(57)【要約】【課題】本発明は、従来の製造設備を使用して製造しても、ブラックマトリクスのモヤムラを抑制することが可能なブラックマトリクスの製造方法およびその製造方法で製造したブラックマトリクスを提供することを課題とする。【解決手段】表示装置用カラーフィルタに使用されるブラックマトリクスの製造方法であって、ガラス基板上に形成した黒色顔料を分散したネガ型感光性レジスト層にブラックマトリクスを形成するパターンを露光する工程を備えており、前記パターンを露光する工程における露光量は、現像後に形成されるブラックマトリクスの断面形状が、垂直または順テーパとなる露光量より大きく、逆テーパとなる露光量の範囲においてオーバーハング部の厚さ３が０．４μｍ以上となる露光量より小さい、ことを特徴とするブラックマトリクスの製造方法。【選択図】図１
2020160390.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置用カラーフィルタに使用されるブラックマトリクスであって、
ブラックマトリクスの長手方向と直交する平面における断面形状が逆テーパであって、
逆テーパのオーバーハング部の厚さが０．１〜０．３μｍであることを特徴とするブラックマトリクス。
【請求項２】
前記逆テーパの、
頭頂部の線幅が２．９〜３．５μｍであり、
底部の線幅が２．５〜３．１μｍであり、
オーバーハング部の長さが０．２〜０．３μｍである、ことを特徴とする請求項１に記載のブラックマトリクス。
【請求項３】
請求項２に記載のブラックマトリクスを使用したことを特徴とする表示装置用カラーフィルタ。
【請求項４】
請求項３に記載の表示装置用カラーフィルタを使用したことを特徴とする表示装置。
【請求項５】
表示装置用カラーフィルタに使用されるブラックマトリクスの製造方法であって、
ガラス基板上に形成した黒色顔料を分散したネガ型感光性レジスト層にブラックマトリクスを形成するパターンを露光する工程を備えており、
前記パターンを露光する工程における露光量は、現像後に形成されるブラックマトリクスの断面形状が、垂直または順テーパとなる露光量より大きく、逆テーパとなる露光量の範囲においてオーバーハング部の厚さが０．４μｍ以上となる露光量より小さい、ことを特徴とするブラックマトリクスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置用カラーフィルタに使用されるブラックマトリクス（以後、ＢＭとも記す。）に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置用カラーフィルタに使用されるＢＭは、図３に例示した様な工程により製造する事ができる。まず、ガラス基板上にネガ型の黒色感光性樹脂組成物からなる黒レジストを塗布・乾燥することにより、黒レジスト層を形成する。次に、黒レジスト層に、所望のＢＭパターンを露光し、現像することにより、ガラス基板上にＢＭパターンを形成することができる。露光装置としては、プロキシミティ方式の露光装置が使用されている。
【０００３】
このようにして作製したＢＭに関する品質上の問題点である蛇行や、色画素形成上の問題から、ＢＭの断面形状は、テーパ形状（台形）（図２（ａ）参照）が適しており、逆テーパ形状（Ｔ字型または逆台形）（図２（ｂ）参照）は適さないとされてきた。
【０００４】
また、高精細化の進展に伴い、ＢＭのライン／スペースの幅は狭くなって来ている。例えば、１０００ｐｐｉを超える場合、スペースは５μｍ未満となり、開口率（開口面積の比率）がますます低下する方向にある。
【０００５】
この様なＢＭのライン／スペースの微細化に対応し、開口率の低下を抑制する技術として、例えば特許文献１には、ＢＭの線幅が３μｍ程度の微細パターン形成を可能とする黒色感光性樹脂組成物が開示されている。また特許文献２には、微細化による開口率の低下を抑制する技術として、ＢＭパターンの矩形開口部のコーナー部丸まりを抑制し、高輝度かつ高明度である高精細カラーフィルタを得ることができるＢＭ形成技術が開示されている。
【０００６】
この様にしてＢＭパターンの微細化が進むに連れて、ＢＭパターンの、長手方向における線幅の変動であるがたつきや、線幅のバラツキの影響が大きくなる傾向がある。即ち、ＢＭパターンの線幅の変動は線幅によらず一定量が発生するため、線幅が狭くなるのに連れて、その線幅の変動量の比率が大きくなることで、ムラなどが発生し易くなる傾向がある。
【０００７】
また、図４に例示した様に、ＢＭを形成した基板をライトボックスの前に配置して、ライトボックスの光源から発せられる光を透過させて検査者による視認を行う検査がある。微細化に伴い、その様な検査で、モヤムラ（溶剤を含んだＢＭ層が乾燥する過程で、気流などの影響を受けて、表面張力に差が生じることによって発生するモヤモヤした乾燥ムラ）が見え易くなる問題がある。
【０００８】
また、製造コストを上げる事は避けなければならないため、現状の製造設備を使用して、上記の問題点を解決することが求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１４−１１９６９４号公報
【特許文献２】特開２０１５−１９７６１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上記の事情に鑑み、本発明は従来の製造設備を使用して製造しても、ブラックマトリクスのモヤムラを抑制することが可能なブラックマトリクスの製造方法およびその製造方法で製造したブラックマトリクスを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題を解決する手段として、本発明の請求項１に記載の発明は、表示装置用カラーフィルタに使用されるブラックマトリクスであって、
ブラックマトリクスの長手方向と直交する平面における断面形状が逆テーパであって、
逆テーパのオーバーハング部の厚さが０．１〜０．３μｍであることを特徴とするブラックマトリクスである。
【００１２】
また、請求項２に記載の発明は、前記逆テーパの、
頭頂部の線幅が３．０〜３．８μｍであり、
底部の線幅が２．５〜３．１μｍであり、
オーバーハング部の長さが０．１〜０．３μｍである、ことを特徴とする請求項１に記載のブラックマトリクスである。
【００１３】
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のブラックマトリクスを使用したことを特徴とする表示装置用カラーフィルタである。
【００１４】
また、請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の表示装置用カラーフィルタを使用したことを特徴とする表示装置である。
【００１５】
また、請求項５に記載の発明は、表示装置用カラーフィルタに使用されるブラックマトリクスの製造方法であって、
ガラス基板上に形成した黒色顔料を分散したネガ型感光性レジスト層にブラックマトリクスを形成するパターンを露光する工程を備えており、
前記パターンを露光する工程における露光量は、現像後に形成されるブラックマトリクスの断面形状が、垂直または順テーパとなる露光量より大きく、逆テーパとなる露光量の範囲においてオーバーハング部の厚さが０．４μｍ以上となる露光量より小さい、ことを特徴とするブラックマトリクスの製造方法である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のブラックマトリクスによれば、ブラックマトリクスの長手方向に直交する断面形状が逆テーパであり、オーバーハング部の厚さが０．１〜０．３μｍであることにより、ブラックマトリクスパターンのがたつきや線幅のムラおよびモヤムラを抑制することが可能である。
【００１７】
また、本発明のカラーフィルタによれば、本発明のブラックマトリクスを使用しているため、ブラックマトリクスパターンを起因とするがたつきや線幅のムラおよびモヤムラを抑制することが可能である。
【００１８】
また、本発明の表示装置によれば、本発明のカラーフィルタを使用しているため、カラーフィルタを起因とするがたつきや線幅のムラおよびモヤムラを抑制することが可能である。
【００１９】
また、本発明のブラックマトリクスの製造方法によれば、ブラックマトリクスを形成するパターンを露光する工程における露光量が、現像後に形成されるブラックマトリクスの
断面形状が垂直または順テーパとなる露光量より大きく、逆テーパとなる露光量の範囲においてオーバーハング部の長さが０．４μｍ以上となる露光量より小さいことにより、ブラックマトリクスパターンのがたつきや線幅のムラおよびモヤムラを抑制することが可能となるブラックマトリクスを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明のブラックマトリクスの断面形状の各部を説明する断面説明図。
【図２】ブラックマトリクスの製造工程を例示するブロック図。
【図３】ブラックマトリクスが形成されたガラス基板のムラ検査の状況を例示した説明図。
【図４】ブラックマトリクスの上面図と断面図を例示した断面説明図であって、（ａ）は断面形状が順テーパである場合、（ｂ）は断面形状が逆テーパである場合、を示している。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
＜ブラックマトリクスの製造方法＞
本発明のブラックマトリクスの製造方法について説明する。
本発明のブラックマトリクスの製造方法は、表示装置用カラーフィルタに使用されるブラックマトリクスの製造方法である。
【００２２】
本発明のブラックマトリクスの製造方法は、ガラス基板上に形成した黒色顔料を分散したネガ型感光性レジスト層にブラックマトリクスを形成するパターンを露光する工程を備えている。
【００２３】
本発明のブラックマトリクスの製造方法において、前記パターンを露光する工程における露光量は、現像後に形成されるブラックマトリクスの断面形状が、垂直または順テーパとなる露光量より大きく、逆テーパとなる露光量の範囲においてオーバーハング部の長さが０．４μｍ以上となる露光量より小さい、ことが特徴である。
【００２４】
本発明のブラックマトリクスの製造方法における露光工程において使用する露光装置は、従来から使用されてきたプロキシミティ方式の露光装置を好適に使用することができる。
【００２５】
その他、ガラス基板の洗浄、黒色感光性レジスト層の塗布、乾燥、などの各工程で使用する装置についても、従来から使用されてきた装置を好適に使用することができる。
【００２６】
また、使用するネガ型感光性黒色レジストについても、従来から使用されてきた材料を使用することができる。
【００２７】
本発明のブラックマトリクスの製造方法の特徴は、従来から使用されてきたのと同じ製造装置や製造工程を使用して、露光条件を変更することにより実施することができる。
【００２８】
更には、従来からブラックマトリクスのパターンの断面形状として好ましいとされてきた順テーパまたは台形ではなく、逆テーパとなる様な製造条件とすることが特徴である。
【００２９】
本発明は、製造条件の中の露光条件について従来の順テーパの断面形状が得られる露光量より、更に強い露光量とすることにより達成された。
【００３０】
ネガ型感光性黒色レジストは、露光量が不足する状態においては、黒色レジストの硬化が不十分なため、現像後、正常なＢＭパターンは形成されず、現像による膜減り量も多い
。
【００３１】
露光量を更に増加させると、現像後、正常なＢＭパターンが形成される。断面形状は、順テーパ状である。従来のＢＭはこの条件により作製したものである。しかしながら、この状態において、モヤムラが問題となっていた。
【００３２】
更に露光量を増加させると、断面形状が逆テーパのＢＭが得られる。この条件ではモヤムラは視認することができない状態となる。
【００３３】
逆テーパが得られた露光量から更に露光量を増加させると、逆テーパの庇の長さであるオーバーハング部の長さが増加すると同時に、オーバーハング部の厚さが増加する。この条件においても、モヤムラは視認することができない状態となる。
【００３４】
更に露光量を増加させると、オーバーハング部の長さの増加は、それ以上は起こらなくなり、一方オーバーハング部の厚さは増加する。この条件において、モヤムラが視認される様になる。
【００３５】
本発明は、上記の露光量とモヤムラとの関係において、モヤムラが視認されない適切な露光量の範囲を見出すことにより完成したものである。
【００３６】
＜ブラックマトリクス＞
次に本発明のブラックマトリクスについて、図１を用いて説明する。
【００３７】
本発明のブラックマトリクス１０は、表示装置用カラーフィルタに使用されるブラックマトリクスである。
【００３８】
本発明のブラックマトリクス１０は、ブラックマトリクス１０の長手方向に直交する平面により切断した断面形状が逆テーパである事が特徴である。
【００３９】
更に、本発明のブラックマトリクス１０は、その逆テーパの、頭頂部の線幅１が２．９〜３．５μｍであり、底部の線幅２が２．５〜３．１μｍであり、オーバーハング部の厚さ３が０．１〜０．３μｍであり、オーバーハング部の長さ４が０．２〜０．３μｍであることが特徴である。これらの数値範囲については、実施例において詳しく説明する。
【００４０】
（頭頂部の線幅）
図１は、本発明のブラックマトリクス１０が延伸する方向に直交する平面における断面形状を例示しており、その断面形状は逆テーパまたはＴ字型となっている。
本発明のブラックマトリクス１０における頭頂部の線幅１は、ガラス基板上に形成されたブラックマトリクス１０パターンにおける最上部の線幅を指す。
【００４１】
（底部の線幅）
本発明のブラックマトリクス１０における底部の線幅２は、ガラス基板上に形成されたブラックマトリクス１０パターンにおける最下部の、ガラス基板と接している部分の線幅を指す。
【００４２】
（オーバーハング部の長さ）
本発明のブラックマトリクス１０におけるオーバーハング部の長さ４は、頭頂部が底部より線幅が太いために、底部と頭頂部とが接する位置で、庇状にせり出した部分の長さを指す。その寸法を断面のＳＥＭ写真から測定しても良いが、（頭頂部の線幅−底部の線幅）÷２で算出される値を使用しても良い。
【００４３】
（オーバーハング部の厚さ）
本発明のブラックマトリクス１０におけるオーバーハング部の厚さは、庇状にせり出した部分の厚さを指す。
【００４４】
（ブラックマトリクスの材料）
本発明のブラックマトリクスを形成するネガ型の感光性黒色レジスト（黒色感光性樹脂組成物とも記す。）は、黒色顔料、バインダ樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、溶剤、その他の添加物、などから構成されている。
【００４５】
黒色顔料としては、カーボンブラック、黒鉛、アニリンブラックおよびシアニンブラックなどの有機顔料、酸化チタン、窒化チタン、酸化鉄などの無機顔料が挙げられるが、遮光性に優れたカーボンブラックが特に好ましい。黒色顔料の含有量としては、黒色感光性樹脂組成物の固形分中３５〜６０重量％であることが好ましく、より好ましくは４０〜５５重量％の範囲である。黒色顔料の含有量がこの範囲である場合、高遮光性と良好なパターニング特性（直線性、断面形状等）を両立することが可能である。黒色顔料の含有量が３５重量％以下である場合、パターンの熱フロー性が大きくなり、ポストベイク工程における線幅シフト量が大きくなり細線形成には不適である。一方、黒色顔料の含有量が６０重量％以上である場合、パターンの直線性やブラックマトリックス表面形状が悪化し、逆テーパ形状になりやすくなる。
【００４６】
バインダ樹脂としては、アクリル酸、メタクリル酸、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレートなどのアルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレート、環状のシクロヘキシルアクリレートまたはメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレートまたはメタクリレート、スチレン、フルオレン骨格、エポキシモノマーなどの内から３〜５種類程度のモノマーを用いて合成した、重量平均分子量１０００〜６０００の樹脂を好ましく用いることができる。
【００４７】
バインダ樹脂の重量平均分子量が１０００未満である場合、現像耐性が著しく低下しＢＭハガレが発生してしまい、６０００を超える場合、バインダ樹脂の溶解速度が著しく低下するために現像性の濃淡（コントラスト）が小さくなることによってブラックマトリックスの矩形開口部のコーナー部の丸まり幅が大きくなってしまう。
【００４８】
バインダ樹脂の酸価は、８０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇの樹脂を好ましく用いることができる。バインダ樹脂の酸価が８０未満である場合、バインダ樹脂の現像液に対する溶解性が著しく低下するために現像性の濃淡（コントラスト）が小さくなることによってブラックマトリックスの矩形開口部のコーナー部の丸まり幅が大きくなってしまい、２００を超える場合、溶解性が高すぎることによって細線ＢＭのハガレが発生してしまう。
【００４９】
バインダ樹脂のエチレン性不飽和結合当量は、５００以下の樹脂を好ましく用いることができる。バインダ樹脂のエチレン性不飽和結合当量が５００を超える場合、露光部のＢＭ架橋密度が疎となってしまい現像耐性が著しく低下しＢＭハガレが発生してしまう。
【００５０】
光重合性モノマーとしては、例えば、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、グリセリンテトラ（メタ）アクリレート、テトラトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられ、これらの成分は単独又は混合物として使用される。
【００５１】
また、各種変性（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等を用いることも可能である。この中でも、ポストベイク工程における線幅シフト量を抑えることができる５官能／６官能モノマー、具体的にはジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが好適に用いられる。
【００５２】
光重合性モノマーの含有量としては、黒色感光性樹脂組成物の固形分中５．０〜２０重量％であることが好ましく、より好ましくは１０〜１５重量％の範囲である。光重合性モノマーの含有量がこの範囲である場合、黒色感光性樹脂組成物の感度、現像速度を生産上好適な水準に調整することができる。光重合性モノマーの含有量が５．０重量％以下である場合、黒色感光性樹脂組成物の感度が不足する。一方、黒色顔料の含有量が２０重量％以上である場合、パターンの直線性が悪化し、逆テーパ形状になりやすくなる。
【００５３】
光重合開始剤としては従来公知の化合物を適宜使用することができるが、光を透過しない黒色感光性樹脂組成物に用いた際にも高感度化を達成することができるフルオレン系オキシムエステル化合物を用いることが好ましい。
【００５４】
溶剤としては、メタノール、エタノール、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、ジグライム、シクロヘキサノン、エチルベンゼン、キシレン、酢酸イソアミル、酢酸ｎアミル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、液体ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸エステル、エチルエトキシプロピオネートなどが挙げられる。
【００５５】
その他添加剤としては、更に塗布性を向上させるための界面活性剤、基板との密着性を向上させるためのシランカップリング剤等を併用することができる。
【００５６】
界面活性剤としては、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等のフッ素界面活性剤、高級脂肪酸アルカリ塩、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等のアニオン系界面活性剤、高級アミンハロゲン酸塩、第四級アンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド等の非イオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤を用いることができ、これらは組み合わせて用いてもよい。
【００５７】
シランカップリング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン等のビニルシラン類、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルジメトキシシラン等のエポキシシラン類、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のメタクリルシラン類、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン類等のアミノシラン類、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプトシラン類、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネートシラン類等が挙げられる。
【００５８】
（ガラス基板）
本発明のブラックマトリクスを形成するガラス基板としては、可視光に対してある程度の透過率を有するものが好ましく、より好ましくは８０％以上の透過率を有するものが好ましい。例えば、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラスなどの各種ガラス基板が挙げられる。
【００５９】
（ブラックマトリクスの形成方法）
ブラックマトリックスの形成は以下のようにして行う。ガラス基板に、スプレーコートやスピンコート、スリットコート、ロールコート等の塗布方法により、前記黒色感光性樹脂組成物の塗膜を形成する。
【００６０】
減圧乾燥、プレベーク処理により塗膜中の残留溶剤を除去した後、所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。露光光源としては、超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯等従来公知の光源を用いることができる。
【００６１】
次に、アルカリ性水溶液からなる現像液を用いて現像を行う。このアルカリ性水溶液からなる現像液の例としては、炭酸カリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、または炭酸水素ナトリウム水溶液、更に、これらの水溶液に適当な界面活性剤などを加えたものが挙げられる。現像後、水洗、乾燥してベークすることにより、所定のパターンを形成したブラックマトリックス基板を得ることができる。
【実施例】
【００６２】
次に、本発明の実施例について説明する。
図３に示した製造工程によりガラス基板上にブラックマトリクスを形成した。
ネガ型の感光性黒レジストとしては、富士ハントエレクトロニクステクノロジ社のＣＫ−２０００を使用した。
【００６３】
まず、スピンコート装置を用いて、ガラス基板上に、この感光性黒レジストを乾燥後の膜厚が１．５μｍとなる条件にて塗布・乾燥した。
【００６４】
この様にしてガラス基板上に形成した感光性黒レジスト層に、ライン＆スペース＝３μｍ／３μｍのストライプパターンを有するフォトマスクを介して露光した。露光装置としては、プロキシミティ方式の露光装置を用いて、ｉ線で露光強度１０〜６５ｍＪ／ｃｍ２の範囲で、増加させることにより、サンプル番号１〜９のサンプルを、作製した。
【００６５】
次に、炭酸ナトリウム２．５質量％を含有する現像液を用いてスプレー現像装置を用いて、スプレー現像、水洗、水切り乾燥を行った。現像は、未露光部分が完全に洗い流されるために必要な時間行った。
【００６６】
次に、クリーンオーブンを用いて、２２５℃、２５分間のベーキング処理を行った。
【００６７】
作製したサンプルの頭頂部の線幅（ＴＯＰ寸法）と底部の線幅（ＢＯＴＴＯＭ寸法）とオーバーハング部の厚さを、作製したサンプルのブラックマトリクスのパターンが延伸する方向と直交する方向にガラス基板を破断することにより露出した断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いてＳＥＭ写真を撮影し、そのＳＥＭ写真から測定した。各寸法は、同一条件で作製した３つのサンプルの平均値として算出した。また、それらのＳＥＭ写真から断面形状を観察することにより、順テーパであるか、逆テーパであるか、を判定した。
【００６８】
また、作製した９個のサンプルに対して、図４に示した様なライトボックスを用いて、各サンプルを検査者とライトボックスの間に配置し、検査者がサンプルを透過してくる光源の光を視認することにより、ムラの有無を判定した。
【００６９】
以上の測定および検査結果を表１にまとめて示した。
【００７０】
【表１】
2020160390.tif 000003
【００７１】
表１に示した様に、サンプル番号１、２は、断面形状が順テーパであり、サンプル番号４以降は逆テーパであった。
【００７２】
また、ムラについては、サンプル番号１、２およびサンプル番号８、９については視認されたが、サンプル番号３〜７においては視認されず、良好な結果であった。
【００７３】
また、逆テーパであって、且つムラが視認されなかったサンプル番号３〜７においてはオーバーハング部の厚さが０．１〜０．３μｍであった。また、（頭頂部の線幅−底部の線幅）÷２で定義されるオーバーハング部の長さは、０．１〜０．３μｍに全て入っていた。
【００７４】
一方、逆テーパであったが、ムラが視認されたサンプル番号８、９においては、オーバーハング部の厚さが０．４μｍ以上であった。
【符号の説明】
【００７５】
１・・・頭頂部の線幅
２・・・底部の線幅
３・・・オーバーハング部の厚さ
４・・・オーバーハング部の長さ
１０・・・ブラックマトリクス
【図１】
2020160390.tif 000004
【図２】
2020160390.tif 000005
【図３】
2020160390.tif 000006
【図４】
2020160390.tif 000007