(57)【要約】【課題】光学センサー装置が設けられる機器の低背化に伴い、入射角度が大きくなった場合でも優れた可視光カット特性と特定波長の近赤外線透過特性とを両立可能な光学フィルターを提供すること。【解決手段】本発明の光学フィルターは、波長７００〜９３０ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｚ）を含有する透明樹脂層を含む基材（ｉ）と、該基材（ｉ）の少なくとも一方の面に形成された誘電体多層膜とを有し、かつ、特定の光学特性を有することを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長７００〜９３０ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｚ）を含有する樹脂層を含む基材（ｉ）と、該基材（ｉ）の少なくとも一方の面に形成された誘電体多層膜とを有し、かつ、
下記（ａ）〜（ｃ）の要件を満たすことを特徴とする光学フィルター：
（ａ）波長３８０〜７００ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１０％以下である；
（ｂ）波長７５０ｎｍ以上の領域に光線透過帯（Ｚａ）を有し、前記光線透過帯（Ｚａ）において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の最大透過率（Ｔｄ）が４５％以上である；
（ｃ）前記光線透過帯（Ｚａ）において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合に透過率が前記透過率（Ｔｄ）の半分となる最も短波長側の波長（Ｘａ）と、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合に透過率が前記透過率（Ｔｄ）の半分となる最も短波長側の波長（Ｘｂ）との差の絶対値｜Ｘａ−Ｘｂ｜が５ｎｍ以下であり、かつ、前記波長（Ｘａ）が７３０〜９８０ｎｍの範囲にある。
【請求項２】
さらに下記（ｄ）の要件を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光学フィルター：
（ｄ）波長７０１〜７５０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１５％以下である。
【請求項３】
前記光線透過帯（Ｚａ）において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が最大となる波長（Ｘｃ）が７８０〜１０００ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルター。
【請求項４】
さらに下記（ｅ）の要件を満たすことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルター：
（ｅ）前記光線透過帯（Ｚａ）において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の最大透過率が７５％以上であり、かつ、前記光線透過帯（Ｚａ）において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が７０％となる最も短波長側の波長（Ｘｄ）と、波長７２０ｎｍ以上の領域において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が３０％となる最も短波長側の波長（Ｘｅ）との差の絶対値｜Ｘｄ−Ｘｅ｜が３０ｎｍ以下である。
【請求項５】
前記波長（Ｘｃ）において光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率（Ｔｃ）が４５％以上であることを特徴とする請求項３に記載の光学フィルター。
【請求項６】
前記光学フィルターの厚みが１８０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項７】
前記化合物（Ｚ）が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、ヘキサフィリン系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項８】
前記樹脂層を形成するための樹脂が、環状（ポリ）オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂およびビニル系紫外線硬化型樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項９】
前記スクアリリウム系化合物が下記式（Ｚ）で表される化合物であることを特徴とする請求項７に記載の光学フィルター。
【化１】
2020177253.tif 000053
［式（Ｚ）中、置換ユニットＡおよびＢは、それぞれ独立に下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される置換ユニットのいずれかを表す。］
【化２】
2020177253.tif 000054
［式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）中、波線で表した部分が中央四員環との結合部位を表し、
Ｘは、独立に酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子または−ＮＲ8−を表し、
Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−ＮＲgＲh基、−ＳＲi基、−ＳＯ2Ｒi基、−ＯＳＯ2Ｒi基または下記Ｌa〜Ｌhのいずれかを表し、ＲgおよびＲhは、それぞれ独立に水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒi基または下記Ｌa〜Ｌeのいずれかを表し、Ｒiは下記Ｌa〜Ｌeのいずれかを表し、
（Ｌa）炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌb）炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌc）炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌd）炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌe）炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌf）炭素数１〜１２のアルコキシ基
（Ｌg）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアシル基
（Ｌh）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基
置換基Ｌは、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基および炭素数３〜１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。］
【請求項１０】
前記基材（ｉ）が、前記化合物（Ｚ）を含有する樹脂製基板（ｉｉ）を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項１１】
前記基材（ｉ）が、さらに波長３５０〜６９９ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ）を含有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項１２】
前記樹脂製基板（ｉｉ）が、さらに波長３５０〜６９９ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ）を含有することを特徴とする請求項１０に記載の光学フィルター。
【請求項１３】
前記樹脂製基板（ｉｉ）のガラス転移温度が１３０〜３００℃であることを特徴とする請求項１０または１２に記載の光学フィルター。
【請求項１４】
前記樹脂製基板（ｉｉ）のガラス転移温度と、前記樹脂製基板（ｉｉ）に含有されている樹脂のガラス転移温度との差が０〜１０℃であることを特徴とする請求項１０、１２または１３に記載の光学フィルター。
【請求項１５】
前記基材（ｉ）が、波長３５０〜５００ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ−ａ）、波長５０１〜６００ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ−ｂ）、および波長６０１〜６９９ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ−ｃ）を含有することを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項１６】
前記化合物（Ｓ−ａ）と前記化合物（Ｓ−ｂ）の吸収極大波長の差が５０〜１４０ｎｍであり、且つ、前記化合物（Ｓ−ｂ）と前記化合物（Ｓ−ｃ）の吸収極大波長の差が３０〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項１５に記載の光学フィルター。
【請求項１７】
前記光線透過帯（Ｚａ）よりも長波長側の領域に光線阻止帯（Ｚｂ）を有し、前記光線阻止帯（Ｚｂ）において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の最小透過率（Ｔｅ）が１０％以下であることを特徴とする請求項１〜１６のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項１８】
前記化合物（Ｚ）２〜４種が同一の樹脂層に含まれていることを特徴とする請求項１〜１７のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項１９】
前記基材（ｉ）が、さらに前記光線透過帯（Ｚａ）よりも長波長側に吸収極大を有する化合物（Ｙ）を含有することを特徴とする請求項１７に記載の光学フィルター。
【請求項２０】
前記光線透過帯（Ｚａ）において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が最大となる波長を波長（Ｘｃ）とした場合、
前記化合物（Ｙ）の吸収極大波長が、波長（Ｘｃ）＋１０ｎｍ〜波長（Ｘｃ）＋１００ｎｍであることを特徴とする請求項１９に記載の光学フィルター。
【請求項２１】
光学センサー装置用であることを特徴とする請求項１〜２０のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備する光学センサー装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルターおよび光学センサー装置に関する。より詳しくは、可視光線をカットし、一部の波長の近赤外線を透過させる光学フィルターおよび該光学フィルターを用いた光学センサー装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、スマートフォン、タブレット端末、ウェアラブル機器等のモバイル情報端末装置への用途として、近赤外線を用いた各種光学センサー装置の開発が進められている。情報端末装置において、光学センサー装置は様々な用途で適用が検討されており、一例としては、距離測定などの空間認識用途、モーション認識用途、虹彩認証や白目の静脈認証、顔認証などのセキュリティ用途、脈拍測定や血中酸素濃度測定などのヘルスケア用途が挙げられる。
【０００３】
近赤外線を用いた光学センサー装置において、センシング機能を精度よく働かせるためには不要となる波長の光、特に可視光線をカットすることが重要である。また、センシングに用いる近赤外線の波長によっては、これよりも短い波長の近赤外線をカットする（例えば、８５０ｎｍ付近の近赤外線をセンシングに用いる場合は可視光線に加えて７８０ｎｍ付近までの近赤外線をカット）ことで使用時のノイズを低減でき、光学センサー装置の特性を向上させることができる。
【０００４】
一方、モバイル情報端末装置は低背化が進み、光の入射窓から光学センサーまでの距離が短くなるため、従来以上に斜め方向からの入射光の割合が増加することになる。センサー精度を向上させるためには斜め方向からの入射光に対しても光学センサーに到達する光の分光特性（特に可視光線や不要な波長の近赤外線のカット特性）が変化しないことが要求されている。
【０００５】
可視光線をカットし、特定波長の近赤外線を透過させる手段として、ガラス基板上に高屈折率材料と低屈折率材料を交互に積層したバンドパスフィルターが開示されている（例えば特許文献１参照）。しかしながら、このような多層薄膜を形成した光学フィルターは、入射光の入射角度によって光学特性が大きく変化する。そのため、モバイル情報端末装置用途に用いた場合、光学センサーの検出精度が低下するという問題がある。
【０００６】
一方、入射角度によらず可視光線をカットできる光学フィルターとして、金属系の着色成分を有するガラス製フィルター（例えば特許文献２参照）および着色顔料を含むフィルター（例えば特許文献３参照）が知られている。これらはいずれも吸収により可視光線をカットしており入射角度による光学特性変化は小さいが、十分な光線カット特性を達成するために１．０ｍｍ程度の厚みが必要であり、近年急速に小型化・軽量化が進むモバイル情報端末用途では好適に使用できない場合があった。また、これらのフィルターで薄型化を行うと、吸収による光線カット性能が大幅に低下し、センシング時のノイズが増えてしまうといった問題がある。さらに、これらのフィルターでは、センシングに用いる近赤外線の波長が８００ｎｍ以上である場合（不可視性の観点で現在はこのような波長が主流）にこれよりも短い波長の近赤外線のカット特性が不十分な場合がある上、特に着色顔料を含む光学フィルターでは吸収スペクトルの傾きが緩く、光線カットと光線透過のコントラストが低くなる（センシング時のノイズが多くなる）傾向がある。
【０００７】
なお、薄型化と入射角依存低減を両立可能な赤外光透過フィルターとして、可視光吸収剤を含む基材上に近赤外線吸収剤を含む膜を具備した赤外光透過フィルターが提案されているが（例えば特許文献４参照）、入射角依存低減効果が十分でない場合があり、近年求められるような精密なセンシングができない場合があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１５−１８４６２７号公報
【特許文献２】特開平０７−１２６０３６号公報
【特許文献３】特開昭６０−１３９７５７号公報
【特許文献４】特許５７４１２８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、光学センサー装置が設けられる機器の低背化に伴い、入射角度が大きくなった場合でも優れた可視光カット特性と特定波長の近赤外線透過特性とを両立可能な光学フィルターを提供することを課題の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
［１］  波長７００〜９３０ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｚ）を含有する樹脂層を含む基材（ｉ）と、該基材（ｉ）の少なくとも一方の面に形成された誘電体多層膜とを有し、かつ、下記（ａ）〜（ｃ）の要件を満たすことを特徴とする光学フィルター：
（ａ）波長３８０〜７００ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１０％以下である；
（ｂ）波長７５０ｎｍ以上の領域に光線透過帯（Ｚａ）を有し、前記光線透過帯（Ｚａ）において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の最大透過率（Ｔｄ）が４５％以上である；
（ｃ）前記光線透過帯（Ｚａ）において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合に透過率が前記透過率（Ｔｄ）の半分となる最も短波長側の波長（Ｘａ）と、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合に透過率が前記透過率（Ｔｄ）の半分となる最も短波長側の波長（Ｘｂ）との差の絶対値｜Ｘａ−Ｘｂ｜が１５ｎｍ以下であり、かつ、前記波長（Ｘａ）が７３０〜９８０ｎｍの範囲にある。
【００１１】
［２］  さらに下記（ｄ）の要件を満たすことを特徴とする項［１］に記載の光学フィルター：
（ｄ）波長７０１〜７５０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１５％以下である。
【００１２】
［３］  前記光線透過帯（Ｚａ）において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が最大となる波長（Ｘｃ）が７８０〜１０００ｎｍの範囲にあることを特徴とする項［１］または［２］に記載の光学フィルター。
【００１３】
［４］  さらに下記（ｅ）の要件を満たすことを特徴とする項［１］〜［３］のいずれか１項に記載の光学フィルター：
（ｅ）前記光線透過帯（Ｚａ）において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の最大透過率が７５％以上であり、かつ、前記光線透過帯（Ｚａ）において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が７０％となる最も短波長側の波長（Ｘｄ）と、波長７２０ｎｍ以上の領域において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が３０％となる最も短波長側の波長（Ｘｅ）との差の絶対値｜Ｘｄ−Ｘｅ｜が３０ｎｍ以下である。
【００１４】
［５］  前記波長（Ｘｃ）において光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率（Ｔｃ）が４５％以上であることを特徴とする項［３］に記載の光学フィルター。
【００１５】
［６］  前記光学フィルターの厚みが１８０μｍ以下であることを特徴とする項［１］〜［５］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【００１６】
［７］  前記化合物（Ｚ）が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、ヘキサフィリン系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする項［１］〜［６］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【００１７】
［８］  前記樹脂層を形成するための樹脂が、環状（ポリ）オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂およびビニル系紫外線硬化型樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする項［１］〜［７］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【００１８】
［９］  前記スクアリリム系化合物が下記式（Ｚ）で表される化合物であることを特徴とする項［７］に記載の光学フィルター。
【００１９】
【化１】
2020177253.tif 000002
式（Ｚ）中、置換ユニットＡおよびＢは、それぞれ独立に下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される置換ユニットのいずれかを表す。
【００２０】
【化２】
2020177253.tif 000003
式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）中、波線で表した部分が中央四員環との結合部位を表し、
Ｘは、独立に酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子または−ＮＲ8−を表し、
Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−ＮＲgＲh基、−ＳＲi基、−ＳＯ2Ｒi基、−ＯＳＯ2Ｒi基または下記Ｌa〜Ｌhのいずれかを表し、ＲgおよびＲhは、それぞれ独立に水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒi基または下記Ｌa〜Ｌeのいずれかを表し、Ｒiは下記Ｌa〜Ｌeのいずれかを表し、
（Ｌa）炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌb）炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌc）炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌd）炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌe）炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌf）炭素数１〜１２のアルコキシ基
（Ｌg）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアシル基
（Ｌh）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基
【００２１】
置換基Ｌは、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基および炭素数３〜１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。
【００２２】
［１０］  前記基材（ｉ）が、前記化合物（Ｚ）を含有する樹脂製基板（ｉｉ）を含むことを特徴とする項［１］〜［９］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【００２３】
［１１］  前記基材（ｉ）が、さらに波長３５０〜６９９ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ）を含有することを特徴とする項［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【００２４】
［１２］  前記樹脂製基板（ｉｉ）が、さらに波長３５０〜６９９ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ）を含有することを特徴とする項［１０］に記載の光学フィルター。
【００２５】
［１３］  前記樹脂製基板（ｉｉ）のガラス転移温度が１３０〜３００℃であることを特徴とする項［１０］または［１２］に記載の光学フィルター。
【００２６】
［１４］  前記樹脂製基板（ｉｉ）のガラス転移温度と、前記樹脂製基板（ｉｉ）に含有されている樹脂のガラス転移温度との差が０〜１０℃であることを特徴とする項［１０］、［１２］または［１３］に記載の光学フィルター。
【００２７】
［１５］  前記基材（ｉ）が、波長３５０〜５００ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ−ａ）、波長５０１〜６００ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ−ｂ）、および波長６０１〜６９９ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ−ｃ）を含有することを特徴とする項［１］〜［１４］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【００２８】
［１６］  前記化合物（Ｓ−ａ）と前記化合物（Ｓ−ｂ）の吸収極大波長の差が５０〜１４０ｎｍであり、且つ、前記化合物（Ｓ−ｂ）と前記化合物（Ｓ−ｃ）の吸収極大波長の差が３０〜１００ｎｍであることを特徴とする項［１５］に記載の光学フィルター。
【００２９】
［１７］  前記光線透過帯（Ｚａ）よりも長波長側の領域に光線阻止帯（Ｚｂ）を有し、前記光線阻止帯（Ｚｂ）において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の最小透過率（Ｔｅ）が１０％以下であることを特徴とする項［１］〜［１６］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【００３０】
［１８］  前記光線透過帯（Ｚａ）において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合に透過率が前記透過率（Ｔｄ）の半分となる最も長波長側の波長（Ｘｇ）と、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合に透過率が前記透過率（Ｔｄ）の半分となる最も長波長側の波長（Ｘｈ）との差の絶対値｜Ｘｇ−Ｘｈ｜が３０ｎｍ以下であることを特徴とする項［１７］に記載の光学フィルター。
【００３１】
［１９］  前記基材（ｉ）が、さらに前記光線透過帯（Ｚａ）よりも長波長側に吸収極大を有する化合物（Ｙ）を含有することを特徴とする項［１７］または［１８］に記載の光学フィルター。
【００３２】
［２０］  前記光線透過帯（Ｚａ）において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が最大となる波長を波長（Ｘｃ）とした場合、
前記化合物（Ｙ）の吸収極大波長が、波長（Ｘｃ）＋１０ｎｍ〜波長（Ｘｃ）＋１００ｎｍであることを特徴とする項［１９］に記載の光学フィルター。
【００３３】
［２１］  光学センサー装置用であることを特徴とする項［１］〜［２０］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
【００３４】
［２２］  項［１］〜［２１］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備する光学センサー装置。
【発明の効果】
【００３５】
本発明の光学フィルターは、優れた可視光カット特性と近赤外線透過特性とを有し、斜め方向から光線が入射した際も光学特性変化が少ないため、光学センサー用途に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の光学フィルターの態様例を説明する図である。
【図２】本発明の光学フィルターを構成する基材の態様例を説明する図である。
【図３】透過スペクトルを、（Ａ）光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率、及び（Ｂ）光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率を測定する態様を説明する図である。
【図４】実施例１で作成した基材の分光透過率を示すグラフである。
【図５】実施例１で作成した光学フィルターの分光透過率を示すグラフである。
【図６】実施例２で作成した光学フィルターの分光透過率を示すグラフである。
【図７】実施例３で作成した基材の分光透過率を示すグラフである。
【図８】実施例３で作成した光学フィルターの分光透過率を示すグラフである。
【図９】実施例４で作成した光学フィルターの分光透過率を示すグラフである。
【図１０】実施例５で作成した光学フィルターの分光透過率を示すグラフである。
【図１１】実施例７で作成した基材の分光透過率を示すグラフである。
【図１２】実施例７で作成した光学フィルターの分光透過率を示すグラフである。
【図１３】実施例１６で作成した基材の分光透過率を示すグラフである。
【図１４】実施例１６で作成した光学フィルターの分光透過率を示すグラフである。
【図１５】実施例１８で作成した光学フィルターの分光透過率を示すグラフである。
【図１６】実施例１９で作成した基材の分光透過率を示すグラフである。
【図１７】実施例１９で作成した光学フィルターの分光透過率を示すグラフである。
【図１８】実施例２０で作成した光学フィルターの分光透過率を示すグラフである。
【図１９】実施例２１で作成した光学フィルターの分光透過率を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、本発明に係る光学フィルターの実施形態を、図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付し又は類似の符号（数字の後にａ、ｂなどを付しただけの符号）を付し、詳細な説明を適宜省略することがある。
【００３８】
本明細書中において「上」とは、支持基板の主面（固体撮像素子を配置する面）を基準とした相対的な位置を指し、支持基板の主面から離れる方向が「上」である。本図面では、紙面に向かって上方が「上」となっている。また、「上」には、物体の上に接する場合（つまり「ｏｎ」の場合）と、物体の上方に位置する場合（つまり「ｏｖｅｒ」の場合）とが含まれる。逆に、「下」とは、支持基板の主面を基準とした相対的な位置を指し、支持基板の主面に近づく方向が「下」である。本図面では、紙面に向かって下方が「下」となっている。
【００３９】
［光学フィルター］
本発明に係る光学フィルターは、波長７００〜９３０ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｚ）を含有する透明樹脂層を含む基材（ｉ）と、該基材（ｉ）の少なくとも一方の面に形成された誘電体多層膜とを有し、かつ、下記（ａ）〜（ｃ）の要件を満たす。
【００４０】
要件（ａ）；波長３８０〜７００ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１０％以下である。
【００４１】
前記透過率の平均値は、好ましくは８％以下、より好ましくは５％以下、さらに好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下である。前記透過率の平均値がこの範囲にあると、近赤外センシングに不要な可視光線を効率よくカットすることができ、ノイズが少ない優れたセンシング性能を達成できる。
【００４２】
要件（ｂ）；波長７５０ｎｍ以上の領域に光線透過帯（Ｚａ）を有し、前記光線透過帯（Ｚａ）において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の最大透過率（Ｔｄ）が４５％以上である。
【００４３】
光線透過帯（Ｚａ）は、波長７５０ｎｍ以上１０５０ｎｍ以下において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が４０％以上の波長帯域であり、かつ、下記条件（１）および（２）を満たす波長帯域のことを指す。
【００４４】
（１）光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が、短波長側から長波長側に向かって４０％未満から４０％以上になる最も短い波長（Ｚａ１）以上の長波長側に存在する。
（２）幅が５ｎｍ以上である。
【００４５】
光線透過帯（Ｚａ）の幅は好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは２５ｎｍ以上、特に好ましくは５０ｎｍ以上である。同一の光学フィルターにおいて複数の光線透過帯（Ｚａ）が存在していてもよく、そのうちの一つは前記波長（Ｚａ１）から直接連続する波長帯域であることが好ましい。光線透過帯（Ｚａ）における平均透過率は、好ましくは４５％以上、より好ましくは５０％以上、さらに好ましくは６０％以上、特に好ましくは７０％以上である。
【００４６】
光線透過帯（Ｚａ）は、前記条件（１）および（２）を満たしていれば、１０５０ｎｍ超の波長帯域でも透過率が４０％以上となっていてもよい。また、光線透過帯（Ｚａ）以上の波長領域で、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が、短波長側から長波長側に向かって４０％以上から４０％未満となる最も短い波長（Ｚａ２）が存在してもよい。後者であれば、光線透過帯（Ｚａ）よりも長波長側の不要な近赤外線を効率的にカットできるため、光学フィルターの特性としてより好ましい。
【００４７】
前記最大透過率（Ｔｄ）は、好ましくは５５％以上、より好ましくは６５％以上、さらに好ましくは７５％以上、特に好ましくは８０％以上である。前記最大透過率（Ｔｄ）がこの範囲にあると、センシングに必要な近赤外線を効率よく取り込むことができ、良好なセンシング性能を達成できる。
【００４８】
前記光線透過帯（Ｚａ）において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が最大となる波長（Ｘｃ）は、好ましくは７８０〜１０００ｎｍ、さらに好ましくは８００〜９８０ｎｍ、特に好ましくは８２０〜９６０ｎｍである。また、前記波長（Ｘｃ）における光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率（Ｔｃ）は、好ましくは４５％以上、より好ましくは５５％以上、さらに好ましくは６０％以上、特に好ましくは６５％以上である。不可視性と近赤外線光源の入手容易性とを考慮すると、センシングに用いる近赤外線の中心波長は７８０〜１０００ｎｍの範囲にあることが好ましい。そして、前記波長（Ｘｃ）および前記透過率（Ｔｃ）が前記範囲にあると、光学フィルターがセンシングに用いる近赤外線をより効率よく透過させることができ、センシング感度を向上できるため好ましい。
【００４９】
要件（ｃ）；前記光線透過帯（Ｚａ）において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合に透過率が前記透過率（Ｔｄ）の半分となる最も短波長側の波長（Ｘａ）と、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合に透過率が前記透過率（Ｔｄ）の半分となる最も短波長側の波長（Ｘｂ）との差の絶対値｜Ｘａ−Ｘｂ｜が１５ｎｍ以下であり、かつ、前記波長（Ｘａ）が７３０〜９８０ｎｍの範囲にある。なお、前記光線透過帯（Ｚａ）が複数ある場合、少なくとも一つの光線透過帯（Ｚａ）において、前記要件（ｃ）を満たせばよい。
【００５０】
前記波長（Ｘａ）は、好ましくは７４０〜９４０ｎｍ、さらに好ましくは７５０〜９３０ｎｍ、特に好ましくは７６０〜９２０ｎｍ である。前記波長（Ｘａ）が前記範囲にあると、センシングに用いる近赤外光の不可視性を確保できるとともに、比較的安価な近赤外線光源（近赤外線ＬＥＤなど）を適用できるため好ましい。
【００５１】
前記絶対値｜Ｘａ−Ｘｂ｜は、好ましくは１２ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以下、さらに好ましくは８ｎｍ以下、特に好ましくは５ｎｍ以下である。前記絶対値｜Ｘａ−Ｘｂ｜が前記範囲にあると、光線が斜め方向から入射した際も光学フィルターの光学特性変化が小さく、ノイズが少ない優れたセンシング性能を達成できる。このような光学フィルターは、特に情報端末装置のような低背化が要求される光学センサー用途で好適に用いることができる。
【００５２】
従来から、要件（ａ）〜（ｃ）のいずれか一つもしくは二つを満たす光学フィルターは存在しているが、全ての要件を満たすものはなく、近年性能向上が著しい情報端末装置向けの光学センサー用途として好適に用いることはできなかった。一方、本発明の光学フィルターは、誘電体多層膜の反射による光線カットと、基材（ｉ）の透明樹脂層に含まれる前記化合物（Ｚ）による光線カットとを組み合わせることで、要件（ａ）〜（ｃ）を全て満たすことが可能となり、特に情報端末装置向けの光学センサー用途で好適に用いることができる。
【００５３】
本発明の光学フィルターは、さらに下記（ｄ）の要件を満たすことが好ましい。
要件（ｄ）；波長７０１〜７５０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１５％以下である。
【００５４】
要件（ｄ）における透過率の平均値は、好ましくは１２％以下、より好ましくは１０％以下、さらに好ましくは５％以下、特に好ましくは１％以下である。不可視性の観点からセンシングに用いる近赤外線の波長が８００ｎｍ以上であることが現在主流となっている。この場合、波長７０１〜７５０ｎｍの光は不要となるため、この波長域における光学フィルターの平均透過率を前記範囲とすることで、センシング時の誤動作を抑制することができる。
【００５５】
本発明の光学フィルターは、さらに下記（ｅ）の要件を満たすことが好ましい。
要件（ｅ）；前記光線透過帯（Ｚａ）において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の最大透過率が７５％以上であり、かつ、前記光線透過帯（Ｚａ）において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が７０％となる最も短波長側の波長（Ｘｄ）と、波長７２０ｎｍ以上の領域において光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が３０％となる最も短波長側の波長（Ｘｅ）との差の絶対値｜Ｘｄ−Ｘｅ｜が３０ｎｍ以下である。なお、前記光線透過帯（Ｚａ）が複数ある場合、少なくとも一つの光線透過帯（Ｚａ）において、前記要件（ｅ）を満たせばよい。
【００５６】
前記絶対値｜Ｘｄ−Ｘｅ｜は、好ましくは２８ｎｍ以下、さらに好ましくは２５ｎｍ以下、特に好ましくは２２ｎｍ以下 である。前記絶対値｜Ｘｄ−Ｘｅ｜が前記範囲にあると、光線をカットする波長領域と近赤外線透過帯との間の波形が急峻な傾きとなり、光線カットと光線透過のコントラストを高めることができ、センシング性能を高めることができるため好ましい。
【００５７】
本発明の光学フィルターは、前記光線透過帯（Ｚａ）よりも長波長側の領域に光線阻止帯（Ｚｂ）を有することが好ましい。
【００５８】
光線阻止帯（Ｚｂ）は、波長８００ｎｍ以上１４００ｎｍ以下において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が１５％以下の波長帯域であり、かつ、下記条件（３）および（４）を満たす波長帯域のことを指す。
【００５９】
（３）光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が、短波長側から長波長側に向かって２０％超から２０％以下になる最も短い波長（Ｚｂ１）以上の長波長側に存在する。
（４）幅が５ｎｍ以上である。
【００６０】
光線阻止帯（Ｚｂ）の幅は好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは２５ｎｍ以上、特に好ましくは５０ｎｍ以上である。同一の光学フィルターにおいて複数の光線阻止帯（Ｚｂ）が存在していてもよく、そのうちの一つは前記波長（Ｚｂ１）から直接連続する波長帯域であることが好ましい。
【００６１】
光線阻止帯（Ｚｂ）における光学フィルターの垂直方向から測定した場合の最小透過率（Ｔｅ）は、好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以下、さらに好ましくは５％以下、特に好ましくは２％以下である。また、光線阻止帯（Ｚｂ）における光学フィルターの垂直方向から測定した場合の平均透過率は、好ましくは８％以下、より好ましくは５％以下、さらに好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下である。光線阻止帯（Ｚｂ）における最大透過率（Ｔｅ）や平均透過率が上記の範囲にあると、不要な近赤外線を効率的にカットすることができ、より精密なセンシングが可能となるため好ましい。
【００６２】
本発明の光学フィルターが光線阻止帯（Ｚｂ）を有する場合、光学フィルターの垂直方向から測定した場合に透過率が前記透過率（Ｔｄ）の半分となる最も長波長側の波長（Ｘｇ）と、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合に透過率が前記透過率（Ｔｄ）の半分となる最も長波長側の波長（Ｘｈ）との差の絶対値｜Ｘｇ−Ｘｈ｜は、好ましくは３０ｎｍ以下、さらに好ましくは２８ｎｍ以下、特に好ましくは２５ｎｍ以下である。前記絶対値｜Ｘｇ−Ｘｈ｜がこのような範囲であると、光線透過帯（Ｚａ）の短波長側と長波長側両方で入射角度による光学特性変化を低減することができ、より精密なセンシングが可能となるため好ましい。
【００６３】
前記絶対値｜Ｘｇ−Ｘｈ｜を低減させるための具体的な手段としては、例えば、
光線阻止帯（Ｚｂ）に反射特性を有する誘電体多層膜の平均屈折率を２．０以上とする方法、
光線阻止帯（Ｚｂ）に反射特性を有する誘電体多層膜の設計をｎＨ・ｄＨ／ｎＬ・ｄＬ≧１．５（ただし、ｎＨは誘電体多層膜に含まれる高屈折率材料の５５０ｎｍにおける屈折率、ｄＨは誘電体多層膜中の高屈折率材料層の合計膜厚、ｎＬは誘電体多層膜に含まれる低屈折率材料の５５０ｎｍにおける屈折率、ｄＬは誘電体多層膜中の低い屈折率材料層の合計膜厚を表し、ｎＨ・ｄＨ／ｎＬ・ｄＬは、より好ましくは２．０以上、さらに好ましくは２．５以上、特に好ましくは３．０以上である）とする方法、
光線透過帯（Ｚａ）よりも長波長側に吸収極大を有する化合物（Ｙ）をさらに添加する方法などが挙げられる。
【００６４】
図１（Ａ）〜（Ｃ）に、本発明の光学フィルターの実施形態の例を示す。
図１（Ａ）に示す光学フィルター１００ａは、基材１０２の少なくとも一方の面に誘電体多層膜１０４を有する。誘電体多層膜１０４は、基材（ｉ）の光学特性に応じて、可視域および一部の近赤外線を反射する特性を有する波長選択反射膜、可視域〜光線透過帯（Ｚａ）の光線反射を抑制する反射防止膜、光線透過帯（Ｚａ）よりも長波長側の近赤外線を反射する近赤外線反射膜から適宜選択することができる。例えば、基材（ｉ）が十分な可視光カット性能を有する場合は、可視域を反射させる誘電体多層膜（鏡のような外観となる）を用いなくても使用上問題ない場合があり、可視域の光線反射を抑制する誘電体多層膜の方が意匠上好まれる場合がある（黒色の外観を保つことができる）。また、図１（Ｂ）は、基材１０２の両面に誘電体多層膜１０４を有する光学フィルター１００ｂを示す。このように、誘電体多層膜は基材の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。片面に設ける場合、製造コストや製造容易性に優れ、両面に設ける場合、高い強度を有し、反りやねじれが生じにくい光学フィルターを得ることができる。光学フィルターを光学センサー装置用途に適用する場合、光学フィルターの反りやねじれが小さい方が好ましいことから、誘電体多層膜を基材の両面に設けることが好ましい。
【００６５】
誘電体多層膜１０４は、垂直方向に対して５°の角度から入射された光のうち、近赤外センシングに用いる波長領域以外の光に対して反射特性を有することが好ましい。例えば、近赤外センシングに８５０ｎｍ付近の光を利用する場合、４００〜７５０ｎｍ付近と９５０〜１１５０ｎｍ付近に反射特性を有することが好ましく、３８０〜７８０ｎｍ付近と９２０〜１２００ｎｍ付近に反射特性を有することが特に好ましい。ただし、光学センサー装置の構成によっては近赤外センシングに用いる波長領域よりも長波長側の光を別の光学フィルター（例えば、Ｓｈｏｒｔｗａｖｅ  Ｐａｓｓ  Ｆｉｌｔｅｒ など）でカットする場合があり、このような構成のセンサーに本発明の光学フィルターを適用する場合、誘電体多層膜１０４は必ずしも近赤外センシングに用いる波長領域よりも長波長側の光に対する反射特性を有する必要はない。
【００６６】
基材１０２の両面に誘電体多層膜を有する形態として、例えば、図１（Ｂ）に示す（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）の形態が挙げられる 。
【００６７】
（Ｂ−１）は、光学フィルター（又は基材）の垂直方向に対して５°の角度から測定した場合に近赤外センシングに用いる波長領域よりも短波長側（以下、波長領域１ともいう）に主に反射特性を有する第１誘電体多層膜１０４ａを基材１０２の片面に設け、基材１０２の他方の面上に光学フィルター（又は基材）の垂直方向に対して５°の角度から測定した場合に近赤外センシングに用いる波長領域よりも長波長側（以下、波長領域２ともいう）に主に反射特性を有する第２誘電体多層膜１０４ｂを有する形態である。
【００６８】
（Ｂ−２）は、前記第１誘電体多層膜１０４ａを基材１０２の両面に設ける形態である。
【００６９】
（Ｂ−３）は、光学フィルター（又は基材）の垂直方向に対して５°の角度から測定した場合に前記波長領域１のうち５５０ｎｍ以下の波長領域に主に反射特性を有する第３誘電体多層膜１０４ｃを基材１０２の片面に設け、基材１０２の他方の面上に光学フィルター（又は基材）の垂直方向に対して５°の角度から測定した場合に前記波長領域１のうち５５０ｎｍ以上の波長領域に主に反射特性を有する第４誘電体多層膜１０４ｄを有する形態である。
【００７０】
また、図１（Ｃ）に示す光学フィルター１００ｃは、光学フィルター（又は基材）の垂直方向に対して５°の角度から測定した場合に可視域および一部の近赤外線、具体的には近赤外センシングに用いる波長領域以外に主に反射特性を有する誘電体多層膜１０４を基材１０２の片面に設け、基材１０２の他方の面上に近赤外センシングに用いる波長領域の反射防止特性を有する反射防止膜１０６を有する形態である。基材が近赤外センシングに用いる波長領域よりも短波長側全域（例えば、３８０〜７５０ｎｍの波長領域）に十分な吸収特性を有する場合は、光学フィルター（又は基材）の垂直方向に対して５°の角度から測定した場合に波長領域２に主に反射特性を有する第２誘電体多層膜１０４ｂを基材１０２の片面に設け、基材１０２の他方の面上に近赤外センシングに用いる波長領域の反射防止特性を有する反射防止膜１０６を有する形態をとることもできる。基材に対して誘電体多層膜と反射防止膜とを組み合わせることで、近赤外センシングに用いる波長領域の透過率を高めつつセンシングに不要な光を反射することができる。
【００７１】
また、図１（Ｄ）に示す光学フィルター１００ｄは、光学フィルター（又は基材）の両面に可視光領域および近赤外センシングに用いる波長領域の反射防止特性を有する反射防止膜１０６ａを有する形態である。基材（ｉ）が可視光領域に十分な吸収特性を有する場合、誘電体多層膜は必ずしも可視領域に反射特性を有する必要はなく、可視光領域および近赤外センシングに用いる波長領域のいずれにも反射防止特性を有する誘電体多層膜を好適に使用することができる。
【００７２】
光学フィルターの厚みは、所望の用途に応じて適宜選択すればよいが、近年の情報端末の薄型化、軽量化等の流れを考慮すると薄いことが好ましい。特に、光学センサー装置用途では良好な光学特性（センシング光透過特性、不要光カット特性）と薄型化を両立することは非常に重要であり、本発明の光学フィルターを適用することで従来品では達成不可能なレベルでこれらの特性を両立することができる。
【００７３】
本発明の光学フィルターの厚みは、好ましくは１８０μｍ以下、より好ましくは１６０μｍ以下、さらに好ましくは１５０μｍ以下、特に好ましくは１２０μｍ以下である。下限は特に制限されないが、光学フィルターの強度や取り扱いのしやすさを考慮すると、例えば２０μｍであることが望ましい。
【００７４】
［基材］
図２（Ａ）〜（Ｃ）は、前記基材（ｉ）の構成例を示す。基材（ｉ）１０２は、波長７００〜９３０ｎｍに吸収極大を有する化合物（Ｚ）を１種以上含有する透明樹脂層を含めばよく、単層であっても多層であってもよい。
【００７５】
以下、化合物（Ｚ）を少なくとも１種と透明樹脂とを含有する樹脂層を「透明樹脂層」ともいい、それ以外の樹脂層を単に「樹脂層」ともいう。
【００７６】
図２（Ａ）は、化合物（Ｚ）を含有する透明樹脂製基板（ｉｉ）１０８からなる単層構造の基材（ｉ）１０２ａを示す。この透明樹脂製基板（ｉｉ）が前述の透明樹脂層に相当する。図２（Ｂ）は、多層構造の基材（ｉ）１０２ｂを示し、その態様としては、例えば、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体１１０上に化合物（Ｚ）を含有する硬化性樹脂または熱可塑性樹脂からなるオーバーコート層などの樹脂層１１２が積層された構成などが挙げられる。なお、樹脂層１１２に相当する層は、支持体１１０の両面に設けられていてもよい。図２（Ｃ）は、化合物（Ｚ）を含有する透明樹脂製基板（ｉｉ）１０８上に、化合物（Ｚ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層１１２が積層された基材（ｉ）１０２ｃを示す。
【００７７】
ガラス支持体を有する場合、基材（ｉ）の強度と近赤外波長領域における透過率との観点から、ガラス支持体は吸収剤を含まない無色透明のガラス基板であることが好ましい。吸収剤として銅を含むフツリン酸塩ガラスなどでは基材強度が低下する傾向があるとともに、近赤外波長領域の透過率が低下し近赤外センシングを感度良く実施できない場合がある。
【００７８】
樹脂製支持体を有する場合、光学特性調整の容易性、さらに、樹脂製支持体の傷消し効果を達成できることや基材の耐傷性向上等の点から、樹脂製支持体の両面に硬化性樹脂または熱可塑性樹脂からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層され、当該樹脂層の少なくとも一方が化合物（Ｚ）を含む形態であることが特に好ましい。
【００７９】
前記基材（ｉ）としては、化合物（Ｚ）を含有する透明樹脂製基板（ｉｉ）を含むことが特に好ましい。このような基材（ｉ）を用いると薄型化と割れにくさを両立させることができ、光学センサー装置用途で好適に使用することができる。
【００８０】
前記基材（ｉ）は、下記条件（ｉ−１）〜（ｉ−３）の少なくとも一つを満たすことが望ましい。
【００８１】
（ｉ−１）波長７００〜９３０ｎｍの領域において、前記基材（ｉ）の垂直方向から測定した最も低い透過率（Ｔａ）は、好ましくは３０％以下、より好ましくは２０％以下、さらに好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％以下である。
【００８２】
（ｉ−２）波長７００ｎｍ以上の領域において、前記基材（ｉ）の垂直方向から測定した透過率が５０％未満から５０％以上となる最も短い波長（Ｘｆ） は、好ましくは７５０〜９７０ｎｍ、より好ましくは７７０〜９５０ｎｍ、さらに好ましくは７８０〜９４０ｎｍ、特に好ましくは７９０〜９３０ｎｍである。
【００８３】
（ｉ−３）波長７８０〜１０００ｎｍの領域において、前記基材（ｉ）の垂直方向から測定した最も高い透過率（Ｔｂ）は好ましくは６０％以上、さらに好ましくは７０％以上、特に好ましくは８０％以上である。
【００８４】
前記基材（ｉ）の前記透過率（Ｔａ）、前記波長（Ｘｆ）および前記透過率（Ｔｂ）が前記のような範囲にあれば、近赤外センシングに用いる波長領域で十分な透過率を確保した上で付近の波長領域の不要な近赤外線を選択的に効率よくカットすることができ、センシング用近赤外線Ｓ／Ｎ比を向上できるとともに、基材（ｉ）上に誘電体多層膜を製膜した際、光線透過帯（Ｚａ）における短波長側の光学特性の入射角依存性を低減することができる。
【００８５】
前記基材（ｉ）の厚みは、基材強度と薄型化を両立できるように選択することが望ましく、好ましくは１０〜１８０μｍ、より好ましくは１０〜１６０μｍ、さらに好ましくは１５〜１５０μｍ、特に好ましくは２０〜１２０μｍである。前記基材（ｉ）の厚みが前記範囲にあると、該基材（ｉ）を用いた光学フィルターを薄型化および軽量化することができ、特にモバイル機器に搭載する光学センサー装置等の様々な用途に好適に用いることができる。
【００８６】
＜化合物（Ｚ）＞
化合物（Ｚ）は、波長７００〜９３０ｎｍの領域に吸収極大を有すれば特に制限されないが、溶剤可溶型の色素化合物であることが好ましく、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ピロロピロール系化合物、クロコニウム系化合物、ヘキサフィリン系化合物、金属ジチオラート系化合物、および環拡張ＢＯＤＩＰＹ（ボロンジピロメテン）系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることがより好ましく、スクアリリウム系化合物、シアニン系化合物、クロコニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、およびピロロピロール系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることがさらに好ましく、下記式（Ｚ）で表されるスクアリリウム系化合物であることが特に好ましい。このような化合物（Ｚ）を用いることにより、吸収極大波長付近での効率的な光線カット特性、急峻なスペクトル形状を同時に達成することができる。
【００８７】
【化３】
2020177253.tif 000004
式（Ｚ）中、置換ユニットＡおよびＢは、それぞれ独立に下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される置換ユニットのいずれかを表す。
【００８８】
【化４】
2020177253.tif 000005
式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）中、波線で表した部分が中央四員環との結合部位を表し、
Ｘは、独立に酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子または−ＮＲ8−を表し、
Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−ＮＲgＲh基、−ＳＲi基、−ＳＯ2Ｒi基、−ＯＳＯ2Ｒi基または下記Ｌa〜Ｌhのいずれかを表し、ＲgおよびＲhは、それぞれ独立に水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒi基または下記Ｌa〜Ｌeのいずれかを表し、Ｒiは下記Ｌa〜Ｌeのいずれかを表し、
（Ｌa）炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌb）炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌc）炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌd）炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌe）炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌf）炭素数１〜１２のアルコキシ基
（Ｌg）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアシル基、
（Ｌh）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基
【００８９】
置換基Ｌは、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基および炭素数３〜１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。
【００９０】
前記Ｒ1としては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ニトロ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、水酸基である。
【００９１】
前記Ｒ2〜Ｒ7としては、好ましくは、それぞれ独立に水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、Ｎ−メチルアセチルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基、ｎ−ブチルスルホニル基、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、水酸基、ジメチルアミノ基、メトキシ基、エトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基、メチルチオ基、エチルチオ基である。
【００９２】
前記Ｒ8としては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、フェニル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−デシル基である。
【００９３】
前記Ｘとしては、好ましくは酸素原子、硫黄原子、−ＮＲ8−であり、特に好ましくは式（Ｉ）および（ＩＩＩ）の置換ユニットにおいては酸素原子、硫黄原子であり、式（ＩＩ）の置換ユニットにおいては−ＮＲ8−である。
【００９４】
スクアリリウム系化合物は、下記式（Ｚ１）のような記載方法に加え、下記式（Ｚ２）のように共鳴構造を取るような記載方法でも構造を表すことができる。つまり、下記式（Ｚ１）と下記式（Ｚ２）との違いは構造の記載方法のみであり、どちらも同一の化合物を表す。本発明中では特に断りのない限り、下記式（Ｚ１）のような記載方法にてスクアリリウム系化合物の構造を表すものとする。
【００９５】
【化５】
2020177253.tif 000006
さらに、例えば、下記式（Ｚ１）で表される化合物と下記式（Ｚ３）で表される化合物は、同一の化合物であると見なすことができる。
【００９６】
【化６】
2020177253.tif 000007
式（Ｚ）で表される化合物において、中央の四員環に結合している左右のユニットは、それぞれ式（Ｉ）、式（ＩＩ）または式（ＩＩＩ）で表されるものであれば同一であっても異なっていてもよいが、ユニット中の置換基も含めて同一であった方が合成上容易であるため好ましい。つまり、式（Ｚ）で表される化合物のうち、下記式（ＩＶ）〜（ＶＩ）で表されるものが好ましい。
【００９７】
【化７】
2020177253.tif 000008
式（Ｚ）で表される化合物の具体例としては、例えば、下記表１および表２に記載の化合物（ｚ−１）〜（ｚ−６８）、ならびに、下記化学式で表わされる化合物（ｚ−６９）および化合物（ｚ−７０）を挙げることができる。
【００９８】
【表１】
2020177253.tif 000009
【００９９】
【表２】
2020177253.tif 000010
【０１００】
【化８】
2020177253.tif 000011
上記式（Ｚ）で表されるスクアリリウム系化合物以外のスクアリリウム系化合物、シアニン系化合物、ピロロピロール系化合物としては、波長７００〜９００ｎｍに吸収極大を有すれば特に限定されないが、例えば、下記のような化合物類（ｚ−７１）〜（ｚ−７４）を挙げることができる。
【０１０１】
【化９】
2020177253.tif 000012
【０１０２】
【化１０】
2020177253.tif 000013
化合物（Ｚ）の吸収極大波長は７００〜９３０ｎｍであり、好ましくは７２０〜９２０ｎｍ、さらに好ましくは７３０ｎｍ以上９００ｎｍ以下、特に好ましくは７５０ｎｍ以上８９０ｎｍ以下 である。化合物（Ｚ）の吸収極大波長がこのような範囲にあると、近赤外センシングに有用な波長の光を透過させつつ不要な近赤外線をカットすることができ、近赤外透過帯の入射角依存性を低減させることができる。
【０１０３】
化合物（Ｚ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、例えば、特開平１−２２８９６０号公報、特開２００１−４０２３４号公報、特許第３０９４０３７号公報、特許第３１９６３８３号公報等に記載されている方法などを参照して合成することができる。
【０１０４】
化合物（Ｚ）の含有量は、前記基材（i）として、例えば、化合物（Ｚ）を含有する透明樹脂製基板（ii）からなる基材や、透明樹脂製基板（ii）上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合には、透明樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜２．０重量部、より好ましくは０．０２〜１．５重量部、特に好ましくは０．０３〜１．０重量部であり、前記基材（i）として、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体に、化合物（Ｚ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材を用いる場合には、化合物（Ｚ）を含む透明樹脂層を形成する樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．１〜５．０重量部、より好ましくは０．２〜４．０重量部、特に好ましくは０．３〜３．０重量部である。化合物（Ｚ）の含有量が前記範囲内にあると、良好な近赤外線吸収特性を達成することができる。
【０１０５】
＜化合物（Ｓ）＞
前記基材（i）は、化合物（Ｚ）に加えて、波長３５０〜６９９ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ）を含有することが好ましく、化合物（Ｓ）を含有する層は化合物（Ｚ）を含有する層と同一であっても異なっていてもよい。化合物（Ｓ）と化合物（Ｚ）が同一の層に含まれる場合、例えば、前記透明樹脂製基板（ii）が化合物（Ｓ）を含有する構成やガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体に、化合物（Ｓ）と化合物（Ｚ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された構成を挙げることができ、化合物（Ｓ）と化合物（Ｚ）が異なる層に含まれる場合、例えば、前記透明樹脂製基板（ii）に化合物（Ｓ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された構成、化合物（Ｓ）を含有する透明樹脂製基板（iii）に化合物（Ｓ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された構成、および前記透明樹脂製基板（ii）と前記透明樹脂製基板（iii）を貼り合せた構成を挙げることができる。光学特性の調整しやすさや製造コストの観点より、前記透明樹脂製基板（ii）が化合物（Ｓ）を含有する構成が特に好ましい。
【０１０６】
化合物（Ｓ）は、波長３５０〜６９９ｎｍに吸収極大を有すれば特に限定されないが、光学フィルターの耐熱性の観点から、波長３５０〜５００ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ−ａ）、波長５０１〜６００ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ−ｂ）、および波長６０１〜６９９ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ−ｃ）をそれぞれ１種以上含むことが好ましく、前記化合物（Ｓ−ａ）と前記化合物（Ｓ−ｂ）の吸収極大波長の差が５０〜１４０ｎｍであり、且つ、前記化合物（Ｓ−ｂ）と前記化合物（Ｓ−ｃ）の吸収極大波長の差が３０〜１００ｎｍであることが特に好ましい。化合物（Ｓ）が樹脂層に含まれる場合、化合物（Ｓ）は可視領域の吸収剤として作用するとともに、樹脂層の可塑剤としても作用して樹脂層のガラス転移温度を低下させ、その結果、光学フィルターの耐熱性を低下させることがある。一方、化合物（Ｓ）が、上記の条件を満たす化合物（Ｓ−ａ）、化合物（Ｓ−ｂ）および化合物（Ｓ−ｃ）を含むと、少ない添加量で不要な可視光線を効率的にカットすることができ、樹脂層のガラス転移温度の低下を最小限で抑えることができる。
【０１０７】
化合物（Ｓ）は、溶剤可溶型の色素化合物であることが好ましく、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、メチン系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、ポルフィリン系化合物、トリアリールメタン系化合物、サブフタロシアニン系化合物、ペリレン系化合物、セミスクアリリウム系化合物、スチリル系化合物、フェナジン系化合物、ピリドメテン−ホウ素錯体系化合物、ピラジン−ホウ素錯体系化合物、ピリドンアゾ系化合物、キサンテン系化合物、ＢＯＤＩＰＹ（ボロンジピロメテン）系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることがより好ましく、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、メチン系化合物、トリアリールメタン系化合物、キサンテン系化合物、ピリドンアゾ系化合物 からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが特に好ましい。
【０１０８】
化合物（Ｓ）の市販品としては、一般的な可視吸収染料や可視吸収顔料を挙げることができるが、可視吸収染料の方が可視光カット効率に優れる傾向にあり好ましい。化合物（Ｓ）の市販品は、波長３５０〜６９９ｎｍの領域に吸収極大を持てば特に限定されないが、例えば、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１４、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１６、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー２１、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー６１、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー８１、Ｃ．Ｉ．ディスパースオレンジ３、Ｃ．Ｉ．ディスパースオレンジ１１、Ｃ．Ｉ．ディスパースオレンジ３５、Ｃ．Ｉ．ディスパースオレンジ３７、Ｃ．Ｉ．ディスパースオレンジ４７、Ｃ．Ｉ．ディスパースオレンジ６１、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド２、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド８、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１２、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１９、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド２３、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド２４、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド２７、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド３１、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド８３、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド８４、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１２１、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１３２、Ｃ．Ｉ．ソルベントバイオレット２１、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック３、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック４、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック２１、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック２３、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック２７、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック２８、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック３１、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ７、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ９、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ３７、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ４０、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ４５、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド５２、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１１１、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１５０、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１５１、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１６８、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１９１、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド２０７、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー７、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー３５、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー３６、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー６３、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー７８、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー８３、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー８７、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー９４、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー９７、Ｃ．Ｉ．ソルベントグリーン３、Ｃ．Ｉ．ソルベントグリーン２０、Ｃ．Ｉ．ソルベントグリーン２８、Ｃ．Ｉ．ソルベントバイオレット１３、Ｃ．Ｉ．ソルベントバイオレット１４、Ｃ．Ｉ．ソルベントバイオレット３６、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ６０、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ７８、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ９０、Ｃ．Ｉ．ソルベントバイオレット２９、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１３５、Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１６２、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ１７９、Ｃ．Ｉ．ソルベントグリーン５、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ５５、Ｃ．Ｉ．バットレッド１５、Ｃ．Ｉ．バットオレンジ７、Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ８０、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー９３、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー３３、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー９８、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１５７、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック５、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック７などが挙げられる。
【０１０９】
化合物（Ｓ）の含有量は、前記基材（i）として、例えば、化合物（Ｚ）と化合物（Ｓ）を含有する透明樹脂製基板（ii）もしくは化合物（Ｓ）を含有する透明樹脂製基板（iii）からなる基材や、透明樹脂製基板（iii）上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合には、透明樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．１０〜５．０重量部、より好ましくは０．２５〜３．５重量部、特に好ましくは０．５０〜２．０重量部であり、前記基材（i）として、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体に、化合物（Ｓ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材を用いる場合には、化合物（Ｓ）を含む透明樹脂層を形成する樹脂１００重量部に対して、好ましくは１．０〜３０．０重量部、より好ましくは２．０〜２５．０重量部、特に好ましくは３．０〜２０．０重量部である。化合物（Ｓ）の含有量が前記範囲内にあると、良好な近赤外線吸収特性を達成することができる。特に、前記基材（i）が化合物（Ｚ）と化合物（Ｓ）を含有する透明樹脂製基板（ii）を含む場合、化合物（Ｓ）の含有量が前記範囲内にあると、透明樹脂製基板（ii）のガラス転移温度低下を抑えることができ、耐熱性に優れた光学フィルターとすることができる。
【０１１０】
＜化合物（Ｙ）＞
化合物（Ｙ）は、前記光線透過帯（Ｚａ）よりも長波長側に吸収極大を有していれば特に制限されないが、溶剤可溶型の色素化合物であることが好ましく、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ピロロピロール系化合物、クロコニウム系化合物、ヘキサフィリン系化合物、および環拡張ＢＯＤＩＰＹ（ボロンジピロメテン）系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることがより好ましく、スクアリリウム系化合物、シアニン系化合物、クロコニウム系化合物、およびピロロピロール系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが特に好ましい。化合物（Ｙ）の吸収極大波長は前記波長（Ｘｃ）＋１０ｎｍ〜波長（Ｘｃ）＋１００ｎｍであることが好ましく、波長（Ｘｃ）＋１５ｎｍ〜波長（Ｘｃ）＋９０ｎｍであることがより好ましく、波長（Ｘｃ）＋２０ｎｍ〜波長（Ｘｃ）＋８０ｎｍであることが特に好ましい。化合物（Ｙ）がこのような波長に吸収極大を有すると、光線透過帯（Ｚａ）の長波長側における入射角依存性を低減でき、より精密なセンシング性能を達成できるため好ましい。
【０１１１】
＜透明樹脂＞
樹脂製支持体やガラス支持体などに積層する透明樹脂層および前記透明樹脂製基板（ii）は、透明樹脂を用いて形成することができる。このような透明樹脂としては、１種単独でもよいし、２種以上でもよい。
【０１１２】
透明樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保し、かつ、１００℃以上の蒸着温度で行う高温蒸着により誘電体多層膜を形成しうるフィルムとするため、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０〜３８０℃、より好ましくは１１５〜３７０℃、さらに好ましくは１２０〜３６０℃、特に好ましくは１３０〜３００℃である樹脂が挙げられる。前記樹脂のガラス転移温度が上記範囲にあると、樹脂製基板とした際に誘電体多層膜をより高温で蒸着形成することができ、クラック耐性や耐候性に優れた光学フィルターを得ることができる。
【０１１３】
前記透明樹脂が化合物（Ｓ）を含有する透明樹脂製基板（ii）を構成する樹脂として使用される場合、透明樹脂製基板（ii）のガラス転移温度と透明樹脂製基板（ii）に含有される樹脂のガラス転移温度との差は、好ましくは０〜１０℃、より好ましくは０〜８℃、さらに好ましくは０〜５℃である。前述のように、化合物（Ｓ）は樹脂層の可塑剤として作用する場合が有るが、化合物（Ｓ）の種類や添加量を適切に選択することにより透明樹脂製基板（ii）のガラス転移温度低下を低減することができ、耐熱性やクラック耐性に優れた光学フィルターが得られる。
【０１１４】
透明樹脂としては、当該樹脂からなる厚さ０．１ｍｍの樹脂板を形成した場合に、この樹脂板の全光線透過率（ＪＩＳＫ７１０５）が、好ましくは７５〜９５％、さらに好ましくは７８〜９５％、特に好ましくは８０〜９５％となる樹脂を用いることができる。全光線透過率がこのような範囲となる樹脂を用いれば、得られる基板は光学フィルムとして良好な透明性を示す。
【０１１５】
透明樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常１５，０００〜３５０，０００、好ましくは３０，０００〜２５０，０００であり、数平均分子量（Ｍｎ）は、通常１０，０００〜１５０，０００、好ましくは２０，０００〜１００，０００である。
【０１１６】
透明樹脂としては、例えば、環状（ポリ）オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド（アラミド）系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂およびビニル系紫外線硬化型樹脂を挙げることができる。
【０１１７】
≪環状（ポリ）オレフィン系樹脂≫
環状（ポリ）オレフィン系樹脂としては、下記式（Ｘ0）で表される単量体および下記式（Ｙ0）で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも１種の単量体から得られる樹脂、および当該樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。
【０１１８】
【化１１】
2020177253.tif 000014
式（Ｘ0）中、Ｒx1〜Ｒx4はそれぞれ独立に、下記（i'）〜（ix'）より選ばれる原子または基を表し、ｋx、ｍxおよびｐxはそれぞれ独立に、０または正の整数を表す。
（i'）水素原子
（ii'）ハロゲン原子
（iii'）トリアルキルシリル基
（iv'）酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（v'）置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（vi'）極性基（但し、（iv'）を除く。）
（vii'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基（但し、前記結合に関与しないＲx1〜Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
（viii'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲx1〜Ｒx4は、それぞれ独立に前記（i'）〜（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
（ix'）Ｒx2とＲx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲx1とＲx4は、それぞれ独立に前記（i'）〜（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
【０１１９】
【化１２】
2020177253.tif 000015
式（Ｙ0）中、Ｒy1およびＲy2はそれぞれ独立に、前記（i'）〜（vi'）より選ばれる原子または基を表すか、Ｒy1とＲy2とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表し、ｋyおよびｐyはそれぞれ独立に、０または正の整数を表す。
【０１２０】
≪芳香族ポリエーテル系樹脂≫
芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式（１）で表される構造単位および下記式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。
【０１２１】
【化１３】
2020177253.tif 000016
式（１）中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、ａ〜ｄはそれぞれ独立に、０〜４の整数を示す。
【０１２２】
【化１４】
2020177253.tif 000017
式（２）中、Ｒ1〜Ｒ4およびａ〜ｄはそれぞれ独立に、前記式（１）中のＲ1〜Ｒ4およびａ〜ｄと同義であり、Ｙは、単結合、−ＳＯ2−または＞Ｃ＝Ｏを示し、Ｒ7およびＲ8はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、０〜４の整数を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０のとき、Ｒ7はシアノ基ではない。
【０１２３】
また、前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、さらに下記式（３）で表される構造単位および下記式（４）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。
【０１２４】
【化１５】
2020177253.tif 000018
式（３）中、Ｒ5およびＲ6はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、＞Ｃ＝Ｏ、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−または炭素数１〜１２の２価の有機基を示し、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、０〜４の整数を示し、ｎは０または１を示す。
【０１２５】
【化１６】
2020177253.tif 000019
式（４）中、Ｒ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、前記式（２）中のＲ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、前記式（３）中のＲ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。
【０１２６】
≪ポリイミド系樹脂≫
ポリイミド系樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば、特開２００６−１９９９４５号公報や特開２００８−１６３１０７号公報に記載されている方法で合成することができる。
【０１２７】
≪フルオレンポリカーボネート系樹脂≫
フルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよく、例えば、特開２００８−１６３１９４号公報に記載されている方法で合成することができる。
【０１２８】
≪フルオレンポリエステル系樹脂≫
フルオレンポリエステル系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば、特開２０１０−２８５５０５号公報や特開２０１１−１９７４５０号公報に記載されている方法で合成することができる。
【０１２９】
≪フッ素化芳香族ポリマー系樹脂≫
フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に制限されないが、フッ素原子を少なくとも１つ有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも１つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであることが好ましく、例えば特開２００８−１８１１２１号公報に記載されている方法で合成することができる。
【０１３０】
≪アクリル系紫外線硬化型樹脂≫
アクリル系紫外線硬化型樹脂としては、特に制限されないが、分子内に一つ以上のアクリル基もしくはメタクリル基を有する化合物と、紫外線によって分解して活性ラジカルを発生させる化合物を含有する樹脂組成物から合成されるものを挙げることができる。アクリル系紫外線硬化型樹脂は、前記基材（i）として、ガラス支持体上やベースとなる樹脂製支持体上に化合物（Ｚ）および硬化性樹脂を含む透明樹脂層が積層された基材や、化合物（Ｚ）を含有する透明樹脂製基板（ii）上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合、該硬化性樹脂として特に好適に使用することができる。
【０１３１】
≪市販品≫
透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状（ポリ）オレフィン系樹脂の市販品としては、ＪＳＲ（株）製アートン、日本ゼオン（株）製ゼオノア、三井化学（株）製ＡＰＥＬ、ポリプラスチックス（株）製ＴＯＰＡＳなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学（株）製スミカエクセルＰＥＳなどを挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ネオプリムＬなどを挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人（株）製ピュアエースなどを挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ユピゼータＥＰ−５０００などを挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル（株）製ＯＫＰ４ＨＴなどを挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、（株）日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂の市販品としては、新日鐵化学（株）製シルプラスなどを挙げることができる。
【０１３２】
＜その他成分＞
前記基材（i）は、本発明の効果を損なわない範囲において、その他成分として、さらに酸化防止剤、近紫外線吸収剤、蛍光消光剤、金属錯体系化合物等の添加剤を含有してもよい。前記その他成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１３３】
近紫外線吸収剤としては、例えばアゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物などが挙げられる。
【０１３４】
酸化防止剤としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２'−ジオキシ−３，３'−ジ−ｔ−ブチル−５，５'−ジメチルジフェニルメタン、およびテトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトなどが挙げられる。
【０１３５】
なお、これら添加剤は、基材を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を合成する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、樹脂１００重量部に対して、通常０．０１〜５．０重量部、好ましくは０．０５〜２．０重量部である。
【０１３６】
＜基材の製造方法＞
基材が、透明樹脂製基板を含む基材である場合、該透明樹脂製基板は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができ、さらに、必要により、成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングすることで、オーバーコート層が積層された基材を製造することができる。
【０１３７】
基材が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体上に化合物（Ｚ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材である場合、例えば、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体に化合物（Ｚ）を含む樹脂溶液を溶融成形またはキャスト成形することで、好ましくはスピンコート、スリットコート、インクジェットなどの方法にて塗工した後に溶媒を乾燥除去し、必要に応じてさらに光照射や加熱を行うことで、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体上に透明樹脂層が形成された基材を製造することができる。
【０１３８】
≪溶融成形≫
溶融成形としては、具体的には、樹脂と化合物（Ｚ）とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法、樹脂と化合物（Ｚ）とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法、または、化合物（Ｚ）、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などが挙げられる。溶融成形方法としては、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。
【０１３９】
≪キャスト成形≫
キャスト成形としては、化合物（Ｚ）、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶剤を除去する方法、または化合物（Ｚ）、光硬化性樹脂及び／又は熱硬化性樹脂とを含む硬化性組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶媒を除去した後、紫外線照射や加熱などの適切な手法により硬化させる方法などにより製造することもできる。
【０１４０】
基材が、化合物（Ｚ）を含有する透明樹脂製基板からなる基材である場合には、該基材は、キャスト成形後、成形用支持体から塗膜を剥離することにより得ることができ、また、前記基材が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体等の支持体などの上に化合物（Ｚ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材である場合には、該基材は、キャスト成形後、塗膜を剥離しないことで得ることができる。
【０１４１】
［誘電体多層膜］
誘電体多層膜としては、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層したものが挙げられる。高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．７〜２．５の材料が選択される。このような材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛または酸化インジウム等を主成分とし、酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウム等を少量（例えば、主成分に対して０〜１０重量％）含有させたものが挙げられる。
【０１４２】
低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．２〜１．６の材料が選択される。このような材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。
【０１４３】
高屈折率材料層と低屈折率材料層とを積層する方法については、これらの材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、基材上に、直接、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法またはイオンプレーティング法等により、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。
【０１４４】
高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さは、通常、１〜５００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは２〜４５０ｎｍ、特に好ましくは５〜４００ｎｍである 。各層の厚さがこの範囲であると、製膜時の制御が容易である他、反射・屈折の光学的特性の関係から、特定波長の遮断・透過を容易にコントロールできる傾向にある。
【０１４５】
誘電体多層膜における高屈折率材料層と低屈折率材料層との合計の積層数は、光学フィルター全体として８〜１２０層であることが好ましく、１２〜１１０層であることがより好ましく、１６〜１００層であることが特に好ましい 。各層の厚み、光学フィルター全体としての誘電体多層膜の厚みや合計の積層数が前記範囲にあると、十分な製造マージンを確保できる上に、光学フィルターの反りや誘電体多層膜のクラックを低減することができる。
【０１４６】
ここで、誘電体多層膜の設計を最適化するには、例えば、光学薄膜設計ソフト（例えば、ＥｓｓｅｎｔｉａｌＭａｃｌｅｏｄ、ＴｈｉｎＦｉｌｍＣｅｎｔｅｒ社製）を用い、可視領域の光線カット特性と目的とする近赤外線透過帯（近赤外センシングに用いる波長領域）の光線透過特性を両立できるようにパラメーターを設定すればよい。例えば、近赤外センシングに８５０ｎｍ付近の近赤外線を用いる場合、基材（ｉ）の光学特性にもよるが、波長３５０〜７５０ｎｍの垂直方向から測定した場合の目標透過率を０％、ＴａｒｇｅｔＴｏｌｅｒａｎｃｅの値を１、波長８２０〜８８０ｎｍの垂直方向から測定した場合の目標透過率を１００％、ＴａｒｇｅｔＴｏｌｅｒａｎｃｅの値を０．５、波長９５０〜１２００ｎｍの垂直方向から測定した場合の目標透過率を１００％、ＴａｒｇｅｔＴｏｌｅｒａｎｃｅの値を０．８として、近赤外センシングに用いる波長帯以外に反射特性を持つよう設計したパラメーター設定方法や、波長４００〜８８０ｎｍの垂直方向から測定した場合の目標透過率を１００％、ＴａｒｇｅｔＴｏｌｅｒａｎｃｅの値を０．５、波長９５０〜１２００ｎｍの垂直方向から測定した場合の目標透過率を１００％として、可視領域〜近赤外センシングに用いる波長帯に反射防止効果を有し、近赤外センシングに用いる波長帯より長波長側に反射特性を持つよう設計したパラメーター設定方法などが挙げられる。これらのパラメーターは基材（ｉ）の光学特性に合わせて波長範囲をさらに細かく区切り、設計を最適化する光線入射角度やＴａｒｇｅｔＴｏｌｅｒａｎｃｅの値を変えることもできる。また、基材（ｉ）の両面に誘電体多層膜を有する構成の場合、両面に同じ設計の誘電体多層膜を設けることも、両面に設計が異なる誘電体多層膜を設けることもできる。両面に設計が異なる誘電体多層膜を設ける場合では、例えば、基材（ｉ）の片面に波長３５０〜７５０ｎｍ付近をカットする誘電体多層膜を設け、他方の面に波長９５０〜１２００ｎｍ付近をカットする誘電体多層膜を設ける設計方法や、片面に波長４００〜８８０ｎｍに反射防止効果を有する誘電体多層膜を設け、他方の面に波長９５０〜１２００ｎｍ付近をカットする誘電体多層膜を設ける設計方法などを挙げることができる。
【０１４７】
［その他の機能膜］
本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、基材と誘電体多層膜との間、基材の誘電体多層膜が設けられた面と反対側の面、または誘電体多層膜の基材が設けられた面と反対側の面に、基材や誘電体多層膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
【０１４８】
本発明の光学フィルターは、前述の機能膜からなる層を１層含んでもよく、２層以上含んでもよい。本発明の光学フィルターがこのような機能膜からなる層を２層以上含む場合には、同様の層を２層以上含んでもよいし、異なる層を２層以上含んでもよい。
【０１４９】
このような機能膜を積層する方法としては、特に制限されないが、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤などを基材または誘電体多層膜に、前記と同様に溶融成形またはキャスト成形する方法等を挙げることができる。
【０１５０】
また、コーティング剤などを含む硬化性組成物をバーコーター等で基材または誘電体多層膜上に塗布した後、紫外線照射等により硬化することによっても製造することができる。
【０１５１】
コーティング剤としては、紫外線（ＵＶ）／電子線（ＥＢ）硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、具体的には、ビニル化合物類や、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。これらのコーティング剤を含む硬化性組成物としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系硬化性組成物などが挙げられる。
【０１５２】
また、硬化性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１５３】
硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を１００重量％とした場合、好ましくは０．１〜１０重量％、より好ましくは０．５〜１０重量％、さらに好ましくは１〜５重量％である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物の硬化特性および取り扱い性に優れ、所望の硬度を有する反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を得ることができる。
【０１５４】
さらに、硬化性組成物には溶剤として有機溶剤を加えてもよく、有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。これら溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１５５】
機能膜の厚さは、好ましくは０．１〜２０μｍ、さらに好ましくは０．５〜１０μｍ、特に好ましくは０．７〜５μｍである。
【０１５６】
また、基材と機能膜および／または誘電体多層膜との密着性や、機能膜と誘電体多層膜との密着性を上げる目的で、基材、機能膜または誘電体多層膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。
【０１５７】
［光学フィルターの用途］
本発明の光学フィルターは、優れた可視光カット性能と近赤外センシングに用いる波長領域における光線透過特性を有し、さらに、入射角度による光学特性変化が小さいといった特徴を有する。したがって、光学センサー装置用として有用である。特に、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話、ウェアラブルデバイス、自動車、テレビ、ゲーム機、ドローン等に搭載される光学センサー用として有用である。
【実施例】
【０１５８】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、「部」は、特に断りのない限り「重量部」を意味する。また、各物性値の測定方法および物性の評価方法は以下のとおりである。
【０１５９】
＜分子量＞
樹脂の分子量は、各樹脂の溶剤への溶解性等を考慮し、下記の（ａ）または（ｂ）の方法にて測定を行った。
（ａ）ウオターズ（ＷＡＴＥＲＳ）社製のゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（１５０Ｃ型、カラム：東ソー社製Ｈタイプカラム、展開溶剤：ｏ−ジクロロベンゼン）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
（ｂ）東ソー社製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ−８２２０型、カラム：ＴＳＫｇｅｌα‐Ｍ、展開溶剤：ＴＨＦ）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
【０１６０】
なお、後述する樹脂合成例３で合成した樹脂については、上記方法による分子量の測定ではなく、下記方法（ｃ）による対数粘度の測定を行った。
【０１６１】
（ｃ）ポリイミド樹脂溶液の一部を無水メタノールに投入してポリイミド樹脂を析出させ、ろ過して未反応単量体から分離した。８０℃で１２時間真空乾燥して得られたポリイミド０．１ｇをＮ−メチル−２−ピロリドン２０ｍＬに溶解し、キャノン−フェンスケ粘度計を使用して３０℃における対数粘度（μ）を下記式により求めた。
【０１６２】
μ＝｛ｌｎ（ｔs／ｔ0）｝／Ｃ
ｔ0：溶媒の流下時間
ｔs：希薄高分子溶液の流下時間
Ｃ：０．５ｇ／ｄＬ
【０１６３】
＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。
【０１６４】
＜分光透過率＞
光学フィルターの各波長域における透過率は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ−４１００）を用いて測定した。
【０１６５】
ここで、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率では、図３（Ａ）のように光学フィルター２に対して垂直に透過した光１を分光光度計３で測定し、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率では、図３（Ｂ）のように光学フィルター２の垂直方向に対して３０°の角度で透過した光１'を分光光度計３で測定した。
【０１６６】
［合成例］
下記実施例で用いた色素化合物 は、一般的に知られている方法で合成した。一般的合成方法としては、例えば、特許第３３６６６９７号公報、特許第２８４６０９１号公報、特許第２８６４４７５号公報、特許第３７０３８６９号公報、特開昭６０−２２８４４８号公報、特開平１−１４６８４６号公報、特開平１−２２８９６０号公報、特許第４０８１１４９号公報、特開昭６３−１２４０５４号公報、「フタロシアニン−化学と機能―」（アイピーシー、１９９７年）、特開２００７−１６９３１５号公報、特開２００９−１０８２６７号公報、特開２０１０−２４１８７３号公報、特許第３６９９４６４号公報、特許第４７４０６３１号公報などに記載されている方法を挙げることができる。
【０１６７】
＜樹脂合成例１＞
下記式（Ｘ1）で表される８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ−３−エン（以下「ＤＮＭ」ともいう。）１００部、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部およびトルエン（開環重合反応用溶媒）３００部を、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／リットル）０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
【０１６８】
【化１７】
2020177253.tif 000020
【０１６９】
このようにして得られた開環重合体溶液１，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3］3を０．１２部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ2、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下「樹脂Ａ」ともいう。）を得た。得られた樹脂Ａは、数平均分子量（Ｍｎ）が３２，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１３７，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１６５℃であった。
【０１７０】
＜樹脂合成例２＞
３Ｌの４つ口フラスコに２，６−ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン８７．６０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．４６ｇ（０．３００ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（以下「ＤＭＡｃ」ともいう。）４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。続いて、４つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を１４０℃で３時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を１６０℃まで上昇させ、そのままの温度で６時間反応させた。室温（２５℃）まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物（残渣）を単離した。得られたろ物を６０℃で一晩真空乾燥し、白色粉末（以下「樹脂Ｂ」ともいう。）を得た（収率９５％）。得られた樹脂Ｂは、数平均分子量（Ｍｎ）が７５，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１８８，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２８５℃であった。
【０１７１】
＜樹脂合成例３＞
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク管および冷却管を備えた５００ｍＬの５つ口フラスコに、窒素気流下、１，４−ビス（４−アミノ−α,α−ジメチルベンジル）ベンゼン２７．６６ｇ（０．０８モル）および４，４'−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル７．３８ｇ（０．０２モル）を入れて、γ―ブチロラクトン６８．６５ｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１７．１６ｇに溶解させた。得られた溶液を、氷水バスを用いて５℃に冷却し、同温に保ちながら１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物２２．６２ｇ（０．１モル）およびイミド化触媒としてトリエチルアミン０．５０ｇ（０．００５モル）を一括添加した。添加終了後、１８０℃に昇温し、随時留出液を留去させながら、６時間還流させた。反応終了後、内温が１００℃になるまで空冷した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１４３．６ｇを加えて希釈し、攪拌しながら冷却し、固形分濃度２０重量％のポリイミド樹脂溶液２６４．１６ｇを得た。このポリイミド樹脂溶液の一部を１Ｌのメタノール中に注ぎいれてポリイミドを沈殿させた。濾別したポリイミドをメタノールで洗浄した後、１００℃の真空乾燥機中で２４時間乾燥させて白色粉末（以下「樹脂Ｃ」ともいう。）を得た。得られた樹脂ＣのＩＲスペクトルを測定したところ、イミド基に特有の１７０４ｃｍ-1、１７７０ｃｍ-1の吸収が見られた。樹脂Ｃはガラス転移温度（Ｔｇ）が３１０℃であり、対数粘度を測定したところ、０．８７であった。
【０１７２】
［実施例１］
実施例１では、透明樹脂製基板からなる基材を有し、波長８５０ｎｍ付近の近赤外線を透過させる光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
【０１７３】
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、化合物（Ｚ）として上記表１に記載の化合物（ｚ−５）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７７０ｎｍ）０．０４部、化合物（Ｚ）として下記式（ａ−１）で表わされる化合物（ａ−１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３８ｎｍ）０．２１部、および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの透明樹脂製基板からなる基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、前記透過率（Ｔａ）および（Ｔｂ）ならびに前記波長（Ｘｆ）を求めた。結果を図４および表２３に示す。
【０１７４】
【化１８】
2020177253.tif 000021
続いて、得られた基材の片面に誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（ＩＩ）を形成し、厚さ約０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。
【０１７５】
誘電体多層膜（Ｉ）は、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計３６層）。誘電体多層膜（ＩＩ）は、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２６層）。誘電体多層膜（Ｉ）および（ＩＩ）のいずれにおいても、シリカ層およびチタニア層は、基材側からチタニア層、シリカ層、チタニア層、・・・シリカ層、チタニア層、シリカ層の順で交互に積層されており、光学フィルターの最外層をシリカ層とした。
【０１７６】
誘電体多層膜（Ｉ）および（ＩＩ）の設計は、以下のようにして行った。
【０１７７】
各層の厚さと層数については、可視域の光線カット特性と目的とする近赤外域の透過特性を達成できるよう基材屈折率の波長依存特性や、適用した化合物（Ｚ）の吸収特性に合わせて光学薄膜設計ソフト（Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ  Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用いて最適化を行った。最適化を行う際、本実施例においてはソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表３の通りとした。
【０１７８】
【表３】
2020177253.tif 000022
膜構成最適化の結果、実施例１では、誘電体多層膜（Ｉ）は、膜厚５７〜１６９ｎｍのシリカ層と膜厚１６〜４５ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数３６の多層蒸着膜となり、誘電体多層膜（ＩＩ）は、膜厚２２〜４８０ｎｍのシリカ層と膜厚２２〜６５ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数２６の多層蒸着膜となった。最適化を行った膜構成の一例を表４に示す。
【０１７９】
【表４】
2020177253.tif 000023
得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図５および表２３に示す。
【０１８０】
［実施例２］
実施例２では、透明樹脂製基板からなる基材を有し、波長８５０ｎｍ付近の近赤外線を選択的に透過させる光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
【０１８１】
実施例１と同様の手順で透明樹脂製基板からなる基材を作成した。次いで、誘電体多層膜の設計（層数および各層の厚み）が異なること以外は実施例１と同様の手順で、得られた基材の片面に誘電体多層膜（ＩＩＩ） を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（ＩＶ） を形成し、厚さ約０．１０８ｍｍの光学フィルターを得た。
【０１８２】
誘電体多層膜（ＩＩＩ）および（ＩＶ）の設計は、ソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表５の通りとしたこと以外は実施例１と同様の手順で行った。最適化を行った膜構成の一例を表６に示す。
【０１８３】
【表５】
2020177253.tif 000024
【０１８４】
【表６】
2020177253.tif 000025
得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図６および表２３に示す。
【０１８５】
［実施例３］
実施例３では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板 からなる基材を有し、波長９５０ｎｍ付近の近赤外線を透過させる光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
【０１８６】
実施例１において、化合物（Ｚ）として用いた化合物（ｚ−５）０．０４部および化合物（ａ−１）０．２１部の代わりに、化合物（Ｚ）として上記表１に記載の化合物（ｚ−２７）（ジクロロメタン中での吸収極大波長８６８ｎｍ）０．１０部を用いたこと以外は、実施例１と同様の手順および条件で化合物（Ｚ）を含む透明樹脂製基板を得た。
【０１８７】
得られた透明樹脂製基板の片面に、下記組成の樹脂組成物（１）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２．５μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成し、化合物（Ｚ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、前記透過率（Ｔａ）および（Ｔｂ）ならびに前記波長（Ｘｆ）を求めた。結果を図７および表２３に示す。
【０１８８】
樹脂組成物（１）：トリシクロデカンジメタノールアクリレート  ６０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート  ４０重量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン  ５重量部、メチルエチルケトン（溶剤、固形分濃度（ＴＳＣ）：３０％）
続いて、誘電体多層膜の設計（層数および各層の厚み）が異なること以外は、実施例１と同様の手順で、得られた基材の片面に誘電体多層膜（Ｖ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（ＶＩ）を形成し、厚さ約０．１１０ｍｍの光学フィルターを得た。
【０１８９】
誘電体多層膜（Ｖ）および（ＶＩ）の設計は、ソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表７の通りとしたこと以外は、実施例１と同様の手順で行った。最適化を行った膜構成の一例を表８に示す。
【０１９０】
【表７】
2020177253.tif 000026
【０１９１】
【表８】
2020177253.tif 000027
得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図８および表２３に示す。
【０１９２】
［実施例４］
実施例４では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有し、波長９５０ｎｍ付近の近赤外線を選択的に透過させる光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
【０１９３】
実施例３と同様の手順で両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を作成した。次いで、誘電体多層膜の設計（層数および各層の厚み）が異なること以外は実施例１と同様の手順で、得られた基材の片面に誘電体多層膜（ＶＩＩ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（ＶＩＩＩ）を形成し、厚さ約０．１１１ｍｍの光学フィルターを得た。
【０１９４】
誘電体多層膜（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）の設計は、ソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表９の通りとしたこと以外は実施例１と同様の手順で行った。最適化を行った膜構成の一例を表１０に示す。
【０１９５】
【表９】
2020177253.tif 000028
【０１９６】
【表１０】
2020177253.tif 000029
得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図９および表２３に示す。
【０１９７】
［実施例５］
実施例５では、片面に化合物（Ｚ）を含む透明樹脂層を有する透明ガラス基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
【０１９８】
縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした透明ガラス基板「ＯＡ−１０Ｇ（厚み２００μｍ）」（日本電気硝子（株）製）上に下記組成の樹脂組成物（２）をスピンコーターで塗布し、ホットプレート上８０℃で２分間加熱して溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが５μｍとなるように、スピンコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（２）を硬化させ、化合物（Ｚ）を含む透明樹脂層を有する透明ガラス基板からなる基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、前記透過率（Ｔａ）および（Ｔｂ）ならびに前記波長（Ｘｆ）を求めた。結果を表２３に示す。
【０１９９】
樹脂組成物（２）：トリシクロデカンジメタノールアクリレート  ２０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート  ８０重量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン  ４重量部、化合物（ｚ−５）０．８重量部、化合物（ａ−１）４．２重量部 、メチルエチルケトン（溶剤、ＴＳＣ：３５％）
続いて、誘電体多層膜の設計（層数および各層の厚み）が異なること以外は実施例１と同様の手順で得られた基材の片面に誘電体多層膜（ＩＸ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（Ｘ） を形成し、厚さ約０．１１０ｍｍの光学フィルターを得た。
【０２００】
誘電体多層膜（ＩＸ）および（Ｘ）の設計は、ソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表１１の通りとしたこと以外は実施例１と同様の手順で行った。最適化を行った膜構成の一例を表１２に示す。
【０２０１】
【表１１】
2020177253.tif 000030
【０２０２】
【表１２】
2020177253.tif 000031
得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１０および表２３に示す。
【０２０３】
［実施例６］
実施例６では、両面に化合物（Ｚ）を含む透明樹脂層を有する樹脂製基板 からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
【０２０４】
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａおよび塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。次いで、得られた溶液を用いたこと以外は、実施例１と同様にして樹脂製基板を作成した。
【０２０５】
樹脂組成物（１）の代わりに樹脂組成物（２）を用いたこと以外は実施例３と同様の手順で、得られた樹脂製基板の両面に樹脂層を形成し、両面に化合物（Ｚ）を含む透明樹脂層を有する樹脂製基板からなる基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、前記透過率（Ｔａ）および（Ｔｂ）ならびに前記波長（Ｘｆ）を求めた。結果を表２３に示す。
【０２０６】
続いて、実施例２と同様の手順で、得られた基材の両面に誘電体多層膜を形成し、厚さ約０．１１２ｍｍの光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を表２３に示す。
【０２０７】
［実施例７］
実施例７では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有し、波長８５０ｎｍ付近の近赤外線を選択的に透過させる 光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
【０２０８】
実施例１において、化合物（Ｚ）として、化合物（ｚ−５）０．０４部および化合物（ａ−１）０．２１部に加えて、下記式（ａ−２）で表わされる化合物（ａ−２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７０４ｎｍ）０．１５部を用いたこと、さらに、化合物（Ｓ）として下記式（ｓ−１）で表わされる化合物（ｓ−１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長４２９ｎｍ）０．４０部、下記式（ｓ−２）で表わされる化合物（ｓ−２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長５５０ｎｍ）０．４０部および下記式（ｓ−３）で表わされる化合物（ｓ−３）（ジクロロメタン中での吸収極大波長６０６ｎｍ）０．３０部を用いたこと以外は、実施例１と同様の手順および条件で化合物（Ｚ）を含む透明樹脂製基板を得た。
【０２０９】
【化１９】
2020177253.tif 000032
【０２１０】
【化２０】
2020177253.tif 000033
【０２１１】
【化２１】
2020177253.tif 000034
【０２１２】
【化２２】
2020177253.tif 000035
【０２１３】
実施例３と同様の手順で、得られた樹脂製基板の両面に樹脂層を形成し、両面に透明樹脂層を有する樹脂製基板からなる基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、前記透過率（Ｔａ）および（Ｔｂ）ならびに前記波長（Ｘｆ）を求めた。結果を図１１および表２３に示す。
【０２１４】
続いて、誘電体多層膜の設計（層数および各層の厚み）が異なること以外は実施例１と同様の手順で、得られた基材の片面に誘電体多層膜（ＸＩ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（ＸＩＩ）を形成し、厚さ約０．１０９ｍｍの光学フィルターを得た。
【０２１５】
誘電体多層膜（ＸＩ）および（ＸＩＩ）の設計は、ソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表１３の通りとしたこと以外は実施例１と同様の手順で行った。最適化を行った膜構成の一例を表１４に示す。
【０２１６】
【表１３】
2020177253.tif 000036
【０２１７】
【表１４】
2020177253.tif 000037
得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図１１および表２３に示す。
【０２１８】
［実施例８］
化合物（Ｚ）を表２３に示す種類および量に変更したこと以外は実施例３と同様にして、基材および光学フィルターを作成した。得られた基材および光学フィルターの光学特性を表２３に示す。
【０２１９】
［実施例９〜１３］
樹脂、化合物（Ｚ）、化合物（Ｓ）、溶媒、および樹脂製基板の乾燥条件を表２３に示した内容に変更したこと以外は、実施例３と同様にして、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を作成し、実施例２と同様の設計パラメーターを用いて光学フィルターを作成した。得られた基材および光学フィルターの光学特性を表２３に示す。
【０２２０】
［実施例１４および１５］
化合物（Ｚ）および化合物（Ｓ）を表２３に示した内容に変更したこと以外は、実施例７と同様にして光学フィルターを作成した。得られた基材および光学フィルターの光学特性を表２３に示す。
【０２２１】
［実施例１６］
化合物（Ｚ）および化合物（Ｓ）を表２４に示した内容に変更したこと以外は、実施例１と同様にして透明樹脂製基板からなる基材を作成した。得られた基材の光学特性を図１３および表２４に示す。
【０２２２】
続いて、誘電体多層膜の設計（層数および各層の厚み）が異なること以外は実施例１と同様の手順で、得られた基材の片面に誘電体多層膜（ＸＩＩＩ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（ＸＩＶ）を形成し、波長９１０ｎｍ付近の近赤外線を選択的に透過させる厚さ約０．１０４ｍｍの光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの光学特性を図１４おおび表２４に示す。
【０２２３】
誘電体多層膜（ＸＩＩＩ）および（ＸＩＶ）の設計は、ソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表１５の通りとしたこと以外は実施例１と同様の手順で行った。最適化を行った膜構成の一例を表１６に示す。
【０２２４】
【表１５】
2020177253.tif 000038
【０２２５】
【表１６】
2020177253.tif 000039
【０２２６】
［実施例１７］
化合物（Ｚ）および化合物（Ｓ）を表２４に示した内容に変更したこと以外は、実施例１６と同様にして光学フィルターを作成した。得られた基材および光学フィルターの光学特性を表２４に示す。
【０２２７】
［実施例１８］
化合物（Ｚ）および化合物（Ｓ）を表２４に示した内容に変更したこと以外は、実施例１と同様にして透明樹脂製基板からなる基材を作成した。得られた基材の光学特性を表２４に示す。
【０２２８】
続いて、誘電体多層膜の設計（層数および各層の厚み）が異なること以外は実施例１と同様の手順で、得られた基材の片面に誘電体多層膜（ＸＶ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（ＸＶＩ）を形成し、波長８５０ｎｍ付近の近赤外線を選択的に透過させる厚さ約０．１０４ｍｍの光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの光学特性を図１５および表２４に示す。
【０２２９】
誘電体多層膜（ＸＶ）および（ＸＶＩ）の設計は、ソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）をいずれも下記表１７とした上で、ｎＨ・ｄＨ／ｎＬ・ｄＬが３．２となるように各層の膜厚調整を行った。最適化を行った膜構成の一例を表１８に示す。
【０２３０】
【表１７】
2020177253.tif 000040
【０２３１】
【表１８】
2020177253.tif 000041
【０２３２】
［実施例１９］
化合物（Ｚ）、化合物（Ｓ）、および化合物（Ｙ）を表２４に示した内容に変更したこと以外は、実施例１と同様にして透明樹脂製基板からなる基材を作成した。得られた基材の光学特性を図１６および表２４に示す。
【０２３３】
続いて、誘電体多層膜の設計（層数および各層の厚み）が異なること以外は実施例１と同様の手順で、得られた基材の片面に誘電体多層膜（ＸＶＩＩ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（ＸＶＩＩＩ）を形成し、波長８５０ｎｍ付近の近赤外線を選択的に透過させる厚さ約０．１０４ｍｍの光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの光学特性を図１７および表２４に示す。
【０２３４】
誘電体多層膜（ＸＶＩＩ）および（ＸＶＩＩＩ）の設計は、ソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表１９の通りとしたこと以外は、実施例１と同様の手順で行った。最適化を行った膜構成の一例を表２０に示す。
【０２３５】
【表１９】
2020177253.tif 000042
【０２３６】
【表２０】
2020177253.tif 000043
【０２３７】
［実施例２０］
実施例１９と同様にして透明樹脂製基板からなる基材を作成した。続いて、実施例１８と同様の設計および手順で基材の両面に誘電体多層膜を形成し、波長８５０ｎｍ付近の近赤外線を選択的に透過させる厚さ約０．１０４ｍｍの光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの光学特性を図１８および表２４に示す。
【０２３８】
［実施例２１］
実施例１９と同様にして透明樹脂製基板からなる基材を作成した。続いて、誘電体多層膜の設計（層数および各層の厚み）が異なること以外は実施例１と同様の手順で、得られた基材の片面に誘電体多層膜（ＸＩＸ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（ＸＸ）を形成し、波長８５０ｎｍ付近の近赤外線を選択的に透過させる厚さ約０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの光学特性を図１９および表２４に示す。
【０２３９】
誘電体多層膜（ＸＩＸ）および（ＸＸ）の設計は、ソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表２１の通りとした上で、誘電体多層膜（ＸＸ）についてはｎＨ・ｄＨ／ｎＬ・ｄＬが３．２となるように各層の膜厚調整を行った。最適化を行った膜構成の一例を表２２に示す。
【０２４０】
【表２１】
2020177253.tif 000044
【０２４１】
【表２２】
2020177253.tif 000045
【０２４２】
［比較例１］
化合物（Ｚ）を用いなかったこと以外は実施例１と同様にして基材および光学フィルターを作成した。得られた基材および光学フィルターの光学特性を表２４に示す。
【０２４３】
［比較例２］
化合物（Ｚ）を用いなかったこと以外は実施例１０と同様にして基材および光学フィルターを作成した。得られた基材および光学フィルターの光学特性を表２４に示す。
【０２４４】
［比較例３］
基材として、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした近赤外線吸収ガラス支持体「ＢＳ−８（厚み２１０μｍ）」（松浪硝子工業（株）製）を用いたこと以外は、実施例１と同様に光学フィルターを作成した。基材および得られた光学フィルターの光学特性を表２４に示す。
【０２４５】
【表２３】
2020177253.tif 000046
【０２４６】
【表２４】
2020177253.tif 000047
表２３および２４における基材の構成、各種化合物などに関する記号等の内容は、下記の通りである。
【０２４７】
＜基材の形態＞
形態（１）：化合物（Ｚ）を含む透明樹脂製基板
形態（２）：化合物（Ｚ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する
形態（３）：ガラス基板の片方の面に化合物（Ｚ）含む透明樹脂層を有する
形態（４）：樹脂製基板の両面に化合物（Ｚ）を含む透明樹脂層を有する
形態（５）：化合物（Ｚ）を含まない透明樹脂製基板（比較例）
形態（６）：化合物（Ｚ）を含まず化合物（Ｓ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する（比較例）
形態（７）：近赤外線吸収ガラス基板（比較例）
【０２４８】
＜透明樹脂＞
樹脂Ａ：環状オレフィン系樹脂（樹脂合成例１、ガラス転移温度１６５℃）
樹脂Ｂ：芳香族ポリエーテル系樹脂（樹脂合成例２、ガラス転移温度２８５℃）
樹脂Ｃ：ポリイミド系樹脂（樹脂合成例３、ガラス転移温度３１０℃）
樹脂Ｄ：環状オレフィン系樹脂「ゼオノア  １４２０Ｒ」（日本ゼオン（株）製、ガラス転移温度１３６℃）
【０２４９】
＜ガラス基板＞
ガラス基板（１）：縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした透明ガラス基板「ＯＡ−１０Ｇ（厚み２００μｍ）」(日本電気硝子（株）製)
ガラス基板（２）：  縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした近赤外線吸収ガラス支持体「ＢＳ−８（厚み２１０μｍ）」（松浪硝子工業（株）製）
【０２５０】
＜化合物（Ｚ）＞
ｚ−５：表１に記載の化合物（ｚ−５）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７７０ｎｍ）
ｚ−２５：表１に記載の化合物（ｚ−２５）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７８１ｎｍ）
ｚ−２７：表１に記載の化合物（ｚ−２７）（ジクロロメタン中での吸収極大波長８６８ｎｍ）
ｚ−３５：表１に記載の化合物（ｚ−３５）（ジクロロメタン中での吸収極大波長８８２ｎｍ）
ｚ−６３：表２に記載の化合物（ｚ−６３）（ジクロロメタン中での吸収極大波長８１３ｎｍ）
ａ−１：式（ａ−１）で表わされる化合物（ａ−１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３８ｎｍ）
ａ−２：式（ａ−２）で表わされる化合物（ａ−２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７０４ｎｍ）
【０２５１】
＜化合物（Ｓ）＞
ｓ−１：式（ｓ−１）で表わされる化合物（ｓ−１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長４２９ｎｍ）
ｓ−２：式（ｓ−２）で表わされる化合物（ｓ−２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長５５０ｎｍ）
ｓ−３：式（ｓ−３）で表わされる化合物（ｓ−３）（ジクロロメタン中での吸収極大波長６０６ｎｍ）
ｓ−４：下記式（ｓ−４）で表わされる化合物（ｓ−４）（ジクロロメタン中での吸収極大波長４６６ｎｍ）
【０２５２】
【化２３】
2020177253.tif 000048
【０２５３】
ｓ−５：下記式（ｓ−５）で表わされる化合物（ｓ−５）（ジクロロメタン中での吸収極大波長５４９ｎｍ）
【０２５４】
【化２４】
2020177253.tif 000049
【０２５５】
ｓ−６：下記式（ｓ−６）で表わされる化合物（ｓ−６）（ジクロロメタン中での吸収極大波長６０４ｎｍ）
【０２５６】
【化２５】
2020177253.tif 000050
【０２５７】
ｓ−７：式（ｓ−７）で表わされる化合物（ｓ−７）（ジクロロメタン中での吸収極大波長６４６ｎｍ）
【０２５８】
【化２６】
2020177253.tif 000051
【０２５９】
＜化合物（Ｙ）＞
ｙ−１：下記式（ｙ−１）で表わされる化合物（ｙ−１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長８８２ｎｍ）
【０２６０】
【化２７】
2020177253.tif 000052
【０２６１】
＜溶媒＞
溶媒（１）：塩化メチレン
溶媒（２）：Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
溶媒（３）：シクロヘキサン／キシレン（重量比：７／３）
表２３および２４における、実施例および比較例の（透明）樹脂製基板の乾燥条件は以下の通りである。なお、減圧乾燥前に、塗膜をガラス板から剥離した。
【０２６２】
＜樹脂製基板乾燥条件＞
条件（１）：２０℃／８ｈｒ→減圧下１００℃／８ｈｒ
条件（２）：６０℃／８ｈｒ→８０℃／８ｈｒ→減圧下１４０℃／８ｈｒ
条件（３）：６０℃／８ｈｒ→８０℃／８ｈｒ→減圧下１００℃／２４ｈｒ
【符号の説明】
【０２６３】
１，１'・・・光
２・・・光学フィルター
３・・・分光光度計
１００・・・光学フィルター
１０２・・・基材
１０４・・・誘電体多層膜
１０６・・・反射防止膜
１０８・・・化合物（Ｚ）を含む透明樹脂製基板
１１０・・・支持体
１１２・・・樹脂層
【図１】
2020177253.tif 000055
【図２】
2020177253.tif 000056
【図３】
2020177253.tif 000057
【図４】
2020177253.tif 000058
【図５】
2020177253.tif 000059
【図６】
2020177253.tif 000060
【図７】
2020177253.tif 000061
【図８】
2020177253.tif 000062
【図９】
2020177253.tif 000063
【図１０】
2020177253.tif 000064
【図１１】
2020177253.tif 000065
【図１２】
2020177253.tif 000066
【図１３】
2020177253.tif 000067
【図１４】
2020177253.tif 000068
【図１５】
2020177253.tif 000069
【図１６】
2020177253.tif 000070
【図１７】
2020177253.tif 000071
【図１８】
2020177253.tif 000072
【図１９】
2020177253.tif 000073