(57)【要約】【課題】調理対象物の加熱調理に要する時間を短縮することが可能な加熱調理装置および加熱調理システムを提供する。【解決手段】この加熱調理装置１００は、水を予め加熱して貯蔵するボイラ２２と、ボイラ２２内の加熱された水を加熱調理室１内に蒸気として噴射する噴射部２１とを含む蒸気発生部２と、加熱調理室１内に電磁波を発生させるマグネトロン３とを備え、蒸気発生部２により噴射された蒸気およびマグネトロン３により発生された電磁波により調理対象物Ｃを加熱調理するように構成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
調理対象物を収容するとともに、調理対象物を加熱調理する加熱調理室と、
水を予め加熱して貯蔵する貯蔵部と、前記貯蔵部内の加熱された水を前記加熱調理室内に蒸気として噴射する噴射部とを含む蒸気発生部と、
前記加熱調理室内に電磁波を発生させる電磁波発生部とを備え、
前記蒸気発生部により噴射された蒸気および前記電磁波発生部により発生された電磁波により調理対象物を加熱調理するように構成されている、加熱調理装置。
【請求項２】
前記噴射部は、蒸気の噴射方向を調理対象物に向かう方向と、調理対象物から逸れた方向とに変更可能に構成されている、請求項１に記載の加熱調理装置。
【請求項３】
前記噴射部は、前記加熱調理室内の調理対象物の載置位置よりも上方および下方の両方に設けられている、請求項１または２に記載の加熱調理装置。
【請求項４】
前記噴射部は、調理対象物に向かう方向と、調理対象物から逸れる方向とに移動可能な噴射ノズルを有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の加熱調理装置。
【請求項５】
前記噴射部は、前記噴射部と調理対象物との間を遮る位置と、前記噴射部と調理対象物との間を遮らない位置とに移動可能な遮蔽部を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の加熱調理装置。
【請求項６】
前記貯蔵部は、加圧状態で水を１００℃よりも高い温度に加熱するように構成されている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の加熱調理装置。
【請求項７】
前記加熱調理室内において結露した水分を外部に逃す排水部をさらに含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の加熱調理装置。
【請求項８】
前記排水部は、調理対象物が載置され、電磁波を透過させずに水を透過させる網目が設けられた載置台、または、調理対象物が載置され、電磁波を透過させずに水を透過させるスリットが設けられた載置台のいずれかを含む、請求項７に記載の加熱調理装置。
【請求項９】
前記蒸気発生部による加熱調理と前記電磁波発生部による加熱調理とを切り替える制御を行う制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記蒸気発生部による加熱調理、前記電磁波発生部および前記蒸気発生部による加熱調理、前記蒸気発生部による加熱調理の順で、調理対象物を加熱調理する制御を行うように構成されている、請求項１〜８のいずれか１項に記載の加熱調理装置。
【請求項１０】
調理対象物に関する重量、温度、または湿度の少なくともいずれか１つの情報を取得するためのセンサをさらに備え、
前記制御部は、前記センサによって取得した情報に基づいて調理対象物を加熱調理する制御を行うように構成されている、請求項９に記載の加熱調理装置。
【請求項１１】
前記加熱調理室の内部の天面は、前記加熱調理室の端部に結露水を導くように前記加熱調理室の下方側に向かって傾斜するドーム形状を有する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の加熱調理装置。
【請求項１２】
調理対象物を収容するとともに、調理対象物を蒸気によって加熱調理および保温するように構成されている蒸し器と、前記蒸し器の近傍に配置され、調理対象物を収容するとともに、調理対象物を電磁波および蒸気によって加熱調理する加熱調理装置とを備え、
前記加熱調理装置は、調理対象物を収容するとともに、調理対象物を加熱調理する加熱調理室と、
水を予め加熱して貯蔵する貯蔵部と、前記貯蔵部内の加熱された水を前記加熱調理室内に蒸気として噴射する噴射部とを含む蒸気発生部と、
前記加熱調理室内に電磁波を発生させる電磁波発生部とを含む、加熱調理システム。
【請求項１３】
前記蒸し器には、前記加熱調理装置の前記蒸気発生部から蒸気が噴射されるように構成されている、請求項１２に記載の加熱調理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、加熱調理装置および加熱調理システムに関し、特に、蒸気発生部を備える加熱調理装置および加熱調理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、蒸気発生部を備えた蒸し器が知られている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００３】
上記特許文献１には、蒸気発生手段から送り込まれた蒸気により本体ケース部内の内部空間に配置された肉まんなどの食品を加熱する蒸し器（加熱調理装置）が開示されている。上記特許文献１の蒸し器の蒸気発生手段は、加熱部と貯水槽とを含んでいる。蒸気発生手段は、貯水槽の水を加熱部により加熱することによって、蒸気を発生させている。なお、蒸し器は、調理を開始してからはじめて加熱部により貯水槽の水の加熱を開始するように構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１６−１９８２５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記特許文献１の蒸し器では、調理を開始してからはじめて加熱部により貯水槽の水の加熱を開始するため、蒸気が発生するまでに比較的長い時間を要するという不都合がある。したがって、肉まんの加熱調理が完了するまでに（肉まんが蒸しあがるまで）に比較的長い時間を要するという問題点がある。なお、肉まんの加熱調理が完了するまでに時間がかかると、肉まんの購入者にすぐに提供できずに販売機会が損なわれる場合があり好ましくない。
【０００６】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の１つの目的は、調理対象物の加熱調理に要する時間を短縮することが可能な加熱調理装置および加熱調理システムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、この発明の第１の局面による加熱調理装置は、調理対象物を収容するとともに、調理対象物を加熱調理する加熱調理室と、水を予め加熱して貯蔵する貯蔵部と、貯蔵部内の加熱された水を加熱調理室内に蒸気として噴射する噴射部とを含む蒸気発生部と、加熱調理室内に電磁波を発生させる電磁波発生部とを備え、蒸気発生部により噴射された蒸気および電磁波発生部により発生された電磁波により調理対象物を加熱調理するように構成されている。
【０００８】
この発明の第１の局面による加熱調理装置では、上記のように、水を予め加熱して貯蔵する貯蔵部と、貯蔵部内の加熱された水を加熱調理室内に蒸気として噴射する噴射部とを備える。これにより、予め水が加熱された状態で貯蔵されているため、加熱調理するための蒸気を発生させるための時間を短縮することができる。また、電磁波発生部と蒸気発生部とを備えていることにより、電磁波と蒸気とによって調理対象物を加熱調理することができる。これらの結果、調理対象物の加熱調理に要する時間を短縮することができる。これにより、調理対象物を迅速に加熱調理して提供できるため販売機会を確保できるとともに、予め加熱調理して保温していた場合の味の経時劣化、売れ残りの廃棄を抑制することができる。また、内側に水分を多く含む餡部を有するとともに、外側に皮部を有する中華まんの調理において、電磁波により餡部を加熱するとともに、蒸気により皮部を加熱することができる。このため、中華まんを内側および外側から効率的に加熱することができる。
【０００９】
上記第１の局面による加熱調理装置において、好ましくは、噴射部は、蒸気の噴射方向を調理対象物に向かう方向と、調理対象物から逸れた方向とに変更可能に構成されている。このように構成すれば、蒸気を調理対象物に当てることにより、調理対象物に水分が供給される。そのため、電磁波により水分が蒸発したとしても、調理対象物の乾燥を抑制することができる。また、中華まんの皮部のように調理対象物の水分が少ない部分に水分が供給されることによって、電磁波による加熱調理を促進することができる。さらに、蒸気を調理対象物に当てないようにすることにより、使用開始時に噴射部が温まっていないことに起因して、水が噴射された場合に調理対象物に水がかかることを抑制することができる。
【００１０】
上記第１の局面による加熱調理装置において、好ましくは、噴射部は、加熱調理室内の調理対象物の載置位置よりも上方および下方の両方に設けられている。このように構成すれば、加熱調理室内に蒸気を迅速に充満させることができるため、調理対象物の加熱調理に要する時間をより短縮することができる。
【００１１】
上記第１の局面による加熱調理装置において、好ましくは、噴射部は、調理対象物に向かう方向と、調理対象物から逸れる方向とに移動可能な噴射ノズルを有する。このように構成すれば、調理対象物に向かう方向に配置された噴射ノズルと、調理対象物から逸れる方向に配置された噴射ノズルとを配置する場合と比べて、噴射ノズルの数を減らすことができる。その結果、加熱調理装置の構成を簡素化することができる。
【００１２】
上記第１の局面による加熱調理装置において、好ましくは、噴射部は、噴射部と調理対象物との間を遮る位置と、噴射部と調理対象物との間を遮らない位置とに移動可能な遮蔽部を有する。このように構成すれば、噴射ノズルを動かすことなく調理対象物に向かう方向と、調理対象物から逸れる方向とを切り替えることができる。
【００１３】
上記第１の局面による加熱調理装置において、好ましくは、貯蔵部は、加圧状態で水を１００℃よりも高い温度に加熱するように構成されている。このように構成すれば、大気圧における水の沸点は１００℃であるため、噴射部から噴射された１００℃を超える水を即座に蒸発させて、蒸気とすることができる。そのため、蒸気による加熱調理を迅速に開始することができる。
【００１４】
上記第１の局面による加熱調理装置において、好ましくは、加熱調理室内において結露した水分を外部に逃す排水部をさらに含む。このように構成すれば、電磁波が結露水に吸収されることを抑制することができるため、調理対象物を電磁波により効果的に加熱調理することができる。
【００１５】
上記第１の局面による加熱調理装置において、好ましくは、排水部は、調理対象物が載置され、電磁波を透過させずに水を透過させる網目が設けられた載置台、または、調理対象物が載置され、電磁波を透過させずに水を透過させるスリットが設けられた載置台のいずれかを含む。このように構成すれば、加熱調理室内で結露した水は、網目またはスリットを透過し、加熱調理室の底面に溜まるが、電磁波は、網目またはスリットを透過しないため結露水が溜まっている底面には到達しない。これにより、加熱調理室内において生じた結露水に電磁波が吸収されることを効果的に抑制することができる。
【００１６】
上記第１の局面による加熱調理装置において、好ましくは、蒸気発生部による加熱調理と電磁波発生部による加熱調理とを切り替える制御を行う制御部をさらに備え、制御部は、蒸気発生部による加熱調理、電磁波発生部および蒸気発生部による加熱調理、蒸気発生部による加熱調理の順で、調理対象物を加熱調理する制御を行うように構成されている。このように構成すれば、蒸気発生部による加熱調理を最初に行うことにより、調理対象物に水分を含ませることができるため、電磁波によって調理対象物が乾燥することを抑制することができるとともに、水分を供給することにより電磁波による加熱調理を促進することができる。また、最後に蒸気発生部により加熱調理を行うことにより、調理対象物に水分を十分に供給することができる。
【００１７】
この場合、好ましくは、調理対象物に関する重量、温度、または湿度の少なくともいずれか１つの情報を取得するためのセンサをさらに備え、制御部は、センサによって取得した情報に基づいて調理対象物を加熱調理する制御を行うように構成されている。このように構成すれば、調理対象物を加熱調理室に配置することにより、調理対象物に応じた最適な加熱調理が自動で行われるため、調理対象物に応じて、調理時間などを調整するユーザの手間を省くことができる。
【００１８】
上記第１の局面による加熱調理装置において、好ましくは、加熱調理室の内部の天面は、加熱調理室の端部に結露水を導くように加熱調理室の下方側に向かって傾斜するドーム形状を有する。このように構成すれば、傾斜によって結露水が加熱調理室の端部に移動するため、加熱調理室内の天面において結露した水が、調理対象物にかかることを抑制することができる。
【００１９】
この発明の第２の局面による加熱調理システムは、調理対象物を収容するとともに、調理対象物を蒸気によって加熱調理および保温するように構成されている蒸し器と、蒸し器の近傍に配置され、調理対象物を収容するとともに、調理対象物を電磁波および蒸気によって加熱調理する加熱調理装置とを備え、加熱調理装置は、調理対象物を収容するとともに、調理対象物を加熱調理する加熱調理室と、水を予め加熱して貯蔵する貯蔵部と、貯蔵部内の加熱された水を加熱調理室内に蒸気として噴射する噴射部とを含む蒸気発生部と、加熱調理室内に電磁波を発生させる電磁波発生部とを含む。
【００２０】
この発明の第２の局面による加熱調理システムでは、上記のように、調理対象物を収容するとともに、調理対象物を蒸気によって加熱調理および保温するように構成されている蒸し器と、蒸し器の近傍に配置され、水を予め加熱して貯蔵する貯蔵部と、貯蔵部内の加熱された水を加熱調理室内に蒸気として噴射する噴射部と電磁波発生部とを含む加熱調理装置とを備える。これにより、調理対象物の加熱調理に要する時間を短縮することが可能な加熱調理システムを提供することができる。この結果、調理対象物を迅速に加熱調理して提供できるため販売機会を確保できる。また、蒸し器によって予め多くの調理対象物を加熱調理して保温しなくてもよいため、予め加熱調理して保温していた場合の味の経時劣化、売れ残りの廃棄を抑制することができる。なお、蒸し器の近傍とは、蒸し器の位置と同じ位置の上下に設けられる場合と、蒸し器の付近に設けられる場合との両方を含む意味である。
【００２１】
また、この発明の第２の局面による加熱調理システムは、好ましくは、蒸し器には、加熱調理装置の蒸気発生部から蒸気が噴射されるように構成されている。このように構成すれば、予め水が加熱された状態で貯蔵されているため、加熱調理するための蒸気を発生させるための時間を短縮することができる。そのため、蒸し器の加熱調理時間を短縮することができる。また、蒸し器に蒸気を発生させるための専用の構成を設ける場合と比べて装置構成を簡素化することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、上記のように、調理対象物の加熱調理に要する時間を短縮することが可能な加熱調理装置および加熱調理システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】第１実施形態による加熱調理装置の構成を示したブロック図である。
【図２】第１実施形態による加熱調理室の内部を示した図である。
【図３】第１実施形態による載置台を示した図である。
【図４】第１実施形態の自動調理工程を示したフローチャートである。
【図５】第２実施形態による加熱調理室の内部を示した図である。
【図６】第３実施形態の加熱調理システムを示した図である。
【図７】変形例による載置台を示した斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明を具体化した実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２５】
［第１実施形態］
図１〜図４を参照して、本発明の第１実施形態による加熱調理装置１００の構成について説明する。
【００２６】
図１に示すように、加熱調理装置１００は、加熱調理室１と、蒸気発生部２と、マグネトロン３とを備えている。なお、マグネトロン３は、特許請求の範囲の「電磁波発生部」の一例である。
【００２７】
加熱調理装置１００は、開閉扉を備えた箱型形状である。加熱調理装置１００は、マグネトロン３から発生するマイクロ波を漏らさないように金属により形成されている。なお、開閉扉は、内部を可視化するために一部分がガラスで構成されている。この場合、ガラスには、マイクロ波が漏れないようにマイクロ波の波長よりも短い網目を有する金網が取り付けられる。なお、マイクロ波は、特許請求の範囲の「電磁波」の一例である。
【００２８】
図２に示すように、加熱調理装置１００は、加熱調理室１内に調理対象物Ｃを収容し、蒸気発生部２により噴射された蒸気およびマグネトロン３により発生されたマイクロ波によって調理対象物Ｃを加熱調理するように構成されている。調理対象物Ｃとしては、たとえば、中華まんなどの一般的に蒸して調理される食品である。また、加熱調理装置１００は、たとえば、コンビニエンスストアなどの食品を提供する店で使用される。なお、中華まんは、餡部Ｃ１と、皮部Ｃ２とから構成されている。マグネトロン３は、餡部Ｃ１を加熱し、蒸気発生部２は皮部Ｃ２を加熱するように構成されている。詳細については後述する。
【００２９】
加熱調理室１の内部には、調理対象物Ｃを載置する載置台４１、および後述する蒸気発生部２の噴射部２１が配置される。加熱調理室１の内部の天面１１は、加熱調理室１の端部に結露水を導くように加熱調理室１の下方側に向かって傾斜するドーム形状を有している。なお、加熱調理室１の天面側をＺ１方向とし、底面側をＺ２方向とする。
【００３０】
図１に示すように、蒸気発生部２は、水を予め加熱して貯蔵するボイラ２２と、ボイラ２２内の加熱された水を加熱調理室１内に蒸気として噴射する噴射部２１とを備えている。ボイラ２２は、水を加圧し、１００℃よりも高い温度に加熱する。大気圧（１気圧）下において水の沸点は、１００℃であるが、気圧が高くなると沸点は上昇する。そのため、１気圧よりも圧力を上げることにより、１００℃より高い温度でも水は、液体の状態を維持することができる。なお、ボイラ２２は、特許請求の範囲の「貯蔵部」の一例である。
【００３１】
第１実施形態において、ボイラ２２は、２気圧の雰囲気下において水を１２０℃まで加熱する。１２０℃まで加熱された水にかかる圧力は、噴射部２１から噴射されるまでに大気圧（１気圧）まで下がるため、沸点が１００℃に下がる。その結果、ボイラ２２に貯蔵された１２０℃の水は、噴射部２１から噴射する際に水蒸気となり、加熱調理室１内に噴射される。
【００３２】
噴射部２１は、ノズル駆動装置２１ｂを備え、蒸気の噴射方向を調理対象物Ｃに向かう方向と、調理対象物Ｃから逸れた方向とに移動可能な噴射ノズル２１ａを有している。蒸気発生部２の使用開始時では、ボイラ２２から噴射部２１までを結ぶ管が十分温まっていないなどの理由により、熱エネルギーの消失が起こる。その結果、１２０℃まで加熱されていた水が１００℃未満の温度まで下がり、蒸気ではなく液体の水が噴射される。そのため、調理対象物Ｃに水がかからないようにするように噴射ノズル２１ａは、ノズル駆動装置２１ｂにより調理対象物Ｃから逸れた方向に移動される。ノズル駆動装置２１ｂは、たとえば、モータを含む機構、シリンダ機構などである。
【００３３】
蒸気が噴射し始めると、噴射ノズル２１ａは、調理対象物Ｃに蒸気が当たるように移動される。一定の間、調理対象物Ｃに蒸気を噴射した後は、調理対象物Ｃの水分量が多くなりすぎないように調理対象物Ｃから逸れた方向に噴射ノズル２１ａは移動され、加熱調理室１内の雰囲気に蒸気が噴射される。調理対象物Ｃから逸れた方向とは、調理対象物Ｃに蒸気が当たらない方向であれば、特に限定されない。
【００３４】
噴射ノズル２１ａは、加熱調理室１内の調理対象物Ｃの載置位置よりも上方（Ｚ１側）および下方（Ｚ２側）の両方に設けられている。ノズル駆動装置２１ｂは、上下の各噴射ノズル２１ａに対して設けられている。
【００３５】
マグネトロン３は、ヒーターにより加熱される陰極と、加熱されない陽極とから構成されている。そして、陰極をヒーターで加熱することにより、マイクロ波を発生させる。マイクロ波が、調理対象物Ｃに含まれる水分に吸収されることにより、水分を振動させる。水分が振動することにより熱を発生させて、加熱調理装置１００は、調理対象物Ｃを内側から温める。中華まんの場合は、餡部Ｃ１に含まれる水分にマイクロ波が吸収される。その結果、水分が振動することにより熱を発生させて、加熱調理装置１００は、中華まんを内側から温める。また、予め、噴射ノズル２１ａから噴射された蒸気を中華まんに当てることにより、水分の少ない皮部Ｃ２に水分が供給される。その結果、加熱調理装置１００は、皮部Ｃ２に含まれる水分にマイクロ波が吸収されるため、中華まんを外側からも温める。
【００３６】
図３は、調理対象物Ｃが載置された載置台４１を上方（Ｚ１側）から見た模式図である。載置台４１には、電磁波を透過させずに、水を透過させる網目４２が設けられている。網目４２の大きさ（幅）ｗは、使用される電磁波の波長よりも短い。また、載置台４１は、電磁波を透過させないために金属により形成される。載置台４１の形状は、特に限定されないが、加熱調理室１と載置台４１との間には隙間がないほうが好ましい。隙間が生じる場合は、載置台４１に設けられた網目４２の大きさｗと同様に、隙間の長さが使用される電磁波の波長よりも短くなるように形成されている。なお、載置台４１は、特許請求の範囲の「排水部」の一例である。
【００３７】
載置台４１を透過した水は、加熱調理装置１００の底面に溜まる（図２参照）。そこで、加熱調理装置１００は、たとえば、加熱調理室１の底面（Ｚ２側）にタンクを設け、排水を外部に捨てられるように構成されている。
【００３８】
図１に示すように加熱調理装置１００は、さらに制御部５を備えている。制御部５は、蒸気発生部２とマグネトロン３とを制御し、調理対象物Ｃを加熱調理する制御を行う。制御部５は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）、メモリなどを含んでいる。
【００３９】
制御部５は、メモリに記憶されているプログラムに基づき加熱調理を実行する。たとえば、制御部５は、蒸気発生部２による加熱調理、マグネトロン３および蒸気発生部２による加熱調理、蒸気発生部２による加熱調理の順で、調理対象物Ｃを加熱調理する制御を行う。さらに、制御部５は、加熱調理の時間、マグネトロン３の出力（ワット数）、噴射ノズル２１ａの向きなどを調整する制御を行う。
【００４０】
図１に示すように、加熱調理装置１００は、さらに、センサ６を備えている。センサ６は、加熱調理室１内に配置される。センサ６は、重量センサ、湿度センサ、温度センサなどである。重量センサによって、調理対象物Ｃの重量、調理対象物Ｃの体積、調理対象物Ｃの個数、調理対象物Ｃが中華まんなどの厚い皮を有する食品の場合は、皮の厚さなどを測定する。温度センサにより、加熱調理室１内の温度、調理対象物Ｃの温度を測定する。湿度センサにより、加熱調理室１内の湿度を測定する。センサ６は、たとえば、赤外線、遠赤外線を調理対象物Ｃに照射して測定する。
【００４１】
センサ６によって測定された情報に基づいて、制御部５は、調理対象物Ｃを加熱調理する制御を行う。制御部５には、複数のテーブルが記憶されている。たとえば、制御部５には、調理対象物Ｃの重量と、調理対象物Ｃの個数および種類、マグネトロン３のワット数と、蒸気発生部２とマグネトロン３とを用いた加熱調理時間と、蒸気発生部２およびマグネトロン３のいずれか一方、または、組み合わせて用いる加熱調理とが関連付けて記憶されている。具体的には、テーブルは、重量が１００ｇの場合、初めは、蒸気発生部２による加熱調理を１０秒行い、次に、蒸気発生部２による加熱調理とマグネトロン３とを用いた１２００ｗの加熱調理を１分３０秒行い、最後に、蒸気発生部２による加熱調理を１０秒行うというデータを含んでいる。また、テーブルは、たとえば、初めに、調理開始から５秒は噴射ノズル２１ａを調理対象物Ｃから逸れた方向に向けて蒸気を噴射し、次に噴射ノズル２１ａを調理対象物Ｃに向けて蒸気を１分間噴射し、最後に、噴射ノズル２１ａの向きを調理対象物Ｃから逸れた方向に向けて蒸気を噴射するというデータも含んでいる。
【００４２】
図４に基づいて、第１実施形態の加熱調理装置１００が行う自動調理の一例について、調理対象物Ｃが肉まんである場合を例に説明する。ステップＳ１では、制御部５は、加熱調理室１内の載置台４１に調理対象物Ｃである肉まんが載置されたことをセンサにより検知する。ステップＳ２では、制御部５は、載置台４１に載置された肉まんの重量を測定するように重量センサを制御する。ステップＳ３では、制御部５は、重量センサからの情報に基づき調理対象物Ｃの種類、個数などを算出する制御を行う。このとき、制御部５は、調理対象物Ｃが肉まんであることと、載置台４１に肉まんの個数とを算出する。ステップＳ４では、制御部５は、調理対象物Ｃの種類、個数などから、記憶されているテーブルに基づいて加熱調理時間を調整する制御を行う。ステップＳ５では、制御部５は、加熱調理の出力を調整する制御を行う。ステップＳ６では、制御部５は、噴射ノズル２１ａを制御し、噴射ノズル２１ａの向きを肉まんから逸れる方向に調整する制御を行う。これにより、熱エネルギーのロスによって噴射ノズル２１ａから噴射される水が、調理対象物Ｃにかかることを抑制する。
【００４３】
ステップＳ７では、制御部５は、噴射ノズル２１ａを制御し、噴射ノズル２１ａの向きを蒸気が肉まんに向かう方向に調整する制御を行う。これにより、肉まんに水分が供給されるとともに、肉まんの皮部Ｃ２が蒸気により加熱調理される。ステップＳ８では、制御部５は、マグネトロン３を制御し、マイクロ波による調理対象物Ｃの加熱調理の制御を行う。これにより、皮部Ｃ２よりも水分を含む肉まんの餡部Ｃ１が加熱される。ステップＳ９では、制御部５は、噴射ノズル２１ａを制御し、噴射ノズル２１ａの向きを肉まんから逸れる方向に調整する制御を行う。ステップＳ１０では、制御部５は、マグネトロン３を制御し、マイクロ波による加熱調理を終了する制御を行う。ステップＳ１１では、噴射ノズル２１ａを制御し、噴射ノズル２１ａの向きを肉まんに向かう方向に調整する制御を行う。これにより、蒸気により肉まんに水分が供給される。ステップＳ１２では、制御部５は、蒸気発生部２を制御し、蒸気による肉まんの加熱調理を終了する。
【００４４】
（第１実施形態の効果）
第１実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
【００４５】
第１実施形態では、上記のように、水を予め加熱して貯蔵するボイラ２２と、ボイラ２２内の加熱された水を加熱調理室１内に蒸気として噴射する噴射部２１とを備える。これにより、予め水が加熱された状態で貯蔵されているため、加熱調理するための蒸気を発生させるための時間を短縮することができる。また、マグネトロン３と蒸気発生部２とを備えていることにより、マイクロ波と蒸気とによって調理対象物Ｃを加熱調理することができる。これらの結果、調理対象物Ｃの加熱調理に要する時間を短縮することができる。これにより、調理対象物Ｃを迅速に加熱調理して提供できるため販売機会を確保できるとともに、予め加熱調理して保温していた場合の味の経時劣化、売れ残りの廃棄を抑制することができる。また、内側に水分を多く含む餡部Ｃ１を有するとともに、外側に皮部Ｃ２を有する中華まんの調理において、マイクロ波により餡部Ｃ１を加熱するとともに、蒸気により皮部Ｃ２を加熱することができる。このため、中華まんを内側および外側から効率的に加熱することができる。
【００４６】
また、第１実施形態では、上記のように、噴射部２１は、蒸気の噴射方向を調理対象物Ｃに向かう方向と、調理対象物Ｃから逸れた方向とに変更可能に構成されている。これにより、蒸気を調理対象物Ｃに当てることにより、調理対象物Ｃに水分が供給される。そのため、電磁波により水分が蒸発したとしても、調理対象物Ｃの乾燥を抑制することができる。また、中華まんの皮部Ｃ２のように調理対象物Ｃの水分が少ない部分に水分が供給されることによって、電磁波による加熱調理を促進することができる。さらに、蒸気を調理対象物Ｃに当てないようにすることにより、使用開始時に噴射部２１が温まっていないことに起因して、水が噴射された場合に調理対象物Ｃに水がかかることを抑制することができる。
【００４７】
また、第１実施形態では、上記のように、噴射部２１は、加熱調理室１内の調理対象物Ｃの載置位置よりも上方および下方の両方に設けられている。これにより、加熱調理室１内に蒸気を迅速に充満させることができるため、調理対象物Ｃの加熱調理に要する時間をより短縮することができる。
【００４８】
また、第１実施形態では、上記のように、噴射部２１は、調理対象物Ｃに向かう方向と、調理対象物Ｃから逸れる方向とに移動可能な噴射ノズル２１ａを有する。これにより、調理対象物Ｃに向かう方向に配置された噴射ノズル２１ａと、調理対象物Ｃから逸れる方向に配置された噴射ノズル２１ａとを配置する場合と比べて、噴射ノズル２１ａの数を減らすことができる。その結果、加熱調理装置１００の構成を簡素化することができる。
【００４９】
また、第１実施形態では、上記のように、ボイラ２２は、加圧状態で水を１００℃よりも高い温度に加熱するように構成されている。これにより、大気圧における水の沸点は１００℃であるため、噴射部２１から噴射された１００℃を超える水を即座に蒸発させて、蒸気とすることができる。そのため、蒸気による加熱調理を迅速に開始することができる。
【００５０】
また、第１実施形態では、上記のように、加熱調理室内において結露した水分を外部に逃す排水部をさらに含む。これにより、電磁波が結露水に吸収されることを抑制することができるため、調理対象物Ｃを電磁波により効果的に加熱調理することができる。
【００５１】
また、第１実施形態では、上記のように、排水部は、調理対象物Ｃが載置され、マイクロ波を透過させずに水を透過させる網目４２が設けられた載置台４１、または、調理対象物Ｃが載置され、電磁波を透過させずに水を透過させるスリットが設けられた載置台のいずれかを含む。これにより、加熱調理室１内で結露した水は、網目４２またはスリットを透過し、加熱調理室１の底面に溜まるが、電磁波は、網目４２またはスリットを透過しないため結露水が溜まっている底面には到達しない。これにより、加熱調理室１内において生じた結露水に電磁波が吸収されることを効果的に抑制することができる。
【００５２】
また、第１実施形態では、上記のように、蒸気発生部２による加熱調理とマグネトロン３による加熱調理とを切り替える制御を行う制御部５をさらに備え、制御部５は、蒸気発生部２による加熱調理、マグネトロン３および蒸気発生部２による加熱調理、蒸気発生部２による加熱調理の順で、調理対象物Ｃを加熱調理する制御を行うように構成されている。これにより、蒸気発生部２による加熱調理を最初に行うことにより、調理対象物Ｃに水分を含ませることができるため、マイクロ波によって調理対象物Ｃが乾燥することを抑制することができるとともに、水分を供給することにより電磁波による加熱調理を促進することができる。また、最後に蒸気発生部２により加熱調理を行うことにより、調理対象物Ｃに水分を十分に供給することができる。
【００５３】
また、第１実施形態では、上記のように、調理対象物Ｃに関する重量、温度、または湿度の少なくともいずれか１つの情報を取得するためのセンサ６をさらに備え、制御部５は、センサ６によって取得した情報に基づいて調理対象物Ｃを加熱調理する制御を行うように構成されている。これにより、調理対象物Ｃを加熱調理室１に配置することにより、調理対象物Ｃに応じた最適な加熱調理が自動で行われるため、調理対象物Ｃに応じて、調理時間などを調整するユーザの手間を省くことができる。
【００５４】
また、第１実施形態では、上記のように、好ましくは、加熱調理室１の内部の天面１１は、加熱調理室１の端部に結露水を導くように加熱調理室１の下方側に向かって傾斜するドーム形状を有する。これにより、傾斜によって結露水が加熱調理室１の端部に移動するため、加熱調理室１内の天面１１において結露した水が、調理対象物Ｃにかかることを抑制することができる。
【００５５】
［第２実施形態］
図５を参照して、第２実施形態について説明する。この第２実施形態では、噴射ノズル２１ａの向きを変えることにより調理対象物Ｃに向かう方向と、調理対象物Ｃから逸れる方向とを切り替えた第１実施形態とは異なり、遮蔽部２３を移動させることにより、調理対象物Ｃに向かう方向と、調理対象物Ｃから逸れる方向とを切り替える例について説明する。第２実施形態では、加熱調理装置２００は、噴射部２１０の噴射ノズル２１１ａは固定されている。なお、上記第１実施形態と同様の構成については、図中において同じ符号を付して図示し、その説明を省略する。
【００５６】
第２実施形態による加熱調理装置２００は、噴射部２１０と調理対象物Ｃとの間を遮る位置と、噴射部２１０と調理対象物Ｃとの間を遮らない位置とに移動可能な遮蔽部２３を含んでいる。遮蔽部２３は、移動機構を備えており、移動機構により移動する。遮蔽部２３は、電磁波を遮蔽しない樹脂などで構成されている。遮蔽部２３は、たとえば、板状である。遮蔽部２３は、噴射ノズル２１１ａの近くに設けてもよく、調理対象物Ｃの近くに設けてもよい。なお、調理対象物Ｃの配置される加熱調理室１と噴射ノズル２１１ａとは、遮蔽部２３の移動前後において共に連通している。
【００５７】
蒸気発生部２の稼働を開始した直後では、ボイラ２２から噴射部２１０までを結ぶ管が十分温まっていないなどの理由により、熱エネルギーの消失が起こる。その結果、１２０℃まで加熱されていた水が１００℃未満の温度まで下がり、蒸気ではなく液体の水が噴射される。そのため、ボイラ２２の稼働開始時点では、遮蔽部２３は、噴射部２１０と調理対象物Ｃとの間を遮る位置に移動する（位置する）。遮蔽部２３は、調理対象物Ｃの載置位置よりも上方（Ｚ１側）に設けられる噴射ノズル２１１ａと、調理対象物Ｃの載置位置よりも下方（Ｚ２側）に設けられる噴射ノズル２１１ａとに設けられる。遮蔽部２３が、噴射部２１０と調理対象物Ｃとの間を遮る位置に移動するタイミングは、第１実施形態の噴射ノズル２１ａが移動するタイミングと同じである。また、遮蔽部２３が、噴射部２１０と調理対象物Ｃとの間を遮らない位置に移動するタイミングは、第１実施形態の噴射ノズル２１ａが移動するタイミングと同じである。
【００５８】
遮蔽部２３は、蒸気を噴射し始めたときに調理対象物Ｃに蒸気が当たるように噴射部２１０と調理対象物Ｃとの間を遮らない位置に移動する。調理対象物Ｃに一定時間蒸気を噴射した後は、調理対象物Ｃの水分量が多くなりすぎないように遮蔽部２３は、噴射部２１０と調理対象物Ｃとの間を遮る位置に移動する。
【００５９】
なお、第２実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００６０】
（第２実施形態の効果）
第２実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
【００６１】
第２実施形態では、加熱調理装置２００では、噴射部２１０は、噴射部２１０と調理対象物Ｃとの間を遮る位置と、噴射部２１０と調理対象物Ｃとの間を遮らない位置とに移動可能な遮蔽部２３を有する。これにより、噴射ノズル２１１ａを動かすことなく調理対象物Ｃに向かう方向と、調理対象物Ｃから逸れる方向とを切り替えることができる。
【００６２】
なお、第２実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態と同様である。
【００６３】
［第３実施形態］
図６を参照して、第３実施形態について説明する。この第３実施形態では、加熱調理システム５００について説明する。なお、上記第１実施形態と同様の構成については、図中において同じ符号を付して図示し、その説明を省略する。
【００６４】
第３実施形態による加熱調理システム５００は、調理対象物Ｃを収容するとともに、調理対象物Ｃを蒸気によって加熱調理および保温するように構成されている蒸し器４００と、蒸し器４００の下に配置され、調理対象物Ｃを収容するとともに、調理対象物Ｃを電磁波および蒸気によって加熱調理する加熱調理装置３００とを備えている。
【００６５】
加熱調理装置３００は、調理対象物Ｃを収容するとともに、調理対象物Ｃを加熱調理する加熱調理室１と、水を予め加熱して貯蔵するボイラ２２と、ボイラ２２内の加熱された水を加熱調理室１内に蒸気として噴射する噴射部２１とを含む蒸気発生部２と、加熱調理室１内にマイクロ波を発生させるマグネトロン３とを含む。蒸気発生部２は、加熱調理装置３００と蒸し器４００とに共通である。なお、マグネトロン３は、特許請求の範囲の「電磁波発生部」の一例である。また、マイクロ波は、特許請求の範囲の「電磁波」の一例である。
【００６６】
加熱調理装置３００は、第１実施形態と構成は同じである。第３実施形態では、可動式の噴射ノズル２１ａを設けているが、第２実施形態のように、遮蔽部２３を設けてもよい。蒸し器４００は、調理対象物Ｃを収容できるようにケース７を有している。ケース７は、箱型形状であり、開閉扉を備えている。また、ケース７内には、調理対象物Ｃを配置するための棚４４１が設けられている。蒸し器４００は、加熱調理装置３００と違い、電磁波を使用しないためケース７はガラス、プラスチックなどで形成される。蒸し器４００のケース７には、噴射ノズルが設けられている。そのため、ボイラ２２で熱せられた水は、蒸気となりケース７内に噴射される。
【００６７】
なお、第３実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態および第２実施形態と同様である。
【００６８】
（第３実施形態の効果）
第３実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
【００６９】
第３実施形態では、上記のように、加熱調理システム５００は、調理対象物Ｃを収容するとともに、調理対象物Ｃを蒸気によって加熱調理および保温するように構成されている蒸し器４００と、蒸し器４００の近傍に配置され、水を予め加熱して貯蔵するボイラ２２と、ボイラ２２内の加熱された水を加熱調理室１内に蒸気として噴射する噴射部２１とマグネトロン３とを含む加熱調理装置３００とを備える。これにより、調理対象物Ｃの加熱調理に要する時間を短縮することが可能な加熱調理システム５００を提供することができる。この結果、調理対象物Ｃを迅速に加熱調理し提供できるため販売機会を確保できる。また、蒸し器４００によって予め多くの調理対象物Ｃを加熱調理して保温しなくてもよいため、予め加熱調理し保温していた場合の味の経時劣化、売れ残りの廃棄を抑制することができる。
【００７０】
また、第３実施形態では、上記のように、蒸し器４００には、加熱調理装置３００の蒸気発生部２から蒸気が噴射されるように構成されている。これにより、予め水が加熱された状態で貯蔵されているため、加熱調理するための蒸気を発生させるための時間を短縮することができるため、蒸し器４００の加熱調理時間を短縮することができる。また、蒸し器４００に蒸気を発生させるための専用の構成を設ける場合と比べて装置構成を簡素化することができる。
【００７１】
なお、第３実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態および第２実施形態と同様である。
【００７２】
（変形例）
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更（変形例）が含まれる。
【００７３】
たとえば、上記第１〜第３実施形態では、貯蔵部がボイラである例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明の貯蔵部は、水を予備加熱することが可能ならば、他の加熱部でもよい。
【００７４】
また、上記第１〜第３実施形態では、電磁波発生部がマグネトロンである例を示したが、本発明はこれに限られない。電磁波発生部は、マイクロ波よりも長い波長の電磁波を発生させる構成であってもよい。
【００７５】
また、上記第１〜第３実施形態では、噴射部は、加熱調理室内の調理対象物の載置位置よりも上方および下方の両方に設けられている例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、調理対象物の載置位置よりも上方または下方のいずれか一方のみに設けられていてもよい。
【００７６】
また、上記第１および第３実施形態では、調理対象物の上方に設けられる噴射ノズルと、調理対象物の下方に設けられる噴射ノズルとが、同じタイミングで移動する例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、調理対象物の載置位置よりも上方に設けられる噴射ノズルの移動のタイミングと調理対象物の下方に設けられる噴射ノズルの移動のタイミングとが、異なっていてもよい。また、調理対象物によっては、調理対象物の載置位置よりも下方に設けられる噴射ノズルは固定されていてもよい。
【００７７】
また、上記第２および第３実施形態では、遮蔽部は、調理対象物の載置位置よりも上方に設けられる場合と、下方に設けられる場合とにおいて同じタイミングで移動する例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、調理対象物の載置位置よりも上方に設けられる遮蔽部の移動のタイミングと調理対象物の下方に設けられる遮蔽部の移動のタイミングとが、異なっていてもよい。また、調理対象物によっては、調理対象物の載置位置よりも下方に遮蔽部を設けなくてもよい。
【００７８】
また、上記第１〜第３実施形態では、排水部は、網目が設けられた載置台である例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、図７に示すように、排水部は、スリット４４が設けられた載置台４３であってもよい。この場合、スリット４４の大きさ（幅）は、使用する電磁波の波長よりも短く形成される。
【００７９】
また、上記第１〜第３実施形態では、排水部は、網目が設けられた載置台を含む例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、斜めに配置された載置台を含んでいてもよい。この場合、載置台に溝を設けてもよい。また、加熱調理室の底面に溝を設けて、底面を斜めにし、外部に排出するように構成されていてもよい。
【００８０】
また、上記第１〜３実施形態では、加熱調理室の内部の天面は、加熱調理室の端部に結露水を導くように加熱調理室の下方側に向かって傾斜するドーム形状を有する例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、熱調理室の内部の天面は、加熱調理室の端部に結露水を導くように加熱調理室の下方側に向かって傾斜していればドーム形状でなくてもよい。
【００８１】
また、上記第１〜３実施形態では、制御部は、蒸気発生部による加熱調理、電磁波発生部および蒸気発生部による加熱調理、蒸気発生部による加熱調理の順で、調理対象物を加熱調理する制御を行うように記憶されている例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、調理対象物に応じて、加熱調理の順番を変更してもよい。
【００８２】
また、上記第１〜３実施形態では、センサが重量センサの場合の例を示したが、本発明はこれに限られない。センサは、温度センサ、または湿度センサなどでもよい。この場合、温度データまたは湿度データと関連付けて記憶されているテーブルから制御部は、加熱調理の制御を行う。
【００８３】
また、上記第１〜３実施形態では、自動調理工程の一例を示したが、本発明はこれに限られない。特にステップＳ３からステップＳ５までは、順番が入れ替わってもよく、同時に行ってもよい。
【符号の説明】
【００８４】
１  加熱調理室
２  蒸気発生部
３  マグネトロン（電磁波発生部）
５  制御部
６  センサ
１１  天面
２１、２１０  噴射部
２１ａ、２１１ａ  噴射ノズル
２２  ボイラ（貯蔵部）
２３  遮蔽部
４１、４３  載置台（排水部）
４２  網目
４４  スリット
１００、２００、３００  加熱調理装置
４００  蒸し器
５００  加熱調理システム
Ｃ  調理対象物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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