(57)【要約】      （修正有）【課題】リソグラフィ装置の生産性を向上させるのに有利な情報処理装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置が有する複数のユニットのそれぞれについて、当該ユニットの状態が正常であるか異常であるかを示す状態情報を管理する第１管理部１０２と、実行すべき複数のメンテナンスのそれぞれについて、前記複数のユニットのうち当該メンテナンスで必要となるユニットを示す第１情報を含むメンテナンス情報を管理する第２管理部１０３と、前記リソグラフィ装置に異常が発生して前記基板に前記パターンを形成する処理が停止した場合に、前記状態情報と、前記メンテナンス情報とに基づいて、前記複数のメンテナンスから実行可能なメンテナンスを特定する特定部１０４と、前記処理が停止している間に、前記特定部で特定された実行可能なメンテナンスを前記リソグラフィ装置に実行させる実行部１０５と、を有することを特徴とする情報処理装置を提供する。【選択図】図２
2020144287.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板にパターンを形成するリソグラフィ装置を制御する情報処理装置であって、
前記リソグラフィ装置が有する複数のユニットのそれぞれについて、当該ユニットの状態が正常であるか異常であるかを示す状態情報を管理する第１管理部と、
前記リソグラフィ装置で実行すべき複数のメンテナンスのそれぞれについて、前記複数のユニットのうち当該メンテナンスで必要となるユニットを示す第１情報を含むメンテナンス情報を管理する第２管理部と、
前記リソグラフィ装置に異常が発生して前記基板に前記パターンを形成する処理が停止した場合に、前記状態情報と、前記メンテナンス情報とに基づいて、前記複数のメンテナンスから実行可能なメンテナンスを特定する特定部と、
前記処理が停止している間に、前記特定部で特定された実行可能なメンテナンスを前記リソグラフィ装置に実行させる実行部と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記複数のユニットのそれぞれの状態が正常であるか異常であるかを検知する検知部を更に有し、
前記第１管理部は、前記検知部の検知結果に基づいて、前記状態情報を更新することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記特定部は、前記複数のメンテナンスから実行可能な複数のメンテナンスを特定するとともに、当該実行可能な複数のメンテナンスのそれぞれに対して、前記リソグラフィ装置で実行すべき順番を示す優先度を設定し、
前記実行部は、前記優先度に基づいて、前記特定部で特定された実行可能な複数のメンテナンスを前記リソグラフィ装置に順次実行させることを特徴とする請求項１又は２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記メンテナンス情報は、前記複数のメンテナンスのそれぞれについて、前記リソグラフィ装置で実行すべき周期を示す第２情報と、前記リソグラフィ装置で実行された実行日を示す第３情報と、を含み、
前記特定部は、前記第２情報と前記第３情報とに基づいて、前記実行可能な複数のメンテナンスのそれぞれに対して、前記優先度を設定することを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記特定部は、前記第２情報及び前記第３情報から、前記複数のメンテナンスのそれぞれについて、当該メンテナンスを前記リソグラフィ装置で実行すべき予定日を求め、前記予定日が早いメンテナンスほど優先して実行されるように前記優先度を設定することを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記第２管理部は、前記リソグラフィ装置で実行されたメンテナンスについて、前記第２情報を更新することを特徴とする請求項５に記載の情報処理装置。
【請求項７】
ユーザの指示を受け付ける操作部と、
前記操作部で受け付けた前記ユーザの指示が前記リソグラフィ装置で実行されているメンテナンスを中断する中断指示を含んでいるかを判定する判定部と、
を更に有し、
前記ユーザの指示が前記中断指示を含んでいると前記判定部が判定した場合、前記実行部は、前記リソグラフィ装置で実行されているメンテナンスを中断することを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記特定部で特定された実行可能なメンテナンスを表示するユーザインタフェースを更に有することを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記ユーザインタフェースは、前記特定部で特定された実行可能な複数のメンテナンスのリストを表示することを特徴とする請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記ユーザインタフェースは、前記複数のメンテナンスのそれぞれについて、当該メンテナンスが実行中であるか、当該メンテナンスが待機中であるか、当該メンテナンスが完了したか、又は、当該メンテナンスを中止するか、を示すステータス情報を表示することを特徴とする請求項９に記載の情報処理装置。
【請求項１１】
基板にパターンを形成するリソグラフィ装置を制御する制御方法であって、
前記リソグラフィ装置が有する複数のユニットのそれぞれについて、当該ユニットの状態が正常であるか異常であるかを示す状態情報を管理する第１工程と、
前記リソグラフィ装置で実行すべき複数のメンテナンスのそれぞれについて、前記複数のユニットのうち当該メンテナンスで必要となるユニットを示す第１情報を含むメンテナンス情報を管理する第２工程と、
前記リソグラフィ装置に異常が発生して前記基板に前記パターンを形成する処理が停止した場合に、前記状態情報と、前記メンテナンス情報とに基づいて、前記複数のメンテナンスから実行可能なメンテナンスを特定する第３工程と、
前記処理が停止している間に、前記第３工程で特定された実行可能なメンテナンスを前記リソグラフィ装置に実行させる第４工程と、
を有することを特徴とする制御方法。
【請求項１２】
基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板にパターンを形成するための複数のユニットと、
前記複数のユニットのそれぞれについて、当該ユニットの状態が正常であるか異常であるかを示す状態情報を管理する第１管理部と、
前記リソグラフィ装置で実行すべき複数のメンテナンスのそれぞれについて、前記複数のユニットのうち当該メンテナンスで必要となるユニットを示す第１情報を含むメンテナンス情報を管理する第２管理部と、
前記リソグラフィ装置に異常が発生して前記基板に前記パターンを形成する処理が停止した場合に、前記状態情報と、前記メンテナンス情報とに基づいて、前記複数のメンテナンスから実行可能なメンテナンスを特定する特定部と、
前記処理が停止している間に、前記特定部で特定された実行可能なメンテナンスを実行する実行部と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１４】
基板にパターンを形成するリソグラフィ装置を制御する制御方法をコンピュータに実行させるプログラムであって、
前記コンピュータに、
前記リソグラフィ装置が有する複数のユニットのそれぞれについて、当該ユニットの状態が正常であるか異常であるかを示す状態情報を管理する第１工程と、
前記リソグラフィ装置で実行すべき複数のメンテナンスのそれぞれについて、前記複数のユニットのうち当該メンテナンスで必要となるユニットを示す第１情報を含むメンテナンス情報を管理する第２工程と、
前記リソグラフィ装置に異常が発生して前記基板に前記パターンを形成する処理が停止した場合に、前記状態情報と、前記メンテナンス情報とに基づいて、前記複数のメンテナンスから実行可能なメンテナンスを特定する第３工程と、
前記処理が停止している間に、前記第３工程で特定された実行可能なメンテナンスを前記リソグラフィ装置に実行させる第４工程と、
を実行させることを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報処理装置、制御方法、リソグラフィ装置、物品の製造方法及びプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス、液晶表示素子、撮像素子、磁気ヘッドなどのデバイスの製造（フォトリソグラフィ）工程に用いられる露光装置には、高性能（高精度）で動作することが要求され、その性能を維持するために、装置のメンテナンスを定期的に実施している。
【０００３】
このような露光装置の運用は、生産時間と、非生産時間とに大別される。生産時間は、デバイスを生産する時間、具体的には、基板を露光する時間に相当する。非生産時間は、性能を維持するためのメンテナンス時間（スケジュールドダウンタイム）、異常が発生してデバイスを生産できない時間（アンスケージュールドダウンタイム）、及び、デバイスを生産していない時間（アイドルタイム）に相当する。従って、露光装置において、デバイスの生産性を向上させるためには、非生産時間を減らすことが必要となる。
【０００４】
露光装置のメンテナンスに関する技術が従来から提案されている（特許文献１参照）。特許文献１には、製品ロット処理の実行に関する第１情報と、メンテナンスのための処理又は研究開発の基板の露光処理に関する第２情報とを用いて、露光装置の運用を制御する技術が開示されている。かかる技術では、第１情報に対応する処理を優先的に実行し、第１情報に対応する未処理の処理がなくなったら、第２情報に対応する処理を実行する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４５２２１５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に開示された技術は、アイドルタイムに自動で装置をメンテナンスする技術である。しかしながら、一般的に、デバイスメーカーは、装置に異常が発生していなければ、生産量を増やすためにデバイスを生産し続けるため、生産調整などが発生しない限り、アイドルタイムは発生しない。一方、露光装置には、上述したように、高性能で動作することが要求される。従って、特許文献１に開示された技術では、生産時間の一部を、性能を維持するためのメンテナンス時間に充てなければならず、生産性を低下させてしまう。
【０００７】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、リソグラフィ装置の生産性を向上させるのに有利な情報処理装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての情報処理装置は、基板にパターンを形成するリソグラフィ装置を制御する情報処理装置であって、前記リソグラフィ装置が有する複数のユニットのそれぞれについて、当該ユニットの状態が正常であるか異常であるかを示す状態情報を管理する第１管理部と、前記リソグラフィ装置で実行すべき複数のメンテナンスのそれぞれについて、前記複数のユニットのうち当該メンテナンスで必要となるユニットを示す第１情報を含むメンテナンス情報を管理する第２管理部と、前記リソグラフィ装置に異常が発生して前記基板に前記パターンを形成する処理が停止した場合に、前記状態情報と、前記メンテナンス情報とに基づいて、前記複数のメンテナンスから実行可能なメンテナンスを特定する特定部と、前記処理が停止している間に、前記特定部で特定された実行可能なメンテナンスを前記リソグラフィ装置に実行させる実行部と、を有することを特徴とする。
【０００９】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、例えば、リソグラフィ装置の生産性を向上させるのに有利な情報処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】メンテナンスの実行に関する制御部のシステム構成を示すブロック図である。
【図３】メンテナンス情報の一例を示す図である。
【図４】露光装置が有する各ユニットの状態（状態情報）の管理の一例を示す図である。
【図５】状態情報の一例を示す図である。
【図６】実行可能なメンテナンスの特定処理の流れを示す図である。
【図７】メンテナンスの実行処理の流れを示す図である。
【図８】メンテナンスの実行に関する制御部のシステム構成を示すブロック図である。
【図９】メンテナンスの中断処理の流れを示す図である。
【図１０】ユーザインタフェースの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものでない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。更に、添付図面においては、同一もしくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
【００１３】
図１は、本発明の一側面としての露光装置１００の構成を示す概略図である。露光装置１００は、デバイスの製造工程であるフォトリソグラフィ工程に用いられ、基板５にパターンを形成するリソグラフィ装置である。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式やステップ・アンド・リピート方式で、レチクル１を介して基板５を露光し、レチクル１のパターンを基板５に転写する。
【００１４】
なお、本発明は、リソグラフィ装置を露光装置に限定するものではなく、インプリント装置や描画装置にも適用することができる。ここで、インプリント装置は、基板上に供給されたインプリント材とモールドとを接触させ、インプリント材に硬化用のエネルギーを与えることにより、モールドのパターンが転写された硬化物のパターンを形成する。また、描画装置は、荷電粒子線（電子線）やレーザビームで基板に描画を行うことにより基板上にパターン（潜像パターン）を形成する。
【００１５】
露光装置１００は、基板５にパターンを形成するための複数のユニットを有する。具体的には、露光装置１００は、図１に示すように、照明光学系２と、レチクルステージ３と、投影光学系４と、基板チャック６と、基板ステージ７と、制御部１０とを有する。
【００１６】
照明光学系２は、水銀ランプやエキシマレーザーなどの光源（不図示）から射出した光を用いて、レチクルステージ３に保持されたレチクル１を照明する。レチクルステージ３は、レチクル１を保持して移動するステージである。投影光学系４は、レチクル１のパターン（の像）を、基板チャック６を介して基板ステージ７に保持された基板５（基板上のレジスト）に投影する。基板ステージ７は、基板５を吸着する基板チャック６を支持して移動するステージである。
【００１７】
制御部１０は、例えば、ＣＰＵやメモリなどを含む情報処理装置（コンピュータ）で構成され、記憶部に記憶されたプログラムに従って露光装置１００の各部（ユニット）を統括的に制御する。制御部１０は、レチクル１のパターンを基板５に転写する、即ち、レチクル１を介して基板５を露光して基板５にパターンを形成する露光処理を制御する。また、制御部１０は、本実施形態では、露光装置１００で実行すべきメンテナンスを制御する。例えば、制御部１０は、露光装置１００に異常が発生して基板５にパターンを形成する露光処理が停止した場合に、メンテナンスを露光装置１００に実行させる。
【００１８】
図２を参照して、露光装置１００に異常が発生して露光処理が停止した場合におけるメンテナンスの実行処理の一例を説明する。図２は、メンテナンスの実行に関する制御部１０のシステム構成を示すブロック図である。制御部１０は、状態検知部１０１と、状態管理部（第１管理部）１０２と、メンテナンス管理部（第２管理部）１０３と、スケジューラ（特定部）１０４と、実行部１０５とを含む。
【００１９】
状態検知部１０１は、露光装置１００が有する複数のユニットのそれぞれの状態が正常であるか異常であるかを検知する検知部である。状態検知部１０１は、露光装置１００が有する複数のユニットのそれぞれの状態の変化を常に監視し、ユニットの状態に変化があった場合に、状態管理部１０２やスケジューラ１０４に通知する。
【００２０】
状態管理部１０２は、露光装置１００が有する複数のユニットのそれぞれについて、ユニットの状態が正常であるか異常であるかを示す状態情報を管理する。状態管理部１０２は、状態検知部１０１から通知されるユニットの状態を管理し、ユニットの状態の変化があった場合は、状態検知部１０１の検知結果に基づいて、状態情報を更新する（状態情報を最新の状態にする）。また、状態管理部１０２は、必要に応じて、状態管理部１０２で管理している各ユニットの最新の状態情報をスケジューラ１０４に通知する。
【００２１】
メンテナンス管理部１０３は、露光装置１００で実行すべき複数のメンテナンスのそれぞれについて、メンテナンスで必要となるユニットを示す第１情報を含むメンテナンス情報を管理する。換言すれば、第１情報とは、メンテナンス名と、そのメンテナンスを実行するために必要なユニットとの関係を示す情報である。また、メンテナンス管理部１０３は、メンテナンス情報として、複数のメンテナンスのそれぞれについて、露光装置１００で実行すべき周期を示す第２情報と、露光装置１００で実行された実行日を示す第３情報とを管理する。
【００２２】
図３は、メンテナンス管理部１０３で管理されるメンテナンス情報の一例を示す図である。図３を参照するに、メンテナンス情報は、メンテナンスごとに管理され、その項目として、「メンテナンス名」、「周期」、「実行日」及び「必要なユニット」を含む。「メンテナンス名」は、露光装置１００で実行すべき複数のメンテナンスのそれぞれの名称を示す。「周期」は、露光装置１００でメンテナンスを実行すべき周期を示す。「実行日」は、露光装置１００でメンテナンスを実行した最後の日にちを示す。「必要なユニット」は、露光装置１００でメンテナンスを実行するために必要となるユニットを示す。なお、「実行日」は、露光装置１００でメンテナンスが実行された（メンテナンスが完了した）ときに更新される。
【００２３】
スケジューラ１０４は、露光装置１００に異常が発生して露光処理が停止した場合に、露光装置１００が有する各ユニットの現在の状態において実行可能なメンテナンスを特定する。具体的には、スケジューラ１０４は、状態管理部１０２及びメンテナンス管理部１０３のそれぞれから状態情報及びメンテナンス情報を取得し、状態情報及びメンテナンス情報に基づいて、複数のメンテナンスから実行可能なメンテナンスを特定する。この際、スケジューラ１０４は、実行可能な複数のメンテナンスを特定するとともに、実行可能な複数のメンテナンスのそれぞれについて、メンテナンス情報に基づいて、露光装置１００で実行すべき順番を示す優先度を設定する。具体的には、スケジューラ１０４は、メンテナンス情報のうち第２情報及び第３情報に基づいて、実行可能な複数のメンテナンスのそれぞれを露光装置１００で実行すべき予定日を求め、予定日が早いメンテナンスほど優先して実行されるように優先度を設定する。これにより、次回の予定日が早い（例えば、古い）日付のメンテナンスから順に実行される。但し、次回の予定日が現在の日付よりも未来の日付となるメンテナンスは実行しないようにしてもよい。
【００２４】
実行部１０５は、露光装置１００に異常が発生して露光処理が停止している間に、スケジューラ１０４で特定された実行可能なメンテナンスを露光装置１００に実行させる。なお、スケジューラ１０４が実行可能な複数のメンテナンスを特定している場合には、実行部１０５は、実行可能な各メンテナンスに設定されている優先度に基づいて、実行可能な複数のメンテナンスを露光装置１００に順次実行させる。また、実行部１０５は、露光装置１００でメンテナンスが実行された（メンテナンスが完了した）ことを示す実行結果を、メンテナンス管理部１０３に通知する。
【００２５】
図４乃至図７を参照して、露光装置１００に異常が発生して露光処理が停止した場合におけるメンテナンスの実行処理の流れを説明する。図４は、状態検知部１０１と状態管理部１０２との間における露光装置１００が有する各ユニットの状態（状態情報）の管理の一例を示す図である。図４に示すように、露光装置１００に異常が発生して、状態検知部１０１がユニットの状態の変化（正常から異常への変化）を検知する（Ｓ１）と、その検知結果を状態管理部１０２に通知する（Ｓ２）。状態管理部１０２は、状態検知部１０１から通知される検知結果に基づいて、図５に示すように、状態情報を更新する。図５は、状態管理部１０２で管理される状態情報の一例を示す図である。図５を参照するに、状態情報は、露光装置１００が有するユニットごとに管理され、その項目として、「ユニット名」及び「状態」を含む。「ユニット名」は、露光装置１００が有する複数のユニットのそれぞれの名称を示す。「状態」は、露光装置１００が有する各ユニットの状態、即ち、各ユニットが正常であるか異常であるかを示す。
【００２６】
図６は、状態検知部１０１と、状態管理部１０２と、メンテナンス管理部１０３と、スケジューラ１０４との間における、実行可能なメンテナンスの特定処理の流れを示す図である。スケジューラ１０４は、状態検知部１０１から露光装置１００に異常が発生して露光処理が停止した旨の通知を受ける（Ｓ３）と、状態管理部１０２から状態情報を取得し（Ｓ４）、メンテナンス管理部１０３からメンテナンス情報を取得する（Ｓ５）。そして、スケジューラ１０４は、状態情報及びメンテナンス情報に基づいて、露光装置１００が有する各ユニットの現在の状態において実行可能なメンテナンスを特定する。
【００２７】
図７は、メンテナンス管理部１０３と、スケジューラ１０４と、実行部１０５との間におけるメンテナンスの実行処理の流れを示す図である。スケジューラ１０４は、状態情報及びメンテナンス情報に基づいて特定した、露光装置１００が有する各ユニットの現在の状態において実行可能なメンテナンスを実行部１０５に通知する（Ｓ６）。実行部１０５は、スケジューラ１０４から実行可能なメンテナンスが通知されると、露光処理が停止している間に、かかるメンテナンスを露光装置１００に実行させる。そして、実行部１０５は、メンテナンスの実行の完了後に、メンテナンスの実行結果をメンテナンス管理部１０３に通知する（Ｓ７）。メンテナンス管理部１０３は、実行部１０５からメンテナンスの実行結果が通知されると、メンテナンス情報を更新する（「実行日」をメンテナンスが実行された最新の日付にする）。
【００２８】
露光装置１００に異常が発生して露光処理が停止した場合におけるメンテナンスの実行処理について具体的に説明する。ここでは、レチクルステージ３に異常が発生し、露光処理が停止した場合を例に説明する。なお、図３に示す状態情報及び図５に示すメンテナンス情報では、レチクルステージ３を「ＲＳ」と表記する。同様に、基板チャック６を「ＣＭ」、基板ステージ７を「ＷＳ」、照明光学系２や投影光学系４のレンズ群を「Ｌｅｎｓ」、光源を「Ｌａｓｅｒ」、基板搬送機構を「ＷＦ」と表記する。
【００２９】
まず、レチクルステージ３に異常が発生して露光処理が停止すると、状態検知部１０１は、レチクルステージ３の状態の変化（正常から異常への変化）を検知し、その検知結果を状態管理部１０２に通知する。状態管理部１０２は、状態検知部１０１の検知結果に基づいて、図５に示すように、レチクルステージ３の現在の状態が異常となるように、レチクルステージ３の状態情報を更新する。
【００３０】
次いで、スケジューラ１０４は、状態検知部１０１からレチクルステージ３に異常が発生して露光処理が停止した旨の通知を受けると、状態管理部１０２から図５に示す状態情報を取得し、メンテナンス管理部１０３から図３に示すメンテナンス情報を取得する。そして、スケジューラ１０４は、露光装置１００の各ユニットの状態を示す状態情報と、各メンテナンスに必要なユニットを示すメンテナンス情報とを参照して、各ユニットの現在の状態において実行可能なメンテナンスを特定する。ここで、正常なユニットは、図５に示すように、基板ステージ７（「ＷＳ」）と、光源「Ｌａｓｅｒ」と、基板チャック６（「ＣＭ」）と、基板搬送機構（「ＷＦ」）と、照明光学系２や投影光学系４のレンズ群（「Ｌｅｎｓ」）である。従って、スケジューラ１０４は、図３を参照して、各ユニットの現在の状態において実行可能なメンテナンスとして、「チャッククリーニング」と、「ＷＳバーミラー計測」とを特定する。この際、現在の日付を２０１８年７月２９日とすると、スケジューラ１０４は、メンテナンス情報の「周期」及び「実行日」から、「チャッククリーニング」の優先度が「ＷＳバーミラー計測」の優先度よりも高くなるように、優先度を設定する。また、スケジューラ１０４は、実行部１０５に対して、各ユニットの現在の状態において実行可能なメンテナンスとして、「チャッククリーニング」及び「ＷＳバーミラー計測」を、その優先度とともに通知する。
【００３１】
次に、実行部１０５は、露光処理が停止している間に、スケジューラ１０４から通知された「チャッククリーニング」及び「ＷＳバーミラー計測」を、その順番で（優先度に従って）露光装置１００に実行させる。また、実行部１０５は、露光装置１００で「チャッククリーニング」及び「ＷＳバーミラー計測」が実行されたことを示す実行結果を、メンテナンス管理部１０３に通知する。メンテナンス管理部１０３は、実行部１０５からの実行結果を受けて、「チャッククリーニング」及び「ＷＳバーミラー計測」のそれぞれの「実行日」を更新する。
【００３２】
このように、本実施形態によれば、露光装置１００に異常が発生して露光処理が停止している間、即ち、異常が発生してデバイスを生産できない時間（アンスケージュールドダウンタイム）にメンテナンスを実行することができる。従って、露光装置１００は、デバイスを生産する生産時間の一部をメンテナンスに充てる必要がなく、デバイスの生産性を向上させるのに有利となる。
【００３３】
なお、図８に示すように、制御部１０のシステム構成を、露光処理が停止している間に実行しているメンテナンスを中断することが可能なようにしてもよい。図８は、メンテナンスの実行に関する制御部１０のシステム構成を示すブロック図である。制御部１０は、状態検知部１０１、状態管理部１０２、メンテナンス管理部１０３、スケジューラ１０４及び実行部１０５に加えて、操作部１０６と、判定部１０７とを含む。
【００３４】
操作部１０６は、ユーザの指示（入力）を受け付け、かかるユーザの指示を判定部１０７に通知する。
【００３５】
判定部１０７は、操作部１０６で受け付けたユーザの指示がメンテナンスを中断する必要のある指示であるかどうか、即ち、メンテナンスを中断する中断指示を含んでいるかどうかを判定する。例えば、判定部１０７は、露光装置１００の停止の直前に実行されていた処理を再度実行するための指示や露光装置１００をリセットするための指示がユーザの指示に含まれている場合には、中断指示を含んでいると判定する。また、判定部１０７は、メンテナンスを実行しているユニットを用いた処理を実行するための指示がユーザの指示に含まれている場合には、中断指示を含んでいると判定する。そして、判定部１０７は、ユーザの指示が中断指示を含んでいる場合には、メンテナンスを中断するように、本実施形態では、スケジューラ１０４を介して、実行部１０５に通知する。但し、判定部１０７は、スケジューラ１０４を介さずに、メンテナンスを中断するように、実行部１０５に直接通知してもよい。
【００３６】
図９は、操作部１０６と、判定部１０７と、スケジューラ１０４と、実行部１０５との間におけるメンテナンスの中断処理の流れを示す図である。露光装置１００に異常が発生して露光処理が停止している間、具体的には、メンテナンスを実行している間において、操作部１０６がユーザの指示を受け付ける（Ｓ１０）と、かかるユーザの指示を判定部１０７に通知する（Ｓ１１）。
【００３７】
判定部１０７は、操作部１０６から通知されたユーザの指示がメンテナンスの中断を指示する中断指示を含んでいるかどうかを判定し、ユーザの指示が中断指示を含んでいる場合には、その旨をスケジューラ１０４に通知する（Ｓ１２）。なお、ユーザの指示が中断指示を含んでいない場合には、その旨をスケジューラ１０４に通知することなく、操作部１０６で受け付けたユーザの指示に対応する処理が実行される。
【００３８】
スケジューラ１０４は、判定部１０７からの通知に基づいて、メンテナンスを中断するように、実行部１０５に通知する（Ｓ１３）。そして、実行部１０５は、スケジューラ１０４からの通知に従って、露光装置１００で実行されているメンテナンスを中断させる。
【００３９】
このように、制御部１０のシステム構成として操作部１０６及び判定部１０７を加えることで、メンテナンスを実行している間において、ユーザの指示（例えば、復旧作業）を優先して（即ち、メンテナンスを中断して）実行することが可能となる。
【００４０】
また、露光装置１００は、操作部１０６の一部として、或いは、操作部１０６とは別に、スケジューラ１０４で特定された実行可能なメンテナンスを表示するユーザインタフェースを有していてもよい。
【００４１】
図１０は、スケジューラ１０４で特定された実行可能なメンテナンスを表示するユーザインタフェース（Ｍａｉｎｔｅｎａｎｃｅ  ｓｃｈｅｄｕｌｅｒ  ｗｉｎｄｏｗ）の一例を示す図である。かかるユーザインタフェースは、露光装置１００に接続されたタッチパネル（表示装置）を介して提供される。
【００４２】
図１０を参照するに、ユーザインタフェースは、スケジューラ１０４で特定された実行可能な複数のメンテナンスのリストを表示するリスト表示領域（Ｍａｉｎｔｅｎａｎｃｅ  Ｌｉｓｔ）１５１を含む。なお、リスト表示領域１５１に表示される複数のメンテナンスは、露光装置１００で実行すべき順番、即ち、優先度が高いものから順に表示される。また、ユーザインタフェースは、各メンテナンスについて、メンテナンスが実行中であるか、メンテナンスが待機中であるか、メンテナンスが完了したか、又は、メンテナンスを中止するか、を示すステータス情報を表示する状態表示領域１５２を含む。
【００４３】
また、リスト表示領域１５１に表示されているメンテナンスの順番の入れ替えや削除、リスト表示領域１５１に表示されていないメンテナンスの追加などをユーザが指示できるようにユーザインタフェースを構成することも可能である。例えば、Ｓｔｏｐボタン１５３及びＲｕｎボタン１５４は、リスト表示領域１５１に表示されている任意のメンテナンスのステータス情報を変更するためのボタンである。Ｓｔｏｐボタン１５３は、メンテナンスのステータス情報を、「実行中」又は「待機中」から「中止」に変更するためのボタンである。Ｒｕｎボタン１５４は、メンテナンスのステータス情報を、「待機中」から「実行中」に、又は、「中止」から「待機中」に変更するためのボタンである。
【００４４】
また、Ｄｅｌｅｔｅボタン１５５は、リスト表示領域１５１に表示されているメンテナンスを削除するためのボタンであり、Ａｄｄボタン１５６は、リスト表示領域１５１に表示されていないメンテナンスを追加するためのボタンである。新たなメンテナンスをリスト表示領域１５１に追加する場合、例えば、各ユニットの現在の状態から実行可能なメンテナンス、且つ、現在の日付に対して予定日が近いメンテナンスを順に表示したリストから任意のメンテナンスを選択する。これにより、ユーザは、リスト表示領域１５１に表示されているメンテナンスの順番の入れ替えや削除、リスト表示領域１５１に表示されていないメンテナンスの追加を行うことができる。
【００４５】
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス（半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など）などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置１００を用いて、基板にパターンを形成する工程と、パターンが形成された基板を処理する工程と、処理された基板から物品を製造する工程とを含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００４６】
本発明は、上述の実施形態の１つ以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける１つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、１つ以上の機能を実現する回路（例えば、ＡＳＩＣ）によっても実現可能である。
【００４７】
発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。
【符号の説明】
【００４８】
１００：露光装置    １０：制御部    １０１：状態検知部  １０２：状態管理部    １０３：メンテナンス管理部    １０４：スケジューラ    １０５：実行部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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