(57)【要約】【課題】照明モードに応じたエネルギ密度の光をオプティカルインテグレータに入射させるために有利な技術を提供する。【解決手段】光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系は、前記光源からの光を回折して、複数種類の光強度分布のうち選択された光強度分布を瞳面に生成する生成部と、前記生成部と前記被照明面との間の光路上に配置されたオプティカルインテグレータと、前記生成部と前記オプティカルインテグレータとの間の光路上に配置された光透過部材と、を含み、前記複数種類の光強度分布は、前記瞳面での分布形状が互いに異なる第１光強度分布および第２光強度分布を含み、前記光透過部材は、前記第１光強度分布の生成時と前記第２光強度分布の生成時とで共通して光が透過する第１領域と、前記第１領域以外の第２領域とを含み、前記第１領域は、光の発散度合いが前記第２領域より高い発散部を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系であって、
前記光源からの光を回折して、複数種類の光強度分布のうち選択された光強度分布を瞳面に生成する生成部と、
前記生成部と前記被照明面との間の光路上に配置されたオプティカルインテグレータと、
前記生成部と前記オプティカルインテグレータとの間の光路上に配置された光透過部材と、
を含み、
前記複数種類の光強度分布は、前記瞳面での分布形状が互いに異なる第１光強度分布および第２光強度分布を含み、
前記光透過部材は、前記第１光強度分布の生成時と前記第２光強度分布の生成時とで共通して光が透過する第１領域と、前記第１領域以外の第２領域とを含み、
前記第１領域は、光の発散度合いが前記第２領域より高い発散部を含む、ことを特徴とする照明光学系。
【請求項２】
前記第２領域は、光を発散させずに透過するように構成されている、ことを特徴とする請求項１に記載の照明光学系。
【請求項３】
前記第２領域は、平面形状を有する、ことを特徴とする請求項２に記載の照明光学系。
【請求項４】
前記生成部は、複数の回折光学素子を含み、光路上に配置される回折光学素子を切り替えることにより前記瞳面での光強度分布を変更可能に構成されている、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項５】
前記光透過部材は、前記発散部の寸法が互いに異なるように複数設けられ、選択された光強度分布の種類に応じて切り替えられる、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項６】
前記発散部は、前記光透過部材を光が透過可能な最大面積に対して１１％以下の面積を有する、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項７】
前記発散部は、光の発散度合いが互いに異なる複数の部分を有する、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項８】
前記発散部は円形形状を有する、ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項９】
前記発散部は矩形形状を有する、ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項１０】
前記第１光強度分布および前記第２光強度分布は、前記瞳面での面積が互いに異なる、ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項１１】
前記瞳面での面積は、前記第１光強度分布の方が前記第２光強度分布より小さく、
前記第１光強度分布による照明は、小σ照明および多重極照明のうち少なくとも１つを含み、
前記第２光強度分布による照明は、大σ照明を含む、ことを特徴とする請求項１０に記載の照明光学系。
【請求項１２】
基板を露光する露光装置であって、
原版を照明する請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の照明光学系と、
前記原版のパターンを基板上に投影する投影光学系と、
を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、
前記露光工程で露光された前記基板を加工する加工工程と、
を含み、
前記加工工程で加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、照明光学系、それを用いた露光装置、および物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
照明光学系により原版を照明し、当該原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影する露光装置では、スループットを向上させるため、光源の高出力化が進められている。しかしながら、光源を高出力化させると、露光装置に用いられている光学素子の硝材性能の低下が促進されうる。特許文献１には、照明光学系内の光路中に、光を散乱させる散乱構造体を配置することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第４９３３６７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
露光装置では、原版に形成された回路パターンの種類に応じて、大σ照明や小σ照明、四重極照明などの様々な照明モードが使用されうる。しかしながら、照明モードによっては、瞳面での光強度分布の寸法を縮小することがあり、光源からの光を回折して所望の光強度分布を瞳面に生成する方式の照明光学系では、光強度分布の縮小に応じて光のエネルギ密度が増加しうる。この場合、高エネルギ密度の光がオプティカルインテグレータの一部に入射し、当該一部での硝材性能の低下がより促進されるため、光のエネルギ密度を低減させることが望まれる。一方、特許文献１に記載された方法では、照明モードに関わらず光路の全体に拡散構造体が配置されるため、光のエネルギ密度を低減させる必要のない照明モードにおいても光のエネルギ密度を低減させてしまい、像面照度が低下しうる。
【０００５】
そこで、照明モードに応じたエネルギ密度の光をオプティカルインテグレータに入射させるために有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての照明光学系は、光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系であって、前記光源からの光を回折して、複数種類の光強度分布のうち選択された光強度分布を瞳面に生成する生成部と、前記生成部と前記被照明面との間の光路上に配置されたオプティカルインテグレータと、前記生成部と前記オプティカルインテグレータとの間の光路上に配置された光透過部材と、を含み、前記複数種類の光強度分布は、前記瞳面での分布形状が互いに異なる第１光強度分布および第２光強度分布を含み、前記光透過部材は、前記第１光強度分布の生成時と前記第２光強度分布の生成時とで共通して光が透過する第１領域と、前記第１領域以外の第２領域とを含み、前記第１領域は、光の発散度合いが前記第２領域より高い発散部を含む、ことを特徴とする。
【０００７】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、例えば、照明モードに応じたエネルギ密度の光をオプティカルインテグレータに入射させるために有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】光透過部材の構成例を示す図である。
【図３】光透過部材の構成例を示す図である。
【図４】光透過部材の変形例を示す図である。
【図５】光透過部材の変形例を示す図である。
【図６】光透過部材の変形例を示す図である。
【図７】光透過部材の変形例を示す図である。
【図８】光透過部材の変形例を示す図である。
【図９】光透過部材の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。尚、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
【００１１】
＜第１実施形態＞
本発明に係る第１実施形態の露光装置１００について説明する。図１は、本実施形態の露光装置１００の構成を示す概略図である。露光装置１００は、光源１からの光束を利用して原版Ｍを照明する照明光学系ＩＬと、照明光学系ＩＬにより照明された原版Ｍのパターンを基板Ｗに投影する投影光学系ＰＯと、制御部ＣＮＴとを含む。制御部ＣＮＴは、例えばＣＰＵやメモリなどを含むコンピュータによって構成され、露光装置１００の各部を制御する（基板Ｗを露光する処理を制御する）。ここで、原版Ｍとしては、例えばマスクやレチクルなどが用いられ、基板Ｗとしては、例えばウェハやガラスプレート（液晶基板）などが用いられうる。
【００１２】
光源１は、光束（光）を発生させて射出する。光源１としては、例えば、エキシマレーザや水銀ランプなどが用いられうる。近年、半導体集積回路における回路パターンの微細化および高集積化に伴い、短波長のレーザ光を射出するＫｒＦレーザ（２４８ｎｍ）やＡｒＦレーザ（１９３ｎｍ）などのエキシマレーザが光源１として用いられうる。また、引き回し光学系２は、光源１と照明光学系ＩＬとの間に設けられ、光源１から射出された光束を照明光学系ＩＬに導く。本実施形態の場合、引き回し光学系２から射出された光束は、ミラー３で反射され、平行平面板４を介して照明光学系ＩＬに入射する。
【００１３】
照明光学系ＩＬは、例えば、射出角度保存光学素子５と、回折光学素子６ａを有する生成部６と、コンデンサレンズ７と、遮光部材９と、プリズムユニット１０とを含みうる。また、照明光学系ＩＬは、ズームレンズユニット１１と、光透過部材１２と、多光束形成部１３と、絞り１４と、コンデンサレンズ１５とを更に含みうる。
【００１４】
射出角度保存光学素子５は、生成部６の光源１側（即ち、生成部６と引き回し光学系２との間）の光路上に設けられる。射出角度保存光学素子５は、マイクロレンズアレイやファイバー束などのオプティカルインテグレータを含み、光源１からの光束をその発散角度を一定に保ちながら生成部６に導く。
【００１５】
生成部６は、射出角度保存光学素子５とコンデンサレンズ７との間の光路上に配置された回折光学素子６ａを含み、回折光学素子６ａにより光源１からの光束を回折して所望の光強度分布を生成する。回折光学素子６ａは、被照明面である原版Ｍと共役な面、または照明光学系ＩＬの瞳面とフーリエ変換の関係にある面に配置される。そして、回折光学素子６ａは、投影光学系ＰＯの瞳面と共役な面である照明光学系ＩＬの瞳面および照明光学系Ｉｌの瞳面と共役な面に、光源１からの光束の光強度分布を回折効果により変換して所望の光強度分布を形成する。このようにして投影光学系ＰＯの瞳面に形成される光強度分布（照明形状）は、有効光源と呼ばれることがある。ここで、回折光学素子６ａとして、回折パターン面に所望の回折パターンが得られるように計算機で設計された計算機ホログラム（ＣＧＨ；Computer Generated Hologram）が使用されてもよい。
【００１６】
本実施形態の場合、生成部６は、複数の回折光学素子６ａを含み、光路上に配置される回折光学素子６ａを切り替えることにより、複数種類の光強度分布のうち選択された光強度分布を瞳面に生成する。つまり、生成部６は、光路上に配置される回折光学素子６ａを変更することにより、瞳面での光強度分布を変更可能に構成されうる。例えば、ターレットにおける複数のスロットに複数の回折光学素子６ａをそれぞれ搭載し、ターレットを回転させて、光路上に配置される回折光学素子６ａを切り替える（即ち、複数の回折光学素子６ａのうちの１つを選択的に光路上に配置する）。これにより、瞳面に生成される光強度分布を変更することができる。ここで、複数の回折光学素子６ａは、小σ照明、大σ照明、輪帯照明、二重極照明、四重極照明などの様々な照明モードで被照明面（原版Ｍ）を照明することができるように、互いに異なる種類の光強度分布を瞳面に生成するように構成される。
【００１７】
コンデンサレンズ７は、回折光学素子６ａ（生成部６）とプリズムユニット１０との間の光路上に設けられ、回折光学素子６ａで回折された光束を集光し、フーリエ変換面８に回折パターンを形成する。フーリエ変換面８は、多光束形成部１３（オプティカルインテグレータ）と回折光学素子６ａとの間にあり、回折光学素子６ａと光学的にフーリエ変換の関係にある面である。そのため、回折光学素子６ａを変更すれば、フーリエ変換面８に形成される回折パターンの形状を変えることができる。
【００１８】
遮光部材９は、フーリエ変換面８またはその近傍に配置される。遮光部材９は、例えば、絞りやブレード、フィルタなどを含みうる。本実施形態の場合、照明光学系ＩＬに、複数の遮光部材９が設けられている。複数の遮光部材９は、ターレットにおける複数のスロットにそれぞれ搭載されており、ターレットを回転させることで、複数の遮光部材９のうちの１つを選択的に光路上に配置することができる。
【００１９】
プリズムユニット１０およびズームレンズユニット１１は、遮光部材９と多光束形成部１３（オプティカルインテグレータ）との間の光路上に設けられ、フーリエ変換面８に形成された光強度分布を拡大するズーム光学系として機能する。プリズムユニット１０は、フーリエ変換面８に形成された回路パターン（光強度分布）を、輪帯率等を調整してズームレンズユニット１１に導くことができる。また、ズームレンズユニット１１は、プリズムユニット１０と多光束形成部１３との間の光路上に設けられ、フーリエ変換面８に形成された回折パターンを、σ値等を調整して多光束形成部１３に導くことができる。
【００２０】
多光束形成部１３（オプティカルインテグレータ）は、生成部６と被照明面である原版Ｍとの間の光路上に配置される。本実施形態の場合、多光束形成部１３は、ズームレンズユニット１１とコンデンサレンズ１５との間の光路上に配置され、輪帯率、開口角およびσ値が調整された回折パターンに応じて、多数の２次光源を形成してコンデンサレンズ１５に導く。多光束形成部１３は、オプティカルインテグレータとしてハエの目レンズを含みうるが、ハエの目レンズの代わりに又は追加的に、オプティカルパイプ、回折光学素子やマイクロレンズアレイなどの他のオプティカルインテグレータを含んでもよい。
【００２１】
コンデンサレンズ１５は、多光束形成部１３と原版Ｍとの間の光路上に設けられる。これにより、多光束形成部１３から導かれた多数の光束を集光して原版Ｍを重畳的に照明し、原版Ｍを均一に照明することができる。ここで、多光束形成部１３とコンデンサレンズ１５との間には、絞り１４が設けられうる。
【００２２】
また、コンデンサレンズ１５の後段にはハーフミラー１６が設けられ、コンデンサレンズ１５からの光束の一部が、光学系１７を介して検出部１８に導かれる。検出部１８は、入射した光の強度を検出するセンサを含む。これにより、制御部ＣＮＴは、検出部１８での検出結果に基づいて、基板Ｗの露光量を高精度に制御することができる。
【００２３】
原版Ｍは、コンデンサレンズ１５と投影光学系ＰＯとの間に設けられ、基板上に転写すべき回路パターンを有する。原版Ｍは、不図示の原版ステージによって保持され、駆動される。投影光学系ＰＯは、原版Ｍと基板Ｗとの間に設けられ、原版Ｍと基板Ｗとを光学的に共役な関係に維持する。基板Ｗは、不図示の基板ステージによって保持され、駆動される。このように構成された露光装置１００では、照明光学系ＩＬにより照明された原版Ｍのパターンを、投影光学系ＰＯにより基板Ｗに投影することで、基板上にパターンを形成することができる。
【００２４】
［光透過部材の構成］
本実施形態の露光装置１００では、生成部６において光路上に配置される回折光学素子６ａを変更することにより、原版Ｍの回路パターンの種類に応じて、大σ照明や小σ照明、多重極照明などの様々な照明モードを使用することができる。しかしながら、例えば小σ照明や四重極照明など、照明モードによっては瞳面における光の照明面積が縮小されることがあり、光源からの光を回折して所望の光強度分布を瞳面に生成する方式では、当該照明面積の縮小に応じて光のエネルギ密度が増加しうる。この場合、高エネルギ密度の光がオプティカルインテグレータ（多光束形成部１３）の一部に局所的に入射し、当該一部での硝材性能の低下が、他の部分と比較してより一層促進されることとなるため、光のエネルギ密度を低減させることが望まれる。
【００２５】
そこで、本実施形態の露光装置１００では、光を発散させる発散部２０を一部（局所的）に有する光透過部材１２が、生成部６（回折光学素子６ａ）と多光束形成部１３（オプティカルインテグレータ）との間の光路上に配置される。図１に示す例では、光透過部材１２は、多光束形成部１３とズームレンズユニット１１との間の光路上に配置されている。ここで、光の発散とは、具体的には、光透過部材１２に入射する光束の径より、多光束形成部１３に入射する光束の径の方が大きくなるように、即ち、光束の径を拡大させるように当該光束を射出することである。光の発散は、「光の角度分布の拡大」または「光の拡散」と呼ばれることがある。
【００２６】
次に、光透過部材１２の具体的な構成について、図２〜図３を参照しながら説明する。図２は、本実施形態の光透過部材１２の構成例を示す図であり、多光束形成部１３側から見たときの図である。また、図３（ａ）は、本実施形態の光透過部材１２の斜視図を示し、図３（ｂ）は、本実施形態の光透過部材１２の断面図（図３（ａ）のＡ−Ａ断面図）を示している。
【００２７】
例えば、生成部６により瞳面に形成される複数種類の光強度分布として、瞳面での分布形状が互いに異なる第１光強度分布および第２光強度分布が含まれる場合を想定する。瞳面での面積が第１光強度分布の方が第２光強度分布より小さい場合、第１光強度分布として、小σ照明および多重極照明のときの光強度分布が適用され、第２光強度分布として、大σ照明のときの光強度分布が適用されうる。
【００２８】
この場合、光透過部材１２は、図２に示すように、第１光強度分布の生成時と第２光強度分布の生成時とで共通して光が透過する第１領域１２ａと、第１領域以外の第２領域１２ｂとを含む。そして、光の発散度合いが第２領域１２ｂより高い発散部２０が第１領域１２ａに設けられる。ここで、図２は、第１領域１２ａの全体が発散部２０として機能する例を示している。また、図２では、瞳面に生成される光強度分布の寸法を最大にしたとき（例えば、大σ照明のときの光強度分布にしたとき）に光透過部材１２を透過する領域が破線で示されている。
【００２９】
本実施形態の場合、光透過部材１２の発散部２０（第１領域１２ａ）は、図３に示すように、負のパワーを有する凹レンズによって構成されうるが、例えば、複数の凸レンズが配列された構成であってもよい。また、第２領域１２ｂは、光を発散せずに透過するように、平面形状（即ち、平行平面形状）を有し、光を発散せずに透過するように構成されうる。図３に示す例では、発散部２０は、１つの凹レンズによって構成されているが、それに限られず、図４に示すように、複数の凹レンズのアレイによって構成されてもよいし、第２領域１２ｂより大きい表面粗さを有するように構成されてもよい。さらに、発散部２０は、ＣＧＨ（計算機生成ホログラム；Computer-Generated Hologram）で構成されてもよい。
【００３０】
［光透過部材を用いたときの効果］
次に、上述したように構成された光透過部材１２を用いたときの効果について説明する。上述した光透過部材１２は、ＮＡ０．５０、σ０．２０の小σ照明への適用を想定した構成であり、その小σ照明の条件（ＮＡ０．５０、σ０．２０）で光透過部材１２を用いたときにオプティカルインテグレータに与えられるエネルギ密度を計算した。その結果、本実施形態の光透過部材１２を用いた場合、光透過部材１２を用いない場合と比較してエネルギ密度が６９％となり、エネルギ密度を低減効果が得られることが確認された。
【００３１】
また、光透過部材１２と用いないときの像面照度に対する、光透過部材１２を用いたときの像面照度の比（像面照度比）は、以下の表１に示すような計算結果となった。表１は、ＮＡ０．５０、σ０．２０の第１条件と、ＮＡ０．８６、σ０．４０の第２条件と、ＮＡ０．８６、σ０．９３の第３条件との各々における像面照度比の計算結果を示している。表１では、比較のため、特許文献１に記載されたように、照明モードに関わらずに光路の全体に拡散構造体を配置した場合（従来技術）も示されている。
【００３２】
【表１】
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【００３３】
表１に示すように、本実施形態の光透過部材１２を用いると、ＮＡ０．５０、σ０．２０の第１条件下では、従来技術と同様に、像面照度比が８０％となり、エネルギ密度の低減効果が得られていることが分かる。一方、ＮＡ０．８６、σ０．４０の第２条件下での像面照度比は９８．３％、およびＮＡ０．８６、σ０．９３の第３条件下での像面照度比は９９．７％となった。これは、従来技術と比べて、光透過部材１２を用いることによる像面照度の低下を抑制（緩和）できることを示している。
【００３４】
［発散部の面積］
次に、光透過部材１２における発散部２０の面積について説明する。発散部２０は、露光装置１００の全体において、最大の照明ＮＡに対して３分の１相当の大きさの照明ＮＡのときに、硝材性能の低下が許容可能なエネルギ密度となるように設計されうる。そのため、最大の照明ＮＡのときの瞳面での光強度分布に対する有効径の面積の比率が１１％以下である場合には、エネルギ密度による硝材性能の低下を考慮し、上述の光透過部材１２を適用して、エネルギ密度を低減させて装置を運用することが必要となる。最大の有効光源に対する投影光学系のＮＡ、σの条件は、例えば、ＮＡ０．８６、σ０．９５である。ここで、当該比率は、換言すると、オプティカルインテグレータでの最大の有効光源の面積に対するオプティカルインテグレータで照明される面積の比率、もしくは、光透過部材１２を光が透過可能な最大面積に対する発散部２０の面積の比率と言うこともできる。つまり、光透過部材１２は、光透過部材１２を光が透過可能な最大面積に対して１１％以下の面積を発散部２０が有するように構成されることが好ましい。
【００３５】
上述したように、光を発散させる発散部２０を一部（局所的）に有する光透過部材１２が、生成部６（回折光学素子６ａ）と多光束形成部１３（オプティカルインテグレータ）との間の光路上に配置される。これにより、照明モードに応じたエネルギ密度の光をオプティカルインテグレータに入射させ、照明モードの変更によるエネルギ密度の増加、および像面照度の低下を低減させることができる。
【００３６】
＜第２実施形態＞
本発明に係る第２実施形態について説明する。第１実施形態では、ＮＡ０．５０、σ０．２０の小σ照明の適用を想定した光透過部材１２の構成について説明したが、照明モードは小σ照明に限られるものではなく、使用したい照明モードに合わせて光透過部材１２の発散部２０の構成を変更してもよい。なお、以下では、第１領域１２ａの全体が発散部２０として機能する例について説明する。
【００３７】
例えば、二重極照明を適用する場合、光透過部材１２では、図５のハッチングで示すように第１領域１２ａが位置し、当該第１領域１２ａに発散部２０が設けられる。また、四重極照明を適用する場合、光透過部材１２では、図６のハッチングで示すように第１領域１２ａが位置し、当該第１領域１２ａに発散部２０が設けられる。
【００３８】
また、図７に示すように、発散部２０を、光の発散度合いが互いに異なる複数の部分を有するように構成してもよい。図７に示す例では、光の発散度合いが互いに異なる２つの部分２０ａ、２０ｂに発散部２０が区分けされているが、２つの部分に限られるものではなく、３つ以上の部分に区分けされてもよい。
【００３９】
また、上記の例では、発散部２０は円形形状を有しているが、発散部２０の製造時に制約などがある場合には、図８に示すように、発散部２０を矩形形状としてもよい。さらに、図９に示すように、矩形形状の発散部２０を回転させてもよい。これは、矩形形状の発散部２０の方位と、オプティカルインテグレータとしてのハエの目レンズの矩形形状の方位とを異ならせることで、照度ムラを抑える効果がある場合に有用である。なお、ハエの目レンズの周期構造の方位との相互作用による照度ムラを抑えるための他の方法としては、回折光学素子６ａによる回折光の周期の方位と、ハエの目レンズの周期構造の方位とを異ならせるように、回折光学素子６ａを回転させてもよい。ここで、光透過部材１２は、上述したように発散部２０の寸法が互いに異なるように露光装置１００内に複数設けられ、選択された光強度に応じて切り替えられるように構成されてもよい。
【００４０】
＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像（加工）する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００４１】
発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。
【符号の説明】
【００４２】
６：生成部、６ａ：回折光学素子、１２：光透過部材、１２ａ：第１領域、１２ｂ：第２領域、１３：多光束形成部、２０：発散部、１００：露光装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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