(57)【要約】      （修正有）【課題】金属層と樹脂マスクとが積層された蒸着マスクにおいて、超音波洗浄により樹脂マスクの開口部に裂け目が入らないよう、樹脂マスクの強度を高めることが可能な蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法および有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】蒸着マスク１０は、第１開口部２１が設けられた金属層２０と、金属層２０に積層され、蒸着作製するパターンに対応した複数の第２開口部３１が設けられた樹脂マスク３０と、を備えている。各第２開口部３１の形状は、角部３２が丸みを帯びた多角形形状となっている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１開口部が設けられた金属層と、
前記金属層に積層され、蒸着作製するパターンに対応した複数の第２開口部が設けられた樹脂マスクと、を備え、
各第２開口部の形状は、角部が丸みを帯びた多角形形状である、蒸着マスク。
【請求項２】
各第２開口部の前記角部は、曲率半径が１μｍ以上６μｍ以下である、請求項１記載の蒸着マスク。
【請求項３】
互いに隣接する前記第２開口部の最も狭い間隔は、３μｍ以上２７μｍ以下である、請求項１又は２記載の蒸着マスク。
【請求項４】
各第２開口部の形状は、角部が丸みを帯びた四角形形状である、請求項１乃至３のいずれか一項記載の蒸着マスク。
【請求項５】
各第２開口部の形状は、角部が丸みを帯びた八角形形状である、請求項１乃至３のいずれか一項記載の蒸着マスク。
【請求項６】
前記金属層に積層された支持体を更に備えた、請求項１乃至５のいずれか一項記載の蒸着マスク。
【請求項７】
第１開口部が設けられた金属層と、前記金属層に積層された樹脂層とを準備する工程と、
前記樹脂層に対してレーザーを照射し、前記樹脂層に蒸着作製するパターンに対応した第２開口部を形成する工程と、を備え、
前記第２開口部を形成する工程において、各第２開口部は、角部が丸みを帯びた多角形形状に形成される、蒸着マスクの製造方法。
【請求項８】
各第２開口部の前記角部は、曲率半径が１μｍ以上６μｍ以下である、請求項７記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項９】
互いに隣接する前記第２開口部の最も狭い間隔は、３μｍ以上２７μｍ以下である、請求項７又は８記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１０】
各第２開口部の形状は、角部が丸みを帯びた四角形形状である、請求項７乃至９のいずれか一項記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１１】
各第２開口部の形状は、角部が丸みを帯びた八角形形状である、請求項７乃至９のいずれか一項記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１２】
前記金属層に支持体を固定する工程を更に備えた、請求項７乃至１１のいずれか一項記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項１３】
有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する工程を備えた、有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本実施の形態は、蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法および有機ＥＬ表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子を用いた製品の大型化あるいは基板サイズの大型化にともない、蒸着マスクに対しても大型化の要請が高まりつつある。そして、金属から構成される蒸着マスクの製造に用いられる金属板も大型化している。しかしながら、現在の金属加工技術では、大型の金属板にスリットを精度よく形成することは困難であり、スリットの高精細化への対応はできない。また、金属のみからなる蒸着マスクとした場合には、大型化に伴いその質量も増大し、フレームを含めた総質量も増大することから取り扱いに支障をきたすこととなる。
【０００３】
このような状況下、特許文献１には、スリットが設けられた金属層と、金属層の表面に位置し蒸着作製するパターンに対応した開口部が縦横に複数列配置された樹脂マスクとが積層されてなる蒸着マスクが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第５９９４９５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、金属層と樹脂マスクとが積層された蒸着マスクは、レーザー加工により樹脂マスクに対して四角い開口部を形成することによって作製される。一方、蒸着マスクは、使用時に定期的に超音波洗浄により洗浄されるが、この洗浄時に開口部の周囲に裂け目が入るおそれがある。とりわけ、樹脂マスクの開口率を高め、開口部同士の間隔を狭くしたときにこのような現象が顕著となる。
【０００６】
本開示は、樹脂マスクの強度を高めることが可能な蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法および有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。 
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本実施の形態による蒸着マスクは、第１開口部が設けられた金属層と、前記金属層に積層され、蒸着作製するパターンに対応した複数の第２開口部が設けられた樹脂マスクと、を備え、各第２開口部の形状は、角部が丸みを帯びた多角形形状である。
【０００８】
本実施の形態による蒸着マスクにおいて、各第２開口部の前記角部は、曲率半径が１μｍ以上６μｍ以下であってもよい。
【０００９】
本実施の形態による蒸着マスクにおいて、互いに隣接する前記第２開口部の最も狭い間隔は、３μｍ以上２７μｍ以下であってもよい。
【００１０】
本実施の形態による蒸着マスクにおいて、各第２開口部の形状は、角部が丸みを帯びた四角形形状であってもよい。
【００１１】
本実施の形態による蒸着マスクにおいて、各第２開口部の形状は、角部が丸みを帯びた八角形形状であってもよい。
【００１２】
本実施の形態による蒸着マスクにおいて、前記金属層に積層された支持体を更に備えてもよい。
【００１３】
本実施の形態による蒸着マスクの製造方法は、第１開口部が設けられた金属層と、前記金属層に積層された樹脂層とを準備する工程と、前記樹脂層に対してレーザーを照射し、前記樹脂層に蒸着作製するパターンに対応した第２開口部を形成する工程と、を備え、前記第２開口部を形成する工程において、各第２開口部は、角部が丸みを帯びた多角形形状に形成される。
【００１４】
本実施の形態による蒸着マスクの製造方法において、各第２開口部の前記角部は、曲率半径が１μｍ以上６μｍ以下であってもよい。
【００１５】
本実施の形態による蒸着マスクの製造方法において、互いに隣接する前記第２開口部の最も狭い間隔は、３μｍ以上２７μｍ以下であってもよい。
【００１６】
本実施の形態による蒸着マスクの製造方法において、各第２開口部の形状は、角部が丸みを帯びた四角形形状であってもよい。
【００１７】
本実施の形態による蒸着マスクの製造方法において、各第２開口部の形状は、角部が丸みを帯びた八角形形状であってもよい。
【００１８】
本実施の形態による蒸着マスクの製造方法において、前記金属層に支持体を固定する工程を更に備えてもよい。
【００１９】
本実施の形態による有機ＥＬ表示装置の製造方法は、有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、前記蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する工程を備えている。
【発明の効果】
【００２０】
本実施の形態によれば、樹脂マスクの強度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、第１の実施の形態による蒸着マスクを示す平面図である。
【図２】図２は、第１の実施の形態による蒸着マスクを示す断面図（図１のII−II線断面図）である。
【図３】図３は、第１の実施の形態による蒸着マスクを示す部分拡大平面図である。
【図４】図４は、樹脂マスクの第２開口部の変形例を示す部分拡大平面図である。
【図５】図５（ａ）−（ｇ）は、第１の実施の形態による蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。
【図６】図６は、蒸着装置を示す概略図である。
【図７】図７は、蒸着マスクを用いて作製された有機ＥＬ表示装置を示す概略図である。
【図８】図８（ａ）−（ｃ）は、蒸着マスクを用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す概略図である。
【図９】図９は、第２の実施の形態による蒸着マスクを示す断面図である。
【図１０】図１０（ａ）−（ｈ）は、第２の実施の形態による蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。
【図１１】図１１（ａ）−（ｈ）は、第２の実施の形態の変形例（変形例１）による蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。
【図１２】図１２（ａ）−（ｈ）は、第２の実施の形態の変形例（変形例２）による蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。
【図１３】図１３（ａ）−（ｈ）は、第２の実施の形態の変形例（変形例３）による蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照しながら各実施の形態について説明する。以下に示す各図は、模式的に示したものである。そのため、各部の大きさ、形状は理解を容易にするために、適宜誇張している。また、技術思想を逸脱しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。なお、以下に示す各図において、同一部分には同一の符号を付しており、一部詳細な説明を省略する場合がある。また、本明細書中に記載する各部材の寸法等の数値および材料名は、実施の形態としての一例であり、これに限定されるものではなく、適宜選択して使用することができる。本明細書において、形状や幾何学的条件を特定する用語、例えば平行や直交、垂直等の用語については、厳密に意味するところに加え、実質的に同じ状態も含むものとする。
【００２３】
（第１の実施の形態）
まず、図１乃至図８により、第１の実施の形態について説明する。図１乃至図８は第１の実施の形態を示す図である。
【００２４】
（蒸着マスクの構成）
本実施の形態による蒸着マスクの構成について、図１乃至図３を用いて説明する。なお、ここで説明する蒸着マスクは、以下で説明する形態に限定されるものではなく、第１開口部が形成された金属層と当該第１開口部と重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する第２開口部が形成された樹脂マスクとが積層されているとの条件を満たすものであれば、いかなる形態であってもよい。例えば、金属層に形成されている第１開口部は、ストライプ状（図示しない）であってもよい。また、１画面全体と重ならない位置に、金属層の第１開口部が設けられていてもよい。この蒸着マスクは、後述する蒸着マスクの製造方法によって製造されていてもよく、他の方法で製造されていてもよい。
【００２５】
図１および図２に示すように、本実施の形態による蒸着マスク１０は、複数画面分の蒸着パターンを同時に形成するための蒸着マスクである。この蒸着マスク１０は、第１開口部２１が設けられた金属層（金属マスク）２０と、金属層２０に積層され、蒸着作製するパターンに対応した複数の第２開口部３１が設けられた樹脂マスク３０とを備えている。また金属層２０には、支持体４０が固定されている。
【００２６】
この蒸着マスク１０は、複数画面分の蒸着パターンを同時に形成するために用いられるものであり、１つの蒸着マスク１０で、複数の製品に対応する蒸着パターンを同時に形成することができる。ここで「第２開口部」とは、蒸着マスク１０を用いて作製しようとするパターンを意味し、例えば、当該蒸着マスクを有機ＥＬディスプレイにおける有機層の形成に用いる場合には、第２開口部３１の形状は当該有機層の形状となる。また、「１画面」とは、１つの製品に対応する第２開口部３１の集合体からなり、当該１つの製品が有機ＥＬディスプレイである場合には、１つの有機ＥＬディスプレイを形成するのに必要な有機層の集合体、つまり、有機層となる第２開口部３１の集合体が「１画面」となる。なお、１画面となる領域のことを「有効部」ともいう。そして、蒸着マスク１０は、複数画面分の蒸着パターンを同時に形成すべく、樹脂マスク３０には、上記「１画面」が、所定の間隔をあけて複数画面分配置されている。すなわち、樹脂マスク３０には、複数画面を構成するために必要な第２開口部３１が設けられている。
【００２７】
金属層２０は、樹脂マスク３０の一方の面（Ｚ方向マイナス側の面）に設けられている。金属層２０は、その各辺がＸ方向およびＹ方向にそれぞれ延びる長方形形状を有している。また金属層２０には、Ｘ方向及び／又はＹ方向に延びる複数の第１開口部２１が形成されている。なお、第１開口部２１は細長いスリット状に形成されていても良い。また、第１開口部２１は、樹脂マスク３０と重なる位置に設けられている。この場合、平面視で、１つの第１開口部２１の内側に複数の第２開口部３１が配置されている。第１開口部２１の配置例について特に限定はなく、第１開口部２１が、縦方向、及び横方向に複数列配置されていてもよく、縦方向に延びる第１開口部２１が、横方向に複数列配置されていてもよく、横方向に延びる第１開口部２１が縦方向に複数列配置されていてもよい。また、縦方向、あるいは横方向に１列のみ配置されていてもよい。
【００２８】
各第１開口部２１は、その各辺がＸ方向およびＹ方向に延びる長方形形状を有している。各第１開口部２１は、それぞれ少なくとも１画面全体と重なる位置に設けられている。各第１開口部２１の辺の長さＬ１は、例えばマスクの有効部（１画面となる領域）の辺の長さ以上、有効部の辺の長さプラス４０ｍｍ以下としても良い。隣接する第１開口部２１同士の間隔Ｐ１は、例えば１ｍｍ以上５０ｍｍ以下としても良い。
【００２９】
金属層２０の材料について特に限定はなく、蒸着マスクの分野で従来公知のものを適宜選択して用いることができ、例えば、ステンレス鋼、鉄ニッケル合金、アルミニウム合金などの金属材料を挙げることができる。中でも、鉄ニッケル合金であるインバー材は熱による変形が少ないので好適に用いることができる。
【００３０】
金属層２０の厚みＴ１についても特に限定はないが、シャドウの発生をより効果的に防止するためには、１００μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以下であることがより好ましく、３５μｍ以下であることが特に好ましい。なお、金属層２０の厚みＴ１を５μｍより厚くすることにより、金属層２０の破断や変形のリスクを低下するとともにハンドリング性を確保することができる。なお、シャドウとは、蒸着源から放出された蒸着材の一部が、金属層２０の第１開口部２１の内壁面に衝突して蒸着対象物へ到達しないことにより、目的とする蒸着膜厚よりも薄い膜厚となる未蒸着部分が生ずる現象のことをいう。特に、第２開口部３１の形状を微細化していくことにともない、シャドウによる影響は大きくなる。
【００３１】
樹脂マスク３０は、金属層２０の他方の面（Ｚ方向プラス側の面）に設けられている。樹脂マスク３０は、その各辺がＸ方向およびＹ方向にそれぞれ延びる長方形形状を有している。この場合、樹脂マスク３０は金属層２０と同一の外形形状を有しているが、これに限らず、樹脂マスク３０と金属層２０とが異なる外形形状を有していても良い。
【００３２】
樹脂マスク３０には、複数画面を構成するために必要な第２開口部３１が設けられている。複数の第２開口部３１は、金属層２０と樹脂マスク３０とを積層したときに、金属層２０の第１開口部２１と重なる位置に設けられている。各第２開口部３１の形状は、四角形形状であり、具体的には、角部３２が丸みを帯びるとともに、その各辺がＸ方向およびＹ方向に延びる長方形形状を有している。なお、第２開口部３１の形状の詳細については後述する。
【００３３】
樹脂マスク３０は、従来公知の樹脂材料を適宜選択して用いることができ、その材料について特に限定されないが、レーザー加工等によって高精細な第２開口部３１の形成が可能であり、熱や経時での寸法変化率や吸湿率が小さく、軽量な材料を用いることが好ましい。このような材料としては、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体樹脂、エチレン−メタクリル酸共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、セロファン、アイオノマー樹脂等を挙げることができる。上記に例示した材料の中でも、その熱膨張係数が１６ｐｐｍ／℃以下である樹脂材料が好ましく、吸湿率が１．０％以下である樹脂材料が好ましく、この双方の条件を備える樹脂材料が特に好ましい。この樹脂材料を用いた樹脂マスクとすることで、第２開口部３１の寸法精度を向上させることができ、かつ熱や経時での寸法変化率や吸湿率を小さくすることができる。
【００３４】
樹脂マスク３０の厚みＴ２についても特に限定はないが、３μｍ以上２５μｍ以下であることが好ましい。樹脂マスク３０の厚みＴ２をこの範囲内とすることで、ピンホール等の欠陥や変形等のリスクを低減でき、かつシャドウの発生を効果的に防止することができる。特に、樹脂マスク３０の厚みＴ２を、３μｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは４μｍ以上８μｍ以下とすることで、４００ｐｐｉを超える高精細パターンを形成する際のシャドウの影響をより効果的に防止することができる。また、樹脂マスク３０と金属層２０とは、直接的に接合されていてもよく、粘着剤層を介して接合されていてもよい。粘着剤層を介して樹脂マスク３０と金属層２０とが接合される場合には、樹脂マスク３０と粘着剤層との合計の厚みが上記好ましい厚みの範囲内であることが好ましい。
【００３５】
支持体（フレーム）４０は、金属層２０の一方の面（Ｚ方向マイナス側の面）に設けられている。この支持体４０は、樹脂マスク３０および金属層２０を支持するものである。支持体４０は、樹脂マスク３０と金属層２０とが撓んでしまうことがないように、樹脂マスク３０と金属層２０とを、その面方向に引っ張った状態で支持する。この支持体４０は、略長方形形状の枠部材であり、樹脂マスク３０に設けられた第２開口部３１を蒸着源側に露出させるための貫通孔４１を有する。すなわち複数の第２開口部３１は、平面視で貫通孔４１の内側に位置している。支持体４０の外周は、樹脂マスク３０および金属層２０の外周よりも大きくなっている。支持体４０の材料について特に限定はないが、剛性が大きい金属材料、例えば、ＳＵＳ、インバー材、セラミック材料などを用いることができる。中でも、金属製の支持体４０は、金属層２０との溶接が容易であり、変形等の影響が小さい点で好ましい。
【００３６】
支持体４０の厚みＴ３についても特に限定はないが、剛性等の点から１０ｍｍ以上３０ｍｍ以下程度であることが好ましい。支持体４０の貫通孔４１の外周端面と、支持体４０の外周端面間の幅Ｗ１は、当該支持体４０と金属層２０とを固定することができる幅であれば特に限定はなく、例えば、１０ｍｍ以上２５０ｍｍ以下程度の幅を例示することができる。
【００３７】
なお、支持体４０が設けられているか否かは任意であり、必ずしも支持体４０が設けられていなくても良い。本実施の形態において、蒸着マスク１０は、支持体４０を含むもの（支持体付き蒸着マスク）であっても良く、支持体４０を含まないものであっても良い。
【００３８】
次に、図３を参照して、樹脂マスク３０の第２開口部３１の構成について説明する。
【００３９】
図３に示すように、樹脂マスク３０には、複数の第２開口部３１が配列されている。各第２開口部３１は、平面視で角部３２が丸みを帯びた四角形形状を有している。すなわち、各第２開口部３１は、互いに平行な一対の長辺（Ｙ方向に平行な辺）３３ａと、互いに平行な一対の短辺（Ｘ方向に平行な辺）３３ｂと、各長辺３３ａと各短辺３３ｂとを繋ぐ４つの角部３２とを有している。
【００４０】
この場合、各角部３２は、平面視で略円弧状に形成され、その曲率半径Ｒ１は１μｍ以上６μｍ以下となっている。この曲率半径Ｒ１を１μｍ以上とすることにより、後述するように、樹脂マスク３０の強度を高め、蒸着マスク１０を超音波洗浄したときに、第２開口部３１の周囲に裂け目が入る現象を抑えることができる。また、曲率半径Ｒ１を６μｍ以下とすることにより、第２開口部３１の面積を確保し、樹脂マスク３０の開口率が低下することを抑えることができる。
【００４１】
各第２開口部３１の長辺３３ａ方向の長さ（Ｙ方向の長さ）Ｌ２は、例えば１０μｍ以上１２０μｍ以下としても良い。具体的には、長さＬ２は、低解像度（２００ｐｐｉ）の場合、例えば１００μｍ以上１２０μｍ以下としても良く、高解像度（１２００ｐｐｉ）の場合、例えば１０μｍ以上１８μｍ以下としても良い。各第２開口部３１の短辺３３ｂ方向の長さ（Ｘ方向の長さ）Ｌ３は、例えば７μｍ以上６４μｍ以下としても良い。具体的には、長さＬ３は、低解像度（２００ｐｐｉ）の場合、例えば４２μｍ以上６４μｍ以下としても良く、高解像度（１２００ｐｐｉ）の場合、例えば７μｍ以上１１μｍ以下としても良い。また、各第２開口部３１の長辺３３ａ方向のピッチ（Ｙ方向における第２開口部３１の中心間距離）Ｐ４は、例えば２１μｍ以上１２７μｍ以下としても良い。具体的には、ピッチＰ４は、低解像度（２００ｐｐｉ）の場合、例えば１２７μｍとしても良く、高解像度（１２００ｐｐｉ）の場合、例えば２１μｍとしても良い。各第２開口部３１の短辺３３ｂ方向のピッチ（Ｘ方向における第２開口部３１の中心間距離）Ｐ２は、例えば２１μｍ以上１２７μｍ以下としても良い。具体的には、ピッチＰ２は、低解像度（２００ｐｐｉ）の場合、例えば１２７μｍとしても良く、高解像度（１２００ｐｐｉ）の場合、例えば２１μｍとしても良い。
【００４２】
複数の第２開口部３１は、Ｘ方向およびＹ方向に整列されており、互いに同一の形状を有している。隣接する第２開口部３１間には、第１リブ３４と第２リブ３５とが形成されている。このうち第１リブ３４は、Ｘ方向に隣接する第２開口部３１間に形成され、Ｙ方向に平行に延びている。また第２リブ３５は、Ｙ方向に隣接する第２開口部３１間に形成され、Ｘ方向に平行に延びている。なお、隣接する第２開口部３１間の距離は、Ｘ方向よりもＹ方向の方が長くなっており、すなわち第１リブ３４の幅Ｗ２は、第２リブ３５の幅Ｗ３よりも広い。第１リブ３４の幅Ｗ２は、１１μｍ以上８５μｍ以下である。具体的には、幅Ｗ２は、低解像度（２００ｐｐｉ）の場合、例えば６４μｍ以上８５μｍ以下としても良く、高解像度（１２００ｐｐｉ）の場合、例えば１１μｍ以上１４μｍ以下としても良い。第２リブ３５の幅Ｗ３は、３μｍ以上２７μｍ以下である。具体的には、幅Ｗ３は、低解像度（２００ｐｐｉ）の場合、例えば７μｍ以上２７μｍ以下としても良く、高解像度（１２００ｐｐｉ）の場合、例えば３μｍ以上１１μｍ以下としても良い。なお、第１リブ３４の幅Ｗ２および第２リブ３５の幅Ｗ３は、それぞれ互いに隣接する第２開口部３１同士の最も狭い間隔に対応する。第１リブ３４の幅Ｗ２を１１μｍ以上とすることにより、第１リブ３４に対応する領域に、他の有機層（例えば他の色の有機層）を配置することができる。第１リブ３４の幅Ｗ２を８５μｍ以下とすることにより、樹脂マスク３０の開口率の低下を抑えることができる。また、第２リブ３５の幅Ｗ３を３μｍ以上とすることにより、後述するように、樹脂マスク３０の強度を高め、蒸着マスク１０を超音波洗浄したときに、第２開口部３１の周囲に裂け目が入る現象を抑えることができる。また、第２リブ３５の幅Ｗ３を２７μｍ以下とすることにより、樹脂マスク３０の開口率の低下を抑えることができる。
【００４３】
図４を参照して、樹脂マスク３０の第２開口部の変形例について説明する。図４は、樹脂マスク３０の第２開口部の変形例を示している。
【００４４】
図４に示すように、樹脂マスク３０には、複数の第２開口部３１Ａが配列されている。各第２開口部３１Ａは、その角部３２Ａが丸みを帯びた八角形形状となっている。この場合、各第２開口部３１Ａを構成する八角形の辺が３種類の長さの辺から構成されている。各第２開口部３１Ａは、２つの第１辺３３Ａｃと、２つの第２辺３３Ａｄと、４つの第３辺３３Ａｅと、８つの角部３２Ａとを有している。このうち第１辺３３Ａｃおよび第２辺３３Ａｄは、それぞれＸ方向およびＹ方向に対して斜めに配置され、第３辺３３Ａｅは、それぞれＸ方向またはＹ方向に対して平行に配置されている。第１辺３３Ａｃは第２辺３３Ａｄよりも長く、第２辺３３Ａｄは第３辺３３Ａｅよりも長い。また、各角部３２Ａは、それぞれ丸みを帯びて略円弧状に形成され、その曲率半径Ｒ２は１μｍ以上６μｍ以下となっている。この曲率半径Ｒ２を１μｍ以上とすることにより、樹脂マスク３０の強度を高め、蒸着マスク１０を超音波洗浄したときに、第２開口部３１Ａの周囲に裂け目が入る現象を抑えることができる。また、曲率半径Ｒ２を６μｍ以下とすることにより、樹脂マスク３０の開口率の低下を抑えることができる。なお、各第２開口部３１Ａの幅（Ｘ方向またはＹ方向における第２開口部３１Ａの最大長さ）Ｗ４は、例えば２１μｍ以上１２７μｍ以下としても良い。また、各第２開口部３１Ａのピッチ（Ｘ方向またはＹ方向における第２開口部３１Ａの中心間の距離）Ｐ３は、例えば２１μｍ以上１２７μｍ以下としても良い。
【００４５】
図４において、複数の第２開口部３１Ａは、Ｘ方向およびＹ方向に正方格子状に整列されており、互いに同一の形状を有している。隣接する第２開口部３１Ａ間には、第１リブ３４Ａと第２リブ３５Ａとが形成されている。このうち第１リブ３４Ａは、Ｘ方向に隣接する第２開口部３１Ａ間に形成されている。また第２リブ３５Ａは、Ｙ方向に隣接する第２開口部３１Ａ間に形成されている。第１リブ３４Ａの幅Ｗ５は、第２リブ３５Ａの幅Ｗ６と略同一であり、具体的には、７μｍ以上１２μｍ以下である。この場合、第１リブ３４Ａの幅Ｗ５および第２リブ３５Ａの幅Ｗ６は、それぞれ互いに隣接する第２開口部３１Ａの最も狭い間隔に対応する。このように八角形の第２開口部３１Ａの角部３２Ａが丸みを帯びていることにより、蒸着マスク１０を超音波洗浄したときに、第２開口部３１Ａの周囲に裂け目が入る現象を抑えることができる。このため、第１リブ３４Ａの幅Ｗ５および第２リブ３５Ａの幅Ｗ６を短くし、第２開口部３１Ａ同士をより接近させることができる。これにより、樹脂マスク３０の開口率を向上させることができる。
【００４６】
（蒸着マスクの製造方法）
次に、本実施の形態による蒸着マスクの製造方法について、図５（ａ）−（ｇ）を用いて説明する。図５（ａ）−（ｇ）は、本実施の形態による蒸着マスクの製造方法を説明するための工程図である。
【００４７】
まず、図５（ａ）に示すように、金属板２０Ａを準備する。金属板２０Ａは、上述した蒸着マスク１０の金属層２０を作製するためのものである。金属板２０Ａは、例えば幅２５０ｍｍ以上１０００ｍｍ以下の帯状の金属材であっても良い。また金属板２０Ａの材料としては、例えば、鉄ニッケル合金であるインバー材を好適に用いることができる。なお、金属板２０Ａは、適宜、洗浄および表面処理が施される。
【００４８】
次に、図５（ｂ）に示すように、金属板２０Ａの一方の面に樹脂層３０Ａを形成する。この樹脂層３０Ａは、上述した蒸着マスク１０の樹脂マスク３０を作製するためのものである。具体的には、金属板２０Ａの表面の略全域に、例えばポリイミドワニス等の樹脂溶液を塗布し、これを加熱して乾燥することにより、樹脂層３０Ａが得られる。樹脂溶液を塗布する厚みは、例えば４μｍ以上８μｍ以下としても良い。
【００４９】
続いて、図５（ｃ）に示すように、金属板２０Ａの他方の面（樹脂層３０Ａの設けられていない面）にマスキング部材、例えば、レジスト材を塗工し、所定の箇所を露光し、現像することで、最終的に第１開口部２１が形成される位置を残したレジストパターン５１を形成する。マスキング部材として用いるレジスト材としては、処理性が良く、所望の解像性があるものが好ましい。
【００５０】
次いで、図５（ｄ）に示すように、このレジストパターン５１を耐エッチングマスクとして用いてエッチング法により金属板２０Ａをエッチング加工する。これにより、縦方向及び／又は横方向に延びる複数の第１開口部２１が設けられた金属層２０が得られる。
【００５１】
次いで、図５（ｅ）に示すように、レジストパターン５１を洗浄除去する。なお、レジストパターン５１を除去した後、樹脂層３０Ａおよび金属層２０を支持体４０に対応する大きさに断裁しても良い。
【００５２】
このようにして、第１開口部２１が設けられた金属層２０と、金属層２０に積層された樹脂層３０Ａとを有する積層体（中間体）５０が得られる。図５（ａ）−（ｅ）に示す工程は、第１開口部２１が設けられた金属層２０と、金属層２０に積層された樹脂層３０Ａとを有する積層体５０を準備する工程である。
【００５３】
なお、上記では、マスキング部材としてレジスト材を用いた場合を例に挙げて説明したが、レジスト材を塗工する代わりにドライフィルムレジストをラミネートし、同様のパターニングを行ってもよい。なお、積層体５０の金属層２０は、上記で例示した方法によって形成されたものに限定されるものではなく、市販品を用いることもできる。また、エッチングによる第１開口部２１の形成に代えて、レーザー光を照射して第１開口部２１を形成することもできる。
【００５４】
また、積層体５０を構成する金属層２０と樹脂層３０Ａとの形成方法についても特に限定されない。樹脂層３０Ａは、上述したようにコーティング法等によって形成されたものであっても良く、予め準備されたものであっても良い。後者の場合、例えば、金属板２０Ａに対してフィルム状の樹脂層３０Ａを貼り合わせても良い。なお、樹脂層３０Ａは、樹脂フィルムや樹脂シートを含む概念である。また、樹脂層３０Ａの硬度についても限定はなく、硬質板であってもよく、軟質板であってもよい。また、金属層２０と樹脂層３０Ａとは各種粘着剤を用いて貼り合わせてもよく、自己粘着性を有する樹脂層３０Ａを用いてもよい。なお、金属層２０と樹脂層３０Ａの大きさは同一であっても良く、樹脂層３０Ａの大きさを金属層２０よりも小さくしても良い。
【００５５】
次に、図５（ｆ）に示すように、支持体４０を準備するとともに、積層体５０の金属層２０を支持体４０に固定する。このとき、積層体５０の金属層２０は、架張された状態で支持体４０に溶接されても良い。本実施の形態にあって、この工程は任意の工程であるが、通常の蒸着装置において蒸着マスク１０を用いる場合、支持体４０が固定されたものを用いることが多いため、当該工程をこのタイミングで行うのが好ましい。一方で図示はしないが、積層体５０となる前段階の金属板２０Ａに対して支持体４０に固定する固定工程を行い、その後金属板２０Ａに樹脂層３０Ａを設けてもよい。金属層２０を支持体４０に固定する方法については特に限定されることはなく、例えば、支持体４０が金属を含む場合にはスポット溶接など従来公知の工程方法を適宜採用すればよい。
【００５６】
次に、図５（ｇ）に示すように、積層体５０の樹脂層３０Ａに対して金属層２０側からレーザー（図５（ｇ）の矢印参照）を照射し、樹脂層３０Ａに蒸着作製するパターンに対応した第２開口部３１を形成する。このレーザーとしては、例えば波長２４８ｎｍのＫｒＦのエキシマレーザや波長３５５ｎｍのＹＡＧレーザーを使用することができる。この間、樹脂層３０Ａのうち金属層２０の反対側の面に保護フィルムを貼着し、この状態で、金属層２０側からレーザーを照射して第２開口部３１を形成する。この場合、蒸着作製するパターンに対応した図示しないレーザー用マスクを用い、このレーザー用マスクと積層体５０との間に集光レンズを設置して、いわゆる縮小投影光学系を用いたレーザー加工法によって第２開口部３１を形成してもよい。
【００５７】
このように樹脂層３０Ａに第２開口部３１を形成する際、各第２開口部３１は、その角部３２が丸みを帯びた多角形形状に形成される。すなわちレーザー用マスクのレーザーが通過する開口の形状を第２開口部３１に対応する形状としたり、レーザーの強度を適宜調整したりすることにより、第２開口部３１の角部３２を丸みを帯びた形状にすることができる。
【００５８】
このようにして、図１および図２に示す蒸着マスク１０が得られる。
【００５９】
（蒸着装置の構成）
次に、上述した蒸着マスク１０を用いて蒸着対象物に蒸着材料を蒸着させる蒸着装置について、図６を参照して説明する。
【００６０】
図６に示すように、蒸着装置８０は、その内部に配置された、蒸着源（例えばるつぼ８１）、ヒータ８２、および蒸着マスク１０を有している。また、蒸着装置８０は、蒸着装置８０の内部を真空雰囲気にするための排気手段（図示せず）を更に有する。るつぼ８１は、有機発光材料などの蒸着材料９２を収容する。ヒータ８２は、るつぼ８１を加熱して、真空雰囲気の下で蒸着材料９２を蒸発させる。蒸着マスク１０は、るつぼ８１と対向するよう配置されている。すなわち蒸着マスク１０は、樹脂マスク３０が蒸着材料９２を付着させる蒸着対象物である被蒸着基板（例えば有機ＥＬ基板）９１に対面するよう、蒸着装置８０内に配置される。また、蒸着装置８０は、被蒸着基板９１の、樹脂マスク３０と反対の側の面に配置された磁石８３を有していてもよい。この磁石８３を設けることにより、磁力によって蒸着マスク１０を磁石８３側に引き寄せて、蒸着マスク１０を被蒸着基板９１に密着させることができる。
【００６１】
図７は、図６に示す蒸着装置８０を用いて製造された有機ＥＬ表示装置９０を示す断面図である。図７に示すように、有機ＥＬ表示装置９０は、被蒸着基板（例えば有機ＥＬ基板）９１と、被蒸着基板９１上にパターン状に設けられた蒸着材料９２を含む画素と、を備えている。
【００６２】
なお、複数の色によるカラー表示を行いたい場合には、各色に対応する蒸着マスク１０が搭載された蒸着装置８０をそれぞれ準備し、被蒸着基板９１を各蒸着装置８０に順に投入する。これによって、例えば、赤色用の有機発光材料、緑色用の有機発光材料および青色用の有機発光材料を順に被蒸着基板９１に蒸着させることができる。
【００６３】
（有機ＥＬ表示装置の製造方法）
次に、本実施の形態による有機ＥＬ表示装置の製造方法について、図８（ａ）−（ｃ）を参照して説明する。本実施の形態による有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上述した蒸着マスク１０を用いた蒸着法により蒸着対象物である被蒸着基板９１に蒸着材料９２を蒸着し、蒸着パターンを形成するものである。
【００６４】
まず、図８（ａ）に示すように、図１および図２に示す蒸着マスク１０と、蒸着材料９２が収容されたるつぼ８１およびヒータ８２とを備えた蒸着装置８０を準備する。
【００６５】
次に、図８（ｂ）に示すように、被蒸着基板９１を蒸着マスク１０の樹脂マスク３０上に設置する。この際、例えば被蒸着基板９１の図示しないアライメントマークと、蒸着マスク１０の図示しないアライメントマークとを直接観察し、当該アライメントマーク同士が重なるように被蒸着基板９１の位置決めを行いながら、被蒸着基板９１を蒸着マスク１０に設置する。
【００６６】
次いで、蒸着マスク１０の樹脂マスク３０上に設置された被蒸着基板９１に蒸着材料９２を蒸着させる。この際、例えば、図８（ｃ）に示すように、被蒸着基板９１の、蒸着マスク１０と反対の側の面に磁石８３が配置される。このように磁石８３を設けることにより、磁力によって蒸着マスク１０を磁石８３側に引き寄せて、樹脂マスク３０を被蒸着基板９１に密着させることができる。次に、ヒータ８２が、るつぼ８１を加熱して蒸着材料９２を蒸発させる。そして、るつぼ８１から蒸発して蒸着マスク１０に到達した蒸着材料９２は、金属層２０の第１開口部２１および樹脂マスク３０の第２開口部３１を通って被蒸着基板９１に付着する。
【００６７】
このようにして、樹脂マスク３０の第２開口部３１の位置に対応した所望のパターンで、蒸着材料９２が被蒸着基板９１に蒸着される。すなわち蒸着材料９２は、樹脂マスク３０の複数の第２開口部３１に対応する形状、具体的には、それぞれの角部が丸みを帯びた複数の多角形形状のパターンに形成される。このようにして、被蒸着基板（有機ＥＬ基板）９１と、パターン状に設けられた蒸着材料９２を含む画素と、を備えた有機ＥＬ表示装置９０が得られる（図７参照）。
【００６８】
ところで、このようにして蒸着マスク１０を用いて有機ＥＬ表示装置９０を繰り返し作製する場合、蒸着マスク１０には有機物等が付着する。このような有機物等を除去するため、蒸着マスク１０は、使用後に洗浄液に浸漬され、超音波洗浄により洗浄される。一方、蒸着マスク１０を超音波洗浄により洗浄する際、樹脂マスク３０の第２開口部３１の周囲に裂け目が入るおそれがある。すなわち、超音波洗浄により、樹脂マスク３０の第２開口部３１の周囲に位置する第１リブ３４および第２リブ３５（図３参照）が振動するため、この振動により、第１リブ３４と第２リブ３５とが交わる第２開口部３１の角部に裂け目が生じることが考えられる。このような現象は、とりわけ樹脂マスク３０の開口率を高め、第２開口部３１同士の間隔を狭くしたときに顕著となる。
【００６９】
これに対して本実施の形態によれば、樹脂マスク３０の各第２開口部３１の形状は、角部３２が丸みを帯びた多角形形状となっている。これにより、超音波洗浄時に第２開口部３１の角部３２への応力集中を緩和し、第２開口部３１の角部３２に裂け目が生じないようにすることができる。とりわけ、第２開口部３１の角部３２の曲率半径を１μｍ以上６μｍとすることにより、樹脂マスク３０の開口率の低下を抑えつつ、樹脂マスク３０の強度を高めることができる。
【００７０】
また本実施の形態によれば、互いに隣接する第２開口部３１の最も狭い間隔が３μｍ以上２７μｍ以下となっていることにより、樹脂マスク３０の強度を高めることと、樹脂マスク３０の開口率を高めることとを両立させることができる。
【００７１】
（実施例）
次に、本実施の形態の具体的実施例を説明する。
【００７２】
（実施例１）
図３に示す形状からなるポリイミド樹脂製の樹脂マスク３０を含む蒸着マスク１０（実施例１）を作製した。この場合、樹脂マスク３０の第２開口部３１の長辺３３ａ方向の長さ（Ｙ方向の長さ）Ｌ２を５７μｍとし、第２開口部３１の短辺３３ｂ方向の長さ（Ｘ方向の長さ）Ｌ３を３０μｍとした。また、第２開口部３１の各角部３２の曲率半径Ｒ１は２μｍとした。さらに、第１リブ３４の幅Ｗ２は３５μｍとし、第２リブ３５の幅Ｗ５は７μｍとした。なお、樹脂マスク３０の厚みＴ２は５μｍとした。
【００７３】
（実施例２）
第２開口部３１の各角部３２の曲率半径Ｒ１を４μｍとしたこと、以外は、上記実施例１の場合と同様にして、蒸着マスク１０（実施例２）を作製した。
【００７４】
（実施例３）
第２開口部３１の各角部３２の曲率半径Ｒ１を６μｍとしたこと、以外は、上記実施例１の場合と同様にして、蒸着マスク１０（実施例３）を作製した。
【００７５】
（比較例１）
第２開口部３１の各角部３２が丸みを帯びないようにしたこと、以外は、上記実施例１の場合と同様にして、蒸着マスク（比較例１）を作製した。
【００７６】
次に上記実施例１−３および比較例１の蒸着マスクをそれぞれ１０枚ずつ作製した。次に、実施例１−３および比較例１の蒸着マスクに対して、それぞれ超音波洗浄を行った。そして洗浄開始から５分経過した後と１０分経過した後で、樹脂マスク３０の第２開口部３１の角部３２に裂け目が生じた蒸着マスクの枚数を測定した。この結果を以下に示す。
【００７７】
なお、超音波洗浄装置としては、本多電子株式会社製の発振器Ｗ−１１８ＴＵＳを用い、その出力を６００Ｗ、周波数を４５ｋＨｚとした。また、超音波洗浄に用いる洗浄液としては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を用いた。
【００７８】
【表１】
2020007623.tif 000003
【００７９】
上記結果より明らかなように、実施例１−３の蒸着マスク１０は、比較例１の蒸着マスクと比べて、樹脂マスク３０の第２開口部３１の角部３２に裂け目が生じる現象を低く抑えることができた。
【００８０】
（第２の実施の形態）
次に、図９乃至図１３を参照して、第２の実施の形態について説明する。図９乃至図１３は第２の実施の形態を示す図である。図９乃至図１３に示す第２の実施の形態は、金属層２０が電解めっきにより形成されている点等が上述した第１の実施の形態と異なるものである。図９乃至図１３において、図１乃至図８に示す形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。なお、以下においては、主として第１の実施の形態との相違点を中心に説明する。
【００８１】
（蒸着マスクの構成）
本実施の形態による蒸着マスクの構成について、図９を用いて説明する。
【００８２】
図９に示すように、本実施の形態による蒸着マスク１０Ａは、複数の第１開口部２１Ｂが設けられた金属層（金属マスク）２０Ｂと、金属層２０Ｂに積層され、蒸着作製するパターンに対応した複数の第２開口部３１が設けられた樹脂マスク３０と、を備えている。また、金属層２０Ｂには、支持体（オープンマスク）４０Ａが固定されている。
【００８３】
金属層２０Ｂは、樹脂マスク３０の一方の面（Ｚ方向マイナス側の面）上に設けられている。金属層２０Ｂには、縦方向及び／又は横方向に延びる複数の第１開口部２１Ｂが形成されている。本実施の形態において、金属層２０Ｂは、電解めっきにより形成されている。このような金属層２０Ｂの材料について特に限定はなく、例えばニッケル又はニッケル合金などの金属材料を挙げることができる。金属層２０Ｂの厚みについても特に限定はないが、５μｍ以上５０μｍ以下としても良い。
【００８４】
樹脂マスク３０は、金属層２０Ｂの他方の面（Ｚ方向プラス側の面）上に設けられている。樹脂マスク３０には、複数画面を構成するために必要な第２開口部３１が設けられている。この場合、金属層２０Ｂの各第１開口部２１Ｂに、それぞれ平面視で１つずつの第２開口部３１が重なるように設けられている。しかしながら、これに限らず、各第１開口部２１Ｂに平面視で複数の第２開口部３１が重なるように設けられていても良い。この場合、各第２開口部３１の形状は、角部が丸みを帯びた多角形形状を有している。なお、第２開口部３１の形状は、第１の実施の形態の場合と略同一であるので、ここでは詳細な説明を省略する。
【００８５】
支持体（オープンマスク）４０Ａは、金属層２０Ｂの一方の面（Ｚ方向マイナス側の面）上に設けられている。支持体４０Ａには、複数の貫通孔４１Ａが形成されており、各貫通孔４１Ａは、それぞれ１画面に対応する大きさに形成されている。また貫通孔４１Ａには、平面視で複数の第１開口部２１Ｂおよび複数の第２開口部３１が重なるように配置されている。
【００８６】
この支持体４０Ａは、張力が付与されていない状態または張力が付与された状態で金属層２０Ｂに接合されてこれを支持するものである。支持体４０Ａは、厚みが５０μｍ以上３００μｍ以下のシート状の部材であり、例えばインバー又はインバー合金等の金属材料によって形成されても良い。なお、図示していないが、支持体４０Ａの一方の面（Ｚ方向マイナス側の面）に、第１の実施の形態の場合と同様の支持体（フレーム）４０をさらに設けても良い。支持体４０Ａとしては、例えば１ｍｍ以上の厚みをもつ厚手の金属板を削って使用しても良い。例えば、１０ｍｍ程度の金属板を部分的に削って、面内で厚みの異なる領域のある、支持体４０Ａを作製しても良い。
【００８７】
（蒸着マスクの製造方法）
次に、本実施の形態による蒸着マスクの製造方法について、図１０（ａ）−（ｈ）を用いて説明する。図１０（ａ）−（ｈ）は、本実施の形態による蒸着マスクの製造方法を説明するための工程図である。
【００８８】
まず、図１０（ａ）に示すように、ガラス基板５５を準備する。このガラス基板５５の厚みは、例えば０．１ｍｍ以上２．８ｍｍ以下のものを用いることができる。
【００８９】
次に、図１０（ｂ）に示すように、ガラス基板５５上に樹脂層３０Ａを形成する。この樹脂層３０Ａは、上述した蒸着マスク１０Ａの樹脂マスク３０を作製するためのものである。具体的には、ガラス基板５５の表面の略全域に、例えばポリイミドワニス等の樹脂溶液を塗布し、これを加熱して乾燥することにより、樹脂層３０Ａが得られる。樹脂溶液を塗布する厚みは、例えば５μｍ以上３０μｍ以下とすることができる。
【００９０】
続いて、図１０（ｃ）に示すように、樹脂層３０Ａ上に、例えばニッケル等の金属からなる図示しないシード層を形成し、次いで、シード層上に感光性レジストを塗布し、乾燥する。続いて、この感光性レジストに対してフォトマスクを介して露光し、現像することにより、第１開口部２１Ｂに対応するパターンを有するレジスト層５６を形成する。
【００９１】
次に、図１０（ｄ）に示すように、ガラス基板５５および樹脂層３０Ａに対して電解めっきを施す。これにより、樹脂層３０Ａに形成されたシード層上の、レジスト層５６が存在しない部分にニッケル等の金属を析出させ、金属層２０Ｂを形成する。
【００９２】
続いて、図１０（ｅ）に示すように、レジスト層５６およびシード層を順次除去することにより、樹脂層３０Ａ上に、第１開口部２１Ｂが設けられた金属層２０Ｂが形成される。このようにして、第１開口部２１Ｂが設けられた金属層２０Ｂと、金属層２０Ｂに積層された樹脂層３０Ａと、樹脂層３０Ａに積層されたガラス基板５５と、を有する積層体５０Ａが得られる。
【００９３】
次いで、図１０（ｆ）に示すように、積層体５０Ａの樹脂層３０Ａに対して、金属層２０Ｂ側からレーザーを照射し（図１０（ｆ）の矢印参照）、蒸着作製するパターンに対応した第２開口部３１を形成する。これにより、第２開口部３１が設けられた樹脂マスク３０を得る。この際、各第２開口部３１は、角部が丸みを帯びた多角形形状に形成される。
【００９４】
次に、図１０（ｇ）に示すように、積層体５０Ａの金属層２０Ｂを支持体４０Ａに固定する。このとき、積層体５０Ａの金属層２０Ｂは、張力が付与されていない状態で支持体４０Ａに溶接される。金属層２０Ｂを支持体４０Ａに固定する方法については特に限定されることはなく、例えば、支持体４０Ａが金属を含む場合にはスポット溶接など従来公知の工程方法を適宜採用すればよい。
【００９５】
その後、図１０（ｈ）に示すように、ガラス基板５５を樹脂層３０Ａから除去する。具体的には、積層体５０Ａのガラス基板５５側からレーザーを照射し、これによりガラス基板５５を樹脂層３０Ａから剥離する。
【００９６】
このようにして、図９に示す蒸着マスク１０Ａが得られる。
【００９７】
（蒸着マスクの製造方法の変形例１）
次に、本実施の形態による蒸着マスクの製造方法の変形例（変形例１）について、図１１（ａ）−（ｈ）を用いて説明する。
【００９８】
まず、上述した図１０（ａ）−（ｅ）に示す工程と同様にして、第１開口部２１Ｂが設けられた金属層２０Ｂと、金属層２０Ｂに積層された樹脂層３０Ａと、樹脂層３０Ａに積層されたガラス基板５５と、を有する積層体５０Ａを準備する（図１１（ａ）−（ｅ））。
【００９９】
次に、図１１（ｆ）に示すように、積層体５０Ａの金属層２０Ｂを支持体４０Ａに固定する。このとき、積層体５０Ａの金属層２０Ｂは、張力が付与されていない状態で支持体４０Ａに溶接される。
【０１００】
次いで、図１１（ｇ）に示すように、積層体５０Ａの樹脂層３０Ａに対して、金属層２０Ｂ側からレーザーを照射し（図１１（ｇ）の矢印参照）、蒸着作製するパターンに対応した第２開口部３１を形成する。これにより、第２開口部３１が設けられた樹脂マスク３０を得る。この際、各第２開口部３１は、角部が丸みを帯びた多角形形状に形成される。
【０１０１】
その後、図１１（ｈ）に示すように、ガラス基板５５を樹脂層３０Ａから除去する。具体的には、積層体５０Ａのガラス基板５５側からレーザーを照射し、これによりガラス基板５５を樹脂層３０Ａから剥離する。
【０１０２】
このようにして、図９に示す蒸着マスク１０Ａが得られる。
【０１０３】
（蒸着マスクの製造方法の変形例２）
次に、本実施の形態による蒸着マスクの製造方法の変形例（変形例２）について、図１２（ａ）−（ｈ）を用いて説明する。
【０１０４】
まず、上述した図１０（ａ）−（ｅ）に示す工程と同様にして、第１開口部２１Ｂが設けられた金属層２０Ｂと、金属層２０Ｂに積層された樹脂層３０Ａと、樹脂層３０Ａに積層されたガラス基板５５と、を有する積層体５０Ａを得る（図１２（ａ）−（ｅ））。
【０１０５】
次に、図１２（ｆ）に示すように、積層体５０Ａの金属層２０Ｂを支持体４０Ａに固定する。このとき、積層体５０Ａの金属層２０Ｂは、張力が付与されていない状態で支持体４０Ａに溶接される。金属層２０Ｂを支持体４０Ａに固定する方法については特に限定されることはなく、例えば、支持体４０Ａが金属を含む場合にはスポット溶接など従来公知の工程方法を適宜採用すればよい。
【０１０６】
次いで、図１２（ｇ）に示すように、ガラス基板５５を樹脂層３０Ａから除去する。具体的には、積層体５０Ａのガラス基板５５側からレーザーを照射し、これによりガラス基板５５が樹脂層３０Ａから剥離される。
【０１０７】
その後、図１２（ｈ）に示すように、積層体５０Ａの樹脂層３０Ａに対して、金属層２０Ｂ側からレーザーを照射し（図１２（ｈ）の矢印参照）、蒸着作製するパターンに対応した第２開口部３１を形成する。これにより、第２開口部３１が設けられた樹脂マスク３０を得る。この際、各第２開口部３１は、角部が丸みを帯びた多角形形状に形成される。
【０１０８】
このようにして、図９に示す蒸着マスク１０Ａが得られる。
【０１０９】
（蒸着マスクの製造方法の変形例３）
次に、本実施の形態による蒸着マスクの製造方法の変形例（変形例３）について、図１３（ａ）−（ｈ）を用いて説明する。
【０１１０】
まず、上述した図１０（ａ）−（ｅ）に示す工程と同様にして、第１開口部２１Ｂが設けられた金属層２０Ｂと、金属層２０Ｂに積層された樹脂層３０Ａと、樹脂層３０Ａに積層されたガラス基板５５と、を有する積層体５０Ａを得る（図１３（ａ）−（ｅ））。
【０１１１】
次いで、図１３（ｆ）に示すように、ガラス基板５５を樹脂層３０Ａから除去する。具体的には、積層体５０Ａのガラス基板５５側からレーザーを照射し、これによりガラス基板５５が樹脂層３０Ａから剥離される。
【０１１２】
次に、図１３（ｇ）に示すように、金属層２０Ｂを支持体４０Ａに固定する。このとき、積層体５０Ａの金属層２０Ｂは、架張された状態で支持体４０Ａに溶接される。金属層２０Ｂを支持体４０Ａに固定する方法については特に限定されることはなく、例えば、支持体４０Ａが金属を含む場合にはスポット溶接など従来公知の工程方法を適宜採用すればよい。
【０１１３】
その後、図１３（ｈ）に示すように、積層体５０Ａの樹脂層３０Ａに対して、金属層２０Ｂ側からレーザーを照射し（図１３（ｈ）の矢印参照）、蒸着作製するパターンに対応した第２開口部３１を形成する。これにより、第２開口部３１が設けられた樹脂マスク３０を得る。この際、各第２開口部３１は、角部が丸みを帯びた多角形形状に形成される。
【０１１４】
このようにして、図９に示す蒸着マスク１０Ａが得られる。
【０１１５】
本実施の形態によれば、樹脂マスク３０の各第２開口部３１の形状は、角部が丸みを帯びた多角形形状となっているので、蒸着マスク１０Ａを超音波洗浄する際に、第２開口部３１の角部への応力集中を緩和し、第２開口部３１の角部に裂け目が生じないようにすることができる。
【０１１６】
上記実施の形態および変形例に開示されている複数の構成要素を必要に応じて適宜組合せることも可能である。あるいは、上記実施の形態および変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。
【符号の説明】
【０１１７】
１０        蒸着マスク
２０        金属層
２１        第１開口部
３０        樹脂マスク
３１        第２開口部
３２        角部
３３ａ      長辺
３３ｂ      短辺
３４        第１リブ
３５        第２リブ
４０        支持体
４１        貫通孔
５０        積層体
【図１】
2020007623.tif 000004
【図２】
2020007623.tif 000005
【図３】
2020007623.tif 000006
【図４】
2020007623.tif 000007
【図５】
2020007623.tif 000008
【図６】
2020007623.tif 000009
【図７】
2020007623.tif 000010
【図８】
2020007623.tif 000011
【図９】
2020007623.tif 000012
【図１０】
2020007623.tif 000013
【図１１】
2020007623.tif 000014
【図１２】
2020007623.tif 000015
【図１３】
2020007623.tif 000016