(57)【要約】【課題】対象物の除菌を効率良く行う。【解決手段】本開示の一態様に係る除菌方法は、噴霧部１１０から薬液を含む薬液ミスト１０２を対象物１０４に噴霧して、対象物１０４の除菌を行うための除菌方法であって、噴霧部１１０の噴霧を制御する制御回路１３０によって行われる、第１期間中、薬液ミスト１０２の単位時間当たりのミスト量が第１のミスト量である薬液ミスト１０２を対象物１０４に噴霧する制御を行う第１ステップと、第１期間の後の第２期間中、単位時間当たりのミスト量が第１のミスト量より少ない第２のミスト量である薬液ミスト１０２を対象物１０４に噴霧する制御を行う第２ステップと、第２期間の後の第３期間中、単位時間当たりのミスト量が第２のミスト量より多い第３のミスト量である薬液ミスト１０２を対象物１０４に噴霧する制御を行う第３ステップと、を含む。【選択図】図３Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
噴霧部から薬液を含む薬液ミストを対象物に噴霧して、前記対象物の除菌を行うための除菌方法であって、
前記噴霧部の噴霧を制御する制御回路によって行われる、
第１期間中、前記薬液ミストの単位時間当たりのミスト量が第１のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行う第１ステップと、
前記第１期間の後の第２期間中、前記単位時間当たりのミスト量が前記第１のミスト量より少ない第２のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行う第２ステップと、
前記第２期間の後の第３期間中、前記単位時間当たりのミスト量が前記第２のミスト量より多い第３のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行う第３ステップと、を含む、
除菌方法。
【請求項２】
前記制御回路によって行われる、
（ａ）前記第１のミスト量、前記第２のミスト量及び前記第３のミスト量を含む条件と、（ｂ）前記第１期間、前記第２期間及び前記第３期間を含む条件と、（ｃ）前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３ステップの各々における前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度を含む条件とからなる群から選択される少なくとも１つの条件を決定するステップを含み、
前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３ステップでは、決定した条件で前記薬液ミストを噴霧する制御を行う、
請求項１に記載の除菌方法。
【請求項３】
前記決定するステップでは、前記対象物が存在する空間の湿度を測定する湿度センサによって測定された湿度に基づいて、前記第１のミスト量、前記第２のミスト量及び前記第３のミスト量と、前記第１期間、前記第２期間及び前記第３期間と、前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３ステップの各々における前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度との少なくとも１つの条件を決定する、
請求項２に記載の除菌方法。
【請求項４】
前記決定するステップでは、前記湿度が第１の湿度よりも低い第２の湿度である場合において、前記湿度が前記第１の湿度である場合よりも、前記第１のミスト量及び前記第３のミスト量、並びに、前記第１期間及び前記第３期間を増加させ、かつ、前記薬液の濃度、及び、前記第２期間を減少させる、
請求項３に記載の除菌方法。
【請求項５】
前記決定するステップでは、前記対象物の水分を測定する水分計によって測定された水分量に基づいて、前記第１のミスト量、前記第２のミスト量、前記第３のミスト量と、前記第１期間、前記第２期間及び前記第３期間と、前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３ステップの各々における前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度との少なくとも１つの条件を決定する、
請求項１から４のいずれか１項に記載の除菌方法。
【請求項６】
前記決定するステップでは、前記水分量が第１の水分量よりも多い第２の水分量である場合において、前記水分量が前記第１の水分量である場合よりも、前記第１のミスト量及び前記第３のミスト量、並びに、前記第１期間及び前記第３期間を減少させ、かつ、前記薬液の濃度、及び、前記第２期間を増加させる、
請求項５に記載の除菌方法。
【請求項７】
前記決定するステップでは、前記対象物に付着した物質、又は、前記対象物に含まれる物質を測定する光センサによって測定された、前記対象物を含む測定領域内の前記物質の量に基づいて、前記第１のミスト量、前記第２のミスト量及び前記第３のミスト量と、前記第１期間、前記第２期間及び前記第３期間と、前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３のステップの各々における前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度との少なくとも一方の条件を決定する、
請求項２から６のいずれか１項に記載の除菌方法。
【請求項８】
前記決定するステップでは、前記対象物と同一空間内に存在する人を検知するセンサによる検知結果に基づいて決定される汚染可能性度に基づいて、前記第１のミスト量、前記第２のミスト量及び前記第３のミスト量と、前記第１期間、前記第２期間及び前記第３期間と、前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３のステップの各々における前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度との少なくとも一方の条件を決定する、
請求項２から７のいずれか１項に記載の除菌方法。
【請求項９】
前記対象物の除菌のために、第４期間中、単位時間当たり第４ミスト量で連続して噴霧を行う必要がある場合に、前記第１期間と前記第１のミスト量との積である第１使用量、前記第２期間と前記第２ミスト量との積である第２使用量、及び、前記第３期間と前記第３ミスト量との積である第３使用量との合計量は、前記第４期間と前記第４ミスト量との積である第４使用量より少ない、
請求項１から８のいずれか１項に記載の除菌方法。
【請求項１０】
前記対象物の除菌は、前記対象物に付着した菌、又は、前記対象物に含まれる菌を９９％以上減らすことである、
請求項９に記載の除菌方法。
【請求項１１】
前記対象物は、建築物の構造材である、
請求項１から１０のいずれか１項に記載の除菌方法。
【請求項１２】
前記対象物は、エアロゾルである、
請求項１から１０のいずれか１項に記載の除菌方法。
【請求項１３】
前記第２期間は、１秒以上、１分以下である、
請求項１から１２のいずれか１項に記載の除菌方法。
【請求項１４】
前記第２のミスト量は、０である、
請求項１から１３のいずれか１項に記載の除菌方法。
【請求項１５】
前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３ステップでは、前記薬液ミストを渦輪状にして噴霧する制御を行う、
請求項１から１４のいずれか１項に記載の除菌方法。
【請求項１６】
さらに、前記対象物が存在する空間の除湿を行うステップを含む、
請求項１から１５のいずれか１項に記載の除菌方法。
【請求項１７】
前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３ステップでは、前記薬液ミストを生成し、生成した薬液ミストを容器に貯め、前記容器に貯められた前記薬液ミストを噴霧する制御を行う、
請求項１から１６のいずれか１項に記載の除菌方法。
【請求項１８】
前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３ステップでは、前記薬液ミストを生成しながら噴霧する制御を行う、
請求項１から１６のいずれか１項に記載の除菌方法。
【請求項１９】
対象物の除菌を行うための薬液を含む薬液ミストを噴霧する噴霧部と、
前記噴霧部の噴霧を制御する制御回路とを備え、
前記制御回路は、
第１期間中、前記薬液ミストの単位時間当たりのミスト量が第１のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行い、
前記第１期間の後の第２期間中、前記単位時間当たりのミスト量が前記第１のミスト量より少ない第２のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行い、
前記第２期間の後の第３期間中、前記単位時間当たりのミスト量が前記第２のミスト量より多い第３のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行う、
除菌装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、薬液ミストを対象物に噴霧して、対象物の除菌を行うための除菌方法及び除菌装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ミストを噴霧することによる除菌を行う場合、その構造は加湿装置と類似する。例えば、特許文献１に開示された加湿装置では、露点又は相対湿度の測定値に基づいて、噴霧量と間欠噴霧条件とを調整している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１６−２０８０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記従来の加湿装置をそのまま除菌に利用したとしても、効率良く除菌することができない。
【０００５】
そこで、本開示は、対象物の除菌を効率良く行うことができる除菌方法及び除菌装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本開示の一態様に係る除菌方法は、噴霧部から薬液を含む薬液ミストを対象物に噴霧して、前記対象物の除菌を行うための除菌方法であって、前記噴霧部の噴霧を制御する制御回路によって行われる、第１期間中、前記薬液ミストの単位時間当たりのミスト量が第１のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行う第１ステップと、前記第１期間の後の第２期間中、前記単位時間当たりのミスト量が前記第１のミスト量より少ない第２のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行う第２ステップと、前記第２期間の後の第３期間中、前記単位時間当たりのミスト量が前記第２のミスト量より多い第３のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行う第３ステップと、を含む。
【０００７】
また、本開示の一態様に係る除菌装置は、対象物の除菌を行うための薬液を含む薬液ミストを噴霧する噴霧部と、前記噴霧部の噴霧を制御する制御回路とを備え、前記制御回路は、第１期間中、前記薬液ミストの単位時間当たりのミスト量が第１のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行い、前記第１期間の後の第２期間中、前記単位時間当たりのミスト量が前記第１のミスト量より少ない第２のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行い、前記第２期間の後の第３期間中、前記単位時間当たりのミスト量が前記第２のミスト量より多い第３のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行う。
【０００８】
これらの包括的又は具体的な態様は、システム、集積回路、コンピュータプログラム又は記録媒体で実現されてもよい。あるいは、システム、装置、方法、集積回路、コンピュータプログラム及び記録媒体の任意な組み合わせで実現されてもよい。
【発明の効果】
【０００９】
本開示によれば、対象物の除菌を効率良く行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、実施の形態１に係る除菌装置の構成を示すブロック図である。
【図２】図２は、実施の形態１に係る除菌装置の動作を示すフローチャートである。
【図３Ａ】図３Ａは、実施の形態１に係る除菌装置が噴霧する薬液ミストのミスト量の時間変化の第１例を示す図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、実施の形態１に係る除菌装置が噴霧する薬液ミストのミスト量の時間変化の第２例を示す図である。
【図３Ｃ】図３Ｃは、実施の形態１に係る除菌装置が噴霧する薬液ミストのミスト量の時間変化の第３例を示す図である。
【図３Ｄ】図３Ｄは、実施の形態１に係る除菌装置が噴霧する薬液ミストのミスト量の時間変化の第４例を示す図である。
【図３Ｅ】図３Ｅは、実施の形態１に係る除菌装置が噴霧する薬液ミストのミスト量の時間変化の第５例を示す図である。
【図３Ｆ】図３Ｆは、実施の形態１に係る除菌装置が噴霧する薬液ミストのミスト量の時間変化の第６例を示す図である。
【図４】図４は、実施の形態１に係る除菌装置が間欠噴霧を行った場合の除菌の効果を説明するための図である。
【図５】図５は、実施の形態１に係る除菌装置が異なる条件で噴霧を行った場合の除菌の効果を説明するための図である。
【図６】図６は、実施の形態１に係る除菌装置が間欠噴霧を行うことによる除菌効果が向上する原理を説明するための図である。
【図７】図７は、実施の形態１に係る除菌装置が少量の薬液ミストの噴霧を行うことによる除菌効果が向上する原理を説明するための図である。
【図８】図８は、実施の形態１の変形例に係る除菌装置の構成を示すブロック図である。
【図９】図９は、実施の形態２に係る除菌装置の構成を示すブロック図である。
【図１０】図１０は、実施の形態２に係る除菌装置による噴霧条件の、湿度による違いを説明するための図である。
【図１１】図１１は、実施の形態２に係る除菌装置の別の構成を示すブロック図である。
【図１２】図１２は、実施の形態３に係る除菌装置の構成を示すブロック図である。
【図１３】図１３は、実施の形態４に係る除菌装置の構成を示すブロック図である。
【図１４】図１４は、実施の形態４に係る除菌装置による噴霧条件の、水分量による違いを説明するための図である。
【図１５】図１５は、実施の形態５に係る除菌装置の構成を示すブロック図である。
【図１６】図１６は、実施の形態６に係る除菌装置の構成を示すブロック図である。
【図１７】図１７は、実施の形態６に係る除菌装置の別の適用例を示す図である。
【図１８】図１８は、実施の形態７に係る除菌装置の構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（本開示の概要）
上記課題を解決するために、本開示の一態様に係る除菌方法は、噴霧部から薬液を含む薬液ミストを対象物に噴霧して、前記対象物の除菌を行うための除菌方法であって、前記噴霧部の噴霧を制御する制御回路によって行われる、第１期間中、前記薬液ミストの単位時間当たりのミスト量が第１のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行う第１ステップと、前記第１期間の後の第２期間中、前記単位時間当たりのミスト量が前記第１のミスト量より少ない第２のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行う第２ステップと、前記第２期間の後の第３期間中、前記単位時間当たりのミスト量が前記第２のミスト量より多い第３のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行う第３ステップと、を含む。
【００１２】
また、本開示の一態様に係る除菌方法は、対象物の除菌を行うための薬液を含む薬液ミストを噴霧するステップを含み、前記噴霧するステップでは、前記薬液ミストのミスト量を、第１のミスト量、前記第１のミスト量より少ない第２のミスト量、前記第２のミスト量より多い第３のミスト量の順に変更する。
【００１３】
これにより、第１のミスト量で薬液ミストの噴霧を制御した後に、当該第１のミスト量より少ない第２のミスト量で薬液ミストの噴霧を制御するので、対象物の周辺に湿度が低い環境が形成される。このため、第２期間中に、第１のミスト量の噴霧時に除菌に用いられなかった薬液の気化が促進される。その後に、第２のミスト量より多い第３のミスト量で薬液ミストが噴霧されるので、気化した薬液は、噴霧された薬液ミストに取り込まれ、薬液ミストに含まれる薬液の濃度が高くなる。このように、一度除菌に用いられなかった薬液を再利用することができる。したがって、本態様に係る除菌方法によれば、薬液ミストのミスト量を少なくすることができるので、効率良く除菌を行うことができる。
【００１４】
また、例えば、前記制御回路によって行われる、（ａ）前記第１のミスト量、前記第２のミスト量及び前記第３のミスト量を含む条件と、（ｂ）前記第１期間、前記第２期間及び前記第３期間を含む条件と、（ｃ）前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３ステップの各々における前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度を含む条件とからなる群から選択される少なくとも１つの条件を決定するステップを含み、前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３ステップでは、決定した条件で前記薬液ミストを噴霧する制御を行ってもよい。また、例えば、前記噴霧するステップでは、前記ミスト量毎の前記薬液ミストの噴霧期間、及び、前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度の少なくとも一方の条件を決定し、決定した条件で前記薬液ミストを噴霧してもよい。
【００１５】
これにより、噴霧期間及び濃度の少なくとも一方を適切に調整することができるので、更に効率良く除菌を行うことができる。なお、本明細書において、“噴霧期間”は、ミスト量が一定に保たれている期間を意味し、所定のミスト量で噴霧を行っている期間だけでなく、ミスト量が０である期間、すなわち、噴霧が行われていない期間も含まれる。
【００１６】
また、例えば、前記決定するステップでは、前記対象物が存在する空間の湿度を測定する湿度センサによって測定された湿度に基づいて、前記第１のミスト量、前記第２のミスト量及び前記第３のミスト量と、前記第１期間、前記第２期間及び前記第３期間と、前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３ステップの各々における前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度との少なくとも１つの条件を決定してもよい。また、例えば、前記噴霧するステップでは、前記対象物が存在する空間の湿度を測定する湿度センサによって測定された湿度に基づいて、前記ミスト量、前記ミスト量毎の前記薬液ミストの噴霧期間、及び、前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度の少なくとも１つの条件を決定し、決定した条件で前記薬液ミストを噴霧してもよい。
【００１７】
これにより、ミスト量、噴霧期間及び濃度の少なくとも１つを湿度に基づいて、より適切な値に調整することができる。したがって、更に効率良く除菌を行うことができる。
【００１８】
また、例えば、前記決定するステップでは、前記湿度が第１の湿度よりも低い第２の湿度である場合において、前記湿度が前記第１の湿度である場合よりも、前記第１のミスト量及び前記第３のミスト量、並びに、前記第１期間及び前記第３期間を増加させ、かつ、前記薬液の濃度、及び、前記第２期間を減少させてもよい。また、例えば、前記噴霧するステップでは、前記湿度が第１の湿度よりも低い第２の湿度である場合において、前記湿度が前記第１の湿度である場合よりも、前記第１のミスト量及び前記第３のミスト量、並びに、前記第１のミスト量での噴霧期間及び前記第３のミスト量での噴霧期間を増加させ、かつ、前記薬液の濃度、及び、前記第２のミスト量での噴霧期間を減少させてもよい。
【００１９】
これにより、更に効率良く除菌を行うことができる。
【００２０】
また、例えば、前記決定するステップでは、前記対象物の水分を測定する水分計によって測定された水分量に基づいて、前記第１のミスト量、前記第２のミスト量、前記第３のミスト量と、前記第１期間、前記第２期間及び前記第３期間と、前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３ステップの各々における前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度との少なくとも１つの条件を決定してもよい。また、例えば、前記噴霧するステップでは、前記対象物の水分を測定する水分計によって測定された水分量に基づいて、前記ミスト量、前記ミスト量毎の前記薬液ミストの噴霧期間、及び、前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度の少なくとも１つの条件を決定し、決定した条件で前記薬液ミストを噴霧してもよい。
【００２１】
これにより、ミスト量、噴霧期間及び濃度の少なくとも１つを水分量に基づいて、より適切な値に調整することができる。したがって、更に効率良く除菌を行うことができる。
【００２２】
また、例えば、前記決定するステップでは、前記水分量が第１の水分量よりも多い第２の水分量である場合において、前記水分量が前記第１の水分量である場合よりも、前記第１のミスト量及び前記第３のミスト量、並びに、前記第１期間及び前記第３期間を減少させ、かつ、前記薬液の濃度、及び、前記第２期間を増加させてもよい。また、例えば、前記噴霧するステップでは、前記水分量が第１の水分量よりも多い第２の水分量である場合において、前記水分量が前記第１の水分量である場合よりも、前記第１のミスト量及び前記第３のミスト量、並びに、前記第１のミスト量での噴霧期間及び前記第３のミスト量での噴霧期間を減少させ、かつ、前記薬液の濃度、及び、前記第２のミスト量での噴霧期間を増加させてもよい。
【００２３】
これにより、更に効率良く除菌を行うことができる。
【００２４】
また、例えば、前記決定するステップでは、前記対象物に付着した物質、又は、前記対象物に含まれる物質を測定する光センサによって測定された、前記対象物を含む測定領域内の前記物質の量に基づいて、前記第１のミスト量、前記第２のミスト量及び前記第３のミスト量と、前記第１期間、前記第２期間及び前記第３期間と、前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３のステップの各々における前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度との少なくとも一方の条件を決定してもよい。
【００２５】
これにより、ミスト量、噴霧期間及び濃度の少なくとも１つを、対象物に付着した物質、又は、対象物に含まれる物質の量に応じて適切な値に調整することができる。したがって、薬液ミストのミスト量の無駄を抑制し、効率良く除菌を行うことができる。
【００２６】
また、例えば、前記決定するステップでは、前記対象物と同一空間内に存在する人を検知するセンサによる検知結果に基づいて決定される汚染可能性度に基づいて、前記第１のミスト量、前記第２のミスト量及び前記第３のミスト量と、前記第１期間、前記第２期間及び前記第３期間と、前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３のステップの各々における前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度との少なくとも一方の条件を決定してもよい。
【００２７】
例えば、人がくしゃみをした場合には、菌が空間内に増えた可能性があり、汚染可能性度が高くなる。また、人が病人である場合には、当該人が触った場所に菌が付着した可能性があり、汚染可能性度が高くなる。逆に、このような人の動きがない場合には、汚染可能性度が低くなる。本態様によれば、ミスト量、噴霧期間及び濃度の少なくとも１つを、人の動きに応じた汚染可能性度に基づいて適切な値に調整することができる。
【００２８】
また、例えば、前記対象物の除菌のために、第４期間中、単位時間当たり第４ミスト量で連続して噴霧を行う必要がある場合に、前記第１期間と前記第１のミスト量との積である第１使用量、前記第２期間と前記第２ミスト量との積である第２使用量、及び、前記第３期間と前記第３ミスト量との積である第３使用量との合計量は、前記第４期間と前記第４ミスト量との積である第４使用量より少なくてもよい。
【００２９】
これにより、単位時間当たりのミスト量を一定に保った状態で連続的に噴霧を行った場合に対象物の除菌に要する第４使用量よりも少ない使用量で、対象物の除菌を行うことができる。したがって、効率良く除菌を行うことができる。
【００３０】
また、例えば、前記対象物の除菌は、前記対象物に付着した菌、又は、前記対象物に含まれる菌を９９％以上減らすことである。つまり、除菌とは、菌数を２桁減少させることである。
【００３１】
また、例えば、前記対象物は、建築物の構造材である。
【００３２】
これにより、例えば室内の壁又は柱などに付着した菌を効率良く除菌することができる。
【００３３】
また、例えば、前記対象物は、エアロゾルであってもよい。
【００３４】
これにより、例えば空間を浮遊するエアロゾルに含まれる菌を効率良く除菌することができる。
【００３５】
また、例えば、前記第２期間は、１秒以上、１分以下であってもよい。
【００３６】
これにより、第１期間中に噴霧した薬液ミストのうち除菌に用いられなかった薬液が帰化するのに十分な時間を確保しつつ、短期間で除菌を行うことができる。
【００３７】
また、例えば、前記第２のミスト量は、０であってもよい。
【００３８】
これにより、薬液ミストを間欠的に噴霧することができる。したがって、第１のミスト量での噴霧と第３のミスト量での噴霧との間で薬液ミストの気化が更に促進される。これにより、薬液の再利用も促進され、かつ、薬液ミストのミスト量も少なくなるので、更に効率良く除菌を行うことができる。
【００３９】
また、例えば、前記噴霧するステップでは、前記薬液ミストを渦輪状にして噴霧してもよい。
【００４０】
これにより、薬液ミストの広がりを抑え、目的とする対象物に噴霧されやすくなる。したがって、対象物に噴霧されない薬液ミストを減らすことができるので、効率良く除菌を行うことができる。また、より遠くまで薬液ミストを搬送することができるので、離れた対象物の除菌を行うことができる。
【００４１】
また、例えば、本開示の一態様に係る除菌方法は、さらに、前記対象物が存在する空間の除湿を行うステップを含んでもよい。
【００４２】
これにより、対象物が存在する空間の湿度を低くすることができる。湿度が低くなることにより、薬液の気化が促進されるので、更に効率良く除菌を行うことができる。
【００４３】
また、例えば、前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３ステップでは、前記薬液ミストを生成し、生成した薬液ミストを容器に貯め、前記容器に貯められた前記薬液ミストを噴霧する制御を行ってもよい。また、例えば、前記噴霧するステップでは、前記薬液ミストを生成し、生成した薬液ミストを容器に貯め、前記容器に貯められた前記薬液ミストを噴霧してもよい。
【００４４】
これにより、予め薬液ミストが生成されて容器に貯められているので、除菌が必要なタイミングで速やかに除菌を行うことができる。
【００４５】
また、例えば、前記第１ステップ、前記第２ステップ及び前記第３ステップでは、前記薬液ミストを生成しながら噴霧する制御を行ってもよい。また、例えば、前記噴霧するステップでは、前記薬液ミストを生成しながら噴霧してもよい。
【００４６】
これにより、気化などにより消滅する前に、生成した薬液ミストを有効な状態で噴霧することができる。
【００４７】
また、本開示の一態様に係る除菌装置は、対象物の除菌を行うための薬液を含む薬液ミストを噴霧する噴霧部と、前記噴霧部の噴霧を制御する制御回路とを備え、前記制御回路は、第１期間中、前記薬液ミストの単位時間当たりのミスト量が第１のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行い、前記第１期間の後の第２期間中、前記単位時間当たりのミスト量が前記第１のミスト量より少ない第２のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行い、前記第２期間の後の第３期間中、前記単位時間当たりのミスト量が前記第２のミスト量より多い第３のミスト量である前記薬液ミストを前記対象物に噴霧する制御を行う。
【００４８】
また、例えば、本開示の一態様に係る装置は、対象物の除菌を行うための薬液を含む薬液ミストを噴霧する噴霧部と、前記薬液ミストのミスト量を、第１のミスト量、前記第１のミスト量より少ない第２のミスト量、前記第２のミスト量より多い第３のミスト量の順に変更する制御回路とを備える。
【００４９】
これにより、上述した除菌方法と同様に、薬液ミストのミスト量を抑えることができるので、効率良く除菌を行うことができる。
【００５０】
また、例えば、前記制御回路は、さらに、前記ミスト量毎の前記薬液ミストの噴霧期間、及び、前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度の少なくとも一方の条件を決定し、前記噴霧部は、前記制御回路によって決定された条件で前記薬液ミストを噴霧してもよい。
【００５１】
これにより、噴霧期間及び濃度の少なくとも一方を適切に調整することができるので、更に効率良く除菌を行うことができる。
【００５２】
また、例えば、本開示の一態様に係る除菌装置は、さらに、前記対象物が設けられた空間の湿度を測定する湿度センサを備え、前記制御回路は、前記湿度センサによって測定された湿度に基づいて、前記ミスト量、前記ミスト量毎の前記薬液ミストの噴霧期間、及び、前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度の少なくとも１つの条件を決定し、前記噴霧部は、前記制御回路によって決定された条件で前記薬液ミストを噴霧してもよい。
【００５３】
これにより、ミスト量、噴霧期間及び濃度の少なくとも１つを湿度に基づいて、より適切な値に調整することができる。したがって、更に効率良く除菌を行うことができる。
【００５４】
また、例えば、前記制御回路は、前記湿度が第１の湿度よりも低い第２の湿度である場合において、前記湿度が前記第１の湿度である場合よりも、前記第１のミスト量及び前記第３のミスト量、並びに、前記第１のミスト量での噴霧期間及び前記第３のミスト量での噴霧期間を増加させ、かつ、前記薬液の濃度、及び、前記第２のミスト量での噴霧期間を減少させてもよい。
【００５５】
これにより、更に効率良く除菌を行うことができる。
【００５６】
また、例えば、前記第２のミスト量は、０であってもよい。
【００５７】
これにより、薬液ミストを間欠的に噴霧することができる。したがって、第１のミスト量での噴霧と第３のミスト量での噴霧との間で薬液ミストの気化が更に促進される。これにより、薬液の再利用も促進され、かつ、薬液ミストのミスト量も少なくなるので、更に効率良く除菌を行うことができる。
【００５８】
また、例えば、前記噴霧部は、前記薬液ミストを渦輪状にして噴霧してもよい。
【００５９】
これにより、薬液ミストの広がりを抑え、目的とする対象物に噴霧されやすくなる。したがって、対象物に噴霧されない薬液ミストを減らすことができるので、効率良く除菌を行うことができる。また、より遠くまで薬液ミストを搬送することができるので、離れた対象物の除菌を行うことができる。
【００６０】
また、例えば、本開示の一態様に係る除菌装置は、さらに、前記対象物の水分を測定する水分計を備え、前記制御回路は、前記水分計によって測定された水分量に基づいて、前記ミスト量、前記ミスト量毎の前記薬液ミストの噴霧期間、及び、前記薬液ミストに含まれる前記薬液の濃度の少なくとも１つの条件を決定し、前記噴霧部は、前記制御回路によって決定された条件で前記薬液ミストを噴霧してもよい。
【００６１】
これにより、ミスト量、噴霧期間及び濃度の少なくとも１つを水分量に基づいて、より適切な値に調整することができる。したがって、更に効率良く除菌を行うことができる。
【００６２】
また、例えば、前記制御回路は、前記水分量が第１の水分量よりも多い第２の水分量である場合において、前記水分量が前記第１の水分量である場合よりも、前記第１のミスト量及び前記第３のミスト量、並びに、前記第１のミスト量での噴霧期間及び前記第３のミスト量での噴霧期間を減少させ、かつ、前記薬液の濃度、及び、前記第２のミスト量での噴霧期間を増加させてもよい。
【００６３】
これにより、更に効率良く除菌を行うことができる。
【００６４】
また、例えば、前記制御回路は、さらに、除湿装置を制御することで、前記対象物が存在する空間の除湿を行ってもよい。
【００６５】
これにより、除湿装置を制御することで、対象物が設けられた空間の湿度を低くすることができる。湿度が低くなることにより、薬液の気化が促進されるので、更に効率良く除菌を行うことができる。
【００６６】
また、例えば、本開示の一態様に係る除菌装置は、さらに、前記薬液を前記噴霧部に供給する薬液供給部を備え、前記噴霧部は、容器を有し、前記薬液供給部から供給された薬液から前記薬液ミストを生成し、生成した薬液ミストを前記容器に貯め、前記容器に貯められた薬液ミストを噴霧してもよい。
【００６７】
これにより、予め薬液ミストが生成されて容器に貯められているので、除菌が必要なタイミングで速やかに除菌を行うことができる。
【００６８】
また、例えば、本開示の一態様に係る除菌装置は、さらに、前記薬液を前記噴霧部に供給する薬液供給部を備え、前記噴霧部は、前記薬液供給部から供給された薬液から前記薬液ミストを生成しながら噴霧してもよい。
【００６９】
これにより、気化などにより消滅する前に、生成した薬液ミストを有効な状態で噴霧することができる。
【００７０】
以下では、実施の形態について、図面を参照しながら具体的に説明する。
【００７１】
なお、以下で説明する実施の形態は、いずれも包括的又は具体的な例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、ステップ、ステップの順序などは、一例であり、本開示を限定する主旨ではない。また、以下の実施の形態における構成要素のうち、独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。
【００７２】
また、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、実質的に同一の構成については同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。
【００７３】
（実施の形態１）
［１．構成］
まず、実施の形態１に係る除菌装置の構成について、図１を用いて説明する。図１は、本実施の形態に係る除菌装置１００の構成を示すブロック図である。
【００７４】
図１に示されるように、除菌装置１００は、噴霧部１１０と、薬液供給部１２０と、制御回路１３０とを備える。本実施の形態に係る除菌装置１００は、薬液ミスト１０２を対象物１０４に噴霧することにより、対象物１０４を除菌する。
【００７５】
薬液ミスト１０２は、霧状の薬液である。薬液は、対象物１０４の除菌を行うための溶液である。薬液は、例えば、除菌機能を有する。具体的には、薬液は、次亜塩素酸水である。なお、薬液は、オゾン水などの他の水溶液であってもよい。あるいは、薬液は、アルコール溶液であってもよい。
【００７６】
対象物１０４は、除菌装置１００による除菌の対象物である。例えば、対象物１０４は、人がよく触るドアノブなどであるが、机の上、椅子の背もたれなどでもよい。対象物１０４は、壁、床又は天井などの建築物の構造材であってもよい。あるいは、対象物１０４は、家具、家電、水廻り設備などでもよい。
【００７７】
噴霧部１１０は、対象物１０４の除菌を行うための薬液を含む薬液ミスト１０２を噴霧する。具体的には、噴霧部１１０は、薬液供給部１２０から供給された薬液から薬液ミスト１０２を生成しながら噴霧する。つまり、噴霧部１１０は、薬液ミスト１０２の生成と噴霧とを同時に行う。
【００７８】
例えば、噴霧部１１０は、超音波発生機及び送風ファンを備える。噴霧部１１０は、薬液供給部１２０から供給された薬液を超音波振動によってミスト化することで、薬液ミスト１０２を生成する。噴霧部１１０は、生成した薬液ミスト１０２を、送風ファンによって対象物１０４に向けて噴霧する。なお、噴霧部１１０は、超音波発生機の代わりに、静電霧化装置を有してもよい。噴霧部１１０は、薬液を静電霧化させることで、薬液ミスト１０２を生成してもよい。
【００７９】
本実施の形態では、噴霧部１１０は、制御回路１３０によって決定された噴霧条件で薬液ミスト１０２を噴霧する。噴霧条件には、ミスト量、噴霧期間及び薬液の濃度の少なくとも１つが含まれる。ミスト量は、単位時間当たりのミスト量であり、単位時間当たりに噴霧される薬液ミスト１０２の量である。以下の説明において、特に断りのない限り、ミスト量とは、単位時間当たりのミスト量を意味する。
【００８０】
噴霧部１１０は、ミスト量を一定に保った状態で、薬液ミスト１０２の噴霧を一定期間維持する。ミスト量が制御回路１３０によって変更された場合、噴霧部１１０は、変更後のミスト量を一定に保った状態で、薬液ミスト１０２の噴霧を一定期間維持する。ミスト量毎の噴霧期間は、例えば１秒以上の時間である。
【００８１】
薬液供給部１２０は、薬液を噴霧部１１０に供給する。薬液供給部１２０は、具体的には、薬液を生成して噴霧部１１０に供給する。薬液が次亜塩素酸水である場合、薬液供給部１２０は、食塩水の電気分解によって薬液を生成する。例えば、薬液供給部１２０は、液体を入れるための容器と、当該容器に水が入れられた場合に容器内に食塩（塩化ナトリウム）を供給する供給部とを有する。これにより、ユーザは、容器に水道水を入れるだけで、簡単かつ安全に次亜塩素酸水を生成することができる。なお、薬液供給部１２０は、食塩の供給部を有しなくてもよい。この場合、ユーザは、容器内に食塩水を入れればよい。また、薬液供給部１２０は、薬液を生成しなくてもよい。この場合、ユーザは、薬液を容器に入れればよい。なお、容器は、着脱自在で容易に取り外し可能であってもよい。
【００８２】
制御回路１３０は、薬液ミスト１０２のミスト量を制御する。具体的には、制御回路１３０は、薬液ミスト１０２のミスト量を、第１のミスト量、第２のミスト量、第３のミスト量の順に変更する。このとき、第２のミスト量は、第１のミスト量より少ない。第３のミスト量は、第２のミスト量より多い。
【００８３】
具体的には、制御回路１３０は、第１ステップと、第２ステップと、第３ステップとを順に行う。第１のステップでは、第１期間中、単位時間当たりのミスト量が第１のミスト量である薬液ミスト１０２を対象物１０４に噴霧する制御を行う。第２のステップでは、第２期間中、単位時間当たりのミスト量が第２のミスト量である薬液ミスト１０２を対象物１０４に噴霧する制御を行う。第３のステップでは、第３期間中、単位時間当たりのミスト量が第３のミスト量である薬液ミスト１０２を対象物１０４に噴霧する制御を行う。第２期間は、第１期間以降の期間である。第３期間は、第２期間以降の期間である。
【００８４】
制御回路１３０は、第１のミスト量、第２のミスト量、第３のミスト量をこの順で時間連続的に変更してもよい。つまり、第１期間と第２期間と第３期間とは、連続していてもよい。あるいは、制御回路１３０は、第１のミスト量、第２のミスト量、第３のミスト量を、間隔を空けてこの順で変更してもよい。つまり、第１期間と第２期間とは、連続していなくてもよい。また、第２期間と第３期間とは、連続していなくてもよい。空いた間隔には、第１のミスト量、第２のミスト量及び第３のミスト量の少なくとも１つと異なる第４のミスト量での薬液ミスト１０２の噴霧が行われてもよい。
【００８５】
制御回路１３０は、さらに、薬液ミスト１０２のミスト量と、ミスト量毎の薬液ミスト１０２の噴霧期間と、薬液ミスト１０２に含まれる薬液の濃度との少なくとも１つの条件を決定してもよい。具体的には、制御回路１３０は、（ａ）第１のミスト量、第２のミスト量及び第３のミスト量を含む条件と、（ｂ）第１期間、第２期間及び第３期間を含む条件と、（ｃ）第１ステップ、第２ステップ及び第３ステップの各々における薬液ミスト１０２に含まれる薬液の濃度を含む条件とからなる群から選択される少なくとも１つの条件を決定してもよい。例えば、噴霧期間、及び、薬液の濃度は、ミスト量毎に変更されてもよい。具体的な例については、後で説明する。
【００８６】
制御回路１３０は、例えば、マイクロコントローラである。制御回路１３０は、例えば、プログラムが格納された不揮発性メモリ、プログラムを実行するための一時的な記憶領域である揮発性メモリ、入出力ポート、プログラムを実行するプロセッサなどで実現される。制御回路１３０が実行する機能は、プロセッサによって実行されるソフトウェアで実現される。あるいは、制御回路１３０が実行する機能は、複数の回路素子を含む電子回路などのハードウェアで実現されてもよい。
【００８７】
［２．動作及び噴霧の具体例］
続いて、除菌装置１００の動作と、薬液ミスト１０２の噴霧の具体例とについて説明する。
【００８８】
図２は、本実施の形態に係る除菌装置１００の動作を示すフローチャートである。除菌装置１００は、例えば、ドアノブなどの対象物１０４を定期的に繰り返し除菌する。前回の除菌が終わって、予め定められた待機期間を経過した後、図２に示される動作が実行される。また、除菌装置１００は、ユーザからの指示を受け付けたタイミングで除菌を行ってもよい。
【００８９】
まず、図２に示されるように、制御回路１３０は、単位時間当たりのミスト量を第１のミスト量に設定し、噴霧部１１０は、設定された第１のミスト量で薬液ミスト１０２の噴霧を行う（ステップＳ１０）。第１のミスト量での噴霧は、第１期間中、継続して行われる。第１期間は、例えば、１分以下の期間であり、一例として１秒、３秒又は６秒などであるが、これに限らない。
【００９０】
次に、第１期間の経過後に、制御回路１３０は、単位時間当たりのミスト量を、第１のミスト量より少ない第２のミスト量に設定し、噴霧部１１０は、設定された第２のミスト量で薬液ミスト１０２の噴霧を行う（ステップＳ１２）。例えば、噴霧部１１０は、ステップＳ１０での噴霧よりも超音波振動のパワーを弱めることで、生成するミスト量を少なくする。第２のミスト量での噴霧は、第２期間中、継続して行われる。第２期間は、例えば第１期間と同じであるが、異なっていてもよい。例えば、第２期間は、１秒以上、１分以下の期間である。
【００９１】
次に、第２期間の経過後に、制御回路１３０は、単位時間当たりのミスト量を、第２のミスト量より多い第３のミスト量に設定し、噴霧部１１０は、設定された第３のミスト量で薬液ミスト１０２の噴霧を行う（ステップＳ１４）。例えば、噴霧部１１０は、ステップＳ１２での噴霧よりも超音波振動のパワーを強めることで、生成するミスト量を多くする。なお、第３のミスト量は、第１のミスト量と等しくてもよい。第３のミスト量での噴霧は、第３期間中、継続して行われる。第３期間は、例えば第１期間と同じであるが、異なっていてもよい。
【００９２】
第３期間の経過後、噴霧部１１０は、薬液ミスト１０２の噴霧を終了する。なお、図２に示される動作は一例に過ぎない。例えば、制御回路１３０による薬液ミスト１０２の噴霧条件には、様々な例が含まれる。以下では、図３Ａから図３Ｆを用いて６つの例を説明する。
【００９３】
図３Ａから図３Ｆはそれぞれ、本実施の形態に係る除菌装置１００が噴霧する薬液ミスト１０２のミスト量の変化の第１例から第６例を示す図である。各図において、横軸は時間を表し、縦軸は薬液ミスト１０２のミスト量を表している。なお、縦軸は、噴霧部１１０が単位時間当たりに噴霧可能な最大のミスト量を１００％として、当該最大のミスト量に対する割合を表している。例えば、最大のミスト量が５ｍＬ／分である場合、５０％のミスト量は、２．５ｍＬ／分になる。
【００９４】
図３Ａから図３Ｆの各図において、期間Ｔ１が第１期間に相当し、ミスト量Ｍ１が第１のミスト量に相当する。つまり、期間Ｔ１が、図２に示されるステップＳ１０を実行する期間である。同様に、期間Ｔ２が第２期間に相当し、ミスト量Ｍ２が第２のミスト量に相当する。期間Ｔ２が、図２に示されるステップＳ１２を実行する期間である。期間Ｔ３が第３期間に相当し、ミスト量Ｍ３が第３のミスト量に相当する。期間Ｔ３が、図２に示されるステップＳ１４を実行する期間である。
【００９５】
図３Ａに示される第１例では、期間Ｔ０でミスト量がＭ１にまで増大した後、ミスト量がＭ１、Ｍ２、Ｍ３及びＭ４の順で変化している。ミスト量Ｍ１とミスト量Ｍ３とは等しく、例えば１００％である。ミスト量Ｍ２とミスト量Ｍ４とは等しく、例えば５０％である。また、ミスト量がＭ１、Ｍ２、Ｍ３及びＭ４の各々の噴霧期間である期間Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３及びＴ４は、互いに等しい期間である。
【００９６】
このように、第１のミスト量Ｍ１と第３のミスト量Ｍ３とは等しくてもよい。また、各ミスト量での噴霧期間は等しくてもよい。また、第３のミスト量Ｍ３での噴霧の後、すなわち、図２に示されるステップＳ１４の後に、噴霧が行われてもよい。
【００９７】
図３Ｂに示される第２例では、期間Ｔ０でミスト量がＭ４にまで増大した後、ミスト量がＭ４、Ｍ５、Ｍ１、Ｍ６、Ｍ２、Ｍ３及びＭ７の順で変化している。ミスト量の大小関係は、Ｍ１＞Ｍ５＝Ｍ３＞Ｍ６＝Ｍ７＞Ｍ４＝Ｍ２を満たしている。ミスト量Ｍ１は、例えば１００％であり、ミスト量Ｍ６及びＭ７は、例えば５０％である。また、ミスト量がＭ１からＭ７の各々の噴霧期間である期間Ｔ１から期間Ｔ７は、Ｔ４＝Ｔ５＝Ｔ１＝Ｔ３＝Ｔ７＞Ｔ６＝Ｔ２を満たしている。
【００９８】
このように、第３のミスト量Ｍ３は、第１のミスト量Ｍ１より少なくてもよい。また、第２期間Ｔ２は、第１期間Ｔ１より短くてもよく、第３期間Ｔ３より短くてもよい。また、第１のミスト量Ｍ１での噴霧の前に、すなわち、図２に示されるステップＳ１０の前に、第１のミスト量Ｍ１より少ない複数のミスト量での噴霧が行われてもよい。また、第１のミスト量Ｍ１での噴霧の後で第２のミスト量Ｍ２での噴霧の前に、すなわち、図２に示されるステップＳ１０とステップＳ１２との間に、第２のミスト量Ｍ２より多い噴霧が行われてもよい。
【００９９】
図３Ｃに示される第３例では、期間Ｔ０でミスト量がＭ４にまで増大した後、ミスト量がＭ４、Ｍ１、Ｍ５、Ｍ６、Ｍ２、Ｍ３及びＭ７の順で変化している。ミスト量の大小関係は、Ｍ４＝Ｍ３＞Ｍ１＞Ｍ２＞Ｍ５＝Ｍ７＞Ｍ６を満たしている。ミスト量Ｍ４及びＭ３は、例えば１００％であり、ミスト量Ｍ５及びＭ７は、例えば５０％である。また、期間Ｔ１から期間Ｔ７は、Ｔ３＞Ｔ４＝Ｔ１＝Ｔ７＞Ｔ５＝Ｔ６＝Ｔ２を満たしている。
【０１００】
このように、第３のミスト量Ｍ３は、第１のミスト量Ｍ１より多くてもよい。つまり、第１のミスト量Ｍ１は、最大値でなくてもよい。また、第２のミスト量Ｍ２より低いミスト量での噴霧が行われてもよい。つまり、第２のミスト量Ｍ２は、最小値でなくてもよい。また、第１期間Ｔ１は、第２期間Ｔ２より長くてもよく、第３期間Ｔ３よりも短くてもよい。また、第１のミスト量Ｍ１での噴霧より前に、第１のミスト量Ｍ１よりも多いミスト量での噴霧が行われてもよい。また、第１のミスト量Ｍ１での噴霧の後で、かつ、第２のミスト量Ｍ２での噴霧の前に、複数のミスト量での噴霧での噴霧が行われてもよい。
【０１０１】
図３Ｄに示される第４例では、図３Ａに示される第１例と比較して、第２のミスト量Ｍ２が０である点が相違している。つまり、第２のミスト量での噴霧期間である期間Ｔ２において、噴霧が行われなくてもよい。言い換えると、ミスト量の噴霧が間欠的に行われてもよい。
【０１０２】
図３Ｅに示される第５例では、期間Ｔ０でミスト量がＭ１にまで増大した後、ミスト量がＭ１、Ｍ４、Ｍ２、Ｍ５、Ｍ３及びＭ６の順で変化している。ミスト量の大小関係は、Ｍ１＝Ｍ３＞Ｍ６＞Ｍ４＞Ｍ５＞Ｍ２を満たしている。ミスト量Ｍ１及びＭ３は、例えば１００％であり、ミスト量Ｍ６は、例えば５０％であり、ミスト量Ｍ２は、０である。また、期間Ｔ１から期間Ｔ６は、Ｔ２＞Ｔ１＝Ｔ４＝Ｔ５＝Ｔ３＝Ｔ６を満たしている。
【０１０３】
このように、第２期間、すなわち、噴霧を行わない期間Ｔ２は、第１期間Ｔ１及び第３期間Ｔ３より長くてもよい。また、第１のミスト量Ｍ１での噴霧の後、ミスト量を０にする前に、第１のミスト量Ｍ１より少ないミスト量での噴霧を行ってもよい。また、ミスト量を０にした後、第３のミスト量Ｍ３での噴霧を行う前に、第３のミスト量Ｍ３より少ないミスト量での噴霧を行ってもよい。
【０１０４】
図３Ｆに示される第６例では、ミスト量がＭ１、Ｍ２、Ｍ３の順で変化した後、Ｍ２とＭ３とを繰り返している。各ミスト量の噴霧期間Ｔ１からＴ３は、互いに等しい期間である。ミスト量の大小関係は、Ｍ１＝Ｍ３＞Ｍ２を満たしている。また、ミスト量Ｍ２は０である。つまり、第３のミスト量Ｍ３での噴霧が間欠的に繰り返し行われている。繰り返し回数は、特に限定されない。また、第６例では、ミスト量を増大させる期間Ｔ０が設けられていない。つまり、最初からミスト量を最大量で噴霧してもよい。
【０１０５】
本実施の形態に係る除菌装置１００は、図３Ａから図３Ｆのいずれかに示されるミスト量の変化を１サイクルとして、定期的に繰り返し行う。繰り返しの度に、異なるミスト量の変化を利用してもよい。
【０１０６】
なお、図３Ａから図３Ｅで示される例において、ミスト量Ｍ４からＭ７の各々のミスト量及び噴霧期間Ｔ４からＴ７は、一例に過ぎず、上述した例に限られない。例えば、ミスト量Ｍ４からＭ７の少なくとも１つは、第１のミスト量Ｍ１から第３のミスト量Ｍ３のいずれかと等しくてもよく、多くてもよく、少なくてもよい。ミスト量Ｍ４からＭ７の少なくとも１つは、０であってもよい。また、噴霧期間Ｔ４からＴ７の少なくとも１つは、噴霧期間Ｔ１からＴ３のいずれかと等しくてもよく、長くてもよく、少なくてもよい。また、各ミスト量での噴霧において、薬液ミスト１０２に含まれる薬液の濃度は等しいが、異なっていてもよい。ミスト量が０であるという意味は、ミスト量が０である薬液ミストを対象物に噴霧する制御を行うという意味である。
【０１０７】
［３．効果及び原理など］
次に、本実施の形態に係る除菌装置１００による除菌の効果とその想定される原理とについて説明する。
【０１０８】
本願発明者らは、まず、薬液ミスト１０２の間欠噴霧と連続噴霧とをそれぞれ行い、対象物１０４の感染価を測定することで、除菌の効果を確認した。薬液ミスト１０２としては、次亜塩素酸水を用いた。
【０１０９】
図４は、本実施の形態に係る除菌装置１００が間欠噴霧を行った場合の除菌の効果を説明するための図である。図４では、比較例として連続噴霧を行った場合の除菌結果も示している。図４において、縦軸は規格化された感染価を表している。数値が小さい程、除菌効果が高いことを意味する。例えば、縦軸の“１．０Ｅ−０２”は、感染価が１／１００になったことを示しており、９９％の除菌が行えたこと、すなわち、対象物１０４に付着した菌を９９％減らすことを意味している。
【０１１０】
連続噴霧は、一定期間、一定のミスト量で薬液ミスト１０２を連続で噴霧することである。つまり、連続噴霧では、噴霧期間中、ミスト量の変更を行っていない。
【０１１１】
一方で、間欠噴霧は、図３Ｆに示される第６例に基づく噴霧である。ここでは、噴霧回数を５回とした。すなわち、第１のミスト量Ｍ１での１回の噴霧と、第１のミスト量Ｍ１に等しい第３のミスト量Ｍ３での４回の噴霧とを行った。１回の噴霧期間は、合計の噴霧期間を５等分した時間である。図４に示される５秒噴霧、１５秒噴霧、３０秒噴霧ではそれぞれ、１回の噴霧期間が１秒、３秒、６秒である。噴霧を行わない期間Ｔ２の長さは、３０秒とした。
【０１１２】
図４に示されるように、噴霧期間によらずに、連続噴霧よりも間欠噴霧の方が、除菌効果が高まっていることが分かる。また、１５秒の連続噴霧の除菌効果と、５秒の間欠噴霧の除菌効果とがほぼ同じである。このため、１５秒の連続噴霧と同等の除菌効果を得るには、５秒の間欠噴霧を行えばよく、薬液ミスト１０２の使用量を約３分の１に減らすことができる。また、３０秒の連続噴霧の除菌効果と、１５秒の間欠噴霧の除菌効果とがほぼ同じである。このため、３０秒の連続噴霧と同等の除菌効果を得るには、１５秒の間欠噴霧を行えばよく、薬液ミスト１０２の使用量を約半分に減らすことができる。
【０１１３】
このように、本実施の形態に係る除菌装置１００によれば、同じ除菌効果を得るために必要な薬液ミスト１０２の使用量を減らすことができる。例えば、第４期間中、単位時間当たり第４ミスト量で連続して噴霧を行うことで、対象物１０４の除菌が行うことができる場合を想定する。なお、除菌とは、対象物１０４に付着した菌、又は、対象物１０４に含まれる菌を９９％以上減らすことである。この場合において、本実施の形態に係る除菌装置１００では、第１期間と第１のミスト量との積である第１使用量、第２期間と第２ミスト量との積である第２使用量、及び、第３期間と第３ミスト量との積である第３使用量との合計量は、第４期間と第４ミスト量との積である第４使用量よりも少ない。
【０１１４】
ここでは、間欠噴霧、すなわち、第２のミスト量が０である場合を示したが、第２のミスト量が０ではなく、第１のミスト量及び第３のミスト量より少ない場合も同様の傾向が得られ、効率良く除菌を行うことができる。
【０１１５】
また、本願発明者らは、薬液ミスト１０２の濃度及び液性を変えて除菌の効果を確認した。
【０１１６】
図５は、本実施の形態に係る除菌装置１００が異なる条件で噴霧を行った場合の除菌の効果を説明するための図である。図５において、縦軸は、図４と同様に、規格化された感染価を表している。また、図５に示される連続噴霧及び間欠噴霧はいずれも、噴霧期間が３０秒である。具体的には、間欠噴霧は、６秒ずつの噴霧を５回、３０秒の噴霧しない期間を挟みながら行われた。
【０１１７】
図５に示される“低ミスト濃度”は、“通常噴霧”に用いた薬液ミスト１０２の薬液の濃度より低い濃度の薬液ミスト１０２を用いて噴霧を行った場合の結果を示している。具体的には、低ミスト濃度で用いた薬液ミスト１０２の濃度は、通常噴霧に用いた薬液ミスト１０２の濃度の６０％から７０％の範囲である。
【０１１８】
図５に示されるように、低ミスト濃度の噴霧に比べて通常噴霧では、連続噴霧及び間欠噴霧のいずれも除菌効果は高い。つまり、薬液ミスト１０２の濃度が高い程、除菌効果が高い。また、低ミスト濃度の間欠噴霧の除菌効果は、通常噴霧の連続噴霧の除菌効果よりも高くなっている。このことから、間欠噴霧を行うことで、薬液ミスト１０２の濃度を低くしても、高い除菌効果が得られることが分かる。
【０１１９】
図５に示される“アルカリ”は、液性がアルカリ性である薬液ミスト１０２を用いて噴霧を行った場合の結果を示している。具体的には、次亜塩素酸ナトリウムを多く含むｐＨが９の薬液ミスト１０２を用いた。なお、“通常噴霧”の薬液ミスト１０２は、ｐＨが７の中性である。
【０１２０】
図５に示されるように、アルカリ性の薬液ミスト１０２を用いた場合には、通常噴霧と比較して、連続噴霧では大きく除菌効果が低くなっているのに対して、間欠噴霧では同等の除菌効果が得られている。アルカリ性の薬液ミスト１０２を噴霧した場合、次亜塩素酸が気化するので、気化した次亜塩素酸が薬液ミスト１０２に取り込まれて除菌を行いやすくなる。これにより、間欠噴霧の場合は、薬液ミスト１０２の液性が中性のときと同等の除菌効果を得ることができる。
【０１２１】
また、本願発明者らは、対象物１０４が設けられた空間、すなわち、薬液ミスト１０２を噴霧する空間の湿度を変えて除菌の効果を確認した。図５には、間欠噴霧を高湿度環境下で行った結果を示している。なお、高湿度環境下は、相対湿度が７０％から８０％の範囲であった。図４及び図５に示される他の結果は、相対湿度が約３０％である環境下で行った。
【０１２２】
図５に示されるように、湿度が高い場合、湿度が低い場合よりも除菌効果が低下していることが分かる。このことから、薬液ミスト１０２の噴霧による除菌は、湿度が低い環境下で行われることにより、高い除菌効果を発揮できることが分かる。
【０１２３】
なお、図５に示されるように、高湿度環境下においても、連続噴霧の場合よりは間欠噴霧の場合の方が除菌効果は高い。このため、空間の湿度が調節できずに、高い湿度が維持されたままである場合であっても、間欠噴霧を行うことで、高い除菌効果を得ることができる。
【０１２４】
図６は、本実施の形態に係る除菌装置１００が間欠噴霧を行うことによる除菌効果が向上する原理を説明するための模式図である。図６には、薬液ミスト１０２を構成する複数の微小液滴１０３を示している。微小液滴１０３は、薬液が微細化されたものであり、水分１０３ａと、薬液成分１０３ｂとを含んでいる。
【０１２５】
図６に示されるように、期間Ｔ１では、第１のミスト量で薬液ミスト１０２が対象物１０４に向けて噴霧される。微小液滴１０３に含まれる薬液成分１０３ｂが対象物１０４に付着した菌などを分解することで、対象物１０４の除菌が行われる。
【０１２６】
この間、対象物１０４の近傍には水分１０３ａが多数存在し、局所的に湿度が高くなる。湿度が高くなった場合、水分１０３ａの蒸発、すなわち、薬液の気化が行われにくくなる。このため、水分１０３ａに捕らわれたまま、除菌に利用されずに残留する薬液成分１０３ｂが多くなる。
【０１２７】
これに対して、本実施の形態では、期間Ｔ１に続く期間Ｔ２では、噴霧されるミスト量が０、すなわち、薬液ミスト１０２が対象物１０４に噴霧されない。薬液ミスト１０２が噴霧されないので、対象物１０４の近傍の高湿度化が抑制され、未反応の薬液の気化が促進される。
【０１２８】
さらに、期間Ｔ２に続く期間Ｔ３では、第２のミスト量より多い第３のミスト量の薬液ミスト１０２が対象物１０４に噴霧される。期間Ｔ２において気化した薬液成分１０３ｂの多くが、微小液滴１０３に取り込まれて溶解する。このため、期間Ｔ３において対象物１０４に接触する微小液滴１０３内の薬液濃度が高くなる。薬液濃度が高くなることで、除菌効果をより高めることができる。
【０１２９】
期間Ｔ２において、薬液ミスト１０２を噴霧する場合も同様である。図７は、本実施の形態に係る除菌装置１００が少量の薬液ミスト１０２の噴霧を行うことによる除菌効果が向上する原理を説明するための図である。
【０１３０】
図７に示されるように、期間Ｔ２においてミスト量が少なくなるので、間欠噴霧の場合と同様に、対象物１０４の近傍の高湿度化が抑制され、未反応の薬液の気化が促進される。気化した薬液の一部は、期間Ｔ２において噴霧された薬液ミスト１０２の微小液滴１０３に取り込まれて溶解する。このため、期間Ｔ２においても、対象物１０４の除菌が行われる。
【０１３１】
以上のように、本実施の形態に係る除菌装置１００によれば、薬液ミスト１０２の使用量を抑えながら、効率良く対象物１０４の除菌を行うことができる。
【０１３２】
［４．変形例］
ここで、本実施の形態に係る除菌装置１００の変形例について説明する。
【０１３３】
図８は、本変形例に係る除菌装置１０１の構成を示すブロック図である。図８に示されるように、除菌装置１０１は、図１に示される除菌装置１００と比較して、噴霧部１１０の代わりに噴霧部１１１を備える点が相違する。以下では、相違点を中心に説明し、共通点の説明を省略又は簡略化する。
【０１３４】
噴霧部１１１は、図８に示されるように、生成部１１２と、容器１１４とを備える。生成部１１２は、薬液供給部１２０から供給された薬液から薬液ミスト１０２を生成し、生成した薬液ミスト１０２を容器１１４に貯める。具体的には、生成部１１２は、超音波発生機であり、超音波振動を薬液に与えることで、薬液ミスト１０２を生成する。
【０１３５】
容器１１４は、生成部１１２によって生成された薬液ミスト１０２を貯めるための空間を有する容器である。容器１１４は、生成部１１２によって生成された薬液ミスト１０２を一時的に貯めておくことができる。容器１１４には、例えば、開閉可能な蓋（図示せず）などが設けられている。噴霧部１１１は、制御回路１３０からの制御に基づいて蓋が開けられた場合に、容器１１４に貯められた薬液ミスト１０２を噴霧する。このとき、蓋の開閉量が変更可能であってもよい。蓋を大きく開けることで、多いミスト量での噴霧を行うことができ、蓋を小さく開けることで、少ないミスト量での噴霧を行うことができる。
【０１３６】
このように、本変形例に係る除菌装置１０１では、生成した薬液ミスト１０２を容器１１４に貯めておくことができる。これにより、除菌が必要なタイミングで速やかに除菌を行うことができる。また、噴霧に必要なミスト量の薬液ミスト１０２を前もって貯めておくことで、噴霧の途中で薬液ミスト１０２が足りなくなる可能性を低減し、安定した噴霧を行うことができる。
【０１３７】
（実施の形態２）
続いて、実施の形態２について説明する。
【０１３８】
図９は、本実施の形態に係る除菌装置２００の構成を示すブロック図である。図９に示されるように、除菌装置２００は、実施の形態１に係る除菌装置１００と比較して、新たに湿度センサ２４０を備える点と、制御回路１３０の代わりに制御回路２３０を備える点とが相違する。以下では、実施の形態１との相違点を中心に説明し、共通点の説明を省略又は簡略化する。
【０１３９】
湿度センサ２４０は、対象物１０４が存在する空間の湿度を測定する。対象物１０４が存在する空間は、例えば、室内空間などと閉じられた空間であるが、これに限らない。対象物１０４が存在する空間は、対象物１０４を中心とした所定の範囲であってもよい。所定の範囲は、例えば、対象物１０４から３０ｍ以内の範囲である。
【０１４０】
なお、対象物１０４が存在する空間には、対象物１０４の全てが含まれていなくてもよく、対象物１０４の一部のみが含まれていてもよい。例えば、対象物１０４が存在する空間は、対象物１０４である壁によって囲まれた空間であってもよい。この場合、当該空間には、対象物１０４の一部のみ、具体的には、壁の表面が存在している。
【０１４１】
制御回路２３０は、湿度センサ２４０によって測定された湿度に基づいて、ミスト量、ミスト量毎の薬液ミスト１０２の噴霧期間、及び、薬液ミスト１０２に含まれる薬液の濃度の少なくとも１つの条件を決定してもよい。例えば、制御回路２３０は、湿度が第１の湿度よりも低い第２の湿度である場合において、湿度が第１の湿度である場合よりも、第１のミスト量及び第３のミスト量、並びに、第１期間及び第３期間の少なくとも１つを増加させる。また、例えば、制御回路２３０は、湿度が第２の湿度である場合において、湿度が第１の湿度である場合よりも、薬液ミスト１０２の薬液の濃度、及び、第２期間の少なくとも１つを減少させる。
【０１４２】
図１０は、本実施の形態に係る除菌装置２００による噴霧条件の、湿度による違いを説明するための図である。図１０において、図３Ａなどと同様に、横軸は時間を表し、縦軸は薬液ミスト１０２のミスト量を表している。図１０では、湿度が第１の湿度である場合、すなわち、高湿度である場合のミスト量の変化の一例を破線のグラフで表している。湿度が、第１の湿度より低い第２の湿度である場合、すなわち、低湿度である場合のミスト量の変化の一例を実線のグラフで表している。例えば、第１の湿度は１００％であり、第２の湿度は５０％である。
【０１４３】
例えば、図１０に示されるように、低湿度の場合の第１のミスト量Ｍ２１は、高湿度の場合の第１のミスト量Ｍ１１より多い。低湿度の場合の第２のミスト量Ｍ２２は、高湿度の場合の第２のミスト量Ｍ１２より多い。低湿度の場合の第３のミスト量Ｍ２３は、高湿度の場合の第３のミスト量Ｍ１３より多い。なお、第２のミスト量Ｍ２２及びＭ１２は、湿度によらずに０であってもよい。
【０１４４】
また、例えば、低湿度の場合の第１のミスト量Ｍ２１の噴霧期間Ｔ２１は、高湿度の場合の第１のミスト量Ｍ１１の噴霧期間Ｔ１１より長い。低湿度の場合の第３のミスト量Ｍ２３の噴霧期間Ｔ２３は、高湿度の場合の第３のミスト量Ｍ１３の噴霧期間Ｔ１３より長い。低湿度の場合の第２のミスト量Ｍ２２の噴霧期間Ｔ２２は、高湿度の場合の第２のミスト量Ｍ１２の噴霧期間Ｔ１２より短い。
【０１４５】
また、図１０に示されるように、低湿度の場合の薬液ミスト１０２の濃度は、高湿度の場合の薬液ミスト１０２の濃度よりも低い。
【０１４６】
低湿度である場合には、上述したように、薬液ミスト１０２の気化が促進されやすい。このため、多量の薬液ミスト１０２を長い期間、供給しても有効に除菌に利用される。また、低湿度の場合には、ミスト量を多くすることができるので、濃度を低くすることができる。
【０１４７】
一方で、高湿度である場合には、薬液ミスト１０２の気化が起こりにくい。このため、薬液ミスト１０２のミスト量を減少させ、かつ、第２期間を長くする。これにより、気化を促進し、除菌効果を高めることができる。
【０１４８】
なお、図１０に示される例では、ミスト量によらずに濃度が一定である例を示したが、ミスト量毎に濃度が変更されてもよい。例えば、第１のミスト量Ｍ２１、及び、第３のミスト量Ｍ２３の少なくとも一方で噴霧される薬液ミスト１０２の濃度は、第２のミスト量Ｍ２２で噴霧される薬液ミスト１０２の濃度より低くてもよい。また、例えば、第１のミスト量Ｍ１１、及び、第３のミスト量Ｍ１３の少なくとも一方で噴霧される薬液ミスト１０２の濃度は、第２のミスト量Ｍ１２で噴霧される薬液ミスト１０２の濃度より低くてもよい。
【０１４９】
また、対象物１０４に近い位置の湿度を測定することで、噴霧条件の決定の精度が高まり、より効率良く除菌を行うことができる。このため、図１１に示されるように、湿度センサ２４０は、対象物１０４の近傍に設けられていてもよい。湿度センサ２４０は、例えば対象物１０４に接触して設けられている。なお、図１１は、本実施の形態の変形例に係る除菌装置２０１の構成を示すブロック図である。
【０１５０】
除菌装置２０１の制御回路２３０は、例えば、湿度センサ２４０と通信することにより、湿度センサ２４０によって測定された湿度を示す湿度情報を取得する。制御回路２３０と湿度センサ２４０との通信は、有線通信でもよく、無線通信でもよい。例えば、制御回路２３０は、Ｗｉ−Ｆｉ（登録商標）、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）又はＺｉｇＢｅｅ（登録商標）などの無線通信規格に基づいた無線通信を行う。
【０１５１】
（実施の形態３）
続いて、実施の形態３について説明する。
【０１５２】
図１２は、本実施の形態に係る除菌装置３００の構成を示すブロック図である。図１２に示されるように、除菌装置３００は、実施の形態２に係る除菌装置２０１と比較して、噴霧部１１０の代わりに噴霧部３１０を備える点が相違する。以下では、実施の形態２との相違点を中心に説明し、共通点の説明を省略又は簡略化する。
【０１５３】
噴霧部３１０は、薬液ミスト３０２を渦輪状にして噴霧する。つまり、噴霧部３１０は、薬液ミスト３０２の渦流を生成して放出する。例えば、噴霧部３１０は、薬液ミスト３０２を生成し、生成した薬液ミスト３０２を容器内に貯める。容器は、薬液ミスト３０２を放出するための開口を有する。また、容器は、瞬間的に容積を減らすことができるように構成されている。例えば、容器の一部には、変形可能な膜が張られており、当該膜に対して瞬間的な打撃を与えることにより、容器の容積が減少する。容積が減少することにより、容器内に貯められた薬液ミスト３０２が開口から押し出されて渦輪を形成し、押し出された方向に進行する。なお、渦輪の形成方法は、特に限定されない。
【０１５４】
渦輪状の薬液ミスト３０２は、直進的にミスト量を維持しながら長距離を進むことができる。これにより、除菌装置３００と対象物１０４との距離が離れている場合であっても、多くの薬液ミスト３０２を対象物１０４まで輸送することができる。これにより、対象物１０４の除菌を効率良く行うことができる。
【０１５５】
（実施の形態４）
続いて、実施の形態４について説明する。
【０１５６】
図１３は、本実施の形態に係る除菌装置４００の構成を示すブロック図である。図１３に示されるように、除菌装置４００は、実施の形態３に係る除菌装置３００と比較して、新たに水分計４５０を備える点と、制御回路２３０の代わりに制御回路４３０を備える点とが相違する。以下では、実施の形態３との相違点を中心に説明し、共通点の説明を省略又は簡略化する。
【０１５７】
水分計４５０は、対象物１０４の水分を測定する。水分計４５０は、非接触式の水分計であり、例えば光学式の水分量センサである。具体的には、水分計４５０は、近赤外光などの水に吸収される波長成分の光を対象物１０４に向けて出射し、出射した光の対象物１０４による反射光を受光し、受光した反射光の強度に基づいて対象物１０４の表面に付着した水分量を計測する。
【０１５８】
制御回路４３０は、水分計４５０によって測定された水分量に基づいて、ミスト量、ミスト量毎の薬液ミスト３０２の噴霧期間、及び、薬液ミスト３０２に含まれる薬液の濃度の少なくとも１つの条件を決定してもよい。例えば、制御回路４３０は、水分量が第１の湿度よりも多い第２の水分量である場合において、水分量が第１の水分量である場合よりも、第１のミスト量及び第３のミスト量、並びに、第１期間及び第３期間の少なくとも１つを減少させる。また、例えば、制御回路４３０は、水分量が第２の水分量である場合において、水分量が第１の水分量である場合よりも、薬液ミスト３０２の薬液の濃度、及び、第２期間の少なくとも１つを減少させる。
【０１５９】
図１４は、本実施の形態に係る除菌装置４００による噴霧条件の、水分量による違いを説明するための図である。図１４において、図１０などと同様に、横軸は時間を表し、縦軸は薬液ミスト３０２のミスト量を表している。図１４では、水分量が第１の水分量である場合、すなわち、水分量が少ない場合のミスト量の変化の一例を破線のグラフで表している。水分量が、第１の水分量より多い第２の水分量である場合、すなわち、水分量が多い場合のミスト量の変化の一例を実線のグラフで表している。例えば、第１の水分量は０、すなわち、対象物１０４が乾燥状態である。第２の水分量は、例えば、所定の水分量であって、対象物１０４が濡れた状態である。
【０１６０】
例えば、図１４に示されるように、水分量が多い場合の第１のミスト量Ｍ１１は、水分量が少ない場合の第１のミスト量Ｍ２１より少ない。水分量が多い場合の第２のミスト量Ｍ１２は、水分量が少ない場合の第２のミスト量Ｍ２２より少ない。水分量が多い場合の第３のミスト量Ｍ１３は、水分量が少ない場合の第３のミスト量Ｍ１２より少ない。なお、第２のミスト量Ｍ１２及びＭ２２は、水分量によらずに０であってもよい。
【０１６１】
また、例えば、水分量が多い場合の第１のミスト量Ｍ１１の噴霧期間Ｔ１１は、水分量が少ない場合の第１のミスト量Ｍ２１の噴霧期間Ｔ２１より短い。水分量が多い場合の第３のミスト量Ｍ１３の噴霧期間Ｔ１３は、水分量が少ない場合の第３のミスト量Ｍ２３の噴霧期間Ｔ２３より短い。水分量が多い場合の第２のミスト量Ｍ１２の噴霧期間Ｔ１２は、水分量が多い場合の第２のミスト量Ｍ２２の噴霧期間Ｔ２２より長い。
【０１６２】
また、図１４に示されるように、水分量が多い場合の薬液ミスト３０２の濃度は、水分量が少ない場合の薬液ミスト３０２の濃度よりも高い。
【０１６３】
水分量が少ない場合には、湿度が低い場合と同様に、薬液ミスト３０２の気化が促進されやすい。このため、多量の薬液ミスト３０２を長い期間、供給しても有効に除菌に利用される。また、水分量が少ない場合には、ミスト量を多くすることができるので、濃度を低くすることができる。
【０１６４】
一方で、水分量が多い場合には、薬液ミスト３０２の気化が起こりにくい。このため、薬液ミスト３０２のミスト量を減少させ、かつ、第２のミスト量での噴霧期間を長くする。これにより、気化を促進し、除菌効果を高めることができる。
【０１６５】
また、本実施の形態によれば、薬液ミスト３０２の噴霧によって対象物１０４に付着した水分量の変化を測定することができる。これにより、水分量の変化に基づいて適切な噴霧条件を決定することができる。
【０１６６】
なお、図１４に示される例においても、ミスト量毎に濃度が変更されてもよい。また、水分計４５０は、接触式の水分量センサであってもよい。この場合、制御回路４３０は、水分計４５０と通信することにより、水分計４５０によって測定された水分量を示す水分量情報を取得する。制御回路４３０と水分計４５０との通信は、有線通信でもよく、無線通信でもよい。
【０１６７】
（実施の形態５）
続いて、実施の形態５について説明する。
【０１６８】
図１５は、本実施の形態に係る除菌装置５００の構成を示すブロック図である。図１５に示されるように、除菌装置５００は、実施の形態３に係る除菌装置３００と比較して、制御回路２３０の代わりに制御回路５３０を備える点が相違する。また、対象物１０４の近傍には、除湿装置５０１が設けられている。以下では、実施の形態３との相違点を中心に説明し、共通点の説明を省略又は簡略化する。
【０１６９】
除湿装置５０１は、対象物１０４が設けられた空間の除湿を行う装置である。例えば、除湿装置５０１は、対象物１０４と同じ空間に設けられている。除湿装置５０１は、対象物１０４に接するように設けられていてもよい。
【０１７０】
制御回路５３０は、除湿装置５０１を制御することで、対象物１０４が設けられた空間の除湿を行う。具体的には、制御回路５３０は、例えば、除湿装置５０１と通信することにより、除湿の開始指示などの制御信号を除湿装置５０１に送信する。制御回路５３０と除湿装置５０１との通信は、有線通信でもよく、無線通信でもよい。
【０１７１】
本実施の形態では、制御回路５３０は、除湿装置５０１を制御することで、第２のミスト量での噴霧期間、すなわち、第２期間、又は、薬液ミスト３０２の噴霧が行われていない期間に除湿を行う。制御回路５３０は、第２期間以外の噴霧期間では、除湿を行わなくてもよい。
【０１７２】
第２期間は、薬液ミスト３０２の気化が促進される期間である。このため、この期間に除湿が行われることで、薬液ミスト３０２の気化が更に促進される。これにより、除菌効果を更に高めることができる。
【０１７３】
なお、制御回路５３０は、除湿装置５０１を制御することで、常に除湿を行ってもよい。つまり、制御回路５３０は、第２期間だけでなく、第１期間及び第３期間の少なくとも一方でも除湿を行ってもよい。
【０１７４】
（実施の形態６）
続いて、実施の形態６について説明する。
【０１７５】
図１６は、本実施の形態に係る除菌装置６００の構成を示すブロック図である。図１６に示されるように、除菌装置６００は、実施の形態１に係る除菌装置１００と比較して、新たに光センサ６６０を備える点と、制御回路１３０の代わりに制御回路６３０を備える点とが相違する。以下では、実施の形態１との相違点を中心に説明し、共通点の説明を省略又は簡略化する。
【０１７６】
光センサ６６０は、対象物１０４に付着した物質６０５を測定する。物質６０５は、例えば、細菌若しくはウイルス、又は、カビなどの真菌などである。物質６０５は、嘔吐物などを拭き取った後に残った残滓であってもよい。物質６０５は、例えば、有機物を含んでいる。
【０１７７】
光センサ６６０は、例えば、対象物１０４に向けて照射光を出射する光源と、対象物１０４から戻ってくる光を受光する受光素子とを備える。光源は、例えば、レーザ素子又はＬＥＤ（Light Emitting Diode）素子であるが、これに限らない。照射光は、例えば、青色光などの可視光であるが、赤外光であってもよく、紫外光であってもよい。照射光は、物質６０５を励起させる励起光であってもよい。
【０１７８】
受光素子は、対象物１０４に照射光が照射された場合に対象物１０４から戻ってくる光を受光する。対象物１０４から戻ってくる光は、例えば、物質６０５によって反射された反射光、物質６０５によって散乱された散乱光、又は、物質６０５が励起されて出射する蛍光である。受光素子は、入射する光の強度に応じた信号レベルの電気信号を出力する光電変換素子を含んでいる。光電変換素子は、例えば、フォトダイオードであるが、アバランシェフォトダイオード又は光電子増倍管であってもよい。受光素子は、複数の光電変換素子が二次元アレイ状に並んだイメージセンサであってもよい。
【０１７９】
例えば、光センサ６６０は、紫外光を対象物１０４に向けて出射する。対象物１０４に付着した物質６０５は、照射された紫外光によって励起され、蛍光を発する。光センサ６６０は、物質６０５が発する蛍光を受光し、受光強度に基づいて物質６０５の量を算出する。例えば、受光強度が高い程、物質６０５の量が多く、受光強度が低い程、物質６０５の量が少ない。光センサ６６０は、受光強度と物質６０５との対応関係を表す情報又は関数を記憶するメモリを有する。光センサ６６０は、メモリに記憶された情報又は関数に基づいて、物質６０５の量を算出する。光センサ６６０は、物質６０５の励起蛍光マトリクス（Excitation Emission Matrix）を取得するセンサであってもよい。励起蛍光マトリクスは、蛍光指紋とも呼ばれる。
【０１８０】
制御回路６３０は、測定領域内の物質６０５の量に基づいて、ミスト量、ミスト量毎の薬液ミスト１０２の噴霧期間、及び、薬液ミスト１０２に含まれる薬液の濃度の少なくとも１つの条件を決定する。測定領域は、例えば、光センサ６６０による光の照射範囲である。なお、光センサ６６０の光の出射範囲は、可変であってもよい。
【０１８１】
例えば、物質６０５の量が多い程、除菌しなければならない菌数が多いので、多くのミスト量が必要になる。物質６０５が少ない程、除菌しなければならない菌数が少ないので、ミスト量が少なくてもよい。したがって例えば、制御回路６３０は、物質６０５の量が第１の量よりも多い第２の量である場合において、物質６０５の量が第１の量である場合よりも、第１のミスト量及び第３のミスト量、並びに、第１期間及び第３期間の少なくとも１つを増加させる。また、例えば、制御回路６３０は、物質６０５の量が第２の量である場合において、物質６０５の量が第１の量である場合よりも、薬液ミスト１０２の薬液の濃度、及び、第２期間の少なくとも１つを減少させる。
【０１８２】
このように、本実施の形態に係る除菌装置６００によれば、ミスト量、噴霧期間及び濃度の少なくとも１つを、対象物１０４に付着した物質６０５に応じて適切な値に調整することができる。したがって、薬液ミスト１０２のミスト量の無駄を抑制し、効率良く除菌を行うことができる。
【０１８３】
なお、本実施の形態及び他の実施の形態１から５では、対象物１０４は、建築物の構造材である例を示したが、これに限らない。対象物１０４は、図１７に示されるように、エアロゾル６０４であってもよい。
【０１８４】
図１７は、本実施の形態に係る除菌装置６００の別の適用例を示す図である。図１７に示される例では、除菌装置６００は、対象物であるエアロゾル６０４の除菌を行う。エアロゾル６０４は、例えば、人のくしゃみ又は咳によって飛散する飛沫である。例えば、飛沫には、菌又はウイルスなどの除菌の対象となる物質が含まれる。なお、エアロゾル６０４は、ＰＭ２．５などの微小粒子状物質、又は、花粉などであってもよい。
【０１８５】
本変形例では、光センサ６６０は、例えば、ライダー（ＬＩＤＡＲ：Light Detection and Ranging）装置であってもよい。光センサ６６０は、測定領域を照射光でスキャンするように、複数の方向に向けて照射光を出射する。測定領域は、例えばエアロゾル６０４が存在する空間である。エアロゾル６０４は照射光を散乱させるので、エアロゾル６０４が存在する場合には、光センサ６６０は、その散乱光を受光することができる。光センサ６６０は、散乱光の強度に基づいてエアロゾル６０４の量を、除菌の対象である物質の量として算出する。
【０１８６】
なお、エアロゾル６０４は、対象物１０４とは異なり、空間中で検出される位置が変化しうる。このため、制御回路６３０は、エアロゾル６０４の除菌を適切に行うため、噴霧部１１０による薬液ミスト１０２の噴霧方向を変更してもよい。具体的には、制御回路６３０は、エアロゾル６０４が検出された方向に向かって薬液ミスト１０２が噴霧されるように噴霧方向を変更する。
【０１８７】
このように、対象物１０４は、空間中に固定された物質でなくてもよく、空間中を浮遊するエアロゾル６０４であってもよい。この場合であっても、制御回路６３０は、ミスト量、噴霧期間及び濃度の少なくとも１つを、エアロゾル６０４に含まれる物質の量に応じて適切な値に調整することができる。したがって、薬液ミスト１０２のミスト量の無駄を抑制し、効率良く除菌を行うことができる。
【０１８８】
（実施の形態７）
続いて、実施の形態７について説明する。
【０１８９】
図１８は、本実施の形態に係る除菌装置７００の構成を示すブロック図である。図１８に示されるように、除菌装置７００は、実施の形態１に係る除菌装置１００と比較して、新たに人検知センサ７７０を備える点と、制御回路１３０の代わりに制御回路７３０を備える点とが相違する。以下では、実施の形態１との相違点を中心に説明し、共通点の説明を省略又は簡略化する。
【０１９０】
人検知センサ７７０は、対象物１０４と同一空間内に存在する人を検知する。人検知センサ７７０は、例えば、イメージセンサを含むカメラであり、人の動きを検知する。具体的には、人検知センサ７７０は、対象物１０４を含む範囲を撮像することにより、動画像を生成する。
【０１９１】
制御回路７３０は、人検知センサ７７０による検知結果に基づいて汚染可能性度を決定し、決定した汚染可能性度に基づいて、ミスト量、ミスト量毎の薬液ミスト１０２の噴霧期間、及び、薬液ミスト１０２に含まれる薬液の濃度の少なくとも１つの条件を決定する。汚染可能性度は、対象物１０４が汚染された可能性の度合いを示す数値である。例えば、汚染可能性度が高い程、対象物１０４が汚染されている可能性が高く、汚染可能性度が低い程、対象物１０４が汚染されている可能性が低い。汚染可能性度は、例えば、「高い」と「低い」との２値であってもよい。あるいは、汚染可能性度は、３段階以上の値であってもよい。
【０１９２】
本実施の形態では、制御回路７３０は、人検知センサ７７０によって生成された動画像を取得し、人が対象物１０４に触れたか否かを判定する。具体的には、制御回路７３０は、動画像に画像処理を行うことで、人の存否を検出し、人が存在する場合には、人が対象物１０４に触れたか否かを判定する。人が対象物１０４に触れたと判定した場合、制御回路７３０は、汚染可能性度を高い値に設定する。対象物１０４に対する接触回数が多い程、汚染可能性度を高くしてもよく、１回でも接触した場合に汚染可能性度を最高値に設定してもよい。
【０１９３】
例えば、図１８に示されるように、病人の手７０６が対象物１０４に触れた場合、ウイルスなどの病原体が対象物１０４に付着した可能性がある。このため、制御回路７３０は、汚染可能性度を高く設定することで、適切なミスト量で噴霧を行わせることができる。具体的には、制御回路７３０は、汚染可能性度が第１の値よりも高い第２の値である場合において、汚染可能性度が第１の量である場合よりも、第１のミスト量及び第３のミスト量、並びに、第１期間及び第３期間の少なくとも１つを増加させる。また、例えば、制御回路７３０は、汚染可能性度が第２の値である場合において、汚染可能性度が第１の値である場合よりも、薬液ミスト１０２の薬液の濃度、及び、第２期間の少なくとも１つを減少させる。
【０１９４】
このように、本実施の形態に係る除菌装置７００によれば、ミスト量、噴霧期間及び濃度の少なくとも１つを、汚染可能性度に応じて適切な値に調整することができる。したがって、薬液ミスト１０２のミスト量の無駄を抑制し、効率良く除菌を行うことができる。
【０１９５】
なお、人検知センサ７７０は、マイクロフォンなどの音検知センサであってもよい。
【０１９６】
制御回路７３０は、マイクロフォンの検知結果に基づいて汚染可能性度を決定する。具体的には、制御回路７３０は、マイクロフォンの検知結果に基づいて、人がくしゃみ又は咳を行ったか否かを判定する。例えば、病人がくしゃみ又は咳を行った場合には、くしゃみ又は咳とともに病人の口から飛散する飛沫にウイルスなどの病原体が含まれている可能性が高い。このため、くしゃみ又は咳が検出された場合には、汚染可能性度が高くなる。制御回路７３０は、人がくしゃみ又は咳を行ったと判定した場合、汚染可能性度を高い値に設定する。このとき、咳の場合の汚染可能性度よりも、くしゃみの場合の汚染可能性度を高くしてもよい。
【０１９７】
また、人検知センサ７７０は、複数の方向に対して指向性を有するマイクロフォンであり、音の発生源の位置を検出してもよい。これにより、人検知センサ７７０は、例えば、人がくしゃみ又は咳を行った時に付随して生じる音を検出し、検出した音の発生源を検出することができる。音の発生源の近傍には、くしゃみ又は咳と共に飛散した飛沫が存在し、当該飛沫には菌又はウイルスが含まれている可能性が高い。
【０１９８】
したがって、制御回路７３０は、人検知センサ７７０によって検出された音の発生源に向かって、噴霧部１１０に薬液ミスト１０２を噴霧させる。これにより、菌又はウイルスが存在する可能性が高い方向に向けて薬液ミスト１０２を噴霧させることができるので、より効率良く除菌を行うことができる。
【０１９９】
このように、人検知センサ７７０は、人を検出できるセンサであればよい。人検知センサ７７０は、例えば、熱画像センサ又は人感センサなどであってもよい。
【０２００】
（他の実施の形態）
以上、１つ又は複数の態様に係る除菌方法及び除菌装置について、実施の形態に基づいて説明したが、本開示は、これらの実施の形態に限定されるものではない。本開示の主旨を逸脱しない限り、当業者が思いつく各種変形を本実施の形態に施したもの、及び、異なる実施の形態における構成要素を組み合わせて構築される形態も、本開示の範囲内に含まれる。
【０２０１】
例えば、薬液ミスト１０２の噴霧条件のうち、噴霧期間及び濃度は常に一定であってもよい。また、湿度又は水分量によらず、第１のミスト量、第２のミスト量及び第３のミスト量の各々は、予め設定された固定値であってもよい。つまり、噴霧を決定するステップは行われなくてもよい。
【０２０２】
例えば、上記実施の形態で説明した装置間の通信方法については特に限定されるものではない。装置間で無線通信が行われる場合、無線通信の方式（通信規格）は、例えば、ＺｉｇＢｅｅ（登録商標）、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）、又は、無線ＬＡＮ（Local Area Network）などの近距離無線通信である。あるいは、無線通信の方式（通信規格）は、インターネットなどの広域通信ネットワークを介した通信でもよい。また、装置間においては、無線通信に代えて、有線通信が行われてもよい。有線通信は、具体的には、電力線搬送通信（ＰＬＣ：Power Line Communication）又は有線ＬＡＮを用いた通信などである。
【０２０３】
また、上記実施の形態において、特定の処理部が実行する処理を別の処理部が実行してもよい。また、複数の処理の順序が変更されてもよく、あるいは、複数の処理が並行して実行されてもよい。また、除菌装置が備える構成要素の複数の装置への振り分けは、一例である。例えば、一の装置が備える構成要素を他の装置が備えてもよい。
【０２０４】
例えば、除湿装置５０１が湿度センサ２４０及び水分計４５０の少なくとも一方を備えてもよい。また、例えば、除菌装置５００が除湿装置５０１を備えてもよい。
【０２０５】
例えば、上記実施の形態において説明した処理は、単一の装置（システム）を用いて集中処理することによって実現してもよく、又は、複数の装置を用いて分散処理することによって実現してもよい。また、上記プログラムを実行するプロセッサは、単数であってもよく、複数であってもよい。すなわち、集中処理を行ってもよく、又は分散処理を行ってもよい。
【０２０６】
また、上記実施の形態において、制御部などの構成要素の全部又は一部は、専用のハードウェアで構成されてもよく、あるいは、各構成要素に適したソフトウェアプログラムを実行することによって実現されてもよい。各構成要素は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）又はプロセッサなどのプログラム実行部が、ＨＤＤ（Hard Disk Drive）又は半導体メモリなどの記録媒体に記録されたソフトウェアプログラムを読み出して実行することによって実現されてもよい。
【０２０７】
また、制御部などの構成要素は、１つ又は複数の電子回路で構成されてもよい。１つ又は複数の電子回路は、それぞれ、汎用的な回路でもよいし、専用の回路でもよい。
【０２０８】
１つ又は複数の電子回路には、例えば、半導体装置、ＩＣ（Integrated Circuit）又はＬＳＩ（Large Scale Integration）などが含まれてもよい。ＩＣ又はＬＳＩは、１つのチップに集積されてもよく、複数のチップに集積されてもよい。ここでは、ＩＣ又はＬＳＩと呼んでいるが、集積の度合いによって呼び方が変わり、システムＬＳＩ、ＶＬＳＩ（Very Large Scale Integration）、又は、ＵＬＳＩ（Ultra Large Scale Integration）と呼ばれるかもしれない。また、ＬＳＩの製造後にプログラムされるＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）も同じ目的で使うことができる。
【０２０９】
また、本開示の全般的又は具体的な態様は、システム、装置、方法、集積回路又はコンピュータプログラムで実現されてもよい。あるいは、当該コンピュータプログラムが記憶された光学ディスク、ＨＤＤ若しくは半導体メモリなどのコンピュータ読み取り可能な非一時的記録媒体で実現されてもよい。また、システム、装置、方法、集積回路、コンピュータプログラム及び記録媒体の任意な組み合わせで実現されてもよい。
【０２１０】
また、上記の各実施の形態は、特許請求の範囲又はその均等の範囲において種々の変更、置き換え、付加、省略などを行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【０２１１】
本開示は、対象物の除菌を効率良く行うことができる除菌方法及び除菌装置として利用でき、例えば、介護施設又は病院などの除菌設備などに利用することができる。
【符号の説明】
【０２１２】
１００、１０１、２００、２０１、３００、４００、５００、６００、７００  除菌装置
１０２、３０２  薬液ミスト
１０３  微小液滴
１０３ａ  水分
１０３ｂ  薬液成分
１０４  対象物
１１０、１１１、３１０  噴霧部
１１２  生成部
１１４  容器
１２０  薬液供給部
１３０、２３０、４３０、５３０、６３０、７３０  制御回路
２４０  湿度センサ
４５０  水分計
５０１  除湿装置
６０４  エアロゾル
６０５  物質
６６０  光センサ
７０６  手
７７０  人検知センサ
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図３Ｅ】
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【図３Ｆ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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