(57)【要約】【課題】ウェーハ表面に接触痕や傷が入るのを防止するともに、接触痕や傷が生じたウェーハの製造数を最小限とすることができる片面研磨装置へのウェーハ装填装置を提供する。【解決手段】片面研磨装置にウェーハを装填する片面研磨装置へのウェーハ装填装置２であって、ウェーハの外周縁で当接し、ウェーハを支持する仮受台２１と、仮受台２１に支持されたウェーハに対して下方から吐出する水によってウェーハを上昇させる水吐出槽２２と、水吐出槽２２を、仮受台２１に支持されたウェーハに接近、離間させる昇降装置２４と、ウェーハと水吐出槽２２との距離を測定する変位センサー４と、を有する片面研磨装置へのウェーハ装填装置２を提供する。【選択図】図３
2020175454.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
片面研磨装置にウェーハを装填する片面研磨装置へのウェーハ装填装置であって、
前記ウェーハの外周縁で当接し、前記ウェーハを支持する仮受台と、
前記仮受台に支持された前記ウェーハに対して下方から吐出する水によって前記ウェーハを上昇させる水吐出槽と、
前記水吐出槽を、前記仮受台に支持された前記ウェーハに接近、離間させる昇降装置と、
前記ウェーハと前記水吐出槽との距離を測定する変位センサーと、を有することを特徴とする片面研磨装置へのウェーハ装填装置。
【請求項２】
前記水吐出槽は、
前記仮受台に支持された前記ウェーハの中央下方に配置された凹部と、
前記凹部の底部に形成され、前記凹部内に水を吐出する吐出部と、
前記凹部の周囲から突出する環状の突起部と、を有することを特徴とする請求項１に記載の片面研磨装置へのウェーハ装填装置。
【請求項３】
前記水吐出槽には、前記突起部の位置で上下に貫通する貫通孔が設けられ、
前記変位センサーは、前記貫通孔の下方から前記ウェーハと前記突起部との距離を測定する請求項２に記載の片面研磨装置へのウェーハ装填装置。
【請求項４】
前記水吐出槽は、前記貫通孔を塞ぐ透明部材を有し、
前記変位センサーは、前記透明部材を介して前記ウェーハと前記突起部との距離を測定する請求項３に記載の片面研磨装置へのウェーハ装填装置。
【請求項５】
前記透明部材は石英ガラスである請求項４に記載の片面研磨装置へのウェーハ装填装置。
【請求項６】
前記変位センサーは、共焦点同軸方式である請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の片面研磨装置へのウェーハ装填装置。
【請求項７】
前記変位センサーと前記水吐出槽との間に配置され、前記変位センサーの上方を覆うカバーを有する請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の片面研磨装置へのウェーハ装填装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、片面研磨装置へのウェーハ装填装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、片面研磨装置へのウェーハ貼付方法としては、吸着テープを用いたもの、真空吸着を利用したものが知られている（たとえば、特許文献１、特許文献２参照）。
特許文献１には、水の表面張力によりウェーハを保持する研磨ヘッドを備え、研磨ヘッドに孔部を形成して、真空吸引を利用して研磨ヘッドの保持面にウェーハを貼り付ける技術が開示されている。
また、特許文献２には、研磨ヘッドの下面に両面粘着シートを貼り付け、水の表面張力および吸着シートの粘着性により、基板を吸着シートに密着させて保持する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１０３７０７号公報
【特許文献２】特開２００８−８０４４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、前記特許文献１に記載の技術では、研磨ヘッドに孔を開けなければならず、この孔から重金属を含んだ流体が逆流し、ウェーハが汚染する問題があった。また、異物が入出する可能性もある。
また、前記特許文献２に記載の技術では、治具等を用いて研磨ヘッドの下面にウェーハを押さえつけなければならず、押さえつけの際、ウェーハの表面に接触痕が残ることや、パッド上の異物などでウェーハの表面が傷つけられることがある。
この場合、その後の研磨処理により接触痕、傷を除去することも考えられるが、研磨取代が少ない場合は、接触痕、傷を除去することができないという課題がある。
【０００５】
本発明の目的は、ウェーハ表面に接触痕や傷が入るのを防止するともに、接触痕や傷が生じたウェーハの製造数を最小限とすることができる片面研磨装置へのウェーハ装填装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の片面研磨装置へのウェーハ装填装置は、片面研磨装置にウェーハを装填する片面研磨装置へのウェーハ装填装置であって、前記ウェーハの外周縁で当接し、前記ウェーハを支持する仮受台と、前記仮受台に支持された前記ウェーハに対して下方から吐出する水によって前記ウェーハを上昇させる水吐出槽と、前記水吐出槽を、前記仮受台に支持されたウェーハに接近、離間させる昇降装置と、前記ウェーハと前記水吐出槽との距離を測定する変位センサーと、を有することを特徴とする。
【０００７】
この発明によれば、仮受台にウェーハを支持させた状態で片面研磨装置のウェーハの保持面に接近させ、水吐出槽から水を吐出することにより、ウェーハを保持面に保持させることができる。ウェーハを保持面に装填するに際して、水圧を利用して装填することができるため、ウェーハに接触痕や傷を生じさせることがなく、ウェーハの表面品質が悪化することがない。
また、ウェーハと水吐出槽との距離を監視することにより、ウェーハと水吐出槽とが接触した際にウェーハの装填を停止することができる。これにより、接触の再発防止の対策を行い、ウェーハと水吐出槽との接触による接触痕が生じたウェーハの製造数を最小限とすることができる。
【０００８】
上記片面研磨装置へのウェーハ装填装置において、前記水吐出槽は、前記仮受台に支持された前記ウェーハの中央下方に配置された凹部と、前記凹部の底部に形成され、前記凹部内に水を吐出する吐出部と、前記凹部の周囲から突出する環状の延びる突起部と、を有することが好ましい。
【０００９】
この発明によれば、吐出部が凹部の中央に水を吐出し、ウェーハを凹部全体の水圧で押すようになっているので、ウェーハを片面研磨装置の保持面に押しつける力を、ウェーハの中央部において、面で作用させることができる。
【００１０】
上記片面研磨装置へのウェーハ装填装置において、前記水吐出槽には、前記突起部の位置で上下に貫通する貫通孔が設けられ、前記変位センサーは、前記貫通孔の下方から前記ウェーハと前記突起部との距離を測定することが好ましい。
【００１１】
この発明によれば、ウェーハと水吐出槽とが最初に接触する箇所を直接測定することができるため、ウェーハと水吐出槽との接触を確実に検知することができる。
【００１２】
上記片面研磨装置へのウェーハ装填装置において、前記水吐出槽は、前記貫通孔を塞ぐ透明部材を有し、前記変位センサーは、前記透明部材を介して前記ウェーハと前記突起部との距離を測定することが好ましい。
【００１３】
この発明によれば、透明部材で貫通孔を塞ぐことによって、貫通孔を介して水が水吐出槽の下方に漏れて変位センサーが濡れるのを防止することができる。
【００１４】
上記片面研磨装置へのウェーハ装填装置において、前記透明材料は石英ガラスであることが好ましい。
この発明によれば、透明度が高い石英ガラスを用いることにより、センサーによる測定精度を高めることができる。
【００１５】
上記片面研磨装置へのウェーハ装填装置において、前記変位センサーは、共焦点同軸方式であることが好ましい。
この発明によれば、共焦点同軸方式は三角測距方式とは異なり、発光部と受光部の光軸が交わる検出角度がゼロであり、測定対象物に対して発光部と受光部ともに光軸が垂直であるため、ウェーハと水吐出槽の突起部間に介在する水流による光の乱反射の影響を防ぎ、信頼性良く両者間の距離を監視することができる。
【００１６】
上記片面研磨装置へのウェーハ装填装置において、前記変位センサーと前記水吐出槽との間に配置され、前記変位センサーの上方を覆うカバーを有することが好ましい。
この発明によれば、変位センサーに水吐出槽から漏れ出た水がかかるのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態に係る片面研磨装置へのウェーハ装填装置の構造を示す断面図である。
【図２】前記一実施形態におけるウェーハ装填装置の構造を示す平面図である。
【図３】前記一実施形態における水吐出装置および変位センサーの構造を示す断面図である。
【図４】前記一実施形態におけるブラケットを下方から見た斜視図である。
【図５】前記一実施形態における片面研磨装置へのウェーハ装填方法を示すフローチャートである。
【図６】前記一実施形態におけるウェーハ装填装置の作用を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
〔片面研磨装置〕
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。本実施形態のウェーハ装填装置２は、片面研磨装置１にウェーハＷを装填するための装置である。まず、ウェーハ装填装置２によるウェーハＷの装填対象である片面研磨装置１について説明する。
図１に示すように、片面研磨装置１は、軸回りに回転可能なヘッド回転軸１１と、ヘッド回転軸１１の下端部に接続された研磨ヘッド１２と、研磨ヘッド１２の下方に設けられたバックパッド１３と、バックパッド１３の下面の外周側に設けられ、ウェーハＷの外周端部に接触するリテーナー１４と、図示しない定盤と、を備える。
【００１９】
ヘッド回転軸１１は軸状部材から構成され、モータ等の回転駆動源の回転軸に接続され、研磨ヘッド１２を回転させる。
研磨ヘッド１２は、ヘッド回転軸１１の回転中心を中心とする円形の厚肉板状体から構成される。この研磨ヘッド１２は、水の表面張力によりウェーハＷを保持する。
【００２０】
バックパッド１３は、研磨ヘッド１２の下面に設けられ、研磨ヘッド１２と同径の円形板状体である。バックパッド１３は、多孔質樹脂材により構成され、水を含むことができる。
リテーナー１４は、バックパッド１３の下面に設けられるリング状部材から形成され、ウェーハＷがバックパッド１３と研磨パッドの隙間から外れないように保持している。また、リテーナー１４の内径は、ウェーハＷの外径よりも若干大きい。
定盤は、回転自在に支持され、研磨ヘッド１２の回転方向と同方向または逆方向に回転する。定盤上には、研磨パッドが貼り付けられ、ウェーハＷの下面が所定の力で押圧されることにより、ウェーハＷの研磨が行われる。
【００２１】
〔ウェーハ装填装置〕
次に、ウェーハＷを片面研磨装置１に装填するウェーハ装填装置２の詳細について説明する。
ウェーハ装填装置２は、図示しないロボットハンドなどによって搬送されたウェーハＷを片面研磨装置１の研磨ヘッド１２の下面に装填する装置である。図１および図２に示すように、ウェーハ装填装置２は、基台２Ａ上に設けられる仮受台２１と、仮受台２１の板状部２１Ａ上に配置された水吐出槽２２と、仮受台２１を昇降させる第１昇降装置２３と、水吐出槽２２を昇降させる第２昇降装置２４と、制御装置３（図２参照）と、ブラケット５を介して水吐出槽２２に取り付けられた変位センサー４とを備える。
【００２２】
仮受台２１は、板状部２１Ａと、板状部２１Ａの外周縁から起立する起立部２１Ｂとを備える。
板状部２１Ａは、所定厚さの円形板状体である。板状部２１Ａ上であって第２昇降装置２４と起立部２１Ｂとの間には、複数のエアブロー２１１が配置されている。エアブロー２１１は、板状部２１Ａの中心周りに複数箇所（本実施形態では４箇所）に設けられている。エアブロー２１１は、ウェーハＷを装填する前に、バックパッド１３の下面である保持面１３Ａの余分な水分を飛ばす機能を有する。
【００２３】
起立部２１Ｂは、板状部２１Ａ上の外周近傍に、複数本設置される（本実施形態では、ウェーハＷの円周上に４本均等に設置されている）。起立部２１Ｂは、板状部２１Ａの外周端面に、複数のボルト２１２によって固定される。
【００２４】
また、起立部２１Ｂの上端には、仮受部２１３が設けられている。
仮受部２１３の上面は、板状部２１Ａの中心に向かうにしたがって低くなるように傾斜したテーパ面とされている。ウェーハＷを受ける際には、仮受部２１３のテーパ面が、ウェーハＷの外周縁のＲ面取り部と当接し、ウェーハＷの外周縁を支持する。
【００２５】
水吐出槽２２は、上方に向かって水を吐出する円柱状部材であり、凹部２２Ａと、吐出部２２Ｂと、突起部２２Ｃとを備える。なお、水吐出槽２２の外周径は、ウェーハＷの外形よりも小さければよい。
凹部２２Ａは、上方から見て水吐出槽２２の外周よりも小径の円形状に形成されている。凹部２２Ａの中心は、水吐出槽２２の中心と同じとされ、漏斗状または球面状の傾斜面を有している。凹部２２Ａは、ウェーハＷが仮受台２１に支持された際、ウェーハＷの中央下方に位置する。
吐出部２２Ｂは、凹部２２Ａの底部に形成される複数箇所の孔２２１を備え、これらの孔２２１からウェーハＷと凹部２２Ａ内の空間に水を吐出する。孔２２１は、水吐出槽２２の内部に形成される十字状の配管２２２に連通し、配管２２２には、水吐出槽２２の外周に接続される水供給管２２３から水が供給される。
【００２６】
突起部２２Ｃは、凹部２２Ａの周囲に形成され、上方に突出する環状の突起である。突起部２２Ｃの上端は、仮受台２１に支持されたウェーハＷの主面と平行をなす面上に配置されている。突起部２２Ｃの上端は、水吐出槽２２の中で最も上方に位置する。
【００２７】
第１昇降装置２３は、仮受台２１を上下に昇降させる装置であり、昇降装置本体２３Ａおよびカバー部２３Ｂを備える。
昇降装置本体２３Ａは、仮受台２１を上下に昇降させる本体部分であり、軸受部２３１および軸部２３２を備える。
軸受部２３１は、ボールスプライン軸受から構成され、基台２Ａ上に固定される。
軸部２３２は、外周面にスプライン溝が形成された軸状部材から構成され、軸受部２３１内に挿入される。軸部２３２の上端は、仮受台２１の下面中心に取り付けられている。軸部２３２の下端は、第１昇降装置２３の下方に設けられるエアシリンダ２Ｂに接続されている。
エアシリンダ２Ｂが伸縮すると、軸部２３２は上下に昇降し、これに伴い、仮受台２１も上下に昇降する。
【００２８】
カバー部２３Ｂは、昇降装置本体２３Ａを囲む筒状体から構成され、昇降装置本体２３Ａが、ウェーハＷの装填時に使用する水によって濡れるのを防止する。カバー部２３Ｂは、固定筒部２３３および移動筒部２３４を備える。
固定筒部２３３は、円形状の筒状体から構成され、軸受部２３１を囲むように設けられ、下端が基台２Ａに固定されている。
移動筒部２３４は、固定筒部２３３よりも径の小さな円筒状体から構成され、下部は固定筒部２３３の内部に収容される。移動筒部２３４は、軸部２３２の上下動に伴い、上下に昇降し、軸部２３２が外部に露出することを防止する。
【００２９】
第２昇降装置２４は、水吐出槽２２を上下に昇降させる装置であり、昇降装置本体２４Ａおよびカバー部２４Ｂを備える。
昇降装置本体２４Ａは、水吐出槽２２を昇降させる本体部分であり、シリンダ本体２４１および昇降部２４２を備える。
シリンダ本体２４１は、水平方向（本実施形態では、Ｙ方向）にオフセットして設けられ、ボルト等により板状部２１Ａに固定されている。
昇降部２４２は、上端が後述するベース部２４３を介して水吐出槽２２の下面に取り付けられている。昇降部２４２は、図示しないエアの供給源からシリンダ本体２４１にエアが供給され、昇降部２４２の上部が上下方向に伸縮し、昇降部２４２の伸縮に伴い、水吐出槽２２が上下に昇降する。
【００３０】
カバー部２４Ｂは、ベース部２４３と、第１移動筒部２４４と、固定筒部２４５と、第２移動筒部２４６とを有し、昇降装置本体２４Ａが、ウェーハＷの装填時に使用する水によって濡れるのを防止する。
【００３１】
ベース部２４３は、水吐出槽２２の下面と平行をなす板状部材である。
第１移動筒部２４４は、昇降装置本体２４Ａを囲む筒状体であり、上端がベース部２４３に固定されている。
固定筒部２４５は、第１移動筒部２４４の内側に配置され、昇降装置本体２４Ａを囲む円筒状体から構成されている。固定筒部２４５の下端は、仮受台２１の板状部２１Ａに固定されている。
【００３２】
第２移動筒部２４６は、固定筒部２４５の内側に配置され、上端がベース部２４３に固定されている。第１移動筒部２４４および第２移動筒部２４６は、昇降部２４２の伸縮に伴い、上下に昇降し、シリンダ本体２４１が外部に露出することを防止する。
上記したカバー部２４Ｂは、シリンダ本体２４１と同様に、Ｙ方向にオフセットして設けられている。
【００３３】
制御装置３は、変位センサー４の測定値に基づいてウェーハ装填装置２を制御する。制御装置３は、変位センサー４および第１昇降装置２３、および第２昇降装置２４と接続することができれば、配置位置は任意である。変位センサー４の配線４３は、制御装置３と電気的に接続されている。
【００３４】
変位センサー４は、発光部から照射された光を受光部で受光することにより、測定対象物までの距離や、測定対象物の変位を測定する光学式のセンサーである。
変位センサー４は、水吐出槽２２を上昇させる際に、ウェーハＷと水吐出槽２２との距離を測定することによって、ウェーハＷと水吐出槽２２（突起部２２Ｃ）との接触を検知する。変位センサー４は、ベース部２４３およびブラケット５を介して水吐出槽２２の下面に固定されている。
【００３５】
図３に示すように、変位センサー４は、一方向に長いセンサー本体部４１と、センサー本体部４１の一端に設けられた発光部／受光部４２と、センサー本体部４１の他端に設けられ、制御装置３（図２参照）と接続される配線４３とを有する。発光部／受光部４２は、上方に向けて光を照射するようにブラケット５およびベース部２４３を介して水吐出槽２２に固定される。
変位センサー４は、共焦点同軸方式であり、従来の三角測距センサーとは異なり、発光部と受光部の光軸が交わる検出角度がゼロであり、測定対象物に対して発光部と受光部ともに光軸が垂直である。
【００３６】
ブラケット５（カバー）は、変位センサー４をカバー部２４Ｂのベース部２４３を介して水吐出槽２２に固定するための固定具である。図４に示すように、ブラケット５は、変位センサー４のセンサー本体部４１を上方から覆うブラケット本体５１と、ブラケット本体５１の両側端から下方に突出する一対のスカート部５２とを有している。ブラケット５は、ブラケット本体５１の一端に設けられた固定部５４を介してボルト等によりベース部２４３に固定される。変位センサー４のセンサー本体部４１は、ブラケット本体５１の下面５１Ａに固定される。
スカート部５２は、センサー本体部４１の両側に沿うように形成されている。
ブラケット５は、変位センサー４と水吐出槽２２との間に配置され、変位センサー４を上方から覆うことによって、変位センサー４のカバーとしての機能を有する。
【００３７】
図３に示すように、水吐出槽２２には、突起部２２Ｃの位置で上下に貫通する第１貫通孔２２Ｄが設けられている。第１貫通孔２２Ｄは、突起部２２Ｃの上面から下方に向かって水吐出槽２２を貫通している。
第１貫通孔２２Ｄに対応して、カバー部２４Ｂのベース部２４３には第２貫通孔２４７が形成され、ブラケット５には第３貫通孔５３が形成されている。
第１貫通孔２２Ｄの軸線と第２貫通孔２４７の軸線と第３貫通孔５３の軸線とは、同一直線上に配置されている。第１貫通孔２２Ｄの内径と第２貫通孔２４７の内径と第３貫通孔５３の内径とは、略同一である。
【００３８】
ウェーハ装填装置２は、第１貫通孔２２Ｄ、第２貫通孔２４７、および第３貫通孔５３を塞ぐ透明部材６を有している。
透明部材６は、円柱形状をなしている。透明部材６の外径は、貫通孔２２Ｄ，２４７，５３の内径と略同一か、やや小さい。透明部材６は、透明部材６の上端が突起部２２Ｃの上端と一致するように、貫通孔２２Ｄ，２４７，５３に嵌め込まれている。
【００３９】
透明部材６は、石英ガラスなどの透明な材料によって形成されている。透明部材６は、第１貫通孔２２Ｄ、第２貫通孔２４７、および第３貫通孔５３の全長に亘って貫通孔２２Ｄ，２４７，５３を塞ぐ必要はなく、第１貫通孔２２Ｄの一部を塞いでいればよい。すなわち、透明部材６は、水吐出槽２２に設けられていればよい。
透明部材６を形成する材料は、石英ガラスに限ることはなく、例えば、ポリカーボネートなどの樹脂材料を採用してもよい。透明部材６を形成する材料として、石英ガラスは、透明度が高いため好適である。
【００４０】
変位センサー４は、透明部材６を介してウェーハＷと水吐出槽２２との距離を測定する。制御装置３は、変位センサー４によって測定されるウェーハＷと突起部２２Ｃとの距離がゼロになった場合に、水吐出槽２２とウェーハＷとが接触したと判定する。
【００４１】
次に、ウェーハ装填装置２の制御方法について、図５に示すフローチャートに基づいて説明する。
図５に示すように、ウェーハ装填装置２の制御方法は、ウェーハ設置工程Ｓ１と、仮受台上昇工程Ｓ２と、水吐出工程Ｓ３と、水吐出槽上昇工程Ｓ４と、接触判定工程Ｓ５と、ウェーハ装填工程Ｓ６と、装置停止工程Ｓ７と、を有する。
【００４２】
ウェーハ設置工程Ｓ１では、ロボットハンドなどを用いて、ウェーハＷを仮受台２１の上に設置する。
次に、仮受台上昇工程Ｓ２では、第１昇降装置２３の昇降装置本体２３Ａにより、仮受台２１を上昇させ、ウェーハＷをバックパッド１３の保持面１３Ａに接近させる。
【００４３】
仮受台２１を上昇させた後、水吐出工程Ｓ３では、水吐出槽２２の吐出部２２Ｂの４箇所の孔２２１から水を吐出する。さらに、水吐出槽上昇工程Ｓ４では、図６に示すように、吐出部２２Ｂから水を吐出させながら、第２昇降装置２４の昇降装置本体２３Ａにより、水吐出槽２２を上昇させる。
【００４４】
ウェーハＷは、図６に示すように、水の吐出圧（凹部２２Ａの内圧）により、ウェーハＷと突起部２２Ｃとの距離Ｄ１を保ちながら、バックパッド１３に向けて上昇する。この際、ウェーハＷと突起部２２Ｃの距離Ｄ１は、１００μｍ〜１５０μｍとされるが、可能な限り接近させた方が、水吐出槽２２から吐出された水による押しつけ力が大きくなるので、好ましい。
【００４５】
接触判定工程Ｓ５は、水の吐出と水吐出槽２２の上昇を継続させながら水吐出槽２２とウェーハＷとが接触したか否かを判定する工程である。
【００４６】
接触判定工程Ｓ５において、制御装置３が変位センサー４の測定値に基づいて水吐出槽２２とウェーハＷとが接触したと判定されない場合（ＮＯ）、ウェーハＷは研磨ヘッド１２のバックパッド１３の面に押しつけられ、研磨ヘッド１２の下面に装填される（ウェーハ装填工程Ｓ６）。
【００４７】
接触判定工程Ｓ５において、制御装置３は、変位センサー４の測定値に基づいて水吐出槽２２とウェーハＷとが接触した（ウェーハＷと突起部２２Ｃとの距離Ｄ１がゼロ）と判定した場合（ＹＥＳ）、制御装置３は、図示しない発報手段によりアラームを発報するとともに、ウェーハ装填装置２を停止する（装置停止工程Ｓ７）。
【００４８】
上記実施形態によれば、仮受台２１に支持されたウェーハＷを、水吐出槽２２から水を吐出することにより保持面１３Ａに装填することができる。ウェーハＷを保持面１３Ａに装填するに際して、水圧を利用して装填することができるため、ウェーハＷに接触痕や傷を生じさせることがなく、ウェーハＷの表面品質が悪化することがない。
また、ウェーハＷと水吐出槽２２との距離を監視することにより、ウェーハＷと水吐出槽２２とが接触した際にウェーハＷの装填を停止することができる。これにより、接触の再発防止の対策を行い、ウェーハＷと水吐出槽２２との接触による接触痕が生じたウェーハＷの製造数を最小限とすることができる。
【００４９】
また、吐出部２２Ｂが凹部２２Ａの中央に水を吐出し、ウェーハＷを凹部２２Ａ全体で押すようになっているので、ウェーハＷを片面研磨装置１の保持面１３Ａに押しつける力を、ウェーハＷの中央部において、面で作用させることができる。
【００５０】
また、突起部２２Ｃに貫通孔２２Ｄが設けられていることによって、ウェーハＷと水吐出槽２２とが最初に接触する箇所を直接測定することができるため、ウェーハＷと水吐出槽２２との接触を確実に検知することができる。
また、透明部材６で貫通孔２２Ｄを塞ぐことによって、貫通孔２２Ｄを介して水が水吐出槽２２の下方に漏れて変位センサー４が濡れるのを防止することができる。
【００５１】
また、貫通孔２２Ｄを塞ぐ透明部材６として透明度が高い石英ガラスを用いることにより、変位センサー４による測定精度を高めることができる。
また、共焦点同軸方式の変位センサー４は三角測距方式のセンサーとは異なり、発光部と受光部の光軸が交わる検出角度がゼロであり、測定対象物に対して発光部と受光部ともに光軸が垂直であるため、ウェーハＷと水吐出槽２２の突起部２２Ｃ間に介在する水流による光の乱反射の影響を防ぎ、信頼性良く両者間の距離を監視することができる。
【００５２】
また、ブラケット５が変位センサー４のカバーとして機能することによって、変位センサー４に水吐出槽２２から漏れ出た水がかかるのを防止することができる。
【００５３】
また、第１昇降装置２３を利用して仮受台２１を片面研磨装置１の保持面１３Ａに接近させ、保持面１３ＡとウェーハＷの間に所定の隙間を有して維持することができる。そして、第２昇降装置２４を利用して、水を吐出させながら水吐出槽２２をウェーハＷに所望の状態に接近させることにより、ウェーハＷに接触痕や傷を生じさせることがなく、片面研磨装置１の保持面１３Ａに装填することができる。
【００５４】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範囲内において、各種の変形例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
例えば、上記実施形態では、水吐出槽２２は、水を吐出するものとしたがこれに限ることはなく、水吐出槽２２から他の液体や、空気などの気体を吐出してウェーハＷを上昇させてもよい。
【００５５】
また、上記実施形態では、変位センサー４として共焦点同軸方式のものを採用したが、これに限ることはなく、センサーの取り付けスペースなどに問題がなければ、他の方式のセンサーの採用も可能である。
また、上記実施形態では、ウェーハＷと突起部２２Ｃが接触したときに停止するように設定されているが、ウェーハＷと水吐出槽２２との距離が所定値より小さくなった場合にアラームを発報しても良い。
【符号の説明】
【００５６】
１…片面研磨装置、２…ウェーハ装填装置、３…制御装置、４…変位センサー、５…ブラケット、６…透明部材、２１…仮受台、２２…水吐出槽、２２Ａ…凹部、２２Ｂ…吐出部、２２Ｃ…突起部、２２Ｄ…第１貫通孔、２３…第１昇降装置、２３Ａ…昇降装置本体、２３Ｂ…カバー部、２４…第２昇降装置、２４Ａ…昇降装置本体、２４Ｂ…カバー部、５１…ブラケット本体、Ｗ…ウェーハ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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