(57)【要約】 【課題】フラッシングによって液溜まりから残留液が除去される確実性を高めることにより、信頼性を高く維持したまま、メンテナンスにかかるユーザの負担を軽減することが可能なローリングダイアフラムポンプを提供する。【解決手段】ローリングダイアフラムは、ヘッドとシリンダとの間を仕切ってヘッドの中に、吸入口と吐出口とに連通したポンプ室を形成している。ピストンはシリンダの中を往復運動してローリングダイアフラムを変位させる。この変位により、薬液は吸入口からポンプ室へ、またはポンプ室から吐出口へ移動する。ヘッドからピストンまでの距離が許容下限に達するまでピストンが移動した場合、ヘッドの側壁の内面とローリングダイアフラムとの間には隙間が生じる。この隙間の中を管が、吸入口および吐出口の少なくとも一方から伸びている。フラッシングではこの管を通し、液溜まりから洗浄液または純水が排出される。【選択図】図４
2020122439.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸入口および吐出口を含むヘッドと、 
前記ヘッドで一端が閉じられたシリンダと、 
前記ヘッドと前記シリンダとの間を仕切って前記ヘッドの中に、前記吸入口および前記吐出口に連通したポンプ室を形成している変位可能な部材であり、変位により流体を前記吸入口から前記ポンプ室へ、または前記ポンプ室から前記吐出口へ移動させるローリングダイアフラムと、
前記シリンダの中を往復運動可能に前記ローリングダイアフラムと接続された円筒部材であり、往復運動によって前記ローリングダイアフラムを変位させるピストンと、
前記ヘッドから前記ピストンまでの距離が許容下限に達するまで前記ピストンが移動した場合に生じる前記ヘッドの側壁の内面と前記ローリングダイアフラムとの隙間の中を、前記吸入口および前記吐出口の少なくとも一方から伸びている管と
を備えたローリングダイアフラムポンプ。 
【請求項２】
前記管は前記ヘッドと一体に成形されていることを特徴とする請求項１に記載のローリングダイアフラムポンプ。 
【請求項３】
前記ヘッドは、 
前記吸入口および前記吐出口に設けられた管継手 
を含む、請求項１または請求項２に記載のローリングダイアフラムポンプ。 
【請求項４】
前記管継手は前記ヘッドと一体に成形されていることを特徴とする請求項３に記載のローリングダイアフラムポンプ。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はローリングダイアフラムポンプに関し、特にポンプヘッドの構造に関する。 
【背景技術】
【０００２】
ローリングダイアフラムポンプは、ローリングダイアフラムを変形させることによってポンプ室内の容積を変化させるポンプであり、吐出量を高精度で一定に維持することができるという利点を持つ。ローリングダイアフラムポンプは更に、ローリングダイアフラムを含め、ポンプ室の全体をフッ素樹脂で形成することが可能である。これによりローリングダイアフラムポンプは、金属またはゴムとの接触が好ましくない流体の移送に利用されることが多い。ローリングダイアフラムポンプの代表的な用途としては、半導体、液晶、有機ＥＬ、太陽電池等の製造プロセスにおいて、純水もしくは溶剤等の薬液の塗布、または調合が挙げられる。
【０００３】
ローリングダイアフラムポンプの駆動機構としては、たとえば特許文献１−３に開示された電動式が知られている。この方式ではモータがピストンを往復運動させる。ピストンの移動に伴い、それに接続されたローリングダイアフラムが変位してポンプ室の容積を変化させる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−０９８８５５号公報
【特許文献２】特開２０１６−０６１１６９号公報
【特許文献３】特開２０１８−００３７１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
半導体プロセスにおいては、不純物によるウェハ表面の汚染を防ぐことが極めて重要である。不純物にはたとえば、微粒子（パーティクル）、金属、有機物が含まれる。不純物によるウェハ表面の汚染を防ぐ目的で、ローリングダイアフラムポンプは定期的なメンテナンス時にフラッシングを受ける必要がある。フラッシングとは、洗浄液または純水をポンプに循環させてポンプ室内を洗浄した後、窒素ガスまたは不活性ガス等の気体をポンプ室へ送り込んでポンプ室内を乾燥させることをいう。ポンプ室には一般に液溜まりがあるので、ここに残留した薬液または純水（以下、薬液等と略す。）がフラッシングで強制排除されねばならない。液溜まりとは、ポンプ室の容積が最も小さくなる位置までピストンが移動した際にも液体が抜けきらずに残るポンプの接液部の隙間をいう。液溜まりには、たとえば、ローリングダイアフラムとポンプ室との隙間、および、吸入口と吐出口とのそれぞれに設置された継手の隙間が含まれる。ポンプが停止すると、液溜まりには一般に薬液等が残る。これらの残留液から水分が蒸発すると、溶質が固化してパーティクルとなる。これらのパーティクルは時折、液溜まりから薬液等へ混入し、ウェハ表面まで到達する危険性がある。これらのパーティクルを液溜まりから除去するのが、フラッシングの主な役割である。
【０００６】
パーティクルによる薬液等の汚染を確実に防いで、ポンプに高い信頼性を維持させるには、液溜まりでパーティクルが成長する前にフラッシングが繰り返されねばならない。しかし、フラッシングによって液溜まりから残留液を除去する作業には時間も手間もかかるので、ポンプのユーザには負担が大きい。
【０００７】
本発明の目的は上記の課題を解決することであり、特に、フラッシングによって液溜まりから残留液が除去される確実性を高めることにより、信頼性を高く維持したまま、メンテナンスにかかるユーザの負担を軽減することが可能なローリングダイアフラムポンプを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の１つの観点におけるローリングダイアフラムポンプは、吸入口および吐出口を含むヘッドと、そのヘッドで一端が閉じられたシリンダと、ヘッドとシリンダとの間を仕切ってヘッドの中に、吸入口および吐出口に連通したポンプ室を形成している変位可能な部材であり、変位により流体を吸入口からポンプ室へ、またはポンプ室から吐出口へ移動させるローリングダイアフラムと、シリンダの中を往復運動可能にローリングダイアフラムと接続された円筒部材であり、往復運動によってローリングダイアフラムを変位させるピストンと、ヘッドからピストンまでの距離が許容下限に達するまでピストンが移動した場合に生じるヘッドの側壁の内面とローリングダイアフラムとの隙間の中を、吸入口および吐出口の少なくとも一方から伸びている管とを備えている。
【０００９】
管はヘッドと一体に成形されていてもよい。ヘッドは、吸入口および吐出口に設けられた管継手を含んでいてもよい。これらの管継手はヘッドと一体に成形されていてもよい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明による上記のローリングダイアフラムポンプでは、ヘッドの側壁の内面とローリングダイアフラムとの隙間の中を、吸入口および吐出口の少なくとも一方から管が伸びている。フラッシングではこの管を通して、液溜まりに残留した薬液等が排出される。この管の先端を液溜まりから可能な限り離して設置することは容易である。こうして、このローリングダイアフラムポンプは、フラッシングによって液溜まりから残留液が除去される確実性を高めることができる。その結果、このポンプは、信頼性を高く維持したまま、メンテナンスにかかるユーザの負担を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態によるローリングダイアフラムポンプの外観を示す斜視図である。
【図２】図１の示す直線ＩＩ−ＩＩに沿った縦断面図である。ヘッドからピストンまでの距離が許容上限である。
【図３】図１の示す直線ＩＩ−ＩＩに沿った縦断面図である。ヘッドからピストンまでの距離が許容下限である。
【図４】図１の示す直線ＩＩ−ＩＩに沿った縦断面図である。ピストンが最高点に位置している。
【図５】本発明の実施形態の変形例によるローリングダイアフラムポンプの縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。 
［ローリングダイアフラムポンプの構造］ 
【００１３】
図１は、本発明の実施形態によるローリングダイアフラムポンプ（以下、単に「ポンプ」と略す。）の外観を示す斜視図であり、図２、図３、図４はいずれも、図１の示す直線ＩＩ−ＩＩに沿った縦断面図である。図２−図４の間では、ピストン３００の位置が異なる。このポンプは、図１が示すように、大まかには、上下方向（図ではＺ軸方向）を軸とする円柱形状であり、上から順に、天板１００、ポンプヘッド１１０、シリンダ１２０、および底板１３０を含む。天板１００は正方形状の薄板であり、ステンレス鋼等の金属製である。ポンプヘッド１１０は、図２−図４が示すように、上端が閉じた円筒であり、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂による成型品である。天板１００はポンプヘッド１１０の上に同軸に重ねられている。シリンダ１２０は金属製の円筒であり、たとえばアルミダイキャストである。シリンダ１２０はポンプヘッド１１０の下に同軸に配置されている。シリンダ１２０の内径と外径とはそれぞれ、ポンプヘッド１１０の内径と外径とよりも小さい。シリンダ１２０の上端からは径方向へ、周が正方形状のフランジ１２１が張り出している。フランジ１２１は天板１００と同形、同サイズであり、互いに平行に、かつ同じ向きに配置されている。天板１００とフランジ１２１とは、対応する四隅のそれぞれがボルト１２２で締結されており、ポンプヘッド１１０を間に挟んで固定している。底板１３０は金属製の円板であり、たとえばアルミダイキャストである。底板１３０はシリンダ１２０の下に同軸に配置され、シリンダ１２０の下端を閉じている。
−ポンプヘッド− 
【００１４】
ポンプヘッド１１０の上面には、１本の吸入口１１１、２本の吐出口１１２、および１本の排気口１１３が設けられており、いずれもポンプヘッド１１０の内部空間ＰＭＶと連通している。吸入口１１１、吐出口１１２、通気口１１３のいずれにも、ＰＴＦＥ等のフッ素樹脂製の管継手（コネクタ）６１１、６１２、６１３が取り付けられている。図２が示すように、ポンプヘッド１１０の内部空間ＰＭＶの中では吐出管１１５が吐出口１１２のそれぞれから真下へ伸びており、先端がポンプヘッド１１０の下端とローリングダイヤフラムのつば部４２０（後述参照。）との間の境界付近まで達している。図１、図２は示していないが、吸入口１１１には、外部からポンプヘッド１１０内へ向かう流れのみを許す逆止弁が接続され、吐出口１１２には、ポンプヘッド１１０内から外部へ向かう流れのみを許す逆止弁が接続されている。
−シリンダ− 
【００１５】
シリンダ１２０の内部空間ＲＰＶ、ＯＰＶの中にはピストン３００が収容されている。ピストン３００は、ポリプロピレン（ＰＰ）等の樹脂製の円柱である。ピストン３００は外径がシリンダ１２０の内径よりもわずかに小さいので、シリンダ１２０の内部空間ＲＰＶ、ＯＰＶを軸方向（Ｚ軸方向）に移動可能である。ピストン３００の駆動方式はたとえば空気駆動である（後述参照）。ピストン３００の下端部３１０は他の部分よりも外径が大きく、外周面に円環形状の溝３１１を含む。この溝３１１には、ＰＴＦＥ等のフッ素樹脂製のＯリング３１２が装着され、その径方向における外側には摺動リング３１４が装着されている。Ｏリング３１２の弾性力により、シリンダ１２０の内周面と摺動リング３１４との間がシールされる。摺動リング３１４の外径はシリンダ１２０の内径よりもわずかに大きいので、摺動リング３１４の外周面はシリンダ１２０の内周面に押し付けられながら、その内周面に沿って摺動する。これにより、シリンダ１２０の内部空間のうち、ピストン３００の下端部３１０よりも上側の領域ＲＰＶは下側の領域ＯＰＶから気密に封じられる。一方、シリンダ１２０の内周面からは円環形状の突起１２３が径方向へ突出している。この突起１２３は、内径がピストン３００の下端部３１０の外径よりも小さいので、その下端部３１０の上昇を阻む。シリンダ１２０の突起１２３のうち周方向の１箇所には横穴１２４が開けられ、ピストン３００の下端部３１０よりも上側の領域ＲＰＶを外部と連通させている。この横穴１２４は、上側の領域ＲＰＶの気圧を下げるのに利用される（後述参照）。以下、上側の領域ＲＰＶを「減圧室」と呼び、下側の領域ＯＰＶを「作動室」と呼ぶ。
−ローリングダイアフラム− 
【００１６】
ローリングダイアフラム４００は、ポンプヘッド１１０とシリンダ１２０との間に位置し、両方の内部空間ＰＭＶ、ＲＰＶを液密に仕切っている。ローリングダイアフラム４００はＰＴＦＥ等のフッ素樹脂から成る。ポンプヘッド１１０とローリングダイアフラム４００とで囲まれた空間ＰＭＶは吸入口１１１および吐出口１１２と連通しており、ポンプ室として利用される。
【００１７】
ローリングダイアフラム４００は中央に円盤部４１０を含み、その周りに円環形状のつば部４２０を含む。円盤部４１０とつば部４２０との間は円環形状の薄膜部４３０で接続されている。円盤部４１０の直径はピストン３００の外径とほぼ等しい。円盤部４１０は底面の中央部に、下方へ膨出した凸部４１１を含む。この凸部４１１は、ピストン３００が上面の中央部に含む凹部３０１に嵌められている。この状態で、ピストン３００を上下方向に貫くボルト３０２が円盤部４１０の凸部４１１にねじ込まれる。これにより、円盤部４１０の底面がピストン３００の上面に密着する。つば部４２０の外径はポンプヘッド１１０の外径と等しい。つば部４２０はポンプヘッド１１０とシリンダ１２０のフランジ１２１との間に挟まれて固定されている。つば部４２０は上面に円環形状の溝４２１を含む。その溝４２１には、ポンプヘッド１１０の下端面から下方へ突出した円環形状の突起１１６が嵌められている（刺さり込み）。これにより、つば部４２０の上面とポンプヘッド１１０の下端面との隙間が液密に封じられる。薄膜部４３０は円盤部４１０とつば部４２０とのいずれと比べてもかなり薄いので、弾性が特に高い。ピストン３００の周囲からシリンダ１２０の横穴１２４を通して空気が減圧されると、薄膜部４３０はシリンダ１２０の内周面とピストン３００の外周面との隙間に入り込む。この隙間の中で薄膜部４３０は、ピストン３００の移動に伴って折り返される。これにより、円盤部４１０はピストン３００と共に、つば部４２０に対して軸方向（Ｚ軸方向）に変位する。
−高さセンサ− 
【００１８】
シリンダ１２０の外周面には３基の高さセンサ５０１、５０２、５０３が設置されている。これらのセンサはシリンダ１２０の周方向では同じ位置にあり、軸方向では異なる高さにある。いずれのセンサ５０１−５０３も磁気センサであり、ピストン３００の下端部３１０の上面に固定された円環状の永久磁石３１３をその磁場の強さから検出する。３基の高さセンサのうち位置が最も低い第１高さセンサ５０１は、ポンプヘッド１１０からピストン３００までの距離が許容上限である際に永久磁石３１３を検出する。次に低い第２高さセンサ５０２は、ポンプヘッド１１０からピストン３００までの距離が許容下限に達した際に永久磁石３１３を検出する。位置が最も高い第３高さセンサ５０３は、ポンプヘッド１１０からピストン３００までの距離が許容下限を下回り、最小値よりも所定の余裕長だけ大きい値に達した際に永久磁石３１３を検出する。ポンプヘッド１１０からの距離が許容上限であるピストン３００は図２に示され、その距離が許容下限であるピストン３００は図３に示され、その距離が最小値であるピストン３００は図４に示されている。図４の示す位置、すなわち最高点では、ピストン３００の永久磁石３１３がシリンダ１２０の内周面の突起１２３と接触するので、ピストン３００は最高点を超えて上昇することができない。吐出管１１５は、ピストン３００が最高点に達した場合に生じるポンプヘッド１１０の内周面１１４とローリングダイアフラム４００の薄膜部４３０との隙間の中を伸びているので、ピストン３００の位置にかかわらず、ローリングダイアフラム４００と接触することはない。
−底板− 
【００１９】
底板１３０はシリンダ１２０内の作動室ＯＰＶの底を閉じている。底板１３０の上面には円環状の溝１３１が形成されており、その中にＯリング１３２が設置されている。溝１３１の内径は作動室ＯＰＶの直径よりも大きいので、Ｏリング１３２は作動室ＯＰＶの底部を外部から気密に封じている。底板１３０の内部では外周面から上面の中央部までを換気口１３３が貫通している。この換気口１３３を通して外部と作動室ＯＰＶとの間で空気が給排される。
［ローリングダイアフラムポンプの動作］ 
【００２０】
空気駆動方式では、作動室ＯＰＶ内の気圧が制御されることにより、ピストン３００がシリンダ１２０内を上下動する。外部の駆動系統（図は示していない。）は、高さセンサ５０１−５０３からの信号に基づいてピストン３００の高さを監視し、換気口１３３を通して作動室ＯＰＶへ送り込むべき圧縮空気の流量、または作動室ＯＰＶから吸い出すべき空気の流量を調節する。
【００２１】
ポンプの起動時、駆動系統は通気口１１３を開いた状態で作動室ＯＰＶ内の気圧を調節して、ピストン３００を所定の距離だけ降下させる。これに伴ってポンプ室ＰＭＶ内には通気口１１３を通して外部から一定量の窒素ガスまたは不活性ガスが導入される。その後は通気口１１３が閉じられるので、ポンプが停止するまでガスはポンプ室ＰＭＶ内に維持される。
【００２２】
ポンプの吸入過程では、作動室ＯＰＶから空気が吸い出され、ポンプヘッド１１０からの距離が許容上限に達するまでピストン３００が降下する（図２参照）。これにより、ポンプ室ＰＭＶの容積が増大するのでポンプ室ＰＭＶ内の圧力が下がり、吸入口１１１では逆止弁が開き、吐出口１１２では逆止弁が閉じる。したがって、吸入口１１１から流体ＦＬＤがポンプ室へ流れ込む。
【００２３】
ポンプの吐出過程では、作動室ＯＰＶへ圧縮空気が送り込まれてピストン３００が上昇し、ポンプヘッド１１０からピストン３００までの距離が許容上限から許容下限まで減少する（図３参照）。これにより、ポンプ室ＰＭＶの容積が減少するのでポンプ室ＰＭＶ内の圧力が上がり、吸入口１１１では逆止弁が閉じ、吐出口１１２では逆止弁が開く。したがって、ポンプ室ＰＭＶから吐出管１１５を通して吐出口１１２へ薬液が流れ出る（図３の示す矢印参照）。
【００２４】
空気駆動方式によるピストン３００の上下動は十分に緩やかであり、かつ吐出管１１５は十分に長い。したがって、ポンプの起動時にポンプ室ＰＭＶ内へ導入されたガスは、薬液ＦＬＤに混ざることも、吐出管１１５を通して吐出口１１２から排気されることもなくポンプ室ＰＭＶ内に留まる。ガスは特に、ポンプの動作中、ポンプ室ＰＭＶ内の薬液ＦＬＤの液面ＬＬＶを常に一定の高さに維持して、吸入口１１１、吐出口１１２、および通気口１１３のいずれからも十分な距離に遠ざけ続ける。それ故、吸入口１１１のコネクタ６１１とポンプヘッド１１０との隙間（図は示していない。）、吐出口１１２のコネクタ６１２と吐出管１１５との隙間、および通気口１１３のコネクタ６１３とポンプヘッド１１０との隙間はいずれも接液しない。その結果、これらの隙間に薬液ＦＬＤが入り込んで残留する危険性はない。すなわち、これらの隙間が液溜まりにはならない。
［フラッシング］ 
【００２５】
ポンプは定期的にフラッシングを受ける。フラッシングでは、まず、ポンプヘッド１１０からの距離が許容上限に達するまでピストン３００が降下した状態（図２参照）で、吸入口１１１からポンプ室ＰＭＶ内へ洗浄液または純水（以下、「洗浄液等」と略す。）が送り込まれる。これにより、ポンプ室ＰＭＶ内に残留する薬液ＦＬＤがすべて吐出口１１２から押し流され、ポンプ室ＰＭＶの全体が洗浄される。次に、駆動系統がピストン３００を最高点まで上昇させる（図４参照）。これにより、ポンプ室ＰＭＶ内の洗浄液等は、ポンプヘッド１１０の内周面１１４とローリングダイアフラム４００の薄膜部４３０との隙間に残留する部分以外、すべて吐出口１１２から排出される。最後に、通気口１１３からポンプ室ＰＭＶ内へ、圧縮された窒素ガスまたは不活性ガスが送り込まれる。これにより、ポンプ室ＰＭＶ内に残留する洗浄液等がすべて、吐出管１１５を通して吐出口１１２から排出され（図４の示す矢印参照）、ポンプ室ＰＭＶ内が乾燥される。特に、吐出管１１５の先端が吐出口１１２と通気口１１３とのいずれからも十分に離れているので、洗浄液等がガスに押し流されても、吐出口１１２のコネクタ６１２と吐出管１１５との隙間、および通気口１１３のコネクタ６１３とポンプヘッド１１０との隙間へ逃げ込んで残留する危険性はない。すなわち、これらの隙間を含む液溜まりからは洗浄液等が確実に除去される。
［実施形態の利点］ 
【００２６】
本発明の上記の実施形態によるローリングダイアフラムポンプでは、ピストン３００が最高点に達した場合に生じるポンプヘッド１１０の内周面１１４とローリングダイアフラム４００の薄膜部４３０との隙間の中を、吐出口１１２から吐出管１１５が伸びている。フラッシングでは吐出管１１５を通して、液溜まりに残留した洗浄液等が排出される。吐出管１１５の先端は液溜まり、特に、吸入口１１１、吐出口１１２、および通気口１１３から可能な限り離して（図２−図４では、ポンプヘッド１１０の下端とローリングダイヤフラムのつば部４２０との間の境界付近に）設置されている。したがって、洗浄液等がガスに押されても、吐出口１１２のコネクタ６１２と吐出管１１５との隙間、および通気口１１３のコネクタ６１３とポンプヘッド１１０との隙間へ逃げ込んで残留する危険性はない。こうしてこのローリングダイアフラムポンプは、フラッシングにより液溜まりから残留液が除去される確実性を高めることができる。その結果、フラッシングの間隔が延長されても液溜まりでパーティクルが成長する危険性が低い。それ故、このローリングダイアフラムポンプは、信頼性を高く維持したまま、メンテナンスにかかるユーザの負担を軽減することができる。
【００２７】
このローリングダイアフラムポンプは更に、吐出管１１５の先端がローリングダイアフラム４００の近くに位置するので、ポンプ室ＰＭＶ内に一定量のガスを留めたままでも、通常の吸込動作と吐出動作とを繰り返すことができる。これらの動作の間、ガスがポンプ室ＰＭＶの上部に留まり、薬液ＦＬＤの液面ＬＬＶを、吸入口１１１、吐出口１１２、および通気口１１３のいずれからも十分に遠ざける。したがって、吸入口１１１のコネクタ６１１とポンプヘッド１１０との隙間、吐出口１１２のコネクタ６１２と吐出管１１５との隙間、および通気口１１３のコネクタ６１３とポンプヘッド１１０との隙間はいずれも接液しない。それ故、これらの隙間に薬液ＦＬＤが入り込んで残留する危険性はない。すなわち、これらの隙間が液溜まりにはならない。その結果、ポンプ室ＰＭＶ内でパーティクルが成長しうる箇所が減るので、フラッシングの間隔が延長されてもポンプ室ＰＭＶ内でパーティクルが成長する危険性は更に低い。それ故、このローリングダイアフラムポンプは、信頼性を高く維持したまま、メンテナンスにかかるユーザの負担を更に軽減することができる。
［変形例］ 
【００２８】
（１）本発明の上記の実施形態による吸入口１１１は１本であり、吐出口１１２は２本である。しかし、これらの本数に制限はなく、自由に変更可能である。
【００２９】
（２）本発明の上記の実施形態によるローリングダイアフラムポンプは縦型であり、特にピストン３００が上下方向で往復運動を行う。その他に、ローリングダイアフラムポンプが横型であり、ピストンが水平方向に往復運動を行ってもよい。この場合、ポンプ室内では移送対象の液体の液面がピストンの移動空間よりも上に設定され、吸入口および吐出口が液面よりも上に配置されればよい。さらに、吐出管は、ポンプヘッドからピストンまでの距離が許容下限に達するまでピストンが移動した場合に生じるポンプヘッドの側壁の内面とローリングダイアフラムとの隙間の中を伸びていればよい。
【００３０】
（３）本発明の上記の実施形態による吐出管１１５は、吐出口１１２からポンプ室ＰＭＶ内へ伸びている。吐出管１１５に代え、またはそれに加え、別の管が吸入口１１１から同様に伸びていてもよい。コネクタがポンプヘッド１１０と一体である場合、吸入口または吐出口の少なくともいずれかが、ポンプヘッドの上面に代えて側面に設置されていてもよい。この場合、側面の開口部からポンプ室内へ伸びている管は屈曲し、先端をローリングダイアフラムの近くまで伸ばしていればよい。
【００３１】
（４）本発明の上記の実施形態によるピストン３００の駆動方式は、空気駆動である。その他に、ピストンの駆動方式がモータ駆動であってもよい。
【００３２】
（５）本発明の上記の実施形態では、ピストン３００が最高点まで上昇した際に生じるポンプヘッド１１０の内周面１１４とローリングダイアフラム４００の薄膜部４３０との隙間は、ポンプ室ＰＭＶの周全体で拡げられている。その他に、周方向のうち吐出管１１５が存在する箇所でのみ、ポンプヘッド１１０の内周面１１４とローリングダイアフラム４００の薄膜部４３０との隙間が拡げられていてもよい。
【００３３】
（６）本発明の上記の実施形態では、吸入口１１１、吐出口１１２、および通気口１１３のそれぞれでコネクタ６１１−６１３がポンプヘッド１１０に挿入され、吐出管１１５が吐出口１１２のそれぞれに設置されている。すなわち、これらのコネクタ６１１−６１３および吐出管１１５はポンプヘッド１１０とは別体である。その他に、これらのコネクタおよび吐出管がポンプヘッドと一体に成型されていてもよい。
【００３４】
図５は、本発明の上記の実施形態の変形例によるポンプの縦断面図である。図４と同様に、ピストン３００は最高点まで上昇している。ポンプヘッド１１０の上面からは４本の円筒形状の突起７１２、７１３が上方へ突き出している。１本は吸入口１１１に位置し、２本７１２は吐出口１１２に位置し、残り１本７１３は通気口１１３に位置する。各突起７１２、７１３は管継手（コネクタ）として利用される。ポンプ室ＰＭＶ内では、吐出口１１２のそれぞれからポンプヘッド１１０の上面が管状に突き出して、吐出管７１５を形成している。吐出管７１５の先端は、ポンプヘッド１１０とシリンダ１２０との間の境界付近まで達している。ポンプの吐出動作およびフラッシングでは、ポンプ室ＰＭＶ内の液体ＦＬＤが吐出管７１５の先端から吸い込まれ、吐出口１１２へと導かれる。
【００３５】
吐出管７１５の先端は液溜まり、特に、吸入口１１１、吐出口１１２、および通気口１１３から可能な限り離して（図５では、ポンプヘッド１１０の下端とシリンダ１２０のフランジ１２１との間の境界付近に）設置されている。したがって、フラッシングにおいては、洗浄液等がガスに押されても、液溜まりへ逃げ込んで残留する危険性はない。こうしてこのローリングダイアフラムポンプは、フラッシングにより液溜まりから残留液が除去される確実性を高めることができる。その結果、フラッシングの間隔が延長されても液溜まりでパーティクルが成長する危険性が低い。それ故、このローリングダイアフラムポンプは、信頼性を高く維持したまま、メンテナンスにかかるユーザの負担を軽減することができる。
【００３６】
コネクタ７１２、７１３および吐出管７１５は上記のとおり、ポンプヘッド１１０と一体である。この場合、吸入口１１１、吐出口１１２、および通気口１１３のいずれにも、液体が入り込みうる隙間、すなわち、液溜まりが存在しない。したがって、上記の実施形態とは異なり、ポンプ室ＰＭＶ内にガスを導入して薬液ＦＬＤの液面を、吸入口１１１、吐出口１１２、および通気口１１３から遠ざける必要がない。
【符号の説明】
【００３７】
１００  天板 
１１０  ポンプヘッド 
１１１  吸入口 
１１２  吐出口 
１１３  通気口 
１１５  吐出管 
１２０  シリンダ 
１２１  フランジ 
１２２  ボルト 
１２３  シリンダの突起 
１２４  シリンダの横穴 
１３０  底板 
１３１  底板の溝 
１３２  Ｏリング 
１３３  換気口 
３００  ピストン 
３０１  ピストンの凹部 
３０２  ピストンのボルト 
３１０  ピストンの下端部 
３１１  ピストンの溝 
３１２  Ｏリング 
３１３  永久磁石 
４００  ローリングダイアフラム 
４１０  ローリングダイアフラムの円盤部 
４１１  ローリングダイアフラムの凸部 
４２０  ローリングダイアフラムのつば部 
４３０  ローリングダイアフラムの薄膜部 
５０１−５０３  高さセンサ 
６１１−６１３  コネクタ 
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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