(57)【要約】      （修正有）【課題】低照度環境においても充分に発電し、小型化された入力装置を提供する。【解決手段】入力装置において一部分１１０は、色素増感発電素子２１０と、色素増感発電素子２１０上に設けられたタッチセンサと、を含む。色素増感発電素子２１０は、第１面２０１Ａ及び第１面２０１Ａと反対側の第２面２０１Ｂを有する第１基板２０１と、第１基板２０１の第１面２０１Ａ上に設けられた第１電極２０３と、第１電極２０３上に設けられた電解質媒体２０４と、電解質媒体２０４に接して設けられた第１色素２０８と、第１色素２０８上に設けられた酸化物半導体層２０５と、酸化物半導体層２０５上に設けられた第２基板２０７と、を含む。【選択図】図４
2020177564.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
色素増感発電素子と、
前記色素増感発電素子上に設けられたタッチセンサと、を含み、
前記色素増感発電素子は、
第１電極と、
前記第１電極と対向する酸化物半導体層と、
前記第１電極と前記酸化物半導体層との間の電解質媒体と、
前記電解質媒体と、前記酸化物半導体層との間の第１色素と、を含む、入力装置。
【請求項２】
前記色素増感発電素子は、第２色素をさらに含み、
前記第１色素が設けられた第１領域と、
前記第２色素が設けられた第２領域と、を有し、
前記第２領域は前記第１領域の内側に配置され、
前記第２色素は、前記第１色素と、吸収スペクトルのピークが異なる、請求項１に記載の入力装置。
【請求項３】
前記第２領域は、前記第１領域の中で、文字、図形、記号のパターンを形成するように配置され、
前記パターンは、前記タッチセンサを通して表示される、請求項２に記載の入力装置。
【請求項４】
前記色素増感発電素子は、第３色素が設けられた第３領域をさらに有し、
前記第３領域は前記第１領域を囲むように配置され、
前記第３色素は、前記第１色素と、吸収スペクトルのピークが異なる、請求項３に記載の入力装置。
【請求項５】
前記色素増感発電素子の下方に第１基板を介して設けられたハプティクスをさらに含み、
前記ハプティクスは、
前記第１基板に設けられた第１透明電極と、
前記第１透明電極と対向する第２透明電極と、
前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の振動アクチュエータと、
前記振動アクチュエータと、前記第１透明電極とが対向するように設けられた第１スペーサと、を含む、請求項１に記載の入力装置。
【請求項６】
前記第１基板は、可撓性を有する、請求項５に記載の入力装置。
【請求項７】
前記色素増感発電素子は、
前記第１電極と、前記酸化物半導体層とのギャップを形成する第２スペーサと、をさらに含む、請求項１に記載の入力装置。
【請求項８】
第１色素増感発電素子及び第２色素増感発電素子と、
前記第１色素増感発電素子及び前記第２色素増感発電素子上のタッチセンサと、を含み、
前記第１色素増感発電素子及び前記第２色素増感発電素子のそれぞれは、
第１電極と、
前記第１電極と対向する酸化物半導体層と、
前記第１電極と前記酸化物半導体層との間の電解質媒体と、
前記電解質媒体と、前記酸化物半導体層との間の第１色素と、を含む、入力装置。
【請求項９】
前記第１色素増感発電素子と、前記第２色素増感発電素子とは、直列に接続される、請求項８に記載の入力装置。
【請求項１０】
前記第１色素増感発電素子が有する前記第１電極、前記酸化物半導体層、前記電解質媒体、及び前記第１色素の積層順は、前記第２色素増感発電素子が有する前記第１電極、前記酸化物半導体層、前記電解質媒体、及び前記第１色素の積層順と同じである、請求項９に記載の入力装置。
【請求項１１】
前記第１色素増感発電素子が有する前記第１電極、前記酸化物半導体層、前記電解質媒体、及び前記第１色素の積層順は、前記第２色素増感発電素子が有する前記第１電極、前記酸化物半導体層、前記電解質媒体、及び前記第１色素の積層順と反対である、請求項９に記載の入力装置。
【請求項１２】
前記第１色素増感発電素子と、前記第２色素増感発電素子とは、並列に接続される、請求項８に記載の入力装置。
【請求項１３】
前記第１色素増感発電素子が有する前記第１電極、前記酸化物半導体層、前記電解質媒体、及び前記第１色素の積層順は、前記第２色素増感発電素子が有する前記第１電極、前記酸化物半導体層、前記電解質媒体、及び前記第１色素の積層順と同じである、請求項１２に記載の入力装置。
【請求項１４】
前記第１色素増感発電素子及び前記第２色素増感発電素子の下方に第１基板を介して設けられたハプティクスをさらに含み、
前記ハプティクスは、
前記第１基板に設けられた第１透明電極と、
前記第１透明電極と対向する第２透明電極と、
前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の振動アクチュエータと、
前記振動アクチュエータと、前記第１透明電極とが対向するように設けられた第１スペーサと、を含む、請求項８に記載の入力装置。
【請求項１５】
前記第１基板は、可撓性を有する、請求項１４に記載の入力装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発電素子を有する入力装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータを使用する際に配線を用いて、コンピュータと接続することなく、使用できるキーボードが普及している。このようなキーボードは、バッテリー（蓄電池）を電源として駆動させるようにしているため、一回当たりの充電につき数時間使用することができる。しかしながら、充電式のキーボードを外出先で使用する場合、長時間にわたる使用は不可能であり、また外出先では充電も難しいため、使用時間に大きな制約があった。
【０００３】
特許文献１は、キーボードに太陽電池を内蔵して、キーボードとコンピュータ本体との間を光通信により、信号伝達する入力装置について開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−６４６８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に示すように、入力装置に太陽電池を内蔵する場合、複数のキーが配置された領域の周辺領域に、太陽電池が配置される。そのため、入力装置の全体が大型化してしまう。また、低照度環境においては、充分に電力を得られない場合がある。
【０００６】
そこで、本発明の一実施形態では、低照度環境においても充分に発電し、小型化された入力装置を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一実施形態に係る入力装置は、色素増感発電素子と、色素増感発電素子上に設けられたタッチセンサと、を含み、色素増感発電素子は、第１面及び第１面と反対側の第２面を有する第１基板と、第１基板の第１面上に設けられた第１電極と、第１電極上に設けられた電解質媒体と、電解質媒体に接して設けられた第１色素と、第１色素上に設けられた酸化物半導体層と、酸化物半導体層上に設けられた第２基板と、を含む。
【０００８】
本発明の一実施形態に係る入力装置は、第１色素増感発電素子及び第２色素増感発電素子と、第１色素増感発電素子及び第２色素増感発電素子上のタッチセンサと、を含み、第１色素増感発電素子及び第２色素増感発電素子のそれぞれは、第１電極と、第１電極と対向する酸化物半導体層と、第１電極と酸化物半導体層との間の電解質媒体と、電解質媒体と、酸化物半導体層との間の第１色素と、を含む。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】（Ａ）本発明の一実施形態に係る入力装置の概要を説明する図である。（Ｂ）本発明の一実施形態に係る入力装置のハードウェア構成を説明する図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る入力装置の平面図である。
【図３】図２に示す入力装置の一部分を拡大した図である。
【図４】図３に示す二つのキーをＢ１−Ｂ２線に沿って切断したときの断面図である。
【図５】図３に示す二つのキーをＡ１−Ａ２線に沿って切断したときの断面図である。
【図６】（Ａ）本発明の一実施形態に係る入力装置の製造方法を説明する断面図である。（Ｂ）本発明の一実施形態に係る入力装置の製造方法を説明する断面図である。
【図７】（Ａ）本発明の一実施形態に係る入力装置の製造方法を説明する断面図である。（Ｂ）本発明の一実施形態に係る入力装置の製造方法を説明する断面図である。
【図８】（Ａ）本発明の一実施形態に係る入力装置の製造方法を説明する断面図である。（Ｂ）本発明の一実施形態に係る入力装置の製造方法を説明する断面図である。
【図９】（Ａ）本発明の一実施形態に係る入力装置の製造方法を説明する断面図である。（Ｂ）本発明の一実施形態に係る入力装置の製造方法を説明する断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態に係る入力装置の断面図である。
【図１１】色素増感発電素子に含まれる導電層の平面レイアウト図である。
【図１２】色素増感発電素子に含まれる導電層の平面レイアウト図である。
【図１３】図１２に示す色素増感発電素子を、Ｃ１−Ｃ２線に沿って切断したときの断面図である。
【図１４】色素増感発電素子に含まれる導電層の平面レイアウト図である。
【図１５】図１４に示す色素増感発電素子を、Ｄ１−Ｄ２線に沿って切断したときの断面図である。
【図１６】色素増感発電素子に含まれる導電層の平面レイアウト図である。
【図１７】図１６に示す色素増感発電素子を、Ｅ１−Ｅ２線に沿って切断したときの断面図である。
【図１８】本発明の一実施形態に係る入力装置の外観図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（第１実施形態）
本発明の一実施形態に係る入力装置１００について、図１乃至図１１を参照して説明する。
【００１１】
＜入力装置の概要＞
図１（Ａ）は、本発明の一実施形態に係る入力装置１００の概要を説明する図である。入力装置１００は、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、タブレットなどの情報処理装置１０と、無線通信により接続される。入力装置１００で検出された制御信号を、情報処理装置１０に送信することで、情報処理装置１０を制御することができる。
【００１２】
図１（Ｂ）は、本発明の一実施形態に係る入力装置１００のハードウェア構成を示す図である。入力装置１００は、制御部１１１、操作部１１２、通信部１１３、及び発電部１１４を有する。
【００１３】
制御部１１１は、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）であって、操作部１１２、通信部１１３、及び発電部１１４の各種の制御処理を実行する。操作部１１２は、複数のキー１０２が配列された領域に相当する。操作部１１２は、例えば、タッチセンサを含み、ユーザがキー１０２に接触したことを検出すると、ユーザが接触したキー１０２に対応する制御信号を、情報処理装置１０の制御部に出力する。また、操作部１１２は、ハプティクスを含み、ユーザがキー１０２に接触したことを検出すると、出力反応として接触した領域を振動させる。通信部１１３は、入力装置１００が有する通信インターフェースである。本実施形態では、入力装置１００は通信部１１３を介することで、情報処理装置１０と接続することができる。通信部１１３は、無線通信により情報処理装置１０に信号を送信する。通信部１１３として、例えば、ブルートゥース（登録商標）を用いることができる。発電部１１４は、入力装置１００で消費される電力を生成する。発電部１１４は、生成した電力を制御部１１１、操作部１１２、及び通信部１１３に供給する。本発明の一実施形態では、発電部１１４として、色素増感発電素子を用いる。以下、色素増感発電素子の構成について詳細に説明する。
【００１４】
＜色素増感発電素子の構成＞
色素増感発電素子は、グレッツェル・セルと呼ばれ、光アノードと、対極と、光アノードと対極との間に設けられた電解質媒体とを有する。光アノードは、典型的には、可視光を透過する導電層と、導電層上に形成された光増感剤を含む半導体層と、を有する。半導体層は、例えば、多孔質酸化チタンを含み、光増感剤として色素が多孔質酸化チタンの表面に担持される。色素は、例えば、ルテニウム（Ｒｕ）錯体である。対極は、例えば、白金電極である。電解質媒体は、例えば、酸化還元物質（メディエータ）を含む電解質溶液である。
【００１５】
色素増感発電素子は、電池に光を照射すると、光アノードの多孔質酸化チタンに担持されている色素が光励起し、次いで、色素から多孔質酸化チタンへの電子注入が起こり、色素が酸化される。電子を失った色素は、電界液中のヨウ素から電子を奪って還元され、ヨウ素は対極から電子を受け取り元に戻る。以下に、本発明の一実施形態に係る光増感型発電素子の構成について、詳細に説明する。
【００１６】
図２は、本発明の一実施形態に係る入力装置１００の平面図である。図２に示すように、入力装置１００の上面には、複数のキー１０２が配列されており、キー１０２は周囲を領域１０５によって囲まれている。図３は、図２に示す入力装置１００の一部分１１０を拡大した図であり、図４は、図３に示す一部分１１０をＢ１−Ｂ２線に沿って切断したときの断面図である。なお、図４では、色素増感発電素子２１０の構成を示している。
【００１７】
入力装置１００は、色素増感発電素子２１０を有する。色素増感発電素子２１０は、第１基板２０１側に、第１導電層２０２及び対極として機能する第１電極２０３が設けられ、第２基板２０７側に光アノードとして機能する第２導電層２０６、酸化物半導体層２０５、及び色素２０８、色素２１８、及び色素２２８が設けられる。また、第１電極２０３と色素２０８、色素２１８、及び色素２２８との間には、電解質媒体２０４が設けられる。
【００１８】
第１基板２０１及び第２基板２０７として、例えば、ガラス基板、プラスチック基板を用いる。プラスチック基板として、例えば、アクリル、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等の有機樹脂を用いる。第１基板２０１は、第１面２０１Ａ及び第１面２０１Ａとは反対側の第２面２０１Ｂとを有する。第２基板２０７は、第１面２０７Ａ及び第１面２０７Ａとは反対側の第２面２０７Ｂとを有する。第１基板２０１の第１面２０１Ａは、第１電極２０３が設けられる面であり、第２基板２０７の第１面２０７Ａには、第２導電層２０６が設けられる面である。また、第１基板２０１及び第２基板２０７として、可撓性を有するプラスチック基板を用いることにより、折り曲げたり、湾曲させたりすることが可能な入力装置１００を形成することができる。
【００１９】
第１電極２０３として、例えば、白金を用いる。第１電極２０３は、光起電力を有さない。第１電極２０３は、第１電極２０３の表面において、レドックス系のＩ3-イオンをＩ-イオンへ還元する機能を有する。
【００２０】
第１導電層２０２は、第１電極２０３に接続されて、電極供給端子と接続される。
【００２１】
第２基板２０７側に光アノードとして機能する第２導電層２０６として、酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）や、フッソドープ酸化スズ（Ｆ−ｄｏｐｅｄ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ；ＦＴＯ）膜を用いる。また、酸化物半導体層２０５として、酸化チタン、酸化亜鉛、及び酸化スズなどのｎ型半導体が用いられる。また、酸化物半導体層２０５として、ＩＧＺＯを用いてもよい。上述した酸化物半導体層２０５は、紫外領域に吸収を持つ。化学結合（エステル結合）によって、色素２０８、色素２１８、及び色素２２８が、酸化物半導体層２０５に吸着している。
【００２２】
色素２０８、色素２１８、及び色素２２８として、無機色素又は有機色素を用いる。無機色素として、例えば、Ｒｕ系色素を用いる。Ｒｕ系色素は、光励起寿命が長く、光励起後の電子移動過程において生ずるＲｕ酸化種が安定している。Ｒｕ系色素として、ＲｕＬ2（ＮＣＳ）2、ＲｕＬ1（ＮＣＳ）2、Ｒｕフェナントロリン色素、Ｒｕピキノリン色素を用いる。または、有機色素として、クマリン誘導体、マーキュロクロム色素等を用いる。
【００２３】
色素２０８、色素２１８、及び色素２２８は、それぞれ吸収スペクトルのピークが異なっている。そのため、色素２０８、色素２１８、及び色素２２８によって、入力装置１００のキー１０２を表すことができる。例えば、領域１０３では、色素２０８を用い、領域１０４では、色素２１８を用い、領域１０５では、色素２２８を用いる。ここで、領域１０３は、キー１０２の領域に相当する。領域１０４は、領域１０３の内側に設けられている。領域１０４では、領域１０３の中で、文字、図形、記号のパターンを形成するように配置される。また、領域１０５は、領域１０３の周囲を囲んでいる。少なくとも、領域１０３に設けられる色素２０８と、領域１０４に設けられる色素２１８とのそれぞれ吸収スペクトルのピークを異ならせることにより、入力装置１００において、文字、図形、記号などを、視覚により識別できるように表示することができる。また、色素２０８と、色素２２８とのそれぞれの吸収スペクトルのピークを異ならせることにより、入力装置１００において、キー１０２とキー１０２の周辺領域とを、視覚により識別できるように表示することができる。なお、領域１０４において、色素２０８と色素２１８とは重畳しないことが好ましく、色素２１８は酸化物半導体層２０５に吸着することが好ましい。このように、本発明の一実施形態に係る入力装置１００では、複数のキー１０２の配列は、色素２０８、色素２１８、及び色素２２８によって表されている。なお、視覚によって領域１０３、領域１０４、及び領域１０５を識別できればよい。そのため、少なくともキー１０２を表す領域１０３において色素１０８が設けられていればよく、領域１０４及び領域１０５は、色素が設けられていなくてもよい。また、領域１０３〜領域１０５を、それぞれ識別することができればよいため、領域１０４及び領域１０５に設けられる色素の吸収スペクトルのピークは、概略同じであってもよい。
【００２４】
電解質媒体２０４は、第１電極２０３から電子を受け取って酸化状態の色素２０８、色素２１８、及び色素２２８を還元する。このため、電解質媒体２０４での拡散速度が速く、酸化還元電位が低いものが好ましい。電解質媒体２０４として、例えば、ヨウ素系の電界液が用いられる。また、ヨウ素系以外の電界液として、臭素系、コバルト錯体系などが用いられる。また、電解質媒体２０４は、液体であっても、固体であってもよい。
【００２５】
色素増感発電素子２１０において、第１電極２０３と酸化物半導体層２０５との間にギャップを形成するために、スペーサが設けられる（図３では図示しない）。スペーサは、複数のキーが配置される領域を囲むように設けられてもよいし（図５を参照）、柱状のスペーサがキー１０２とキー１０２との間に設けられてもよい。
【００２６】
＜入力装置の構成＞
図５は、図２に示す入力装置１００をＡ１−Ａ２線に沿って切断したときの断面図である。なお、図５では、入力装置１００の入力機能としてタッチセンサ２１７を用い、出力反応としてハプティクス２２０を用いる構成について説明する。
【００２７】
タッチセンサ２１７は、第２基板２０７の上方に設けられる。図５は、タッチセンサ２１７は、第２基板２０７上に、直接形成される。または、第２基板２０７とは別の基板（例えばカバー材）に形成されたタッチセンサ２１７を、接着材によって第２基板２０７に貼り合わせてもよい。
【００２８】
ハプティクス２２０は、色素増感発電素子２１０の下方に設けられ、具体的には、第１基板２０１の第２面２０１Ｂに設けられる。ハプティクス２２０は、透明電極２１２と、振動型のアクチュエータ２１３と、透明電極２１５と、スペーサ２１６とを有する。
【００２９】
第１基板２０１は、ユーザによってキー１０２が押されたときの圧力を透明電極２１５に伝えるため、プラスチック基板などの可撓性基板を用いる。透明電極２１５としてＩＴＯを用い、ＩＴＯは、第１基板２０１の第２面２０１Ｂに形成される。アクチュエータ２１３は、第３基板２１１上に、透明電極２１５を介して設けられる。透明電極２１５として、ＩＴＯを用い、ＩＴＯは、スパッタリング法又は蒸着法により形成される。また、スペーサ２１６は、アクチュエータ２１３と、透明電極２１５とを貼り合わせるシール材としても機能する。また、スペーサ２１６によって、アクチュエータ２１３と透明電極２１５との間に、空間２１４を設けることができる。
【００３０】
入力装置１００において、ユーザによってキー１０２が押された場合に、透明電極２１２と透明電極２１５との距離が狭くなる。これにより、アクチュエータ２１３に電流が流れることで、押されたキー１０２において振動する。ユーザは、振動によって物理的なキーを押したときの感触と同様の感覚を得ることができる。
【００３１】
本発明の一実施形態に係る入力装置１００では、複数のキーが配置される領域に、色素増感発電素子２１０が設けられている。色素増感発電素子２１０は、蓄電機能を有する。そのため、急激な光量の変化があったとしても、電力の出力変動をある程度平坦化することができる。そのため、ユーザが、入力装置１００を使用する際に、手によって色素増感発電素子２１０の発電の妨げになったとしても、太陽電池よりも影響を少なくすることができる。また、太陽電池とは異なり、複数のキーが配置される領域と、色素増感発電素子２１０とが配置される領域を分ける必要がないため、入力装置１００の小型化を図ることができる。
【００３２】
＜入力装置１００の製造方法＞
次に、本発明の一実施形態に係る入力装置１００の製造方法について、図６乃至図９を参照して説明する。
【００３３】
図６（Ａ）は、支持基板２３１上に第１基板２０１、第１導電層２０２、及び第１電極２０３を形成する工程である。支持基板２３１は、第１基板２０１としてプラスチック基板を形成する際に使用する基板である。支持基板２３１としては、例えば、ガラス基板を用いる。まず、支持基板２３１上に、第１基板２０１を形成する。ここでは、第１基板２０１としてポリイミドを用いる。次に、第１基板２０１上に、第１導電層２０２を形成する。第１導電層２０２は、メタルマスクを用いた蒸着法により形成する。次に、第１導電層２０２上に、第１電極２０３を形成する。第１電極２０３も同様に、メタルマスクを用いた蒸着法により形成する。
【００３４】
図６（Ｂ）は、第２基板２０７上に、第２導電層２０６、酸化物半導体層２０５、及び色素２０８、色素２１８、及び色素２２８を形成する工程である。なお、図６（Ｂ）において、色素２０８及び色素２１８の図示を省略している。第２基板２０７として、例えば、ガラス基板、プラスチック基板を用いることができる。第２基板２０７として、ガラス基板を用いる場合、第２導電層２０６及び酸化物半導体層２０５を、スパッタリング法により成膜することができる。また、第２導電層２０６及び酸化物半導体層２０５をフォトリソグラフィにより加工することができる。また、第２基板２０７として、プラスチック基板を用いる場合、第１基板２０１を形成する工程と同様に、支持基板上に第２基板２０７を形成すればよい。次に、酸化物半導体層２０５上に、色素２０８、色素２１８、及び色素２２８を形成する。色素２０８、色素２１８、及び色素２２８は、各々吸収スペクトルのピークが互いに異なることが好ましい。領域１０３では、色素２０８を用い、領域１０４では、色素２１８を用い、領域１０５では、色素２２８を用いる。なお、図６（Ｂ）では、色素２２８を図示している。
【００３５】
図７（Ａ）は、第２基板２０７上にスペーサ２０９を形成し、スペーサ２０９によって囲まれた領域に、電解質媒体２０４を形成する工程を説明する図である。スペーサ２０９は、第２基板２０７の周縁部を囲むように形成される。また、電解質媒体２０４は、スペーサ２０９によって囲まれた領域内に形成される。
【００３６】
図７（Ｂ）は、第１基板２０１と第２基板２０７とを貼り合わせる工程について説明する図である。第１基板２０１と第２基板２０７との貼り合わせは、大気中で行ってもよいし、真空中で行ってもよい。第１基板２０１と第２基板２０７とを貼り合わせた後、スペーサ２０９に光を照射することで、スペーサ２０９が硬化して、第１基板２０１と第２基板２０７とを接着することができる。
【００３７】
図８（Ａ）は、支持基板２３１から第１基板２０１上に形成された色素増感発電素子２１０を剥離した後、第１基板２０１の第２面２０１Ｂに透明電極２１５を形成する工程を説明する図である。ここでは、透明電極２１５として、透明電極を用いる。
【００３８】
図８（Ｂ）は、第３基板２１１上に、アクチュエータ２１３、透明電極２１２、スペーサ２１６を形成する工程を説明する図である。第３基板２１１上に、透明電極２１２を形成する。次に、透明電極２１２上に、振動型のアクチュエータ２１３を設ける。次に、振動型のアクチュエータ２１３上に、スペーサ２１６を形成する。スペーサ２１６は、透明電極２１２と、透明電極２１５とが対向する高さで形成する。
【００３９】
図９（Ａ）は、第３基板２１１を、スペーサ２１６を挟んで、第１基板２０１の透明電極２１５と貼り合わせる工程を説明する図である。これにより、色素増感発電素子２１０と、ハプティクス２２０とを形成することができる。
【００４０】
最後に、第２基板２０７の第２面２０７Ｂ上に、タッチセンサ２１７を形成することにより、図５に示す入力装置１００を製造することができる。タッチセンサ２１７は、第２基板２０７上に、直接形成してもよいし、カバー材に形成されたタッチセンサを、粘着材を介して第２基板２０７に貼り合わせてもよい。
【００４１】
（変形例１）
図５では、スペーサ２０９Ａを、第２基板２０７の周縁部に形成する例ついて説明したが、これに限定されない。領域１０５に、スペーサ２０９Ｂを設けてもよい。この場合、スペーサ２０９Ｂは、酸化物半導体層及び第１電極に接するように設けることが好ましい。また、隣り合う領域１０３の間に、スペーサ２０９Ｂを設けてもよい。
【００４２】
（変形例２）
次に、色素増感発電素子２１０を構成する第１導電層２０２及び第２導電層２０６の平面レイアウトについて説明する。図１１において、図５と異なる点については、色素増感発電素子２１０及び第１導電層２０２及び第２導電層２０６の構成である。そのため、タッチセンサ２１７及びハプティクス２２０の構成や配置される位置は図５を参照すればよいため、図示を省略する。
【００４３】
図１１は、第１導電層２０２及び第２導電層２０６を平面視したときの図である。図１１に示すように、第１導電層２０２及び第２導電層２０６は、少なくとも複数のキー１０２が配置される領域と重畳するように配置される。また、第１導電層２０２及び第２導電層２０６は、複数のキー１０２が配置される領域の周辺領域に形成されてもよい。なお、図１１において、説明のため、第１導電層２０２の面積が、第２導電層２０６の面積よりも大きくなるように図示しているが、第１導電層２０２の面積と第２導電層２０６の面積とは同じであってもよい。また、第１導電層２０２の端子２２２及び第２導電層２０６の端子２２６は、電力供給端子と接続される。端子２２２及び端子２２６は、電力供給端子を介して、制御部１１１、操作部１１２、及び通信部１１３と接続される。
【００４４】
（第２実施形態）
本実施形態では、色素増感発電素子２１０を複数有する入力装置について、図１２乃至図１７を参照して説明する。
【００４５】
図１２は、色素増感発電素子２１０に設けられる第１導電層２０２及び第２導電層２０６を平面視したときの図である。図１２に示すように、複数の第１導電層２０２Ａ〜２０２Ｄに分割されており、複数の第２導電層２０６Ａ〜２０６Ｄに分割されている。複数の第１導電層２０２Ａ〜２０２Ｄは、各々並列に接続されており、複数の第２導電層２０６Ａ〜２０６Ｄは、各々並列に接続されている。つまり、複数の色素増感発電素子２１０Ａ〜２１０Ｄが並列に接続されているのと同等の構成である。
【００４６】
図１３は、図１２に示すＣ１−Ｃ２線に沿って切断したときの断面図である。図１３に示すように、隣り合う複数の色素増感発電素子２１０Ａ〜２１０Ｄにおいて、第１電極２０３、酸化物半導体層２０５、電解質媒体２０４、及び色素２２８の積層順は同じである。例えば、色素増感発電素子２１０Ａが有する第１電極２０３、酸化物半導体層２０５、電解質媒体２０４、及び色素２２８の積層順は、色素増感発電素子２１０Ｂが有する第１電極２０３、酸化物半導体層２０５、電解質媒体２０４、及び色素２２８の積層順と同じである。
【００４７】
複数の第１導電層２０２Ａ〜２０２Ｄに分割する場合、第１電極２０３を、第１導電層２０２Ａ〜２０２Ｄと同様に、パターニングしてもよい。または、第１電極２０３をパターニングせずに、複数の第１導電層２０２Ａ〜２０２Ｄの全体と重畳するように形成してもよい。なお、色素は、酸化物半導体層２０５と吸着するが、第１電極２０３とは吸着しにくい。そのため、例えば、第１導電層２０２Ａと第１導電層２０２Ｂとの間に領域に色素２２８を設ける場合には、酸化物半導体層２０５をパターニングせずに、複数の第１導電層２０２Ａ〜２０２Ｄの全体と重畳するように形成することが好ましい。
【００４８】
（変形例３）
次に、図１１とは一部異なる色素増感発電素子２１０を構成する第１導電層２０２及び第２導電層２０６の平面レイアウトについて説明する。
【００４９】
図１４は、第１導電層２０２及び第２導電層２０６を平面視したときの図である。図１４に示すように、複数の第１導電層２０２Ａ〜第１導電層２０２Ｄに分割されており、複数の第２導電層２０６Ａ〜第２導電層２０６Ｄに分割されている。図１２と異なる点は、複数の色素増感発電素子２１０Ａ〜２１０Ｄが直列に接続されている点である。第１導電層２０２Ａ〜２０２Ｄは、それぞれ接続されている。一方、第２導電層２０６Ｂと第２導電層２０６Ｃとは接続されている。第２導電層２０６Ａと、第２導電層２０６Ｄとは分離されている。第２導電層２０６Ａの端子２２２Ａ及び第２導電層２０６Ｄの端子２２２Ｂは、それぞれ異なる電源供給端子と接続される。
【００５０】
図１５は、図１４に示すＤ１−Ｄ２線に沿って切断したときの断面図である。図１５に示すように、第１基板２０１側から順に、第１導電層２０２Ａ、第１電極２０３Ａ、電解質媒体２０４Ａ、色素２２８Ａ、酸化物半導体層２０５Ａ、及び第２導電層２０６Ａが積層されている。また、第１基板２０１側から順に、第１導電層２０２Ａ、酸化物半導体層２０５Ｂ、色素２２８Ｂ、電解質媒体２０４、第１電極２０３Ｂ、第２導電層２０６Ｂが積層されている。つまり、色素増感発電素子２１０Ａの積層順は、色素増感発電素子２１０Ｂの積層順と反対である。また、第１基板２０１側から順に、第１導電層２０２Ｃ、第１電極２０３Ｃ、電解質媒体２０４Ｃ、色素２２８Ｃ、酸化物半導体層２０５Ｃ、及び第２導電層２０６Ｃが積層されている。また、第１基板２０１側から順に、第１導電層２０２Ｄ、酸化物半導体層２０５Ｄ、色素２２８Ｄ、電解質媒体２０４Ｄ、第１電極２０３Ｄ、第２導電層２０６Ｄが積層されている。つまり、隣り合う色素増感発電素子２１０Ａ〜２１０Ｄの積層順が上下で入れ替わりながら接続されている。
【００５１】
（変形例４）
次に、図１１とは一部異なる色素増感発電素子２１０を構成する第１導電層２０２及び第２導電層２０６の平面レイアウトについて説明する。
【００５２】
図１６は、第１導電層２０２Ａ〜２０２Ｄ及び第２導電層２０６Ａ〜２０６Ｄを平面視したときの図である。図１６に示すように、複数の第１導電層２０２Ａ〜２０２Ｄに分割されており、複数の第２導電層２０６Ａ〜２０６Ｄに分割されている。図１６においても、複数の色素増感発電素子２１０Ａ〜２１０Ｄが直列に接続されているのと同等の構成である。図１４と異なる点は、第１導電層２０２Ａ〜２０２Ｄと第２導電層２０６Ａ〜２０６Ｄとは、色素増感発電素子２１０の内部で接続されている点である。
【００５３】
図１７は、図１６に示すＥ１−Ｅ２線に沿って切断したときの断面図である。図１７に示すように、第１導電層２０２Ａ〜２０２Ｄ上には、第１電極２０３Ａ〜２０３Ｄが形成されており、第２導電層２０６Ａ〜２０６Ｄには、酸化物半導体層２０５Ａ〜２０５Ｄを介して色素２２８Ａ〜２２８Ｄが設けられている。第１導電層２０２Ａは、第２導電層２０６Ｂと一部が重畳している。第１導電層２０２Ａと第２導電層２０６Ｂとが重畳している領域において、導電性を有するシール材２１９によって、第１導電層２０２と第２導電層２０６Ｂとが接続されている。また、第１導電層２０２Ｂは、第２導電層２０６Ｃと一部が重畳している。第１導電層２０２Ｂと第２導電層２０６Ｃとが重畳している領域において、導電性を有するシール材２１９によって、第１導電層２０２Ｂと第２導電層２０６Ｃとが接続されている。また、導電性を有するシール材２１９は、スペーサ２０９によって囲まれており、隣り合う第１導電層２０２を絶縁し、隣り合う第２導電層２０６を絶縁する。
【００５４】
（変形例５）
本発明の一実施形態に係る入力装置１００では、複数のキー１０２が配置される領域に、色素増感発電素子２１０を設ける構成について説明したが、色素増感発電素子２１０を設ける領域はこれに限定されない。例えば、入力装置１００の筐体１０１の側面に、色素増感発電素子２３０Ａを設けてもよい。
【００５５】
図１８に、本発明の一実施形態に係る入力装置１００の外観図を示す。図１８に示すように、入力装置１００の筐体１０１の側面に、色素増感発電素子２１０が設けられている。筐体１０１の側面を囲むように、一つの色素増感発電素子２１０を設けてもよいし、筐体１０１の側面毎に色素増感発電素子２３０Ａを設けてもよい。これにより、入力装置１００の上面だけから光を吸収する場合と比較して、側面からも光を吸収することができるため、発電量を増加させることができる。
【符号の説明】
【００５６】
１０：情報処理装置、１００：入力装置、１０１：筐体、１０２：キー、１０３：領域、１０４：領域、１０５：領域、１１０：一部分、１１１：制御部、１１２：操作部、１１３：通信部、１１４：発電部、２０１：第１基板、２０１Ａ：第１面、２０１Ｂ：第２面、２０２：第１導電層、２０３：第１電極、２０４：電解質媒体、２０５：酸化物半導体層、２０６：第２導電層、２０７：第２基板、２０７Ａ：第１面、２０７Ｂ：第２面、２０８：色素、２０９：スペーサ、２１０：色素増感発電素子、２１１：第３基板、２１２：透明電極、２１３：アクチュエータ、２１５：透明電極、２１６：スペーサ、２１７：タッチセンサ、２１８：色素、２１９：シール材、２２０：ハプティクス、２２２：端子、２２６：端子、２２８：色素、２３０Ａ：色素増感発電素子、２３１：支持基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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