(57)【要約】      （修正有）【課題】転写したい領域の転写層を正確に被転写体上に転写すること、および、除去したい領域の転写層を正確に除去した上で、除去された後の転写層を被転写体上に転写すること、ができる印画物の製造方法を提供する。【解決手段】支持体１の一方の面上に転写層４が設けられた転写箔１０を準備する転写箔の準備工程と、基材の一方の面上に、所定温度の加熱により膨張する熱膨張領域を含むヒートシール層が設けられた熱転写シートを準備する熱転写シートの準備工程と、前記ヒートシール層を加熱し、前記ヒートシール層を前記転写層４の選択領域に転写するヒートシール層の転写工程と、前記ヒートシール層の転写後に、前記転写層４の前記選択領域を、前記ヒートシール層を介して被転写体上に転写する転写層の転写工程と、を含む。【選択図】図１
2020157526.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体の一方の面上に転写層が設けられた転写箔、
基材の一方の面上にヒートシール層が設けられた熱転写シート、
および被転写体を用いて、
転写箔の転写層の選択領域を被転写体上に転写する工程を含む印画物の製造方法であって、
支持体の一方の面上に転写層が設けられた転写箔を準備する転写箔の準備工程と、
基材の一方の面上に、所定温度の加熱により膨張する熱膨張領域を含むヒートシール層が設けられた熱転写シートを準備する熱転写シートの準備工程と、
前記ヒートシール層を所定の加熱温度により加熱し、前記ヒートシール層を前記転写層の選択領域に転写するヒートシール層の転写工程と、
前記ヒートシール層の転写後に、前記転写層の前記選択領域を、前記ヒートシール層を介して被転写体上に転写する転写層の転写工程と、を含む印画物の製造方法。
【請求項２】
支持体の一方の面上に転写層が設けられた転写箔、
基材の一方の面上にピールオフ層が設けられた熱転写シート、
および被転写体を用いて、
転写箔の転写層の除去領域を熱転写シートのピールオフ層によって除去する工程と、前記除去領域が除去された後に残存する前記転写層を被転写体上に転写する工程とを含む印画物の製造方法であって、
支持体の一方の面上に転写層が設けられた転写箔を準備する転写箔の準備工程と、
（１）基材の同一面上に、所定温度の加熱により膨張する熱膨張領域を含むヒートシール層と、ピールオフ層と、が設けられた熱転写シート、または、
（２）第１の基材の一方の面上に所定温度の加熱により膨張する熱膨張領域を含むヒートシール層が設けられた第１熱転写シートと、第２の基材の一方の面上にピールオフ層が設けられた第２熱転写シートと、を準備する熱転写シートの準備工程と、
前記ヒートシール層を加熱し、前記ヒートシール層を前記転写層の除去領域に転写するヒートシール層の転写工程と、
前記ヒートシール層の転写後に、前記ピールオフ層を所定の加熱温度により加熱し、前記ヒートシール層を介して前記転写層の前記除去領域を除去する除去工程と、
前記除去領域が除去された後に残存する前記転写層を、被転写体上に転写する転写層の転写工程と、を含む印画物の製造方法。
【請求項３】
前記ヒートシール層は第１ヒートシール層および第２ヒートシール層を含む積層構成を有し、
前記第２ヒートシール層は前記第１ヒートシール層よりも前記基材の近くに配置され、
前記熱膨張領域は前記第１ヒートシール層に含まれ、
前記第１ヒートシール層は、前記第２ヒートシール層よりも、前記所定温度の加熱による膨張の程度が大きい、請求項１または２に記載の印画物の製造方法。
【請求項４】
前記ヒートシール層は第３ヒートシール層をさらに有し、
前記第３ヒートシール層は前記第１ヒートシール層よりも前記基材から遠くに配置され、
前記第１ヒートシール層は、前記第３ヒートシール層よりも、前記所定温度の加熱による膨張の程度が大きい、請求項３に記載の印画物の製造方法。
【請求項５】
支持体の一方の面上に転写層が設けられた転写箔、基材の一方の面上にピールオフ層が設けられた熱転写シート、および被転写体を用いて、転写箔の転写層の除去領域を、熱転写シートのピールオフ層によって除去する工程と、除去領域の除去が行われた後に残存する転写層を被転写体上に転写する工程と、を含む印画物の製造方法であって、
支持体の一方の面上に転写層が設けられた転写箔を準備する転写箔の準備工程と、
基材の一方の面上に、所定温度の加熱により膨張する熱膨張領域を含むピールオフ層が設けられた熱転写シートを準備する熱転写シートの準備工程と、
前記ピールオフ層を所定の加熱温度により加熱し、前記ピールオフ層を前記転写層の除去領域に転写し、当該転写後に、前記ピールオフ層を介して前記転写層の前記除去領域を除去する除去工程と、
前記除去領域が除去された後に残存する前記転写層を、被転写体上に転写する転写層の転写工程と、を含む印画物の製造方法。
【請求項６】
前記ピールオフ層は第１ピールオフ層および第２ピールオフ層を含む積層構成を有し、
前記第２ピールオフ層は前記第１ピールオフ層よりも前記基材の近くに配置され、
前記熱膨張領域は前記第１ピールオフ層に含まれ、
前記第１ピールオフ層は、前記第２ピールオフ層よりも、前記所定温度の加熱による膨張の程度が大きい、請求項５に記載の印画物の製造方法。
【請求項７】
前記ピールオフ層は第３ピールオフ層をさらに有し、
前記第３ピールオフ層は前記第１ピールオフ層よりも前記基材から遠くに配置され、
前記第１ピールオフ層は、前記第３ピールオフ層よりも、前記所定温度の加熱による膨張の程度が大きい、請求項６に記載の印画物の製造方法。
【請求項８】
前記転写箔が、支持体の一方の面上に受容層を含む転写層が設けられた中間転写媒体であり、
前記転写箔の準備工程には、前記中間転写媒体の前記受容層上に熱転写画像を形成する工程を含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の印画物の製造方法。
【請求項９】
前記熱転写シートは、前記基材の同一面上に、色材層およびヒートシール層が設けられたものであり、
前記熱転写画像を形成する工程では、前記熱転写シートの前記色材層により、前記中間転写媒体の前記受容層上への熱転写画像の形成が行われる、請求項８に記載の印画物の製造方法。
【請求項１０】
支持体の一方の面上に受容層を含む転写層が設けられた中間転写媒体、基材の一方の同一面上に色材層およびピールオフ層が設けられた熱転写シート、および被転写体を用いて、中間転写媒体の転写層の除去領域を、熱転写シートのピールオフ層によって除去する工程と、除去領域の除去が行われた後に残存する転写層を被転写体上に転写する工程と、を含む印画物の製造方法であって、
支持体の一方の面上に転写層が設けられており、かつ、所定温度の加熱により膨張する熱膨張領域を含む、中間転写媒体を準備する中間転写媒体の準備工程と、
基材の一方の同一面上に色材層およびピールオフ層が設けられた熱転写シートを準備する熱転写シートの準備工程と、
前記中間転写媒体の前記受容層上に前記所定温度よりも低い第１温度で加熱しながら熱転写画像を形成する熱転写画像の形成工程と、
前記転写層の除去領域を、前記所定温度以上の第２温度で加熱し、前記除去領域の前記熱膨張領域を膨張させながら前記ピールオフ層によって前記除去領域を前記転写層から除去する除去工程と、
前記除去領域の除去が行われた後に残存する前記転写層を、被転写体上に転写する転写層の転写工程と、を含む印画物の製造方法。
【請求項１１】
前記熱膨張領域は熱膨張性を有する中空粒子を含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の印画物の製造方法。
【請求項１２】
支持体の一方の面上に転写層が設けられた中間転写媒体に対し、当該転写層に熱転写画像を形成し、当該転写層の一部を被転写体に再転写する前に使用する熱転写シートであって、
基材の一方の面上に、熱膨張性を有する中空粒子を含む熱膨張領域を備えたヒートシール層が設けられており、当該熱膨張領域は、所定温度の加熱により膨張する、熱転写シート。
【請求項１３】
前記ヒートシール層は第１ヒートシール層および第２ヒートシール層を含む積層構成を有し、
前記第２ヒートシール層は前記第１ヒートシール層よりも前記基材の近くに配置され、
前記熱膨張領域は前記第１ヒートシール層に含まれ、
前記第１ヒートシール層は、前記第２ヒートシール層よりも、前記所定温度の加熱による膨張の程度が大きい、請求項１２に記載の熱転写シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、印画物の製造方法および印画物の製造に用いられる熱転写シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、熱転写方式による印画物の製造には、基材上に受容層が設けられた熱転写受像シートや、基材上に剥離層および受容層がこの順に積層された転写層が、当該基材から剥離可能に設けられた中間転写媒体等が用いられている。前者の場合、色材層を備えた熱転写シートを用いて、熱転写受像シートの受容層上に熱転写画像を形成することによって印画物を製造できる。また、後者の場合、色材層を備えた熱転写シートを用いて、一旦、中間転写媒体の受容層上に熱転写画像を形成し、その後、当該受容層を含む転写層を所定の被転写体に転写することによって当該被転写体上に熱転写画像が形成された印画物を製造できる。また、基材上に、転写性の透明保護層が設けられた保護層転写シートを用いて、熱転写画像が形成された被転写体等の上に当該保護層を転写することにより、印画物の熱転写画像の耐久性を向上させることができる。
【０００３】
特に中間転写媒体を用いて、例えばＩＣカードや磁気カードのデザイン面に熱転写画像を形成する場合、ＩＣモジュールの外部接触端子領域や磁気テープ、サインパネル領域等に熱転写画像を形成してしまうと、通信特性や磁気読み取り特性、筆記特性等が低下する可能性がある。このため、これらの領域を確実に避けて必要な部分にのみ熱転写画像を形成すること、あるいは、これらの領域に対応する転写層の一部をあらかじめ除去しておくことが必要である。また、同様の理由により、熱転写画像の保護層の形成についても、必要な領域にのみ確実に形成すること、あるいは、不要な領域に対応する転写性保護層の一部をあらかじめ除去しておくことが必要である。
【０００４】
特許文献１には、熱転写シートの易接着処理がされた基材上にピールオフ層を設け、基材とピールオフ層との密着性を上げながら、当該ピールオフ層と中間転写媒体の転写部とが接するように重ねて加熱することにより、所定領域の転写部を中間転写媒体から取り除くことが可能な熱転写シートが記載されている。また、特許文献２には、転写層の除去領域上の一部に溶融層を転写し、転写層の当該除去領域をピールオフ層によって除去し、当該除去領域が除去された転写層を被転写体に転写する印画物の形成方法が記載されている。このように、中間転写媒体の転写層や転写性保護層のピールオフにおいては、除去したい所定領域に転写層の一部が残存することをできる限り抑制する必要があるが、現状ではまだ改善の余地が残されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−３２６８６５号公報
【特許文献２】特開２０１７−７１２１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本開示はこのような状況に鑑みてなされたものであり、転写したい領域の転写層を正確に被転写体上に転写すること、および、除去したい領域の転写層を正確に除去した上で、除去された後の転写層を被転写体上に転写できる印画物の製造方法を提供することを課題とする。また、転写したい領域の転写層を正確に被転写体上に転写すること、および、除去したい領域の転写層を正確に除去した上で、除去された後の転写層を被転写体上に転写できる熱転写シートを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本実施の形態による印画物の製造方法は、支持体の一方の面上に転写層が設けられた転写箔、基材の一方の面上にヒートシール層が設けられた熱転写シート、および被転写体を用いて、転写箔の転写層の一部を被転写体上に転写する工程を含む印画物の製造方法であって、支持体の一方の面上に転写層が設けられた転写箔を準備する転写箔の準備工程と、基材の一方の面上に、所定温度の加熱により膨張する熱膨張領域を含むヒートシール層が設けられた熱転写シートを準備する熱転写シートの準備工程と、前記ヒートシール層を所定の加熱温度により加熱し、前記ヒートシール層を前記転写層に転写するヒートシール層の転写工程と、前記ヒートシール層の転写後に、前記転写層の前記選択領域を、前記ヒートシール層を介して被転写体上に転写する転写層の転写工程と、を含む。
【０００８】
また、本実施の形態による印画物の製造方法は、支持体の一方の面上に転写層が設けられた転写箔、基材の一方の面上にピールオフ層が設けられた熱転写シート、および被転写体を用いて、転写箔の除去領域を熱転写シートのピールオフ層によって除去する工程と、前記除去領域が除去された後に残存する前記転写層を被転写体上に転写する工程とを含む印画物の製造方法であって、支持体の一方の面上に転写層が設けられた転写箔を準備する転写箔準備工程と、（１）基材の同一面上に、所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含むヒートシール層と、ピールオフ層と、が設けられた熱転写シート、または、（２）第１の基材の一方の面上に所定温度の加熱により膨張する熱膨張領域を含むヒートシール層が設けられた第１熱転写シートと、第２の基材の一方の面上にピールオフ層が設けられた第２熱転写シートと、を準備する熱転写シートの準備工程と、前記ヒートシール層を所定の加熱温度により加熱し、前記ヒートシール層を前記転写層の除去領域に転写するヒートシール層の転写工程と、前記ヒートシール層の転写後に、前記ピールオフ層を加熱し、前記ヒートシール層を介して前記転写層の前記除去領域を除去する除去工程と、前記除去領域が除去された後に残存する前記転写層を、被転写体上に転写する転写層の転写工程と、を含む。
【０００９】
また、本実施の別の形態による印画物の製造方法において、前記ヒートシール層は第１ヒートシール層および第２ヒートシール層を含む積層構成を有し、前記第２ヒートシール層は前記第１ヒートシール層よりも前記基材の近くに配置され、前記熱膨張領域は前記第１ヒートシール層に含まれ、前記第１ヒートシール層は、前記第２ヒートシール層よりも、前記所定温度の加熱による膨張の程度が大きくてもよい。
【００１０】
また、本実施の別の形態による印画物の製造方法において、前記ヒートシール層は第３ヒートシール層をさらに有し、前記第３ヒートシール層は前記第１ヒートシール層よりも前記基材から遠くに配置され、前記第１ヒートシール層は、前記第３ヒートシール層よりも、前記所定温度の加熱による膨張の程度が大きくてもよい。
【００１１】
また、本実施の形態による印画物の製造方法は、支持体の一方の面上に転写層が設けられた転写箔、基材の一方の面上にピールオフ層が設けられた熱転写シート、および被転写体を用いて、転写箔の転写層の除去領域を、熱転写シートのピールオフ層によって除去する工程と、除去領域が除去された転写層を被転写体上に転写する工程と、を含む印画物の製造方法であって、支持体の一方の面上に転写層が設けられた転写箔を準備する転写箔の準備工程と、基材の一方の面上に、所定温度の加熱により膨張する熱膨張領域を含むピールオフ層が設けられた熱転写シートを準備する熱転写シートの準備工程と、前記ピールオフ層を加熱し、前記ピールオフ層を前記転写層の除去領域に転写し、当該転写後に、前記ピールオフ層を介して前記転写層の前記除去領域を除去する除去工程と、前記除去領域が除去された後に残存する前記転写層を、被転写体上に転写する転写層の転写工程と、を含む。
【００１２】
また、本実施の別の形態による印画物の製造方法において、前記ピールオフ層は第１ピールオフ層および第２ピールオフ層を含む積層構成を有し、前記第２ピールオフ層は前記第１ピールオフ層よりも前記基材の近くに配置され、前記熱膨張領域は前記第１ピールオフ層に含まれ、前記第１ピールオフ層は、前記第２ピールオフ層よりも、前記所定温度の加熱による膨張の程度が大きくてもよい。
【００１３】
また、本実施の別の形態による印画物の製造方法において、前記ピールオフ層は第３ピールオフ層をさらに有し、前記第３ピールオフ層は前記第１ピールオフ層よりも前記基材から遠くに配置され、前記第１ピールオフ層は、前記第３ピールオフ層よりも、前記所定温度の加熱による膨張の程度が大きくてもよい。
【００１４】
また、本実施の別の形態による印画物の製造方法において、前記転写箔が、支持体の一方の面上に受容層を含む転写層が設けられた中間転写媒体であり、前記転写箔準備工程には、前記中間転写媒体の前記受容層上に熱転写画像を形成する工程を含んでもよい。
【００１５】
また、本実施の別の形態による印画物の製造方法において、前記熱転写シートは、前記基材の同一面上に、色材層およびヒートシール層が設けられたものであり、前記熱転写画像を形成する工程では、前記熱転写シートの前記色材層により、前記中間転写媒体の前記受容層上への熱転写画像の形成が行われてもよい。
【００１６】
また、本実施の形態による印画物の製造方法は、支持体の一方の面上に受容層を含む転写層が設けられた中間転写媒体、基材の一方の同一面上に色材層およびピールオフ層が設けられた熱転写シート、および被転写体を用いて、中間転写媒体の転写層の除去領域を、熱転写シートのピールオフ層によって除去する工程と、除去領域が除去された後に残存する転写層を被転写体上に転写する工程と、を含む印画物の製造方法であって、支持体の一方の面上に転写層が設けられており、かつ、所定温度の加熱により膨張する熱膨張領域を含む、中間転写媒体を準備する中間転写媒体の準備工程と、基材の一方の同一面上に色材層およびピールオフ層が設けられた熱転写シートを準備する熱転写シートの準備工程と、前記中間転写媒体の前記受容層上に前記所定温度よりも低い第１温度で加熱しながら熱転写画像を形成する熱転写画像の形成工程と、前記転写層の除去領域を、前記所定温度以上の第２温度で加熱し、前記除去領域の前記熱膨張領域を膨張させながら前記ピールオフ層によって前記除去領域を前記転写層から除去する除去工程と、前記除去領域が除去された後に残存する前記転写層を、被転写体上に転写する転写層の転写工程と、を含む。
【００１７】
また、本実施の別の形態による印画物の製造方法において、前記熱膨張領域は熱膨張性を有する中空粒子を含んでもよい。
【００１８】
また、本実施の形態による熱転写シートは、支持体の一方の面上に転写層が設けられた中間転写媒体に対し、当該転写層に熱転写画像を形成し、当該転写層の一部を被転写体に再転写する前に使用する熱転写シートであって、基材の一方の面上に、熱膨張性を有する中空粒子を含む熱膨張領域を備えたヒートシール層が設けられており、当該熱膨張領域は、所定温度の加熱により膨張することが可能である。
【００１９】
また、本実施の別の形態による熱転写シートにおいて、前記ヒートシール層は第１ヒートシール層および第２ヒートシール層を含む積層構成を有し、前記第２ヒートシール層は前記第１ヒートシール層よりも前記基材の近くに配置され、前記熱膨張領域は前記第１ヒートシール層に含まれ、前記第１ヒートシール層は、前記第２ヒートシール層よりも、前記所定温度の加熱による膨張の程度が大きくてもよい。
【発明の効果】
【００２０】
本実施の形態によれば、転写したい領域の転写層を正確に被転写体上に転写すること、および、除去したい領域の転写層を正確に除去した上で、除去された後の転写層を被転写体上に転写できる印画物の製造方法を提供できる。また、転写したい領域の転写層を正確に被転写体上に転写すること、および、除去したい領域の転写層を正確に除去した上で、除去された後の転写層を被転写体上に転写できる熱転写シートを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】第１実施形態の転写箔の構成を説明する断面図である。
【図２】第１実施形態の熱転写シートの構成を説明する断面図である。
【図３】第１実施形態の熱転写シートの構成を説明する平面図である。
【図４】第１実施形態のヒートシール層の転写工程を説明する断面図である。
【図５】第１実施形態の転写層の転写工程を説明する断面図である。
【図６】第２実施形態の熱転写シートの構成を説明する平面図である。
【図７】第２実施形態の除去工程を説明する断面図である。
【図８】第３実施形態の熱転写シートの構成を説明する断面図である。
【図９】第３実施形態の熱転写シートの構成を説明する平面図である。
【図１０】第３実施形態のヒートシール層の転写工程を説明する断面図である。
【図１１】第３実施形態の除去工程および転写層の転写工程を説明する断面図である。
【図１２】第３実施形態の転写層の転写工程の他の例を説明する断面図である。
【図１３】第４実施形態の熱転写画像の形成工程を説明する断面図である。
【図１４】第４実施形態の除去工程を説明する断面図である。
【図１５】変形例１のヒートシール層の転写工程および転写層の転写工程を説明する断面図である。
【図１６】変形例２のヒートシール層の転写工程および転写層の転写工程を説明する断面図である。
【図１７】変形例３の除去工程を説明する断面図である。
【図１８】変形例４の転写箔が保護層転写シートである場合を説明する断面図である。
【図１９】変形例４の転写層の転写工程を説明する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面等を参照して、本開示の印画物の製造方法および熱転写シートの一例について説明する。ただし、本開示の印画物の製造方法および熱転写シートは、以下に説明する実施形態や実施例には限定されない。
【００２３】
なお、以下に示す各図は、模式的に示したものである。そのため、各部の大きさ、形状、断面図における各層の厚さの図示等は、理解を容易にするために適宜誇張している。また、各図において、部材の断面を示すハッチングを適宜省略する。本明細書中に記載する各部材の寸法等の数値および材料名は、実施形態としての一例であり、これに限定されるものではなく、適宜選択して使用できる。本明細書において、形状や幾何学的条件を特定する用語、例えば平行、直交、垂直等の用語については、厳密に意味するところに加え、実質的に同じ状態も含むものとする。また、説明の便宜上、上方または下方等という語句を用いて説明することがあるが、上下方向が逆転してもよく、左右方向についても同様とする。
【００２４】
１．第１実施形態
本開示の印画物の製造方法および熱転写シートに関する第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態の転写箔１０の構成を説明する断面図である。図２は、本実施形態の熱転写シート２０の構成を説明する断面図であり、図３は、当該熱転写シート２０の構成を説明する平面図である。以下、転写箔１０および熱転写シート２０の構成および印画物の製造方法に係る各工程について説明する。
【００２５】
（ａ）転写箔
図１に示すように、転写箔１０は、支持体１の一方の面上に転写層４が積層されて形成されている。本実施形態では、転写層４は、支持体１に近い側から順に剥離層２および受容層３が積層された中間転写媒体１０である。ただし、転写箔１０はこのような中間転写媒体に限らず、例えば転写層４として保護層を有する保護層転写シートであってもよい。保護層転写シートとして使用する場合については後述する。
【００２６】
（ｉ）支持体
中間転写媒体１０の支持体１は、材料としての限定は特にはなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等の耐熱性の高いポリエステル、ポリプロピレン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリエチレン誘導体、ポリアミド、ポリメチルペンテン等のプラスチックの延伸または未延伸フィルム等を使用できる。また、これらのうち、２種以上の材料のアロイ、または、積層をしたものを使用してもよい。
【００２７】
支持体１の厚さは、要求される剛性や耐熱性等により適宜選択することが可能であるが、例えば、３μｍ以上、３０μｍ以下の範囲であることが好ましく、４μｍ以上、１５μｍ以下の範囲であることがさらに好ましい。
【００２８】
（ｉｉ）転写層
中間転写媒体１０の転写層４は、受容層３を含んでおり、受容層３は、支持体１から最も遠くに積層されている。中間転写媒体１０は支持体１および受容層３のみの構成であってもよく、支持体１と受容層３の間に複数の異なる材料の層を設けてもよいが、通常は、支持体１と受容層３の間に、受容層３の転写性を向上させるために剥離層２が設けられることが多い。以下、受容層３および剥離層２について説明する。
【００２９】
（ｉｉｉ）受容層
中間転写媒体１０の転写層４を構成する受容層３は、材料としての限定は特にはなく、中間転写媒体に用いるものとして公知の受容層を適宜選択して用いることができる。例えば、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニルもしくはポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化樹脂、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体もしくはポリアクリル酸エステル等のビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレートもしくはポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、エチレンもしくはプロピレン等のオレフィンと他のビニルポリマーとの共重合体、アイオノマーもしくはセルロースジアスターゼ等のセルロース樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂等の溶剤系の樹脂を使用できる。この中では、ポリエステル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を用いることが好ましく、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を用いることがさらに好ましい。また、受容層３は、上記に挙げた単一の材料を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。
【００３０】
受容層３は、上記樹脂成分とともに、離型剤を含有していてもよい。離型剤としては、例えば、ポリエチレンワックス、アミドワックス、テフロン（登録商標）パウダー等の固形ワックス類、フッ素系またはリン酸エステル系界面活性剤、シリコーンオイル、反応性シリコーンオイル、硬化型シリコーンオイル等の各種変性シリコーンオイル、および各種シリコーン樹脂などを使用できる。
【００３１】
また、受容層３の厚さは、例えば、１μｍ以上、１０μｍ以下の範囲とできる。
【００３２】
（ｉｖ）剥離層
中間転写媒体１０の転写層４には、転写層４の転写性または剥離性を向上させるために剥離層２を含んでもよい。剥離層２は、支持体１と受容層３とに挟まれた位置に積層されている。剥離層２の材料としては、例えば、ワックス類、シリコーンワックス、シリコーン樹脂、シリコーン変性樹脂、フッ素樹脂、フッ素変性樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル系樹脂、熱架橋性エポキシ−アミノ樹脂及び熱架橋性アルキッド−アミノ樹脂等を使用できる。また、剥離層２は、上記に挙げた単一の材料を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。
【００３３】
なお、剥離層２の厚さは、例えば、０．５μｍ以上、５μｍ以下の範囲とできる。
【００３４】
（ｂ）熱転写シート
図２に示すように、熱転写シート２０は、基材５の一方の面上にヒートシール層１４が設けられており、かつ、基材５の他方の面上に背面層６が設けられた構成をとる。以下、熱転写シート２０の構成について説明する。
【００３５】
（ｉ）基材
熱転写シート２０の基材５は、材料としての限定は特にはなく、例えば、グラシン紙、コンデンサー紙またはパラフィン紙等の薄紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトンもしくはポリエーテルサルフォン等の耐熱性の高いポリエステル、ポリプロピレン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリエチレン誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルペンテンまたはアイオノマー等のプラスチックの延伸または未延伸フィルムを使用できる。また、基材５は、上記に挙げた単一の材料を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。
【００３６】
なお、基材５の厚さについて特に限定はないが、例えば、２μｍ以上、１０μｍ以下の範囲とできる。
【００３７】
（ｉｉ）背面層
基材５の、ヒートシール層１４が積層されている面とは反対側の面に当該背面層６を形成することにより、熱転写工程におけるサーマルヘッド等との粘着を防止するとともに、滑り性を向上させることができる。
【００３８】
背面層６としては、例えば、エチルセルロース、ヒドロキシセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース、酢酪酸セルロース、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルピロリドン等のビニル樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリルアミド、アクリロニトリル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂、ポリアミド、ポリビニルトルエン、クマロンインデン樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、シリコーン変性又はフッ素変性ウレタン等の天然樹脂または合成樹脂を使用できる。また、背面層６は、上記に挙げた単一の材料を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。
【００３９】
また、背面層６の耐熱性を向上させるため、上記の樹脂のうち、水酸基系の反応性基を有している樹脂を使用し、架橋剤としてポリイソシアネート等を併用して、架橋樹脂層とすることが好ましい。さらに、サーマルヘッドとの摺動性を付与するために、背面層６に固形あるいは液状の離型剤又は滑剤を加えて耐熱滑性をもたせてもよい。離型剤又は滑剤としては、例えば、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス等の各種ワックス類、高級脂肪族アルコール、オルガノポリシロキサン、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、有機カルボン酸およびその誘導体、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂、タルク、シリカ等の無機化合物の微粒子等を使用できる。背面層６に含有される滑剤の量は、例えば、５重量％以上、５０重量％以下の範囲とすることができ、１０重量％以上、３０重量％以下の範囲とすることがより好ましい。
【００４０】
（ｉｉｉ）ヒートシール層
ヒートシール層１４は、基材５の一方の面に形成された、加熱により溶融、或いは軟化し、転写層４上に転写可能となる層である。さらに本開示のヒートシール層１４は、所定温度以上に加熱した場合には、大きく熱膨張する熱膨張領域を有している。当該熱膨張領域は、本実施形態ではヒートシール層１４の全体に均一に配置されているが、後述する変形例等に記載するように、ヒートシール層が多層構造であって、その一部の層だけに熱膨張領域が形成されていてもよい。また、同一層の中で特定範囲にのみ熱膨張領域が配置されるようにしてもよい。
【００４１】
このように、ヒートシール層１４は、加熱によって溶融して転写層４に転写可能となる性質と、所定温度以上の加熱によって熱膨張する性質とを併せ持つことが必要であるため、これらを充足する材料について以下に説明する。
【００４２】
まず、ヒートシール層１４に加熱によって溶融する性質を付与するために必要な成分として、例えば、紫外線吸収剤共重合体、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリブデン、ポリイソブチレン、石油樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、塩化ビニリデン樹脂、ポリアミド、フッ素樹脂、ポリビニルフォルマール樹脂、ポリビニルブチラール、アセチルセルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂、ポリ酢酸ビニル、エチルセルロース等の熱溶融性樹脂、マイクロクリスタリンワックス、カルナバワックス、パラフィンワックス等がある。更に、フィッシャートロプシュワックス、各種低分子量ポリエチレン、木ロウ、ミツロウ、鯨ロウ、イボタロウ、羊毛ロウ、セラックワックス、キャンデリラワックス、ペトロラクタム、ポリエステルワックス、一部変性ワックス、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド等、種々のワックス等を使用できる。  また、アクリルウレタン樹脂等のポリウレタン、ゼラチン、ポリエチレンオイキサイド、ポリビニルピロリドン、プルラン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、デキストラン、デキストリン、ポリアクリル酸及びその塩、寒天、κ−カラギーナン、λ−カラギーナン、ι−カラギーナン、カゼイン、キサンテンガム、ローカストビーンガム、アルギン酸、アラビアゴム、特開平７−１９５８２６号公報及び同７−９７５７号公報に記載のポリアルキレノキサイド系共重合ポリマー、あるいは、特開昭６２−２４５２６０号公報に記載のカルボキシル基やスルホン酸基を有するビニルモノマーの単独重合体や共重合体等の樹脂も使用できる。この中で、ポリエステル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂を使用することが好ましく、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を使用することがさらに好ましい。
【００４３】
一方、ヒートシール層１４は、後述するように、所定温度より低い温度環境においてはほとんど膨張することがなく、所定温度以上の加熱時にのみ、膨張し、その後、温度が下がっても、その膨張状態を維持できる性質を有することが好ましい。このように、所定温度を境にして低温領域と高温領域で膨張度合いが大きく異なる性質を有する材料として、例えば、熱可塑性樹脂等から構成された外殻の内部に膨張剤を含有した中空部を有する熱膨張性のある中空粒子を挙げることができる。中空粒子の外殻部分の軟化点、中空部に内包された揮発性有機溶剤等から構成される膨張剤の蒸気圧との関係を調整することにより、発泡、膨張が開始される温度や最大に膨張する温度等が異なる種々の中空粒子が市販されている。当該中空粒子は、熱膨張性マイクロスフェアー、熱膨張性マイクロバルーン等とも称されている。中空粒子を構成する材料は、例えば、架橋スチレン−アクリル樹脂等の発泡体である有機系発泡粒子、無機中空ガラス体等が中空粒子として使用できる。
【００４４】
中空粒子の大きさは、加熱発泡前の平均粒径が、例えば、０．１μｍ以上、９０μｍ以下の範囲であり、６μｍ以上、１８μｍ以下の範囲であることが好ましい。平均粒径が当該範囲であることにより、熱膨張によるヒートシール層の形状変化の効果が十分に得られる。また、受容層の熱転写画像に、粒子由来の転写不良、いわゆるヌケが生じることを抑制できる。なお、本開示において、「平均粒径」は、中空粒子成分を水中に分散させた水分散体を調整し、この中空粒子の水分散体のものを乾燥させて乾燥体となし、その後に透過型電子顕微鏡（日立ハイテクノロジーズ社製）にて乾燥体における中空粒子（１００個）を観察して、個々の粒子についてその外面側の直径（外径）を計測し、それらの値を平均して平均粒径としている。
【００４５】
また、上記の中空粒子の中空度合いは、熱膨張領域における平均中空率が３０％〜８０％の範囲であることが好ましく、５０％〜８０％の範囲であることがさらに好ましい。平均中空率が３０％〜８０％の範囲であれば、熱膨張によるヒートシール層の形状変化の効果が十分得られる。また、外殻の厚みが適度な範囲に維持され、外殻が薄くなりすぎることによる塗工時もしくは印画時のつぶれを抑制できる。なお、本開示において、「平均中空率」は、中空粒子成分を水中に分散させた水分散体を調整し、この中空粒子の水分散体のものを乾燥させて乾燥体となし、その後に透過型電子顕微鏡（日立ハイテクノロジーズ（株）製）にて乾燥体中における中空粒子成分をなす粒子（１００個）を観察して、個々の粒子についてその内面側の直径（内径）を計測し、それらの値を平均して平均粒子内径とした。そして、平均粒子内径から中空部の体積を定めるとともに、その値を上記平均粒径（粒子外径）から粒子の見掛けの体積で除して１００を乗じることで平均中空率を算出している。
【００４６】
以上のように、ヒートシール層１４には、加熱によって溶融して転写層４に転写可能となる性質と、所定温度以上の加熱によって熱膨張する性質とを併せ持つことが要求される。このため、上述のような熱溶融させるための成分と、所定温度以上で熱膨張する成分とを混合した構成とすることができ、あるいは、両者を別の層として形成し、これらの積層体とした構成としてもよい。
【００４７】
（ｉｖ）色材層
また、図３に示すように、熱転写シート２０は、図２で説明したヒートシール層１４が配置された面に隣接して、基材５の同一面上に、色相が異なる複数の色材層１５を面順次に設けてもよい。本実施形態では、イエロー色材層（Ｙ）、マゼンタ色材層（Ｍ）、シアン色材層（Ｃ）から構成された色材層１５と、ヒートシール層１４が面順次に設けられている。なお、これらの色材層１５は、色材、バインダー樹脂を含有している。色材、バインダー樹脂は、昇華型熱転写シートの分野で従来公知のものを適宜選択して用いることができる。
【００４８】
（ｃ）印画物の製造方法の説明
次に、第１実施形態の印画物の製造方法について、図を参照しながら説明する。
【００４９】
（ｉ）転写箔の準備工程
本実施形態の転写箔の準備工程は、図１に示すように、支持体１の一方の面上に転写層４を構成する剥離層２および受容層３がこの順に積層された転写箔１０である中間転写媒体１０を準備する工程である。支持体１並びに転写層４を構成する剥離層２および受容層３の材料構成は上述したとおりであるが、剥離層２は必須ではなく、また、剥離層２以外の他の層が支持体１および受容層３の間にさらに追加されていてもよい。
【００５０】
（ｉｉ）熱転写シートの準備工程
本実施形態の熱転写シートの準備工程は、図２および図３に示すように、基材５の一方の同一面上に、ヒートシール層１４および色相が異なる複数の色材層１５が同一面上に面順次に設けられ、かつ、基材５の他方の面上に背面層６が設けられた熱転写シート２０を準備する工程である。色材層１５は単色のみの層であってもよい。また、ヒートシール層１４は、上述したとおり、加熱によって溶融して転写層４に転写可能となる性質と、所定温度以上の加熱によって熱膨張する性質とを併せ持つものである。
【００５１】
（ｉｉｉ）ヒートシール層の転写工程
本実施形態のヒートシール層の転写工程について、図４に基づき説明する。図４（ａ）は、転写箔１０である中間転写媒体１０と熱転写シート２０とを重ねて、熱転写シート２０の背面層６側からサーマルヘッド３１により加熱し、ヒートシール層１４の一部を中間転写媒体１０側に転写する工程を説明する図である。また、図４（ｂ）は、当該工程後に、ヒートシール層１４の一部１４Ａが、中間転写媒体１０の受容層３の一部の領域に転写された状態を示す図である。
【００５２】
中間転写媒体１０の受容層３には、あらかじめ、熱転写シート２０の色材層１５の各色相面が重ねられ、サーマルヘッド３１による所定位置への加熱が各色相ごとに繰り返されることによって、所定の熱転写画像１６が形成されている。このように熱転写画像１６が形成された中間転写媒体１０の受容層３の面と、熱転写シート２０のヒートシール層１４の面とが図４（ａ）に示すように向かい合って重ねられ、サーマルヘッド３１による所定位置への加熱を行うことにより、加熱された部分のヒートシール層１４の一部１４Ａが、図４（ｂ）のように中間転写媒体１０の受容層３側に転写される。
【００５３】
このとき、受容層３側に転写されたヒートシール層１４の一部１４Ａは、所定温度、すなわち当該ヒートシール層１４の熱膨張領域が熱膨張を開始する起点となる温度またはそれ以上の温度がサーマルヘッド３１から加えられるため、ヒートシール層１４の一部１４Ａの転写後の厚さは元の加熱されていないヒートシール層１４の厚さよりも大きくなっている。このようにサーマルヘッド３１により、ヒートシール層１４の熱膨張領域に対して、所定領域に対してのみ所定温度の加熱をすることによって、当該所定領域のみを熱膨張させることができる。
【００５４】
本実施形態では、ヒートシール層１４の一部１４Ａをサーマルヘッド３１によって所定温度に加熱することにより、当該ヒートシール層１４の一部１４Ａが膨張し、その厚さが他の部分よりも大きくなる。したがって、熱膨張領域を有しないヒートシール層を用いた場合と比べ、ヒートシール層１４の一部１４Ａが中間転写媒体１０の受容層３を押し付ける荷重が大きくなるため、当該一部１４Ａと受容層３との密着性が向上する。また、膨張したヒートシール層１４の一部１４Ａのみを正確に受容層３側に転写でき、転写を予定していない周囲の領域における余分な転写が抑制される。
【００５５】
また、図４（ｂ）に図示するように、中間転写媒体１０の、ヒートシール層１４の一部１４Ａの下層に位置する転写層４の受容層３および剥離層２の一部、すなわち、中間転写媒体１０の受容層３の表面に垂直な方向に離隔した位置から当該受容層３を見たときに、ヒートシール層１４の一部１４Ａと重なる転写層４の領域である４Ａ、または、受容層３および剥離層２の領域である３Ａおよび２Ａを選択領域７とする。この場合、後工程の転写の層転写工程において、当該選択領域７が最終的な被転写体１７に選択的に転写されることにより、所定の印画物が製造される。本実施形態では、ヒートシール層１４の全体が熱膨張領域であり、溶融性を付与したバインダー樹脂の中に、所定温度の加熱により熱膨張する発泡性の中空粒子が略均等に分散された構成のものを使用している。
【００５６】
（ｉｖ）転写層の転写工程
本実施形態の転写層の転写工程について、図５に基づき説明する。図５（ａ）は、図４（ｂ）に示すヒートシール層１４の選択領域７をカード等の被転写体１７に転写する工程を説明する図である。また、図５（ｂ）は、被転写体１７に選択領域７が転写されたことを示す図である。
【００５７】
図５（ａ）のように、ヒートシール層１４の一部１４Ａが受容層３に転写された中間転写媒体１０およびカード等の被転写体１７は、受容層３側の面が被転写体１７の面に当接するように重ねられる。その状態で、搬送手段によりヒートローラ３２および加圧ローラ３３の間に順次送り込まれ、所定の熱圧が加えられる。これによって、ヒートシール層の一部１４Ａは溶融、軟化して被転写体１７側に転写される。また、当該ヒートシール層の一部１４Ａの反対側に当接する選択領域７も、当該一部１４Ａと受容層３との密着力が大きいため、剥離層２の部分から剥離して、選択領域である当該一部１４Ａを介して容易かつ正確に被転写体１７側に転写される。このようにして図５（ｂ）に示すような印画物１８の製造が完了する。
【００５８】
また、ヒートシール層１４の一部１４Ａの厚みが膨張により厚くなっているため、ヒートローラ３２および加圧ローラ３３による加圧力が増すことにより、選択領域７の被転写体１７への転写を良好に行うことができる。また、ヒートシール層１４の一部１４Ａは中空粒子を有するために適度の弾力性を備えており、ヒートローラ３２および加圧ローラ３３による加圧を強くした場合に形成画像が歪んだり、逆に加圧が弱い場合に形成画像にヌケが出ることを効果的に抑制できる。
【００５９】
以上のとおり、第１実施形態の印画物の製造方法は、支持体１の一方の面上に転写層４を構成する剥離層２および受容層３が設けられた中間転写媒体１０を準備する転写箔の準備工程と、基材５の一方の面上に、所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含むヒートシール層１４が設けられた熱転写シート２０を準備する熱転写シートの準備工程を有する。
【００６０】
また、熱膨張領域を含むヒートシール層１４の一部１４Ａを、選択的に加熱し、当該一部１４Ａを転写層４に転写するヒートシール層の転写工程と、ヒートシール層１４の一部１４Ａに対応する転写層４の一部を、として選択領域７を介して被転写体１７上に転写する転写層の転写工程と、を含むものである。
【００６１】
これにより、ヒートシール層１４の一部１４Ａが熱膨張することで、中間転写媒体１０の受容層３を押し付ける荷重を大きくでき、当該一部１４Ａと受容層３との密着性を向上させることができる。また、当該一部１４Ａと受容層３との密着力が大きいため、当該ヒートシール層１４の一部１４Ａの反対側に当接する選択領域７を、当該一部１４Ａを介して容易かつ正確に被転写体１７側に転写できる。したがって、本実施の形態の印画物の製造方法により、転写したい領域の転写層を正確に被転写体上に転写できる。
【００６２】
２．第２実施形態
次に、第２実施形態について説明する。図６は、第２実施形態の熱転写シートの構成を説明する平面図である。図７は、本実施形態の転写箔１０、熱転写シート２０Ａの構成および工程を説明する断面図である。以下、転写箔１０および熱転写シート２０Ａの構成および印画物の製造方法に係る各工程について、第１実施形態との相違点を中心に説明する。
【００６３】
（ａ）転写箔
図７（ａ）に示すように、転写箔１０は、第１実施形態と同様の構成である中間転写媒体１０であるため、詳細の説明を省略する。
【００６４】
（ｂ）熱転写シート
図６に示すように、本実施形態の熱転写シート２０Ａは、第１実施形態の熱転写シート２０におけるヒートシール層１４の代わりにピールオフ層２４が設けられている点が、第１実施形態とは異なる。その他、ピールオフ層２４が配置された面に隣接して、基材５の同一面上に、色相が異なる複数の色材層１５を面順次に設けられてもよいことは第１実施形態の構成と同じである。また、図７（ａ）に示すとおり、熱転写シート２０Ａは、基材５の一方の面上にピールオフ層２４が設けられており、かつ、基材５の他方の面上に背面層６が設けられた構成をとる。ピールオフ層２４について、以下に説明する。
【００６５】
（ｉ）ピールオフ層
ピールオフ層２４は、本実施形態において、中間転写媒体１０の転写層４である剥離層２および受容層３の一部を除去するための層である。さらに本実施形態のピールオフ層２４は、第１実施形態におけるヒートシール層１４と同様に、所定温度以上に加熱した場合には熱膨張する熱膨張領域を有している。当該熱膨張領域は、本実施形態ではピールオフ層２４の全体に均一に配置されているが、後述する変形例等に記載するように、ピールオフ層が多層構造であって、その一部の層だけに熱膨張領域が形成されていてもよい。また、同一層の中で特定範囲にのみ熱膨張領域が配置されるようにしてもよい。
【００６６】
中間転写媒体１０の転写層４の一部を除去する性能を考慮したピールオフ層２４の成分については特に限定はなく、公知の熱可塑性樹脂等を適宜選択して用いることができる。このような材料は、例えば、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリアミド、スチレンアクリル樹脂、スチレン−塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂等を挙げることができる。中でも、ポリエステル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体とアクリル樹脂との混合樹脂は、ピールオフ性が良好な点で好ましく、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂が特に好ましい。また、ピールオフ層２４は、上記に挙げた単一の材料を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。
【００６７】
一方、ピールオフ層２４には、第１実施形態のヒートシール層１４と同様に、所定温度を境にして低温領域と高温領域で膨張度合いが大きく異なる性質を有することが必要であり、このための材料として、上述したような熱膨張性のある中空粒子やバインダーを挙げることができる。このように、ピールオフ層２４には、加熱によって転写層４の一部と接着してこれを除去できるピールオフ性能と、所定温度以上の加熱によって熱膨張する性質とを併せ持つことが要求される。このため、上述のようなピールオフ性能を実現するための成分と、所定温度以上で熱膨張する成分とを混合した構成とすることができ、あるいは、両者を別の層として形成し、これらの積層体とした構成としてもよい。
【００６８】
ピールオフ層２４の形成方法についても特に限定はなく、上述の樹脂、必要に応じて添加される無機または有機フィラー等の添加剤を加えたピールオフ層用塗工液を調製し、このピールオフ層用塗工液をグラビアコート、グラビアリバースコート、ロールコート等の公知の手段により、基材５または基材５上に設けられる任意の層上に塗布、乾燥して形成できる。
【００６９】
なお、ピールオフ層２４の厚さについて特に限定はないが、当該ピールオフ層２４の膜強度、ピールオフ層２４と接する層や、ピールオフ層２４と中間転写媒体１０との接着性等を考慮すると、０．１μｍ以上、４μｍ以下の範囲であることが好ましく、０．２μｍ以上、２μｍ以下の範囲であることがより好ましい。
【００７０】
（ｃ）印画物の製造方法の説明
次に、第２実施形態の印画物の製造方法について、図を参照しながら説明する。
【００７１】
（ｉ）転写箔の準備工程
本実施形態の転写箔の準備工程は、図７（ａ）に示すように、支持体１の一方の面上に転写層４を構成する剥離層２および受容層３がこの順に積層された転写箔１０である中間転写媒体１０を準備する工程であり、第１実施形態と同様である。
【００７２】
（ｉｉ）熱転写シートの準備工程
本実施形態の熱転写シートの準備工程は、図６および図７（ａ）に示すように、基材５の一方の同一面上に、ピールオフ層２４および色相が異なる複数の色材層１５が同一面上に面順次に設けられ、かつ、基材５の他方の面上に背面層６が設けられた熱転写シート２０Ａを準備する工程である。ピールオフ層２４は、上述したとおり、加熱によって転写層４と接着し、当該転写層４の一部を除去できる性質と、所定温度以上の加熱によって熱膨張する性質とを併せ持つものである。
【００７３】
（ｉｉｉ）除去工程
本実施形態の除去工程について、図７（ａ）、（ｂ）に基づき説明する。まず、図７（ａ）に示すとおり、熱転写シート２０Ａと転写箔１０である中間転写媒体１０とを、ピールオフ層２４の面と受容層３の面とが当接するように重ねる。ただし、両者は完全に押し付ける程度に重ねる必要はなく、ほとんど過重負荷が掛からない程度に当接しているか、あるいは微小な隙間を有して配置されていてもよい。
【００７４】
このような状態で、熱転写シート２０Ａの背面層６側からサーマルヘッド３１により所定温度に加熱する。このとき、選択的に加熱されたピールオフ層２４の一部２４Ａは、所定温度、すなわち当該ピールオフ層２４の熱膨張領域が熱膨張を開始する起点となる温度またはそれ以上の温度がサーマルヘッド３１から加えられるため、ピールオフ層２４の一部２４Ａの加熱後の厚さは元の加熱されていないピールオフ層２４の厚さよりも大きくなっている。このようにサーマルヘッド３１により、ピールオフ層２４の熱膨張領域に対して、所定領域に対してのみ所定温度の加熱をすることによって、当該所定領域のみを熱膨張させることができる。
【００７５】
このとき、膨張したピールオフ層の一部２４Ａのみが中間転写媒体１０の受容層３側に加熱されながら押し付けられるため、当該一部２４Ａは受容層３と強く接着した状態となる。逆に、それ以外の領域は、ほとんど受容層３側に過重負荷を掛けないため、受容層３と接着することはない。中間転写媒体１０の転写層４の受容層３および剥離層２の一部、すなわち、中間転写媒体１０の受容層３の表面に垂直な方向に離隔した位置から当該受容層３を見たときに、熱転写シート２０Ａのピールオフ層の一部２４Ａと重なる位置に配置される転写層４の領域である４Ａ、または、受容層３および剥離層２の領域である３Ａおよび２Ａを、この後の除去工程により転写層４から除去される予定の除去領域８とする。この場合、除去工程後の転写層の転写工程において、当該除去領域８以外の転写層４が最終的な被転写体１７に選択的に転写されることにより、所定の印画物が製造される。
【００７６】
そして、図７（ｂ）のように、熱転写シート２０Ａを中間転写媒体１０から剥離することにより、ピールオフ層２４の一部２４Ａに対応する除去領域８である転写層４の一部４Ａは、当該一部２４Ａを介して転写層４からピールオフ層２４側に除去される。なお、本実施形態においても、ピールオフ層２４の全体が熱膨張領域であり、除去適性を付与した樹脂の中に、所定温度の加熱により熱膨張する発泡性の中空粒子が略均等に分散された構成のものを使用している。
【００７７】
（ｉｖ）転写層の転写工程
本実施形態の転写層の転写工程について、図７（ｂ）、（ｃ）に基づき説明する。図７（ｂ）のように、除去領域８が除去された中間転写媒体１０を、第１実施形態における図５（ａ）に図示するものと同様な方法で、被転写体１７と重ねてヒートローラ３２および加圧ローラ３３の間に順次送り込み、所定の熱圧が加える。
【００７８】
これによって、あらかじめ除去領域８が除去された転写層４が、被転写体１７に転写される。前述した除去工程において、ピールオフ層２４の一部２４Ａの熱膨張により、正確かつ強力に受容層３と接着でき、その結果、除去領域８が正確に除去されている。そのため、転写層の転写工程においては、特にヒートローラ３２および加圧ローラ３３による熱圧条件に大きく左右されることなく、安定して、必要領域にのみ所定の画像が形成された印画物１８Ａを得ることができる。
【００７９】
以上のとおり、第２実施形態の印画物の製造方法は、支持体１の一方の面上に転写層４である剥離層２および受容層３が設けられた中間転写媒体１０を準備する転写箔の準備工程と、基材５の一方の面上に、所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含むピールオフ層２４が設けられた熱転写シート２０Ａを準備する熱転写シートの準備工程とを有する。
【００８０】
また、熱膨張領域を含むピールオフ層２４の一部２４Ａを、選択的に加熱し、熱膨張させ、転写層の一部４Ａを、除去領域８としてピールオフ層の一部２４Ａを介して転写層４から除去する除去工程と、除去領域８が除去された転写層４を、被転写体１７上に転写する転写層の転写工程と、を含むものである。
【００８１】
これにより、ピールオフ層２４の一部２４Ａが熱膨張することで、中間転写媒体１０の受容層３を押し付ける荷重を大きくでき、当該一部２４Ａと受容層３との密着性を向上させることができる。また、当該一部２４Ａと受容層３との密着力が大きいため、当該ピールオフ層２４の一部２４Ａに当接する転写層４の一部４Ａを、ピールオフ層２４の一部２４Ａを介して容易かつ正確に除去できる。
【００８２】
その結果、被転写体１７側に必要な領域の画像のみを転写できる。したがって、本実施の形態の印画物の製造方法により、除去したい領域の転写層を正確に除去した上で、除去された後の転写層を被転写体上に転写できる。
【００８３】
３．第３実施形態
次に、第３実施形態について説明する。図８は、第３実施形態の熱転写シートのバリエーションを示す断面図である。図９は、本実施形態の熱転写シートの構成を説明する平面図である。図１０は、本実施形態のヒートシール層の転写工程を説明する図であり、図１１は、本実施形態の除去工程および転写層の転写工程を説明する図である。また、図１２は、本実施形態の印画物のバリエーションを示す図である。以下、転写箔および熱転写シートの構成および印画物の製造方法に係る各工程について、第１および第２実施形態との相違点を中心に説明する。
【００８４】
（ａ）転写箔
図１０（ａ）に示すように、転写箔１０は、第１、第２実施形態と同様の構成である中間転写媒体１０であるため、詳細の説明を省略する。
【００８５】
（ｂ）熱転写シート
本実施形態の熱転写シートには、（１）基材５の同一面上に、ピールオフ層２４Ｂと、所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含むヒートシール層１４と、が設けられた熱転写シート２０Ｂで構成される場合、または、（２）第１の基材５Ａの一方の面上に所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含むヒートシール層１４が設けられた第１熱転写シート２５と、第２の基材５Ｂの一方の面上にピールオフ層２４Ｂが設けられた第２熱転写シート２６と、から構成される場合の二通りがある。基材５、第１の基材５Ａおよび第２の基材５Ｂのヒートシール層１４またはピールオフ層２４Ｂとは反対側の面には、それぞれ背面層６、６Ａおよび６Ｂが積層されている。
【００８６】
図８（ａ）および図９に示すとおり、ピールオフ層２４Ｂとヒートシール層１４の両方を備えた熱転写シート２０Ｂの場合には、基材５の同一面上に、色相が異なる複数の色材層１５を面順次に設けられてもよいことは第１、第２実施形態の構成と同じである。また、熱転写シート２０Ｂは、基材５の一方の面上に色相が異なる複数の色材層１５に続けて、ヒートシール層１とピールオフ層２４Ｂとが面順次に設けられており、かつ、基材５の他方の面上に背面層６が設けられた構成をとる。
【００８７】
また、図８（ｂ）、（ｃ）に示すように、ヒートシール層１４を有する第１熱転写シート２５と、ピールオフ層２４Ｂを有する第２熱転写シート２６とを別個に使用する態様は、第１熱転写シート２５と第２熱転写シート２６とを熱転写プリンタに付け替える作業が付加されること以外は、ピールオフ層２４Ｂとヒートシール層１４の両方を備えた熱転写シート２０Ｂを使用する態様との工程における実質的な差異はない。
【００８８】
また、第１熱転写シート２５の断面構成は、図８（ａ）のピールオフ層２４Ｂとヒートシール層１４の両方を備えた熱転写シート２０Ｂのヒートシール層１４が配置されている部位の断面構成と同等であり、第２熱転写シート２６の断面構成は、図８（ａ）の熱転写シート２０Ｂのピールオフ層２４Ｂが配置されている部位の断面構成と同等である。また、この場合には、色相が異なる複数の色材層１５は第１熱転写シート２５側に設けることができるが、第１熱転写シート２５とは別個の熱転写シートに設けてもよい。ヒートシール層１４およびピールオフ層２４Ｂについて、以下に説明する。
【００８９】
（ｉ）ヒートシール層
本実施形態のヒートシール層１４は、第１実施形態のものと同様の構成であればよく、加熱によって溶融して転写層４に転写可能となる性質と、所定温度以上の加熱によって熱膨張する性質とを併せ持つことが満たされていればよい。このため、上述のような熱溶融させるための成分と、所定温度以上で熱膨張する成分とを混合した構成とすることができ、あるいは、両者を別の層として形成し、これらの積層体とした構成としてもよい。
【００９０】
（ｉ）ピールオフ層
本実施形態のピールオフ層２４Ｂは第２実施形態のピールオフ層２４とは、所定温度以上に加熱した場合に熱膨張する熱膨張領域を有していない点で異なる。本実施形態では、ヒートシール層１４に熱膨張領域を持たせていることから、ピールオフ層２４Ｂには、中間転写媒体１０の転写層４の一部を除去する性能のみを考慮した材料選定を行えばよい。このようなピールオフ層２４の成分については第２実施形態において例示したものが使用できる。ただし、ヒートシール層１４と同様に、ピールオフ層２４Ｂとして熱膨張領域を持たせたピールオフ層２４と同様の仕様のものを使用してもよい。
【００９１】
（ｃ）印画物の製造方法の説明
第３実施形態の印画物の製造方法について、図を参照しながら説明する。
【００９２】
（ｉ）転写箔の準備工程
本実施形態の転写箔の準備工程は、図１０（ａ）に示すように、支持体１の一方の面上に転写層４を構成する剥離層２および受容層３がこの順に積層された転写箔１０である中間転写媒体１０を準備する工程であり、第１、第２実施形態と同様である。
【００９３】
（ｉｉ）熱転写シートの準備工程
本実施形態の熱転写シートの準備工程は、前述のとおり、図８（ａ）および図９に示す、（１）基材５の同一面上に、所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含むヒートシール層１４と、熱膨張領域を含まないピールオフ層２４Ｂと、が設けられた熱転写シート２０Ｂを準備する場合と、図８（ｂ）、（ｃ）に示す、（２）第１の基材５Ａの一方の面上に所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含むヒートシール層１４が設けられた第１熱転写シート２５と、第２の基材５Ｂの一方の面上にピールオフ層２４Ｂが設けられた第２熱転写シート２６と、を準備する場合とに分かれる。
【００９４】
（ｉｉｉ）ヒートシール層の転写工程
本実施形態のヒートシール層の転写工程について、熱転写シート２０Ｂを使用した場合について、図１０に基づき説明する。まず、図１０（ａ）のように、中間転写媒体１０と熱転写シート２０Ｂとを重ねて、熱転写シート２０Ｂの背面側からサーマルヘッド３１により加熱し、ヒートシール層１４の一部または全部を中間転写媒体１０側に転写する。中間転写媒体１０の受容層３には、あらかじめ、熱転写シート２０Ｂの色材層１５の各色相面が重ねられ、サーマルヘッド３１による所定位置への加熱が各色相ごとに繰り返されることによって、所定の熱転写画像１６が形成されている。
【００９５】
ここで、第１実施形態のヒートシール層の転写工程とは異なり、サーマルヘッド３１による所定位置への加熱について、最低２段階の温度設定をする。すなわち、ヒートシール層１４を中間転写媒体１０の受容層３側に転写できるが、ヒートシール層１４の熱膨張領域が大きく膨張する起点温度である所定温度よりも低い第１温度とする設定と、ヒートシール層１４を中間転写媒体１０の受容層３側に転写し、かつ、ヒートシール層１４の熱膨張領域を大きく膨張させる所定温度以上の第２温度とする設定、である。
【００９６】
このように、サーマルヘッド３１に掛ける温度設定を第１温度および第２温度の二通りとすることによって、異なる形態でヒートシール層１４を転写層４に転写できる。例えば、サーマルヘッド３１の温度設定を第１温度として、ヒートシール層１４の選択的に熱膨張させたい領域以外の領域を転写層４側に転写する。その後、サーマルヘッド３１の温度設定を第２温度に切り替えて、当該選択領域を加熱することにより、選択領域を転写層４側に転写する。その結果、転写層４に転写されたヒートシール層１４は、熱膨張により厚さ方向に沿って大きくなった部分と、ほとんど熱膨張しない部分とが混在した状態となる。
【００９７】
例えば、図１０（ａ）において、中間転写媒体１０と熱転写シート２０Ｂとを重ねて、熱転写シート２０Ｂの背面側からサーマルヘッド３１により加熱する際、サーマルヘッド３１は、熱転写シート２０Ｂの背面層６に沿って位置Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅを動きながら熱を掛けていくものとする。ここで、サーマルヘッド３１の位置が位置Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｅにおいては第１温度で加熱しており、位置Ｃのときだけ第２温度で加熱したものとする。
【００９８】
この結果、図１０（ｂ）に示すように、サーマルヘッド３１の位置Ｃに対応するヒートシール層１４の一部１４Ａは、所定温度以上の第２温度の加熱により、受容層３への転写後に熱膨張領域が大きく熱膨張し、厚さ方向に突出した状態を形成する。一方、第一温度で加熱されたヒートシール層１４のそれ以外の部分は、受容層３に転写後もほとんど膨張が起きないままとなる。よって、転写されたヒートシール層１４に厚みの異なる領域が発生するため、ヒートシール層１４の表面に部分的な凸形状が生じ得る。
【００９９】
（ｉｖ）除去工程
本実施形態の除去工程について、図１１（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に基づき説明する。まず、図１１（ａ）に示すとおり、熱転写シート２０Ｂと中間転写媒体１０とを、ピールオフ層２４Ｂの面と受容層３の面とが当接するように重ねる。ただし、両者は完全に押し付ける程度に重ねる必要はなく、中間転写媒体１０の表面に転写されたヒートシール層１４の凸部である一部１４Ａが、ピールオフ層２４Ｂと密着する程度に配置されていればよい。
【０１００】
この状態で、熱転写シート２０Ｂの背面層６の側からサーマルヘッド３１により所定温度に加熱する。このとき、ピールオフ層２４Ｂへの加熱は重ねられた中間転写媒体１０の表面に転写されているヒートシール層１４の一部１４Ａに対応する領域に行うべきであるが、これより広い領域を加熱してもよい。
【０１０１】
転写層４に転写されたヒートシール層１４の凸部１４Ａと、これに対して厚さ方向に配置される転写層４の一部である４Ａは、加熱されたピールオフ層２４Ｂが密着したまま軟化、接着することにより当該ピールオフ層２４Ｂと強固に接着する。また、それ以外の領域では、仮にピールオフ層２４Ｂが加熱されていても、ヒートシール層１４が当該ピールオフ層２４Ｂと密着することはなく、誤ってピールオフされてしまう可能性は低い。
【０１０２】
よって、図１１（ｂ）に示すように、熱転写シート２０Ｂを中間転写媒体１０から遠ざかる方向に移動させることにより、転写層４の一部４Ａは、ピールオフ層２４Ｂ側に接着して転写層４から除去領域８として除去される。
【０１０３】
（ｉｖ）転写層の転写工程
本実施形態の転写層の転写工程について、図１１（ｂ）、（ｃ）に基づき説明する。図１１（ｂ）のように、転写層４Ａが除去された中間転写媒体１０を、第１実施形態における図５（ａ）に図示するものと同様な方法で、被転写体１７と重ねてヒートローラ３２および加圧ローラ３３の間に順次送り込み、所定の熱圧を加える。これによって、あらかじめ除去領域８として除去された領域以外の転写層４が、被転写体１７に転写される。
【０１０４】
前述した除去工程において、ピールオフ層２４Ｂにより、転写層４に転写されたヒートシール層１４の一部１４Ａと、これに付随する除去領域８である転写層４の一部４Ａが正確に除去されている。そのため、転写層の転写工程においては、特にヒートローラ３２および加圧ローラ３３による熱圧条件に大きく左右されることなく、安定して必要領域にのみ所定の画像が形成された印画物１８Ｂを得ることができる。
【０１０５】
さらに、本実施形態では、除去領域８以外の転写層４の受容層３の面にはヒートシール層１４が転写された状態で、被転写体１７への転写が行われる。したがって、転写層４の被転写体１７への密着力が向上し印画物１８Ｂの品質が安定する。
【０１０６】
なお、本実施形態においては、図１２に示すように、被転写体１７への画像形成にあたり、熱転写画像１６の配置と連動させて、あるいはこれとは無関係にヒートシール層１４に任意の凸部１４Ｂを発生させることができる。これは、ヒートローラ３２および加圧ローラ３３の間に中間転写媒体１０と被転写体１７とを重ねて挟み込み、所定の熱圧を加える際に、ヒートローラ３２に掛ける温度を変化させることにより実現できる。すなわち、ヒートローラ３２によって中間転写媒体１０に転写されたヒートシール層１４を加熱する温度を変化させて、ヒートシール層１４の熱膨張する箇所と熱膨張しない部位を発生させることで、表面が凹凸の立体面を有する印画物１８Ｃを製造できる。
【０１０７】
以上の説明は、熱転写シート２０Ｂについて述べたものであるが、第１熱転写シート２５および第２熱転写シート２６を用いる方法においても、熱転写シートの準備工程以外の工程については同様であることはいうまでもない。
【０１０８】
以上のとおり、第３実施形態の印画物の製造方法は、支持体１の一方の面上に転写層４が設けられた中間転写媒体１０を準備する転写箔の準備工程と、（１）基材５の同一面上に、ピールオフ層２４Ｂと、所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含むヒートシール層１４と、が設けられた熱転写シート２０Ｂ、または、（２）第１の基材５Ａの一方の面上に所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含むヒートシール層１４が設けられた第１熱転写シート２５と、第２の基材５Ｂの一方の面上にピールオフ層２４Ｂが設けられた第２熱転写シート２６と、を準備する熱転写シートの準備工程と、を有する。
【０１０９】
さらに、熱膨張領域を含むヒートシール層１４の一部１４Ａを選択的に加熱し、当該１部１４Ａを転写層４に転写するヒートシール層の転写工程と、ピールオフ層２４Ｂの一部を加熱し、当該一部を介して転写層４の一部４Ａを、除去領域８として転写層４から除去する除去工程と、除去領域８が除去された転写層４を、被転写体１７上に転写する転写層の転写工程と、を含むものである。
【０１１０】
これにより、熱転写シート２０Ｂまたは第１熱転写シート２５から中間転写媒体１０の転写層４には、全面に渡って熱膨張させずにヒートシール層１４を転写することが可能であるとともに、熱膨張させたい領域にのみ、転写後に選択的に熱膨張させておくことが可能である。そして、ピールオフ層２４Ｂによってヒートシール層１４の一部１４Ａを含む転写層４の一部を除去するにあたり、熱膨張による凸部が形成されていることを利用して、容易かつ正確にこれを除去できる。
【０１１１】
したがって、正確に形成された除去領域８によって、被転写体１７への転写層４の転写が、必要な領域に対して正確に行えることとなる。さらには、転写層４は、膨張していないヒートシール層１４を介して転写できるので、被転写体１７に対する転写層４の密着性が向上する。また、当該ヒートシール層１４は、被転写体１７への転写層４の転写の際に一部を熱膨張させることができ、表面に凹凸を有する意匠性の高い印画物１８Ｃを製造できる。
【０１１２】
４．第４実施形態
次に、第４実施形態について説明する。図１３は、第４実施形態の中間転写媒体の準備工程および熱転写画像の形成工程を説明する断面図である。図１４は、本実施形態の除去工程および転写層の転写工程を説明する図である。
【０１１３】
（ａ）転写箔
図１３（ａ）に示すように、転写箔１０Ｂは、第１〜第３実施形態の転写箔１０とは、転写層４Ｂの構成が異なる。この点について以下に説明する。
【０１１４】
（ｉ）転写層
中間転写媒体１０Ｂの転写層４Ｂは、受容層３Ｂを含んでおり、当該受容層３は、支持体１から最も遠くに積層されている。すなわち、受容層３は中間転写媒体１０Ｂの一方の面を構成する支持体１に対して、他方の面を構成している。中間転写媒体１０Ｂは支持体１および受容層３Ｂのみの構成であってもよく、支持体１と受容層３Ｂの間に複数の異なる材料の層を設けてもよいが、通常は、支持体１と受容層３Ｂの間に、受容層３Ｂの転写性を向上させるために剥離層２が設けられることが多い。以下、受容層３Ｂについて説明する。
【０１１５】
（ｉｉ）受容層
中間転写媒体１０Ｂの転写層４Ｂを構成する受容層３Ｂは、中間転写媒体に用いるものとして公知の受容層の成分に加え、第１実施形態のヒートシール層１４や第２実施形態のピールオフ層２４のように、所定温度以上に加熱した場合には、熱膨張する熱膨張領域を有している。当該熱膨張領域は、本実施形態では受容層３Ｂの全体に均一に配置されているが、受容層が多層構造であって、その一部の層だけに熱膨張領域が形成されていてもよい。また、同一層の中で特定範囲にのみ熱膨張領域が配置されるようにしてもよい。ただし、受容層３Ｂ自体が熱膨張領域を有していなくてもよく、例えば、中間転写媒体１０Ｂの転写層４Ｂを、支持体１に近い側から剥離層２、保護層、受容層３Ｂの順に積層された構成としてもよい。この場合、受容層３Ｂではなく保護層に熱膨張領域が配置されるようにし、受容層３Ｂ自体は熱膨張しないものとすることができる。保護層としては、後述する変形例４に記載する保護層２７に使用するものと同様の材料を選択してもよく、これ以外の材料を選択してもよい。以下の受容層３Ｂに関する説明は、すべて、上記の受容層３Ｂと隣接する保護層の説明に置き換えることができる。
【０１１６】
このように、受容層は、通常の受容層としての適性に加え、所定温度以上の加熱によって熱膨張する性質とを併せ持つことが必要であるため、通常の受容層としての成分に、第１実施形態のヒートシール層１４において記載したような、熱可塑性樹脂等から構成された外殻の内部に膨張剤を含有した中空部を有する熱膨張性のある中空粒子を含有させることによって実現できる。
【０１１７】
（ｂ）熱転写シート
本実施形態の熱転写シート２０Ｃは、図３において、ヒートシール層１４をピールオフ層２４Ｂに置き換えた場合と同等の構成をとるものであり、基材５の同一面上に、例えば、イエロー色材層（Ｙ）、マゼンタ色材層（Ｍ）、シアン色材層（Ｃ）から構成された色材層１５と、ピールオフ層２４Ｂとが面順次に配列されている。また、ピールオフ層２４Ｂが配置されている領域の断面構成は、第３実施形態に挙げた、図８（ｃ）に示す第２の基材５Ｂの一方の面上にピールオフ層２４Ｂが設けられた第２熱転写シート２６と同一の構造である。
【０１１８】
（ｃ）印画物の製造方法の説明
第４実施形態の印画物の製造方法について、図を参照しながら説明する。
【０１１９】
（ｉ）中間転写媒体の準備工程
本実施形態の中間転写媒体の準備工程は、図１３（ａ）に示すように、支持体１の一方の面上に転写層４Ｂを構成する剥離層２および受容層３Ｂがこの順に積層された転写箔１０Ｂである中間転写媒体１０Ｂを準備する工程である。受容層３Ｂには、所定温度以上に加熱した場合には、熱膨張する熱膨張領域を有している点が、第１〜第３実施形態の転写層４の受容層３とは異なる。
【０１２０】
（ｉｉ）熱転写シートの準備工程
本実施形態の熱転写シートの準備工程は、第３実施形態の熱転写シート２６と同様の構成の熱転写シートにおいて、基材５の同一面上に、色相が異なる複数の色材層１５がさらに面順次に設けられた熱転写シート２０Ｃを準備する工程である。
【０１２１】
（ｉｉｉ）熱転写画像の形成工程
本実施形態の熱転写画像の形成工程について、図１３に基づき説明する。まず、図１３（ａ）のように、一方の表面が色材層１５となっている熱転写シート２０Ｃと、中間転写媒体１０Ｂとを重ねて、熱転写シート２０Ｃの背面側からサーマルヘッド３１により加熱し、熱転写画像１６を中間転写媒体１０の転写層４Ｂである受容層３Ｂに転写する。複数の色相について行う場合は、熱転写シート２０Ｃを順次移動させて、各色相ごとにサーマルヘッド３１による加熱を繰り返して、所定の熱転写画像１６を形成する。
【０１２２】
なお、この場合のサーマルヘッド３１による加熱は、受容層３Ｂの熱膨張領域が大きく熱膨張しない所定温度より低い第１温度となるように調整されている。したがって、熱転写画像１６が形成された段階では、受容層３Ｂの表面はフラットであり、局所的な熱膨張は発生していない。
【０１２３】
（ｉｖ）除去工程
本実施形態の除去工程について、図１３（ｂ）、（ｃ）、図１４（ａ）に基づき説明する。まず、図１３（ｂ）のように、熱転写シート２０Ｃと中間転写媒体１０Ｂとが当接した状態においてサーマルヘッド３１を所定位置で加熱する。このとき、転写層４Ｂの除去したい領域である除去領域８に対応する位置でのみ、加熱を行うが、このときの加熱は、受容層３Ｂの熱膨張領域が大きく熱膨張を開始する所定温度以上の第２温度となるように調整されている。したがって、除去領域８の熱膨張領域のみが膨張し、受容層３Ｂの表面が凸上に突出する。
【０１２４】
図１３（ｂ）、（ｃ）、図１４（ａ）のように、その後、熱転写シート２０Ｃを中間転写媒体１０Ｂから遠ざけるように移動させると、膨張してピールオフ層２４Ｂと接着された除去領域８を構成する転写層の一部４Ｃ、すなわち、受容層３Ｂの一部３Ｃと剥離層２の一部２Ａは、転写層４Ｂから除去される。
【０１２５】
（ｉｖ）転写層の転写工程
本実施形態の転写層の転写工程について、図１４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に基づき説明する。図１４（ａ）のように、除去領域８が除去された中間転写媒体１０Ｂを、第１実施形態における図５（ａ）に図示するものと同様な方法で、被転写体１７と重ねてヒートローラ３２および加圧ローラ３３の間に順次送り込み、所定の熱圧が加える。これによって、あらかじめ除去領域８として除去された領域以外の転写層４Ｂが、被転写体１７に転写される。
【０１２６】
前述した除去工程において、ピールオフ層２４Ｂにより、除去領域８、すなわち、転写層４Ｂの一部４Ｃが正確に除去されている。そのため、転写層の転写工程においては、特にヒートローラ３２および加圧ローラ３３による熱圧条件に大きく左右されることなく、安定して、必要領域にのみ所定の画像を形成した印画物１８Ｄを得ることができる。
【０１２７】
さらに、本実施形態においては、図１４（ｃ）に示すように、被転写体１７への画像形成にあたり、熱転写画像１６の配置と連動させて、あるいは、これとは無関係に転写層４Ｂに任意の凸部４Ｄを発生させることができる。当該凸部４Ｄは、受容層３Ｂの膨張による凸部３Ｄによって上層の剥離層２が押し上げられ、凸部２Ｄを形成することにより発生する。これは、ヒートローラ３２および加圧ローラ３３の間に中間転写媒体１０と被転写体１７とを重ねて挟み込み、所定の熱圧を加える際に、ヒートローラ３２に掛ける温度を変化させることにより実現できる。すなわち、ヒートローラ３２によって中間転写媒体１０に転写されたヒートシール層１４を加熱する温度を変化させて、受容層３Ｂの熱膨張する箇所と熱膨張しない部位を発生させることで、表面が凹凸の立体面を有する印画物１８Ｅを製造できる。
【０１２８】
以上のとおり、第４実施形態の印画物の製造方法は、支持体１の一方の面上に転写層４Ｂが設けられており、かつ、所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含む、中間転写媒体１０Ｂを準備する中間転写媒体の準備工程と、基材５の一方の同一面上に色材層１５およびピールオフ層２４Ｂが設けられた熱転写シート２０Ｃを準備する熱転写シートの準備工程と、を有する。
【０１２９】
さらに、中間転写媒体１０Ｂの受容層３Ｂ上に所定温度よりも低い第１温度で加熱しながら熱転写画像１６を形成する熱転写画像の形成工程と、転写層４Ｂの除去領域８を、所定温度以上の第２温度で加熱し、除去領域８の熱膨張領域を膨張させながらピールオフ層２４Ｂによって転写層４Ｂから除去する除去工程と、除去領域８が除去された転写層４Ｂを、被転写体１７上に転写する転写層の転写工程と、を含むものである。
【０１３０】
これにより、熱転写シート２０Ｃには、ヒートシール層を設ける必要がなく、通常のピールオフ層２４Ｂと、色材層１５を設けるだけでよいこととなる。また、中間転写媒体１０Ｂの転写層４Ｂが所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含むため、
除去領域８に対応する箇所をサーマルヘッド３１で加熱することによって、除去領域８とピールオフ層２４Ｂとの密着性が上がり、除去領域８の容易かつ正確な除去が可能となる。
その結果、被転写体１７への転写層４Ｂの必要領域のみの転写が確実に行われることとなる。また、当該転写層４Ｂは、被転写体１７への転写層４Ｂの転写の際に一部を熱膨張させることができ、表面に凹凸を有する意匠性の高い印画物１８Ｅを製造できる。
【０１３１】
５．変形例
上述した第１実施形態は、種々の変形や変更が可能であり、それらも本開示の範囲内である。下記に、幾つかの変形例を挙げる。
【０１３２】
（ａ）変形例１
図１５は、第１実施形態の印画物の製造方法において、ヒートシール層１４Ｃが、所定温度の加熱によって膨張する第１ヒートシール層１１と、加熱によってほとんど膨張しない第２ヒートシール層１２の２層構成となっている熱転写シート２０Ｄについての変形例１の工程を示す図である。
【０１３３】
図１５（ａ）に示すとおり、変形例１の熱転写シート２０Ｄは、基材５の一方の面上にヒートシール層１４Ｃが設けられており、かつ、基材５の他方の面上に背面層６が設けられている。ヒートシール層１４Ｃは、第１ヒートシール層１１と第２ヒートシール層１２の２層構造をとっており、第２ヒートシール層１２が基材５の近くに配置されている。
【０１３４】
第１ヒートシール層１１は、第１実施形態のヒートシール層１４と同様の構成であり、加熱によって溶融して転写層４に転写可能となる性質と、所定温度以上の加熱によって熱膨張する性質とを併せ持つことが要求される。これに対して、第２ヒートシール層１２は、所定温度以上の加熱によって熱膨張する性質を有しない、熱溶融させるための成分を含むものであればよい。
【０１３５】
本変形例における、印画物の製造方法は、基本的に第１実施形態と同様となる。しかし、ヒートシール転写工程では、図１５（ｂ）に示すように、中間転写媒体１０の転写層４に転写されたヒートシール層１４Ｃの一部は、受容層３からもっとも遠くに位置する第２ヒートシール層１２の一部１２Ａであり、受容層３に近い側に第１ヒートシール層１１の一部１１Ａが配置されることとなる。
【０１３６】
また、転写層の転写工程では、図１５（ｃ）に示すように、被転写体１７と当接する部分が第２ヒートシール層１２の一部１２Ａとなる。第１ヒートシール層１１は、熱膨張領域として、熱膨張性の中空粒子を含むことが考えられるが、この場合には、膨張した中空粒子が多数存在することによって、第１ヒートシール層１１の表面には微細な凹凸が形成されている。これに対して、第２ヒートシール層１２は、そのような熱膨張領域を含む必要がないため、第２ヒートシール層１２の表面を第１ヒートシール層１１よりも滑らかに仕上げることが可能である。
【０１３７】
これより、ヒートシール層１４Ｃのように、熱膨張領域を含む第１ヒートシール層１１と、熱膨張領域を含む必要がない第２ヒートシール層１２とを所定順番で積層した構成とすることにより、最終的な被転写体１７への画像形成時に、転写層４の密着性を向上させることができる。よって、最終的な印画物１８Ｆの品質向上に寄与する。
【０１３８】
なお、第２ヒートシール層１２は、加熱に対してまったく膨張しない構成とする必要はないが、少なくとも、所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含む第１ヒートシール層１１のほうが、第２ヒートシール層１２と比べて所定温度の加熱による膨張の程度がより大きいものであればよい。
【０１３９】
（ｂ）変形例２
次に、図１６に基づいて、第１実施形態の印画物の製造方法において、ヒートシール層１４Ｄが、所定温度の加熱によって膨張する第１ヒートシール層１１と、加熱によってほとんど膨張しない第２ヒートシール層１２および第３ヒートシール層１３の３層構成となっている熱転写シート２０Ｅについての変形例２について説明する。
【０１４０】
図１６（ａ）に示すとおり、変形例２の熱転写シート２０Ｅは、基材５の一方の面上にヒートシール層１４Ｄが設けられており、かつ、基材５の他方の面上に背面層６が設けられている。ヒートシール層１４Ｄは、第１ヒートシール層１１、第２ヒートシール層１２および第３ヒートシール層１３の３層構造をとっており、第２ヒートシール層１２が基材５のもっとも近くに配置され、かつ、第３ヒートシール層１３が基材５からもっとも遠くに配置されている。
【０１４１】
第１ヒートシール層１１は、変形例１と同様、加熱によって溶融して転写層４に転写可能となる性質と、所定温度以上の加熱によって熱膨張する性質とを併せ持つことが要求される。これに対して、第２ヒートシール層１２および第３ヒートシール層１３は、所定温度以上の加熱によって熱膨張する性質を有しない、熱溶融させるための成分を含むものであればよい。
【０１４２】
本変形例における、印画物の製造方法は、基本的に第１実施形態および変形例１と同様となる。しかし、ヒートシールの転写工程では、図１６（ｂ）に示すように、中間転写媒体１０の転写層４に転写されたヒートシール層１４Ｄの一部は、受容層３からもっとも遠い先端部が第２ヒートシール層１２の一部１２Ａであり、受容層３にもっとも近い側に第３ヒートシール層１３の一部１３Ａが配置されることとなる。よって、ヒートシール層１４Ｄの一部は、第２ヒートシール層１２の一部１２Ａを介して受容層３と接着する。
【０１４３】
また、転写層の転写工程では、図１６（ｃ）に示すように、被転写体１７と当接する部分が第２ヒートシール層１２の一部１２Ａとなる。よって、変形例１と同じ理由により、被転写体１７への画像形成時に、転写層４の密着性を向上させることができる。さらに、本変形例では、ヒートシール転写工程において、では、図１６（ｂ）に示すように、中間転写媒体１０の転写層４に転写されたヒートシール層１４Ｄの一部は、第３ヒートシール層１３の一部１３Ａを介して受容層３と接着するため、第２ヒートシール層１２と同様の理由により、転写層４との密着性を向上させることができる。よって、選択的に転写したい選択領域７を容易かつ正確に転写でき、最終的な印画物１８Ｇの品質向上に寄与する。
【０１４４】
なお、第３ヒートシール層１３も、第２ヒートシール層１２と同様であり、加熱に対してまったく膨張しない構成とする必要はないが、少なくとも、所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含む第１ヒートシール層１１のほうが、第３ヒートシール層１３と比べて所定温度の加熱による膨張の程度がより大きいものであればよい。また、熱膨張領域を含むヒートシール層と、それ以外のヒートシール層とがそれぞれ複数層積層されたものであってもよい。
【０１４５】
（ｃ）変形例３
図１７は、第２実施形態の印画物の製造方法において、ピールオフ層２４が、所定温度の加熱によって膨張する第１ピールオフ層２１と、ほとんど加熱によって膨張しない第２ピールオフ層２２および第３ピールオフ層２３の３層構成となっている熱転写シート２０Ｆについての変形例３の工程を示す図である。
【０１４６】
図１７（ａ）に示すとおおり、変形例３の熱転写シート２０Ｆは、基材５の一方の面上にピールオフ層２４Ｃが設けられており、かつ、基材５の他方の面上に背面層６が設けられている。ピールオフ層２４Ｃは、第１ピールオフ層２１、第２ピールオフ層２２および第３ピールオフ層２３の３層構造をとっており、第２ピールオフ層２２が基材５のもっとも近くに配置され、第３ピールオフ層２３が基材５からもっとも遠くに配置されている。
【０１４７】
第１ピールオフ層２１は、第２実施形態のピールオフ層２４と同様の構成であり、加熱によって転写層４の一部を除去できる性質と、所定温度以上の加熱によって熱膨張する性質とを併せ持つことが要求される。これに対して、第２ピールオフ層２２および第３ピールオフ層２３は、所定温度以上の加熱によって熱膨張する性質を有しない、除去性能を有するための成分を含むものであればよい。
【０１４８】
本変形例における、印画物の製造方法は、基本的に第２実施形態と同様となる。しかし、除去工程では、図１７（ｂ）に示すように、中間転写媒体１０の転写層４の除去領域８と接着するピールオフ層２４Ｃの一部は、第３ピールオフ層２３の一部２３Ａである。
【０１４９】
第１ピールオフ層２１は、熱膨張領域として、熱膨張性の中空粒子を含んでいることがあるが、この場合には、膨張した中空粒子が多数存在することによって、第１ピールオフ層２１の表面には微細な凹凸が形成されている。これに対して、第２ピールオフ層２２および第３ピールオフ層２３は、そのような熱膨張領域を含む必要がないため、第２ピールオフ層２２および第３ピールオフ層２３表面を第１ピールオフ層２１よりも滑らかに仕上げることが可能である。
【０１５０】
これより、除去工程において、ピールオフ層２４Ｃは第２ピールオフ層２２を介して基材５と接着しているため、ピールオフ層２４Ｃと基材５との密着力が向上する。また、ピールオフ層２４Ｃは第３ピールオフ層２３を介して除去領域８である受容層３との一部３Ａと接着するため、除去工程において、除去領域８を除去する際に、除去領域８がピールオフ層２４Ｃから剥離することが抑制され、容易かつ正確に除去を行うことができる。よって、最終的な印画物の品質を向上させることができる。
【０１５１】
なお、第２ピールオフ層２２および第３ピールオフ層２３は、加熱に対してまったく膨張しない構成とする必要はないが、少なくとも、所定温度の加熱により膨張することが可能な熱膨張領域を含んだ第１ピールオフ層２１のほうが、第２ピールオフ層２２および第３ピールオフ層２３と比べて所定温度の加熱による膨張の程度がより大きいものであればよい。また、熱膨張領域を含んだピールオフ層と、それ以外のピールオフ層とがそれぞれ複数層積層されたものであってもよい。
【０１５２】
（ｄ）変形例４
図１８および図１９は、第１実施形態の印画物の製造方法において、転写箔が中間転写媒体ではなく、保護層転写シート１０Ｃである変形例４における工程を説明する図である。
【０１５３】
（ａ）転写箔
図１８（ａ）に示すように、転写箔１０Ｃである保護層転写シート１０Ｃは、支持体１の一方の面上に転写層４が積層されて形成されている。本変形例では、転写層４は、支持体１に近い側から順に保護層２７および接着層２８が積層されたものである。
（ｉ）支持体
保護層転写シート１０Ｃの支持体１は、材料としての限定は特にはなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロース誘導体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、ポリビニルフルオライド、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド等の各種プラスチックフィルムまたはシートを使用できる。また、支持体１は、上記に挙げた単一の材料を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。
【０１５４】
なお、支持体１の厚さについて特に限定はないが、例えば、２μｍ以上、１００μｍ以下の範囲とできる。
【０１５５】
（ｉｉ）保護層
保護層転写シート１０Ｃの保護層２７は、材料としての限定は特にはなく、保護層転写シートの分野で公知の保護層を適宜選択できる。保護層２７の成分として、例えば、ポリエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、紫外線吸収性樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリルウレタン樹脂、これらの各樹脂をシリコーン変性させた樹脂、これらの各樹脂の混合物、電離放射線硬化性樹脂、紫外線吸収性樹脂等を使用できる。その中では、アクリル樹脂、ポリエステル、塩化ビニル樹脂を用いることが好ましく、アクリル樹脂、ポリエステルを用いることがさらに好ましい。
【０１５６】
保護層２７は、電離放射線硬化性樹脂を含有することにより、耐可塑剤性や耐擦過性を向上させることができる。電離放射線硬化性樹脂としては公知のものを使用でき、例えば、ラジカル重合性のポリマー又はオリゴマーを電離放射線照射により架橋、硬化させ、必要に応じて光重合開始剤を添加し、電子線や紫外線によって重合架橋させたものを使用できる。また、保護層２７が紫外線吸収性樹脂を含有することにより、印画物に耐光性を付与できる。
【０１５７】
紫外線吸収性樹脂としては、例えば、反応性紫外線吸収剤を熱可塑性樹脂又は上記の電離放射線硬化性樹脂に反応、結合させて得た樹脂を使用できる。より具体的には、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、ニッケルキレート系、ヒンダートアミン系のような従来公知の非反応性の有機系紫外線吸収剤に、付加重合性二重結合（例えばビニル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基など）、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基のような反応性基を導入したものを使用できる。
（ｉｉｉ）接着層
接着層２８は必ずしも必須ではないが、転写層４を被転写体１７に転写したときの両者の密着性を向上させるために支持体１と保護層２７の間に接着層２８を含んでいてもよい。接着層２８の成分として、例えば、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン─アクリル共重合体、ポリエステル、ポリアミド等を挙げることができる。
【０１５８】
なお、接着層２８の厚さについて特に限定はないが、例えば、０．１μｍ以上、５μｍ以下の範囲とできる。
【０１５９】
（ｂ）印画物の製造方法の説明
図１８（ｂ）に示すように、本変形例の保護層転写シート１０Ｃは、第１実施形態の中間転写媒体１０と同様に、熱転写シート２０と重ねられる。ここで、保護層転写シート１０Ｃの接着層２８と熱転写シート２０のヒートシール層１４とが当接している。
【０１６０】
ここで、熱転写シート２０の背面側からサーマルヘッド３１による所定位置への加熱を行うことにより、加熱された部分のヒートシール層１４の一部１４Ａが保護層転写シート１０Ｃの接着層２８に転写される。
【０１６１】
このとき、接着層２８側に転写されたヒートシール層１４の一部１４Ａは、所定温度以上の温度がサーマルヘッド３１から加えられるため、ヒートシール層１４の一部１４Ａの熱膨張領域が大きく膨張し、厚さ方向の大きさも大きくなる。その後、図１８（ｃ）のとおり、熱転写シート２０を保護層転写シート１０Ｃから剥がす。これにより、ヒートシール層の転写工程が完了する。
【０１６２】
次に、熱膨張領域が膨張したヒートシール層１４の一部１４Ａが転写された保護層転写シート１０Ｃを、図５（ｂ）に示すようなあらかじめ、転写層４の一部４Ａが転写された被転写体１７に重ね、これを図５（ａ）に示すように、ヒートローラ３２および加圧ローラ３３の間に挟み込み、所定の熱圧が加える。その結果、図１９に示すような転写層の一部４Ａの上層に、ヒートシール層の一部１４Ａを介して接着層２８の一部２８Ａおよび保護層２７の一部２７Ａを含む転写層４の一部４Ｅが積層された印画物１８Ｈを得ることができる。
【０１６３】
このように、第１実施形態を例にして、中間転写媒体１０を保護層転写シート１０Ｃに置き換えた変形例について説明したが、同様の置き換えが、他の実施形態や変形例においても可能である。例えば、第２実施形態のように保護層転写シート１０Ｃの一部を除去領域として除去しておき、被転写体に対して保護層を設けたくない領域をあらかじめ除去した上で保護層を被転写体に転写した印画物を製造することもできる。
【実施例】
【０１６４】
次に実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。以下、特に断りのない限り、部
または％は質量基準である。
【０１６５】
１．熱転写シートおよび中間転写媒体の作成
表１に記載のとおり、背面層、ヒートシール層およびピールオフ層の組み合わせを変えた各種の熱転写シートを作成した。また、表２に記載のとおり、剥離層、保護層および受容層の組み合わせを変えた各種の中間転写媒体を作成した。以下、各熱転写シートおよび各中間転写媒体の詳細について説明する。
【０１６６】
【表１】
2020157526.tif 000003
【０１６７】
【表２】
2020157526.tif 000004
【０１６８】
（ａ）熱転写シート１−１の作成
基材として、厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、当該基材の一方の面上に、下記組成のピールオフ層用塗工液１を乾燥時１μｍの厚さとなるように塗布、乾燥しピールオフ層を形成した。また、基材の他方の面上に、下記組成の背面層用塗工液を乾燥時０．８μｍの厚さとなるように塗布、乾燥し背面層を形成することでピールオフ層を有する熱転写シート１−１を得た。
【０１６９】
＜ピールオフ層用塗工液１＞
・ポリエステル水分散体（固形分３４％、Ｔｇ６７℃）                      １５部
（バイロナール（登録商標）ＭＤ−１２００  東洋紡（株））
・熱膨張性中空粒子                                                        ５部
（クレハマイクロスフェアー（登録商標）Ｍ３３０  （株）クレハ）
・水                                                                    ８０部
【０１７０】
＜背面層用塗工液＞
・ポリビニルブチラール                                                    ２部
（エスレック（登録商標）ＢＸ−１  積水化学工業（株））
・ポリイソシアネート                                                  ９．２部
（バーノック（登録商標）Ｄ７５０  ＤＩＣ（株））
・リン酸エステル系界面活性剤                                          １．３部
（プライサーフ（登録商標）Ａ２０８Ｎ  第一工業製薬（株））
・タルク                                                              ０．３部
（ミクロエース（登録商標）Ｐ−３  日本タルク工業（株））
・トルエン                                                          ４３．６部
・メチルエチルケトン                                                ４３．６部
【０１７１】
（ｂ）熱転写シート１−２の作成
熱転写シート１−１のピールオフ層用塗工液１を下記組成のピールオフ層用塗工液２に変更した以外は、熱転写シート１−１と同様にして、熱転写シート１−２を得た。
【０１７２】
＜ピールオフ層用塗工液２＞
・ポリエステル水分散体（固形分３４％、Ｔｇ６７℃）                      １５部
（バイロナール（登録商標）ＭＤ−１２００  東洋紡（株））
・熱膨張性中空粒子                                                        ５部
（マツモトマイクロスフェアー（登録商標）Ｆ−３０  松本油脂製薬（株））
・水                                                                    ８０部
【０１７３】
（ｃ）熱転写シート１−３の作成
熱転写シート１−１のピールオフ層用塗工液１を下記組成のピールオフ層用塗工液３に変更した以外は、熱転写シート１−１と同様にして、熱転写シート１−３を得た。
【０１７４】
＜ピールオフ層用塗工液３＞
・ポリエステル水分散体（固形分３４％、Ｔｇ６７℃）                      １５部
（バイロナール（登録商標）ＭＤ−１２００  東洋紡（株））
・熱膨張性中空粒子                                                        ５部
（マツモトマイクロスフェアー（登録商標）ＦＮ−８０ＧＳ  松本油脂製薬（株））
・水                                                                    ８０部
【０１７５】
（ｄ）熱転写シート１−４の作成
熱転写シート１−１のピールオフ層用塗工液１を下記組成のピールオフ層用塗工液４に変更した以外は、熱転写シート１−１と同様にして、熱転写シート１−４を得た。
【０１７６】
＜ピールオフ層用塗工液４＞
・ポリエステル水分散体（固形分３４％、Ｔｇ６７℃）                      １５部
（バイロナール（登録商標）ＭＤ−１２００  東洋紡（株））
・熱膨張性中空粒子                                                        ５部
（マツモトマイクロスフェアー（登録商標）ＦＮ−８０ＧＳ  松本油脂製薬（株））
・水                                                                    ８０部
【０１７７】
（ｅ）熱転写シート１−Ａの作成
熱転写シート１−１のピールオフ層用塗工液１を下記組成のピールオフ層用塗工液Ａに変更した以外は、熱転写シート１−１と同様にして、熱転写シート１−Ａを得た。
【０１７８】
＜ピールオフ層用塗工液Ａ＞
・ポリエステル水分散体（固形分３４％、Ｔｇ６７℃）                      ２０部
（バイロナール（登録商標）ＭＤ−１２００  東洋紡（株））
・水                                                                    ８０部
【０１７９】
（ｆ）熱転写シート２−１の作成
基材として、厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、当該基材の一方の面上に、下記組成のヒートシール層用塗工液１を乾燥時１μｍの厚さとなるように塗布、乾燥しピールオフ層を形成した。また、基材の他方の面上に、上記組成の背面層用塗工液を乾燥時０．８μｍの厚さとなるように塗布、乾燥し背面層を形成することでヒートシール層を有する熱転写シート２−１を得た。
【０１８０】
＜ヒートシール層用塗工液１＞
・ポリエステル水分散体（固形分３４％、Ｔｇ６７℃）                      １５部
（バイロナール（登録商標）ＭＤ−１２００  東洋紡（株））
・熱膨張性中空粒子                                                        ５部
（クレハマイクロスフェアー（登録商標）Ｍ３３０  （株）クレハ）
・水                                                                    ８０部
【０１８１】
（ｇ）熱転写シート２−２の作成
熱転写シート１−１のヒートシール層用塗工液１を下記組成のヒートシール層用塗工液２に変更した以外は、熱転写シート１−１と同様にして、熱転写シート１−２を得た。
【０１８２】
＜ヒートシール層用塗工液２＞
・ポリエステル水分散体（固形分３４％、Ｔｇ６７℃）                      １５部
（バイロナール（登録商標）ＭＤ−１２００  東洋紡（株））
・熱膨張性中空粒子                                                        ５部
（マツモトマイクロスフェアー（登録商標）Ｆ−３０  松本油脂製薬（株））
・水                                                                    ８０部
【０１８３】
（ｈ）熱転写シート２−３の作成
熱転写シート１−１のヒートシール層用塗工液１を下記組成のヒートシール層用塗工液３に変更した以外は、熱転写シート１−１と同様にして、熱転写シート１−３を得た。
【０１８４】
＜ヒートシール層用塗工液３＞
・ポリエステル水分散体（固形分３４％、Ｔｇ６７℃）                      １５部
（バイロナール（登録商標）ＭＤ−１２００  東洋紡（株））
・熱膨張性中空粒子                                                        ５部
（マツモトマイクロスフェアー（登録商標）ＦＮ−８０ＧＳ  松本油脂製薬（株））
・水                                                                    ８０部
【０１８５】
（ｉ）熱転写シート２−４の作成
熱転写シート１−１のヒートシール層用塗工液１を下記組成のヒートシール層用塗工液４に変更した以外は、熱転写シート１−１と同様にして、熱転写シート１−４を得た。
【０１８６】
＜ヒートシール層用塗工液４＞
・ポリエステル水分散体（固形分３４％、Ｔｇ６７℃）                      １５部
（バイロナール（登録商標）ＭＤ−１２００  東洋紡（株））
・熱膨張性中空粒子                                                        ５部
（マツモトマイクロスフェアー（登録商標）ＦＮ−８０ＧＳ  松本油脂製薬（株））
・水                                                                    ８０部
【０１８７】
（ｊ）熱転写シート３−１の作成
基材として、厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、当該基材の一方の面上に、上記組成の背面用塗工液を乾燥時０．８μｍの厚さとなるように塗布、乾燥し背面層を形成した。また、基材の他方の面上に、上記組成のヒートシール層用塗工液１、下記組成のピールオフ層用塗工液Ｂを、それぞれ乾燥時１μｍの厚さとなるように塗布、乾燥して、ヒートシール層、ピールオフ層を面順次に形成し、ヒートシール層とピールオフ層とを有する熱転写シート３−１を得た。
【０１８８】
＜ピールオフ層用塗工液Ｂ＞
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体                                        １０部
（ソルバイン（登録商標）Ｃ５Ｒ  日信化学工業（株））
・アクリル樹脂                                                          １０部
（ダイヤナール（登録商標）ＢＲ−８３  三菱ケミカル（株））
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ）                                          ８０部
【０１８９】
（ｋ）熱転写シート３−２の作成
熱転写シート３−１のヒートシール層用塗工液１を上記組成のヒートシール層用塗工液２に変更した以外は、熱転写シート３−１と同様にして、熱転写シート３−２を得た。
【０１９０】
（ｌ）熱転写シート３−３の作成
熱転写シート３−１のヒートシール層用塗工液１を上記組成のヒートシール層用塗工液３に変更した以外は、熱転写シート３−１と同様にして、熱転写シート３−３を得た。
【０１９１】
（ｍ）熱転写シート３−４の作成
熱転写シート３−１のヒートシール層用塗工液１を上記組成のヒートシール層用塗工液４に変更した以外は、熱転写シート３−１と同様にして、熱転写シート３−４を得た。
【０１９２】
（ｎ）熱転写シート３−Ａの作成
熱転写シート３−１のヒートシール層用塗工液１を上記組成のヒートシール層用塗工液Ａに変更した以外は、熱転写シート３−１と同様にして、熱転写シート３−Ａを得た。
【０１９３】
（ｏ）中間転写媒体１の作成
基材として、厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、当該基材上に、下記組成の剥離層用塗工液１を乾燥時１μｍの厚さとなるように塗布、乾燥し剥離層を形成した。次いで、当該剥離層上に下記組成の保護層用塗工液１を乾燥時５μｍの厚さとなるように塗布、乾燥して保護層を形成した。さらに当該保護層上に下記組成の受容層用塗工液１を乾燥時１．５μｍの厚さとなるように塗布、乾燥して受容層を形成することで、基材上に剥離層、保護層、受容層がこの順で積層された中間転写媒体１を得た。
【０１９４】
＜剥離層用塗工液１＞
・アクリル樹脂                                                          ２９部
（ダイヤナール（登録商標）ＢＲ−８７  三菱ケミカル（株））
・ポリエステル                                                            １部
（バイロン（登録商標）２００  東洋紡（株））
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ）                                          ３５部
・トルエン                                                              ３５部
【０１９５】
＜保護層用塗工液１＞
・ポリエステル                                                          ３０部
（バイロン（登録商標）２００  東洋紡（株））
・メチルエチルケトン                                                    ３５部
・トルエン                                                              ３５部
【０１９６】
＜受容層用塗工液１＞
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体                                        ２０部
（ソルバイン（登録商標）ＣＮＬ  日信化学工業（株））
・シリコーンオイル                                                        １部
（Ｘ−２２−３０００Ｔ  信越化学工業（株））
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ）                                          ７９部
【０１９７】
（ｐ）中間転写媒体２の作成
中間転写媒体１の保護層用塗工液１を下記組成の保護層用塗工液２に変更した以外は、中間転写媒体１と同様にして、中間転写媒体２を得た。
【０１９８】
＜保護層用塗工液２＞
・熱膨張性中空粒子                                                    １００部
（クレハマイクロスフェアー（登録商標）Ｍ３３０  （株）クレハ）
・水性ポリウレタン（固形分３７％）                                      ３０部
（ネオステッカー（登録商標）４００  日華化学（株））
・水                                                                    ８０部
【０１９９】
（ｑ）中間転写媒体３の作成
中間転写媒体１の保護層用塗工液１を下記組成の保護層用塗工液３に変更した以外は、中間転写媒体１と同様にして、中間転写媒体３を得た。
【０２００】
＜保護層用塗工液３＞
・熱膨張性中空粒子                                                    １００部
（マツモトマイクロスフェアー（登録商標）Ｆ−３０  松本油脂製薬（株））
・水性ポリウレタン（固形分３７％）                                      ３０部
（ネオステッカー（登録商標）４００  日華化学（株））
・水                                                                    ８０部
【０２０１】
（ｒ）中間転写媒体４の作成
中間転写媒体１の保護層用塗工液１を下記組成の保護層用塗工液４に変更した以外は、中間転写媒体１と同様にして、中間転写媒体４を得た。
【０２０２】
＜保護層用塗工液４＞
・熱膨張性中空粒子                                                    １００部
（マツモトマイクロスフェアー（登録商標）ＦＮ−８０ＧＳ  松本油脂製薬（株））
・水性ポリウレタン（固形分３７％）                                      ３０部
（ネオステッカー（登録商標）４００  日華化学（株））
・水                                                                    ８０部
【０２０３】
（ｓ）中間転写媒体５の作成
中間転写媒体１の保護層用塗工液１を下記組成の保護層用塗工液５に変更した以外は、中間転写媒体１と同様にして、中間転写媒体５を得た。
【０２０４】
＜保護層用塗工液５＞
・熱膨張性中空粒子                                                    １００部
（エクスパンセル（登録商標）０３１−４０  日本フィライト（株））
・水性ポリウレタン（固形分３７％）                                      ３０部
（ネオステッカー（登録商標）４００  日華化学（株））
・水                                                                    ８０部
【０２０５】
２．試験方法
表２に記載のとおり、熱転写シートと中間転写媒体との組み合わせを変えて、下記のプリンタ条件、被転写体条件で印画物を製造し、これらを実施例１〜１６および比較例１、２とした。各実施例、比較例の詳細について説明する。
【０２０６】
（プリンタ印字条件）
サーマルヘッド：ＫＥＥ−５７−１２ＧＡＮ２−ＳＴＡ（京セラ（株）製）
発熱体平均抵抗値：３３０３（Ω）
主走査方向印字密度：３００（ｄｐｉ）
副走査方向印字密度：３００（ｄｐｉ）
１ライン周期：２．０（ｍｓｅｃ．）
（条件１）印字開始温度：１００（℃）
（条件２）印字開始温度：２００（℃）
（再転写条件）
ラミネーター：ラミパッカーＬＰＤ３２１２（フジプラ社製）
温度：１４５℃
速度：０．８（設定値）
（カード基材の材料組成）
・ポリ塩化ビニルコンパウンド（重合度８００）                           １００部
（安定化剤等の添加剤を約１０％含有）
・白色顔料（酸化チタン）                                                 １０部
・可塑剤（ＤＯＰ）                                                     ０．５部
【０２０７】
（ａ）実施例１〜４、比較例１について
表２の中間転写媒体および熱転写シートの組み合わせにて、上記プリンタ印字条件で２５５／２５５階調のエネルギーを条件２に従って印加して、熱転写シートのピールオフ層を加熱し、剥離層、保護層、受容層がこの順で積層されてなる転写層の一部の領域（以下、転写層の一部の領域のことを「所定領域」と言う）を取り除いた。さらに、所定領域を取り除いた中間転写媒体を被転写体である上記材料組成のカードと組み合わせて、上記プリンタの再転写条件にてヒートローラおよび加圧ローラで挟み込みながら加熱し、印画物を得た。
【０２０８】
（ｂ）実施例５〜８について
表２の中間転写媒体および熱転写シートの組み合わせにて、上記プリンタ印字条件で２５５／２５５階調のエネルギーを条件２に従って印加して、熱転写シートのヒートシール層の一部を加熱し、当該一部の領域（以下、転写層の一部の領域のことを「所定領域」と言う）を中間転写媚態の受容層に転写した。さらに、所定領域が転写された中間転写媒体を被転写体である上記材料組成のカードと組み合わせて、上記プリンタの再転写条件にてヒートローラおよび加圧ローラで挟み込みながら加熱し、印画物を得た。
【０２０９】
（ｃ）実施例９〜１２、比較例２について
表２の中間転写媒体および熱転写シートの組み合わせにて、上記プリンタ印字条件で２５５／２５５階調のエネルギーを条件１に従って印加して、まず、熱転写シートのヒートシール層を中間転写媒体の受容層上に転写した。次いで、ヒートシール層が転写された中間転写媒体と、上記で作成したピールオフ層を有する熱転写シートとを組み合わせ、上記プリンタ印字条件で２５５／２５５階調のエネルギーを条件２に従って印加して、剥離層、保護層、受容層がこの順で積層された転写層の一部の領域（以下、転写層の一部の領域のことを「所定領域」と言う）を取り除いた。さらに、所定領域を取り除いた中間転写媒体を被転写体である上記材料組成のカードと組み合わせて、上記プリンタの再転写条件にてヒートローラおよび加圧ローラで挟み込みながら加熱し、印画物を得た。
【０２１０】
（ｄ）実施例１３〜１６について
表２の中間転写媒体および熱転写シートの組み合わせにて、上記プリンタ印字条件で２５５／２５５階調のエネルギーを条件２に従って印加して、剥離層、保護層、受容層がこの順で積層された転写層の一部の領域（以下、転写層の一部の領域のことを「所定領域」と言う）を取り除いた。さらに、所定領域を取り除いた中間転写媒体を被転写体である上記材料組成のカードと組み合わせて、上記プリンタの再転写条件にてヒートローラおよび加圧ローラで挟み込みながら加熱し、印画物を得た。
【０２１１】
３．評価結果
実施例１〜１６、比較例１、２について評価を行った結果を表３に示す。各評価項目と判断基準を以下に説明する。
【０２１２】
【表３】
2020157526.tif 000005
【０２１３】
（ａ）ピールオフ性
（判定基準）
Ａ：「所定領域」に対応する転写層が正確に除去されている。
Ｂ：「所定領域」に対応する転写層の一部が僅かに残存、或いは「所定領域」を僅かにはみだすようにして転写層が除去されているが使用上問題ないレベルである。
ＮＧ：「所定領域」を大きくはみ出して、転写層が除去されている。
【０２１４】
（ｂ）再転写性
（判定基準）
Ａ：「所定領域」が正確に再転写されている。
Ｂ：「所定領域」が僅かにはみだして再転写しているが使用上問題ないレベルである。
ＮＧ：「所定領域」を大きくはみ出して、再転写されている。
【０２１５】
（ｃ）被転写体との接着性
（判定基準）
Ａ：被転写体と中間転写媒体の受容層とが接着している。
Ｂ：被転写体と中間転写媒体の受容層との接着が弱いが、使用上問題ないレベル。
ＮＧ：被転写体と中間転写媒体の受容層との接着が弱く、使用できないレベル。
【０２１６】
（ｄ）評価結果
表３のとおり、ピールオフ層に熱膨張領域を設け、熱膨張性の中空粒子を含有した第２実施形態の構成に準ずる実施例１〜４では、中空粒子の品種により、多少の違いは見られるものの、ピールオフ層に熱膨張領域を設けない比較例１と比べて明らかに、ピールオフ性が良好であった。ヒートシール層に熱膨張領域を設け、熱膨張性の中空粒子を含有した第１実施形態の構成に準ずる実施例５〜８では、再転写性に問題が出るものはなかった。
【０２１７】
また、ヒートシール層に熱膨張領域を設け、熱膨張性の中空粒子を含有し、かつ、ピールオフ層により転写層の一部除去を行う第３実施形態の構成に準ずる実施例９〜１２では、中空粒子の品種により、多少の違いは見られるものの、ヒートシール層に熱膨張領域を設けない比較例２と比べて明らかに、ピールオフ性が良好であった。さらに、中間転写媒体の転写層に熱膨張領域を設け、熱膨張性の中空粒子を含有し、ピールオフ層により転写層の一部除去を行う第４実施形態の構成に準ずる実施例１３〜１６では、中空粒子の品種により、多少の違いは見られるものの、ピールオフ性、被転写体との密着性のいずれも良好であった。
【符号の説明】
【０２１８】
１  支持体
２、２Ａ、２Ｂ  剥離層
３、３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄ  受容層
４、４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄ、４Ｅ  転写層
５  基材
５Ａ  第１の基材
６  背面層
６Ａ  第２の基材
７  選択領域
８  除去領域
１０、１０Ｂ、１０Ｃ  転写箔、中間転写媒体、保護層転写シート
１１、１１Ａ  第１ヒートシール層
１２、１２Ａ  第２ヒートシール層
１３、１３Ａ  第３ヒートシール層
１４、１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ、１４Ｄ  ヒートシール層
１５  色材層
１６  熱転写画像
１７  被転写体
１８、１８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃ、１８Ｄ、１８Ｅ、１８Ｆ、１８Ｇ、１８Ｈ  印画物
２０、２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ、２０Ｄ、２０Ｅ、２０Ｆ  熱転写シート
２１、２１Ａ  第１ピールオフ層
２２  第２ピールオフ層
２３、２３Ａ  第３ピールオフ層
２４、２４Ａ、２４Ｂ、２４Ｃ  ピールオフ層
２５  第１熱転写シート
２６  第２熱転写シート
２７、２７Ａ  保護層
２８、２８Ａ  接着層
３１  サーマルヘッド
３２  ヒートローラ
３３  加圧ローラ
【図１】
2020157526.tif 000006
【図２】
2020157526.tif 000007
【図３】
2020157526.tif 000008
【図４】
2020157526.tif 000009
【図５】
2020157526.tif 000010
【図６】
2020157526.tif 000011
【図７】
2020157526.tif 000012
【図８】
2020157526.tif 000013
【図９】
2020157526.tif 000014
【図１０】
2020157526.tif 000015
【図１１】
2020157526.tif 000016
【図１２】
2020157526.tif 000017
【図１３】
2020157526.tif 000018
【図１４】
2020157526.tif 000019
【図１５】
2020157526.tif 000020
【図１６】
2020157526.tif 000021
【図１７】
2020157526.tif 000022
【図１８】
2020157526.tif 000023
【図１９】
2020157526.tif 000024