(57)【要約】【課題】光学素子の位置を調整する調整機構を設けたときの該光学素子の振動の点で有利な技術を提供する。【解決手段】光学素子の位置を調整する調整機構を備えた光学装置において、前記調整機構は、前記光学素子の光軸に垂直な面内における第１方向に、前記光学素子の移動を案内する第１案内部と、前記面内において前記第１方向と異なる第２方向に、前記光学素子の移動を案内する第２案内部と、前記面および前記光軸と交差する第３方向に、前記光学素子の移動を案内する第３案内部と、を含む。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学素子の位置を調整する調整機構を備えた光学装置であって、
前記調整機構は、
前記光学素子の光軸に垂直な面内における第１方向に、前記光学素子の移動を案内する第１案内部と、
前記面内において前記第１方向と異なる第２方向に、前記光学素子の移動を案内する第２案内部と、
前記面および前記光軸と交差する第３方向に、前記光学素子の移動を案内する第３案内部と、
を含むことを特徴とする光学装置。
【請求項２】
前記光学素子を支持する支持部材を更に含み、
前記調整機構は、前記支持部材と前記光学素子との間に設けられている、ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項３】
前記第１案内部、前記第２案内部、および前記第３案内部は、前記光学素子の光軸方向に沿って直列に配列されている、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光学装置。
【請求項４】
前記面と前記第３方向との間の角度は、０．６度以上かつ３０度以下の範囲内である、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項５】
前記第１案内部、前記第２案内部、および前記第３案内部はそれぞれ、前記光学素子の姿勢を維持しながら、前記光学素子の並進移動を案内するように構成されている、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項６】
前記調整機構は、前記第３案内部で前記光学素子の移動を案内したときの前記第１方向の移動成分を、前記第１案内部で案内される前記光学素子の移動によって補正可能に構成されている、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項７】
前記調整機構は、前記第３案内部で前記光学素子の移動を案内したときの前記第２方向の移動成分を、前記第２案内部で案内される前記光学素子の移動によって補正可能に構成されている、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項８】
前記調整機構は、前記第１案内部に沿って前記光学素子を駆動する第１駆動部と、前記第２案内部に沿って前記光学素子を駆動する第２駆動部と、前記第３案内部に沿って前記光学素子を駆動する第３駆動部とを含み、
前記光学装置は、前記光学装置の位置の目標調整量に基づいて、前記第１駆動部、前記第２駆動部、および前記第３駆動部を制御する制御部を更に含む、ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項９】
マスクのパターン像を基板上に投影する投影光学系であって、
光の反射面を有する光学素子と、
前記光学素子の位置を調整する調整機構を備えた、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学装置と、
を含むことを特徴とする投影光学系。
【請求項１０】
前記投影光学系は、凹面鏡および凸面鏡を含み、
前記調整機構は、前記光学素子として前記凸面鏡の位置を調整する、ことを特徴とする請求項９に記載の投影光学系。
【請求項１１】
基板を露光する露光装置であって、
マスクを照明する照明光学系と、
前記マスクのパターン像を前記基板上に投影する、請求項９又は１０に記載の投影光学系と、
を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光を行われた前記基板を現像する工程と、を含み、
現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子の位置を調整する調整機構を備えた光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネル等の表示素子や半導体デバイスなどの製造工程（リソグラフィ工程）で用いられる装置の１つとして、マスクのパターンを基板上に投影して該基板を露光する露光装置がある。特許文献１には、凸面鏡や凹面鏡などの複数の光学素子を用いてマスクのパターン像を基板上に投影する投影光学系を有する、いわゆる反射ミラー型（ミラープロジェクション型）の露光装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１６−１０９７４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
投影光学系では、非点収差等の結像性能を調整するため、光学素子（例えば凸面鏡）の位置を調整する調整機構が設けられることが好ましい。しかしながら、調整機構を設けたことにより、外乱の影響を受けたときの光学素子の振動が大きくなってしまうと、マスクのパターン像を基板上に精度よく投影することが困難になりうる。
【０００５】
そこで、本発明は、光学素子の位置を調整する調整機構を設けたときの該光学素子の振動の点で有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての光学装置は、光学素子の位置を調整する調整機構を備えた光学装置であって、前記調整機構は、前記光学素子の光軸に垂直な面内における第１方向に、前記光学素子の移動を案内する第１案内部と、前記面内において前記第１方向と異なる第２方向に、前記光学素子の移動を案内する第２案内部と、前記面および前記光軸と交差する第３方向に、前記光学素子の移動を案内する第３案内部と、を含むことを特徴とする。
【０００７】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、例えば、光学素子の位置を調整する調整機構を設けたときの該光学素子の振動の点で有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】露光装置の概略図である。
【図２】調整機構の構成例を示す図である。
【図３】調整機構の構成例を示す図である。
【図４】第３調整部（第３案内部）を示す図である。
【図５】凸面鏡の位置を調整する方法を説明するための図である。
【図６】従来の調整機構と本実施形態の調整機構との比較を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材ないし要素については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１１】
＜第１実施形態＞
本発明に係る第１実施形態について説明する。図１は、本実施形態における、投影光学系ＰＬを含む露光装置１０の概略図である。本実施形態の露光装置１０は、マスクＭと基板Ｓ（例えばガラス基板）とをＹ方向に相対的に移動させながら、マスクＭに形成されたパターンの像を、フォトレジストが塗布された基板Ｓに投影して、基板Ｓを露光する。露光装置１０は、マスクＭを照明する照明光学系ＩＬと、マスクＭのパターンを基板上に投影する投影光学系ＰＬと、制御部ＣＮＴとを有する。制御部ＣＮＴは、例えばＣＰＵやメモリなどを含むコンピュータによって構成され、露光装置１０の各部を制御する。
【００１２】
投影光学系ＰＬは、マスクＭからの光を反射する複数の光学素子によって構成されうる。具体的には、投影光学系ＰＬは、第１反射面１１ａおよび第２反射面１１ｂを有する多面光学部材１１と、第１凹反射面１２ａおよび第２凹反射面１２ｂを有する凹面鏡１２と、反射面１３ａを有する凸面鏡１３とを含みうる。多面光学部材１１、凹面鏡１２、および凸面鏡１３は、マスクＭ（物体面）のパターンを基板Ｓ（像面）状に結像する結像光学系を構成する。凹面鏡１２および凸面鏡１３の光軸１４は共通であり、図１では一点鎖線によって示されている。また、投影光学系ＰＬは、これらの光学素子を収納する鏡筒１５を有する。
【００１３】
ここで、本実施形態では、鉛直方向（例えば基板Ｓの面と垂直な方向）をＺ方向とし、水平面内（例えば基板Ｓの面と平行な面内）において互いに直行する２つの方向をＸ方向、Ｙ方向とする。また、本実施形態のＹ方向は、凸面鏡１３（凹面鏡１２）の光軸１４と平行な方向（光軸方向）であるものとして定義される。
【００１４】
多面光学部材１１は、例えば、ＹＺ断面が三角形状または台形状の部材であり、第１反射面１１ａ、第２反射面１１ｂ、および面１１ｃを含む複数の平面で構成される。多面光学部材１１の第１反射面１１ａ、第２反射面１１ｂには反射膜が形成され、入射光を反射させて、光路を折り曲げる機能を有する。また、本実施形態の多面光学部材１１には、凸面鏡１３を支持する支持部材１６が貫通する貫通穴１１ｄが設けられている。
【００１５】
照明光学系ＩＬから−Ｚ方向に射出された光は、マスクＭを透過し、マスクＭの下方に配置された多面光学部材１１の第１反射面１１ａで＋Ｙ方向に折り曲げられる。多面光学部材１１の第１反射面１１ａで折り曲げられた光は、第１凹反射面１２ａ、凸面鏡１３の反射面１３ａ、第２凹反射面１２ｂ、第２反射面１１ｂの順に反射され、基板Ｓに入射する。つまり、投影光学系ＰＬでは、物体面からの光が、第１反射面１１ａ、第１凹反射面１２ａ、反射面１３ａ、第２凹反射面１２ｂ、第２反射面１１ａの順で反射されるように、多面光学部材１１、凹面鏡１２および凸面鏡１３が構成されうる。
【００１６】
凸面鏡１３は、支持部材１６によって支持されうる。支持部材１６は、凸面鏡１３の光軸１４の方向（Ｙ方向）に沿って延伸した部材であり、一方の端部は、投影光学系ＰＬの鏡筒１５に接続され、他方の端部は、凸面鏡１３の反射面１３ａの反対側の面に調整機構２０を介して接続される。つまり、支持部材１６は、一方の端部が鏡筒１５に支持され、他方の端部で凸面鏡１３を支持する片持ち梁の構造となっている。
【００１７】
［調整機構の構成］
投影光学系ＰＬでは、非点収差等の結像性能（光学性能）を調整する光学装置において、光学素子（例えば凸面鏡１３）の位置を３軸方向（Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向）に調整するための機構が設けられることが好ましい。本実施形態では、凸面鏡１３の位置を調整するための調整機構２０が、凸面鏡１３と支持部材１６との間に設けられうる。しかしながら、調整機構２０を設けたことによって凸面鏡１３の支持剛性が低下し、外乱の影響を受けたときの凸面鏡１３の振動が大きくなってしまうと、マスクＭのパターン像を基板上に精度よく投影することが困難になりうる。そこで、本実施形態の調整機構２０は、凸面鏡１３の支持剛性の低下を抑えることができるように構成されている。
【００１８】
図２および図３は、本実施形態の調整機構２０の構成例を示す図である。図２は、調整機構２０をＸ方向から見た図であり、図３は、調整機構２０をＺ方向から見た図である。本実施形態の調整機構２０は、例えば、凸面鏡１３の光軸方向（Ｙ方向）に沿って直列に配置された第１調整部２０ａ、第２調整部２０ｂ、および第３調整部２０ｃを含みうる。図２および図３に示す調整機構２０の構成例では、凸面鏡１３側から第１調整部２０ａ、第２調整部２０ｂ、第２調整部２０ｃの順で配列しているが、各調整部２０ａ〜２０ｃの配列順は任意でありうる。
【００１９】
第１調整部２０ａは、凸面鏡１３の光軸１４に垂直な面内（本実施形態ではＸＺ面内）における第１方向（本実施形態ではＺ方向）に、凸面鏡１３の位置を調整するための機構である。第１調整部２０ａは、凸面鏡１３の姿勢を維持しながら、第１方向（Ｚ方向）に沿った凸面鏡１３の並進移動を案内する第１案内部２１を含む。第１案内部２１は、例えば、Ｚ方向に延伸したガイドレール２１ａ（固定部材）と、ガイドレール２１ａに沿って移動可能な移動体２１ｂ（可動部材）とを含むリニアガイドによって構成されうる。ガイドレール２１ａは、凸面鏡１３に取り付けられたベース板２４に固定され、移動体２１ｂは、ベース板２５に固定されうる。ここで、第１案内部２１では、凸面鏡１３の姿勢変動を低減するため、図３に示すように、Ｘ方向に離間した複数（本実施形態では２つ）のリニアガイドが設けられるとよい。第１案内部２１は、リニアガイドを用いる構成以外にも、クロスローラガイドを用いる構成や、Ｖ字型溝にボールを配置する構成、アリ溝ガイドを用いる構成、無給油ガイドを用いる構成などを適用することができる。
【００２０】
また、第１調整部２０ａは、第１案内部２１に沿って凸面鏡１３を第１方向（Ｚ方向）に駆動する第１駆動部を含みうる。第１駆動部は、例えばステッピングモータやリニアモータなどのアクチュエータを含み、第１案内部２１のガイドレール２１ａと移動体２１ｂとをＺ方向に相対的に駆動することで、凸面鏡１３をＺ方向に駆動することができる。ステッピングモータは、汎用アクチュエータであるため比較的安価であり、また、駆動パルス数で位置を制御できるため、位置調整制御が容易である点で優れている。リニアモータは、直線駆動アクチュエータであるため、ステッピングモータのような回転駆動アクチュエータを用いる場合に必要となる回転運動を直線運動に変換する機構が不要であり、第１駆動部の構成を簡素化できるという点で優れている。本実施形態の第１駆動部は、例えば、第１案内部２１のガイドレール２１ａを固定子とし、移動体２１ｂを可動子とするリニアモータによって構成されうる。
【００２１】
ここで、第１駆動部は、組み立て時やメンテナンス時において凸面鏡１３の位置を調整する場合には、アクチュエータ以外にも、押し引きネジや、押しネジと引張りバネとで与圧を変更する機構など、手動で凸面鏡１３を駆動する構成であってもよい。第１駆動部を上記の手動機構で構成した場合、第１駆動部の構成を簡素化できるとともに、安価に作製することができる。また、アクチュエータ等の発熱源がないため、発熱による投影光学系ＰＬの結像性能の劣化を低減することもできる。
【００２２】
さらに、第１調整部２０ａは、調整後の凸面鏡１３の位置を保持（維持）するための保持部を含んでもよい。該保持部は、例えば、第１案内部２１のガイドレール２１ａと移動体２１ｂとの相対位置をロック（固定）するロック機構（固定機構）を含みうる。ロック機構としては、例えばエアクランパなどが用いられ、この場合、ガイドレール２１ａと移動体２１ｂとの相対位置を遠隔でロックすることができる。また、ロック機構は、ネジ締結によってガイドレール２１ａと移動体２１ｂとの相対位置をロックする機構であってもよい。この場合、第１調整部２０ａによる凸面鏡１３の支持剛性を向上させることができる。
【００２３】
第２調整部２０ｂは、凸面鏡１３の光軸１４に垂直な面内（ＸＺ面内）において第１方向と異なる第２方向（本実施形態では、第１方向（Ｚ方向）に垂直なＸ方向）に、凸面鏡１３の位置を調整するための機構である。第２調整部２０ｂは、凸面鏡１３の姿勢を維持しながら、第２方向（Ｘ方向）に沿って凸面鏡１３の並進移動を案内する第２案内部２２を含む。第２案内部２２は、例えば、Ｘ方向に延伸したガイドレール２２ａ（固定部材）と、ガイドレール２２ａに沿って移動可能な移動体２２ｂ（可動部材）とを含むリニアガイドによって構成される。ガイドレール２２ａは、第１案内部２１の移動体２１ｂが固定されたベース板２５に固定され、移動体２２ｂは、ベース板２６に固定されうる。ここで、第２案内部２２では、凸面鏡１３の姿勢変動を低減するため、図２に示すように、Ｚ方向に離間した複数（本実施形態では２つ）のリニアガイドが設けられるとよい。第２案内部２２は、第１案内部２１と同様に、リニアガイドを用いる構成以外の構成を適用することができる。
【００２４】
また、第２調整部２０ｂは、第２案内部２２に沿って凸面鏡１３を第２方向（Ｘ方向）に駆動する第２駆動部を含みうる。第２駆動部は、例えばステッピングモータやリニアモータなどのアクチュエータを含み、第２案内部２２のガイドレール２２ａと移動体２２ｂとをＸ方向に相対的に駆動することで、凸面鏡１３をＸ方向に駆動することができる。本実施形態の第２駆動部は、第１駆動部と同様に、例えば、第２案内部２２のガイドレール２２ａを固定子とし、移動体２２ｂを可動子とするリニアモータによって構成されうるが、リニアモータ以外のアクチュエータや上記の手動機構などで構成されてもよい。さらに、第２調整部２０ｂは、調整後の凸面鏡１３の位置を保持（維持）するための保持部を含んでもよい。該保持部は、第１調整部２０ａと同様に、第２案内部２２のガイドレール２２ａと移動体２２ｂとの相対位置をロックするロック機構を含みうる。
【００２５】
第３調整部２０ｃは、凸面鏡１３の光軸方向（本実施形態ではＹ方向）に凸面鏡１３の位置を調整するための機構である。第３調整部２０ｃは、凸面鏡１３の姿勢を維持しながら、凸面鏡１３の光軸１４に垂直な面（ＸＺ面）および凸面鏡１３の光軸１４に交差する第３方向（本実施形態ではＹ’方向）に沿った凸面鏡の並進移動を案内する第３案内部２３を含む。なお、以下では、凸面鏡１３の光軸１４に垂直な面を「垂直面」と呼ぶことがある
ここで、第３方向は、垂直面（ＸＺ面）に対して傾けられた方向であり、本実施形態では、第１方向（Ｚ方向）と凸面鏡１３の光軸方向（Ｙ方向）とを含む面内（ＹＺ面内）における一方向（Ｙ’方向）として定義されうる。しかしながら、第３方向は、ＹＺ面内の一方向に限られるものではなく、例えば、第２方向（Ｘ方向）と凸面鏡１３の光軸方向（Ｙ方向）とを含む面内（ＸＹ面内）における一方向など、垂直面（ＸＺ面）に交差する方向であればよい。また、垂直面（ＸＺ面）と第３方向（Ｙ’方向）との間の角度θは、実験やシミュレーションにより得られた凸面鏡１３の支持剛性（対振動性能）と凸面鏡１３の光軸方向への移動ストロークとの関係から、０．６度以上かつ３０度以下の範囲内であるとよい。より好ましくは、２．５度以上かつ３．５度以下の範囲内であるとよい。
【００２６】
第３案内部２３は、例えば、Ｙ’方向に延伸したガイドレール２３ａ（固定部材）と、ガイドレール２３ａに沿って移動可能な移動体２３ｂ（可動部材）とを含むリニアガイドによって構成されうる。ガイドレール２３ａは、第２案内部２２の移動体２２ｂが固定されたベース板２６に固定部材２８を介して固定され、移動体２３ｂは、支持部材１６に取り付けられたベース板２７に固定部材２９を介して固定されうる。固定部材２８は、ベース板２６への接触面とガイドレール２３ａへの接触面とが角度θを成すように構成され、固定部材２９も同様に、ベース板２７への接触面と移動体２３ｂへの接触面とが角度θを成すように構成される。これにより、ガイドレール２３ａと移動体２３ｂとをＹ’方向に相対的に移動させ、Ｙ’方向への凸面鏡１３の並進移動を案内することができる。ここで、第３案内部２３では、凸面鏡１３の姿勢変動を低減するため、図３に示すように、Ｘ方向に離間した複数（本実施形態では２つ）のリニアガイドが設けられるとよい。第２案内部２２は、第１案内部２１と同様に、リニアガイドを用いる構成以外の構成を適用することができる。
【００２７】
また、第３調整部２０ｃは、第３案内部２３に沿って凸面鏡１３を第３方向（Ｙ’方向）に駆動する第３駆動部を含みうる。第３駆動部は、例えばステッピングモータやリニアモータなどのアクチュエータを含み、第３案内部２３のガイドレール２３ａと移動体２３ｂとをＹ’方向に相対的に駆動することができる。本実施形態の第３駆動部は、第１駆動部と同様に、例えば、第３案内部２３のガイドレール２３ａを固定子とし、移動体２３ｂを可動子とするリニアモータによって構成されうるが、リニアモータ以外のアクチュエータや上記の手動機構などで構成されてもよい。さらに、第３調整部２０ｃは、調整後の凸面鏡１３の位置を保持（維持）するための保持部を含んでもよい。該保持部は、第１調整部２０ａと同様に、第３案内部２３のガイドレール２３ａと移動体２３ｂとの相対位置をロックするロック機構を含みうる。
【００２８】
［凸面鏡の移動成分］
このように構成された調整機構２０では、第３案内部２３により凸面鏡１３の移動が第３方向（Ｙ’方向）に案内されると、凸面鏡１３には、光軸方向（Ｙ方向）への移動成分に加えて、第１方向（Ｚ方向）への移動成分が生じうる。そのため、３軸方向（Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向）における凸面鏡１３の位置の目標調整量を、各調整部２０ａ〜２０ｃでの調整量（即ち、ガイドレールと移動体との相対移動量）としてそのまま用いることができない。つまり、本実施形態の調整機構２０を用いる場合、凸面鏡１３の位置の目標調整量に基づいて、各調整部２０ａ〜２０ｃでの調整量を決定する必要である。以下に、各調整部２０ａ〜２０ｃでの調整量の決定処理について、図４を参照しながら説明する。ここで、各調整部２０ａ〜２０ｃの調整量は、制御部ＣＮＴによって決定されてもよい。この場合、制御部ＣＮＴは、決定した調整量に基づいて、各調整部２０ａ〜２０ｃの駆動部を制御することができる。
【００２９】
図４は、第３調整部２０ｃ（第３案内部２３）を示す図である。また、各方向における凸面鏡１３の目標調整量、各調整部２０ａ〜２０ｃでの調整量、第３調整部２０ｃによる位置調整で生じた凸面鏡１３の移動成分を以下のように定義する。
Ｓｚ：Ｚ方向における凸面鏡の目標調整量
Ｓｘ：Ｘ方向における凸面鏡の目標調整量
Ｓｙ：Ｙ方向における凸面鏡の目標調整量
Ｔｚ：第１調整部での調整量
Ｔｘ：第２調整部での調整量
Ｔｙ’：第３調整部での調整量
Ｙ’ｚ：第３調整部による位置調整で生じたＺ方向への凸面鏡の移動成分
Ｙ’ｙ：第３調整部による位置調整で生じたＹ方向への凸面鏡の移動成分
θ：ＸＺ面とＹ’方向との間の角度
【００３０】
この場合、第３調整部２０ｃによる位置調整で生じたＺ方向への凸面鏡１３の移動成分Ｙ’ｚ、およびＹ方向への凸面鏡１３の移動成分Ｙ’ｙは、以下の式（１）によって表すことができる。
Ｙ’ｚ＝−Ｔｙ’×ｃｏｓθ
Ｙ’ｙ＝Ｔｙ’×ｓｉｎθ
ｔａｎθ＝Ｙ’ｙ／Ｙ’ｚ                ・・・（１）
【００３１】
また、各方向における凸面鏡１３の目標調整量と、各調整部２０ａ〜２０ｃでの調整量との関係は、以下の式（２）によって表すことができる。
Ｓｚ＝Ｔｚ＋Ｙ’ｚ
Ｓｘ＝Ｔｘ
Ｓｙ＝Ｙ’ｙ                            ・・・（２）
【００３２】
したがって、上記の式（１）および式（２）より、各調整部２０ａ〜２０ｃでの調整量を、以下の式（３）に基づいて決定することができる。
Ｓｚ＝Ｔｚ−Ｔｙ’×ｃｏｓθ
Ｓｘ＝Ｔｘ
Ｓｙ＝Ｔｙ’×ｓｉｎθ                  ・・・（３）
【００３３】
［凸面鏡の位置補正］
上述したように、第３案内部２３により凸面鏡１３の移動が第３方向（Ｙ’方向）に案内されると、凸面鏡１３には、光軸方向（Ｙ方向）への移動成分に加えて、第１方向（Ｚ方向）への移動成分が生じうる。このように第３案内部２３により凸面鏡１３の移動が案内されたときの第１方向（Ｚ方向）への移動成分は、第１案内部２１で案内される凸面鏡１３の移動によって補正することができる。即ち、第３調整部２０ｃによる調整で生じたＺ方向への移動成分を、第１調整部２０ａによる調整で補正可能である。以下に、その補正方法について、図５を参照しながら説明する。ここで、以下に示す補正方法は、制御部ＣＮＴにより各調整部２０ａ〜２０ｃの駆動部を制御することで行われてもよい。
【００３４】
図５は、凸面鏡１３の位置を調整する方法を説明するための図であり、凸面鏡１３の位置を＋Ｙ方向に目標調整量Ｙａだけ調整する例を示している。図５（ａ）は、凸面鏡１３の座標が（Ｘ，Ｙ，Ｚ）＝（０，０，０）である調整前の状態を示している。また、図５（ｂ）は、第３調整部２０ｃによる調整を行った後の状態を示しており、図５（ｃ）は、第１調整部２０ａによる補正を行った後の状態を示している。
【００３５】
凸面鏡１３の位置を＋Ｙ方向に目標調整量Ｙａだけ調整する場合、第３調整部２０ｃの調整量Ｔｙ’ａ（即ち、Ｙ’方向におけるガイドレール２３ａと移動体２３ｂとの相対移動量）を、以下の式（４）によって求めることができる。また、第３調整部２０ｃにより調整を行ったときに生じるＺ方向への凸面鏡１３の移動成分Ｔｚａは、以下の式（５）によって求められる。したがって、求めた調整量Ｔｙ’ａだけ、第３調整部により凸面鏡１３をＹ’方向に移動させると、図５（ｂ）に示すように、凸面鏡１３の座標が（Ｘ，Ｙ，Ｚ）＝（０，Ｙａ，−Ｔｚａ）となる。
Ｔｙ’ａ＝Ｙａ／ｓｉｎθ                ・・・（４）
Ｔｚａ＝Ｔｙ’ａ×ｃｏｓθ
＝Ｙａ／ｓｉｎθ×ｃｏｓθ        ・・・（５）
【００３６】
このように第３調整部２０ｃにより凸面鏡１３を＋Ｙ方向に目標調整量Ｙａだけ調整すると、Ｚ方向への凸面鏡１３の移動成分Ｔｚａが生じる。そのため、当該移動成分Ｔｚａが補正されるように、第１調整部２０ａにより凸面鏡１３をＺ方向に移動させる。これにより、図５（ｃ）に示すように、凸面鏡１３の座標を（Ｘ，Ｙ，Ｚ）＝（０，Ｙａ，０）とすることができる。
【００３７】
ここで、第３方向が、ＹＺ面内にない場合には、第３案内部２３により凸面鏡１３の移動が案内されたときに、第２方向（Ｘ方向）への移動成分が生じることがある。この場合には、第２案内部２２で案内される凸面鏡１３の移動によって、第２方向への移動成分を補正することができる。つまり、第３調整部２０ｃによる調整で生じたＸＺ方向への移動成分を、第１調整部２０ａおよび第２調整部２０ｂを用いて補正することができる。
【００３８】
［効果］
次に、本実施形態の調整機構２０の構成における効果について説明する。図６は、従来の調整機構３０と本実施形態の調整機構２０との比較を示す図である。図６（ａ）は、従来の調整機構３０の構成を示す概略図であり、図６（ｂ）は、本実施形態の調整機構２０の構成を示す概略図である。また、図６（ｃ）は、従来の調整機構３０と本実施形態の調整機構２０とにおける固有振動数の比較を示す図である。
【００３９】
従来の調整機構３０では、図６（ａ）に示すように、３軸方向の各々について案内部が設けられていた。具体的には、Ｚ方向への凸面鏡１３の移動を案内する案内部３１と、Ｘ方向への凸面鏡１３の移動を案内する案内部３２と、Ｙ方向への凸面鏡１３の移動を案内する案内部３３とが設けられていた。それに対し、本実施形態の調整機構２０では、図６（ｂ）に示すように、Ｙ方向への凸面鏡の移動を案内する案内部の代わりに、Ｙ’方向（第３方向）への凸面鏡１３の移動を案内する第３案内部２３が設けられる。これにより、図６（ｃ）に示すように、本実施形態の調整機構２０では、図６（ｃ）に示すように、従来の調整機構３０と比べて固有振動数を大きくし、凸面鏡１３の支持剛性（例えば、ωｘ方向、ωｚ方向）を高めることができる。
【００４０】
＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像（加工）する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００４１】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００４２】
１１：多面光学部材、１２：凹面鏡、１３：凸面鏡、１４：光軸、１６：支持部材、２０：調整機構、２１：第１案内部、２２：第２案内部、２３：第３案内部、
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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