を下記の（ＡＤ−１）〜（ＡＤ−１１）に示す。
【０１５４】
【化５８】
2020100600.tif 000059
【０１５５】
【化５９】
2020100600.tif 000060
【０１５６】
（液晶表示素子）
本実施形態の液晶組成物は、液晶表示素子に適用される。液晶表示素子は、アクティブマトリックス駆動用液晶表示素子であってよい。液晶表示素子は、ＰＳＡ型、ＰＳＶＡ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型又はＥＣＢ型の液晶表示素子であってよく、好ましくはＰＳＡ，及び又はＰＳＶＡ型の液晶表示素子である。
【０１５７】
また本発明の重合性安定剤を用いた液晶表示素子では、垂直配向させることができる極性化合物も用いることが出来るため、ポリイミド配向膜等の配向膜が設けられていなくとも良く、すなわち、本実施形態の液晶表示素子は、二つの基板のうち少なくとも一方の基板がポリイミド配向膜等の配向膜を有さない構成をとることができる。垂直配向させることができる極性化合物としては例えば一般式（ＳＡ−１）〜一般式（ＳＡ−５）が挙げられる。
【０１５８】
【化６０】
2020100600.tif 000061
【０１５９】
本願発明の液晶組成物がコレステリック液晶の場合は、通常キラル化合物を添加する。具体的なキラル化合物としては一般式（Ｃｈ−１）〜一般式（Ｃｈ−７）に示される。キラル化合物の配合量は、液晶組成物に対して、０．５〜３０重量％が好ましく、２〜２０重量％がより好ましい。
【０１６０】
【化６１】
2020100600.tif 000062
【０１６１】
（式中、ｍ及びｌは、０〜１２の整数を表わすが、ｍ及び／又はｌが０であり酸素原子同士が直接結合してしまう場合には一方の酸素原子を除去する。）
本発明の液晶組成物を重合させる方法としては、迅速な重合の進行が望ましいので、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することによって重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良いし、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合には、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性が与えられていなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、さらに活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。また、照射時の温度は、本発明の液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。特に、光重合によって光学異方体を製造しようとする場合には、意図しない熱重合の誘起を避ける意味からも可能な限り室温に近い温度、即ち、典型的には２５℃での温度で重合させることが好ましい。活性エネルギー線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ２〜２Ｗ／ｃｍ２が好ましい。強度が０．１ｍＷ／ｃｍ２以下の場合、光重合を完了させるのに多大な時間が必要になり生産性が悪化してしまい、２Ｗ／ｃｍ２以上の場合、重合性安定剤又は重合性化合物含有液晶組成物が劣化してしまう危険がある。
【実施例】
【０１６２】
（実施例１）
撹拌装置、冷却器、滴下ロート及び温度計を備えた反応容器に２−フルオロ−４−（４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルホウ酸  ３５ｇ、４−ブロモ−５−エチル−２−（３−ヒドロキシプロピル）フェノール  ２６ｇ  、炭酸カリウム  ３０ｇ、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム  １．４ｇ、テトラヒドロフラン２００ｍｌ、純水４０ｍｌを仕込み、７０℃で５時間反応させた。反応終了後、冷却し、１０％塩酸を加えた後、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエンによる分散洗浄、アルミナカラムによる精製を行い式（１）で表される化合物  ３９ｇを得た。    
【０１６３】
【化６２】
2020100600.tif 000063
【０１６４】
次いで撹拌装置、冷却器、滴下ロート及び温度計を備えた反応容器に上記式（１）で表される化合物３９ｇ  ブチルアミン２ｇ、ジクロロメタン  ２００ｍｌを仕込み、反応容器を１０℃以下に冷却する。Ｎ−ヨードスクシイミド（ＮＩＳ）２０ｇのアセトニトリル溶液１００ｍｌをゆっくり滴下する。滴下終了後、室温でさらに２時間反応させる。反応終了後、ジクロロメタン３００ｍｌ加え、１０％亜硫酸ナトリウムでＮＩＳを分解させた後、１０％塩酸、純水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、ヘキサンによる分散洗浄、アルミナカラムによる精製を行い式（２）で表される化合物  ４０ｇを得た。
【０１６５】
【化６３】
2020100600.tif 000064
【０１６６】
次いで撹拌装置、冷却器、滴下ロート及び温度計を備えた反応容器に上記式（２）で表される化合物４０ｇ、ヨウ化銅１ｇ、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム  ２．５ｇ、テトラヒドロフラン１５０ｍｌ、水４０ｍｌを仕込み室温で攪拌する。次いで、エタノールアミン３０ｍｌを加えた後、６５℃に反応器を加熱する。更にプロパルギルアルコール３．０ｇをゆっくり滴下する。滴下終了後、１時間反応させた。反応終了後、冷却し、トルエン１００ｍｌを加え、飽和塩化アンモニウム溶液、水、飽和食塩水で有機層を洗浄し溶媒を留去した。その後、テトラヒドロフラン２００ｍｌ、エタノール２０ｍｌを加えオートクレーブに仕込んだ。更に５％パラジウムカーボン（含水品）２ｇを加え、０．５ｋＰａの水素圧で接触水素還元を行った。反応終了後、パラジウムカーボンをろ過した後、シリカゲルカラムによる精製を行い式（３）で表される化合物３２ｇを得た。
【０１６７】
【化６４】
2020100600.tif 000065
【０１６８】
更に撹拌装置、ディーンスターク、冷却器及び温度計を備えた反応容器に、上記式（３）で表される化合物３２ｇ、メタクリル酸  ２２ｇ、ｐ−トルエンメタンスルホン酸  ５ｇ、トルエン  ３００ｍｌを仕込み、加熱還流１０時間行い反応させた。反応終了後、反応容器を室温に戻し、飽和炭酸水素ナトリウム、５％塩酸水溶液で有機層を洗浄し、更に、純水、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去した後、２倍量（重量比）のシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製を行い式（４）表される目的の化合物を３６ｇ得た。
【０１６９】
【化６５】
2020100600.tif 000066
【０１７０】
（物性値）
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：  ０．８８（ｔ，３Ｈ），１．１５−１．１９（ｍ，５Ｈ），１．２７−１．３０（ｍ，６Ｈ），１．３６−１．４１（ｍ，２Ｈ），１．５０−１．６３（ｍ，５Ｈ），１．８４−１．９１（ｍ，６Ｈ），１．９８（ｓ，６Ｈ），２．６１−２．７０（ｍ，３Ｈ），２．８２（ｔ，４Ｈ），４．２２（ｔ，４Ｈ），５．５４（ｄ，２Ｈ），６．１１（ｄ，２Ｈ），６．９０−７．１１（ｍ，２Ｈ），７．３６−７．４０（ｍ，２Ｈ），７．７５（ｍ，１Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：１４．１，１７．９，２２．７，２３．２，２７．１，２９．６，３１．０，３０．６，３１．２，４３．３，６２．３，１１３．２，１２１．５，１２２．３，１２４．６，１２５．１，１２８．５，１２９．４，１３７．２，１４３．８，１５０．３，１５０．５，１５１．４，１６６．４
（実施例２）
更に撹拌装置、冷却器、滴下ロート及び温度計を備えた反応容器に、３−フルオロ−４‘−（４−ペンチルシクロヘキシル）−（１，１’−ビフェニル）−４−オール  １５ｇ、ピリジン  ６ｇ、ジクロロメタン  １００ｍｌを仕込み、氷冷バスにて５℃以下に反応容器を保ち、窒素ガスの雰囲気下でトリフルオロメタンスルホン酸無水物  １７ｇをゆっくり滴下した。滴下終了後、反応容器を室温に戻し２時間反応させた。反応液をろ過した後、ろ液にジクロロメタン１００ｍｌを加え、５％塩酸水溶液で洗浄し、更に飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去した後、２倍量（重量比）のシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製を行い式（５）表される化合物を１６ｇ得た。
【０１７１】
【化６６】
2020100600.tif 000067
【０１７２】
撹拌装置、冷却器、及び温度計を備えた反応容器に上記式（５）で表される化合物１６ｇ、ピナコレートジボラン  １０ｇ、酢酸カリウム  １０ｇ、ジクロロパラジウムｄｐｐｆ錯体  ４００ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌを仕込み、８５℃で５時間反応させた。反応終了後、反応容器を冷却し、酢酸エチル  ２００ｍｌ加え、５％塩酸、水、飽和食塩水で有機層を洗浄し、溶媒を留去した。その後、メタノールによる分散洗浄、アルミナカラムによる精製を行い式（６）で表される化合物  １２ｇを得た。
【０１７３】
【化６７】
2020100600.tif 000068
【０１７４】
次いで撹拌装置、冷却器、滴下ロート及び温度計を備えた反応容器に上記式（６）で表される化合物１６ｇ、４−ブロモ−５−プロピル−２−（３−ヒドロキシプロピル）フェノール  １１ｇ  、炭酸カリウム  １０ｇ、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム  ０．４ｇ、テトラヒドロフラン１００ｍｌ、純水２０ｍｌを仕込み、７０℃で５時間反応させた。反応終了後、冷却し、１０％塩酸を加えた後、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエンによる分散洗浄、アルミナカラムによる精製を行い式（７）で表される化合物  １２ｇを得た。
【０１７５】
【化６８】
2020100600.tif 000069
【０１７６】
次いで撹拌装置、冷却器、滴下ロート及び温度計を備えた反応容器に上記式（７）で表される化合物１２ｇ  ブチルアミン０．５ｇ、ジクロロメタン  １００ｍｌを仕込み、反応容器を１０℃以下に冷却する。ＮＩＳ  ６ｇのアセトニトリル溶液３０ｍｌをゆっくり滴下する。滴下終了後、室温でさらに２時間反応させる。反応終了後、ジクロロメタン１００ｍｌ加え、１０％亜硫酸ナトリウムでＮＩＳを分解させた後、１０％塩酸、純水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、ヘキサンによる分散洗浄、アルミナカラムによる精製を行い式（８）で表される化合物  １４ｇを得た。
【０１７７】
【化６９】
2020100600.tif 000070
【０１７８】
次いで撹拌装置、冷却器、滴下ロート及び温度計を備えた反応容器に上記式（８）で表される化合物１４ｇ、炭酸カリウム  ６ｇ、テトラヒドロフラン１５０ｍｌを仕込み室温で攪拌する。次いで、臭化ベンジル  ５ｇをゆっくり滴下する。滴下終了後、還流３時間反応させ反応を終了させる。反応終了後、酢酸エチル１００ｍｌ加え、ブチルアミン１０ｍｌ加え、水、飽和食塩水で有機層を洗浄し溶媒を留去した。その後、メタノール及び、ヘキサンを用いた分散洗浄により式（９）で表される化合物１３ｇを得た。
【０１７９】
【化７０】
2020100600.tif 000071
【０１８０】
次いで撹拌装置、冷却器、滴下ロート及び温度計を備えた反応容器に上記式（９）で表される化合物１３ｇ、ヨウ化銅１ｇ、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム  ２１ｇ、テトラヒドロフラン１５０ｍｌ、水４０ｍｌを仕込み室温で攪拌する。次いで、エタノールアミン１０ｍｌを加えた後、６５℃に反応器を加熱する。更にプロパルギルアルコール２．０ｇをゆっくり滴下する。滴下終了後、１時間反応させた。反応終了後、冷却し、トルエン１００ｍｌを加え、飽和塩化アンモニウム溶液、水、飽和食塩水で有機層を洗浄し溶媒を留去した。その後、テトラヒドロフラン２００ｍｌ、エタノール２０ｍｌを加えオートクレーブに仕込んだ。更に５％パラジウムカーボン（含水品）１ｇを加え、０．５ｋＰａの水素圧で接触水素還元を行った。反応終了後、パラジウムカーボンをろ過した後、シリカゲルカラムによる精製を行い式（１０）で表される化合物８ｇを得た。
【０１８１】
【化７１】
2020100600.tif 000072
【０１８２】
更に撹拌装置、ディーンスターク、冷却器及び温度計を備えた反応容器に、上記式（１０）で表される化合物８ｇ、メタクリル酸  １０ｇ、ｐ−トルエンメタンスルホン酸  ０．５ｇ、トルエン  ８０ｍｌ、テトラヒドロフラン４０ｍｌを仕込み、加熱還流１０時間行い反応させた。反応終了後、反応容器を室温に戻し、飽和炭酸水素ナトリウム、５％塩酸水溶液で有機層を洗浄し、更に、純水、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去した後、２倍量（重量比）のシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製を行い式（１１）表される目的の化合物を７ｇ得た。
【０１８３】
【化７２】
2020100600.tif 000073
【０１８４】
（物性値）
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：  ０．９０（ｔ，３Ｈ），１．１０−１．１９（ｍ，５Ｈ），１．２０−１．３８（ｍ，９Ｈ），１．４５−１．５２（ｍ，２Ｈ），１．８０−２．０２（ｍ，１６Ｈ），２．４６−２．５５（ｍ，７Ｈ），４．１９（ｔ，４Ｈ），５．５４（ｄ，２Ｈ），６．１１（ｄ，２Ｈ），６．９０−７．１１（ｍ，２Ｈ），７．１６−７．２４（ｍ，２Ｈ），７．３８−７．４７（ｍ，４Ｈ），７．７５（ｍ，１Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：１３．７，１４．１，１７．９，２２．７，２３．２，２４．７，２７．１，２９．６，３１．０，３０．６，３１．２，４３．３，６２．３，１１３．２，１２１．５，１２２．３，１２４．６，１２５．１，１２７．６，１２８．５，１２８．７，１２９．４，１３７．２，１４３．８，１５０．３，１５０．５，１５１．４，１６６．４
（実施例３）
次いで撹拌装置、冷却器、滴下ロート及び温度計を備えた反応容器に２‘−フルオロ−３‘−（３−ヒドロキシプロピル）−５−ヨード−４’−（４−ペンチルシクロヘキシル）−（１，１’−ビフェニル）−４−オール  １０ｇ、ヨウ化銅０．５ｇ、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム  ０．１ｇ、トリエチルアミン  ３ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、５０ｍｌ、を加えた後、５０℃に反応器を加熱する。更に１−ペンチン  ４ｇをゆっくり滴下する。滴下終了後、１時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチル１００ｍｌを加え、飽和塩化アンモニウム溶液、水、飽和食塩水で有機層を洗浄し溶媒を留去した。その後、テトラヒドロフラン２００ｍｌ、エタノール２０ｍｌを加えオートクレーブに仕込んだ。更に５％パラジウムカーボン（含水品）０．５ｇを加え、０．５ｋＰａの水素圧で接触水素還元を行った。反応終了後、パラジウムカーボンをろ過した後、シリカゲルカラムによる精製を行い式（１２）で表される化合物７．５ｇを得た。
【０１８５】
【化７３】
2020100600.tif 000074
【０１８６】
更に撹拌装置、ディーンスターク、冷却器及び温度計を備えた反応容器に、上記式（１２）で表される化合物７．５ｇ、メタクリル酸  7ｇ、ｐ−トルエンメタンスルホン酸  ０．５ｇ、トルエン  ８０ｍｌを仕込み、加熱還流１０時間行い反応させた。反応終了後、反応容器を室温に戻し、飽和炭酸水素ナトリウム、５％塩酸水溶液で有機層を洗浄し、更に、純水、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去した後、２倍量（重量比）のシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製を行い式（１１）表される目的の化合物を６ｇ得た。
【０１８７】
【化７４】
2020100600.tif 000075
【０１８８】
（物性値）
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：  ０．９０（ｔ，６Ｈ），１．１０−１．１９（ｍ，２Ｈ），１．２０−１．３８（ｍ，１０Ｈ），１．４５−１．５２（ｍ，５Ｈ），１．８０−２．０２（ｍ，１２Ｈ），２．４６−２．５５（ｍ，５Ｈ），４．１９（ｔ，２Ｈ），５．５４（ｄ，１Ｈ），６．１１（ｄ，１Ｈ），６．９０−７．１１（ｍ，２Ｈ），７．１６−７．２４（ｍ，２Ｈ），７．３８−７．４７（ｍ，１Ｈ），７．５４−７．６０（ｍ，１Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム）：δ：１４．１，１７．９，２２．７，２３．２，２７．１，２９．６，３１．０，３０．６，３１．２，３１．４，４３．３，６２．３，１１３．２，１２１．５，１２２．３，１２４．６，１２５．１，１２７．１，１２８．５，１２９．４，１３７．２，１４３．８，１５０．３，１５１．４，１６６．４
＜液晶組成物の調整・評価＞
以下の実施例において化合物の記載について以下の略号を用いる。
【０１８９】
（側鎖）
−ｎ        −ＣｎＨ２ｎ＋１  炭素数ｎの直鎖状のアルキル基
ｎ−        ＣｎＨ２ｎ＋１−  炭素数ｎの直鎖状のアルキル基
−Ｏｎ      −ＯＣｎＨ２ｎ＋１  炭素数ｎの直鎖状のアルコキシ基
（連結基）
−１Ｏ−          −ＣＨ２−Ｏ−
（環構造）
【０１９０】
【化７５】
2020100600.tif 000076
【０１９１】
実施例中、測定した特性は以下の通りである。
【０１９２】
Ｔｎｉ  ：ネマチック相−等方性液体相転移温度（℃）
Δｎ  ：２０℃における屈折率異方性
η    ：２０℃における粘度（ｍＰａ・ｓ）
γ１  ：２０℃における回転粘性（ｍＰａ・ｓ）
Δε  ：２０℃における誘電率異方性
Ｋ３３  ：２０℃における弾性定数Ｋ３３（ｐＮ）
（液晶表示素子の製造方法）
まず、垂直配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布しラビング処理したＩＴＯ付き基板を含むセルギャップ３．５μｍの液晶セルに、後述する重合性安定剤含有液晶組成物を真空注入法で注入した。
【０１９３】
その後、重合性安定剤含有液晶組成物を注入した液晶セルに、蛍光ＵＶランプを用いて、任意時間紫外線を照射し液晶表示素子を得た。このとき、中心波長３１３ｎｍの条件で測定した照度が３ｍＷ／ｃｍ２になるように蛍光ＵＶランプを調整した。
【０１９４】
（プレチルト角の評価方法）
まず、重合性安定剤含有液晶組成物を注入した液晶セルのプレチルト角を測定し、プレチルト角（紫外線照射前）とした。この液晶セルに周波数１００Ｈｚで電圧を１０Ｖ印加しながら上述の照射条件で紫外線を１５０秒照射した。その後、プレチルト角を測定し、プレチルト角（紫外線照射後）とした。測定したプレチルト角（紫外線照射前）からプレチルト角（紫外線照射後）を引いた値を紫外線照射によるプレチルト角変化量［°］とした。プレチルト角は、シンテック製ＯＰＴＩＰＲＯを用いて測定した。
（ＶＨＲの評価方法）
重合性安定剤含有液晶組成物を注入した液晶セルに、上述の照射条件で紫外線を６０分照射し、ＶＨＲを測定した。ＶＨＲの測定条件は、１Ｖ、０．６Ｈｚ、６０℃であった。
【０１９５】
（焼き付きの評価方法）
重合性安定剤含有液晶組成物を注入した液晶セルに、上述の照射条件で紫外線を６０分照射後、プレチルト角の変化による表示不良（焼き付き）評価を行った。まず、液晶表示素子のプレチルト角を測定し、プレチルト角（初期）とした。この液晶表示素子に周波数１００Ｈｚで電圧を３０Ｖ印加しながらバックライトを２４時間照射した。その後、プレチルト角を測定し、プレチルト角（試験後）とした。測定したプレチルト角（初期）からプレチルト角（試験後）を引いた値をプレチルト角変化量（＝プレチルト角変化の絶対値）［°］とした。プレチルト角は、シンテック製ＯＰＴＩＰＲＯを用いて測定した。プレチルト角変化量は、０［°］に近いほどプレチルト角の変化による表示不良が発生する可能性がより低くなり、０．５［°］以上となると、プレチルト角の変化による表示不良の発生する可能性がより高くなる。更にＶＨＲを測定し作成直後との比較を行った。
【０１９６】
（液晶組成物の調製と評価結果）
ＬＣ−００１の液晶組成物を調製し、その物性値を測定した。液晶組成物の構成とその物性値の結果は表１のとおりであった。
【０１９７】
【表１】
2020100600.tif 000077
【０１９８】
（比較例１、実施例４、５、６）
液晶組成物ＬＣ−００１を９９．７質量部に対して、式（ＲＭ−１）で表される重合性化合物を０．３質量部添加した重合性化合物含有液晶組成物を比較例１とした。
液晶組成物ＬＣ−００１を９９．６８質量部に対して、式（ＲＭ−１）で表される重合性化合物を０．３質量部、実施例１で合成した式（４）で表される化合物０．０２質量部添加した重合性安定剤含有液晶組成物を実施例４とした。
液晶組成物ＬＣ−００１を９９．６８質量部に対して、式（ＲＭ−１）で表される重合性化合物を０．３質量部、実施例２で合成した式（１１）で表される化合物０．０２質量部添加した重合性安定剤含有液晶組成物を実施例５とした。
液晶組成物ＬＣ−００１を９９．６８質量部に対して、式（ＲＭ−２）で表される重合性化合物を０．３質量部、実施例２で合成した式（１１）で表される化合物０．０２質量部添加した重合性安定剤含有液晶組成物を実施例６とした。
【０１９９】
【化７６】
2020100600.tif 000078
【０２００】
比較例１及び実施例４〜６の重合性化合物含有液晶組成物について、紫外線照射後の重合性化合物の残留量、紫外線照射によるプレチルト角変化量、焼き付き試験のプレチルト角変化量及び紫外線照射後のＶＨＲは以下の表２のとおりであった。
【０２０１】
【表２】
2020100600.tif 000079
【０２０２】
本発明の重合性安定剤含有液晶組成物である実施例４は、焼き付き試験後のＶＨＲ低下の度合いが小さく、紫外線に対して耐性が高いことが分かった。本発明の重合性安定剤含有液晶組成物である実施例５及び６は、比較例１及び実施例４よりもよりＶＨＲの低下が少なく、高いＶＨＲを示すことが確認された。
（比較例２、実施例７、８）
液晶組成物ＬＣ−００１を９９．６８質量部に対して、式（ＲＭ−３）で表される重合性化合物を０．３質量部、３−（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリル（商品名：イルガノックス１０７６）０．０２質量部添加した安定剤含有液晶組成物を比較例２とした。
液晶組成物ＬＣ−００１を９９．６８質量部に対して、式（ＲＭ−３）で表される重合性化合物を０．３質量部、実施例２で合成した式（１１）で表される化合物０．０２質量部添加した重合性安定剤含有液晶組成物を実施例７とした。
液晶組成物ＬＣ−００１を９９．６８質量部に対して、式（ＲＭ−３）で表される重合性化合物を０．３質量部、実施例３で合成した式（１３）で表される化合物０．０２質量部添加した重合性安定剤含有液晶組成物を実施例８とした。
【０２０３】
【化７７】
2020100600.tif 000080
【０２０４】
比較例２及び実施例７、８の重合性安定剤含有液晶組成物について、紫外線照射後の重合性化合物の残留量、紫外線照射によるプレチルト角変化量、焼き付き試験のプレチルト角変化量及び紫外線照射後のＶＨＲは以下の表３のとおりであった。
【０２０５】
【表３】
2020100600.tif 000081
【０２０６】
本発明の重合性安定剤含有液晶組成物である実施例７、及び実施例８は、焼き付き試験後のＶＨＲ低下の度合いが小さく、紫外線に対して耐性が高いことが分かった。比較例２は焼き付き試験後のＶＨＲの低下が大きかった。