(57)【要約】【課題】長期にわたりクリーニング性を維持し、且つ滑剤メモリの発生を抑制した、画像形成装置を提供する。【解決手段】保護層を最外層として有する感光体と、感光体の表面を帯電させる帯電手段と、帯電手段により帯電された感光体を露光する露光手段と、露光手段により露光された感光体にトナーを供給してトナー画像を形成する現像手段と、感光体上に形成されたトナー画像を転写する転写手段と、感光体の表面に残存したトナーを除去するクリーニング手段と、感光体の表面に滑剤を塗布する滑剤塗布手段とを備える画像形成装置であって、感光体の最外層が、重合性モノマーと、表面処理剤で表面処理された少なくとも１種の金属酸化物粒子とを含む樹脂組成物の重合硬化物を含み、滑剤が脂肪酸金属塩と窒化ホウ素とを含む、画像形成装置に関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
保護層を最外層として有する感光体と、
前記感光体の表面を帯電させる帯電手段と、
前記帯電手段により帯電された感光体を露光する露光手段と、
前記露光手段により露光された感光体にトナーを供給してトナー画像を形成する現像手段と、
前記感光体上に形成されたトナー画像を転写する転写手段と、
前記感光体の表面に残存したトナーを除去するクリーニング手段と、
前記感光体の表面に滑剤を塗布する滑剤塗布手段と
を備える画像形成装置であって、
前記感光体の前記最外層が、重合性モノマーと、少なくとも１種の金属酸化物粒子とを含む樹脂組成物の重合硬化物を含み、前記金属酸化物粒子の少なくとも１種が、表面処理剤で表面処理されており、
前記滑剤が脂肪酸金属塩と窒化ホウ素とを含む、画像形成装置。
【請求項２】
前記金属酸化物粒子の少なくとも１種が、シリコーン鎖を有する表面処理剤で表面処理されている、請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記シリコーン鎖を有する表面処理剤が、側鎖にシリコーン鎖を有する表面処理剤である、請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記側鎖にシリコーン鎖を有する表面処理剤が、ポリ（メタ）アクリレート主鎖またはシリコーン主鎖を有する表面処理剤である、請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記金属酸化物粒子が、硫酸バリウムを芯材とし酸化スズでコートした複合粒子、アルミナ粒子、酸化スズ粒子、およびシリカ粒子からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記金属酸化物粒子の数平均一次粒子径が、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記金属酸化物粒子が反応性官能基を有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記脂肪酸金属塩が、ステアリン酸亜鉛である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記滑剤における前記窒化ホウ素の含有割合は、前記脂肪酸金属塩の質量をＭａ、前記窒化ホウ素の質量をＭｂとしたときに、Ｍｂ／Ｍａが５０／５０〜１／９９の範囲である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記滑剤塗布手段による滑剤の塗布後であって、前記帯電手段による帯電前の前記感光体の表面の単位面積当たりの滑剤存在比率が、１ａｔｍ％以上である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記帯電手段が、近接帯電手段である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子写真方式の画像形成装置（以下、しばしば、「画像形成装置」ともいう）においては、長寿命および画質安定性が求められている。そして、画像形成装置を構成する感光体の寿命は、感光層の減耗の程度によっておおよそ決定される。そこで、感光体の低減耗化のために、近年、感光体の最外層として硬化性樹脂によって形成された保護層を設けることが行われている。
【０００３】
しかしながら、硬化性樹脂からなる保護層を有する感光体に対して近接帯電方式による帯電を行うと、感光体表面の劣化の速さの程度が、表面研磨の速さの程度よりも大きくなり、放電生成物が感光体表面に付着しやすくなる。そして付着した放電生成物によりトルクが上昇し、クリーニングブレードの捲れやチッピングなどに伴うクリーニング不良やトナーフィルミングが発生しやすくなる。
【０００４】
このような問題を解決する手段として、例えば、特許文献１では、感光体に潤滑性を付与するために、感光体の最表層にシリコーン処理剤で表面処理されたフィラーを適用することが記載されている。また、特許文献２では、滑剤として帯電による劣化の小さい脂肪酸金属塩を使用することが記載されている。
【０００５】
また、画像形成装置においては、通常、負帯電性のトナーと、帯電手段によって帯電された表面の極性がトナーと同じ負帯電性となった感光体とが使用される。そして、帯電手段によって帯電された感光体表面の表面電位から、像露光によって電位の絶対値が低下した部分に対して、帯電したトナーが付着することで、可視化（現像）がなされる。ここで、感光体のクリーニング性を高めるために感光体とトナーとが接触する前に、感光体の表面に滑剤が塗布される場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平５−２６５２４４号公報
【特許文献２】特開２００９−２８２０７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らの研究によると、シリコーン処理剤で表面処理されたフィラー（金属酸化物粒子など）を適用した感光体に脂肪酸金属塩を滑剤として塗布しながら印字を行うと、滑剤メモリと呼ばれる問題が顕著に発生する。滑剤メモリとは、感光体の表面の、滑剤量の多い非帯部と、滑剤量の少ない帯部との間で、画像濃度に大きな差が生じる現象であり、上記研究では、非帯部の画像濃度が濃くなった。
【０００８】
感光体の表面に塗布する滑剤の量を減らすことによって、帯部と非帯部の表面電位差を小さくし、滑剤メモリを抑制することができた。しかし、滑剤塗布量の減少は、クリーニング性の低下をまねいた。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、長期にわたりクリーニング性を維持し、且つ滑剤メモリの発生を抑制した、画像形成装置を提供することを、その目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するための本発明の画像形成装置は、保護層を最外層として有する感光体と、前記感光体の表面を帯電させる帯電手段と、前記帯電手段により帯電された感光体を露光する露光手段と、前記露光手段により露光された感光体にトナーを供給してトナー画像を形成する現像手段と、前記感光体上に形成されたトナー画像を転写する転写手段と、前記感光体の表面に残存したトナーを除去するクリーニング手段と、前記感光体の表面に滑剤を塗布する滑剤塗布手段と備える画像形成装置であって、前記感光体の前記最外層が、重合性モノマーと、少なくとも１種の金属酸化物粒子とを含む樹脂組成物の重合硬化物を含み、前記金属酸化物粒子の少なくとも１種が、表面処理剤で表面処理されており、前記滑剤が脂肪酸金属塩と窒化ホウ素とを含む。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、長期にわたりクリーニング性を維持し、且つ滑剤メモリの発生を抑制した画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の画像形成装置の構成の一例を示す説明用断面図である。
【図２】本発明の画像形成装置の要部の構成の一例を示す説明用断面図である。
【図３】本発明の画像形成装置における帯電手段の構成の一例を示す説明用断面図である。
【図４】複合粒子（コア−シェル粒子）の作製に用いられる製造装置の一例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明について具体的に説明する。
【００１４】
本発明の一実施形態は、画像形成装置である。本発明の画像形成装置においては、感光体の保護層がその最外層であり、最外層は重合性モノマーと、表面処理剤で表面処理された少なくとも１種の金属酸化物粒子とを含む樹脂組成物の重合硬化物からなる。さらに感光体の表面に塗布する滑剤が、脂肪酸金属塩と窒化ホウ素とを含む。このような特定の最外層を有する感光体と、特定の滑剤とを組み合わせることによって、本発明の画像形成装置は、長期にわたるクリーニング性と、滑剤メモリの抑制とを両立する。上記の効果が得られる作用機構（メカニズム）については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
【００１５】
本発明者らが感光体の最外層に含まれる物質および滑剤に含まれる物質について鋭意検討した結果、感光体最外層に含まれる金属酸化物粒子の表面の表面処理剤（特にシリコーン処理剤）は、擦過帯電序列が負帯電側であるのに対し、従来の滑剤に含まれる脂肪酸金属塩の擦過帯電序列は、正帯電側であることが判明した。画像を形成する際の感光体の表面には、滑剤量の多い非帯部と、滑剤量の少ない帯部とが存在するが、帯電直後の非帯部および帯部の表面電位は同等である。しかし、現像手段によってトナーと感光体が擦過された際には、滑剤があまり存在しない帯部においては、感光体の最外層に含まれる表面処理剤の擦過帯電序列が負帯電側であるため、帯部の表面電位は上昇する。一方、滑剤が多く存在する非帯部においては、滑剤に含まれる脂肪酸金属塩の擦過帯電序列が正帯電側であるため、表面電位が著しく低下する。その結果、帯部と非帯部との間の表面電位差が大きくなり、非帯部の画像濃度が濃くなる滑剤メモリが発生する。
【００１６】
このとき、滑剤が脂肪酸金属塩に加えて、擦過帯電序列が負帯電側であり、潤滑機能を有する窒化ホウ素を含むと、トナーと感光体とが擦過された際に、滑剤が多く存在する非帯部における表面電位の低下が抑制される。その結果、帯部と非帯部との表面電位差が縮まり、滑剤メモリの発生が抑制される。
【００１７】
尚、滑剤が窒化ホウ素のみを含む場合には、トナーと感光体が擦過された際に、滑剤が多く存在する非帯部の表面電位が著しく上昇する。その結果、帯部と非帯部との間の表面電位差は大きくなり、今度は表面電位がより低い帯部の画像濃度が濃くなる（非帯部の画像濃度が薄くなる）滑剤メモリが発生する。
本発明は上記知見に基づき完成したものである。
【００１８】
本発明の画像形成装置は、保護層を最外層として有する感光体と、前記感光体の表面を帯電させる帯電手段と、前記帯電手段により帯電された感光体を露光する露光手段と、前記露光手段により露光された感光体にトナーを供給してトナー画像を形成する現像手段と、前記感光体上に形成されたトナー画像を転写する転写手段と、前記感光体の表面に残存したトナーを除去するクリーニング手段と、前記感光体の表面に滑剤を塗布する滑剤塗布手段とを備える画像形成装置である。
【００１９】
図１は、本発明の画像形成装置の構成の一例を示す説明用断面図である。
この画像形成装置１００は、タンデム型カラー画像形成装置と称せられるもので、４組の画像形成ユニット１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋと、給紙搬送手段１５０と、定着手段１７０とを有する。画像形成装置１００の本体の上部には、原稿画像読み取り装置ＳＣが配置されている。
【００２０】
画像形成ユニット１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋは、鉛直方向に並んで配置されている。画像形成ユニット１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋは、回転されるドラム状の感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋと、この外周面領域において感光体の回転方向に沿って順次配置された、滑剤供給手段１１６Ｙ、１１６Ｍ、１１６Ｃ、１１６Ｂｋと、帯電手段１１３Ｙ、１１３Ｍ、１１３Ｃ、１１３Ｂｋと、露光手段１１５Ｙ、１１５Ｍ、１１５Ｃ、１１５Ｂｋと、現像手段１１７Ｙ、１１７Ｍ、１１７Ｃ、１１７Ｂｋと、一次転写ローラ（一次転写手段）１３３Ｙ、１３３Ｍ、１３３Ｃ、１３３Ｂｋと、クリーニング手段１１９Ｙ、１１９Ｍ、１１９Ｃ、１１９Ｂｋと、滑剤除去手段１１４Ｙ、１１４Ｍ、１１４Ｃ、１１４Ｂｋとを有する。そして、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋ上に、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）およびブラック（Ｂｋ）のトナー画像がそれぞれ形成される構成とされている。画像形成ユニット１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋは、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋに形成するトナー画像の色が異なる以外は同様に構成されるため、以下、画像形成ユニット１１０Ｙの例で説明する。
【００２１】
［感光体］
感光体１１１Ｙは、樹脂組成物の重合硬化物からなる保護層を最外層として有するドラム状のものである。この例の感光体１１１Ｙは、具体的には、導電性支持体上に、中間層を有し、この中間層上に、電荷発生物質を含有する電荷発生層および電荷輸送物質を含有する電荷輸送層がこの順に積層されてなる感光層が形成され、この感光層（電荷輸送層）上に最外層として保護層が形成された層構成を有している。なお、感光層は、電荷発生物質および電荷輸送物質を含有する単層構造の層構成を有するものであってもよい。以下、かような構成を有する電子写真感光体について詳細に説明する。
【００２２】
（導電性支持体）
導電性支持体は、感光層を支持し、かつ導電性を有する部材である。導電性支持体の好ましい例としては、金属製のドラムまたはシート、ラミネートされた金属箔を有するプラスチックフィルム、蒸着された導電性物質の膜を有するプラスチックフィルム、導電性物質、または導電性物質とバインダ樹脂とからなる塗料を塗布してなる導電層を有する金属部材やプラスチックフィルム、紙等が挙げられる。上記金属の好ましい例としては、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛およびステンレス鋼等が挙げられ、上記導電性物質の好ましい例としては、上記金属、酸化インジウムおよび酸化スズ等が挙げられる。
【００２３】
（感光層）
感光層は、後述する露光手段により、所期の画像の静電潜像を感光体の表面に形成するための層である。当該感光層は、単層でもよいし、積層された複数の層で構成されていてもよい。感光層の好ましい例としては、電荷輸送物質と、電荷発生物質とを含有する単層、および電荷輸送物質を含有する電荷輸送層と、電荷発生物質を含有する電荷発生層との積層物等が挙げられる。
【００２４】
（保護層）
保護層は、感光体表面の機械的強度を向上させ、耐傷性や耐摩耗性を向上させるための、樹脂組成物の重合硬化物からなる層である。本発明の画像形成装置においては、保護層が最外層である。当該保護層の好ましい例としては、重合性モノマーを含む組成物の重合硬化物を含む層が挙げられる。
【００２５】
（最外層）
本明細書において、感光体の最外層とは、トナーと接触する側の最外部に配置される層を表し、上記の保護層が最外層である。本発明の一形態において、最外層は、重合性モノマーと、少なくとも１種の金属酸化物粒子とを含む樹脂組成物の重合硬化物を含み、金属酸化物粒子の少なくとも１種が、表面処理剤で表面処理されている。
下記では、最外層の構成成分について詳細に説明する。
【００２６】
＜金属酸化物粒子＞
最外層は、金属酸化物粒子を含む樹脂組成物の硬化物を含み、上記金属酸化物粒子の少なくとも１種は、表面処理剤で表面処理されている。表面処理剤で表面処理された金属酸化物粒子は、表面処理剤由来の化学種（被覆層）および金属酸化物粒子を含む被覆粒子となると考えられる。なお、表面処理された金属酸化物粒子は、その表面上の少なくとも一部に表面処理剤由来の化学種（被覆層）を有していればよい。
【００２７】
本明細書において、金属酸化物粒子とは、少なくともその表面が金属酸化物から構成される粒子をいう。金属酸化物粒子を構成する金属酸化物の例としては、特に制限されないが、アルミナ、シリカ、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉛、酸化スズ、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化コバルト、酸化銅、酸化マンガン、酸化セレン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化ゲルマニウム、酸化錫、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化バナジウム、銅アルミ酸化物、アンチモンイオンをドープした酸化スズ等が挙げられる。これら金属酸化物粒子は、単独でもまたは２種以上を組み合わせても用いることができる。また、金属酸化物粒子は合成品であってもよいし、市販品であってもよい。
【００２８】
これらの中でも、アルミナ粒子、酸化スズ粒子、およびシリカ粒子が好ましい。
【００２９】
金属酸化物粒子の数平均一次粒子径は、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましく、６５ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることがより好ましく、８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。金属酸化物粒子の数平均一次粒子径が５０ｎｍ以上であると、金属酸化物粒子による凹凸が適度に付与されるため、クリーニングの際にクリーニングブレードの姿勢が安定し、クリーニング性が向上する。また、金属酸化物粒子の数平均一次粒子径が５００ｎｍ以下であると、凸部が大きすぎてクリーニングブレードに引っかかることがないため、ブレードのスティックスリップの発生に伴うクリーニング性の低下の恐れが少ない。
【００３０】
なお、本明細書において、金属酸化物粒子の数平均一次粒子径は、以下の方法で測定される数平均一次粒子径と定義する。
【００３１】
まず、走査型電子顕微鏡（日本電子株式会社製）により撮影された１００００倍の拡大写真をスキャナーに取り込む。次いで、得られた写真画像から、凝集粒子を除く３００個の粒子像を、ランダムに自動画像処理解析システム  ルーゼックス（登録商標）ＡＰ  ソフトウエアＶｅｒ．１．３２（株式会社ニレコ製）を使用して２値化処理して、当該粒子像のそれぞれの水平方向フェレ径を算出する。そして、当該粒子像のそれぞれの水平方向フェレ径の平均値を算出して数平均一次粒子径とする。ここで、水平方向フェレ径とは、上記粒子像を２値化処理したときの外接長方形の、ｘ軸に平行な辺の長さをいう。また、金属酸化物粒子の数平均一次粒子径の測定は、表面処理剤由来の化学種（被覆層）を含まない金属酸化物粒子について行うものとする。
【００３２】
本発明に係る金属酸化物粒子のうち、少なくとも１種は、表面処理剤により表面処理されている。表面処理剤は特に制限されないが、シリコーン鎖を有するシリコーン表面処理剤、重合性官能基を有する表面処理剤などが挙げられ、シリコーン鎖を有する表面処理剤（以下、しばしば、シリコーン表面処理剤とも呼ぶ）が好ましい。
【００３３】
シリコーン表面処理剤としては、特に制限されないが、高分子主鎖の側鎖にシリコーン鎖を有するものが好ましく、さらに反応性官能基を有するものが好ましい。反応性官能基としては、カルボン酸基、水酸基、−Ｒｄ−ＣＯＯＨ（Ｒｄは、２価の炭化水素基）、アルキルシリル基、ハロゲン化シリル基、およびアルコキシシリル基等の金属酸化物粒子と結合しうる基が挙げられる。これらの中でもカルボン酸基、水酸基またはアルコキシシリル基が好ましい。
【００３４】
上記シリコーン表面処理剤が有する高分子主鎖は、ポリ（メタ）アクリレート主鎖またはシリコーン主鎖であることが好ましく、シリコーン主鎖であることがより好ましい。主鎖および側鎖の両方にシリコーン鎖を有する表面処理剤により表面処理された金属酸化物粒子は、シリコーン鎖をより多く有することから、最外層中での分散性がより高まり、最外層の耐摩耗性がより向上する。
【００３５】
側鎖および主鎖のシリコーン鎖は、ジメチルシロキサン構造を繰り返し単位として有することが好ましく、その繰り返し単位数は３〜１００個であるものが好ましく、３〜５０個であるものがより好ましく、３〜３０個であるものがさらに好ましい。
【００３６】
シリコーン表面処理剤の重量平均分子量は、特に制限されないが、１，０００以上５０，０００以下であることが好ましい。なお、シリコーン表面処理剤の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。
【００３７】
シリコーン表面処理剤は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。また、シリコーン表面処理剤は、合成品であってもよいし、市販品であってもよい。ポリ（メタ）アクリレート主鎖の側鎖にシリコーン鎖を有する表面処理剤の市販品の具体例としては、サイマック（登録商標）ＵＳ−３５０（以上、東亞合成株式会社製）、ＫＰ−５４１、ＫＰ−５７４、およびＫＰ−５７８（以上、信越化学工業株式会社製）等を挙げることができる。また、シリコーン主鎖の側鎖にシリコーン鎖を有する表面処理剤の市販品の具体例としては、ＫＦ−９９０８、ＫＦ−９９０９（以上、信越化学工業株式会社製）等を挙げることができる。
【００３８】
また、上記した金属酸化物粒子は、金属酸化物からなる芯（コア）と、表面処理剤からなる外殻（シェル）と、を有する、コア−シェル構造を有する粒子（複合粒子）であることが好ましい。コア−シェル構造を有さない、単一粒子の粒子径を大きくすると、重合性モノマーとの屈折率の差が大きくなって、最外層の硬化に用いられる活性エネルギー線（特には紫外線）の透過性が低下する。その結果、硬化後の最外層の膜強度が不十分になる場合がある。そこで芯材を設けることで、分散性の向上による海部面積の低減、および光透過向上による膜強度の確保が可能となる。
【００３９】
当該複合粒子の芯材（コア）を構成する材料は、特に制限されないが、硫酸バリウム、アルミナ、酸化ケイ素等が挙げられる。これらの中でも、最外層の光透過性を確保する観点から、硫酸バリウムを芯材とした粒子が好ましい。また、当該複合粒子の外殻（シェル）を構成する材料は、上記金属酸化物粒子を構成する金属酸化物の例として挙げたものと同様である。コア−シェル構造の複合粒子の好ましい例としては、硫酸バリウムからなる芯材と、酸化スズからなる外殻と、を有する複合粒子が挙げられる。なお、芯材の数平均一次粒子径と、外殻の厚みとの比率は、使用する芯材および外殻の種類、ならびにこれらの組み合わせに応じて、適宜設定すればよい。
【００４０】
・表面処理剤（シリコーン表面処理剤）による表面処理方法
表面処理剤による表面処理方法は、特に制限されず、金属酸化物粒子の表面上に表面処理剤を付着（または結合）することができる方法であればよい。かような方法としては、一般的に、湿式処理方法と乾式処理方法との二通りに大別されるが、いずれを用いてもよい。
【００４１】
なお、後述する反応性表面処理後の金属酸化物粒子を表面処理する場合は、金属酸化物粒子の表面上または反応性表面処理剤上に、表面処理剤が付着（または結合）する。
【００４２】
湿式処理方法とは、金属酸化物粒子と、表面処理剤とを溶剤中で分散することによって、表面処理剤を金属酸化物粒子の表面上に付着（または結合）させる方法である。当該方法としては、金属酸化物粒子と、表面処理剤とを溶剤中で分散させ、得られた分散液を乾燥し溶剤を除去する方法が好ましく、その後さらに加熱処理を行い、表面処理剤と金属酸化物粒子とを反応させることによって、表面処理剤を金属酸化物粒子の表面上に付着（または結合）させる方法がより好ましい。また、表面処理剤と金属酸化物粒子とを溶剤中で分散した後、得られた分散液を湿式粉砕することにより、金属酸化物粒子を微細化すると同時に表面処理を進行させてもよい。
【００４３】
金属酸化物粒子および表面処理剤を溶剤中で分散させる手段としては、特に制限されず公知の手段を用いることができ、その例としては、ホモジナイザー、ボールミル、サンドミル等の一般的な分散手段を挙げることができる。
【００４４】
溶剤としては、特に制限されず公知の溶剤を用いることができ、その好ましい例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール（２−ブタノール）、ｔｅｒｔ−ブタノール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶剤や、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤等が挙げられる。これらは単独でもまたは２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、メタノール、２−ブタノール、トルエン、および２−ブタノールとトルエンとの混合溶剤がより好ましい。
【００４５】
分散時間は、特に制限されないが、たとえば、１分以上６００分以下であることが好ましく、１０分以上３６０分以下であることがより好ましく、３０分以上１２０分以下であることがより好ましい。
【００４６】
溶剤の除去方法としては、特に制限されず公知の方法を用いることができ、その例としては、エバポレーターを用いる方法、室温下で溶剤を揮発させる方法等が挙げられる。
【００４７】
加熱温度としては、特に制限されないが、５０℃以上２５０℃以下であることが好ましく、７０℃以上２００℃以下であることがより好ましく、９０℃以上１５０℃以下であることがさらに好ましい。また、加熱時間としては、特に制限されないが、１分以上６００分以下であることが好ましく、１０分以上３００分以下であることがより好ましく、３０分以上９０分以下であることがさらに好ましい。なお、加熱方法は、特に制限されず、公知の方法を用いることができる。
【００４８】
乾式処理方法とは、溶剤を用いず、表面処理剤と金属酸化物粒子とを混合し混練を行うことによって、表面処理剤を導電性金属酸化物の表面上に付着（または結合）させる方法である。当該方法としては、表面処理剤と、金属酸化物粒子とを混合し混練した後、さらに加熱処理を行い、表面処理剤と金属酸化物粒子とを反応させることによって、表面処理剤を金属酸化物粒子の表面上に付着（または結合）させる方法であってもよい。また、金属酸化物粒子と、表面処理剤とを混合し混練する際に、これらを乾式粉砕することにより、金属酸化物粒子を微細化すると同時に表面処理を進行させてもよい。
【００４９】
表面処理剤の使用量は、処理前の金属酸化物粒子（後述する反応性表面処理後の金属酸化物粒子を表面処理する場合は、反応性表面処理後の金属酸化物粒子）１００質量部に対して、０．１質量部以上であることが好ましく、１質量部以上であることがより好ましく、２質量部以上であることがさらに好ましい。この範囲であれば、最外層の耐摩耗性およびかぶり抑制効果がより向上する。
【００５０】
また、表面処理剤の使用量は、表面処理前の金属酸化物粒子（後述する反応性表面処理後の金属酸化物粒子を表面処理する場合は、反応性表面処理後の金属酸化物粒子）１００質量部に対して、１００質量部以下であることが好ましく、１０質量部以下であることがより好ましく、５質量部以下であることがさらに好ましい。この範囲であると、未反応の表面処理剤による最外層の膜強度の低下が抑制され、最外層の耐摩耗性が向上する。
【００５１】
未処理の金属酸化物粒子や反応性表面処理後の金属酸化物粒子に表面処理が施されたことは、熱重量・示差熱（ＴＧ／ＤＴＡ）測定、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）または透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）による観察、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ）による分析等によって確認することができる。
【００５２】
表面処理粒子は、重合性基由来の基を有することが好ましい。表面処理粒子が重合性基由来の基を有することにより、最外層の耐摩耗性が向上する。この理由は、最外層を構成する硬化物中で、表面処理粒子と重合性モノマーとが化学結合した状態となり、最外層の膜強度が向上するからであると推測される。重合性基の種類は、特に制限されないが、ラジカル重合性基が好ましい。重合性基の導入方法としては、特に制限されないが、金属酸化物粒子に対して重合性基を有する表面処理剤で表面処理を行う方法が好ましい。
【００５３】
表面処理粒子が重合性基を有することや、最外層中の表面処理粒子が重合性基由来の基を有することは、熱重量・示差熱（ＴＧ／ＤＴＡ）測定、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）または透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）による観察、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ）による分析、質量分析等によって確認することができる。
【００５４】
・重合性基を有する表面処理剤（反応性表面処理剤）による表面処理方法
上述した表面処理（シリコーン表面処理）が施された金属酸化物粒子は、反応性表面処理剤でさらに表面処理されることが好ましい。重合性基は、反応性表面処理によって、金属酸化物粒子の表面に担持され、その結果、表面処理粒子は、さらに重合性基を有することとなる。そして、最外層中で、当該表面処理粒子が重合性基を介して重合性モノマーと重合することになり、膜強度がより高い最外層が形成され、最外層の耐摩耗性がさらに向上する。このとき、シリコーン表面処理粒子は、最外層中で重合性基由来の基を有する構造として存在することとなる。
【００５５】
反応性表面処理剤は、重合性基および反応性官能基を有する。重合性基の種類は、特に制限されないが、ラジカル重合性基が好ましい。ここで、ラジカル重合性基は、炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合可能な基を表す。ラジカル重合性基の例としては、ビニル基および（メタ）アクリロイル基等が挙げられ、これらの中でもメタクリロイル基が好ましい。また、反応性官能基とは、金属酸化物粒子の表面に存在する水酸基などの極性基への反応性を有する基を表す。反応性官能基の例としては、カルボン酸基、水酸基、−Ｒ’−ＣＯＯＨ（Ｒ’は、二価の炭化水素基）、アルキルシリル基、ハロゲン化シリル基、アルコキシシリル基等が挙げられ、これらの中でもアルキルシリル基、ハロゲン化シリル基、アルコキシシリル基が好ましい。
【００５６】
反応性表面処理剤は、ラジカル重合性基を有するシランカップリング剤が好ましく、その例としては、下記式Ｓ−１〜Ｓ−３２で表される化合物等が挙げられる。
Ｓ−１：  ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２：  ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−３：  ＣＨ２＝ＣＨＳｉＣｌ３
Ｓ−４：  ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−５：  ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−６：  ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−７：  ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−８：  ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−９：  ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ−１０：  ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１１：  ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ−１２：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−１３：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−１４：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−１５：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−１６：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１７：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ−１８：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１９：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ−２０：  ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（Ｃ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２１：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２２：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−２３：  ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２４：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２５：  ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−２６：  ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２７：  ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−２８：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２９：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−３０：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−３１：  ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＯＣＨ３）
Ｓ−３２：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）８Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
【００５７】
反応性表面処理剤は、単独でもまたは２種以上を組み合わせても用いることができる。また、反応性表面処理剤は、合成品であってもよいし市販品であってもよい。市販品の具体例としては、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３（以上、信越化学工業株式会社製）等を挙げることができる。
【００５８】
シリコーン表面処理および反応性表面処理の両方を行う場合、反応性表面処理を行った後にシリコーン表面処理を行うことが好ましい。この順序で表面処理を行うことにより、最外層の耐摩耗性がより向上する。この理由は、撥油効果を有するシリコーン鎖によって、反応性表面処理剤の金属酸化物粒子表面への接触が妨げられることがないため、金属酸化物粒子への重合性基の導入がより効率よく行われるからである。
【００５９】
反応性表面処理の方法は、特に制限されず、反応性表面処理剤を用いる以外は、シリコーン表面処理で説明した方法と同様の方法を採用することができる。また、公知の金属酸化物粒子の表面処理技術を用いてもよい。
【００６０】
湿式処理方法により反応性表面処理を用いる場合、溶剤としては、メタノール、エタノール、トルエンが好ましく、メタノール、トルエンがより好ましい。
【００６１】
反応性表面処理剤の使用量は、反応性表面処理前の金属酸化物粒子１００質量部に対して、０．５質量部以上であることが好ましく、１質量部以上であることがより好ましく、１．５質量部以上であることがさらに好ましい。この範囲であると、最外層の耐摩耗性およびかぶり抑制効果がより向上する。また、反応性表面処理剤の使用量は、処理前の金属酸化物粒子１００質量部に対して、１５質量部以下であることが好ましく、１０質量部以下であることがより好ましく、８質量部以下であることがさらに好ましい。この範囲であると、粒子表面の水酸基数に対して反応性表面処理剤の量が過剰とはならずより適切な範囲となり、未反応の反応性表面処理剤による最外層の膜強度の低下が抑制され、最外層の耐摩耗性がより向上する。
【００６２】
＜重合性モノマー＞
最外層形成用の樹脂組成物は、重合性モノマーを含む。本明細書において、重合性モノマーとは、重合性基を有し、紫外線、可視光線、電子線等の活性エネルギー線の照射により、または加熱等のエネルギーの付加により、重合（硬化）して、最外層のバインダ樹脂となる化合物を表す。なお、本明細書でいう重合性モノマーには、上記の反応性表面処理剤を含めないものとし、後述する潤滑剤として重合性シリコーン化合物や重合性パーフルオロポリエーテル化合物を用いる場合には、これらも含めないものとする。
【００６３】
重合性モノマーが有する重合性基の種類は、特に制限されないが、ラジカル重合性基が好ましい。ここで、ラジカル重合性基は、炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合可能な基を表す。ラジカル重合性基の例としては、ビニル基および（メタ）アクリロイル基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。重合性基が（メタ）アクリロイル基であると、最外層の耐摩耗性およびかぶり抑制効果が向上する。最外層の耐摩耗性の向上の理由は、少ない光量または短い時間での効率的な硬化が可能となるからであると推測される。
【００６４】
重合性モノマーの例としては、スチレン系モノマー、（メタ）アクリル系モノマー、ビニルトルエン系モノマー、酢酸ビニル系モノマー、Ｎ−ビニルピロリドン系モノマー等が挙げられる。これら重合性モノマーは、単独でもまたは２種以上混合しても用いることができる。
【００６５】
重合性モノマーが有する１分子中の重合性基の数は、特に制限されないが、２個以上であることが好ましく、３個以上であることがより好ましい。この範囲であると、最外層の耐摩耗性が向上する。この理由は、最外層の架橋密度が増加し、膜強度がより向上するからであると推測される。また、重合性モノマーが有する１分子中の重合性基の数は、特に制限されないが、６個以下であることが好ましく、５個以下であることがより好ましく、４個以下であることがさらに好ましい。この範囲であると、最外層の均一性が高まり、かぶりの抑制効果が向上する。この理由は、架橋密度が一定以下となり、硬化収縮が起こりにくくなるからであると推測される。これらの観点から、重合性モノマーが有する１分子中の重合性基の数は、３個であることが最も好ましい。
【００６６】
重合性モノマーの具体例としては、特に制限されないが、下記の化合物Ｍ１〜Ｍ１１が挙げられ、これらの中でも、下記の化合物Ｍ２が特に好ましい。下記の各式中、Ｒは、アクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＨＣＯ−）を表し、Ｒ’は、メタクリロイル基（ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯ−）を表す。
【００６７】
【化１】
2020140166.tif 000002
【００６８】
重合性モノマーは、単独でもまたは２種以上組み合わせて用いてもよい。また、重合性モノマーは、合成品であってもよいし市販品であってもよい。
【００６９】
＜重合開始剤＞
最外層形成用の樹脂組成物は、さらに重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤は、上記重合性モノマーを重合反応することによって得られる硬化樹脂（バインダ樹脂）を製造する過程で使用されるものである。重合開始剤は、熱重合開始剤であっても、光重合開始剤であってもよいが、光重合開始剤であることが好ましい。また、重合性モノマーがラジカル重合性モノマーである場合、ラジカル重合開始剤であることが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、特に制限されず公知のものを用いることができ、その例としては、アルキルフェノン系化合物、ホスフィンオキサイド系化合物等が挙げられる。これらの中でも、α−アミノアルキルフェノン構造またはアシルホスフィンオキサイド構造を有する化合物が好ましく、アシルホスフィンオキサイド構造を有する化合物がより好ましい。アシルホスフィンオキサイド構造を有する化合物の一例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）８１９（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド）（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）が挙げられる。
【００７０】
これら重合開始剤は、単独でもまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００７１】
重合開始剤の使用量は、重合性モノマー１００質量部に対して０．１〜４０質量部であることが好ましく、０．５〜２０質量部であることがより好ましい。
【００７２】
＜電荷輸送物質＞
最外層形成用の樹脂組成物は、さらに電荷輸送物質を含んでもよい。電荷輸送物質としては、特に制限されず、公知のものを用いることができる。その例としては、カルバゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体等が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン誘導体が好ましい。トリアリールアミン誘導体としては、下記化学式１で表されるものが好ましい。
【００７３】
【化２】
2020140166.tif 000003
【００７４】
上記化学式１中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して、炭素数１〜７のアルキル基、または炭素数１〜７のアルコキシ基を表す。ｋ，ｌおよびｎは、それぞれ独立して、０〜５の整数を示し、ｍは０〜４の整数を示す。ただし、ｋ、ｌ、ｎまたはｍが２以上である場合においては、複数存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、互いに同一のものであっても、異なるものであってもよい。これらの中でも、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基であることが好ましい。また、ｋ、ｌ、ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０〜１の整数であることが好ましい。
【００７５】
上記化学式１で表される化合物としては、たとえば、特開２０１５−１１４４５４号公報に記載のものを使用でき、また、公知の合成方法、たとえば、特開２００６−１４３７２０号公報で開示されている方法などで合成することができる。
【００７６】
＜他の成分＞
最外層形成用の樹脂組成物は、上記成分以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。他の成分の例としては、特に制限されないが、最外層が保護層である場合、潤滑剤等が挙げられる。潤滑剤は、特に制限されず公知のものを用いることができ、その例としては、重合性シリコーン化合物および重合性パーフルオロポリエーテル化合物等が挙げられる。
【００７７】
（電子写真感光体の製造方法）
本発明の一形態に係る電子写真感光体は、本発明に係る最外層形成用の樹脂組成物を含む最外層形成用の樹脂組成物を用いる以外は、特に制限されず公知の電子写真感光体の製造方法によって製造することができる。中でも、導電性支持体上に形成された感光層の表面に、最外層形成用の樹脂組成物を含む塗布液を塗布する工程と、塗布された最外層形成用の樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して、または塗布された最外層形成用の樹脂組成物を加熱して、最外層形成用の樹脂組成物の硬化物を得る工程と、を含む方法によって製造することが好ましい。
【００７８】
最外層形成用の樹脂組成物は、重合性モノマーと、金属酸化物粒子（および／または表面処理粒子）と、を含む最外層形成用の樹脂組成物を含むものである。最外層形成用の樹脂組成物は、重合開始剤等他の成分をさらに含んでいてもよい。また、最外層形成用の樹脂組成物は、分散媒を含むことができる。
【００７９】
最外層形成用の樹脂組成物に用いられる分散媒としては、重合性モノマー、金属酸化物粒子（および／または表面処理粒子）、さらに必要に応じて添加される重合開始剤等を溶解または分散させることができれば、いずれのものでも使用できる。具体的には、たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール（ｓｅｃ−ブタノール）、ｔｅｒｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ピリジンおよびジエチルアミン等が挙げられる。分散媒は、単独でもまたは２種以上混合しても用いることができる。
【００８０】
最外層形成用の樹脂組成物の総質量に対する分散媒の含有量は、特に制限されないが、１質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、４０質量％以上９０質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以上８０質量％以下であることがさらに好ましい。
【００８１】
最外層形成用の樹脂組成物中の重合性モノマーの含有量は、特に制限されないが、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることがさらに好ましい。この範囲であると、最外層の架橋密度が増加し、膜強度がより向上し、最外層の耐摩耗性がより向上する。また、最外層形成用の樹脂組成物中の重合性モノマーの含有量は、特に制限されないが、８０質量％以下であることが好ましく、７０質量％以下であることがより好ましく、６０質量％以下であることがさらに好ましい。
【００８２】
最外層形成用の樹脂組成物中の金属酸化物粒子の含有量は、特に制限されないが、２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることがさらに好ましい。この範囲であると、最外層の架橋密度が増加し、機械的強度がより向上し、最外層の耐摩耗性がより向上する。また、最外層形成用の樹脂組成物中の重合性モノマーの含有量は、特に制限されないが、７０質量％以下であることが好ましく、６０質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以下であることがさらに好ましい。
【００８３】
最外層形成用の樹脂組成物が重合開始剤を含む場合、その含有量は、特に制限されないが、重合性モノマー１００質量部に対して、０．１質量部以上であることが好ましく、１質量部以上であることがより好ましく、５質量部以上であることがさらに好ましい。この範囲であると、最外層の耐摩耗性が向上する。この理由は、最外層の架橋密度が増加し、機械的強度がより向上し、最外層の耐摩耗性がより向上する。また、最外層形成用の樹脂組成物中の重合開始剤の含有量は、特に制限されないが、重合性モノマー１００質量部に対して、４０質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下であることがより好ましく、２０質量部以下であることがさらに好ましい。
【００８４】
最外層形成用の樹脂組成物の調製方法も、特に制限はなく、重合性モノマー、金属酸化物粒子、さらに必要に応じて添加される重合開始剤などの各種添加剤を分散媒に加えて、溶解または分散するまで攪拌混合すればよい。
【００８５】
本発明に係る最外層は、上記方法で調製した最外層形成用の樹脂組成物を感光層の上に塗布した後、乾燥および硬化させることにより形成することができる。
【００８６】
上記塗布、乾燥、および硬化の過程で、重合性モノマー間の反応、重合性モノマーと反応性表面処理された金属酸化物粒子との間の反応、反応性表面処理された金属酸化物粒子同士の反応等が進行し、最外層形成用の樹脂組成物の硬化物を含む最外層（保護層）が形成される。
【００８７】
最外層形成用の樹脂組成物の塗布方法は、特に制限されず、たとえば、浸漬塗布法、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、ブレードコーティング法、ビームコーティング法、スライドホッパー塗布法、円形スライドホッパー塗布法などの公知の方法を用いることができる。
【００８８】
上記塗布液を塗布した後は、自然乾燥または熱乾燥を行い、塗膜を形成した後、活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化させる。活性エネルギー線としては紫外線や電子線が好ましく、紫外線がより好ましい。
【００８９】
紫外線光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。たとえば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、フラッシュ（パルス）キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、紫外線の照射量（積算光量）は、好ましくは５〜５０００ｍＪ／ｃｍ２であり、より好ましくは１０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。また、紫外線の照度は、好ましくは５〜５００ｍＷ／ｃｍ２であり、より好ましくは１０〜１００ｍＷ／ｃｍ２である。
【００９０】
必要な活性エネルギー線の照射量（積算光量）を得るための照射時間としては、０．１秒〜１０分が好ましく、作業効率の観点から０．１秒〜５分がより好ましい。
【００９１】
保護層を形成する過程においては、活性エネルギー線を照射する前後や、活性エネルギー線を照射中に乾燥を行うことができ、乾燥を行うタイミングはこれらを組み合わせて適宜選択できる。
【００９２】
乾燥の条件は、溶媒の種類、膜厚などによって適宜選択できる。乾燥温度は、好ましくは２０〜１８０℃であり、より好ましくは８０〜１４０℃であり、乾燥時間は、好ましくは１〜２００分であり、より好ましくは５〜１００分である。
【００９３】
最外層の膜厚は、１〜１０μｍであることが好ましく、１．５〜５μｍであることがより好ましい。
【００９４】
なお、最外層が上記組成物の硬化物を含むことは、熱分解ＧＣ−ＭＳ、核磁気共鳴（ＮＭＲ）、フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）、元素分析などの公知の分析方法によって確認することができる。
【００９５】
［滑剤供給手段］
滑剤供給手段１１６Ｙは、感光体１１１Ｙの表面に滑剤を供給する手段である。滑剤供給手段１１６Ｙにより、感光体１１１Ｙ表面上に滑剤の皮膜が形成される。滑剤供給手段１１６Ｙは、感光体１１１Ｙの回転方向において滑剤除去手段１１４Ｙの下流側かつ帯電手段１１３Ｙの上流側に配置されている。
【００９６】
この例の滑剤供給手段１１６Ｙは、固形状の滑剤と、ブラシローラよりなる塗布部材とにより構成される。具体的には、滑剤供給手段１１６Ｙは、図２に示すように、筐体２０と、この筐体２０内に収容された、直方体形状を有する固形状の滑剤により構成された滑剤ストック２２と、感光体１１１Ｙ表面に当接し、滑剤ストック２２表面を摺擦することにより掻き取った滑剤を感光体１１１Ｙ表面に塗布するブラシローラ２１と、滑剤ストック２２をブラシローラ２１に押圧する加圧バネ２３と、ブラシローラ２１を回転駆動させる駆動機構（図示せず）とにより構成される。ブラシローラ２１は、ブラシの先端が感光体１１１Ｙ表面に当接している。また、ブラシローラ２１は、感光体１１１Ｙの回転方向とは逆回転で等速に回転駆動される。
【００９７】
ブラシローラ２１としては、例えば、基布に繊維の束をパイル糸として織り込んだパイル織り生地をリボン状生地にし、起毛した面を外側にして金属製シャフトの周囲に螺旋状に巻き付け、接着したものが挙げられる。この例のブラシローラ２１は、例えばポリプロピレンなどの樹脂製のブラシ繊維が高密度に植設されてなる長尺の織布がローラ基体の周面に形成されてなるものである。
【００９８】
ブラシ毛は金属製シャフトに対し垂直方向に起毛させる、直毛タイプが塗布能力の観点から好ましい。ブラシ毛に用いる糸は、フィラメント糸が望ましく、材料としては、６−ナイロン、１２−ナイロン、ポリエステル、アクリル、ビニロン等の合成樹脂が挙げられ、導電性を高める目的でカーボン、ニッケル等の金属を練り込んだものでもよい。ブラシ繊維の太さは例えば３〜７デニール、ブラシ繊維の毛長は２〜５ｍｍ、ブラシ繊維の電気抵抗率は１×１０１０Ω以下、ブラシ繊維のヤング率は４９００〜９８００Ｎ／ｍｍ２、ブラシ繊維の植設密度（単位面積あたりのブラシ繊維数）は例えば５万〜２０万本／平方インチ（５０ｋ〜２００ｋ本／ｉｎｃｈ２）が好ましい。ブラシローラ２１の感光体に対する食込み量は、０．５〜１．５ｍｍであることが好ましい。ブラシローラの回転速度は例えば感光体の周速比で０．３〜１．５とされ、感光体の回転方向と同じ方向の回転であっても、逆の方向の回転であってもよい。
【００９９】
加圧バネ２３は、ブラシローラ２１の感光体１１１Ｙに対する押圧力が例えば０．５〜１．０Ｎとなるよう、滑剤ストック２２を感光体１１１Ｙに近接する方向に押圧するものが用いられている。
【０１００】
滑剤供給手段１１６Ｙにおいては、感光体１１１Ｙの表面１ｃｍ２当たりに対する塗布量が０．５×１０−７〜１．５×１０−７ｇ／ｃｍ２とされるよう、例えば滑剤ストック２２のブラシローラ２１に対する押圧力およびブラシローラ２１の回転速度が調整される。
【０１０１】
［脂肪酸金属塩］
滑剤は、脂肪酸金属塩を含む。脂肪酸金属塩としては、例えば、オレイン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウムなどを用いることができる。これらの中でも、滑性および延展性の観点から、ステアリン酸亜鉛を用いることが好ましい。これらは１種単独で、または、２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０２】
原料として用いる粉体状の脂肪酸金属塩の数平均粒径は、５００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５〜４０μｍである。数平均粒径が５００μｍ以下であれば、固形状の滑剤ストックを作製する際の成型性が低下する恐れが低い。
【０１０３】
［窒化ホウ素］
滑剤はさらに窒化ホウ素を含む。窒化ホウ素の数平均粒径は、０．０７〜５００μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜４０μｍである。
【０１０４】
数平均粒径が０．０７μｍ以上である窒化ホウ素を用いた場合には、十分な潤滑性が得られる。また、数平均粒径が５００μｍ以下の窒化ホウ素を用いた場合は、固形状の滑剤ストックを作製する際の成型性が低下する恐れが低い。
【０１０５】
滑剤における窒化ホウ素の含有割合は、脂肪酸金属塩の質量をＭａ、窒化ホウ素の質量をＭｂとしたときに、Ｍｂ／Ｍａが５０／５０〜１／９９の範囲であることが好ましく、より好ましくは５０／５０〜５／９５である。滑剤における窒化ホウ素の含有割合が全体の１質量％（すなわちＭｂ／Ｍａ＝１／９９））以上であることによって、非帯部の画像濃度が濃くなる滑剤メモリを防止することが可能となる。また、５０質量％（すなわちＭｂ／Ｍａ＝５０／５０）以下であることによって、滑剤除去手段によって当該滑剤を十分に除去することができて、感光体表面における当該滑剤によるフィルミングの発生を抑制することができる。
【０１０６】
［無機潤滑剤］
滑剤は、本発明の効果を妨げない限り、窒化ホウ素以外の無機潤滑剤を含んでもよい。このような無機潤滑剤としては、劈開性を有する物質からなるものを用いることが好ましく、例えば、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、タルク、カオリン、モンモリロナイト、フッ化カルシウム、マイカなどが挙げられる。これらの中でも窒化ホウ素を用いることが好ましい。これらは１種単独で、または、２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０７】
［帯電手段］
帯電手段１１３Ｙは、感光体１１１Ｙ表面に対して帯電ローラにより帯電を行う手段である。この例の帯電手段１１３Ｙは、感光体１１１Ｙの表面に接触して配設された帯電ローラと、帯電ローラに電圧を印加する電源とからなる。
【０１０８】
本発明において、帯電手段は、帯電ローラを感光体の表面に接触または近接した状態で帯電させる近接帯電方式による。
【０１０９】
帯電ローラ１１は、図３に示されるように、芯金１１ａの表面上に積層された、帯電音を低減させると共に弾性を付与して感光体１１１Ｙに対する均一な密着性を得るための弾性層１１ｂの表面上に、必要に応じて帯電ローラ１１が全体として高い均一性の電気抵抗を得るための抵抗制御層１１ｃが積層され、当該抵抗制御層１１ｃ上に表面層１１ｄが積層されたものが、押圧バネ１１ｅによって感光体１１１Ｙの方向に付勢されて感光体１１１Ｙの表面に対して所定の押圧力で圧接されて帯電ニップ部が形成された状態とされる構成とされており、感光体１１１Ｙの回転に従動して回転される。
【０１１０】
芯金１１ａは、例えば、鉄、銅、ステンレス、アルミニウムおよびニッケルなどの金属、あるいはこれらの金属の表面に、防錆性や耐付傷性を得るために導電性を損なわない範囲においてメッキ処理したものからなり、その外径は例えば３〜２０ｍｍとされる。
【０１１１】
弾性層１１ｂは、例えば、ゴムなどの弾性材料中にカーボンブラック、カーボングラファイトなどよりなる導電性微粒子やアルカリ金属塩、アンモニウム塩などよりなる導電性塩微粒子などが添加されたものからなる。弾性材料の具体例としては、例えば、天然ゴム、エチレンプロピレンジエンメチレンゴム（ＥＰＤＭ）、スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エピクロルヒドリンゴム、イソプレンゴム（ＩＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、ニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）およびクロロプレンゴム（ＣＲ）などの合成ゴムや、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂およびフッ素樹脂などの樹脂、あるいは発泡スポンジなどの発泡体などを挙げることができる。弾性の大きさは、プロセス油、可塑剤などを弾性材料中に添加することにより調整することができる。
【０１１２】
弾性層１１ｂは、その体積抵抗率が１×１０１〜１×１０１０Ω・ｃｍの範囲であることが好ましい。また、その層厚は５００〜５０００μｍであることが好ましく、より好ましくは５００〜３０００μｍである。
弾性層１１ｂの体積抵抗率は、ＪＩＳ  Ｋ  ６９１１に準拠して測定された値である。
【０１１３】
抵抗制御層１１ｃは、帯電ローラ１１を全体として均一な電気抵抗を有する目的などにより設けられるものであるが、なくてもよい。この抵抗制御層１１ｃは、適度な導電性を有する材料を塗工すること、あるいは適度な導電性を有するチューブを被覆させることによって設けることができる。
【０１１４】
この抵抗制御層１１ｃを構成する具体的な材料としては、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂などの樹脂；エピクロルヒドリンゴム、ウレタンゴム、クロロプレンゴムおよびアクリロニトリル系ゴムなどのゴム類などの基礎材料中に、カーボンブラック、カーボングラファイトなどよりなる導電性微粒子；導電性酸化チタン、導電性酸化亜鉛、導電性酸化スズなどよりなる導電性金属酸化物微粒子；アルカリ金属塩、アンモニウム塩などよりなる導電性塩微粒子などの導電剤が添加されたものが挙げられる。
【０１１５】
抵抗制御層１１ｃは、その体積抵抗率が１×１０−２〜１×１０１４Ω・ｃｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは１×１０１〜１×１０１０Ω・ｃｍである。また、その層厚は０．５〜１００μｍであることが好ましく、より好ましくは１〜５０μｍ、さらに好ましくは１〜２０μｍである。
抵抗制御層１１ｃの体積抵抗率は、ＪＩＳ  Ｋ  ６９１１に準拠して測定された値である。
【０１１６】
表面層１１ｄは、弾性層１１ｂ中の可塑剤などの得られる帯電ローラの表面へのブリードアウトを防止する目的や帯電ローラの表面の滑り性や平滑性を得る目的、あるいは感光体１０上にピンホールなどの欠陥があった場合にもリークの発生を防止する目的などにより設けられるものであって、適度な導電性を有する材料を塗工すること、あるいは適度な導電性を有するチューブを被覆させることによって設けられる。
【０１１７】
表面層１１ｄを材料の塗工により設ける場合は、具体的な材料としては、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂およびシリコーン樹脂などの樹脂、エピクロルヒドリンゴム、ウレタンゴム、クロロプレンゴムおよびアクリロニトリル系ゴムなどの基礎材料中に、カーボンブラック、カーボングラファイトなどよりなる導電性微粒子；導電性酸化チタン、導電性酸化亜鉛、導電性酸化スズなどよりなる導電性金属酸化物微粒子などの導電剤が添加されたものが挙げられる。塗工方法としては、浸漬塗工法、ロール塗工法およびスプレー塗工法などが挙げられる。
【０１１８】
また、表面層１１ｄをチューブの被覆により設ける場合は、具体的なチューブとしては、ナイロン１２、４フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂（ＰＦＡ）、ポリフッ化ビニリデン、４フッ化エチレン−６フッ化プロピレン共重合樹脂（ＦＥＰ）；ポリスチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系およびポリアミド系などの熱可塑性エラストマーなどに上記の導電剤が添加されたものがチューブ状に成形されたものが挙げられる。このチューブは熱収縮性のものでもよく、非熱収縮性のものでもよい。
【０１１９】
表面層１１ｄは、その体積抵抗率が１×１０１〜１×１０８Ω・ｃｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは１×１０１〜１×１０５Ω・ｃｍである。また、その層厚は０．５〜１００μｍであることが好ましく、より好ましく１〜５０μｍ、さらに好ましくは１〜２０μｍである。
表面層１１ｄの体積抵抗率は、ＪＩＳ  Ｋ  ６９１１に準拠して測定された値である。
【０１２０】
また、表面層１１ｄは、その表面粗さＲｚが１〜３０μｍのものが好ましく、より好ましくは２〜２０μｍ、さらに好ましくは５〜１０μｍである。
【０１２１】
以上のような帯電ローラ１１においては、帯電ローラ１１の芯金１１ａに電源Ｓ１より帯電バイアス電圧が印加されることにより、感光体１１１Ｙの表面が所定の極性の所定の電位に帯電される。ここに、帯電バイアス電圧は、例えば直流電圧のみとしてもよいが、帯電の均一性に優れることから、直流電圧に交流電圧が重畳された振動電圧とすることが好ましい。
帯電バイアス電圧は、例えば−２．５〜−１．５ｋＶ程度とすることができる。
【０１２２】
図３に示した帯電ローラ１１による帯電条件の一例を示すと、帯電バイアス電圧を形成する直流電圧（Ｖｄｃ）が−５００Ｖ、交流電圧（Ｖａｃ）が周波数１０００Ｈｚ、ピーク間電圧１３００Ｖの正弦波であり、この帯電バイアス電圧が印加されることにより、感光体１０の表面が−５００Ｖに一様に帯電される。
【０１２３】
［露光手段］
露光手段１１５Ｙは、帯電手段１１３Ｙによって一様な電位を与えられた感光体１１１Ｙ表面に、画像信号（イエローの画像信号）に基づいて露光を行い、イエローの画像に対応する静電潜像を形成する手段である。露光手段１１５Ｙは、感光体１１１Ｙの軸方向にアレイ状に発光素子が配列されたＬＥＤと結像素子とから構成されるもの、あるいはレーザー光学系などが用いられる。
【０１２４】
［現像手段］
現像手段１１７Ｙは、感光体１１１Ｙ表面にトナーを供給し、感光体１１１Ｙ表面に形成された静電潜像を現像し、トナー画像を形成する手段である。この例の現像手段１１７Ｙは、具体的には、マグネットを内蔵し現像剤を保持して回転する現像スリーブおよび感光体とこの現像スリーブとの間に直流および／または交流バイアス電圧を印加する電圧印加装置により構成される。
【０１２５】
［転写手段］
転写手段を構成する一次転写ローラ１３３Ｙは、感光体１１１Ｙ上に形成されたトナー画像を無端ベルト状の中間転写体１３１に転写する手段である。一次転写ローラ１３３Ｙは、中間転写体１３１と当接して配置されている。
【０１２６】
この画像形成装置１００においては、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋ上に形成されたトナー画像を一次転写ローラ（一次転写手段）１３３Ｙ、１３３Ｍ、１３３Ｃ、１３３Ｂｋによって中間転写体１３１に転写し、中間転写体１３１上に転写された各トナー画像を二次転写ローラ（二次転写手段）２１７によって転写材Ｐに転写する中間転写方式が採用されているが、感光体上に形成されたトナー画像を転写手段によって直接転写材に転写する直接転写方式が採用されてもよい。
【０１２７】
［クリーニング手段］
クリーニング手段１１９Ｙは、感光体１１１Ｙ表面に残存したトナーを除去する手段である。この例のクリーニング手段１１９Ｙは、クリーニングブレードにより構成される。このクリーニングブレードは、図２に示すように、支持部材３１と、この支持部材３１上に接着層（図示せず）を介して支持されたブレード部材３０とにより構成される。ブレード部材３０は、その先端が、感光体１１１Ｙ表面との当接部分における当該感光体１１１Ｙの回転方向と反対方向（カウンター方向）に向く状態で配置されている。
【０１２８】
支持部材３１としては、特に限定されず、従来公知のものを使用することができ、例えば、剛体の金属、弾性を有する金属、プラスチック、セラミックなどから製造されたものが挙げられる。中でも、剛体の金属が好ましい。
【０１２９】
ブレード部材３０としては、例えば、ベース層とエッジ層とが積層されてなる多層構造のものを用いることができる。ベース層およびエッジ層は、それぞれポリウレタンにより構成されることが好ましい。ポリウレタンとしては、ポリオール、ポリイソシアネートおよび必要に応じて架橋剤を反応させて得られるものなどが挙げられる。
【０１３０】
［滑剤除去手段］
滑剤除去手段１１４Ｙは、感光体１１１Ｙ表面に付着した滑剤を除去する手段である。滑剤除去手段１１４Ｙは、感光体１１１Ｙの回転方向においてクリーニング手段１１９Ｙの下流側かつ滑剤供給手段１１６Ｙの上流側に配置されている。
【０１３１】
滑剤除去手段１１４Ｙは、除去部材が感光体１１１Ｙ表面に接触し、機械的作用によって滑剤を除去する手段であることが好ましい。ここで、機械的作用によって滑剤を除去するとは、感光体の表面を機械的に擦過するなどによって滑剤を除去することをいう。滑剤除去手段としては、ブラシローラや発泡ローラなどの除去部材を用いることができ、除去能力および耐久性の観点からブラシローラが好ましい。この例の滑剤除去手段１１４Ｙは、具体的には、感光体１１１Ｙ表面に当接し、感光体１１１Ｙの回転方向とは逆回転で等速に回転駆動されるブラシローラよりなる除去部材と、駆動機構とにより構成される。
【０１３２】
除去部材としてのブラシローラとしては、例えば、基布に繊維の束をパイル糸として織り込んだパイル織り生地をリボン状生地にし、起毛した面を外側にして金属製シャフトの周囲に螺旋状に巻き付け、接着したものが挙げられる。この例のブラシローラは、例えばポリエステルなどの樹脂製のブラシ繊維が高密度に植設されてなる長尺の織布が金属製シャフトの周面に形成されてなるものである。
【０１３３】
ブラシ毛は金属製シャフトに対し垂直方向に起毛させる、直毛タイプが除去能力の観点から好ましい。ブラシ毛に用いる糸は、フィラメント糸が望ましく、材料としては、６−ナイロン、１２−ナイロン、ポリエステル、アクリル、ビニロン等の合成樹脂が挙げられ、導電性を高める目的でカーボン、ニッケル等の金属を練り込んだものでもよい。ブラシ繊維の太さは３〜１５デニールが好ましく、ブラシ繊維の毛長は２〜５ｍｍが好ましい。また、ブラシ繊維の植設密度を４万〜５０万本／平方インチ（４０ｋ〜５００ｋＦ／ｉｎｃｈ２）の範囲で設定することで、除去に必要な剛性を確保すると共に、ブラシ毛に疎な部分を作らず滑剤の除去ムラを引き起こさないようにすることができる。ブラシ繊維の電気抵抗率は１×１０７Ω以下であることが好ましく、ブラシ繊維のヤング率は１５００〜９８００Ｎ／ｍｍ２であることが好ましい。ブラシローラの感光体に対する食込み量は、０．５〜１．５ｍｍであることが好ましい。ブラシローラの回転速度は例えば感光体速度比で０．３〜１．５とされ、感光体の回転方向と同じ方向の回転であっても、逆の方向の回転であってもよい。
【０１３４】
なお、図２に示す構成においては、滑剤供給手段１１６Ｙの下流側かつ帯電手段１１３Ｙの上流側に、滑剤供給手段１１６Ｙによって感光体１１１Ｙ表面に供給された滑剤を均一に塗布する均しブレード１１８Ｙが設けられている。
【０１３５】
本発明の画像形成装置１００においては、図２に示すように、滑剤供給手段１１６Ｙによる滑剤の供給後であって帯電手段１１３Ｙによる帯電前の感光体１１１Ｙ表面の単位面積当たりの滑剤存在比率をＡ（ａｔｍ％）、滑剤除去手段１１４Ｙによる滑剤の除去後であって滑剤供給手段１１６Ｙによる滑剤の供給前の感光体１１１Ｙ表面の単位面積当たりの滑剤存在比率をＢ（ａｔｍ％）としたとき、下記式（１）および式（２）を満たすことが好ましい。
式（１）：  Ａ≧８Ｂ
式（２）：  Ａ≧１．７
【０１３６】
上記式（１）および式（２）をいずれも満たすことにより、帯電手段１１３Ｙによる帯電前においては、感光体１１１Ｙ表面に滑剤が十分に存在するため、感光体１１１Ｙ表面の劣化を防止することができ、感光体１１１Ｙ表面の抵抗を高く維持することができるので高温高湿環境下での像流れの発生をより確実に抑制することができ、また、クリーニング手段１１９Ｙによるトナーの除去前においては、感光体１１１Ｙ表面に滑剤が十分に存在するため、良好なトナークリーニング性が確実に得られる。さらに、クリーニング手段１１９Ｙによるトナーの除去後においては、劣化した滑剤が感光体１１１Ｙ表面から除去されているため、滑剤の劣化に伴う像流れの発生をより確実に抑制することができる。
【０１３７】
なお、滑剤存在比率Ａの測定では、回転する感光体１１１Ｙにおいて、滑剤供給手段１１６Ｙの下流側であって帯電手段１１３Ｙの上流側の感光体１１１Ｙ表面上の任意の箇所を選択することができる。特に、均しブレード１１８Ｙの下流側であって帯電手段１１３Ｙの上流側の感光体１１１Ｙ表面上の任意の箇所が好ましい。
【０１３８】
また、滑剤存在比率Ｂの測定では、回転する感光体１１１Ｙにおいて、滑剤除去手段１１４Ｙの下流側であって滑剤供給手段１１６Ｙの上流側の感光体１１１Ｙ表面上の任意の箇所を選択することができる。
【０１３９】
滑剤存在比率Ａは、１．７ａｔｍ％以上とされ、より好ましくは２．０〜２．５ａｔｍ％である。また、Ａ／Ｂは、８以上とされ、より好ましくは２０〜３０である。
【０１４０】
ここで、滑剤存在比率とは、感光体表面の単位面積当たりに滑剤が存在する度合いをいう。本発明においては、Ｘ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）によって測定される感光体表面上の滑剤を構成する脂肪酸金属塩に由来の金属の存在比率を代替量として用いる。滑剤における脂肪酸金属塩および窒化ホウ素の比率は経時的に略一定であると考えられるので、脂肪酸金属塩に由来の金属の存在比率は、滑剤全体に係る滑剤存在比率の代替量として用いることができる。単位は「ａｔｍ％」とする。検出する選択元素は、（１）保護層を構成する架橋重合体の元素（Ｃ、Ｏなど）、（２）金属酸化物（例えばＳｎなど）、（３）感光体表面に供給される脂肪酸金属塩に由来の金属（例えばＺｎ、Ａｌなど）とする。これらの選択元素については、保護層を構成する材料の種類や用いる滑剤の種類によって、感光体表面に存在し得ると考えられる元素全てを抽出する必要がある。なお、検知性の観点から、保護層に含有される金属酸化物由来の金属と脂肪酸金属塩に由来の金属との差別化のため、使用する金属酸化物と脂肪酸金属塩に由来の金属とは違う種類のものを選択する。
【０１４１】
具体的には、高温高湿環境（温度３０℃、湿度８０％ＲＨ）下において、２０００枚印刷した後の感光体から保護層のみ５ｍｍ角で切り取り、これを測定サンプルとする。Ｘ線光電子分光装置「Ｋ−Ａｌｐｈａ」（サーモフィッシャーサイエンティフィック社製）を用い、選択元素を下記測定条件にて定量分析し、各々の原子ピーク面積から相対感度因子を用いて表面元素濃度を算出する。検出される金属の測定量を代替量として取り扱う。
測定条件
Ｘ線：Ａｌモノクロ線源
加速：１２ｋＶ、６ｍＡ
分解能：５０ｅＶ
ビーム系：４００μｍ
ステップサイズ：０．１ｅＶ
【０１４２】
滑剤存在比率Ａは、滑剤供給手段における滑剤の供給量、滑剤供給手段の押圧力（例えば、ブラシローラの感光体に対する食込み量など）によって制御することができる。また、滑剤存在比率Ｂは、滑剤除去部材の押圧力（例えば、ブラシローラの感光体に対する食込み量など）、滑剤除去部材のブラシ繊維の植設密度によって制御することができる。
【０１４３】
中間転写体１３１は、複数のローラ１３７Ａ、１３７Ｂ、１３７Ｃ、１３７Ｄにより巻回され、回動可能に支持されている。
中間転写体１３１上には、当該中間転写体上に残存したトナーを除去するクリーニング手段１３５が配置されている。
【０１４４】
この画像形成装置１００において、感光体１１１Ｙ、現像手段１１７Ｙ、クリーニング手段１１９Ｙ、滑剤除去手段１１４Ｙおよび滑剤供給手段１１６Ｙなどは、一体的に結合され、装置本体に着脱自在に構成されたプロセスカートリッジ（画像形成ユニット）であってもよい。あるいは、帯電手段１１３Ｙ、露光手段１１５Ｙ、現像手段１１７Ｙ、滑剤除去手段１１４Ｙ、滑剤供給手段１１６Ｙ、一次転写ローラ１３３Ｙおよびクリーニング手段１１９Ｙからなる群から選ばれる一以上の部材と、感光体１１１Ｙとが一体的に構成されたプロセスカートリッジ（画像形成ユニット）であってもよい。
【０１４５】
プロセスカートリッジ２００は、筐体２０１と、それに収容された感光体１１１Ｙ、帯電手段１１３Ｙ、現像手段１１７Ｙ、滑剤供給手段１１６Ｙ、クリーニング手段１１９Ｙおよび滑剤除去手段１１４Ｙと、一次転写ローラ１３３Ｙと、を有する。また、装置本体には、プロセスカートリッジ２００を装置本体内にガイドする手段として支持レール２０３Ｌ、２０３Ｒが設けられている。それにより、プロセスカートリッジ２００を装置本体に着脱可能となっている。これらのプロセスカートリッジ２００は、装置本体に着脱自在に構成された単一の画像形成ユニットとなりうる。
【０１４６】
給紙搬送手段１５０は、給紙カセット２１１内の転写材Ｐを、複数の中間ローラ２１３Ａ、２１３Ｂ、２１３Ｃ、２１３Ｄおよびレジストローラ２１５を経て、二次転写ローラ２１７に搬送可能に設けられている。
【０１４７】
定着手段１７０は、二次転写ローラ２１７により転写されたカラー画像を定着処理する。排紙ローラ２１９は、定着処理された転写材Ｐを挟持して、排紙トレイ２２１上に載置可能に設けられている。
【０１４８】
このように構成された画像形成装置１００では、画像形成ユニット１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋによりトナー画像を形成する。具体的には、まず、滑剤供給手段１１６Ｙ、１１６Ｍ、１１６Ｃ、１１６Ｂｋにより感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面に滑剤を供給する。その後、帯電手段１１３Ｙ、１１３Ｍ、１１３Ｃ、１１３Ｂｋにより感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面に放電して負に帯電させる。次いで、露光手段１１５Ｙ、１１５Ｍ、１１５Ｃ、１１５Ｂｋで、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面を画像信号に基づいて露光し、静電潜像を形成する。次いで、現像手段１１７Ｙ、１１７Ｍ、１１７Ｃ、１１７Ｂｋで、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面にトナーを付与して現像し、トナー画像を形成する。
【０１４９】
次いで、一次転写ローラ（一次転写手段）１３３Ｙ、１３３Ｍ、１３３Ｃ、１３３Ｂｋを、回動する中間転写体１３１と当接させる。それにより、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋ上にそれぞれ形成した各色のトナー画像を、回動する中間転写体１３１上に逐次転写させて、カラー画像を転写する（一次転写する）。画像形成処理中、一次転写ローラ１３３Ｂｋは、常時、感光体１１１Ｂｋに当接する。一方、他の一次転写ローラ１３３Ｙ、１３３Ｍ、１３３Ｃは、カラー画像形成時にのみ、それぞれ対応する感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃに当接する。
【０１５０】
そして、一次転写ローラ１３３Ｙ、１３３Ｍ、１３３Ｃ、１３３Ｂｋと中間転写体１３１とを分離させた後、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面に残存したトナーを、クリーニング手段１１９Ｙ、１１９Ｍ、１１９Ｃ、１１９Ｂｋで除去する。次いで、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面における滑剤を、滑剤除去手段１１４Ｙ、１１４Ｍ、１１４Ｃ、１１４Ｂｋで除去する。その後、次の画像形成プロセスに備えて、滑剤供給手段１１６Ｙ、１１６Ｍ、１１６Ｃ、１１６Ｂｋにより感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面に滑剤を供給し、必要に応じて感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面を除電手段（不図示）によって除電した後、帯電手段１１３Ｙ、１１３Ｍ、１１３Ｃ、１１３Ｂｋにより負に帯電させる。このように、画像形成装置１００においては、画像形成プロセス毎に、感光体１１１表面上において、トナーの除去の後に帯電履歴のある滑剤を除去し、その後、帯電される前に新しい滑剤が供給されるように構成されている。
【０１５１】
一方、給紙カセット２１１内に収容された転写材Ｐ（例えば普通紙、透明シートなどの最終画像を担持する支持体）を、給紙搬送手段１５０で給紙し、複数の中間ローラ２１３Ａ、２１３Ｂ、２１３Ｃ、２１３Ｄ、レジストローラ２１５を経て二次転写ローラ（二次転写手段）２１７に搬送する。そして、二次転写ローラ２１７を回動する中間転写体１３１と当接させて、転写材Ｐ上にカラー画像を一括して転写する（二次転写する）。二次転写ローラ２１７は、転写材Ｐ上に二次転写を行うときのみ、中間転写体１３１と当接する。その後、カラー画像が一括転写された転写材Ｐを、中間転写体１３１の曲率が高い部位で分離する。
【０１５２】
このようにしてカラー画像が一括して転写された転写材Ｐを、定着手段１７０で定着処理した後、排紙ローラ２１９で挟持して装置外の排紙トレイ２２１上に載置する。また、カラー画像が一括転写された転写材Ｐを中間転写体１３１から分離した後、クリーニング手段１３５で中間転写体１３１上の残存トナーを除去する。
【０１５３】
［トナー］
本発明の画像形成装置において使用されるトナーとしては、特に限定されないが、結着樹脂および着色剤が含有されるトナー粒子よりなり、当該トナー粒子には、所望により離型剤などの他の成分が含有されていてもよい。
トナーを構成するトナー粒子は、高画質化を企図する観点から、その体積平均粒径が２〜８μｍであることが好ましい。
【０１５４】
上記のトナーを製造する方法としては、特に制約されないが、例えば、通常の粉砕法や、分散媒中で作成する湿式溶融球形化法や、懸濁重合、分散重合、乳化重合凝集法等の既知の重合法などが挙げられる。
【０１５５】
また、トナー粒子には、外添剤として、平均粒径１０〜３００ｎｍ程度のシリカおよびチタニア等の無機微粒子、０．２〜３μｍ程度の研磨剤を適宜量、外部添加することができる。
【０１５６】
トナーは、磁性または非磁性の一成分現像剤として使用することもできるが、キャリアと混合して二成分現像剤として使用してもよい。
トナーを二成分現像剤として使用する場合において、キャリアとしては、鉄などの強磁性金属、強磁性金属とアルミニウムおよび鉛などの合金、フェライトおよびマグネタイトなどの強磁性金属の化合物などの従来公知の材料からなる磁性粒子を用いることができ、特にフェライトが好ましい。
【０１５７】
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明の実施形態は上記の例に限定されるものではなく、種々の変更を加えることができる。
【実施例】
【０１５８】
本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。なお、下記実施例において、特記しない限り、操作は室温（２５℃）で行われた。また、特記しない限り、「％」および「部」は、それぞれ、「質量％」および「質量部」を意味する。
【０１５９】
各種粒子の数平均一次粒子径は、以下のようにして測定した。まず、走査型電子顕微鏡（日本電子株式会社製）により撮影された１００００倍の拡大写真をスキャナーに取り込んだ。次いで、得られた写真画像から、凝集粒子を除く３００個の粒子像を、ランダムに自動画像処理解析システム  ルーゼックス（登録商標）ＡＰ  ソフトウエアＶｅｒ．１．３２（株式会社ニレコ製）を使用して２値化処理し、当該粒子像のそれぞれの水平方向フェレ径を算出した。そして、当該粒子像のそれぞれの水平方向フェレ径の平均値を算出して数平均一次粒子径とした。この際、金属酸化物粒子の数平均一次粒子径の測定は、表面処理剤由来の化学種（被覆層）を含まない金属酸化物粒子について行った。
【０１６０】
［合成例１：複合粒子（コア−シェル粒子）の作製］
（複合粒子１）
図４に示す製造装置を用い、硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）芯材（コア）の表面に酸化スズ（ＳｎＯ２）の被覆層（シェル）が形成されてなる複合粒子を作製した。
【０１６１】
具体的には、母液槽４１中に純水３５００ｃｍ３を投入し、次に数平均一次粒子径が８０ｎｍである球状の硫酸バリウム芯材９００ｇを投入して、５パス循環させた。母液槽４１から流出するスラリーの流速は、２２８０ｃｍ３／ｍｉｎであった。また、強分散装置４３の攪拌速度を１６０００ｒｐｍとした。循環完了後のスラリーを純水で全量９０００ｃｍ３にメスアップし、そこに１６００ｇのスズ酸ナトリウム、および２．３ｃｍ３の水酸化ナトリウム水溶液（濃度２５Ｎ）を投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。
【０１６２】
この母液を、母液槽４１から流出する流速Ｓ２が２００ｃｍ３となるように循環させながら、強分散装置４３としてのホモジナイザー「ｍａｇｉｃ  ＬＡＢ（登録商標）」（ＩＫＡジャパン株式会社製）に２０％硫酸を供給した。供給速度Ｓ３を９．２ｃｍ３／ｍｉｎとした。ホモジナイザーの容積は２０ｃｍ３、攪拌速度は１６０００ｒｐｍであった。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的にホモジナイザーに供給し、粒子を含むスラリーを得た。
【０１６３】
得られたスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで、乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ２／Ｎ２雰囲気下で４５０℃、４５分間還元焼成した。このようにして、硫酸バリウムの芯材（コア）の表面に酸化スズの外殻（シェル）が形成されてなる、数平均一次粒子径が１００ｎｍである複合粒子１を作製した。
【０１６４】
ここで、図４に示す製造装置において、符号４２および４４は、母液槽４１と強分散装置４３との間の循環路を形成する循環配管を、符号４５および４６は、循環配管４２および４４にそれぞれ設けられたポンプを、符号４１ａは攪拌翼を、符号４３ａは攪拌部を、符号４１ｂおよび４３ｂはシャフトを、符号４１ｃおよび４３ｃはモーターを、それぞれ示す。
【０１６５】
（複合粒子２）
数平均一次粒子径が８０ｎｍである硫酸バリウム芯材の代わりに、数平均一次粒子径が２８０ｎｍである硫酸バリウム芯材を使用したこと以外は、複合粒子１と同様にして、複合粒子２（数平均一次粒子径：３００ｎｍ）を得た。
【０１６６】
（複合粒子３）
数平均一次粒子径が８０ｎｍである硫酸バリウム芯材の代わりに、数平均一次粒子径が４８０ｎｍである硫酸バリウム芯材を使用したこと以外は、複合粒子１と同様にして、複合粒子３（数平均一次粒子径：５００ｎｍ）を得た。
【０１６７】
［合成例２：表面処理剤による表面処理が施された金属酸化物粒子（表面処理粒子）の作製］
（合成例２−１：表面処理粒子１の作製）
メタノール  １０ｍＬに未処理金属酸化物粒子である酸化スズ（数平均一次粒子径：５０ｎｍ）５ｇを加え、ＵＳホモジナイサーを用いて室温で３０分間分散させた。次いで、反応性表面処理剤である３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（「ＫＢＭ−５０３」、信越化学工業株式会社製；下記式Ｓ−１５）０．２５ｇおよびトルエン  １０ｍＬを加え、室温で６０分攪拌した。エバポレーターによって溶剤を除去した後、１２０℃で６０分加熱することにより、反応性官能基を有する金属酸化物粒子を得た。
Ｓ−１５：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
【０１６８】
上記で得られた金属酸化物粒子  ５ｇを、２−ブタノール  ４０ｇに加え、ＵＳホモジナイザーを用いて室温で６０分間分散させた。次いで、シリコーン主鎖の側鎖にシリコーン鎖を有する表面処理剤（「ＫＦ−９９０８」、信越化学工業株式会社製）０．１５ｇを加えて、さらに、室温で６０分間、ＵＳホモジナイザーを用いて分散を行った。分散後、溶剤を室温下で揮発させ、１２０℃で６０分間乾燥させることにより、反応性表面処理剤および側鎖にシリコーン鎖を有する表面処理剤で表面処理が施された金属酸化物粒子（以下、表面処理粒子とも称する）１を作製した。
【０１６９】
（合成例２−２：表面処理粒子２の作製）
数平均一次粒子径が１００ｎｍである酸化スズの代わりに、上記で得られた複合粒子１を使用したこと以外は、合成例２−１と同様にして、表面処理粒子２を作製した。
【０１７０】
（合成例２−３：表面処理粒子３の作製）
数平均一次粒子径が１００ｎｍである酸化スズの代わりに、上記で得られた複合粒子２を使用したこと以外は、合成例２−１と同様にして、表面処理粒子３を作製した。
【０１７１】
（合成例２−４：表面処理粒子４の作製）
数平均一次粒子径が１００ｎｍである酸化スズの代わりに、上記で得られた複合粒子３を使用したこと以外は、合成例２−１と同様にして、表面処理粒子４を作製した。
【０１７２】
（合成例２−５：表面処理粒子５の作製）
数平均一次粒子径が１００ｎｍである酸化スズの代わりに、数平均一次粒子径が３００ｎｍである酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）を用いたこと以外は、合成例２−１と同様にして、表面処理粒子５を作製した。
【０１７３】
（合成例２−６：表面処理粒子６の作製）
数平均一次粒子径が１００ｎｍである酸化スズの代わりに、数平均一次粒子径が１００ｎｍであるシリカ（ＳｉＯ２）を用いたこと以外は、合成例２−１と同様にして、表面処理粒子６を作製した。
【０１７４】
（合成例２−７：表面処理粒子７の作製）
ＫＦ−９９０８の代わりに、シリコーン主鎖を有し、側鎖にシリコーン鎖を有さない表面処理剤（「ＫＦ−９９０１」、信越化学工業株式会社製）を用いたこと以外は、合成例２−３と同様にして、表面処理粒子７を作製した。
【０１７５】
（合成例２−８：表面処理粒子８の作製）
ＫＦ−９９０８の代わりに、ポリ（メタ）アクリレート主鎖の側鎖にシリコーン鎖を有する表面処理剤（「ＫＰ−５７８」、信越化学工業株式会社製）を用いたこと以外は、合成例２−３と同様にして、表面処理粒子８を作製した。
【０１７６】
（合成例２−９：表面処理粒子９の作製）
ＫＢＭ−５０３の代わりに、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（「ＫＢＭ−５０２」、信越化学工業株式会社製）（下記式Ｓ−１４）を用いたこと以外は、合成例２−２と同様にして、反応性官能基を有する表面処理粒子９を作製した。
Ｓ−１４：  ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
【０１７７】
（合成例２−１０：表面処理粒子１０の作製）
ＫＢＭ−５０３の代わりに、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（「ＫＢＭ−５１０３」、信越化学工業株式会社製）（下記式Ｓ−７）を用いたこと以外は、合成例２−２と同様にして、反応性官能基を有する表面処理粒子１０を作製した。
Ｓ−７：  ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
【０１７８】
（合成例２−１１：表面処理粒子１１の作製）
２−ブタノール  １０ｍＬに酸化アルミニウム（数平均一次粒子径：３００ｎｍ）５ｇを加え、ＵＳホモジナイサーを用いて室温で６０分間分散させた。次いで、反応性表面処理剤である３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（「ＫＢＭ−５０３」、信越化学工業株式会社製）０．１５ｇを加えて、さらに、室温で６０分間、ＵＳホモジナイザーを用いて分散を行った。分散後、溶剤を室温下で揮発させ、１２０℃で６０分間乾燥させることにより、反応性表面処理剤で表面処理が施された表面処理粒子１１を作製した。
【０１７９】
表面処理粒子１〜１１の構成は、下記表１にまとめた。
【０１８０】
［電子写真感光体の作製］
（実施例１）
Ａ．導電性支持体の準備
円筒形アルミニウム支持体の表面を切削加工し、導電性支持体を準備した。
【０１８１】
Ｂ．中間層の作製
下記成分を下記の分量で混合し、分散機としてサンドミルを用いて、バッチ式で１０時間の分散を行い、中間層形成用塗布液を調製した。当該塗布液を浸漬塗布法によって導電性支持体の表面に塗布し、１１０℃で２０分間乾燥し、膜厚２μｍの中間層を導電性支持体上に形成した。なお、ポリアミド樹脂としてＸ１０１０（ダイセル・エボニック株式会社製）を使用し、酸化チタン粒子としてＳＭＴ−５００ＳＡＳ（テイカ株式会社製、数平均一次粒子径：０．０３５μｍ）を使用した：
ポリアミド樹脂                              １０質量部
酸化チタン粒子                              １１質量部
エタノール                                ２００質量部。
【０１８２】
Ｃ．電荷発生層の作製
下記成分を下記分量で混合し、循環式超音波ホモジナイザー（ＲＵＳ−６００ＴＣＶＰ、株式会社日本精機製作所製）を用いて、１９．５ｋＨｚ、６００Ｗにて循環流量４０Ｌ／時間で０．５時間にわたって分散することにより、電荷発生層形成用塗布液を調製した。得られた塗布液を浸漬塗布法によって中間層の表面に塗布し、風乾することにより、膜厚０．３μｍの電荷発生層を中間層上に形成した。なお、電荷発生物質は、Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線回折スペクトル測定で８．３°、２４．７°、２５．１°、および２６．５°に明確なピークを有するチタニルフタロシアニン、ならびに（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−ブタンジオールの１：１付加体と、未付加のチタニルフタロシアニンとの混晶を使用した。また、ポリビニルブチラール樹脂としてエスレック（登録商標）ＢＬ−１（積水化学工業株式会社製）を使用した。また、混合溶媒として、３−メチル−２−ブタノン／シクロヘキサノン＝４／１（体積比）を使用した：
電荷発生物質                                ２４質量部
ポリビニルブチラール樹脂                    １２質量部
混合溶媒                                  ４００質量部。
【０１８３】
Ｄ．電荷輸送層の作製
下記成分を下記分量で混合した電荷輸送層用の塗布液を、浸漬塗布法によって電荷発生層の表面に塗布し、１２０℃で７０分間乾燥することにより、膜厚２４μｍの電荷輸送層を電荷発生層上に形成した。なお、ポリカーボネート樹脂としてユーピロン（登録商標）Ｚ３００（三菱ガス化学株式会社製、ビスフェノールＺ型ポリカーボネート）を使用した。また、酸化防止剤として、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を使用した：
下記化学式２で表される電荷輸送物質          ６０質量部
ポリカーボネート樹脂                      １００質量部
ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）              ８００質量部
トルエン                                  ２００質量部
酸化防止剤                                    ４質量部。
【０１８４】
【化３】
2020140166.tif 000004
【０１８５】
Ｅ．保護層（最外層）の作製
下記成分を下記分量で混合した保護層形成用塗布液（最外層形成用塗布液）を、電荷輸送層の表面に、円形スライドホッパー塗布機を用いて塗布した。得られた塗布液の膜に、メタルハライドランプを用いて紫外線（主波長：３６５ｎｍ）を１分間照射して（紫外線照度：１６ｍＷ／ｃｍ２、積算光量：９６０ｍＪ／ｃｍ２）、当該膜を硬化させることにより、膜厚３．０μｍの保護層を電荷輸送層上に形成した。これにより、感光体１を作製した。なお、重合開始剤は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）８１９（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を使用した：
重合性モノマー（下記化学式Ｍ２で表される化合物）        １２０質量部
表面処理粒子１                                          １００質量部
重合開始剤                                                １０質量部
２−ブタノール                                          ４００質量部
ＴＨＦ                                                  １００質量部
電荷輸送物質                                              ３０質量部。
【０１８６】
【化４】
2020140166.tif 000005
式中のＲ’は、メタクリロイル基（ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯ−）を表す。
【０１８７】
（実施例２〜９、１２〜１４、比較例１〜２）
表面処理粒子の種類を下記表１のように変更したこと以外は、実施例１と同様にして、感光体２〜９、１２〜１４、および比較感光体１〜２を作製した。
【０１８８】
（実施例１０および１１）
重合性モノマーの種類をそれぞれ下記化学式Ｍ１およびＭ３で表される化合物に変更したこと以外は、実施例２と同様にして、感光体１０および１１を作製した。
【０１８９】
【化５】
2020140166.tif 000006
式中のＲは、アクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＨＣＯ−）を表す。
【０１９０】
（比較例３）
金属酸化物粒子として、数平均一次粒子径が３００ｎｍである、表面処理を施していない酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粒子を使用し、分散剤（ＢＹＫ−Ｐ１０５、ビッグケミー・ジャパン株式会社製）使用して、比較感光体３を作製した。具体的には、下記成分を下記分量で混合した保護層形成用塗布液を用いた他は、実施例１と同様に塗布、硬化を行った。
重合性モノマー（下記化学式Ｍ２で表される化合物）        １２０質量部
表面処理粒子１１                                        １００質量部
分散剤（BYK-P105）                                          ３質量部
重合開始剤                                                １０質量部
２−ブタノール                                          ４００質量部
ＴＨＦ                                                  １００質量部
電荷輸送物質                                              ３０質量部。
【０１９１】
（比較例４）
表面処理粒子の種類を下記表１のように変更し、さらに重合性モノマーをポリカーボネート樹脂（ユーピロン  Ｚ３００、三菱ガス化学社製）に変更し、比較感光体４を作製した。具体的には、下記成分を下記分量で混合した保護層形成用塗布液（最外層形成用塗布液）を、電荷輸送層の表面に、円形スライドホッパー塗布機を用いて塗布し、１２０℃で７０分間乾燥することにより、膜厚３．０μｍの保護層を電荷輸送層上に形成した。
上記化学式２で表される電荷輸送物質          ６０質量部
ポリカーボネート樹脂                      １００質量部
ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）            １６００質量部
トルエン                                  ４００質量部
酸化防止剤                                    ４質量部。
【０１９２】
［評価方法］
フルカラー印刷機（ｂｉｚｈｕｂ  ＰＲＥＳＳ  Ｃ１０７０；コニカミノルタ株式会社、「ｂｉｚｈｕｂ」は同社の登録商標）の帯電手段を帯電ローラ方式のものに改造し、感光体として上記実施例または比較例の感光体を搭載した画像形成装置を用意した。
【０１９３】
滑剤供給手段に備えられる滑剤ストックとしては、脂肪酸金属塩（ステアリン酸亜鉛）８０質量％および窒化ホウ素２０質量％が均質に混合されて成型されたものを実施例１〜６、８〜１３および比較例３〜５では使用し、脂肪酸金属塩（ステアリン酸亜鉛）８０質量％および窒化ホウ素１０質量％が均質に混合されて成型されたものを実施例７では使用した。また、脂肪酸金属塩（ステアリン酸亜鉛）のみを成型されたものを比較例１および２では使用した。
【０１９４】
各画像形成装置を用いて画像を形成し、その性能を評価した。
【０１９５】
（滑剤メモリ）
２０℃、５０％ＲＨで、カバレジ５０％のシアンベタ縦帯画像をＡ４横送りの向きで５，０００枚印字した後、全面ハーフ画像を出力し、帯部と非帯部と濃度差（滑剤メモリ）が発生したどうかを評価した。
Ａ：  濃度差なし（実用上問題なし）
Ｂ：  極僅かに濃度差有り（実用上問題なし）
Ｃ：  濃度差有り（実用上問題なし）
Ｄ：  濃度差有り（実用上問題あり）
Ｅ：  明確に濃度差有り（実用上問題あり）
【０１９６】
（クリーニング性）
１０℃、１５％ＲＨの低温低湿環境（ＬＬ環境）で、カバレジ５０％のシアンベタ縦帯画像をＡ４横送りの向きで３００，０００枚連続印刷する耐久試験を実施した。耐久試験の前後にクリーニング性を評価した。
具体的には、耐久試験前後の感光体およびクリーニングブレードを用いて、低温低湿環境（温度１０℃、湿度１５％ＲＨ）でカバレジ５０％のシアンベタ縦帯画像をＡ４縦送りの向きで５，０００枚連続印刷した後、全面ハーフ画像を出力した。その後、感光体および画像を目視で観察し、以下の基準に基づき評価した。
Ａ：  前面拭き残しなし（実用上問題なし）
Ｂ：  チッピングまたはフィルミングが発生したが、画像への影響なし（実用上問題なし）
Ｃ：  ブレードチッピング部のみで拭き残しまたはフィルミングが発生したが、画像への影響はわずかであった（実用上問題なし）
Ｄ：  ブレードチッピング部のみで拭き残しまたはフィルミングといった影響が画像に発生していた（実用上問題あり）
Ｅ：  全面に拭き残しまたはフィルミングが発生し、画像にも影響があった（実用上問題あり）
【０１９７】
（耐摩耗性）
１０℃、１５％ＲＨの低温低湿環境（ＬＬ環境）で、カバレジ５０％のシアンベタ縦帯画像をＡ４横送りの向きで３００，０００枚連続印刷する耐久試験を実施した。耐久試験の前後における感光体の最外層の膜厚減耗量を測定することにより、感光体の耐摩耗性を評価した。
【０１９８】
膜厚減耗量は以下の方法で算出した。
感光体の最外層の膜厚は、均一膜厚部分（膜厚プロフィールを作製し、塗布の先端部および後端部の膜厚変動部分を除いた部分）をランダムに１０ヶ所測定し、その平均値を最外層の膜厚とした。膜厚測定器は、渦電流方式の膜厚測定器「ＥＤＤＹ５６０Ｃ」（ＨＥＬＭＵＴ  ＦＩＳＣＨＥＲ  ＧＭＢＴＥ  ＣＯ社製）を用い、耐久試験前後の最外層の膜厚の差を膜厚減耗量（μｍ）として算出し、減耗量に応じて、以下の基準に従って評価した。
Ａ：  １．０μｍ以下（実用上問題なし）
Ｂ：  １．０μｍ超で２．０μｍ以下（実用上問題なし）
Ｃ：  ２．０μｍ超で３．０μｍ以下（実用上問題なし）
Ｄ：  ３．０μｍ超で４．０μｍ以下（実用上問題あり）
Ｅ：  ４．０μｍ超（実用上問題あり）
【０１９９】
上記評価結果を下記表１に示す。
【０２００】
【表１】
2020140166.tif 000007
【０２０１】
上記表１から明らかなように、感光体の最外層が、重合性モノマーと、表面処理剤で表面処理された少なくとも１種の金属酸化物粒子とを含む樹脂組成物の重合硬化物であり、且つ滑剤が脂肪酸金属塩と窒化ホウ素とを含む、実施例１〜１４の画像形成装置で画像を形成すると、滑剤メモリの発生が抑制され、クリーニング性も良好であり、且つ感光体の耐摩耗性も良好であった。特に、表面処理剤が、主鎖および側鎖がシリコーン種である実施例３は、表面処理剤の主鎖のみまたは側鎖のみがシリコーン種である実施例８や９と比べてクリーニング性に優れていた。また、シリコーン鎖を有する表面処理剤を使用せずに処理した金属酸化物粒子を含む感光体と、脂肪酸金属塩と窒化ホウ素とを含む滑剤とを組み合わせた実施例１４の画像形成装置は実用可能なレベルではあるものの、評価結果は他の実施例よりも低かった。
【０２０２】
一方、感光体の最外層は、重合性モノマーと、表面処理剤で表面処理された少なくとも１種の金属酸化物粒子とを含む樹脂組成物の重合硬化物であるが、滑剤が脂肪酸金属塩のみである比較例１の画像形成装置で画像を形成すると、滑剤メモリが発生し、画像の濃度差が大きかった。また、脂肪酸金属塩のみからなる滑剤とを組み合わせた比較例２の画像形成装置で画像を形成すると、いずれの場合もクリーニング性が非常に低かった。
【０２０３】
さらに、表面処理を全く施さない金属酸化物粒子を含む感光体を使用する比較例３の画像形成装置で画像を形成すると、滑剤メモリ、クリーニング性および感光体の耐摩耗性の全てが悪かった。また、感光体の最外層が、ポリマーと、表面処理剤で表面処理された少なくとも１種の金属酸化物粒子とを含む樹脂組成物の重合硬化物である比較例４の画像形成装置で画像を形成すると、感光体の耐摩耗性が非常に低かった。
【産業上の利用可能性】
【０２０４】
本発明の画像形成装置によれば、長期にわたりクリーニング性を維持し、且つ滑剤メモリの発生を抑制した、画像形成が可能である。そのため、本発明は、電子写真方式の画像形成装置の適用の幅を広げ、同分野の技術の進展および普及に貢献することが期待される。
【符号の説明】
【０２０５】
１１  帯電ローラ
１１ａ  芯金
１１ｂ  弾性層
１１ｃ  抵抗制御層
１１ｄ  表面層
１１ｅ  押圧バネ
２０  筐体
２１  ブラシローラ
２２  滑剤ストック
２３  加圧バネ
３０  ブレード部材
３１  支持部材
４１  母液槽
４１ａ  攪拌翼
４１ｂ、４３ｂ  シャフト
４１ｃ、４３ｃ  モーター
４２、４４  循環配管
４３  強分散装置
４３ａ  攪拌部
４５、４６  ポンプ
１００  画像形成装置
１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋ  画像形成ユニット
１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋ  感光体
１１３Ｙ、１１３Ｍ、１１３Ｃ、１１３Ｂｋ  帯電手段
１１４Ｙ、１１４Ｍ、１１４Ｃ、１１４Ｂｋ  滑剤除去手段
１１５Ｙ、１１５Ｍ、１１５Ｃ、１１５Ｂｋ  露光手段
１１６Ｙ、１１６Ｍ、１１６Ｃ、１１６Ｂｋ  滑剤供給手段
１１７Ｙ、１１７Ｍ、１１７Ｃ、１１７Ｂｋ  現像手段
１１８Ｙ  均しブレード
１１９Ｙ、１１９Ｍ、１１９Ｃ、１１９Ｂｋ  クリーニング手段
１３１  中間転写体
１３３Ｙ、１３３Ｍ、１３３Ｃ、１３３Ｂｋ  一次転写ローラ（転写手段）
１３５  クリーニング手段
１３７Ａ、１３７Ｂ、１３７Ｃ、１３７Ｄ  ローラ
１５０  給紙搬送手段
１７０  定着手段
２００  プロセスカートリッジ
２０１  筐体
２０３Ｒ、２０３Ｌ  支持レール
２１１  給紙カセット
２１３Ａ、２１３Ｂ、２１３Ｃ、２１３Ｄ  中間ローラ
２１５  レジストローラ
２１７  二次転写ローラ（転写手段）
２１９  排紙ローラ
２２１  排紙トレイ
Ａ  滑剤存在比率Ａを測定した部分
Ｂ  滑剤存在比率Ｂを測定した部分
Ｐ  転写材
ＳＣ  原稿画像読み取り装置
Ｓ１  電源
Ｓ２  流速
Ｓ３  供給速度
【図１】
2020140166.tif 000008
【図２】
2020140166.tif 000009
【図３】
2020140166.tif 000010
【図４】
2020140166.tif 000011