(57)【要約】【課題】光モジュールの調芯作業を単純化させることができる製造方法を提供する。【解決手段】光モジュールの製造方法は、第１コリメータと第２コリメータとの間に、互いに平行な第１反射面及び第２反射面を有する第１基準ミラーを配置する工程と、第１コリメータから第１反射面に向かって光を出射し、第１反射面からの反射光を第１コリメータで受光し、当該受光した反射光の光パワーが所望の値となるように第１コリメータのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯する工程と、第１コリメータと同様の方法で第２コリメータのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯する工程と、第１コリメータ及び第２コリメータの回動角θｘ及び回動角θｙを調芯した後、第１基準ミラーを待避させる工程と、第２コリメータのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置を調芯する工程と、を備える。【選択図】図４
2020144216.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに直交するＸ軸及びＹ軸からなるＸＹ平面に対して直交する光軸をそれぞれが有するコリメータを少なくとも２つ以上備える光モジュールの製造方法であって、
第１コリメータと第２コリメータとを互いの入出射口が対向するようにベース上に配置する工程と、
前記第１コリメータと前記第２コリメータとの間に、互いに平行な第１反射面及び第２反射面を有する第１基準ミラーを配置する工程であって、前記第１反射面が前記第１コリメータの設定光軸に対して直交し、且つ、前記第１反射面が前記第１コリメータの前記入出射口に対向すると共に前記第２反射面が前記第２コリメータの前記入出射口に対向するように、前記第１基準ミラーを配置する工程と、
前記第１コリメータの前記入出射口から前記第１反射面に向かって光を出射し、前記第１反射面からの反射光を前記第１コリメータの前記入出射口で受光し、当該受光した反射光の光パワーが所望の値となるように前記第１コリメータの前記Ｘ軸周りの回動角θｘ及び前記Ｙ軸周りの回動角θｙを調芯する工程と、
前記第２コリメータの前記入出射口から前記第２反射面に向かって光を出射し、前記第２反射面からの反射光を前記第２コリメータの前記入出射口で受光し、当該受光した反射光の光パワーが所望の値となるように前記第２コリメータの前記Ｘ軸周りの回動角θｘ及び前記Ｙ軸周りの回動角θｙを調芯する工程と、
前記第１コリメータ及び第２コリメータの前記回動角θｘ及び前記回動角θｙを調芯した後、前記第１基準ミラーを前記第１コリメータの光軸上及び前記第２コリメータの光軸上から待避させる工程と、
前記第１コリメータの前記入出射口から前記第２コリメータの前記入出射口に向かって光を出射し、前記第２コリメータで受光した光の光パワーが所望の値となるように前記第２コリメータの前記Ｘ軸に沿った位置及び前記Ｙ軸に沿った位置を調芯する工程と、
を備える、光モジュールの製造方法。
【請求項２】
前記第１コリメータから前記第２コリメータに向かう光軸に沿った前記ベース上に、第１波長の光を透過させると共に残りの波長の光を反射させるように構成された第１光学フィルタを配置する工程であって、前記ベースに沿うＸ軸及び前記ベースに直交するＹ軸からなるＸＹ平面に沿って延びる前記第１光学フィルタを配置する工程を更に備え、
前記第１光学フィルタを配置する工程では、前記ベースと平行な面において前記第１光学フィルタの法線に対する前記第１コリメータからの光の入射角が第１角度θ１を為し、これにより、前記第１コリメータから前記第２コリメータに向かう光のうち前記第１波長の光が前記第１光学フィルタを透過すると共に残りの波長の光が前記第１光学フィルタによって反射されるように、前記第１光学フィルタの前記Ｙ軸周りの回動角θｙを調芯する、請求項１に記載の光モジュールの製造方法。
【請求項３】
前記第１コリメータから出射された光のうち前記第１光学フィルタによって反射された反射光の光軸上に第３コリメータを配置する工程と、
第３反射面を有する第２基準ミラーを前記第１光学フィルタと前記第３コリメータとの間に配置する工程であって、前記第３反射面が前記第３コリメータの設定光軸に対して直交し、且つ、前記第３反射面が前記第３コリメータの入出射口に対向するように、前記第２基準ミラーを配置する工程と、
前記第３コリメータの前記入出射口から前記第３反射面に向かって光を出射し、前記第３反射面からの反射光を前記第３コリメータの前記入出射口で受光し、当該受光した反射光の光パワーが所望の値となるように前記第３コリメータの前記Ｘ軸周りの回動角θｘ及び前記Ｙ軸周りの回動角θｙを調芯する工程と、
前記第３コリメータの前記回動角θｘ及び前記回動角θｙを調芯した後、前記第２基準ミラーを前記第３コリメータの光軸上から待避させる工程と、
前記第１コリメータの前記入出射口から前記第１光学フィルタに向かって出射され当該第１光学フィルタで反射した反射光を前記第３コリメータで受光した光の光パワーが所望の値となるように前記第３コリメータの前記Ｘ軸に沿った位置及び前記Ｙ軸に沿った位置を調芯する工程と、
を更に備える、請求項２に記載の光モジュールの製造方法。
【請求項４】
前記第１光学フィルタから前記第３コリメータに向かう光軸に沿った前記ベース上に、前記第１波長と異なる第２波長の光を透過させると共に残りの波長の光を反射させるように構成された第２光学フィルタを配置する工程であって、前記ベースに沿うＸ軸及び前記ベースに直交するＹ軸からなるＸＹ平面に沿って延びる前記第２光学フィルタを配置する工程を更に備え、
前記第２光学フィルタを配置する工程では、前記ベースと平行な面において前記第２光学フィルタの法線に対する前記第１光学フィルタからの光の入射角が第２角度θ２を為し、これにより、前記第１光学フィルタから前記第３コリメータに向かう光のうち前記第２波長の光が前記第２光学フィルタを透過すると共に残りの波長の光が前記第２光学フィルタによって反射されるように、前記第２光学フィルタの前記Ｙ軸周りの回動角θｙを調芯する、請求項３に記載の光モジュールの製造方法。
【請求項５】
前記第１コリメータから出射された光のうち前記第１光学フィルタ及び前記第２光学フィルタによって反射された反射光の光軸上に第４コリメータを配置する工程と、
第４反射面を有する第３基準ミラーを前記第２光学フィルタと前記第４コリメータとの間に配置する工程であって、前記第４反射面が前記第４コリメータの設定光軸に対して直交し、且つ、前記第４反射面が前記第４コリメータに対向するように、前記第３基準ミラーを配置する工程と、
前記第４コリメータの前記入出射口から前記第３基準ミラーの前記第４反射面に向かって光を出射し、前記第４反射面からの反射光を前記第４コリメータの前記入出射口で受光し、当該受光した反射光の光パワーが所望の値となるように前記第４コリメータの前記Ｘ軸周りの回動角θｘ及び前記Ｙ軸周りの回動角θｙを調芯する工程と、
前記第４コリメータの前記回動角θｘ及び前記回動角θｙを調芯した後、前記第３基準ミラーを前記第４コリメータの光軸上から待避させる工程と、
前記第１コリメータの前記入出射口から前記第１光学フィルタに向かって出射して前記第１光学フィルタ及び前記第２光学フィルタで反射した反射光を前記第４コリメータで受光した光の光パワーが所望の値となるように前記第４コリメータの前記Ｘ軸に沿った位置及び前記Ｙ軸に沿った位置を調芯する工程と、
を更に備える、請求項４に記載の光モジュールの製造方法。
【請求項６】
前記第１基準ミラーの前記Ｙ軸周りの角度は、前記第３基準ミラーの前記Ｙ軸周りの角度と同じである、請求項５に記載の光モジュールの製造方法。
【請求項７】
前記第１基準ミラー、前記第２基準ミラー及び前記第３基準ミラーのうち少なくとも２つの基準ミラーは、同一のミラーから構成されており、各基準ミラーを配置する際に所定の角度に調整される、
請求項３から請求項６の何れか１項に記載の光モジュールの製造方法。
【請求項８】
前記第１基準ミラー及び前記第２基準ミラーは、１つの統合基準ミラーから構成されており、
前記統合基準ミラーでは、前記第１基準ミラーの前記第１反射面と前記第２基準ミラーの前記第３反射面とが同じ側に設けられ、前記第１基準ミラーの前記第２反射面が前記第１反射面とは逆側に設けられており、
前記第１反射面の延在する面に対して前記第３反射面が為す角度が３．７°以上８．３°以下である、
請求項３から請求項６の何れか１項に記載の光モジュールの製造方法。
【請求項９】
前記第１基準ミラー、前記第２基準ミラー及び前記第３基準ミラーのうち少なくとも１つの基準ミラーの前記反射面は、金、銀、又はアルミニウムから構成されている、
請求項１から請求項８の何れか１項に記載の光モジュールの製造方法。
【請求項１０】
前記第１基準ミラー、前記第２基準ミラー及び前記第３基準ミラーのうち少なくとも１つの基準ミラーは、前記Ｘ軸周りの回動角θｘ又は前記Ｙ軸周りの回動角θｙを±３°以内の範囲内で揺動する、
請求項１から請求項９の何れか１項に記載の光モジュールの製造方法。
【請求項１１】
前記基準ミラーの揺動がガルバノスキャン方式によって行われる、請求項１０に記載の光モジュールの製造方法。
【請求項１２】
前記第２コリメータ、前記第３コリメータ及び前記第４コリメータのうち少なくとも１つのコリメータの前記Ｘ軸に沿った位置及び前記Ｙ軸に沿った位置を調芯する工程が終了した後に、当該コリメータに入射した光の光パワーが所望の値となるように当該コリメータの前記Ｘ軸周りの回動角θｘ及び前記Ｙ軸周りの回動角θｙを微調芯する工程を更に備える、
請求項１から請求項１１の何れか１項に記載の光モジュールの製造方法。
【請求項１３】
請求項１に記載の光モジュールの製造方法に用いられる製造装置であって、
前記ベースを支持するベース台と、
前記ベース台の一方に配置され、前記第１コリメータを支持する第１自動調整ステージと、
前記ベース台の他方に配置され、前記第２コリメータを支持する第２自動調整ステージと、
前記ベース上の所定位置に前記第１基準ミラーを移動させると共に当該所定位置から前記第１基準ミラーを待避させるように構成されたミラー移動装置と、
を備え、
前記第１自動調整ステージ及び前記第２自動調整ステージは、各ステージ上に配置された前記第１コリメータ及び前記第２コリメータの前記Ｘ軸に沿った位置、前記Ｙ軸に沿った位置、前記Ｘ軸周りの回動角θｘ、及び前記Ｙ軸周りの回動角θｙを調整可能なように構成されている、
光モジュールの製造装置。
【請求項１４】
請求項３に記載の光モジュールの製造方法に用いられる製造装置であって、
前記ベースを支持するベース台と、
前記ベース台の一方に配置され、前記第１コリメータを支持する第１自動調整ステージと、
前記ベース台の他方に配置され、前記第２コリメータを支持する第２自動調整ステージと、
前記ベース上の所定位置に前記第１基準ミラー及び前記第２基準ミラーを移動させると共に当該所定位置から前記第１基準ミラー及び前記第２基準ミラーを待避させるように構成されたミラー移動装置と、
を備え、
前記第１自動調整ステージ及び前記第２自動調整ステージは、各ステージ上に配置された前記第１コリメータ及び前記第２コリメータの前記Ｘ軸に沿った位置、前記Ｙ軸に沿った位置、前記Ｘ軸周りの回動角θｘ、及び前記Ｙ軸周りの回動角θｙを調整可能なように構成されており、
前記第１基準ミラー及び前記第２基準ミラーは、１つの統合基準ミラーから構成されており、
前記統合基準ミラーでは、前記第１基準ミラーの前記第１反射面と前記第２基準ミラーの前記第３反射面とが同じ側に設けられ、前記第１基準ミラーの前記第２反射面が前記第１反射面とは逆側に設けられており、
前記第１反射面の延在する面に対して前記第３反射面が為す角度が３．７°以上８．３°以下である、光モジュールの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光モジュールの製造方法、及び光モジュールの製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１及び２には、平面基板上に複数のコリメータとフィルタとを配置させた空間光学系の光合分波モジュールが開示されている。この光合分波モジュールは、例えば、光通信において、波長の異なる複数の信号光を重ねて一本の光ファイバに同時に通光させる波長分割多重方式（ＷＤＭ）などに用いられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第５７８６９１５号明細書
【特許文献２】米国特許第６７４８１３３号明細書
【特許文献３】特開平７−２４８４２７号公報
【特許文献４】特開平５−１２７０５６号公報
【特許文献５】特開２００３−２７０４７７号公報
【特許文献６】特開２０００−１６２４８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１及び２に記載の光合分波モジュールは、複数のコリメータと複数のＴＦＴ（Thin Film Filter）式の波長フィルタとを用いた空間光学系の方式を採用している。この空間光学系の方式は、導波路型モジュールのＡＷＧ（Arrayed Wavelength Filter）やファイバ型のＦＢＧ（Fiber Bragg Grating）などを用いた他の方式よりも低い光損失で光の合分波を実現することが可能である。一方、この空間光学系を用いた光合分波モジュールでは、その製造過程において各コリメータ同士の調芯やコリメータと波長フィルタとの間の調芯が必要になるものの、これら調芯作業は、熟練した作業者のスキルや勘に依存した手動調芯が一般的である。これは、空間光学系の光合分波モジュールでは、コリメータを用いてビーム径を拡大させることから、Ｘ軸やＹ軸に沿った軸方法への軸ずれは調芯しやすい一方、コリメート光であることから開口数（ＮＡ）が小さくなり、コリメータ等のＸ軸周りの回動θｘやＹ軸周りの回動θｙの調芯が難しくなり、これら４つの調芯をそのまま機械で自動化することが困難であることに起因している。そこで、コリメータを用いた光モジュールを作製する際、その調芯作業を単純化又は短時間化させることが望まれている。
【０００５】
本開示は、一側面として、コリメータ同士の調芯又はコリメータと光学フィルタとの間の調芯をより単純化又は短時間化させることができる、光モジュールの製造方法及びその製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示は、互いに直交するＸ軸及びＹ軸からなるＸＹ平面に対して直交する光軸をそれぞれが有するコリメータを少なくとも２つ以上備える光モジュールの製造方法を提供する。この光モジュールの製造方法は、第１コリメータと第２コリメータとを互いの入出射口が対向するようにベース上に配置する工程と、第１コリメータと第２コリメータとの間に、互いに平行な第１反射面及び第２反射面を有する第１基準ミラーを配置する工程であって、第１反射面が第１コリメータの設定光軸に対して直交し、且つ、第１反射面が第１コリメータの入出射口に対向すると共に第２反射面が第２コリメータの入出射口に対向するように、第１基準ミラーを配置する工程と、第１コリメータの入出射口から第１反射面に向かって光を出射し、第１反射面からの反射光を第１コリメータの入出射口で受光し、当該受光した反射光の光パワーが所望の値となるように第１コリメータのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯する工程と、第２コリメータの入出射口から第２反射面に向かって光を出射し、第２反射面からの反射光を第２コリメータの入出射口で受光し、当該受光した反射光の光パワーが所望の値となるように第２コリメータのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯する工程と、第１コリメータ及び第２コリメータの回動角θｘ及び回動角θｙを調芯した後、第１基準ミラーを第１コリメータの光軸上及び第２コリメータの光軸上から待避させる工程と、第１コリメータの入出射口から第２コリメータの入出射口に向かって光を出射し、第２コリメータで受光した光の光パワーが所望の値となるように第２コリメータのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置を調芯する工程と、を備えている。
【０００７】
本開示は、光モジュールの製造装置を更に提供する。この製造装置は  上述した光デバイスの製造方法に用いられる製造装置であって、ベースを支持するベース台と、ベース台の一方に配置され、第１コリメータを支持する第１自動調整ステージと、ベース台の他方に配置され、第２コリメータを支持する第２自動調整ステージと、ベース上の所定位置に第１基準ミラーを移動させると共に当該所定位置から第１基準ミラーを待避させるように構成されたミラー移動装置と、を備えている。第１自動調整ステージ及び第２自動調整ステージは、各ステージ上に配置されたコリメータのＸ軸に沿った位置、Ｙ軸に沿った位置、Ｘ軸周りの回動角θｘ、及びＹ軸周りの回動角θｙを調整可能なように構成されている。
【発明の効果】
【０００８】
本開示によれば、少なくとも２つ以上のコリメータを備える光モジュールの調芯作業を単純化させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、光合分波モジュールの構成の一例を示す模式図である。
【図２】図２は、光合分波モジュールの構成の一例を示す斜視図であり、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸（光軸）を示している。
【図３】図３の（ａ）は、光合分波モジュールを製造するために用いる製造装置を模式的に示す平面図であり、図３の（ｂ）は、その製造装置の側面図である。
【図４】図４の（ａ）は、共通コリメータ及び第１分岐コリメータそれぞれにおける回動角θｘ及び回動角θｙの調芯作業を示す図であり、図４の（ｂ）は、共通コリメータにおける回動角θｘ及び回動角θｙの調芯作業のより具体的な方法を示す図である。
【図５】図５の（ａ）は、共通コリメータに対する第１分岐コリメータのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置の調芯作業を示す図であり、図５の（ｂ）は、図５の（ａ）に示す調芯作業のより具体的な方法を示す図である。
【図６】図６の（ａ）は、共通コリメータに対する第１光学フィルタのＹ軸周りの回動角の調芯作業を示す図であり、図６の（ｂ）は、図６の（ａ）に示す調芯作業のより具体的な方法を示す図である。
【図７】図７の（ａ）は、 第２分岐コリメータにおける回動角θｘ及び回動角θｙの調芯作業を示す図であり、図７の（ｂ）は、図７の（ａ）に示す調芯作業のより具体的な方法を示す図である。
【図８】図８の（ａ）は、第１光学フィルタに対する第２分岐コリメータのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置の調芯作業を示す図であり、図８の（ｂ）は、図８の（ａ）に示す調芯作業のより具体的な方法を示す図である。
【図９】図９の（ａ）は、第１光学フィルタに対する第２光学フィルタのＹ軸周りの回動角θｙの調芯作業を示す図であり、図９の（ｂ）は、図９の（ａ）に示す調芯作業のより具体的な方法を示す図である。
【図１０】図１０の（ａ）は、第３分岐コリメータにおける回動角θｘ及び回動角θｙの調芯作業を示す図であり、図１０の（ｂ）は、図１０の（ａ）に示す調芯作業のより具体的な方法を示す図である。
【図１１】図１１の（ａ）は、第２光学フィルタに対する第３分岐コリメータのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置の調芯作業を示す図であり、図１１の（ｂ）は、図１１の（ａ）に示す調芯作業のより具体的な方法を示す図である。
【図１２】図１２の（ａ）は、第２光学フィルタに対する第３光学フィルタのＹ軸周りの回動角θｙの調芯作業を示す図であり、図１２の（ｂ）は、図１２の（ａ）に示す調芯作業のより具体的な方法を示す図である。
【図１３】図１３の（ａ）は、コリメータの回動角θｘ及び回動角θｙの調芯を行う際に渦巻き状に掃引して光ピークをサーチする手法を説明するための図であり、図１３の（ｂ）は、コリメータの回動角θｘ及び回動角θｙの調芯を行う際にマトリクス状に掃引して光ピークをサーチする手法を説明するための図である。
【図１４】図１４の（ａ）は、各コリメータの調芯作業を行った際に検出される光パワーがピーク（最大値）になった際のθｙの値Ｐ１を模式的に示す図であり、図１４の（ｂ）は、各コリメータの調芯作業を行った際に検出された光パワーがピーク（最大値）になった際のθｘの値Ｐ２を模式的に示す図である。
【図１５】図１５は、貼合せミラーの外観を模式的に示す斜視図である。
【図１６】図１６の（ａ）は、コリメータの回動角θｘ及び回動角θｙの調芯作業に用いる光学系の変形例であって、ガルバノミラーを用いた光学系を示す図であり、図１６の（ｂ）は、ガルバノミラー方式でＸ軸周りの回動値θｘを求める際の状態を模式的に示す図である。
【図１７】図１７は、ガルバノミラーの高速揺動の速度（周波数）の数値規定について説明するための模式図である。
【図１８】図１８は、ガルバノミラーの高速揺動の速度（周波数）の数値規定について説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
［本開示の実施形態の説明］
最初に、本開示の実施形態を列記して説明する。本開示に係る光モジュールの製造方法は、互いに直交するＸ軸及びＹ軸からなるＸＹ平面に対して直交する光軸をそれぞれが有するコリメータを少なくとも２つ以上備える光モジュールの製造方法に関する。この光モジュールの製造方法は、第１コリメータと第２コリメータとを互いの入出射口が対向するようにベース上に配置する工程と、第１コリメータと第２コリメータとの間に、互いに平行な第１反射面及び第２反射面を有する第１基準ミラーを配置する工程であって、第１反射面が第１コリメータの設定光軸に対して直交し、且つ、第１反射面が第１コリメータの入出射口に対向すると共に第２反射面が第２コリメータの入出射口に対向するように、第１基準ミラーを配置する工程と、第１コリメータの入出射口から第１反射面に向かって光を出射し、第１反射面からの反射光を第１コリメータの入出射口で受光し、当該受光した反射光の光パワーが所望の値となるように第１コリメータのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯する工程と、第２コリメータの入出射口から第２反射面に向かって光を出射し、第２反射面からの反射光を第２コリメータの入出射口で受光し、当該受光した反射光の光パワーが所望の値となるように第２コリメータのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯する工程と、第１コリメータ及び第２コリメータの回動角θｘ及び回動角θｙを調芯した後、第１基準ミラーを第１コリメータの光軸上及び第２コリメータの光軸上から待避させる工程と、第１コリメータの入出射口から第２コリメータの入出射口に向かって光を出射し、第２コリメータで受光した光の光パワーが所望の値となるように第２コリメータのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置を調芯する工程と、を備えている。
【００１１】
この光モジュールの製造方法では、第１コリメータと第２コリメータとの間に第１基準ミラーを配置し、第１基準ミラーを用いて、第１コリメータのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯すると共に、第２コリメータのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯している。そして、各コリメータのＸ軸及びＹ軸周りの回動角θｘ及びθｙを調芯した後、第１基準ミラーを待避させて、第２コリメータのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置を調芯している。このように、この実施形態では、調芯のしづらいＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙの調芯と、Ｘ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置の調芯とを分け、前者の調芯を先に行い、その後、後者の調芯を行うようにしているため、各調芯作業を順序立てて行うことになり、コリメータ同士の調芯を全体として単純化させることが可能となる。その結果、この調芯方法によれば、従来の作業者による調芯方法に比べて、調芯作業の短時間化を図ることも可能となる。また、このような方法によれば、これに限定されないが、機械による調芯作業の自動化も可能となる。また、軸周りの回動角θｘ及びθｙの調芯をすると、ビームが出射される方向も変わるため、結果として、Ｘ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置も変わってしまう場合がある。しかしながら、本実施形態に係る光モジュールの製造方法によれば、軸周りの回動角θｘ及びθｙの調芯を行った後に、Ｘ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置の調芯を行うため、かかる問題点を解消することが可能となっている。
【００１２】
上記の光モジュールの製造方法は、一実施形態として、第１コリメータから第２コリメータに向かう光軸に沿ったベース上に、第１波長の光を透過させると共に残りの波長の光を反射させるように構成された第１光学フィルタを配置する工程であって、ベースに沿うＸ軸及びベースに直交するＹ軸からなるＸＹ平面に沿って延びる第１光学フィルタを配置する工程を更に備えてもよい。この第１光学フィルタを配置する工程では、ベースと平行な面において第１光学フィルタの法線に対する第１コリメータからの光の入射角が第１角度θ１を為し、これにより、第１コリメータから第２コリメータに向かう光のうち第１波長の光が第１光学フィルタを透過すると共に残りの波長の光が第１光学フィルタによって反射されるように、第１光学フィルタのＹ軸周りの回動角θｙを調芯する。この実施形態に係る方法によれば、コリメータと光学フィルタとの間の調芯作業を単純化させることが可能となる。更に、この調芯方法によれば、従来の作業者による調芯方法に比べて、調芯作業の短時間化を図ることも可能となり、また、これに限定されないが、機械による調芯作業の自動化も可能となる。
【００１３】
上記の光モジュールの製造方法は、一実施形態として、第１コリメータから出射された光のうち第１光学フィルタによって反射された反射光の光軸上に第３コリメータを配置する工程と、第３反射面を有する第２基準ミラーを第１光学フィルタと第３コリメータとの間に配置する工程であって、第３反射面が第３コリメータの設定光軸に対して直交し、且つ、第３反射面が第３コリメータの入出射口に対向するように、第２基準ミラーを配置する工程と、第３コリメータの入出射口から第３反射面に向かって光を出射し、第３反射面からの反射光を第３コリメータの入出射口で受光し、当該受光した反射光の光パワーが所望の値となるように第３コリメータのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯する工程と、第３コリメータの回動角θｘ及び回動角θｙを調芯した後、第２基準ミラーを第３コリメータの光軸上から待避させる工程と、第１コリメータの入出射口から第１光学フィルタに向かって出射され当該第１光学フィルタで反射した反射光を第３コリメータで受光した光の光パワーが所望の値となるように第３コリメータのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置を調芯する工程と、を更に備えてもよい。この実施形態に係る方法によれば、光学フィルタとコリメータとの間の調芯作業を単純化させることが可能となる。更に、この調芯方法によれば、従来の作業者による調芯方法に比べて、調芯作業の短時間化を図ることも可能となり、また、これに限定されないが、機械による調芯作業の自動化も可能となる。
【００１４】
上記の光モジュールの製造方法は、一実施形態として、第１光学フィルタから第３コリメータに向かう光軸に沿ったベース上に、第１波長と異なる第２波長の光を透過させると共に残りの波長の光を反射させるように構成された第２光学フィルタを配置する工程であって、ベースに沿うＸ軸及びベースに直交するＹ軸からなるＸＹ平面に沿って延びる第２光学フィルタを配置する工程を更に備えてもよい。この第２光学フィルタを配置する工程では、ベースと平行な面において第２光学フィルタの法線に対する第１光学フィルタからの光の入射角が第２角度θ２を為し、これにより、第１光学フィルタから第３コリメータに向かう光のうち第２波長の光が第２光学フィルタを透過すると共に残りの波長の光が第２光学フィルタによって反射されるように、第２光学フィルタのＹ軸周りの回動角θｙを調芯する。この実施形態に係る方法によれば、光学フィルタ同士の調芯作業を単純化させることが可能となる。更に、この調芯方法によれば、従来の作業者による調芯方法に比べて、調芯作業の短時間化を図ることも可能となり、また、これに限定されないが、機械による調芯作業の自動化も可能となる。
【００１５】
上記の光モジュールの製造方法は、一実施形態として、第１コリメータから出射された光のうち第１光学フィルタ及び第２光学フィルタによって反射された反射光の光軸上に第４コリメータを配置する工程と、第４反射面を有する第３基準ミラーを第２光学フィルタと第４コリメータとの間に配置する工程であって、第４反射面が第４コリメータの設定光軸に対して直交し、且つ、第４反射面が第４コリメータに対向するように、第３基準ミラーを配置する工程と、第４コリメータの入出射口から第３基準ミラーの第４反射面に向かって光を出射し、第４反射面からの反射光を第４コリメータの入出射口で受光し、当該受光した反射光の光パワーが所望の値となるように第４コリメータのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯する工程と、第４コリメータの回動角θｘ及び回動角θｙを調芯した後、第３基準ミラーを第４コリメータの光軸上から待避させる工程と、第１コリメータの入出射口から第１光学フィルタに向かって出射して第１光学フィルタ及び第２光学フィルタで反射した反射光を第４コリメータで受光した光の光パワーが所望の値となるように第４コリメータのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置を調芯する工程と、を更に備えてもよい。この実施形態に係る方法によれば、光学フィルタを介したコリメータ同士の調芯作業を単純化させることが可能となる。更に、この調芯方法によれば、従来の作業者による調芯方法に比べて、調芯作業の短時間化を図ることも可能となり、また、これに限定されないが、機械による調芯作業の自動化も可能となる。なお、本実施形態において、第１基準ミラーのＹ軸周りの角度は、第３基準ミラーのＹ軸周りの角度と同じであってもよい。
【００１６】
上記何れかの実施形態において、第１基準ミラー、第２基準ミラー及び第３基準ミラーのうち少なくとも２つの基準ミラーは、同一のミラーから構成されていてもよい。この場合、調芯作業に用いるミラーの数を減らして、使用されるミラー間の形状差や性能差を軽減し、より正確な調芯作業を実現することが可能となる。また、上記何れかの実施形態において、第１基準ミラー、第２基準ミラー及び第３基準ミラーのうち少なくとも１つの基準ミラーの反射面は、金、銀、又はアルミニウムから構成されていてもよい。この場合、各基準ミラーに向かって照射された光の反射率を高くして、調芯に用いる光パワーのピークサーチ等をより簡易に行うことが可能となる。
【００１７】
上記何れかの実施形態において、第１基準ミラー及び第２基準ミラーは、１つの統合基準ミラーから構成されていてもよい。この統合基準ミラーでは、第１基準ミラーの第１反射面と第２基準ミラーの第３反射面とが同じ側に設けられ、第１基準ミラーの第２反射面が第１反射面とは逆側に設けられていてもよい。この場合において第１反射面の延在する面に対して第３反射面が為す角度が３．７°以上８．３°以下であってもよい。この場合、基準ミラーの数を少なくすることができることに加え、統合基準ミラーのＹ軸周りの角度θｙの調芯毎の調整を不要にすることができるため、製造方法や製造装置の簡略化を図ることができる。なお、第３基準ミラーをこの統合基準ミラーに含めるようにしてもよい。
【００１８】
上記何れかの実施形態において、第１基準ミラー、第２基準ミラー及び第３基準ミラーのうち少なくとも１つの基準ミラーは、Ｘ軸周りの回動角θｘ又はＹ軸周りの回動角θｙを±３°以内の範囲内で高速に揺動するように構成されていてもよい。この場合、一方の回動角（例えばＸ軸周りの回動角θｘ）に高速揺動のミラーを用いて揺動させ、その間に他方の回動角（例えばＹ軸周りの回動角θｙ）の光パワーのピーク位置を判別し、その後、他方の回動角（例えばＹ軸周りの回動角θｙ）に高速揺動のミラーを用いて揺動させ、その間に一方の回動角（例えばＸ軸周りの回動角θｘ）の光パワーのピーク位置を判別するといった軸周りの調芯作業を更に分けることができ、全体としてより調芯作業を単純化及び短時間化させることが可能となる。なお、この場合、基準ミラーの高速揺動がガルバノスキャン方式によって行われてもよい。
【００１９】
上記何れかの実施形態に係る光モジュールの製造方法は、第２コリメータ、第３コリメータ及び第４コリメータのうち少なくとも１つのコリメータのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置を調芯する工程が終了した後に、当該コリメータに入射した光の光パワーが所望の値となるように当該コリメータのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを微調芯する工程を更に備えてもよい。この場合、コリメータ等の調芯作業の精度をより高めることが可能となる。
【００２０】
また、本開示に係る光モジュールの製造装置は、上述した製造方法に用いられる装置であって、ベースを支持するベース台と、ベース台の一方に配置され、第１コリメータを支持する第１自動調整ステージと、ベース台の他方に配置され、第２コリメータを支持する第２自動調整ステージと、ベース上の所定位置に第１基準ミラーを移動させると共に当該所定位置から待避させるように構成されたミラー移動装置と、を備えている。この製造装置では、第１自動調整ステージ及び第２自動調整ステージは、各ステージ上に配置されたコリメータのＸ軸に沿った位置、Ｙ軸に沿った位置、Ｘ軸周りの回動角θｘ、及びＹ軸周りの回動角θｙを調整可能なように構成されている。なお、この製造装置には、上述した実施形態に係る製造方法の何れかを実現するための更なる機構や制御機構が設けられてもよく、例えば、各光学フィルタをベース上の所定の位置に設置するためのフィルタ移動装置が設けられていてもよい。また、調芯に用いる入射光を生成する光源、出射光の光パワーを計測するモニター、及び、入射光と出射光を分岐するカプラ又はサーキュレータ等が設けられていてもよい。更に、基準ミラーが上述した統合基準ミラーからなっていてもよい。
【００２１】
［本開示の実施形態の詳細］
本開示の実施形態に係る光モジュールの製造方法及び製造装置の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。以下の説明では、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００２２】
最初に、本実施形態に係る製造方法によって製造される光合分波モジュールの一例について説明する。図１は、光合分波モジュールの構成の一例を示す模式図である。図２は、光合分波モジュールの構成の一例を示す斜視図であり、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸（光軸）を示している。なお、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸は、光合分波モジュールの各構成部材毎に設定される。図１及び図２に示すように、光合分波モジュール１は、ＸＺ平面に沿って延びるベース２、ベース２上に配置される共通コリメータ１０ａ（第１コリメータ）、ベース２上に配置される複数の分岐コリメータ１０ｂ〜１０ｈ（第２コリメータ、第３コリメータ、第４コリメータ）、及び、ベース２上に配置される複数の光学フィルタ２０ａ〜２０ｈ（第１光学フィルタ、第２光学フィルタ、第３光学フィルタ）を備えている。共通コリメータ１０ａ及ぶ分岐コリメータ１０ｂ〜１０ｈは、例えば光ファイバの先にレンズを取り付けることによって構成されており、光を入出射させる光学部品である。
【００２３】
共通コリメータ１０ａは、複数の波長λ１〜λ７の光が重畳された光通信用の信号光Ｃｏｍλ１〜λ７がその光ファイバに入射され、当該信号光をそのレンズなどの入出射面から出射するように構成されている。共通コリメータ１０ａの入出射面は、分岐コリメータ１０ｂに向いている。共通コリメータ１０ａと分岐コリメータ１０ｂとの間には光学フィルタ２０ａが設置されている。光学フィルタ２０ａは、共通コリメータ１０ａからの光のうち波長λ１の光を透過させると共に、残りの光（波長λ２〜λ７の光）を分岐コリメータ１０ｃに向かって反射する。光学フィルタ２０ａは、その法線Ｎ１に対して共通コリメータ１０ａからの光が所定の角度θ１を為して入射することにより、波長λ１の光のみを選択的に透過させ、他の波長（λ２〜λ７）の光を反射させるように構成されている。光学フィルタ２０ａを透過した波長λ１の光は、分岐コリメータ１０ｂに入射される。なお、共通コリメータ１０ａと分岐コリメータ１０ｂの光軸は一致し、当該光軸上に光学フィルタ２０ａが配置される。なお、角度θ１は、使用する光学フィルタ２０ａにより決定される値であり、例えば、１．７°≦θ１≦４．３°であり、更には１．７°≦θ１≦２．３°、或いは３．７°≦θ１≦４．３°である。
【００２４】
分岐コリメータ１０ｃは、光学フィルタ２０ａからの反射光が入射されるようにその入出射口を光学フィルタ２０ａに向けてベース２上に配置される。光学フィルタ２０ａと分岐コリメータ１０ｃとの間には光学フィルタ２０ｂが設置されている。光学フィルタ２０ｂは、光学フィルタ２０ａからの反射光のうち波長λ２の光を透過させると共に、残りの光（波長λ３〜λ７の光）を分岐コリメータ１０ｄに向かって反射する。光学フィルタ２０ｂは、その法線Ｎ２に対して光学フィルタ２０ａからの光が所定の角度θ２を為して入射することにより、波長λ２の光のみを選択的に透過させ、他を反射させるように構成されている。光学フィルタ２０ｂを透過した波長λ２の光は、分岐コリメータ１０ｃに入射される。光学フィルタ２０ｂに光が入射する所定の角度θ２は、使用する光学フィルタ２０ｂにより決定される値であり、例えば、１．７°≦θ２≦４．３°であり、更には１．７°≦θ２≦２．３°、或いは３．７°≦θ２≦４．３°である。角度θ２の値は、光学フィルタ２０ａに光が入射する際の所定の角度θ１と同じとなるように設定してもよいし、異なるように設定してもよい。
【００２５】
分岐コリメータ１０ｄは、光学フィルタ２０ｂからの反射光が入射されるようにその入出射口を光学フィルタ２０ｂに向けてベース２上に配置される。光学フィルタ２０ｂと分岐コリメータ１０ｄとの間には光学フィルタ２０ｃが設置されている。光学フィルタ２０ｃは、光学フィルタ２０ｂからの反射光（波長λ３〜λ７の光）のうち波長λ３の光を選択的に透過させると共に、残りの光（波長λ４〜λ７の光）を分岐コリメータ１０ｅに向かって反射する。光学フィルタ２０ｃは、その法線Ｎ３に対して光学フィルタ２０ｂからの光が所定の角度θ３を為して入射することにより、波長λ３の光のみを選択的に透過させ、他を反射させるように構成されている。光学フィルタ２０ｃを透過した波長λ３の光は、分岐コリメータ１０ｄに入射される。光学フィルタ２０ｃに光が入射する所定の角度θ３は、使用する光学フィルタ２０ｃにより決定される値であり、例えば、１．７°≦θ３≦４．３°であり、更には１．７°≦θ３≦２．３°、或いは３．７°≦θ３≦４．３°である。角度θ３の値は、光学フィルタ２０ａ，２０ｂに光が入射する際の所定の角度θ１，θ２と同じとなるように設定してもよいし、異なるように設定してもよい。
【００２６】
分岐コリメータ１０ｅは、光学フィルタ２０ｃからの反射光が入射されるようにその入出射口を光学フィルタ２０ｃに向けてベース２上に配置される。光学フィルタ２０ｃと分岐コリメータ１０ｅとの間には光学フィルタ２０ｄが設置されている。光学フィルタ２０ｄは、光学フィルタ２０ｃからの反射光（波長λ４〜λ７の光）のうち波長λ４の光を選択的に透過させると共に、残りの光（波長λ５〜λ７の光）を分岐コリメータ１０ｆに向かって反射する。光学フィルタ２０ｄは、その法線Ｎ４に対して光学フィルタ２０ｃからの光が所定の角度θ４を為して入射することにより、波長λ４の光のみを選択的に透過させ、他を反射させるように構成されている。光学フィルタ２０ｄを透過した波長λ４の光は、分岐コリメータ１０ｅに入射される。光学フィルタ２０ｄに光が入射する所定の角度θ４は、使用する光学フィルタ２０ｄにより決定される値であり、例えば、１．７°≦θ４≦４．３°であり、更には１．７°≦θ４≦２．３°、或いは３．７°≦θ４≦４．３°である。角度θ４の値は、光学フィルタ２０ａ，２０ｂ，２０ｃに光が入射する際の所定の角度θ１，θ２，θ３と同じとなるように設定してもよいし、異なるように設定してもよい。
【００２７】
分岐コリメータ１０ｆは、光学フィルタ２０ｄからの反射光が入射されるようにその入出射口を光学フィルタ２０ｄに向けてベース２上に配置される。光学フィルタ２０ｄと分岐コリメータ１０ｆとの間には光学フィルタ２０ｅが設置されている。光学フィルタ２０ｅは、光学フィルタ２０ｄからの反射光（波長λ５〜λ７の光）のうち波長λ５の光を選択的に透過させると共に、残りの光（波長λ６及びλ７の光）を分岐コリメータ１０ｇに向かって反射する。光学フィルタ２０ｅは、その法線Ｎ５に対して光学フィルタ２０ｄからの光が所定の角度θ５を為して入射することにより、波長λ５の光のみを選択的に透過させ、他を反射させるように構成されている。光学フィルタ２０ｅを透過した波長λ５の光は、分岐コリメータ１０ｆに入射される。光学フィルタ２０ｅに光が入射する所定の角度θ５は、使用する光学フィルタ２０ｅにより決定される値であり、例えば、１．７°≦θ５≦４．３°であり、更には１．７°≦θ５≦２．３°、或いは３．７°≦θ５≦４．３°である。角度θ５は、光学フィルタ２０ａ，２０ｂ，２０ｃ，２０ｄに光が入射する際の所定の角度θ１，θ２，θ３，θ４と同じとなるように設定してもよいし、異なるように設定してもよい。
【００２８】
分岐コリメータ１０ｇは、光学フィルタ２０ｅからの反射光が入射されるようにその入出射口を光学フィルタ２０ｅに向けてベース２上に配置される。光学フィルタ２０ｅと分岐コリメータ１０ｇとの間には光学フィルタ２０ｆが設置されている。光学フィルタ２０ｆは、光学フィルタ２０ｅからの反射光（波長λ６及びλ７の光）のうち波長λ６の光を選択的に透過させると共に、残りの光（波長λ７の光）を分岐コリメータ１０ｈに向かって反射する。光学フィルタ２０ｆは、その法線Ｎ６に対して光学フィルタ２０ｅからの光が所定の角度θ６を為して入射することにより、波長λ６の光のみを選択的に透過させ、他を反射させるように構成されている。光学フィルタ２０ｆを透過した波長λ６の光は、分岐コリメータ１０ｇに入射される。光学フィルタ２０ｆに光が入射する所定の角度θ６は、使用する光学フィルタ２０ｆにより決定される値であり、例えば、１．７°≦θ６≦４．３°であり、更には１．７°≦θ６≦２．３°、或いは３．７°≦θ６≦４．３°である。角度θ６は、光学フィルタ２０ａ，２０ｂ，２０ｃ，２０ｄ，２０ｅに光が入射する際の所定の角度θ１，θ２，θ３，θ４，θ５と同じとなるように設定してもよいし、異なるように設定してもよい。
【００２９】
分岐コリメータ１０ｈは、光学フィルタ２０ｆからの反射光が入射されるようにその入出射口を光学フィルタ２０ｆに向けてベース２上に配置される。光学フィルタ２０ｆと分岐コリメータ１０ｈとの間には光学フィルタが設置されておらず、光学フィルタ２０ｆからの反射光（波長λ７の光）がそのまま分岐コリメータ１０ｈに入射される。
【００３０】
この光合分波モジュール１では、共通コリメータ１０ａと分岐コリメータ１０ｃ，１０ｅ，１０ｇがベース２の一端（右端）に設けられ、分岐コリメータ１０ｂ，１０ｄ，１０ｆ，１０ｈがベース２の他端（左端）に設けられる。また、分岐コリメータ１０ｃ，１０ｅ，１０ｇのＹ軸に沿った回動角θｙは同一であってもよく、分岐コリメータ１０ｂ，１０ｄ，１０ｆ，１０ｈのＹ軸に沿った回動角θｙは同一であってもよい。なお、上記では、主に複数の波長の光が重畳された信号光を分波する際の機能について説明したが、各波長λ１〜λ７の信号を１つの信号光に重畳（合波）するのは逆の機能であり、従来技術から自明であるため、説明を省略する。また、光合分波モジュール１で合波又は分波する波長の数は２以上であればよく、上述した数に限定されるものではなく、必要に応じて増減することが可能である。
【００３１】
次に上述した構成の光合分波モジュール１を製造する際に用いられる製造装置について、図３を参照して説明する。図３の（ａ）は、光合分波モジュールを製造するために用いる製造装置を模式的に示す平面図であり、図３の（ｂ）は、その製造装置の側面図である。
【００３２】
図３に示すように、光合分波モジュール１を製造するための製造装置３０は、ベース２を支持するベース台３１、ベース台３１の一方に配置され、一方のコリメータを支持する第１自動調整ステージ３２、ベース台３１の他方に配置され、他方のコリメータを支持する第２自動調整ステージ３３、及び、ベース２上の所定位置に基準ミラーＭ（詳細は後述）を移動させ且つ当該所定位置から基準ミラーＭを待避させるミラー移動装置３４、及び、各光学フィルタ２０ａ〜２０ｆをベース２上の所定位置に所定角度で配置するフィルタ設置装置３５を備えている。第１自動調整ステージ３２及び第２自動調整ステージ３３は、各ステージ上に配置されたコリメータのＸ軸に沿った位置、Ｙ軸に沿った位置、Ｚ軸（光軸）に沿った位置、Ｘ軸周りの回動角θｘ、及び、Ｙ軸周りの回動角θｙを調整可能な５軸自動調整装置である。このような軸調整装置としては、従来の各種装置を採用し得るため、詳細な説明については省略する。なお、製造装置３０では、図３の（ａ）に示すように、共通コリメータ１０ａの軸調整をする場合と、分岐コリメータ１０ｃ，１０ｅ，１０ｇを軸調整する場合とで、第１自動調整ステージ３２がＹ軸を中心として回動できるように構成されている。
【００３３】
次に、上述した製造装置３０を用いて、光合分波モジュール１を製造する方法について説明する。図４〜図１２は、かかる製造装置を用いて各調芯を行い、光合分波モジュールを組み上げる方法を順に説明するための図である。
【００３４】
まず、図４の（ａ）に示すように、共通コリメータ１０ａと分岐コリメータ１０ｂとを互いの入出射口が対向するようにベース２上に配置する。続いて、共通コリメータ１０ａと分岐コリメータ１０ｂとの間に、互いに平行な反射面Ｍ１及び反射面Ｍ２を有する基準ミラーＭを配置する。この際、反射面Ｍ１が共通コリメータ１０ａの入出射口に対向し、反射面Ｍ２が分岐コリメータ１０ｂの入出射口に対向するように、ミラー移動装置３４により基準ミラーＭ（第１基準ミラー）を配置する。基準ミラーＭの反射面Ｍ１，Ｍ２は、例えば金（Ａｕ）から構成されており、入射された光を高効率で反射する。基準ミラーＭの反射面３４ａ，３４ｂは、銀又はアルミニウムから構成されていてもよい。基準ミラーＭのＹ軸周りの回動角θｙは、共通コリメータ１０ａの光軸（設定値）に対して反射面Ｍ１が直交するように設定されており、ミラー移動装置３４によって基準ミラーＭがベース２上に設置される際に所定の傾斜角とされる。
【００３５】
続いて、図４の（ａ）及び（ｂ）に示すように、光源からの光を３ｄＢカプラ又はサーキュレータ３６ａを介して共通コリメータ１０ａに入射し、その入出射口から基準ミラーＭの反射面Ｍ１に向かって光を出射する。そして、反射面Ｍ１からの反射光を共通コリメータ１０ａの入出射口で受光してモニターＰＭで検出し、当該受光した反射光の光パワーが所望の値であるピーク値となるように共通コリメータ１０ａのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯する。なお、この光パワーのピークサーチについては、図１３の（ａ）に示すように、反射光の光パワーのピーク値を渦巻き状に掃引してサーチしてもよいし、図１３の（ｂ）に示すように、反射光の光パワーのピーク値をマトリクス状に掃引してサーチしてもよい。そして、これらの掃引により、図１４の（ａ）及び（ｂ）に示すようなピーク値（最大値）の回動角θｘ及びθｙを決定し、この値に調芯する。
【００３６】
続いて、共通コリメータ１０ａの回動角θｘ，θｙの調芯と同様の方法で、光源からの光を３ｄＢカプラ又はサーキュレータを介して分岐コリメータ１０ｂに入射し、その入出射口から基準ミラーＭ（第１基準ミラー）の反射面Ｍ２に向かって光を出射する。そして、反射面Ｍ２からの反射光を分岐コリメータ１０ｂの入出射口で受光してモニターで検出し、当該受光した反射光の光パワーがピーク値となるように分岐コリメータ１０ｂのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯する。具体的な調芯方法は上述した方法（図１３の（ａ）及び（ｂ）と図１４の（ａ）及び（ｂ）を参照）と同様であり、以下の回動角θｘ及びθｙの調芯でも同様である。なお、基準ミラーＭの反射面Ｍ１及びＭ２が平行であることから、上述した共通コリメータ１０ａの回動角θｘ及びθｙの調芯と、分岐コリメータ１０ｂの回動角θｘ及びθｙの調芯とにより、共通コリメータ１０ａの回動角θｘ及びθｙと分岐コリメータ１０ｂの回動角θｘ及びθとの調芯が為されていることになる。
【００３７】
続いて、共通コリメータ１０ａ及び分岐コリメータ１０ｂの回動角θｘ及び回動角θｙを調芯した後、図５の（ａ）及び（ｂ）に示すように、ミラー移動装置３４によって基準ミラーＭを共通コリメータ１０ａの光軸上及び分岐コリメータ１０ｂの光軸上から待避させる。その後、光源からの光を３ｄＢカプラ又はサーキュレータ３６ａを介して共通コリメータ１０ａに再度入射し、その入出射口から分岐コリメータ１０ｂの入出射口に向かって光を出射する。そして、分岐コリメータ１０ｂで受光した光を３ｄＢカプラ又はサーキュレータ３７ａを介してモニターＰＭで検出し、この光の光パワーがピーク値となるように分岐コリメータ１０ｂのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置を調芯する。具体的な調芯方法は上述した方法（図１３の（ａ）及び（ｂ）と図１４の（ａ）及び（ｂ）を参照）と同様である。以上により、共通コリメータ１０ａと分岐コリメータ１０ｂとの間の調芯作業が完了する。この後、共通コリメータ１０ａと分岐コリメータ１０ｂとをベース２に対して、接着剤等により固定する。
【００３８】
続いて、図６の（ａ）及び（ｂ）に示すように、共通コリメータ１０ａから分岐コリメータ１０ｂに向かう光軸に沿ったベース２上に、波長λ１の光を透過させると共に残りの波長λ２〜λ７の光を反射させるように構成された光学フィルタ２０ａをフィルタ設置装置３５によって配置する。光学フィルタ２０ａは、ベース２に沿うＸ軸及びベース２に直交するＹ軸からなるＸＹ平面に沿って延びる形状を呈する波長フィルタである。光学フィルタ２０ａを配置する工程では、ベース２と平行な面において光学フィルタ２０ａの法線Ｎ１に対する共通コリメータ１０ａからの光の入射角が角度θ１を為し、これにより、共通コリメータ１０ａから分岐コリメータ１０ｂに向かう光のうち波長λ１の光が光学フィルタ２０ａを透過すると共に残りの波長の光（λ２〜λ７の光）が光学フィルタ２０ａによって反射されるように、光学フィルタ２０ａのＹ軸周りの回動角θｙを調芯する。角度θ１は、光学フィルタ２０ａに固有の値であり、波長λ１を透過させるための角度として予め設定されている。
【００３９】
より具体的な調芯方法としては、図６の（ｂ）に示すように、光源からの所定の光を３ｄＢカプラ又はサーキュレータ３６ａを介して共通コリメータ１０ａに入射して、共通コリメータ１０ａからの光が光学フィルタ２０ａを介して分岐コリメータ１０ｂに入射し、これを３ｄｂカプラ又はサーキュレータ３６ａを介してモニターＰＭで検出する。ここで用いるモニターＰＭは、スペクトルアナライザ（ＯＳＡ）等の複数波長（周波数）の光に対して波長（周波数）ごとの光パワーが検出できる装置である。そして、このモニターＰＭで検出される光が中心波長λ１の光となるように、光学フィルタをＹ軸周りに回動させる。光学フィルタ２０ａは、波長λ１の光のみを透過させる所定の角度θ１へと回動された後、ベース２に接着剤等により固定される。なお、図６の（ｂ）で用いられる光入射装置及び光検出装置は、図５の（ｂ）で用いた装置をそのまま用いるようにしてもよい。
【００４０】
続いて、図７の（ａ）及び（ｂ）に示すように、共通コリメータ１０ａから出射された光のうち光学フィルタ２０ａによって反射された反射光の光軸上に分岐コリメータ１０ｃを配置する。そして、基準ミラーＭ（第２基準ミラー）を光学フィルタ２０ａと分岐コリメータ１０ｃとの間に配置する。この基準ミラーＭは、図４の（ａ）に示す調芯で用いたものと同様のミラーであり、互いに平行な反射面Ｍ１及び反射面Ｍ２を有する。但し、基準ミラーＭは、Ｙ軸周りの回動角θｙが分岐コリメータ１０ｃの光軸（設定値）に対して反射面Ｍ１が直交するように角度変更されて設定されており、当該角度となるようにミラー移動装置３４によって基準ミラーＭがベース２上に設置される。この際、基準ミラーＭの反射面Ｍ１が分岐コリメータ１０ｃの入出射口に対向し且つ反射面Ｍ２が光学フィルタ２０ａに対向すると共に、光学フィルタ２０ａからの光の入射が基準ミラーＭの反射面Ｍ２に対して直交するように、基準ミラーＭが配置される。なお、基準ミラーＭは、各調芯用に個別の基準ミラーを設けておいて、設定の都度に角度変更しない構成にしてもよい。
【００４１】
続いて、共通コリメータ１０ａでの回動角θｘ及びθｙの調芯と同様に、光源からの光を分岐コリメータ１０ｃの入出射口から反射面Ｍ１（第３反射面）に向かって出射し、反射面Ｍ１からの反射光を分岐コリメータ１０ｃの入出射口で受光し、当該受光した反射光の光パワーがピーク値となるように分岐コリメータ１０ｃのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯する。
【００４２】
続いて、分岐コリメータ１０ｃの回動角θｘ及び回動角θｙを調芯した後、図８の（ａ）及び（ｂ）に示すように、ミラー移動装置３４によって基準ミラーＭを分岐コリメータ１０ｃの光軸上から再び待避させる。そして、共通コリメータ１０ａのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置の調芯と同様に、共通コリメータ１０ａの入出射口から光学フィルタ２０ａに向かって出射されて光学フィルタ２０ａで反射した反射光を分岐コリメータ１０ｃで受光した光の光パワーがピーク値となるように分岐コリメータ１０ｃのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置を調芯する。以上により、光学フィルタ２０ａと分岐コリメータ１０ｃとの間の調芯が完了する。この後、分岐コリメータ１０ｃをベース２に対して接着剤等により固定する。
【００４３】
続いて、図９の（ａ）及び（ｂ）に示すように、光学フィルタ２０ａから分岐コリメータ１０ｃに向かう光軸に沿ったベース２上に、波長λ１と異なる波長λ２の光を透過させると共に残りの波長λ３〜λ７の光を反射させるように構成された光学フィルタ２０ｂを配置する。光学フィルタ２０ｂは、光学フィルタ２０ａと同様にベース２に沿うＸ軸及びベース２に直交するＹ軸からなるＸＹ平面に沿って延びる波長フィルタである。但し、光学フィルタ２０ｂは、光学フィルタ２０ａが透過される波長とは異なる波長λ２の光を透過させる。光学フィルタ２０ｂを配置する工程では、ベース２と平行な面において光学フィルタ２０ｂの法線Ｎ２に対する光学フィルタ２０ａからの光の入射角が角度θ２を為し、これにより、光学フィルタ２０ａから分岐コリメータ１０ｃに向かう光のうち波長λ２の光が光学フィルタ２０ｂを透過すると共に残りの波長λ３〜λ７の光が光学フィルタ２０ｂによって反射されるように、光学フィルタ２０ｂのＹ軸周りの回動角θｙを調芯する。角度θ２は、光学フィルタ２０ｂに固有の値であり、波長λ２を透過させるための角度として予め設定されている。
【００４４】
より具体的な調芯方法としては、図９の（ｂ）に示すように、光源からの所定の光を３ｄＢカプラ又はサーキュレータ３６ａを介して共通コリメータ１０ａに入射して、共通コリメータ１０ａからの光が光学フィルタ２０ａでの反射及び光学フィルタ２０ｂの透過を経て分岐コリメータ１０ｃに入射し、これを３ｄｂカプラ又はサーキュレータ３６ｂを介してモニターＰＭで検出する。このモニターＰＭは、スペクトルアナライザ（ＯＳＡ）等の波長が検出できる装置である。そして、モニターＰＭで検出される光が波長λ２の光となるように、光学フィルタ２０ｂをＹ軸周りに回動させる。光学フィルタ２０ｂは、波長λ２の光のみを透過させる所定の角度θ２へと回動された後、ベース２に接着剤等により固定される。なお、図９の（ｂ）で用いられる光入射装置及び光検出装置は、図８の（ｂ）で用いた装置をそのまま用いるようにしてもよい。
【００４５】
続いて、図１０の（ａ）及び（ｂ）に示すように、共通コリメータ１０ａから出射された光のうち光学フィルタ２０ａ及び光学フィルタ２０ｂによって反射された反射光の光軸上に分岐コリメータ１０ｄを配置する。分岐コリメータ１０ｄの調芯は、分岐コリメータ１０ｂの調芯と同様であり、基準ミラーＭ（第３基準ミラー）を光学フィルタ２０ｂと分岐コリメータ１０ｄとの間に配置する。この基準ミラーＭは、図４の（ａ）に示す調芯で用いたものと同様のミラーであり、互いに平行な反射面Ｍ１及び反射面Ｍ２を有する。但し、基準ミラーＭは、Ｙ軸周りの回動角θｙが分岐コリメータ１０ｄの光軸（設定値）に対して反射面Ｍ２（第４反射面）が直交するように角度変更されて設定されていてもよく、ミラー移動装置３４によって基準ミラーＭがベース２上に設置される。この際、基準ミラーＭの反射面Ｍ１が光学フィルタ２０ｂに対向し且つ反射面Ｍ２が分岐コリメータ１０ｄの入出射口に対向すると共に、光学フィルタ２０ｂからの光の入射が基準ミラーＭの反射面Ｍ１に対して直交する。
【００４６】
続いて、光源からの光を３ｄＢカプラ又はサーキュレータ３７ａを介して分岐コリメータ１０ｄに入射し、その入出射口から基準ミラーＭの反射面Ｍ２に向かって光を出射し、反射面Ｍ２からの反射光を分岐コリメータ１０ｄの入出射口で受光する。そして、当該受光した反射光をモニターＰＭで検出して、その光パワーがピーク値となるように分岐コリメータ１０ｄのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯する。この調芯作業は、図１０の（ｂ）に示すように、分岐コリメータ１０ｂの調芯作業と同様である。
【００４７】
続いて、分岐コリメータ１０ｄの回動角θｘ及び回動角θｙを調芯した後、図１１の（ａ）及び（ｂ）に示すように、ミラー移動装置３４によって基準ミラーＭを分岐コリメータ１０ｄの光軸上から再び待避させる。その後、光源からの光を３ｄＢカプラ又はサーキュレータ３６ａを介して共通コリメータ１０ａに入射し、その入出射口から光学フィルタ２０ａに向かって光を出射して反射させ、更に光学フィルタ２０ｂで反射させる。そして、分岐コリメータ１０ｄで受光した光を３ｄＢカプラ又はサーキュレータ３７ｂを介してモニターＰＭで検出し、この光の光パワーがピーク値となるように分岐コリメータ１０ｄのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置を調芯する。以上により、光学フィルタ２０ａ，２０ｂを介した共通コリメータ１０ａと分岐コリメータ１０ｄとの間の調芯が完了する。この後、分岐コリメータ１０ｄをベース２に対して、接着剤等により固定する。
【００４８】
続いて、図１２の（ａ）及び（ｂ）に示すように、光学フィルタ２０ｂから分岐コリメータ１０ｄに向かう光軸に沿ったベース２上に、波長λ３の光を透過させると共に残りの波長λ４〜λ７の光を反射させるように構成された光学フィルタ２０ｃをフィルタ設置装置３５によって配置する。光学フィルタ２０ｃは、その法線Ｎ３に対して光学フィルタ２０ｂからの光が所定の角度θ３を為して入射することにより、波長λ３の光のみを選択的に透過させ、他を反射させるように構成されている。光学フィルタ２０ｃは、ベース２に沿うＸ軸及びベース２に直交するＹ軸からなるＸＹ平面に沿って延びる波長フィルタである。光学フィルタ２０ｃを配置する工程では、ベース２と平行な面において光学フィルタ２０ｃの法線Ｎ３に対する光学フィルタ２０ｂからの光の入射角が角度θ３を為し、これにより、光学フィルタ２０ｂから分岐コリメータ１０ｄに向かう光のうち波長λ３の光が光学フィルタ２０ｃを透過すると共に残りの波長の光（λ４〜λ７の光）が光学フィルタ２０ｃによって反射されるように、光学フィルタ２０ｃのＹ軸周りの回動角θｙを調芯する。角度θ３は、光学フィルタ２０ｃに固有の値であり、波長λ３を透過させるための角度として予め設定されている。
【００４９】
より具体的な調芯方法としては、図１２の（ｂ）に示すように、光源からの所定の光を３ｄＢカプラ又はサーキュレータ３６ａを介して共通コリメータ１０ａに入射して、共通コリメータ１０ａからの光が光学フィルタ２０ａ，２０ｂで反射して光学フィルタ２０ｃを透過し、分岐コリメータ１０ｄに入射させる。そして、この入射した光を３ｄｂカプラ又はサーキュレータ３７ｂを介してモニターＰＭで検出する。ここで用いるモニターＰＭは、スペクトルアナライザ（ＯＳＡ）等の波長が検出できる装置である。モニターＰＭで検出される光が波長λ３の光となるように、光学フィルタ２０ｃをＹ軸周りに回動させる。光学フィルタ２０ｃは、波長λ３の光のみを透過させる所定の角度θ３へと回動された後、ベース２に接着剤等により固定される。
【００５０】
その後、分岐コリメータ１０ｅ，１０ｇについては、分岐コリメータ１０ｃと同様の調芯を行い、分岐コリメータ１０ｆ，１０ｈについては、分岐コリメータ１０ｄと同様の調芯を行う。また、光学フィルタ２０ｄ，２０ｆについては、光学フィルタ２０ｂと同様の調芯を行い、光学フィルタ２０ｅについては、光学フィルタ２０ｃと同様の調芯を行う。そして、共通コリメータ１０ａと分岐コリメータ１０ｂ〜１０ｈと光学フィルタ２０ａ〜２０ｆの調芯及びベース２への固定が完了したら、これらを覆うカバー等をベース２上に設置する。以上により、図１及び図２に示す光合分波モジュール１が完成する。
【００５１】
以上、本実施形態に係る光合分波モジュール１の製造方法によれば、共通コリメータ１０ａと分岐コリメータ１０ｂとの間に基準ミラーＭを配置し、基準ミラーＭを用いて、共通コリメータ１０ａのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯すると共に、分岐コリメータ１０ｂのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを調芯している。そして、共通コリメータ１０ａ及び分岐コリメータ１０ｂのＸ軸及びＹ軸周りの回動角θｘ及びθｙを調芯した後、基準ミラーＭを待避させて、分岐コリメータ１０ｂのＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置を調芯している。また、このような調芯を分岐コリメータ１０ｃ〜１０ｈでも行っている。このように、本実施形態では、調芯のしづらいＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙの調芯と、Ｘ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置の調芯とを分け、前者の調芯を先に行い、その後、後者の調芯を行うようにしている。このため、各調芯作業を順序立てて行うことになり、コリメータ同士の調芯を全体として単純化させることが可能となる。その結果、この調芯方法によれば、従来の作業者の経験や勘に頼る調芯方法に比べて、調芯作業の短時間化を図ることも可能となる。また、このような方法によれば、これに限定されないが、機械による調芯作業の自動化も可能となる。また、軸周りの回動角θｘ及びθｙの調芯をすると、ビームが出射される方向も変わるため、結果として、Ｘ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置も変わってしまう場合がある。しかしながら、本実施形態に係る光モジュールの製造方法によれば、軸周りの回動角θｘ及びθｙの調芯を行った後に、Ｘ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置の調芯を行うため、かかる問題点を解消することが可能となっている。
【００５２】
また、本実施形態に係る光合分波モジュール１の製造方法では、光学フィルタ２０ａを配置する工程において、ベース２と平行な面において光学フィルタ２０ａの法線Ｎ１に対する共通コリメータ１０ａからの光の入射角が角度θ１を為し、これにより、共通コリメータ１０ａから分岐コリメータ１０ｂに向かう光のうち波長λ１の光が光学フィルタ２０ａを透過すると共に残りの波長の光が光学フィルタ２０ａによって反射されるように、光学フィルタ２０ａのＹ軸周りの回動角θｙを調芯している。また、他の光学フィルタ２０ｂ〜２０ｆでも同様の調芯を行っている。このため、本実施形態によれば、コリメータと光学フィルタとの間の調芯作業も単純化させることが可能となる。更に、この調芯方法によれば、従来の作業者による調芯方法に比べて、調芯作業の短時間化を図ることも可能となり、また、これに限定されないが、機械による調芯作業の自動化も可能となる。
【００５３】
また、本実施形態に係る光合分波モジュール１の製造方法では、基準ミラーＭが同一のミラーから構成されている。このため、調芯作業に用いるミラーの数を減らして、使用されるミラー間の形状差や性能差を軽減し、より正確な調芯作業を実現することが可能となる。また、本実施形態に係る光合分波モジュール１の製造方法では、基準ミラーＭの反射面Ｍ１及び反射面Ｍ２が金、銀、又はアルミニウムから構成されている。このため、基準ミラーＭに向かって照射された光の反射率が高くなり、調芯に用いる光パワーのピークサーチ等をより簡易且つ迅速に行うことが可能となる。
【００５４】
なお、光合分波モジュール１の製造方法では、上述した実施形態で用いる基準ミラーＭをそれぞれの調芯用に異なるミラーから構成するようにしてもよい。例えば、共通コリメータ１０ａ及び分岐コリメータ１０ｂの調芯に用いる基準ミラーＭと、分岐コリメータ１０ｃの調芯に用いる基準ミラーＭとをそれぞれ別に設けておき、これらのＹ軸周りの回動角θｙを上述した所定の値に予め設定しておいて、調芯作業に用いてもよい。この場合、光合分波モジュール１の製造装置３０の制御等を簡素化することが可能となる。なお、上述した分岐コリメータ１０ｂ等の調芯に用いる基準ミラーＭについては、他の分岐コリメータ１０ｄ，１０ｆ及び１０ｈの調芯に用いることができ、また、分岐コリメータ１０ｃの調芯に用いる基準ミラーＭについては、他の分岐コリメータ１０ｅ及び１０ｇの調芯に用いることが可能である。
【００５５】
また、図１５に示す張合せミラーＭａ（統合基準ミラー）を用いてもよい。この張合せミラーＭａは、共通コリメータ１０ａ及び分岐コリメータ１０ｂの調芯に用いる基準ミラーＭ（図４の（ａ）を参照）と、分岐コリメータ１０ｃの調芯に用いる基準ミラーＭ（図７の（ａ）を参照）の両方の機能を統合したミラーである。張合せミラーＭａは、表裏面が平行なミラーの一方の面に、プリズムなどの傾斜面を有するミラーを貼り合わせて作製することが可能である。張合せミラーＭａの反射面Ｍ１ａは、例えば、共通コリメータ１０ａに対向する反射面であり共通コリメータ１０ａの光軸（設定値）に直交し、反射面Ｍ１ｂは、分岐コリメータ１０ｃに対向する反射面であり、分岐コリメータ１０ｃの光軸（設定値）に直交するように角度等が調整されている。また、張合せミラーＭａの反射面Ｍ２ａは、分岐コリメータ１０ｂに対向する反射面であり、分岐コリメータ１０ｂの光軸（設定値）に直交するように角度等が調整されている。反射面Ｍ１ａが延在する面に対する反射面Ｍ１ｂの角度は、一例として、８±０．３°以内であってもよい。張合せミラーＭａを用いることにより、基準ミラーＭの位置調整を行う際、基準ミラーＭのＹ軸周りの回動角θｙの調整が予め為されていることになり、当該調整が不要で、Ｘ方向の位置を調整するのみとなる。つまり、図３の（ａ）に示す製造装置３０のミラー移動装置３４によるミラーの移動が図示の上下方向（Ｘ軸方向）のみでよくなる。その結果、調芯作業を更に簡素化することが可能となる。
【００５６】
以上、本開示に係る実施形態について詳細に説明してきたが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく様々な実施形態や変形例を適用することができる。例えば、基準ミラーとして、図１６の（ａ）に示すように、ガルバノスキャナ方式の基準ミラーＭｂを用いて、コリメータ等の回動角θｘやθｙの調芯の際に、Ｘ軸周りの回動角θｘ又はＹ軸周りの回動角θｙを±３°以内の範囲内で揺動するようにしてもよい。このように例えば図１５の（ｂ）に示すように、一方の回動角（例えばＹ軸周りの回動角θｙ）に高速揺動のミラーを用いて揺動させ、その間に他方の回動角（例えばＸ軸周りの回動角θｘ）の光パワーのピーク位置を判別し、その後、他方の回動角（例えばＸ軸周りの回動角θｘ）に高速揺動のミラーを用いて揺動させ、その間に一方の回動角（例えばＹ軸周りの回動角θｙ）の光パワーのピーク位置を判別するといった軸周りの調芯作業を更に分けてもよい。この場合、一方の軸は揺動を行っているため、実質的に一つの軸に沿った、すなわち一次元的な調芯作業となるため、所定の回動角θｘ又はθｙを早期に検出し、全体としてより調芯作業を単純化及び短時間化させることが可能となる。
【００５７】
なお、ガルバノスキャナ方式による揺動の速度は、例えば、その周波数Ｆが７Ｈｚ以上３５００Ｈｚ以下であることが好ましく、より好ましくは、ガルバノスキャナの過負荷を考慮して、周波数Ｆが７Ｈｚ以上５００Ｈｚ以下であることが好ましい。このガルバノミラーの高速揺動の速度（周波数）の数値規定について、図１７及び図１８を参照して説明する。図１７に示す例では、Ｙ軸周りの回動角θｙ（方向Ｙ）に対して高速での揺動を用いており、Ｘ軸周りの回動角θｘ（方向Ｘ）についての一次元的な調芯を行っている。Ｙ軸周りの回動角θｙの調芯に用いる高速揺動用の変調波形については、正弦波、方形波、又はランプ（のこぎり）波等の何れの波形を用いてもよい。
【００５８】
図１８に示すように、ガルバノミラーＭｂとコリメータ１０ａでの調芯を例にとる。この際、以下のように規定する。
・基準ミラー（ガルバノミラーＭｂ）のθｙ揺動周波数：Ｆ[Hz]（周期：１／Ｆ[sec]）
・コリメータのθｙ方向の移動角速度：Ｗ[rad/sec]
・コリメータの開口数：ＮＡ＝ｓｉｎθc（コリメータが光を受光できる角度を±θｃと定義）
すると、コリメータが光を検出する角度θｃは、以下の式（１）で表すことができる。
θｃ＝ｓｉｎ−１（ＮＡ）・・・（１）
そして、θｘの一方向運動がコリメータで受光できる角度領域２θｃを通過する間に、θｙの往復揺動が最低限１０回必要とすると、以下の式（２）で表すことができる。
１／Ｆ[sec]×１０[回]×Ｗ[rad/sec]＜２θｃ[rad]・・・（２）
従って、ガルバノミラーの周波数Ｆは、以下の式（３）で表すことが可能となる。
Ｆ＞５Ｗ／θｃ＝５Ｗ／ｓｉｎ−１（ＮＡ）[Hz]・・・（３）
【００５９】
ここで、以下の表１に示すように、一般的なコリメータのビーム径の最小値を８０μｍ、ビーム径の最大値を４００μｍとして、それらコリメータのＮＡの最大値を０．０１２５、最小値を０．０００２５と仮定する。また、角速度Ｗの最大値を０．１７４５[rad/sec]、最小値を０．０１７４５[rad/sec]と仮定する。
【表１】
2020144216.tif 000003
【００６０】
すると、以下の表２に示すように、最速で揺動が要求される場合、周波数Ｆ＝３５００[Hz]となり、逆に最も遅い現実的な揺動となる場合、周波数Ｆ＝７[Hz]となる。以上から、ガルバノミラーの揺動速度である周波数Ｆは、７[Hz]以上で且つ３５００[Hz]以下であることが好ましい。なお、ガルバノミラーの過負荷を考慮すると、この周波数Ｆは、７[Hz]以上で且つ５００[Hz]であることが更に好ましい。
【表２】
2020144216.tif 000004
【００６１】
また、本実施形態に係る光モジュールの製造方法では、分岐コリメータ１０ｂ〜１０ｈの回動角θｘ及びθｙの調芯と、その後のＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置の調芯が終了した後、次のコリメータ又は光学フィルタ等の調芯作業を行っている。しかしながら、Ｘ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置の調芯が終わった後、更に、分岐コリメータ１０ｂ〜１０ｈに入射した光の光パワーがピーク値となるように当該コリメータのＸ軸周りの回動角θｘ及びＹ軸周りの回動角θｙを微調芯するようにしてもよい。これにより、コリメータ等の調芯作業の精度をより高めることが可能となる。なお、更にこの後にＸ軸に沿った位置及びＹ軸に沿った位置の微調芯を行ってもよい。
【００６２】
また、上述した実施形態では、光合分波モジュールの製造方法について説明したが、本発明はこれに限定されない。即ち、２つ以上のコリメータを有する光モジュールの製造方法であれば、本発明を適用することが可能である。また、光モジュールのコリメータの数は上述した実施形態に限定されず、２つ以上のコリメータであればよい。
【符号の説明】
【００６３】
１…光合分波モジュール、２…ベース、１０ａ…共通コリメータ、１０ｂ〜１０ｈ…分岐コリメータ、２０ａ〜２０ｆ…光学フィルタ、３０…製造装置、３１…ベース台、３２…第１自動調整ステージ、３３…第２自動調整ステージ、３４…ミラー移動装置、３５…フィルタ設置装置、Ｍ，Ｍａ，Ｍｂ…基準ミラー、Ｍ１，Ｍ２…反射面。
【図１】
2020144216.tif 000005
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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