(57)【要約】【課題】入射角度が大きくなった場合でも太陽光線によるノイズ量の入射角依存性が少なく、温度変化時においても透過波長変化が少ない光学フィルターを提供すること。【解決手段】本発明の光学フィルターは、基材と誘電体多層膜とを有し、かつ、少なくとも近赤外線の一部を透過する光学フィルターであって、波長３００〜１２００ｎｍにおいて、要件（Ａ）および（Ｂ）を満たす：（Ａ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０）の角度で入射した光線において、波長９００〜１０６０ｎｍの範囲における最大透過率ＴθMAX（％）が５０％以上である；（Ｂ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度の角度で入射した光線において、ＴθMAX（％）となる波長をλθMAX（ｎｍ）とし、該λθMAX（ｎｍ）よりも長波長領域で透過率が５０％となる最も短い波長をλθＢ50（ｎｍ）とした場合、|λ0Ｂ50−λ30Ｂ50|≦１０である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と該基材の少なくとも一方の面に形成された誘電体多層膜とを有し、かつ、少なくとも近赤外線の一部を透過する光学フィルターであって、
波長３００〜１２００ｎｍにおいて、下記要件（Ａ）および（Ｂ）を満たす光学フィルター：
（Ａ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、波長９００〜１０６０ｎｍの範囲における最大透過率ＴθMAX（％）が５０％以上である；
（Ｂ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、前記ＴθMAX（％）となる波長をλθMAX（ｎｍ）とし、該λθMAX（ｎｍ）よりも長波長領域で透過率が５０％となる最も短い波長をλθＢ50（ｎｍ）とした場合、|λ0Ｂ50−λ30Ｂ50|≦１０である。
【請求項２】
さらに下記要件（Ｃ）を満たす請求項１に記載の光学フィルター：
（Ｃ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、７５０〜（λθMAX−５０）ｎｍの範囲における平均透過率ＴθAVG(1)（％）と（λθMAX＋５０）〜１１１０ｎｍの範囲における平均透過率ＴθAVG(2)（％）との和が２０％以下である。
【請求項３】
さらに下記要件（Ｄ）を満たす請求項１または２に記載の光学フィルター：
（Ｄ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、前記λθMAX（ｎｍ）よりも短波長領域で透過率が５０％となる最も長い波長をλθＡ50（ｎｍ）とした場合、|λ0Ａ50−λ30Ａ50|≦１０である。
【請求項４】
さらに下記要件（Ｅ）を満たす請求項３に記載の光学フィルター：
（Ｅ）|λ0Ａ50−λ30Ａ50|＋|λ0Ｂ50−λ30Ｂ50|≦１５である。
【請求項５】
さらに下記要件（Ｆ）を満たす請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルター：
（Ｆ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、波長３００〜８００ｎｍの範囲における平均透過率ＴθAVG(3)（％）が１０％以下である。
【請求項６】
前記ＴθMAX（％）が７０％以上である請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項７】
前記誘電体多層膜を構成する全ての層の屈折率が３．５未満である請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項８】
前記誘電体多層膜がＴｉＯ2からなる層およびＳｉＯ2からなる層により構成されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項９】
前記誘電体多層膜を構成する全てのＳｉＯ2からなる層の屈折率が１．４７以上であることを特徴とする請求項８に記載の光学フィルター。
【請求項１０】
前記誘電体多層膜が、３００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の物理膜厚を有する層を少なくとも１層含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項１１】
前記誘電体多層膜の少なくとも一つが、波長（λθＢ50−５）ｎｍにおいて、入射角度０度〜３０度の間に透過率の極小値を一つ有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項１２】
光学センサー装置用であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備する光学センサー装置。
【請求項１４】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備する生体認証装置。
【請求項１５】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備する固体撮像装置。
【請求項１６】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備するカメラモジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルターおよびその用途に関する。より詳しくは、少なくとも一部の波長の近赤外線を透過させ、不要となる波長の光を遮蔽する光学フィルターおよび該光学フィルターを用いた光学センサー装置等の用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、スマートフォン、タブレット端末、ウェアラブル機器等のモバイル情報端末装置への用途、先進運転支援システム用途、自動運転システム用途、航空機用途、無人航空機用途、ロボット用途、農機用途、医療器具用途として、近赤外線を用いた各種光学センサー装置の開発が進められている。
【０００３】
情報端末装置において、光学センサー装置は様々な用途で適用が検討されており、例えば、距離測定などの空間認識用途、モーション認識用途、虹彩認証や白目の静脈認証などのセキュリティ用途、脈拍測定や血中酸素濃度測定などのヘルスケア用途が挙げられる。
【０００４】
近赤外線を用いた光学センサー装置において、センシング機能を精度よく働かせるためには、不要となる波長の光をカットすることが重要である。また、センシングに用いる近赤外線の波長によっては、これよりも短い波長の近赤外線をカットする（例えば、９４０ｎｍ付近の近赤外線をセンシングに用いる場合は可視光線に加えて９００ｎｍ付近までの近赤外線をカットする）ことでセンシング時のノイズを低減でき、光学センサー装置の特性を向上させることができる。
【０００５】
一方、モバイル情報端末装置などの各種光学センサー部品は、低背化や広角化が進み、従来以上に斜め方向からの入射光の割合が増加することになる。センサー精度を向上させるためには斜め方向からの入射光に対しても光学センサーに到達する光の分光特性（可視光線や不要な波長の近赤外線のカット特性）が変化しないことが要求されている。
【０００６】
例えば可視光線をカットし、特定波長の近赤外線を透過させる手段として、ガラス基板上に高屈折率材料と低屈折率材料を交互に多層薄膜を積層したバンドパスフィルターが開示されている（例えば特許文献１参照）。しかしながら、このような多層薄膜を形成した光学フィルターは、入射光の入射角度によって光学特性が大きく変化する。そのため、広角度にセンシングを行う光学センサーの検出精度が低下するという問題がある。
【０００７】
特定波長の近赤外線を透過させる光学フィルターにおいて、入射角度依存性の少ない光学フィルターとして、アモルファスシリコンを用いた多層膜（例えば特許文献２参照）、誘電体多層膜における高屈折率層の割合を多くした設計による光学フィルター（例えば特許文献３、４参照）、特定波長の近赤外線に吸収を持つ化合物と組みわせた光学フィルター（例えば特許文献５）が知られている。これらの近赤外線の光線透過帯における入射角による光学特性変化は、従来の誘電体多層膜より小さく、光学センサーの光源波長域における検出感度の入射角依存性は低減されている。
【０００８】
近年急速に小型化・軽量化が進むモバイル情報端末用途や、自動運転システム用途、航空機用途、無人航空機用途、ロボット用途では、屋外で使用される場合も多く、太陽光線によるノイズが入る場合が多い。太陽光線によるノイズは、光学センサーに隣接して設けられた環境光センサーに受光する光量に応じてオフセット（除去）されるが、従来の特定波長の近赤外線を透過させる光学フィルターでは、入射角依存性の改良は十分ではなく、太陽光線のオフセット量が入射角によって異なり、モバイル情報端末用途、自動運転システム用途、航空機用途、無人航空機用途、ロボット用途では好適に使用できない場合があった。また、屋外で使用される場合、日射等によって温度が上昇する場合も多く、従来の特定波長の近赤外線を透過させる光学フィルターでは、温度上昇による光学特性変化が発生し、モバイル情報端末用途、自動運転システム用途、航空機用途、無人航空機用途、ロボット用途では好適に使用できない場合があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１５−１８４６２７号公報
【特許文献２】米国特許出願公開第２０１７／０３３６５４４号明細書
【特許文献３】特開２０１５−１１１２４１号公報
【特許文献４】国際公開第２０１３／０１５３０３号公報
【特許文献５】国際公開第２０１７／２１３０４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、光学センサー装置が設けられる機器の低背化や広角化に伴い、入射角度が大きくなった場合でも太陽光線によるノイズ量の入射角依存性が少なく、温度変化時においても透過波長変化が少なく、特定波長の近赤外線透過特性とその他の近赤外線遮蔽特性を両立可能な光学フィルターを提供することを課題の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、特定の光学特性を有する光学フィルターにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。本発明の態様の例を以下に示す。
【００１２】
［１］  基材と該基材の少なくとも一方の面に形成された誘電体多層膜とを有し、かつ、少なくとも近赤外線の一部を透過する光学フィルターであって、
波長３００〜１２００ｎｍにおいて、下記要件（Ａ）および（Ｂ）を満たす光学フィルター：
（Ａ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、波長９００〜１０６０ｎｍの範囲における最大透過率ＴθMAX（％）が５０％以上である；
（Ｂ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、前記ＴθMAX（％）となる波長をλθMAX（ｎｍ）とし、該λθMAX（ｎｍ）よりも長波長領域で透過率が５０％となる最も短い波長をλθＢ50（ｎｍ）とした場合、|λ0Ｂ50−λ30Ｂ50|≦１０である。
［２］  さらに下記要件（Ｃ）を満たす項［１］に記載の光学フィルター：
（Ｃ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、７５０〜（λθMAX−５０）ｎｍの範囲における平均透過率ＴθAVG(1)（％）と（λθMAX＋５０）〜１１１０ｎｍの範囲における平均透過率ＴθAVG(2)（％）との和が２０％以下である。
［３］  さらに下記要件（Ｄ）を満たす項［１］または［２］に記載の光学フィルター：
（Ｄ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、前記λθMAX（ｎｍ）よりも短波長領域で透過率が５０％となる最も長い波長をλθＡ 50（ｎｍ）とした場合、|λ0Ａ50−λ30Ａ50|≦１０である。
［４］  さらに下記要件（Ｅ）を満たす項［３］に記載の光学フィルター：
（Ｅ）|λ0Ａ50−λ30Ａ50|＋|λ0Ｂ50−λ30Ｂ50|≦１５である。
［５］  さらに下記要件（Ｆ）を満たす項［１］〜［４］のいずれか１項に記載の光学フィルター：
（Ｆ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、波長３００〜８００ｎｍの範囲における平均透過率ＴθAVG(3)（％）が１０％以下である。
［６］  前記ＴθMAX（％）が７０％以上である項［１］〜［５］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
［７］  前記誘電体多層膜を構成する全ての層の屈折率が３．５未満である項［１］〜［６］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
［８］  前記誘電体多層膜がＴｉＯ2からなる層およびＳｉＯ2からなる層により構成されていることを特徴とする項［１］〜［７］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
［９］  前記誘電体多層膜を構成する全てのＳｉＯ2からなる層の屈折率が１．４７以上であることを特徴とする項［８］に記載の光学フィルター。
［１０］  前記誘電体多層膜が、３００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の物理膜厚を有する層を少なくとも１層含むことを特徴とする項［１］〜［９］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
［１１］  前記誘電体多層膜の少なくとも一つが、波長（λθＢ50−５）ｎｍにおいて、入射角度０度〜３０度の間に透過率の極小値を一つ有することを特徴とする項［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
［１２］  光学センサー装置用であることを特徴とする項［１］〜［１１］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
［１３］  項［１］〜［１２］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備する光学センサー装置。
［１４］  項［１］〜［１２］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備する生体認証装置。
［１５］  項［１］〜［１２］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備する固体撮像装置。
［１６］  項［１］〜［１２］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備するカメラモジュール。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の光学フィルターは、一部の近赤外線透過特性を有し、斜め方向から光線が入射した際も光学特性変化が少なく、温度変化時においても透過波長変化が少ないため、光学センサー用途に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明の光学フィルターの構成例を示す概略断面模式図である。
【図２】図２（Ａ）は、光学フィルターの面に対して垂直方向から入射した光の透過率を測定する方法を示す概略図である。図２（Ｂ）は、光学フィルターの面に対して垂直方向から３０度の角度で入射した光の透過率を測定する方法を示す概略図である。
【図３】図３は、本発明の光学フィルターを含む固体撮像装置、カメラモジュール、センサーの一例を示す概略断面模式図である。
【図４】図４は、近赤外線センサー画素の波長別感度の一例を示す図である。
【図５】図５は、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構が公開している、ある日時の岐阜の照射量データである。
【図６】図６（ａ）は、実施例１で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。図６（ｂ）は、実施例１における太陽光下における近赤外線センサーの波長別感度データを示す図である。
【図７】図７は、実施例１における設計（Ｉ）の誘電体多層膜をガラス基板に設けた際の、波長９６８ｎｍにおける透過率の入射角依存性を示す図である。
【図８】図８（ａ）は、実施例２で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。図８（ｂ）は、実施例２における太陽光下における近赤外線センサーの波長別感度データを示す図である。
【図９】図９（ａ）は、実施例３で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。図９（ｂ）は、実施例３における太陽光下における近赤外線センサーの波長別感度データを示す図である。
【図１０】図１０（ａ）は、実施例４で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。図１０（ｂ）は、実施例４における太陽光下における近赤外線センサーの波長別感度データを示す図である。
【図１１】図１１（ａ）は、実施例５で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。図１１（ｂ）は、実施例５における太陽光下における近赤外線センサーの波長別感度データを示す図である。
【図１２】図１２（ａ）は、実施例６で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。図１２（ｂ）は、実施例６における太陽光下における近赤外線センサーの波長別感度データを示す図である。
【図１３】図１３（ａ）は、比較例１で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。図１３（ｂ）は、比較例１における太陽光下における近赤外線センサーの波長別感度データを示す図である。
【図１４】図１４は、比較例１における設計（VIII）の誘電体多層膜をガラス基板に設けた際の、波長１０００ｎｍにおける透過率の入射角依存性を示す図である。
【図１５】図１５（ａ）は、比較例２で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。図１５（ｂ）は、比較例２における太陽光下における近赤外線センサーの波長別感度データを示す図である。
【図１６】図１６（ａ）は、比較例３で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。図１６（ｂ）は、比較例３における太陽光下における近赤外線センサーの波長別感度データを示す図である。
【図１７】図１７（ａ）は、比較例４で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。図１７（ｂ）は、比較例４における太陽光下における近赤外線センサーの波長別感度データを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明に係る光学フィルターの実施形態を、図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付し又は類似の符号（数字の後に「'」などを付しただけの符号）を付し、詳細な説明を適宜省略することがある。
【００１６】
本明細書中において「上」とは、支持基材の主面（例えば、固体撮像素子を配置する面）を基準とした相対的な位置を指し、支持基材の主面から離れる方向が「上」である。本
図面では、紙面に向かって上方が「上」となっている。また、「上」には、物体の上に接する場合（つまり「ｏｎ」の場合）と、物体の上方に位置する場合（つまり「ｏｖｅｒ」の場合）とが含まれる。逆に、「下」とは、支持基材の主面を基準とした相対的な位置を指し、支持基材の主面に近づく方向が「下」である。本図面では、紙面に向かって下方が「下」となっている。
【００１７】
また、本明細書において、「波長（Ｖ）〜（Ｗ）ｎｍにおける最大透過率」は「波長（Ｖ）〜（Ｗ）ｎｍにおける透過率の最大値」と同義であり、「波長（Ｖ）〜（Ｗ）ｎｍにおける平均透過率」は「波長（Ｖ）〜（Ｗ）ｎｍにおける全波長域の透過率の平均値」と同義である。この場合、ＶとＷはそれぞれ異なる数値とする。
【００１８】
［光学フィルター］
本発明の光学フィルターは、基材と該基材の少なくとも一方の面に形成された誘電体多層膜とを有し、かつ、少なくとも近赤外線の一部を透過する光学フィルターであって、波長３００〜１２００ｎｍにおいて、下記要件（Ａ）および（Ｂ）を満たすことを特徴とする。
（Ａ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、波長９００〜１０６０ｎｍの範囲における最大透過率ＴθMAX（％）が５０％以上である。
（Ｂ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、前記ＴθMAX（％）となる波長をλθMAX（ｎｍ）とし、該λθMAX（ｎｍ）よりも長波長領域で透過率が５０％となる最も短い波長をλθＢ50（ｎｍ）とした場合、|λ0Ｂ50−λ30Ｂ50|≦１０である。
【００１９】
要件（Ａ）を満たす光学フィルターは、波長９００〜１０６０ｎｍの少なくとも一部の波長領域において光線透過帯を有する。このように本発明の光学フィルターは、特定の波長領域の近赤外線透過特性を有することから、センシングに必要な近赤外線を効率よく取り込むことができ、良好なセンシング性能を達成できる。前記ＴθMAX（％）は、好ましくは６０％以上、より好ましくは７０％以上である。なお、前記「ＴθMAX（％）が５０％以上である」とは、θ度が０度および３０度のいずれの場合もＴθMAX（％）が５０％以上であることを意味し、θを用いた他の表現においても同様である。
【００２０】
前記光線透過帯とは、前記条件で測定した光学フィルターの透過率が４５％以上の連続した波長帯域であり、幅が好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは３０ｎｍ以上である。
【００２１】
要件（Ｂ）を満たす光学フィルターを使用することにより、前記光線透過帯よりも長波長側の入射角依存性を改善することができる。前記絶対値|λ0Ｂ50−λ30Ｂ50|は、好ましくは９．５ｎｍ以下、より好ましくは９．０ｎｍ以下、さらに好ましくは０．１〜８．５ｎｍである。また、前記λθMAX（ｎｍ）は、センシング感度の向上の観点から、好ましくは８５０〜１０４０ｎｍ、より好ましくは９００〜１０００ｎｍである。
【００２２】
本発明の光学フィルターは、さらに下記要件（Ｃ）を満たすことが好ましい。
（Ｃ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、７５０〜（λθMAX−５０）ｎｍの範囲における平均透過率ＴθAVG(1)（％）と（λθMAX＋５０）〜１１１０ｎｍの範囲における平均透過率ＴθAVG(2)（％）との和が２０％以下である。
【００２３】
要件（Ｃ）を満たす光学フィルターは、前記光線透過帯の長波長側および短波長側に近赤外線遮蔽領域を有するため、特定波長の近赤外線透過特性とその他の近赤外線遮蔽特性とを両立することが可能である。要件（Ｃ）におけるＴθAVG(1)（％）とＴθAVG(2)（％）との和は、好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下である。
【００２４】
本発明の光学フィルターは、さらに下記要件（Ｄ）を満たすことが好ましい。
（Ｄ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、前記λθMAX（ｎｍ）よりも短波長領域で透過率が５０％となる最も長い波長をλθＡ50（ｎｍ）とした場合、|λ0Ａ50−λ30Ａ50|≦１０である。
【００２５】
要件（Ｄ）を満たす光学フィルターを使用することにより、前記光線透過帯よりも短波長側の入射角依存性を改善することができる。前記絶対値|λ0Ａ50−λ30Ａ50|は、好ましくは８ｎｍ以下、より好ましくは６ｎｍ以下、さらに好ましくは０．１〜４ｎｍである。
【００２６】
本発明の光学フィルターは、さらに下記要件（Ｅ）を満たすことが好ましい。
（Ｅ）|λ0Ａ50−λ30Ａ50|＋|λ0Ｂ50−λ30Ｂ50|≦１５である。
要件（Ｅ）を満たす光学フィルターを使用することにより、前記光線透過帯の長波長側および短波長側の入射角依存性を改善することができる。前記絶対値|λ0Ｂ50−λ30Ｂ50|と前記絶対値|λ0Ａ50−λ30Ａ50|との和は、好ましくは１４ｎｍ以下、より好ましくは１２ｎｍ以下、さらに好ましくは０．２〜１０ｎｍである。
【００２７】
本発明の光学フィルターは、さらに下記要件（Ｆ）を満たすことが好ましい。
（Ｆ）光学フィルターの面に対して垂直方向からθ度（θは０および３０である。）の角度で入射した光線において、波長３００〜８００ｎｍの範囲における平均透過率ＴθAVG(3)（％）が１０％以下である。
【００２８】
要件（Ｆ）を満たす光学フィルターを使用することにより、近赤外センシングに不要な可視光線を効率よくカットすることができ、ノイズが少ない優れたセンシング性能を達成できる。前記ＴθAVG(3)（％）は、好ましくは８％以下、さらに好ましくは５％以下、特に好ましくは２％以下である。
【００２９】
［基材］
本発明の光学フィルターを構成する基材は、本発明の効果を損なわない限り、材質、形状等は特に制限されないが、透明性を有する板状体であることが好ましい。このような基材の材質として、例えば、ガラス板、強化ガラス板や、リン酸ガラス、フツリン酸ガラス、アルミナガラス、アルミン酸イットリウム、酸化イットリウムなどの特殊ガラス、および透明樹脂が挙げられる。
【００３０】
光学フィルターの構成例を図１に示す。基材は、単層（例えば、図１（Ａ）〜（Ｄ）、（Ｆ）および（Ｇ）参照）でも多層（例えば、図１（Ｅ）参照）でもよく、上記材料から選ばれる１種の材質から構成されても複数種から構成されてもよく、適宜混合した材料でもよい。前記基材は、波長７００〜９３０ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｚ）を含有する透明樹脂層を含むことが好ましい。
【００３１】
＜ガラス板＞
前記ガラス板としては、例えば、ケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどが挙げられる。
【００３２】
＜強化ガラス板＞
前記強化ガラス板としては、例えば、物理強化ガラス、強化合わせガラス、化学強化ガラスなどが挙げられる。これらの中では、圧縮層の厚みが薄く、基材厚みを薄く加工することができる化学強化ガラスが好ましい。化学強化ガラスの具体例としては、旭硝子社製「Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ」、Ｃｏｒｎｉｎｇ社「Ｇｏｒｉｌｌａ  Ｇｌａｓｓ」などが挙げられる。
【００３３】
＜特殊ガラス＞
前記リン酸ガラスや前記フツリン酸ガラスとしては、例えば、特開２０１３−１１９５１７に記載のリン酸塩系ガラス、特開２０１１−１１６６５４に記載のフツリン酸塩ガラスなどが挙げられる。前記アルミナガラスとしては、例えば日本ガイシ社製「ハイセラム」などが挙げられる。前記アルミン酸イットリウムや前記酸化イットリウムとしては、例えば、クアーズテック社製「ＥＸＹＲＩＡ（登録商標）」などが挙げられる。
【００３４】
＜透明樹脂＞
前記透明樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保し、かつ、１００℃以上の蒸着温度で行う高温蒸着により誘電体多層膜を形成しうるフィルムとするため、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０〜３８０℃、より好ましくは１１０〜３７０℃、さらに好ましくは１２０〜３６０℃である樹脂が挙げられる。また、前記樹脂のガラス転移温度が１４０℃以上であると、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成しえるフィルムが得られるため、特に好ましい。
【００３５】
透明樹脂としては、当該樹脂からなる厚さ０．１ｍｍの樹脂板を形成した場合に、この樹脂板の波長８００〜１０６０ｎｍの範囲の光線透過率が、好ましくは７５〜９５％、さらに好ましくは７８〜９５％、特に好ましくは８０〜９５％となる樹脂を用いることができる。全光線透過率がこのような範囲となる樹脂を用いれば、得られる基材は光学フィルムとして良好な透明性を示す。
【００３６】
透明樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常１５，０００〜３５０，０００、好ましくは３０，０００〜２５０，０００であり、数平均分子量（Ｍｎ）は、通常１０，０００〜１５０，０００、好ましくは２０，０００〜１００，０００である。
【００３７】
透明樹脂としては、例えば、環状（ポリ）オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド（アラミド）系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂およびビニル系紫外線硬化型樹脂を挙げることができる。
【００３８】
≪環状（ポリ）オレフィン系樹脂≫
環状（ポリ）オレフィン系樹脂としては、下記式（Ｘ0）で表される単量体および下記式（Ｙ0）で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも１種の単量体から得られる樹脂、および当該樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。
【００３９】
【化１】
2020076990.tif 000002
式（Ｘ0）中、Ｒx1〜Ｒx4はそれぞれ独立に、下記（i'）〜（ix'）より選ばれる原子または基を表し、ｋx、ｍxおよびｐxはそれぞれ独立に、０〜４の整数を表す。
（i'）水素原子
（ii'）ハロゲン原子
（iii'）トリアルキルシリル基
（iv'）酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（v'）置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（vi'）極性基（但し、（ii'）および（iv'）を除く。）
（vii'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基（但し、前記結合に関与しないＲx1〜Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
（viii'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲx1〜Ｒx4は、それぞれ独立に前記（i'）〜（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
（ix'）Ｒx2とＲx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲx1とＲx4は、それぞれ独立に前記（i'）〜（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
【００４０】
【化２】
2020076990.tif 000003
式（Ｙ0）中、Ｒy1およびＲy2はそれぞれ独立に、前記（i'）〜（vi'）より選ばれる原子または基を表すか、Ｒy1とＲy2とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表し、ｋyおよびｐyはそれぞれ独立に、０〜４の整数を表す。
【００４１】
≪芳香族ポリエーテル系樹脂≫
芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式（１）で表される構造単位および下記式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。
【００４２】
【化３】
2020076990.tif 000004
式（１）中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、ａ〜ｄはそれぞれ独立に、０〜４の整数を示す。
【００４３】
【化４】
2020076990.tif 000005
式（２）中、Ｒ1〜Ｒ4およびａ〜ｄはそれぞれ独立に、前記式（１）中のＲ1〜Ｒ4およびａ〜ｄと同義であり、Ｙは、単結合、−ＳＯ2−または−ＣＯ−を示し、Ｒ7およびＲ8はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、０〜４の整数を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０のとき、Ｒ7はシアノ基ではない。
【００４４】
また、前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、さらに下記式（３）で表される構造単位および下記式（４）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。
【００４５】
【化５】
2020076990.tif 000006
式（３）中、Ｒ5およびＲ6はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−または炭素数１〜１２の２価の有機基を示し、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、０〜４の整数を示し、ｎは０または１を示す。
【００４６】
【化６】
2020076990.tif 000007
式（４）中、Ｒ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、前記式（２）中のＲ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、前記式（３）中のＲ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。
【００４７】
≪ポリイミド系樹脂≫
ポリイミド系樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば、特開２００６−１９９９４５号公報や特開２００８−１６３１０７号公報に記載されている方法で合成することができる。
【００４８】
≪フルオレンポリカーボネート系樹脂≫
フルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよく、例えば、特開２００８−１６３１９４号公報に記載されている方法で合成することができる。
【００４９】
≪フルオレンポリエステル系樹脂≫
フルオレンポリエステル系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば、特開２０１０−２８５５０５号公報や特開２０１１−１９７４５０号公報に記載されている方法で合成することができる。
【００５０】
≪フッ素化芳香族ポリマー系樹脂≫
フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に制限されないが、フッ素原子を少なくとも１つ有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも１つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであることが好ましく、例えば特開２００８−１８１１２１号公報に記載されている方法で合成することができる。
【００５１】
≪アクリル系紫外線硬化型樹脂≫
アクリル系紫外線硬化型樹脂としては、特に制限されないが、分子内に一つ以上のアクリル基もしくはメタクリル基を有する化合物と、紫外線によって分解して活性ラジカルを発生させる化合物を含有する樹脂組成物から合成されるものを挙げることができる。アクリル系紫外線硬化型樹脂は、前記基材（i）として、ガラス支持体上やベースとなる樹脂製支持体上に化合物（Ｚ）および硬化性樹脂を含む透明樹脂層が積層された基材や、化合物（Ｚ）を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合、該硬化性樹脂として特に好適に使用することができる。
【００５２】
≪市販品≫
透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状（ポリ）オレフィン系樹脂の市販品としては、ＪＳＲ（株）製アートン、日本ゼオン（株）製ゼオノア、三井化学（株）製ＡＰＥＬ、ポリプラスチックス（株）製ＴＯＰＡＳなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学（株）製スミカエクセルＰＥＳなどを挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ネオプリムＬなどを挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人（株）製ピュアエースなどを挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ユピゼータＥＰ−５０００などを挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル（株）製ＯＫＰ４ＨＴなどを挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、（株）日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂の市販品としては、新日鐵化学（株）製シルプラスなどを挙げることができる。
【００５３】
＜化合物（Ｚ）＞
前記化合物（Ｚ）は、波長７００〜９３０ｎｍの領域に吸収極大を有すれば特に制限されないが、溶剤可溶型の色素化合物であることが好ましい。化合物（Ｚ）としては、例えば、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、ポルフィリン系化合物、トリアリールメタン系化合物、サブフタロシアニン系化合物、ペリレン系化合物、セミスクアリリウム系化合物、スチリル系化合物、フェナジン系化合物、ピリドメテン−ホウ素錯体系化合物、ピラジン−ホウ素錯体系化合物、ピリドンアゾ系化合物、キサンテン系化合物、ジピロメテン系化合物が挙げられる。これらの中では、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ピロロピロール系化合物、クロコニウム系化合物、ヘキサフィリン系化合物、金属ジチオラート系化合物、および環拡張ＢＯＤＩＰＹ（ボロンジピロメテン）系化合物が好ましく、スクアリリウム系化合物、シアニン系化合物、クロコニウム系化合物、およびピロロピロール系化合物がさらに好ましく、下記式（Ｚ）で表されるスクアリリウム系化合物が特に好ましい。このような化合物（Ｚ）を用いることにより、吸収極大波長付近での効率的な光線カット特性、急峻なスペクトル形状を同時に達成することができる。化合物（Ｚ）は、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５４】
【化７】
2020076990.tif 000008
式（Ｚ）中、置換ユニットＡおよびＢは、それぞれ独立に下記式（Ｉ）および（ＩＩ）で表される置換ユニットのいずれかを表す。
【００５５】
【化８】
2020076990.tif 000009
式（Ｉ）および（ＩＩ）中、波線で表した部分が中央四員環との結合部位を表し、  Ｘは、独立に酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子または−ＮＲ8−を表し、  Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−ＮＲgＲh基、−ＳＲi基、−ＳＯ2Ｒi基、−ＯＳＯ2Ｒi基または下記Ｌa〜Ｌhのいずれかを表し、ＲgおよびＲhは、それぞれ独立に水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒi基または下記Ｌa〜Ｌeのいずれかを表し、Ｒiは下記Ｌa〜Ｌeのいずれかを表し、
（Ｌa）炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌb）炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌc）炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌd）炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌe）炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌf）炭素数１〜１２のアルコキシ基
（Ｌg）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアシル基、
（Ｌh）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基
【００５６】
置換基Ｌは、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基および炭素数３〜１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。
【００５７】
前記Ｒ1としては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ニトロ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、水酸基である。
【００５８】
前記Ｒ2〜Ｒ7としては、好ましくは、それぞれ独立に水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、Ｎ−メチルアセチルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基、ｎ−ブチルスルホニル基、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、水酸基、ジメチルアミノ基、メトキシ基、エトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基、メチルチオ基、エチルチオ基である。
【００５９】
前記Ｒ8としては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、フェニル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−デシル基である。
【００６０】
前記Ｘとしては、好ましくは酸素原子、硫黄原子、−ＮＲ8−であり、特に好ましくは式（Ｉ）の置換ユニットにおいては酸素原子、硫黄原子であり、式（ＩＩ）の置換ユニットにおいては−ＮＲ8−である。
【００６１】
スクアリリウム系化合物は、下記式（Ｚ１）のような記載方法に加え、下記式（Ｚ２）のように共鳴構造を取るような記載方法でも構造を表すことができる。つまり、下記式（Ｚ１）と下記式（Ｚ２）との違いは構造の記載方法のみであり、どちらも同一の化合物を表す。本発明中では特に断りのない限り、下記式（Ｚ１）のような記載方法にてスクアリリウム系化合物の構造を表すものとする。
【００６２】
【化９】
2020076990.tif 000010
さらに、例えば、下記式（Ｚ１）で表される化合物と下記式（Ｚ３）で表される化合物は、同一の化合物であると見なすことができる。
【００６３】
【化１０】
2020076990.tif 000011
式（Ｚ）で表される化合物において、中央の四員環に結合している左右のユニットは  それぞれ式（Ｉ）または式（ＩＩ）で表されるものであれば同一であっても異なっていてもよいが、ユニット中の置換基も含めて同一であった方が合成上容易であるため好ましい。つまり、式（Ｚ）で表される化合物のうち、下記式（ＩＩＩ）または式（ＩＶ）で表されるものが好ましい。
【００６４】
【化１１】
2020076990.tif 000012
式（Ｚ）で表される化合物の具体例としては、例えば、下記表１および表２に記載の化合物（ｚ−１）〜（ｚ−５８）、ならびに、下記化学式で表わされる化合物（ｚ−５９）および化合物（ｚ−６０）を挙げることができる。
【００６５】
【表１】
2020076990.tif 000013
【００６６】
【表２】
2020076990.tif 000014
【００６７】
【化１２】
2020076990.tif 000015
上記式（Ｚ）で表されるスクアリリウム系化合物以外のスクアリリウム系化合物、シアニン系化合物、ピロロピロール系化合物としては、波長７００〜９００ｎｍに吸収極大を有すれば特に限定されないが、例えば、下記のような化合物類（ｚ−６１）〜（ｚ−６４）を挙げることができる。
【００６８】
【化１３】
2020076990.tif 000016
【００６９】
【化１４】
2020076990.tif 000017
化合物（Ｚ）の吸収極大波長は７００〜９３０ｎｍであり、好ましくは７２０〜９２０ｎｍ以下、さらに好ましくは７３０ｎｍ以上９００ｎｍ以下、特に好ましくは７５０ｎｍ以上８９０ｎｍ以下 である。化合物（Ｚ）の吸収極大波長がこのような範囲にあると、近赤外センシングに有用な波長の光を透過させつつ不要な近赤外線をカットすることができ、近赤外透過帯の入射角依存性を低減させることができる。
【００７０】
化合物（Ｚ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、例えば、特開平１−２２８９６０号公報、特開２００１−４０２３４号公報、特許第３０９４０３７号公報、特許第３１９６３８３号公報等に記載されている方法などを参照して合成することができる。
【００７１】
化合物（Ｚ）の含有量は、前記基材として、例えば、化合物（Ｚ）を含有する透明樹脂製基板からなる基材や、透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合には、透明樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜２．０質量部、より好ましくは０．０２〜１．５質量部、特に好ましくは０．０３〜１．０質量部であり、前記基材として、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体に、化合物（Ｚ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材を用いる場合には、化合物（Ｚ）を含む透明樹脂層を形成する樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．１〜５．０質量部、より好ましくは０．２〜４．０質量部、特に好ましくは０．３〜３．０質量部である。化合物（Ｚ）の含有量が前記範囲内にあると、良好な近赤外線吸収特性を達成することができる。
【００７２】
＜化合物（Ｓ）＞
前記基材は、前記化合物（Ｚ）に加えて、波長３５０ｎｍ以上７００ｎｍ未満の領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ）を含有することができ、前記透明樹脂製基板が化合物（Ｓ）を含有することが好ましい。
【００７３】
化合物（Ｓ）は、波長３５０ｎｍ以上７００ｎｍ未満に吸収極大を有すれば特に限定されないが、溶剤可溶型の色素化合物であることが好ましい。化合物（Ｓ）としては、例えば、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、ポルフィリン系化合物、トリアリールメタン系化合物、サブフタロシアニン系化合物、ペリレン系化合物、セミスクアリリウム系化合物、スチリル系化合物、フェナジン系化合物、ピリドメテン−ホウ素錯体系化合物、ピラジン−ホウ素錯体系化合物、ピリドンアゾ系化合物、キサンテン系化合物、ＢＯＤＩＰＹ（ボロンジピロメテン）系化合物が挙げられる。これらの中では、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、トリアリールメタン系化合物、キサンテン系化合物、ピリドンアゾ系化合物が特に好ましい。化合物（Ｓ）は、１種のみを用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７４】
前記基材が化合物（Ｓ）を含有することにより、通常、誘電体多層膜が光線カットする波長領域を化合物（Ｓ）の吸収により光線をカットできるため、誘電体多層膜の積層数を低減できる場合がある。また、前記基材は化合物（Ｓ）を複数種含むことができるが、この場合、複数種含まれる化合物（Ｓ）の吸収極大波長は、好ましくは３０ｎｍ以上、さらに好ましくは４０ｎｍ以上、特に好ましくは５０ｎｍ以上互いに異なることが好ましい。
【００７５】
＜その他成分＞
前記基材は、本発明の効果を損なわない範囲において、その他成分として、さらに赤外線吸収色素、近紫外線吸収剤、酸化防止剤、離型剤、蛍光消光剤、金属錯体系化合物等の添加剤を含有してもよい。前記その他成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７６】
赤外線吸収色素としては、溶剤可溶型の化合物であることが好ましい。赤外線吸収色素としては、例えば、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ピロロピロール系化合物、クロコニウム系化合物、ヘキサフィリン系化合物、金属ジチオラート系化合物、ペリレン系化合物、イッテルビウム錯体系化合物および環拡張ジピロメテン系化合物が挙げられる。これらの中では、スクアリリウム系化合物が特に好ましい。赤外線吸収色素は、１種のみを用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７７】
赤外線吸収色素の吸収極大波長は、好ましくは９５０ｎｍ〜１４００ｎｍであり、より好ましくは９６０〜１３５０ｎｍ であり、さらに好ましくは９６５〜１２００ｎｍ、特に好ましくは９６５〜１１８０ｎｍである。このような赤外線吸収色素を用いると、λθＢ50より長波長側の光線をより効率的にカットできる傾向にある。
【００７８】
近紫外線吸収剤としては、例えばアゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物などが挙げられる。
酸化防止剤としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２'−ジオキシ−３，３'−ジ−ｔ−ブチル−５，５'−ジメチルジフェニルメタン、およびテトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトなどが挙げられる。
【００７９】
なお、これら添加剤は、基材を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を合成する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、樹脂１００質量に対して、通常０．０１〜５．０質量部、好ましくは０．０５〜２．０質量部である。
【００８０】
＜基材の製造方法＞
前記基材が、透明樹脂製基板を含む基材である場合、該透明樹脂製基板は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができ、さらに、必要により、成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングすることで、オーバーコート層が積層された基材を製造することができる。
【００８１】
前記基材が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体上に化合物（Ｚ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材である場合、例えば、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体に化合物（Ｚ）を含む樹脂溶液を溶融成形またはキャスト成形することで得ることができる。あるいは、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体に化合物（Ｚ）を含む樹脂溶液をスピンコート、スリットコート、インクジェットなどの方法にて塗工した後に溶媒を乾燥除去し、必要に応じてさらに光照射や加熱を行うことで得ることができる。
【００８２】
≪溶融成形≫
溶融成形としては、具体的には、樹脂と化合物（Ｚ）とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法、樹脂と化合物（Ｚ）とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法、または、化合物（Ｚ）、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などが挙げられる。溶融成形方法としては、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。
【００８３】
≪キャスト成形≫
キャスト成形としては、化合物（Ｚ）、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶剤を除去する方法、または、化合物（Ｚ）と、光硬化性樹脂および熱硬化性樹脂から選ばれる少なくとも１種の硬化性樹脂とを含む硬化性組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶媒を除去した後、紫外線照射や加熱などの適切な手法により硬化させる方法などが挙げられる。
【００８４】
前記基材が、化合物（Ｚ）を含有する透明樹脂製基板からなる基材である場合には、該基材は、キャスト成形後、成形用支持体から塗膜を剥離することにより得ることができ、また、前記基材が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体等の支持体などの上に化合物（Ｚ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材である場合には、該基材は、キャスト成形後、塗膜を剥離しないことで得ることができる。
【００８５】
［誘電体多層膜］
前記誘電体多層膜としては、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層したものが挙げられる。高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．８以上の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．８〜４．４の材料が選択される。このような材料としては、例えば、ダイヤモンド、酸化鉄、酸化銅、チタン酸バリウム、硫化バリウム、チタン酸ストロンチウム、テルル化カドミウム、硫化ストロンチウム、硫化水銀、酸化セシウム、酸化ハフニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化アンチモン、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化インジウム、酸化アンチモンや硫化亜鉛または酸化インジウム等を主成分とし、酸化チタン、酸化錫または酸化セリウム等を少量（例えば、主成分に対して０〜１０質量％）含有させたものや、透明樹脂に上記屈折率１．８以上の材料粒子を分散させたものが挙げられる。波長８００ｎｍ〜１０６０ｎｍにおける少なくとも一部の領域の透過率を高くする観点から、チタン酸バリウム、テルル化カドミウム、酸化セシウム、酸化ハフニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化アンチモン、酸化ランタン、酸化イットリウムが好ましい。温度変化時の光学特性変化が少ない観点から酸化チタンが好ましい。
【００８６】
低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．８未満の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．２〜１．８未満の材料が選択される。このような材料としては、例えば、透明樹脂、二酸化シリコン（シリカ）、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化バリウム、フッ化セシウム、フッ化アルミニウム、フッ化リチウム、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウム（クリオライト）、フッ化イットリウムが挙げられる。これらの中でも、製造コスト、膜密着性および耐久性の観点からシリカが好ましく、温度変化時の光学特性変化の観点から屈折率１．４６８以上のシリカがより好ましく、屈折率１．４７以上のシリカがさらに好ましい。
【００８７】
本発明の光学フィルターにおける誘電体多層膜は、酸化チタン（ＴｉＯ2）からなる層およびシリカ（ＳｉＯ2）からなる層により構成されていることが好ましい。また、前記誘電体多層膜を構成する全てのＳｉＯ2からなる層の屈折率が１．４７以上であることが特に好ましい。
【００８８】
誘電体多層膜中に、屈折率０．１〜４．５の半導体層または導体層を有してもよい。このような材料としては、グラファイト、タングステン、ゲルマニウム、シリコン、一酸化シリコン、鉄、マンガン、白金、金、銀、銅、マグネシウム、タングステン、ニッケル、アルミニウムが挙げられる。このような材料は、高屈折率材料層と低屈折率材料層との屈折率差を大きくすることが可能となり、少ない層数で、特定波長の近赤外線を透過し、かつ不要となる波長の光を遮蔽することが容易となる。
【００８９】
なお、本発明の光学フィルターは、温度変化時の光学フィルターの光学特性変化を少なくする観点から、熱膨張係数の小さい材料により構成されていることが好ましい。すなわち、前記誘電体多層膜を構成する全ての層の屈折率が、３．５未満であることが好ましく、１．０以上３．５未満であることがより好ましく、本発明の光学フィルターに含まれる全ての層が屈折率１．０以上３．５未満であることがさらに好ましい。
【００９０】
高屈折率材料層および低屈折率材料層、必要に応じて半導体層および導体層を積層する方法については、これらの材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、基材上に、直接、ＣＶＤ法、スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、ラジカルアシストスパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法、ＡＬＤ法、プラズマＡＬＤ法、またはイオンプレーティング蒸着法等により、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。これらの中では、温度変化時の光学特性の変化が少ない観点から、ＣＶＤ法、マグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、ラジカルアシスト法、イオンアシスト法、ＡＬＤ法、プラズマＡＬＤ法、イオンプレーティング法が好ましく、成膜レートの高さによる製造しやすさの観点から、イオンビームスパッタ法、イオンアシスト蒸着法、イオンプレーティング蒸着法がより好ましく、基材への過剰な昇温を防ぐことが可能な手法という観点から、イオンアシスト蒸着法が最も好ましい。
【００９１】
＜イオンアシスト蒸着法＞
イオンアシスト蒸着法は、真空蒸着における蒸着材の成膜中に、基材に対して酸素イオンまたは不活性ガスのイオンを照射する手法である。照射するイオンのイオン電流密度を制御することで、基材を過剰に加熱することなく成膜中の分子を高エネルギー化することが可能となり、樹脂基材上においても膜密度が高い膜が得られる。イオンアシスト蒸着を行うことができる装置としては、ビューラーライボルトオプティクス社製ＳＹＲＵＳｐｒｏシリーズ、（株）オプトラン製ＯＴＦＣシリーズ、（株）シンクロン製ＭＩＣシリーズ、ＥＰＤシリーズ、新明和工業（株）製ＶＣＤシリーズ、（株）昭和真空製Ｓａｐｉｏシリーズなどが挙げられる。
【００９２】
＜イオン電流密度＞
得られる誘電体多層膜の膜質調整の指標として、単位面積あたりのイオン電流密度（μＡ／ｃｍ2）を成膜レート（Å／秒）で除した単位成膜レート・面積あたりのイオン電流密度（μＡ・秒／Å・ｃｍ2）が挙げられる。イオン源であるイオンガンと基材間距離に応じてイオン電流密度は異なるため、イオンガンの電圧、電流、加速電圧および供給ガス流量が同一でも、装置に応じてイオン電流密度が異なる場合がある。そのため、イオン電流密度を基にイオンガンの電圧、電流、加速電圧および供給ガス流量を調整する。イオン電流密度は、厚み１ｍｍ、面積１ｃｍ2の銅板に−３０Ｖ印加したイオン電流密度計への電流量から算出する。
【００９３】
シリカなどの低屈折率層を成膜する場合のイオン電流密度は、温度変化時の光学特性変化が少ない膜質が得られる観点から、好ましくは４〜３０μＡ・秒／Å・ｃｍ2、より好ましくは６〜２５μＡ・秒／Å・ｃｍ2、さらに好ましくは８〜２０μＡ・秒／Å・ｃｍ2である。屈折率１．４７以上のシリカ層が得られる観点から、前記イオン電流密度のイオン照射を蒸着温度１１０℃以上で行うことが好ましい。また、温度変化時の光学特性変化が少ない膜質が得られる観点から、イオン源として、酸素ガスとアルゴンガスの混合ガスから生成されるイオンが好ましい。
【００９４】
酸化チタンなどの高屈折率層を成膜する場合のイオン電流密度は、温度変化時の光学特性変化が少ない膜質が得られる観点から、好ましくは１２〜５０μＡ・秒／Å・ｃｍ2、より好ましくは１４〜４０μＡ・秒／Å・ｃｍ2である。基材が樹脂層を有する場合のイオン電流密度は、樹脂の劣化を抑制する観点から、１４〜３５μＡ・秒／Å・ｃｍ2であることが好ましい。
【００９５】
イオンによる昇温に伴う基材変形を抑制する観点から、誘電体の材料および成膜レートに特に限定されず、単位面積あたりのイオン電流密度は、好ましくは６０μＡ／ｃｍ2以下、より好ましくは５５μＡ／ｃｍ2以下である。最小値は、特に限定されないが、好ましくは０．１μＡ／ｃｍ2である。
【００９６】
前記誘電体多層膜における高屈折率材料層および低屈折率材料層、必要に応じて半導体層および導体層の積層数の合計は、光学フィルター全体として、好ましくは１６〜１２０層、より好ましくは１８〜１１０層、さらに好ましくは２０〜１００層である。前記誘電体多層膜を構成する層の積層数の合計が前記範囲にあると、十分な製造マージンを確保できる上に、光学フィルターの反りや誘電体多層膜のクラックを低減することができる。
【００９７】
前記誘電体多層膜の少なくとも一つは、波長（λθＢ50−５）ｎｍにおいて、入射角度０度〜３０度の間に透過率の極小値を一つ有する。図７に、表５−１の設計（Ｉ）の波長（λθＢ50−５）ｎｍに相当する波長９６８ｎｍにおける透過率の入射角依存性を表す図を示す。図７より、入射角度１８度に透過率４１％の極小値を有することが分かる。このような極小値を有することから、入射角度０度〜３０度の間の透過率変化が少ない光学フィルターが得られる。そのため、特定波長の近赤外線を透過させ、不要な波長の光を蔽する光学フィルターとして、入射角度変化時の太陽光線によるノイズ量の変化が少ないという格別な効果を有する光学フィルターが得られる。
【００９８】
図１４に、表６−１の設計（VIII）の波長（λθＢ50−５）に相当する１０００ｎｍにおける透過率の入射角依存性を表す図を示す。図１４は、従来の誘電体多層膜を有する光学フィルターの透過率の入射角依存性を示しており、入射角度増加につれ透過率は減少するため、極小値を有さない。そのため、入射角度が増加するにつれてλθＢ 50が短波長シフトする結果、特定波長の近赤外線の透過波長が短波長シフトする。
【００９９】
入射角度０度〜３０度の範囲に有する極小値における透過率は、好ましくは６０％以下であり、より好ましくは５０％以下、さらに好ましくは４５％以下である。前記透過率が前記範囲であれば、λθＢ50のシフト量を低減する効果を奏する傾向にあるため好ましい。
【０１００】
誘電体多層膜を構成する高屈折率材料層および低屈折率材料層、必要に応じて半導体層および導体層の各層の厚さは、好ましくは１〜１３００ｎｍ、より好ましくは２〜１２５０ｎｍ、特に好ましくは５〜１２００ｎｍである 。各層の厚さがこの範囲であると、膜を形成する時の制御が容易である他、反射・屈折の光学的特性の関係から、特定波長の遮蔽および透過を容易にコントロールできる傾向にある。
【０１０１】
前記誘電体多層膜は、好ましくは３００ｎｍ以上８００ｎｍ以下、より好ましくは３５０ｎｍ以上８００ｎｍ以下、さらに好ましくは４００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の物理膜厚を有する層を少なくとも１層含むことが好ましく、少なくとも２層含むことがより好ましく、少なくとも３層含むことが特に好ましい。さらに、８０１ｎｍ以上１２００ｎｍ以下の膜厚を有する層を少なくとも１層含むことが好ましい。上記のような誘電体多層膜の膜厚設計とすることで、波長（λθＢ50−５）ｎｍ において、透過率が入射角度０度〜３０度間に極小値を有する誘電体多層膜を得ることができ、その結果、入射角依存性の少ない特定波長の近赤外線を透過させ、不要な波長の光を遮蔽する光学フィルターが得られる。
【０１０２】
［その他の機能膜］
本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、基材と誘電体多層膜との間、基材の誘電体多層膜が設けられた面と反対側の面、または誘電体多層膜の基材が設けられた面と反対側の面に、基材や誘電体多層膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜、密着補助膜、応力調整膜、導電膜、遮光膜などの機能膜を適宜設けることができる。
【０１０３】
本発明の光学フィルターは、前述の機能膜からなる層を１層含んでもよく、２層以上含んでもよい。本発明の光学フィルターがこのような機能膜からなる層を２層以上含む場合には、同様の層を２層以上含んでもよいし、異なる層を２層以上含んでもよい。
【０１０４】
このような機能膜を積層する方法としては、特に制限されないが、反射防止剤、ハードコート剤および帯電防止剤等のコーティング剤などを基材または誘電体多層膜に、前記と同様に溶融成形またはキャスト成形する方法等を挙げることができる。
【０１０５】
また、コーティング剤などを含む硬化性組成物をバーコーター等で基材または誘電体多層膜上に塗布した後、紫外線照射等により硬化することによっても製造することができる。
【０１０６】
コーティング剤としては、紫外線（ＵＶ）または電子線（ＥＢ）硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、具体的には、ビニル化合物類や、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。これらのコーティング剤を含む硬化性組成物としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系硬化性組成物などが挙げられる。
【０１０７】
また、硬化性組成物は重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０８】
硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を１００質量％とした場合、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．５〜１０質量％、さらに好ましくは１〜５質量％である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物の硬化特性および取り扱い性に優れ、所望の硬度を有する反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を得ることができる。
【０１０９】
さらに、硬化性組成物は溶剤として有機溶剤を含んでもよく、有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。これら溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１０】
機能膜の厚さは、好ましくは０．１〜２０μｍ、さらに好ましくは０．５〜１０μｍ、特に好ましくは０．７〜５μｍである。
また、基材と機能膜または誘電体多層膜との密着性や、機能膜と誘電体多層膜との密着性を上げる目的で、基材、機能膜または誘電体多層膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。
【０１１１】
［光学フィルターの用途］
本発明の光学フィルターは、近赤外線センシングに用いる波長領域における優れた光線透過特性を有し、さらに入射角度による光学特性変化が小さい、温度変化時の光学特性変化が小さい特徴を有する。したがって、光学センサー装置用やカメラモジュール用の光学フィルターとして有用である。特に、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話、スピーカー、スマートスピーカー、ウェアラブルデバイス、自動車、テレビ、ゲーム機、航空機、無人航空機、エアーコンディショナー、ロボット、ロボット掃除機、愛玩用ロボット、農機、指紋認証装置、静脈認証装置、虹彩認証装置、顔認証装置、血流センサー、医療器具、生体認証装置等に搭載される個体撮像装置の光学センサー用として有用である。
【０１１２】
＜固体撮像装置＞
本発明に係る固体撮像装置は、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、固体撮像装置とは、ＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサー等といった固体撮像素子を備えたイメージセンサーであり、具体的にはデジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、デジタルビデオカメラ等の用途に用いることができる。
【０１１３】
＜カメラモジュール＞
本発明に係るカメラモジュールは、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、カメラモジュールとは、イメージセンサーや焦点調整機構、あるいは位相検出機構、距離測定機構等を備え、画像や距離情報を電気信号として出力する装置である。
【０１１４】
＜センサーモジュール＞
本発明に係るセンサーモジュールの構成例を図３に示す。センサーモジュールは、図３に示すように、光源１０２、光学フィルター１およびセンサー１１２からなる。図３（ｂ）のようにレンズユニット１２１を有し、撮像装置またはカメラモジュールとしてもよい。光源の走査のため、図３（ｃ）のように光源１０２の前面にポリゴンミラーやＭＥＭＳ、フェーズドアレイ等の光源走査ユニット１３１を有してもよい。光源、センサー、レンズユニットはモジュールに対して一つでも複数でもよい。図３（ｅ）のように環境光センサー１１４を有する環境光センサーユニット１１３を有してもよい。ノイズのオフセットが可能となり高感度なセンサーモジュールが可能となる観点から環境光センサーユニットを有することがより好ましい。得られた情報を元に図３（ａ）〜（ｅ）のように信号処理装置を介し生体認証装置としてもよい。
【０１１５】
≪光源≫
光源１０２としては、波長８００〜１０６０ｎｍに発光極大波長を有するＬＥＤ、有機ＬＥＤ、レーザーダイオード、Ｙｂレーザー、フォトニック結晶面発光レーザーダイオード（ＰＣＳＥＬ）、垂直共振器面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）等を用いることができる。発光波長の急峻さからＰＣＳＥＬまたはＶＣＳＥＬがより好ましい。ＰＣＳＥＬとしては、例えば浜松フォトニクス（株）社製のＬ１３３９５−０４が挙げられる。ＶＣＳＥＬとしては、例えばオプトウェル社製のＨＶ９４−００１５Ｍ３が挙げられる。
【０１１６】
≪センサー≫
センサー１１２を構成する部材としては、シリコン、ブラックシリコン、ＩｎＧａＡｓ、有機光電変換膜、レクテナ、グラフェンセンサー、メタマテリアルセンサーなどの特定の波長の光を電気信号に変換する光電変換素子を使用することができる。近赤外線の感度から、シリコン、ブラックシリコンおよびＩｎＧａＡｓから選ばれる１種が好ましく、製造コストの観点からシリコンおよびブラックシリコンがより好ましい。また、迷光抑制の観点から偏光フィルターを有してもよい。また、ノイズを低減する観点からカラーフィルター等を介し可視光領域の波長の感度を低減させたものが好ましい。カラーフィルターを介し可視光領域の波長の感度を低減させた近赤外線センサーとしては、例えば特開２０１７−２１６６７８号公報に記載のセンサーが挙げられる。
【０１１７】
≪ブラックシリコン≫
本発明に係るセンサーモジュール、撮像装置、カメラモジュール、生体認証装置のセンサー部に、ブラックシリコンを用いてもよい。ブラックシリコンとしては、例えば、シリコンウエハに特定の雰囲気下でレーザー照射することにより、シリコン表面に微小スパイクを形成することで得ることができる。ブラックシリコンを用いた場合、シリコンフォトダイオードを用いた場合に比べ、近赤外線帯域の受光感度が高くなる等のため、より好適に用いられる。ブラックシリコンを用いたセンサーの市販品としては、ＳｉＯｎｙｘ社ＸＱＥシリーズ等が挙げられる。
【実施例】
【０１１８】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、「部」は、特に断りのない限り「質量部」を意味する。また、各物性値の測定方法および物性の評価方法は以下のとおりである。
【０１１９】
＜分子量＞
樹脂の分子量は、各樹脂の溶剤への溶解性等を考慮し、下記の（ａ）または（ｂ）の方法にて測定を行った。
（ａ）ウオターズ（ＷＡＴＥＲＳ）社製のゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（１５０Ｃ型、カラム：東ソー社製Ｈタイプカラム、展開溶剤：ｏ−ジクロロベンゼン）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
（ｂ）東ソー社製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ−８２２０型、カラム：ＴＳＫｇｅｌα‐Ｍ、展開溶剤：ＴＨＦ）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
【０１２０】
＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。
【０１２１】
＜屈折率＞
誘電体多層膜における屈折率は、以下の手順により算出した。
ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．３ｍｍ）に、光源５５０ｎｍを用いた反射率光学モニターにおいて、膜が形成されるにつれ変化する反射率に７回極大値と極小値が発生する膜厚だけ誘電体膜を形成した。得られた誘電体膜付き基材を、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ−４１００）を用いて、基材の面の垂直方向から５°の角度で波長３００ｎｍ〜１９００ｎｍの波長別透過率および絶対反射率を室温２５℃、湿度５０％の環境下で測定した。得られた５°入射の波長別透過率、５°入射の波長別絶対反射率より、シミュレーションソフト Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ  Ｍａｃｌｅｏｄ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用いて波長５５０ｎｍの屈折率を算出した。誘電体多層膜中の屈折率および異なる基材に形成する誘電体の屈折率は、上記方法を用いて同一成膜条件にて得られる誘電体の屈折率と同一であると見做した。
【０１２２】
＜分光透過率＞
光学フィルターの各波長域における透過率は、室温２５℃、湿度６０％の暗所の環境下に１週間静置後、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ−４１００）を用いて室温２５℃、湿度５０％の環境下で測定した。
【０１２３】
ここで、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率では、図２（Ａ）のように光学フィルター１に対して垂直に透過した光６を分光光度計７で測定し、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率では、図２（Ｂ）のように光学フィルター１の垂直方向に対して３０°の角度で透過した光６'を分光光度計７で測定した。
【０１２４】
＜ノイズ量変化＞
ノイズ量は、光学フィルターの面に対して０度入射および３０度入射の波長別透過率Ｔ0（λ）、Ｔ30（λ）、太陽光線の波長別強度Ｉ（λ）、カラーフィルターを介した近赤外線センサーの波長別感度ＩＲ（λ）から以下の式より算出した。
ノイズ量変化（％）  ＝  （Ｎ30  ―Ｎ0）／  Ｎ0  ×１００
Ｎ30：光学フィルターの面に対して垂直方向から３０度の角度で入射する波長３００〜１２００ｎｍにおける太陽光線によるセンサー画素への総ノイズ量。下記数式に示すように、光学フィルターの波長別透過率（Ｔ30（λ））と太陽光線の波長別強度（Ｉ（λ））とカラーフィルターを介した近赤外線の波長別感度（ＩＲ（λ））との積の１ｎｍ毎の計算値の総和として算出した。
Ｎ0：光学フィルターの面に対して垂直方向から入射する波長３００〜１２００ｎｍにおける太陽光線によるセンサー画素への総ノイズ量。下記数式に示すように、光学フィルターの波長別透過率（Ｔ0（λ））と太陽光線の波長別強度（Ｉ（λ））とカラーフィルターを介した近赤外線の波長別感度（ＩＲ（λ））との積の１ｎｍ毎の計算値の総和として算出した。
【０１２５】
【数１】
2020076990.tif 000018
太陽光線の波長別強度Ｉ（λ）は、図５に示す通り、波長３５０ｎｍ〜１２００ｎｍについて、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構が公開している、ある日時の岐阜の照射量データを用い、波長３５０ｎｍ未満の強度を０として用いた。カラーフィルターを介した近赤外線センサーの波長別感度は、特開２０１７−２１６６７８号公報の記載に基づき、図４に示す値を用いた。
【０１２６】
＜温度変化時の光学特性変化＞
光学フィルターを、無酸素雰囲気恒温器（エスペック（株）社製ＩＰＨ―２０２）窒素雰囲気下、１２０℃で１時間静置した。その後サンプルを取り出し、上記分光透過率測定を１２０℃の雰囲気下で行った。上記分光透過率の評価における２５℃で測定したλ0Ｂ50と１２０℃の雰囲気下で行ったλ0Ｂ50との差の絶対値が４ｎｍ未満であるものを「○」、４ｎｍ以上であるものを「×」とした。
【０１２７】
［合成例］
下記実施例で用いた色素化合物 は、一般的に知られている方法で合成した。一般的合成方法としては、例えば、特許第３３６６６９７号公報、特許第２８４６０９１号公報、特許第２８６４４７５号公報、特許第３７０３８６９号公報、特開昭６０−２２８４４８号公報、特開平１−１４６８４６号公報、特開平１−２２８９６０号公報、特許第４０８１１４９号公報、特開昭６３−１２４０５４号公報、「フタロシアニン−化学と機能―」（アイピーシー、１９９７年）、特開２００７−１６９３１５号公報、特開２００９−１０８２６７号公報、特開２０１０−２４１８７３号公報、特許第３６９９４６４号公報、特許第４７４０６３１号公報などに記載されている方法を挙げることができる。
【０１２８】
＜樹脂合成例１＞
下記式（Ｘ1）で表される８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ−３−エン（以下「ＤＮＭ」ともいう。）１００部、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部およびトルエン（開環重合反応用溶媒）３００部を、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／リットル）０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
【０１２９】
【化１５】
2020076990.tif 000019
このようにして得られた開環重合体溶液１，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3］3を０．１２部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ2、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下「樹脂Ａ」ともいう。）を得た。得られた樹脂Ａは、数平均分子量（Ｍｎ）が３２，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１３７，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１６５℃であった。
【０１３０】
［実施例１］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、化合物（Ｚ）として、上記表１に記載の化合物（ｚ−５）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７７０ｎｍ）０．０８質量部、化合物（ｚ−３５）（ジクロロメタン中での吸収極大波長８８２ｎｍ）０．０６質量部、下記式（ｚ−６５）で表わされる化合物（ｚ−６５）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３８ｎｍ）０．４２質量部、下記式（ｚ−６６）で表わされる化合物（ｚ−６６）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７０４ｎｍ）０．３０質量部および下記式（ｚ−６７）で表わされる化合物（ｚ−６７）（ジクロロメタン中での吸収極大波長８４４ｎｍ）０．４８質量部、化合物（Ｓ）として、下記式（ｓ−１）で表わされる化合物（ｓ−１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長４２９ｎｍ）０．８０質量部、下記式（ｓ−２）で表わされる化合物（ｓ−２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長５５０ｎｍ）０．８０質量部、下記式（ｓ−３）で表わされる化合物（ｓ−３）（ジクロロメタン中での吸収極大波長６０６ｎｍ）０．６０質量部、および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液（Ａ１）を調製した。
【０１３１】
【化１６】
2020076990.tif 000020
【０１３２】
【化１７】
2020076990.tif 000021
【０１３３】
【化１８】
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【０１３４】
【化１９】
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【０１３５】
【化２０】
2020076990.tif 000024
【０１３６】
【化２１】
2020076990.tif 000025
【０１３７】
ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）の一方の面に下記硬化性組成物溶液（１）をスピンコートで塗布した後、ホットプレート上８０℃で２分間加熱し溶剤を揮発除去し、後述する透明樹脂層との接着層として機能する樹脂層を形成した。この際、該樹脂層の膜厚が８μｍ程度となるようにスピンコーターの塗布条件を調整した。次に、前記樹脂層上に、アプリケーターを用いて前記溶液（Ａ１）を乾燥後の膜厚が５０μｍ となるような条件で塗布し、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶剤を揮発除去して透明樹脂層を形成した。次いで、ガラス面側からコンベア式露光機を用いて露光（露光量１Ｊ/ｃｍ2、照度２００ｍＷ）した後、オーブン中１８０℃で５分間焼成して基材を得た。
【０１３８】
基材の各面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用い、開始圧０．０００１Ｐａ、蒸着温度１２０℃、イオンガンへの供給ガスとして酸素とアルゴンとの混合ガスを用いて、６０ｎｍ以下の物理膜厚の層は水晶振動子の積算膜厚で制御し、単位面積あたりのイオン電流密度（μＡ／ｃｍ2）を成膜レート（Å／秒）で除した単位成膜レート・面積あたりのイオン電流密度８μＡ・秒／Å・ｃｍ2のイオンアシストを行いながらシリカ層（ＳｉＯ2：５５０ｎｍの光の屈折率１．４７）と、単位成膜レート・面積あたりのイオン電流密度２０μＡ・秒／Å・ｃｍ2のイオンアシストを行いながら酸化チタン層（ＴｉＯ2：５５０ｎｍの光の屈折率２．４８）とが交互に積層されてなる誘電体多層膜を設けた。この際、表５−１に記載の設計（Ｉ）をガラス基材側に設け、設計（ＩＩ）を透明樹脂層側に設け、厚み０．１５９ｍｍの光学フィルターを得た。なお、ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）に設計（Ｉ）の誘電体多層膜のみを設けた際の、波長（λθＢ50−５）に相当する波長９６８ｎｍにおけるガラス基材の垂直方向から０°〜６０°に光を入射した際の透過率を図７に示す。設計（Ｉ）は１８度に極小値４１％を有する設計であることが分かる。
【０１３９】
硬化性組成物溶液（１）：イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート（商品名：アロニックスＭ−３１５、東亜合成化学（株）製）３０部、１，９−ノナンジオールジアクリレート２０部、メタクリル酸２０部、メタクリル酸グリシジル３０部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン５部、１−ヒドロキシシクロヘキシルベンゾフェノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカル（株）製）５部およびサンエイドＳＩ−１１０主剤（三新化学工業（株）製）１部を混合し、固形分濃度が５０ｗｔ％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解した後、孔径０．２μｍのミリポアフィルタでろ過した溶液。
【０１４０】
得られた光学フィルターの分光透過率、ノイズ量変化、温度変化時の光学特性変化を評価した。評価結果を表３、図６に示す。得られた光学フィルターは、０°入射時と３０°入射時との太陽光源下のノイズ量変化が３％と少なく、また温度変化時の光学特性変化は「〇」であり、近赤外線光学センサーに好適であった。
【０１４１】
［実施例２］
実施例１における誘電体多層膜に関し、ガラス基材側の設計（Ｉ）を表５−２に記載の設計（III）に変えたこと以外は、実施例１と同様にして厚み０．１６ｍｍの光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの分光透過率、ノイズ量変化、温度変化時の光学特性変化を評価した。評価結果を表３、図８に示す。得られた光学フィルターは、０°入射時と３０°入射時との太陽光源下のノイズ量変化が１５％と少なく、また温度変化時の光学特性変化は「〇」であり、近赤外線光学センサーに好適であった。
【０１４２】
［実施例３］
実施例１における誘電体多層膜に関し、ガラス基材側の設計（Ｉ）を表５−３に記載の設計（ＩＶ）に変えたこと以外は、実施例１と同様にして厚み０．１５４ｍｍの光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの分光透過率、ノイズ量変化、温度変化時の光学特性変化を評価した。評価結果を表３、図９に示す。得られた光学フィルターは、０°入射時と３０°入射時との太陽光源下のノイズ量変化が７％と少なく、また温度変化時の光学特性変化は「〇」であり、近赤外線光学センサーに好適であった。
【０１４３】
［実施例４］
実施例１における誘電体多層膜に関し、ガラス基材側の設計（Ｉ）を表５−４に記載の設計（Ｖ）に変えたこと以外は、実施例１と同様にして厚み０．１５４ｍｍの光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの分光透過率、ノイズ量変化、温度変化時の光学特性変化を評価した。評価結果を表３、図１０に示す。得られた光学フィルターは、０°入射時と３０°入射時との太陽光源下のノイズ量変化が６％と少なく、また温度変化時の光学特性変化は「〇」であり、近赤外線光学センサーに好適であった。
【０１４４】
［実施例５］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、化合物（Ｚ）として、化合物（ｚ−５）０．０４質量部、化合物（ｚ−３５）０．０３質量部、化合物（ｚ−６５）０．２１質量部、化合物（ｚ−６６）０．１５質量部、化合物（ｚ−６７）０．２４質量部、化合物（ｓ−１）０．４０質量部、化合物（ｓ−２）０．４０質量部、化合物（ｓ−３）０．３０質量部、および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液（Ａ２）を調製した。得られた溶液（Ａ２）を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍの透明樹脂製基材板からなる基材を得た。
【０１４５】
基材の各面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用い、開始圧０．０００１Ｐａ、蒸着温度１２０℃、イオンガンへの供給ガスとして酸素とアルゴンとの混合ガスを用いて、６０ｎｍ以下の物理膜厚の層は水晶振動子の積算膜厚で制御し、単位面積あたりのイオン電流密度（μＡ／ｃｍ2）を成膜レート（Å／秒）で除した単位成膜レート・面積あたりのイオン電流密度が８μＡ・秒／Å・ｃｍ2のイオンアシストを行いながらシリカ層（ＳｉＯ2：５５０ｎｍの光の屈折率１．４７）と、単位成膜レート・面積あたりのイオン電流密度が２０μＡ・秒／Å・ｃｍ2のイオンアシストを行いながら酸化チタン層（ＴｉＯ2：５５０ｎｍの光の屈折率２．４８）とが交互に積層されてなる誘電体多層膜を設けた。この際、表５−５に記載の設計（ＶＩ）を一方の面に設け、設計（VII）を他方の面に設け、厚み０．１０６ｍｍの光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの分光透過率、ノイズ量変化、温度変化時の光学特性変化を評価した。評価結果を表３、図１１に示す。得られた光学フィルターは、０°入射時と３０°入射時との太陽光源下のノイズ量変化が１４％と少なく、また温度変化時の光学特性変化は「〇」であり、近赤外線光学センサーに好適であった。
【０１４６】
［実施例６］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、化合物（Ｚ）として、化合物（ｚ−３５）０．０６質量部、化合物（ｚ−６７）０．４８質量部、および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液（Ａ３）を調製した。実施例１における溶液（Ａ１）を前記溶液（Ａ３）に変えたこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの分光透過率、ノイズ量変化、温度変化時の光学特性変化を評価した。評価結果を表３、図１２に示す。得られた光学フィルターは、０°入射時と３０°入射時との太陽光源下のノイズ量変化が１４％と少なく、また温度変化時の光学特性変化は「〇」であり、近赤外線光学センサーに好適であった。
【０１４７】
［比較例１］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、化合物（Ｚ）として、化合物（ｚ−５）０．０８質量部、化合物（ｚ−６５）０．４２質量部、化合物（ｚ−６５）０．３０質量部、化合物（ｓ−１）０．８０質量部、化合物（ｓ−２）０．８０質量部、化合物（ｓ−３）０．６０質量部、および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液（Ａ４）を調製した。実施例１における溶液（Ａ１）を前記溶液（Ａ４）に変えたこと以外は、実施例１と同様にして基材を得た。
【０１４８】
得られた基材の各面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用い、開始圧０．０００１Ｐａ、蒸着温度１２０℃、イオンガンへの供給ガスとして酸素とアルゴンとの混合ガスを用いて、６０ｎｍ以下の物理膜厚の層は水晶振動子の積算膜厚で制御し、単位面積あたりのイオン電流密度（μＡ／ｃｍ2）を成膜レート（Å／秒）で除した単位成膜レート・面積あたりのイオン電流密度３μＡ・秒／Å・ｃｍ2のイオンアシストを行いながらシリカ層（ＳｉＯ2：５５０ｎｍの光の屈折率１．４４）と、単位成膜レート・面積あたりのイオン電流密度１０μＡ・秒／Å・ｃｍ2のイオンアシストを行いながら酸化チタン層（ＴｉＯ2：５５０ｎｍの光の屈折率２．３５）とが交互に積層されてなる誘電体多層膜を設けた。この際、表６−１に記載の設計（VIII）をガラス基材側に設け、設計（ＩＸ）を透明樹脂層側に設け、厚み０．１５７ｍｍの光学フィルターを得た。なお、ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）に設計（VIII）の誘電体多層膜のみを設けた際の、波長（λθＢ50−５）に相当する波長１０００ｎｍにおけるガラス基材の垂直方向から０°〜６０°に入射した際の透過率を図１４に示す。設計（VIII）は従来公知の設計であり、０°〜３０°に極小値を有さないことが分かる。
【０１４９】
得られた光学フィルターの分光透過率、ノイズ量変化、温度変化時の光学特性変化を評価した。評価結果を表４、図１３に示す。得られた光学フィルターは、０°入射時と３０°入射時との太陽光源下のノイズ量変化が１７１％と多く、また温度変化時の光学特性変化は「×」であり、近赤外線光学センサーに不適であった。
【０１５０】
［比較例２］
比較例１における溶液（Ａ４）を溶液（Ａ１）に変えたこと以外は、比較例１と同様にして光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの分光透過率、ノイズ量変化、温度変化時の光学特性変化を評価した。評価結果を表４、図１５に示す。得られた光学フィルターは、０°入射時と３０°入射時との太陽光源下のノイズ量変化が２７％と多く、また温度変化時の光学特性変化は「×」であり、近赤外線光学センサーに不適であった。
【０１５１】
［比較例３］
比較例２における誘電体多層膜に関し、ガラス基材側の設計（VIII）を表６−２に記載の設計（Ｘ）に変え、透明樹脂層側の設計（ＩＸ）を設計（ＸＩ）に変えたこと以外は、比較例２と同様にして光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの分光透過率、ノイズ量変化、温度変化時の光学特性変化を評価した。評価結果を表４、図１６に示す。得られた光学フィルターは、０°入射時と３０°入射時との太陽光源下のノイズ量変化が３７％と多く、また温度変化時の光学特性変化は「×」であり、近赤外線光学センサーに不適であった。
【０１５２】
［比較例４］
ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製Ｄ２６３，厚み０．１ｍｍ）に、ＲＦマグネトロンスパッタ装置を用いて、シリコンを蒸着源とし、ＲＦパワー３００Ｗ、酸素／（アルゴン＋水素＋酸素）が２０％の混合比のガスを２０ＳＣＣＭ供給しながら成膜することで得られるシリカ層（ＳｉＯ2：５５０ｎｍの光の屈折率１．４６）と、水素／（アルゴン＋水素）が５％の混合比のガスを２０ＳＣＣＭ供給しながら成膜することで得られるアモルファスシリコン層（α−Ｓｉ:Ｈ：５５０ｎｍの光の屈折率４．１）とが交互に積層されてなる誘電体多層膜を設けた。この際、表６−３に記載の設計（XII）を基材の一方の面に設け、設計（XIII）を基材の他方の面に設け、厚み０．１０７ｍｍの光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの分光透過率、ノイズ量変化、温度変化時の光学特性変化を評価した。評価結果を表４、図１７に示す。得られた光学フィルターは、０°入射時と３０°入射時との太陽光源下のノイズ量変化が６５％と多く、また温度変化時の光学特性変化は「×」であり、近赤外線光学センサーに不適であった。
【０１５３】
【表３】
2020076990.tif 000026
【０１５４】
【表４】
2020076990.tif 000027
【０１５５】
【表５−１】
2020076990.tif 000028
【０１５６】
【表５−２】
2020076990.tif 000029
【０１５７】
【表５−３】
2020076990.tif 000030
【０１５８】
【表５−４】
2020076990.tif 000031
【０１５９】
【表５−５】
2020076990.tif 000032
【０１６０】
【表６−１】
2020076990.tif 000033
【０１６１】
【表６−２】
2020076990.tif 000034
【０１６２】
【表６−３】
2020076990.tif 000035
【符号の説明】
【０１６３】
１・・・光学フィルター
２，２'・・・基材
３，３'・・・誘電体多層膜
４，４'・・・機能膜または吸収層
５・・・遮光膜
６，６'・・・光
７・・・分光光度計
１０１・・・光源ユニット
１０２・・・光源
１０３・・・レンズまたは回折光学素子
１１１・・・センサーユニット
１１２・・・センサー
１１３・・・環境光センサーユニット
１１４・・・環境光センサー
１２１・・・レンズユニット
１２２・・・レンズまたは回析光学素子
１３１・・・光源走査ユニット
１３２・・・光源走査素子
【図１】
2020076990.tif 000036
【図２】
2020076990.tif 000037
【図３】
2020076990.tif 000038
【図４】
2020076990.tif 000039
【図５】
2020076990.tif 000040
【図６】
2020076990.tif 000041
【図７】
2020076990.tif 000042
【図８】
2020076990.tif 000043
【図９】
2020076990.tif 000044
【図１０】
2020076990.tif 000045
【図１１】
2020076990.tif 000046
【図１２】
2020076990.tif 000047
【図１３】
2020076990.tif 000048
【図１４】
2020076990.tif 000049
【図１５】
2020076990.tif 000050
【図１６】
2020076990.tif 000051
【図１７】
2020076990.tif 000052