(57)【要約】【課題】可撓性を有し、有機ＥＬ素子の劣化を抑制でき、かつ、組み合わせて用いられる機能性フィルムの劣化も抑制できる有機ＥＬ積層体を提供する。【解決手段】樹脂基材および樹脂基材の一方の主面に積層されるガスバリア層を有する第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムと、第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムの間に配置される、偏光子層および位相差層、ならびに、タッチパネル層の少なくとも一方と、第２のガスバリアフィルムのガスバリア層上に積層される有機ＥＬ素子とを有し、２つのガスバリアフィルムは、互いのガスバリア層を対面して配置され、第１のガスバリアフィルムの樹脂基材が透明樹脂基材であり、ガスバリア層が少なくとも無機層を有し、第１および第２のガスバリアフィルムの少なくとも一方のガスバリア層が、無機層と無機層の形成面となる有機層との組み合わせを１組以上有する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材、および、前記樹脂基材の一方の主面に積層されるガスバリア層を有する第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムと、
前記第１のガスバリアフィルムおよび前記第２のガスバリアフィルムの間に配置される、偏光子層および位相差層、ならびに、タッチパネル層の少なくとも一方と、
前記第２のガスバリアフィルムの前記ガスバリア層上に積層される有機エレクトロルミネッセンス素子とを有し、
前記第１のガスバリアフィルムと前記第２のガスバリアフィルムとは、互いの前記ガスバリア層側を対面して配置されており、
前記第１のガスバリアフィルムの前記樹脂基材が透明樹脂基材であり、
前記第１のガスバリアフィルムおよび前記第２のガスバリアフィルムの前記ガスバリア層がそれぞれ少なくとも無機層を有し、
前記第１のガスバリアフィルムおよび前記第２のガスバリアフィルムの少なくとも一方の前記ガスバリア層が、前記無機層と前記無機層の形成面となる有機層との組み合わせを１組以上有する有機エレクトロルミネッセンス積層体。
【請求項２】
前記第１のガスバリアフィルムの前記ガスバリア層が、前記無機層と前記有機層との組み合わせを１組以上有する請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス積層体。
【請求項３】
前記第１のガスバリアフィルムおよび前記第２のガスバリアフィルムそれぞれの前記ガスバリア層の前記無機層は、窒化ケイ素を含む請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス積層体。
【請求項４】
前記第１のガスバリアフィルムと前記第２のガスバリアフィルムとの間の距離が５００μｍ以下である請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス積層体。
【請求項５】
前記第１のガスバリアフィルムの前記透明樹脂基材が、黄色度５以下のポリイミド系樹脂フィルムである請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス積層体。
【請求項６】
前記第１のガスバリアフィルムの前記透明樹脂基材の、前記ガスバリア層側の面とは反対側の面にハードコート層を有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス積層体。
【請求項７】
有機エレクトロルミネッセンス積層体の端面の、少なくとも前記第１のガスバリアフィルムの前記無機層と前記第２のガスバリアフィルムの前記無機層との間を覆う端面封止層を有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Electro Luminescence（エレクトロルミネッセンス））材料を用いた有機ＥＬデバイス（ＯＥＬＤデバイス）が、ディスプレイや照明装置等に利用されている。
【０００３】
この有機ＥＬデバイスに利用される有機ＥＬ材料は、非常に水分に弱い。そのため、有機ＥＬ装置では、両面をガラス板等で封止する構造を採用することで、水分による有機ＥＬ材料の劣化を防止している。
しかしながら、ガラス板を用いる構成の場合には、近年、有機ＥＬ装置に要求されているフレキシブル化への対応が困難である。
【０００４】
そこで、ガラス板に代えて、樹脂基材上にガスバリア層を形成したガスバリアフィルムを用いて有機ＥＬ素子を封止することが提案されている。
例えば、特許文献１には、有機ＥＬ材料を用いる発光素子、および、発光素子を覆うパッシベーション膜を有する有機ＥＬデバイスを、支持体と支持体の上に無機膜および無機膜の下地となる有機膜の組み合わせを１以上有するガスバリアフィルムで封止する有機ＥＬ積層体が記載されている。
【０００５】
また、特許文献２には、有機ＥＬ素子が形成された有機ＥＬパネルを挟み込み保持する、少なくとも一方が透明な一対の可撓性のフィルムシートを有する有機ＥＬ装置が記載されており、一対のフィルムシートが有機ＥＬパネルを内部に気密に封入することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１４−１９７５３７号公報
【特許文献２】特開２０１３−２１３５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ここで、有機ＥＬ積層体をディスプレイ等に用いる場合には、さらに、偏光子層と位相差層とを組み合わせた反射防止層、および、タッチパネル層等の各種の機能性フィルムを組み合わせて用いられる。
本発明者の検討によれば、偏光子層、位相差層、あるいは、タッチパネル層等においても水分による劣化が生じる場合があることがわかった。しかしながら、有機ＥＬ素子の封止に、ガスバリアフィルムを用いることでフレキシブル性を付与する構成において、偏光子層、位相差層、あるいは、タッチパネル層等を保護することは考えられていなかった。
【０００８】
本発明の目的は、このような問題点を解決することにあり、可撓性を有し、有機エレクトロルミネッセンス素子の劣化を抑制でき、かつ、組み合わせて用いられる機能性フィルムの劣化も抑制できる有機エレクトロルミネッセンス積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、樹脂基材、および、樹脂基材の一方の主面に積層されるガスバリア層を有する第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムと、第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムの間に配置される、偏光子層および位相差層、ならびに、タッチパネル層の少なくとも一方と、第２のガスバリアフィルムのガスバリア層上に積層される有機エレクトロルミネッセンス素子とを有し、第１のガスバリアフィルムと第２のガスバリアフィルムとは、互いのガスバリア層側を対面して配置されており、第１のガスバリアフィルムの樹脂基材が透明樹脂基材であり、第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムのガスバリア層がそれぞれ少なくとも無機層を有し、第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムの少なくとも一方のガスバリア層が、無機層と無機層の形成面となる有機層との組み合わせを１組以上有することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。
【００１０】
（１）  樹脂基材、および、樹脂基材の一方の主面に積層されるガスバリア層を有する第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムと、
第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムの間に配置される、偏光子層および位相差層、ならびに、タッチパネル層の少なくとも一方と、
第２のガスバリアフィルムのガスバリア層上に積層される有機エレクトロルミネッセンス素子とを有し、
第１のガスバリアフィルムと第２のガスバリアフィルムとは、互いのガスバリア層側を対面して配置されており、
第１のガスバリアフィルムの樹脂基材が透明樹脂基材であり、
第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムのガスバリア層がそれぞれ少なくとも無機層を有し、
第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムの少なくとも一方のガスバリア層が、無機層と無機層の形成面となる有機層との組み合わせを１組以上有する有機エレクトロルミネッセンス積層体。
（２）  第１のガスバリアフィルムのガスバリア層が、無機層と有機層との組み合わせを１組以上有する（１）に記載の有機エレクトロルミネッセンス積層体。
（３）  第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムそれぞれのガスバリア層の無機層は、窒化ケイ素を含む（１）または（２）に記載の有機エレクトロルミネッセンス積層体。
（４）  第１のガスバリアフィルムと第２のガスバリアフィルムとの間の距離が５００μｍ以下である（１）〜（３）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス積層体。
（５）  第１のガスバリアフィルムの透明樹脂基材が、黄色度５以下のポリイミド系樹脂フィルムである（１）〜（４）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス積層体。
（６）  第１のガスバリアフィルムの透明樹脂基材の、ガスバリア層側の面とは反対側の面にハードコート層を有する（１）〜（５）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス積層体。
（７）  有機エレクトロルミネッセンス積層体の端面の、少なくとも第１のガスバリアフィルムの無機層と第２のガスバリアフィルムの無機層との間を覆う端面封止層を有する（１）〜（６）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス積層体。
【発明の効果】
【００１１】
このような本発明によれば、可撓性を有し、有機エレクトロルミネッセンス素子の劣化を抑制でき、かつ、組み合わせて用いられる機能性フィルムの劣化も抑制できる有機エレクトロルミネッセンス積層体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の有機ＥＬ積層体の一例を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の有機ＥＬ積層体の他の一例を模式的に示す断面図である。
【図３】本発明の有機ＥＬ積層体の他の一例を模式的に示す断面図である。
【図４】本発明の有機ＥＬ積層体の他の一例を模式的に示す断面図である。
【図５】本発明の有機ＥＬ積層体の他の一例を模式的に示す断面図である。
【図６】ガスバリアフィルムの他の一例を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の有機エレクトロルミネッセンス（Electro Luminescence、ＥＬ）積層体について、添付の図面に示される好適実施形態を基に、詳細に説明する。
本明細書の図面において、視認しやすくするために各部の縮尺を適宜変更して示している。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「直交」および「平行」とは、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、「直交」および「平行」とは、厳密な直交あるいは平行に対して±１０°未満の範囲内であることなどを意味し、厳密な直交あるいは平行に対しての誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
また、「直交」および「平行」以外で表される角度、例えば、１５°や４５°等の具体的な角度についても、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、本発明においては、角度は、具体的に示された厳密な角度に対して、±５°未満であることなどを意味し、示された厳密な角度に対する誤差は、±３°以下であるのが好ましく、±１°以下であるのが好ましい。
【００１４】
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレートおよびメタクリレートのいずれか一方または双方」の意味で使用される。
本明細書において、「同一」は、技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含むものとする。また、本明細書において、「全部」、「いずれも」または「全面」などというとき、１００％である場合のほか、技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含み、例えば９９％以上、９５％以上、または９０％以上である場合を含むものとする。
【００１５】
本明細書において、「透明性を有する」とは、実質的に可視光領域に吸収を有さないことを意図し、３８０〜７８０ｎｍの波長域の平均透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。
【００１６】
＜有機ＥＬ積層体＞
本発明の有機ＥＬ積層体は、
樹脂基材、および、樹脂基材の一方の主面に積層されるガスバリア層を有する第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムと、
第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムの間に配置される、偏光子層および位相差層、ならびに、タッチパネル層の少なくとも一方と、
第２のガスバリアフィルムのガスバリア層上に積層される有機ＥＬ素子とを有し、
第１のガスバリアフィルムと第２のガスバリアフィルムとは、互いのガスバリア層側を対面して配置されており、
第１のガスバリアフィルムの樹脂基材が透明樹脂基材であり、
第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムのガスバリア層がそれぞれ少なくとも無機層を有し、
第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムの少なくとも一方のガスバリア層が、無機層と無機層の形成面となる有機層との組み合わせを１組以上有する有機ＥＬ積層体である。
【００１７】
図１に、本発明の有機ＥＬ積層体の一例を模式的な断面図を示す。
図１に示す有機ＥＬ積層体１０ａは、第１のガスバリアフィルム１２、粘着層２２、偏光子層２０、粘着層２２、位相差層１８、粘着層２２、有機ＥＬ素子１６および第２のガスバリアフィルム１４の順に積層された構成を有する。
【００１８】
第１のガスバリアフィルム１２は、透明樹脂基材３０の一方の主面上に、有機層４２と無機層４０とを有するガスバリア層３２が積層された構成を有する。また、第２のガスバリアフィルム１４は、樹脂基材３６の一方の主面上に、有機層４２と無機層４０との組み合わせを２組有するガスバリア層３８が積層された構成を有する。
第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４は、それぞれのガスバリア層側を対面させて配置されている。
【００１９】
また、第２のガスバリアフィルム１４のガスバリア層３８上には、有機ＥＬ素子１６が形成されている。
また、第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４との間には、第１のガスバリアフィルム１２側から、位相差層１８および偏光子層２０が配置されている。
すなわち、有機ＥＬ積層体１０ａは、第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４とを有し、第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４との間に、位相差層１８および偏光子層２０、ならびに、第２のガスバリアフィルム１４上に積層された有機ＥＬ素子１６を有して構成される。
【００２０】
このような構成の有機ＥＬ積層体１０ａにおいて、有機ＥＬ素子１６が発光すると、有機ＥＬ素子１６から出射された光は、偏光子層２０、位相差層１８および第１のガスバリアフィルム１２を透過して、第１のガスバリアフィルム１２側の面から出射される。従って、第１のガスバリアフィルム１２の樹脂基材としては、透明性を有する透明樹脂基材３０が用いられる。
また、位相差層１８および偏光子層２０の組み合わせは、反射防止層として機能する。
各層の詳細については後に詳述する。
【００２１】
このように、有機ＥＬ素子１６、ならびに、位相差層１８および偏光子層２０を、２枚のガスバリアフィルムで挟んで封止する構成とすることで、可撓性を持たせつつ、有機ＥＬ素子１６、位相差層１８および偏光子層２０の水分による劣化を抑制することができる。ここで、ガスバリアフィルムのガスバリア層が、無機層と無機層の形成面となる有機層との組み合わせを有する構成とすることによって、ガスバリアフィルムのガスバリア性を高くでき、また、曲げ等によるガスバリア性の低下を抑制することができる。そのため、このようなガスバリアフィルムを用いて有機ＥＬ素子１６、ならびに、位相差層１８および偏光子層２０を封止することで、可撓性を持たせつつ、これらの水分による劣化を抑制することができる。また、２枚のガスバリアフィルムを、ガスバリア層側を対面させて配置することで、透明樹脂基材３０および樹脂基材３６から放出されるアウトガス（水分を含む）、および、透明樹脂基材３０および樹脂基材３６を透過するガス（水分を含む）をガスバリア層で遮蔽でき、有機ＥＬ素子１６、ならびに、位相差層１８および偏光子層２０に到達するのを抑制できる。
【００２２】
ここで、図１に示す例では、第１のガスバリアフィルム１２のガスバリア層３２および第２のガスバリアフィルム１４のガスバリア層３８がそれぞれ無機層４０と有機層４２との組み合わせを１組以上有する構成としたがこれに限定はされず、両方のガスバリア層は少なくとも無機層を有し、少なくとも一方のガスバリア層が無機層と有機層との組み合わせを１組以上有する構成とすればよい。ガスバリア性および可撓性等の観点から、両方のガスバリアフィルムのガスバリア層がそれぞれ無機層と有機層との組み合わせを１組以上有する構成とするのが好ましい。また、可撓性を持たせる際には、有機ＥＬ素子１６に負荷がかからない設計とするため、有機ＥＬ素子１６に近い第２のガスバリアフィルム１４よりも、有機ＥＬ素子１６から遠い第１のガスバリアフィルム１２のほうがより可撓性が求められる。そのため、第１のガスバリアフィルム１２のガスバリア層３２が無機層と有機層との組み合わせを１組以上有する構成とするのが好ましい。一方、第２のガスバリアフィルム１４のガスバリア層３８は、無機層のみであってもよい。
【００２３】
また、第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４との間の距離は、５００μｍ以下が好ましく、４００μｍ以下がより好ましく、３００μｍ以下がさらに好ましい。第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４との間の距離が５００μｍ超の場合、すなわち、有機ＥＬ積層体全体の厚さが厚すぎる場合には、可撓性が低くなり、また、有機ＥＬ積層体の端面から水分が浸入しやすくなってしまうおそれがある。従って、第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４との間の距離は、５００μｍ以下が好ましい。
【００２４】
また、図２に示す有機ＥＬ積層体１０ｂのように、第１のガスバリアフィルム１２側の表面にハードコート層４６を有するのが好ましい。なお、図２に示す有機ＥＬ積層体１０ｂは、ハードコート層４６を有する以外は、図１に示す有機ＥＬ積層体１０ａと同様の構成を有するので、同じ部位には同じ符号を付し、以下の説明は異なる部位を主に行なう。この点は他の例についても同様である。
【００２５】
図２に示すように、有機ＥＬ積層体１０ｂは、ハードコート層４６、第１のガスバリアフィルム１２、粘着層２２、偏光子層２０、粘着層２２、位相差層１８、粘着層２２、有機ＥＬ素子１６および第２のガスバリアフィルム１４の順に積層された構成を有する。
ハードコート層４６は、第１のガスバリアフィルム１２の透明樹脂基材３０の、ガスバリア層３２側の面とは反対側の面に積層されている。すなわち、ハードコート層４６は、有機ＥＬ積層体１０ｂの、光が出射される側の最表面に形成されている。
ハードコート層４６を有する構成とすることで、耐擦傷性を高くすることができ、また、表面の滑り性を良好にすることができる。
【００２６】
図１に示す例では、２枚のガスバリアフィルムの間に位相差層１８および偏光子層２０を有する構成としたが、これに限定はされない。
例えば、図３に示す有機ＥＬ積層体１０ｃのように、２枚のガスバリアフィルムの間にタッチパネル層４８を有する構成としてもよい。
図３に示す有機ＥＬ積層体１０ｃは、第１のガスバリアフィルム１２、粘着層２２、タッチパネル層４８、粘着層２２、有機ＥＬ素子１６および第２のガスバリアフィルム１４の順に積層された構成を有する。
【００２７】
あるいは、図４に示す有機ＥＬ積層体１０ｄのように、２枚のガスバリアフィルムの間に位相差層１８、偏光子層２０およびタッチパネル層４８を有する構成としてもよい。
図４に示す有機ＥＬ積層体１０ｄは、第１のガスバリアフィルム１２、粘着層２２、偏光子層２０、粘着層２２、位相差層１８、粘着層、タッチパネル層４８、粘着層２２、有機ＥＬ素子１６および第２のガスバリアフィルム１４の順に積層された構成を有する。
このように、タッチパネル層４８を２枚のガスバリアフィルムの間に配置する構成とすることで、タッチパネル層４８が水分で劣化するのを抑制することができる。
タッチパネル層については、後に詳述する。
【００２８】
なお、図４に示す例では、第１のガスバリアフィルム１２側に偏光子層２０および位相差層１８を積層し、第２のガスバリアフィルム１４側にタッチパネル層４８を積層する構成としたが、これに限定はされず、第１のガスバリアフィルム１２側にタッチパネル層４８を積層し、第２のガスバリアフィルム１４側に偏光子層２０および位相差層１８を積層する構成としてもよい。
【００２９】
また、図５に示す有機ＥＬ積層体１０ｅのように、有機ＥＬ積層体の端面（各層の積層方向に略平行な面）に形成される端面封止層５０を有する構成としてもよい。
端面封止層５０は、ガスバリア性を発現し、有機ＥＬ積層体の端面からの水分等の浸入を抑制するための部位である。従って、端面封止層５０を有する構成とすることで、有機ＥＬ素子１６、ならびに、位相差層１８、偏光子層２０およびタッチパネル層４８の水分による劣化を好適に抑制することができる。
端面封止層５０の材料等については後に詳述する。
【００３０】
なお、図５に示す例では、端面封止層５０は、有機ＥＬ積層体の端面全面を覆う構成としたが、これに限定はされず、端面封止層５０は、少なくとも、第１のガスバリアフィルム１２のガスバリア層３２の無機層４０から、第２のガスバリアフィルム１４のガスバリア層３８の無機層４０までの間の領域を覆うように形成されていればよい。２枚のガスバリアフィルムの無機層間の領域を覆うことで、２枚のガスバリアフィルムの間に積層した有機ＥＬ素子１６、ならびに、位相差層１８、偏光子層２０およびタッチパネル層４８の水分による劣化を好適に抑制することができる。
【００３１】
次に、本発明の有機ＥＬ積層体の各構成要素の材料および構成等について説明する。
【００３２】
〔ガスバリアフィルム〕
第１のガスバリアフィルム１２および第２のガスバリアフィルム１４は、樹脂基材の一方の主面にガスバリア層を有し、ガスバリア性を発現するものである。なお、第１のガスバリアフィルム１２および第２のガスバリアフィルム１４は、樹脂基材の形成材料および配置位置が異なる以外は同様の構成を有するので、以下の説明においては、第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４とを区別する必要が無い場合には両者をまとめて「ガスバリアフィルム」という。
【００３３】
ガスバリアフィルムは、水蒸気透過度が１×１０-1[g/(m2・day)]以下であることが好ましく、１×１０-3[g/(m2・day)]以下であることがより好ましく、１×１０-5[g/(m2・day)]以下であることがさらに好ましい。
なお、水蒸気透過度は、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件下でモコン法によって測定した値である。また、水蒸気透過度が、モコン法の測定限界を超えた場合には、カルシウム腐食法（特開２００５−２８３５６１号公報に記載される方法）によって測定する。
【００３４】
（樹脂基材）
第１のガスバリアフィルム１２および第２のガスバリアフィルム１４において、透明樹脂基材３０および樹脂基材３６は、各種の積層型のガスバリアフィルムにおいて基材（支持体）として利用されている、公知のシート状物が、各種、利用可能である。
なお、透明樹脂基材３０と樹脂基材３６とは、透明性が必須か否かが異なるのみで、基本的には同様の構成を有するので、透明樹脂基材３０と樹脂基材３６とを区別する必要がない場合には、まとめて「（透明）樹脂基材」と表す。
【００３５】
樹脂基材３６は、例えば、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリアクリトニトリル（ＰＡＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、透明ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ＡＢＳ、シクロオレフィン・コポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、および、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などの、各種の樹脂材料からなるフィルム（樹脂フィルム）が挙げられる。
【００３６】
また、透明樹脂基材３０の材料としては、上述の樹脂材料のうち、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ポリイミド等の透明性を有する材料を用いることができる。中でも、耐擦傷性および可撓性等の観点からポリイミドが好ましく、透明性の観点から黄色度５以下のポリイミドが好ましい。
なお、透明樹脂基材３０の黄色度は、ＪＩＳ  Ｋ  ７３７３に準拠して測定すればよい。例えば、ＵＶ分光計（Ｖａｒｉａｎ社製、Ｃａｒｙ１００）を用いてＡＳＴＭ Ｅ３１３規格で黄色度を測定することができる。
【００３７】
黄色度５以下のポリイミドは、例えば、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（ＦＤＡ）、４−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−１，２−ジカルボン酸無水物（ＴＤＡ）、９，９−ビス（トリフルオロメチル）−２，３，６，７−キサンテンテトラカルボキシルジアンヒドリド（６ＦＣＤＡ）および４，４’−（４，４’−イソプロピリデンジフェノキシ）ビス（無水フタル酸）（ＨＢＤＡ）の中から選ばれた少なくとも１種、並びにピロメリト酸二無水物（ＰＭＤＡ）、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）およびオキシジフタル酸二無水物（ＯＤＰＡ）の中から選ばれた少なくとも１種の芳香族ジアンヒドリドに由来する単位構造と、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）−フェニル］プロパン（６ＨＭＤＡ）、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（２，２−ＴＦＤＢ）、３，３’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（３，３’−ＴＦＤＢ）、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ジフェニルスルホン（ＤＢＳＤＡ）、ビス（３−アミノフェニル）スルホン（３ＤＤＳ）、ビス（４−アミノフェニル）スルホン（４ＤＤＳ）、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン（ＡＰＢ−１３３）、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン（ＡＰＢ−１３４）、２，２’−ビス［３（３−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン（３−ＢＤＡＦ）、２，２’−ビス［４（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン（４−ＢＤＡＦ）、２，２’−ビス（３−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン（３，３’−６Ｆ）、２，２’−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン（４，４’−６Ｆ）およびオキシジアニリン（ＯＤＡ）の中から選ばれた少なくとも１種の芳香族ジアミンに由来する単位構造とを含むポリイミド系樹脂、または、上記芳香族ジアンヒドリド由来の単位構造とテレフタロイルクロリド（p-Terephthaloylchloride、ＴＰＣ）、テレフタル酸(Terephthalic acid)、イソフタロイルジクロリド(Iso-phthaloyl dichloride)および４，４’−ベンゾイルクロリド(4,4’-benzoyl chloride)の中から選ばれた少なくとも１種の芳香族ジカルボニル化合物に由来する単位構造と上記芳香族ジアミン由来の単位構造とを含むポリイミド系樹脂を含むものが挙げられる。
【００３８】
このようなフィルムの表面に、保護層、接着層、光反射層、反射防止層、遮光層、平坦化層、緩衝層、応力緩和層、離型層等の、必要な機能を発現する層（膜）が形成されているものを、（透明）樹脂基材として用いてもよい。
【００３９】
（透明）樹脂基材の厚さは、有機ＥＬ積層体の用途や形成材料等に応じて、適宜、設定すればよい。
本発明者らの検討によれば、（透明）樹脂基材の厚さはそれぞれ、５〜１２５μｍが好ましく、５〜１００μｍがより好ましく、１０〜５０μｍが特に好ましい。
（透明）樹脂基材の厚さそれぞれを、上記範囲とすることにより、ガスバリアフィルムの機械的強度を十分に確保すると共に、十分な可撓性をもたせることができる等の点で好ましい。
【００４０】
（ガスバリア層）
ガスバリア層は、少なくとも無機層を有する層であり、好ましくは、無機層と無機層の下地となる有機層との組み合わせを１組以上有する層である。
なお、図１に示す例では、第１のガスバリアフィルム１２のガスバリア層３２は、１組の有機層４２および無機層４０を有する構成としたがこれに限定はされず、ガスバリア層３２は、２組以上の有機層４２および無機層４０を有する構成としてもよい。
また、図１に示す例では、第２のガスバリアフィルム１４のガスバリア層３８は、２組の有機層４２および無機層４０を有する構成としたがこれに限定はされず、ガスバリア層３８は、１組の有機層４２および無機層４０を有する構成であってもよく、あるいは、３組以上の有機層４２および無機層４０を有する構成であってもよい。
また、図１に示す例では、ガスバリア層は、（透明）樹脂基材に接する位置に有機層４２を有する構成としたがこれに限定はされず、図６に示すように、（透明）樹脂基材に接する位置に無機層４０ａを有し、この無機層４０ａ上に１組以上の有機層４２および無機層４０を有する構成としてもよい。
【００４１】
（（有機層））
有機層４２は、有機化合物からなる層で、基本的に、有機層４２となるモノマーやオリゴマー等を重合（架橋）したものである。
【００４２】
有機層４２は、主にガスバリア性を発現する無機層４０を適正に形成するための、下地層として機能する。
このような有機層４２を有することにより、（透明）樹脂基材の表面の凹凸、および、表面に付着する異物等を包埋して、無機層４０の成膜面を平滑にする。これにより、（透明）樹脂基材の表面の凹凸や、異物の付着による凹凸のような、無機層４０となる無機化合物が着膜し難い領域を無くし、（透明）樹脂基材の表面全面に、隙間無く、適正な無機層４０を成膜することが可能になり、高いガスバリア性を有する無機層４０を形成することができる。
【００４３】
有機層４２のガラス転移温度Ｔｇは、（透明）樹脂基材のガラス転移温度Ｔｇよりも高いのが好ましく、２００℃以上であるのが好ましい。
ガラス転移温度Ｔｇを２００℃以上とすることにより、高い耐熱性を有し、無機層４０を適正に成膜することが可能となる。
また、有機層４２は、無機層４０の割れ等を防止するため適度な柔軟性を有するのが好ましい。
なお、本発明において、ガラス転移温度Ｔｇは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２１（２０１２）に準拠して測定すればよい。
【００４４】
有機層４２の材料は限定されず、公知の有機化合物が、利用可能である。
具体的には、ポリエステル、（メタ）アクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリル化合物、などの熱可塑性樹脂、ポリシロキサンや、その他の有機ケイ素化合物の膜が挙げられる。これらは、複数を併用してもよい。
【００４５】
中でも、ガラス転移温度や強度に優れる等の点で、ラジカル硬化性化合物および／またはエーテル基を官能基に有するカチオン硬化性化合物を用いるのがより好ましい。
中でも特に、屈折率が低い、透明性が高く光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマーの重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂を用いるのがより好ましい。主成分とは、含有する成分のうち、最も含有質量比が大きい成分をいう。
その中でも特に、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）などの、２官能以上、特に３官能以上のアクリレートおよび／またはメタクリレートのモノマーやオリゴマーなどの重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、好適に例示される。また、これらのアクリル樹脂やメタクリル樹脂を、複数、用いるのがより好ましい。
【００４６】
有機層４２の形成材料は、アダマンタン骨格を有する１官能以上のアクリレートを５％以上、５０％未満含む樹脂材料、あるいは、フルオレン骨格を有する２官能以上のアクリレートを５％以上、５０％未満含む樹脂材料であるのが好ましい。
有機層４２の形成材料として、アダマンタン骨格を有する１官能以上のアクリレート、あるいは、フルオレン骨格を有する２官能以上のアクリレートを含む樹脂材料を用いることで、高いガラス転移温度Ｔｇを維持したまま、硬化収縮時の収縮率を低くすることができ、有機層４２上に形成された無機層４０が割れることを防止できる。
【００４７】
このような有機層４２の形成は、形成する有機層４２に応じて、有機化合物からなる層を形成する公知の方法で形成（成膜）すればよい。一例として、塗布法およびフラッシュ蒸着等が例示される。
【００４８】
例えば、塗布法の場合には、有機溶剤、有機層４２となる有機化合物（モノマー、ダイマー、トリマー、オリゴマー、ポリマー等）、架橋剤等を含む塗布組成物を調製し、この塗布組成物を（透明）樹脂基材上に塗布して塗膜を形成し、塗膜を乾燥、硬化して有機層４２を形成することができる。
有機層４２を塗布法で形成することで薄く形成することができる。
【００４９】
なお、前述のように、複数の有機層４２を有する場合は、各有機層４２の厚さは、同じでも、互いに異なってもよい。また、各有機層４２の材料は、同じでも異なってもよい。
無機層４０との密着性を向上するために、有機層４２は、シランカップリング剤を含有するのが好ましい。
【００５０】
（（無機層））
無機層４０は、無機化合物からなる層である。
ガスバリアフィルムにおいて、目的とするガスバリア性は、無機層４０により発現する。
【００５１】
無機層４０の材料は限定されず、ガスバリア性を発現する無機化合物からなる層が、各種、利用可能である。
具体的には、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの金属酸化物；  窒化アルミニウムなどの金属窒化物；  炭化アルミニウムなどの金属炭化物；  酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸化窒化炭化ケイ素などのケイ素酸化物；  窒化ケイ素、窒化炭化ケイ素などのケイ素窒化物；  炭化ケイ素等のケイ素炭化物；  これらの水素化物；  これら２種以上の混合物；  および、これらの水素含有物等の、無機化合物からなる膜が挙げられる。また、これらの２種以上の混合物も、利用可能である。
特に、金属酸化物および窒化物、具体的には、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化アルミニウム、これらの２種以上の混合物は、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、好適に利用される。中でも特に、窒化ケイ素、および、窒化ケイ素を含む混合物は、優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、また、柔軟性も高いため好適に利用される。
【００５２】
このような無機層４０の形成は、無機層４０の形成材料等に応じて、ＣＣＰ−ＣＶＤ（容量結合型プラズマ化学気相蒸着法）、ＩＣＰ−ＣＶＤ（誘導結合型プラズマ化学気相蒸着法）、スパッタリング、真空蒸着等の、公知の気相成膜法で行えばよい。
【００５３】
無機層４０の膜厚は、材料に応じて、目的とするガスバリア性を発現できる厚さを、適宜、決定すればよい。本発明者らの検討によれば、無機層４０の厚さは、１０〜２００ｎｍが好ましく、１２〜１００ｎｍがより好ましく、１５〜７５ｎｍが特に好ましい。
無機層４０の厚さを１０ｎｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現する無機層４０が形成できる。また、無機層４０は、一般的に脆く、厚過ぎると、割れやヒビ、剥がれ等を生じる可能性が有るが、無機層４０の厚さを２００ｎｍ以下とすることにより、割れが発生することを防止できる。
【００５４】
なお、前述のように、複数の無機層４０を有する場合には、各無機層４０の厚さは、同じでも異なってもよい。また、各無機層４０の材料は、同じでも異なってもよい。
【００５５】
〔有機ＥＬ素子〕
有機ＥＬ素子１６は、例えば、有機電界発光層と、有機電界発光層を挾持する電極対である透明電極および反射電極とを有する公知の有機ＥＬ素子である。
図１に示すように、有機ＥＬ素子１６は、第２のガスバリアフィルム１４を素子基板として、第２のガスバリアフィルム１４のガスバリア層３８上に形成されている。
【００５６】
なお、有機ＥＬ素子１６はその表面をパッシベーション膜によって封止されていてもよい。
すなわち、第２のガスバリアフィルム１４上に形成された有機ＥＬ素子１６をパッシベーション膜で封止し、このパッシベーション膜上に粘着層２２を介して他の層（位相差層１８等）を積層する構成としてもよい。
パッシベーション膜を有することで、水分や酸素等が有機ＥＬ素子１６に至って、有機ＥＬ素子１６が劣化するのをより好適に防止することができる。
このようなパッシベーション膜としては、公知の有機ＥＬ装置に利用される、ガスバリア性を発現する材料からなる各種の膜（層）が利用可能である。具体的には、無機層４０と同様の、ガスバリア性を有する、窒化ケイ素、酸化ケイ素等の無機化合物からなる膜が例示される。
パッシベーション膜は、膜の形成材料に応じた公知の方法で成膜すればよい。
【００５７】
〔位相差層〕
位相差層は、偏光成分に位相差（光路差）をつけて、入射した光の偏光の状態を変える層である。位相差層としては限定はなく、λ／４板、λ／２板等が利用可能である。
λ／４板（λ／４機能を有する板）とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に、または、円偏光を直線偏光に変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レターデーション値がＲｅ（λ）＝λ／４（または、この奇数倍）を示す板である。この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。
なお、λ／４板は、λ／４機能を有する光学異方性層のみからなる構成であっても、支持体にλ／４機能を有する光学異方性層を形成した構成であってもよいが、λ／４板が支持体を有する場合には、支持体と光学異方性層との組み合わせが、λ／４板であることを意図する。
λ／４板は、公知のλ／４板が利用可能である。
【００５８】
〔偏光子層〕
偏光子層は、一方向の偏光軸を有し、特定の直線偏光を透過する機能を有する。
偏光子層としては、ヨウ素化合物を含む吸収型偏光板やワイヤーグリッドなどの反射型偏光板等の一般的な直線偏光板が利用可能である。なお、偏光軸とは、透過軸と同義である。
吸収型偏光板としては、例えば、ヨウ素系偏光板、二色性染料を利用した染料系偏光板、および、ポリエン系偏光板の、いずれも用いることができる。ヨウ素系偏光板、および染料系偏光板は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
【００５９】
〔タッチパネル層〕
タッチパネル層４８は、有機ＥＬ素子１６の発光によって、有機ＥＬ積層体の表面に表示される画像が視認可能な状態で設けられ、ユーザの指や尖筆によって操作される１又は複数の座標を検出する機能層である。デバイスがユーザの指や尖筆によって操作されると、タッチパネル層４８は、操作に起因して発生する検出信号を制御部（図示せず）に出力する。制御部は、受信した検出信号に基づいて、操作位置（座標）の検出、および、装置の制御を行なう。
【００６０】
タッチパネル層４８としては、抵抗膜型のタッチパネル、および、静電容量型のタッチパネル等の従来公知のタッチパネルが適宜利用可能である。
静電容量型のタッチパネルは、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。このような静電容量型のタッチパネル（静電容量型入力装置）では、例えば、互いに交差する方向に電極パターンを延在させて、指などが接触した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプのものがある。本発明においてタッチパネル層は、静電容量型のタッチパネルであることが好ましい。
【００６１】
〔粘着層〕
本発明の有機ＥＬ積層体において、各層は粘着層を介して貼り合わせればよい。
粘着層は、対象となる層（シート状物）を貼り合わせられる物であれば、公知の各種の材料からなるものが利用可能である。粘着層は、貼り合わせる際には流動性を有し、その後、固体になる、接着剤からなる層でもよいし、貼り合わせる際にゲル状（ゴム状）の柔らかい固体で、その後もゲル状の状態が変化しない、粘着剤からなる層でもよいし、接着剤と粘着剤との両方の特徴を持った材料からなる層でもよい。従って、粘着層は、光学透明接着剤(ＯＣＡ(Optical Clear Adhesive))、光学透明両面テープ、紫外線硬化型樹脂等、シート状物の貼り合わせに用いられる公知のものを用いればよい。
【００６２】
〔ハードコート層〕
ハードコート層４６は、有機ＥＬ積層体の発光面側の最表面に設けられ、耐擦傷性を向上するためのものである。ハードコート層４６としては、特に限定はなく従来公知のハードコート層が適宜利用可能である。
【００６３】
ハードコート層４６は、鉛筆硬度が５Ｈ以上であることが好ましい。鉛筆硬度が５Ｈ以上のハードコート層４６を有する構成とすることで、耐擦傷性を高くすることができる。有機ＥＬ積層体の表面に傷が付くと、透明性が低下し、有機ＥＬ素子が発光した光が散乱し、視認性が低下してしまうおそれがある。従って、有機ＥＬ積層体の発光面側の表面にハードコート層４６を形成し、耐擦傷性を高くすることで、視認性の低下を抑制できる。
また、ハードコート層４６を形成することで、表面の滑り性を良好にすることができ、有機ＥＬ積層体がタッチパネル層を有する場合に、タッチパネルの操作を良好に行うことができる。
【００６４】
このようなハードコート層を形成するための塗料としては、透明性、及び無着色性に優れたハードコート層を形成することのできるものであること以外は、制限されず、任意の塗料を用いることができる。好ましいハードコート層形成用塗料としては、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をあげることができる。
【００６５】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線により重合・硬化して、ハードコートを形成することが可能なものであり、活性エネルギー線硬化性樹脂を、１分子中に２以上のイソシアネート基（−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）を有する化合物及び／又は光重合開始剤と共に含む組成物をあげることができる。
【００６６】
活性エネルギー線硬化性樹脂は、例えば、ポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリアクリル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールポリ（メタ）アクリレート、及び、ポリエーテル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリロイル基含有プレポリマー又はオリゴマー；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェニルセロソルブ（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、及び、トリメチルシロキシエチルメタクリレート等の（メタ）アクリロイル基含有単官能反応性モノマー；Ｎ−ビニルピロリドン、スチレン等の単官能反応性モノマー；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２‘−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシポリエチレンオキシフェニル）プロパン、及び、２，２’−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシポリプロピレンオキシフェニル）プロパン等の（メタ）アクリロイル基含有２官能反応性モノマー；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリロイル基含有３官能反応性モノマー；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリロイル基含有４官能反応性モノマー；及び、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の（メタ）アクリロイル基含有６官能反応性モノマーなどから選択される１種以上を、あるいは上記１種以上を構成モノマーとする樹脂が挙げられる。上記活性エネルギー線硬化性樹脂としては、これらの１種又は２種以上の混合物を用いることができる。
【００６７】
１分子中に２以上のイソシアネート基を有する化合物は、例えば、メチレンビス−４−シクロヘキシルイソシアネート；トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、イソホロンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット体等のポリイソシアネート；及び、上記ポリイソシアネートのブロック型イソシアネート等のウレタン架橋剤などが挙げられる。これらをそれぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。また、架橋の際には、必要に応じてジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジエチルヘキソエートなどの触媒を添加してもよい。
【００６８】
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、４−メチルベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４′−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタール等のベンゾイン系化合物；アセトフェノン、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン系化合物；メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン等のアントラキノン系化合物；チオキサントン、２、４−ジエチルチオキサントン、２、４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系化合物；アセトフェノンジメチルケタール等のアルキルフェノン系化合物；トリアジン系化合物；ビイミダゾール化合物；アシルフォスフィンオキサイド系化合物；チタノセン系化合物；オキシムエステル系化合物；オキシムフェニル酢酸エステル系化合物；ヒドロキシケトン系化合物；及び、アミノベンゾエート系化合物などを挙げられる。これらをそれぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６９】
ハードコート層は、好ましくは、（Ａ）多官能（メタ）アクリレート １００質量部；（Ｂ）アルコキシシリル基と（メタ）アクリロイル基を有する化合物 ０．２〜４質量部；（Ｃ）有機チタン ０．０５〜３質量部；及び（Ｄ）平均粒子径１〜３００ｎｍの微粒子 ５〜１００質量部；を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物からなる。より好ましくは、（Ａ）多官能（メタ）アクリレート １００質量部；（Ｂ）アルコキシシリル基と（メタ）アクリロイル基を有する化合物 ０．２〜４質量部；（Ｃ）有機チタン ０．０５〜３質量部；（Ｄ）平均粒子径１〜３００ｎｍの微粒子 ５〜１００質量部；及び（Ｅ）撥水剤０．１〜７質量部；を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物からなる。透明性、色調、耐擦傷性、表面硬度、耐曲げ性、及び表面外観に優れ、ハンカチなどで繰返し拭かれたとしても指すべり性などの表面特性を維持できるハードコート層を得ることができる。
【００７０】
（Ａ）多官能（メタ）アクリレート：
成分Ａは、１分子中に２以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートであり、１分子中に２以上の（メタ）アクリロイル基を有するため、紫外線や電子線等の活性エネルギー線により重合・硬化して、ハードコートを形成する働きをする。
【００７１】
多官能（メタ）アクリレートは、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２‘−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシポリエチレンオキシフェニル）プロパン、及び、２，２’−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシポリプロピレンオキシフェニル）プロパン等の（メタ）アクリロイル基含有２官能反応性モノマー；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリロイル基含有３官能反応性モノマー；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリロイル基含有４官能反応性モノマー；ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の（メタ）アクリロイル基含有６官能反応性モノマー；及びこれらの１種以上を構成モノマーとする重合体（オリゴマーやプレポリマー）が挙げられる。成分Ａとしては、これらの１種又は２種以上の混合物を用いることができる。
【００７２】
（Ｂ）アルコキシシリル基と（メタ）アクリロイル基を有する化合物：
成分Ｂは、分子内に（メタ）アクリロイル基を有することにより成分Ａと、アルコキシシリル基を有することにより成分Ｄと、化学結合ないし強く相互作用することができ、ハードコートの耐擦傷性を大きく向上させる働きをする。また成分Ｂは成分Ｅとも、分子内に（メタ）アクリロイル基を有することにより、あるいはアルコキシシリル基を有することにより、化学結合ないし強く相互作用し、成分Ｅがブリードアウトするなどのトラブルを防止する働きもする。ここで（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基又はメタクリロイル基の意味である。なお成分Ｂは、アルコキシシリル基を有するという点で成分Ａとは区別され、アルコキシシリル基と１分子中に２以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物は、成分Ｂである。
【００７３】
成分Ｂは、例えば、一般式「（−ＳｉＯ2ＲＲ’−）ｎ・（−ＳｉＯ2ＲＲ”−）ｍ」で表される化学構造を有する化合物が挙げられる。ここで、ｎは自然数（正の整数）であり、ｍは０又は自然数である。好ましくは、ｎは２〜１０の自然数、ｍは０又は１〜１０の自然数である。Ｒはメトキシ基（ＣＨ3Ｏ−）、エトキシ基（Ｃ2Ｈ5Ｏ−）などのアルコキシ基である。Ｒ’はアクリロイル基（ＣＨ2＝ＣＨＣＯ−）、メタクリロイル基（ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯ−）である。Ｒ”はメチル基（ＣＨ3）、エチル基（ＣＨ2ＣＨ3）などのアルキル基である。
【００７４】
成分Ｂは、例えば、一般式「（−ＳｉＯ2（ＯＣＨ3）（ＯＣＨＣ＝ＣＨ2）−）ｎ」、「（−ＳｉＯ2（ＯＣＨ3）（ＯＣ（ＣＨ3）Ｃ＝ＣＨ2）−）ｎ」、「（−ＳｉＯ2（ＯＣＨ3）（ＯＣＨＣ＝ＣＨ2）−）ｎ・（−ＳｉＯ2（ＯＣＨ3）（ＣＨ3）−）ｍ」、「（−ＳｉＯ2（ＯＣＨ3）（ＯＣ（ＣＨ3）Ｃ＝ＣＨ2）−）ｎ・（−ＳｉＯ2（ＯＣＨ3）（ＣＨ3）−）ｍ」、「（−ＳｉＯ2（ＯＣ2Ｈ5）（ＯＣＨＣ＝ＣＨ2）−）ｎ」、「（−ＳｉＯ2（ＯＣ2Ｈ5）（ＯＣ（ＣＨ3）Ｃ＝ＣＨ2）−）ｎ」、「（−ＳｉＯ2（ＯＣ2Ｈ5）（ＯＣＨＣ＝ＣＨ2）−）ｎ・（−ＳｉＯ2（ＯＣＨ3）（ＣＨ3）−）ｍ」、及び「（−ＳｉＯ2（ＯＣ2Ｈ5）（ＯＣ（ＣＨ3）Ｃ＝ＣＨ2）−）ｎ・（−ＳｉＯ2（ＯＣＨ3）（ＣＨ3）−）ｍ」で表される化学構造を有する化合物が挙げられる。ここで、ｎは自然数（正の整数）であり、ｍは０又は自然数である。好ましくは、ｎは２〜１０の自然数、ｍは０又は１〜１０の自然数である。
【００７５】
成分Ｂとしては、これらの１種又は２種以上の混合物を用いることができる。
【００７６】
成分Ｂの配合量は、成分Ａ １００質量部に対して、耐擦傷性の観点から、０．２質量部以上、好ましくは０．５質量部以上、より好ましくは１質量部以上である。一方、撥水性を発現し易くする観点から、また成分Ｂと成分Ｃとの配合比を好ましい範囲にしたときに成分Ｃが過剰量にならないようにする観点から、４質量部以下、好ましくは３質量部以下、より好ましくは２質量部以下である。
【００７７】
また成分Ｄと化学結合ないし強く相互作用させる観点から、成分Ｂと成分Ｄとの配合比は、成分Ｄ１００質量部に対して、成分Ｂ０．５〜１５質量部が好ましい。より好ましくは２〜７質量部である。
【００７８】
（Ｃ）有機チタン：
成分Ｃは、成分Ｂの働きを補助する成分であり、ハードコートの耐擦傷性を大きく向上させる観点において、成分Ｂと成分Ｃとは特異的な好相性を示す。また成分Ｃ自身も、成分Ｄなどと化学結合ないし強く相互作用し、ハードコートの耐擦傷性を高める働きをする。
【００７９】
有機チタンは、例えば、テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラキス（２−エチルヘキシルオキシ）チタン、チタニウム−ｉ−プロポキシオクチレングリコレート、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタン、プロパンジオキシチタンビス、トリ−ｎ−ブトキシチタンモノステアレート、ジ−ｉ−プロポキシチタンジステアレート、チタニウムステアレート、ジ−ｉ−プロポキシチタンジイソステアレート、（２−ｎ−ブトキシカルボニルベンゾイルオキシ）トリブトキシチタン、ジ−ｎ−ブトキシ−ビス（トリエタノールアミナト）チタン；及びこれらの１種以上からなる重合体；などが挙げられる。成分Ｃとしては、これらの１種又は２種以上の混合物を用いることができる。
【００８０】
これらの中で、アルコキシチタンのテトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラキス（２−エチルヘキシルオキシ）チタン、及びチタニウム−ｉ−プロポキシオクチレングリコレートが耐擦傷性と色調の観点から好ましい。
【００８１】
成分Ｃの配合量は、成分Ａ １００質量部に対して、耐擦傷性の観点から、０．０５質量部以上、好ましくは０．１質量部以上、より好ましくは０．２質量部以上である。一方、色調の観点から、３質量部以下、好ましくは２質量部以下、より好ましくは１．５質量部以下である。
【００８２】
また、成分Ｂの働きを効果的に補助する観点から、成分Ｂと成分Ｃとの配合比は、成分Ｂ１００質量部に対して、成分Ｃ ５〜１５０質量部が好ましい。より好ましくは２０〜８０質量部である。
【００８３】
（Ｄ）平均粒子径１〜３００ｎｍの微粒子：
成分Ｄは、ハードコートの表面硬度を高める働きをする。一方、成分Ａとの相互作用は弱く、耐擦傷性を不十分なものにする原因となっていた。そこで、成分Ａと成分Ｄの両方に化学結合ないし強く相互作用することのできる成分Ｂ、及び成分Ｂの働きを補助する成分Ｃを用い、この問題を解決したものである。
【００８４】
成分Ｄとしては、無機微粒子、有機微粒子のどちらも用いることができる。無機微粒子は、例えば、シリカ（二酸化珪素）；酸化アルミニウム、ジルコニア、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物微粒子；弗化マグネシウム、弗化ナトリウム等の金属弗化物微粒子；金属硫化物微粒子；金属窒化物微粒子；金属微粒子；などが挙げられる。有機微粒子としては、例えば、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エチレン系樹脂、アミノ系化合物とホルムアルデヒドとの硬化樹脂などの樹脂ビーズが挙げられる。これらは、１種単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。
【００８５】
また微粒子の塗料中での分散性を高めたり、得られるハードコートの表面硬度を高めたりする目的で、当該微粒子の表面をビニルシラン、アミノシラン等のシラン系カップリング剤；チタネート系カップリング剤；アルミネート系カップリング剤；（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基やエポキシ基などの反応性官能基を有する有機化合物；脂肪酸、脂肪酸金属塩等の表面処理剤などにより処理したものを用いてもよい。
【００８６】
これらの中でより表面硬度の高いハードコートを得るためにシリカや酸化アルミニウムの微粒子が好ましく、シリカの微粒子がより好ましい。シリカ微粒子の市販品としては、日産化学工業株式会社のスノーテックス（商品名）、扶桑化学工業株式会社のクォートロン（商品名）などが挙げられる。
【００８７】
成分Ｄの平均粒子径は、ハードコートの透明性を保持し、ハードコートの表面硬度改良効果を確実に得る観点から、３００ｎｍ以下である。好ましくは２００ｎｍ以下であり、より好ましくは１２０ｎｍ以下である。一方、粒子径の下限は特にないが、通常入手可能な微粒子は細かくてもせいぜい１ｎｍ程度である。
【００８８】
微粒子の平均粒子径は、日機装株式会社のレーザー回折・散乱式粒度分析計「ＭＴ３２００ＩＩ（商品名）」を使用して測定した粒子径分布曲線において、粒子の小さい方からの累積が５０質量％となる粒子径である。
【００８９】
成分Ｄの配合量は、成分Ａ １００質量部に対して、表面硬度の観点から、５質量部以上、好ましくは２０質量部以上である。一方、耐擦傷性と透明性の観点から、１００質量部以下、好ましくは７０質量部以下、より好ましくは５０質量部以下である。
【００９０】
（Ｅ）撥水剤：
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、指すべり性、汚れの付着防止性、及び汚れの拭取り性を高める観点から、更に、（Ｅ）撥水剤 ０．１〜７質量部；を含ませることが好ましい。
【００９１】
撥水剤としては、例えば、パラフィンワックス、ポリエチレンワックス、アクリル・エチレン共重合体ワックス等のワックス系撥水剤；シリコンオイル、シリコン樹脂、ポリジメチルシロキサン、アルキルアルコキシシラン等のシリコン系撥水剤；フルオロポリエーテル系撥水剤、フルオロポリアルキル系撥水剤等の含弗素系撥水剤；などが挙げられる。成分Ｅとしては、これらの１種又は２種以上の混合物を用いることができる。
【００９２】
これらの中で、成分Ｅとしては、撥水性能の観点から、フルオロポリエーテル系撥水剤が好ましい。成分Ａや成分Ｂと成分Ｅとが化学結合ないしは強く相互作用し、成分Ｅがブリードアウトするなどのトラブルを防止する観点から、成分Ｅとしては、分子内に（メタ）アクリロイル基とフルオロポリエーテル基とを含有する化合物を含む撥水剤（以下、（メタ）アクリロイル基含有フルオロポリエーテル系撥水剤と略す。）がより好ましい。成分Ｅとして更に好ましいのは、成分Ａや成分Ｂと成分Ｅとの化学結合ないしは相互作用を適宜調節し、透明性を高く保ちつつ良好な撥水性を発現させる観点から、アクリロイル基含有フルオロポリエーテル系撥水剤とメタアクリロイル基含有フルオロポリエーテル系撥水剤との混和物である。
【００９３】
成分Ｅを用いる場合の配合量は、成分Ａ １００質量部に対して、成分Ｅがブリードアウトするなどのトラブルを防止する観点から、通常７質量部以下、好ましくは４質量部以下である。配合量の下限は、任意成分であるから特にないが、成分Ｅの使用効果を得るという観点から、通常０．１質量部以上、好ましくは０．５質量部以上である。
【００９４】
成分Ａ〜Ｄ、好ましくは成分Ａ〜Ｅを含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、活性エネルギー線による硬化性を良好にする観点から、１分子中に２以上のイソシアネート基（−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）を有する化合物及び／又は光重合開始剤を更に含ませることが好ましい。何れについての説明も上述した。
【００９５】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、所望に応じて、帯電防止剤、界面活性剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、汚染防止剤、印刷性改良剤、酸化防止剤、耐候性安定剤、耐光性安定剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、着色剤、及びフィラーなどの添加剤を１種、又は２種以上含ませてもよい。
【００９６】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、塗工し易い濃度に希釈するため、所望に応じて溶剤を含ませてもよい。溶剤は組成物の成分と反応したり、これらの成分の自己反応（劣化反応を含む）を触媒（促進）したりしないものであれば、特に制限されない。例えば、１−メトキシ−２−プロパノール、酢酸エチル、酢酸ｎブチル、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ダイアセトンアルコール、及びアセトンなどが挙げられる。
【００９７】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、これらの成分を混合、攪拌することにより得られる。
【００９８】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を含むハードコート形成用塗料を用いて上記ハードコート層を形成する方法は特に制限されず、公知のウェブ塗布方法を使用することができる。
具体的には、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、エアナイフコート、及びダイコートなどの方法が挙げられる。
【００９９】
上記ハードコート層の厚さは、特に制限されないが、ハードコート層の耐久性等の観点から、通常１μｍ以上、好ましくは、５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上、更に好ましくは２０μｍ以上であってよい。また、切削加工適性やウェブハンドリング性の観点から、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下であってよい。
【０１００】
〔端面封止層〕
端面封止層５０は、有機ＥＬ積層体の端面に形成されてガスバリア性を発現し、端面からの水分の浸入を抑制するための部材である。
端面封止層５０の材料としては、端面からの水分の浸入を低減することができれば特に限定はない。具体的には、例えば、長瀬産業株式会社製のNXR5516、株式会社スリーボンド製のTB3124等の封止用硬化型接着剤を用いることができる。また、無機層コーティングにより形成されるポリシラザン等の無機層や、真空蒸着により形成される無機のバリア層等も好ましい。あるいは、めっき等で形成される金属膜も好ましい。
【０１０１】
ここで、端面封止層５０は、水蒸気透過度が１×１０-1[g/(m2・day)]以下であることが好ましく、１×１０-3[g/(m2・day)]以下であることがより好ましく、１×１０-5[g/(m2・day)]以下であることがさらに好ましい。
有機ＥＬ積層体の端面に、酸素透過度が低い、すなわち、ガスバリア性が高い端面封止層５０を形成することで、水分や酸素の浸入をより好適に防止して有機ＥＬ素子１６、ならびに、位相差層１８、偏光子層２０およびタッチパネル層４８の劣化をより好適に防止することができる。
【０１０２】
また、端面封止層５０の、有機ＥＬ積層体の端面に垂直な方向の厚さは、０．１μｍ〜１００μｍの範囲にあるのが好ましく、０．５μｍ〜５０μｍであるのがより好ましく、１μｍ〜１０μｍであるのが特に好ましい。
端面封止層５０の厚さを０．１μｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現させることができる。また、端面封止層５０の厚さを１００μｍ以下とすることにより、割れが発生することを好適に防止できる。
【０１０３】
また、端面封止層５０は、１層からなる構成に限定はされず、２層以上を有する構成としてもよい。なお、端面封止層５０は、有機ＥＬ積層体の端面に積層されるため、端面封止層５０を２層以上で構成する場合の積層方向は、有機ＥＬ積層体の端面に垂直な方向であり、ガスバリアフィルム、有機ＥＬ素子および偏光子層等の積層方向とは直交する方向である。
端面封止層５０を２層以上からなる構成とすることで、有機ＥＬ積層体の端面に接する第１層は、有機ＥＬ積層体との密着性の高い材料で、密着性を高くできる形成方法で形成し、２層目以降に、高いガスバリア性を発現する層を形成することができるので、端面封止層が有機ＥＬ積層体から剥離することを防止でき高い耐久性を得られる。
【０１０４】
２層以上からなる端面封止層５０の一例として、有機ＥＬ積層体の端面に接して設けられる第１層が、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法により形成される金属層であり、第１層の上に形成される第２層が、金属メッキ層である構成が挙げられる。
【０１０５】
有機ＥＬ積層体の端面に接して設けられる第１層をめっき処理以外の方法で形成し、この第１層を電極としてめっき処理を行うことで、金属メッキ層を適正に形成することができる。
また、少なくとも１層を金属メッキ層とすることで、この層を厚く形成することができ、十分なガスバリア性を発現することができる。
【０１０６】
また、金属メッキ層の厚さは、第１層の厚さよりも厚いことが好ましい。
具体的には、第１層の厚さは、有機ＥＬ積層体との密着性、生産性等の観点から、０．００１μｍ〜０．５μｍとするのが好ましく、０．０１μｍ〜０．３μｍとするのがより好ましい。
また、金属メッキ層の厚さは、ガスバリア性を確保する、生産性等の観点から、０．０１μｍ〜１００μｍとするのが好ましく、１μｍ〜１０μｍとするのがより好ましい。
【０１０７】
第１層の形成材料としては、金属であれば特に限定はないが、上述したスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法で形成可能であるのが好ましく、したがって、アルミニウム、チタン、クロム、銅、および、ニッケルからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金であるのが好ましい。
第１層の材料として、これらの金属あるいは合金を用いることで、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法で形成することができ、第１層と有機ＥＬの側面との密着性を高くできる。
なお、第１層の形成方法としては、密着性が良く、低温成膜が可能なスパッタリング法であるのが好ましい。
【０１０８】
また、金属メッキ層の材料としては、金属であれば特に限定はないが、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、錫、銅、銀、および、金からなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金であるのが好ましい。
金属メッキ層の形成材料として、これらの金属あるいは合金を用いることで、メッキ処理により形成することができ、高いガスバリア性を発現することができる。
【０１０９】
なお、端面封止層が３層以上からなる場合は、少なくとも１層がめっき処理により形成されていればよく、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、あるいは、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法で形成された層を有していてもよい。その際、少なくとも最表層が、めっき処理により形成されているのが好ましい。
【０１１０】
また、端面封止層５０を構成する各層の材料は、同じであっても、互いに異なっていてもよい。すなわち、例えば、第１層をスパッタリング法により形成したニッケル層とし、最表層をめっき処理により形成したニッケル層としてもよい。
【０１１１】
以上、本発明の有機ＥＬ積層体について詳細に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。
【実施例】
【０１１２】
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をより詳細に説明する。
【０１１３】
［実施例１］
実施例１として、図１に示すような有機ＥＬ積層体を作製した。
【０１１４】
＜第１のガスバリアフィルムの作製＞
透明樹脂基材３０として、特表２０１５−５０８３４５（作製方法：段落［００５７］〜［００５８］、黄色度データ：表１）を参照して厚さ２５μｍの透明ポリイミドフィルムを製膜して使用した。黄色度は４．５であった。
【０１１５】
〔ガスバリア層の形成〕
透明樹脂基材３０の一面に、以下の手順で有機層４２および無機層４０を有するガスバリア層３２を形成した。
【０１１６】
（有機層の形成）
まず、以下の手順で有機層４２を形成した。
ＴＭＰＴＡ（ダイセルセルテック社製）、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学社製）および重合性酸性化合物（ＫＡＲＡＭＥＲ  ＰＭ−２１、日本化薬社製）を、質量比で１４．１：３．５：１で混合してなる組成物を調製した。
この組成物１８．６ｇと、紫外線重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥ  ＫＴＯ４６）１．４ｇと、２−ブタノン１８０ｇとを混合して、有機層４２を形成するための塗料を調製した。
【０１１７】
調製した塗料を、透明樹脂基材３０の表面に塗布した。塗料の塗布は、ワイヤーバーを用い、塗膜厚が１０μｍとなるように行った。
塗料を塗布した後、室温で放置することにより、塗料を乾燥した。
次いで、窒素置換法により酸素濃度を０．１％としたチャンバー内で高圧水銀ランプの紫外線を照射（積算照射量約１Ｊ／ｃｍ2）することで、塗料の組成物を硬化させた。これにより、透明樹脂基材３０の表面に厚さ１μｍの有機層４２を形成した。
【０１１８】
（無機層の形成）
この有機層４２の上に、無機層４０として、厚さ３５ｎｍの窒化ケイ素膜を形成した。
無機層４０（窒化ケイ素膜）の形成は、一般的なＣＣＰ（容量結合プラズマ方式）−ＣＶＤ装置を用いて行った。原料ガスは、シランガス（流量１６０ｓｃｃｍ）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、および窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。成膜圧力は４０Ｐａとした。電源は周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用い、プラズマ励起電力を２．５ｋＷとした。
これにより、透明樹脂基材３０の上に有機層４２を有し、その上に無機層４０を有する、第１のガスバリアフィルム１２を作製した。
なお、単位ｓｃｃｍで表す流量は、１０１３ｈＰａ、０℃における流量（ｃｃ／ｍｉｎ）に換算した値である。
【０１１９】
＜第２のガスバリアフィルムの作製＞
樹脂基材３６として、厚さ２５μｍのポリイミドフィルム（東レ・デュポン社製、カプトン）を用い、有機層４２と無機層４０との組み合わせを２組有するガスバリア層３８を形成した以外は、第１のガスバリアフィルムと同様にして第２のガスバリアフィルム１４を作製した。
【０１２０】
すなわち、樹脂基材３６の一面に上記と同様の方法で有機層４２および無機層４０を形成し、さらに、無機層４０の上に２層目の有機層４２を先と同様の方法で形成し、２層目の有機層４２の上に先と同様の方法で２層目の無機層４０を形成した。
【０１２１】
＜有機ＥＬ素子の形成＞
次に、第２のガスバリアフィルムのガスバリア層上に、以下の手順で有機ＥＬ素子を形成した。
【０１２２】
以下のようにして、有機ＥＬ素子１６を形成した。
まず、第２のガスバリアフィルムの表面に、６０ｎｍの膜厚になるようにＡｌを真空蒸着によって成膜して、陽極を形成した。形成された陽極表面に、真空蒸着装置により、ＭｏＯ３層を正孔注入層として２ｎｍの膜厚で形成し、さらに、ＭｏＯ３層の表面に順に正孔輸送層(α-NPD：Bis[N-(1-naphthyl)-N-phenyl]benzidine)を２９ｎｍ、ＣＢＰ(4,4'-Bis(carbazol-9-yl)biphenyl)をホスト材料として５％のＩｒ(ｐｐｙ)3(Tris(2-phenylpyridinato)iridium)をドープした発光層を２０ｎｍ、正孔ブロック層としてＢＡｌｑ(Bis-(2-methyl-8- quinolinolato)-4-(phenyl-phenolate)-aluminium(III))層を１０ｎｍ、電子輸送層としてＡｌｑ３(Tris(8-hydroxy-quinolinato)aluminium)層を２０ｎｍの膜厚でそれぞれ蒸着して有機電界発光層を形成した。
続けて、得られた有機発光層の表面にＬｉＦを０．５ｎｍ、Ａｌを１．５ｎｍ、Ａｇを１０ｎｍの膜厚で、この順に蒸着して陰極を成膜し、素子基板の表面に有機ＥＬ素子１６を形成した。
次に、有機ＥＬ素子１６上に、パッシベーション膜として、Ａｌ２Ｏ３を３００ｎｍ製膜した。
【０１２３】
＜有機ＥＬ積層体の作製＞
グローブボックス内で、有機ＥＬ素子１６を形成した第２のガスバリアフィルム１４上に、粘着シート（８１４６−１（厚さ２５μｍ）、３Ｍ社製）を介して、位相差層１８としてλ／４板を貼り合わせた。次に、λ／４板の上に粘着シート（８１４６−１（厚さ２５μｍ）、３Ｍ社製）を介して、偏光子層２０として偏光子を貼り合わせた。さらに、偏光子層２０の上に粘着シート（８１４６−１（厚さ２５μｍ）、３Ｍ社製）を介して、第１のガスバリアフィルム１２を貼り合わせた。第１のガスバリアフィルム１２は、ガスバリア層３２側を偏光子層２０に向けて貼り合わせた。なお、λ／４板および偏光子は以下のようにして作製した。
【０１２４】
（λ／４板）
厚さ５０μｍの市販の長尺状ノルボルネン系樹脂フィルム（ゼオノア、日本ゼオン社製）を１．５２倍に延伸することで厚さ３５μｍのλ／４板を得た。
【０１２５】
（偏光子）
市販のポリビニルアルコールフィルム（ＶＦ−ＰＳ、クラレ社製）を、ヨウ素を含む水溶液中で染色した後、ホウ酸を含む水溶液中で周速比の異なるロール間にて約６倍に一軸延伸して厚さ３０μｍの長尺状の偏光子を得た。
【０１２６】
以上により、第１のガスバリアフィルム１２、偏光子層２０、位相差層１８、有機ＥＬ素子１６および第２のガスバリアフィルム１４がこの順に積層された有機ＥＬ積層体を作製した。
なお、第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４との間の距離は、１９５μｍである。
【０１２７】
［実施例２］
有機ＥＬ素子１６と位相差層１８との間に、粘着シート（８１４６−１（厚さ２５μｍ）、３Ｍ社製）を介して、タッチパネル層４８を積層し、さらに、第１のガスバリアフィルム１２の透明樹脂基材３０上にハードコート層４６を設けた以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬ積層体を作製した。
なお、第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４との間の距離は、２６０μｍである。
【０１２８】
タッチパネル層４８としては、市販のスマートフォン(ＧａｌａｘｙＳ７Ｅｄｇｅ)を分解し、取り出して用いた。
【０１２９】
また、ハードコート層４６は、以下の手順で形成した。
ガスバリア層３２を形成する前に、透明樹脂基材３０の一方の面にコロナ放電処理を行った後、ハードコート形成用塗料として以下に示す配合組成（質量部）の塗料を、ダイ方式の塗工装置を使用して、硬化後厚さが２５μｍとなるように塗布しハードコート層を形成した。
【０１３０】
ハードコート形成用塗料の組成
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、６官能：６５質量部
・エトキシ化トリメチロールプロパンアクリレート、３官能：３５質量部
・信越シリコーンＫＲ−５１３（商品名）：１．４質量部
・日本曹達株式会社チタニウム−ｉ−プロポキシオクチレングリコレート「ＴＯＧ（商品名）」：０．７質量部
・平均粒子径２０ｎｍのシリカ微粒子：３５質量部
・信越化学工業株式会社アクリロイル基含有フルオロポリエーテル系撥水剤「ＫＹ−１２０３（商品名）」：１．６質量部
・ソルベイ（Ｓｏｌｖａｙ）社メタクリロイル基含有フルオロポリエーテル系撥水剤「ＦＯＭＢＬＩＮ  ＭＴ７０（商品名）」：０．２質量部
・双邦實業股分有限公司フェニルケトン系光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）「ＳＢ−ＰＩ７１４（商品名）」：５．３質量部
・１−メトキシ−２−プロパノール：９５質量部
【０１３１】
［実施例３］
さらに、端面封止層５０を形成した以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬ積層体を作製した。
【０１３２】
端面封止層５０は、以下の手順で形成した。
（第１層の形成）
実施例１と同様にして作製した有機ＥＬ積層体の側面以外をマスキングして端面封止層の第１層を形成した。ターゲットとしてチタン、放電ガスとしてアルゴンを用いた。成膜圧力は０．５Ｐａ、成膜出力は４００Ｗ、到達膜厚は１０ｎｍであった。
【０１３３】
（第２層の形成）
続いて、ターゲットをチタンから銅へ変更した以外は第１層の形成と同様にして、第１層上に膜厚７５ｎｍの第２層を形成した。
【０１３４】
（第３層の形成）
さらに、以下のようにして、第２層上に第３層を形成した。
まず、第１層および第２層を形成した積層物を純水で水洗し、市販の界面活性剤を満たした浴槽に２０秒浸漬して脱脂した。次いで、水洗したのちに、５％硫酸水溶液中に５秒間浸漬し酸活性処理を行い、再び水洗した。
水洗した積層物をひっかけジグに固定し、テスターにて導通確認した後、５％硝酸水溶液中に１０秒間浸漬し酸活性処理を行い、硫酸銅浴にて電流密度３．０Ａ／ｄｍ2で５分の条件で電解めっき処理を行い、第２層上に金属メッキ層である第３層を形成した。その後、水洗、サビ留め処理を経て、エアーで余分な水分を除去し、端面に３層の金属層からなる端面封止層５０が形成された有機ＥＬ積層体を得た。
【０１３５】
［実施例４］
透明樹脂基材３０としてＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム社製テオネックス、１００μｍ）を用いた以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬ積層体を作製した。
第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４との間の距離は、３５０μｍである。
【０１３６】
［実施例５］
透明樹脂基材３０としてＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４３００、３８μｍ）を用いた以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬ積層体を作製した。
第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４との間の距離は、２１０μｍである。
【０１３７】
［実施例６］
各層を貼合する粘着シートとして８１４６−４（厚さ１００μｍ、３Ｍ社製）を用い、透明樹脂基材３０としてＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４３００、１００μｍ）を用い、第２のガスバリアフィルムの樹脂基材３６として、厚さ５０μｍのポリイミドフィルム（東レ・デュポン社製、カプトン）を用いた以外は、実施例５と同様にして有機ＥＬ積層体を作製した。
第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４との間の距離は、５２０μｍである。
【０１３８】
［実施例７］
位相差層１８および偏光子層２０に代えて、タッチパネル層４８を有する構成とした以外は、実施例６と同様にして有機ＥＬ積層体を作製した。
第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４との間の距離は、４００μｍである。
【０１３９】
［比較例１］
第１のガスバリアフィルム１２に代えて、ガラス基板（コーニング社製、厚さ７００μｍ）を用いた以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬ積層体を作製した。
【０１４０】
［比較例２］
第１のガスバリアフィルム１２に代えて、透明樹脂基材３０と同様の基材を用いた以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ積層体を作製した。
【０１４１】
［比較例３］
第１のガスバリアフィルムおよび第２のガスバリアフィルムにおいて、ガスバリア層を無機層のみとした以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬ積層体を作製した。
実施例１〜７の構成を表１に示し、比較例１〜３の構成を表２に示す。なお、透明樹脂基材の項目において、透明ポリイミドフィルムを「透明ＰＩ基材」と表し、樹脂基材の項目において、ポリイミドフィルムを「ＰＩ」と表す。
【０１４２】
【表１】
2020129430.tif 000003
【０１４３】
【表２】
2020129430.tif 000004
【０１４４】
［評価］
作製した実施例および比較例の有機ＥＬ積層体について、有機ＥＬ素子の耐久性、可撓性および滑り性の評価を行った。
【０１４５】
＜有機ＥＬ素子の耐久性＞
作製した有機ＥＬ積層体を、温度６０℃、湿度９０％ＲＨの環境下に、１００時間、放置した。放置後、各有機ＥＬ積層体を、Ｋｅｉｔｈｌｅｌ社製のＳＭＵ２４００型ソースメジャーユニットを用いて７Ｖの電圧を印加して発光させた。顕微鏡によって、ガスバリアフィルム側から観測して、ダークスポットの占有率を求めて、以下の基準で評価した。
ＡＡ：ダークスポットの占有率が２％未満である
Ａ：ダークスポットの占有率が２％以上５％未満である
Ｂ：ダークスポットの占有率が５％以上２０％未満である
Ｃ：ダークスポットの占有率が２０％以上である
【０１４６】
＜可撓性＞
ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−１に準拠したマンドレル法を用いて有機ＥＬ積層体の可撓性を以下の基準で評価した。
Ａ：マンドレル半径が８ｍｍ未満で１００回曲げても剥離、折れおよび破損が生じなかった
Ｂ：マンドレル半径が８ｍｍ以上１４ｍｍ未満の範囲で１００回曲げても剥離、折れおよび破損が生じなかった
Ｃ：マンドレル半径が１４ｍｍ以上でも１００回曲げると剥離、折れおよび破損のいずれかが生じた
【０１４７】
＜滑り性＞
有機ＥＬ積層体の透明樹脂基材側（ハードコート層側）を指で触り、ガラス表面での指滑り性との違いの有無で滑り性を評価した。
Ａ：５人中３人以上が違いが無いと評価した
Ｂ：５人中３人未満が違いが無いと評価した
結果を下記の表に示す。
【０１４８】
【表３】
2020129430.tif 000005
【０１４９】
上記表３に示されるように、本発明の実施例１〜７は、比較例１〜３と比較して、有機ＥＬ素子の耐久性および可撓性が共に良好であることがわかる。
また、実施例１と実施例２との対比から、ハードコート層を設けることで、可撓性がやや低下するものの、滑り性が良好になることがわかる。
また、実施例１と実施例３との対比から、端面封止層を設けることで、有機ＥＬ素子の耐久性がより向上することがわかる。
また、実施例５と実施例６との対比から、第１のガスバリアフィルム１２と第２のガスバリアフィルム１４との間の距離が短いほど有機ＥＬ素子の耐久性および可撓性が向上し好ましいことがわかる。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
【符号の説明】
【０１５０】
１０ａ〜１０ｅ  有機ＥＬ積層体
１２  第１のガスバリアフィルム
１４  第２のガスバリアフィルム
１６  有機ＥＬ素子
１８  位相差層
２０  偏光子層
２２  粘着層
３０  透明樹脂基材
３２、３８  ガスバリア層
３６  樹脂基材
４０、４０ａ  無機層
４２  有機層
４６  ハードコート層
４８  タッチパネル層
５０  端面封止層
【図１】
2020129430.tif 000006
【図２】
2020129430.tif 000007
【図３】
2020129430.tif 000008
【図４】
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【図５】
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【図６】
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