(57)【要約】【課題】一態様において、基板表面に付着した有機物残渣の除去性に優れる磁気ディスク基板用洗浄剤組成物の提供。【解決手段】一態様において、ポリグリセリン及びポリグリセリンアルキルエーテルから選ばれる少なくとも１種の化合物（成分Ａ）、ｐＨ調整剤（成分Ｂ）、及び水（成分Ｃ）を含有する、磁気ディスク基板用洗浄剤組成物に関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリグリセリン及びポリグリセリンアルキルエーテルから選ばれる少なくとも１種のポリグリセリン化合物（成分Ａ）、ｐＨ調整剤（成分Ｂ）、及び水（成分Ｃ）を含有する、磁気ディスク基板用洗浄剤組成物。
【請求項２】
成分Ａのグリセリン重合度は４以上６０以下である、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項３】
成分Ａが、ポリグリセリンアルキルエーテルである、請求項１又は２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項４】
ポリグリセリンアルキルエーテルのアルキル基は、炭素数１以上１８以下のアルキル基である、請求項１から３のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項５】
ポリグリセリンアルキルエーテルのアルキル基は、炭素数８以上１８以下のアルキル基である、請求項１から３のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項６】
成分Ａの分子量が、４５０以上１０，０００以下である、請求項１から５のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項７】
洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ａの含有量は、０．０１質量％以上２質量％以下である、請求項１から６のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項８】
洗浄剤組成物のｐＨは９以上である、請求項１から７のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項９】
水溶性アミン（成分Ｄ）、キレート剤（成分Ｅ）、及び分散剤（成分Ｆ）から選ばれる少なくとも１種をさらに含む、請求項１から８のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載の洗浄剤組成物を用いて被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含む、磁気ディスク基板の洗浄方法。
【請求項１１】
請求項１から９のいずれかに記載の洗浄剤組成物を用いて被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含む、磁気ディスク基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、磁気ディスク基板用洗浄剤組成物、並びにこれを用いた洗浄方法及び磁気ディスク基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスクドライブは小型化・大容量化が進み、高記録密度化が求められている。高記録密度化するために、単位記録面積を縮小し、弱くなった磁気信号の検出感度を向上するため、磁気ヘッドの浮上高さをより低くするための技術開発が進められている。そのため、磁気ディスク基板の製造過程において、有機物、砥粒、研磨くず等が付着していない基板が求められている。
【０００３】
磁気ディスク基板に用いられる材料としては、表面にＮｉ−Ｐメッキされたアルミニウムやガラス等がある。最近では、基板の材質は異なるものの半導体用基板分野においても基板表面の高い清浄度が求められ、様々な組成物が開発されている（例えば、特許文献１〜４）。
【０００４】
特許文献１には、特定構造の非イオン性界面活性剤、水溶性アミン化合物、及び水を含有するハードディスク用基板用の洗浄剤組成物が提案されている。
特許文献２には、重量平均分子量が１００以上１００００未満の水溶性オリゴマー、及び水を含む半導体基板用洗浄剤が提案されている。
特許文献３には、水溶性高分子と、水系媒体とを含むシリコンウエハ用リンス剤組成物が提案されている。
特許文献４には、Ｒ−Ｏ−（Ｃ3Ｈ5Ｏ2Ｒ）n−Ｒで表されるポリグリセリン誘導体と、界面活性剤と、溶剤とを含むレジスト除去用組成物が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−８４５０９号公報
【特許文献２】国際公開第２０１８／１３５２９０号
【特許文献３】国際公開第２０１８／０７９６７５号
【特許文献４】特開２０１８−１１２６４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般的に、磁気ディスク基板の製造工程には、研磨液組成物を用いた研磨工程と洗浄剤組成物を用いた洗浄工程と、基板に磁性層を形成するメディア化工程とが含まれている。
研磨工程を経た基板表面に、研磨くずや砥粒等由来の無機物、研磨パッドから生じるパッドくず等由来の有機物等の異物が付着していると、表面欠陥発生の原因となることから、研磨後に洗浄が行われている。
また、メディア化工程では、通常、搬送時や保管時に基板表面に付着した無機物や有機物を除去するために、磁性層形成前に洗浄が行われている。
しかしながら、従来の洗浄剤組成物では有機物残渣の除去が十分ではなく、表面欠陥発生の原因となっていた。
【０００７】
そこで、本開示は、一態様において、基板表面に付着した有機物残渣の除去性に優れる磁気ディスク基板用洗浄剤組成物、並びに、これを用いた洗浄方法及び磁気ディスク基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示は、一態様において、ポリグリセリン及びポリグリセリンアルキルエーテルから選ばれる少なくとも１種のポリグリセリン化合物（成分Ａ）、ｐＨ調整剤（成分Ｂ）、及び水（成分Ｃ）を含有する、磁気ディスク基板用洗浄剤組成物に関する。
【０００９】
本開示は、その他の態様において、本開示の洗浄剤組成物を用いて被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含む、磁気ディスク基板の洗浄方法に関する。
【００１０】
本開示は、その他の態様において、本開示の洗浄剤組成物を用いて被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含む、磁気ディスク基板の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００１１】
本開示によれば、一態様において、基板表面に付着した有機物残渣の除去性に優れる磁気ディスク基板用洗浄剤組成物を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本開示は、特定のポリグリセリン化合物（成分Ａ）を含む洗浄剤組成物を用いて基板を洗浄すると、基板表面に付着した有機物残渣を効率よく除去できるという知見に基づく。
【００１３】
すなわち、本開示は、一態様において、ポリグリセリン及びポリグリセリンアルキルエーテルから選ばれる少なくとも１種のポリグリセリン化合物（成分Ａ）、ｐＨ調整剤（成分Ｂ）、及び水（成分Ｃ）を含有する、磁気ディスク基板用洗浄剤組成物（以下、「本開示の洗浄剤組成物」ともいう）に関する。本開示の洗浄剤組成物によれば、一又は複数の実施形態において、基板表面に付着した有機物残渣を効率よく除去できる。
【００１４】
本開示の効果が発現するメカニズムの詳細は明らかではないが以下のように推定される。
一般的に、研磨工程で使用される研磨パッドには、可塑剤等の有機物が原料として含まれている。また、基板保管用の容器にも可塑剤等の有機物が原料として含まれることがある。このような有機物が研磨工程や保管、搬送時に基板に付着し、表面欠陥の発生の原因となる。
また、洗浄工程で使用される洗浄ブラシ（例えば、ＰＶＡブラシ）にはデンプン等の有機物が原料として含まれていることがあり、このような有機物が洗浄工程で基板に付着し、表面欠陥発生の原因となる。
本開示では、洗浄剤組成物中の特定のポリグリセリン化合物（成分Ａ）が基板に付着した有機物に浸透することで、基板表面から有機物が剥がれやすくなり、有機物残渣を効率よく除去できると考えられる。そして、有機物残渣の除去性が向上することで、表面欠陥の発生を抑制できると考えられる。
但し、本開示は、これらのメカニズムに限定して解釈されなくてよい。
【００１５】
本開示において「有機物残渣」とは、基板表面に付着した有機物の異物をいう。本開示における「有機物」は、一又は複数の実施形態において、研磨工程で使用される研磨剤組成物に含まれる有機物、研磨工程で使用される研磨パッドから生じるパッドくず等の有機物、基板保管、搬送用容器の原料由来の有機物、洗浄工程で使用される洗浄ブラシの原料由来の有機物等を含む。研磨パッドや基板保管用容器の原料に使用される有機物としては、例えば、可塑剤（ジオクチルフタレート等）が挙げられる。洗浄ブラシ（例えば、ポリビニルアルコールスポンジブラシ）の原料に使用される有機物としては、例えば、デンプンが挙げられる。
【００１６】
以下、本開示の洗浄剤組成物に含まれる各成分について説明する。
【００１７】
［成分Ａ：ポリグリセリン化合物］
本開示の洗浄剤組成物に含まれる成分Ａは、ポリグリセリン及びポリグリセリンアルキルエーテルから選ばれる少なくとも１種のポリグリセリン化合物である。成分Ａは、１種でもよいし、２種以上の組合せでもよい。成分Ａは、表面欠陥の発生を抑制する観点から、ポリグリセリンアルキルエーテルが好ましく、ポリグリセリンモノアルキルエーテルがより好ましい。本開示において、ポリグリセリンアルキルエーテルとは、ポリグリセリンにアルキル基を付加した化合物であり、アルキル基の付加モル数に対するグリセリン骨格のモル数の比である[グリセリン骨格／アルキル基]が、１以上であることが好ましく、２以上であることがより好ましく、５以上であることが更に好ましく、１０以上であることが更に好ましく、５０以上であることが更に好ましい。
【００１８】
ポリグリセリンアルキルエーテルのアルキル基は、有機物残渣の除去性向上の観点から、炭素数１以上１８以下のアルキル基が好ましく、炭素数８以上１８以下のアルキル基がより好ましく、炭素数８以上１５以下のアルキル基が更に好ましい。アルキル基は、直鎖アルキル基でもよいし、分岐鎖アルキル基でもよい。アルキル基の炭素数は、有機物残渣の除去性向上の観点から、１以上が好ましく、８以上がより好ましく、１１以上が更に好ましく、そして、１８以下が好ましく、１６以下がより好ましく、１４以下が更に好ましい。より具体的には、アルキル基の炭素数は、１以上１８以下が好ましく、８以上１６以下がより好ましく、１１以上１４以下が更に好ましい。
【００１９】
成分Ａの分子量は、４５０以上が好ましく、７３０以上がより好ましく、１，０００以上が更に好ましく、そして、１０，０００以下が好ましく、８，０００以下がより好ましく、６，０００以下が更に好ましい。より具体的には、成分Ａの分子量は、４５０以上１０，０００以下が好ましく、７３０以上８，０００以下がより好ましく、１，０００以上６，０００以下が更に好ましい。
本開示において「成分Ａの分子量」は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される標準ポリスチレン換算の重量平均分子量のことをいう。
【００２０】
成分Ａのグリセリン重合度は、有機物残渣の除去性向上の観点から、４以上６０以下が好ましく、４以上４０以下がより好ましく、１５以上３０未満が更に好ましく、１８以上３０未満が更に好ましく、１８以上２５未満が更に好ましい。
本開示において「グリセリン重合度」は、末端分析法によって得られる水酸基価から算出される平均重合度である。具体的には、グリセリン重合度は、下記式（Ｉ）及び（ＩＩ）から算出できる。
分子量＝７４ｎ＋１８  ・・・（Ｉ）
水酸基価＝５６１１０（ｎ＋２）／分子量  ・・・（ＩＩ）
上記式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、ｎは平均重合度、つまりグリセリン重合度である。
【００２１】
成分Ａの具体例としては、ポリグリセリン、ポリグリセリンラウリルエーテル、ポリグリセリン２−エチルヘキシルエーテル等が挙げられる。
【００２２】
本開示の洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ａの含有量は、有機物残渣の除去性向上の観点から、０．０１質量％以上が好ましく、０．０１５質量％以上がより好ましく、０．０２質量％以上が更に好ましく、そして、２質量％以下が好ましく、１．５質量％以下がより好ましく、１質量％以下が更に好ましい。より具体的には、洗浄時における成分Ａの含有量は、０．０１質量％以上２質量％以下が好ましく、０．０１５質量％以上１．５質量％以下がより好ましく、０．０２質量％以上１質量％以下が更に好ましい。成分Ａが２種以上の組合せである場合、成分Ａの含有量はそれらの合計含有量をいう。
【００２３】
本開示の洗浄剤組成物は、後述するように、濃縮物として製造され、洗浄する際に希釈して使用してもよいことから、本開示において「洗浄剤組成物の洗浄時における各成分の含有量」とは、一又は複数の実施形態において、洗浄工程に使用される洗浄剤組成物中の各成分の含有量、すなわち、洗浄剤組成物の洗浄への使用を開始する時点での各成分の含有量をいう。よって、本開示において洗浄時の洗浄剤組成物、つまり、洗浄工程に使用される洗浄剤組成物とは、一又は複数の実施形態において、希釈された状態での洗浄剤組成物をいう。
【００２４】
［成分Ｂ：ｐＨ調整剤］
本開示の洗浄剤組成物に含まれる成分Ｂは、ｐＨ調整剤である。成分Ｂとしては、酸又はアルカリが挙げられる。酸としては、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸等の無機酸；酢酸、シュウ酸、コハク酸、グリコール酸、リンゴ酸、クエン酸、安息香酸等の有機酸が挙げられる。アルカリとしては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリが挙げられる。有機物残渣の除去性向上の観点から、成分Ｂは、無機アルカリが好ましく、水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムがより好ましい。成分Ｂは１種でもよいし、２種以上の組合せでもよい。
【００２５】
本開示の洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｂの含有量は、有機物残渣の除去性向上の観点から、０．００１質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましく、０．０２質量％以上が更に好ましく、そして、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、３質量％以下が更に好ましい。より具体的には、洗浄時における成分Ｂの含有量は、０．００１質量％以上１０質量％以下が好ましく、０．０１質量％以上５質量％以下がより好ましく、０．０２質量％以上３質量％以下が更に好ましい。成分Ｂが２種以上の組合せである場合、成分Ｂの含有量はそれらの合計含有量をいう。
【００２６】
［成分Ｃ：水］
本開示の洗浄剤組成物に含まれる水（成分Ｃ）としては、溶媒としての役割を果たすことができるものであれば特に制限はなく、例えば、超純水、純水、イオン交換水、又は蒸留水等を挙げることができ、有機物残渣の除去性向上の観点から、超純水、純水、又はイオン交換水が好ましく、超純水がより好ましい。純水及び超純水は、例えば、水道水を活性炭に通し、イオン交換処理し、さらに蒸留したものを、必要に応じて所定の紫外線殺菌灯を照射、又はフィルターに通すことにより得ることができる。
【００２７】
本開示の洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｃの含有量は、成分Ａ、成分Ｂ及び必要に応じて配合される後述する任意成分を除いた残余とすることができる。
【００２８】
［成分Ｄ：水溶性アミン］
本開示の洗浄剤組成物は、一又は複数の実施形態において、基板表面のエッチング抑制の観点から、水溶性アミン（成分Ｄ）をさらに含有することができる。成分Ｄは１種でもよいし、２種以上の組合せでもよい。
【００２９】
成分Ｄとしては、一又は複数の実施形態において、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等のアルカノールアミン、並びにこれらのアルキル化物及びアミノアルキル化物；エチレンジアミン；ジエチレントリアミン；メチル基、エチル基、ヒドロキシエチル基及びヒドロキシプロピル基からなる群から選択される少なくとも１つの官能基を有するピロリジン化合物又はピペラジン化合物等が挙げられる。
【００３０】
成分Ｄの具体例としては、一又は複数の実施形態において、基板表面のエッチング抑制、及び有機物残渣の除去性向上の観点から、モノエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、Ｎ−メチルモノエタノールアミン、Ｎ−メチルイソプロパノールアミン、Ｎ−エチルモノエタノールアミン、Ｎ−エチルイソプロパノールアミン、ジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、Ｎ−ジメチルモノエタノールアミン、Ｎ−ジメチルモノイソプロパノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−メチルジイソプロパノールアミン、Ｎ−ジエチルモノエタノールアミン、Ｎ−ジエチルモノイソプロパノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジイソプロパノールアミン、Ｎ−（β−アミノエチル）エタノールアミン、Ｎ−（β−アミノエチル）イソプロパノールアミン、Ｎ−（β−アミノエチル）ジエタノールアミン、Ｎ−（β−アミノエチル）ジイソプロパノールアミン、１−メチルピペラジン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピロリジン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、エチレンジアミン及びジエチレントリアミンから選ばれる少なくとも１種が好ましく、Ｎ−（β−アミノエチル）エタノールアミンがより好ましい。
【００３１】
本開示の洗浄剤組成物中の洗浄時における成分Ｄの含有量は、基板表面のエッチング抑制、及び有機物残渣の除去性向上の観点から、０．０１質量％以上が好ましく、０．０４質量％以上がより好ましく、０．０９質量％以上が更に好ましく、そして、０．４質量％以下が好ましく、０．３質量％以下がより好ましく、０．２質量％以下が更に好ましい。より具体的には、洗浄時における成分Ｄの含有量は、０．０１質量％以上０．４質量％以下が好ましく、０．０４質量％以上０．３質量％以下がより好ましく、０．０９質量％以上０．２質量％以下が更に好ましい。成分Ｄが２種以上の組合せである場合、成分Ｄの含有量はそれらの合計含有量をいう。
【００３２】
［成分Ｅ：キレート剤］
本開示の洗浄剤組成物は、一又は複数の実施形態において、基板表面への金属イオン残留抑制の観点から、キレート剤（成分Ｅ）をさらに含有することができる。成分Ｅは、１種でもよいし、２種以上の組合せでもよい。
【００３３】
成分Ｅとしては、一又は複数の実施形態において、グルコン酸、グルコヘプトン酸等のアルドン酸類；エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸等のアミノカルボン酸類；クエン酸、リンゴ酸等のヒドロキシカルボン酸類；１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、ピロリン酸等のホスホン酸類；及びこれらの塩から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。これらの中でも、基板表面への金属イオン残留抑制、及び有機物残渣の除去性向上の観点から、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）が好ましい。
【００３４】
本開示の洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｅの含有量は、一又は複数の実施形態において、基板表面への金属イオン残留抑制、及び有機物残渣の除去性向上の観点から、０．００５質量％以上が好ましく、０．００８質量％以上がより好ましく、０．０１質量％以上が更に好ましく、そして、１質量％以下が好ましく、０．５質量％以下がより好ましく、０．１質量％以下が更に好ましい。より具体的には、洗浄時における成分Ｅの含有量は、０．００５質量％以上１質量％以下が好ましく、０．００８質量％以上０．５質量％以下がより好ましく、０．０１質量％以上０．１質量％以下が更に好ましい。成分Ｅが２種以上の組合せである場合、成分Ｅの含有量はそれらの合計含有量をいう。
【００３５】
［成分Ｆ：分散剤］
本開示の洗浄剤組成物は、一又は複数の実施形態において、パーティクルの基板表面への再付着抑制、及びパーティクルの分散性向上の観点から、分散剤（成分Ｆ）をさらに含有することができる。成分Ｆは、１種でもよいし、２種以上の組合せでもよい。
本開示において「パーティクル」とは、基板表面に付着した無機物の異物をいう。本開示における「パーティクル」は、酸化ニッケル等の研磨くず由来の無機物；酸化珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化セリウム（セリア）等の研磨砥粒由来の無機物；等を含む。
【００３６】
成分Ｆとしては、カルボン酸系重合体等のアニオンポリマー及びアクリル酸のアルキレンオキサイド付加物を構成単位に含むポリマーが挙げられる。カルボン酸系重合体としては、アクリル酸重合体、メタクリル酸重合体、マレイン酸重合体、アクリル酸／メタクリル酸の共重合体、アクリル酸／マレイン酸の共重合体、メタクリル酸／アクリル酸メチルエステルの共重合体、メタクリル酸又はアクリル酸を構成単位に含むアニオンポリマーが挙げられる。これらの中でも、パーティクルの基板表面への再付着抑制、パーティクルの分散性向上、及び有機物残渣の除去性向上の観点から、成分Ｆは、アクリル酸（ＡＡ）と２―アクリルアミド―２―メチルプロパンスルホン酸（ＡＭＰＳ）の共重合体（ＡＡ／ＡＭＰＳ）が好ましく、ＡＡとＡＭＰＳのモル比が９１／９〜９５／５である共重合体がより好ましい。成分Ｆは、ポリマー中の一部又は全部のアニオン部分が、アルカリ金属あるいはアミンと塩を形成してもよい。
【００３７】
本開示の洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｆの含有量は、パーティクルの基板表面への再付着抑制、パーティクルの分散性向上、パーティクル除去性向上、及び有機物残渣の除去性向上の観点から、０．００３質量％以上が好ましく、０．００５質量％以上がより好ましく、０．００８質量％以上が更に好ましく、そして、２質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましく、０．５質量％以下が更に好ましい。より具体的には、成分Ｆの含有量は、０．００３質量％以上２質量％以下が好ましく、０．００５質量％以上１質量％以下がより好ましく、０．００８質量％以上０．５質量％以下が更に好ましい。成分Ｆが２種以上の組合せである場合、成分Ｆの含有量はそれらの合計含有量をいう。
【００３８】
［その他の成分］
本開示の洗浄剤組成物には、その他の成分をさらに含有することができる。任意成分としては、成分Ａ以外の界面活性剤、可溶化剤、酸化防止剤、防腐剤、防錆剤、消泡剤、抗菌剤等が挙げられる。
【００３９】
本開示の洗浄剤組成物は、一又は複数の実施形態において、有機物残渣の除去性向上の観点から、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン等の水溶性有機溶剤を実質的に含まないことが好ましい。本開示において「水溶性有機溶剤を実質的に含まない」とは、本開示の洗浄剤組成物中の水溶性有機溶剤の合計含有量が１０質量％以下であることをいい、有機物残渣の除去性向上の観点から、５質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましく、実質的に０質量％が好ましい。
【００４０】
［洗浄剤組成物のｐＨ］
本開示の洗浄剤組成物の洗浄時のｐＨは、有機物残渣の除去性向上の観点から、９以上が好ましく、９．５以上がより好ましく、１０以上が更に好ましく、１０．５以上がより更に好ましく、そして、１４以下が好ましく、１３以下がより好ましく、１２以下が更に好ましく、１１．５以下がより更に好ましい。より具体的には、本開示の洗浄剤組成物の洗浄時のｐＨは、９以上１４以下が好ましく、９．５以上１３以下がより好ましく、１０以上１２以下が更に好ましく、１０．５以上１１．５以下がより更に好ましい。本開示において「洗浄時のｐＨ」とは、２５℃における洗浄剤組成物の使用時（希釈後）のｐＨであり、ｐＨメータを用いて測定でき、好ましくはｐＨメータの電極を洗浄剤組成物に浸漬して３分後の数値である。
【００４１】
［洗浄剤組成物の製造方法］
本開示の洗浄剤組成物は、成分Ａ、成分Ｂ、成分Ｃ、並びに必要に応じて成分Ｄ、成分Ｅ、成分Ｆ及びその他の成分を公知の方法で配合することにより製造できる。したがって、本開示は、少なくとも成分Ａ〜Ｃを配合する工程を含む、洗浄剤組成物の製造方法に関する。本開示において「配合」とは、成分Ａ〜Ｃ、並びに必要に応じて成分Ｄ〜Ｆ及びその他の成分を同時又は任意の順に混合することを含む。本開示の洗浄剤組成物の製造方法において、各成分の配合量は、上述した本開示の洗浄剤組成物の各成分の含有量と同じとすることができる。
【００４２】
本開示の洗浄剤組成物は、貯蔵及び輸送の観点から、濃縮物として製造され、使用時に希釈されてもよい。洗浄剤組成物の濃縮物は、貯蔵及び輸送、保管安定性の観点から、希釈倍率３倍以上２００倍以下の濃縮物が好ましい。洗浄剤組成物の濃縮物は、使用時に各成分の含有量が、上述した含有量（すなわち、洗浄時の含有量）となるように水で希釈して使用できる。さらに洗浄剤組成物の濃縮物は、使用時に各成分を別々に添加して使用することもできる。本開示において洗浄剤組成物の濃縮物の「使用時」又は「洗浄時」とは、洗浄剤組成物の濃縮物が希釈された状態をいう。
【００４３】
本開示の洗浄剤組成物の濃縮物のｐＨは、有機物残渣の除去性向上の観点から、９以上が好ましく、９．５以上がより好ましく、１０以上が更に好ましく、そして、同様の観点から、１４以下が好ましく、１３以下がより好ましく、１２．５以下がさらに好ましい。より具体的には、本開示の洗浄剤組成物の濃縮物のｐＨは、９以上１４以下が好ましく、９．５以上１３以下がより好ましく、１０以上１２．５以下がより更に好ましい。本開示の洗浄剤組成物の濃縮物のｐＨは、前記本開示の洗浄剤組成物のｐＨと同様の方法で測定することができる。
【００４４】
［被洗浄基板］
本開示の洗浄剤組成物は、一又は複数の実施形態において、有機物や無機物（パーティクル）が付着している基板の洗浄に用いられうる。したがって、本開示の洗浄剤組成物を用いて洗浄される被洗浄基板としては、一又は複数の実施形態において、有機物及び無機物（パーティクル）の少なくとも一方が付着している基板が挙げられ、本開示の効果が発揮される観点から、少なくとも有機物残渣が付着している基板に好適に使用される。基板としては、例えば、Ｎｉ−Ｐメッキされたアルミニウム合金基板、ガラス基板等が挙げられる。
【００４５】
［基板の洗浄方法］
本開示は、一態様において、本開示の洗浄剤組成物を用いて上述した被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含む、基板の洗浄方法（以下、「本開示の洗浄方法」ともいう）に関する。本開示の洗浄方法は、前記本開示の洗浄剤組成物の濃縮液を希釈する希釈工程をさらに含んでもよい。洗浄工程における洗浄方式としては、例えば、浸漬洗浄及び／又はスクラブ洗浄が挙げられる。本開示の洗浄方法によれば、基板表面に付着した有機物残渣を効率よく除去できる。
【００４６】
（浸漬洗浄）
被洗浄基板の洗浄剤組成物への浸漬条件としては、特に制限はない。例えば、洗浄剤組成物の温度は、作業性及び操業性の観点から、２０〜１００℃が好ましい。例えば、浸漬時間は、有機物残渣の除去性向上、及び生産性の観点から、５秒以上３０分以下が好ましく、１０秒以上１０分以下がより好ましく、１００秒以上５分以下が更に好ましい。有機物残渣の除去性向上の観点から、洗浄剤組成物に超音波振動が付与されていると好ましい。超音波の周波数は、有機物残渣の除去性向上の観点から、２０〜２０００ｋＨｚが好ましく、４０〜２０００ｋＨｚがより好ましく、４０〜１５００ｋＨｚが更に好ましい。
【００４７】
（スクラブ洗浄）
スクラブ洗浄の方法としては、超音波振動が与えられている洗浄剤組成物を射出して、被洗浄基板の表面に洗浄剤組成物を接触させて当該表面を洗浄する方法、洗浄剤組成物を被洗浄基板の表面上に射出により供給し、洗浄剤組成物が供給された当該表面を洗浄用ブラシでこする方法、超音波振動が与えられている洗浄剤組成物を射出により洗浄対象の表面に供給し、かつ、洗浄剤組成物が供給された当該表面を洗浄用ブラシでこする方法が挙げられる。洗浄剤組成物を被洗浄基板の表面上に供給する手段としては、例えば、スプレーノズル等の手段を用いることができる。洗浄用ブラシとしては、例えばナイロンブラシやポリビニルアルコール（ＰＶＡ）スポンジブラシ等を使用できる。超音波の周波数としては、例えば、上述の浸漬洗浄で好ましく採用される値と同様とすることができる。
【００４８】
本開示の洗浄方法は、前記浸漬洗浄及び／又は前記スクラブ洗浄に加えて、揺動洗浄、スピンナー等の回転を利用した洗浄、パドル洗浄等の公知の洗浄を用いる工程を１つ以上含んでもよい。
【００４９】
本開示の洗浄方法では、被洗浄基板を一枚ずつ洗浄してもよいが、複数枚の洗浄すべき被洗浄基板を一度にまとめて洗浄してもよい。洗浄の際に用いる洗浄槽の数は１つでも複数でもよい。
【００５０】
［磁気ディスク基板の製造方法]
本開示は、一態様において、本開示の洗浄剤組成物を用いて上述した被洗浄基板を洗浄する工程を含む磁気ディスク基板の製造方法に関する。
本開示の洗浄組成物及び本開示の洗浄方法は、有機物残渣の除去性に優れているため、磁気ディスク基板の製造方法において、有機物残渣が発生する工程や高度な清浄度が要求される工程で使用されることが好ましく、例えば、研削工程後の洗浄工程、研磨工程後の洗浄工程、メディア化工程（例えば、磁性層をスパッタリングにより形成する工程）の前の洗浄工程で使用されることが好ましい。
【００５１】
［キット］
本開示は、一態様において、本開示の洗浄剤組成物を製造するためのキット（以下、「本開示のキット」ともいう）に関する。
本開示のキットの一実施形態としては、成分Ａ、成分Ｂ及び成分Ｃを含む溶液を含有するキットが挙げられる。前記溶液に含まれる成分Ｃは、洗浄剤組成物の調製に使用する水の全量でもよいし、一部でもよい。前記溶液は、一又は複数の実施形態において、使用時に必要に応じて水（成分Ｃ）で希釈される。前記溶液には、必要に応じて上述した任意成分が含まれていてもよい。本開示のキットでは、例えば、水（成分Ｃ）の使用量を調整することにより、洗浄剤組成物中の各成分の濃度を調整することができる。
【００５２】
本開示は、さらに以下の一又は複数の実施形態に関する。
＜１＞  ポリグリセリン及びポリグリセリンアルキルエーテルから選ばれる少なくとも１種のポリグリセリン化合物（成分Ａ）、ｐＨ調整剤（成分Ｂ）、及び水（成分Ｃ）を含有する、磁気ディスク基板用洗浄剤組成物。
【００５３】
＜２＞  ポリグリセリンアルキルエーテルのアルキル基は、炭素数１以上１８以下のアルキル基が好ましく、炭素数８以上１８以下のアルキル基がより好ましく、炭素数８以上１５以下のアルキル基が更に好ましい、＜１＞に記載の洗浄剤組成物。
＜３＞  ポリグリセリンアルキルエーテルのアルキル基の炭素数は、１以上が好ましく、８以上がより好ましく、１１以上が更に好ましく、１８以下が好ましく、１６以下がより好ましく、１４以下が更に好ましい、＜１＞又は＜２＞に記載の洗浄剤組成物。
＜４＞  ポリグリセリンアルキルエーテルのアルキル基の炭素数は、１以上１８以下が好ましく、８以上１６以下がより好ましく、１１以上１４以下が更に好ましい、＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜５＞  成分Ａのグリセリン重合度は、４以上６０以下が好ましく、４以上４０以下がより好ましく、１８以上３０以下が更に好ましい、＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜６＞  成分Ａの分子量は、４５０以上が好ましく、７３０以上がより好ましく、１，０００以上が更に好ましい、＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜７＞  成分Ａの分子量は、１０，０００以下が好ましく、８，０００以下がより好ましく、６，０００以下が更に好ましい、＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜８＞  成分Ａの分子量は、４５０以上１０，０００以下が好ましく、７３０以上８，０００以下がより好ましく、１，０００以上６，０００以下が更に好ましい、＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜９＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ａの含有量は、０．０１質量％以上が好ましく、０．０１５質量％以上がより好ましく、０．０２質量％以上が更に好ましい、＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜１０＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ａの含有量は、２質量％以下が好ましく、１．５質量％以下がより好ましく、１質量％以下が更に好ましい、＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜１１＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ａの含有量は、０．０１質量％以上２質量％以下が好ましく、０．０１５質量％以上１．５質量％以下がより好ましく、０．０２質量％以上１質量％以下が更に好ましい、＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜１２＞  成分Ｂは、酸又はアルカリであり、無機アルカリが好ましく、水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムがより好ましい、＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜１３＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｂの含有量は、０．００１質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましく、０．０２質量％以上が更に好ましい、＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜１４＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｂの含有量は、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、３質量％以下が更に好ましい、＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜１５＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｂの含有量は、０．００１質量％以上１０質量％以下が好ましく、０．０１質量％以上５質量％以下がより好ましく、０．０２質量％以上３質量％以下が更に好ましい、＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜１６＞  水溶性アミン（成分Ｄ）、キレート剤（成分Ｅ）、及び分散剤（成分Ｆ）から選ばれる少なくとも１種をさらに含む、＜１＞から＜１５＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜１７＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｄの含有量は、０．０１質量％以上が好ましく、０．０４質量％以上がより好ましく、０．０９質量％以上が更に好ましい、＜１６＞に記載の洗浄剤組成物。
＜１８＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｄの含有量は、０．４質量％以下が好ましく、０．３質量％以下がより好ましく、０．２質量％以下が更に好ましい、＜１６＞又は＜１７＞に記載の洗浄剤組成物。
＜１９＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｄの含有量は、０．０１質量％以上０．４質量％以下が好ましく、０．０４質量％以上０．３質量％以下がより好ましく、０．０９質量％以上０．２質量％以下が更に好ましい、＜１６＞から＜１８＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜２０＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｅの含有量は、０．００５質量％以上が好ましく、０．００８質量％以上がより好ましく、０．０１質量％以上が更に好ましい、＜１６＞から＜１９＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜２１＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｅの含有量は、１質量％以下が好ましく、０．５質量％以下がより好ましく、０．１質量％以下が更に好ましい、＜１６＞から＜２０＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜２２＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｅの含有量は、０．００５質量％以上１質量％以下が好ましく、０．００８質量％以上０．５質量％以下がより好ましく、０．０１質量％以上０．１質量％以下が更に好ましい、＜１６＞から＜２１＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜２３＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｆの含有量は、０．００３質量％以上が好ましく、０．００５質量％以上がより好ましく、０．００８質量％以上が更に好ましい、＜１６＞から＜２２＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜２４＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｆの含有量は、２質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましく、０．５質量％以下が更に好ましい、＜１６＞から＜２３＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜２５＞  洗浄剤組成物の洗浄時における成分Ｆの含有量は、０．００３質量％以上２質量％以下が好ましく、０．００５質量％以上１質量％以下がより好ましく、０．００８質量％以上０．５質量％以下が更に好ましい、＜１６＞から＜２４＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜２６＞  水溶性有機溶剤を実質的に含まない、＜１＞から＜２５＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜２７＞  洗浄剤組成物の洗浄時のｐＨは、９以上が好ましく、９．５以上がより好ましく、１０以上が更に好ましく、１０．５以上がより更に好ましい、＜１＞から＜２６＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜２８＞  洗浄剤組成物の洗浄時のｐＨは、１４以下が好ましく、１３以下がより好ましく、１２以下が更に好ましく、１１．５以下がより更に好ましい、＜１＞から＜２７＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜２９＞  洗浄剤組成物の洗浄時のｐＨは、９以上１４以下が好ましく、９．５以上１３以下がより好ましく、１０以上１２以下がより更に好ましく、１０．５以上１１．５以下がより更に好ましい、＜１＞から＜２８＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物。
＜３０＞  ＜１＞から＜２９＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物を用いて被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含む、磁気ディスク基板の洗浄方法。
＜３１＞  ＜１＞から＜２９＞のいずれかに記載の洗浄剤組成物を用いて被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含む、磁気ディスク基板の製造方法。
【実施例】
【００５４】
以下に、実施例により本開示を具体的に説明するが、本開示はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
【００５５】
１．洗浄剤組成物の濃縮物の調製（実施例１〜４及び比較例１〜３）
表２に示す各成分を配合し混合することにより実施例１〜４及び比較例１〜３の洗浄剤組成物の濃縮物を調製した。各洗浄剤組成物の濃縮物中の各成分の含有量（質量％、有効分）は、表２に示すとおりである。ｐＨは、２５℃における洗浄剤組成物のｐＨであり、ｐＨメータ（東亜電波工業株式会社、ＨＭ−３０Ｇ）の電極を洗浄剤組成物に浸漬して３分後の数値を測定した。
【００５６】
洗浄剤組成物の濃縮物の調製に用いた化合物Ａ１〜Ａ６としては以下のものを用いた。化合物Ａ１〜Ａ６の構造式を表１に示した。
Ａ１：ポリグリセリン２０量体ラウリルエーテル［分子量１６６６、株式会社ダイセル社製］（成分Ａ）
Ａ２：ポリグリセリン４量体ラウリルエーテル［分子量４８２、株式会社ダイセル社製］（成分Ａ）
Ａ３：ポリグリセリン２０量体［分子量１４９８、株式会社ダイセル社製］（成分Ａ）
Ａ４：ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンラウリルエーテル［分子量７１３、花王株式会社製］（非成分Ａ）
Ａ５：グリセリン（モノマー）［分子量９２．０９、東京化成工業株式会社製］（非成分Ａ）
Ａ６：グリセリン１量体アルキルエーテル［分子量２０４．３１、花王株式会社製］（非成分Ａ）
【００５７】
【表１】
2020177716.tif 000002
【００５８】
洗浄剤組成物の濃縮物の調製に用いた成分Ｂ〜Ｆには以下のものを用いた。
（成分Ｂ：無機アルカリ）
水酸化カリウム（ＫＯＨ）［関東化学株式会社製、鹿特級、固形分４８質量％］
（成分Ｃ：水）
イオン交換水
（成分Ｄ：水溶性アミン）
Ｎ−（β−アミノエチル）エタノールアミン［日本乳化剤株式会社製、アミノアルコール  ＥＡ］
（成分Ｅ：キレート剤）
１−ヒドロキシエチリデン−１,１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）［イタルマッチジャパン株式会社製、ディクエスト２０１０］
（成分Ｆ：分散剤）
アクリル酸／２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸共重合体（ＡＡ／ＡＭＰＳ）［モル比９２／８、分子量２，０００］
【００５９】
２．洗浄剤組成物の評価
調製した洗浄剤組成物の洗浄性、有機物の除去性について評価した。なお、比較例３の洗浄剤組成物は、化合物Ａ６が水に不溶であったため、洗浄性及び有機物除去性の評価は行っていない。
【００６０】
[洗浄性試験方法]
Ｎｉ−Ｐメッキされたアルミニウム合金基板（外径：９５ｍｍφ、内径：２５ｍｍφ、厚さ：０．８０ｍｍ）を、下記に示す研磨パッド及び研磨剤組成物を用いて６分間研磨することにより、研磨パッド及び研磨剤組成物由来の有機物が付着した被洗浄基板を用意した。そして、各洗浄剤組成物を用いて前記被洗浄基板の洗浄を行い、各洗浄剤組成物の洗浄性を評価した。洗浄は以下のようにして行った。
［被研磨基板］
被研磨基板として、Ｎｉ−Ｐメッキされたアルミニウム合金基板を予めアルミナ研磨材を含有する研磨液組成物で粗研磨した基板を用いた。この被研磨基板は、厚さが１．２７ｍｍ、外径が９５ｍｍ、内径が２５ｍｍであり、ＡＦＭ（Digital Instrument NanoScope IIIa Multi Mode AFM）により測定した中心線平均粗さＲａが１ｎｍ、長波長うねり（波長０．４〜２ｍｍ）の振幅は２ｎｍ、短波長うねり（波長５０〜４００μｍ）の振幅は２ｎｍであった。
［研磨条件（仕上げ研磨）］
研磨試験機：両面研磨機（スピードファム社製、「両面９Ｂ研磨機」）
研磨パッド：フジボウ社製スエードタイプ（発泡層：ポリウレタンエラストマー、厚さ０．９ｍｍ、平均開孔径３０μｍ）
研磨液：イオン交換水に水溶性高分子としてポリアクリル酸を１０００ｐｐｍとなるように添加、撹拌混合した。次に脂肪族アミンとしてヒドロキシエチルピペラジンを１００ｐｐｍとなるように添加し、撹拌混合した。更にリン酸及び２０ｎｍコロイダルシリカを５重量％添加し、研磨液を得た。リン酸添加量はｐＨが１．５となるように添加した
研磨液組成物供給量：１００ｍＬ／分（被研磨基板１ｃｍ2あたりの供給速度：０．０７６ｍＬ／分）
下定盤回転数：２５ｒｐｍ
研磨荷重：１２ｋＰａ
研磨時間：６分間
投入した基板の枚数：１０枚
【００６１】
＜洗浄方法＞
（１）調製した洗浄剤組成物の濃縮物を１００倍希釈し、洗浄槽に入れ、洗浄槽内の液温が２５℃になるように設定した。希釈後の洗浄剤組成物のｐＨは１１〜１１．５であった。そして、洗浄槽内の洗浄剤組成物に被洗浄基板を浸漬し、超音波（４３０ｋＨｚ）を照射しながら１００秒間浸漬洗浄した。
（２）浸漬洗浄した基板を、洗浄ブラシ（ＰＶＡブラシ）がセットされたスクラブ洗浄ユニットに移した。そして、洗浄ブラシに２５℃の洗浄剤組成物を射出し、該洗浄剤組成物の存在下で洗浄ブラシを被洗浄基板の両面に５０ｒｐｍで回転させながら押し当てることにより、スクラブ洗浄を２５℃で６秒間行った。スクラブ洗浄剤組成物には、浸漬洗浄で用いた洗浄剤組成物と同組成のものを用いた。
（３）スクラブ洗浄した基板を純水ですすいだ後、スピンドライヤーに移し、回転数１４００ｒｐｍで６秒間かけて完全に基板表面を乾燥させた。
【００６２】
［洗浄性の評価］
１０，０００ｒｐｍで回転している洗浄された基板に、光学式微細欠陥検査装置（Ｃａｎｄｅｌａ６１００、ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ社製）のＭＯＤＥ Ｑ−Ｓｃａｔｔｅｒでレーザーを照射して、欠陥数（基板上の異物数）の測定を実施した。各洗浄剤組成物について５枚ずつの基板の表裏合計１０点について前記測定を行い、平均値を算出した。比較例１の値を１００として相対値を表２に示す。値が小さいほど、欠陥数が少なく、洗浄性に優れると評価できる。
【００６３】
［有機物除去性の評価：ＤＯＰ（ジオクチルフタレート）溶解量の測定］
まず、表２に示す実施例又は比較例で用いた化合物１００ｐｐｍを含有する水溶液を、ＫＯＨでｐＨ１１．５に調整し、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ、Ａｌｄｉｃｈ製)１００ｐｐｍを添加した。ＤＯＰの添加直後の水溶液は白濁していた。そして、超音波照射によりＤＯＰを分散させ、５分間経過後の水溶液の透過率を測定し、透過率から溶解量を算出した。算出結果を、比較例１を１００とした相対値として表２に示した。値が大きいほど、より多量のＤＯＰが溶解して水溶液は透明に変化するため、有機物に対する溶解性に優れると評価できる。
＜条件＞
測定装置：紫外可視分光光度計UV−２７００（株式会社島津製作所製）
測定条件：測定波長６６０ｎｍ
【００６４】
［有機物除去性の評価：デンプン溶解量の測定］
デンプン溶解性試験を行い、有機物に対する溶解性を評価した。
まず、界面活性剤１００ｐｐｍを含有する水溶液を、ＫＯＨでｐＨ１１．５に調整し、デンプン（Ａｌｄｒｉｃｈ製）１００ｐｐｍを添加した。ヨウ素を添加してヨウ素デンプン反応により着色させ、吸光度から溶解量を算出した。算出結果を、比較例１を１００とした相対値として表２に示した。値が大きいほど、より多量のデンプンが溶けて濃紫色に呈色し、有機物に対する溶解性に優れると評価できる。
＜条件＞
測定装置：紫外可視分光光度計UV−２７００（株式会社島津製作所製）
測定条件：測定波長６００ｎｍ
【００６５】
【表２】
2020177716.tif 000003
【００６６】
表２に示すとおり、実施例１〜４の洗浄剤組成物は、比較例１〜２の洗浄剤組成物に比べて、ＤＯＰ及びデンプンの溶解性が高かった。そして、実施例１〜４の洗浄剤組成物は、洗浄後の基板表面の欠陥数が、比較例１〜２の洗浄剤組成物に比べて低減していた。これらの結果から、本開示の洗浄剤組成物は、有機物残渣の除去性に優れ、表面欠陥の発生を抑制できることがわかった。