(57)【要約】【課題】  本発明の課題は、膜厚および成分分布が均一化された温度応答性ブロック共重合体を含む膜の製造方法を提供することにある。【解決手段】  水下限臨界溶解温度（ＬＣＳＴ）を持つブロック共重合体である膜の製造方法であって、ブロック共重合体の各成分に対し良溶媒である溶媒を選択したブロック共重合体溶液を含む表面処理剤を用い、スピンコート法で２，０００〜１０，０００ｒｐｍの条件で製造されることを特徴とする膜の製造方法により前記課題を解決する。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下限臨界溶解温度（ＬＣＳＴ）を持つブロック共重合体を含む膜の製造方法であって、ブロック共重合体の各成分に対し良溶媒である溶媒を選択したブロック共重合体溶液を含む表面処理剤を用い、スピンコート法で２，０００〜１０，０００ｒｐｍの条件で製造されることを特徴とする前記製造方法。
【請求項２】
表面処理剤の量が、単位面積当たり１〜１０μＬ／ｃｍ２であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
ブロック共重合体が３成分からなるトリブロック共重合体であることを特徴とする請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
トリブロック共重合体の構成成分が下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）からなることを特徴とする請求項３に記載の製造方法。
（Ａ）水に対する下限臨界溶解温度（ＬＣＳＴ）が０〜４５℃の範囲にある温度応答性重合体。
（Ｂ）０〜４５℃の範囲にＬＣＳＴを持たない、ＨＬＢ値（グリフィン法）が０．０以上９．０未満の範囲にある疎水性重合体。
（Ｃ）０〜４５℃の範囲にＬＣＳＴを持たない、ＨＬＢ値（グリフィン法）が９．０以上２０．０未満の範囲にある親水性重合体。
【請求項５】
基材の表面に請求項１〜４に記載の方法で膜を塗布することを特徴とする器材の製造方法。
【請求項６】
前記基材が細胞培養用器材であることを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、温度応答性ブロック共重合体を含む膜を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ブロック共重合体を含む表面処理剤は、基材表面にコートすることで表面にブロック共重合体由来の機能を付与できるため、広い分野で研究開発がなされている。例えば特許文献１によれば、温度応答性を有するＮ−イソプロピルアクリルアミド重合体と、疎水性を有するｎ−ブチルメタクリレート重合体からなるブロック共重合体を含む表面処理剤が記載されている。本表面処理剤を細胞培養器材にコートすることで、表面に温度応答性を付与することができる。このような細胞培養器材を用いると、周囲環境の温度降下により接着した細胞が剥離するため、酵素処理などで細胞に刺激を与えることなく、低ダメージで回収することができる。
【０００３】
特許文献１記載の表面処理剤を細胞培養器材に用いる場合、温度応答性能を高度に発現させるためのコート方法が求められる。例えば特許文献２によれば、温度応答性ブロック共重合体を含む表面処理剤のコート時に温度応答性成分の下限臨界溶解温度（ＬＣＳＴ）以上の温度に制御する方法が記載されている。本コート方法を用いれば、ＬＣＳＴ前後の親水性／疎水性の変化を向上することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１８−０８７３１６号公報
【特許文献２】特開２０１８−２０３９８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、膜厚および成分分布が均一化された温度応答性ブロック共重合体を含む膜の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、以上の点を鑑み、鋭意研究を重ねた結果、本発明に到達した。
すなわち本発明の一態様は、
下限臨界溶解温度（ＬＣＳＴ）を持つブロック共重合体を含む膜の製造方法であって、ブロック共重合体の各成分に対し良溶媒である溶媒を選択したブロック共重合体溶液を含む表面処理剤を用い、スピンコート法で２，０００〜１０，０００ｒｐｍの条件で製造されることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明により、温度応答性ブロック共重合体を製膜する際に膜厚および成分分布の不均一化を抑えることができる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の一態様についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの記載に限定されるものではない。
【０００９】
ＬＣＳＴとは下限臨界溶解温度（Ｌｏｗｅｒ  Ｃｒｉｔｉｃａｌ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ  Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ：ＬＣＳＴ）であり、この温度よりも低い温度では高分子が水に溶解して透明の溶液になるが、この温度よりも高い温度では不溶化して白濁するか沈殿が生じ、相分離する温度である。
【００１０】
ブロック共重合体は、２種類以上の繰り返し単位からなる重合体で、それぞれ同種の繰り返し単位からなる高分子鎖が、１本の鎖の中に結合している重合体をいう。
【００１１】
ブロック共重合体のＬＣＳＴは特に限定はなく、水に対するＬＣＳＴが０〜１００℃の範囲にあればよく、その繰返し単位とＬＣＳＴは、例えば高分子論文集，ｖｏｌ．４６，Ｎｏ．７，ｐ．４３７〜４４３（１９８９）に記載されている。ＬＣＳＴを示す繰返し単位（以下、「ＬＣＳＴ繰返し単位」ということがある）は、その繰り返し単位を１種類のみ用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。また、ブロック共重合体が温度応答性を有するのであれば、ＬＣＳＴ繰返し単位の他に、異なる繰返し単位を含んでも良い。ＬＣＳＴ繰返し単位のブロック共重合体全体に対する組成比は、温度応答性を発現させるために、好ましくは１０ｍｏｌ％以上であり、より好ましくは４０ｍｏｌ％以上である。
【００１２】
ブロック共重合体を構成する成分の数は特に限定はないが、膜形成機能に加え、その他の有効な機能を付属できることから、好ましくは３である。
【００１３】
ブロック共重合体の合成方法としては特に限定はなく、例えば、株式会社エヌ・ティー・エス発行、“ラジカル重合ハンドブック”、ｐ．１６１〜２２５（２０１０）に記載のリビングラジカル重合技術を用いて、共重合する方法を用いることができる。
【００１４】
ブロック共重合体の数平均分子量（Ｍｎ）は３，０００以上１，０００，０００以下が好ましく、より好ましくは１０，０００以上１，０００，０００以下である。３，０００未満の場合は膜の温度応答性が発現しにくい。
【００１５】
ブロック共重合体の好ましい一例として、高い温度応答性を発現可能である（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）からなるトリブロック共重合体を例示できる。各成分は以下のとおりである。
（Ａ）水に対するＬＣＳＴが０〜４５℃の範囲にある温度応答性重合体
（Ｂ）０〜４５℃の範囲にＬＣＳＴを持たない、ＨＬＢ値（グリフィン法）が０．０以上９．０未満の範囲にある疎水性重合体
（Ｃ）０〜４５℃の範囲にＬＣＳＴを持たない、ＨＬＢ値（グリフィン法）が９．０以上２０．０未満の範囲にある親水性重合体
【００１６】
上述したトリブロック共重合体の成分（Ａ）である繰り返し単位とその水に対するＬＣＳＴは、例えば、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド（ＬＣＳＴ＝３２℃）、Ｎ−ｎ−プロピルメタクリルアミド（ＬＣＳＴ＝２２℃）、Ｎ−テトラヒドロフルフリルアクリルアミド（ＬＣＳＴ＝２８℃）、Ｎ−エトキシエチルアクリルアミド（ＬＣＳＴ＝３５℃）、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド（ＬＣＳＴ＝３２℃）、Ｎ−イソプロピルメタクリルアミド（ＬＣＳＴ＝４４℃）、Ｎ−ｎ−プロピルメタクリルアミド（ＬＣＳＴ＝２８℃）、Ｎ−テトラヒドロフルフリルメタクリルアミド（ＬＣＳＴ＝３５℃）、Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピルアクリルアミド（ＬＣＳＴ＝２３℃）、またはＮ−メチル−Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド（ＬＣＳＴ＝２０℃）等が例示できるが、中でもＬＣＳＴ発現の濃度依存性が低いＮ−イソプロピルアクリルアミドの繰返し単位が好ましい。成分（Ａ）は、繰り返し単位を１種類のみ用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。また、温度応答性を有するのであれば、前期温度応答性繰返し単位の他に、異なる繰返し単位を含んでも良い。（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）からなるトリブロック共重合体に対する（Ａ）の組成比は、温度応答性を発現させるために、好ましくは１０ｍｏｌ％以上であり、より好ましくは４０ｍｏｌ％以上である。
【００１７】
ＨＬＢ値（ＨＬＢ；Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ  Ｂａｌａｎｃｅ）とは、Ｗ．Ｃ．Ｇｒｉｆｆｉｎ，  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ｃｏｓｍｅｔｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｓ，  １，  ３１１（１９４９）．に記載の、水と油への親和性の程度を表す値であり、０．０から２０．０までの値を取り、０．０に近いほど疎水性が高く、２０．０に近いほど親水性が高くなる。本発明においてはグリフィン法で計算した値を使用し、繰り返し単位中の親水部の式量と繰り返し単位の総式量を元に、下記の計算式で求めた。
ＨＬＢ値＝２０．０×（親水部の式量）÷（総式量）
【００１８】
繰り返し単位中の親水部としては、スルホン部（−ＳＯ３−）、ホスホノ基部（−ＰＯ３−）、カルボキシル基部（−ＣＯＯＨ）、エステル部（−ＣＯＯ−）、アミド部（−ＣＯＮＨ−）、イミド部（−ＣＯＮ−）、アルデヒド基部（−ＣＨＯ）、カルボニル基部（−ＣＯ−）、ヒドロキシル基部（−ＯＨ）、アミノ基部（−ＮＨ２）、アセチル基部（−ＣＯＣＨ３）、エチレンアミン部（−ＣＨ２ＣＨ２Ｎ−）、エチレンオキシ部（−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、ハロゲン化物イオン、酢酸イオンを例示することができる。
【００１９】
繰り返し単位中の親水部の算出では、親水部を構成する原子が、他の親水部を構成する原子として重複してはならない。繰り返し単位中のＨＬＢ値の算出例を以下に記載した。例えば、２−メトキシエチルアクリレート（分子量：１３０．１４）の場合、親水部は、エステル部が１部およびエチレンオキシ部が１部であり、親水部の式量は８８．０３であるから、ＨＬＢ値は１３．５である。ｎ−ブチルアクリレート（分子量：１２８．１７）の場合、親水部は、エステル部が１部であり、親水部の式量は４４．０１であるから、ＨＬＢ値は６．９である。
【００２０】
さらに、共重合体を構成する各成分が、異なる単量体（単量体１、単量体２・・・）からなる共重合体である場合は、それぞれの単量体が重合して生成する繰り返し単位の共重合体中の比率（ｍｏｌ％）を分析し、下記の計算式で算出することができる。
ＨＬＢ値＝ＨＬＢ値１×比率１＋ＨＬＢ値２×比率２＋・・・・
【００２１】
ここで、ＨＬＢ値１は単量体１が重合して生成する重合体のＨＬＢ値であり、比率１は単量体１が重合して生成する繰り返し単位の共重合体中の比率（ｍｏｌ％）であり、ＨＬＢ値２は単量体２が重合して生成する重合体のＨＬＢ値であり、比率２は単量体２が重合して生成する繰り返し単位の共重合体中の比率（ｍｏｌ％）である。ＨＬＢ値の取扱いは、小数点以下第２位を四捨五入して表示される小数点以下第１位までの数字から判断する。
【００２２】
トリブロック共重合体の成分（Ｂ）は、０℃〜４５℃の範囲にＬＣＳＴを持たない、ＨＬＢ値（グリフィン法）が０．０以上９．０以下の範囲にある疎水性重合体であり、ブロック共重合体の基材への接着に寄与する。成分（Ｂ）に含まれる繰返し単位は、例えば、スチレン（ＨＬＢ値＝０．０）やその誘導体、メチルメタクリレート（ＨＬＢ値＝８．８）、エチルアクリレート（ＨＬＢ値＝８．８）、エチルメタクリレート（ＨＬＢ値＝７．７）、ｎ−プロピルアクリレート（ＨＬＢ値＝７．７）、ｎ−プロピルメタクリレート（ＨＬＢ値＝６．９）、ｎ−ブチルアクリレート（ＨＬＢ値＝６．９）、ｎ−ブチルメタクリレート（ＨＬＢ値＝６．２）等のアルキル（メタ）アクリレート等を例示できる。ＨＬＢ値が９．０以上である場合は、基材に塗布した場合に剥離しやすく安定な膜を得ることができない。
【００２３】
トリブロック共重合体の成分（Ｃ）は、０℃〜４５℃の範囲にＬＣＳＴを持たない、ＨＬＢ値（グリフィン法）が９．０以上２０．０以下の範囲にある親水性重合体であり、温度応答性成分の水和速度向上に寄与する。成分（Ｃ）に含まれる繰返し単位は、例えば、２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン（ＨＬＢ値＝１４．２）、ポリエチレングリコールアクリレート（ＨＬＢ値＝１５．３以上）、ポリエチレングリコールメタクリレート（ＨＬＢ値＝１３．７以上）、２−メトキシエチルアクリレート（ＨＬＢ値＝１３．５）、２−メトキシエチルメタクリレート（ＨＬＢ値＝１２．２）等が例示できる。ＨＬＢ値が９未満である場合は、優れた水和速度が発現できない。
【００２４】
表面処理剤の調製方法は、ブロック共重合体を均一に溶解させて調製する。溶媒に均一に溶解するものであれば、ブロック共重合体以外に添加剤を加えてもよい。また表面処理剤からは、不純物を取り除くことが好ましい。不純物を取り除く方法に特に限定はないが、濾紙、中空糸フィルター、メンブレンフィルター等を用いた濾過により行うことができる。
【００２５】
本発明で用いる表面処理剤を調製するための溶媒は、ブロック共重合体の各成分に対し良溶媒であれば、特に限定はない。各成分の溶媒に対する溶解度が１．０ｇ／１００ｍＬ以上の溶媒を良溶媒として選択できる。一例として、ポリ２−メトキシエチルアクリレート、およびポリｎ−ブチルアクリレート、およびポリＮ−イソプロピルアクリルアミドの３成分からなるトリブロック共重合体では、各成分に対して良溶媒である２−メトキシエタノールを表面処理剤の溶媒に選択でき、ポリｎ−ブチルアクリレートの溶解度が１．０ｇ／１００ｍＬ未満であるメタノールは表面処理剤の溶媒に選択できない。
【００２６】
表面処理剤の濃度は、特に限定はないが、０．０１ｗｔ％から１０ｗｔ％が好ましい。１０ｗｔ％より高濃度の場合、表面処理剤の粘度が高く、膜厚および成分の分布が不均一となる恐れがある。
【００２７】
表面処理剤のコートはスピンコート法によって行う。スピンコート法は、平滑な基材に表面処理剤を滴下し、基材を高速回転させることで遠心力により膜を製造する方法である。表面処理剤を滴下する基材上の位置は、均一にコートするために基材の中心であることが好ましい。回転数は２，０００〜１０，０００ｒｐｍで行い、３，０００〜５，０００ｒｐｍであることが好ましい。２，０００ｒｐｍ未満であると、表面処理剤が基材表面に濡れ広がらない。１０，０００ｒｐｍを超えて行うことはできるが、スピンコート装置のランニングコストが高くなる。用いる表面処理剤の量は、単位面積あたり１〜１０μＬ／ｃｍ２であることが好ましく、３〜８μＬ／ｃｍ２であることがより好ましい。回転時間は、５〜３００秒であることが好ましい。膜の厚さは特に限定はないが、温度応答性を発現するために１ｎｍ以上であることが好ましく、５ｎｍ以上であることがより好ましい。また、成分を均一に被覆するために１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以下であることがより好ましい。
【００２８】
コートする際の表面処理剤の温度は、特に限定はないが、ブロック共重合体のガラス転移温度から表面処理剤に用いる溶媒の沸点の間であることが好ましい。ガラス転移温度未満である場合は、膜厚または成分被覆量が不均一になる場合がある。
【００２９】
コートされる基材の材質は特に限定はなく、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等の高分子材料のみでなく、セラミックス、ガラス、金属類などの一般に平滑な基材として成形可能な材料を用いることができる。形状は、器材の一部形状が平滑な構造であれば特に限定はなく、シャーレ、プレート、フラスコ、細胞バックの形状でもよく、コートの操作が簡便であることから、シャーレ形状であることが好ましい。本発明は、細胞培養用器材の製造に好適である。
【実施例】
【００３０】
以下に本発明の実施例を説明するが、本発明はこれら実施例により何ら制限されるものではない。なお、断りのない限り、試薬は市販品を用いた。
【００３１】
＜ブロック共重合体の組成＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子（株）製、商品名ＪＮＭ−ＥＣＺ４００Ｓ／Ｌ１）を用いたプロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。
＜ブロック共重合体の分子量、分子量分布＞
重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定した。ＧＰＣ装置は東ソー（株）製  ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣを用い、カラムは東ソー製  ＴＳＫｇｅｌ  Ｓｕｐｅｒ  ＡＷＭ−Ｈを２本用い、カラム温度を４０℃に設定し、溶離液は１０ｍＭトリフルオロ酢酸ナトリウムを含む１０ｍＭトリフルオロ酢酸ナトリウムを用いて測定した。測定試料は１．０ｍｇ／ｍＬで調製して測定した。分子量の検量線は、分子量既知のポリメタクリル酸メチル（ポリマーラボラトリーズ製）を用いた。
＜温度応答性ブロック共重合体の合成＞
２００ｍＬ２口フラスコに成分（Ｃ）として２−メトキシエチルアクリレート（ＭＥＡ，ＨＬＢ値＝１１．５）０．６５０ｇ（５ｍｍｏｌ）を加え、さらにシアノメチルドデシルトリチオカルボナトを３１．８ｍｇ（１００μｍｏｌ）とアゾビスイソブチロニトリル１．６ｍｇ（１０μｍｏｌ）とｔｅｒｔ−ブチルアルコール１０ｍＬを加え、アルゴンガス置換後、６２℃で２４時間加熱撹拌した。
１回目の加熱撹拌後、上記に成分（Ｂ）としてｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ，ＨＬＢ値＝６．９）３．８４５ｇ（３０ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１．６ｍｇ（１０μｍｏｌ）とｔｅｒｔ−ブチルアルコール５ｍＬを加え、アルゴンガス置換後、６２℃で２４時間加熱撹拌した。
２回目の加熱撹拌後、上記に成分（Ａ）としてＮ−イソプロピルアクリルアミド（ＩＰＡＡｍ，ＬＣＳＴ＝３２℃）７．３５５ｇ（６５ｍｍｏｌ）を加え、さらにアゾビスイソブチロニトリル１．６ｍｇ（１０μｍｏｌ）とｔｅｒｔ−ブチルアルコール８５ｍＬを加え、アルゴンガス置換後、６２℃で２４時間加熱撹拌した。
３回目の加熱撹拌後、反応液を水で再沈精製し、減圧乾燥することで黄色固体を得た。得られた黄色固体をクロロホルムに溶解し、分液ロートを用いクロロホルム相を回収した。回収したクロロホルム相をエバポレーターで濃縮し、ヘプタンで再沈精製した。沈殿物をろ過で回収し、減圧乾燥することで、ブロック共重合体ｐｏｌｙ（ＭＥＡ−ＢＡ−ＩＰＡＡｍ）を８．２９５ｇ得た。得られたブロック共重合体の組成はＭＥＡ：ＢＡ：ＩＰＡＡｍ＝５：３０：６５（ｍｏｌ％）、Ｍｎは１１．８×１０４、Ｍｗ／Ｍｎは１．４５であった。
＜ブロック共重合体を含む膜の膜厚＞
ブロック共重合体を含む表面処理剤を基材にコートすることで調製した膜の厚みは、顕微分光膜厚計（大塚電子（株）製、商品名ＯＰＴＭ−Ｆ１）を用いて測定した。コート器材１つにつき、２１か所の測定を行い、平均値と標準偏差を求めた。測定箇所は、器材中心および器材中心から端部へ９０°間隔で４方向について５ｍｍごとに測定した。
＜ブロック共重合体の成分量＞
本実施例で使用するブロック共重合体で最も比率の高い成分はＩＰＡＡｍである。膜に含まれるＩＰＡＡｍ成分量は、全反射型フーリエ変換型赤外分光光度計（ＡＴＲ／ＦＴ−ＩＲ）を用いて測定した。ＦＴ−ＩＲ装置はサーモフィッシャーサイエンティフィック（株）製（商品名ＮｉｃｏｌｅｔＴＭ  ｉＳＴＭ５）、ＡＴＲアクセサリーはＣｚｉｔｅｃｈ製ダイヤモンドマイクロＡＴＲ（商品名ＭｉｃｒｏｍＡＴＲ  ＶｉｓｉｏｎＴＭ）を用いた。コート器材１つにつき、２１か所の測定を行い、平均値と標準偏差を求めた。測定箇所は、器材中心および器材中心から端部へ９０°間隔で４方向について５ｍｍごとに測定した。
【００３２】
実施例１
ブロック共重合体ｐｏｌｙ（ＭＥＡ−ＢＡ−ＩＰＡＡｍ）２００ｍｇに２−メトキシエタノールを１９．８００ｇ添加し、撹拌で全て溶解させた。２−メトキシエタノールは、ブロック共重合体の各成分に対し良溶媒である。メッシュ径０．２μｍの再生セルロース製フィルターに通液し、ブロック共重合体の１．００ｗｔ％表面処理剤を調製した。
組織培養用ディッシュ（ＩＷＡＫＩ、＃３０１０−０６０、直径５７ｍｍ）の中央に表面処理剤を１００μＬ滴下し、スピンコータ―（ミカサ（株）製、商品名ＭＳ−Ｂ２００）を用いて、回転数２，０００ｒｐｍ、回転時間６０秒の条件でスピンコートすることでブロック共重合体をコートした器材を調製した。結果を表１に示す。膜厚の平均値は３２．０ｎｍ、ＩＰＡＡｍ成分の平均値は２．０８μｇ／ｃｍ２であった。膜厚およびＩＰＡＡｍ成分のＣＶはそれぞれ１．４％、５．３％であり、膜厚およびＩＰＡＡｍ成分を均一にコートできた。
【００３３】
実施例２
スピンコートの回転数を５，０００ｒｐｍとし、それ以外は実施例１と同様の条件でコート器材を調製した。結果を表１に示す。膜厚の平均値は２０．５ｎｍ、ＩＰＡＡｍ成分の平均値は１．２０μｇ／ｃｍ２であった。膜厚およびＩＰＡＡｍ成分のＣＶはそれぞれ３．５％、４．２％であり、膜厚およびＩＰＡＡｍ成分を均一にコートできた。
【００３４】
比較例１
スピンコートの回転数を１，５００ｒｐｍとし、それ以外は実施例１と同様の条件でコート器材を調製した。結果を表１に示す。膜厚の平均値は４１．８ｎｍ、ＩＰＡＡｍ成分の平均値は３．０６μｇ／ｃｍ２であった。膜厚およびＩＰＡＡｍ成分のＣＶはそれぞれ４．８％、５１．１％であり、膜厚は均一にコートできたが、ＩＰＡＡｍ成分は均一にコートできなかった。
【００３５】
比較例２
ブロック共重合体２００ｍｇにメタノールを１９．８００ｇ添加し、撹拌で全て溶解させた。メタノールは、ブロック共重合体に含まれるｐｏｌｙＢＡに対して良溶媒ではない。メッシュ径０．２μｍの再生セルロース製フィルターに通液し、ブロック共重合体の１．００ｗｔ％表面処理剤を調製した。
組織培養用ディッシュ（ＩＷＡＫＩ、＃３０１０−０６０、直径５７ｍｍ）の中央に表面処理剤を１００μＬ滴下し、スピンコータ―を用いて、回転数２，０００ｒｐｍ、回転時間６０秒の条件でスピンコートすることでブロック共重合体をコートした器材を調製した。結果を表１に示す。膜厚は４７．３ｎｍ、ＩＰＡＡｍ成分は３．０１μｇ／ｃｍ２であった。膜厚およびＩＰＡＡｍ成分のＣＶはそれぞれ１０．５％、３．６％であり、ＩＰＡＡｍ成分は均一にコートできたが、膜厚は均一にコートできなかった。
【００３６】
【表１】
2020171891.tif 000002