(57)【要約】【課題】蒸着対象に対して蒸着が行われている間において蒸着対象の温度における変動を抑えることを可能とした蒸着装置、および、蒸着方法を提供する。【解決手段】蒸着装置１０は、蒸着材料Ｍを収容し、蒸着材料Ｍを加熱する蒸着源１１と、蒸着対象Ｓを支持する支持部１２と、蒸着源１１と支持部１２との間に位置し、開状態と閉状態とを有するシャッター１３と、蒸着対象Ｓを加熱する加熱部１４と、蒸着源１１、シャッター１３、および、加熱部１４の駆動を制御する制御部１０Ｃとを備える。制御部１０Ｃは、シャッター１３が閉状態である間に、蒸着源１１に蒸着材料Ｍの加熱を開始させ、かつ、加熱部１４に蒸着対象Ｓの加熱を開始させ、シャッター１３を閉状態から開状態に変更するまでの間に、加熱部１４に加熱部１４が蒸着対象Ｓを加熱する度合いを加熱部１４が加熱を開始したときの度合いよりも低下させる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着材料を収容し、前記蒸着材料を加熱する蒸着源と、
蒸着対象を支持する支持部と、
前記蒸着源と前記支持部との間に位置し、開状態と閉状態とを有するシャッターと、
前記蒸着対象を加熱する加熱部と、
前記蒸着源、前記シャッター、および、前記加熱部の駆動を制御する制御部と、を備え、
前記閉状態は、前記蒸着材料が前記蒸着対象に向けて飛行することを妨げる状態であり、
前記開状態は、前記蒸着材料を前記蒸着対象に到達させる状態であり、
前記制御部は、前記シャッターが前記閉状態である間に、前記蒸着源に前記蒸着材料の加熱を開始させ、かつ、前記加熱部に前記蒸着対象の加熱を開始させ、前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に変更するまでの間に、前記加熱部に前記加熱部が前記蒸着対象を加熱する度合いを前記加熱部が前記加熱を開始したときの前記度合いよりも低下させる
蒸着装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に変更するまでの間に、前記加熱部に前記蒸着対象の加熱を終了させる
請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に変更する前に、前記加熱部に前記度合いを低下させる
請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項４】
前記シャッターに付着した前記蒸着材料の付着量を監視する監視部をさらに備え、
前記付着量は、第１付着量と、前記第１付着量よりも大きい第２付着量を含み、
前記制御部は、前記監視部による前記付着量の監視結果を入力し、前記付着量が前記第２付着量であるときに、前記付着量が前記第１付着量であるときよりも、前記加熱部に前記度合いを低下させる時点から、前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に変更する時点までの期間を短くする
請求項３に記載の蒸着装置。
【請求項５】
前記シャッターに付着した前記蒸着材料の付着量を監視する監視部をさらに備え、
前記付着量は、第１付着量と、前記第１付着量よりも大きい第２付着量を含み、
前記制御部は、前記監視部による前記付着量の監視結果を入力し、前記付着量が前記第２付着量であるときに、前記付着量が前記第１付着量であるときよりも、前記加熱部に前記蒸着対象の加熱を開始させるときの前記度合いを大きくする
請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項６】
蒸着材料を収容し、前記蒸着材料を加熱する蒸着源と、
蒸着対象を搬送方向に沿って搬送する搬送部と、
前記蒸着源と前記搬送部との間に位置し、前記蒸着源に対して前記蒸着対象を露出させる開口を含み、前記開口が開状態と閉状態とを有するシャッターと、
前記蒸着対象を加熱する加熱部と、
前記蒸着源、前記搬送部、前記シャッター、および、前記加熱部の駆動を制御する制御部と、を備え、
前記搬送方向において、前記開口の幅が、前記蒸着対象の幅よりも小さく、
前記閉状態は、前記蒸着材料が前記蒸着対象に向けて飛行することを妨げる状態であり、
前記開状態は、前記蒸着材料を前記搬送方向における前記蒸着対象の一部である対象領域にのみ到達させる状態であり、
前記加熱部は、前記蒸着源と前記搬送部とが並ぶ方向から見て、前記対象領域と重なる対象要素と、前記対象要素よりも外側に位置する周辺要素とを含み、
前記制御部は、前記開口が前記閉状態である間に、前記蒸着源に前記蒸着材料の加熱を開始させ、かつ、前記加熱部に前記蒸着対象の加熱を開始させ、前記開口を前記閉状態から前記開状態に変更するまでの間に、前記加熱部に、前記対象要素が前記蒸着対象を加熱する度合いを前記周辺要素が前記蒸着対象を加熱する度合いよりも低下させる
蒸着装置。
【請求項７】
蒸着材料を収容し、前記蒸着材料を加熱する蒸着源と、
蒸着対象を支持する支持部と、
前記蒸着源と前記支持部との間に位置し、開状態と閉状態とを有するシャッターと、
前記蒸着対象を加熱する加熱部と、
前記蒸着源、前記シャッター、および、前記加熱部の駆動を制御する制御部と、を備え、
前記閉状態は、前記蒸着材料が前記蒸着対象に向けて飛行することを妨げる状態であり、
前記開状態は、前記蒸着材料を前記蒸着対象に到達させる状態であり、
前記蒸着源は、移動方向に沿って移動し、前記移動方向における各位置において、前記移動方向における前記蒸着対象の一部である対象領域にのみ前記蒸着材料を飛行させ、
前記加熱部は、前記移動方向に沿って並ぶ複数の加熱要素を含み、
前記制御部は、前記シャッターが前記閉状態である間に、前記蒸着源に前記蒸着材料の加熱を開始させ、かつ、前記加熱部に前記蒸着対象の加熱を開始させ、前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に変更した後に、前記蒸着源を前記移動方向に沿って移動させ、かつ、前記蒸着源と前記シャッターとが並ぶ方向から見て、前記加熱要素のなかで、前記対象領域と重なる前記加熱要素が前記蒸着対象を加熱する度合いを、前記加熱要素のなかで、前記対象領域以外の領域と重なる前記加熱要素が前記蒸着対象を加熱する度合いよりも低下させる
蒸着装置。
【請求項８】
シャッターが、蒸着材料が蒸着対象に向けて飛行することを妨げる閉状態である間に、蒸着源が前記蒸着材料の加熱を開始することと、
前記シャッターが前記閉状態である間に、加熱部が前記蒸着対象の加熱を開始することと、
前記シャッターが、前記閉状態から、前記蒸着材料を前記蒸着対象に到達させる開状態に変わるまでの間に、前記加熱部が前記蒸着対象を加熱する度合いを前記加熱部が前記加熱を開始したときの前記度合いよりも低下させることと、を含む
蒸着方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着装置、および、蒸着方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
蒸着装置は、蒸着源、シャッター、マスク支持部、および、ステージを備えている。ステージは、蒸着装置での処理の対象である蒸着対象を支持する。マスク支持部は、蒸着対象に所定のパターンを形状するための蒸着マスクを支持する。蒸着源は、蒸着対象に付着する蒸着材料を加熱することによって、蒸着材料を昇華させる。シャッターは、蒸着源とマスク支持部の間に位置している。蒸着源が蒸着材料の加熱を開始するとき、シャッターは閉じている。蒸着源が加熱を開始してから所定の時間が経過した後に、シャッターが開く。これにより、昇華した蒸着材料が、蒸着マスクが有する貫通孔を通って蒸着対象に到達する。結果として、蒸着対象に蒸着材料による所定のパターンが形成される（例えば、特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１４／０８４２７０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、蒸着源は、蒸着材料を加熱することに伴って、蒸着源の外部に熱を輻射する。シャッターが閉じている間は、蒸着源からの輻射熱における大部分はシャッターに入力される。これに対して、シャッターが開くことによって、蒸着源からの輻射熱はシャッターにはほぼ入力されない一方で、輻射熱の大部分は蒸着対象に入力される。これにより、蒸着対象が加熱される。蒸着対象は加熱によって膨張するため、蒸着対象の加熱によって、蒸着マスクに対する蒸着対象の位置にずれが生じる。結果として、蒸着対象に形成されたパターンにおいて、形状および位置の精度が低下する。
【０００５】
本発明は、蒸着対象に対して蒸着が行われている間において蒸着対象の温度における変動を抑えることを可能とした蒸着装置、および、蒸着方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するための蒸着装置は、蒸着材料を収容し、前記蒸着材料を加熱する蒸着源と、蒸着対象を支持する支持部と、前記蒸着源と前記支持部との間に位置し、開状態と閉状態とを有するシャッターと、前記蒸着対象を加熱する加熱部と、前記蒸着源、前記シャッター、および、前記加熱部の駆動を制御する制御部と、を備える。前記閉状態は、前記蒸着材料が前記蒸着対象に向けて飛行することを妨げる状態であり、前記開状態は、前記蒸着材料を前記蒸着対象に到達させる状態である。前記制御部は、前記シャッターが前記閉状態である間に、前記蒸着源に前記蒸着材料の加熱を開始させ、かつ、前記加熱部に前記蒸着対象の加熱を開始させ、前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に変更するまでの間に、前記加熱部に前記加熱部が前記蒸着対象を加熱する度合いを前記加熱部が前記加熱を開始したときの前記度合いよりも低下させる。
【０００７】
上記課題を解決するための蒸着方法は、シャッターが、蒸着材料が蒸着対象に向けて飛行することを妨げる閉状態である間に、蒸着源が前記蒸着材料の加熱を開始することと、前記シャッターが前記閉状態である間に、加熱部が前記蒸着対象の加熱を開始することと、前記シャッターが、前記閉状態から、前記蒸着材料を前記蒸着対象に到達させる開状態に変わるまでの間に、前記加熱部が前記蒸着対象を加熱する度合いを低下させることと、を含む。
【０００８】
上記各構成によれば、シャッターが閉状態から開状態に変わることによって、蒸着源が蒸着対象に与える輻射熱が大きくなっても、シャッターが閉状態である間に加熱部が蒸着対象に与えていた熱量の分だけ、蒸着対象における温度の変動を抑えることができる。これにより、蒸着対象に対して蒸着が行われている間において、蒸着対象の温度における変動を抑えることができる。
【０００９】
上記蒸着装置において、前記制御部は、前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に変更するまでの間に、前記加熱部に前記蒸着対象の加熱を終了させてもよい。上記構成によれば、加熱部に蒸着対象の加熱を終了させるため、シャッターが開状態に変更されて以降も加熱部が蒸着対象の加熱を続ける場合と比べて、加熱部の制御にかかる負荷を軽減することができる。
【００１０】
上記蒸着装置において、前記制御部は、前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に変更する前に、前記加熱部に前記度合いを低下させてもよい。上記構成によれば、加熱に対する蒸着対象の応答遅れが、加熱部が与える熱と蒸着源が与える熱との加算を生じさせ、結果として、過剰な蒸着対象の加熱を生じさせることが抑えられる。
【００１１】
上記蒸着装置において、前記シャッターに付着した前記蒸着材料の付着量を監視する監視部をさらに備え、前記付着量は、第１付着量と、前記第１付着量よりも大きい第２付着量を含み、前記制御部は、前記監視部による前記付着量の監視結果を入力し、前記付着量が前記第２付着量であるときに、前記付着量が前記第１付着量であるときよりも、前記加熱部に前記度合いを低下させる時点から、前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に変更する時点までの期間を短くしてもよい。
【００１２】
上記蒸着装置において、前記シャッターに付着した前記蒸着材料の付着量を監視する監視部をさらに備え、前記付着量は、第１付着量と、前記第１付着量よりも大きい第２付着量を含み、前記制御部は、前記監視部による前記付着量の監視結果を入力し、前記付着量が前記第２付着量であるときに、前記付着量が前記第１付着量であるときよりも、前記加熱部に前記蒸着対象の加熱を開始させるときの前記度合いを大きくしてもよい。
【００１３】
上記各構成によれば、シャッターにおける蒸着材料の付着量が相対的に大きい場合に、蒸着材料の付着量が相対的に小さい場合と比べて、加熱部が蒸着対象に与える熱量を大きくしている。そのため、シャッターにおける蒸着材料の付着量が大きいことに起因して、シャッターが閉状態である間に蒸着対象に与えられる輻射熱と、シャッターが開状態に変更されて以降に蒸着対象に与えられる輻射熱との差分が大きくなった場合にも、蒸着対象における温度の変動を抑えることが可能である。
【００１４】
上記課題を解決するための蒸着装置は、蒸着材料を収容し、前記蒸着材料を加熱する蒸着源と、蒸着対象を搬送方向に沿って搬送する搬送部と、前記蒸着源と前記搬送部との間に位置し、前記蒸着源に対して前記蒸着対象を露出させる開口を含み、前記開口が開状態と閉状態とを有するシャッターと、前記蒸着対象を加熱する加熱部と、前記蒸着源、前記搬送部、前記シャッター、および、前記加熱部の駆動を制御する制御部と、を備える。前記搬送方向において、前記開口の幅が、前記蒸着対象の幅よりも小さい。前記閉状態は、前記蒸着材料が前記蒸着対象に向けて飛行することを妨げる状態であり、前記開状態は、前記蒸着材料を前記搬送方向における前記蒸着対象の一部である対象領域にのみ到達させる状態である。前記加熱部は、前記蒸着源と前記搬送部とが並ぶ方向から見て、前記対象領域と重なる対象要素と、前記対象要素よりも外側に位置する周辺要素とを含む。前記制御部は、前記開口が前記閉状態である間に、前記蒸着源に前記蒸着材料の加熱を開始させ、かつ、前記加熱部に前記蒸着対象の加熱を開始させ、前記開口を前記閉状態から前記開状態に変更するまでの間に、前記加熱部に、前記対象要素が前記蒸着対象を加熱する度合いを前記周辺要素が前記蒸着対象を加熱する度合いよりも低下させる。
【００１５】
上記課題を解決するための蒸着装置は、蒸着材料を収容し、前記蒸着材料を加熱する蒸着源と、蒸着対象を支持する支持部と、前記蒸着源と前記支持部との間に位置し、開状態と閉状態とを有するシャッターと、前記蒸着対象を加熱する加熱部と、前記蒸着源、前記シャッター、および、前記加熱部の駆動を制御する制御部と、を備える。前記閉状態は、前記蒸着材料が前記蒸着対象に向けて飛行することを妨げる状態であり、前記開状態は、前記蒸着材料を前記蒸着対象に到達させる状態である。前記蒸着源は、移動方向に沿って移動し、前記移動方向における各位置において、前記移動方向における前記蒸着対象の一部である対象領域にのみ前記蒸着材料を飛行させる。前記加熱部は、前記移動方向に沿って並ぶ複数の加熱要素を含む。前記制御部は、前記シャッターが前記閉状態である間に、前記蒸着源に前記蒸着材料の加熱を開始させ、かつ、前記加熱部に前記蒸着対象の加熱を開始させ、前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に変更した後に、前記蒸着源を前記移動方向に沿って移動させ、かつ、前記蒸着源と前記シャッターとが並ぶ方向から見て、前記加熱要素のなかで、前記対象領域と重なる前記加熱要素が前記蒸着対象を加熱する度合いを、前記加熱要素のなかで、前記対象領域以外の領域と重なる前記加熱要素が前記蒸着対象を加熱する度合いよりも低下させる。
【００１６】
上記各構成によれば、蒸着対象に対する蒸着が行われているときに、蒸着対象のなかで蒸着源の輻射熱が入熱する対象領域を加熱する度合いを、他の領域を加熱する度合いよりも低下させる。そのため、蒸着対象の面内において、蒸着対象の温度にばらつきが生じることが抑えられる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１実施形態における蒸着装置の構成を模式的に示すブロック図。
【図２】第１実施形態における蒸着方法を説明するためのタイミングチャート。
【図３】第１実施形態における蒸着対象の温度の変動を示すグラフ。
【図４】蒸着対象の入熱および廃熱を説明するためのブロック図。
【図５】第２実施形態における蒸着装置の構成を模式的に示すブロック図。
【図６】第２実施形態における蒸着装置の作用を説明するための作用図。
【図７】第２実施形態における蒸着装置の作用を説明するための作用図。
【図８】第２実施形態における蒸着装置の作用を説明するための作用図。
【図９】第３実施形態における蒸着装置の構成を模式的に示すブロック図。
【図１０】第３実施形態における蒸着装置の作用を説明するための作用図。
【図１１】第３実施形態における蒸着装置の作用を説明するための作用図。
【図１２】第３実施形態における蒸着装置の作用を説明するための作用図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
［第１実施形態］
図１から図４を参照して、蒸着装置および蒸着方法の第１実施形態を説明する。以下では、蒸着装置の構成、蒸着方法、蒸着装置および蒸着方法の作用、および、試験例を順に説明する。
【００１９】
［蒸着装置の構成］
図１を参照して蒸着装置の構成を説明する。
図１が示すように、蒸着装置１０は、蒸着源１１、支持部１２、シャッター１３、加熱部１４、および、制御部１０Ｃを備えている。蒸着源１１は、蒸着材料Ｍを収容し、蒸着材料Ｍを加熱する。蒸着源１１は、蒸着材料Ｍを加熱することによって、蒸着材料Ｍを蒸発または昇華させる。支持部１２は、蒸着対象Ｓを支持する。シャッター１３は、蒸着源１１と支持部１２との間に位置し、開状態と閉状態とを有する。加熱部１４は、蒸着対象Ｓを加熱する。制御部１０Ｃは、蒸着源１１、シャッター１３、および、加熱部１４の駆動を制御する。
【００２０】
シャッター１３において、閉状態は、蒸着材料Ｍが蒸着対象Ｓに向けて飛行することを妨げる状態である。これに対して、開状態は、蒸着材料Ｍを蒸着対象Ｓに到達させる状態である。なお、シャッター１３は、閉状態において、蒸着源１１から昇華する蒸着材料Ｍの全てを蒸着対象Ｓに向けて飛行させない。一方で、シャッター１３は、開状態において、蒸着源１１から昇華または蒸発する蒸着材料Ｍの全てを蒸着対象Ｓに到達させてもよいし、昇華または蒸発する蒸着材料Ｍの一部のみを蒸着対象Ｓに到達させてもよい。
【００２１】
制御部１０Ｃは、シャッター１３が閉状態である間に、蒸着源１１に蒸着材料Ｍの加熱を開始させ、かつ、加熱部１４に蒸着対象Ｓの加熱を開始させる。制御部１０Ｃは、シャッター１３を閉状態から開状態に変更するまでの間に、加熱部１４に加熱部１４が蒸着対象Ｓを加熱する度合いを加熱部１４が加熱を開始したときの度合いよりも低下させる。
【００２２】
これにより、シャッター１３が閉状態から開状態に変わることによって、蒸着源１１が蒸着対象Ｓに与える輻射熱が大きくなっても、シャッター１３が閉状態である間に加熱部１４が蒸着対象Ｓに与えていた熱量の分だけ、蒸着対象Ｓにおける温度の変動を抑えることができる。結果として、蒸着対象Ｓに対して蒸着が行われている間において、蒸着対象Ｓの温度における変動を抑えることができる。
【００２３】
なお、シャッター１３を閉状態から開状態に変更するまでの間には、シャッター１３を閉状態から開状態に変更する時点よりも前の期間と、シャッター１３を閉状態から開状態に変更する時点との両方が含まれる。また、加熱部１４が蒸着対象Ｓを加熱する度合いを低下させることには、加熱する度合いを低下させる一方で加熱を終了しないことと、加熱を終了することとの両方が含まれる。加熱する度合いを低下させることは、例えば、加熱部１４における設定温度を下げることであってよい。
【００２４】
すなわち、制御部１０Ｃは、シャッター１３を閉状態から開状態に変更する前に、加熱部１４に加熱部１４が蒸着対象Ｓを加熱する度合いを低下させてもよい。この場合には、加熱に対する蒸着対象Ｓの応答遅れが、加熱部１４が与える熱と蒸着源１１が与える熱との加算を生じさせ、結果として、過剰な蒸着対象Ｓの加熱を生じさせることが抑えられる。または、制御部１０Ｃは、シャッター１３を閉状態から開状態に変更すると同時に、加熱部１４に加熱部１４が蒸着対象Ｓを加熱する度合いを低下させてもよい。
【００２５】
また、制御部１０Ｃは、シャッター１３を閉状態から開状態に変更するまでの間に、加熱部１４に蒸着対象Ｓの加熱を終了させてもよい。すなわち、制御部１０Ｃは、シャッター１３を閉状態から開状態に変更する前に、加熱部１４に蒸着対象Ｓの加熱を終了させてもよい。または、制御部１０Ｃは、シャッター１３を閉状態から開状態に変更すると同時に、加熱部１４に蒸着対象Ｓの加熱を終了させてもよい。加熱部１４に蒸着対象Ｓの加熱を終了させるため、シャッター１３が開状態に変更されて以降も加熱部１４が蒸着対象Ｓの加熱を続ける場合と比べて、加熱部１４の制御にかかる負荷を軽減することができる。
【００２６】
蒸着装置１０は、真空槽１５、および、マスク支持部１６をさらに備えている。真空槽１５は、蒸着対象Ｓに対する蒸着が行われる蒸着空間を区画する。蒸着空間には、蒸着源１１、支持部１２、シャッター１３、加熱部１４、および、マスク支持部１６が収容されている。真空槽１５には、図示されない排気部が接続されている。真空槽１５内が排気部によって排気されることで、真空槽１５内が減圧される。
【００２７】
マスク支持部１６は、蒸着材料Ｍが飛行する経路上において、シャッター１３と支持部１２との間に位置している。マスク支持部１６は、蒸着対象Ｓに対する蒸着に用いられる蒸着マスクＭＳを支持する。蒸着マスクＭＳは、蒸着対象Ｓに形成すべきパターンに応じた形状を有する複数の貫通孔を含む。
【００２８】
蒸着材料Ｍは、有機材料であってよい。有機材料は、例えば有機ＥＬ素子が備える発光層、および、正孔輸送層などを形成するための材料であってよい。また、蒸着材料Ｍは、無機材料であってよい。無機材料は、例えば、金属、および、金属化合物などであってよい。
【００２９】
上述した蒸着源１１、支持部１２、シャッター１３、および、加熱部１４は、例えば以下のように具体化することができる。蒸着源１１は、抵抗加熱によって蒸着材料Ｍを加熱してもよいし、電子ビームによって蒸着材料Ｍを加熱してもよい。抵抗加熱によって蒸着材料Ｍを加熱する蒸着源１１は、例えば、発熱体とるつぼとを含んでよい。
【００３０】
支持部１２は、蒸着対象Ｓを支持する。支持部１２は、例えば蒸着対象Ｓを支持するステージであってよい。シャッター１３は、例えば、枠状のフレーム部とパネル部とを備えることができる。シャッター１３が閉状態である場合には、パネル部が、フレーム部が区画する空間を覆う。一方で、シャッター１３が開状態である場合には、パネル部が、フレーム部が区画する空間を覆っていない。
【００３１】
加熱部１４は、例えば加熱プレートであってよい。加熱プレートは、本体部と、本体部内に位置する発熱体とを備えてもよい。加熱プレートは、蒸着対象Ｓに接触することによって、蒸着対象Ｓを加熱する。加熱プレートは、蒸着対象Ｓと接することによって、蒸着対象Ｓの変形を抑えることが可能でもある。なお、加熱部１４は、非接触で蒸着対象Ｓを加熱する加熱部でもよい。非接触で蒸着対象Ｓを加熱する加熱部は、例えばランプヒーターであってよい。
【００３２】
加熱部１４が蒸着対象Ｓに与える熱量は、予め算出した熱量に設定することができる。言い換えれば、蒸着対象Ｓに与える熱量を実現するための加熱部１４の温度は、予め算出した温度に設定することができる。蒸着対象Ｓに与える熱量は、例えば、蒸着源１１が所定の温度に設定された場合の蒸着対象Ｓの温度に基づいて算出される。
【００３３】
蒸着装置１０は、監視部１７をさらに備えている。監視部１７は、シャッター１３に付着した蒸着材料Ｍの付着量を監視する。蒸着材料Ｍの付着量は、第１付着量と、第１付着量よりも大きい第２付着量を含む。制御部１０Ｃは、監視部１７による付着量の監視結果を入力し、その後に、以下に記載する処理の少なくとも一方を行ってよい。
【００３４】
（処理１）付着量が第２付着量であるときに、付着量が第１付着量であるときよりも、加熱部１４に蒸着対象Ｓを加熱する度合いを低下させる時点から、シャッター１３を閉状態から開状態に変更する時点までの期間を短くする。
【００３５】
（処理２）付着量が第２付着量であるときに、付着量が第１付着量であるときよりも、加熱部１４に蒸着対象Ｓの加熱を開始させるときの蒸着対象Ｓを加熱する度合いを大きくする。
【００３６】
上述したように、蒸着源１１は、シャッター１３が閉じている間に、言い換えれば、シャッター１３が蒸着材料Ｍの飛行経路を塞いでいる間に、蒸着材料Ｍの加熱を開始する。そのため、蒸着源１１が蒸着材料Ｍの加熱を開始するたびに、シャッター１３において、蒸着源１１と対向する面には、昇華または蒸発した蒸着材料Ｍが付着する。それゆえに、シャッター１３における蒸着材料Ｍの付着量は、蒸着源１１が蒸着材料Ｍの加熱を開始するごとに大きくなる。蒸着源１１における蒸着材料Ｍの付着量が大きくなると、シャッター１３の熱抵抗は大きくなり、結果として、蒸着対象Ｓが加熱されにくくなる。
【００３７】
シャッター１３の熱抵抗が大きくなることによって、シャッター１３が閉状態である間に蒸着対象Ｓに与えられている輻射熱と、シャッター１３が開状態に変更されて以降に蒸着対象Ｓに与えられる輻射熱との差が大きくなる。そのため、シャッター１３に蒸着材料Ｍが付着している場合には、シャッター１３が蒸着していない場合に比べて、シャッター１３が閉状態である間に、加熱部１４が蒸着対象Ｓに与える熱量を大きくすることが好ましい。
【００３８】
この点、上述した処理１および処理２では、シャッター１３における蒸着材料Ｍの付着量が相対的に大きい場合に、蒸着材料Ｍの付着量が相対的に小さい場合と比べて、加熱部１４が蒸着対象Ｓに与える熱量を大きくしている。そのため、シャッター１３における蒸着材料Ｍの付着量が大きいことに起因して、シャッター１３が閉状態である間に蒸着対象Ｓに与えられる輻射熱と、シャッター１３が開状態に変更されて以降に蒸着対象に与えられる輻射熱との差分が大きくなった場合にも、蒸着対象Ｓにおける温度の変動を抑えることが可能である。
【００３９】
本実施形態において、監視部１７は、非接触で蒸着対象Ｓの温度を測定する温度センサーである。監視部１７は、シャッター１３が閉状態である期間であって、かつ、蒸着源１１による蒸着材料Ｍの加熱が開始されてから所定の期間である待機期間が経過した時点で、シャッター１３の温度を測定する。シャッター１３が閉状態である期間であって、かつ、待機期間が経過した時点で、シャッター１３に蒸着材料Ｍが付着していない場合の蒸着対象Ｓの温度である初期温度が予め測定される。制御部１０Ｃは、初期温度を記憶している。制御部１０Ｃは、蒸着対象Ｓの測定温度と初期温度との差分を、蒸着材料Ｍの付着量として把握する。
【００４０】
例えば、制御部１０Ｃは、測定温度と初期温度との差分を蒸着材料Ｍの付着量に変換するためのマップを記憶している。マップにおいて、測定温度と初期温度との差分が大きいほど、蒸着材料Ｍの付着量として大きい値が対応付けられている。
【００４１】
制御部１０Ｃは、蒸着源１１、シャッター１３、加熱部１４、および、監視部１７に電気的に接続されている。制御部１０Ｃは、蒸着源１１に蒸着材料Ｍの加熱を開始させる場合に、蒸着源１１に蒸着材料Ｍの加熱を開始させるための信号を生成し、生成した信号を蒸着源１１に向けて出力する。制御部１０Ｃは、蒸着源１１に蒸着材料Ｍの加熱を終了させる場合に、蒸着源１１に蒸着材料Ｍの加熱を終了させるための信号を生成し、生成した信号を蒸着源１１に向けて出力する。
【００４２】
制御部１０Ｃは、シャッター１３を閉状態から開状態に変更する場合に、シャッター１３を閉状態から開状態に変更するための信号を生成し、生成した信号をシャッター１３に向けて出力する。制御部１０Ｃは、シャッター１３を開状態から閉状態に変更する場合に、シャッター１３を開状態から閉状態に変更するための信号を生成し、生成した信号をシャッター１３に向けて出力する。
【００４３】
制御部１０Ｃは、加熱部１４に蒸着対象Ｓの加熱を開始させる場合に、加熱部１４に蒸着対象Ｓの加熱を開始させるための信号を生成し、生成した信号を蒸着対象Ｓに向けて出力する。制御部１０Ｃは、加熱部１４に蒸着対象Ｓの加熱を終了させる場合に、加熱部１４に蒸着対象Ｓの加熱を終了させるための信号を生成し、生成した信号を加熱部１４に向けて出力する。制御部１０Ｃは、監視部１７が制御部１０Ｃに向けて出力した監視結果を入力する。
【００４４】
制御部１０Ｃが上述した処理１を行う場合には、制御部１０Ｃは、測定温度と初期温度との差分が大きいほど、加熱部１４に蒸着対象Ｓを加熱させる度合いを低下させる時点から、シャッター１３を閉状態から開状態に変更する時点までの期間を短くする。なお、本実施形態において、蒸着源１１が蒸着材料Ｍの加熱を開始してから、シャッター１３を閉状態から開状態に変更する時点までの期間は、蒸着材料Ｍの種類、および、蒸着源１１が蒸着材料Ｍを加熱する条件によって決まる。そのため、蒸着材料Ｍの種類と、加熱する条件とが同一であれば、蒸着源１１が加熱を開始した時点からシャッター１３を閉状態から開状態に変える時点までの期間は一定である。それゆえに、測定温度と初期温度との差分が大きいほど、制御部１０Ｃは、蒸着源１１が蒸着材料Ｍの加熱を開始した時点から、加熱部１４に蒸着対象Ｓを加熱させる度合いを低下させる時点までの期間を長くする。
【００４５】
制御部１０Ｃが上述した処理２を行う場合には、制御部１０Ｃは、測定温度と初期温度との差分が大きいほど、加熱部１４に蒸着対象Ｓの加熱を開始させるときの蒸着対象Ｓを加熱する度合いを大きくする。言い換えれば、制御部１０Ｃは、測定温度と初期温度との差分が大きいほど、加熱部１４が蒸着対象Ｓの加熱を開始するときの加熱部１４の設定温度を高くする。
【００４６】
［蒸着方法］
図２を参照して蒸着方法を説明する。
蒸着方法は、シャッター１３が、蒸着材料Ｍが蒸着対象Ｓに向けて飛行することを妨げる閉状態である間に、蒸着源１１が蒸着材料Ｍの加熱を開始することと、シャッター１３が閉状態である間に、加熱部１４が蒸着対象Ｓの加熱を開始することとを含む。また、蒸着方法は、シャッター１３が、閉状態から、蒸着材料Ｍを蒸着対象Ｓに到達させる開状態に変わるまでの間に、加熱部１４が蒸着対象Ｓを加熱する度合いを加熱部１４が加熱を開始したときの度合いよりも低下させることを含む。以下では、蒸着方法の一例として、シャッター１３を閉状態から開状態に変えるタイミングと、加熱部１４による蒸着対象Ｓの加熱を終了するタイミングとが等しい場合の方法を説明する。
【００４７】
図２が示すように、タイミングＴ０において、シャッター１３は閉状態である。タイミングＴ１において、蒸着源１１の状態が、オフの状態からオンの状態に変わる。これにより、蒸着源１１が蒸着材料Ｍの加熱を開始する。また、タイミングＴ１では、加熱部１４の状態が、オフの状態からオンの状態に変わる。これにより、加熱部１４が、蒸着対象Ｓの加熱を開始する。なお、加熱部１４が蒸着対象Ｓの加熱を開始するタイミングは、蒸着源１１が蒸着材料Ｍの加熱を開始する前であってもよいし、蒸着材料Ｍの加熱を開始した後であってもよい。加熱部１４が蒸着対象Ｓの加熱を開始するタイミングが、蒸着源１１が蒸着材料Ｍの加熱を開始する後である場合には、加熱部１４は、シャッター１３の状態が、閉状態から開状態に変わる前に、蒸着対象Ｓの加熱を開始すればよい。
【００４８】
タイミングＴ２において、シャッター１３の状態が、閉状態から開状態に変わる。タイミングＴ２では、加熱部１４の状態が、オンの状態からオフの状態に変わる。これにより、蒸着対象Ｓへの蒸着が開始され、かつ、加熱部１４による蒸着対象Ｓの加熱が終了される。次いで、タイミングＴ３において、シャッター１３が開状態から閉状態に変わる。これにより、蒸着対象Ｓへの蒸着が終了される。タイミングＴ２からタイミングＴ３までの期間は、蒸着対象Ｓに形成すべきパターンの厚さに応じて設定される。
【００４９】
［蒸着装置および蒸着方法の作用］
図３を参照して、蒸着装置１０および蒸着方法の作用を説明する。
図３は、上述したタイミングＴ０からタイミングＴ３までにわたる蒸着対象Ｓの温度における変動の一例を示すグラフである。図３では、本実施形態の蒸着装置１０によって蒸着が行われた場合の蒸着対象Ｓにおける温度の変動が、実線で示されている。一方で、蒸着対象を加熱する加熱部１４を備えていない蒸着装置によって蒸着が行われた場合の蒸着対象Ｓにおける温度の変動が、破線で示されている。
【００５０】
図３が示すように、本実施形態の蒸着装置１０によれば、タイミングＴ０からタイミングＴ１までの間、すなわち、蒸着対象Ｓが真空槽１５内に配置され、かつ、蒸着源１１による蒸着材料Ｍの加熱が開始されるまでの間は、蒸着対象Ｓの温度が一定に保たれる。タイミングＴ１において蒸着源１１が蒸着材料Ｍの加熱を開始する。これにより、蒸着源１１の輻射熱によってシャッター１３が加熱され、かつ、シャッター１３の輻射熱によって蒸着対象Ｓが加熱される。さらに、タイミングＴ１では、加熱部１４が蒸着対象Ｓの加熱を開始する。そのため、単位時間あたりにおける蒸着対象Ｓの温度の増加量は、シャッター１３の輻射熱と、加熱部１４の加熱とによって定まる。
【００５１】
蒸着対象Ｓの温度は、蒸着対象Ｓへの入熱と、蒸着対象Ｓからの廃熱とが釣り合うことによって、タイミングＴ２よりも前に飽和する。タイミングＴ２において、シャッター１３が閉状態から開状態に変更される。このとき、加熱部１４が蒸着対象Ｓの加熱を停止する。タイミングＴ２では、シャッター１３が開状態になるため、タイミングＴ１からタイミングＴ２よりも前までと比べて、蒸着対象Ｓに入力される蒸着源１１の輻射熱が大きくなる。この点、本実施形態では、シャッター１３が閉状態である期間から、シャッター１３が開状態になる時点まで、蒸着対象Ｓが加熱部１４によって加熱されている。そのため、タイミングＴ２においてシャッター１３が開状態に変更されて以降は、加熱部１４が蒸着対象Ｓに与えていた熱量と、タイミングＴ２後に増加する輻射熱の熱量との差分しか、蒸着対象Ｓの温度は上昇しない。
【００５２】
図３に示す例では、加熱部１４が蒸着対象Ｓに与える熱量と、タイミングＴ２後に増加する輻射熱の熱量とが等しい。そのため、タイミングＴ２においてシャッター１３が閉状態から開状態に変わっても、蒸着対象Ｓの温度が一定である。これにより、蒸着対象Ｓに対する蒸着の開始から終了までの間にわたって、蒸着対象Ｓの温度における変動を抑えることができる。
【００５３】
これに対して、加熱部１４による蒸着対象Ｓの加熱を行わない場合には、タイミングＴ１からタイミングＴ２までの間は、シャッター１３からの輻射熱のみが蒸着対象Ｓに入熱する。そのため、単位時間あたりにおける蒸着対象Ｓの温度の増加量は、シャッター１３の輻射熱のみによって定まる。蒸着対象Ｓの温度は、タイミングＴ２よりも前に飽和する。
【００５４】
タイミングＴ３において、シャッター１３の状態が閉状態から開状態に変わると、蒸着源１１の輻射熱が蒸着対象Ｓに入力される。これにより、蒸着対象Ｓに入力される熱量が急激に増加するため、蒸着対象Ｓの温度が急激に上昇する。しかも、蒸着対象Ｓの温度は、シャッター１３が閉状態から開状態に変わる時点から遅れて上昇するため、蒸着対象Ｓに対する蒸着が開始された後に、蒸着対象Ｓの温度が変動する。
【００５５】
なお、加熱部１４が蒸着対象Ｓに与える熱量と、タイミングＴ２後に増加する輻射量の熱量とは同一でなくてもよい。この場合であっても、蒸着対象Ｓを加熱しない場合と比べて、蒸着対象Ｓに対する蒸着が開始されて以降において、蒸着対象Ｓの温度における変動を抑えることはできる。
【００５６】
また、タイミングＴ３において、加熱部１４は、蒸着対象Ｓの加熱を再び開始してもよい。この場合には、蒸着対象Ｓの熱による収縮が抑えられ、これによって、例えば、蒸着対象Ｓと支持部１２との擦れや、蒸着対象Ｓと蒸着マスクＭＳとの擦れが抑えられる。これらの擦れが抑えられることによって、ダストが生じることが抑えられる。
【００５７】
［試験例］
［入熱および廃熱］
図４を参照して、蒸着対象Ｓに対する入熱、および、蒸着対象Ｓからの廃熱を説明する。以下では、真空槽１５によって区画される蒸着空間が閉空間であると仮定した場合において、蒸着対象Ｓの入熱および廃熱を説明する。図４では、説明の便宜上、蒸着装置１０の蒸着源１１および真空槽１５と、蒸着対象Ｓとのみが図示され、また、図１に比べて、蒸着対象Ｓの大きさが誇張されている。
【００５８】
図４において、真空槽１５が、灰色面で構成された閉空間であると仮定する。また、蒸着対象Ｓにおける温度の上昇に寄与する熱流束Ｑ／Ａが、正味の輻射熱交換量Ｑ（Ｗ）を蒸着対象Ｓの面積Ａ（ｍ２）によって除算した値であると仮定する。熱流束Ｑ／Ａ（Ｗ／ｍ２）は、外来照射量Ｇ（Ｗ／ｍ２）、斜度Ｊ（Ｗ／ｍ２）、反射エネルギー量ρＧ、および、蒸着対象Ｓの表面における全放射能εＥｂを用いて、以下の式によって表すことができる。
Ｊ  ＝  ρＧ＋εＥｂ
Ｑ／Ａ  ＝  Ｊ−Ｇ
【００５９】
蒸着対象Ｓへの外来照射量Ｇを算出するために、以下の条件で蒸着対象Ｓを加熱し、かつ、蒸着対象Ｓの加熱を開始する以前から蒸着対象Ｓの加熱を停止して以降まで蒸着対象Ｓの温度を測定した。蒸着対象Ｓの温度を測定した結果から、蒸着源１１からの輻射熱を受けた瞬間、すなわち、シャッターを閉状態から開状態に変更した時点での温度変化率が、０．２４Ｋ／５ｓｅｃであることが認められた。
【００６０】
［条件］
・蒸着源１１の温度      ３００℃
・蒸着対象Ｓ            ガラス基板（イーグルＸＧ（登録商標）、コーニング社製）
・蒸着対象Ｓの体積Ｖ    １×１０−４ｍ３
・蒸着対象Ｓの密度Ｄ    ２３８０ｋｇ／ｍ３
・蒸着対象Ｓの比熱ＳＧ  ７１０Ｊ／ｋｇ・Ｋ
以下の式を用いて外来照射量Ｇを算出したところ、外来照射量Ｇは、４０．５Ｗ／ｍ２であることが認められた。
Ｇ  ＝（体積Ｖ）×（密度Ｄ）×（温度変化率）×（比熱ＳＧ）
【００６１】
外来照射量Ｇが与えられている状態で蒸着対象Ｓの温度が飽和していれば、蒸着対象Ｓは、外来照射量Ｇと同量の熱を廃熱していると見なすことができる。すなわち、斜度Ｊが外来照射量Ｇと等しく、かつ、熱流束Ｑ／Ａがゼロであると見なすことができる。
【００６２】
ここで、蒸着マスクを形成するための基材であるインバー製基材を準備し、蒸着対象Ｓに対する外来照射量Ｇを算出したときと同様の方法で、インバー製基材の外来照射量Ｇを算出した。インバー製基材の外来照射量Ｇは、２５Ｗ／ｍ２であることが認められた。そのため、例えば、開口率が２０％である蒸着マスクを蒸着源１１と蒸着対象Ｓとの間に配置した場合には、蒸着対象Ｓの外来照射量Ｇは、２６Ｗ／ｍ２である。この場合にも、外来照射量Ｇが与えられている状態で蒸着対象Ｓの温度が飽和していれば、蒸着対象Ｓは、外来照射量Ｇと同量の熱を廃熱していると見なすことができる。すなわち、シャッター１３を閉状態から開状態に変更するまでの間において、加熱部１４が外来照射量Ｇに等しい熱量である２６Ｗ／ｍ２を蒸着対象Ｓに与えることによって、蒸着が開始された後において、蒸着対象Ｓにおける温度の変動を抑えることが可能である。
【００６３】
以上説明したように、蒸着装置および蒸着方法の一実施形態によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
（１）シャッター１３が閉状態である間に加熱部１４が蒸着対象Ｓに与えていた熱量の分だけ、蒸着対象Ｓにおける温度の変動を抑えることができる。これにより、蒸着対象Ｓに対して蒸着が行われている間において、蒸着対象Ｓの温度における変動を抑えることができる。
【００６４】
（２）加熱部１４に蒸着対象Ｓの加熱を終了させるため、シャッター１３が開状態に変更されて以降も加熱部１４が蒸着対象Ｓの加熱を続ける場合と比べて、投入される負荷を軽減することができる。
【００６５】
（３）加熱に対する蒸着対象Ｓの応答遅れが、加熱部１４が与える熱と蒸着源１１が与える熱との加算を生じさせ、結果として、過剰な蒸着対象Ｓの加熱を生じさせることが抑えられる。
【００６６】
（４）シャッター１３における蒸着材料Ｍの付着量が大きいことに起因して、シャッター１３が閉状態である間に蒸着対象Ｓに与えられる輻射熱と、シャッター１３が開状態に変更されて以降に蒸着対象Ｓに与えられる輻射熱との差分が大きくなった場合にも、蒸着対象Ｓにおける温度の変動を抑えることが可能である。
【００６７】
［第１実施形態の変形例］
なお、上述した第１実施形態は、以下のように変更して実施することができる。
［監視部］
・監視部１７は、上述した温度センサーに代えて、例えば、シャッター１３における蒸着材料Ｍが付着する面を撮像するカメラでもよい。あるいは、監視部１７は、蒸着源１１において蒸着が開始された回数を計数するカウンターでもよい。あるいは、監視部１７は、温度センサー、カメラ、および、カウンターのうちの少なくとも２つから構成されてもよい。
【００６８】
・監視部１７は、省略されてもよい。この場合にも、上述した（１）から（３）に準じた効果を得ることはできる。
［真空槽］
・蒸着装置１０は、真空槽１５を加熱する加熱部を備えてもよい。加熱部は、真空槽１５のなかで、少なくとも蒸着空間を区画する表面の温度をほぼ一定に保つことが可能であればよい。これにより、蒸着対象Ｓの廃熱量における変動が抑えられ、結果として、蒸着対象Ｓの温度が、蒸着が開始されてから終了されるまでの間に変動することがより抑えられる。
【００６９】
［第２実施形態］
図５から図８を参照して、蒸着装置および蒸着方法の第２実施形態を説明する。第２実施形態は、第１実施形態と比べて、蒸着対象Ｓに対する蒸着が行われている間に、蒸着対象Ｓが搬送される点が異なっている。そのため以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第２実施形態において、第１実施形態と共通する構成には第１実施形態と同一の符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。以下では、蒸着装置の構成、および、蒸着装置の作用を順に説明する。
【００７０】
［蒸着装置の構成］
図５を参照して蒸着装置の構成を説明する。
図５が示すように、蒸着装置２０は、蒸着源１１、搬送部２１、シャッター１３、加熱部２２、および、制御部２０Ｃを備えている。搬送部２１は、蒸着対象Ｓを搬送方向に沿って搬送する。
【００７１】
シャッター１３は、蒸着源１１に対して蒸着対象Ｓを露出させる開口１３ａを含んでいる。開口１３ａは、閉状態と開状態とを有している。搬送方向において、開口１３ａの幅は、蒸着対象Ｓの幅よりも小さい。開口１３ａにおいて、閉状態は、蒸着材料Ｍが蒸着対象Ｓに向けて飛行することを妨げる状態である。開口１３ａにおいて、開状態は、蒸着材料Ｍを搬送方向における蒸着対象の一部にのみ到達させる状態である。
【００７２】
蒸着対象Ｓにおいて、蒸着材料Ｍが到達する領域が対象領域である。加熱部２２は、蒸着源１１と搬送部２１とが並ぶ方向から見て、対象領域と重なる対象要素２２ａと、対象要素２２ａよりも外側に位置する周辺要素２２ｂとを含んでいる。
【００７３】
制御部２０Ｃは、蒸着源１１、搬送部２１、シャッター１３、および、加熱部２２の駆動を制御する。制御部２０Ｃは、開口１３ａが閉状態である間に、蒸着源１１に蒸着材料Ｍの加熱を開始させ、かつ、加熱部２２に蒸着対象Ｓの加熱を開始させる。制御部２０Ｃは、開口１３ａを閉状態から開状態に変更するまでの間に、加熱部２２に、対象要素２２ａが蒸着対象Ｓを加熱する度合いを周辺要素２２ｂが蒸着対象Ｓを加熱する度合いよりも低下させる。
【００７４】
搬送方向において、加熱部２２の幅は、蒸着対象Ｓの幅よりも大きい。加熱部２２の幅は、蒸着対象Ｓが搬送部２１によって搬送される範囲よりも大きい。これにより、加熱部２２は、搬送方向における蒸着対象Ｓの位置にかかわらず、搬送方向において蒸着対象Ｓの全体を加熱することができる。
【００７５】
制御部２０Ｃが、対象要素２２ａが蒸着対象Ｓを加熱する度合いを周辺要素２２ｂが蒸着対象Ｓを加熱する度合いよりも低下させる場合に、制御部２０Ｃは、対象要素２２ａによる蒸着対象Ｓの加熱を停止させてもよい。あるいは、制御部２０Ｃは、対象要素２２ａにおける設定温度を周辺要素２２ｂにおける設定温度よりも低くしてもよい。制御部２０Ｃは、蒸着対象Ｓに対する蒸着の開始から終了までの間にわたって、周辺要素２２ｂにおける設定温度を一定の温度に維持することができる。
【００７６】
［蒸着装置の作用］
図６から図８を参照して、蒸着装置２０の作用を説明する。
制御部２０Ｃは、シャッター１３の開口１３ａが閉状態である間に、蒸着源１１に蒸着材料Ｍの加熱を開始させ、かつ、加熱部２２に蒸着対象Ｓの加熱を開始させる。このとき、制御部２０Ｃは、対象要素２２ａと周辺要素２２ｂとの両方が蒸着対象Ｓを加熱する度合いを同一に設定する。言い換えれば、制御部２０Ｃは、対象要素２２ａにおける設定温度と、周辺要素２２ｂにおける設定温度とを同一の温度に設定する。
【００７７】
図６が示すように、制御部２０Ｃは、シャッター１３の駆動を制御することによって、開口１３ａを閉状態から開状態に変える。このとき、搬送部２１は初期位置に配置されている。搬送部２１が初期位置に配置されている場合には、蒸着対象Ｓには、蒸着材料Ｍが到達しない。制御部２０Ｃは、対象要素２２ａが蒸着対象Ｓを加熱する度合いを、周辺要素２２ｂが蒸着対象Ｓを加熱する度合いよりも低下させる。
【００７８】
図７が示すように、搬送部２１が搬送方向に沿って蒸着対象Ｓを搬送することにより、蒸着対象Ｓにおける対象領域に蒸着材料Ｍが到達する。このとき、蒸着対象Ｓのなかで、対象領域に対して、蒸着源１１の輻射熱が入熱する。そのため、蒸着対象Ｓのなかで、対象領域が、対象領域以外の領域に比べて加熱される。上述したように、対象要素２２ａが蒸着対象Ｓ、すなわち対象領域を加熱する度合いは、周辺要素２２ｂが蒸着対象Ｓ、すなわち対象領域以外の領域を加熱する度合いよりも低い。そのため、対象領域にのみ蒸着源１１の輻射熱が入熱しても、蒸着対象Ｓの面内において、蒸着対象Ｓの温度にばらつきが生じることが抑えられる。
【００７９】
図８が示すように、搬送部２１が搬送方向に沿って蒸着対象Ｓをさらに搬送する。これにより、搬送方向における蒸着対象Ｓの全体が、対象要素２２ａを通過する。言い換えれば、搬送方向における蒸着対象Ｓの全体に蒸着材料Ｍが付着する。結果として、蒸着対象Ｓの全体に、蒸着材料Ｍによる薄膜が形成される。
【００８０】
このように、第２実施形態では、蒸着対象Ｓに対する蒸着が行われているときに、蒸着対象Ｓのなかで蒸着源１１の輻射熱が入熱する対象領域を加熱する度合いを、他の領域を加熱する度合いよりも低下させる。そのため、蒸着対象Ｓの面内において、蒸着対象Ｓの温度にばらつきが生じることが抑えられる。
【００８１】
なお、第２実施形態における蒸着装置および蒸着方法は、第１実施形態における構成と組み合わせて実施することが可能である。
【００８２】
［第３実施形態］
図９から図１２を参照して、蒸着装置および蒸着方法の第３実施形態を説明する。第３実施形態は、第１実施形態と比べて、蒸着対象Ｓに対する蒸着が行われている間に、蒸着源が移動する点が異なっている。そのため以下では、こうした相違点を詳しく説明する一方で、第３実施形態において、第１実施形態と共通する構成には第１実施形態と同一の符号を付すことによって、その詳しい説明を省略する。以下では、蒸着装置の構成、および、蒸着装置の作用を順に説明する。
【００８３】
［蒸着装置の構成］
図９を参照して、蒸着装置の構成を説明する。
図９が示すように、蒸着装置３０は、蒸着源３１、支持部１２、シャッター１３、加熱部３２、および、制御部３０Ｃを備えている。蒸着源３１は、移動方向に沿って移動し、かつ、移動方向における各位置において、移動方向における蒸着対象Ｓの一部にのみ蒸着材料を飛行させる。蒸着対象Ｓにおいて蒸着材料Ｍが到達する領域が対象領域である。加熱部３２は、移動方向に沿って並ぶ複数の加熱要素３２ａを含んでいる。
【００８４】
制御部３０Ｃは、蒸着源３１、シャッター１３、および、加熱部３２の駆動を制御する。制御部３０Ｃは、シャッター１３が閉状態である間に、蒸着源３１に蒸着材料Ｍの加熱を開始させ、かつ、加熱部３２に蒸着対象Ｓの加熱を開始させる。制御部１０Ｃは、シャッター１３を閉状態から開状態に変更した後に、蒸着源３１を移動方向に沿って移動させる。かつ、制御部３０Ｃは、蒸着源３１とシャッター１３とが並ぶ方向から見て、加熱要素３２ａのなかで、対象領域と重なる加熱要素３２ａが蒸着対象Ｓを加熱する度合いを、加熱要素３２ａのなかで、対象領域以外の領域と重なる加熱要素３２ａが蒸着対象Ｓを加熱する度合いよりも低下させる。
【００８５】
制御部３０Ｃが、ある加熱要素３２ａが蒸着対象Ｓを加熱する度合いを他の加熱要素３２ａが蒸着対象Ｓを加熱する度合いよりも低下させる場合に、制御部３０Ｃは、対象となる加熱要素３２ａによる蒸着対象Ｓの加熱を停止させてもよい。あるいは、制御部３０Ｃは、対象となる加熱要素３２ａにおける設定温度を他の加熱要素３２ａにおける設定温度よりも低くしてもよい。
【００８６】
［蒸着装置の作用］
図１０から図１２を参照して、蒸着装置３０の作用を説明する。なお、図１０から図１２では、複数の加熱要素３２ａのなかで、他の加熱要素３２ａよりも設定温度が低い加熱要素３２ａに対してドットが付されている。
【００８７】
制御部３０Ｃは、シャッター１３が閉状態である間に、蒸着源３１に蒸着材料Ｍの加熱を開始させ、かつ、加熱部３２に蒸着対象Ｓの加熱を開始させる。このとき、制御部３０Ｃは、加熱部３２における全ての加熱要素３２ａにおいて、蒸着対象Ｓを加熱する度合いを同一に設定する。言い換えれば、制御部３０Ｃは、全ての加熱要素３２ａにおける設定温度を同一の温度に設定する。
【００８８】
図１０が示すように、制御部３０Ｃは、シャッター１３の駆動を制御することによって、シャッター１３を閉状態から開状態に変える。これにより、シャッター１３の開口１３ａを通じて蒸着材料Ｍが蒸着対象Ｓに到達する。このとき、蒸着源３１は、初期位置に配置されている。蒸着源３１が初期位置に配置されている場合には、移動方向における蒸着対象Ｓの端部が、蒸着材料Ｍが到達する対象領域である。対象領域は、蒸着源３１の輻射熱が入熱する領域でもある。そのため、制御部３０Ｃは、複数の加熱要素３２ａのなかで、蒸着源３１とシャッター１３とが並ぶ方向から見て、対象領域と重なる加熱要素３２ａが蒸着対象Ｓを加熱する度合いを、他の加熱要素３２ａが蒸着対象Ｓを加熱する度合いよりも低下させる。すなわち、制御部３０Ｃは、対象領域と重なる加熱要素３２ａの設定温度を、他の加熱要素３２ａの設定温度よりも低い温度に設定する。
【００８９】
図１１が示すように、蒸着源３１が搬送方向に沿って移動することにより、蒸着対象Ｓのなかで、移動方向における中央部の近傍が対象領域になる。そのため、制御部３０Ｃは、加熱部３２のなかで、移動方向における中央部の近傍に位置する加熱要素３２ａの設定温度を、他の加熱要素３２ａの設定温度よりも低い温度に設定する。
【００９０】
図１２が示すように、蒸着源３１が搬送方向に沿ってさらに移動することにより、蒸着対象Ｓのなかで、移動方向における他方の端部が対象領域になる。そのため、制御部３０Ｃは、加熱部３２のなかで、移動方向における他方の端部に位置する加熱要素３２ａの設定温度を、他の加熱要素３２ａの設定温度よりも低い温度に設定する。
【００９１】
このように、第３実施形態では、蒸着対象Ｓに対する蒸着が行われているときに、蒸着対象Ｓのなかで蒸着源３１の輻射熱が入熱する対象領域を加熱する度合いを、他の領域を加熱する度合いよりも低下させる。そのため、蒸着対象Ｓの面内において、蒸着対象Ｓの温度にばらつきが生じることが抑えられる。
【００９２】
なお、第３実施形態の蒸着装置および蒸着方法は、第１実施形態における構成と組み合わせて実施することが可能である。
【符号の説明】
【００９３】
１０，２０，３０…蒸着装置、１０Ｃ，２０Ｃ，３０Ｃ…制御部、１１，３１…蒸着源、１２…支持部、１３…シャッター、１３ａ…開口、１４，２２，３２…加熱部、１５…真空槽、１６…マスク支持部、１７…監視部、２１…搬送部、２２ａ…対象要素、２２ｂ…周辺要素、３２ａ…加熱要素、Ｍ…蒸着材料、ＭＳ…蒸着マスク、Ｓ…蒸着対象。
【図１】
2020007587.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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