(57)【要約】      （修正有）【課題】プラスチック基板に対して高い耐久性を示すベタイン系親水化剤を提供するために必要な、ベタイン基より長い分子鎖を有するブロックイソシアネート基含有ケイ素系化合物の提供。【解決手段】（Ｘ１）３−ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）ｏ−（ＣＨ２）ｐ−Ｓ−ＣＨ２ＣＨＹＣＯＯ（ＣＨ２）ｑ（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｒＮＨＣＯ−Ｚ（１）｛式中Ｘ１は炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子及び水酸基であり、ｏは０又は１であり、ｐは１〜５の整数であり、Ｙはメチル基又は水素原子であり、ｑは１〜４の整数であり、ｒは０又は１であり、Ｚは３，５−ジメチルピラゾール基又はメチルエチルケトオキシム基である｝で表されるケイ素系化合物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）
（Ｘ１）３−ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）ｏ−（ＣＨ２）ｐ−Ｓ−ＣＨ２ＣＨＹＣＯＯ（ＣＨ２）ｑ（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｒＮＨＣＯ−Ｚ                            （１）
｛式中Ｘ１は炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子及び水酸基であり、ｏは０又は１であり、ｐは１〜５の整数であり、Ｙはメチル基又は水素原子であり、ｑは１〜４の整数であり、ｒは０又は１であり、Ｚは３，５−ジメチルピラゾール基又はメチルエチルケトオキシム基である｝で表されるケイ素系化合物
【請求項２】
下記式（２）で表される化合物と
（Ｘ１）３−ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）ｏ−（ＣＨ２）ｐ−ＳＨ                        （２）
｛式中Ｘ１、ｏ及びｐは請求項１に記載の  一般式（１）と同一である｝
下記式（３）で表される化合物
ＣＨ２＝ＣＹＣＯＯ（ＣＨ２）ｑ（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｒＮＨＣＯ−Ｚ            （３）
｛式中Ｙ、ｑ、ｒ及びＺは請求項１に記載の一般式（１）と同一である｝
を反応させることを特徴とする請求項１に記載の一般式（１）で表されるブロックイソシアネート基含有ケイ素化合物の製造方法。
【請求項３】
少なくとも請求項１に記載の一般式（１）で表されるブロックイソシアネート基含有ケイ素化合物及びベタイン基含有ケイ素系化合物を含むことを特徴とする親水化剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、親水効果や防曇効果が大きく、省エネルギーで製造できるコーティング可能な親水化剤あるいは防曇剤の成分として有用なケイ素系化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明者らは、親水化剤の材料に関する数多くの特許出願を行っている。
その中で、今回の発明に関係する代表的な特許出願を以下に示す。
プラスチック基板（例えばポリカーボネート）の表面親水化剤として、本発明者らは既にスルホン酸基及びブロックドイソシアネート基を持つケイ素化合物で修飾した金属酸化物ゾルを特許出願している（特許文献１実施例６）。またベタイン基及びブロックドイソシアネート基を持つケイ素化合物の加水分解縮合物からなる親水化剤も特許出願している（特許文献２実施例１−５、１−９）。特許文献１に記載の親水性基がスルホン酸基を有するケイ素化合物で修飾された金属酸化物ゾルの場合は、プラスチックに対して耐久性の高い親水性を示す。これはブロックドイソシアネート基が加熱によりイソシアネート基が生成してプラスチック基板上に存在する水酸基と化学反応して強固に結合することに起因する。しかし、特許文献２に記載の親水性基がベタイン基を有するケイ素化合物の加水分解縮合物の場合は、耐久性が劣るという問題がある。これは、先行技術に記載されている３−イソシアネートプロピルトリエトキシシランと３，５−ジメチルピラゾールとの反応生成物であるブロックドイソシアネート基を有するケイ素化合物の分子鎖長が、スルホン酸基を有するケイ素化合物の分子鎖長よりは長いが、ベタイン基を有するケイ素化合物の分子鎖長よりは短いためと考えられる。
すなわち親水性基がスルホン酸基の場合は、ブロックドイソシアネート基は基板のプラスチック表面に接することが出来るので所定の温度以上ではプラスチック基板と反応が可能で、耐久性の高い親水性を発現できる。しかし、親水性基がベタイン基の場合で、ブロックドイソシアネート基を有するケイ素化合物の分子鎖長がベタイン基を有するケイ素化合物の分子鎖長よりは短い場合は、ブロックドイソシアネート基が基板のプラスチック表面に接することが困難なために基板と反応しづらく、耐久性の高い親水性を発現できないと考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１７−７１７２５号公報
【特許文献２】国際公開１２０１６／１６７０９７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、プラスチック基板に対して耐久性の高い親水性を示すベタイン系親水化剤を提供するために必要な、ベタイン基を有するケイ素化合物より長い分子鎖を有するブロックイソシアネート基を有するケイ素系化合物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、耐久性の高いベタイン系親水化剤を得るために必要なブロックイソシアネート基含有ケイ素化合物を見出し、下記に示す発明を完成させた。
本発明のケイ素系化合物は、
〔１〕  下記式（１）
（Ｘ１）３−ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）ｏ−（ＣＨ２）ｐ−Ｓ−ＣＨ２ＣＨＹＣＯＯ（ＣＨ２）ｑ（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｒＮＨＣＯ−Ｚ                （１）
｛式中Ｘ１は炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子及び水酸基であり、ｏは０又は１であり、ｐは１〜５の整数であり、Ｙはメチル基又は水素原子であり、ｑは１〜４の整数であり、ｒは０又は１であり、Ｚは３，５−ジメチルピラゾール基又はメチルエチルケトオキシム基である｝で表されるブロックイソシアネート基含有ケイ素系化合物。
〔２〕  下記式（２）で表される化合物と
（Ｘ１）３−ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）ｏ−（ＣＨ２）ｐ−ＳＨ                        （２）
｛式中Ｘ１、ｏ  及びｐは前記一般式（１）と同一である｝
下記式（３）で表される化合物
ＣＨ２＝ＣＹＣＯＯ（ＣＨ２）ｑ（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｒＮＨＣＯ−Ｚ              （３）
｛式中Ｙ、ｑ、ｒ及びＺは前記一般式（１）と同一である｝
を反応させることを特徴とする前記一般式（１）で表されるブロックイソシアネート基含有ケイ素化合物の製造方法。
〔３〕  少なくとも前記一般式（１）で表されるブロックイソシアネート基含有ケイ素化合物及びベタイン基含有ケイ素系化合物を含むことを特徴とする親水化剤。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の、ベタイン基を有するケイ素化合物より長い分子鎖のブロックイソシアネート基を有するケイ素化合物を用いることにより、プラスチック基板にイソシアネート基が接して化学反応して化学結合することにより、親水性基がベタイン基であってもプラスチック基板に対して耐久性の高い親水化剤を提供することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、実施例１の原料である２−［（３，５−ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレートのＮＭＲチャートを示す。
【図２】図２は、実施例１の原料である３−メルカプトプロピルトリメトキシシランのＮＭＲチャートを示す。
【図３】図３は、実施例１で得られた本発明の化合物（１）のＮＭＲチャートを示す。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明の前記一般式（１）で表される化合物について説明する。
【０００９】
本発明の化合物である一般式（１）で表される化合物は、Ｘ１の炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピル基、ｎ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基等が挙げられる。これらのうち好ましくは、メチル基及びエチル基である。
また、Ｘ１のハロゲン原子としては、塩素原子または臭素原子である。
【００１０】
ｏは０または１であり、好ましくは０である。
ｐは１〜５の整数であり、好ましくは２〜４であり、最も好ましくは３である。
ｑは１〜４の整数であり、好ましくは２〜３であり、最も好ましくは２である。
【００１１】
前記一般式（１）で表される具体的な化合物としては以下の化合物が挙げられる。
ただし−Ｚ１は３，５−ジメチルピラゾール基を表す。
（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１                                                                （１）
（ＣＨ３Ｏ）２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１                                                      （２）
（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１                                                              （３）
（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１                                                                        （４）
（ＣＨ３Ｏ）２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１                                                              （５）
（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１                                                                      （６）
（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１                                                  （７）
（ＣＨ３Ｏ）２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１                                        （８）
（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１                                                （９）
（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１                                                        （１０）
（ＣＨ３Ｏ）２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１                                              （１１）
（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２  ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１                                                    （１２）
（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）                                    （１３）
（ＣＨ３Ｏ）２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）                          （１４）
（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）                                  （１５）
（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）                                            （１６）
（ＣＨ３Ｏ）２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）                                  （１７）
（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）                                          （１８）
（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）                      （１９）
（ＣＨ３Ｏ）２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）            （２０）
（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）                    （２１）
（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）                              （２２）
（ＣＨ３Ｏ）２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）                    （２３）
（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）                            （２４）
（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）                                  （２５）
【００１２】
本発明の前記一般式（１）で表されるブロックイソシアネート基含有ケイ素化合物は以下の方法により得られる。
すなわち、前記一般式（２）で表されると前記一般式（３）で表される化合物を不活性雰囲気下、ラジカル発生剤の存在下加熱することにより得ることが出来る。
この際溶剤で希釈してもしなくても良い。
【００１３】
反応温度は、室温から１２０℃であり、好ましくは６０〜１００℃である。
【００１４】
反応時間は、２〜２４時間あり、好ましくは６〜２４時間である。
【００１５】
前記一般式（２）で表される化合物に対する、前記一般式（３）で表される化合物のモル比は０．９５〜１．０５であり、好ましくは１．０である。
【００１６】
ラジカル発生剤としては、アゾ系化合物及び過酸化物系化合物が挙げられる。
【００１７】
前記アゾ系化合物としては、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）及び１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等が挙げられる。
これらのうち好ましいのは、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）である。
【００１８】
前記過酸化物系化合物としては、ジラウロイルパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド及びｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド等が挙げられる。
これらのうち好ましいのは、ジベンゾイルパーオキサイドである。
【００１９】
溶媒は用いても用いなくてもよい。溶媒を用いる場合、溶剤としては、芳香族炭化水素系溶剤（ベンゼン、トルエン及びキシレン等）、脂肪族炭化水素系溶剤（ヘプタン及びオクタン等）、エーテル系溶剤（テトラハイドロフラン、１，２−ジメトキシエタン及び１，２−ジエトキシエタン等）、アルコール系溶剤（メタノール、エタノール及びイソプロパノール等）、エステル系溶剤（酢酸エチル及び酢酸ブチル等）等が挙げられる。
これらのうち好ましいのは、芳香族系炭化水素及びエステル系溶剤であり、無溶媒がさらに好ましい。
【００２０】
前記一般式（２）で表される具体的な化合物としては以下の物が挙げられる。
（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＨ
（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＨ
（ＣＨ３Ｏ）２（ＣＨ３）ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＨ
これらの化合物は市販品として手に入れることが出来る。
【００２１】
前記一般式（３）で表される具体的な化合物としては以下の物が挙げられる。
ただし、Ｚ１は３，５−ジメチルピラゾール基を表す。
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−Ｚ１
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯ−ＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＮ＝Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ２Ｈ５）
【００２２】
これらの化合物は市販品として入手するか、あるいはピラゾール基又はメチルエチルケトオキシム基が付加していないイソシアネート化合物と固体のピラゾール又は液体のメチルケトオキシムを反応させることにより得ることが出来る。
【００２３】
すなわち、イソシアネート化合物とピラゾール又はメチルエチルケトオキシムを無溶媒で室温から１００℃で等モル混合することにより付加反応が進行し、容易に得ることが出来る。
【００２４】
本発明のケイ素系化合物は、樹脂（例えばポリカーボネート）の親水（防曇）化剤の原料として有用である。
本ケイ素化合物を用いることにより、親水（防曇）性を発揮するベタイン基を有するケイ素化合物のよりも分子鎖が長いため、樹脂と接触しやすくなり、接着性が増して耐久性が向上すると考えられる。
【００２５】
本発明のブロックイソシアネート基含有ケイ素化合物を用いる量としては、ベタイン基含有ケイ素化合物に対して、１０〜１００重量％であり、好ましくは２０〜８０重量％である。
【実施例】
【００２６】
以下に実施例を示し、本発明を具体的に説明する。実施例は、本発明を説明するものであり、制限を加えるものではない。
【００２７】
〔実施例１〕
ブロックドイソシアネート化合物、２−［（３，５−ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート（昭和電工株式会社製、商品名：カレンズＭＯＩ−ＢＰ）２５．１ｇ（１００ｍｍｏｌ）と３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製）１９．６（１００ｍｍｏｌ）ｇを混合してアルゴンを２０分間バブリングした。その中へアゾビスイソブチロニトリル１６４ｍｇ（１ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で一晩加熱撹拌することにより本発明の化合物（１）を得た。Ｈ１−ＮＭＲより原料のメタクリル基プロトンの吸収（５．６ｐｐｍ、５．９１ｐｐｍ及び６．１５ｐｐｍ）が消滅していることを確認した。
図１、２及び３に原料である２−［（３，５−ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン及び本発明の化合物（１）のＮＭＲチャートを示す。
【００２８】
〔使用例１〕
［３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン（東京化成工業株式会社製）５．２ｇ（２５ｍｍｏｌ）、実施例１で得た本発明の化合物（１）３．０ｇ（６．７ｍｍｏｌ）、特開平２０１７−０６１４３９号公報の実施例１に記載の方法で得た界面活性剤２．０ｇをエチルアルコール１０ｍｌ及び水５ｍｌに溶解させ一晩加熱還流した。冷却後、クロロ酢酸ナトリウム（ナカライテスク社製）２．９１ｇ（２５ｍｍｏｌ）及び水５ｍｌを加えさらに一晩加熱還流して水を加えることにより親水化剤（１）を得た。
【００２９】
〔比較例１〕  
使用例１において本発明の化合物（１）の代わりに、ＷＯＡ１２０１６１６７０９７号公報合成例４に記載の方法で得たケイ素系化合物３．０ｇを用いた以外は同様の操作を行うことにより親水化剤（２）を得た。
【００３０】
耐久評価結果
使用例１及び比較例１で得た親水化剤をメタノールで２５倍に希釈したコーティング液で以下の様に所定の基板の表面を改質し、初期の接触角及び水滴を垂らしてキムワイプで拭く操作を１０回繰り返した後の接触角を測定し、その値から耐久性を評価した。
【００３１】
〔親水性評価サンプルの作製〕
ポリカーボネート板｛７６ｍｍ、２６ｍｍ、１．０ｍｍ；エタノールで洗浄したもの｝を処理液（表面親水化剤）に浸漬し、ポリカーボネート板を取り出した後、液切りをし、１３０℃、１間加熱処理した表面防曇ポリカーボネート板を得た。
【００３２】
〔親水性評価結果〕
接触角測定装置｛協和界面化学株式会社、ＤＲＯＰ  ＭＡＳＴＥＲ  ５００、液適量２μＬ、測定間隔１０００ｍｓ、測定回数３０回｝で、表面改質スライドガラスの表面の任意の５箇所について、接触角（度）を測定し、平均値を算出した。結果を表１に示した。
【００３３】
【表１】
2020152646.tif 000002
【００３４】
上記結果から明らかの様に本発明のケイ素化合物を添加した系においては、耐久性が高いことが明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００３５】
本発明のケイ素系化合物から誘導される親水化剤は、プラスチックに対して耐久性が高いため、防犯カメラカバーや車のヘッドランプ用カバーに使用可能で、安価に製造出来るため、親水化剤のみならず、帯電防止剤、たんぱく質や血液の付着防止剤として好適である。
【図１】
2020152646.tif 000003
【図２】
2020152646.tif 000004
【図３】
2020152646.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】令和2年6月22日(2020.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック用親水化剤の成分が、下記式（１）で表されるブロックイソシアネート基含有ケイ素系化合物であるプラスチック用親水化剤の成分。
（Ｘ１）３−ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）ｏ−（ＣＨ２）ｐ−Ｓ−ＣＨ２ＣＨＹＣＯＯ（ＣＨ２）ｑ（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｒＮＨＣＯ−Ｚ                            （１）
｛式中Ｘ１は炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子及び水酸基であり、ｏは０又は１であり、ｐは２〜４の整数であり、Ｙはメチル基又は水素原子であり、ｑは２又は３であり、ｒは０又は１であり、Ｚは３，５−ジメチルピラゾール基又はメチルエチルケトオキシム基である｝
【請求項２】
少なくとも請求項１に記載の一般式（１）で表されるブロックイソシアネート基含有ケイ素化合物及びベタイン基含有ケイ素系化合物を含むことを特徴とするプラスチック用親水化剤。
【請求項３】
前記ブロックイソシアネート基含有ケイ素化合物の分子鎖が、ベタイン基含有ケイ素系化合物の分子鎖よりも長いことを特徴とする請求項２に記載のプラスチック用親水化剤。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、耐久性の高いベタイン系親水化剤を得るために必要なブロックイソシアネート基含有ケイ素化合物を見出し、下記に示す発明を完成させた。
本発明のケイ素系化合物は、
〔１〕  プラスチック用親水化剤の成分が、下記式（１）で表されるブロックイソシアネート基含有ケイ素系化合物であるプラスチック用親水化剤の成分。
（Ｘ１）３−ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）ｏ−（ＣＨ２）ｐ−Ｓ−ＣＨ２ＣＨＹＣＯＯ（ＣＨ２）ｑ（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｒＮＨＣＯ−Ｚ                            （１）
｛式中Ｘ１は炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子及び水酸基であり、ｏは０又は１であり、ｐは２〜４の整数であり、Ｙはメチル基又は水素原子であり、ｑは２又は３であり、ｒは０又は１であり、Ｚは３，５−ジメチルピラゾール基又はメチルエチルケトオキシム基である｝
〔２〕  少なくとも前記〔１〕に記載の一般式（１）で表されるブロックイソシアネート基含有ケイ素化合物及びベタイン基含有ケイ素系化合物を含むことを特徴とするプラスチック用親水化剤。
〔３〕  前記ブロックイソシアネート基含有ケイ素化合物の分子鎖が、ベタイン基含有ケイ素系化合物の分子鎖よりも長いことを特徴とする前記〔２〕に記載のプラスチック用親水化剤。