(57)【要約】【課題】  均一性が良く、画像欠陥の発生が低減された高品質な堆積膜が形成可能で、低コストで堆積膜が形成可能な堆積膜形成装置を提供する。【解決手段】  基体および補助基体を合わせた長さをＡ、基体ホルダーの、基体および補助基体を装着する装着部の長さをＢとしたとき、室温では、Ａ＜Ｂ、堆積膜形成時の温度では、Ａ≧Ｂ、の関係にあり、装着部の両端には、基体および補助基体の熱膨張を制限するためのストッパーを有する。【選択図】  図２
2020050942.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部が減圧可能な反応容器と、
基体および補助基体が装着され、前記反応容器の内部に搬入されて設置される基体ホルダーと、
前記反応容器の内部に設置された前記基体を加熱するためのヒーターと
を有し、前記基体上に堆積膜を形成するための堆積膜形成装置において、
前記基体および前記補助基体を合わせた長さをＡとし、
前記基体ホルダーの、前記基体および前記補助基体を装着する装着部の長さをＢとしたとき、
室温では、Ａ＜Ｂ
堆積膜形成時の温度では、Ａ≧Ｂ
の関係にあり、
前記装着部の両端に、前記基体および前記補助基体の熱膨張を制限するためのストッパーを有する
ことを特徴とする堆積膜形成装置。
【請求項２】
前記ストッパーのうち、前記装着部の一端の第１のストッパーは、前記基体ホルダーに固定または一体化されており、他端の第２のストッパーは、前記基体ホルダーに着脱可能であり、前記第１のストッパーおよび前記第２のストッパーのどちらか一方が弾性を有する請求項１に記載の堆積膜形成装置。
【請求項３】
前記基体が、アルミニウム合金製である請求項１または２に記載の堆積膜形成装置。
【請求項４】
前記補助基体が、アルミニウム合金製である請求項１〜３のいずれか１項に記載の堆積膜形成装置。
【請求項５】
前記基体ホルダーの少なくとも一部が、ステンレス鋼製である請求項１〜４のいずれか１項に記載の堆積膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は堆積膜形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、アモルファス材料などの非単結晶材料で構成された堆積膜が知られている。例えば、アモルファスシリコン堆積膜（以下「ａ−Ｓｉ堆積膜」とも表記する。）は、電子写真感光体用の堆積膜として用いられている。
【０００３】
ａ−Ｓｉ堆積膜を有する電子写真感光体（以下「ａ−Ｓｉ感光体」とも表記する。）の製造には、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法が用いられる。それらの中でも、円筒状の基体を加熱しながら、高周波電力（主に１３．５６ＭＨｚ）によって堆積膜形成用の原料ガスを分解し、基体上に原料ガスの分解種を堆積させて、基体上に堆積膜を形成する電子写真感光体の製造方法が実用化されている。
【０００４】
電子写真感光体の堆積膜のような大面積を有する堆積膜を形成する場合、膜の特性の均一化が必要であり、そのための堆積膜形成装置の構成に関して、従来から提案がなされている。
【０００５】
特許文献１には、円筒状の基体の長手方向の両端に円筒状の補助基体を設けて、長手方向の均一化を図る方法が開示されている。
【０００６】
特許文献２には、円筒状の基体と円筒状の補助基体の接続部分における、高周波電力に対するアース面の不連続を低減するため、加圧手段により補助基体を基体の長手方向へ加圧し、補助基体を基体へ押圧した状態で堆積膜の形成を行う方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開昭６０−８６２７６号公報
【特許文献２】特開２０１１−２５７６５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来、上記のような方法により堆積膜の均一化が図られてきた。
【０００９】
しかしながら、電子写真感光体を用いた製品に対する市場の要求レベルは日々高まっており、この要求に応えるべく、より高品質の堆積膜が求められるようになっている。すなわち、堆積膜の均一性の向上だけでなく、画像欠陥の低減や低コスト化なども要求されている。このような要求を満たすため、さまざまな対策や工夫が実施されている。
【００１０】
特許文献２に記載の製造装置では、補助基体を基体の長手方向へ加圧して密着させるために、ネジとバネを有する加圧手段により常時上から押さえつける構成となっている。このため、組み上げ作業時に、基体、補助基体および加圧手段の擦れによる発塵で、基体が汚染され、それが画像欠陥の原因となる場合がある。また、組み上げ／外し作業工数も多く、コストアップの要因にもなる。
【００１１】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、均一性が良く、画像欠陥の発生が低減された高品質な堆積膜が形成可能で、低コストで堆積膜が形成可能な堆積膜形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、
内部が減圧可能な反応容器と、
基体および補助基体が装着され、前記反応容器の内部に搬入されて設置される基体ホルダーと、
前記反応容器の内部に設置された前記基体を加熱するためのヒーターと
を有し、前記基体上に堆積膜を形成するための堆積膜形成装置において、
前記基体および前記補助基体を合わせた長さをＡとし、
前記基体ホルダーの、前記基体および前記補助基体を装着する装着部の長さをＢとしたとき、
室温では、Ａ＜Ｂ
堆積膜形成時の温度では、Ａ≧Ｂ
の関係にあり、
前記装着部の両端に、前記基体および前記補助基体の熱膨張を制限するためのストッパーを有する
ことを特徴とする堆積膜形成装置である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、画像欠陥の発生が低減された高品質な堆積膜が形成可能で、低コストで堆積膜が形成可能な堆積膜形成装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明に係る堆積膜形成装置の例を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明に係る堆積膜形成装置の例を模式的に示す断面図である。
【図３】ａ−Ｓｉ感光体の層構成を模式的に示した断面図である。
【図４】本発明に係る堆積膜形成装置の例を模式的に示す断面図である。
【図５】従来の堆積膜形成装置の例を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の堆積膜形成装置は、
内部が減圧可能な反応容器と、
基体および補助基体が装着され、前記反応容器の内部に搬入されて設置される基体ホルダーと、
前記反応容器の内部に設置された前記基体を加熱するためのヒーターと
を有し、前記基体上に堆積膜を形成するための堆積膜形成装置において、
前記基体および前記補助基体を合わせた長さをＡとし、
前記基体ホルダーの、前記基体および前記補助基体を装着する装着部の長さをＢとしたとき、
室温では、Ａ＜Ｂ
堆積膜形成時の温度では、Ａ≧Ｂ
の関係にあり、
前記装着部の両端に、前記基体および前記補助基体の熱膨張を制限するためのストッパーを有する
ことを特徴とする。
【００１６】
以下、本発明の具体的な実施形態について、図面を用いて説明する。
【００１７】
図１は、プラズマＣＶＤ法によって、ａ−Ｓｉ感光体を製造するための堆積膜形成装置の一例を示す模式的な断面図である。
【００１８】
堆積膜形成装置１００は、基体１０１上（基体１０１の外周面上）に堆積膜を形成するための装置である。
【００１９】
反応容器１１０は、上碍子１０６、円筒状のカソード電極１０７、下碍子１０８および底板１０９を有し、壁面の一部である上碍子１０６の上にゲートバルブ１０５が備えられている。底板１０９は、排気配管１１７および排気バルブ１１８を介して不図示の排気装置（真空ポンプ）が接続されており、反応容器１１０の内部が減圧可能となっている。
【００２０】
円筒状の基体１０１は、円筒状の上部の補助基体１０２、円筒状の下部の補助基体１０３とともに基体ホルダー１０４に装着され、反応容器１１０の内部の受台１１１に、基体ホルダー１０４の下部を嵌め込むように設置される。受台１１１には、不図示の回転装置が取り付けられ、基体ホルダー１０４が回転可能となっている。反応容器１１０の内部には、ヒーター１１２が設置され、基体ホルダー１０４の内側から円筒状の基体１０１を加熱可能となっている。
【００２１】
基体１０１、上部の補助基体１０２および下部の補助基体１０３、ならびに、基体ホルダー１０４について詳しく説明する。図２は、これらを示す断面図である。
【００２２】
基体ホルダー１０４は、一端（下端）の外周側に、基体１０１と上部の補助基体１０２および下部の補助基体１０３（これらを合わせて、以下「ワーク２０１」とも表記する。）を載せるための固定または一体化された下部のストッパー２０３（第１のストッパー）を有している。そして、ワーク２０１を、基体ホルダー１０４を覆うようにして下部のストッパー２０３に載せた後、基体ホルダー１０４の他端（上端）の外周側に着脱可能な上部のストッパー２０２（第２のストッパー）を取り付ける。こうして組み上げ作業が完成する。
【００２３】
組み上げ作業は、大気中で、室温で行われる。室温でのワーク２０１の寸法をＡ、基体ホルダー１０４の上部のストッパー２０２の下面から下部のストッパー２０３の上面まで（以下「ワーク装着部２０４」とも表記する。）の寸法をＢとする。このとき、
Ａ＜Ｂ
となるように設計する。こうすることで、上部のストッパー２０２がワーク２０１を押さえつけることなく組み上げができるので、上部のストッパー２０２と上部の補助基体１０２の擦れによる発塵を抑えることができる。また、基体１０１と上部の補助基体１０２および下部の補助基体１０３は、下部のストッパー２０３に載っているだけなので、それぞれの接触面の擦れによる発塵は少ない。これにより、組み上げ作業による、基体１０１の外周面への塵の付着の低減が可能となる。
【００２４】
組み上げられた基体ホルダー１０４は、反応容器１１０の内部の受台１１１に設置された後、反応容器１１０の内部は減圧にされる。そして、ヒーター１１２を運転して、基体ホルダー１０４の内側から円筒状の基体１０１を加熱し、堆積膜形成可能な温度になるまで昇温する。このとき、円筒状の基体１０１、上部の補助基体１０２、下部の補助基体１０３および基体ホルダーは熱膨張し、ワーク２０１の寸法Ａ、ワーク装着部２０４の寸法Ｂはそれぞれ大きくなるが、堆積膜形成時の温度では、
Ａ≧Ｂ
となるように設計する。こうすることで、堆積膜形成時、つまり、高周波電力を印加する際には、円筒状の基体１０１と上部の補助基体１０２および下部の補助基体１０３が長手方向に加圧されており、それぞれの接触面が密着した状態になっている。これにより、堆積膜の均一性が良好になる。
【００２５】
堆積膜形成時の温度でＡ≧Ｂとなるようにするには、ワーク２０１と基体ホルダー１０４の熱膨張に差をつければよい。一般的に、ワーク２０１側を熱膨張が大きい材質にすることは、制約があることが多い。例えば、電子写真感光体用の円筒状の基体には、加工性やコストの面から、アルミニウム合金製のものが用いられることが多い。また、ａ−Ｓｉ感光体の製造に用いられる上部の補助基体１０２や下部の補助基体１０３には、堆積膜の均一性や欠陥抑制の面から、円筒状の基体１０１と同材質または近い材質のものが用いられることが多い。すなわち、補助基体にも、アルミニウム合金製のものが用いられることが多い。したがって、材質に制限が少ない、基体ホルダー１０４側の熱膨張を小さくなるようにすることが好ましい。
【００２６】
基体ホルダー１０４に用いる材質は、熱膨張がワーク２０１よりも小さく、堆積膜形成時の温度で、Ａ≧Ｂとなれば特に制限はない。ただし、ワーク２０１がアルミニウム合金であり、堆積膜形成装置が減圧装置であり、繰り返し使用時の耐久性が求められることが一般的であることから、ステンレス鋼製のものが好適である。また、基体ホルダー１０４のすべてが単一の材質である必要はなく、一部に熱膨張係数が小さい材質を用いてもよい。例えば、アルミニウム合金と一部にステンレス鋼を用いることで、ステンレス鋼単一で製造されているものよりも基体ホルダー１０４の軽量化を図ることができる。
【００２７】
なお、堆積膜形成時の温度でＡ≧Ｂとするが、ＡとＢの差が大きすぎると上部のストッパー２０２または下部のストッパー２０３が破損しやすくなるので、大きくなりすぎないように設計することが好ましい。また、上部のストッパー２０２または下部のストッパー２０３のどちらか一方が弾性を有すると、破損の危険性が下がるので好ましい。
【００２８】
堆積膜形成装置１００について、図１を用いてさらに説明する。
【００２９】
反応容器１１０の内部には、複数本の原料ガス導入管１１３が、円筒状の基体１０１を取り囲むように配設されている。原料ガス導入管１１３の側面には、長手方向に沿って多数の細孔が設けられている。さらに、原料ガス導入管１１３には、原料ガス供給管１１６を介して不図示の原料ガス供給装置が接続されている。これらにより、反応容器１１０の内部に原料ガスが供給可能となっている。また、円筒状のカソード電極１０７には、マッチングボックス１１４を介して高周波電源１１５が接続されている。
【００３０】
（ａ−Ｓｉ感光体の製造）
ａ−Ｓｉ感光体は、円筒状の基体１０１の外周面に、図３に示すａ−Ｓｉ堆積膜３０１を形成することにより製造することができる。
【００３１】
図３は、ａ−Ｓｉ感光体の層構成の一例を示す模式図である。図３において、ａ−Ｓｉ堆積膜３０１は、円筒状の基体１０１側から順に、下部阻止層３０２、光導電層３０３、表面層３０４で構成されている。
【００３２】
ａ−Ｓｉ堆積膜３０１の形成を、堆積膜形成装置１００を用いて行う。
【００３３】
まず、あらかじめ旋盤を用いて外周面に鏡面加工を施した円筒状の基体１０１と、上部の補助基体１０２および下部の補助基体１０３を、基体ホルダー１０４に装着する。次に、反応容器１１０の内部を大気圧にして、ゲートバルブ１０５を開け、基体ホルダー１０４を受台１１１に設置し、ゲートバルブ１０５を閉める。
【００３４】
次に、反応容器１１０の内部が圧力計１１９の値で所定の圧力（例えば、０．６７Ｐａ）以下になるまで、排気バルブ１１８を開いて不図示の排気装置で排気する。反応容器１１０およびゲートバルブ１０５の内部が所定の圧力になった時点で、加熱用の不活性ガス（例えば、Ａｒガス）を反応容器１１０に導入する。そして、反応容器１１０の内部が所定の圧力になるように加熱用の不活性ガスの流量および不図示の排気装置の排気速度を調整する。その後、温度コントローラー（不図示）を作動させてヒーター１１２を運転し、円筒状の基体１０１の温度を所定の温度（例えば、２０〜５００℃）に制御する。円筒状の基体１０１が所定の温度に加熱されたところで、不活性ガスを徐々に止める。これと並行して、堆積膜形成用の原料ガスを徐々に導入する。
【００３５】
原料ガスとしては、例えば、ＳｉＨ４、Ｓｉ２Ｈ６、ＣＨ４、Ｃ２Ｈ６、ＮＯのような材料ガスや、Ｂ２Ｈ６、ＰＨ３のようなドーピングガス、Ｈ２、Ｈｅ、Ａｒのような希釈ガスが挙げられる。次に、不図示の原料ガス供給装置よって、各原料ガスが所定の流量になるように調整する。その際、反応容器１１０の内部が所定の圧力（例えば、１〜１００Ｐａ）に維持されるように、圧力計１１９を見ながら排気装置の排気速度を調整する。
【００３６】
堆積膜形成用の原料ガスを導入した後、圧力計１１９の値が安定したところで、受台１１１を回転させ、円筒状の基体１０１と、上部の補助基体１０２および下部の補助基体１０３が装着された基体ホルダー１０４を回転させる。
【００３７】
以上の手順によって堆積膜形成の準備を完了した後、円筒状の基体１０１の外周面に堆積膜の形成を行う。具体的には、高周波電源１１５を所定の電力に設定して円筒状のカソード電極１０７に供給し、グロー放電を生起させる。このとき、反射電力が最小となるようにマッチングボックス１１４を調整し、高周波の入射電力から反射電力を差し引いた値を所定の値に調整する。この放電エネルギーによって反応容器１１０の内部に導入された原料ガスが分解され、円筒状の基体１０１の外周面に堆積膜が形成される。
【００３８】
所望の膜厚の堆積膜の形成を行った後、電力の供給を止め、反応容器１１０の内部への各原料ガスの流入を止めて、いったん高真空になるように反応容器１１０の内部を排気する。上記の操作を繰り返し行うことによって、所定の層構成のａ−Ｓｉ堆積膜３０１を形成することができる。円筒状の基体１０１の外周面にａ−Ｓｉ堆積膜３０１を形成した後、ヒーター１１２による加熱を停止する。次に、反応容器１１０の内部を大気圧にして、ゲートバルブ１０５を開け、基体ホルダー１０４を取り出す反応容器１１０の内部から取り出す。そして、ａ−Ｓｉ堆積膜３０１が形成された円筒状の基体１０１を基体ホルダーから外し、ａ−Ｓｉ感光体が完成する。
【実施例】
【００３９】
以下実施例により、本発明の効果を具体的に説明するが、本発明は、これにより何ら限定されるものではない。
【００４０】
また、以下の実施例および比較例では、外径寸法８４ｍｍ、肉厚３ｍｍからなるＡｌ−Ｍｇ系のアルミニウム合金の円筒状の基体１０１を用いた。また、上部の補助基体１０２および下部の補助基体１０３に関しても、Ａｌ−Ｍｇ系のアルミニウム合金製のものを用いた。
【００４１】
ａ−Ｓｉ堆積膜の形成は、円筒状の基体１０１の外周面に、図１に示す堆積膜形成装置１００を用い、図３に示す層構成を、表１に示す堆積膜形成条件で行った。
【００４２】
【表１】
2020050942.tif 000003
【００４３】
〔実施例１〕
図２に示す基体ホルダー１０４を用いた。基体ホルダー１０４の材質は、ＳＵＳ３０４の単一材とした。また、各部材の寸法を表２に示す。
【００４４】
【表２】
2020050942.tif 000004
【００４５】
そして、ａ−Ｓｉ感光体を５回（５本）製造し、以下に述べる評価を行った。結果を表３に示す。
【００４６】
（堆積膜の膜厚ムラの評価）
堆積膜の均一性の評価として、膜厚ムラの評価を行った。
【００４７】
堆積膜の膜厚ムラは、軸ムラと周ムラに分けて行った。
【００４８】
堆積膜の膜厚の計測は、膜厚計（商品名：ＦＩＳＣＨＥＲ  ＳＣＯＰＥ  ＭＭＳ、フィッシャーインストルメンツ社製）を用いた。計測位置は円筒状の基体の軸方向については、軸方向の中央位置、および中央位置から両端側に４０ｍｍ間隔で各々４点の９点とした。周方向については、上述した各軸方向の位置において周方向に４５度間隔の８点とした。計測位置は計７２点である。
【００４９】
そして、軸方向の各点の膜厚を、その軸方向の位置における周方向８点の計測値の平均値とし、軸方向９点の膜厚の最大値と最小値の差を膜厚軸ムラとして評価した。
【００５０】
また、軸方向の各点で、周方向８点の計測値の最大値と最小値の差を軸方向各点での周ムラとし、軸方向９点の最大値を膜厚周ムラとした。
【００５１】
この堆積膜の膜厚ムラの評価を行い、５本の平均値を評価結果とした。
【００５２】
堆積膜の膜厚ムラの評価は、比較例１で得られた結果を１００としたときの相対評価で行い、評価結果を以下のようにランク付けした。この評価結果は、数字が小さいほど膜厚ムラが小さく、膜厚の均一性が高いことを示す。
Ａ・・・９０未満
Ｂ・・・９０以上１１０未満
Ｃ・・・１１０以上
【００５３】
（球状突起の個数の評価）
画像欠陥の評価の代替として、堆積膜の欠陥である球状突起の個数の評価を行った。
【００５４】
円筒状の基体の長手方向に、中心から±１７０ｍｍの領域を光学顕微鏡で観察し、堆積膜の表面に存在する球状突起の外接円の直径が１５μｍ以上のものの個数を調べた。
【００５５】
製造した５本のａ−Ｓｉ感光体について、球状突起の個数の平均値を「球状突起数」とし、比較例１で得られた結果を１００としたときの相対評価で行い、評価結果を以下のようにランク付けした。この評価結果は、数字が小さいほど球状突起の個数が少なく、画像欠陥が少ないことを示す。
Ａ・・・９０未満
Ｂ・・・９０以上１１０未満
Ｃ・・・１１０以上
【００５６】
〔実施例２〕
図２に示す基体ホルダー１０４（６００ｍｍ）の、ワーク装着部Ｂの上部１２０ｍｍをＳＵＳ３０４で、残り４８０ｍｍをＪＩＳ５０５２のアルミニウム合金で構成したものにした。また、上部の補助基体１０２の長さを１０８ｍｍから１０８．８ｍｍに変更した。それ以外は実施例１と同様とし、実施例１と同様にａ−Ｓｉ感光体の製造と評価を行った。結果を表３に示す。
【００５７】
〔実施例３〕
図２に示す基体ホルダー１０４の材質を、ＪＩＳ４０３２のアルミニウム合金で構成したものにした。また、上部の補助基体１０２の長さを１０８ｍｍから１０８．５ｍｍに変更した。それ以外は実施例１と同様とし、実施例１と同様にａ−Ｓｉ感光体の製造と評価を行った。結果を表３に示す。
【００５８】
〔実施例４〕
実施例１の下部の補助基体１０３を２ｍｍ短縮して１１０ｍｍから１０８ｍｍに変更した。また、下部の補助基体１０３と下部のストッパー２０３の間に、自由高さが２ｍｍ、板厚が１ｍｍの皿バネ４０１を挟んだ。皿バネ４０１を下部のストッパー２０３の一部とすると、本実施例のワーク装着部４０２の寸法Ｂは、５９８〜５９９ｍｍとなる。それ以外は実施例１と同様とし、実施例１と同様にａ−Ｓｉ感光体の製造と評価を行った。結果を表３に示す。
【００５９】
〔比較例１〕
図３に示す構成で、ネジ５０５とバネ５０６からなる加圧手段により、上部の補助基体５０２を円筒状の基体１０１および下部の補助基体１０３の長手方向へ加圧した。なお、基体ホルダー５０４の材質は、ＪＩＳ５０５２のアルミニウム合金で構成したものである。それ以外は実施例１と同様とし、実施例１と同様にａ−Ｓｉ感光体の製造と評価を行った。結果を表３に示す。
【００６０】
〔比較例２〕
実施例１の上部の補助基体の長さを１０８ｍｍから１０９ｍｍに変更した。それ以外は実施例１と同様とし、実施例１と同様にａ−Ｓｉ感光体の製造と評価を行った。結果を表３に示す。
【００６１】
〔比較例３〕
実施例１の上部の補助基体の長さを１０８ｍｍから１０７ｍｍに変更した。それ以外は実施例１と同様とし、実施例１と同様にａ−Ｓｉ感光体の製造と評価を行った。結果を表３に示す。
【００６２】
【表３】
2020050942.tif 000005
【００６３】
表３の結果から、各実施例および比較例３の球状突起の個数は良化した。つまり、上部の補助基体、円筒状の基体１０１および下部の補助基体１０３の長手方向へ常時加圧していない構成にすることで発塵が減り、円筒状の基体の汚染が低減されたことがわかる。また、常時加圧していない構成は、組み上げが容易になったため、作業工数は減少している。
【００６４】
また、各実施例および比較例２は、膜厚ムラが比較例１と同等あることから、円筒状の基体と補助基体の接続が良好であることがわかる。さらに実施例４は良化していることから、弾性を有するとより接続が良好になることがわかる。
【００６５】
以上から、本発明の各実施例は、均一性が良く、画像欠陥を低減した高品質な堆積膜が形成可能で、さらに低コストな堆積膜が形成可能な堆積膜形成装置を提供することができる。
【符号の説明】
【００６６】
１０１  円筒状の基体
１０２  円筒状の上部の補助基体
１０３  円筒状の下部の補助基体
１０４  基体ホルダー
２０１  ワーク
２０２  上部のストッパー
２０３  下部のストッパー
２０４  ワーク装着部
Ａ  ワークの寸法
Ｂ  ワーク装着部の寸法
【図１】
2020050942.tif 000006
【図２】
2020050942.tif 000007
【図３】
2020050942.tif 000008
【図４】
2020050942.tif 000009
【図５】
2020050942.tif 000010