(57)【要約】【課題】本発明の目的は、環境に配慮した撥水加工剤であって撥水性に優れる撥水加工剤および加工製品を提供することにある。【解決手段】本発明は、疎水基を有するシクロデキストリンを含むことを特徴とする撥水加工剤である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
疎水基を有するシクロデキストリンを含むことを特徴とする撥水加工剤。
【請求項２】
疎水基が、アルキルシリル基である請求項１に記載の撥水加工剤。
【請求項３】
疎水基が、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基またはトリイソプロピルシリル基である請求項１に記載の撥水加工剤。
【請求項４】
ＳＰ値が５〜２５の範囲内にある溶媒をさらに含む請求項１〜３のいずれか一項に記載の撥水加工剤。
【請求項５】
トリアジン環含有化合物、イソシアネート系化合物、静電気防止剤および消泡剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の添加剤をさらに含む請求項１〜４のいずれか一項に記載の撥水加工剤。
【請求項６】
基材表面が、疎水基を有するシクロデキストリンで被覆された加工製品。
【請求項７】
疎水基が、アルキルシリル基である請求項６に記載の加工製品。
【請求項８】
疎水基が、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基またはトリイソプロピルシリル基である請求項６に記載の加工製品。
【請求項９】
基材表面の被覆が、トリアジン環含有化合物、イソシアネート系化合物、静電気防止剤および消泡剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の添加剤を含む請求項６〜８のいずれか一項に記載の加工製品。
【請求項１０】
基材は、繊維又は不織布である請求項６〜９のいずれか一項に記載の加工製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、環境に配慮した撥水加工剤であって撥水性に優れる撥水加工剤および加工製品に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、撥水加工剤としては、フッ素系撥水加工剤が知られている（例えば、特許文献１、特許文献２）。一方、近年では、環境に配慮して非フッ素系撥水加工剤が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開昭６１−２８２４７３号公報
【特許文献２】特開２０１２−１２２１４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記の背景に鑑みなされたものであり、その目的は、環境に配慮した撥水加工剤であって撥水性に優れる撥水加工剤および加工製品を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは上記の課題を達成するため鋭意検討した結果、疎水基を有するシクロデキストリンに撥水効果があることを見出し、さらに鋭意検討を重ねることにより本発明を完成するに至った。
【０００６】
かくして、本発明によれば、疎水基を有するシクロデキストリンを含むことを特徴とする撥水加工剤が提供される。その際、疎水基が、アルキルシリル基であることが好ましい。また疎水基が、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基またはトリイソプロピルシリル基であることがより好ましい。撥水加工剤は、ＳＰ値が５〜２５の範囲内にある溶媒を含むことが好ましい。撥水加工剤は、トリアジン環含有化合物、イソシアネート系化合物、静電気防止剤および消泡剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の添加剤を含むことが好ましい。
【０００７】
また本発明によれば、基材表面が、疎水基を有するシクロデキストリンで被覆された加工製品が提供される。その際、疎水基が、アルキルシリル基であることが好ましい。また疎水基が、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基またはトリイソプロピルシリル基であることがより好ましい。基材表面の被覆が、トリアジン環含有化合物、イソシアネート系化合物、静電気防止剤および消泡剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の添加剤を含むことが好ましい。基材は、例えば繊維、紙、木またはプラスチックであることが好ましい。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の撥水加工剤および加工製品は、撥水性に優れ、環境への負荷も少ない。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施例３の加工製品の顕微鏡写真である。
【図２】実施例４の加工製品の顕微鏡写真である。
【図３】実施例５の加工製品の顕微鏡写真である。
【図４】実施例６の加工製品の顕微鏡写真である。
【図５】実施例７の加工製品の顕微鏡写真である。
【図６】実施例８の加工製品の顕微鏡写真である。
【図７】実施例９の加工製品の顕微鏡写真である。
【図８】実施例１０の加工製品の顕微鏡写真である。
【図９】実施例１１の加工製品の顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００１１】
＜撥水加工剤＞
本発明の撥水加工剤は、疎水基を有するシクロデキストリンを含む。
【００１２】
（シクロデキストリン）
シクロデキストリン（ＣＤ）は、数分子のグルコースが、α−１，４−グリコシド結合によって結合し環状構造をとった環状オリゴ糖の一種である。グルコースが６個結合しているものがα−シクロデキストリン（α−ＣＤ）、７個結合しているものが下記式（Ａ）で表されるβ−シクロデキストリン（β−ＣＤ）、８個結合しているものがγ−シクロデキストリン（γ−ＣＤ）である。
【００１３】
【化１】
2020083914.tif 000002
【００１４】
いずれのα−、β−、γ−ＣＤの疎水修飾体でも高い撥水性能を材料表面に付与できるが、原料の未修飾体の中でも最も水溶性が低いβ−ＣＤが最も望ましい。
【００１５】
（疎水基）
疎水基として、アルキルシリル基、長鎖アルコキシ基、アルコキシシリル基、コレステロイル基等が挙げられる。
なかでも、アルキルシリル基が好ましい。アルキルシリル基のアルキルの炭素原子数は、少なくとも５個あった方がよく、より多い方が好ましい。加えて、水滴と疎水基の接触面積を広げるために、より嵩高いアルキル基を含むものが好ましい。
アルキルシリル基として、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ジメチルプロピルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジメチルベンジルシリル基、ジメチルシクロヘキシルシリル基等が挙げられる。なかでも、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基またはトリイソプロピルシリル基が好ましい。
【００１６】
シクロデキストリンへのアルキルシリル基等の疎水基の付与は、例えば以下の方法によって行うことができる。
シクロデキストリンを脱水ピリジン等の溶媒に溶解し、窒素雰囲気下０〜５℃に冷却する。次いで脱水ピリジンに溶解したアルキルシリルクロライドをゆっくりと滴下する。仕込み比は、例えばβ−シクロデキストリン：アルキルシリルクロライド＝１：１０〜１２であることが好ましい。また、γ−シクロデキストリン：アルキルシリルクロライド＝１：１２〜１５が好ましい。
【００１７】
滴下終了後０〜５℃で１時間反応させ、その後、室温下で２４時間反応させる。この時、反応温度は１０〜３０℃とすることにより、確実に一級水酸基のすべてにアルキルシリル基を導入できる。４０℃をこえると、部分的に二級水酸基にアルキルシリル基が導入されることがあるが、４０℃以下、特に３０℃以下であれば確実に一級水酸基のみすべてにアルキルシリル基が導入できる。また、反応温度が１０℃以下、特に０℃以下であると、一級水酸基すべてにアルキルシリル基を導入するのに時間がかかりすぎるか、一部導入されないものができる、といった問題点が見られる。
滴下終了後、室温で一晩撹拌し、反応溶液を氷水に注ぎ、析出した沈殿物をろ取し、エーテルに溶解させてから、飽和食塩水で２回抽出する。エーテル溶液をＭｇＳＯ４で乾燥させ、エーテル溶液をメタノールで洗浄し、減圧乾燥して、アルキルシリル基を有するシクロデキストリンを得ることができる。
疎水基を有するシクロデキストリンの、非極性溶媒への溶解度は、１０ｗ／ｖ％程度で十分である。このような非極性溶媒としては、例えばクロロホルム・ジクロロメタン・トルエンなどが挙げられる。
【００１８】
（溶媒）
本発明の撥水加工剤は、疎水基を有するシクロデキストリンとともに、ＳＰ値が５〜２５の範囲内にある溶媒を含むことが好ましい。溶媒のＳＰ値は、８〜１０ｃａｌ１／２ｃｍ−３／２が好ましく、これより値が大きくても小さくても疎水化シクロデキストリンの溶解性は大きく低下する。
ＳＰ値とは、溶解度パラメーターであり、Ｆｅｄｏｒｓの方法により求められるＳＰ値を用いた（ＳＰ値基礎・応用と計算、２００５年３月３１日  第１版、発行者  谷口彰敏、発行  株式会社情報機構、６６〜６７頁参照）。
撥水加工剤中の溶媒の含有量は、疎水基を有するシクロデキストリン１００重量部に対して、好ましくは１〜４０重量部、より好ましくは１〜１０重量部、さらに好ましくは１〜３重量部である。濃すぎると粘度が高くなりすぎコーティングに不向きになり、薄すぎるとコーティングされる量が少なくなり好ましくない。
【００１９】
（添加剤）
本発明の撥水加工剤は、トリアジン環含有化合物、イソシアネート系化合物、静電気防止剤および消泡剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の添加剤を含むことが好ましい。
本発明の撥水加工剤は架橋剤としてトリアジン環含有化合物、イソシアネート系化合物、尿素系化合物、エポキシ系化合物を含むことが好ましい
トリアジン環含有化合物としては、例えばアルコキシメチルメラミン等が挙げられる。トリアジン環含有化合物の含有量は、溶媒１００重量部に対して、０．２〜２．０重量部であることが好ましい。
イソシアネート系化合物としては、例えば、ブロックイソシアネート、非ブロックタイプ水分散性イソシアネート等のイソシアネート化合物等が挙げられる。イソシアネート系化合物の含有量は、溶媒１００重量部に対して、０．２〜２．０重量部であることが好ましい。
【００２０】
尿素系化合物としては、例えば、メチロール尿素、アルコキシメチル尿素、尿素グリオキザール付加物等が挙げられる。市販品として、ベッカミンＭ−３、ＰＭ（ＤＩＣ製）、３８０−Ｋ（ユニオン化成製）、イソシアネート化合物系ではメイカネートＷＥＢ（明成化学製）、バーノックＤＮＷ−５０００（ＤＩＣ製）等が挙げられる。尿素系化合物の含有量は、溶媒１００重量部に対して０．２〜２．０重量部であることが好ましい。
エポキシ系化合物としては、例えば、ポリグリシジル化合物等が挙げられる。市販品として、デナコールＥＸ−３１３（ナガセ化成製）、エポライト４０−Ｅ（共栄社化学製）等が挙げられる。エポキシ系化合物の含有量は、溶媒１００重量部に対して、０．２〜２．０重量部であることが好ましい
【００２１】
本発明の撥水加工剤は、さらに、従来、慣用されている静電気防止剤、消泡剤を含むことが好ましい。消泡剤として、アデカネートＢ（旭電化製）、ノプコＮＸＺ（ノプコ製）、ＦＳアンチフオーム（ダウコーニング社製）等が挙げられる。また消泡剤として、エタノール、プロパノール、セロソルブ類等の低沸点アルコール類等が挙げられる。静電気防止剤および消泡剤の含有量は、それぞれ、溶媒１００重量部に対して、０．２〜２．０重量部であることが好ましい。
本発明の撥水加工剤は、前記の構成を有するので、環境に配慮した撥水加工剤であって撥水性に優れる
【００２２】
＜加工製品＞
本発明の加工製品は、基材表面が、前述の疎水基を有するシクロデキストリンで被覆されている。
【００２３】
（基材）
基材は、繊維、または不織布であることが好ましい。
なかでも基材として、ポリエステル繊維を含む布帛が特に好ましい。ここで、ポリエステル繊維はジカルボン酸成分とジグリコール成分とから製造される。ジカルボン酸成分としては、主としてテレフタル酸が用いられることが好ましく、グリコール成分としては主としてエチレングリコール、トリメチレングリコール及びテトラメチレングリコールから選ばれた１種以上のアルキレングリコールを用いることが好ましい。
また、ポリエステル樹脂には、ジカルボン酸成分及びグリコール成分の他に第３成分を含んでいてもよい。第３成分としては、カチオン染料可染性アニオン成分、例えば、ナトリウムスルホイソフタル酸等が挙げられる。また第３成分として、テレフタル酸以外のジカルボン酸、例えばイソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸等が挙げられる。また第３成分として、アルキレングリコール以外のグリコール化合物、例えばジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールスルフォンの等が挙げられる。
【００２４】
かかるポリエステルとしては、マテリアルリサイクルまたはケミカルリサイクルされたポリエステルや、バイオマスすなわち生物由来の物質を原材料として得られたモノマー成分を使用してなるポリエチレンテレフタレート、ポリ乳酸、ステレオコンプレックスポリ乳酸であってもよい。さらには、特開２００４−２７００９７号公報や特開２００４−２１１２６８号公報に記載されているような、特定のリン化合物およびチタン化合物を含む触媒を用いて得られたポリエステルでもよい。
ポリエステル繊維の形状としては、短繊維でもよいし長繊維（マルチフィラメント）でもよいが、吸水性を向上させるため長繊維であることが好ましい。さらには、通常の仮撚捲縮加工が施された仮撚捲縮加工糸や２種以上の構成糸条を空気混繊加工や複合仮撚加工させた複合糸であってもよい。その際、マルチフィラメントの単繊維繊度、総繊度、単糸数は、単繊維繊度０．１〜１０．０ｄｔｅｘ、総繊度２０〜３００ｄｔｅｘ（より好ましくは２０〜５０ｄｔｅｘ）、単糸数１０〜２００本（より好ましくは１１０〜２００本）の範囲であることが好ましい。特に、優れた撥水性を得る上で単糸繊維繊度が２．０ｄｔｅｘ以下（より好ましくは０．０００１〜０．５ｄｔｅｘ）であることが特に好ましい。
また、前記ポリエステル繊維において、単糸繊維の断面形状には制限はなく、通常の円形断面のほかに三角、扁平、特開２００４−５２１６７号公報に記載のくびれ付扁平、十字形、六様形、あるいは中空形などの異型断面形状であってもよい。
【００２５】
ポリエステル繊維を含む布帛において、布帛の組織としては、例えば、よこ編組織としては、平編、ゴム編、両面編、パール編、タック編、浮き編、片畔編、レース編、添え毛編等が例示される。たて編組織としては、シングルデンビー編、シングルアトラス編、ダブルコード編、ハーフ編、ハーフベース編、サテン編、ハーフトリコット編、裏毛編、ジャガード編等などが例示される。織物組織としては、平織、綾織、朱子織等の三原組織、変化組織、たて二重織、よこ二重織等の片二重組織、たてビロードなどが例示される。層数も単層でもよいし、２層以上の多層でもよい。なお、これらの織物や編物は常法により製造することができる。
また布帛には、通常の染色加工、減量加工、起毛加工、カレンダー加工、エンボス加工、蓄熱加工、吸汗加工、マイナスイオン加工などを適宜施してもよい。
布帛は、耐久性よく撥水性や撥油性に優れるので、シャツ、ユニフォーム、食品工場用白衣ユニフォーム、オフィスユニフォーム、化粧品販売員用ユニフォーム、アパレル衣料、スポーツ衣料、紳士衣料、婦人衣料、学生服などの衣料や、カーテン、枕カバー、カーシートなどとして好適に使用される。
不織布として湿式不織布、乾式不織布、スパンボンド不織布、メルトブローン不織布等が挙げられる
【００２６】
（被覆）
疎水基を有するシクロデキストリンの被覆量は、基材１００重量部に対して、好ましくは１〜４０重量部、より好ましくは１〜１０重量部、さらに好ましくは１〜３重量部である。
基材表面の被覆が、トリアジン環含有化合物、イソシアネート系化合物、静電気防止剤および消泡剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の添加剤を含むことが好ましい。
被覆は、塗布、スプレー、含浸などの方法で撥水加工剤を基材に付与することで行うことができる。撥水加工剤には、必要に応じて架橋剤、静電気防止剤等の各種補助薬剤を配合することができる。
含浸する方法では、含浸後、マングルロールによるウエットピックアップ絞り、熱乾燥、キュアリングのための熱セットをすることが好ましい。
その際、より好ましくはマングルロールによる絞りがウエットピックアップ５０〜８０％であることが好ましい。熱乾燥は、溶媒が揮散する温度１２０〜１４０℃での熱風乾燥で行うことが好ましい。キュアリングのための熱セットは、温度１７０〜２００℃での熱風セットであることが好ましい。
またスパッタリングにより、基材に撥水加工剤を被覆することもできる。
【実施例】
【００２７】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるものではない。
【００２８】
１．実施例中の各物性は下記の方法により測定したものである。
（１）撥水性能評価
撥水加工を施した加工製品の撥水性能評価はｅｒｍａの接触角測定器を用いて行った。
２．実施例で使用したジクロロメタンのＳＰ値はＦｅｄｏｒｓの方法により求められるＳＰ値を用いた（ＳＰ値基礎・応用と計算、２００５年３月３１日  第１版、発行者  谷口彰敏、発行  株式会社情報機構、６６〜６７頁参照）。
【００２９】
［実施例１］（撥水加工剤）
β−シクロデキストリンを脱水ピリジンに溶解し、窒素雰囲気下０〜５℃に冷却した。次いで、脱水ピリジンに溶解したｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロライド（疎水化修飾剤）をゆっくりと滴下した。滴下終了後０〜５℃で１時間、室温下で２４時間反応させた。
反応終了後、室温で一晩撹拌し、反応用液を氷水に注ぎ、析出した沈殿をろ取し、エーテルに溶解させてから、飽和食塩水で２回抽出した。エーテル溶液をＭｇＳＯ４で乾燥させた後、得られたエーテル溶液をメタノールで洗浄し、減圧乾燥して、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基により疎水化修飾されたβ−シクロデキストリン（ＴＢＤＭＳ−β−ＣＤ）を得た。
ＴＢＤＭＳ−β−ＣＤは、ジクロロメタンに、常温で、３２．５ｗ／ｖ％まで溶解した。３．４重量部のＴＢＤＭＳ−β−ＣＤを１３３重量部のジクロロメタンに溶解させ（２．５重量％）撥水加工剤を得た。
【００３０】
［実施例２］（撥水加工剤）
疎水化修飾剤としてトリイソプロピルシリルクロライドを用いた以外は、実施例１と同じ操作を行い、トリイソプロピルシリル基により疎水化修飾されたβ−シクロデキストリン（ＴＩＰＳ−β−ＣＤ）を得た。
１８重量部のＴＩＰＳ−β−ＣＤを７００重量部のジクロロメタンに溶解させ２．５重量％の撥水加工剤を得た。
【００３１】
［実施例３］（加工製品）
基材として、市販ペーパー（サンエース製、リサイクルＰＰＣ用紙、Ｒ１００） を用いた。撥水加工剤は、実施例１で得られた撥水加工剤（ＴＢＤＭＳ−β−ＣＤ／ＣＨ２Ｃｌ２（２．５重量％）溶液）を用いた。
基材を撥水加工剤に５秒浸漬した後、取り出し自然乾燥させ、基材に撥水加工剤を被覆し加工製品を得た。被覆量は、基材１００重量部に対し３重量部であった。得られた加工製品の水に対する接触角は１０９°であった。被覆前後の顕微鏡写真を図１に示す。
【００３２】
［実施例４］（加工製品）
基材として、ティッシュ（ティッシュペーパー（王子ネピア株式会社））を用いた 。撥水加工剤は、実施例１で得られた撥水加工剤（ＴＢＤＭＳ−β−ＣＤ／ＣＨ２Ｃｌ２（２．５重量％）溶液）を用いた。
基材を撥水加工剤に５秒浸漬した後、取り出し自然乾燥させ、基材に撥水加工剤を被覆し加工製品を得た。被覆量は、基材１００重量部に対し１２重量部であった。得られた加工製品の水に対する接触角は１１３°であった。被覆前後の顕微鏡写真を図２に示す。
【００３３】
［実施例５］（加工製品）
基材として、インクジェット不織布（中川製作所）を用いた。撥水加工剤は、実施例１で得られた撥水加工剤（ＴＢＤＭＳ−β−ＣＤ／ＣＨ２Ｃｌ２（２．５重量％）溶液）を用いた。
基材を撥水加工剤に５秒浸漬した後、取り出し自然乾燥させ、基材に撥水加工剤を被覆し加工製品を得た。被覆量は、基材１００重量部に対し７重量部であった。得られた加工製品の水に対する接触角は１４５°であった。被覆前後の顕微鏡写真を図３に示す。
【００３４】
［実施例６］（加工製品）
基材として、キュプラ（旭化成製ＢＥＭＣＯＴ、ＰＳ−ＩＩ）を用いた。撥水加工剤は、実施例１で得られた撥水加工剤（ＴＢＤＭＳ−β−ＣＤ／ＣＨ２Ｃｌ２（２．５重量％）溶液）を用いた。
基材を撥水加工剤に５秒浸漬した後、取り出し自然乾燥させ、基材に撥水加工剤を被覆し加工製品を得た。被覆量は、基材１００重量部に対し４重量部であった。得られた加工製品の水に対する接触角は１２５°であった。被覆前後の顕微鏡写真を図４に示す。
【００３５】
［実施例７］（加工製品）
基材として、キュプラ（旭化成製ＢＥＭＣＯＴ、ＰＳ−ＩＩ）を用いた。撥水加工剤は、実施例１で得られた撥水加工剤（ＴＢＤＭＳ−β−ＣＤ／ＣＨ２Ｃｌ２（２．５重量％）溶液）を用いた。
基材に、撥水加工剤を電圧２５ｋＶ、電極間距離１０ｃｍ、溶液供給速度３．５ｍＬ／時間で１０分間スパッタリングし、基材に撥水加工剤を被覆し加工製品を得た。被覆量は、基材１００重量部に対し３６重量部であった。得られた加工製品の水に対する接触角は１５６°であった。被覆前後の顕微鏡写真を図５に示す。
【００３６】
［実施例８］（加工製品）
基材として、ティシュ（ティッシュペーパー（王子ネピア株式会社））を用いた。撥水加工剤は、実施例１で得られた撥水加工剤（ＴＢＤＭＳ−β−ＣＤ／ＣＨ２Ｃｌ２（２．５重量％）溶液）を用いた。
基材に、撥水加工剤を電圧２５ｋＶ、電極間距離１０ｃｍ、溶液供給速度３．５ｍＬ／時間で１０分間スパッタリングし、基材に撥水加工剤を被覆し加工製品を得た。被覆量は、基材１００重量部に対し２９重量部であった。得られた加工製品の水に対する接触角は１５３°であった。被覆前後の顕微鏡写真を図６に示す。
【００３７】
［実施例９］（加工製品）
基材として、ポリエステル仮撚加工糸４４ｄｔｅｘ／３６ｆｉｌを用いて２８Ｇのシングル編機を用いて編成した天竺組織の布帛を用いた。撥水加工剤は、実施例１で得られた撥水加工剤（ＴＢＤＭＳ−β−ＣＤ／ＣＨ２Ｃｌ２（２．５重量％）溶液）を用いた。
基材を撥水加工剤に５秒浸漬した後、取り出し自然乾燥させ、布帛に撥水加工剤を被覆し加工製品を得た。被覆量は、基材１００重量部に対し１６重量部であった。得られた加工製品の水に対する接触角は１５５°であった。被覆前後の顕微鏡写真を図７に示す。
【００３８】
［実施例１０］（加工製品）
基材として、ポリエステル仮撚加工糸４４ｄｔｅｘ／３６ｆｉｌを用いて２８Ｇのシングル編機を用いて編成した天竺組織の布帛を用いた。撥水加工剤は、実施例２で得られた撥水加工剤（ＴＩＰＳ−β−ＣＤ／ＣＨ２Ｃｌ２（１重量％）溶液を用いた。
基材を撥水加工剤に５秒浸漬した後、取り出し自然乾燥させ、布帛に撥水加工剤を被覆し加工製品を得た。被覆量は、基材１００重量部に対し４重量部であった。得られた加工製品の水に対する接触角は１５５°であった。被覆前後の顕微鏡写真を図８に示す。
【００３９】
［実施例１１］（加工製品）
基材として、ポリエステル仮撚加工糸４４ｄｔｅｘ／３６ｆｉｌを用いて２８Ｇのシングル編機を用いて編成した天竺組織の布帛を用いた。撥水加工剤は、実施例２で得られた撥水加工剤（ＴＩＰＳ−β−ＣＤ／ＣＨ２Ｃｌ２（０．５重量％）溶液を用いた。
基材を撥水加工剤に５秒浸漬した後、取り出し自然乾燥させ、布帛に撥水加工剤を被覆し加工製品を得た。被覆量は、基材１００重量部に対し１重量部であった。得られた加工製品の水に対する接触角は１５１°であった。被覆前後の顕微鏡写真を図９に示す。
【００４０】
［比較例１］
β−シクロデキストリン（東京化成工業社製）を純水に２．５％溶解させた後、ポリエステル仮撚加工糸４４ｄｔｅｘ／３６ｆｉｌを用いて２８Ｇのシングル編機を用いて編成した天竺組織の布帛を浸漬して取り出し自然乾燥させた。被覆量は、基材１００重量部に対し５．４重量部であった。その後、水に対する接触角評価を実施したところ、接触角は初期的に１００°を超えたものの、数十秒後には水滴が染み込み、計測不能（０°）となった。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明によれば、環境に配慮した撥水加工剤であって撥水性に優れる撥水加工剤および加工製品が提供され、その工業的価値は極めて大である。
【符号の説明】
【００４２】
Ａ  撥水加工前の基材表面
Ｂ  撥水加工後の基材表面
Ｃ  撥水加工後の基材表面の接触角の写真
【図１】
2020083914.tif 000003
【図２】
2020083914.tif 000004
【図３】
2020083914.tif 000005
【図４】
2020083914.tif 000006
【図５】
2020083914.tif 000007
【図６】
2020083914.tif 000008
【図７】
2020083914.tif 000009
【図８】
2020083914.tif 000010
【図９】
2020083914.tif 000011