(57)【要約】【課題】曲線及び直線が混在する図形が含まれている設計データから、データ量及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置内での計算量を抑制できる描画データを生成する。【解決手段】本実施形態は、マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データを生成する描画データ生成方法に関する。この描画データ生成方法では、設計データに含まれる曲線と直線を含む図形の、前記曲線を表現する複数の制御点と、前記曲線及び前記直線の複数の頂点とを算出し、各制御点及び各頂点の位置を、隣接する制御点又は頂点からの変位で表現して、前記描画データを生成する。【選択図】図１
2020064911.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データを生成する描画データ生成方法であって、
設計データに含まれる曲線と直線を含む図形の、前記曲線を表現する複数の制御点と、前記曲線及び前記直線の複数の頂点とを算出し、
各制御点及び各頂点の位置を、隣接する制御点又は頂点からの変位で表現して、前記描画データを生成することを特徴とする描画データ生成方法。
【請求項２】
前記曲線から構成される曲線部及び前記直線から構成される直線部を、前記図形の原点から該図形を周回するように、順に定義して前記描画データを生成することを特徴とする請求項１に記載の描画データ生成方法。
【請求項３】
前記描画データ内に、前記図形を囲む矩形のサイズ情報を定義することを特徴とする請求項１又は２に記載の描画データ生成方法。
【請求項４】
前記描画データは、
前記各制御点又は前記各頂点について、隣接する制御点又は頂点からの変位情報と、
前記曲線又は直線を示す辺タイプ情報と、
を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の描画データ生成方法。
【請求項５】
複数の荷電粒子ビームからなるマルチビームを形成し、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームに対して個別にビームのオン／オフを行い、対象物上に荷電粒子ビームを照射してパターンを描画する描画部と、
設計データに含まれる曲線と直線を含む図形の、前記曲線を表現する複数の制御点と、前記曲線及び前記直線の複数の頂点の各々の位置が、隣接する制御点又は頂点からの変位で表現された描画データが入力され、前記変位を用いて前記複数の制御点又は複数の頂点の位置を算出し、算出した複数の制御点又は複数の頂点の位置に基づいて得られた前記曲線及び前記直線を用いて前記図形を再構成し、再構成した図形に対しデータ変換処理を施し、前記描画部を制御する制御部と、
を備えるマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画データ生成方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、縮小投影型露光装置を用いて、石英上に形成された高精度の原画パターン（マスク、或いは特にステッパやスキャナで用いられるものはレチクルともいう。）をウェーハ上に縮小転写する手法が採用されている。高精度の原画パターンは、電子ビーム描画装置によって描画され、所謂、電子ビームリソグラフィ技術が用いられている。
【０００３】
電子ビーム描画装置として、例えば、マルチビームを用いて一度に多くのビームを照射し、スループットを向上させたマルチビーム描画装置が知られている。このマルチビーム描画装置では、例えば、電子銃から放出された電子ビームが、複数の穴を有するアパーチャ部材を通過することでマルチビームが形成され、各ビームがブランキングプレートにおいてブランキング制御される。遮蔽されなかったビームが、光学系で縮小され、描画対象のマスク上の所望の位置に照射される。
【０００４】
マルチビーム描画装置を用いて電子ビーム描画を行う場合、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、レイアウトデータとして設計データが生成される。そして、この設計データに含まれる多角形図形を、複数の台形に分割することで、マルチビーム描画装置に入力される描画データが生成される。この描画データは、各台形について、１つの頂点を配置原点とし、この配置原点の座標データと、配置原点から他の３つの頂点までの変位を示すデータとを有する。
【０００５】
設計データに楕円形図形のような曲線を持った図形や、曲線と直線が混在する図形が含まれる場合、この図形を多角形に近似して描画データが作成される。近似を高精度に行うと、頂点数や図形数が増加し、描画データのデータ量が多大なものになるという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−２８３３９０号公報
【特許文献２】特開平５−１７５１０７号公報
【特許文献３】特開昭６３−２４９１９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、曲線及び直線が混在する図形が含まれている設計データから、データ量及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置内での計算量を抑制できる描画データを生成する描画データ生成方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様による描画データ生成方法は、マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データを生成する描画データ生成方法であって、設計データに含まれる曲線と直線を含む図形の、前記曲線を表現する複数の制御点と、前記曲線及び前記直線の複数の頂点とを算出し、各制御点及び各頂点の位置を、隣接する制御点又は頂点からの変位で表現して、前記描画データを生成するものである。
【０００９】
本発明の一態様による描画データ生成方法では、前記曲線から構成される曲線部及び前記直線から構成される直線部を、前記図形の原点から該図形を周回するように、順に定義して前記描画データを生成する。
【００１０】
本発明の一態様による描画データ生成方法では、前記描画データ内に、前記図形を囲む矩形のサイズ情報を定義する。
【００１１】
本発明の一態様による描画データ生成方法において、前記描画データは、前記各制御点又は前記各頂点について、隣接する制御点又は頂点からの変位情報と、前記曲線又は直線を示す辺タイプ情報と、を有する。
【００１２】
本発明の一態様によるマルチ荷電粒子ビーム描画装置は、複数の荷電粒子ビームからなるマルチビームを形成し、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームに対して個別にビームのオン／オフを行い、対象物上に荷電粒子ビームを照射してパターンを描画する描画部と、設計データに含まれる曲線と直線を含む図形の、前記曲線を表現する複数の制御点と、前記曲線及び前記直線の複数の頂点の各々の位置が、隣接する制御点又は頂点からの変位で表現された描画データが入力され、前記変位を用いて前記複数の制御点又は複数の頂点の位置を算出し、算出した複数の制御点又は複数の頂点の位置に基づいて得られた前記曲線及び前記直線を用いて前記図形を再構成し、再構成した図形に対しデータ変換処理を施し、前記描画部を制御する制御部と、を備えるものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、曲線及び直線が混在する図形が含まれている設計データから、データ量及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置内での計算量を抑制可能な描画データを生成できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施形態に係るマルチ荷電粒子ビーム描画装置の概略図である。
【図２】同実施形態に係る描画データ生成方法を説明するフローチャートである。
【図３】曲線と直線が混在する図形の表現の一例を示す図である。
【図４】描画データのデータ構造の例を示す図である。
【図５】バウンディングボックスの例を示す図である。
【図６】別の実施形態による描画データのデータ構造の例を示す図である。
【図７】パターン検査装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１６】
図１は、本実施形態による描画データを用いて描画を行うマルチ荷電粒子ビーム描画装置の概略図である。本実施形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の他の荷電粒子ビームでもよい。
【００１７】
図１に示す描画装置１は、マスクやウェーハ等の対象物に電子ビームを照射して所望のパターンを描画する描画部１０と、描画部１０による描画動作を制御する制御部５０とを備える。描画部１０は、電子ビーム鏡筒１２及び描画室３０を有している。
【００１８】
電子ビーム鏡筒１２内には、電子銃１４、照明レンズ１６、アパーチャ部材１８、ブランキングプレート２０、縮小レンズ２２、制限アパーチャ部材２４、対物レンズ２６、及び偏向器２８が配置されている。描画室３０内には、ＸＹステージ３２が配置される。ＸＹステージ３２上には、描画対象基板となるマスクブランク３４が載置されている。対象物として、例えば、ウェーハや、ウェーハにエキシマレーザを光源としたステッパやスキャナ等の縮小投影型露光装置や極端紫外線露光装置を用いてパターンを転写する露光用のマスクが含まれる。また、描画対象基板には、例えば、既にパターンが形成されているマスクも含まれる。例えば、レベンソン型マスクは２回の描画を必要とするため、１度描画されマスクに加工された物に２度目のパターンを描画することもある。ＸＹステージ３２上には、さらに、ＸＹステージ３２の位置測定用のミラー３６が配置される。
【００１９】
制御部５０は、制御計算機５２、偏向制御回路５４，５６、及びステージ位置検出器５８を有している。制御計算機５２、偏向制御回路５４，５６、及びステージ位置検出器５８は、バスを介して互いに接続されている。
【００２０】
電子銃１４から放出された電子ビーム４０は、照明レンズ１６によりほぼ垂直にアパーチャ部材１８全体を照明する。アパーチャ部材１８には、穴（開口部）が所定の配列ピッチでマトリクス状に形成されている。電子ビーム４０は、アパーチャ部材１８のすべての穴が含まれる領域を照明する。これらの複数の穴を電子ビーム４０の一部がそれぞれ通過することで、図１に示すようなマルチビーム４０ａ〜４０ｅが形成されることになる。
【００２１】
ブランキングプレート２０には、アパーチャ部材１８の各穴の配置位置に合わせて通過孔が形成され、各通過孔には、対となる２つの電極からなるブランカが、それぞれ配置される。各通過孔を通過する電子ビーム４０ａ〜４０ｅは、それぞれ独立に、ブランカが印加する電圧によって偏向される。かかる偏向によってブランキング制御される。このように、複数のブランカが、アパーチャ部材１８の複数の穴を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う。
【００２２】
ブランキングプレート２０を通過したマルチビーム４０ａ〜４０ｅは、縮小レンズ２２によって縮小され、制限アパーチャ部材２４に形成された中心の穴に向かって進む。ここで、ブランキングプレート２０のブランカにより偏向された電子ビームは、制限アパーチャ部材２４の中心の穴から位置がはずれ、制限アパーチャ部材２４によって遮蔽される。一方、ブランキングプレート２０のブランカによって偏向されなかった電子ビームは、制限アパーチャ部材２４の中心の穴を通過する。
【００２３】
このように、制限アパーチャ部材２４は、ブランキングプレート２０のブランカによってビームＯＦＦの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する。そして、ビームＯＮになってからビームＯＦＦになるまでに制限アパーチャ部材２４を通過したビームが、１回分のショットのビームとなる。制限アパーチャ部材２４を通過したマルチビーム４０ａ〜４０ｅは、対物レンズ２６により焦点が合わされ、所望の縮小率のパターン像となる。制限アパーチャ部材２４を通過した各ビーム（マルチビーム全体）は、偏向器２８によって同方向にまとめて偏向され、各ビームのマスクブランク３４上のそれぞれの照射位置に照射される。
【００２４】
ＸＹステージ３２が連続移動している時、ビームの照射位置がＸＹステージ３２の移動に追従するように偏向器２８によって制御される。ＸＹステージ３２の移動は図示しないステージ制御部により行われ、ＸＹステージ３２の位置はステージ位置検出器５８により検出される。
【００２５】
一度に照射されるマルチビームは、理想的にはアパーチャ部材１８の複数の穴の配列ピッチに上述した所望の縮小率を乗じたピッチで並ぶことになる。この描画装置は、ショットビームを連続して順に照射していくラスタースキャン方式で描画動作を行い、所望のパターンを描画する際、パターンに応じて必要なビームがブランキング制御によりビームＯＮに制御される。ＸＹステージ３２が連続移動している時、ビームの照射位置がＸＹステージ３２の移動に追従するように偏向器２８によって制御される。
【００２６】
制御計算機５２は、記憶装置６０から描画データＤ１を読み出し、複数段のデータ変換処理を行って装置固有のショットデータを生成する。ショットデータには、各ショットの照射量及び照射位置座標等が定義される。例えば、制御計算機５２は、描画データ内に定義された図形パターンを対応する画素に割り当てる。そして、制御計算機５２は、画素毎に、配置される図形パターンの面積密度を算出する。
【００２７】
制御計算機５２は、画素毎に、１ショットあたりの電子ビームの照射量を算出する。例えば、画素の面積密度に比例した照射量を求め、近接効果、かぶり効果、ローディング効果等による寸法変動を考慮して照射量を補正する。
【００２８】
制御計算機５２は、ショットデータに基づき各ショットの照射量を偏向制御回路５４に出力する。偏向制御回路５４は、入力された照射量を電流密度で割って照射時間ｔを求める。そして、偏向制御回路５４は、対応するショットを行う際、照射時間ｔだけブランカがビームＯＮするように、ブランキングプレート２０の対応するブランカに偏向電圧を印加する。
【００２９】
また、制御計算機５２は、ショットデータが示す位置（座標）に各ビームが偏向されるように、偏向位置データを偏向制御回路５６に出力する。偏向制御回路５６は、偏向量を演算し、偏向器２８に偏向電圧を印加する。これにより、その回にショットされるマルチビームがまとめて偏向される。
【００３０】
次に、描画データＤ１の生成方法を図２に示すフローチャートに沿って説明する。まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、レイアウトデータとなる設計データ（ＣＡＤデータ）Ｄ０が生成され、変換装置７０に入力される（ステップＳ１）。そして、設計データＤ０が変換装置７０で変換され、描画装置１の制御計算機５２に入力される描画データＤ１が生成される。
【００３１】
設計データＤ０には、曲線の辺と直線の辺とが混在した図形が含まれている。変換装置７０は、曲線部分について、曲線を表現（パラメトリック曲線表現）するための複数の制御点を算出し、制御点の位置や曲線種類の情報を求める（ステップＳ２）。変換装置７０は、各制御点について、隣接する制御点からの変位を求める（ステップＳ３）。また、変換装置７０は、直線部分を抽出し、直線の一端から他端までの変位を求める（ステップＳ４）。そして、変換装置７０は、１つの頂点（図形配置原点）から図形を１周するように、各制御点の位置を隣接する制御点からの変位で表現し、直線の一端の頂点の位置を他端の頂点の位置からの変位で表現することで、各辺に関する情報を定義して、描画データＤ１を生成する（ステップＳ５）。
【００３２】
図３は、曲線と直線とが混在する図形の例を示す。この図形は、曲線Ｃ１，Ｃ２と、直線Ｓ１〜Ｓ１１とで囲まれている。
【００３３】
図３に示す例では、曲線Ｃ１は、４個の制御点Ｐ０，Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３で定義される曲線で表現（近似）される。曲線のタイプとしては、例えば、Ｂスプライン曲線やベジェ曲線等を使用することができる。変換装置７０は、図形の曲線部を表現する制御点を算出し、制御点の位置を、隣接する制御点からの変位で表現して、描画データＤ１を生成する。
【００３４】
例えば、図３に示す例では、頂点（制御点）Ｐ０の座標（ｘ０、ｙ０）が、この図形の図形配置原点として定義される。
【００３５】
曲線Ｃ１の制御点のうち、制御点Ｐ０に続く（制御点Ｐ０の次の）制御点Ｐ１の位置は、制御点Ｐ０からみたｘ方向の変位δｘ１と、ｙ方向の変位δｙ１で定義される。
【００３６】
制御点Ｐ１に続く制御点Ｐ２の位置は、制御点Ｐ１からみたｘ方向の変位δｘ２と、ｙ方向の変位δｙ２で定義される。
【００３７】
制御点Ｐ２に続く制御点Ｐ３の位置は、制御点Ｐ２からみたｘ方向の変位δｘ３と、ｙ方向の変位δｙ３で定義される。このように、曲線部の制御点の位置は、１つ前の制御点からみたｘ方向の変位及びｙ方向の変位で順に定義される。
【００３８】
直線Ｓ１は、頂点（制御点）Ｐ３で曲線Ｃ１に連なっている。直線Ｓ１は、頂点Ｐ３と頂点Ｐ４とを結ぶ。頂点Ｐ４の位置は、頂点Ｐ３からみたｘ方向の変位δｘ４と、ｙ方向の変位δｙ４で定義される。変換装置７０は、頂点Ｐ３及び頂点Ｐ４の位置と、頂点Ｐ３と頂点Ｐ４とが直線で結ばれるという情報により、直線Ｓ１を表現して、描画データＤ１を生成する。
【００３９】
直線Ｓ２は、頂点Ｐ４で直線Ｓ１に連なっている。直線Ｓ２は、頂点Ｐ４と頂点Ｐ５とを結ぶ。頂点Ｐ５の位置は、頂点Ｐ４からみたｘ方向の変位δｘ５と、ｙ方向の変位δｙ５で定義される。変換装置７０は、頂点Ｐ４及び頂点Ｐ５の位置と、頂点Ｐ４と頂点Ｐ５とが直線で結ばれるという情報により、直線Ｓ２を表現して、描画データＤ１を生成する。
【００４０】
直線Ｓ３は、頂点Ｐ５で直線Ｓ２に連なっている。直線Ｓ３は、頂点Ｐ５と頂点Ｐ６とを結ぶ。頂点Ｐ６の位置は、頂点Ｐ５からみたｘ方向の変位δｘ６と、ｙ方向の変位δｙ６で定義される。変換装置７０は、頂点Ｐ５及び頂点Ｐ６の位置と、頂点Ｐ５と頂点Ｐ６とが直線で結ばれるという情報により、直線Ｓ３を表現して、描画データＤ１を生成する。
【００４１】
直線Ｓ４は、頂点Ｐ６で直線Ｓ３に連なっている。直線Ｓ４は、頂点Ｐ６と頂点Ｐ７とを結ぶ。頂点Ｐ７の位置は、頂点Ｐ６からみたｘ方向の変位δｘ７と、ｙ方向の変位δｙ７で定義される。変換装置７０は、頂点Ｐ６及び頂点Ｐ７の位置と、頂点Ｐ６と頂点Ｐ７とが直線で結ばれるという情報により、直線Ｓ４を表現して、描画データＤ１を生成する。
【００４２】
直線Ｓ５は、頂点Ｐ７で直線Ｓ４に連なっている。直線Ｓ５は、頂点Ｐ７と頂点Ｐ８とを結ぶ。頂点Ｐ８の位置は、頂点Ｐ７からみたｘ方向の変位δｘ８と、ｙ方向の変位δｙ８で定義される。変換装置７０は、頂点Ｐ７及び頂点Ｐ８の位置と、頂点Ｐ７と頂点Ｐ８とが直線で結ばれるという情報により、直線Ｓ５を表現して、描画データＤ１を生成する。
【００４３】
直線Ｓ６は、一端側の頂点Ｐ８で直線Ｓ５に連なっている。直線Ｓ６の他端は、直線Ｓ７の一端と接続され、直線Ｓ６と直線Ｓ７とは直角をなしている。直線Ｓ７の他端の頂点Ｐ９の位置は、頂点Ｐ８からみたｘ方向の変位δｘ９と、ｙ方向の変位δｙ９で定義される。変換装置７０は、頂点Ｐ８及び頂点Ｐ９の位置と、頂点Ｐ８と頂点Ｐ９とが直角タイプ（マンハッタンタイプ）の直線で結ばれるという情報により、直線Ｓ６及びＳ７を表現して、描画データＤ１を生成する。
【００４４】
直線Ｓ８は、一端側の頂点Ｐ９で直線Ｓ７に連なっている。直線Ｓ８の他端は、直線Ｓ９の一端と接続され、直線Ｓ８と直線Ｓ９とは直角をなしている。直線Ｓ９の他端の頂点Ｐ１０の位置は、頂点Ｐ９からみたｘ方向の変位δｘ１０と、ｙ方向の変位δｙ１０で定義される。変換装置７０は、頂点Ｐ９及び頂点Ｐ１０の位置と、頂点Ｐ９と頂点Ｐ１０とが直角タイプ（マンハッタンタイプ）の直線で結ばれるという情報により、直線Ｓ８及びＳ９を表現して、描画データＤ１を生成する。
【００４５】
直線Ｓ１０は、一端側の頂点Ｐ１０で直線Ｓ９に連なっている。直線Ｓ１０の他端は、直線Ｓ１１の一端と接続され、直線Ｓ１０と直線Ｓ１１とは直角をなしている。直線Ｓ１１の他端の頂点Ｐ１１の位置は、頂点Ｐ１０からみたｘ方向の変位δｘ１１と、ｙ方向の変位δｙ１１で定義される。変換装置７０は、頂点Ｐ１０及び頂点Ｐ１１の位置と、頂点Ｐ１０と頂点Ｐ１１とが直角タイプ（マンハッタンタイプ）の直線で結ばれるという情報により、直線Ｓ１０及びＳ１１を表現して、描画データＤ１を生成する。
【００４６】
曲線Ｃ２は、頂点Ｐ０とＰ１１とを結び、５個の制御点Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３，Ｐ１４，Ｐ０で定義される曲線で表現（近似）される。制御点（頂点）Ｐ１１に続く制御点Ｐ１２の位置は、制御点Ｐ１１からみたｘ方向の変位δｘ１２と、ｙ方向の変位δｙ１２で定義される。
【００４７】
制御点Ｐ１２に続く制御点Ｐ１３の位置は、制御点Ｐ１２からみたｘ方向の変位δｘ１３と、ｙ方向の変位δｙ１３で定義される。
【００４８】
制御点Ｐ１３に続く制御点Ｐ１４の位置は、制御点Ｐ１３からみたｘ方向の変位δｘ１４と、ｙ方向の変位δｙ１４で定義される。
【００４９】
制御点Ｐ１４に続く制御点Ｐ０は図形配置原点である。
【００５０】
図４に、曲線及び直線が混在する図形を定義する描画データＤ１のデータ構造の一例を示す。描画データＤ１は、ヘッダ部及びボディ部を有する。ヘッダ部は図形コード（Ｃｏｄｅ）、セクション数（Ｎ）、及びその他の情報（ｏｔｈｅｒ  ｉｎｆｏ）が定義されている。
【００５１】
図形コードは、どのような図形を定義しているかを示す情報である。曲線と直線が混在する図形の場合は、図形コードに“辺混在タイプ”を示す情報が記載される。
【００５２】
変換装置７０は、曲線部と直線部とを、異なるセクションに分けて描画データＤ１を生成する。また、変換装置７０は、任意角タイプ（非直角タイプ）の直線が連続する部分を１セクションにまとめる。同様に、変換装置７０は、直角タイプの直線が連続する部分を１セクションにまとめる。
【００５３】
図３に示す図形の例では、曲線Ｃ１を表現するための制御点Ｐ１〜Ｐ３の位置情報を第１セクション、任意角タイプの直線Ｓ１〜Ｓ５を表現するための頂点Ｐ４〜Ｐ８の位置情報を第２セクション、直角タイプの直線Ｓ６〜Ｓ１１を表現するための頂点Ｐ９〜Ｐ１１の位置情報を第３セクション、曲線Ｃ２を表現するための制御点Ｐ１２〜Ｐ１４の位置情報を第４セクションに分類する。
【００５４】
その他の情報（ｏｔｈｅｒ  ｉｎｆｏ）には、図５に示すような、図形を囲む最小の矩形（バウンディングボックス）のサイズｗ、ｈが定義される。バウンディングボックスの情報があることで、他の図形との重なりの有無を容易に判定できる。また、曲線タイプ、次数、ｋｎｏｔベクトル情報、端点情報などのパラメトリック曲線を決めるためのパラメータが設定される。
【００５５】
ボディ部には、まず、図形配置位置原点Ｐ０の座標（ｘ０、ｙ０）が記載される。図形配置位置原点に続いて、各セクションの情報が順に定義される。
【００５６】
各セクションのセクションヘッダＳＨには、ポイント数ｎ、辺タイプ、バイト長、バウンディングボックスサイズが定義される。ポイント数ｎは、セクションに含まれる制御点や頂点の数を示す。例えば、第１セクションはポイント数ｎが３であり、第２セクションはポイント数ｎが５である。
【００５７】
辺タイプは、表現する辺のタイプ（曲線、任意角タイプの直線、又は直角タイプの直線）を示す。バイト長は、頂点や制御点の位置情報（変位情報）のデータ長を示す。バウンディングボックスサイズは、このセクションで定義される辺を囲むバウンディングボックスのサイズを示す。
【００５８】
第１セクションでは、セクションヘッダにおいて曲線タイプであることが定義され、セクションヘッダに続いて、制御点Ｐ１〜Ｐ３の位置情報が定義される。具体的には、制御点Ｐ１の位置情報として、図形配置原点（ｘ０、ｙ０）からみたｘ方向の変位δｘ１及びｙ方向の変位δｙ１が定義される。制御点Ｐ２の位置情報として、制御点Ｐ１からみたｘ方向の変位δｘ２及びｙ方向の変位δｙ２が定義される。制御点Ｐ３の位置情報として、制御点Ｐ２からみたｘ方向の変位δｘ３及びｙ方向の変位δｙ３が定義される。
【００５９】
第２セクションでは、セクションヘッダにおいて任意角タイプの直線であることが定義され、セクションヘッダに続いて、頂点Ｐ４〜Ｐ８の位置情報が順に定義される。頂点の位置情報は、１つ前の頂点からのｘ方向の変位及びｙ方向の変位である。
【００６０】
第３セクションでは、セクションヘッダにおいて直角タイプの直線であることが定義され、セクションヘッダに続いて、頂点Ｐ９〜Ｐ１１の位置情報が順に定義される。頂点の位置情報は、１つ前の頂点からのｘ方向の変位及びｙ方向の変位である。
【００６１】
第４セクションでは、セクションヘッダにおいて曲線タイプであることが定義され、セクションヘッダに続いて、制御点Ｐ１２〜Ｐ１４の位置情報が順に定義される。制御点の位置情報は、１つ前の制御点からのｘ方向の変位及びｙ方向の変位である。
【００６２】
従来の手法のように曲線で囲まれた部分を多角形で近似すると、頂点数が多くなり、描画データのデータ量が多大なものとなる。
【００６３】
一方、本実施形態では、複数の制御点を用いたパラメトリック曲線で図形の曲線部分を表現する。制御点の数は、曲線を多角形近似した場合の頂点数よりも少ないため、描画データＤ１のデータ量を低減することができる。
【００６４】
制御計算機５２は、描画データＤ１を読み出し、図形を再構成する。例えば、制御計算機５２は、描画データＤ１の座標（ｘ０、ｙ０）から図形配置位置原点となる制御点Ｐ０の位置を決定する。
【００６５】
制御計算機５２は、第１セクションに定義された情報から、制御点Ｐ１〜Ｐ３の位置を順に算出し、曲線Ｃ１を算出する。
【００６６】
続いて、制御計算機５２は、第２セクションに定義された情報から、頂点Ｐ４〜Ｐ８の位置を算出し、直線Ｓ１〜Ｓ５を算出する。
【００６７】
次に、制御計算機５２は、第３セクションに定義された情報から、頂点Ｐ９〜Ｐ１１の位置を算出し、頂点間を直角タイプの辺で結ぶ直線Ｓ６〜Ｓ１１を算出する。
【００６８】
続いて、制御計算機５２は、第４セクションに定義された情報から、制御点Ｐ１２〜Ｐ１４の位置を算出し、頂点Ｐ０とＰ１１とを結ぶ曲線Ｃ２を算出する。これにより、曲線Ｃ１、Ｃ２、直線Ｓ１〜Ｓ１１で囲まれた図形が再構成される。
【００６９】
このように、曲線及び直線が混在した図形を表現した描画データＤ１は、描画装置１の制御計算機５２内でのデータ処理が容易であり、計算量を抑制することができる。描画装置１が曲線フォーマットに対応することで、ＯＰＣ（Optical  Proximity  Correction：光近接効果補正）などを含む上流データパスにおいて曲線を扱うことができるようになり、上流のプロセスにおいてもＴＡＴ（Turn  Around  Time）を短縮できる。
【００７０】
上記実施形態では、曲線部と直線部とを異なるセクションに分け、セクションヘッダに辺タイプを定義して描画データＤ１を生成する例について説明したが、図６に示すように、各頂点（制御点）が属する辺のタイプを示すフラグ（ｆｌａｇ）と、１つ前の頂点（制御点）からの変位とを、図形配置原点から図形を周回するように順番に定義してもよい。この場合、ヘッダ部のＮは、頂点及び制御点の総数を示す。
【００７１】
例えば、フラグが０の場合はマンハッタン（直角タイプの直線）、１の場合は任意角タイプの直線、２の場合は曲線を示す。
【００７２】
制御点Ｐ１〜Ｐ３は、曲線を表すための点であるので、フラグは２となる。頂点Ｐ４〜Ｐ８は任意角タイプの直線を表すための点であるので、フラグは１となる。頂点Ｐ９〜Ｐ１１は直角タイプの直線を表すための点であるので、フラグは０となる。制御点Ｐ１２〜Ｐ１４は曲線を表すための点であるので、フラグは２となる。
【００７３】
上記実施形態による変換装置７０により生成された描画データＤ１は、パターン検査装置に入力されてもよい。例えば、図７に示すように、パターン検査装置８０には、変換装置７０により生成された描画データＤ１（第１描画データ）と、図１に示す描画装置１が描画データＤ１に基づいて描画対象基板に実際に描画したパターンに基づいて作成された描画データＤ２（第２描画データ）とが入力される。描画データＤ２は、図示しない記憶装置から有線又は無線ネットワークを介してパターン検査装置８０に入力される。
【００７４】
パターン検査装置８０は、入力された描画データＤ１、Ｄ２に基づいて、描画装置１により描画対象基板に実際に描画されたパターンを検査する。この検査では、例えば、描画データＤ１と描画データＤ２とを比較するような検査が行われる。なお、検査には、描画条件などの各種情報がさらに用いられる。
【００７５】
変換装置７０により生成される描画データＤ１はデータ量が小さく、かつデータ処理が容易なものであるため、パターン検査装置８０の処理効率を向上させることができる。
【００７６】
変換装置７０は、パターン検査装置８０内に設けられていてもよい。その場合、パターン検査装置８０は、入力された設計データＤ０に基づいて描画データＤ１を生成する変換部と、描画データＤ１と描画データＤ２とを比較して描画対象基板に実際に描画されたパターンの検査を行う検査部とを備えたものとなる。
【００７７】
上記実施形態による描画データＤ１の生成は描画装置１の制御計算機５２内で行ってもよい。
【００７８】
上述した実施形態で説明した描画データＤ１を生成する変換装置７０の少なくとも一部は、ハードウェアで構成してもよいし、ソフトウェアで構成してもよい。ソフトウェアで構成する場合には、変換装置７０の少なくとも一部の機能を実現するプログラムをフレキシブルディスクやＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体に収納し、コンピュータに読み込ませて実行させてもよい。記録媒体は、磁気ディスクや光ディスク等の着脱可能なものに限定されず、ハードディスク装置やメモリなどの固定型の記録媒体でもよい。
【００７９】
また、変換装置７０の少なくとも一部の機能を実現するプログラムを、インターネット等の通信回線（無線通信も含む）を介して頒布してもよい。さらに、同プログラムを暗号化したり、変調をかけたり、圧縮した状態で、インターネット等の有線回線や無線回線を介して、あるいは記録媒体に収納して頒布してもよい。
【００８０】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【００８１】
１  描画装置
１０  描画部
１２  電子ビーム鏡筒
１４  電子銃
１６  照明レンズ
１８  アパーチャ部材
２０  ブランキングプレート
２２  縮小レンズ
２４  制限アパーチャ部材
２６  対物レンズ
２８  偏向器
３０  描画室
３２  ＸＹステージ
３４  マスクブランク
３６  ミラー
５０  制御部
５２  制御計算機
５４、５６  偏向制御回路
５８  ステージ位置検出器
７０  変換装置
８０  パターン検査装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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