(57)【要約】      （修正有）【課題】ガラス容器の汚染や容器の表面傷を回避する、ガラス壁を含む中空体の提供。【解決手段】ガラスの壁１０１を含む中空体１００であって、前記ガラスの壁は、前記中空体の内部容積１０２を少なくとも部分的に取り囲み；前記ガラスの壁は、表面領域１０４を含む壁面１０３を有し；少なくとも前記表面領域では、前記壁面は、ａ）０．３〜１０．０ａｔ％の範囲のＮ含有量、およびｂ）少なくとも５ａｔ％のＳｉ含有量を有し、前述の含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められるものである、中空体に関する。さらに、本発明は、物品の製造方法およびそれによって得られる中空体；密閉容器；医薬組成物の包装方法；この方法によって得られる密閉中空体；医薬組成物を包装するための中空体の使用；およびＮを含む組成物の使用に関する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスの壁（１０１）を含む中空体（１００）であって、
前記ガラスの壁（１０１）は、前記中空体（１００）の内部容積（１０２）を少なくとも部分的に取り囲み、
前記ガラスの壁（１０１）は、表面領域（１０４）を含む壁面（１０３）を有し、
少なくとも前記表面領域（１０４）では、前記壁面（１０３）は、
ａ）０．３〜１０．０ａｔ％の範囲のＮ含有量、および
ｂ）少なくとも５ａｔ％のＳｉ含有量
を有し、
前述の含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められるものである、中空体（１００）。
【請求項２】
前記表面領域（１０４）において、前記壁面（１０３）は、３５〜７０ａｔ％の範囲のＯ含有量をさらに有し、
前記Ｏ含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められるものである、請求項１記載の中空体（１００）。
【請求項３】
前記表面領域（１０４）において、前記壁面（１０３）は、２０ａｔ％未満のＣ含有量をさらに有し、
前記炭素原子含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められるものである、請求項１または２記載の中空体（１００）。
【請求項４】
前記表面領域（１０４）のＸ線光電子分光法は、３９７．５〜４０５．０ｅＶの範囲の結合エネルギーでＮ１ｓピークを示す、請求項１から３までのいずれか１項記載の中空体（１００）。
【請求項５】
物品を製造する方法（３００）であって、工程段階として
ａ）ガラスの壁（１０１）を含む中空体を準備する工程段階であって、
前記ガラスの壁（１０１）が、
ｉ）前記中空体の内部容積（１０２）を少なくとも部分的に囲み、
ｉｉ）表面領域（１０４）を含む壁面（１０３）を有し、
ｉｉｉ）前記表面領域（１０４）を有する壁領域（１０５）を含むものであり；および
ｂ）少なくとも前記壁領域（１０５）にＮを導入し、それにより、少なくとも前記表面領域（１０４）において、０．３〜１０．０ａｔ％の範囲にある前記壁面（１０３）のＮ含有量を得る工程段階であって、
前記Ｎ含有量が、Ｘ線光電子分光法によって求められるものであること
を含む、方法（３００）。
【請求項６】
前記ガラスの壁（１０１）のガラスが、ガラス軟化温度を有し、
工程段階ｂ）（３０２）では、前記ガラスの壁（１０１）が、前記ガラス軟化温度（Ｋ）の８０％未満の温度（Ｋ）を有する、請求項５記載の方法（３００）。
【請求項７】
前記工程段階ｂ）において、少なくとも前記壁領域（１０５）に導入されるＮを含むプラズマが得られる、請求項５または６記載の方法（３００）。
【請求項８】
前記工程段階ｂ）において、前記壁面（１０３）が、少なくとも前記表面領域（１０４）にわたってプラズマと接触している、請求項７記載の方法（３００）。
【請求項９】
前記工程段階ｂ）（３０２）において、Ｎが、イオン注入によって少なくとも前記壁領域（１０５）に導入される、請求項５から７までのいずれか１項記載の方法（３００）。
【請求項１０】
請求項５から９までのいずれか１項記載の方法（３００）によって得られる、中空体（１００）。
【請求項１１】
医薬組成物（２０１）を含む内部容積（１０２）を少なくとも部分的に囲むガラスの壁（１０１）を含む密閉容器（２００）であって、前記ガラスの壁（１０１）は、表面領域（１０４）を含む壁面（１０３）を有し、
前記表面領域（１０４）では、前記壁面（１０３）は、
ａ）０．３〜１０．０ａｔ％の範囲のＮ含有量、および
ｂ）少なくとも５ａｔ％のＳｉ含有量
を有し、
前記含有量が、Ｘ線光電子分光法によって求められるものである、密閉容器（２００）。
【請求項１２】
工程段階として
Ａ）請求項１から４までのいずれか１項または請求項１０記載の中空体（１００）を準備する工程段階、
Ｂ）医薬組成物（２０１）を前記内部容積（１０２）に挿入する工程段階、および
Ｃ）中空体（１００）を密閉する工程段階
を含む、方法（４００）。
【請求項１３】
請求項１２記載の方法（４００）により得られる、密閉中空体（２００）。
【請求項１４】
医薬組成物（２０１）を包装するための、請求項１から４までのいずれか１項、または請求項１０記載の中空体（１００）の使用。
【請求項１５】
少なくとも容器のガラスの壁（１０１）の壁領域（１０５）にＮを導入し、それにより、少なくとも壁面（１０３）の表面領域（１０４）における前記ガラスの壁（１０１）の前記壁面（１０３）のＮ含有量を、０．３〜１０．０ａｔ％の範囲になるように調整するための、Ｎを含む組成物の使用であって、
前記Ｎ含有量が、Ｘ線光電子分光法によって求められるものであり、
前記ガラスの壁（１０１）が、中空体（１００）の内部容積（１０２）を少なくとも部分的に囲んでいる、使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、中空体の内部容積を少なくとも部分的に取り囲むガラスの壁を含む中空体であって、ガラスの壁が、表面領域を含む壁面を有し、少なくとも表面領域では、壁面は、
ａ）０．３〜１０．０ａｔ％の範囲のＮ含有量、および
ｂ）少なくとも５ａｔ％のＳｉ含有量
を有し、前述の含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められるものである中空体に関する。さらに、本発明は、物品の製造方法およびそれによって得られる中空体、密閉容器、医薬組成物の包装方法、この方法によって得られる密閉中空体、医薬組成物を包装するための中空体の使用、およびＮを含む組成物の使用に関する。
【０００２】
ガラス製の容器は、数世紀前から液体や粉末を安全に輸送するために使用されてきた。ここ数十年では、ガラス容器を使用して液体や粉末を輸送する技術は、ますます多様化され、洗練されてきた。このような技術の１つは、本出願の技術分野、つまり医薬品の包装である。製薬産業では、バイアル、シリンジ、アンプルおよびカートリッジなどのガラス容器が、あらゆる種類の薬学的に関連する組成物、特にワクチンなどの医薬品の主要な包装として適用される。特にこの分野では近年、ガラス容器に課せられる要求が、ますます精緻なものになってきている。
【０００３】
医薬品包装用のガラス容器は、通常、本願で充填ラインと呼んでいる一連の処理では、工業規模で洗浄、滅菌、充填、かつ密閉される。当該技術分野では、このような充填ラインの生産効率を上げる必要がある。これは、充填ラインの速度の上昇および／または処理の中断によるシャットダウン時間の短縮により実現することができる。従来技術では、このような中断は、通常、特に充填ラインでの高い輸送速度のために、処理中のガラス容器の破損が発生することによって引き起こされる。このような破損が発生した場合、生産を停止し、ラインから粒子やほこりを完全に除去し、次いでシステムを再起動する前に再調整しなければならない。あらゆる種類の医薬品関連粒子、特にガラス粒子、または薬学的に関連する物質によるガラス容器の汚染は、特に非経口物（parenteralia）が包装される場合、厳密に回避されなければならない。
【０００４】
さらに、容器のガラス表面に傷を付けることは、できるだけ回避されなければならない。容器の表面に傷があると、特に薬学的に関連する粒子の存在について、充填された容器の光学検査が妨げられることがある。さらに、傷が付いていると、容器からガラス粒子またはほこりが出ることになり得る。これらの粒子やほこりは、充填ライン上の容器を汚染することがある。
【０００５】
一般に、容器の表面にコーティングを施すことにより上記の問題を解決しようとする試みは、従来技術において知られている。このようなコーティングの要件は、かなり高度である。コーティングは、当該技術分野で発熱物質除去と呼ばれる滅菌処理で生じる高温に耐えなければならない。さらに、コーティングは、凍結乾燥などの低温処理に耐えなければならない。さらには、コーティングは、温度上昇や機械的影響を含む洗浄工程に耐えなければならない。このことは、コーティングが容器の外面にもたらす有利な特性が維持されなければならず、さらに、コーティングからの薬学的に関連する粒子または物質による容器内部の汚染が回避されなければならないことを意味する。これらの高度な要件は、従来技術による、かなり複雑な多層コーティングの開発につながった。このような多層コーティングは、通常、塗布が複雑で、かつ費用がかかるため、高い処理速度の必要性に反して実行される。
【０００６】
概して、本発明の課題は、従来技術から生じる欠点を少なくとも部分的に克服することである。
【０００７】
本発明のさらなる課題は、充填ラインの生産速度を増大することができる医薬品包装用のガラス容器を提供することである。さらに、本発明の課題は、充填ラインの処理速度の増加、または充填ラインの中断の減少、またはその双方を可能にする医薬品包装用のガラス容器を提供することである。本発明のさらに別の課題は、充填ラインでの処理中の損傷傾向またはさらに破損傾向が低減された医薬品包装用のガラス容器を提供することである。本発明の別の課題によれば、充填された後の簡単でかつ信頼できる光学検査にさらに適した、上記の有利な容器の１つが提供される。本発明のさらに別の課題によれば、薬学的に適切な方法で汚染傾向の増加を示さず、好ましくは、汚染傾向の低減を示す、上記の有利な容器の１つが提供される。前述の汚染は、特に、容器内部の汚染有機組成物の存在を指す。この文脈では、容器は、好ましくは、多層コーティングを含まず、より好ましくは、潜在的な汚染源となり得るコーティングを全く含まない。本発明のさらに別の課題は、容易にラベル付けすることができる、医薬品包装用の上記の有利なガラス容器の１つを提供することである。本発明のさらに別の課題によれば、後処理、例えば、高温処理として実施され得る滅菌処理、特に、発熱物質除去；または洗浄工程；または低温処理、特に、凍結乾燥にさらに適した、上記の有利な容器の１つが提供される。本発明の別の課題は、あまり複雑ではない、医薬品包装用の上記の有利なガラス容器の１つを製造するための方法を提供することである。
【０００８】
独立請求項は、上記の課題の少なくとも１つ、好ましくは２つ以上を、少なくとも部分的に解決することに貢献する。従属請求項は、課題の少なくとも１つを、少なくとも部分的に解決することに貢献する好ましい実施形態を提供する。
【０００９】
中空体の内部容積を少なくとも部分的に囲むガラスの壁を含む中空体１の実施形態１は、本発明による課題の少なくとも１つを解決することに貢献し；その際、ガラスの壁は、表面領域を含む壁面を有し；少なくとも表面領域では、壁面は、
ａ）０．３〜１０．０ａｔ％、好ましくは、０．３５〜１０ａｔ％、より好ましくは０．４〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．４５〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．５〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．５５〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．６〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．７〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．８〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．９〜１０．０ａｔ％、より好ましくは１．０〜１０．０ａｔ％、より好ましくは１．０〜９．０ａｔ％、より好ましくは１．０〜８．０ａｔ％、さらに１．０〜７．０ａｔ％、さらに１．０〜６．０ａｔ％、さらに１．０〜５．０ａｔ％、さらに１．０〜４．０ａｔ％、さらにより１．０〜３．０ａｔ％、最も好ましくは１．０〜２．０ａｔ％のＮ含有量、および
ｂ）少なくとも５ａｔ％、好ましくは少なくとも１０ａｔ％、より好ましくは少なくとも１１ａｔ％、より好ましくは少なくとも１２ａｔ％、さらにより好ましくは少なくとも１３ａｔ％、最も好ましくは少なくとも１４ａｔ％のＳｉ含有量を有し、
ここで、前述の含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められるものである。好ましい実施形態では、壁面は、それぞれの場合、表面領域において、０．３〜９．０ａｔ％、好ましくは０．３〜８．０ａｔ％、さらに０．３〜７．０ａｔ％、さらに０．３〜６．０ａｔ％、さらに０．３〜５．０ａｔ％の範囲、０．３５〜５．０ａｔ％、より好ましくは０．４〜５．０ａｔ％、より好ましくは０．４５〜５．０ａｔ％、より好ましくは０．５〜５．０ａｔ％、より好ましくは０．５５〜５．０ａｔ％、より好ましくは０．６〜５．０ａｔ％、より好ましくは０．７〜５．０ａｔ％、より好ましくは０．８〜５．０ａｔ％、より好ましくは０．９〜５．０ａｔ％、より好ましくは１．０〜５．０ａｔ％、さらに１．０〜４．０ａｔ％、さらにより１．０〜３．０ａｔ％、最も好ましくは１．０〜２．０ａｔ％の範囲のＮ含有量を有する。好ましい実施形態では、表面領域における壁面のＳｉ含有量は、５〜５０ａｔ％、好ましくは５〜４０ａｔ％、より好ましくは１０〜３５ａｔ％、最も好ましくは１２〜３０ａｔ％の範囲にある。
【００１０】
好ましくは、ガラスの壁は、実質的にガラスからなる。少なくとも表面領域では、ガラスの壁は、好ましくはコーティングされていない。特に好ましくは、少なくとも表面領域において、ガラスの壁は、Ｎを含む組成物でコーティングされていない。
【００１１】
本発明による中空体１の実施形態２では、中空体１は、その実施形態１に従って設計されており、その際、表面領域において、壁面は、３５〜７０ａｔ％、好ましくは４０〜７０ａｔ％、より好ましくは４０〜６５ａｔ％、より好ましくは４５〜６５ａｔ％、最も好ましくは５０〜６５ａｔ％の範囲のＯ含有量をさらに有し、ここで、Ｏ含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められる。
【００１２】
本発明による中空体１の実施形態３では、中空体１は、その実施形態１または２に従って設計されており、その際、表面領域において、壁面は、２０ａｔ％未満、好ましくは１５ａｔ％未満、より好ましくは１０ａｔ％未満のＣ含有量をさらに有し、ここで、炭素原子含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められる。
【００１３】
本発明による中空体１の実施形態４では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、表面領域において、壁面は、合計で、少なくとも１ａｔ％、好ましくは少なくとも２ａｔ％、より好ましくは少なくとも３ａｔ％、さらにより好ましくは少なくとも４ａｔ％、最も好ましくは少なくとも５ａｔ％のアルカリ金属原子およびアルカリ金属イオンの含有量をさらに有し、ここで、アルカリ金属原子およびアルカリ金属イオンの含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められる。
【００１４】
本発明による中空体１の実施形態５では、中空体１は、前述の実施形態のいずれかに従って設計され、その際、ガラスの壁は、表面領域を有する壁領域を含み、壁領域において、ガラスの壁は、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴｏＦ−ＳＩＭＳ）で検出可能な化学結合されたＮの含有量を有する。
【００１５】
本発明による中空体１の実施形態６では、中空体１は、その実施形態５に従って設計されており、その際、化学結合されたＮの含有量は、ＳｉＮの形で飛行時間型二次イオン質量分析法により検出可能である。
【００１６】
本発明による中空体１の実施形態７では、中空体１は、その実施形態５または６に従って設計されており、その際、ガラスの壁は、壁厚を有し、壁領域では、ガラスの壁は、壁厚に沿って壁面からガラスの壁まで広がる機能化深さの全体にわたり化学結合されたＮの含有量を有する。好ましくは、機能化深さは、壁領域の壁厚よりも小さい。
【００１７】
本発明による中空体１の実施形態８では、中空体１は、その実施形態７に従って設計されており、その際、機能化深さは、５ｎｍ〜１０μｍ、好ましくは５ｎｍ〜５μｍ、より好ましくは５ｎｍ〜３μｍ、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは５〜５００ｎｍ、より好ましくは５〜３００ｎｍ、より好ましくは５〜１５０ｎｍ、さらにより好ましくは５〜１００ｎｍ、さらにより好ましくは５〜５０ｎｍ、最も好ましくは５〜２０ｎｍの範囲にある。
【００１８】
本発明による中空体１の実施形態９では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、表面領域のＸ線光電子分光法は、１０３．５ｅＶ未満、好ましくは１０３．４ｅＶ未満、より好ましくは１０３．３ｅＶ未満、さらにより好ましくは１０３．２ｅＶ未満、最も好ましくは１０３．１ｅＶ未満の結合エネルギーでＳｉ２ｐピークを示す。
【００１９】
本発明による中空体１の実施形態１０では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、表面領域のＸ線光電子分光法は、１０２．５〜１０３．４ｅＶ、好ましくは１０２．５〜１０３．３ｅＶ、より好ましくは１０２．５〜１０３．２ｅＶ、最も好ましくは１０２．５〜１０３．１ｅＶの範囲の結合エネルギーでＳｉ２ｐピークを示す。
【００２０】
本発明による中空体１の実施形態１１では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、表面領域のＸ線光電子分光法は、３９７．５〜４０５．０ｅＶ、好ましくは３９７．５〜４０４．５ｅＶ、より好ましくは３９８．０〜４０４．５ｅＶ、より好ましくは３９９．０〜４０４．５ｅＶ、より好ましくは４００．０〜４０４．５ｅＶ、より好ましくは４０１．０〜４０４．５ｅＶ、より好ましくは４０１．５〜４０４．５ｅＶ、より好ましくは４０２．０〜４０４．０ｅＶ、より好ましくは４０２．５〜４０４．０ｅＶ、最も好ましくは４０３．０〜４０４．０ｅＶの範囲の結合エネルギーでＮ１ｓピークを示す。
【００２１】
本発明による中空体１の実施形態１２では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、壁面は、
ａ）内部容積に面する内面、および
ｂ）内部容積とは反対側を向く外面
を含み、
ここで、内面、または外面、またはその双方は、表面領域を含む。好ましい実施形態では、外面は、表面領域を含む。さらに好ましい実施形態では、外面および内面は、一緒になって表面領域を含む。さらに好ましい実施形態では、表面領域は、外面である。さらにより好ましい実施形態では、表面領域は、外面の少なくとも一部、好ましくは外面全体、または内面の少なくとも一部、好ましくは内面全体、またはその双方を含む。さらにより好ましい実施形態では、表面領域は、壁面全体を形成する。好ましくは、表面積は、外面の、少なくとも１０％、好ましくは少なくとも２０％、より好ましくは少なくとも３０％、より好ましくは少なくとも４０％、より好ましくは少なくとも５０％、より好ましくは少なくとも６０％、より好ましくは少なくとも外面の７０％、より好ましくは少なくとも８０％、さらにより好ましくは少なくとも９０％を各場合に成形し、最も好ましくは外面全体を形成する。好ましくは、壁面は、内面および外面からなる。
【００２２】
本発明による中空体１の実施形態１３では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、ガラスの壁のガラスは、合計で、各場合にガラスの重量を基準として、少なくとも１重量％、好ましくは少なくとも２重量％、より好ましくは少なくとも３重量％、さらにより好ましくは少なくとも４重量％、最も好ましくは少なくとも５重量％のアルカリ金属原子およびアルカリ金属イオンの含有量を有する。通常、アルカリ金属原子およびアルカリ金属イオンの含有量は、合計で、各場合にガラスの重量を基準として、２０重量％以下、好ましくは１５重量％以下である。
【００２３】
本発明による中空体１の実施形態１４では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、ガラスの壁のガラスは、ホウケイ酸ガラスまたはアルミノケイ酸ガラスまたはその双方である。
【００２４】
本発明による中空体１の実施形態１５では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、少なくとも表面領域において、壁面は、０．４未満、好ましくは０．３未満、より好ましくは０．２未満の乾燥滑り摩擦係数を有する。
【００２５】
本発明による中空体１の実施形態１６では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、中空体は、表面領域を介して中空体を、４００ｎｍ〜２３００ｎｍ、好ましくは４００〜５００ｎｍ、より好ましくは４３０〜４９０ｎｍの範囲の波長の光が透過するための、０．７を上回る、好ましくは０．７５を上回る、より好ましくは０．８を上回る、より好ましくは０．８１を上回る、より好ましくは０．８２を上回る、より好ましくは０．８３を上回る、より好ましくは０．８４を上回る、最も好ましくは０．８５を上回る透過係数を有する。好ましくは、前述の透過係数は、４００ｎｍ〜２３００ｎｍ、好ましくは４００〜５００ｎｍ、より好ましくは４３０〜４９０ｎｍの範囲の各波長の光について保持される。
【００２６】
本発明による中空体１の実施形態１７では、中空体１は、前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、中空体は、５〜５０％、好ましくは１０〜４０％、より好ましくは１０〜３５％、より好ましくは１５〜２５％、好ましくは１５〜２２％の範囲の表面領域を介して中空体を通る光の透過に対するヘイズを有する。好ましくは、前述のヘイズは、約２ｍｌの内部容積を有する中空体、および中空円筒の形状をしている中空体の一部を通る光の透過を指す。
【００２７】
本発明による中空体１の実施形態１８では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、壁面は、内部容積とは反対側を向く外面を含み；表面領域は、各場合に外面の表面積の５〜１００％、好ましくは１０〜１００％、より好ましくは２０〜１００％、より好ましくは３０〜１００％、より好ましくは４０〜１００％、より好ましくは５０〜１００％、より好ましくは６０〜１００％、より好ましくは７０〜１００％、より好ましくは８０〜１００％、最も好ましくは９０〜１００％を形成する。
【００２８】
本発明による中空体１の実施形態１９では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、ガラスの壁のガラスは、ホウケイ酸ガラス、好ましくはタイプＩのガラス；アルミノケイ酸ガラス；および溶融シリカ；またはそれらの少なくとも２つの組み合わせからなる群から選択されるタイプのものである。
【００２９】
本発明による中空体１の実施形態２０では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、内部容積は、０．５〜１００ｍｌ、好ましくは１〜１００ｍｌ、より好ましくは１〜５０ｍｌ、さらにより好ましくは１〜１０ｍｌ、最も好ましくは２〜１０ｍｌの範囲にある。
【００３０】
本発明による中空体１の実施形態２１では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、中空体は、容器である。
【００３１】
本発明による中空体１の実施形態２２では、中空体１は、その実施形態２１に従って設計されており、その際、容器は、医療用または医薬品用の包装製品またはその双方のための包装容器である。好ましくは、容器は、医療用または医薬品用の包装製品またはその双方のための主要な包装容器である。好ましい医薬品用の包装製品は、医薬組成物である。好ましくは、容器は、欧州薬局方の第３．２．１章、第７版、２０１１年によれば、非経口物の包装に適している。
【００３２】
本発明による中空体１の実施形態２３では、中空体１は、その実施形態２１または２２に従って設計されており、その際、容器は、バイアル、シリンジ、カートリッジ、およびアンプル；またはそれらの少なくとも２つの組み合わせからなる群から選択されるものである。
【００３３】
本発明による中空体１の実施形態２４では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、ガラスの壁は、中空体の上部から下部まで、
ａ）上部領域；
ｂ）ショルダーを介して上部領域に続くボディ領域；および
ｃ）ヒールを介してボディ領域に続く下部領域
を含む。
【００３４】
好ましくは、ボディ領域は、中空体の側面領域である。特に好ましくは、壁のボディ領域は、中空円筒を形成する。好ましくは、ボディ領域、ショルダー、下部領域、およびヒールからなる群から選択されるもの、またはそれらの少なくとも２つの組み合わせは、表面領域を含む。特に好ましくは、ボディ領域、またはショルダー、またはその双方が、表面領域を含む。表面領域が、前述の壁の領域の２つ以上で構成されている場合、表面領域は、２つ以上の別個の部分領域からなる非コヒーレント領域であり得る。しかしながら、好ましくは、表面領域は、コヒーレント領域である。上部領域は、好ましくは、中空体の上部から下部までフランジおよびネックを含み、より好ましくはそれらからなる。
【００３５】
本発明による中空体１の実施形態２５では、中空体１は、その実施形態２４に従って設計されており、その際、ボディ領域では、壁面は、表面領域の少なくとも一部を含む。好ましくは、表面領域は、少なくともボディ領域で壁面を形成する。
【００３６】
本発明による中空体１の実施形態２６では、中空体１は、その実施形態２４または２５に従って設計されており、その際、ボディ領域全体にわたって、ガラスの壁の壁厚は、各場合にボディ領域の壁厚の平均値を基準として±０．３ｍｍ、好ましくは±０．２ｍｍ、より好ましくは±０．１ｍｍ、最も好ましくは±０．０８ｍｍの範囲にある。
【００３７】
本発明による中空体１の実施形態２７では、中空体１は、その実施形態２４〜２６のいずれかに従って設計されており、その際、ボディ領域全体にわたって、ガラスの壁の壁厚は、０．２〜５ｍｍ、好ましくは０．４〜３ｍｍ、より好ましくは０．５〜２ｍｍ、最も好ましくは０．６〜１．５ｍｍの範囲にある。好ましい実施形態では、ボディ領域全体にわたって、ガラス層の厚さは、０．９〜１．１ｍｍの範囲にある。さらに好ましい実施形態では、ボディ領域全体にわたって、ガラス層の厚さは、１．５〜１．７ｍｍの範囲にある。
【００３８】
本発明による中空体１の実施形態２８では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、内部容積に向かって、ガラスの壁は、アルカリ金属バリア層または疎水性層またはその双方によって少なくとも部分的に重ねられている。
【００３９】
本発明による中空体１の実施形態２９では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、表面領域において、壁面は、少なくとも０．５ａｔ％、好ましくは少なくとも１．０ａｔ％、より好ましくは少なくとも１．５ａｔ％、最も好ましくは少なくとも１．７ａｔ％のＢ含有量をさらに有し、ここで、Ｂ含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められる。
【００４０】
本発明による中空体１の実施形態３０では、中空体１は、その前述の実施形態のいずれかに従って設計されており、その際、内部容積は、医薬組成物を含む。
【００４１】
物品を製造するための方法１の実施形態は、本発明による課題の少なくとも１つを解決することに貢献し、方法１は、工程段階として
ａ）ガラスの壁を含む中空体を準備することであって、前記ガラスの壁は
ｉ）中空体の内部容積を少なくとも部分的に囲み、
ｉｉ）表面領域を含む壁面を有し、
ｉｉｉ）表面領域を有する壁領域を含むこと；および
ｂ）少なくとも壁領域にＮを導入し、それにより、少なくとも表面領域において、０．３〜１０．０ａｔ％、好ましくは０．３５〜１０ａｔ％、より好ましくは０．４〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．４５〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．５〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．５５〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．６〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．７〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．８〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．９〜１０．０ａｔ％、より好ましくは１．０〜１０．０ａｔ％、より好ましくは１．０〜９．０ａｔ％、好ましくは１．０〜８．０ａｔ％、さらに１．０〜７．０ａｔ％、さらに１．０〜６．０ａｔ％、さらに１．０〜５．０ａｔ％、さらに１．０〜４．０ａｔ％、さらにより１．０〜３．０ａｔ％、最も好ましくは１．０〜２．０ａｔ％の範囲にある壁面のＮ含有量を得ることであって、前述のＮ含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められるものであること
を含む。
【００４２】
好ましくは、工程段階ｂ）の後、壁面は、少なくとも５ａｔ％、好ましくは少なくとも１０ａｔ％、より好ましくは少なくとも１１ａｔ％、より好ましくは少なくとも１２ａｔ％、さらにより好ましくは少なくとも１３ａｔ％、最も好ましくは少なくとも１４ａｔ％のＳｉ含有量をさらに有し、その際、各場合に、前述の含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められる。方法１の対応する好ましい実施形態では、中空体、特にそのガラスの壁、より具体的には表面領域は、本発明による中空体１の技術的特徴を有する。したがって、中空体１の文脈において好ましい特徴は、方法１、特に工程段階ｂ）の後の中空体にとっても好ましい。
【００４３】
好ましくは、ガラスの壁は、壁厚を有し、その際、工程段階ｂ）において、Ｎは、壁面から壁厚に沿ってガラスの壁に伸びる機能化深さまで壁面から少なくとも壁領域に導入される。好ましくは、機能化深さは、壁領域の壁厚よりも小さい。さらに好ましくは、機能化深さは、５ｎｍ〜１０μｍ、好ましくは５ｎｍ〜５μｍ、より好ましくは５ｎｍ〜３μｍ、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは５〜５００ｎｍ、より好ましくは５〜３００ｎｍ、より好ましくは５〜１５０ｎｍ、さらにより好ましくは５〜１００ｎｍ、さらにより好ましくは５〜５０ｎｍ、最も好ましくは５〜２０ｎｍの範囲にある。
【００４４】
本発明による方法１の実施形態２では、方法１は、その実施形態１に従って設計されており、その際、ガラスの壁のガラスは、ガラス軟化温度を有し、工程段階ｂ）では、ガラスの壁は、それぞれの場合において、ガラス軟化温度（Ｋ）の８０％未満、好ましくは７０％未満、より好ましくは６０％未満、最も好ましくは５０％未満の温度（Ｋ）を有する。
【００４５】
本発明による方法１の実施形態３では、方法１は、その実施形態１または２に従って設計されており、その際、工程段階ｂ）において、ガラスの壁は、ガラスの軟化温度よりも、少なくとも２５Ｋ、より好ましくは少なくとも１００Ｋ、最も好ましくは少なくとも１４０Ｋ低い温度を有する。
【００４６】
本発明による方法１の実施形態４では、方法１は、その実施形態１から３までのいずれかに従って設計されており、その際、工程段階ｂ）において、ガラスの壁は、４００℃未満、好ましくは３５０℃未満、より好ましくは３００℃未満、最も好ましくは２５０℃未満の温度を有する。
【００４７】
本発明による方法１の実施形態５では、方法１は、その実施形態１から４までのいずれかに従って設計されており、その際、その方法では、工程段階ｂ）において、少なくとも壁領域に導入されるＮを含むプラズマが得られる。好ましくは、プラズマは、工程段階ｂ）の前に、工程段階ｂ）で、または工程段階ｂ）と重なる段階で作り出される。
【００４８】
本発明による方法１の実施形態６では、方法１は、その実施形態５に従って設計されており、その際、プラズマは、０．１〜１，０００ミリバール、好ましくは０．１〜１００ミリバール、より好ましくは０．１〜１０ミリバールの範囲のプラズマ圧力を有する。
【００４９】
本発明による方法１の実施形態７では、方法１は、実施形態５または６に従って設計されており、その際、プラズマは、各場合にプラズマ前駆体の体積を基準として、少なくとも１０体積％、好ましくは少なくとも１５体積％、より好ましくは少なくとも２０体積％、最も好ましくは少なくとも２５体積％の割合で窒素原子を含むプラズマ前駆体から得られる。好ましい実施形態では、組成物は、各場合にプラズマ前駆体の体積を基準として、１０〜１００体積％、好ましくは２０〜１００体積％、より好ましくは３０〜１００体積％、より好ましくは４０〜１００体積％、より好ましくは５０〜１００体積％、より好ましくは６０〜１００体積％、より好ましくは７０〜１００体積％、さらにより好ましくは８０〜１００体積％、最も好ましくは９０〜１００体積％の範囲の割合で窒素原子を含む。さらに好ましい実施形態では、組成物は、各場合にプラズマ前駆体の体積を基準として、１０〜１００体積％、好ましくは１０〜９０体積％、より好ましくは１０〜８０体積％、より好ましくは１０〜７０体積％、より好ましくは１０〜６０体積％、より好ましくは１０〜５０体積％、より好ましくは１０〜４０体積％、さらにより好ましくは１０〜３５体積％、最も好ましくは１５〜３５体積％の範囲の割合で窒素原子を含む。プラズマ前駆体は、好ましくはガスである。プラズマ前駆体からプラズマを得ることは、好ましくは、プラズマ前駆体に電磁波を照射すること、またはプラズマ前駆体に電流を流すこと、またはその双方を含む。その中で、好ましい電磁波は、マイクロ波領域の周波数の電磁波、可聴周波数の電磁波、および低周波数の電磁波、またはそれらの少なくとも２つの組み合わせからなる群から選択されるものである。好ましい電磁電流は、ＤＣ電流である。好ましいＤＣ電流は、グロー放電、コロナ放電、および電気アークからなる群から選択されるものによって、またはそれらの少なくとも２つの組み合わせによって駆動される。
【００５０】
本発明による方法１の実施形態８では、方法１は、その実施形態７に従って設計されており、その際、プラズマ前駆体は、各場合にプラズマ前駆体の体積を基準として、０体積％を上回り９０体積％まで、好ましくは５〜９０体積％、より好ましくは１０〜９０体積％、より好ましくは２０〜９０体積％、より好ましくは３０〜９０体積％、より好ましくは４０〜９０体積％、より好ましくは５０〜９０体積％、より好ましくは６０〜９０体積％、さらにより好ましくは７０〜８５体積％、最も好ましくは７０〜８０体積％の割合で水素原子をさらに含む。
【００５１】
本発明による方法１の実施形態９では、方法１は、その実施形態７または８に従って設計されており、その際、プラズマ前駆体は、Ｎ含有化合物を含む。好ましいＮ含有化合物は、シラザン、アンモニア、アミン、シアン化物、およびＮ２、またはそれらの少なくとも２つの組み合わせからなる群から選択されるものである。好ましいシラザンは、ヘキサメチルジシラザン（一般式（ＨＮ［Ｓｉ（ＣＨ３）３］２のＨＭＤＳ）である。好ましいシアン化物は、シアン化水素（ＨＣＮ）である。好ましいアミンは、メチルアミン（ＣＨ５Ｎ）である。好ましくは、プラズマ前駆体は、さらにＨ２を含む。
【００５２】
本発明による方法１の実施形態１０では、方法１は、その実施形態５から９までのいずれかに従って設計されており、その際、工程段階ｂ）において、壁面は、少なくとも表面領域にわたってプラズマと接触している。
【００５３】
本発明による方法１の実施形態１１では、方法１は、その実施形態１０に従って設計されており、その際、工程段階ｂ）において、プラズマとの接触は、１分〜２４時間、好ましくは１分〜２０時間、より好ましくは１分〜１５時間、より好ましくは１分〜１０時間、より好ましくは５分〜１０時間、より好ましくは１０分〜１０時間、さらにより好ましくは０．５〜１０時間、最も好ましくは１〜１０時間の範囲の時間にわたり行われる。
【００５４】
本発明による方法１の実施形態１２では、方法１は、その実施形態７から１１までのいずれかに従って設計されており、その際、工程段階ｂ）の前、または工程段階ｂ）で、またはその双方で、中空体は、反応容積内に配置され、プラズマ前駆体は、反応容積１ｍ３当たり１０〜１０００ｓｃｃｍ、好ましくは反応容積１ｍ３当たり１０〜６００ｓｃｃｍ、より好ましくは反応容積１ｍ３当たり１０〜５００ｓｃｃｍ、より好ましくは反応容積１ｍ３当たり２０〜４００ｓｃｃｍ、最も好ましくは反応容積１ｍ３当たり３０〜３００ｓｃｃｍの範囲の流量で反応容積に流入する。
【００５５】
本発明による方法１の実施形態１３では、方法１は、その実施形態１から９までのいずれかに従って設計されており、その際、工程段階ｂ）において、Ｎは、イオン注入によって少なくとも壁領域に導入される。好ましくは、イオン注入は、プラズマからＮイオンを得ることを含み、さらに好ましくは電界を印加することによってプラズマからＮイオンを得ることを含み；さらに好ましくは、少なくとも表面領域に向かってＮイオンを加速することを含む。
【００５６】
本発明による方法１の実施形態１４では、方法１は、その実施形態１から１３までのいずれかに従って設計されており、その際、工程段階ｂ）の前に、表面領域のＸ線光電子分光法は、第１の結合エネルギーでＳｉ２ｐピークを示し、工程段階ｂ）の後に、表面領域のＸ線光電子分光法は、さらなる結合エネルギーでＳｉ２ｐピークを示し、ここで、さらなる結合エネルギーは、第１の結合エネルギーより小さく、好ましくは少なくとも０．１ｅＶ、より好ましくは０．２ｅＶ、より好ましくは少なくとも０．３ｅＶ、さらにより好ましくは少なくとも０．４ｅＶ、最も好ましくは少なくとも０．５ｅＶ小さい。
【００５７】
本発明による方法１の実施形態１５では、方法１は、その実施形態１から１４までのいずれかに従って設計されており、その際、工程段階ｂ）の前に、その方法は、前処理により少なくとも表面領域において壁面の水で濡らすために、接触角を少なくとも部分的に減少させる段階を含む。好ましくは、水で濡らすための接触角は、外面の少なくとも一部または内面の少なくとも一部またはその双方で、より好ましくは外面全体または内面全体またはその双方で減少する。この方法の別の好ましい設計では、水で濡らすための接触角は、前処理により壁面全体で減少する。さらに、壁面の少なくとも一部の水で濡らすための接触角は、好ましくは３０°未満、より好ましくは２０°未満、最も好ましくは１０°未満に減少する。
【００５８】
本発明による方法１の実施形態１６では、方法１は、実施形態１５に従って設計されており、その際、前処理は、プラズマ前処理、火炎前処理、コロナ前処理、および湿式化学前処理；またはそれらの少なくとも２つの組み合わせからなる群から選択される。好ましいプラズマ前処理は、少なくとも表面領域の壁面を、Ｏを含む前処理プラズマ前駆体、またはコロナ放電、またはその双方から得られる前処理プラズマと接触させることを含む。プラズマ前処理の場合、前処理プラズマは、工程段階ｂ）で少なくとも壁領域に導入されるＮを含むプラズマと区別されるべきである。
【００５９】
本発明による方法１の実施形態１７では、方法１は、その実施形態１から１６までのいずれかに従って設計されており、その際、工程段階ｂ）の前、または工程段階ｂ）の間、またはその双方で、少なくとも壁領域が、２５℃からガラス軟化温度（℃）の８０％未満、好ましくは３０℃からガラス軟化温度（℃）の７０％未満、より好ましくは４０℃からガラス軟化温度（℃）の６０％未満、最も好ましくは５０℃からガラス軟化温度（℃）の５０％未満の範囲の温度に加熱される。好ましくは、工程段階ｂ）の前、または工程段階ｂ）の間、またはその双方で、少なくとも壁領域は、２５℃から４００℃未満、好ましくは３０℃から３５０℃未満、最も好ましくは４０℃から３００℃未満の範囲の温度に加熱される。
【００６０】
本発明による方法１の実施形態１８では、方法１は、その実施形態１から１７までのいずれかに従って設計されており、その際、物品は、その実施形態のいずれかによる中空体１である。
【００６１】
本発明による方法１の実施形態１９では、方法１は、その実施形態１から１８までのいずれかに従って設計されており、その際、この方法は、工程段階ｂ）の前に、少なくとも表面領域で壁面を、還元雰囲気と接触させる段階を含む。本明細書では、還元雰囲気は、少なくとも表面領域で壁面との還元反応を受けることが可能な反応相手を含む雰囲気である。好ましくは、還元反応の相手は、Ｈ＋を含むか、またはＨ＋を供与することが可能である。好ましい還元雰囲気は、本明細書で前処理プラズマと呼ばれる、さらなるプラズマである。前処理プラズマは、好ましくは、壁面が、工程段階ｂ）で少なくとも表面領域で接触するプラズマとは異なる。好ましい前処理プラズマは、前処理プラズマの体積を基準として、３０〜１００体積％、好ましくは５０〜１００体積％、より好ましくは７０〜１００体積％の範囲の割合で水素イオンを含む。
【００６２】
本発明による方法１の実施形態２０では、方法１は、その実施形態１から１９までのいずれかに従って設計されており、その際、工程段階ｂ）の後、壁面は、少なくとも部分的に少なくとも２００℃、好ましくは少なくとも２５０℃、より好ましくは少なくとも３００℃、最も好ましくは少なくとも３２０℃に加熱される。前述の温度は、好ましくは、少なくとも３分間、好ましくは少なくとも５分間、より好ましくは少なくとも１０分間、さらにより好ましくは少なくとも３０分間、最も好ましくは少なくとも１時間の時間にわたり一定に保たれる。前述の時間は、数日まで、好ましくは４８時間、より好ましくは２４時間であり得る。好ましくは、内面または外面、あるいはその双方、より好ましくは壁面全体が、前述で概説したように加熱される。特に好ましくは、前述の加熱は、発熱物質除去段階の尺度である。
【００６３】
本発明による方法１の実施形態２１では、方法１は、その実施形態１から２０までのいずれかに従って設計されており、その際、工程段階ｂ）は、少なくとも表面領域で壁面の乾燥滑り摩擦係数を調整、好ましくは０．４未満に減少させることを含む。
【００６４】
本発明による方法１の実施形態２２では、方法１は、その実施形態１から２１までのいずれかに従って設計されており、その際、工程段階ａ）において、中空体は、表面領域を介して中空体を、４００ｎｍ〜２３００ｎｍ、好ましくは４００ｎｍ〜５００ｎｍ、より好ましくは４３０〜４９０ｎｍの範囲の波長の光が透過するための第１の透過係数を有し、工程段階ｂ）の後に、中空体は、表面領域を介して中空体を、４００ｎｍ〜２３００ｎｍ、好ましくは４００ｎｍ〜５００ｎｍ、より好ましくは４３０〜４９０ｎｍの範囲の波長の光が透過するためのさらなる透過係数を有し、第１の透過係数とさらなる透過係数との比は、０．９５〜１．０５、好ましくは０．９９〜１．０１、より好ましくは０．９９５〜１．００５の範囲にある。好ましくは、第１の透過係数およびさらなる透過係数は、４００ｎｍ〜２３００ｎｍ、好ましくは４００〜５００ｎｍ、より好ましくは４３０〜４９０ｎｍの範囲の各波長の光に対して保持される。
【００６５】
本発明による方法１の実施形態２３では、方法１は、その実施形態１から２２までのいずれかに従って設計されており、その際、工程段階ａ）において、中空体は、表面領域を介して中空体を通る光の透過に対する第１のヘイズを有し、工程段階ｂ）の後に、中空体は、表面領域を介して中空体を通る光の透過に対するさらなるヘイズを有し、さらなるヘイズは、各場合に第１のヘイズの、９５．０〜１０５．０％、好ましくは９９．７〜１００．３％、より好ましくは９９．８〜１００．２％、より好ましくは９９．９〜１００．１％、最も好ましくは１００〜１００．１％未満の範囲にある。好ましくは、上記のヘイズの値は、約２ｍｌの内部容積を有する中空体、および中空円筒の形状をしている中空体の一部を通る光の透過を指す。
【００６６】
その実施形態のいずれかによる方法１によって得られる、中空体２の実施形態１は、本発明による課題の少なくとも１つを解決することに貢献する。中空体２の好ましい実施形態では、これは、その実施形態のいずれかによる本発明の中空体１の技術的特徴を示す。
【００６７】
医薬組成物を含む内部容積を少なくとも部分的に囲むガラスの壁を含む密閉容器の実施形態１は、本発明による課題の少なくとも１つを解決することにさらに貢献し、その際、ガラスの壁は、表面領域を含む壁面を有し、表面領域では、壁面は、
ａ）０．３〜１０．０ａｔ％、好ましくは０．３５〜１０ａｔ％、より好ましくは０．４〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．４５〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．５〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．５５〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．６〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．７〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．８〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．９〜１０．０ａｔ％、より好ましくは１．０〜１０．０ａｔ％、より好ましくは１．０〜９．０ａｔ％、より好ましくは１．０〜８．０ａｔ％、さらに１．０〜７．０ａｔ％、さらに１．０〜６．０ａｔ％、さらに１．０〜５．０ａｔ％、さらに１．０〜４．０ａｔ％、さらにより１．０〜３．０ａｔ％、最も好ましくは１．０〜２．０ａｔ％の範囲のＮ含有量、および
ｂ）少なくとも５ａｔ％、好ましくは少なくとも１０ａｔ％、より好ましくは少なくとも１１ａｔ％、より好ましくは少なくとも１２ａｔ％、さらにより好ましくは少なくとも１３ａｔ％、最も好ましくは少なくとも１４ａｔ％のＳｉ含有量
を有し、ここで、前述の含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められるものである。好ましくは、密閉容器のガラスの壁は、その実施形態のいずれかによる中空体１のガラスの壁として設計されている。密閉容器の好ましい実施形態では、これは、その実施形態のいずれかによる本発明の中空体１または２の技術的特徴をそれぞれ示す。
【００６８】
方法２の実施形態１は、本発明による課題の少なくとも１つを解決することにさらに貢献し、方法２は、工程段階として
Ａ）その実施形態１から２９までのいずれかによる中空体１、またはその実施形態のいずれかによる中空体２を準備すること；
Ｂ）医薬組成物を内部容積に挿入すること；および
Ｃ）中空体を密閉すること
を含む。
【００６９】
工程段階Ｃ）での密閉は、好ましくは、中空体をクロージャー、好ましくは蓋と接触させること、好ましくは中空体の開口部をクロージャーで覆うこと、およびクロージャーを中空体に接合することを含む。接合は、好ましくは、中空体、好ましくは中空体のフランジと、クロージャーとの形状適合を作り出すことを含む。形状適合は、好ましくは、圧着段階を介して作り出される。方法２は、好ましくは、医薬組成物を包装するための方法である。
【００７０】
本発明による方法２の実施形態２では、方法２は、その実施形態１に従って設計されており、その際、工程段階Ｂ）の前に、この方法は、壁面を少なくとも部分的に少なくとも２００℃、好ましくは少なくとも２５０℃、より好ましくは少なくとも３００℃、最も好ましくは少なくとも３２０℃に加熱する段階をさらに含む。前述の温度は、好ましくは、少なくとも３分間、好ましくは少なくとも５分間、より好ましくは少なくとも１０分間、さらにより好ましくは少なくとも３０分間、最も好ましくは少なくとも１時間の時間にわたり一定に保たれる。前述の時間は、数日まで、好ましくは４８時間、より好ましくは２４時間であってよい。好ましくは、内面または外面、あるいはその双方、より好ましくは壁面全体が、前述で概説したように加熱される。特に好ましくは、加熱は、発熱物質除去段階の尺度である。
【００７１】
その実施形態のいずれかによる方法２によって得られる、密閉中空体の実施形態１は、本発明による課題の少なくとも１つを解決することにさらに貢献する。
【００７２】
方法３の実施形態１は、本発明による課題の少なくとも１つを解決することにさらに貢献し、方法３は、工程段階として
Ａ．その実施形態３０による中空体１、その実施形態のいずれかによる密閉容器、またはその実施形態のいずれかによる密閉中空体を準備すること；および
Ｂ．医薬組成物を患者に投与すること
を含む。
【００７３】
その実施形態１から２９までのいずれかによる中空体１の、またはその実施形態のいずれかによる中空体２の、医薬組成物を包装するための使用１の実施形態１は、本発明による課題の少なくとも１つを解決することにさらに貢献する。包装は、好ましくは、医薬組成物を内部容積に挿入すること、および中空体を密閉することを含む。
【００７４】
少なくとも容器のガラスの壁の壁領域にＮを導入し、それにより、少なくとも壁面の表面領域におけるガラスの壁の壁面のＮ含有量を、０．３〜１０．０ａｔ％、好ましくは０．３５〜１０ａｔ％、より好ましくは０．４〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．４５〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．５〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．５５〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．６〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．７〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．８〜１０．０ａｔ％、より好ましくは０．９〜１０．０ａｔ％、より好ましくは１．０〜１０．０ａｔ％、より好ましくは１．０〜９．０ａｔ％、好ましくは１．０〜８．０ａｔ％、さらに１．０〜７．０ａｔ％、さらに１．０〜６．０ａｔ％、さらに１．０〜５．０ａｔ％、さらに１．０〜４．０ａｔ％、さらにより１．０〜３．０ａｔ％、最も好ましくは１．０から２．０ａｔ％までの範囲に調整するための、Ｎを含む組成物の使用２の実施形態１は、本発明による課題の少なくとも１つを解決することにさらに貢献し、その際、前述のＮ含有量は、Ｘ線光電子分光法によって求められ；ここで、ガラスの壁は、中空体の内部容積を少なくとも部分的に囲んでいる。組成物は、好ましくは、その実施形態のいずれかによる本発明の方法１のプラズマ前駆体として構成されている。さらに好ましくは、調整は、その実施形態のいずれかによる本発明の方法１に従って、特に好ましくは工程段階ｂ）に従って行われる。さらに好ましくは、ガラスの壁は、その実施形態のいずれかによる本発明の中空体１のガラスの壁として構成されている。
【００７５】
本発明による使用２の実施形態２では、使用２は、その実施形態１に従って設計されており、その際、プラズマは、組成物から得られ、かつ少なくとも表面領域にわたって壁面と接触する。
【００７６】
本発明による使用２の実施形態３では、使用２は、その実施形態１に従って設計されており、その際、Ｎを含むプラズマは、組成物から得られ、Ｎは、イオン注入によって少なくとも壁領域に導入される。
【００７７】
本発明による使用２の実施形態４では、使用２は、その実施形態１から３までのいずれかに従って設計されており、その際、ガラスの壁のガラスは、ガラス軟化温度を有し、Ｎは、少なくとも壁領域に導入され、ガラスの壁は、各場合のガラス軟化温度の、８０％未満、好ましくは７０％未満、より好ましくは６０％未満、最も好ましくは５０％未満の温度を有する。代替的に好ましくは、Ｎが少なくとも壁領域に導入されている間、ガラスの壁は、本発明による方法１の工程段階ｂ）の文脈で指定された温度を有する。
【００７８】
本発明の１つのカテゴリーにおいて、例えば中空体１または２によれば、好ましいと記載された特徴は、本発明による他のカテゴリーの実施形態において、例えば方法１または本発明による使用２の実施形態において、同様に好ましい。
【００７９】
ガラスの壁の元素含有量
本発明によれば、ガラスの壁は、少なくとも壁面の表面領域において、異なる化学元素の含有量（ａｔ％）によって特徴付けられている。対応する元素分析は、本明細書に記載されたＸ線光電子分光法によって行われる。化学元素は、元素の周期表に記載されているように、それらの略語で示される。本明細書で提供されるＸＰＳによって求められる元素含有量は、任意のコーティングまたはガラスの壁を重ね合わせることができる機能化ではなく、ガラスの壁自体を指す。したがって、Ｎ含有量は、少なくとも壁領域におけるガラスの壁の含有量である。この含有量は、ガラスの壁自体の表面の領域である表面領域、すなわち、ガラス表面でＸＰＳを実行することによって求められる。好ましくは、Ｎ含有量のＮは、ＳｉＮ結合を介してガラスの壁に化学結合する。
【００８０】
表面領域
好ましくは、各表面領域は、コヒーレント領域である。換言すれば、表面領域は、好ましくは、不連続領域ではない。本明細書では、不連続領域は、相互に間隔を空けた複数の領域を含む領域である。
【００８１】
中空体
本発明による中空体は、当業者が本発明の文脈において適切であると考える任意のサイズまたは形状を有し得る。好ましくは、中空体のヘッド領域は、中空体の内部容積に医薬組成物を挿入することを可能にする開口部を含む。その場合、ガラスの壁は、中空体の内部容積を部分的にのみ囲む。中空体は、好ましくは、ガラス体またはガラス容器である。好ましくは、ガラスの壁は、ワンピースの設計である。かかるガラス体またはガラス容器のガラスの壁は、好ましくは、ガラス溶融物をブロー成形することによって；または、好ましくは中空円筒の形のガラスのチューブを準備し、チューブの一端から中空体の底部を形成し、それによりこの端部でチューブを閉じ、そしてチューブの反対側から中空体のヘッド領域を形成することによって作られ得る。好ましくは、ガラスの壁は透明である。
【００８２】
本文献で使用する場合、内部容積は、中空体の内部の全容積を表す。この容積は、中空体の内部を縁まで水で満たし、内部が縁まで収容できる水の量の容積を測定することによって求められ得る。したがって、本明細書で使用される内部容積は、薬学の技術分野でよく言及される名目上の容積ではない。この公称容積は、例えば、内部容積より約０．５倍小さくてもよい。
【００８３】
ガラス
ガラスの壁は、ガラスを含み、より好ましくは実質的にガラスからなる。このガラスは、あらゆるタイプのガラスであってよく、当業者が本発明の文脈において適切であると考える任意の組成を有していてもよい。好ましくは、ガラスは、医薬品包装に適している。特に好ましくは、ガラスは、２０１１年からの第７版、欧州薬局方の第３．２．１章のガラスタイプの定義に従って、タイプＩのものである。前述のものに加えて、またはその代替として、ガラスは、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、および溶融シリカからなる群から選択されるか；またはそれらの少なくとも２つの組み合わせであり、その際、アルミノケイ酸ガラスが特に好ましい。本文献で使用する場合、アルミノケイ酸ガラスは、各場合にガラスの総重量を基準として、８重量％を上回る、好ましくは９重量％を上回る、特に好ましくは９〜２０重量％の範囲のＡｌ２Ｏ３含有量を有するガラスである。好ましいアルミノケイ酸ガラスは、各場合にガラスの総重量を基準として、８重量％未満、好ましくは最大７重量％、特に好ましくは０〜７重量％の範囲のＢ２Ｏ３含有量を有する。本文献で使用する場合、ホウケイ酸ガラスは、各場合にガラスの総重量を基準として、少なくとも１重量％、好ましくは少なくとも２重量％、より好ましくは少なくとも３重量％、より好ましくは少なくとも４重量％、さらにより好ましくは少なくとも５重量％、特に好ましくは５〜１５重量％の範囲のＢ２Ｏ３含有量を有するガラスである。好ましいホウケイ酸ガラスは、各場合にガラスの総重量を基準として、７．５重量％未満、好ましくは６．５重量％未満、特に好ましくは０〜５．５重量％の範囲のＡｌ２Ｏ３含有量を有する。さらなる態様では、ホウケイ酸ガラスは、各場合にガラスの総重量を基準として、３〜７．５重量％の範囲、好ましくは４〜６重量％の範囲のＡｌ２Ｏ３含有量を有する。
【００８４】
本発明によりさらに好ましいガラスは、実質的にＢを含まない。その中で、「実質的にＢを含まない」という表現は、目的によってガラスの組成に追加されたＢを含まないガラスを指す。このことは、Ｂが、まだ不純物として存在し得るが、好ましくは、各場合にガラスの重量を基準として、０．１重量％以下、より好ましくは０．０５重量％以下の割合で存在し得ることを意味する。
【００８５】
発熱物質除去
方法１の好ましい実施形態では、工程段階ｂ）の後、壁面は、少なくとも部分的に少なくとも２００℃、好ましくは少なくとも２５０℃、より好ましくは少なくとも３００℃、最も好ましくは少なくとも３２０℃に加熱される。特に好ましくは、この加熱は、発熱物質除去段階の尺度である。薬学の技術分野では、発熱物質除去とは、好ましくは熱処理を介して、表面の発熱性細菌の量を低減する段階である。その中で、表面上の発熱性細菌の量は、好ましくは可能な限り、各場合に発熱物質除去前の表面上の発熱性細菌の量を基準として、好ましくは少なくとも８０％、より好ましくは少なくとも９０％、より好ましくは少なくとも９５％、さらにより好ましくは少なくとも９９％、さらにより好ましくは少なくとも９９．５％、最も好ましくは１００％減少する。
【００８６】
医薬組成物
本発明の文脈では、当業者が適切と考えるすべての医薬組成物が考慮される。医薬組成物は、少なくとも１つの有効成分を含む組成物である。好ましい有効成分は、ワクチンである。医薬組成物は、液体または固体またはその双方であってもよく、本明細書では、液体組成物が特に好ましい。好ましい固体組成物は、粉末、多くの錠剤、または多くのカプセルなどの粒状である。さらに好ましい医薬組成物は、非経口、すなわち、非経口経路で投与されることが意図されている組成物であり、これは経腸的ではない任意の経路であってよい。非経口投与は、注射、例えば、針（通常、皮下注射針）およびシリンジを使用して、または留置カテーテルを挿入して実行することができる。
【００８７】
壁
本明細書では、中空体は、ガラスの壁を含む。中空体は、ガラスの壁の片側または両側にガラスの壁を完全にまたは部分的に重ねる材料の層をさらに含み得る。しかしながら、いずれの場合も、表面領域を有する壁面は、ガラスの壁を指す、すなわち、これらがガラスの壁自体の表面であるため、ガラス表面である。中空体がガラスの壁に重ねられた１つ以上の層を含む場合、これらの層は互いに結合され、ガラスの壁に結合される。２つの層は、互いの接着力がファンデルワールスの引力を超えると、互いに結合される。特に指定のない限り、層は、ガラスの壁の厚さ方向で、間接的に、換言すれば、１つまたは少なくとも２つの中間コンポーネントを使用して重なっていてもよく、または直接的に、換言すれば、中間コンポーネントを使用せずに重なっていてもよい。これは、１つの層が別の層と重なる構造の場合に特に当てはまる。さらに、コンポーネントが層または表面に重ねられている場合、このコンポーネントは、その層または表面と接触することができるか、またはその層または表面と接触することはできないが、別のコンポーネント（例えば、層）を介してその層または表面に間接的にオーバーレイすることができる。
【００８８】
アルカリ金属バリア層および疎水性層
好ましくは、中空体のガラスの壁は、アルカリ金属バリア層または疎水性層またはその双方によって、各場合に中空体の内部容積に向かって、好ましくはガラスの壁の内面の少なくとも一部にわたって、より好ましくは内面全体に重ねられる。アルカリ金属バリア層は、アルカリ金属イオンの移動に対する、好ましくはすべてのアルカリ金属イオンに対するバリア作用を与えるのに適していると当業者が考える任意の材料または任意の材料の組み合わせからなり得る。アルカリ金属バリア層は、多層構造のものであり得る。好ましくは、アルカリ金属バリア層は、ＳｉＯ２、好ましくはＳｉＯ２の層を含む。さらに、疎水性層は、水で濡らす場合の接触角が９０°を上回る内部体積に向かって層表面を与える任意の材料または任意の材料の組み合わせからなり得る。疎水性層は、好ましくは、特にケーキの形状に関して、凍結乾燥時に明確なケーキの形成を可能にする。好ましい疎水性層は、一般式ＳｉＯｘＣｙＨｚの化合物、好ましくはこの化合物の層を含む。その中で、ｘは１未満、好ましくは０．６〜０．９の範囲、より好ましくは０．７〜０．８の範囲の数であり；ｙは、１．２〜３．３、好ましくは１．５〜２．５の範囲の数であり；かつｚも同様に数である。
【００８９】
測定方法
以下の測定方法は、本発明の文脈において使用されるべきものである。特に指定のない限り、測定は、周囲温度２３℃、周囲空気圧１００ｋＰａ（０．９８６ａｔｍ）、および相対空気湿度５０％で実行されなければならない。
【００９０】
水で濡らす場合の接触角
水で濡らす場合の表面の接触角は、標準のＤＩＮ  ５５６６０、パート１および２に従って求められる。接触角は、静的な方法を使用して求められる。中空体の壁は通常、湾曲しているため、標準とは異なり、測定は曲面で行われる。さらに、測定は、周囲温度２２〜２５℃および相対空気湿度２０〜３５％で行われる。Ｋｒｕｅｓｓ  ＧｍｂＨ製のドロップ形状アナライザー−ＤＳＡ３０Ｓが、測定に適用される。接触角が１０°未満の場合、測定の不確実性が増大する。
【００９１】
壁厚および壁厚の公差
壁厚および壁厚の平均値からの偏差（公差）は、それぞれの中空体の種類について次の基準に従って求められる：
バイアル用のＤＩＮ  ＩＳＯ  ８３６２−１、
アンプル用のＤＩＮ  ＩＳＯ  ９１８７−１、
シリンジ用のＤＩＮ  ＩＳＯ  １１０  ４  ０−  ４、
円筒形カートリッジ用のＤＩＮ  ＩＳＯ  １３９２６−１、および
歯科用カートリッジ用のＤＩＮ  ＩＳＯ  １１０４０−１。
【００９２】
透過係数
本明細書では、透過係数は、Ｔ＝Ｉｔｒａｎｓ／Ｉ０として定義されており、ここで、Ｉ０は、表面領域の入射領域に直角に入射する光の強度であり、Ｉｔｒａｎｓは、入射領域とは反対側の中空体の側面で中空体から出る光の強度である。したがって、Ｔは、空の中空体を完全に透過する光、すなわち、１回目は壁を通過して空の内部容積に入り、２回目はそこから壁を通過して内部容積から出る光を指す。したがって、光は、中空体の壁の２つの曲線部分を透過する。透過係数は、ＩＳＯ  １５３６８：２００１（Ｅ）規格に従って求められ、ここで、寸法３ｍｍ×４ｍｍの測定領域が使用される。さらに、光は、中空体の外面の垂直方向の延長に対して直角に中空体に入射する。好ましくは、本明細書での透過係数は、ＤＩＮ／ＩＳＯ  ８３６２に準拠したタイプ２Ｒの中空体、および中空円筒の形状をしている中空体の一部を通る光の透過を指す。中空体の非機能化表面を介して光が透過するための透過係数（本明細書では第１の透過係数とも呼ばれる）が求められるべきであり、かつ中空体に測定に適した非機能化表面がない場合、最初に、機能化（例えば、粒子）が除かれ、次いで、機能化が除かれた表面を介して透過係数が求められる。
【００９３】
ヘイズ
ヘイズは、ガラスサンプルなどの透明なサンプルの光散乱特性の尺度である。ヘイズの値は、サンプル（本明細書では空の容器）を透過し、光軸の周りの特定の空間角から散乱する光の割合を表す。したがって、ヘイズは、透明度に悪影響を与えるサンプルにおける材料の欠陥を定量化する。本明細書では、ヘイズは、標準ＡＳＴＭ  Ｄ  １０３３に従って求められる。この基準に従って、４つのスペクトルが測定され、それぞれについて透過係数が計算される。ヘイズの値（％）は、これらの透過の係数から計算される。積分球およびソフトウェアＯｐｔＬａｂ−ＳＰＸを備えたＴｈｅｒｍｏ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ  Ｅｖｏｌｕｔｉｏｎ  ６００分光計が測定に適用される。拡散透過の測定を可能にするため、サンプルは、積分球の入口の前に配置される。反射開口部は、空のままにして、入射光の透過および散乱した割合のみが検出されるようにする。十分に散乱していない透過光の割合は、検出されない。さらなる測定は、球内の散乱した光の検出（サンプルなし）およびサンプルの全体的な透過（反射開口部が閉じた状態）に関係する。すべての測定結果は、ソフトウェアにおいて必須のベースライン補正として実装されている、サンプルなしの球体の全体的な透過に対して正規化される。本明細書では、ヘイズとは、中空体を完全に透過する光を指し、すなわち、１回目は壁を通り抜けて内部容積に入り、２回目はそこから壁を通り抜けて内部容積から出る。したがって、光は、中空体の壁の２つの曲線部分を透過する。さらに、光は、中空体の外面の垂直方向の延長に対して直角に中空体に入射する。中空体は、好ましくは、ＤＩＮ／ＩＳＯ  ８３６２に準拠したタイプ２Ｒのバイアルであり、かつ中空円筒の形状をしている中空体の一部を透過する。中空体の非機能化表面を介した光の透過のヘイズ（本明細書では第１のヘイズとも呼ばれる）が求められるべきであり、かつ中空体に測定に適した非機能化表面がない場合、最初に、機能化（例えば、粒子）が除かれ、次いで、機能化が除かれた表面を介してヘイズが求められる。
【００９４】
スクラッチ試験および乾燥滑り摩擦係数
ＣＳＭ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ製のＭＣＴ  ＭｉｋｒｏＣｏｍｂｉＴｅｓｔｅｒ（ＭＣＴ  Ｓ／Ｎ  ０１−０４４８８）は、スクラッチ試験および乾燥滑り摩擦係数の測定に適用される。摩擦相手として、コーティングまたは機能化を含む、試験されるべき中空体と同一の中空体が使用される。さらに、試験では同じ表面が傷を付けられている／互いにスライドする。摩擦相手は、試験されるべき中空体の上にある特別なマウントによって所定の位置に保持される。本明細書では、摩擦相手および試験されるべき中空体は、上面図で９０°の角度で傾斜している。どちらの測定でも、試験されるべき中空体は、前方に移動し、それによって明確な法線力（試験力）で摩擦相手の表面をひっかく。どちらの試験でも、測定されるべき中空体は、摩擦相手の下で、１５ｍｍの試験長さにわたって１０ｍｍ／分の速度で前方に移動する。スクラッチ試験の場合、試験力は、試験長さにわたり０から３０Ｎ（負荷速度１９．９９Ｎ／分）に徐々に増加する。その後、傷の付いた表面が、顕微鏡で５倍に拡大して調べられる。乾燥滑り摩擦係数を測定する場合、０．５Ｎの一定の法線力が適用される。横摩擦力は、摩擦測定テーブルを使用して測定される。乾燥摩擦係数は、測定された曲線から摩擦力と法線力（試験力）との比として求められ、その際、静摩擦の影響を最小限に抑えるために、最初の０．２ｍｍから最大１５ｍｍまでの試験長の値のみが考慮される。
【００９５】
軟化温度
ガラスの軟化温度は、ｌｏｇ１０（η）＝７．６になるように、ガラスがｄＰａ・ｓ（＝ポイズ）の粘度ηを有するガラスの温度として定義される。軟化温度は、ＩＳＯ  ７８８４−３に従って求められる。
【００９６】
洗浄工程
洗浄工程には、ＨＡＭＯ  ＬＳ  ２０００洗浄装置が使用される。ＨＡＭＯ  ＬＳ  ２０００は、純水供給源に接続されている。さらに、以下のデバイスが使用される。
ケージ１：４ｍｍノズル付き１４４
ケージ２：４ｍｍノズル付き２５２
Heraeus製の乾燥棚（３００℃まで調整可能）
【００９７】
タップを開く。次に、機械が、メインスイッチを介して起動される。内部チェックが行われた後、洗浄装置は、準備ができていることをディスプレイに表示する。プログラム４７は、以下のパラメータで動作する標準のクリーニングプログラムである：
加熱せずに２分間予備洗浄
４０℃で６分間洗浄
加熱せずに５分間予備すすぎ
加熱せずに１０分間すすぐ
加熱せずに１０分間、最後のすすぎ
加熱せずに５分間乾燥
【００９８】
ケージ１および２のバイアルのホルダーは、約１．５ｃｍのノズルの距離を得るために、バイアルのサイズを考慮して調整しなければならない。洗浄されるべきバイアルは、最初にヘッド付きノズル上に置かれる。その後、ステンレス鋼メッシュが、ケージに固定される。ケージは、左向きで機械に押し込まれる。次に、機械が閉じられる。プログラム４７（ＧＬＡＳ０４０１０２）が選択され、次いでＳＴＡＲＴを介してＨＡＭＯが始動される。プログラムの終了後（１時間）、ケージが取り出され、バイアルは、開口部を下向きにして乾燥ケージ内に置かれる。乾燥には、周囲空気フィルター付きの対流式乾燥棚が適用される。乾燥棚は、３００℃に調整される。バイアルは、乾燥棚に２０分間置かれる。バイアルは冷却後、適切なボックスに分類される。
【００９９】
Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）
ＸＰＳ測定の前に、試験されるべき中空体が洗浄される。中空体としてのバイアルの場合、上記の洗浄工程が適用され、そうでない場合は適切なアナログ洗浄工程が適用される。ＸＰＳの試験は、洗浄された中空体で行われる。洗浄工程後の中空体の汚染は回避すべきである。Ｘ線光電子分光測定は、ＰＨＩ  Ｑｕａｎｔｅｒａ  ＳＸＭシステムを使用して実行される。データ収集には、ソフトウェアＳｍａｒｔＳｏｆｔ−ＸＰＳ  Ｖ３．６．２．７が使用される。ＸＰＳ測定の場合、スポットサイズ２００μｍの単色Ａｌ−ｋα光源（１４８６．６ｅＶ／１５ｋＶ）で励起が行われる。電子は、法線に対して４５°の角度で検出される。電子および低エネルギーのアルゴンイオンを使用してサンプルの帯電を防ぐ、内蔵の電荷補償システムが分析中に使用される。測定中の測定室内の圧力は１．５×１０−６Ｐａであり、５５ｅＶ（高分解能スペクトル）および１４０ｅＶ（調査スペクトル）の通過エネルギーが使用される。データ処理には、ソフトウェアＭｕｌｔｉＰａｋ  Ｖ９．５．０．８が使用される。すべてのスペクトルの背景に合うように、いわゆるシャーリー背景が適用される。定量化には、ソフトウェアＭｕｌｔｉＰａｋ（C.D. Wagnerら、Surface and Interfaces Analysis, 3 (1981) 211に基づく）に実装されている感度係数およびアナライザー送信機能が適用される。すべてのスペクトルは、２８５．０ｅＶの結合エネルギーで炭化水素のＣ１ｓピークを基準にしており、金属Ｃｕ、Ａｇ、およびＡｕのよく知られた光電子ピークによって制御される。
【０１００】
飛行時間型二次イオン質量分析（ＴｏＦ−ＳＩＭＳ）
ＴｏＦ−ＳＩＭＳ測定の前に、試験されるべき中空体が洗浄される。中空体がバイアルの場合、上記の洗浄工程が適用され、そうでない場合は適切なアナログ洗浄工程が適用される。ＴｏＦ−ＳＩＭＳの試験は、洗浄された中空体で行われる。洗浄工程後の中空体の汚染は回避すべきである。ＴｏＦ−ＳＩＭＳ深度プロファイルは、２５ｋｅＶ  Ｇａ＋一次イオンを備えたＩＯＮ−ＴＯＦ  ＧｍｂＨ社のＴＯＦ−ＳＩＭＳ  ＩＶ−１００を使用して実行される。分析は、約１．０ｐＡの一次イオン電流で５０×５０μｍ２の面積で実行される。スパッタ処理は、０．５ｋｅＶのエネルギーおよび約４０ｎＡのスパッタ電流で、３００×３００μｍ２の面積でのＣｓ＋スパッタイオン銃により交互モードで実行される。電荷補正には、電子フラッドガンが使用される。負に帯電したイオンが分析され、標準化を改善するために、検出された強度がＳｉ−イオン強度に正規化される。データ処理には、ソフトウェアＳｕｒｆａｃｅＬａｂ  ６．７が使用される。
【０１０１】
本発明は、実施例および図面を用いて以下により詳細に記載されており、実施例および図面は発明に対するいかなる制限も示していない。さらに、特に指定のない限り、図面は縮尺通りではない。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】図１は、本発明による中空体の概略図を示す。
【図２】図２は、本発明による密閉中空体の概略図を示す。
【図３】図３は、中空体を製造するための本発明による方法のフローチャートを示す。
【図４】図４は、医薬組成物を包装するための本発明による方法のフローチャートを示す。
【図５】図５は、患者を治療するための本発明による方法のフローチャートを示す。
【図６】図６は、実施例１〜３のバイアルの機能化深さの測定結果を示す。
【図７】図７は、実施例１〜４および比較例１によるバイアルの透過係数の測定結果を示す。
【０１０３】
実施例１〜３（本発明による）
実施例１〜３のそれぞれについて、さらにＤＩＮ／ＩＳＯ  ８３６２に準拠したタイプ２Ｒのものである、Ｓｃｈｏｔｔ  ＡＧ製の「バイアル２．００ｍｌ  Ｆｉｏｌａｘ  ｃｌｅａｒ」タイプの市販のガラスバイアルを準備する。これらのバイアルを、測定方法の節で上記のとおりに洗浄する。各実施例では、ＮＨ３のガス（１００体積％）から生成されるプラズマでバイアルを処理する。バイアルを、Ｄｉｅｎｅｒ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓから市販されているＤｉｅｎｅｒ  Ｎａｎｏ（ＰｌａｓｍａＣｏａｔ  Ｅｘｐｒｅｓｓ）タイプの反応器に入れる。反応器は、１７ｄｍ３の容積を有し、かつ石英ガラス管からなる。プラズマ前駆体ガスを、以下の第１表に示す流量で反応器に導入する。反応器では、６００Ｗの電力で１３．５６ＭＨｚの無線周波数（ＲＦ）を介してガスからプラズマを生成する。生成されたプラズマは、窒素原子およびイオンを含有し、かつ反応器内のバイアルにそのガラス表面全体にわたり接触している。実施例のそれぞれについて、プラズマ処理を、以下の第１表に示す処理時間にわたって実施する。これにより、Ｎをバイアルのガラス壁に注入する。Ｎがガラス壁に注入されるまでの、バイアルの外面から測定した深さを、図６の実施例１〜３のバイアルについて示す。プラズマ処理後、ＲＦジェネレーターを停止し、バイアルを反応器から取り出す。
【表１】
2020033248.tif 000003
【０１０４】
比較例１（本発明によらない）
ＤＩＮ／ＩＳＯ  ８３６２に準拠したタイプ２Ｒのものである、Ｓｃｈｏｔｔ  ＡＧ製の「バイアル２．００ｍｌ  Ｆｉｏｌａｘ  ｃｌｅａｒ」タイプの市販のガラスバイアルを、基準として準備する。このバイアルの表面は、コーティングまたは機能化が施されていない。測定の前に、バイアルを洗浄する。
【０１０５】
比較例２（本発明によらない）
さらにＤＩＮ／ＩＳＯ  ８３６２に準拠したタイプ２Ｒのものであり、かつ下記のように洗浄されている、Ｓｃｈｏｔｔ  ＡＧ製の「バイアル２．００ｍｌ  Ｆｉｏｌａｘ  ｃｌｅａｒ」タイプの市販のガラスバイアルの外面には、ＮｕＳｉＬ製のＭＥＤ１０−６６７０がコーティングされている。コーティングしたバイアルを、オーブンにて３５０℃で１０分間乾燥させる。プラズマ処理は適用しない。
【０１０６】
評価
実施例１〜３および比較例１のバイアルの外面で、上記のようにＸＰＳ測定を実施する。比較例２のバイアルは、比較例１の基準バイアルと同一のガラス体を有するが、上部にコーティングが施されている。したがって、比較例２のバイアルのガラス体の元素含有量は、比較例１のガラス体の元素含有量と同じであると仮定できる。求められる元素含有量を、以下の第２表に示す。
【表２】
2020033248.tif 000004
【０１０７】
ＮについてのＸＰＳ測定の検出しきい値は、約０．２ａｔ％である。したがって、比較例１の場合、Ｎは実質的に測定されない。この発見は、科学的報告（G. Iucciら, Solid State Sciences 12, 1861-1865 (2010); G. Kaklamaniら, Materials Letters, 111, 225-229 (2013); D. Ditterら, European Journal of Pharmaceutics and Biopharmaceutics 125 (2018) 58〜67）に沿ったものであり、この報告によると、従来技術の非汚染ガラス表面で、特に従来技術の医薬容器のガラス外面で、ＸＰＳを介してＮは実質的に測定されない。
【０１０８】
さらに、以下の第３表に報告する結合エネルギーを、測定方法の節で説明したように、ＸＰＳによって求める。
【表３】
2020033248.tif 000005
【０１０９】
さらに、実施例１〜３ならびに比較例１および２のそれぞれについて、上記の測定方法に従って、バイアル本体の外面での乾燥滑り摩擦係数を求める。結果を第４表に示す。
【表４】
2020033248.tif 000006
【０１１０】
さらに、各実施例および比較例の１０，０００個のバイアルは、それぞれ、標準的な医薬品充填ラインで処理されているので、インフルエンザワクチンが充填されている。以下の第４表は、バイアルの損傷傾向またはさらに充填ラインでの破損傾向に関するバイアルの評価を示す。本明細書では、＋＋は、損傷または破損しているバイアルがないか、ごくわずかであることを意味し、＋は、損傷または破損しているバイアルがほとんどないことを意味し、−は、バイアルの損傷および破損したバイアルが、＋よりも頻繁に発生することを意味し、――は、バイアルの損傷および破損したバイアルが、−よりも頻繁に発生することを意味する。
【表５】
2020033248.tif 000007
【０１１１】
上記の第４表および第５表に示した結果から、実施例１〜３のバイアルは、比較例１の未処理の基準バイアルよりも優れていることがわかる。さらに、本発明の実施例１〜３は、ガラスバイアルのコーティングを含まないのに対して、比較例２のバイアルには、シリコーンコーティングが施されている。しかしながら、シリコーンは、バイアルのガラス表面に完全かつ確実に結合されていないことが多い。したがって、シリコーンは、ガラス表面でクリープする傾向がある。これにより、バイアルの内面が汚染される危険がある。このような汚染は、医薬品容器には許容されない。さらに、比較例２のシリコーンコーティングなどの有機組成物による汚染は、特に望ましくない。さらに、シリコーンコーティングが施されたバイアルは、このようなコーティングが施されていないバイアルほど簡単にラベルを付けることができない。標準の接着剤を使用する場合、ラベルは、コーティングされたバイアルに十分に接着しないことが多い。しかしながら、コーティングされたバイアルへのラベルの接着性を高める特殊な接着剤を使用する場合、特殊な接着剤が、シリコーンコーティングを部分的に柔らかくするので、さらにクリープしやすくなる。その結果、汚染の危険性がさらに高まる。したがって、比較例２で適用したもののようなシリコーンコーティングは、医薬品容器に適用するのに特に望ましくないということになる。
【０１１２】
さらに、医薬組成物で満たされ、かつ閉じられたバイアルは、通常、特に医薬関連粒子について検査されなければならない。これは通常、バイアルの高い透明度および低いヘイズを要求する光学的方法によって行われる。本明細書では、それらを充填する前に、バイアルの光学検査に影響を与え得るそれらの光学特性について、実施例および比較例のバイアルを試験する。上記の処理によるヘイズの増加およびバイアルの透過係数を、上記の測定方法に従って求める。ヘイズの測定結果を、以下の第６表に示す。バイアルの処理によるヘイズの増加を、比較例１に対応する未処理バイアルに対して示す。
【表６】
2020033248.tif 000008
【０１１３】
実施例１〜３のバイアルおよび比較例１の基準バイアルの透過係数測定の結果を図７に示す。この図から、実施例１〜３によるプラズマ処理は、試験されたスペクトル範囲で透過係数を著しく悪化させないことが明確にわかる。したがって、本発明の実施例のバイアルは、光学検査に非常に適している。
【０１１４】
図１は、本発明による中空体１００の概略図を示す。中空体１００は、中空体１００の内部容積１０２を部分的に囲むガラスの壁１０１を含む。ガラスの壁１０１は、中空体１００が、医薬組成物２０１（図示せず）で中空体１００を充填することを可能にする開口部１０８を含むという点で、部分的にのみ内部容積１０２を囲む。さらに、ガラスの壁１０１は、内部容積１０２に面する内面１０７、および内部容積１０２とは反対側を向く外面１０６からなる壁面１０３を有する。ガラスの壁１０１は、図１の上部から下部にかけて形成されている：フランジ１０９およびネック１１０からなる中空体１００の上部領域；ショルダー１１１を介して上部領域に続くボディ領域１１２；およびヒール１１３を介してボディ領域１１２に続く下部領域１１４。本明細書では、ボディ領域１１２は、中空円筒の形の中空体１００の側方領域である。図１の中空体１００は、上記の例１に従って処理されたバイアルである。外面１０６は、本明細書で使用される命名法に従って壁面１０３の表面領域１０４を形成する。したがって、外面１０６は、上記で報告されたように、ＸＰＳによって測定されたＮ、Ｓｉ、ＯおよびＣの含有量を有する。本明細書では、実施例１に係る上記の方法によって、外面１０６から機能化深さ１１５まで、Ｎは、ガラスの壁１０１に注入されている。図６から、機能化深さ１１５は、１０ｎｍであることがわかる。
【０１１５】
図２は、本発明による密閉中空体２００の概略図を示す。この密閉中空体２００は、図１の中空体１００に医薬組成物２０１を充填し、圧着段階を介して開口部１０８を蓋２０２で閉じることによって得られたバイアルである。本明細書では、医薬組成物２０１は、ワクチンである。
【０１１６】
図３は、中空体１００の調製のための本発明による方法３００のフローチャートを示す。方法３００は、ＤＩＮ／ＩＳＯ  ８３６２に準拠したタイプ２ＲのＳｃｈｏｔｔ  ＡＧ製の「バイアル２．００ｍｌ  Ｆｉｏｌａｘ  ｃｌｅａｒ」タイプの市販のガラスバイアルが準備される工程段階ａ）３０１を含む。工程段階ｂ）３０２では、本発明による実施例１の文脈において上記で詳細に説明したように、外面１０６のプラズマ処理によって、Ｎがガラスの壁１０１に導入される。図１の中空体１００は、方法３００によって得られる。
【０１１７】
図４は、医薬組成物２０１を包装するための本発明による方法４００のフローチャートを示す。工程段階Ａ）４０１で、図１による中空体１００を準備する。工程段階Ｂ）４０２で、医薬組成物２０１を、中空体１００の内部容積１０２に充填し、工程段階Ｃ）４０３で、中空体１００の開口部１０８を閉じて、それにより図２の密閉中空体２００を得る。
【０１１８】
図５は、患者を治療するための本発明による方法５００のフローチャートを示す。この方法５００は、図２の密閉中空体２００を準備し、蓋２０２にシリンジの針を突き刺して密閉中空体２００を開き、シリンジにワクチンを充填する工程段階Ａ．５０１；およびシリンジを使用して患者にワクチンを皮下投与する工程段階Ｂ．５０２を含む。
【０１１９】
図６は、実施例１〜３のバイアルの機能化深さ１１５の測定結果をｎｍで示す。バー６０１は、実施例１の結果、６０２は、実施例２の結果、６０３は、実施例３の結果を示す。図６に示した結果は、測定方法の節で上記したように、ＴｏＦ−ＳＩＭＳによって求められた。
【０１２０】
図７は、実施例１〜４および比較例１によるバイアルの透過係数７０２の測定結果を、波長（ｎｍ）７０１で示す。図中、７０３は、実施例１〜４の測定結果を示し、７０４は、比較例１の結果を示す。これらの結果はすべて互いに非常に近いため、対応するグラフは、実質的に図に１つのものとして現れる。８６５ｎｍでのディップは、測定のアーチファクトである。
【符号の説明】
【０１２１】
１００  本発明による中空体
１０１  ガラスの壁
１０２  内部容積
１０３  壁面
１０４  表面領域
１０５  壁領域
１０６  外面
１０７  内面
１０８  開口部
１０９  フランジ
１１０  ネック
１１１  ショルダー
１１２  ボディ領域
１１３  ヒール
１１４  下部領域
１１５  機能化深さ
２００  本発明による密閉容器／本発明による密閉中空体
２０１  医薬組成物
２０２  蓋
３００  中空体を製造するための本発明による方法
３０１  工程段階ａ）
３０２  工程段階ｂ）
４００  医薬組成物を包装するための本発明による方法
４０１  工程段階Ａ）
４０２  工程段階Ｂ）
４０３  工程段階Ｃ）
５００  患者を治療するための本発明による方法
５０１  工程段階Ａ．
５０２  工程段階Ｂ．
６０１  比較例１の測定結果
６０２  実施例１の測定結果
６０３  実施例３の測定結果
７０１  波長（ｎｍ）
７０２  透過係数
７０３  実施例１〜４の測定結果
７０４  比較例１の測定結果
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【外国語明細書】
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