(57)【要約】【課題】十分な強度および耐熱性を有し、かつリサイクル性および酸素吸収性にも優れる包装材料などの作製を可能とする、積層体を提供【解決手段】本発明の積層体は、基材と、接着層と、ヒートシール層とを備える積層体であって、基材およびヒートシール層が同一の材料により構成され、基材に対し、延伸処理および電子線照射処理の少なくとも一方が施されており、同一材料が、ポリエチレンまたはポリプロピレンであり、接着層およびヒートシール層の少なくとも一層が、酸素吸収剤を含むことを特徴とする。  【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、接着層と、ヒートシール層とを備える積層体であって、
前記基材および前記ヒートシール層が同一の材料により構成され、
前記基材に対し、延伸処理および電子線照射処理の少なくとも一方が施されており、
前記同一材料が、ポリエチレンまたはポリプロピレンであり、
前記接着層および前記ヒートシール層の少なくとも一層が、酸素吸収剤を含むことを特徴とする、積層体。
【請求項２】
前記接着層が、酸素吸収剤を含むことを特徴とする、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記接着層における前記酸素吸収剤の含有量が、５質量％以上、８０質量％以下である、請求項２に記載の積層体。
【請求項４】
前記接着層が、遷移金属化合物をさらに含む、請求項２または３に記載の積層体。
【請求項５】
前記ヒートシール層が、前記酸素吸収剤を含む、請求項１に記載の積層体。
【請求項６】
前記ヒートシール層が、内層と、中間層と、外層とを備え、
前記中間層が、前記酸素吸収剤を含む、請求項１に記載の積層体。
【請求項７】
前記中間層における前記酸素吸収剤の含有量が、１質量％以上、４０質量％以下である、請求項６に記載の積層体。
【請求項８】
前記中間層が、遷移金属化合物をさらに含む、請求項５〜７のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項９】
包装材料用途に用いられる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の積層体により構成されることを特徴とする、包装材料。
【請求項１１】
包装袋であって、
請求項１〜９のいずれか一項に記載の積層体により構成され
前記ヒートシール層の厚さが、２０μｍ以上、６０μｍ以下であることを特徴とする、包装袋。
【請求項１２】
スタンドパウチであって、
請求項１〜９のいずれか一項に記載の積層体により構成され、
前記ヒートシール層の厚さが、５０μｍ以上、２００μｍ以下であることを特徴とする、スタンドパウチ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、包装材料などの作製に使用される積層体に関し、さらに詳細には、ポリエチレンまたはポリプロピレンから構成される基材と、ポリエチレン重合体またはポリプロピレン重合体から構成されるドライラミネート層と、ポリエチレンまたはポリプロピレンから構成されるヒートシール層とを備える積層体に関する。
また、本発明は、該積層体から構成される包装材料、包装袋およびスタンドパウチに関する。
【０００２】
従来、包装材料を構成する材料として、樹脂材料から構成される樹脂フィルムが使用されている。例えば、ポリオレフィンから構成される樹脂フィルムは、適度な柔軟性、透明性を有すると共に、ヒートシール性に優れるため、包装材料に広く使用されている。
【０００３】
通常、ポリオレフィンから構成される樹脂フィルムは、強度や耐熱性の面で劣るため、包装材料などを構成するための基材としては使用できず、ポリエステルやポリアミドなどから構成される樹脂フィルムなどと貼り合わせて使用されており、そのため、通常の包装材料は、基材とヒートシール層とが異種の樹脂材料からなる積層体から構成されている（例えば、特許文献１）。
【０００４】
近年、循環型社会の構築を求める声の高まりとともに、包装材料などには高いリサイクル性が求められている。しかしながら、従来の包装材料は上記したように異種の樹脂材料から構成されており、樹脂材料ごとに分離するのが困難であるため、リサイクルされていないのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２０２５１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明者らは、ポリエチレンフィルムまたはポリプロピレンフィルムに対し、延伸処理および電子線照射処理の少なくとも一方を施すことにより、その強度および耐熱性を著しく改善することができ、包装材料などの作製に使用される積層体が備える基材としての使用が可能となるとの知見を得た。そして、基材と同様に、ヒートシール層をポリエチレンまたはポリプロピレンから構成することにより、積層体のリサイクル性を顕著に高めることができるとの知見を得た。
さらに、今般、本発明者らは、基材とヒートシール層との間に設けられる接着層およびヒートシール層の少なくとも一方に酸素吸収剤を含有させることにより、本発明の積層体を用いて作製される包装材料に充填される内容物の酸素による経時的な劣化を効果的に防止することができるとの知見を得た。
【０００７】
本発明は、上記知見に鑑みてなされたものであり、その解決しようとする課題は、十分な強度および耐熱性を有し、かつリサイクル性および酸素吸収性にも優れる包装材料などの作製を可能とする、積層体を提供することである。
【０００８】
また、本発明の解決しようとする課題は、該積層体から構成される包装材料、包装袋およびスタンドパウチを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の積層体は、基材と、接着層と、ヒートシール層とを備える積層体であって、
基材およびヒートシール層が同一材料により構成され、
基材に対し、延伸処理および電子線照射処理の少なくとも一方が施されており、
同一材料が、ポリエチレンまたはポリプロピレンであり、
接着層およびヒートシール層の少なくとも一層が、酸素吸収剤を含むことを特徴とする。
【００１０】
一実施形態において、接着層は、酸素吸収剤を含む。
【００１１】
一実施形態において、接着層における酸素吸収剤の含有量は、５質量％以上、８０質量％以下である。
【００１２】
一実施形態において、接着層は、遷移金属化合物をさらに含む。
【００１３】
一実施形態において、ヒートシール層は、前記酸素吸収剤を含む。
【００１４】
一実施形態において、ヒートシール層は、内層と、中間層と、外層とを備え、中間層は、酸素吸収剤を含む。
【００１５】
一実施形態において、中間層における酸素吸収剤の含有量は、１質量％以上、４０質量％以下である。
【００１６】
一実施形態において、中間層は、遷移金属化合物をさらに含む。
【００１７】
一実施形態において、積層体は、包装材料用途に用いられる。
【００１８】
本発明の包装袋は、上記積層体により構成され、ヒートシール層の厚さが、２０μｍ以上６０μｍ以下であることを特徴とする。
【００１９】
本発明のスタンドパウチは、上記積層体により構成され、ヒートシール層の厚さが、５０μｍ以上２００μｍ以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、十分な強度および耐熱性を有し、かつリサイクル性および酸素吸収性にも優れる包装材料などの作製を可能とする、積層体を提供することができる、
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の積層体の一実施形態を示す断面概略図である。
【図２】本発明の積層体を用いて作製した包装材料の一実施形態を表す斜視図である。
【図３】本発明の積層体を用いて作製した包装材料の一実施形態を表す正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
（積層体）
本発明の積層体１０は、図１に示すように、基材１１と、接着層１２と、ヒートシール層１３とを備えることを特徴とする。
【００２３】
（基材）
本発明の積層体を構成する基材は、ポリエチレンまたはポリプロピレンから構成されており、延伸処理および電子線照射処理の少なくとも一方が施されていることを特徴とする。
該延伸処理、電子線照射処理を施すことにより、基材の耐熱性および強度を著しく向上させることができ、包装材料などの外層として要求される物性を満足することができる。
なお、基材に電子線照射処理が施されている場合、電子線照射面が最表面となるように基材は設けられる。
【００２４】
ポリエチレンとしては、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレンおよび超低密度ポリエチレンを使用することができる。
これらの中でも、基材の強度および耐熱性という観点から、高密度ポリエチレンおよび中密度ポリエチレンが好ましく、延伸適性という観点から、中密度ポリエチレンがより好ましい。
【００２５】
本発明において、高密度ポリエチレンとしては、密度が０．９４５ｇ／ｃｍ３以上のポリエチレンを使用することができ、中密度ポリエチレンとしては、密度が０．９２５ｇ／ｃｍ３以上０．９４５ｇ／ｃｍ３未満のポリエチレンを使用することができ、低密度ポリエチレンとしては、密度が０．９００ｇ／ｃｍ３以上０．９２５ｇ／ｃｍ３未満のポリエチレンを使用することができ、直鎖状低密度ポリエチレンとしては、密度が０．９００ｇ／ｃｍ３以上０．９２５ｇ／ｃｍ３未満のポリエチレンを使用することができ、超低密度ポリエチレンとしては、密度が０．９００ｇ／ｃｍ３未満のポリエチレンを使用することができる。
【００２６】
また、本発明の特性を損なわない範囲において、エチレンと他のモノマーとの共重合体を使用することもできる。エチレン共重合体としては、エチレンと炭素数３〜２０のα−オレフィンとからなる共重合体が挙げられ、炭素数３〜２０のα−オレフィンとしては、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、３ーメチルー１−ブテン、４−メチル−１−ペンテンおよび６−メチル−１−ヘプテンなどが挙げられる。また、本発明の目的を損なわない範囲であれば、酢酸ビニルまたはアクリル酸エステルなどとの共重合体であってもよい。
【００２７】
また、該基材は、バイオマス由来のポリエチレンを含むことができる。
バイオマス由来のポリエチレンとは、原料として、化石燃料から得られるエチレンに代えて、バイオマス由来のエチレンを用いたものである。このようなバイオマス由来のポリエチレンはカーボニュートラルな材料であるため、該積層体作製の環境負荷を低減することができる。このようなバイオマス由来のポリエチレンは、例えば、特開２０１３−１７７５３１号公報に記載されているような方法にて製造することができる。また、市販されているバイオマス由来のポリエチレン（例えば。ブラスケム社から市販されているグリーンＰＥなど）を使用してもよい。
【００２８】
また、メカニカルリサイクルによりリサイクルされたポリエチレンを使用することもできる。ここで、メカニカルリサイクルとは、一般に、回収されたポリエチレンフィルムなどを粉砕、アルカリ洗浄してフィルム表面の汚れ、異物を除去した後、高温・減圧下で一定時間乾燥してフィルム内部に留まっている汚染物質を拡散させ除染を行い、ポリエチレンからなるフィルムの汚れを取り除き、再びポリエチレンに戻す方法である。
【００２９】
基材が、ポリプロピレンを含む場合、その０．８８ｇ／ｃｍ３以上０．９２ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましく、０．９０ｇ／ｃｍ３以上０．９１ｇ／ｃｍ３以下であることがより好ましい。これにより、基材の耐熱性および強度をより向上することができる。
【００３０】
環境負荷の観点からは、基材は、バイオマス由来のポリプロピレンを含むことが好ましい。
また、基材は、メカニカルリサイクルによりリサイクルされたポリプロピレンを含むことができる。
【００３１】
本発明の特性を損なわない範囲において、プロピレンと他のモノマーとの共重合体を使用することもできる。他のモノマーについては上記した通りである。
【００３２】
基材は、本発明の特性を損なわない範囲において、添加剤を含むことができ、例えば、架橋剤、酸化防止剤、アンチブロッキング剤、滑（スリップ）剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料および改質用樹脂などが挙げられる。
【００３３】
一実施形態において、基材は多層構造を有する。
一実施形態において、基材は、高密度ポリエチレンから構成される層（以下、高密度ポリエチレン層という）と、中密度ポリエチレンから構成される層（以下、中密度ポリエチレン層という）と、高密度ポリエチレンから構成される層（以下、高密度ポリエチレン層という）とを備える。
このような構成とすることにより、基材の強度および耐熱性をより向上することができる。また、基材におけるカールの発生を防止することができる。また、基材の延伸適性を向上することもできる。
このとき、高密度ポリエチレン層の厚さは、中密度ポリエチレン層の厚さよりも薄いことが好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比は、１／１０以上１／１以下であることが好ましく、１／５以上１／２以下であることがより好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を１／１０以上とすることにより、基材の強度および耐熱性をより向上することができる。また、高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を１／１以下とすることにより、基材の延伸適性をより向上することができる。
【００３４】
一実施形態において、基材は、高密度ポリエチレン層と、中密度ポリエチレン層と、低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層（該段落においては、記載簡略化のため、まとめて低密度ポリエチレン層と記載する。）と、中密度ポリエチレン層と、高密度ポリエチレン層とを備える。
このような構成とすることにより、基材の延伸適性を向上することができる。また、基材の強度および耐熱性を向上することができる。また、基材におけるカールの発生を防止することができる。さらに、基材の生産効率を向上することができる。
このとき、高密度ポリエチレン層の厚さは、中密度ポリエチレン層の厚さよりも薄いことが好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比は、１／１０以上１／１以下であることが好ましく、１／５以上１／２以下であることがより好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を１／１０以上とすることにより、基材の強度および耐熱性を向上することができる。また、高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を１／１以下とすることにより、基材の延伸適性を向上することができる。
また、高密度ポリエチレン層の厚さは、低密度ポリエチレン層の厚さと同じまたは低密度ポリエチレンの厚さよりも厚いことが好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、低密度ポリエチレン層の厚さとの比は、１／０．２５以上１／２以下であることが好ましく、１／０．５以上１／１以下であることがより好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、低密度ポリエチレン層の厚さとの比を１／０．２５以上とすることにより、基材の耐熱性を向上することができる。また、高密度ポリエチレン層の厚さと、低密度ポリエチレン層の厚さとの比を１／１以下とすることにより、中密度ポリエチレン層間の密着性を向上することができる。
一実施形態において、このような構成の基材は、例えば、インフレーション法により作製することができる。
具体的には、外側から、高密度ポリエチレンと、中密度ポリエチレン層と、および低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層とをチューブ状に共押出し、次いで、対向する低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層同士を、これをゴムロールなどにより、圧着することによって作製することができる。
このような方法により作製することにより、製造における欠陥品数を顕著に低減することができ、最終的には、生産効率を向上することができる。
また、インフレーション製膜機において、延伸も合わせて行うことができ、これにより、生産効率をより向上することができる。
【００３５】
基材が延伸処理を施されたものである場合、該延伸は、一軸延伸であっても、二軸延伸であってもよい。
基材の長手方向（ＭＤ）の延伸倍率は、２倍以上１０倍以下であることが好ましく、３倍以上７倍以下であることが好ましい。
基材の長手方向（ＭＤ）の延伸倍率を２倍以上とすることにより、基材の強度および耐熱性を向上することができる。さらに、基材への印刷適性を向上することができる。また、基材の透明性を向上することができる。一方、基材の長手方向（ＭＤ）の延伸倍率の上限値は、特に制限されるものではないが、基材の破断限界の観点からは１０倍以下とすることが好ましい。
また、基材の横手方向（ＴＤ）の延伸倍率は、２倍以上１０倍以下であることが好ましく、３倍以上７倍以下であることが好ましい。
基材の横手方向（ＴＤ）の延伸倍率を２倍以上とすることにより、基材の強度および耐熱性を向上することができる。さらに、基材への印刷適性を向上することができる。また、基材の透明性を向上することができる。一方、基材の横手方向（ＴＤ）の延伸倍率の上限値は、特に制限されるものではないが、基材の破断限界の観点からは１０倍以下とすることが好ましい。
【００３６】
基材に対し電子線照射が施されている場合、該基材に含まれるポリエチレンの架橋密度が、電子線照射により、向上し、基材の耐熱性および強度を著しく改善することができる。なお、基材がポリプロピレンにより構成される場合、該基材には、電子線照射処理ではなく、延伸処理が施されていることが好ましい。
【００３７】
基材は、一方の面におけるポリエチレンが、電子線照射により、架橋密度が向上されたものであってもよく、その全体におけるポリエチレンの架橋密度が向上されたものあってもよい。
また、基材が多層構造を有する場合、最表面の層におけるポリエチレンが少なくとも電子線照射により架橋密度が向上されていればよい。
強度および耐熱性という観点からは、全体におけるポリエチレンの架橋密度が電子線照射により向上されていることが好ましい。
【００３８】
基材への電子線照射に使用することのできる装置としては、従来公知のものを使用でき、例えば、カーテン型電子照射装置（ＬＢ１０２３、株式会社アイ・エレクトロンビーム製）、ライン照射型低エネルギー電子線照射装置（ＥＢ−ＥＮＧＩＮＥ、浜松ホトニクス株式会社製）およびドラムロール型電子線照射装置（ＥＺ−ＣＵＲＥ、株式会社アイ・エレクトロンビーム製）などを好適に使用することができる。
【００３９】
基材に対し照射する電子線の線量は、１０ｋＧｙ以上２０００ｋＧｙ以下の範囲が好ましく、２０ｋＧｙ以上１０００ｋＧｙ以下の範囲がより好ましく、１５０ｋＧｙ以上５００ｋＧｙ以下の範囲がより好ましい。
また、電子線の加速電圧は、３０ｋＶ以上３００ｋＶ以下の範囲が好ましく、５０ｋＶ以上３００ｋＶ以下の範囲がより好ましく、５０ｋＶ以上２５０ｋＶ以下の範囲がさらに好ましい。
また、電子線の照射エネルギーは、２０ｋｅＶ以上７５０ｋｅＶ以下の範囲であることが好ましく、２５ｋｅＶ以上５００ｋｅＶ以下の範囲であることがより好ましく、３０ｋｅＶ以上４００ｋｅＶ以下の範囲であることがさらに好ましく、２０ｋｅＶ以上２００ｋｅＶ以下の範囲であることが特に好ましい。
【００４０】
電子線照射装置内の酸素濃度は、５００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。このような条件下で電子線照射を行うことにより、オゾンの発生を抑制することができるとともに、電子線照射によって生じたラジカルが、雰囲気中の酸素によって失活してしまうのを抑制することができる。このような条件は、例えば、装置内を不活性ガス（窒素、アルゴンなど）雰囲気とすることにより達成することができる。
【００４１】
一実施形態において、電子線の照射は、冷却ドラムなどを用いて、冷却と同時に行うことができる。
【００４２】
また、基材は、表面処理が施されていてもよい。これにより、隣接する層との密着性を向上することができる。
表面処理の方法は特に限定されず、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガスおよび／または窒素ガスなどを用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理などの物理的処理、並びに化学薬品を用いた酸化処理などの化学的処理が挙げられる。
また、基材表面に従来公知のアンカーコート剤を用いて、アンカーコート層を形成してもよい。
【００４３】
基材は、その表面に印刷層を有していてもよく、印刷層に形成される画像は、特に限定されず、文字、柄、記号およびこれらの組み合わせなどが表される。
環境負荷の観点から、基材への印刷層形成は、バイオマス由来のインキを用いて行われることが好ましい。
印刷層の形成方法は、特に限定されるものではなく、グラビア印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法などの従来公知の印刷法を挙げることができる。これらの中でも、環境負荷の観点から、フレキソ印刷法が好ましい。
【００４４】
基材の厚さは、１０μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましい。基材の厚さを１０μｍ以上とすることにより、その強度および耐熱性をより向上することができる。また、基材の厚さを５０μｍ以下とすることにより、該基材を備える積層体の加工適性を向上することができる。
【００４５】
一実施形態において、基材は、その表面であって、ドライラミネート層側に蒸着膜を備えていてもよい。これにより、積層体のガスバリア性、具体的には、酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。
【００４６】
蒸着膜としては、アルミニウムなどの金属、並びに酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグシウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化ハフニウム、酸化バリウムなどの無機酸化物から構成される、蒸着膜を挙げることができる。
【００４７】
また、蒸着膜の厚さは、１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
蒸着膜の厚さを１ｎｍ以上とすることにより、積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。また、蒸着膜の厚さを１５０ｎｍ以下とすることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を防止することができる。また、積層体のリサイクル性を維持することができる。
【００４８】
一実施形態において、基材は、ドライラミネート層側表面に、バリアコート層を備え、これにより、積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。
基材が、蒸着膜を備える場合、該バリアコート層は、上記蒸着膜上に設けられていても、蒸着膜下に設けられていてもよい。
【００４９】
一実施形態において、バリアコート層は、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、ナイロン６、ナイロン６，６およびポリメタキシリレンアジパミド（ＭＸＤ６）などのポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、並びに（メタ）アクリル樹脂などのガスバリア性樹脂を含む。これらの中でも、酸素バリア性および水蒸気バリア性という観点から、ポリビニルアルコールが好ましい。
また、上記蒸着膜が、無機酸化物から構成される場合、バリアコート層にポリビニルアルコールを含有させることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を効果的に防止することができる。
【００５０】
バリアコート層におけるガスバリア性樹脂の含有量は、５０質量％以上９５質量％以下であることが好ましく、７５質量％以上９０質量％以下であることがより好ましい。バリアコート層におけるガスバリア性樹脂の含有量を５０質量％以上とすることにより、基材の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。
【００５１】
バリアコート層は、本発明の特性を損なわない範囲において、上記添加剤を含むことができる。
【００５２】
バリアコート層の厚さは、０．０１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上５μｍ以下であることがより好ましい。
バリアコート層の厚さを０．０１μｍ以上とすることにより、積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。バリアコート層の厚さを１０μｍ以下とすることにより、積層体のリサイクル性を維持することができる。
【００５３】
バリアコート層は、上記材料を水または適当な溶剤に、溶解または分散させ、塗布、乾燥することにより形成することができる。また、市販されるバリアコート剤を塗布、乾燥することによってもバリアコート層を形成することができる。
【００５４】
また、他の実施形態において、バリアコート層は、金属アルコキシドと水溶性高分子との混合物を、ゾルゲル法触媒、水および有機溶剤などの存在下で、ゾルゲル法によって重縮合して得られる金属アルコキシドの加水分解物または金属アルコキシドの加水分解縮合物などの樹脂組成物を少なくとも１種含むガスバリア性塗布膜である。
基材が、無機酸化物から構成される蒸着膜を備える場合、該形態のバリアコート層を、蒸着膜と隣接するように設けることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を効果的に防止することができる。
【００５５】
一実施形態において、金属アルコキシドは、下記一般式で表される。
Ｒ１ｎＭ（ＯＲ２）ｍ
（ただし、式中、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは金属原子を表し、ｎは０以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎ＋ｍはＭの原子価を表す。）
【００５６】
金属原子Ｍとしては、例えば、珪素、ジルコニウム、チタンおよびアルミニウムなどを使用することができる。
また、Ｒ１およびＲ２で表される有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基およびｉ−ブチル基などのアルキル基を挙げることができる。
【００５７】
上記一般式を満たす金属アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣＨ３）４）、テトラエトキシシラン（質量％）Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）、テトラプロポキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）４）、テトラブトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）４）などが挙げられる。
【００５８】
また、上記金属アルコキシドと共に、シランカップリング剤が使用されることが好ましい。
シランカップリング剤としては、既知の有機反応性基含有オルガノアルコキシシランを用いることができるが、特に、エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランが好ましい。エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランとしては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランおよびβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００５９】
上記のようなシランカップリング剤は、２種以上を使用してもよく、シランカップリング剤は、上記アルコキシドの合計量１００質量部に対して、１〜２０質量部程度の範囲内で使用することが好ましい。
【００６０】
水溶性高分子としては、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体が好ましく、酸素バリア性、水蒸気バリア性、耐水性および耐候性という観点からは、これらを併用することが好ましい。
【００６１】
ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量は、金属アルコキシド１００質量部に対して５質量部以上５００質量部以下であることが好ましい。
ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量を、金属アルコキシド１００質量部に対して５質量部以上とすることにより、積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。また、ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量を、金属アルコキシド１００質量部に対して５００質量部以下とすることにより、ガスバリア性塗布膜の製膜性を向上することができる。
【００６２】
ガスバリア性塗布膜の厚さは、０．０１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましい。これにより、リサイクル性を維持しつつ、酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。
ガスバリア性塗布膜の厚さを０．０１μｍ以上とすることにより、積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。また、無機酸化物から構成される蒸着膜と隣接するように設けた場合に、蒸着膜におけるクラックの発生を防止することができる。
【００６３】
ガスバリア性塗布膜は、上記材料を含む組成物を、グラビアロールコーターなどのロールコート、スプレーコート、スピンコート、ディッピング、刷毛、バーコード、アプリケータなどの従来公知の手段により、塗布し、その組成物をゾルゲル法により重縮合することにより形成させることができる。
ゾルゲル法触媒としては、酸またはアミン系化合物が好適である。アミン系化合物としては、水に実質的に不溶であり、且つ有機溶媒に可溶な第３級アミンが好適であり、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミンなどが挙げられる。これらの中でも、Ｎ，Ｎ−ジメチルべンジルアミンが好ましい。
ゾルゲル法触媒は、金属アルコキシド１００質量部当り、０．０１質量部以上１．０質量部以下の範囲で使用することが好ましく、０．０３質量部以上０．３質量部以下の範囲で使用することがより好ましい。
ゾルゲル法触媒の使用量を金属アルコキシド１００質量部当り、０．０１質量部以上とすることにより、その触媒効果を向上することができる。また、ゾルゲル法触媒の使用量を金属アルコキシド１００質量部当り、１．０質量部以下とすることにより、形成されるガスバリア性塗布膜の厚さを均一にすることができる。
【００６４】
上記組成物は、さらに酸を含んでいてもよい。酸は、ゾル−ゲル法の触媒、主としてアルコキシドやシランカップリング剤などの加水分解のための触媒として用いられる。
酸としては、硫酸、塩酸、硝酸などの鉱酸、ならびに酢酸、酒石酸などの有機酸が用いられる。酸の使用量は、アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分（例えばシリケート部分）の総モル量に対して、０．００１モル以上０．０５モル以下であることが好ましい。
酸の使用量をアルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分（例えばシリケート部分）の総モル量に対して、０．００１モル以上とすることにより、触媒効果を向上することができる。また、アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分（例えばシリケート部分）の総モル量に対して、０．０５モル以下とすることにより、形成されるガスバリア性塗布膜の厚さを均一にすることができる。
【００６５】
また、上記組成物は、アルコキシドの合計モル量１モルに対して、好ましくは０．１モル以上１００モル以下、より好ましくは０．８モル以上２モル以下の割合の水を含んでなることが好ましい。
水の含有量をアルコキシドの合計モル量１モルに対して、０．１モル以上とすることにより、本発明の積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。また、水の含有量をアルコキシドの合計モル量１モルに対して、１００モル以上とすることにより、加水分解反応を速やかに行うことができる。
【００６６】
また、上記組成物は、有機溶剤を含んでいてもよい。有機溶剤としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノールなどを用いることができる。
【００６７】
以下、ガスバリア性塗布膜の形成方法の一実施形態について以下に説明する。
まず、金属アルコキシド、水溶性高分子、ゾルゲル法触媒、水、有機溶媒および必要に応じてシランカップリング剤などを混合し、組成物を調製する。該組成物中では次第に重縮合反応が進行する。
次いで、基材上に、上記従来公知の方法により、該組成物を塗布、乾燥する。この乾燥により、アルコキシドおよび水溶性高分子（組成物が、シランカップリング剤を含む場合は、シランカップリング剤も）の重縮合反応がさらに進行し、複合ポリマーの層が形成される。
最後に、該組成物を２０〜２５０℃、好ましくは５０〜２２０℃の温度で、１秒〜１０分間加熱することにより、ガスバリア性塗布膜を形成することができる。
【００６８】
バリアコート層は、その印刷層が形成されていてもよい。印刷層の形成方法などについては上記した通りである。
【００６９】
基材は、ポリエチレンまたはポリプロピレンを少なくとも含む樹脂組成物を、Ｔダイ法またはインフレーション法などを利用して製膜し、樹脂フィルムとした後、延伸および／または電子線照射することにより作製することができる。
インフレーション法により製膜することにより、樹脂フィルムの延伸を同時に行うことができる。
樹脂フィルムの延伸および電子線照射を共に行う場合は、いずれを先に行ってもよいが、延伸加工適性という理由からは、延伸を先に行うことが好ましい。
【００７０】
Ｔダイ法により、基材を作製する場合、樹脂組成物のＭＦＲは、３ｇ／１０分以上２０ｇ／１０分以下であることが好ましい。
樹脂組成物のＭＦＲを３ｇ／１０分以上とすることにより、基材の加工適性を向上することができる。また、樹脂組成物のＭＦＲを２０ｇ／１０分以下とすることにより、基材が延伸時に破断してしまうことを防止することができる。
【００７１】
インフレーション法により、基材を作製する場合、樹脂組成物のＭＦＲは、０．５ｇ／１０分以上５ｇ／１０分以下であることが好ましい。
樹脂組成物のＭＦＲを０．５ｇ／１０分以上とすることにより、基材の加工適性を向上することができる。また、樹脂組成物のＭＦＲを５ｇ／１０分以下とすることにより、製膜性を向上することができる。
【００７２】
基材上への蒸着膜の形成は、従来公知の方法を用いて行うことができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法およびイオンプレーティング法などの物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）、並びにプラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法および光化学気相成長法などの化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）などを挙げることができる。
【００７３】
また、例えば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して異種の無機酸化物の蒸着膜の２層以上からなる複合膜を形成して使用することもできる。蒸着チャンバーの真空度としては、酸素導入前においては、１０−２〜１０−８ｍｂａｒ程度が好ましく、酸素導入後においては、１０−１〜１０−６ｍｂａｒ程度が好ましい。なお、酸素導入量などは、蒸着機の大きさなどによって異なる。導入する酸素には、キャリヤーガスとしてアルゴンガス、ヘリウムガス、窒素ガスなどの不活性ガスを支障のない範囲で使用してもよい。フィルムの搬送速度は、１０〜８００ｍ／ｍｉｎ程度とすることができる。
【００７４】
蒸着膜の表面は、上記表面処理が施されていることが好ましい。これにより、隣接する層との密着性を向上することができる。
【００７５】
（接着層）
接着剤層は、従来公知の接着剤により形成してもよい。該接着剤は、１液硬化型若しくは２液硬化型、または非硬化型のいずれも接着剤であってもよい。
また、接着剤は、無溶剤型の接着剤であっても、溶剤型の接着剤であってもよいが、環境負荷の観点からは、無溶剤型の接着剤が好ましく使用できる。
無溶剤型接着剤としては、例えば、ポリエーテル系接着剤、ポリエステル系接着剤、シリコーン系接着剤、エポキシ系接着剤およびウレタン系接着剤などが挙げられ、これらのなかでも２液硬化型のウレタン系接着剤を好ましく使用することができる。
溶剤型接着剤としては、例えば、ゴム系接着剤、ビニル系接着剤、シリコーン系接着剤、エポキシ系接着剤、フェノール系接着剤およびオレフィン系接着剤などが挙げられる。
【００７６】
一実施形態において、接着層は、酸素吸収剤を含むことができる。
酸素吸収剤としては、特に制限はなく、無機化合物であっても、有機化合物であってもよく、目的に応じて適宜選択することができる。
無機化合物としては、例えば、鉄粉などの金属粉末、二酸化チタン、酸化セリウム、第一鉄塩、亜二チオン酸塩、亜硫酸塩、ハロゲン化金属、ゼオライト等が挙げられる。
有機化合物としては、例えば、ベンゼントリオール、多価フェノール化合物、多価アルコール化合物、アスコルビン酸化合物、シクロヘキセン化合物、不飽和二重結合を有するポリエン系重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体等、及びこれらの混合物が挙げられる。
ベンゼントリオールとしては、ピロガロール、ヒドロキシキノール、及びフロログルシノール、並びにこれらの混合物が挙げられる。
多価フェノール化合物としては、フェノール、カテコール、没食子酸、レゾルシノール、ヒドロキノン、クレゾール、タンニン酸等が挙げられる。
多価アルコール化合物としてはグリセリン、エチレングリコール、プロパンジオール等が挙げられる。
アスコルビン酸化合物としてはアスコルビン酸、アスコルビン酸ナトリウム、エリソルビン酸ナトリウム等が挙げられる。
シクロヘキセン化合物としてはテトラヒドロフタル酸若しくはその誘導体等が挙げられる。
不飽和二重結合を有するポリエン系重合体は、二重結合の数が２つ以上ある炭化水素を単位とする重合体である。本実施形態に適用できるポリエン系重合体としては、共役ジエン重合体が好ましい。共役ジエン重合体としては、直鎖状共役ジエン重合体、及び、環状共役ジエン重合体が適用できる。直鎖状共役ジエン重合体としては、ｃｉｓ−またはｔｒａｎｓ−１，４−イソプレンの重合体であるポリイソプレン、１，３−ブタジエンの重合体であるポリブタジエンなどがある。環状共役ジエン重合体としては、ポリイソプレンのペリ環状反応によって得られる環化ポリイソプレン、ポリブタジエンのペリ環状反応によって得られる環化ポリブタジエンなどがある。必要に応じて、脱酸素剤組成物に、触媒、滑剤、アルカリ性物質等の添加剤を含有させてもよい。
【００７７】
接着層における酸素吸収剤の含有量は、５質量％以上、８０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上、６０質量％以下であることがより好ましい。酸素吸収剤の含有量を５質量％以上とすることにより、積層体の酸素吸収性をより向上することができ、内容物の品質が酸素により劣化してしまうことを効果的に防止することができる。また、酸素吸収剤の含有量を８０質量％以下とすることにより、接着層の接着性を維持することができる。
【００７８】
接着層が、酸素吸収剤を含む場合、その酸素吸収性向上を目的として、遷移金属化合物をさらに含有させることが好ましい。
遷移金属元素としては、例えば、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛及びマンガンが挙げられる。
また、遷移金属化合物として、遷移金属のハロゲン化物、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、炭酸塩、有機酸塩、酸化物、水酸化物、又はキレート化合物を使用してもよい。
また、遷移金属化合物として、遷移金属元素を含む複塩を使用してもよい。さらに、遷移金属化合物として、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（ＩＩ）、硫酸銅（ＩＩ）、水酸化銅（ＩＩ）、酸化銅（Ｉ）、酸化銅（ＩＩ）、塩化マンガン、硝酸マンガン、炭酸マンガン、及び塩化ニッケルからなる群より選ばれる１種以上の化合物を使用してもよい。
【００７９】
接着層における遷移金属化合物の含有量は、１０ｐｐｍ以上、６０００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１００質量部以上、１０００質量部以下であることがより好ましい。遷移金属化合物の含有量を１０ｐｐｍ以上とすることにより、積層体の酸素吸収性をより向上することができ、内容物の品質が酸素により劣化してしまうことを効果的に防止することができる。また、遷移金属化合物の含有量を６０００ｐｐｍ以下とすることにより、接着層の接着性を維持することができる。
【００８０】
本発明の特性を損なわない範囲において、接着層は、酸化チタン、亜鉛華およびカーボンブラックなどの顔料、分散染料、酸性染料およびカチオン染料などの染料、酸化防止剤、滑剤、着色剤、安定化剤、湿潤剤、増粘剤、凝固剤、ゲル化剤、沈降防止剤、軟化剤、硬化剤、可塑剤、レベリング剤、紫外線吸収剤並びに難燃剤などの添加材を含むことができる。
【００８１】
接着層の厚さは、特に限定されるものではないが、酸素吸収剤を含む場合、その酸素吸収性という観点からは、０．５μｍ以上、１０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以上、５μｍ以下であることがより好ましい。
【００８２】
接着層が、有機化合物である酸素吸収剤を含む場合、この接着層は紫外線照射が施されていることが好ましい。これにより、接着層の酸素吸収性を向上することができる。
【００８３】
（ヒートシール層）
一実施形態において、ヒートシール層は、基材同様、ポリエチレンまたはポリプロピレンから構成されることを特徴とする。これにより、該積層体のリサイクル性を向上することができる。
【００８４】
ヒートシール性という観点からは、ポリエチレンとして、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレンおよび超低密度ポリエチレンを使用することが好ましい。
【００８５】
本発明においては、ヒートシール層は、上記バイオマス由来のポリエチレンまたはポリプロピレンを含むことが好ましい。
さらに、メカニカルリサイクルされたポリエチレンまたはポリプロピレンを使用することもできる。
【００８６】
一実施形態において、ヒートシール層は、上記酸素吸収剤を含むことができる。これにより、本発明の積層体の酸素吸収性を向上することができる。
また、一実施形態において、ヒートシール層は多層構造を有していてもよく、これらのうちの一層または二層以上が酸素吸収剤を含んでいてもよい。
例えば、内層と、中間層と、外層とを備え、中間層のみが酸素吸収剤を含む構成とすることができる。このような構成とすることにより、ヒートシール層のヒートシール性を維持しつつ、その酸素吸収性を向上することができる。
【００８７】
ヒートシール層が単層である場合、酸素吸収剤の含有量は、１質量％以上、４０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上、３０質量％以下であることがより好ましい。酸素吸収剤の含有量を１質量％以上とすることにより、積層体の酸素吸収性をより向上することができ、内容物の品質が酸素により劣化してしまうことを効果的に防止することができる。また、酸素吸収剤の含有量を４０質量％以下とすることにより、ヒートシール層のヒートシール性を維持することができる。
また、ヒートシール層が多層である場合、各層における酸素吸収剤の含有量は、１質量％以上、４０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上、３０質量％以下であることがより好ましい。
【００８８】
ヒートシール層が、酸素吸収剤を含む場合、その酸素吸収性向上を目的として、上記遷移金属化合物をさらに含有させることが好ましい。
【００８９】
ヒートシール層における遷移金属化合物の含有量は、１０ｐｐｍ以上、６０００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１００ｐｐｍ以上、１０００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。遷移金属化合物の含有量を１０ｐｐｍ以上とすることにより、積層体の酸素吸収性をより向上することができ、内容物の品質が酸素により劣化してしまうことを効果的に防止することができる。また、遷移金属化合物の含有量を１０００ｐｐｍ以下とすることにより、ヒートシール層のヒートシール性を維持することができる。
【００９０】
本発明の特性を損なわない範囲において、ヒートシール層は、上記添加材を含むことができる。
【００９１】
ヒートシール層の厚さは、本発明の積層体が包装袋の作製に使用される場合、２０μｍ以上、６０μｍ以下であることが好ましく、スタンドパウチの作製に使用される場合、５０μｍ以上、２００μｍ以下であることが好ましい。
また、酸素吸収剤を含む層の厚さは、５μｍ以上、１６０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上、１００μｍ以下であることがより好ましい。酸素吸収剤を含むの層を５μｍ以上とすることにより、その酸素吸収性をより向上することができる。ヒートシール層の厚さを１６０μｍ以下とすることにより、積層体の加工適性を維持することができる。
【００９２】
ヒートシール層が、有機化合物である酸素吸収剤を含む場合、このヒートシール層は紫外線照射が施されていることが好ましい。これにより、接着層の酸素吸収性を向上することができる。
【００９３】
（ガスバリア層）
一実施形態において、本発明の積層体は、基材と、接着層との間に、ガスバリア層を備える。このような構成の積層体を用いて包装材料を作製することにより、内容物に含まれる酸素は、接着層およびヒートシール層の少なくとも一方に含まれる酸素吸収剤により吸収され、外部からの酸素の侵入を、該ガスバリアにより防止することができるため、内容物の品質の劣化をより防止することができる。
【００９４】
ガスバリア層に含まれるガスバリア性樹脂としては、例えば、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、ナイロン６、ナイロン６，６およびポリメタキシリレンアジパミド（ＭＸＤ６）などのポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、並びに（メタ）アクリル樹脂などが挙げられる。
【００９５】
ガスバリア層の厚さは、０．０１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上５μｍ以下であることがより好ましい。
ガスバリア層の厚さを０．０１μｍ以上とすることにより、本発明の積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。ガスバリア層の厚さを１０μｍ以下とすることにより、本発明の積層体のリサイクル性を維持することができる。
【００９６】
（包装材料）
本発明の包装材料は、上記積層体から構成されていることを特徴とする。
包装材料の形状は、特に限定されるものではなく、図２に示すように、袋状の形状としてもよい。
なお、図中、斜線部分はヒートシール部分を表す。
【００９７】
一実施形態において、袋状の包装材料は、ヒートシール層が内側となるように、本発明の積層体を二つ折にして重ね合わせて、その端部をヒートシールすることにより製造することができる。
また、他の実施形態において、袋状の包装材料は、２枚の積層体を、ヒートシール層が向かい合うように重ね合わせ、その端部をヒートシールすることによっても製造することができる。
【００９８】
ヒートシールの方法は、特に限定されるものではなく、例えば、バーシール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シール、超音波シールなどの公知の方法で行うことができる。
【００９９】
また、一実施形態において、包装材料は、図３に示すように、胴部および底部を備えるスタンドパウチ状の形状を有する。
【０１００】
スタンドパウチ状の包装材料は、上記積層体のヒートシール層が内側となるように、筒状にヒートシールすることにより、胴部を形成し、次いで、さらにもう１枚の積層体を、ヒートシール層が内側となるように、Ｖ字状に折り、胴部の一端から挟み込み、ヒートシールすることにより底部を形成し、製造することができる。
【０１０１】
包装材料に充填される内容物は、特に限定されるものではなく、内容物は、液体、粉体およびゲル体であってもよい。また、食品であっても、非食品であってもよい。
内容物充填後、開口をヒートシールすることにより、包装体とすることができる。
【実施例】
【０１０２】
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１０３】
実施例１
ポリプロピレン（ＴＰＣ（株）製、商品名：ＦＬ７５４０Ｌ、密度：０．９０ｇ／ｃｍ３、融点：１３８℃、ＭＦＲ：７．０ｇ／１０分）をＴダイ法により押出製膜し、コロナ処理を行い、ヒートシール層として、厚さ３５μｍの未延伸ポリプロピレンフィルムを作製した
【０１０４】
下記の原料を混合し、窒素雰囲気下で、撹拌しながら内温８０〜９０℃で６時間反応させて、酸素吸収性樹脂組成物を得た。
（酸素吸収性樹脂組成物の組成）
・ポリエステル                                                  １０００質量部
・水酸基末端ポリイソプレン（水酸基末端共役ジエン重合体）          ６００質量部
・水酸基末端ポリブタジエン（水酸基末端共役ジエン重合体）          ４００質量部
・キシレンジイソシアネート（ウレタン鎖伸長剤）                      ８０質量部
【０１０５】
上記のようにして得られた酸素吸収性樹脂を、窒素雰囲気下で、下記を材料と混合して酸素吸収性接着剤を得た。
・上記酸素吸収性樹脂組成物                                      １０００質量部
・オクチル酸コバルト４％酢酸エチル溶液(酸化促進触媒)            ２４．２質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのビューレット体(ポリイソシアネート系硬化剤)
１００質量部
・酢酸エチル                                                    １５００質量部
【０１０６】
アルミ蒸着延伸ポリプロピレンフィルム（基材、三井化学東セロ（株）製、ＯＰ１０２、２５μｍ）の蒸着面に上記酸素吸収性接着剤を乾燥後の塗布厚みが３．０μｍとなるように塗工・乾燥し、ドライラミネート層を形成すると共に、上記未延伸ポリプロピレンフィルムのコロナ処理面と貼り合わせ、積層体を得た。
【０１０７】
実施例２
ヒートシール層として、まず、下記の（イ）〜（ハ）の樹脂組成物を、３種３層の上吹き空冷インフレーション共押出製膜機を用い設定温度２１０℃でそれぞれ共押出して製膜化して、片面にコロナ処理を実施した後に３種３層からなる総厚４０μｍの未延伸ポリプロピレンフィルムを作製した。
（イ）  第一層（熱可塑性樹脂層）としてポリプロピレン（プライムポリマー社製、商品名「Ｊ２３２ＷＡ」）、
（ロ）  第二層（酸素吸収層）として、ポリプロピレン（プライムポリマー社製、商品名「Ｊ２３２ＷＡ」）に、平均粒径が１．５μｍの酸化セリウム粉末を、窒素ガス雰囲気下で１５００℃に加熱しながら水素ガスを流して還元焼成し、不活性ガス雰囲気下で冷却して得た酸素欠陥を有する酸化セリウムを３０質量％混練した組成物、
（ハ）  第三層（熱可塑性樹脂層）としてポリプロピレン（プライムポリマー社製、商品名「Ｊ２３２ＷＡ」）
【０１０８】
上記未延伸ポリプロピレンフィルムは、（イ）による第一層が５μｍ、（ロ）による第二層が３０μｍ、（ハ）による第三層が５μｍとした。
【０１０９】
アルミ蒸着延伸ポリプロピレンフィルム（基材、三井化学東セロ（株）製、ＯＰ１０２、２５μｍ）の蒸着面に２液硬化型ウレタン接着剤（ロックペイント（株）製、商品名：ＲＵ−４０／硬化剤Ｈ−４）を乾燥後の塗布厚みが３．０μｍとなるように塗工・乾燥し、ドライラミネート層を形成すると共に、上記未延伸ポリプロピレンフィルムのコロナ処理面と貼り合わせ、積層体を得た。
【０１１０】
比較例１
酸素吸収性接着剤を、２液硬化型ウレタン接着剤（ロックペイント（株）製、商品名：ＲＵ−４０／硬化剤Ｈ−４）に変更した以外は、実施例１と同様にして積層体を作製した。
【０１１１】
＜＜ラミネート強度評価＞＞
上記実施例および比較例において作製した積層体の基材とヒートシール層間のラミネート強度を、引っ張り試験機（オリエンテック社製、商品名：ＲＴＣ−１３１０Ａ）により測定した。測定結果を表１にまとめた
【０１１２】
＜＜耐熱性評価＞＞
上記実施例および比較例において得られた積層体から、縦８０ｍｍ×横８０ｍｍの試験片をそれぞれ２枚ずつ作製した。
２枚の試験片を、ヒートシール層が向かい合うように重ね合わせ、３辺を１５０℃でヒートシールし、小袋状の包装材料を作製した。
作製した包装材料を目視により観察し、積層体の耐熱性を以下の評価基準に基づいて、評価した。評価結果を表１にまとめた。
（評価基準）
○：包装材料の表面にシワなどが発生しておらず、また、ヒートシールバーへの付着が見られなかった。
×：包装材料の表面にシワなどが発生しており、また、ヒートシールバーへの付着が見られ、製袋できなかった。
【０１１３】
＜＜酸素吸収性試験＞＞
得られた積層体にＵＶ照射機を用いて５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線をヒートシール層面から照射した後に、内寸１３５ｍｍ×７０ｍｍとなるよう三方ヒートシール方式にて包装体を作成し、シリンジにて２６ｃｃの空気、酸素センサーチップ（Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ  Ｓｅｎｓｉｎｇ社製非破壊酸素センサーチップ）を封入し、２５℃の恒温槽内で１４日間保管後の包装袋内の酸素濃度を、非破壊酸素濃度測定計を用いて測定し、酸素吸収量を算出した。結果を表１にまとめた。
【０１１４】
【表１】
2020157724.tif 000003
【符号の説明】
【０１１５】
１０：積層体、１１：基材、１２：ドライラミネート層、１３：ヒートシール層
【図１】
2020157724.tif 000004
【図２】
2020157724.tif 000005
【図３】
2020157724.tif 000006