(57)【要約】【課題】膜パターンの膜厚が薄い場合であっても、膜パターンの縁端部を精度よく形成することができる膜パターン形成方法を提供する。【解決手段】基材上の膜形成領域にインクジェット法により液滴を行って膜パターンを形成する膜パターン形成方法であって、膜形成領域の塗布開始端部の位置情報に基づいて当該塗布開始端部に液滴を吐出する塗布開始工程と、基材とステージとを相対的に搬送させる搬送装置の駆動パルス信号に応じて液滴を吐出する本塗布工程と、が行われ、本塗布工程は、形成する膜パターンの膜厚に応じて、駆動パルス信号毎に液滴の吐出の要否が設定されることにより、駆動パルス信号の周期に対して間欠的に一定周期で液滴が吐出される間欠周期塗布工程と、膜形成領域の塗布終了端部の位置情報に基づいて、間欠周期塗布工程の吐出周期にかかわらず、塗布終了端部に液滴を吐出する塗布終了工程とを有するように構成する。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上の膜形成領域にインクジェット法により液滴を行って膜パターンを形成する膜パターン形成方法であって、
前記膜形成領域の塗布開始端部の位置情報に基づいて当該塗布開始端部に液滴を吐出する塗布開始工程と、
基材とこの基材を載置するステージとを相対的に搬送させる搬送装置の駆動パルス信号に応じて液滴を吐出する本塗布工程と、
がこの順で行われ、
前記本塗布工程は、形成する膜パターンの膜厚に応じて、前記駆動パルス信号毎に液滴の吐出の要否が設定されることにより、前記駆動パルス信号の周期に対して間欠的に一定周期で液滴が吐出される間欠周期塗布工程と、
前記膜形成領域の塗布終了端部の位置情報に基づいて、前記間欠周期塗布工程の吐出周期にかかわらず、前記塗布終了端部に液滴を吐出する塗布終了工程とを有していることを特徴とする膜パターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材上に液滴を吐出して所定パターンの塗布膜を形成する膜パターン形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガラスやフィルム等の基材上にインクジェット法により液滴を吐出し、線分、矩形状等、様々な形状の塗布膜（膜パターンという）を形成することが望まれている。例えば、プリント基板やパッケージ基板のような配線基板（基材）における配線パターン、パワー半導体の絶縁膜パターンは、インクジェット法を用いることにより、少ない工程で塗布材料を無駄にすることなく膜パターンを形成することが検討されている。
【０００３】
このインクジェット法による膜パターンを形成する場合には、基材上に膜パターンに応じた膜形成領域が設定されており、その膜形成領域に塗布材料である液滴を多数吐出することにより行われる。すなわち、膜形成領域に塗布開始端部に液滴を吐出する塗布開始工程と、塗布開始端部から順次液滴を吐出する本塗布工程とが行われることにより、基材を載置するステージと液滴を吐出するノズルを複数有する液滴ヘッドユニットとを相対的一方向に移動させつつ、所定タイミングでノズルから一方端から他方端に向かって順次液滴を吐出させることにより膜パターンを形成する。
【０００４】
ここで、図８は、液滴ヘッドユニット１００と基材Ｗとの関係を示す図であり、基材Ｗ上の２点鎖線は、膜形成領域１０１を示しており、破線の円形状は、後述の駆動パルス信号を受けた際に液滴ヘッドユニット１００から吐出される液滴１０４の着弾位置１０２を示している。すなわち、塗布開始工程が行われると、膜形成領域１０１の塗布開始端部１０３に液滴ヘッドユニット１００を移動させ、塗布開始端部１０３の位置で液滴１０４を吐出することにより、液滴ヘッドユニット１００の移動方向と直交する方向に配列するノズルから液滴１０４を吐出し、膜パターンの縁端部を形成する（図８（ｂ））。次に、本塗布工程により、液滴ヘッドユニット１００がモータ等の駆動装置により移動しつつ、モータに取り付けられたエンコーダの駆動パルス信号に応じて液滴１０４を吐出する。すなわち、エンコーダの駆動パルス信号を受ける度に周期的に、液滴ヘッドユニット１００の移動方向と直交する方向（単に幅方向ともいう）に配列するノズルから液滴１０４が吐出されることにより、幅方向に順次、液滴１０４の膜が形成される。形成された液滴１０４の膜は、流動して互いに連結することで、最終的に膜形成領域１０１に一様な膜パターンが形成される（例えば下記特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２５５００７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、上述の膜パターン形成方法では、形成される膜厚を調節することが難しいという問題があった。すなわち、膜厚を調節する場合には、エンコーダからの駆動パルス信号の周期をコントローラで調節することにより行われる。具体的には、膜厚を厚くする場合には、駆動パルス信号の周期を短くすることにより、液滴１０４の周期的な着弾位置１０２を密にして調節することができる。そして、この場合、図９（ａ）に示すように、膜形成領域１０１の塗布終了端部１０５に着弾する多数の着弾位置１０２を選択できるため、膜パターンの縁端部を精度よく形成することができる。しかし、膜厚を薄くする場合には、駆動パルス信号の周期を長くすることにより、液滴１０４の周期的な着弾位置１０２を粗くして液滴１０４量を調節する必要がある。ところが、着弾位置１０２を粗くすると、図９（ｂ）に示すように、膜形成領域１０１の塗布終了端部１０５において、液滴１０４の周期的な駆動パルス信号に基づく着弾位置１０２が合わなくなり、塗布終了端部１０５における膜パターンの縁端部に液滴１０４を着弾させることができず、縁端部の形成精度が低下してしまうという問題があった。
【０００７】
本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたものであり、膜パターンの膜厚が薄い場合であっても、膜パターンの縁端部を精度よく形成することができる膜パターン形成方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明の膜パターン形成方法は、基材上の膜形成領域にインクジェット法により液滴を行って膜パターンを形成する膜パターン形成方法であって、前記膜形成領域の塗布開始端部の位置情報に基づいて当該塗布開始端部に液滴を吐出する塗布開始工程と、基材とこの基材を載置するステージとを相対的に搬送させる搬送装置の駆動パルス信号に応じて液滴を吐出する本塗布工程と、がこの順で行われ、前記本塗布工程は、形成する膜パターンの膜厚に応じて、前記駆動パルス信号毎に液滴の吐出の要否が設定されることにより、前記駆動パルス信号の周期に対して間欠的に一定周期で液滴が吐出される間欠周期塗布工程と、前記膜形成領域の塗布終了端部の位置情報に基づいて、前記間欠周期塗布工程の吐出周期にかかわらず、前記塗布終了端部に液滴を吐出する塗布終了工程とを有していることを特徴としている。
【０００９】
上記膜パターン形成方法によれば、膜厚の厚薄にかかわらず、膜パターンの縁端部を精度よく形成することができる。すなわち、本塗布工程では、駆動パルス信号毎に液滴の吐出の要否が設定されるため、所定の駆動パルス信号を受けた場合に実際にノズルから吐出される液滴量をゼロに設定することで、駆動パルス信号があっても液滴を吐出をさせず、一定周期で間欠的に液滴の吐出を行うように設定する（間欠周期塗布工程）。これにより、駆動パルス信号を密にした場合であっても粗く設定した場合と同様に、実際に吐出される液滴を周期的に調節して、膜パターンの膜厚に応じて液滴量を調節することができる。そして、塗布終了端部では、その位置情報に基づいて、間欠周期塗布工程の吐出周期にかかわらず液滴を吐出させる（塗布終了工程）。すなわち、周期的な駆動パルス信号を密に設定することにより、塗布終了端部に着弾する液滴候補は多数存在するため、その液滴から適切な液滴を選択し、本塗布工程で設定される間欠周期塗布工程の吐出周期とは独立させて駆動パルス信号に基づいて液滴を吐出させる。これにより、膜パターンの膜厚が薄い場合であっても、塗布終了端部に対応する膜パターンの縁端部を精度よく形成することができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、膜パターンの膜厚が薄い場合であっても、膜パターンの縁端部を精度よく形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の膜パターン形成方法が適用されるインクジェット塗布装置を概略的に示す側面図である。
【図２】上記インクジェット塗布装置の上面図である。
【図３】上記インクジェットヘッド部のノズルの配置を示す図である。
【図４】上記インクジェット塗布装置の制御系を示すブロック図である。
【図５】上記インクジェット塗布装置の塗布動作を示すフローチャートである。
【図６】膜形成領域と着弾位置を示す図であり、（ａ）は塗布動作前の状態を示す図であり、（ｂ）は塗布開始工程において、塗布開始端部に液滴が吐出された状態を示す図である。
【図７】膜形成領域と着弾位置を示す図であり、（ａ）は間欠周期塗布工程において吐出周期で液滴が吐出された状態を示す図であり、（ｂ）は塗布終了工程において塗布終了端部に液滴が吐出された状態を示す図である。
【図８】従来の膜形成領域と着弾位置を示す図であり、（ａ）は塗布動作前の状態を示す図であり、（ｂ）は塗布開始工程において、塗布開始端部に液滴が吐出された状態を示す図であり、（ｃ）は本塗布工程において、液滴が着弾された状態を示す図である。
【図９】従来の膜形成領域と着弾位置を示す塗布終了端部における拡大図であり、（ａ）は、駆動パルス信号の周期を短く設定した状態を示す図であり、（ｂ）は、駆動パルス信号の周期を長く設定した状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明のインクジェット塗布装置に係る実施の形態を図面を用いて説明する。
【００１３】
図１は、インクジェット塗布装置の一実施形態を示す側面図であり、図２は、インクジェット塗布装置の上面図である。
【００１４】
インクジェット塗布装置は、図１、図２に示すように、基材Ｗを載置するステージ１０と、基材Ｗに液滴Ｐ（塗布材料）を塗布する液滴ヘッドユニット２とを有しており、液滴ヘッドユニット２がステージ１０に載置された基材Ｗ上を移動しつつ、液滴Ｐを吐出することにより、基材Ｗ上に塗布膜が形成される。
【００１５】
なお、以下の説明では、この液滴ヘッドユニット２が移動する方向をＸ軸方向（主走査方向）、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向（副走査方向、又は、幅方向）、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。
【００１６】
インクジェット塗布装置は、基台１を有しており、この基台１上にステージ１０、液滴ヘッドユニット２が設けられている。具体的には、基台１上にステージ１０が設けられており、このステージ１０をＹ軸方向に跨ぐように液滴ヘッドユニット２が設けられている。
【００１７】
ステージ１０は、基材Ｗを載置するものであり、載置された基材Ｗが水平な姿勢を維持した状態で載置できるようになっている。具体的には、ステージ１０の表面は、平坦に形成されており、その表面には、吸引孔が複数形成されている。この吸引孔には真空ポンプが接続されており、ステージ１０の表面に基材Ｗを載置した状態で真空ポンプを作動させることにより、吸引孔に吸引力が発生し、基材Ｗが水平な姿勢でステージ１０の表面に吸着保持できるようになっている。
【００１８】
また、液滴ヘッドユニット２は、基材Ｗ上に塗布材料である液滴Ｐを着弾させて塗布するものであり、塗布材料を吐出するインクジェットヘッド部２１と、このインクジェットヘッド部２１を支持するガントリ部２２とを有している。
【００１９】
このガントリ部２２は、ステージ１０のＹ軸方向両外側に配置される脚部２２ａと、これらの脚部２２ａを連結しＹ軸方向に延びるビーム部材２２ｂとを有する略門型形状に形成されている。そして、このビーム部材２２ｂにインクジェットヘッド部２１が取付けられており、ガントリ部２２は、ステージ１０をＹ軸方向に跨いだ状態でＸ軸方向に移動可能に取り付けられている。本実施形態では、基台１のＹ軸方向両端部分にはそれぞれＸ軸方向に延びるレール（不図示）が設置されており、脚部２２ａがこのレールにスライド自在に取り付けられている。そして、脚部２２ａにはリニアモータ８１（図４参照）が取り付けられており、このリニアモータ８１を駆動制御することにより、ガントリ部２２がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。
【００２０】
また、リニアモータ８１には、エンコーダ８２（リニアエンコーダ）（図４参照）が設けられており、エンコーダ８２からの周期的な駆動パルス信号により、インクジェットヘッド部２１のＸ軸方向の位置を把握することができる。すなわち、エンコーダ８２と後述の制御装置（コントローラ）とが接続されており、エンコーダ８２からの駆動パルス信号を受信した制御装置により、インクジェットヘッド部２１のＸ軸上の位置が検出されるようになっている。
【００２１】
また、ビーム部材２２ｂは、両脚部２２ａを連結する柱状部材である。このビーム部材２２ｂには、インクジェットヘッド部２１が取付けられている。具体的には、ビーム部材２２ｂのＸ軸方向一方側の側面に、インクジェットヘッド部２１が取り付けられており、このインクジェットヘッド部２１に設けられたノズル３１ａがステージ１０の表面に向く姿勢で取付けられている。したがって、ガントリ部２２がＸ軸方向に移動又は停止するにしたがって、インクジェットヘッド部２１もそれに付随してＸ軸方向に移動又は停止を行うことができ、ガントリ部２２の移動量を調節することにより、ステージ１０の表面に載置された基材Ｗ上にインクジェットヘッド部２１を位置させて基材Ｗ上に塗布材料である液滴Ｐを吐出できるようになっている。
【００２２】
また、インクジェットヘッド部２１は、複数のノズル３１ａを一体化させたものである。本実施形態では、インクジェットヘッド部２１は、複数のノズル３１ａを有しており、それぞれのノズル３１ａから液滴Ｐを吐出できるようになっている。
【００２３】
インクジェットヘッド部２１は、図３に示すように、ノズル３１ａを有する複数のヘッドモジュール３１を備えている。本実施形態では、複数のヘッドモジュール３１がＹ軸方向（副走査方向）に沿って配列されており、塗布方向に対して直交する方向に配置されている。また、ヘッドモジュール３１は、複数のノズル３１ａを有しており、ノズル３１ａが一方向に所定の配列ピッチで整列した状態で設けられている。本実施形態では、ノズル３１ａの副走査方向における配列方向寸法が、基材Ｗの副走査方向寸法よりも大きい寸法になるように構成されている。これにより、図２に示すように、ガントリ部２２がＸ軸方向に移動することにより、１回の走査で基材Ｗ上の膜形成領域すべてを液滴Ｐの着弾エリアにすることができる。
【００２４】
また、このノズル３１ａは、汎用性のあるノズルが使用されており、ヘッドモジュール３１に駆動電圧が印加されると、各ノズル３１ａに共通の駆動電圧が印加され、各ノズル３１ａから所定の液量の液滴Ｐが吐出されるようになっている。
【００２５】
また、ヘッドモジュール３１は、それぞれが互いに重複する部分を有するようにずらして配置されている。図３の例では、隣接するヘッドモジュール３１がＸ軸方向に交互にずらして配置されている。すなわち、これらのヘッドモジュール３１は、ノズル３１ａの配置間隔とヘッドモジュール３１の両端部分とでは寸法が異なっているため、この両端部分の寸法分を相殺できるようにＸ軸方向にずらしつつＹ軸方向に配列される。すなわち、インクジェットヘッド部２１は、Ｘ軸方向に見て通常ノズル３１ａがＹ軸方向に等間隔で配置されており、インクジェトヘッド部２１全体としてＸ軸方向に見て、すべての通常ノズル３１ａがＹ軸方向に沿って一定の配列ピッチで配列され、Ｘ軸方向から見てＹ軸方向に亘って等間隔で配置されている。
【００２６】
次に、上記インクジェット塗布装置の制御系の構成について図４に示すブロック図を用いて説明する。
【００２７】
図４は、この実装装置に設けられた制御装置９０の制御系を示すブロック図である。図４に示すように、この塗布装置は、上述した各種ユニットの駆動を制御する制御装置９０が設けられている。この制御装置９０は、主制御部９１、記憶部９１ａ、駆動制御部９２、位置検出部９３、吐出制御部９４、入出力装置制御部９５とを有している。
【００２８】
主制御部９１は、予め記憶されたプログラムに従って一連の塗布動作を実行すべく、駆動制御部９２を介して各ユニットのリニアモータ８１等の駆動装置を駆動制御するとともに、塗布動作に必要な各種演算を行うものである。具体的には、吐出位置の演算、ヘッドモジュール３１に液滴Ｐを吐出させるための駆動電圧の作成及び修正を行うことができる。本実施形態では、エンコーダからの周期的な駆動パルス信号に応じた吐出タイミングから、形成する膜パターンの膜厚に対する膜パターンの形成に必要な液滴量を加味して、実際に着弾させる吐出周期が演算される。すなわち、周期を密にした全吐出タイミングから、膜パターンの形成に必要な液滴量となる吐出タイミングの周期（吐出周期）を演算し、吐出周期に合わない吐出タイミングでは、駆動パルス信号を受けた場合にノズルからの吐出量をゼロに設定する。すなわち、駆動パルス信号に応じた吐出タイミングを間引いて間欠的に一定周期で吐出するように設定する（間欠周期塗布）。これにより、全駆動パルス信号に応じて吐出した場合に比べて、膜形成領域Ｒ（図６参照）に吐出される液滴Ｐが位置的に偏ることなく、膜形成領域Ｒに吐出される液滴量を抑えることができる。
【００２９】
また、基材Ｗ状に液滴Ｐを着弾させるべき着弾位置Ｌに対して、着弾位置Ｌに対する吐出すべきノズル３１ａの選択を行って液滴Ｐが吐出されるように制御する。本実施形態では、膜形成領域Ｒの塗布開始端部Ｒ１の位置情報に基づいて液滴Ｐを吐出することができる。すなわち、膜形成領域Ｒの塗布開始端部Ｒ１の位置が設定されると、この塗布開始端部Ｒ１位置を基準にノズル３１ａが配置され、その位置で液滴Ｐが吐出される。なお、この塗布開始端部Ｒ１の着弾位置Ｌは、吐出周期の開始点として設定され、記憶部９１ａにて記憶される。
【００３０】
また、膜形成領域Ｒの塗布終了端部Ｒ２の着弾位置Ｌに対しても液滴Ｐが吐出されるように制御する。具体的には、全駆動パルス信号に応じた吐出位置から塗布終了端部Ｒ２における膜パターンの縁端部を形成するのに適切な着弾位置Ｌが演算により求められ選択される。この塗布終了端部Ｒ２における着弾位置Ｌは、先に説明した吐出周期とは別に求められてもよく、別に求められた場合には、設定された吐出周期から独立して、その塗布終了端部Ｒ２を形成する着弾位置Ｌに吐出されるように設定される。
【００３１】
また、主制御部は、記憶部９１ａを有しており、後述の入出力装置制御部９５で入力されたデータや、主制御部で演算された演算結果、例えば、演算されたマッピングデータが一時的に記憶される。すなわち、塗布開始端部Ｒ１及び、塗布終了端部Ｒ２の着弾位置Ｌと、塗布開始位置を基準に吐出周期に応じた着弾位置Ｌとで構成されたマッピングデータが記憶される。
【００３２】
駆動制御部９２は、制御本体部９１からの制御信号に基づいて、リニアモータ８１等を駆動制御するものである。具体的には、リニアモータ８１を制御することにより、ガントリ部２２のＸ軸方向への移動等が駆動制御される。
【００３３】
位置検出部９３は、エンコーダ８２からの駆動パルス信号に基づいて、ガントリ部２２の位置、インクジェットヘッド部２１の位置を検出する。そして、インクジェットヘッド部２１の位置を検出することにより、各ノズル３１ａ毎の位置が演算されて把握されるようになっている。また、エンコーダ８２からの駆動パルス信号は、直接、主制御部９１にも送信されるようになっており、主制御部９１が駆動パルス信号を受けたタイミングでノズル３１ａから液滴Ｐが吐出されるように制御されるようになっている。
【００３４】
吐出制御部９４は、各ノズル３１ａから液滴Ｐが吐出されるタイミングを制御するものである。すなわち、上述のマッピングデータに基づいて、それぞれのノズル３１ａが所定の位置で駆動パルス信号を受けると、駆動電圧を制御して当該ノズル３１ａから液滴Ｐを吐出させる。これにより、所定の位置に液滴Ｐを着弾させることができる。
【００３５】
入出力装置制御部９５は、キーボード８３、タッチパネル８４等の各入出力装置を制御するものである。具体的には、基材Ｗの種類、各ノズル３１ａから吐出される液滴Ｐの初期吐出量が記憶されており、キーボード８３、タッチパネル８４から入出力装置制御部９５を通じて変更できるようになっている。
【００３６】
次に、本実施形態のインクジェット塗布装置の塗布動作について図５のフローチャートに基づいて説明する。なお、本実施形態では、基材Ｗ上に矩形状の平面膜（いわゆるベタ膜）の膜パターンを形成する場合について説明する。すなわち、吐出された液滴Ｐが基材Ｗ上に連結することにより、一様な矩形状の膜パターンが形成される。
【００３７】
まず、ステップＳ１により基材搬入工程が行われ、基材Ｗがステージ１０上に供給されると、基材Ｗが所定位置に位置決めされてステージ１０上に吸着固定される（図６（ａ））。そして、予め入力された基材Ｗデータに基づいて、制御装置の主制御部９１において当該基材Ｗのマッピングデータが演算され記憶部９１ａで記憶される。すなわち、基材Ｗ上に形成された膜形成領域Ｒに一様な膜パターンが形成できるように着弾位置Ｌと、吐出周期、着弾位置Ｌに対するノズル３１ａの選定等が設定される。
【００３８】
次に、ステップＳ２により塗布開始工程が行われる。すなわち、膜形成領域Ｌの塗布開始端部Ｒ１にインクジェットヘッド部２１を移動させ、その位置で液滴Ｐを吐出させる（図６（ｂ））。具体的には、マッピングデータに基づいて塗布開始端部Ｒ１の位置情報から、ガントリ部２２をＸ軸方向に移動させつつ、同時にインクジェットヘッド部２１をＹ軸方向に移動させて、ノズル３１ａから液滴Ｐを吐出させる。この塗布開始端部Ｒ１では、インクジェットヘッド部２１のノズル３１ａのうち、Ｙ軸方向に配列された全ノズルから液滴Ｐが吐出される。これにより、塗布開始端部Ｒ１では、吐出された液滴Ｐが基材Ｗ上で連結し、塗布開始端部Ｒ１における膜パターンの縁端部が形成される。
【００３９】
次に、ステップＳ３により本塗布工程が行われる。この本塗布工程では、エンコーダからの駆動パルス信号に応じて液滴Ｐが吐出されることにより膜パターンが形成され、間欠周期塗布工程（ステップＳ３１）と塗布終了工程（ステップＳ３２）とが行われる。
【００４０】
まず、ステップＳ３１により間欠周期塗布工程が行われる。具体的には、塗布開始端部Ｒ１を基準にして、演算された吐出周期に基づいて液滴Ｐが吐出される（図７（ａ））。すなわち、エンコーダからの周期的な駆動パルス信号がトリガーとなり液滴Ｐが吐出されるが、吐出周期に合わないタイミングで駆動パルス信号が入った場合には、ノズル３１ａから吐出される吐出量はゼロと設定されており液滴Ｐは吐出されない（例えば、図７（ａ）におけるＬ１）。すなわち、吐出周期のタイミングで駆動パルス信号が入った場合にのみ、ノズル３１ａから液滴Ｐが吐出されることにより、塗布開始端部Ｒ１から一定の周期（吐出周期）で液滴Ｐが吐出される。これにより、エンコーダからの駆動パルス信号が密である状態を変えることなく、吐出周期を長く設定することにより膜厚を薄くすることができ、吐出周期を短く設定することにより膜厚を厚くすることができる。したがって、吐出周期を適当に調節することにより、膜形成領域Ｒには、膜厚が精度よく制御された膜パターンを形成することができる。
【００４１】
次に、ステップＳ３２により塗布終了工程が行われる。すなわち、塗布開始工程、間欠周期塗布工程からエンコーダからの駆動パルス信号が取り込まれることにより、インクジェットヘッド部２１の位置情報が常に把握されている。そして、インクジェットヘッド部２１が塗布終了端部Ｒ２に達すると、間欠周期塗布工程が終了すると同時に、塗布終了端部Ｒ２に位置する着弾位置Ｌに液滴Ｐが吐出される（図７（ｂ））。すなわち、間欠周期塗布工程では、設定された吐出周期と一致する駆動パルス信号に基づいて液滴Ｐが吐出されていたが、塗布終了工程では、その吐出周期に関わらず、マッピングデータにおける塗布終了端部Ｒ２の位置情報に基づいて液滴Ｐが吐出される。これにより、塗布終了端部Ｒ２には、吐出された液滴Ｐが基材Ｗ上で連結し、塗布終了端部Ｒ２における膜パターンの縁端部が形成される。なお、この場合であっても駆動パルス信号がトリガーとなって吐出される。
【００４２】
次に、ステップＳ４により機材搬出工程が行われる。すなわち、基材Ｗ上の全ての膜形成領域Ｒに膜パターンが形成されると、基材Ｗがステージ１０から搬出される。
【００４３】
このようにして、上記膜パターン形成方法によれば、膜厚の厚薄にかかわらず、膜パターンの縁端部を精度よく形成することができる。すなわち、本塗布工程では、駆動パルス信号毎に液滴Ｐの吐出の要否が設定されるため、所定の駆動パルス信号を受けた場合に実際にノズルから吐出される液滴量をゼロに設定することで、駆動パルス信号があっても液滴Ｐを吐出をさせず、一定周期で間欠的に液滴Ｐの吐出を行うように設定する（間欠周期塗布工程）。これにより、駆動パルス信号を密にした場合であっても粗く設定した場合と同様に、実際に吐出される液滴Ｐを周期的に調節して、膜パターンの膜厚に応じて液滴量を調節することができる。そして、塗布終了端部Ｒ２では、その位置情報に基づいて、間欠周期塗布工程の吐出周期にかかわらず液滴Ｐを吐出させる（塗布終了工程）。すなわち、周期的な駆動パルス信号を密に設定することにより、塗布終了端部Ｒ２に着弾する液滴Ｐ候補は多数存在するため、その液滴Ｐから適切な液滴Ｐを選択し、本塗布工程で設定される間欠周期塗布工程の吐出周期とは独立させて駆動パルス信号に基づいて液滴Ｐを吐出させる。これにより、膜パターンの膜厚が薄い場合であっても、塗布終了端部Ｒ２に対応する膜パターンの縁端部を精度よく形成することができる。
【符号の説明】
【００４４】
２  液滴ヘッドユニット
１０  ステージ
２１  インクジェットヘッド部
３１ａ  ノズル
Ｌ  着弾位置
Ｐ  液滴
Ｒ  膜形成領域
Ｒ１  塗布開始端部
Ｒ２  塗布終了端部
Ｗ  基材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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