(57)【要約】      （修正有）【課題】接触の終わりの段階における接触力と分離力が湿潤剤、そして特に、湿度の影響を受けないような高クオリティーファクターの計時器機構を提供する。【解決手段】高クオリティーファクターの共振器又はエスケープ機構のための微細加工可能な材料によって作られた部品１である。この部品のコア２には、微細加工可能な材料によって作られていること及び／又は酸化物層３で被覆されていることの特徴がある。このコア２又は酸化物層３上に、対向接触面と連係する接触面６がある耐摩耗層５があり、この耐摩耗層は、硫黄の含有量が低い又はゼロである、アルキルシラン、及び／又はフッ素化、過フッ素化又はポリ過フッ素化されているタイプの疎水性の自己集合単分子膜であり、接触面６と対向接触面の間の接触領域からいずれの湿潤剤もはじくように構成している。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０００よりも大きい高いクオリティーファクターを有する共振器（１０）、又は前記共振器（１０）と連係するように構成しており１０００よりも大きい高いクオリティーファクターを有する計時器用エスケープ機構（２０）のための部品（１）であって、
当該部品（１）には、微細加工可能な材料で作られたコア（２）があり、このコア（２）は、前記微細加工可能な材料を酸化できる場合には前記微細加工可能な材料の酸化物層（３）で被覆されており、
当該部品（１）は、前記コア（２）又は前記微細加工可能な材料を酸化できる場合には前記微細加工可能な材料の前記酸化物層（３）上にて、少なくとも１つの接触面（６）を有する耐摩耗層（５）を有し、
この接触面（６）は、前記共振器（１０）、前記エスケープ機構（２０）、又は前記共振器（１０）及び／又は前記エスケープ機構（２０）を組み入れている計時器用ムーブメント（１００）の、相手方部品である少なくとも１つの他の部品が備える対向接触面（７）と連係するように構成しており、
前記耐摩耗層（５）は、シラン及び／又はフッ素化又は過フッ素化又はポリ過フッ素化されたタイプの疎水性の自己集合単分子膜であり、
前記疎水性の自己集合単分子膜は、前記接触面（６）と前記対向接触面（７）の間の接触領域からいずれの湿潤剤をもはじくように構成しており、
これによって、前記共振器（１０）又は前記エスケープ機構（２０）の動作が前記接触面（６）と前記対向接触面（７）を分離するときに、前記接触面（６）と前記対向接触面（７）の間の分離を促進し、
前記耐摩耗層（５）の粗さは、少なくとも少なくとも１つの前記接触面（６）上において５ｎｍＲａ以上である
ことを特徴とする部品（１）。
【請求項２】
前記耐摩耗層（５）の粗さは、各接触面（６）上において５ｎｍＲａ以上である
ことを特徴とする請求項１に記載の部品（１）。
【請求項３】
前記耐摩耗層（５）が連係する前記相手方部品の面の粗さは、前記耐摩耗層（５）の粗さよりも小さい
ことを特徴とする請求項１に記載の部品（１）。
【請求項４】
前記耐摩耗層（５）が連係する前記相手方部品の面の粗さは、５ｎｍＲａ未満である
ことを特徴とする請求項３に記載の部品（１）。
【請求項５】
前記部品（１）には、すべての前記接触面（６）及びすべての前記対向接触面（７）から離れた位置に、前記コア（２）又は前記微細加工可能な材料を酸化できる場合には前記微細加工可能な材料の前記酸化物層（３）上に配置され、又は前記耐摩耗層（５）上にて局所的に配置されている、親水性層（９）の面上の少なくとも１つの凝縮集合面（８）があり、
これによって、トラップを形成して、いずれの湿潤剤又は水性の凝縮液又は潤滑剤を引きつけて、前記接触面（６）と対向接触面（７）から離す
ことを特徴とする請求項１に記載の部品（１）。
【請求項６】
前記疎水性の自己集合単分子膜は、アルキルトリクロロシランを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の部品（１）。
【請求項７】
前記疎水性の自己集合単分子膜は、オクタデシルトリクロロシランＣＨ3（ＣＨ2）17ＳｉＣｌ3を含む
ことを特徴とする請求項６に記載の部品（１）。
【請求項８】
前記疎水性の自己集合単分子膜の硫黄の含有量はゼロである
ことを特徴とする請求項１に記載の部品（１）。
【請求項９】
当該部品（１）は、共振器（１０）の部品であり、前記共振器（１０）のための戻し手段を形成するように構成している少なくとも１つの直線状又は渦巻き状のフレキシブルな細長材（１１）を有し、
この細長材（１１）の面は、前記コア（２）又は前記微細加工可能な材料を酸化できる場合には前記微細加工可能な材料の前記酸化物層（３）の面である
ことを特徴とする請求項１に記載の部品（１）。
【請求項１０】
請求項１に記載の部品（１）を少なくとも１つ有する共振器（１０）であって、
前記対向接触面（７）は、前記接触面（６）と同じ性質である
ことを特徴とする共振器（１０）。
【請求項１１】
請求項１に記載の部品（１）を少なくとも１つ有するエスケープ機構（２０）であって、
前記対向接触面（７）は、前記接触面（６）と同じ性質である
ことを特徴とするエスケープ機構（２０）。
【請求項１２】
請求項１０に記載の共振器（１０）及び／又は請求項１１に記載のエスケープ機構（２０）を有する計時器用ムーブメント（１００）であって、
前記対向接触面（７）は、前記接触面（６）と同じ性質である。
ことを特徴とする計時器用ムーブメント（１００）。
【請求項１３】
密封されたケース内に、請求項１０に記載の共振器（１０）及び／又は請求項１１に記載のエスケープ機構（２０）を有する少なくとも１つの計時器用ムーブメントを有する腕時計（２００）であって、
前記対向接触面（７）は、前記接触面（６）と同じ性質である
ことを特徴とする腕時計（２００）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高いクオリティーファクターを有する共振器１０、又は前記共振器と連係するように構成しており１０００よりも大きい高いクオリティーファクターを有する計時器用エスケープ機構のための部品に関する。当該部品には、微細加工可能な材料で作られたコアがあり、このコアは、前記微細加工可能な材料を酸化できる場合には前記微細加工可能な材料の酸化物層で被覆されている。当該部品は、前記コア又は前記微細加工可能な材料を酸化できる場合には前記微細加工可能な材料の前記酸化物層上にて、少なくとも１つの接触面を有する耐摩耗層を有する。この接触面は、前記共振器、前記エスケープ機構、又は前記共振器及び／又は前記エスケープ機構を組み入れている計時器用ムーブメントの、相手方部品である少なくとも１つの他の部品が備える対向接触面と連係するように構成している。
【０００２】
本発明は、さらに、このような部品を少なくとも１つ有する共振器に関する。
【０００３】
本発明は、さらに、このような部品を少なくとも１つ有するエスケープ機構に関する。
【０００４】
本発明は、さらに、１つのこのような共振器及び／又は１つのこのようなエスケープ機構を有する計時器用ムーブメントに関する。
【０００５】
本発明は、さらに、密封されたケース内に少なくとも１つのこのようなムーブメントを有する腕時計に関する。
【０００６】
本発明は、計時器の分野に関し、特に、微細加工可能な材料によって作られた部品で作られた高クオリティーファクターの共振器を有し、弾性細長材を備えたガイドシステムが重力場におけるあらゆる姿勢においても良好な等時性を与えるように構成しているような腕時計の分野に関する。
【背景技術】
【０００７】
多くの伝統的な機械式腕時計は、バランス／バランスばね発振器及びスイス式レバーエスケープを備える。バランス／バランスばねは、腕時計のタイムベースを形成し、共振器とも呼ばれている。エスケープは、
−  共振器の往復運動の維持
−  その往復運動のカウント
の２つの主な機能を実行する。
【０００８】
これらの２つの主な機能に加えて、エスケープは、堅牢性を維持し、衝撃に耐え、ムーブメントのジャミング（オーバーバンキング）を回避しなければならない。
【０００９】
スイス式レバーエスケープは、信頼性が非常に高いが、エネルギー効率が低く、約３０％である。この低いエネルギー効率は、エスケープの運動がジャーキーであることに起因している。加工の誤差に対応するために、また、いくつかの部品がそれらの運動を互いに擦り合う傾斜面を介して伝達するために、バンキングまでの「ドロップ」ないしランがある。
【００１０】
機械式共振器を作るためには、慣性要素、ガイドメンバー及び弾性戻し要素が必要である。伝統的に、バランスばねは、バランスによって形成される慣性要素のための弾性戻し要素としてはたらく。このバランスは、ルビーベアリング内にて滑らかに回転するピボットによってガイドされて回転する。このことによって、摩擦が発生し、したがって、エネルギー損失とレートの誤差を発生させる。これらは、重力場における腕時計の姿勢に依存し、これをなくすことが求められている。
【００１１】
最近、慣性要素と、及び仮想回転軸のまわりの回転と戻しばねとしての機能の２つの役割がある少なくとも２つのフレキシブル要素とを有する機械式共振器が知られている。これらの新しい共振器は、一般的には２８０のオーダーであるバランス／バランスばねを備えた伝統的な機械式共振器よりも、約１０Ｈｚや５０Ｈｚのオーダー又はそれより高いオーダー、例えば、２０００のオーダー、の高い振動周波数を可能にする。このように、各振動で共振器に与えられるエネルギーは、伝統的なバランス／バランスばねタイプ共振器によって与えられるエネルギーよりも、非常に低く、例えば、２０倍低い。
【００１２】
したがって、エスケープを通り抜けるエネルギーは、バランス／バランスばねタイプの伝統的な共振器の場合のスイス式レバーエスケープを通り抜けるエネルギーよりもはるかに小さい。これには慣性が小さいエスケープ部品が開発されることが必要である。この特性は、ケイ素や酸化ケイ素のような密度が低い材料を用いることによって、また、エスケープ部品の大きさを小さくすることによって、達成される。好ましいことに、このようなエスケープの動作上の制約に適している精度を可能にする「ＤＲＩＥ（深堀りリアクティブイオンエッチング）」のようなエレクトロニクスに由来する技術を用いてケイ素を加工することができる。ケイ素は空気中で自然に酸化される。また、ケイ素を製造プロセスにおいて慎重に酸化して、例えば、部品の靱性を大きくしたり、熱膨脹係数を変えたり、部品を多重安定させるために予応力を作ったりすることができる。
【００１３】
ETA Manufacture Horlogere Suisseによる欧州特許出願ＥＰ３３２７５１５Ａ１は、たわみベアリングを備えた回転式共振器を開示している。この共振器の発振は、分離したレバーエスケープによって維持される。クオリティーファクターＱを有する共振器は、パレットのフォークと連係するピンを有する慣性要素を有し、これには、主軸を中心とする仮想ピボットを定めるプレートに固定された２つのフレキシブルな細長材の戻し力が与えられる。パレットレバーは、副軸のまわりを回転し、また、ピンがフォークに接しながら行われる共振器のリフトの角度は、１０°未満であり、副軸を中心とする慣性ＩAに対する主軸を中心とする慣性要素の慣性ＩBの比ＩB／ＩAは、２Ｑ・α2／（０．１π・β2）よりも大きい。ここで、αは、フォークの最大角トラベルに対応するパレットレバーのリフト角である。特に、パレットレバー及び／又はエスケープ車セット、及び／又は各フレキシブルな細長材は、ケイ素、特に、フレキシブルな細長材について酸化ケイ素、によって作られている。
【００１４】
SURFACTIS Technologiesによる国際特許出願ＷＯ２００８／０１７７２１は、分子機能化層によって金属ないし無機の基材をカバーする方法を開示している。この方法は、
（ａ）まだ少なくとも部分的にヒドロキシル化されていない場合に、基材の面上に水酸基を形成するように、基材の面を前置酸化するステップと、
（ｂ）gem-ビスホスホン酸化合物及び／又はそれらの毒物学的に受け入れ可能な塩を含有する液体、気体又は超臨界の被覆組成物に当該基材の面を、表面をカバーする層における前記gem-ビスホスホン酸化合物が自己集合するまで、接触させるステップと、
（ｃ）液体、気体又は超臨界の被覆組成物を除去するステップと、
（ｄ）このようにしてカバーされた表面の脱水を行うステップと
の順次的なステップを有する。この文献は、この方法によって回復される基材、この機能化された基材の使用、この被覆法の実装を可能にするgem-ビスホスホン酸化合物、及びこのgem-ビスホスホン酸化合物の用途について開示している。
【００１５】
酸化ケイ素（シリカ）は、水を吸収する傾向があることが知られている。また、この吸湿性を利用して、シリカゲルの袋などの形態の特定のパッケージ内において空気を乾燥させて、水分によってそのパッケージ内に入っている商品が劣化しないようにしている。
【００１６】
非常に低いエネルギーしか伝達しない機構の場合には、付着の問題が発生することがある。エスケープ部品の大きさが小さい場合に、この表面現象の問題が大きくなることがある。実際に、この表面効果（摩擦と付着）は、部分の寸法が小さくなるにしたがって、徐々に容積効果（慣性、質量）よりも重要になる。結果として、究極的には、部品どうしがくっついて害を与えてしまうことがある。
【００１７】
実行した試験によって、相対湿度が増加すると効率が相当に低下することがわかった。付着力は、１つの部品又は別の部品によって与えられた力に依存するのではなく、異なる表面張力や液体の量に依存する。
【００１８】
したがって、このような部品がくっつくことによって、エスケープに与えられるトルクが小さく湿度が高い場合に運動が止まってしまうことがある。そして、動作異常やパワーリザーブの損失が発生する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
本発明は、接触の終わりの段階における接触力と分離力が湿潤剤、そして特に、湿度の影響を受けないような高クオリティーファクターの計時器機構を作ることを提案するものである。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
このために、本発明は、高クオリティーファクターを有する共振器、又は請求項１に記載のこのような高クオリティーファクターの共振器と連係するように構成している計時器用エスケープ機構のための部品に関する。
【００２１】
本発明は、さらに、このようなエスケープ機構を有する計時器用ムーブメントに関する。
【００２２】
本発明は、さらに、このような部品を少なくとも１つ有する共振器に関する。
【００２３】
本発明は、さらに、このような部品を少なくとも１つ有するエスケープ機構に関する。
【００２４】
本発明は、さらに、１つのこのような共振器及び／又は１つのこのようなエスケープ機構を有する計時器用ムーブメントに関する。
【００２５】
本発明は、さらに、密封されたケース内に少なくとも１つのこのようなムーブメントを有する腕時計に関する。
【００２６】
添付図面を参照しながら下記の詳細な説明を読むことで、本発明の他の特徴及び利点を理解することができるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の実装に適しているポリ過フルオロエーテルの構造の２つの例のＺｄｏｌ−ＴＸを上に、Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌを下に示している。
【図２】表面が水平方向の実線で表されているケイ素構造を示しており、その酸化物ＳｉＯ2がその後ろに描かれている。周囲空気によってＳｉＯ2上で成長したＯＨ結合と同じＯＨ結合の代わりに、堆積される分子（この場合、自己集合単分子膜かＳＡＭ前記潤滑剤のもの）のＯＨ結合が置き換わって、ケイ素原子と結合する。
【図３】ヒドロキシル化段階におけるＳｉ／ＳｉＯ2表面上のＯＨ基の形成を示しており、後のシラン化段階において、この表面上に、シランの頭部を含む分子がグラフトされる。例としてＮＨ2分子の残りが与えられている。
【図４】高クオリティーファクターの共振器と、及び適切なエスケープ機構とを有するムーブメントを備えた腕時計の概略平面図である。これらの部品は、本発明によって作られている。
【図５】図４の詳細図である。
【図６】共振器とエスケープ車の間のリンクを形成している図５及び６の機構のパレットレバーの詳細図である。
【図７】表面層が疎水性接触面である疎水性の耐摩耗層を備える本発明に係る部品の断面図である。
【図８】表面が凝縮集合面である親水性の耐摩耗層を備えた本発明に係る部品の断面図である。
【図９】共振器とエスケープ機構がケース内に収容されたムーブメントを有する腕時計を表すブロック図である。これらの共振器とエスケープ機構は、両方とも本発明に係る部品を有する。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本発明は、仮想ピボット、たわみベアリングなどを用いるガイド手段を有する、高クオリティーファクター、特に１０００よりも大きいもの、の共振器を有する計時器機構における付着現象を防ぐように意図されている。これにおいては、バランス／バランスばねタイプの共振器及びスイス式レバーエスケープを備える下において伝統的な機構と呼ぶ機構におけるよりも伝達されるエネルギーがはるかに低く、また、接触力が論理的に非常に小さくなっている。
【００２９】
対向している２つの部品を機構が分離しようとするときに、その２つの対向している部品が分離するときの毛細管力を克服するという技術的課題がある。すなわち、伝統的な機構においては毛細管力は他の力と比較して無視できるほど小さいが、このことは高クオリティーファクターの共振器を備える機構においては当てはまらず、毛細管力の応力が部品の分離を妨げてしまう傾向がある。
【００３０】
本発明は、このような機構における毛細管力の影響を抑えるために、疎水性被覆を用いることを提案するものである。液体の表面張力はＮ／ｍで表現されるが、Ｊ／ｍ2で表現することもできる。したがって、液体が濡れる表面が大きいほど、その表面をそれと接触している別の表面から分離するために大きなエネルギーを与えなければならない。エスケープの動作は多くの部品の分離を伴い、その分離の際には部品の毛細管力のために毎回エネルギーが用いられる。
【００３１】
具体的には、このような高クオリティーファクターの共振器において広く用いられているケイ素部品の表面上には、自然又は非自然の酸化物があり、これは吸湿性である。周囲環境において、腕時計ケース内に存在する水（空気中の水分）、潤滑剤のような別の液体、又は溶剤のような湿潤剤が関心事の部品の表面全体にわたって堆積し、これによって、機構の動作を害してしまう。水又は別の液体がこれらの機能面を湿らせることを防ぐ被覆が、この問題を改善することができる。
【００３２】
当然、潤滑剤を用いずに動作させることも考えることができる。このような場合、処理される部品の表面が環境湿度によって湿ることを防ぐことができる。しかし、腕時計ケースに組み入れられる様々な機構の性質に依存して、油、グリース、溶媒、水のような湿潤剤が存在する状況における動作も考えることができる。この場合、疎水性被覆の目的は、この湿潤剤によって湿る表面を少なくすることである。
【００３３】
本発明によって、特に、相対湿度が上昇したときの効率の低下を抑えることができる。
【００３４】
当該機構の接触面に疎水性被覆をすることと通常よりも大きい粗さを与えることとを組み合わせることによって、実際の接触面を抑え、したがって、部品の分離時に消散されるエネルギーを抑える。しかし、この粗さをよく考えずに増すことはできない。摩擦、動作時間、そして、これによる磨耗のためである。
【００３５】
本発明は、微細加工可能な材料によって作られた計時器機構用部品の接触面上の湿潤剤の存在に対する保護を確実にし、特に、高クオリティーファクターの共振器の部品の接触面上の湿潤剤の存在に対する保護を確実にし、又はこのような高クオリティーファクターの共振器と連係するように構成しているエスケープ機構の部品の保護を確実にする。
【００３６】
本発明は、水を吸収する傾向がある微細加工可能な材料によって作られた少なくとも１つの計時器用部品の表面上、具体的には、機構の内部の部品、特に、共振器及び／又はエスケープ機構の部品、の接触領域の表面上、に疎水性被覆を堆積させることを伴う方法の実装に関する。
【００３７】
特に、本発明は、止め機構、特に、パレットフォーク、及びこの止め機構が連係するように構成している、エスケープ車セット、特に、共振器のエスケープ車と慣性錘、のような部品の保護に関する。本発明は、これらの部品のうちの１つがいくつかの基本的な部品を有する場合における、これらの基本的な部品、例えば、２つの部分によって構成するパレット、の接触面の保護に関する。
【００３８】
「微細加工可能な材料によって作られた部品」とは、特にエスケープ機構用部品の表面上において、水を吸収する傾向がある、ケイ素、酸化ケイ素又は任意の同様の親水性材料によって作られた部品を意味している。一般的には、用語「微細加工可能な材料によって作られた部品」は、一体化された非常に高い精度の計時器用部品を受け入れ可能な製造コストで作るために用いられる、「ＭＥＭＳ」（微小電気機械システム）、ＬＩＧＡ（Rontgenlithographie, Galvanoformung, Abformung：リソグラフィー、電鋳及び成型）又は同様の技術のうちの１つを用いて作られるいずれの計時器用部品をも意味している。
【００３９】
計時器機構、特に、共振器やエスケープ機構、の動作上の制約のおかげで、この疎水性被覆には、長期的な動作を確実にするために耐磨耗性がなければならない。
【００４０】
この疎水性被覆は、特に綿密に表面に付着しなければならない。したがって、この表面には、堆積の前にいずれの汚染もあってはならない。この堆積は、好ましくは、以下において「ＳＡＭ」とも呼ぶ自己集合単分子膜（self-assembled monolayer）のタイプである。このような被覆は、他の工業的分野において知られているが、その撥油性、そして、潤滑剤によって汚染されてはならない領域を保護することについてのみ知られている。このような被覆は、ケイ素又は同様の部品における疎水性のためには用いられていない。
【００４１】
堅牢性と耐久性を確実にするために表面は完全にきれいでなければならない。このことは、同じクリーンルームにおいてＤＲＩＥエッチングなどの後にグラフト処理を行うことによって、又は部品の効率的な清浄化によって、達成することができる。以下のような異なるタイプの清浄化を行うことができる。すなわち、窒素ジェットによる塵埃除去、脱イオン水による清浄化、溶剤による清浄化（opticlear、アセトン、イソプロピルアルコール）、ケイ素による脱酸素（ＨＦ／Ｈ2Ｏ）、マスク残留物などを除去する「ピラニア」溶液による清浄化（Ｈ2ＳＯ4／Ｈ2Ｏ2）などである。これらのプロセスの後に、また、清浄化基準を製造し、Ｗによって開発されて、アールシーエーの清潔な標準のようなウェハーの清浄化において知られているトランジスター製造における清浄化規格を用いることができる。これには、例えば、RCA（Radio Corporation of America）のためにW. Kernによって開発されたＲＣＡ清浄化規格がある。これは、以下の順次的なステップを備える化学的な方法である。すなわち、有機汚染物質（Ｈ2Ｏ／ＮＨ4ＯＨ／Ｈ2Ｏ2）を除去し、酸化物層（ＨＦ／Ｈ2Ｏ）を除去し、イオン清浄化（Ｈ2Ｏ／ＨＣｌ／Ｈ2Ｏ2）を行い、すすいで乾燥させる。これらは、表面から除去する汚染及び利用可能な手段に応じて選択される。
【００４２】
疎水性被覆は、少なくとも１つのタイプの機能化分子を含む。
【００４３】
疎水性被覆は、商業取引の参照用名称「Z-dol」、「Z-Tetraol」、「Solvay Fomblin」として知られているコンピューターのハードディスクシステムの読み取りヘッドと盤の間の接触の潤滑のために用いられるタイプの過フルオロポリエーテル潤滑剤のような表面にグラフトされることができる潤滑剤であることができる。
【００４４】
表面を疎水性にするように意図されている他の物のファミリーは、好ましいことに、ジクロロジメチルシラン（ＤＤＭＳ）、過フルオロデシルトリクロロシラン（ＦＤＴＳ）、又は好ましくはオクタデシルトリクロロシラン（ＯＤＴＳ又はＯＴＳ）ＣＨ3（ＣＨ2）17ＳｉＣｌ3のようなアルキルシランである。
【００４５】
ＳＡＭ潤滑剤の場合には、ポリ過フルオロエーテルは、過フルオロポリアルキルエーテルとも呼ばれる。DENG/HITACHIによる米国特許ＵＳ７５１０９９９Ｂ２は、それらのうちのいくつかを磁気記録手段の潤滑に適用したものについて記載している。
【００４６】
図１は、このようなポリ過フルオロエーテルの構造の例を示している。
【００４７】
表面の調整は、部品の粗さ、任意の酸化物表面層、特に、ケイ素部品の場合にはＳｉＯ2層、の最小厚みを調整することからなる。粗さは、ＤＲＩＥエッチング操作に起因する粗さを維持することができる。ここで、選ばれる後処理のタイプに依存して、ナノメートル水準の粗さやマイクロメートル水準の粗さを有することができる。いずれの場合も、堆積はナノメートル水準の厚みであり、表面の形状に合うようにすることによって表面に順応する。ケイ素の特定のケースにおいて、原子の酸化物層が十分であれば、ＳｉＯ2の厚みは所望の用途に対して根本的な重要性があるわけではない。開放空気においては、ＳＡＭがグラフトのために用いる水酸基ＯＨの結合は、例えば、それ自身の水酸基ＯＨの結合によって、形成される。いずれの場合も、ＳｉＯ2の厚みは、時計のニーズに応じて、０．１ｎｍ（自然酸化）と、例えば１０μｍ（強制酸化）の間で変わることができる。エスケープ機構に用いる用途の場合、約５００ｎｍの厚みで用いられるＳｉＯ2酸化物層は、良好な付着及び満足的な結果を与える。
【００４８】
疎水性被覆の形成は、表面に対する「グラフト」操作を伴う。このグラフト機構は、下に簡潔に説明しており、ＯＨ結合に基づくものである。
【００４９】
短く書くと、表面には、堆積される分子の一部との親和性がある。この部分は「頭部」として知られている。一般的には、表面に存在する酸素が用いられる。この酸素は、さもなければ、空気中の水分と反応して水酸基（ＯＨ）を形成するものである。堆積される分子は、これらのＯＨ基と親和性がある基を含むために、その基と自発的に化学的に結合する。これは吸着として知られている。分子は、一般的には、その形態に応じて空間内において構成している（分子の毛がある表面によって通常表現される）。
【００５０】
図２は、ケイ素構造を示しており、その表面を水平方向の実線によって表しており、この線を越えると酸化ケイ素ＳｉＯ2が延在している。堆積される分子（この場合、ＳＡＭ潤滑剤）のＯＨ結合は、周囲空気においてＳｉＯ2の上で成長したものと同じＯＨ結合に置き換わって、ケイ素原子と結合する。
【００５１】
図３は、シラン頭部を含む分子がグラフトされるＳｉ／ＳｉＯ2の表面上のＯＨ基の形成を示している。ＮＨ2分子の残りを例として与えている。一般的には、表面張力を減少させるためにフッ素原子が用いられる。
【００５２】
また、ＯＤＴＳ、ＦＤＴＳ及びＤＤＭＳであるシラン基タイプの頭部を含む分子を有することができる。シラン基タイプの頭部は、Ｓｉ／ＳｉＯ2ウェハーと自然な親和性があり、これによって、それらをグラフトしやすくなる。
【００５３】
別の代替形態においては、ビスホスホン酸又はモノホスホン酸、及び／又はチオール基、又はそれらの３つ（通常２つ）の組み合わせを頭部として用いる。
【００５４】
疎水性被覆は、一般的には、浸漬によって施される。したがって、混合物が湿ることがある全表面をカバーする。一般的には、活性分子は、それに特有な溶媒（アルコール又は水は両方とも共通の溶媒である）に溶かされる。その濃度は、全表面を概して短時間で被覆するために広く十分である。堆積された表面にグラフトされていない分子を同じ溶媒（しかし、活性分子なし）の別の槽におけるすすぎ操作のときに除去することができる。この槽は、グラフトされた分子を除去することができない。なぜなら、それらは表面に化学的に結合しているからである。
【００５５】
代わりに、部品の活性領域のうちの１つのみの上に選択的に堆積することが可能であるが、ＳＡＭ堆積の前に、ＳＡＭを除去せずに除去することができる別の堆積が必要となる。このことによって、この方法が複雑になり、実装することが高コストになる。なぜなら、特に、疎水性被覆が非活性面をカバーするときに負の影響を与えないからである。
【００５６】
上記のように、疎水性被覆を浸漬によって堆積させることができるが、ＣＶＤプロセスのような気体的な手段を用いることもできる。
【００５７】
したがって、特に、本発明は、１０００よりも大きい高いクオリティーファクターを有する共振器１０、又は１０００よりも大きい高いクオリティーファクターを有するこのような共振器１０と連係するように構成している計時器用エスケープ２０の機構のための部品１に関する。
【００５８】
この部品１には、微細加工可能な材料で作られたコア２があり、このコア２は、その微細加工可能な材料を酸化できる場合には前記微細加工可能な材料の酸化物層３で被覆される。
【００５９】
部品１は、このコア２又はこの微細加工可能な材料の酸化物層３上にて、その微細加工可能な材料を酸化できる場合、少なくとも１つの接触面６を有する耐摩耗層５を有する。
【００６０】
この接触面５は、共振器１０、エスケープ機構２０、又はこの共振器１０及び／又はこのエスケープ機構２０を組み入れている計時器用ムーブメント１００の少なくとも１つの他の部品に設けられた対向する接触面７と連係するように構成している。
【００６１】
特に、同じ機構のすべての接触面６は同じ性質であり、これらの接触面６が連係するすべての対向接触面７はこれらの接触面６と同じ性質である。
【００６２】
本発明によると、この耐摩耗層５は、シラン及び／又はフッ素化、過フッ素化、又はポリ過フッ素化されたタイプの疎水性の自己集合単分子膜である。
【００６３】
変種の１つにおいて、疎水性の自己集合単分子膜は、例えば、チオールを用いる場合に、硫黄を含有する。
【００６４】
別の変種において、疎水性の自己集合単分子膜における硫黄の含有量は、ゼロである。
【００６５】
本発明によると、この疎水性の自己集合単分子膜は、接触面６と対向接触面７の間の接触領域からいずれの湿潤剤をもはじくように構成しており、これによって、共振器１０又はエスケープ機構２０の動作が接触面６と対向接触面７を分離するときに接触面６と対向接触面７の間の分離を促進する。
【００６６】
好ましくは、耐摩耗層５の粗さは、少なくとも少なくとも１つの接触面６上にて、５ｎｍＲａ以上であり、特に、９ｎｍＲａ以上であり、特に、２５ｎｍＲａ以上である。特に、耐摩耗層５の粗さは、各接触面６上にて、５ｎｍＲａ以上である。過度の摩擦（例えば、粗さの相互の入り込み）を避けるために、２つの接触面のうちの１つは滑らかでなければならない。磨耗を避けるために、粗い面は滑らかな表面に対して動くことができなければならない。対向部分の表面は、磨耗を抑えるために、好ましくは、小さくなければならず、その粗さは、好ましいことに、接触面の粗さよりも低く、特に、５ｎｍＲａ未満である。
【００６７】
このように、本発明によって、接触領域からいずれの湿潤剤をも除去することが可能になる。腕時計ケース１５０が密閉されているので、温度変化時の凝集を含む腕時計ケース１５０が収容している湿潤剤の局在化を制御することができると有利である。このために、好ましい構成において、部品１には、すべての前記接触面６及びすべての前記対向接触面７から離れた位置にて、少なくとも１つの凝縮集合面８があり、この凝縮集合面８は、コア２上に配置された親水性層９又は微細加工可能な材料を酸化できる場合には前記微細加工可能な材料の酸化物層３、の表面上にあり、あるいは耐摩耗層５上にて局所的に配置されている。これによって、トラップを形成して、いずれの湿潤剤又は水性の凝縮液又は潤滑剤も引きつけて、それを接触面６と対向接触面７から除去する。したがって、湿潤剤は、接触領域からはじかれるだけではなく、湿潤剤が害を及ぼさない領域に引きつけられる。
【００６８】
好ましくは、凝縮集合面８は、以下のような固体領域に位置する。すなわち、プレート又はブリッジに対する取り付け用領域１４、慣性車セット１３の慣性錘１５、エスケープ車２４のアーム２６、ピン１２から離れているパレットフォーク２１の本体２７、歯２５、又は他の接触パレット２２、２３である。
【００６９】
ＳｉＯ2上の有利な実施形態において、疎水性の自己集合単分子膜は、オクタデシルトリクロロシランＣＨ3（ＣＨ2）17ＳｉＣｌ3を含む。
【００７０】
特に、部品１は、共振器１０の部品であり、少なくとも１つの直線状又は渦巻き状のフレキシブルな細長材１１を有し、この細長材１１は、共振器１０のための戻し手段を形成するように構成しており、この細長材１１の面は、コア２の面であり、又は微細加工可能な材料を酸化できる場合には微細加工可能な材料の酸化物層３の面である。
【００７１】
本発明は、さらに、このような部品１を少なくとも１つ有し対向接触面７が接触面６と同じ性質であるような共振器１０に関する。
【００７２】
本発明は、さらに、このような部品１を少なくとも１つ有し対向接触面７が接触面６と同じ性質であるようなエスケープ機構２０に関する。
【００７３】
本発明は、さらに、１つのこのような共振器１０及び／又は１つのこのようなエスケープ機構２０を有し対向接触面７が接触面６と同じ性質であるような計時器用ムーブメント１００に関する。
【００７４】
本発明は、さらに、密封されたケース１５０内に１つのこのようなムーブメント１００を有する腕時計２００に関する。
【００７５】
伝統的な腕時計用潤滑剤との互換性については、まず、分子の頭部といずれかの潤滑剤との間の接触を防ごうとすることを強調すべきである。なぜなら、潤滑剤は生来的に毛細管タイプの接着力を発生させるためである。この分子頭部は、しばしば、計時器において現在用いられている既知のエピラメのもののように、一般的にはフッ素化されている、同じタイプの分子によって形成されており、したがって、現状の技術水準の腕時計用潤滑剤と接触する場合であっても、互換性の問題は発生しない。ＯＤＴＳタイプのＳＡＭ分子、特に、フッ素を含有しないアルキルシラン、の場合には、分子の頭部は脂肪族タイプである。これも、現状の技術水準の腕時計用潤滑剤との互換性の問題を発生させない。
【００７６】
特定のＳＡＭ自己集合単分子膜の堆積を用いることは、表面張力を低下させて、ＳＡＭを含有しない潤滑する接触箇所に腕時計用潤滑剤を留まらせる目的についてのみ知られている。したがって、潤滑剤は、接触領域に留まって、その粘性などによって、接触しており相対運動をしている２つの物体のせん断力を消散させ、接触圧力を下げなければならない。このように、潤滑剤は摩擦係数を減少させる。
【００７７】
本発明は、反対のことを目指すという点で、基本的に異なる。すなわち、本発明は、接触箇所に、湿潤剤又はいずれのタイプの液体が存在することを防ぐことを目指す。なぜなら、エネルギーがほとんどないシステムにおいては、接着力（毛細管力）が優勢になるからである。実際に、表面力（付着力）は、小さな低エネルギーの機構の場合、体積力（慣性、重量）よりも大きくなる。このような毛細管力は、関心事の液体の表面張力、液体の体積、及び体積が分布する形態に応じて変わる。このような毛細管力は、摩擦力とは異なり、接触圧力、又は物体の間の相対速度に比例するものではない。
【符号の説明】
【００７８】
１  部品
２  コア
３  酸化物層
５  耐摩耗層
６  接触面
７  対向接触面
８  凝縮集合面
９  親水性層
１０  共振器
１１  細長材
２０  エスケープ機構
１００  計時器用ムーブメント
２００  腕時計
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【外国語明細書】
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