(57)【要約】【課題】熱硬化や光硬化が可能であり、屈折率、硬度、密着性、透明性、耐光性が要求される被覆基材を形成するために保存安定性が向上したコーティング組成物を提供する。【解決手段】２ｎｍ〜１００ｎｍの平均粒子径を有し、且つ加水分解性シランを含む加水分解性シランで表面被覆した金属酸化物粒子（Ａ）と、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）とを含むコーティング組成物であって、前記金属酸化物（Ａ）が２〜１００ｎｍの平均粒子径を有し、且つＴｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｗからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物又は複合酸化物であり、前記脂環式エポキシ化合物（Ｂ）がエポキシシクロアルキル基を含む炭素原子数１〜１０のアルキレン基であることを特徴とするコーティング組成物、コーティング組成物、コーティング組成物で被覆する被覆基板の製造方法、及びコーティング組成物で被覆された基材。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
２ｎｍ〜１００ｎｍの平均粒子径を有し、且つ式（１ａ）及び／又は式（１ｂ）の加水分解性シランを含む加水分解性シランで表面被覆した金属酸化物粒子（Ａ）と、式（２）の脂環式エポキシ化合物（Ｂ）とを含むコーティング組成物であって、式（１ａ）及び／又は式（１ｂ）の加水分解性シランが：
【化１】
2020050775.tif 000021
（式（１ａ）、式（１ｂ）中、Ｒ１及びＲ１１はアクリロキシ基、メタクリロキシ基、アリール基、アルキル基、グリシドキシ基、ウレイド基又はそれら官能基を含む炭素原子数１〜１０のアルキレン基を含み、Ｓｉ原子にＳｉ−Ｃ結合で結合しているものであり、Ｒ２及びＲ１２はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基からなる加水分解基であり、少なくとも１つのＲ２の加水分解基は金属酸化物粒子表面でＭ−Ｏ−Ｓｉの結合を形成し、ＭはＴｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｗからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属を示し、Ｙはアルキレン基、アリーレン基、ＮＨ基、又は酸素原子を示す。ａは１〜３の整数を示し、ｄは０〜３の整数を示し、ｅは０又は１の整数を示す。）であり、式（２）の脂環式エポキシ化合物が：
【化２】
2020050775.tif 000022
（式（２）中、Ｒ３はエポキシシクロアルキル基を含む炭素原子数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ４基は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ３基とＲ４基はそれぞれ同一のＳｉ原子にＳｉ−Ｃ結合又はＳｉ−Ｈ結合で結合しているものであり、ｎは３〜５の整数を示す。）である上記コーティング組成物。
【請求項２】
式（２）中、Ｒ３のエポキシシクロアルキル基が、エポキシシクロヘキシル基である請求項１に記載のコーティング組成物。
【請求項３】
金属酸化物粒子（Ａ）が、２〜１００ｎｍの平均粒子径を有し、且つＴｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｗからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物又は複合酸化物（ａ１）である請求項１又は請求項２に記載のコーティング組成物。
【請求項４】
金属酸化物粒子（Ａ）が、２〜１００ｎｍの平均粒子径を有し、且つＴｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｗからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物又は複合酸化物（ａ１）を核として、その表面を１〜４０ｎｍの平均一次粒子径を有し、且つＴｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｗからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物又は複合酸化物（ａ２）から成る少なくとも１層で被覆した金属酸化物粒子（Ａ）であって、（ａ１）からなる粒子と（ａ２）からなる層は金属成分が異なるか又は複合酸化物として異なり、最外層に被覆された（ａ２）は金属成分としてＳｉを含んでいるものである請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項５】
金属酸化物粒子（Ａ）が、（ａ１）からなる粒子に、（ａ２）からなる被覆層が形成されたものである請求項４に記載のコーティング組成物。
【請求項６】
金属酸化物粒子（Ａ）が、（ａ１）からなる粒子に、（ａ２）からなる中間層と、（ａ２）からなる被覆層が形成されたものである請求項４に記載のコーティング組成物。
【請求項７】
更に式（３）の非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）：
【化３】
2020050775.tif 000023
（式（３）中、Ｔはｍ価の炭素原子数１〜４０の有機基であって、該有機基は飽和又は不飽和であり且つ鎖式、環式、又は縮合環式の炭化水素基であり、ｍは１〜１０の整数を示す。）を含み、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）と非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）からなるエポキシ化合物中で、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）が１０〜７５質量％、非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）が２５〜９０質量％である請求項１乃至請求項６の何れか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項８】
更に熱酸発生剤及び／又は光酸発生剤を含む請求項１乃至請求項７の何れか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項９】
更にクエンチャーとしてアミン化合物を含有する請求項１乃至請求項８の何れか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１０】
更に界面活性剤を含む請求項１乃至請求項９の何れか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１１】
基板上に請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載のコーティング組成物で被覆する被覆基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載のコーティング組成物で被覆された基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
熱硬化や光硬化が可能な有機無機複合成分を用いたコーティング組成物及びそれを光学部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
コーティング組成物が被覆された基材は例えば光学部材、機械部品材料、電子部品材料、建築材料、成形材料等の種々の分野に適用される。適用される用途によっては、それら被覆された基材が屈折率、硬度、密着性、透明性、耐光性が要求される。また被覆するためのコート液は保存安定性が要求される。
【０００３】
例えば、有機樹脂成分と無機微粒子とを含む有機無機複合樹脂組成物であって、無機微粒子成分が溶液中に分散させたときの２５℃におけるｐＨが酸性域からアルカリ域までとなる無機微粒子を含む有機無機複合樹脂組成物が開示されている（特許文献１参照）。
【０００４】
脂環式エポキシ基を側鎖に有する環状シロキサンと、平均粒子径１〜５００ｎｍの無機酸化物微粒子と、溶解可能な光酸発生剤を含有する硬質保護被膜形成用光硬化性コーティング剤が開示されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１５６６２５
【特許文献２】特開２００７−２１１２４９
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は熱硬化や光硬化が可能であり、屈折率、硬度、密着性、透明性、耐光性が要求される被覆基材を形成するために保存安定性が向上したコーティング組成物を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本願発明は第１観点として、２ｎｍ〜１００ｎｍの平均粒子径を有し、且つ式（１ａ）及び／又は式（１ｂ）の加水分解性シランを含む加水分解性シランで表面被覆した金属酸化物粒子（Ａ）と、式（２）の脂環式エポキシ化合物（Ｂ）とを含むコーティング組成物であって、式（１ａ）及び／又は式（１ｂ）の加水分解性シランが：
【化１】
2020050775.tif 000002
（式（１ａ）、式（１ｂ）中、Ｒ１及びＲ１１はアクリロキシ基、メタクリロキシ基、アリール基、アルキル基、グリシドキシ基、ウレイド基又はそれら官能基を含む炭素原子数１〜１０のアルキレン基を含み、Ｓｉ原子にＳｉ−Ｃ結合で結合しているものであり、Ｒ２及びＲ１２はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基からなる加水分解基であり、少なくとも１つのＲ２の加水分解基は金属酸化物粒子表面でＭ−Ｏ−Ｓｉの結合を形成し、ＭはＴｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｗからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属を示し、Ｙはアルキレン基、アリーレン基、ＮＨ基、又は酸素原子を示す。ａは１
〜３の整数を示し、ｄは０〜３の整数を示し、ｅは０又は１の整数を示す。）であり、式（２）の脂環式エポキシ化合物が：
【化２】
2020050775.tif 000003
（式（２）中、Ｒ３はエポキシシクロアルキル基を含む炭素原子数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ４基は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ３基とＲ４基はそれぞれ同一のＳｉ原子にＳｉ−Ｃ結合又はＳｉ−Ｈ結合で結合しているものであり、ｎは３〜５の整数を示す。）である上記コーティング組成物、
第２観点として、式（２）中、Ｒ３のエポキシシクロアルキル基が、エポキシシクロヘキシル基である第１観点に記載のコーティング組成物、
第３観点として、金属酸化物粒子（Ａ）が、２〜１００ｎｍの平均粒子径を有し、且つＴｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｗからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物又は複合酸化物（ａ１）である第１観点又は第２観点に記載のコーティング組成物、
第４観点として、金属酸化物粒子（Ａ）が、２〜１００ｎｍの平均粒子径を有し、且つＴｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｗからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物又は複合酸化物（ａ１）を核として、その表面を１〜４０ｎｍの平均一次粒子径を有し、且つＴｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｗからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物又は複合酸化物（ａ２）から成る少なくとも１層で被覆した金属酸化物粒子（Ａ）であって、（ａ１）からなる粒子と（ａ２）からなる層は金属成分が異なるか又は複合酸化物として異なり、最外層に被覆された（ａ２）は金属成分としてＳｉを含んでいるものである第１観点乃至第３観点の何れか一つに記載のコーティング組成物、
第５観点として、金属酸化物粒子（Ａ）が、（ａ１）からなる粒子に、（ａ２）からなる被覆層が形成されたものである第４観点に記載のコーティング組成物、
第６観点として、金属酸化物粒子（Ａ）が、（ａ１）からなる粒子に、（ａ２）からなる中間層と、（ａ２）からなる被覆層が形成されたものである第４観点に記載のコーティング組成物、
第７観点として、更に式（３）の非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）：
【化３】
2020050775.tif 000004
（式（３）中、Ｔはｍ価の炭素原子数１〜４０の有機基であって、該有機基は飽和又は不飽和であり且つ鎖式、環式、又は縮合環式の炭化水素基であり、ｍは１〜１０の整数を示す。）を含み、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）と非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）からなるエポキシ化合物中で、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）が１０〜７５質量％、非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）が２５〜９０質量％である第１観点乃至第６観点の何れか一つに記載のコーティング組成物、
第８観点として、更に熱酸発生剤及び／又は光酸発生剤を含む第１観点乃至第７観点の何
れか一つに記載のコーティング組成物、
第９観点として、更にクエンチャーとしてアミン化合物を含有する第１観点乃至第８観点の何れか一つに記載のコーティング組成物、
第１０観点として、更に界面活性剤を含む第１観点乃至第９観点の何れか一つに記載のコーティング組成物、
第１１観点として、基板上に第１観点乃至第１０観点のいずれか一つに記載のコーティング組成物で被覆する被覆基板の製造方法、及び
第１２観点として、第１観点乃至第１０観点のいずれか一つに記載のコーティング組成物で被覆された基材である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明は式（１ａ）及び／又は式（１ｂ）の加水分解性シラン化合物を含む加水分解性シランで表面被覆した金属酸化物粒子（Ａ）と、式（２）の脂環式エポキシ化合物（Ｂ）とを含むコーティング組成物である。
【０００９】
金属酸化物粒子（Ａ）は屈折率調整の為に屈折率に応じて種々の金属成分からなる酸化物又は複合酸化物とするが、金属酸化物によっては一様に溶剤への分散が困難な場合がある。溶剤への分散性を向上させるため金属酸化物粒子表面を溶剤の親疎水に合わせて有機官能基を導入する事で分散性を向上させる事ができる。有機官能基の導入は加水分解性シラン化合物、例えばシランカップリング剤を用いることで達成する事ができる。加水分解性シランは加水分解性基が加水分解によって生じたシラノール基を金属粒子表面のヒドロキシル基との間で、Ｍ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成し（Ｍは金属）、金属酸化物粒子を被覆する事ができる。例えば３個の加水分解性基を有するシランカップリング剤では、少なくとも１個の加水分解によって生じたシラノール基が、金属粒子表面でヒドロキシル基と反応するものである。シランカップリング剤の３個の加水分解性基の全てが加水分解によって金属表面のヒドロキシル基と結合する事も、金属粒子表面のヒドロキシル基と反応しない状態で存在する事もある。
【００１０】
式（２）の脂環式エポキシ化合物は環状シロキサン構造を有する脂環式エポキシ化合物である。環状シロキサン構造を有する事で耐熱性が高く、金属酸化物粒子との相溶性が高い。また、脂環式エポキシ構造を有する事で低粘度で取り扱い性が高く、硬化物に透明性と耐熱性を与える事ができる。また、カチオン硬化性も高い。
【００１１】
式（１ａ）及び／又は式（１ｂ）の加水分解性シラン化合物で表面被覆した金属酸化物粒子（Ａ）と、式（２）の脂環式エポキシ化合物（Ｂ）とを含むコーティング組成物は、安定性が高くコーティング剤に適するものである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明は２ｎｍ〜１００ｎｍの平均粒子径を有し、且つ式（１ａ）及び／又は式（１ｂ）の加水分解性シランを含む加水分解性シランで表面被覆した金属酸化物粒子（Ａ）と、式（２）の脂環式エポキシ化合物（Ｂ）とを含むコーティング組成物である。
【００１３】
本発明のコーティング組成物は上記成分以外に溶剤を含み、そして任意成分として熱酸発生剤、光酸発生剤、クエンチャー、界面活性剤等を含むことができる。
【００１４】
本発明のコーティング組成物は固形分として０．１〜６０質量％、又は１〜５０質量％、１０〜４５質量％である。ここで固形分とはコーティング組成物の全成分から溶剤成分を除いたものである。
【００１５】
式（１ａ）及び／又は式（１ｂ）の加水分解性シラン化合物は、Ｒ１及びＲ１１はアク
リロキシ基、メタクリロキシ基、アリール基、アルキル基、グリシドキシ基、ウレイド基又はそれら官能基を含む炭素原子数１〜１０のアルキレン基を含み、Ｓｉ原子にＳｉ−Ｃ結合で結合しているものであり、Ｒ２及びＲ１２はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基からなる加水分解基であり少なくとも１つのＲ２の加水分解基は金属酸化物粒子表面でＭ−Ｏ−Ｓｉの結合を形成し、ＭはＴｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｗからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属を示し、Ｙはアルキレン基、アリーレン基、ＮＨ基、又は酸素原子を示す。ａは１〜３の整数を示し、ｄは０〜３の整数を示し、ｅは０又は１の整数を示す。
【００１６】
金属酸化物粒子（Ａ）の表面被覆に用いられる加水分解性シランは、式（１ａ）の加水分解性シラン及び／又は式（１ｂ）の加水分解性シランを含むことができる。式（１ａ）の加水分解性シラン、式（１ｂ）の加水分解性シランは、更に他の加水分解性シランを併用する事が可能であり、式（１ａ）の加水分解性シラン及び／又は式（１ｂ）の加水分解性シラン：他の加水分解性シランの重量比は、１：０．１〜１．０、又は１：０．５〜１．０の範囲で用いる事ができる。
【００１７】
金属酸化物粒子（Ａ）の表面被覆量は、金属酸化物粒子表面に被覆されるシラン化合物の数として０．１個／ｎｍ２〜３．０個／ｎｍ２、又は０．３個／ｎｍ２〜１．５個／ｎｍ２、の範囲で用いる事ができる。
【００１８】
上記アルキル基は炭素原子数１〜１０のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、i−プロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、t−ブチル基、シクロブチル基、１−メチル−シクロプロピル基、２−メチル−シクロプロピル基、ｎ−ペンチル基、１−メチル−ｎ−ブチル基、２−メチル−ｎ−ブチル基、３−メチル−ｎ−ブチル基、１,１−ジメチル−ｎ−プロピル基、１,２−ジメチル−ｎ−プロピル基、２,２−ジメチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−ｎ−プロピル基、シクロペンチル基、１−メチル−シクロブチル基、２−メチル−シクロブチル基、３−メチル−シクロブチル基、１,２−ジメチル−シクロプロピル基、２,３−ジメチル−シクロプロピル基、１−エチル−シクロプロピル基、２−エチル−シクロプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチル−ｎ−ペンチル基、２−メチル−ｎ−ペンチル基、３−メチル−ｎ−ペンチル基、４−メチル−ｎ−ペンチル基、１,１−ジメチル−ｎ−ブチル基、１,２−ジメチル−ｎ−ブチル基、１,３−ジメチル−ｎ−ブチル基、２,２−ジメチル−ｎ−ブチル基、２,３−ジメチル−ｎ−ブチル基、３,３−ジメチル−ｎ−ブチル基、１−エチル−ｎ−ブチル基、２−エチル−ｎ−ブチル基、１,１,２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１,２,２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−２−メチル−ｎ−プロピル基、シクロヘキシル基、１−メチル−シクロペンチル基、２−メチル−シクロペンチル基、３−メチル−シクロペンチル基、１−エチル−シクロブチル基、２−エチル−シクロブチル基、３−エチル−シクロブチル基、１,２−ジメチル−シクロブチル基、１,３−ジメチル−シクロブチル基、２,２−ジメチル−シクロブチル基、２,３−ジメチル−シクロブチル基、２,４−ジメチル−シクロブチル基、３,３−ジメチル−シクロブチル基、１−ｎ−プロピル−シクロプロピル基、２−ｎ−プロピル−シクロプロピル基、１−i−プロピル−シクロプロピル基、２−ｉ−プロピル−シクロプロピル基、１,２,２−トリメチル−シクロプロピル基、１,２,３−トリメチル−シクロプロピル基、２,２,３−トリメチル−シクロプロピル基、１−エチル−２−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−１−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−２−メチル−シクロプロピル基及び２−エチル−３−メチル−シクロプロピル基等が挙げられる。
【００１９】
また、アルキレン基は上述のアルキル基から誘導されるアルキレン基を上げる事ができる。
【００２０】
アリール基は例えばフェニル基、ナフチル基、アントリル基等が挙げられ、アリーレン基は上記アリール基から誘導される基であり、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基等が挙げられる。
【００２１】
上記アルコキシ基は炭素原子数１〜１０のアルコキシ基が挙げられ、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチロキシ基、１−メチル−ｎ−ブトキシ基、２−メチル−ｎ−ブトキシ基、３−メチル−ｎ−ブトキシ基、１,１−ジメチル−ｎ−プロポキシ基、１,２−ジメチル−ｎ−プロポキシ基、２,２−ジメチル−ｎ−プロポキシ基、１−エチル−ｎ−プロポキシ基、ｎ−ヘキシロキシ基、１−メチル−ｎ−ペンチロキシ基、２−メチル−ｎ−ペンチロキシ基、３−メチル−ｎ−ペンチロキシ基、４−メチル−ｎ−ペンチロキシ基、１,１−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、１,２−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、１,３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、２,２−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、２,３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、３,３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、１−エチル−ｎ−ブトキシ基、２−エチル−ｎ−ブトキシ基、１,１,２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基、１,２,２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロポキシ基及び１−エチル−２−メチル−ｎ−プロポキシ基等が、また環状のアルコキシ基としてはシクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、１−メチル−シクロプロポキシ基、２−メチル−シクロプロポキシ基、シクロペンチロキシ基、１−メチル−シクロブトキシ基、２−メチル−シクロブトキシ基、３−メチル−シクロブトキシ基、１,２−ジメチル−シクロプロポキシ基、２,３−ジメチル−シクロプロポキシ基、１−エチル−シクロプロポキシ基、２−エチル−シクロプロポキシ基、シクロヘキシロキシ基、１−メチル−シクロペンチロキシ基、２−メチル−シクロペンチロキシ基、３−メチル−シクロペンチロキシ基、１−エチル−シクロブトキシ基、２−エチル−シクロブトキシ基、３−エチル−シクロブトキシ基、１,２−ジメチル−シクロブトキシ基、１,３−ジメチル−シクロブトキシ基、２,２−ジメチル−シクロブトキシ基、２,３−ジメチル−シクロブトキシ基、２,４−ジメチル−シクロブトキシ基、３,３−ジメチル−シクロブトキシ基、１−ｎ−プロピル−シクロプロポキシ基、２−ｎ−プロピル−シクロプロポキシ基、１−ｉ−プロピル−シクロプロポキシ基、２−ｉ−プロピル−シクロプロポキシ基、１,２,２−トリメチル−シクロプロポキシ基、１,２,３−トリメチル−シクロプロポキシ基、２,２,３−トリメチル−シクロプロポキシ基、１−エチル−２−メチル−シクロプロポキシ基、２−エチル−１−メチル−シクロプロポキシ基、２−エチル−２−メチル−シクロプロポキシ基及び２−エチル−３−メチル−シクロプロポキシ基等が挙げられる。
【００２２】
上記アシルオキシ基は炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基は、例えばメチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、i−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、i−ブチルカルボニルオキシ基、s−ブチルカルボニルオキシ基、t−ブチルカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、１−メチル−ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、２−メチル−ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、３−メチル−ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、１,１−ジメチル−ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、１,２−ジメチル−ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、２,２−ジメチル−ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、１−エチル−ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ基、１−メチル−ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、２−メチル−ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、３−メチル−ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、４−メチル−ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、１,１−ジメチル−ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、１,２−ジメチル−ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、１,３−ジメチル−ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、２,２−ジメチル−ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、２,３−ジメチル−ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、３,３−ジメチル−ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、１−エチル−ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、２−エチル−ｎ−
ブチルカルボニルオキシ基、１,１,２−トリメチル−ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、１,２,２−トリメチル−ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、１−エチル−２−メチル−ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基、及びトシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００２３】
上記ハロゲン基としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
【００２４】
上記加水分解性シランは例えば以下の化合物を例示する事ができる。
【化４】
2020050775.tif 000005
【００２５】
上記式中Ｒ２はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基からなる加水分解性基を示す。これらは信越化学工業（株）のシランカップリング剤として入手することができる。
【００２６】
式（１ｂ）の化合物にはトリメチルシリル化剤を含むものであり、ヘキサメチルジシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシラザン等が挙げられる。これらのシリル化剤は東京化成工業(株)から入手する事ができる。
【００２７】
式（２）の脂環式エポキシ化合物はＲ３はエポキシシクロアルキル基を含む炭素原子数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ４基は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ３基とＲ４基はそれぞれ同一のＳｉ原子にＳｉ−Ｃ結合又はＳｉ−Ｈ結合で結合しているものであり、ｎは３〜５の整数を示す。ｎは３、４、５の整数が挙げられるが、特に４が好ましい。
【００２８】
Ｒ３のエポキシシクロアルキル基が、エポキシ環を有する環状アルキル基である。環状アルキル基は単環、多環の環状構造を有する事ができる。例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルナン、アダマンタン等が挙げられるが、シクロヘキシル構造が好ましく、Ｒ３のエポキシシクロアルキル基がエポキシシクロヘキシル基を用いる事ができる。
【００２９】
金属酸化物粒子（Ａ）は、２〜１００ｎｍ、又は３〜５０ｎｍの平均粒子径を有し、且つＴｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｗからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物又は複合酸化物（ａ１）が挙げられる。金属酸化物、又は複合金属酸化物の平均粒子径の値は、動的光散乱法（ＤＬＳ法）により測定された粒子径が挙げられる。
【００３０】
例えば、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、Ｆｅ２Ｏ３、ＣｕＯ、ＺｎＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｏＯ３、Ｔａ２Ｏ５、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＨｆＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＣｅＯ２、ＷＯ３、ＷＯ３−Ｓｂ２Ｏ５、ＷＯ３−ＳｎＯ２、ＳｎＯ２−ＺｒＯ２、ＴｉＯ２−ＳｎＯ２、ＳｎＯ２−ＳｉＯ２、ＴｉＯ２−ＺｒＯ２−ＳｎＯ２、ＴｉＯ２−ＣｅＯ２−ＳｎＯ２、ＷＯ３−ＳｎＯ２−ＳｉＯ２等が挙げられる。また、Ａｌ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、Ｆｅ２Ｏ３、ＣｕＯ、ＺｎＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｏＯ３、Ｔａ２Ｏ５、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＨｆＯ２は不純物として含有することができる。
【００３１】
金属酸化物粒子（Ａ）が、２〜１００ｎｍ、又は３〜５０ｎｍの平均粒子径を有し、且つＴｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｗからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物又は複合酸化物（ａ１）を核として、その表面を１〜４０ｎｍ、又は１〜２０ｎｍの平均一次粒子径を有し、且つＴｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｃｅ、Ｗからなる群より選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物又は複合酸化物（ａ２）から成る少なくとも１層で被覆した金属酸化物粒子（Ａ）であって、（ａ１）からなる粒子と（ａ２）からなる層は金属成分が異なるか又は複合酸化物として異なり、最外層に被覆された（ａ２）は金属成分としてＳｉを含んでいるものを用いる事ができる。また、（ａ２）は金属成分の不純物として、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｈｆを含むことができる。
【００３２】
金属酸化物粒子（Ａ）は、（ａ１）からなる粒子に、（ａ２）からなる被覆層が形成された構造を用いる事ができる。被覆物である金属の酸化物又は複合酸化物（ａ２）の平均一次粒子径の値は、透過型電子顕微鏡による観察で測定された粒子径が挙げられる。
【００３３】
また、金属酸化物粒子（Ａ）は、（ａ１）からなる粒子に、（ａ２）からなる中間層と、（ａ２）からなる被覆層が形成された構造を用いる事ができる。金属酸化物コロイド粒子（Ａ）の表面を、（ａ１）からなる粒子に（ａ２）からなる粒子で被覆する際、粒子同士の界面の反応によって、得られる変性金属酸化物コロイド粒子（Ａ）の粒子径の値は変化し得る。そのため、変性金属酸化物コロイド粒子（Ａ）の粒子径を透過型電子顕微鏡による観察により測定した平均粒子径で評価した場合には、この値が、金属酸化物コロイド粒子（Ａ）と無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）の一次粒子径の和に必ずしも一致しないことがある。
【００３４】
これらの被覆構造を有する複合金属酸化物粒子は、核粒子として、ＳｎＯ２−ＺｒＯ２、ＴｉＯ２−ＺｒＯ２−ＳｎＯ２を用いて、被覆粒子としてＳｉＯ２、ＳｎＯ２−ＳｉＯ
２、ＷＯ３−ＳｎＯ２−ＳｉＯ２等用いる事ができる。
【００３５】
核粒子と被覆層からなる粒子の場合、核粒子（ａ１）と被覆層の粒子（ａ２）は重量比で、１：０．０１〜１、または１：０．１〜０．５の範囲で用いる事ができる。
【００３６】
また核粒子と中間層と被覆層からなる粒子の場合、核粒子（ａ１）と中間層の粒子（ａ２）と被覆層の粒子（ａ２）は重量比で、１：０．０１〜１：０．０１〜１、
又は１：０．１〜０．５：０．１〜０．５の範囲で用いる事が出来る。
【００３７】
金属酸化物粒子（Ａ）は、金属酸化物粒子のコロイド溶液として用いる事ができる。金属酸化物粒子のコロイド溶液（ゾル）は、水性ゾルとして製造されたものを、有機溶剤に溶媒置換して有機溶剤ゾルとして用いることができる。有機溶剤としてはメタノール、エタノール、プロパノール、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤を用いる事ができる。
【００３８】
金属酸化物粒子（Ａ）のシラン化合物による表面処理は、例えば金属酸化物粒子（Ａ）のメタノールゾルに式（１ａ）及び／又は式（１ｂ）の加水分解性シランを含む加水分解性シランを添加して加水分解と表面被覆を行う事ができる。
【００３９】
アルコキシシリル基、アシロキシシリル基、又はハロゲン化シリル基の加水分解には、加水分解性基の１モル当たり、０．５〜１００モル、好ましくは１〜１０モルの水を用いる。
【００４０】
また、加水分解性基の１モル当たり０．００１〜１０モル、好ましくは０．００１〜１モルの加水分解触媒を用いることができる。
【００４１】
加水分解と縮合を行う際の反応温度は、通常２０〜８０℃である。
【００４２】
加水分解は完全に加水分解を行うことも、部分加水分解することでも良い。即ち、加水分解縮合物中に加水分解物やモノマーが残存していても良い。
【００４３】
加水分解し縮合させる際に触媒を用いることができる。加水分解触媒としてはキレート化合物、有機酸、無機酸、有機塩基、又は無機塩基を併用する事ができる。例えば、塩酸水溶液、酢酸、アンモニア水溶液等を用いる事ができる。
【００４４】
金属酸化物粒子（Ａ）の含有量は、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）又は脂環式エポキシ化合物（Ｂ）と非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）の合計量１００質量部に対して、１０〜１０００質量部、又は５０〜５００質量部、又は５０〜３００質量部の割合で含有する事ができる。
【００４５】
式（２）の脂環式エポキシ化合物は以下に例示する事ができる。
【化５】
2020050775.tif 000006
【化６】
2020050775.tif 000007
【００４６】
これらは信越化学工業（株）製のシラン化合物として入手する事ができる。式（２−１）の化合物は信越化学工業（株）製の商品名ＫＲ−４７０として入手できる。
【００４７】
本発明では更に式（３）の非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）を併用する事ができる。非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）は多官能タイプを用いる事が好ましく、例えば２官能エポキシ化合物、３官能エポキシ化合物を用いる事ができる。
【００４８】
式（３）中、Ｔはｍ価の炭素原子数１〜４０の有機基であって、該有機基は飽和又は不飽和であり且つ鎖式、環式、又は縮合環式の炭化水素基であり、ｍは１〜１０の整数を示す。
【００４９】
非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）は以下に例示する事ができる。
【化７】
2020050775.tif 000008
【００５０】
これらのエポキシ樹脂はナガセケムテックス（株）製のエポキシ化合物として入手する事ができる。式（３−１）の化合物はナガセケムテックス（株）製の商品名ＥＸ−３２１Ｌ、式（３−２）の化合物はナガセケムテックス（株）製の商品名ＥＸ−２１２Ｌ、式（３−３）の化合物はナガセケムテックス（株）製の商品名ＥＸ−２１２Ｐとして入手する事ができる。
【化８】
2020050775.tif 000009
【００５１】
また、ジャパンエポキシレジン（株）製のエポキシ化合物として入手することができる。式（３−４）の化合物はジャパンエポキシレジン（株）製の商品名エピコート８２８、式（３−５）の化合物はジャパンエポキシレジン（株）製の商品名ＹＸ８０００、式（３−６）の化合物はジャパンエポキシレジン（株）製の商品名ＤＭＥ１００として入手する事ができる。
【００５２】
エポキシ化合物としては脂環式エポキシ化合物（Ｂ）を単独で用いることもできるが、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）と非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）を併用する事ができる。
【００５３】
脂環式エポキシ化合物（Ｂ）と非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）からなるエポキシ化合物中で、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）が１０〜７５質量％、非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）が２５〜９０質量％の割合で使用する事ができる。
【００５４】
本発明では酸発生剤を用いることができる。酸発生剤は光酸発生剤又は熱酸発生剤を用いることができる。
【００５５】
光酸発生剤又は熱酸発生剤は、光照射又は加熱により直接又は間接的に酸を発生するものであれば特に限定されない。
【００５６】
光酸発生剤の具体例としては、トリアジン系化合物、アセトフェノン誘導体化合物、ジスルホン系化合物、ジアゾメタン系化合物、スルホン酸誘導体化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩等のオニウム塩、メタロセン錯体、鉄アレーン錯体などを用いることができる。
【００５７】
上記光酸発生剤として用いるオニウム塩は、ヨードニウム塩として例えばジフェニルヨードニウムクロライド、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムメシレート、ジフェニルヨードニウムトシレート、ジフェニルヨードニウムブロミド、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムメシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムクロリド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムクロライド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、更にビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなどのビス（アルキルフェニル）ヨードニウム塩、アルコキシカルボニルアルコキシ−トリアルキルアリールヨードニウム塩（例えば、４−［（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなど）、ビス（アルコキシアリール）ヨードニウム塩（例えば、（４−メトキシフェニル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのビス（アルコキシフェニル）ヨードニウム塩）が挙げられる。
【００５８】
スルホニウム塩としてトリフェニルスルホニウムクロリド、トリフェニルスルホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリ（ｐ−エトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムトリフレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等のトリフェニルスルホニウム塩や、（４−フェニルチオフェニル） ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、（ ４ − フェニルチオフェニル） ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、（４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート）等のスルホニウム塩が挙げられる。
【００５９】
ホスホニウム塩としてトリフェニルホスホニウムクロリド、トリフェニルホスホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレート、トリ（
ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリ（ｐ−エトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレート、４−クロロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のホスホニウム塩が挙げられる。
【００６０】
トリフェニルセレニウムヘキサフルオロホスフェートなどのセレニウム塩、（η５又はη６−イソプロピルベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェートなどのメタロセン錯体が挙げられる。
【００６１】
また、光酸発生剤としては以下の化合物も用いることができる。
【化９】
2020050775.tif 000010
【化１０】
2020050775.tif 000011
【化１１】
2020050775.tif 000012
【化１２】
2020050775.tif 000013
【化１３】
2020050775.tif 000014
【化１４】
2020050775.tif 000015
【化１５】
2020050775.tif 000016
【化１６】
2020050775.tif 000017
【化１７】
2020050775.tif 000018
【００６２】
光酸発生剤としてはスルホニウム塩化合物、ヨードニウム塩化合物が好ましい。それらのアニオン種としてはＣＦ３ＳＯ３−、Ｃ４Ｆ９ＳＯ３−、Ｃ８Ｆ１７ＳＯ３−、カンファースルホン酸アニオン、トシル酸アニオン、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＡｓＦ６−及びＳｂＦ６−などが挙げられる。特に強酸性を示す六フッ化リン及び六フッ化アンチモン等のアニオン種が好ましい。
【００６３】
熱酸発生剤としてはスルホニウム塩、ホスホニウム塩が挙げられるが、スルホニウム塩が好ましく用いられる。例えば以下の化合物を例示することができる。
【化１８】
2020050775.tif 000019
【００６４】
Ｒは炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数６〜２０アリール基が挙げられ、特に炭素数１〜１２のアルキル基が好ましい。
【００６５】
更に、下記熱酸発生剤を用いる事ができる。
【化１９】
2020050775.tif 000020
【００６６】
熱酸発生剤及び／又は光酸発生剤の含有量は、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）又は脂環式エポキシ化合物（Ｂ）と非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）の合計量１００質量部に対して、０．０１質量部〜１０質量部、又は０．１質量部〜５質量部の範囲で用いる事ができる。
【００６７】
熱酸発生剤と光酸発生剤は、熱や光により酸を発生するものであり、熱酸発生剤は光酸発生剤として利用することができ、また光酸発生剤は熱酸発生剤として使用する事もできる。
【００６８】
本発明のコーティング組成物には、塩基性化合物（クエンチャー）として含窒素有機化合物（アミン化合物）を１種又は２種以上配合することができる。
【００６９】
含窒素有機化合物としては、酸発生剤より発生する酸が膜中に拡散する際の拡散速度を抑制することができる化合物が適している。含窒素有機化合物の配合により、膜中での酸の拡散速度が抑制されて解像度が向上し、露光後の感度変化を抑制したり、基板や環境依存性を少なくし、露光余裕度やパターンを向上することができる。また、コーティング組成物の保存安定性を向上する事ができる。
【００７０】
このような含窒素有機化合物（クエンチャー）としては、第一級、第二級、第三級の脂肪族アミン類、混成アミン類、芳香族アミン類、複素環アミン類、カルボキシ基を有する含窒素化合物、スルホニル基を有する含窒素化合物、水酸基を有する含窒素化合物、ヒドロキシフェニル基を有する含窒素化合物、アルコール性含窒素化合物、アミド類、イミド類、カーバメート類、アンモニア、アンモニウム塩、スルホニウム塩等が挙げられる。
【００７１】
第一級の脂肪族アミン類として、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、第二級の脂肪族アミン類として、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、第三級の脂肪族アミン類として、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、芳香族アミン類及び複素環アミン類の具体例としては、アニリン誘導体（例えばアニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、Ｎ−プロピルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−メチルアニリン、３−メチルアニリン、４−メチルアニリン、エチルアニリン、プロピルアニリン、トリメチルアニリン、２−ニトロアニリン、３−ニトロアニリン、４−ニトロアニリン、２，４−ジニトロアニリン、２，６−ジニ
トロアニリン、３，５−ジニトロアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルトルイジン等）、ジフェニル（ｐ−トリル）アミン、メチルジフェニルアミン、トリフェニルアミン、フェニレンジアミン、ナフチルアミン、ジアミノナフタレン、ピロール誘導体（例えばピロール、２Ｈ−ピロール、１−メチルピロール、２，４−ジメチルピロール、２，５−ジメチルピロール、Ｎ−メチルピロール等）、オキサゾール誘導体（例えばオキサゾール、イソオキサゾール等）、チアゾール誘導体（例えばチアゾール、イソチアゾール等）、イミダゾール誘導体（例えばイミダゾール、４−メチルイミダゾール、４−メチル−２−フェニルイミダゾール等）、ピラゾール誘導体、フラザン誘導体、ピロリン誘導体（例えばピロリン、２−メチル−１−ピロリン等）、ピロリジン誘導体（例えばピロリジン、Ｎ−メチルピロリジン、ピロリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等）、イミダゾリン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ピリジン誘導体（例えばピリジン、メチルピリジン、エチルピリジン、プロピルピリジン、ブチルピリジン、４−（１−ブチルペンチル）ピリジン、ジメチルピリジン、トリメチルピリジン、トリエチルピリジン、フェニルピリジン、３−メチル−２−フェニルピリジン、４−ｔｅｒｔ−ブチルピリジン、ジフェニルピリジン、ベンジルピリジン、メトキシピリジン、ブトキシピリジン、ジメトキシピリジン、４−ピロリジノピリジン、２−（１−エチルプロピル）ピリジン、アミノピリジン、ジメチルアミノピリジン等）、ピリダジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾリジン誘導体、ピペリジン誘導体、ピペラジン誘導体、モルホリン誘導体、インドール誘導体、イソインドール誘導体、１Ｈ−インダゾール誘導体、インドリン誘導体、キノリン誘導体（例えばキノリン、３−キノリンカルボニトリル等）、イソキノリン誘導体、シンノリン誘導体、キナゾリン誘導体、キノキサリン誘導体、フタラジン誘導体、プリン誘導体、プテリジン誘導体、カルバゾール誘導体、フェナントリジン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、１，１０−フェナントロリン誘導体、アデニン誘導体、アデノシン誘導体、グアニン誘導体、グアノシン誘導体、ウラシル誘導体、ウリジン誘導体等が例示される。
【００７２】
クエンチャーとしてアミン化合物の含有量は、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）又は脂環式エポキシ化合物（Ｂ）と非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）の合計量１００質量部に対して、０．００１質量部〜１質量部、又は０．０１質量部〜０．５質量部の範囲で用いる事ができる。
【００７３】
本発明では界面活性剤を用いる事ができる。界面活性剤としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフエノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフエノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロツクコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、商品名エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（（株）トーケムプロダクツ製）、商品名メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｒ−０８、Ｒ−３０、Ｒ−３０Ｎ、Ｒ−４０ＬＭ（ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、商品名アサヒガードＡＧ７１０，サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤、及びオルガノシロキサンポリマ−ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ポリエーテル変性シリコーンオイル（東レ・ダウコーニング（株）製  Ｌ−７００１）等を挙げることができる。これらの界
面活性剤は脂環式エポキシ化合物（Ｂ）又は脂環式エポキシ化合物（Ｂ）と非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）の合計量１００質量部に対して、０．００２〜３質量％、又は０．０２〜２質量％の割合で添加する事ができる。
【００７４】
本願発明のコーティング組成物に使用される溶剤としては、前記の固形分を溶解できる溶剤であれば、特に制限なく使用することができる。そのような溶剤としては、例えば、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、メチルイソブチルカルビノール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエテルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸ブチル、乳酸イソブチル、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸アミル、ギ酸イソアミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸ヘキシル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ブチル、酪酸イソブチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレート、アセト酢酸メチル、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、シクロヘキサノン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、４−メチル−２−ペンタノール、及びγ−ブチロラクトン等を挙げることができる。これらの溶剤は単独で、または二種以上の組み合わせで使用することができる。
【００７５】
コーティング組成物の製造方法として、撹拌機付きの容器に、溶剤、金属酸化物粒子（Ａ）のコロイド溶液、脂環式エポキシ化合物（Ｂ）、非脂環式エポキシ化合物（Ｃ）、必要に応じて熱酸発生剤及び／又は光酸発生剤、クエンチャーとしてアミン化合物、界面活性剤を加えて攪拌する事で製造することができる。熱酸発生剤、光酸発生剤、クエンチャーとしてアミン化合物は上記溶剤の一部に予め溶解させて加える事ができる。
【００７６】
以下、本発明のコーティング組成物の使用について説明する。
【００７７】
基板（例えば、フィルムシート、シリコンウエハー基板、シリコン／二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、ガラス基板、ＩＴＯ基板、ポリイミド基板、及び低誘電率材料（ｌｏｗ−ｋ材料）被覆基板等）の上に、スピナー、コーター等の適当な塗布方法により本発明のコーティング組成物が塗布され、その後、加熱することにより熱硬化によるコーティング膜が形成される。加熱する条件としては、加熱温度２０℃〜２５０℃、又は２０℃〜１３０℃、加熱時間０．３〜１２０分間の中から適宜、選択される。ここで、形成されるコーティング膜の膜厚としては、例えば、０．０１〜１０μｍであり、または０．０２〜８μｍであり、または０．０５〜６μｍであり、または０．１〜５μｍである。
【００７８】
被覆されたコーティング膜が光硬化させる場合には、溶剤の除去のために２０〜８０℃で、加熱時間０．３〜６０分間で乾燥を行い、その後、波長１９０〜５００ｎｍの紫外線を用いて、露光量１乃至２００００ｍＪ／ｃｍ２、または１０乃至１５０００ｍＪ／ｃｍ２、または２０乃至１００００ｍＪ／ｃｍ２によって光硬化によるコーティング膜を形成した。形成されるコーティング膜の膜厚としては、例えば、０．０１〜１０μｍであり、または０．０２〜８μｍであり、または０．０５〜６μｍであり、または０．１〜５μｍである。
【実施例】
【００７９】
以下、本発明について、製造例、実施例及び比較例に基づきさらに詳述するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
分散液の諸物性は、以下の測定方法により求めた。
〔粘度〕オストワルド粘度計にて求めた（２５℃）。
〔水分〕カールフィッシャー滴定法にて求めた。
〔動的光散乱による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）〕ゾルを分散溶媒で希釈し、溶媒のパラメーターを用いて、動的光散乱法測定装置：Ｍａｌｖｅｒｎ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｌｔｄ製ゼータ−サイザーで測定した。
〔透過型電子顕微鏡による平均一次粒子径〕ゾルを銅メッシュ上に滴下し乾燥させ、透過型電子顕微鏡（日本電子社製 ＪＥＭ−１０２０）を用いて加速電圧１００ｋＶにて観察し、１００個の粒子を測定し平均化した値を一次粒子径として求めた。
また実施例および比較例で得られた硬化膜を有する光学部材について、以下に示す測定方法により諸物性を測定し評価した。
【００８０】
（１）屈折率
反射率測定機（オリンパス（株）製  ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて、ガラス基板上に形成した硬化膜の反射率を測定した。測定した反射率から、光学シミュレーションを用いて、硬化膜の屈折率を算出した。
【００８１】
（２）硬度試験
ダイナミック超微小硬度計（（株）島津製作所製  ＤＵＨ−２１１）を用いて、ガラス基板上に形成した硬化膜の硬度ＨＭｓ[Ｎ／ｍｍ２]を測定した。判断基準は下記の通りである。
Ａ：硬度が２５０以上である
Ｂ：硬度が１５０以上２５０未満である
Ｃ：硬度が１５０未満である
【００８２】
（３）密着性試験
ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製  商品名コスモシャインＡ４３００）上に形成した硬
化膜に１ｍｍ間隔で１００目クロスカットを施し、このクロスカットした部分に粘着テープ（ニチバン（株）製  セロハンテープ）を強く貼り付けた後、粘着テープを急速に剥がし、粘着テープを剥がした後の硬化膜の剥離の有無を調べた。評価基準は下記の通りである。
Ａ：全く剥離が無いか、又は１００目中５目未満の剥離が確認できる。
Ｂ：１００目中５〜３０目の剥離が確認できる
Ｃ：１００目中３１〜６０目の剥離が確認できる
Ｄ：１００目中６１〜９０目の剥離が確認できる
Ｅ：１００目中９１目以上の剥離が確認できる
【００８３】
（４）透明性
ヘイズメーター（日本電色工業（株）製  ＮＤＨ７０００）を用いて、ガラス基板上に形成した硬化膜のヘイズ値を測定した。判断基準は次の通りである。
Ａ：ヘイズ値が０．３未満である
Ｂ：ヘイズ値が０．３以上１．０未満である
Ｃ：ヘイズ値が１．０以上３．０未満である
Ｄ：ヘイズ値が３．０以上１０．０未満である
Ｅ：ヘイズ値が１０．０以上である
【００８４】
（５）耐光性試験
分光光度計（（株）島津製作所製  ＵＶ−３６００）を用いて、得られた光学部材（ガラス基板上に硬化膜を形成したもの）の透過率を測定し、ＪＩＳ７３７３に基づいてＹＩ値を算出した。その後、ＱＵＶ促進耐候試験機（ＵＶＡランプ  照射強度８９０ｍＷ／ｍ２）を用いて、１２０時間露光を行った光学部材のＹＩ値を算出した。紫外線照射前後の光学部材の△ＹＩを算出した。判断基準は次の通りである。
Ａ：△ＹＩが１．０未満である
Ｂ：△ＹＩが１．０以上２．０未満である
Ｃ：△ＹＩが２．０以上である
【００８５】
（６）保存安定性試験
５℃に設定された冷蔵庫内で１か月保管したコート剤を用いて、（２）硬度試験と同様の試験を行った。判断基準は下記の通りである。
Ａ：保管前に比べ、硬度変化が±１０％以内
Ｂ：保管前に比べ、１０〜３０％の硬度低下
Ｃ：保管前に比べ、３０％以上の硬度低下
【００８６】
参考例１：核となる酸化チタン−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ａ１）の調製
２５質量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液３１９．５ｇを純水９４７．１ｇに溶解し、次いでメタスズ酸１４．８ｇ（ＳｎＯ２換算で１２．５ｇ含有）、チタンテトライソプロポキシド２３６．６ｇ（ＴｉＯ２換算で６６．６ｇ含有）、及びシュウ酸二水和物８２．０ｇ（シュウ酸換算で５８．５ｇ）を撹拌下で添加した。該混合溶液を８０℃で２時間保持し、更に５８０Ｔｏｒｒまで減圧して２時間保持し、混合溶液を調製した。ガラスライニングされたオートクレーブ容器に、上記混合溶液を投入し、１４０℃で５時間水熱処理を行い、室温に冷却後、取り出した。得られたゾルは酸性の酸化チタン−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ａ１）の水分散ゾルであり、ｐＨ３．９、全金属酸化物濃度（ＴｉＯ２、及びＳｎＯ２）５．０質量％、動的光散乱法による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）１６ｎｍであった。得られたゾルを１１０℃で乾燥させた粉末のＸ線回折分析を行い、ルチル型結晶であることが確認された。
【００８７】
参考例２：被覆物となる二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｂ１）の
調製
ＪＩＳ３号珪酸ナトリウム（ＳｉＯ２換算で２９．８質量％含有）７７．２ｇを純水６６８．８ｇに溶解し、次いでスズ酸ナトリウムＮａＳｎＯ３・Ｈ２Ｏ（ＳｎＯ２換算で５５．１質量％含有）２０．９ｇを溶解した。得られた水溶液を水素型陽イオン交換樹脂（アンバーライト（登録商標）ＩＲ−１２０Ｂ）を充填したカラムに通液した。次いで得られた水分散ゾルにジイソプロピルアミンを７．２ｇ添加した。得られたゾルはアルカリ性の二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｂ１）の水分散ゾルであり、ｐＨ８．０、全金属酸化物濃度（ＳｎＯ２、及びＳｎＯ２）１．７質量％、透過型電子顕微鏡による観察で一次粒子径は１〜４ｎｍであった。
【００８８】
参考例３：二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ１）の調製
オキシ塩化ジルコニウム（ＺｒＯ２換算で２１．２質量％含有）８２．７ｇを純水５０１．１ｇで希釈して、オキシ塩化ジルコニウム水溶液５８３．８ｇ（ＺｒＯ２換算で３．０質量％含有）を調製し、参考例１で調製した酸化チタン−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ａ１）の水分散ゾル１５１６．２ｇを撹拌下で添加した。次いで９５℃に加熱することにより加水分解を行って、表面に酸化ジルコニウムの薄膜層が形成された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子の水分散ゾルを得た。得られた水分散ゾル２０４１．２ｇを参考例２で調製したアルカリ性の二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｂ１）の水分散ゾル１７６３．３ｇに撹拌下で添加し、陰イオン交換樹脂（アンバーライト（登録商標）ＩＲＡ−４１０、オルガノ（株）製）５００ミリリットルを詰めたカラムに通液した。次いで通液後の水分散ゾルを９５℃で３時間加熱した後、限外濾過膜法で濃縮した。
【００８９】
次いで、得られた水分散ゾルの分散媒をロータリーエバポレーターを用いてメタノールに置換して、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ１）のメタノール分散ゾルを得た。このメタノール分散ゾルは、ｐＨ５．２、全金属酸化物（ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、及びＳｉＯ２）濃度３０．５質量％、粘度１．８ｍＰａ・ｓ、動的光散乱法（ＤＬＳ）による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）２０ｎｍであった。
【００９０】
参考例４：核となる酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ａ２）の調製
炭酸水素テトラメチルアンモニウム（水酸化テトラメチルアンモニウム換算で４２．４質量％含有）水溶液２９３．７ｇを、純水１１１．５ｇで希釈し、この水溶液を攪拌しながら、オキシ炭酸ジルコニウム粉末（ＺｒＯ２換算で４０．１質量％含有）１６８．４ｇを徐々に添加した。添加終了後、８５℃に加温し、メタスズ酸９．６ｇ（ＳｎＯ２として８６．０質量％含）を徐々に添加し、１０５℃にて５時間加温熟成を行い、更に１４５℃にて５時間の水熱処理を行った。次いでこのゾルを限外ろ過装置にて純水を添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮した。得られたゾルはアルカリ性の酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ａ２）の水分散ゾルであり、ｐＨ９．４、全金属酸化物濃度（ＺｒＯ２、及びＳｎＯ２の合計）５．０質量％、動的光散乱法による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）１５ｎｍであった。
【００９１】
参考例５：二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｃ２）の調製
参考例４で得られたアルカリ性の酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ａ２）の水分散ゾル１４１１．７ｇに、参考例２で調製したアルカリ性の二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｂ１）の水分散ゾル８３０．４ｇを攪拌下で添加した。次いで９５℃に加熱して２時間保持した後、水素型陽イオン交換樹脂（アンバ
ーライト（登録商標）ＩＲ−１２０Ｂ）を充填したカラムに通液した後、通液後の水分散ゾルを限外濾過膜法で濃縮した。
【００９２】
次いで、得られた水分散ゾルの分散媒をロータリーエバポレーターを用いてメタノールに置換して、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｃ２）のメタノール分散ゾルを得た。このメタノール分散ゾルは、ｐＨ５．０、全金属酸化物（ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、及びＳｉＯ２）濃度３８．５質量％、粘度３．３ｍＰａ・ｓ、動的光散乱法（ＤＬＳ）による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）２０ｎｍであった。
【００９３】
参考例６：核となる酸化第二スズコロイド粒子（Ａ３）の調製
シュウ酸二水和物６４．０ｇ（シュウ酸換算で４５．７ｇ）を純水７２３．３ｇに溶解し、攪拌しながら７０℃まで加温した後、３５％過酸化水素水２９０．３ｇと金属スズ粉末（ＳｎＯ２換算で９９．７％含有）１２８．１ｇを添加した。過酸化水素水と金属スズの添加は交互に１０回分割で行った。始めに３５％過酸化水素水２９．０ｇを、次いで金属スズ１２．８ｇを添加した。反応が終了するのを待って（１０〜１５分）この操作を繰り返した。 添加に要した時間は２時間で添加終了後、液温を９０℃に保ちながら２時間加熱し反応を終了させた。次いで、３５％過酸化水素水３９４．５ｇを添加し、９０℃で５時間保持した。次いで、イソプロピルアミン５．１ｇを添加し、５０℃で３時間保持した後、陰イオン交換樹脂（アンバーライト（登録商標）ＩＲＡ−４１０）５００ミリリットルを詰めたカラムに通液した。得られたゾルはアルカリ性の酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ａ３）の水分散ゾルであり、ｐＨ１１．０、ＳｎＯ２濃度４．０質量％、動的光散乱法による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）２０ｎｍであった。
【００９４】
参考例７：二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化第二スズコロイド粒子（Ｃ３）の調製
参考例６で得られた酸化第二スズコロイド粒子（Ａ３）の水分散ゾル１４５８．８ｇに、参考例２で調製したアルカリ性の二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｂ１）の水分散ゾル５１４．９ｇを攪拌下で添加した。次いで９５℃に加熱して２時間保持した後、水素型陽イオン交換樹脂（アンバーライト（登録商標）ＩＲ−１２０Ｂ）を充填したカラムに通液した。次いで通液後の水分散ゾルを限外濾過膜法で濃縮した。
次いで、得られた水分散ゾルの分散媒をロータリーエバポレーターを用いてメタノールに置換して、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化第二スズコロイド粒子（Ｃ３）のメタノール分散ゾルを得た。このメタノール分散ゾルは、全金属酸化物（ＳｎＯ２、及びＳｉＯ２）濃度３０．５質量％、粘度１．３ｍＰａ・ｓ、動的光散乱法（ＤＬＳ）による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）１８ｎｍであった。
【００９５】
製造例１：表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ４）の調製
参考例３で得られた、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ１）のメタノール分散ゾル２００ｇに、フェニルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＢＭ１０３）３．９ｇを撹拌下で添加し、７０℃で還流加熱を５時間行った。次いで、エバポレータを用いて１８０Ｔｏｒｒでメチルエチルケトンを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをメチルエチルケトンに置換して、表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ４）のメチルエチルケトン分散ゾルを得た。このメチルエチルケトン分散ゾルは全金属酸化物（ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、及びＳｉＯ２）濃度３０．５質量％、粘度０．９ｍＰａ・ｓ、動的光散乱
法（ＤＬＳ）による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）は１９ｎｍであった。
【００９６】
製造例２：表面にメタクリル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ５）の調製
参考例３で得られた、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ３）のメタノール分散ゾル２００ｇに、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＢＭ５０３）４．９ｇを撹拌下で添加し、７０℃で還流加熱を５時間行った。次いで、エバポレータを用いて１８０Ｔｏｒｒでメチルエチルケトンを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをメチルエチルケトンに置換して、表面にメタクリル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ５）のメチルエチルケトン分散ゾルを得た。このメチルエチルケトン分散ゾルは全金属酸化物（ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、及びＳｉＯ２）濃度３０．５質量％、粘度１．２ｍＰａ・ｓ、動的光散乱法（ＤＬＳ）による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）は１７ｎｍであった。
【００９７】
製造例３：表面にメチル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ６）の調製
参考例３で得られた、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ３）のメタノール分散ゾル２００ｇに、トリメチルメトキシシラン（東レダウコーニング（株）製  商品名Ｚ６０１３）２．４ｇを撹拌下で添加し、７０℃で還流加熱を５時間行った。次いで、エバポレータを用いて１８０Ｔｏｒｒでメチルエチルケトンを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをメチルエチルケトンに置換して、表面にメチル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ６）のメチルエチルケトン分散ゾルを得た。このメチルエチルケトン分散ゾルは、全金属酸化物（ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、及びＳｉＯ２）濃度３０．５質量％、粘度８．０ｍＰａ・ｓ、動的光散乱法（ＤＬＳ）による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）は４５ｎｍであった。
【００９８】
製造例４：表面にフェニル基とグリシジル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ７）の調製
参考例３で得られた、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ３）のメタノール分散ゾル２００ｇに、フェニルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＢＭ１０３）２．０ｇ、及び３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ製
商品名ＳＩＬＱＵＥＳＴ  Ａ−１８７Ｔ）２．３ｇを撹拌下で添加し、７０℃で還流加熱を５時間行った。次いで、エバポレータを用いて８０Ｔｏｒｒでプロピレングリコールモノメチルエーテルを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをプロピレングリコールモノメチルエーテルに置換して、表面にフェニル基とグリシジル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ７）のプロピレングリコールモノメチルエーテル分散ゾルを得た。このプロピレングリコールモノメチルエーテル分散ゾルは全金属酸化物（ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、及びＳｉＯ２）濃度３０．５質量％、粘度３．４ｍＰａ・ｓ、動的光散乱法（ＤＬＳ）による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）は１１ｎｍであった。
【００９９】
製造例５：表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｃ８）の調製
参考例５で得られた、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｃ２）のメタノール分散ゾル２００ｇに、フェニルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＢＭ１０３）４．７ｇを撹拌下で添加し、７０℃で還流加熱を５時間行った。次いで、エバポレータを用いて１８０Ｔｏｒｒでメチルエチルケトンを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをメチルエチルケトンに置換して、表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｃ８）のメチルエチルケトン分散ゾルを得た。このメチルエチルケトン分散ゾルは全金属酸化物（ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、及びＳｉＯ２）濃度３０．５質量％、粘度４．１ｍＰａ・ｓ、動的光散乱法（ＤＬＳ）による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）は３３ｎｍであった。
【０１００】
製造例６：表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｃ９）の調製
参考例７で得られた、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｃ３）のメタノール分散ゾル２００ｇに、フェニルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＢＭ１０３）３．０ｇを撹拌下で添加し、７０℃で還流加熱を５時間行った。次いで、エバポレータを用いて１８０Ｔｏｒｒでメチルエチルケトンを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをメチルエチルケトンに置換して、表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｃ９）のメチルエチルケトン分散ゾルを得た。このメチルエチルケトン分散ゾルは全金属酸化物（ＳｎＯ２、及びＳｉＯ２）濃度３０．５質量％、粘度３．４ｍＰａ・ｓ、動的光散乱法（ＤＬＳ）による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）は２０ｎｍであった。
【０１０１】
実施例１
（コーティング組成物の作製）
マグネチックスターラーを備えたガラス製の容器に、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）１２．０質量部、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）３．０質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル３０．７質量部を加え、撹拌しながら製造例１で得た、表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ４）のメチルエチルケトン分散ゾル４９．２質量部を加え、０．５時間撹拌を行った。次いで、カチオン重合開始剤（三新化学工業（株）製  商品名サンエイドＳＩ−１００）のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（サンエイドＳＩ−１００  ５．０質量％）３．０質量部、保存安定化助剤（三新化学工業（株）製  商品名ＳＩ助剤）のＮ−メチル−２−ピロリドン溶液（ＳＩ助剤  ５．０質量％）０．１５質量部、ポリエーテル変性シリコーンオイル（東レ・ダウコーニング（株）製  商品名Ｌ−７００１）のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（Ｌ−７００１  １０．０質量％）２．０質量部を加え、０．５時間撹拌を行いコーティング液（コーティング組成物）を作製した。
【０１０２】
（硬化膜の形成及び評価）
ガラス基板とＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製  商品名コスモシャインＡ４３００）を
用意し、これらにスピンコート法でコーティング液（コーティング組成物）を塗布（膜厚３μｍ）し、８０℃で２分間溶媒を揮発させた後１００℃で０．５時間加熱処理し、更に１２０℃で２時間加熱処理して塗膜を硬化させ、硬化膜を有する光学部材を形成した。  上記（１）〜（６）に示す試験を実施した。評価結果を表１、及び表２に示す。
【０１０３】
実施例２
実施例１において、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）の添加量を１０．５質量部に、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）の添加量を４．５質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１０４】
実施例３
実施例１において、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）の添加量を９．０質量部に、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）の添加量を６．０質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１０５】
実施例４
実施例１において、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）の添加量を７．５質量部に、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）の添加量を７．５質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１０６】
実施例５
実施例１において、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）の添加量を６．０質量部に、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）の添加量を９．０質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１０７】
実施例６
実施例１において、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）の添加量を１５．０質量部に変更し、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）を添加しない以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１０８】
実施例７
実施例１において、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）の添加量を４．５質量部に、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）の添加量を１０．５質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１０９】
実施例８
実施例２において、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）の添加量を３．０質量部に変更し、エポキシ変性イソシアヌレート（日産化学（株）  商品名ＴＥＰＩＣ−ＶＬ）１．５質量部を加えた以外
は、実施例２と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１１０】
実施例９
実施例１において、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）の添加量を１４．０質量部に、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）の添加量を６．０質量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテルの添加量を２９．６質量部に、製造例１で得た、表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ４）のメチルエチルケトン分散ゾルの添加量を３２．８質量部に、カチオン重合開始剤（三新化学工業（株）製  商品名サンエイドＳＩ−１００）のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（サンエイドＳＩ−１００  ５．０質量％）の添加量を４．０質量部に、保存安定化助剤（三新化学工業（株）製  商品名ＳＩ助剤）のＮ−メチル−２−ピロリドン溶液（ＳＩ助剤  ５．０質量％）の添加量を０．２０質量部にそれぞれ変更し、メチルエチルケトン１１．４質量部を加えた以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１１１】
実施例１０
実施例１において、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）の添加量を８．４質量部に、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）の添加量を３．６質量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテルの添加量を２４．５質量部に、製造例１で得た、表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ４）のメチルエチルケトン分散ゾルの添加量を５９．０質量部に、カチオン重合開始剤（三新化学工業（株）製  商品名サンエイドＳＩ−１００）のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（サンエイドＳＩ−１００  ５．０質量％）の添加量を２．４質量部に、保存安定化助剤（三新化学工業（株）製  商品名ＳＩ助剤）のＮ−メチル−２−ピロリドン溶液（ＳＩ助剤  ５．０質量％）の添加量を０．１２質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１１２】
実施例１１
実施例１において、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）の添加量を７．０質量部に、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）の添加量を３．０質量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテルの添加量を２０．３質量部に、製造例１で得た、表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ４）のメチルエチルケトン分散ゾルの添加量を６５．６質量部に、カチオン重合開始剤（三新化学工業（株）製  商品名サンエイドＳＩ−１００）のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（サンエイドＳＩ−１００  ５．０質量％）の添加量を２．０質量部に、保存安定化助剤（三新化学工業（株）製  商品名ＳＩ助剤）のＮ−メチル−２−ピロリドン溶液（ＳＩ助剤  ５．０質量％）の添加量を０．１０質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１１３】
実施例１２
実施例１において、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）の添加量を６．０質量部に、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテ
ル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）の添加量を２．６質量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテルの添加量を１７．４質量部に、製造例１で得た、表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ４）のメチルエチルケトン分散ゾルの添加量を７０．３質量部に、カチオン重合開始剤（三新化学工業（株）製  商品名サンエイドＳＩ−１００）のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（サンエイドＳＩ−１００  ５．０質量％）の添加量を１．７質量部に、保存安定化助剤（三新化学工業（株）製  商品名ＳＩ助剤）のＮ−メチル−２−ピロリドン溶液（ＳＩ助剤  ５．０質量％）の添加量を０．０９質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１１４】
実施例１３
実施例２において、製造例１で得たコロイド粒子（Ｃ４）の代わりに、製造例２で得た表面にメタクリル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ５）のメチルエチルケトン分散ゾル４９．２質量部を加えた以外は、実施例２と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１１５】
実施例１４
実施例２において、製造例１で得たコロイド粒子（Ｃ４）の代わりに、製造例３で得た表面にメチル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ６）のメチルエチルケトン分散ゾル４９．２質量部を加えた以外は、実施例２と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１１６】
実施例１５
実施例２において、プロピレングリコールモノメチルエーテルの代わりに、メチルエチルケトン３０．７質量部を加え、製造例１で得たコロイド粒子（Ｃ４）の代わりに、製造例４で得た表面にフェニル基とグリシジル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイド粒子（Ｃ７）のプロピレングリコールモノメチルエーテル分散ゾル４９．２質量部を加えた以外は、実施例２と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１１７】
実施例１６
実施例２において、製造例１で得たコロイド粒子（Ｃ４）の代わりに、製造例５で得た表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｃ８）のメチルエチルケトン分散ゾル４９．２質量部を加えた以外は、実施例２と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１１８】
実施例１７
（コーティング組成物の作製）
実施例１４において、プロピレングリコールモノメチルエーテルの添加量を３２．９質量部に変更し、カチオン重合開始剤（三新化学工業（株）  商品名サンエイドＳＩ−１００）のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（サンエイドＳＩ−１００  ５．０質量％）の代わりに、光カチオン重合開始剤（サンアプロ（株）  商品名ＣＰＩ−１０１Ａ）０．９質量部を加え、保存安定化助剤（三新化学工業（株）  商品名ＳＩ助剤）のＮ−メチル−２−ピロリドン溶液（ＳＩ助剤  ５．０質量％）を使用しない以外は、実施例
１４と同様にコーティング組成物を作製した。
【０１１９】
（硬化膜の形成及び評価）
ガラス基板とＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製  商品名コスモシャインＡ４３００）を用意し、これらにスピンコート法でコーティング液（コーティング組成物）を塗布（膜厚３μｍ）し、８０℃で２分間溶媒を揮発させた後、照射強度２８ｍＷ／ｃｍ２の高圧水銀ランプで５分間紫外線処理して塗膜を硬化させ、硬化膜を有する光学部材を形成した。  上記（１）〜（６）に示す試験を実施した。評価結果を表１、及び表２に示す。
【０１２０】
実施例１８
実施例２において、製造例１で得たコロイド粒子（Ｃ４）の代わりに、製造例７で得た表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｃ９）のメチルエチルケトン分散ゾル４９．２質量部を加えた以外は、実施例２と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１２１】
実施例１９
実施例１５において、製造例５で得たコロイド粒子（Ｃ８）の代わりに、製造例７で得た表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物が結合してなる、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化第二スズ複合酸化物コロイド粒子（Ｃ９）のメチルエチルケトン分散ゾル４９．２質量部を加えた以外は、実施例１５と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１２２】
比較例１
実施例１において、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）を添加せず、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）の添加量を１５．０質量部に変更した以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１２３】
比較例２
実施例２において、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）の代わりに、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名Ｘ−４０−２６６９）１０．５質量部を添加した以外は、実施例２と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１２４】
比較例３
実施例１において、エポキシ変性オルガノシロキサン（信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０）の添加量を１６．８質量部に、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌ）の添加量を７．２質量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテルの添加量を３１．９質量部に、カチオン重合開始剤（三新化学工業（株）製  商品名サンエイドＳＩ−１００）のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（サンエイドＳＩ−１００  ５．０質量％）の添加量を４．８質量部に、保存安定化助剤（三新化学工業（株）製  商品名ＳＩ助剤）のＮ−メチル−２−ピロリドン溶液（ＳＩ助剤  ５．０質量％）の添加量を０．２４質量部にそれぞれ変更し、製造例１で得た表面にフェニル基を有する有機ケイ素化合物を結合させた変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ２）は添加せず、代わりにメチルエチルケトン３７．１質量部を加えた以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
【０１２５】
表１において、信越化学工業（株）製  商品名ＫＲ４７０を（ｉ）、ナガセケムテック
ス(株)製  商品名ＥＸ−３２１Ｌを（ｉｉ）、日産化学（株）  商品名ＴＥＰＩＣ−ＶＬを（ｉｉｉ）、信越化学工業（株）製  商品名Ｘ−４０−２６６９を（ｉｖ）で示す。
【０１２６】
〔表１〕
表１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物固形分中の含有量 [質量部]                       
(i)   (ii)  (iii)    (iv)     粒子    使用した粒子
実施例１     12.0   3.0    −       −      15.0       Ｃ４
実施例２     10.5   4.5    −       −      15.0       Ｃ４
実施例３      9.0   6.0    −       −      15.0       Ｃ４
実施例４      7.5   7.5    −       −      15.0       Ｃ４
実施例５      6.0   9.0    −       −      15.0       Ｃ４
実施例６     15.0   −     −       −      15.0       Ｃ４
実施例７      4.5  10.5    −       −      15.0       Ｃ４
実施例８     10.5   3.0    1.5      −      15.0       Ｃ４
実施例９     14.0   6.0    −       −      10.0       Ｃ４
実施例１０    8.4   3.6    −       −      18.0       Ｃ４
実施例１１    7.0   3.0    −       −      20.0       Ｃ４
実施例１２    6.0   2.6    −       −      21.4       Ｃ４
実施例１３   10.5   4.5    −       −      15.0       Ｃ５
実施例１４   10.5   4.5    −       −      15.0       Ｃ６
実施例１５   10.5   4.5    −       −      15.0       Ｃ７
実施例１６   10.5   4.5    −       −      15.0       Ｃ８
実施例１７   10.5   4.5    −       −      15.0       Ｃ８
実施例１８   10.5   4.5    −       −      15.0       Ｃ９
実施例１９   10.5   4.5    −       −      15.0       Ｃ９
比較例１      −   15.0    −       −      15.0       Ｃ４
比較例２      −    4.5    −     10.5      15.0       Ｃ４
比較例３     16.8   7.2    −       −       −         −
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１２７】
〔表２〕
表２
――――――――――――――――――――――――――――――――――
硬化方法  屈折率   硬度 密着性  透明性  耐光性  保存安定性
実施例１    熱     1.65     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例２    熱     1.65     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例３    熱     1.65     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例４    熱     1.65     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例５    熱     1.66     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例６    熱     1.65     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例７    熱     1.66     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ｂ
実施例８    熱     1.66     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例９    熱     1.61     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例１０  熱     1.70     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例１１  熱     1.72     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例１２  熱     1.75     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例１３  熱     1.64     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例１４  熱     1.64     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例１５  熱     1.64     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例１６  熱     1.58     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例１７  光     1.58     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例１８  熱     1.58     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
実施例１９  光     1.58     Ａ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
比較例１    熱     1.66     Ｃ    Ａ      Ａ     Ａ       −
比較例２    熱      −      Ｂ    Ａ      Ｄ     Ｂ       Ｃ
比較例３    熱     1.51     Ｃ    Ａ      Ａ     Ａ       Ａ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１２８】
表１、及び表２に示すように、実施例１〜１９のいずれも、硬度、密着性、透明性、耐光性、及びコート材の保存安定性に優れるものであった。
【０１２９】
一方、比較例１〜３は、硬度、密着性、透明性、耐光性、及びコート材の保存安定性において十分なものとは言えなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１３０】
本願発明のコーティング組成物が被覆された基材は、光学部材、機械部品材料、電子部品材料、建築材料、成形材料等の種々の分野に適用することができる。