(57)【要約】【課題】  水分による電子デバイスの劣化を防止できるガスバリア積層体、および、このガスバリア積層体を用いる電子デバイスの提供を課題とする。【解決手段】  支持体と、支持体に交互に積層される無機層および有機層と、を有し、１層以上の無機層および１層以上の有機層を有し、かつ、交互に積層される無機層および有機層のうち、最も支持体と離間するのが有機層であり、支持体と最も離間する有機層は、支持体と最も離間する無機層よりも、面積が小さいガスバリア積層体により、課題を解決する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、前記支持体の一方の面側に交互に積層される無機層および有機層と、を有し、
１層以上の前記無機層および１層以上の前記有機層を有し、かつ、交互に積層される前記無機層および前記有機層のうち、最も前記支持体と離間するのが前記有機層であり、
前記支持体と最も離間する前記有機層は、前記支持体と最も離間する前記無機層よりも、面積が小さいことを特徴とするガスバリア積層体。
【請求項２】
前記支持体の主面と直交する方向から見た際に、前記支持体と最も離間する前記有機層が、前記支持体と最も離間する前記無機層に内包される、請求項１に記載のガスバリア積層体。
【請求項３】
前記無機層と、前記無機層の下地となる前記有機層との組み合わせを、１組以上有する、請求項１または２に記載のガスバリア積層体。
【請求項４】
前記無機層を２層以上有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載のガスバリア積層体。
【請求項５】
前記支持体が樹脂フィルムである、請求項１〜４のいずれか１項に記載のガスバリア積層体。
【請求項６】
少なくとも一部において、前記支持体と最も離間する前記有機層の端面と、前記支持体と最も離間する前記無機層の端面との距離が、１〜１０ｍｍである、請求項１〜５のいずれか１項に記載のガスバリア積層体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のガスバリア積層体と、
前記ガスバリア積層体の前記支持体と最も離間する前記有機層の上に形成される電子素子と、
前記電子素子を封止する封止基材と、
前記封止基材および前記ガスバリア積層体を接着する封止層と、を有することを特徴とする電子デバイス。
【請求項８】
前記封止層の高さが１〜５００μｍである、請求項７に記載の電子デバイス。
【請求項９】
前記封止基材が、請求項１〜６のいずれか１項に記載のガスバリア積層体である、請求項７または８に記載の電子デバイス。
【請求項１０】
有機エレクトロルミネッセンスデバイス、または、太陽電池デバイスである、請求項７〜９のいずれか１項に記載の電子デバイス。
【請求項１１】
有機エレクトロルミネッセンス照明装置である、請求項１０に記載の電子デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスバリア積層体、および、このガスバリア積層体を用いる電子デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス材料（有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料）を用いる有機ＥＬデバイス、および、太陽電池デバイス等の電子デバイスが、各種の用途に利用されている。
【０００３】
有機ＥＬデバイス等の電子デバイスは、基材として、ガラス板および金属板等を用いている。しかしながら、近年では、電子デバイスにも、可撓性（フレキシブル性）が要求されている。
一方で、電子デバイスは、一般的に、水分に弱い。特に、有機ＥＬデバイスおよび太陽電池デバイス、中でも特に有機ＥＬデバイスは、非常に水分に弱い。
そのため、可撓性を要求される電子デバイスでは、ガスバリアフィルムを利用してモジュール化することが行われている。
【０００４】
例えば、特許文献１には、基板、有機電界発光素子、および、ガスバリアフィルムを、この順で有し、基板とガスバリアフィルムとを封止層で接着することによって、有機電界発光素子が封止された有機電界発光装置が記載されている。
この有機電界発光装置に記載されるガスバリアフィルムは、支持体（基材フィルム）と、少なくとも１層の無機層を含むバリア層とを有し、バリア層が支持体に対して有機電界発光素子側に位置し、さらに、封止層とバリア層との間にバリア保護層を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１５−１７９６０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載される有機電界発光装置のように、ガスバリアフィルムを用いてモジュール化することにより、水分による有機ＥＬ素子等の劣化を防止できる。
しかしながら、ガスバリアフィルムを用いてモジュール化した電子デバイスであっても、電子デバイスの構成、使用環境、および、ガスバリアフィルムの構成等によっては、水分による有機ＥＬ素子等の劣化を、十分に防止できない場合も多い。
【０００７】
本発明の目的は、このような問題点を解決することにあり、電子デバイスに用いることにより、水分による電子デバイスの劣化を好適に防止できるガスバリア積層体、および、このガスバリア積層体を用いる電子デバイスを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下の構成によって課題を解決する。
［１］  支持体と、支持体の一方の面側に交互に積層される無機層および有機層と、を有し、
１層以上の無機層および１層以上の有機層を有し、かつ、交互に積層される無機層および有機層のうち、最も支持体と離間するのが有機層であり、
支持体と最も離間する有機層は、支持体と最も離間する無機層よりも、面積が小さいことを特徴とするガスバリア積層体。
［２］  支持体の主面と直交する方向から見た際に、支持体と最も離間する有機層が、支持体と最も離間する無機層に内包される、［１］に記載のガスバリア積層体。
［３］  無機層と、無機層の下地となる有機層との組み合わせを、１組以上有する、［１］または［２］に記載のガスバリア積層体。
［４］  無機層を２層以上有する、［１］〜［３］のいずれかに記載のガスバリア積層体。
［５］  支持体が樹脂フィルムである、［１］〜［４］のいずれかに記載のガスバリア積層体。
［６］  少なくとも一部において、支持体と最も離間する有機層の端面と、支持体と最も離間する無機層の端面との距離が、１〜１０ｍｍである、［１］〜［５］のいずれかに記載のガスバリア積層体。
［７］  ［１］〜［６］のいずれかに記載のガスバリア積層体と、
ガスバリア積層体の支持体と最も離間する有機層の上に形成される電子素子と、
電子素子を封止する封止基材と、
封止基材およびガスバリア積層体を接着する封止層と、を有することを特徴とする電子デバイス。
［８］  封止層の高さが１〜５００μｍである、［７］に記載の電子デバイス。
［９］  封止基材が、［１］〜［６］のいずれかに記載のガスバリア積層体である、［７］または［８］に記載の電子デバイス。
［１０］  有機エレクトロルミネッセンスデバイス、または、太陽電池デバイスである、［７］〜［９］のいずれかに記載の電子デバイス。
［１１］  有機エレクトロルミネッセンス照明装置である、［１０］に記載の電子デバイス。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、電子デバイスに用いることにより、水分による電子デバイスの劣化を好適に防止できるガスバリア積層体、および、水分による劣化を防止できる電子デバイスを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のガスバリア積層体の一例を概念的に示す図である。
【図２】図１に示すガスバリア積層体を概念的に示す平面図である。
【図３】本発明の電子デバイスの一例を概念的に示す図である。
【図４】本発明のガスバリア積層体の別の例の平面図である。
【図５】本発明の電子デバイスの別の例を概念的に示す図である。
【図６】従来の電子デバイスの一例を概念的に示す図である。
【図７】従来のガスバリア積層体を概念的に示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明のガスバリア積層体および電子デバイスの実施形態について、図面に基づいて説明する。
【００１２】
（ガスバリア積層体）
図１および図２に、本発明のガスバリア積層体の一例を概念的に示す。
図１は、本発明のガスバリア積層体（ガスバリアフィルム）を主面の面方向から見た概念図である。図２は、本発明のガスバリア積層体の平面図である。平面図とは、本発明のガスバリア積層体を、支持体１２の主面と直交する方向から見た図である。
主面とは、シート状物（フィルム、板状物）の最大面である。また、本発明において、特に断りがない場合には、面積とは、主面の面積である。
【００１３】
図１に示すガスバリア積層体１０は、支持体１２と、支持体１２の一方の表面（主面）に形成される１層目の有機層１４と、１層目の有機層１４の表面に形成される１層目の無機層１６と、１層目の無機層１６の表面に形成される２層目の有機層１４と、２層目の有機層１４の表面に形成される２層目の無機層１６と、２層目の無機層１６の表面に形成される、支持体１２と最も離間する有機層である保護有機層１８と、を有する。
本発明のガスバリア積層体は、無機層と有機層とを交互に有し、また、交互に積層される有機層と無機層とにおいて、支持体から最も離間するのは有機層である。図示例においては、交互に積層される有機層と無機層とにおいて、支持体１２と最も離間する有機層は、保護有機層１８である。
また、支持体から最も離間する有機層は、無機層の中で最も支持体と離間する無機層よりも、面積が小さい。図示例においては、支持体１２と最も離間する有機層である保護有機層１８は、支持体１２と最も離間する２層目の無機層１６すなわち保護有機層１８の形成面（下層）となる２層目の無機層１６よりも、面積が小さい。
なお、本発明のガスバリア積層体では、は支持体１２側を『下』、保護有機層１８側を『上』とも言う。
【００１４】
図示例のガスバリア積層体１０は、好ましい態様として、ガスバリア性を発現する無機層１６と、この無機層１６の下地となる有機層１４との組み合わせを、１組以上、有する、有機無機積層型のガスバリア積層体である。
なお、図示例のガスバリア積層体１０は、無機層１６と下地となる有機層１４との組み合わせを２組有し、その上に保護有機層１８を有するものであるが、本発明は、これに限定はされない。
【００１５】
すなわち、本発明のガスバリア積層体は、無機層１６と下地となる有機層１４との組み合わせを１組有し、その上に保護有機層１８を有する、支持体１２・有機層１４・無機層１６・保護有機層１８の層構成を有するものでもよい。
あるいは、本発明のガスバリア積層体は、無機層１６と下地となる有機層１４との組み合わせを３組有し、その上に保護有機層１８を有する、支持体１２・有機層１４・無機層１６・有機層１４・無機層１６・有機層１４・無機層１６・保護有機層１８の層構成を有するものでもよい。さらに、本発明のガスバリア積層体は、無機層１６と下地となる有機層１４との組み合わせを４組以上有し、その上に保護有機層１８を有するものでもよい。
下地となる有機層１４と無機層１６との組み合わせの数が多いほど、高いガスバリア性を得ることができ、下地となる有機層１４と無機層１６との組み合わせの数が２組以上であるのがより好ましい。
【００１６】
また、本発明のガスバリア積層体は、支持体１２と、最も支持体１２に近接する１層目の無機層１６との間に、有機層１４を有さなくてもよい。図示例であれば、１層目の無機層１６の下層に、下地となる１層目の有機層１４を有さなくてもよい。
すなわち、例えば、本発明のガスバリア積層体は、支持体１２・無機層１６・保護有機層１８の層構成を有するものでもよく、あるいは、支持体１２・無機層１６・有機層１４・無機層１６・保護有機層１８の層構成を有するものでもよい。
【００１７】
すなわち、本発明のガスバリア積層体は、支持体の少なくとも一方の面側に、無機層と有機層とを交互に有し、かつ、交互に形成される無機層と有機層とのうち、最も支持体と離間するのが有機層であれば、各種の層構成が利用可能である。
【００１８】
以下、本発明のガスバリア積層体１０について、各構成要素の詳細について説明する。
＜支持体＞
支持体１２は、各種のガスバリアフィルムおよび各種の積層型の機能性フィルム等において支持体として利用される、公知の樹脂製のシート状物（フィルム、板状物）を用いることができる。
【００１９】
支持体１２の材料には、制限はなく、有機層１４、無機層１６および保護有機層１８を形成可能であれば、各種の樹脂材料が利用できる。
支持体１２の材料としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリアクリトニトリル（ＰＡＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、透明ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体（ＡＢＳ）、環状オレフィン・コポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、および、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が挙げられる。
【００２０】
支持体１２の厚さは、用途および材料等に応じて、適宜、設定できる。
支持体１２の厚さは、ガスバリア積層体１０の機械的強度を十分に確保する観点と、ガスバリア積層体１０の可撓性（フレキシブル性）を確保し、かつ、軽量化および薄手化する観点とから、５〜１５０μｍが好ましく、１０〜１００μｍがより好ましい。
【００２１】
支持体１２は、その表面に、機能層を有していてもよい。機能層としては、例えば、保護層、封止層、光反射層、反射防止層、遮光層、平坦化層、緩衝層、および、応力緩和層が挙げられる。
【００２２】
＜有機層および保護有機層＞
有機層１４および保護有機層１８は、例えば、モノマー、ダイマーおよびオリゴマー等を重合（架橋、硬化）した有機化合物からなる層である。
【００２３】
無機層１６の下層となる有機層１４は、無機層１６を適正に形成するための下地となる有機層１４である。例えば、支持体１２の表面に形成される１層目の有機層１４は、支持体１２の表面の凹凸および表面に付着する異物等を包埋して、１層目の無機層１６の形成面を適正にして、適正に１層目の無機層１６を形成することを可能にする。２層目の無機層１６の下層となる２層目の有機層も、同様の作用を発現する。このような下地となる有機層１４を有することによって、主にガスバリア性を発現する無機層１６を、適正に形成することが可能になる。
【００２４】
また、交互に形成される有機層と無機層とにおいて、支持体１２と最も離間する有機層である保護有機層１８は、主に支持体１２と最も離間する２層目の無機層１６を保護するための有機層である。すなわち、保護有機層１８は、下層の無機層１６を保護するための有機層である。本発明のガスバリア積層体１０は、このような保護有機層１８を有することにより、無機層１６の損傷を防止して、目的とするガスバリア性を維持できる。
なお、本発明のガスバリア積層体１０において、保護有機層１８は、交互に形成される有機層と無機層とのうち、支持体１２と最も離間する無機層１６、すなわち、自身の形成面となる下層の２層目の無機層１６よりも、面積が小さい。この点に関しては、後に詳述する。
【００２５】
なお、本発明のガスバリア積層体１０において、無機層１６の下地となる有機層１４と、保護有機層１８とは、基本的に同様のものである。従って、特に区別する必要がない場合を除いて、以下の説明は有機層１４を代表例として行う。
【００２６】
有機層１４は、例えば、有機化合物（モノマー、ダイマー、トリマー、オリゴマー、および、ポリマー等）を含有する、有機層形成用組成物を硬化して形成される。有機層形成用組成物は、有機化合物を１種のみ含んでもよく、２種以上含んでもよい。
有機層１４は、例えば、熱可塑性樹脂および有機ケイ素化合物等を含有する。熱可塑性樹脂は、例えば、ポリエステル、（メタ）アクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、および、アクリル化合物等が挙げられる。有機ケイ素化合物は、例えば、ポリシロキサンが挙げられる。
【００２７】
有機層１４は、強度が優れる観点と、ガラス転移温度の観点とから、好ましくは、ラジカル硬化性化合物および／またはエーテル基を有するカチオン硬化性化合物の重合物を含む。
有機層１４は、有機層１４の屈折率を低くする観点から、好ましくは、（メタ）アクリレートのモノマー、オリゴマー等の重合体を主成分とする（メタ）アクリル樹脂を含む。有機層１４は、屈折率を低くすることにより、透明性が高くなり、光透過性が向上する。
【００２８】
有機層１４は、より好ましくは、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）などの、２官能以上の（メタ）アクリレートのモノマー、ダイマーおよびオリゴマー等の重合体を主成分とする（メタ）アクリル樹脂を含み、さらに好ましくは、３官能以上の（メタ）アクリレートのモノマー、ダイマーおよびオリゴマー等の重合体を主成分とする（メタ）アクリル樹脂を含む。また、これらの（メタ）アクリル樹脂を、複数用いてもよい。主成分とは、含有する成分のうち、最も含有質量比が大きい成分をいう。
【００２９】
有機層形成用組成物は、有機化合物に加え、好ましくは、有機溶剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤などを含む。
【００３０】
有機層１４が複数設けられる場合、すなわち、有機層１４と無機層１６との組み合わせを複数組有する場合には、各有機層１４の材料は、同じでも異なってもよい。
有機層１４および保護有機層１８も、材料は、同じでも異なってもよい。
【００３１】
有機層１４の厚さには、制限はなく、有機層形成用組成物に含まれる成分および用いられる支持体１２等に応じて、適宜、設定できる。
有機層１４の厚さは、０．５〜５μｍが好ましく、１〜３μｍがより好ましい。有機層１４の厚さを０．５μｍ以上とすることにより、支持体１２の表面の凹凸および表面に付着した異物等を包埋して、有機層１４の表面を平坦化できる等の点で好ましい。有機層１４の厚さを５μｍ以下とすることにより、有機層１４のクラックを防止できる、ガスバリア積層体１０の可撓性を高くできる、ガスバリア積層体１０の薄手化および軽量化を図れる等の点で好ましい。
【００３２】
有機層１４が複数設けられる場合、すなわち、有機層１４と無機層１６との組み合わせを複数組有する場合には、各有機層１４の厚さは、同じでも異なってもよい。
有機層１４および保護有機層１８も、厚さは、同じでも異なってもよい。
【００３３】
有機層１４は、材料に応じた公知の方法で形成できる。
例えば、有機層１４は、前述の有機層形成用組成物を塗布して、有機層形成用組成物を乾燥させる、塗布法で形成できる。塗布法による有機層１４の形成では、必要に応じて、さらに、乾燥した有機層形成用組成物に、紫外線を照射することにより、有機層形成用組成物中の有機化合物を重合（架橋）させる。
【００３４】
有機層１４は、いわゆるロール・トゥ・ロールによって形成できる。以下、「ロール・トゥ・ロール」を「ＲｔｏＲ」ともいう。
ＲｔｏＲとは、長尺なシート状物を巻回してなるロールから、シート状物を送り出し、成膜対象シートを長手方向に搬送しつつ成膜を行い、成膜済のシート状物をロール状に巻回する製造方法である。ＲｔｏＲを利用することで、高い生産性と生産効率が得られる。
【００３５】
＜無機層＞
無機層１６は、無機化合物を含む薄膜であり、有機層１４の表面に設けられる。ガスバリア積層体１０では、無機層１６が、主にガスバリア性を発現する。
無機層１６は、有機層１４の表面に設けられることにより、適正に成膜される。例えば、支持体１２の表面には、凹凸および異物の影のような、無機化合物が着膜し難い領域がある。支持体１２上に有機層１４を設けることにより、無機化合物が着膜し難い領域が覆われる。そのため、支持体１２の表面全面に、無機層１６を隙間無く形成することが可能になる。この点に関しては、２層目以降の無機層１６も同様である。
【００３６】
無機層１６の材料には、制限はなく、ガスバリア性を発現する無機化合物からなる、公知のガスバリア層に用いられる無機化合物が、各種、利用可能である。
無機層１６の材料としては、例えば、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの金属酸化物；  窒化アルミニウムなどの金属窒化物；  炭化アルミニウムなどの金属炭化物；  酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸化窒化炭化ケイ素などのケイ素酸化物；  窒化ケイ素、窒化炭化ケイ素などのケイ素窒化物；  炭化ケイ素等のケイ素炭化物；  これらの水素化物；  これら２種以上の混合物；  および、これらの水素含有物等、の無機化合物が挙げられる。また、これらの２種以上の混合物も、利用可能である。
特に、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化アルミニウム、および、これらの２種以上の混合物は、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、好適に利用される。中でも特に、優れたガスバリア性を発現できる点で、窒化ケイ素は、好適に利用される。
【００３７】
無機層１６の厚さには、制限はなく、材料に応じて、目的とするガスバリア性を発現できる厚さを、適宜、設定できる。
無機層１６の厚さは、１０〜１５０ｎｍが好ましく、１２〜１００ｎｍがより好ましく、１５〜７５ｎｍがさらに好ましい。
無機層１６の厚さを１０ｎｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現する無機層１６が形成できる点で好ましい。また、無機層１６は、一般的に脆く、厚過ぎると、割れ、ヒビ、および、剥がれ等を生じる可能性が有るが、無機層１６の厚さを１５０ｎｍ以下とすることにより、割れが発生することを防止できる。
【００３８】
図示例のガスバリア積層体１０のように、無機層１６が複数設けられる場合には、各無機層１６の厚さは、同じでも異なってもよい。
【００３９】
無機層１６は、材料に応じた公知の方法で形成できる。
例えば、ＣＣＰ（Capacitively Coupled Plasma）−ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）およびＩＣＰ（Inductively Coupled Plasm）−ＣＶＤ等のプラズマＣＶＤ、原子層堆積法（ＡＬＤ（Atomic Layer Deposition））、マグネトロンスパッタリングおよび反応性スパッタリング等のスパッタリング、ならびに、真空蒸着などの各種の気相成膜法が好適に挙げられる。
なお、無機層１６も、ＲｔｏＲで形成するのが好ましい。
【００４０】
（電子デバイス（有機エレクトロルミネッセンス照明装置））
このような本発明のガスバリア積層体１０は、好ましくは、電子デバイスを形成する基材として好適に用いられる。
図３に、本発明のガスバリア積層体１０を用いる、本発明の電子デバイスの一例を概念的に示す。図３は、一例として、本発明の電子デバイスを、有機エレクトロルミネッセンス照明装置（有機ＥＬ（Electro Luminescence）照明装置）に利用した例である。
【００４１】
なお、本発明の電子デバイスは、有機ＥＬ照明装置２４には限定はされない。
例えば、本発明の電子デバイスは、有機ＥＬ照明素子２６に替えて太陽電池素子を有する、太陽電池（太陽電池デバイス）であってもよい。また、本発明の電子デバイスは、これ以外にも、有機ＥＬディスプレイ等の有機ＥＬ照明装置以外の有機ＥＬデバイス、電子ペーパ、および、量子ドットを用いる量子ドットデバイス等の公知の各種の電子デバイスに利用可能である。
中でも、本発明の電子デバイスは、有機ＥＬ照明装置および太陽電池には、好適に利用される。
【００４２】
図３に示す有機ＥＬ照明装置２４は、前述のガスバリア積層体１０を基材として、保護有機層１８の表面に有機ＥＬ照明素子２６を形成し、保護有機層１８を囲むように矩形の枠状の封止層２８を設け、封止層２８に封止基材３０を接着することで、有機ＥＬ照明素子２６を封止基材３０で封止した構成を有するものである。
なお、有機ＥＬ照明装置２４は、図示した部材以外にも、必要に応じて、パッシベーション膜および乾燥剤等、公知の有機ＥＬ照明装置（有機ＥＬデバイス）が有する各種の部材を有してもよい。
また、有機ＥＬ照明装置２４（本発明の電子デバイス）では、封止基材３０側を『上』、支持体１２側を『下』とも言う。
【００４３】
前述のように、本発明のガスバリア積層体１０は、最も支持体１２と離間する有機層である保護有機層１８が、最も支持体１２と離間する無機層である２層目の無機層１６（保護有機層１８の下層の無機層１６）よりも面積が小さい。図示例においては、好ましい態様として、図２に示すように、平面図（支持体１２の主面と直交する方向から見た場合）において、保護有機層１８は、下層の無機層１６に内包される。
有機ＥＬ照明装置２４は、保護有機層１８に有機ＥＬ照明素子２６を形成している。また、封止層２８は、保護有機層１８および有機ＥＬ照明素子２６を囲む枠体で、封止層２８に載置するように、有機ＥＬ照明素子２６を封止する封止基材３０が接着される。
従って、図示例の有機ＥＬ照明装置２４では、保護有機層１８は、全ての端面を含めて外部に晒されていない。
本発明のガスバリア積層体１０（有機ＥＬ照明装置２４）は、このような構成を有することにより、水分による有機ＥＬ照明素子２６の劣化を好適に防止している。
【００４４】
前述のように、保護有機層は、下層の無機層（無機層の中の最上層の無機層）を保護することにより、ガスバリア積層体が、所定のガスバリア性を発現し、かつ維持するために設けられる。
従って、通常は、図６および図７に示すガスバリア積層体１０Ａのように、保護有機層１８Ａは、下層の無機層１６の全面を覆って形成される。
そのため、図６に示されるように、従来のガスバリア積層体を基材とする有機ＥＬ照明装置２４Ａは、保護有機層１８Ａの上に枠状の封止層２８を形成し、封止層２８に封止基材３０を接着することで、封止基材３０によって有機ＥＬ照明素子２６を封止している。
従って、従来の有機ＥＬ照明装置２４Ａでは、保護有機層１８Ａの端面１８ｅが、外部に剥き出しになっている。
【００４５】
前述のように、保護有機層１８Ａは、下層の無機層１６を保護するためのものである。無機層１６は、例えば厚さが１０〜１５０ｎｍ程度の薄く硬い膜である。このような無機層１６の割れおよび剥離等を十分に防止するためには、保護有機層１８Ａには、ある程度の硬さが必要になる。
ところが、一般的に、薄く硬い無機層１６を十分に保護できる硬さを有する有機層（有機材料からなる層）は、ガスバリア性が十分ではない。
そのため、保護有機層１８Ａの端面１８ｅが外部に剥き出しになっている従来のガスバリア積層体１０Ａでは、保護有機層１８Ａの端面１８ｅから水分が侵入して、有機ＥＬ照明素子２６まで至ってしまい、この水分によって、有機ＥＬ照明素子２６が劣化してしまう。特に、水分に弱い太陽電池および有機ＥＬ材料を用いる有機ＥＬデバイス、中でも特に、有機ＥＬデバイスでは、保護有機層１８Ａの端面１８ｅから侵入する水分に起因する素子の劣化は、問題になる。
【００４６】
保護有機層１８Ａが無ければ、保護有機層１８Ａの端面から侵入する水分による有機ＥＬ照明素子２６の劣化は防止できる。
しかしながら、保護有機層１８Ａがないと、最表面で無機層１６が剥き出しになるため、例えば、ロール状に巻き取った際、所定の形状に切断する際、および、ハンドリング等において、最表面の無機層１６が損傷してしまい、ガスバリア積層体が、所定のガスバリア性を発現しなくなってしまう。
【００４７】
これに対して、本発明のガスバリア積層体１０は、保護有機層１８の面積が、下層の無機層１６よりも小さい。好ましくは、図１および図２に示すように、平面図において、保護有機層１８が、下層の無機層１６に内包される。また、封止層２８となる接着剤は、十分なガスバリア性を有するものが、各種、選択可能である。
そのため、本発明のガスバリア積層体１０によれば、図３に示すように、保護有機層１８の端面を封止層２８の内側にして、好ましくは、保護有機層１８を、下層の無機層１６、封止層２８および封止基材３０によって内包できる。
従って、本発明のガスバリア積層体１０、および、本発明のガスバリア積層体１０を用いる本発明の有機ＥＬ照明装置２４によれば、保護有機層１８の端面から侵入する水分による有機ＥＬ照明素子２６（電子素子）の劣化を防止して、有機ＥＬ照明装置（電子デバイス）の長寿命化を図ることができる。
【００４８】
図示例のガスバリア積層体１０は、好ましい態様として、平面図において、保護有機層１８が下層の無機層１６に内包されている。しかしながら、本発明は、これに限定はされず、保護有機層１８が下層の無機層１６よりも小さく、保護有機層１８の端面の一部が、下層の無機層１６の端面よりも面方向の内側に位置すればよい。
すなわち、本発明のガスバリア積層体１０では、例えば、図４の左側に示す保護有機層１８Ｂのように、１辺の端面のみが下層の無機層１６の端面よりも内側に位置する構成でもよく、あるいは、図４の右側に示す保護有機層１８Ｃのように、２辺の端面のみが下層の無機層１６の端面よりも内側に位置する構成でもよい。
これらの構成であっても、図６および図７示すような、従来のガスバリア積層体１０Ａに比して、良好に、保護有機層の端面から侵入する水分に起因する有機ＥＬ照明素子２６の劣化を防止できる。
【００４９】
しかしながら、水分に起因する有機ＥＬ照明素子２６の劣化防止の効果の点では、外部に剥き出しになる保護有機層の端面は、少ない方が好ましい。
従って、本発明のガスバリア積層体は、図４の右側に示す矩形の保護有機層１８Ｃのように、保護有機層の少なくとも２辺の端面（全端面の５０％以上）が、下層の無機層１６の端面よりも内側に位置するのが好ましく、図１および図２に示すように、平面図において保護有機層１８が下層の無機層１６に内包される、すなわち、保護有機層１８の全ての端面が下層の無機層１６の端面よりも内側に位置するのがより好ましい。
また、本発明の電子デバイスは、保護有機層の少なくとも２辺の端面（全端面の５０％以上）が面方向の内側になるように、封止層を設けるのが好ましく、有機ＥＬ照明装置２４のように、保護有機層１８を面方向で囲むように封止層２８を設けて、封止基材３０で封止するのがより好ましい。
【００５０】
ガスバリア積層体１０において、保護有機層１８が下層の無機層１６よりも面積が小さければ、保護有機層１８の端面と、下層の無機層１６の端面との距離ｄ（図１および図２参照）には、制限はない。
ここで、保護有機層１８の端面から侵入する水分に起因する有機ＥＬ照明素子２６の劣化防止の観点では、保護有機層１８までの封止層２８の厚さ（面方向のサイズ）を厚くできる点で、保護有機層１８の端面と下層の無機層１６の端面との距離ｄは、長い方が好ましい。その反面、保護有機層１８の端面と下層の無機層１６の端面との距離ｄが長いと、無機層１６において、保護有機層１８によって覆われない領域が多くなり、ハンドリング等の際に無機層１６が損傷し易くなる。
以上の点を考慮すると、端面の少なくとも一部において、好ましくは面方向に５０％以上の領域において、特に端面の全域において、保護有機層１８の端面と下層の無機層１６の端面との距離ｄが１〜１０ｍｍであるのが好ましく、１〜８ｍｍであるのがより好ましく、１〜７ｍｍであるのがさらに好ましい。
【００５１】
以下、本発明の有機ＥＬ照明装置２４について、各構成要素の詳細について説明する。
＜封止層＞
有機ＥＬ照明装置２４において、封止層２８は、封止基材３０を接着して、封止基材３０によって有機ＥＬ照明素子２６を封止するためのものである。具体的には、有機ＥＬ照明装置２４において、有機ＥＬ照明素子２６は、封止基材３０と、封止層２８と、ガスバリア積層体１０とによって、封止されている。
【００５２】
封止層２８は、公知の有機ＥＬデバイスにおいて、封止層、封止層、および、粘着層等として、封止基材の貼着に用いられる公知のものが、各種、利用可能である。
具体的には、封止層２８の材料は、紫外線硬化性の樹脂が好ましく、より具体的には、紫外線硬化性エポキシ樹脂、および、紫外線硬化性アクリレート樹脂等が例示される。封止層２８は、市販の接着剤も好適に利用可能であり、例えば、ナガセケムテックス社製のＸＮＲ５５１６等が例示される。
また、封止層２８としては、接着シートまたは接着テープを用いてもよい。接着シートおよび接着テープは、市販品を含め、ＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）として知られるものが、広く利用可能である。
【００５３】
図示例においては、封止層２８は、保護有機層１８（有機ＥＬ照明素子２６）を囲む枠状に設けられており、有機ＥＬ照明素子２６が存在する領域は空間となっているが、本発明は、これに限定はされない。
すなわち、本発明の有機ＥＬ照明装置（電子デバイス）は、有機ＥＬ照明素子２６、保護有機層１８および保護有機層１８の下層の無機層１６と、封止基材３０との間が、封止層によって充填されている構成でもよい。
ただ、有機ＥＬ照明装置２４の光学特性および有機ＥＬ照明装置２４の可撓性の点では、封止層２８が保護有機層１８を囲む枠状として、有機ＥＬ照明素子２６が存在する領域は空間となっている、図３の構成の方が有利である。
また、封止層２８が保護有機層１８を囲む枠状である場合には、保護有機層１８の端面と下層の無機層１６の端面との距離ｄ、および、封止層２８の厚さ（面方向のサイズ）によっては、封止層２８が、保護有機層１８の面方向の端部を被覆してもよい。
【００５４】
水分による有機ＥＬ照明素子２６の劣化防止の点で、封止層２８は、ガスバリア性が高い方が好ましい。
具体的には、封止層２８の材料は、５００μｍ当たりの水蒸気透過率（５００μｍ当たりの水蒸気透過係数）が１×１０-1〜１×１０-3g/(m2・day)であるのが好ましく、１×１０-2〜１×１０-3g/(m2・day)であるのがより好ましい。
また、封止層２８は、水蒸気透過率が１×１０-1〜１×１０-3g/(m2・day)であるのが好ましく、１×１０-2〜１×１０-3g/(m2・day)であるのがより好ましい。
なお、封止層２８が保護有機層１８の面方向の端部を覆っている場合には、ここで言う封止層２８の水蒸気透過率とは、封止層２８の外側の端面から、保護有機層１８の端面までの厚さにおける、封止層２８の水蒸気透過率である。言い換えれば、封止層２８が保護有機層１８の面方向の端部を覆っている場合には、ここで言う封止層２８の水蒸気透過率とは、封止層２８の厚さを、封止層２８の外側の端面から保護有機層１８の端面までと見なした場合の、封止層２８の水蒸気透過率である。
【００５５】
封止層２８は、封止基材３０および無機層１６よりも、ガスバリア性が低い。従って、水分による有機ＥＬ照明素子２６の劣化防止の点では、封止層２８の高さ（上下方向すなわち面方向と直交する方向のサイズ）は、低い方が有利である。その反面、封止層２８を均一に塗布し、有機ＥＬ照明素子２６を精密に封止するためには、封止層２８は一定の高さを有するのが好ましい。
具体的には、封止層２８の高さは、１〜５００μｍが好ましく、５０〜４００μｍがより好ましく、１００〜３００μｍがさらに好ましい。
【００５６】
＜有機ＥＬ照明素子＞
有機ＥＬ照明素子２６は、有機ＥＬ照明装置（有機ＥＬ照明デバイス）に用いられる、公知の有機ＥＬ照明素子である。
一例として、有機ＥＬ照明素子２６は、陽極、正孔注入層（ホール注入層）、正孔輸送層（ホール輸送層）、発光層、正孔ブロック層（正孔阻止層）、電子輸送層、電子注入層、および、陰極等を有する、有機ＥＬ照明装置を構成する、公知の有機ＥＬ照明素子（有機ＥＬ素子、有機ＥＬ発光素子）である。
【００５７】
＜封止基材＞
封止基材３０も、公知の有機ＥＬ照明装置に用いられる、公知の封止基材である。
具体的には、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、および、ガラス（無アルカリガラス、ソーダライムガラス等）等からなるシート状物が例示される。
また、封止基材３０としては、樹脂フィルムに、無機化合物からなるガスバリア層を形成してなる、ガスバリアフィルムも、好適に利用可能である。ガスバリア層としては、窒化ケイ素層、酸化ケイ素層、酸化窒化ケイ素層、および、酸化アルミニウム層等が例示される。封止基材３０としてガスバリアフィルムを用いる場合には、ガスバリア層側を有機ＥＬ照明素子２６に向けて、封止基材３０による封止を行う。
【００５８】
さらに、封止基材３０としては、図１に示すガスバリア積層体１０と同様の、ガスバリア性を発現する無機層と、この無機層の下地となる有機層との組み合わせを、１組以上、有する、有機無機積層型のガスバリアフィルムも、好適に利用可能である。なお、有機無機積層型のガスバリアフィルムは、通常、支持体と最も離間する層として、最上層の無機層を全面的に覆って、無機層を保護するための保護有機層を有する。
また、封止基材としては、図５にガスバリア積層体１０を例示して概念的に示すように、本発明のガスバリア積層体も、より好適に利用可能である。
ここで、図３等に示されるような、封止層２８が保護有機層１８を囲む枠状に設けられており、有機ＥＬ照明素子２６が存在する領域が空間となっている有機ＥＬ照明装置の場合に、有機層と無機層とを交互に積層した積層構造を有する封止基材３０を用いる際には、保護有機層を有する通常の有機無機積層型のガスバリアフィルムではなく、本発明のガスバリア積層体、または、保護有機層を有さない有機無機積層型のガスバリアフィルムを用いるのが好ましい。
【００５９】
（ガスバリア積層体および有機ＥＬ照明装置の作製）
まず、ＰＥＴフィルム等の支持体１２を用意して、支持体１２の一方の表面に、前述のように有機層形成用組成物を用いる塗布法によって１層目の有機層１４を形成する。なお、有機層形成用組成物の塗布は、バーコート法、グラビアコート法、および、ダイコート法等の公知の方法が利用可能である。次いで、ＣＣＰ−ＣＶＤ等のプラズマＣＶＤによって、１層目の有機層１４の表面に１層目の無機層１６を形成する。なお、下地となる有機層１４と無機層１６との組み合わせを１組有するガスバリア積層体を作製する場合には、１層目の無機層１６を形成した後に、下記と同様に保護有機層１８を形成する。
次いで、同様にして、２層目の有機層１４および２層目の無機層１６を形成する。なお、下地となる有機層１４と無機層１６との組み合わせを３組以上有するガスバリア積層体を作製する場合には、同様の有機層１４と無機層１６との形成を、繰り返し行えばよい。
その後、保護有機層１８を形成するための組成物（保護有機層形成用組成物）を２層目（最上層）の無機層１６の全面に塗布し、同様に有機層を形成して、積層体とする。
これらの各層の形成は、ＲｔｏＲを利用するのが好ましいのは、前述のとおりである。
【００６０】
次いで、必要に応じて作製した積層体を所定の形状に切断した後、積層体の２層目の無機層１６の上に形成した有機層の周辺部を除去して、平面図において下層の無機層１６に内包される保護有機層１８を形成して、本発明のガスバリア積層体１０とする。
有機層の除去方法は、公知の方法が利用可能であるが、好ましくはエッチングが利用される。エッチングは、ドライエッチングおよびウエットエッチングの両方が利用可能であるが、無機層１６と封止層２８との密着性を良好にできる点で、ドライエッチングが好適に利用される。
【００６１】
ドライエッチングとは、反応性のガス、イオンまたはラジカル等によって、材料をエッチングする方法である。
ドライエッチングとしては、プラズマエッチング、イオンエッチング、および、集束イオンビームエッチング等の公知の方法が利用できる。
イオンエッチングは、ヘリウム(Ｈｅ）、アルゴン(Ａｒ）、ネオン(Ｎｅ）、および、これらの組合せを含む不活性ガス等で、固体表面をエッチングする方法である。異方性が高い垂直なエッチングが可能であり、エッチング形状の整った凹部を形成できることから、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ（Reactive Ion Etching））が好ましく利用され、アルゴンガスを用いたアルゴンイオンエッチングがさらに好ましく利用される。
【００６２】
なお、ガスバリア積層体１０の製造においては、無機層１６の表面全面に有機層形成用組成物を塗布して、エッチングによって周辺部を除去することで保護有機層１８を形成するのではなく、平面図において無機層１６に内包されるように有機層形成用組成物を塗布して、保護有機層１８を形成してもよい。
【００６３】
このようにしてガスバリア積層体１０を形成したら、保護有機層１８の上に、陽極、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層、および、陰極等を形成して、有機ＥＬ照明素子２６を形成する。
有機ＥＬ照明素子２６を形成したら、例えば保護有機層１８の下層の無機層１６において剥き出しなっている周辺部に、封止層２８となる接着剤を枠状に塗布する。その後、接着剤上に封止基材３０を積層し、次いで、例えば紫外線を照射することによって接着剤を硬化して、封止層２８によって無機層１６（ガスバリア積層体１０）と封止基材３０とを接着して、有機ＥＬ照明装置２４を作製する。
【００６４】
以上、本発明のガスバリア積層体および電子デバイスについて詳細に説明したが、本発明は上記の態様に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々、改良や変更を行ってもよい。
【実施例】
【００６５】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。本発明は、以下に示す具体例に限定されない。
【００６６】
［実施例１］
＜ガスバリア積層体の作製＞
支持体として、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡社製、Ａ４３００）を用意した。
【００６７】
ＴＭＰＴＡ（ダイセル・オルネクス社製）を２８．５ｇ、紫外線重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥ  ＫＴＯ４６）を１．５ｇ、および、２−ブタノン（和光純薬工業社製）を１７０ｇ、混合し、有機層を形成するための有機層形成用組成物を調製した。有機層形成用組成物の固形分濃度は、１５質量％であった。
調製した有機層形成用組成物を、用意した支持体の表面に塗布した。塗布は、ダイコーターを用い、機層の膜厚が１μｍとなるように行った。塗布後、８０℃のオーブンで３分間乾燥させた。次いで、窒素置換法により酸素濃度を０．１％としたチャンバー内で高圧水銀ランプの紫外線を照射（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ2）することで有機層形成用組成物を硬化させて、有機層を形成した。
【００６８】
形成した有機層の上に、無機層として、膜厚が４０ｎｍの窒化ケイ素膜を形成した。
無機層の形成は、ＣＣＰ−ＣＶＤ装置（サムコ社製）を用いて行った。原料ガスは、シランガス（流量１６０ｓｃｃｍ：０℃、１気圧の標準状態、以下同様）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、および、窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。成膜圧力は４０Ｐａとした。電源は周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用い、プラズマ励起電力を２．５ｋＷとした。
以下、支持体と、この無機層（１層目の無機層）との間の有機層を、下地有機層とも言う。
【００６９】
ＴＭＰＴＡ（ダイセル・オルネクス社製）を２１．５ｇ、ＫＢＭ−５１０３（信越化学工業社製）を５．５ｇ、ＫＡＹＡＭＥＲ  ＰＭ−２１（日本化薬社製）を１．０ｇ、紫外線重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥ  ＫＴＯ４６）を１．５ｇ、および、２−ブタノン（和光純薬工業社製）を１７０ｇを混合して、保護有機層を形成するための、保護有機層形成用組成物を調製した。有機層形成用組成物の固形分濃度は、１５質量％であった。
無機層の上に、調製した保護有機層形成用組成物を用いて、先に形成した有機層と同様にして、厚さが１．５μｍの保護有機層となる有機層を形成した。
これにより、支持体の表面に、有機層、無機層および保護有機層となる有機層を形成した積層体を作製した。
【００７０】
積層体を５０×５０ｍｍに切断した。
その後、保護有機層となる有機層の周辺部全域（４辺全て）を、面方向に１ｍｍ、エッチングによって除去して、保護有機層を形成した。これにより、図２に示すような、平面図において、保護有機層が下層の無機層に内包される、ガスバリア積層体を作製した（図１および図２における距離ｄ＝１ｍｍ）。すなわち、このガスバリア積層体は、支持体・有機層（下地有機層）・無機層・保護有機層の層構成を有する。
ガスバリア積層体は、同じものを２枚、作製した。
作製したガスバリア積層体の水蒸気透過率を、カルシウム腐蝕法（特開２００５−２８３５６１号公報に記載される方法）によって測定した。その結果、積層体の水蒸気透過率は、１×１０-6g/(m2・day)であった。
【００７１】
作製したガスバリア積層体の１枚の保護有機層の表面に、ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）電極（陽極）を８０ｎｍ、形成した。
形成した陽極の表面に、真空蒸着装置により、正孔注入層として酸化モリブデン（ＭｏＯ3）層を２ｎｍ、形成し、さらに、酸化モリブデン層の表面に順に正孔輸送層（α-NPD：Bis［N-（1-naphthyl）-N-phenyl］benzidine）を２００ｎｍ、ＣＢＰ（4,4'-Bis（carbazol-9-yl）biphenyl）をホスト材料として５％のＩｒ（ｐｐｙ）3（Tris(2-phenylpyridinato）iridium）をドープした発光層を２０ｎｍ、正孔ブロック層としてＢＡｌｑ（Bis-（2-methyl-8- quinolinolato）-4-（phenyl-phenolate）-aluminium（III））層を１０ｎｍ、および、電子輸送層としてＡｌｑ３（Tris（8-hydroxy-quinolinato)aluminium）層を２０ｎｍ、それぞれ蒸着して、有機電界発光層を形成した。
続けて、得られた有機電界発光層の表面にフッ化リチウム（ＬｉＦ）を０．５ｎｍ、アルミニウムを１．５ｎｍ、銀を１５ｎｍ、この順に蒸着して、透明電極（陰極）を成膜して、有機ＥＬ照明素子を形成した。
【００７２】
有機ＥＬ照明素子を形成したガスバリア積層体の上面（保護有機層側の表面）の周辺部に、枠状に接着剤（ナガセケムテックス社製、ＸＮＲ５５１６）を塗布した。この接着剤が硬化した際における、５００μｍ当たりの水蒸気透過率は、１×１０-1g/(m2・day)である。
次いで、もう１枚のガスバリア積層体を封止基材として、上面側を有機ＥＬ照明素子側に向けて、端部を一致して積層した。
さらに、高圧水銀ランプの紫外線を照射（積算照射量約６Ｊ／ｃｍ2）することによって、接着剤を硬化して封止層を形成し、有機ＥＬ照明素子を形成したガスバリア積層体と、封止基材（同様のガスバリア積層体）とを封止層で接着して、有機ＥＬ照明素子を封止した、図３に示すような有機ＥＬ照明装置を作製した。
形成した封止層の高さ（上下方向のサイズ）は５００μｍ、封止層の厚さ（面方向のサイズ）は５ｍｍであった。従って、本例では、４ｍｍの封止層が保護有機層の端部を覆っている。
【００７３】
［実施例２および実施例３］
１枚のガスバリア積層体の作製において、保護有機層となる有機層の周辺部のエッチングを、隣接する２辺（実施例２、図４右側参照）、および、１辺（実施例３、図４左側参照）、とした以外は、実施例１と同様にガスバリア積層体を作製した。
このガスバリア積層体に有機ＥＬ照明素子を形成した以外は、実施例１と同様に、有機ＥＬ照明装置を作製した。なお、封止基材となるガスバリア積層体は、実施例１と同じものである。この点に関しては、有機ＥＬ照明素子を形成するガスバリア積層体の構成を変更した、全ての例に同様である。
従って、有機ＥＬ照明素子を形成したガスバリア積層体の保護有機層は、実施例２においては２辺の端面が外部に剥き出しになっており、実施例３においては３辺の端面が外部に剥き出しになっている。
【００７４】
［実施例４〜８］
１枚のガスバリア積層体の作製において、保護有機層となる有機層の周辺部のエッチングの幅を、０．５ｍｍ、７ｍｍ、８ｍｍ、１０ｍｍ、および、１１ｍｍに変更し、保護有機層の端面と下層の無機層の端面との距離（図１および図２における距離ｄ）を、０．５ｍｍ（実施例４）、７ｍｍ（実施例５）、８ｍｍ（実施例６）、１０ｍｍ（実施例７）、および、１１ｍｍ（実施例８）に変更した以外は、実施例１と同様にガスバリア積層体を作製した。
このガスバリア積層体に有機ＥＬ照明素子を形成した以外は、実施例１と同様に、有機ＥＬ照明装置を作製した。
【００７５】
［実施例９］
１枚のガスバリア積層体の作製において、支持体と無機層との間の有機層（下地有機層）を形成しなかった以外は、実施例１と同様にガスバリア積層体を作製した。すなわち、このガスバリア積層体は、支持体・無機層・保護有機層の層構成を有する。
このガスバリア積層体に有機ＥＬ照明素子を形成した以外は、実施例１と同様に、有機ＥＬ照明装置を作製した。
［実施例１０］
１枚のガスバリア積層体の作製において、２層目の有機層を形成した後、２層目の有機層の表面に、１層目の無機層と同様に２層目の無機層を形成し、２層目の無機層の表面に、２層目の有機層と同様に３層目の有機層を形成して、３層目の有機層を保護有機層とした以外は、実施例１と同様にガスバリア積層体を作製した。すなわち、このガスバリア積層体は、支持体・有機層・無機層・有機層・無機層・保護有機層の層構成を有する。
このガスバリア積層体に有機ＥＬ照明素子を形成し、封止層の高さを３００μｍとした以外は、実施例１と同様に、有機ＥＬ照明装置を作製した。
【００７６】
［実施例１１〜１６］
封止層の高さを、０．５μｍ（実施例１１）、６００μｍ（実施例１２）、５０μｍ（実施例１３）、４００μｍ（実施例１４）、１００μｍ（実施例１５）、および、３００μｍ（実施例１６）に変更した以外は、実施例１と同様にガスバリア積層体を作製した。
このガスバリア積層体を用いた以外は、実施例１と同様に、有機ＥＬ照明装置を作製した。
【００７７】
［比較例１］
１枚のガスバリア積層体の作製において、保護有機層となる有機層の周辺部のエッチングを行わなかった以外は、実施例１と同様にガスバリア積層体を作製した。
このガスバリア積層体に有機ＥＬ照明素子を形成した以外は、実施例１と同様に、有機ＥＬ照明装置を作製した。
従って、有機ＥＬ照明素子を形成したガスバリア積層体の保護有機層は、４辺の端部全てが外部に剥き出しになっている。
【００７８】
［評価（高温高湿耐久性）］
作製した有機ＥＬ照明装置の評価を、以下のように行った。
作製した有機ＥＬ照明装置を温度６０℃、相対湿度９０％ＲＨの環境下に１００時間放置して、発光全面積（有機ＥＬ照明素子の面積）に対するダークスポットの総面積［％］を下記の表に示す。
【００７９】
【表１】
2020157476.tif 000003
【００８０】
ダークスポットの面積が小さいほど、高い高温高湿耐久性を有しており、すなわち、ガスバリア積層体のガスバリア性が優れている。
表１に示されるように、平面図において、保護有機層を下層の無機層よりも小さくして、少なくとも１辺の端面を封止層よりも面方向の内側にした本発明のガスバリア積層体および有機ＥＬ照明装置によれば、保護有機層の４辺の端面が全て外部に剥き出しになっている比較例１よりも、高い高温高湿耐久性を有しており、すなわち、ガスバリア積層体のガスバリア性が優れている。
実施例１および実施例５〜７に示されるように、保護有機層の端面と下層の有機層の端面との距離を１〜１０ｍｍの範囲とすることにより、より優れた高温高湿耐久性すなわちガスバリア積層体のガスバリア性を得られる。なお、実施例８は、保護有機層の端面と下層の有機層の端面との距離が１１ｍｍと、実施例７よりも、若干、長いため、封止前のハンドリングの際に、若干、無機層が多く損傷して、実施例７よりもダークスポットが多くなったと考えられる。
実施例９と実施例１との比較より、支持体と１層目の無機層との間に有機層（下地有機層）を設けることで、良好な高温高湿耐久性すなわちガスバリア積層体のガスバリア性を得られる。
さらに、実施例１３〜１６に示されるように、封止層の高さを５０〜４００μｍの範囲とすることにより、特に１００〜３００μｍの範囲とすることにより、より優れた高温高湿耐久性すなわちガスバリア積層体のガスバリア性を得られる。
加えて、実施例１０に示されるように、封止層の高さを１００〜３００μｍの範囲とし、下地となる有機層と無機層との組み合わせを２組（無機層数２層）とすることにより、非常に優れた高温高湿耐久性すなわちガスバリア積層体のガスバリア性を得られる。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００８１】
有機ＥＬ照明装置および太陽電池等に好適に利用可能である。
【符号の説明】
【００８２】
１０，１０Ａ  ガスバリア積層体
１２  支持体
１４  有機層
１６  無機層
１８，１８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ  保護有機層
１８ｅ  端面
２４，２４Ａ  有機ＥＬ照明装置
２６  有機ＥＬ照明素子
２８  封止層
３０  封止基材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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