(57)【要約】【課題】格納の際に被格納物が傷つくことを抑制するとともに、複数の格納ウェルにおける被格納物の格納効率を向上させることができる格納容器を提供すること。【解決手段】格納容器は、被格納物を格納する格納ウェルが所定の基板表面に複数形成された基板からなる。前記格納ウェルは、前記基板表面に開口する開口部を形成し、前記開口部の内壁に、前記基板表面から前記格納ウェルの深さ方向下側に傾斜する傾斜面を有する開口形成部と、前記開口形成部よりも前記格納ウェルの深さ方向下側に、前記基板表面に対して垂直な方向に延在する側壁面を有し、前記開口部を介して前記基板表面上の領域と通じる有底の格納部と、を備えている。前記傾斜面の下端は、前記格納部の前記側壁面と稜線を形成して連続している。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被格納物を格納する格納ウェルが所定の基板表面に複数形成された基板からなる格納容器であって、
前記格納ウェルは、
前記基板表面に開口する開口部を形成し、前記開口部の内壁に、前記基板表面から前記格納ウェルの深さ方向下側に傾斜する傾斜面を有する開口形成部と、
前記開口形成部よりも前記格納ウェルの深さ方向下側に、前記基板表面に対して垂直な方向に延在する側壁面を有し、前記開口部を介して前記基板表面上の領域と通じる有底の格納部と、
を備え、
前記傾斜面の下端は、前記格納部の前記側壁面と稜線を形成して連続することを特徴とする格納容器。
【請求項２】
前記傾斜面は、前記開口部の内壁全周に亘って形成されることを特徴とする請求項１に記載の格納容器。
【請求項３】
前記開口形成部は、前記格納部の側壁面よりも前記格納ウェルの深さ方向上側に、前記基板表面に対して垂直な方向に延在する上部側壁面を有し、
前記傾斜面は、前記開口部の開口中心軸に対して前記上部側壁面とは反対側に偏って形成されることを特徴とする請求項１に記載の格納容器。
【請求項４】
前記格納部と連通し、前記格納部に流入した液体を前記格納部の外部に流出させる液体流出部をさらに備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の格納容器。
【請求項５】
前記開口形成部は、ジルコニアが添加された石英ガラスからなり、
前記格納部は、意図せず含まれる不純物の濃度が０．１ｍｏｌ％以下である純石英ガラスからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の格納容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、格納容器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、細胞等の微細な被格納物を個別に格納するためのウェル（格納ウェル）を複数備える格納容器が知られている。例えば、対象とする被格納物が細胞である場合、格納ウェルの配置数に比べて１．５〜２．０倍以上の数の細胞を含んだ液体（懸濁液）が格納容器の表面に流され、これにより、複数の格納ウェルの各々に細胞が液体とともに投入される。このような格納ウェルとして、例えば、特許文献１には、逆角錐形の開口部と円筒形の有底穴とを組み合わせた形状のマイクロウェルが開示されている。また、特許文献２には、イムノチャンバーに複数形成された逆錐台形のウェルが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第４１４８３６７号公報
【特許文献２】特開２０１４−１１０７８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した特許文献１に記載される従来の格納ウェルでは、格納した細胞から分泌される抗体を載せるための平坦面が開口部の傾斜面とウェル側壁面との間に存在するので、細胞等の被格納物をウェル内に流し入れる際、この平坦面と側壁面とが繋がる角部に被格納物が接触して傷つく恐れがある。
【０００５】
また、上述した特許文献２に記載される従来の格納ウェルでは、ウェル内壁面が開口端から底面に向かって下方に傾斜しているので、被格納物をウェル内へ流し入れやすい反面、一旦ウェル内に格納された被格納物が、液体の流れ等に伴ってウェル内から意図せず脱離する恐れがある。これに起因して、複数の格納ウェルの各々に被格納物が格納される確率、すなわち、格納容器に設けられている全ての格納ウェルのうち、被格納物が格納されている格納ウェルの割合（以下、格納効率という）が低下する場合がある。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、格納の際に被格納物が傷つくことを抑制するとともに、複数の格納ウェルにおける被格納物の格納効率を向上させることができる格納容器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る格納容器は、被格納物を格納する格納ウェルが所定の基板表面に複数形成された基板からなる格納容器であって、前記格納ウェルは、前記基板表面に開口する開口部を形成し、前記開口部の内壁に、前記基板表面から前記格納ウェルの深さ方向下側に傾斜する傾斜面を有する開口形成部と、前記開口形成部よりも前記格納ウェルの深さ方向下側に、前記基板表面に対して垂直な方向に延在する側壁面を有し、前記開口部を介して前記基板表面上の領域と通じる有底の格納部と、を備え、前記傾斜面の下端は、前記格納部の前記側壁面と稜線を形成して連続することを特徴とする。
【０００８】
また、本発明に係る格納容器は、上記の発明において、前記傾斜面は、前記開口部の内壁全周に亘って形成されることを特徴とする。
【０００９】
また、本発明に係る格納容器は、上記の発明において、前記開口形成部は、前記格納部の側壁面よりも前記格納ウェルの深さ方向上側に、前記基板表面に対して垂直な方向に延在する上部側壁面を有し、前記傾斜面は、前記開口部の開口中心軸に対して前記上部側壁面とは反対側に偏って形成されることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明に係る格納容器は、上記の発明において、前記格納部と連通し、前記格納部に流入した液体を前記格納部の外部に流出させる液体流出部をさらに備えることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明に係る格納容器は、上記の発明において、前記開口形成部は、ジルコニアが添加された石英ガラスからなり、前記格納部は、意図せず含まれる不純物の濃度が０．１ｍｏｌ％以下である純石英ガラスからなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、格納の際に被格納物が傷つくことを抑制するとともに、複数の格納ウェルにおける被格納物の格納効率を向上させることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、本発明の実施形態１に係る格納容器の一構成例を示す図である。
【図２】図２は、本発明の実施形態１に係る格納容器の格納ウェルの一構成例を示す図である。
【図３】図３は、図２に示す格納ウェルのＡ−Ａ線断面の構成を模式的に示す断面模式図である。
【図４】図４は、本発明の実施形態１に係る格納ウェルの製造方法の一例を示す図である。
【図５】図５は、本発明の実施形態２に係る格納容器の格納ウェルの一構成例を示す図である。
【図６】図６は、図５に示す格納ウェルのＢ−Ｂ線断面の構成を模式的に示す断面模式図である。
【図７】図７は、本発明の実施形態２に係る格納ウェルの製造方法の一例を示す図である。
【図８】図８は、本発明の実施形態３に係る格納容器の格納ウェルの一構成例を示す図である。
【図９】図９は、図８に示す格納ウェルのＣ−Ｃ線断面の構成を模式的に示す断面模式図である。
【図１０】図１０は、本発明の実施形態３の変形例１に係る格納ウェルの一構成例を示す図である。
【図１１】図１１は、本発明の実施形態３の変形例２に係る格納ウェルの一構成例を示す図である。
【図１２】図１２は、本発明の実施形態４に係る格納容器の格納ウェルの一構成例を示す図である。
【図１３】図１３は、本発明の実施形態４に係る格納ウェルの製造方法の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に、図面を参照して本発明に係る格納容器の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、本実施形態により本発明が限定されるものではない。また、各図面において、同一または対応する要素には適宜同一の符号を付している。さらに、図面は模式的なものであり、各要素の寸法の関係などは、現実のものとは異なる場合があることに留意する必要がある。図面の相互間においても、互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれている場合がある。
【００１５】
（実施形態１）
本発明の実施形態１に係る格納容器について説明する。図１は、本発明の実施形態１に係る格納容器の一構成例を示す図である。本実施形態１に係る格納容器１は、細胞等の微細な被格納物を格納するための容器であり、図１に示すように、所定の基板表面２ａに格納ウェル群５が形成された基板２からなる。基板２は、例えば、石英ガラス（ＳｉＯ２）等のガラス材からなるガラス基板である。格納ウェル群５は、被格納物を格納する複数の格納ウェルからなる。これら複数の格納ウェルは、基板２における所定の基板表面２ａ（図１では上面）に、格子状等の所定のパターンに配列されるよう形成されている。
【００１６】
図２は、本発明の実施形態１に係る格納容器の格納ウェルの一構成例を示す図である。図２には、本実施形態１に係る格納容器１の格納ウェル群５から抜き出した一部の格納ウェルをその開口側から見たもの（上視図）が図示されている。図３は、図２に示す格納ウェルのＡ−Ａ線断面の構成を模式的に示す断面模式図である。
【００１７】
本発明においては、格納ウェルの深さ方向が、例えば図３に示すように、深さ方向Ｆ１として定義される。深さ方向Ｆ１では、格納ウェルの開口側（基板表面２ａ側）が上側であり、格納ウェルの底側（基板表面２ａとは反対側）が下側である。また、格納ウェルの深さ方向Ｆ１に対して垂直な方向が、例えば図３に示すように、幅方向Ｆ２として定義される。幅方向Ｆ２については、説明の便宜上、図面に向かって右側が正側とし、左側が負側としている。
【００１８】
図２、３に示すように、本実施形態１に係る格納ウェル１０は、格納ウェル１０の開口部を形成する開口形成部１１と、この開口部を介して被格納物９を出し入れ可能に格納する格納部１２とを備える。本実施形態１において、開口形成部１１および格納部１２は、互いに同じガラス材（例えば石英ガラス）からなる。
【００１９】
開口形成部１１は、格納ウェル１０のうち、格納部１２よりも深さ方向Ｆ１の上側部分を構成する。詳細には、図２、３に示すように、開口形成部１１は、格納ウェル１０の開口部として、基板表面２ａに開口する開口部１１ａを形成する。また、開口形成部１１は、開口部１１ａの内壁に傾斜面１１ｂを有する。傾斜面１１ｂは、図３に示すように、基板表面２ａから格納ウェル１０の深さ方向Ｆ１の下側に傾斜する面である。本実施形態１において、傾斜面１１ｂは、開口部１１ａの内壁全周に亘って形成されている。すなわち、開口部１１ａの幅方向Ｆ２の寸法（以下、開口寸法と適宜いう）は、基板表面２ａから格納ウェル１０の深さ方向Ｆ１の下側に向かうに伴って連続的に減少する。このような開口部１１ａの形状として、例えば、逆円錐台形状または逆角錐台形状等が挙げられる。図２、３には、開口部１１ａの形状の一例として、逆円錐台形状が示されている。なお、逆円錐台形状とは、円錐台の上下を逆にした形状である。同様に、逆角錐台形状とは、角錐台の上下を逆にした形状である。
【００２０】
格納部１２は、開口部１１ａを介して基板表面２ａ上の領域と通じる有底の凹状部分である。詳細には、図２、３に示すように、格納部１２は、開口形成部１１よりも格納ウェル１０の深さ方向Ｆ１の下側に、格納部１２の内周全域に亘って側壁面１２ａを有する。側壁面１２ａは、基板表面２ａに対して垂直な方向に延在するように形成されている。側壁面１２ａの形状として、例えば、円柱側壁状の形状または角柱側壁状の形状等が挙げられる。図２、３には、側壁面１２ａの形状の一例として、円柱側壁状の形状が示されている。また、格納部１２は、側壁面１２ａの下端に連続する底部１３を有する。底部１３は、例えば図３に示すように、上述した傾斜面１１ｂに対応して、側壁面１２ａとの接続部分に傾斜を有する。
【００２１】
また、格納部１２の側壁面１２ａは、図２、３に示すように、上述した開口部１１ａの傾斜面１１ｂと連続している。詳細には、開口部１１ａの傾斜面１１ｂの下端は、格納部１２の側壁面１２ａと稜線１４を形成して連続している。本実施形態１において、傾斜面１１ｂの下端と側壁面１２ａの上端とは稜線１４で一致しており、傾斜面１１ｂの下端と側壁面１２ａの上端との間には、これらの傾斜面１１ｂおよび側壁面１２ａ以外の面（例えば基板表面２ａに平行な水平面等）は存在していない。
【００２２】
また、図３に示すように、格納部１２は、側壁面１２ａおよび底部１３によって囲まれる内部空間に、被格納物９を格納する。この内部空間を形成する格納部１２の深さＨａおよび幅Ｗａは、被格納物９を個別に格納するに適した寸法に設定される。格納部１２の深さＨａは、格納部１２の側壁面１２ａの上端から底部１３の下端までの深さ方向Ｆ１の長さである。格納部１２の幅Ｗａは、格納部１２の幅方向Ｆ２に対向する側壁面１２ａ間の長さである。例えば、格納部１２の深さＨａは、被格納物９の高さＨｂ（深さ方向Ｆ１の長さ）をもとに、Ｈｂ＜Ｈａ＜２×Ｈｂの条件を満たす値等、適切な値に設定される。格納部１２の幅Ｗａは、被格納物９の幅Ｗｂ（幅方向Ｆ２の長さ）をもとに、Ｗｂ＜Ｗａ＜２×Ｗｂの条件を満たす値等、適切な値に設定される。
【００２３】
なお、被格納物９としては、例えば、細胞や細胞以外の粒子等、微細なものが挙げられる。また、被格納物９の形状は、図３に示すような球形状に限定されず、所望の形状であってもよい。
【００２４】
上述した開口形成部１１および格納部１２によって構成される格納ウェル１０には、以下に示す手法によって被格納物９が格納される。具体的には、図１に示した格納容器１の格納ウェル群５に含まれる格納ウェル１０の配置数よりも多い数（例えば格納ウェル１０の配置数の１．５〜２．０倍以上）の被格納物９を含んだ液体を準備し、この液体が、格納ウェル群５に向けて格納容器１の基板表面２ａに流される。これにより、複数の被格納物９は、基板表面２ａから格納ウェル群５の各々に液体とともに格納される。この際、１つの格納ウェル１０について、１つの被格納物９が、図３の破線矢印に示されるように、基板表面２ａから開口部１１ａを通り、傾斜面１１ｂを下って、格納部１２の内部に液体とともに流れ込む。
【００２５】
このように格納ウェル１０に一旦格納された被格納物９は、格納部１２の側壁面１２ａによって流れ（動き）を抑止される。この結果、被格納物９は、格納ウェル１０から意図的に取り出そうとしない限り、格納ウェル１０から脱離し難くなる。たとえ、基板表面２ａ上に余分に残った被格納物９を洗浄液によって除去する洗浄工程が行われたとしても、格納ウェル１０内の被格納物９は、この洗浄液によって格納ウェル１０の外部に流されることなく、格納ウェル１０内に留まる。
【００２６】
つぎに、本発明の実施形態１に係る格納ウェル１０の製造方法について説明する。図４は、本発明の実施形態１に係る格納ウェルの製造方法の一例を示す図である。格納容器１の格納ウェル群５の各々は、この格納ウェル１０と同様の製造方法によって形成される。
【００２７】
図４に示すように、格納ウェル１０の製造方法では、まず、基板２上にレジスト１０１をパターニングする工程ＳＴ１が行われる。この工程ＳＴ１において、レジスト１０１は、フォトリソグラフィ技術により、基板２のうち格納ウェル１０が形成される部分を露出させるパターンをなすように、基板２上に成膜される。
【００２８】
工程ＳＴ１を実行後、基板２のうち格納ウェル１０の開口部１１ａの内壁となる部分に、エッチングによって傾斜面１１ｂを形成する工程ＳＴ２が行われる。この工程ＳＴ２においては、上述したレジスト１０１がマスクとなり、基板２のうちレジスト１０１で覆われていない部分がウェットエッチングされる。これにより、基板２の当該部分には、図４に示すように、内壁に傾斜面１１ｂを有する凹状部１０２が形成される。この傾斜面１１ｂは、基板２のうちレジスト１０１にマスクされた表面部分から凹状部１０２の底面に向かって下るように傾斜している。
【００２９】
工程ＳＴ２を実行後、レジスト１０１を除去する工程ＳＴ３が行われる。この工程ＳＴ３において、レジスト１０１は、所定のレジスト剥離処理により、基板２上から除去される。これにより、基板２には、内壁に傾斜面１１ｂを有する凹状部１０２が形成される。
【００３０】
工程ＳＴ３を実行後、凹状部１０２を有する基板２上にレジスト１０１をパターニングする工程ＳＴ４が行われる。この工程ＳＴ４において、レジスト１０１は、フォトリソグラフィ技術により、基板２のうち、凹状部１０２の傾斜面１１ｂを除く部分（具体的には凹状部１０２の底面）を露出させるパターンをなすように、基板２上に成膜される。
【００３１】
工程ＳＴ４を実行後、基板２のうち凹状部１０２の傾斜面１１ｂ以外の部分をエッチングする工程ＳＴ５が行われる。この工程ＳＴ５においては、上述した工程ＳＴ４によるレジスト１０１がマスクとなり、凹状部１０２のうちレジスト１０１で覆われた部分（傾斜面１１ｂ等）以外の部分がドライエッチングされる。これにより、基板２の凹状部１０２は、図４に示すように、傾斜面１１ｂを維持して更に深く形成される。
【００３２】
工程ＳＴ５を実行後、レジスト１０１を除去する工程ＳＴ６が行われ、本処理が完了する。この工程ＳＴ６において、レジスト１０１は、所定のレジスト剥離処理等により、基板２上から除去される。これにより、図４に示すように、開口部１１ａおよび傾斜面１１ｂを有する開口形成部１１と、側壁面１２ａを有する有底の格納部１２とからなる格納ウェル１０が基板２に形成される。
【００３３】
以上、説明したように、本発明の実施形態１では、基板表面２ａに複数形成された格納ウェル１０が、開口形成部１１による開口部１１ａの内壁（例えば内壁全周）に、基板表面２ａから格納ウェル１０の深さ方向Ｆ１の下側に傾斜する傾斜面１１ｂを有し、且つ、開口形成部１１よりも格納ウェル１０の深さ方向Ｆ１の下側に、開口部１１ａを介して基板表面２ａ上の領域と通じる有底の格納部１２を有するようにし、格納ウェル１０において、格納部１２の側壁面１２ａは、基板表面２ａに対して垂直な方向に延在し、傾斜面１１ｂの下端は、格納部１２の側壁面１２ａと稜線１４を形成して連続している。
【００３４】
このため、開口部１１ａの内壁の傾斜面１１ｂと格納部１２の側壁面１２ａとの間に、被格納物９を傷つける恐れのある角部や突起部が存在しないことから、基板表面２ａ上の目的とする被格納物９を、開口部１１ａから傾斜面１１ｂに沿って格納部１２の内部へ円滑に案内して、格納部１２の内部に容易に格納することができる。これに加え、格納部１２の内部に一旦格納した被格納物９の流れを、格納部１２の垂直な側壁面１２ａによって抑止することができる。この結果、格納ウェル１０からの意図せぬ被格納物９の脱離を抑制することができる。以上より、格納の際に被格納物９が傷つくことを抑制するとともに、複数の格納ウェル１０における被格納物９の格納効率を向上させることができる。
【００３５】
（実施形態２）
つぎに、本発明の実施形態２に係る格納容器について説明する。図５は、本発明の実施形態２に係る格納容器の格納ウェルの一構成例を示す図である。図５には、本実施形態２に係る格納容器の格納ウェル群から抜き出した一部の格納ウェルをその開口側から見たものが図示されている。図６は、図５に示す格納ウェルのＢ−Ｂ線断面の構成を模式的に示す断面模式図である。図５、６に示すように、本実施形態２に係る格納ウェル２０は、上述した実施形態１に係る格納ウェル１０の開口形成部１１に代えて開口形成部２１を備え、格納部１２に代えて格納部２２を備える。特に図示しないが、本実施形態２に係る格納容器は、基板２における所定の基板表面２ａの格納ウェル群５（図１参照）に含まれる格納ウェルとして、上述した実施形態１の格納ウェル１０に代えて本実施形態２の格納ウェル２０を備える。その他の構成は実施形態１と同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
【００３６】
開口形成部２１は、格納ウェル２０のうち、格納部２２よりも深さ方向Ｆ１の上側部分を構成する。詳細には、図５、６に示すように、開口形成部２１は、格納ウェル２０の開口部として、基板表面２ａに開口する開口部２１ａを形成する。また、開口形成部２１は、開口部２１ａの内壁に傾斜面２１ｂを有する。
【００３７】
傾斜面２１ｂは、図６に示すように、基板表面２ａから格納ウェル２０の深さ方向Ｆ１の下側に傾斜する面である。本実施形態２において、図５、６に示すように、傾斜面２１ｂは、開口部２１ａの開口中心軸ＣＬに対して後述の上部側壁面２１ｃとは反対側に偏って形成されている。すなわち、開口部２１ａの開口寸法は、傾斜面２１ｂの上端から下端までの範囲において、基板表面２ａから格納ウェル２０の深さ方向Ｆ１の下側に向かうに伴い連続的に減少する。このような開口部２１ａの形状として、例えば、逆円錐台形状と円柱形状とを互いに偏心するように組み合わせた形状、または、逆角錐台形状と角柱形状とを互いに偏心するように組み合わせた形状等が挙げられる。図５、６には、開口部２１ａの形状の一例として、逆円錐台形状と円柱形状とを互いに偏心するように組み合わせた形状が示されている。
【００３８】
また、開口形成部２１は、格納部２２の側壁面１２ａよりも格納ウェル２０の深さ方向Ｆ１の上側に、上部側壁面２１ｃを有する。図６に示すように、上部側壁面２１ｃは、開口部２１ａの内壁のうち開口中心軸ＣＬに対して傾斜面２１ｂとは反対側に偏った部分に、基板表面２ａに対して垂直な方向に延在するよう形成されている。本実施形態２において、上部側壁面２１ｃは、格納部２２の側壁面１２ａと同一面をなして一体的に連続している。
【００３９】
格納部２２は、開口部２１ａを介して基板表面２ａ上の領域と通じ、開口部２１ａを介して被格納物９を出し入れ可能に格納する有底の凹状部分である。詳細には、図５、６に示すように、格納部２２は、開口形成部２１よりも格納ウェル２０の深さ方向Ｆ１の下側に、上述した実施形態１と同様の側壁面１２ａを有する。また、格納部２２は、側壁面１２ａの下端に連続する底部２３を有する。底部２３は、例えば図６に示すように、開口部２１ａの開口中心軸ＣＬに対して傾斜面２１ｂとは反対側に偏って形成された傾斜を側壁面１２ａとの接続部分に有する。
【００４０】
また、格納部２２の側壁面１２ａは、図５、６に示すように、上述した開口部２１ａの傾斜面２１ｂと連続している。詳細には、開口部２１ａの傾斜面２１ｂの下端は、格納部２２の側壁面１２ａと直接的に稜線１４を形成して連続し、且つ、上部側壁面２１ｃを介して格納部２２の側壁面１２ａと間接的に稜線１４を形成して連続している。本実施形態２において、格納部２２の側壁面１２ａは上部側壁面２１ｃと同一面をなして一体的に連続しているため、これら傾斜面２１ｂの下端と側壁面１２ａの上端との間には、これらの傾斜面１１ｂ、側壁面１２ａおよび上部側壁面２１ｃ以外の面（例えば基板表面２ａに平行な水平面等）は存在していない。
【００４１】
また、図６に示すように、格納部２２は、側壁面１２ａおよび底部２３によって囲まれる内部空間に、被格納物９を格納する。この内部空間を形成する格納部２２の深さＨａおよび幅Ｗａは、上述した実施形態１と同様に、被格納物９を個別に格納するに適した寸法に設定される。
【００４２】
上述した開口形成部２１および格納部２２によって構成される格納ウェル２０には、実施形態１と同様の手法によって被格納物９が格納される。例えば、複数の被格納物９を含む液体（図示せず）が、基板表面２ａに沿って所定方向Ｆ３（図６参照）に流される。これにより、複数の被格納物９は、基板表面２ａから格納ウェル群５（図１参照）の各々に液体とともに格納される。この際、１つの格納ウェル２０について、１つの被格納物９が、図６の破線矢印に示されるように、基板表面２ａから開口部２１ａを通り、傾斜面２１ｂを下って、格納部２２の内部に液体とともに流れ込む。
【００４３】
このように格納ウェル２０に一旦格納された被格納物９は、格納部２２の側壁面１２ａおよび上部側壁面２１ｃによって流れ（動き）を抑止される。この被格納物９の流れに対する抑止効果は、側壁面１２ａのみの場合に比べ、側壁面１２ａの上側に上部側壁面２１ｃが設けられることによって向上する。この結果、被格納物９は、格納ウェル２０から意図的に取り出そうとしない限り、格納ウェル２０から一層脱離し難くなる。たとえ、基板表面２ａ上に余分に残った被格納物９を洗浄液によって除去する洗浄工程が行われたとしても、格納ウェル２０内の被格納物９は、この洗浄液（特に所定方向Ｆ３に流れる洗浄液）によって格納ウェル２０の外部に流されることなく、格納ウェル２０内に留まる。
【００４４】
つぎに、本発明の実施形態２に係る格納ウェル２０の製造方法について説明する。図７は、本発明の実施形態２に係る格納ウェルの製造方法の一例を示す図である。本実施形態２に係る格納容器の格納ウェル群５の各々は、この格納ウェル２０と同様の製造方法によって形成される。
【００４５】
図７に示すように、格納ウェル２０の製造方法では、まず、基板２上にレジスト１０１をパターニングする工程ＳＴ１１が行われる。この工程ＳＴ１１において、レジスト１０１は、フォトリソグラフィ技術により、基板２のうち格納ウェル２０が形成される部分を露出させるパターンをなすように、基板２上に成膜される。
【００４６】
工程ＳＴ１１を実行後、基板２のうち格納ウェル２０の開口部２１ａの内壁となる部分に、エッチングによって傾斜面１１３を形成する工程ＳＴ１２が行われる。この工程ＳＴ１２においては、上述したレジスト１０１がマスクとなり、基板２のうちレジスト１０１で覆われていない部分がウェットエッチングされる。これにより、基板２の当該部分には、図７に示すように、内壁に傾斜面１１３を有する凹状部１１２が形成される。この傾斜面１１３は、基板２のうちレジスト１０１にマスクされた表面部分から凹状部１１２の底面に向かって下るように傾斜している。
【００４７】
工程ＳＴ１２を実行後、レジスト１０１を除去する工程ＳＴ１３が行われる。この工程ＳＴ１３において、レジスト１０１は、所定のレジスト剥離処理により、基板２上から除去される。これにより、基板２には、内壁に傾斜面１１３を有する凹状部１１２が形成される。
【００４８】
工程ＳＴ１３を実行後、凹状部１１２を有する基板２上にレジスト１０１をパターニングする工程ＳＴ１４が行われる。この工程ＳＴ１４において、レジスト１０１は、フォトリソグラフィ技術により、基板２のうち、凹状部１１２の底面と傾斜面１１３の一方側（図７では紙面右側）の部分とを露出させ且つこれら以外の部分（傾斜面１１３の他方側の部分を含む）を覆うパターンをなすように、基板２上に成膜される。
【００４９】
工程ＳＴ１４を実行後、基板２のうち凹状部１０２等の露出部分をエッチングする工程ＳＴ１５が行われる。この工程ＳＴ１５においては、上述した工程ＳＴ１４によるレジスト１０１がマスクとなり、凹状部１１２のうちレジスト１０１で覆われた部分（図７では傾斜面１１３の紙面左側の部分等）以外の部分がドライエッチングされる。これにより、基板２の凹状部１１２は、図７に示すように、傾斜面１１３のマスクされた部分を維持して更に深く形成される。
【００５０】
工程ＳＴ１５を実行後、レジスト１０１を除去する工程ＳＴ１６が行われ、本処理が完了する。この工程ＳＴ１６において、レジスト１０１は、所定のレジスト剥離処理等により、基板２上から除去される。これにより、図７に示すように、開口部２１ａ、傾斜面２１ｂおよび上部側壁面２１ｃを有する開口形成部２１と、側壁面１２ａを有する有底の格納部２２とからなる格納ウェル２０が基板２に形成される。
【００５１】
以上、説明したように、本発明の実施形態２では、格納ウェル２０の開口形成部２１による開口部２１ａの内壁のうち、格納部２２の側壁面１２ａよりも格納ウェル２０の深さ方向Ｆ１の上側の部分に、基板表面２ａに対して垂直な方向に延在する上部側壁面２１ｃが形成されており、開口部２１ａの開口中心軸ＣＬに対して上部側壁面２１ｃとは反対側に偏った部分に、基板表面２ａから格納ウェル２０の深さ方向Ｆ１の下側に傾斜する傾斜面２１ｂが形成されており、その他は実施形態１と同様に構成している。
【００５２】
このため、上述した実施形態１の場合と同様の作用効果を享受するとともに、格納ウェル２０の内部に一旦格納された被格納物９の流れの抑止効果を上部側壁面２１ｃによって高めることができるから、格納ウェル２０への被格納物９の格納し易さ（流入し易さ）を維持しながら、格納ウェル２０からの意図せぬ被格納物９の脱離をより強く抑制して、複数の格納ウェル２０における被格納物９の格納効率をより向上させることができる。
【００５３】
（実施形態３）
つぎに、本発明の実施形態３に係る格納容器について説明する。図８は、本発明の実施形態３に係る格納容器の格納ウェルの一構成例を示す図である。図８には、本実施形態３に係る格納容器の格納ウェル群から抜き出した一部の格納ウェルをその開口側から見たものが図示されている。図９は、図８に示す格納ウェルのＣ−Ｃ線断面の構成を模式的に示す断面模式図である。図８、９に示すように、本実施形態３に係る格納ウェル３０は、上述した実施形態１に係る格納ウェル１０と同様の構成に加え、さらに、液体流出部３５を備える。特に図示しないが、本実施形態３に係る格納容器は、基板２における所定の基板表面２ａの格納ウェル群５（図１参照）に含まれる格納ウェルとして、上述した実施形態１の格納ウェル１０に代えて本実施形態３の格納ウェル３０を備える。その他の構成は実施形態１と同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
【００５４】
液体流出部３５は、格納ウェル３０の内部に溜まった液体を外部に逃がすためのものである。詳細には、図８、９に示すように、液体流出部３５は、基板表面２ａから格納部１２の底部１３に至る深さを有する断面スリット状の空間を形成し、格納ウェル３０の格納部１２から開口部１１ａの外側の部分まで延在するように、基板２（図１参照）に所望数、設けられている。例えば、本実施形態３において、液体流出部３５は、格納ウェル３０の深さ方向Ｆ１の中心軸周りに所定の間隔をあけて、複数（図８では４つ）設けられている。
【００５５】
また、液体流出部３５における格納部１２側、開口部１１ａの内壁側（すなわち傾斜面１１ｂ側）および基板表面２ａ側の各部分は、互いに連続し且つ開口した状態となっている。この液体流出部３５の各開口部分の開口寸法は、被格納物９の寸法（幅や高さ等）に比べて小さい。このような液体流出部３５は、格納ウェル３０の格納部１２と連通し、開口部１１ａから格納部１２に流入した液体を格納部１２の外部に流出させることができる。また、液体流出部３５の内部へは、被格納物９は流入し得ない。
【００５６】
上述した液体流出部３５は、例えば、図４に示した工程ＳＴ４〜ＳＴ５において、基板２のうち液体流出部３５を形成する部分等を露出させるようにレジスト１０１をパターニングし、この部分を凹状部１０２とともにエッチングすることにより、形成することができる。
【００５７】
本実施形態３に係る格納ウェル３０には、実施形態１と同様の手法によって被格納物９が格納される。例えば、複数の被格納物９を含む液体（図示せず）が、格納ウェル群５（図１参照）に向けて基板表面２ａに流される。これにより、複数の被格納物９は、基板表面２ａから格納ウェル群５の各々に液体とともに格納される。この際、１つの格納ウェル３０について、１つの被格納物９が、図９の破線矢印に示されるように、基板表面２ａから開口部１１ａを通り、傾斜面１１ｂを下って、格納部１２の内部に液体とともに流れ込む。
【００５８】
このように格納ウェル３０に一旦格納された被格納物９は、上述した実施形態１の場合と同様に、格納部１２の側壁面１２ａによって流れ（動き）を抑止されることから、格納ウェル３０から意図的に取り出そうとしない限り、格納ウェル３０から脱離し難くなる。たとえ、基板表面２ａ上に余分に残った被格納物９を洗浄液によって除去する洗浄工程が行われたとしても、格納ウェル３０内の被格納物９は、この洗浄液によって格納ウェル３０の外部に流されることなく、格納ウェル３０内に留まる。
【００５９】
一方、格納ウェル３０への被格納物９の格納に際して、格納ウェル３０の内部（特に格納部１２の内部）には、被格納物９を流し込むための液体が、被格納物９よりも先に流入して充満した状態となっている場合がある。仮に、上述した液体流出部３５を備えていない格納ウェルに被格納物９を格納する場合、既に液体によって充満された格納ウェルの内部へ被格納物９を流入させるためには、格納ウェルの側壁面と被格納物９の外表面との間の隙間から当該液体を外部に流出させる必要がある。この場合、上記隙間は極めて微小（例えばミクロンオーダの寸法）であることから、当該液体を外部に流出させながら被格納物９を格納ウェルの内部へ流入させることは、困難となる可能性がある。
【００６０】
これに対し、上述した液体流出部３５を備えている格納ウェル３０では、開口部１１ａから格納部１２の内部に向かって被格納物９が流れ込むとともに、この格納部１２内を充満していた液体は、図８、９中の二点鎖線矢印に示されるように、格納部１２内から液体流出部３５内を通って格納ウェル３０の外部の基板表面２ａに流出する。これにより、格納部１２内への被格納物９の流入（格納）は、格納部１２内の液体によって阻害され難くなる。
【００６１】
以上、説明したように、本発明の実施形態３では、格納ウェル３０の格納部１２と連通する液体流出部３５を設け、格納部１２に流入した液体を液体流出部３５から格納部１２の外部に流出させるようにし、その他を実施形態１と同様に構成している。このため、上述した実施形態１の場合と同様の作用効果を享受するとともに、格納部１２の内部に溜まっている液体を液体流出部３５から外部へ流出させながら、開口部１１ａから格納部１２の内部へ被格納物９を流入させることができる。この結果、格納部１２内への被格納物９の流入が当該液体によって阻害され難くなることから、たとえ格納部１２が液体で充満された状態であっても、格納部１２内に被格納物９を容易に格納することができる。
【００６２】
（実施形態３の変形例１）
つぎに、本発明の実施形態３に係る格納ウェルの変形例１について説明する。図１０は、本発明の実施形態３の変形例１に係る格納ウェルの一構成例を示す図である。図１０には、本変形例１に係る格納ウェル３０Ａをその開口側から見たものが図示されている。
【００６３】
上述した液体流出部３５は、図８、９に示した断面スリット状の空間を形成するものに限定されず、その他の形状のものであってもよい。例えば、図１０に示すように、本変形例１に係る格納ウェル３０Ａは、円柱状の空間を形成する液体流出部３５を備えている。本変形例１における液体流出部３５は、側壁面１２ａの一部分において格納部１２の深さ方向全域に亘り開口し、この開口を通じて格納部１２と連通している。また、液体流出部３５の上端は、開口形成部１１における傾斜面１１ｂから開口部１１ａの外部に至る範囲に亘り開口し、この開口から格納ウェル３０Ａの外部に通じている。このような液体流出部３５は、格納部１２との開口寸法を上述の断面スリット状のものと同程度にしながら、格納部１２と連通させる内部空間の容積を上述の断面スリット状のもの単独の容積よりも大きくすることができる。
【００６４】
本変形例１に係る格納ウェル３０Ａにおいても、格納部１２に流入した液体を液体流出部３５から格納部１２の外部に流出させることができるため、上述した実施形態３の場合と同様の作用効果を享受する。
【００６５】
（実施形態３の変形例２）
つぎに、本発明の実施形態３に係る格納ウェルの変形例２について説明する。図１１は、本発明の実施形態３の変形例２に係る格納ウェルの一構成例を示す図である。図１１には、本変形例２に係る格納ウェル３０Ｂをその開口側から見たものが図示されている。
【００６６】
上述した液体流出部３５の配置数は、図８に示した４つに限定されず、また、複数の液体流出部３５の各外側端は、互いに連通していてもよい。例えば、図１１に示すように、本変形例２に係る格納ウェル３０Ｂは、実施形態３と同様の構成を有する複数（図１１では８つ）の液体流出部３５と、これら複数の液体流出部３５の各外側端を互いに連通する環状溝部３６とを備えている。環状溝部３６は、開口形成部１１および格納部１２を囲む環状をなす有底の溝部であり、基板表面２ａ（図８参照）側に開口し、この開口から格納ウェル３０Ｂの外部に通じている。また、環状溝部３６は、複数の液体流出部３５の各外側端に対応する各部分に開口を有し、これらの開口を介して複数の液体流出部３５と連通している。このような環状溝部３６は、複数の液体流出部３５の全体の容積を、各液体流出部３５の大きさや形状を維持しながら増大させることができる。
【００６７】
本変形例２に係る格納ウェル３０Ｂにおいても、格納部１２に流入した液体を複数の液体流出部３５および環状溝部３６から格納部１２の外部に流出させることができるため、上述した実施形態３の場合と同様の作用効果を享受する。
【００６８】
（実施形態４）
つぎに、本発明の実施形態４に係る格納容器について説明する。図１２は、本発明の実施形態４に係る格納容器の格納ウェルの一構成例を示す図である。図１２には、本実施形態４に係る格納容器の格納ウェル群から抜き出した一部の格納ウェルの側断面が図示されている。図１２に示すように、本実施形態４に係る格納ウェル４０は、上述した実施形態１に係る格納ウェル１０の開口形成部１１に代えて開口形成部４１を備える。特に図示しないが、本実施形態４に係る格納容器は、基板２における所定の基板表面２ａの格納ウェル群５（図１参照）に含まれる格納ウェルとして、上述した実施形態１の格納ウェル１０に代えて本実施形態４の格納ウェル４０を備える。その他の構成は実施形態１と同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
【００６９】
開口形成部４１は、格納部１２とは異なるガラス材によって構成されている。例えば、格納部１２は、純石英ガラスからなる。本発明において、純石英ガラスは、意図せず含まれる不純物の濃度が０．１ｍｏｌ％以下である石英ガラスをいう。なお、石英ガラスに意図的に不純物が添加される場合、純石英ガラスにおいて、この意図的に添加される不純物の濃度は、１．０ｍｏｌ％以上２５ｍｏｌ％以下である。一方、開口形成部４１は、所定の添加材料が添加された石英ガラス、例えば、ジルコニア（ＺｒＯ２）が添加された石英ガラス（以下、ジルコニア添加ガラスと適宜いう）からなる。開口形成部４１を構成するジルコニア添加ガラス中のジルコニアの添加率（含有率）は、対象とする石英ガラス全体の質量または体積に対して数ｍｏｌ％以下である。開口形成部４１は、上記のように格納部１２と材質が異なること以外、上述した実施形態１における開口形成部１１と同様であり、図１２に示すように、基板表面２ａに開口する開口部１１ａを形成し且つ開口部１１ａの内壁に傾斜面１１ｂを有する。なお、開口形成部４１を構成する石英ガラスの添加材料としては、上記のジルコニアの他に、例えば、ハフニア（ＨｆＯ２）やアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）等が挙げられるが、ジルコニアが特に好ましい。
【００７０】
このように互いに材質が異なる格納部１２および開口形成部４１を備えた格納ウェル４０が格納ウェル群５の１つとして複数形成されている基板２（図１参照）は、本実施形態４において、石英ガラス等のガラス材からなるガラス基板の上にジルコニア添加ガラスからなるガラス膜（ジルコニア添加ガラス膜）が成膜された積層基板である。すなわち、本実施形態４において、図１２に示す基板表面２ａは、開口形成部４１が設けられているジルコニア添加ガラス膜の表面となる。
【００７１】
つぎに、本発明の実施形態４に係る格納ウェル４０の製造方法について説明する。図１３は、本発明の実施形態４に係る格納ウェルの製造方法の一例を示す図である。本実施形態４に係る格納容器の格納ウェル群５の各々は、この格納ウェル４０と同様の製造方法によって形成される。なお、以下では、開口形成部４１を構成する石英ガラスとしてジルコニア添加ガラスを例示し、本実施形態４に係る格納ウェルの製造方法を説明するが、本製造方法は、当該石英ガラスの添加材料がジルコニア以外（例えばハフニアやアルミナ等）である場合も同様である。
【００７２】
図１３に示すように、格納ウェル４０の製造方法では、まず、純石英ガラスからなるガラス基板１２１上に形成されたジルコニア添加ガラス膜１２２の表面に、レジスト１０１をパターニングする工程ＳＴ２１が行われる。この工程ＳＴ２１において、レジスト１０１は、フォトリソグラフィ技術により、ジルコニア添加ガラス膜１２２のうち格納ウェル４０が形成される部分を露出させるパターンをなすように、ジルコニア添加ガラス膜１２２上に成膜される。
【００７３】
工程ＳＴ２１を実行後、レジスト１０１のパターン状にジルコニア添加ガラス膜１２２をエッチングする工程ＳＴ２２が行われる。この工程ＳＴ２２においては、工程ＳＴ２１によるレジスト１０１がマスクとなり、ジルコニア添加ガラス膜１２２のうちレジスト１０１で覆われていない部分がドライエッチングされる。これにより、ジルコニア添加ガラス膜１２２の当該部分には、図１３に示すように、内壁に傾斜面１１ｂを有する凹状部１０２が形成される。この傾斜面１１ｂは、ジルコニア添加ガラス膜１２２のうちレジスト１０１にマスクされた表面部分から凹状部１０２の底面に向かって下るように傾斜している。また、この工程ＳＴ２２の段階において、凹状部１０２は、ジルコニア添加ガラス膜１２２のドライエッチングによって露出したガラス基板１２１の露出面を底面としている。
【００７４】
ここで、ジルコニア添加ガラス膜１２２のうちレジスト１０１によるパターン状の露出部分に対してドライエッチングが行われた場合、この露出部分のエッチング速度は、この露出部分の中央側からマスク側（レジスト１０１による被覆側）に近づくに伴い遅くなる傾向にある。すなわち、ジルコニア添加ガラス膜１２２は、ドライエッチングの際にマスク側から中央側に向かって下る傾斜面を形成し易いという特徴を有している。このため、ジルコニア添加ガラス膜１２２の露出部分においては、ドライエッチングにより、中央側の部分のエッチング深さが増大するとともに、マスク側の部分には上述した態様の傾斜面１１ｂ（図１３参照）が形成される。
【００７５】
工程ＳＴ２２に続いて、上述した凹状部１０２をエッチングする工程ＳＴ２３が行われる。この工程ＳＴ２３においては、上述したレジスト１０１が引き続きマスクとなり、ガラス基板１２１およびジルコニア添加ガラス膜１２２のうち、レジスト１０１からパターン状に露出した部分、すなわち、工程ＳＴ２２による凹状部１０２が、さらにドライエッチングされる。これにより、凹状部１０２は、図１３に示すように、ジルコニア添加ガラス膜１２２の部分に傾斜面１１ｂを残しながら、ガラス基板１２１のエッチング深さが増大して更に深く形成される。
【００７６】
本実施形態４において、上述した工程ＳＴ２２および工程ＳＴ２３は、双方とも同じパターンのレジスト１０１をマスクとして用いたドライエッチングであるため、１度のドライエッチングによって連続的に行われる。
【００７７】
工程ＳＴ２３を実行後、レジスト１０１を除去する工程ＳＴ２４が行われ、本処理が完了する。この工程ＳＴ２４において、レジスト１０１は、所定のレジスト剥離処理等により、ジルコニア添加ガラス膜１２２上から除去される。これにより、図１３に示すように、ジルコニア添加ガラス膜１２２の部分に開口部１１ａおよび傾斜面１１ｂを有する開口形成部４１と、ガラス基板１２１の部分に側壁面１２ａを有する有底の格納部１２とからなる格納ウェル４０が基板（ガラス基板１２１とジルコニア添加ガラス膜１２２との積層基板）に形成される。
【００７８】
以上、説明したように、本発明の実施形態４では、基板表面２ａに開口する開口部１１ａと基板表面２ａから深さ方向Ｆ１の下側に傾斜する傾斜面１１ｂとを有する開口形成部４１を、ジルコニア等の添加材料が添加された石英ガラスによって構成するようにし、その他を実施形態１と同様に構成している。
【００７９】
このため、上述した実施形態１の場合と同様の作用効果を享受するとともに、格納ウェル４０の開口部１１ａ、傾斜面１１ｂおよび格納部１２を１度のドライエッチングによって連続的に形成できるので、格納ウェル４０の製造工程から、開口部および傾斜面を形成するためのウェットエッチング工程と、このウェットエッチングを行うためのレジストの成膜工程および除去工程とを省くことができ、この結果、格納ウェル４０の製造に掛かる手間を軽減して容易に格納ウェル４０を形成することができる。
【００８０】
なお、上述した実施形態１〜４では、上面視の形状（開口側から見た形状）が円形状の開口部および格納部を備えた格納ウェルを例示したが、本発明は、これに限定されるものではない。本発明において、格納ウェルの開口部および格納部の上面視の形状は、円形状、楕円形状、多角形状等、被格納物の形状や用途等に合わせて所望の形状としてもよい。また、これら開口部および格納部の各上面視の形状は、互いに同じ形状であってもよいし、互いに異なる形状であってもよい。
【００８１】
また、上述した実施形態２では、開口部２１ａ、傾斜面２１ｂおよび上部側壁面２１ｃを有する開口形成部２１の材質を、格納部２２と同じ材質（例えば石英ガラス）としていたが、本発明は、これに限定されるものではない。本発明において、開口形成部２１の材質は、上述した実施形態４と同様に、ジルコニア等の添加材料が添加された石英ガラスとし、格納部２２の材質とは相異させてもよい。
【００８２】
また、上述した実施形態３および変形例１、２では、開口部の内壁全周に亘って傾斜面が形成されている格納ウェルの格納部と連通する液体流出部が例示されていたが、本発明は、これに限定されるものではない。本発明において、液体流出部は、開口部の内壁に傾斜面および上部側壁面が形成されている格納ウェルの格納部と連通するものであってもよいし、ジルコニアが添加された石英ガラスからなる開口形成部を備えた格納ウェルの格納部と連通するものであってもよい。すなわち、本発明に係る格納ウェルは、実施形態１と実施形態３および変形例１、２とを適宜組み合わせたものであってもよいし、実施形態２と実施形態３および変形例１、２とを適宜組み合わせたものであってもよいし、実施形態４と実施形態３および変形例１、２とを適宜組み合わせたものであってもよい。
【００８３】
なお、上記実施形態により本発明が限定されるものではない。上述した各構成要素を適宜組み合わせて構成したものも本発明に含まれる。また、さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。よって、本発明のより広範な態様は、上記の実施形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【符号の説明】
【００８４】
１  格納容器
２  基板
２ａ  基板表面
５  格納ウェル群
９  被格納物
１０、２０、３０、３０Ａ、３０Ｂ、４０  格納ウェル
１１、２１、４１  開口形成部
１１ａ、２１ａ  開口部
１１ｂ、２１ｂ  傾斜面
１２、２２  格納部
１２ａ  側壁面
１３、２３  底部
１４  稜線
２１ｃ  上部側壁面
３５  液体流出部
３６  環状溝部
１０１  レジスト
１０２、１１２  凹状部
１１３  傾斜面
１２１  ガラス基板
１２２  ジルコニア添加ガラス膜
ＣＬ  開口中心軸
Ｆ１  深さ方向
Ｆ２  幅方向
Ｆ３  所定方向
【図１】
2020129981.tif 000003
【図２】
2020129981.tif 000004
【図３】
2020129981.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2020129981.tif 000009
【図８】
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【図９】
2020129981.tif 000011
【図１０】
2020129981.tif 000012
【図１１】
2020129981.tif 000013
【図１２】
2020129981.tif 000014
【図１３】
2020129981.tif 000015