(57)【要約】      （修正有）【課題】横型のトランスファー成形装置を用いて長尺で円筒形のゴム製品を成形する際、偏心したゴム製品の成形を抑制できる成形装置の提供。【解決手段】上面にキャビティの下半分Ｃ２が形成されていると共に、キャビティの中心軸に沿うようにセンターピン６が配置されている下型３と、下面にキャビティの上半分が形成されていると共に、ポット部が上面に形成されており、ポット部からキャビティの側方へ向けて注入ゲートが設けられている上型とを備えて、下型の上面と上型の下面を重ねることにより、断面が円形状で横方向に延びるキャビティが形成されるように構成され、最外側のキャビティのさらに外側に捨てゴムキャビティＷを備えており、注入ゲートの下端とキャビティおよび捨てゴムキャビティとの間に、注入ゲートを経由して注入されたゴムを、それぞれ、キャビティおよび捨てゴムキャビティに送り込む横ゲート５が配置されているトランスファー成形装置。【選択図】図３
2020001202.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数設けられたキャビティの各々にゴムを注入して、長尺で円筒形のゴム製品をトランスファー成形により複数同時に成形する横型のトランスファー成形装置であって、
上面に前記キャビティの下半分が半円柱状に形成されていると共に、前記キャビティの中心軸に沿うようにセンターピンが配置されている下型と、
下面に前記キャビティの上半分が半円柱状に形成されていると共に、上方に開口したポット部が上面に形成されており、前記ポット部から前記キャビティの側方へ向けて、ゴムを注入する注入ゲートが設けられている上型とを備えて、前記下型の上面と前記上型の下面を重ねることにより、断面が円形状で横方向に延びるキャビティが形成されるように構成され、
さらに、最外側の前記キャビティのさらに外側に、捨てゴムキャビティを備えており、
さらに、前記注入ゲートの下端と前記キャビティとの間、および前記注入ゲートの下端と前記捨てゴムキャビティとの間に、前記注入ゲートを経由して注入されたゴムを、それぞれ、前記キャビティおよび前記捨てゴムキャビティに送り込む横ゲートが配置されていることを特徴とするトランスファー成型装置。
【請求項２】
前記注入ゲートおよび前記横ゲートが、前記キャビティおよび前記捨てゴムキャビティの長手方向の複数箇所に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のトランスファー成形装置。
【請求項３】
前記注入ゲートおよび前記横ゲートが、均等の間隔で配置されていることを特徴とする請求項２に記載のトランスファー成形装置。
【請求項４】
前記捨てゴムキャビティの幅方向の断面形状が、前記横ゲート側が高く、反対側が低い階段状であることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置を用いて、長尺で円筒形のゴム製品をトランスファー成形により成形することを特徴とするトランスファー成形方法。
【請求項６】
ＮＲ、ＩＲ、ＢＲ、ＳＢＲ、ＩＩＲ、ＮＢＲ、ＥＰＤＭ、ＣＲ、ＡＣＭ、ＣＳＭ、Ｕ、Ｑ、ＦＫＭ、ＥＶＡ、ＣＯ、Ｔから選択された１種類もしくは２種類以上をゴム成分として、ＪＩＳ  Ｋ  ６２５３に規定するデュロメータタイプＡ硬度で３０〜９０度のゴム製品を成形することを特徴とする請求項５に記載のトランスファー成形方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、トランスファー成形装置および前記トランスファー成形装置を用いたトランスファー成形方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリンターやファクシミリなどのＯＡ機器においては、一般的に、ゴムローラなどの円筒形のゴム製品に中芯が挿通された部材が、紙送りローラなどの搬送ローラとして使用されているが、近年、大判紙の搬送に対する要求が強くなり、長さが１００ｍｍ以上という長尺の搬送ローラが求められている。
【０００３】
このような円筒形のゴム製品の製造方法として、横方向に延びるキャビティが設けられた横型のトランスファー成形装置を用いたトランスファー成形法が広く知られており、キャビティの中心に中芯に相当するセンターピンを配置して成形することが行われている。
【０００４】
しかしながら、従来の横型のトランスファー成形装置を用いて長尺で円筒形のゴム製品を成形する方法の場合に、ゴムの注入が不均等の場合、不均等に注入されたゴムの圧力を受けてセンターピンが反り、中芯挿通用の穴が偏心する恐れがある。
【０００５】
このような偏心したローラに中芯を挿通して、搬送ローラとして使用するために回転させると、偏心により搬送ローラが大きく振れて回転し、搬送ローラと紙との接地状態が不均一となり、紙送り速度や位置のバラつき、紙の斜行、シワの発生など、紙送りに支障をきたす恐れがある。
【０００６】
そこで、偏心することを見込んで大径のゴム製品を成形し、次工程である研磨工程において、偏心を解消させるように研磨を調整する方法が考えられるが、研磨に伴うゴムのロスの発生が多くなり、また研磨時間も長くなる。
【０００７】
また、ローラの偏心を防止する技術として、パイプ金型と軸体の円の中心を最も接近させる位置合わせ手段を有する金型を用いた成形技術（例えば、特許文献１）や、プレス成形機を用いて成形モールド内におけるゴムの充填をコントロールする成形技術（例えば、特許文献２）などが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−１６８２７４号公報
【特許文献２】特開２０１７−２１３８１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１に記載の技術は、液状ゴムにしか適用できない技術であり、ゴムコンパウンドを使用するトランスファー成形には適用することができない。また、特許文献２に記載の技術は、トランスファー成形の技術ではあるが、プレス機本体に制御機構が必要であり、また、それぞれのキャビティごとの制御が必要であるため非常にコストが掛かり、実用には適さない。
【００１０】
そこで、本発明は、横型のトランスファー成形装置を用いて長尺で円筒形のゴム製品を成形する際、偏心したゴム製品の成形を抑制することができるトランスファー成形技術を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、上記課題の解決について鋭意検討を行い、以下に記載する発明によれば上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１２】
請求項１に記載の発明は、
複数設けられたキャビティの各々にゴムを注入して、長尺で円筒形のゴム製品をトランスファー成形により複数同時に成形する横型のトランスファー成形装置であって、
上面に前記キャビティの下半分が半円柱状に形成されていると共に、前記キャビティの中心軸に沿うようにセンターピンが配置されている下型と、
下面に前記キャビティの上半分が半円柱状に形成されていると共に、上方に開口したポット部が上面に形成されており、前記ポット部から前記キャビティの側方へ向けて、ゴムを注入する注入ゲートが設けられている上型とを備えて、前記下型の上面と前記上型の下面を重ねることにより、断面が円形状で横方向に延びるキャビティが形成されるように構成され、
さらに、最外側の前記キャビティのさらに外側に、捨てゴムキャビティを備えており、
さらに、前記注入ゲートの下端と前記キャビティとの間、および前記注入ゲートの下端と前記捨てゴムキャビティとの間に、前記注入ゲートを経由して注入されたゴムを、それぞれ、前記キャビティおよび前記捨てゴムキャビティに送り込む横ゲートが配置されていることを特徴とするトランスファー成型装置である。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、
前記注入ゲートおよび前記横ゲートが、前記キャビティおよび前記捨てゴムキャビティの長手方向の複数箇所に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のトランスファー成形装置である。
【００１４】
請求項３に記載の発明は、
前記注入ゲートおよび前記横ゲートが、均等の間隔で配置されていることを特徴とする請求項２に記載のトランスファー成形装置である。
【００１５】
請求項４に記載の発明は、
前記捨てゴムキャビティの幅方向の断面形状が、前記横ゲート側が高く、反対側が低い階段状であることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置である。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、
請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載のトランスファー成形装置を用いて、長尺で円筒形のゴム製品をトランスファー成形により成形することを特徴とするトランスファー成形方法である。
【００１７】
請求項６に記載の発明は、
ＮＲ、ＩＲ、ＢＲ、ＳＢＲ、ＩＩＲ、ＮＢＲ、ＥＰＤＭ、ＣＲ、ＡＣＭ、ＣＳＭ、Ｕ、Ｑ、ＦＫＭ、ＥＶＡ、ＣＯ、Ｔから選択された１種類もしくは２種類以上をゴム成分として、ＪＩＳ  Ｋ  ６２５３に規定するデュロメータタイプＡ硬度で３０〜９０度のゴム製品を成形することを特徴とする請求項５に記載のトランスファー成形方法である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、横型のトランスファー成形装置を用いて長尺で円筒形のゴム製品を成形する際、偏心したゴム製品の成形を抑制することができるトランスファー成形技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施の形態に係るトランスファー成形装置を示す正断面図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係るトランスファー成形装置における上型の（ａ）上面図、（ｂ）正断面図、および（ｃ）下面図である。
【図３】本発明の一実施の形態に係るトランスファー成形装置における下型の（ａ）上面図、および（ｂ）正断面図である。
【図４】捨てゴムキャビティの形状の一例を説明する斜視図である。
【図５】捨てゴムキャビティ内で成形されたゴムの断面形状を説明する図である。
【図６】従来のトランスファー成形装置で成形したゴムローラの偏心状態を示すグラフである。
【図７】本発明の一実施の形態のトランスファー成形装置で成形したゴムローラの偏心状態を示すグラフである。
【図８】本発明の他の実施の形態のトランスファー成形装置で成形したゴムローラの偏心状態を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を実施の形態に基づき、図面を用いて説明する。
【００２１】
１．本実施の形態の概要
本実施の形態に係るトランスファー成形装置は、以下の点においては従来の横型のトランスファー成形装置と同様である。
（ａ）上面にキャビティの下半分が半円柱状に形成されていると共に、キャビティの中心軸に沿うようにセンターピンが配置されている下型を備えている。
（ｂ）下面にキャビティの上半分が半円柱状に形成されていると共に、上方に開口したポット部が上面に形成されており、ポット部からゴムを注入する注入ゲートが設けられている上型を備えている。
（ｃ）下型の上面と上型の下面を重ねることにより、断面が円形状で横方向に延びるキャビティが形成される。
【００２２】
しかしながら、本実施の形態に係るトランスファー成形装置は、以下の点において従来の横型のトランスファー成形装置と異なっている。
（ａ）最外側のキャビティのさらに外側に、捨てゴムキャビティを備えている。
（ｂ）ゴムを注入する注入ゲートが、ポット部からキャビティの側方へ向けて設けられている。
（ｃ）注入ゲートの下端とキャビティとの間、および前記注入ゲートの下端と捨てゴムキャビティとの間に、注入ゲートを経由して注入されたゴムを、それぞれ、キャビティおよび捨てゴムキャビティに送り込む横ゲートが配置されている。
【００２３】
このように、捨てゴムキャビティを設けて、横ゲートを介してゴムを注入することにより、各キャビティへのゴムの注入圧力を均等にすることができるため、長尺のゴム製品を成形する場合でも、センターピンへ掛かる圧力を適切に制御して、偏心したゴム製品の成形を抑制することができる。
【００２４】
即ち、横ゲートを介してキャビティの両側よりゴムを注入した場合、最外側のキャビティ以外では、２つの横ゲートからほぼ半量ずつゴムが入ってくるため、キャビティ内のセンターピンへは均等に圧力が掛かり、偏心が生じにくい。一方、最外側のキャビティでは、内側の横ゲートからは上記と同様にゴムが入ってくるが、外側の横ゲートからは全量のゴムが入ってくるため、キャビティ内のセンターピンへは不均等に圧力が掛かり、偏心が生じやすい。
【００２５】
しかし、本実施の形態のように、捨てゴムキャビティを設けた場合には、最外側のキャビティにおいても、２つの横ゲートからほぼ半量ずつゴムが入ってくることになり、センターピンへ掛かる圧力をほぼ均等に保つことができるため、偏心の発生を抑制することができる。
【００２６】
２．トランスファー成形装置
以下、本実施の形態に係るトランスファー成形装置の具体的な構成について説明する。
【００２７】
（１）全体構成
図１は、本実施の形態に係るトランスファー成形装置を示す正断面図である。そして、図２は、このトランスファー成形装置における上型の（ａ）上面図、（ｂ）正断面図、および（ｃ）下面図である。また、図３は、下型の（ａ）上面図、および（ｂ）正断面図である。
【００２８】
図１に示すように、成形時、上型２と下型３とは、上型２の下面と下型３の上面とが重なり合うように、載置される。これにより、上型２と下型３の合わせ面Ｍにおいて、上型２に半円柱状に形成されたキャビティの上半分と、下型３に半円柱状に形成されたキャビティの下半分とで、断面が円形状で横方向に延びるキャビティＣが形成される。なお、この載置に先立って、キャビティＣの中心軸に沿うようにセンターピン６を下型３に配置しておく。
【００２９】
そして、本実施の形態のトランスファー成形装置は、以下の点を特徴部として備えている。
・最外側のキャビティＣのさらに外側に捨てゴムキャビティＷを備えている。
・ポット部７からキャビティＣの側方へ向けて、ゴムを注入する注入ゲート４が設けられている。
・注入ゲート４の下端とキャビティＣとの間、および注入ゲート４の下端と捨てゴムキャビティＷとの間に、注入ゲート４を経由して注入されたゴムを、それぞれ、キャビティＣおよび捨てゴムキャビティＷに送り込む横ゲート５が配置されている。
【００３０】
そして、このようにすることにより、前記したように、最外側のキャビティにおいても、２つの横ゲートからほぼ半量ずつゴムが入って、センターピンへ掛かる圧力をほぼ均等に保つことができ、偏心の発生を抑制することができる。この結果、長尺のゴム製品を成形する場合でも、偏心したゴム製品が成形されることを抑制することができる。
【００３１】
（２）具体的な構成
以下、本実施の形態に係るトランスファー成形装置の具体的な構成について説明する。
【００３２】
（ａ）上型
図２に示すように、本実施の形態のトランスファー成形装置１の上型２には、前記したように、下面にキャビティの上半分Ｃ１が形成され、上方には開口したポット部７が一体に形成されている。そして、ポット部７からキャビティの側方へ向けて注入ゲート４が設けられている。また、合わせ面上における注入ゲート４の下端部である注入ゲート連結部４ＡとキャビティＣとの間には、横ゲート５の上半分が設けられている。
【００３３】
（ｂ）下型
図３に示すように、本実施の形態のトランスファー成形装置１の下型３には、前記したように、上面にキャビティの下半分Ｃ２が形成されている。そして、上型の場合と同様に、合わせ面上における注入ゲート４の下端部である注入ゲート連結部４ＡとキャビティＣとの間には、横ゲート５の下半分が設けられている。
【００３４】
（ｃ）ピストン型
図１に示すように、本実施の形態のトランスファー成形装置１のピストン型１０は、上型２のポット部７の形状に対応した形状を有しており、ポット部７の側壁の内面を摺動しながら下降する。これにより、ピストン型１０は、トランスファー成形の際にはポット部７に投入されたゴムを確実に注入ゲート４へと押し込むことができる。
【００３５】
（３）本実施の形態における特徴部
次に、本実施の形態のトランスファー成形装置の特徴部について、注入ゲートと横ゲート、および、捨てゴムキャビティに分けて説明する。
【００３６】
（ａ）注入ゲートと横ゲート
図１〜図３に示すように、トランスファー成形装置１には、ポット部７から下方に向かってゴムを注入する注入ゲート４が設けられており、さらに、上型２と下型３の合わせ面に、上型２に設けられた縦方向の注入ゲート４の下端とキャビティＣを連結するように横ゲート５が設けられている。
【００３７】
本実施の形態において、横ゲート５は、図３（ａ）に示すように、キャビティＣ（図３は下型であるため、Ｃ２で示している）の両側方に設けられて、１つの横ゲート５から２つのキャビティＣに向けてゴムを注入している。
【００３８】
本実施の形態において、横ゲート５は、キャビティＣの長手方向に対して複数配置されることが好ましく、均等な間隔で配置されているとより好ましい。例えば、図２、図３では、キャビティＣの長手方向に長さの１／５の間隔で４つの横ゲート５が配置されている。このように横ゲート５が均等に複数箇所設けられることにより、長尺のキャビティ内へのゴムの注入を均等に確保して、効率的にゴムの注入を行うことができる。
【００３９】
（ｂ）捨てゴムキャビティ
本実施の形態において、最外側のキャビティＣのさらに外側には、捨てゴムキャビティＷが設けられて、横ゲート５と連結されている。これにより、最外側のキャビティＣにおいても、内側に位置するキャビティＣと同様に、両側の横ゲート５からほぼ半量ずつのゴムを注入して、センターピンへ掛かる圧力をほぼ均等に保つことができるため、偏心したゴム製品の成形を抑制することができる。
【００４０】
図４は、捨てゴムキャビティの形状の一例を説明する斜視図である。なお、図４においては、紙面の左から右へとゴムが注入されていく。図４（ａ）、（ｂ）に例示するように、本実施の形態において、捨てゴムキャビティＷの形状は、余分なゴムを流し込むことができれば限定されず、図４（ａ）に示す棒状や、板状などの簡単な形状の他に、ゴムの流れの方向に合わせて、即ち、図４（ｂ）に示すように、横ゲート５側から外方に向けて階段状に厚みが薄くなる形状であってもよい。
【００４１】
図５は、捨てゴムキャビティ内で成形されたゴムの断面形状を説明する図であり、図４（ａ）、（ｂ）に示した形状の捨てゴムキャビティＷに対応している。即ち、図５（ａ）は、図４（ａ）に示す棒状の捨てゴムキャビティＷにおけるゴムの断面図、図５（ｂ）は、図４（ｂ）に示す階段状の捨てゴムキャビティＷにおけるゴムの断面図である。
【００４２】
捨てゴムキャビティＷへゴムを注入すると、図５（ａ）の場合には、広い空間に部分的にゴムＧが流れ込んで、横ゲートとの連結部に隙間を形成した状態で、奥まで入り込むため、キャビティ側にゴムの充填不良を生じやすい。一方、図５（ｂ）の場合には、ゴムの粘性によって、段差部の空間を順次埋めるように階段状にゴムＧが流れ込んでいくため、キャビティ側にゴムの充填不良が生じにくい。このため、捨てゴムキャビティＷの形状としては、図５（ｂ）に示した階段状であることが好ましい。
【００４３】
また、図５（ｂ）に示した階段状の捨てゴムキャビティの場合には、余分なゴムにより、合わせ面に出る薄いフローバリが形成されることを抑制して、作業中に作業者の手に付着したフローバリがゴム製品に付くというリスクも低減することができる。
【００４４】
３．ゴム製品の成形方法
以下、上記の構成のトランスファー成形装置を用いた、トランスファー成形について説明する。
【００４５】
最初に、下型３を合わせ面が上になるように載置して、キャビティＣの中心軸に沿うようにセンターピン６を配置する（図３参照）。
【００４６】
次に、下型３の上に、合わせ面Ｍが下になるようにして上型２を載置する。これにより、上型２と下型３の合わせ面Ｍにおいて、断面が円形状のキャビティＣおよび捨てゴムキャビティＷが形成される（図１参照）。
【００４７】
次に、上型２のポット部７内にゴムを投入する。そして、上型のポット部７にピストン型１０を押し込むことによりゴムを注入ゲート４へ押し込む。注入ゲート４に押し込まれたゴムは、その後、横ゲートを経由してキャビティＣおよび捨てゴムキャビティＷのそれぞれに注入される。
【００４８】
キャビティＣ内に所定量のゴムを注入した後は、所定時間、加圧、加熱することにより、ゴム製品の加硫成形を行う。
【００４９】
成形が完了した後は、まずピストン型１０のみを分離させ、その後、上型２と下型３とを分離させる。このとき、成形されたゴム製品は、下型３のキャビティの下半分Ｃ２上に残っている。そして、成形されたゴム製品をセンターピン６から引き抜いて脱型することにより、成形を完了する。
【００５０】
脱型されたゴム製品には、横ゲート５に対応する形状のバリが付いているため、作業者が除去し、その後、表面を研磨加工する。
【００５１】
本実施の形態のゴム製品の成形方法は、長尺で偏心しやすい、長さが１００ｍｍ以上の搬送ローラの成形に、特に、好ましく適用することができる
【００５２】
４．ゴム製品
本実施の形態において、成形するゴム製品としては、ゴム材質が、ＮＲ（天然ゴム）、ＩＲ（イソプレンゴム）、ＢＲ（ブタジエンゴム）、ＳＢＲ（スチレンブタジエンゴム）、ＩＩＲ（ブチルゴム）、ＮＢＲ（ニトリルゴム）、ＥＰＤＭ（エチレンプロピレンゴム）、ＣＲ（クロロプレンゴム）、ＡＣＭ（アクリルゴム）、ＣＳＭ（クロルスロフォン化ポリエチレン）、Ｕ（ウレタンゴム）、Ｑ（シリコーンゴム）、ＦＫＭ（フッ素ゴム）、ＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル）、ＣＯ（エビクロルヒドリンゴム）、Ｔ（多硫化ゴム）から選択された１種類もしくは２種類以上で、ＪＩＳ  Ｋ  ６２５３に規定するデュロメータタイプＡ硬度で、３０〜９０度であるゴム製品が特に好ましい。
【実施例】
【００５３】
次に、実施例に基づき本発明をより具体的に説明する。
【００５４】
１．試験方法
本発明の効果を確認するため、従来のトランスファー成形装置（比較例１）、および、本発明のトランスファー成形装置（実施例１、２）を用いて、ゴム製品として外径φ１５ｍｍ×内径φ６ｍｍ×全長２５０ｍｍのプリンター用ゴムローラを成形した。なお、本実験においては、シリコーンゴムコンパウンドを用いてトランスファー成形を行った。
【００５５】
使用したゴム配合を表１に示す。
【００５６】
【表１】
2020001202.tif 000003
【００５７】
トランスファー成形装置として、上記の寸法のローラに対応したキャビティが１５設けられ、各々のキャビティの両側に、長手方向に１／４の位置に３本ずつの横ゲート（横ゲート幅２ｍｍ、厚さ１ｍｍ）が設けられたトランスファー成形装置を使用した。比較例１、実施例１、実施例２のトランスファー成形装置の捨てゴムキャビティの位置と構造を表２に示す。
【００５８】
【表２】
2020001202.tif 000004
【００５９】
上記のトランスファー成形装置を用いて、加硫温度１７０℃、加硫時間１０分、プレス圧力１０ＭＰａの加硫条件で成形した。そして、成型後、２００℃で４時間の二次加硫を実施した。
【００６０】
二次加硫後の筒状のゴムローラをφ６×３００ｍｍの金属シャフトに挿入して、回転させ、レーザー測定機にて、回転中のゴムローラ表面における上下フレを測定した。なお、測定は、それぞれのゴムローラの長手方向の一端から５０ｍｍ位置（上）、ゴムローラ中央位置（中）、ゴムローラの長手方向の他端から５０ｍｍ位置（下）の３点で行った。
【００６１】
２．試験結果
試験の結果を、表３〜表５、図６〜図８に示す。なお、図６〜図８は表３〜表５をそれぞれグラフ化した図であり、横軸はキャビティ（ｃａｖ．）Ｎｏ．であり、縦軸はフレの大きさである。
【００６２】
【表３】
2020001202.tif 000005
【００６３】
【表４】
2020001202.tif 000006
【００６４】
【表５】
2020001202.tif 000007
【００６５】
表３〜表５、図６〜図８より、捨てゴムキャビティを設けていないトランスファー成形装置を用いた比較例１では最外側にあるＣａｖ．１およびＣａｖ．１５でフレの大きさがそれぞれ、１．０８、１．１８と、合否判定基準値０．５を大幅に超えていることが分かる。
【００６６】
一方、捨てゴムキャビティを設けた本実施の形態に係るトランスファー成形装置を用いた実施例１、実施例２では、最外側にあるＣａｖ．１およびＣａｖ．１５を含めて、全てのＣａｖ．でフレの大きさが０．５を大幅に下回っていることが分かる。また、階段状の捨てゴムキャビティを設けた実施例２では特にフレの大きさが小さく、偏心を抑制する効果が顕著であることが分かる。
【００６７】
以上、本発明を実施の形態に基づいて説明したが、本発明は、上記の実施の形態に限定されるものではない。本発明と同一および均等の範囲内において、上記の実施の形態に対して種々の変更を加えることが可能である。
【符号の説明】
【００６８】
１            トランスファー成形装置
２            上型
３            下型
４            注入ゲート
４Ａ          注入ゲート連結部
５            横ゲート
６            センターピン
７            ポット部
１０          ピストン型
Ｃ            キャビティ
Ｃ１          キャビティの上半分
Ｃ２          キャビティの下半分
Ｇ            ゴム
Ｍ            合わせ面
Ｗ            捨てゴムキャビティ
【図１】
2020001202.tif 000008
【図２】
2020001202.tif 000009
【図３】
2020001202.tif 000010
【図４】
2020001202.tif 000011
【図５】
2020001202.tif 000012
【図６】
2020001202.tif 000013
【図７】
2020001202.tif 000014
【図８】
2020001202.tif 000015