(57)【要約】【課題】物体を渡す際の位置ずれのばらつきを抑制するのに有利な搬送装置を提供する。【解決手段】搬送装置は、物体を第１保持部に渡すための第２保持部の移動に起因する第２保持部の振動と、第２保持部が物体を第１保持部に渡すための移動を開始してから物体を第１保持部に渡し終えるまでの時間との関係を示す振動情報に基づいて、第２保持部が物体を第１保持部に渡すときの第２保持部の振動の位相のばらつきが予め定められた範囲に収まるように、第２保持部が物体を第１保持部に渡すための移動を開始するタイミングを制御する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体を保持して移動する第１保持部と、
前記物体を保持して移動し、前記物体を前記第１保持部に渡す第２保持部と、
前記第２保持部を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記物体を前記第１保持部に渡すための前記第２保持部の移動に起因する前記第２保持部の振動と、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すための移動を開始してから前記物体を前記第１保持部に渡し終えるまでの時間との関係を示す振動情報に基づいて、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すときの前記第２保持部の振動の位相のばらつきが予め定められた範囲に収まるように、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すための移動を開始するタイミングを制御することを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記振動情報に基づいて、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すときの前記第２保持部の振動の位相が一定となるように、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すための移動を開始するタイミングを制御することを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記振動情報に基づいて、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すときの前記第２保持部の振動の位相がゼロとなるように、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すための移動を開始するタイミングを制御することを特徴とする請求項２に記載の搬送装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記振動情報に基づいて、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すときの前記第２保持部の振動の振幅が許容範囲に収まるように、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すための移動を開始するタイミングを制御することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の搬送装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すときの前記第２保持部の振動の位相のばらつきが予め定められた範囲に収まるように、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すための移動を開始して停止した後に設けられる前記第２保持部の整定時間を調整することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の搬送装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記第１保持部が前記第２保持部から前記物体を受け取る位置に移動するまでに要する時間を推定し、当該時間にも基づいて、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すための移動を開始するタイミングを制御することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の搬送装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すときの前記第２保持部の振動の位相のばらつきが予め定められた範囲に収まるように、前記第２保持部が前記位置に向けて移動を開始する時間を調整することを特徴とする請求項６に記載の搬送装置。
【請求項８】
前記振動情報は、前記第２保持部の振動の周期、振幅及び位相を含むことを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の搬送装置。
【請求項９】
前記第１保持部は、鉛直方向に直交する方向に移動するステージを含み、
前記第２保持部は、鉛直方向及び鉛直方向に直交する方向に移動するハンドを含むことを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の搬送装置。
【請求項１０】
基板を露光する露光装置であって、
前記基板を物体として搬送する請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の搬送装置を有し、
前記搬送装置の第１保持部は、前記基板を保持して移動する基板ステージを含むことを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
基板を露光する露光装置であって、
前記基板に転写するパターンを有する原版を物体として搬送する請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の搬送装置を有し、
前記搬送装置の第１保持部は、前記原版を保持して移動する原版ステージを含むことを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
現像された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送装置、露光装置及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置では、被処理体であるウエハや原版であるマスク又はレチクルなどの基板を、露光前に装置外部から搬入し、露光後に装置外部に搬出する。基板は、装置内部に設けられた搬送機構によって搬送され、搬送機構から装置内部に設けられた保持機構に渡され、保持機構によって保持（吸着）される。搬送機構が保持機構に基板を渡す位置は、搬送機構が搬送に起因して振動しているため、常に一定であるとは限らない。搬送機構が保持機構に基板を渡す位置が一定ではない場合、基板と保持機構との位置関係も一定とはならない。
【０００３】
そこで、基板と保持機構との位置関係を一定にするための技術が提案されている（特許文献１参照）。特許文献１には、基板を保持する保持部と、基板を基準位置に位置決めする位置決め部と、位置決め部から保持部に基板を搬送する搬送手段とを有する位置決め機構が開示されている。特許文献１では、保持部に設けられた基準マークと、保持部に保持された基板に設けられたマークとの位置ずれ量を計測し、かかる位置ずれ量に基づいて保持部と基板との位置をフィードバック制御（位置関係を補正）している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２４２７４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に開示された技術では、基板にマークが設けられていることが前提となるため、マークが設けられてない基板については、基板と保持機構との位置関係を補正することができない。また、特許文献１に開示された技術では、ロットやレシピが変わるなどして搬送機構の搬送プロファイルが変更されるたびに、保持機構に設けられた基準マークと基板に設けられたマークとの位置ずれ量との計測が必要となってしまう。従って、露光装置においては、基板を搬送する搬送機構の搬送プロファイルが変更されても、基板と保持機構との位置関係を一定にする（即ち、位置ずれのばらつきを抑制する）ための技術が求められている。
【０００６】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、物体を渡す際の位置ずれのばらつきを抑制するのに有利な搬送装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての搬送装置は、物体を保持して移動する第１保持部と、前記物体を保持して移動し、前記物体を前記第１保持部に渡す第２保持部と、前記第２保持部を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記物体を前記第１保持部に渡すための前記第２保持部の移動に起因する前記第２保持部の振動と、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すための移動を開始してから前記物体を前記第１保持部に渡し終えるまでの時間との関係を示す振動情報に基づいて、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すときの前記第２保持部の振動の位相のばらつきが予め定められた範囲に収まるように、前記第２保持部が前記物体を前記第１保持部に渡すための移動を開始するタイミングを制御することを特徴とする。
【０００８】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、例えば、物体を渡す際の位置ずれのばらつきを抑制するのに有利な搬送装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の第１実施形態における露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】図１に示す露光装置のウエハステージ及びウエハ搬送系の構成を示す概略平面図である。
【図３】第１実施形態におけるウエハの供給シーケンスを説明するためのフローチャートである。
【図４】第２実施形態におけるウエハの供給シーケンスを説明するためのフローチャートである。
【図５】第３実施形態におけるウエハの供給シーケンスを説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものでない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。更に、添付図面においては、同一もしくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
【００１２】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態における露光装置１の構成を示す概略図である。図２は、露光装置１のウエハステージＷＳ及びウエハ搬送系ＷＦの構成を示す概略平面図である。露光装置１は、照明光学系ＩＬと、レチクルステージＲＳと、投影光学系ＵＬと、ウエハステージＷＳと、オフアクシススコープＯＡＳと、レチクル搬送系ＲＣと、ウエハ搬送系ＷＦと、制御装置ＰＣとを有する。また、図１では、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸が互いに直交するようにＸＹＺ座標系を設定している。ＸＹＺ座標系において、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸のそれぞれに平行な方向をＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向（鉛直方向）とし、Ｘ軸周りの回転、Ｙ軸周りの回転及びＺ軸周りの回転のそれぞれをθｘ、θｙ及びθｚとする。
【００１３】
露光装置１において、光源（不図示）からの光（露光光）は、照明光学系ＩＬを介して、原版であるレチクルＲに照射される。レチクルＲを通過した露光光は、投影光学系ＵＬを介して、基板であるウエハＷに照射される。ここで、原版は、基板に転写するパターンを有する物体であって、基板は、原版のパターンが転写される物体である。
【００１４】
レチクルステージＲＳは、基板保持部材（不図示）であるチャックを含む。レチクルステージＲＳは、チャックを介して、レチクルＲを保持（吸着）する。レチクルステージＲＳは、レチクルＲを保持して移動する原版ステージであって、本実施形態では、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向に直動し、θｘ方向、θｙ方向及びθｚ方向に回転可能なステージである。レチクルステージＲＳの各方向への移動は、制御装置ＰＣの制御下において、独立に制御することができる。
【００１５】
レーザ干渉計ＲＬＦと平面鏡ＲＢＭとは、レチクルステージＲＳの位置を高精度に計測する計測部を構成する。レチクルステージＲＳの位置は、レーザ干渉計ＲＬＦで計測される変化量に基づいて決定される。
【００１６】
レチクル搬送系ＲＣは、レチクルハンドＲＳＨと、レチクルプリアライメントステージＲＰＡと、レチクル搬送ロボットＲＲと、収納部ＰＯＤとを含む。レチクル搬送ロボットＲＲは、例えば、多関節式のロボットで構成される。レチクル搬送ロボットＲＲは、レチクルＲを保持するハンドを含み、かかるハンドをＸＹＺ座標系における任意の位置に移動させることができる。収納部ＰＯＤは、例えば、レチクルＲを載置する台を含み、装置外部から搬入されるレチクルＲを収納する。収納部ＰＯＤに収納されたレチクルＲは、レチクル搬送ロボットＲＲによって搬送され、レチクルプリアライメントステージＲＰＡに載置される。
【００１７】
レチクルプリアライメントステージＲＰＡにおいて、レチクルＲに設けられたマーク（不図示）を顕微鏡（不図示）で検出することで、レチクルＲとレチクルプリアライメントステージＲＰＡとの位置関係（レチクルＲの位置ずれ）が計測される。レチクルＲとレチクルプリアライメントステージＲＰＡとの位置関係が計測されると、レチクルハンドＲＳＨは、レチクルプリアライメントステージＲＰＡに載置されたレチクルＲを保持する。レチクルハンドＲＳＨは、レチクルＲを保持した状態で、ガイド（不図示）に沿って、レチクルステージＲＳにレチクルＲを渡す位置までＹ方向に移動する。レチクルハンドＲＳＨのＹ方向への移動が完了すると、レチクルハンドＲＳＨは、−Ｚ方向に移動して、レチクルステージＲＳにレチクルＲを渡す。レチクルステージＲＳは、例えば、真空吸着によって、レチクルＲを保持する。レチクルプリアライメントステージＲＰＡで計測されたレチクルプリアライメントステージＲＰＡに対するレチクルＲのＸ方向、Ｙ方向及びθｚ方向の位置ずれは、レチクルステージＲＳがレチクルＲを受け取る位置を変更することで補正することができる。
【００１８】
ウエハステージＷＳは、ウエハＷを保持して移動する基板ステージ（第１保持部）であって、微動ステージＷＳＦと、粗動ステージＷＳＣとを含む。基板保持部材であるチャックＷＣは、微動ステージＷＳＦに支持され、ウエハＷを保持（吸着）する。微動ステージＷＳＦは、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向に直動し、θｘ方向、θｙ方向及びθｚ方向に回転可能なステージである。微動ステージＷＳＦの各方向への移動は、制御装置ＰＣの制御下において、独立に制御することができる。
【００１９】
レーザ干渉計ＷＬＦと平面鏡ＷＢＭとは、微動ステージＷＳＦの位置を高精度に計測する計測部を構成する。微動ステージＷＳＦの位置は、レーザ干渉計ＷＬＦで計測される変位量に基づいて決定される。
【００２０】
ピン状部材ＰＩＮは、供給ハンドＳＨからウエハＷを受け取る際や回収ハンドＲＨにウエハＷを渡す際に用いられ、ウエハＷを保持（吸着）する。露光装置１には、少なくとも３つのピン状部材ＰＩＮが設けられている。ピン状部材ＰＩＮは、粗動ステージＷＳＣに固定され、チャックＷＣの保持面に対して垂直方向に設けられる。
【００２１】
粗動ステージＷＳＣは、Ｘ方向及びＹ方向に直動し、Ｚ軸周りに回転可能なステージである。粗動ステージＷＳＣは、例えば、粗動ステージ用の干渉計（不図示）の計測結果に基づいて、微動ステージＷＳＦの位置に追従するように、リニアモータなどのアクチュエータを用いて制御される。粗動ステージＷＳＣは、エアガイドＷＳＧによって、Ｘ方向及びＹ方向に支持される。粗動ステージＷＳＣは、エアガイドＷＳＧで支持されているため、接触摩擦を発生させない。ピン部材ＰＩＮは、粗動ステージＷＳＣに固定されているため、粗動ステージＷＳＣとともに移動する。粗動ステージＷＳＣは、リミットセンサ（不図示）で規定された範囲内で、Ｘ方向及びＹ方向に長いストロークで移動することができる。微動ステージＷＳＦは、粗動ステージＷＳＣに載置されているため、Ｘ方向及びＹ方向には、粗動ステージＷＳＣよりも短いストロークでのみ移動することができる。
【００２２】
オフアクシススコープＯＡＳは、ウエハＷに設けられた種々のマーク、例えば、アライメントマークを検出して、ウエハＷの位置を計測する。
【００２３】
ウエハ搬送系ＷＦは、供給ハンドＳＨと、回収ハンドＲＨと、プリアライメントユニットＰＡと、搬送ロボットＳＣＨと、仮置き台ＲＣＶと、収納部ＦＯＵＰとを含む。収納部ＦＯＵＰは、ウエハＷを収納する。搬送ロボットＳＣＨは、例えば、多関節式のロボットで構成される。搬送ロボットＳＣＨは、ウエハＷを保持するハンドを含み、かかるハンドをＸＹＺ座標系における任意の位置に移動させることができる。搬送ロボットＳＣＨは、収納部ＦＯＵＰからウエハＷを取り出し、プリアライメントユニットＰＡにウエハＷを渡す。プリアライメントユニットＰＡにおいて、ウエハＷの外周部に光を照射し、ウエハＷからの反射光をセンサで検出することで、プリアライメントユニットＰＡに対するウエハＷの外形位置が計測される。
【００２４】
供給ハンドＳＨは、プリアライメントユニットＰＡからウエハステージＷＳにウエハＷを渡すための搬送機構である。供給ハンドＳＨは、例えば、真空吸着によって、ウエハＷを保持する。供給ハンドＳＨは、リニアモータなどのアクチュエータによって、ガイドＳＨＧに沿ってＹ方向に移動する。本実施形態では、供給ハンドＳＨは、ウエハＷを保持して移動し、かかるウエハＷをウエハステージＷＳに渡す第２保持部を構成する。供給ハンドＳＨとガイドＳＨＧとは、ボールベアリングを介して接触している。
【００２５】
回収ハンドＲＨは、ウエハステージＷＳから仮置き台ＲＣＶにウエハＷを渡すための搬送機構である。回収ハンドＲＨは、例えば、真空吸着によって、ウエハＷを保持する。回収ハンドＲＨは、リニアモータなどのアクチュエータによって、ガイドＲＨＧに沿ってＹ方向に移動する。回収ハンドＲＨとガイドＲＨＧとは、ボールベアリングを介して接触している。仮置き台ＲＣＶは、ウエハステージＷＳから回収ハンドＲＨによって回収されたウエハＷを一時的に載置するための台である。搬送ロボットＳＣＨは、回収ハンドＲＨからウエハＷを直接受け取ることができないため、仮置き台ＲＣＶを介してウエハＷの受け渡しを行う。
【００２６】
制御装置ＰＣは、露光装置１の全体を制御するコンピュータを含む。制御装置ＰＣは、制御部ＣＯＮＴと、演算部ＣＡＬＣと、処理部ＰＲＯＣとを含む。制御部ＣＯＮＴは、本実施形態において、センサやアクチュエータを制御するドライバ及びコントローラを含む。演算部ＣＡＬＣは、ウエハステージＷＳがウエハＷを受け取る目標位置や供給ハンドＳＨがウエハＷを渡す目標位置を演算する演算器を含む。処理部ＰＲＯＣは、予め定められた順序に従って、露光シーケンスやウエハＷの供給シーケンス及び回収シーケンスを実行する。
【００２７】
図２を参照して、露光装置１におけるウエハＷの供給から回収までの流れを説明する。まず、処理部ＰＲＯＣは、ウエハＷを露光装置１に供給する供給シーケンスを開始する。制御部ＣＯＮＴは、搬送ロボットＳＣＨを制御して収納部ＦＯＵＰからウエハＷを取り出し、プリアライメントユニットＰＡに載置する。搬送ロボットＳＣＨは、収納部ＦＯＵＰからプリアライメントユニットＰＡにウエハＷを搬送する機能と、仮置き台ＲＣＶから収納部ＦＯＵＰにウエハＷを搬送する機能とを有する。
【００２８】
プリアライメントユニットＰＡでは、上述したように、ウエハＷの外周部に光を照射し、ウエハＷからの反射光をセンサで検出することで、プリアライメントユニットＰＡに対するウエハＷの外形位置を計測する。制御部ＣＯＮＴは、プリアライメントユニットＰＡで計測されたウエハＷの外形位置から、プリアライメントユニットＰＡに対するウエハＷのＸ方向、Ｙ方向及びθｚ方向の位置ずれを求める。
【００２９】
次いで、制御部ＣＯＮＴは、供給ハンドＳＨを制御して、プリアライメントユニットＰＡからウエハＷを受け取り、ガイドＳＨＧに沿って、供給ハンドＳＨを＋Ｙ方向に移動させる。供給ハンドＳＨは、エンコーダ（不図示）を含み、指定されたカウント数（に対応する距離）だけ移動することで、ウエハステージＷＳにウエハＷを渡す位置、即ち、供給位置ＬＰの上方まで移動する。供給ハンドＳＨの供給位置ＬＰへの移動に必要なカウント数は、演算部ＣＡＬＣで演算される。
【００３０】
次に、制御部ＣＯＮＴは、ウエハステージＷＳを供給位置ＬＰに移動させる。演算部ＣＡＬＣは、プリアライメントユニットＰＡで計測されたウエハＷのＸ方向、Ｙ方向及びθｚ方向の位置ずれを反映させて、ウエハチャックＷＣの中心とウエハＷの中心とを一致させるように、供給位置ＬＰを決定する。ピン状部材ＰＩＮにウエハＷを載置するために、制御部ＣＯＮＴは、ピン状部材ＰＩＮがウエハチャックＷＣの表面から突出するように、ピン状部材ＰＩＮを＋Ｚ方向に移動させる。そして、制御部ＣＯＮＴは、供給ハンドＳＨを−Ｚ方向に移動させることで、供給ハンドＳＨからピン状部材ＰＩＮにウエハＷを渡す。
【００３１】
ウエハＷがピン状部材ＰＩＮに渡されたら、制御部ＣＯＮＴは、ガイドＳＨＧに沿って、供給ハンドＳＨを−Ｙ方向に移動させて、供給位置ＬＰから供給ハンドＳＨを退避させる。制御部ＣＯＮＴは、ピン状部材ＰＩＮがウエハチャックＷＣに収まるように、ピン状部材ＰＩＮを−Ｚ方向に移動させる。これにより、ウエハＷは、供給ハンドＨＳからウエハステージＷＳに渡される。ウエハＷがウエハチャックＷＣによって保持されると、処理部ＰＲＯＣは、ウエハＷの供給シーケンスを終了する。
【００３２】
本実施形態では、プリアライメントユニットＰＡで計測されたウエハＷのＸ方向、Ｙ方向及びθｚ方向の位置ずれを供給位置ＬＰに反映させているが、プリアライメントユニットＰＡに存在するステージ（不図示）に反映させてもよい。換言すれば、プリアライメントユニットＰＡでウエハＷのＸ方向、Ｙ方向及びθｚ方向の位置ずれを補正してから、かかるウエハＷを供給ハンドＳＨに渡してもよい。また、本実施形態では、供給ハンドＳＨを−Ｚ方向に移動させることでウエハＷをピン状部材ＰＩＮに渡しているが、ピン状部材ＰＩＮを＋Ｚ方向に移動させることでウエハＷを受け取ってもよい。
【００３３】
ウエハＷの供給シーケンスが終了すると、処理部ＰＲＯＣは、ウエハＷを露光する露光シーケンスを開始する。露光シーケンスが終了すると、処理部ＰＲＯＣは、ウエハＷを露光装置１から回収する回収シーケンスを開始する。演算部ＣＡＬＣは、回収ハンドＲＨにウエハＷを渡す位置、即ち、回収位置ＵＬＰの位置を決定する。制御部ＣＯＮＴは、ウエハステージＷＳを回収位置ＵＬＰに移動させる。
【００３４】
ウエハチャックＷＣからピン状部材ＰＩＮにウエハＷを渡すために、制御部ＣＯＮＴは、ピン状部材ＰＩＮがウエハチャックＷＣの表面から突出するように、ピン状部材ＰＩＮを＋Ｚ方向に移動させる。ウエハＷがピン状部材ＰＩＮに渡されたら、制御部ＣＯＮＴは、ガイドＲＨＧに沿って、供給ハンドＳＨを＋Ｙ方向に移動させて、供給ハンドＳＨを回収位置ＵＬＰに位置させる。回収ハンドＲＨは、エンコーダ（不図示）を含み、指定されたカウント数（に対応する距離）だけ移動することで、回収ハンドＲＨにウエハＷを渡す位置、即ち、回収位置ＵＬＰの上方まで移動する。回収ハンドＲＨの回収位置ＵＬＰへの移動に必要なカウント数は、演算部ＣＡＬＣで演算される。
【００３５】
回収ハンドＲＨが回収位置ＵＬＰに到達したら、制御部ＣＯＮＴは、回収ハンドＲＨを＋Ｚ方向に移動させることで、ピン状部材ＰＩＮから回収ハンドＲＨにウエハＷを渡す。制御部ＣＯＮＴは、ウエハＷを保持した回収ハンドＲＨを−Ｙ方向に移動させて、仮置き台ＲＣＶにウエハＷを載置する。制御部ＣＯＮＴは、搬送ロボットＳＣＨを制御して、仮置き台ＲＣＶに載置されたウエハＷをウエハ収納部ＦＯＵＰに収納する。そして、処理部ＰＲＯＣは、ウエハＷの回収シーケンスを終了する。
【００３６】
本実施形態では、回収ハンドＲＨを＋Ｚ方向に移動させることでウエハＷをピン状部材ＰＩＮから受け取っているが、ピン状部材ＰＩＮを−Ｚ方向に移動させることでウエハＷを回収ハンドＲＨに渡してもよい。
【００３７】
このような供給シーケンス及び回収シーケンスにおいて、供給ハンドＳＨは、ガイドＳＨＧに沿って移動する際の加速や減速に起因してＸ方向及びＹ方向に振動する。供給ハンドＳＨが振動すると、供給ハンドＳＨの供給位置ＬＰへの移動が完了したときに、ウエハステージＷＳに基板Ｗを渡す位置がずれてしまう。これにより、ウエハチャックＷＣの中心とウエハＷの中心とがＸ方向及びＹ方向にずれてしまう。
【００３８】
そこで、本実施形態では、ウエハＷをウエハステージＷＳに渡すための供給ハンドＳＨの移動に関する振動情報に基づいて、供給ハンドＳＨがウエハＷをウエハステージＷＳに渡すための移動を開始するタイミングを制御（決定）する。例えば、供給ハンドＳＨがウエハＷをウエハステージＷＳに渡すときの供給ハンドＳＨの振動の位相のばらつきが予め定められた範囲に収まるように、供給ハンドＳＨが移動を開始するタイミングを制御する。また、振動情報に基づいて、供給ハンドＨＳがウエハＷをウエハステージＷＳに渡すときの供給ハンドＳＨの振動の振幅が許容範囲に収まるように、供給ハンドＳＨが移動を開始するタイミングを制御する。なお、振動情報とは、供給ハンドＳＨの移動に起因する供給ハンドＳＨの振動と、供給ハンドＳＨがウエハＷをウエハステージＷＳに渡すための移動を開始してからウエハＷをウエハステージＷＳに渡し終えるまでの時間との関係を示す情報である。
【００３９】
図３を参照して、本実施形態におけるウエハＷの供給シーケンスを説明する。制御装置ＰＣは、供給ハンドＳＨの振動に起因する、供給ハンドＳＨがウエハステージＷＳに基板Ｗを渡す位置の変化を、供給ハンドＳＨがウエハＷをウエハステージＷＳに渡すための移動を開始するタイミングを制御することで補正する。供給ハンドＳＨがウエハＷをウエハステージＷＳに渡すための移動を開始するタイミングは、ウエハステージＷＳにウエハＷを渡すときの供給ハンドＳＨの振動量が一定となるようにする。このような処理は、処理部ＰＲＯＣが供給シーケンスを実行するたびに行われる。
【００４０】
Ｓ３０１において、制御部ＣＯＮＴは、ガイドＳＨＧに沿って、ウエハＷを保持した供給ハンドＳＨをウエハステージ側（＋Ｙ方向）に移動させて、供給位置ＬＰの上方に位置させる。換言すれば、ウエハＷを保持した供給ハンドＳＨを供給位置ＬＰの上方に移動させる。ここで、供給ハンドＳＨの移動による加速及び減速に起因して、移動を停止した後においても、供給ハンドＳＨには振動が発生する。
【００４１】
Ｓ３０２において、制御部ＣＯＮＴは、ウエハステージＷＳを移動させて、供給位置ＬＰに位置させる。換言すれば、ウエハステージＷＳを供給位置ＬＰに移動させる。なお、本実施形態では、ウエハステージＷＳの供給位置ＬＰへの移動は、供給ハンドＳＨの供給位置ＬＰの上方への移動が完了した後で行う。
【００４２】
Ｓ３０３において、演算部ＣＡＬＣは、供給ハンドＳＨの移動に関する振動情報を推定し、かかる振動情報に基づいて、ウエハＷをウエハステージＷＳに渡すために、供給ハンドＳＨがＺ方向への移動を開始するタイミングを決定する。供給ハンドＳＨがＺ方向への移動を開始するタイミングは、供給ハンドＳＨがウエハＷをウエハステージＷＳに渡すための移動を開始して供給位置ＬＰで停止した後に設けられる供給ハンドＳＨの整定時間を調整することで制御することができる。
【００４３】
ここで、供給ハンドＳＨの振動の振幅をＡ、供給ハンドＳＨの振動の周期をＬ、供給ハンドＳＨが移動を開始してからの時間をｔ、時間ｔにおける供給ハンドＳＨの振動の位相をαｔ、初期時間における供給ハンドＳＨの振動の位相をα０とする。この場合、供給ハンドＳＨの振動情報、即ち、振動量Ｘは、以下の式（１）から求めることができる。このように、振動情報は、供給ハンドＳＨの振動の周期、振幅及び位相を含む情報である。
Ｘ＝Ａ×ｓｉｎ（１／Ｌ×ｔ＋αｔ）＋α０      ・・・（１）
演算部ＣＡＬＣは、式（１）に基づいて、供給ハンドＳＨの振動量Ｘ（振幅）が許容範囲に収まり、且つ、供給ハンドＳＨの振動の位相のばらつきが予め定められた範囲に収まるように、供給ハンドＳＨがＺ方向への移動を開始するタイミング（時間ｔ）を決定する。なお、供給ハンドＳＨがＺ方向への移動を開始するタイミングは、供給ハンドＳＨの振動の位相が一定となるように、好ましくは、供給ハンドＳＨの振動の位相がゼロ、或いは、ゼロの近傍となるようにするとよい。
【００４４】
式（１）では、供給ハンドＳＨの振動を一定の振幅Ａを有する正弦波としているが、これは、供給ハンドＳＨが移動を開始してからの時間ｔが所定時間よりも長くなると、振幅が減衰するからである。例えば、Ｓ３０２において、ウエハステージＷＳの移動の完了が２秒以上遅れた場合、供給ハンドＳＨの振動は既に減衰しているため、供給ハンドＳＨがＺ方向への移動を開始するタイミングを調整する必要がない。一方、Ｓ３０２において、ウエハステージＷＳが既に供給位置ＬＰに位置している場合、ウエハステージＷＳの移動時間がゼロになるため、供給ハンドＳＨが移動を開始してからの時間ｔが最も短くなる。このような場合には、供給ハンドＳＨの振動の位相がゼロとなるように、供給ハンドＳＨがＺ方向への移動を開始するタイミングを調整する。
【００４５】
Ｓ３０４において、制御部ＣＯＮＴは、Ｓ３０３で決定したタイミングに従って、ウエハＷを保持した供給ハンドＳＨを−Ｚ方向に移動させて、供給位置ＬＰに位置させる。換言すれば、ウエハＷを保持した供給ハンドＳＨを供給位置ＬＰに移動させる。これにより、ウエハＷは、供給ハンドＳＨからウエハステージＷＳ（ピン状部材ＰＩＮ）に渡される。
【００４６】
本実施形態における供給シーケンスでは、供給ハンドＳＨの振動量が許容範囲に収まり、且つ、供給ハンドＳＨの振動の位相のばらつきが予め定められた範囲に収まるように、供給ハンドＳＨがＺ方向への移動を開始するタイミングを制御する。従って、本実施形態における供給シーケンスによれば、供給ハンドＳＨからウエハステージＷＳにウエハＷを渡す際の位置ずれのばらつきを抑制することができる。
【００４７】
＜第２実施形態＞
図４を参照して、第２実施形態におけるウエハＷの供給シーケンスを説明する。第１実施形態では、供給ハンドＳＨがウエハＷをウエハステージＷＳに渡すためのＺ方向への移動を開始するタイミングを制御する場合について説明した。本実施形態では、１つ前のウエハを回収ハンドＲＨで回収した後において、供給ハンドＳＨがウエハＷをウエハステージＷＳに渡すためのＹ方向への移動を開始するタイミングを制御する。
【００４８】
Ｓ４０１において、制御部ＣＯＮＴは、１つ前のウエハ（露光処理が施されたウエハ）を保持したウエハステージＷＳを移動させて、回収位置ＵＬＰに位置させる。換言すれば、１つ前のウエハを保持したウエハステージＷＳを回収位置ＵＬＰに移動させる。
【００４９】
Ｓ４０２において、制御部ＣＯＮＴは、ガイドＲＨＧに沿って、回収ハンドＲＨをウエハステージ側（＋Ｙ方向）に移動させて、回収位置ＵＬＰの上方に位置させる。換言すれば、回収ハンドＲＨを回収位置ＵＬＰの上方に移動させる。
【００５０】
Ｓ４０３において、制御部ＣＯＮＴは、回収ハンドＲＨを＋Ｚ方向に移動させて、回収位置ＵＬＰに位置させる。換言すれば、回収ハンドＲＨを回収位置ＵＬＰに移動させる。これにより、１つ前のウエハは、ウエハステージＷＳ（ピン状部材ＰＩＮ）から回収ハンドＲＨに渡される。これにより、１つ前のウエハは、回収ハンドＲＨで回収される。
【００５１】
ここで、１つ前のウエハを回収ハンドＲＨで回収している間において、制御部ＣＯＮＴは、供給ハンドＳＨをウエハステージ側に移動させることが可能である。但し、供給ハンドＳＨのウエハステージ側への移動を開始してからウエハＷをウエハステージＷＳに渡すまでの時間は、１つ前のウエハを回収ハンドＲＨで回収する時間（Ｓ４０１〜Ｓ４０３）によって変化する。１つ前のウエハを回収ハンドＲＨで回収する時間の変化は、ウエハステージＷＳを回収位置ＵＬＰに移動させる時間（Ｓ４０２）に依存する。ウエハステージＷＳの回収位置ＵＬＰへの移動時間は、露光レシピ（最終ショットのスキャン位置、画角、スキャン方向、スキャン速度）、ウエハステージＷＳの移動プロファイル（速度、加速度、Ｊｅｒｋ）から求めることができる。
【００５２】
そこで、本実施形態では、供給ハンドＳＨをウエハステージ側に移動させる前に、Ｓ４０４の工程を設けている。Ｓ４０４において、演算部ＣＡＬＣは、ウエハステージＷＳの回収位置ＵＬＰへの移動時間を推定し、かかる移動時間に基づいて、ウエハＷをウエハステージＷＳに渡すために、供給ハンドＳＨがＹ方向への移動を開始するタイミングを決定する。この際、供給ハンドＳＨの移動に関する振動情報にも基づいて、ウエハＷをウエハステージＷＳに渡すために、供給ハンドＳＨが移動を開始するタイミングを決定する。具体的には、供給ハンドＳＨの振動量が許容範囲に収まり、且つ、供給ハンドＳＨの振動の位相のばらつきが予め定められた範囲に収まるように、供給ハンドＳＨがＹ方向への移動を開始するタイミングを決定する。
【００５３】
Ｓ４０５において、制御部ＣＯＮＴは、Ｓ４０４で決定したタイミングに従って、ガイドＳＨＧに沿って、ウエハＷを保持した供給ハンドＳＨをウエハステージ側（＋Ｙ方向）に移動させて、供給位置ＬＰの上方に位置させる。換言すれば、ウエハＷを保持した供給ハンドＳＨを供給位置ＬＰの上方に移動させる。
【００５４】
Ｓ４０６において、制御部ＣＯＮＴは、ウエハステージＷＳを移動させて、供給位置ＬＰに位置させる。換言すれば、ウエハステージＷＳを供給位置ＬＰに移動させる。なお、本実施形態では、ウエハステージＷＳの供給位置ＬＰへの移動は、１つ前のウエハの回収及び供給ハンドＳＨの供給位置ＬＰの上方への移動が完了した後で行う。
【００５５】
Ｓ４０７において、制御部ＣＯＮＴは、ウエハＷを保持した供給ハンドＳＨを−Ｚ方向に移動させて、供給位置ＬＰに位置させる。換言すれば、ウエハＷを保持した供給ハンドＳＨを供給位置ＬＰに移動させる。これにより、ウエハＷは、供給ハンドＳＨからウエハステージＷＳ（ピン状部材ＰＩＮ）に渡される。
【００５６】
本実施形態における供給シーケンスでは、供給ハンドＳＨの振動量が許容範囲に収まり、且つ、供給ハンドＳＨの振動の位相のばらつきが予め定められた範囲に収まるように、供給ハンドＳＨがＹ方向への移動を開始するタイミングを制御する。従って、本実施形態における供給シーケンスによれば、供給ハンドＳＨからウエハステージＷＳにウエハＷを渡す際の位置ずれのばらつきを抑制することができる。
【００５７】
本実施形態において、１つ前のウエハと次のウエハとが異なる露光レシピで処理される場合、ウエハステージＷＳの回収位置ＵＬＰへの移動時間は、１つ前のウエハで参照される露光レシピに基づいて決定すればよい。また、本実施形態では、１つの前のウエハを回収ハンドＲＨで回収する場合を例に説明したが、１枚目（先頭）のウエハやウエハの搬入遅延などによって回収ハンドＲＨで回収するウエハが存在しない場合にも適用することができる。この場合、供給ハンドＳＨの移動の開始からウエハステージＷＳへ基板Ｗを渡すまでの時間を合わせるようにすればよい。
【００５８】
なお、第１実施形態及び第２実施形態では、供給ハンドＳＨからウエハステージＷＳにウエハＷを渡す場合について説明したが、同様に、レチクルハンドＲＳＨからレチクルステージＲＳにレチクルＲを渡す場合にも適用することができる。この場合、レチクルステージＲＳが第１保持部となり、レチクルハンドＲＳＨが第２保持部となる。
【００５９】
＜第３実施形態＞
第３実施形態では、プリアライメントユニットＰＡから供給ハンドＳＨにウエハＷを渡す場合について説明する。この場合、供給ハンドＳＨは、プリアライメントユニットＰＡに向かって移動する際の加速や減速に起因してＸ方向及びＹ方向に振動する。供給ハンドＳＨが振動すると、プリアライメントユニットＰＡに対する供給ハンドＳＨの移動が完了したときに、プリアライメントユニットＰＡから基板Ｗを渡される（受け取る）位置がずれてしまう。そこで、本実施形態では、供給ハンドＳＨの移動に関する振動情報に基づいて、供給ハンドＳＨがプリアライメントユニットＰＡからウエハＷを受け取るための移動を開始するタイミングを制御（決定）する。
【００６０】
図５を参照して、第３実施形態におけるウエハＷの供給シーケンスを説明する。制御装置ＰＣは、供給ハンドＳＨの振動に起因する、供給ハンドＳＨがプリアライメントユニットＰＡから基板Ｗを受け取る位置の変化を、供給ハンドＳＨがウエハＷを受け取るための移動を開始するタイミングを制御することで補正する。供給ハンドＳＨがウエハＷを受け取るための移動を開始するタイミングは、プリアライメントステージＰＡからウエハＷを受け取るときの供給ハンドＳＨの振動量が一定となるようにする。このような処理は、処理部ＰＲＯＣが供給シーケンスを実行するたびに行われる。
【００６１】
Ｓ５０１において、制御部ＣＯＮＴは、ガイドＳＨＧに沿って、供給ハンドＳＨをプリアライメントユニット側（−Ｙ方向）に移動させて、プリアライメントユニットＰＡの下方に位置させる。換言すれば、供給ハンドＳＨをプリアライメントユニットＰＡの下方に移動させる。ここで、供給ハンドＳＨの移動による加速及び減速に起因して、移動を停止した後においても、供給ハンドＳＨには振動が発生する。
【００６２】
Ｓ５０２において、演算部ＣＡＬＣは、供給ハンドＳＨの移動に関する振動情報を推定し、かかる振動情報に基づいて、ウエハＷをプリアライメントユニットＰＡから受け取るために、供給ハンドＳＨがＺ方向への移動を開始するタイミングを決定する。演算部ＣＡＬＣは、供給ハンドＳＨの振動量が許容範囲に収まり、且つ、供給ハンドＳＨの振動の位相のばらつきが予め定められた範囲に収まるように、供給ハンドＳＨがＺ方向への移動を開始するタイミングを決定する。なお、供給ハンドＳＨがＺ方向への移動を開始するタイミングは、供給ハンドＳＨの整定時間を調整することで制御することができる。
【００６３】
Ｓ５０３において、制御部ＣＯＮＴは、Ｓ５０２で決定したタイミングに従って、供給ハンドＳＨを＋Ｚ方向に移動させて、プリアライメントユニットＰＡに位置させる。換言すれば、供給ハンドＳＨをプリアライメントユニットＰＡに移動させる。これにより、ウエハＷは、プリアライメントユニットＰＡから供給ハンドＳＨに渡される。
【００６４】
本実施形態における供給シーケンスでは、供給ハンドＳＨの振動量が許容範囲に収まり、且つ、供給ハンドＳＨの振動の位相のばらつきが予め定められた範囲に収まるように、供給ハンドＳＨがＺ方向への移動を開始するタイミングを制御する。従って、本実施形態における供給シーケンスによれば、プリアライメントユニットＰＡから供給ハンドＳＨにウエハＷを渡す際の位置ずれのばらつきを抑制することができる。
【００６５】
本実施形態では、プリアライメントユニットＰＡから供給ハンドＳＨにウエハＷを渡す際に、供給ハンドＳＨを＋Ｚ方向に移動させているが、これに限定されるものではない。ウエハステージＷＳと同様に、プリアライメントユニットＰＡに存在するピン状部材（不図示）を−Ｚ方向に移動させることで、供給ハンドＳＨにウエハＷを渡してもよい。
【００６６】
なお、本実施形態では、プリアライメントユニットＰＡから供給ハンドＳＨにウエハＷを渡す場合について説明したが、同様に、レチクルプリアライメントステージＲＰＡからレチクルハンドＲＳＨにレチクルＲを渡す場合にも適用することができる。
【００６７】
＜第４実施形態＞
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、フラットパネルディスプレイ、液晶表示素子、半導体素子、ＭＥＭＳなどの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、上述した露光装置１を用いて感光剤が塗布された基板を露光する工程と、露光された感光剤を現像する工程とを含む。また、現像された感光剤のパターンをマスクとして基板に対してエッチング工程やイオン注入工程などを行い、基板上に回路パターンが形成される。これらの露光、現像、エッチングなどの工程を繰り返して、基板上に複数の層からなる回路パターンを形成する。後工程で、回路パターンが形成された基板に対してダイシング（加工）を行い、チップのマウンティング、ボンディング、検査工程を行う。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、レジスト剥離など）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００６８】
発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。
【符号の説明】
【００６９】
１：露光装置    Ｒ：レチクル    ＲＳ：レチクルステージ    Ｗ：ウエハ    ＷＳ：ウエハステージ    ＲＣ：レチクル搬送系    ＷＦ：ウエハ搬送系    ＰＣ：制御装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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