(57)【要約】【課題】消臭維持性が高いフィルターを提供する。【解決手段】表面粗さが１．０μｍ以上１０．０μｍ以下の紙製フィルター本体と、前記紙製フィルター本体に担持され、金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物が酸素原子を介して表面に結合し、かつ可視吸収スペクトルにおいて波長４５０ｎｍ及び７５０ｎｍに吸収を持つチタン化合物粒子からなる光触媒粒子と、を有するフィルター。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面粗さが１．０μｍ以上１０．０μｍ以下の紙製フィルター本体と、
前記紙製フィルター本体に担持され、金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物が酸素原子を介して表面に結合し、かつ可視吸収スペクトルにおいて波長４５０ｎｍ及び７５０ｎｍに吸収を持つチタン系化合物粒子からなる光触媒粒子と、
を有するフィルター。
【請求項２】
前記光触媒粒子が、可視吸収スペクトルにおいて波長４００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の全範囲に吸収を持つ請求項１に記載のフィルター。
【請求項３】
前記光触媒粒子が、赤外吸収スペクトルにおける２７００ｃｍ−１〜３０００ｃｍ−１に吸収ピークを持つチタン系化合物粒子である請求項１または請求項2に記載のフィルター。
【請求項４】
前記光触媒粒子が、メタチタン酸粒子、酸化チタン粒子、酸化チタンエアロゲル粒子、およびシリカチタニア複合エアロゲル粒子からなる群から選択される少なくとも１種の粒子である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のフィルター。
【請求項５】
前記光触媒粒子の平均粒径が、０．０１μｍ以上０．５μｍ以下である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のフィルター。
【請求項６】
前記光触媒粒子の平均粒径が、０．０２μｍ以上０．１５μｍ以下である請求項５に記載のフィルター。
【請求項７】
前記光触媒粒子の平均粒径と前記紙製フィルター本体の表面粗さとの比（平均粒径／表面粗さ）が、０．００１以上０．５以下である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のフィルター。
【請求項８】
前記光触媒粒子の平均粒径と前記紙製フィルター本体の繊維径との比（平均粒径／繊維径）が、０．０００１以上０．１以下である請求項７に記載のフィルター。
【請求項９】
前記光触媒粒子が、メタチタン酸粒子である請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載のフィルター。
【請求項１０】
フィルターの可視光透過率が３０％以上７０％以下の範囲である請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載のフィルター。
【請求項１１】
ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における前記紙製フィルター本体のＬ＊値（明度の規定）が３５％以上９５％以下の範囲である請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載のフィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
空気や水を浄化する方法として、光触媒作用を利用し、汚れや臭気物質を分解除去する方法が知られている。例えば、不織布などの繊維表面にアナターゼ型酸化チタンなどの光触媒粒子を担持したフィルターにＵＶ照射することで、フィルターに吸着した汚れや臭気成分を分解する各種浄化装置が提案されている。そして、光触媒粒子を担持したフィルターとしては、種々のフィルターが提案されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、「植物繊維系断熱ボードであって、植物繊維系コア材と、植物繊維体とを含んで構成され、前記コア材は、薄肉の壁部と、この薄肉の壁部により区画され前記植物繊維系断熱ボードの厚さ方向に貫通する複数の孔とを備えて前記植物繊維系断熱ボードの全域に位置するように設けられ、前記植物繊維体は、前記コア材の周囲および前記複数の孔の内部に取着され圧縮された植物繊維から構成されている、ことを特徴とする植物繊維系断熱ボード。」が開示されている。
【０００４】
特許文献２には、「表面から裏面に連通する複数の気孔（２ａ）を有する多孔質体（２）と、前記気孔（２ａ）の内面を含む前記多孔質体（２）の全表面の９５〜１００％に成膜された二酸化チタン含有膜（３）とを備えた多孔質体複合材。」が開示されている。
特許文献３には、「ハニカム式エアフィルタにおいて、ハニカム式紙製フィルタを具え、該ハニカム式紙製フィルタに化学物質が付着させられて濾過に供されることを特徴とする、ハニカム式エアフィルタ。」が開示されている。
特許文献４には、「内部に通風路を有する透光性ケースの当該送風路に、光触媒和紙にて形成された螺旋状のフィルターを回転自在に軸承し、ケースの一端に送風部に形成すると共に、他端を排風部に形成したことを特徴とする光触媒和紙を用いた空気清浄器。」が開示されている。
【０００５】
特許文献５には、「光触媒を担持させた無機繊維を基材繊維と混抄した光触媒紙状物であって、前記光触媒と基材繊維との接触を最小限にすることで基材劣化を抑制し、且つ光触媒による有害物質分解除去効果や生活環境改善効果を発揮することを特徴とする光触媒紙状物。」が開示されている。
特許文献６には、「チタニアを主成分とする光触媒を繊維状とし、バインダーを用いることなく空間に低密度で固定化することを特徴とする気相系環境浄化モジュール。」が開示されている。
特許文献７には、「繊維質の糸を、繊維質の紙で被覆してなる紙糸からなる織編物において、繊維質からなる糸と繊維質からなる紙の少なくとも一つにマイナスイオンを発する物質が織編物重量に対して０．１〜１０重量％の割合で存在することを特徴とする紙糸織編物。」が開示されている。
【０００６】
特許文献８には、「繊維質の糸からなる芯が、繊維質の紙の鞘で覆われてなる紙糸、または、繊維質の糸と繊維質の紙を混撚した紙糸を用いてなる紙糸織編物。」が開示されている。
特許文献９には、「光触媒を固定化したケイソウ土をすき込んだ固定化光触媒含有紙。」が開示されている。
特許文献１０には、「光触媒活性を有する無機微粒子が定着および／または固定したパルプおよび／または紙繊維を含有する含有水分量が１０重量％以上の光触媒パルプ組成物。」が開示されている。
【０００７】
特許文献１１には、「光触媒機能を有する無機物質層を有する金属繊維。」が開示されている。
特許文献１２には、「ハニカムコアの積層体を所定の傾斜角度で平行に厚み切断したフィルターエレメントの複数枚を、前記傾斜角度を逆にした状態で順次厚み方向に積層することにより各層フィルターエレメントのセルで形成される通路がくの字形又はジグザグ状に屈曲していることを特徴とする防塵フィルター。」が開示されている。
特許文献１３には、「ペーパーコアの少なくとも片面に板紙が貼付された展示パネル台板に印刷を施した印刷シートを貼り付けてなる展示パネルにおいて、板紙が白板紙を使用した展示パネル台板であり、印刷シートが基材の片面に密着層を設けたものであることを特徴とする展示パネル。」が開示されている。
特許文献１４には、「分子量２００００以下のポリアクリル酸及び／又はそのアルカリ金属塩、チタネートカップリング剤及び水を混合して得られたことを特徴とする繊維製品用防汚抗菌剤。」が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１１−２１８７６４号公報
【特許文献２】特開２００６−３０５５４７号公報
【特許文献３】特開２００５−１９９２６６号公報
【特許文献４】特開２００４−３３００８８号公報
【特許文献５】特開２００３−２３６３９１号公報
【特許文献６】特開２００２−２０４９２９号公報
【特許文献７】特開２００２−１９４６６７号公報
【特許文献８】特開２００２−１９４６４２号公報
【特許文献９】特開２００２−１６１４９６号公報
【特許文献１０】特開２００２−６１０９８号公報
【特許文献１１】特開２０００−１９９１７４号公報
【特許文献１２】特開平１１−５７３６０号公報
【特許文献１３】特開２００６−２７６１３７号公報
【特許文献１４】特開２００９−２６３８２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
光触媒粒子を担持した従来のフィルターでは、担持した光触媒粒子の脱離、光触媒粒子の光触媒能によるフィルターを構成する材料の劣化によって、経時で消臭性能が低下することがある。
【００１０】
そこで、本発明の課題は、表面粗さが１．０μｍ未満又は１０．０μｍ超えの紙製フィルター本体と、紙製フィルター本体に担持され、金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物が酸素原子を介して表面に結合し、かつ可視吸収スペクトルにおいて波長４５０ｎｍ及び７５０ｎｍに吸収を持つチタン系化合物粒子からなる光触媒粒子と、を有するフィルターに比べ、消臭維持性が高いフィルターを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記課題を解決するための具体的手段には、下記の態様が含まれる。
【００１２】
＜１＞
表面粗さが１．０μｍ以上１０．０μｍ以下の紙製フィルター本体と、
前記紙製フィルター本体に担持され、金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物が酸素原子を介して表面に結合し、かつ可視吸収スペクトルにおいて波長４５０ｎｍ及び７５０ｎｍに吸収を持つチタン系化合物粒子からなる光触媒粒子と、
を有するフィルター。
＜２＞
前記光触媒粒子が、可視吸収スペクトルにおいて波長４００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の全範囲に吸収を持つ＜１＞に記載のフィルター。
＜３＞  
前記光触媒粒子が、赤外吸収スペクトルにおける２７００ｃｍ−１〜３０００ｃｍ−１に吸収ピークを持つチタン系化合物粒子である＜１＞または＜2＞に記載のフィルター。
＜４＞
前記光触媒粒子が、メタチタン酸粒子、酸化チタン粒子、酸化チタンエアロゲル粒子、およびシリカチタニア複合エアロゲル粒子からなる群から選択される少なくとも１種の粒子である＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載のフィルター。
＜５＞
前記光触媒粒子の平均粒径が、０．０１μｍ以上０．５μｍ以下である＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載のフィルター。
＜６＞
前記光触媒粒子の平均粒径が、０．０２μｍ以上０．１５μｍ以下である＜５＞に記載のフィルター。
＜７＞
前記光触媒粒子の平均粒径と前記紙製フィルター本体の表面粗さとの比（平均粒径／表面粗さ）が、０．００１以上０．５以下である＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載のフィルター。
＜８＞
前記光触媒粒子の平均粒径と前記紙製フィルター本体の繊維径との比（平均粒径／繊維径）が、０．０００１以上０．１以下である＜７＞に記載のフィルター。
＜９＞
前記光触媒粒子が、メタチタン酸粒子である＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載のフィルター。
＜１０＞
フィルターの可視光透過率が３０％以上７０％以下の範囲である＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載のフィルター。
＜１１＞
ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における前記紙製フィルター本体のＬ＊値（明度の規定）が３５％以上９５％以下の範囲である＜１＞〜＜１０＞のいずれか１項に記載のフィルター。
【発明の効果】
【００１３】
＜１＞、＜２＞、＜３＞、又は＜４＞に係る発明によれば、表面粗さが１．０μｍ未満又は１０．０μｍ超えの紙製フィルター本体と、紙製フィルター本体に担持され、金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物が酸素原子を介して表面に結合し、かつ可視吸収スペクトルにおいて波長４５０ｎｍ及び７５０ｎｍに吸収を持つチタン系化合物粒子からなる光触媒粒子と、を有するフィルターに比べ、消臭維持性が高いフィルターが提供される。
＜５＞、又は＜６＞に係る発明によれば、光触媒粒子の平均粒径が０．０１μｍ未満又は０．５μｍ超えの場合に比べ、優れた消臭性を有するフィルターが提供される。
＜７＞、に係る発明によれば、光触媒粒子の平均粒径と前記紙製フィルター本体の表面粗さとの比（平均粒径／表面粗さ）が、０．００１未満又は０．５超えである場合に比べ、消臭維持性が高いフィルターが提供される。
＜８＞に係る発明によれば、光触媒粒子の平均粒径と前記紙製フィルター本体の繊維径との比（平均粒径／繊維径）が、０．０００１未満又は０．１超えである場合に比べ、消臭維持性が高いフィルターが提供される。
＜９＞に係る発明によれば、光触媒粒子がメタチタン酸粒子以外の光触媒粒子である場合に比べ、優れた消臭性を有するフィルターが提供される。
＜１０＞に係る発明によれば、フィルターの可視光透過率が３０％未満または７０％以上である場合に比べ、優れた消臭性を有するフィルターが提供される。
＜１１＞に係る発明によれば、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における紙製フィルター本体のＬ＊値が３５％未満又は９５％超えである場合に比べ、優れた消臭性を有するフィルターが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本実施形態に係るフィルターの一例を示す概略斜視図である。
【図２】図２は、本実施形態に係るフィルターの他の一例を示す概略斜視図である。
【図３】図３は、本実施形態に係るフィルターの他の一例を示す概略拡大図である。
【図４】図４は、光触媒粒子の担持状態を説明するための概略構成図である。
【図５】図５は、光触媒粒子の担持状態を説明するための概略構成図である。
【図６】図６は、シリカチタニア複合粒子の元素プロファイルの一例であり、上から順に、チタンの元素プロファイル、ケイ素の元素プロファイル、炭素の元素プロファイルである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に、本発明の一例である実施形態を説明する。これらの説明及び実施例は実施形態を例示するものであり、発明の範囲を制限するものではない。
【００１６】
本明細書において、組成物中の各成分の量について言及する場合、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計量を意味する。
「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
「ＸＰＳ」とは、Ｘ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ（Ｘ線光電子分光）の略である。
【００１７】
本実施形態に係るフィルターは、表面粗さが１．０μｍ以上１０．０μｍ以下の紙製フィルター本体と、と、紙製フィルター本体に担持された光触媒粒子と、を有する。
そして、光触媒粒子は、金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物が酸素原子を介して表面に結合し、かつ可視吸収スペクトルにおいて波長４５０ｎｍ及び７５０ｎｍに吸収を持つチタン化合物粒子（以下、「特定のチタン化合物粒子」とも称する。）からなる。
【００１８】
本実施形態に係るフィルターは、消臭維持性が高い。その理由は、次の通りと推測される。
【００１９】
光触媒粒子を担持した従来のフィルターでは、担持した光触媒粒子の脱離、光触媒粒子の光触媒能によるフィルターを構成する材料の劣化によって、経時で消臭性能が低下することがある。
具体的には、フィルターが紙製である場合、材質の特性上、光触媒粒子の光触媒機能の発現によって、光触媒粒子に接触している部分が徐々に劣化し、光触媒粒子の離脱、フィルター自体の欠落が生じ、経時による消臭性能の低下することがある。また、光触媒粒子の付着力が弱いことに起因して、使用による消臭性能の低下することがある。
【００２０】
それに対して、光触媒粒子としての「特定のチタン化合物粒子」は、金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物が酸素原子を介して表面に結合しており、表面が高い粘着性を有することから、紙製フィルター本体に対する付着力（担持力）が高い。また、疎水性も高いため、分散性も高い
その上、特定のチタン化合物粒子に、可視吸収スペクトルにおいて波長４５０ｎｍ及び７５０ｎｍに吸収を持っており、可視光領域における光触媒機能が高い。
一方で、このような、分散性および粘着性と共に光触媒機能が高い光触媒粒子を、紙製フィルター本体に担持しても、紙製フィルター本体の表面性状によっては、フィルターの表面性状によっては、１）担持量が増加し難い、２）過度に担持量を増加しても光触媒粒子の埋没が生じる、３）光触媒粒子の離脱が生じる、とい現象が起こることがある。そのため、消臭維持性が低くなることがある。
【００２１】
しかし、表面粗さが１．０μｍ以上１０μｍ以下の紙製フィルター本体に、上記特定のチタン化合物粒子からなる光触媒粒子を担持させると、１）担持量の増加、光触媒粒子の埋没、光触媒粒子の離脱が抑制される。これは、凹部の隙間に対して光触媒粒子の粒径が沈着するにあたって最適な範囲となることから担持され、担持量も増加することなから埋没、離脱を抑制しでき、強固に紙製フィルタ本体へ担持することができると考えられるためである。
また、上記特定のチタン化合物粒子からなる光触媒粒子は、表面に「金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物」が存在していることから、直接、紙製フィルター本体を構成する材料に光触媒作用が働かず、材料劣化も抑えられる。
その結果、消臭維持性が高まる。
【００２２】
以上から、本実施形態に係るフィルターは、消臭維持性が高くなると推測される。
【００２３】
また、本実施形態に係るフィルターにおいて、特定のチタン化合物粒子からなる光触媒粒子は、表面の粘着性が高いため、消臭成分の吸着性も高い。そのため、消臭性も高い。
【００２４】
以下、本実施形態に係るフィルターの一例について、図面を参照しつつ説明する。
【００２５】
本実施形態に係るフィルター１０１は、図１〜図２に示すように、紙製フィルター本体２０と、紙製フィルター本体２０に担持された光触媒粒子１０と、を有している。
【００２６】
［紙製フィルター本体２０］
紙製フィルター本体２０（以下、単に「フィルター本体２０」とも称する）は、光触媒粒子１０を担持させる対象のフィルターである。
フィルター本体２０は、自身が、紙製で、通気性および通液性を有し、かつフィルター機能を有する部材である。
【００２７】
フィルター本体２０の表面粗さは、１．０μｍ以上１０．０μｍ以下であるが、消臭維持性向上の観点から、１．５μｍ以上８．０μｍ以下が好ましく、２．０μｍ以上５．０μｍ以下がより好ましい。
なお、フィルター本体２０の表面粗さは、フィルター本体２０が紙製シートの単層体又は積層体の場合、その表面の表面粗さであり、フィルター本体２０が開口部を有する部材である場合、開口部の壁面の表面粗さである。
【００２８】
フィルター本体２０の表面粗さは、ＪＩＳ  Ｐ  ８１５１（２００４）「紙及び板紙−表面粗さ及び平滑度試験方法（エア・リーク法）−プリント・サーフ試験機法」（ＩＳＯ ８７９１−４「紙及び板紙−粗さ平滑度試験方法（空気漏洩法）−第４部：プリントサーフ法」）に記載の方法に準拠して測定する。
【００２９】
フィルター本体２０は、例えば、紙製シートの単層体又は積層体、開口部を有する構造体（例えば、ハニカム形状の構造体）等が例示される。
開口部を有する構造体、特に、ハニカム形状の構造体は、開口部から内部へ可視光が到達し、光触媒粒子の光触媒機能が発揮し易くなる観点（つまり、消臭性向上の観点）で、好適である。
【００３０】
ハニカム形状の構造体は、展張型ハニカム形状の構造体（図１参照）、コルゲートボード型ハニカム形状の構造体（図２参照）が挙げられる。なお、図１〜図２中、２０Ａは、構造体の開口部を示している。
【００３１】
展張型ハニカム形状の構造体は、例えば、積層したときに展張型ハニカム形状（蜂の巣状のハニカム形状）の開口部を形成できるように折り曲げた加工が施された紙製シートを積層した積層体である。
コルゲートボード型の構造体は、例えば、波型状に折り曲げ加工を施した波型状紙製シートと、平板状のシートとを、交互に積層した積層体である。なお、波型状紙製シートと平板状のシートとは、波型状紙製シートの波状頂点部で接着される。
なお、各紙製シートは、紙製シートの単層体であってもよいし、紙製シートの積層体であってもよい。
【００３２】
ハニカム形状の構造体の開口部の平均開口径は、消臭性向上の観点から、０．５ｍｍ以上１５ｍｍ以下が好ましく、１．０ｍｍ以上１０ｍｍ以下がより好ましく、２．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下がさらに好ましい。
【００３３】
ハニカム形状の構造体の開口部の平均開口径は、次の通り、測定される。
ハニカム形状の構造体の開口面を観察し、１０個の開口部の円相当径を測定する。そして、測定した円相当径の算術平均値を、開口部の平均開口径とする。
【００３４】
ハニカム形状の構造体の開口面の空隙率は、消臭性向上の観点から、２０％以上８０％以下が好ましく、３０％以上７０％以下がより好ましく、３５％以上６０％以下がさらに好ましい。
【００３５】
ハニカム形状の構造体の開口面の空隙率は、次の通り、測定される。
ハニカム形状の構造体の開口面の全面を観察し、開口部の総面積を求める。そして、ハニカム形状の構造体の開口面面積に対する開口部の面積率の割合を算出し、この割合をハニカム形状の構造体の開口面の空隙率とする。
【００３６】
なお、フィルター本体２０の形状は、特に制限はなく、板状、円柱状、円筒状、角柱状、角筒状等の周知の形状であればよい。
【００３７】
次に、フィルター本体２０の構成材料について説明する。
フィルター本体２０を構成する材料は、紙製材料が適用される。
紙製材料は、パルプ繊維（セルロース繊維含む）を主成分として含む材料である。紙製材料は、必要に応じて、填料等の周知の各種添加剤を含んでもよい。なお、主成分とは、全成分のうち、最も含有量（体積％）が多い成分である。
【００３８】
パルプ繊維（セルロース繊維含む）としては、化学パルプ、具体的には、広葉樹晒クラフトパルプ、広葉樹未晒クラフトパルプ、針葉樹晒クラフトパルプ、針葉樹未晒クラフトパルプ、広葉樹晒亜硫酸パルプ、広葉樹未晒亜硫酸パルプ、針葉樹晒亜硫酸パルプ、針葉樹未晒亜硫酸パルプ等のほか、古紙、木材、綿、麻、じん皮等の繊維原料を化学的に処理して作製されたパルプ等の周知のパルプが挙げられる。
【００３９】
パルプ繊維（セルロース繊維含む）の平均繊維径は、消臭性向上および消臭維持性向上の観点から、５μｍ以上７０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以上３０μｍ以下がさらに好ましい。
パルプ繊維（セルロース繊維含む）の平均繊維長は、消臭性向上および消臭維持性向上の観点から、０．５ｍｍ以上５ｍｍ以下が好ましく、０．８ｍｍ以上１．８ｍｍ以下がより好ましく、１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ以下がさらに好ましい。
パルプ繊維の平均繊維径および平均繊維長は、電子顕微鏡観察により、２０個のパルプ繊維の繊維径および繊維長を測定し、その算術平均値とする。
【００４０】
紙製材料の坪量は、消臭性向上および消臭維持性向上の観点から、３０ｇ／ｍ２以上２１０ｇ／ｍ２以下が好ましく、４０ｇ／ｍ２以上１５０ｇ／ｍ２以下がより好ましく、５０ｇ／ｍ２以上１００ｇ／ｍ２以下がさらに好ましい。
紙製材料の坪量は、ＪＩＳ  Ｐ  ８１２４（２０１１）に準じて測定した値である。
【００４１】
紙製材料は、シート状の材料であってもよい。また、紙製材料は、紙製線状体、紙製帯状体等であってよい。紙製線状体、紙製帯状体は、例えば、織り込み、又は編み込みにより、シート状の材料として利用してもよい。これらシート状の材料が、例えば、上述した紙製シートとして利用できる。
【００４２】
［光触媒粒子］
光触媒粒子１０は、例えば、フィルター本体２０（具体的には、フィルター本体２０の
表層を構成する紙のパルプ繊維の表面）に付着している（図３参照）。なお、図３中、２０Ｂは紙のパルプ繊維を示す。
【００４３】
例えば、光触媒粒子１０が、メタチタン酸粒子、酸化チタン粒子の場合、光触媒粒子１０は、図４に示すように、一次粒子の状態でフィルター本体２０に付着していることが好ましい。
また、例えば、光触媒粒子１０が、酸化チタンエアロゲル粒子、およびシリカチタニア複合エアロゲル粒子の場合、光触媒粒子１０は、図５に示すように、エアロゲル構造を有する凝集体として、フィルター本体２０に付着していることが好ましい。
なお、「エアロゲル構造」とは、一次粒子が多孔構造を形成しつつ凝集した構造を指し、ナノメートルオーダー径の粒状物が集合したクラスター構造を有し、内部が３次元網目状の微細構造を示す。
【００４４】
以下、光触媒粒子１０の詳細について説明する。ただし、符号は省略して説明する。
光触媒粒子は、可視吸収スペクトルにおいて波長４５０ｎｍ及び７５０ｎｍに吸収を持つ光触媒粒子である。それにより、可視光による高い光触媒機能を有する。
具体的には、光触媒粒子は、金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物が酸素原子を介して表面に結合した粒子である。
【００４５】
金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物が酸素原子を介して表面に結合した粒子は、例えば、未処理の粒子（例えば、未処理の、メタチタン酸粒子、酸化チタン粒子、酸化チタンエアロゲル粒子、およびシリカチタニア複合エアロゲル粒子）を、炭化水素基を有する金属化合物により表面処理し、そして、加熱処理により前記炭化水素基の少なくとも一部を酸化してＣ−Ｏ結合又はＣ＝Ｏ結合に変化させることにより得られる。詳細な機序は不明であるが、炭素原子が適度に酸化されている有機金属化合物と酸素原子とチタン原子（又はケイ素原子）とが共有結合で順に連なっている構造が粒子の表面に存在することにより、粒子表面が波長４５０ｎｍ及び７５０ｎｍに光吸収性を示し、粒子が可視光による光触媒機能（可視光応答性）を発現すると推測される。
ここで、以下、金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物を、単に「有機金属化合物」とも称する。
【００４６】
光触媒粒子は、可視光領域においても高い光触媒機能を発現することに加えて、下記の観点からも有利である。
一般的に、未処理の粒子（例えば、未処理の、メタチタン酸粒子、酸化チタン粒子、酸化チタンエアロゲル粒子、およびシリカチタニア複合エアロゲル粒子）は、親水性が高く、また粒子凝集性が高いため、フィルター本体に対する分散性および付着性が悪い傾向がある。
一方、光触媒粒子が、表面に有機金属化合物に由来する炭化水素基を有することで、疎水性が高まり、フィルター本体に対する分散性および付着性がよくなる。そのため、光触媒粒子は、フィルター本体に均一に近い状態で付着し、かつフィルター本体から離脱し難くなる。
【００４７】
−未処理の粒子−
有機金属化合物により表面処理する対象の粒子（未処理の粒子）は、例えば、未処理のチタン化合物粒子が挙げられる。未処理のチタン化合物粒子としては、メタチタン酸粒子、酸化チタン粒子、酸化チタンエアロゲル粒子、シリカチタニア複合エアロゲル粒子等の未処理の粒子が好適に挙げられる。これらの中でも、消臭性向上の観点から、未処理のメタチタン酸粒子が好ましい。
つまり、光触媒粒子としては、メタチタン酸粒子、酸化チタン粒子、酸化チタンエアロゲル粒子、およびシリカチタニア複合エアロゲル粒子からなる群から選択される少なくとも１種の粒子が好適に挙げられる。そして、メタチタン酸粒子が好ましい。
【００４８】
ここで、エアロゲル構造を有する凝集体として、光触媒粒子をフィルター本体の表面に付着させる場合、未処理のチタン化合物粒子は、未処理の酸化チタンエアロゲル粒子、及びシリカチタニア複合エアロゲル粒子の少なくとも一種を適用することがよい。
【００４９】
−未処理のメタチタン酸粒子−
未処理のメタチタン酸粒子は、チタン酸水和物ＴｉＯ２・ｎＨ２Ｏのうち、ｎ＝１のチタン酸の粒子をいう。
未処理のメタチタン酸粒子の製法は、特に制限はないが、例えば、塩素法（気相法）、硫酸法（液相法）が挙げられ、硫酸法（液相法）が好ましい。
硫酸法（液相法）の一例は、次の通りである。まず、原料であるイルメナイト鉱石（ＦｅＴｉＯ３）又はチタンスラグを濃硫酸に溶解させ、不純物である鉄成分を硫酸鉄（ＦｅＳＯ４）として分離し、一度、オキシ硫酸チタン（ＴｉＯＳＯ４）とする（硫酸チタニル溶液）。次に、オキシ硫酸チタン（ＴｉＯＳＯ４）を加水分解することにより、未処理のメタチタン酸［オキシ水酸化チタン（ＴｉＯ（ＯＨ）２）］粒子が得られる。
【００５０】
−未処理の酸化チタン粒子−
未処理の酸化チタン粒子としては、例えば、ブルッカイト型、アナターゼ型、ルチル型等の酸化チタンの粒子が挙げられる。酸化チタン粒子は、ブルッカイト、アナターゼ、ルチル等の単結晶構造を有してもよく、これら結晶が共存する混晶構造を有してもよい。
未処理の酸化チタン粒子の製法は、特に制限はないが、例えば、塩素法（気相法）、硫酸法（液相法）が挙げられる。
【００５１】
−未処理の酸化チタンエアロゲル粒子−
未処理の酸化チタンエアロゲル粒子は、チタンアルコキシドを材料に用いたゾルゲル法により製造することがよい。
なお、未処理の酸化チタンエアロゲル粒子は、チタンアルコキシドの加水分解縮合物からなることが好ましい。ただし、チタンアルコキシドのアルコキシ基の一部が未反応のまま粒子に残留していてもよい。
【００５２】
以下、未処理の酸化チタンエアロゲル粒子の製造方法について説明する。
未処理の酸化チタンエアロゲル粒子の製造方法は、少なくとも下記の（１）及び（２）を含むことが好ましい。
（１）酸化チタンを含む多孔質粒子をゾルゲル法により造粒し、前記多孔質粒子及び溶媒を含有する分散液を調製する工程（分散液調製工程）。
（２）超臨界二酸化炭素を用いて前記分散液から前記溶媒を除去する工程（溶媒除去工程）。
【００５３】
（１）分散液調製工程
分散液調製工程は、例えば、チタンアルコキシドを材料にして、チタンアルコキシドの反応（加水分解及び縮合）を生じさせて酸化チタンを生成し、酸化チタンを含む多孔質粒子が溶媒に分散した分散液を得る工程である。
【００５４】
分散液調製工程は、具体的には、例えば下記の工程とする。
アルコールにチタンアルコキシドを添加し、撹拌下、そこに酸水溶液を滴下してチタンアルコキシドを反応させて酸化チタンを生成し、酸化チタンを含む多孔質粒子がアルコールに分散した分散液（多孔質粒子分散液）を得る。
【００５５】
ここで、分散液調整工程のチタンアルコキシド添加量により、多孔質粒子の一次粒径を制御することができ、チタンアルコキシド添加量が多いほど多孔質粒子の一次粒径が小さくなる。アルコールに対するチタンアルコキシドの質量比は、０．０４以上０．６５以下が好ましく、０．１以上０．５以下がより好ましい。
【００５６】
分散液調製工程に用いるチタンアルコキシドとしては、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブトキシチタン等のテトラアルコキシチタン、ジ−ｉプロポキシ・ビス（エチルアセテート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウム等のアルコキシ基の一部をキレート化したアルコキシチタンキレート等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
なお、酸化チタンエアロゲル粒子は、ケイ素やアルミニウム等のチタン以外の金属元素を少量含んでも良い。この場合は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のアルキルジアルコキシシラン、アルミニウムイソプロポキシド等のアルミニウムアルコキシド等を用いても良く、ケイ素元素を含む場合、ケイ素とチタンとの元素比Ｓｉ／Ｔｉが０〜０．０５の範囲で用いることができる。
【００５７】
分散液調製工程に用いるアルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５８】
分散液調製工程に用いる酸水溶液の酸としては、シュウ酸、酢酸、塩酸、硝酸等が挙げられる。酸水溶液の酸濃度は０．００１質量％以上１質量％以下が好ましく、０．００５質量％以上０．０１質量％以下がより好ましい。
【００５９】
分散液調製工程おける酸水溶液の滴下量は、チタンアルコキシド１００質量部に対して、０．００１質量部以上０．１質量部以下が好ましい。
【００６０】
分散液調製工程によって得られる多孔質粒子分散液は、固形分濃度が１質量％以上３０質量％以下であることが好ましい。
【００６１】
（２）溶媒除去工程
溶媒除去工程は、超臨界二酸化炭素を、多孔質粒子及び溶媒を含有する分散液に接触させて、溶媒を除去する工程である。超臨界二酸化炭素による溶媒除去処理は、加熱による溶媒除去処理に比べて、多孔質粒子の孔のつぶれや閉塞を起しにくい。溶媒除去工程が超臨界二酸化炭素によって溶媒を除去する工程であることにより、ＢＥＴ比表面積が１２０ｍ２／ｇ以上の酸化チタンエアロゲル粒子を得ることができる。
【００６２】
溶媒除去工程は、具体的には、例えば以下の操作によって行う。
密閉反応器に多孔質粒子分散液を投入し、次いで液化二酸化炭素を導入した後、密閉反応器を加熱すると共に高圧ポンプにより密閉反応器内を昇圧させ、密閉反応器内の二酸化炭素を超臨界状態とする。そして、密閉反応器に液化二酸化炭素を流入させ、密閉反応器から超臨界二酸化炭素を流出させることで、密閉反応器内において多孔質粒子分散液に超臨界二酸化炭素を流通させる。多孔質粒子分散液に超臨界二酸化炭素が流通する間に、溶媒が超臨界二酸化炭素に溶解し、密閉反応器外へ流出する超臨界二酸化炭素に同伴して溶媒が除去される。
【００６３】
上記の密閉反応器内の温度及び圧力は、二酸化炭素を超臨界状態にする温度及び圧力とする。二酸化炭素の臨界点が３１．１℃／７．３８ＭＰａであるところ、例えば、温度５０℃以上２００℃以下／圧力１０ＭＰａ以上３０ＭＰａ以下の温度及び圧力とする。
【００６４】
−未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子−
未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子としては、ケイ素とチタンの複合酸化物であるシリカチタニア複合体を主成分（粒子全成分のうち、最も多い成分）として含む粒子である。
未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子におけるケイ素とチタンとの元素比Ｓｉ／Ｔｉの値は、可視光領域において光触媒機能を発現する観点から、０を超えて６以下であることが好ましく、０．０５以上４以下がより好ましく、０．１以上３以下が更に好ましい。
【００６５】
ケイ素原子とチタン原子との元素比（Ｓｉ／Ｔｉ）は、ＸＰＳの定性分析（ワイドスキャン分析）を行い、シリカチタニア複合体の元素プロファイルを作成して求める。  具体的には、次の通りである。
【００６６】
ＸＰＳ分析装置を使用し、下記の設定で、シリカチタニア複合体の表面から深さ方向にエッチングしながら定性分析（ワイドスキャン分析）を行い、チタン原子、ケイ素原子及び炭素原子の同定及び定量を行った。得られたデータから、チタン原子、ケイ素原子及び炭素原子それぞれについて、縦軸がピーク強度で横軸がエッチング時間である元素プロファイルを描き、プロファイル曲線を変曲点によって複数の領域に区別し、チタン原子のピーク強度及びケイ素原子のピーク強度がほぼ一定である領域（後述の領域Ａ）を特定し、該領域における元素比Ｓｉ／Ｔｉを求める。
・ＸＰＳ分析装置：アルバック・ファイ社製、Versa ProbeII
・Ｘ線源：単色化ＡｌＫα線
・加速電圧：１５ｋＶ
・Ｘ線ビーム径：１００μｍ
・エッチング銃：アルゴンイオンビーム
・エッチング出力：４ｋＶ
【００６７】
未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子において、シリカ成分及びチタニア成分の総含有量は、複合体の全質量に対して、８０質量％以上が好ましく、９０質量％以上がより好ましく、９５質量％以上が更に好ましい。
【００６８】
未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子は、ケイ素とチタンとの元素比Ｓｉ／Ｔｉの値が０を超えて６以下である母粒子と、母粒子の表面に存在するチタニア層（チタニアからなる層）と、を有する粒子であってもよい。つまり、未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子は、表層にチタニア層を有する粒子であってもよい。この粒子を適用すると、光触媒機能が高まるため好適である。
【００６９】
未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子の製造方法は、アルコキシシランとチタンアルコキシドを材料に用いたゾルゲル法が好ましい。
なお、未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子は、アルコキシシランとチタンアルコキシドとの加水分解縮合物からなることが好ましい。ただし、アルコキシシラン又はチタンアルコキシドのアルコキシ基等の炭化水素基の一部が未反応のまま複合体中に残留することがある。
【００７０】
以下、未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子の製造方法について説明する。
未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子の製造方法は、少なくとも下記の（１’）及び（２’）を含むことが好ましい。
（１’）シリカチタニア複合体を含む多孔質粒子をゾルゲル法により造粒し、前記多孔質粒子及び溶媒を含有する分散液を調製する工程（分散液調製工程）。
（２’）超臨界二酸化炭素を用いて前記分散液から前記溶媒を除去する工程（溶媒除去工程）。
【００７１】
（１’）分散液調製工程
分散液調製工程は、例えば、アルコキシシランとチタンアルコキシドとを材料にして、両者の反応（加水分解及び縮合）を生じさせてシリカチタニア複合体を生成し、シリカチタニア複合体を含む多孔質粒子が溶媒に分散した分散液を得る工程である。ここで、多孔質粒子は、シリカチタニア複合体を含む一次粒子が多孔構造を形成しつつ凝集した凝集粒子であることが好ましい。
【００７２】
分散液調製工程は、具体的には、例えば下記の工程とする。
アルコールにアルコキシシラン及びチタンアルコキシドを添加し、撹拌下、そこに酸水溶液を滴下してアルコキシシランとチタンアルコキシドとを反応させてシリカチタニア複合体を生成し、シリカチタニア複合体を含む多孔質粒子がアルコールに分散した分散液（多孔質粒子分散液）を得る。
【００７３】
分散液調製工程におけるアルコキシシランとチタンアルコキシドとの混合比を調節することにより、未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子におけるケイ素とチタンとの元素比Ｓｉ／Ｔｉを制御することができる。
【００７４】
分散液調製工程におけるアルコール量に対するアルコキシシランとチタンアルコキシドとの合計量により、未処理のシリカチタニアエアロゲル粒子を構成する一次粒子の粒径及び未処理のシリカチタニアエアロゲル粒子の粒径を制御することができる。また、アルコール量に対する前記合計量が多いほど、未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子を構成する一次粒子の粒径が小さくなり、未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子の粒径が大きくなる。アルコキシシランとチタンアルコキシドとの合計量は、アルコール１００質量部に対して、４質量部以上２５０質量部以下が好ましく、１０質量部以上５０質量部以下がより好ましい。
【００７５】
分散液調製工程に用いるアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のアルキルジアルコキシシランなどが挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７６】
分散液調製工程に用いるチタンアルコキシドとしては、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブトキシチタン等のテトラアルコキシチタン、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウム等のアルコキシ基の一部をキレート化したアルコキシチタンキレートなどが挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７７】
分散液調製工程に用いるアルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７８】
分散液調製工程に用いる酸水溶液の酸としては、シュウ酸、酢酸、塩酸、硝酸等が挙げられる。酸水溶液の酸濃度は０．００１質量％以上１質量％以下が好ましく、０．００５質量％以上０．０１質量％以下がより好ましい。
【００７９】
分散液調製工程おける酸水溶液の滴下量は、アルコキシシランとチタンアルコキシドの合計量１００質量部に対して、０．００１質量部以上０．１質量部以下が好ましい。
【００８０】
分散液調製工程によって得られる多孔質粒子分散液は、固形分濃度が１質量％以上３０質量％以下であることが好ましい。
【００８１】
（２’）溶媒除去工程
溶媒除去工程は、超臨界二酸化炭素を、多孔質粒子及び溶媒を含有する分散液に接触させて、溶媒を除去する工程である。超臨界二酸化炭素による溶媒除去処理は、加熱による溶媒除去処理に比べて、多孔質粒子（特には、一次粒子が多孔構造を形成しつつ凝集した凝集粒子）の孔のつぶれや閉塞を起しにくい。溶媒除去工程が超臨界二酸化炭素によって溶媒を除去する工程であることにより、ＢＥＴ比表面積が２００ｍ２／ｇ以上の未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子を得ることができる。
【００８２】
溶媒除去工程は、具体的には、例えば以下の操作によって行う。
密閉反応器に多孔質粒子分散液を投入し、次いで液化二酸化炭素を導入した後、密閉反応器を加熱すると共に高圧ポンプにより密閉反応器内を昇圧させ、密閉反応器内の二酸化炭素を超臨界状態とする。そして、密閉反応器に液化二酸化炭素を流入させ、密閉反応器から超臨界二酸化炭素を流出させることで、密閉反応器内において多孔質粒子分散液に超臨界二酸化炭素を流通させる。多孔質粒子分散液に超臨界二酸化炭素が流通する間に、溶媒が超臨界二酸化炭素に溶解し、密閉反応器外へ流出する超臨界二酸化炭素に同伴して溶媒が除去される。
【００８３】
上記の密閉反応器内の温度及び圧力は、二酸化炭素を超臨界状態にする温度及び圧力とする。二酸化炭素の臨界点が３１．１℃／７．３８ＭＰａであるところ、例えば、温度５０℃以上２００℃以下／圧力１０ＭＰａ以上３０ＭＰａ以下の温度及び圧力とする。
【００８４】
ここで、未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子として、表層にチタニア層を有する粒子を製造する場合、上記（１’）分散液調製工程は、下記下記（ｉ）及び（ｉｉ）を実施することがよい。
（ｉ）アルコールにアルコキシシラン及びチタンアルコキシドを添加し、撹拌下、そこに酸水溶液を滴下してアルコキシシランとチタンアルコキシドとを反応させてシリカチタニア複合体を生成し、シリカチタニア複合体を含む母粒子がアルコールに分散した分散液（第一の分散液）を得る。
（ｉｉ）第一の分散液に、撹拌下、アルコールにチタンアルコキシドを混合してなる混合液を滴下して、母粒子とチタンアルコキシドとを反応させて母粒子表面に中間層が形成された多孔質粒子を生成し、該多孔質粒子がアルコールに分散した分散液（第二の分散液）を得る。
【００８５】
（有機金属化合物）
有機金属化合物は、金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物である。
有機金属化合物は、可視光応答性をより発現しやすい観点から、金属原子、炭素原子、水素原子及び酸素原子のみからなる金属化合物であることが好ましい。
【００８６】
有機金属化合物は、可視光応答性をより発現しやすい観点から、有機金属化合物中の金属原子Ｍに直接結合した酸素原子Ｏを介して粒子の表面に結合していること、即ち、Ｍ−Ｏ−Ｔｉ（又はＭ−Ｏ−Ｓｉ）なる共有結合によって粒子の表面に結合していることが好ましい。
【００８７】
有機金属化合物としては、可視光応答性をより発現しやすい観点から、金属原子Ｍと金属原子Ｍに直接結合した炭化水素基とを有する有機金属化合物が好ましい。該有機金属化合物は、該有機金属化合物中の金属原子Ｍに直接結合した酸素原子Ｏを介して粒子の表面に結合していることが好ましい。即ち、粒子の表面には、可視光応答性をより発現しやすい観点から、炭化水素基と、金属原子Ｍと、酸素原子Ｏと、チタン原子Ｔｉとが共有結合で順に連なった構造（炭化水素基−Ｍ−Ｏ−Ｔｉ（又は炭化水素基−Ｍ−Ｏ−Ｓｉ））が存在することが好ましい。
【００８８】
有機金属化合物が複数個の炭化水素基を有する場合、少なくとも１個の炭化水素基が、該有機金属化合物中の金属原子に直接結合していることが好ましい。
【００８９】
有機金属化合物における原子間の化学結合状態は、ＸＰＳ（X-ray Photoelectron Spectroscopy、Ｘ線光電子分光）の高分解能分析（ナロースキャン分析）を行うことにより知ることができる。
【００９０】
有機金属化合物の金属原子Ｍとしては、ケイ素、アルミニウム又はチタンが好ましく、ケイ素又はアルミニウムがより好ましく、ケイ素が特に好ましい。
【００９１】
有機金属化合物が有する炭化水素基としては、炭素数１以上４０以下（好ましくは炭素数１以上２０以下、より好ましくは炭素数１以上１８以下、更に好ましくは炭素数４以上１２以下、更に好ましくは炭素数４以上１０以下）の飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基、炭素数６以上２７以下（好ましくは炭素数６以上２０以下、より好ましくは炭素数６以上１８以下、更に好ましくは炭素数６以上１２以下、特に好ましくは炭素数６以上１０以下）の芳香族炭化水素基が挙げられる。
【００９２】
有機金属化合物が有する炭化水素基は、高い光触媒機能の発現及び分散性の向上の観点から、脂肪族炭化水素基であることが好ましく、飽和脂肪族炭化水素基であることがより好ましく、アルキル基であることが特に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよいが、分散性の観点から、直鎖状又は分岐鎖状が好ましい。脂肪族炭化水素基の炭素数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１８以下がより好ましく、４以上１２以下が更に好ましく、４以上１０以下が特に好ましい。
【００９３】
有機金属化合物としては、炭化水素基を有するシラン化合物が特に好ましい。炭化水素基を有するシラン化合物としては、例えば、クロロシラン化合物、アルコキシシラン化合物、などが挙げられる。
【００９４】
炭化水素基を有するシラン化合物としては、高い光触媒機能の発揮及び分散性の向上の観点から、式（１）：Ｒ１ｎＳｉＲ２ｍで表される化合物が好ましい。
【００９５】
式（１）：Ｒ１ｎＳｉＲ２ｍにおいて、Ｒ１は炭素数１以上２０以下の飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基又は炭素数６以上２０以下の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ２はハロゲン原子又はアルコキシ基を表し、ｎは１以上３以下の整数を表し、ｍは１以上３以下の整数を表し、但しｎ＋ｍ＝４である。ｎが２又は３の整数である場合、複数のＲ１は同じ基でもよいし、異なる基でもよい。ｍが２又は３の整数である場合、複数のＲ２は同じ基でもよいし、異なる基でもよい。
【００９６】
Ｒ１で表される脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよいが、分散性の観点から、直鎖状又は分岐鎖状が好ましい。脂肪族炭化水素基の炭素数は、高い光触媒機能の発現及び分散性の向上の観点から、炭素数１以上２０以下が好ましく、炭素数１以上１８以下がより好ましく、炭素数４以上１２以下が更に好ましく、炭素数４以上１０以下が更に好ましい。脂肪族炭化水素基は、飽和及び不飽和のいずれでもよいが、高い光触媒機能の発現及び分散性の向上の観点から、飽和脂肪族炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【００９７】
飽和脂肪族炭化水素基としては、直鎖状アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、イコシル基等）、分岐鎖状アルキル基（イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２−エチルヘキシル基、ターシャリーブチル基、ターシャリーペンチル基、イソペンタデシル基等）、環状アルキル基（シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、トリシクロデシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等）などが挙げられる。
【００９８】
不飽和脂肪族炭化水素基としては、アルケニル基（ビニル基（エテニル基）、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、１−ブテニル基、１−ヘキセニル基、２−ドデセニル基、ペンテニル基等）、アルキニル基（エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、３−ヘキシニル基、２−ドデシニル基等）などが挙げられる。
【００９９】
脂肪族炭化水素基は、置換された脂肪族炭化水素基も含む。脂肪族炭化水素基に置換し得る置換基としては、ハロゲン原子、エポキシ基、グリシジル基、グリシドキシ基、メルカプト基、メタクリロイル基、アクリロイル基等が挙げられる。
【０１００】
Ｒ１で表される芳香族炭化水素基は、炭素数６以上２０以下が好ましく、より好ましくは炭素数６以上１８以下、更に好ましくは炭素数６以上１２以下、特に好ましくは炭素数６以上１０以下である。
【０１０１】
芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、ナフタレン基、アントラセン基等が挙げられる。
【０１０２】
芳香族炭化水素基は、置換された芳香族炭化水素基も含む。芳香族炭化水素基に置換し得る置換基としては、ハロゲン原子、エポキシ基、グリシジル基、グリシドキシ基、メルカプト基、メタクリロイル基、アクリロイル基等が挙げられる。
【０１０３】
Ｒ２で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が好ましい。
【０１０４】
Ｒ２で表されるアルコキシ基としては、炭素数１以上１０以下（好ましくは１以上８以下、より好ましくは３以上８以下）のアルコキシ基が挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ヘキシロキシ基、２−エチルヘキシロキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシ基等が挙げられる。アルコキシ基は、置換されたアルコキシ基も含む。アルコキシ基に置換し得る置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、アルコキシ基、アミド基、カルボニル基等が挙げられる。
【０１０５】
式（１）：Ｒ１ｎＳｉＲ２ｍで表される化合物は、高い光触媒機能の発現及び分散性の向上の観点から、Ｒ１が飽和脂肪族炭化水素基である化合物が好ましい。特に、式（１）：Ｒ１ｎＳｉＲ２ｍで表される化合物は、Ｒ１が炭素数１以上２０以下の飽和脂肪族炭化水素基であり、Ｒ２がハロゲン原子又はアルコキシ基であり、ｎが１以上３以下の整数であり、ｍが１以上３以下の整数であり、但しｎ＋ｍ＝４であることが好ましい。
【０１０６】
式（１）：Ｒ１ｎＳｉＲ２ｍで表される化合物として、例えば、ビニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、デシルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン（以上、ｎ＝１、ｍ＝３）；
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジクロロジフェニルシラン（以上、ｎ＝２、ｍ＝２）；
トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルクロロシラン、デシルジメチルクロロシラン、トリフェニルクロロシラン（以上、ｎ＝３、ｍ＝１）；
３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン（以上、Ｒ１が、置換された脂肪族炭化水素基又は置換された芳香族炭化水素基である化合物）；
などのシラン化合物が挙げられる。シラン化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０７】
式（１）で表されるシラン化合物における炭化水素基は、高い光触媒機能の発現及び分散性の向上の観点から、脂肪族炭化水素基であることが好ましく、飽和脂肪族炭化水素基であることがより好ましく、アルキル基であることが特に好ましい。上記シラン化合物における炭化水素基は、高い光触媒機能の発現及び分散性の向上の観点から、炭素数１以上２０以下の飽和脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数１以上１８以下の飽和脂肪族炭化水素基がより好ましく、炭素数４以上１２以下の飽和脂肪族炭化水素基が更に好ましく、炭素数４以上１０以下の飽和脂肪族炭化水素基が特に好ましい。
【０１０８】
有機金属化合物の金属原子がアルミニウムである化合物としては、例えば、トリエトキシアルミニウム、トリ−ｉ−プロポキシアルミニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシアルミニウム等のアルキルアルミネート；ジ−ｉ−プロポキシ・モノ−ｓｅｃ−ブトキシアルミニウム、ジ−ｉ−プロポキシアルミニウム・エチルアセトアセテート等のアルミニウムキレート；アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等のアルミネート系カップリング剤；などが挙げられる。
【０１０９】
有機金属化合物の金属原子がチタンである化合物としては、例えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）チタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシアセテートチタネート等のチタネート系カップリング剤；ジ−ｉ−プロポキシビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシビス（トリエタノールアミナート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシチタンジアセテート、ジ−ｉ−プロポキシチタンジプロピオネート等のチタニウムキレート；などが挙げられる。
【０１１０】
有機金属化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１１】
（光触媒粒子の製造方法）
光触媒粒子の製造方法は、特に制限はない。例えば、未処理の粒子を有機金属化合物により表面処理することにより得られる。
【０１１２】
以下、光触媒粒子の製造方法の形態例を説明する。
光触媒粒子の製造方法は、例えば、（ａ）有機金属化合物により未処理の粒子を表面処理する工程と、（ｂ）前記未処理の粒子を表面処理する工程中又は後に、粒子を加熱処理する工程と、を含むことが好ましい。
【０１１３】
（ａ）表面処理する工程
有機金属化合物により未処理の粒子を表面処理する方法としては、特に制限はないが、例えば、有機金属化合物自体を直接、未処理の粒子に接触させる方法；溶媒に有機金属化合物を溶解させた処理液を、未処理の粒子に接触させる方法；が挙げられる。具体的には、例えば、未処理の粒子を溶媒に分散した分散液に、撹拌下で、有機金属化合物自体又は処理液を添加する方法；ヘンシェルミキサー等の撹拌などにより流動している状態の未処理の粒子に、有機金属化合物自体又は処理液を添加（滴下、噴霧等）する方法；が挙げられる。これら方法により、有機金属化合物中の反応性基（例えば、ハロゲノ基、アルコキシ基等の加水分解性基）が、未処理の粒子の表面に存在する水酸基と反応し、未処理の粒子の表面処理がなされる。
【０１１４】
なお、表面処理工程は、大気中または窒素雰囲気下で行なうことができるが、未処理の粒子として酸化チタンエアロゲル粒子、シリカチタニア複合エアロゲル粒子に対して表面処理を行なう場合、超臨界二酸化炭素中で表面処理工程を行うことが好ましい。これにより、有機金属化合物が多孔質粒子の細孔の奥深くまで到達し、多孔質粒子の細孔の奥深くまで表面処理がなされることから、超臨界二酸化炭素中で表面処理を行なうことが好ましい。
【０１１５】
超臨界二酸化炭素中で行う表面処理工程は、例えば、有機金属化合物と多孔質体とを、撹拌下、超臨界二酸化炭素中で混合し反応させることで行われる。ほかに、表面処理工程は、例えば、有機金属化合物と溶媒とを混合してなる処理液を調製し、撹拌下、超臨界二酸化炭素中で多孔質体と処理液とを混合することで行われる。多孔質体の細孔構造を保ったまま比表面積を大きくするためには、溶媒除去工程の終了後に引き続き超臨界二酸化炭素中に有機金属化合物を投入し、超臨界二酸化炭素中で有機金属化合物を多孔質体の表面と反応させることが好ましい。
【０１１６】
有機金属化合物を溶解する溶媒としては、有機溶媒（例えば、炭化水素系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、ハロゲン系溶媒、アルコール系溶媒等）、水、これらの混合溶媒などが挙げられる。炭化水素系溶媒としては、例えば、トルエン、ベンゼン、キシレン、ヘキサン、オクタン、ヘキサデカン、シクロヘキサン等が挙げられる。エステル系溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル等が挙げられる。エーテル系溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル、ジベンジルエーテル等が挙げられる。ハロゲン系溶媒としては、例えば、１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン、１，１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエタン、１，１−ジクロロ−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素等が挙げられる。アルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、ｉ−プロピルアルコール等が挙げられる。水としては、例えば、水道水、蒸留水、純水等が挙げられる。溶媒としては、これら以外に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸、硫酸などの溶媒を用いてもよい。
【０１１７】
溶媒に有機金属化合物を溶解させた処理液において、有機金属化合物の濃度は、０．０５ｍｏｌ／Ｌ以上５００ｍｏｌ／Ｌ以下が好ましく、０．５ｍｏｌ／Ｌ以上１０ｍｏｌ／Ｌ以下がより好ましい。
【０１１８】
有機金属化合物による粒子の表面処理の条件は、高い光触媒機能の発現及び分散性の向上の観点から、次の条件がよい。未処理の粒子に対して、１０質量％以上１００質量％以下（好ましくは２０質量％以上７５質量％以下、より好ましくは２５質量％以上５０質量％以下）の有機金属化合物により、未処理の粒子を表面処理することがよい。有機金属化合物の量を１０質量％以上にすると、可視光領域においても高い光触媒機能がより発現し易くなり、また、分散性も高まり易くなる。有機金属化合物の量を１００質量％以下にすると、粒子の表面に存在する、有機金属化合物に由来する金属量が過剰になることを抑え、余剰の金属による光触媒機能の低下が抑制される。
【０１１９】
有機金属化合物による未処理の粒子の表面処理温度は、１５℃以上１５０℃以下が好ましく、２０℃以上１００℃以下がより好ましい。表面処理時間は、１０分間以上１２０分間以下が好ましく、３０分間以上９０分間以下がより好ましい。
ただし、超臨界二酸化炭素中で表面処理を行う場合、表面処理工程の温度及び圧力は、二酸化炭素を超臨界状態にする温度及び圧力とする。例えば、温度５０℃以上２００℃以下、圧力１０ＭＰａ以上３０ＭＰａ以下の雰囲気で表面処理工程を行う。反応時間は、１０分間以上２４時間以下が好ましく、２０分間以上１２０分間以下がより好ましく、３０分間以上９０分間以下が更に好ましい。
【０１２０】
有機金属化合物による未処理の粒子の表面処理後は、乾燥処理を行うことがよい。乾燥処理の方法は、特定制限はなく、例えば、真空乾燥法、噴霧乾燥法等の公知の乾燥法を適用する。乾燥温度は、２０℃以上１５０℃以下が好ましい。
ただし、超臨界二酸化炭素中で表面処理を行う場合、超臨界二酸化炭素を用いて、多孔質粒子を含む分散液から溶媒を除去する工程が好ましく、表面処理工程終了後に引き続き、超臨界二酸化炭素中で超臨界二酸化炭素を流通させて溶媒を除去する工程が更に好ましい。
【０１２１】
（ｂ）加熱処理する工程
加熱処理は、未処理の粒子を表面処理する工程中、又は、未処理の粒子を表面処理する工程後に実施する。
【０１２２】
加熱処理は、有機金属化合物により未処理の粒子を表面処理するとき；表面処理後の乾燥処理をするとき；又は、乾燥処理後に別途、実施することができる。加熱処理する前に粒子と有機金属化合物とを十分に反応させる観点から、表面処理後の乾燥処理をするとき、又は、乾燥処理後に別途、実施することが好ましく、乾燥処理を適切に実施する観点から、乾燥処理後に別途実施することがより好ましい。
【０１２３】
加熱処理の温度は、高い光触媒機能の発現及び分散性の向上の観点から、１８０℃以上５００℃以下が好ましく、２００℃以上４５０℃以下がより好ましく、２５０℃以上４００℃以下が更に好ましい。加熱処理の時間は、高い光触媒機能の発現及び分散性の向上の観点から、１０分間以上３００分間以下が好ましく、３０分間以上１２０分間以下がより好ましい。未処理の粒子を表面処理する工程中に加熱処理を行う場合は、先ず前記表面処理の温度で有機金属化合物を十分に反応させた後に前記加熱処理の温度で加熱処理を実施することが好ましい。表面処理後の乾燥処理において加熱処理を行う場合は、前記乾燥処理の温度は、加熱処理温度として実施する。
【０１２４】
加熱処理の温度を１８０℃以上５００℃以下とすることにより、可視光領域においても高い光触媒機能を発現する粒子が効率的に得られる。１８０℃以上５００℃以下で加熱処理すると、粒子の表面に存在する金属化合物由来の炭化水素基が適度に酸化し、Ｃ−Ｃ結合又はＣ＝Ｃ結合の一部が、Ｃ−Ｏ結合又はＣ＝Ｏ結合に変化すると推測される。
【０１２５】
加熱処理は、酸素濃度（体積％）が１％以上２１％以下の雰囲気で行われることが好ましい。この酸素雰囲気で加熱処理を行うことにより、粒子の表面に存在する金属化合物由来の炭化水素基の酸化を、適度に且つ効率よく行うことができる。酸素濃度（体積％）は、３％以上２１％以下がより好ましく、５％以上２１％以下が更に好ましい。
【０１２６】
加熱処理の方法は、特に限定されず、例えば、電気炉、焼成炉（ローラーハースキルン、シャトルキルン等）、輻射式加熱炉等による加熱；レーザー光、赤外線、ＵＶ、マイクロ波等による加熱；など公知の加熱方法を適用する。
【０１２７】
以上の工程を経て、光触媒粒子が好適に得られる。
【０１２８】
（光触媒粒子の特性）
光触媒粒子は、可視吸収スペクトルにおいて波長４５０ｎｍ及び７５０ｎｍに吸収を持つ。
光触媒粒子は、可視光領域においても高い光触媒機能を発現する観点から、可視吸収スペクトルにおいて波長４５０ｎｍ、６００ｎｍ及び７５０ｎｍに吸収を持つことが好ましく、可視吸収スペクトルにおいて波長４５０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の全範囲に吸収を持つことがより好ましく、可視吸収スペクトルにおいて波長４００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の全範囲に吸収を持つことが特に好ましい。
【０１２９】
光触媒粒子は、可視光領域においても高い光触媒機能を発現する観点から、紫外可視吸収スペクトルにおいて、波長３５０ｎｍの吸光度を１としたとき、波長４５０ｎｍの吸光度が０．０２以上、好ましくは０．１以上、より好ましくは０．２以上、更に好ましくは０．３以上、波長６００ｎｍの吸光度が０．０２以上、好ましくは０．１以上、より好ましくは０．２以上、波長７５０ｎｍの吸光度が０．０２以上、好ましくは０．０５以上、より好ましくは０．１以上であることが好ましい。
【０１３０】
ここで、光触媒粒子の紫外可視吸収スペクトルは、次の方法により得られる。測定対象となる粒子をテトラヒドロフランに分散させた後、ガラス基板上に塗布し、大気中、２４℃で乾燥させる。分光光度計（例えば、日立ハイテクノロジーズ製Ｕ−４１００。スキャンスピード：６００ｎｍ、スリット幅：２ｎｍ、サンプリング間隔：１ｎｍ）を用いて、拡散反射配置で、波長２００ｎｍ乃至９００ｎｍの範囲の拡散反射スペクトルを測定する。拡散反射スペクトルから、Kubelka-Munk変換により理論的に各波長における吸光度を求め、紫外可視吸収スペクトルを得る。
【０１３１】
光触媒粒子は、赤外吸収スペクトルにおける、波数２７００ｃｍ−１以上３０００ｃｍ−１以下の範囲に吸収ピークを持つことが好ましい。
具体的には、例えば、光触媒粒子は、赤外吸収スペクトルにおける、波数２７００ｃｍ−１以上３０００ｃｍ−１以下の範囲に、吸収ピークを少なくとも一つ持つことが好ましい。なお、吸収ピークを有するとは、吸収強度（吸光度）０．０２２（透過率で５％）以上の吸収を有することを意味する。
【０１３２】
光触媒粒子の赤外吸収スペクトルの測定は、次に示す方法により測定される。まず、測定対象となる酸化チタン粒子を、ＫＢｒ錠剤法により測定試料を作製する。そして、測定試料に対して、赤外分光光度計（日本分光株式会社製：ＦＴ−ＩＲ−４１０）により、積算回数３００回、分解能４ｃｍ−１の条件で、波数５００ｃｍ−１以上４０００ｃｍ−１以下の範囲を測定し、赤外吸収スペクトルを得る。
【０１３３】
光触媒粒子の平均粒径は、０．０１μｍ以上０．５μｍ以下が好ましく、０．０２μｍ以上０．１５μｍ以下がより好ましく、０．０２μｍ以上０．１μｍ以下が更に好ましい。光触媒粒子の平均粒径が０．０１μｍ以上であると、粒子が凝集しにくく、光触媒機能が高まりやすい。光触媒粒子の平均粒径が０．５μｍ以下であると、量に対する比表面積の割合が大きくなり、光触媒機能が高まりやすい。このため、光触媒粒子の平均粒径を上記範囲にすると、可視光領域において高い光触媒機能を発現させ易くなる。
なお、光触媒粒子の平均粒径とは、光触媒粒子としてエアロゲル粒子が対象の場合、そのエアロゲル粒子を構成する一次粒子の平均粒子である。
【０１３４】
光触媒粒子の平均粒径とフィルター本体の表面粗さとの比（平均粒径／表面粗さ）は、消臭維持性向上の観点から、０．００１以上０．５以下が好ましく、０．００５以上０．１以下がより好ましく、０．０１以上０．０５以下がさらに好ましい。
【０１３５】
光触媒粒子の平均粒径と紙製フィルター本体の繊維径（つまりパルプ繊維の平均繊維径）との比（平均粒径／繊維径）は、消臭維持性向上の観点から、０．０００１以上０．１以下が好ましく、０．００１以上０．０５以下がより好ましく、０．００５以上０．０１以下がさらに好ましい。
【０１３６】
光触媒粒子の平均粒径は、一次粒子の平均粒径（平均一次粒子径）であり、次の通り測定される。
光触媒粒子がフィルター本体に担持（付着）した状態で、光触媒粒子を走査型電子顕微鏡（株式会社日立製作所製、Ｓ−４１００）により観察して画像を撮影する。この際、走査型電子顕微鏡を複数個の一次粒子が画像解析できる倍率に調整して画像を撮影する。撮影した画像を画像解析装置（株式会社ニレコ製、ＬＵＺＥＸＩＩＩ）に取り込み、一次粒子の画像解析によって粒子ごとの面積を求め、面積から円相当径（μｍ）を算出する。そして、円相当径の平均を平均一次粒子径（μｍ）とする。平均一次粒子径は、一次粒子１０個から５０個程度を解析して求める。
【０１３７】
ここで、光触媒粒子がシリカチタニア複合エアロゲル粒子の場合、光触媒粒子は、表層にチタニア層を有する未処理のシリカチタニア複合エアロゲル粒子に有機金属化合物による表面処理を施した粒子を適用することがよい。
具体的には、この粒子は、母粒子（例えばケイ素とチタンとの元素比Ｓｉ／Ｔｉの値が０を超えて６以下である母粒子）と、母粒子の表面に存在するチタニア層（以下「中間層」とも称する）、チタニア層の表面に、金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物が酸素原子を介して表面に結合した層（つまり、金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物を含む層、以下、「表面層」とも称する）と、を有する粒子となる。
【０１３８】
そして、このシリカチタニア複合エアロゲル粒子が、上記各層を有することは、下記の方法によって確認できる。なお、シリカチタニア複合エアロゲル粒子以外の粒子に表面層を有することも、下記の方法によって確認できる。
【０１３９】
ＸＰＳの定性分析（ワイドスキャン分析）を、シリカチタニア複合エアロゲル粒子の表面から深さ方向に希ガスイオンによりエッチングしながら行い、少なくともチタン、ケイ素及び炭素の同定及び定量を行う。得られたデータから、少なくともチタン、ケイ素及び炭素それぞれについて、縦軸がピーク強度で横軸がエッチング時間である元素プロファイルを描く。プロファイル曲線を変曲点によって複数の領域に区別し、母粒子の元素組成を反映した領域、中間層の元素組成を反映した領域、及び表面層の元素組成を反映した領域を特定する。元素プロファイルに中間層の元素組成を反映した領域が存在する場合、シリカチタニア複合エアロゲル粒子が中間層を有すると判断する。元素プロファイルに表面層の元素組成を反映した領域が存在する場合、シリカチタニア複合エアロゲル粒子が表面層を有すると判断する。
以下、図６を例示して説明する。
【０１４０】
図６は、シリカチタニア複合エアロゲル粒子の元素プロファイルの一例であり、上から順に、チタンの元素プロファイル、ケイ素の元素プロファイル、炭素の元素プロファイルである。
図６に示す元素プロファイルは、プロファイル曲線の変曲点によって、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ及び領域Ｄに区別される。
領域Ａ：エッチングの最終期に存在する、チタンのピーク強度及びケイ素のピーク強度がほぼ一定である領域。
領域Ｂ：領域Ａの直前に存在する、粒子表面に近いほどチタンのピーク強度が小さく且つケイ素のピーク強度が大きい領域。
領域Ｃ：領域Ｂの直前に存在する、チタンのピーク強度がほぼ一定であり、且つ、ケイ素がほとんど検出されない領域。
領域Ｄ：エッチングの最初期に存在する、炭素のピーク強度がほぼ一定であり、且つ、金属元素も検出される領域。
【０１４１】
領域Ａと領域Ｂとは、母粒子の元素組成を反映した領域である。母粒子が製造される際には、シリカチタニア複合体の材料であるアルコキシシランとチタンアルコキシドとの混合比に応じた割合でシリカとチタニアとが共有結合を形成して母粒子を形成する。ただし、母粒子の表面にはチタニアよりもシリカが出現しやすい傾向がある。その結果、元素プロファイルには、エッチングの最終期に、チタンのピーク強度及びケイ素のピーク強度がほぼ一定である領域Ａと、領域Ａの直前に、粒子表面に近いほどチタンのピーク強度が小さく且つケイ素のピーク強度が大きい領域Ｂとが現れる。
【０１４２】
領域Ｃは、中間層の元素組成を反映した領域である。領域Ｂの直前に、領域Ｃ、即ち、チタンのピーク強度がほぼ一定であり、且つ、ケイ素がほとんど検出されない領域が存在する場合、シリカチタニア複合エアロゲル粒子が「チタニア層」である中間層を有すると判断する。
なお、領域Ｃは、第一の層の元素組成を反映した領域ではあるが、必ずしも中間層に完全に一致するものではない。領域Ｃにおける領域Ｂに近い側には、母粒子の元素組成も反映されていることがある。
【０１４３】
領域Ｄは、表面層の元素組成を反映した領域である。エッチングの最初期に、領域Ｄ、即ち、炭素のピーク強度がほぼ一定であり、且つ、金属元素も検出される領域が存在する場合、シリカチタニア複合エアロゲル粒子が「金属原子及び炭化水素基を有する金属化合物を含む層」である表面層を有すると判断する。
表面層における金属化合物を構成する金属原子の候補としては、ケイ素、アルミニウム、チタンが挙げられるので、必要に応じてＸＰＳによりアルミニウムの同定及び定量も行い、アルミニウムについても元素プロファイルを描く。
なお、領域Ｄは、表面層の元素組成を反映した領域ではあるが、必ずしも第二の層に完全に一致するものではない。領域Ｄにおける領域Ｃに近い側には、第一の層の元素組成も反映されていることがある。
【０１４４】
図６に示す元素プロファイルからは、母粒子と、中間層と、表面層とを有するシリカチタニア複合エアロゲル粒子であり、表面層における金属化合物を構成する金属原子がケイ素であると判断される。
【０１４５】
［フィルターの特性］
本実施形態に係るフィルターの通気度は、フィルター機能の観点から、１（ｃｍ３／ｃｍ２・ｓｅｃ）以上３００（ｃｍ３／ｃｍ２・ｓｅｃ）以下が好ましく、５（ｃｍ３／ｃｍ２・ｓｅｃ）以上２００（ｃｍ３／ｃｍ２・ｓｅｃ）以下がより好ましい。
【０１４６】
フィルターの通気度は、次の通り、測定される。
フィルターの通気度は、フラジール型通気度試験機ＡＰ-３６０ＳＭ（大栄科学精器製作所社製）にて測定される。具体的には、フラジール型通気度試験機を用い、円筒の一端に約２０ｃｍ×２０ｃｍの試験片を取り付けた後、加減抵抗器によって傾斜形気圧計が１２５Ｐａ（１．２７ｃｍＨ２Ｏ）の圧力を示すように吸込みファンを調整する。そのときの垂直形気圧計の示す圧力と使用した空気孔の種類とから試験機に附属の表によって試験片を通過する空気量（ｃｍ３／ｃｍ２／ｓ）を求める。測定は５回実施し、その平均値をフィルターの通気度とする。
【０１４７】
本実施形態に係るフィルターは、可視光透過性を有することがよい。可視光領域における光触媒機能が高い光触媒粒子の触媒機能を効率良く発現させるためのである。
具体的には、フィルターの可視光透過率は、３０％以上が好ましく、３０％以上７０％以下がより好ましく、３０％以上７０％以下がさらに好ましく、５０％以上７０％以下がより特に好ましい。
フィルターの可視光透過率は、次の通り、測定される。
ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７に準じて、ヘイズメーター（日本電色工業社製ＮＤＨ−２０００）を用いて全光線透過率（％）を測定する。
【０１４８】
本実施形態に係るフィルターは、明度が高い性質を有することが好ましい。明度が高い性質を有すると、可視光の反射により、可視光領域における光触媒機能が高い光触媒粒子の触媒機能を効率良く発現させるためのである。
具体的には、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるフィルター本体のＬ＊値は、３５％以上９５％以下の範囲が好ましく、４５％以上９０％以下の範囲がより好ましく、５５％以上８５％以下がさらに好ましい。
【０１４９】
本実施形態に係るフィルターにおいて、消臭性向上の観点から、フィルター本体に対する光触媒粒子の担持量は、３％以上３０％以下が好ましく、８％以上２５％以下がより好ましく、１０％以上２０％以下がさらに好ましい。
フィルター本体に対する光触媒粒子の担持量は、次の通り測定される。
フィルター本体への担持量は、担持前後のフィルター本体重量を測定し、以下の式で求めた。
フィルター本体への光触媒担持量 (％)＝［（担持後のフィルター本体重量−担持前のフィルター本体重量）／担持後のフィルター本体重量］×１００
【０１５０】
本実施形態に係るフィルターにおいて、衝撃等によるフィルターからの光触媒粒子の離脱抑制の観点から、フィルター本体に対する光触媒粒子の遊離率は、１％以上５０％以下が好ましく、３％以上４０％以下がより好ましく、５％以上３０％以下がさらに好ましい。
光触媒粒子の遊離率を１％以上とすると、光触媒粒子がフィルター本体の細孔の壁面に強く埋め込まれ過ぎることで生じる、光触媒効果の低下（つまりフィルターの消臭性の低下）が抑制される。
一方、光触媒粒子の遊離率を５０％以下にすると、光触媒粒子がフィルター本体から離脱することが抑制される。
光触媒粒子の遊離率は、光触媒粒子の粒径、フィルター本体に光触媒粒子を担持（付着）する条件により調整される。
【０１５１】
フィルター本体に対する光触媒粒子の遊離率は、次の通り測定される。
光触媒粒子が付着したフィルター本体（つまりフィルター）を０．２％の界面活性剤 (ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル(和光純薬工業株式会社製) 水溶液４０３００ｍｌに浸漬させる。分散させた分散液を得る。その後、このフィルター本体を浸漬した状態で分散液に、超音波振動（出力２０Ｗ、周波数２０ｋＨｚ）を１分間作用させフィルター本体表面から光触媒粒子を遊離させる。その後、フィルター本体以外の分散液の上澄み液を除去した後、純水を加えて、ろ過した後、乾燥して光触媒粒子を遊離させたフィルター本体を得る。
超音波振動前の光触媒粒子が付着したフィルター本体の「光触媒粒子を構成する原子（例えばチタン原子）」の量と、超音波振動後の光触媒粒子を遊離させたフィルター本体の「光触媒粒子を構成する原子（例えばチタン原子）」の量と、をそれぞれ蛍光Ｘ線で測定し、以下の式にてフィルター本体に対する光触媒粒子の遊離率を算出する。
フィルター本体に対する光触媒粒子の遊離率（％）＝（（超音波振動前のフィルター本体の「光触媒粒子を構成する原子（例えばチタン原子）」の量）−（超音波振動後のフィルター本体の「光触媒粒子を構成する原子（例えばチタン原子）」の量））／（超音波振動前のフィルター本体の「光触媒粒子を構成する原子（例えばチタン原子）」の量）×１００
【０１５２】
［フィルターの製造方法］
本実施形態に係るフィルターの製造方法は、特に制限はないが、例えば、光触媒粒子が分散した分散液をフィルター本体に塗布後、乾燥することで、光触媒粒子をフィルター本体に担持させる方法が挙げられる。また、フィルター本体を製造するための紙製材料に予め光触媒粒子を担持させて、フィルターを製造してもよい。
上記特定のチタン化合物粒子からなる光触媒粒子は、表面に粘着性を有するため、直接、フィルター本体の細孔の壁面に付着及び固定化する。
塗布法は、浸漬塗布、スプレー塗布等の周知の塗布法を採用すればばよい。
使用する分散液の分散媒としては、水、各種アルコール等の揮発性の分散媒が例示される。
また、結着樹脂を使用して、光触媒粒子をフィルター本体に担持させる方法を採用してもよい。
【実施例】
【０１５３】
以下、実施例により発明の実施形態を詳細に説明するが、発明の実施形態は、これら実施例に何ら限定されるものではない。以下の説明において、特に断りのない限り、「部」はすべて質量基準である。
【０１５４】
＜光触媒粒子の作製＞
（メタチタン酸粒子ＭＴＡ１）
ＴｉＯ２濃度が２６０ｇ／Ｌ、Ｔｉ３＋濃度がＴｉＯ２換算で６．０ｇ／Ｌの硫酸チタニル溶液に、別途作製したアナターゼシードを硫酸チタニル溶液中のＴｉＯ２に対してＴｉＯ２換算で８質量％添加した。次に、この溶液を沸点以上で加熱し、硫酸チタニル（ＴｉＯＳＯ４）を加水分解し、粒状のメタチタン酸を生成した。次に、メタチタン酸粒子を濾過及び洗浄し、その後、スラリー化して、ｐＨ７で中和洗浄した。このようにして、平均粒径０．０４２μｍのメタチタン酸スラリーを得た。
次に、平均粒径０．０４２μｍのメタチタン酸スラリーに、撹拌しながら５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えｐＨ８．５として２時間撹拌保持後、６Ｎ塩酸にてｐＨ５．８まで中和し、濾過及び水洗を行った。洗浄後、水を加え再びスラリーとし、撹拌をしながら６Ｎ塩酸を加えｐＨ１．３とし、３時間撹拌保持した。このスラリーからメタチタン酸として、１００質量部を分取し、６０℃に加温保持し、撹拌しながら、ヘキシルトリメトキシシラン３０質量部を添加し、３０分間撹拌後、７Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えｐＨ７まで中和し、濾過及び水洗を行った。濾過及び水洗済み残留分を、気流式乾燥機により出口温度１５０℃の条件で噴霧乾燥して、乾燥粉体を得た。得られた乾燥粉体に対し、酸素濃度（体積％）１２％に設定した電気炉で２８０℃、９０分間の加熱処理を行い、メタチタン酸粒子ＭＴＡ１を得た。
【０１５５】
（メタチタン酸粒子ＭＴＡ２）
アナターゼシードの添加量を６質量％とする以外はメタチタン酸粒子ＭＴＡ１と同様にして平均粒径０．０９５μｍのメタチタン酸粒子ＭＴＡ２を得た。
【０１５６】
（メタチタン酸粒子ＭＴＡ３）
アナターゼシードの添加量を４質量％とする以外はメタチタン酸粒子ＭＴＡ１と同様にして平均粒径０．１５０μｍのメタチタン酸粒子ＭＴＡ３を得た。
【０１５７】
（酸化チタン粒子ＴＯ１）
市販のアナターゼ型酸化チタン粒子（「ＳＳＰ−２５（堺化学工業社製）」、平均粒径０．０１０μｍ）をメタノールに分散した分散液に、この未処理の酸化チタン粒子に対して３５質量％のヘキシルトリメトキシシランを滴下し、４０℃で１時間反応させた後、出口温度１２０℃で噴霧乾燥して乾燥粉体を得た。そして、得られた乾燥粉体に対して、酸素濃度（体積％）１８％に設定した電気炉で２９０℃、１時間の加熱処理を行い、酸化チタン粒子ＴＯ１を得た。
【０１５８】
（酸化チタン粒子ＴＯ２）
市販のアナターゼ型酸化チタン粒子（「ＳＴ-２１（石原産業社製）」、平均粒径０．０２０μｍ）をメタノールに分散した分散液に、この未処理の酸化チタン粒子に対して３０質量％のオクチルトリメトキシシランを滴下し、４０℃で１時間反応させた後、出口温度１２０℃で噴霧乾燥して乾燥粉体を得た。そして、得られた乾燥粉体に対して、酸素濃度（体積％）２０％に設定した電気炉で２７０℃、１時間の加熱処理を行い、酸化チタン粒子ＴＯ２を得た。
【０１５９】
（酸化チタン粒子ＴＯ３）
ゾルゲル法により作製した平均粒径０．４５０μｍのアナターゼ型酸化チタン粒子をメタノールに分散した分散液に、この未処理の酸化チタン粒子に対して２５質量％のヘキシルトリメトキシシランを滴下し、４０℃で１時間反応させた後、出口温度１２０℃で噴霧乾燥して乾燥粉体を得た。そして、得られた乾燥粉体に対して、酸素濃度（体積％）１８％に設定した電気炉で３００℃、１時間の加熱処理を行い、酸化チタン粒子ＴＯ３を得た。
【０１６０】
（酸化チタンエアロゲル粒子ＴＯＡＧ１）
反応容器にメタノール１１５．４部とテトラブトキシチタン１４．３部を仕込み混合した。混合液をマグネティックスターラーにより１００ｒｐｍで撹拌しながら、０．００９質量％シュウ酸水溶液７．５部を３０秒かけて滴下した。そのまま撹拌しながら３０分間保持し、分散液（１）を１３７．３部（固形分：３．４部、液相分：１３３．９部）得た。
次に、反応槽に分散液（１）を１３７．３部投入し、８５ｒｐｍで撹拌しながらＣＯ２を入れて１５０℃／２０ＭＰａまで昇温昇圧した。そのまま撹拌しながらＣＯ２を流入及び流出させ、６０分かけて液相を１３３部除去した。
次に、液相を除去した後に残った固相に、イソブチルトリメトキシシラン３．４部とメタノール３．４部との混合物を５分かけて添加し、８５ｒｐｍで撹拌しながら１５０℃／２０ＭＰａのまま３０分間保持した。そのまま撹拌しながらＣＯ２を流入及び流出させ、３０分かけて液相を６．５部除去した。３０分かけて大気圧まで減圧し、粉を４．６部回収した。
次に、ＳＵＳ容器に粉を４．０部計量し、酸素濃度（体積％）を２０％に設定した電気炉で３１５℃、６０分間の加熱処理を行い、３０℃になるまで放冷し、得られた粉を目開き４５μｍの振動篩で篩分し粗大粒子を除去し、粉（酸化チタンエアロゲル粒子ＴＯＡＧ１）を３．５部回収した。
【０１６１】
（シリカチタニア複合エアロゲル粒子ＳＴＡＧ１
反応容器にメタノール１１５．４部とテトラメトキシシラン７．２部を仕込み混合した。さらにテトラブトキシチタン７．２部を仕込み混合した。混合液をマグネティックスターラーで１００ｒｐｍで撹拌しながら、０．００９質量％シュウ酸水溶液７．５部を３０秒かけて滴下した。そのまま撹拌しながら３０分間保持し、第一の分散液（Ｉ−１）を１３７．２部（固形分：４．５部、液相分：１３２．７部）得た。
次に、反応容器に第一の分散液（Ｉ−１）を１３７．２部投入し、８５ｒｐｍで撹拌しながらＣＯ２を入れて１５０℃／２０ＭＰａまで昇温昇圧した。そのまま撹拌しながらＣＯ２を流入及び流出させ、６０分かけて液相を１３２．０部除去した。
次に、液相を除去した後に残った固相に、イソブチルトリメトキシシラン４．５部とメタノール４．５部との混合物を５分かけて添加し、８５ｒｐｍで撹拌しながら１５０℃／２０ＭＰａのまま３０分間保持した。そのまま撹拌しながらＣＯ２を流入及び流出させ、３０分かけて液相を８．２部除去した。３０分かけて大気圧まで減圧し、粉を６．０部回収した。
次に、ＳＵＳ容器に粉を４．０部計量し、ホットプレートに設置した。３８０℃まで昇温し、６０分間保持した後、３０℃になるまで放冷し、得られた粉を目開き４５μｍの振動篩で篩分し粗大粒子を除去し、粉（シリカチタニア複合エアロゲル粒子ＳＴＡＧ１）を３．５部回収した。
このシリカチタニア複合エアロゲル粒子ＳＴＡＧ１は、ケイ素とチタンとの元素比Ｓｉ／Ｔｉの値が３．１である母粒子と、母粒子の表面に存在する、イソブチルトリメトキシシランを含む表面層と、を有する粒子であった。
【０１６２】
（シリカチタニア複合エアロゲル粒子ＳＴＡＧ２）
反応容器にメタノール１１５．４部とテトラメトキシシラン７．２部を仕込み混合した。さらにテトラブトキシチタン７．２部を仕込み混合した。混合液をマグネティックスターラーで、１００ｒｐｍで撹拌しながら、０．００９質量％シュウ酸水溶液７．５部を３０秒かけて滴下した。そのまま撹拌しながら３０分間保持し、第一の分散液（Ｉ−１）を１３７．２部（固形分：４．５部、液相分：１３２．７部）得た。
次に、反応容器に第一の分散液（Ｉ−１）を１３７．２部仕込み、マグネティックスターラーで、１００ｒｐｍで撹拌しながら、テトラブトキシチタン１．５部とブタノール４．５部との混合液を１０分かけて滴下した。そのまま撹拌しながら３０分間保持し、第二の分散液（ＩＩ−１）を１４３．２部（固形分：５．０部、液相分：１３８．２部）得た。
次に、反応槽に第二の分散液（ＩＩ−１）を１４３．２部投入し、８５ｒｐｍで撹拌しながらＣＯ２を入れて１５０℃／２０ＭＰａまで昇温昇圧した。そのまま撹拌しながらＣＯ２を流入及び流出させ、６０分かけて液相を１３８部除去した。
次に、液相を除去した後に残った固相に、イソブチルトリメトキシシラン４．５部とメタノール４．５部との混合物を５分かけて添加し、８５ｒｐｍで撹拌しながら１５０℃／２０ＭＰａのまま３０分間保持した。そのまま撹拌しながらＣＯ２を流入及び流出させ、３０分かけて液相を７．０部除去した。３０分かけて大気圧まで減圧し、粉を７．２部回収した。
次に、ＳＵＳ容器に粉を４．０部計量し、ホットプレートに設置した。４５０℃まで昇温し、６０分間保持した後、３０℃になるまで放冷し、得られた粉を目開き４５μｍの振動篩で篩分し粗大粒子を除去し、粉（シリカチタニア複合エアロゲル粒子ＳＴＡＧ２）を３．５部回収した。
このシリカチタニア複合エアロゲル粒子ＳＴＡＧ２は、ケイ素とチタンとの元素比Ｓｉ／Ｔｉの値が３．１である母粒子と、母粒子の表面に存在するチタニア層（中間層）と、チタニア層の表面に存在する、イソブチルトリメトキシシランを含む表面層と、を有する粒子であった。
【０１６３】
以上作製した光触媒粒子について、下記特性を既述の方法に従って測定した。そして光触媒粒子について、表１に一覧にして示す。
・可視吸収スペクトル特性（表中「Ｖｉｓｉ特性」と表記：波長３５０ｎｍの吸光度を１にとしたとき、波長４５０ｎｍの吸光度、波長６００ｎｍの吸光度及び波長７５０ｎｍ吸光度）、
・赤外吸収スペクトル特性（表中「ＩＲ特性」と表記：波数２７００ｃｍ−１以上３０００ｃｍ−１以下の範囲の吸収ピークの有無、及びその吸収ピークの波数）
・平均粒径（表中「粒径ＤＣ」と表記）
【０１６４】
＜フィルターＦ１〜Ｆ４の作製＞
次のフィルター本体（大きさ：縦５５ｍｍ×横５５ｍｍ×厚さ１０ｍｍ）を準備した。準備したフィルター本体の詳細は、表２に示す。
・フィルター本体Ｆ１（商品名「ハニコーム−Ｐ  ＫＬＡ−１００（新日本フェザーコア株式会社製）」、ハニカム形状の紙製フィルター）
・フィルター本体Ｆ２（商品名フェザーコア  Ｆ−Ｒ新日本フェザーコア株式会社製、ハニカム形状の紙製フィルター）
・フィルター本体Ｆ３（商品名「ＮＢコア（ナゴヤ芯材工業社製）」、ハニカム形状の紙製フィルター）
・フィルター本体Ｆ４（（シナール半晒クラフト（ＡＰＰジャパン製）をハニカム形状へ成形した紙製フィルター）  
【０１６５】
表３に示す種類及び部数で、光触媒粒子をエタノールに分散した分散液（分散液の合計の部数を１００部とする）を準備した。
そして、得られた分散液をスプレー法にて、表３に示すフィルター本体に塗布乾燥して、光触媒粒子を担持させた。なお、分散液の塗布量は、光触媒粒子の担持量が表３に示す量となるように調整した。
このようにして、フィルターＦＴ１〜ＦＴ１２を作製した。
【０１６６】
＜比較フィルターの作製＞
（比較フィルターＣＦＴ１〜２）
次の比較フィルター本体（大きさ：縦５５ｍｍ×横５５ｍｍ×厚さ１０ｍｍ）を各々使用した以外は、フィルターＦＴ１と同様にして、比較フィルターＣＦＴ１を作製した。準備したフィルター本体の詳細は、表２に示す。
・比較フィルター本体ＣＦ１：平均繊維径５μｍの広葉樹パルプを使用して製紙し、ハニカム構造に成形してた紙製フィルター
・比較フィルター本体ＣＦ２：平均繊維径７０μｍの針葉樹パルプ  を使用し、ハニカム構造に成形した紙製フィルター。
【０１６７】
（比較フィルターＣＦＴ３）
光触媒粒子として、市販の酸化チタン粒子（商品名「ＳＴ−０１（石原産業株式会社製）、平均粒径０．０１２μｍ、可視光による光触媒機能を有さない触媒粒子）を使用した以外は、フィルターＦＴ１と同様にして、比較フィルターＣＦＴ３を作製した。
【０１６８】
＜評価＞
（特性評価）
得られた各フィルターについて、下記特性について既述の方法に従って測定した。
・フィルターの通気度（ｃｍ３／ｃｍ２・ｓｅｃ）
・フィルターの可視光透過率（％）
・ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるフィルター本体のＬ＊値
・フィルター本体に対する光触媒粒子の遊離率（％）
【０１６９】
（消臭維持性評価）
市販の小型空気清浄機（商品名「ＬＥＤ ＰＵＲＥ ＡＨ１（ナイトライド・セミコンダクター社製）」の紫外線照射用ＬＥＤを、可視光照射用ＬＥＤ：定電流ドライバ内蔵３連白色ＬＥＤモジュールＡＥ-ＬＥＤ１×３-１２Ｖ（秋月電子通商社製）に変更し、可視光型光触媒空気清浄装置を作製した。
可視光型光触媒空気清浄装置の消臭フィルター挿入位置に、各例のフィルターＦＴ１〜ＦＴ１２、ＣＦＴ１〜ＣＦＴ３をセットした。
この装置を用いて、次の通り、アンモニア分解確認を実施した。
容積７Lのアクリル製真空デシケータ内に、可視光型光触媒空気清浄装置を入れて密封を行う。その後、ガス濃度が２８０ｐｐｍとなるようにアンモニアガスを注入し、空気清浄装置を起動させる。一定時間ごとにデシケータ内の空気をサンプリングし、アンモニア検知管を使用してアンモニアガス濃度を測定し、消臭分解性を評価した。
そして、装置駆動時間０．２時間後（初期）と、装置駆動時間３．５時間後（経時）と、のアンモニア分解確認を、下記基準により評価した。
Ａ：  アンモニア濃度が１．０ｐｐｍ未満
Ｂ：  アンモニア濃度が１．０ｐｐｍ以上５．０ｐｐｍ未満
Ｃ：  アンモニア濃度が５．０ｐｐｍ以上１０ｐｐｍ未満
Ｄ：  アンモニア濃度が１０ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ未満
Ｅ：  アンモニア濃度が５０ｐｐｍ以上
【０１７０】
（光触媒粒子離脱評価）
次の方法に従って、フィルターからの光触媒粒子の離脱率について評価した。
消臭維持性評価において、評価実施前と、装置駆動時間３．５時間後（経時）と、のフィルターのＴｉ元素量を蛍光Ｘ線にて測定し、光触媒粒子の離脱率を評価した。
光触媒粒子離脱率（％）＝（消臭性評価前のＴｉ元素量−消臭性評価後のＴｉ元素量）／消臭性評価前のＴｉ元素量  ×１００
評価基準は、次の通りである。
Ａ：  光触媒粒子離脱率が５％未満
Ｂ：  光触媒粒子離脱率が５％以上１０％未満
Ｃ：  光触媒粒子離脱率が１０％以上２０％未満
Ｄ：  光触媒粒子離脱率が２０％以上３０％未満
Ｅ：  光触媒粒子離脱率が３０％以上
【０１７１】
各フィルターの詳細及び評価結果について、表３に一覧にして示す。
なお、表３中の総合評価は、すべての評価において、「Ａ（◎）］判定が少なくとも一つ有する例を「Ａ」とし、「Ｂ］判定又は「Ｃ」判定である例を「Ｂ（〇）」とし、「Ｄ」判定又は「Ｅ」判定を有する例を「Ｃ（×）」とした。
【０１７２】
【表１】
2020048767.tif 000003
【０１７３】
【表２】
2020048767.tif 000004
【０１７４】
【表３】
2020048767.tif 000005
【０１７５】
上記結果から、本実施例のフィルターは、比較例のフィルターに比べ、消臭維持性が高いことがわかる。
また、本実施例のフィルターは、比較例のフィルターに比べ、消臭性も高いことがわかる。
【図１】
2020048767.tif 000006
【図２】
2020048767.tif 000007
【図３】
2020048767.tif 000008
【図４】
2020048767.tif 000009
【図５】
2020048767.tif 000010
【図６】
2020048767.tif 000011