(57)【要約】【課題】蒸着材料への熱負荷が軽減され、安定した蒸着速度を可能にする蒸着源、真空処理装置、及び蒸着方法を提供すること。【解決手段】本発明の一形態に係る蒸着源は、蒸発容器と、加熱機構とを具備する。上記蒸発容器は、蒸着材料を収容する容器本体と、上記容器本体を閉塞し上記蒸着材料が噴出可能な噴出ノズルが設けられた天板とを有する。上記加熱機構は、上記天板を介して上記容器本体に対向し、上記蒸着材料を加熱する。上記蒸着材料の蒸発面と上記天板との間の距離が許容範囲に収まるように上記蒸発面の高さが自動的に調整される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着材料を収容する容器本体と、前記容器本体を閉塞し前記蒸着材料が噴出可能な噴出ノズルが設けられた天板とを有する蒸発容器と、
前記天板を介して前記容器本体に対向し、前記蒸着材料を加熱することが可能な加熱機構とを具備し、
前記蒸着材料の蒸発面と前記天板との間の距離が許容範囲に収まるように前記蒸発面の高さが自動的に調整される蒸着源。
【請求項２】
請求項１に記載の蒸着源であって、
前記蒸発容器は、前記蒸着材料を充填する収容容器を有し、
前記収容容器は、前記容器本体に収容され、
前記収容容器に充填された前記蒸着材料の前記蒸発面と前記天板との間の距離が許容範囲に収まるように前記収容容器の高さが自動的に調整される
蒸着源。
【請求項３】
請求項２に記載の蒸着源であって、
前記容器本体の内部において、前記収容容器が前記容器本体に対し相対移動する
蒸着源。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１つに記載の蒸着源であって、
前記蒸発面の高さを調整する昇降機構を具備する
蒸着源。
【請求項５】
請求項４に記載の蒸着源であって、
前記昇降機構は、前記収容容器と前記容器本体との間に配置された弾性部材により構成される
蒸着源。
【請求項６】
請求項３〜５のいずれか１つに記載の蒸着源であって、
前記収容容器と前記容器本体との間に、前記収容容器の前記容器本体に対する相対移動を補助するガイド機構を具備し、
前記収容容器が前記容器本体に対して相対移動するとき、前記ガイド機構によって前記天板と前記収容容器の底部とが平行に保たれる
蒸着源。
【請求項７】
蒸着材料を収容する容器本体と、前記容器本体を閉塞し前記蒸着材料が噴出可能な噴出ノズルが設けられた天板とを有する蒸発容器と、前記天板を介して前記容器本体に対向し、前記蒸着材料を加熱することが可能な加熱機構とを有し、前記蒸着材料の蒸発面と前記天板との間の距離が許容範囲に収まるように前記蒸発面の高さが自動的に調整される蒸着源と、
前記蒸着源に対向する基板支持機構と、
前記蒸着源と、前記基板支持機構とを収容する真空容器と
を具備する真空処理装置。
【請求項８】
蒸着材料を収容する容器本体と、前記容器本体を閉塞し前記蒸着材料が噴出可能な噴出ノズルが設けられた天板とを有する蒸発容器と、前記天板を介して前記容器本体に対向し、前記蒸着材料を加熱することが可能な加熱機構とを有する蒸着源を用いて、前記蒸着材料の蒸発面と前記天板との間の距離を許容範囲に収めながら、前記蒸着材料を基板に形成する蒸着方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着源、真空処理装置、及び蒸着方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空処理装置の中に、例えば、ディスプレイ用の大型基板に有機材料を蒸着する装置がある。このような装置では、基板と蒸着源とを対向させ、蒸着源から基板に向けて有機物等の蒸着材料を噴出させて、基板に蒸着材料を蒸着する。
【０００３】
蒸着源は、蒸着材料を収容する蒸発容器（坩堝）と、蒸発容器の上部を塞ぐ天板と、天板に設けられた噴出ノズルと、蒸発容器、天板、及び噴出ノズルを加熱する加熱機構とを備える（例えば、特許文献１、図５参照）。
【０００４】
加熱機構によって蒸着材料に熱が与えられると、蒸発容器内では蒸着材料の蒸気圧が高まり、噴出ノズルを経由して蒸着材料の蒸気流が基板に向けて噴出する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−２１４８３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、蒸発容器に収容された蒸着材料は、蒸着時間とともに、その量が減少していく。従って、蒸着開始直後と、蒸着時間がある程度経過した後とでは、加熱機構から蒸着材料の単位体積当たりに投入される熱量が変わってしまう。
【０００７】
このようなとき、例えば、蒸着材料の単位体積当たりに投入される熱量が必要以上に投入される、蒸着材料にとっては熱負荷になる。さらに、蒸着時間とともに蒸着材料の量が減少すると、蒸着速度の変動を招来する。
【０００８】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、蒸着材料への熱負荷が軽減され、安定した蒸着速度を可能にする蒸着源、真空処理装置、及び蒸着方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る蒸着源は、蒸発容器と、加熱機構とを具備する。
上記蒸発容器は、蒸着材料を収容する容器本体と、上記容器本体を閉塞し上記蒸着材料が噴出可能な噴出ノズルが設けられた天板とを有する。
上記加熱機構は、上記天板を介して上記容器本体に対向し、上記蒸着材料を加熱する。
上記蒸着材料の蒸発面と上記天板との間の距離が許容範囲に収まるように上記蒸発面の高さが自動的に調整される。
【００１０】
このような蒸着源によれば、蒸着材料への熱負荷が軽減され、安定した蒸着速度が得られる。
【００１１】
上記の蒸着源においては、上記蒸発容器は、上記蒸着材料を充填する収容容器を有し、上記収容容器は、上記容器本体に収容され、上記収容容器に充填された上記蒸着材料の上記蒸発面と上記天板との間の距離が許容範囲に収まるように上記蒸発面の高さが自動的に調整されてもよい。
【００１２】
このような蒸着源によれば、収容容器に充填された蒸着材料の蒸発面と天板との間の距離が許容範囲に収まるように蒸発面の高さが自動的に調整されるので、蒸着材料への熱負荷が軽減され、安定した蒸着速度が得られる。
【００１３】
上記の蒸着源においては、上記容器本体の内部において、上記収容容器が上記容器本体に対し相対移動してもよい。
【００１４】
このような蒸着源によれば、容器本体の内部において、収容容器が容器本体に対し相対移動するので、蒸着材料への熱負荷が軽減され、安定した蒸着速度が得られる。
【００１５】
上記の蒸着源においては、上記蒸発面の高さを調整する昇降機構を具備してもよい。
【００１６】
このような蒸着源によれば、蒸発面の高さを調整する昇降機構を具備するので、蒸着材料への熱負荷が軽減され、安定した蒸着速度が得られる。
【００１７】
上記の蒸着源においては、上記昇降機構は、上記収容容器と上記容器本体との間に配置された弾性部材により構成されてもよい。
【００１８】
このような蒸着源によれば、昇降機構は、収容容器と容器本体との間に配置された弾性部材により構成されるので、蒸着材料への熱負荷が軽減され、安定した蒸着速度が得られる。
【００１９】
上記の蒸着源においては、上記収容容器と上記容器本体との間に、上記収容容器の上記容器本体に対する相対移動を補助するガイド機構を具備し、上記収容容器が上記容器本体に対して相対移動するとき、上記ガイド機構によって上記天板と上記収容容器の底部とが平行に保たれてもよい。
【００２０】
このような蒸着源によれば、ガイド機構によって天板と収容容器の底部とが平行に保たれるので、蒸着材料への熱負荷が軽減され、安定した蒸着速度が得られる。
【００２１】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る真空処理装置は、上記蒸着源と、上記蒸着源に対向する基板支持機構と、上記蒸着源と、上記基板支持機構とを収容する真空容器とを具備する。
【００２２】
このような真空処理装置によれば、蒸着材料への熱負荷が軽減され、安定した蒸着速度が得られる。
【００２３】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る蒸着方法は、上記蒸着源を用いて、上記蒸着材料の蒸発面と上記天板との間の距離を許容範囲に収めながら、上記蒸着材料を基板に形成する。
【００２４】
このような蒸着方法によれば、蒸着材料への熱負荷が軽減され、安定した蒸着速度が得られる。
【発明の効果】
【００２５】
以上述べたように、本発明によれば、蒸着材料への熱負荷が軽減され、安定した蒸着速度を可能にする蒸着源、真空処理装置、及び蒸着方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本実施形態の蒸着源を示す模式的断面図である。
【図２】本実施形態の蒸着源の模式的上面図である。
【図３】本実施形態の真空処理装置を示す模式的断面図である。
【図４】比較例に係る蒸着源の作用の一例を示す模式的断面図である。
【図５】本実施形態に係る蒸着源の作用の一例を示す模式的断面図である。
【図６】本実施形態の蒸着源の変形例を示す模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。各図面には、ＸＹＺ軸座標が導入される場合がある。また、同一の部材または同一の機能を有する部材には同一の符号を付す場合があり、その部材を説明した後には適宜説明を省略する場合がある。
【００２８】
図１は、本実施形態の蒸着源を示す模式的断面図である。図１は、図２、３のＡ１−Ａ１線に沿った断面に対応する。
【００２９】
蒸着源３０Ａは、真空処理装置の成膜源として用いられる。蒸着源３０Ａの上方には、基板（不図示）が配置される。蒸着源３０Ａは、蒸発容器３１と、噴出ノズル３２と、加熱機構３３と、収容容器３４と、昇降機構３５Ａと、分散機構３６とを具備する。
【００３０】
蒸発容器３１は、蒸着材料３０ｍを収容する容器本体３１ｂと、噴出ノズル３２が設けられた天板３１ｔと、蒸着材料３０ｍが充填される収容容器３４とを有する。蒸発容器３１は、Ｘ軸方向に延在する。蒸発容器３１をＺ軸方向（収容容器３４から天板３１ｔに向かう方向）から上面視した場合、その外形は、例えば、長方形である。
【００３１】
天板３１ｔは、容器本体３１ｂを上方から閉塞する。天板３１ｔには、噴出ノズル３２が配置されている。噴出ノズル３２は、例えば、Ｘ軸方向に複数配置される。例えば、複数の噴出ノズル３２は、Ｘ軸方向に所定の間隔を隔てて列状に配置されている。噴出ノズル３２は、容器本体３１ｂの内部に連通する。噴出ノズル３２は、基板に対向し、収容容器３４に充填された蒸着材料３０ｍを噴出する。なお、蒸発容器３１及び噴出ノズル３２の材料は、チタン等の金属である。
【００３２】
また、噴出ノズル３２は、天板３１ｔに対して垂直に配置されるとは限らず、斜めに配置されてもよい（図２）。例えば、その一群の両側及び両側近傍に配置された噴出ノズル３２は、基板９０に背くように傾斜している。例えば、該噴出ノズル３２は、その中心軸３２ｃが天板３１ｔの主面と直交せず交差している。
【００３３】
収容容器３４は、容器本体３１ｂの内部に位置する。すなわち、収容容器３４は、容器本体３１ｂに収容される。収容容器３４は、容器本体３１ｂの内部において、容器本体３１ｂに対して上下に相対移動する。蒸着源３０Ａでは、蒸着材料３０ｍの蒸発面３０ｓ（液面）の高さ（容器本体３１ｂの底部３１１からの高さ）が蒸着中に一定の高さに維持される。
【００３４】
例えば、蒸着材料３０ｍの蒸発面３０ｓと天板３１ｔとの間の距離が許容範囲の距離に収まるように蒸発面３０ｓの高さが自動的に調整される。例えば、蒸発面３０ｓと天板３１ｔとの間の距離が許容範囲に収まるように、収容容器３４の高さが自動的に調整される。分散板３６１を介しての上部加熱機構３３ｕからの輻射による入熱により効率的に蒸着材料３０ｍが加熱されるには、許容範囲は小さいほうが好ましい。
【００３５】
例えば、弾性部材３５１のバネ定数が適宜調整されて、蒸発面３０ｓと分散板３６１の最下面との距離は、１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下に設定される。このとき、例えば、蒸発面３０ｓと天板３１ｔの下面との距離は、１５ｍｍ以上１００ｍｍ以下に設定される。また、許容範囲は、その範囲で決定された蒸発面３０ｓの高さ（Ｚ軸方向の位置）が±１０ｍｍに制御されることで安定した蒸発量が得られる。
【００３６】
加熱機構３３は、上部加熱機構３３ｕと、中部加熱機構３３ｍとを有する。加熱機構３３は、誘導加熱方式の加熱機構でもよく、抵抗加熱方式の加熱機構でもよい。上部加熱機構３３ｕは、主に天板３１ｔを介して容器本体３１ｂに対向する。中部加熱機構３３ｍは、主に容器本体３１ｂ及び収容容器３４に対向する。上部加熱機構３３ｕ及び中部加熱機構３３ｍのそれぞれは、蒸発容器３１を介して蒸着材料３０ｍを加熱する。
【００３７】
蒸発容器３１に収容された蒸着材料３０ｍが加熱機構３３によって加熱されることにより、蒸着材料３０ｍの蒸気圧が高くなり、複数の噴出ノズル３２のそれぞれから基板に向けて蒸着材料３０ｍの蒸気流が噴出する。例えば、蒸着材料３０ｍの蒸発面３０ｓから蒸着材料３０ｍの蒸気が徐々に蒸発する。換言すれば、蒸着時間ともに、蒸発面３０ｓと収容容器３４の底部３４１との間の距離は短くなる。
【００３８】
昇降機構３５Ａは、収容容器３４の高さを調整することにより、蒸着材料３０ｍの蒸発面３０ｓの高さを自動的に調整する。例えば、昇降機構３５Ａは、収容容器３４の底部３４１と、容器本体３１ｂの底部３１１との間に配置された弾性部材３５１により構成される。弾性部材３５１においては、所謂フックの法則に則り、弾性部材３５１の自然長からの縮み量と、収容容器３４に充填されている蒸着材料３０ｍの重量とが比例する。これにより、蒸着時間ともに、蒸発面３０ｓと底部３４１との間の距離が短くなっても、蒸着材料３０ｍの蒸発面３０ｓの高さが略同じ高さに維持される。
【００３９】
分散機構３６は、複数の分散板３６１と、分散板３６１を支持する支持板３６２とを有する。分散板３６１には、蒸着材料３０ｍが通過する開口（図３）が設けられている。支持板３６２は、分散板３６１のＸ軸方向の両端及びＹ軸方向の両端を支持する。支持板３６２と容器本体３１ｂとの間には、収容容器３４の先端３４３が分散機構３６に接触しないように隙間が設けられている。
【００４０】
図２は、本実施形態の蒸着源の模式的上面図である。図２では、容器本体３１ｂの内部を示すために、天板３１ｔ、噴出ノズル３２、及び分散機構３６が略されている。
【００４１】
蒸着源３０Ａには、収容容器３４と容器本体３１ｂとの間に、収容容器３４の容器本体３１ｂに対する相対移動を補助するガイド機構３７が設けられている。例えば、ガイド機構３７は、容器本体３１ｂの側部３１２に設けられた凸部３１５と、収容容器３４の側部３４２に設けられた凹部３４５とにより構成される。凹部３４５と凸部３１５とは、所定のクリアランスを隔てながら、互いに嵌合する。凸部３１５及び凹部３４５のそれぞれは、収容容器３４が相対移動する方向、すなわちＺ軸方向に延在する。
【００４２】
ガイド機構３７が蒸着源３０Ａに設けられることで、収容容器３４が容器本体３１ｂに対して相対移動するとき、天板３１ｔと収容容器３４の底部３４１（底部３４１の底面）とが実質的に平行に保たれる。
【００４３】
図３は、本実施形態の真空処理装置を示す模式的断面図である。
【００４４】
真空処理装置１は、真空容器１０と、基板支持機構２０と、蒸着源３０Ａと、断熱板６０（リフレクタ）と、排気機構７０とを具備する。真空処理装置１は、蒸着材料３０ｍを基板９０に蒸着する蒸着装置である。
【００４５】
真空容器１０は、減圧状態を維持できる容器である。真空容器１０は、排気機構７０によって、その内部の気体が排気される。真空容器１０を基板支持機構２０から蒸着源３０Ａに向かう方向（以下、Ｚ軸方向）に上面視したときの平面形状は、例えば、矩形状である。
【００４６】
真空容器１０は、基板支持機構２０、蒸着源３０Ａ、断熱板６０等を収容する。真空容器１０には、ガスを供給することが可能なガス供給機構が取り付けられてもよい。また、真空容器１０には、その内部の圧力を計測する圧力計が取り付けられてもよい。また、真空容器１０には、基板９０に形成された膜の蒸着速度等を間接的に計測する膜厚計が設けられてもよい。
【００４７】
基板支持機構２０は、真空容器１０の上部に位置する。基板支持機構２０は、Ｚ軸方向において蒸着源３０Ａに対向する。基板支持機構２０は、基板９０を保持する基板ホルダ９１を支持しつつ、基板９０及び基板ホルダ９１をＹ軸方向に搬送する。すなわち、基板９０が搬送されながら、基板９０に蒸着材料３０ｍが蒸着される。
【００４８】
基板９０は、例えば、矩形状の大型ガラス基板である。また、基板９０と蒸着源３０Ａとの間には、マスク部材９２が設けられてもよい。例えば、図１の例では、基板９０の蒸着源３０Ａと対向する面（蒸着面）にマスク部材９２が設けられる。
【００４９】
蒸着源３０Ａは、真空容器１０の下部に位置する。蒸着源３０Ａは、Ｚ軸方向において基板９０に対向する。蒸着源３０Ａは、例えば、図示しない支持台に固定されている。蒸着源３０Ａは、基板９０が搬送される方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に延在する。蒸着源３０Ａは、１つに限らず、例えば、Ｙ軸方向に複数となって並設されてもよい。この場合、複数の蒸発容器３１のそれぞれは、互いに平行になってＹ軸方向に並ぶことになる。複数の蒸発容器３１のそれぞれには、種類が異なる蒸着材料３０ｍを充填することができる。
【００５０】
蒸着源３０Ａと基板９０との相対距離を変える搬送機構は、蒸着源３０Ａ側に設けられてもよい。例えば、固定された基板９０に対して蒸着源３０Ａ及び蒸着源３０Ａを搬送する搬送機構が移動することにより、蒸着源３０Ａと基板９０との相対距離を変えることができる。なお、蒸着源３０Ａの上には、断熱板６０のほかに防着板が配置されてもよく、防着板の下には、冷却機構が配置されてよい。
【００５１】
このように、本実施形態では、蒸着源３０Ａを用いて、蒸着材料３０ｍの蒸発面３０ｓと天板３１ｔとの間の距離を許容範囲に収めながら、蒸着材料３０ｍを基板９０に形成する蒸着方法が提供される。
【００５２】
図４（ａ）、（ｂ）は、比較例に係る蒸着源の作用の一例を示す模式的断面図である。ここで、図４（ｂ）は、図４（ａ）よりも、ある程度の蒸着時間が経過しているとする。
【００５３】
比較例の蒸着源には、昇降機構３５Ａが設けられていない。比較例では、容器本体３１ｂに蒸着材料３０ｍが直接的に充填されている。
【００５４】
蒸着中、容器本体３１ｂに収容された蒸着材料３０ｍは、上部加熱機構３３ｕ及び中部加熱機構３３ｍにより加熱される。例えば、上部加熱機構３３ｕが蒸発容器３１に供給する熱量は、噴出ノズル３２に蒸着材料３０ｍの目詰まりが起きない程度に固定され、中部加熱機構３３ｍが蒸発容器３１に供給する熱量は、噴出ノズル３２から噴出する蒸着材料３０ｍの蒸発量に応じて可変する。
【００５５】
蒸着材料３０ｍの蒸発面３０ｓは、上部加熱機構３３ｕに対向する。この結果、蒸発面３０ｓは、主に上部加熱機構３３ｕから熱Ｈｕを受け、補助的に中部加熱機構３３ｍから熱Ｈｍを受ける。蒸着材料３０ｍが加熱機構３３によって充分に温められると、蒸発面３０ｓから蒸着材料３０ｍの蒸気が蒸発する。この蒸気は、噴出ノズル３２から真空容器１０に噴出される。
【００５６】
但し、比較例では、昇降機構３５Ａが設けられていない。このため、蒸着時間とともに底部３１１からの蒸発面３０ｓの高さが徐々に降下する。例えば、蒸着開始直後の底部３１１からの蒸着材料３０ｍの高さを高さＡとすると（図４（ａ））、蒸着終了時には底部３１１からの高さが高さＢ（Ｂ＜Ａ）になる（図４（ｂ））。
【００５７】
従って、蒸発面３０ｓ近傍での蒸着材料３０ｍが上部加熱機構３３ｕから受ける熱量は、蒸発面３０ｓの降下とともに減少していく。例えば、上部加熱機構３３ｕが供給する熱は、蒸発面３０ｓの降下とともに、容器本体３１ｂの側部３１２に逃げていく。これにより、噴出ノズル３２から噴出する蒸着材料３０ｍの蒸発速度は、蒸発面３０ｓの降下とともに低下していく。
【００５８】
ここで、中部加熱機構３３ｍの電力を蒸発面３０ｓの降下とともに強制的に上昇させ、噴出ノズル３２から噴出する蒸着材料３０ｍの蒸発速度を一定に保つ手法がある。
【００５９】
しかし、蒸発面３０ｓが降下することから、中部加熱機構３３ｍが供給する熱は、蒸着材料３０ｍでなく、容器本体３１ｂの側部３１２に逃げていく。そして、中部加熱機構３３ｍが側部３１２に供給する熱と、上部加熱機構３３ｕが側部３１２に供給する熱とにより、蒸発容器３１全体が過剰に加熱されることになる。これは、蒸発容器３１内に存在する蒸着材料３０ｍにとっては、大きな熱負荷になる。
【００６０】
図５（ａ）、（ｂ）は、本実施形態に係る蒸着源の作用の一例を示す模式的断面図である。ここで、図５（ｂ）は、図５（ａ）よりも、ある程度の蒸着時間が経過しているとする。
【００６１】
これに対して、蒸着源３０Ａは、蒸着材料３０ｍが収容容器３４に充填され、収容容器３４下に昇降機構３５Ａが設けられている。このため、蒸着時間が経過しても、蒸発面３０ｓの高さは、高さＡを維持する（図５（ａ）、（ｂ））。
【００６２】
従って、上部加熱機構３３ｕの電力は、蒸着中、蒸発面３０ｓ近傍の蒸着材料３０ｍを加熱することに費やされる。
【００６３】
すなわち、上部加熱機構３３ｕが供給する熱は、蒸発面３０ｓが降下しないことから、容器本体３１ｂの側部３１２に逃げにくく、絶えず、蒸発面３０ｓの近傍の蒸着材料３０ｍに優先的に供給される。これにより、噴出ノズル３２から噴出する蒸着材料３０ｍの蒸発速度が蒸着中に安定する。
【００６４】
また、本実施形態では、蒸着材料３０ｍの蒸発速度が安定することから、中部加熱機構３３ｍの電力を強制的に上昇させる必要もない。従って、上部加熱機構３３ｕが供給する熱と、中部加熱機構３３ｍが供給する熱とを合わせた熱は、蒸発面３０ｓ付近での蒸着材料３０ｍの蒸発に費やされ、蒸発容器３１が過剰に加熱されることが抑制される。すなわち、本実施形態の蒸着源３０Ａを用いれば、比較例で起こりうる蒸着材料３０ｍへの熱負荷が抑制される。
【００６５】
また、蒸着源３０Ａを用いれば、蒸着材料３０ｍを容器本体３１ｂに充填せず、交換可能な収容容器３４に充填する。これにより、容器本体３１ｂの洗浄が不要となり、蒸着源３０Ａのメンテナンスが簡便になる。
【００６６】
また、蒸着源３０Ａでは、蒸着材料３０ｍを収容容器３４に供給するフィーダ機構を用いず、昇降機構３５Ａにより蒸発面３０ｓの高さが一定の高さに保たれる。このため、蒸着中に蒸発面３０ｓが揺らぐことや、あるいは、固形材料投入による蒸着材料３０ｍの急激な冷却が起きない。これにより、安定した蒸発速度が得られる。
【００６７】
（変形例）
【００６８】
図６は、本実施形態の蒸着源の変形例を示す模式的断面図である。
【００６９】
蒸着源３０Ｂにおいては、昇降機構３５Ｂが昇降ピン３５２と、昇降ピン３５２の上下運動を可能にする昇降装置３５３とを有する。蒸着源３０Ｂにおいては、蒸発量、蒸着時間、及び投入電力等から蒸発面３０ｓの高さをコンピュータによって割り出し、昇降機構３５Ｂによる自動制御（帰還制御）で蒸発面３０ｓの高さを一定に維持する。
【００７０】
または、蒸発面３０ｓを検知する液面センサ、蒸着材料３０ｍの重量を測定する重量センサを真空容器１０内に設置し、これらのセンサからの信号を昇降機構３５Ｂが受信し、昇降機構３５Ｂの自動制御によって蒸発面３０ｓの高さを一定に維持してもよい。
【００７１】
このような蒸着源３０Ｂであっても、蒸着中には、蒸発面３０ｓの高さが一定に保たれる。
【００７２】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく種々変更を加え得ることは勿論である。各実施形態は、独立の形態とは限らず、技術的に可能な限り複合することができる。
【符号の説明】
【００７３】
１…真空処理装置
１０…真空容器
２０…基板支持機構
３０ｍ…蒸着材料
３０Ａ、３０Ｂ…蒸着源
３０ｓ…蒸発面
３１…蒸発容器
３１ｂ…容器本体
３１ｔ…天板
３１１、３４１…底部
３１２、３４２…側部
３１５…凸部
３２…噴出ノズル
３２ｃ…中心軸
３３…加熱機構
３３ｕ…上部加熱機構
３３ｍ…中部加熱機構
３４…収容容器
３４３…先端
３４５…凹部
３５Ａ、３５Ｂ…昇降機構
３５１…弾性部材
３５２…昇降ピン
３５３…昇降装置
３６…分散機構
３６１…分散板
３６２…支持板
３７…ガイド機構
６０…断熱板
７０…排気機構
９０…基板
９１…基板ホルダ
９２…マスク部材
【図１】
2020180333.tif 000003
【図２】
2020180333.tif 000004
【図３】
2020180333.tif 000005
【図４】
2020180333.tif 000006
【図５】
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【図６】
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