(57)【要約】【課題】偏光膜、その保護膜、位相差膜を含む光学積層体に屈曲性を与え、折り曲げ可能とする、該光学積層体を含む有機ＥＬ表示装置用積層体、及びそのような有機ＥＬ表示装置用積層体を含む折り曲げ可能な有機ＥＬ表示装置を実現すること。【解決手段】光学積層体と、第１の応力緩和層とを含み、前記光学積層体は、二色性物質を配向させた厚み１２μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光膜と、前記偏光膜の第１の面に接合された透明樹脂材料の保護膜と、前記偏光膜の前記第１の面とは異なる第２の面に接合された位相差膜とを含み、前記第１の応力緩和層は、２５℃における貯蔵弾性率が、０．０５〜０．１５ＭＰａであり、前記保護膜に対して前記位相差膜とは反対側に配置され、前記光学積層体の厚みは、１２０μｍ以下であって該光学積層体が折り曲げ可能に構成されたことを特徴とする有機ＥＬ表示装置用積層体。【選択図】図２
2020149065.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学積層体と、
第１の応力緩和層と、
を含み、
前記光学積層体は、
二色性物質を配向させた厚み１２μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光膜と、
前記偏光膜の第１の面に接合された透明樹脂材料の保護膜と、
前記偏光膜の前記第１の面とは異なる第２の面に接合された位相差膜と、
を含み、
前記第１の応力緩和層は、２５℃における貯蔵弾性率が、０．０５〜０．１５ＭＰａであり、前記保護膜に対して前記位相差膜とは反対側に配置され、
前記光学積層体の厚みは、１２０μｍ以下であって該光学積層体が折り曲げ可能に構成された、
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置用積層体。
【請求項２】
前記位相差膜に対して前記保護膜とは反対側に、タッチセンサを構成する折り曲げ可能な透明導電層が更に配置されている請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置用積層体。
【請求項３】
前記透明導電層に対して前記位相差膜とは反対側に第２の応力緩和層が更に配置されている請求項２に記載の有機ＥＬ表示装置用積層体。
【請求項４】
前記保護膜と前記第１の応力緩和層との間に、タッチセンサを構成する折り曲げ可能な透明導電層が更に配置されている請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置用積層体。
【請求項５】
前記位相差膜に対して前記保護膜とは反対側に第２の応力緩和層が更に配置されている請求項４に記載の有機ＥＬ表示装置用積層体。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置用積層体と、
折り曲げ可能に構成された有機ＥＬ表示パネルと、
を含み、
前記有機ＥＬ表示パネルに対して視認側に前記有機ＥＬ表示装置用積層体が配置され、  折り曲げ可能に構成されている、
有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
前記有機ＥＬ表示装置用積層体に対して視認側にウインドウが配置されている請求項６に記載の有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光膜を有する折り曲げ可能に構成された光学積層体を含む有機ＥＬ表示装置用積層体、そのような有機ＥＬ表示装置用積層体を含む折り曲げ可能に構成された有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチセンサ一体型の有機ＥＬ表示装置が、例えば特許文献１に示されるように、従来知られている。特許文献１の有機ＥＬ表示装置においては、図１に示されるように、有機ＥＬ表示パネル９０１の視認側に、光学積層体９２０が設けられ、光学積層体９２０の視認側にタッチパネル９３０が設けられている。光学積層体９２０は、両面に保護膜９２２−１、９２２−２が接合された偏光膜９２１と位相差膜９２３とを含み、位相差膜９２３の視認側に偏光膜９２１が設けられている。また、タッチパネル９３０は、基材フィルム９１５−１、９１５−２と透明導電層９１２−１、９１２−２とを積層した構造を有する透明導電フィルム９１６−１、９１６−２がスペーサ９１７を介して配置された構造を有する。
【０００３】
一方、近年、より携帯性に優れた有機ＥＬ表示装置である折り曲げ可能な有機ＥＬ表示装置の実現が期待されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−１５７７４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、例えば特許文献１に示されるような従来の有機ＥＬ表示装置は、折り曲げることを念頭に設計されているものではない。有機ＥＬ表示パネル基材にプラスチックフィルムを用いれば有機ＥＬ表示パネルに屈曲性を与えることができるが、有機ＥＬ表示パネルに積層される、従来の有機ＥＬ表示装置の偏光膜、その保護膜、位相差膜を積層した光学積層体が、有機ＥＬ表示装置の屈曲性を阻害する。
【０００６】
そこで、本発明は、偏光膜、その保護膜、位相差膜を含む光学積層体に屈曲性を与え、折り曲げ可能とする、該光学積層体を含む有機ＥＬ表示装置用積層体、及びそのような有機ＥＬ表示装置用積層体を含む折り曲げ可能な有機ＥＬ表示装置を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の１つの態様は、光学積層体と、第１の応力緩和層とを含み、前記光学積層体は、二色性物質を配向させた厚み１２μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光膜と、前記偏光膜の第１の面に接合された透明樹脂材料の保護膜と、前記偏光膜の前記第１の面とは異なる第２の面に接合された位相差膜とを含み、前記第１の応力緩和層は、２５℃における貯蔵弾性率が、０．０５〜０．１５ＭＰａであり、前記保護膜に対して前記位相差膜とは反対側に配置され、前記光学積層体の厚みは、１２０μｍ以下であって該光学積層体が折り曲げ可能に構成されたことを特徴とする有機ＥＬ表示装置用積層体を提供するものである。
【０００８】
本態様の１つの実施形態においては、前記位相差膜に対して前記保護膜とは反対側に、タッチセンサを構成する折り曲げ可能な透明導電層が更に配置されることができる。
【０００９】
この場合において、前記透明導電層に対して前記位相差膜とは反対側に第２の応力緩和層が更に配置されることができる。
【００１０】
本態様の１つの実施形態においては、前記保護膜と前記第１の応力緩和層との間に、タッチセンサを構成する折り曲げ可能な透明導電層が更に配置されることができる。
【００１１】
この場合において、前記位相差膜に対して前記保護膜とは反対側に第２の応力緩和層が更に配置されることができる。
【００１２】
本発明の別の態様は、上記の有機ＥＬ表示装置用積層体と、折り曲げ可能に構成された有機ＥＬ表示パネルとを含み、前記有機ＥＬ表示パネルに対して視認側に前記有機ＥＬ表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている有機ＥＬ表示装置を提供するものである。
【００１３】
本態様の１つの実施形態においては、前記有機ＥＬ表示装置用積層体に対して視認側にウインドウが配置されることができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、偏光膜、その保護膜、位相差膜を含む光学積層体に屈曲性を与え、折り曲げ可能とする、該光学積層体を含む有機ＥＬ表示装置用積層体、及びそのような有機ＥＬ表示装置用積層体を含む折り曲げ可能な有機ＥＬ表示装置を実現することができる。
【００１５】
以下、本発明による光学積層体の実施形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】従来の有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図２】本発明の一実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図３】本発明の別の実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図４】本発明の更に別の実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図５】一実施例に用いる位相差膜の製造方法を示す図である。
【図６】別の実施例に用いる位相差膜の製造方法を示す図である。
【図７】耐折強さの測定方法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
［有機ＥＬ表示装置用積層体］
本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体は、光学積層体と、第１の応力緩和層と含む。
【００１８】
［光学積層体］
本発明の光学積層体は、二色性物質を配向させた厚み１２μｍ以下のポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光膜と、前記偏光膜の第１の面に接合された透明樹脂材料の保護膜と、前記偏光膜の前記第１の面とは異なる第２の面に接合された位相差膜とを含む。
【００１９】
本発明の光学積層体の厚みは、１２０μｍ以下である。
【００２０】
本発明の光学積層体は、折り曲げ可能に構成されている。
【００２１】
＜偏光膜＞
本発明の光学積層体に用いる偏光膜は、空中延伸（乾式延伸）やホウ酸水中延伸工程等の延伸工程によって延伸された、ヨウ素を配向させたポリビニルアルコール系樹脂を用いることができる。
【００２２】
偏光膜の製造方法としては、代表的には、特開２００４−３４１５１５号公報に記載のあるような、ＰＶＡ系樹脂の単層体を染色する工程と延伸する工程を含む製法（単層延伸法）がある。また、特開昭５１−０６９６４４号公報、特開２０００−３３８３２９号公報、特開２００１−３４３５２１号公報、国際公開第２０１０/１００９１７号、特開２０１２−０７３５６３号公報、特開２０１１−２８１６号公報に記載のあるような、ＰＶＡ系樹脂層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法が挙げられる。この製法であれば、ＰＶＡ系樹脂層が薄くても、延伸用樹脂基材に支持されていることにより延伸による破断などの不具合なく延伸することが可能となる。
【００２３】
積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法には、上述の特開昭５１−０６９６４４号公報、特開２０００−３３８３２９号公報、特開２００１−３４３５２１号公報に記載のあるような空中延伸（乾式延伸）法がある。そして、高倍率に延伸できて偏光性能を向上させることのできる点で、国際公開第２０１０/１００９１７号、特開２０１２−０７３５６３号公報に記載のあるような、ホウ酸水溶液中で延伸する工程を含む製法が好ましく、特に特開２０１２−０７３５６３号公報のようなホウ酸水溶液中で延伸する前に空中補助延伸を行う工程を含む製法（２段延伸法）が好ましい。また、特開２０１１−２８１６号公報に記載のあるような、ＰＶＡ系樹脂層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸した後に、ＰＶＡ系樹脂層を過剰に染色し、その後脱色する製法（過剰染色脱色法）も好ましい。本発明の光学積層体に用いる偏光膜は、上述のようなヨウ素を配向させたポリビニルアルコール系樹脂からなり、空中補助延伸とホウ酸水中延伸とからなる２段延伸工程で延伸された偏光膜とすることができる。また、本発明の光学積層体に用いる偏光膜は、上述のようなヨウ素を配向させたポリビニルアルコール系樹脂からなり、延伸されたＰＶＡ系樹脂層と延伸用樹脂基材の積層体を過剰に染色し、その後脱色することにより作製された偏光膜とすることができる。
【００２４】
本発明の光学積層体に用いる偏光膜の厚さは、１２μｍ以下であり、好ましくは９μｍ以下であり、より好ましくは６μｍ以下であり、さらに好ましくは５μｍ以下である。
【００２５】
＜位相差膜＞
本発明の光学積層体に用いる位相差膜は、高分子フィルムを延伸させて得られるものや液晶材料を配向、固定化させたものを用いることができる。本明細書において、位相差膜は、面内及び／又は厚み方向に複屈折を有するものをいう。
【００２６】
位相差膜としては、反射防止用位相差膜（特開２０１２−１３３３０３号公報〔０２２１〕、〔０２２２〕〔０２２８〕参照）、視野角補償用相差膜（特開２０１２−１３３３０３号公報〔０２２５〕、〔０２２６〕参照）、視野角補償用の傾斜配向位相差膜（特開２０１２−１３３３０３号公報〔０２２７〕参照）等が挙げられる。
【００２７】
位相差膜としては、実質的に上記の機能を有するものであれば、例えば、位相差値、配置角度、３次元複屈折率、単層か多層かなどは特に限定されず公知の位相差膜を使用することができる。
【００２８】
本明細書において、Ｒｅ［５５０］とは、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内の位相差値をいう。Ｒｅ［５５０］は、波長５５０ｎｍにおける位相差膜の遅相軸方向、進相軸方向の屈折率を、それぞれｎｘ、ｎｙとし、ｄ（ｎｍ）を位相差膜の厚みとしたとき、式：Ｒｅ［５５０］＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求めることができる。なお、遅相軸とは面内の屈折率の最大となる方向をいう。
【００２９】
本発明のｎｘ−ｎｙである面内複屈折Δｎは、０．００２〜０．２、好ましくは０．００２５〜０．１５である。
【００３０】
上記位相差膜は、好ましくは２３℃において、波長５５０ｎｍの光で測定した面内の位相差値（Ｒｅ［５５０］）が、波長４５０ｎｍの光で測定した面内の位相差値（Ｒｅ［４５０］）よりも大きい。このような波長分散特性を有する位相差膜は、前記比率がこの範囲であれば、長波長ほど位相差が発現し、可視領域の各波長において理想的な位相差特性を得ることができる。例えば、有機ＥＬディスプレイに用いた場合、１／４波長板としてこのような波長依存性を有する位相差膜を作製し、偏光板と貼り合わせることにより、円偏光板等を作製することができ、色相の波長依存性が少ない、ニュートラルな偏光板および表示装置の実現が可能である。一方、前記比率がこの範囲外の場合には、反射色相の波長依存性が大きくなり、偏光板や表示装置に着色の問題が生じる。
【００３１】
上記位相差膜のＲｅ［５５０］とＲｅ［４５０］の比（Ｒｅ［４５０］／Ｒｅ［５５０］）は、０．８  以上１．０未満、より好ましくは０．８〜０．９５である。
【００３２】
上記位相差膜は、好ましくは２３℃において、波長５５０ｎｍの光で測定した面内の位相差値（Ｒｅ［５５０］）が、波長６５０ｎｍの光で測定した面内の位相差値（Ｒｅ［６５０］）よりも小さい。このような波長分散特性を有する位相差膜は、赤色の領域で位相差値が一定になり、例えば、液晶表示装置に用いた場合に、見る角度によって光漏れが生じる現象や、表示画像が赤味を帯びる現象（レッドイッシュ現象ともいう）を改善することができる。
【００３３】
上記位相差膜のＲｅ［６５０］とＲｅ［５５０］の比（Ｒｅ［５５０］／Ｒｅ［６５０］）は、０．８以上１．０未満、好ましくは０．８〜０９７である。Ｒｅ［５５０］／Ｒｅ［６５０］を上記の範囲とすることによって、例えば、上記位相差膜を有機ＥＬディスプレイに用いた場合に、より一層優れた表示特性を得ることができる。
【００３４】
Ｒｅ［４５０］、Ｒｅ［５５０］、Ｒｅ［６５０］は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製  製品名「ＡｘｏSｃａｎ」を用いて測定することができる。
【００３５】
本明細書において、ＮＺは、厚み方向複屈折であるｎｘ−ｎｚと面内複屈折であるｎｘ−ｎｙとの比をいう（Ｎｚ係数ともいう）。
【００３６】
本発明の位相差膜のＮＺは、０〜１．３、好ましくは０〜１．２５、より好ましくは０〜１．２である。
【００３７】
本発明の位相差膜の屈折率異方性は、ｎｘ＞ｎｙ、好ましくはｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係を満たすことが好ましい。
【００３８】
例えば、通常縦延伸を行う場合は、フィルムの長手方向の延伸に対し、幅方向が固定されていないため、幅収縮が起こる。そのため、より一軸方向に分子が配向した状態となり、屈折率の関係としては、例えば、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚとなる。この場合は、延伸方向であるフィルムの長手方向の耐折強さは強くなるが、幅方向の耐折強さは非常に弱くなる。これを解決するために、延伸方向に対して交差する角度方向に、幅を規制する力を発生した状態（例えば、横一軸延伸の場合、延伸方向であるフィルムの幅方向に対して直角方向であるフィルムの長手方向の長さを一定にする力が発生している）で、延伸を施すことで、延伸方向のみならず、延伸方向と交差する角度方向にも分子を配向させることができ、屈折率の関係としては、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚとすることができる。これより、延伸方向の耐折強さと幅方向の耐折強さを、高いレベルで両立することができる。
【００３９】
上記位相差膜の２３℃における光弾性係数の絶対値；Ｃ（ｍ2／Ｎ）は、２×１０-12〜１００×１０-12（ｍ2／Ｎ）、好ましくは２×１０-12〜５０×１０-12（ｍ2／Ｎ）である。偏光膜の収縮応力や、表示パネルの熱や、周囲の環境（耐湿・耐熱）によって、位相差膜に力がかかり、それにより発生する位相差値の変化を防ぐことができ、その結果、良好な表示均一性を有する表示パネル装置を得ることができる。好ましくは、上記位相差膜のＣは３×１０-12〜４５×１０-12であり、特に好ましくは１０×１０-12〜４０×１０-12以下である。Ｃを上記の範囲とすることによって、上記位相差膜に力がかかった時に発生する位相差値の変化やムラを低減することができる。また、光弾性係数とΔｎはトレードオフの関係になりやすく、この光弾性係数範囲であれば、位相差発現性を低減させることなく、表示品位を保つことが可能となる。
【００４０】
１つの実施形態において、本発明の位相差膜は、高分子フィルムを延伸することによって、配向させて作製される。
【００４１】
上記高分子フィルムを延伸する方法としては、目的に応じて、任意の適切な延伸方法が採用され得る。本発明に適した上記延伸方法としては、例えば、横一軸延伸方法、縦横同時二軸延伸方法、縦横逐次二軸延伸方法等が挙げられる。延伸する手段としては、テンター延伸機、二軸延伸機等々の、任意の適切な延伸機が用いられ得る。好ましくは、上記延伸機は、温度制御手段を備える。加熱して延伸を行う場合は、延伸機の内部温度は連続的に変化させてもよいし、連続的に変化させてもよい。工程は１回でも２回以上に分割してもいい。延伸方向はフィルム幅方向（ＴＤ方向）や斜め方向に延伸するのがよい。
【００４２】
斜め延伸は、未延伸樹脂フィルムを長手方向に送出しつつ、幅方向に対して前記特定の範囲の角度をなす方向に延伸する斜め延伸処理を連続的に行う。これにより、フィルムの幅方向と遅相軸とがなす角度（配向角θ）が前記特定の範囲となる長尺位相差膜を得ることができる。
【００４３】
斜め延伸する方法としては、未延伸樹脂フィルムの幅方向に対して前記特定の範囲の角度をなす方向に連続的に延伸して、遅相軸をフィルムの幅方向に対して前記特定の範囲の角度をなす方向に形成できるものであれば特に制約されない。特開２００５−３１９６６０、特開２００７−３０４６６、特開２０１４−１９４４８２、特開放２０１４−１９９４８３、特開２０１４−１９９４８３等、従前公知のこのような延伸方法から任意の適切な方法を採用することができる。
【００４４】
未延伸樹脂フィルムを延伸する温度（延伸温度）は、目的に応じて、適宜、適切な値が選択され得る。好ましくは、延伸は、高分子フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ−２０℃〜Ｔｇ＋３０℃の範囲で行なう。このような条件を選択することによって、位相差値が均一になり易く、かつ、フィルムが結晶化（白濁）しにくくなる。具体的には、上記延伸温度は９０℃〜２１０℃であり、さらに好ましくは１００℃〜２００℃であり、特に好ましくは１００℃〜１８０℃である。なお、ガラス転移温度は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２１（１９８７）に準じたＤＳＣ法によって求めることができる。
【００４５】
上記延伸温度を制御する手段としては、任意の適切な手段が採用され得る。上記温度制御手段としては、例えば、熱風または冷風が循環する空気循環式恒温オーブン、マイクロ波または遠赤外線を利用したヒーター、温度調節用に加熱されたロール、ヒートパイプロール、金属ベルト等が挙げられる。
【００４６】
上記未延伸樹脂フィルムを延伸する倍率（延伸倍率）は、目的に応じて、適宜、選択され得る。上記延伸倍率は、好ましくは１を超え６倍以下であり、さらに好ましくは１．５倍を超え４倍以下である。
【００４７】
また、延伸時の送り速度は、特に制限はないが、機械精度、安定性等から好ましくは０．５ｍ／分〜３０ｍ／分であり、より好ましくは１ｍ／分〜２０ｍ／分である。上記の延伸条件であれば、目的とする光学特性が得られ得るのみならず、光学均一性に優れた位相差膜を得ることができる。
【００４８】
また。この別の実施形態として、ポリシクロオレフィンフィルムやポリカーボネートフィルムなどを用いて、偏光板の吸収軸と１／２波長板の遅相軸とのなす角が１５°、偏光板の吸収軸と１／４波長板の遅相軸とのなす角が７５°となるようにアクリル系粘着剤を用いて枚葉貼り合せされた位相差膜を用いてもよい。
【００４９】
他の実施形態において、本発明の位相差膜は、液晶材料を配向、固定化させることによって作製される位相差層を積層させたものを用いることができる。それぞれの位相差層は、液晶化合物の配向固化層であり得る。液晶化合物を用いることにより、得られる位相差層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための位相差層の厚みを格段に小さくすることができる。その結果、円偏光板（最終的には、有機ＥＬ表示装置）のさらなる薄型化を実現することができる。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。本実施形態においては、代表的には、棒状の液晶化合物が位相差層の遅相軸方向に並んだ状態で配向している（ホモジニアス配向）。液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物（ネマチック液晶）が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。
【００５０】
液晶化合物が液晶モノマーである場合、当該液晶モノマーは、重合性モノマーおよび架橋性モノマーであることが好ましい。液晶モノマーを重合または架橋させることにより、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された位相差層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、位相差層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた位相差層となる。
【００５１】
液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０℃〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０℃〜１００℃であり、最も好ましくは６０℃〜９０℃である。
【００５２】
上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２−５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ−Ｓｉｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーが好ましい。
【００５３】
液晶化合物の配向固化層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。１つの実施形態においては、基材は任意の適切な樹脂フィルムであり、当該基材上に形成された配向固化層は、偏光膜の表面に転写され得る。この時偏光膜の吸収軸と液晶配向固化層の遅相軸とのなす角が１５°となるように配置される。また、液晶配向固化層の位相差は５５０ｎｍの波長に対してλ／２（約２７０ｎｍ）である。さらに、前述と同様に５５０ｎｍの波長に対してλ／４（約１４０ｎｍ）である液晶配向固化層を転写可能な基材上に形成し、偏光膜と１／２波長板の積層体の１／２波長板側に、偏光膜の吸収軸と１／４波長板の遅相軸とのなす角が７５°になるように積層される。
【００５４】
上記配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。
【００５５】
液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。
【００５６】
配向状態の固定は、１つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。
【００５７】
液晶化合物の具体例および配向固化層の形成方法の詳細は、特開２００６−１６３３４３号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。
【００５８】
［保護膜］
本発明の光学積層体に用いる透明樹脂材料の保護膜は、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂などを用いることができる。
【００５９】
本発明の光学積層体に用いる保護膜の厚さは、１０〜５０μｍ、好ましくは１５〜４５μｍであり、適宜アンチグレア層又は反射防止層などの表面処理層を設けることができる。
【００６０】
本発明の光学積層体に用いる保護膜の透過湿度は、２００ｇ／ｍ2以下、好ましくは１７０ｇ／ｍ2以下、より好ましくは１３０ｇ／ｍ2以下、特に好ましくは９０ｇ／ｍ2以下である。
【００６１】
［第１の応力緩和層］
本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体に用いる第１の応力緩和層は、前記保護膜に対して前記位相差膜とは反対側に配置される。
【００６２】
本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体に用いる第１の応力緩和層を構成する粘着剤層は、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、ウレタン系粘着剤、フッ素系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤などが挙げられる。なお、上記粘着剤層を構成する粘着剤は、単独で又は２種以上組み合わせて用いられる。透明性、加工性、耐久性などの点から、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。
【００６３】
本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体に用いる第１の応力緩和層を構成する粘着剤層の厚みは、１０〜２５０μｍ、好ましくは１０〜１５０μｍであり、単層であっても積層構造であってもよい。
【００６４】
本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体に用いる第１の応力緩和層の可視光波長領域における全光線透過率（ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６に準じる）は、好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上である。
【００６５】
本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体に用いる第１の応力緩和層のヘイズ（ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６に準じる）は、３．０％以下、より好ましくは２．０％以下である。
【００６６】
なお、上記全光線透過率及び上記ヘイズは、例えば、ヘーズメータ（村上色彩技術研究所製、商品名「ＨＭ−１５０」）を用いて測定することができる。
【００６７】
本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体に用いる第１の応力緩和層の貯蔵弾性率（Ｇ’）は、２５℃において０．０５〜０．１５（ＭＰａ）である。
【００６８】
［透明導電層］
本発明の透明導電層は、導電性ナノワイヤや金属メッシュを用いることができる。透明導電層として、導電性ナノワイヤや金属メッシュを用いた場合、耐屈曲性に優れ、屈曲しても導電性が失われ難いので、透明導電層は折り曲げ可能に構成される。導電性ナノワイヤは保護膜により保護されていてもよい。
【００６９】
本発明の透明導電層の厚みは、好ましくは０．０１μｍ〜１０μｍであり、より好ましくは０．０５μｍ〜３μｍであり、さらに好ましくは０．１μｍ〜１μｍである。
【００７０】
本発明の透明導電層の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。例えば、導電性ナノワイヤを用いれば、開口部が形成された透明導電層を形成することができ、光透過率の高い透明導電層を得ることができる。
【００７１】
本発明の透明導電層の密度は、好ましくは１．０ｇ／ｃｍ3〜１０．５ｇ／ｃｍ3であり、より好ましくは１．３ｇ／ｃｍ3〜３．０ｇ／ｃｍ3である。
【００７２】
本発明の透明導電層の表面抵抗値は、好ましくは０．１Ω／□〜１０００Ω／□であり、より好ましくは０．５Ω／□〜５００Ω／□であり、さらに好ましくは１Ω／□〜２５０Ω／□である。
【００７３】
上記導電性ナノワイヤとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な導電性ナノワイヤが用いられ得る。導電性ナノワイヤとは、形状が針状または糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。導電性ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。導電性ナノワイヤで構成された透明導電層を用いれば、耐屈曲性に優れる導電性フィルムを得ることができる。また、導電性ナノワイヤで構成された透明導電層を用いれば、導電性ナノワイヤ同士が隙間を形成して網の目状となることにより、少量の導電性ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい導電性フィルムを得ることができる。さらに、導電性ワイヤが網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成して、光透過率の高い導電性フィルムを得ることができる。導電性ナノワイヤとしては、例えば、金属により構成される金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブを含む導電性ナノワイヤ等が挙げられる。
【００７４】
上記導電性ナノワイヤの太さｄと長さＬとの比（アスペクト比：Ｌ／ｄ）は、好ましくは１０〜１００，０００であり、より好ましくは５０〜１００，０００であり、特に好ましくは１００〜１０，０００である。このようにアスペクト比の大きい導電性ナノワイヤを用いれば、導電性ナノワイヤが良好に交差して、少量の導電性ナノワイヤにより高い導電性を発現させることができる。その結果、光透過率の高い導電性フィルムを得ることができる。なお、本明細書において、「導電性ナノワイヤの太さ」とは、導電性ナノワイヤの断面が円状である場合はその直径を意味し、楕円状である場合はその短径を意味し、多角形である場合は最も長い対角線を意味する。導電性ナノワイヤの太さおよび長さは、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡によって確認することができる。
【００７５】
上記導電性ナノワイヤの太さは、好ましくは５００ｎｍ未満であり、より好ましくは２００ｎｍ未満であり、特に好ましくは１ｎｍ〜１００ｎｍであり、最も好ましくは１ｎｍ〜５０ｎｍである。このような範囲であれば、光透過率の高い透明導電層を形成することができる。
【００７６】
上記導電性ナノワイヤの長さは、好ましくは２．５μｍ〜１０００μｍであり、より好ましくは１０μｍ〜５００μｍであり、特に好ましくは２０μｍ〜１００μｍである。このような範囲であれば、導電性の高い導電性フィルムを得ることができる。
【００７７】
上記金属ナノワイヤを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。上記金属ナノワイヤは、好ましくは、金、白金、銀および銅からなる群より選ばれた１種以上の金属により構成される。なかでも好ましくは、導電性の観点から、銀、銅または金であり、より好ましくは銀である。また、上記金属にメッキ処理（例えば、金メッキ処理）を行った材料を用いてもよい。
【００７８】
上記金属ナノワイヤの製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば溶液中で硝酸銀を還元する方法、前駆体表面にプローブの先端部から印可電圧又は電流を作用させ、プローブ先端部で金属ナノワイヤを引き出し、該金属ナノワイヤを連続的に形成する方法等が挙げられる。溶液中で硝酸銀を還元する方法においては、エチレングリコール等のポリオール、およびポリビニルピロリドンの存在下で、硝酸銀等の銀塩の液相還元することによりにより、銀ナノワイヤが合成され得る。均一サイズの銀ナノワイヤは、例えば、Ｘｉａ，  Ｙ．ｅｔａｌ．，  Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．（２００２）、１４、４７３６−４７４５、  Ｘｉａ，  Ｙ．ｅｔａｌ．，  Ｎａｎｏ  ｌｅｔｔｅｒｓ（２００３）３（７）、９５５−９６０に記載される方法に準じて、大量生産が可能である。
【００７９】
上記カーボンナノチューブとしては、任意の適切なカーボンナノチューブが用いられ得る。例えば、いわゆる多層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ、単層カーボンナノチューブ等が用いられる。なかでも、導電性が高い点から、単層カーボンナノチューブが好ましく用いられる。上記カーボンナノチューブの製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。好ましくは、アーク放電法で作製されたカーボンナノチューブが用いられる。アーク放電法で作製されたカーボンナノチューブは結晶性に優れるため好ましい。
【００８０】
上記導電性ナノワイヤを含む透明導電層は、上記導電性ナノワイヤを溶剤に分散させて得られた分散液（導電性ナノワイヤ分散液）を、上記位相差膜上に塗布した後、塗布層を乾燥させて、形成することができる。
【００８１】
上記導電性ナノワイヤ分散液に含まれる溶剤としては、水、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤、芳香族系溶剤等が挙げられる。環境負荷低減の観点から、水を用いることが好ましい。
【００８２】
上記導電性ナノワイヤ分散液中の導電性ナノワイヤの分散濃度は、好ましくは０．１重量％〜１重量％である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる透明導電層を形成することができる。
【００８３】
上記導電性ナノワイヤ分散液は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。上記添加剤としては、例えば、導電性ナノワイヤの腐食を防止する腐食防止材、導電性ナノワイヤの凝集を防止する界面活性剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類、数および量は、目的に応じて適切に設定され得る。また、導電性ナノワイヤ分散液は、本発明の効果が得られる限り、必要に応じて、任意の適切なバインダー樹脂を含み得る。
【００８４】
上記導電性ナノワイヤ分散液の塗布方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。塗布方法としては、例えば、スプレーコート、バーコート、ロールコート、ダイコート、インクジェットコート、スクリーンコート、ディップコート、スロットダイコート、凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法等が挙げられる。塗布層の乾燥方法としては、任意の適切な乾燥方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用され得る。例えば、加熱乾燥の場合には、乾燥温度は代表的には１００℃〜２００℃であり、乾燥時間は代表的には１分〜１０分である。
【００８５】
上記透明導電層が導電性ナノワイヤから構成される場合、該透明導電層の厚みは、好ましくは０．０１μｍ〜１０μｍであり、より好ましくは０．０５μｍ〜３μｍであり、さらに好ましくは０．１μｍ〜１μｍである。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる導電性フィルムを得ることができる。
【００８６】
上記透明導電層が導電性ナノワイヤから構成される場合、該透明導電層の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。
【００８７】
上記導電性ナノワイヤが銀から構成される金属ナノワイヤである場合、透明導電層の密度は、好ましくは１．０ｇ／ｃｍ３〜１０．５ｇ／ｃｍ３であり、より好ましくは１．３ｇ／ｃｍ３〜３．０ｇ／ｃｍ３である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる導電性フィルムを得ることができる。
【００８８】
上記導電性ナノワイヤを含む透明導電層は、所定のパターンにパターン化され得る。透明導電層のパターンの形状はタッチパネル（例えば、静電容量方式タッチパネル）として良好に動作するパターンが好ましく、例えば、特表２０１１−５１１３５７号公報、特開２０１０−１６４９３８号公報、特開２００８−３１０５５０号公報、特表２００３−５１１７９９号公報、特表２０１０−５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。透明導電層は透明基材上に形成された後、公知の方法を用いてパターン化することができる。
【００８９】
上記金属メッシュとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な金属メッシュが用いられ得る。例えば、フィルム基材上に設けられた金属配線層が網目状にパターン形成されたものを用いることができる。
【００９０】
（フィルム基材）
金属配線層を支持するフィルム基材は、単層であってもよいし、複層であってもよい。フィルム基材の厚みは、透明性や取扱性の観点から、好ましくは２０μｍ〜２００μｍである。
【００９１】
上記フィルム基材は、金属配線層が形成される両面に複数の突起を有している。フィルム基材の表面に複数の突起を設けることによって、フィルム基材に滑り性や耐磨耗性を付与し、金属配線層を連続的に成膜する際に、品質を高く維持しながら、その成膜速度を高めて生産性を向上させることができる。
【００９２】
突起は、フィルム基材の金属配線層が形成される側の表面の平面視において、その外径Ｄが０を超え３μｍ以下、好ましくは、０．１μｍ〜２μｍである。突起の外径は、例えばフィルム基材の金属配線層が形成される側の表面を所定倍率で画像観察することにより測定することができる。外径Ｄが３μｍ以下である場合、フィルム基材の表面と突起表面の境界部近傍で金属配線が断線するのを確実に防止することができる。
【００９３】
突起の高さは、フィルム基材の平坦な面を基準として、好ましくは０を超え３μｍ以下であり、さらに好ましくは０．１μｍ〜２μｍである。
【００９４】
突起の形状は、本実施形態では略ドーム型であり、フィルム基材の面方向断面は略円形、厚み方向断面は略半円形である。ただし、本発明における突起は、フィルム基
材に滑り性や耐磨耗性を付与し、また、高品質な金属配線層を連続的且つ速い速度で成膜し得るものであれば、ドーム型以外の他の形状であってもよい。
【００９５】
フィルム基材上に突起を設ける手段としては、該フィルム基材の内部に滑剤を分散させる方法、フィルム表面に、複数の粒子を分散させたバインダー（binder）を塗布する方法などが挙げられる。
【００９６】
フィルム基材を構成するフィルムは、光学的に等方性を有するポリマーフィルムが好ましい。本発明において「光学的に等方性を有する」とは、波長５９０ｎｍで測定した面内の位相差値が１０ｎｍ未満であるものをいう。このようなポリマーフィルムを用いれば、タッチセンサに外光が入射したとき、２つの金属配線層の間で、光の位相の変化が小さいので、各金属配線層で反射した光を円偏光フィルムで効果的に遮断することができる。このポリマーフィルムは、例えば延伸加工されていない無延伸フィルムである。
【００９７】
上記ポリマーフィルムは、例えば、ポリシクロオレフィンフィルム、又はポリカーボネートフィルムである。このポリマーフィルムは、例えば日本ゼオン株式会社、帝人化成株式会社等から入手できる。
【００９８】
（金属配線層）
金属配線層は、透光性を付与するために、例えば網目状にパターン形成されたものである。上記金属配線層の網目状パターンは、特に制限はなく、例えば、正方形格子、ひし形格子、又は多角形格子である。
【００９９】
上記金属配線層を形成する材料は、電気伝導性を有するものであれば制限はないが、好ましくは銀、銅又はそれらの合金であり、さらに好ましくは銅である。
【０１００】
上記金属配線層の線幅は、５μｍを超え８μｍ未満であり、好ましくは５．５μｍを超え７μｍ以下である。このような線幅の範囲であれば、フィルム基材の突起に起因する断線を防ぐことができる。線幅が５μｍ以下である場合は、金属配線層の網目状パターンが視認され難くはなるものの、フィルム基材の突起によって、金属配線が断線する頻度が高くなり、大量生産すると品質及び信頼性が低くなる。一方、線幅が８μｍ以上である場合は、金属配線層の網目状パターンが顕著に視認される。
【０１０１】
金属配線層の厚みは、０．１μｍ以上０．５μｍ未満であり、好ましくは０．１μｍを超え０．４μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ〜０．３５μｍである。金属配線層は、その厚みを例えば２μｍよりも薄くすることによって、より一層、網目状パターンが視認されることを防ぐ。このような構成は、タッチセンサに対して、斜め方向から外光が入射したとき、金属配線層の側面が光輝せず、視認され難い。
【０１０２】
金属配線層は、扁平形状を有している点に特徴があり、厚みに対する線幅の比率（線幅／厚み）は、好ましくは１０以上８０未満であり、さらに好ましくは１５〜５０である。このような関係を満足するタッチセンサは、生産性に優れ、金属配線の断線を生じず、且つ金属配線層の網目状パターンが視認され難い。
【０１０３】
金属配線層の断面積は、タッチパネルセンサに必要な電気伝導性を得るために、好ましくは０．５μｍ2〜４μｍ2であり、さらに好ましくは０．５μｍ2〜３．２μｍ2であり、特に好ましくは０．５μｍ2〜２．５μｍ2である。
【０１０４】
金属配線層のピッチ間隔は、十分な透光性を得るために、好ましくは２００μｍ〜８００μｍであり、さらに好ましくは３５０μｍ〜６５０μｍである。金属配線層の開口率は、好ましくは９５％〜９９％であり、さらに好ましくは９６％〜９９％である。
【０１０５】
上記金属配線層を形成する方法としては、例えば、フィルム基材の表面全体に金属層を成膜した後、金属層上に所定のレジストパターン（resist pattern）を積層し、エッチング（etching）により、網目状の金属配線層が形成されるように、不要領域の金属層を除去した後、レジストを剥離する方法が用いられる。上記金属層は、例えば、スパッタリング（spattering）法、メッキ（plating）法、又はそれらの組み合わせにより成膜することができる。
【０１０６】
本発明の透明導電層は、タッチセンサを構成し、折り曲げ可能に構成されている。
【０１０７】
本発明の透明導電層は、前記位相差膜に対して前記保護膜とは反対側に配置されることができる。
【０１０８】
本発明の透明導電層は、前記保護膜と前記第１の応力緩和層との間に配置されることができる。
【０１０９】
［第２の応力緩和層］
本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体に用いる第２の応力緩和層は、透明導電層が前記位相差膜に対して前記保護膜とは反対側に配置される場合、前記透明導電層に対して前記位相差膜とは反対側に配置されることができる。
【０１１０】
本発明の有機ＥＬ表示装置用積層体に用いる第２の応力緩和層は、透明導電層が前記保護膜と前記第１の応力緩和層との間に配置される場合、前記位相差膜に対して前記保護膜とは反対側に配置されることができる。
【０１１１】
［有機ＥＬ表示装置］
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上記の有機ＥＬ表示装置用積層体と、折り曲げ可能に構成された有機ＥＬ表示パネルとを含み、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側に有機ＥＬ表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。
【０１１２】
任意ではあるが、有機ＥＬ表示装置用積層体に対して視認側にウインドウが配置されることができる。
【０１１３】
図２は、本発明による有機ＥＬ表示装置の１つの実施形態を示す断面図である。この有機ＥＬ表示装置１００は、有機ＥＬ表示装置用積層体１１０と、折り曲げ可能に構成された有機ＥＬ表示パネル１０１を含む。そして、有機ＥＬ表示パネル１０１に対して視認側に有機ＥＬ表示装置用積層体１１０が配置され、有機ＥＬ表示装置１００は折り曲げ可能に構成されている。
【０１１４】
任意ではあるが、有機ＥＬ表示装置用積層体１１０に対して視認側に透明なウインドウ１０２が配置されることができる。
【０１１５】
有機ＥＬ表示装置用積層体１１０は、光学積層体１２０と、第１の応力緩和層１１１を構成する粘着剤層とを含む。
【０１１６】
光学積層体１２０は、偏光膜１２１、透明樹脂材料の保護膜１２２及び位相差膜１２３を含む。透明樹脂材料の保護膜１２２は、偏光膜１２１の視認側の第１の面に接合される。位相差膜１２３は、偏光膜１２１の第１の面とは異なる第２の面に接合される。偏光膜１２１と位相差膜１２３は、例えば、偏光膜１２１の視認側から内部に入射した光が内部反射して視認側に射出されることを防止するために円偏光を生成したり、視野角を補償したりするためのものである。
【０１１７】
本実施形態においては、従来偏光膜の両面に保護膜が設けられていたのに対して、片面のみに保護膜が設けられる構成とされ、偏光膜自体も従来の有機ＥＬ表示装置に使用されている偏光膜に比べて非常に薄い厚みが１２μｍ以下の偏光膜が使用されることによって、光学積層体１２０の厚みが低減されている。また、偏光膜１２１は、従来の有機ＥＬ表示装置に使用されている偏光膜に比べて非常に薄いので、温度又は湿度条件で発生する伸縮による応力が極めて小さくなる。したがって、偏光膜の収縮によって生じる応力が隣接する有機ＥＬ表示パネル１０１に反り等の変形を生じさせる可能性が大幅に軽減され、変形に起因する表示品質の低下やパネル封止材料の破壊を大幅に抑制することが可能になる。
【０１１８】
第１の応力緩和層１１１の２５℃における貯蔵弾性率は、０．０５〜０．１５ＭＰａであり、保護膜１２２に対して位相差膜１２３とは反対側に配置される。
【０１１９】
光学積層体１２０を、保護膜１２２側を内側として折り曲げる場合、光学積層体１２０の厚みを１２０μｍ以下と薄くし、上記のような貯蔵弾性率を有する第１の応力緩和層１１１を保護膜１２２に対して位相差膜１２３とは反対側に配置することによって、光学積層体１２０にかかる応力を低減することが可能となり、これにより光学積層体１２０が折り曲げ可能となる。また、したがって、有機ＥＬ表示装置が使用される環境温度に応じて適切な貯蔵弾性率の範囲を設定してもよい。例えば、想定使用環境温度が０℃〜８０℃である場合、０℃における貯蔵弾性率と８０℃における貯蔵弾性率が適切な数値範囲となるような第１の応力緩和層を用いることができる。
【０１２０】
任意ではあるが、位相差膜１２３に対して保護膜１２２とは反対側に、タッチセンサを構成する折り曲げ可能な透明導電層１１２が更に配置されることができる。透明導電層１１２は、例えば特開２０１４−２１９６６７号公報に示されるような製造方法によって位相差膜１２３に直接接合される構成とし、これにより光学積層体１２０の厚みが低減され、光学積層体１２０を折り曲げた場合の光学積層体１２０にかかる応力をより低減することができる。
【０１２１】
任意ではあるが、透明導電層１１２に対して位相差膜１２３とは反対側に第２の応力緩和層１１３を構成する粘着剤層が更に配置されることができる。本実施形態においては、第２の応力緩和層１１３は、透明導電層１１２に直接接合されている。第２の応力緩和層１１３を設けることにより、光学積層体１２０を折り曲げた場合の光学積層体１２０にかかる応力をより低減することができる。
【０１２２】
図３に示す有機ＥＬ表示装置は、基本的に図２に示すものと同一であるが、透明導電層１１２が位相差膜１２３に直接接合されておらず、ポリシクロオレフィンやポリカーボネートフィルムなどの光学的に等方性を有するフィルム基材１１４上に設けられた透明導電層１１２が位相差膜１２３に接合されている点で異なる。
【０１２３】
図４に示す有機ＥＬ表示装置は、図２に示すものとほぼ同一であるが、図２の有機ＥＬ表示装置においては、位相差膜１２３に対して保護膜１２２とは反対側に、タッチセンサを構成する折り曲げ可能な透明導電層１１２が配置されるのに対して、図４の有機ＥＬ表示装置においては、保護膜１２２と第１の応力緩和層１２３との間に、タッチセンサを構成する折り曲げ可能な透明導電層１１２が配置される点で異なる。また、図２の有機ＥＬ表示装置においては、第２の応力緩和層１１３が、透明導電層１１２に対して位相差膜１２３とは反対側に配置されるのに対して、図４の有機ＥＬ表示装置においては、位相差膜１２３に対して保護膜１２２とは反対側に配置される点で異なる。
【実施例】
【０１２４】
本発明の光学積層体について、以下の実施例を用いて更に説明する。なお、本発明の光学積層体は、これらの実施例のみに限定されるものではない。
【０１２５】
〔実施例１〕
［偏光膜］
熱可塑性樹脂基材として、イソフタル酸ユニットを７モル％有するアモルファスのポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」ともいう。）（ＩＰＡ共重合ＰＥＴ）フィルム（厚み：１００μｍ）を用意し、表面にコロナ処理（５８W/ｍ2/ｍｉｎ）を施した。一方、アセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工業（株）製  商品名：ゴーセファイマー Ｚ２００（平均重合度：１２００，ケン化度：９８．５モル％，アセトアセチル化度：５モル％）を１ｗｔ％添加したＰＶＡ（重合度４２００、ケン化度９９.２％）を用意して、ＰＶＡ系樹脂が５．５ｗｔ％であるPVA水溶液の塗工液を準備し、乾燥後の膜厚が１２μｍになるように塗工し、６０℃の雰囲気下において熱風乾燥により１０分間乾燥して、基材上にＰＶＡ系樹脂の層を設けた積層体を作製した。
【０１２６】
次いで、この積層体をまず空気中１３０℃で１．８倍に自由端延伸して（空中補助延伸）、延伸積層体を生成した。次に、延伸積層体を液温３０℃のホウ酸不溶化水溶液に３０秒間浸漬することによって、延伸積層体に含まれるＰＶＡ分子が配向されたＰＶＡ層を不溶化する工程を行った。本工程のホウ酸不溶化水溶液は、ホウ酸含有量を水１００重量部に対して３重量部とした。この延伸積層体を染色することによって着色積層体を生成した。着色積層体は、延伸積層体を液温３０℃のヨウ素およびヨウ化カリウムを含む染色液に、最終的に生成される偏光膜を構成するＰＶＡ層の単体透過率が４０〜４４％になるように任意の時間、浸漬することによって、延伸積層体に含まれるＰＶＡ層をヨウ素により染色させたものである。本工程において、染色液は、水を溶媒として、ヨウ素濃度を０．1〜０．４重量％の範囲内とし、ヨウ化カリウム濃度を０．７〜２．８重量％の範囲内とした。ヨウ素とヨウ化カリウムの濃度の比は１対７である。次に、着色積層体を３０℃のホウ酸架橋水溶液に６０秒間浸漬することによって、ヨウ素を吸着させたＰＶＡ層のＰＶＡ分子同士に架橋処理を施す工程を行った。本工程のホウ酸架橋水溶液は、ホウ酸含有量を水１００重量部に対して３重量部とし、ヨウ化カリウム含有量を水１００重量部に対して３重量部とした。
【０１２７】
さらに、得られた着色積層体をホウ酸水溶液中で延伸温度７０℃として、先の空気中での延伸と同様の方向に３．０５倍に延伸して（ホウ酸水中延伸）、最終的な延伸倍率は５．５０倍である光学フィルム積層体を得た。光学フィルム積層体をホウ酸水溶液から取り出し、ＰＶＡ層の表面に付着したホウ酸を、ヨウ化カリウム含有量が水１００重量部に対して４重量部とした水溶液で洗浄した。洗浄された光学フィルム積層体を６０℃の温風による乾燥工程によって乾燥した。得られた光学フィルム積層体に含まれる偏光膜の厚みは５μｍであった。
【０１２８】
［位相差膜］
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。９，９−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＨＥＰＦ）、イソソルビド（ＩＳＢ）、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）、および酢酸マグネシウム４水和物を、モル比率でＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＤＥＧ／ＤＰＣ／酢酸マグネシウム＝０．３４８／０．４９０／０．１６２／１．００５／１．００×１０-5になるように仕込んだ。反応器内を十分に窒素置換した後（酸素濃度０．０００５〜０．００１ｖｏｌ％）、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。
【０１２９】
第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、反応液をストランドの形態で抜出し、回転式カッターでペレット化を行い、ＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＤＥＧ＝３４．８／４９．０／１６．２［ｍｏｌ％］の共重合組成のポリカーボネート樹脂Ａを得た。このポリカーボネート樹脂の還元粘度は０．４３０ｄＬ／ｇ、ガラス転移温度は１２８℃であった。
【０１３０】
得られたポリカーボネート樹脂を８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（いすず化工機社製、スクリュー径２５ｍｍ、シリンダー設定温度：２２０℃）、Ｔダイ（幅９００ｍｍ、設定温度：２２０℃）、チルロール（設定温度：１２０〜１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１５０μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。
【０１３１】
上記のようにして得られたポリカーボネート樹脂フィルムを、予熱処理、第１の斜め延伸および第２の斜め延伸処理に供し、長尺位相差膜を得た。具体的には、以下のとおりである。
【０１３２】
図５を参照して、ポリカーボネート樹脂フィルム（厚み１５０μｍ、幅（Ｗ１）７６５ｍｍ）を左右のクリップ１にて把持しつつ搬送し（把持ゾーンＡ）、延伸装置の予熱ゾーンＢで１４５℃に予熱した。予熱ゾーンＢにおいては、左右のクリップのクリップピッチ（Ｐ１）は１２５ｍｍであった。次に、フィルムが第１の斜め延伸ゾーンＣに入ると同時に、右側クリップのクリップピッチの増大および左側クリップのクリップピッチの減少を開始した。第１の斜め延伸ゾーンＣの終端部における右側クリップのクリップピッチの変化率（Ｐ２／Ｐ１）は１．４２であり、左側クリップのクリップピッチの変化率（Ｐ３／Ｐ１）は０．７２であった。なお、第１の斜め延伸は１３８℃で行った。第１の斜め延伸後のフィルム幅（Ｗ２）は１０９２ｍｍであった（ＴＤ延伸倍率（Ｗ２／Ｗ１）＝１．４５倍）。次に、フィルムが第２の斜め延伸ゾーンＤに入ると同時に、左側クリップのクリップピッチの増大を開始し、Ｐ３からＰ２まで増大させた。第２の斜め延伸ゾーンＤにおける左側クリップのクリップピッチの変化率（Ｐ2／Ｐ3）は１．９７であった。一方、右側クリップのクリップピッチは、第２の斜め延伸ゾーンＤにおいてＰ2のまま維持した。なお、第２の斜め延伸は１３８℃で行った。第２の斜め延伸後のフィルム幅（Ｗ３）は１４１９ｍｍであった。また、上記第１の斜め延伸工程および第２の斜め延伸工程における幅方向への延伸倍率（Ｗ３／Ｗ１）は、１．９倍であった。
【０１３３】
次いで、解放ゾーンにおいて、１２５℃で６０秒間フィルムを保持して熱固定を行った。熱固定されたフィルムを、１００℃まで冷却後、左右のクリップを開放した（開放ゾーンＥ）。
【０１３４】
以上のようにして、配向角が４８°の長尺位相差膜（厚み５５μｍ、幅１４１９ｍｍ）を得た。
【０１３５】
［第１の応力緩和層］
本実施例の第１の応力緩和層を構成する粘着剤層を、以下の方法により作製した。
ブチルアクリレート（ＢＡ）：６７重量部、シクロヘキシルアクリレート（ＣＨＡ）：１４重量部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４ＨＢＡ）：２７重量部、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）：９重量部、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニル−１−オン（商品名「イルガキュア６５１」、ＢＡＳＦジャパン社製）：０．０５重量部、及び１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：０．０５重量部を４つ口フラスコに投入し、窒素雰囲気下で紫外線に曝露して部分的に光重合することによって、重合率１０％の部分重合物（モノマーシロップ）を得た。この部分重合物１００重量部に、イソシアネート化合物（商品名「コロネートＬ」、日本ポリウレタン工業社製、固形分７５重量％）を固形分換算で０．１重量部添加した後、これらを均一に混合して光重合性組成物を調製した。
【０１３６】
この光重合性組成物を、剥離ライナー（ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に剥離処理が施されているタイプ、厚み３８μｍ、商品名「ＭＲＦ３８」、三菱樹脂社製）の剥離処理面上に塗布して塗布層を形成してから、該塗布層上にも同様の剥離ライナーを設けた。
【０１３７】
次に、ブラックライトにより、強度が５ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を照射して、光量で３６００ｍＪ／ｃｍ2照射されるまで重合を行い、粘着剤層の両面にセパレータが設けられた粘着シート（基材レスタイプ、粘着剤層の厚み：１００μｍ）を作製した。
【０１３８】
なお、粘着剤層のベースポリマーとしてのアクリル系ポリマーの重量平均分子量は２００万であった。
【０１３９】
［光学積層体］
上記のように得られた斜め方向に遅相軸を有する長尺位相差膜と、上記のように得られた長手方向に吸収軸を有する長尺偏光フィルムとをロールツーロール方式を用いて連続的に貼り合わせ、遅相軸と吸収軸の軸角度が45°となるように、長尺積層フィルムを作製した。
【０１４０】
次いで、得られた長尺フィルムを１５ｃｍ×１ｃｍに裁断することにより、円偏光板を作製した。
【０１４１】
得られた円偏光板に保護膜となる（メタ）アクリル系樹脂フィルムを接着剤を介して貼り合わせ、光学積層体を作成した。さらに上記のように得られた粘着シートからセパレータを剥離し、保護膜となる（メタ）アクリル系樹脂フィルムに、第１の応力緩和層を構成する粘着剤を貼り合わせることにより、有機ＥＬ表示装置用積層体を作製した。なお、この粘着剤層が剥き出しになっていると後述の１８０°耐折性試験を行うことが困難となるので、有機ＥＬ表示装置用積層体の粘着剤層の上には厚みが３８μｍのＰＥＴ基材を貼り合せた。
【０１４２】
得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第１の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機ＥＬ表示装置用積層体について、以下のように各種評価を行った。得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第１の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機ＥＬ表示装置用積層体の特性を表１に示す。
【０１４３】
〔実施例２〕
以下の相違点を除き、実施例１と同様の条件で偏光膜、第１の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機ＥＬ表示装置用積層体を製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。相違点は位相差膜の構成にある。実施例１の位相差膜は、斜め延伸法により製造された一層構成の位相差膜であったが、本実施例の位相差膜（１／４波長位相差板６）は、液晶材料が配向、固定化された１／４波長板用位相差層８、１／２波長板用位相差層９の２層から構成される位相差膜であった。具体的には以下のように製造された。
（液晶材料）
１／２波長板用位相差層９、１／４波長板用位相差層８を形成する材料として、ネマチック液晶相を示す重合性液晶材料（ＢＡＳＦ社製： 商品名P a l i o c o l o r L C 2 4 2）を用いた。当該重合性液晶材料に対する光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製： 商品名イルガキュア９ ０ ７ ）をトルエンに溶解した。さらに塗工性向上を目的としてＤＩＣ製のメガファックシリーズを液晶厚みに応じて０．１から０．５％程度加え、液晶塗工液を調製した。配向基材上に、当該液晶塗工液をバーコーターにより塗工した後、９ ０ ℃ で２ 分間加熱乾燥後、窒素雰囲気下で紫外線硬化により配向固定化させた。基材は、例えばＰＥＴのように液晶コーティング層を後から転写できるものを使用した。さらに塗工性向上を目的としてＤＩＣ製のメガファックシリーズであるフッ素系ポリマーを液晶層の厚みに応じて０．１％から０．５％程度加え、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）、シクロヘキサノン、またはＭＩＢＫとシクロヘキサノンの混合溶剤を用いて固形分濃度２５％に溶解して塗工液を作製した。この塗工液をワイヤーバーにより基材に塗工して６５℃設定で３分間の乾燥工程を得て、窒素雰囲気下で紫外線硬化により配向固定して作製した。基材は、例えばＰＥＴのように液晶コーティング層を後から転写できるものを使用した。
【０１４４】
（製造工程）
図６を参照して、本実施例の製造工程を説明する。この製造工程２０は、基材１４がロールにより提供され、この基材１４を供給リール２１から供給した。製造工程２０は、ダイ２２によりこの基材１４に紫外線硬化性樹脂１０の塗布液を塗布した。この製造工程２０において、ロール版３０は、１／４波長位相差板６の１／４波長板用配向膜１１に係る凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の賦型用金型であった。製造工程２０は、紫外線硬化性樹脂が塗布された基材１４を加圧ローラ２４によりロール版３０の周側面に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置２５による紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させた。これにより製造工程２０は、ロール版３０の周側面に形成された凹凸形状をMD方向に対して７５°になるように基材１４に転写した。その後、剥離ローラ２６により硬化した紫外線硬化性樹脂１０と一体に基材１４をロール版３０から剥離し、ダイ２９により液晶材料を塗布した。またその後、紫外線照射装置２７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させ、これらにより１／４波長板用位相差層８に係る構成を作成した。続いてこの工程２０は、搬送ローラ３１により基材１４をダイ３２に搬送し、ダイ３２によりこの基材１４の１／４波長板用位相差層８上に紫外線硬化性樹脂１２の塗布液を塗布した。この製造工程２０において、ロール版４０は、１／４波長位相差板６の１／２波長板用配向膜１３に係る凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の賦型用金型であった。製造工程２０は、紫外線硬化性樹脂が塗布された基材１４を加圧ローラ３４によりロール版４０の周側面に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置３５による紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させた。これにより製造工程２０は、ロール版４０の周側面に形成された凹凸形状をＭＤ方向に対して１５°になるように基材１４に転写した。その後、剥離ローラ３６により硬化した紫外線硬化性樹脂１２と一体に基材１４をロール版４０から剥離し、ダイ３９により液晶材料を塗布した。またその後、紫外線照射装置３７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させ、これらにより１／２波長板用位相差層９に係る構成を作成した。
【０１４５】
得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第１の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機ＥＬ表示装置用積層体について、以下のように各種評価を行った。
【０１４６】
得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第１の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機ＥＬ表示装置用積層体の特性を表１に示す。
【０１４７】
〔実施例３〕
第１の応力緩和層を構成する粘着剤層の粘着材として２５℃における貯蔵弾性率が０．０５ＭＰａの粘着剤を用いる以外は、実施例１と同様の条件で偏光膜、位相差膜、光学積層体、及び有機ＥＬ表示装置用積層体を製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。
【０１４８】
本実施例の第１の応力緩和層を構成する粘着剤層を、以下の方法により作製した。
【０１４９】
ラウリルアクリレート（ＬＡ）５０重量部、２−エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）３２重量部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（ＨＢＡ）８重量部及びＮ−ビニル−２−ピロリドン（ＮＶＰ）１０重量部を混合することにより混合物（モノマー混合物）を得た。次いで、上記混合物１００重量部、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製、光重合開始剤）０．０５重量部及び２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名「イルガキュア６５１」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製、光重合開始剤）０．０５重量部を、４つ口フラスコに投入し、窒素雰囲気下で粘度（ＢＨ粘度系Ｎｏ．５ローター、１０ｒｐｍ、温度３０℃）が約１５Ｐａ・ｓになるまで紫外線を照射して、光重合させることにより、部分重合モノマーシロップ（モノマー成分の部分重合物）を得た。
【０１５０】
この部分重合モノマーシロップ１００重量部に、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ、多官能モノマー）０．０４重量部、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製、光重合開始剤（追加開始剤））０．０５重量部及び２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名「イルガキュア６５１」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製、光重合開始剤(追加開始剤)）０．０５重量部及びシランカップリング剤（商品名「ＫＢＭ−４０３」、信越化学工業株式会社製）０．３重量部を均一に混合して、粘着剤組成物を得た。上記粘着剤組成物を、剥離フィルム（商品名「ＭＲＦ＃３８」、三菱樹脂株式会社製）の剥離処理された面上に、粘着剤層形成後の厚さが１００μｍとなるように塗布して、粘着剤組成物層を形成し、次いで、粘着剤組成物層の表面に、剥離フィルム（商品名「ＭＲＮ＃３８」、三菱樹脂株式会社製）を貼り合わせた。その後、照度：４ｍＷ／ｃｍ２、光量：１２００ｍＪ／ｃｍ2の条件にて紫外線照射を行い、粘着剤組成物層を光硬化させて、粘着剤層の両面にセパレータが設けられた粘着シート（基材レスタイプ、粘着剤層の厚み：１００μｍ）を作製した。
【０１５１】
得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第１の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機ＥＬ表示装置用積層体の特性を表１に示す。
【０１５２】
〔比較例１〕
［偏光膜］
厚さ５０μｍのポリビニルアルコールフィルムを下記［１］〜［５］の５浴に周速の異なる複数セットのロール間を通して順次フィルム長手方向に張力を付与しながら浸漬し、最終的な延伸倍率がフィルム元長に対し、６．０倍になるように延伸した。このフィルムを５０℃オーブンで４分間乾燥させ、厚み２２μｍの偏光膜を得た。
［１］膨潤浴：３０℃の純水
［２］染色浴：水１００重量部に対し、ヨウ素濃度を０．０２〜０．２重量％の範囲内とし、ヨウ化カリウム濃度を０．１４〜１．４重量％の範囲内とした。ヨウ素とヨウ化カリウムの濃度の比は１対７である。これらを含む３０℃の水溶液へ、最終的な偏光膜の単体透過率が４０〜４４％となるように任意の時間浸漬した。
［３］第１の架橋浴：３重量％のヨウ化カリウムと３重量％のホウ酸とを含む、４０℃の水溶液。
［４］第２の架橋浴：５重量％のヨウ化カリウムと４重量％のホウ酸とを含む、６０℃の水溶液。
［５］洗浄浴：３重量％のヨウ化カリウムを含む、２５℃の水溶液
【０１５３】
［位相差膜］
イソソルビド（以下、「ＩＳＢ」と略記することがある。）を４４５．１重量部、９，９−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン（以下、「ＢＨＥＰＦ」と略記することがある。）を９０６．２重量部、分子量１０００のポリエチレングリコール（以下、「ＰＥＧ＃１０００」と略記することがある。）１５．４重量部、ジフェニルカーボネート（以下、「ＤＰＣ」と略記することがある。）を１１２０．４重量部、及び触媒として炭酸セシウム（０．２重量％水溶液）６．２７重量部を、それぞれ反応器に投入し、窒素雰囲気下にて、反応の第１段目の工程として、反応容器の熱媒温度を１５０℃にし、必要に応じて攪拌しながら、原料を溶解させた（約１５分）。次いで、反応容器内の圧力を常圧から１３．３ｋＰａにし、反応容器の熱媒温度を１９０℃まで１時間で上昇させながら、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。
【０１５４】
反応容器内温度を１９０℃で１５分保持した後、第２段目の工程として、反応容器内の圧力を６．６７ｋＰａとし、反応容器の熱媒温度を２３０℃まで、１５分で上昇させ、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。攪拌機の攪拌トルクが上昇してくるので、８分で２５０℃まで昇温し、さらに発生するフェノールを取り除くため、反応容器内の圧力を２００Ｐａ以下に減圧した。所定の攪拌トルクに到達後、反応を終了し、生成した反応物を水中に押し出した後に、ペレット化を行い、ＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＰＥＧ＃１０００＝４０．３モル％／５９．４モル％／０．３モル％のポリカーボネート樹脂Ａを得た。
【０１５５】
得られたポリカーボネート樹脂Ａを８０℃で５時間真空乾燥した後、単軸押出機（いすず化工機社製、スクリュー径２５ｍｍ、シリンダー設定温度：２２０℃）、Ｔダイ（幅２００ｍｍ、設定温度：２２０℃）、チルロール（設定温度：１２０〜１３０℃）及び巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１１０μｍの原反フィルムを作製した。この原反フィルムから幅６ｃｍ、長さ６ｃｍの試料を切り出し、厚み斑を測定した。この試料を、バッチ式二軸延伸装置（東洋精機社製）で、延伸温度を１２７〜１７７℃で調節しながらＲ１（５５０）が１３０±２０ｎｍとなるように、延伸速度７２０ｍｍ／分（ひずみ速度１２００％／分）で、１×２．０倍の一軸延伸を行い、位相差膜を得た。このとき延伸方向に対して垂直方向は、保持した状態（延伸倍率１．０）で延伸を行った。以上のようにして、厚み５５μｍの長尺位相差膜を得た。
【０１５６】
［第１の応力緩和層］
本比較例の第１の応力緩和層を構成する粘着剤層を、以下の方法により作製した。
【０１５７】
（アクリル系ポリマー）
ジシクロペンタニルアクリレート（ＤＣＰＭＡ、メタクリル酸ジシクロペンタニル）６０重量部、メチルメタクリレート（ＭＭＡ、メタクリル酸メチル）４０重量部、連鎖移動剤としてのα−チオグリセロール３．５重量部及び重合溶媒としてのトルエン１００重量部を、４つ口フラスコに投入し、これらを窒素雰囲気下にて７０℃で１時間撹拌した。次に、重合開始剤としての２，２´−アゾビスイソブチロニトリル０．２重量部を４つ口フラスコに投入し、７０℃で２時間反応させ、続いて、８０℃で２時間反応させた。その後、反応液を１３０℃温度雰囲気下に投入し、トルエン、連鎖移動剤及び未反応モノマーを乾燥除去させ、固形状のアクリル系ポリマーを得た。このアクリル系ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は５．１×１０3であった。
【０１５８】
（応力緩和糊）
アクリル酸２−エチルヘキシル（２ＥＨＡ）６８重量部、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン（ＮＶＰ）１４．５重量部及びアクリル酸２−ヒドロキシエチル（ＨＥＡ）１７．５重量部から構成されるモノマー混合物に、光重合開始剤（商品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦ社製）０．０３５重量部及び光重合開始剤（商品名「イルガキュア６５１」、ＢＡＳＦ社製）０．０３５重量部を配合した後、粘度（ＢＨ粘度計Ｎｏ．５ローター、１０ｒｐｍ、測定温度３０℃）が約２０Ｐａ・ｓになるまで紫外線を照射して、上記モノマー成分の一部が重合したプレポリマー組成物を得た。
【０１５９】
次に、該プレポリマー組成物に、上記アクリル系ポリマー５重量部、ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）０．３０重量部、シランカップリング剤（商品名「ＫＢＭ−４０３」、信越化学工業株式会社製）０．３重量部を添加して、混合し、アクリル系粘着剤組成物を得た。上記粘着剤組成物を、剥離フィルム（商品名「ＭＲＦ＃３８」、三菱樹脂株式会社製）の剥離処理された面上に、粘着剤層形成後の厚さが１００μｍとなるように塗布して、粘着剤組成物層を形成し、次いで、粘着剤組成物層の表面に、剥離フィルム（商品名「ＭＲＮ＃３８」、三菱樹脂株式会社製）を貼り合わせた。その後、照度：５ｍＷ／ｃｍ2、光量：１５００ｍＪ／ｃｍ2の条件にて紫外線照射を行い、粘着剤組成物層を光硬化させて、粘着剤層を形成し、粘着剤層の両面にセパレータが設けられた粘着シート（基材レスタイプ、粘着剤層の厚み：１００μｍ）を作製した。
【０１６０】
［光学積層体］
得られた位相差膜の遅相軸と得られた偏光フィルムの吸収軸とのなす角が４５°となるようにしてこれらを貼り合せることにより、積層長尺フィルムを作製した。
【０１６１】
次いで、得られた積層長尺フィルムを１５ｃｍ×１ｃｍに裁断することにより、円偏光板を作製した。
【０１６２】
得られた円偏光板の両面に、保護膜となる（メタ）アクリル系樹脂フィルムを接着剤を介して貼り合わせ、光学積層体を作成した。さらに上記のようにして得られた粘着シートからセパレータを剥離し、保護膜となる（メタ）アクリル系樹脂フィルムに、第１の応力緩和層を構成する粘着剤を貼り合わせることにより、有機ＥＬ表示装置用積層体を作製した。なお、粘着剤層が剥き出しになっていると後述の１８０°耐折性試験を行うことが困難となるので、有機ＥＬ表示装置用積層体の粘着剤層の上には厚みが３８μｍのＰＥＴ基材を貼り合せた。
【０１６３】
得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第１の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機ＥＬ表示装置用積層体について、以下のように各種評価を行った。得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第１の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機ＥＬ表示装置用積層体の特性を表１に示す。
【０１６４】
〔比較例２〕
第１の応力緩和層を構成する粘着剤層の粘着材として２５℃における貯蔵弾性率が０．２０ＭＰａの粘着剤を用いる以外は、比較例１と同様の条件で偏光膜、位相差膜、光学積層体、及び有機ＥＬ表示装置用積層体を製造及び作製し、以下のように各種評価を行った。
【０１６５】
本比較例の第１の応力緩和層を構成する粘着剤層を、以下の方法により作製した。
【０１６６】
２−エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）３２重量部、イソステアリルアクリレート（ＩＳＴＡ）４８重量部、２−ヒドロキシプロピルアクリレート（２ＨＰＡ）２０重量部、２種の光重合開始剤（商品名：イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ製）０．０５重量部および光重合開始剤（商品名：イルガキュア６５１、ＢＡＳＦ製）０．０５重量部を４つ口フラスコに投入してモノマー混合物を調製した。次いで、前記モノマー混合物を窒素雰囲気下で紫外線に曝露して部分的に光重合させることによって、重合率約１０重量％の部分重合物（アクリル系ポリマーシロップ）を得た。得られたアクリル系ポリマーシロップの１００重量部に、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）０．０２重量部、シランカップリング剤（商品名：ＫＢＭ−４０３、信越化学工業（株）製）を０．３部添加した後、これらを均一に混合してモノマー成分を調製した。
【０１６７】
次いで、上記で調製したモノマー成分を、片面をシリコーンで剥離処理した厚み３８μｍのポリエステルフィルム（商品名：ダイアホイルＭＲＦ、三菱樹脂（株）製）の剥離処理面に、最終的な厚みが１００μｍになるように塗布して塗布層を形成した。次いで、塗布されたモノマー成分の表面に、片面をシリコーンで剥離処理した厚み３８μｍのポリエステルフィルム（商品名：ダイアホイルＭＲＥ、三菱樹脂（株）製）を、当該フィルムの剥離処理面が塗布層側になるようにして被覆した。これにより、モノマー成分の塗布層を酸素から遮断した。このようにして得られた塗布層を有するシートにケミカルライトランプ（（株）東芝製）を用いて照度５ｍＷ／ｃｍ２（約３５０ｎｍに最大感度をもつトプコンＵＶＲ−Ｔ１で測定）の紫外線を３６０秒間照射して、塗布層を硬化させて粘着剤層を形成し、粘着剤層の両面にセパレータが設けられた粘着シート（基材レスタイプ、粘着剤層の厚み：１００μｍ）を作製した。
【０１６８】
得られた偏光膜、位相差膜、光学積層体、第１の応力緩和層を構成する粘着剤層及び有機ＥＬ表示装置用積層体の特性を表１に示す。
【０１６９】
【表１】
2020149065.tif 000003
【０１７０】
［評価］
（厚みの測定）
偏光膜、位相差膜、保護膜、光学積層体の厚みは、ダイヤルゲージ（ミツトヨ製）を用いて測定した。
【０１７１】
（第１の応力緩和層の貯蔵弾性率の測定）
各実施例および比較例の粘着シートからセパレータを剥離し、複数の粘着シートを積層して、厚さ約１．５ｍｍの試験サンプルを作製した。この試験サンプルを直径７．９ｍｍの円盤状に打ち抜き、パラレルプレートに挟み込み、Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製「Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃ  Ｅｘｐａｎｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ（ＡＲＥＳ）」を用いて、以下の条件により、動的粘弾性測定を行い、測定結果から貯蔵弾性率Ｇ’を読み取った。
（測定条件）
変形モード：ねじり
測定温度：−４０℃〜１５０℃
昇温速度：５℃／分
測定周波数：１Ｈｚ
【０１７２】
（耐折強さ（回）の測定）
図７に１８０°耐折性試験機（井元製作所製）の概略図を示す。本装置は、恒温槽内で、マンドレルを挟んで片側のチャックが１８０°曲げを繰り返す機構となっており、マンドレルの直径により折り曲げ半径を変えることができる。フィルム破断すると試験が停止する機構になっている。試験は、各実施例及び比較例で得られた１ｃｍ×１５ｃｍの光学積層体を装置にセットし、温度２５℃、曲げ角度１８０°、曲げ半径５ｍｍ、曲げ速度２秒／回、重り１００ｇの条件で実施した。光学積層体の破断までの回数で耐折強さを評価した。ここで、折り曲げの回数が１０００００回に達した場合は、試験を打ち切った。
【０１７３】
（評価）
表１から以下のことが分かった。実施例１〜３では、光学積層体の耐折強さが１０００００回を超えたが、比較例１、２では、耐折強さがそれぞれ４００００回、２００００回と１０００００回を大幅に下回った。すなわち、各実施例の光学積層体において、効果的に光学積層体にかかる応力を抑制することができ、光学積層体の厚みが１２０μｍ以下であって、第１の応力緩和層の２５℃における貯蔵弾性率が０．０５〜０．１５ＭＰａである場合、耐折強さが十分大きく、光学積層体の厚みが１２０μｍを超え、第１の応力緩和層の２５℃における貯蔵弾性率が０．１５ＭＰａを超える場合、耐折強さが大幅に小さくなることが分かった。
【０１７４】
以上、本発明を特定の実施形態について図面を参照して説明したが、本発明は、図示し説明した構成以外にも、幾多の変更が可能である。したがって、本発明は、図示し説明した構成に限定されるものではなく、その範囲は、添付の特許請求の範囲及びその均等範囲によってのみ定められるべきである。
【符号の説明】
【０１７５】
１００  有機ＥＬ表示装置
１０１  有機ＥＬ表示パネル
１０２  ウィンドウ
１１０  有機ＥＬ表示装置用積層体
１１１  第１の応力緩和層
１１２  透明導電層
１１３  第２の応力緩和層
１１４  基材
１１５  基材
１２０  光学積層体
１２１  偏光膜
１２２  保護膜
１２３  位相差層
９００  有機ＥＬ表示装置
９０１  有機ＥＬ表示パネル
９１２−１、９１２−２  透明導電層
９１５−１、９１５−２  基材フィルム
９１６−１、９１６−２  透明導電フィルム
９１７  スペーサ
９２０  光学積層体
９２１  偏光膜
９２２−１、９２２−２  保護膜
９２３  位相差層
９３０  タッチパネル
【図１】
2020149065.tif 000004
【図２】
2020149065.tif 000005
【図３】
2020149065.tif 000006
【図４】
2020149065.tif 000007
【図５】
2020149065.tif 000008
【図６】
2020149065.tif 000009
【図７】
2020149065.tif 000010