(57)【要約】【課題】シリコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等を対象とし、エッジ部の縁ダレが小さく、微細な欠陥が少ない、より品質の高い被研磨面が得られる、鏡面研磨に好適な研磨シートを提供すること。【解決手段】  軟質多孔層を表側に、不織布を裏側に配置した研磨シートであって、前記軟質多孔層は表面に複数の開口部を有し、前記開口部から内部に涙滴状の孔を有し、前記不織布の圧縮弾性率が１〜３ＭＰａの範囲であり、研磨シートの圧縮弾性率が３ＭＰａ〜５ＭＰａの範囲であることを特徴とする研磨シートである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟質多孔層を表側に、不織布を裏側に配置した研磨シートであって、前記軟質多孔層は表面に複数の開口部を有し、前記開口部から内部に涙滴状の孔を有し、前記不織布の圧縮弾性率が１〜３ＭＰａの範囲であり、研磨シートの圧縮弾性率が３ＭＰａ〜５ＭＰａの範囲であることを特徴とする研磨シート。
【請求項２】
軟質多孔層と不織布の間にポリエステルフィルムを介在させたことを特徴とする請求項１記載の研磨シート。
【請求項３】
請求項１〜２いずれかに記載の研磨シートで被研磨基板を研磨することを特徴とする研磨方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等に対して良好な鏡面を形成するために使用され、仕上げ用に好適な研磨シートに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、シリコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等を鏡面化する手段として、研磨シートを用いた研磨加工法が採用されている。研磨シートは、合成繊維と合成ゴム等とを素材とする不織布や編織布を基材にして、その上面にポリウレタン系溶液が塗布され、湿式凝固法によりポリウレタン系溶液が凝固される工程を経て、表面に複数の開口部を有し、前記開口部から内部に涙滴状の孔を複数有する軟質多孔層を表層に有する構造となっている。表面に複数の開口部を有するために、内部に有する涙滴状の孔を複数有する軟質多孔層の表皮層の表面が研削、除去されることにより開口部を形成する方法が開示されている。（特許文献１参照。）。
【０００３】
このような研磨シートは、基板の平坦性およびエッジ部の縁ダレの要求品質が年々厳しくなっている近年では、従来使用されている不織布を基材とした研磨シートでは、基板の表面の欠陥は少ないがエッジ部の縁ダレが大きいという問題があった。一方で、ポリエステルフィルムの上に軟質多孔層を形成した仕上げ研磨シートも特許文献２に示されているが、基板のエッジ部の縁ダレは小さいが、基板の欠陥は多いという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−３３５９７９号公報
【特許文献２】特開平１２−１０１３３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、上記従来技術の背景に鑑み、シリコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等において、エッジ部の縁ダレが小さく、欠陥が少ない良好な基板が得られる、好適な研磨シートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は次の研磨シートを開示する。
【０００７】
軟質多孔層を表側に、不織布を裏側に配置した研磨シートであって、前記軟質多孔層は表面に複数の開口部を有し、前記開口部から内部に涙滴状の孔を有し、前記不織布の圧縮弾性率が１〜３ＭＰａの範囲であり、研磨シートの圧縮弾性率が３ＭＰａ〜５ＭＰａの範囲であることを特徴とする研磨シートである。
【０００８】
本発明の一態様は軟質多孔層と不織布の間にポリエステルフィルムを介在させ、不織布の圧縮弾性率が１〜３ＭＰａの範囲であり、研磨シートの圧縮弾性率が３ＭＰａ〜５ＭＰａの範囲であることを特徴とする研磨シートである。
本発明の一態様は、上記研磨シートを使用して、シリコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等の被研磨基板を研磨する研磨方法である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、リコンベアウエハー、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等において、エッジ部の縁ダレが小さく、表面の欠陥が少ない、よりより品質の高い被研磨面を得られる、鏡面研磨に好適な研磨シートを得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明での研磨シートおよびその製造方法について説明する。
【００１１】
本発明において、軟質多孔層は、表面が開口し内部に涙状の孔を複数有するポリウレタン樹脂の多孔層であり、ポリウレタン樹脂の湿式凝固法で軟質多孔層を形成できる。ポリウレタンを有機溶媒に溶解させたポリウレタン樹脂溶液を、不織布または不織布とポリエステルフィルムの積層品のポリエステルフィルムの表面に塗布し、水系凝固液中でポリウレタン樹脂を凝固再生させることにより、製造することができる。本製造方法で、製造されたポリウレタン樹脂の多孔層の表面をサンドペーパー等で表面を研削することで、孔は層の表面に開口部を形成させることができる。湿式凝固法により製造される多孔層は、前記開口部から内部に向けて涙滴状の孔となる
ポリウレタン樹脂の多孔層の厚みは、被研磨基板および研磨プロセスに応じて設定されるが、２００〜９００μｍの範囲が好ましい。開口部の開口径は、同様に被研磨基板および研磨プロセスに応じて設定されるが、１０〜１５０μｍの範囲が好ましい。
【００１２】
本発明の多孔層に用いることができるポリウレタン樹脂は、末端に複数の活性水素、特に水酸基を有するプレポリマと複数の複数のイソシアネート基を有する化合物を重付加して得られたウレタン結合を有する重合体である。
【００１３】
末端に複数の活性水素を有するプレポリマとしては、主鎖骨格としてポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系およびポリカプロラクタン系などが例示される。
【００１４】
第一の層を設けるためのポリウレタン溶液の溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下「ＤＭＦ」）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキサンおよびＮ−メチルピロリドン等の極性を有する溶媒が用いられる。上記ポリウレタン樹脂を溶解させる溶媒としては、ＤＭＦが好適である。
【００１５】
上記ポリウレタン溶液は、他の樹脂、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホンおよびポリスルホン等のポリマーを適宜含有することができる。また、ポリウレタン溶液は、必要に応じて、カーボンや有機顔料、表面張力を下げる界面活性剤および撥水性を付与できる撥水剤等も含有することもできる。
【００１６】
本発明の不織布は、圧縮弾性率が１．０〜３．０ＭＰａの範囲が好ましい。さらに１．３〜２．８ＭＰａが好ましい。圧縮弾性率が１．０ＭＰａが下回ると、被研磨基板のエッジ部の縁ダレが大きくなるので好ましくない。圧縮弾性率が３．０ＭＰａを上回ると
研磨シートの追随性が悪化する影響を反映してか、微細な欠陥が多くなり被研磨基板における品質が得られにくいので好ましくない。  
【００１７】
本発明の研磨シートの圧縮弾性率は、３ＭＰａ〜５ＭＰａの範囲が好ましい。圧縮弾性率が３ＭＰａが下回ると、被研磨基板のエッジ部の縁ダレが大きくなるので好ましくない。圧縮弾性率が５ＭＰａを上回ると、研磨シートの追随性が悪化する影響を反映してか、微細な欠陥が多くなり被研磨基板における品質が得られにくいので好ましくない。
【００１８】
本発明の不織布として、繊維径が数μｍ程度の極細繊維不織布は、追随性が面内で均一であるという点で、エッジ部の縁ダレが低く安定するという点で好ましい。
【００１９】
本発明のポリエステルフィルムの厚みは、７５μｍ以上２５０μｍ以下が好ましい。厚みが７５μｍを下回ると、被研磨基板のエッジ部の縁ダレが大きくなるので好ましくない。厚みが２５０μｍを超えると不織布の追随性が悪化する影響を反映してか、微細な欠陥が多くなり被研磨基板における品質が得られにくいので好ましくない。
【００２０】
本発明のポリエステルフィルムと不織布とを接着させるために接着材を使用する。この接着剤としては、アクリル樹脂系接着剤、α−オレフィン系接着剤、ウレタン樹脂系接着剤および熱可塑性樹脂からなるホットメルト接着剤が挙げられるが、ウレタン樹脂系接着剤やホットメルト接着剤が短時間で接着できるという点で好ましく用いられる。ウレタン樹脂系接着剤については、各種有機溶剤に接着剤を溶解させたものをラミネーターで乾式塗工する方法を好適な例として挙げることができる。
【００２１】
ホットメルト接着剤として、日立化成ポリマー（株）製の“ハイボン”（登録商標）シリーズ、三井武田ケミカル（株）の“タケメルト”（登録商標）ＭＡシリーズ、東亜合成（株）の“アロンメルト”（登録商標）Ｒシリーズ、新田ゼラチン（株）の“ニッタイト”（登録商標）ＡＲＸシリーズ、およびコニシ（株）の“ボンド”（登録商標）ＫＵＭシリーズを挙げることができる。
【００２２】
接着剤の厚みは、接着力が高く維持できているという点で、３０〜１５０μｍが好ましく、４０〜１００μｍがより好ましい。
【００２３】
本発明の圧縮弾性率が１〜３ＭＰａの範囲の不織布を得る製造方法として、不織布を加熱した二本の熱ロールの間で圧縮させる方法が、圧縮後の幅方向の均一性と、圧縮弾性率の調整をしやすいという点で好ましい。熱ロールの温度として、１３０〜１９０℃の範囲が、比較的圧縮されやすく、圧縮後に形態が保持されるので好ましい。本発明の不織布を適正な圧縮弾性率の範囲に収めるために、圧縮前の不織布の厚みと、二本の熱ロールの間隙を調整することで、良好に製造することができる、熱ロールで圧縮した不織布は、表面が圧密化されすぎると、軟質多孔層を形成する塗液が不織布の内部にうまく浸透せずに、湿式凝固で得られた軟質多孔層と不織布の界面で剥離が起きやすいという問題も生じる可能性があるので、その場合には、圧縮した不織布の表面に軟質多孔層と同じ樹脂の塗液を塗布・乾燥して、プライマ層を形成した後に、軟質多孔層を形成する塗液を塗布して湿式凝固させることで、剥離強度が十分な研磨シートを製造することができる。軟質多孔層と圧縮弾性率が１〜３ＭＰａの範囲である不織布との間にポリエステルフィルムを介在させた研磨シートを製造する方法は、あらかじめポリエステルフィルムと不織布を接着剤で接着し、本積層シートを加熱した二本の熱ロールの間で圧縮させ、本発明の範囲の圧縮弾性率にした後、ポリエステルフィルム表面に軟質多孔層を形成する塗液を塗布して、湿式凝固させてポリエスフィルム表面に軟質多孔層を形成する。その他の製造方法として、不織布に軟質多孔層を湿式凝固で形成し、バフで軟質多孔層の表面を開口する前に、加熱した二本の熱ロール間で軟質多孔層と不織布の積層シートを圧縮加工して、不織布が所定の圧縮弾性率の範囲にした後、軟質多孔層の表面をバフで開口して、本発明の研磨シートを製造することもできる。軟質多孔層を形成する塗液を塗布する設備として、ロールコーター、ナイフコーター、ナイフオーバーロールコーターおよびダイコーター等が挙げられる。塗液を塗布した後、軟質多孔層を形成させる凝固浴には、ＤＭＦとは親和性を有するが、第一の層の樹脂とは溶解しない溶媒を使用する。一般的には、水または水とＤＭＦとの混合溶液が使用される。
【００２４】
第一の層の表面をバフする方法として、サンドペーパーを回転するロールに巻き付けて、回転したサンドペーパー面を第一の層の表面に接触させて研削することで実施することができる。適切な研削量を管理する方法として、サンドペーパーを巻き付けた回転ロールの軸の抵抗値をモニターすることで、適切におこなうことができる。  
【００２５】
本発明の研磨布の軟質多孔層の表面には、親水性樹脂を塗布して、表面を親水化することで、より欠陥を減らすことも可能である。親水性樹脂として好ましいものとして、スラリーへの影響が少ないという点で、ポリビニルアルコールが好ましい、該ポリビニールアルコールの具体的な例として、日本合成化学工業(株)のゴーセノールのＮ−３００、ＮＬ−０５、Ａ−３００、ＡＬ−０６Ｒ、ＧＨ−２３、ＧＨ−２２、ＧＨ−２０、ＧＨ−２０Ｒ、ＧＨ−１７Ｒ、ＧＭ−１４Ｒ、ＧＭ−１４Ｌ、ＧＬ−０５、ＧＬ−０３、ＫＨ−２０、ＫＨ−１７、ＫＬ−０５、ＫＬ−０３、ＫＰ−０８Ｒ、ＮＫ−０５Ｒ、ＥＧ−０５、ＥＧ−４０、ゴーセネックスのＺ−１００、Ｚ−２００、Ｚ−２０５、Ｚ−２１０、Ｚ−２２０、Ｚ−３００、Ｚ−３２０、Ｚ−４１０、Ｋ−４３４、Ｌ−３２６６、ＧＫＳ−５０、Ｔ−３２０Ｈ、Ｔ−３３０、Ｔ−３５０、ＬＷ−１００、ＬＷ−２００、ＷＯ−３２０Ｎ、ＧポリマーのＡＺＦ８０３５Ｗ、ＯＫＳ−６０２６、ＯＫＳ−１０１１、ＯＫＳ−８０４９、ＯＫＳ−１０２８、ＯＫＳ−１０２７、ＯＫＳ−１１０９、ＯＫＳ−１０８１、ＯＫＳ−１０８３、ＯＫＳ−８０４１、ＯＫＳ−８１０５、ＯＫＳ−８０８９、ＯＫＳ−８０９６などが挙げられる。
【００２６】
使用されるスラリーに応じて適切に選ばれることが好ましい。そして、本発明の研磨シートで、または本発明の研磨シートの製造方法をで得られた研磨シートで被研磨基板を研磨することでエッジ部の縁ダレが少なく、表面の欠陥が少ない基板を完成することができる。
【実施例】
【００２７】
以下、実施例によって、さらに本発明の詳細を説明する。しかしながら、本実施例により本発明が限定して解釈される訳ではない。研磨評価および各測定は以下のとおりに行った。
【００２８】
〔圧縮弾性率の測定〕
カトーテック社製自動化圧縮試験機（ＫＥＳＦＢ３−ＡＵＴＯ−Ａ）を使用して、次の条件で測定した。本機を用いて０ｇｆ／ｃｍ２から５０ｇｆ／ｃｍ２まで加圧したときの、１６ｇｆ／ｃｍ２（０．００１５７ＭＰａ）と４０ｇｆ／ｃｍ２（０．００３９２ＭＰａ）のひずみ率から算出した（５回測定の平均値）。
【００２９】
・  ひずみ率：（初期厚み−所定圧力時の厚み）／初期厚み
・  圧縮弾性率：（０．００３９２−０．００１５７）／（ひずみ率40gf/cm2−ひずみ率16gf/cm2）
〔ＭＰａ〕
・圧子面積：１．０ｃｍ２
・圧子速度：０．０２ｍｍ／ｓｅｃ
・上限荷重：５０ｇｆ／ｃｍ。
【００３０】
〔研磨評価〕
岡本工作機械製作所製研磨装置（型式：ＳＰＰ６００）を使用し、 エッジドウエハーをＳＵＢＡ８００で一次研磨した８インチシリコンベアウエハーを用いて、試作した研磨シートの裏面に両面テープを貼り合せして、６１０ｍｍφの研磨パッドを作製し、次の条件で評価を行った。
・プラテン回転：４６ｒｐｍ
・ウエハヘッド回転：４９ｒｐｍ
・ヘッド荷重：２００ｇ／ｃｍ２
・スラリー量：７００ｍｌ／ｍｉｎ（スラリー：コロイダルシリカスラリー砥粒濃度１％）
・研磨時間：１５分。
【００３１】
・ダミーウエハーを１００枚研磨した後、上記８インチシリコンベアウエハーを研磨した。
【００３２】
〔シリコンウエハー上の欠陥〕
上記研磨条件で研磨したシリコンウエハー表面を、ケーエルエー・テンコール社製、  ＳＵＲＦＳＣＡＮ  ＳＰ−３で分析を行い、０．０２６μｍの欠陥数を求めた。
【００３３】
〔シリコンウエハーのエッジ部の縁ダレ〕
上記研磨条件で、ＺＹＧＯ  ＮｅｗＶｉｅｗ７３００で、エッジ部の２ｍｍ外周の縁ダレの測定をおこなった。
【００３４】
以下、実施例および比較例を説明する。表１に研磨シートの組成を示し、表２には得られた研磨シートによる研磨特性を示す。  
【００３５】
［実施例１］
繊維径１４μｍの繊維綿を使用した不織布を１６０℃の熱ロールで圧縮加工して、圧縮弾性率が２．１ＭＰａ（厚み：０．９ｍｍ）のものを得た。ポリエステル系ポリウレタンのジメチルホルムアミド１０重量％溶液を塗布・乾燥してポリエステル系ポリウレタンのプライマ層を形成した。
【００３６】
固形分濃度３０％のポリエステル系ポリウレタンのジメチルホルムアミド溶液１００質量部、ジメチルホルムアミド溶媒を６０質量部、発泡助剤１．５質量部、および顔料としてカーボンブラックを２０％含有するジメチルホルムアミド溶液、１０質量部をそれぞれ分散して、軟質多孔層を形成する塗液を調製して、上記不織布のプライマ層の表面に、塗液を塗布して、ジメチルホルムアミド１０％の水溶液の凝固浴に浸漬して、湿式凝固をおこない、水で洗浄してジメチルホルムアミドを除き、乾燥して、軟質多孔層を厚み５５０μｍで形成した。表面をサンドペーパーで研削し研磨シートを得た。
【００３７】
得られた研磨シートの圧縮弾性率は４．１ＭＰａであった。断面を観察したところ軟質多孔層には涙状の孔が多数形成され、孔の表層では平均で４０μｍの直径の穴が形成されていた。得られた研磨シート、研磨装置を使用してシリコンウエハーを研磨した。研磨シートでの剥離はなく、問題なく研磨できた。欠陥数およびエッジ部の縁ダレについては、表２に示すように良好であった。
【００３８】
［実施例２］
繊維径１４μｍの繊維綿を使用した不織布を１６０℃の熱ロールで圧縮加工して、圧縮弾性率が１．１ＭＰａ（厚み：１．２ｍｍ）を得た。ポリエステル系ポリウレタンのジメチルホルムアミド１０重量％溶液を塗布・乾燥してポリエステル系ポリウレタンのプライマ層を形成した。
【００３９】
実施例１の同じ条件で、軟質多孔層を４００μｍ形成した。表面をサンドペーパーで研削し研磨シートを得た。
【００４０】
得られた研磨シートの圧縮弾性率は３．１ＭＰａであった。断面を観察したところ軟質多孔層には涙状の孔が多数形成され、孔の表層では平均で３０μｍの直径の穴が形成されていた。得られた研磨シート、研磨装置を使用してシリコンウエハーを研磨した。研磨シートでの剥離はなく、問題なく研磨できた。欠陥数およびエッジ部の縁ダレについては、表２に示すように良好であった。
【００４１】
［実施例３］
繊維径１４μｍの繊維綿を使用した不織布を１６０℃の熱ロールで圧縮加工して、圧縮弾性率が２．９ＭＰａ（厚み：０．７ｍｍ）を得た。ポリエステル系ポリウレタンのジメチルホルムアミド１０重量％溶液を塗布・乾燥してポリエステル系ポリウレタンのプライマ層を形成した。
【００４２】
実施例１の同じ条件で、軟質多孔層を４５０μｍ形成した。表面をサンドペーパーで研削し研磨シートを得た。
【００４３】
得られた研磨シートの圧縮弾性率は４．９ＭＰａであった。断面を観察したところ軟質多孔層には涙状の孔が多数形成され、孔の表層では平均で５０μｍの直径の穴が形成されていた。得られた研磨シート、研磨装置を使用してシリコンウエハーを研磨した。研磨シートでの剥離はなく、問題なく研磨できた。欠陥数およびエッジ部の縁ダレについては、表２に示すように良好であった。
【００４４】
[比較例１]
実施例１で用いた不織布の代わりに、繊維径は同じで、密度を変えて、圧縮弾性率０．９ＭＰａ（厚み：１．０ｍｍ）を変更し、実施例１の同じ条件で、軟質多孔層を６００μｍ形成した。表面をサンドペーパーで研削し研磨シートを得た。
【００４５】
得られた研磨シートの圧縮弾性率は３．２ＭＰａであった。断面を観察したところ軟質多孔層には涙状の孔が多数形成され、孔の表層では平均で３０μｍの直径の穴が形成されていた。得られた研磨シート、研磨装置を使用してシリコンウエハーを研磨した。研磨シートでの剥離はなく、問題なく研磨できた。欠陥数およびエッジ部の縁ダレについては、表２に示すように縁ダレが不良であった。  
【００４６】
[比較例２]
実施例１で用いた不織布の代わりに、繊維径は同じで、熱ロールでの圧縮化をおこない、圧縮弾性率３．３ＭＰａ（厚み：０．６ｍｍ）を作成し、実施例１の同じ条件で、軟質多孔層を７００μｍ形成した。表面をサンドペーパーで研削し研磨シートを得た。
【００４７】
得られた研磨シートの圧縮弾性率は４．７ＭＰａであった。断面を観察したところ軟質多孔層には涙状の孔が多数形成され、孔の表層では平均で６０μｍの直径の穴が形成されていた。得られた研磨シート、研磨装置を使用してシリコンウエハーを研磨した。研磨シートでの剥離はなく、問題なく研磨できた。欠陥数およびエッジ部の縁ダレについては、表２に示すように欠陥数が多く不良であった。
[比較例３]
繊維径１４μｍの繊維綿を使用した不織布を１６０℃の熱ロールで圧縮加工して、圧縮弾性率が１．１ＭＰａ（厚み：１．２ｍｍ）を得た。ポリエステル系ポリウレタンのジメチルホルムアミド１０重量％溶液を塗布・乾燥してポリエステル系ポリウレタンのプライマ層を形成した。
【００４８】
固形分濃度２０％のポリエステル系ポリウレタンのジメチルホルムアミド溶液１００質量部、ジメチルホルムアミド溶媒を６０質量部、発泡助剤１．５質量部、および顔料としてカーボンブラックを１５％含有するジメチルホルムアミド溶液、１０質量部をそれぞれ分散して、軟質多孔層を形成する塗液を調製して、上記不織布のプライマ層の表面に、塗液を塗布して、ジメチルホルムアミド１０％の水溶液の凝固浴に浸漬して、湿式凝固をおこない、水で洗浄してジメチルホルムアミドを除き、乾燥して、軟質多孔層を厚み６２０μｍで形成した。表面をサンドペーパーで研削し研磨シートを得た。
【００４９】
得られた研磨シートの圧縮弾性率は２．８ＭＰａであった。断面を観察したところ軟質多孔層には涙状の孔が多数形成され、孔の表層では平均で５０μｍの直径の穴が形成されていた。得られた研磨シート、研磨装置を使用してシリコンウエハーを研磨した。研磨シートでの剥離はなく、問題なく研磨できた。欠陥数およびエッジ部の縁ダレについては、表２に示すように縁ダレが不良であった。
[比較例４]
繊維径１４μｍの繊維綿を使用した不織布を１６０℃の熱ロールで圧縮加工して、圧縮弾性率が２．７ＭＰａ（厚み：１．２ｍｍ）を得た。ポリエステル系ポリウレタンのジメチルホルムアミド１０重量％溶液を塗布・乾燥してポリエステル系ポリウレタンのプライマ層を形成した。
【００５０】
固形分濃度４０％のポリエステル系ポリウレタンのジメチルホルムアミド溶液１００質量部、ジメチルホルムアミド溶媒を６０質量部、発泡助剤１．５質量部、および顔料としてカーボンブラックを２５％含有するジメチルホルムアミド溶液、１０質量部をそれぞれ分散して、軟質多孔層を形成する塗液を調製して、上記不織布のプライマ層の表面に、塗液を塗布して、ジメチルホルムアミド１０％の水溶液の凝固浴に浸漬して、湿式凝固をおこない、水で洗浄してジメチルホルムアミドを除き、乾燥して、軟質多孔層を厚み７００μｍで形成した。表面をサンドペーパーで研削し研磨シートを得た。
【００５１】
得られた研磨シートの圧縮弾性率は５．２ＭＰａであった。断面を観察したところ軟質多孔層には涙状の孔が多数形成され、孔の表層では平均で２０μｍの直径の穴が形成されていた。得られた研磨シート、研磨装置を使用してシリコンウエハーを研磨した。研磨シートでの剥離はなく、問題なく研磨できた。欠陥数およびエッジ部の縁ダレについては、表２に示すように欠陥が多く不良であった。
【００５２】
［実施例４］
実施例２における不織布の代わりに、繊維径４μｍの極細繊維からなる不織布で、熱ロールで圧縮させ、圧縮弾性率２．１ＭＰａ（厚み：０．８ｍｍ）を用いて、他の条件は実施例２と同じようにして、研磨シートを作製した。
【００５３】
得られた研磨シートの圧縮弾性率は３．９ＭＰａであった。断面を観察したところ軟質多孔層には涙状の孔が多数形成され、孔の表層では平均で３０μｍの直径の穴が形成されていた。得られた研磨シート、研磨装置を使用してシリコンウエハーを研磨した。研磨シートでの剥離はなく、問題なく研磨できた。欠陥数およびエッジ部の縁ダレについては、表２に示すように良好であった。
【００５４】
［実施例５］
厚み１００μｍのポリエステルフィルムを、繊維径４μｍの極細繊維からなる不織布と接着剤で接着し積層シートを作成し、ロール温度１６０℃の熱ロールで圧縮して、圧縮弾性率１．９ＭＰa厚み：０．８ｍｍ）を用いて、ポリエステルフィルム表面に実施例２と同じようにして軟質多孔層を形成して、研磨シートを作製した。
【００５５】
得られた研磨シートの圧縮弾性率は３．８ＭＰａであった。断面を観察したところ軟質多孔層には涙状の孔が多数形成され、孔の表層では平均で４０μｍの直径の穴が形成されていた。得られた研磨シート、研磨装置を使用してシリコンウエハーを研磨した。研磨シートでの剥離はなく、問題なく研磨できた。欠陥数およびエッジ部の縁ダレについては、表２に示すように良好であった。
【００５６】
【表１】
2020124775.tif 000002
【００５７】
【表２】
2020124775.tif 000003