(57)【要約】【課題】真空チャンバの振動を防止することができるステージ移動システムを提供する。【解決手段】ステージ移動システム１は、真空チャンバ３と、真空チャンバ３内に配置されたステージ５と、ステージ５を移動させるアクチュエータ７と、アクチュエータ７を支持する支持部材１１と、真空チャンバ３の下方に配置された架台１５と、真空チャンバ３と架台１５との間に挟まれた除振装置２０とを備えている。支持部材１１は架台１５に固定されている。【選択図】図２
2020123521.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバと、
前記真空チャンバ内に配置されたステージと、
前記ステージを移動させるアクチュエータと、
前記アクチュエータを支持する支持部材と、
前記真空チャンバの下方に配置された架台と、
前記真空チャンバと前記架台との間に挟まれた除振装置とを備え、
前記支持部材は前記架台に固定されている、ステージ移動システム。
【請求項２】
前記ステージを支持するリニアガイドをさらに備えている、請求項１に記載のステージ移動システム。
【請求項３】
前記リニアガイドは、前記支持部材に支持されている、請求項２に記載のステージ移動システム。
【請求項４】
前記ステージ移動システムは、前記真空チャンバに接続されたシールをさらに備えており、
前記真空チャンバには、前記支持部材が貫通する通孔が形成されており、
前記シールは、前記通孔を塞いでいる、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のステージ移動システム。
【請求項５】
前記通孔は、前記真空チャンバの底部に形成されている、請求項４に記載のステージ移動システム。
【請求項６】
前記通孔は、前記真空チャンバの側壁に形成されている、請求項４に記載のステージ移動システム。
【請求項７】
前記支持部材に接続された緩衝装置をさらに備えている、請求項６に記載のステージ移動システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハやガラス基板などの試料を真空チャンバ内で移動させるためのステージ移動システムに関し、特にステージの移動中に真空チャンバの振動を防止するための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
走査電子顕微鏡や半導体露光装置などの精密機械は、一般に、真空チャンバに連結された除振装置を備えている。これは、床の振動が真空チャンバを介して精密機械に伝わることを防止するためである。図１７は、従来の走査電子顕微鏡を示す模式図である。走査電子顕微鏡は、電子銃、集束レンズ、対物レンズなどが収容された鏡筒５００と、この鏡筒５００に固定された真空チャンバ５０１と、真空チャンバ５０１内に配置されたＸＹステージ５０５を備えている。試料の一例であるウェーハＷは、ＸＹステージ５０５上に載置され、ＸＹステージ５０５によって所定の撮像位置に移動される。
【０００３】
真空チャンバ５０１は、空気ばねなどから構成された複数の除振装置５１０に支持されている。これら除振装置５１０は、床５１２に設置された架台５１１に固定されている。架台５１１と真空チャンバ５０１との間に配置された除振装置５１０は、床５１２の振動が真空チャンバ５０１に伝わることを防止することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−１１８１７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、除振装置５１０は、真空チャンバ５０１内に配置されたＸＹステージ５０５によって発生された振動を防ぐことはできない。ＸＹステージ５０５は、それ自身がアクチュエータを備えており、ＸＹステージ５０５がウェーハＷを移動させるときに発生する反力が真空チャンバ５０１に加わる。特に、スループットを上げるために、ウェーハＷを高速で移動させるときに、大きな反力が発生する。この反力に起因して真空チャンバ５０１は振動し、真空チャンバ５０１の振動は鏡筒５００に伝わる。結果として、走査電子顕微鏡の撮像精度が低下してしまう。
【０００６】
さらに、従来の走査電子顕微鏡では次のような問題も起こりうる。上述した除振装置５１０は、空気ばねなどの弾性部材を備えているため、真空チャンバ５０１および鏡筒５００の姿勢が不安定になりやすい。一般に、除振装置５１０のばね定数が低いほど、除振性能は高くなる。しかしながら、ばね定数が低いと、ＸＹステージ５０５が真空チャンバ５０１内で移動したときに、除振装置５１０に加わる荷重が偏り、真空チャンバ５０１および鏡筒５００が傾くおそれがある。
【０００７】
本発明は、真空チャンバの振動を防止することができるステージ移動システムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
一態様では、真空チャンバと、前記真空チャンバ内に配置されたステージと、前記ステージを移動させるアクチュエータと、前記アクチュエータを支持する支持部材と、前記真空チャンバの下方に配置された架台と、前記真空チャンバと前記架台との間に挟まれた除振装置とを備え、前記支持部材は前記架台に固定されている、ステージ移動システムが提供される。
【０００９】
一態様では、前記ステージ移動システムは、前記ステージを支持するリニアガイドをさらに備えている。
一態様では、前記リニアガイドは、前記支持部材に支持されている。
一態様では、前記ステージ移動システムは、前記真空チャンバに接続されたシールをさらに備えており、前記真空チャンバには、前記支持部材が貫通する通孔が形成されており、前記シールは、前記通孔を塞いでいる。
一態様では、前記通孔は、前記真空チャンバの底部に形成されている。
一態様では、前記通孔は、前記真空チャンバの側壁に形成されている。
一態様では、前記ステージ移動システムは、前記支持部材に接続された緩衝装置をさらに備えている。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、アクチュエータがステージを移動させるときに発生する反力は、支持部材に受け止められる。この支持部材は架台に固定されているため、反力は支持部材を介して架台に伝わり、真空チャンバには伝わらない。したがって、真空チャンバの振動が防止される。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】ステージ移動システムの一実施形態を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面である。
【図３】図１のＢ−Ｂ線断面図である。
【図４】ステージ移動システムの他の実施形態を示す平面図である。
【図５】図４のＣ−Ｃ線断面である。
【図６】図４のＤ−Ｄ線断面図である。
【図７】ステージ移動システムのさらに他の実施形態を示す平面図である。
【図８】図７のＥ−Ｅ線断面である。
【図９】図７のＦ−Ｆ線断面図である。
【図１０】図８に示す第１支持部材に第１緩衝装置が接続された一実施形態を示す図である。
【図１１】図９に示す第２支持部材に第２緩衝装置が接続された一実施形態を示す図である。
【図１２】第１緩衝装置が真空チャンバの外に配置された一実施形態を示す図である。
【図１３】第２緩衝装置が真空チャンバの外に配置された一実施形態を示す図である。
【図１４】ばねとダンパーとの組み合わせから構成された緩衝装置の一例を示す模式図である。
【図１５】ボイスコイルモータから構成された緩衝装置の一例を示す模式図である。
【図１６】上記ステージ移動システムが組み込まれた走査電子顕微鏡の一実施形態を示す模式図である。
【図１７】従来の走査電子顕微鏡を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
図１は、ステージ移動システム１の一実施形態を示す平面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ線断面であり、図３は、図１のＢ−Ｂ線断面図である。
【００１３】
ステージ移動システム１は、真空チャンバ３と、真空チャンバ３内に配置されたステージ５と、ステージ５をその上面５ａと平行な方向に移動させる複数の第１アクチュエータ７および複数の第２アクチュエータ８と、第１アクチュエータ７を支持する複数の第１支持部材１１と、第２アクチュエータ８を支持する複数の第２支持部材１２と、真空チャンバ３の下方に配置された架台１５と、真空チャンバ３と架台１５との間に挟まれた除振装置２０とを備えている。架台１５は、床２１の上に設置されている。本実施形態では、２つの第１アクチュエータ７および２つの第２アクチュエータ８が設けられているが、一実施形態では、１つの第１アクチュエータ７および１つの第２アクチュエータ８が設けられてもよい。さらに一実施形態では、１つの第１支持部材１１および１つの第２支持部材１２が設けられてもよい。
【００１４】
真空チャンバ３は、図示しない真空ポンプなどの真空源に接続されている。図１乃至図３では、図示を省略しているが、真空チャンバ３には、通常、走査電子顕微鏡や半導体露光装置などの精密機械の一部が連結される。試料であるウェーハＷは、ステージ５の上面５ａに載置される。ステージ５は、ウェーハＷを把持するチャックを備えてもよい。
【００１５】
図１に示すように、第１アクチュエータ７および第２アクチュエータ８は、互いに垂直に配置されている。第１アクチュエータ７は、ステージ５をその上面５ａに平行な第１の方向Ｌ１に移動させるように構成され、第２アクチュエータ８は、ステージ５をその上面５ａに平行であって、かつ第１の方向Ｌ１に垂直な第２の方向Ｌ２に移動させるように構成されている。
【００１６】
本実施形態では、第１アクチュエータ７および第２アクチュエータ８のそれぞれは、リニアモータから構成されている。第１アクチュエータ７は、互いに平行に配置された第１固定子７ａと、第１固定子７ａに対向する第１可動子７ｂを備えている。ステージ５は、第１固定子７ａの間に配置されている。第２アクチュエータ８は、互いに平行に配置された第２固定子８ａと、第２固定子８ａに対向する第２可動子８ｂを備えている。ステージ５は、第２固定子８ａの間に配置されている。第１固定子７ａおよび第２固定子８ａは、互いに垂直である。一実施形態では、第１アクチュエータ７および第２アクチュエータ８のそれぞれは、ねじ機構と、回転モータとの組み合わせから構成されてもよい。
【００１７】
ステージ移動システム１は、ステージ５を支持し、かつ第１アクチュエータ７に連結された第１橋梁部材２５と、第２アクチュエータ８に連結された第２橋梁部材２６をさらに備えている。第１橋梁部材２５は、第２橋梁部材２６の下方に配置されている。第１橋梁部材２５および第２橋梁部材２６を上から見たとき、第１橋梁部材２５と第２橋梁部材２６は互いに垂直に交わっている。
【００１８】
第１橋梁部材２５の両端は、第１アクチュエータ７に保持されており、第２橋梁部材２６の両端は、第２アクチュエータ８に保持されている。より具体的には、第１橋梁部材２５の両端は、第１アクチュエータ７の第１可動子７ｂに固定されており、第１橋梁部材２５は第１可動子７ｂと一体に第１の方向Ｌ１に移動可能となっている。第２橋梁部材２６の両端は、第２アクチュエータ８の第２可動子８ｂに固定されており、第２橋梁部材２６は第２可動子８ｂと一体に第２の方向Ｌ２に移動可能となっている。
【００１９】
第１橋梁部材２５は、第１アクチュエータ７と平行に延びる２つの第１リニアガイド３１に移動可能に支持されている。これら第１リニアガイド３１は、真空チャンバ３の底部３ａに直接または間接に固定されている。第１橋梁部材２５は、第１アクチュエータ７および第１リニアガイド３１に対して垂直である。ステージ５は、第１橋梁部材２５を介して第１リニアガイド３１に支持されている。第１橋梁部材２５の移動方向は、第１リニアガイド３１により第１の方向Ｌ１に制限される。
【００２０】
第２橋梁部材２６は、第２アクチュエータ８と平行に延びる２つの第２リニアガイド３２に移動可能に支持されている。これら第２リニアガイド３２は、真空チャンバ３の底部３ａに直接または間接に固定されている。第２橋梁部材２６は、第２アクチュエータ８および第２リニアガイド３２に対して垂直である。第２橋梁部材２６の移動方向は、第２リニアガイド３２により第２の方向Ｌ２に制限される。
【００２１】
ステージ５は、第１橋梁部材２５上に配置された第３リニアガイド３３によって移動可能に支持されている。第３リニアガイド３３は、第２アクチュエータ８および第２リニアガイド３２と平行に（すなわち第２の方向Ｌ２に）延びている。第３リニアガイド３３は、ステージ５が第２の方向Ｌ２に移動することを許容しつつ、ステージ５が第１の方向Ｌ１に移動することを制限する。
【００２２】
第２橋梁部材２６は、ステージ５に形成された孔５ｂを貫通して第１の方向Ｌ１に延びている。孔５ｂが延びる方向は、第１の方向Ｌ１である。孔５ｂは、第２橋梁部材２６の断面よりも大きく、ステージ５は、第２橋梁部材２６に対して相対的に移動可能である。
【００２３】
ステージ５は、第２橋梁部材２６上に配置された第４リニアガイド３４によってさらに移動可能に支持されている。第４リニアガイド３４は、第１アクチュエータ７および第１リニアガイド３１と平行に（すなわち第１の方向Ｌ１に）延びている。第４リニアガイド３４は、ステージ５が第１の方向Ｌ１に移動することを許容しつつ、ステージ５が第２の方向Ｌ２に移動することを制限する。
【００２４】
第１アクチュエータ７および第２アクチュエータ８は、ステージ５を独立に第１の方向Ｌ１および第２の方向Ｌ２に移動させることができる。したがって、ウェーハＷは、ステージ５の上面５ａと平行な平面内の所望の位置に移動することができる。ステージ５の第１の方向Ｌ１への移動は、第１リニアガイド３１によって案内され、ステージ５の第２の方向Ｌ２への移動は、第２リニアガイド３２によって案内される。第１アクチュエータ７および第２アクチュエータ８自体が、リニアガイドとしての機能を有している場合は、第１リニアガイド３１および第２リニアガイド３２は省略してもよい。
【００２５】
ステージ５、第１アクチュエータ７、第２アクチュエータ８、第１リニアガイド３１、第２リニアガイド３２、第３リニアガイド３３、第４リニアガイド３４、第１橋梁部材２５、および第２橋梁部材２６は、真空チャンバ３内に配置されている。第１支持部材１１および第２支持部材１２は、真空チャンバ３から外側に延び、架台１５に接続されている。
【００２６】
図２に示すように、第１アクチュエータ７は、第１支持部材１１に支持されている。より具体的には、第１アクチュエータ７の第１固定子７ａは第１支持部材１１の一端に固定されており、第１支持部材１１の他端は架台１５に固定されている。第１支持部材１１は、真空チャンバ３の底部３ａに形成されている第１通孔３６を通って延びている。真空チャンバ３の真空を維持するために、第１通孔３６を塞ぐ第１シール４１が真空チャンバ３の底部３ａに接続されている。本実施形態では、第１シール４１は、真空チャンバ３と架台１５との間に配置されている。
【００２７】
図３に示すように、第２アクチュエータ８は、第２支持部材１２に支持されている。より具体的には、第２アクチュエータ８の第２固定子８ａは第２支持部材１２の一端に固定されており、第２支持部材１２の他端は架台１５に固定されている。第２支持部材１２は、真空チャンバ３の底部３ａに形成されている第２通孔３８を通って延びている。真空チャンバ３の真空を維持するために、第２通孔３８を塞ぐ第２シール４２が真空チャンバ３の底部３ａに接続されている。本実施形態では、第２シール４２は、真空チャンバ３と架台１５との間に配置されている。
【００２８】
第１シール４１および第２シール４２は、真空チャンバ３内の真空を維持しつつ、架台１５の振動を真空チャンバ３に伝えない構造を有することが必要である。本実施形態では、第１シール４１および第２シール４２として、ベローズが使用されている。ベローズから構成された第１シール４１および第２シール４２は、真空チャンバ３と架台１５の両方に接続されている。一実施形態では、第１シール４１および第２シール４２として、磁性流体シール、またはＯリングを使用してもよい。
【００２９】
除振装置２０は、真空チャンバ３と架台１５との間に配置されている。より具体的には、除振装置２０は、第１支持部材１１および第２支持部材１２に隣接している。各除振装置２０は、空気ばね等などの弾性部材を有している。除振装置２０は、床２１から架台１５に伝わった振動を吸収し、振動が真空チャンバ３に伝わることを防止する。
【００３０】
上述したように、第１支持部材１１および第２支持部材１２は、架台１５に固定されている。第１アクチュエータ７がステージ５およびウェーハＷを第１の方向Ｌ１に移動させるとき、反力が第１アクチュエータ７に作用する。この反力は、第１支持部材１１に伝わり、架台１５に受け止められる。同様に、第２アクチュエータ８がステージ５およびウェーハＷを第２の方向Ｌ２に移動させるとき、反力が第２アクチュエータ８に作用する。この反力は、第２支持部材１２に伝わり、架台１５に受け止められる。架台１５は床２１に固定されているので、反力は最終的に床２１によって受け止められる。
【００３１】
本実施形態によれば、第１アクチュエータ７および第２アクチュエータ８がステージ５を移動させるときに発生する反力は第１支持部材１１および第２支持部材１２を通じて架台１５に伝わり、真空チャンバ３には伝わらない。したがって、真空チャンバ３の振動が防止される。
【００３２】
図４は、ステージ移動システム１の他の実施形態を示す平面図であり、図５は、図４のＣ−Ｃ線断面であり、図６は、図４のＤ−Ｄ線断面図である。特に説明しない本実施形態の構成および動作は、図１乃至図３に示す実施形態と同じであるので、その重複する説明を省略する。
【００３３】
本実施形態は、第１アクチュエータ７および第１リニアガイド３１の両方が第１支持部材１１に支持され、第２アクチュエータ８および第２リニアガイド３２の両方が第２支持部材１２に支持されている点で、図１乃至図３に示す実施形態と異なっている。本実施形態によれば、ウェーハＷ、ステージ５、第１アクチュエータ７、第１リニアガイド３１、第１橋梁部材２５、第２アクチュエータ８、第２リニアガイド３２、および第２橋梁部材２６の全ての荷重は、第１支持部材１１および第２支持部材１２によって支持される。さらに、荷重は第１支持部材１１および第２支持部材１２を通じて架台１５によって支持される。
【００３４】
本実施形態によれば、真空チャンバ３内でステージ５が移動した結果として真空チャンバ３内の荷重が偏った場合でも、その偏荷重は第１支持部材１１および第２支持部材１２を通じて架台１５によって剛的に受け止められる。したがって、真空チャンバ３の姿勢が安定する。一般に、除振装置２０のばね定数が低いほど、除振性能は高くなる。本実施形態によれば、ばね定数の低い除振装置２０を使用することができるので、除振装置２０は真空チャンバ３の振動をより確実に防ぐことができる。
【００３５】
図７は、ステージ移動システム１の他の実施形態を示す平面図であり、図８は、図７のＥ−Ｅ線断面であり、図９は、図７のＦ−Ｆ線断面図である。特に説明しない本実施形態の構成および動作は、図１乃至図３に示す実施形態と同じであるので、その重複する説明を省略する。なお、図面が複雑になることを避けるため、図８および図９では、一部の構成要素の図示は省略されている。
【００３６】
本実施形態は、第１アクチュエータ７を支持する第１支持部材１１は、真空チャンバ３の第１側壁３ｂに形成された第１通孔４５を貫通して延び、第２アクチュエータ８を支持する第２支持部材１２は、真空チャンバ３の第２側壁３ｃに形成された第２通孔４６を貫通して延びている点で、図１乃至図３に示す実施形態と異なっている。第１支持部材１１は架台１５の一部である第１壁１５ａに連結されており、第２支持部材１２は、架台１５の一部である第２壁１５ｂに連結されている。
【００３７】
第１通孔４５は、真空チャンバ３の底部３ａではなく、真空チャンバ３の第１側壁３ｂに形成されている。同様に、第２通孔４６は、真空チャンバ３の底部３ａではなく、真空チャンバ３の第２側壁３ｃに形成されている。第１シール４１は、真空チャンバ３の第１側壁３ｂに接続され、第２シール４２は、真空チャンバ３の第２側壁３ｃに接続されている。
【００３８】
図８に示すように、第１アクチュエータ７の第１固定子７ａは、真空チャンバ３の底部３ａに配置された第１スライダ５１に支持されている。この第１スライダ５１は、第１アクチュエータ７がステージ５を移動させるときに発生する反力が真空チャンバ３に伝わることを防止するために設けられている。同様に、図９に示すように、第２アクチュエータ８の第２固定子８ａは、真空チャンバ３の底部３ａに配置された第２スライダ５２に支持されている。この第２スライダ５２は、第２アクチュエータ８がステージ５を移動させるときに発生する反力が真空チャンバ３に伝わることを防止するために設けられている。第１スライダ５１および第２スライダ５２は、リニアガイドから構成することができる。
【００３９】
図１乃至図６に示す実施形態と同様に、第１アクチュエータ７および第２アクチュエータ８がステージ５を移動させるときに発生する反力は第１支持部材１１および第２支持部材１２を通じて架台１５に伝わり、真空チャンバ３には伝わらない。したがって、真空チャンバ３の振動が防止される。
【００４０】
図１０は、図８に示す第１支持部材１１に第１緩衝装置５５が接続された一実施形態を示す図であり、図１１は、図９に示す第２支持部材１２に第２緩衝装置５６が接続された一実施形態を示す図である。第１緩衝装置５５は、第１アクチュエータ７がステージ５を移動させるときに発生する反力を吸収し、第２緩衝装置５６は、第２アクチュエータ８がステージ５を移動させるときに発生する反力を吸収することができる。第１緩衝装置５５および第２緩衝装置５６は、真空チャンバ３内に配置されている。
【００４１】
図１２は、第１緩衝装置５５が真空チャンバ３の外に配置された一実施形態を示す図であり、図１３は、第２緩衝装置５６が真空チャンバ３の外に配置された一実施形態を示す図である。図１２および図１３に示すように、第１緩衝装置５５および第２緩衝装置５６は、真空チャンバ３の外に配置されている。図１２および図１３に示す実施形態は、第１緩衝装置５５および第２緩衝装置５６は真空圧下で使用可能な構造を有する必要がないので、構造の制約がなく、かつ第１緩衝装置５５および第２緩衝装置５６のメンテナンスが容易に行えるという利点がある。
【００４２】
図１０乃至図１３に示す第１緩衝装置５５および第２緩衝装置５６の例としては、図１４に示す並列に配列されたばね５８とダンパー５９との組み合わせ、および図１５に示すボイスコイルモータ６０が挙げられる。ばね５８とダンパー５９との組み合わせは、反力の最大値を減少させることができ、ボイスコイルモータ６０は、反力を積極的に制御することができる。
【００４３】
図１乃至図１１に示す実施形態では、ステージ移動システム１は、ステージ５を第１の方向Ｌ１に移動させる第１アクチュエータ７と、ステージ５を第１の方向Ｌ１に垂直な第２の方向Ｌ２に移動させる第２アクチュエータ８を備えた２軸タイプのステージ移動システムである。一実施形態では、ステージ移動システム１は、ステージ５の上面５ａと平行な第１の方向Ｌ１または第２の方向Ｌ２に移動させるアクチュエータのみを備えた１軸タイプのステージ移動システムであってもよい。
【００４４】
図１６は、上述したステージ移動システム１が組み込まれた走査電子顕微鏡の一実施形態を示す模式図である。走査電子顕微鏡は、電子ビーム照射システム１０１と、上記ステージ移動システム１と、ステージ移動システム１に固定された鏡筒１０５を備えている。図１６に示す走査電子顕微鏡は、図１乃至図３に示す実施形態に係るステージ移動システム１を備えているが、図４乃至図６に示す実施形態、または図７乃至図９に示す実施形態、または図１０および図１１に示す実施形態に係るステージ移動システム１を備えてもよい。
【００４５】
電子ビーム照射システム１０１は、鏡筒１０５内に配置されており、鏡筒１０５は、ステージ移動システム１の真空チャンバ３の上壁に固定されている。電子ビーム照射システム１０１は、一次電子（荷電粒子）からなる電子ビーム１１０を発する電子銃１１１、電子銃１１１から放出された電子ビーム１１０を集束する集束レンズ１１２、電子ビーム１１０をＸ方向に偏向するＸ偏向器１１３、電子ビーム１１０をＹ方向に偏向するＹ偏向器１１４、電子ビーム１１０を試料であるウェーハＷにフォーカスさせる対物レンズ１１５を有する。
【００４６】
走査電子顕微鏡は、二次電子検出器１３０、反射電子検出器１３１、および画像取得装置１１８をさらに備えている。二次電子検出器１３０および反射電子検出器１３１は、画像取得装置１１８に接続されている。画像取得装置１１８は二次電子検出器１３０と反射電子検出器１３１の出力信号を画像に変換するように構成される。
【００４７】
走査電子顕微鏡の動作は次のようになる。電子銃１１１から放出された電子ビーム１１０は集束レンズ１１２で集束された後に、Ｘ偏向器１１３、Ｙ偏向器１１４で偏向されつつ対物レンズ１１５により集束されてウェーハＷの表面に照射される。ウェーハＷに電子ビーム１１０の一次電子が照射されると、ウェーハＷからは二次電子および反射電子が放出される。二次電子は二次電子検出器１３０により検出され、反射電子は反射電子検出器１３１により検出される。二次電子の検出信号および反射電子の検出信号は、画像取得装置１１８に入力され画像に変換される。本実施形態では、試料の例としてウェーハＷが使用されるが、本発明は本実施形態に限定されない。例えば、試料は、ガラス基板であってもよい。
【００４８】
図１６に示す実施形態では、ステージ移動システム１は、走査電子顕微鏡に組み込まれているが、本発明はこの例に限られない。例えば、本実施形態に係るステージ移動システム１は、ウェーハのパターニングに使用される半導体露光装置に組み込まれてもよい。
【００４９】
上述した実施形態は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を実施できることを目的として記載されたものである。上記実施形態の種々の変形例は、当業者であれば当然になしうることであり、本発明の技術的思想は他の実施形態にも適用しうる。したがって、本発明は、記載された実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲によって定義される技術的思想に従った最も広い範囲に解釈されるものである。
【符号の説明】
【００５０】
１      ステージ移動システム
３      真空チャンバ
５      ステージ
７      第１アクチュエータ
８      第２アクチュエータ
１１      第１支持部材
１２      第２支持部材
１５      架台
２０      除振装置
２１      床
２５      第１橋梁部材
２６      第２橋梁部材
３１      第１リニアガイド
３２      第２リニアガイド
３３      第３リニアガイド
３４      第４リニアガイド
３６      第１通孔
３８      第２通孔
４１      第１シール
４２      第２シール
４５      第１通孔
４６      第２通孔
５１      第１スライダ
５２      第２スライダ
５５      第１緩衝装置
５６      第２緩衝装置
５８      ばね
５９      ダンパー
６０      ボイスコイルモータ
１０１    電子ビーム照射システム
１０５    鏡筒
１１０    電子ビーム
１１１    電子銃
１１２    集束レンズ
１１３    Ｘ偏向器
１１４    Ｙ偏向器
１１５    対物レンズ
１１８    画像取得装置
１３０    二次電子検出器
１３１    反射電子検出器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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