(57)【要約】      （修正有）【課題】バイパスバルブにて冷却水通路によるシール部材の冷却性能を向上させること。【解決手段】バイパスバルブ１のケーシング１１には、クーラ流路１７とバイパス流路１８が設けられ、各流路には、弁軸１４で回転するクーラ弁体１２とバイパス弁体１３が設けられる。バイパス流路に近い弁軸の一端部にはケーシングとの間にシール部材２７が設けられ、ケーシングには冷却水通路４１が設けられる。冷却水通路は、弁軸、両流路、シール部材を挟むように配置され、弁軸の軸線方向に伸びる第１通路部４２及び第２通路部４３と、両通路部を接続する接続通路部とを含む。ケーシングには、両通路部それぞれの第１端部４２ａ,４３ａに連通し第１端部より大径なプラグ穴４７,４８が設けられる。プラグ穴の底部の天側に配置される部位４７ａ,４８ａは、冷却水に含まれる気泡の流れを円滑にするために、第１端部に対し滑らかに連続する。【選択図】図６
2020180572.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＧＲガスを冷却するためのＥＧＲクーラと前記ＥＧＲクーラを迂回したバイパス通路と共に使用され、前記ＥＧＲクーラを通過するＥＧＲガスの流量と前記バイパス通路を通過するＥＧＲガスの流量を調節するＥＧＲクーラバイパスバルブであって、
前記ＥＧＲクーラを通過したＥＧＲガスが流れるクーラ流路と、前記バイパス通路を通過したＥＧＲガスが流れるバイパス流路が設けられたケーシングと、
前記クーラ流路と前記バイパス流路を貫通するように前記ケーシングに設けられた弁軸と、
前記クーラ流路に配置され、前記弁軸と一体に設けられたクーラ弁体と、
前記バイパス流路に配置され、前記弁軸と一体に設けられたバイパス弁体と、
前記弁軸を回転させるために前記ケーシングに設けられたアクチュエータと、
前記バイパス流路に近い前記弁軸の一端部において、前記ケーシングと前記弁軸との間をシールするためのバイパス側シール部材と、
前記ケーシングを冷却するために前記ケーシングに設けられ、冷却水が流れる冷却水通路と
を備え、前記アクチュエータにより前記弁軸を回転させることにより前記クーラ弁体と前記バイパス弁体を位相をずらしながら開閉させるように構成したＥＧＲクーラバイパスバルブにおいて、
前記冷却水通路は、前記弁軸、前記クーラ流路、前記バイパス流路及び前記バイパス側シール部材を挟むように配置されると共に前記弁軸の軸線方向に沿って伸びる第１通路部及び第２通路部と、前記第１通路部と前記第２通路部を接続する接続通路部とを含み、
前記第１通路部と前記第２通路部のそれぞれが、直線的に伸びるように形成され、前記バイパス側シール部材に近い第１端部と前記バイパス側シール部材から離れた第２端部とを含み、前記第１通路部と前記第２通路部は、前記第１端部にて前記接続通路部に接続され、
前記ケーシングには、前記第１通路部の前記第１端部及び前記第２通路部の前記第１端部のそれぞれに対応して、前記第１端部に連通し前記第１端部より大径なプラグ穴が設けられ、
少なくとも一方の前記プラグ穴の底部の天側に配置される部位が、前記冷却水に含まれる気泡の流れを円滑にするために前記第１端部に対し滑らかに連続する
ことを特徴とするＥＧＲクーラバイパスバルブ。
【請求項２】
請求項１に記載のＥＧＲクーラバイパスバルブにおいて、
前記第１通路部と前記第２通路部は、前記第１端部が前記第２端部よりも前記弁軸に近付くように前記弁軸に対し斜めに配置される
ことを特徴とするＥＧＲクーラバイパスバルブ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のＥＧＲクーラバイパスバルブにおいて、
前記アクチュエータは、前記第１通路部の前記第２端部の近くに配置され、前記ケーシングには、前記第２端部からその半径方向へ伸びると共に前記冷却水通路へ前記冷却水を導入するための導入通路部が設けられ、
前記導入通路部の入口の側が前記アクチュエータに可能な限り近付いて配置される
ことを特徴とするＥＧＲクーラバイパスバルブ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この明細書に開示される技術は、ＥＧＲガスを冷却するＥＧＲクーラとＥＧＲクーラを迂回したバイパス通路と共に使用され、ＥＧＲクーラを通過するＥＧＲガス流量とバイパス通路を通過するＥＧＲガス流量を調節するように構成した並列フロー式のＥＧＲクーラバイパスバルブに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の技術として、例えば、下記の特許文献１に記載される技術が知られている。この特許文献１に記載されるＥＧＲクーラバイパスバルブは、ＥＧＲガスの流路を、ＥＧＲクーラを流れる流路と、バイパス通路を流れる流路とに選択的に切り替えるようになっている。このＥＧＲクーラバイパスバルブは、ＥＧＲガスが流れるＥＧＲガス通路を有する弁ハウジング（ケーシング）と、ケーシングに弁軸を介して回転可能に設けられ、ＥＧＲガスの流れを切り替える弁体と、弁軸とケーシングとの間の径方向における隙間に設けられたシール部材とを備える。また、ケーシングには、シール部材の過熱を抑制するために、ＥＧＲガス通路をその周方向に取り囲むと共に冷却水が流れる冷却水通路が設けられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−２０３３６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、特許文献１に記載のＥＧＲクーラバイパスバルブでは、ケーシングにシール部材の過熱を抑制するための冷却水通路が設けられるものの、その形状や構造は従来周知な範囲内のものであり、シール部材を冷却するための性能（シール部材のための冷却性能）を向上させ得る具体的な構成について何ら開示されていない。例えば、屈折した冷却水通路の隅部に気泡が溜まると冷却水の流れが滞り、シール部材のための冷却性能が低下するおそれがあり、改善の必要がある。
【０００５】
この開示技術は、上記事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、冷却水通路によるシール部材のための冷却性能を向上させることを可能としたＥＧＲクーラバイパスバルブを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の技術は、ＥＧＲガスを冷却するためのＥＧＲクーラとＥＧＲクーラを迂回したバイパス通路と共に使用され、ＥＧＲクーラを通過するＥＧＲガスの流量とバイパス通路を通過するＥＧＲガスの流量を調節するＥＧＲクーラバイパスバルブであって、ＥＧＲクーラを通過したＥＧＲガスが流れるクーラ流路と、バイパス通路を通過したＥＧＲガスが流れるバイパス流路が設けられたケーシングと、クーラ流路とバイパス流路を貫通するようにケーシングに設けられた弁軸と、クーラ流路に配置され、弁軸と一体に設けられたクーラ弁体と、バイパス流路に配置され、弁軸と一体に設けられたバイパス弁体と、弁軸を回転させるためにケーシングに設けられたアクチュエータと、バイパス流路に近い弁軸の一端部において、ケーシングと弁軸との間をシールするためのバイパス側シール部材と、ケーシングを冷却するためにケーシングに設けられ、冷却水が流れる冷却水通路とを備え、アクチュエータにより弁軸を回転させることによりクーラ弁体とバイパス弁体を位相をずらしながら開閉させるように構成したＥＧＲクーラバイパスバルブにおいて、冷却水通路は、弁軸、クーラ流路、バイパス流路及びバイパス側シール部材を挟むように配置されると共に弁軸の軸線方向に沿って伸びる第１通路部及び第２通路部と、第１通路部と第２通路部を接続する接続通路部とを含み、第１通路部と第２通路部のそれぞれが、直線的に伸びるように形成され、バイパス側シール部材に近い第１端部とバイパス側シール部材から離れた第２端部とを含み、第１通路部と第２通路部は、第１端部にて接続通路部に接続され、ケーシングには、第１通路部の第１端部及び第２通路部の第１端部のそれぞれに対応して、第１端部に連通し第１端部より大径なプラグ穴が設けられ、少なくとも一方のプラグ穴の底部の天側に配置される部位が、冷却水に含まれる気泡の流れを円滑にするために第１端部に対し滑らかに連続することを趣旨とする。
【０００７】
上記技術の構成によれば、第１通路部、第２通路部及び接続通路部を含む冷却水通路につき、第１通路部及び第２通路部それぞれの第１端部と接続通路部がバイパス側シール部材の近くに配置される。また、第１通路部及び第２通路部それぞれの第１端部に対応して設けられるプラグ穴のうち、少なくとも一方のプラグ穴の底部の天側に配置される部位が、冷却水の中の気泡の流れを円滑にするために第１端部に対し滑らかに連続する。従って、少なくとも一方のプラグ穴の底部の天側に配置される部位に溜まりがちな気泡が下流へ流れ易くなる。
【０００８】
上記目的を達成するために、請求項２に記載の技術は、請求項１に記載の技術において、第１通路部と第２通路部は、第１端部が第２端部よりも弁軸に近付くように弁軸に対し斜めに配置されることを趣旨とする。
【０００９】
上記技術の構成によれば、請求項１に記載の技術の作用に加え、直線的に伸びる第１通路部及び第２通路部は、それらの第１端部が第２端部よりも弁軸に近付くように、弁軸に対し斜めに配置される。また、第１通路部又は第２通路部が天側に配置される場合は、プラグ穴から下流へ流れ易くなった気泡が、地側から天側へ傾いた第１通路部又は第２通路部に沿ってその第２端部へ抜け易くなる。従って、第１通路部及び第２通路部それぞれの第１端部がバイパス側シール部材に近付き、第１通路部又は第２通路部における気泡の滞りが少なくなり、バイパス側シール部材に伝わる熱が冷却水通路を流れる冷却水と更に熱交換し易くなる。
【００１０】
上記目的を達成するために、請求項３に記載の技術は、請求項１又は２に記載の技術において、アクチュエータは、第１通路部の第２端部の近くに配置され、ケーシングには、第２端部からその半径方向へ伸びると共に冷却水通路へ冷却水を導入するための導入通路部が設けられ、導入通路部の入口の側がアクチュエータに可能な限り近付いて配置されることを趣旨とする。
【００１１】
上記技術の構成によれば、請求項１又は２に記載の技術の作用に加え、アクチュエータが第１通路部の第２端部の近くに配置され、その第２端部から伸びる冷却水の導入通路部の入口の側が、アクチュエータに可能な限り近付いて配置される。従って、アクチュエータから発生する熱が冷却水通路を流れる冷却水と熱交換し易くなる。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１に記載の技術によれば、冷却水通路の途中で気泡が溜まり難くなり、冷却水通路によるバイパス側シール部材のための冷却性能を向上させることができ、バイパス側シール部材の過熱を抑制することができる。
【００１３】
請求項２に記載の技術によれば、請求項１に記載の技術の効果に加え、冷却水通路によるバイパス側シール部材のための冷却性能を更に向上させることができる。
【００１４】
請求項３に記載の技術によれば、請求項１又は２に記載の技術の効果に加え、冷却水通路によるアクチュエータのための冷却性能を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】一実施形態に係り、ＥＧＲクーラバイパスバルブ（バイパスバルブ）を備えたＥＧＲクーラユニットの概略を示す断面図。
【図２】一実施形態に係り、バイパスバルブを正面側から視て示す斜視図。
【図３】一実施形態に係り、バイパスバルブを示す正面図。
【図４】一実施形態に係り、バイパスバルブを示す左側面図。
【図５】一実施形態に係り、バイパスバルブを示す底面図。
【図６】一実施形態に係り、バイパスバルブを示す図４のＡ−Ａ線断面図。
【図７】一実施形態に係り、バイパスバルブを示す図３のＢ−Ｂ線断面図。
【図８】一実施形態に係り、バイパスバルブを示す図３のＣ−Ｃ線断面図。
【図９】別の実施形態に係り、バイパスバルブの一部を示す、図６に鎖線四角で囲った部分に準じた断面図。
【図１０】別の実施形態に係り、バイパスバルブの一部を示す、図６に鎖線四角で囲った部分に準じた断面図。
【図１１】別の実施形態に係り、バイパスバルブを示す、図６に準ずる断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、ＥＧＲクーラバイパスバルブをＥＧＲクーラユニットに具体化した一実施形態につき図面を参照して詳細に説明する。
【００１７】
[ＥＧＲクーラユニットについて]
図１に、この実施形態のＥＧＲクーラバイパスバルブ（以下、単に「バイパスバルブ」という。）１を備えた並列フロー式のＥＧＲクーラユニット２の概略を断面図により示す。このＥＧＲクーラユニット２は、ＥＧＲ通路（図示略）の途中に設けられ、クーラケーシング３と、クーラケーシング３の入口側に設けられた入口パイプ４と、クーラケーシング３の出口側に設けられたバイパスバルブ１及び出口パイプ５とを備える。ＥＧＲ通路は、周知のように、エンジン（図示略）から排気通路（図示略）へ排出される排気の一部をＥＧＲガスとしてエンジンへ還流するために吸気通路（図示略）へ流すように設けられる。クーラケーシング３は、クーラ通路６と、クーラ通路６を迂回したバイパス通路７と、クーラ通路６の入口６ａとバイパス通路７の入口７ａへ分岐する分岐部８とを含む。クーラ通路６とバイパス通路７は互いに並列に配置される。入口パイプ４は分岐部８に接続される。バイパスバルブ１は、クーラ通路６の出口６ｂとバイパス通路７の出口７ｂに接続される。出口パイプ５は、バイパスバルブ１の出口側に接続される。クーラ通路６には、エンジンの冷却水が流れる熱交換器９が設けられる。クーラ通路６と熱交換器９によりＥＧＲクーラ１０が構成される。入口パイプ４と出口パイプ５は、それぞれＥＧＲ通路に接続される。入口パイプ４に流入したＥＧＲガスは、クーラ通路６を通過することで熱交換器９により冷却される。バイパス通路７を通過するＥＧＲガスは冷却されない。
【００１８】
[バイパスバルブについて]
図２に、この実施形態のバイパスバルブ１を正面側から視た斜視図により示す。図３に、同じくバイパスバルブ１を正面図により示す。図４に、同じくバイパスバルブ１を左側面図により示す。図５に、同じくバイパスバルブ１を底面図により示す。図６に、同じくバイパスバルブ１を、図４のＡ−Ａ線断面図により示す（弁軸１４とＤＣモータ１６のみ断面で示されていない。）。図７に、同じくバイパスバルブ１を、図３のＢ−Ｂ線断面図により示す。図８に、同じくバイパスバルブ１を、図３のＣ−Ｃ線断面図により示す。
【００１９】
図１に示すように、バイパスバルブ１は、ＥＧＲクーラ１０（クーラ通路６及び熱交換器９）を通過するＥＧＲガスの流量（ＥＧＲガス流量）と、バイパス通路７を通過するＥＧＲガス流量とを同時に調節するようになっている。図１に示すように、このバイパスバルブ１は、並列二弁タイプであって、主要な構成要素として、バルブケーシング１１、二つの弁体１２，１３、弁軸１４、減速機構１５及びＤＣモータ１６を備える。ＤＣモータ１６は、この開示技術におけるアクチュエータの一例に相当する。図２〜図３、図６に示すように、バルブケーシング１１は、二つの流路１７，１８を含むアルミ製の本体ケーシング１９と、本体ケーシング１９の開口端を閉鎖する合成樹脂製のエンドフレーム２０とを含む。二つの弁体１２，１３、弁軸１４及びＤＣモータ１６は、本体ケーシング１９に設けられる。減速機構１５は、本体ケーシング１９とエンドフレーム２０との間に設けられる。
【００２０】
図１〜図３、図６に示すように、本体ケーシング１９は、クーラ通路６の出口６ｂに連通するクーラ流路１７と、バイパス通路７の出口７ｂに連通するバイパス流路１８とを含み、クーラ流路１７とバイパス流路１８とが隔壁２１を介して仕切られる。クーラ流路１７には、ＥＧＲクーラ１０を通過したＥＧＲガスが流れる。バイパス流路１８には、バイパス通路７を通過したＥＧＲガスが流れる。クーラ流路１７には、同流路１７を開閉するための板状をなすクーラ弁体１２が配置される。バイパス流路１８には、同流路１８を開閉するための板状をなすバイパス弁体１３が配置される。この実施形態で、クーラ弁体１２及びバイパス弁体１３はそれぞれバタフライ式弁体であり、一つの弁軸１４に一体に固定される。弁軸１４は、本体ケーシング１９にて、クーラ流路１７、隔壁２１及びバイパス流路１８を貫通するように設けられ、二つの軸受２２，２３を介して回転可能に支持される。クーラ弁体１２はクーラ流路１７にて弁軸１４に一体に固定され、バイパス弁体１３はバイパス流路１８にて弁軸１４に一体に固定される。また、クーラ弁体１２とバイパス弁体１３は、互いに位相を所定角度（ほぼ９０°）ずらした状態で弁軸１４に固定される。従って、弁軸１４を一方向へ回転させることにより、クーラ弁体１２が開弁方向へ回動されると共にバイパス弁体１３が閉弁方向へ回動される。一方、弁軸１４を逆方向へ回転させることにより、クーラ弁体１２が閉弁方向へ回動されると共にバイパス弁体１３が開弁方向へ回動される。図２、図３及び図６は、クーラ弁体１２が全開でバイパス弁体１３が全閉の状態を示す。
【００２１】
ここで、クーラ弁体１２が全開でバイパス弁体１３が全閉の状態では、入口パイプ４に流入したＥＧＲガスが、ＥＧＲクーラ１０を経由して、熱交換器９で冷却されてから、バイパスバルブ１のクーラ流路１７へ流れる。一方、クーラ弁体１２が全閉でバイパス弁体１３が全開の状態では、入口パイプ４に流入したＥＧＲガスが、そのまま冷却されることなくバイパス通路７を経由して、バイパスバルブ１のバイパス流路１８へ流れる。
【００２２】
図６に示すように、弁軸１４は、二つの軸受２２，２３を介して本体ケーシング１９に回転可能に支持される。図６では、弁軸１４は、複数に分断されて示されるが、連続する軸状をなしている。弁軸１４は、その両端に第１軸端部１４ａと第２軸端部１４ｂを含む。二つの弁体１２，１３は、第１軸端部１４ａと第２軸端部１４ｂとの間にて弁軸１４上に固定される。クーラ流路１７及びクーラ弁体１２は、第１軸端部１４ａに隣接して配置され、バイパス流路１８及びバイパス弁体１３は、第２軸端部１４ｂに隣接して配置される。ここで、第１軸端部１４ａは、クーラ弁体１２より外側（弁軸１４の一端側）の全範囲を含み、第２軸端部１４ｂは、バイパス弁体１３より外側（弁軸１４の他端側）の全範囲を含むと定義することができる。本体ケーシング１９と第１軸端部１４ａとの間には、第１軸受２２が設けられる。一方、本体ケーシング１９と第２軸端部１４ｂとの間には、第２軸受２３が設けられる。本体ケーシング１９には、弁軸１４を配置するための軸孔１９ａが形成されるが、この軸孔１９ａの一端であって、第２軸受２３の側の開口部１９ｂは、蓋２４により閉塞される。更に、クーラ弁体１２と第１軸受２２との間にて、第１軸受２２のクーラ弁体１２に近い側面には、その側面に隣接して、本体ケーシング１９と第１軸端部１４ａとの間をシールするためのクーラ側シール部材２６が設けられる。また、バイパス弁体１３と第２軸受２３との間にて、第２軸受２３のバイパス弁体１３に近い側面には、その側面に隣接して、本体ケーシング１９と第２軸端部１４ｂとの間をシールするためのバイパス側シール部材２７が設けられる。両シール部材２６，２７は、樹脂又はゴムを要素として構成される。
【００２３】
この実施形態で、第１軸受２２は、第１軸端部１４ａの回転を精密に支持するために、高い精度と耐熱性を確保できる転がり軸受（ボールベアリング）により構成される。転がり軸受は、第１軸端部１４ａに伝わる熱を本体ケーシング１９へ逃がすことはできるが、その伝熱性は滑り軸受に比べて小さい。一方、第２軸受２３は、第２軸端部１４ｂから本体ケーシング１９への放熱を促進するために滑り軸受により構成される。第２軸端部１４ｂには、バイパス流路１８を流れる高温のＥＧＲガスの熱が伝わるので、その熱を本体ケーシング１９へ円滑に逃がすために滑り軸受が採用される。
【００２４】
図２等に示すように、エンドフレーム２０は、本体ケーシング１９に対し複数のクリップ３０により着脱可能に固定される。図６に示すように、エンドフレーム２０の内側には、第１軸端部１４ａの先端に対応して配置され、各弁体１２，１３の開度（バルブ開度）を検出するための開度センサ３１が設けられる。この開度センサ３１は、ホールＩＣ等により構成され、弁軸１４の回転角度をバルブ開度として検出するように構成される。第１軸端部１４ａの先端には、樹脂製のメインギヤ３２が固定される。また、メインギヤ３２と本体ケーシング１９との間には、弁軸１４を介して各弁体１２，１３を閉方向又は開方向へ付勢するための、すなわち弁軸１４を特定方向へ回動付勢するためのリターンスプリング３３が設けられる。メインギヤ３２の表側に形成される凹部３２ａには、磁石３４が収容され、押さえ板３５により固定される。従って、メインギヤ３２が、各弁体１２，１３及び弁軸１４と一体に回転することにより、磁石３４の磁界が変化し、その磁界の変化を開度センサ３１がバルブ開度として検出するようになっている。
【００２５】
この実施形態で、ＤＣモータ１６は、本体ケーシング１９に形成された凹部１９ｃに収容され、その両端が留め材（図示略）と板ばね３７を介して本体ケーシング１９に固定される。図１、図６に示すように、ＤＣモータ１６は、各弁体１２，１３を開閉駆動するために、減速機構１５を介して弁軸１４に駆動連結される。すなわち、ＤＣモータ１６の出力軸１６ａ上には、モータギヤ３８が固定される。モータギヤ３８は、中間ギヤ３９を介してメインギヤ３２に駆動連結される。中間ギヤ３９は、大径ギヤ３９ａと小径ギヤ３９ｂを含む二段ギヤであり、ピンシャフト（図示略）を介して本体ケーシング１９に回転可能に支持される。大径ギヤ３９ａには、モータギヤ３８が連結され、小径ギヤ３９ｂには、メインギヤ３２が連結される。この実施形態では、メインギヤ３２、モータギヤ３８及び中間ギヤ３９により減速機構１５が構成される。
【００２６】
上記のように、このバイパスバルブ１は、弁軸１４を回転させて各弁体１２，１３を開閉させることにより、各流路１７，１８におけるＥＧＲガス流量を制御するように構成される。例えば、図２、図３等に示すように、クーラ弁体１２が全開位置に配置されたときは、バイパス弁体１３が全閉位置に配置され、ＥＧＲクーラ１０で冷却されたＥＧＲガスがクーラ通路６及びクーラ流路１７を流れる。この状態から、ＤＣモータ１６が通電により作動し、モータギヤ３８が一方向へ回転することにより、その回転が中間ギヤ３９により減速されてメインギヤ３２に伝達される。これにより、弁軸１４及び各弁体１２，１３が回動され、クーラ流路１７が閉じられ、バイパス流路１８が開かれる。一方、クーラ弁体１２が全閉位置に配置されたときは、バイパス弁体１３が全開位置に配置され、ＥＧＲクーラ１０を迂回した冷却されないＥＧＲガスがバイパス通路７及びバイパス流路１８を流れる。このように両弁体１２，１３はそれぞれ全閉位置と全開位置に切り替え配置されると共に、全閉位置と全開位置との間の任意の中間開度に配置可能となっている。そして、両弁体１２，１３の開度を制御することにより、クーラ流路１７を通過するＥＧＲガス流量とバイパス流路１８を通過するＥＧＲガス流量がそれぞれ調節され、出口パイプ５から流れ出るＥＧＲガスの温度（ガス出口温度）が任意に制御されるようになっている。
【００２７】
［バイパスバルブの冷却水通路について］
加えて、この実施形態の本体ケーシング１９には、図２に破線で示すように、弁軸１４、クーラ流路１７、バイパス流路１８及びバイパス側シール部材２７をほぼコ形に囲むように配置され、本体ケーシング１９を冷却するためにエンジンの冷却水が流れる冷却水通路４１が設けられる。ここで、バイパス側シール部材２７には、その近くに配置されたバイパス流路１８を流れる高温のＥＧＲガスの熱が伝わり易いので、バイパス側シール部材２７は高熱に曝され、過熱のおそれがある。そこで、この実施形態の冷却水通路４１は、バイパス側シール部材２７のための冷却性能を高めるために、次のような構成を備える。
【００２８】
すなわち、この実施形態の冷却水通路４１は、図２、図６に示すように、弁軸１４、クーラ流路１７、バイパス流路１８及びバイパス側シール部材２７を挟むように配置されると共に、弁軸１４の軸線方向に沿って伸びる第１通路部４２及び第２通路部４３と、第１通路部４２と第２通路部４３を接続する接続通路部４４とを含む。第１通路部４２と第２通路部４３のそれぞれは、直線的に伸びるように形成され、バイパス側シール部材２７に相対的に近い第１端部４２ａ，４３ａとバイパス側シール部材２７から相対的に離れた第２端部４２ｂ，４３ｂとを含む。図７に示すように、第１通路部４２と第２通路部４３は、それらの第１端部４２ａ，４３ａにて接続通路部４４に接続される。また、第１通路部４２と第２通路部４３は、それらの第１端部４２ａ，４３ａが第２端部４２ｂ，４３ｂよりも弁軸１４に近付くように弁軸１４に対し斜めに配置される。
【００２９】
この実施形態で、車両に搭載されるバイパスバルブ１の配置の上下（天側と地側）は、図２〜図４、図６〜図８に示す状態となる。ここで、図６に示すように、第１通路部４２は、その第２端部４２ｂよりも第１端部４２ａの方が上位に配置される。すなわち、第１通路部４２は、その第２端部４２ｂ（上流側）よりも第１端部４２ａ（下流側）の方が上位（天側）に配置される。一方、第２通路部４３は、その第１端部４３ａよりも第２端部４３ｂの方が上位に配置される。すなわち、第２通路部４３は、その第１端部４３ａ（上流側）よりも第２端部４３ｂ（下流側）の方が上位（天側）に配置される。また、図６に示すように、第１通路部４２及び第２通路部４３は、それぞれ第２端部４２ｂ，４３ｂが第１端部４２ａ，４３ａよりも内径が小さく形成される。更に、図７に示すように、接続通路部４４は、第１通路部４２に接続される側から第２通路部４３に接続される側へ向けて内径が徐々に小さくなるように形成される。本体ケーシング１９には、この接続通路部４４の一端に対応してプラグ穴４５が形成される。このプラグ穴４５は、蓋４６で閉塞される。
【００３０】
図２、図６に示すように、この実施形態で、本体ケーシング１９には、第１通路部４２の第１端部４２ａ及び第２通路部４３の第１端部４３ａのそれぞれに対応して、第１端部４２ａ，４３ａに連通し第１端部４２ａ，４３ａより大径なプラグ穴４７及びプラグ穴４８が設けられる。これらプラグ穴４７，４８は、それぞれ蓋４９，５０で閉塞される。二つのプラグ穴４７，４８は、その底部の天側（図６の配置の上側）に配置される部位４７ａ，４８ａ（図６に鎖線円で囲む部分）の内面が、冷却水に含まれる気泡の流れを円滑にするために対応する第１端部４２ａ，４３ａの内面に対し滑らかに連続している。具体的には、第１通路部４２のプラグ穴４７は、第１通路部４２に対し偏心すると共に、プラグ穴４７の内周面の一部が第１端部４２ａの内周面の一部にほぼ直線的に連続する。これにより、そのプラグ穴４７の底部の天側に配置される部位４７ａの内面が、第１通路部４２の第１端部４２ａの内面に対し滑らかに連続する。また、第２通路部４３のプラグ穴４８は、第２通路部４３とほぼ同軸に配置すると共に、その底部の天側に配置される部位４８ａの内周面がテーパな内周面５１を介して第１端部４３ａの内周面に連続する。これにより、そのプラグ穴４８の底部の天側に配置される部位４８ａの内面が、第２通路部４３の第１端部４３ａの内面に対し滑らかに連続する。
【００３１】
更に、この実施形態では、バイパス側シール部材２７のための冷却性能を改善する構成ではないが、次の構成を備える。すなわち、ＤＣモータ１６は、第２通路部４３よりも第１通路部４２の近くに配置されると共に、第１通路部４２の第２端部４２ｂの近くに配置される。図２、図８に示すように、本体ケーシング１９には、第１通路部４２の第２端部４２ｂからその半径方向へ直線的に伸びると共に、冷却水通路４１へ冷却水を導入するための導入通路部４２ｃが設けられる。この導入通路部４２ｃの入口４２ｄの側は、ＤＣモータ１６に可能な限り近付いて配置される。一方、第２通路部４３の第２端部４３ｂには、その半径方向へ伸びると共に冷却水通路４１から冷却水を導出するための導出通路部４３ｃが設けられる。
【００３２】
［バイパスバルブの作用及び効果］
以上説明したこの実施形態におけるＥＧＲクーラバイパスバルブ（バイパスバルブ）１の構成によれば、第１通路部４２、第２通路部４３及び接続通路部４４を含む冷却水通路４１につき、第１通路部４２及び第２通路部４３それぞれの第１端部４２ａ，４３ａと接続通路部４４がバイパス側シール部材２７の近くに配置される。また、第１通路部４２及び第２通路部４３それぞれの第１端部４２ａ，４３ａに対応してプラグ穴４７，４８が設けられる。これらプラグ穴４７，４８の底部の天側に配置される部位４７ａ，４８ａ（隅部）の内面が、冷却水の中の気泡の流れを円滑にするために、第１端部４２ａ，４３ａの内面に対し滑らかに連続する。従って、各プラグ穴４７，４８の底部の天側に配置される部位４７ａ，４８ａ（隅部）に溜まりがちな気泡が下流へ流れ易くなる。このため、冷却水通路４１の途中で気泡が溜まり難くなり、冷却水通路４１によるバイパス側シール部材２７のための冷却性能を向上させることができる。
【００３３】
また、この実施形態の構成によれば、直線的に伸びる第１通路部４２及び第２通路部４３は、それらの第１端部４２ａ，４３ａが第２端部４２ｂ，４３ｂよりも弁軸１４に近付くように、弁軸１４に対し斜めに配置される。また、この実施形態では、車両に搭載されるバイパスバルブ１の配置の上下によって、第２通路部４３が第１通路部４２よりも天側に配置されるので、第２通路部４３に対応するプラグ穴４８から下流へ流れ易くなった気泡が、地側から天側へ傾いた第２通路部４３に沿ってその第２端部４３ｂ（導出通路部４３ｃの側）へ抜け易くなる。従って、第１通路部４２及び第２通路部４３それぞれの第１端部４２ａ，４３ａがバイパス側シール部材２７に近付き、第２通路部４３における気泡の滞りが少なくなり、バイパス側シール部材２７に伝わる熱が冷却水通路４１を流れる冷却水と更に熱交換し易くなる。このため、冷却水通路４１によるバイパス側シール部材２７のための冷却性能を更に向上させることができる。
【００３４】
更に、この実施形態の構成によれば、ＤＣモータ１６が第１通路部４２の第２端部４２ｂの近くに配置され、その第２端部４２ｂから直線的に伸びる冷却水の導入通路部４２ｃの入口４２ｄの側が、ＤＣモータ１６に可能な限り近付いて配置される。従って、ＤＣモータ１６から発生する熱が冷却水通路４１を流れる冷却水と熱交換し易くなる。このため、冷却水通路４１によるＤＣモータ１６を冷却する性能（ＤＣモータ１６のための冷却性能）を向上させることができる。
【００３５】
なお、この開示技術は前記実施形態に限定されるものではなく、開示技術の趣旨を逸脱することのない範囲で構成の一部を適宜変更して実施することもできる。
【００３６】
（１）前記実施形態では、第２通路部４３のプラグ穴４８の底部の天側に配置される部位４８ａの内面を、第２通路部４３の第１端部４３ａの内面に対し滑らかに連続させるために、図６に示すように、プラグ穴４８を、第２通路部４３に対しほぼ同軸に配置すると共に、プラグ穴４８の内周面をテーパな内周面５１を介して第１端部４３ａの内周面に連続させた。これに対し、図９に示すように、第２通路部４３のプラグ穴４８を、第２通路部４３に対しほぼ同軸に配置すると共に、その底部の天側に配置される部位４８ａの内面とその底部の地側に配置される部位４８ｂ（それぞれ図９に鎖線円で囲む部分）の内面を湾曲面に形成することもできる。第１通路部４２のプラグ穴４７についても同様に構成することができる。この場合も、前記実施形態とほぼ同等の作用及び効果を得ることができる。図９には、バイパスバルブの一部を、図６に鎖線四角Ｓ１で囲った部分に準じた断面図により示す。後述する図１０も同様である。
【００３７】
（２）上記（１）の別の実施形態の代わりに、図１０に示すように、第２通路部４３のプラグ穴４８を、第２通路部４３に対し偏心させると共に、プラグ穴４８の内周面の天側を第１端部４３ａの内周面にほぼ直線的に連続させることもできる。第１通路部４２のプラグ穴４７についても同様に構成することができる。これらの場合も、前記実施形態とほぼ同等の作用及び効果を得ることができる。
【００３８】
（３）前記実施形態では、図６に示すように、第１通路部４２及び第２通路部４３それぞれの第１端部４２ａ，４３ａが第２端部４２ｂ，４３ｂよりも弁軸１４に近付くように、第１通路部４２及び第２通路部４３を弁軸１４に対し斜めに配置した。これに対し、図１１に示すように、第１通路部４２と第２通路部４３をそれぞれ弁軸１４に対し平行に配置することもできる。併せて、各プラグ穴４７，４８については、プラグ穴４７を、第１通路部４２に対し同軸に配置すると共に、プラグ穴４７の内周面をテーパな内周面５１を介して第１端部４２ａの内周面に連続させる。また、プラグ穴４８を、第２通路部４３に対し同軸に配置すると共に、プラグ穴４８の内周面をテーパな内周面５１を介して第１端部４３ａの内周面に連続させる。この場合も、前記実施形態とほぼ同等の作用及び効果を得ることができる。図１１には、バイパスバルブを図６に準ずる断面図により示す。
【００３９】
（４）前記実施形態では、第１通路部４２のプラグ穴４７と第２通路部４３のプラグ穴４８の両方について、プラグ穴４７，４８の底部の天側に配置される部位４７ａ，４８ａの内面を、各通路部４２，４３の第１端部４２ａ，４３ａの内面に対し滑らかに連続させるように構成した。これに対し、第１通路部のプラグ穴と第２通路部のプラグ穴の一方について、プラグ穴の底部の天側に配置される部位の内面を、各通路部の第１端部の内面に対し滑らかに連続させるように構成することもできる。
【００４０】
（５）前記実施形態では、バイパスバルブ１に、アクチュエータとしてＤＣモータ１６を設けたが、ＤＣモータに限られることはなく、ステップモータや電磁ソレノイド等をアクチュエータとして設けることもできる。
【００４１】
（６）前記実施形態では、直線的に伸びる第１通路部４２及び第２通路部４３を、それらの第１端部４２ａ，４３ａが第２端部４２ｂ，４３ｂよりも弁軸１４に近付くように、弁軸１４に対し斜めに配置し、車両に搭載されるバイパスバルブ１の配置の上下によって、第２通路部４３を第１通路部４２よりも天側に配置した。これに対し、車両に搭載されるバイパスバルブ１の配置の上下を前記実施形態と逆にすることで、第１通路部４２を第２通路部４３よりも天側に配置し、対応するプラグ穴４７の内周面の天側から下流へ気泡が流れ易くなるように構成することもできる。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
この開示技術は、例えば、エンジンのＥＧＲ装置に設けられる並列フロー式のＥＧＲクーラユニットに適用することができる。
【符号の説明】
【００４３】
１  バイパスバルブ
７  バイパス通路
１０  ＥＧＲクーラ
１１  バルブケーシング
１２  クーラ弁体
１３  バイパス弁体
１４  弁軸
１６  ＤＣモータ（アクチュエータ）
１７  クーラ流路
１８  バイパス流路
１９  本体ケーシング（ケーシング）
２０  エンドフレーム（ケーシング）
２７  バイパス側シール部材
４１  冷却水通路
４２  第１通路部
４２ａ  第１端部
４２ｂ  第２端部
４２ｃ  導入通路部
４２ｄ  入口
４３  第２通路部
４３ａ  第１端部
４３ｂ  第２端部
４３ｃ  導入通路部
４４  接続通路部
４７  プラグ穴
４７ａ  底部の天側の部位
４８  プラグ穴
４８ａ  底部の天側の部位
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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