(57)【要約】【課題】カーボンナノチューブを用いたエナメル線及びカーボンナノチューブを用いたエナメル線の製造方法を提供する。【解決手段】エナメル線１０は、導体２０と、絶縁被膜３０と、を含む。導体２０は、複数のカーボンナノチューブの集合体である。絶縁被膜３０は、導体２０を被覆する。導体２０の真円度が１．０以上１．５以下である。また、エナメル線１０の製造方法は、成型工程と、塗布工程と、焼き付け工程と、を含む。成型工程は、複数のカーボンナノチューブの集合体である導体２０の真円度を調整する。塗布工程は、成型工程で得られた導体２０に塗料を塗布する。焼き付け工程は、塗布工程で導体２０に塗布された塗料の焼き付けを行う。【選択図】図１
2020061289.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のカーボンナノチューブの集合体である導体と、
前記導体を被覆する絶縁被膜と、
を含み、
前記導体の真円度が１．０以上１．５以下であることを特徴とする、エナメル線。
【請求項２】
請求項１において、
前記絶縁被膜の偏肉度が１．０以上２．０以下であることを特徴とする、エナメル線。
【請求項３】
請求項１または２において、
抵抗計で測定した０℃〜２００℃における電気抵抗が２０℃における電気抵抗を１００％としたときに９０％以上１１０％以下であることを特徴とする、エナメル線。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれか１項において、
インピーダンス測定装置で測定した０ｋＨｚ〜２００ｋＨｚにおけるインピーダンスが０Ｈｚにおけるインピーダンスを１００％としたときに８０％以上１２０％以下であることを特徴とする、エナメル線。
【請求項５】
複数のカーボンナノチューブの集合体である導体の真円度を調整する成型工程と、
前記成型工程で得られた前記導体に塗料を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程で前記導体に塗布された塗料の焼き付けを行う焼き付け工程と、
を含み、
前記成型工程は、前記導体の真円度を１．０以上１．５以下に調整することを特徴とする、エナメル線の製造方法。
【請求項６】
請求項５において、
前記成型工程における前記導体に対する引張応力は２００ＭＰａ以上２０００ＭＰａ以下であることを特徴とする、エナメル線の製造方法。
【請求項７】
請求項５または請求項６において、
前記塗布工程における塗料の粘度は、０．５ｄＰａ・ｓ以上５０ｄＰａ・ｓ以下であることを特徴とする、エナメル線の製造方法。
【請求項８】
請求項５〜請求項７のいずれか１項において、
前記成型工程後であって前記塗布工程前に、前記導体を有機溶剤で洗浄する洗浄工程と、前記導体を加熱して前記導体に付着した有機溶剤を除去するアニール工程と、をさらに含むことを特徴とする、エナメル線の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カーボンナノチューブを含むエナメル線及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
カーボンナノチューブは軽量でありながら機械的強度が高く、導電材料として一般的に使われている銅よりも高い導電性を有している。そのため、導電材料としての用途で注目されている。
【０００３】
一方、エナメル線は、モータ、変圧器、偏向ヨークなどの電気機器のコイル用電線として広く用いられている（例えば特許文献１）。エナメル線は、導体に天然樹脂又は合成樹脂絶縁塗料を焼き付けた電線である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−１８５７１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、カーボンナノチューブを用いたエナメル線は未だに実用化されていない。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
そこで、本発明は上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の態様または適用例として実現することができる。
【０００７】
[１]本発明に係るエナメル線の一態様は、
複数のカーボンナノチューブの集合体である導体と、
前記導体を被覆する絶縁被膜と、
を含み、
前記導体の真円度が１．０以上１．５以下であることを特徴とする。
【０００８】
[２]前記エナメル線の一態様において、
前記絶縁被膜の偏肉度が１．０以上２．０以下であることができる。
【０００９】
[３]前記エナメル線の一態様において、
抵抗計で測定した０℃〜２００℃における電気抵抗が２０℃における電気抵抗を１００％としたときに９０％以上１１０％以下であることができる。
【００１０】
[４]前記エナメル線の一態様において、
インピーダンス測定装置で測定した０ｋＨｚ〜２００ｋＨｚにおけるインピーダンスが０Ｈｚにおけるインピーダンスを１００％としたときに８０％以上１２０％以下であることができる。
【００１１】
[５]本発明に係るエナメル線の製造方法は、
複数のカーボンナノチューブの集合体である導体の真円度を調整する成型工程と、
前記成型工程で得られた前記導体に塗料を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程で前記導体に塗布された塗料の焼き付けを行う焼き付け工程と、
を含み、
前記成型工程は、前記導体の真円度を１．０以上１．５以下に調整することを特徴とする。
【００１２】
[６]前記エナメル線の製造方法において、
前記成型工程における前記導体に対する引張応力は２００ＭＰａ以上２０００ＭＰａ以下であることができる。
【００１３】
[７]前記エナメル線の製造方法において、
前記塗布工程における塗料の粘度は、０．５ｄＰａ・ｓ以上５０ｄＰａ・ｓ以下であることができる。
【００１４】
[８]前記エナメル線の製造方法において、
前記成型工程後であって前記塗布工程前に、前記導体を有機溶剤で洗浄する洗浄工程と、前記導体を加熱して前記導体に付着した有機溶剤を除去するアニール工程と、をさらに含むことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本実施形態に係るエナメル線の一部を断面で示す図である。
【図２】本実施形態に係るエナメル線の製造方法を実施するための製造装置の一例の模式図である。
【図３】本実施形態に係るエナメル線の製造方法に用いるダイスの断面図である。
【図４】本実施形態に係るエナメル線の製造方法に用いるローラの斜視図である。
【図５】実施例１の導体を５００倍で撮影した写真である。
【図６】実施例１のエナメル線を５００倍で撮影した写真である。
【図７】実施例１のエナメル線の切断面を５００倍で撮影した写真である。
【図８】実施例２の導体を５００倍で撮影した写真である。
【図９】実施例２のエナメル線を５００倍で撮影した写真である。
【図１０】実施例２のエナメル線の切断面を５００倍で撮影した写真である。
【図１１】比較例１のエナメル線を５００倍で撮影した写真である。
【図１２】比較例１のエナメル線の断面を５００倍で撮影した写真である。
【図１３】実施例及び比較例の電気抵抗と温度との関係を示すグラフである。
【図１４】実施例及び比較例のインピーダンスと周波数との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
【００１７】
１．エナメル線
図１を用いて本発明の一実施形態に係るエナメル線１０について説明する。図１は本実施形態に係るエナメル線１０の一部を断面で示す図である。図１では真円度及び偏心度を説明するために大きく変形した形状を示している。
【００１８】
エナメル線１０は、複数のカーボンナノチューブの集合体である導体２０と、導体２０を被覆する絶縁被膜３０と、を含む。
【００１９】
エナメル線１０は、導体２０である素線に塗料を焼き付けて導体を被覆する絶縁被膜３０を形成した電線である。エナメル線１０は、導体２０である素線に絶縁被膜３０を直接被覆したものに限らず、導体２０の外面に金属めっきを施した素線に絶縁被膜３０を被覆したものも含む。
【００２０】
導体２０は、複数のカーボンナノチューブの集合体（以下「ＣＮＴ集合体」という）である。ＣＮＴ集合体は、カーボンナノチューブが複数本集合して一本の糸のようになったものをいう。ＣＮＴ集合体は、複数のカーボンナノチューブが略同じ方向に配向している。ＣＮＴ集合体は、湿式紡績または乾式紡績により紡績されたカーボンナノチューブの紡績糸であってもよいし、紡績糸を撚った撚糸であってもよいし、複数の紡績糸または撚糸を束にしたものであってもよい。ＣＮＴ集合体はカーボンナノチューブ間のファンデルワールス力により集合している。ＣＮＴ集合体は、紡績糸または撚糸の外層に金属めっきを施したものでもよいし、複数の紡績糸または撚糸の束の外面に金属めっきを施したものでもよい。金属めっきとしてはカーボンナノチューブにおいて公知のもの例えば銅めっき等を採用できる。ＣＮＴ集合体としては、例えば日立造船社のＣＮＴ撚糸やＣＮＴ撚糸を金属被覆したＣＮＴワイヤー、村田機械社のＣＮＴ撚糸等を採用することができる。
【００２１】
カーボンナノチューブは電気伝導性に優れた金属型のものを用いることができる。カーボンナノチューブの層構造は特に限定されず、単層及び多層（２層以上）のカーボンナノチューブを含むことができ、単層カーボンナノチューブ及び多層カーボンナノチューブのいずれか一方のみから構成されてもよい。カーボンナノチューブの製造方法は、特に限定されず、例えば気相成長法など公知の方法で製造したものを用いることができる。
【００２２】
導体２０の直径（線径）は、例えば３０μｍ以上２００μｍ以下であることができる。導体２０の直径が３０μｍ以上であればエナメル線として実用化可能であり、２００μｍ以下であればＣＮＴ集合体として入手が可能である。本明細書において「線径」とは、レーザマイクロメータ（例えばキーエンス社製ＬＳ９５００）によりＣＮＴ集合体の長手方向に沿って１ｍ間隔で３箇所以上の直径を測定し、その算術平均値をいう。
【００２３】
導体２０は、真円度が１．０以上１．５以下である。図１に示すように、真円度は、導体２０の長さ方向の任意の位置における導体２０の直径をマイクロスコープで測定し、その最大径Ｄ１と最小径Ｄ２との比（Ｄ１／Ｄ２）である。ＣＮＴ集合体は、複数のカーボンナノチューブがファンデルワールス力で束になっているだけなので、そのままでは表面の凹凸が大きい。しかも、カーボンナノチューブは疎水性でエナメル線の塗料と濡れにくい。そのため、真円度が１．５を超えるような導体２０に塗料を塗布すると微細な欠陥（例えばピンホール）が生じる恐れがある。導体２０は、真円度が１．０以上１．２以下であることがさらに好ましい。
【００２４】
導体２０がＣＮＴ集合体を銅等の金属めっきで被覆したものである場合、導体２０の表面（銅めっきの表面）が平滑であり最大高さ（Ｒｚ）が５μｍ以下であることが好ましい。導体２０の表面に凹凸が少ないことにより、絶縁被膜３０を良好に形成することができる。「最大高さ」はＪＩＳ  Ｂ０６０１に規定する輪郭曲線の「最大山高さ」と「最大谷深さ」の和（山頂点と谷底点の間隔）のことをいい、マイクロスコープ（キーエンス社製「ＶＨＸ−５０００」）で撮影した写真を形状測定ソフト（キーエンス社製「ＶＨＸ−Ｈ４Ｍ」）で分析して求めることができる。また例えば、５００倍から１０００倍程度の拡大写真を撮影して、定規を用いて輪郭の高さと深さを計測してもよい。
【００２５】
絶縁被膜３０は、導体２０を被覆する絶縁の被膜である。絶縁被膜３０の材質としては、ポリウレタン、ポリビニルホルマール、ポリウレタンナイロン、ポリエステル、ポリエステルナイロン、ポリエステルイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド／ポリア
ミドイミド、ポリイミド等を用いることができる。
【００２６】
絶縁被膜３０の偏肉度は、１．０以上２．０以下であることができる。図１に示すように、偏肉度は、絶縁被膜３０の偏心の度合いである。具体的には、偏肉度は、エナメル線１０の中心Ｏを通る仮想線上の絶縁被膜３０の肉厚をマイクロスコープで測定し、最も厚い肉厚Ｔ１と最も薄い肉厚Ｔ２との比（Ｔ１／Ｔ２）である。偏肉度が２．０以下であれば、被膜が導体円周上を均一に覆うことになり、エナメル線の絶縁性能を確保することができる。この範囲から外れると肉厚の薄い部分に欠陥を生じ、絶縁性低下のおそれがある。
【００２７】
絶縁被膜３０の肉厚は、５μｍ以上であることができる。肉厚は導体２０の表面から絶縁被膜３０の外表面までの厚さである。肉厚が５μｍ以上であることでエナメル線１０の絶縁性能を確保することができる。また、絶縁被膜３０の肉厚は、導体２０の線径の５％以上であることが好ましい。肉厚が線径の５％以上であることでエナメル線１０の絶縁性能を確保することができる。
【００２８】
エナメル線１０は、抵抗計で測定した０℃〜２００℃における電気抵抗が２０℃における電気抵抗を１００％としたときに９０％以上１１０％以下であることができる。一般に金属導体のエナメル線は温度を上げると電気抵抗が大きくなるが、本実施形態に係るエナメル線は温度上昇に伴う電気抵抗の変化が少ない。このため、例えば、原子炉、宇宙開発用途に好適に採用し得る。
【００２９】
エナメル線１０は、インピーダンス測定装置で測定した０ｋＨｚ〜２００ｋＨｚにおけるインピーダンスが０ｋＨｚにおけるインピーダンスを１００％としたときに８０％以上１２０％以下であることができる。一般に金属導体のエナメル線は周波数を上げるとインピーダンスが大きくなるが、本実施形態に係るエナメル線は周波数上昇に伴うインピーダンスの変化が少ない。このため、例えば、高周波コイルに好適に採用し得る。
【００３０】
２．エナメル線の製造方法
本実施形態に係るエナメル線の製造方法は、複数のカーボンナノチューブの集合体である導体の真円度を調整する成型工程と、成型工程で得られた導体に塗料を塗布する塗布工程と、塗布工程で導体に塗布された塗料の焼き付けを行う焼き付け工程と、を含む。
【００３１】
図２〜図４を用いて本発明の一実施形態に係るエナメル線１０の製造方法について説明する。図２は本実施形態に係るエナメル線１０の製造方法を実施するための製造装置１００の一例の模式図であり、図３は本実施形態に係るエナメル線１０の製造方法に用いるダイス６００の断面図であり、図４は本実施形態に係るエナメル線１０の製造方法に用いるローラ６１０の斜視図である。
【００３２】
図２に示すように、製造装置１００は、導体２０が巻かれたボビン５０と、ボビン５０から引き出された導体２０を成型する成型部６０と、成型部６０で成型された導体２０に塗料を塗布する塗布部７０と、塗料を焼き付ける焼付部８０と、絶縁被覆されたエナメル線１０を巻き取る巻取部９０と、を有する。
【００３３】
ボビン５０に巻きつけられた導体２０は、ＣＮＴ集合体である。ボビン５０から導体２０を引きだし、成型部６０に導入する。
【００３４】
成型部６０は、導体２０に対し成型工程を実施する。成型工程は複数のカーボンナノチューブの集合体である導体２０の真円度を調整する工程である。成型工程は、導体２０の表面と成型部材とを接触させることにより導体２０の表面の凹凸を減少させ、導体２０の
真円度を１．０に近づける。成型部６０の成形部材としては例えば図３のダイス６００や図４のローラ６１０を採用することができる。成型部６０は、導体２０の真円度を徐々に１．０に近づけるためにダイス６００及び／またはローラ６１０を複数直列に配置してもよい。
【００３５】
図３に示すようにダイス６００の出口６０４は入口６０２の直径より小さい。入口６０２及び出口６０４は円形であり、ダイス６００は入口６０２から出口６０４に向かって徐々に細くなる円錐台形状のダイス孔６０６を有する。入口６０２の直径は導体２０の最大径よりも大きく、例えば導体２０の最大径の１．５倍程度である。出口６０４の直径は例えば導体２０の最大径の１．０倍〜１．５倍であり、特に導体２０の最大径の１．２倍程度であることが好ましい。
【００３６】
成型工程は、導体２０の真円度を１．０以上１．５以下に調整する。導体２０はダイス６００から引き出されると円形の断面を有するダイス孔６０６に接触しながら真円に近い断面形状に成型される。導体２０の外面の一部はダイス孔６０６の内面に接触し、特に導体２０の突出している部分はダイス孔６０６の内面に押圧されて変形し、成型される。導体２０は複数のカーボンナノチューブがファンデルワールス力で集合しただけであるのでダイス孔６０６との接触により容易に変形することができる。
【００３７】
また、成型工程は、導体２０の表面に金属めっき被膜を有する場合にも、表面の凹凸を減少させることができる。
【００３８】
成型工程における導体２０に対する引張応力は２００ＭＰａ以上２０００ＭＰａ以下であることが好ましい。導体２０はＣＮＴ集合体であるので導体２０に過度の引張応力がかかると破断してしまうため、導体２０の送り速度を調整して成型工程における引張応力を比較的小さな値に維持する必要がある。一般的な導体線加工ダイスの場合には導体線に伸線加工が施されるが、本実施形態に係る導体２０は伸線加工を施すのではない。導体２０の外形を真円に近い形状に整えるために成型工程が行われる。
【００３９】
また、ダイス６００に代えて、あるいはダイス６００の前後に連続して、図４に示すローラ６１０を用いてもよい。ローラ６１０はボビン５０から引き出された導体２０を挟み込むように２つのローラ６１０を有する。２つの対向するローラ６１０は、わずかな間隔を隔てて配置され、導体２０の送り出される方向に回転する。ローラ６１０は断面円弧状に湾曲した溝６１２を有する。互いに対向する溝６１２は導体２０の最大径よりもわずかに大きな間隔を有して配置される。溝６１２は、ローラ６１０間を通る導体２０に接触して真円に近い断面形状に導体２０を成型する。図４では２つのローラ６１０を鉛直方向に間隔をあけて配置したが、２つのローラ６１０を水平方向に間隔をあけて配置してもよい。また、鉛直方向に配置したローラ６１０と水平方向に配置したローラ６１０を２組直列に並べて配置して導体２０に対し２方向から接触してもよい。
【００４０】
塗布部７０は、成型工程で所定の真円度に成型された導体２０に塗料を塗布する塗布工程を実行する。塗布部７０で塗布する塗料は、上述した絶縁被膜３０の樹脂を溶媒に溶解した塗料を用いる。
【００４１】
塗布工程における塗料の粘度は、０．５ｄＰａ・ｓ以上５０ｄＰａ・ｓ以下であることができる。塗料の粘度は、ＪＩＳ  Ｃ２１０３に準拠して例えばリオン株式会社のデジタル回転式粘度計（ビスコテスタ）を用いて、測定することができる。塗料の粘度が０．５ｄＰａ・ｓ以下であれば焼付部８０で焼成される前に塗料が液だれ状になり偏肉度不良の原因となるため好ましくなく、５０ｄＰａ・ｓ以上であれば導体に過度の応力がかかり破断の原因となるため好ましくない。
【００４２】
焼付部８０は、塗布工程で導体２０に塗布された塗料の焼き付けを行う焼き付け工程を実行する。焼き付けを行う温度は塗料の種類に応じて適当な温度に設定する。
【００４３】
塗布工程及び焼き付け工程を複数回繰り返すことにより、導体２０に複数層からなる絶縁被膜３０を形成することができる。複数回塗布することで絶縁被膜３０の肉厚を均一化することができる。具体的には塗布部７０及び焼付部８０を通った導体２０を再び塗布部７０へ戻して塗布工程及び焼き付け工程を繰り返し行う。例えば、絶縁被膜３０は５回以上の塗布工程及び焼き付け工程により形成することができる。
【００４４】
成型工程後であって塗布工程前に、導体２０を有機溶剤で洗浄する洗浄工程と、導体２０を加熱して導体２０に付着した有機溶剤を除去するアニール工程と、をさらに含んでもよい。洗浄工程は導体２０に付着した不純物を洗い流すことができる。また、導体２０が金属めっきで被覆されていない場合は洗浄工程で有機溶剤が導体２０の内部の隙間に入り込み、アニール工程で有機溶剤が除去されることで導体２０の内部にあった隙間が減少して空隙率が低くなる。導体２０の空隙率が低くなれば、エナメル線１０における電気抵抗を低く抑えることができる。また、導体２０の空隙率が低くなれば、エナメル線１０においける引張強さが向上する。
【００４５】
アニール工程は、導体２０に付着した有機溶剤を揮発させることができる温度に加熱する。
【００４６】
有機溶剤としては導体２０が金属めっきで被覆されていない場合はアセトンが好ましい。導体２０がＣＮＴ集合体を銅等の金属めっきで被覆したものである場合は有機溶剤としてアセトンの他、例えば、エタノール、メタノール、イソプロパノール、二塩化エチレン或いはクロロホルムを用いてもよい。
【実施例】
【００４７】
（１）実施例のサンプルの作製
実施例１〜実施例３として市販のＣＮＴ集合体を表１に記載の真円度に成型して、絶縁被膜を塗布して焼き付けして実施例１〜実施例３のエナメル線のサンプルを得た。
【００４８】
実施例１の「導体」は日立造船社製の線径５０μｍの「ＣＮＴワイヤー」であり、「塗料」は東特塗料社製の粘度０．５ｄＰａ・ｓを用いて５層のポリウレタンの絶縁被膜（平均肉厚７μｍ）を形成した。
【００４９】
実施例２の「導体」は日立造船社製の線径４０μｍ、銅めっき厚さ１μｍ（片側）の「ＣＮＴワイヤーＣｕめっきあり」であり、「塗料」は東特塗料社製の粘度０．５ｄＰａ・ｓを用いて５層のポリウレタンの絶縁被膜（平均肉厚８．５μｍ）を形成した。
【００５０】
実施例３の「導体」は村田機械社製の線径１００μｍの「ＣＮＴヤーン」であり、「塗料」は東特塗料社製の粘度０．５ｄＰａ・ｓを用いて５層のポリウレタンの絶縁被膜（平均肉厚12μｍ）を形成した。
【００５１】
（２）比較例のサンプルの作製
比較例１として「導体」は名城ナノカーボン社製の線径１２０μｍのＣＮＴ集合体を用いて真円度を調整することなく有機溶剤による洗浄も行わず東特塗料社製の粘度０．５ｄＰａ・ｓの塗料を用いて５層のポリウレタンの絶縁被膜（平均肉厚５μｍ）を形成した。
【００５２】
比較例２として線径３０μｍの銅線にポリウレタンの絶縁被膜（平均肉厚５μｍ）を形成した２種エナメル線を用いた。
【００５３】
比較例３としてサカイ産業社の炭素繊維集合線（線径２３０μｍ）にポリウレタンの絶縁被膜（平均肉厚５μｍ）を形成した。
【００５４】
（３）各種寸法の測定
実施例１〜３及び比較例１〜３の導体をマイクロスコープを用いて撮影し、画像計測ソフトで線径（「導体径」）を測定した。図５と図８は実施例１と実施例２のＣＮＴ集合体の外観を５００倍に拡大して撮影した写真である。図１１は比較例１のＣＮＴ集合体の外観を５００倍に拡大して撮影した写真である。実施例１〜３の導体は成型工程後の寸法であり、比較例１〜３は成型工程を行わない状態の寸法とした。各導体の長さ方向の同じ位置でエナメル線を回転して５箇所で線径を測定し、測定結果の最大径Ｄ１と最小径Ｄ２から真円度（Ｄ１／Ｄ２）を計算した。エナメル線の線径は「仕上径」として表２，３に示した。その真円度を各導体の長さ方向の１０か所で算出し、その内の最も大きな真円度を表１〜表３に示した。
【００５５】
実施例１〜３及び比較例１〜３のエナメル線を切断した断面をマイクロスコープを用いて撮影し、画像計測ソフトで５箇所以上の肉厚を測定した。測定結果から最も厚い肉厚Ｔ１と最も薄い肉厚Ｔ２との比（Ｔ１／Ｔ２）を偏肉度として求めた。各導体の長さ方向の１０か所で測定し、その内の最も大きな偏肉度を表１〜表３に示した。
【００５６】
（４）絶縁被膜の評価
図６は実施例１のエナメル線の外観を５００倍に拡大して撮影した写真であり、図７は実施例１のエナメル線の切断面を１０００倍に拡大して撮影した写真であり、図８は実施例２のエナメル線の外観を５００倍に拡大して撮影した写真であり、図９は実施例２のエナメル線の切断面を１０００倍に拡大して撮影した写真である。実施例１〜３及び比較例２のエナメル線は、表２及び表３に示すように偏肉度が２．０以下であり、拡大写真を観察してもピンホールなどの欠陥は見当たらなかった。
【００５７】
図１２は比較例１のエナメル線の断面を５００倍に拡大して撮影した写真である。図１２に示すように比較例１は断面が扁平になり表面の凹凸も多く、それに付随して絶縁被膜の欠陥が各所にみられる。比較例１の導体の真円度は１．９であり、エナメル線の偏肉度は測定不能であった。
【００５８】
（５）機械的特性
実施例１〜３及び比較例１〜３の導体及びエナメル線のサンプルについて、ＪＩＳ  Ｃ３２０２試験片について、株式会社オリエンテック社製の引張試験機を用いて、２３±２℃、標準線間距離２００ｍｍ、引張速度５±１ｍｍ／ｓｅｃでＪＩＳ  Ｃ３２１６に基づいて引張試験を行い、引張強さ（Ｎ）、破断荷重（ｇｆ）を測定した。測定結果を表１〜表３に示した。
【００５９】
【表１】
2020061289.tif 000003
【００６０】
【表２】
2020061289.tif 000004
【００６１】
【表３】
2020061289.tif 000005
【００６２】
（６）線抵抗の測定及び評価
実施例１〜３及び比較例２，３のエナメル線のサンプルについて、鶴賀電機社製の抵抗計を用いてＪＩＳ  Ｃ３２１６に基づいて電気抵抗を測定し、その測定結果を図１３に示した。図１３では２０℃における電気抵抗を１００％としたときの０℃〜２００℃での電気抵抗の変化（抵抗比）を示した。図１３によれば、比較例２のエナメル線の電気抵抗は温度の上昇と共に大きくなるのに対し、実施例１〜３及び比較例３のエナメル線の電気抵抗は温度が０℃〜２００℃と変化しても±２０％の変化はなかった。具体的には、０℃と２００℃における各例の電気抵抗の変化は、実施例１が１０２％と８６％、実施例２が１０１％と８７％、実施例３が１０２％と８４％であった。
【００６３】
（７）インピーダンスの測定及び評価
実施例１〜３及び比較例２，３のエナメル線のサンプルについて、ＧＷ  Ｉｎｓｔｅｋ社製のインピーダンス測定器を用いてＪＩＳ  Ｃ３２１６に基づいて電気抵抗を測定し、０ｋＨｚ〜２００ｋＨｚにおけるインピーダンスを測定し、その測定結果を図１４に示した。図１４では０ｋＨｚにおけるインピーダンスを１００％としたときの０ｋＨｚ〜２００ｋＨｚにおけるインピーダンスの変化を示した。図１４によれば、比較例２のエナメル線のインピーダンスは周波数が高くなると大きくなるのに対し、実施例１〜３及び比較例３のエナメル線のインピーダンスは周波数が高くなるにつれ低くなり、２００ｋＨｚになっても９０％を下回らなかった。特に実施例１〜３のエナメル線のインピーダンスはほぼ同じ傾向を示した。具体的には、０ｋＨｚと２００ｋＨｚにおけるインピーダンスの変化は、実施例１が１００％と９９％、実施例２が１００％と９６％、実施例３が１００％と９２％であった。
【００６４】
（８）有機溶剤による効果
村田機械社製の「ＣＮＴヤーン」をアセトンに浸漬したところ、線径が４４．４μｍから３９．５μｍにまで縮小した。導体が金属めっきで被覆されていない場合はアセトンによる洗浄と同時に空隙率が減少した。アセトンの代わりにエタノール、メタノール、イソプロパノール、二塩化エチレン及びクロロホルムで洗浄したが、空隙率の減少は見られな
かった。
【００６５】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、さらに種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法、及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【符号の説明】
【００６６】
１０…エナメル線、２０…導体、３０…絶縁被膜、５０…ボビン、６０…成型部、７０…塗布部、８０…焼付部、９０…巻取部、１００…製造装置、６００…ダイス、６０２…入口、６０４…出口、６０６…ダイス孔、６１０…ローラ、６１２…溝
【図１】
2020061289.tif 000006
【図２】
2020061289.tif 000007
【図３】
2020061289.tif 000008
【図４】
2020061289.tif 000009
【図５】
2020061289.tif 000010
【図６】
2020061289.tif 000011
【図７】
2020061289.tif 000012
【図８】
2020061289.tif 000013
【図９】
2020061289.tif 000014
【図１０】
2020061289.tif 000015
【図１１】
2020061289.tif 000016
【図１２】
2020061289.tif 000017
【図１３】
2020061289.tif 000018
【図１４】
2020061289.tif 000019