(57)【要約】【課題】保持テーブルにおいて、接着剤の劣化に起因した破損を防止する。【解決手段】被加工物を保持する保持テーブル３であって、被加工物を保持する保持面３０ａを含む多孔質材からなる保持部３０と、保持部３０を収容する凹部３１０が形成されるとともに一端が保持部３０に連通し他端が吸引源３９に接続された吸引路３１１が形成された枠体３１と、を備え、枠体３１には凹部３１０の外周側の底にねじ穴３１５が形成され、保持部３０は枠体３１にねじ３４で固定され、保持面３０ａは被加工物によって覆われるサイズに設定された、保持テーブル３。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物を保持する保持テーブルであって、
該被加工物を保持する保持面を含む多孔質材からなる保持部と、
該保持部を収容する凹部が形成されるとともに一端が該保持部に連通し他端が吸引源に接続された吸引路が形成された枠体と、を備え、
該枠体には該凹部の外周側の底にねじ穴が形成され、該保持部は該枠体にねじで固定され、該保持面は該被加工物によって覆われるサイズに設定された、保持テーブル。
【請求項２】
前記被加工物は、ワークと、ワークの裏面に貼着されたテープと、該テープの外周が貼着された環状フレームと、からなる、請求項１に記載の保持テーブル。
【請求項３】
前記多孔質材は樹脂からなる、請求項１または２に記載の保持テーブル。
【請求項４】
被加工物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルを回転させる回転手段と、該保持テーブルで保持された該被加工物に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、を備えた洗浄装置であって、
該保持テーブルは、該被加工物を保持する保持面を含む多孔質材からなる保持部と、
該保持部を収容する凹部が形成されるとともに一端が該保持部に連通し他端が吸引源に接続された吸引路が形成された枠体と、を備え、
該枠体には該凹部の外周側の底にねじ穴が形成され、該保持部は該枠体にねじで固定され、該保持面は該被加工物によって覆われるサイズに設定された、洗浄装置。
【請求項５】
前記被加工物は、ワークと、ワークが貼着されたテープと、該テープの外周が貼着された環状フレームと、からなる、請求項４に記載の洗浄装置。
【請求項６】
前記保持部を構成する前記多孔質材は樹脂からなる、請求項４または５に記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被加工物を保持する保持テーブル及び保持テーブルで保持された被加工物を洗浄する洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体ウェーハ等の被加工物を保持する保持テーブル（例えば、特許文献１参照）は、吸引源に連通する吸引路を形成した金属からなる枠体にアルミナからなり板状に形成された多孔質材を接着剤で貼り合わせて製造していた。
または、従来の保持テーブルは、吸引源が生み出す吸引力で枠体上に多孔質材をバキューム固定する構成となっていた（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−０６２４７６号公報
【特許文献２】特開２０１４−１４３２９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上記特許文献に記載されているような保持テーブルにおいては、接着剤の劣化によって多孔質材が浮いてきたり剥離したりする等の不具合が生じることがあった。また、被加工物を吸引保持した後にリリースする際のエアブローによって多孔質材が浮いて落下して割れることもあった。
よって保持テーブルにおいては、接着剤の劣化等に起因した保持テーブルの破損を防止するという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するための本発明は、被加工物を保持する保持テーブルであって、該被加工物を保持する保持面を含む多孔質材からなる保持部と、該保持部を収容する凹部が形成されるとともに一端が該保持部に連通し他端が吸引源に接続された吸引路が形成された枠体と、を備え、該枠体には該凹部の外周側の底にねじ穴が形成され、該保持部は該枠体にねじで固定され、該保持面は該被加工物によって覆われるサイズに設定された、保持テーブルである。
【０００６】
前記保持テーブルで保持される前記被加工物は、ワークと、ワークの裏面に貼着されたテープと、該テープの外周が貼着された環状フレームと、からなると好ましい。
【０００７】
前記保持テーブルの前記多孔質材は樹脂からなると好ましい。
【０００８】
また、上記課題を解決するための本発明は、被加工物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルを回転させる回転手段と、該保持テーブルで保持された該被加工物に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、を備えた洗浄装置であって、該保持テーブルは、該被加工物を保持する保持面を含む多孔質材からなる保持部と、該保持部を収容する凹部が形成されるとともに一端が該保持部に連通し他端が吸引源に接続された吸引路が形成された枠体と、を備え、該枠体には該凹部の外周側の底にねじ穴が形成され、該保持部は該枠体にねじで固定され、該保持面は該被加工物によって覆われるサイズに設定された、洗浄装置である。
【０００９】
前記洗浄装置の前記保持テーブルで保持される被加工物は、ワークと、ワークが貼着されたテープと、該テープの外周が貼着された環状フレームと、からなると好ましい。
【００１０】
前記洗浄装置の前記保持テーブルの前記保持部を構成する前記多孔質材は樹脂からなると好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る保持テーブルは、被加工物を保持する保持面を含む多孔質材からなる保持部と、保持部を収容する凹部が形成されるとともに一端が保持部に連通し他端が吸引源に接続された吸引路が形成された枠体と、を備え、枠体には凹部の外周側の底にねじ穴が形成され、保持部は枠体にねじで固定され、保持面は被加工物によって覆われるサイズに設定されているため、接着剤を使用せずに多孔質材からなる保持部を枠体にねじ止めすることで、接着剤の劣化に起因した保持テーブルの破損を防止できる。
【００１２】
保持テーブルで保持される被加工物は、ワークと、ワークが貼着されたテープと、テープの外周が貼着された環状フレームと、からなることで、ワークが保持面よりも小さいサイズであっても、保持テーブルはテープと環状フレームとによってバキュームリーク無く被加工物を吸引保持することが可能となる。
【００１３】
保持テーブルの多孔質材を樹脂からなるものとすることで、ねじ止めを行う際に多孔質材が変形してくれることで、多少ねじの締め付けを強くしても保持部が破損しないようになる。
【００１４】
本発明に係る洗浄装置は、被加工物を保持する保持テーブルと、保持テーブルを回転させる回転手段と、保持テーブルで保持された被加工物に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、を備えた洗浄装置であって、保持テーブルは、被加工物を保持する保持面を含む多孔質材からなる保持部と、保持部を収容する凹部が形成されるとともに一端が保持部に連通し他端が吸引源に接続された吸引路が形成された枠体と、を備え、枠体には凹部の外周側の底にねじ穴が形成され、保持部は枠体にねじで固定され、保持面は被加工物によって覆われるサイズに設定されているため、接着剤を使用せずに多孔質材からなる保持部を枠体にねじ止めすることで、洗浄液等を要因とする接着剤の劣化に起因した保持テーブルの破損を防止できる。
【００１５】
洗浄装置の保持テーブルで保持される被加工物は、ワークと、ワークが貼着されたテープと、テープの外周が貼着された環状フレームと、からなることで、ワークが保持面よりも小さいサイズであっても、保持テーブルはテープと環状フレームとによってバキュームリーク無く被加工物を吸引保持することが可能となる。
【００１６】
本発明に係る洗浄装置においては、保持テーブルの多孔質材を樹脂からなるものとすることで、ねじ止めを行う際に多孔質材が変形してくれることで、多少ねじの締め付けを強くしても保持部が破損しないようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】保持テーブルの一例を示す斜視図である。
【図２】保持テーブルの各構成の一例を示す分解断面図である。
【図３】保持部が枠体にねじで固定されている状態を示す部分的な断面図である。
【図４】保持テーブルの一例を示す断面図である。
【図５】保持テーブルで被加工物を吸引保持している状態を示す断面図である。
【図６】洗浄装置の一例を示す斜視図である。
【図７】洗浄装置の保持テーブルに被加工物を載置している状態を示す断面図である。
【図８】洗浄装置の保持テーブルで被加工物が吸引保持された状態を示す断面図である。
【図９】洗浄装置で被加工物を洗浄している状態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１、２に示す保持テーブル３は、例えば、その外形が円形状であり、半導体ウェーハ等の被加工物を保持する保持面３０ａを含む多孔質材からなる保持部３０と、保持部３０を収容する凹部３１０が形成されるとともに一端が保持部３０に連通し他端が吸引源３９に接続された吸引路３１１が形成された枠体３１と、を備えている。
【００１９】
図２に示すように、例えばＳＵＳ等の金属又はアルミナ等の硬質セラミックからなる枠体３１は、円形板状の外形を備えており、その上面が円形に切り欠かれて凹部３１０が形成されている。そして、凹部３１０の底面には、吸引溝３１２が形成されている。吸引溝３１２は、凹部３１０の底面に凹状に形成され、保持テーブル３の回転中心を中心とする同心円状に形成された複数の円環状の環状吸引溝と、保持テーブル３の周方向に均等に環状吸引溝同士を連結するように放射状に形成された連結溝とを備える。なお、吸引溝３１２の構成は上記例に限定されるものではない。
【００２０】
図２に示すように、各吸引溝３１２の底には、複数の吸引路３１１が形成されており、該複数の吸引路３１１は、例えば、枠体３１内で合流した後に枠体３１の底を抜けて、保持テーブル３外に配設された配管３９０（金属パイプ又は、可撓性を有するチューブ等）を介して真空発生装置等の吸引源３９に連通している。
枠体３１には凹部３１０の外周側の底にねじ穴３１５が周方向に均等間隔を空けて複数（例えば８つ）形成されている。
【００２１】
多孔質材からなる保持部３０は、本実施形態においては、多孔質材として樹脂（例えば、多孔質ポリテトラフルオロエチレン）を用いている。なお、保持部３０は、他の多孔質性を備える樹脂でもよいし、多孔質のセラミックス等であってもよい。保持部３０は、円形板状に形成されており、例えば、その直径が凹部３１０に嵌合する大きさに設定されている。
【００２２】
例えば、保持部３０には、枠体３１の凹部３１０の外周側の底のねじ穴３１５に対応する８つの係合部３０２が周方向に均等間隔を空けて形成されている。保持部３０の外周縁を平面視略半円状に切り欠いてなる係合部３０２は、図２に示す段付きねじ３４に係合する段差を備えた形状をしている。段付きねじ３４は、ねじを切ってない円柱部３４０がねじの呼び径よりも大きいものである。
なお、係合部３０２は、保持部３０の外周縁全周に段差を備えるように円環状に切り欠いて形成したものであってもよい。
【００２３】
図２に示す保持部３０の下面を枠体３１の凹部３１０の底に接触させ、各係合部３０２と各ねじ穴３１５とを重ね合わせて、段付きねじ３４を各ねじ穴３１５に螺合させ締め付けることにより、図３に示すように、段付きねじ３４の円柱部３４０の下面が凹部３１０の底に当接し、かつ、段付きねじ３４のヘッド部３４１の下面が係合部３０２の段差面を上から押さえつけることで、保持部３０が枠体３１に固定された状態になる。そして、図１、４に示すように、保持部３０の露出した上面が保持面３０ａとなる。なお、図３、４に示すように、段付きねじ３４のヘッド部３４１の上面の高さが、保持部３０の保持面３０ａの高さと同じ又は保持面３０ａよりも低くなる。
【００２４】
本実施形態のように保持部３０が樹脂からなる場合には、段付きねじ３４による保持部３０のねじ止め固定の際に保持部３０が変形してくれるため、多少締め付けを強くしても保持部３０が破損しない。保持部３０がセラミックスからなる場合は、樹脂からなるワッシャーを、段付きねじ３４のヘッド部３４１の下面と係合部３０２の段差面との間に噛ませてねじ止めすると好ましい。
【００２５】
以下に、図１、５に示す保持テーブル３により被加工物である図５に示すウェーハＷ１を吸引保持する場合について説明する。ウェーハＷ１は、例えば、円形の半導体ウェーハである。なお、被加工物は、ウェーハＷ１がウェーハＷ１に貼着されたテープとテープに貼着された環状フレームとで支持されたワークセットであってもよい。図５に示すように、保持テーブル３の保持面３０ａは被加工物によって覆われるサイズに設定されている。即ち、保持面３０ａの直径は、ウェーハＷ１の直径以下に設定されており、枠体３１の直径は、ウェーハＷ１の直径以上に設定されている。
【００２６】
図５に示すように、保持テーブル３の中心とウェーハＷ１の中心とが略合致するようにして、ウェーハＷ１が保持部３０の保持面３０ａと枠体３１の環状の上面とに跨って載置される。図５に示すように、配管３９０上には例えばソレノイドバルブ３９１が配設されており、ソレノイドバルブ３９１が開かれた状態で吸引源３９が作動することで、吸引源３９が生み出す吸引力が配管３９０、吸引路３１１、及び吸引溝３１２を通り保持部３０の保持面３０ａに伝達され、保持テーブル３は保持面３０ａ上でウェーハＷ１を吸引保持する。
【００２７】
本発明に係る保持テーブル３は、ウェーハＷ１を保持する保持面３０ａを含む多孔質材からなる保持部３０と、保持部３０を収容する凹部３１０が形成されるとともに一端が保持部３０に連通し他端が吸引源３９に接続された吸引路３１１が形成された枠体３１と、を備え、枠体３１には凹部３１０の外周側の底にねじ穴３１５が形成され、保持部３０は枠体３１に段付きねじ３４で固定され、保持面３０ａはウェーハＷ１によって覆われるサイズに設定されているため、接着剤を使用せずに多孔質材からなる保持部３０を枠体３１にねじ止めすることで、従来の接着剤の劣化に起因した保持部３０の剥がれ等による破損を防止できる。
【００２８】
例えば、図５に示す配管３９０には、圧縮エアを供給可能な図示しないエア源が接続されていてもよい。即ち、配管３９０には、例えば図示しない切換弁が配設されており、切換弁の切り換え動作により、配管３９０と吸引源３９とが繋がった状態と配管３９０とエア源とが繋がった状態とを切り換え可能となっている。エア源は、保持テーブル３により吸引保持されているウェーハＷ１を、保持面３０ａから離脱させる際に用いられる。即ち、エア源から配管３９０に供給されたエアは、配管３９０、吸引路３１１、及び吸引溝３１２を通り保持部３０に到り、保持面３０ａから上方に向かって噴出する。このエアの噴出圧力でウェーハＷ１を保持面３０ａから押し上げ、保持面３０ａとウェーハＷ１との間に残存する真空吸着力（吸引源３９による吸引を止めた後に残る真空吸着力）を排除し、ウェーハＷ１を保持テーブル３から確実に離脱可能とする。
【００２９】
このように、ウェーハＷ１を保持テーブル３から離脱させる際にエアブローを行う場合、吸引源が生み出す吸引力で枠体上に多孔質材をバキューム固定する従来の構成の保持テーブルでは、エアブローにより多孔質材が浮き上がって落下して破損する可能性があった。一方、本発明に係る保持テーブル３は、保持部３０を枠体３１にねじ止めしていることで、エアブローによる保持部３０の落下に伴う破損を防ぐことができる。
【００３０】
図６に示す洗浄装置１は、例えば、被加工物ＷＳを保持する先に説明した保持テーブル３と、保持テーブル３を回転させる回転手段４と、上端側に円形の開口を備えた有底円筒状のケーシング５と、保持テーブル３で保持された被加工物ＷＳに洗浄液を供給する洗浄液供給手段６を備えている。
【００３１】
図６に示すワークＷは、例えば、円形の半導体ウェーハであり、ワークＷの表面Ｗａ上には、分割予定ラインＳによって区画された格子状の領域にデバイスＤが形成されている。ワークＷは、その裏面ＷｂにテープＴが貼着された状態になっている。また、テープＴの外周部分は環状フレームＦに貼着されている。これにより、ワークＷがテープＴを介して環状フレームＦに支持されハンドリング可能な被加工物ＷＳとなっている。図７，８に示すように、保持面３０ａは被加工物ＷＳによって覆われるサイズに設定されている。即ち、保持部３０の直径は、例えばテープＴの直径以下に設定されており、枠体３１の直径は、テープＴの直径以上に設定されている。
【００３２】
さらに、ワークＷは分割予定ラインＳに沿ってダイシング加工が施されており、デバイスＤを備える個々のチップＣとなっている。なお、ワークＷは、回転する切削ブレードによるダイシングによってチップＣに分割されたものに限定されず、テープエキスパンドによりチップＣに分割されたものや分割される前のものであってもよい。
【００３３】
図６に示す保持テーブル３の枠体３１の周囲には、環状フレームＦを固定する固定クランプ３６が例えば４つ均等に配設されている。固定クランプ３６は、例えば振り子式の固定クランプであり、−Ｚ方向から水平方向において回動可能な図示しない振り子（錘）を備えている。
なお、固定クランプ３６は、振り子式のものに限定されず、メカニカルクランプであってもよい。
【００３４】
保持テーブル３の下側に配設された回転手段４は、保持テーブル３の底面側に上端が固定されＺ軸方向の軸心周りに回転可能なスピンドル４０と、モータ等で構成されスピンドル４０の下端側に連結する回転駆動源４１とを少なくとも備えている。回転駆動源４１がスピンドル４０を回転させることで、スピンドル４０に固定された保持テーブル３も回転する。回転駆動源４１は、エアシリンダ等からなる支持機構４４によって上下方向に移動可能に支持されている。支持機構４４は、回転駆動源４１を上昇させることで保持テーブル３を上昇させて、保持テーブル３を被加工物ＷＳの搬入・搬出高さ位置に位置付け、また、回転駆動源４１を下降させることで被加工物ＷＳを保持した状態の保持テーブル３を下降させて、保持テーブル３をケーシング５内における洗浄作業高さ位置に位置付ける。
【００３５】
保持テーブル３は、ケーシング５の内部空間に収容されている。なお、図６においては、ケーシング５の外側壁５０等の一部を切欠いて内部が把握できるように示している。ケーシング５は、保持テーブル３を囲繞する外側壁５０と、外側壁５０の下部に一体的に連接し中央にスピンドル４０が挿通される開口を有する底板５１と、底板５１の開口の内周縁から立設する内側壁５２とから構成されている。ケーシング５は、底板５１に一端が固定された脚部５３により支持されている。底板５１には、排出口５１ａが厚み方向に貫通形成されており、排出口５１ａには、保持テーブル３の保持面３０ａ上からケーシング５内に流下した洗浄液等をケーシング５の外部に排出するドレンホース５１ｂが接続されている。
【００３６】
保持テーブル３の下面とケーシング５の内側壁５２の上端面との間には、スピンドル４０に挿嵌された円形状のカバー部材５４が配設されており、カバー部材５４は、スピンドル４０と底板５１の開口との隙間に、保持テーブル３の保持面３０ａ上から流下する洗浄液を入り込ませないようにしている。
【００３７】
底板５１上には、洗浄液供給手段６を構成しＺ軸方向に延在するノズルアーム６０が立設されており、ノズルアーム６０には、洗浄液ノズル６１とエアブローノズル６２とが接続されている。ノズルアーム６０は回転駆動源６０２（図９参照）によって、Ｚ軸方向の軸心周りに回転可能となっている。ノズルアーム６０を回転軸として水平方向に延在する洗浄液ノズル６１は、その先端部分に形成された噴射口６１０が保持テーブル３の保持面３０ａに向かって開口している。洗浄液ノズル６１は、ワークＷの表面Ｗａに洗浄液（例えば、純水）を供給する洗浄液供給源６１７に連通している。
【００３８】
ノズルアーム６０を回転軸として例えば洗浄液ノズル６１と並行するように延在するエアブローノズル６２は、その先端部分に形成された噴射口６２０が保持テーブル３の保持面３０ａに向かって開口している。エアブローノズル６２は、ワークＷの表面Ｗａに圧縮エアを供給するコンプレッサー等からなるエア供給源６２７に連通している。
【００３９】
以下に、上記洗浄装置１によりワークＷを洗浄する場合について説明する。
まず、図７に示すように、搬入高さ位置に位置付けられた状態の保持テーブル３の中心と被加工物ＷＳの中心とが略合致するように、被加工物ＷＳが、テープＴ側を下に向けて保持面３０ａ上に載置される。そして、図８に示すように、吸引源３９により生み出される吸引力が保持面３０ａに伝達されることにより、表面Ｗａが上方に向かって露出した状態でワークＷが保持テーブル３によって吸引保持される。なお、保持面３０ａは例えばテープＴで覆われるため、バキュームリークは生じない。
次いで、ワークＷを吸引保持する保持テーブル３が、図９に示すように、ケーシング５内における洗浄作業高さ位置まで下降する。
【００４０】
ノズルアーム６０によって洗浄液ノズル６１が旋回移動し、洗浄液ノズル６１の噴射口６１０が保持テーブル３により吸引保持されたワークＷの表面Ｗａの中央領域上方に位置付けられる。そして、洗浄液供給源６１７から洗浄液ノズル６１に洗浄液が供給され、噴射口６１０からワークＷの表面Ｗａの中心部に向かって洗浄液が噴射される。さらに、洗浄液を噴射する洗浄液ノズル６１が、ワークＷの上方をＺ軸方向の軸心周りに所定角度で往復するように旋回移動する。
【００４１】
また、保持テーブル３が所定の回転速度で回転することで、ワークＷの表面Ｗａ全面に洗浄液ノズル６１から洗浄液が噴射される。そして、保持テーブル３の回転に伴って固定クランプ３６の図示しない振り子に加わる遠心力により、振り子が例えば−Ｚ方向から水平方向に向かうように持ち上げられていくことに連動して、固定クランプ３６が径方向内側に向かって回動して、固定クランプ３６と保持テーブル３との間で環状フレームＦが挟持固定される。
【００４２】
ワークＷが洗浄され、保持テーブル３の回転により発生する遠心力によって、洗浄液が、ワークＷの表面Ｗａ上を中心側から外周側に向けて流れていき、保持テーブル３上からケーシング５の底板５１へと流下する。
【００４３】
洗浄液によって所定時間ワークＷの洗浄が行われた後、洗浄液ノズル６１からの洗浄液の噴射が止められる。次いで、エアブローノズル６２の噴射口６２０からワークＷの表面Ｗａの中心部に向かってエアが噴射される。さらに、エアを噴射するエアブローノズル６２が、ワークＷの上方をＺ軸方向の軸心周りに所定角度で往復するように旋回移動する。さらに、回転手段４が保持テーブル３を回転させることによって、ワークＷの表面Ｗａ全面がエアブローにより乾燥される。そして、被加工物ＷＳの乾燥が完了すると、エアブローノズル６２が保持テーブル３上から旋回移動して退避し、被加工物ＷＳがケーシング５内から搬出可能となる。
【００４４】
本発明に係る洗浄装置１は、被加工物ＷＳを保持する保持テーブル３と、保持テーブル３を回転させる回転手段４と、保持テーブル３で保持された被加工物ＷＳに洗浄液を供給する洗浄液供給手段６と、を備えた洗浄装置であって、保持テーブル３は、被加工物ＷＳを保持する保持面３０ａを含む多孔質材からなる保持部３０と、保持部３０を収容する凹部３１０が形成されるとともに一端が保持部３０に連通し他端が吸引源３９に接続された吸引路３１１が形成された枠体３１と、を備え、枠体３１には凹部３１０の外周側の底にねじ穴３１５が形成され、保持部３０は枠体３１に段付きねじ３４で固定され、保持面３０ａは被加工物ＷＳによって覆われるサイズ（例えば、テープＴによって覆われるサイズ）に設定されているため、接着剤を使用せずに多孔質材からなる保持部３０を枠体３１にねじ止めすることで、洗浄液等を要因とする接着剤の劣化に起因する保持部３０の剥がれ等による破損を防止できる。
【００４５】
洗浄装置１の保持テーブル３で保持される被加工物ＷＳは、ワークＷと、ワークＷが貼着されたテープＴと、テープＴの外周が貼着された環状フレームＦと、からなることで、ワークＷが保持面３０ａよりも小さいサイズであっても、保持テーブル３はテープＴと環状フレームＦとによってバキュームリーク無く被加工物ＷＳを吸引保持することが可能となる。
【００４６】
吸引源が生み出す吸引力で枠体上に多孔質材をバキューム固定する従来の構成の保持テーブルを備える洗浄装置では、被加工物ＷＳ吸着用の吸引力を伝達するための吸引路及び多孔質材固定用の吸引力を伝達するための吸引路の２種の吸引経路を洗浄装置に配設する必要があり、そのためのスペースを確保することが難しいという問題があった。また、スピンナー洗浄装置では、被加工物ＷＳを吸引保持する保持テーブルが洗浄時にある程度の速度で回転するため、該問題がより顕在化していた。さらに、該２種類の吸引経路は、例えば、保持テーブルを回転させる回転手段内等を通され回転手段の側面において、吸引力を遺漏無く移送するロータリージョイント等を介して吸引源と連通している。そして、ロータリージョイント等と２種類の吸引経路との間をシール材によって確実にシールすることは難しいという問題もあった。
一方、本発明に係る洗浄装置１では、保持テーブル３は、保持部３０を枠体３１にねじ止めしていることで、保持部３０固定用の吸引力を伝達するための吸引路を洗浄装置１に設ける必要がないため、上記スペース確保の問題が発生しない。また、２種類の吸引経路をそれぞれ例えば回転手段４の側面においてシールする必要も無くなる。
【００４７】
なお、本発明に係る保持テーブル３及び洗浄装置１は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。
【符号の説明】
【００４８】
３：保持テーブル
３０：保持部  ３０ａ：保持面  ３０２：係合部
３１：枠体  ３１０：凹部  ３１１：吸引路  ３１２：吸引溝  ３１５：ねじ穴
３４：段付きねじ  ３４０：円柱部  ３４１：ヘッド部
３９：吸引源  ３９０：配管  ３９１：ソレノイドバルブ
Ｗ１：ウェーハ  ＷＳ：被加工物  Ｗ：ワーク  Ｔ：テープ  Ｆ：環状フレーム
１：洗浄装置
３：保持テーブル  ３６：固定クランプ  ４：回転手段  ５：ケーシング
６：洗浄液供給手段  ６０：ノズルアーム  ６１：洗浄液ノズル  ６２：エアブローノズル
【図１】
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【図２】
2020053508.tif 000004
【図３】
2020053508.tif 000005
【図４】
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【図５】
2020053508.tif 000007
【図６】
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【図７】
2020053508.tif 000009
【図８】
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【図９】
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