(57)【要約】【課題】安価な構成で、損傷やひずみ量等のミラーの状態を検出することができる露光用ミラー、露光用ミラーの製造方法、および該露光用ミラーを備える露光装置を提供する。【解決手段】露光用ミラーは、板ガラスの表面側に形成され、光源からの光を反射可能な反射膜と、板ガラスの裏面側に、反射膜よりも薄く、一端部から他端部まで連続するように成膜され、露光用ミラーが損傷したときに破断して露光用ミラーの損傷を検出可能な導電性の成膜パターンと、を備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を反射するための露光用ミラーであって、
板ガラスの表面側に形成され、前記光源からの光を反射可能な反射膜と、
前記板ガラスの裏面側に、前記反射膜よりも薄く、一端部から他端部まで連続するように成膜される導電性の成膜パターンと、
を備える、露光用ミラー。
【請求項２】
前記成膜パターンは、前記露光用ミラーが損傷したときに破断して前記露光用ミラーの損傷を検出可能である、請求項１に記載の露光用ミラー。
【請求項３】
前記成膜パターンは、前記板ガラスの外周部に沿って成膜される、請求項２に記載の露光用ミラー。
【請求項４】
前記成膜パターンは、前記一端部から前記板ガラスの外周部と内部とを通過して前記他端部まで連続するように成膜される、請求項２に記載の露光用ミラー。
【請求項５】
前記成膜パターンは、前記一端部から前記他端部までの間に、抵抗値がそれぞれ異なる複数のパターンが並列に接続されている、請求項２に記載の露光用ミラー。
【請求項６】
前記成膜パターンは、前記成膜パターンに応力が作用したとき、抵抗値が変化することで、前記露光用ミラーのひずみ量を検出可能な、請求項１又は２に記載の露光用ミラー。
【請求項７】
前記反射膜と前記成膜パターンとは、同一の金属材料によって成膜される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の露光用ミラー。
【請求項８】
光源からの光を反射するための露光用ミラーの製造方法であって、
板ガラスの裏面側に、一端部から他端部まで連続する導電性の成膜パターンの周囲をマスキングする工程と、
前記板ガラスの表面側から金属材料を蒸着またはスパッタリングすることで、前記板ガラスの表面側に、前記光源からの光を反射可能な反射膜と、前記板ガラスの裏面側に、前記成膜パターンと、を成膜する工程と、を備える、
露光用ミラーの製造方法。
【請求項９】
光源と、該光源からの光を均一にして出射するインテグレータと、前記インテグレータから出射された前記光を反射する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の露光用ミラーと、を有する照明装置を備え、
該照明装置からの光を、マスクを介してワーク上に照射して前記マスクの露光パターンを前記ワークに露光転写する露光装置。
【請求項１０】
前記露光用ミラーは、その裏面側に設けられ、前記露光用ミラーの曲率を変更可能なミラー曲げ機構を備える、請求項９に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光用ミラー、露光用ミラーの製造方法、および該露光用ミラーを備える露光装置に関し、より詳細には、露光用ミラーの損傷やひずみ量等のミラーの状態を検出することができる露光用ミラー、露光用ミラーの製造方法、および該露光用ミラーを備える露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近接露光装置では、感光材が塗布された被露光基板に、露光パターンが形成されたマスクを数１０μｍ〜数１００μｍのギャップで近接配置し、光照明装置からの露光光をマスクを介して照射して露光パターンを被露光基板に転写する。
【０００３】
また、特許文献１には、光路反転ミラーの裏面の複数個所に微小変位可能なアクチュエータを配備し、光路反転ミラーの局部的な曲率を調整して露光用照明光の平行度の調整およびマスクの局部的な伸縮等の補正を行うようにした近接露光方法及びその装置が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−２０１７１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、光路反転ミラーはガラス製であるため、アクチュエータが光路反転ミラーの局部的な曲率を過度に変更しようとした場合、光路反転ミラーに割れなどの損傷が発生する可能性がある。露光装置において、光路反転ミラーの損傷は露光される製品品質に影響を与えるため、万一、光路反転ミラーが損傷した場合には、直ちに光路反転ミラーの損傷を検知することが求められている。
【０００６】
反転ミラーの破損を検出する方法としては、音波を利用してガラスの破損音波形から破損検出を行う方法や、ガラス破損時の振動波形を直接ガラス面から検出することで破損検出する方法が考えられる。しかしながら、ガラスの破損音波形や破損時の振動波形を用いた検出方法では、装置自身の動作音や振動に影響されて誤作動が多く、安定した破損検出が非常に困難である。加えて、検出器自体の構成が複雑かつ高価となり、改善の余地があった。
【０００７】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、安価な構成で、損傷やひずみ量等のミラーの状態を検出することができる露光用ミラー、露光用ミラーの製造方法、および該露光用ミラーを備える露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  光源からの光を反射するための露光用ミラーであって、
板ガラスの表面側に形成され、前記光源からの光を反射可能な反射膜と、
前記板ガラスの裏面側に、前記反射膜よりも薄く、一端部から他端部まで連続するように成膜される導電性の成膜パターンと、
を備える、露光用ミラー。
（２）  前記成膜パターンは、前記露光用ミラーが損傷したときに破断して前記露光用ミラーの損傷を検出可能である、（１）に記載の露光用ミラー。
（３）  前記成膜パターンは、前記板ガラスの外周部に沿って成膜される、（２）に記載の露光用ミラー。
（４）  前記成膜パターンは、前記一端部から前記板ガラスの外周部と内部とを通過して前記他端部まで連続するように成膜される、（２）に記載の露光用ミラー。
（５）  前記成膜パターンは、前記一端部から前記他端部までの間に、抵抗値がそれぞれ異なる複数のパターンが並列に接続されている、（２）に記載の露光用ミラー。
（６）  前記成膜パターンは、前記成膜パターンに応力が作用したとき、抵抗値が変化することで、前記露光用ミラーのひずみ量を検出可能な、（１）又は（２）に記載の露光用ミラー。
（７）  前記反射膜と前記成膜パターンとは、同一の金属材料によって成膜される、（１）〜（６）のいずれかに記載の露光用ミラー。
（８）  光源からの光を反射するための露光用ミラーの製造方法であって、
板ガラスの裏面側に、一端部から他端部まで連続する導電性の成膜パターンの周囲をマスキングする工程と、
前記板ガラスの表面側から金属材料を蒸着またはスパッタリングすることで、前記板ガラスの表面側に、前記光源からの光を反射可能な反射膜と、前記板ガラスの裏面側に、前記成膜パターンと、を成膜する工程と、を備える、
露光用ミラーの製造方法。
（９）  光源と、該光源からの光を均一にして出射するインテグレータと、前記インテグレータから出射された前記光を反射する、（１）〜（７）のいずれかに記載の露光用ミラーと、を有する照明装置を備え、
該照明装置からの光を、マスクを介してワーク上に照射して前記マスクの露光パターンを前記ワークに露光転写する露光装置。
（１０）  前記露光用ミラーは、その裏面側に設けられ、前記露光用ミラーの曲率を変更可能なミラー曲げ機構を備える、（９）に記載の露光装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の露光用ミラーによれば、板ガラスの裏面側に成膜された成膜パターンの導通の有無をチェックすることで、安価な構成で、露光用ミラーの損傷やひずみ量等のミラーの状態を確実に検出することができる。
【００１０】
また、本発明の露光用ミラーの製造方法によれば、金属材料を蒸着またはスパッタリングすることで、板ガラスの表面側の反射膜と、板ガラスの裏面側の成膜パターンとを、同時に成膜することができ、該ミラーの状態を検出可能な露光用ミラーを安価に製造することができる。
【００１１】
また、本発明の露光装置によれば、露光用ミラーの損傷やひずみ量等のミラーの状態を確実に検出することができ、高精度な露光を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る近接露光装置の正面図である。
【図２】図１に示す近接露光装置に適用される光照射装置の構成を示す側面図である。
【図３】（ａ）は、図２に示す露光用ミラーの裏面図であり、（ｂ）は、露光用ミラーが破損した状態を示す裏面図である。
【図４】（ａ）は、スパッタによる露光用ミラーの作成方法を示す概念図であり、（ｂ）は、その裏面図である。
【図５】（ａ）は、第２実施形態の露光用ミラーの裏面図であり、（ｂ）は、露光用ミラーが破損した状態を示す裏面図である。
【図６】第３実施形態の露光用ミラーの裏面図である。
【図７】（ａ）は、第４実施形態の露光用ミラーの裏面図であり、（ｂ）は、側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の各実施形態に係る露光用ミラー、露光用ミラーの製造方法、および該露光用ミラーを備える露光装置を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１４】
（第１実施形態）
図１に示すように、近接露光装置ＰＥは、被露光材としてのワークＷより小さいマスクＭを用い、マスクＭをマスクステージ（マスク支持部）１で保持すると共に、ワークＷをワークステージ（ワーク支持部）２で保持し、マスクＭとワークＷとを近接させて所定の露光ギャップで対向配置した状態で、近接露光装置用光照射装置（以下、単に光照射装置とも言う）３からパターン露光用の光をマスクＭに向けて照射することにより、マスクＭのパターンをワークＷ上に露光転写する。また、ワークステージ２をマスクＭに対してＸ軸方向とＹ軸方向の二軸方向にステップ移動させて、ステップ毎に露光転写が行われる。
【００１５】
ワークステージ２をＸ軸方向にステップ移動させるため、装置ベース４上には、Ｘ軸送り台５ａをＸ軸方向にステップ移動させるＸ軸ステージ送り機構５が設置されている。Ｘ軸ステージ送り機構５のＸ軸送り台５ａ上には、ワークステージ２をＹ軸方向にステップ移動させるため、Ｙ軸送り台６ａをＹ軸方向にステップ移動させるＹ軸ステージ送り機構６が設置されている。Ｙ軸ステージ送り機構６のＹ軸送り台６ａ上には、ワークステージ２が設置されている。ワークステージ２の上面には、ワークＷがワークチャック等で真空吸引された状態で保持される。また、ワークステージ２の側部には、マスクＭの下面高さを測定するための基板側変位センサ１５が配設されている。従って、基板側変位センサ１５は、ワークステージ２と共にＸ、Ｙ軸方向に移動可能である。
【００１６】
装置ベース４上には、複数（図に示す実施形態では４本）のＸ軸リニアガイドのガイドレール５１がＸ軸方向に配置され、それぞれのガイドレール５１には、Ｘ軸送り台５ａの下面に固定されたスライダ５２が跨架されている。これにより、Ｘ軸送り台５ａは、Ｘ軸ステージ送り機構５の第１リニアモータ２０で駆動され、ガイドレール５１に沿ってＸ軸方向に往復移動可能である。また、Ｘ軸送り台５ａ上には、複数のＹ軸リニアガイドのガイドレール５３がＹ軸方向に配置され、それぞれのガイドレール５３には、Ｙ軸送り台６ａの下面に固定されたスライダ５４が跨架されている。これにより、Ｙ軸送り台６ａは、Ｙ軸ステージ送り機構６の第２リニアモータ２１で駆動され、ガイドレール５３に沿ってＹ軸方向に往復移動可能である。
【００１７】
Ｙ軸ステージ送り機構６とワークステージ２の間には、ワークステージ２を上下方向に移動させるため、比較的位置決め分解能は粗いが移動ストローク及び移動速度が大きな上下粗動装置７と、上下粗動装置７と比べて高分解能での位置決めが可能でワークステージ２を上下に微動させてマスクＭとワークＷとの対向面間のギャップを所定量に微調整する上下微動装置８が設置されている。
【００１８】
上下粗動装置７は後述の微動ステージ６ｂに設けられた適宜の駆動機構によりワークステージ２を微動ステージ６ｂに対して上下動させる。ワークステージ２の底面の４箇所に固定されたステージ粗動軸１４は、微動ステージ６ｂに固定された直動ベアリング１４ａに係合し、微動ステージ６ｂに対し上下方向に案内される。なお、上下粗動装置７は、分解能が低くても、繰り返し位置決め精度が高いことが望ましい。
【００１９】
上下微動装置８は、Ｙ軸送り台６ａに固定された固定台９と、固定台９にその内端側を斜め下方に傾斜させた状態で取り付けられたリニアガイドの案内レール１０とを備えており、該案内レール１０に跨架されたスライダ１１を介して案内レール１０に沿って往復移動するスライド体１２にボールねじのナット（図示せず）が連結されると共に、スライド体１２の上端面は微動ステージ６ｂに固定されたフランジ１２ａに対して水平方向に摺動自在に接している。
【００２０】
そして、固定台９に取り付けられたモータ１７によってボールねじのねじ軸を回転駆動させると、ナット、スライダ１１及びスライド体１２が一体となって案内レール１０に沿って斜め方向に移動し、これにより、フランジ１２ａが上下微動する。
なお、上下微動装置８は、モータ１７とボールねじによってスライド体１２を駆動する代わりに、リニアモータによってスライド体１２を駆動するようにしてもよい。
【００２１】
この上下微動装置８は、Ｚ軸送り台６ａのＹ軸方向の一端側（図１の左端側）に１台、他端側に２台、合計３台設置されてそれぞれが独立に駆動制御されるようになっている。これにより、上下微動装置８は、ギャップセンサ２７による複数箇所でのマスクＭとワークＷとのギャップ量の計測結果に基づき、３箇所のフランジ１２ａの高さを独立に微調整してワークステージ２の高さ及び傾きを微調整する。
なお、上下微動装置８によってワークステージ２の高さを十分に調整できる場合には、上下粗動装置７を省略してもよい。
【００２２】
また、Ｙ軸送り台６ａ上には、ワークステージ２のＹ方向の位置を検出するＹ軸レーザ干渉計１８に対向するバーミラー１９と、ワークステージ２のＸ軸方向の位置を検出するＸ軸レーザ干渉計に対向するバーミラー（共に図示せず）とが設置されている。Ｙ軸レーザ干渉計１８に対向するバーミラー１９は、Ｙ軸送り台６ａの一側でＸ軸方向に沿って配置されており、Ｘ軸レーザ干渉計に対向するバーミラーは、Ｙ軸送り台６ａの一端側でＹ軸方向に沿って配置されている。
【００２３】
Ｙ軸レーザ干渉計１８及びＸ軸レーザ干渉計は、それぞれ常に対応するバーミラーに対向するように配置されて装置ベース４に支持されている。なお、Ｙ軸レーザ干渉計１８は、Ｘ軸方向に離間して２台設置されている。２台のＹ軸レーザ干渉計１８により、バーミラー１９を介してＹ軸送り台６ａ、ひいてはワークステージ２のＹ軸方向の位置及びヨーイング誤差を検出する。また、Ｘ軸レーザ干渉計により、対向するバーミラーを介してＸ軸送り台５ａ、ひいてはワークステージ２のＸ軸方向の位置を検出する。
【００２４】
マスクステージ１は、略長方形状の枠体からなるマスク基枠２４と、該マスク基枠２４の中央部開口にギャップを介して挿入されてＸ，Ｙ，θ方向（Ｘ，Ｙ平面内）に移動可能に支持されたマスクフレーム２５と、マスクフレーム２５をマスク基枠２４に対してＸ，Ｙ，θ方向に移動可能となるように設けられた複数のマスク駆動部２８と、を備えており、マスク基枠２４は装置ベース４から突設された支柱４ａによってワークステージ２の上方の定位置に保持されている。
【００２５】
マスクフレーム２５の中央部開口の下面には、枠状のマスクホルダ２６が設けられている。即ち、マスクフレーム２５の下面には、図示しない真空式吸着装置に接続される複数のマスクホルダ吸着溝が設けられており、マスクホルダ２６が複数のマスクホルダ吸着溝を介してマスクフレーム２５に吸着保持される。
【００２６】
マスクホルダ２６の下面には、マスクＭのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数のマスク吸着溝（図示せず）が開設されており、マスクＭは、マスク吸着溝を介して図示しない真空式吸着装置によりマスクホルダ２６の下面に着脱自在に保持される。
【００２７】
図２に示すように、本実施形態の露光装置ＰＥの光照射装置３は、光源としてのランプユニット６０と、光路ＥＬの向きを変えるための平面ミラー６３と、照射光路を開閉制御する露光制御用シャッターユニット６４と、露光制御用シャッターユニット６４の下流側に配置され、ランプユニット６０からの光を均一にして出射するインテグレータ６５と、インテグレータ６５の下流側に配置されインテグレータ６５から出射された光路ＥＬの向きを変えるための平面ミラー６６と、高圧水銀ランプ６１からの光を平行光として照射するコリメーションミラー６７と、該コリメーションミラー６７からの光をマスクＭに向けて照射する平面ミラー６８と、を備える。
【００２８】
ランプユニット６０は、例えば高圧水銀ランプ６１と、この高圧水銀ランプ６１から出射された光を集光するリフレクタ６２をそれぞれ複数有する。なお、光源としては、単一の高圧水銀ランプ６１とリフレクタ６２の構成であってもよく、或いは、ＬＥＤによって構成されてもよい。
【００２９】
インテグレータ６５は、マトリックス状に配列された複数の不図示のレンズ素子を備え、リフレクタ６２で集光された光を照射領域においてできるだけ均一な照度分布となるようにして出射する。
【００３０】
平面ミラー６３、平面ミラー６６、コリメーションミラー６７、及び平面ミラー６８は、全波長の光を反射可能（実質的に全反射）な反射鏡であり、例えば、反射面にはアルミニウム膜が形成される。なお、「実質的に全反射」とは、反射率が９０％以上であることを意味する。
【００３１】
また、平面ミラー６８には、ミラー曲げ機構７０が裏面側に配設されている。これにより、平面ミラー６８は、信号線８１により各ミラー曲げ機構７０に接続されたミラー制御部８０からの指令に基づいて、平面ミラー６８の形状を変更し、反射面の曲率を局部的に変更することで、平面ミラー６８のデクリネーション角を補正することができる。
【００３２】
その他、光照射装置３では、インテグレータ６５と露光面との間には、偏光フィルタ、バンドパスフィルタが配置されてもよい。
【００３３】
このように構成された露光装置ＰＥでは、光照射装置３において、露光時に露光制御用シャッターユニット６４が開制御されると、高圧水銀ランプ６１から出射された光が、平面ミラー６３で反射されてインテグレータ６５の入射面に入射する。そして、インテグレータ６５の出射面から発せられた光は、平面ミラー６６、コリメーションミラー６７、及び平面ミラー６８によってその進行方向が変えられる。さらに、この光は、マスクステージ１に保持されるマスクＭ、さらにはワークステージ２に保持されるワークＷの表面に対して略垂直にパターン露光用の光として照射され、マスクＭのパターンがワークＷ上に露光転写される。
【００３４】
次に、露光用ミラー（以後、平面ミラー６３、平面ミラー６６、コリメーションミラー６７、及び平面ミラー６８を総称して露光用ミラー１００とも言う）１００について説明する。
【００３５】
図３（ａ）に示すように、露光用ミラー１００には、矩形状の板ガラス１０１の表面１０２側（図３（ａ）では紙面の裏面側）にアルミニウムの蒸着、あるいはスパッタにより厚さ数ミクロンの不図示のアルミニウムの薄膜が成膜されている。該アルミニウムの薄膜は、板ガラス１０１の表面１０２側の全面に亘って形成されて、光源６０からの光を全反射する反射膜１０４を形成する。
【００３６】
また、露光用ミラー１００の裏面１０３側には、アルミニウムの蒸着、あるいはスパッタにより、厚さ数ミクロンの導電性の成膜パターン１０６が、アルミニウムの薄膜で形成されている。成膜パターン１０６は、板ガラス１０１の四辺の外周部１０７に沿って略ロの字形に、一端部１０８から他端部１０９まで連続して成膜されている。
【００３７】
板ガラス１０１の裏面１０３側に成膜された成膜パターン１０６の厚さは、表面１０２側に成膜された反射膜１０４より薄く成膜されている。その理由については、露光用ミラー１００の製造方法の部分で説明する。
【００３８】
成膜パターン１０６の一端部１０８及び他端部１０９には、それぞれリード線１１０，１１１が接続されている。そして、一対のリード線１１０，１１１間に電流を流すことで露光用ミラー１００の損傷を検出することが可能となる。
【００３９】
すなわち、成膜パターン１０６の一対のリード線１１０，１１１間に電流を流すことで、露光用ミラー１００に損傷がない場合、一対のリード線１１０，１１１間の導通を図示しない電流計で検出することができ、露光用ミラー１００に損傷がなく正常状態にあることが確認できる。
【００４０】
一方、図３（ｂ）に示すように、露光用ミラー１００に、外周部１０７にまで達する割れ１２０が発生すると、割れ１２０により成膜パターン１０６の一部が破断して、一対のリード線１１０，１１１間の通電が遮断される。従って、一対のリード線１１０，１１１間の通電の遮断を検出することで、露光用ミラー１００の損傷が直ちに、かつ確実に検出される。
【００４１】
成膜パターン１０６は、反射膜１０４より薄い、厚さ数ミクロンの薄膜で形成されているので、露光用ミラー１００が割れているにも拘わらず、薄膜だけが繋がっているままとなることがない。従って、露光用ミラー１００の損傷は、割れ１２０の発生により確実に検出できる。
【００４２】
なお、成膜パターン１０６には、微小ながら電気抵抗が存在するので、一対のリード線１１０，１１１間に電流を流して電流値を測定する代わりに、抵抗計などを用いて該一対のリード線１１０，１１１間の抵抗値を測定することによっても、露光用ミラー１００の損傷の有無を確認することができる。
【００４３】
次に、図４（ａ）、（ｂ）を参照して露光用ミラー１００の製造方法について説明する。
露光用ミラー１００は、板ガラス１０１の表面１０２側から金属材料であるアルミニウムを蒸着またはスパッタリングすることで、板ガラス１０１の表面１０２側に反射膜１０４を製膜すると同時に、板ガラス１０１の裏面１０３側に成膜パターン１０６を成膜して形成される。
【００４４】
具体的には、図４（ｂ）に示すように、板ガラス１０１の裏面１０３側に、板ガラス１０１の外周部１０７に沿って一端部１０８から他端部１０９まで連続する成膜パターン１０６となる以外の部分をマスキング材１３０でマスキングする。そして、板ガラス１０１の表面１０２側に母材１３１であるアルミニウムを配置して、該アルミニウムを蒸着またはスパッタリングすることで、板ガラス１０１の表面１０２側に反射膜１０４を成膜し、同時に、板ガラス１０１の裏面１０３側に成膜パターン１０６を成膜する。
【００４５】
蒸着は、真空中で母材（本実施形態ではアルミニウム）１３１に電子ビームや熱を加え、分解したアルミニウムの分子を板ガラス１０１上に成膜する方法であり、スパッタは、チャンバー内に充填されているＡｒガスに電気を通してイオン化し、これらを母材１３１に衝突させて、そこから飛び出したアルミニウムの分子を板ガラス１０１上に成膜する方法である。図４（ａ）中、符号１３２は、アルミニウムの分子が移動する方向を表す矢印である。
【００４６】
アルミニウムの分子を板ガラス１０１上に成膜する際、アルミニウムの分子は、母材（アルミニウム）１３１が対向する板ガラス１０１の表面１０２から裏面１０３にも回り込んで、裏面１０３にもアルミニウムの薄膜が成膜される。成膜される薄膜の厚さは、板ガラス１０１を回り込んで成膜される裏面１０３の薄膜の厚さより、母材１３１に近い板ガラス１０１の表面１０２に成膜される薄膜の方が、厚く成膜される傾向がある。
【００４７】
本実施形態の露光用ミラー１００は、板ガラス１０１の裏面１０３に所望のパターンのマスキング１３０を施しておき、表面１０２からアルミニウムを蒸着やスパッタにより成膜して表面１０２に反射膜１０４を形成すると同時に、アルミニウム分子の裏面１０３への回り込み現象を利用して、裏面１０３に成膜される薄膜により、成膜パターン１０６を形成する。
【００４８】
これにより、裏面１０３へのマスキング以外に特別な処理を施すことなく、成膜パターン１０６としての導電性薄膜パターンを非常に安価に形成することができる。
【００４９】
また、図２に示す平面ミラー６８のように、露光用ミラー１００の裏面１０３にミラー曲げ機構７０を配設する場合、ミラー曲げ機構７０の配置位置は成膜パターン１０６を避ける必要はなく、成膜パターン１０６の上に支障なく取り付けることができる。従って、ミラー曲げ機構７０の配置位置が、成膜パターン１０６によって制約を受けることはない。なお、成膜パターン１０６上に保護膜を形成し、該保護膜上にミラー曲げ機構７０を配設すれば、より好ましい。
【００５０】
なお、上記説明では、同一の母材１３１により、露光用ミラー１００の表面１０２の反射膜１０４と、裏面１０３の成膜パターン１０６とを同時に成膜するように説明したが、反射膜１０４と成膜パターン１０６とは、互いに異なる金属を用いて別工程で成膜してもよい。
【００５１】
例えば、表面１０２の反射膜１０４に用いられる金属の例としては、前記アルミニウムの他に銀が挙げられる。ただし、近接露光装置のような紫外線を光源とする露光装置では、紫外線域の反射率が高いため、アルミニウムが好ましい。また、表面１０２としては、金属鏡の他に、誘電体鏡を用いることもできる。
裏面１０３の成膜パターン１０６に用いられる金属の例としては、前記アルミニウムの他に、銀、銅などが挙げられる。ただし、成膜の容易さや価格の安さなどの点から、アルミニウムが好ましい。
【００５２】
以上説明したように、本実施形態の露光用ミラーによれば、板ガラスの表面側に形成され、光源からの光を反射可能な反射膜と、板ガラスの裏面側に、反射膜よりも薄く、一端部から他端部まで連続するように成膜され、露光用ミラーが損傷したときに破断して露光用ミラーの損傷を検出可能な導電性の成膜パターンと、を備える。これにより、成膜パターンの導通の有無をチェックすることで、露光用ミラーの損傷の有無を確実に検出することができる。
【００５３】
また、成膜パターンは、板ガラスの外周部に沿って成膜されるので、露光用ミラーの外周部に生じた損傷を検出することができる。
【００５４】
さらに、反射膜と成膜パターンとは、同一の金属材料によって成膜されるので、反射膜と成膜パターンを同時に成膜することができ、露光用ミラーを安価に作成できる。
【００５５】
さらに、本実施形態の露光用ミラーの製造方法によれば、板ガラスの裏面側に、一端部から他端部まで連続し、露光用ミラーが損傷したときに破断して前記露光用ミラーの損傷を検出可能な導電性の成膜パターンの周囲をマスキングする工程と、板ガラスの表面側から金属材料を蒸着またはスパッタリングすることで、板ガラスの表面側に、光源からの光を反射可能な反射膜と、板ガラスの裏面側に、成膜パターンと、を成膜する工程と、を備える。これにより、板ガラスの裏面へのマスキング以外に特別な処理を施すことなく、板ガラスの表面側の反射膜と、板ガラスの裏面側の成膜パターンとを、同時に成膜することができ、該ミラーの状態を検出可能な露光用ミラーを安価に製造することができる。
【００５６】
また、本実施形態の露光装置によれば、光源と、該光源からの光を均一にして出射するインテグレータと、インテグレータから出射された光を反射する、上記露光用ミラーと、を有する照明装置を備え、該照明装置からの光を、マスクを介してワーク上に照射して前記マスクの露光パターンを前記ワークに露光転写するので、露光用ミラーの損傷を確実に検出することができ、高精度な露光を維持することができる。
【００５７】
さらに、露光用ミラーは、その裏面側に設けられ、露光用ミラーの曲率を変更可能なミラー曲げ機構を備えるので、露光用ミラーの局部的な曲率を変更して、露光用照明光の平行度の調整およびマスクの局部的な伸縮等の補正を行うことができる。特に、上記露光用ミラーは、曲率補正によって生じるミラーの割れを成膜パターンによってより確実に検出することができる。
【００５８】
（第２実施形態）
図５（ａ）は、第２実施形態の露光用ミラーの裏面図であり、図５（ｂ）は、部分的に破損した露光用ミラーの裏面図である。
【００５９】
図５（ａ）に示すように、本実施形態の露光用ミラー１００Ａは、アルミニウムの薄膜による成膜パターン１０６が、板ガラス１０１の外周部１０７と、該外周部１０７より内側の内部１１３とを通過して、一端部１０８から他端部１０９まで連続して、露光用ミラー１００Ａの裏面１０３に形成されている。具体的に、成形パターン１０６は、板ガラス１０１の外周部１０７に沿って略ロの字形に形成されると共に、外周部１０７の内側である内部１１３のほぼ全面を通るように略ジグザグ状に形成されている。
【００６０】
成膜パターン１０６の一端部１０８及び他端部１０９には、それぞれリード線１１０，１１１が接続されている。これにより、一対のリード線１１０，１１１間に電流を流すことで露光用ミラー１００の損傷の有無を検出することができる。
【００６１】
図５（ｂ）に示すように、本実施形態の露光用ミラー１００Ａによれば、アルミニウムの薄膜によって形成された成膜パターン１０６が、裏面１０３の外周部１０７と内部１１３とを通過して、内部１１３は略ジグザグ状に形成されている。したがって、露光用ミラー１００Ａの損傷が外周部１０７にまで達せず、内部１１３に留まる程度の部分的な割れ１２０であっても、また、露光用ミラー１００Ａの損傷が内部１１３にまで達せず、外周部１０７に留まる程度の部分的な割れ１２０であっても、該割れ１２０が成膜パターン１０６を通る位置で成膜パターン１０６が切断されて、一対のリード線１１０，１１１間が非導通となる。これにより、露光用ミラー１００Ａの損傷が部分的な割れ１２０であっても直ちに、また確実に検出できる。
なお、内部１１３に形成される成膜パターン１０６は、略ジグザグ状に限定されず、渦巻き状など、蒸着やスパッタによって成膜されるものであれば、任意の形状とすることができる。
【００６２】
（第３実施形態）
図６は、第３実施形態の露光用ミラーの裏面図である。図６に示すように、第３実施形態の露光用ミラー１００Ｂは、板ガラス１０１の外周部１０７に成膜された薄膜により形成された第１の成膜パターン１０６Ａと、板ガラス１０１の内部１１３に成膜された薄膜により形成された第２の成膜パターン１０６Ｂとを備える。第１の成膜パターン１０６Ａ及び第２の成膜パターン１０６Ｂの抵抗値は、互いに異なる抵抗値に設定される。
【００６３】
第１の成膜パターン１０６Ａと第２の成膜パターン１０６Ｂは、それぞれの一端１０８ａ，１０８ｂ同士が一端部１０８で結合され、他端１０９ａ，１０９ｂ同士が他端部１０９で結合されて、一端部１０８及び他端部１０９にリード線１１０，１１１がそれぞれ接続されている。即ち、第１の成膜パターン１０６Ａと第２の成膜パターン１０６Ｂは、並列接続されている。
【００６４】
従って、第１の成膜パターン１０６Ａ及び第２の成膜パターン１０６Ｂの抵抗値を予め測定しておけば、第１の成膜パターン１０６Ａ及び第２の成膜パターン１０６Ｂの少なくともいずれかに破断が生じた際、リード線１１０，１１１間の抵抗値を検出することで、第１、及び第２の成膜パターン１０６Ａ、１０６Ｂのいずれの成膜パターン１０６Ａ，１０６Ｂが破断したかを認識することができる。即ち、露光用ミラー１００Ｂの破損が、板ガラス１０１の外周部１０７に発生したものか、内部１１３に発生したものかを判別することができ、損傷位置の概略を知ることができる。
【００６５】
また、リード線１１０，１１１間の抵抗値が絶縁レベルとなることで、成膜パターン１０６Ａ及び１０６Ｂが共に破断した、即ち、露光用ミラー１００Ｂが大きく破損したことが検出できる。
【００６６】
（第４実施形態）
図７（ａ）は、第４実施形態の露光用ミラーの裏面図であり、図７（ｂ）は、側面図である。図７（ａ）、（ｂ）に示すように、第４実施形態の露光用ミラー１００Ｃは、その裏面１０３に、ひずみゲージと同様の形状に構成された成膜パターン１０６Ｃが形成されている。
【００６７】
すなわち、成膜パターン１０６Ｃは、露光用ミラー１００Ｃが湾曲して成膜パターン１０６Ｃに応力が作用したとき、抵抗値が変化する材料からなる薄膜により連続して成膜されており、その一端部１０８及び他端部１０９にそれぞれリード線１１０，１１１が接続されている。
【００６８】
従って、リード線１１０，１１１間の微小な抵抗値の変化により露光用ミラー１００Ｃのひずみ量を知ることができる。また、リード線１１０，１１１間の抵抗値が絶縁体レベルを示す場合は、成膜パターン１０６Ｃの切断、即ち、露光用ミラー１００Ｃに破損が生じたと判断される。これにより、露光用ミラー１００Ｃに発生した損傷だけでなく、露光用ミラー１００Ｃのひずみ量も検出することができる。
特に、本実施形態では、本実施形態のひずみ量を検出する成膜パターン１０６Ｃを、ミラー曲げ機構７０を備える平面ミラー６８に成膜することで、平面ミラー６８の曲率を検出することができる。
また、ひずみ量を測定可能な形状で、抵抗値がそれぞれ異なる複数の成膜パターン１０６Ｃを領域ごとに分割して形成し、複数の成膜パターン１０６Ｃを並列に接続することで、ミラー曲げ機構７０を備える平面ミラー６８の局部的な曲率を検出するようにしてもよい。
【００６９】
なお、露光用ミラー１００Ｃの表面１０２側に反射膜１０４を形成する材料と、ひずみ量を検出することができる成膜パターン１０６Ｃを裏面１０３側に形成する材料が異なる場合は、反射膜１０４と成膜パターン１０６Ｃを、それぞれ別工程で成膜してもよい。
【００７０】
尚、本発明は、前述した各実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
【符号の説明】
【００７１】
Ｍ      マスク
ＰＥ    近接露光装置
Ｗ      ワーク
３      光照射装置（照明装置）
６０    ランプユニット（光源）
６５    インテグレータ
７０    ミラー曲げ機構
１００，１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ  露光用ミラー
１０１        板ガラス
１０２        表面
１０３        裏面
１０４        反射膜
１０６，１０６Ａ，１０６Ｂ，１０６Ｃ  成膜パターン
１０７        外周部
１０８        一端部
１０９        他端部
１１３        内部
１３１        母材（金属材料）
【図１】
2020177105.tif 000003
【図２】
2020177105.tif 000004
【図３】
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【図４】
2020177105.tif 000006
【図５】
2020177105.tif 000007
【図６】
2020177105.tif 000008
【図７】
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