(57)【要約】【課題】ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体を形成できるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル、ε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法、及び磁気記録媒体の製造方法の提供。【解決手段】下記の式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の集合体であり、上記β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子は、表面が表面修飾剤により修飾されており、水に分散させてゾルとした場合のゼータ電位が、ｐＨ１０において＋５ｍＶ以上である、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体〔式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０≦ａ＜１を満たす。〕及びその応用。2020033204.tif 000019【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の集合体であり、
前記β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子は、表面が表面修飾剤により修飾されており、
水に分散させてゾルとした場合のゼータ電位が、ｐＨ１０において＋５ｍＶ以上である、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体。
【化１】
2020033204.tif 000017
式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０≦ａ＜１を満たす。
【請求項２】
前記表面修飾剤が、フェノール性水酸基、カルボキシ基、ホスホン酸基、スルホン酸基、及びチオール基からなる群より選ばれる少なくとも１種のアニオン性基と、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、及び四級アンモニウム基からなる群より選ばれる少なくとも１種のカチオン性基と、を有する化合物である、請求項１に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体。
【請求項３】
前記表面修飾剤が、カテコール骨格と、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、及び四級アンモニウム基からなる群より選ばれる少なくとも１種のカチオン性基と、を有する化合物である、請求項１又は請求項２に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体。
【請求項４】
前記表面修飾剤が、ドーパミン塩酸塩、アドレナリン塩酸塩、イソプロテレノール塩酸塩、及びアルギニンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体。
【請求項５】
前記式（１）におけるＡが、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｒｈ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素であり、かつ、ａが、０＜ａ＜１を満たす、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体。
【請求項６】
磁性粉体の製造に用いられる請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体。
【請求項７】
下記の式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の集合体である粉体が、水に分散したゾルであり、
前記β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子は、表面が表面修飾剤により修飾されており、
前記β−オキシ水酸化鉄系化合物の前記粉体のゼータ電位が、ｐＨ１０において＋５ｍＶ以上である、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル。
【化２】
2020033204.tif 000018
式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０≦ａ＜１を満たす。
【請求項８】
前記表面修飾剤は、フェノール性水酸基、カルボキシ基、ホスホン酸基、スルホン酸基、及びチオール基からなる群より選ばれる少なくとも１種のアニオン性基と、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、及び四級アンモニウム基からなる群より選ばれる少なくとも１種のカチオン性基と、を有する化合物である、請求項７に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル。
【請求項９】
前記表面修飾剤は、カテコール骨格と、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、及び四級アンモニウム基からなる群より選ばれる少なくとも１種のカチオン性基と、を有する化合物である、請求項７又は請求項８に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル。
【請求項１０】
前記表面修飾剤が、ドーパミン塩酸塩、アドレナリン塩酸塩、イソプロテレノール塩酸塩、及びアルギニンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項７〜請求項９のいずれか１項に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル。
【請求項１１】
前記式（１）におけるＡが、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｒｈ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素であり、かつ、ａが、０＜ａ＜１を満たす、請求項７〜請求項１０のいずれか１項に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル。
【請求項１２】
磁性粉体の製造に用いられる請求項７〜請求項１１のいずれか１項に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル。
【請求項１３】
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体が水に分散したβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル、又は、請求項７〜請求項１２のいずれか１項に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルと、加水分解性基を有するシラン化合物と、を混合して、前駆体粉体分散液を得る工程と、
前記前駆体粉体分散液から前駆体粉体を取り出す工程と、
前記前駆体粉体を８００℃以上１４００℃以下の範囲の温度で熱処理して、熱処理粉体を得る工程と、
前記熱処理粉体とアルカリ水溶液とを混合する工程と、
を含むε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の製造方法により得られたε−酸化鉄系化合物の粉体を用いて磁性層形成用組成物を調製する工程と、
非磁性支持体上に、前記磁性層形成用組成物を付与して、磁性層形成用組成物層を形成する工程と、
形成された前記磁性層形成用組成物層を磁場配向処理する工程と、
前記磁場配向処理された前記磁性層形成用組成物層を乾燥して、磁性層を形成する工程と、
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル、ε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法、及び磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録媒体の高性能化に伴い、磁気記録媒体に用いられる磁気材料として、ナノサイズの粒子でありながら、非常に高い保磁力を発現するイプシロン型酸化鉄（以下、「ε−Ｆｅ２Ｏ３」又は「ε−酸化鉄」ともいう。）の粒子が注目されている。
ε−酸化鉄の粒子を製造する方法としては、ベータ型オキシ水酸化鉄（以下、「β−ＦｅＯＯＨ」又は「β−オキシ水酸化鉄」ともいう。）の粒子を原料として用いる方法が知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、平均粒径約６ｎｍのβ−オキシ水酸化鉄ナノ磁性粒子のゾルから、単相のε−酸化鉄ナノ磁性粒子を製造する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−２２４０２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、磁気抵抗効果型（ＭＲ：Magneto-Resistance）ヘッドのような高感度の再生ヘッドを用いて再生した場合にも、高いＳＮＲ（Signal to Noise Ratio）が得られる磁気記録媒体が求められている。しかし、磁性材料としてε−酸化鉄の粒子を使用した磁気記録媒体では、ＳＦＤ（Switching field distribution）が大きいため、ＳＮＲが低くなるという問題がある。
【０００６】
ところで、磁気記録媒体における磁性材料としてε−酸化鉄の粒子を使用する場合、高いＳＮＲを実現する観点から、ε−酸化鉄の粒子は小さいことが重要となる。しかし、その一方で、磁気記録媒体の１種である磁気テープでは、ε−酸化鉄の粒子が小さいと、ε−酸化鉄の粒子を含む磁性層の膜強度が低下するという問題がある。
【０００７】
このような問題に対し、本発明者が、ε−酸化鉄の粒子の原料であるβ−オキシ水酸化鉄の粒子に着目し、種々の検討を重ねたところ、β−オキシ水酸化鉄のゼータ電位の制御が有効であることが判明した。
【０００８】
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体を形成できるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体を形成できるβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルを提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体の製造が可能なε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞  下記の式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の集合体であり、
上記β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子は、表面が表面修飾剤により修飾されており、
水に分散させてゾルとした場合のゼータ電位が、ｐＨ１０において＋５ｍＶ以上である、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体。
【００１０】
【化１】
2020033204.tif 000002
【００１１】
式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０≦ａ＜１を満たす。
【００１２】
＜２＞  上記表面修飾剤が、フェノール性水酸基、カルボキシ基、ホスホン酸基、スルホン酸基、及びチオール基からなる群より選ばれる少なくとも１種のアニオン性基と、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、及び四級アンモニウム基からなる群より選ばれる少なくとも１種のカチオン性基と、を有する化合物である、＜１＞に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体。
＜３＞  上記表面修飾剤が、カテコール骨格と、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、及び四級アンモニウム基からなる群より選ばれる少なくとも１種のカチオン性基と、を有する化合物である、＜１＞又は＜２＞に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体。
＜４＞  上記表面修飾剤が、ドーパミン塩酸塩、アドレナリン塩酸塩、イソプロテレノール塩酸塩、及びアルギニンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体。
＜５＞  上記式（１）におけるＡが、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｒｈ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素であり、かつ、ａが、０＜ａ＜１を満たす、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体。
＜６＞  磁性粉体の製造に用いられる＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体。
【００１３】
＜７＞  下記の式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の集合体である粉体が、水に分散したゾルであり、
上記β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子は、表面が表面修飾剤により修飾されており、
上記β−オキシ水酸化鉄系化合物の上記粉体のゼータ電位が、ｐＨ１０において＋５ｍＶ以上である、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル。
【００１４】
【化２】
2020033204.tif 000003
【００１５】
式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０≦ａ＜１を満たす。
【００１６】
＜８＞  上記表面修飾剤は、フェノール性水酸基、カルボキシ基、ホスホン酸基、スルホン酸基、及びチオール基からなる群より選ばれる少なくとも１種のアニオン性基と、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、及び四級アンモニウム基からなる群より選ばれる少なくとも１種のカチオン性基と、を有する化合物である、＜７＞に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル。
＜９＞  上記表面修飾剤は、カテコール骨格と、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、及び四級アンモニウム基からなる群より選ばれる少なくとも１種のカチオン性基と、を有する化合物である、＜７＞又は＜８＞に記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル。
＜１０＞  上記表面修飾剤が、ドーパミン塩酸塩、アドレナリン塩酸塩、イソプロテレノール塩酸塩、及びアルギニンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、＜７＞〜＜９＞のいずれか１つに記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル。
＜１１＞  上記式（１）におけるＡが、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｒｈ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素であり、かつ、ａが、０＜ａ＜１を満たす、＜７＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル。
＜１２＞  磁性粉体の製造に用いられる＜７＞〜＜１１＞のいずれか１つに記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル。
【００１７】
＜１３＞  ＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体が水に分散したβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル、又は、＜７＞〜＜１２＞のいずれか１つに記載のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルと、加水分解性基を有するシラン化合物と、を混合して、前駆体粉体分散液を得る工程と、
上記前駆体粉体分散液から前駆体粉体を取り出す工程と、
上記前駆体粉体を８００℃以上１４００℃以下の範囲の温度で熱処理して、熱処理粉体を得る工程と、
上記熱処理粉体とアルカリ水溶液とを混合する工程と、
を含むε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法。
＜１４＞  ＜１３＞に記載の製造方法により得られたε−酸化鉄系化合物の粉体を用いて磁性層形成用組成物を調製する工程と、
非磁性支持体上に、上記磁性層形成用組成物を付与して、磁性層形成用組成物層を形成する工程と、
形成された上記磁性層形成用組成物層を磁場配向処理する工程と、
上記磁場配向処理された上記磁性層形成用組成物層を乾燥して、磁性層を形成する工程と、
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の一実施形態によれば、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体を形成できるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体が提供される。
また、本発明の他の実施形態によれば、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体を形成できるβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルが提供される。
また、本発明の他の実施形態によれば、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体の製造が可能なε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法が提供される。
また、本発明の他の実施形態によれば、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体の製造方法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明を適用したβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル、ε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法、及び磁気記録媒体の製造方法の一例について説明する。但し、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜、変更を加えて実施できる。
【００２０】
本開示において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。
本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本開示において、各成分の量は、各成分に該当する物質が複数種存在する場合には、特に断らない限り、複数種の物質の合計量を意味する。
【００２１】
本開示において、「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
【００２２】
本開示において、「表面修飾剤による粒子の表面の修飾」とは、粒子の表面の少なくとも一部に表面修飾剤が吸着していることを意味する。
【００２３】
［β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体及びβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル］
本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体は、後述の式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の集合体であり、上記β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子は、表面が表面修飾剤により修飾されており、水に分散させてゾルとした場合のゼータ電位が、ｐＨ１０において＋５ｍＶ以上の、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体である。
また、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルは、後述の式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の集合体である粉体が、水に分散したゾルであり、上記β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子は、表面が表面修飾剤により修飾されており、上記β−オキシ水酸化鉄系化合物の上記粉体のゼータ電位が、ｐＨ１０において＋５ｍＶ以上の、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルである。
【００２４】
既述のとおり、ε−酸化鉄の粒子は、ナノサイズの微粒子でありながら、非常に高い保磁力を発現することから、磁性材料として注目されている。しかし、磁性材料としてε−酸化鉄の粒子を使用した磁気記録媒体では、磁化反転が起きるときの磁場の値の分布（ＳＦＤ）が大きいため、ノイズが大きくなり、ＳＮＲが低くなるという問題がある。また、磁気記録媒体の１種である磁気テープでは、高いＳＮＲを実現する観点から、ε−酸化鉄を微粒子化して使用するが、ε−酸化鉄の粒子が小さすぎると、ε−酸化鉄の粒子を含む磁性層の膜質が弱くなるという問題がある。
そのため、従来のε−酸化鉄の粒子を磁性材料として使用した磁気記録媒体では、良好なＳＮＲと優れた膜強度との両立が困難であった。
【００２５】
このような問題に対し、本発明者は、ε−酸化鉄の粒子の原料であるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子に着目し、研究を重ねたところ、β−オキシ水酸化鉄化合物の粒子のゼータ電位を制御することで、磁性層の膜強度を低下させることなく、高いＳＮＲを実現できる磁性粒子（即ち、ε−酸化鉄の粒子）を形成できることを見出した。
通常、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子のゼータ電位は、アルカリ領域（例えば、ｐＨ９以上）において、負の値を示す。これに対し、本開示では、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の表面を表面修飾剤により修飾することで、アルカリ領域においてもβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子のゼータ電位が正の値になるようにした。
詳細には、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体では、後述の式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の表面を表面修飾剤により修飾することで、水に分散させてゾルとした場合のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体のゼータ電位が、ｐＨ１０において＋５ｍＶ以上になるようにした。また、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルでは、後述の式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の表面を表面修飾剤により修飾することで、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体のゼータ電位が、ｐＨ１０において＋５ｍＶ以上になるようにした。これにより、ε−酸化鉄の粒子を磁性材料として使用した磁気記録媒体において、良好なＳＮＲと優れた膜強度との両立を実現した。
本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体及びβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルが、このような効果を奏する理由については明らかではないが、本発明者は、以下のように推測している。
【００２６】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子のゼータ電位がアルカリ領域下で正の値を示すと、ε−酸化鉄の粒子の製造工程において、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子をＳｉ含有被膜で覆う際に、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子とＳｉとがより良好に相互作用する。そのため、Ｓｉ含有被膜がβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の表面に、従来よりも均一に近い状態で被覆される傾向がある。このＳｉ含有被膜は、ε−酸化鉄の粒子の製造工程において除去されるが、完全には除去されずに、ε−酸化鉄の粒子の表面に薄く、かつ、均一に近い状態で残ると考えられる。Ｓｉ含有被膜がε−酸化鉄の粒子の表面に均一に近い状態で残ると、磁性層形成用組成物を調製する際にε−酸化鉄の粒子を分散媒に分散させても、ε−酸化鉄の粒子が割れる等のダメージを受け難くなる。ε−酸化鉄の粒子が割れると、磁気記録媒体では、ＳＦＤが大きくなり、ＳＮＲが低くなるが、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体及びβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルによれば、割れ難いε−酸化鉄の粒子を形成できるため、磁気記録媒体のＳＦＤが大きくなり難く、良好なＳＮＲを実現できると推測される。また、ε−酸化鉄の粒子が割れ難いため、磁性層が剥がれ難く、磁性層の膜強度に優れると推測される。
【００２７】
上述の点に関し、特許文献１（特開２０１４−２２４０２７号公報）では、β−オキシ水酸化鉄ナノ磁性粒子のゾルからε−酸化鉄ナノ磁性粒子を製造しているが、β−オキシ水酸化鉄の粒子のゼータ電位を制御することについて、着目すらしていない。ましてや、アルカリ領域におけるβ−オキシ水酸化鉄の粒子のゼータ電位を正の値にすることで、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体を製造できる磁性粉体を形成する技術についての記載はない。
【００２８】
上記の推測は、本発明を限定的に解釈するものではなく、一例として説明するものである。
【００２９】
〔用途〕
本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体及びβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルは、いずれも磁性粉体の製造に好適に用いることができる。
本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体が水に分散したβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルによれば、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体を製造することができる。
また、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルによれば、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体を製造することができる。
β型のオキシ水酸化鉄の粒子は、ε型の酸化鉄の粒子を形成しやすいため、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体及びβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルは、磁性粉体の中でも、特に、ε−酸化鉄系化合物の粉体の製造に好適に用いることができる。
【００３０】
〔β−オキシ水酸化鉄系化合物〕
β−オキシ水酸化鉄系化合物は、下記の式（１）で表される化合物である。
【００３１】
【化３】
2020033204.tif 000004
【００３２】
式（１）中、Ａは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａは、０≦ａ＜１を満たす。
【００３３】
式（１）で表される化合物には、β−ＦｅＯＯＨと、β−ＦｅＯＯＨのＦｅ３＋イオンサイトの一部がＦｅ以外の金属元素で置換された化合物と、が包含される。
β−ＦｅＯＯＨのＦｅ３＋イオンサイトの一部をＦｅ以外の金属元素で置換することにより、例えば、ε−酸化鉄系化合物の粒子を形成する際に、ε−酸化鉄系化合物の磁性特性を好ましく制御することができる。
【００３４】
式（１）におけるＡは、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素であれば、金属元素の種類及び数は、特に制限されない。
例えば、ε−酸化鉄の結晶構造をより形成しやすく、かつ、形成された結晶構造をより安定化しやすいという観点からは、式（１）におけるＡは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｒｈ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素であることが好ましく、Ｇａ、Ｃｏ、及びＴｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素であることがより好ましく、Ｇａを含むことが更に好ましい。
式（１）におけるａは、例えば、磁気特性の制御、並びに、ε相の形成性及び安定性の観点から、０＜ａ＜１が好ましく、０＜ａ＜０．８がより好ましく、０．０５＜ａ＜０．６が更に好ましい。
【００３５】
式（１）で表される化合物のうち、下記の式（２）で表される化合物、下記の式（３）で表される化合物、下記の式（４）で表される化合物、下記の式（５）で表される化合物、及び下記の式（６）で表される化合物は、好ましい態様である。
これらの中でも、下記の式（６）で表される化合物は、より良好なＳＮＲを実現しやすい点で好ましい。
【００３６】
【化４】
2020033204.tif 000005
【００３７】
式（２）中、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｚは、０＜ｚ＜１を満たす。
【００３８】
式（２）におけるＺは、例えば、磁気特性の制御、並びに、ε相の形成性及び安定性の観点から、Ｇａ及びＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属元素が好ましく、Ｇａがより好ましい。
式（２）におけるｚは、例えば、磁気特性の制御、並びに、ε相の形成性及び安定性の観点から、好ましくは０＜ｚ＜０．９を満たし、より好ましくは０．０５＜ｚ＜０．６を満たす。
【００３９】
式（２）で表される化合物の具体例としては、β−Ｇａ（０．１２）Ｆｅ（０．８８）ＯＯＨ、β−Ｇａ（０．２５）Ｆｅ（０．７５）ＯＯＨ、β−Ｇａ（０．２７５）Ｆｅ（０．７２５）ＯＯＨ、β−Ｇａ（０．３）Ｆｅ（０．７）ＯＯＨ等が挙げられる。
【００４０】
【化５】
2020033204.tif 000006
【００４１】
式（３）中、Ｘは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙは、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜０．５を満たし、ｙは、０＜ｙ＜０．５を満たす。
【００４２】
式（３）におけるＸは、例えば、磁気特性の制御、並びに、ε相の形成性及び安定性の観点から、Ｃｏ及びＭｎから選ばれる少なくとも１種の金属元素が好ましく、Ｃｏがより好ましい。同様の観点から、式（３）におけるＹは、Ｔｉが好ましい。
式（３）におけるｘ及びｙは、例えば、磁気特性の制御、並びに、ε相の形成性及び安定性の観点から、ｘが、０＜ｘ＜０．２５を満たし、かつ、ｙが、０＜ｙ＜０．２５を満たすことが好ましい。
【００４３】
式（３）で表される化合物の具体例としては、β−Ｃｏ（０．０５）Ｔｉ（０．０５）Ｆｅ（０．９）ＯＯＨ、β−Ｃｏ（０．０７）Ｔｉ（０．０７）Ｆｅ（０．８６）ＯＯＨ等が挙げられる。
【００４４】
【化６】
2020033204.tif 000007
【００４５】
式（４）中、Ｘは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜０．５を満たし、ｚは、０＜ｚ＜０．５を満たす。
【００４６】
式（４）におけるＸは、例えば、磁気特性の制御、並びに、ε相の形成性及び安定性の観点から、Ｃｏ及びＭｎから選ばれる少なくとも１種の金属元素が好ましく、Ｃｏがより好ましい。同様の観点から、式（４）におけるＺは、Ｇａ及びＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属元素が好ましく、Ｇａがより好ましい。
式（４）におけるｘ及びｚは、例えば、磁気特性の制御、並びに、ε相の形成性及び安定性の観点から、ｘが、０＜ｘ＜０．２５を満たし、かつ、ｚが、０＜ｚ＜０．３を満たすことが好ましい。
【００４７】
式（４）で表される化合物の具体例としては、β−Ｇａ（０．２５）Ｃｏ（０．０５）Ｆｅ（０．７）ＯＯＨ、β−Ｇａ（０．３）Ｃｏ（０．０５）Ｆｅ（０．６５）ＯＯＨ等が挙げられる。
【００４８】
【化７】
2020033204.tif 000008
【００４９】
式（５）中、Ｙは、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｙは、０＜ｙ＜０．５を満たし、ｚは、０＜ｚ＜０．５を満たす。
【００５０】
式（５）におけるＹは、例えば、磁気特性の制御、並びに、ε相の形成性及び安定性の観点から、Ｔｉが好ましい。同様の観点から、式（５）におけるＺは、Ｇａ及びＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属元素が好ましく、Ｇａがより好ましい。
式（５）におけるｙ及びｚは、例えば、磁気特性の制御、並びに、ε相の形成性及び安定性の観点から、ｙが、０＜ｙ＜０．２５を満たし、かつ、ｚが、０＜ｚ＜０．３を満たすことが好ましい。
【００５１】
式（５）で表される化合物の具体例としては、β−Ｇａ（０．３）Ｔｉ（０．０５）Ｆｅ（０．６５）ＯＯＨ、β−Ｇａ（０．２５）Ｔｉ（０．０５）Ｆｅ（０．７）ＯＯＨ等が挙げられる。
【００５２】
【化８】
2020033204.tif 000009
【００５３】
式（６）中、Ｘは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙは、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚは、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘは、０＜ｘ＜０．５を満たし、ｙは、０＜ｙ＜０．５を満たし、ｚは、０＜ｚ＜０．５を満たし、ｘ＋ｙ＋ｚ＜１である。
【００５４】
式（６）におけるＸは、例えば、磁気特性の制御、並びに、ε相の形成性及び安定性の観点から、Ｃｏ及びＭｎから選ばれる少なくとも１種の金属元素が好ましく、Ｃｏがより好ましい。同様の観点から、式（６）におけるＹは、Ｔｉが好ましい。また、同様の観点から、式（６）におけるＺは、Ｇａ及びＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属元素が好ましく、Ｇａがより好ましい。
式（６）におけるｘ、ｙ、及びｚは、例えば、磁気特性の制御、並びに、ε相の形成性及び安定性の観点から、ｘが、０＜ｘ＜０．２５を満たし、ｙが、０＜ｙ＜０．２５を満たし、かつ、ｚが、０＜ｚ＜０．３を満たすことが好ましく、ｘが、０＜ｘ＜０．１５を満たし、ｙが、０＜ｙ＜０．１５を満たし、かつ、ｚが、０＜ｚ＜０．３を満たすことがより好ましい。
【００５５】
式（６）で表される化合物の具体例としては、β−Ｇａ（０．１２）Ｃｏ（０．０２５）Ｔｉ（０．０２５）Ｆｅ（０．８３）ＯＯＨ、β−Ｇａ（０．１４）Ｃｏ（０．０２５）Ｔｉ（０．０２５）Ｆｅ（０．８１）ＯＯＨ、β−Ｇａ（０．１５）Ｃｏ（０．０２５）Ｔｉ（０．０２５）Ｆｅ（０．８）ＯＯＨ、β−Ｇａ（０．１）Ｃｏ（０．０２５）Ｔｉ（０．０２５）Ｆｅ（０．８５）ＯＯＨ、β−Ｇａ（０．２５）Ｃｏ（０．００５）Ｔｉ（０．００５）Ｆｅ（０．７４）ＯＯＨ、β−Ｇａ（０．２）Ｃｏ（０．０１２５）Ｔｉ（０．０１２５）Ｆｅ（０．７７５）ＯＯＨ、β−Ｇａ（０．１３２５）Ｃｏ（０．０２５）Ｔｉ（０．０２５）Ｆｅ（０．８１７５）ＯＯＨ、β−Ｇａ（０．１２５）Ｃｏ（０．０２５）Ｔｉ（０．０２５）Ｆｅ（０．８２５）ＯＯＨ、β−Ｇａ（０．２）Ｃｏ（０．０１７５）Ｔｉ（０．０１７５）Ｆｅ（０．７６５）ＯＯＨ、β−Ａｌ（０．１３）Ｃｏ（０．０２５）Ｔｉ（０．０２５）Ｆｅ（０．８２）ＯＯＨ等が挙げられる。
【００５６】
β型の結晶構造を有するオキシ水酸化鉄系化合物であることの確認は、例えば、Ｘ線回折（ＸＲＤ：X-Ray-Diffraction）法により行うことができる。
測定装置としては、例えば、ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ社のＸ’Ｐｅｒｔ  Ｐｒｏ回折計（商品名）を好適に用いることができる。但し、測定装置は、これに限定されない。
測定条件の具体例を以下に示す。
【００５７】
−測定条件−
Ｘ線源：Ｃｕ  Ｋα線
〔波長：１．５４Å（０．１５４ｎｍ）、出力：４０ｍＡ、４５ｋＶ〕
スキャン範囲：２０°＜２θ＜７０°
スキャン間隔：０．０５°
スキャンスピード：０．７５°／ｍｉｎ
【００５８】
本開示における「β−オキシ水酸化鉄系化合物」には、β型以外の結晶構造（例えば、α型、γ型、及びδ型）の割合が、全結晶構造に対して、０質量％を超えて３０質量％以下であるものも包含される。β型以外の結晶構造の割合は、全結晶構造に対して、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、０質量％、すなわち、β型以外の結晶構造を含まないことが特に好ましい。
β型以外の結晶構造の割合は、ＲＩＥＴＡＮ−ＦＰ等のソフトウェアを用いた、多相リートベルト解析により求める。
【００５９】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の組成は、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法により確認する。
具体的には、試料の粉体１２ｍｇと、４ｍｏｌ／Ｌ（リットル；以下、同じ。）の塩酸水溶液１０ｍＬと、を入れた容器を、設定温度８０℃のホットプレート上で３時間保持し、溶解液を得る。次いで、得られた溶解液を、０．１μｍのメンブレンフィルタを用いて濾過する。得られた濾液の元素分析を、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析装置を用いて行う。得られた元素分析の結果に基づき、鉄原子１００原子％に対する各金属原子の含有率を求める。得られた含有率に基づき、組成を確認する。
測定装置としては、例えば、（株）島津製作所のＩＣＰＳ−８１００（商品名）を好適に用いることができる。但し、測定装置は、これに限定されない。
【００６０】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の形状は、特に制限されない。
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の形状としては、例えば、球状、ロッド状、針状、平板状、不定形状等の形状が挙げられ、一般的には、ロッド状である。
【００６１】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の大きさは、特に制限されない。
本開示において、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の大きさは、粒子の形状が、例えば、ロッド状又は針状の場合には、粒子の大きさは、粒子の長軸の長さ（所謂、長軸長）、及び、短軸の長さ（所謂、短軸長）に対する長軸長の比（長軸長／短軸長；所謂、アスペクト比）で表し、粒子の形状が、例えば、球状、平板状、又は不定形状の場合には、粒子の大きさは、円相当径で表す。
【００６２】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均長軸長は、特に制限されないが、例えば、３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲であることが好ましく、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲であることがより好ましく、８ｎｍ以上２０ｎｍ以下の範囲であることが更に好ましい。
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均長軸長が３ｎｍ以上であると、磁性層の膜強度により優れる磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体の形成を実現し得る。
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均長軸長が５０ｎｍ以下であると、ＳＮＲがより良好な磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体の形成を実現し得る。
【００６３】
本開示において、「β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均長軸長」は、β−オキシ水酸化鉄系化合物の一次粒子５００個の長軸長の数平均値を意味する。また、「β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均アスペクト比」は、β−オキシ水酸化鉄系化合物の一次粒子５００個の、短軸長の数平均値（所謂、平均短軸長）に対する長軸長の数平均値（所謂、平均長軸長）の比を意味する。
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均長軸長及び平均アスペクト比は、具体的には、以下の方法により求める。
オキシ水酸化鉄系化合物の粉体を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ：Transmission Electron Microscope）を用いて、撮影倍率８０，０００倍で撮影し、総倍率５００，０００倍になる倍率で印画紙に印刷する。印刷された個々の粒子から一次粒子を選び、デジタイザーで一次粒子の輪郭をトレースする。なお、一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。トレースした輪郭における長軸長及び短軸長を、画像解析ソフトを用いて求める。
数枚の印画紙に印刷された一次粒子のうち任意に抽出した５００個について、長軸長及び短軸長を求める。求めた５００個の粒子の長軸長及び短軸長をそれぞれ単純平均（即ち、数平均）することにより、平均長軸長及び平均アスペクト比（平均長軸長さ／平均短軸長）を求める。
【００６４】
透過型電子顕微鏡としては、例えば、（株）日立ハイテクノロージーズの透過型電子顕微鏡（型番：Ｈ−９０００型）を好適に用いることができる。但し、透過型電子顕微鏡は、これに限定されない。
画像解析ソフトとしては、例えば、カールツァイス製の画像解析ソフト（商品名：ＫＳ−４００）を好適に用いることができる。但し、画像解析ソフトは、これに限定されない。
【００６５】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均長軸長及び平均アスペクト比は、置換する金属元素の種類、合成に使用する原料及び試薬の添加量、反応温度、原料を添加するタイミング及びスピード、撹拌速度等によって制御することができる。
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の長軸長は、例えば、反応温度を上げることにより大きくすることができ、反応温度を下げることにより小さくすることができる。
【００６６】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径は、特に制限されないが、例えば、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲であることが好ましく、６ｎｍ以上２０ｎｍ以下の範囲であることがより好ましく、７ｎｍ以上１５ｎｍ以下の範囲であることが更に好ましい。
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径が５ｎｍ以上であると、磁性層の膜強度により優れる磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体の形成を実現し得る。
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径が３０ｎｍ以下であると、ＳＮＲがより良好な磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体の形成を実現し得る。
【００６７】
本開示において、「β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径」は、β−オキシ水酸化鉄系化合物の一次粒子５００個の円相当径の数平均値を意味する。
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径は、具体的には、以下の方法により求める。
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ：Transmission Electron Microscope）を用いて、撮影倍率８０，０００倍で撮影し、総倍率５００，０００倍になる倍率で印画紙に印刷する。印刷された個々の粒子から一次粒子を選び、デジタイザーで一次粒子の輪郭をトレースする。トレースした領域と同じ面積となる円の直径（同面積円相当直径）を、画像解析ソフトを用いて求める。
数枚の印画紙に印刷された一次粒子のうち任意に抽出した５００個について同面積円相当直径を算出する。得られた５００個の粒子の同面積円相当直径を単純平均（即ち、数平均）することにより、一次粒子の平均円相当径を求める。
【００６８】
透過型電子顕微鏡及び画像解析ソフトの好適な例は、既述のとおりである。
【００６９】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径は、置換する金属元素の種類、合成に使用する原料及び試薬の添加量、反応温度、原料を添加するタイミング及びスピード、撹拌速度等によって制御することができる。
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の円相当径は、例えば、反応温度を上げることにより大きくすることができ、反応温度を下げることにより小さくすることができる。
【００７０】
〔表面修飾剤〕
表面修飾剤は、既述の式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の表面を修飾することで、水に分散させてゾルとした場合におけるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体のゼータ電位が、ｐＨ１０において＋５ｍＶ以上となる化合物であれば、特に制限はない。
表面修飾剤は、例えば、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体のゼータ電位をより良好に制御する観点から、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の表面に吸着するアニオン性基と、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の表面を正に帯電させるカチオン性基と、を分子内に有する化合物であることが好ましい。
表面修飾剤が上記アニオン性基と上記カチオン性基とを分子内に有する化合物である場合、表面修飾剤は、少なくともカチオン性基を側鎖に有することが好ましい。
【００７１】
表面修飾剤が上記アニオン性基及び上記カチオン性基を分子内に有する化合物である場合、上記アニオン性基及び上記カチオン性基の数は、特に制限されない。
上記アニオン性基及び上記カチオン性基の数は、それぞれ１つであってもよく、それぞれ２つ以上であってもよく、一方が１つであって、他方が２つ以上であってもよい。
また、表面修飾剤が有する上記アニオン性基及び上記カチオン性基は、それぞれ１種であってもよく、それぞれ２種以上であってもよく、一方が１種であって、他方が２種以上であってもよい。
【００７２】
表面修飾剤は、少なくとも１つのアニオン性基のｐＫａが１０未満であり、かつ、少なくとも１つのカチオン性基のｐＫａが１０を超えることが好ましい。
本開示におけるｐＫａは、Advanced Chemistry Development社のACD/Labs software Ver 8.0 for Microsoft windowsのACD/pka DB ver 8.07を使用して計算するものとする。
【００７３】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の表面に静電的に吸着するアニオン性基の例としては、フェノール性水酸基、カルボキシ基、ホスホン酸基、スルホン酸基、チオール基等が挙げられる。
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の表面を正に帯電させるカチオン性基の例としては、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、四級アンモニウム基等が挙げられる。
【００７４】
表面修飾剤としては、例えば、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体のゼータ電位をより良好に制御する観点から、フェノール性水酸基、カルボキシ基、ホスホン酸基、スルホン酸基、及びチオール基からなる群より選ばれる少なくとも１種のアニオン性基と、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、及び四級アンモニウム基からなる群より選ばれる少なくとも１種のカチオン性基と、を有する化合物であることが好ましく、フェノール性水酸基と、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、及び四級アンモニウム基からなる群より選ばれる少なくとも１種のカチオン性基と、を有する化合物であることがより好ましく、カテコール骨格と、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、及び四級アンモニウム基からなる群より選ばれる少なくとも１種のカチオン性基と、を有する化合物であることが更に好ましい。
【００７５】
表面修飾剤の分子量は、特に制限されないが、例えば、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の表面への吸着効率の観点から、１０００以下であることが好ましく、５００以下であることがより好ましく、２５０以下であることが更に好ましい。
表面修飾剤の分子量の下限は、特に制限されないが、例えば、１００以上であることが好ましい。
表面修飾剤の分子量は、化合物の化学構造から求められる分子量を、その化合物の分子量として採用する。
【００７６】
表面修飾剤の具体例としては、ドーパミン塩酸塩、アドレナリン塩酸塩、イソプロテレノール塩酸塩、アルギニン、リシン等が挙げられる。
これらの中でも、表面修飾剤としては、例えば、ＳＮＲがより良好で、かつ、磁性層の膜強度により優れる磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体の形成を実現し得るという観点から、ドーパミン塩酸塩、アドレナリン塩酸塩、イソプロテレノール塩酸塩、及びアルギニンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましく、ドーパミン塩酸塩、アドレナリン塩酸塩、及びイソプロテレノール塩酸塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物がより好ましく、アドレナリン塩酸塩及びイソプロテレノール塩酸塩から選ばれる少なくとも１種が更に好ましい。
【００７７】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の表面は、１種の表面修飾剤により修飾されていてもよく、２種以上の表面修飾剤により修飾されていてもよい。
【００７８】
本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体における表面修飾剤の含有率としては、特に制限はない。
例えば、分散性及びゼータ電位制御の観点からは、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体における表面修飾剤の含有率は、既述の式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の全質量に対して、５質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上４５質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましい。
【００７９】
本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルにおける表面修飾剤の含有率としては、特に制限はない。
例えば、分散性及びゼータ電位制御の観点からは、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルにおける表面修飾剤の含有率は、既述の式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の全質量に対して、５質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上４５質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましい。
【００８０】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の表面が表面修飾剤により修飾されていることは、例えば、燃焼法等の有機元素分析、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ：X-ray Photoelectron Spectroscopy）などによる炭素原子、窒素原子等の検出、又は熱重量測定（ＴＧ：Thermogravimetry）による加熱に伴う重量減少により確認することができる。
また、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の表面を修飾している表面修飾剤は、例えば、赤外分光法（ＩＲ：Infrared Spectroscopy）を用いて官能基のピークを検出することにより特定することができる。
【００８１】
〔ゼータ電位〕
本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体は、水に分散させてゾルとした場合のゼータ電位が、ｐＨ１０において、＋５ｍＶ以上であり、＋１０ｍＶ以上であることが好ましく、＋１５ｍＶ以上であることがより好ましい。
本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体は、水に分散させてゾルとした場合のゼータ電位が、ｐＨ１０において＋５ｍＶ以上であるため、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体を形成できる。
ゼータ電位の上限は、特に制限されないが、例えば、＋５０ｍＶ以下であることが好ましい。
【００８２】
本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルは、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体のゼータ電位が、ｐＨ１０において、＋５ｍＶ以上であり、＋１０ｍＶ以上であることが好ましく、＋１５ｍＶ以上であることがより好ましい。
本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルは、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体のゼータ電位が、ｐＨ１０において＋５ｍＶ以上であるため、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体を形成できる。
ゼータ電位の上限は、特に制限されないが、例えば、＋５０ｍＶ以下であることが好ましい。
【００８３】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体のゼータ電位は、以下の方法により測定した値である。
β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルの液温を２５℃に調整し、液温を保った状態で、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルのｐＨを、アルカリ水溶液を用いて１０に調整し、測定用試料を得る。得られた測定用試料のゼータ電位を、ゼータ電位分析装置を用いて測定する。
【００８４】
β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルのｐＨを１０に調整するためのアルカリ水溶液としては、特に制限されず、例えば、アンモニア水溶液、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液等が挙げられる。
【００８５】
ゼータ電位分析装置としては、例えば、Ｍａｌｖｅｒｎ  Ｐａｎａｌｙｔｉｃａｌ社のゼータサイザーナノＺＳ（商品名）を好適に用いることができる。但し、ゼータ電位分析装置は、これに限定されない。
【００８６】
〔β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルの粘度〕
β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルの粘度は、特に制限されないが、例えば、分散性及び分散の経時安定性の観点から、０．５Ｐａ・ｓ以上５．０Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、０．５Ｐａ・ｓ以上３．０Ｐａ・ｓ以下であることがより好ましく、０．５Ｐａ・ｓ以上２．０Ｐａ・ｓ以下であることが更に好ましい。
β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルの粘度は、粘度計を用いて、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルの温度を２５℃に調整した状態で測定する。粘度計としては、例えば、（株）セコニックの振動式粘度計Ｖｍ−１０（商品名）を好適に用いることができる。但し、粘度計は、これに限定されない。
【００８７】
本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルにおけるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の含有率は、特に制限されないが、例えば、シラン化合物との反応の均一性の観点から、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルの全質量に対して、０．０１質量％以上５．０質量％以下であることが好ましく、０．０５質量％以上１．０質量％以下であることがより好ましく、０．１質量％以上０．５質量％以下であることが更に好ましい。
【００８８】
［β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルの製造方法］
本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルの製造方法は、３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液と、アルカリ剤と、を混合して、式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液を得る工程（以下、「工程（Ａ）」ともいう。）と、得られたβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液と、表面修飾剤と、を混合して、粒子の表面が表面修飾剤により修飾されたβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体が、水に分散したβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルを得る工程（以下、「工程（Ｂ）」ともいう。）と、を含む。
本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルの製造方法によれば、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体（特に、ε−酸化鉄系化合物の粉体）を形成できるβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルを得ることができる。
なお、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体は、例えば、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルを乾燥させることにより得ることができる。
【００８９】
〔工程（Ａ）〕
工程（Ａ）では、３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液と、アルカリ剤と、を混合して、式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液を得る。
３価の鉄イオンを含む化合物としては、特に制限はなく、例えば、入手容易性及びコストの観点から、硝酸塩、硫酸塩、塩化物等の水溶性の無機酸塩が好ましい。具体的には、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物、塩化鉄（ＩＩＩ）６水和物等が挙げられる。
【００９０】
３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液には、β−オキシ水酸化鉄系化合物の各粒子に含ませる鉄以外の金属元素を含有させることができる。
鉄以外の金属元素としては、例えば、既述の式（１）におけるＡで表される金属元素が挙げられる。具体的には、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｒｈ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、及びＳｎが挙げられる。鉄以外の金属元素の添加、及びその添加量を変えることにより、得られる酸化鉄系化合物の相を変えることができる。
【００９１】
鉄以外の金属元素の供給源としては、特に制限はなく、例えば、入手容易性及びコストの観点から、硝酸塩、硫酸塩、塩化物等の水溶性の無機酸塩が好ましい。
具体的には、例えば、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物、塩化ガリウム（ＩＩＩ）、硝酸コバルト（ＩＩ）６水和物、硫酸チタン（ＩＶ）、塩化チタン（ＩＶ）、硝酸アルミニウム（ＩＩＩ）９水和物、硝酸インジウム（ＩＩＩ）３水和物、硝酸ロジウム（ＩＩＩ）、塩化コバルト（ＩＩ）６水和物、硝酸マンガン（ＩＩ）６水和物、塩化マンガン（ＩＩ）４水和物、硝酸ニッケル（ＩＩ）６水和物、塩化ニッケル（ＩＩ）６水和物、硝酸亜鉛（ＩＩ）６水和物、塩化亜鉛（ＩＩ）、塩化すず（ＩＶ）５水和物等が挙げられる。
【００９２】
分散媒として用いる水は、純水、イオン交換水等であることが好ましい。
【００９３】
３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液には、更に、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）及び臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウムから選ばれる少なくとも１種の化合物を含有させてもよい。これらの化合物を更に含有させることで、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体を、後述の本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法に用いた場合に、工程（Ｄ）で得られる前駆体粉体の各粒子の粒子径が、より均一化する傾向にある。
【００９４】
工程（Ａ）は、３価の鉄イオンを含む化合物、並びに、必要に応じて含有させる鉄以外の金属元素を含む化合物、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）及び臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウムから選ばれる少なくとも１種の化合物（以下、「原料化合物」ともいう。）と、水と、を混合することにより、３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液を調製する工程を含むことが好ましい。
原料化合物と水とは、単に混合すればよい。
原料化合物と水とは、全量を一度に混合してもよく、原料化合物と水とを少しずつ徐々に混合してもよい。また、原料化合物及び水のいずれか一方に、他方を少しずつ添加しながら混合してもよい。
原料化合物と水とを混合する方法は、特に制限されず、例えば、撹拌により混合する方法が挙げられる。
撹拌手段としては、特に制限はなく、一般的な撹拌器具又は撹拌装置を用いることができる。
【００９５】
工程（Ａ）では、３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液と、アルカリ剤と、を混合することにより、式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液（所謂、水酸化物ゾル）が生成する。
アルカリ剤としては、アンモニア水溶液、アンモニウム塩化合物の水溶液、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液、水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液等のアルカリ水溶液が挙げられる。
アンモニア水溶液及びアンモニウム塩化合物の水溶液の濃度は、例えば、２０質量％〜３０質量％とすることができる。
水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液及び水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液の濃度は、例えば、０．１質量％〜１．０質量％とすることができる。
【００９６】
アルカリ剤の使用量は、特に制限されず、例えば、添加後のｐＨが７未満となる範囲で、適宜設定することができる。
【００９７】
３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液とアルカリ剤とは、単に混合すればよい。
３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液とアルカリ剤とは、全量を一度に混合してもよく、３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液とアルカリ剤とを少しずつ徐々に混合してもよい。また、３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液及びアルカリ剤のいずれか一方に、他方を少しずつ添加しながら混合してもよい。
【００９８】
３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液とアルカリ剤とを混合する雰囲気は、特に制限されず、例えば、大気雰囲気下、即ち、常圧下であって、空気の存在する環境下において混合してもよい。
アルカリ剤と混合する際の、３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液の液温は、４℃〜７０℃とすることが好ましく、１０℃〜６０℃とすることがより好ましく、１５℃〜４０℃とすることが更に好ましい。
３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液の液温が４℃〜７０℃であると、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体をより形成しやすい傾向がある。また、３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液の液温が７０℃以下であると、ＳＮＲが良好な磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体を形成できるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体をより形成しやすい傾向がある。
【００９９】
３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液とアルカリ剤とを混合する方法は、特に制限されず、例えば、撹拌により混合する方法が挙げられる。
撹拌手段としては、特に制限はなく、一般的な撹拌器具又は撹拌装置を用いることができる。
【０１００】
〔工程（Ｂ）〕
工程（Ｂ）では、工程（Ａ）で得られたβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液と、表面修飾剤と、を混合して、式（１）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の集合体であり、上記粒子の表面が表面修飾剤により修飾されているβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体が、水に分散したβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルを得る。
【０１０１】
表面修飾剤は、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルの項において説明した表面修飾剤と同義であり、好ましい態様も同義であるため、ここでは説明を省略する。
【０１０２】
表面修飾剤の使用量としては、特に制限されない。
表面修飾剤の使用量は、金属元素の供給源である化合物の合計使用量に対して、２モル％〜４０モル％であることが好ましく、５モル％〜３０モル％であることがより好ましく、１０モル％〜２５モル％であることが更に好ましい。
表面修飾剤の使用量が、金属元素の供給源である化合物の合計使用量に対して２モル％以上であると、粒子の表面をより良好に修飾することができるため、ゼータ電位をより制御しやすくなる傾向がある。また、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の分散性がより良好となる傾向がある。
また、表面修飾剤の使用量が、金属元素の供給源である化合物の合計使用量に対して４０モル％以下であると、未吸着の表面修飾剤が生じ難いため、生産性がより良好となる傾向がある。
【０１０３】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液と表面修飾剤とは、単に混合すればよい。
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液と表面修飾剤とは、全量を一度に混合してもよく、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液と表面修飾剤とを少しずつ徐々に混合してもよい。また、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液及び表面修飾剤のいずれか一方に、他方を少しずつ添加しながら混合してもよい。
例えば、修飾をより均一に行う観点からは、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液に、表面修飾剤を少しずつ添加しながら混合することが好ましい。
【０１０４】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液と表面修飾剤とを混合する雰囲気は、特に制限されず、例えば、大気雰囲気下、即ち、常圧下であって、空気の存在する環境下において混合してもよい。
表面修飾剤と混合する際の、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液の液温は、特に制限されず、例えば、５℃〜７０℃であることが好ましい。
【０１０５】
β−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液と表面修飾剤とを混合する方法は、特に制限されず、例えば、撹拌により混合する方法が挙げられる。
撹拌手段としては、特に制限はなく、一般的な撹拌器具又は撹拌装置を用いることができる。
撹拌時間は、例えば、０．５分間〜３０分間とすることができる。
撹拌後、固形成分を取り出す。
固形成分を取り出す方法としては、特に制限されず、例えば、操作の簡便性の観点から、遠心分離する方法が好ましく挙げられる。
取り出した固形成分を乾燥させることにより、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体を得ることができる。
【０１０６】
取り出した固形成分を水に再分散する。この再分散により、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルを得ることができる。
水は、純水、イオン交換水等であることが好ましい。
なお、取り出した固形成分は、水に再分散させる前に、水で洗浄してもよい。
【０１０７】
［ε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法］
本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法は、既述の本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体が水に分散したβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル、又は、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルと、加水分解性基を有するシラン化合物と、を混合して、前駆体粉体分散液を得る工程（以下、「工程（Ｃ）」ともいう。）と、上記前駆体粉体分散液から前駆体粉体を取り出す工程（以下、「工程（Ｄ）」ともいう。）と、上記前駆体粉体を８００℃以上１４００℃以下の範囲の温度で熱処理して、熱処理粉体を得る工程（以下、「工程（Ｅ）」ともいう。）と、熱処理粉体とアルカリ水溶液とを混合する工程（以下、「工程（Ｆ）」ともいう。）と、を含む。
以下、既述の本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体が水に分散したβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾル、及び、既述の本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルを、総称して「本開示のゾル」ともいう。
【０１０８】
本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法は、目的に応じて、更に他の工程を含んでいてもよい。
【０１０９】
〔工程（Ｃ）〕
工程（Ｃ）では、本開示のゾルと加水分解性基を有するシラン化合物とを混合して、前駆体粉体分散液を得る。
【０１１０】
加水分解性基を有するシラン化合物としては、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ：Tetraethyl Orthosilicate）、テトラメトキシシラン等が挙げられる。
これらの中でも、加水分解性基を有するシラン化合物としては、ＴＥＯＳが好ましい。
【０１１１】
加水分解性基を有するシラン化合物の使用量は、Ｆｅ１モルに対して、Ｓｉが０．５モル〜３０モルとなる量が好ましく、２モル〜１５モルとなる量がより好ましい。
【０１１２】
本開示のゾルと加水分解性基を有するシラン化合物とは、単に混合すればよい。
本開示のゾルと加水分解性基を有するシラン化合物とは、全量を一度に混合してもよく、本開示のゾルと加水分解性基を有するシラン化合物とを少しずつ徐々に混合してもよい。また、一方に他方を少しずつ添加しながら混合してもよい。
例えば、β−オキシ水酸化鉄系化合物の粒子とシラン化合物とをより均一に反応させる観点からは、本開示のゾルと加水分解性基を有するシラン化合物とは、本開示のゾルに、加水分解性基を有するシラン化合物を少しずつ添加しながら混合することが好ましい。
本開示のゾルと加水分解性基を有するシラン化合物とを混合する方法は、特に制限されず、例えば、撹拌により混合する方法が挙げられる。
撹拌手段としては、特に制限はなく、一般的な撹拌器具又は撹拌装置を用いることができる。
撹拌時間は、特に制限されず、例えば、１時間〜２４時間とすることができる。
撹拌の際の液温は、１５℃〜８０℃とすることができ、３０℃〜８０℃に昇温してもよい。
【０１１３】
本開示のゾルと加水分解性基を有するシラン化合物とを混合した後は、凝集剤を添加してもよい。
凝集剤としては、価数が２価以上の塩が好ましい。
また、凝集剤は、水に対する溶解度が高いことが好ましい。ここで、「水に対する溶解度が高い」とは、２５℃の水に添加した際に、５質量％以上溶解することを指す。
凝集剤として、硫酸アンモニウム、シュウ酸アンモニウム等が挙げられる。
【０１１４】
凝集剤を添加する際の液温は、例えば、１５℃〜８０℃とすることができる。
凝集剤は、水溶液を撹拌しながら、添加することが好ましい。
【０１１５】
〔工程（Ｄ）〕
工程（Ｄ）では、工程（Ｃ）において得られた前駆体粉体分散液から前駆体粉体を取り出す。
前駆体粉体を取り出す方法は、特に制限されず、例えば、操作の簡便性の観点から、遠心分離する方法が好ましく挙げられる。
遠心分離の条件は、特に制限されず、例えば、１，０００ｒｐｍ（revolutions per minute；以下、同じ。）〜１０，０００ｒｐｍにて１分間〜６０分間とすることができる。
【０１１６】
取り出した前駆体粉体は、乾燥してもよい。
乾燥方法は、特に制限されず、例えば、乾燥機（例えば、オーブン）を用いる方法が挙げられる。
前駆体粉体は、上記のシラン化合物の加水分解によって生成したＳｉ含有被膜が形成された粒子の集合体である。このＳｉ含有被膜は、Ｓｉの酸化物又は水酸化物の被膜と推察される。
【０１１７】
〔工程（Ｅ）〕
工程（Ｅ）では、工程（Ｄ）において得られた前駆体粉体を、８００℃〜１４００℃の温度範囲内で熱処理（所謂、焼成）して、熱処理粉体を得る。熱処理を施すことで、前駆体粉体が磁性を帯びる。
熱処理における雰囲気は、特に制限されない。熱処理は、例えば、大気雰囲気下、即ち、常圧下であって、空気の存在する環境下で行ってもよい。
熱処理温度（所謂、焼成温度）は、８５０℃〜１２００℃の範囲であることが好ましく、９００℃〜１１５０℃の範囲であることがより好ましい。
熱処理時間は、特に制限されず、例えば、０．５時間〜２０時間とすることができる。
【０１１８】
〔工程（Ｆ）〕
工程（Ｆ）では、工程（Ｅ）において得られた熱処理粉体とアルカリ水溶液とを混合する。熱処理粉体とアルカリ水溶液とを混合して、熱処理粉体をアルカリ処理することで、熱処理粉体の各粒子に残存するＳｉ含有被膜の除去を行う。
なお、このＳｉ含有被膜は、完全には除去されずに、熱処理粉体の粒子の表面に薄く、かつ、均一に近い状態で残ると考えられる。
【０１１９】
アルカリ水溶液としては、特に制限されないが、例えば、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液、水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液等の強アルカリ水溶液が好ましい。
アルカリ水溶液の溶媒である水は、純水、イオン交換水等であることが好ましい。
【０１２０】
熱処理粉体と混合する際のアルカリ水溶液の液温は、特に制限されず、例えば、７０℃以上とすることができる。また、アルカリ水溶液の液温は、溶媒が水であることから、アルカリ水溶液の液温は、１００℃未満であることが好ましい。
アルカリ水溶液の濃度は、特に制限されず、例えば、４モル／Ｌ以上とすることができる。
【０１２１】
アルカリ水溶液の使用量は、特に制限されず、例えば、熱処理粉体の質量に対して、４倍量〜２００倍量であることが好ましく、１０倍量〜１００倍量であることがより好ましい。
【０１２２】
熱処理粉体とアルカリ水溶液とは、単に混合すればよい。
熱処理粉体とアルカリ水溶液とは、全量を一度に混合してもよく、熱処理粉体とアルカリ水溶液とを少しずつ徐々に混合してもよい。また、一方に他方を少しずつ添加しながら混合してもよい。
例えば、反応の均一性の観点からは、熱処理粉体とアルカリ水溶液とは、アルカリ水溶液に、熱処理粉体を少しずつ添加しながら混合することが好ましい。
熱処理粉体とアルカリ水溶液とを混合する方法は、特に制限されず、例えば、撹拌により混合する方法が挙げられる。
撹拌手段としては、特に制限はなく、一般的な撹拌器具又は撹拌装置を用いることができる。
撹拌時間は、特に制限されず、例えば、３時間〜３６時間とすることができる。
【０１２３】
アルカリ処理後は、アルカリ水溶液中からＳｉ含有被膜が除去された粒子の集合体（即ち、ε−酸化鉄系化合物の粉体）を取り出す。
ε−酸化鉄系化合物の粉体を取り出す方法としては、特に制限されず、例えば、操作の簡便性の観点から、遠心分離する方法が好ましく挙げられる。
【０１２４】
〔工程（Ｇ）〕
工程（Ｇ）では、工程（Ｆ）において得られたε−酸化鉄系化合物の粉体を洗浄し、乾燥する。
洗浄には、水を用いてもよく、水溶性高分子を含有する水溶液を用いてもよい。
水溶性高分子を含有する水溶液を用いると、水溶液中のε−酸化鉄系化合物の粉体の分散性が向上する傾向にある。また、ε−酸化鉄系化合物の粒子の表面が水溶性高分子で処理されることで、その後の固液分離によって、所望されない微細粒子を効率よく除去できる傾向にある。
【０１２５】
洗浄に用いる水、及び、水溶性高分子を含有する水溶液の溶媒である水は、純水、イオン交換水等であることが好ましい。
水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ヒドロキシメチルセルロース（ＨＭＣ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）等が挙げられる。
【０１２６】
固液分離の方法としては、特に制限されず、例えば、操作の簡便性の観点から、遠心分離する方法が好ましく挙げられる。
遠心分離の条件は、特に制限されず、例えば、１，０００ｒｐｍ〜１０，０００ｒｐｍにて１分間〜６０分間とすることができる。
【０１２７】
洗浄したε−酸化鉄系化合物の粉体の乾燥方法は、特に制限されず、例えば、内部雰囲気温度６０℃〜１１０℃の乾燥機（例えば、オーブン）を用いる方法が挙げられる。
【０１２８】
［ε−酸化鉄系化合物の粉体］
本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法により得られるε−酸化鉄系化合物の粉体は、本開示のゾルを用いて製造されているため、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体を製造することができる。
【０１２９】
本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法において、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルとして、既述の式（１）で表される化合物の粉体が水に分散したゾルを用いた場合には、下記の式（１−１）で表されるε−酸化鉄系化合物の粉体が得られる。
【０１３０】
【化９】
2020033204.tif 000010
【０１３１】
式（１−１）中、Ａ１は、Ｆｅ以外の少なくとも１種の金属元素を表し、ａ１は、０≦ａ１＜２を満たす。
式（１−１）におけるＡ１は、既述の式（１）におけるＡに対応する。また、式（１−１）におけるａ１は、既述の式（１）におけるａの約２倍に相当する値となる。
【０１３２】
以下、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルとして、既述の式（２）〜（６）で表される化合物の粉体が水に分散したゾルを用いた場合に得られるε−酸化鉄系化合物の粉体について説明する。
【０１３３】
本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法において、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルとして、既述の式（２）で表される化合物の粉体が水に分散したゾルを用いた場合には、下記の式（２−１）で表されるε−酸化鉄系化合物の粉体が得られる。
【０１３４】
【化１０】
2020033204.tif 000011
【０１３５】
式（２−１）中、Ｚ１は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｚ１は、０＜ｚ１＜２を満たす。
式（２−１）におけるＺ１は、既述の式（２）におけるＺに対応する。また、式（２−１）におけるｚ１は、既述の式（２）におけるｚの約２倍に相当する値となる。
【０１３６】
本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法において、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルとして、既述の式（３）で表される化合物の粉体が水に分散したゾルを用いた場合には、下記の式（３−１）で表されるε−酸化鉄系化合物の粉体が得られる。
【０１３７】
【化１１】
2020033204.tif 000012
【０１３８】
式（３−１）中、Ｘ１は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙ１は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表す。ｘ１は、０＜ｘ１＜１を満たし、ｙ１は、０＜ｙ１＜１を満たす。
式（３−１）におけるＸ１及びＹ１は、それぞれ既述の式（３）におけるＸ及びＹに対応する。また、式（３−１）におけるｘ１及びｙ１は、それぞれ既述の式（３）におけるｘ及びｙの約２倍に相当する値となる。
【０１３９】
本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法において、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルとして、既述の式（４）で表される化合物の粉体が水に分散したゾルを用いた場合には、下記の式（４−１）で表されるε−酸化鉄系化合物の粉体が得られる。
【０１４０】
【化１２】
2020033204.tif 000013
【０１４１】
式（４−１）中、Ｘ１は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｚ１は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘ１は、０＜ｘ１＜１を満たし、ｚ１は、０＜ｚ１＜１を満たす。
式（４−１）におけるＸ１及びＺ１は、それぞれ既述の式（４）におけるＸ及びＺに対応する。また、式（４−１）におけるｘ１及びｚ１は、それぞれ既述の式（４）におけるｘ及びｚの約２倍に相当する値となる。
【０１４２】
本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法において、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルとして、既述の式（５）で表される化合物の粉体が水に分散したゾルを用いた場合には、下記の式（５−１）で表されるε−酸化鉄系化合物の粉体が得られる。
【０１４３】
【化１３】
2020033204.tif 000014
【０１４４】
式（５−１）中、Ｙ１は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚ１は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｙ１は、０＜ｙ１＜１を満たし、ｚ１は、０＜ｚ１＜１を満たす。
式（５−１）におけるＹ１及びＺ１は、それぞれ既述の式（５）におけるＹ及びＺに対応する。また、式（５−１）におけるｙ１及びｚ１は、それぞれ既述の式（５）におけるｙ及びｚの約２倍に相当する値となる。
【０１４５】
本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法において、β−オキシ水酸化鉄系化合物ゾルとして、既述の式（６）で表される化合物の粉体が水に分散したゾルを用いた場合には、下記の式（６−１）で表されるε−酸化鉄系化合物の粉体が得られる。
【０１４６】
【化１４】
2020033204.tif 000015
【０１４７】
式（６−１）中、Ｘ１は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＺｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の２価の金属元素を表し、Ｙ１は、Ｔｉ及びＳｎから選ばれる少なくとも１種の４価の金属元素を表し、Ｚ１は、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも１種の３価の金属元素を表す。ｘ１は、０＜ｘ１＜１を満たし、ｙ１は、０＜ｙ１＜１を満たし、ｚ１は、０＜ｚ１＜１を満たし、ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＜２である。
式（６−１）におけるＸ１、Ｙ１、及びＺ１は、それぞれ既述の式（６）におけるＸ、Ｙ、及びＺに対応する。また、式（６−１）におけるｘ１、ｙ１、及びｚ１は、それぞれ既述の式（６）におけるｘ、ｙ、及びｚの約２倍に相当する値となる。
【０１４８】
本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法により得られたε−酸化鉄系化合物の粉体が、ε型の結晶構造を有する酸化鉄系化合物であることの確認は、例えば、Ｘ線回折（ＸＲＤ）法により行うことができる。
【０１４９】
また、ε−酸化鉄系化合物の組成は、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析法により確認する。
具体的な確認方法は、既述のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の組成の確認方法と同様であるため、ここでは説明を省略する。
測定装置としては、例えば、（株）島津製作所のＩＣＰＳ−８１００（商品名）を好適に用いることができる。但し、測定装置は、これに限定されない。
【０１５０】
ε−酸化鉄系化合物の粒子の形状は、特に制限されない。
ε−酸化鉄系化合物の粒子の形状としては、例えば、球状、ロッド状、針状等の形状が挙げられる。
これらの中でも、ε−酸化鉄系化合物の粒子の形状としては、球状が好ましい。球状は、他の形状と比較して比表面積をより小さくできるため、例えば、分散及び配向の観点から好ましい。
【０１５１】
ε−酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径は、例えば、７ｎｍ〜３５ｎｍであることが好ましく、８ｎｍ〜２５ｎｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜１８ｎｍであることが更に好ましい。
ε−酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径が７ｎｍ以上であると、取り扱い性がより良好となる。また、ε−酸化鉄の結晶構造がより安定化し、かつ、磁気特性の分布がより小さくなる。
ε−酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径が３５ｎｍ以下であると、記録密度がより向上し得る。また、記録再生に適した磁気特性に調整しやすいため、ＳＮＲがより良好な磁気記録媒体を実現し得る。
【０１５２】
本開示において、「ε−酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径」は、ε−酸化鉄系化合物の一次粒子５００個の円相当径の数平均値を意味する。
個々のε−酸化鉄系化合物の粒子の円相当径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）像に基づき求める。詳細には、ＴＥＭ像におけるε−酸化鉄系化合物の粒子の面積（即ち、投影面積）と同一面積の円の直径を、円相当径とする。
ε−酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径の測定方法の具体例は、後述の実施例に示すとおりである。
【０１５３】
ε−酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径は、ε−酸化鉄系化合物の粉体を調製する際の焼成温度、置換する金属元素の種類等によって制御することができる。
ε−酸化鉄系化合物の粒子の円相当径は、例えば、ε−酸化鉄系化合物の粉体を調製する際の焼成温度を高くすることにより大きくすることができ、低くすることにより小さくすることができる。
【０１５４】
［磁気記録媒体の製造方法］
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、既述の本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法により得られたε−酸化鉄系化合物の粉体を用いて磁性層形成用組成物を調製する工程（以下、「工程Ｉ」ともいう。）と、非磁性支持体上に、磁性層形成用組成物を付与して、磁性層形成用組成物層を形成する工程（以下、「工程ＩＩ」ともいう。）と、形成された磁性層形成用組成物層を磁場配向処理する工程（以下、「工程ＩＩＩ」ともいう。）と、磁場配向処理された磁性層形成用組成物層を乾燥して、磁性層を形成する工程（以下、「工程ＩＶ」ともいう。）と、を含む。
本開示の磁気記録媒体の製造方法によれば、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体を製造できる。
【０１５５】
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、必要に応じて、更に、磁性層を有する非磁性支持体をカレンダー処理する工程（以下、「工程Ｖ」ともいう。）、非磁性層、バックコート層等の任意の層を形成する工程（以下、「工程ＶＩ」ともいう。）等を含むことができる。また、個々の工程は、それぞれ２段階以上に分かれていてもよい。
以下、各工程について詳細に説明する。
【０１５６】
〔工程Ｉ〕
工程Ｉでは、本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法により得られたε−酸化鉄系化合物の粉体を用いて磁性層形成用組成物を調製する。
本開示のε−酸化鉄系化合物の粉体の製造方法によりε−酸化鉄系化合物の粉体を得ることの詳細については、既述のとおりであるため、ここでは説明を省略する。
工程Ｉは、ε−酸化鉄系化合物の粉体、結合剤、並びに、必要に応じて、研磨剤、各種添加剤（例えば、後述の他の添加剤）及び溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種を混合して、混合液を得る工程（以下、「工程Ｉ−１」ともいう。）と、工程Ｉ−１にて得られた混合液を分散する工程（以下、「工程Ｉ−２」ともいう。）を含むことができる。
【０１５７】
ε−酸化鉄系化合物の粉体、結合剤、研磨剤等の全ての原料は、工程Ｉ中のいずれの時点で混合してもよい。
工程Ｉでは、個々の原料を、一括して混合してもよいし、２回以上に分割して混合してもよい。
例えば、結合剤については、工程Ｉ−２において他の原料と混合した後、分散後の粘度調整のために、更に添加して混合することができる。
【０１５８】
磁性層形成用組成物の原料の分散には、バッチ式縦型サンドミル、横型ビーズミル等の公知の分散装置を用いることができる。
分散ビーズとしては、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズ等を用いることができる。分散ビーズの粒径（所謂、ビーズ径）及び充填率は、適宜最適化して用いることができる。
磁性層形成用組成物の原料の分散には、例えば、公知の超音波装置を用いることもできる。
また、工程Ｉ−２の前に、磁性層形成用組成物の原料の少なくとも一部を、例えば、オープンニーダを用いて混練してもよい。
【０１５９】
磁性層形成用組成物の原料は、原料ごとに溶液を調製した後に、混合してもよい。例えば、ε−酸化鉄系化合物の粉体を含む磁性液と、研磨剤を含む研磨剤液と、をそれぞれ調製した後に、混合して分散することができる。
【０１６０】
（磁性層形成用組成物）
磁性層形成用組成物を調製するための「ε−酸化鉄系化合物の粉体」は、「ε−酸化鉄系化合物の粉体」の項で説明したものと同義であり、好ましい態様も同様であるため、ここでは説明を省略する。
【０１６１】
磁性層形成用組成物中におけるε−酸化鉄系化合物の粉体の含有率は、磁性層形成用組成物の全質量に対して、５質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、８質量％以上２０質量％以下であることがより好ましい。
【０１６２】
（結合剤）
磁性層形成用組成物は、結合剤を含むことが好ましい。
結合剤としては、各種樹脂が挙げられる。
結合剤に用いられる樹脂は、目的とする強度、耐久性等の物性を満たす層を形成できれば、特に制限されない。
【０１６３】
結合剤に用いられる樹脂は、単独重合体（所謂、ホモポリマー）であってもよいし、共重合体（所謂、コポリマー）であってもよい。また、樹脂は、公知の電子線硬化型樹脂であってよい。
結合剤に用いられる樹脂としては、ポリウレタン、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル系樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂などが挙げられる。
これらの中でも、結合剤に用いられる樹脂としては、ポリウレタン、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、及び塩化ビニル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂が好ましい。
【０１６４】
結合剤に用いられる樹脂は、例えば、ε−酸化鉄系化合物の粉体の分散性をより向上させる観点から、ε−酸化鉄系化合物の粒子の表面に吸着する官能基（例えば、極性基）を分子内に有することが好ましい。
好ましい官能基としては、−ＳＯ３Ｍ、−ＳＯ４Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）２、−ＯＰＯ（ＯＭ）２、−ＣＯＯＭ、＝ＮＳＯ３Ｍ、−ＮＲＳＯ３Ｍ、−ＮＲ１Ｒ２、−Ｎ＋Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｘ−等が挙げられる。
ここで、Ｍは、水素原子又はＮａ、Ｋ等のアルカリ金属原子を表す。Ｒは、アルキレン基を表し、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はヒドロキシアルキル基を表す。Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロゲン原子を表す。
結合剤に用いられる樹脂が上記官能基を有する場合、樹脂中の官能基の含有量は、０．０１ｍｅｑ／ｇ〜２．０ｍｅｑ／ｇであることが好ましく、０．３ｍｅｑ／ｇ〜１．２ｍｅｑ／ｇ以下であることがより好ましい。
樹脂中の官能基の含有量が上記範囲内にあると、磁性層におけるε−酸化鉄系化合物の粉体の分散性がより良好となり、磁性密度がより向上し得る。
【０１６５】
結合剤に用いられる樹脂としては、−ＳＯ３Ｎａ（以下、「ＳＯ３Ｎａ基」ともいう。）を有するポリウレタンがより好ましい。結合剤としてＳＯ３Ｎａ基を有するポリウレタンを用いる場合、ＳＯ３Ｎａ基は、ポリウレタンに対して、０．０１ｍｅｑ／ｇ〜１．０ｍｅｑ／ｇの範囲の量で含まれることが好ましい。
【０１６６】
結合剤に用いられる樹脂の分子量は、重量平均分子量として、例えば、１０，０００〜２００，０００とすることができる。
本開示における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。測定条件としては、下記の条件を挙げることができる。
【０１６７】
−条件−
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー（株））
カラム：ＴＳＫ  ｇｅｌ  Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ  ＨＸＬ−Ｍ（東ソー（株）、７．８ｍｍＩＤ（Ｉｎｎｅｒ  Ｄｉａｍｅｔｅｒ）×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
試料濃度：０．５質量％
サンプル注入量：１０μＬ
流速：０．６ｍＬ／ｍｉｎ
測定温度：４０℃
検出器：ＲＩ検出器
【０１６８】
磁性層形成用組成物は、結合剤を含む場合、結合剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
【０１６９】
磁性層形成用組成物が結合剤を含む場合、磁性層形成用組成物中における結合剤の含有量は、特に制限されず、例えば、ε−酸化鉄系化合物の粉体１００質量部に対して、５質量部以上５０質量部以下であることが好ましく、１０質量部以上３０質量部以下であることがより好ましい。
磁性層形成用組成物中における結合剤の含有量が、ε−酸化鉄系化合物の粉体１００質量部に対して、上記の範囲内であると、例えば、磁性層中におけるε−酸化鉄系化合物の粉体の分散性がより良好となり、磁性密度がより向上し得る。
【０１７０】
（研磨剤）
磁性層形成用組成物は、研磨剤を含むことができる。
研磨剤は、磁気記録媒体の走行中に生じ得る磨耗、傷付き等のテープダメージの低減、及び磁気記録媒体の使用中にヘッドに付着する付着物（所謂、デブリ）の除去に寄与し得る。
研磨剤としては、α−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイヤモンド、窒化ケイ素、炭化ケイ素チタンカーバイド、酸化チタン、二酸化ケイ素、窒化ホウ素等、主としてモース硬度６以上の公知の材料の粒子が挙げられる。
研磨剤としては、既述の研磨剤同士の複合体（例えば、研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を用いてもよい。このような研磨剤には、主成分以外の化合物又は元素が含まれる場合もあるが、主成分が９０質量％以上であれば、研磨剤としての効果に変わりはない。
【０１７１】
研磨剤の形状としては、特に制限はなく、例えば、針状、球状、立方体状、直方体状等の粒子形状が挙げられる。
これらの中でも、研磨剤の形状としては、例えば、研磨性がより良好になるとの観点から、針状、立方体状等、粒子の一部に角を有するものが好ましい。
【０１７２】
研磨剤の粉体の平均円相当径としては、特に制限はなく、例えば、研磨剤の研磨性をより適切に維持する観点から、０．０１μｍ〜２．０μｍであることが好ましく、０．０５μｍ〜１．０μｍであることがより好ましく、０．０５μｍ〜０．５μｍであることが更に好ましい。
粒径の異なる複数種の研磨剤を組み合わせることで、磁性層の耐久性を向上させることができる。また、研磨剤の粉体の粒度分布を狭くすることで、磁気記録媒体の電磁変換特性を高めることもできる。
【０１７３】
本開示において、研磨剤の粉体の平均円相当径は、既述のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径と同様の方法により測定される。
【０１７４】
研磨剤のＢＥＴ比表面積は、１ｍ２／ｇ〜３０ｍ２／ｇであることが好ましい。
研磨剤のタップ密度は、０．３ｇ／ｍＬ〜２ｇ／ｍＬであることが好ましい。
【０１７５】
磁性層形成用組成物は、研磨剤を含む場合、研磨剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
【０１７６】
研磨剤としては、市販品を用いることができる。
市販品の例としては、住友化学（株）のＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ６０Ａ、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００、レイノルズ社のＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、（株）フジミインコーポレーテッドのＷＡ１００００、上村工業（株）のＵＢ２０、日本化学工業（株）のＧ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業（株）のＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社のベータランダムウルトラファイン、昭和ＫＤＥ（株）のＢ−３等（以上、いずれも商品名）が挙げられる。
【０１７７】
磁性層形成用組成物が研磨剤を含む場合、磁性層形成用組成物中における研磨剤の含有量は、特に制限されず、例えば、ε−酸化鉄系化合物の粉体１００質量部に対して、０．１質量部〜２０質量部であることが好ましく、０．５質量部〜１５質量部であることがより好ましい。
磁性層形成用組成物中における研磨剤の含有量が、ε−酸化鉄系化合物の粉体１００質量部に対して、０．１質量部以上であると、形成される磁性層の耐擦傷性がより向上し得る。
磁性層形成用組成物中における研磨剤の含有量が、ε−酸化鉄系化合物の粉体１００質量部に対して、２０質量部以下であると、ε−酸化鉄系化合物の粉体の含有率への影響が少ないため、ＳＮＲがより良好な磁気記録媒体を実現し得る。
【０１７８】
（他の添加剤）
磁性層形成用組成物は、ε−酸化鉄系化合物の粉体、結合剤、及び研磨剤以外に、効果を損なわない範囲において、必要に応じて、種々の添加剤（所謂、他の添加剤）を含んでいてもよい。
他の添加剤としては、非磁性フィラー、潤滑剤、分散剤、硬化剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤等が挙げられる。
他の添加剤は、１つの成分が２つ以上の機能を担うものであってもよい。
【０１７９】
−非磁性フィラー−
磁性層は、非磁性フィラーを含むことができる。
非磁性フィラーは、磁性層の膜強度、表面粗さ等の物性の調整に寄与し得る。
本開示において、「非磁性フィラー」とは、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であること、及び、保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であること、の少なくとも一方を満たすフィラーを意味する。
【０１８０】
非磁性フィラーとしては、カーボンブラック、無機粒子等が挙げられる。
例えば、分散安定性及び磁性層中への均一配置の観点からは、非磁性フィラーとしては、コロイド粒子が好ましい。
また、例えば、入手容易性の観点からは、非磁性フィラーとしては、カーボンブラック及び無機コロイド粒子からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく、カーボンブラック及び無機酸化物コロイド粒子からなる群より選ばれる少なくとも１種がより好ましい。
無機酸化物コロイド粒子としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、二酸化ケイ素、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化ケイ素、チタンカーバイト、二酸化チタン、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデン等の無機酸化物のコロイド粒子の他、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２／Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２／ＣｅＯ２、ＳｎＯ２／Ｓｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／ＴｉＯ２、ＴｉＯ２／ＣｅＯ２／ＳｉＯ２等の複合無機酸化物のコロイド粒子が挙げられる。
無機酸化物コロイド粒子としては、単分散のコロイド粒子の入手容易性の観点から、シリカコロイド粒子（所謂、コロイダルシリカ）が特に好ましい。
【０１８１】
非磁性フィラーの平均粒子径としては、特に制限はなく、例えば、記録エラーの低減及び磁気ヘッドのスペーシング確保の観点から、３０ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、４０ｎｍ〜２５０ｎｍであることがより好ましく、５０ｎｍ〜２００ｎｍであることが更に好ましい。
【０１８２】
本開示において、非磁性フィラーの平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により測定される値である。
【０１８３】
磁性層形成用組成物は、非磁性フィラーを含む場合、非磁性フィラーを１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
非磁性フィラーとしては、市販品を用いることができる。
【０１８４】
磁性層形成用組成物が非磁性フィラーを含む場合、磁性層形成用組成物中における非磁性フィラーの含有量は、特に制限されず、例えば、ε−酸化鉄系化合物の粉体１００質量部に対して、０．０１質量部〜１０質量部であることが好ましい。
【０１８５】
−潤滑剤−
磁性層形成用組成物は、潤滑剤を含むことができる。
潤滑剤は、例えば、磁気記録媒体の走行耐久性の向上に寄与し得る。
【０１８６】
潤滑剤としては、公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤等を用いることができる。
炭化水素系潤滑剤としては、オレイン酸、ステアリン酸等のカルボン酸系化合物、ステアリン酸ブチル等のエステル系化合物、オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸系化合物、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル系化合物、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール系化合物、ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド系化合物、ステアリルアミン等のアミン系化合物などが挙げられる。
炭化水素系潤滑剤としては、例えば、摩擦力を低減する効果が高いとの観点から、アルキル基の炭化水素鎖中に、水酸基、エステル基、カルボキシ基等の極性基を有する化合物が好ましい。
フッ素系潤滑剤としては、既述の炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部又は全部が、フルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基で置換された化合物が挙げられる。
【０１８７】
磁性層形成用組成物は、潤滑剤を含む場合、潤滑剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
潤滑剤としては、市販品を用いることができる。
【０１８８】
磁性層形成用組成物が潤滑剤を含む場合、磁性層形成用組成物中における潤滑剤の含有量は、特に制限されず、例えば、ε−酸化鉄系化合物の粉体１００質量部に対して、０．１質量部〜２０質量部であることが好ましく、０．５質量部〜１５質量部であることがより好ましい。
【０１８９】
−分散剤−
磁性層形成用組成物は、分散剤を含むことができる。
分散剤は、ε−酸化鉄系化合物の粉体の分散性を向上させ、粉体の凝集防止に寄与し得る。また、分散剤は、研磨剤の分散性の向上にも寄与し得る。
【０１９０】
分散剤としては、ε−酸化鉄系化合物の粒子の表面に吸着する官能基を有する有機化合物が好ましい。
ε−酸化鉄系化合物の粒子の表面に吸着する官能基を有する有機化合物としては、アミノ基、カルボキシ基、スルホン酸基、又はスルフィン酸基を１個〜３個有する化合物が挙げられ、これらのポリマーであってもよい。
【０１９１】
好ましい分散剤としては、Ｒ−ＮＨ２、ＮＨ２−Ｒ−ＮＨ２、ＮＨ２−Ｒ（ＮＨ２）−ＮＨ２、Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ（ＣＯＯＨ）−ＣＯＯＨ、Ｒ−ＳＯ３Ｈ、ＳＯ３Ｈ−Ｒ−ＳＯ３Ｈ、ＳＯ３Ｈ−Ｒ（ＳＯ３Ｈ）−ＳＯ３Ｈ、Ｒ−ＳＯ２Ｈ、ＳＯ２Ｈ−Ｒ−ＳＯ２Ｈ、ＳＯ２Ｈ−Ｒ（ＳＯ２Ｈ）−ＳＯ２Ｈ等の構造式で表される化合物が挙げられる。
構造式中のＲは、直鎖状、分岐鎖状若しくは環状の飽和又は不飽和の炭化水素であり、例えば、炭素数１個〜２０個のアルキル基であることが好ましい。
【０１９２】
好ましい分散剤の具体例としては、オレイン酸、ステアリン酸、２，３−ジヒドロキシナフタレン等が挙げられる。
これらの中でも、分散剤としては、分散性の観点から、オレイン酸及び２，３−ジヒドロキシナフタレンから選ばれる少なくとも１種がより好ましい。
【０１９３】
磁性層形成用組成物は、分散剤を含む場合、分散剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
分散剤としては、市販品を用いることができる。
【０１９４】
磁性層形成用組成物が分散剤を含む場合、磁性層形成用組成物中における分散剤の含有量は、ε−酸化鉄系化合物の粉体（研磨剤を含む場合には、ε−酸化鉄系化合物の粉体及び研磨剤の合計）１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部であることが好ましい。
磁性層形成用組成物中における分散剤の含有量が、ε−酸化鉄系化合物の粉体（研磨剤を含む場合には、ε−酸化鉄系化合物の粉体及び研磨剤の合計）１００質量部に対して、上記の範囲内であると、例えば、ε−酸化鉄系化合物の粉体（研磨剤を含む場合には、ε−酸化鉄系化合物の粉体及び研磨剤）の分散性がより良好となり、形成される磁性層の耐擦傷性がより向上し得る。
【０１９５】
−硬化剤−
磁性層形成用組成物は、硬化剤を含むことができる。
硬化剤は、膜強度の向上に寄与し得る。硬化剤によれば、磁性層を形成する既述の結合剤との間で架橋構造を形成することで、磁性層の膜強度を向上させることができる。
【０１９６】
硬化剤としては、イソシアネート系化合物が好ましい。
イソシアネート系化合物としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等が挙げられる。
また、イソシアネート系化合物としては、既述のイソシアネート系化合物とポリアルコールとの反応生成物、既述のイソシアネート系化合物の縮合生成物等のポリイソシアネートを用いることもできる。
【０１９７】
硬化剤としては、市販品を用いることができる。
硬化剤であるイソシアネート系化合物の市販品の例としては、東ソー（株）のコロネート（登録商標）Ｌ、コロネート（登録商標）ＨＬ、コロネート（登録商標）２０３０、コロネート（登録商標）２０３１、コロネート（登録商標）３０４１、ミリオネート（登録商標）ＭＲ、ミリオネート（登録商標）ＭＴＬ、三井化学（株）のタケネート（登録商標）Ｄ−１０２、タケネート（登録商標）Ｄ−１１０Ｎ、タケネート（登録商標）Ｄ−２００、タケネート（登録商標）Ｄ−２０２、コベストロ社のデスモジュール（登録商標）Ｌ、デスモジュール（登録商標）ＩＬ、デスモジュール（登録商標）Ｎ、デスモジュール（登録商標）ＨＬ等（以上、いずれも商品名）が挙げられる。
【０１９８】
磁性層形成用組成物は、硬化剤を含む場合、硬化剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
硬化剤としては、市販品を用いることができる。
【０１９９】
磁性層形成用組成物が硬化剤を含む場合、磁性層形成用組成物中における硬化剤の含有量は、結合剤１００質量部に対して、例えば、０質量部を超えて８０質量部以下とすることができ、磁性層の強度向上の観点からは、好ましくは、１０質量部〜８０質量部とすることができる。
【０２００】
−溶媒−
磁性層形成用組成物は、溶媒を含むことが好ましい。
溶媒は、ε−酸化鉄系化合物の粉体、結合剤、研磨剤等の分散媒として寄与し得る。
溶媒は、１種のみであってよく、又は２種以上の混合溶媒であってもよい。
溶媒としては、有機溶媒が好ましい。
有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系化合物、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール等のアルコール系化合物、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル系化合物、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル系化合物、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素系化合物、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素系化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサンなどを用いることができる。
これらの中でも、有機溶媒としては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、及びこれらを任意の割合で含む混合溶媒が好ましい。
【０２０１】
例えば、ε−酸化鉄系化合物の粉体等の分散性を向上させる観点からは、溶媒としては、ある程度極性が高い溶媒が好ましく、磁性層形成用組成物中に、誘電率が１５以上の溶媒が、溶媒の全質量に対して、５０質量％以上含まれることが好ましい。また、溶媒の溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。
【０２０２】
〔工程ＩＩ〕
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、工程Ｉの後に、非磁性支持体上に、磁性層形成用組成物を付与して、磁性層形成用組成物層を形成する工程（即ち、工程ＩＩ）を含む。
工程ＩＩは、例えば、走行下にある非磁性支持体上に、磁性層形成用組成物を所定の膜厚となるように塗布することにより行うことができる。
【０２０３】
本開示において、「非磁性支持体」とは、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であること、及び、保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であること、の少なくとも一方を満たす支持体を意味する。
【０２０４】
非磁性支持体としては、磁気記録媒体に用いられる公知の非磁性支持体であれば、特に制限なく用いることができる。
非磁性支持体の材料は、磁性を有しない材料の中から、磁気記録媒体の種類に応じて、成形性等の物性、耐久性などを考慮し、適宜選択することができる。非磁性支持体の材料としては、例えば、磁性材料を含まない樹脂材料、磁性を有しない無機材料等の材料が挙げられる。
【０２０５】
樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアラミドを含む芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂、ポリイミド、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスルホン、ポリベンゾオキサゾールなどの樹脂材料が挙げられる。
これらの中でも、樹脂材料としては、強度及び耐久性が良好であり、かつ、加工が容易であるとの観点から、ポリエステル及びポリアミド系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、及びポリアミドからなる群より選ばれる少なくとも１種がより好ましい。
【０２０６】
非磁性支持体は、磁気記録媒体の使用形態に応じて選択される。
例えば、磁気記録媒体が磁気テープ、フレキシブルディスク等の形態をとる場合、非磁性支持体としては、可撓性を有する樹脂フィルム（又は樹脂シート）を用いることができる。
【０２０７】
非磁性支持体として樹脂フィルムを用いる場合、樹脂フィルムは、未延伸フィルムでもよいし、一軸延伸、二軸延伸等の延伸フィルムでもよい。例えば、非磁性支持体としてポリエステルフィルムを用いる場合には、寸法安定性を向上させる観点から、二軸延伸したポリエステルフィルムを用いてもよい。
非磁性支持体に用いられる樹脂フィルムは、２層以上の積層構造を有していてもよい。例えば、特開平３−２２４１２７号公報に示されているように、磁性層を形成する面と、磁性層を形成しない面との表面粗さを変えるため等の目的で、２層の異なるフィルムを積層した非磁性支持体を用いることもできる。
【０２０８】
非磁性支持体には、例えば、非磁性支持体の面上に設けられる磁性層との密着性を向上させる目的で、必要に応じて、予めコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理等の表面処理が施されていてもよい。また、非磁性支持体には、例えば、磁性層への異物の混入を抑制するため、防塵処理等の表面処理が施されていてもよい。
これらの表面処理は、公知の方法により行うことができる。
【０２０９】
非磁性支持体の厚みとしては、特に制限はなく、磁気記録媒体の使用形態に応じて、適宜選択される。
非磁性支持体の厚みは、例えば、２．０μｍ〜８０．０μｍであることが好ましく、３．０μｍ〜５０．０μｍであることがより好ましい。
非磁性支持体の厚みが２．０μｍ以上であると、成膜性が良好となり、かつ、より高い強度を得ることができる。
非磁性支持体の厚みが８０．０μｍ以下であると、磁気テープ全体の厚みが無用に厚くなりすぎない。
磁気記録媒体が磁気テープの形態をとる場合には、非磁性支持体の厚みは、２．０μｍ〜２０．０μｍであることが好ましく、３．０μｍ〜１０．０μｍであることがより好ましい。
【０２１０】
非磁性支持体上に、磁性層形成用組成物を塗布する方法としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等の公知の方法が挙げられる。
塗布の方法については、例えば、（株）総合技術センター発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参照することができる。
【０２１１】
磁性層形成用組成物の塗布量は、特に制限されない。
磁気記録媒体に用いられる磁気ヘッドの飽和磁化量、ヘッドギャップ長、記録信号の帯域等に応じて、磁性層の厚みが所望の値となるように、適宜調整される。
磁性層形成用組成物は、例えば、乾燥後の磁性層の厚みが、１０ｎｍ〜１５０ｎｍとなるように塗布することが好ましく、２０ｎｍ〜１２０ｎｍとなるように塗布することがより好ましく、３０ｎｍ〜１００ｎｍとなるように塗布することが更に好ましい。
磁性層の厚みが１０ｎｍ以上であると、記録密度をより向上させることができる。
磁性層の厚みが１５０ｎｍ以下であると、ノイズがより少なくなり、電磁変換特性がより良好となる。
【０２１２】
〔工程ＩＩＩ〕
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、工程ＩＩの後に、形成された磁性層形成用組成物層を磁場配向処理する工程（即ち、工程ＩＩＩ）を含む。
【０２１３】
形成された磁性層形成用組成物層は、非磁性支持体が磁気テープ等のフィルム状である場合、磁性層形成用組成物に含まれるε−酸化鉄系化合物の粉体に対して、コバルト磁石、ソレノイド等を用いて、磁場配向処理することができる。
磁場配向処理する方法としては、コバルト磁石を斜めに交互に配置する、ソレノイドで交流磁場を印加する等、公知のランダム配向装置を用いる方法が好ましい。また、異極対向磁石を用いる方法等の公知の方法を用いて垂直配向とすることで、円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は、垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配向することもできる。
磁場配向処理は、形成された磁性層形成用組成物層が乾燥する前に行うことが好ましい。
【０２１４】
磁場配向処理は、磁場強度０．１Ｔ〜１．０Ｔの磁場を、塗布した磁性層形成用組成物面に対して垂直方向に印加する垂直配向処理によって行うことができる。
【０２１５】
〔工程ＩＶ〕
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、工程ＩＩＩの後に、磁場配向処理された磁性層形成用組成物層を乾燥して、磁性層を形成する工程（即ち、工程ＩＶ）を含む。
【０２１６】
磁性層形成用組成物層の乾燥は、乾燥風の温度、風量、及び塗布速度により制御することができる。
塗布速度は、例えば、２０ｍ／分〜１０００ｍ／分であることが好ましい。
乾燥風の温度は、例えば、６０℃以上であることが好ましい。
また、磁場を印加する前に、磁性層形成用組成物層を適度に予備乾燥してもよい。
【０２１７】
〔工程Ｖ〕
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、工程Ｉ、工程ＩＩ、工程ＩＩＩ、及び工程ＩＶを経た後に、磁性層を有する非磁性支持体をカレンダー処理する工程（即ち、工程Ｖ）を含むことが好ましい。
【０２１８】
磁性層を有する非磁性支持体は、巻き取りロールで一旦巻き取られた後、この巻き取りロールから巻き出されて、カレンダー処理に供することができる。
カレンダー処理によれば、表面平滑性が向上し、かつ、乾燥の際の溶媒の除去によって生じた空孔が消滅して、磁性層中のε−酸化鉄系化合物の粉体の充填率が向上するので、電磁変換特性（例えば、ＳＮＲ）の高い磁気記録媒体を得ることができる。
工程Ｖは、磁性層の表面の平滑性に応じて、カレンダー処理条件を変化させながら行うことが好ましい。
【０２１９】
カレンダー処理には、例えば、スーパーカレンダーロールを用いることができる。
カレンダーロールとしては、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂等の樹脂で形成された耐熱性プラスチックロールを用いることができる。また、金属ロールを用いて処理することもできる。
【０２２０】
カレンダー処理の条件としては、カレンダーロールの表面温度を、例えば、６０℃〜１２０℃、好ましくは８０℃〜１００℃とすることができ、圧力（所謂、線圧）を、例えば、１００ｋｇ／ｃｍ〜５００ｋｇ／ｃｍ（９８ｋＮ／ｍ〜４９０ｋＮ／ｍ）、好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ〜４５０ｋｇ／ｃｍ（１９６ｋＮ／ｍ〜４４１ｋＮ／ｍ）とすることができる。
【０２２１】
〔工程ＶＩ〕
本開示の磁気記録媒体の製造方法は、必要に応じて、非磁性層、バックコート層等の任意の層を形成する工程（即ち、工程ＶＩ）を含むことができる。
非磁性層は、磁性層の薄層化等に寄与する層である。非磁性層は、非磁性支持体と磁性層との間に設けることができる。
バックコート層は、走行安定性等に寄与する層である。バックコート層は、非磁性支持体の磁性層側とは反対側の表面に設けることができる。
非磁性層及びバックコート層は、それぞれの層を形成するための組成物（所謂、非磁性層形成用組成物及びバックコート層形成用組成物）を調製した後、磁性層における工程ＩＩ及び工程ＩＶと同様の工程を経ることで、形成することができる。
【０２２２】
非磁性層には、磁性を有しない層、及び、不純物として又は意図的に少量の強磁性体（例えば、ε−酸化鉄系化合物の粉体）を含む実質的に非磁性な層が包含される。
本開示において、「非磁性層」とは、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であること、及び、保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であること、の少なくとも一方を満たす層を意味する。
【０２２３】
（非磁性層形成用組成物）
−非磁性粒子−
非磁性層形成用組成物は、非磁性粒子を含むことが好ましい。
非磁性粒子は、フィラーとして機能し得る。
本開示において、「非磁性粒子」とは、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であること、及び、保磁力が７．９８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であること、の少なくとも一方を満たす粒子を意味する。
【０２２４】
非磁性粒子は、無機粒子であってもよいし、有機粒子であってもよい。
非磁性粒子としては、カーボンブラックを用いることもできる。
無機粒子としては、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粒子が挙げられる。
非磁性粒子の具体例としては、二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化ケイ素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ３、ＣａＣＯ３、ＢａＣＯ３、ＳｒＣＯ３、ＢａＳＯ４、炭化ケイ素、炭化チタンなどが挙げられる。
これらの中でも、非磁性粒子としては、α−酸化鉄が好ましい。
【０２２５】
非磁性粒子の形状は、特に制限はなく、針状、球状、多面体状、及び板状のいずれでもあってもよい。
非磁性粒子の平均粒子径は、例えば、５ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜２００ｎｍであることがより好ましい。
非磁性粒子の平均粒子径が、上記範囲内であると、非磁性粒子の分散性がより良好となり、かつ、形成される非磁性層をより好適な表面粗さに調整することができる。
平均粒子径の異なる非磁性粒子を組み合わせたり、又は、非磁性粒子の粒度分布を調整したりすることにより、非磁性粒子の分散性及び非磁性層の表面粗さを好適に調整することができる。
非磁性粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により測定される値である。
非磁性粒子のＢＥＴ比表面積は、例えば、５０ｍ２／ｇ〜１５０ｍ２／ｇであることが好ましい。
【０２２６】
非磁性層形成用組成物は、非磁性粒子を含む場合、非磁性粒子を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
非磁性粒子は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。
【０２２７】
非磁性層形成用組成物は、非磁性粒子を含む場合、非磁性層形成用組成物中における非磁性粒子の含有率は、非磁性層形成用組成物の固形分量に対して、５０質量％〜９０質量％であることが好ましく、６０質量％〜９０質量％であることが好ましい。
【０２２８】
−結合剤−
非磁性層形成用組成物は、結合剤を含むことが好ましい。
非磁性層形成用組成物における結合剤は、磁性層形成用組成物の項において説明した結合剤と同義であり、好ましい態様も同義であるため、ここでは説明を省略する。
【０２２９】
−他の添加剤−
非磁性層形成用組成物は、既述の非磁性粒子及び結合剤以外に、必要に応じて、各種添加剤（即ち、他の添加剤）を含んでいてもよい。
非磁性層形成用組成物における他の添加剤は、磁性層形成用組成物の項において説明した他の添加剤と同義であり、好ましい態様も同義であるため、ここでは説明を省略する。
【０２３０】
非磁性層形成用組成物の塗布量は、特に制限されない。
非磁性層形成用組成物は、例えば、乾燥後の非磁性層の厚みが、０．０５μｍ〜３．０μｍとなるように塗布することが好ましく、０．０５μｍ〜２．０μｍとなるように塗布することがより好ましく、０．０５μｍ〜１．５μｍとなるように塗布することが更に好ましい。
【０２３１】
（バックコート層形成用組成物）
−非磁性粒子−
バックコート層形成用組成物は、非磁性粒子を含むことが好ましい。
バックコート層形成用組成物における非磁性粒子は、非磁性層形成用組成物の項において説明した非磁性粒子と同義であり、好ましい態様も同義であるため、ここでは説明を省略する。
【０２３２】
−結合剤−
バックコート層形成用組成物は、結合剤を含むことが好ましい。
バックコート層形成用組成物における結合剤は、磁性層形成用組成物の項において説明した結合剤と同義であり、好ましい態様も同義であるため、ここでは説明を省略する。
【０２３３】
−他の添加剤−
バックコート層形成用組成物は、既述の非磁性粒子及び結合剤以外に、必要に応じて、各種添加剤（即ち、他の添加剤）を含んでいてもよい。
バックコート層における他の添加剤は、磁性層形成用組成物の項において説明した他の添加剤と同義であり、好ましい態様も同義であるため、ここでは説明を省略する。
【０２３４】
バックコート層形成用組成物の塗布量は、特に制限されない。
バックコート層形成用組成物は、例えば、乾燥後のバックコート層の厚みが、０．９μｍ以下となるように塗布することが好ましく、０．１μｍ〜０．７μｍとなるように塗布することがより好ましい。
【０２３５】
［磁気記録媒体］
本開示の製造方法により得られる磁気記録媒体は、少なくとも、非磁性支持体と、非磁性支持体の少なくとも一方の面上に設けられ、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体を用いて製造されたε−酸化鉄系化合物の粉体を含む磁性層と、を有する。
本開示の製造方法により得られる磁気記録媒体は、磁性層に、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体に由来するε−酸化鉄系化合物の粉体を含むため、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる。
【０２３６】
［磁気記録媒体の記録方式］
本開示の磁気記録媒体の記録方式としては、ヘリカルスキャン記録方式であってもよいし、リニア記録方式であってもよく、好ましくはリニア記録方式である。
本開示の磁気記録媒体は、ＳＮＲ及び磁性層の膜強度に優れるため、リニア方式による記録に好適である。
【０２３７】
本開示の磁気記録媒体は、電磁波アシスト記録に用いられることが好ましい。
本開示の磁気記録媒体では、磁性材料として、ε−酸化鉄系化合物の粉体を用いている。ε−酸化鉄系化合物の粉体は、保磁力が非常に高いため、スピンを反転させ難い。本開示の磁気記録媒体では、磁性層に含まれるε−酸化鉄系化合物の粉体に対して電磁波を照射し、スピンを歳差運動させながら磁界によって反転させて記録する、所謂、電磁波アシスト記録を適用することで、スピンを記録の際にのみ容易に反転させて、良好な記録を実現し得る。
【実施例】
【０２３８】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【０２３９】
＜ε−酸化鉄系化合物の粉体の作製＞
−磁性粉体１の作製−
〔工程（Ａ）〕
純水１００．０ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物８．８ｇ、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物１．６ｇ、硝酸コバルト（ＩＩ）６水和物２２７．０ｍｇ、及び硫酸チタン（ＩＶ）１７２．０ｍｇを添加した後、マグネチックスターラーを用いて撹拌し、３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液Ａを得た。
大気雰囲気下、液温２５℃（反応温度）の条件で、水溶液Ａを、マグネチックスターラーを用いて撹拌した。撹拌中の水溶液Ａに、２５質量％のアンモニア水溶液（アルカリ剤）４．０ｇを添加した後、液温を２５℃に保ったまま２時間撹拌することにより、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液を得た。
【０２４０】
〔工程（Ｂ）〕
工程（Ａ）において得られたオキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液に、表面修飾剤であるドーパミン塩酸塩１．０ｇを添加した後、５分間撹拌して、液Ｂを得た。得られた液Ｂに対し、４０，０００ｒｐｍで２時間遠心分離処理を施した後、上澄み液を除去して、沈殿物Ａを得た。得られた沈殿物Ａに純水２００ｍＬを添加した後、再度、４０，０００ｒｐｍで２時間遠心分離処理を施した後、上澄み液を除去して、沈殿物Ｂを得た。得られた沈殿物Ｂに純水１０００ｍＬを添加した後、超音波処理を３０分間施すことにより、粒子の表面が表面修飾剤により修飾されたオキシ水酸化鉄系化合物の粉体が、純水に分散したオキシ水酸化鉄系化合物ゾル１を得た。
【０２４１】
〔工程（Ｃ）〕
工程（Ｂ）において得られたオキシ水酸化鉄系化合物ゾル１  １０００ｇを７０℃に昇温した後、液温を保った状態で撹拌しながら、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）６０ｍＬを滴下し、２４時間撹拌して、前駆体粉体分散液を得た。
【０２４２】
〔工程（Ｄ）〕
工程（Ｃ）において得られた前駆体粉体分散液に対し、３０００ｒｐｍで５分間遠心分離処理を施し、上澄み液を除去して、沈殿物Ｃを得た。得られた沈殿物Ｃを純水で洗浄した後、９０℃で２４時間乾燥させて、前駆体粉体を得た。
【０２４３】
〔工程（Ｅ）〕
工程（Ｄ）において得られた前駆体粉体を炉内に装填し、大気雰囲気下、１０３０℃で４時間の熱処理を施して、熱処理粉体を得た。
【０２４４】
〔工程（Ｆ）〕
工程（Ｅ）において得られた熱処理粉体を、８モル／Ｌの水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液中に投入し、液温８０℃に保った状態で２４時間撹拌することにより、熱処理粉体の各粒子に残存するＳｉ含有被膜を除去した。次いで、遠心分離処理により、沈殿物を回収した。
【０２４５】
〔工程（Ｇ）〕
回収した沈殿物を純水で洗浄した後、９０℃で乾燥させて、磁性粉体１を得た。
【０２４６】
−磁性粉体２の作製−
〔工程（Ａ）〕
磁性粉体１の作製における工程（Ａ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液を得た。
【０２４７】
〔工程（Ｂ）〕
表面修飾剤を「ドーパミン塩酸塩１．０ｇ」から「アルギニン１．０ｇ」に変更したこと以外は、磁性粉体１の作製における工程（Ｂ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物ゾル２を得た。
【０２４８】
〔工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）〕
工程（Ｃ）における「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル１」を「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル２」に変更したこと以外は、磁性粉体１の作製における工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）と同様の操作を行い、磁性粉体２を得た。
【０２４９】
−磁性粉体３の作製−
〔工程（Ａ）〕
磁性粉体１の作製における工程（Ａ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液を得た。
【０２５０】
〔工程（Ｂ）〕
表面修飾剤を「ドーパミン塩酸塩１．０ｇ」から「アドレナリン塩酸塩１．１ｇ」に変更したこと以外は、磁性粉体１の作製における工程（Ｂ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物ゾル３を得た。
【０２５１】
〔工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）〕
工程（Ｃ）における「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル１」を「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル３」に変更したこと以外は、磁性粉体１の作製における工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）と同様の操作を行い、磁性粉体３を得た。
【０２５２】
−磁性粉体４の作製−
〔工程（Ａ）〕
磁性粉体１の作製における工程（Ａ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液を得た。
【０２５３】
〔工程（Ｂ）〕
表面修飾剤を「ドーパミン塩酸塩１．０ｇ」から「イソプロテレノール塩酸塩１．３ｇ」に変更したこと以外は、磁性粉体１の作製における工程（Ｂ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物ゾル４を得た。
【０２５４】
〔工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）〕
工程（Ｃ）における「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル１」を「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル４」に変更したこと以外は、磁性粉体１の作製における工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）と同様の操作を行い、磁性粉体４を得た。
【０２５５】
−磁性粉体５の作製−
純水１００．０ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物８．９ｇ、硝酸アルミニウム（ＩＩＩ）９水和物１．４ｇ、硝酸コバルト（ＩＩ）６水和物２２７．０ｍｇ、及び硫酸チタン（ＩＶ）１７２．０ｍｇを添加した後、マグネチックスターラーを用いて撹拌し、３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液Ａを得たこと以外は、磁性粉体４の作製における工程（Ａ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液を得た。
【０２５６】
〔工程（Ｂ）〕
磁性粉体４の作製における工程（Ｂ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物ゾル５を得た。
【０２５７】
〔工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）〕
工程（Ｃ）における「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル４」を「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル５」に変更したこと以外は、磁性粉体４の作製における工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）と同様の操作を行い、磁性粉体５を得た。
【０２５８】
−磁性粉体６の作製−
〔工程（Ａ）〕
純水１００．０ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物７．９ｇ、及び、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物３．１ｇを添加した後、マグネチックスターラーを用いて撹拌し、３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液Ａを得たこと以外は、磁性粉体４の作製における工程（Ａ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液を得た。
【０２５９】
〔工程（Ｂ）〕
磁性粉体４の作製における工程（Ｂ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物ゾル６を得た。
【０２６０】
〔工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）〕
工程（Ｃ）における「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル４」を「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル６」に変更したこと以外は、磁性粉体４の作製における工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）と同様の操作を行い、磁性粉体６を得た。
【０２６１】
−磁性粉体７の作製−
〔工程（Ａ）〕
純水１００．０ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物８．３ｇ、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物２．３ｇ、硝酸コバルト（ＩＩ）６水和物１５９．０ｍｇ、及び硫酸チタン（ＩＶ）１２１．０ｍｇを添加した後、マグネチックスターラーを用いて撹拌し、３価の鉄イオンを含む化合物を含有する水溶液Ａを得たこと以外は、磁性粉体４の作製における工程（Ａ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液を得た。
【０２６２】
〔工程（Ｂ）〕
磁性粉体４の作製における工程（Ｂ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物ゾル７を得た。
【０２６３】
〔工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）〕
工程（Ｃ）における「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル４」を「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル７」に変更したこと以外は、磁性粉体４の作製における工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）と同様の操作を行い、磁性粉体７を得た。
【０２６４】
−磁性粉体８の作製−
〔工程（Ａ）及び工程（Ｂ）〕
磁性粉体４の作製における工程（Ａ）及び工程（Ｂ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物ゾル４を得た。
【０２６５】
〔工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）〕
工程（Ｅ）における熱処理の温度を「１０３０℃」から「１０１５℃」に変更したこと以外は、磁性粉体４の作製における工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）と同様の操作を行い、磁性粉体８を得た。
【０２６６】
−磁性粉体９の作製−
〔工程（Ａ）及び工程（Ｂ）〕
磁性粉体４の作製における工程（Ａ）及び工程（Ｂ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物ゾル４を得た。
【０２６７】
〔工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）〕
工程（Ｅ）における熱処理の温度を「１０３０℃」から「１０５０℃」に変更したこと以外は、磁性粉体４の作製における工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）と同様の操作を行い、磁性粉体９を得た。
【０２６８】
−磁性粉体１０の作製−
〔工程（Ａ）〕
磁性粉体１の作製における工程（Ａ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液を得た。
【０２６９】
〔工程（Ｂ）〕
表面修飾剤を使用しなかったこと以外は、磁性粉体１の作製における工程（Ｂ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物ゾル８を得た。
【０２７０】
〔工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）〕
工程（Ｃ）における「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル１」を「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル８」に変更したこと以外は、磁性粉体１の作製における工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）と同様の操作を行い、磁性粉体１０を得た。
【０２７１】
−磁性粉体１１の作製−
〔工程（Ａ）〕
磁性粉体１の作製における工程（Ａ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体分散液を得た。
【０２７２】
〔工程（Ｂ）〕
表面修飾剤を「ドーパミン塩酸塩１．０ｇ」から「クエン酸１．０ｇ」に変更したこと以外は、磁性粉体１の作製における工程（Ｂ）と同様の操作を行い、オキシ水酸化鉄系化合物ゾル９を得た。
【０２７３】
〔工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）〕
工程（Ｃ）における「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル１」を「オキシ水酸化鉄系化合物ゾル９」に変更したこと以外は、磁性粉体１の作製における工程（Ｃ）〜工程（Ｇ）と同様の操作を行い、磁性粉体１１を得た。
【０２７４】
［確認及び測定］
１．結晶構造
（１）オキシ水酸化鉄系化合物の結晶構造
オキシ水酸化鉄系化合物ゾル１〜９に含まれるオキシ水酸化鉄系化合物の粉体を形成するオキシ水酸化鉄系化合物（以下、それぞれ「オキシ水酸化鉄系化合物１〜９」と称する。）の結晶構造をＸ線回折（ＸＲＤ）法により確認した。
確認用試料には、工程（Ｂ）における沈殿物Ｂを乾燥させたもの（即ち、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体）を用いた。また、測定装置には、ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ社のＸ’Ｐｅｒｔ  Ｐｒｏ回折計を用いた。
測定条件を以下に示す。
【０２７５】
−測定条件−
Ｘ線源：Ｃｕ  Ｋα線
〔波長：１．５４Å（０．１５４ｎｍ）、出力：４０ｍＡ、４５ｋＶ〕
スキャン範囲：２０°＜２θ＜７０°
スキャン間隔：０．０５°
スキャンスピード：０．７５°／ｍｉｎ
【０２７６】
その結果、オキシ水酸化鉄系化合物１〜９は、いずれもβ型の結晶構造を有しており、α型、γ型、及びδ型の結晶構造を含まない単相のβ−オキシ水酸化鉄系化合物であることが確認された。
【０２７７】
（２）磁性体の結晶構造
磁性粉体１〜１１を形成する磁性体（以下、それぞれ「磁性体１〜１１」と称する。）の結晶構造を、Ｘ線回折（ＸＲＤ）法により確認した。
測定装置及び測定条件は、上記の「（１）オキシ水酸化鉄系化合物の結晶構造」における測定装置及び測定条件と同じである。
【０２７８】
その結果、磁性体１〜１１は、いずれもε型の結晶構造を有しており、α型、β型、及びγ型の結晶構造を含まない単相のε−酸化鉄系化合物であることが確認された。
【０２７９】
２．組成
（１）オキシ水酸化鉄系化合物の組成
オキシ水酸化鉄系化合物１〜９の組成を、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析法により確認した。
確認用試料には、工程（Ｂ）における沈殿物Ｂを乾燥させたもの（即ち、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体）を用いた。また、測定装置には、（株）島津製作所のＩＣＰＳ−８１００（商品名）を用いた。
具体的には、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体１２ｍｇ及び４ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液１０ｍＬを入れた容器を、設定温度８０℃のホットプレート上で３時間保持し、溶解液を得た。得られた溶解液に純水３０ｍＬを加えた後、０．１μｍのメンブレンフィルタを用いて濾過し、濾液を得た。得られた濾液について、上記の測定装置を用いて元素分析した。
得られた元素分析の結果に基づき、鉄原子１００原子％に対する各金属原子の含有率を求めた。そして、得られた含有率に基づき、オキシ水酸化鉄系化合物の組成を確認した。各オキシ水酸化鉄系化合物の組成を以下に示す。
【０２８０】
・オキシ水酸化鉄系化合物１〜４、８及び９
β−Ｇａ（０．１４）Ｃｏ（０．０２５）Ｔｉ（０．０２５）Ｆｅ（０．８１）ＯＯＨ
〔式（６）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物〕
・オキシ水酸化鉄系化合物５
β−Ａｌ（０．１３）Ｃｏ（０．０２５）Ｔｉ（０．０２５）Ｆｅ（０．８２）ＯＯＨ
〔式（６）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物〕
・オキシ水酸化鉄系化合物６
β−Ｇａ（０．２７５）Ｆｅ（０．７２５）ＯＯＨ
〔式（２）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物〕
・オキシ水酸化鉄系化合物７
β−Ｇａ（０．２）Ｃｏ（０．０１７５）Ｔｉ（０．０１７５）Ｆｅ（０．７６５）ＯＯＨ
〔式（６）で表されるβ−オキシ水酸化鉄系化合物〕
【０２８１】
（２）磁性体の組成
磁性体１〜１１の組成を、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析法により確認した。
測定装置及び測定方法は、上記の「（１）オキシ水酸化鉄系化合物の組成」における測定装置及び測定方法と同じである。
得られた元素分析の結果に基づき、鉄原子１００原子％に対する各金属原子の含有率を求めた。そして、得られた含有率に基づき、磁性体の組成を確認した。各磁性体の組成を以下に示す。
【０２８２】
・磁性体１〜４及び８〜１１
ε−Ｇａ（０．２８）Ｃｏ（０．０５）Ｔｉ（０．０５）Ｆｅ（１．６２）Ｏ３
〔式（６−１）で表されるε−酸化鉄系化合物〕
・磁性体５
ε−Ａｌ（０．２６）Ｃｏ（０．０５）Ｔｉ（０．０５）Ｆｅ（１．６４）Ｏ３
〔式（６−１）で表されるε−酸化鉄系化合物〕
・磁性体６
ε−Ｇａ（０．５５）Ｆｅ（１．４５）Ｏ３
〔式（２−１）で表されるε−酸化鉄系化合物〕
・磁性体７
ε−Ｇａ（０．４）Ｃｏ（０．３５）Ｔｉ（０．３５）Ｆｅ（１．５３）Ｏ３
〔式（６−１）で表されるε−酸化鉄系化合物〕
【０２８３】
３．形状
（１）オキシ水酸化鉄系化合物の粒子の形状
オキシ水酸化鉄系化合物１〜９の粒子の形状を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による観察により確認したところ、いずれもロッド状を有していた。
確認用試料には、工程（Ｂ）における沈殿物Ｂを乾燥させたもの（即ち、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体）を用いた。
【０２８４】
（２）磁性体の粒子の形状
磁性体１〜１１の粒子の形状を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による観察により確認したところ、いずれも球状を有していた。
【０２８５】
４．粒子の大きさ
（１）オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均長軸長及び平均アスペクト比
オキシ水酸化鉄系化合物１〜９の粉体の平均長軸長及び平均アスペクト比（平均長軸長さ／平均短軸長）を、以下の方法により求めた。
確認用試料には、工程（Ｂ）における沈殿物Ｂを乾燥させたもの（即ち、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体）を用いた。
オキシ水酸化鉄系化合物の粉体を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）（型番：Ｈ−９０００型、（株）日立ハイテクノロージーズ）を用いて、撮影倍率８０，０００倍で撮影し、総倍率５００，０００倍になる倍率で印画紙に印刷した。印刷された個々の粒子から一次粒子を選び、デジタイザーで一次粒子の輪郭をトレースした。なお、一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。トレースした輪郭における長軸長及び短軸長を、画像解析ソフトとしてカールツァイス製の画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて求めた。
数枚の印画紙に印刷された一次粒子のうち任意に抽出した５００個について、長軸長及び短軸長を求めた。求めた５００個の粒子の長軸長及び短軸長をそれぞれ単純平均（即ち、数平均）することにより、平均長軸長及び平均アスペクト比（平均長軸長さ／平均短軸長）を求めた。結果を以下に示す。
【０２８６】
オキシ水酸化鉄系化合物１の粒子（平均長軸長：１１．３ｎｍ、平均アスペクト比：３．８）、オキシ水酸化鉄系化合物２の粒子（平均長軸長：１５．４ｎｍ、平均アスペクト比：４．３）、オキシ水酸化鉄系化合物３の粒子（平均長軸長：１１．１ｎｍ、平均アスペクト比：３．８）、オキシ水酸化鉄系化合物４の粒子（平均長軸長：１０．７ｎｍ、平均アスペクト比：３．７）、オキシ水酸化鉄系化合物５の粒子（平均長軸長：１０．７ｎｍ、平均アスペクト比：３．６）、オキシ水酸化鉄系化合物６の粒子（平均長軸長：１１．４ｎｍ、平均アスペクト比：３．８）、オキシ水酸化鉄系化合物７の粒子（平均長軸長：１０．９ｎｍ、平均アスペクト比：３．８）、オキシ水酸化鉄系化合物８の粒子（平均長軸長：１０．７ｎｍ、平均アスペクト比：３．７）、オキシ水酸化鉄系化合物９の粒子（平均長軸長：１０．７ｎｍ、平均アスペクト比：３．７）
【０２８７】
（２）磁性体の粉体の平均円相当径
磁性体１〜１１の粉体の平均円相当径は、上記の「（１）オキシ水酸化鉄系化合物の粉体の平均円相当径」と同様の方法により求めた。結果を以下に示す。
磁性体１：１３．３ｎｍ、磁性体２：１３．４ｎｍ、磁性体３：１３．３ｎｍ、磁性体４：１３．２ｎｍ、磁性体５：１３．４ｎｍ、磁性体６：１３．５ｎｍ、磁性体７：１３．４ｎｍ、磁性体８：１０．８ｎｍ、磁性体９：１７．８ｎｍ、磁性体１０：１３．５ｎｍ、磁性体１１：１３．３ｎｍ
【０２８８】
５．オキシ水酸化鉄系化合物の粉体のゼータ電位
オキシ水酸化鉄系化合物ゾル１〜９を用いて、オキシ水酸化鉄系化合物の粉体のｐＨ１０におけるゼータ電位を測定した。具体的には、以下のようにして測定した。
オキシ水酸化鉄系化合物ゾルの液温を２５℃に調整し、液温を保った状態で、オキシ水酸化鉄系化合物ゾルのｐＨを、アンモニア水溶液を用いて１０に調整し、測定用試料を得た。得られた測定用試料のゼータ電位を、ゼータ電位分析装置（商品名：ゼータサイザーナノＺＳ、Ｍａｌｖｅｒｎ  Ｐａｎａｌｙｔｉｃａｌ社）を用いて測定した。結果を表１に示す。
【０２８９】
［磁気記録媒体（磁気テープ）の作製］
＜実施例１〜９及び比較例１〜２＞
１．磁性層形成用組成物の調製
下記に示す組成の磁性層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
まず、下記に示す組成の磁性液の各成分を、バッチ式縦型サンドミルにより、ビーズ径０．５ｍｍφのジルコニアビーズ（第１の分散ビーズ、密度：６．０ｇ／ｃｍ３）を用いて２４時間分散した（第１の分散）。
次いで、第１の分散により得られた分散物を、平均孔径０．５μｍのフィルタを用いて濾過することにより、分散液Ａを得た。第１の分散では、ジルコニアビーズ（第１の分散ビーズ）を、磁性粉体に対して、質量基準で１０倍量用いた。
【０２９０】
次いで、分散液Ａを、バッチ式縦型サンドミルにより、ビーズ径５００ｎｍφのダイヤモンドビーズ（第２の分散ビーズ、密度：３．５ｇ／ｃｍ３）を用いて１時間分散した（第２の分散）。
次いで、第２の分散により得られた分散物に対し、遠心分離機を用いて、遠心分離処理を施すことにより、分散液Ｂを得た。得られた分散液Ｂを磁性液とした。
【０２９１】
次いで、下記に示す組成の研磨剤液の各成分を、横型ビーズミルにより、ビーズ径０．３ｍｍφのジルコニアビーズを用いて２時間分散した。分散では、ジルコニアビーズを、ビーズ充填率が８０体積％となるように調整して用いた。
次いで、分散により得られた分散物に対し、フロー式の超音波分散濾過装置を用いて、超音波分散濾過処理を施すことにより、研磨剤液を得た。
【０２９２】
次いで、上記にて調製した磁性液及び研磨剤液と、下記に示す組成の非磁性フィラー液並びに潤滑剤及び硬化剤を含む液と、をディゾルバー撹拌機に入れ、周速１０ｍ／ｓ（秒）で３０分間撹拌した。
次いで、撹拌により得られた液に対し、フロー式の超音波分散機を用いて、流量７．５ｋｇ／ｍｉｎで３パスの処理を行った後、平均孔径１μｍのフィルタを用いて濾過することにより、磁性層形成用組成物を得た（工程Ｉ）。
【０２９３】
＜磁性層形成用組成物の組成＞
−磁性液−
磁性粉体                                          １００．０質量部
（上記にて調製した磁性粉体１〜１１）
オレイン酸（潤滑剤）                                  ２．０質量部
塩化ビニル樹脂（結合剤）                            １０．０質量部
（商品名：ＭＲ−１０４、日本ゼオン（株））
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂（結合剤）             ４．０質量部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ３Ｎａ基：０．０７ｍｅｑ／ｇ）
メチルエチルケトン（有機溶媒）                    １５０．０質量部
シクロヘキサノン（有機溶媒）                      １５０．０質量部
【０２９４】
−研磨剤液−
α−アルミナ（研磨剤）                                ６．０質量部
（ＢＥＴ比表面積：１９ｍ２／ｇ、モース硬度：９）
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂（結合剤）             ０．６質量部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ３Ｎａ基：０．１ｍｅｑ／ｇ）
２，３−ジヒドロキシナフタレン（分散剤）              ０．６質量部
シクロヘキサノン（有機溶媒）                        ２３．０質量部
【０２９５】
−非磁性フィラー液−
コロイダルシリカ（非磁性フィラー）                    ２．０質量部
（平均粒子径：１２０ｎｍ）
メチルエチルケトン（有機溶媒）                        ８．０質量部
【０２９６】
−潤滑剤及び硬化剤を含む液−
ステアリン酸（潤滑剤）                                ３．０質量部
ステアリン酸アミド（潤滑剤）                          ０．３質量部
ステアリン酸ブチル（潤滑剤）                          ６．０質量部
ポリイソシアネート（硬化剤）                          ３．０質量部
（商品名：コロネート（登録商標）Ｌ、東ソー（株））
メチルエチルケトン（有機溶媒）                    １１０．０質量部
シクロヘキサノン（有機溶媒）                      １１０．０質量部
【０２９７】
２．非磁性層形成用組成物の調製
下記に示す組成の非磁性層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
まず、下記に示す組成の非磁性層形成用組成物の各成分を、バッチ式縦型サンドミルにより、ビーズ径０．１ｍｍφのジルコニアビーズを用いて２４時間分散した。
次いで、分散により得られた分散物を、平均孔径０．５μｍのフィルタを用いて濾過することにより、非磁性層形成用組成物を得た。
【０２９８】
＜非磁性層形成用組成物の組成＞
α−酸化鉄（非磁性フィラー）                      １００．０質量部
（平均粒子径（平均長軸長）：１０ｎｍ、平均針状比：１．９、ＢＥＴ比表面積：７５ｍ２／ｇ）
カーボンブラック（非磁性フィラー）                  ２５．０質量部
（平均粒子径：２０ｎｍ）
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂（結合剤）           １８．０質量部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ）
ステアリン酸（潤滑剤）                                １．０質量部
メチルエチルケトン（有機溶媒）                    ３００．０質量部
シクロヘキサノン（有機溶媒）                      ３００．０質量部
【０２９９】
３．バックコート層形成用組成物の調製
下記に示す組成のバックコート層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
まず、下記に示す組成のバックコート層形成用組成物の成分のうち、潤滑剤であるステアリン酸及びステアリン酸ブチル、硬化剤であるポリイソシアネート、並びにシクロヘキサノン（Ａ）を除いた各成分を、オープンニーダにより混練及び希釈した。希釈には、メチルエチルケトン及びシクロヘキサノンの混合溶媒を用いた。
次いで、混練及び希釈により得られた物を、横型ビーズミルにより、ビーズ径１ｍｍφのジルコニアビーズを用いて分散した（第１の分散）。第１の分散では、ジルコニアビーズを、ビーズ充填率が８０体積％となるように調整して用いた。また、第１の分散では、横型ビーズミルのローター先端の周速を１０ｍ／ｓ（秒）に設定し、１パスあたりの滞留時間を２分間とし、１２パスの処理を行った。
次いで、第１の分散により得られた分散物に、残りの成分（即ち、潤滑剤であるステアリン酸及びステアリン酸ブチル、硬化剤であるポリイソシアネート、並びにシクロヘキサノン（Ａ））を添加し、ディゾルバー撹拌機を用いて撹拌した。
次いで、撹拌により得られた分散物を、平均孔径１μｍのフィルタを用いて濾過することにより、バックコート層形成用組成物を得た。
【０３００】
＜バックコート層形成用組成物の組成＞
α−酸化鉄（非磁性フィラー）                        ８０．０質量部
（平均粒子径（平均長軸長）：０．１５μｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ比表面積：５２ｍ２／ｇ）
カーボンブラック（非磁性フィラー）                  ２０．０質量部
（平均粒子径：２０ｎｍ）
塩化ビニル樹脂（結合剤）                            １３．０質量部
（商品名：ＭＲ−１０４、日本ゼオン（株））
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂（結合剤）             ６．０質量部
（重量平均分子量：５０，０００、ＳＯ３Ｎａ基：０．０７ｍｅｑ／ｇ）
フェニルホスホン酸（表面修飾剤）                      ３．０質量部
メチルエチルケトン（有機溶媒；希釈用）            １５５．０質量部
シクロヘキサノン（有機溶媒；希釈用）              １５５．０質量部
ステアリン酸（潤滑剤）                                ３．０質量部
ステアリン酸ブチル（潤滑剤）                          ３．０質量部
ポリイソシアネート（硬化剤）                          ５．０質量部
（商品名：コロネート（登録商標）３０４１、東ソー（株））
シクロヘキサノン（Ａ）（有機溶媒）                ２００．０質量部
【０３０１】
４．磁気テープの作製
厚み５．０μｍのポリエチレンナフタレート製の支持体（即ち、非磁性支持体）の上に、乾燥後の厚みが１００ｎｍになるように非磁性層形成用組成物を塗布し乾燥させて非磁性層を形成した。
次いで、形成した非磁性層の上に、乾燥後の厚みが７０ｎｍになるように磁性層形成用組成物を塗布して磁性層形成用組成物層を形成した（工程ＩＩ）。この形成した磁性層形成用組成物層が湿潤状態（所謂、未乾燥状態）にあるうちに、対向配置された電磁石を用いて、磁場強度０．６０Ｔの磁場を磁性層形成用組成物層の表面に対し垂直方向に印加し、垂直配向処理を行った（工程ＩＩＩ）後、磁性層形成用組成物層を乾燥させて磁性層を形成した（工程ＩＶ）。
次いで、上記非磁性支持体の、非磁性層及び磁性層を形成した面とは反対側の面上に、乾燥後の厚みが０．４μｍになるようにバックコート層形成用組成物を塗布し乾燥させてバックコート層を形成し、バックコート層／非磁性支持体／非磁性層／磁性層の層構成を有する積層体を得た。
次いで、得られた積層体に対し、金属ロールのみから構成された一対のカレンダーロールを用いて、カレンダー処理速度１００ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、及びカレンダーロールの表面温度１００℃の条件で、表面平滑化処理（所謂、カレンダー処理）を行った後、雰囲気温度７０℃の環境下で３６時間熱処理を行った。
熱処理後、積層体を１／２インチ（０．０１２７メートル）幅に裁断し、磁気テープを得た。
【０３０２】
［評価］
１．ＳＦＤ
上記にて作製した実施例１〜９及び比較例１〜２の磁気テープに用いた各磁性粉体（即ち、磁性粉体１〜１１）のＳＦＤを評価した。
雰囲気温度２３℃の環境下、振動試料型磁力計（東英工業社製）を用いて、印加磁界±１１９４ｋＡ／ｍ（１５ｋＯｅ）の範囲で、磁場を掃引することにより、印加磁界に対する磁性粉体の磁化強度を測定した。なお、磁界掃引速度は、６．７ｋＡ／ｍ／ｓ（秒）〔８４Ｏｅ／ｓ（秒）〕とした。測定結果により得られた磁性粉体の磁化曲線に基づき、保磁力（Ｈｃ）を求めた。また、磁化曲線を微分した曲線に基づき、Ｈｃ周辺のピークの半値幅（以下、「ＨＰＷ」と称する。）を求めた。そして、Ｈｃ及びＨＰＷの値から、次式により、ＳＦＤを算出した。
ＳＦＤ  ＝  ＨＰＷ  ／  Ｈｃ
結果を表１に示す。
【０３０３】
２．ＳＮＲ
上記にて作製した実施例１〜９及び比較例１〜２の磁気テープについて、ＳＮＲの評価を行った。なお、評価には、１００ｍの長さに切り出した磁気テープを用いた。
ヘッドを固定した１／２インチ（０．０１２７メートル）のリールテスターを用い、下記の走行条件で磁気テープを走行させ、下記の記録再生条件で磁気信号を磁気テープの長手方向に記録し、再生した。
【０３０４】
−走行条件−
搬送速度（ヘッド／テープ相対速度）：６．０ｍ／ｓ（秒）
１パスあたりの長さ：１０００ｍ
走行回数：１０００パス往復
【０３０５】
−記録再生条件−
（記録）
記録ヘッド：ＭＩＧ（Metal-In-Gap）ヘッド
記録トラック幅：１．０μｍ
記録ギャップ：０．１５μｍ
ヘッドの飽和磁束密度（Ｂｓ）：１．８Ｔ
記録電流：各磁気テープの最適記録電流
（再生）
再生ヘッド：巨大磁気抵抗（ＧＭＲ：Giant Magneto Resistive）効果ヘッド
再生トラック幅：０．５μｍ
シールド（ｓｈ；shield）間距離（ｓｈ−ｓｈ距離）：０．１μｍ
素子厚み：１５ｎｍ
線記録密度：２７０ｋｆｃｉ（ｆｃｉ：flux change per inch；以下、同じ。）
【０３０６】
再生信号を、シバソク社のスペクトラムアナライザーを用いて周波数分析し、３００ｋｆｃｉの出力と、０ｋｆｃｉ〜６００ｋｆｃｉの範囲で積分したノイズと、の比をＳＮＲとした。なお、ＳＮＲは、磁気テープの走行後、信号が十分に安定してから求めた。
磁気テープのＳＮＲが良好であるか否かは、比較例１の磁気テープのＳＮＲを基準としたＳＮＲの差に基づいて判断した。具体的には、比較例１の磁気テープのＳＮＲに対して、＋１．０ｄＢ以上のＳＮＲを示す磁気テープであれば、ＳＮＲが良好であると判断した。結果を表１に示す。
【０３０７】
３．膜強度
上記にて作製した実施例１〜９及び比較例１〜２の磁気テープについて、膜強度の評価を行った。なお、評価には、１００ｍの長さに切り出した磁気テープを用いた。
ヘッドを固定した１／２インチ（０．０１２７メートル）のリールテスターを用い、雰囲気温度３７℃及び相対湿度８７％の環境下、下記の走行条件で磁気テープを走行させた。
【０３０８】
−走行条件−
搬送速度（ヘッド／テープ相対速度）：３．０ｍ／ｓ（秒）
１パスあたりの長さ：１００ｍ
走行回数：６０００パス往復
【０３０９】
走行後、磁性層の表面状態を、光学顕微鏡（商品名：ＥｃｌｉｐｓｅＬＶ１５０、（株）ニコン）を用いて、１００倍の倍率で観察し、下記の評価基準に従い、磁気テープの膜強度を評価した。結果を表１に示す。
下記の評価基準において、磁気テープの膜強度が最も優れるものは、「Ａ」であり、「Ａ」、「Ｂ」又は「Ｃ」であれば、実用上許容される範囲内であると判断した。
【０３１０】
（評価基準）
Ａ：摺動痕は確認されなかった。
Ｂ：弱い摺動痕は確認されたが、磁性層の表面が削れるまでには至っていない。
Ｃ：磁性層の表面がわずかに削れているが、実用上問題がない。
Ｄ：磁性層の表面が明らかに削れており、磁性層の表面が剥離した箇所、又は、磁性層が欠落した箇所が多数確認され、実用上問題がある。
Ｅ：磁性層の表面全体が削り取られており、実用上問題がある。
【０３１１】
【表１】
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【０３１２】
表１に示すように、実施例１〜９の磁気テープは、いずれもＳＮＲが良好であり、かつ、磁性層の膜強度が優れていた。
一方、比較例１〜２の磁気テープは、ＳＮＲ及び磁性層の膜強度のいずれもが、実施例の磁気テープと比較して劣っていた。
これらの結果から、既述の式（１）で表され、かつ、粒子の表面が表面修飾剤により修飾されたβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体であり、水に分散させてゾルとした場合のゼータ電位がｐＨ１０において＋５ｍＶ以上である、本開示のβ−オキシ水酸化鉄系化合物の粉体によれば、ＳＮＲが良好で、かつ、磁性層の膜強度に優れる磁気記録媒体の製造が可能な磁性粉体（即ち、ε−酸化鉄系化合物の粉体）を形成できることが確認された。