(57)【要約】【課題】撮像装置全体の小型化を図りつつも撮像素子へのブレ補正装置からの磁場の影響を低減することができる撮像装置及びブレ補正装置を提供する。【解決手段】撮像装置１００は、撮像素子６のブレを補正するブレ補正部１４及びその駆動を制御するカメラシステム制御部５を備える。ブレ補正部１４は、撮像素子６を保持すると共に撮影光学系３の光軸４と平行且つ一致したコイル軸を有する２つのサブコイルで構成される駆動コイル５５を配する可動枠５１と、可動枠５１を可動に支持すると共に駆動コイル５５と対向する位置に配される磁石７６を備える下面固定部７０を備える。ＰＷＭ制御で２つのサブコイルに矩形波の駆動電圧を印加して可動枠５１を移動する。また、２つのサブコイルの夫々に印加される駆動電圧は、直流成分の実行電圧の符号が同じであり且つ交流成分の矩形波の位相が異なる。【選択図】図４
2020140103.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像素子と、前記撮像素子のブレを補正するブレ補正部と、前記ブレ補正部の駆動を制御する駆動制御部とを備える撮像装置であって、
前記ブレ補正部は、
前記撮像素子を保持すると共に、２つのサブコイルにより構成される駆動コイルを配する可動部材と、
前記可動部材を可動に支持する支持部材及び前記駆動コイルと対向する位置に配される永久磁石を備える固定部材とを備え、
前記駆動制御部は、ＰＷＭ制御で前記２つのサブコイルに駆動信号として矩形波の駆動電圧を印加することで前記可動部材の移動を制御し、
前記２つのサブコイルに印加される前記駆動電圧は、直流成分の実行電圧の符号が同じであり且つ交流成分の前記矩形波の位相が異なることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記駆動制御部は、前記２つのサブコイルの一方に接続される第１のＰＷＭ制御部と、前記２つのサブコイルの他方に接続される第２のＰＷＭ制御部とを有することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記２つのサブコイルのコイル軸の方向は、互いに平行であることを特徴とする請求項１又は２記載の撮像装置。
【請求項４】
前記２つのサブコイルのコイル軸の方向は、それぞれ撮影光学系の光軸と平行であることを特徴とする請求項３記載の撮像装置。
【請求項５】
前記２つのサブコイルは、コイル軸が一致していることを特徴とする請求項３又は４記載の撮像装置。
【請求項６】
前記２つのサブコイルのそれぞれの巻き線を構成する導線が束となって巻かれて１つのコイルをなすことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記２つのサブコイルの前記導線は、材料、径、巻き線数、外形が互いに同一であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記駆動制御部は、前記２つのサブコイルの一方へ印加する前記駆動電圧の駆動波形が、前記２つのサブコイルの他方へ印加する前記駆動電圧の駆動波形に対し、立ち下がり及び立ち上がりが反転するように前記駆動電圧の交流成分の前記矩形波の位相を制御することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記駆動制御部は、前記２つのサブコイルにそれぞれ異なるデューティ比の駆動電圧を印加することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記駆動制御部は、前記撮像素子の動作周波数に応じて、前記２つのサブコイルにそれぞれ異なるデューティ比の駆動電圧を印加することを特徴とする請求項９記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記駆動コイルのコイル軸の空孔部分に磁気検出部を有し、
前記駆動コイルの全体のデューティ比に応じて、前記２つのサブコイルのうち前記磁気検出部から離間する方のサブコイルのデューティ比を前記磁気検出部に近接する方のサブコイルよりもデューティ比よりも５０％に近い値にすることを特徴とする請求項９又は１０記載の撮像装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の前記可動部材及び前記固定部材を備えることを特徴とするブレ補正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撮像装置及びブレ補正装置に関し、特に、撮影時のブレ補正を行う撮像装置及びこれに搭載されるブレ補正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、撮像装置の高性能化によりブレ補正装置が搭載される撮像装置が増えてきている。このようなブレ補正装置に用いられる方式には、光学レンズを光軸直交方向に移動させる方式と撮像素子を光軸直交方向に移動させる方式が挙げられる。
【０００３】
例えば特許文献１のブレ補正装置では、磁石とコイルからなるいわゆるボイスコイルモータにより、撮像素子を移動させてブレ補正が行われている。
【０００４】
一方、ボイスコイルモータのコイルからは磁場が発生し、電子機器へ影響を与えることがわかっている。そこで特許文献２では、レンズ鏡筒内にボイスコイルモータにより光学レンズを移動させてブレ補正を行うブレ補正装置に、ボイスコイルモータのコイルにより発生する磁場を遮蔽する為の磁性体からなる遮蔽部材が配されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−１５１０７号公報
【特許文献２】特開２０１７−１７３７５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１のブレ補正装置では、ボイスコイルモータのコイルが撮像素子の近傍に配置されているため、そのコイルから発生した磁場が撮像素子へ到達し、磁気ノイズとして画像への影響を与えることが考えられる。一方で、かかる影響を低減させるべく、撮像素子とコイルの間に特許文献２のような遮蔽部材を配すると撮像装置全体の大型化につながり好ましくない。
【０００７】
そこで発明の目的は、撮像装置全体の小型化を図りつつも撮像素子へのブレ補正装置からの磁場の影響を低減することができる撮像装置及びブレ補正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の請求項１に係る撮像装置は、撮像素子と、前記撮像素子のブレを補正するブレ補正部と、前記ブレ補正部の駆動を制御する駆動制御部とを備える撮像装置であって、前記ブレ補正部は、前記撮像素子を保持すると共に、２つのサブコイルにより構成される駆動コイルを配する可動部材と、前記可動部材を可動に支持する支持部材及び前記駆動コイルと対向する位置に配される永久磁石を備える固定部材とを備え、前記駆動制御部は、ＰＷＭ制御で前記２つのサブコイルに駆動信号として矩形波の駆動電圧を印加することで前記可動部材の移動を制御し、前記２つのサブコイルに印加される前記駆動電圧は、直流成分の実行電圧の符号が同じであり且つ交流成分の前記矩形波の位相が異なることを特徴とする。
【０００９】
本発明の請求項９に係るブレ補正装置は、前記可動部材及び前記固定部材を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、撮像装置全体の小型化を図りつつも撮像素子へのブレ補正装置からの磁場の影響を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】実施例１における撮像装置の中央断面図及び電気的構成を示すブロック図である。
【図２】図１におけるブレ補正部の斜視図及び分解斜視図である。
【図３】ブレ補正部の上面図及び断面図である。
【図４】図２、図３における駆動コイルの構成を示す模式図である。
【図５】図４の駆動コイルの電気回路を示すブロック図である。
【図６】ＰＷＭ制御のデューティ比が５０％である場合の、実施例１におけるＰＷＭ駆動制御を説明する図である。
【図７】図４の駆動コイル及び従来例の駆動コイルのそれぞれで発生する磁場の向きを表した断面模式図である。
【図８】ＰＷＭ制御のデューティ比が２０％である場合の、実施例１におけるＰＷＭ駆動制御を説明する図である。
【図９】ＰＷＭ制御のデューティ比と電流変化量を示すグラフである。
【図１０】図２、図３における駆動コイルの構成の変形例を示す模式図である。
【図１１】駆動コイルの全体のＰＷＭ制御のデューティ比が４０％である場合の、実施例２におけるＰＷＭ駆動制御を説明する図である。
【図１２】駆動コイルの全体のＰＷＭ制御のデューティ比が６０％である場合の、実施例２におけるＰＷＭ駆動制御を説明する図である。
【図１３】実施例２におけるＰＷＭ駆動制御の駆動周波数と磁場の関係を説明するグラフである。
【発明を実施するための形態】
【実施例１】
【００１２】
以下、図１から図５を参照して、実施例１に係るブレ補正装置としてのブレ補正部１４を備える撮像装置１００について説明する。
【００１３】
図１（ａ）は、本実施例に係る撮像装置１００の中央断面図であり、図１（ｂ）は、撮像装置１００の電気的構成を示すブロック図である。図１（ａ）および図１（ｂ）で同一の符号が付してある構成はそれぞれ同一の構成を示す。
【００１４】
図１（ａ）に示す様に、撮像装置１００は、そのハードウェア構成として、カメラボディ１、及びカメラボディ１に装着する撮影レンズ２を備える。
【００１５】
カメラボディ１は、カメラシステム制御部５、撮像素子６、背面表示装置９ａ、ＥＶＦ９ｂ、カメラボディ１と撮影レンズ２の電気接点１１、ブレ補正部１４、ブレ検知部１５、シャッタ機構１６、及びシャッタ駆動部１７を備える。
【００１６】
撮影レンズ２は、光軸４上に配置される複数のレンズからなる撮影光学系３、及びレンズシステム制御部１２を備える。
【００１７】
図１（ｂ）は、撮像装置１００の電気的構成を示すブロック図である。
【００１８】
カメラボディ１および撮影レンズ２からなる撮像装置１００は、撮像系、画像処理系、記録再生系（記録手段）、制御系を有する。
【００１９】
撮像系は、撮影光学系３、撮像素子６、シャッタ機構１６を含み、画像処理系は、画像処理部７を含む。
【００２０】
記録再生系は、メモリ部８、表示部９（表示部９は背面表示装置９ａ、ＥＶＦ９ｂを包含する）を含む。
【００２１】
制御系は、カメラシステム制御部５、操作検出部１０、レンズシステム制御部１２、レンズ駆動部１３、ブレ補正部１４、およびブレ検知部１５を含む。
【００２２】
レンズ駆動部１３は、撮影光学系３に含まれる焦点レンズ、絞りなどを駆動することができる。
【００２３】
ブレ検知部１５は、撮像素子６の光軸４に直交する平面内でのブレや光軸４周りの回転ブレなどのブレを検知する機構であり、振動ジャイロなどにより構成される。
【００２４】
ブレ補正部１４は、撮像素子６を光軸４に直交する平面内に並進させるとともに光軸４周りに回転させる機構であり、この具体的な構造については後述する。
【００２５】
撮像素子６は、複数の画素からなる受光部（不図示）で撮影光学系３を通過して集光された光束を光電変換する光学処理系である。撮像素子６からピント評価量／適当な露光量が得られるので、この信号に基づいて適切に撮影光学系３が調整されることで、適切な光量の物体光を撮像素子６に露光するとともに、撮像素子６近傍で被写体像が結像する。また、シャッタ機構１６はシャッタ幕を走行させることで撮像素子６に被写体像が届くか否かを制御する。シャッタ機構１６はカメラシステム制御部５からの命令によりシャッタ駆動部１７が駆動を制御する。
【００２６】
画像処理部７は、内部にＡ／Ｄ変換器、ホワイトバランス調整回路、ガンマ補正回路、補間演算回路等を有しており、記録用の画像を生成することができる。この補間演算回路（色補間処理手段）は、ベイヤ配列の信号から色補間（デモザイキング）処理を施してカラー画像を生成する。また、画像処理部７は、予め定められた方法を用いて画像、動画、音声などの圧縮を行う。
【００２７】
メモリ部８は、実際の記憶部を備えている。カメラシステム制御部５からの命令により、メモリ部８はその記録部へデータの出力を行うとともに、表示部９はユーザーに提示する像を表示する。
【００２８】
制御系は、カメラシステム制御部５、操作検出部１０、及びレンズシステム制御部１２からなり、外部操作に応動して撮像系、画像処理系、記録再生系をそれぞれ制御する。
【００２９】
例えば、不図示のシャッターレリーズ釦の押下を操作検出部１０が検出すると、カメラシステム制御部５は撮像の際のタイミング信号などを生成し、このタイミング信号に基づき、撮像素子６の駆動、画像処理部７の動作、圧縮処理などを制御する。さらにカメラシステム制御部５は表示部９によって情報表示を行う情報表示装置の各セグメントの状態を制御する。また、背面表示装置９ａはタッチパネルになっており、操作検出部１０に接続されている。
【００３０】
カメラシステム制御部５は、電気接点１１を介してレンズシステム制御部１２に指令を出し、レンズシステム制御部１２はレンズ駆動部１３を適切に制御する。
【００３１】
前述したように、操作検出部１０へのユーザー操作に応じて、撮像装置１００の各部の動作を制御することで、静止画および動画の撮影が可能となっている。
【００３２】
カメラシステム制御部５は、ブレ補正部１４により撮像素子６のブレを補正するにあたっては、ブレ検知部１５からの信号に基づいて後述するブレ補正部１４を動作させる。すなわち、ブレ検知部１５から目標値の生成および、ブレ補正部１４の駆動制御はカメラシステム制御部５（駆動制御部）が担っている。
【００３３】
図２、図３を用いて撮像素子６のブレを補正するブレ補正部１４について説明する。
【００３４】
図２（ａ）は、ブレ補正部１４の斜視図であり、図２（ｂ）は、ブレ補正部１４の分解斜視図である。図３（ａ）はブレ補正部１４の上面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ-Ａ断面で切った時の矢印側からみたブレ補正部１４の断面図である。図２、図３に示す座標系において、Ｚ軸の正方向に撮影レンズ２が配される。また、図２において縦の線は光軸４と平行な方向である。
【００３５】
図２（ｂ）に示す様に、ブレ補正部１４は、撮像素子６と一体となって構成される可動部５０、その上面に配置される上面固定部（固定部材）６０、及びその下面に配置される下面固定部（固定部材）７０を備える。
【００３６】
可動部５０は、可動枠（可動部材）５１、駆動コイル５５，５６，５７、磁気センサ５３ａ，５３ｂ、５３ｃ（磁気検出手段）、及びＦＰＣ（フレキシブルパターンコイル）５２（実装部材）を備える。なお、詳細は後述するが駆動コイル５５は、サブコイル５５ａ，５５ｂからなり、同様に駆動コイル５６はサブコイル５６ａ，５６ｂからなり、駆動コイル５７はサブコイル５７ａ，５７ｂからなる。
【００３７】
上面固定部６０は、上面ヨーク６１、及び永久磁石である磁石６２ａ，６２ｂ，６２ｃ，６２ｄ，６２ｅ，６２ｆ（以下、総称する場合、磁石６２という）を備える。
【００３８】
下面固定部７０は、ベース板７１、ボール転動面７２ａ，７２ｂ，７２ｃ、メインスペーサ７３ａ，７３ｂ，７３ｃ、サブスペーサ７４ａ，７４ｂ，７４ｃ、下面ヨーク７５、及び永久磁石である磁石７６ａ，７６ｂ，７６ｃ，７６ｄ，７６ｅ，７６ｆを備える。さらに、下面固定部７０は、可動枠５１を可動に支持する転動ボール７７ａ，７７ｂ，７７ｃ（支持部材）を備える。尚、以下、磁石７６ａ，７６ｂ，７６ｃ，７６ｄ，７６ｅ，７６ｆを総称する場合、磁石７６という。同様に、転動ボール７７ａ，７７ｂ，７７ｃを総称する場合、転動ボール７７という。
【００３９】
上面固定部６０の上面ヨーク６１及び磁石６２と、下面固定部７０の下面ヨーク７５及び磁石７６がブレ補正部１４の磁気回路を形成しており、いわゆる閉磁路を為している。ここで、磁石６２は上面ヨーク６１に吸着した状態で接着固定され、同様に磁石７６は下面ヨーク７５に吸着した状態で接着固定されている。
【００４０】
各磁石６２，７６は光軸４方向に着磁されており、隣接する磁石６２ａ，６２ｂ、磁石６２ｃ，６２ｄ、磁石６２ｅ，６２ｆ、磁石７６ａ，７６ｂ、磁石７６ｃ，７６ｄ、及び磁石７６ｅ，７６ｆの組み合わせは、お互いに異なる向きに着磁されている。例えば図３（ｂ）において、隣接する磁石６２ｅ，６２ｆ内のＳ、Ｎの記号は、これらの磁石の着磁方向が異なる向きであることを示し、同様に隣接する磁石７６ｅ，７６ｆ内のＳ、Ｎの記号は、これらの磁石の着磁方向が異なる向きであることを示す。
【００４１】
また、対向する向きに配置される磁石６２ａ，７６ａ、磁石６２ｂ，７６ｂ、磁石６２ｃ，７６ｃ、磁石６２ｄ，７６ｄ、磁石６２ｅ，７６ｅ、及び磁石６２ｆ，７６ｆは、お互いに同じ向きに着磁されている。例えば図３（ｂ）において、対向する向きに配置される磁石６２ｅ，７６ｅ内のＳ、Ｎの記号は、これらの磁石の着磁方向が同じ向きであることを示す。同様に、対向する向きに配置される磁石６２ｆ，７６ｆ内のＳ、Ｎの記号は、これらの磁石の着磁方向が同じ向きであることを示す。このようにすることで、上面ヨーク６１と下面ヨーク７５の間に光軸方向に強い磁束密度が生じる。尚、光軸方向に磁束が生じる構成であれば本実施例の形態に限定されない。例えば、ブレ補正部１４は、上面ヨーク６１を有する上面固定部６０及び下面ヨーク７５を有する下面固定部７０の一方の固定部のみを有していてもよい。この場合、その固定部には、駆動コイル５５〜５７の夫々と対向する位置に磁石が配置され、且つ転動ボール７７が配置される。
【００４２】
上面ヨーク６１と下面ヨーク７５の間には、メインスペーサ７３ａ，７３ｂ，７３ｃとサブスペーサ７４ａ，７４ｂ，７４ｃが配されて所定の間隔が保たれている。上面ヨーク６１と下面ヨーク７５の間には隙間をもって可動部５０が配されている。メインスペーサ７３ａ，７３ｂ，７３ｃの円筒側面部にはゴムが設置されており、可動部５０の機械的端部（いわゆるストッパー）を形成している。
【００４３】
ベース板７１には磁石７６をよけるように穴が設けられており、この穴から磁石の面が突出するように構成される。そして、不図示のビスによりベース板７１と下面ヨーク７５が固定され、ベース板７１よりも厚み方向の寸法が大きい磁石７６がベース板７１から突出するように固定される。
【００４４】
可動枠５１に対して各要素が固定されて可動部５０を為している。可動枠５１は非磁性のアルミダイキャストで形成されている。可動枠５１に対し、撮像素子６及びＦＰＣ５２が保持されている。さらに実装部材であるＦＰＣ５２の下面固定部７０側（Ｚ軸負の方向）の面には駆動コイル５５，５６，５７が実装されており、不図示のコネクタを介して外部との電気的なやり取りを行う。駆動コイル５５，５６，５７は巻き線による中空部の軸方向が光軸４と略平行になっており、さらに撮像素子６に対し略同一平面に配置されている。さらに、駆動コイル５５，５６，５７の巻き線の内側である中空部内には磁気センサ５３ａ，５３ｂ，５３ｃが実装されている。例えば、図３（ｂ）では駆動コイル５７の巻き線による中空部内に磁気センサ５３ｃが配されている。磁気センサ５３ａ，５３ｂ，５３ｃは前述した磁気回路を利用して可動部５０の光軸４に対し略直交平面に移動したときの位置を検出することができ、例えばホール素子などを用いることが出来る。磁気センサ５３ａ，５３ｂ，５３ｃもＦＰＣ５２上に実装され不図示のコネクタを介して外部との電気的なやり取りを行う。
【００４５】
上述した構成により、カメラシステム制御部５（駆動制御部）は、ＦＰＣ５２を介して駆動コイル５５，５６，５７に電流を流すことで、フレミング左手の法則に従った力を可動部５０において発生させることで、可動部５０を動かすことが出来る。また、前述した磁気センサ５３ａ，５３ｂ，５３ｃの信号を用いることでフィードバック制御を行うことが出来る。磁気センサ５３ａ，５３ｂ，５３ｃからの信号の値を適当に制御し、駆動コイル５５，５６，５７に流す電流を制御することで光軸４に直交する平面内で併進方向及び略光軸４と平行な軸に対し回転方向に駆動することが出来る。例えば、駆動コイル５５への電流を制御することで可動部５０は示すＸ軸に平行な方向に併進移動する。また、駆動コイル５６，５７への電流を制御することで可動部５０はＹ軸に平行な方向に併進移動、または光軸４と平行な軸に対して回転移動をすることができる。フィードバック制御を含む制御方法の詳細に関しては多くの提案がなされているので、ここではこれ以上詳述はしない。
【００４６】
本実施例のカメラシステム制御部５（駆動制御部）は駆動コイル５５，５６，５７に電流を流す際の駆動電圧を制御するのにパルス幅のデューティ比を制御する、いわゆるＰＷＭ制御を行う。ＰＷＭ制御はデューティ比を制御して高周波の矩形状の交流波の駆動電圧を、駆動コイル５５，５６，５７を成すそれぞれのサブコイルに印加する。このため、各サブコイルには低周波の直流電流とともに、振幅の小さいＰＷＭ制御の駆動周波数による高周波の矩形波の交流電流が重畳して流れることとなる。このように駆動コイル５５，５６，５７へ電流を流すことにより駆動コイル５５，５６，５７から磁場が発生し、撮像素子６に磁場が到達することで、撮像素子６の映像信号に磁気ノイズを発生させる。特に、この磁気ノイズは、本実施例のようにＰＷＭ制御の駆動周波数による高周波の電流の変化があると大きくなることが知られている。
【００４７】
次に駆動コイル５５，５６，５７について説明する。尚、これらは同一の構成を有するので、代表して駆動コイル５５の構成について説明する。
【００４８】
図４は、駆動コイル５５の構成を示す模式図である。
【００４９】
具体的には、図４（ａ）は駆動コイル５５の斜視図であり、図４（ｂ）は駆動コイル５５の上面図であり、図４（ｃ）は側面図であり、図４（ｄ）は駆動コイル５５の分解斜視図である。
【００５０】
図４に示す様に、駆動コイル５５は、巻線を構成する導線により構成されるサブコイル５５ａとサブコイル５５ｂからなる。また、サブコイル５５ａを成す巻線の中心であるコイル軸が、サブコイル５５ｂを成す巻線の中心であるコイル軸と略一致するように平行に配されている。図４に示すコイル軸８１は、サブコイル５５ａのコイル軸及びサブコイル５５ｂのコイル軸であり、光軸４と平行である。このように２つのサブコイル５５ａとサブコイル５５ｂを一体にして駆動コイル５５は成っている。同様に駆動コイル５６はサブコイル５６ａ，５６ｂからなり、駆動コイル５７はサブコイル５７ａ，５７ｂからなる。サブコイル５５ａ，５５ｂは、夫々の巻線を構成する導線の材料、径、巻き線数、外形が略同一である同じ特性のコイルからなっている。なお、後述するように、サブコイル５５ａ，５５ｂから発生する磁場が互いを打ち消す効果を高めるためにはサブコイル５５ａとサブコイル５５ｂのコイル軸は互いに平行であることが好ましい。しかしながら、サブコイル５５ａとサブコイル５５ｂのコイル軸がわずかに傾斜していても発生する磁場が互いを打ち消す効果を得ることができる。また、サブコイル５５ａのコイル軸及びサブコイル５５ｂのコイル軸が光軸４と平行でない構成であってもよい。さらに、サブコイル５５ａのコイル軸とサブコイル５５ｂのコイル軸が一致させることが好ましいが、互いのコイル軸がわずかにずれていても磁場が互いを打ち消す効果を得ることができる。さらに、サブコイル５５ａ，５５ｂは、夫々の巻線を構成する導線の材料、径、巻き線数、外形が同一でなくてもよい。
【００５１】
図５は、駆動コイル５５の電気回路を示すブロック図である。            
【００５２】
図５に示す様に、駆動コイル５５は、第１のＰＷＭ制御部３２ａ、第２のＰＷＭ制御部３２ｂ、及び駆動電圧生成部３１を有するコイル駆動部３０を備える。
【００５３】
サブコイル５５ａの導線の両端部は第１のＰＷＭ制御部３２ａに接続され、サブコイル５５ｂの導線の両端部は第２のＰＷＭ制御部３２ｂに接続されている。
【００５４】
駆動電圧生成部３１は、可動部５０を移動させるための駆動コイル５５へ印加する駆動電圧を生成し、第１のＰＷＭ制御部３２ａと第２のＰＷＭ制御部３２ｂへ送信する。
【００５５】
第１のＰＷＭ制御部３２ａは、駆動電圧生成部３１から送信された駆動電圧に応じてＰＷＭ制御のデューティ比を決定し、サブコイル５５ａにＰＷＭ駆動波形を印加する。同様に、第２のＰＷＭ制御部３２ｂは、駆動電圧生成部３１から送信された駆動電圧に応じてＰＷＭ制御のデューティ比を決定し、サブコイル５５ｂにＰＷＭ駆動波形を印加する。このようにサブコイル５５ａ，５５ｂはそれぞれ第１及び第２のＰＷＭ制御部３２ａ，３２ｂからのＰＷＭ駆動波形が印加される。説明を割愛するが、サブコイル５６ａ，５６ｂ及び５７ａ，５７ｂにおいても、それぞれに異なるＰＷＭ制御部が接続されている。
【００５６】
次に、第１及び第２のＰＷＭ制御部３２ａ，３２ｂから印加されるＰＷＭ駆動波形について説明する。
【００５７】
図６は、ＰＷＭ制御のデューティ比が５０％である場合の、本実施例における第１及び第２のＰＷＭ制御部３２ａ，３２ｂによるＰＷＭ駆動制御を説明する図である。
【００５８】
具体的には、図６（ａ）は、サブコイル５５ａに印加される駆動電圧のＰＷＭ駆動波形を示し、図６（ｂ）はサブコイル５５ｂに印加される駆動電圧のＰＷＭ駆動波形を示す。また、図６（ｃ）はサブコイル５５ａに流れる電流の波形を示し、図６（ｄ）はサブコイル５５ｂに流れる電流の波形を示す。いずれも、横軸は時間を示す。
【００５９】
期間１０１は、第１及び第２のＰＷＭ制御部３２ａ，３２ｂによるＰＷＭ制御の１周期に相当する。
【００６０】
サブコイル５５ａに図６（ａ）に示すＰＷＭ駆動波形の駆動電圧が印加された場合、サブコイル５５ａに図６（ｃ）に示す波形１０２ａの電流が流れる。この波形１０２ａの平均値である、サブコイル５５ａに流れる電流の直流成分１０２ｂが駆動コイル５５による駆動力を発生させる。その一方、期間１０１における波形１０２ａで示すサブコイル５５ａの交流の電流の変化により磁場が発生する。発生する磁場は矢印１０４で示す交流の電流の変化の量に比例し、電流の増加、または減少に応じて発生する磁場の向きが決まる。この発生した磁場が撮像素子６に到達し、撮像素子６の映像信号に磁気ノイズを発生させる。なお、発生する磁場の強度は、上述したように電流の時間当たりの変化の量以外に、サブコイル５５ａの巻き線数にも比例する。
【００６１】
なお、サブコイル５５ａ，５５ｂは図６（ａ），（ｂ）に示すように電圧＋Ｖｃが印加されたとき、サブコイル５５ａ，５５ｂにはそれぞれ図４（ｄ）の矢印８２，８３の向きの電流が流れるように構成されている。つまり、第１のＰＷＭ制御部３２ａと第２のＰＷＭ制御部３２ｂの駆動電圧の直流成分の符号が同じである時は、サブコイル５５ａ，５５ｂに流れる電流の向きは同じなので、可動部５０へ与える駆動力の方向は一致する。第１及び第２のＰＷＭ制御部３２ａ，３２ｂの駆動電圧の直流成分とは、いわゆるＰＷＭ制御の実行電圧に相当し、直流成分が同じ符号であるとは、実行電圧の正負が同じであることを示す。
【００６２】
次に、ＰＷＭ駆動波形で印加される駆動電圧の位相について述べる。図６（ｂ）に示すように、サブコイル５５ｂに印加される駆動電圧のＰＷＭ駆動波形は、図６（ａ）のサブコイル５５ａに印加される駆動電圧のＰＷＭ駆動波形に対し、立ち上がり及び立ち下がりが反転している。例えば、時刻ｔ１ではサブコイル５５ａの駆動電圧は０から＋Ｖｃに立ち上がっているが、サブコイル５５ｂの駆動電圧は＋Ｖｃから０に立ち下がっている。つまり、サブコイル５５ａ，５５ｂに対し、直流成分は同じ符号であるが、交流成分である矩形波の位相が異なった駆動電圧が送信される。この結果、図６（ｄ）に示すように、サブコイル５５ｂの電流の直流成分１０３ｂはサブコイル５５ａの直流成分１０２ｂと同じだが、電流の交流成分は反転したものとなる。つまり、サブコイル５５ａの電流が増加するタイミングで、サブコイル５５ｂの電流が減少するので、サブコイル５５ａとサブコイル５５ｂで発生する磁場の方向は反転したものとなる。
【００６３】
図７は、駆動コイル５５及び従来の駆動コイル１１１のそれぞれで発生する磁場の向きを表した断面模式図である。具体的には、図７（ａ）は本実施例のサブコイル５５ａ，５５ｂからなる駆動コイル５５を示しており、図７（ｂ）は従来の１つのコイルからなる駆動コイル１１１を示している。また、コイル軸８１は、駆動コイル５５のコイル軸を示し、コイル軸１１２は、駆動コイル１１１のコイル軸を示す。さらに、ＰＷＭ制御の交流成分に起因して発生する磁場の発生向きを矢印で示す。
【００６４】
図７（ａ）では説明の為にサブコイル５５ａ，５５ｂの間には隙間を設けているが、実際は接している。
【００６５】
まず、従来の駆動コイル１１１は図７（ｂ）の矢印で示すように、駆動コイル１１１のコイル軸１１２を中心とした上向きの磁場が発生している。一方、本実施例では図７（ａ）で示すように、サブコイル５５ａからは図７（ａ）の向かって下方向の磁場が発生し、逆にサブコイル５５ｂからは図７（ａ）の向かって上方向の磁場が発生する。
【００６６】
図７（ａ）のようにサブコイル５５ａ，５５ｂでは磁場の発生方向が逆に向いているので、発生する磁場を打ち消しあうことにより、撮像素子６へ到達する磁場を抑えることができる。そして、上述したように駆動電圧の直流成分はサブコイル５５ａ，５５ｂで同じ向きであるので、図７（ｂ）の駆動コイル１１１にデューティ比５０％のＰＷＭ駆動波形の駆動電圧を印加した時と同様の駆動力を発生することができる。なお、サブコイル５５ａ，５５ｂは巻き線の導線の径、巻き線数、外形が略同一である同じ特性のコイルからなっている。よって、図６（ａ），（ｂ）のようなＰＷＭ駆動波形の駆動電圧を印加した場合、図７（ａ）の矢印で示すサブコイル５５ａ，５５ｂで発生する各磁場の強度は略同等である。
【００６７】
以上、図６を用いて、ＰＷＭ制御のデューティ比が５０％の場合について説明した。次に、図８、図９を用いて、ＰＷＭ制御のデューティ比が５０％以外である場合について述べる。
【００６８】
図８は、ＰＷＭ制御のデューティ比が２０％である場合の、本実施例における第１及び第２のＰＷＭ制御部３２ａ，３２ｂによるＰＷＭ駆動制御を説明する図である。
【００６９】
図６と同様に、図８（ａ）は、サブコイル５５ａに印加される駆動電圧のＰＷＭ駆動波形を示し、図８（ｂ）は、サブコイル５５ｂに印加される駆動電圧のＰＷＭ駆動波形を示す。また、図８（ｃ）は、サブコイル５５ａに流れる電流の波形を示し、図８（ｄ）は、サブコイル５５ｂに流れる電流の波形を示す。いずれも、横軸は時間を示す。
【００７０】
ＰＷＭ制御のデューティ比が２０％のため、図８（ｃ），（ｄ）ではサブコイル５５ａ，５５ｂの電流の直流成分１０６ｂ，１０７ｂが最大値＋Ｉｃの２０％の値となる。
【００７１】
時刻ｔ３において、図８（ａ）に示す様にサブコイル５５ａのＰＷＭ駆動波形は立ち上がり、図８（ｂ）に示す様にサブコイル５５ｂのＰＷＭ駆動波形は立ち下がっている。また、時刻ｔ６において、図８（ａ）に示す様にサブコイル５５ａのＰＷＭ駆動波形は立ち下がり、図８（ｂ）に示す様にサブコイル５５ｂのＰＷＭ駆動波形は立ち上がっている。一方でＰＷＭ制御のデューティ比が２０％のため、時刻ｔ４においては、図８（ａ）に示す様にサブコイル５５ａのＰＷＭ駆動波形が立ち下がっているが、図８（ｂ）に示す様にサブコイル５５ｂのＰＷＭ駆動波形は立ち上がっていない。また時刻ｔ５においては、図８（ｂ）に示す様にサブコイル５５ｂのＰＷＭ駆動波形が立ち上がっているが、図８（ａ）に示す様にサブコイル５５ａのＰＷＭ駆動波形は立ち下がっていない。その結果、期間１０５においてはサブコイル５５ａとサブコイル５５ｂの電流の流れる方向が同じ向きであり且つ発生する磁場の向きも揃う。よって、サブコイル５５ａ，５５ｂから発生する磁場が互いを打ち消す効果がなくなり、駆動コイル５５全体から発生する磁場の向きと量は従来の駆動コイル１１１と同じになる。しかしながらＰＷＭ制御のデューティ比が５０％から２０％に下がることにより、図８（ｃ）の矢印１０８で示す交流の電流の変化の量は図６のデューティ比５０％の時の矢印１０４で示す交流の電流の変化の量に比べて小さくなる。これに応じて、サブコイル５５ａ，５５ｂから発生する磁場の量も小さくなる結果、撮像素子６に到達する磁場による磁気ノイズも図６の場合より図８の場合の方が小さくなる。
【００７２】
図９は、ＰＷＭ駆動制御のデューティ比と電流の変化量を示すグラフである、図９において、横軸にデューティ比を示し、縦軸に電流の変化量が最大時を１として正規化したときの電流の変化量の割合を示す。
【００７３】
図９に示すように、デューティ比が５０％の時に電流の変化量は最大になり、デューティ比が５０％に対し大きくなるか、小さくなるにつれて電流の変化量の割合は小さくなる。つまり、デューティ比が５０％でない場合は、磁場の打消しが効果は小さくなるが発生する磁場の量も小さくなるので、デューティ比５０％以外の場合においても発生する磁気ノイズは低減される。また、図８の期間１０５で示したような磁場の打ち消し効果が発生しない期間は、デューティ比が５０％近傍では短く、デューティ比が０％、または１００％に近づくほど長くなる。よって、デューティ比が５０％近傍であれば、磁場の打ち消し効果が得られなかったとしても、サブコイル５５ａ，５５ｂから発生する磁場の向きが揃う期間は短いので、撮像素子６の映像信号への磁気ノイズの影響は少ない。
【００７４】
以上説明したように、本実施例では駆動コイル５５のサブコイル５５ａ，５５ｂに対し、直流成分の符号は同じであるが、交流成分の矩形波の位相が異なるＰＷＭ駆動波形の駆動電圧が印加される。これにより、可動部５０への駆動力を保ちつつも、矩形波の交流成分に起因する磁場の発生を抑えることができ、撮像装置１００全体の小型化を図りつつも撮像素子６への磁場の影響を低減することができる。
【００７５】
なお、本実施例では駆動コイル５５を例にとり説明を行なったが、駆動コイル５６，５７についても同様の制御を行なうことで、同様に矩形波の交流成分に起因する磁場の発生を抑えることできる。ただし、少なくとも１つ以上の駆動コイルが２つのサブコイルから成り、図６で説明したような駆動制御を行なっていれば本発明の要旨を満たすこととなる。例えば、駆動コイル５５，５６，５７の周辺構造や、撮像素子６との相対的配置によっては、最も磁場の発生時に撮像素子６への影響が少ない駆動コイルのみを、２つのサブコイルから成るようにしてもよい。
【００７６】
また、本実施例では駆動コイル５５を同形状のサブコイル５５ａ，５５ｂをコイル軸が略一致するように重ねて構成したが、光軸４と平行且つ一致したコイル軸を有していればこれに限定されない。例えば以下の図１０に示すような構成でも構わない。
【００７７】
図１０は、駆動コイル５５の構成の変形例を示す模式図である。
【００７８】
具体的には、図１０（ａ）は駆動コイル５５の斜視図を、図１０（ｂ）は駆動コイル５５の図１０（ａ）のＡ―Ａ部での模式断面図を示している。図１０（ｂ）の断面図では説明のために導線の断面を駆動コイル５５の外形に対し模式的に大きく示している。
【００７９】
図１０（ａ）に示すように駆動コイル５５の外観は、１本の導線からなる通常のコイルと同様であるが、同一の材料及び径からなる２本の導線が束となって巻かれて一つのコイルをなしている。図１０（ｂ）の断面図において、黒く塗りつぶした円はサブコイル１１４の導線を示しており、白抜きで示した円はサブコイル１１５の導線を示している。
【００８０】
導線の端部１１４ａ，１１４ｂは、サブコイル１１４の端部を示し、同様に導線の端部１１５ａ，１１５ｂは、サブコイル１１５の端部を示している。サブコイル１１４の端部１１４ａ，１１４ｂが第１のＰＷＭ制御部３２ａに接続され、サブコイル１１５の端部１１５ａ，１１５ｂが第２のＰＷＭ制御部３２ｂに接続される。以上のように図１０で示す駆動コイル５５は２本の導線を束にして一つのコイルを構成している。このように駆動コイル５５を構成し、上述したようにカメラシステム制御部５（駆動制御部）を制御してもサブコイル１１４，１１５から発生する磁場の打ち消し効果を得ることができる。
【実施例２】
【００８１】
次に、実施例２について説明する。尚、本実施例における撮像装置１００のハードウェア構成及び電気的構成は実施例１の図１、図２で示した撮像装置１００と同様であるため説明を省略する。
【００８２】
図２、図３で示した、駆動コイル５５のコイル軸の空孔部分に磁気検出部である磁気センサ５３ａを配した場合、次のような課題がある。駆動コイル５５に対し、手ブレ帯域の周波数よりは高い、例えば数１００Ｈｚから数ｋＨｚの駆動電圧を印加した場合、駆動コイル５５から発生する磁場を磁気センサ５３ａが検出してしまうことが考えられる。特に、駆動コイル５５に印加する駆動電圧の周波数が高くなると発生する磁場の影響が大きくなるため、可動部５０が移動していなくても磁気センサ５３ａの検出結果より可動部５０が移動したと誤検出してしまい、誤った制御を行なってしまうという課題がある。例えば、可動部５０の駆動の周波数特性によっては、そのような検出が行なわれた状態で駆動信号が入力されると発振をし、意図せぬ動作をするおそれがある。そこで本実施例では、２つのサブコイル５５ａ，５５ｂのデューティ比を異ならせつつ、デューティ比の平均値を駆動コイル５５全体の駆動電圧のデューティ比と同等にするように制御する。そして、駆動コイル５５全体のデューティ比に応じて、サブコイル５５ａ，５５ｂのうち磁気センサ５３ａから離間する方のサブコイルのデューティ比を、磁気センサ５３ａに近接する方のサブコイルよりも５０％に近い値に設定する。これにより、磁気センサ５３ａへの駆動コイル５５から発生する磁場の影響を少なくすることができる。
【００８３】
図１１は、駆動コイル５５全体のＰＷＭ制御のデューティ比が４０％である場合の、第１及び第２のＰＷＭ制御部３２ａ，３２ｂによるＰＷＭ駆動制御を説明する図である。
【００８４】
図６と同様に、図１１（ａ）は、サブコイル５５ａに印加される駆動電圧のＰＷＭ駆動波形を示し、図１１（ｂ）は、サブコイル５５ｂに印加される駆動電圧のＰＷＭ駆動波形を示す。また、図１１（ｃ）は、サブコイル５５ａに流れる電流の波形を示し、図１１（ｄ）は、サブコイル５５ｂに流れる電流の波形を示す。いずれも、横軸は時間を示す。
【００８５】
駆動コイル５５全体の駆動電圧のデューティ比が５０％以下の４０％であったとすると、図１１（ａ），（ｂ）で示す様に第１のＰＷＭ制御部３２ａはデューティ比を０％に、第２のＰＷＭ制御部３２ｂはデューティ比を８０％に設定する。つまり、サブコイル５５ａ，５５ｂにそれぞれ異なるデューティ比の駆動電圧を印加し、磁気センサ５３ａから距離が離間する方のサブコイル５５ｂのデューティ比を高くしている。この時２つのサブコイル５５ａ，５５ｂのＰＷＭ制御のデューティ比の平均値は４０％なので、駆動コイル５５全体のデューティ比は４０％となる。この場合、図１１（ｃ）に示す様に、サブコイル５５ａは電流変化がなく、図１１（ｄ）に示す様に、サブコイル５５ｂのみに電流が流れる。この結果、駆動コイル５５全体で発生する磁場は矢印１１７に示すサブコイル５５ｂの電流の変化の量のみにより定まるので、サブコイル５５ａ，５５ｂのＰＷＭ制御のデューティ比をともに４０％に設定した場合より少なくなる。また、実施例１の図３（ｂ）で示すようにサブコイル５５ｂはサブコイル５５ａに比べて磁気センサ５３ａから遠くに設置されている。これにより、サブコイル５５ａのデューティ比を８０％に、サブコイル５５ｂのデューティ比を０％に設定するよりも駆動コイル５５から発生する磁気センサ５３ａに到達する磁場の影響は小さくなる。駆動コイル５５全体のデューティ比が０％から５０％までは上述のように制御される。
【００８６】
次に図１２を用いて、駆動コイル５５全体の駆動電圧のデューティ比が５０％を超える場合において説明する。
【００８７】
図１２は、駆動コイル５５全体のＰＷＭ制御のデューティ比が６０％である場合の、第１及び第２のＰＷＭ制御部３２ａ，３２ｂによるＰＷＭ駆動制御を説明する図である。
【００８８】
図６と同様に、図１２（ａ）は、サブコイル５５ａに印加される駆動電圧のＰＷＭ駆動波形を示し、図１２（ｂ）は、サブコイル５５ｂに印加される駆動電圧のＰＷＭ駆動波形を示す。また、図１２（ｃ）は、サブコイル５５ａに流れる電流の波形を示し、図１２（ｄ）は、サブコイル５５ｂに流れる電流の波形を示す。いずれも、横軸は時間を示す。
【００８９】
駆動コイル５５全体の駆動電圧のデューティ比が５０％以上の６０％であったとすると、図１２（ａ），（ｂ）で示す様に第１のＰＷＭ制御部３２ａはデューティ比を１００％に、第２のＰＷＭ制御部３２ｂはデューティ比を２０％に設定する。つまり、磁気センサ５３ａに近い側のサブコイル５５ｂのデューティ比を優先して高くしている。この時２つのサブコイル５５ａ，５５ｂのＰＷＭ制御のデューティ比の平均値は６０％なので、駆動コイル５５全体のデューティ比は６０％となる。一方、図１２（ｃ）に示す様にサブコイル５５ａは電流変化がなく、図１２（ｄ）に示す様な電流がサブコイル５５ｂに流れる。この結果、駆動コイル５５ａ全体で発生する磁場は矢印１１８に示すサブコイル５５ｂの電流の変化の量にのみにより定まるので、サブコイル５５ａ，５５ｂのＰＷＭ制御のデューティ比をともに６０％に設定した場合より少なくなる。そして同様に、サブコイル５５ｂはサブコイル５５ａに比べて磁気センサ５３ａから遠いので、サブコイル５５ａのデューティ比を２０％に設定するよりも磁気センサ５３ａに到達する駆動コイル５５で発生する磁場の影響は小さくなる。
【００９０】
以上のように本実施例では、磁気センサ５３ａからの位置に応じてサブコイル５５ａ，５５ｂにそれぞれ異なるデューティ比の駆動電圧を印加している。さらに、サブコイル５５ａ，５５ｂのうち磁気センサ５３ａからより離間した位置にあるサブコイル５５ｂのデューティ比をサブコイル５５ａよりも、デューティ比５０％に近い値にするよう制御する。具体的には、駆動コイル５５全体のデューティ比が５０％以下の時は、磁気センサ５３ａに近い側のサブコイル５５ａのデューティ比を０％とし、磁気センサ５３ａから遠い側のサブコイル５５ｂのデューティ比を０％から１００％の間で制御する。つまり、サブコイル５５ａ，５５ｂのうち磁気センサ５３ａから遠い側のサブコイル５５ｂのデューティ比のほうをデューティ比５０％に近い値に設定する。そして、５０％を越える時は磁気センサ５３ａに近い側のサブコイル５５ａのデューティ比を１００％とし、磁気センサ５３ａから遠い側のサブコイル５５ｂのデューティ比を０％から５０％の間で制御する。つまり、サブコイル５５ａ，５５ｂのうち磁気センサ５３ａから遠い側のサブコイル５５ｂのデューティ比のほうをデューティ比５０％に近い値に設定する。このように制御することで、撮像素子６への磁場の影響を低減しつつ、駆動コイル５５で発生する磁場により磁気センサ５３ａが誤検出するのを低減することができる。
【００９１】
また、撮像素子６は受光部における各画素で光を信号に変える動作周波数をもつ。例えば、撮像素子６において、この動作周波数に従い各行の画素が順次光を取り込み、電気信号に変換する。この動作周波数と駆動コイル５５から発生する磁場の持つ周波数の関係により、磁場による影響で発生する映像信号の乱れ方が変化する。
【００９２】
例えば、撮像素子６の動作周波数と駆動コイル５５から発生する磁場の周波数が一致する場合や、その動作周波数の倍数と磁場の周波数が一致している場合は、撮像素子６の全画素に同じレベルの磁気ノイズがのるため、映像信号の乱れは小さくなる。
【００９３】
逆に撮像素子６の動作周波数に対して、駆動コイル５５から発生する磁場のもつ周波数が半周期など大きくずれていると、撮像素子６の画素毎で磁気ノイズの大きさが異なり、結果として、映像信号の乱れは大きくなる。したがって、撮像素子６には、撮像素子６の動作周波数に伴い、映像信号の乱れが大きくなる、あるいは小さくなる磁場の周波数がある。
【００９４】
実施例２では、サブコイル５５ａ，５５ｂにそれぞれ異なるデューティ比の駆動電圧を印加している。駆動電圧のデューティ比を変えると、駆動波形のもつ周波数特性も変わる。したがって、サブコイル５５ａ，５５ｂそれぞれに与えるデューティ比を変えることで、撮像素子６にもっとも影響する磁場の周波数をもつデューティ比をさけた駆動を行うこともできる。このように制御することで、撮像素子６への磁場の影響をより低減しつつ、駆動コイル５５で発生する磁場により磁気センサ５３ａが誤検出するのを低減することができる。
【００９５】
図１３を用いてＰＷＭ駆動周波数と撮像素子６の動作周波数の関係について述べる。図１３は駆動コイル５５へのＰＷＭ駆動信号のデューティ比と発生する交流の磁場強度を表すグラフであり、横軸に周波数、縦軸に磁場強度を示している。実線１２１はデューティ比が５０％の場合の磁場強度を、点線１２２はデューティ比が２０％の場合の磁場強度を示している。また、ｆ１はＰＷＭ駆動の駆動周波数であり、ｆ２、ｆ３、ｆ４はｆ１の整数倍の周波数に相当する。デューティ比５０％の実線１２１はＰＷＭ駆動の駆動周波数ｆ１に大きなピークを持ち、以下ｆ３などのｆ１の奇数倍の周波数にピークを有する。一方、デューティ比２０％の点線１２２は、ＰＷＭ駆動の駆動周波数ｆ１のピークは実線１２１よりも低いが、駆動周波数ｆ１の整数倍の周期でピークを有する。その結果、駆動周波数ｆ２においては点線１２２の方が実線１２１よりもピークの値が高くなる。そこで、撮像素子６が駆動周波数ｆ１の周波数の磁場が到達すると映像信号の乱れが出やすい動作周波数を持つ場合は、駆動コイル５５の全体のデューティ比が５０％の時でもサブコイル５５ａ，５５ｂのデューティ比を５０％ずつにはしない。すなわち、サブコイル５５ａ，５５ｂの一方のデューティ比を駆動周波数ｆ１のピークが小さくなる２０％とし、他方を８０％にする。また、撮像素子６がｆ２の周波数の磁場が到達すると映像信号の乱れが出やすい動作周波数を持つ場合は、駆動コイル５５の全体のデューティ比が５０％の時はサブコイル５５ａ，５５ｂのデューティ比を５０％ずつにするなどである。このように制御することで、撮像素子６へ磁場は到達するが、撮像素子６から出力される映像信号の乱れを低減することができる。
【００９６】
以上、本発明をその好適な実施形態に基づいて詳述してきたが、本発明はこれら特定の実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の様々な形態も本発明に含まれる。また、上述した各実施形態は本発明の一実施形態を示すものにすぎず、各実施形態を適宜組み合わせることも可能である。
【符号の説明】
【００９７】
３  撮影光学系
５  カメラシステム制御部
６  撮像素子
１４  ブレ補正部
３２ａ  第１のＰＷＭ制御部
３２ｂ  第２のＰＷＭ制御部
５０  可動部
５１  可動枠
５３  磁気センサ
５５  駆動コイル
５５ａ，５５ｂ  サブコイル
６０  上面固定部
６２，７６  磁石
７０  下面固定部
７７  転動ボール
１００  撮像装置
【図１】
2020140103.tif 000003
【図２】
2020140103.tif 000004
【図３】
2020140103.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
2020140103.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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