(57)【要約】【課題】高解像度の画像を形成することができる光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法の提供。【解決手段】光吸収材を表面に配した基材における、前記光吸収材が配された側とは反対側の前記基材の表面に光渦レーザビームを照射することにより、前記光渦レーザビームの照射方向にかつ前記光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を前記光吸収材から生じさせる光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法である。前記基材の表面への前記光渦レーザビームの照射方向が非重力方向であり、前記液柱乃至液滴が非重力方向に生ずることが好ましい。【選択図】図１０Ａ
2020157751.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光吸収材を表面に配した基材における、前記光吸収材が配された側とは反対側の前記基材の表面に光渦レーザビームを照射することにより、前記光渦レーザビームの照射方向にかつ前記光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を前記光吸収材から生じさせることを特徴とする光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法。
【請求項２】
前記基材の表面への前記光渦レーザビームの照射方向が非重力方向であり、前記液柱乃至液滴が非重力方向に生ずる、請求項１に記載の光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法。
【請求項３】
光吸収材を表面に配した基材における、前記光吸収材が配された側とは反対側の前記基材の表面に光渦レーザビームを照射することにより、前記光渦レーザビームの照射方向にかつ前記光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を前記光吸収材から生じさせ、前記液柱乃至液滴を被転写媒体に接触させ、転写させることを特徴とする画像形成方法。
【請求項４】
前記基材の表面への前記光渦レーザビームの照射方向が非重力方向であり、前記液柱乃至液滴が非重力方向に生ずる、請求項３に記載の画像形成方法。
【請求項５】
前記基材の表面に前記光渦レーザビームを照射した際、前記光吸収材が回転運動を伴って前記光渦レーザビームの照射方向に略ドーム形状に膨らみ、前記略ドーム形状の前記光吸収材の頂部から前記光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴が生ずる、請求項３から４のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項６】
前記光吸収材が、前記光渦レーザビームの波長に対する吸光度が１よりも大きい、請求項３から５のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項７】
前記基材の表面に配された前記光吸収材の厚みが１０μｍ以上である、請求項３から６のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項８】
前記光渦レーザビームの照射径が１００μｍ以下である、請求項３から７のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項９】
前記光渦レーザビームの照射エネルギーが６０μＪ／ドット以下である、請求項３から８のいずれかに記載の画像形成方法。
【請求項１０】
光吸収材を表面に配した基材における、前記光吸収材が配された側とは反対側の前記基材の表面に光渦レーザビームを照射することにより、前記光渦レーザビームの照射方向にかつ前記光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を前記光吸収材から生じさせる光吸収材飛翔手段と、
前記液柱乃至液滴を被転写媒体に接触させ、転写させる転写手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法、画像形成方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像形成装置においては、インク滴を所望の位置に飛翔させることができることから、近年では、立体的な造形を行う３Ｄプリンタ分野、印刷技術により電子部品を形成するプリンテッドエレクトロニクス分野などにも応用が検討されている。
【０００３】
具体的には、従来の画像形成で用いられる低粘度のインクのみならず、様々な材料を所望の位置に正確に飛翔させる必要があり、種々の画像形成装置が提案されている。例えば、普通のレーザーを高粘度のインクの塗膜に照射して重力方向にインクの突出部を形成し、形成した突出部を媒体に接触させることで、高粘度材料をプリントする方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、高解像度の画像を形成することができる光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記課題を解決するための手段としての本発明の光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法は、光吸収材を表面に配した基材における、前記光吸収材が配された側とは反対側の前記基材の表面に光渦レーザビームを照射することにより、前記光渦レーザビームの照射方向にかつ前記光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を前記光吸収材から生じさせることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、高解像度の画像を形成することができる光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１Ａ】図１Ａは、一般的なレーザビームにおける波面（等位相面）の一例を示す概略図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、一般的なレーザビームにおける光強度分布の一例を示す図である。
【図１Ｃ】図１Ｃは、一般的なレーザビームにおける位相分布の一例を示す図である。
【図２Ａ】図２Ａは、光渦レーザビームにおける波面（等位相面）の一例を示す概略図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、光渦レーザビームにおける光強度分布の一例を示す図である。
【図２Ｃ】図２Ｃは、光渦レーザビームにおける位相分布の一例を示す図である。
【図３Ａ】図３Ａは、一般的なレーザビームを光吸収材に照射させたときの一例を示す写真である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、光渦レーザビームを光吸収材に照射させたときの一例を示す写真である。
【図４Ａ】図４Ａは、光渦レーザビームにおける干渉計測の結果の一例を示す説明図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、中心に光強度０の点を有するレーザビームにおける干渉計測の結果の一例を示す説明図である。
【図５Ａ】図５Ａは、本発明の画像形成装置の一例を示す説明図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
【図５Ｃ】図５Ｃは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
【図６Ａ】図６Ａは、光吸収材供給手段及び被付着物搬送手段を付加した図５Ｂに示す画像形成装置の一例を示す概略断面図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、光吸収材供給手段及び被付着物搬送手段を付加した図５Ｂに示す画像形成装置の他の一例を示す概略断面図である。
【図７Ａ】図７Ａは、定着手段を付加した図６Ａに示す画像形成装置の一例を示す概略断面図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、定着手段を付加した図６Ａに示す画像形成装置の他の一例を示す概略断面図である。
【図７Ｃ】図７Ｃは、定着手段を付加した図６Ａに示す画像形成装置の他の一例を示す概略断面図である。
【図８Ａ】図８Ａは、本発明の画像形成装置の一例を示す概略断面図である。
【図８Ｂ】図８Ｂは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す概略断面図である。
【図９】図９は、本発明の立体造形物の製造装置の一例を示す概略断面図である。
【図１０Ａ】図１０Ａは、実施例１における光吸収材の飛翔状態を示す写真である。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、実施例１における光吸収材の付着状態を示す写真である。
【図１１Ａ】図１１Ａは、実施例２における光吸収材の飛翔状態を示す写真である。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、実施例２における光吸収材の付着状態を示す写真である。
【図１２Ａ】図１２Ａは、実施例３における光吸収材の飛翔状態を示す写真である。
【図１２Ｂ】図１２Ｂは、実施例３における光吸収材の付着状態を示す写真である。
【図１３Ａ】図１３Ａは、実施例４における光吸収材の飛翔状態を示す写真である。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、実施例４における光吸収材の付着状態を示す写真である。
【図１４Ａ】図１４Ａは、比較例１における光吸収材の飛翔状態を示す写真である。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、比較例１における光吸収材の付着状態を示す写真である。
【図１５Ａ】図１５Ａは、比較例２における光吸収材の飛翔状態を示す写真である。
【図１５Ｂ】図１５Ｂは、比較例２における光吸収材の付着状態を示す写真である。
【図１６】図１６は、実施例５における光吸収材の付着状態を示す写真である。
【図１７】図１７は、実施例６における光吸収材の付着状態を示す写真である。
【図１８】図１８は、実施例７における光吸収材の付着状態を示す写真である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
（光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法、画像形成方法、及び画像形成装置）
本発明の光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法は、光吸収材を表面に配した基材における、光吸収材が配された側とは反対側の基材の表面に光渦レーザビームを照射することにより、光渦レーザビームの照射方向にかつ光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を光吸収材から生じさせる。
本発明の画像形成方法は、光吸収材を表面に配した基材における、光吸収材が配された側とは反対側の基材の表面に光渦レーザビームを照射することにより、光渦レーザビームの照射方向にかつ光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を光吸収材から生じさせ、液柱乃至液滴を被転写媒体に接触させ、転写させる。
即ち、本発明の画像形成方法は、本発明の光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法により光吸収材から生じさせた小さな径の液柱乃至液滴を被転写媒体に接触させ、転写させる。
したがって、本発明の光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法は、本発明の画像形成方法の説明で足りるため、本発明の画像形成方法の説明を通じて本発明の光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法の詳細についても明らかにする。
【０００９】
本発明の画像形成方法は、従来技術のレーザーを用いた画像を形成する方法では、インクの突出部の長さが一定になりにくく、媒体に接触する面積がばらついて高解像度の画像を形成できない場合があるという知見に基づくものである。
また、本発明の画像形成方法は、従来技術のレーザーの径を小さくするのみではインクが飛散しやすくなるため、高解像度の画像を形成できない場合があるという知見に基づくものである。
さらに、本発明の画像形成方法は、従来技術のレーザーを用いた画像を形成する方法では、重力方向にしか直進性のあるインクの突出部を形成できず、装置の設計の自由度が制限される場合があるという知見に基づくものである。
【００１０】
そこで、本発明の画像形成方法は、光吸収材の塗膜に光渦レーザビームを照射した際に、照射方向側に半球状に膨らんだ光吸収材の端部から光吸収材の一部を回転させながら引きちぎるように突出乃至飛翔させる。言い換えると、本発明の画像形成方法は、基材の表面に光渦レーザビームを照射した際、光吸収材が回転運動を伴って光渦レーザビームの照射方向に略ドーム形状に膨らみ、略ドーム形状の光吸収材の頂部から光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴が生ずるようにする。
さらに、本発明の画像形成方法は、光吸収材から生じさせた液柱乃至液滴を被転写媒体に接触させ、転写させることにより、高解像度の画像を形成することができる。
【００１１】
まず、光渦レーザビームについて説明する。
一般的なレーザビームは、位相が揃っているため、図１Ａに示すように平面状の等位相面（波面）を有している。レーザビームのポインティングベクトルの方向が平面状の等位相面の直交方向であることにより、レーザビームの照射方向と同じ方向となるため、レーザビームが光吸収材に照射された場合には、光吸収材に対して照射方向に力が作用する。しかし、レーザビームの断面における光強度分布が、図１Ｂに示すようにビームの中心が最も強い正規分布（ガウシアン分布）であるため、光吸収材が飛散しやすい。また、位相分布の観察を行うと図１Ｃに示すように位相差がないことが確認される。
これに対し、光渦レーザビームは、図２Ａに示すように螺旋状の等位相面を有している。光渦レーザビームのポインティングベクトルの方向が螺旋状の等位相面に対して直交方向であるため、光渦レーザビームが光吸収材に照射された場合には、直交方向に力が作用する。このため、図２Ｂに示すように光強度分布がビームの中央が零となる凹んだドーナツ状の分布となり、光渦レーザビームを照射された光吸収材は、ドーナツ状のエネルギーを放射圧として印加される。すると、光渦レーザビームを照射された光吸収材は、光渦レーザビームの照射方向に沿って飛翔し、被付着物に飛散しにくい状態で付着する。また、位相分布の観察を行うと図２Ｃに示すように位相差が発生していることが確認される。
【００１２】
図３Ａは、一般的なレーザビームを光吸収材に照射させたときの一例を示す写真である。図３Ｂは、光渦レーザビームを光吸収材に照射させたときの一例を示す写真である。
図３Ａと図３Ｂとを比較すると、図３Ａのほうが図３Ｂよりも光吸収材が飛散していることが確認できる。このことから、光渦レーザビームを照射された光吸収材は、ドーナツ状のエネルギーを放射圧として印加され、光渦レーザビームの照射方向に沿って飛翔し、被付着物に飛散しにくい状態で付着することがわかる。
【００１３】
光渦レーザビームか否かを判別する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前述の位相分布の観察、干渉計測などが挙げられ、干渉計測が一般的である。
干渉計測は、レーザビームプロファイラ（Ｓｐｉｒｉｃｏｎ社製レーザビームプロファイラ、浜松ホトニクス株式会社製レーザビームプロファイラなど）を用いて観察でき、干渉計測した結果の一例を図４Ａ、図４Ｂに示す。
図４Ａは、光渦レーザビームにおける干渉計測の結果の一例を示す説明図であり、図４Ｂは、中心に光強度０の点を有するレーザビームにおける干渉計測の結果の一例を示す説明図である。
光渦レーザビームを干渉計測すると、図４Ａに示すように、エネルギー分布がドーナツ状であって、図１Ｃと同様に中心に光強度０の点を持つレーザビームであることが確認できる。
一方、中心に光強度０の点を有する一般的なレーザビームを干渉計測すると、図４Ｂに示すように、図４Ａで示した光渦レーザビームの干渉計測と類似しているが、ドーナツ状部のエネルギー分布が一様ではないことから、光渦レーザビームとの差異が確認できる。
【００１４】
本発明の画像形成方法は、本発明の画像形成装置により好適に行うことができる。
【００１５】
本発明の画像形成装置は、光吸収材を表面に配した基材における、光吸収材が配された側とは反対側の基材の表面に光渦レーザビームを照射する。これにより、本発明の画像形成装置は、光渦レーザビームの照射方向にかつ光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を光吸収材から生じさせ、液柱乃至液滴を被転写媒体に接触させ、転写させる装置である。
画像形成装置は、光吸収材飛翔手段と、転写手段とを有し、更に必要に応じてその他の手段を有することが好ましい。
【００１６】
＜光吸収材飛翔手段＞
光吸収材飛翔手段は、光吸収材を表面に配した基材における、光吸収材が配された側とは反対側の基材の表面に光渦レーザビームを照射することにより、光渦レーザビームの照射方向にかつ光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を光吸収材から生じさせる手段である。
【００１７】
また、光吸収材飛翔手段としては、例えば、レーザー光源と、光渦変換部と、波長変換部とを有するものを用いることができ、光吸収材飛翔手段は、更に必要に応じて、その他の部材を有することが好ましい。
【００１８】
＜＜レーザー光源＞＞
レーザー光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、レーザビームを発生させる固体レーザー、気体レーザー、半導体レーザーなどが挙げられ、パルス発振可能なものが好ましい。
固体レーザーとしては、例えば、ＹＡＧレーザー、チタンサファイアレーザなどが挙げられる。
気体レーザーとしては、例えば、アルゴンレーザ、ヘリウムネオンレーザ、炭酸ガスレーザなどが挙げられる。
これらの中でも、出力が３０ｍＷ程度の半導体レーザーが、装置の小型化及び低コスト化の点で、好ましい。ただし、本実施例では、実験的にチタンサファイアレーザを使用した。
レーザビームの波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３００ｎｍ以上１１μｍ以下が好ましく、３５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下がより好ましい。
レーザビームのビーム径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０μｍ以上１０ｍｍ以下が好ましく、１０μｍ以上１ｍｍ以下がより好ましい。
レーザビームのパルス幅としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２ナノ秒以上１００ナノ秒以下が好ましく、２ナノ秒以上１０ナノ秒以下がより好ましい。
レーザビームのパルス周波数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０Ｈｚ以上２００Ｈｚ以下が好ましく、２０Ｈｚ以上１００Ｈｚ以下がより好ましい。
なお、レーザー光源としては、光渦レーザビームを出力可能なレーザー光源でもよい。
【００１９】
＜＜光渦変換部＞＞
光渦変換部としては、レーザビームを光渦レーザビームに変換できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、回折光学素子、マルチモードファイバ、液晶位相変調器などが挙げられる。
回折光学素子としては、例えば、螺旋位相板、ホログラム素子などが挙げられる。これらの中でも、螺旋位相板（Ｓｐｉｒａｌ  Ｐｈａｓｅ  Ｐｌａｔｅ）が好ましい。
なお、光渦レーザビームを発生させる方法としては、光渦変換部を用いる方法に限らず、例えば、レーザー共振器から光渦を固有モードとして発振させる方法、ホログラム素子を共振器に挿入する方法などが挙げられる。他の光渦レーザビームを発生させる方法としては、例えば、ドーナツビームに変換した励起光を用いる方法、暗点を有する共振器ミラーを用いる方法、側面励起固体レーザーで発生する熱レンズ効果を空間フィルタとして用いて光渦モード発振する方法などが挙げられる。
【００２０】
＜＜波長変換部＞＞
波長変換部としては、光渦レーザビームに円偏光を付与することにより、以下の式（１）で表されるトータルの回転モーメントＪＬ，Ｓが、|ＪＬ，Ｓ|≧０となる条件を満たすことができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。波長変換部としては、例えば、１／４波長板などが挙げられる。１／４波長板の場合には、光学軸を＋４５°又は−４５°以外に設置して光渦レーザビームに楕円状の円偏光（楕円偏光）を付与してもよいが、光学軸を＋４５°又は−４５°に設置して光渦レーザビームに真円状の円偏光を付与し、上記の条件を満たすことが好ましい。これにより、画像形成装置は、光吸収材を安定的に飛翔させ、飛散を抑制した形状で被付着物に付着させる効果を大きくすることができる。
【００２１】
【数３】
2020157751.tif 000003
ただし、式（１）において、ε０は真空中の誘電率であり、ωは光の角周波数であり、Ｌはトポロジカルチャージであり、Ｉは下記数式（２）で表される光渦レーザビームの渦次数に対応する軌道角運動量であり、Ｓは円偏光に対するスピン角運動量であり、ｒは円筒座標系の動径である。
【数４】
2020157751.tif 000004
ただし、式（２）において、ω０は光のビームウエストサイズである。
なお、トポロジカルチャージとは、光渦レーザビームの円筒座標系における方位方向の周期的境界条件から現れる量子数を意味する。また、ビームウエストサイズとは、光渦レーザビームにおけるビーム径の最小値を意味する。
【００２２】
Ｌは、波長板における螺旋波面の巻数で決まるパラメータである。Ｓは、波長板における円偏光の向きで決まるパラメータである。なお、Ｌ及びＳはいずれも整数である。また、Ｌ及びＳの符号は、それぞれ螺旋の向き（時計回り、反時計回り）を表す。
なお、光渦レーザビームにおけるトータルの回転モーメントをＪとすると、Ｊ＝Ｌ＋Ｓと表すことができる。
【００２３】
画像形成装置は、例えば、レーザビームを光渦レーザビームに変換する光渦変換部、及び光渦レーザビームに円偏光を付与する波長変換部を備え、|ＪＬ，Ｓ|≧０と設定することにより、高粘度又は固体の光吸収材の飛翔物の直線指向性を発現させ、光吸収材の飛散を抑制できる。
【００２４】
＜＜その他の部材＞＞
その他の部材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビーム径変更部材、ビーム波長変更素子、出力調整部などが挙げられる。
【００２５】
―ビーム径変更部材―
ビーム径変更部材としては、レーザビーム又は光渦レーザビームのビーム径を変更できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、集光レンズなどが挙げられる。
光渦レーザビームのビーム径（照射径）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００μｍ以下が好ましい。光渦レーザビームの照射径が１００μｍ以下であると、高解像度の画像を形成しやすい点で好ましい。
なお、ビーム径は、例えば、レーザスポット径及び集光レンズにより変更することが可能である。
また、光吸収材が分散体の場合、ビーム径としては、光吸収材の体積平均粒径の最大値以上が好ましく、分散体の最大値の３倍がより好ましい。ビーム径がより好ましい範囲内であると、光吸収材を安定して飛翔させることが可能となる点で有利である。
【００２６】
―ビーム波長変更素子―
ビーム波長変更素子としては、レーザビーム又は光渦レーザビームの波長を、光吸収材が吸収可能であり、かつ後述する基材を透過可能である波長に変更できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。ビーム波長変更素子としては、例えば、ＫＴＰ結晶、ＢＢＯ結晶、ＬＢＯ結晶、ＣＬＢＯ結晶などが挙げられる。
【００２７】
―出力調整部―
出力調整部としては、レーザビーム又は光渦レーザビームを適正な出力値に調整することができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ガラスなどが挙げられる。
【００２８】
光吸収材に照射する光渦レーザビームの出力値としては、照射方向を軸とした照射径の中心軸に回転運動をしながら照射径よりも小さい径に収束する液柱を生じ得る状態、あるいは一部が切り離され液滴を生じ得る状態を実現可能である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。なお、以下では「出力値」を「照射エネルギー」と称することもある。
光渦レーザビームの照射エネルギーとしては、光吸収材の粘度や膜厚によっても適正値が変化するため、適宜調整されることが好ましいが、具体的には、１００μＪ／ドット以下がより好ましく、６０μＪ／ドット以下が更に好ましい。光渦レーザビームの照射エネルギーが６０μＪ／ドット以下であると、照射方向を軸とした照射径の中心軸に回転運動をしながら照射径よりも小さい径に収束する液柱を生じ得る状態、あるいは一部が切り離され液滴を生じ得る状態を実現しやすい点で有利である。
【００２９】
＜転写手段＞
転写手段は、光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を光吸収材から生じさせた液柱乃至液滴を被転写媒体に接触させ、転写させる手段である。
転写手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光吸収材から生じさせた液柱乃至液滴を被転写媒体に接触させる機構を備える手段などが挙げられる。具体的には、転写手段としては、例えば、被付着物と光吸収材との間隙を調整する機構や、被付着物を搬送する機構を有するようにしてもよい。
【００３０】
＜＜被転写媒体＞＞
被転写媒体（被付着物）としては、光吸収材から生じさせた液柱乃至液滴が接触できれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、画像形成装置で用いられる記録媒体や中間転写ベルトなどが挙げられる。
【００３１】
＜その他の手段＞
その他の手段としては、例えば、光吸収材供給手段、ビーム走査手段、被付着物搬送手段、定着手段、制御手段などが挙げられる。
また、光吸収材飛翔手段、基材、光吸収材供給手段、及びビーム走査手段を一体として光吸収体飛翔ユニットとして扱ってもよい。
その他の工程としては、例えば、光吸収材供給工程、ビーム走査工程、被付着物搬送工程、定着工程、制御工程などが挙げられる。
【００３２】
光吸収材供給手段としては、光吸収材飛翔手段と被付着物との間の光渦レーザビームの光路上に、光吸収材を供給できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。光吸収材供給手段としては、例えば、光路上に配置された円筒状の基材を介して光吸収材を供給するようにしてもよい。
具体的には、光吸収材が液体であって、基材に光吸収材を供給する場合には、光吸収材供給手段として供給ローラ及び規制ブレードを設けることが、非常に簡単な構成で光吸収材を基材の表面に一定の平均厚みで供給することができるため好ましい。
この場合、供給ローラは、光吸収材を貯蔵する貯蔵槽に表面が一部浸漬し、光吸収材を表面に担持しながら回転して、基材に当接することにより光吸収材を供給する。規制ブレードは、供給ローラの回転方向における貯蔵槽の下流側に配置され、供給ローラが担持した光吸収材を規制して平均厚みを均一にし、飛翔させる光吸収材の量を安定させる。平均厚みを非常に薄くすることにより、飛翔させる光吸収材の量を低減できるため、光吸収材を飛散が抑制された微小なドットとして被付着物に付着可能とし、網点が太るドットゲインを抑制することができる。なお、規制ブレードは、基材の回転方向における供給ローラの下流側に配置されていてもよい。
【００３３】
また、光吸収材が高粘度である場合には、供給ローラの材質は、基材と確実に接触させるようにする点で、少なくとも表面が弾性を有するものが好ましい。光吸収材が比較的低粘度である場合には、供給ローラとしては、例えば、精密ウェットコーティングで用いられるような、グラビアロール、マイクログラビアロール、フォーワードロールなどが挙げられる。
【００３４】
更に、供給ローラを設けない光吸収材供給手段としては、貯蔵槽内の光吸収材に基材を直接接触させた後にワイヤーバーなどで余分な光吸収材を掻き取ることにより基材の表面に光吸収材の層を形成するようにしてもよい。なお、貯蔵槽は、光吸収材供給手段とは別に設け、ホース等で光吸収材を光吸収材供給手段に供給するようにしてもよい。
光吸収材供給工程としては、光吸収材飛翔手段と被付着物との間の光渦レーザビームの光路上に、光吸収材を供給する工程であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光吸収材供給手段を用いて好適に行うことができる。
【００３５】
ビーム走査手段としては、光渦レーザビームを光吸収材に対して走査可能であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、ビーム走査手段は、光吸収材飛翔手段から照射された光渦レーザビームを光吸収材に向けて反射させる反射鏡と、反射鏡の角度及び位置を変化させて光渦レーザビームを光吸収材に対して走査させる反射鏡駆動部とを有するようにしてもよい。
ビーム走査工程としては、光渦レーザビームを光吸収材に走査させる工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビーム走査手段を用いて好適に行うことができる。
【００３６】
被付着物搬送手段としては、被付着物を搬送することができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、搬送ローラ対などが挙げられる。
被付着物搬送工程としては、被付着物を搬送する工程であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、被付着物搬送手段を用いて好適に行うことができる。
【００３７】
定着手段としては、被付着物に付着させた光吸収材を定着させることができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、加熱加圧部材を用いた熱圧着方式のものなどが挙げられる。
加熱加圧部材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、加熱ローラ、加圧ローラ、加熱ローラ及び加圧ローラを組み合わせたものなどが挙げられる。他の加熱加圧部材としては、例えば、これらに定着ベルトを組合せたもの、これらのうち加熱ローラを加熱ブロックに代えたものなどが挙げられる。
【００３８】
加圧ローラとしては、被付着物搬送手段により搬送される被付着物と等速度で加圧面が移動するものが、擦れによる画像劣化を抑制する点で、好ましい。この中でも、表面近傍に弾性層を形成したものが、被付着物に対して接触加圧しやすい点で、より好ましい。更に、最表面にシリコーン系の撥水性材料やフッ素化合物などの低表面エネルギーの素材で撥水性表面層を形成した加圧ローラが、表面に光吸収材が付着することによる画像の乱れを抑制する点で、特に好ましい。
シリコーン系の撥水性材料からなる撥水性表面層としては、例えば、シリコーン系離型剤の皮膜、シリコーンオイル又は各種変性シリコーンオイルの焼付皮膜、シリコーンワニスの皮膜、シリコーンゴムの皮膜、シリコーンゴムと各種金属、ゴム、プラスチック、セラミック等の複合物からなる皮膜などが挙げられる。
フッ素化合物からなる撥水性表面層としては、フッ素樹脂の皮膜、有機フッ素化合物の皮膜、フッ素オイルの焼付皮膜又は吸着膜、フッ素ゴムの皮膜、若しくはフッ素ゴムと各種金属、ゴム、プラスチック、セラミック等の複合物からなる皮膜などが挙げられる。
【００３９】
加熱ローラにおける加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、８０℃以上２００℃以下が好ましい。
【００４０】
定着ベルトとしては、耐熱性があり、機械的強度が高ければ特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリイミド、ＰＥＴ、ＰＥＮ等のフィルムなどが挙げられる。また、定着ベルトとしては、表面に光吸収材が付着することによる画像の乱れを抑制する点で、加圧ローラの最表面を形成する材料と同じものを用いることが好ましい。定着ベルトは、肉厚を薄くすることができることにより、ベルト自体を加熱するエネルギーを小さくできるため、電源を入れてすぐに使用することができる。このときの温度及び圧力は定着させる光吸収材の組成により変化するが、温度としては２００℃以下が省エネの観点から好ましく、圧力としては１ｋｇ／ｃｍ以下が装置の剛性の点で好ましい。
【００４１】
なお、２種以上の光吸収材を用いる場合は、各色の光吸収材が被付着物に付着する毎に定着させてもよく、全種の光吸収材が被付着物に付着して積層された状態で定着させてもよい。
また、光吸収材が非常に高粘度であって、乾燥が遅くなり被付着物に対する付着速度の向上が困難な場合には、被付着物を追加で加熱し、乾燥を促進させてもよい。
更に、光吸収材の被付着物への浸透及び濡れが遅く、付着させた光吸収材が十分に平滑化していない状態で乾燥させた場合、光吸収材が付着した被付着物の表面が粗くなるため、被付着物の表面の光沢が得られない場合がある。被付着物の表面の光沢を得るためには、加圧して定着させる定着手段とすることにより、被付着物に付着した光吸収材をつぶしながら被付着物に押し込むよう定着させて、被付着物の表面粗さを小さくするようにしてもよい。
定着手段は、特に粉体を押し固めて形成した固体の光吸収材を用いた場合などに、被付着物に定着させるために必要となる。なお、必要に応じて、定着手段とともに公知の光定着器を用いてもよい。
定着工程としては、被付着物に付着させた光吸収材を、被付着物に定着させる工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、定着手段を用いて好適に行うことができる。
【００４２】
制御手段としては、各手段の動きを制御することができる限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シーケンサー、コンピュータ等の機器が挙げられる。
制御工程は、各工程を制御する工程であり、制御手段により好適に行うことができる。
【００４３】
＜光吸収材＞
光吸収材は、光吸収物質を有し、更に必要に応じて適宜選択した、その他の物質を有する。
光吸収材としては、光渦レーザビームの波長に対する吸光度が１よりも大きいことが好ましく、２よりも大きいことがより好ましい。光吸収材が光渦レーザビームの波長に対する吸光度が２よりも大きいと、エネルギー効率を高めることができる点で有利である。
【００４４】
＜＜光吸収物質＞＞
光吸収物質としては、所定の波長の光を吸収するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、顔料、染料などの着色剤が挙げられる。
【００４５】
光吸収物質における所定の波長の光の吸収性能としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、膜厚が３μｍにおける塗膜状態での透過率（吸光度）として、８０％以下（０．１以上）が好ましく、５０％以下（０．３以上）がより好ましく、３０％以下（０．５以上）が特に好ましい。
また、光吸収性能を有する光吸収材により形成された塗膜において、光吸収材の膜厚における透過率（吸光度）としては、１０％以下（１以上）が好ましく、１％以下（２以上）がより好ましく、０．１％以下（３以上）がさらに好ましく、０．０１％以下（４以上）が特に好ましい。透過率が好ましい範囲内であると、基材に吸収された光渦レーザビームのエネルギーが熱に変換されにくいため、光吸収材に乾燥や溶融などの変化を与えることが少ない点でも有利である。さらに、透過率が好ましい範囲内であると、光吸収材に与えるエネルギーが低下しにくいため、付着位置のバラつきが生じにくい点で有利である。
なお、透過率（吸光度）は、例えば、分光光度計（株式会社島津製作所製、ＵＶ３６００）などを用いて測定することができる。
【００４６】
光吸収材としては、その形態、大きさ、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
光吸収材の形態としては、例えば、液体、固体、粉体などが挙げられる。特に、高粘性体又は固体を飛翔可能としたことは、従来のインクジェット記録方式には成し得ない長所となっている。
また、光吸収材が固体又は粉体であれば、光吸収材の形態としては、光渦レーザビームを照射する際に光吸収材が粘性を有する状態であることが好ましい。具体的には、固体又は粉体を飛翔させたい場合には、例えば、光渦レーザビームを照射する前に加熱して溶融状態にして粘性を有する形態にすることが好ましい。
【００４７】
液体の光吸収材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、顔料及び溶剤を含むインク、導電体及び溶剤を含む導電性ペーストなどが挙げられる。なお、溶剤を含むインクに光渦レーザビームが照射されると、溶剤が光を吸収しない場合には、溶剤以外の光を吸収する含有物に光渦レーザビームのエネルギーが付与され、その含有物とともに溶剤が飛翔する。
液体の光吸収材の粘度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１Ｐａ・ｓ以上が好ましく、１Ｐａ・s以上２０Ｐａ・s以下がより好ましい。
なお、粘度は、例えば、回転粘度計（東機産業株式会社製、ＶＩＳＣＯＭＡＴＥ  ＶＭ−１５０ＩＩＩ）などを用いて２５℃の環境下で測定することができる。
【００４８】
導電性ペーストは、導電体を含むインクであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、回路基板の製造方法において公知乃至慣用の導電性ペーストなどが挙げられる。
導電体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、銀、金、銅、ニッケル、ＩＴＯ、カーボン、カーボンナノチューブ等の導電性を有する無機粒子；ポリアニリン、ポリチオフェン（例えば、ポリ（エチレンジオキシチオフェン）等）、ポリアセチレン、ポリピロール等の導電性の有機高分子からなる粒子などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
導電性ペーストの体積抵抗率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、通常の電極用途として使用できる点から１０３Ω・ｃｍ以下が好ましい。
【００４９】
粉体の光吸収材としては、例えば、顔料及び結着樹脂を含むトナーや半田ボールの様な金属微粒子などが挙げられる。
この場合、光渦レーザビームが照射されると、顔料に光渦レーザビームのエネルギーが付与され、顔料とともに結着樹脂がトナーとして飛翔する。なお、粉体の光吸収材としては、顔料のみとしてもよい。
【００５０】
固体の光吸収材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スパッタや蒸着により製膜された金属薄膜、分散体などの粉体を押し固めたものなどが挙げられる。
【００５１】
金属薄膜としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。金属としては、例えば、銀、金、アルミ、白金、銅など蒸着やスパッタ加工が可能な一般的な金属が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
金属薄膜を飛翔させて画像パターンを形成する方法としては、例えば、予めガラスやフィルムなどの基材上に金属薄膜を作成し、金属薄膜に光渦レーザビームを照射して飛翔させることで画像パターンを形成させる方法が挙げられる。また、他の方法としては、非画像部を飛翔させることで画像パターンを形成させる方法などが挙げられる。
【００５２】
粉体を押し固めたものとしては、所定の平均厚みである層状であることが好ましく、基材の表面に層状の固体を担持されるようにしてもよい。
【００５３】
光吸収材の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
光吸収材の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下が更に好ましい。光吸収材の平均厚みを上記の好ましい範囲とすることにより、光渦レーザビームを照射しときの光吸収材の飛散を抑制することができる。
光吸収材の平均厚みが好ましい範囲内であると、光吸収材を層状にして供給した場合、連続して飛翔させたときであっても層の強度を確保することができるため、安定した供給が可能となる点で有利である。また、光渦レーザビームのエネルギーが大きくなりすぎないため、特に光吸収材が有機物の場合、劣化や分解が発生しにくい点で有利である。
なお、塗布する方法によっては、一定のパターンを保持した層として供給することも可能となる。
【００５４】
平均厚みの測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光吸収材に対して任意の複数の点を選択し、複数の点の厚みの平均を算出することにより求める方法などが挙げられる。平均としては、５点の厚みの平均が好ましく、１０点の厚みの平均がより好ましく、２０点の厚みの平均が特に好ましい。
平均厚みの測定機器としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、レーザー変位計やマイクロメータなどの非接触または接触方式の方法が挙げられる。
【００５５】
光吸収材の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、画像形成を行う場合にはトナーのような着色剤であってもよく、立体造形物を製造する場合には後述する立体造形剤であってもよい。
【００５６】
−着色剤−
着色剤としては、光吸収材と同様に、その形状、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。以下、光吸収材を着色剤とした際に異なる点を説明する。
【００５７】
液体の着色剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、溶剤としての水に、染料、顔料、着色粒子、着色油滴などの色材を分散させた水性インクが使用可能である。また、水性インクに限らず、溶剤として、例えば、炭化水素系の有機溶剤や各種アルコールなど、比較的低沸点の液体を含んだ着色剤も使用可能である。これらの中でも、揮発成分の安全性、爆発の危険性などの点から、水性インクが好ましい。
【００５８】
また、画像形成装置では、版を用いるオフセット印刷用のプロセスインキ、ＪＡＰＡＮ  ＣＯＬＯＲ対応インキ、特色インキなどでも画像形成が可能であるため、オフセット印刷で用いる色に合わせたデジタル画像を無版で容易に再現することができる。
更に、ＵＶ硬化インキでも画像形成が可能であるため、定着工程において紫外線を照射して硬化することにより、重なった記録媒体が貼り付くブロッキングの防止、及び乾燥工程の簡略化ができる。
【００５９】
色材の材質としては、例えば、有機顔料、無機顔料、染料などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６０】
有機顔料としては、例えば、ジオキサジンバイオレット、キナクリドンバイオレット、銅フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、サップグリーン、モノアゾイエロー、ジスアゾイエロー、ポリアゾイエロー、ベンズイミダゾロンイエロー、イソインドリノンイエロー、ファーストイエロー、クロモフタルイエロー、ニッケルアゾイエロー、アゾメチンイエロー、ベンズイミダゾロンオレンジ、アリザリンレッド、キナクリドンレッド、ナフトールレッド、モノアゾレッド、ポリアゾレッド、ペリレンレッド、アンスラキノニルレッド、ジケトピロロピロールレッド、ジケトピロロピロールオレンジ、ベンズイミダゾロンブラウン、セピア、アニリンブラック、などが挙げられ、有機顔料のうち金属レーキ顔料としては、例えば、ローダミンレーキ、キノリンイエローレーキ、ブリリアントブルーレーキなどが挙げられる。
【００６１】
無機顔料としては、例えば、コバルトブルー、セルリアンブルー、コバルトバイオレット、コバルトグリーン、ジンクホワイト、チタニウムホワイト、チタンイエロー、クロムチタンイエロー、ライトレッド、クロムオキサイドグリ−ン、マルスブラック、ビリジャン、イエローオーカー、アルミナホワイト、カドミウムイエロー、カドミウムレッド、バーミリオン、リトポン、ウルトラマリーン、タルク、ホワイトカーボン、クレー、ミネラルバイオレット、ローズコバルトバイオレット、シルバーホワイト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、硫化ストロンチウム、アルミン酸ストロンチウム、黄銅、金粉、ブロンズ粉、アルミニウム粉、真鍮顔料、アイボリーブラック、ピーチブラック、ランプブラック、カーボンブラック、プルシャンブルー、オーレオリン、雲母チタン、イエローオーカー、テールベルト、ローシェンナ、ローアンバー、カッセルアース、白亜、石膏、バーントシェンナ、バーントアンバー、ラピスラズリ、アズライト、マラカイト、オーピメント、辰砂、珊瑚末、胡粉、ベンガラ、群青、紺青、魚燐箔、酸化鉄処理パールなどが挙げられる。
【００６２】
これらの中でも、ブラック顔料としては、色相、画像保存性の点から、カーボンブラックが好ましい。
シアン顔料としては、色相、画像保存性の点から、銅フタロシアニンブルーであるＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３が好ましい。
【００６３】
マゼンタ顔料としては、キナクリドンレッドであるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、ナフトールレッドであるＣ．Ｉ．ピグメントレッド２６９、及びローダミンレーキであるＣ．Ｉ．ピグメントレッド８１：４が好ましく、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、色相、画像保存性の点から、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２及びＣ．Ｉ．ピグメントレッド２６９の混合物がより好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２（Ｐ．Ｒ．１２２）及びＣ．Ｉ．ピグメントレッド２６９（Ｐ．Ｒ．２６９）の混合物としては、Ｐ．Ｒ．１２２：Ｐ．Ｒ．２６９が５：９５以上８０：２０以下の混合物が特に好ましい。Ｐ．Ｒ．１２２：Ｐ．Ｒ．２６９が特に好ましい範囲内であると、色相がマゼンタ色として外れない。
【００６４】
イエロー顔料としては、モノアゾイエローであるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー７４、ジスアゾイエローであるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１５５、ベンズイミダゾロンイエローであるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０、イソインドリンイエローであるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５が好ましい。これらの中でも、色相、画像保存性の点から、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５がより好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６５】
光吸収材を着色剤としてのプロセスカラーインクとして用いる場合、４色のインクセットで用いることが好ましい。
【００６６】
無機顔料は、体積平均粒径が１０μｍを超える粒子からなるものが多い。体積平均粒径が１０μｍ以上の無機顔料を着色剤として用いる場合、着色剤としては、液体であることが好ましい。着色剤が液体であれば、静電気力など非静電付着力以外の力を用いることなく着色剤を安定した状態で維持できる点で有利である。また、この場合、ノズルつまりやインクの沈降などが顕著となりやすく、安定した連続印刷プロセスは望みにくいインクジェット記録方式と比較すると、本発明の画像形成方法は、非常に有効である。更に、着色剤の粒子の表面積が小さくなると十分な帯電量が得られず、安定した連続印刷プロセスとして成立しない電子写真方式と比較しても、本発明の画像形成方法は、非常に有効である。
【００６７】
染料としては、例えば、モノアゾ染料、ポリアゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、スチルベンアゾ染料、チアゾールアゾ染料、アントラキノン誘導体、アントロン誘導体、インジゴ誘導体、チオインジゴ誘導体、フタロシアニン染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、アクリジン染料、アジン染料、オキサジン染料、チアジン染料、ポリメチン染料、アゾメチン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロソ染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、ナフタルイミド染料、ペリノン染料などが挙げられる。
【００６８】
着色剤の粘度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
記録媒体に浸透する液体の着色剤を用いた場合、記録媒体に付着した着色剤がフェザリングやブリーディングを発生することがあるが、本発明の画像形成装置で取り扱いが可能である高粘度の着色剤にすると、記録媒体への浸透速度に対して乾きのほうが速いため、特にブリーディングの減少によって発色性の向上とエッジ部分の鮮鋭化が図れ、高画質の画像を形成することができる。また、着色剤を重ねて付着させる重ね打ちによる階調表現を行う場合にも、着色剤の量の増加による滲みも少なくすることができる。
更に、この画像形成方法は、液体の着色剤を飛翔させて付着させるものであるため、例えば、フィルム状の着色剤担持体から熱により着色剤を溶融転写するいわゆる熱転写方式と比較すると、記録媒体に微小な凹凸が存在していても良好に記録を行うことができる。
【００６９】
着色剤の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００μｍ以下が好ましい。着色剤の平均厚みが１００μｍ以下であると、着色剤を飛翔させるためのエネルギーを小さくできるため、着色剤担持体の耐久性、着色剤が有機物である場合の組成の分解などが発生しにくくなる点で有利である。なお、平均厚みの好ましい範囲は、記録媒体、目的などにより変化する。
【００７０】
例えば、一般的なオフセット印刷で用いられるコート紙や平滑なフィルムを記録媒体として用いる場合には、着色剤の平均厚みとしては、０．５μｍ以上５μｍ以下が好ましい。平均厚みが好ましい範囲内であると、記録媒体の微小な平均厚みの違いによる色差が人間の目でも判別しにくくなるためコート紙でも彩度の高い画像になりやすくなるとともに、網点のドットゲインが顕著とならず鮮鋭な画像が表現しやすくなる点で有利である。
【００７１】
また、例えば、オフィスなどで用いられる上質紙など、表面粗さがコート紙やフィルムよりも大きな記録媒体を用いる場合には、着色剤の平均厚みとしては、３μｍ以上１０μｍ以下が好ましい。平均厚みが好ましい範囲内であると、記録媒体の表面粗さに影響されにくく良好な画質を得やすくなるとともに、特にプロセスカラーの着色剤でフルカラー画像を表現する場合、複数の着色剤の層を重ね合わせても段差感が顕著となりにくい。
【００７２】
更に、例えば、布、繊維などを染色する捺染に用いる場合、記録媒体となる綿、絹、化学繊維などに着色剤を付着させるには、着色剤の平均厚みとしては、５μｍ以上の平均厚みが必要となる場合が多い。これは、繊維の太さが紙に比べ大きくなるため、多くの着色剤が必要となる場合が多い。
【００７３】
＜基材＞
基材としては、その形状、構造、大きさ、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。基材の形状としては、光吸収材を表面に担持し、裏面から光渦レーザビームを照射可能であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。基材の形状としては、例えば、平板状、真円又は楕円等の筒状、筒状の一部を切り出した面、無端ベルト状などが挙げられる。これらの中でも、基材が筒状であって、周方向に回転する基材の表面に光吸収材を供給する光吸収材供給手段を有するようにすることが好ましい。筒状の基材の表面に光吸収材を担持すると、外周方向における被付着物の寸法に依存せずに供給することができる。また、この場合、筒状の内部には光吸収材飛翔手段を配置し、内部から外周に向けて光渦レーザビームを照射可能とし、基材が周方向に回転することで連続的に照射することができる。また、平板状の基材の形状としては、例えば、スライドガラスなどが挙げられる。
【００７４】
基材の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００７５】
基材の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、被付着物の幅に合わせた寸法とすることが好ましい。
【００７６】
基材の材質としては、光を透過するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。光を透過するもののうち、酸化珪素を主成分とする各種ガラスなどの無機材料、透明性の耐熱プラスチック、エラストマーなどの有機材料が、透過率と耐熱性の点で、好ましい。
【００７７】
基材の表面粗さＲａとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、光渦レーザビームの屈折散乱を抑制し、光吸収材に付与するエネルギーを低下させない点で、表面及び裏面のどちらも１μｍ以下であることが好ましい。また、表面粗さＲａが好ましい範囲内であると、被付着物に付着した光吸収材の平均厚みのばらつきを抑制することができ、所望の量の光吸収材を付着させることができる点で有利である。
表面粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に従って測定することができ、例えば、共焦点式レーザー顕微鏡（株式会社キーエンス製）や触針式表面形状測定装置（Ｄｅｋｔａｋ１５０、ブルカー・エイエックスエス株式会社製）を用いて測定することができる。
【００７８】
＜被付着物＞
被付着物（被転写媒体）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、画像を形成するための記録媒体、立体造形物を形成するための造形物支持基板などが挙げられる。
【００７９】
−記録媒体−
記録媒体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、コート紙、上質紙、フィルム、布、繊維などが挙げられる。
【００８０】
被付着物と光吸収材との間隙（ギャップ）としては、被付着物と光吸収材とを接触させなければ特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０５ｍｍ以上５ｍｍ以下が好ましく、０．１０ｍｍ以上１ｍｍ以下がより好ましく、０．１０ｍｍ以上０．５０ｍｍ以下が特に好ましい。被付着物と光吸収材との間隙が好ましい範囲内であると、被付着物に対する光吸収材の付着位置の精度が低下しにくくなる点で有利である。また、被付着物と光吸収材とを接触させないことにより、光吸収材、被付着物の組成を選ばず光吸収材を被付着物に付着させることが可能となる。
更に、間隙は、例えば、被付着物の位置を一定に維持する位置制御手段などにより一定に保たれることが好ましい。この場合、光吸収材及び被付着物の位置変動、平均厚みのバラつきを考慮して各部位を配置することが重要となる。
【００８１】
また、被転写媒体（被付着物）における、転写（付着）後の光吸収材の平均直径（平均ドット径）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００μｍ以下とすることが、形成する画像や立体造形物の解像度をより向上させることができる点で好ましい。本発明においては、飛翔する液滴の径は照射される光渦レーザビーム径よりも小さい径で飛翔するが、被転写媒体上では着滴時の衝撃及び被転写媒体表面との表面張力の関係によって形成されるドット径は変化する。
また、平均ドット径は、例えば、マイクロスコープ等で光吸収材のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出したドット領域のピクセル数から各ドットの面積を算出、円形に換算した時の直径をドット径とし、これを平均することにより求めることができる。
【００８２】
さらに、被転写媒体（被付着物）における、転写（付着）後の光吸収材の直径（ドット径）のばらつきの値としては、１０％以下とすることが好ましく、６％以下とすることがより好ましい。被転写媒体における、転写後の光吸収材の直径のばらつきの値を、上記の好ましい範囲とすることにより、画像や立体造形物を形成する際の精度をより向上させることができる。
また、被転写媒体における、転写後の光吸収材の直径のばらつきの値は、例えば、マイクロスコープ等で光吸収材のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出したドット領域のピクセル数から各ドットの面積を算出、円形に換算した時の直径をドット径とし、各ドットの粒径分布の平均粒径と標準偏差から算出することにより求めることができる。
【００８３】
加えて、被転写媒体（被付着物）における、転写（付着）後の光吸収材の位置（ドット位置）のばらつきの値としては、１０μｍ以下とすることが好ましく、５μｍ以下とすることがより好ましい。被転写媒体における、転写後の光吸収材の位置のばらつきの値を、上記の好ましい範囲とすることにより、画像や立体造形物を形成する際の精度をより向上させることができる。なお、被転写媒体における、転写後の光吸収材の位置のばらつきの値としては、例えば、光吸収材のドットを一列に付着させる場合には、そのドットの列と直行する方向における、光吸収材の位置のばらつきの値とすることができる。
例えば、マイクロスコープ等で光吸収材のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出した各ドット領域の重心座標を算出、各重心の最小二乗法による近似直線からのずれを算出することにより求めることができる。
【００８４】
なお、光吸収材飛翔手段、光吸収材供給手段、及びビーム走査手段を一体として着色剤飛翔ユニットとして扱ってもよい。
例えば、着色剤飛翔ユニットを画像形成装置に４つ設け、プロセスカラーであるイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの着色剤を飛翔させるようにしてもよい。着色剤の色数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、必要に応じて着色剤飛翔ユニットの数を増減させてもよい。また、記録媒体の搬送方向における、プロセスカラーの着色剤を有する着色剤飛翔ユニットの上流側に、白色の着色剤を有する着色剤飛翔ユニットを配置することで、白色隠蔽層を設けることが可能となるため、透明な記録媒体に色再現性に優れた画像を形成できる。ただし、特にイエロー、白色、透明の着色剤においては、光渦レーザビームの波長の光の透過率（吸光度）が適正となるように、レーザー光源を、例えば、ブルーレーザビーム、紫外線レーザビームなどに適宜選択してしなければならない場合がある。
【００８５】
更に、画像形成装置では、高粘度の着色剤を用いることができるので、記録媒体上に順次異なる色の着色剤を重ねて画像を形成しても、着色剤が滲み出して交じり合うブリーディングの発生を抑制できるため、高画質のカラー画像を得ることができる。
【００８６】
画像形成装置の小型化などを目的として、着色剤飛翔ユニットを１つだけ設け、供給ローラ及び着色剤担持体に供給する着色剤自体を切り替えて複数色の画像を形成するようにしてもよい。
【００８７】
また、本発明の画像形成装置を、以下のように、立体造形物の製造装置に応用することもできる。
【００８８】
（立体造形物の製造装置）
立体造形物の製造装置は、立体造形剤飛翔装置を少なくとも有し、立体造形剤硬化手段を有することが好ましく、更に必要に応じて、その他の手段を有する。立体造形剤飛翔装置は、光吸収材が立体造形剤である画像形成装置であり、立体造形剤飛翔手段により立体造形剤を飛翔させる。
【００８９】
＜立体造形剤飛翔手段＞
立体造形剤飛翔手段は、光吸収材が立体造形剤であり、被付着物が造形物支持基板であること以外は前述の光吸収材飛翔手段と同様であるため、その説明を省略する。なお、立体造形剤飛翔手段は、造形物支持基板に対して立体造形剤を層として積み重ね、立体的に付着させる。
【００９０】
＜立体造形剤硬化手段＞
立体造形剤硬化手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、立体造形剤が紫外線硬化性材料であれば、紫外線照射器などが挙げられる。
立体造形剤硬化工程としては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、立体造形剤が紫外線硬化性材料であれば、紫外線照射工程などが挙げられ、立体造形剤硬化手段を用いて好適に行うことができる。
【００９１】
＜その他の手段＞
その他の手段としては、例えば、立体造形剤供給手段、立体造形ヘッドユニット走査手段、基板位置調整手段、制御手段などが挙げられる。
【００９２】
＜＜立体造形剤供給手段＞＞
立体造形剤供給手段は、光吸収材が立体造形剤であり、被付着物が造形物支持基板であること以外は前述の光吸収材供給手段と同様であるため、その説明を省略する。
【００９３】
＜＜立体造形ヘッドユニット走査手段＞＞
立体造形ヘッドユニット走査手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光吸収体飛翔ユニットと紫外線光吸収材飛翔手段とを一体とした立体造形ヘッドユニットを造形物支持基板上で装置の幅方向（Ｘ軸）に走査させてもよい。なお、立体造形ヘッドユニットは、例えば、光吸収体飛翔ユニットが付着させた紫外線硬化性の立体造形剤を紫外線光吸収材飛翔手段により硬化させるものとすることができる。また、立体造形ヘッドユニットは複数設けるようにしてもよい。
【００９４】
＜＜基板位置調整手段＞＞
基板位置調整手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、装置の奥行き方向（Ｙ軸）及び高さ方向（Ｚ軸）に造形物支持基板の位置を調整可能な基体（ステージ）としてもよい。
【００９５】
＜＜制御手段＞＞
制御手段は、前述した画像形成装置の制御手段と同様であるため、その説明を省略する。
【００９６】
＜立体造形剤＞
立体造形剤としては、光吸収材と同様に、その形状、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。以下、光吸収材を立体造形剤とした際に異なる点を説明する。
【００９７】
立体造形剤の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、求められる精密さなどにより変化するが、５μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。平均厚みが好ましい範囲内であると、立体造形物の精度、質感、滑らかさ、製造時間などの点で有利である。また、立体造形剤の平均厚みとしては、５μｍ以上１００μｍ以下がより好ましい。平均厚みがより好ましい範囲内であると、光渦レーザビームのエネルギーを低く抑えられ、立体造形剤の劣化などを抑制する点で有利である。
【００９８】
立体造形剤としては、硬化性材料を少なくとも含有してなり、更に必要に応じて、その他の成分を含有してなる。
【００９９】
＜＜硬化性材料＞＞
硬化性材料としては、活性エネルギー線（紫外線、電子線等）照射、加熱等により重合反応を生起し硬化する化合物であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、活性エネルギー線硬化性化合物、熱硬化性化合物などが挙げられる。これらの中でも、常温で液体の材料が好ましい。
活性エネルギー線硬化性化合物は、分子構造中にラジカル重合可能な不飽和二重結合を有する比較的低粘度のモノマーであり、単官能モノマー、多官能モノマーなどが挙げられる。
【０１００】
＜＜その他の成分＞＞
その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水、有機溶剤、光重合開始剤、界面活性剤、着色剤、安定化剤、水溶性樹脂、低沸点アルコール、表面処理剤、粘度調整剤、接着性付与剤、酸化防止剤、老化防止剤、架橋促進剤、紫外線吸収剤、可塑剤、防腐剤、分散剤などが挙げられる。
【０１０１】
＜立体造形剤担持体＞
立体造形剤担持体は、光吸収材を立体造形剤とした以外は前述の基材と同様であるため、その説明を省略する。
【０１０２】
＜造形物支持基板＞
造形物支持基板としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基板位置調整手段によりＹ軸及びＺ軸の位置が調整されるようにしてもよい。
【０１０３】
造形物支持基板と立体造形剤担持体との間隙としては、被付着物と基材との間隙と同じであるので、その説明を省略する。
【０１０４】
次に、本発明における画像形成装置の一例について図面を参照して説明する。
なお、下記構成部材の数、位置、形状等は本実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好ましい数、位置、形状等にすることができる。
【０１０５】
図５Ａは、本発明の画像形成装置の一例を示す説明図である。
図５Ａにおいて、画像形成装置３００は、光吸収材飛翔手段１と、光を吸収する光吸収材２０と、被付着物３０と、基材４０とを有する。画像形成装置３００は、基材４０に担持されている光吸収材２０に、光吸収材飛翔手段１により光の光渦レーザビーム１２を照射し、光渦レーザビーム１２のエネルギーにより光吸収材２０を照射方向に飛翔させ、被付着物３０に付着させる装置である。
【０１０６】
光吸収材飛翔手段１は、レーザー光源２と、ビーム径変更部材３及び７と、ビーム波長変更部材４と、光渦変換部５と、波長変換部６と、を有している。
【０１０７】
レーザー光源２は、例えば、チタンサファイアレーザであり、パルス発振させたレーザビーム１１を発生させ、ビーム径変更部材３に照射する。
ビーム径変更部材３は、例えば、集光レンズであり、レーザー光源２が発生させたレーザビーム１１の光路におけるレーザー光源２の下流に配置され、レーザビーム１１の径を変更する。
ビーム波長変更部材４は、例えば、ＫＴＰ結晶であり、レーザビーム１１の光路におけるビーム径変更部材３の下流に配置され、レーザビーム１１の波長を光吸収材２０が吸収可能な波長に変更する。
光渦変換部５は、例えば、螺旋位相板であり、レーザビーム１１の光路におけるビーム波長変更部材４の下流に配置され、レーザビーム１１を光渦レーザビーム１２に変換する。
波長変換部６は、例えば、１／４波長板であり、光渦レーザビームに円偏光を付与する。
【０１０８】
光吸収材２０は、光吸収材飛翔手段１から光渦レーザビーム１２を照射され、光渦レーザビーム１２の径の範囲におけるエネルギーを受けて飛翔し、被付着物３０に付着する。
なお、飛翔した光吸収材２０は、光渦レーザビーム１２により付与された、適度なエネルギーによる前方推進とジャイロ効果により、ビーム径の中心軸近傍に収束しながら捩じ切られることにより、周辺への飛散を抑制されつつ被付着物３０に付着する。
このとき、飛翔する光吸収材２０の飛翔量は、光渦レーザビーム１２が照射された光吸収材２０の面積のうち一部であり、波長変換部６などにより調整することができる。
【０１０９】
図５Ｂは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図５Ｂにおいて、画像形成装置３０１は、図５Ａに示した画像形成装置３００の各手段などに加え、基材４０と、ビーム走査手段６０とを有している。この画像形成装置３０１は、光吸収材飛翔手段１が発生させた光渦レーザビーム１２を、ビーム走査手段６０により光渦レーザビーム１２の照射方向と直交する方向に走査する。これにより、画像形成装置３０１は、平板状の基材４０が担持する光吸収材２０の任意の位置に照射し、飛翔させた光吸収材２０を被付着物３０に付着させることができる。
【０１１０】
ビーム走査手段６０は、光渦レーザビーム１２の光路における光吸収材飛翔手段１の下流に配置され、反射鏡６１を有している。
反射鏡６１は、反射鏡駆動手段により図５Ｂ中矢印Ｓで示す走査方向に可動し、光渦レーザビーム１２を光吸収材２０の任意の位置に反射する。
なお、ビーム走査手段６０は、例えば、光吸収材飛翔手段１自体を移動させるか、光吸収材飛翔手段１を回動させて光渦レーザビーム１２の照射方向を変化させるようにしてもよい。あるいは、ビーム走査手段６０は、反射鏡６１としてポリゴンミラーを用いたりすることにより、任意の位置に光渦レーザビーム１２を走査させるようにしてもよい。
【０１１１】
基材４０は、光渦レーザビーム１２の光路におけるビーム走査手段６０の下流に配置され、例えば、光吸収材２０が高粘度の液体である場合、光吸収材２０が塗布されて固定する目的で用いられる。この基材４０は、光を透過可能であって、光吸収材２０を表面に担持し、裏面から光渦レーザビーム１２により光吸収材２０が照射される。
また、光吸収材２０を基材４０に担持される段階で、層を形成した光吸収材２０の平均厚みが一定となるように制御することにより、光吸収材２０の飛翔量を安定させることができる。
なお、光吸収材飛翔手段１と、ビーム走査手段６０とを合わせたものを光渦レーザビーム照射ユニット１００と称する。
【０１１２】
図５Ｃは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図５Ｃにおいて、画像形成装置３０１ａは、図５Ｂに示した画像形成装置３０１におけるビーム走査手段６０として、ガルバノスキャナ（ガルバノミラー）６２ａ及び６２ｂを有する。ガルバノスキャナ６２ａ及び６２ｂは、それぞれが独立した走査方向（２次元）に可動し、光渦レーザビーム１２を光吸収材２０の任意の位置に反射することができる。ビーム走査手段６０としてガルバノスキャナ６２ａ及び６２ｂを用いることにより、光渦レーザビーム１２の走査スピード及び走査精度をより向上させることができる。
また、画像形成装置３０１ａにおいては、例えば、ガルバノスキャナ６２ｂと基材４０の間に、ｆθレンズを配置することも好ましい。
【０１１３】
図６Ａは、光吸収材供給手段及び被付着物搬送手段を付加した図５Ｂに示す画像形成装置の一例を示す説明図である。
図６Ａにおいて、画像形成装置３０２は、図５Ｂに示した画像形成装置３０１の各手段などに加え、光吸収材供給手段５０と、被付着物搬送手段７０とを有しており、平板状の基材４０を円筒状の光吸収材担持ローラ４１に変更したものである。また、光吸収材担持ローラ４１の内側には、光渦レーザビーム照射ユニット１００が配置されており、光吸収材担持ローラ４１が外周に担持する被付着物３０に光渦レーザビーム１２を照射する。
【０１１４】
光吸収材供給手段５０は、貯蔵槽５１と、供給ローラ５２と、規制ブレード５３とを有している。
貯蔵槽５１は、供給ローラ５２の下方の近傍に配置され、光吸収材１０を貯蔵する。
供給ローラ５２は、光吸収材担持ローラ４１と当接するように配置され、貯蔵槽５１の光吸収材１０に一部が浸漬されている。供給ローラ５２は、回転駆動手段により、又は光吸収材担持ローラ４１の回転に従動して図６Ａ中矢印Ｒ２で示す回転方向に回転しながら光吸収材１０を表面に付着させる。付着した光吸収材１０は、規制ブレード５３により平均厚みを均一にされ、光吸収材担持ローラ４１に転移することにより層として供給される。光吸収材担持ローラ４１の表面に供給された光吸収材１０は、光吸収材担持ローラ４１が回転することにより、光渦レーザビーム１２が照射される位置に連続的に供給される。
規制ブレード５３は、図中矢印Ｒ２で示す回転方向における光吸収材担持ローラ４１の上流側に配置され、供給ローラ５２が表面に付着させた光吸収材１０を規制し、光吸収材担持ローラ４１に供給する光吸収材１０の平均厚みを均一にする。
【０１１５】
被付着物搬送手段７０は、光吸収材担持ローラ４１と搬送する被付着物３０が接触しないように光吸収材担持ローラ４１の近傍に配置され、被付着物搬送ローラ７１と、被付着物搬送ローラ７１に張架された被付着物搬送ベルト７２とを有している。この被付着物搬送手段７０は、回転駆動手段により被付着物搬送ローラ７１を回転させ、被付着物搬送ベルト７２により被付着物３０を図６Ａ中矢印Ｃで示す搬送方向に搬送する。
このとき、光渦レーザビーム照射ユニット１００は、画像情報に従って光吸収材担持ローラ４１の内側より光渦レーザビーム１２を照射し、被付着物３０に光吸収材２０を付着させる。被付着物３０を被付着物搬送ベルト７２により移動させながら、このような光吸収材２０を被付着物３０に付着させる付着動作を行うことにより、被付着物３０に２次元の画像を形成することができる。
【０１１６】
なお、光吸収材担持ローラ４１の表面に担持されたが飛翔させなかった光吸収材２０は、光吸収材担持ローラ４１が回転し、供給ローラ５２との当接により溜まっていき、やがて貯蔵槽５１に落下して回収される。また、光吸収材２０の回収方法としては、それに限られることなく、光吸収材担持ローラ４１の表面の光吸収材２０を掻き取るスクレーパなどを設けてもよい。
【０１１７】
図６Ｂは、光吸収材供給手段及び被付着物搬送手段を付加した図５Ｂに示す画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図６Ｂにおいて、画像形成装置３０３は、図６Ａで示した画像形成装置３０２における円筒状の光吸収材担持ローラ４１を、軸方向に沿って２分割した光吸収材担持部４２とし、画像形成装置３０２の配置を変更したものである。
【０１１８】
光吸収材担持部４２は、円筒状の一部の面となっており、かつ円筒中心線の対向側には面が無い形状である。このように対向面がない担持体とすることにより、光渦レーザビーム照射ユニット１００を円筒状の光吸収材担持ローラ４１に設けることなく、光渦レーザビーム１２の光路が確保しやすくなるため、装置を単純化することができる。
【０１１９】
図７Ａは、定着手段を付加した図６Ａに示す画像形成装置の一例を示す説明図である。
図７Ａにおいて、画像形成装置３０５は、図６Ａに示した画像形成装置３０２の各手段などに加え、定着手段８０を有しており、被付着物３０に付着させた光吸収材２０を定着させて平滑にするようにしている。なお、被付着物搬送手段７０の位置は、図６Ａでは光吸収材担持ローラ４１の側面としたが、図７Ａでは説明の便宜上、光吸収材担持ローラ４１の上方とした。
【０１２０】
定着手段８０は、加圧方式の定着手段であって、被付着物３０の図７Ａ中矢印Ｃで示す搬送方向において光吸収材担持ローラ４１の下流側に配置され、加圧ローラ８３と、対向ローラ８４とを有している。この定着手段８０は、光吸収材２０が付着した被付着物３０を、挟持しながら搬送することにより加圧して定着させる。
【０１２１】
加圧ローラ８３は、対向ローラ８４に向かって付勢されており、表面が被付着物３０と接触し、対向ローラ８４とにより被付着物３０を挟持しながら加圧する。
対向ローラ８４は、加圧ローラ８３と当接する位置に配置され、被付着物３０を加圧ローラ８３とにより被付着物搬送ベルト７２を介して挟持する。
【０１２２】
例えば、画像形成装置３０５を画像形成装置とし、１，０００ｍＰａ・ｓ以上である非常に高粘度の光吸収材２０を用いると、光吸収材２０の被付着物３０への浸透又は濡れが遅くなりやすい。そして、光吸収材２０がそのままの状態で乾燥してしまうと、画像の表面粗さが粗くなり、画像の光沢が低下してしまう場合がある。このような場合、定着手段８０は、光吸収材２０が付着した被付着物３０を加圧ローラ８３で加圧し、光吸収材２０を被付着物３０に押し込む、あるいは光吸収材２０を潰すことができるため、光吸収材２０が付着した被付着物３０の表面粗さを小さくできる。
【０１２３】
図７Ｂは、定着手段を付加した図６Ａに示す画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図７Ｂにおいて、画像形成装置３０６は、図７Ａで示した画像形成装置３０５における加圧方式の定着手段８０を加熱加圧方式の定着手段８１に変更したものである。
定着手段８１は、被付着物３０の図７Ｂ中矢印Ｃで示す搬送方向において光吸収材担持ローラ４１の下流側に配置され、加熱加圧ローラ８５と、定着ベルト８６と、従動ローラ８７と、ハロゲンランプ８８と、対向ローラ８４とを有している。この定着手段８１は、溶融が必要な材料を分散した分散液の光吸収材２０として用いた場合で、加圧のみでは狙いの画像を得られないときに用いられる。
【０１２４】
加熱加圧ローラ８５は、対向ローラ８４に向かって付勢されており、定着ベルト８６を介して、被付着物３０を対向ローラ８４と挟持しながら加熱及び加圧する。
定着ベルト８６は、無端のベルト状であり、加熱加圧ローラ８５及び従動ローラ８７に張架され、表面が被付着物３０と接触する。
従動ローラ８７は、加熱加圧ローラ８５の下方に配置され、加熱加圧ローラ８５の回転に従って従動する。
ハロゲンランプ８８は、加熱加圧ローラ８５の内部に配置され、被付着物３０に光吸収材２０を定着させるための熱を発生させる。
対向ローラ８４は、定着ベルト８６と当接する位置に配置され、被付着物３０を加圧ローラ８３とにより被付着物搬送ベルト７２を介して挟持する。
【０１２５】
図７Ｃは、定着手段を付加した図６Ａに示す画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図７Ｃにおいて、画像形成装置３０７は、図７Ａで示した画像形成装置３０５における加圧方式の定着手段８０をＵＶ照射方式の定着手段８２に変更したものである。
定着手段８２は、被付着物３０の図７Ｃ中矢印Ｃで示す搬送方向において光吸収材担持ローラ４１の下流側に配置され、ＵＶランプ８９を有している。この定着手段８１は、光吸収材２０として紫外線硬化性材料を用いた場合に使用され、ＵＶランプ８９によりＵＶを照射して被付着物３０に定着させる。
【０１２６】
図８Ａは、本発明の画像形成装置の一例を示す説明図である。
図８Ａにおいて、画像形成装置２００は、図７Ｂに示した画像形成装置３０６の各手段などに加え、光吸収体飛翔ユニット１２０を３つ有しており、光吸収材２０を着色剤２１に変更したものである。
また、光吸収体飛翔ユニット１２０は、光吸収材供給手段５０と、光吸収材飛翔手段１と、ビーム走査手段６０と、光吸収材担持ローラ４１と、光吸収材２０とにより構成される。
【０１２７】
光吸収体飛翔ユニット１２０Ｙ、Ｍ、Ｃ、Ｋは、それぞれプロセスカラーであるイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）及びブラック（Ｋ）の４色のトナーを着色剤２１として貯蔵している。
これにより、記録媒体３１上に各色の画像を順次形成し、カラー画像を得るカラープロセスに適用することができる。
【０１２８】
図８Ｂは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図８Ｂにおいて、画像形成装置２０１は、図８Ａに示した画像形成装置２００の各手段などに加え、転写手段としての中間転写手段９０を有している。
【０１２９】
中間転写手段９０は、中間転写体９１と、中間転写体駆動ローラ９２と、中間転写体従動ローラ９３とを有している。
中間転写体９１は、例えば、無端状のベルトであり、４つの光吸収体飛翔ユニット１２０の上方に配置され、中間転写体駆動ローラ９２と、中間転写体従動ローラ９３とにより張架されている。
中間転写体駆動ローラ９２は、回転駆動手段により図８Ｂ中矢印Ｒ２で示す回転方向に回転し、中間転写体９１を回転させる。
中間転写体従動ローラ９３は、中間転写体駆動ローラ９２の回転に従って従動する。
このように、まず中間転写体９１に画像を形成し、これを所望の記録媒体３１に転写するようにしてもよい。この画像形成装置２０１においても、画像形成装置２００と同様に高画質のカラー画像を得ることができる。また、中間転写体９１に形成した画像を記録媒体３１に転写する際に中間転写体駆動ローラ９２により押圧するので、画像形成装置２００と同様に、着色剤２１を付着させた記録媒体３１の表面粗さを小さくすることができる。
【０１３０】
また、図５Ｂでは、光渦レーザビームを照射する方向を重力方向としたが、図５Ａ及び図６Ａ〜図８Ｂでは、光渦レーザビームを照射する方向を重力方向とは逆の方向にすることや、水平方向にすることを示した。
このように、本発明の画像形成方法では、基材の表面への光渦レーザビームの照射方向が非重力方向であり、液柱乃至液滴が非重力方向に生ずるようにしてもよい。これにより、装置の設計において自由度を高めることができる。
【０１３１】
図９は、本発明の立体造形物の製造装置の一例を示す説明図である。
図９において、立体造形物の製造装置５００は、造形物支持基板１２２と、ステージ１２３と、立体造形ヘッドユニット１３０とを有している。この立体造形物の製造装置５００は、付着させた立体造形剤２２を硬化しながら積層して立体造形物１２４を製造する。
立体造形ヘッドユニット１３０は、立体造形物の製造装置５００の上部に配置され、駆動手段により図中矢印Ｌで示す方向に走査することができる。この立体造形ヘッドユニット１３０は、光吸収体飛翔ユニット１２０と、紫外線照射器１２１とを有している。
【０１３２】
光吸収体飛翔ユニット１２０は、立体造形ヘッドユニット１３０の中央に配置され、下方に光吸収体２０を飛翔させ、造形物支持基板１２２又はすでに硬化させた光吸収体２０に付着させる。
紫外線照射器１２１は、光吸収体飛翔ユニット１２０の両側面に配置され、光吸収体飛翔ユニット１２０が飛翔させた光吸収体２０に紫外線を照射して硬化させる。
造形物支持基板１２２は、立体造形物の製造装置５００の下部に配置され、立体造形ヘッドユニット１３０が立体造形剤２２の層を形成する際の基板となる。
ステージ１２３は、造形物支持基板１２２の下方に配置され、駆動手段により造形物支持基板１２２を図中垂直方向に移動させることができる。また、このステージ１２３は、図中矢印Ｈで示す方向に移動させることができ、立体造形ヘッドユニット１３０と立体造形物１２４との間隙を調整することができる。
【０１３３】
なお、画像形成装置及び立体造形物の製造装置においては、被付着物、記録媒体及び造形物支持基板を搬送又は移動させる例を示したが、これに限らず、被付着物などを静止させて光吸収材飛翔ユニットなどを移動させてもよい。あるいは、被付着物などと光吸収材飛翔ユニットなどの両者を移動させてもよい。
また、被記録媒体の全面の画像を同時に形成する場合などでは、少なくとも記録時には両者が静止しレーザーのみ動作してもよい。
【実施例】
【０１３４】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
以下では、図５Ｂに示した光吸収材飛翔手段により、パルス発振させた光渦レーザビームを光吸収材としてのＵＶインクに照射して、被付着物にドットを形成するように付着させた実施例及び比較例について説明する。
【０１３５】
（実施例１）
＜基材、光吸収材及び被付着物＞
基材としてのスライドガラス（松浪硝子工業株式会社製、マイクロスライドガラスＳ７２１３；５３２ｎｍ波長光の透過率が９９％）上に、光吸収材として、以下の配合のＵＶインクを表面に塗布して、平均厚み２０μｍとした膜を形成した。このとき、膜状の光吸収材における５３２ｎｍ波長光の透過率が０．０１％以下（吸光度が４以上）であった。また、ＵＶインクの粘度は、回転粘度計（ＶＩＳＣＯＭＡＴＥ  ＶＭ−１５０ＩＩＩ、東機産業株式会社製）などを用いて２５℃の環境下で測定したところ、４Ｐａ・ｓであった。
・ＵＶ  Ｃｏｒｅ  ＴＹＰＥ−Ａ紅（株式会社Ｔ＆Ｋ  ＴＯＫＡ製）    １００質量部
・ＵＶフレキソ５００紅  （株式会社Ｔ＆Ｋ  ＴＯＫＡ製）              ５０質量部
【０１３６】
次に、光吸収材を塗布した基材の表面を被付着物と対向させ、光吸収材の裏面から光渦レーザビームを垂直に照射できるように基材を設置した。
被付着物としては、ＰＯＤグロスコート紙（三菱製紙株式会社製）を用い、被付着物と光吸収材との間隙（ギャップ）を１．５ｍｍとした。
【０１３７】
＜光吸収材飛翔手段＞
光吸収材飛翔手段は、レーザー光源と、ビーム径変更部材と、ビーム波長変更素子と、光渦変換部としての螺旋位相板と、波長変換部としての１／４波長板とを有する。
【０１３８】
レーザー光源としては、千葉大学大学院融合科学研究科尾松研究室において自作したレーザー光源（ＹＡＧ）を用いた。このレーザー光源を用いて、発生させたレーザビームにおける波長を５３２ｎｍ、ビーム径を１．２５ｍｍ×１．２３ｍｍ、パルス幅を２ナノ秒、パルス周波数を２０Ｈｚとした１パルスのレーザビームを発生させた。発生させた１パルスのレーザビームを、ビーム径変更部材としての集光レンズ（シグマ光機株式会社製、ＹＡＧレーザー集光レンズ）に照射して、光吸収材に照射させたときのビーム径をΦ８０μｍとなるようにした。次に、ビーム径変更部材を経たレーザビームを、螺旋位相板（株式会社ルミネックス製、Ｖｏｒｔｅｘフェイズプレート）に通過させて光渦レーザビームに変換させた。次に、螺旋位相板により変換させた光渦レーザビームを、螺旋位相板の下流に配置されている１／４波長板（ＱＷＰ；株式会社光学技研製）に通過させた。このとき、上記の式（１）で表されるトータルの回転モーメントＪが２となるように、螺旋位相板と１／４波長板の光学軸を＋４５°に設定した。変換させた光渦レーザビームを、エネルギー調整フィルタ（シグマ光機株式会社製、ＮＤフィルタ）に通過させることにより、光吸収材に照射させたときのレーザー出力を調整し、５０μＪ／ドットとした。
【０１３９】
＜飛翔状態の評価＞
上記のようにした光渦レーザビームを光吸収材としてのＵＶインクに照射したときの飛翔状態を、高速度ビデオカメラ（ＨｙｐｅｒＶｉｓｉｏｎ  ＨＰＶ−Ｘ、株式会社島津製作所製）を用いて、光吸収材の飛翔方向に直交する方向から１フレーム１００ｎｓで撮影し、以下の基準で評価した。飛翔状態を図１０Ａに示し、結果を表１に示した。
〔評価基準〕
○：  レーザビームの光路軸に収束し直進
△：  レーザビームの光路軸に収束するが、直進性がやや乱れる
×：  レーザビーム径以上に拡散して飛翔
【０１４０】
＜付着状態の評価＞
飛翔させた光吸収材が付着した被付着物の付着状態を、以下の基準で評価した。付着状態を図１０Ｂに示し、結果を表１に示した。なお、本評価が○又は△であれば、実使用上問題ないレベルである。
〔評価基準〕
○：飛散なし
△：わずかに飛散あり
×：飛散あり
【０１４１】
（実施例２）
実施例１において、光渦レーザビームを光吸収材に照射させるときの照射エネルギーを５０μＪ／ドットから６０μＪ／ドットになるようにエネルギー調整フィルタを設定した以外は、実施例１と同様にして、飛翔状態及び付着状態を評価した。結果を表１に示した。なお、飛翔状態を図１１Ａに示し、付着状態を図１１Ｂに示した。
【０１４２】
（実施例３）
実施例１において、被付着物と光吸収材との間隙を１．５ｍｍから０．２ｍｍになるようにした以外は、実施例１と同様にして、飛翔状態及び付着状態を評価した。結果を表１に示した。なお、飛翔状態を図１２Ａに示し、付着状態を図１２Ｂに示した。図１２Ａに示すように、光渦レーザビームを照射されたＵＶインクの膜は、切り離される前に被付着物に接触し、その後に切り離されていることがわかる。
【０１４３】
（実施例４）
実施例３において、光渦レーザビームを光吸収材に照射させるときの照射エネルギーを５０μＪ／ドットから６０μＪ／ドットになるようにエネルギー調整フィルタを設定した以外は、実施例３と同様にして、飛翔状態及び付着状態を評価した。結果を表１に示した。なお、飛翔状態を図１３Ａに示し、付着状態を図１３Ｂに示した。
【０１４４】
（比較例１）
実施例１において、光渦レーザビームを光吸収材に照射させるときの照射エネルギーを５０μＪ／ドットから７０μＪ／ドットになるようにエネルギー調整フィルタを設定した以外は、実施例１と同様にして、飛翔状態及び付着状態を評価した。結果を表１に示した。なお、飛翔状態を図１４Ａに示し、付着状態を図１４Ｂに示した。
【０１４５】
（比較例２）
実施例１において、基材の表面に塗布したＵＶインクの膜厚を平均厚み２０μｍから３μｍになるようにした以外は、実施例１と同様にして、飛翔状態及び付着状態を評価した。結果を表１に示した。なお、飛翔状態を図１５Ａに示し、付着状態を図１５Ｂに示した。また、ＵＶインクの膜厚を３μｍとしたときの５３２ｎｍ波長光の透過率は、１％であった。
【０１４６】
【表１】
2020157751.tif 000005
【０１４７】
表１の結果から、実施例１、３及び４において、ＵＶインクの飛翔状態及び付着状態が良好であった。また、実施例２においては、照射エネルギーが強めで、かつ被付着物と光吸収材との間隙が広かったため、実施例１、３及び４よりも多少飛散していたが良好な結果であった。
一方、比較例１では、照射エネルギーを強くしたため、図１４Ａ及び１４Ｂに示すように、光吸収材（ＵＶインク）が光渦レーザビームの照射径よりも広く飛散してしまった。すなわち、比較例１においては、光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液滴を光吸収材から生じさせることができなかった。
また、比較例２では、ＵＶインクの膜厚を平均厚み２０μｍから３μｍに変更したため、単位体積あたりの照射エネルギーが強くなり、図１５Ａ及び１５Ｂに示すように、光吸収材（ＵＶインク）が光渦レーザビームの照射径よりも広く飛散してしまった。すなわち、比較例２においては、光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液滴を光吸収材から生じさせることができなかった。
【０１４８】
このように、光渦レーザーの照射エネルギー、膜厚、被付着物と光吸収材との間隔、あるいはインクの材料や粘度などの各パラメータを適宜組み合わせることにより、実施例１〜４のように、本発明の光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法は、高粘度の材料を用いて小径の液柱乃至液滴を形成することが容易にできるため、高解像度の画像を形成することができる。
【０１４９】
（実施例５）
実施例５では、実施例１〜４及び比較例１及び２とは異なり、光吸収材飛翔手段として、図５Ｃに示したような２つのガルバノスキャナを有するものを用いて、パルス発振させた光渦レーザビームを光吸収材としてのＵＶインクに照射して、被付着物にドットを一列に形成した。
また、実施例５においては、レーザビーム径をΦ６０μｍに集光し、ガルバノスキャナの走査速度を１００ｍｍ／ｓとし、レーザーの繰り返し周波数（パルス周波数）を５００Ｈｚとして、約２００μｍ間隔で被付着物（非転写媒体）にドットを形成した。さらに、実施例５では、被付着物と光吸収材との間隙（ギャップ）を０．１ｍｍとし、光渦レーザビームを光吸収材に照射させるときの照射エネルギーが２７μＪ／ドットとなるようにエネルギー調整フィルタを設定した。
なお、実施例５では、上述した条件以外は実施例１と同様にして、被付着物にドットを形成した。
【０１５０】
実施例５で形成したドットについて、デジタルマイクロスコープ（株式会社キーエンス製、ＶＨＸ−５０００）を用いて観察を行った。
また、上記のデジタルマイクロスコープを用いて取得した画像を解析することにより、ドットの平均直径（平均ドット径）、トッドの直径（ドット径）のばらつきの値、及びドットの位置（ドット位置）のばらつきの値を求めた。
【０１５１】
より具体的には、平均ドット径は、デジタルマイクロスコープで光吸収材のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出したドット領域のピクセル数から各ドットの面積を算出、円形に換算した時の直径をドット径とし、これを平均することにより求めた。
また、ドット径のばらつきの値は、デジタルマイクロスコープで光吸収材のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出したドット領域のピクセル数から各ドットの面積を算出、円形に換算した時の直径をドット径とし、各ドットの粒径分布の平均粒径と標準偏差から算出することにより求めた。
さらに、ドット位置のばらつきの値は、デジタルマイクロスコープで光吸収材のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出した各ドット領域の重心座標を算出、各重心の最小二乗法による近似直線からのずれを算出することにより求めた。
【０１５２】
実施例５においては、平均ドット径は６７．４μｍであり、ドット径のばらつきの値は３．４％であり、ドット位置のばらつきの値は０．６μｍであった。結果を表２に示す。また、実施例５における光吸収材の付着状態（一列のドットの状態）を図１６に示した。
【０１５３】
（実施例６）
実施例６では、実施例５において、被付着物と光吸収材との間隙（ギャップ）を０．２ｍｍに変更した以外は実施例５と同様にして、被付着物にドットを一列に形成した。
実施例６においては、平均ドット径は６９．９μｍであり、ドット径のばらつきの値は５．３％であり、ドット位置のばらつきの値は３．２μｍであった。結果を表２に示す。また、実施例６における光吸収材の付着状態（一列のドットの状態）を図１７に示した。
【０１５４】
（実施例７）
実施例７では、実施例５において、被付着物と光吸収材との間隙（ギャップ）を０．５ｍｍに変更した以外は実施例５と同様にして、被付着物にドットを一列に形成した。
実施例７においては、平均ドット径は７５．７μｍであり、ドット径のばらつきの値は９．０％であり、ドット位置のばらつきの値は２．９μｍであった。結果を表２に示す。また、実施例７における光吸収材の付着状態（一列のドットの状態）を図１８に示した。
【０１５５】
【表２】
2020157751.tif 000006
【０１５６】
図１６及び１７に示すように、被付着物と光吸収材との間隙（ギャップ）が０．１ｍｍ又は０．２ｍｍである場合（実施例５及び６）は、ドットの形状が特に類似している。さらに、表２に示すように、被付着物と光吸収材との間隙（ギャップ）が０．１ｍｍ又は０．２ｍｍである場合（実施例５及び６）においては、平均ドット径及びドット径のばらつきの値が特に近くなっている。
実施例３及び４でも説明したように、被付着物と光吸収材との間隙が０．２ｍｍ以下である場合には、光渦レーザビームを照射されたＵＶインク（光吸収材）の膜は、切り離される前に被付着物に接触し、その後に切り離されてドットが形成される。このため、実施例５及び６においては、光吸収材の先端が分離することなく被付着物に付着するので、光吸収材の分離時に発生する飛び散りが少なく、径がより揃ったドットが生成していると考えられる。
【０１５７】
また、付着物と光吸収材との間隙（ギャップ）が０．５ｍｍである実施例７においては、ＵＶインク（光吸収材）の先端が分離して飛翔したインク滴が被付着物に着弾することにより、ドットが形成される。このため、実施例７では、図１８に示すように、多少のインクの飛び散りが発生し、実施例５及び６と比べるとドット径のばらつきが少し大きくなっている。
しかしながら、実施例７においても、図１８に示すように、十分にドット形状は形成されており、従来技術である比較例１及び２の付着状態を示す図１４Ｂ及び１５Ｂと比べると違いは明らかである。
なお、ドット位置のばらつきに関しては、実施例５〜７のいずれにおいても３μｍ程度となっており、高い精度でドットを形成できていることがわかる。
【０１５８】
以上説明したように、本発明の光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法は、光吸収材を表面に配した基材における、光吸収材が配された側とは反対側の基材の表面に光渦レーザビームを照射することで、光渦レーザビームの照射方向にかつ光渦レーザビームの照射径よりも小径の液柱乃至液滴を光吸収材から生じさせる。これにより、本発明の光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法は、高解像度の画像を形成することができる。
【０１５９】
本発明の態様としては、例えば、以下のとおりである。
＜１＞  光吸収材を表面に配した基材における、前記光吸収材が配された側とは反対側の前記基材の表面に光渦レーザビームを照射することにより、前記光渦レーザビームの照射方向にかつ前記光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を前記光吸収材から生じさせることを特徴とする光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法である。
＜２＞  前記基材の表面への前記光渦レーザビームの照射方向が非重力方向であり、前記液柱乃至液滴が非重力方向に生ずる、前記＜１＞に記載の光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法である。
＜３＞  光吸収材を表面に配した基材における、前記光吸収材が配された側とは反対側の前記基材の表面に光渦レーザビームを照射することにより、前記光渦レーザビームの照射方向にかつ前記光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を前記光吸収材から生じさせ、前記液柱乃至液滴を被転写媒体に接触させ、転写させることを特徴とする画像形成方法である。
＜４＞  前記基材の表面への前記光渦レーザビームの照射方向が非重力方向であり、前記液柱乃至液滴が非重力方向に生ずる、前記＜３＞に記載の画像形成方法である。
＜５＞  前記基材の表面に光渦レーザビームを照射した際、前記光吸収材が回転運動を伴って前記光渦レーザビームの照射方向に略ドーム形状に膨らみ、前記略ドーム形状の前記光吸収材の頂部から前記光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴が生ずる、前記＜３＞から＜４＞のいずれかに記載の画像形成方法である。
＜６＞  前記光吸収材が、前記光渦レーザビームの波長に対する吸光度が１よりも大きい、前記＜３＞から＜５＞のいずれかに記載の画像形成方法である。
＜７＞  前記基材の表面に配された前記光吸収材の厚みが１０μｍ以上である、前記＜３＞から＜６＞のいずれかに記載の画像形成方法である。
＜８＞  前記光渦レーザビームの照射径が１００μｍ以下である、前記＜３＞から＜７＞のいずれかに記載の画像形成方法である。
＜９＞  前記光渦レーザビームの照射エネルギーが６０μＪ／ドット以下である、前記＜３＞から＜８＞のいずれかに記載の画像形成方法である。
＜１０＞  光吸収材を表面に配した基材における、前記光吸収材が配された側とは反対側の前記基材の表面に光渦レーザビームを照射することにより、前記光渦レーザビームの照射方向にかつ前記光渦レーザビームの照射径よりも小さな径の液柱乃至液滴を前記光吸収材から生じさせる光吸収材飛翔手段と、
前記液柱乃至液滴を被転写媒体に接触させ、転写させる転写手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置である。
【０１６０】
前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法、前記＜３＞から＜９＞のいずれかに記載の画像形成方法、及び前記＜１０＞に記載の画像形成装置によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記本発明の目的を達成することができる。
【符号の説明】
【０１６１】
１  光吸収材飛翔手段
２  レーザー光源
３、７  ビーム径変更部材
４  ビーム波長変更部材
５  螺旋位相板（光渦変換部）
６  １／４波長板（波長変換部）
１１  レーザビーム
１２  光渦レーザビーム
２０  光吸収材
２１  着色剤
２２  立体造形剤
３０  被付着物
３１  記録媒体
３２  基板
４０  基材
１００  光吸収材飛翔ユニット
１１０  着色剤飛翔ユニット
１２０  立体造形剤飛翔ユニット
１２４  立体造形物
１３０  立体造形ヘッドユニット
３００〜３０７  画像形成装置
４００、４０１  画像形成装置
５００  立体造形物の製造装置
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１６２】
【特許文献１】特開２０１８−５６５６５号公報
【図１Ａ】
2020157751.tif 000007
【図１Ｂ】
2020157751.tif 000008
【図１Ｃ】
2020157751.tif 000009
【図２Ａ】
2020157751.tif 000010
【図２Ｂ】
2020157751.tif 000011
【図２Ｃ】
2020157751.tif 000012
【図３Ａ】
2020157751.tif 000013
【図３Ｂ】
2020157751.tif 000014
【図４Ａ】
2020157751.tif 000015
【図４Ｂ】
2020157751.tif 000016
【図５Ａ】
2020157751.tif 000017
【図５Ｂ】
2020157751.tif 000018
【図５Ｃ】
2020157751.tif 000019
【図６Ａ】
2020157751.tif 000020
【図６Ｂ】
2020157751.tif 000021
【図７Ａ】
2020157751.tif 000022
【図７Ｂ】
2020157751.tif 000023
【図７Ｃ】
2020157751.tif 000024
【図８Ａ】
2020157751.tif 000025
【図８Ｂ】
2020157751.tif 000026
【図９】
2020157751.tif 000027
【図１０Ａ】
2020157751.tif 000028
【図１０Ｂ】
2020157751.tif 000029
【図１１Ａ】
2020157751.tif 000030
【図１１Ｂ】
2020157751.tif 000031
【図１２Ａ】
2020157751.tif 000032
【図１２Ｂ】
2020157751.tif 000033
【図１３Ａ】
2020157751.tif 000034
【図１３Ｂ】
2020157751.tif 000035
【図１４Ａ】
2020157751.tif 000036
【図１４Ｂ】
2020157751.tif 000037
【図１５Ａ】
2020157751.tif 000038
【図１５Ｂ】
2020157751.tif 000039
【図１６】
2020157751.tif 000040
【図１７】
2020157751.tif 000041
【図１８】
2020157751.tif 000042