(57)【要約】【課題】大型の基板であっても溶媒の乾燥状態を面内で均一にすることが可能な減圧乾燥装置を提供する。【解決手段】基板上の溶液を減圧下で乾燥させる減圧乾燥装置であって、前記基板を収容する容器と、前記容器内に設けられ、前記基板が載置される載置台と、前記載置台に載置された前記基板と対向するように前記容器内に設けられ、当該基板から気化した前記溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部材とを備え、前記溶媒捕集部材は、複数の開口を有する平板状に形成された、溶媒捕集分割部材を複数有し、前記複数の溶媒捕集分割部材それぞれの平面視における側端同士を接合させてなる。【選択図】図３
2020190405.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の溶液を減圧下で乾燥させる減圧乾燥装置であって、
前記基板を収容する容器と、
前記容器内に設けられ、前記基板が載置される載置台と、
前記載置台に載置された前記基板と対向するように前記容器内に設けられ、当該基板から気化した前記溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部材とを備え、
前記溶媒捕集部材は、
複数の開口を有する平板状に形成された、溶媒捕集分割部材を複数有し、
前記複数の溶媒捕集分割部材それぞれの平面視における側端同士を接合させてなる、減圧乾燥装置。
【請求項２】
前記複数の溶媒捕集分割部材それぞれの平面視における側端同士の接合は、レーザ溶接により行われる、請求項１に記載の減圧乾燥装置。
【請求項３】
前記溶媒捕集分割部材の前記側端の接合しろは、０．１５ｍｍ以上１ｍｍ以下である、請求項２に記載の減圧乾燥装置。
【請求項４】
前記複数の溶媒捕集分割部材それぞれの平面視における側端同士の接合は、スポット溶接により行われる、請求項１に記載の減圧乾燥装置。
【請求項５】
互いに隣接する前記溶媒捕集分割部材の一方の前記側端の上面と、他方の前記側端の下面とが溶接される、請求項４に記載の減圧乾燥装置。
【請求項６】
前記複数の溶媒捕集分割部材それぞれの平面視における側端同士の接合は、接合部品を用いて行われる、請求項１に記載の減圧乾燥装置。
【請求項７】
前記溶媒捕集分割部材の前記側端の接合しろは、前記溶媒捕集部材の面内で異なっている、請求項１〜６のいずれか１項に記載の減圧乾燥装置。
【請求項８】
前記複数の溶媒捕集分割部材それぞれの単位面積当たりの熱容量が互いに異なる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の減圧乾燥装置。
【請求項９】
前記溶媒捕集部材が固定される枠体を備え、
前記溶媒捕集部材は、前記枠体が前記基板と対向する領域に位置しないように、支持される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の減圧乾燥装置。
【請求項１０】
基板上の溶液から気化した当該溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部材の製造方法であって、
複数の板材それぞれに複数の開口を形成し、複数の溶媒捕集分割材を形成する工程と、
前記複数の溶媒捕集分割部材それぞれの平面視における側端同士を接合させ、前記複数の溶媒捕集分割部材を連結させる工程を含む、溶媒捕集部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、減圧乾燥装置及び溶媒捕集部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、チャンバ内に収納された基板上の溶液を減圧状態で乾燥させる減圧乾燥装置が開示されている。この減圧乾燥装置には、溶媒捕集プレートが設けられている。溶媒捕集プレートは、網状板からなり、基板から気化した溶液中の溶媒を一時的に捕集するものであり、チャンバ内において基板に対向するように設けられている。特許文献１に開示の減圧乾燥装置では、この溶媒捕集プレートを設けることにより、乾燥時間が基板の面内で均一となるようにしている。なお、特許文献１に開示の減圧乾燥装置において、溶媒捕集プレートを構成する網状板は、鋼板を冷間切延することにより作製されるエキスパンドメタルから構成される。また、上記網状板は、一枚のエキスパンドメタルから構成され、または、複数枚のエキスパンドメタルを水平方向に並べて構成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１８−５９５９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示にかかる技術は、大型の基板であっても溶媒の乾燥状態を面内で均一にすることが可能な減圧乾燥装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一態様は、基板上の溶液を減圧下で乾燥させる減圧乾燥装置であって、前記基板を収容する容器と、前記容器内に設けられ、前記基板が載置される載置台と、前記載置台に載置された前記基板と対向するように前記容器内に設けられ、当該基板から気化した前記溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部材とを備え、前記溶媒捕集部材は、複数の開口を有する平板状に形成された、溶媒捕集分割部材を複数有し、前記複数の溶媒捕集分割部材それぞれの平面視における側端同士を接合させてなる。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、大型の基板であっても溶媒の乾燥状態を面内で均一にすることが可能な減圧乾燥装置を提供する。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】従来技術の課題を説明するための図である。
【図２】本実施形態に係る減圧乾燥装置の概略構成を示す断面図である。
【図３】本実施形態に係る減圧乾燥装置の概略構成を示す上面図である。
【図４】溶媒捕集部材の取り付け構造を説明するための図であり、減圧乾燥装置内の部分側面図である。
【図５】溶媒捕集部材の取り付け構造を説明するための図であり、減圧乾燥装置における溶媒捕集部材とその周囲の下面図である。
【図６】分割部材の、平面視における側端部の拡大平面図である。
【図７】分割部材の上記側端部の拡大断面図である。
【図８】分割部材の接合方法の他の例を説明する図であり、分割部材の上記側端部の拡大断面図である。
【図９】分割部材の接合方法の他の例を説明する図であり、分割部材の上記側端部の拡大平面図である。
【図１０】分割部材の接合方法の別の例を説明する図であり、分割部材の上記側端部の拡大断面図である。
【図１１】分割部材の接合方法の別の例を説明する図であり、分割部材の上記側端部の拡大平面図である。
【図１２】分割部材の接合方法のさらに別の例を説明する図であり、分割部材の上記側端部の拡大断面図である。
【図１３】分割部材の接合方法のさらに別の例を説明する図であり、分割部材の上記側端部の拡大平面図である。
【図１４】溶媒捕集部材の他の例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
従来、有機ＥＬ（Electroluminescence）の発光を利用した発光ダイオードである有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ：Organic  Light  Emitting  Diode）が知られている。かかる有機発光ダイオードを用いた有機ＥＬディスプレイは、薄型軽量かつ低消費電力であるうえ、応答速度や視野角、コントラスト比の面で優れているといった利点を有していることから、次世代のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）として近年注目されている。
【０００９】
有機発光ダイオードは、基板上の陽極と陰極の間に有機ＥＬ層を挟んだ構造を有している。有機ＥＬ層は、例えば陽極側から順に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層が積層されて形成される。これらの有機ＥＬ層の各層（特に正孔注入層、正孔輸送層及び発光層）を形成するにあたっては、例えばインクジェット方式で有機材料の液滴を基板上に離散的に配置された各色の画素に対応するバンクに吐出することにより、バンク内にその画素の有機材料の膜を塗布するといった方法が用いられる。
【００１０】
インクジェット方式で基板上に吐出された有機材料中には、多量の溶媒が含まれている。そのため、溶媒を除去することを目的として、基板上の溶液を減圧状態で乾燥する減圧乾燥処理が行われている。
【００１１】
減圧乾燥処理を行う減圧乾燥装置として、特許文献１には、気密に構成され排気装置により減圧されるチャンバと、チャンバ内において基板に対向するように設けられ基板上の有機材料膜から揮発する溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集プレートとを備える装置が開示されている。特許文献１に開示の減圧乾燥装置では、上記溶媒捕集プレートを設けることにより、乾燥時間が基板の面内で均一となるようにしている。また、特許文献１に開示の減圧乾燥装置では、溶媒捕集プレートが網状板からなり、この網状板がエキスパンドメタルから構成される。また、特許文献１には、上記網状板が、一枚のエキスパンドメタルから構成され、または、複数枚のエキスパンドメタルを水平方向に並べて構成されることが開示されている。
【００１２】
ところで、近年、減圧乾燥処理の対象となる基板は大型化してきている。大型の基板上の溶媒を特許文献１のようにエキスパンドメタルを用いて乾燥させるには、図１に示すようにエキスパンドメタルＭを複数枚水平方向に並べる必要がある。そして、各エキスパンドメタルＭの周縁部には、通常、補強や形状維持等を目的としてフレームＦが設けられている。したがって、エキスパンドメタルＭを上述のように複数枚並べると、平面視においてフレームＦと基板Ｗと重なる部分Ｐが存在する。当該部分Ｐでは、他の部分に比べ、基板Ｗ上の溶媒が揮発しにくい。そのため、溶媒の乾燥状態の面内分布において上記部分Ｐが他の部分と相違してしまうことがある。つまり、溶媒の乾燥状態の面内分布にフレームＦが転写されてしまうことがある。
【００１３】
そこで、本開示にかかる技術は、大型の基板であっても溶媒の乾燥状態を面内で均一にすることが可能な減圧乾燥装置、すなわち、大型の基板であってもフレームＦの転写が生じない減圧乾燥装置を提供する。
【００１４】
以下、本実施形態にかかる減圧乾燥装置及び溶媒捕集部材の製造方法を、図面を参照して説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１５】
図２及び図３は、本実施形態にかかる減圧乾燥装置の概略構成を示す図であり、図２は断面図、図３は上面図である。図２では後述の溶媒捕集部材を支持するための構造体の図示は省略され、図３では後述の天板等の図示は省略されている。図４及び図５は、溶媒捕集部材の取り付け構造を説明するための図であり、図４は減圧乾燥装置内の部分側面図、図５は減圧乾燥装置における溶媒捕集部材とその周囲の下面図である。
【００１６】
図２の減圧乾燥装置１は、基板Ｗ上に例えばインクジェット方式で塗布された溶液を、減圧状態で乾燥するものである。また、減圧乾燥装置１の処理対象の基板Ｗは例えば有機ＥＬディスプレイ用のガラス基板である。さらに、処理対象の基板Ｗは、大型の基板であり、その平面サイズは、例えば２．２ｍ×２．７ｍである。なお、本明細書において、「大型」とは、市場に通常流通している鋼板を冷間切延して作製されるエキスパンドメタルより平面サイズが大きいことを意味する。
【００１７】
処理対象の基板Ｗに塗布されている溶液は、溶質と溶媒からなり、減圧乾燥処理の対象となる成分は主に溶媒である。溶媒に含まれる有機化合物としては、高沸点のものが多く、例えば、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（1,3-dimethyl-2-imidazolidinone、沸点220℃、融点8℃）、４−tert-ブチルアニソール（4-tert-Butylanisole、沸点222℃、融点18℃）、Trans−アネトール（Trans-Anethole、沸点235℃、融点20℃）、１，２−ジメトキシベンゼン（1,2-Dimethoxybenzene、沸点206.7℃、融点22.5℃）、２−メトキシビフェニル（2-Methoxybiphenyl、沸点274℃、融点28℃）、フェニルエーテル（Phenyl Ether、沸点258.3℃、融点28℃）、２−エトキシナフタレン（2-Ethoxynaphthalene、沸点282℃、融点35℃）、ベンジルフェニルエーテル（Benzyl Phenyl Ether、沸点288℃、融点39℃）、２，６−ジメトキシトルエン（2,6-Dimethoxytoluene、沸点222℃、融点39℃）、２−プロポキシナフタレン（2-Propoxynaphthalene、沸点305℃、融点40℃）、１，２，３−トリメトキシベンゼン（1,2,3-Trimethoxybenzene、沸点235℃、融点45℃）、シクロヘキシルベンゼン（cyclohexylbenzene、沸点237.5℃、融点5℃）、ドデシルベンゼン（dodecylbenzene、沸点288℃、融点-7℃）、1,2,3,4-テトラメチルベンゼン（1,2,3,4-tetramethylbenzene、沸点203℃、融点76℃）等を挙げることができる。これらの高沸点有機化合物は、２種以上が組み合わされて溶液中に配合されている場合もある。
【００１８】
減圧乾燥装置１は、チャンバ１０と、載置台２０と、を備え、排気装置３０に接続されている。
【００１９】
チャンバ１０は、減圧可能に構成された容器であり、例えばステンレス等の金属材料から形成される。チャンバ１０は、上下に開口を有する角筒状の本体部１１と、本体部１１の上側に取り付けられる天板１２と、本体部１１の下側に取り付けられる底板１３と、を有する。
【００２０】
本体部１１は、その側面に、基板Ｗをチャンバ１０内に搬入出するための搬入出口（図示せず）が設けられている。
天板１２は、本体部１１の上側の開口を塞ぐと共に、後述の溶媒捕集部材４０を支持する。
【００２１】
底板１３は、本体部１１の下側の開口を塞ぐものである。底板１３の上面中央には載置台２０が配設されている。また、底板１３には、載置台２０の外周を囲うように排気口スリット１３ａが設けられ、排気口スリット１３ａには排気管３１を介して排気装置３０が接続されている。この排気口スリット１３ａを介して、減圧乾燥装置１のチャンバ１０内を減圧することができる。
【００２２】
載置台２０は、基板Ｗが載置されるものである。載置台２０には、当該載置台２０を貫通するように昇降ピン（図示せず）が設けられている。昇降ピンは、チャンバ１０の外部から当該チャンバ１０内に挿入される基板搬送装置（図示せず）との間で基板Ｗを受け渡すためのものである。この昇降ピンは昇降機構（図示せず）により自在に上下動可能に構成されている。
【００２３】
排気装置３０は、真空ポンプから構成され、具体的には、例えばターボ分子ポンプとドライポンプとが上流側からこの順に直列に接続されて構成される。
排気管３１における排気口スリット１３ａと排気装置３０との間の部分には自動圧力制御バルブ（ＡＰＣ（Adaptive Pressure Control）バルブ）３２が設けられている。減圧乾燥装置１では、排気装置３０の真空ポンプを作動させた状態で、ＡＰＣバルブ３２の開度を調節することにより、減圧排気の際のチャンバ１０内の真空度を制御することができる。
なお、ＡＰＣバルブ３２による上記真空度の制御のため、チャンバ１０内の圧力を測定する圧力計（図示せず）が減圧乾燥装置１に設けられている。上記圧力計での計測結果は電気信号としてＡＰＣバルブ３２に入力される。
【００２４】
また、減圧乾燥装置１は、制御部（図示せず）を有する。この制御部は、例えばＣＰＵやメモリ等を備えたコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、減圧乾燥装置１における減圧乾燥処理を制御するプログラムが格納されている。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、当該記憶媒体から上記制御部にインストールされたものであってもよい。プログラムの一部または全ては専用ハードウェハ（回路基板）で実現してもよい。
【００２５】
さらに、減圧乾燥装置１には、載置台２０に載置された基板Ｗから気化した溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部材４０が、チャンバ１０内において上記基板Ｗと対向するように配設されている。溶媒捕集部材４０は、具体的には、基板Ｗ上にインクジェット方式により塗布された溶液から気化した溶媒を一時的に捕集する。溶媒捕集部材４０をチャンバ１０内に設けることにより、当該チャンバ１０内の雰囲気中の溶媒濃度を調節することができる。
【００２６】
溶媒捕集部材４０は、図３に示すように、複数の溶媒捕集分割部材（以下、「分割部材」と省略することがある。）４１を有する。分割部材４１は、開口を複数有する平板状の部材、すなわち、網状の部材である。上記開口は、例えば上下方向に貫通する貫通孔であり、平面視において格子状に複数形成されている。そして、溶媒捕集部材４０は、複数の分割部材４１それぞれの平面視における側端同士を接合させてなる。分割部材４１の接合方法については後述する。
分割部材４１はそれぞれ、ステンレスやアルミ、銅といった金属材料等の熱伝導性の良い材料から形成される。
【００２７】
なお、分割部材４１は薄く、その厚さは例えば０．０５ｍｍ〜０．２ｍｍである。また、複数の分割部材４１を互いに接合してなる溶媒捕集部材４０の水平方向の寸法は、基板Ｗの水平方向の寸法と略同一である。ただし、溶媒捕集部材４０の水平方向の寸法は、気化した溶媒の吸着量を増やすために、基板Ｗの水平方向の寸法よりも大きくしてもよい。
さらに、分割部材４１は、その開口率が６０％〜９０％と大きく、上述のように０．０５〜０．２ｍｍと薄いため、平面視における単位面積当たりの熱容量が小さい。なお、以下では、各分割部材４１の上記単位面積当たりの熱容量は等しいものとする。
図の例では、分割部材４１の枚数は３枚であるが、これに限られず、２枚以上であればよい。
【００２８】
溶媒捕集部材４０は、図２に示すように、当該溶媒捕集部材４０の上部の構造物であって溶媒捕集部材４０に最も近い構造物である天板１２と載置台２０上の基板Ｗとの間の位置に支持される。また、溶媒捕集部材４０は、載置台２０上の基板Ｗと正対するように、すなわち載置台２０上の基板Ｗと略平行となるように、天板１２に支持される。なお、溶媒捕集部材４０は、天板１２と載置台２０上の基板Ｗとの間における中間の位置、具体的には、基板Ｗまでの距離が例えば７５ｍｍとなる位置に支持される。
【００２９】
天板１２による溶媒捕集部材４０の支持は、図４及び図５に示すように、枠体としてのフレーム５０と脚部５１を介して行われる。例えば、溶媒捕集部材４０を角筒状のフレーム５０に溶接等により固定し、フレーム５０の外側に設けられた耳部５０ａを、天板１２から下方向に延出する脚部５１に、ネジ等を用いて固定することにより、溶媒捕集部材４０が天板１２に支持される。なお、溶媒捕集部材４０は、フレーム５０が基板Ｗと対向する領域に位置しないように、すなわち、平面視においてフレーム５０と基板Ｗとが重なる部分がないように、支持される。
【００３０】
フレーム５０や脚部５１は例えばステンレス等の金属材料から形成される。
また、フレーム５０や脚部５１は基板Ｗとは溶媒捕集部材４０を間に挟んで反対側に位置している。したがって、基板Ｗ側から見て、溶媒捕集部材４０がフレーム５０や脚部５１に覆われていないため、基板Ｗから溶媒捕集部材４０の方向への気化した溶媒の流れはフレーム５０や脚部５１には阻害されない。
【００３１】
続いて、溶媒捕集部材４０の製造方法の一例について、図６及び図７を用いて説明する。図６は、分割部材４１の、平面視における側端部（以下、「側端部」と省略することがある。）の拡大平面図であり、図７は、分割部材４１の側端部の拡大断面図である。なお、図６は、接合前の状態を示し、図７は接合後の状態を示している。
【００３２】
溶媒捕集部材４０の製造方法は、例えば、以下の分割部材作製工程及び接合工程を含む。
【００３３】
（分割部材作製工程）
この工程では、分割部材４１を複数作製する。具体的には、この工程では、ステンレスやアルミ、銅といった金属材料等の熱伝導性の良い材料から成る板材に、例えばレーザ加工やプラズマエッチングにより孔あけ加工を施し、図６に示すように、開口として、平面視正方形の貫通孔４１ａを多数形成する。この処理を繰り返すことにより、すなわち、この処理を複数の板材それぞれについて行うことにより、複数の分割部材４１が作製される。なお、上述の孔あけ加工は、上記板材の側端部に、貫通孔４１ａが設けられていない部分、すなわち、接合しろ４１ｂが形成されるように行われる。接合しろ４１ｂは、分割部材４１同士の接合を容易にするために設けられている。
【００３４】
（接合工程）
この工程では、複数の分割部材４１それぞれの平面視における側端同士を接合させることで、上記複数の分割部材４１を連結させる。これにより溶媒捕集部材４０が製造される。
分割部材４１の接合は、例えば、レーザ溶接により行われる。具体的には、図６に示すように分割部材４１の側端部に設けられた接合しろ４１ｂの側端面同士を突き合わせた状態でレーザ溶接することにより、分割部材４１の接合は行われる。上記レーザ溶接により、図７に示すように、分割部材４１間に溶接部Ｌが形成され、この溶接部Ｌによって、分割部材４１同士は接合される。なお、レーザ溶接は、例えば、分割部材４１の上下面の両方に対して行われる。
なお、平面視正方形の貫通孔４１ａの一辺の長さＬが例えば１ｍｍ、平面視における貫通孔４１ａ間の幅（以下、「線幅」ということがある。）Ｗ２が例えば１ｍｍであるのに対し、接合しろ４１ｂの幅Ｗ１は例えば０．１５ｍｍ以上１ｍｍ以下である。したがって、接合しろ４１ｂの幅Ｗ１は、従来のフレームＦの下面のエキスパンドメタルＭに覆われていない部分の幅Ｗ０（図１参照）の約１／１００〜１／５０である。
【００３５】
続いて、減圧乾燥装置１を用いた減圧乾燥処理について説明する。
減圧乾燥装置１を用いた減圧乾燥処理では、まず、インクジェット方式で溶液が塗布された基板Ｗが載置台２０に載置される。
次いで、排気装置３０のドライポンプが作動されチャンバ１０内が減圧排気される。ドライポンプによる減圧排気はチャンバ１０内の圧力が例えば１０Ｐａとなるまで行われる。
この減圧排気の際、断熱膨張によりチャンバ１０内の気体は冷却される。このようにチャンバ１０内の気体が冷却されたとしても、基板Ｗの温度は、該基板Ｗの熱容量が大きいこと等から、室温の２３℃からほとんど変化しない。しかし、熱容量の小さい溶媒捕集部材４０の温度は低下する。
【００３６】
その後、排気装置３０のターボ分子ポンプが作動され、さらに減圧排気される。この減圧排気に伴って、上述と同様に溶媒捕集部材４０の温度は低下し、その時点でのチャンバ１０内の圧力における露点以下（例えば８〜１５℃）となる。
また、溶媒捕集部材４０の温度は、基板Ｗ上の溶媒の蒸発が完了するまでの間、各時点でのチャンバ１０内の圧力における溶媒の露点以下に維持される。
そのため、基板Ｗから気化した溶媒が、溶媒捕集部材４０により高効率で捕集されるので、チャンバ１０内の気体状の溶媒の濃度は低く維持される。したがって、基板Ｗ上の溶媒を速く除去することができる。
【００３７】
基板Ｗ上の溶媒の除去が完了した後も排気装置３０のターボ分子ポンプでの排気は継続される。溶媒捕集部材４０により捕集された溶媒を該溶媒捕集部材４０から除去するためである。
例えばターボ分子ポンプが作動されてから所定時間が経過するまで、ターボ分子ポンプでの排気を継続することにより、溶媒捕集部材４０から溶媒を除去する溶媒捕集部材４０の乾燥工程が終了する。
【００３８】
溶媒捕集部材４０の乾燥工程終了後、排気装置３０が停止される。その後、チャンバ１０内の圧力が大気圧まで戻された後、基板Ｗがチャンバ１０から搬出される。これで、減圧乾燥装置１を用いた減圧乾燥処理が終了する。
【００３９】
以上のように、本実施形態では、載置台２０上の基板Ｗと対向するようにチャンバ１０内に、溶媒捕集部材４０が設けられており、また、基板Ｗが大型であるため、溶媒捕集部材４０が、開口を複数有する平板状に形成された分割部材４１を複数有する。そして、溶媒捕集部材４０が、複数の分割部材４１それぞれの平面視における側端同士を接合させてなる。そのため、平面視において、フレーム５０と基板Ｗとか重なる部分が存在しない。したがって、本実施形態によれば、基板Ｗが大型であっても、溶媒の乾燥状態を面内で均一にすることができる。
なお、平面視において、分割部材４１の接合しろ４１ｂが基板Ｗと重なるが、接合しろ４１ｂの幅Ｗ１は、従来のフレームＦの下面のエキスパンドメタルＭに覆われていない部分の幅Ｗ０の約１／１００〜１／５０であり、狭い。したがって、接合しろ４１ｂが溶媒の乾燥状態の面内分布に与える影響は少ない。
【００４０】
また、本実施形態では、分割部材４１の側端面同士を突き合わせてこれら分割部材４１を接合しているため、分割部材４１から載置台２０上の基板Ｗまでの距離が分割部材４１間で等しくなる。そのため、溶媒の乾燥状態を面内でより均一にすることができる。
【００４１】
本実施形態のように、分割部材４１の側端面同士を突き合わせてこれら分割部材４１をレーザ溶接により接合する場合、分割部材４１の接合しろ４１ｂの幅Ｗ１は０．１５ｍｍ以上としてもよい。接合しろ４１ｂの幅Ｗ１を０．１５ｍｍ以上とすることで、分割部材４１間に隙間を生じさせることなく、且つ、レーザ溶接中に分割部材４１が破損することなく、分割部材４１を溶接することができ、高い強度の溶媒捕集部材４０を得ることができる。
【００４２】
また、本実施形態のように、分割部材４１の側端面同士を突き合わせてこれら分割部材４１をレーザ溶接により接合する場合、分割部材４１の接合しろ４１ｂの幅Ｗ１は１ｍｍ以下としてもよい。
【００４３】
表１は、分割部材４１の接合しろ４１ｂの幅Ｗ１と、溶媒捕集部材４０の面内における温度範囲（最大値と最小値との差）との関係を示すものである。表１は、具体的には、溶媒捕集部材４０が最も冷えたときの上記関係を示している。表１において、「◎」は温度範囲が２℃未満であることを意味し、「○」は温度範囲が２℃以上３℃未満であることを意味し、「×」は３℃以上であることを意味する。また、表１の結果が得られたときの、溶接しろ４０ｂの幅Ｗ１以外の各条件は以下の通りである。
測定範囲：接合しろ４１ｂの短手方向（幅方向）に関し接合部分から±１４０ｍｍの範囲
測定点数：１２点
溶媒捕集部材４０の平面サイズ：６００ｍｍ×３００ｍｍ
分割部材４１の平面サイズ：３００×３００ｍｍ
分割部材４１の厚さ：０．１ｍｍ
分割部材４１の材料：ステンレス
分割部材４１の貫通孔４１ａの一辺の長さＬ：１．３ｍｍ
分割部材４１の線幅：０．１ｍｍ〜０．２ｍｍ
分割部材４１の開口率：７６％〜８７％
溶媒捕集部材４０から載置台２０までの距離：７０ｍｍ
載置台２０から天板１２までの距離：１５０ｍｍ
【００４４】
【表１】
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【００４５】
表１に示すように、接合しろ４１ｂの幅Ｗ１を１ｍｍ以下とすることで、溶媒捕集部材４０の面内における温度範囲を３℃未満にすることができ、さらに、接合しろ４１ｂの幅Ｗ１を０．２ｍｍ以下とすることで、溶媒捕集部材４０の面内における温度範囲を２℃未満にすることができる。つまり、接合しろ４１ｂの幅Ｗ１を１ｍｍ以下とすることで、溶媒捕集部材４０を均一に冷却することができ、さらに、接合しろ４１ｂの幅Ｗ１を０．２ｍｍ以下とすることで、溶媒捕集部材４０をより均一に冷却することができる。
【００４６】
なお、表１への記載は省略しているが、溶媒捕集部材４０の面内平均温度は、溶接しろ４１ｂの幅によって大きな変化はなく、分割部材４１の開口率が同等であれば、溶媒捕集部材４０の面内平均温度は略同じであった。
【００４７】
上述の例とは異なり、分割部材４１の接合しろ４１ｂの幅Ｗ１を１ｍｍより大きくする場合、レーザ溶接後に、接合しろ４１ｂに対し追加で加工を施し、貫通孔４１ａと同等の貫通孔を接合しろ４１ｂに形成するようにしてもよい。接合しろ４１ｂの貫通孔は、例えば、分割部材４１において接合しろ４１が形成されている領域とそれ以外の領域とで開口率が等しくなるように形成される。
【００４８】
また、分割部材４１の接合しろ４１ｂの幅は、溶媒捕集部材４０の面内で異なっていてもよい。例えば、基板Ｗから複数面のパネルを取る場合、分割部材４１の接合しろ４１ｂは、平面視において、載置台２０上の基板Ｗ内の各パネルに重なる部分と重ならない部分とで、幅が異なるようにしてもよい。具体的には、接合しろ４１ｂの幅Ｗ１を、平面視において、基板Ｗ内のパネル間の境界と重なる部分については大きくし、重ならない部分については小さくするようにしてもよい。より具体的には、接合しろ４１ｂの幅Ｗ１を、平面視において、基板Ｗ内のパネルにおける溶液の塗布領域間の境界と重なる部分については大きくし、重ならない部分については小さくするようにしてもよい。これにより、溶媒捕集部材４０の強度を保ちつつ、少なくとも溶媒捕集部材４０における基板Ｗ内のパネルと対向する部分については均一に冷却することができる。
【００４９】
図８及び図９は、分割部材４１の接合方法の他の例を説明するための図である。
分割部材４１の側端同士の接合は、以下のようにしてもよい。すなわち、図８に示すように、一方の分割部材４１の側端に設けられた接合しろ４１ｂの上面と、他方の分割部材４１の側端に設けられた接合しろ４１ｂの下面とを当接させた状態で、スポット溶接することにより、分割部材４１の接合を行ってもよい。上記スポット溶接により、分割部材４１間に溶接部Ｓが形成され、この溶接部Ｓによって、図９に示すように、分割部材４１同士は接続される。
【００５０】
このような接合を行うと、平面視において、分割部材４１の接合しろ４１ｂと基板Ｗとが重なる部分の面積が小さくなるため、溶媒の乾燥状態を面内でより均一にすることができる。
【００５１】
なお、本例においても、分割部材４１の接合しろ４１ｂの幅を、溶媒捕集部材４０の面内で異ならせてもよい。
【００５２】
図１０及び図１１は、分割部材４１の接合方法の別の例を説明するための図である。
分割部材４１の側端同士の接合は、図１０及び図１１に示すように、接合部品Ｊ１を用いて行うようにしてもよい。具体的には、分割部材４１の接合しろ４１ｂに形成されたネジＪ１１の挿通孔４１ｃ同士が連通するように分割部材４１の接合しろ４１ｂ同士を当接させ、連通した挿通孔４１ｃに挿通したネジＪ１１と当該ネジＪ１１に螺合するナットＪ１２とで、分割部材４１の接合を行ってもよい。
【００５３】
この接合方法でも、平面視において、分割部材４１の接合しろ４１ｂと基板Ｗとが重なる部分の面積が小さくなるため、溶媒の乾燥状態を面内でより均一にすることができる。
【００５４】
なお、本例においても、分割部材４１の接合しろ４１ｂの幅を、溶媒捕集部材４０の面内で異ならせてもよい。
【００５５】
図１２及び図１３は、分割部材４１の接合方法のさらに別の例を説明するための図である。
分割部材４１の側端同士の接合に用いる接合部品Ｊ２は、図１２及び図１３に示すようなものであってもよい。接合部品Ｊ２は、接合しろ４１ｂ（図６参照）を有していない分割部材４１の側端面同士を突き合わせた状態で、２つの分割部材４１を跨るように当該分割部材４１の上面及び下面に配設される平板部材Ｊ２１を有する。また、接合部品Ｊ２は、さらに、分割部材４１の上面に配設された平板部材Ｊ２１、一方の分割部材４１の貫通孔４１ａ及び分割部材４１の下面に配設された平板部材Ｊ２１を貫通するネジＪ２２と、ネジＪ２２に螺合するナットＪ２３とを有する。さらに、接合部品Ｊ２は、分割部材４１の上面に配設された平板部材Ｊ２１、他方の分割部材４１の貫通孔４１ａ及び分割部材４１の下面に配設された平板部材Ｊ２１を貫通するネジＪ２４と、ネジＪ２４に螺合するナットＪ２５とを有する。
分割部材４１の側端面同士を突き合わせた状態で、２つの分割部材４１を跨るように当該分割部材４１の上下面に配設した平板部材Ｊ２１を、ネジＪ２２及びナットＪ２３とネジＪ２４及びＪ２４とで挟み込むことにより、分割部材４１は接合される。
【００５６】
この接合方法では、分割部材４１に接合しろ４１が設けられていないため、溶媒の乾燥状態を面内でより均一にすることができる。さらに、分割部材４１から載置台２０上の基板Ｗまでの距離が分割部材４１間で等しいため、溶媒の乾燥状態を面内でさらに均一にすることができる。
ただし、接合部品Ｊ２を用いる場合でも分割部材４１に接合しろを設けてもよい。
【００５７】
なお、以上の説明では、各分割部材４１の、平面視における単位面積当たりの熱容量は等しいものとした。ただし、各分割部材４１の上記熱容量は互いに異なっていてもよい。
【００５８】
例えば、各分割部材４１の上記熱容量が、当該分割部材４１と対向する基板Ｗの部分に応じて異なっていてもよい。具体的には、例えば、図１４に示すように、基板中央部と対向する分割部材４１１と、基板角部と対向する分割部材４１２とで、上記熱容量を異ならせてもよい。より具体的には、基板中央部と対向する分割部材４１１の上記熱容量を、基板周縁部と対向する分割部材４１２の上記熱容量より小さくしてもよい。
【００５９】
上記熱容量が小さい方が冷却されやすく、溶媒の吸着能力が高いため、上述のように上記熱容量を異ならせた分割部材４１を用いることで、基板角部よりも溶媒の乾燥時間が長くなる傾向にある基板中央部からの溶媒を高効率で捕集することができる。したがって、基板Ｗ上の溶液の乾燥が完了するタイミングを基板中央部と基板角部で等しくすることができるので、溶媒の乾燥状態を面内でさらに均一にすることができる。
【００６０】
分割部材４１の平面視における単位面積当たりの熱容量は、当該分割部材４１の開口率や板厚を調整することで変更することができる。具体的には、例えば、開口率を大きくしたり薄くしたりすることで上記熱容量を小さくすることができる。
【００６１】
なお、分割部材４１の線幅Ｌ２は、面内で一定とせず、フレーム５０の溶接される部分についてのみ太くするようにしてもよい。具体的には、分割部材４１においてフレーム５０と溶接される部分の線幅は、０．２ｍｍとし、それ以外の部分の線幅を０．１ｍｍとするようにしてもよい。これにより、分割部材４１とフレーム５０との溶接の際に、分割部材４１が破損するのを確実に防止することができる。このように線幅を分割部材４１の面内で異ならせる場合、溶媒捕集部材４０における、線幅が細く溶媒の吸着効果が高い領域が、載置台２０における基板Ｗが搭載される領域よりも、大面積になるようにし、前者の領域で後者の領域全体を覆うようにするとよい。
【００６２】
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
【符号の説明】
【００６３】
１    減圧乾燥装置
１０  チャンバ
２０  載置台
４０  溶媒捕集部材
４１  溶媒捕集分割部材
Ｗ    基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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