(57)【要約】【課題】真空チャンバ内で金属製のシート状基材を走行させながら、キャンローラに巻き掛けられたシート状基材の部分に対して金属膜を連続して成膜し、成膜済みのシート状基材を回収する前にこの成膜された金属膜の膜厚をモニタリングするとき、シート状基材が巻き掛けられたキャンローラの部分に対して所定波長の光を照射する光源を持つ変位センサを利用して金属膜の膜厚を確実にモニタリングすることができるようにした膜厚モニタリングシステムを提供する。【解決手段】制御ユニット６に、シート状基材Ｓｗへの成膜に先立って、キャンローラ２を少なくとも一回転させながらシート状基材を走行させ、変位センサ７によりこの変位センサからシート状基材表面までの距離を計測し、計測距離とキャンローラの位相とから取得される基準波形Ｂｗが記憶する。金属膜の膜厚のモニタリング時、基準波形からの成膜後の変位量を得る。【選択図】図１
2020100855.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバ内で金属製のシート状基材を走行させながら、キャンローラに巻き掛けられたシート状基材の部分に対して金属膜を連続して成膜し、成膜済みのシート状基材を回収する前にこの成膜された金属膜の膜厚をモニタリングするための膜厚モニタリングシステムにおいて、
シート状基材が巻き掛けられたキャンローラの部分に対して所定波長の光を照射する光源を持つ変位センサと、光が照射されるシート状基材の部分における成膜前後の変位量から金属膜の膜厚をモニタリングする制御ユニットとを備え、
制御ユニットに、シート状基材への成膜に先立って、キャンローラを少なくとも一回転させながらシート状基材を走行させ、変位センサによりこの変位センサからシート状基材表面までの距離を計測したときのこの計測した距離とキャンローラの位相とから取得される基準波形が記憶され、
制御ユニットは、金属膜の膜厚のモニタリング時、この記憶された基準波形からの成膜後の変位量を得るように構成されることを特徴とする膜厚モニタリングシステム。
【請求項２】
前記キャンローラの変位量を計測する計測手段を更に備え、前記制御ユニットは、計測手段で計測した変位量に応じて、前記基準波形を補正することを特徴とする請求項１記載の膜厚モニタリングシステム。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載の膜厚モニタリングシステムを備える成膜装置であって、真空チャンバ内で金属製のシート状基材を走行させる基材走行手段と、シート状基材の部分が巻き掛けられるキャンローラと、このキャンローラに巻き掛けられたシート状基材の部分に対して金属膜を成膜する成膜ユニットとを備えるものにおいて、
キャンローラの外周面に絶縁層が形成されると共に、キャンローラに所定電圧を印加する電源が接続されることを特徴とする成膜装置。
【請求項４】
キャンローラの周囲に位置させて、基材走行手段が配置される搬送室と、成膜ユニットが配置される成膜室との二室に真空チャンバ内を隔絶する隔絶板を更に備え、前記変位センサが搬送室側に設けられることを特徴とする請求項３記載の成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、膜厚モニタリングシステム及び成膜装置に関し、より詳しくは、真空チャンバ内で金属製のシート状基材を走行させながら、キャンローラに巻き掛けられたシート状基材の部分に対して金属膜を連続して成膜し、成膜済みのシート状基材を回収する前にこの成膜された金属膜の膜厚をモニタリングするためのものに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、真空チャンバ内に一対の巻出巻取ローラとキャンローラと成膜ユニットとを設け、真空雰囲気の真空チャンバ内でシート状基材を走行させながら、キャンローラに巻き掛けられたシート状基材の部分に対して所定の薄膜を連続して成膜する成膜装置が例えば特許文献１で知られている。このものでは、シート状基材に成膜された薄膜の膜厚をモニタリングして、例えばシート状基材の走行速度や、成膜ユニットからの成膜物質の量を調整するために、成膜済みのシート状基材が走行される位置に渦電流センサを設けている。
【０００３】
ところで、シート状基材として、アルミニウムや銅製で数μｍ〜数百μｍの板厚の金属箔を用い、シート状基材表面にリチウムやチタンなどの異種金属からなる金属膜を数μｍ〜数十μｍの膜厚で成膜する場合がある。このとき、上記従来例の如く、渦電流センサにより金属膜の膜厚をモニタリングしようとしても、シート状基材と金属膜との電気抵抗の相違に起因して、金属膜の膜厚をモニタリングできない場合がある。このことから、成膜済みのシート状基材の部分が巻き掛けられるキャンローラの部分に対して所定波長のレーザ光を照射する光源を持つ光学式の変位センサを配置し、レーザ光が照射されるシート状基材の部分における成膜前後の変位量から金属膜の膜厚をモニタリングすることが考えられる。
【０００４】
然しながら、シート状基材の走行時、キャンローラには、５０μｍ程度の不回避的な振動（キャンローラの一回転を一周期とする周期的な振動、所謂芯振れ）が発生する。このため、振動に起因してシート状基材と変位センサとの間の距離が変動することで、キャンローラの振動幅と同等以下で成膜される金属膜の膜厚をモニタリングすることができない。他方、成膜済みのシート状基材がキャンローラを経た後、これを回収する前に、シート状基材を幅方向に対して直交する方向から挟み込むように一対の変位センサを設けることも考えられるが、これでは、部品点数が増加してコストアップ（本用途の変位センサはそもそも高額である）を招来してしまう。
【０００５】
そこで、本願発明者らは、鋭意研究を重ね、真空チャンバ内で光学式変位センサによって、（シート状基材を巻き掛けることなく）キャンローラを単体で複数回だけ回転駆動し（即ち、キャンローラの一回転を一周期とするものを複数回行い）、一回転毎に特定の位相（回転角）におけるキャンローラ表面までの距離を夫々計測したところ、各回転毎にキャンローラの特定の位相（回転角）におけるキャンローラ表面までの距離が一定にならない（つまり、キャンローラの一回転毎の周期性に再現性がない）ことが確認された。それに対して、キャンローラにシート状基材を巻き掛けた状態でキャンローラを回転駆動し、真空チャンバ内で光学式変位センサによって、一回転毎に特定の位相（回転角）におけるシート状基材表面までの距離を計測したところ、各回転毎にキャンローラの特定の位相（回転角）におけるシート状基材表面までの距離が同等になる（つまり、キャンローラの一回転毎の周期性に再現性がある）ことを知見するのに至った。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−１４６５５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、以上の知見を基になされたものであり、変位センサを利用してシート状基材の部分における成膜前後の変位量から金属膜の膜厚を確実にモニタリングすることができるようにした膜厚モニタリングシステム及び成膜装置を提供することをその課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の膜厚モニタリングシステムは、真空チャンバ内で金属製のシート状基材を走行させながら、キャンローラに巻き掛けられたシート状基材の部分に対して金属膜を連続して成膜し、成膜済みのシート状基材を回収する前にこの成膜された金属膜の膜厚をモニタリングし、シート状基材が巻き掛けられたキャンローラの部分に対して所定波長の光を照射する光源を持つ変位センサと、光が照射されるシート状基材の部分における成膜前後の変位量から金属膜の膜厚をモニタリングする制御ユニットとを備え、制御ユニットに、シート状基材への成膜に先立って、キャンローラを少なくとも一回転させながらシート状基材を走行させ、変位センサによりこの変位センサからシート状基材表面までの距離を計測したときのこの計測した距離とキャンローラの位相とから取得される基準波形が記憶され、制御ユニットは、金属膜の膜厚のモニタリング時、キャンローラの位相を合致させてこの記憶された基準波形からの成膜後の変位量を計測することを特徴とする。
【０００９】
本発明によれば、キャンローラの位相に関連付けして基準波形を予め取得し、金属膜の膜厚のモニタリング時、基準波形におけるキャンローラの位相に同期させながら、成膜後のシート状基材までの距離を計測して、基準波形からの成膜後の変位量を得るため、キャンローラの周囲に、シート状基材が巻き掛けられたキャンローラの部分に対して所定波長の光が照射されるように設置した変位センサだけで金属膜の膜厚を確実にモニタリングすることができる。しかも、変位センサは単一で済むため、コストダウンを図ることもできる。この場合、所定速度で走行されるシート状基材における変位量を応答性よく且つ高精度に測定するには、前記変位センサは分光干渉式のものであることが好ましい。
【００１０】
ここで、シート状基材を走行させながら、キャンローラに巻き掛けられたシート状基材の部分に対して所定の薄膜を連続して成膜するとき、例えば成膜ユニットからの輻射熱でキャンローラ自体が加熱されて熱膨張する場合がある。このような場合、熱膨張に起因してシート状基材と変位センサとの間の距離が変動したのでは、正確な膜厚のモニタリングが阻害される虞がある。そこで、本発明においては、前記キャンローラの変位量を計測する計測手段を更に備え、前記制御ユニットは、計測手段で計測した変位量に応じて、前記基準波形を補正することが好ましい。これにより、キャンローラの熱膨張が実質的にキャンセルされて、正確な膜厚のモニタリングが可能になる。なお、計測手段としては、ドグを利用した近接センサや上記と同様の変位センサを用いることができる。
【００１１】
ところで、上記のようにして金属膜の膜厚をモニタリングする場合、キャンローラの周面にシート状基材が、皺などを生じることなく、密着していることが必要になる。このような場合、例えば、基材走行手段を適宜制御してシート状基材に所定のテンションを加えることでキャンローラの周面にシート状基材を密着させることが考えられる。然し、シート状基材に必要以上のテンションが加えられていると、キャンローラの周囲を走行するときにこのキャンローラからの伝熱でシート状基材が塑性変形する虞がある。また、弾性変形の範囲であっても、テンション変動により基材厚が変化することは好ましくなく、基材の張力(テンション)によらず一定の接触圧力（密着）を保っていることが望ましい。
【００１２】
そこで、上記膜厚モニタリングシステムと、真空チャンバ内で金属製のシート状基材を走行させる基材走行手段と、シート状基材の部分が巻き掛けられるキャンローラと、このキャンローラに巻き掛けられたシート状基材の部分に対して金属膜を成膜する成膜ユニットとを備える成膜装置の場合、キャンローラの外周面に絶縁層が形成されると共に、キャンローラに所定電圧を印加する電源が接続されることが好ましい。これによれば、成膜時、キャンローラに所定電圧を印加することで、キャンローラの周面にシート状基材が静電吸着されるようになる。その結果、シート状基材に必要以上のテンションを加えるといったことを不要にでき、有利である。なお、絶縁層としては、溶射によりキャンローラの外周面に形成されたアルミナ膜を用いることができ、また、キャンローラの外周面と絶縁層との間にニッケル等の密着層が設けられていてもよい。このような構成を採用すれば、接触圧力（密着）については静電吸着力を支配的要因とすることができ、より安定した計測が可能となる。
【００１３】
また、本発明においては、キャンローラの周囲に位置させて、基材走行手段が配置される搬送室と、成膜ユニットが配置される成膜室との二室に真空チャンバ内を隔絶する隔絶板を更に備え、前記変位センサが搬送室側に設けられていることが好ましい。これにより、真空チャンバ内に配置せざるを得ない変位センサの光源が成膜ユニットから飛散する成膜物質で汚染させるといった不具合の発生を防止でき、有利である。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態の膜厚モニタリングシステムを備える本実施形態の成膜装置を示す模式断面図。
【図２】キャンローラの位相に対する変位センサの計測距離の変化を示すグラフ。
【図３】変形例に係る成膜装置の一部を拡大して示す模式断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、成膜装置を巻取式の真空蒸着装置ＤＭとし、シート状基材Ｓｗ表面に蒸着により所定の金属膜を連続して成膜する場合を例に、本発明の膜厚モニタリングシステム及びこれを備える成膜装置の実施形態を説明する。以下においては、方向を示す用語は、図１に示す真空蒸着装置ＤＭの設置姿勢を基準とする。
【００１６】
図１を参照して、真空蒸着装置ＤＭは、図外の真空ポンプが接続されて真空雰囲気の形成が可能な真空チャンバ１を備える。真空チャンバ１内には、モータ２ａによって所定の回転速度で回転駆動されるキャンローラ２が設けられると共に、キャンローラ２の略上半部が位置する搬送室１ａと、キャンローラ２の略下半部が位置する成膜室１ｂとに真空チャンバ１内を上下２室に隔絶する隔絶板１１が設けられている。キャンローラ２には、特に図示して説明しないが、その内部に冷媒を循環させる冷媒循環路が形成され、図外のチラーユニットにより冷媒循環路に冷媒を循環させて、蒸着による成膜中、キャンローラ２（ひいては、これに巻き掛けられるシート状基材Ｓｗ）を冷却できるようにしている。シート状基材Ｓｗとしては、アルミニウムや銅製で数μｍ〜数百μｍの板厚の金属箔が用いられる。
【００１７】
搬送室１ａには、モータ３１ａ，３１ｂにより正転方向及び逆転方向に回転駆動される第１と第２の一対の巻出巻取ローラ３ａ，３ｂと、両巻出巻取ローラ３ａ，３ｂ間に位置してキャンローラ２に対してシート状基材Ｓｗを案内する複数のガイドローラ４とが設けられている。そして、シート状基材Ｓｗをキャンローラ２の外周面に所定の抱き角で巻き掛けた状態で、第１と第２の両巻出巻取ローラ３ａ，３ｂのいずれか一方から他方に走行できるようにしている。本実施形態では、第１と第２の一対の巻出巻取ローラ３ａ，３ｂ及び複数のガイドローラ４が基材走行手段を構成する。
【００１８】
成膜室１ｂには、シート状基材Ｓｗが巻き掛けられたキャンローラ２の外周面に対向させて成膜ユニット５が配置されている。成膜ユニット５は、成膜物質としての固体の蒸着材料Ｍｖを収容する収容箱５１と、収容箱５１内に設けられて蒸着材料Ｍｖを加熱するシースヒータなどの加熱手段５２とを備え、キャンローラ２の外周面に対向する収容箱５１の上面に、気化した蒸着材料Ｍｖを噴射する噴射ノズル５３が突設されている。蒸着材料Ｍｖとしては、シート状基材Ｓｗに成膜しようとする薄膜に応じて適宜選択され、リチウムやチタンなどが用いられる。
【００１９】
上記真空蒸着装置ＤＭは、マイクロコンピュータ、シーケンサやメモリなどを有する制御ユニット６を備え、制御ユニット６は、各モータ２ａ，３１ａ，３１ｂの作動、成膜ユニット５の加熱手段５２の作動や、真空ポンプの作動などを統括制御するようになっている。そして、シート状基材Ｓｗ表面に金属膜を成膜する場合には、第１の巻出巻取ローラ３ａからシート状基材Ｓｗを繰り出し、第２の巻出巻取ローラ３ｂにシート状基材Ｓｗを巻取りつつ、成膜ユニット５を作動させることで、キャンローラ２に巻き掛けられたシート状基材Ｓｗの部分に対して所定の金属膜Ｍｆが連続して成膜される。シート状基材Ｓｗに対しその全長及び幅方向に亘って膜厚の均一性よく金属膜Ｍｆを成膜するには、シート状基材Ｓｗに成膜される金属膜Ｍｆの膜厚をモニタリングし、例えばシート状基材Ｓｗの走行速度や、例えば加熱手段５２の加熱温度を制御して成膜ユニット５からの蒸着材料Ｍｖの量を調整する必要がある。
【００２０】
本実施形態では、変位センサ７を搬送室１ａに配置し、制御ユニット６と変位センサ７とで構成される膜厚モニタリングシステムＭＳによって、光が照射されるシート状基材Ｓｗの部分における成膜前後の変位量から金属膜Ｍｆの膜厚をモニタリングするようにした。変位センサ７としては、所定の速度で走行するシート状基材Ｓｗ表面の金属膜Ｍｆの膜厚を応答性よく且つ高精度でモニタリングするために分光干渉式のものが用いられる。即ち、変位センサ７は、真空チャンバ１外に設けられる光学ユニット７１と、光学ユニット７１から真空チャンバ１の壁面を通してのびる光ファイバ７２の先端に設けたセンサヘッド７３とを備え、センサヘッド７３が、搬送室１ａ内でシート状基材Ｓｗが巻き掛けられたキャンローラ２の部分に対して所定波長のレーザ光を照射できるように配置される。そして、光学ユニット７１内に設けた光源７１ａから光ファイバ７２を通してセンサヘッド７３からレーザ光を照射し、センサヘッド７３内に設けた参照反射面（図示せず）と、シート状基材Ｓｗの表面とから夫々反射したものとを光ファイバ７２を通して光学ユニット７１に戻す。この場合、両反射光が互いに干渉し、この干渉光を光学ユニット７１内の分光器（図示せず）で分光し、ＣＣＤに結像させることで波長に応じた強度分布を得て、シート状基材Ｓｗまでの距離を算出し、これを制御ユニット６に出力するようになっている。
【００２１】
ところで、シート状基材Ｓｗの走行時、キャンローラ２には、５０μｍ程度の不回避的な振動（所謂芯振れ）が発生する。このため、振動に起因してシート状基材Ｓｗと変位センサ７のセンサヘッド７３との間の距離が変動するため、キャンローラ２の振動幅と同等以下で成膜される金属膜Ｍｆの膜厚をモニタリングすることができない虞がある。そこで、本発明者らは、キャンローラ２にシート状基材Ｓｗを巻き掛けた状態で、第１の巻出巻取ローラ３ａからシート状基材Ｓｗを繰り出し、第２の巻出巻取ローラ３ｂにシート状基材Ｓｗを巻取りながら、キャンローラ２が５回転する間に、変位センサ７でセンサヘッド７３からシート状基材Ｓｗ表面までの距離を計測した。図２には、１回転〜５回転目までの各回転（即ち、各一周期）における変位センサ７での計測距離の変化が示されている。これによれば、１回転〜５回転目までの各回転のいずれにおいてもキャンローラ２の特定の位相（回転角）における距離が同等になることが確認された。つまり、図２に示すように、各回転（即ち、各一周期）にて特定の位相における変位センサ７での計測距離は、互いに重なるように一致し、キャンローラ２の一回転毎の周期性に再現性があることが確認された。
【００２２】
本実施形態では、以上の知見を基に、シート状基材Ｓｗへの成膜に先立って、第１の巻出巻取ローラ３ａからシート状基材Ｓｗを、少なくともキャンローラ２が一回転する所定長さだけ繰り出し、第２の巻出巻取ローラ３ｂにシート状基材Ｓｗを巻取りつつ、変位センサ７によりセンサヘッド７３からシート状基材Ｓｗ表面までの距離を測定し、これを制御ユニット６に出力する。このとき、制御ユニット６は、モータに付設したエンコーダ等の検知手段（図示せず）によりその位相（キャンローラ２の原点からの回転角）を同時に取得し、各位相における計測距離の基準波形（図２に示す計測距離の波形に相当し、これを基準波形Ｂｗとする）を取得して記憶する。その後、一旦繰り出したシート基材Ｓｗを第１の巻出巻取ローラ３ａに巻き戻す。次に、キャンローラ２に巻き掛けられたシート状基材Ｓｗの部分に対して所定の金属膜Ｍｆを連続して成膜し、このとき、シート状基材Ｓｗに成膜された金属膜Ｍｆの膜厚をモニタリングする場合には、制御ユニット７は、キャンローラ２の位相毎に、変位センサ７によりセンサヘッド７３から成膜済みのシート状基材Ｓｗ表面までの距離を計測し、この計測した距離と基準波形Ｂｗとから成膜後の変位量を得るようにした。
【００２３】
以上の実施形態によれば、キャンローラ２の位相に関連付けして基準波形Ｂｗを予め取得し、成膜後のシート状基材Ｓｗまでの距離を計測するのに際しては、基準波形Ｂｗにおけるキャンローラ２の位相に同期させながら、変位センサ７により距離を計測して、基準波形Ｂｗからの成膜後の変位量を得るため、キャンローラ２の周囲に設置した変位センサ７だけで金属膜Ｍｆの膜厚を確実にモニタリングすることができる。しかも、変位センサ７は単一で済むため、コストダウンを図ることもできる。また、真空チャンバ内を隔絶する隔絶板１１を設け、変位センサ７のセンサヘッド７３を搬送室１ａ側に設けたため、変位センサ７が成膜ユニット６から飛散する蒸着物質（成膜物質）で汚染されるといった不具合の発生を防止できる。
【００２４】
ここで、上記のように、シート状基材Ｓｗを走行させながら、キャンローラ２に巻き掛けられたシート状基材Ｓｗの部分に対して金属膜Ｍｆを成膜する間、キャンローラ２内に形成した冷媒循環路に冷媒を循環させてキャンローラ２を冷却していても、キャンローラ２自体が熱膨張する場合がある。このような場合、シート状基材Ｓｗと変位センサ７のセンサヘッド７３との間の距離が減少するが、基準波形Ｂｗ自体は（オフセットするのみで）変化しない。そこで、本実施形態では、搬送室１ａ内に、ドグを利用した近接センサや上記と同様の変位センサで構成される計測手段８を設け（図１参照）、キャンローラ２自体の変位量を常時算出するようにした。そして、制御ユニット６は、計測手段８で計測した変位量に応じて、基準波形Ｂｗを補正するようにした。例えば、キャンローラ２の熱膨張に起因して、シート状基材Ｓｗと変位センサ７のセンサヘッド７３との間の距離が減少したような場合、図２に一点鎖線で示すように、その減少量に応じて基準波形Ｂｗ全体をシフトさせて補正基準波形Ａｗとし、金属膜Ｍｆの膜厚のモニタリング時には、変位センサ７によりセンサヘッド７１から成膜済みのシート状基材Ｓｗ表面までの距離を計測し、この計測した距離と補正基準波形Ａｗとから成膜後の変位量を得る。これにより、キャンローラ２の熱膨張が実質的にキャンセルされて、正確な膜厚のモニタリングが可能になる。
【００２５】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態のものに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない限り、種々の変形が可能である。上記実施形態では、成膜ユニット５として、ヒータ５２による加熱で固体の蒸着材料Ｍｖを蒸発させるものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、誘導加熱蒸着方式、スパッタリング方式や、ＣＶＤ方式等の上記以外のものを用いることも可能である。なお、比較的幅広のシート状基材Ｓｗに成膜するとき、真空チャンバ内に、幅方向に沿って複数の成膜ユニット５を列設することがあり、このときには、成膜ユニット毎に加熱手段５２の加熱温度を制御して成膜ユニット５からの成膜物質の量を調整できないと、シート状基材Ｓｗの幅方向における膜厚を略均一にできない。このような場合、上記と同様にして複数の変位センサ７を幅方向に沿って列設し、変位センサ７毎に上記のようにして変位量を得て、成膜ユニット５からの成膜物質の量を調整するようにしてもよい。
【００２６】
ところで、上記実施形態のようにして金属膜Ｍｆの膜厚をモニタリングする場合、キャンローラ２の周面にシート状基材Ｓｗが、皺などを生じることなく、密着していることが必要になる。このような場合、例えば、第１と第２の両巻出巻取ローラ３ａ，３ｂの各モータ３１ａ，３１ｂを制御してシート状基材Ｓｗに所定のテンションを加えることでキャンローラ２の周面にシート状基材Ｓｗを密着させることが考えられる。然し、シート状基材Ｓｗに必要以上のテンションが加えられていると、キャンローラ２の周囲を走行するときにこのキャンローラ２からの伝熱でシート状基材Ｓｗが塑性変形する虞がある。図３に示すように、変形例に係る真空蒸着装置では、例えばステンレス製のキャンローラ２０の外周面に、密着層２１を介して絶縁層２２が形成されると共に、キャンローラ２０に所定の直流電圧を印加する電源２３が接続されている。密着層２１としては、蒸着等により成膜されるニッケル層が利用でき、また、溶射により形成されたアルミナ膜を用いることができる。なお、密着層２１は省略することもできる。これにより、成膜時、キャンローラ２０に所定の正電位（例えば、１０Ｖ〜２０００Ｖ）を印加することで、キャンローラ２０の周面に巻き掛けられるシート状基材Ｓｗの部分がキャンローラ２０に静電吸着されるようになる。その結果、シート状基材Ｓｗに必要以上のテンションを加えるといったことを不要にでき、有利である。
【符号の説明】
【００２７】
ＭＳ…膜厚モニタリングシステム、１…真空チャンバ、１１…隔絶板、２，２０…キャンローラ、２２…絶縁層、２３…電源、３ａ，３ｂ…巻出巻取ローラ（基材走行手段）、５…成膜ユニット、６…制御ユニット、７…変位センサ、７１ａ…光源、７３…センサヘッド（光源を構成する部品）、８…計測手段、Ｓｗ…シート状基材、Ｍｆ…金属膜、Ｂｗ…基準波形。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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