(57)【要約】      （修正有）【課題】触媒の部位ごとの温度バラツキによる触媒性能の低下を抑制し、ガス検出精度の低下を抑制するガスセンサを提供する。【解決手段】被測定ガスに含まれる成分の濃度を測定するためのガスセンサ１であり、触媒ユニット２と、センサ素子３Ａと、ヒータ５と、を備える。触媒ユニットは、基体部と、触媒部と、を備えている。基体部は、複数の隔壁部と、側壁部と、隔壁接続部を備える。このガスセンサでは、基体部が側壁部とは別に隔壁接続部を備えることで、側壁部のみならず隔壁接続部が、複数の隔壁部どうしを繋ぐ熱伝導経路として機能する。これにより、ヒータから離れた位置の隔壁部への熱伝導が良好となり、基体部の全体における温度のバラツキを抑制でき、触媒部の全体における活性化状態が良好となるため、被測定ガスに含まれるガス成分の化学変化量の減少を抑制でき、ガス検出精度の低下を抑制できる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被測定ガスに含まれる成分の濃度を測定するためのガスセンサであって、
前記被測定ガスに含まれる成分を化学変化させるように構成された触媒ユニットと、
前記触媒ユニットを通過した前記被測定ガス中の特定成分を検知するように構成されたセンサ素子と、
少なくとも前記触媒ユニットを加熱するように構成された伝熱面を有するヒータと、
を備え、
前記触媒ユニットは、基体部と、触媒部と、を備えており、
前記基体部は、前記被測定ガスの流路となるガス流路空間を隔てて積層配置される複数の隔壁部と、前記複数の隔壁部のそれぞれの端部において前記複数の隔壁部を支持する側壁部と、を備え、
前記複数の隔壁部は、前記ヒータの前記伝熱面からの距離がそれぞれ異なるように積層配置されており、
前記触媒部は、前記隔壁部の表面のうち前記ガス流路空間に面する表面に形成されており、
前記基体部は、前記側壁部とは別に、前記複数の隔壁部のうち少なくとも２個の前記隔壁部のそれぞれに当接する形態で前記ガス流路空間に配置される隔壁接続部を備える、
ガスセンサ。
【請求項２】
請求項１に記載のガスセンサであって、
前記基体部は、前記複数の隔壁部として、３個以上の隔壁部を備えるとともに、前記隔壁接続部として、前記ヒータの前記伝熱面からの距離がそれぞれ異なる複数の隔壁接続部を備え、
前記複数の隔壁部のそれぞれは、前記隔壁接続部を介して少なくとも１つの他の前記隔壁部と接続される、
ガスセンサ。
【請求項３】
請求項２に記載のガスセンサであって、
前記複数の隔壁接続部は、前記ヒータの前記伝熱面に垂直な方向から投影した場合において、少なくとも一部が重なるように配置される構成である、
ガスセンサ。
【請求項４】
請求項２に記載のガスセンサであって、
前記複数の隔壁接続部は、前記ヒータの前記伝熱面に垂直な方向から投影した場合において、それぞれ異なる位置に配置される構成である、
ガスセンサ。
【請求項５】
請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載のガスセンサであって、
前記隔壁接続部は、前記隔壁部と同じ材料で構成されている、
ガスセンサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、ガスセンサに関する。
【背景技術】
【０００２】
被測定ガス中の特定成分の濃度を測定するガスセンサとして、触媒を用いてガス中の成分を化学変化させた後に、センサ素子によってガス成分濃度を測定するものが公知である（特許文献１）。
【０００３】
このようなガスセンサでは、触媒を用いることで、測定対象のガス成分を化学変化させてセンサ素子が検知可能な成分に変換すると共に、被測定対象に含まれる雑ガス成分を燃焼等の化学変化によって除去する。触媒は、ヒータ等によって加熱されて活性化することで、ガス成分の化学変化や雑ガス成分の化学変化などの機能を発揮する。
【０００４】
ガスセンサは、例えば、ガス流路を有する基体部に触媒を担持させて、ガス流路に被測定ガスを通過させることで、被測定ガスを触媒に接触させる構成を採ることができる。なお、基体部としては、特許文献１に記載されるように多孔質状をなす構成が知られているが、被測定ガスを触媒に効率良く接触させる目的から、ガス流路を介して積層配置された複数の隔壁部を備えた構成を有する基体部を用いることが検討されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１８−００４５８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、ガス流路を介して積層配置された複数の隔壁部を備えた構成を有する基体部に触媒を担持させたガスセンサでは、基体部のうちヒータから離れた部分（例えば、離れた隔壁）の温度が十分には上昇せず、そのような部分に設けられた触媒の活性化状態が不十分になると、ガス検出精度が低下する可能性がある。
【０００７】
つまり、触媒のうち一部でも活性化状態が不十分になると、触媒全体としての触媒性能が低下して被測定ガスにおけるガス成分の化学変化量が減少してしまい、センサ素子での検出量が減少してガス検出精度が低下する可能性がある。
【０００８】
そこで、本開示の一側面においては、触媒の部位ごとの温度バラツキによる触媒性能の低下を抑制し、ガス検出精度の低下を抑制するガスセンサを提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本開示の一態様は、被測定ガスに含まれる成分の濃度を測定するためのガスセンサである。ガスセンサは、触媒ユニットと、センサ素子と、ヒータと、を備える。触媒ユニットは、被測定ガスに含まれる成分を化学変化させるように構成されている。センサ素子は、触媒ユニットを通過した被測定ガス中の特定成分を検知するように構成されている。ヒータは、少なくとも触媒ユニットを加熱するように構成された伝熱面を有する。
【００１０】
触媒ユニットは、基体部と、触媒部と、を備えている。
基体部は、複数の隔壁部と、側壁部と、を備える。複数の隔壁部は、被測定ガスの流路となるガス流路空間を隔てて積層配置される。複数の隔壁部は、ヒータの伝熱面からの距離がそれぞれ異なるように積層配置されている。側壁部は、複数の隔壁部のそれぞれの端部において複数の隔壁部を支持する。
【００１１】
触媒部は、隔壁部の表面のうちガス流路空間に面する表面に形成されている。
さらに、基体部は、側壁部とは別に、隔壁接続部を備える。隔壁接続部は、複数の隔壁部のうち少なくとも２個の隔壁部のそれぞれに当接する形態でガス流路空間に配置される。
【００１２】
このようなガスセンサにおいては、基体部が隔壁接続部を備えることで、側壁部のみならず隔壁接続部が、複数の隔壁部どうしを繋ぐ熱伝導経路として機能する。これにより、ヒータから離れた位置の隔壁部への熱伝導が、隔壁接続部を設置していない基体部と相対的に比較して良好となり、基体部の全体における温度のバラツキを抑制でき、触媒部の全体における活性化状態が良好となるため、被測定ガスに含まれるガス成分の化学変化量の減少を抑制できる。
【００１３】
よって、このガスセンサは、触媒部の部位ごとの温度バラツキによる触媒性能の低下を抑制し、ガス検出精度の低下を抑制できる。
上記のガスセンサにおいては、基体部は、複数の隔壁部として、３個以上の隔壁部を備えるとともに、隔壁接続部として、ヒータの伝熱面からの距離がそれぞれ異なる複数の隔壁接続部を備えており、複数の隔壁部のそれぞれは、隔壁接続部を介して少なくとも１つの他の隔壁部と接続される構成であってもよい。
【００１４】
この基体部は、ガス流路空間を隔てて隣り合う複数の隔壁部どうしのすべてが隔壁接続部を介して接続される構造となる。これにより、基体部の全体における温度のバラツキをより抑制でき、触媒部の活性化状態がより良好となるため、被測定ガスに含まれる成分の化学変化をより適切に実現できる。
【００１５】
上記のガスセンサにおいては、複数の隔壁接続部は、ヒータの伝熱面に垂直な方向から投影した場合において、少なくとも一部が重なるように配置される構成であってもよい。
複数の隔壁接続部がこのように配置されることで、ヒータに最も近い隔壁部とヒータから最も遠い隔壁部とを繋ぐ熱伝導経路として、最短の熱伝導経路を実現できる。これにより、ヒータから最も遠い隔壁部への熱伝導に要する時間を短縮でき、ヒータの起動から触媒部の全体が活性化するまでの時間を短縮できる。
【００１６】
上記のガスセンサにおいては、複数の隔壁接続部は、ヒータの伝熱面に垂直な方向から投影した場合において、それぞれ異なる位置に配置される構成であってもよい。
複数の隔壁接続部がこのように配置されることで、複数の隔壁部ごとに隔壁接続部を介して熱が最初に伝わる部位を任意に設定できる。これにより、隔壁部のうち最も温度が低下しやすい部位に隔壁接続部を配置することで、隔壁部の部位ごとに温度のバラツキが生じるのを抑制できる。
【００１７】
上記のガスセンサにおいては、隔壁接続部は、隔壁部と同じ材料で構成されてもよい。これにより、基体部の全体において熱伝導が良好となり、触媒部の全体において活性化状態が良好となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】第１実施形態のガスセンサを示す模式的な断面図である。
【図２】触媒ユニットの外観を表す斜視図である。
【図３】図２の破線Ｄ１で示す部分で切断した状態の触媒ユニットの斜視図である。
【図４】図２の破線Ｄ２で示す部分で切断した状態の触媒ユニットの斜視図である。
【図５】触媒ユニットを示す模式的な断面図である。
【図６】の触媒ユニットの製造方法を示すフローチャートである。
【図７】触媒ユニットの基体部を構成するシートの展開図である。
【図８】第２実施形態の触媒ユニットの斜視図であって、図９の破線Ｄ４で示す部分で切断した状態の触媒ユニットの斜視図である。
【図９】第２実施形態の触媒ユニットの斜視図であって、図８の破線Ｄ３で示す部分で切断した状態の触媒ユニットの斜視図である。
【図１０】第２実施形態の触媒ユニットを示す模式的な断面図である。
【図１１】第２実施形態における触媒ユニットの基体部を構成するシートの展開図である。
【図１２】同一層に複数の隔壁接続部が設けられる基体部を備える触媒ユニットの模式的な断面図である。
【図１３】同一層に複数の隔壁接続部が設けられる基体部であって、異なる層に設けられる隔壁接続部どうしが異なる位置に配置される構成の基体部を備える触媒ユニットの模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本開示が適用された実施形態について、図面を用いて説明する。
［１．第１実施形態］
［１−１．構成］
図１に示すガスセンサ１は、被測定ガスＧに含まれるガス成分の濃度を測定するためのガスセンサである。ガスセンサ１の測定対象のガス成分としては、窒素酸化物（ＮＯｘ）等が挙げられる。
【００２０】
ガスセンサ１は、環境管理、プロセス管理、医療等の分野に使用できる。ガスセンサ１は、特に数ｐｐｂから数百ｐｐｂレベルの極低濃度のＮＯｘを含むガスの測定、具体的には喘息診断に好適に使用できる。
【００２１】
ガスセンサ１は、図１に示すように、触媒ユニット２と、センサユニット３と、１つのヒータ５と、３つの配管６，７，８とを備える。
＜触媒ユニット＞
触媒ユニット２は、図２に示すように、四角柱形状に形成されている。触媒ユニット２は、外面に、ガス導入部２Ｆと、ガス排出部２Ｇと、を備える。ガス導入部２Ｆは第１配管６（図１参照）に接続され、ガス排出部２Ｇは第２配管７（図１参照）に接続される。
【００２２】
図３および図４に示すように、触媒ユニット２は、内部に被測定ガスの流路１０となる内部空間（以下、ガス流路空間１０ともいう）を有している。被測定ガスの流路１０は、ガス導入部２Ｆから導入されたガスがガス排出部２Ｇから排出されるように構成されている。なお、図３は、図２に示す触媒ユニット２のうち、破線Ｄ１で示す部分で切断した状態の触媒ユニット２を表す斜視図である。図４は、図２に示す触媒ユニット２のうち、破線Ｄ２で示す部分で切断した状態の触媒ユニット２を表す斜視図である。
【００２３】
触媒ユニット２は、図５に示すように、基体部２Ａと、触媒層２Ｃと、１つのシート体２Ｄとを有する。
なお、実際のガスセンサ１においては、図２に示すように、触媒ユニット２におけるガス導入部２Ｆおよびガス排出部２Ｇの形成位置は、触媒ユニット２のうち幅方向における同一位置ではない。このため、本来であれば、ガス導入部２Ｆおよびガス排出部２Ｇは、図５には同時には現れない。しかし、図５では、被測定ガスＧの流れを表すために、便宜上、ガス導入部２Ｆおよびガス排出部２Ｇを表している。
【００２４】
（基体部）
基体部２Ａは、被測定ガスＧの流路１０を構成する内壁２Ｂを有する箱状の部材である。基体部２Ａは、セラミックを主成分とする一体品である。ここで、「主成分」とは、８０質量％以上含有される成分を意味する。本実施形態では、基体部２Ａを構成するセラミックとして、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を使用している。なお、基体部２Ａを構成するセラミックは、アルミナに限られることなく、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）等を使用してもよい。
【００２５】
具体的には、基体部２Ａは、セラミックを主成分とする３以上の未焼結のシート（いわゆるセラミックグリーンシート）が重ね合わされた状態で一体焼成された焼成体である。換言すれば、基体部２Ａは、３以上の未焼結のシート（セラミックグリーンシート）が重ね合わされた状態で同時に焼成された構成を有する。基体部２Ａを構成する複数のシートの幾つかには、それぞれ開口が設けられている。この複数の開口の内面が連続することで、基体部２Ａの内壁２Ｂを構成している。
【００２６】
基体部２Ａは、接着部２Ｅによって、後述するセンサユニット３のベース３Ｂの外面に固定されている。基体部２Ａは、後述するヒータ５に対し、ベース３Ｂを挟んで対向する位置に配置されている。なお、接着部２Ｅとしては、無機系接着剤又はガラスが使用できる。
【００２７】
基体部２Ａは、第１配管６から導入されたガスが第２配管７から排出されるように構成された被測定ガスの流路１０を有する。被測定ガスＧの流路１０を構成する内壁２Ｂは、流路１０のガス導入位置１０Ａからガス排出位置１０Ｂに流れる被測定ガスＧを迂回させて流路１０を長くするための複数の迂回壁１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ，１２Ｅ，１２Ｆ，１２Ｇ，１２Ｈ，１２Ｉを含んでいる。これにより、ガス導入位置１０Ａからガス排出位置１０Ｂに向かって流れてゆく被測定ガスＧは、迂回壁１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ，１２Ｅ，１２Ｆ，１２Ｇ，１２Ｈ，１２Ｉの存在によってガス導入位置１０Ａからガス排出位置１０Ｂまでの最短距離で流れずに迂回することになる。つまり、迂回壁１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ，１２Ｅ，１２Ｆ，１２Ｇ，１２Ｈ，１２Ｉは、基体部２Ａ内の被測定ガスＧが衝突する位置に配置されている。基体部２Ａ内の流路１０は、並列接続された複数の支流に分岐している。
【００２８】
基体部２Ａは、図３および図４に示すように、複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅと、複数の側壁部１４と、複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄと、を備える。
【００２９】
複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅは、被測定ガスの流路１０となるガス流路空間１０を隔てて積層配置されている。詳細には、複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅは、図５に示すように、ヒータ５の伝熱面５Ａからの距離がそれぞれ異なるように積層配置されている。
【００３０】
側壁部１４は、複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅのそれぞれの端部において、複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅを支持するように構成されている。
【００３１】
複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄは、複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅのうち２個の隔壁部のそれぞれに当接する形態で、ガス流路空間１０に配置されている。
【００３２】
基体部２Ａは、複数の隔壁部として、３個以上の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅを備える。基体部２Ａは、隔壁接続部として、ヒータの伝熱面からの距離がそれぞれ異なる複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄを備える。複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅのそれぞれは、隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄを介して少なくとも１つの他の隔壁部と接続される構成である。
【００３３】
基体部２Ａは、ガス流路空間１０を隔てて隣り合う複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅどうしのすべてが隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄを介して接続される構造である。
【００３４】
複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄは、ヒータ５の伝熱面５Ａに垂直な方向から投影した場合において、少なくとも一部が重なるように配置される構成である。複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄがこのように配置されることで、ヒータ５に最も近い隔壁部１３Ａとヒータ５から最も遠い隔壁部１３Ｅとを繋ぐ熱伝導経路として、最短の熱伝導経路を実現できる。
【００３５】
隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄ、および隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅは、いずれも基体部２Ａの一部を構成しており、同一材料で形成されている。上記の通り、基体部２Ａは、セラミックを主成分とする材料（本実施形態では、アルミナ）で構成されている。つまり、隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄは、隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅと同じ材料（アルミナ）で構成されている。
【００３６】
複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅ、複数の側壁部１４、複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄのそれぞれの表面のうち、流路１０に面する表面は、内壁２Ｂの一部を構成する。
【００３７】
（触媒層）
触媒層２Ｃは、被測定ガスＧが含む成分を化学変化させる。触媒層２Ｃによる化学変化には、ある成分を他の成分に変換することや、ある成分を燃焼させることが含まれる。具体的には、触媒層２Ｃは、ガスセンサ１が濃度を測定する成分をセンサ素子３Ａが検知可能な成分に変換する。また、触媒層２Ｃは、ガスセンサ１が濃度を測定しない成分を燃焼する。
【００３８】
例えば、喘息診断の場合では、触媒層２Ｃは、測定対象であるＮＯをＮＯ２に変換すると共に、ＣＯ、Ｈ２、ＶＯＣ等、被測定ガスＧ（呼気）中に含まれる微量の還元ガスを燃焼させる。
【００３９】
触媒層２Ｃは、用途や温度に応じて適宜選択される。触媒層２Ｃとしては、例えば白金、ロジウム、金等の貴金属、それら貴金属の粒子を例えばγアルミナやゼオライトに担持させた担持体、又は、例えば酸化マンガン、酸化コバルト、酸化錫等の金属酸化物が使用される。
【００４０】
触媒層２Ｃは、図５に示すように、基体部２Ａの内壁２Ｂに配置されている。本実施形態では、基体部２Ａの内壁２Ｂは、表面全体が触媒層２Ｃで被覆されている。つまり、触媒層２Ｃは、基体部２Ａ内の流路１０の内面を被覆する層状をなしている。触媒層２Ｃは、少なくとも、隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅの表面のうち流路１０に面する表面に形成されている。なお、基体部２Ａ内の流路１０において、触媒層２Ｃで被覆されていない箇所があってもよい。
【００４１】
（シート体）
シート体２Ｄは、セラミックを主成分とするシートである。シート体２Ｄには、ガス導入部２Ｆおよびガス排出部２Ｇが設けられている。ガス導入部２Ｆには第１配管６が接続され、ガス排出部２Ｇには第２配管７が接続されている。
【００４２】
シート体２Ｄは、接着部２Ｈによって、基体部２Ａの外面に接着されている。シート体２Ｄは、ガス導入部２Ｆおよびガス排出部２Ｇが、基体部２Ａの流路１０と連通するように配置されている。
【００４３】
本実施形態では、シート体２Ｄを構成するセラミックとして、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を使用している。なお、シート体２Ｄを構成するセラミックは、アルミナに限られることなく、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）等を使用してもよい。ただし、シート体２Ｄを構成するセラミックの材質は、基体部２Ａを構成するセラミックの材質と同一であることが好ましい。基体部２Ａ及びシート体２Ｄの材質が同じであると、基体部２Ａとシート体２Ｄとの熱膨張率が同じとなるため、基体部２Ａ及びシート体２Ｄに加熱及び冷却が繰り返し及んだ場合にも、シート体２Ｄが基体部２Ａから接着離れし難くなるからである。接着部２Ｈは、接着部２Ｅと同様のものが使用できる。
【００４４】
第１配管６からシート体２Ｄのガス導入部２Ｆを通ってガス導入位置１０Ａから基体部２Ａ内に導入された被測定ガスＧは、触媒層２Ｃに接触しながら流路１０を通過し、ガス排出位置１０Ｂ及びシート体２Ｄのガス排出部２Ｇから第２配管７に排出される。
【００４５】
＜センサユニット＞
センサユニット３は、図１に示すように、触媒ユニット２を通過した被測定ガスＧ中の特定成分（つまり測定対象成分）を検知するように構成されたセンサ素子３Ａと、センサ素子３Ａを格納するベース３Ｂと、キャップ３Ｃとを有する。
【００４６】
センサ素子３Ａは、混成電位式の検知体を有し、検知体はセラミックからなるベース基板に搭載されている。センサ素子３Ａは、さらに測温用抵抗体を有してもよい。混成電位式の検知体は、公知であるため詳述はしないが、例えば、ジルコニアからなる固体電解質体と、それぞれ異なる材料からなる電極とを有し、これら電極間の電位差をセンサ信号として出力する構成を有する。なお、センサ素子３Ａの検知体としては、これに限定されず、検知対象のガス成分の存在により自身の抵抗が変化する金属酸化物半導体からなる検知体や、容量変化型の検知体を使用してもよい。
【００４７】
検知体及び測温用抵抗体は、ベース３Ｂに形成された配線に電気的に接続され、外部から電力が供給される。
ベース３Ｂは、キャップ３Ｃと共に、センサ素子３Ａを格納するケーシングを構成する。センサ素子３Ａは、ベース３Ｂの側壁に囲まれた底面に接着部３Ｄによって接着されている。
【００４８】
また、ベース３Ｂのセンサ素子３Ａが配置された底面と反対側の外面には、上述の通り、触媒ユニット２が固定されている。
本実施形態では、ヒータ５がセンサ素子３Ａと一体化されており、ヒータ５がベース３Ｂに接着されている。
【００４９】
キャップ３Ｃは、センサ素子３Ａと対向するように配置され、ベース３Ｂの側壁に接着部３Ｅによって接着されている。キャップ３Ｃとベース３Ｂとによって、センサ素子３Ａを格納する空間が画定されている。
【００５０】
キャップ３Ｃには、２つの開口が設けられ、これらの開口に第２配管７と第３配管８とが接続されている。第２配管７からセンサユニット３内に導入された被測定ガスＧは、センサ素子３Ａに接触しながら、第３配管８からセンサユニット３の外（具体的にはガスセンサ１の系外）に排出される。
【００５１】
ベース３Ｂは、セラミックを主成分とする材料で構成されている。本実施形態では、ベース３Ｂを構成するセラミックとして、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を使用している。なお、ベース３Ｂを構成するセラミックは、アルミナに限られることなく、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）等を使用してもよい。ただし、ベース３Ｂを構成するセラミックの材質は、基体部２Ａを構成するセラミックの材質と同一であることが好ましい。基体部２Ａ及びベース３Ｂの材質が同じであると、基体部２Ａとベース３Ｂとの熱膨張率が同じとなるため、基体部２Ａ及びベース３Ｂに加熱及び冷却が繰り返し及んだ場合にも、ベース３Ｂが基体部２Ａから接着離れし難くなるからである。キャップ３Ｃは、例えば、アルミニウム、ステンレス（ＳＵＳ）等の金属材料で構成されてもよいし、アルミナ等のセラミックを主成分とする材料で構成されてもよい。また、接着部３Ｄ，３Ｅは、接着部２Ｅと同様のものが使用できる。
【００５２】
＜ヒータ＞
ヒータ５は、単体のヒータであり、触媒ユニット２とセンサユニット３とを同時に加熱する。本実施形態では、ヒータ５は、センサ素子３Ａ内に配置されている。ヒータ５をセンサ素子３Ａ内に配置することで、触媒ユニット２よりも高温で温度制御を行う必要のあるセンサ素子３Ａの温度制御が可能となる。なお、測温用抵抗体からの出力を用いてヒータ５の通電制御を行うことで、センサ素子３Ａの温度制御を精度の高いものにすることも可能である。
【００５３】
ヒータ５は、例えば白金等の金属配線（つまり負荷抵抗）によって構成される。ヒータ５は、ベース３Ｂに形成された配線に電気的に接続され、外部から電力が供給されることで発熱する。
【００５４】
ヒータ５は、触媒ユニット２とセンサユニット３とを加熱するように構成された伝熱面５Ａを有する。「伝熱面」とは、例えばヒータ５を構成する金属配線が配置された基材の表面である。また、ヒータ５は、図５に示すように、基体部２Ａを挟んでシート体２Ｄとは反対側に配置されている。
【００５５】
したがって、基体部２Ａにおける流路１０の最もヒータ５に近い部分（図中の最も上側の部分）は、ヒータ５の伝熱面５Ａに沿って（つまり伝熱面５Ａと平行な方向に）延伸している。
【００５６】
また、基体部２Ａにおける流路１０は、ヒータ５の伝熱面５Ａと垂直な方向（つまり基体部２Ａに対する伝熱方向）から視て、ヒータ５と重なる位置に設けられている。したがって、効率よく触媒層２Ｃを加熱することができる。
【００５７】
本実施形態では、１つのヒータ５で触媒ユニット２とセンサユニット３とを同時に加熱できるため、ガスセンサ１の消費電力を低減できる。また、ガスセンサ１の構造を簡素化することができる。
【００５８】
＜配管＞
第１配管６は、触媒ユニット２に被測定ガスＧを供給する。第２配管７は、触媒ユニット２を通過した被測定ガスＧを、センサユニット３内に供給する。第３配管８は、センサユニット３内の被測定ガスＧを排出する。なお、本実施形態での被測定ガスＧは呼気である。
【００５９】
［１−２．製造方法］
以下、図１のガスセンサ１の製造方法について説明する。ガスセンサ１の製造方法は、図６に示すように、重ね合わせ工程Ｓ１０と、焼成工程Ｓ２０と、触媒層形成工程Ｓ３０と、シート体接着工程Ｓ４０と、組立工程Ｓ５０とを備える。
【００６０】
＜重ね合わせ工程＞
本工程では、触媒ユニット２を形成する工程として、それぞれ開口が形成された複数のセラミックグリーンシートと、開口が形成されていない１枚のセラミックグリーンシートとを重ね合わせる。
【００６１】
例えば、本実施形態の触媒ユニット２の場合は、図７に示す１１枚のセラミックグリーンシート２１〜３１を用意し、厚み方向に重ね合わせる。各シートの開口（図中の白抜き部分）は、それぞれ、流路１０の一部となる。また、各シートのうち網掛け表示領域は、それぞれ、隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄとなる部分である。
【００６２】
＜焼成工程＞
本工程では、重ね合わせた複数のセラミックグリーンシートを焼成する。これにより、接着剤を介さずに複数のセラミックシートが互いに接合し、一体化された基体部２Ａが得られる。
【００６３】
＜触媒層形成工程＞
本工程では、基体部２Ａの内壁２Ｂに触媒層２Ｃを配置する。まず、触媒を含む液体中への基体部２Ａのディップ等によって、内壁２Ｂに触媒層２Ｃを塗布する。その後、加熱により、触媒層２Ｃを内壁２Ｂに固定する。
【００６４】
＜シート体接着工程＞
本工程では、予め第１配管６および第２配管７を接続したシート体２Ｄを、無機系接着剤又はガラスによって基体部２Ａに接着する。これにより、触媒ユニット２が得られる。
【００６５】
＜組立工程＞
本工程では、触媒ユニット２、センサユニット３、及びヒータ５を接着し、ガスセンサ１を組み立てる。
【００６６】
［１−３．効果］
以上詳述した実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１ａ）ガスセンサ１においては、基体部２Ａが側壁部１４とは別に隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄを備えることで、側壁部１４のみならず隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄが、複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅどうしを繋ぐ熱伝導経路として機能する。これにより、ヒータ５から離れた位置の隔壁部１３Ｅへの熱伝導が隔壁接続部を設置していない基体部と相対的に比較して良好となり、基体部２Ａの全体における温度のバラツキを抑制でき、触媒層２Ｃの全体における活性化状態が良好となるため、被測定ガスＧに含まれるガス成分の化学変化量の減少を抑制できる。よって、ガスセンサ１は、触媒層２Ｃの部位ごとの温度バラツキによる触媒性能の低下を抑制し、ガス検出精度の低下を抑制できる。
【００６７】
（１ｂ）基体部２Ａは、ガス流路空間１０を隔てて隣り合う複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅどうしのすべてが隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄを介して接続される構造である。これにより、基体部２Ａの全体における温度のバラツキをより抑制でき、触媒層２Ｃの活性化状態がより良好となるため、被測定ガスＧに含まれる成分の化学変化をより適切に実現できる。
【００６８】
（１ｃ）複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄは、ヒータ５に最も近い隔壁部１３Ａとヒータ５から最も遠い隔壁部１３Ｅとを繋ぐ熱伝導経路として、最短の熱伝導経路を実現できる。これにより、ヒータ５から最も遠い隔壁部１３Ｅへの熱伝導に要する時間を短縮でき、ヒータ５の起動から触媒層２Ｃの全体が活性化するまでの時間を短縮できる。
【００６９】
（１ｄ）ガスセンサ１においては、隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄは、隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅと同じ材料（セラミックを主成分とする材料）で構成されている。これにより、基体部２Ａの全体において熱伝導が良好となり、触媒層２Ｃの全体において活性化状態が良好となる。
【００７０】
［１−４．文言の対応関係］
ここで、文言の対応関係について説明する。
ガスセンサ１がガスセンサの一例に相当し、触媒ユニット２が触媒ユニットの一例に相当し、センサ素子３Ａがセンサ素子の一例に相当し、ヒータ５がヒータの一例に相当し、伝熱面５Ａが伝熱面の一例に相当する。
【００７１】
基体部２Ａが基体部の一例に相当し、触媒層２Ｃが触媒部の一例に相当し、被測定ガスの流路１０（ガス流路空間１０）がガス流路空間の一例に相当し、隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅがそれぞれ隔壁部の一例に相当し、側壁部１４が側壁部の一例に相当し、隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃがそれぞれ隔壁接続部の一例に相当する。
【００７２】
［２．第２実施形態］
［２−１．構成］
次に、第２実施形態として、触媒ユニット２における被測定ガスの流路１０（ガス流路空間１０）の構造が第１実施形態とは異なるガスセンサについて説明する。
【００７３】
なお、第１実施形態における被測定ガスの流路１０は、ヒータ５の伝熱面５Ａに平行な方向においては、被測定ガスＧがガス導入部２Ｆからガス排出部２Ｇに向かう方向に移動する流路のみを備える構成であるとともに、並列接続された複数の支流に分岐する構成である。これに対して、第２実施形態における被測定ガスの流路１０は、ヒータ５の伝熱面５Ａに平行な方向においては、被測定ガスＧがガス導入部２Ｆからガス排出部２Ｇに向かう方向に移動する流路のみならずその反対方向に移動する流路も備える構成である。第２実施形態の流路１０は、第１実施形態に比べて、ガス導入部２Ｆからガス排出部２Ｇまでの経路長が長く構成されている。
【００７４】
なお、第２実施形態のガスセンサは、第１実施形態と比べて、触媒ユニット２のガス流路空間１０の構成が異なるため、以下の説明では、触媒ユニット２を中心に説明する。
＜触媒ユニット＞
図８および図９に示すように、第２実施形態の触媒ユニット２は、第１実施形態と同様に、四角柱形状に形成されており、外面に、ガス導入部２Ｆと、ガス排出部２Ｇと、を備える。図１０に示すように、ガス導入部２Ｆは第１配管６に接続され、ガス排出部２Ｇは第２配管７に接続される。なお、図８は、図９に示す触媒ユニット２のうち、破線Ｄ４で示す部分で切断した状態の触媒ユニット２を表す斜視図である。図９は、図８に示す触媒ユニット２のうち、破線Ｄ３で示す部分で切断した状態の触媒ユニット２を表す斜視図である。
【００７５】
触媒ユニット２は、内部に被測定ガスの流路１０となる内部空間（ガス流路空間１０）を有している。被測定ガスの流路１０は、ガス導入部２Ｆから導入されたガスがガス排出部２Ｇから排出されるように構成されている。
【００７６】
触媒ユニット２は、図１０に示すように、基体部２Ａと、触媒層２Ｃと、１つのシート体２Ｄとを有する。なお、図１０では、第１実施形態の図５と同様に、被測定ガスＧの流れを表すために、便宜上、ガス導入部２Ｆおよびガス排出部２Ｇを表している。
【００７７】
（基体部）
基体部２Ａは、第１実施形態と同様に、被測定ガスＧの流路１０を構成する内壁２Ｂを有する箱状の部材であり、セラミックを主成分とする一体品である。具体的には、基体部２Ａは、セラミックを主成分とする３以上の未焼結のシート（いわゆるセラミックグリーンシート）が重ね合わされた状態で一体焼成された焼成体である。
【００７８】
被測定ガスＧの流路１０を構成する内壁２Ｂは、流路１０のガス導入位置１０Ａからガス排出位置１０Ｂに流れる被測定ガスＧを迂回させて流路１０を長くするための複数の迂回壁１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ，１２Ｅを含んでいる。これにより、ガス導入位置１０Ａからガス排出位置１０Ｂに向かって流れてゆく被測定ガスＧは、迂回壁１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ，１２Ｅの存在によってガス導入位置１０Ａからガス排出位置１０Ｂまでの最短距離で流れずに迂回することになる。つまり、迂回壁１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ，１２Ｅは、基体部２Ａ内の被測定ガスＧが衝突する位置に配置されている。基体部２Ａ内の流路１０は、伝熱面５Ａに平行な方向における被測定ガスＧの移動方向が、ガス導入部２Ｆからガス排出部２Ｇに向かう方向とその反対方向の２方向を含むように、構成されている。
【００７９】
第２実施形態の基体部２Ａは、図８および図９に示すように、複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄと、複数の側壁部１４と、複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃと、を備える。
【００８０】
複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄは、被測定ガスの流路１０となるガス流路空間１０を隔てて積層配置されている。詳細には、複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄは、図１０に示すように、ヒータ５の伝熱面５Ａからの距離がそれぞれ異なるように積層配置されている。
【００８１】
側壁部１４は、複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄのそれぞれの端部において、複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄを支持するように構成されている。
複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃは、複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄのうち２個の隔壁部のそれぞれに当接する形態で、ガス流路空間１０に配置されている。
【００８２】
基体部２Ａは、複数の隔壁部として、３個以上の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄを備える。基体部２Ａは、隔壁接続部として、ヒータの伝熱面からの距離がそれぞれ異なる複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃを備える。複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄのそれぞれは、隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃを介して少なくとも１つの他の隔壁部と接続される構成である。
【００８３】
基体部２Ａは、ガス流路空間１０を隔てて隣り合う複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄどうしのすべてが隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃを介して接続される構造である。
【００８４】
複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃは、ヒータ５の伝熱面５Ａに垂直な方向から投影した場合において、少なくとも一部が重なるように配置される構成である。複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃがこのように配置されることで、ヒータ５に最も近い隔壁部１３Ａとヒータ５から最も遠い隔壁部１３Ｄとを繋ぐ熱伝導経路として、最短の熱伝導経路を実現できる。
【００８５】
隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ、および隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄは、いずれも基体部２Ａの一部を構成しており、同一材料で形成されている。上記の通り、基体部２Ａは、セラミックを主成分とする材料（本実施形態では、アルミナ）で構成されている。つまり、隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃは、隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄと同じ材料（アルミナ）で構成されている。
【００８６】
複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ、複数の側壁部１４、複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃのそれぞれの表面のうち、流路１０に面する表面は、内壁２Ｂの一部を構成する。
【００８７】
（触媒層）
触媒層２Ｃは、第１実施形態と同様に、被測定ガスＧが含む成分を化学変化させる。
（シート体）
シート体２Ｄは、第１実施形態と同様に、セラミックを主成分とするシートである。
【００８８】
＜ヒータ＞
ヒータ５は、第１実施形態と同様に、単体のヒータであり、触媒ユニット２とセンサユニット３（図１参照）とを同時に加熱する。
【００８９】
＜配管＞
第１実施形態と同様に、第１配管６は、触媒ユニット２に被測定ガスＧを供給し、第２配管７は、触媒ユニット２を通過した被測定ガスＧをセンサユニット３（図１参照）内に供給する。
【００９０】
［２−２．製造方法］
第２実施形態のガスセンサの製造方法について説明する。ガスセンサの製造方法は、第１実施形態と同様に、図６に示すように、重ね合わせ工程Ｓ１０と、焼成工程Ｓ２０と、触媒層形成工程Ｓ３０と、シート体接着工程Ｓ４０と、組立工程Ｓ５０とを備える。
【００９１】
＜重ね合わせ工程＞
本工程では、触媒ユニット２を形成する工程として、それぞれ開口が形成された複数のセラミックグリーンシートと、開口が形成されていない１枚のセラミックグリーンシートとを重ね合わせる。
【００９２】
例えば、第２実施形態の触媒ユニット２の場合は、図１１に示す９枚のセラミックグリーンシート２１〜２９を用意し、厚み方向に重ね合わせる。各シートの開口（図中の白抜き部分）は、それぞれ、流路１０の一部となる。また、各シートのうち網掛け表示領域は、それぞれ、隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃとなる部分である。
【００９３】
＜焼成工程、触媒層形成工程、シート体接着工程、組立工程＞
焼成工程、触媒層形成工程、シート体接着工程、組立工程の各工程は、第１実施形態と同様である。これら各工程を順次実行することで、基体部２Ａが得られ、触媒層２Ｃを内壁２Ｂに固定でき、触媒ユニット２が得られ、ガスセンサを組み立てることができる。
【００９４】
［２−３．効果］
以上詳述した実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（２ａ）第２実施形態のガスセンサにおいては、触媒ユニット２の基体部２Ａが側壁部１４とは別に隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃを備えることで、側壁部１４のみならず隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃが、複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄどうしを繋ぐ熱伝導経路として機能する。これにより、ヒータ５から離れた位置の隔壁部１３Ｄへの熱伝導が隔壁接続部を設置していない基体部と相対的に比較して良好となり、基体部２Ａの全体における温度のバラツキを抑制でき、触媒層２Ｃの全体における活性化状態が良好となるため、被測定ガスＧに含まれるガス成分の化学変化量の減少を抑制できる。よって、第２実施形態のガスセンサは、触媒層２Ｃの部位ごとの温度バラツキによる触媒性能の低下を抑制し、ガス検出精度の低下を抑制できる。
【００９５】
（２ｂ）基体部２Ａは、ガス流路空間１０を隔てて隣り合う複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄどうしのすべてが隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃを介して接続される構造である。これにより、基体部２Ａの全体における温度のバラツキをより抑制でき、触媒層２Ｃの活性化状態がより良好となるため、被測定ガスＧに含まれる成分の化学変化をより適切に実現できる。
【００９６】
（２ｃ）複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃは、ヒータ５に最も近い隔壁部１３Ａとヒータ５から最も遠い隔壁部１３Ｄとを繋ぐ熱伝導経路として、最短の熱伝導経路を実現できる。これにより、ヒータ５から最も遠い隔壁部１３Ｄへの熱伝導に要する時間を短縮でき、ヒータ５の起動から触媒層２Ｃの全体が活性化するまでの時間を短縮できる。
【００９７】
（２ｄ）ガスセンサ１においては、隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃは、隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄと同じ材料（セラミックを主成分とする材料）で構成されている。これにより、基体部２Ａの全体において熱伝導が良好となり、触媒層２Ｃの全体において活性化状態が良好となる。
【００９８】
［３．他の実施形態］
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は、上記実施形態に限定されることなく、種々の形態を採り得ることは言うまでもない。
【００９９】
（３ａ）上記実施形態のガスセンサにおいて、触媒ユニットの基体部は、上記実施形態のように、同一層（隣接する隔壁部と隔壁部との間）に配置される隔壁接続部が１個である構成に限られることはなく、同一層に複数の隔壁接続部が設けられる構成であってもよい。例えば、図１２に模式的に示すように、隣接する隔壁部１３Ａと隔壁部１３Ｂとの間に複数の隔壁接続部１５Ａが設けられ、隣接する隔壁部１３Ｂと隔壁部１３Ｃとの間に複数の隔壁接続部１５Ｂが設けられ、隣接する隔壁部１３Ｃと隔壁部１３Ｄとの間に複数の隔壁接続部１５Ｃが設けられる構成であってもよい。
【０１００】
このように、ヒータ５の伝熱面５Ａからの垂直方向距離が同一の層に複数の隔壁接続部を備えることで、側壁部および複数の隔壁接続部が、複数の隔壁部どうしを繋ぐ熱伝導経路として機能するため、上記実施形態に比べて、熱伝導経路が増加する。これにより、ヒータ５から離れた位置の隔壁部１３Ｄへの熱伝導がさらに良好となり、基体部２Ａの全体における温度のバラツキを抑制でき、触媒層２Ｃの全体における活性化状態が良好となるため、被測定ガスに含まれるガス成分の化学変化量の減少を抑制できる。よって、このガスセンサは、触媒層２Ｃの部位ごとの温度バラツキによる触媒性能の低下を抑制し、ガス検出精度の低下を抑制できる。
【０１０１】
また、同一層に設けられる複数の隔壁接続部どうしが異なる断面形状となる構成であってもよい。例えば、図１２に模式的に示すように、同一層に設けられる複数の隔壁接続部１５Ａどうしの断面形状における幅寸法が互いに異なる構成であってもよい。このような構成の基体部を備えるガスセンサは、より速やかな熱伝導が必要な箇所には、幅寸法の大きい隔壁接続部を配置する構成であってもよい。
【０１０２】
（３ｂ）上記実施形態のガスセンサにおいて、触媒ユニットの基体部は、上記実施形態のように、ヒータ５の伝熱面５Ａに垂直な方向から投影した場合において、異なる層に設けられる隔壁接続部どうしが同一位置に配置される構成に限られることはなく、異なる層に設けられる隔壁接続部どうしが異なる位置に配置される構成であってもよい。例えば、図１３に模式的に示すように、ヒータ５の伝熱面５Ａに垂直な方向から投影した場合において、隔壁接続部１５Ａと隔壁接続部１５Ｂとが異なる位置に配置されるとともに、隔壁接続部１５Ｂと隔壁接続部１５Ｃとが異なる位置に配置される構成であってもよい。
【０１０３】
複数の隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃがこのように配置されることで、複数の隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄごとに隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃを介して熱が最初に伝わる部位を任意に設定できる。これにより、隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄのうち最も温度が低下しやすい部位に隔壁接続部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃを配置することで、隔壁部１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄの部位ごとに温度のバラツキが生じるのを抑制できる。
【０１０４】
なお、図１３に示す触媒ユニット２は、ヒータ５の伝熱面５Ａに垂直な方向から投影した場合において、隣接する層にそれぞれ配置される隔壁接続部どうしは異なる位置に配置されるが、隔壁接続部１５Ａと隔壁接続部１５Ｃとは少なくとも一部が重なるように配置された構成である。触媒ユニットは、このような構成に限られることはなく、隔壁接続部１５Ａ、隔壁接続部１５Ｂ、隔壁接続部１５Ｃがいずれも異なる位置に配置される構成であってもよい。
【０１０５】
（３ｃ）上記実施形態のガスセンサ１において、ヒータ５は、必ずしもセンサ素子３Ａと一体化されなくてもよい。例えば、ヒータ５はベース３Ｂの内部に配置されてもよい。また、ヒータ５は、基体部２Ａにおけるベース３Ｂと対向する外面に配置されてもよい。さらに、ヒータ５は、ベース３Ｂにおけるセンサ素子３Ａと対向する外面、ベース３Ｂにおける基体部２Ａと対向する外面、基体部２Ａの内部等に配置されてもよい。
【０１０６】
また、ガスセンサ１は、触媒層２Ｃを加熱するための複数のヒータ５を備えてもよいし、触媒層２Ｃを加熱するための第１ヒータと、センサ素子３Ａを加熱するための第２ヒータとを備えてもよい。
【０１０７】
（３ｄ）上記実施形態における１つの構成要素が有する機能を複数の構成要素として分散させたり、複数の構成要素が有する機能を１つの構成要素に統合したりしてもよい。また、上記実施形態の構成の一部を省略してもよい。また、上記実施形態の構成の少なくとも一部を、他の上記実施形態の構成に対して付加、置換等してもよい。なお、特許請求の範囲に記載の文言から特定される技術思想に含まれるあらゆる態様が本開示の実施形態である。
【符号の説明】
【０１０８】
１…ガスセンサ、２…触媒ユニット、２Ａ…基体部、２Ｂ…内壁、２Ｃ…触媒層、２Ｆ…ガス導入部、２Ｇ…ガス排出部、３…センサユニット、３Ａ…センサ素子、５…ヒータ、５Ａ…伝熱面、１０…流路（ガス流路空間）、１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅ…隔壁部、１４…側壁部、１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄ…隔壁接続部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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