(57)【要約】【課題】基材に形成される塗布層の厚みムラを抑制して、光学フィルムの斑点及びスジの発生を抑制できる、光学フィルムの製造方法などを提供する。【解決手段】  基材をバックアップロールの周面に沿って搬送しながら、前記基材の表面に塗布液をダイコータにより塗布する工程を含む、光学フィルムの製造方法であって、  前記塗布液が塗布される前記基材の位置において、前記バックアップロールの周面と前記基材との間に厚み１μｍ以上２０μｍ以下の気体層を形成させる、光学フィルムの製造方法。【選択図】図１
2020160240.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材をバックアップロールの周面に沿って搬送しながら、前記基材の表面に塗布液をダイコータにより塗布する工程を含む、光学フィルムの製造方法であって、
前記塗布液が塗布される前記基材の位置において、前記バックアップロールの周面と前記基材との間に厚み１μｍ以上２０μｍ以下の気体層を形成させる、光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記バックアップロールの周面と前記基材との間に気体を供給することにより前記気体層を形成させる、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記基材が沿い始める前記バックアップロールの周面と前記基材との間に前記気体を吹き付けることにより前記気体を供給する、請求項２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記バックアップロールの周面から前記気体を噴出させることにより前記気体を供給する、請求項２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記基材が離れ始める前記バックアップロールの周面と前記基材との間から前記基材の搬送方向下流へ向かう、気体の流れを制限する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記基材が離れ始める前記バックアップロールの周面と前記基材との間に、第１補助ロール及び第２補助ロールからなるロール対を設け、前記ロール対により前記バックアップロールの周面と前記基材との間を塞ぎ、
前記第１補助ロールは、前記バックアップロールの回転軸と平行な回転軸を有し、前記バックアップロールの周面に接し、
前記第２補助ロールは、前記バックアップロールの回転軸と平行であり、前記第１補助ロールの回転軸よりも、前記バックアップロールの回転軸から離れた位置にある回転軸を有し、前記第１補助ロールの周面及び前記基材に接し、
前記第１補助ロールの周面における硬度が、前記第２補助ロールの周面における硬度よりも低い、請求項５に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記バックアップロールの周面に、少なくとも一つの凸部を設ける、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記少なくとも一つの凸部が、１μｍ以上２０μｍ以下の高さを有する、請求項７に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記バックアップロールが、自由に回転可能である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記基材は、鉄との静摩擦係数が、０．７以上である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１１】
周面に沿って基材を搬送するバックアップロールと、
前記基材の表面に塗布液を塗布するダイコータと、
前記バックアップロールの周面と前記基材との間に気体を供給する気体供給装置と、
前記塗布液が塗布される前記基材の位置における、前記バックアップロールの周面と前記基材との間の気体層の厚みが１μｍ以上２０μｍ以下となるように、前記気体供給装置から供給される前記気体の量を調整する調整装置と、
を含む、光学フィルムの製造装置。
【請求項１２】
第１補助ロール及び第２補助ロールからなるロール対を更に含み、
前記第１補助ロールは、前記バックアップロールの回転軸と平行な回転軸を有し、前記バックアップロールの周面に接し、
前記第２補助ロールは、前記バックアップロールの回転軸と平行であり、前記第１補助ロールの回転軸よりも、前記バックアップロールの回転軸から離れた位置にある回転軸を有し、前記第１補助ロールの周面及び搬送される前記基材に接するように設けられ、
前記第１補助ロールの周面における硬度が、前記第２補助ロールの周面における硬度よりも低い、請求項１１に記載の光学フィルムの製造装置。
【請求項１３】
前記バックアップロールの周面に、少なくとも一つの凸部が設けられている、請求項１１又は１２に記載の光学フィルムの製造装置。
【請求項１４】
前記バックアップロールが、自由に回転可能である、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムの製造方法及び光学フィルムの製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
長尺の基材の表面に、連続的に塗布液を塗布して塗布層を形成する方法としては、長尺の基材をバックアップロールに巻き掛けて連続的に搬送しながら、ダイコータが有するスリットから塗布液を吐出させて、スリットの先端にビード（液溜まり）を形成させ、ビードを基材の表面に接触させて塗布液を塗布する方法が知られている（特許文献１〜５）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−０１０７６５号公報
【特許文献２】特開２００９−２４１０１９号公報
【特許文献３】特開２０１３−１６９４９８号公報
【特許文献４】特開２００７−７５７９７号公報
【特許文献５】特開２００５−１４４４１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、モバイル電子機器の更なる薄型化が求められており、これに搭載される画像表示装置も更なる薄型化が進められている。画像表示装置に組み込まれる、偏光板、位相差板などの光学フィルムを薄型化するため、基材上に塗布層を形成して光学フィルムを製造する場合、塗布層の厚みは薄いことが好ましい。
【０００５】
しかし、塗布層を薄くするのに伴い、塗布層の厚みにムラが生じて、光学フィルムの面状が不良になる場合がある。例えば、光学フィルムに、斑点（スポットムラ）が生じたり、光学フィルムの幅方向に、周期的に厚みの大きいスジ（横段）が生じたりする場合がある。
これらの面状不良が光学フィルムに存在すると、光学フィルムを画像表示装置に組み込んだ場合に表示不良などを引き起こす場合があるため、通常不良部分は光学フィルムから除去される。面状不良の発生が多いほど、光学フィルムの歩留まりは低くなり、製造コストが上昇するため、塗布層における厚みムラの発生は、少ない方が好ましい。
【０００６】
したがって、基材に形成される塗布層の厚みムラを抑制して、光学フィルムの斑点及びスジの発生を抑制できる、光学フィルムの製造方法；及び、基材に形成される塗布層の厚みムラを抑制して、光学フィルムの斑点及びスジの発生を抑制できる、光学フィルムの製造装置；が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、光学フィルムの斑点及びスジといった面状不良は、基材がバックアップロールに密着するほど、顕著に出現することを見出した。本発明者らは、この知見に基づき、前記課題を解決するべく鋭意検討した。その結果、塗布液が塗布される基材の位置において、バックアップロールの周面と前記基材との間に厚み１μｍ以上２０μｍ以下の気体層を形成させることにより、前記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下を提供する。
【０００８】
［１］  基材をバックアップロールの周面に沿って搬送しながら、前記基材の表面に塗布液をダイコータにより塗布する工程を含む、光学フィルムの製造方法であって、
前記塗布液が塗布される前記基材の位置において、前記バックアップロールの周面と前記基材との間に厚み１μｍ以上２０μｍ以下の気体層を形成させる、光学フィルムの製造方法。
［２］  前記バックアップロールの周面と前記基材との間に気体を供給することにより前記気体層を形成させる、［１］に記載の光学フィルムの製造方法。
［３］  前記基材が沿い始める前記バックアップロールの周面と前記基材との間に前記気体を吹き付けることにより前記気体を供給する、［２］に記載の光学フィルムの製造方法。
［４］  前記バックアップロールの周面から前記気体を噴出させることにより前記気体を供給する、［２］に記載の光学フィルムの製造方法。
［５］  前記基材が離れ始める前記バックアップロールの周面と前記基材との間から前記基材の搬送方向下流へ向かう、気体の流れを制限する、［１］〜［４］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
［６］  前記基材が離れ始める前記バックアップロールの周面と前記基材との間に、第１補助ロール及び第２補助ロールからなるロール対を設け、前記ロール対により前記バックアップロールの周面と前記基材との間を塞ぎ、
前記第１補助ロールは、前記バックアップロールの回転軸と平行な回転軸を有し、前記バックアップロールの周面に接し、
前記第２補助ロールは、前記バックアップロールの回転軸と平行であり、前記第１補助ロールの回転軸よりも、前記バックアップロールの回転軸から離れた位置にある回転軸を有し、前記第１補助ロールの周面及び前記基材に接し、
前記第１補助ロールの周面における硬度が、前記第２補助ロールの周面における硬度よりも低い、［５］に記載の光学フィルムの製造方法。
［７］  前記バックアップロールの周面に、少なくとも一つの凸部を設ける、［１］〜［６］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
［８］  前記少なくとも一つの凸部が、１μｍ以上２０μｍ以下の高さを有する、［７］に記載の光学フィルムの製造方法。
［９］  前記バックアップロールが、自由に回転可能である、［１］〜［８］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
［１０］  前記基材は、鉄との静摩擦係数が、０．７以上である、［１］〜［９］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
［１１］  周面に沿って基材を搬送するバックアップロールと、
前記基材の表面に塗布液を塗布するダイコータと、
前記バックアップロールの周面と前記基材との間に気体を供給する気体供給装置と、
前記塗布液が塗布される前記基材の位置における、前記バックアップロールの周面と前記基材との間の気体層の厚みが１μｍ以上２０μｍ以下となるように、前記気体供給装置から供給される前記気体の量を調整する調整装置と、
を含む、光学フィルムの製造装置。
［１２］  第１補助ロール及び第２補助ロールからなるロール対を更に含み、
前記第１補助ロールは、前記バックアップロールの回転軸と平行な回転軸を有し、前記バックアップロールの周面に接し、
前記第２補助ロールは、前記バックアップロールの回転軸と平行であり、前記第１補助ロールの回転軸よりも、前記バックアップロールの回転軸から離れた位置にある回転軸を有し、前記第１補助ロールの周面及び搬送される前記基材に接するように設けられ、
前記第１補助ロールの周面における硬度が、前記第２補助ロールの周面における硬度よりも低い、［１１］に記載の光学フィルムの製造装置。
［１３］  前記バックアップロールの周面に、少なくとも一つの凸部が設けられている、［１１］又は［１２］に記載の光学フィルムの製造装置。
［１４］  前記バックアップロールが、自由に回転可能である、［１１］〜［１３］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、基材に形成される塗布層の厚みムラを抑制して、光学フィルムの斑点及びスジの発生を抑制できる、光学フィルムの製造方法；及び、基材に形成される塗布層の厚みムラを抑制して、光学フィルムの斑点及びスジの発生を抑制できる、光学フィルムの製造装置；を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、第１実施形態に係る光学フィルムの製造方法を実施しうる、光学フィルムの製造装置の一例を示す概略図である。
【図２】図２は、第２実施形態の光学フィルムの製造方法を実施しうる、光学フィルムの製造装置の一例を示す概略図である。
【図３】図３は、第３実施形態に係る光学フィルムの製造方法を実施しうる、光学フィルムの製造装置の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
【００１２】
以下の説明において、同一の要素には同一の符号を付して、その説明を省略することがある。
【００１３】
以下の説明において、「長尺」のフィルムとは、幅に対して、５倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。フィルムの長さの上限は、特に制限は無く、例えば、幅に対して１０万倍以下としうる。
【００１４】
以下の説明において、要素の方向が「平行」及び「垂直」とは、別に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±３°、±２°又は±１°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。
【００１５】
長尺のフィルムにおいて、幅方向とは、通常長尺のフィルムの製造時における搬送方向と垂直な方向を意味する。
【００１６】
［１．光学フィルムの製造方法］
本発明の一実施形態に係る光学フィルムの製造方法について、以下図面を参照しながら説明する。本実施形態に係る光学フィルムの製造方法は、基材をバックアップロールの周面に沿って搬送しながら、前記基材の表面に塗布液をダイコータにより塗布する工程を含む。
本実施形態に係る光学フィルムの製造方法は、従来のいわゆるエクストルージョン型塗布方法を用いた光学フィルムの製造方法に好ましく適用されうる。
【００１７】
［１．１．基材］
基材は、通常長尺であって可撓性を有するフィルムである。基材の材料の例としては、は特に限定されず、樹脂、金属が挙げられ、好ましくは、樹脂である。樹脂は通常重合体を含む。樹脂に含まれる重合体の例としては、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン）、脂環式構造含有重合体、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））、セルロース系重合体（例、トリアセチルセルロース）、及びアクリル重合体（例、ポリメチルメタクリレート）が挙げられる。
【００１８】
脂環式構造含有重合体は、繰り返し単位中に脂環式構造を含有する重合体である。脂環式構造含有重合体の例としては、環状オレフィンを単量体として用いた重合反応によって得られうる重合体又はその水素化物が挙げられる。更に具体的な例としては、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体及びその水素化物が挙げられる。
【００１９】
基材は、鉄板との静摩擦係数が０．７以上であることが好ましい。本発明者らは、鉄板との静摩擦係数が大きい基材は、従来のエクストルージョン型塗布方法を用いると光学フィルムの面状が不良となりやすいことを見出した。本実施形態の製造方法では、鉄板との静摩擦係数が大きく、０．７以上である基材を用いた場合にも、塗布層の厚みムラを抑制して、光学フィルムの斑点及びスジの発生を抑制できる。
【００２０】
基材は、鉄板との静摩擦係数が、より好ましくは０．８以上であり、更に好ましくは１．０以上であり、好ましくは１．５以下であり、より好ましくは１．４以下であり、更に好ましくは１．３以下である。
【００２１】
基材と鉄板との静摩擦係数は、鉄板としては、表面にハードクロムメッキを施した（メッキ厚１００μｍ）、最大表面粗さＲｙ＝０．６μｍ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４）であるものを用い、摩擦測定器（例、東洋精機製作所社製「ＦＲＩＣＴＩＯＮ  ＴＥＳＴＥＲ  ＴＲ−２」）を用いて、速度２０ｍｍ／ｍｉｎ、測定距離３０ｍｍ、荷重レンジ１０Ｎ、スレッド質量２００ｇの条件で測定されうる。
最大表面粗さＲｙは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に従って測定しうる。測定装置としては、表面粗さ測定機（例、小型表面粗さ測定機「サーフテストＳＪ−３１０」（株式会社ミツトヨ製）を用い、評価長さ４．０ｍｍ（カットオフ値λｃ  ０．８ｍｍ×５）とし、ダイヤモンド探針で表面をなぞることにより測定しうる。
【００２２】
基材の厚みは特に限定されず、任意の厚みを有する基材を用いうる。基材の厚みは、例えば、１０μｍ以上１００μｍ以下としうる。
基材の幅も特に限定されず、任意の幅を有する基材を用いうる。基材の幅は、例えば１００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下としうる。
【００２３】
［１．２．塗布液］
基材の表面に塗布される塗布液は、任意の成分を含む。例えば、塗布液は、重合性を有する液晶性化合物、重合開始剤、カイラル剤、モノマー、酸化防止剤、界面活性剤などの機能性材料を含みうる。また塗布液は、有機溶媒、水などの溶媒を含みうる。塗布液は、分散媒中に、機能性材料が分散した分散液であってもよく、コロイド状液であってもよい。塗布液としては、Ｅ型粘度計コーンロータ、２３℃、１００ｒｐｍにより測定された粘度が、０．５〜７０ｍＰａ・ｓの範囲にあるものが好ましい。
【００２４】
［１．３．第１実施形態］
本発明の第１実施形態に係る製造方法を、図を用いて以下詳細に説明する。
図１は、第１実施形態に係る光学フィルムの製造方法を実施しうる、光学フィルムの製造装置の一例を示す概略図である。
光学フィルムの製造装置１００は、バックアップロール１１０と、ダイコータ１２０と、気体供給装置１３０と、調整装置１３１と、ロール対１４０とを備える。
【００２５】
バックアップロール１１０は、略円筒形の部材であり、回転軸１１０Ｒを中心として、方向Ｄ１（基材１５０を搬送する方向）に回転するように、図示されない駆動装置により駆動される。
本実施形態では、バックアップロール１１０は、回転軸１１０Ｒを中心として、方向Ｄ１に回転するように駆動されるが、別の実施形態では、バックアップロール１１０は駆動されず回転軸１１０Ｒを中心として自由に回転可能に製造装置１００に取り付けられていてもよく、更に別の実施形態では、バックアップロール１１０は、方向Ｄ１とは逆の方向に、回転軸１１０Ｒを中心として回転するように、駆動されてもよい。
【００２６】
ダイコータ１２０は、管路１２２により、塗布液１６０を押し出す押出装置１２１と連結されている。ダイコータ１２０は、バックアップロール１１０に対向するリップ１２３を備え、リップ１２３先端に形成されたスリット１２４から、塗布液１６０を吐出し、搬送される基材１５０の位置Ｐ１５０において、基材１５０の表面に連続的に塗布液１６０を塗布する。これにより、基材１５０の表面に、塗布液１６０からなる塗布層１６１が形成される。
【００２７】
ダイコータ１２０のサイズは特に限定されず、例えば、バックアップロール１１０に対応する大きさとしうる。ダイコータ１２０が有するマニホールド部の形状及びサイズも特に限定されず、任意の形状及びサイズとしうる。
リップ１２３を形成する材料は、特に限定されず、任意の材料（例、ステンレス鋼材）を用いうる。スリット１２４の大きさは、特に限定されず、例えば塗布液１６０の粘度、所望とする塗布層１６１の厚みなどにより適宜調節しうるが、例えば、０．０５ｍｍ以上２ｍｍ以下の範囲としうる。
【００２８】
製造装置１００は、ダイコータ１２０を移動させて、ダイコータ１２０のリップ１２３先端とバックアップロール１１０との距離を調整する、ダイコータ移動装置を含んでいてもよい。
また製造装置１００は、塗布液１６０中の異物等を除去するための濾過装置を含んでいてもよい。
さらに、製造装置１００は、ダイコータ１２０による塗布液１６０の塗布を、減圧下で行うための、減圧装置を含んでいてもよい。
【００２９】
気体供給装置１３０は、バックアップロール１１０の周面Ｓ１と搬送される基材１５０との間に気体を吹き付けるように、バックアップロール１１０の近傍に配置されている。
周面Ｓ１は、バックアップロール１１０において、搬送される基材１５０が沿い始める範囲の周面である。基材１５０がバックアップロール１１０に沿うとは、略平面形状で、好ましくは平面形状で搬送される基材１５０が、曲面形状となってバックアップロール１１０の周面上部を搬送されることを意味する。ここで、バックアップロール１１０について上方向とは、バックアップロール１１０の半径方向外側方向を意味する。
【００３０】
気体供給装置１３０としては、例えば、ブロワー、エアーコンプレッサーなどを用いうる。
気体供給装置１３０には、周面Ｓ１と基材１５０との間に吹き付ける気体の量を調整するための、調整装置１３１が連結されている。調整装置１３１は、例えば、気体流量調節弁を備え、気体流量調節弁の開度を、手動で、又は自動で調整することにより、気体供給装置１３０から吹き付ける気体の量を調整する。
【００３１】
気体供給装置１３０が供給する気体の例としては、特に限定されず、空気及び不活性ガス（例、窒素ガス）が挙げられる。気体の湿度は特に限定されず、気体は、乾燥処理が行われていてもよい。また気体の温度は、特に限定されず、気体は、室温である気体、室温よりも高温である気体、又は室温よりも低温である気体であってもよい。
【００３２】
ロール対１４０は、バックアップロール１１０の周面Ｓ２と基材１５０との間に設けられている。周面Ｓ２は、バックアップロール１１０において、基材１５０が離れ始める範囲の周面である。基材１５０が、バックアップロール１１０から離れ始めるとは、バックアップロール１１０の周面上部を曲面形状で搬送されてきた基材１５０が、略平面形状で、好ましくは平面形状で搬送され始めることを意味する。
【００３３】
ロール対１４０は、第１補助ロール１４１と第２補助ロール１４２とから構成されている。第１補助ロール１４１の回転軸１４１Ｒは、バックアップロール１１０の回転軸１１０Ｒと平行である。第２補助ロール１４２の回転軸１４２Ｒは、バックアップロール１１０の回転軸１１０Ｒと平行である。したがって、第１補助ロール１４１の回転軸１４１Ｒと、第２補助ロール１４２の回転軸１４２Ｒとは、互いに平行である。
【００３４】
第１補助ロール１４１は、バックアップロール１１０の周面１１０Ｓの一部に接している。第２補助ロール１４２は、第１補助ロール１４１の周面１４１Ｓの一部に接している。第２補助ロール１４２の回転軸１４２Ｒは、第１補助ロール１４１の回転軸１４１Ｒよりも、バックアップロール１１０の回転軸１１０Ｒから離れた位置にある。そのため、第２補助ロール１４２は、バックアップロール１１０の周面１１０Ｓに沿って搬送される基材１５０の一方の面に接する。
【００３５】
ロール対１４０がこのような構成を備えることで、ロール対１４０により、バックアップロール１１０の周面Ｓ２と基材１５０との間が塞がれる。その結果、バックアップロール１１０の周面Ｓ２と基材１５０との間から、基材１５０の搬送方向下流へ向かう気体の流れを制限し、基材１５０を介してダイコータ１２０と向き合うバックアップロール１１０の周面Ｓ３と、基材１５０との間に、気体層１７０を形成させる。
【００３６】
第１補助ロール１４１の周面１４１Ｓにおける硬度は、第２補助ロール１４２の周面１４２Ｓにおける硬度よりも低い。硬度は、例えばＪＩＳ  Ｋ  ６２５３−３に従い、測定しうる。
例えば、第１補助ロール１４１の周面１４１Ｓが、ゴムで形成され、第２補助ロール１４２の周面１４２Ｓが、金属（例、アルミニウム材、ステンレス鋼材）で形成されていてもよい。
【００３７】
本発明の第１実施形態に係る製造方法では、塗布液１６０が塗布される基材１５０の位置Ｐ１５０において、基材１５０を介してダイコータ１２０と向き合うバックアップロール１１０の周面Ｓ３と基材１５０との間に気体層１７０を形成させる。気体層１７０の厚みは、通常１μｍ以上、好ましくは１．５μｍ以上、より好ましくは２μｍ以上であり、通常２０μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下、より好ましくは１３μｍ以下である。
気体層１７０の厚みを、前記下限値以上とすることにより、バックアップロール１１０の振れ及び速度ムラの影響を少なくできる。また、基材１５０とバックアップロール１１０との摩擦を低減することができる。さらに、バックアップロール１１０に付着した異物の影響を少なくできる。これらの結果、光学フィルムの斑点及びスジの発生を抑制できる。
また、気体層１７０の厚みを、前記上限値以下とすることによって、基材１５０がバックアップロール１１０上でばたつくことを抑制できる。その結果、搬送中の基材１５０がダイコータ１２０のリップ１２３などに接触して、基材１５０に傷が生じたり、基材１５０が破断したりして基材１５０が損傷することを抑制できる。
【００３８】
塗布液１６０が塗布される基材１５０の位置Ｐ１５０における気体層１７０の厚みは、基材１５０を介してダイコータ１２０と向き合うバックアップロール１１０の周面Ｓ３と基材１５０との間の気体層１７０の厚みを測定することにより測定されうる。
具体的には、下記の方法で測定されうる。
ダイコータ１２０をバックアップロール１１０から後退させて、基材１５０を、ダイコータ１２０による塗布液１６０の塗布の際と同一条件で搬送する。分光干渉式膜厚計（例えば、浜松ホトニクス社製「Ｏｐｔｉｃａｌ  ＮａｎｏＧａｕｇｅ  Ｃ１３０２７−１１」）を用いて、周面Ｓ３と基材１５０との間の気体層１７０の厚みを、複数地点で測定し、その平均値を、塗布液１６０が塗布される基材１５０の位置Ｐ１５０における気体層１７０の厚みとしうる。
【００３９】
更に具体的には、例えば、塗布液１６０の塗布の際にダイコータ１２０のリップ１２３が対向する、基材１５０の位置において、幅方向に並ぶ３地点で気体層１７０の厚みを測定し、さらに、この測定を、ダイコータ１２０のリップ１２３の先端が対向する基材１５０の位置から、搬送方向上流にある位置において６地点と、ダイコータ１２０のリップ１２３の先端が対向する基材１５０の位置から、搬送方向下流にある位置において６地点とについて行って、合計１５地点で気体層１７０の厚みを測定し、これら１５地点における気体層１７０の厚みの平均値を、塗布液１６０が塗布される基材１５０の位置Ｐ１５０における気体層１７０の厚みとしうる。
【００４０】
隣接する測定地点の、基材１５０の搬送方向における間隔は、使用されるダイコータ１２０の大きさなどにより適宜設定しうるが、例えば、３０ｍｍ以上７０ｍｍ以下、好ましくは４０ｍｍ以上６０ｍｍ以下としうる。
隣接する測定地点の、基材１５０の幅方向における間隔は、搬送される基材１５０の幅などにより適宜設定しうるが、例えば、１００ｍｍ以上３００ｍｍ以下としうる。好ましくは１５０ｍｍ以上２５０ｍｍ以下としうる。
【００４１】
気体層１７０の厚みは、２つのレーザー変位計を用いて測定してもよい。具体的には、下記方法により測定してもよい。２つのレーザー変位計の測定基準位置を一致させる。一方のレーザー変位計により、測定基準位置からバックアップロール１１０の周面Ｓ３までの距離Ａを測定する。他方のレーザー変位計により、測定基準位置から基材１５０のダイコータ１２０と対向する面までの距離Ｂを測定する。更に基材１５０の厚みＴを膜厚計などで測定する。距離Ａから、距離Ｂ及び厚みＴを減ずることにより、気体層１７０の厚みを求めうる。
【００４２】
また、気体層１７０の厚みは、微圧接触式変位計を用いて測定してもよい。具体的には、あらかじめ、バックアップロール１１０の周面Ｓ３における変位値を測定してこれを零値とし、基材１５０のダイコータ１２０と対向する面の変位値Ａを測定し、変位値Ａから基材１５０の厚みＴを減ずることにより、求めてもよい。
【００４３】
本実施形態の製造方法では、気体層１７０を形成させるために、バックアップロール１１０の周面１１０Ｓと基材１５０との間に気体を供給する。
より具体的には、本実施形態の製造方法では、製造装置１００が備える気体供給装置１３０が、基材１５０が沿い始めるバックアップロール１１０の周面Ｓ１と、基材１５０との間に、気体を吹き付けることにより気体を供給する。製造装置１００は、調整装置１３１を備える。調整装置１３１は、気体供給装置１３０から供給される気体の量を調整できる。そのため、製造装置１００は、塗布液１６０が塗布される基材１５０の位置Ｐ１５０における、バックアップロール１１０の周面Ｓ３と基材１５０との間の気体層１７０の厚みを、１μｍ以上２０μｍ以下としうる。
【００４４】
［１．４．第２実施形態］
第２実施形態に係る光学フィルムの製造方法では、バックアップロールの周面から気体を噴出させることにより、塗布液が塗布される基材の位置において、バックアップロールの周面と基材との間に、厚み１μｍ以上２０μｍ以下の気体層を形成させる。
【００４５】
図２は、第２実施形態の光学フィルムの製造方法を実施しうる、光学フィルムの製造装置の一例を示す概略図である。図２に示すように、光学フィルムの製造装置２００は、バックアップロール２１０と、ダイコータ１２０とを備える。
【００４６】
バックアップロール２１０は、中空であり、内部に気体室２１１が設けられている。バックアップロール２１０の周面２１０Ｓには、バックアップロール２１０の内部に設けられた気体室２１１と通じる通気孔２１０ｈが複数設けられている。バックアップロール２１０の気体室２１１にポンプなどの気体圧縮機（図示せず）から気体を圧送することにより、通気孔２１０ｈから気体を噴出させうる。バックアップロール２１０の周面２１０Ｓを、多孔質材料で形成することにより、通気孔２１０ｈを設けてもよい。
通気孔２１０ｈから噴出された気体は、基材１５０をバックアップロール２１０の周面２１０Ｓから浮上させ、その結果、塗布液１６０が塗布される基材１５０の位置Ｐ１５０における、バックアップロール２１０の周面Ｓ３と基材１５０との間に気体層１７０を形成しうる。気体圧縮機から圧送される気体量を調整することにより、気体層１７０の厚みを１μｍ以上２０μｍ以下としうる。
【００４７】
本実施形態では、バックアップロール２１０は、回転しないように製造装置２００に取り付けられているが、別の実施形態では、バックアップロール２１０は、方向Ｄ１に、軸２１０Ｒを中心として回転するように、駆動されてもよく、更に別の実施形態では、バックアップロール２１０は、駆動されずに軸２１０Ｒを中心として自由に回転可能に製造装置２００に取り付けられていてもよく、更に別の実施形態では、バックアップロール２１０は、方向Ｄ１とは逆の方向に、軸２１０Ｒを中心として回転するように、駆動されてもよい。
【００４８】
製造装置２００は、気体供給装置１３０及び調整装置１３１を更に備えていてもよい。
これにより、バックアップロール２１０の周面２１０Ｓから気体を噴出させると共に、気体供給装置１３０及び調整装置１３１により、基材１５０が沿い始めるバックアップロール２１０の周面Ｓ１と基材１５０との間に気体を吹き付けて、バックアップロール２１０の周面２１０Ｓと基材１５０との間に気体を供給しうる。
【００４９】
製造装置２００は、ロール対１４０を更に備えていてもよい。
これにより、基材１５０が離れ始めるバックアップロール２１０の周面Ｓ２と基材１５０との間から、基材１５０の搬送方向下流へ向かう、気体の流れを制限する。
【００５０】
［１．５．第３実施形態］
第３実施形態に係る光学フィルムの製造方法では、バックアップロールの周面に、少なくとも一つの凸部を設ける。図３は、第３実施形態に係る光学フィルムの製造方法を実施しうる、光学フィルムの製造装置の一例を示す概略図である。
光学フィルムの製造装置３００は、バックアップロール３１０と、ダイコータ１２０とを備える。
【００５１】
バックアップロール３１０は、周面３１０Ｓに複数の凸部３１１が設けられている以外は、バックアップロール１１０と同様の構成を有する。凸部３１１の形状、数は、特に限定されず、例えば、格子状の凸部；バックアップロール３１０の軸方向と平行な線状である、複数の凸部；ドット状に配置された複数の凸部であってもよい。凸部３１１の形状は、周期的形状であっても非周期的形状であってもよい。
【００５２】
周面３１０Ｓに凸部３１１が設けられたバックアップロール３１０が回転軸３１０Ｒを中心として回転して基材１５０を搬送すると、搬送される基材１５０とバックアップロール３１０の周面３１０Ｓとの間に、気体層１７０が形成される。塗布液１６０が塗布される基材１５０の位置Ｐ１５０において、バックアップロール３１０の周面Ｓ３と基材１５０との間に形成される気体層１７０の厚みが１μｍ以上２０μｍ以下となるように、凸部３１１の高さを設定することにより、塗布層の厚みムラを抑制して、光学フィルムの斑点及びスジの発生を抑制できる。
【００５３】
本実施形態では、バックアップロール３１０の周面３１０Ｓに設けられた凸部３１１の高さは、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは１．２μｍ以上、更に好ましくは１．５μｍ以上であり、好ましくは２０μｍ以下、より好ましくは１５μｍ以下、更に好ましくは１２μｍ以下である。ここで、バックアップロール３１０の周面３１０Ｓ上に複数の凸部３１１を設ける場合、凸部３１１の高さは、複数の凸部３１１の高さの平均値である。
凸部の高さは、バックアップロール３１０の周長を評価長さとして測定しうる。測定装置としては、接触式の変位計（例、小型電気マイクロメータ「ミニコム−Ｍ」（東京精密社製、微圧接触ヘッドを備える））及び非接触式の変位計（例、分光干渉レーザー変位計「ＳＩ−Ｆ１０」（キーエンス社製））を用いうる。
【００５４】
隣接する凸部３１１同士の間隔（ピッチ）は、好ましくは２０ｍｍ以上、より好ましくは３０ｍｍ以上であり、好ましくは７０ｍｍ以下、より好ましくは５０ｍｍ以下である。
【００５５】
所定の高さを有する凸部３１１をバックアップロール３１０の周面３１０Ｓに形成する方法の例としては、特に限定されないが、例えば、バックアップロールの周面に、サンドブラスト処理を行う方法、グラインダ研磨により砥石がビビり振動を発生する条件でバックアップロール表面を研磨する方法が挙げられる。
【００５６】
本実施形態では、バックアップロール３１０は、方向Ｄ１に、軸３１０Ｒを中心として回転するように、駆動されるが、別の実施形態では、バックアップロール３１０は、駆動されずに軸３１０Ｒを中心として自由に回転可能に製造装置３００に取り付けられていてもよく、更に別の実施形態では、バックアップロール３１０は、方向Ｄ１とは逆の方向に、軸３１０Ｒを中心として回転するように、駆動されてもよい。
【００５７】
［２．光学フィルムの製造方法及び製造装置の作用]
以上の実施形態に係る光学フィルムの製造方法及び光学フィルムの製造装置では、塗布液が塗布される基材の位置において、バックアップロールの周面と前記基材との間に厚み１μｍ以上２０μｍ以下の気体層を形成させる。これにより、基材に形成される塗布層の厚みムラを抑制して、光学フィルムの斑点及びスジの発生を抑制できる。また、光学フィルムにおける斑点の発生を抑制できるので、付着した異物を除去するための、バックアップロールのクリーニング頻度を小さくできる。その結果、高品質の光学フィルムを、製造装置を長期間停止せずに製造することができ、光学フィルムの生産性が向上する。
【実施例】
【００５８】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
【００５９】
以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
【００６０】
［評価方法］
（幅方向のスジ（横段）の評価方法）
得られた長尺の光学フィルムから幅０．７ｍ×長さ２ｍの大きさのフィルム片を切り出した。切り出しの際は、フィルム片の各辺が、光学フィルムの搬送方向又は幅方向に平行となるようにした。切り出したフィルム片を、２枚の偏光フィルムの間に挟み、クロスニコル状態として、評価サンプルを作成した。評価サンプルの背後から面光源を当て、評価サンプルを通過した光の状態を目視にて観察し、横段の有無、横段の強度、及び強い横段があった場合は横段のピッチを確認した。
横段があった場合の、横段の強度は、横段部及び横段部以外の部分における、色のコントラスト（白色と黒色とのコントラスト）を目視により観察することにより評価した。コントラストが強い場合を横段の強度が強いと評価し、コントラストが弱い場合を横段の強度が弱いと評価した。
横段のピッチについては、強い横段上に、フェルトペンで線を引き、１０本の線と線との間隔について平均値を求め、光学フィルムの横段のピッチとした。
【００６１】
（斑点（スポットムラ）の評価方法）
得られた長尺の光学フィルムから幅０．７ｍ×長さ２ｍの大きさのフィルム片を切り出した。切り出しの際は、フィルム片の各辺が、光学フィルムの搬送方向又は幅方向に平行となるようにした。切り出したフィルム片を、２枚の偏光フィルムの間に挟み、クロスニコル状態として、評価サンプルを作成した。評価サンプルの背後から面光源を当て、評価サンプルを通過した光の状態を目視にて観察し、丸い斑点状（スポット状）欠陥の有無を確認した。幅０．７ｍ×長さ２ｍの範囲に存在するスポット状欠陥の個数を数え、光学フィルム１ｍ２当たりの個数に換算した。
【００６２】
［実施例１］
液晶性化合物、カイラル剤、酸化防止剤、界面活性剤、重合開始剤、及び溶媒を含む塗布液を調製した。条件：Ｅ型粘度計コーンロータ、２３℃、１００ｒｐｍにより測定された塗布液の粘度は、２．８〜３ｍＰａ・ｓであった。
【００６３】
基材として、脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる、長尺の延伸フィルム（日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」、厚み７７μｍ、幅７００ｍｍ）を用意した。
基材と鉄板（最大表面粗さＲｙ＝０．６μｍ）との静摩擦係数を、摩擦測定器（東洋精機製作所社製「ＦＲＩＣＴＩＯＮ  ＴＥＳＴＥＲ  ＴＲ−２」）を用いて、速度２０ｍｍ／ｍｉｎ、測定距離３０ｍｍ、荷重レンジ１０Ｎ、スレッド質量２００ｇの条件で測定したところ、１．０であった。
鉄板の最大表面粗さＲｙは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に従い測定した。具体的には、測定装置としては、小型表面粗さ測定機「サーフテストＳＪ−３１０」（株式会社ミツトヨ製）を用い、評価長さ４．０ｍｍ（カットオフ値λｃ  ０．８ｍｍ×５）とし、ダイヤモンド探針で表面をなぞることにより測定した。
なお、鉄板としては、表面にハードクロムメッキを施した、メッキ厚が１００μｍのものを用いた。
【００６４】
光学フィルムの製造装置として、図１に示される、バックアップロール１１０と、ダイコータ１２０と、気体供給装置１３０と、調整装置１３１と、ロール対１４０とを備える製造装置１００を用意した。バックアップロール１１０の直径は、１５０ｍｍである。
気体供給装置１３０から吹き付ける気体の量を、１５０Ｌ／ｍｉｎに調整した。
ロール対１４０を構成する第１補助ロール１４１は、直径が１０ｍｍであり、その周面１４１Ｓがゴムで形成されている。また第２補助ロール１４２は、直径が１０ｍｍであり、その周面１４２Ｓが、金属（アルミニウム材）で形成されている。
基材の搬送速度を、１０ｍ／ｍｉｎとした。
基材の張力を、６０Ｎとした。
バックアップロール１１０に、駆動装置（図示せず）を取り付け、バックアップロール１１０を方向Ｄ１に回転させた。
【００６５】
前記条件で、製造装置１００により基材を搬送しながら、気体層１７０の厚みを分光干渉式膜厚計（浜松ホトニクス社製「Ｏｐｔｉｃａｌ  ＮａｎｏＧａｕｇｅ  Ｃ１３０２７−１１」）により測定した。測定は、ダイコータ１２０を塗布位置から後退させて、以下のとおりにして行った。
塗布液１６０の塗布の際にダイコータ１２０のリップ１２３の先端が対向する、基材１５０の位置において、幅方向に並ぶ３地点で気体層１７０の厚みを測定し、さらに、この測定を、ダイコータ１２０のリップ１２３の先端が対向する基材１５０の位置から、搬送方向上流にある位置において６地点と、ダイコータ１２０のリップ１２３の先端が対向する基材１５０の位置から、搬送方向下流にある位置において６地点とについて行って、これら１５地点における気体層１７０の厚みの平均値を求めた。すなわち、気体層の厚みを、バックアップロール１１０の幅方向に並ぶ３地点で測定し、この測定をバックアップロール１１０の周方向であって基材の搬送方向上流に向かって更に２回、バックアップロール１１０の周方向であって基材の搬送方向下流に向かって更に２回、繰り返し、得られた気体層の厚みの平均値を求めた。基材の幅方向における測定地点の間隔は、２００ｍｍとした。基材の搬送方向における測定地点の間隔は、５０ｍｍとした。
【００６６】
製造装置１００を用いて、基材に塗布液を塗布した。ダイコータ１２０のスリット１２４を、１２０μｍに調整し、リップ１２３とバックアップロール１１０との間隔は、１００μｍとして、塗布液の乾燥膜厚が２．５μｍとなるようにした。
【００６７】
基材に塗布液を塗布して塗布層を形成した後、塗布層を４０℃で１分間、次いで１１０で１分間乾燥させ、次いで乾燥された塗布層に紫外線を照射することにより塗布層を硬化させて、光学フィルムを得た。
【００６８】
得られた光学フィルムについて、スジ（横段）及び斑点（スポットムラ）を、前記方法により評価した。結果を表１に示す。
【００６９】
［実施例２］
下記事項以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得て、これを評価した。
・バックアップロール１１０に取り付けられていた駆動装置を取り外し、バックアップロール１１０が自由に回転できるようにした。
・基材の搬送速度を、１０ｍ／ｍｉｎとした。
・基材の張力を、６０Ｎ以下とした。
結果を表１に示す。
【００７０】
［実施例３］
下記事項以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得て、これを評価した。
・製造装置１００の代わりに、図３に示す、バックアップロール３１０と、ダイコータ１２０とを備える製造装置３００を用いた。バックアップロール３１０は、バックアップロール３１０の軸方向と平行な線状である、複数の凸部３１１を有する。ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に従い測定された、評価長さ４．０ｍｍにおけるバックアップロール３１０の最大表面粗さＲｙは、１．２μｍである。最大表面粗さは、測定装置としては、小型表面粗さ測定機「サーフテストＳＪ−３１０」（株式会社ミツトヨ製）を用い、評価長さ４．０ｍｍ（カットオフ値λｃ  ０．８ｍｍ×５）とし、ダイヤモンド探針で表面をなぞることにより測定した。
バックアップロール３１０の周長を評価長さとして測定した、凸部３１１の高さは、１．５μｍであり、隣り合う凸部３１１の間隔（ピッチ）は、２０ｍｍである。ここで、凸部３１１の高さ及びピッチは、キーエンス社製  分光干渉レーザー変位計「ＳＩ−Ｆ１０」により測定した。バックアップロール３１０の直径は、１５０ｍｍである。
・基材の搬送速度を、１０ｍ／ｍｉｍとした。
・基材の張力を、１５０Ｎとした。
・バックアップロール３１０に、駆動装置（図示せず）を取り付け、バックアップロール３１０を方向Ｄ１に回転させた。
結果を表１に示す。
【００７１】
［実施例４］
下記事項以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得て、これを評価した。
・製造装置１００の代わりに、図２に示す、バックアップロール２１０と、ダイコータ１２０とを備える製造装置２００を用いた。バックアップロール２１０は、周面２１０Ｓが、多孔質材料で形成されている。
・バックアップロール２１０の周面２１０Ｓから、気体（空気）を噴出させながら基材の搬送を行った。
結果を表１に示す。
【００７２】
［実施例５］
下記事項以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得て、これを評価した。
・製造装置１００から、気体供給装置１３０、調整装置１３１、及びロール対１４０を取り外した。
・バックアップロール１１０を、方向Ｄ１とは逆の方向に回転させた。
結果を表１に示す。
【００７３】
［比較例１］
下記事項以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得て、これを評価した。
・製造装置１００から、気体供給装置１３０、調整装置１３１、及びロール対１４０を取り外した。
・基材の搬送速度を、４ｍ／ｍｉｍとした。
・基材の張力を、１３０Ｎとした。
結果を表２に示す。
【００７４】
［比較例２］
下記事項以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得て、これを評価した。
・製造装置１００から、気体供給装置１３０、調整装置１３１、及びロール対１４０を取り外した。
・基材の搬送速度を、１０ｍ／ｍｉｍとした。
・基材の張力を、０Ｎとした。
結果を表２に示す。
【００７５】
【表１】
2020160240.tif 000003
【００７６】
【表２】
2020160240.tif 000004
【００７７】
以上の結果から、以下の事項が分かる。
厚み１μｍ以上２０μｍ以下の気体層を形成させる、実施例１〜５に係る光学フィルムの製造方法によれば、光学フィルムの幅方向に生じる厚みの大きいスジ（横段）の発生を抑制し、かつ斑点（スポットムラ）の発生を抑制できることが分かる。
一方、気体層の厚みが１μｍに満たない比較例１に係る製造方法では、光学フィルムに強いスジ（横段）が発生し、斑点（スポットムラ）の発生が顕著に多いことが分かる。
また、気体層の厚みが２０μｍより大きい比較例２に係る製造方法では、斑点の発生は抑制されるものの、強いスジが発生していることが分かる。
【符号の説明】
【００７８】
１００    ：製造装置
１１０    ：バックアップロール
１１０Ｒ  ：回転軸
１１０Ｓ  ：周面
１２０    ：ダイコータ
１２１    ：押出装置
１２２    ：管路
１２３    ：リップ
１２４    ：スリット
１３０    ：気体供給装置
１３１    ：調整装置
１４０    ：ロール対
１４１    ：第１補助ロール
１４１Ｒ  ：回転軸
１４１Ｓ  ：周面
１４２    ：第２補助ロール
１４２Ｒ  ：回転軸
１４２Ｓ  ：周面
１５０    ：基材
１６０    ：塗布液
１６１    ：塗布層
１７０    ：気体層
２００    ：製造装置
２１０    ：バックアップロール
２１０Ｒ  ：軸
２１０Ｓ  ：周面
２１０ｈ  ：通気孔
２１１    ：気体室
３００    ：製造装置
３１０    ：バックアップロール
３１０Ｒ  ：回転軸
３１０Ｓ  ：周面
３１１    ：凸部
Ｄ１      ：方向
Ｓ１      ：周面
Ｓ２      ：周面
Ｓ３      ：周面
【図１】
2020160240.tif 000005
【図２】
2020160240.tif 000006
【図３】
2020160240.tif 000007