(57)【要約】【課題】エッチング液槽内を洗浄液によって適切に洗浄することが可能であり、かつ、エッチング液の液交換直後におけるエッチング処理の安定性を保つことが可能なガラスエッチングシステムを提供する。【解決手段】  ガラスエッチングシステム１０、エッチング装置１２、循環ライン１４、および濾過装置１６を少なくとも備える。濾過装置１６は、濾過すべきエッチング液を受け入れるように構成された原水槽１６２と、原水槽１６２のエッチング液を濾過するように構成された濾過ユニット１６４と、濾過ユニット１６４によって濾過されたエッチング液を受け入れるように構成された濾液槽１６６と、原水槽１６２から濾過ユニット１６４を経由せずに濾液槽１６６にエッチング液を送るように構成されたバイパス配管１６８と、を有する。【選択図】図１
2020178051.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラットパネルディスプレイ用ガラス基板に対してエッチング処理を実行するガラスエッチングシステムであって、
少なくともエッチング液槽を備え、エッチング液槽に収容されたエッチング液をガラス基板に接触させることによりエッチング処理を行うように構成されたエッチング装置と、
前記エッチング液槽のエッチング液を外部に取り出すとともに、濾過して前記エッチング液槽に返送するように構成された循環ラインと、
前記循環ラインに配置され、導入されたエッチング液を濾過する濾過装置と、
を少なくとも備え、
前記濾過装置は、濾過すべきエッチング液を受け入れるように構成された原水槽と、
前記原水槽のエッチング液を濾過するように構成された濾過ユニットと、
前記濾過ユニットによって濾過されたエッチング液を受け入れるように構成された濾液槽と、
前記原水槽から前記濾過ユニットを経由せずに前記濾液槽にエッチング液を送るように構成されたバイパス配管と、
を有することを特徴とするガラスエッチングシステム。
【請求項２】
前記エッチング液槽に収容されたエッチング液を廃棄する際に、その一部を前記原水槽に貯留することを特徴とする請求項１に記載のガラスエッチングシステム。
【請求項３】
前記エッチング液槽のエッチング液が新液に交換された後に、前記バイパス配管を経由させつつ前記循環ライン上でエッチング液を循環させることを特徴とする請求項２に記載のガラスエッチングシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板に対してエッチング処理を実行するガラスエッチングシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイに利用されるガラス基板は、ディスプレイの軽量化の観点から薄型化されることが好ましい。フラットパネルディスプレイ用ガラス基板を薄型化するために、一般的にフッ酸を含むエッチング液をガラス基板に接触させるエッチング処理が広く用いられてきた。このようなエッチング処理としては、処理すべきガラス基板をエッチング液中に浸漬させる方法が採られたり、エッチング液を処理すべきガラス基板に向かって噴射する方法が採られたりしている。いずれの方法が採用される場合でも、エッチング処理によって大量のガラス基板を効率的に薄型化できるとされてきた。
【０００３】
ところが、大量のガラス基板をエッチング処理する過程で、エッチング液におけるガラス基板を溶出するために必要な有効フッ素の濃度が低下する。また、エッチング処理量の増加に伴い、ガラス基板に含有されている金属元素がイオンとしてエッチング液中に溶出したり、これらの金属イオンの塩がスラッジとして析出したりして、ガラス基板のエッチング反応を不安定にすることがあった。
【０００４】
そこで、従来のガラスエッチング装置においては、エッチング処理量が所定量（例えば、処理時間が６時間）に達したときに、エッチング装置内のエッチング液を新しいものに入れ替えるような手法を採用するものがあった（例えば、特許文献１参照。）。このように、古くなったエッチング液を、適宜、新しい液に交換することによって大量のガラス基板を安定的にエッチング処理し続けることが可能になる、とされていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１４７６３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述の従来技術においては、古くなったエッチング液の全部を新しい液に交換することによって、エッチング液の液組成が急激に変化する。このため、液交換直後のエッチング液によるエッチング処理においてガラス基板の表面に突起等の不具合が発生することがあった。
【０００７】
一方で、エッチング液槽内において、ガラス基板のエッチング処理中に多くのスラッジ等が析出するため、定期的にエッチング液をすべて排出して洗浄液によって洗浄する必要があった。このため、エッチング液槽に古いエッチング液（ライフエンド液）の一部を残すことは難しかった。
【０００８】
本発明の目的は、エッチング液槽内を洗浄液によって適切に洗浄することが可能であり、かつ、エッチング液の液交換直後におけるエッチング処理の安定性を保つことが可能なガラスエッチングシステムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明に係るガラスエッチングシステムは、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板に対してエッチング処理を実行するシステムである。このガラスエッチングシステムは、エッチング装置、循環ライン、および濾過装置を少なくとも備える。
【００１０】
エッチング装置は、少なくともエッチング液槽を備え、エッチング液槽に収容されたエッチング液をガラス基板に接触させることによりエッチング処理を行うように構成されている。
【００１１】
循環ラインは、エッチング液槽のエッチング液を外部に取り出すとともに、濾過してエッチング液槽に返送するように構成されている。
【００１２】
濾過装置は、循環ラインに配置され、導入されたエッチング液を濾過するように構成される。この濾過装置は、原水槽、濾過ユニット、濾液槽、およびバイパス配管を少なくとも備える。
【００１３】
原水槽は、濾過すべきエッチング液を受け入れるように構成される。濾過ユニットは、原水槽のエッチング液を濾過するように構成される。濾液槽は、濾過ユニットによって濾過されたエッチング液を受け入れるように構成される。バイパス配管は、原水槽から濾過ユニットを経由せずに濾液槽にエッチング液を送るように構成される。
【００１４】
この構成においては、選択的にバイパス配管を用いることによって、原水槽のエッチング液をそのままエッチング液槽に返送することが可能になる。このため、エッチング液槽を空にして洗浄液で洗浄する際に、古いエッチング液の一部を原水槽にて保持し、必要に応じてエッチング液槽に導入された新しいエッチング液（新液）と混合することが可能になる。その結果、エッチング液の液交換直後に従来発生することがあった不具合の発生を効果的に抑制することが可能になる。なお、本発明において、新液とは、未使用のエッチング液、および使用済のエッチング液であって全量を濾過することによってスラッジ等の析出物が取り除かれたエッチング液の両方を含む意味に用いるものとする。
【００１５】
上述のガラスエッチングシステムにおいて、エッチング液槽に収容されたエッチング液を廃棄する際に、その一部を原水槽に貯留することが好ましい。これにより、ライフエンド液を貯留する槽を追加的に設けることなく、エッチング液槽を空にしつつライフエンド液の貯留を行うことが可能になる。
【００１６】
さらに、エッチング液槽のエッチング液が新液に交換された後に、バイパス配管を経由させつつ循環ライン上でエッチング液を循環させることが好ましい。このような液循環により、エッチング液全体にライフエンド液が均質的に混ざり合うことになる。
【発明の効果】
【００１７】
この発明によれば、エッチング液槽内を洗浄液によって適切に洗浄することが可能であり、かつ、エッチング液の液交換直後におけるエッチング処理の安定性を保つことが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態に係るガラスエッチングシステムの概要を示す図である。
【図２】ガラスエッチングシステムを構成するエッチング装置の一例を示す図である。
【図３】ガラスエッチングシステムを構成するエッチング装置の一例を示す図である。
【図４】ガラスエッチングシステムを構成するエッチング装置の一例を示す図である。
【図５】ガラスエッチングシステムを構成するエッチング装置の一例を示す図である。
【図６】ガラスエッチングシステムを構成するエッチング装置の一例を示す図である。
【図７】ガラスエッチングシステムを構成するエッチング装置の一例を示す図である。
【図８】本発明の一実施形態に係るガラスエッチングシステムの概要を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
図１は、本発明の一実施形態に係るエッチングシステム１０の概要を示している。エッチングシステム１０は、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板に対してエッチング処理を実行するように構成されている。
【００２０】
エッチングシステム１０は、エッチング装置１２、循環ライン１４、および濾過装置１６を少なくとも備える。エッチング装置１２は、エッチング液を収容するエッチング液槽３０、およびエッチング液槽３０に収容されたエッチング液を循環利用しつつ、エッチングすべきガラス基板に対して噴射するように構成された後述のエッチングチャンバ３６を少なくとも備える。
【００２１】
循環ライン１４は、エッチング装置１２のエッチング液槽３０内のエッチング液を濾過装置１６に送るとともに、濾過装置１６にて濾過されたエッチング液をエッチング液槽３０に返送するように構成されている。
【００２２】
濾過装置１６は、循環ライン１４を介して受け入れたエッチング液を濾過するように構成される。濾過装置１６は、原水槽１６２、濾過ユニット１６４、濾液槽１６６、およびバイパス配管１６８を少なくとも備える。
【００２３】
原水槽１６２は、濾過すべきエッチング液を受け入れるように構成される。濾過ユニット１６４は、原水槽１６２のエッチング液を濾過するように構成される。濾液槽１６６は、濾過ユニット１６４によって濾過されたエッチング液を受け入れるように構成される。バイパス配管１６８は、原水槽１６２から濾過ユニット１６４を経由せずに濾液槽１６６にエッチング液を送るように構成される。
【００２４】
さらに、エッチングシステム１０は、新液タンク１８、水供給部２０、廃液槽２２、および廃水槽２４を備える。新液タンク１８は、エッチング装置１４に供給されるべきエッチング液を収容するように構成される。この実施形態では、５〜２５重量％のフッ酸を含むエッチング液や、必要に応じてこれに５〜１５重量％の塩酸をさらに加えたエッチング液を用いているが、エッチング液の組成はこれらには限定されない。
【００２５】
水供給部２０は、エッチング装置１２に洗浄水を供給するように構成される。廃液槽２２は、エッチング装置１２にて使用され尽くしたライフエンドのエッチング液を貯蔵するように構成される。廃水槽２４は、エッチング装置１２にて使用された洗浄水を貯蔵するように構成される。なお、廃液槽２２および廃水槽２４にそれぞれ貯蔵された廃液および廃水は、適切な産業廃棄物処理事業者によって回収される。
【００２６】
ここで、図２（Ａ）および図２（Ｂ）を用いて、エッチング装置１２の構成を簡単に説明する。エッチング装置１２は、導入部３２、前処理チャンバ３４、５つのエッチングチャンバ３６、洗浄チャンバ３８、および排出部４０を備える。前処理チャンバ３４、エッチングチャンバ３６、および洗浄チャンバ３８にはそれぞれ、隔壁の一部にガラス基板１００が通過可能なスリット状の開口部が形成されている。
【００２７】
ここでは、エッチング装置１２においてガラス基板１００を処理する例を説明しているが、ガラス基板１００以外の基板（例：セラミック基板、プリント基板、半導体基板等）の処理にエッチング装置１２を用いることも可能である。
【００２８】
スプレイエッチング装置１２は、最上流位置の導入部３２から最下流位置の排出部４０にかけて配列された複数の搬送ローラ４２を備えている。搬送ローラ４２は、導入部３２にセット（ローディング）されたガラス基板１００を前処理チャンバ３４、エッチングチャンバ３６、および洗浄チャンバ３８を順次経由させつつ排出部４０まで搬送するように構成される。
【００２９】
前処理チャンバ３４は、エッチングチャンバ３６に導入される前のガラス基板１００を洗浄するように構成される。この実施形態では、前処理チャンバ３４においてガラス基板１００に対して上下から洗浄水が噴きつけられることによってガラス基板１００が水洗いされる。
【００３０】
エッチングチャンバ３６は、ガラス基板１００に対してエッチング液を噴きつけることによってガラス基板１００を薄型化するように構成される。この実施形態では、エッチング装置１２は５つのエッチングチャンバ３６を備えているが、エッチングチャンバ３６の数は適宜増減させることが可能である。エッチングチャンバ３６の構成については後述する。
【００３１】
洗浄チャンバ３８は、エッチングチャンバ３６にてエッチング処理がされたガラス基板１００を洗浄するように構成される。洗浄チャンバ３８においても、前処理チャンバ３４と同様、ガラス基板１００に対して上下から洗浄水が噴きつけられることによってガラス基板１００が水洗いされる。
【００３２】
排出部４０には、エッチング処理および洗浄処理がされたガラス基板１００が排出される。排出部４０においてガラス基板１００の取り出し（アンローディング）が行われる。
【００３３】
図２（Ｂ）に示すように、エッチングチャンバ３６および洗浄チャンバ３８には、ガラス基板１００上の液体を除去するための乾燥手段（例：エアナイフ、脱水ローラ等）が設けられており、適宜、エッチング液の除去および洗浄水の除去が行われる。また、エッチング装置１２には、スクラバ等を含む排気システム（図示省略）およびフィルタープレス等を含む排水系システム（図示省略）に接続されており、排気および排水が適切に行われている。
【００３４】
続いて、図３を用いてエッチングチャンバ３６の構成を説明する。５つのエッチングチャンバ３６は原則として同一構成であるため、ここでは単一のエッチングチャンバ３６について説明する。エッチングチャンバ３６は、上側スプレイ配管ユニット３６２、下側スプレイ配管ユニット３６４、上側ホースユニット３６６、下側ホースユニット３６７（図４参照。）およびガイドシャフト５８を少なくとも備える。
【００３５】
上側スプレイ配管ユニット３６２は、搬送ローラ４２上を搬送されるガラス基板１００の上方に所定の距離を設けて配置される。上側スプレイ配管ユニット３６２は、エッチング液を吐出する吐出ノズルを複数備えた配管を並列的に複数配置するように構成される。この実施形態では、並行に５本配置された各配管に６個の吐出ノズルが設けられる例を説明するが、配管や吐出ノズルの数はこれに限定されるものではない。
【００３６】
ここでは、上側スプレイ配管ユニット３６２のフレーム部材、吐出ノズル、および配管がポリ塩化ビニルを基体とする複合透明樹脂材料によって構成されているが、その詳細については後述する。下側スプレイ配管ユニット３６４は、搬送ローラ４２上を搬送されるガラス基板１００の下方に所定の距離を設けて配置される。下側スプレイ配管ユニット３６４の基本的構成は上側スプレイ配管ユニット３６２と同一であるため、説明を割愛する。
【００３７】
上側スプレイ配管ユニット３６２および下側スプレイ配管ユニット３６４はそれぞれ底部の４箇所（この実施形態では、４つの角部）に、脚部となるベース部材３７０を備えている。このベース部材３７０は、エッチングチャンバ３６内の所定位置に設けられた８つのガイド部材３７２にスライド可能な状態で支持されている。
【００３８】
ベース部材３７０は、その底部がテーパ加工されており、ガイド部材３７２は、ベース部材３７０の底部にフィットする形状の溝部を有している。ベース部材３７０がガイド部材３７２の溝部に沿って往復直線移動することにより、上側スプレイ配管ユニット３６２および下側スプレイ配管ユニット３６４がガラス基板１００の搬送方向に直交する幅方向において往復直線移動をすることになる。
【００３９】
ベース部材３７０およびガイド部材３７２は常時互いに擦れ合うため、耐酸性を備え、かつ、摺動特性や耐摩耗性が高い素材を用いることが好ましい。この実施形態では、ベース部材３７０にポリテトラフルオロエチレン、ガイド部材３７２に超高分子量ポリエチレン樹脂（Ｕ−ＰＥ）を採用しているが、素材についてはこれらに限定されるものではない。例えば、フレーム部材、吐出ノズル、および配管に採用されている複合透明樹脂材料を用いることも可能である。
【００４０】
上側ホースユニット３６６は、可撓性を備えた耐酸性ホースの束で構成されており、上側スプレイ配管ユニット３６２と送液ユニット４４とを接続するように構成される。下側ホースユニット３６７は、可撓性を備えた耐酸性ホースの束で構成されており、下側スプレイ配管ユニット３６４と送液ユニット４４とを接続するように構成される（図７参照。）。ガイドシャフト５８は、駆動ユニット５０からの駆動力を上側スプレイ配管ユニット３６２および下側スプレイ配管ユニット３６４に伝達するように構成される。
【００４１】
図４に示すように、駆動ユニット５０は、上側スプレイ配管ユニット３６２および下側スプレイ配管ユニット３６４に対してガイドシャフト５６を介して駆動力を伝達するように構成される。ガイドシャフト５８は、エッチングチャンバ３６の側壁を貫通することになるため、水密性および気密性を保つためシール軸受５８等のシール機構が用いられる。シール軸受５８は、ガイドシャフト５６をスライド自在に支持するように構成される。ガイドシャフト５６の一端は上側スプレイ配管ユニット３６２または下側スプレイ配管ユニット３６４に接続されている。ガイドシャフト５６の他端は、ＬＭガイド（Linear Motion Guide）６４にスライド自在に支持された可動フレーム６０に接続されている。
【００４２】
駆動ユニット５０は、駆動源としてのモータやその駆動回路等を有するモータユニット５２を備えている。モータユニット５２には回転シャフト５４が接続される。回転シャフト５４の両端部には回転円板７０が取り付けられている。
【００４３】
図５（Ａ）に示すように、回転円板７０には、カムフォロア７２が取り付けられている。一方で、可動フレーム６０には、カムフォロア７２がフィットするサイズの溝が形成されたガイド部材６２が取り付けられている。図５（Ａ）においては、説明の便宜上、回転円板７０のカムフォロア７２と可動フレームのガイド部材６２とが分離した状態を示しているが、実際の使用時においてはカムフォロア７２がガイド部材６２にスライド自在な状態で嵌っている。
【００４４】
モータユニット５２の駆動力により回転シャフト５４が回転すると、回転円板７０の回転力が可動フレーム６０を往復移動させるための駆動力として可動フレーム６０に伝達する。可動フレーム６０に伝達した駆動力は、ガイドシャフト５６を介して上側スプレイ配管ユニット３６２および下側スプレイ配管ユニット３６４に伝達する。
【００４５】
上述した駆動ユニット５０の構成は一例であり、これに限定されるものではない。例えば、図５（Ｂ）に示すように、回転円板７０に代えて、所望の長径と短径との差を有するカム板７４を用いることの可能である。この場合は、可動フレーム６０に所定の方向に常に力を加え（弾性部材や磁性部材等による付勢力）、この力に抗してカム板７４が可動フレーム６０を押圧するような構成を採用すると良い。その他にも適宜最適なカム機構を選択することも可能である。
【００４６】
上側ホースユニット３６６は、送液ユニット４４からのエッチング液を上側スプレイ配管ユニット３６２に供給するように構成される。下側ホースユニット３６７は、送液ユニット４４からのエッチング液を下側スプレイ配管ユニット３６４に供給するように構成される。上側ホースユニット３６６および下側ホースユニット３６７は、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）等の耐酸性部材からなる。
【００４７】
上側ホースユニット３６６および下側ホースユニット３６７として、上記複合透明樹脂材料を用いることも可能であり、またこれ以外の耐酸可撓性素材を用いても良い。上側ホースユニット３６６および下側ホースユニット３６７は、上側スプレイ配管ユニット３６２および下側スプレイ配管ユニット３６４のスライド動作によって送液ユニット４４と上側スプレイ配管ユニット３６２および下側スプレイ配管ユニット３６４との距離が変化した場合であっても、この変化を吸収できるように十分な撓みを有するように必要量よりも十分長めに設計されている（図６および図７を参照。）。
【００４８】
この実施形態では、上側ホースユニット３６６は送液ユニット４４の下部と上側スプレイ配管ユニット３６２を接続する一方で、下側ホースユニット３６７は送液ユニット４４の上部と下側スプレイ配管ユニット３６４を接続するように構成している。その理由は、上側ホースユニット３６６と下側ホースユニット３６７との長さを長くすることができ、上側スプレイ配管ユニット３６２および下側スプレイ配管ユニット３６４が往復スライド移動する場合に、上側ホースユニット３６６と下側ホースユニット３６７が撓みやすくなるからである。
【００４９】
この結果、比較的硬めのフッ素系樹脂を用いる場合であっても上側ホースユニット３６６および下側ホースユニット３６７が本来の機能を発揮し易くなる。また、上側ホースユニット３６６と下側ホースユニット３６７との長さ（特に、上側スプレイ配管ユニット３６２および下側スプレイ配管ユニット３６４の外側に位置する部分の長さ）を長くすることが可能になる。そして、上側ホースユニット３６６と下側ホースユニット３６７がエッチング液のスプレイ領域に垂れ下がることを確実に防止できるようになる。
【００５０】
上述のエッチング装置１２において、オペレータまたはロボット等によってガラス基板１００が導入部３２にローディングされる。ガラス基板１００は、適度な間隔を設けて順次的に導入部３２にローディングされる。ガラス基板１００は、導入部３２からスリット状の開口部を通過して前処理チャンバ３４に導入され、ここで全面が洗浄水によって洗浄される。続いて、ガラス基板１００は、前処理チャンバ３４からスリット状の開口部を通過してエッチングチャンバ３６へと導入される。
【００５１】
エッチングチャンバ３６において、上側スプレイ配管ユニット３６２および下側スプレイ配管ユニット３６４からガラス基板１００の上面および下面にそれぞれエッチング液がスプレイされる。このエッチング処理時において、図７（Ａ）および図７（Ｂ）に示すように、上側スプレイ配管ユニット３６２および下側スプレイ配管ユニット３６４は幅方向に往復移動を繰り返すため、エッチング液のスプレイ角度が随時変化することになる。この結果、ガラス基板１００の上面においてスプレイされたエッチング液の滞留が発生しにくくなる。
【００５２】
ガラス基板１００は、複数のエッチングチャンバ３６を順次通過しながら薄型化される。そして、最下流に配置されたエッチングチャンバ３６を通過した後に、エアナイフ等によって液切りがされた上で洗浄チャンバ３８に導入される。ガラス基板１００は、洗浄チャンバ３８において洗浄水によって洗浄される。その後エアナイフ等によって脱水処理がされてから排出部４０に排出される。排出部４０に排出されたガラス基板１００は、オペレータまたはロボットによって回収されて後段の工程に移行される。
【００５３】
上述のような手順で、エッチング装置１２は大量（例えば、５００枚／日以上）のガラス基板１００に対してスプレイエッチング処理を行うことができる。この実施形態では、ガラス基板１００の薄型化の例を説明しているが、所望のパターニングを有する耐エッチング性のマスキング剤を併用することで、ガラス基板１００の切断処理や端面平滑化処理等を行うことも可能である。
【００５４】
ガラス基板１００に噴射されガラス基板と接触したエッチング液は、エッチングチャンバ３６の底部に流れ落ちてエッチング液槽３０に回収される。この回収されたエッチング液にはガラス基板１００から溶解したケイ素系化合物やアルミ系の化合物が含まれる。
【００５５】
このため、エッチングシステム１０は、エッチング液槽３０のエッチング液を外部に取り出すとともに、濾過してエッチング液槽３０に返送するように構成された循環ライン１４を備えている。そして、エッチングシステム１０では、随時、エッチング液槽３０から循環ライン１４を介して濾過装置１６にエッチング液を送り出し、濾過されたエッチング液をエッチング液槽３０に戻している。このようにエッチング液の一部を循環ろ過する事でエッチング液槽３０内の液のＳＳ濃度の上昇を緩やかにし、エッチング液の品質を延命している。
【００５６】
濾過装置１６においては、ガラス基板１００から溶出し、エッチング液中にて析出した金属塩等を回収し、エッチング液の清浄化を図っている。ただし、エッチング装置１２においてガラス基板１００の処理枚数が増加すればするほど、各エッチングチャンバ３６にて循環利用しているエッチング液、すなわち各エッチング液槽３０内のエッチング液中のＳＳ濃度が増加する。このＳＳ濃度が所定のしきい値よりも高くなると、エッチング装置１２内の汚損やノズル詰まり等の不具合が発生する。このため、ガラス基板１００の処理枚数が所定枚数（例えば、５０００枚〜５００００枚程度）に到達したタイミングで、エッチング液槽３０内のエッチング液を新液に置き換える液交換作業を行う必要が生じる。
【００５７】
そして、液交換作業の際には、エッチング液槽３０、送液ユニット４４、上側スプレイ配管ユニット３６２、下側スプレイ配管ユニット３６４、上側ホースユニット３６６、および下側ホースユニット３６７等の各部に付着したスラッジ等を洗い流すために、エッチング装置１２内のエッチング液をすべて排出し、その後、洗浄液を導入して各部を洗浄することが好ましい。
【００５８】
そこで、ガラスエッチングシステム１０においては、エッチング液槽３０のエッチング液が定期的に廃液槽２２に排出される。このとき、エッチング液の全量を廃液槽２２に排出するのではなく、その一部を濾過装置１６の原水槽１２に導入して貯めている。
【００５９】
図８は、エッチングシステム１０の制御系を司る各部の概略を示したブロック図である。同図に示すように、エッチング装置１２は、搬送系コントローラ１２２、電源部１２４、操作部１２５、送液系コントローラ１２６、エッチング液コントローラ１２８、およびこれらの動作を統括的に制御する制御部１２０を備えている。
【００６０】
一方、濾過装置１６は、電源部１６１、濾過系コントローラ１６３、操作部１６５、送液系コントローラ１６７、およびこれらの動作を統括的に制御する制御部１６０を備えている。
【００６１】
ガラスエッチングシステム１０において、ＳＳ濃度がしきい値を上回り、エッチング液として不適切となったライフエンド液（スラッジ含有液）は、送液系コントローラ１２６が自動開閉弁およびポンプ等を駆動させることにより、廃液槽２２に送られる。ただし、送液系コントローラ１２６は、ライフエンド液の全部を廃液槽２２に送るのではなく、一部は濾過装置１６側の原水槽１２に送るようにしている。
【００６２】
原水槽１２に送るライフエンド液の液量は、エッチング液全体の５〜３５％程度が好ましい。その理由は、ライフエンド液の比率が少なすぎると突起不良抑制効果が弱くなる一方で、ライフエンド液の比率が多すぎると、エッチング処理開始時のＳＳ濃度が比較的高くなり、エッチング液のＳＳ濃度がすぐにしきい値を上回ってしまうからである。
【００６３】
このライフエンド液は、エッチング装置１２の各部の洗浄が完了し、新しいエッチング液がエッチング液槽３０に導入された後に、バイパス配管１６８を経由させてエッチング装置１２に返送される。ライフエンド液の返送タイミングは、操作部１２５に対するユーザの操作に基づいて決定しても良いし、新液タンク１８からの新液導入が完了したことを制御部１２０が把握した後に自動的に行うようにしても良い。
【００６４】
濾過装置１６の原水槽１２からバイパス配管１６８を経由してライフエンド液をエッチング装置１２に送った後、しばらくの間は、エッチング液全体をバイパス配管１６８経由で循環ライン１４上を循環させつつ、エッチング液全体にライフエンド液が混ざるようにするのである。この間、濾過装置１６の制御部１６０では、濾過ユニット１６４を停止させ、バイパス配管１６８にエッチング液が送られるように電磁弁やポンプの動作を統括的に制御する。
【００６５】
このようにエッチング液全体をバイパス配管１６８経由で循環ライン１４上を循環させる時間は、例えば、３０分〜１２０分程度に適宜設定するか、エッチング液全体のＳＳ濃度均質化の検出結果に基づいて設定すると良い。また、新液導入後は、ガラス基板１００のエッチング処理が再開してからもしばらくは、濾過装置１６における濾過運転を行わないように設定しても良い。
【００６６】
上述のようにエッチング液の交換時に、新液とライフエンド液とを適宜混合することによって、エッチング液中の溶存元素が急激に変化することが防止される。例えば、エッチング液に溶けている金属イオンが過飽和状態になって析出する場合に、エッチング液中の溶存元素を核として析出しスラッジの粒子径を成長させていく現象が見られるが、従来、液交換したばかりの新液には溶存元素がほとんど存在しないため、金属イオン塩がガラス基板１００の表面に析出して突起等の不良が発生することがあった。
【００６７】
本実施形態においては、新液とライフエンド液とを適宜混合することによって、金属イオン塩がガラス基板１００の表面に析出することを抑制しているのである。特に、ライフエンド液中には、スラッジの核として好適な性質（金属イオン塩の析出を誘発させ易い性質）の溶存元素が存在するため、他の物質を核として金属イオン塩の析出を誘発させる場合に比較しても、より良好な結果が得られるのである。
【００６８】
この実施形態では、スプレイ式のエッチング装置１２における液交換時について説明したが、本発明はエッチングシステム１０において浸漬式のエッチング装置が採用される場合であっても実施可能である。要するに、エッチング液中に溶存可能な金属イオン量には上限があり、過飽和になると析出してしまうので、ガラス基板１０ではなくて、ライフエンド液に含まれる溶存元素を核にして析出させるというメカニズムであるため、液交換が必要なエッチング装置であれば、その形式を問わず本発明を適用することが可能である。
【００６９】
上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００７０】
１０−エッチングシステム
１２−エッチング装置
１４−循環ライン
１６−濾過装置
１８−新液タンク
２０−水供給部
２２−廃液槽
２４−廃水槽
１２０−制御部
１６０−制御部
１６２−原水槽
１６４−濾過ユニット
１６６−濾液槽
１６８−バイパス配管
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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