(57)【要約】【課題】パルプ原料に付着した汚れを効率よく洗浄できるパルプ用洗浄剤を提供することである。【解決手段】ＨＬＢ（小田法）８〜１８且つ曇点（１重量％水溶液）５６〜９５℃をもつポリオキシアルキレン化合物（Ａ）を含有するパルプ用洗浄剤であって、ポリオキシアルキレン化合物（Ａ）が一般式（１）で表される化合物（Ａ１）又は一般式（２）で表される化合物（Ａ２）であることを特徴とするパルプ用洗浄剤を用いる。Ｒ−（ＥＯ）ａ−（ＰＯ）ｂ−（ＥＯ）ｃ−Ｈ    （１）Ｒ−（ＥＯ）ｄ／（ＰＯ）ｅ−（ＰＯ）ｆ−（ＥＯ）ｇ−Ｈ    （２）Ｒは炭素数８〜２２のアルキル基又は炭素数８〜２２のアルケニル基、ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基、ａは１〜３０の整数、ｂは０〜７の整数、ｃは０〜２０の整数、ｄは１〜２０の整数、ｅは１〜８の整数、ｆは０〜５の整数、ｇは０〜１５の整数、−はブロック状、／はランダム状、Ｈは水素原子を表す。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＨＬＢ（小田法）８〜１８且つ曇点（１重量％水溶液）５６〜９５℃をもつポリオキシアルキレン化合物（Ａ）を含有するパルプ用洗浄剤であって、
ポリオキシアルキレン化合物（Ａ）が一般式（１）で表される化合物（Ａ１）又は一般式（２）で表される化合物（Ａ２）であることを特徴とするパルプ用洗浄剤。
Ｒ−（ＥＯ）ａ−（ＰＯ）ｂ−（ＥＯ）ｃ−Ｈ    （１）
Ｒ−（ＥＯ）ｄ／（ＰＯ）ｅ−（ＰＯ）ｆ−（ＥＯ）ｇ−Ｈ    （２）
Ｒは炭素数８〜２２のアルキル基又は炭素数８〜２２のアルケニル基、ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基、ａは１〜３０の整数、ｂは０〜７の整数、ｃは０〜２０の整数、ｄは１〜２０の整数、ｅは１〜８の整数、ｆは０〜５の整数、ｇは０〜１５の整数、−はブロック状、／はランダム状、Ｈは水素原子を表す。
【請求項２】
一般式（１）で表される化合物（Ａ１）及び一般式（２）で表される化合物（Ａ２）において、Ｒの炭素数（ｈ）とオキシエチレン基の数（ｉ）との比（ｉ／ｈ）が０．５〜３である請求項１に記載のパルプ用洗浄剤。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のパルプ用洗浄剤の存在下でパルプ原料を洗浄又は漂白する工程を含むことを特徴とするパルプの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はパルプ用洗浄剤及びパルプの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
蒸解パルプの洗浄剤として、「蒸解されたパルプ原料に含まれるリグニン成分を酸素を用いて分解した後に、前記パルプ原料を洗浄するのに用いられる洗浄剤であって、
（ｉ）下記一般式（１）で表される高級アルコールのアルキレンオキシド付加体、（ｉｉ）下記一般式（２）で表される脂肪酸アルキルエステルのアルキレンオキシド付加体、（ｉｉｉ）多価アルコールにエチレンオキシド（ＥＯ）及びプロピレンオキシド（ＰＯ）をモル比でＥＯ：ＰＯ＝３０：７０〜０：１００で付加させて得られた、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン多価アルコールエーテル、及び（ｉｖ）多価アルコール脂肪酸エステル及びポリオキシアルキレン多価アルコール脂肪酸エステルの少なくともいずれか、から選択される少なくとも１種であって、Ｄａｖｉｅｓの基数を用いて下記計算式（１）より算出されたＨＬＢが６未満の非イオン性化合物を含有することを特徴とするクラフトパルプ用洗浄剤。
Ｒ１Ｏ−（ＰＯ）ｎ−［（ＥＯ）ｍ・（ＰＯ）ｋ］Ｈ・・・・一般式（１）
（前記一般式（１）中、Ｒ１は、炭素数１０〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基及びアルケニル基のいずれかを表す。ｎ、ｍ、及びｋは、平均付加モル数を表し、ｎは、１１〜２０を表し、ｍは、１〜８を表し、ｋは、１〜８０を表す。ＥＯ及びＰＯは、それぞれ、エチレンオキシド単位、プロピレンオキシド単位を表し、［（ＥＯ）ｍ・（ＰＯ）ｋ］におけるＥＯ及びＰＯの付加形態は、ランダム及びブロックのいずれであってもよい。）
Ｒ２−ＣＯ−［（ＥＯ）ｐ・（ＰＯ）ｑ］−ＯＲ３・・・・一般式（２）
（前記一般式（２）式中、Ｒ２は、炭素数１０〜２０の直鎖のアルキル基及びアルケニル基のいずれかを、Ｒ３は、炭素数１〜８の直鎖のアルキル基及びアルケニル基のいずれかを表す。ＥＯ及びＰＯは、それぞれ、エチレンオキシド単位、プロピレンオキシド単位を表し、［（ＥＯ）ｐ・（ＰＯ）ｑ］における付加形態は、ブロック及びランダムのいずれであってもよく、ｐ及びｑは、平均付加モル数であり、ｐは、０〜２０、ｑは、１〜１０である。）
ＨＬＢ＝７＋Σ（親水基の基数）＋Σ（親油基の基数）・・・・（計算式（１））」（特許文献１）や、「蒸解されたパルプ原料に含まれるリグニン成分を酸素を用いて分解した後に、前記パルプ原料を洗浄するのに用いられる洗浄剤であって、
下記一般式（１）、（２）及び（３）で表される化合物から選択される少なくとも１種からなる非イオン性界面活性剤であって、前記パルプ原料の洗浄における洗浄温度よりも曇点が低い非イオン性界面活性剤を含有することを特徴とするクラフトパルプ用洗浄剤。
Ｒ１Ｏ−（ＰＯ）ｎ−［（ＥＯ）ｍ・（ＰＯ）ｋ］Ｈ  ・・・  一般式（１）
ただし、前記一般式（１）中、Ｒ１は、炭素数１０〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基及びアルケニル基のいずれかを表す。ｎ、ｍ、及びｋは、平均付加モル数を表し、ｎは、０〜１０を表し、ｍ及びｋの和は、１〜１００である。ＥＯ、及びＰＯは、それぞれ、エチレンオキシド単位、プロピレンオキシド単位を表し、［（ＥＯ）ｍ・（ＰＯ）ｋ］におけるＥＯ及びＰＯの付加形態は、ランダム及びブロックのいずれであってもよい。
Ｒ２−ＣＯ−（ＡＯ）ｙ−ＯＲ３  ・・・  一般式（２）
ただし、前記一般式（２）中、Ｒ２は、炭素数１０〜２０の直鎖のアルキル基、及びアルケニル基のいずれかを表す。ＡＯは、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、及びオキシブチレン基から選択される少なくとも１種のオキシアルキレン基を表す。ｙは、１〜１０を表す。Ｒ３は、メチル基である。
【化１】
2020133083.tif 000002
ただし、前記一般式（３）中、Ｒ４は、炭素数１０〜２０のアルキル基を表す。ＥＯは、エチレンオキサイド基を表す。ｘ及びｚは、いずれもエチレンオキサイドの付加モル数を表し、ｘ及びｚの和は、２〜１０である。」（特許文献２）が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−２６７１３号公報
【特許文献２】国際公開ＷＯ２００９／０９３６１５号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年さらに高品質なパルプが求められており、従来のクラフトパルプ用洗浄剤ではパルプ繊維表面に付着する汚れを十分に除去できないという問題がある。
本発明の目的は、パルプ原料に付着した汚れを効率よく洗浄できるパルプ用洗浄剤を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のパルプ用洗浄剤の特徴は、ＨＬＢ（小田法）８〜１８且つ曇点（１重量％水溶液）５６〜９５をもつポリオキシアルキレン化合物（Ａ）を含有するパルプ用洗浄剤であって、ポリオキシアルキレン化合物が一般式（１）で表される化合物（Ａ１）又は一般式（２）で表される化合物（Ａ２）であることを要旨とする。
【０００６】
本発明のパルプの製造方法の特徴は、上記のパルプ洗浄剤の存在下でパルプ原料を洗浄又は漂白する工程を含む点を要旨とする。 
【発明の効果】
【０００７】
本発明のパルプ洗浄剤は、パルプ原料に付着した汚れを効率よく洗浄（すなわち除去）できる。
【０００８】
本発明のパルプの製造方法によると、上記のパルプ洗浄剤の存在下で洗浄又は漂白するので、パルプ原料に付着した汚れを効率良く洗浄（すなわち除去）できる。したがって、本発明のパルプの製造方法によると、パルプの品質を大幅に向上することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
ポリオキシアルキレン化合物（Ａ）のＨＬＢ（小田法）は、８〜１８が好ましく、さらに好ましくは９〜１６、特に好ましくは１０〜１４である。この範囲であると、パルプ原料に付着した汚れを効率よく洗浄（すなわち除去）できる。
【００１０】
ＨＬＢとは、有機性と無機性のバランスを示し、Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ Ｂａｌａｎｃｅの略であって、小田法による数値、すなわち、有機性を示す数値と無機性を示す数値とを合計することによって計算される（小田、寺村著「界面活性剤の合成と其応用」５０１頁、槇書店１９５７年発行）。
【００１１】
ポリオキシアルキレン化合物（Ａ）の曇点（１重量％水溶液）は、５６〜９５℃が好ましく、さらに好ましくは６０〜９５℃である。この範囲であると、パルプ原料に付着した汚れを効率よく洗浄（すなわち除去）できる。
【００１２】
曇点は、親水性の尺度となる物性値の一つであり、曇点が高いほど親水性が大きいことを意味し、以下のようにして測定される値である。
【００１３】
イオン交換水（３０〜４０℃）９９ｇ及びポリオキシアルキレン化合物（Ａ）１ｇを均一溶解させて測定液を調製し、この測定液約５ｃｃをガラス製の試験管に採り、温度計を測定液に入れて攪拌しながら、徐々に昇温させて測定液が白濁した温度を読みとり、これを曇点とする。
【００１４】
炭素数８〜２２のアルキル基又は炭素数８〜２２のアルケニル基（Ｒ）のうち、炭素数８〜２２のアルキル基としては、直鎖アルキル基及び分岐鎖アルキル基等が使用できる。
【００１５】
直鎖アルキル基としては、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、イコシル、ヘニコシル及びドコシル等が挙げられる。
【００１６】
分岐鎖アルキル基としては、イソデシル、イソトリデシル、イソテトラデシル、イソオクタデシル、２−エチルへキシル、２−プロピルへプチル、２−ブチルオクチル、２−ヘキシルデシル、２−オクチルドデシル、３，５，５−トリメチルへキシル及び３，７，１１−トリメチルドデシル等が挙げられる。
【００１７】
また、Ｒのうち、炭素数８〜２２のアルケニル基としては、直鎖アルケニル基及び分岐アルケニル基等が使用できる。
【００１８】
直鎖アルケニル基としては、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデゼニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ノナデセニル、イコセニル、ヘンイコセニル及びドコセニル等が挙げられる。
【００１９】
分岐鎖アルケニル基としては、イソトリデセニル及びイソオクタデセニル等が挙げられる。
【００２０】
これらのうち、アルキル基が好ましく、さらに好ましくは炭素数１０〜１８のアルキル基である。
【００２１】
ａは、１〜３０の整数が好ましく、さらに好ましくは１〜２５の整数である。この範囲であると、パルプ原料に付着した汚れをさらに効率よく洗浄（すなわち除去）できる。
【００２２】
ｂは、０〜７の整数が好ましく、さらに好ましくは０〜５の整数である。この範囲であると、パルプ原料に付着した汚れをさらに効率よく洗浄（すなわち除去）できる。
【００２３】
ｃは、０〜２０の整数が好ましく、さらに好ましくは０〜１５の整数である。この範囲であると、パルプ原料に付着した汚れをさらに効率よく洗浄（すなわち除去）できる。
【００２４】
ｄは、１〜２０の整数が好ましく、さらに好ましくは３〜１５の整数である。この範囲であると、パルプ原料に付着した汚れをさらに効率よく洗浄（すなわち除去）できる。
【００２５】
ｅは、１〜８の整数が好ましく、さらに好ましくは１〜５の整数である。この範囲であると、パルプ原料に付着した汚れをさらに効率よく洗浄（すなわち除去）できる。
【００２６】
ｆは、０〜５の整数が好ましく、さらに好ましくは０〜３の整数である。この範囲であると、パルプ原料に付着した汚れをさらに効率よく洗浄（すなわち除去）できる。
【００２７】
ｇは、０〜１５の整数が好ましく、さらに好ましくは０〜１０の整数である。この範囲であると、パルプ原料に付着した汚れをさらに効率よく洗浄（すなわち除去）できる。
【００２８】
一般式（１）で表される化合物（Ａ１）及び一般式（２）で表される化合物（Ａ２）において、Ｒの炭素数（ｈ）とオキシエチレン基の数（ｉ）との比（ｉ／ｈ）は、０．５〜３が好ましく、さらに好ましくは０．７〜２．５である。この範囲であると、パルプ原料に付着した汚れをさらに効率よく洗浄（すなわち除去）できる。
【００２９】
一般式（１）において、Ｒの炭素数が大きくなる程、ポリアルキレン化合物（Ａ）のＨＬＢ及び曇点が小さくなる傾向があり、ａの値が小さくなる程、ポリアルキレン化合物（Ａ）のＨＬＢ及び曇点が小さくなる傾向があり、ｃの値が小さくなる程、ポリアルキレン化合物（Ａ）のＨＬＢ及び曇点が小さくなる傾向があり、ｂの値が大きくなる程、ポリアルキレン化合物（Ａ）のＨＬＢ及び曇点が小さくなる傾向がある。一方、上記の逆になる程、ポリアルキレン化合物（Ａ）のＨＬＢ及び曇点を大きくなる傾向がある。そして、上記の好ましい範囲であると、パルプ原料に付着した汚れをさらに効率よく洗浄（すなわち除去）できる。
【００３０】
一般式（１）で表される化合物（Ａ１）として｛カッコ内の数字は順にＨＬＢ、曇点、比（ｉ／ｈ）を表す。｝、イソデシルアルコールのエチレンオキシド７モル付加体（１３、６０℃、０．７）、イソデシルアルコールのエチレンオキシド１０モル−プロピレンオキシド２モル−エチレンオキシド２モルブロック付加体（１３、６２℃、１．２）、イソデシルアルコールのエチレンオキシド２５モル−プロピレンオキシド５モルブロック付加体（１４、７５℃、２．５）、デシルアルコールのエチレンオキシド１モル−プロピレンオキシド３モル−エチレンオキシド７モルブロック付加体（１０、７５℃、０．８）、ドデシルアルコールのエチレンオキシド１０モル−プロピレンオキシド３モル−エチレンオキシド１モルブロック付加体（１１、６０℃、０．９）、ドデシルアルコールのエチレンオキシド１０モル付加体（１２、８０℃、０．８）、トリデシルアルコールのエチレンオキシド１２モル付加体（１２、７０℃、１．２）、トリデシルアルコールのエチレンオキシド１０モル−プロピレンオキシド２モル−エチレンオキシド２モルブロック付加体（１１、６１℃、１．２）、テトラデシルアルコールのエチレンオキシド２モル−プロピレンオキシド２モル−エチレンオキシド８モルブロック付加体（１０、６０℃、０．７）、テトラデシルアルコールのエチレンオキシド２モル−プロピレンオキシド３モル−エチレンオキシド１５モルブロック付加体（１３、９５℃、１．２）、ヘキサデシルアルコールのエチレンオキシド１４モル付加体（１２、９１℃、０．９）及びオクタデシルアルコールのエチレンオキシド１６モル付加体（１２、７１℃、０．９）等が好ましく例示できる。
【００３１】
一般式（２）において、Ｒの炭素数が大きくなる程、ポリアルキレン化合物（Ａ）のＨＬＢ及び曇点が小さくなる傾向があり、ｄの値が小さくなる程、ポリアルキレン化合物（Ａ）のＨＬＢ及び曇点が小さくなる傾向があり、ｅの値が大きくなる程、ポリアルキレン化合物（Ａ）のＨＬＢ及び曇点が小さくなる傾向があり、ｆの値が大きくなる程、ポリアルキレン化合物（Ａ）のＨＬＢ及び曇点が小さくなる傾向があり、ｇの値が小さくなる程、ポリアルキレン化合物（Ａ）のＨＬＢ及び曇点が小さくなる傾向がある。一方、上記の逆になる程、ポリアルキレン化合物（Ａ）のＨＬＢ及び曇点を大きくなる傾向がある。そして、上記の好ましい範囲であると、パルプ原料に付着した汚れをさらに効率よく洗浄（すなわち除去）できる。
【００３２】
一般式（２）で表される化合物（Ａ２）として（カッコ内の数字は順にＨＬＢ、曇点を表す。「／」及び「−」はそれぞれランダム状及びブロック状を意味する。）、１−デカノールのエチレンオキシド１１モル／プロピレンオキシド２モルランダム付加体（１２、８１℃、１．１）、イソデシルアルコールのエチレンオキシド１５モル／プロピレンオキシド５モル−プロピレンオキシド１モル−エチレンオキシド１０モルランダム及びブロック付加体（１４、７５℃、２．５）、ドデシルアルコールのエチレンオキシド４モル／プロピレンオキシド２モル−プロピレンオキシド１モル−エチレンオキシド５モルランダム及びブロック付加体（１０、６１℃、０．８）、トリデシルアルコールのエチレンオキシド８モル／プロピレンオキシド１モル−プロピレンオキシド２モル−エチレンオキシド５モルランダム及びブロック付加体（１２、８１℃、１）、トリデシルアルコールのエチレンオキシド９モル／プロピレンオキシド３モル−プロピレンオキシド１モル−エチレンオキシド７モルランダム及びブロック付加体（１２、８０℃、１．２）、テトラデシルアルコールのエチレンオキシド５モル／プロピレンオキシド２モル−エチレンオキシド１０モルランダム及びブロック付加体（１２、９５℃、１．１）、テトラデシルアルコールのエチレンオキシド３モル／プロピレンオキシド２モル−エチレンオキシド９モルランダム及びブロック付加体（１１、８０℃、０．９）、ヘキサデシルアルコールのエチレンオキシド１０モル／プロピレンオキシド２モル−プロピレンオキシド１モル−エチレンオキシド５モルランダム及びブロック付加体（１１、６５℃、０．９）、オクタデシルアルコールのエチレンオキシド１５モル／プロピレンオキシド５モル−プロピレンオキシド３モル−エチレンオキシド６モルランダム及びブロック付加体（１０、６０℃、１．２）等が好ましく例示できる。
【００３３】
ポリオキシアルキレン化合物（Ａ）は公知の方法（特開２００３−２６８２９１号公報、特開平９−１１７６０７号公報等）等により容易に製造できる。
【００３４】
本発明のパルプ用洗浄剤は、溶媒（Ｃ）や他の添加剤（Ｄ）を含有してもよい。
【００３５】
溶媒（Ｃ）としては、水又は水と親水性有機溶剤との混合溶媒等が含まれる。親水性有機溶剤としては、炭素数４〜８のエステル｛酢酸エチル、酢酸ブチル、メトキシブチルアセテート、メチルセロソルブアセテート及びエチルセロソルブアセテート等｝、炭素数４〜８のエーテル｛エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等｝、炭素数３〜８のケトン｛アセトン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等｝、炭素数１〜８のアルコール｛メタノール、エタノール、ｎ−又はｉ−プロパノール、ｎ−、ｉ−又はｔ−ブタノール、プロピレングリコール及びジプロピレングリコール等｝、及び炭素数５〜８の複素環式化合物｛Ｎ−メチルピロリドン等｝等が挙げられる。
【００３６】
他の添加剤（Ｄ）としては、公知の添加剤｛分散剤、増粘剤、消泡剤、流動性改良剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消臭剤、香料、染料及び／又は防腐剤等｝等が挙げられる。
【００３７】
本発明のパルプ用洗剤に溶剤（Ｃ）及び／又は他の添加剤（Ｄ）を含む場合、ポリオキシアルキレン化合物（Ａ）とこれらとを均一混合することにより得られる。
【００３８】
本発明のパルプ洗浄剤は、パルプ原料に付着したリグノセルロース物質由来の汚れ｛リグニンや金属イオン（カルシウムイオン、鉄イオン等）｝の洗浄（すなわち除去）に適している。
【００３９】
パルプ原料とは、リグノセルロース物質｛木材（針葉樹及び広葉樹等）、非木材（草木類；ケナフ、バガス及びバンブーフ等）｝から化学処理又は機械処理によって得られるセルロース及びリグノセルロース物質由来の汚れを含む混合体であり、パルプ原料を洗浄又は漂白することにより、セルロースやパルプが得られる。
【００４０】
本発明のパルプの製造方法は、上記のパルプ用洗浄剤の存在下でパルプ原料を洗浄又は漂白する工程を含めば特に制限なく、公知の工程を組み合わせることができる。漂白及び洗浄の温度や時間等は公知の範囲が適用できる。
【００４１】
パルプ洗浄剤の使用量（重量部）は、特に限定されるものではなく汚れの程度（種類や量）等によって適宜決定できるが、処理液（漂白工程の場合、漂白液；洗浄工程の場合、洗浄液）１００重量部に対して、０．０００１〜２が好ましく、さらに好ましくは０．００１〜１である。この範囲であると、パルプ原料に付着した汚れをさらに効率よく洗浄（すなわち除去）でき、パルプ品質を大幅に向上できる。
【実施例】
【００４２】
部及び％は特に断りのない限りそれぞれ重量部及び重量％を意味し、「／」及び「−」はそれぞれランダム状及びブロック状を意味する。
＜実施例１＞
公知のアルキレンオキシド付加反応により調製した１−ペンタデカノールのエチレンオキシド２モル−プロピレンオキシド３モル−エチレンオキシド１５モルブロック付加体（ＨＬＢ１３、曇点９５℃、比（ｉ／ｈ）１．１）を本発明のパルプ洗浄剤（１）とした。
【００４３】
＜実施例２＞
公知のアルキレンオキシド付加反応により調製した１−デカノールのエチレンオキシド１モル−プロピレンオキシド３モル−エチレンオキシド７モルブロック付加体（ＨＬＢ１０、曇点７５℃、比（ｉ／ｈ）０．８）を本発明のパルプ洗浄剤（２）とした。
【００４４】
＜実施例３＞
公知のアルキレンオキシド付加反応により調製したオクタデシルアルコールのエチレンオキシド１３モル付加体（ＨＬＢ１１、曇点８２℃、比（ｉ／ｈ）０．７）を本発明のパルプ洗浄剤（３）とした。
【００４５】
＜実施例４＞
公知のアルキレンオキシド付加反応により調製した１−テトラデカノールのエチレンオキシド２モル−プロピレンオキシド２モル−エチレンオキシド８モルブロック付加体（ＨＬＢ１０、曇点６０℃、比（ｉ／ｈ）０．７）を本発明のパルプ洗浄剤（４）とした。
【００４６】
＜実施例５＞
公知のアルキレンオキシド付加反応により調製したイソデシルアルコールのエチレンオキシド２５モル−プロピレンオキシド５モルブロック付加体（ＨＬＢ１４、曇点７５℃、比（ｉ／ｈ）２．５）を本発明のパルプ洗浄剤（５）とした。
【００４７】
＜実施例６＞
公知のアルキレンオキシド付加反応により調製したドデシルアルコールのエチレンオキシド３モル／プロピレンオキシド１モル−プロピレンオキシド１モル−エチレンオキシド６モルランダム及びブロック付加体（ＨＬＢ１１、曇点６０℃、比（ｉ／ｈ）０．８）を本発明のパルプ洗浄剤（６）とした。
【００４８】
＜実施例７＞
公知のアルキレンオキシド付加反応により調製したトリデシルアルコールのエチレンオキシド８モル／プロピレンオキシド４モル−プロピレンオキシド３モル−エチレンオキシド１０モルランダム及びブロック付加体（ＨＬＢ１１、曇点７４℃、比（ｉ／ｈ）１．４）を本発明のパルプ洗浄剤（７）とした。
【００４９】
＜実施例８＞
公知のアルキレンオキシド付加反応により調製したデシルアルコールのエチレンオキシド１５モル／プロピレンオキシド３モル−プロピレンオキシド１モル−エチレンオキシド１０モルランダム及びブロック付加体（ＨＬＢ１２、曇点８５℃、比（ｉ／ｈ）２．５）を本発明のパルプ洗浄剤（８）とした。
【００５０】
＜実施例９＞
公知のアルキレンオキシド付加反応により調製したオクタデシルアルコールのエチレンオキシド１３モル／プロピレンオキシド４モルランダム付加体（ＨＬＢ１０、曇点６５℃、比（ｉ／ｈ）０．７）を本発明のパルプ洗浄剤（９）とした。
【００５１】
＜実施例１０＞
公知のアルキレンオキシド付加反応により調製した１−ペンタデカノールのエチレンオキシド１５モル／プロピレンオキシド３モル−エチレンオキシド２モルランダム及びブロック付加体（ＨＬＢ１３、曇点９５℃、比（ｉ／ｈ）１．１）を本発明のパルプ洗浄剤（１０）とした。
【００５２】
＜実施例１１＞
公知のアルキレンオキシド付加反応により調製したイソデシルアルコールのエチレンオキシド１５モル／プロピレンオキシド５モル−プロピレンオキシド１モル−エチレンオキシド１０モルランダム及びブロック付加体（ＨＬＢ１４、曇点７５℃、比（ｉ／ｈ）２．５）を本発明のパルプ洗浄剤（１１）とした。
【００５３】
＜比較例１＞
公知のアルキレンオキシド付加反応により調製したヘキサデシルアルコールのエチレンオキシド２モル付加体（特許文献２に記載された実施例１の洗浄剤の同等品；ＨＬＢ４、曇点２５℃以下、比（ｉ／ｈ）０．１）を比較用のパルプ洗浄剤（Ｈ１）とした。
【００５４】
＜比較例２＞
公知のアルキレンオキシド付加反応により調製したオクタデシルアルコールのプロピレンオキシド１３モル−エチレンオキシド３モル−プロピレンオキシド２３モルブロック付加体（特許文献１に記載された実施例１の洗浄剤の同等品；ＨＬＢ４、曇点２５℃以下、比（ｉ／ｈ）０．２）を比較用のパルプ洗浄剤（Ｈ２）とした。
【００５５】
＜パルプ洗浄性評価＞
評価試料（パルプ洗浄剤）０．５ｇ及び国内製紙メーカーのパルプスラリー（濃度３．５％）１０００ｇを５０℃で１時間撹拌洗浄してから、金網（目開き７５μｍ）でパルプを濾別し、濾別したパルプに５０℃の温水１０００ｍｌを注ぐことによって洗浄した後、減圧濾過により脱水してから１２０℃、２時間乾燥させて乾燥評価パルプを調製した。ついで、乾燥評価パルプ３０ｇ及びヘキサン３００ｇを２５℃で３時間撹拌抽出し、ヘキサンを濾別した後、濾別したヘキサンをロータリーエバポレータで留去し、残渣（ヘキサン抽出物）の重量（ｘ）を測定した。以上の操作を５回繰り返し、これらの平均値をパルプ原料に付着した残存汚れとして表１に示した。
また、評価試料（パルプ洗浄剤）０．５ｇを水０．５ｇに変更したこと以外、上記と同様にしてブランク評価し、表１に示した。
【００５６】
【表１】
2020133083.tif 000003
【００５７】
表１に示すように、本発明のパルプ用洗浄剤を用いると、比較用の洗浄剤に比べてパルプ原料に付着した汚れを効率よく洗浄（すなわち除去）できた。