(57)【要約】【課題】研磨機の研磨部材の劣化を抑制する。【解決手段】研磨機１Ａは、回転テーブル１０上に、上面２１に研磨部材８０が配置される研磨部２０、上面３１に研磨部材９０が配置される研磨部３０、上面４１に研磨部材１００が配置される研磨部４０を備える。研磨部３０は、研磨部２０の外側に隙間３４をあけて、研磨部２０を囲む柱状の支持部５０Ａ群の上に設けられ、研磨部４０は、研磨部３０の外側に隙間４４をあけて、研磨部３０を囲む柱状の支持部６０Ａ群の上に設けられる。研磨部３０の上面３１は、内側の研磨部２０の上面２１よりも高い位置とされ、研磨部４０の上面４１は、内側の研磨部３０の上面３１よりも高い位置とされる。これにより、内側研磨部材の研磨で生じる研磨屑を含む研磨液の、外側研磨部材上への流れ込み、それによる外側研磨部材の目詰まりを抑制する。【選択図】図８
2020175470.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転テーブルと、
前記回転テーブル上に設けられ、第１研磨部材が配置される第１上面を有する第１研磨部と、
前記回転テーブル上の、前記第１研磨部の外側に、前記第１研磨部を囲むように設けられた複数の第１支持部と、
前記複数の第１支持部上に、前記第１研磨部を囲み、前記第１研磨部から分離されて設けられ、第２研磨部材が配置される第２上面を有し、前記第２上面が前記第１上面よりも高い位置にある第２研磨部と
を含むことを特徴とする研磨機。
【請求項２】
回転テーブルと、
前記回転テーブル上に設けられ、第１研磨部材が配置される第１上面を有する第１研磨部と、
前記回転テーブル上の、前記第１研磨部の外側に、前記第１研磨部を囲むように設けられた複数の第１支持部と、
前記複数の第１支持部上に、前記第１研磨部を囲み、前記第１研磨部から分離されて設けられ、第２研磨部材が配置される第２上面を有する第２研磨部と、
前記第２研磨部の、前記第１研磨部と対向する縁部に設けられ、前記第２上面よりも上方に突出した遮蔽部と
を含むことを特徴とする研磨機。
【請求項３】
前記第１研磨部材と前記第２研磨部材とは、異なる粒度を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の研磨機。
【請求項４】
前記複数の第１支持部は、前記回転テーブルから突出する柱状であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の研磨機。
【請求項５】
前記複数の第１支持部は、前記回転テーブルから突出する壁状であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の研磨機。
【請求項６】
前記第２研磨部は、前記第１研磨部と対向する側面が、前記第２上面から前記回転テーブルに向かって内側から外側へ傾斜した傾斜面であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の研磨機。
【請求項７】
前記第２研磨部は、前記複数の第１支持部上に着脱可能に設けられることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の研磨機。
【請求項８】
前記回転テーブルが収容される収容部と、
前記収容部と連通し、前記回転テーブル上から前記収容部に流入する液を外部へ排出する排出口と
を有する筐体を含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の研磨機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨機に関する。
【背景技術】
【０００２】
研磨機として、研磨盤上に粒度の異なる複数の研磨シート片を同心円状に配置し、或いは定盤上に２種類以上の材質の研磨パッドを同心円状に配置し、これを同心円の中心周りに回転させて、対象物の研磨を行うものが知られている。このほか、研磨機として、回転する円盤状の定盤に同心円状の溝を設けて定盤表面を複数の領域に分割し、それぞれに異なる研磨剤を供給して研磨を行うもの、各領域の内側に不要な研磨剤を排出するための排出口を設けたものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１００２８９号公報
【特許文献２】特開２００２−１０３２０４号公報
【特許文献３】特開平６−２６２５１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のような研磨機では、内側の研磨シート片若しくは研磨パッド又は領域を用いた研磨時の研磨屑等が、回転時の遠心力で外側の研磨シート片若しくは研磨パッド又は領域に流入し、目詰まりによってその劣化を早めてしまう場合がある。
【０００５】
１つの側面では、本発明は、研磨機における研磨部材の劣化を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
１つの態様では、回転テーブルと、前記回転テーブル上に設けられ、第１研磨部材が配置される第１上面を有する第１研磨部と、前記回転テーブル上の、前記第１研磨部の外側に、前記第１研磨部を囲むように設けられた複数の第１支持部と、前記複数の第１支持部上に、前記第１研磨部を囲み、前記第１研磨部から分離されて設けられ、第２研磨部材が配置される第２上面を有し、前記第２上面が前記第１上面よりも高い位置にある第２研磨部とを含む研磨機が提供される。
【０００７】
また、１つの態様では、回転テーブルと、前記回転テーブル上に設けられ、第１研磨部材が配置される第１上面を有する第１研磨部と、前記回転テーブル上の、前記第１研磨部の外側に、前記第１研磨部を囲むように設けられた複数の第１支持部と、前記複数の第１支持部上に、前記第１研磨部を囲み、前記第１研磨部から分離されて設けられ、第２研磨部材が配置される第２上面を有する第２研磨部と、前記第２研磨部の、前記第１研磨部と対向する縁部に設けられ、前記第２上面よりも上方に突出した遮蔽部とを含む研磨機が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
１つの側面では、研磨機における研磨部材の劣化を抑制することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】研磨機の第１の例について説明する図である。
【図２】研磨機の第２の例について説明する図である。
【図３】研磨機で生じる問題点について説明する図である。
【図４】第１の実施の形態に係る研磨機の一例について説明する図（その１）である。
【図５】第１の実施の形態に係る研磨機の一例について説明する図（その２）である。
【図６】第１の実施の形態に係る研磨機を用いた研磨の第１の例について説明する図である。
【図７】第１の実施の形態に係る研磨機を用いた研磨の第２の例について説明する図である。
【図８】第１の実施の形態に係る研磨機の第１の構成例について説明する図である。
【図９】第１の実施の形態に係る研磨機の第２の構成例について説明する図である。
【図１０】第２の実施の形態に係る研磨機の一例について説明する図である。
【図１１】第２の実施の形態に係る研磨機を用いた研磨の例について説明する図である。
【図１２】第２の実施の形態に係る研磨機の構成例について説明する図である。
【図１３】第３の実施の形態に係る研磨機の一例について説明する図である。
【図１４】第３の実施の形態に係る研磨機を用いた研磨の例について説明する図である。
【図１５】第３の実施の形態に係る研磨機の構成例について説明する図である。
【図１６】第４の実施の形態に係る研磨機の一例について説明する図である。
【図１７】第５の実施の形態に係る研磨作業フローの一例を示す図である。
【図１８】研磨作業フローの別の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
電子デバイス分野では、電子機器に実装する電子部品の小型化、薄型化が進み、電子部品のプリント基板等への接合の微細化、高密度化が進んでいる。電子部品の接合信頼性を評価する方法の１つとして、研磨により得られる電子部品試料の接合部の断面又は平面（研磨面）の状態観察を行い、ストレスを受けた接合部の損傷の有無や程度を評価する方法がある。
【００１１】
ここで、研磨に用いる研磨機の例について説明する。
図１は研磨機の第１の例について説明する図である。図１（Ａ）〜図１（Ｃ）にはそれぞれ、研磨機の一例の要部平面図（上図）及び要部断面図（下図）を模式的に示している。図１（Ａ）において、断面図（下図）は、平面図（上図）に示したＩａ−Ｉａ線に沿った断面を模式的に示したものである。図１（Ｂ）において、断面図（下図）は、平面図（上図）に示したＩｂ−Ｉｂ線に沿った断面を模式的に示したものである。図１（Ｃ）において、断面図（下図）は、平面図（上図）に示したＩｃ−Ｉｃ線に沿った断面を模式的に示したものである。
【００１２】
研磨機２００は、例えば、図１（Ａ）に示すように、軸線を中心にして円周方向に回転する平面円形状の回転テーブル２１０を備える。回転テーブル２１０の上面２１１に、研磨紙等の研磨部材２４０が配置される。研磨部材２４０には、電子部品試料等の被研磨体の種類、粗削りや仕上げ等の研磨段階に合わせて選択された粒度を有するものが用いられる。
【００１３】
例えば、電子部品試料の粗削りでは、比較的低い粒度Ｐ１の研磨部材２４０（＃４００や＃８００といった比較的表面粗さの粗い低番手の研磨部材２４０）が用いられる。このような、比較的低い粒度Ｐ１の研磨部材２４０が用いられ、電子部品試料の粗削りが行われる。即ち、電子部品試料が、回転する回転テーブル２１０上の研磨部材２４０に押し付けられ、粗削りの研磨が行われる。
【００１４】
電子部品試料の研磨面の状態観察を行うためには、粗削り後、更に粒度の高い（表面粗さの細かい）研磨部材が用いられ、中間削り、中間仕上げ、最終仕上げといった研磨が行われる。
【００１５】
この場合、研磨機２００では、粗削りに用いた研磨部材２４０が回転テーブル２１０上から取り外される。そして、図１（Ｂ）に示すように、回転テーブル２１０上に、例えば、中間削りを行うための、より高い粒度Ｐ２（＞Ｐ１）の研磨部材２３０（＃１２００といったより表面粗さの細かい高番手の研磨部材２３０）が配置される。このように、比較的低い粒度Ｐ１の研磨部材２４０から、より高い粒度Ｐ２の研磨部材２３０への交換が行われ、電子部品試料の中間削りが行われる。
【００１６】
中間仕上げや最終仕上げが行われる場合には、同様に、図１（Ｃ）に示すように、粒度Ｐ２の研磨部材２３０から、更に高い粒度Ｐ３（＞Ｐ２）の研磨部材２２０（＃２４００やバフといったより表面粗さの細かい高番手の研磨部材２２０）への交換が行われる。このような、更に高い粒度Ｐ３の研磨部材２２０が用いられ、電子部品試料の中間仕上げや最終仕上げが行われる。
【００１７】
電子部品試料の研磨面の状態観察を行うための研磨では、このように、粗削り、中間削り、中間仕上げ、最終仕上げといった研磨段階の進行に合わせて、研磨部材が粒度の低いものから高いものへと順次交換され、各段階の研磨が行われる。尚、或る研磨段階において、それに合わせた粒度の研磨部材を用いた研磨後の研磨面に不良（深いキズ等）が生じたような場合には、それよりも前の研磨段階において用いた粒度の研磨部材に交換されて再研磨が行われることもある。
【００１８】
研磨機２００を用いると、研磨段階が変わるたびに研磨部材を交換することを要するため、状態観察可能な研磨面の形成を効率的に行うことが難しい場合がある。
図２は研磨機の第２の例について説明する図である。図２（Ａ）及び図２（Ｂ）にはそれぞれ、研磨機の一例の要部平面図（上図）及び要部断面図（下図）を模式的に示している。図２（Ａ）において、断面図（下図）は、平面図（上図）に示したＩＩａ−ＩＩａ線に沿った断面を模式的に示したものである。図２（Ｂ）において、断面図（下図）は、平面図（上図）に示したＩＩｂ−ＩＩｂ線に沿った断面を模式的に示したものである。
【００１９】
図２（Ａ）に示す研磨機３００では、回転テーブル３１０の上面３１１に、粒度の異なる複数の研磨部材が配置される。図２（Ａ）の例では、粒度の異なる研磨部材３４０（粒度Ｐ１）、研磨部材３３０（粒度Ｐ２（＞Ｐ１））、及び研磨部材３２０（粒度Ｐ３（＞Ｐ２））が、回転テーブル３１０の上面３１１に、同心円状に配置される。
【００２０】
研磨機３００では、回転テーブル３１０上に配置される、粒度の異なる研磨部材３４０、研磨部材３３０及び研磨部材３２０が用いられ、被研磨体である電子部品試料について、各研磨段階の研磨が行われる。即ち、研磨段階毎に、回転テーブル３１０上の電子部品試料の位置が変更され、研磨段階に合わせた粒度の研磨部材３４０、研磨部材３３０又は研磨部材３２０が用いられて、各研磨段階の研磨が行われる。
【００２１】
また、図２（Ｂ）に示す研磨機４００では、回転テーブル４１０が複数の領域に分割される。図２（Ｂ）の例では、同心円状の溝４１２によって、回転テーブル４１０が３つの領域に分割される。その分割された各領域に、粒度の異なる研磨部材４４０（粒度Ｐ１）、研磨部材４３０（粒度Ｐ２（＞Ｐ１））、及び研磨部材４２０（粒度Ｐ３（＞Ｐ２））が、同心円状に配置される。
【００２２】
この研磨機４００でも、上記研磨機３００と同様に、研磨段階毎に、回転テーブル４１０上の電子部品試料の位置が変更され、研磨段階に合わせた粒度の研磨部材４４０、研磨部材４３０又は研磨部材４２０が用いられて、各研磨段階の研磨が行われる。
【００２３】
研磨機４００では、その回転テーブル４１０に、隣接領域間の溝４１２に連通されて内側から外側に延びる（この例では四方に延びる）管状の排出口４１３が設けられる。研磨時には、例えば、各研磨段階において、研磨部材４４０、研磨部材４３０又は研磨部材４２０の上に、水やオイル等、又はそれらに砥粒等の研磨剤が混合された組成物（以下「研磨液」と言う）が供給される。また、研磨時には、研磨に伴い研磨屑が生じ得る。排出口４１３は、このような研磨時に使用された研磨液や、研磨により生じた研磨屑を含む研磨液を、排出する目的で設けられるものである。
【００２４】
研磨機３００及び研磨機４００ではそれぞれ、研磨段階毎に電子部品試料の回転テーブル３１０上及び回転テーブル４１０上での位置が変更され、研磨段階に合わせた粒度の研磨部材（研磨部材３４０，３３０，３２０，４４０，４３０，４２０）を用いた研磨が行われる。この点で、研磨機３００及び研磨機４００では、研磨段階が変わるたびに研磨部材を交換することを要する上記研磨機２００と比べて、電子部品試料の状態観察可能な研磨面の形成が効率化され得る。
【００２５】
しかし、研磨機３００及び研磨機４００では、次に示すような問題が生じる場合がある。
図３は研磨機で生じる問題点について説明する図である。図３（Ａ）及び図３（Ｂ）にはそれぞれ、研磨機の一例の要部断面図を模式的に示している。
【００２６】
図３（Ａ）は、上記図２（Ａ）に示した研磨機３００で生じ得る問題点を説明するための図である。図３（Ａ）には、回転軸３１０ａ（軸線Ｃ）を中心にして回転テーブル３１０が回転され、ノズル等の供給装置６００から研磨液６１０が供給されながら、研磨部材３２０に電子部品試料５００が押し付けられて研磨が行われる様子を模式的に図示している。
【００２７】
研磨機３００での研磨時には、研磨部材３２０上に供給された研磨液６１０が、回転による遠心力により、その外側に配置される研磨部材３３０上や研磨部材３４０上へ流れていく。研磨部材３２０上での電子部品試料５００の研磨では、その研磨に伴い、研磨屑５１０が生じる。そのため、外側の研磨部材３３０上や研磨部材３４０上には、電子部品試料５００の研磨屑５１０を含む研磨液６１０が流れていくことになり、その研磨液６１０に含まれる研磨屑５１０により、或いは更に研磨液６１０中の研磨剤により、研磨部材３３０や研磨部材３４０に目詰まりが生じる場合がある。内側の研磨部材３２０の粒度を、外側の研磨部材３３０や研磨部材３４０の粒度よりも高くしていると、内側の研磨部材３２０での研磨で生じる比較的細かな研磨屑１５１が、外側の研磨部材３３０上や研磨部材３４０上に流れるため、より目詰まりが生じ易くなる。
【００２８】
このように研磨部材３３０や研磨部材３４０に目詰まりが生じると、研磨部材３２０上での研磨において電子部品試料５００の研磨面に不良（深いキズ等）が生じても、より低粒度の研磨部材３３０をそのまま用いて再研磨することができないことが起こり得る。或いは、研磨部材３３０や研磨部材３４０の目詰まりにより、これらを別の電子部品試料の研磨に再利用することができないことが起こり得る。
【００２９】
図３（Ａ）では、電子部品試料５００の研磨部材３２０上での研磨を例にしたが、研磨部材３３０上での研磨時にも、その外側の研磨部材３４０について、同様の目詰まりが生じ得る。また、研磨部材３４０上での研磨時にも、供給装置６００からの研磨液６１０の供給量や回転テーブル３１０の回転速度等によっては、その内側の研磨部材３３０や研磨部材３２０について、同様の目詰まりが生じる可能性がある。
【００３０】
このように研磨機３００では、研磨屑５１０を含む研磨液６１０が研磨部材上を流れることで生じる目詰まりによって、研磨部材の劣化が早まる場合がある。そのため、研磨機３００では、研磨部材の交換頻度を効果的に減らすことができず、電子部品試料の状態観察可能な研磨面の形成を十分に効率化することができない場合がある。
【００３１】
また、図３（Ｂ）は、上記図２（Ｂ）に示した研磨機４００で生じ得る問題点を説明するための図である。図３（Ｂ）には、回転軸４１０ａ（軸線Ｃ）を中心にして回転テーブル４１０が回転され、ノズル等の供給装置６００から研磨液６１０が供給されながら、研磨部材４２０に電子部品試料５００が押し付けられて研磨が行われる様子を模式的に図示している。
【００３２】
研磨機４００では、研磨部材４２０が配置される領域と、その外側の研磨部材４３０が配置される領域との間に、溝４１２が設けられている。そのため、研磨部材４２０上に供給された研磨液６１０、或いは研磨部材４２０上での研磨によって電子部品試料５００から生じた研磨屑５１０を含む研磨液６１０は、少なくともその一部が、溝４１２に流れる。研磨機４００では、上記研磨機３００と比べて、外側の研磨部材４３０上や研磨部材４４０上に電子部品試料５００の研磨屑５１０を含む研磨液６１０が流れていくことが抑制され得る。しかし、供給装置６００からの研磨液６１０の供給量や回転テーブル４１０の回転速度等によっては、外側の研磨部材４３０上や研磨部材４４０上に研磨屑５１０を含む研磨液６１０が流れ、上記研磨機３００について述べたのと同様の目詰まりが生じ得る。
【００３３】
更に、研磨機４００では、溝４１２に流れた研磨液６１０に含まれる研磨屑５１０が、その溝４１２に繋がる管状の排出口４１３を詰まらせ、研磨液６１０や研磨屑５１０の排出が滞ってしまう場合がある。このように研磨液６１０や研磨屑５１０の排出が滞ってしまうと、外側の研磨部材４３０上や研磨部材４４０上に研磨屑５１０を含む研磨液６１０が流れ、やはり同様の目詰まりが生じ得る。
【００３４】
図３（Ｂ）では、電子部品試料５００の研磨部材４２０上での研磨を例にしたが、研磨部材４３０上での研磨時にも、その外側の研磨部材４４０について、同様の目詰まりが生じ得る。また、研磨部材４４０上での研磨時にも、供給装置６００からの研磨液６１０の供給量や回転テーブル４１０の回転速度等によっては、その内側の研磨部材４３０や研磨部材４２０について、同様の目詰まりが生じる可能性がある。
【００３５】
このように研磨機４００でも、上記研磨機３００と同様に、研磨屑５１０を含む研磨液６１０が研磨部材上を流れることで生じる目詰まりによって、研磨部材の劣化が早まる場合がある。そのため、研磨機４００でも、研磨部材の交換頻度を効果的に減らすことができず、また、排出口４１３の詰まりの点検や清掃等のメンテナンスの頻度も高まる恐れがあり、電子部品試料の状態観察可能な研磨面の形成を十分に効率化することができない場合がある。
【００３６】
尚、図３（Ａ）及び図３（Ｂ）では、被研磨体として電子部品試料５００を例にしたが、上記のような問題は、電子部品試料５００に限らず、各種被研磨体の研磨において同様に起こり得る。
【００３７】
以上のような点に鑑み、ここでは、以下に示すような構成を採用し、研磨機における研磨部材の劣化を抑制する。
［第１の実施の形態］
図４及び図５は第１の実施の形態に係る研磨機の一例について説明する図である。図４（Ａ）には、研磨機の一例の要部平面図を模式的に示している。図４（Ｂ）には、研磨機の一例の要部断面図を模式的に示している。図４（Ｂ）は、図４（Ａ）のＩＶｂ−ＩＶｂ線に沿った断面を模式的に示したものである。また、図５には、研磨機の一例の要部拡大断面図を模式的に示している。図５は、図４（Ｂ）に示す断面図の右半分の部位に相当する拡大断面図であって、便宜上、一部の構成（研磨部材及びフレーム）の図示を省略している。
【００３８】
図４（Ａ）及び図４（Ｂ）並びに図５に示す研磨機１Ａは、回転テーブル１０、研磨部２０、研磨部３０、研磨部４０、複数の支持部５０Ａ、及び複数の支持部６０Ａを備える。
【００３９】
回転テーブル１０は、図４（Ｂ）及び図５に示すように、中央部に設けられた回転軸１０ａ（軸線Ｃ）を有する。回転テーブル１０は、図４（Ａ）に示すように、平面視で円形状とされる。回転テーブル１０は、回転軸１０ａが回転することで、軸線Ｃを中心にして円周方向に回転する。
【００４０】
研磨部２０は、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）並びに図５に示すように、回転テーブル１０の中央部に設けられる。研磨部２０は、図４（Ａ）に示すように、平面視で円形状とされる。研磨部２０は、例えば、図４（Ｂ）及び図５に示すように、回転テーブル１０の中央部に、回転テーブル１０と一体で形成されて、設けられる。研磨部２０は、図４（Ｂ）及び図５に示すように、回転テーブル１０の中央部外側の外周部から上方に突出するように、即ち、研磨部２０の上面２１が回転テーブル１０の外周部の上面１１よりも高い位置となるように、設けられる。尚、研磨部２０は、回転テーブル１０の中央部に一体で形成されるもののほか、平板の回転テーブルの上面上に、溶接、接着、嵌合、ネジ止め等の各種固定技術を用いて固定されたものでもよい。
【００４１】
研磨部２０の上面２１には、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示すように、その上面２１の平面形状に対応する平面形状の研磨部材８０が配置される。研磨部材８０（及び後述の研磨部材９０及び研磨部材１００）には、紙、布、皮、金属、樹脂、セラミック、ガラスといった各種材料の基材上に、酸化アルミニウム、炭化ケイ素、酸化ジルコニウム、ダイヤモンドといった各種材料の砥粒が設けられたものが用いられる。例えば、基材上に接着剤等で砥粒が接着されて設けられたものが用いられる。研磨部材８０（及び後述の研磨部材９０及び研磨部材１００）は、用いられる基材の種類によって、研磨紙、研磨布、研磨シート、研磨パッド等とも称される。研磨部２０の上面２１には、所定の粒度の研磨部材８０、例えば、中間仕上げに用いられるような、比較的表面粗さの細かい＃２４００といった番手の研磨部材８０が配置される。研磨部２０の上面２１に配置される研磨部材８０は、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示すように、研磨部材８０の外縁に沿って設けられるフレーム１１０を用いて、研磨部２０に固定される。
【００４２】
回転テーブル１０の中央部に設けられる研磨部２０の外側、即ち、回転テーブル１０の外周部には、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）並びに図５に示すように、研磨部２０を同心円状に囲むように、複数（一例として８個）の支持部５０Ａが設けられる。これらの支持部５０Ａ群は各々、回転テーブル１０の外周部の上面１１から突出する柱状（又はピラー状若しくはポスト状）とされる。支持部５０Ａ群は、互いに分離されて、例えば、隣接する支持部５０Ａ間に一定の間隔があけられて、回転テーブル１０に設けられる。このように柱状の支持部５０Ａ群が回転テーブル１０に設けられる構造を、テーブルピラー構造とも称する。例えば、支持部５０Ａ群は、回転テーブル１０に、溶接、接着、嵌合、ネジ止め等の各種固定技術を用いて固定される。尚、支持部５０Ａ群は、回転テーブル１０に対して着脱可能に設けられてもよい。
【００４３】
研磨部３０は、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）並びに図５に示すように、支持部５０Ａ群の上に、それらに支持されて、設けられる。研磨部３０は、図４（Ａ）に示すように、平面視で環状とされる。研磨部３０は、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）並びに図５に示すように、回転テーブル１０の中央部に設けられる研磨部２０の外側に設けられ、内側の研磨部２０を同心円状に囲み、且つ、内側の研磨部２０から分離されるように隙間３４をあけて、設けられる。研磨部３０は、図４（Ｂ）及び図５に示すように、その上面３１が、内側の研磨部２０の上面２１よりも高い位置となるように、設けられる。研磨部３０の上面３１の位置は、例えば、回転テーブル１０から突出する支持部５０Ａ群の高さ（突出量）や、研磨部３０の厚さによって、調整される。研磨部３０には、図４（Ｂ）及び図５に示すように、内側の研磨部２０と対向する側面の少なくとも一部に、上面３１から回転テーブル１０に向かって内側から外側へ傾斜した傾斜面３２が設けられる。
【００４４】
研磨部３０は、支持部５０Ａ群の上に、支持部５０Ａ群に対して着脱可能に設けられて、又は支持部５０Ａ群に固定されて、支持部５０Ａ群で支持される。例えば、図４（Ｂ）及び図５に示すように、研磨部３０の、回転テーブル１０と対向される側に、支持部５０Ａ群の各々に対応して、有底の穴状の凹部３３Ａが設けられる。そして、各凹部３３Ａに、対応する支持部５０Ａの先端部が挿入され、研磨部３０が支持部５０Ａ群で支持される。この場合、研磨部３０は、支持部５０Ａ群の上に載置されるのみでもよいし、載置されて適当な固定技術を用いて固定されてもよい。研磨部３０が支持部５０Ａ群の上に載置されるのみとするか、或いは載置された研磨部３０の固定を簡単なものにしておくと、研磨部３０を着脱可能とする場合のその着脱が容易になる。研磨部３０が、回転テーブル１０から突出する支持部５０Ａ群で支持されることで、研磨部３０と回転テーブル１０との間には、図４（Ｂ）及び図５に示すように、回転テーブル１０の外側に通じる（後述の空間４５を介して回転テーブル１０の外側に通じる）空間３５が形成される。
【００４５】
研磨部３０の上面３１には、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示すように、その上面３１の平面形状に対応する平面形状の研磨部材９０が配置される。研磨部材９０には、基材上に接着剤等で砥粒が接着されて設けられた研磨紙等が用いられる。研磨部３０の上面３１には、例えば、内側の研磨部２０の上面２１に設けられる研磨部材８０とは異なる粒度の研磨部材９０が配置される。研磨部３０の上面３１には、例えば、中間削りに用いられるような、研磨部材８０よりも表面粗さの粗い、＃１２００といった番手の研磨部材９０が配置される。研磨部３０の上面３１に配置される研磨部材９０は、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示すように、研磨部材９０の外縁に沿って設けられるフレーム１２０を用いて、研磨部３０に固定される。
【００４６】
研磨部３０の外側の、回転テーブル１０の外周部には、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）並びに図５に示すように、研磨部３０を同心円状に囲むように、複数（一例として８個）の支持部６０Ａが設けられる。これらの支持部６０Ａ群は各々、回転テーブル１０の外周部の上面１１から突出する柱状とされる。支持部６０Ａ群は、互いに分離されて、回転テーブル１０に設けられる。このように柱状の支持部６０Ａ群が回転テーブル１０に設けられる構造を、テーブルピラー構造とも称する。支持部６０Ａ群は、支持部５０Ａ群とは異なる高さ（回転テーブル１０からの突出量）としてもよく、図４（Ｂ）及び図５には一例として、上端が支持部５０Ａ群の上端よりも高い位置にある支持部６０Ａ群を示している。例えば、支持部６０Ａ群は、回転テーブル１０に、各種固定技術を用いて固定される。尚、支持部６０Ａ群は、回転テーブル１０に対して着脱可能に設けられてもよい。
【００４７】
研磨部４０は、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）並びに図５に示すように、支持部６０Ａ群の上に、それらに支持されて、設けられる。研磨部４０は、図４（Ａ）に示すように、平面視で環状とされる。研磨部４０は、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）並びに図５に示すように、回転テーブル１０に設けられる研磨部２０及び研磨部３０の外側に設けられる。研磨部４０は、内側の研磨部２０及び研磨部３０を同心円状に囲み、且つ、直近の内側の研磨部３０から分離されるように隙間４４をあけて、設けられる。研磨部４０は、図４（Ｂ）及び図５に示すように、その上面４１が、直近の内側の研磨部３０の上面３１よりも高い位置となるように、設けられる。研磨部４０の上面４１の位置は、例えば、回転テーブル１０から突出する支持部６０Ａ群の高さ（突出量）や、研磨部４０の厚さによって、調整される。研磨部４０には、図４（Ｂ）及び図５に示すように、直近の内側の研磨部３０と対向する側面の少なくとも一部に、上面４１から回転テーブル１０に向かって内側から外側へ傾斜した傾斜面４２が設けられる。
【００４８】
研磨部４０は、支持部６０Ａ群の上に、支持部６０Ａ群に対して着脱可能に設けられて、又は支持部６０Ａ群に固定されて、支持部６０Ａ群で支持される。例えば、図４（Ｂ）及び図５に示すように、研磨部４０の、回転テーブル１０と対向される側に、支持部６０Ａ群の各々に対応して、有底の穴状の凹部４３Ａが設けられる。そして、各凹部４３Ａに、対応する支持部６０Ａの先端部が挿入され、研磨部４０が支持部６０Ａ群で支持される。この場合、研磨部４０は、支持部６０Ａ群の上に載置されるのみでもよいし、載置されて適当な固定技術を用いて固定されてもよい。研磨部４０が支持部６０Ａ群の上に載置されるのみとするか、或いは載置された研磨部４０の固定を簡単なものにしておくと、研磨部４０を着脱可能とする場合のその着脱が容易になる。研磨部４０が、回転テーブル１０から突出する支持部６０Ａ群で支持されることで、研磨部４０と回転テーブル１０との間には、図４（Ｂ）及び図５に示すように、回転テーブル１０の外側に通じる空間４５が形成される。
【００４９】
研磨部４０の上面４１には、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示すように、その上面４１の平面形状に対応する平面形状の研磨部材１００が配置される。研磨部材１００には、基材上に接着剤等で砥粒が接着されて設けられた研磨紙等が用いられる。研磨部４０の上面４１には、例えば、中央の研磨部２０の上面２１に設けられる研磨部材８０、及び直近の内側の研磨部３０の上面３１に設けられる研磨部材９０とは異なる粒度の研磨部材１００が配置される。研磨部４０の上面４１には、例えば、粗削りに用いられるような、研磨部材８０及び研磨部材９０よりも表面粗さの粗い、＃８００といった番手の研磨部材１００が配置される。研磨部４０の上面４１に配置される研磨部材１００は、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示すように、研磨部材１００の外縁に沿って設けられるフレーム１３０を用いて、研磨部４０に固定される。
【００５０】
研磨機１Ａは、研磨部材８０が配置される中央の研磨部２０の上面２１、研磨部材９０が配置される中間の研磨部３０の上面３１、及び研磨部材１００が配置される外側の研磨部４０の上面４１が、中央から外側にいくに従って高い位置になるような構成を有する。
【００５１】
続いて、研磨機１Ａを用いた研磨について説明する。
図６は第１の実施の形態に係る研磨機を用いた研磨の第１の例について説明する図である。図６には、研磨機として、その一例の要部拡大断面図を模式的に示している。
【００５２】
例えば、図６に示すように、研磨機１Ａが用いられ、電子部品試料等の被研磨体１５０の研磨が行われる。図６には、回転テーブル１０が回転軸１０ａによって軸線Ｃを中心に回転され、供給装置１４０から研磨液１４１が供給され、中央の研磨部２０に配置された研磨部材８０に被研磨体１５０が押し付けられて、研磨が行われる様子を模式的に図示している。
【００５３】
研磨機１Ａでの研磨において、供給装置１４０から研磨部２０の研磨部材８０上に供給された研磨液１４１は、回転による遠心力により、研磨部材８０上を、その外縁に向かって、即ち、外側の研磨部３０の方に向かって、流れていく。この研磨液１４１には、被研磨体１５０の研磨によって生じる研磨屑１５１が含まれる。
【００５４】
ここで、研磨機１Ａでは、中央の研磨部２０と、その外側に設けられる研磨部３０との間に、研磨部３０下の空間３５に通じる隙間３４が設けられる。更に、研磨機１Ａでは、研磨部材８０が配置される中央の研磨部２０の上面２１よりも、その外側の研磨部３０の上面３１の方が高い位置にあり、より高い位置の上面３１上に、研磨部材９０が配置される。
【００５５】
そのため、研磨機１Ａでは、研磨部２０の研磨部材８０上を流れてその端部まで到達した、研磨屑１５１を含む研磨液１４１の、より高い位置の研磨部材９０上への流れ込みが抑制される。研磨部材８０上を流れる、研磨屑１５１を含む研磨液１４１は、直接隙間３４から空間３５に流れ、或いは研磨部３０（その側面）に当たって隙間３４から空間３５に流れる。研磨部３０の、研磨部２０側の側面に傾斜面３２が形成されていると、研磨屑１５１を含む研磨液１４１が側面に当たった時の周辺への跳ね返りや飛び散りを抑制して当該研磨液１４１を空間３５へ導くことができる。空間３５に流れた研磨屑１５１を含む研磨液１４１は、遠心力により、研磨部３０を支持する支持部５０Ａ群の間を抜けて、外側の研磨部４０下の空間４５に流れ込み、研磨部４０を支持する支持部６０Ａ群の間を抜けて、回転テーブル１０の外側へ排出される。
【００５６】
このように研磨機１Ａでは、内側の研磨部２０に設けられた研磨部材８０を用いた被研磨体１５０の研磨時に供給される研磨液１４１、及び研磨によって生じる研磨屑１５１の、外側の研磨部３０に設けられる研磨部材９０上への流れ込みが抑制される。これにより、外側の研磨部３０に設けられる研磨部材９０の、研磨屑１５１による目詰まり、それによる劣化が抑制される。研磨部材９０の目詰まりによる劣化が抑制されるため、例えば、研磨部材８０での研磨時に被研磨体１５０に深いキズ等の不良が生じた場合にも、研磨部材９０を交換せずにそのまま利用して、被研磨体１５０を再研磨することが可能になる。また、被研磨体１５０の研磨後、研磨部材９０を交換せずにそのまま再利用して、別の被研磨体を研磨することも可能になる。
【００５７】
更に、研磨機１Ａでは、外側の研磨部３０が、互いに分離されて設けられた柱状の支持部５０Ａ群で支持されることで、研磨部３０下に比較的大きな体積の空間３５が形成される。このような比較的大きな体積の空間３５が、研磨屑１５１を含む研磨液１４１を排出する排出経路の一部として用いられる。そのため、研磨屑１５１を含む研磨液１４１が、隙間３４から空間３５に流れても、その排出経路の研磨屑１５１による詰まりが抑制される。これにより、研磨機１Ａの点検や清掃といったメンテナンスの頻度が低減される。
【００５８】
図７は第１の実施の形態に係る研磨機を用いた研磨の第２の例について説明する図である。図７には、研磨機として、その一例の要部拡大断面図を模式的に示している。
図７には、回転テーブル１０が回転軸１０ａによって軸線Ｃを中心に回転され、供給装置１４０から研磨液１４１が供給され、中間の研磨部３０に配置された研磨部材９０に被研磨体１５０が押し付けられて、研磨が行われる様子を模式的に図示している。
【００５９】
研磨機１Ａでは、中間の研磨部３０と、その外側に設けられる研磨部４０との間に、研磨部４０下の空間４５に通じる隙間４４が設けられる。更に、研磨機１Ａでは、研磨部材９０が配置される中間の研磨部３０の上面３１よりも、その外側の研磨部４０の上面４１の方が高い位置にあり、より高い位置の上面４１上に、研磨部材１００が配置される。
【００６０】
図７に示すように、中間の研磨部３０の研磨部材９０で研磨が行われる場合も、上記図６で述べたのと同様に、研磨部材９０上を流れてその端部まで到達した、研磨屑１５１を含む研磨液１４１の、より高い位置の研磨部材１００上への流れ込みが抑制される。研磨部材９０上を流れる、研磨屑１５１を含む研磨液１４１は、直接隙間４４から空間４５に流れ、或いは研磨部４０（その側面）に当たって隙間４４から空間４５に流れる。研磨部４０の、研磨部３０側の側面に傾斜面４２が形成されていると、研磨屑１５１を含む研磨液１４１が側面に当たった時の周辺への跳ね返りや飛び散りを抑制して当該研磨液１４１を空間４５へ導くことができる。研磨屑１５１を含む研磨液１４１の、研磨部材１００上への流れ込みが抑制されることで、研磨部材１００の研磨屑１５１による目詰まり、それによる劣化が抑制される。研磨部材１００の目詰まりによる劣化が抑制されるため、研磨部材１００を交換せずにそのまま利用して、被研磨体１５０を再研磨したり、別の被研磨体を研磨したりすることが可能になる。
【００６１】
更に、上記図６で述べたのと同様に、研磨機１Ａでは、互いに分離されて設けられた柱状の支持部６０Ａ群で支持されることで研磨部４０下に形成される、比較的大きな体積の空間４５が、研磨屑１５１を含む研磨液１４１の排出経路の一部として用いられる。隙間４４から空間４５に流れた研磨屑１５１を含む研磨液１４１は、遠心力により、研磨部４０を支持する支持部６０Ａ群の間を抜けて、回転テーブル１０の外側へ排出される。研磨屑１５１を含む研磨液１４１が、隙間４４から空間４５に流れても、その排出経路の研磨屑１５１による詰まりが抑制される。これにより、研磨機１Ａの点検や清掃といったメンテナンスの頻度が低減される。
【００６２】
研磨機１Ａによれば、研磨部材８０での研磨に伴うその外側の研磨部材９０の目詰まりによる劣化、及び研磨部材９０での研磨に伴うその外側の研磨部材１００の目詰まりによる劣化が、いずれも効果的に抑制される。また、研磨部材９０及び研磨部材１００の劣化が抑制されること、更に、研磨部３０及び研磨部４０に対して設けられる隙間３４，４４及び空間３５，４５によって研磨屑１５１の詰まりが抑制されることで、メンテナンスの頻度が効果的に低減される。
【００６３】
研磨部材９０及び研磨部材１００の劣化が効果的に抑制され、更に、メンテナンスの頻度が効果的に低減される、研磨機１Ａが実現される。
また、研磨機１Ａでは、隙間３４，４４及び空間３５，４５が設けられることで、研磨屑１５１を含む研磨液１４１の、研磨部材９０上からその内側の研磨部材８０上への流れ込み、研磨部材１００上からその内側の研磨部材９０上への流れ込みも抑制される。研磨機１Ａによれば、供給装置１４０からの研磨液１４１の供給量や回転テーブル１０の回転速度によらず、研磨部材８０、研磨部材９０及び研磨部材１００の劣化が効果的に抑制される。
【００６４】
続いて、研磨機１Ａの構成例について説明する。
図８は第１の実施の形態に係る研磨機の第１の構成例について説明する図である。図８には、研磨機の一例の要部平面図（上図）及び要部断面図（下図）を模式的に示している。
【００６５】
上記研磨機１Ａは、例えば、図８に示すように、筐体２に収容される。ここでは、このように上記研磨機１Ａが筐体２に収容されたものも「研磨機」と称する。図８では、上記研磨機１Ａが筐体２に収容されたものを研磨機１Ａａとしている。
【００６６】
筐体２は、研磨機１Ａが収容される収容部２ａ、及び収容部２ａに連通するように設けられた排出口２ｂを備える。研磨機１Ａが筐体２の収容部２ａに収容された状態で、回転テーブル１０が、回転軸１０ａの回転によって軸線Ｃを中心に円周方向に回転される。そして、供給装置（図示せず）から研磨液が供給され、被研磨体（図示せず）が、研磨部２０の上面２１に配置された研磨部材８０、研磨部３０の上面３１に配置された研磨部材９０、又は研磨部４０の上面４１に配置された研磨部材１００により、研磨される。
【００６７】
研磨機１Ａでは、研磨部２０の上面２１よりも、研磨部３０の上面３１の方が高い位置に設けられ、研磨部３０の上面３１よりも、研磨部４０の上面４１の方が高い位置に設けられる。そのため、研磨部２０の上面２１に配置される研磨部材８０での研磨で生じる研磨屑を含む研磨液の、研磨部３０の上面３１に配置される研磨部材９０上への流れ込みが抑制される。同様に、研磨部３０の上面３１に配置される研磨部材９０での研磨で生じる研磨屑を含む研磨液の、研磨部４０の上面４１に配置される研磨部材１００上への流れ込みが抑制される。これにより、研磨部材９０及び研磨部材１００の目詰まり、それによる劣化が効果的に抑制される。
【００６８】
研磨部２０の研磨部材８０での研磨で生じる研磨屑を含む研磨液は、隙間３４から空間３５に流れ、また、研磨部３０の研磨部材９０での研磨で生じる研磨屑を含む研磨液は、隙間４４から空間４５に流れる。支持部５０Ａ群及び支持部６０Ａ群によって確保される比較的大きな体積の空間３５及び空間４５が、研磨屑を含む研磨液の排出経路の一部として用いられ、回転テーブル１０上の排出経路の研磨屑による詰まりが抑制される。これにより、研磨機１Ａのメンテナンスの頻度が効果的に低減される。
【００６９】
空間３５又は空間４５に流れた研磨屑を含む研磨液は、回転テーブル１０上を流れて、筐体２の収容部２ａに流れ込む。また、研磨部４０での研磨で生じる研磨屑を含む研磨液は、筐体２の収容部２ａに流れ込む。筐体２の収容部２ａに流れ込んだ研磨屑を含む研磨液は、排出口２ｂを通じて筐体２の外部へ排出される。排出口２ｂの開口サイズ（径）を調整しておくことで、研磨液に含まれる研磨屑による排出口２ｂの詰まりは抑制される。これにより、研磨機１Ａａのメンテナンスの頻度が効果的に低減される。
【００７０】
研磨部材９０及び研磨部材１００の劣化が効果的に抑制され、メンテナンスの頻度が効果的に低減される、研磨機１Ａａが実現される。
図９は第１の実施の形態に係る研磨機の第２の構成例について説明する図である。図９（Ａ）には、研磨機に着脱可能な研磨部の一例の要部平面図を模式的に示している。図９（Ｂ）には、研磨部が着脱可能な研磨機の一例の要部断面図を模式的に示している。
【００７１】
上記研磨機１Ａにおいて、中央の研磨部２０は、回転テーブル１０と一体で設けることができ、研磨部２０の外側の研磨部３０及び研磨部４０はそれぞれ、回転テーブル１０に設けられる支持部５０Ａ群及び支持部６０Ａ群に対して着脱可能に設けることができる。
【００７２】
例えば、図９（Ａ）及び図９（Ｂ）に示すように、中間の研磨部３０の、回転テーブル１０と対向される側に、回転テーブル１０上の支持部５０Ａ群の各々に対応して、支持部５０Ａの先端部が挿入可能な凹部３３Ａが設けられる。
【００７３】
研磨部３０の取り付けの際には、研磨部３０が、凹部３３Ａ群を回転テーブル１０側に向けて下降され、凹部３３Ａ群にそれぞれ、対応する支持部５０Ａの先端部が挿入される。これにより、回転テーブル１０上の支持部５０Ａ群に研磨部３０が取り付けられた状態が得られる。図９（Ｂ）には、回転テーブル１０上の支持部５０Ａ群に取り付けられた研磨部３０を、点線で図示している。
【００７４】
研磨部３０の取り外しの際には、研磨部３０が、回転テーブル１０から離れる方向に持ち上げられ、凹部３３Ａ群から支持部５０Ａ群の先端部が引き抜かれる。これにより、回転テーブル１０上の支持部５０Ａ群から研磨部３０が取り外された状態が得られる。図９（Ｂ）では、回転テーブル１０上の支持部５０Ａ群から取り外された研磨部３０を、鎖線枠内に実線で図示している。
【００７５】
このように研磨部３０は、回転テーブル１０上の支持部５０Ａ群に対する取り付け及び取り外しを可能にすることができる。取り付けられる研磨部３０には、予めその上面３１に、フレーム１２０を用いて固定された研磨部材９０が配置されてもよい。また、取り付けられる研磨部３０は、支持部５０Ａ群の上に載置されるのみでもよいし、載置されて適当な固定技術を用いて固定されてもよい。研磨部３０が支持部５０Ａ群の上に載置されるのみとするか、或いは載置された研磨部３０の固定を簡単なものにしておくと、研磨部３０を取り付ける際の作業、及び取り外す際の作業が容易になる。
【００７６】
図９（Ａ）及び図９（Ｂ）では、中間の研磨部３０を例にしたが、その外側の研磨部４０についても同様に、回転テーブル１０上の支持部６０Ａ群に対する取り付け及び取り外しを可能にすることができる。
【００７７】
例えば、このように研磨部３０や研磨部４０の取り付け及び取り外しを可能にし、予め研磨部材９０が配置された研磨部３０や研磨部材１００が配置された研磨部４０を準備しておく。このようにすると、研磨機１Ａ或いは研磨機１Ａａにおける研磨部３０や研磨部４０の取り付け作業、交換作業をスムーズに行うことが可能になる。また、このように研磨部３０や研磨部４０の取り付け及び取り外しを可能にすることで、空間３５や空間４５の点検や清掃等、研磨機１Ａ或いは研磨機１Ａａのメンテナンスを容易に行うことが可能になる。
【００７８】
［第２の実施の形態］
図１０は第２の実施の形態に係る研磨機の一例について説明する図である。図１０（Ａ）には、研磨機の一例の要部平面図を模式的に示している。図１０（Ｂ）には、研磨機の一例の要部断面図を模式的に示している。図１０（Ｂ）は、図１０（Ａ）のＸｂ−Ｘｂ線に沿った断面を模式的に示したものである。
【００７９】
図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）に示す研磨機１Ｂは、回転テーブル１０の外周部の上面１１から突出する壁状の支持部５０Ｂ群及び支持部６０Ｂ群を備える。
支持部５０Ｂ群（一例として４個）は、中央の研磨部２０を同心円状に囲むように、互いに分離されて、回転テーブル１０に設けられる。このように壁状の支持部５０Ｂ群が回転テーブル１０に設けられる構造を、テーブルウォールスリット構造とも称する。支持部５０Ｂ群の上に、研磨部２０を同心円状に囲む環状の研磨部３０が、支持部５０Ｂ群に対して着脱可能に設けられて、又は支持部５０Ｂ群に固定されて、支持部５０Ｂ群で支持される。例えば、研磨部３０の、回転テーブル１０と対向される側に、支持部５０Ｂ群の各々に対応して、有底の溝状の凹部３３Ｂが設けられ、各凹部３３Ｂに、対応する支持部５０Ｂの先端部が挿入されて、研磨部３０が支持部５０Ｂ群で支持される。
【００８０】
支持部６０Ｂ群（一例として４個）は、中間の研磨部３０を同心円状に囲むように、互いに分離されて、回転テーブル１０に設けられる。支持部６０Ｂ群は、支持部５０Ｂ群とは異なる高さ（回転テーブル１０からの突出量）としてもよく、図１１には一例として、上端が支持部５０Ｂ群の上端よりも高い位置にある支持部６０Ｂ群を示している。このように壁状の支持部６０Ｂ群が回転テーブル１０に設けられる構造を、テーブルウォールスリット構造とも称する。支持部６０Ｂ群の上に、研磨部３０を同心円状に囲む環状の研磨部４０が、支持部６０Ｂ群に対して着脱可能に設けられて、又は支持部６０Ｂ群に固定されて、支持部６０Ｂ群で支持される。例えば、研磨部４０の、回転テーブル１０と対向される側に、支持部６０Ｂ群の各々に対応して、有底の溝状の凹部４３Ｂが設けられ、各凹部４３Ｂに、対応する支持部６０Ｂの先端部が挿入されて、研磨部４０が支持部６０Ｂ群で支持される。
【００８１】
支持部５０Ｂ群及び支持部６０Ｂ群は、回転テーブル１０に、溶接、接着、嵌合、ネジ止め等の各種固定技術を用いて固定される。尚、支持部５０Ｂ群及び支持部６０Ｂ群は、回転テーブル１０に対して着脱可能に設けられてもよい。
【００８２】
このように研磨機１Ｂは、壁状の支持部５０Ｂ群及び支持部６０Ｂ群を備え、それらの上にそれぞれ研磨部３０及び研磨部４０が設けられる構成を有する点で、上記第１の実施の形態で述べた研磨機１Ａと相違する。
【００８３】
図１１は第２の実施の形態に係る研磨機を用いた研磨の例について説明する図である。図１１には、研磨機として、その一例の要部拡大断面図を模式的に示している。
例えば、図１１に示すように、研磨機１Ｂが用いられ、電子部品試料等の被研磨体１５０の研磨が行われる。図１１には、回転テーブル１０が回転軸１０ａによって軸線Ｃを中心に回転され、供給装置１４０から研磨液１４１が供給され、中央の研磨部２０に配置された研磨部材８０に被研磨体１５０が押し付けられて、研磨が行われる様子を模式的に図示している。
【００８４】
研磨機１Ｂでは、上記研磨機１Ａと同様に、研磨部材８０が配置される中央の研磨部２０の上面２１よりも、その外側の中間の研磨部３０の上面３１の方が高い位置となる構成が採用され、より高い位置の上面３１上に、研磨部材９０が配置される。そのため、研磨部２０の研磨部材８０上を流れてその端部まで到達した、研磨屑１５１を含む研磨液１４１の、より高い位置の研磨部材９０上への流れ込みが抑制される。研磨部材８０上を流れる、研磨屑１５１を含む研磨液１４１は、直接隙間３４から空間３５に流れ、或いは研磨部３０（その側面）に当たって隙間３４から空間３５に流れる。空間３５に流れた研磨屑１５１を含む研磨液１４１は、遠心力により、研磨部３０を支持する支持部５０Ｂ群の間を抜けて、外側の研磨部４０下の空間４５に流れ込み、研磨部４０を支持する支持部６０Ｂ群の間を抜けて、回転テーブル１０の外側へ排出される。
【００８５】
このように研磨機１Ｂでは、研磨部２０の研磨部材８０を用いた被研磨体１５０の研磨時に供給される研磨液１４１、及び研磨によって生じる研磨屑１５１の、研磨部３０の研磨部材９０上への流れ込みが抑制される。これにより、研磨部３０の研磨部材９０の、研磨屑１５１による目詰まり、それによる劣化が抑制される。研磨部材９０の目詰まりによる劣化が抑制されるため、研磨部材９０を交換せずにそのまま利用して、被研磨体１５０を再研磨したり、別の被研磨体を研磨したりすることが可能になる。
【００８６】
更に、研磨機１Ｂでは、研磨部３０が、互いに分離されて設けられた壁状の支持部５０Ｂ群で支持されることで、研磨部３０下に比較的大きな体積の空間３５が形成される。このような空間３５が、研磨屑１５１を含む研磨液１４１を排出する排出経路の一部として用いられ、研磨液１４１に含まれる研磨屑１５１による排出経路の詰まりが抑制される。これにより、研磨機１Ｂの点検や清掃といったメンテナンスの頻度が低減される。
【００８７】
図１１では、研磨部２０での研磨を例にしたが、研磨部３０での研磨についても同様である。
即ち、研磨機１Ｂでは、上記研磨機１Ａと同様に、研磨部材９０が配置される中間の研磨部３０の上面３１よりも、その外側の研磨部４０の上面４１の方が高い位置となる構成が採用され、より高い位置の上面４１上に、研磨部材１００が配置される。そのため、研磨部３０の研磨部材９０上を流れてその端部まで到達した、研磨屑を含む研磨液の、より高い位置の研磨部材１００上への流れ込みが抑制される。これにより、外側の研磨部４０に設けられる研磨部材１００の、研磨屑による目詰まり、それによる劣化が抑制される。研磨部材１００の目詰まりによる劣化が抑制されるため、研磨部材１００を交換せずにそのまま利用して、被研磨体を再研磨したり、別の被研磨体を研磨したりすることが可能になる。
【００８８】
更に、研磨機１Ｂでは、研磨部４０が、互いに分離されて設けられた壁状の支持部６０Ｂ群で支持されることで、研磨部４０下に比較的大きな体積の空間４５が形成される。このような空間４５が、研磨屑を含む研磨液を排出する排出経路の一部として用いられ、研磨屑による排出経路の詰まりが抑制される。これにより、研磨機１Ｂの点検や清掃といったメンテナンスの頻度が低減される。
【００８９】
研磨部材９０及び研磨部材１００の劣化が効果的に抑制され、メンテナンスの頻度が効果的に低減される、研磨機１Ｂが実現される。
また、研磨機１Ｂでは、隙間３４，４４及び空間３５，４５が設けられることで、研磨屑を含む研磨液の、研磨部材９０上からその内側の研磨部材８０上への流れ込み、研磨部材１００上からその内側の研磨部材９０上への流れ込みも抑制される。研磨機１Ｂによれば、供給装置からの研磨液の供給量や回転テーブル１０の回転速度によらず、研磨部材８０、研磨部材９０及び研磨部材１００の劣化が効果的に抑制される。
【００９０】
図１２は第２の実施の形態に係る研磨機の構成例について説明する図である。図１２には、研磨機の一例の要部平面図（上図）及び要部断面図（下図）を模式的に示している。
上記研磨機１Ｂは、例えば、図１２に示すように、筐体２に収容される。ここでは、このように上記研磨機１Ｂが筐体２に収容されたものも「研磨機」と称する。図１２では、上記研磨機１Ｂが筐体２に収容されたものを研磨機１Ｂａとしている。
【００９１】
筐体２は、研磨機１Ｂが収容される収容部２ａ、及び収容部２ａに連通するように設けられた排出口２ｂを備える。研磨機１Ｂが筐体２の収容部２ａに収容された状態で、回転テーブル１０が、回転軸１０ａの回転によって軸線Ｃを中心に円周方向に回転される。そして、供給装置（図示せず）から研磨液が供給され、被研磨体（図示せず）が、研磨部２０の上面２１に配置された研磨部材８０、研磨部３０の上面３１に配置された研磨部材９０、又は研磨部４０の上面４１に配置された研磨部材１００により、研磨される。
【００９２】
研磨機１Ｂでは、研磨部２０の研磨部材８０での研磨で生じる研磨屑を含む研磨液の、研磨部３０の研磨部材９０上への流れ込み、及び研磨部３０の研磨部材９０での研磨で生じる研磨屑を含む研磨液の、研磨部４０の研磨部材１００上への流れ込みが抑制される。これにより、研磨部材９０及び研磨部材１００の目詰まり、それによる劣化が効果的に抑制される。
【００９３】
研磨屑を含む研磨液は、隙間３４から空間３５に流れ、隙間４４から空間４５に流れる。支持部５０Ｂ群及び支持部６０Ｂ群によって確保される比較的大きな体積の空間３５及び空間４５が、研磨屑を含む研磨液の排出経路の一部として用いられ、回転テーブル１０上の排出経路の研磨屑による詰まりが抑制される。これにより、研磨機１Ｂのメンテナンスの頻度が効果的に低減される。
【００９４】
空間３５又は空間４５に流れた研磨屑を含む研磨液は、回転テーブル１０上を流れて、筐体２の収容部２ａに流れ込む。また、研磨部４０での研磨で生じる研磨屑を含む研磨液は、筐体２の収容部２ａに流れ込む。筐体２の収容部２ａに流れ込んだ研磨屑を含む研磨液は、排出口２ｂを通じて筐体２の外部へ排出される。排出口２ｂの開口サイズ（径）を調整しておくことで、研磨液に含まれる研磨屑による排出口２ｂの詰まりは抑制される。これにより、研磨機１Ｂａのメンテナンスの頻度が効果的に低減される。
【００９５】
研磨部材９０及び研磨部材１００の劣化が効果的に抑制され、メンテナンスの頻度が効果的に低減される、研磨機１Ｂａが実現される。
［第３の実施の形態］
図１３は第３の実施の形態に係る研磨機の一例について説明する図である。図１３（Ａ）には、研磨機の一例の要部平面図を模式的に示している。図１３（Ｂ）には、研磨機の一例の要部断面図を模式的に示している。図１３（Ｂ）は、図１３（Ａ）のＸＩＩＩｂ−ＸＩＩＩｂ線に沿った断面を模式的に示したものである。
【００９６】
図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）に示す研磨機１Ｃは、中間の研磨部３０の内縁（研磨部２０側）に設けられた遮蔽部１６０、及び外側の研磨部４０の内縁（研磨部３０側）に設けられた遮蔽部１７０を備える。遮蔽部１６０は、研磨部３０の上面３１に配置される研磨部材９０を固定するフレームの機能を有してもよい。遮蔽部１７０は、研磨部４０の上面４１に配置される研磨部材１００を固定するフレームの機能を有してもよい。研磨機１Ｃでは、例えば、図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）に示すように、研磨部２０、研磨部３０及び研磨部４０が、互いの上面２１、上面３１及び上面４１が同じ高さとなるように設けられてもよい。研磨機１Ｃは、このような点で、上記第１の実施の形態で述べた研磨機１Ａと相違する。
【００９７】
図１４は第３の実施の形態に係る研磨機を用いた研磨の例について説明する図である。図１４には研磨機として、その一例の要部拡大断面図を模式的に示している。
例えば、図１４に示すように、研磨機１Ｃが用いられ、電子部品試料等の被研磨体１５０の研磨が行われる。図１４には、回転テーブル１０が回転軸１０ａによって軸線Ｃを中心に回転され、供給装置１４０から研磨液１４１が供給され、中央の研磨部２０に配置された研磨部材８０に被研磨体１５０が押し付けられて、研磨が行われる様子を模式的に図示している。
【００９８】
研磨機１Ｃでは、研磨が行われる研磨部２０を囲んでいる中間の研磨部３０の内縁に、遮蔽部１６０が設けられる。そのため、研磨部２０の研磨部材８０上を流れてその端部まで到達した、研磨屑１５１を含む研磨液１４１の、研磨部材９０上への流れ込みが、遮蔽部１６０によって抑制される。研磨部材８０上を流れる、研磨屑１５１を含む研磨液１４１は、直接隙間３４から空間３５に流れ、或いは遮蔽部１６０又は研磨部３０（その側面）に当たって隙間３４から空間３５に流れる。空間３５に流れた研磨屑１５１を含む研磨液１４１は、遠心力により、研磨部３０を支持する支持部５０Ａ群の間を抜けて、外側の研磨部４０下の空間４５に流れ込み、研磨部４０を支持する支持部６０Ａ群の間を抜けて、回転テーブル１０の外側へ排出される。
【００９９】
このように研磨機１Ｃでは、遮蔽部１６０により、研磨部２０の研磨部材８０を用いた被研磨体１５０の研磨時に供給される研磨液１４１、及び研磨によって生じる研磨屑１５１の、研磨部３０の研磨部材９０上への流れ込みが抑制される。これにより、研磨部３０の研磨部材９０の、研磨屑１５１による目詰まり、それによる劣化が抑制される。研磨部材９０の目詰まりによる劣化が抑制されるため、研磨部材９０を交換せずにそのまま利用して、被研磨体１５０を再研磨したり、別の被研磨体を研磨したりすることが可能になる。
【０１００】
更に、研磨機１Ｃでは、研磨部３０が、互いに分離されて設けられた柱状の支持部５０Ａ群で支持されることで、研磨部３０下に比較的大きな体積の空間３５が形成される。このような空間３５が、研磨屑１５１を含む研磨液１４１を排出する排出経路の一部として用いられ、研磨液１４１に含まれる研磨屑１５１による排出経路の詰まりが抑制される。これにより、研磨機１Ｃの点検や清掃といったメンテナンスの頻度が低減される。
【０１０１】
図１４では、研磨部２０での研磨を例にしたが、研磨部３０での研磨についても同様である。
即ち、研磨機１Ｃでは、研磨が行われる研磨部３０を囲んでいる外側の研磨部４０の内縁に、遮蔽部１７０が設けられる。そのため、研磨部３０の研磨部材９０上を流れてその端部まで到達した、研磨屑を含む研磨液の、研磨部材１００上への流れ込みが、遮蔽部１７０によって抑制される。これにより、外側の研磨部４０に設けられる研磨部材１００の、研磨屑による目詰まり、それによる劣化が抑制される。研磨部材１００の目詰まりによる劣化が抑制されるため、研磨部材１００を交換せずにそのまま利用して、被研磨体を再研磨したり、別の被研磨体を研磨したりすることが可能になる。
【０１０２】
更に、研磨機１Ｃでは、研磨部４０が、互いに分離されて設けられた柱状の支持部６０Ａ群で支持されることで、研磨部４０下に比較的大きな体積の空間４５が形成される。このような空間４５が、研磨屑を含む研磨液を排出する排出経路の一部として用いられ、研磨屑による排出経路の詰まりが抑制される。これにより、研磨機１Ｃの点検や清掃といったメンテナンスの頻度が低減される。
【０１０３】
研磨部材９０及び研磨部材１００の劣化が効果的に抑制され、メンテナンスの頻度が効果的に低減される、研磨機１Ｃが実現される。
また、研磨機１Ｃでは、遮蔽部１６０，１７０、更に隙間３４，４４及び空間３５，４５が設けられることで、研磨屑を含む研磨液の、研磨部材９０上から研磨部材８０上への流れ込み、研磨部材１００上から研磨部材９０上への流れ込みも抑制される。研磨機１Ｃによれば、供給装置からの研磨液の供給量や回転テーブル１０の回転速度によらず、研磨部材８０、研磨部材９０及び研磨部材１００の劣化が効果的に抑制される。
【０１０４】
図１５は第３の実施の形態に係る研磨機の構成例について説明する図である。図１５には、研磨機の一例の要部平面図（上図）及び要部断面図（下図）を模式的に示している。
上記研磨機１Ｃは、例えば、図１５に示すように、筐体２に収容される。ここでは、このように上記研磨機１Ｃが筐体２に収容されたものも「研磨機」と称する。図１５では、上記研磨機１Ｃが筐体２に収容されたものを研磨機１Ｃａとしている。
【０１０５】
筐体２は、研磨機１Ｃが収容される収容部２ａ、及び収容部２ａに連通するように設けられた排出口２ｂを備える。研磨機１Ｃが筐体２の収容部２ａに収容された状態で、回転テーブル１０が、回転軸１０ａの回転によって軸線Ｃを中心に円周方向に回転される。そして、供給装置（図示せず）から研磨液が供給され、被研磨体（図示せず）が、研磨部２０の上面２１に配置された研磨部材８０、研磨部３０の上面３１に配置された研磨部材９０、又は研磨部４０の上面４１に配置された研磨部材１００により、研磨される。
【０１０６】
研磨機１Ｃでは、研磨部２０の研磨部材８０での研磨で生じる研磨屑を含む研磨液の、研磨部３０の研磨部材９０上への流れ込み、及び研磨部３０の研磨部材９０での研磨で生じる研磨屑を含む研磨液の、研磨部４０の研磨部材１００上への流れ込みが抑制される。これにより、研磨部材９０及び研磨部材１００の目詰まり、それによる劣化が効果的に抑制される。
【０１０７】
研磨屑を含む研磨液は、隙間３４から空間３５に流れ、隙間４４から空間４５に流れる。支持部５０Ａ群及び支持部６０Ａ群によって確保される比較的大きな体積の空間３５及び空間４５が、研磨屑を含む研磨液の排出経路の一部として用いられ、回転テーブル１０上の排出経路の研磨屑による詰まりが抑制される。これにより、研磨機１Ｃのメンテナンスの頻度が効果的に低減される。
【０１０８】
空間３５又は空間４５に流れた研磨屑を含む研磨液は、回転テーブル１０上を流れて、筐体２の収容部２ａに流れ込む。また、研磨部４０での研磨で生じる研磨屑を含む研磨液は、筐体２の収容部２ａに流れ込む。筐体２の収容部２ａに流れ込んだ研磨屑を含む研磨液は、排出口２ｂを通じて筐体２の外部へ排出される。排出口２ｂの開口サイズ（径）を調整しておくことで、研磨液に含まれる研磨屑による排出口２ｂの詰まりは抑制される。これにより、研磨機１Ｃａのメンテナンスの頻度が効果的に低減される。
【０１０９】
研磨部材９０及び研磨部材１００の劣化が効果的に抑制され、メンテナンスの頻度が効果的に低減される、研磨機１Ｃａが実現される。
研磨機１Ｃについて、ここでは、研磨部２０、研磨部３０及び研磨部４０が、互いの上面２１、上面３１及び上面４１が同じ高さとなるように設けられる例を示した。このほか、研磨部３０を、その上面３１が内側の研磨部２０の上面２１よりも高い位置となるように設け、その内縁に遮蔽部１６０を設けてもよい。研磨部材８０が配置される上面２１よりも高い位置にある上面３１に研磨部材９０が配置されること、及びそれらの間に遮蔽部１６０が設けられることで、研磨屑１５１を含む研磨液１４１の、研磨部材８０上から研磨部材９０上への流れ込みが効果的に抑制される。同様に、研磨部４０を、その上面４１が内側の研磨部３０の上面３１よりも高い位置となるように設け、その内縁に遮蔽部１７０を設けてもよい。これによっても同様の効果が得られる。
【０１１０】
また、研磨機１Ｃについて、ここでは、研磨部３０を柱状の支持部５０Ａ群で支持し、研磨部４０を柱状の支持部６０Ａ群で支持する例を示した。このほか、上記第２の実施の形態で述べた研磨機１Ｂの例に従い、研磨部３０を、壁状の支持部５０Ｂ群で支持し、その内縁に遮蔽部１６０を設けてもよく、研磨部４０を、壁状の支持部６０Ｂ群で支持し、その内縁に遮蔽部１７０を設けてもよい。
【０１１１】
［第４の実施の形態］
図１６は第４の実施の形態に係る研磨機の一例について説明する図である。図１６には、研磨機の一例の要部斜視図を模式的に示している。
【０１１２】
図１６に示す研磨システム１８０は、研磨機１８１、アーム１８２、供給装置１８３及び制御装置１８４を備える。
研磨機１８１には、例えば、上記第１の実施の形態で述べた研磨機１Ａａ、上記第２の実施の形態で述べた研磨機１Ｂａ、又は上記第３の実施の形態で述べた研磨機１Ｃａが用いられる。研磨機１８１は、研磨部２０上に配置された研磨部材８０、研磨部３０上に配置された研磨部材９０、及び研磨部４０上に配置された研磨部材１００が、筐体２から露出した構成を有する。
【０１１３】
アーム１８２は、被研磨体１８５を保持する保持部１８２ａを有する。アーム１８２は、例えば、アーム１８２を軸支する回転軸１８２ｂの回転（若しくは回動又は揺動）により、保持部１８２ａで保持した被研磨体１８５を研磨機１８１上に搬送（搬入）する機能、研磨機１８１上から搬送（搬出）する機能を有する。アーム１８２は、研磨機１８１上に搬送した被研磨体１８５を、研磨部材８０、研磨部材９０又は研磨部材１００に対し、所定の圧力で押圧する機能を有する。
【０１１４】
供給装置１８３は、水やオイル等、又はそれらに砥粒等の研磨剤が混合された組成物である研磨液１８３ａを、研磨部材８０、研磨部材９０又は研磨部材１００の上に供給する。
【０１１５】
制御装置１８４は、研磨機１８１、アーム１８２及び供給装置１８３の動作を制御する。制御装置１８４は、例えば、研磨機１８１の研磨部２０、研磨部３０及び研磨部４０の回転（上記回転テーブル１０の回転軸１０ａの駆動及びその回転速度）を制御する。制御装置１８４は、アーム１８２の保持部１８２ａによる被研磨体１８５の保持、研磨機１８１上への搬入、被研磨体１８５の押圧（圧力、時間等）、研磨後の被研磨体１８５の研磨機１８１上からの搬出を制御する。制御装置１８４は、供給装置１８３の研磨液１８３ａの供給位置及び供給量を制御する。
【０１１６】
このような研磨システム１８０を用いて、被研磨体１８５の保持、搬送、研磨を自動で行うこともでき、このような研磨システム１８０を用いた自動研磨により、被研磨体１８５の状態観察可能な研磨面の形成を実現することもできる。
【０１１７】
［第５の実施の形態］
ここでは、上記第１〜第３の実施の形態で述べた研磨機１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａ，１Ｃ，１Ｃａ及び上記第４の実施の形態で述べた研磨システム１８０を用いた研磨作業フローの一例を、第５の実施の形態として説明する。
【０１１８】
図１７は第５の実施の形態に係る研磨作業フローの一例を示す図である。
例えば、上記第１の実施の形態で述べた研磨機１Ａや研磨機１Ａａを用いた研磨において、まず、被研磨体の研磨用の試料が準備される（ステップＳ１０）。例えば、プリント基板上に半導体チップがフリップチップ接合されたものが被研磨体とされる場合、これを樹脂で封止したものが、研磨用の試料として準備される。
【０１１９】
次いで、準備された試料の、研磨の１段階目として、粗削りが行われる（ステップＳ１１）。この粗削りでは、比較的粒度の低い研磨部材、即ち、上記研磨機１Ａ等では研磨部４０に配置された研磨部材１００を用いて、試料の研磨が行われる。そして、粗削りの研磨面が合格か否かの判定、例えば、用いた研磨部材の粒度に対して研磨面に目立ったキズが形成されていないかどうかの判定が行われ（ステップＳ１２）、合格となるまで粗削り（ステップＳ１１）の研磨が行われる。
【０１２０】
粗削りの研磨面が合格となったら、研磨の２段階目として、中間削りが行われる（ステップＳ１３）。この中間削りでは、粗削りよりも粒度の高い研磨部材、即ち、上記研磨機１Ａ等では研磨部３０に配置された研磨部材９０を用いて、試料の研磨が行われる。そして、中間削りの研磨面が合格か否かの判定、例えば、用いた研磨部材の粒度に対して研磨面に目立ったキズが形成されていないかどうかの判定が行われる（ステップＳ１４）。ここで、不合格となり、研磨面に著しく深いキズが形成されていなければ（ステップＳ１５）、引き続き中間削り（ステップＳ１３）の研磨が行われ、研磨面に著しく深いキズが形成されていれば（ステップＳ１５）、１段階前の粗削り（ステップＳ１１）に戻って再研磨が行われる。
【０１２１】
中間削りの研磨面が合格となったら、研磨の３段階目として、中間仕上げが行われる（ステップＳ１６）。この中間仕上げでは、中間削りよりも粒度の高い研磨部材、即ち、上記研磨機１Ａ等では研磨部２０に配置された研磨部材８０を用いて、試料の研磨が行われる。そして、中間仕上げの研磨面が合格か否かの判定、例えば、用いた研磨部材の粒度に対して研磨面に目立ったキズが形成されていないかどうかの判定が行われる（ステップＳ１７）。ここで、不合格となり、研磨面に著しく深いキズが形成されていなければ（ステップＳ１８）、引き続き中間仕上げ（ステップＳ１６）の研磨が行われ、研磨面に著しく深いキズが形成されていれば（ステップＳ１８）、１段階前の中間削り（ステップＳ１３）に戻って再研磨が行われる。
【０１２２】
例えば、中間仕上げの研磨面が合格となった段階で、研磨部材が交換され（ステップＳ１９）、研磨の４段階目として、最終仕上げが行われる（ステップＳ２０）。例えば、研磨部材がバフに交換され、バフ仕上げが行われる。そして、最終仕上げの研磨面が合格か否かの判定が行われ（ステップＳ２１）、合格となるまで最終仕上げ（ステップＳ２０）の研磨が行われる。
【０１２３】
この図１７に示すような作業フローが採用される試料の研磨では、研磨部材の交換が、中間仕上げ後であって最終仕上げ前の１回に抑えられる。上記研磨機１Ａ等では、研磨部４０上、研磨部３０上及び研磨部２０上に、互いに粒度の異なる研磨部材１００、研磨部材９０及び研磨部材８０が配置され、これらがそれぞれ粗削り、中間削り及び中間仕上げに用いられる。そのため、研磨段階が変わるたびの交換が不要になり、試料を研磨部材１００、研磨部材９０及び研磨部材８０の間で移動させることで、各段階の研磨を行うことができる。
【０１２４】
更に、上記研磨機１Ａ等では、例えば、研磨部材９０での中間削り（ステップＳ１３）後に深いキズが形成され（ステップＳ１５）、１段階前の研磨部材１００での粗削り（ステップＳ１１）に戻って再研磨が行われる場合でも、再研磨前の研磨部材１００の交換が不要になる。即ち、上記研磨機１Ａ等では、内側の研磨部３０の研磨部材９０での研磨で生じる研磨屑１５１を含む研磨液１４１の、外側の研磨部４０の研磨部材１００上への流れ込みが抑えられる（図７）。これにより、研磨部材１００の研磨屑１５１による目詰まり、それによる劣化が抑制されるため、研磨部材１００を交換せずにそのまま利用して、試料の粗削りの再研磨を行うことができる。
【０１２５】
同様に、上記研磨機１Ａ等では、研磨部材８０での中間仕上げ（ステップＳ１６）後に深いキズが形成され（ステップＳ１８）、１段階前の研磨部材９０での中間削り（ステップＳ１３）に戻って再研磨が行われる場合でも、再研磨前の研磨部材９０の交換が不要になる。即ち、上記研磨機１Ａ等では、内側の研磨部２０の研磨部材８０での研磨で生じる研磨屑１５１を含む研磨液１４１の、外側の研磨部３０の研磨部材９０上への流れ込みが抑えられる（図６）。これにより、研磨部材９０の研磨屑１５１による目詰まり、それによる劣化が抑制されるため、研磨部材９０を交換せずにそのまま利用して、試料の中間削りの再研磨を行うことができる。
【０１２６】
ここで、比較のため、研磨作業フローの別の例について、図１８を参照して説明する。
図１８は研磨作業フローの別の例を示す図である。
図１８には、上記図１に示した研磨機２００を用いる場合の、研磨作業フローの一例を示している。まず、被研磨体の研磨用の試料が準備され（ステップＳ３０）、研磨の１段階目として、比較的粒度の低い研磨部材２４０を用いて粗削りが行われる（ステップＳ３１）。そして、粗削りの研磨面が合格か否かの判定が行われ（ステップＳ３２）、合格となるまで粗削り（ステップＳ３１）の研磨が行われる。
【０１２７】
上記研磨機２００では、粗削りの研磨面が合格となったら、粗削りよりも粒度の高い研磨部材２３０への交換が行われ（ステップＳ３３）、研磨の２段階目として、中間削りが行われる（ステップＳ３４）。そして、中間削りの研磨面が合格か否かの判定が行われる（ステップＳ３５）。不合格でも研磨面に著しく深いキズが形成されていなければ（ステップＳ３６）、引き続き中間削り（ステップＳ３４）の研磨が行われる。不合格で且つ研磨面に著しく深いキズが形成されていれば（ステップＳ３６）、より粒度の低い研磨部材２４０への交換が行われたうえで（ステップＳ３７）、１段階前の粗削り（ステップＳ３１）に戻って再研磨が行われる。
【０１２８】
中間削りの研磨面が合格となったら、中間削りよりも粒度の高い研磨部材２２０への交換が行われ（ステップＳ３８）、研磨の３段階目として、中間仕上げが行われる（ステップＳ３９）。そして、中間仕上げの研磨面が合格か否かの判定が行われる（ステップＳ４０）。不合格でも研磨面に著しく深いキズが形成されていなければ（ステップＳ４１）、引き続き中間仕上げ（ステップＳ３９）の研磨が行われる。不合格で且つ研磨面に著しく深いキズが形成されていれば（ステップＳ４１）、より粒度の低い研磨部材２３０への交換が行われたうえで（ステップＳ４２）、１段階前の中間削り（ステップＳ３４）に戻って再研磨が行われる。
【０１２９】
中間仕上げの研磨面が合格となったら、研磨部材がバフに交換され（ステップＳ４３）、研磨の４段階目として、最終仕上げであるバフ仕上げが行われる（ステップＳ４４）。そして、最終仕上げの研磨面が合格か否かの判定が行われ（ステップＳ４５）、合格となるまで最終仕上げ（ステップＳ４４）の研磨が行われる。
【０１３０】
このように研磨機２００では、粗削りから中間削りに進む際、中間削りから中間仕上げに進む際、及び中間仕上げから最終仕上げに進む際の、少なくとも３回、研磨部材の交換が行われる（ステップＳ３３，Ｓ３８，Ｓ４３）。中間削り後や最終仕上げ後に再研磨が行われる場合には、更に研磨部材の交換の回数が１回又は２回、増えることになる（ステップＳ３７，Ｓ４２）。
【０１３１】
上記研磨機１Ａ等によれば、研磨機２００に比べて、研磨部材の交換回数が１／５〜１／３に大幅に削減され、試料の状態観察可能な研磨面の効率的な形成が実現される。
ここでは、上記第１の実施の形態で述べた研磨機１Ａ等を例にしたが、上記第２の実施の形態で述べた研磨機１Ｂや研磨機１Ｂａ、上記第３の実施の形態で述べた研磨機１Ｃや研磨機１Ｃａでも、上記図１７に示したような研磨作業フローが採用される。研磨機１Ｂ等、研磨機１Ｃ等によっても、研磨部材の交換回数が大幅に削減され、試料の状態観察可能な研磨面の効率的な形成が実現される。
【０１３２】
尚、以上の説明では、外側の研磨部４０、中間の研磨部３０、中央の研磨部２０へといくに従って粒度が高くなるように研磨部材（研磨部材１００、研磨部材９０、研磨部材８０）を配置する例を示したが、研磨部材の配置はこの例に限定されるものではない。
【０１３３】
例えば、中央の研磨部２０、中間の研磨部３０、外側の研磨部４０へといくに従って粒度が高くなるように研磨部材を配置してもよい。或いは、中央の研磨部２０よりも中間の研磨部３０の方の粒度が高くなるように研磨部材を配置し、且つ、中間の研磨部３０よりも外側の研磨部４０の方の粒度が低くなるように研磨部材を配置してもよい。或いはまた、中央の研磨部２０よりも中間の研磨部３０の方の粒度が低くなるように研磨部材を配置し、且つ、中間の研磨部３０よりも外側の研磨部４０の方の粒度が高くなるように研磨部材を配置してもよい。このような配置としても、内側での研磨で生じる研磨屑を含む研磨液の、外側の研磨部材上への流れ込みが抑制されることで、外側の研磨部材の目詰まり、それによる劣化を抑制する、上記同様の効果を得ることが可能である。
【０１３４】
また、中央の研磨部２０、中間の研磨部３０、外側の研磨部４０には、必ずしも互いに異なる粒度の研磨部材が配置されることを要しない。中央の研磨部２０、中間の研磨部３０、外側の研磨部４０のうち、少なくとも２箇所に同じ粒度の研磨部材が配置されるような場合でも、上記同様の効果を得ることが可能である。
【０１３５】
また、以上の説明では、回転テーブル１０上に、中央の研磨部２０、中間の研磨部３０、外側の研磨部４０の、３つの研磨部を設ける例を示したが、研磨部の数はこの例に限定されるものではない。例えば、回転テーブル１０上には、中央の研磨部２０とその外側の研磨部３０（及びそれを支持する支持部５０Ａ群又は支持部５０Ｂ群）の、２つの研磨部を設けるようにしてもよい。或いは、回転テーブル１０上の、外側の研磨部４０の更に外側に、上記第１〜第３の実施の形態で述べた例に従い、研磨部４０等を同心円状に囲む１つ又は２つ以上の別の研磨部（それを支持する支持部群）を設け、回転テーブル１０上に４つ以上の研磨部を設けるようにしてもよい。このような構成としても、上記同様の効果を得ることが可能である。
【０１３６】
また、以上の説明では、被研磨体として電子部品、例えば、プリント基板上に半導体チップがフリップチップ接合されたものを挙げたが、上記の研磨機１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａ，１Ｃ，１Ｃａや研磨システム１８０は、各種被研磨体の研磨に適用可能である。例えば、回路基板、半導体素子若しくは半導体装置、能動素子若しくは受動素子、光学部品といったものの研磨に適用可能である。更にまた、上記の研磨機１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａ，１Ｃ，１Ｃａや研磨システム１８０は、状態観察を行う研磨面を形成するための研磨に限らず、各種基板表面を平坦化するための研磨や、各種基板を薄型化するための研磨にも適用可能である。
【符号の説明】
【０１３７】
１Ａ，１Ａａ，１Ｂ，１Ｂａ，１Ｃ，１Ｃａ，１８１，２００，３００，４００  研磨機
２  筐体
２ａ  収容部
２ｂ，４１３  排出口
１０，２１０，３１０，４１０  回転テーブル
１０ａ，１８２ｂ，３１０ａ，４１０ａ  回転軸
１１，２１，３１，４１，２１１，３１１  上面
２０，３０，４０  研磨部
３２，４２  傾斜面
３３Ａ，３３Ｂ，４３Ａ，４３Ｂ  凹部
３４，４４  隙間
３５，４５  空間
５０Ａ，５０Ｂ，６０Ａ，６０Ｂ  支持部
８０，９０，１００，２２０，２３０，２４０，３２０，３３０，３４０，４２０，４３０，４４０  研磨部材
１１０，１２０，１３０  フレーム
１４０，１８３，６００  供給装置
１４１，１８３ａ，６１０  研磨液
１５０，１８５  被研磨体
１５１，５１０  研磨屑
１６０，１７０  遮蔽部
１８０  研磨システム
１８２  アーム
１８２ａ  保持部
１８４  制御装置
４１２  溝
５００  電子部品試料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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