(57)【要約】      （修正有）【課題】ジアザビシクロオクタン誘導体の結晶化に影響しない高純度の化合物の溶液を供給するための一連の製造法と安定性の良い結晶の製造法に関する。【解決手段】下記式（ＶＩＩ）、特に式（ＶＩＩ−１）で示されるジアザビシクロオクタン誘導体の結晶とその製造法を提供する。2020007366.tif 000119【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（ＩＩＩ）：
【化７６】
2020007366.tif 000089
で示される化合物を、化合物：Ｒ３ＯＮＨ２と反応させて下記式（ＩＶ）：
【化７７】
2020007366.tif 000090
で示される化合物とし、水素雰囲気化にパラジウム炭素触媒と処理し、同時または連続して含水溶媒中で触媒量の塩基存在下に三酸化硫黄−トリメチルアミン錯体により硫酸化反応に付し、硫酸水素テトラブチルアンモニウムで処理し、下記式（ＶＩ）：
【化７８】
2020007366.tif 000091
で示される化合物とした後、側鎖Ｒ３ＯＮＨＣ（＝Ｏ）−が保護基を有する場合、酸により当該保護基を除去、続いて反応液に貧溶媒を加えて粗生成物を沈殿化し、下記式（ＶＩＩ−ＣＲ）：
【化７９】
2020007366.tif 000092
で示される粗の化合物とした後、式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される粗の化合物と氷冷した緩衝液を交互に加えてｐＨ４〜５．５の溶液とし、必要に応じて合成吸着剤による脱塩後に濃縮し、温調後に必要に応じて接種、貧溶媒を加えて、結晶化することによる下記式（ＶＩＩ）：
【化８０】
2020007366.tif 000093
（上記各式中、ＯＢｎはベンジルオキシ、Ｒ１は２，５−ジオキソピロリジン−１−イル、１，３−ジオキソ−３a，４，７，７a‐テトラヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２（３Ｈ）−イル、１，３−ジオキソヘキサヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２（３Ｈ）−イル、または３，５−ジオキソ−４−アザトリシクロ[５．２．１．０２，６]デカ−８−エン−４−イル、Ｒ３はＣ１−６アルキルまたはヘテロシクリルを示す。Ｒ３は０から５個のＲ４で修飾されていても良く、Ｒ４は連続して置換されてもよい。ここでＲ４はＣ１−６アルキル、ヘテロシクリル、Ｒ５（Ｒ６）Ｎ−、または保護基である。また、Ｒ５とＲ６は各々独立して水素またはＣ１−６アルキルを示すか、あるいは一緒になってヘテロシクリルを形成する。さらに、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６は任意の位置で閉環することができる。）
で示される化合物の製造法。
【請求項２】
下記式（ＩＩＩ）：
【化８１】
2020007366.tif 000094
で示される化合物を、化合物：Ｒ３ＯＮＨ２と反応させることによる下記式（ＩＶ）：
【化８２】
2020007366.tif 000095
（上記各式中、Ｒ1、Ｒ3およびＯＢｎは、請求項１に記載のとおりである）
で示される化合物の製造法。
【請求項３】
下記式（ＩＶ）：
【化８３】
2020007366.tif 000096
で示される化合物を、水素雰囲気化にパラジウム炭素触媒と処理し、同時または連続して含水溶媒中で触媒量の塩基存在下に三酸化硫黄−トリメチルアミン錯体により硫酸化反応に付し、硫酸水素テトラブチルアンモニウムで処理することによる、下記式（ＶＩ）：
【化８４】
2020007366.tif 000097
（上記各式中、Ｒ3およびＯＢｎは、請求項１に記載のとおりである）
で示される化合物の製造法。
【請求項４】
下記式（ＶＩ）：
【化８５】
2020007366.tif 000098
で示される化合物を、側鎖Ｒ３ＯＮＨＣ（＝Ｏ）−が保護基を有する場合、酸により当該保護基を除去、続いて反応液にエステル系貧溶媒を加えて粗生成物を沈殿化することによる、下記式（ＶＩＩ−ＣＲ）：
【化８６】
2020007366.tif 000099
（上記各式中、Ｒ3は、請求項１に記載のとおりである）
で示される粗の化合物の製造法。
【請求項５】
下記式（ＶＩＩ−ＣＲ）：
【化８７】
2020007366.tif 000100
で示される粗の化合物と氷冷した緩衝液を交互に加えてｐＨ４〜５．５の溶液とし、必要に応じて合成吸着剤による脱塩後に濃縮し、温調後に必要に応じて接種、アルコール系貧溶媒を加えて、結晶化することによる下記式（ＶＩＩ）：
【化８８】
2020007366.tif 000101
（上記各式中、Ｒ3は、請求項１に記載のとおりである）
で示される化合物の製造法。
【請求項６】
式（ＩＶ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ−ＣＲ）、（ＶＩＩ）にてＲ３が、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）エチル、
２−アミノエチル、
２−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）（メチル）アミノ）エチル、
２−（メチルアミノ）エチル、
２−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）（イソプロピル）アミノ）エチル、
２−（イソプロピルアミノ）エチル、
２−（ジメチルアミノ）エチル、
（２Ｓ）−２−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ）プロピル、
（２Ｓ）−２−（アミノ）プロピル、
（２Ｒ）−２−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ）プロピル、
（２Ｒ）−２−（アミノ）プロピル、
３−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ）プロピル、
３−（アミノ）プロピル、
（２Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアゼチジン−２−イルメチル、
（２Ｓ）−アゼチジン−２−イルメチル、
（２Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピロリジン−２−イルメチル
（２Ｒ）−ピロリジン−２−イルメチル
（３Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピペリジン−３−イルメチル、
（３Ｒ）−ピペリジン−３−イルメチル、
（３Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピロリジン−３−イル、
（３Ｓ）−ピロリジン−３−イル、
１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アゼチジン−３−イル、
アゼチジン−３−イル、
から選ばれる化合物の請求項１〜５いずれか記載の製造法。
【請求項７】
下記式（ＩＩＩ）：
【化８９】
2020007366.tif 000102
で示される化合物を、塩基存在下ｔｅｒｔ−ブチル  ２−（アミノオキシ）エチルカーバメートと反応させて下記式（ＩＶ−１）：
【化９０】
2020007366.tif 000103
で示される化合物とし、水素雰囲気化にパラジウム炭素触媒と処理し、同時または連続して含水溶媒中で触媒量の塩基存在下に三酸化硫黄−トリメチルアミン錯体により硫酸化反応に付し、硫酸水素テトラブチルアンモニウムと処理し、下記式（ＶＩ−１）：
【化９１】
2020007366.tif 000104
で示される化合物とした後、トリフルオロ酢酸によりｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）基を除去、続いて反応液に酢酸エチルを滴下することにより粗生成物を沈殿化し、下記式（ＶＩＩ−１−ＣＲ）：
【化９２】
2020007366.tif 000105
で示される粗の化合物とした後、式（ＶＩＩ−１−ＣＲ）で示される粗の化合物と氷冷した燐酸緩衝液を交互に加えてｐＨ４〜５．５の溶液とし、必要に応じて合成吸着剤による脱塩後に濃縮し、温調後に必要に応じて接種、イソプロパノールを加えて結晶化することによる下記式（ＶＩＩ−１）：
【化９３】
2020007366.tif 000106
（上記各式中、Ｒ1およびＯＢｎは、請求項１に記載のとおりである）
で示される化合物の製造法。
【請求項８】
下記式（ＩＩＩ）：
【化９４】
2020007366.tif 000107
で示される化合物を、塩基存在下ｔｅｒｔ−ブチル  ２−（アミノオキシ）エチルカーバメートと反応させることによる下記式（ＩＶ−１）：
【化９５】
2020007366.tif 000108
（上記各式中、Ｒ1およびＯＢｎは、請求項１に記載のとおりである）
で示される化合物の製造法。
【請求項９】
下記式（ＩＶ−１）：
【化９６】
2020007366.tif 000109
で示される化合物を、水素雰囲気化にパラジウム炭素触媒と処理し、同時または連続して含水溶媒中で触媒量の塩基存在下に三酸化硫黄−トリメチルアミン錯体により硫酸化反応に付し、硫酸水素テトラブチルアンモニウムと処理することによる、下記式（ＶＩ−１）：
【化９７】
2020007366.tif 000110
（上記各式中、ＯＢｎは、請求項１に記載のとおりである）
で示される化合物の製造法。
【請求項１０】
下記式（ＶＩ−１）：
【化９８】
2020007366.tif 000111
で示される化合物を、トリフルオロ酢酸によりｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）基を除去、続いて反応液に酢酸エチルを滴下することにより粗生成物を沈殿化することによる、下記式（ＶＩＩ−１−ＣＲ）：
【化９９】
2020007366.tif 000112
で示される粗の化合物の製造法。
【請求項１１】
下記式（ＶＩＩ−１−ＣＲ）：
【化１００】
2020007366.tif 000113
で示される粗の化合物と氷冷した燐酸緩衝液を交互に加えてｐＨ４〜５．５の溶液とし、必要に応じて合成吸着剤による脱塩後に濃縮し、温調後に必要に応じて接種、イソプロパノールを加えて結晶化することによる下記式（ＶＩＩ−１）：
【化１０１】
2020007366.tif 000114
で示される化合物の製造法。
【請求項１２】
粉末Ｘ線回析図形において面間隔（ｄ）７．３４、５．６６、５．５３、５．３０、５．０２、４．６６、４．３７、４．２８、４．０６、３．６８、３．６２、３．４７、３．３６、３．３０、３．１６、３．１１、３．０３、２．９９、及び２．５０Åに特徴的なピークを有する式（ＶＩＩ−１）：
【化１０２】
2020007366.tif 000115
で示される化合物のＩ形結晶。
【請求項１３】
上記式請求項１２記載のＩ形結晶を製造する、請求項１から１１いずれか記載の製造法。
【請求項１４】
式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の溶液を２０〜２５℃に温調し、Ｉ形結晶を接種、撹拌後にさらにイソプロパノールを加えることによる、請求項１２記載のＩ形結晶の製造法。
【請求項１５】
場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための、請求項１２記載のＩ形結晶の使用。
【請求項１６】
アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための、請求項１２記載のＩ形結晶の使用。
【請求項１７】
粉末Ｘ線回析図形において面間隔（ｄ）９．４６、５．６２、５．２３、５．１０、５．００、４．９１、４．６７、４．４５、４．２９、３．９６、３．７８、３．７１、３．５２、３．２４、３．１８、３．１０、３．０２、２．８８、２．８１、２．７７、２．６７、２．５０、及び２．４５Åに特徴的なピークを有する式（ＶＩＩ−１）：
【化１０３】
2020007366.tif 000116
で示される化合物のＩＩ形結晶。
【請求項１８】
請求項１７記載のＩＩ形結晶を製造する、請求項１から１１いずれか記載の製造法。
【請求項１９】
式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の溶液を１０〜１５℃に温調し、イソプロパノールを加えて撹拌することによる、請求項１７記載のＩＩ形結晶の製造法。
【請求項２０】
場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための、請求項１７記載のＩＩ形結晶の使用。
【請求項２１】
アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための、請求項１７記載のＩＩ形結晶の使用。
【請求項２２】
粉末Ｘ線回析図形において面間隔（ｄ）８．３２、６．１０、５．９８、５．５１、５．１６、５．０７、４．８５、４．７０、４．６１、４．３５、４．２０、４．０６、４．００、３．９５、３．７７、３．７３、３．６５、３．４２、３．３９、３．３６、３．２６、３．２３、３．１３、３．０９、２．９９、２．８１、及び２．５２Åに特徴的なピークを有する式（ＶＩＩ−１）：
【化１０４】
2020007366.tif 000117
で示される化合物のＩＩＩ形結晶。
【請求項２３】
請求項２２記載のＩＩＩ形結晶を製造する、請求項１から１１いずれか記載の製造法。
【請求項２４】
式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の溶液を２０〜２５℃に温調し、ＩＩＩ形結晶を接種、イソプロパノールを加えて撹拌することによる、請求項２２記載のＩＩＩ形結晶の製造法。
【請求項２５】
場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための、請求項２２記載のＩＩＩ形結晶の使用。
【請求項２６】
アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための、請求項２２記載のＩＩＩ形結晶の使用。
【請求項２７】
粉末Ｘ線回析図形において面間隔（ｄ）７．８８、６．４１、５．２０、４．６７、４．５０、４．０２、３．８１、３．７５、３．７０、３．６２、３．３８、３．２３、３．２０、及び２．７４Åに特徴的なピークを有する式（ＶＩＩ−１）：
【化１０５】
2020007366.tif 000118
で示される化合物のＩＶ形結晶。
【請求項２８】
請求項２７記載のＩＶ形結晶を製造する、請求項１から１１いずれか記載の製造法。
【請求項２９】
式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の溶液を２０〜２５℃に温調し、メタノールを加えて撹拌することによる、請求項２７記載のＩＶ形結晶の製造法。
【請求項３０】
請求項１２、１７、または２２記載のＩ、ＩＩ、またはＩＩＩ形結晶を、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール中で撹拌することによる、請求項２７記載のＩＶ形結晶の製造法。
【請求項３１】
場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための、請求項２７記載のＩＶ形結晶の使用。
【請求項３２】
アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための、請求項２７記載のＩＶ形結晶の使用。
【請求項３３】
場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための、請求項１２、１７、２２、または２７記載のＩ、ＩＩ、ＩＩＩ、またはＩＶ形結晶の混合物の使用。
【請求項３４】
アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための、請求項１２、１７、２２、または２７記載のＩ、ＩＩ、ＩＩＩ、またはＩＶ形結晶の混合物の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は式（ＶＩＩ）、特に式（ＶＩＩ−１）で示されるジアザビシクロオクタン誘導体の結晶とその製造法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許４５１５７０４（特許文献１）にて新規な複素環化合物、製造法及びそれらの医薬用途について示され、代表的化合物としてナトリウム  トランス−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド（ＮＸＬ１０４）を開示している。中間体である特定のピペリジン誘導体についても特開２０１０−１３８２０６（特許文献２）と特表２０１０−５３９１４７（特許文献３）にて製造法が示され、さらにＷＯ２０１１／０４２５６０（特許文献４）にてＮＸＬ１０４とその結晶体の製造法を開示している。
【０００３】
また、特許５０３８５０９（特許文献５）では（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−Ｎ−(ピペリジン−４−イル)−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド（ＭＫ７６５５）が示され、特開２０１１−２０７９００（特許文献６）とＷＯ２０１０／１２６８２０（特許文献７）にて特定のピペリジン誘導体とＭＫ７６５５の製造法を開示している。
【０００４】
本発明者らも特願２０１２−１２２６０３（特許文献８）にて下記式（ＶＩＩ）で示される新規なジアザビシクロオクタン誘導体について開示している。
【０００５】
【化１】
2020007366.tif 000002
（上記式中、Ｒ３は後述するものと同様である）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】日本特許第４５１５７０４号明細書
【特許文献２】日本特許公開２０１０−１３８２０６号明細書
【特許文献３】日本特許公表２０１０−５３９１４７号明細書
【特許文献４】国際公開第ＷＯ２０１１／０４２５６０号
【特許文献５】日本特許第５０３８５０９号明細書
【特許文献６】日本特許公開２０１１−２０７９００号明細書
【特許文献７】国際公開第ＷＯ２０１０／１２６８２０号
【特許文献８】日本特許出願２０１２−１２２６０３号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
【化２】
2020007366.tif 000003
（上記式中、Ｒ３は後述するものと同様、ＯＢｎはベンジルオキシ、Ｂｏｃはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルである）
【０００８】
上記式（ＶＩＩ）、特に式（ＶＩＩ−１）で示される（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミドの工業化検討を進めるに伴い、１；非晶質形態の医薬原体（ＡＰＩ）、特に凍結乾燥品は製造上取り扱いにくく安定性も確保しにくいため安定な結晶形態での供給が必要であること、２；側鎖Ｒ３ＯＮＨＣ（＝Ｏ）−基中の保護基を脱保護した後に得られる酸を含有する粗の医薬原体の単離とその安定ｐＨ領域への調整手順の確立が必要であること、３；式（Ｖ）で示される化合物の硫酸化では側鎖Ｒ３ＯＮＨＣ（＝Ｏ）−基も硫酸化される過反応を制御し、収率向上、副生成物混入を回避することが必要であること、４；上記式（Ｖ）で示される化合物は溶液中の安定性、特に反応溶媒濃縮中の安定性が低いうえに単離ロスも無視し得るものではないこと、５；上記式（ＩＶ）で示される化合物の収率も満足できるものではないこと、など種々の製造上の課題が指摘された。特に、酸を含有する粗の式（ＶＩＩ−１−ＣＲ）で示される化合物の単離・ｐＨ調整から式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の結晶化に至る工程は、化合物の安定性、高溶解度と分解物や混入物の影響が複合的要因となり非常に困難であった。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
発明者らは、上記式（ＶＩＩ）で示される化合物の製造法を詳細に検討し、式（ＶＩＩ）で示される化合物の結晶化に影響しない高純度の式（ＶＩＩ）で示される化合物の溶液を供給するための一連の製造法と安定性の良い結晶の製造法を確立した。
【００１０】
すなわち、（１）本発明は下記式（ＶＩＩ）：
【化３】
2020007366.tif 000004
で示される化合物の製造法であって、下記式（ＩＩＩ）：
【化４】
2020007366.tif 000005
で示される化合物を、化合物：Ｒ３ＯＮＨ２と反応させて下記式（ＩＶ）：
【化５】
2020007366.tif 000006
で示される化合物とし、水素雰囲気化にパラジウム炭素触媒と処理し、同時または連続して含水溶媒中で触媒量の塩基存在下に三酸化硫黄−トリメチルアミン錯体により硫酸化反応に付し、硫酸水素テトラブチルアンモニウムで処理し、下記式（ＶＩ）：
【化６】
2020007366.tif 000007
で示される化合物とした後、側鎖Ｒ３ＯＮＨＣ（＝Ｏ）−が保護基を有する場合、酸により当該保護基を除去、続いて反応液に貧溶媒を加えて粗生成物を沈殿化し、下記式（ＶＩＩ−ＣＲ）：
【化７】
2020007366.tif 000008
（上記各式中、ＯＢｎはベンジルオキシ、Ｒ１は２，５−ジオキソピロリジン−１−イル、１，３−ジオキソ−３a，４，７，７a‐テトラヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２（３Ｈ）−イル、１，３−ジオキソヘキサヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２（３Ｈ）−イル、または３，５−ジオキソ−４−アザトリシクロ[５．２．１．０２，６]デカ−８−エン−４−イル、Ｒ３はＣ１−６アルキルまたはヘテロシクリルを示す。Ｒ３は０から５個のＲ４で修飾されていても良く、Ｒ４は連続して置換されてもよい。ここでＲ４はＣ１−６アルキル、ヘテロシクリル、Ｒ５（Ｒ６）Ｎ−、または保護基である。また、Ｒ５とＲ６は各々独立して水素またはＣ１−６アルキルを示すか、あるいは一緒になってヘテロシクリルを形成する。さらに、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６は任意の位置で閉環することができる。）
で示される粗の化合物とした後、式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される粗の化合物と氷冷した緩衝液を交互に加えてｐＨ４〜５．５の溶液とし、必要に応じて合成吸着剤による脱塩後に濃縮し、温調後に必要に応じて接種、貧溶媒を加えて、結晶化することを特徴とする、製造法に関する。
【００１１】
また、（２）本発明の別の態様によれば、下記式（ＩＶ）：
【化８】
2020007366.tif 000009
で示される化合物の製造法であって下記式（ＩＩＩ）：
【化９】
2020007366.tif 000010
（上記各式中、Ｒ1、Ｒ3およびＯＢｎは、上記のとおりである）
で示される化合物を、化合物：Ｒ３ＯＮＨ２と反応させることを特徴とする、製造法に関する。
【００１２】
また、（３）本発明の別の態様によれば、下記式（ＶＩ）：
【化１０】
2020007366.tif 000011
で示される化合物の製造法であって、下記式（ＩＶ）：
【化１１】
2020007366.tif 000012
（上記各式中、Ｒ3およびＯＢｎは、上記のとおりである）
で示される化合物を、水素雰囲気化にパラジウム炭素触媒と処理し、同時または連続して含水溶媒中で触媒量の塩基存在下に三酸化硫黄−トリメチルアミン錯体により硫酸化反応に付し、硫酸水素テトラブチルアンモニウムで処理することを特徴とする、製造法に関する。
【００１３】
また、（４）本発明の別の態様によれば、下記式（ＶＩＩ−ＣＲ）：
【化１２】
2020007366.tif 000013
で示される粗の化合物の製造法であって、下記式（ＶＩ）：
【化１３】
2020007366.tif 000014
（上記各式中、Ｒ3は、上記のとおりである）
で示される化合物を、側鎖Ｒ３ＯＮＨＣ（＝Ｏ）−が保護基を有する場合、酸により当該保護基を除去、続いて反応液にエステル系貧溶媒を加えて粗生成物を沈殿化することを特徴とする、製造法に関する。
【００１４】
また、（５）本発明の別の態様によれば、下記式（ＶＩＩ）：
【化１４】
2020007366.tif 000015
で示される化合物の製造法であって、下記式（ＶＩＩ−ＣＲ）：
【化１５】
2020007366.tif 000016
（上記各式中、Ｒ3は、上記のとおりである）
で示される粗の化合物と氷冷した緩衝液を交互に加えてｐＨ４〜５．５の溶液とし、必要に応じて合成吸着剤による脱塩後に濃縮し、温調後に必要に応じて接種、アルコール系貧溶媒を加えて、結晶化することを特徴とする、製造法に関する。
【００１５】
また、（６）本発明の別の態様によれば、上記式（ＩＶ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ−ＣＲ）、（ＶＩＩ）にてＲ３が、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）エチル、
２−アミノエチル、
２−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）（メチル）アミノ）エチル、
２−（メチルアミノ）エチル、
２−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）（イソプロピル）アミノ）エチル、
２−（イソプロピルアミノ）エチル、
２−（ジメチルアミノ）エチル、
（２Ｓ）−２−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ）プロピル、
（２Ｓ）−２−（アミノ）プロピル、
（２Ｒ）−２−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ）プロピル、
（２Ｒ）−２−（アミノ）プロピル、
３−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ）プロピル、
３−（アミノ）プロピル、
（２Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアゼチジン−２−イルメチル、
（２Ｓ）−アゼチジン−２−イルメチル、
（２Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピロリジン−２−イルメチル
（２Ｒ）−ピロリジン−２−イルメチル
（３Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピペリジン−３−イルメチル、
（３Ｒ）−ピペリジン−３−イルメチル、
（３Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピロリジン−３−イル、
（３Ｓ）−ピロリジン−３−イル、
１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アゼチジン−３−イル、
アゼチジン−３−イル、
から選ばれる化合物の製造法であって、（１）〜（５）いずれか記載の方法であることを特徴とする、製造法に関する。
【００１６】
また、（７）本発明の別の態様によれば、本発明は下記式（ＶＩＩ−１）：
【化１６】
2020007366.tif 000017
で示される化合物の製造法であって、下記式（ＩＩＩ）：
【化１７】
2020007366.tif 000018
で示される化合物を、塩基存在下ｔｅｒｔ−ブチル  ２−（アミノオキシ）エチルカーバメートと反応させて下記式（ＩＶ−１）：
【化１８】
2020007366.tif 000019
で示される化合物とし、水素雰囲気化にパラジウム炭素触媒と処理し、同時または連続して含水溶媒中で触媒量の塩基存在下に三酸化硫黄−トリメチルアミン錯体により硫酸化反応に付し、硫酸水素テトラブチルアンモニウムと処理し、下記式（ＶＩ−１）：
【化１９】
2020007366.tif 000020
で示される化合物とした後、トリフルオロ酢酸によりｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）基を除去、続いて反応液に酢酸エチルを滴下することにより粗生成物を沈殿化し、下記式（ＶＩＩ−１−ＣＲ）：
【化２０】
2020007366.tif 000021
（上記各式中、Ｒ１およびＯＢｎは、上記のとおりである）
で示される粗の化合物とした後、式（ＶＩＩ−１−ＣＲ）で示される粗の化合物と氷冷した燐酸緩衝液を交互に加えてｐＨ４〜５．５の溶液とし、必要に応じて合成吸着剤による脱塩後に濃縮し、温調後に必要に応じて接種、イソプロパノールを加えて結晶化することを特徴とする、製造法に関する。
【００１７】
また、（８）本発明の別の態様によれば、下記式（ＩＶ−１）：
【化２１】
2020007366.tif 000022
で示される化合物の製造法であって、下記式（ＩＩＩ）：
【化２２】
2020007366.tif 000023
（上記各式中、Ｒ1およびＯＢｎは、上記のとおりである）
で示される化合物を、塩基存在下ｔｅｒｔ−ブチル  ２−（アミノオキシ）エチルカーバメートと反応させることを特徴とする、製造法に関する。
【００１８】
また、（９）本発明の別の態様によれば、下記式（ＶＩ−１）：
【化２３】
2020007366.tif 000024
で示される化合物の製造法であって、下記式（ＩＶ−１）：
【化２４】
2020007366.tif 000025
（上記各式中、ＯＢｎは、上記のとおりである）
で示される化合物を、水素雰囲気化にパラジウム炭素触媒と処理し、同時または連続して含水溶媒中で触媒量の塩基存在下に三酸化硫黄−トリメチルアミン錯体により硫酸化反応に付し、硫酸水素テトラブチルアンモニウムと処理することを特徴とする、製造法に関する。
【００１９】
また、（１０）本発明の別の態様によれば、下記式（ＶＩＩ−１−ＣＲ）：
【化２５】
2020007366.tif 000026
で示される粗の化合物の製造法であって、下記式（ＶＩ−１）：
【化２６】
2020007366.tif 000027
で示される化合物を、トリフルオロ酢酸によりｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）基を除去、続いて反応液に酢酸エチルを滴下することにより粗生成物を沈殿化することを特徴とする、製造法に関する。
【００２０】
また、（１１）本発明の別の態様によれば、下記式（ＶＩＩ−１）：
【化２７】
2020007366.tif 000028
で示される化合物の製造法であって、下記式（ＶＩＩ−１−ＣＲ）：
【化２８】
2020007366.tif 000029
で示される粗の化合物と氷冷した燐酸緩衝液を交互に加えてｐＨ４〜５．５の溶液とし、必要に応じて合成吸着剤による脱塩後に濃縮し、温調後に必要に応じて接種、イソプロパノールを加えて結晶化することを特徴とする、製造法に関する。
【００２１】
また、（１２）本発明の別の態様によれば、式（ＶＩＩ−１）：
【化２９】
2020007366.tif 000030
で示される化合物であって、粉末Ｘ線回析図形において面間隔（ｄ）７．３４、５．６６、５．５３、５．３０、５．０２、４．６６、４．３７、４．２８、４．０６、３．６８、３．６２、３．４７、３．３６、３．３０、３．１６、３．１１、３．０３、２．９９、及び２．５０Åに特徴的なピークを有するＩ形結晶に関する。
【００２２】
また、（１３）本発明の別の態様によれば、（１２）記載のＩ形結晶の製造法であって、（１）〜（１１）いずれか記載の方法であることを特徴とする、製造法に関する。
【００２３】
また、（１４）本発明の別の態様によれば、（１２）記載のＩ形結晶の製造法であって、上記式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の溶液を２０〜２５℃に温調し、Ｉ形結晶を接種、撹拌後にさらにイソプロパノールを加えることを特徴とする、製造法に関する。
【００２４】
また、（１５）本発明の別の態様によれば、（１２）記載のＩ形結晶の、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための使用に関する。
【００２５】
また、（１６）本発明の別の態様によれば、（１２）記載のＩ形結晶の、アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための使用に関する。
【００２６】
また、（１７）本発明の別の態様によれば、式（ＶＩＩ−１）：
【化３０】
2020007366.tif 000031
で示される化合物であって、粉末Ｘ線回析図形において面間隔（ｄ）９．４６、５．６２、５．２３、５．１０、５．００、４．９１、４．６７、４．４５、４．２９、３．９６、３．７８、３．７１、３．５２、３．２４、３．１８、３．１０、３．０２、２．８８、２．８１、２．７７、２．６７、２．５０、及び２．４５Åに特徴的なピークを有するＩＩ形結晶に関する。
【００２７】
また、（１８）本発明の別の態様によれば、（１７）記載のＩＩ形結晶の製造法であって、（１）〜（１１）いずれか記載の方法であることを特徴とする、製造法に関する。
【００２８】
また、（１９）本発明の別の態様によれば、（１７）記載のＩＩ形結晶の製造法であって、上記式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の溶液を１０〜１５℃に温調し、イソプロパノールを加えて撹拌することを特徴とする、製造法に関する。
【００２９】
また、（２０）本発明の別の態様によれば、（１７）記載のＩＩ形結晶の、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための使用に関する。
【００３０】
また、（２１）本発明の別の態様によれば、（１７）記載のＩＩ形結晶の、アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための使用に関する。
【００３１】
また、（２２）本発明の別の態様によれば、式（ＶＩＩ−１）：
【化３１】
2020007366.tif 000032
で示される化合物であって、粉末Ｘ線回析図形において面間隔（ｄ）８．３２、６．１０、５．９８、５．５１、５．１６、５．０７、４．８５、４．７０、４．６１、４．３５、４．２０、４．０６、４．００、３．９５、３．７７、３．７３、３．６５、３．４２、３．３９、３．３６、３．２６、３．２３、３．１３、３．０９、２．９９、２．８１、及び２．５２Åに特徴的なピークを有するＩＩＩ形結晶に関する。
【００３２】
また、（２３）本発明の別の態様によれば、（２２）記載のＩＩＩ形結晶の製造法であって、（１）〜（１１）いずれか記載の方法であることを特徴とする、製造法に関する。
【００３３】
また、（２４）本発明の別の態様によれば、（２２）記載のＩＩＩ形結晶の製造法であって、上記式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の溶液を２０〜２５℃に温調し、ＩＩＩ形結晶を接種、イソプロパノールを加えて撹拌することを特徴とする、製造法に関する。
【００３４】
また、（２５）本発明の別の態様によれば、（２２）記載のＩＩＩ形結晶の、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための使用に関する。
【００３５】
また、（２６）本発明の別の態様によれば、（２２）記載のＩＩＩ形結晶の、アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための使用に関する。
【００３６】
また、（２７）本発明の別の態様によれば、式（ＶＩＩ−１）：
【化３２】
2020007366.tif 000033
で示される化合物であって、粉末Ｘ線回析図形において面間隔（ｄ）７．８８、６．４１、５．２０、４．６７、４．５０、４．０２、３．８１、３．７５、３．７０、３．６２、３．３８、３．２３、３．２０、及び２．７４Åに特徴的なピークを有するＩＶ形結晶に関する。
【００３７】
また、（２８）本発明の別の態様によれば、（２７）記載のＩＶ形結晶の製造法であって、（１）〜（１１）いずれか記載の方法であることを特徴とする、製造法に関する。
【００３８】
また、（２９）本発明の別の態様によれば、（２７）記載のＩＶ形結晶の製造法であって、上記式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の溶液を２０〜２５℃に温調し、メタノールを加えて撹拌することを特徴とする、製造法に関する。
【００３９】
また、（３０）本発明の別の態様によれば、（２７）記載のＩＶ形結晶の製造法であって、（１２）、（１７）、または（２２）記載のＩ、ＩＩ、またはＩＩＩ形結晶をメタノール、エタノールまたはイソプロパノール中で撹拌することを特徴とする、製造法に関する。
【００４０】
また、（３１）本発明の別の態様によれば、（２７）記載のＩＶ形結晶の、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための使用に関する。
【００４１】
また、（３２）本発明の別の態様によれば、（２７）記載のＩＶ形結晶の、アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための使用に関する。
【００４２】
また、（３３）本発明の別の態様によれば、（１２）、（１７）、（２２）、または（２７）記載のＩ、ＩＩ、ＩＩＩ、またはＩＶ形結晶の混合物の、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための使用に関する。
【００４３】
また、（３４）本発明の別の態様によれば、（１２）、（１７）、（２２）、または（２７）記載のＩ、ＩＩ、ＩＩＩ、またはＩＶ形結晶の混合物の、アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、場合によっては医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物製造のための使用に関する。
【発明の効果】
【００４４】
本発明の一連の製造法により、上記式（ＶＩＩ）で示される化合物の結晶、特に式（ＶＩＩ−１）で示される化合物とその安定性の良い結晶を再現性良く高収率で製造することができる。
【００４５】
【化３３】
2020007366.tif 000034
【００４６】
式（ＶＩＩ）で示される化合物の結晶化を直接阻害する因子として一連の工程で副成する分解物の次工程への持ち込みとｐＨ調整時の式（ＶＩＩ）で示される化合物の分解があったが、今回確立された式（ＶＩ）で示される化合物と式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される化合物の製造法、さらに酸を含有する式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される化合物の単離・中和・脱塩の一連の手順により式（ＶＩＩ）で示される化合物の分解を完全に抑制し、結晶化可能な高純度の上記式（ＶＩＩ）で示される化合物の溶液を高収率で得られる。
【００４７】
上記式（ＩＩＩ）で示される化合物、特にＲ１が２，５−ジオキソピロリジン−１−イル、１，３−ジオキソ−３a，４，７，７a‐テトラヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２（３Ｈ）−イル、１，３−ジオキソヘキサヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２（３Ｈ）−イル、または３，５−ジオキソ−４−アザトリシクロ[５．２．１．０２，６]デカ−８−エン−４−イルで示される化合物は、式（ＩＶ）で示される化合物を上記式（１）で示される化合物から合成するよりも高純度かつ高収率で与える。
【００４８】
溶液中で不安定な上記式（Ｖ）で示される化合物はスケールを上げるに伴い収率が低下する傾向があったが、式（ＩＶ）で示される化合物からワンポットまたは連続反応により式（ＶＩ）で示される化合物に導くことにより、式（Ｖ）で示される化合物の濃縮中の分解物の生成、単離ロスによる収率低下、さらに硫酸化工程における過反応物の混入が回避された。式（ＩＶ）で示される化合物の脱ベンジル化反応の溶媒としてはアルコール系溶媒が優れているが、次工程の硫酸化で一般的に用いられる三酸化硫黄−ピリジン錯体はアルコール系溶媒では失活し適用できない。今回見出された三酸化硫黄−トリメチルアミン錯体はアルコール系溶媒中での安定性に優れ、硫酸化反応をワンポットまたは連続して実施出来る。
【００４９】
式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される化合物の製造工程にて、反応液中に吸湿性の低いエステル系溶媒またはエーテル系溶媒に代表される貧溶媒による沈殿化、特に汎用性のある酢酸エチルによる沈殿化により、吸湿性が低く分解物の少ない取扱いやすい固体として式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される化合物を再現性よく製造できる。中和工程に影響する酸成分の混入比率も湿状固体を懸濁洗浄することで１０〜３０モル％と次工程の許容範囲に収まり、ＨＰＬＣエリア面積比も９９％以上と高純度に管理できる。
【００５０】
本発明で得られる式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の結晶形は、含水溶媒中の懸濁条件下での長時間の撹拌または固体状態における４０℃安定性試験において結晶形の転移は観察されていない。さらに、式（ＶＩＩ−１）で示される化合物のＩＩＩ形結晶をＸＲＤ−ＤＳＣ実験に付し、６０％ＲＨ、１６０℃まで加熱、次いで６３℃まで放冷したところ、約１４５℃付近で無水結晶に転移後そのまま推移し、放冷後約９０℃付近でＩＩＩ形結晶に戻った。これらの知見から式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の結晶形、特にＩＩＩ形結晶は通常条件にて安定形である。
【００５１】
式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の非晶体とＩ、ＩＩ、ＩＩＩ、及びＩＶ形結晶の水分、類縁物質総量、及び含量の経時変化を４０℃（７５％ＲＨ）条件下に同時比較したところ、下記表１に示されるように非晶体の類縁物質総量は実験開始時０．５％に対して１ヶ月で６．６％、３ヶ月で１２．３％と著しく増加し、含量も開始時９９．４％に対して１ヶ月で９３．３％、３ヶ月で８７．５％と劣化した。一方、Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ、及びＩＶ形結晶の類縁物質総量は実験開始時０．０〜０．１％に対して１ヶ月で０．０％、３ヶ月で０．０〜０．５％と変化なく、含量も実験開始時９９．８〜９９．９％に対して１ヶ月で９９．８〜１００．０％、３ヶ月で９９．３〜９９．９％、またＩ、ＩＩ、ＩＩＩ、及びＩＶ形結晶の水分は実験開始時５．３〜５．７％、０．１％に対し３ヶ月、１ヶ月で５．５〜５．９％、０．１％と変化なく安定であった。
【００５２】
【表１】
2020007366.tif 000035
【００５３】
さらに、ＩＩＩ形結晶の原薬包装容器中の接触安定性を継時的に見たところ、下記表２、表３に示されるように実験開始時に含量、類縁物質総量、水分は９９．９％、０．０９％、５．２０％に対して、４０℃（７５％ＲＨ、３ヶ月）は９９．９％、０．０６％、５．２９％、６０℃（１ヶ月）は９９．９％、０．０４％、５．０８％と、変化なく安定である。
【００５４】
【表２】
2020007366.tif 000036
【００５５】
【表３】
2020007366.tif 000037
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】Ｉ形結晶の粉末Ｘ線結晶回析である。
【図２】ＩＩ形結晶の粉末Ｘ線結晶回析である。
【図３】ＩＩＩ形結晶の粉末Ｘ線結晶回析である。
【図４】ＩＶ形結晶の粉末Ｘ線結晶回析である。
【発明を実施するための形態】
【００５７】
上述したように本発明は、上記式（ＶＩＩ）で示される化合物、特に式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の安定性の良い結晶とその製造法を提供する。
【００５８】
【化３４】
2020007366.tif 000038
（上記式（ＶＩＩ）中、Ｒ３はＣ１−６アルキルまたはヘテロシクリルを示す。Ｒ３は０から５個のＲ４で修飾されていても良く、Ｒ４は連続して置換されてもよい。ここでＲ４はＣ１−６アルキル、ヘテロシクリル、Ｒ５（Ｒ６）Ｎ−、または保護基である。また、Ｒ５とＲ６は各々独立して水素またはＣ１−６アルキルを示すか、あるいは一緒になってヘテロシクリルを形成する。さらに、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６は任意の位置で閉環することができる。）
【００５９】
以下に、結晶形態の式（ＶＩＩ）で示される化合物の製造法について詳細に説明するが、本発明は提示した具体例の範囲に限定されるものではない。
【００６０】
「Ｃ１−６アルキル」とは炭素数１〜６のアルキル基を示し、鎖状、分岐状、環状でもよい。
【００６１】
「ヘテロシクリル」とは、環員として窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選択されるヘテロ原子を合わせて１〜３個有する３〜７員の単環性複素飽和環または非芳香環のことを示す。
【００６２】
「Ｒ５（Ｒ６）Ｎ−」とは、Ｒ５とＲ６により置換されたアミノ、すなわちアミノ、モノＣ１−６アルキルアミノまたはジＣ１−６アルキルアミノを示すか、あるいはＲ５とＲ６が窒素原子と一緒になって形成するヘテロシクリルを示す。
【００６３】
「修飾」とはＲ３中の水素をＲ４にて置換、結合することである。
【００６４】
「Ｒ３は、０から５個のＲ４で修飾されていても良く、Ｒ４は連続して置換されてもよい。」とは、Ｒ３を修飾しているＲ４を、Ｒ４でさらに修飾してもいいことを表し、Ｒ３−（Ｒ４）０−５、Ｒ３−（Ｒ４−Ｒ４０−４）、Ｒ３−（Ｒ４−Ｒ４０−３）２、Ｒ３−（Ｒ４−Ｒ４０−２）３、Ｒ３−（Ｒ４−Ｒ４０−１）４、などが挙げられる。
【００６５】
「保護基」の具体的な例は、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  （Ｔ．  Ｗ．  Ｇｒｅｅｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，  Ｗｉｌｅｙ，  Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ  （１９９９））記載のアミノ基と水酸基の保護基であるカーバメート型保護基とトリアルキルシリルが挙げられ、好ましくはトリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳまたはＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）、トリメチルシリルエトキシカルボニル（Ｔｅｏｃ）、４−メトキシベンジルオキシカルボニル（ＰＭＺ、Ｍｏｚ）、またはジフェニルメトキシカルボニルが挙げられる。
【００６６】
「Ｃ１−６アルキル」の具体的な例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｓ−ブチル、イソブチル、ペンチル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、ネオペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、イソペンチルまたはヘキシルなどの鎖状または分岐状のＣ１−６アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシクロヘキシルなどのＣ３−６シクロアルキル基；シクロプロピルメチル、シクロブチルメチルまたはシクロペンチルメチルなどのＣ３−５シクロアルキル基で置換されたメチル基が挙げられ、好ましくはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロプロピルメチルまたはシクロブチルメチルである。
【００６７】
「ヘテロシクリル」の具体的な例としては、アジリジン、オキシラン、チイラン、アゼチジン、オキセタン、チエタン、ピロリジン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、イミダゾリジン、オキサゾリジン、チアゾリジン、ピラゾリジン、ピペリジン、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン、テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン、ヘキサヒドロピリダジン、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリン、１，２−オキサゾリジン、１，３−オキサゾリジン、１，２−オキサジナン、１，３−オキサジナン、１，４−ジオキサン、１，２−チアゾリジン、１，３−チアゾリジン、１，２−チアジナン、１，３−チアジナン、アゼパン、オキセパン、チエパン、１，４−ジアゼパン、１，４−オキサゼパン、１，４−チアゼパン、１，２，５−トリアゼパン、１，４，５−オキサジアゼパン、１，２，５−オキサジアゼパン、１，４，５−チアジアゼパン、１，５，２−ジオキサゼパン、１，５，２−オキサチアゼパン、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピロール、４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾール、４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、４，５−ジヒドロ−１，２−オキサゾール、４，５−ジヒドロ−１，３−オキサゾール、４，５−ジヒドロ−１，３−チアゾール、２，３，４，５−テトラヒドロピリジン、１，２，３，６−テトラヒドロピラジン、５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，２−オキサジンまたは３，６−ジヒドロ−２−Ｈ−１，４−オキサジンなどが挙げられ、好ましくはアゼチジン、ピロリジン、テトラヒドロフラン、ピペリジン、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン、イミダゾリジン、１，３−オキサゾリジン、１，３−チアゾリジン、ヘキサヒドロピリダジン、ピペラジン、モルホリン、１，２−オキサジナン、アゼパン、１，４−ジアゼパンまたは１，２−オキサゼパンである。ここで上記具体例には保護基、例えばｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）が結合したものも包含されることは言うまでもない。
【００６８】
「Ｒ５（Ｒ６）Ｎ−」の具体的な例としては、アミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ｓ−ブチルアミノ、イソブチルアミノ、ペンチルアミノ、１，１−ジメチルプロピルアミノ、１，２−ジメチルプロピルアミノ、ネオペンチルアミノ、１−メチルブチルアミノ、２−メチルブチルアミノ、イソペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（イソプロピル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（ｓ−ブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（イソブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１，１−ジメチルプロピル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１，２−ジメチルプロピル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（ネオペンチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（１−メチルブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（２−メチルブチル）アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（イソペンチル）アミノまたはＮ，Ｎ−ジ（ヘキシル）アミノなどが挙げられ、好ましくはアミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノまたはＮ，Ｎ−ジエチルアミノである。ここで上記具体例には保護基、例えばｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）が結合したものも包含されることは言うまでもない。
【００６９】
Ｒ５（Ｒ６）Ｎ−のＲ５とＲ６が結合し、ヘテロシクリルを形成した場合の具体的な例には、アゼチジン−１−イル、ピロリジン−１−イル、ピペリジン−１−イルまたはアゼパン−１−イルが挙げられる。ここで上記具体例には保護基として例えばｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）の結合したものが包含されることは言うまでもない。
「Ｒ３、Ｒ５及びＲ６は任意の位置で閉環することができる」とは、Ｒ３がＣ１−６アルキルを示し、かつＲ３を修飾するＲ４、すなわちＲ５（Ｒ６）Ｎ−に含まれるＲ５またはＲ６がＣ１−６アルキルを示す場合に、Ｒ３およびＲ５またはＲ６が一緒になって、３〜７員の飽和環を形成することができることを意味する。
【００７０】
続いて、Ｒ３Ｏ−を形成するＣ１−６アルキルとヘテロシクリルにＲ４で規定する置換基が修飾した場合の具体例をさらに詳細に代表例を挙げて説明するが、例示した具体例の範囲に留まるものではないことは言うまでもない。
【００７１】
「Ｃ１−６アルキル」に、Ｒ５（Ｒ６）Ｎ−の代表例のアミノ（Ｈ２Ｎ−）が修飾した具体的な例には、２−アミノエチル、２−アミノプロピル、３−アミノプロピル、２−アミノ−１−メチルエチル、２−アミノブチル、３−アミノブチル、４−アミノブチル、２−アミノ−１，１−ジメチルエチル、２−アミノ−１−メチルプロピル、または３−アミノ−２−メチルプロピルなどが挙げられる。ここで上記具体例には保護基、例えばＲ５ＯＣＯ−に包含されるｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）が結合したものも包含されることは言うまでもない。
【００７２】
ヘテロシクリルにＣ１−６アルキルの代表例のメチルが修飾した場合の具体的な例には、１−メチルアゼチジン、３−メチルアゼチジン、１−メチルピロリジン、３−メチルピロリジン、１−メチルイミダゾリジン、３−メチルオキサゾリジン、１−メチルピラゾリジン、１−メチルピペリジン、４−メチルピペリジン、２−メチルテトラヒドロ−２Ｈ−ピラン、４−メチルテトラヒドロ−２Ｈ−ピラン、１−メチルピペラジン、１，４−ジメチルピペラジン、４−メチルモルホリン、４−メチル−チオモルホリン、１−メチルアゼパン、１−メチル−１，４−ジアゼパンまたは１,４−ジメチル−１，４−ジアゼパンなどが挙げられる。ここで上記具体例には保護基、例えばｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）が結合したものも包含されることは言うまでもない。
【００７３】
ヘテロシクリルにＲ５（Ｒ６）Ｎ−の代表例のアミノ（Ｈ２Ｎ−）が修飾した具体的な例には，３−アミノアゼチジン、３−アミノピロリジン、３−アミノ−テトラヒドロフラン、３−アミノ−テトラヒドロチオフェン、４−アミノピラゾリジン、４−アミノピペリジン、４−アミノ−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン、４−アミノ−テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン、４−アミノ−ヘキサヒドロピリダジン、４−アミノ−１，２−オキサゾリジン、４−アミノ−１，２−オキサジナン、４−アミノアゼパン、４−アミノオキセパンまたは６−アミノ−１，４−ジアゼパンなどが挙げられる。ここで上記具体例には保護基、例えばｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）が結合したものも包含されることは言うまでもない。
【００７４】
Ｃ１−６アルキルの代表例のメチルまたはエチルに、ヘテロシクリルが修飾した具体的な例には、アゼチジン−２−イルメチル、アゼチジン−３−イルメチル、ピロリジン−２−イルメチル、ピロリジン−３−イルメチル、テトラヒドロフラン−３−イルメチル、テトラヒドロチオフェン−３−イルメチル、ピラゾリジン−４−イルメチル、１，２−オキサゾリジン−３−イルメチル、ピペリジン−２−イルメチル、ピペリジン−３−イルメチル、ピペリジン−４−イルメチル、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イルメチル、テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イルメチル、ヘキサヒドロピリダジン−４−イルメチル、ピペラジン−２−イルメチル、１，２−オキサジナン−３−イルメチル、モルホリン−２−イルメチル、モルホリン−３−イルメチル、チオモルホリン−２−イルメチル、チオモルホリン−３−イルメチル、アゼパン−２−イルメチル、アゼパン−４−イルメチル、オキセパン−２−イルメチル、オキセパン−４−イルメチル、１，４−ジアゼパン−２−イルメチル、１，４−ジアゼパン−６−イルメチル、２−（アゼチジン−１−イル）エチル、２−（ピロリジン−１−イル）エチル、２−（ピラゾリジン−１−イル）エチル、２−（ピペリジン−１−イル）エチル、２−（ヘキサヒドロピリダジン−１−イル）エチル、２−（ピペラジン−１−イル）エチル、２−（モルホリン−４−イル）エチル、２−（チオモルホリン−４−イル）エチル、２−（１，２−オキサゾリジン−２−イル）エチル、２−（１，２−オキサジナン−２−イル）エチル、２−（アゼパン−１−イル）エチル、または２−（１，４−ジアゼパン−１−イル）エチルなどが挙げられる。ここで上記具体例には保護基、例えばｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）が結合したものも包含されることは言うまでもない。
【００７５】
本発明により供される化学式（ＩＶ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ−ＣＲ）、（ＶＩＩ）で示される化合物の具体的な例としては、
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート、
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート、
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝(メチル)カーバメート、
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝(メチル)カーバメート、
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−［２−（メチルアミノ）エトキシ］−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝(プロパン−２−イル)カーバメート、
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝(プロパン−２−イル)カーバメート、
（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−Ｎ−［２−（プロパン−２−イルアミノ）エトキシ］−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−Ｎ−［２−（ジメチルアミノ）エトキシ］−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
テトラブチルアンモニウム  （２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−［２−（ジメチルアミノ）エトキシ］−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−［２−（ジメチルアミノ）エトキシ］−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛（２Ｓ）−１−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロパン−２−イル｝カーバメート、
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛（２Ｓ）−１−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロパン−２−イル｝カーバメート、
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−｛［（２Ｓ）−２−アミノプロピル］オキシ｝−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛（２Ｒ）−１−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロパン−２−イル｝カーバメート、
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛（２Ｒ）−１−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロパン−２−イル｝カーバメート、
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−｛［（２Ｒ）−２−アミノプロピル］オキシ｝−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛３−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロピル｝カーバメート、
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛３−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロピル｝カーバメート、
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（３−アミノプロポキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
ｔｅｒｔ−ブチル  （２Ｓ）−２−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝アゼチジン−１−カルボキシレート、
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  （２Ｓ）−２−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝アゼチジン−１−カルボキシレート、
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−［（２Ｓ）−アゼチジン−２−イルメトキシ］−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
ｔｅｒｔ−ブチル  （２Ｒ）−２−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝ピロリジン−１−カルボキシレート、
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  （２Ｒ）−２−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝ピロリジン−１−カルボキシレート、
（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−Ｎ−［（２Ｒ）−ピロリジン−２−イルメトキシ］−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
ｔｅｒｔ−ブチル  （３Ｒ）−３−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝ピペリジン−１−カルボキシレート、
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  （３Ｒ）−３−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝ピペリジン−１−カルボキシレート、
（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−Ｎ−［（３Ｒ）−ピペリジン−３−イルメトキシ］−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
ｔｅｒｔ−ブチル  （３Ｓ）−３−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］ピロリジン−１−カルボキシレート、
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  （３Ｓ）−３−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］ピロリジン−１−カルボキシレート、
（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−Ｎ−［（３Ｓ）−ピロリジン−３−イルオキシ］−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
ｔｅｒｔ−ブチル  ３−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝アゼチジン−１−カルボキシレート、
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ３−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝アゼチジン−１−カルボキシレート、
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（アゼチジン−３−イルメトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
から選ばれる化合物であり、下記化合物群が挙げられる。
【００７６】
【化３５】
2020007366.tif 000039
（上記式中、Ｐ2はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）などの保護基または水素、Ｐ３はベンジルオキシ（ＯＢｎ）、テトラブチルアンモニウムスルホオキシ、またはスルホオキシを示す。）
【００７７】
最も好ましくは、ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート、
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート、
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド、
であり、上記式（ＩＶ−１）、（ＶＩ−１）、（ＶＩＩ−１―ＣＲ）、（ＶＩＩ−１）で示される。
【００７８】
本発明により提供される化合物はβ−ラクタマーゼ阻害剤であり、β−ラクタム系抗菌剤の同酵素による分解を阻止する作用を示す。従って、本発明により提供される医薬はβ−ラクタム系抗菌剤と併用使用することが前提となる。
本発明により提供される医薬は、式（ＶＩＩ）で表される化合物および医学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物またはその溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分とし含有することを特徴としており、経口的または非経口的に投与されるが、好ましくは非経口的に投与される。本発明の化合物とβ−ラクタム系抗生物質は、用事個別に調製した各々の薬剤を併用して、同時または別々に投与する方法、あるいは予め両者の薬剤を混合した一般的には１または２以上の製剤用添加物（担体）を用いて、医薬組成物を製造し、投与することができる。
【００７９】
経口投与の医薬組成物の具体的な例としては、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、丸剤、水性および非水性の経口用溶液、ならびに懸濁液などを挙げることができる。
【００８０】
非経口投与の投与経路としては、鼻腔内、点眼、点耳、経皮、気道内、直腸内、泌尿器内、皮下、筋肉内、および静脈内等を挙げることができる。
【００８１】
非経口投与の医薬組成物の具体的な例としては、静脈投与用としては粉末化された形態の医薬組成物を許容される溶媒を用いた静脈注射溶液などが挙げられる。許容される溶媒とは、例えば注射用滅菌水、生理食塩水溶液、ブドウ糖液、リンゲル液、メチルパラベン及びプロピルパラベン入りの注射用静菌水、又はベンジルアルコール入りの注射用静菌水などである。
【００８２】
静脈投与用の粉末形態の医薬組成物は、医薬原体である本発明の化合物とβ−ラクタム系抗生物質とを無菌化工程を経て、密封バイアルに分注することで製造される。
【００８３】
ここで、本発明の化合物と併用可能なβ−ラクタム系抗生物質とは、ペニシリン、セフェム、カルバペネムなどが挙げられる。
【００８４】
ペニシリン類の具体的な例としては、ベンジルペニシリン、フェネチシリン、クロキサシリン、ジクロキサシリン、アンピシリン、シクラシリン、アモキシリン、タランピシリン、バカンピシリン、レナンピシリン、アスポキシリン、ピペラシリン、スルベニシリン、ピブメシリナム、スルタミシリン、フェノキシメチルペニシリン、カルベニシリン、アジドシリン、プロピシリン、エピシリン、チカルシリン、ピルベニシリン、アズロシリン、メズロシリン、並びに他の公知のペニシリンなどが挙げられる。
【００８５】
セフェム類の具体的な例としては、セファクロル、セファゾリン、セファトリジン、セファドロキシル、セファピリン、セファマンドール・ナフェート、セファラジン、セファレキシン、セファロチン、セフェピム、セフキシチン、セフキシム、セフジジム、セフジトレン、セフジニル、セフスロジン、セフセリス、セフゾプラン、セフタキシム、セフタジジム、セフタロリン、セフチアム、セフチゾキシム、セフチブテン、セフテゾール、セフテタム、セフトリアキソン、セフニシド、セフピラミド、セフピロム、セフブペラゾン、セフプロジル、セフペラゾン、セフポドキシム、セフミノクス、セフメタゾール、セフメノキシム、セフラジン、セフロキサジン、セフロキシム、セフトロザン（ＣＸＡ１０１、（６Ｒ，７Ｒ）−３−［５−アミノ−４−［３−（２−アミノエチル）ウレイド］−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−２−イウム−２−イルメチル］−７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２−［（Ｚ）−１−カルボキシ−１−メチルエトキシイミノ］アセタミド］−３−セフェム−４−カルボン酸  硫酸水素塩）ならびに他の公知のセフェム類等が挙げられる。
【００８６】
カルバペネム類の例としては、イミペネム、パニペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、テビペネムなどがあり、必要に応じてシラスタチンナトリウムなどのＤＨＰ−１阻害剤を併用することができる。
【００８７】
カルバペネム類、ペニシリン類およびセフェム類以外のβ−ラクタム系抗生物質の例には、アズトレオナム、カルモナム、ラタモキセフ、フロモキセフ、ロラカルベフ、ファロペネム、リチペネムのようなβ−ラクタム系抗生物質等が挙げられる。
【００８８】
本発明による化合物との併用投与に特に好適なペニシリン類には、アンピシリン、アモキシシリン、カルベニシリン、ピペラシリン、アズロシリン、メズロシリンおよびチカルシリン等がある。そのようなペニシリン類は、例えばナトリウム塩のような医薬的に許容されうる塩の形で用いることができる。別の形態として、アンピシリンまたはアモキシシリンは、注射用懸濁液もしくは注入用懸濁液用の両性イオン型（アンピシリン・三水和物またはアモキシシリン・三水和物）の微粒子の形で、式（ＶＩＩ）で示される化合物と併用することができる。本発明による化合物との併用投与に特に好適なセフェム類には、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジムおよびセフェピム等があり、それらはナトリウム塩のような医薬的に許容されうる塩の形で用いることができる。本発明による化合物との併用投与に特に好適なカルバペネム類は、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、及びエルタペネムである。
【００８９】
本発明による化合物との併用投与に特に好適なカルバペネム類、ペニシリン類およびセフェム類以外のβ−ラクタム系抗生物質の例には、アズトレオナムが挙げられる。
【００９０】
以下に、本発明で提供する下記式（ＶＩＩ）で示される化合物と、その結晶の製造法について順次説明する。
【００９１】
【化３６】
2020007366.tif 000040
（上記式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ−ＣＲ）、（ＶＩＩ）中、ＯＢｎ、Ｒ１及びＲ３は上述されたものと同様である。）
【００９２】
下記式（ＩＩＩ）：
【化３７】
2020007366.tif 000041
（上記式（ＩＶ）中、ＯＢｎ、Ｒ１及びＲ３は上述されたものと同様である。）
で示される化合物から式（ＩＶ）で示される化合物とする工程は以下のように実施される。
【００９３】
用いられる溶媒には水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、２，２，２−トリフルオロエタノールなどが挙げられ、好ましくは酢酸エチル、ジオキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタンであり、単独あるいは混合し用いられる。
【００９４】
反応で用いられる化合物：Ｒ３ＯＮＨ２は、Ｒ３の具体例で例示したものから選ばれ、式（ＩＩＩ）で示される化合物に対し、１〜２当量の範囲で用いられ、好ましくは１〜１．３当量である。
【００９５】
反応で用いられる塩基には、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルブチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、４−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくはトリエチルアミンであり、無機塩基では水溶液として用いることができる。塩基は式（ＩＩＩ）で示される化合物に対し、０〜２当量の範囲で用いられ、好ましくは０〜１．５当量である。反応温度は−２５〜５０℃の範囲、好ましくは−１０〜１０℃の範囲である。反応時間は１時間〜２４時間の範囲、好ましくは１時間〜１６時間の範囲で実施される。
【００９６】
式（ＩＶ）で示される化合物は、反応完了後に反応液を適当な溶媒で希釈し、順次、水、希釈した酸、塩基水溶液（例えば希塩酸、硫酸１水素カリウム、クエン酸や重曹水、飽和食塩水など）にて洗浄、溶媒を濃縮することで単離することができる。希釈に用いられる有機溶媒としては、ジエチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、ジクロロメタン、クロロホルムが挙げられ、好ましくは酢酸エチルである。生成物は通常の後処理操作と精製操作で単離されるが、後処理のみで次工程に供することもできる。
【００９７】
下記式（ＩＶ）：
【化３８】
2020007366.tif 000042
で示される化合物を上記式（ＶＩ）で示される化合物とする工程は以下のように実施される。
【００９８】
反応に用いられる溶媒には、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリルが挙げられ、単独あるいは混合し用いられる。脱ベンジル化反応と硫酸化を同時に実施する場合は含水溶媒が好ましく、連続して行う場合は硫酸化時の加水が好ましい。加水量は、溶媒の５０〜２００ｖｏｌ％の範囲であり、好ましくは７５〜１２５ｖｏｌ％である。
【００９９】
パラジウム炭素の量は、式（ＩＶ）で示される化合物に対し、５〜１００ｗｔ％の範囲で用いられ、好ましくは５〜３０ｗｔ％である。
水素化分解に用いられる水素の供給源は水素ガスであり、水素圧は大気圧〜１ＭＰａの範囲で選ばれ、好ましくは大気圧〜０．５ＭＰａである。水素の供給量は少なくとも化学量論量以上の量が用いられる。
【０１００】
水素化分解の反応温度は１０〜５０℃の範囲、好ましくは２０〜３０℃の範囲である。反応時間は０．５〜３時間の範囲、好ましくは０．５〜２時間の範囲で実施される。
【０１０１】
硫酸化試薬として用いる三酸化硫黄−トリメチルアミン錯体は、式（ＩＶ）で示される化合物に対して１〜２当量の範囲で用いられ、好ましくは１〜１．３当量用いられる。
【０１０２】
硫酸化に用いられる塩基には、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、燐酸水素二ナトリウム、が挙げられ、好ましくはトリエチルアミンであり、式（ＩＶ）で示される化合物に対し０．１〜１当量、好ましくは０．１〜０．３当量の範囲で用いることができる。
【０１０３】
硫酸化の反応温度は０〜５０℃の範囲、好ましくは１５〜３０℃である。反応時間は１２〜４８時間の範囲、好ましくは１２〜２４時間の範囲で実施される。
【０１０４】
反応完了後、触媒等の不溶物をろ過、溶媒濃縮した濃縮液を、燐酸二水素ナトリウム水溶液に投入し、次いで水溶液に１〜３モル当量の硫酸水素テトラブチルアンモニウムを加え、酢酸エチル等の有機溶媒により抽出、溶媒濃縮することにより式（ＶＩ）で示される化合物を得ることができる。得られた式（ＶＩ）で示される化合物は、単離精製することなく濃縮溶液として次工程に用いることができる。
【０１０５】
下記式（ＶＩ）：
【化３９】
2020007366.tif 000043
で示される化合物を上記式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される化合物とする工程は以下のように実施される。
【０１０６】
Ｒ３Ｏ−ＮＨＣ（＝Ｏ）−基中に場合により含まれる保護基、特にｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）基を脱保護する工程で用いられる溶媒には酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、２，２，２−トリフルオロエタノールなどが挙げられ、好ましくはジクロロメタンまたは酢酸エチルで、単一、または混合して用いられる。用いられる溶媒量は式（ＶＩ）で示される化合物の正味量に対して２〜１０ｖｏｌ／ｗｔの範囲で用いられ、好ましくは２〜６ｖｏｌ／ｗｔである。
【０１０７】
脱保護で用いられる酸には、塩酸、硫酸、燐酸、蟻酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、クロロメタンスルホン酸、テトラフルオロホウ酸などが挙げられ、好ましくはトリフルオロ酢酸である。酸は式（ＶＩ）で示される化合物の正味量に対し２〜１０ｖｏｌ／ｗｔの範囲で用いられ、好ましくは２〜６ｖｏｌ／ｗｔである。酸の添加は−５０〜０℃の範囲で実施され、好ましくは−２０〜０℃の範囲である。反応温度は−５〜２０℃の範囲、好ましくは−５〜５℃である。反応時間は０．５〜５時間の範囲、好ましくは０．５〜３時間の範囲で実施される。
【０１０８】
脱保護完了後、反応液を冷却し貧溶媒を加えて式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される化合物とする工程は以下のように実施される。用いられる貧溶媒は、エーテル系貧溶媒またはエステル系貧溶媒が挙げられ、好ましくはエステル系貧溶媒、例えば酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルなどが挙げられ、さらに好ましくは酢酸エチルである。用いられる量は、反応液量に対して１〜３倍量、好ましくは１．５〜２倍量用いられる。貧溶媒は、予め−５〜５℃に冷却し、分割あるいは滴下により反応液に加えられる。貧溶媒の添加完了後、さらに撹拌する。沈殿をろ取し、必要に応じて数回懸濁洗浄を行い、得られた湿状固体を真空乾燥に付し、品温が室温となるまで１０時間以上乾燥して式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される化合物を得ることができる。
【０１０９】
下記式（ＶＩＩ−ＣＲ）：
【化４０】
2020007366.tif 000044
で示される化合物を上記式（ＶＩＩ）で示される化合物とする工程は以下のように実施される。
【０１１０】
上記式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される化合物のｐＨ調整に用いられる緩衝液としてはｐＨ６．５の燐酸緩衝液が好ましい。濃度は、上記式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される化合物中に残存するトリフルオロ酢酸の量により変動するが、０．１〜０．５Ｍの範囲で選択され、好ましくは０．２Ｍである。全体使用量は（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される化合物で示される化合物の正味量に対し、１０〜５０ｖｏｌ／ｗｔの範囲で用いられる。
【０１１１】
ｐＨの調整は予め５〜７ｖｏｌ／ｗｔの燐酸緩衝液を０〜１０℃に冷却し、式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される化合物と冷却した燐酸緩衝液をｐＨ４〜５．５、好ましくはｐＨ４．２〜４．８の間になるように交互に少しずつ添加溶解、最終的にｐＨ４．６に調整、次いで全体量が式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される化合物の力価に対して２５ｖｏｌ／ｗｔを下回る場合は２５ｖｏｌ／ｗｔまで水を加えて希釈し、液温１５℃以下で２０ｖｏｌ／ｗｔまで減圧濃縮する。さらに水溶液のｐＨを０．２Ｍ燐酸水素二ナトリウム水溶液にてｐＨ５．４とし、水で希釈して３６ｖｏｌ／ｗｔの水溶液とすることで実施される。
【０１１２】
上記ｐＨ調整後の水溶液の脱塩は必要に応じて合成吸着剤を用いたカラム精製により実施される。合成吸着剤は三菱化成ダイヤイオンＨＰ−２０またはセパビーズＳＰ−２０７などが用いられ、好ましくはセパビーズＳＰ−２０７である。合成吸着剤量は式（ＶＩＩ−ＣＲ）で示される化合物の力価に対して５５〜６５ｖｏｌ／ｗｔの範囲で用いられる。上記、水溶液を合成吸着剤に吸着し、水６５〜７０ｖｏｌ／ｗｔにて脱塩、１０％イソプロパノール１５０〜２００ｖｏｌ／ｗｔにて溶出することで実施される。活性フラクションは２０〜２５ｖｏｌ／ｗｔの範囲に収まる。得られた活性フラクションを液温２０℃以下で５〜７ｖｏｌ／ｗｔまで減圧濃縮した濃縮液を用いて結晶化を実施する。
【０１１３】
結晶多形は、溶媒和または無水であっても良い（例えば無水物、一水和物、二水和物）。式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の結晶多形には、Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ、及びＩＶ形結晶が存在する。ＩとＩＩＩ形結晶は、０〜３５℃、好ましくは２０〜２５℃の室温で、より好ましくは種結晶の接種により結晶化し、ＩＩ形結晶は１５℃以下の冷却と貧溶媒添加による過飽和条件で種結晶無しで結晶化することができる。ＩＶ形結晶は、式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の溶解性の良いアルコール系溶媒、例えばメタノールを貧溶媒として室温で結晶化させるか、I〜III形結晶をアルコール溶媒中で脱水条件下に再結晶することにより得られる。
Ｉ、ＩＩ、及びＩＩＩ形結晶は、ＤＳＣ、含水イソプロパノールへの溶解度、粉末Ｘ線回析図形の面間隔パターンで区別される。含水イソプロパノールへの溶解度はＩ形結晶が最も低く、ＩＩとＩＩＩ形結晶は同程度である。
【０１１４】
上記式（ＶＩＩ）で示される化合物の結晶化は以下のように実施される。初期薬液量は最も溶解度の低い結晶形が十分溶解し得る濃度に調整する。式（ＶＩＩ−１）で示される化合物では１０〜３０％、好ましくは１０〜２０％の範囲である。接種が好ましい結晶形は事前に種結晶を用意する。Ｉ形結晶の種結晶は室温にて取得され、ＩＩＩ形結晶の種結晶は１５〜２５％の範囲の濃度にて継代結晶化を繰り返すことで混入無く得ることができる。種結晶の量は０．０１〜２０％、好ましくは０．０１〜２％用いられる。
【０１１５】
用いられる貧溶媒は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフランが挙げられるが、好ましくはアルコール系貧溶媒、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノールが挙げられる。貧溶媒の量は単離ロスが１％以下となるように溶解度から調整する。式（ＶＩＩ−１）で示される化合物では初期薬液量に対して１〜１０倍量、好ましくは６〜７倍量用いられる。貧溶媒を添加するタイミングは、Ｉ形結晶は接種後の混合物がスラリー状態になってから、ＩＩとＩＩＩ形結晶は接種後直ちに、ＩＶ形結晶は未接種で滴下するものである。
ＩＶ形結晶に関しては、水溶液とせずにＩ，ＩＩ、またはＩＩＩ形結晶をメタノール、エタノール、またはイソプロパノール中で懸濁撹拌することにより得ることもできる。
【０１１６】
薬液の温度調節は所望の結晶多形をコントロールするうえで重要な因子であり、設定温度における結晶多形の析出速度を参考に決定する。式（ＶＩＩ−１）で示される化合物では、Ｉ、ＩＩＩ、ＩＶ形結晶が２０〜２５℃の範囲で、ＩＩ形結晶は１５℃以下に管理する。また、水溶液からではなくＩ、ＩＩ、またはＩＩＩ形結晶を溶媒中で懸濁撹拌するＩＶ形結晶の場合は、Ｉ、ＩＩ、またはＩＩＩ形結晶の溶媒への溶解度に併せ２０〜１００℃の範囲で、好ましくは２０〜６５℃の範囲で管理する。
撹拌時間は析出速度に依存するが、１〜２４時間、好ましくは１〜１５時間撹拌する。
析出した結晶は通常の濾過、洗浄、通気乾燥または真空乾燥することで、結晶形態の式（ＶＩＩ）で示される化合物を得ることができる。溶媒和した結晶の場合は、品温、乾燥減量、加湿限定真空乾燥、加湿通気乾燥等の管理手段により過乾燥を回避する。
【実施例】
【０１１７】
以下に本発明を、実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではなく、種々の変更例が可能である。
【０１１８】
参考例１
メチル  （２Ｓ，５Ｒ）−５−（ベンジルオキシアミノ）ピペリジン−２−カルボキシレート  の二塩酸塩
工程１
メチル  （２Ｓ，５Ｓ）−５−ヒドロキシピペリジン−２−カルボキシレート
２Ｍ  塩化水素−メタノール溶液（１２．８Ｌ）に市販の（２Ｓ，５Ｓ）−５−ヒドロキシピペリジン−２−カルボン酸（プレラベルＨＰＬＣ含量８４％、正味９１２．２２ｇ、洗い込み２Ｍ  塩化水素−メタノール  ３．１Ｌ）を加え、３時間還流した（内温６３〜６７℃）。反応液を冷却後、１，４−ジオキサン（１２．８Ｌ）を加えて溶媒を減圧留去した。残渣（４．１ｋｇ）に酢酸エチル（１８．３Ｌ）と氷冷４４％炭酸カリウム水溶液（２３．７Ｌ）を加えて有機層を分層し、水層をさらに酢酸エチル（３ｘ１８．３Ｌ）で抽出した。５０％炭酸カリウム水溶液（７．３Ｌ）を各々の有機層にて分液、有機層を併せて無水炭酸カリウム（２．３７ｋｇ）で乾燥、ろ過、溶媒を減圧留去した。残渣をトルエン（９．１Ｌ）に溶解し、活性炭９．２ｇを加えて３０分間攪拌、ろ過、溶媒を減圧留去した。残渣を酢酸エチル（９．１Ｌ）にて置換濃縮して淡黄色油状の標題化合物１１３０ｇを得た（プレラベルＨＰＬＣ含量７８．９％、正味８９１．５７ｇ、収率８９％）。
【０１１９】
工程２
メチル  （２Ｓ，５Ｓ）−５−ヒドロキシ−１−（２，２，２−トリフルオロアセチル）ピペリジン−２−カルボキシレート
メチル  （２Ｓ，５Ｓ）−５−ヒドロキシピペリジン−２−カルボキシレート（プレラベルＨＰＬＣ含量７８．８％、正味４５９．４８ｇ）の脱水酢酸エチル溶液（７．４Ｌ）を−４０℃に冷却し、トリエチルアミン（１３００ｇ）を加え、次いでトリフルオロ酢酸無水物（１３４９ｇ、洗い込み脱水酢酸エチル１００ｍＬ）を−４０〜−１２℃にて３０分間で滴下した。滴下終了後１５分で−２℃に昇温し７５分間撹拌、更に混合物に水（１２７７ｍＬ）を加え２５℃にて１時間攪拌した。混合物を水（８．４Ｌ）に投入（酢酸エチル４．５Ｌで洗い込み）、更に酢酸エチル（２ｘ９．８Ｌ）にて抽出、合併有機層を１Ｍ  塩酸（８．５Ｌ）、飽和重曹水（８．５Ｌ）、飽和食塩水（８．５Ｌ）にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム（１．８ｋｇ）で乾燥、濾過した。有機層の溶媒を減圧留去した後、残渣に酢酸エチル（３．６Ｌ）を加えて置換濃縮し、残渣を真空乾燥し標題化合物７９３．４ｇを得た（ＨＰＬＣ含量８１．５％、正味６４８．６６ｇ、収率８８％）。
【０１２０】
工程３
メチル  （２Ｓ，５Ｒ）−５−（ベンジルオキシアミノ）−１−（２，２，２−トリフルオロアセチル）ピペリジン−２−カルボキシレート
メチル  （２Ｓ，５Ｓ）−５−ヒドロキシ−１−（２，２，２−トリフルオロアセチル）ピペリジン−２−カルボキシレート（ＨＰＬＣ含量８１．５％、正味５５６．２３ｇ）の脱水アセトニトリル溶液４．０Ｌを−４０℃に冷却し、２，６−ルチジン（２５９．２４ｇ）を加え（アセトニトリル  １００ｍＬで洗浄）、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（６４５．７２ｇ）を−４３〜−３７℃にて１時間１０分かけて滴下した（アセトニトリル  １００ｍＬで洗浄）。反応液を−３５℃にて５０分攪拌後、ベンジルオキシアミン（５５０．２７ｇ）を−３５℃以下で滴下し、アセトニトリル（５００ｍＬ）で洗い込んだ。反応液を徐々に−５℃まで上昇させた後、２，６−ルチジン（２５９．２４ｇ）を加えて、５℃で４０時間攪拌した。混合物を１．８Ｌまで濃縮後、酢酸エチル（１２．４Ｌ）で希釈し、水（１２．４Ｌ）、１０％クエン酸水溶液（４ｘ８Ｌ＋４．７Ｌ）、飽和重曹水（６．３Ｌ）、飽和食塩水（７．２Ｌ）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥、濾過後、減圧濃縮した。残渣を真空乾燥し、標題化合物８６７．７３ｇを得た（ＨＰＬＣ含量７１．５６％、収率７９％）。
【０１２１】
工程４
メチル  （２Ｓ，５Ｒ）−５−（ベンジルオキシアミノ）−１−（２，２，２−トリフルオロアセチル）ピペリジン−２−カルボキシレート  塩酸塩
メチル  （２Ｓ，５Ｒ）−５−（ベンジルオキシアミノ）−１−（２，２，２−トリフルオロアセチル）ピペリジン−２−カルボキシレート（ＨＰＬＣ含量７０．１３％，正味６７３．２０ｇ）を酢酸エチル（４．８Ｌ）で希釈、活性炭４８ｇを投入し、１時間撹拌、混合物を濾過し酢酸エチル２Ｌにて洗浄した。濾液を酢酸エチル４．７Ｌで希釈、室温で１Ｍ  塩化水素−酢酸エチル溶液（２．７Ｌ）を添加して１５分撹拌、次いでヘキサン２８．６Ｌを投入し、０℃に冷却した。３時間撹拌した後、結晶を濾過し、ヘキサン／酢酸エチル＝４／１（３Ｌ）にて洗浄後、真空乾燥して標題化合物７２４．０ｇを得た（ＨＰＬＣ含量９１．７２％、収率９０％）。
【０１２２】
工程５
メチル  （２Ｓ，５Ｒ）−５−（ベンジルオキシアミノ）ピペリジン−２−カルボキシレート  の二塩酸塩
メチル  （２Ｓ，５Ｒ）−５−（ベンジルオキシアミノ）−１−（２，２，２−トリフルオロアセチル）ピペリジン−２−カルボキシレート  塩酸塩（ＨＰＬＣ含量９２．０１％、正味７３２．２５ｇ）を２Ｍ  塩化水素−メタノール溶液（１５Ｌ）に溶解、２７時間加熱還流した。混合物を室温まで冷却、３Ｌまで減圧濃縮した。混合物をメタノール２．７Ｌで希釈し、次いで酢酸エチル１６．３Ｌを加え１時間撹拌した。析出した結晶を濾過し、酢酸エチル（３ｘ１．１Ｌ）にて洗浄、真空乾燥して標題化合物５７２．０ｇを得た（ＨＰＬＣ含量９８．０６％、収率９２％）。
1H NMR (400 MHz, D2O) δ 1.40-1.51 (m, 1H), 1.61-1.72 (m, 1H), 1.90-1.94 (m, 1H), 2.25-2.30 (m, 1H), 2.80 (t, J = 11.2 Hz, 1H), 3.19-3.27 (m, 1H), 3.51-3.55 (m, 1H), 3.66 (s, 3H), 3.87-3.91 (m, 1H), 4.68 (s, 2H), 7.27 (s, 5H); MS m/z 265 [M-2HCl+H]+.
【０１２３】
参考例２
（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸
工程１
メチル  （２Ｓ，５Ｒ）−５−（ベンジルオキシアミノ）ピペリジン−２−カルボキシレート
メチル  （２Ｓ，５Ｒ）−５−（ベンジルオキシアミノ）ピペリジン−２−カルボキシレート，  二塩酸塩（参考例１、１．３１９ｇ）に酢酸エチル（２０ｍＬ）、５０％炭酸カリウム水溶液（２０ｍＬ）を加えて分液し、水層を酢酸エチル（１５ｍＬ）にて３回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、濾過後、減圧濃縮、終夜真空乾燥し、標題化合物を９７５ｍｇ得た（収率９４％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.25-1.35 (m, 1H), 1.49-1.59 (m, 1H), 1.89-2.11 (m, 2H), 2.45 (t, J = 11.7 Hz, 1H), 2.96-3.03 (m, 1H), 3.28-3.39 (m, 2H), 3.72 (s, 3H), 4.68 (s, 2H), 7.26-7.35 (m, 5H); MS m/z 265 [M+H]+.
【０１２４】
工程２
メチル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート
メチル  （２Ｓ，５Ｒ）−５−（ベンジルオキシアミノ）ピペリジン−２−カルボキシレート（１．１５４ｇ、４．３７ｍｍｏｌ）に脱水アセトニトリル（１９８ｍＬ）を加え、氷冷した。５℃以下でトリエチルアミン（１．６０ｍＬ）、ジホスゲン（０．３８９ｍＬ）を順次滴下し、２℃で２０分攪拌した。次いで、反応液に４−ジメチルアミノピリジン（７０．０ｍｇ）を加え、室温にて１０時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、酢酸エチルによる置換濃縮を３回行った後、溶液を３０ｍＬまで濃縮した。ここに酢酸エチル（２０ｍＬ）、水（４０ｍＬ）を加え、分液し、分離した水層を酢酸エチル（３０ｍＬ）にて２回抽出した。併せた有機層を５％クエン酸水溶液（４０ｍＬ）、６．５％  重曹水（３０ｍＬ）、５％食塩水（３０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣１．１６ｇを酢酸エチル（５．５ｍＬ）で希釈し、ｎ−ヘキサン（１１ｍＬ）を加え、種晶を接種し結晶化させた。更にｎ−ヘキサン（４９ｍＬ）を加え、０℃にて１時間攪拌後、結晶を濾過し、ｎ−ヘキサン（６０ｍＬ）にて洗浄後、真空乾燥し無色結晶性粉末の標題化合物を８８２．３ｍｇ得た（収率７１％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.65-1.70 (m, 1H), 2.03-2.12 (m, 3H), 2.90 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.07 (m, 1H), 3.32 (m, 1H), 4.12 (dd, J = 4.6&4.4 Hz, 1H), 4.91 (d, J = 11.2 Hz, 1H), 5.06 (d, J = 11.2 Hz, 1H), 7.35-7.44 (m, 5H); MS m/z 291 [M+H]+.
【０１２５】
工程３
（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸
メチル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート（８０９．０ｍｇ、２．７９ｍｍｏｌ）にテトラヒドロフラン（８ｍＬ）、水（３．６ｍＬ）を加え、０．５Ｍ  水酸化リチウム水溶液（６．４１ｍＬ）を４．９℃以下で１０分かけて滴下した。反応液を２℃で２時間攪拌後、水（３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２５ｍＬ）にて洗浄した。分離した水層に酢酸エチル（１５ｍＬ）を加え、１Ｍ  塩酸水溶液にて水層をｐＨ４．０に調整し、酢酸エチルで２回抽出した（酢酸エチル：トータル６５ｍＬ）。分離した水層を１Ｍ  塩酸水溶液でｐＨ３．４に調整し、酢酸エチルで１回抽出後、水層をｐＨ２．４に調整し、酢酸エチル抽出を２回行った。計５回の酢酸エチル抽出液（１７５ｍＬ）を飽和食塩水（４０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣７５９．１ｍｇを酢酸エチル（５ｍＬ）で希釈し、ｎ−ヘキサン（３ｍＬ）を加え、種晶を接種し結晶化させた。更に酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（５／３）溶液（８ｍＬ）を加えて攪拌後、ｎ−ヘキサン（２０ｍＬ）を加え、４℃で１４時間攪拌した。結晶を濾過し、ｎ−ヘキサン（５５ｍＬ）にて洗浄後、真空乾燥し無色結晶性粉末の標題化合物を６３３．６ｍｇ得た（収率８２％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.67 (m, 1H), 2.04-2.26 (m, 3H), 2.85 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.13 (m, 1H), 3.35 (m, 1H), 4.12 (m, 1H), 4.91 (d, J = 11.3 Hz, 1H), 5.06 (d, J = 11.3 Hz, 1H), 7.37-7.44 (m, 5H); MS m/z 277 [M+H]+.
【０１２６】
参考例３
２，５−ジオキソピロリジン−１−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート
【化４１】
2020007366.tif 000045
工程１
（２Ｓ，５Ｒ）−５−（（ベンジルオキシ）アミノ）−１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペリジン−２−カルボン酸
メチル  （２Ｓ，５Ｒ）−５−（ベンジルオキシアミノ）ピペリジン−２−カルボキシレート，  二塩酸塩（参考例１、６５．４ｇ、２００ｍｍｏｌ）を水（４００ｍＬ）、１，４−ジオキサン（２７０ｍＬ）に溶解し、氷冷して５Ｍ  水酸化ナトリウム水溶液（１３２ｍＬ）を加えて１時間撹拌した。反応液に５Ｍ  塩酸（１２ｍＬ）、炭酸カリウム（２７．６ｇ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（４８ｇ）を加え、室温に昇温し終夜攪拌した。反応液を濃縮した水溶液を酢酸エチルで洗浄し、クエン酸・一水和物にてｐＨ３．３に調整、酢酸エチル（５００ｍＬ）で２回抽出、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過、溶媒を減圧濃縮、さらに酢酸エチルで置換濃縮し、標題化合物６８．７ｇを得た（定量的）。本化合物は精製することなく次工程に用いられた。一部を酢酸エチル／ヘキサンより結晶化しその構造を確認した。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.46 (s, 9H), 1.50-1.72 (m, 2H), 1.98-2.10 (m, 2H), 3.12-3.19 (m, 2H), 4.13-4.20 (m, 1H), 4.76 (d, J = 11.5 Hz), 4.70 (d, J = 11.5 Hz), 4.85-4.92 (m, 1H), 7.26-7.35 (m, 5H); MS m/z 351 [M+H]+.
【０１２７】
工程２
２，５−ジオキソピロリジン−１−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート
（２Ｓ，５Ｒ）−５−（（ベンジルオキシ）アミノ）−１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペリジン−２−カルボン酸（参考例３の工程１、７００ｍｇ、２ｍｍｏｌ）を脱水テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解し、−２０℃に冷却した。混合物にクロロギ酸イソブチル（３００ｍｇ）とトリエチルアミン（４４４ｍｇ）を順次滴下し１５分間撹拌した。反応液に１−ヒドロキシピロリジン−２，５−ジオン（２５３ｍｇ）を加え３０分間撹拌し、室温でさらに３０分間撹拌した。反応液を酢酸エチル（３５ｍＬ）で希釈し、１０％クエン酸（１０ｍＬ）、飽和重曹水（１０ｍＬ）、飽和食塩水（１０ｍＬ）で順次洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、溶媒を減圧留去して残渣９８５ｍｇを得た。本残渣全量を脱水クロロホルム（１０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（３０３ｍｇ）を加えて氷冷した。混合物にトリホスゲン（２３７ｍｇ）を加え３０分間撹拌し、メタノール（０．１ｍＬ）を加えて３０分間撹拌した。次いでメタンスルホン酸（１．３ｍＬ）のジクロロメタン（４．０ｍＬ）溶液を滴下しさらに３０分間撹拌した。混合物を氷冷１Ｍ  炭酸水素カリウム水溶液（２．４ｇ／２０ｍＬ）に滴下し３０分間撹拌、クロロホルム（１０ｍＬ）を加えて分層、有機層を１Ｍ  塩酸（１０ｍＬ）、飽和重曹水（１０ｍＬ）、飽和食塩水（１０ｍＬ）で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、減圧濃縮した。残渣に接種し、固体にヘキサン／酢酸エチル（１／２、３ｍＬ）を加え撹拌し、濾過、ヘキサン／酢酸エチル（１／１、３ｍＬ）、ヘキサン（３ｍＬ）で順次洗浄し、結晶の標題化合物５５６ｍｇを得た（収率７５％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.70-1.77 (m, 1H), 2.04-2.27 (m, 3H), 2.80-2.90 (m, 4H), 3.09-3.19 (m, 2H), 3.35 (br.s., 1H), 4.48 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 4.92 (d, J = 11.3 Hz, 1H), 5.07 (d, J = 11.3 Hz, 1H), 7.35-7.45 (m, 5H); MS m/z 374 [M+H]+.
【０１２８】
参考例４
（１Ｒ，２Ｓ，６Ｒ，７Ｓ）−３，５−ジオキソ−４−アザトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−８−エン−４−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート
【化４２】
2020007366.tif 000046
（２Ｓ，５Ｒ）−５−（（ベンジルオキシ）アミノ）−１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペリジン−２−カルボン酸（参考例３の工程１、１４．０ｇ、４１．０９ｍｍｏｌ）を脱水テトラヒドロフラン（２００ｍＬ）に溶解し、−２０℃付近に冷却した。混合物にクロロギ酸イソブチル（６．１１ｇ）、次いでトリエチルアミン（８．８６ｇ）を滴下し同温で１５分間撹拌した。次に反応液に（１Ｒ，２Ｓ，６Ｒ，７Ｓ）−４−ヒドロキシ−４−アザトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−８−エン−３，５−ジオン（７．８７ｇ）を加え同温で３０分間、さらに室温で３０分間撹拌した。反応液を酢酸エチル（７００ｍＬ）で希釈し、氷冷１０％クエン酸（２００ｍＬ）、飽和重曹水（２００ｍＬ）、飽和食塩水（２００ｍＬ）で順次洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過した。溶媒を減圧留去し再度酢酸エチルにて置換濃縮して得られた残渣２５．１ｇ（正味収率９２％）全量を脱水クロロホルム（１８０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（５．５ｇ）を加えて氷冷した。混合物にトリホスゲン（４．２９ｇ）を加え３０分間撹拌し、次いでメタノール（１ｍＬ）を加えて３０分間撹拌した。反応液にメタンスルホン酸（２３．５ｍＬ）のジクロロメタン（３０ｍＬ）溶液を滴下し更に３０分間撹拌した。混合物を氷冷１Ｍ  炭酸水素カリウム水溶液（４３．５ｇ／２００ｍＬ）に滴下し３０分間撹拌、クロロホルム（１００ｍＬ）を加えて分層、有機層を１Ｍ  塩酸（２００ｍＬ）、飽和重曹水（２００ｍＬ）、飽和食塩水（２００ｍＬ）で順次洗浄した。各水層はクロロホルム（１００ｍＬ）で順次逆抽出した。有機層を併せて無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過した。溶媒を減圧濃縮して得られた残渣をクロロホルム（７０ｍＬ）に溶解しヘキサン（１００ｍＬ）を加えて３０分間撹拌晶析、更にヘキサン（１００ｍＬ）を加えて１時間撹拌した。結晶をろ取乾燥して、標題化合物１５．４ｇを得た（含量１００％、収率８８％）。
HPLC：COSMOSIL 5C18 MS-II 4.6X150mm, 35℃, 0.02M TFA/CH3CN＝50/50, 1.0mL/min, UV210nm, RT 7.1min； 鏡像異性体過剰率99.9%ee以上： CHIRALPAK AD-H、4.6x150mm、40℃, Hexane/EtOH=1/1、UV210nm、1mL/min、RT 37.3min (cf. enantiomer 16.5min); Mp 196℃; [α]26D+12.686 (c 0.885, CHCl3); 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.52 (d, J = 9.1 Hz, 1H), 1.70 (m, 1H), 1.78 (d, J = 9.1 Hz, 1H), 2.01-2.26 (m, 3H), 3.04-3.17 (m, 2H), 3.32 (m, 3H), 3.45 (br.s., 2H), 4.41 (d, J = 6.7 Hz, 1H), 4.91 (d, J = 11.4 Hz, 1H), 5.06 (d, J = 11.4 Hz, 1H), 6.19 (br.s., 2H), 7.33-7.46 (m, 5H); MS m/z 438 [M+H]+.
【０１２９】
参考例５
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）
【化４３】
2020007366.tif 000047
工程１
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート  （ＩＶ−１）
（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸（４．３０ｇ、１５．５６ｍｍｏｌ）の脱水酢酸エチル（４７ｍＬ）溶液を−３０℃に冷却し、クロロギ酸イソブチル（２．１７ｇ、洗い込み脱水酢酸エチル１ｍＬ）、トリエチルアミン（１．６１ｇ、洗い込み脱水酢酸エチル１ｍＬ）、を順次滴下し、−３０℃にて１時間撹拌した。反応液にｔｅｒｔ−ブチル  ２−（アミノオキシ）エチルカーバメート（３．２１ｇ）の脱水酢酸エチル（４ｍＬ）溶液を加え（洗い込み脱水酢酸エチル１ｍＬ）、０℃まで１．５時間かけて昇温、さらに終夜撹拌した。混合物を８％  クエン酸水溶液（５６ｍＬ）、飽和重曹水（４０ｍＬ）、飽和食塩水（４０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、５ｍＬまで濃縮、さらにエタノール（１０ｍＬ）で６ｍＬまで置換濃縮した。得られた溶液にエタノール（３ｍＬ）、へキサン（８ｍＬ）を加え氷冷、接種し１５分間撹拌した。混合物にヘキサン（７５ｍＬ）を２時間かけて滴下し終夜撹拌した。析出結晶をろ取、ヘキサンで洗浄、真空乾燥して標題化合物５．４９ｇを得た（正味４．９８ｇ、収率７４％）。
HPLC：COSMOSIL 5C18 MS-II 4.6X150mm, 33.3mM phosphate buffer/MeCN ＝ 50/50, 1.0mL/min, UV210nm, RT 4.4 min； 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.44 (s, 9H), 1.56-1.70 (m, 1H), 1.90-2.09 (m, 2H), 2.25-2.38 (m, 1H), 2.76 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 3.03 (br.d., J = 11.6 Hz, 1H), 3.24-3.47 (m, 3H), 3.84-4.01 (m, 3H), 4.90 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 5.05 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 5.44 (br.s., 1H), 7.34-7.48 (m, 5H), 9.37 (br.s., 1H); MS m/z 435 [M+H]+.
【０１３０】
工程２
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート  （Ｖ−１）
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート（３．９１ｇ、９．０１ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（８０ｍＬ）に、１０％パラジウム炭素触媒（５０％含水、８０３ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、４５分間撹拌した。反応液をセライト濾過し、減圧濃縮後、標題化合物を３．１１ｇ得た（定量的）。
HPLC：COSMOSIL 5C18 MS-II 4.6X150mm, 33.3mM phosphate buffer/MeCN ＝75/25, 1.0mL/min, UV210nm, RT 3.9 min; 1H NMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.44 (s, 9H), 1.73-1.83 (m, 1H), 1.86-1.99 (m, 1H), 2.01-2.12 (m, 1H), 2.22 (br.dd., J = 15.0, 7.0 Hz, 1H), 3.03 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.12 (br.d., J = 12.0 Hz, 1H), 3.25-3.35 (m, 2H), 3.68-3.71 (m, 1H), 3.82-3.91 (m, 3H); MS m/z 345 [M+H]+.
【０１３１】
工程３
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート  （ＶＩ−１）
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート（３．０９ｇ、８．９７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８０ｍＬ）溶液に、２，６−ルチジン（３．２０ｍＬ）、三酸化イオウ−ピリジン錯体（３．５８ｇ）を加え、室温で終夜撹拌した。反応液を半飽和重曹水にあけ、水層をクロロホルムにて洗浄後、水層に硫酸水素テトラブチルアンモニウム（３．４７ｇ）とクロロホルム（３０ｍＬ）を加え、１０分間撹拌した。水層をクロロホルムで抽出後、得られた有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥、濾過後、減圧濃縮し標題化合物５．４６ｇを得た（収率９１％）。
HPLC：COSMOSIL 5C18 MS-II 4.6X150mm, 33.3mM phosphate buffer/MeCN ＝ 80/20, 1.0mL/min, UV210nm, RT 2.0 min； 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.01 (t, J = 7.4 Hz, 12H), 1.37-1.54 (m, 8H), 1.45 (s, 9H), 1.57-1.80 (m, 9H), 1.85-1.98 (m, 1H), 2.14-2.24 (m, 1H), 2.30-2.39 (m, 1H), 2.83 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 3.20-3.50 (m, 11H), 3.85-3.99 (m, 3H), 4.33-4.38 (m, 1H), 5.51 (br s, 1H), 9.44 (br.s., 1H); MS m/z 425 [M-Bu4N+2H]+.
【０１３２】
工程４
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート（５．２０ｇ、７．８２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２５ｍＬ）溶液に、氷冷下トリフルオロ酢酸（２５ｍＬ）を加え、０℃にて１時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をジエチルエーテルにて洗浄後、重曹水にてｐＨ７に調整し、オクタデシルシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製（水）を行い、凍結乾燥後、標題化合物を１．４４ｇ得た（収率５７％）。
HPLC：COSMOSIL 5C18 MS-II 4.6X150mm, 33.3mM phosphate buffer/MeCN ＝ 99/1, 1.0mL/min, UV210nm, RT 3.1 min; 1H NMR (400 MHz, D2O) δ 1.66-1.76 (m, 1H), 1.76-1.88 (m, 1H), 1.91-2.00 (m, 1H), 2.00-2.08 (m, 1H), 3.02(d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.15 (t, J = 5.0 Hz, 2H), 3.18 (br d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.95 (dd, J = 7.8, 2.2 Hz,1H), 4.04 (t, J = 5.0 Hz, 2H), 4.07 (dd, J = 6.4&3.2 Hz, 1H); MS m/z 325 [M+H]+.
【０１３３】
参考例６
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−［２−（メチルアミノ）エトキシ］−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−２）
【化４４】
2020007366.tif 000048
工程１
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝（メチル）カーバメート  （ＩＶ−２）
参考例５と同様の手法にて、（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸（３９０ｍｇ、１．４１ｍｍｏｌ）とｔｅｒｔ−ブチル  （２−（アミノオキシ）エチル）（メチル）カーバメート（４３６ｍｇ）より得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、標題化合物３４７．８ｍｇを得た（収率５５％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.46 (s, 9H), 1.58-1.70 (m, 1H), 1.88-2.07 (m, 2H), 2.25-2.36 (m, 1H), 2.70-3.08 (m, 2H), 2.88 (s, 3H), 3.23-3.41 (m, 2H), 3.51-3.68 (m, 1H), 3.83-4.10 (m, 3H), 4.90 (d, J = 11.4 Hz, 1H), 5.06 (d, J = 11.4 Hz, 1H), 7.32-7.47 (m, 5H), 10.11 (br s, 1H); MS m/z 449 [M+H]+.
【０１３４】
工程２
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝（メチル）カーバメート  （Ｖ−２）
参考例５と同様の手法にて、上記工程１の化合物全量より標題化合物を得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.46 (s, 9H), 1.73-1.83 (m, 1H), 1.86-2.00 (m, 1H), 2.01-2.13 (m, 1H), 2.14-2.28 (m, 1H), 2.93 (s, 3H), 3.04 (d, J = 10.8 Hz, 1H), 3.08-3.18 (m, 1H), 3.43-3.55 (m, 2H), 3.65-3.72 (m, 1H), 3.79-3.88 (m, 1H), 3.92-4.05 (m, 2H); MS m/z 359 [M+H]+.
【０１３５】
工程３
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−［２−（メチルアミノ）エトキシ］−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−２）
参考例５と同様の手法にて、上記工程２の化合物全量より、テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝（メチル）カーバメートを得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.01 (t, J = 7.2 Hz, 12H), 1.36-1.53 (m, 8H), 1.47 (s, 9H), 1.57-1.77 (m, 9H), 1.83-1.98(m, 1H), 2.13-2.25 (m, 1H), 2.28-2.40 (m, 1H), 2.82-2.96 (m, 4H), 3.22-3.42 (m, 11H), 3.60-4.08 (m, 3H), 4.34 (br.s., 1H), 10.15 (br.s., 1H); MS m/z 437 [M-Bu4N]-.
【０１３６】
上記テトラブチルアンモニウム塩全量をトリフルオロ酢酸により脱保護し、オクタデシルシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製後、標題化合物１４９．４ｍｇを得た（３工程収率５７％）。
1H NMR (500 MHz, D2O) δ 1.73-1.97 (m, 2H), 1.98-2.07 (m, 1H), 2.08-2.18 (m, 1H), 2.74 (s, 3H), 3.09 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.21-3.32 (m, 3H), 4.04 (dd, J = 7.5, 2.0 Hz, 1H), 4.10-4.23 (m, 3H); MS m/z 337 [M-H]-.
【０１３７】
参考例７
（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−Ｎ−［２−（プロパン−２−イルアミノ）エトキシ］−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−３）
【化４５】
2020007366.tif 000049
工程１
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝（プロパン−２−イル）カーバメート  （ＩＶ−３）
（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸（４１４ｍｇ、１．５０ｍｍｏｌ）の脱水ジクロロメタン（１４．１ｍＬ）溶液をアルゴン雰囲気下０℃に冷却し、クロロギ酸イソブチル（２４５．９ｍｇ）、次いでトリエチルアミン（１９７ｍｇ）を順次加え３０分攪拌した。この反応混合物にｔｅｒｔ−ブチル  （２−（アミノオキシ）エチル）（イソプロピル）カーバメート（５９６ｍｇ）を滴下し、投入終了後に室温へと昇温し一時間攪拌した。この反応混合物を０．５Ｍ  塩酸、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧濃縮し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−に付し、標題化合物５７８．４ｍｇを得た（収率８１％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.15 (d, J = 6.8 Hz, 6H), 1.46 (s, 9H), 1.55-1.70 (m, 1H), 1.89-2.07 (m, 2H), 2.25-2.37 (m, 1H), 2.73-2.90 (m, 1H), 2.98-3.08 (m, 1H), 3.22-3.38 (m, 2H), 3.40-3.60 (m, 1H), 3.83-4.06 (m, 4H), 4.90 (d, J = 11.2 Hz, 1H), 5.06 (d, J = 11.2 Hz, 1H), 7.35-7.46 (m, 5H), 10.29 (br.s., 1H); MS m/z 477 [M+H]+.
【０１３８】
工程２
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝（プロパン−２−イル）カーバメート  （Ｖ−３）
参考例５と同様の手法にて、上記工程１の化合物全量より、標題化合物を得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.09-1.23 (m, 6H), 1.46 (s, 9H), 1.73-2.27 (m, 4H), 3.06 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 3.08-3.50 (m, 4H), 3.64-3.73 (m, 1H), 3.79-3.98 (m, 3H); MS m/z 387 [M+H]+.
【０１３９】
工程３
（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−Ｎ−［２−（プロパン−２−イルアミノ）エトキシ］−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−３）
参考例５と同様の手法にて、上記工程２の化合物全量より、テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝（プロパン−２−イル）カーバメートを得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.01 (d, J = 7.4 Hz, 12H), 1.10-1.20 (m, 6H), 1.33-1.77 (m, 17H), 1.46 (s, 9H), 1.84-1.97 (m, 1H), 2.12-2.25 (m, 1H), 2.28-2.40 (m, 1H), 2.79-2.95 (m, 1H), 3.17-3.45 (m, 9H), 3.50-3.67 (m, 1H), 3.80-4.07 (m, 5H), 4.34 (br.s., 1H), 10.36 (br.s., 1H); MS m/z 465 [M-Bu4N]-.
【０１４０】
上記テトラブチルアンモニウム塩全量をトリフルオロ酢酸により脱保護し、オクタデシルシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製後、標題化合物２５２．１ｍｇを得た（３工程収率５７％）。
1H NMR (500 MHz, D2O) δ 1.28 (d, J = 6.5 Hz, 6H),1.74-1.83 (m, 1H), 1.85-1.96 (m, 1H), 1.98-2.14 (m, 2H), 3.11 (d, J = 12.5 Hz, 1H), 3.22-3.30 (m, 3H), 3.40 (quint, J = 6.5 Hz, 1H), 4.01 (br d, J = 5.5 Hz, 1H), 4.09-4.18 (m, 3H); MS m/z 367 [M+H]+.
【０１４１】
参考例８
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−［２−（ジメチルアミノ）エトキシ］−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−４）
【化４６】
2020007366.tif 000050
工程１
（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−Ｎ−［２−（ジメチルアミノ）エトキシ］−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＩＶ−４）
（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸（５５３ｍｇ、２．００ｍｍｏｌ）の脱水ジクロロメタン（１０ｍＬ）溶液をアルゴン雰囲気下０℃に冷却し、クロロギ酸イソブチル（２８９μＬ、２．２０ｍｍｏｌ）を滴下した。次いで、トリエチルアミン（２９３μＬ）を加え３０分攪拌することで、反応系内に混合酸無水物を調製した。この反応混合物に２−（アミノオキシ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルエタナミン  ２塩酸塩（５９１ｍｇ）とトリエチルアミン（９３０μＬ）を脱水ジクロロメタン（７．０ｍＬ）で洗いこみながらゆっくりと加え、そのままの温度で一時間攪拌した。この反応混合物を濾過後、残渣をメタノールで洗浄し、濾液を減圧濃縮した。得られた残渣をジクロロメタンと水に溶解し、ジクロロメタンで抽出した有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（アミノシリカ、クロロホルム／メタノール＝１０／１）に付し，無色油状の標題化合物２９１．１ｍｇを得た。（収率４０％）
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.45-1.85 (m, 4H), 2.29 (s, 6H), 2.60 (t, J = 5.2 Hz, 2H), 2.81 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 2.97 (br.d., J = 11.6 Hz, 1H), 3.28-3.34 (m, 1H), 3.92-4.07 (m, 3H), 4.90 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 5.05 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 7.35-7.48 (m, 5H); MS m/z 363 [M+H]+.
【０１４２】
工程２
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−［２−（ジメチルアミノ）エトキシ］−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （Ｖ−４）
参考例５と同様の手法にて、上記工程１の化合物全量より、標題化合物を得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.74-1.84 (m, 1H), 1.87-1.98 (m, 1H), 2.03-2.12 (m, 1H), 2.15-2.24 (m, 1H), 2.36 (s, 6H), 2.67-2.74 (m, 2H), 3.07 (br.d., J = 11.6 Hz, 1H), 3.12 (br.d., J = 11.6 Hz, 1H), 3.67-3.72 (m, 1H), 3.83 (br.d., J = 6.4 Hz, 1H), 3.96-4.06 (m, 2H); MS m/z 273 [M+H]+.
【０１４３】
工程３
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−［２−（ジメチルアミノ）エトキシ］−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−４）
参考例５と同様の手法にて得られた反応混合物をクロロホルムで希釈、水洗してピリジニウム  （２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−［２−（ジメチルアミノ）エトキシ］−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミドを得、飽和重曹水にて中和した後にオクタデシルシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製後、標題化合物１３０．７ｍｇを得た（２工程収率４３％）。
1H NMR (400 MHz, D2O) δ 1.68-1.84 (m, 2H), 1.86-2.04 (m, 2H), 2.80 (s, 6H), 3.09-3.17 (m, 2H), 3.17-3.29 (m, 2H), 3.80-3.90 (m, 1H), 4.02-4.13 (m, 3H); MS m/z 353 [M+H]+.
【０１４４】
参考例９
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−｛［（２Ｓ）−２−アミノプロピル］オキシ｝−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−５）
【化４７】
2020007366.tif 000051
工程１
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛（２Ｓ）−１−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロパン−２−イル｝カーバメート  （ＩＶ−５）
参考例７と同様の手法にて、（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸（４１４ｍｇ、１．５０ｍｍｏｌ）と、（Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブチル  （１−（アミノオキシ）プロパン−２−イル）カーバメート（５５０ｍｇ）より得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、標題化合物５８５．６ｍｇを得た（収率８７％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.17 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.44 (s, 9H), 1.55-1.70 (m, 1H), 1.90-2.10 (m, 2H), 2.26-2.34 (m, 1H), 2.80 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.06 (br.d., J = 12.0 Hz, 1H), 3.27-3.34 (m, 1H), 3.64-3.74 (m, 1H), 3.86-3.98 (m, 3H), 4.81 (br.d., J = 7.6 Hz, 1H), 4.90 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 5.05 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 7.34-7.45 (m, 5H), 9.68 (br.s., 1H); MS m/z 449 [M+H]+.
【０１４５】
工程２
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛（２Ｓ）−１−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロパン−２−イル｝カーバメート  （Ｖ−５）
参考例５と同様の手法にて、上記工程１の化合物全量より、標題化合物を得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.16 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.44 (s, 9H), 1.74-1.84 (m, 1H), 1.86-1.98 (m, 1H), 2.03-2.12 (m, 1H), 2.21 (br.dd., J = 15.2, 6.8 Hz, 1H), 3.06 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.14 (br.d., J = 12.0 Hz, 1H), 3.68-3.72 (m, 1H), 3.74-3.87 (m, 4H); MS m/z 359 [M+H]+.
【０１４６】
工程３
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−｛［（２Ｓ）−２−アミノプロピル］オキシ｝−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−５）
参考例５と同様の手法にて、上記工程２の化合物全量より、テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛（２Ｓ）−１−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロパン−２−イル｝カーバメートを得た（定量的）。ＭＳ  ｍ／ｚ  ４３７［Ｍ−Ｂｕ４Ｎ］−．
上記テトラブチルアンモニウム塩全量をトリフルオロ酢酸により脱保護し、オクタデシルシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製後、標題化合物１１７．１ｍｇを得た（３工程収率２６％）。
1H NMR (400 MHz, D2O) δ 1.17 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 1.66-1.89 (m, 2H), 1.91-2.08 (m, 2H), 3.02 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.18 (br.d., J = 12.0 Hz, 1H), 3.47-3.58 (m, 1H), 3.82 (dd, J = 11.8, 9.4 Hz, 1H), 3.92-4.02 (m, 2H), 4.05-4.10 (m, 1H); MS m/z 339 [M+H]+.
【０１４７】
参考例１０
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−｛［（２Ｒ）−２−アミノプロピル］オキシ｝−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−６）
【化４８】
2020007366.tif 000052
工程１
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛（２Ｒ）−１−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロパン−２−イル｝カーバメート  （ＩＶ−６）
参考例７と同様の手法にて、（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸（４１４ｍｇ、１．５０ｍｍｏｌ）と（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチル  （１−（アミノオキシ）プロパン−２−イル）カーバメート（５６９ｍｇ）より得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、標題化合物６２５ｍｇを得た（収率９３％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.14 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.43 (s, 9H), 1.53-1.70 (m, 1H), 1.90-2.06 (m, 2H), 2.28-2.36 (m, 1H), 2.79 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.02 (br.d., J = 12.0 Hz, 1H), 3.28-3.33 (m, 1H), 3.56-3.68 (m, 1H), 3.84 (dd, J = 11.2, 3.6 Hz, 1H), 3.92-4.04 (m, 2H), 4.66 (br d, J = 8.0 Hz, 1H), 4.91 (d, J = 11.2 Hz, 1H), 5.06 (d, J = 11.2 Hz, 1H), 7.35-7.45 (m, 5H), 9.94 (br.s., 1H); MS m/z 449 [M+H]+.
【０１４８】
工程２
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛（２Ｒ）−１−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロパン−２−イル｝カーバメート  （Ｖ−６）
参考例５と同様の手法にて、上記工程１の化合物全量より、標題化合物を得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.15 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.44 (s, 9H), 1.73-1.84 (m, 1H), 1.86-2.00 (m, 1H), 2.01-2.12 (m, 1H), 2.19-2.29 (m, 1H), 3.06 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 3.10-3.20 (m, 1H), 3.67-3.72 (m, 1H), 3.73-3.92 (m, 4H); MS m/z 359 [M+H]+.
【０１４９】
工程３
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−｛［（２Ｒ）−２−アミノプロピル］オキシ｝−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−６）
参考例５と同様の手法にて、上記工程２の化合物全量より、テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛（２Ｒ）−１−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロパン−２−イル｝カーバメートを得た（定量的）。ＭＳ  ｍ／ｚ  ４３７［Ｍ−Ｂｕ４Ｎ］−．
【０１５０】
上記テトラブチルアンモニウム塩全量をトリフルオロ酢酸により脱保護し、オクタデシルシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製後、標題化合物２１２．６ｍｇを得た（３工程収率４５％）。
1H NMR (400 MHz, D2O) δ 1.17 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 1.66-1.78 (m, 1H), 1.78-1.88 (m, 1H), 1.90-2.06 (m, 2H), 3.02 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.18 (br.d., J = 12.0 Hz, 1H), 3.48-3.58 (m, 1H), 3.83 (dd, J = 11.8, 9.0 Hz, 1H), 3.94 (br.d., J = 7.2 Hz, 1H), 3.98 (dd, J = 11.8, 3.4 Hz, 1H), 4.06-4.10 (m, 1H); MS m/z 339 [M+H]+.
【０１５１】
参考例１１
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（３−アミノプロポキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−７）
【化４９】
2020007366.tif 000053
工程１
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛３−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロピル｝カーバメート  （ＩＶ−７）
参考例５と同様の手法にて、（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸（３９０ｍｇ、１．４１ｍｍｏｌ）とｔｅｒｔ−ブチル  （３−（アミノオキシ）プロピル）カーバメート（７３０ｍｇ）より得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、標題化合物３９８．１ｍｇを得た（収率６３％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.44 (s, 9H), 1.50-1.67 (m, 1H), 1.75-1.86 (m, 2H), 1.88-2.07 (m, 2H), 2.28-2.37 (m, 2H), 2.77 (d, J = 11.0 Hz, 1H), 3.01 (br.d., J = 11.0 Hz, 1H), 3.20-3.38 (m, 3H), 3.89-4.04 (m, 3H), 4.90 (d, J = 11.4 Hz, 1H), 5.05 (d, J = 11.4 Hz, 1H), 5.17 (br.s., 1H), 7.36-7.45 (m, 5H), 9.21 (br.s., 1H); MS m/z 449 [M+H]+.
【０１５２】
工程２
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛３−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロピル｝カーバメート  （Ｖ−７）
参考例５と同様の手法にて、上記工程１の化合物（３９２．８ｍｇ、８７６μｍｏｌ）より、標題化合物を得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.43 (s, 9H), 1.73-1.99 (m, 4H), 2.01-2.12 (m, 1H), 2.13-2.24 (m, 1H), 3.07 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 3.09-3.21 (m, 3H), 3.69 (br.s., 1H), 3.80-3.96 (m, 3H); MS m/z 359 [M+H]+.
【０１５３】
工程３
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（３−アミノプロポキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−７）
参考例５と同様の手法にて、上記工程２の化合物全量より、テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛３−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロピル｝カーバメートを得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.01 (t, J = 7.4 Hz, 12H), 1.33-1.53 (m, 8H), 1.47 (s, 9H), 1.55-1.96 (m, 12H), 2.14-2.23 (m, 1H), 2.31-2.41 (m, 1H), 2.85 (br.d., J= 11.2 Hz, 1H), 3.15-3.42 (m, 11H), 3.88-4.07 (m, 3H), 4.35 (br.s., 1H), 5.27 (br s, 1H), 9.26 (br.s., 1H); MS m/z 437 [M-Bu4N]-.
【０１５４】
上記テトラブチルアンモニウム塩全量をトリフルオロ酢酸により脱保護し、オクタデシルシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製後、標題化合物１３８．４ｍｇを得た（３工程収率４７％）。
1H NMR (400 MHz, D2O) δ 1.67-2.05 (m, 6H), 3.00-3.19 (m, 4H), 3.82-3.94 (m, 3H), 4.05-4.10 (m, 1H); MS m/z 337 [M-H]-.
【０１５５】
参考例１２
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−［（２Ｓ）−アゼチジン−２−イルメトキシ］−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−８）
【化５０】
2020007366.tif 000054
工程１
ｔｅｒｔ−ブチル  （２Ｓ）−２−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝アゼチジン−１−カルボキシレート  （ＩＶ−８）
参考例８と同様の手法にて、（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸（５５３ｍｇ、２．００ｍｍｏｌ）と、（Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブチル  ２−（（アミノオキシ）メチル）アゼチジン−１−カルボキシレート（５７８ｍｇ）より得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、標題化合物７６０．１ｍｇを得た（収率８３％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.46 (s, 9H), 1.56-1.70 (m, 1H), 1.88-2.07 (m, 3H), 2.23-2.34 (m, 2H), 2.84 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 3.02 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 3.28 (br s, 1H), 3.77-4.03 (m, 4H), 4.06-4.15 (m, 1H), 4.37-4.48 (m, 1H), 4.89 (d, J =11.6 Hz, 1H), 5.04 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 7.34-7.44 (m, 5H), 10.63 (br.s., 1H); MS m/z 461 [M+H]+.
【０１５６】
工程２
ｔｅｒｔ−ブチル  （２Ｓ）−２−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝アゼチジン−１−カルボキシレート  （Ｖ−８）
参考例５と同様の手法にて、上記工程１の化合物（６９９ｍｇ、１．５２ｍｍｏｌ）より、標題化合物を得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.44 (s, 9H), 1.74-1.85 (m, 1H), 1.86-1.99 (m, 1H), 2.02-2.14 (m, 1H), 2.16-2.40 (m, 3H), 3.06 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 3.10-3.17 (m, 1H), 3.67-3.74 (m, 1H), 3.75-3.93 (m, 3H), 4.01 (dd, J = 10.6, 10.6 Hz, 1H), 4.14 (dd, J = 10.6, 10.6 Hz, 1H), 4.37-4.47 (m, 1H); MS m/z 371 [M+H]+.
【０１５７】
工程３
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−［（２Ｓ）−アゼチジン−２−イルメトキシ］−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−８）
参考例５と同様の手法にて、上記工程２の化合物全量より、テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  （２Ｓ）−２−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝アゼチジン−１−カルボキシレートを得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.01 (t, J = 7.2 Hz, 12H), 1.30-2.10 (m, 19H), 1.46 (s, 9H), 2.12 -2.39 (m, 3H), 2.89 (br.d., J = 12.0 Hz, 1H), 3.23-3.39 (m, 9H), 3.76-3.93 (m, 3H), 3.95-4.06 (m, 1H), 4.08-4.18 (m, 1H), 4.33 (br.s., 1H), 4.37-4.50 (m, 1H); MS m/z 449 [M-Bu4N]-.
【０１５８】
上記テトラブチルアンモニウム塩全量をトリフルオロ酢酸により脱保護し、オクタデシルシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製後、標題化合物１７２．３ｍｇを得た（３工程収率３２％）。
1H NMR (500 MHz, D2O) δ 1.71-1.83 (m, 1H), 1.84-1.97 (m, 1H), 1.98-2.16 (m, 2H), 2.36-2.49 (m, 1H), 2.50-2.61 (m, 1H), 3.10 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.22-3.30 (m, 1H), 3.92-4.12 (m, 5H), 4.25-4.36 (m, 1H), 4.68-4.77 (m, 1H); MS m/z 351 [M+H]+.
【０１５９】
参考例１３
（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−Ｎ−［（２Ｒ）−ピロリジン−２−イルメトキシ］−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−９）
【化５１】
2020007366.tif 000055
工程１
ｔｅｒｔ−ブチル  （２Ｒ）−２−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝ピロリジン−１−カルボキシレート  （ＩＶ−９）
参考例５と同様の手法にて（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸（３９０ｍｇ、１．４１ｍｍｏｌ）と、（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチル  ２−（（アミノオキシ）メチル）ピロリジン−１−カルボキシレート（７９６ｍｇ）より得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、標題化合物３３６ｍｇを得た（収率５０％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.45 (s, 9H), 1.52-1.72 (m, 1H), 1.80-2.09 (m, 6H), 2.27-2.39 (m, 1H), 2.84 (br.d., J = 12.4 Hz, 1H), 2.96-3.08 (m, 1H), 3.28-3.44 (m, 3H), 3.60-3.86 (m, 2H), 3.89-4.06 (m, 1H), 4.14-4.29 (m, 1H), 4.90 (d, J = 11.2 Hz, 1H), 5.06 (d, J = 11.2 Hz, 1H), 7.32-7.47 (m, 5H), 10.56 (s, 1H); MS m/z 475 [M+H]+.
【０１６０】
工程２
ｔｅｒｔ−ブチル  （２Ｒ）−２−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝ピロリジン−１−カルボキシレート  （Ｖ−９）
参考例５と同様の手法にて、上記工程１の化合物全量より、標題化合物を得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.46 (s, 9H), 1.73-2.27 (m, 8H), 3.06 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 3.09-3.18 (m, 1H), 3.24-3.40 (m, 2H), 3.67-3.71 (m, 1H), 3.73-4.12 (m, 4H); MS m/z 385 [M+H]+.
【０１６１】
工程３
（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−Ｎ−［（２Ｒ）−ピロリジン−２−イルメトキシ］−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−９）
参考例５と同様の手法にて、上記工程２の化合物全量より、テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  （２Ｒ）−２−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝ピロリジン−１−カルボキシレートを得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.01 (t, J = 7.4 Hz, 12H), 1.34-1.51 (m, 8H), 1.46 (s, 9H), 1.55-1.78 (m, 10H), 1.80-2.01 (m, 4H), 2.11-2.23 (m, 1H), 2.29-2.42 (m, 1H), 2.88 (br.d., J = 11.2 Hz, 1H), 3.21-3.43 (m, 10H), 3.60-3.86 (m, 2H), 3.88-4.07 (m, 2H), 4.16-4.28 (m, 1H), 4.34 (br.s., 1H), 10.62 (br s, 1H); MS m/z 463 [M-Bu4N+2H]+.
【０１６２】
上記テトラブチルアンモニウム塩全量をトリフルオロ酢酸により脱保護し、オクタデシルシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製後、標題化合物７７．４ｍｇを得た（３工程収率３０％）。
1H NMR (500 MHz, D2O) δ 1.66-2.18 (m, 8H), 3.14 (d, J = 12.8 Hz, 1H), 3.23 (br.d., J = 12.8 Hz, 1H), 3.30 (t, J = 7.3 Hz, 2H), 3.89 (ddd, J = 8.2, 8.2, 3.4 Hz, 1H), 3.92-4.01 (m, 2H), 4.09-4.18 (m, 2H); MS m/z 365 [M+H]+.
【０１６３】
参考例１４
（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−Ｎ−［（３Ｒ）−ピペリジン−３−イルメトキシ］−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１０）
【化５２】
2020007366.tif 000056
工程１
ｔｅｒｔ−ブチル  （３Ｒ）−３−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝ピペリジン−１−カルボキシレート  （ＩＶ−１０）
参考例８と同様の手法にて、（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸（３９０ｍｇ、１．４１ｍｍｏｌ）と、（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチル  ３−（（アミノオキシ）メチル）ピペリジン−１−カルボキシレート（５２７ｍｇ）より得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、標題化合物３３３ｍｇを得た（収率４８％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.15-2.10 (m, 8H), 1.45 (s, 9H), 2.25-2.40 (m, 1H), 2.70-3.08 (m, 4H), 3.27-3.37 (m, 1H), 3.65-4.00 (m, 5H), 4.90 (d, J = 11.2 Hz, 1H), 5.05 (d, J = 11.2 Hz, 1H), 7.34-7.46 (m, 5H), 9.22 (br.s., 1H); MS m/z 489 [M+H]+.
【０１６４】
工程２
ｔｅｒｔ−ブチル  （３Ｒ）−３−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝ピペリジン−１−カルボキシレート  （Ｖ−１０）
参考例５と同様の手法にて、上記工程１の化合物全量より、標題化合物を得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.24-1.37 (m, 1H), 1.40-1.56 (m, 1H), 1.45 (s, 9H), 1.64-1.73 (m, 1H), 1.75-2.00 (m, 4H), 2.03-2.13 (m, 1H), 2.15-2.26 (m, 1H), 2.65-2.95 (m, 2H), 3.06 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.13 (br.d., J = 12.0 Hz, 1H), 3.67-3.91 (m, 5H), 4.01-4.08 (m, 1H); MS m/z 399 [M+H]+.
【０１６５】
工程３
（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−Ｎ−［（３Ｒ）−ピペリジン−３−イルメトキシ］−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１０）
参考例５と同様の手法にて、上記工程２の化合物全量より、テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  （３Ｒ）−２−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝ピペリジン−１−カルボキシレートを得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.01 (dd, J = 7.6&6.8 Hz, 12H), 1.11-1.99 (m, 23H), 1.46 (s, 9H), 2.12-2.24 (m, 1H), 2.30-2.42 (m, 1H), 2.67-2.96 (m, 3H), 3.19-3.38 (m, 9H), 3.70-3.99 (m, 5H), 4.35 (br.s., 1H), 9.16 (br.s., 1H); MS m/z 477 [M-Bu4N]-.
【０１６６】
上記テトラブチルアンモニウム塩全量をトリフルオロ酢酸により脱保護し、オクタデシルシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製後、標題化合物１０６ｍｇを得た（３工程収率４１％）。
1H NMR (400 MHz, D2O) δ 1.16-1.28 (m, 1H), 1.54-1.88 (m, 5H), 1.92-2.16 (m, 3H), 2.72 (t, J = 12.2 Hz, 1H), 2.81 (ddd, J = 12.8&12.8&3.5 Hz, 1H), 3.02 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.15-3.28 (m, 2H), 3.37-3.44 (m, 1H), 3.70 (dd, J = 10.3&7.6 Hz, 1H), 3.79 (dd, J = 10.3&5.0 Hz, 1H), 3.88-3.94 (m, 1H), 4.06-4.10 (m, 1H); MS m/z 377 [M-H]-.
【０１６７】
参考例１５
（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−Ｎ−［（３Ｓ）−ピロリジン−３−イルオキシ］−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１１）
【化５３】
2020007366.tif 000057
工程１
ｔｅｒｔ−ブチル  （３Ｓ）−３−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］ピロリジン−１−カルボキシレート  （ＩＶ−１１）
参考例５と同様の手法にて、（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸（５５３ｍｇ、２．００ｍｍｏｌ）と、（Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブチル  ３−（アミノオキシ）ピロリジン−１−カルボキシレート（６０６ｍｇ）より得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、標題化合物９２０．４ｍｇを得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.46 (s, 9H), 1.61-1.68 (m, 1H), 1.89-2.09 (m, 3H), 2.15-2.19 (m, 1H), 2.28-2.34 (m, 1H), 2.75 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 2.95-3.06 (m, 1H), 3.31 (br s, 1H), 3.35-3.68 (m, 4H), 3.97 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 4.60 (br.d., J= 23.2 Hz, 1H), 4.90 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 5.05 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 7.26-7.43 (m, 5H), 9.08 (br.d., J = 23.2 Hz, 1H); MS m/z 461 [M+H]+.
【０１６８】
工程２
ｔｅｒｔ−ブチル  （３Ｓ）−３−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］ピロリジン−１−カルボキシレート  （Ｖ−１１）
参考例５と同様の手法にて、上記工程１の化合物（８６９ｍｇ、１．８９ｍｍｏｌ）より、標題化合物を得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.47 (s, 9H), 1.75-2.12 (m, 4H), 2.13-2.25 (m, 2H), 3.05 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 3.13 (br.d., J = 12.0 Hz, 1H), 3.25-3.50 (m, 2H), 3.61 (br.d., J = 13.2 Hz, 1H), 3.70 (br.s., 1H), 3.86 (br d, J = 7.2 Hz, 1H), 4.32-4.38 (m, 1H), 4.54-4.62 (m, 1H); MS m/z 371 [M+H]+.
【０１６９】
工程３
（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−Ｎ−［（３Ｓ）−ピロリジン−３−イルオキシ］−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１１）
参考例５と同様の手法にて、上記工程２の化合物全量より、テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  （３Ｓ）−３−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］ピロリジン−１−カルボキシレートを得た（定量的）。ＭＳ  ｍ／ｚ  ４４９［Ｍ−Ｂｕ４Ｎ］−．
上記テトラブチルアンモニウム塩全量をトリフルオロ酢酸により脱保護し、オクタデシルシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製後、標題化合物１７０．７ｍｇを得た（３工程収率２６％）。
1H NMR (400 MHz, D2O) δ 1.71-1.92 (m, 2H), 1.95-2.18 (m, 3H), 2.21-2.30 (m, 1H), 3.07 (d, J = 12.2 Hz, 1H), 3.24 (br.d., J = 12.2 Hz, 1H), 3.31-3.45 (m, 3H), 3.51 (d, J = 13.6 Hz, 1H), 3.99 (br.d., J = 6.0 Hz, 1H), 4.10-4.14 (m, 1H), 4.72-4.77 (m, 1H); MS m/z 349 [M-H]-.
【０１７０】
参考例１６
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（アゼチジン−３−イルメトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１２）
【化５４】
2020007366.tif 000058
工程１
ｔｅｒｔ−ブチル  ３−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝アゼチジン−１−カルボキシレート  （ＩＶ−１２）
参考例８と同様の手法にて、（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸（５５３ｍｇ、２．００ｍｍｏｌ）と、ｔｅｒｔ−ブチル  ３−（（アミノオキシ）メチル）アゼチジン−１−カルボキシレート（５６４ｍｇ）より得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、標題化合物６９９．７ｍｇを得た（収率７６％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.43 (s, 9H), 1.54-1.70 (m, 1H), 1.87-2.06 (m, 2H), 2.27-2.35 (m, 1H), 2.75 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 2.80-2.90 (m, 1H), 3.01 (br.d., J = 11.6 Hz, 1H), 3.32 (br.s., 1H), 3.68-3.76 (m, 2H), 3.94 (br.d., J = 7.6 Hz, 1H), 4.00-4.15 (m, 4H), 4.90 (d, J = 11.8 Hz, 1H), 5.05 (d, J = 11.8 Hz, 1H), 7.35-7.44 (m, 5H), 9.08 (br s, 1H); MS m/z 461 [M+H]+.
【０１７１】
工程２
ｔｅｒｔ−ブチル  ３−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝アゼチジン−１−カルボキシレート  （Ｖ−１２）
参考例５と同様の手法にて、上記工程１の化合物（６４２ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）より、標題化合物を得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.43 (s, 9H), 1.74-1.85 (m, 1H), 1.86-1.97 (m, 1H), 2.04-2.13 (m, 1H), 2.16-2.24 (m, 1H), 2.84-2.94 (m, 1H), 3.05 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 3.13 (br.d., J = 11.6 Hz, 1H), 3.68-3.82 (m, 3H), 3.83 (br.d., J = 6.8 Hz, 1H), 3.97-4.06 (m, 4H); MS m/z 371 [M+H]+.
【０１７２】
工程３
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（アゼチジン−３−イルメトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１２）
参考例５と同様の手法にて、上記工程２の化合物全量より、テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ３−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝アゼチジン−１−カルボキシレートを得た（定量的）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.01 (t, J = 7.2 Hz, 12H), 1.37-1.51 (m, 8H), 1.46 (s, 9H), 1.54-1.75 (m, 9H), 1.82-1.97 (m, 1H), 2.13-2.25 (m, 1H), 2.29-2.40 (m, 1H), 2.77-2.95 (m, 2H), 3.24-3.40 (m, 9H), 3.64-4.16 (m, 7H), 4.36 (br.s., 1H), 9.16 (br.s., 1H); MS m/z 449 [M-Bu4N]-.
【０１７３】
上記テトラブチルアンモニウム塩全量をトリフルオロ酢酸により脱保護し、オクタデシルシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製後、標題化合物１６４．７ｍｇを得た（３工程収率３４％）。
1H NMR (400 MHz, D2O) δ 1.65-1.89 (m, 2H), 1.92-2.06 (m, 2H), 3.06 (d, J = 12.4 Hz, 1H), 3.10-3.22 (m, 2H), 3.90-4.00 (m, 5H), 4.07-4.14 (m, 3H); MS m/z 351 [M+H]+.
【０１７４】
参考例１７
（３ａＲ，７ａＳ）−２−ヒドロキシ−３a，４，７，７a‐テトラヒドロ−１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン
【化５５】
2020007366.tif 000059
【０１７５】
硫酸ヒドロキシルアミン（２４．９７５ｇ、０．１５２ｍｏｌ）を水（１００ｍＬ）に溶解し、（３ａＲ，７ａＳ）−３ａ，４，７，７ａ−テトラヒドロイソベンゾフラン−１，３−ジオン（４５．２２８ｇ）を加えた。混合物に２５％水酸化ナトリウム水溶液（５０ｇ）を１５分かけて少しずつ加え、９０℃で２時間撹拌した。混合物を室温まで冷却し、析出した結晶を吸引ろ取、３０分脱液した。湿結晶を５０℃で２日間真空乾燥して標題化合物４２．８７ｇを得た（収率８７％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 2.20-2.31 (m, 2H), 2.56-2.65 (m, 2H), 3.08-3.14 (m, 2H), 5.91 (dt, J = 0.9, 2.7 Hz, 2H); MS m/z 166 [M-H]-.
【０１７６】
参考例１８
（３ａＲ，７ａＳ）−１，３−ジオキソ−３a、４，７，７a‐テトラヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２（３Ｈ）−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート
【化５６】
2020007366.tif 000060
【０１７７】
工程１
１−ｔｅｒｔ−ブチル  ２−（（３ａＲ，７ａＳ）−１，３−ジオキソ−３a，４，７，７a‐テトラヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２（３Ｈ）−イル）  （２Ｓ，５Ｒ）−５−（（ベンジルオキシ）アミノ）ピペリジン−１，２−ジカルボキシレート
【化５７】
2020007366.tif 000061
【０１７８】
（２Ｓ，５Ｒ）−５−（（ベンジルオキシ）アミノ）−１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペリジン−２−カルボン酸（参考例３の工程１、３．５０４ｇ、１０ｍｍｏｌ）を脱水テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）に溶解し、−２０℃付近に冷却した。混合物にクロロギ酸イソブチル（１．５１ｇ）、次いでトリエチルアミン（２．１７ｇ）を滴下し同温で１５分間撹拌した。次に反応液に（３ａＲ，７ａＳ）−２−ヒドロキシ−３a、４，７，７a‐テトラヒドロ−１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン（参考例１７、１．８４ｇ）を加え同温で３０分間、さらに室温で３０分間撹拌した。反応液を酢酸エチル（２００ｍＬ）で希釈し、氷冷１０％クエン酸（６０ｍＬ）、飽和重曹水（６０ｍＬ）、飽和食塩水（６０ｍＬ）で順次洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）に付し、無色泡状固体の標題化合物を４．６８９ｇ得た（収率９４％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.47 (bs, 9H), 1.59-1.75 (m, 2H), 2.04-2.32 (m, 2H), 2.16-2.35 (m, 2H), 2.61 (d, J = 15.2 Hz, 2H), 3.14-3.24 (m, 4H), 4.15-4.22 (m, 1H), 4.71 (q, J=11.6 Hz, 2H), 5.03 (bs, 1H), 5.97 (bs, 2H), 7.26-7.38 (m, 5H); MS m/z 500 [M+H]+.
【０１７９】
工程２
上記工程１の化合物（４．６８９ｇ、９．３８６ｍｍｏｌ）を脱水クロロホルム（５０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（１．４０ｇ）を加えて氷冷した。混合物にトリホスゲン（１．０９ｇ）を加え０．５時間撹拌し、ＴＬＣにて標題化合物への収束を確認した。混合物に氷冷下メタノール（０．２５５ｍＬ）を加え３０分間撹拌した後、メタンスルホン酸（８．８９ｇ）を加えて３０分間撹拌し、ＴＬＣにて標題化合物への収束を確認した。混合物を氷冷１Ｍ  炭酸水素カリウム水溶液（１１．１ｇ／１００ｍＬ）に滴下し０．５時間撹拌、クロロホルム（３０ｍＬ）を加えて分層、有機層を１Ｍ  塩酸（７０ｍＬ）、飽和重曹水（７０ｍＬ）、飽和食塩水（７０ｍＬ）で順次洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、減圧濃縮した。残渣をクロロホルム（１６ｍＬ）に溶解しヘキサン（２４ｍＬ）を加えて１５分間撹拌、さらにヘキサン（８ｍＬ）を加えて１５分間撹拌熟成した。析出した固体をろ取、クロロホルム/ヘキサン（２／３）の混液で洗浄、減圧乾燥し、無色結晶性粉末の標題化合物３．５１ｇを得た（収率８８％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.67-1.77 (m, 1H), 2.08 (d, J = 14.2 Hz, 1H), 2.14-2.26 (m, 2H), 2.30 (d, J = 13.8 Hz, 2H), 2.55-2.66 (m, 2H), 3.10-3.24 (m, 4H), 3.34 (bs, 1H), 4.45 (d, J = 6.4 Hz, 1H), 4.91 (d, J = 11.2 Hz, 1H), 5.06 (d, J = 11.4 Hz, 1H), 5.97 (bs, 2H), 7.34-7.45 (m, 5H); MS m/z 426 [M+H]+.
【０１８０】
参考例１９
（３ａＲ，７ａＳ）−２−ヒドロキシヘキサヒドロ−１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン
【化５８】
2020007366.tif 000062
【０１８１】
硫酸ヒドロキシルアミン（２４．９７５ｇ、０．１５２ｍｏｌ）を水（７５ｍＬ）に溶解し、（３ａＲ，７ａＳ）−ヘキサヒドロイソベンゾフラン−１，３−ジオン（４８．０００ｇ）を加えた。混合物に２５％水酸化ナトリウム水溶液（５０ｇ）を１５分かけて少しずつ加え、９０℃で１時間撹拌した。混合物を室温まで冷却し、クロロホルム５０ｍＬで２回抽出、無水硫酸ナトリウムで乾燥濾過した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をクロロホルムに溶解、不溶物をろ過して溶媒を減圧濃縮した。残渣に酢酸エチルを加えて溶解し、溶液を減圧濃縮、さらに２日間真空乾燥して無色固体の標題化合物４９．３５ｇを得た（収率９４％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.45 (dt, J = 3.0, 5.9 Hz, 4H), 1.71-1.90 (m, 4H), 2.84-2.92 (m, 2H), 6.01 (brs, 1H); MS m/z 168 [M-H]-.
【０１８２】
参考例２０
（３ａＲ，７ａＳ）−１，３−ジオキソヘキサヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２（３Ｈ）−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート
【化５９】
2020007366.tif 000063
【０１８３】
工程１
１−ｔｅｒｔ−ブチル  ２−（（３ａＲ，７ａＳ）−１，３−ジオキソヘキサヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２（３Ｈ）−イル）  （２Ｓ，５Ｒ）−５−（（ベンジルオキシ）アミノ）ピペリジン−１，２−ジカルボキシレート
【化６０】
2020007366.tif 000064
【０１８４】
（２Ｓ，５Ｒ）−５−（（ベンジルオキシ）アミノ）−１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペリジン−２−カルボン酸（参考例３の工程１、３．５０４ｇ、１０ｍｍｏｌ）を脱水テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）に溶解し、−２０℃付近に冷却した。混合物にクロロギ酸イソブチル（１．５１ｇ）、次いでトリエチルアミン（２．１７ｇ）を滴下し同温で１５分間撹拌した。次に反応液に（３ａＲ，７ａＳ）−２−ヒドロキシヘキサヒドロ−１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン（参考例１９、１．８６ｇ）を加え同温で３０分間、さらに室温で３０分間撹拌した。反応液を酢酸エチル（２００ｍＬ）で希釈し、氷冷１０％クエン酸（６０ｍＬ）、飽和重曹水（６０ｍＬ）、飽和食塩水（６０ｍＬ）で順次洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）に付し、無色泡状固体の標題化合物４．５２１ｇ得た（収率９０％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.35-1.58 (m, 13H), 1.62 (bs, 1H), 1.76 (bs, 2H), 1.90 (bs, 4H), 1.95-2.15 (m, 2H), 3.00 (bs, 2H), 3.15-3.30 (m, 2H), 4.16-4.25 (m, 1H), 4.72 (q, J = 11.6 Hz, 2H), 5.30-5.53 (m, 1H), 7.26-7.38 (m, 5H); MS m/z 502 [M+H]+.
【０１８５】
工程２
上記工程１の化合物（４．５２１ｇ、９．０１ｍｍｏｌ）を脱水クロロホルム（５０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（１．３５０ｇ）を加えて氷冷した。混合物にトリホスゲン（１．０４３ｇ）を加え０．５時間撹拌し、ＴＬＣにて標題化合物への収束を確認した。混合物に氷冷下メタノール（０．２４５ｍＬ）を加え３０分間撹拌した後、メタンスルホン酸（８．５３ｇ）を加えて３０分間撹拌し、ＴＬＣにて標題化合物への収束を確認した。混合物を氷冷１Ｍ  炭酸水素カリウム水溶液（１０．６６８ｇ／９０ｍＬ）に滴下し０．５時間撹拌、クロロホルム（３３ｍＬ）を加えて分層、有機層を１Ｍ  塩酸（７０ｍＬ）、飽和重曹水（７０ｍＬ）、飽和食塩水（７０ｍＬ）で順次洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／酢酸エチル＝６／１）に付し、無色固体の標題化合物３．１０６ｇを得た（収率８１％）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.50 (bs, 4H), 1.62 (bs, 1H), 1.68-1.84 (m, 1H), 1.91 (bs, 4H), 2.04-2.27 (m, 2H), 3.02 (bs, 2H), 3.15 (s, 2H), 3.35 (bs, 1H), 4.47 (d, J = 6.6 Hz, 1H), 4.92 (d, J = 11.2 Hz, 1H), 5.07 (d, J = 11.4 Hz, 1H), 7.34-7.45 (m, 5H); MS m/z 428 [M+H]+.
【０１８６】
実施例１
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート  （ＩＶ−１）
実施例１ａ
【化６１】
2020007366.tif 000065
（２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボン酸（４．８０ｋｇ、１７．３７３ｍｏｌ）の脱水酢酸エチル（６２Ｌ）溶液を−３０℃に冷却し、クロロギ酸イソブチル（２．５２ｋｇ）、トリエチルアミン（１．８５ｋｇ）、を順次滴下し、−３０℃にて１５分間撹拌した。反応液にｔｅｒｔ−ブチル  ２−（アミノオキシ）エチルカーバメートの脱水酢酸エチル溶液（１５ｗｔ％、２３．４５ｋｇ）を３０分で加え（洗い込み脱水酢酸エチル２Ｌ）、０℃まで１時間かけて昇温した。混合物を８％クエン酸水溶液（６５Ｌ）、５％重曹水（６０Ｌ）、水（６０Ｌ）で順次洗浄し、２４Ｌまで濃縮した。濃縮液に酢酸エチル（２４Ｌ）を加え２４Ｌまで置換濃縮する操作を２回行い、得られた濃縮液に酢酸エチル（２９Ｌ）、へキサン（７２Ｌ）を加え、終夜撹拌した。混合物にヘキサン（８２Ｌ）を滴下し２時間撹拌した。析出結晶をろ取、ヘキサンで洗浄、真空乾燥して標題化合物５．５１ｋｇを得た（収率７６％）。このものの機器データは参考例５の工程１のものと一致した。
【０１８７】
実施例１ｂ
【化６２】
2020007366.tif 000066
２，５−ジオキソピロリジン−１−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート（参考例３、３７３ｍｇ、１ｍｍｏｌ）を脱水ジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解し、氷冷下にｔｅｒｔ−ブチル  ２−（アミノオキシ）エチルカーバメート（１９４ｍｇ）の脱水ジクロロメタン（２ｍＬ、洗い込み１ｍＬ）溶液を加え、１時間撹拌した。反応液を酢酸エチル（６５ｍＬ）で希釈、１０％クエン酸（２０ｍＬ）、飽和重曹水（２０ｍＬ）、飽和食塩水（２０ｍＬ）で順次洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、減圧濃縮して標題化合物３６２ｍｇを得た（収率８３％）。このものの機器データは参考例５の工程１のものと一致した。
【０１８８】
実施例１ｃ
【化６３】
2020007366.tif 000067
（１Ｒ，２Ｓ，６Ｒ，７Ｓ）−３，５−ジオキソ−４−アザトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−８−エン−４−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート（参考例４、４９．７ｇ、１１３．６ｍｍｏｌ）を脱水酢酸エチル（６５０ｍＬ）に懸濁し、室温でｔｅｒｔ−ブチル  ２−（アミノオキシ）エチルカーバメート（２４．２ｇ）の脱水酢酸エチル（１３４ｍＬ）溶液とトリエチルアミン（１３．８ｇ）を加え、２．５時間撹拌した。反応液を酢酸エチル（０．８Ｌ）で希釈、氷冷０．２５Ｍ  塩酸（１Ｌ）、飽和重曹水（１Ｌ）、水（１Ｌ）で順次洗浄、減圧濃縮して、標題化合物４８．０８ｇを得た（収率９８％、ＨＰＬＣエリア面積比９９％以上）。このものの機器データは参考例５の工程１のものと一致した。
【０１８９】
実施例１ｄ
【化６４】
2020007366.tif 000068
【０１９０】
（３ａＲ，７ａＳ）−１，３−ジオキソ−３a、４，７，７a‐テトラヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２（３Ｈ）−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート（参考例１８、４２５ｍｇ、１ｍｍｏｌ）を脱水クロロホルム（５ｍＬ）に溶解し、氷冷下ｔｅｒｔ−ブチル  ２−（アミノオキシ）エチルカーバメート（２１１ｍｇ）の脱水酢酸エチル溶液（１．４１ｇ）とトリエチルアミン（１２１ｍｇ）を加え、３０分間撹拌した。反応液を酢酸エチル（７５ｍＬ）で希釈、１０％クエン酸水溶液（３５ｍＬ）、飽和重曹水（３５ｍＬ）、飽和食塩水（３５ｍＬ）で順次洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、ろ液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）に付し標題化合物４８１ｍｇを得た（定量的）。このものの機器データは参考例５の工程１のものと一致した。
【０１９１】
実施例１ｅ
【化６５】
2020007366.tif 000069
【０１９２】
（３ａＲ，７ａＳ）−１，３−ジオキソヘキサヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２（３Ｈ）−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート（参考例２０、４２７ｍｇ、１ｍｍｏｌ）を脱水クロロホルム（５ｍＬ）に溶解し、氷冷下ｔｅｒｔ−ブチル  ２−（アミノオキシ）エチルカーバメート（２１１ｍｇ）の脱水酢酸エチル溶液（１．４１ｇ）とトリエチルアミン（１２１ｍｇ）を加え、３０分間撹拌した。反応液を酢酸エチル（７５ｍＬ）で希釈、１０％クエン酸水溶液（３５ｍＬ）、飽和重曹水（３５ｍＬ）、飽和食塩水（３５ｍＬ）で順次洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、ろ液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）に付し標題化合物４１８ｍｇを得た（収率９６％）。このものの機器データは参考例５の工程１のものと一致した。
【０１９３】
実施例２
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート  （Ｖ−１）
【化６６】
2020007366.tif 000070
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート  （ＩＶ−１、５．５２ｋｇ、１２．７０５ｍｏｌ）のメタノール溶液（８５Ｌ）に、１０％パラジウム炭素触媒（５０％含水、０．５５ｋｇ）を加え、水素加圧（０．１ＭＰａ）下、１時間撹拌した。触媒を濾過し、固体をメタノール（２５Ｌ）で洗浄した。ろ液を併せて、液温１０℃以下で３９Ｌまで減圧濃縮した。濃縮液にアセトニトリル（４４Ｌ）を加えて液温１０℃以下で３９Ｌまで置換濃縮する操作を２回行い、混合物を０℃に冷却して終夜撹拌した。析出結晶をろ取、アセトニトリル（２４Ｌ）で洗浄、真空乾燥して標題化合物を３．６３ｋｇ得た（収率８３％）。このものの機器データは参考例５の工程２のものと一致した。
【０１９４】
実施例３
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート  （ＶＩ−１）
実施例３ａ
【化６７】
2020007366.tif 000071
アセトニトリル（５１Ｌ）に、水（５１ｍＬ）、ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ヒドロキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート（Ｖ−１、３．５３ｋｇ、１０．２５１ｍｏｌ）、三酸化イオウ−ピリジン錯体（３．９５ｋｇ）、２，６−ルチジン（２．２１ｋｇ）を順次加え、３５〜４５℃で終夜撹拌した。混合物をろ過して不溶物を除き、固体をアセトニトリル（１１Ｌ）で洗浄、ろ液を併せて１７Ｌまで濃縮した。濃縮液を１０℃以下に冷却し、９％燐酸二水素ナトリウム水溶液（６０Ｌ）、酢酸エチル（１１３Ｌ）で分層し、有機層を再度９％燐酸二水素ナトリウム水溶液（１１Ｌ）で抽出した。得られた水層に酢酸エチル（１１３Ｌ）、３０％硫酸水素テトラブチルアンモニウムの水溶液（１２．８７ｋｇ）、３７％燐酸二水素ナトリウム水溶液（５６．５ｋｇ）を加え、１５分間撹拌した。有機層を分層し、２０％燐酸２水素ナトリウム水溶液（６０Ｌ）で洗浄、無水硫酸マグネシウム（２．５ｋｇ）にて乾燥、濾過後、減圧濃縮した。濃縮液中に析出した標題化合物の結晶は酢酸エチルで溶解して全液量を２０Ｌに調整し、標題化合物の酢酸エチル溶液３２．５５ｋｇを得た（正味６．２５ｋｇ、収率９２％）。本溶液はさらに精製することなく次工程に付した。
【０１９５】
実施例３ｂ  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート  （ＩＶ−１）からのワンポット合成
【化６８】
2020007366.tif 000072
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート  （ＩＶ−１、５１５ｍｇ、１．１６ｍｍｏｌ）のイソプロパノール（７ｍＬ）溶液に、水（５ｍＬ）、三酸化硫黄−トリメチルアミン錯体（１９６ｍｇ）、トリエチルアミン（０．０４０７ｍＬ）、１０％パラジウム炭素触媒（５３．３％含水、９５．０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、室温にて２時間撹拌した。１０％パラジウム炭素触媒（５３．３％含水、６３．５ｍｇ）を追加し、水素雰囲気下、室温にて３時間撹拌後、アルゴン置換し、室温にて１時間撹拌した。反応液の触媒をセライト濾過し、イソプロパノール／水（１／１、４０ｍＬ）で洗浄後、ミリポア濾過、イソプロパノール／水（１／１、１５ｍＬ）で洗浄、イソプロパノールを減圧留去した。得られた水溶液に燐酸二水素ナトリウム（５．２９ｇ）、酢酸エチル（２０ｍＬ）、硫酸水素テトラブチルアンモニウム（４７６ｍｇ）を加え、室温にて１０分間撹拌後、酢酸エチルにて２回抽出した。有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥、濾過、濃縮後、標題化合物７０２ｍｇを得た（収率９１％）。
【０１９６】
実施例３ｃ  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート  （ＩＶ−１）からの連続合成
【化６９】
2020007366.tif 000073
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート  （ＩＶ−１、５．０ｇ、１１．５１ｍｍｏｌ）のイソプロパノール（８０ｍＬ）溶液に、１０％パラジウム炭素触媒（５０％含水、０．５ｇ）を加え、水素雰囲気化２時間撹拌した。反応液の触媒をセライト濾過し、固体をイソプロパノール（１５ｍＬ）で洗浄、ろ液を併せ水（４７．５ｍＬ）、三酸化硫黄−トリメチルアミン錯体（１．８ｇ）、トリエチルアミン（０．２３７ｇ）を加え、２５〜３０℃で２４時間撹拌した。混合物を４７ｍＬまで減圧濃縮し、燐酸二水素ナトリウム（１１．８７ｇ）、酢酸エチル（２００ｍＬ）、硫酸水素テトラブチルアンモニウム（４．６８８ｇ）を加えて１０分間撹拌した。有機層を分層し、水層をさらに酢酸エチル（２ｘ１００ｍＬ）で抽出、有機相を併せて硫酸マグネシウムで乾燥、濾過した。ろ液の有機溶媒を減圧濃縮し、標題化合物の酢酸エチル溶液を得た（正味６．５２２ｇ、収率８５％）
【０１９７】
実施例４
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１―ＣＲ）
【化７０】
2020007366.tif 000074
実施例４ａ
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート（ＶＩ−１、７８８ｇ、正味４６７．１ｇ、０．７０１ｍｏｌ）のジクロロメタン（９３４ｍＬ）溶液を窒素気流下にて−２０℃に冷却し、トリフルオロ酢酸（９３４ｍＬ）を１５分間で滴下、０℃に昇温して１時間撹拌した。反応液を−２０℃に冷却しジイソプロピルエーテル（４．１７Ｌ）を滴下し、混合物を−６℃に昇温して１時間撹拌した。沈殿をろ過、ジイソプロピルエーテル（２ｘ１Ｌ）にて懸濁洗浄、湿固体を真空乾燥して標題化合物３４２．０８ｇを得た（正味２２２．３５ｇ、収率９８％、ＨＰＬＣエリア面積比９６．１％、ＣＥ／ＴＦＡ２７ｍｏｌ％）。
【０１９８】
実施例４ｂ
テトラブチルアンモニウム  ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝カーバメート（ＶＩ−１、酢酸エチル溶液１５．６０ｋｇ、正味２．９８ｋｇ）を冷却し液温０℃以下で９Ｌまで濃縮した。濃縮液にジクロロメタン（９Ｌ）を加え、窒素気流下で混合物を−２０℃に冷却した。混合物にトリフルオロ酢酸（１６．５Ｌ）を−５℃以下にて約１時間で滴下、−５〜０℃にて１時間撹拌した。反応液に０℃に冷却した酢酸エチルを７℃以下で分割添加し（４ｘ８．３Ｌ、２４．６Ｌ、合計５７．８Ｌ）、０℃で終夜撹拌した。沈殿をろ過、酢酸エチル（１３．５Ｌ、９Ｌ）にて懸濁洗浄、終夜真空乾燥して標題化合物１．７４ｋｇを得た（正味１．４３ｋｇ、収率９９％、ＨＰＬＣエリア面積比９９．１％、ＣＥ／ＴＦＡ１０ｍｏｌ％、ＧＣ／ＥｔＯＡｃ１４％）。
【０１９９】
実施例５
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）のＩ形結晶
実施例５ａ
０．５Ｍ  酢酸緩衝液（ｐＨ５．５、３５ｍＬ）を氷冷し、（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１―ＣＲ、３６ｇ）と冷却した５Ｍ  水酸化ナトリウム水溶液を交互に加えてｐＨを５．５に調整し、オクタデシルシリカゲルカラムクロマトグラフィー（３．６Ｌ）に付し、水で溶出した。活性フラクションを集め、水浴温度３５℃にて減圧濃縮し、析出した結晶を終夜真空乾燥した。得られた結晶２．１０ｇを粉砕した後、氷冷下にてイソプロパノール／水（１９／１、１３ｍＬ）を加え、０℃にて１時間撹拌した。懸濁液を濾過し、冷イソプロパノール／水（１９／１、８０ｍＬ）にて洗浄し、得られた結晶を真空ポンプして乾燥後、標題化合物１．６８ｇを得た（収率８０％）。ＤＳＣ吸熱ピーク  １１１℃。６０％イソプロパノール水溶液への溶解度；０．４４％（１０℃）、０．４８％（２０℃）。標題化合物は粉末Ｘ線回析図形において下記表４と図１に示すような特徴的なピークパターンを示した。なお、測定に際し粉末Ｘ線回析装置は株式会社リガクのＲＩＮＴ２１００を用い、Ｘ線源としてはＣｕＫα１、管電圧４０ｋＶ、管電流４０ｍＡ、スキャンスピード４°／ｍｉｎ、走査範囲は２θ＝３から４０°で測定した。
【０２００】
【表４】
2020007366.tif 000075
【０２０１】
実施例５ｂ
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１―ＣＲ、正味４．２５３ｇ）を０．２Ｍ  燐酸緩衝液（ｐＨ６．５、７３ｍＬ）に溶解しｐＨ５．５とし、水（２０ｍＬ）で希釈した。混合物を１３０ｍＬまで濃縮、レジン精製（ＳＰ２０７、２６０ｍＬ）に付し、水（２３８ｍＬ）、１０％イソプロパノール水溶液（７８０ｍＬ）にて溶出した。活性フラクションを集め、３０ｍＬまで減圧濃縮し、活性炭（精製白鷺、８７ｍｇ）を投入し室温にて３０分撹拌した。活性炭をメンブランフィルターでろ過、ろ液を凍結乾燥に付し、非晶質形態の（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）を４．０７ｇ得た（収率９５．７％）。本非晶質形態の化合物（０．２ｇ）を水（０．８ｍＬ）に溶解し、室温でイソプロパノール（１．２ｍＬ）を加え、Ｉ形結晶（実施例５ａ、１ｍｇ）を接種して撹拌子で３時間撹拌、析出結晶を濾過、乾燥し標題化合物０．１ｇを得た（収率５０％）。本結晶は粉末Ｘ線回析図形において実施例５ａの結晶と同様のピークパターンを示した。
【０２０２】
実施例５ｃ
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１―ＣＲ、正味２．１１３ｇ）と０．２Ｍ  燐酸緩衝液（ｐＨ６．５、７３ｍＬ）を交互に加えｐＨ４．６に調整し、水（２７ｍＬ）で希釈した。混合物を８０ｍＬまで減圧濃縮後、０．２Ｍ燐酸緩衝液（ｐＨ６．５、１６ｍＬ）でｐＨ５．４とし、水（４８ｍＬ）で希釈した。本混合物をレジン精製（ＳＰ２０７、２４０ｍＬ）に付し、水（２７６ｍＬ）、１０％イソプロパノール水溶液（７２０ｍＬ）にて溶出した。活性フラクションを集め、１２ｍＬまで減圧濃縮し、活性炭（精製白鷺、４０ｍｇ）を投入し室温にて３０分撹拌した。活性炭をメンブランフィルターでろ過、水で１４ｍＬに希釈した。水溶液にＩ形結晶（実施例５ｂ、６ｍｇ）を接種し、室温で撹拌子にて撹拌して得られた懸濁液にイソプロパノール（８４ｍＬ）を１時間かけて滴下した。滴下終了後、３時間撹拌、析出結晶を濾過、乾燥し標題化合物１．８３４ｇを得た（収率８６．８％）。水分：５．３７％，脱水物換算含量９５．３％，ＨＰＬＣエリア面積比９９．３％。本結晶は粉末Ｘ線回析図形において実施例５ａの結晶と同様のピークパターンを示した。
【０２０３】
実施例６
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）のＩＩ形結晶
実施例６ａ
０．２Ｍ  燐酸緩衝液（ｐＨ６．５、０．８Ｌ）を１０℃以下に冷却し、撹拌しながら（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１―ＣＲ、正味４９．９６ｇ）と冷却した０．２Ｍ  燐酸緩衝液（ｐＨ６．５）を交互に少量ずつ加えてｐＨが４．２〜５．５の間でｐＨを調整、最終的にｐＨ５．５に調整した。混合物を水で希釈（全量１．８Ｌ）、液温１８℃以下で１．６Ｌまで減圧濃縮した。濃縮液を水で１．８Ｌに希釈（ＨＰＬＣエリア面積比９６．７％）、レジン（セパビーズＳＰ２０７、３Ｌ）精製に付し、水（０．８３Ｌ）と１０％イソプロパノール水溶液で溶出して活性フラクションを集めた。活性フラクションを併せ（１．５Ｌ）、液温１５℃以下で０．５Ｌまで減圧濃縮し、活性炭（０．８８ｇ）を加えて３０分間撹拌した。活性炭をメンブランフィルターでろ過、水（０．０５Ｌｘ２）で洗浄した。ろ液を併せ液温１５℃以下で０．２Ｌまで減圧濃縮し、液温を１０〜１５℃に調整、混合物にイソプロパノール（０．２５Ｌ）を１０分間で滴下し、１時間撹拌後さらにイソプロパノール（０．６Ｌ）を１５分間で滴下した。混合物を１時間撹拌し析出した結晶をろ取、イソプロパノール（０．２Ｌ）で洗浄、湿結晶の品温が２０℃になるまで真空乾燥し標題化合物４４．６９ｇを得た（収率８５％、水分５．９％、ＨＰＬＣエリア面積比１００％）。ＤＳＣ吸熱ピーク  ９２℃。６０％イソプロパノール水溶液への溶解度；０．６７％（１０℃）、０．７４％（２０℃）。
【０２０４】
また、標題化合物は粉末Ｘ線回析図形において下記表５と図２に示すような特徴的なピークパターンを示した。なお、測定に際し粉末Ｘ線回析装置は株式会社リガクのＲＩＮＴ２１００を用い、Ｘ線源としてはＣｕＫα１、管電圧４０ｋＶ、管電流４０ｍＡ、スキャンスピード４°／ｍｉｎ、走査範囲は２θ＝３から４０°で測定した。
【０２０５】
【表５】
2020007366.tif 000076
【０２０６】
実施例６ｂ
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）のＩＩ形結晶の転移実験
実施例６ａの結晶懸濁液を少量取り、撹拌子により室温１日撹拌し、析出結晶を集め、粉末Ｘ線結晶回析に付したところ、他の結晶形への転移は観察されなかった。
【０２０７】
実施例７
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）のＩＩＩ形結晶
実施例７ａ
０．２Ｍ  燐酸緩衝液（ｐＨ６．５、３．０Ｌ）を１０℃以下に冷却し、撹拌しながら（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１―ＣＲ、正味１３３．３３４ｇ）と冷却した０．２Ｍ  燐酸緩衝液（ｐＨ６．５、１．８Ｌ）を交互に少量ずつ加えてｐＨが５．１〜５．５の間でｐＨを調整、最終的にｐＨ５．３に調整した。混合物を液温１８℃以下で３．６Ｌまで減圧濃縮した。濃縮液のｐＨを０．２Ｍ  燐酸緩衝液（ｐＨ６．５）でｐＨ５．５に調整し、水で４．８Ｌに希釈、レジン（セパビーズＳＰ２０７、７Ｌ）精製に付し、水（７．２Ｌ）と１０％イソプロパノール水溶液で溶出して活性フラクションを集めた。活性フラクションを併せ（３．１Ｌ）、液温１５℃以下で１．８Ｌまで減圧濃縮し、活性炭（２．６６ｇ）を加えて３０分間撹拌した。活性炭をメンブランフィルターでろ過、水（０．３９Ｌ）で洗浄した。ろ液を併せ液温１８℃以下で０．６Ｌまで減圧濃縮した。濃縮液の液温を２０〜２５℃に調整、イソプロパノール（０．７７Ｌ）を滴下後に、ＩＩ形結晶（実施例６ａ、０．６３ｇ）を接種し１時間撹拌した。混合物にさらにイソプロパノール（１．９３Ｌ）を１．５時間かけて滴下し、３０分間撹拌した。析出した結晶をろ取、イソプロパノール（１Ｌ）で洗浄、湿結晶の品温が２０℃になるまで真空乾燥しＩＩ形結晶を少量含む標題化合物１２７．３ｇを得た（収率９０％、水分５．３％、ＨＰＬＣエリア面積比９９．９％）。本工程で得られた結晶を種結晶とし同様の工程を実施、さらに得られた結晶を次回の種結晶とすることで粉末Ｘ線結晶回析で単一のＩＩＩ形結晶の標題化合物を得た。ＤＳＣ吸熱ピーク  １０２℃。６０％イソプロパノール水溶液への溶解度；０．７６％（１０℃）、０．８０％（２０℃）。
標題化合物は粉末Ｘ線回析図形において下記表６と図３に示すような特徴的なピークパターンを示した。なお、測定に際し粉末Ｘ線回析装置は株式会社リガクのＲＩＮＴ２１００を用い、Ｘ線源としてはＣｕＫα１、管電圧４０ｋＶ、管電流４０ｍＡ、スキャンスピード４°／ｍｉｎ、走査範囲は２θ＝３から４０°で測定した。
【０２０８】
【表６】
2020007366.tif 000077
【０２０９】
実施例７ｂ
０．２Ｍ燐酸緩衝液（ｐＨ６．５、７．２Ｌ）を１０℃以下に冷却し、撹拌しながら（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１―ＣＲ、正味１．２ｋｇ）と氷冷した０．２Ｍ  燐酸緩衝液（ｐＨ６．５、３．５Ｌ）を交互に少量ずつ加えてｐＨが４．２〜４．８の間でｐＨを調整、最終的にｐＨ４．６に調整した。混合物を水（１９．３Ｌ）で希釈（全量３０Ｌ）、液温１８℃以下で２４Ｌまで減圧濃縮した。濃縮液のｐＨを０．２Ｍ  燐酸緩衝液（ｐＨ６．５、２．４Ｌ）でｐＨ５．４に調整し（ＨＰＬＣエリア面積比９８．５％）、水で４３．２Ｌに希釈、レジン（セパビーズＳＰ２０７、７５Ｌ）精製に付し、水（８３Ｌ）と１０％イソプロパノール水溶液で溶出して活性フラクションを集めた。活性フラクションを併せ（３３Ｌ）、液温１５℃以下で７．２Ｌまで濃縮し、活性炭（２４ｇ）を加えて３０分間撹拌した。活性炭をメンブランフィルターでろ過、水（０．４Ｌｘ２）で洗浄した。ろ液を併せ、液温を２０〜２５℃に調整、ＩＩＩ形結晶（実施例７ａ、３．６ｇ）を接種した。混合物にイソプロパノール（５０．４Ｌ）を１時間かけて滴下し、終夜撹拌した。析出した結晶をろ取、イソプロパノール（４．８Ｌ）で洗浄、湿結晶の品温が２０℃になるまで真空乾燥し標題化合物１．１７ｋｇを得た（収率９０％、水分５．３％、ＨＰＬＣエリア面積比１００％）。本結晶は粉末Ｘ線回析図形において実施例７ａの結晶と同様のピークパターンを示した。
【０２１０】
実施例７ｃ
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）のＩＩＩ形結晶の転移実験
実施例７ａの工程にて、接種直後とイソプロパノール滴下後の懸濁液を少量取り、それぞれ撹拌子により室温１日、４日撹拌し、析出結晶を集め、粉末Ｘ線結晶回析に付したところ、他の結晶形への転移は観察されなかった。
【０２１１】
実施例７ｄ
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）のＩＩＩ形結晶のＸＲＤ−ＤＳＣ実験
実施例７ａのＩＩＩ形結晶の加熱による結晶相の変化をＸＲＤ−ＤＳＣにて観察した。加熱、冷却条件は、６０％ＲＨ一定、昇降温速度２℃／ｍｉｎにて室温から１６０℃まで昇温し、６３℃まで冷却し、継時的に試料のＤＳＣとＸＲＤを測定した。なお、測定に際し粉末Ｘ線回析装置は株式会社リガクのＳｍａｒｔＬａｂとＸＲＤ−ＤＳＣを用い、Ｘ線源としてはＣｕＫα１、管電圧４５ｋＶ、管電流２００ｍＡ、スキャンスピード８０°／ｍｉｎ、走査範囲は２θ＝５から３５°で測定した。
【０２１２】
実施例８
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）のＩＶ形結晶
実施例８ａ
実施例７ａのＩＩＩ形結晶０．２０ｇを水２ｍＬに溶解させ、撹拌しながらメタノール（３０ｍＬ）を滴下し、２０−２５℃で終夜静置した。混合物をろ過し、メタノール（２ｘ２ｍＬ）で洗浄、室温で終夜真空乾燥して標題化合物０．１３ｇを得た（収率６８％）。
標題化合物は粉末Ｘ線回析図形において下記表７と図４に示すような特徴的なピークパターンを示した。なお、測定に際し粉末Ｘ線回析装置は株式会社リガクのＲＩＮＴ２１００を用い、Ｘ線源としてはＣｕＫα１、管電圧４０ｋＶ、管電流４０ｍＡ、スキャンスピード４°／ｍｉｎ、走査範囲は２θ＝３から４０°で測定した。
【０２１３】
【表７】
2020007366.tif 000078
【０２１４】
実施例８ｂ
実施例７ａのＩＩＩ形結晶２５ｇにメタノール（２００ｍＬ）を加え、２０−２５℃で３．５時間撹拌した。混合物をろ過し、メタノール（２ｘ２０ｍＬ）で洗浄、室温で終夜真空乾燥して標題化合物２３ｇを得た（収率９９％）。本結晶は粉末Ｘ線回析図形において実施例８ａの結晶と同様のピークパターンを示した。
【０２１５】
実施例８ｃ
実施例７ａのＩＩＩ形結晶２５ｇにエタノール（２００ｍＬ）を加え、２０−２５℃で３．５時間撹拌した。混合物をろ過し、エタノール（２ｘ２０ｍＬ）で洗浄、室温で終夜真空乾燥して標題化合物２３ｇを得た（収率９９％）。本結晶は粉末Ｘ線回析図形において実施例８ａの結晶と同様のピークパターンを示した。
【０２１６】
実施例８ｄ
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）のＩＶ形結晶の転移実験
実施例８ａ〜ｃのＩＶ形結晶を取り、イソプロパノール／水（６／１）を加え２５℃または４０℃で１週間まで懸濁撹拌した。１２時間後、２４時間後（１日）、４８時間後（２日）、７２時間後（３日）、９６時間後（４日）及び１６８時間後（１週間）にサンプルを取り、通気乾燥後に粉末Ｘ線回折に付したところ、いずれの撹拌時間においても他の結晶形への転移は観察されなかった。
【０２１７】
実施例９ａ
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）のＩ〜ＩＶ形結晶の安定性評価
実施例７ａのＩＩＩ形結晶を水に溶解し凍結乾燥に付し、非晶体の（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）を得た。また、本非晶体の化合物と実施例５〜８のＩ〜ＩＶ形結晶をそれぞれスクリュウ管に量り、各温湿度条件下安定性試験を実施した。類縁物質、含量、水分測定法は以下のとおりである。結果を表９に示す。
【０２１８】
類縁物質及び含量測定
被験物質を水に溶かして試料溶液とする。試料溶液５μＬにつき，次の条件でＪＰ１６液体クロマトグラフィー＜2.01＞により試験を行い、個々の類縁物質の量（％）と類縁物質総量（％）及び含量を求める。
【０２１９】
試験条件
カラム：Ｗａｔｅｒｓ  Ａｔｌａｎｔｉｓ  ｄｃ１８、５μｍ，４．６×２５０ｍｍ
カラム温度：３５℃付近の一定温度
注入量：５μＬ
検出器：紫外吸光光度計（測定波長：２１０ｎｍ）
移動相Ａ：リン酸水素二アンモニウム１．３２ｇを水９００ｍＬに溶かし，リン酸を加えてｐＨ３．０に調整した後，水を加えて１０００ｍＬとする。
移動相Ｂ：液体クロマトグラフィー用アセトニトリル
勾配プログラム：移動相Ａ及び移動相Ｂの混合比を次のように変えて制御する。
【表８】
2020007366.tif 000079
流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
保持時間：約６．５ｍｉｎ
測定時間：３０ｍｉｎ
【０２２０】
水分測定
本品約２０ｍｇを精密に量り，ＪＰ１６  水分測定法＜2.48＞  電量滴定法により試験を行う。
【０２２１】
【表９】
2020007366.tif 000080
【０２２２】
実施例９ｂ
（２Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−（２−アミノエトキシ）−７−オキソ−６−（スルホオキシ）−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキサミド  （ＶＩＩ−１）のＩＩＩ形結晶の包装容器での安定性評価
ＩＩＩ形結晶を下記条件にて包装し、実施例９ａの分析条件にて、各温湿度条件下安定性試験を実施した。結果を表１０〜１２に示す。
包装容器
内装：一重低密度ポリエチレン・ナイロン製結束バンド
外装：一重アルミラミネート袋・ヒートシール
【０２２３】
【表１０】
2020007366.tif 000081
【０２２４】
【表１１】
2020007366.tif 000082
【０２２５】
【表１２】
2020007366.tif 000083
【０２２６】
実施例１０
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛２−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］エチル｝（メチル）カーバメート  （ＩＶ−２）
【化７１】
2020007366.tif 000084
（１Ｒ，２Ｓ，６Ｒ，７Ｓ）−３，５−ジオキソ−４−アザトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−８−エン−４−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート（参考例４、１４４ｍｇ、０．３２９ｍｍｏｌ）を脱水ジクロロメタン（２．５ｍＬ）に溶解し、ｔｅｒｔ−ブチル  （２−（アミノオキシ）エチル）（メチル）カーバメート（８８．８ｍｇ）の脱水ジクロロメタン（０．５ｍＬ）溶液を加え、室温で１８時間撹拌した。反応液を酢酸エチル（１０ｍＬ）で希釈、０．２５Ｍ  塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過、減圧濃縮して、標題化合物１３２ｍｇを得た（収率８９％）。このものの機器データは参考例６の工程１のものと一致した。
【０２２７】
実施例１１
ｔｅｒｔ−ブチル  ｛３−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］プロピル｝カーバメート  （ＩＶ−７）
【化７２】
2020007366.tif 000085
（１Ｒ，２Ｓ，６Ｒ，７Ｓ）−３，５−ジオキソ−４−アザトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−８−エン−４−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート（参考例４、１４８ｍｇ、０．３３９ｍｍｏｌ）を脱水ジクロロメタン（２．５ｍＬ）に溶解し、ｔｅｒｔ−ブチル  ３−（アミノオキシ）プロピルカーバメート（９０．９ｍｇ）の脱水ジクロロメタン（０．５ｍＬ）溶液を加え、室温で１８時間撹拌した。反応液を酢酸エチル（１０ｍＬ）で希釈、０．２５Ｍ  塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過、減圧濃縮して、標題化合物１３４ｍｇを得た（収率８８％）。このものの機器データは参考例１１の工程１のものと一致した。
【０２２８】
実施例１２
ｔｅｒｔ−ブチル  （２Ｓ）−２−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝アゼチジン−１−カルボキシレート  （ＩＶ−８）
【化７３】
2020007366.tif 000086
（１Ｒ，２Ｓ，６Ｒ，７Ｓ）−３，５−ジオキソ−４−アザトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−８−エン−４−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート（参考例４、１４５ｍｇ、０．３３１ｍｍｏｌ）を脱水ジクロロメタン（２．５ｍＬ）に溶解し、（Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブチル  ２−（（アミノオキシ）メチル）アゼチジン−１−カルボキシレート（９３．２ｍｇ）の脱水ジクロロメタン（０．５ｍＬ）溶液を加え、室温で２１時間撹拌した。反応液を酢酸エチル（１０ｍＬ）で希釈、０．２５Ｍ  塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過、減圧濃縮して、標題化合物１２７ｍｇを得た（収率８３％）。このものの機器データは参考例１２の工程１のものと一致した。
【０２２９】
実施例１３
ｔｅｒｔ−ブチル  （３Ｓ）−３−［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］ピロリジン−１−カルボキシレート  （ＩＶ−１１）
【化７４】
2020007366.tif 000087
（１Ｒ，２Ｓ，６Ｒ，７Ｓ）−３，５−ジオキソ−４−アザトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−８−エン−４−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート（参考例４、１４５ｍｇ、０．３３２ｍｍｏｌ）を脱水ジクロロメタン（２．５ｍＬ）に溶解し、（Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブチル  ３−（アミノオキシ）ピロリジン−１−カルボキシレート（９１．６ｍｇ）の脱水ジクロロメタン（０．５ｍＬ）溶液を加え、室温で１９時間撹拌した。反応液を酢酸エチル（１０ｍＬ）で希釈、０．２５Ｍ  塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過、減圧濃縮して、標題化合物１４５ｍｇを得た（収率９５％）。このものの機器データは参考例１５の工程１のものと一致した。
【０２３０】
実施例１４
ｔｅｒｔ−ブチル  ３−｛［（｛［（２Ｓ，５Ｒ）−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクト−２−イル］カルボニル｝アミノ）オキシ］メチル｝アゼチジン−１−カルボキシレート  （ＩＶ−１２）
【化７５】
2020007366.tif 000088
（１Ｒ，２Ｓ，６Ｒ，７Ｓ）−３，５−ジオキソ−４−アザトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−８−エン−４−イル  （２Ｓ，５Ｒ）−６−（ベンジルオキシ）−７−オキソ−１，６−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート（実施例４、１４０ｍｇ、０．３２０ｍｍｏｌ）を脱水ジクロロメタン（２．５ｍＬ）に溶解し、ｔｅｒｔ−ブチル  ３−（（アミノオキシ）メチル）アゼチジン−１−カルボキシレート（９１．５ｍｇ）の脱水ジクロロメタン（０．５ｍＬ）溶液を加え、室温で２０時間撹拌した。反応液を酢酸エチル（１０ｍＬ）で希釈、０．２５Ｍ  塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過、減圧濃縮して、標題化合物１３２ｍｇを得た（収率９０％）。このものの機器データは参考例１６の工程１のものと一致した。
【図１】
2020007366.tif 000120
【図２】
2020007366.tif 000121
【図３】
2020007366.tif 000122
【図４】
2020007366.tif 000123
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月18日(2019.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（ＶＩＩ−ＣＲ）：
【化８７】
2020007366.tif 000124
で示される粗の化合物と氷冷した緩衝液を交互に加えてｐＨ４〜５．５の溶液とし、必要に応じて合成吸着剤による脱塩後に濃縮し、温度調節後に必要に応じて接種、メタノール、エタノール、およびイソプロパノールから選択される貧溶媒を加えて、結晶化することによる下記式（ＶＩＩ）：
【化８８】
2020007366.tif 000125
（上記各式中、Ｒ3はＣ１−６アルキルまたはヘテロシクリルを示す。Ｒ３は０から５個のＲ４で修飾されていても良く、Ｒ３を修飾しているＲ４は、Ｒ４でさらに修飾されてもよい。ここでＲ４はＣ１−６アルキル、ヘテロシクリル、Ｒ５（Ｒ６）Ｎ−、または保護基である。また、Ｒ５とＲ６は各々独立して水素またはＣ１−６アルキルを示すか、あるいは一緒になってヘテロシクリルを形成する。さらに、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６は任意の位置で閉環することができる。保護基は、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、トリメチルシリルエトキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、またはジフェニルメトキシカルボニルである）
で示される化合物の製造法。
【請求項２】
式（ＶＩＩ−ＣＲ）、（ＶＩＩ）にてＲ３が、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）エチル、
２−アミノエチル、
２−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）（メチル）アミノ）エチル、
２−（メチルアミノ）エチル、
２−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）（イソプロピル）アミノ）エチル、
２−（イソプロピルアミノ）エチル、
２−（ジメチルアミノ）エチル、
（２Ｓ）−２−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ）プロピル、
（２Ｓ）−２−（アミノ）プロピル、
（２Ｒ）−２−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ）プロピル、
（２Ｒ）−２−（アミノ）プロピル、
３−（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ）プロピル、
３−（アミノ）プロピル、
（２Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアゼチジン−２−イルメチル、
（２Ｓ）−アゼチジン−２−イルメチル、
（２Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピロリジン−２−イルメチル
（２Ｒ）−ピロリジン−２−イルメチル
（３Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピペリジン−３−イルメチル、
（３Ｒ）−ピペリジン−３−イルメチル、
（３Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルピロリジン−３−イル、
（３Ｓ）−ピロリジン−３−イル、
１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アゼチジン−３−イル、
アゼチジン−３−イル、
から選ばれる化合物の請求項１記載の製造法。
【請求項３】
下記式（ＶＩＩ−１−ＣＲ）：
【化１００】
2020007366.tif 000126
で示される粗の化合物と氷冷した燐酸緩衝液を交互に加えてｐＨ４〜５．５の溶液とし、必要に応じて合成吸着剤による脱塩後に濃縮し、温度調節後に必要に応じて接種、イソプロパノールを加えて結晶化することによる下記式（ＶＩＩ−１）：
【化１０１】
2020007366.tif 000127
で示される化合物の製造法。
【請求項４】
粉末Ｘ線回析図形において面間隔（ｄ）７．３４、５．６６、５．５３、５．３０、５．０２、４．６６、４．３７、４．２８、４．０６、３．６８、３．６２、３．４７、３．３６、３．３０、３．１６、３．１１、３．０３、２．９９、及び２．５０Åに特徴的なピークを有する式（ＶＩＩ−１）：
【化１０２】
2020007366.tif 000128
で示される化合物のＩ形結晶。
【請求項５】
式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の溶液を２０〜２５℃に温度調節し、Ｉ形結晶を接種、撹拌後にさらにイソプロパノールを加えることによる、請求項４記載のＩ形結晶の製造法。
【請求項６】
請求項４記載のＩ形結晶と医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物。
【請求項７】
請求項４記載のＩ形結晶と、アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物。
【請求項８】
粉末Ｘ線回析図形において面間隔（ｄ）９．４６、５．６２、５．２３、５．１０、５．００、４．９１、４．６７、４．４５、４．２９、３．９６、３．７８、３．７１、３．５２、３．２４、３．１８、３．１０、３．０２、２．８８、２．８１、２．７７、２．６７、２．５０、及び２．４５Åに特徴的なピークを有する式（ＶＩＩ−１）：
【化１０３】
2020007366.tif 000129
で示される化合物のＩＩ形結晶。
【請求項９】
式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の溶液を１０〜１５℃に温度調節し、イソプロパノールを加えて撹拌することによる、請求項８記載のＩＩ形結晶の製造法。
【請求項１０】
請求項８記載のＩＩ形結晶と医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物。
【請求項１１】
請求項８記載のＩＩ形結晶と、アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物。
【請求項１２】
粉末Ｘ線回析図形において面間隔（ｄ）８．３２、６．１０、５．９８、５．５１、５．１６、５．０７、４．８５、４．７０、４．６１、４．３５、４．２０、４．０６、４．００、３．９５、３．７７、３．７３、３．６５、３．４２、３．３９、３．３６、３．２６、３．２３、３．１３、３．０９、２．９９、２．８１、及び２．５２Åに特徴的なピークを有する式（ＶＩＩ−１）：
【化１０４】
2020007366.tif 000130
で示される化合物のＩＩＩ形結晶。
【請求項１３】
式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の溶液を２０〜２５℃に温度調節し、ＩＩＩ形結晶を接種、イソプロパノールを加えて撹拌することによる、請求項１２記載のＩＩＩ形結晶の製造法。
【請求項１４】
請求項１２記載のＩＩＩ形結晶と医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物。
【請求項１５】
請求項１２記載のＩＩＩ形結晶と、アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物。
【請求項１６】
粉末Ｘ線回析図形において面間隔（ｄ）７．８８、６．４１、５．２０、４．６７、４．５０、４．０２、３．８１、３．７５、３．７０、３．６２、３．３８、３．２３、３．２０、及び２．７４Åに特徴的なピークを有する式（ＶＩＩ−１）：
【化１０５】
2020007366.tif 000131
で示される化合物のＩＶ形結晶。
【請求項１７】
式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の溶液を２０〜２５℃に温度調節し、メタノールを加えて撹拌することによる、請求項１６記載のＩＶ形結晶の製造法。
【請求項１８】
請求項４、８、または１２記載のＩ、ＩＩ、またはＩＩＩ形結晶を、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール中で撹拌することによる、請求項１６記載のＩＶ形結晶の製造法。
【請求項１９】
請求項１６記載のＩＶ形結晶と医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物。
【請求項２０】
請求項１６記載のＩＶ形結晶と、アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物。
【請求項２１】
請求項４記載のＩ形結晶、請求項８記載のＩＩ形結晶、請求項１２記載のＩＩＩ形結晶、及び請求項１６記載のＩＶ形結晶の混合物と医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物。
【請求項２２】
請求項４記載のＩ形結晶、請求項８記載のＩＩ形結晶、請求項１２記載のＩＩＩ形結晶、及び請求項１６記載のＩＶ形結晶の混合物と、アンピシリン、アモキシシリン、ピペラシリン、チカルシリン、フロモキセフ、セフォタキシム、セフトリアキソン、セフタジジム、セフェピム、セフタロリン、セフトロザン、イミペネム、メロペネム、ビアペネム、ドリペネム、エルタペネム、アズトレオナムからなる群より選択されるβ−ラクタム系抗生物質と、医学的に許容される担体を含んでなる医薬組成物。