(57)【要約】【課題】光学機能を有する光学フィルムと液晶配向膜との剥離性が良好であり、かつ液晶配向性が良好であり、表面粗さが小さい光学フィルムを得ること。【解決手段】支持体１１と、支持体１１上に形成された液晶配向膜１２と、液晶配向膜１２上に形成された光学フィルム１３と、を有する積層体１０において、液晶配向膜１２は、ラジカル捕捉剤及び表面改質剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する液晶配向剤を用いて形成されてなり、光学フィルム１３は、液晶組成物を硬化させて得られたものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、前記支持体上に形成された液晶配向膜と、前記液晶配向膜上に形成された光学フィルム層と、を有する積層体であって、
前記液晶配向膜は、ラジカル捕捉剤及び表面改質剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する液晶配向剤を用いて形成されてなり、
前記光学フィルム層は、液晶組成物を硬化させて得られたものである、
積層体。
【請求項２】
前記積層体が有する前記光学フィルム層を被着体に転写して前記被着体上に前記光学フィルム層を形成するための積層体である、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記液晶配向剤は、光配向性基を有する重合体を含有する、請求項１又は２に記載の積層体。
【請求項４】
前記液晶配向剤は、桂皮酸構造を有する重合体を含有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項５】
前記液晶組成物は、位相差が逆波長分散性を示す重合性液晶を含有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項６】
支持体と、前記支持体上に形成された液晶配向膜と、前記液晶配向膜上に形成された光学フィルム層と、を有する積層体の製造方法であって、
重合禁止剤及び表面改質剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する液晶配向剤を前記支持体上に塗布して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜に液晶配向能を付与することにより前記支持体上に前記液晶配向膜を形成する工程と、
液晶組成物を硬化させることにより前記液晶配向膜上に前記光学フィルム層を形成する工程と、
を含む、積層体の製造方法。
【請求項７】
被着体上に光学フィルム層を形成する方法であって、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の積層体が有する光学フィルム層を、前記被着体上に転写する工程を含む、光学フィルム層の形成方法。
【請求項８】
位相差フィルム付きの偏光フィルムの製造方法であって、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の積層体が有する光学フィルム層を偏光フィルム上に転写する工程を含む、位相差フィルム付き偏光フィルムの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の積層体が有する光学フィルム層が偏光フィルム上に転写されてなる、位相差フィルム付き偏光フィルム。
【請求項１０】
液晶表示素子の製造方法であって、
対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間に設けられた液晶層とを有する液晶セルを構築する工程と、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の積層体が有する光学フィルム層を、前記液晶セルの前記一対の基板の少なくとも一方の外側に転写する工程と、
を含む、液晶表示素子の製造方法。
【請求項１１】
支持体と、前記支持体上に形成された液晶配向膜と、前記液晶配向膜上に形成された光学フィルム層とを有する、光学異方性を示す積層体の製造方法であって、
液晶配向剤を前記支持体の上に塗布して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜に液晶配向能を付与することにより前記支持体上に前記液晶配向膜を形成する工程と、
液晶組成物を硬化させることにより前記液晶配向膜上に前記光学フィルム層を形成する工程と、を含み、
前記塗膜を形成する工程は、２５〜１００℃の範囲内の温度で加熱することにより前記支持体の上に前記塗膜を形成する工程である、積層体の製造方法。
【請求項１２】
前記液晶配向剤は、ポリイミド、及び保護基を有するアミン系硬化剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する、請求項１１に記載の積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体及び積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどの液晶表示装置には種々の光学材料が用いられている。光学材料としては、例えば、位相差フィルムや視野角補償フィルム、反射防止フィルム等といった光学補償フィルムが知られている。これらのうち、例えば位相差フィルムは、表示の着色を解消したり、視覚方向によって表示色及びコントラスト比が変化するといった視野角依存性を解消したりする目的で使用されている。位相差フィルムとしては、プラスチックフィルムに延伸処理を施したものや、液晶塗布技術を用いたものなどが知られている。
【０００３】
液晶ディスプレイなどにおける表示品位の更なる改善を図るべく、従来、種々の位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献１や特許文献２参照）。特許文献１及び特許文献２には、プラスチックフィルム上に形成された液晶配向膜及び光学異方性膜のうち光学異方性膜のみを液晶表示装置の基板や偏光板に転写して転写フィルムを貼り付けることにより、被着体に所望の機能を付与することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第５３６３０２２号公報
【特許文献２】国際公開第２０１６／１５８２９８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
転写フィルムにより被着体に光学機能を付与する場合に、転写フィルムが液晶配向膜から剥がれにくいと、転写フィルムを被着体に転写した後において、液晶配向膜が部分的に転写フィルムに付着した状態になるおそれがある。この場合、被着体に十分な光学機能を付与できないことが懸念される。また、表示装置の用途に用いる場合、被着体において転写フィルムによる光学補償効果等を十分に得るためには、転写フィルムが液晶配向膜から剥がれやすいとともに、転写後の光学フィルムの表面粗さが小さいことが求められる。
【０００６】
本発明は、光学機能を有する光学フィルムと液晶配向膜との剥離性が良好であり、かつ液晶配向性が良好であり、表面粗さが小さい光学フィルムを得ることを一つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
＜１＞  支持体と、前記支持体上に形成された液晶配向膜と、前記液晶配向膜上に形成された光学フィルム層と、を有する積層体であって、前記液晶配向膜は、ラジカル捕捉剤及び表面改質剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する液晶配向剤を用いて形成されてなり、前記光学フィルム層は、液晶組成物を硬化させて得られたものである、積層体。
＜２＞前記積層体が有する前記光学フィルム層を被着体に転写して前記被着体上に前記光学フィルム層を形成するための積層体である、上記＜１＞の積層体。
【０００８】
＜３＞  前記液晶配向剤は、光配向性基を有する重合体を含有する、上記＜１＞又は＜２＞の積層体。
＜４＞  前記液晶配向剤は、桂皮酸構造を有する重合体を含有する、上記＜１＞〜＜３＞のいずれか１の積層体。
＜５＞  前記液晶組成物は、位相差が逆波長分散性を示す重合性液晶を含有する、上記＜１＞〜＜４＞のいずれか１の積層体。
＜６＞  支持体と、前記支持体上に形成された液晶配向膜と、前記液晶配向膜上に形成された光学フィルム層と、を有する積層体の製造方法であって、重合禁止剤及び表面改質剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する液晶配向剤を前記支持体上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜に液晶配向能を付与することにより前記支持体上に前記液晶配向膜を形成する工程と、液晶組成物を硬化させることにより前記液晶配向膜上に前記光学フィルム層を形成する工程と、を含む、積層体の製造方法。
【０００９】
＜７＞  被着体上に光学フィルム層を形成する方法であって、上記＜１＞〜＜５＞のいずれか１の積層体が有する光学フィルム層を、前記被着体上に転写する工程を含む、光学フィルム層の形成方法。
＜８＞  位相差フィルム付きの偏光フィルムの製造方法であって、上記＜１＞〜＜５＞のいずれか１の積層体が有する光学フィルム層を偏光フィルム上に転写する工程を含む、位相差フィルム付き偏光フィルムの製造方法。
＜９＞  上記＜１＞〜＜５＞のいずれか１の積層体が有する光学フィルム層が偏光フィルム上に転写されてなる、位相差フィルム付き偏光フィルム。
＜１０＞  液晶表示素子の製造方法であって、対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間に設けられた液晶層とを有する液晶セルを構築する工程と、上記＜１＞〜＜５＞のいずれか１の積層体が有する光学フィルム層を、前記液晶セルの前記一対の基板の少なくとも一方の外側に転写する工程と、を含む、液晶表示素子の製造方法。
＜１１＞  支持体と、前記支持体上に形成された液晶配向膜と、前記液晶配向膜上に形成された光学フィルム層とを有する、光学異方性を示す積層体の製造方法であって、液晶配向剤を前記支持体の上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜に液晶配向能を付与することにより前記支持体上に前記液晶配向膜を形成する工程と、液晶組成物を硬化させることにより前記液晶配向膜上に前記光学フィルム層を形成する工程と、を含み、前記塗膜を形成する工程は、２５〜１００℃の範囲内の温度で加熱することにより前記支持体の上に前記塗膜を形成する工程である、積層体の製造方法。
＜１２＞  前記液晶配向剤は、ポリイミド、及び保護基を有するアミン系硬化剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する、上記＜１１＞の積層体の製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の積層体によれば、液晶配向性が良好であって、かつ液晶膜の表面粗さに優れた光学フィルム層を基材上に形成することができる。そのため、本発明の積層体を用いて被着体上に形成された光学フィルムは、液晶表示素子の表示品位の改良効果が高く、よって、画像表示分野等において好適に用いることができる。また、本発明の液晶配向剤によれば、光学フィルム（転写フィルム）との剥離性が良好であり、剥離後の液晶膜の表面粗さに優れた転写フィルムを得ることができる液晶配向膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】光学フィルムの形成方法を示す模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
《第１実施形態》
以下、本実施形態の液晶配向剤について、適宜図面を参照しつつ説明する。本実施形態の液晶配向剤は、支持体１１、液晶配向膜１２及び光学フィルム１３がこの順に積層された積層体１０から、光学フィルム１３を支持体１１とは別の基材（被着体２１）に転写することによって、光学フィルム１３を有する被着体２１を得るための液晶配向膜１２を形成する用途の液晶配向剤である。光学フィルム１３が「転写フィルム」に相当する。以下に、本実施形態の液晶配向剤に配合される成分、及び必要に応じて任意に配合されるその他の成分について説明する。
【００１３】
＜重合体［Ａ］＞
本実施形態の液晶配向剤は、重合体［Ａ］を含有する。重合体［Ａ］は、ポリオルガノシロキサン、スチレン−マレイミド系共重合体、アクリル系重合体、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体であることが好ましい。重合体［Ａ］は、光配向性基を有する重合体であることが好ましい。
【００１４】
重合体［Ａ］が有する光配向性基は、光照射による光異性化反応、光二量化反応、光分解反応、光フリース転位反応等によって膜に異方性を付与する官能基である。光配向性基の具体例としては、例えばアゾベンゼン又はその誘導体を基本骨格として含むアゾベンゼン含有基、桂皮酸又はその誘導体を基本骨格として含む桂皮酸構造含有基、カルコン又はその誘導体を基本骨格として含むカルコン含有基、ベンゾフェノン又はその誘導体を基本骨格として含むベンゾフェノン含有基、クマリン又はその誘導体を基本骨格として含むクマリン含有基等が挙げられる。これらの中でも、重合体［Ａ］が有する光配向性基は、アゾベンゼン含有基及び桂皮酸構造含有基よりなる群から選ばれる一種であることが好ましい。特に、高い配向能を有する点及び重合体への導入が容易である点で、桂皮酸構造含有基であることが好ましく、具体的には、下記式（１）で表される基であることが好ましい。
【化１】
2020177217.tif 000003
（式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基又はシアノ基である。Ｒ３は、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基又はシアノ基である。ａは０〜４の整数である。但し、ａが２以上の場合、複数のＲ３は、互いに同一の基又は異なる基である。Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＲ８−（ただし、Ｒ８は水素原子又は１価の有機基である。）である。「＊」は結合手であることを示す。）
【００１５】
上記式（１）で表される基としては、桂皮酸が有するカルボキシル基又は桂皮酸アミドが有するアミノカルボニル基の水素原子１個を除去して得られる１価の基、又は当該１価の基が有するベンゼン環に置換基が導入された基（以下、これらを「順シンナメート基」ともいう。）や、桂皮酸が有するカルボキシル基又は桂皮酸アミドが有するアミノカルボニル基がエステル化され、かつベンゼン環に２価の有機基が結合してなる１価の基、又は当該１価の基が有するベンゼン環に置換基が導入された基（以下、これらを「逆シンナメート基」ともいう。）等が挙げられる。
Ｘ１が−ＮＲ８−である場合、Ｒ８は、水素原子、炭素数１〜６の１価の炭化水素基又はｔ−ブトキシカルボニル基が好ましい。ａは０又は１が好ましい。
【００１６】
順シンナメート基は例えば下記式（ｃｎ−１）で表すことができ、逆シンナメート基は例えば下記式（ｃｎ−２）で表すことができる。
【化２】
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（式（ｃｎ−１）中、Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基又はシアノ基である。Ｒ５は、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基若しくはシクロヘキシレン基、又はこれらの基が有する水素原子の少なくとも一部が、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、当該アルコキシ基の水素原子の少なくとも一部がハロゲン原子で置換された１価の基若しくはシアノ基によって置換された基である。Ａ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、炭素数１〜３のアルカンジイル基、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＮＨ−、＊１−ＣＯＯ−、＊１−ＯＣＯ−、＊１−ＮＨ−ＣＯ−、＊１−ＣＯ−ＮＨ−、＊１−ＣＨ２−Ｏ−又は＊１−Ｏ−ＣＨ２−（「＊１」はＲ５との結合手を示す。）である。ｂは０又は１である。
式（ｃｎ−２）中、Ｒ６は、炭素数１〜３のアルキル基である。Ａ２は、酸素原子、＊２−ＣＯＯ−、＊２−ＯＣＯ−、＊２−ＮＨ−ＣＯ−又は＊２−ＣＯ−ＮＨ−（「＊２」はＲ７との結合手を示す。）である。Ｒ７は、炭素数１〜６のアルカンジイル基である。ｃは０又は１である。
式（ｃｎ−１）及び式（ｃｎ−２）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ１及びａは、上記式（１）と同義である。「＊」は結合手であることを示す。）
【００１７】
重合体［Ａ］につき、光配向性基の含有割合は、重合体［Ａ］の合成に使用する単量体の全量に対して、１〜７０モル％であることが好ましく、３〜６０モル％であることがより好ましく、５〜６０モル％であることがさらに好ましい。
【００１８】
光学フィルムとの剥離性、透明性及び液晶配向性がより良好な液晶配向膜を得ることができる点で、重合体［Ａ］は、重合性基を有することが好ましい。重合体［Ａ］が重合性基を有すると、液晶配向膜に対する光学フィルムの剥離性、透明性及び液晶配向性の改善効果を高くでき好ましい。なお、液晶配向剤中の重合体成分が重合性基を有する場合に上記改善効果がより高くなる理由としては、重合性基による分子間又は分子内の架橋により、液晶配向膜の硬度が高くなり、また支持体に対する液晶配向膜の接着性が向上し、これにより光学異方性膜が液晶配向膜からきれいに剥離された結果、光学異方性膜の配向規制力及び透明性が高くなったことが推測される。
【００１９】
重合性基としては、光又は熱によって同一又は異なる分子間に共有結合を形成可能な基であることが好ましく、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、ビニルフェニル基、ビニリデン基、ビニルオキシ基（ＣＨ２＝ＣＨ−Ｏ−）、マレイミド基、アリル基、エチニル基、アリル基、アリルオキシ基、環状エーテル基等が挙げられる。これらの中でも、光に対する反応性が高い点で、（メタ）アクリロイル基及び環状エーテル基が好ましく、（メタ）アクリロイル基及びエポキシ基がより好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基及びメタクリロイル基を含む意味であり、エポキシ基は、オキシラニル基及びオキセタニル基を含む意味である。重合性基の含有割合は、重合体［Ａ］を構成する単量体単位の全体に対して、５０モル％以下であることが好ましく、１〜４０モル％であることがより好ましい。
【００２０】
次に、重合体［Ａ］の具体例について、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、ポリオルガノシロキサン、スチレン−マレイミド系共重合体、及びアクリル系重合体を例に挙げて説明する。
【００２１】
［ポリアミック酸］
重合体［Ａ］としてのポリアミック酸は、光配向性基を主鎖中に有することが好ましい。当該ポリアミック酸は、例えば、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを反応させて得ることができる。モノマーの選択の自由度が高い点で、好ましくは、光配向性基を主鎖中に含むジアミン（以下「特定ジアミン」ともいう。）を用いた重合により得ることができる。
ポリアミック酸の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物としては、特に限定されず、例えば特開２０１０−９７１８８号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物等、従来公知の種々のテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。
特定ジアミンとしては、下記式（２）で表される芳香族ジアミンを好ましく使用できる。
【化３】
2020177217.tif 000005
（式（２）中、Ｘ２及びＸ３は、それぞれ独立して、単結合又は２価の連結基であり、Ｙ１は、上記式（１）で表される２価の基である。ａは０又は１である。ただし、ａが０の場合、Ｘ２は単結合であって、かつ上記式（１）中のベンゼン環に式（２）中の１級アミノ基が結合している。）
【００２２】
上記式（２）において、Ｘ２及びＸ３が２価の連結基である場合の具体例としては、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、炭素数１〜３のアルカンジイル基等が挙げられる。重合体［Ａ］の光反応性をより高くできる点で、ａは０が好ましい。
特定ジアミンの具体例としては、例えば下記式で表される化合物等が挙げられる。なお、特定ジアミンは、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
【化４】
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【００２３】
ポリアミック酸の合成に際しては、特定ジアミン以外のその他のジアミンを併用してもよい。その他のジアミンは特に限定されず、例えば特開２０１０−９７１８８号公報に記載のジアミン等、従来公知のジアミン化合物を用いることができる。その他のジアミンを併用する場合、特定ジアミンの使用割合は、合成に使用するジアミン化合物の合計量に対して、１０モル％以上とすることが好ましく、３０モル％以上とすることがより好ましい。その他のジアミンとしては、１種を単独で用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
【００２４】
ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。このときの反応温度は−２０℃〜１５０℃が好ましく、反応時間は０．１〜２４時間が好ましい。反応に使用する有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノール系溶媒、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素等が挙げられる。有機溶媒の使用量は、テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の合計量が、反応溶液の全量に対して、０．１〜５０質量％になる量とすることが好ましい。
【００２５】
［ポリイミド］
重合体［Ａ］がポリイミドである場合、ポリイミドは、上記の如くして合成されたポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。
【００２６】
ポリイミドは、その前駆体であるポリアミック酸が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造が併存する部分イミド化物であってもよい。本実施形態におけるポリイミドは、そのイミド化率が３０％以上であることが好ましく、４０〜９９％であることがより好ましく、５０〜９９％であることが更に好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。ここで、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。
【００２７】
ポリアミック酸の脱水閉環は、好ましくはポリアミック酸を加熱する方法により、又はポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行われる。このうち、後者の方法によることが好ましい。
ポリアミック酸の溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加する方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸のアミック酸構造の１モルに対して０．０１〜２０モルとすることが好ましい。脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン等の３級アミンを用いることができる。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤１モルに対して０．０１〜１０モルとすることが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは０〜１８０℃であり、より好ましくは１０〜１５０℃である。反応時間は、好ましくは１．０〜１２０時間であり、より好ましくは２．０〜３０時間である。
【００２８】
このようにしてポリイミドを含有する反応溶液が得られる。この反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリイミドを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。これらの精製操作は公知の方法に従って行うことができる。その他、ポリイミドは、ポリアミック酸エステルのイミド化によって得ることもできる。
【００２９】
［ポリアミック酸エステル］
重合体［Ａ］がポリアミック酸エステルである場合、ポリアミック酸エステルは、例えば、［I］上記合成反応により得られたポリアミック酸とエステル化剤とを反応させる方法、［II］テトラカルボン酸ジエステルとジアミンとを反応させる方法、［III］テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物とジアミンとを反応させる方法、などによって得ることができる。
なお、本明細書において「テトラカルボン酸ジエステル」とは、テトラカルボン酸が有する４個のカルボキシル基のうち２個がエステル化され、残りの２個がカルボキシル基である化合物を意味する。「テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物」とは、テトラカルボン酸が有する４個のカルボキシル基のうち２個がエステル化され、残りの２個がハロゲン化された化合物を意味する。
【００３０】
方法［Ｉ］で使用するエステル化剤としては、例えば水酸基含有化合物、アセタール系化合物、ハロゲン化物、エポキシ基含有化合物等が挙げられる。これらの具体例としては、水酸基含有化合物として、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、フェノール、クレゾール等のフェノール類などを；アセタール系化合物として、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミドジエチルアセタールなどを；ハロゲン化物として、例えば臭化メチル、臭化エチル、臭化ステアリル、塩化メチル、塩化ステアリル、１，１，１−トリフルオロ−２−ヨードエタンなどを；エポキシ基含有化合物として、例えばプロピレンオキシドなどを、それぞれ挙げることができる。
【００３１】
方法［II］で使用するテトラカルボン酸ジエステルは、例えばポリアミック酸の合成で例示したテトラカルボン酸二無水物を、メタノールやエタノール等のアルコール類を用いて開環することにより得ることができる。なお、方法［II］では、酸誘導体としてテトラカルボン酸ジエステルのみを使用してもよいが、テトラカルボン酸二無水物を併用してもよい。使用するジアミンとしては、ポリアミック酸の合成で例示したジアミンが挙げられる。
【００３２】
方法［II］の反応は、有機溶媒中、適当な脱水触媒の存在下で行うことが好ましい。有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水触媒としては、例えば４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリニウムハライド、カルボニルイミダゾール、リン系縮合剤などが挙げられる。このときの反応温度は、−２０〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましい。反応時間は、０．１〜２４時間が好ましく、０．５〜１２時間がより好ましい。
【００３３】
方法［III］で使用するテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物は、例えば上記の如くして得たテトラカルボン酸ジエステルを、塩化チオニル等の適当な塩素化剤と反応させることにより得ることができる。なお、方法［III］では、酸誘導体としてテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物のみを使用してもよいが、テトラカルボン酸二無水物を併用してもよい。使用するジアミンとしては、ポリアミック酸の合成で例示したジアミンが挙げられる。
方法［III］の反応は、有機溶媒中、適当な塩基の存在下で行うことが好ましい。有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン等の３級アミン；水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類などを好ましく使用することができる。このときの反応温度は、−２０〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましい。反応時間は、０．１〜２４時間が好ましく、０．５〜１２時間がより好ましい。
【００３４】
液晶配向剤に含有させるポリアミック酸エステルは、アミック酸エステル構造のみを有していてもよく、アミック酸構造とアミック酸エステル構造とが併存する部分エステル化物であってもよい。なお、ポリアミック酸エステルを溶解してなる反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸エステルを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリアミック酸エステルを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリアミック酸エステルの単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。
【００３５】
［溶液粘度及び重量平均分子量］
以上のようにして得られるポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドは、これを濃度１０質量％の溶液としたときに、１０〜８００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を示すものであることが好ましく、１５〜５００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を示すものであることがより好ましい。なお、重合体の溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、測定対象とする重合体の良溶媒（例えばγ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等）を用いて調製した濃度１０質量％の重合体溶液につき、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃において測定した値である。
【００３６】
以上のようにして得られるポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００〜５００，０００であり、より好ましくは２，０００〜３００，０００である。分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは７以下であり、より好ましくは５以下である。
【００３７】
［ポリオルガノシロキサン］
重合体［Ａ］が、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（以下「ポリオルガノシロキサン［Ａ］」ともいう。）である場合、ポリオルガノシロキサン［Ａ］を合成する方法は特に限定されないが、簡便であって、かつ光配向性基の導入率を高くできる点で、エポキシ基含有のアルコキシシラン、又はエポキシ基含有のアルコキシシランとその他のシラン化合物との混合物を加水分解縮合してエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを得て、次いで、得られたエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと、光配向性基を有するカルボン酸（以下、「特定カルボン酸」ともいう。）と、を反応させる方法によることが好ましい。
【００３８】
エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンは、例えば、加水分解性のシラン化合物を加水分解・縮合することにより得ることができる。使用するシラン化合物としては、加水分解性を示す限り特に制限されないが、例えば、テトラアルコキシシラン、フェニルトリアルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、モノアルキルトリアルコキシシラン、メルカプトアルキルトリアルコキシシラン、ウレイドアルキルトリアルコキシシラン、アミノアルキルトリアルコキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリアルコキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、ｐ−スチリルトリアルコキシシラン、トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物等を挙げることができる。シラン化合物は、これらの１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用できる。
【００３９】
シラン化合物の加水分解・縮合反応は、上記の如きシラン化合物の１種又は２種以上と水とを、好ましくは適当な触媒及び有機溶媒の存在下で反応させることにより行う。加水分解・縮合反応に際し、水の使用割合は、シラン化合物（合計量）１モルに対して、好ましくは１〜３０モルである。触媒としては、例えば酸、アルカリ金属化合物、有機塩基、チタン化合物、ジルコニウム化合物などを挙げることができる。触媒の使用量は、触媒の種類、温度などの反応条件などにより異なり、適宜に設定されるべきであるが、例えばシラン化合物の合計量に対して、好ましくは０．０５〜１倍モルである。反応に使用する有機溶媒としては、例えば炭化水素、ケトン、エステル、エーテル、アルコール等が挙げられる。これらのうち、非水溶性又は難水溶性の有機溶媒を用いることが好ましい。有機溶媒の使用割合は、反応に使用するシラン化合物の合計１００質量部に対して、好ましくは１０〜１，０００質量部である。
【００４０】
上記の加水分解・縮合反応は、例えば油浴などにより加熱（例えば、４０〜１３０℃に加熱）して実施することが好ましい。加熱時間は、０．５〜８時間とすることが好ましい。反応終了後において、反応液から分取した有機溶媒層を必要に応じて水で洗浄し、有機溶媒層を乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、目的とするポリオルガノシロキサンを得ることができる。なお、ポリオルガノシロキサンの合成方法は、上記の加水分解・縮合反応に限らず、例えば加水分解性シラン化合物をシュウ酸及びアルコールの存在下で反応させる方法などにより行ってもよい。
【００４１】
得られたエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを、次いで特定カルボン酸と反応させる。これにより、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基と、カルボン酸とが反応してポリオルガノシロキサン［Ａ］が得られる。
【００４２】
特定カルボン酸は、光配向性基を有していれば特に限定されないが、桂皮酸構造含有基を有するカルボン酸であることが好ましい。このような特定カルボン酸としては、例えば上記式（ｃｎ−１）及び上記式（ｃｎ−２）のそれぞれで表される基のＸ１が酸素原子である基における結合手の部分に水素原子が結合したカルボン酸などを挙げることができる。なお、特定カルボン酸は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４３】
エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと特定カルボン酸との反応に際しては、光配向性基を有さないカルボン酸（その他のカルボン酸）を使用してもよい。使用するその他のカルボン酸は、特に制限されないが、重合性基を有するカルボン酸（以下、「重合性基含有カルボン酸」ともいう。）が好ましく用いられ、当該重合性基が（メタ）アクリロイル基であるカルボン酸がより好適に用いられる。エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと特定カルボン酸との反応に際し、重合性基含有カルボン酸を併用することにより、光学異方性膜と液晶配向膜との剥離性がより良好な液晶配向膜が得られる点で好適である。重合性基の具体例としては、重合体［Ａ］が有していてもよい重合性基についての上記説明が適用される。ポリオルガノシロキサン［Ａ］は、少なくともエポキシ基を有することが好ましく、（メタ）アクリロイル基とエポキシ基とを有することがより好ましい。エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと反応させるカルボン酸は無水カルボン酸であってもよい。
【００４４】
重合性基含有カルボン酸の具体例としては、例えば（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸；無水トリメリット酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、シス−１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物等の不飽和多価カルボン酸無水物、などが挙げられる。重合性基含有カルボン酸は、これらの１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。その他のカルボン酸としては、重合性基含有カルボン酸以外の他、例えばプロピオン酸、安息香酸、メチル安息香酸、垂直配向性基を有するカルボン酸等を使用してもよい。
【００４５】
エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンとカルボン酸との反応に際し、カルボン酸の使用割合は、当該反応を十分に行わせつつ、未反応のカルボン酸の量を少なくする観点から、ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基の合計１モルに対して、０．００１〜１．５モルとすることが好ましく、光学異方性膜と液晶配向膜との剥離性がより良好な液晶配向膜を得る観点から、０．０１モル以上１．０モル未満とすることがより好ましく、０．１〜０．８モルとすることが更に好ましい。上記反応に際し、カルボン酸の使用割合を、ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基の合計１モルに対して１モル未満とすることにより、光配向性基とエポキシ基とを有するポリオルガノシロキサン［Ａ］を得ることができる。ポリオルガノシロキサン［Ａ］は、液晶配向膜と光学異方性膜との剥離性をより高くできる点で、エポキシ基を側鎖に有していることが好ましい。
【００４６】
特定カルボン酸の使用割合（２種以上使用する場合にはその合計量）は、液晶配向膜１２の液晶配向性を良好にする観点から、反応に使用するカルボン酸の全量に対して、１０モル％以上とすることが好ましく、２０モル％以上とすることがより好ましい。重合性基含有カルボン酸を使用する場合、その使用割合は、反応に使用するカルボン酸の全量に対して、１モル％以上とすることが好ましく、３〜５０モル％とすることがより好ましく、５〜３０モル％とすることが更に好ましい。
【００４７】
エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンとカルボン酸との反応は、好ましくは触媒及び有機溶媒の存在下で行われる。触媒としては、３級有機アミン又は４級有機アミンを用いることが好ましい。触媒の使用割合は、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン１００質量部に対して、好ましくは０．１〜２０質量部である。使用する有機溶媒としては、原料及び生成物の溶解性、並びに生成物の精製のしやすさの観点から、エーテル、エステル及びケトンよりなる群から選ばれる少なくとも一種とすることが好ましい。特に好ましい溶媒の具体例として、２−ブタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び酢酸ブチル等を挙げることができる。当該有機溶媒は、固形分濃度（反応溶液中の溶媒以外の成分の合計質量が、溶液の全質量に対して占める割合）が、５〜５０質量％となる割合で使用することが好ましい。反応温度は、好ましくは０〜２００℃であり、反応時間は、好ましくは０．１〜５０時間である。反応終了後は、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。
【００４８】
ポリオルガノシロキサン［Ａ］につき、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００〜５０，０００の範囲にあることが好ましく、２００〜１０，０００の範囲にあることがより好ましい。
【００４９】
［スチレン−マレイミド系共重合体］
重合体［Ａ］が、光配向性基を有するスチレン−マレイミド系共重合体（以下、「重合体［Ａｓ］」ともいう。）である場合、重合体［Ａｓ］を合成する方法は特に限定されない。重合体［Ａｓ］は、重合性基をさらに有していてもよい。重合体［Ａｓ］が有する重合性基は、光又は熱によって同一又は異なる分子間に共有結合を形成可能な基であることが好ましく、例えば（メタ）アクリロイル基、ビニル基、ビニルフェニル基、ビニルエーテル基、アリル基、エチニル基、アリル基、アリルオキシ基、環状エーテル基、下記式（２２）〜式（２５）のそれぞれで表される基等が挙げられる。なお、下記の式中において、Ｒ１２〜Ｒ１５の２価の有機基としては、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、当該２価の炭化水素基の炭素−炭素結合間に−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−等を有する基などが挙げられる。これらのうち、重合体［Ａｓ］が有する重合性基は、（メタ）アクリロイル基又はエポキシ基が好ましく、エポキシ基がより好ましい。
【化５】
2020177217.tif 000007
（式（２２）〜式（２５）中、Ｒ１２〜Ｒ１４は、それぞれ独立に単結合又は２価の有機基であり、Ｒ１５は２価の有機基である。「＊」は結合手であることを示す。）
【００５０】
重合体［Ａｓ］は、スチレン基を有する単量体（以下、「スチレン系化合物」ともいう。）に由来する構造単位と、マレイミド基を有する単量体（以下、「マレイミド系化合物」ともいう。）に由来する構造単位のみを有していてもよいし、スチレン系化合物及びマレイミド系化合物以外の単量体に由来する構造単位をさらに有していてもよい。スチレン系化合物に由来する構造単位の含有割合は、スチレン−マレイミド系共重合体の全構造単位に対して、２〜８０モル％であることが好ましく、５〜７０モル％であることがより好ましい。また、マレイミド系化合物に由来する構造単位の含有割合は、スチレン−マレイミド系共重合体の全構造単位に対して、２〜８０モル％であることが好ましく、５〜７０モル％であることがより好ましい。
【００５１】
スチレン系化合物の具体例としては、例えばスチレン、メチルスチレン、ジビニルベンゼン、３−ビニル安息香酸、４−ビニル安息香酸、３−（グリシジルオキシメチル）スチレン、４−（グリシジルオキシメチル）スチレン、４−グリシジル−α−メチルスチレン等を挙げることができる。マレイミド系化合物としては、例えばＮ−メチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、３−（２，５−ジオキソ−３−ピロリン−１−イル)安息香酸、４−（２，５−ジオキソ−３−ピロリン−１−イル)安息香酸、４−（２，５−ジオキソ−３−ピロリン−１−イル)安息香酸メチル、下記式（ｍ３−１）〜式（ｍ３−５）
【化６】
2020177217.tif 000008
のそれぞれで表される光配向性基含有化合物等を挙げることができる。なお、スチレン系化合物、マレイミド系化合物としては、これらの１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００５２】
重合体［Ａｓ］は、スチレン系化合物及びマレイミド系化合物を用いた重合により得ることができる。当該重合は、好ましくは重合開始剤の存在下、有機溶媒中で行われる。使用する重合開始剤としては、例えば２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物が好ましい。重合開始剤の使用割合は、反応に使用する全モノマー１００質量部に対して、０．０１〜３０質量部とすることが好ましい。使用する有機溶媒としては、例えばアルコール、エーテル、ケトン、アミド、エステル、炭化水素化合物等が挙げられる。このとき、反応温度は３０℃〜１２０℃とすることが好ましく、反応時間は１〜３６時間とすることが好ましい。有機溶媒の使用量（ａ）は、反応に使用するモノマーの合計量（ｂ）が、反応溶液の全体量（ａ＋ｂ）に対して、０．１〜６０質量％になるような量にすることが好ましい。
【００５３】
重合体［Ａｓ］は、エポキシ基と、加熱によりエポキシ基と反応する官能基と、光配向性基とを有するスチレン−マレイミド系共重合体であることが、液晶配向膜と光学異方性膜との剥離性をより高くできる点で好ましい。加熱によりエポキシ基と反応する官能基としては、保存安定性が高く、かつエポキシ基との反応性が高い点で、カルボキシル基又は保護カルボキシル基であることが好ましい。
重合体［Ａｓ］がエポキシ基と、加熱によりエポキシ基と反応する官能基とを有する場合、重合体［Ａｓ］におけるエポキシ基の含有割合は、重合体［Ａｓ］の合成に使用する単量体の全量に対して、１〜６０モル％であることが好ましく、１０〜５０モル％であることがより好ましい。また、加熱によりエポキシ基と反応する官能基の含有割合は、１〜９０モル％であることが好ましく、１０〜８０モル％であることがより好ましい。
【００５４】
重合体［Ａｓ］につき、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００〜３００，０００であり、より好ましくは２，０００〜１００，０００である。Ｍｗと、ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）との比で表される分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１０以下であり、より好ましくは８以下である。
【００５５】
［（メタ）アクリル系重合体］
重合体［Ａ］が、光配向性基を有する（メタ）アクリル系重合体（以下、「重合体［Ａｍ］」ともいう。）である場合、重合体［Ａｍ］を合成する方法は特に限定されない。重合体［Ａｍ］は、重合性基をさらに有していてもよい。
【００５６】
重合体［Ａｍ］は、重合性基としてエポキシ基を側鎖に有していることが好ましい。こうした重合体［Ａｍ］は、例えば、エポキシ基を有する（メタ）アクリル系化合物を含む単量体を重合開始剤の存在下で重合し、次いで、得られた重合体（以下、「エポキシ基含有ポリ（メタ）アクリレート」ともいう。）と、光配向性基含有カルボン酸とを反応させる方法によって得ることができる。なお、合成反応における各種条件については、重合体［Ａｓ］の説明が適用される。
【００５７】
エポキシ基含有の（メタ）アクリル系単量体としては、例えばエポキシ基を有する不飽和カルボン酸エステルが挙げられ、その具体例としては、例えば（メタ）アクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸６，７−エポキシヘプチル、アクリル酸４−ヒドロキシブチルグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル等が挙げられる。
【００５８】
上記重合に際しては、エポキシ基含有の（メタ）アクリル系単量体以外のその他の単量体として、エポキシ基含有の（メタ）アクリル系単量体とともに、例えば、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、ビニル安息香酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等を併用してもよい。なお、その他の単量体は、これらの１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００５９】
重合体［Ａｍ］につき、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は、２５０〜５００，０００であることが好ましく、５００〜１００，０００であることがより好ましく、１，０００〜５０，０００であることが更に好ましい。
【００６０】
＜特定添加剤［Ｂ］＞
本実施形態の液晶配向剤は、特定添加剤［Ｂ］としてラジカル捕捉剤及び表面改質剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する。
【００６１】
［ラジカル補足剤］
ラジカル捕捉剤は、下記式（１１）で表される基又は下記式（１２）で表される基を有することが好ましい。
【化７】
2020177217.tif 000009
（式（１１）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜１３のアラルキル基、１，３−ジオキソブチル基又は１，４−ジオキソブチル基である。また、式（１１）で表される基は、Ｒ１で示されるアルキル基、アリール基、アラルキル基、１，３−ジオキソブチル基及び１，４−ジオキソブチル基から１個の水素原子が除かれ２価の基となって、分子鎖の一部を形成していてもよい。Ｒ２〜Ｒ５は、それぞれ独立して炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１３のアラルキル基である。Ｘ１は、単結合、カルボニル基、＊−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−、又は＊−ＣＯＮＨ−である。但し、「＊」で表される結合手は、ピペリジン環と結合する部位を示す。また、ｎは、１〜４の整数である。Ｘ２〜Ｘ５は、それぞれ独立して単結合、カルボニル基、＊＊−ＣＨ２−ＣＯ−又は＊＊−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−である。但し、「＊＊」で表される結合手は、ピペリジン環と結合する部位を示す。式（１１）中の「＊」は、結合手を表す。）
【化８】
2020177217.tif 000010
（式（１２）中、Ｒ６は、炭素数４〜１６の炭化水素基であるか、又は当該炭化水素基の炭素骨格鎖中に酸素原子又は硫黄原子を有する基である。ａは、０〜３の整数である。Ｒ７は、水素原子又は炭素数１〜１６の炭化水素基である。但し、Ｒ７が複数存在する場合、複数のＲ７は、互いに同一の基又は異なる基である。）
【００６２】
上記式（１１）において、Ｒ１が示す炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基等が挙げられる。上記Ｒ１が示す炭素数６〜２０のアリール基としては、例えばフェニル基、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、４−ｉ−プロピルフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基、３−クロロ−４−メチルフェニル基、４−ピリジニル基、２−フェニル−４−キノリニル基、２−（４’−ｔ−ブチルフェニル）−４−キノリニル基、２−（２’−チオフェニル）−４−キノリニル基等が挙げられる。上記Ｒ２〜Ｒ５が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が上げられる。上記Ｒ１〜Ｒ５が示す炭素数７〜１３のアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。上記Ｒ２〜Ｒ５が示す炭素数６〜１２のアリール基としては、例えばフェニル基等が挙げられる。上記Ｒ６が示す、炭素数４〜１６の炭化水素基又は当該炭化水素基の炭素骨格鎖中に酸素原子又は硫黄原子を有する基としては、例えばｔｅｒｔ−ブチル基、１−メチルペンタデシル基、オクチルチオメチル基、ドデシルチオメチル基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、１−メチルペンタデシルオキシ基、オクチルオキシメチル基等が挙げられる。Ｒ７が示す炭素数１〜１６の炭化水素基としては、例えばメチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１−メチルペンタデシル基、オクチルチオメチル基等が挙げられる。
【００６３】
上記式（１１）で表される基を有するラジカル捕捉剤としては、例えばアミン系酸化防止剤等が挙げられ、上記式（１２）で表される基を有するラジカル捕捉剤としては、例えばフェノール系ラジカル捕捉剤等が挙げられる。これらのラジカル捕捉剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用できる。
【００６４】
アミン系ラジカル捕捉剤としては、例えばコハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、メチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル、炭酸＝ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１−ウンデシルオキシピペリジン−４−イル）、ペンタメチルピペリジルメタクリレート、テトラメチルピペリジルメタクリレート、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラキス−（４，６−ビス−（ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ）−トリアジン−２−イル）−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミン１，３，５−トリアジンＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンの重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネート等が挙げられる。 
【００６５】
フェノール系ラジカル捕捉剤としては、例えばトリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）−ブタン、４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリル、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート］、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート］、２，４，６−トリス（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）メシチレン、チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド］、イソオクチル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、４，６−ビス（ドデシルチオメチル）−ｏ−クレゾール、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾール、エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート］、ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，３，５−トリス［（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−キシリル）メチル］−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（４，６−ビス（オクチルチオ）−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ）フェノール等が挙げられる。 
【００６６】
なお、これらのラジカル捕捉剤としては、市販品を使用することができる。アミン系ラジカル捕捉剤の市販品としては、例えばアデカスタブＬＡ−５２、ＬＡ−５７、ＬＡ−６３、ＬＡ−６８、ＬＡ−７２、ＬＡ−７７、ＬＡ−８１、ＬＡ−８２、ＬＡ−８７、ＬＡ−４０２、ＬＡ−５０２（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ１１９、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ２０２０、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４、ＴＩＮＵＶＩＮ６２２、ＴＩＮＵＶＩＮ１２３、ＴＩＮＵＶＩＮ１４４、ＴＩＮＵＶＩＮ７６５、ＴＩＮＵＶＩＮ７７０、ＴＩＮＵＶＩＮ１１１、ＴＩＮＵＶＩＮ７８３、ＴＩＮＵＶＩＮ７９１（以上、ＢＡＳＦジャパン製）等が挙げられる。
【００６７】
フェノール系ラジカル捕捉剤の市販品としては、例えばアデカスタブＡＯ−２０、同ＡＯ−３０、同ＡＯ−４０、同ＡＯ−５０、同ＡＯ−６０、同ＡＯ−８０、同ＡＯ−３３０（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５、ＩＲＧＡＯＸ１０７６、ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８、ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５、ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０、ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６、ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５、ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０、ＩＲＧＡＮＯＸ２４５、ＩＲＧＡＮＯＸ２５９、ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４、ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０、ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７、ＩＲＧＡＮＯＸ５６５、ＩＲＧＡＭＯＤ２９５（以上、ＢＡＳＦジャパン製）等が挙げられる。
【００６８】
また、上記式（１１）で表される基を有するラジカル捕捉剤及び式（１２）で表される基を有するラジカル捕捉剤以外のその他のラジカル捕捉剤としては、例えばリン系ラジカル捕捉剤、イオウ系ラジカル捕捉剤及びこれらのブレンド系化合物等が挙げられる。
【００６９】
リン系ラジカル捕捉剤としては、例えば３，９−ビス（４−ノニルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、３，９−ビス（オクタデシルオキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、３，９−ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）−６−［（２−エチルヘキシル）オキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジイルビスホスホナイト、トリス［２−［［２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェフィン−６−イル］オキシ］エチル］アミン、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス［２，４−ビス（１，１ジメチルエチル）−６−メチルフェニル］エチルエステル亜リン酸等が挙げられる。
イオウ系ラジカル捕捉剤としては、例えばジドデシル３，３’−チオジプロピオネート、ジオクタデシル３，３’−チオジプロピオネート等が挙げられる。 
【００７０】
リン系ラジカル捕捉剤の市販品としては、例えばアデカスタブＰＥＰ−４Ｃ、同ＰＥＰ−８、同ＰＥＰ−３６、ＨＰ−１０、２１１２（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ＧＳＹ−Ｐ１０１（以上、堺化学工業製）、ＩＲＧＡＦＯＳ１６８、ＩＲＧＡＦＯＳ１２、ＩＲＧＡＦＯＳ１２６、ＩＲＧＡＦＯＳ３８、ＩＲＧＡＦＯＳ  Ｐ−ＥＰＱ（以上、ＢＡＳＦジャパン製）等が挙げられる。
イオウ系ラジカル捕捉剤の市販品としては、例えばアデカスタブＡＯ−４１２、同ＡＯ−５０３（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ＩＲＧＡＮＯＸ  ＰＳ  ８００ＦＬ、ＩＲＧＡＮＯＸ  ＰＳ  ８０２ＦＬ（以上、ＢＡＳＦジャパン製）等が挙げられる。
ブレンド系ラジカル捕捉剤の市販品としては、例えばアデカスタブＡ−６１１、同Ａ−６１２、同Ａ−６１３、同ＡＯ−３７、同ＡＯ−１５、同ＡＯ−１８、３２８（以上、ＡＤＥＫＡ製）、ＴＩＮＵＶＩＮ１１１、ＴＩＮＵＶＩＮ７８３、ＴＩＮＵＶＩＮ７９１（以上、ＢＡＳＦジャパン製）等が挙げられる。
【００７１】
本実施形態における液晶配向剤に配合されるラジカル捕捉剤は、上記のうち、フェノール系ラジカル捕捉剤及びアミン系ラジカル捕捉剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種が好ましい。
【００７２】
ラジカル捕捉剤の含有割合は、［Ａ］重合体１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部〜１０質量部、より好ましくは０．１質量部〜５質量部、特に好ましくは０．１質量部〜３質量部である。ラジカル捕捉剤を上記の割合で含有することにより、液晶配向性が良好であって、かつ液晶膜の表面粗さに優れた光学フィルム層を基材上に形成することができる。また、光学機能を有する光学フィルム（転写フィルム）との剥離性が良好であり、剥離後の液晶膜の表面粗さが低減された転写フィルムを得ることができる。また、ラジカル捕捉機能を重合体側鎖に導入することによっても同様の効果を発現することができる。
【００７３】
［表面改質剤］
表面改質剤は、液晶配向膜の表面状態を改質するものであり、特に液晶組成物の塗布性改善の効果を有するものである。液晶配向剤が表面改質剤を含有することにより、転写後の液晶配向膜の膜質を改善することができる。表面改質剤としては、例えば界面活性剤、ガス発生剤を用いることができる。
【００７４】
（界面活性剤）
上記界面活性剤としては、例えばノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、非イオン性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。上記ノニオン界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル等のエーテル型；グリセリンエステルのポリオキシエチレンエーテル等のエーテルエステル型；ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、グリセリンエステル、ソルビタンエステル等のエステル型等が挙げられる。ノニオン界面活性剤の市販品としては、Ｎｅｗｃｏｌ  ２３２０、Ｎｅｗｃｏｌ  ７１４−Ｆ、Ｎｅｗｃｏｌ  ７２３、Ｎｅｗｃｏｌ  ２３０７、Ｎｅｗｃｏｌ  ２３０３（以上、日本乳化剤社）、パイオニンＤ−１１０７−Ｓ、パイオニンＤ−１００７、パイオニンＤ−１１０６−ＤＩＲ、ニューカルゲンＴＧ３１０（以上、竹本油脂社）等を挙げることができる。
【００７５】
上記カチオン界面活性剤の具体例としては、脂肪族アミン塩、脂肪族アンモニウム塩等が挙げられる。また、上記アニオン界面活性剤の具体例としては、脂肪酸石鹸、アルキルエーテルカルボン酸塩等のカルボン酸塩；アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩等のスルホン酸塩；高級アルコール硫酸エステル塩、アルキルエーテル硫酸塩等の硫酸エステル塩；アルキルリン酸エステル等のリン酸エステル塩等が挙げられる。非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリグリセリン脂肪酸エステル等が挙げられる。
【００７６】
ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、アニオン界面活性剤及び非イオン性界面活性剤のうち、ポリシロキサン構造を有する界面活性剤がシリコーン系界面活性剤であり、パーフルオロアルキル基を有する界面活性剤がフッ素系界面活性剤である。シリコーン系界面活性剤の具体例としては、アルキル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、カルボキシル変性シリコーンオイル等が挙げられる。フッ素系界面活性剤の具体例としては、パーフルオロアルキル基含有オリゴマー、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物等が挙げられる。
【００７７】
上記界面活性剤としては、表面改質効果がより高い点で、シリコーン系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤よりなる群から選択される少なくとも一種が好ましく用いられ、シリコーン系界面活性剤が特に好ましく用いられる。なお、上述の界面活性剤は、１種単独で用いてもよく、又は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００７８】
界面活性剤の含有割合は、液晶配向剤に含有される重合体［Ａ］１００質量部に対して、好ましくは５質量部以下、より好ましくは３質量部以下であり、特に好ましくは１質量部以下である。また、界面活性剤の含有割合は、液晶配向剤に含有される重合体［Ａ］１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部以上であり、特に好ましくは０．０１質量部以上である。界面活性剤を上記の割合で含有することにより、液晶配向性が良好であって、かつ液晶膜の表面粗さに優れた光学フィルム層を基材上に形成することができる点で好ましい。また、光学機能を有する光学フィルム（転写フィルム）との剥離性が良好であり、剥離後の液晶膜の表面粗さに優れた転写フィルムを得ることができる点で好ましい。
【００７９】
（ガス発生剤）
上記ガス発生剤としては、光照射により気体成分が発生するものであればよいが、キノンジアジド化合物を好ましく使用することができる。キノンジアジド化合物としては、フェノール性化合物又はアルコール性化合物（以下、「母核」と称する。）と、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることが好ましい。
【００８０】
上述の母核としては、例えば、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペンタヒドロキシベンゾフェノン、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、（ポリヒドロキシフェニル）アルカン、その他の母核等が挙げられる。
１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとしては、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドが好ましい。１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドとしては、例えば、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド等が挙げられる。これらのうち、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドがより好ましい。
【００８１】
フェノール性化合物又はアルコール性化合物（母核）と、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合反応においては、フェノール性化合物又はアルコール性化合物中のＯＨ基数に対して、好ましくは３０モル％〜８５モル％、より好ましくは５０モル％〜７０モル％に相当する１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドが用いられる。縮合反応は、公知の方法によって実施することができる。
【００８２】
これらのキノンジアジド化合物としては、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）の縮合物が好適に用いられる。なお、キノンジアジド化合物としては、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００８３】
ガス発生剤の含有割合は、液晶配向剤に含まれる重合体［Ａ］１００質量部に対して、好ましくは１５質量部以下であり、より好ましくは１０質量部以下であり、特に好ましくは１０質量部以下である。また、ガス発生剤の含有割合は、液晶配向剤に含まれる重合体［Ａ］１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上であり、より好ましくは０．５質量部以上であり、特に好ましくは１質量部以上である。ガス発生剤を上記の割合で含有することにより、液晶配向性が良好であって、かつ液晶膜の表面粗さに優れた光学フィルム層を基材上に形成することができる。また、光学機能を有する光学フィルム（転写フィルム）との剥離性が良好であり、剥離後の液晶膜の表面粗さに優れた転写フィルムを得ることができる。
【００８４】
（その他の重合体）
本実施形態の液晶配向剤は、重合体成分として光配向性基を有する重合体を含有する場合に、液晶配向膜の電気特性及び液晶配向性をより良好にできる点で、光配向性基を有する重合体とともに、光配向性基を有さない重合体（以下、「その他の重合体」という。）を含有していることが好ましい。その他の重合体としては、特に制限されないが、例えば、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリエステル、ポリアミド、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、スチレン−マレイミド系共重合体、（メタ）アクリル系重合体などを主骨格とする重合体が挙げられる。その他の重合体は、その主鎖が、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド及び（メタ）アクリル系重合体よりなる群から選ばれるいずれかであることが好ましい。その他の重合体を液晶配向剤に配合する場合、その他の重合体の含有割合は、液晶配向剤中の重合体成分の合計１００質量部に対して、９０質量部以下であることが好ましく、８０質量部以下であることがより好ましい。
【００８５】
＜その他の成分＞
本実施形態の液晶配向剤は、必要に応じて、特定添加剤［Ｂ］以外のその他の成分を添加剤として含有していてもよい。当該その他の成分としては、例えば、硬化触媒、硬化促進剤等が挙げられる。
【００８６】
（硬化触媒）
硬化触媒は、エポキシ構造間の架橋反応に対する触媒作用を有する成分であり、当該架橋反応を促進することを目的として液晶配向剤中に含有される。硬化触媒は金属キレート化合物が好ましく、アルミニウム、チタニウム及びジルコニウムから選択される金属のアセチルアセトン錯体又はアセト酢酸錯体を用いることが好ましい。具体的には、例えばジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、ジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトネート）チタニウム、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどを挙げることができる。金属キレート化合物の使用割合は、液晶配向剤中の重合体成分の合計１００質量部に対して、好ましくは０．１〜５０質量部、より好ましくは０．５〜３０質量部である。
【００８７】
（硬化促進剤）
硬化促進剤は、硬化触媒の触媒作用を強化し、エポキシ構造間の架橋反応を促進することを目的として液晶配向剤中に含有される成分である。硬化促進剤としては、例えばフェノール基、シラノール基、チオール基、リン酸基、スルホン酸基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基などを有する化合物を使用することができる。効果促進剤の具体例としては、例えば、シアノフェノール、ニトロフェノール、メトキシフェノキシフェノール、チオフェノキシフェノール、４−ベンジルフェノール、トリメチルシラノール、トリエチルシラノール、１，１，３，３−テトラフェニル−１，３−ジシロキサンジオール、１，４−ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼン、トリフェニルシラノール、トリ（ｐ−トリル）シラノール、ジフェニルシランジオール、トリメリット酸等が挙げられる。硬化促進剤の使用割合は、液晶配向剤中の重合体成分の合計１００質量部に対して、好ましくは３０質量部以下、より好ましくは０．１〜２０質量部である。
【００８８】
なお、液晶配向剤は、本発明の目的及び効果を妨げない範囲内において、上記以外の成分を含有していてもよい。これらの配合割合は、配合する各化合物に応じて、本発明の効果を妨げない範囲で適宜設定することができる。
【００８９】
（溶剤）
液晶配向剤は、重合体［Ａ］、特定添加剤［Ｂ］及び任意に使用されるその他の成分が、好ましくは適当な溶媒中に分散又は溶解してなる液状の組成物として調製される。使用する溶媒は有機溶媒が好ましく、アルコール、エーテル、ケトン、アミド、エステル、炭化水素などを好適に使用することができる。これらの中でも、多価アルコールの部分エステル、多価アルコールエーテル、エーテル、ケトン及びエステルから選択される１種以上の溶剤（以下、「Ａ溶剤」ともいう。）を使用することが好ましい。具体的には、多価アルコールの部分エステルとしては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを；多価アルコールエーテルとしては、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）から選択される１種以上を；エーテルとしては、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル及びテトラヒドロフランから選択される１種以上を；ケトンとしては、メチルエチルケトン、シクロペンタノン及びシクロヘキサノンから選択される１種以上を；エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｔ−ブチル、アセト酢酸エチル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートから選択される１種以上を、それぞれ好ましく使用することができる。
【００９０】
液晶配向剤の調製に際し、溶媒としては、上記Ａ溶剤を単独で使用してもよいが、Ａ溶剤とともにその他の溶剤（以下、「Ｂ溶剤」ともいう。）を使用してもよい。Ｂ溶剤としては、例えばＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、１，２−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。Ｂ溶剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用できる。
【００９１】
使用するＡ溶剤及びＢ溶剤の使用割合は、重合体の溶剤に対する溶解性に応じて適宜選択することができる。具体的には、Ａ溶剤の使用割合は、液晶配向剤の調製に使用する溶剤の合計量に対して、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。また、Ｂ溶剤の使用割合は、液晶配向剤の調製に使用する溶剤の合計量に対して、９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましい。
【００９２】
溶剤の使用割合は、液晶配向剤の塗布性、及び形成される塗膜の膜厚を適度にする観点から、液晶配向剤の固形分濃度（液晶配向剤中の溶媒以外の全成分の合計質量が、重合体組成物の全質量に占める割合）が０．２〜１０質量％となる割合とすることが好ましく、３〜１０質量％となる割合とすることがより好ましい。
【００９３】
＜積層体及びその製造方法＞
本実施形態の積層体１０は、図１に示すように、支持体１１、液晶配向膜１２及び光学フィルム１３がこの順に積層されてなる。光学フィルム１３は、液晶化合物を含む薄膜であり、単層からなる薄膜であってもよく、多層からなる薄膜であってもよい。光学フィルム１３が多層構造である場合の例としては、例えば、リタデーションが相互に異なる２つ以上の液晶層が積層されてなる多層構造；液晶層と液晶層との間に他の層（例えば、接着層や粘着層など）が介在されてなる多層構造等が挙げられる。積層体１０は、例えば以下の工程１〜工程３を含む方法により製造することができる。
【００９４】
（工程１：塗膜の形成）
まず、支持体１１上に液晶配向剤を塗布し、好ましくは塗布面を加熱することにより支持体１１上に塗膜を形成する。支持体１１としては、透明な樹脂フィルムを好ましく使用することができる。具体的には、例えば、セルロースアシレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド、ポリイミド、ポリ（メタ）アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、環状ポリオレフィンなどの合成樹脂からなるフィルムが挙げられる。支持体１１は、これらのうち、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリ（メタ）アクリレート、ポリカーボネート又はポリエーテルエーテルケトンの樹脂材料により形成されていることが好ましい。これらの樹脂材料により形成されてなる支持体１１は、液晶配向剤の調製に際して好適に使用される溶剤（Ａ溶剤単独、又はＡ溶剤とＢ溶剤との混合溶媒）に対する耐性が適度であり、支持体１１上に形成される液晶配向膜の支持体１１への密着性と液晶配向性とをより良好にできる点で好ましい。使用する支持体１１に対しては、支持体１１の表面と液晶配向膜１２との密着性をさらに良好にするために、液晶配向膜１２を形成する面に、鹸化処理などの従来公知の前処理が施されていてもよい。
【００９５】
支持体１１への液晶配向剤の塗布は、適宜の塗布方法によることができる。具体的には、例えばロールコーター法、スピンナー法、インクジェット印刷法、バーコーター法、エクストリューションダイ法、ダイレクトグラビアコーター法、チャンバードクターコーター法、オフセットグラビアコーター法、含浸コーター法、ＭＢコーター法などを採用することができる。液晶配向剤の塗布後は、塗布面を加熱（ベーク）することが好ましい。この時の加熱温度は、好ましくは４０〜１５０℃、より好ましくは８０〜１４０℃である。加熱時間は、好ましくは０．１〜１５分、より好ましくは１〜１０分である。支持体１１上に形成される塗膜の膜厚は、好ましくは１ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは５ｎｍ〜０．５μｍである。これにより、液晶配向膜１２となる塗膜が支持体１１上に形成される。
【００９６】
（工程２：光配向処理）
支持体１１に塗布した液晶配向剤が、光配向性基を有する重合体を含有する場合、次いで、上記のようにして基板上に形成された塗膜に対し光を照射することにより、塗膜に液晶配向能を付与して液晶配向膜１２とすることが好ましい。ここで、照射する光としては、例えば１５０〜８００ｎｍの波長の光を含む紫外線、可視光線などを挙げることができる。これらのうち、３００〜４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。照射光は偏光であっても非偏光であってもよい。偏光としては、直線偏光を含む光を使用することが好ましい。光の照射は、用いる光が偏光である場合には、基板面に垂直の方向から行っても斜め方向から行ってもよく、あるいはこれらを組み合わせて行ってもよい。非偏光を照射する場合には、基板面に対して斜めの方向から行う必要がある。
【００９７】
使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、水銀−キセノンランプ（Ｈｇ−Ｘｅランプ）などを挙げることができる。偏光は、これらの光源を例えばフィルター、回折格子などと併用する手段などにより得ることができる。光の照射量は、０．１ｍＪ／ｃｍ２〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２とすることが好ましく、１〜５００ｍＪ／ｃｍ２とすることがより好ましい。
【００９８】
（工程３：光学フィルムの形成）
次いで、上記のようにして光照射した後の塗膜（液晶配向膜１２）上に、重合性液晶を含有する液晶組成物を塗布して硬化させる。これにより、液晶配向膜１２の表面上に、光学機能を有する転写フィルムとしての光学フィルム１３が形成される。ここで使用される重合性液晶は、加熱及び光照射のうちの少なくともいずれかの処理によって重合する液晶化合物である。重合性液晶が有する重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、ビニルフェニル基、アリル基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００９９】
重合性液晶としては、重合性基を有する液晶化合物であればよく、従来公知のものを使用することができる。具体的には、例えば非特許文献１（「ＵＶキュアラブル液晶とその応用」、液晶、第３巻第１号（１９９９年）、ｐｐ３４〜４２）に記載されているネマチック液晶を挙げることができる。この場合、好ましくは（メタ）アクリロイル基とメソゲン骨格とを有する液晶化合物である。また、コレステリック液晶、ディスコティック液晶、カイラル剤を添加されたツイストネマティック配向型液晶などであってもよい。
【０１００】
重合性液晶としては、位相差が逆波長分散性を示すものが好ましく、特に下記式で表される化合物（１）を好適に用いることができる。
【化９】
2020177217.tif 000011
化合物（１）を表す式中、Ｕ１及びＵ２は、それぞれ互いに独立に、
【化１０】
2020177217.tif 000012
より選択され、それらの鏡像を含み、ただし、環Ｕ１及びＵ２は、それぞれ、軸結合を介して中央のビトラン基に結合されており、これらの環における１個又は２個の隣接していないＣＨ２基はＯ及び／又はＳで置き換えられていてもよく、環Ｕ１及びＵ２は１個以上の基Ｌで置換されていてもよく、
Ｑ１及びＱ２は、それぞれ互いに独立に、ＣＨ又はＳｉＨであり、
Ｑ３は、Ｃ又はＳｉであり、
Ａ１〜Ａ４は、それぞれ独立に、非芳香族、芳香族若しくはヘテロ芳香族炭素環式又はヘテロ環式基より選択され、該基は１個以上の基Ｒ５で置換されていてもよく、ただし、−（Ａ１−Ｚ１）ｍ−Ｕ１−（Ｚ２−Ａ２）ｎ−及び−（Ａ３−Ｚ３）ｏ−Ｕ２−（Ｚ４−Ａ４）ｐ−のそれぞれは、非芳香族基よりも多くの芳香族基を含有しておらず、好ましくは、１個より多い芳香族基を含有しておらず、
Ｚ１〜Ｚ４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ０−、−ＮＲ０−ＣＯ−、−ＮＲ０−ＣＯ−ＮＲ０−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ０−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＲ０Ｒ００−又は単結合であり、
Ｙ１及びＹ２は、それぞれ互いに独立に、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ又はＲ０であり、
Ｒ０及びＲ００は、それぞれ独立に、Ｈ又は１〜１２個のＣ原子を有するアルキルであり、
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０〜４の整数であり、
ｏ及びｐは、それぞれ独立に、０〜４の整数であり、
Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立に、Ｈ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ０Ｒ００、−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ０、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ０、−ＮＨ２、−ＮＲ０Ｒ００、−ＳＨ、−ＳＲ０、−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ２Ｒ０、−ＯＨ、−ＮＯ２、−ＣＦ３、−ＳＦ５、Ｐ−Ｓｐ−、置換されていてもよいシリル、１〜４０個のＣ原子を有するカルビル基又はヒドロカルビル基（該基は置換されていてもよく、１個以上のヘテロ原子を含んでいてもよい。）より選択される同一の基又は異なる基であるか、又は、Ｐ若しくはＰ−Ｓｐ−を表すか、又は、Ｐ若しくはＰ−Ｓｐ−で置換されており、ただし、該化合物は、少なくとも１個の基Ｒ１〜Ｒ４（該基は、Ｐ若しくはＰ−Ｓｐ−を表すか、又は、Ｐ若しくはＰ−Ｓｐ−で置換されている。）を含み、
Ｐは、重合性基であり、
Ｓｐは、スペーサー基又は単結合である。
【０１０１】
また重合性液晶としては、下記式で表される化合物（２）を好適に用いることができる。
【化１１】
2020177217.tif 000013
化合物（２）を表す式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、直接結合、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数４〜１０のアリーレン基、若しくは置換されていてもよい炭素数５〜１２のアラルキレン基、又は置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数４〜１０のアリーレン基及び置換されていてもよい炭素数５〜１２のアラルキレン基よりなる群から選ばれる２つ以上の基が、酸素原子、置換されていてもよい硫黄原子、置換されていてもよい窒素原子若しくはカルボニル基で連結された基であり、
Ｒ４〜Ｒ９は、それぞれ独立に、水素原子、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜１０のアリール基、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアシル基、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアリールオキシ基、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアシルオキシ基、置換されていてもよいアミノ基、置換基を有する硫黄原子、ハロゲン原子、ニトロ基、又はシアノ基である。ただし、Ｒ４〜Ｒ９のうち隣接する少なくとも２つの基が互いに結合して環を形成していてもよい。
Ｒ１０は、水素原子、又は置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を示す。
ｎは１〜５の整数を示す。
【０１０２】
また重合性液晶としては、下記式で表される化合物（Ａ）を好適に用いることができる。
【化１２】
2020177217.tif 000014
化合物（Ａ）を表す式中、Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＲ１−を表す。Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の１価の芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の１価の芳香族複素環式基を表す。
Ｑ３及びＱ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ２Ｒ３若しくは−ＳＲ２を表すか、又は、Ｑ３とＱ４とが互いに結合して、これらが結合する炭素原子とともに芳香環若しくは芳香族複素環を形成する。Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−ＣＲ６Ｒ７−、−Ｏ−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−Ｏ−ＣＲ６Ｒ７−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ４Ｒ５−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ６Ｒ７−、−ＣＲ４Ｒ５−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ６Ｒ７−、−ＮＲ４−ＣＲ５Ｒ６−又は−ＣＯ−ＮＲ４−を表す。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＨ−に置き換わっていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ１及びＬ２のうちの少なくとも一つは、重合性基を有する。
【０１０３】
化合物（Ａ）におけるＬ１は、下記式（Ａ１）で表される基であることが好ましい。また、Ｌ２は、下記式（Ａ２）で表される基であることが好ましい。
Ｐ１−Ｆ１−（Ｂ１−Ａ１）ｋ−Ｅ１−      （Ａ１）
Ｐ２−Ｆ２−（Ｂ２−Ａ２）ｌ−Ｅ２−      （Ａ２）
［式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、
Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１及びＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ１−、−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｓ−ＣＨ２−又は単結合を表す。
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＨ−に置き換わっていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、第三級窒素原子に置き換わっていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
Ｆ１及びＦ２は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｐ１は、重合性基を表す。
Ｐ２は、水素原子又は重合性基を表す。
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。］
【０１０４】
重合性液晶を用いて光学異方性膜を形成する場合、複数の液晶化合物の混合物を用いてもよく、さらに公知の重合開始剤や適当な溶媒、重合性モノマー、界面活性剤などを含有する組成物を用いてもよい。形成された液晶配向膜１２上に重合性液晶を塗布するには、例えばバーコーター法、ロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法などの適宜の塗布方法を採用することができる。
【０１０５】
続いて、上記のように形成された重合性液晶の塗膜に対して、加熱及び光照射から選択される１種以上の処理を施すことにより、該塗膜を硬化して液晶層（光学フィルム１３）を形成する。これらの処理を重畳的に行うことが、良好な配向が得られることから好ましい。塗膜の加熱温度は、使用する重合性液晶の種類によって適宜に選択される。例えば、メルク社製のＲＭＳ０３−０１３Ｃを使用する場合、４０〜８０℃の範囲の温度で加熱することが好ましい。加熱時間は、好ましくは０．５〜５分である。塗膜に対する照射光としては、２００〜５００ｎｍの範囲の波長を有する非偏光の紫外線を好ましく使用することができる。光の照射量としては、５０〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ２とすることが好ましく、１００〜５，０００ｍＪ／ｃｍ２とすることがより好ましい。なお、塗膜に対する偏光放射線の照射は、所定の偏光方向から１回のみ行ってもよく、偏光方向（入射方向）が異なる放射線を塗膜に対して複数回照射してもよい。
【０１０６】
形成される光学フィルム１３の厚みとしては、所望の光学特性によって適宜に設定される。例えば、位相差フィルムとして、波長５４０ｎｍの可視光における１／２波長板を製造する場合は、位相差フィルムとしての光学フィルム１３の位相差が２４０〜３００ｎｍとなるような厚さが選択され、１／４波長板であれば、位相差が１２０〜１５０ｎｍとなるような厚さが選択される。目的の位相差が得られる光学フィルム１３の厚みは、使用する重合性液晶の光学特性によって異なる。例えばメルク製のＲＭＳ０３−０１３Ｃを使用する場合、１／４波長板を製造するための厚さは、０．６〜１．５μｍの範囲である。こうして積層体１０が得られる。なお、光学フィルム１３が多層構造である場合、当該光学フィルム１３は、例えば、重合性液晶の塗布と硬化処理とを繰り返し行うことにより得ることができる。
【０１０７】
＜光学補償フィルムの形成方法＞
積層体１０によれば、積層体１０が有する光学フィルム１３を被着体２１（図１（ｂ）参照）に転写することにより、被着体２１上に転写フィルム２３としての光学フィルム（図１（ｃ）参照）を形成することができる。具体的には、まず、上記の如くして積層体１０を得て（図１（ａ）参照）、次いで、積層体１０の光学フィルム１３側の面と、被着体２１とを貼り合わせる（図１（ｂ）参照）。このとき、積層体１０の光学フィルム１３側の面、及び被着体２１の面の少なくとも一方に接着層２２を形成し、接着層２２を介して積層体１０と被着体２１とを貼り合わせてもよい。次いで、支持体１１を被着体２１から引き離す。これにより、液晶配向膜１２と光学フィルム１３との境界部分で剥がれが生じ、光学フィルム１３が被着体２１の表面上に転写される。こうして、被着体２１上に、光学フィルム１３（転写フィルム２３）が形成される（図１（ｃ）参照）。光学フィルム１３としては、例えば位相差フィルム、視野角補償フィルム、反射防止フィルム等が挙げられる。
【０１０８】
光学フィルム１３を転写する被着体２１は特に限定されない。例えば、対向配置された一対の基板間に液晶層が設けられた液晶セルを構築し、当該液晶セルにおける一対の基板（例えばガラス基板）を被着体２１とする。そして、当該一対の基板の少なくとも一方の外側に、積層体１０の光学フィルム１３側の面を貼り合わせて光学フィルム１３を転写する。これにより、液晶セルにおける一対の基板の外側に、転写フィルム２３を有する液晶表示素子を得ることができる。あるいは、偏光フィルムを被着体２１とし、偏光フィルム上に（好ましくは、偏光フィルムの偏光層側の面に）、積層体１０の光学フィルム１３側の面を貼り合わせて光学フィルム１３を転写してもよい。偏光フィルムの偏光層側の面に光学フィルム１３を転写する場合、偏光フィルムの被転写面は、転写時の収縮が小さい材質からなることが好ましい。具体的には、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）からなる保護層、又はポリビニルアルコールにヨウ素が吸着された液晶層等の表面が被転写面である態様が挙げられる。
【０１０９】
光学フィルム１３が位相差フィルムである場合、位相差フィルムを有する偏光フィルム（位相差フィルム付き偏光フィルム）を得ることができる。当該位相差フィルム付き偏光フィルムは、例えば円偏光板として使用することができる。また、光学フィルム１３は、直線偏光板と組み合わせることで、反射防止機能を有する光学フィルムとして有用である。被着体２１は、好ましくはガラス基材、トリアセチルセルロース基材又はポリビニルアルコール基材であり、より好ましくはガラス基材又はトリアセチルセルロース基材である。
【０１１０】
被着体２１に対しては、複数の積層体１０を用いて、光学フィルム１３の転写を複数回行ってもよい。具体的には、まず、第１の液晶配向膜及び第１の光学フィルムがこの順に支持体上に積層された第１の積層体を被着体２１に貼り合わせることによって、第１の光学フィルムを被着体２１に転写する。続いて、第２の液晶配向膜及び第２の光学フィルムがこの順に支持体上に積層された第２の積層体を、被着体２１における第１の光学フィルムの形成面に貼り合わせ、第１の光学フィルムの表面上に第２の光学フィルムを転写する。これにより、被着体２１に、第１の光学フィルム及び第２の光学フィルムを含む多層構造からなる光学フィルムを形成することができる。なお、多層構造からなる光学フィルムにおいて、光学フィルムは２層に限らず、３層以上としてもよい。
【０１１１】
《第２実施形態》
本実施形態の積層体の製造方法、及び当該積層体の製造に用いられる液晶配向剤について説明する。本実施形態の積層体は、支持体と、支持体上に形成された液晶配向膜と、液晶配向膜上に形成された光学フィルムとを有する、光学異方性を示す積層体（以下、「光学異方性積層体」という。）である。また、本実施形態の液晶配向剤は、光学異方性積層体を得るための液晶配向膜を形成する用途の液晶配向剤である。以下に、本実施形態の液晶配向剤に配合される成分、及び必要に応じて任意に配合されるその他の成分について、上記第１実施形態の液晶配向剤との相違点を中心に説明する。
【０１１２】
＜液晶配向剤＞
本実施形態の液晶配向剤は、重合体［Ａ］を含有する。重合体［Ａ］については、上記第１実施形態の説明が適用される。本実施形態の液晶配向剤は、低温焼成により液晶配向膜を形成した場合に、液晶配向性に優れ、かつ表面粗さが小さい光学フィルム層を形成することができる点で、ポリイミド、及び保護基を有するアミン系硬化剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物（以下、「特定硬化剤（Ｅ）」ともいう。）を含有することが好ましい。
【０１１３】
特定硬化剤（Ｅ）としてポリイミドを用いる場合、ポリイミドの好ましい具体例としては、上記第１実施形態において例示したポリイミドが挙げられる。特定硬化剤（Ｅ）としてのポリイミドは、そのイミド化率が５％以上であることが好ましく、１０％以上であることがより好ましく、３０％以上であることが更に好ましい。また、特定硬化剤（Ｅ）としてのポリイミドのイミド化率は、９５％以下であることが好ましく、８０％以下であることがより好ましく、７０％以下であることが更に好ましい。
【０１１４】
特定硬化剤（Ｅ）としてポリイミドを用いる場合、ポリイミドの含有割合は、液晶配向剤に含有される重合体［Ａ］の全量（特定硬化剤（Ｅ）としてのポリイミドを含む。）に対して、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が更に好ましく、７０質量％以上が特に好ましい。なお、ポリイミドは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、液晶配向剤がポリイミドを含有する場合、ポリイミドは、重合体［Ａ］でもあり、特定硬化剤（Ｅ）でもある。
【０１１５】
特定硬化剤（Ｅ）として保護基を有するアミン系硬化剤（以下、「特定アミン系硬化剤」ともいう。）は、特に限定されないが、好ましい化合物として、下記式（１３）で表される化合物が挙げられる。
【化１３】
2020177217.tif 000015
（式（１３）中、Ｒ１１及びＲ１２は、下記の（ｉ）又は（ｉｉ）を満たす。
（ｉ）Ｒ１１は水素原子又は１価の有機基であり、Ｒ１２は（ｍ＋ｒ）価の有機基である。
（ｉｉ）Ｒ１１とＲ１２とが結合して、Ｒ１１及びＲ１２が結合する窒素原子、Ｒ１１並びにＲ１２で含窒素複素環を形成している。
Ｘ１は保護基であり、Ｘ２は、前記重合体成分と共有結合若しくはイオン結合を形成可能な基、又は分子間のＸ２同士で重合する基である。ただし、Ｘ２は、基「−Ｎ（Ｒ１１）２−ｋ−（Ｘ１）ｋ」とは異なる基である。ｍは１以上の整数であり、ｒは０以上の整数であり、ｍ＋ｒ≧２を満たす。ｍが２以上の場合、複数のＸ１、Ｒ１１は独立して上記定義を有し、ｒが２以上の場合、複数のＸ２は独立して上記定義を有する。ｋは１又は２である。ｋが２の場合、複数のＸ１は独立して上記定義を有する。）
【０１１６】
上記式（１３）において、Ｘ１は、熱、光、酸、塩基等の条件で脱離する基が挙げられ、熱により脱離する基であることが好ましい。具体的には、例えばカルバメート系保護基、アミド系保護基、イミド系保護基、スルホンアミド系保護基等が挙げられる。Ｘ１の好ましい具体例としては、下記式（３−１）〜式（３−５）のそれぞれで表される基などが挙げられる。
【化１４】
2020177217.tif 000016
（式（３−１）〜式（３−５）中、「＊」は窒素原子に結合する結合手を示す。）
【０１１７】
Ｘ２が、分子間のＸ２同士で重合する基である場合、例えば（メタ）アクリロイル基、ビニル基等が挙げられる。Ｘ２が、重合体成分と共有結合又はイオン結合を形成可能な基である場合、例えば１級アミノ基、−ＮＨ−ＮＨ２、（メタ）アクリロイル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、環状カーボネート基、下記式（５−１）で表される基、下記式（５−２）で表される基等が挙げられる。
【化１５】
2020177217.tif 000017
（式（５−１）及び式（５−２）中、「＊」は結合手を示す。）
【０１１８】
式（１３）中のＲ１２としては、例えば炭素数１〜４０の２価の炭化水素基、当該炭化水素基の炭素−炭素結合間に、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨ−、−ＮＨＣＯ−等のヘテロ原子含有基を含む基Ａ、当該炭化水素基又は基Ａと上記ヘテロ原子含有基とが結合してなる基Ｂ、当該炭化水素基、基Ａ又は基Ｂの水素原子がハロゲン原子等で置換されてなる基などが挙げられる。これらのうち、Ｒ１２は、炭素数１〜２０の２価の鎖状炭化水素基又は当該鎖状炭化水素基の炭素−炭素結合間に−Ｏ−を含む基であることが好ましく、炭素数１〜２０の直鎖状又は分岐状のアルカンジイル基であることがより好ましい。
【０１１９】
Ｒ１１の１価の有機基としては、例えばアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。Ｒ１１は、好ましくは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基であり、更に好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基である。
ｍは１以上の整数であり、１〜６の整数であることが好ましい。ｒは０以上の整数であり、０〜３の整数であることが好ましい。機械的強度及び液晶配向性の両立を図る観点から、ｍ＋ｒは２〜６の整数であることが好ましく、２〜４の整数であることがより好ましい。ｋは１又は２であり、１が特に好ましい。
【０１２０】
特定アミン系硬化剤の好ましい具体例としては、下記式（Ａｄ−１）〜式（Ａｄ−２３）のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。
【化１６】
2020177217.tif 000018
（式（Ａｄ−１）〜式（Ａｄ−１６）中、Ｒ１は、上記式（３−１）〜式（３−４）のいずれかで表される基であり、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子又は上記式（３−１）〜式（３−５）のいずれかで表される基であり、Ｒ５は、下記式（４−１）〜式（４−８）のいずれかで表される基である。ｎは１〜２０の整数である。）
【０１２１】
【化１７】
2020177217.tif 000019
（式（Ａｄ−１７）〜式（Ａｄ−２３）中、Ｒ４は、上記式（３−１）〜式（３−４）のいずれかで表される基であり、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、下記式（４−１）〜式（４−８）のいずれかで表される基である。ｎは１〜２０の整数である。）
【０１２２】
【化１８】
2020177217.tif 000020
（式（４−１）〜式（４−８）中、「＊」は結合手であることを示す。）
【０１２３】
特定硬化剤（Ｅ）として特定アミン系硬化剤を用いる場合、特定アミン系硬化剤の含有割合は、液晶配向剤に含有される重合体［Ａ］の全量１００質量部に対して、０．１質量部以上が好ましく、１質量部以上がより好ましく、３質量部以上が更に好ましく、５質量部以上が特に好ましい。また、特定アミン系硬化剤の含有割合は、液晶配向剤に含有される重合体［Ａ］の全量１００質量部に対して、５０質量部以下が好ましく、４０質量部以下がより好ましく、３０質量部以下が更に好ましく、５質量部以上が特に好ましい。なお、特定アミン系硬化剤としては、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２４】
本実施形態の液晶配向剤は、必要に応じて、その他の成分を添加剤として含有していてもよい。その他の成分としては、例えば、上記第１実施形態において説明した硬化触媒、硬化促進剤、特定添加剤［Ｂ］等が挙げられる。これらの配合割合は、配合する各化合物に応じて、本発明の効果を妨げない範囲で適宜設定することができる。本実施形態の液晶配向剤は、上記第１実施形態と同様、好ましくは溶剤に溶解又は分散された重合体組成物として調製される。使用する溶剤については、上記第１実施形態の説明が適用される。
【０１２５】
＜光学異方性積層体の製造方法＞
次に、本実施形態の光学異方性積層体の製造方法について説明する。本製造方法は、以下の工程（Ａ１）、工程（Ａ２）及び工程（Ａ３）を含むものである。
（Ａ１）液晶配向剤を支持体の上に塗布して塗膜を形成する工程。
（Ａ２）工程（Ａ１）で得られた塗膜に液晶配向能を付与することにより支持体上に液晶配向膜を形成する工程。
（Ａ３）液晶組成物を硬化させることにより液晶配向膜上に光学フィルムを形成する工程。
【０１２６】
工程（Ａ１）では、上記第１実施形態における工程１と同様に、まず、支持体上に液晶配向剤を塗布し、塗膜面を加熱することにより支持体上に塗膜を形成する。支持体及び塗布方法については、上記第１実施形態における支持体１１及び塗布方法の説明が適用される。塗膜の形成に際し本実施形態では、２５〜１００℃の範囲内の温度で加熱することにより支持体の上に塗膜を形成する。加熱温度（ベーク温度）は、支持体の選択の自由度を高くできる点及び製造コストを低減できる点で、好ましくは８０℃以下であり、より好ましくは７０℃以下であり、更に好ましくは６５℃以下である。また、ベーク温度は、良好な液晶配向性を確保するために、好ましくは２５℃以上であり、より好ましくは３０℃以上である。ベーク時間は、好ましくは０．１〜２０分であり、より好ましくは１〜１０分である。
【０１２７】
本製造方法では、加熱処理としては、２５〜１００℃の範囲内の温度での加熱処理のみを含み、実質的に１００℃を超える温度での加熱処理を含まない。このため、ガラス転移温度や融点が低い樹脂材料からなる基材を支持体として光学異方性積層体を製造でき、支持体の材料の選択の自由度が高い点で好適である。なお、工程（Ａ２）及び工程（Ａ３）については、上記第１実施形態の工程２及び工程３とそれぞれ同様の処理であるため、ここでは説明を省略する。
【０１２８】
こうして得られた光学異方性積層体は、配向膜の割れや剥がれが少なく、液晶配向性が良好であり、かつ光学フィルム層の表面粗さが小さく、高透過率を示す。また、低温（例えば１００℃以下）の焼成工程によって、支持体と液晶配向膜と光学フィルム層とを有する光学異方性積層体を得ることができ、支持体の材料選択の自由度が高い。よって、本実施形態の光学異方性積層体は、位相差フィルムや視野角補償フィルム、反射防止フィルム等といった光学補償フィルム、偏光フィルム等の種々の用途に有用である。
【実施例】
【０１２９】
以下、実施例により更に具体的に説明するが、本開示の内容はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１３０】
以下の例において、重合体の重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎ及びエポキシ当量、重合体溶液の溶液粘度並びに、ポリイミドのイミド化率は、以下の方法により測定した。以下の例で用いた原料化合物及び重合体の必要量は、下記の合成例に示す合成スケールでの合成を必要に応じて繰り返すことにより確保した。
【０１３１】
［重合体の重量平均分子量Ｍｗ及び数平均分子量Ｍｎ］
Ｍｗ及びＭｎは、以下の条件におけるＧＰＣにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム：東ソー（株）製、ＴＳＫｇｅｌＧＲＣＸＬＩＩ
溶剤：テトラヒドロフラン、又は、リチウムブロミド及びリン酸含有のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液
温度：４０℃
圧力：６８ｋｇｆ／ｃｍ２
［エポキシ当量］
エポキシ当量は、JIS C 2105に記載の塩酸−メチルエチルケトン法により測定した。
［重合体溶液の溶液粘度］
重合体溶液の溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃で測定した。
［ポリイミドのイミド化率］
ポリイミドの溶液を純水に投入し、得られた沈殿を室温で十分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温で１Ｈ−ＮＭＲを測定した。得られた１Ｈ−ＮＭＲスペクトルから、下記数式（１）で示される式によりイミド化率を求めた。
イミド化率（％）＝（１−Ａ１／Ａ２×α）×１００      （１）
（数式（１）中、Ａ１は化学シフト１０ｐｐｍ付近に現れるＮＨ基のプロトン由来のピーク面積であり、Ａ２はその他のプロトン由来のピーク面積であり、αは重合体の前駆体（ポリアミック酸）におけるＮＨ基のプロトン１個に対するその他のプロトンの個数割合である。）
なお、以下では、式（Ｘ）で表される化合物を単に「化合物（Ｘ）」と略すことがある。
【０１３２】
＜エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成＞
［合成例１］
撹拌機、温度計、滴下漏斗及び還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン７０．５ｇ、テトラエトキシシラン１４．９ｇ、エタノール８５．４ｇ及びトリエチルアミン８．８ｇを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水７０．５ｇを滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で攪拌しつつ、８０℃で２時間反応させた。反応溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２ 回繰り返すことにより、トリエチルアミン及び水を留去し、ポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）を含む重合体溶液を得た。１Ｈ−ＮＭＲ分析を行ったところ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）のＭｗは１１，０００、エポキシ当量は１８２ｇ／モルであった。
【０１３３】
＜桂皮酸誘導体の合成＞
桂皮酸誘導体の合成反応は不活性雰囲気中で行った。
［合成例２］
冷却管を備えた５００ｍＬの三口フラスコに、１−ブロモ−４−シクロヘキシルベンゼン１９．２ｇ、酢酸パラジウム０．１８ｇ、トリス（２−トリル）ホスフィン０．９８ｇ、トリエチルアミン３２．４ｇ、ジメチルアセトアミド１３５ｍＬを混合した。この混合溶液に、シリンジでアクリル酸を７ｇ加えて撹拌した。さらに、混合溶液を１２０℃で３時間、加熱しながら撹拌した。ＴＬＣ（薄層クロマトグラフィー）で反応の終了を確認した後、反応溶液を室温まで冷却した。沈殿物をろ別した後、ろ液を１Ｎ塩酸水溶液３００ｍＬに注ぎ、沈殿物を回収した。回収した沈殿物を、酢酸エチルとヘキサンの１：１（質量比）溶液で再結晶することにより、下記式（Ｍ−１）で表される化合物（桂皮酸誘導体（Ｍ−１））を１０．２ｇ得た。
【化１９】
2020177217.tif 000021
【０１３４】
＜光配向性ポリオルガノシロキサンの合成＞
［合成例３］
１００ｍＬの三口フラスコに、合成例１で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）１１．３ｇ、酢酸ｎ−ブチル１３．３ｇ、合成例２で得た桂皮酸誘導体（Ｍ−１）１．７ｇ及び４級アミン塩（サンアプロ社、ＵＣＡＴ１８Ｘ）０．１０ｇを仕込み、８０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、酢酸ｎ−ブチルをさらに２０ｇ追加し、この溶液を３回水洗した後、酢酸ｎ−ブチルをさらに２０ｇ追加し、固形分濃度１０質量％となるように溶媒を留去した。これにより、光配向性ポリオルガノシロキサンである重合体（Ｓ−１）を含有する固形分濃度１０質量％の酢酸ｎ−ブチル溶液を得た。重合体（Ｓ−１）の重量平均分子量Ｍｗは１７，０００であった。
【０１３５】
＜ポリ（メタ）アクリレートの合成＞
［合成例４］
国際公開第２０１３／０８１０６６号の段落［００６８］に記載に従い、下記式（１０）で表されるモノマーをテトラヒドロフラン中に溶解し、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を添加して重合することで、重合体（ＰＡＣ−１）を得た。
【化２０】
2020177217.tif 000022
【０１３６】
＜ポリアミック酸の合成＞
［合成例５］
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物１９．６１ｇ（０．１モル）、及び２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル２１．２３ｇ（０．１モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン３６７．６ｇに溶解し、室温で６時間反応を行った。反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥することにより、ポリアミック酸（ＰＡＡ−１）を３５ｇ得た。
［合成例６］
下記式（ａａ−１）で表される化合物３９．８９ｇ（０．０９４モル）、及び下記式（ｄａ−１）で表される化合物２６．８３ｇ（０．１モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン３７８．０８ｇに溶解し、４０℃で６時間反応を行った。反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥することにより、ポリアミック酸（ＰＡＡ−２）を５０ｇ得た。
【化２１】
2020177217.tif 000023
【０１３７】
＜ポリイミドの合成＞
［合成例７］
２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物２１．０７ｇ（０．０９４モル）及び上記式（ｄａ−１）で表される化合物２６．８３ｇ（０．１モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン２７１．５０ｇに溶解し、４０℃で６時間反応を行った。その後、Ｎ−メチル−２−ピロリドン１５９．７ｇ、ピリジン５．９５ｇ及び無水酢酸７．６８ｇを添加して、１１０℃で４時間脱水閉環反応を行った。次いで、反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥することにより、イミド化率約４０％のポリイミド（ＰＩ−１）を５０ｇ得た。
【０１３８】
［合成例８］
上記式（ａａ−１）で表される化合物３９．８９ｇ（０．０９４モル）、及び上記式（ｄａ−１）で表される化合物２６．８３ｇ（０．１モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン３７８．０８ｇに溶解し、４０℃で６時間反応を行った。その後、Ｎ−メチル−２−ピロリドン２２２．４ｇ、ピリジン５．９５ｇ及び無水酢酸７．６８ｇを添加して、１１０℃で４時間脱水閉環反応を行った。次いで、反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥することにより、イミド化率約６５％のポリイミド（ＰＩ−２）を５０ｇ得た。
【０１３９】
＜重合性液晶組成物の調製＞
重合性液晶組成物（ＲＭ−１）〜（ＲＭ−４）を調製した。各重合性液晶組成物は以下のとおりである。
・ＲＭ−１：
下記式（ＲＭＭ−１）で表される化合物を５０質量部、ＢＡＳＦ社製ＬＣ２４２を５０質量部、シクロペンタノンを３００質量部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７）を５質量部、２，５−ジ−ターシャリーブチルハイドロキノリンを０．１質量部、及び３Ｍ社製ＦＣ１７１を０．１質量部混合した組成物。
・ＲＭ−２：
下記式（ＲＭＭ−２）で表される化合物を５０質量部、ＢＡＳＦ社製ＬＣ２４２を５０質量部、シクロペンタノンを３００質量部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７）を５質量部、２，５−ジ−ターシャリーブチルハイドロキノリンを０．１質量部、及び３Ｍ社製ＦＣ１７１を０．１質量部混合した組成物。
・ＲＭ−３：
下記式（ＲＭＭ−３）で表される化合物を１００質量部、下記式（ＲＭＭ−４）で表される化合物を３３質量部、イルガキュア３６９を８質量部、レベリング剤としてポリアクリレート化合物（ＢＹＫ−３６１Ｎ）を０．１質量部、ＬＡＬＯＭＥＲＬＲ９０００を６．７質量部、シクロペンタノン５４６質量部、Ｎ−メチルピロリドンを３６４質量部混合した組成物。
・ＲＭ−４：
ＢＡＳＦ社製ＬＣ２４２を１００質量部、シクロペンタノンを３００質量部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７）を５質量部、２，５−ジ−ターシャリーブチルハイドロキノリンを０．１質量部、及び３Ｍ社製ＦＣ１７１を０．１質量部混合した組成物。
【化２２】
2020177217.tif 000024
（ＲＭＭ−１）
【化２３】
2020177217.tif 000025
（ＲＭＭ−２）
【化２４】
2020177217.tif 000026
（ＲＭＭ−３）
【化２５】
2020177217.tif 000027
（ＲＭＭ−４）
【０１４０】
＜液晶配向膜の作製及び評価＞
［実施例１］
１．光学異方性膜（光学フィルム）形成用液晶配向剤の調製
重合体成分として、合成例６で得た重合体（ＰＡＡ−２）を１００質量部に相当する量と、２，４，６−トリス（３’，５’−ジ−ターシャリーブチル−４’−ヒドロキシベンジル）メシチレン（ヒンダードフェノール系化合物）２質量部とを混合し、これに溶媒としてＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）及びブチルセロソルブ（ＢＣ）を加え、固形分濃度が４質量％、各溶媒の質量比がＮＭＰ：ＢＣ＝６０：４０となるように調製した。次いで、この得られた溶液を孔径１μｍのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤（Ａ−１）を調製した。
【０１４１】
２．転写用積層体の作製
支持体としてのハードコート層を有するポリエーテルエーテルケトンフィルム上に、上記で調製した液晶配向剤（Ａ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、オーブン内にて１２０℃で２分間ベークして膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて、３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２をフィルム面の法線方向から照射し、液晶配向膜を作製した。次いで、重合性液晶組成物（ＲＭ−１）を孔径０．２μｍのフィルターでろ過し、バーコーターを用いて液晶配向膜の表面に塗布した。続いて、６５℃に設定したオーブンで１分間ベークを行った後、Ｈｇ−Ｘｅランプを用いて、３６５ｎｍの輝線を含む非偏光の紫外線１，０００ｍＪ／ｃｍ２を重合性液晶に照射し、硬化させた。得られた膜の膜厚は１．０μｍであった。
【０１４２】
３．液晶塗布性の評価
上記２．で得られた転写用積層体を、クロスニコル下、液晶配向方向が偏光板の偏光軸と４５°ずれるように配置し、目視により重合性液晶のハジキやピンホールの有無を観察した。評価は、ピンホールやハジキによる塗布ムラが観察されなかった場合を液晶塗布性「良好」、ピンホールやハジキによる塗布ムラが観察された場合を液晶塗布性「不良」とした。本実施例では、ピンホールやハジキによる塗布ムラが観察されず、液晶塗布性は「良好」と判断された。
４．積層体（液晶膜表面）の粗さ評価
上記２．で得られた転写用積層体を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて観察し、中心平均粗さ（Ｒａ）を測定した。評価は、Ｒａが２．０ｎｍ未満の場合を表面粗さ「良好（Ａ）」、２．０ｎｍ以上５．０ｎｍ未満であった場合を「可（Ｂ）」、５．０ｎｍ以上の場合を「不良（Ｃ）」として行った。本実施例の表面粗さは「良好（Ａ）」であった。
【０１４３】
５．液晶剥離性の評価
上記２．で得られた転写用積層体を用い、ＪＩＳ規格Ｋ５６００−５−６（ＩＳＯ２４０９）に記載のクロスカット試験により、液晶配向膜に対する光学異方性膜の剥離性を評価した。塗膜のカットは、直角の格子パターンを塗膜に切り込み、その切り込みが支持体の表面まで達した状態で評価した。最表面の光学異方性膜がテープに十分に密着して完全に剥離され、液晶配向膜が支持体に残る場合、液晶配向膜に対する光学異方性膜の剥離性が良好であるといえる。具体的には、試験結果を下記６分類で実施し、分類０又は１の場合に、剥離性「良好」、分類２又は３の場合に、剥離性「可」、分類４又は５の場合に剥離性「不良」であると判断した。本実施例では分類０であり、剥離性は「良好」であった。
分類０：カットの縁が完全に滑らかで，どの格子の目にも配向膜の剥がれがなく、光学異方性膜のみが剥離された状態。
分類１：カットの交差点において配向膜が光学異方性膜と共に小さなはがれを生じている。ただし、クロスカット部分で影響を受けるのは明確に５％を上回らない状態。
分類２：配向膜がカットの縁に沿って剥がれているか、交差点において光学異方性膜と共に剥がれているか、又はその両者である状態。ただし、クロスカット部分で影響を受けるのは明確に５％を超えるが１５％を上回らない状態。 
分類３：配向膜がカットの縁に沿って、部分的若しくは全面的に光学異方性膜と共に大きく剥がれを生じているか、目のいろいろな部分が部分的若しくは全面的に光学異方性膜と共に剥がれているか、又はその両者である状態。ただし、クロスカット部分で影響を受けるのは明確に１５％を超えるが３５％を上回らない状態。 
分類４：配向膜がカットの縁に沿って部分的若しくは全面的に光学異方性膜と共に大きな剥がれを生じているか、数か所の目が部分的若しくは全面的に光学異方性膜と共に剥がれているか、又はその両者である状態。ただし、クロスカット部分で影響を受けるのは明確に３５％を超えるが６５％を上回らない状態。 
分類５：分類４にも分類されない大きな剥がれが生じている状態。
【０１４４】
６．剥離後の液晶膜の表面粗さ評価
ガラス基板に粘着剤を塗工し、これに上記「２．転写用積層体の作製」で液晶配向膜上に形成した液晶膜をガラス基板上に転写した。得られた液晶膜の表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて観察し、中心平均粗さ（Ｒａ）を測定した。評価は、Ｒａが２．０ｎｍ未満の場合を表面粗さ「良好（Ａ）」、２．０ｎｍ以上５．０ｎｍ未満であった場合を「可（Ｂ）」、５．０ｎｍ以上の場合を「不良（Ｃ）」として行った。なお、液晶膜の表面粗さが小さいほど、転写後の液晶膜（すなわち転写フィルム）のヘーズ値が小さく、高透過率であるといえる。本実施例の表面粗さは「良好（Ａ）」であった。
【０１４５】
７．液晶配向性の評価
ガラス基板に転写した光学異方性膜につき、クロスニコル下での目視及び偏光顕微鏡により液晶配向性を観察した。目視にて液晶配向性が良好と観察され、かつ偏光顕微鏡にて異常ドメインが観察されなかった場合を「良好（Ａ）」、目視では配向性良好と観察されたが、偏光顕微鏡にて異常ドメインが観察された場合を「可（Ｂ）」、目視にて液晶配向性の異常が観察された場合を「不良（Ｃ）」と評価した。その結果、この実施例では、液晶配向性は「良好（Ａ）」の評価であった。
【０１４６】
［実施例２〜６、比較例１〜２］
液晶配向剤の配合組成を下記表１に記載の通りに変更した以外は、実施例１において液晶配向剤（Ａ−１）を調製した方法と同様に液晶配向剤（Ａ−２）〜（Ａ−６）並びに（Ｒ−１）及び（Ｒ−２）を調製した。また、液晶配向剤（Ａ−１）に代えて、下記表１に示す通りの液晶配向剤（Ａ−２）〜（Ａ−６）並びに（Ｒ−１）及び（Ｒ−２）を用いた点以外は、実施例１と同様にして各種評価を行った。
【０１４７】
【表１】
2020177217.tif 000028
【０１４８】
表１中の「配合量」の数値は、液晶配向剤の調製に使用した重合体成分の合計１００質量部に対する各化合物の配合割合（質量部）を示す。表１中、化合物の略号は以下の通りである（下記表３についても同じ）。
＜特定添加剤＞
Ａ−１：２，４，６−トリス（３’，５’−ジ−ターシャリーブチル−４’−ヒドロキシベンジル）メシチレン（ヒンダードフェノール系化合物）
Ａ−２：ＡＤＥＫＡ社製  アデカスタブ  ＬＡ−７２（ヒンダードアミン系化合物）
ＳＡ−１：東レ・ダウ社製  ＤＯＷＳＩＬ  ＳＨ８４００（シリコーン系界面活性剤）
ＳＡ−２：ＤＩＣ社製メガファックＦ−５５４（フッ素系界面活性剤）
ＰＨＯＴＯ−１：ダイトーケミックス社製４Ｃ−ＰＡ−２８０（ナフトキノンジアジド（ＮＱＤ）型感光剤）
＜触媒＞
Ｂ−１：トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム（アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル製）
＜硬化促進剤＞
Ｋ−１：トリ（ｐ−トリル）シラノール
＜溶剤＞
ＢＡ：酢酸ｎ−ブチル
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
ＧＢＬ：γ−ブチルラクトン
ＢＣ：ブチルセロソルブ
実施例１〜６及び比較例１〜２の各種評価結果を下記表２にまとめた。
【０１４９】
【表２】
2020177217.tif 000029
【０１５０】
（位相差の評価）
実施例１及び実施例３と同様に光学異方性膜を作製した。次いで、これらの膜について位相差を評価したところ、実施例１で作製した光学異方性膜は、波長の増大とともに位相差が増大する、つまり逆波長分散性を示したが、実施例３で作製した光学異方性膜については、波長の増大とともに位相差が減少する順波長分散性を示した。
【０１５１】
（円偏光板としての利用）
実施例１における「２．転写用積層体の作製」と同様にして積層体を製造した。なお、重合性液晶層の厚みは１／４λとなるように調整した。次いで、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８に粘着剤を塗工し、上記積層体を、積層体の遅相軸方向と偏光板の吸収軸との角度が４５度になるように貼り合わせた。次いで、支持体及び配向膜を剥がし、円偏光板を製造した。
得られた円偏光板につき、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、円偏光板面の法線方向から入射角（極角）５°における出射角５°の鏡面反射率を測定したところ、０．２％と良好な反射防止機能を有していることがわかった。
【０１５２】
以上の通り、特定添加剤［Ｂ］を含有する液晶配向剤を用いることで、液晶配向膜の表面粗さが小さく、光学異方性膜との剥離性が良好となり、しかも剥離後の光学異方性膜の表面粗さが小さく、透明性が良好な液晶配向膜が得られることが明らかとなった。したがって、特定添加剤［Ｂ］を含有する液晶配向剤を用いて形成した液晶配向膜の表面上に光学フィルム（液晶層）を形成し、得られた積層体の光学フィルム側を被着体に密着させた後、剥離することで、被着体上に光学フィルムのみが転写された構造体を得るのに有用である。
【０１５３】
［実施例７］
１．光学異方性膜（光学フィルム）形成用液晶配向剤の調製
重合体成分として、合成例７で得た重合体（ＰＩ−１）を１００質量部に相当する量に、溶媒としてＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）及びブチルセロソルブ（ＢＣ）を加え、固形分濃度が４質量％、各溶媒の質量比がＮＭＰ：ＢＣ＝５０：５０となるように調製した。次いで、この得られた溶液を孔径１μｍのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤（Ａ−７）を調製した。
【０１５４】
２．光学異方性積層体の作製
支持体としてのハードコート層を有するトリアセチルセルロース上に、上記で調製した液晶配向剤（Ａ−７）を、バーコーターを用いて塗布し、オーブン内にて６０℃で２分間ベークして、膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて、３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２をフィルム面の法線方向から照射し、液晶配向膜を作製した。次いで、重合性液晶組成物（ＲＭ−１）を孔径０．２μｍのフィルターでろ過し、バーコーターを用いて液晶配向膜の表面に塗布した。続いて、６５℃に設定したオーブンで１分間ベークを行った後、Ｈｇ−Ｘｅランプを用いて、３６５ｎｍの輝線を含む非偏光の紫外線１，０００ｍＪ／ｃｍ２を重合性液晶に照射し、硬化させた。得られた光学異方性積層体の厚さは１．０μｍであった。
【０１５５】
３．配向膜のクラック耐性の評価
上記２．で得られた光学異方性積層体につき、目視により液晶配向膜の割れ及び剥がれ（これを「クラック」という。）の有無を観察した。液晶配向膜の内部で架橋ムラが発生した場合、架橋が過度に進行した部分では割れや剥がれが生じやすくなる。評価は、液晶配向膜にクラックが観察されなかった場合をクラック耐性「良好」、液晶配向膜にクラックが観察された場合をクラック耐性「不良」とした。本実施例では、配向膜にクラックが観察されず、配向膜のクラック耐性は「良好」と判断された。
【０１５６】
４．積層体表面（液晶膜表面）の粗さ評価
上記２．で得られた光学異方性積層体を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて観察し、中心平均粗さ（Ｒａ）を測定した。評価は、Ｒａが２．０ｎｍ未満の場合を表面粗さ「良好（Ａ）」、２．０ｎｍ以上５．０ｎｍ未満であった場合を「可（Ｂ）」、５．０ｎｍ以上の場合を「不良（Ｃ）」として行った。本実施例の表面粗さは「良好（Ａ）」であった。
【０１５７】
５．液晶配向性の評価
上記２．で作製した光学異方性積層体につき、クロスニコル下での目視及び偏光顕微鏡により液晶配向性を観察した。目視にて液晶配向性が良好と観察され、かつ偏光顕微鏡にて異常ドメインが観察されなかった場合を「良好（Ａ）」、目視では配向性良好と観察されたが、偏光顕微鏡にて異常ドメインが観察された場合を「可（Ｂ）」、目視にて液晶配向性の異常が観察された場合を「不良（Ｃ）」と評価した。その結果、この実施例では、液晶配向性は「良好（Ａ）」の評価であった。
【０１５８】
［実施例８〜１１、比較例３〜４］
液晶配向剤の配合組成を下記表３に記載の通りに変更した以外は、実施例７において液晶配向剤（Ａ−７）を調製した方法と同様に液晶配向剤（Ａ−８）〜（Ａ−１１）並びに（Ｒ−１）及び（Ｒ−２）を調製した。また、液晶配向剤（Ａ−７）に代えて、下記表３に示す通りの液晶配向剤（Ａ−８）〜（Ａ−１１）並びに（Ｒ−１）及び（Ｒ−２）を用いた点以外は、実施例７と同様にして各種評価を行った。
【０１５９】
【表３】
2020177217.tif 000030
【０１６０】
表３中の「配合量」の数値は、液晶配向剤の調製に使用した重合体成分の合計１００質量部に対する各化合物の配合割合（質量部）を示す。表３中、化合物の略号は以下の通りである。
＜硬化促進剤＞
Ｋ−２：ヘキサン−１，６−ジイルジカルバミド酸＝ジ−ターシャリーブチル（下記式（Ｋ−２）で表される化合物）
【化２６】
2020177217.tif 000031
実施例７〜１１及び比較例３〜４の各種評価結果を下記表４にまとめた。
【０１６１】
【表４】
2020177217.tif 000032
【０１６２】
以上の通り、ポリイミド又は特定アミン系硬化剤を含有する液晶配向剤を用いることで、ベーク温度を低温に設定した場合にも、液晶配向性が良好であり、しかも光学フィルム層の表面粗さが小さい光学異方性積層体が得られることが明らかとなった。また、得られた光学異方性積層体の配向膜には、割れや剥がれが観察されなかった。
【符号の説明】
【０１６３】
１０…積層体、１１…支持体、１２…液晶配向膜、１３…光学フィルム、２１…被着体、２２…接着層、２３…転写フィルム
【図１】
2020177217.tif 000033