(57)【要約】【課題】高いガスバリア性を保持しつつ、意匠性及び偽造防止機能を付与した光学特性を有するガスバリア性フィルムを提供する。【解決手段】プラスチック基材フィルム上に形成された下部微細パターンと、下部微細パターン上に形成されたアンカーコート層と、アンカーコート層上に気相堆積法で形成された無機酸化物層と、無機酸化物層上に形成された上部微細パターンと、上部微細パターン上に形成されたオーバーコート層とを備え、前記下部微細パターンと、上部微細パターンは線状のパターンであり、その線幅が１〜１０μｍ、ピッチが５０〜１００μｍであるガスバリア性フィルムである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック材料からなる基材フィルム上にアンカーコート層と、無機酸化物層と、オーバーコート層とを、この順に備えるガスバリア性フィルムであって、
前記基材フィルム上に形成された下部微細パターンと、前記無機酸化物層上に形成された上部微細パターンとを具備し、
前記下部微細パターンと、上部微細パターンは線状パターンであり、その線幅が１〜１０μｍ、ピッチが５０〜１００μｍである、ガスバリア性フィルム。
【請求項２】
前記ガスバリア性フィルムを垂直方向から見たとき、前記上部微細パターンは長手方向に沿った中央が下部微細パターン内に配置する、請求項１に記載のガスバリア性フィルム。
【請求項３】
正面から見ると透明で、斜めから見ると前記微細パターンの色および図柄が観察される、請求項１または請求項２に記載のガスバリア性フィルム。
【請求項４】
前記ガスバリア性フィルムの製造方法であって、
前記基材フィルム上に下部微細パターンを形成する工程と、下部微細パターン上にアンカーコート層を塗布する工程と、アンカーコート層上に無機酸化物層を気相堆積法で形成する工程と、無機酸化物層上に上部微細パターンを形成する工程と、上部微細パターン上にオーバーコートを塗布する工程とを含む、ガスバリア性フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学特性を有するガスバリア性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ガスバリア性フィルムは、内容物の変質防止のため、食品及び医薬品に用いられている。また近年、有機ＥＬ、有機太陽電池等、精密な構造を有し、かつ外部からの影響を受けやすい材料から形成された次世代デバイスへの使用も検討されている。そのため、高ガスバリア性が要求されており、高ガスバリア性を示す材料として、アルミニウムなどの金属箔が挙げられる。但し、アルミニウム箔を用いたガスバリア性フィルムは、優れたガスバリア性を示す一方、内容物が視認できないという欠点がある。
【０００３】
その欠点を改善するため、金属箔の代替として無機酸化物を用いた透明ガスバリア性フィルムが検討されている。例えば、特許文献１には、真空蒸着やスパッタリングなどの気相堆積法により、高分子材料からなる基材上に形成した酸化ケイ素、または酸化アルミニウムの無機酸化物層を用いたガスバリア性フィルムが記載されている。特許文献２には、原子堆積法により、より緻密、かつ欠陥の少ない無機酸化物や窒化物、酸窒化物層を用いたガスバリア性フィルムも記載されている。これらのガスバリア性フィルムは、透明に形成でき、かつガスバリア性に優れている。
【０００４】
しかし、内容物の偽造、特に偽造医薬品が世界的に大きな問題となっている。したがって、ガスバリア性フィルムの用途が広がるにつれ、ガスバリア性フィルムに内容物の偽造防止機能が要望されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１８‐１９２６９３号公報
【特許文献２】特開２０１８‐１９６８５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、これらの事情に鑑みてなされたものであり、高いガスバリア性を保持しつつ、意匠性及び偽造防止機能を付与した光学特性を有するガスバリア性フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するため、本発明の一態様は、プラスチック材料からなる基材フィルム上にアンカーコート層と、無機酸化物層と、オーバーコート層とを、この順に備えるガスバリア性フィルムであって、
前記基材フィルム上に形成された下部微細パターンと、前記無機酸化物層上に形成された上部微細パターンとを具備し、
前記下部微細パターンと、上部微細パターンは線状パターンであり、その線幅が１〜１０μｍ、ピッチが５０〜１００μｍである、ガスバリア性フィルムである。
【０００８】
また、前記ガスバリア性フィルムを垂直方向から見たとき、前記上部微細パターンは長手方向に沿った中央が下部微細パターン内に配置する。
【０００９】
また、正面から見ると透明で、斜めから見ると前記微細パターンの色および図柄が観察
される。
【００１０】
本発明の別の一態様は、ガスバリア性フィルムの製造方法であって、前記基材フィルム上に下部微細パターンを形成する工程と、下部微細パターン上にアンカーコート層を塗布する工程と、アンカーコート層上に無機酸化物層を気相堆積法で形成する工程と、無機酸化物層上に上部微細パターンを形成する工程と、上部微細パターン上にオーバーコートを塗布する工程とを含む、ガスバリア性フィルムの製造方法である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、高いガスバリア性を有し、意匠性及び偽造防止機能を付与した光学特性を有するガスバリア性フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一態様に係る光学特性を有するガスバリア性フィルムの断面図である。
【図２】本発明の一態様に係る微細パターンを形成する工程を示す側面図である。
【図３】本発明の一態様に係る光学特性のメカニズムを説明する図である。
【図４】本発明の一態様に係る微細パターンの俯瞰図である。
【図５】本発明の一態様に係る下部微細パターン及び上部微細パターンの配置例である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の実施形態に係る光学特性を有するガスバリア性フィルム１００の断面図を図１に示す。ガスバリア性フィルム１００は、基材フィルム（例：プラスチックフィルム）１０１と、下部微細パターン１０２と、アンカーコート層１０３と、無機酸化物層１０４と、上部微細パターン１０５と、オーバーコート層１０６とを、この順に備える。
【００１４】
プラスチック基材フィルム１０１は、透明フィルムである。プラスチック基材フィルム１０１の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリイミド、エチレン−ビニルアルコール共重合体、セロファンなどを使用することができる。
【００１５】
特にポリエチレンテレフタレ−ト、ポリブチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−トあるいはポリ−１、４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレ−ト及びこれらを主体とするポリエステルフィルムは耐熱性、耐薬品性、機械的特性において優れた性質を有するために、磁気記録材料、各種写真材料、包装材料、電気絶縁材料、一般工業材料等多くの用途に用いられており、高温多湿環境での長期保存を要求される用途にも好適である。
【００１６】
プラスチック基材フィルム１０１は、未延伸フィルム及び延伸フィルムの何であってもよい。機械的強度及び寸法安定性を考慮した場合には、一軸延伸フィルム及び二軸延伸フィルムなどの延伸フィルム、特に二軸延伸フィルムを使用することが有利である。プラスチック基材フィルム１０１の厚さに制限はないが、プラスチック基材フィルム１０１は、基材として十分な強度を達成し得る厚さを有している必要がある。プラスチック基材フィルム１０１の厚さは、例えば６μｍ乃至２００μｍの範囲内とし、典型的には９μｍ乃至１００μｍの範囲内とすることが好ましい。
【００１７】
光学特性を有するガスバリア性フィルム１００の製造の際、その材料としてのプラスチック基材フィルム１０１の形状に制限はない。但し、量産性を考慮した場合には、プラスチック基材フィルム１０１は長尺物であることが有利である。
【００１８】
下部微細パターン１０２と、上部微細パターン１０５（以下、微細パターン２０２と呼ぶことがある。）の形成工程の側面図を図２に示す。微細パターン２０２をブランケット２０３により受理し、プラスチック基材フィルム１０１、または無機酸化物層１０４に転写することで、微細パターンを形成する。方法として、例えば、グラビアオフセット印刷が挙げられる。
【００１９】
ブランケット２０３上に微細パターン２０２を形成する方法として、ドクターブレードによって凹部にインキが充填された印刷版から、ブランケット２０３に微細パターン２０２を転写させる方法。微細パターン２０２をブランケット２０３の表面に均一に成膜し、凸部を有する印刷版によりパターニングする方法。ブランケット２０３の表面に直接パターンを形成する方法が挙げられる。
【００２０】
ブランケット２０３は、回転可能なブランケット胴２０４の表面に固定されている。ブランケット２０３の表面すなわち印刷面はゴム層からなり、ゴム材料としては例えば、シリコーンゴムである。また、ゴム材料は公知の各種の材料を用いることができ、インキおよびインキに用いられる溶剤の種類に応じて選択し、溶剤吸収性のあるものが好適である。
【００２１】
微細パターン２０２に使用するインキは、電子デバイスに用いられている導電性インキを用いることができる。導電性インキは例えば、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｉｎ等の金属微粒子、あるいはＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、ＳｎＯ２（酸化スズ）などの導電性金属酸化物微粒子を含むものが利用可能である。
【００２２】
前記導電性インキの場合、インキを硬化、または乾燥させる。この硬化は例えば、加熱焼成や紫外線照射など、使用する導電性インキの硬化性成分に応じ、該当成分を硬化させる各種の手段を用いることができる。また乾燥は例えば、加熱乾燥や自然乾燥、冷却などにより、インキ中に含まれた揮発性成分を揮発させる手段が用いられる。
【００２３】
前記導電性インキ以外、印刷分野で知られている有機顔料、無機顔料を適宜用いることができる。有機顔料としては、炭素化合物の他、ニトロソ系、ニトロ系、アゾ系、レーキ系、フタロシアニン系、縮合多環材料等がある。無機顔料としては、二酸化チタン、亜鉛華、鉄黒に代表される酸化物の他、水酸化物、硫化物、セレン化物、フェロシアン化物、クロム酸塩、硫酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、燐酸塩、炭素等がある。
【００２４】
前記インキでは、溶剤は任意のものを用いることができる。例えば、速乾性インキでは常温で乾燥する沸点の低い溶剤（ＭＥＫ、エタノール、アセトンなど）、水性インキでは精製水、オイル系インキでは常温で揮発しないオイル（脂肪族炭化水素、ダリコールエーテル、高級アルコールなど）を用いることが可能である。溶剤の種類に応じて、当該溶媒に対して吸収性を有するブランケット材料を選択することができる。
【００２５】
前記以外のインキ材料として用いる樹脂材料は、透明樹脂や、色付きの樹脂、あるいは、不透明な樹脂を用いても良い。すなわち、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、フッ素系アクリル樹脂、シリコン系アクリル樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリルスチレン樹脂、シクロオレフィンポリマー、メチルスチレン樹脂、フルオレン樹脂、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ポリプロピレン、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＩ（ポリイミド）等の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂等の汎用プラスチックを用いることが可能である。この熱可塑性樹脂としては、前述の材料を用いることができる。また、熱硬化性樹脂も、前述の材料を用いることができる。
【００２６】
本発明は、高いガスバリア性を保持しつつ、意匠性及び偽造防止機能を付与した光学特性を有するガスバリア性フィルムである。本発明の特徴である偽造防止機能について説明する。偽造防止には、偽造が困難な特性を有し、かつ、視覚的に真偽判定が容易なことが必要とされる。本発明では、プラスチック基材フィルム上および無機酸化物層上に２種類の微細パターンを形成し、微細パターンの色および図柄が、正面から見ると視認不可能で、斜めから見ると視認可能となるチェンジングの光学特性をガスバリア性フィルムに付与した。これによって、偽造が困難で、かつ、視覚的に真偽判定が容易となる。
【００２７】
微細パターン２０２が視認不可能から視認可能となるチェンジングの光学特性のメカニズムを図３に示す。図３に示すように、正面から見る（Ａ）と、下部微細パターン１０２と上部微細パターン１０５が重なって見えることにより投影されたインキ面積３０１は、面積占有率が小さいため、肉眼では解像できず透明に見える。斜めから見る（Ｂ）と、下部微細パターン１０２と上部微細パターン１０５が重なって見えることにより投影されたインキ面積３０２は、面積占有率が大きくなるため、肉眼でも印刷物を確認することができる。インキの面積が正面から視認不可能であり、斜めでは視認可能になることを考慮すると、下部微細パターン１０２と、上部微細パターン１０５は、適切な線幅４０１、及びピッチ４０２が必要である（図４）。ここで、線幅４０１が１〜１０μｍ、ピッチ４０２は５０〜１００μｍの細線が望ましい。
【００２８】
また、図１に示すように、下部微細パターン１０２と、上部微細パターン１０５の位置が、プラスチック基材フィルム１０１に対して垂直方向に沿って上下を合わせる必要があり、プラスチック基材フィルム１０１上に任意の位置合わせマークを用いて、位置合わせをする必要がある。下部微細パターン１０２及び上部微細パターン１０５は、図４のように同じ線幅４０１、もしくは異なる線幅４０１の組み合わせができるが、同ピッチ４０２の必要がある。また、図５に示すように、ガスバリア性フィルムを垂直方向（断面方向）から見たとき、上部微細パターン１０５ａ、１０５ｂ、１０５ｃは、長手方向に沿った中央が、下部微細パターン１０２の面積内に配置することが望ましい。例えば、下部微細パターン１０２の中央に重なる上部微細パターン１０５ａ、または下部微細パターンの中央から右にずらした上部微細パターン１０５ｂ、または下部微細パターンの中央から左にずらした上部微細パターン１０５ｃが配置できる。
【００２９】
下部微細パターン１０２と、上部微細パターン１０５は、上下とも同じインキ、もしくは異なるインキの組み合わせを用いることにより、斜めで見える色の調整ができる。例えば、シアン、マゼンタ、イエロー、ブラックの４色等から選択される有色の下部微細パターン１０２と、上部微細パターン１０５の組み合わせで、色を表現することができる。また、下部微細パターン１０２と上部微細パターン１０５の線幅、あるいはピッチの調整によって濃淡を持った色を表現することができる。さらに、下部微細パターン１０２と、上部微細パターン１０５の配置により、視線を変えることで図柄が表示できる。
【００３０】
下部微細パターン１０２と、上部微細パターン１０５の厚みを増やすことにより、より明瞭に視認されることができる。より厚みの厚い微細パターン２０２は例えば、積層で印刷することにより形成することができる。
【００３１】
微細パターン２０２をブランケット２０３上に形成し、ブランケット２０３を回転させながらプラスチック基材フィルム１０１、あるいは無機酸化物層１０４上を移動することにより、ブランケット２０３上に移転された微細パターン２０２をプラスチック基材フィルム１０１、あるいは無機酸化物層１０４の印刷面に転写され、微細パターン２０２が作成される。ここで転写速度は、例えば毎秒２０ｍｍである。
【００３２】
上記工程を順に複数回繰り返すことで微細パターン２０２を積層し、膜厚の厚い微細パターンを形成することが可能である。
【００３３】
上記のように、２種類の微細パターンの膜厚、線幅、ピッチを調整することで、複雑な色の混合が可能となり、見る角度によっても千差万別な図柄が形成される。この図柄によって意匠性が加味され、特殊性と美しさを有し、また製造が困難な偽造防止機能を付与することができる。
【００３４】
上記工程において、ブランケット２０３を移動させたが、ブランケット２０３と印刷版固定用定盤との相対位置、または基材固定用定盤との相対位置の変化が実現できる限り、印刷版固定用定盤、および基材固定用定盤を移動させても良い。また、基材固定用定盤からプラスチック基材フィルム１０１を移動することなく、上記工程を複数回繰り返すことにより微細パターンをプラスチック基材フィルム１０１、あるいは無機酸化物層１０４上に積層させても良い。基材固定用定盤から、プラスチック基材フィルム１０１を移動し積層する際には、プラスチック基材フィルム１０１、あるいは無機酸化物層１０４上に任意の位置合わせマークを用いて、位置合わせをする必要がある。
【００３５】
アンカーコート層１０３は、下部微細パターン１０２上に形成される透明な層である。下部微細パターン１０２の凹凸を埋め、平坦な膜を形成するため、膜厚が下部微細パターン１０２より厚い必要がある。アンカーコート層１０３は、プラスチック基材フィルム１０１と無機酸化物層１０４との密着性の向上のために形成される層であり、双方に強固な密着力を示す材料を用いれば、特に制限はない。また、アンカーコート層１０３は、気相堆積法によって無機酸化物層１０４が形成される際に、平滑な表面性を保持するため、耐熱性を有していることが好ましい。このような例としては、ポリオールとイソシアネート化合物とを含んだ組成物の反応生成物が例示できる。更に詳しくは、この組成物は、例えば、アクリルポリオールとイソシアネート化合物とシランカップリング剤又はその加水分解生成物とを含んでいる。
【００３６】
アンカーコート層１０３は、例えば、前記アクリルポリオールとイソシアネート化合物とシランカップリング剤とを含有したコーティング液をプラスチック基材フィルム１０１上に塗布し、塗膜を乾燥硬化させることにより得られる。このコーティング液は、例えば、シランカップリング剤とアクリルポリオールとを混合し、この混合物に溶媒を加え、さらに、イソシアネート化合物と混合することにより得られる。或いは、シランカップリング剤とアクリルポリオールと溶媒とを混合してシランカップリング剤とアクリルポリオールとを反応させ、この混合液に溶媒を加え、さらに、この混合液とイソシアネート化合物とを混合することにより得られる。
【００３７】
前記コーティング液の溶媒としては、例えば、酢酸エチル及び酢酸ブチルなどのエステル、メタノール、エタノール及びイソプロピルアルコールなどのアルコール、メチルエチルケトンなどのケトン、トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化水素、又はそれらの混合物を使用することができる。シランカップリング剤を加水分解するために塩酸水溶液などの水溶液を使用する場合、共溶媒としてイソプロピルアルコールなどのアルコールと極性溶媒である酢酸エチルとの混合液を使用してもよい。
【００３８】
前記コーティング液のプラスチック基材フィルム１０１への塗布には、一般的な方法を利用することができる。例えば、ディッピング法、ロールコート法、グラビアコート法、リバースコート法、エアナイフコート法、コンマコート法、ダイコート法、スクリーン印刷法、スプレーコート法、又はグラビアオフセット法を利用することができる。コーティング液を塗布乾燥させる際には、塗布面に高い平滑性が得られるように、塗工方式、乾燥
方式をコーティング液に応じて適宜選択すればよい。
【００３９】
無機酸化物層１０４は、アンカーコート層１０３上に気相堆積法によって形成されたガスバリア性を有する透明な層である。無機酸化物層１０４を構成する材料としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化錫、又はこれらの混合物を使用することができる。
【００４０】
無機酸化物層１０４の形成には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、又はプラズマ化学気相堆積法を利用することができる。真空蒸着法を利用する場合、蒸発材料の加熱には、例えば、電子線加熱、抵抗加熱、又は誘導加熱を利用することができる。電子線加熱を利用した場合、蒸発材料の選択の自由度が大きい。蒸着にプラズマアシスト法又はイオンビームアシスト法を利用すると、より緻密な無機酸化物層１０４を形成することができる。また、蒸着の際に酸素などのガスを吹き込む反応蒸着を利用すると、透明性に優れた無機酸化物層１０４を形成することができる。
【００４１】
無機酸化物層１０４の厚さは、例えば５ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲内とすることが好ましい。無機酸化物層１０４が５ｎｍより薄い場合、無機酸化物層１０４を厚さが均一な連続膜として形成することは難しく、十分なガスバリア性が得られない。また、５００ｎｍより厚い無機酸化物層１０４は柔軟性が低く、透明ガスバリア性フィルム１００を撓ませた場合や引っ張った場合に亀裂を生じる可能性がある。また、気相堆積法は、経済的観点で厚膜の形成には適していない。
【００４２】
オーバーコート層１０６は、無機酸化物層１０４上に形成されたガスバリア性を有する透明な層であり、透明樹脂と無機酸化物などの無機物とを含んだ混合物である。上部微細パターン１０５の凹凸を埋め、平坦な膜を形成するため、膜厚が上部微細パターン１０５より厚い必要がある。
【００４３】
オーバーコート層１０６は、例えば、無機酸化物層１０４上に、水溶性高分子と金属アルコキシド及び／又はその加水分解生成物と水とを含有したコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱して乾燥させることにより得られる。或いは、オーバーコート層１０６は、例えば、無機酸化物層１０４上に、水溶性高分子とテトラアルコキシシラン又はその加水分解生成物とトリアルコキシシラン又はその加水分解生成物とを含有したコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱して乾燥させることにより得られる。或いは、オーバーコート層１０６は、例えば、無機酸化物層１０４上に、水溶性高分子と金属アルコキシド及び／又はその加水分解生成物と塩化錫とを水とを含有したコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱して乾燥させることにより得られる。なお、このコーティング液の溶媒としては、例えば、水又は水とアルコールとの混合液を使用することができる。
【００４４】
オーバーコート層１０６を形成するためのコーティング液は、例えば、ディッピング法、ロールコート法、グラビアコート法、リバースコート法、エアナイフコート法、コンマコート法、ダイコート法、スクリーン印刷法、スプレーコート法、又はグラビアオフセット法により塗布することができる。前記コーティング液を塗布してなる塗膜は、例えば、熱風乾燥法、熱ロール乾燥法、高周波照射法、赤外線照射法、紫外線照射法、又はそれらの組み合わせにより乾燥させることができる。
【００４５】
本発明によれば、高いガスバリア性を有し、意匠性及び偽造防止機能を付与した光学特性を有するガスバリア性フィルムを提供することができる。
【実施例】
【００４６】
＜アンカーコーティング液の調製＞
希釈溶媒中で、２−（エポキシシクロヘキサン）エチルトリメチルシラン（以下ＥＥＴＭＳとする）にアクリルポリオールを２．５倍量（重量比）混合し、さらに塩化錫／メタノ−ル溶液（０．００３ｍｏｌ／ｇ）をＥＥＴＭＳに対して１／１３５ｍｏｌとなるように添加し、次いでトリレンジイソシアネートを前記アクリルポリオールのＯＨ基（水酸基）に対して、ＮＣＯ基（イソシアネート基）が等量になるように混合し、アンカーコーティング液を調製した。
【００４７】
＜オーバーコーティング液の調製＞
１０ｇのテトラエトキシシランに、９０ｇの０．１Ｎ塩酸水溶液を添加した。次いで、この混合液を３０分間攪拌して、テトラエトキシシランの加水分解を生じさせた。これにより、ＳｉＯ２換算で固形分を３質量％の濃度で含有した加水分解溶液を得た。次に、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）と水とイソプロピルアルコールとを混合して、６５ｇのＰＶＡ溶液を調製した。水とイソプロピルアルコールとの質量比は９０：１０とした。また、このＰＶＡ溶液のＰＶＡ濃度は、４質量％とした。次に、これら加水分解溶液とＰＶＡ溶液とを混合して、３０分間攪拌し、オーバーコーティング液を調製した。
【００４８】
＜実施例１＞
厚さ１２０μｍのＰＥＴフィルム上に、導電性インキを用いて、グラビアオフセット印刷により、幅１０μｍ、ピッチ１００μｍの下部微細パターンを全面に形成した。
その後、グラビアコート法により前記アンカーコーティング液を塗布し、乾燥させることによりアンカーコート層を形成した。
続いて、誘導加熱方式を用いた真空蒸着装置により、アンカーコート層上に、酸化ケイ素の無機酸化物層を形成した。次に、位置合わせマークを用いて、下部微細パターンの中央に位置合わせをし、導電性インキを用いて、グラビアオフセット印刷により、幅１０μｍ、ピッチ１００μｍの上部微細パターンを全面に形成した。
最後に、グラビアコート法により、上部微細パターン上に、オーバーコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱乾燥させることでオーバーコートを形成した。以上のようにして、光学特性を有するガスバリア性フィルム１を完成した。
【００４９】
＜実施例２＞
厚さ１２０μｍのＰＥＴフィルム上に、導電性インキを用いて、グラビアオフセット印刷により、幅５μｍ、ピッチ５０μｍの下部微細パターンを全面に形成した。その後、グラビアコート法により前記アンカーコーティング液を塗布し、乾燥させることによりアンカーコート層を形成した。
続いて、誘導加熱方式を用いた真空蒸着装置により、アンカーコート層上に、酸化ケイ素の無機酸化物層を形成した。次に、位置合わせマークを用いて、下部微細パターンの中央に位置合わせをし、導電性インキを用いて、グラビアオフセット印刷により、幅５μｍ、ピッチ５０μｍの上部微細パターンを全面に形成した。最後に、グラビアコート法により、上部微細パターン上に、オーバーコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱乾燥させることでオーバーコートを形成した。以上のようにして、光学特性を有するガスバリア性フィルム２を完成した。
【００５０】
＜実施例３＞
厚さ１２０μｍのＰＥＴフィルム上に、マゼンタの有色インキを用いて、グラビアオフセット印刷により、幅１０μｍ、ピッチ１００μｍの下部微細パターンを全面に形成する。その後、グラビアコート法により前記アンカーコーティング液を塗布し、乾燥させることによりアンカーコート層を形成した。
続いて、誘導加熱方式を用いた真空蒸着装置により、アンカーコート層上に、酸化ケイ素の無機酸化物層を形成した。次に、位置合わせマークを用いて、下部微細パターンの中央に位置合わせをし、導電性インキを用いて、グラビアオフセット印刷により、幅１０μｍ
、ピッチ１００μｍの上部微細パターンを全面に形成した。
最後に、グラビアコート法により、上部微細パターン上に、オーバーコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱乾燥させることでオーバーコートを形成した。以上のようにして、光学特性を有するガスバリア性フィルム３を完成した。
【００５１】
＜実施例４＞
厚さ１２０μｍのＰＥＴフィルム上に、導電性インキを用いて、グラビアオフセット印刷により、幅１０μｍ、ピッチ１００μｍの下部微細パターンを全面に形成する。その後、グラビアコート法により前記アンカーコーティング液を塗布し、乾燥させることによりアンカーコート層を形成した。
続いて、誘導加熱方式を用いた真空蒸着装置により、アンカーコート層上に、酸化ケイ素の無機酸化物層を形成した。
次に、位置合わせマークを用いて、下部微細パターンの中央に位置合わせをし、導電性インキを用いて、グラビアオフセット印刷により、幅５μｍ、ピッチ１００μｍの上部微細パターンを全面に形成した。最後に、グラビアコート法により、上部微細パターン上に、オーバーコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱乾燥させることでオーバーコートを形成した。以上のようにして、光学特性を有するガスバリア性フィルム４を完成した。
【００５２】
＜実施例５＞
厚さ１２０μｍのＰＥＴフィルム上に、導電性インキを用いて、グラビアオフセット印刷により、幅１０μｍ、ピッチ１００μｍの下部微細パターンを全面に形成した。
その後、グラビアコート法により前記アンカーコーティング液を塗布し、乾燥させることによりアンカーコート層を形成した。
続いて、誘導加熱方式を用いた真空蒸着装置により、アンカーコート層上に、酸化ケイ素の無機酸化物層を形成した。次に、位置合わせマークを用いて、下部微細パターンの中央から５μｍずらした後、導電性インキを用いて、グラビアオフセット印刷により、幅１０μｍ、ピッチ１００μｍの上部微細パターンを全面に形成した。
最後に、グラビアコート法により、上部微細パターン上に、オーバーコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱乾燥させることでオーバーコートを形成した。以上のようにして、光学特性を有するガスバリア性フィルム５を完成した。
【００５３】
＜実施例６＞
厚さ１２０μｍのＰＥＴフィルム上に、導電性インキを用いて、グラビアオフセット印刷により、幅１０μｍ、ピッチ１００μｍの下部微細パターンをＴ字状に配置し、Ｔ字模様を形成した。
その後、グラビアコート法により前記アンカーコーティング液を塗布し、乾燥させることによりアンカーコート層を形成した。
続いて、誘導加熱方式を用いた真空蒸着装置により、アンカーコート層上に、酸化ケイ素の無機酸化物層を形成した。次に、位置合わせマークを用いて、下部微細パターンの中央に位置合わせをし、導電性インキを用いて、グラビアオフセット印刷により、幅１０μｍ、ピッチ１００μｍの上部微細パターンをＴ字状に配置する。最後に、グラビアコート法により、上部微細パターン上に、オーバーコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱乾燥させることでオーバーコートを形成した。以上のようにして、光学特性を有するガスバリア性フィルム６を完成した。
【００５４】
＜結果＞
前記光学特性を有するガスバリア性フィルム１〜６の酸素透過度及び水蒸気透過度を測定したところ、すべて良好なバリア特性を示した。また、光学特性を確認したところ、すべて正面からは透明であり、斜めから見ると色または模様が観測された。  
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明は、透明ガスバリア性フィルム等に好適に利用できる。
【符号の説明】
【００５６】
１００  ガスバリア性フィルム
１０１  プラスチック基材フィルム
１０２  下部微細パターン
１０３  アンカーコート層
１０４  無機酸化物層
１０５  上部微細パターン
１０６  オーバーコート層
２００  微細パターン形成工程
２０２  微細パターン
２０３  ブランケット
２０４  ブランケット胴
３００  光学特性のメカニズム
３０１  正面から見るインキの面積
３０２  斜めから見るインキの面積
４００  微細パターン
４０１  線幅
４０２  ピッチ
５００  下部微細パターン及び上部微細パターンの配置例
１０５ａ  中央に合わせた上部微細パターン
１０５ｂ  左にずらした上部微細パターンの一例
１０５ｃ  右にずらした上部微細パターンの一例
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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