(57)【要約】【課題】被接触物への密着性、形状変化性、および取り扱い性に優れると共に、再利用が可能で放熱特性に優れた熱伝導性ゴム組成物ならびにその製造方法を提供すること。【解決手段】未架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含むゴム基材と、ゴム基材の少なくとも一部の表面を覆うと共に架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含む架橋ゴム層と、を有し、未架橋ゴムは紫外線硬化性のゴムであり、熱伝導性粒子は紫外線不透過性の粒子である、熱伝導性ゴム組成物。【選択図】図１
2020009811.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
未架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含む、ゴム基材と、
前記ゴム基材の少なくとも一部の表面を覆うと共に、架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含む、架橋ゴム層と、
を有し、
前記未架橋ゴムは、紫外線硬化性のゴムであり、
前記熱伝導性粒子は、紫外線不透過性の粒子である、熱伝導性ゴム組成物。
【請求項２】
前記熱伝導性粒子は、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、ダイヤモンド、カーボンナノチューブ、黒鉛、および金属からなる群から選択される粒子である、請求項１に記載の熱伝導性ゴム組成物。
【請求項３】
前記未架橋ゴムおよび架橋ゴムと、熱伝導性粒子との体積比である（未架橋ゴムおよび架橋ゴム）：（熱伝導性粒子）＝５０：５０〜１０：９０である、請求項１または２に記載の熱伝導性ゴム組成物。
【請求項４】
前記架橋ゴムは、前記未架橋ゴムの架橋物である、請求項１から３までの何れか１項に記載の熱伝導性ゴム組成物。
【請求項５】
請求項１から４までの何れか１項に記載の熱伝導性ゴム組成物を有する、放熱シート。
【請求項６】
請求項４に記載の熱伝導性ゴム組成物を有する、放熱部材。
【請求項７】
紫外線硬化性の未架橋ゴムおよび紫外線不透過性の熱伝導性粒子を含む、ゴム材料を準備する工程と、
前記ゴム材料の少なくとも一部の表面領域に紫外線を照射することにより前記ゴム材料の表面領域の未架橋ゴムを架橋させて架橋ゴムとし、前記未架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含むゴム基材と、前記架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含む前記表面領域から構成される架橋ゴム層とを有する熱伝導性ゴム組成物を形成する工程と、
を有する、熱伝導性ゴム組成物の製造方法。
【請求項８】
前記熱伝導性粒子は、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、ダイヤモンド、カーボンナノチューブ、黒鉛、および金属からなる群から選択される粒子である、請求項７に記載の熱伝導性ゴム組成物の製造方法。
【請求項９】
前記ゴム材料を準備する工程において、前記ゴム材料中の未架橋ゴムと熱伝導性粒子の体積比である（未架橋ゴム）：（熱伝導性粒子）＝５０：５０〜１０：９０である、請求項７または８に記載の熱伝導性ゴム組成物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱伝導性ゴム組成物およびその製造方法、放熱シートならびに放熱部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、様々な電子機器に搭載される電子部品の小型化・高性能化が進んでいることにより、その発熱密度が増加する傾向にある。電子部品の発熱により電子機器内が高温となると、電子機器の故障や誤作動の原因となる。このため、電子部品の放熱性を高めることが要望されている。
【０００３】
一般的に、電子機器内で発生した熱は、ヒートシンクなどの熱伝達部材に伝熱させることで冷却する。この際、電子機器の発熱部と熱伝達部材との接触状態を改善して該発熱部から熱伝達部材まで効率的に伝熱できるように、発熱部と熱伝達部材の間にゲル、グリースなどを塗布したり、シートを設けることが行われている。
【０００４】
特許文献１（特開２００９−２４１４４０号公報）は、高分子マトリックスと熱伝導性充填材とを含有する組成物から成形される熱伝導性高分子層と、熱可塑性樹脂粉末が溶融することにより形成される樹脂層とを備える、熱伝導性シートを開示する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２４１４４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のように電子機器の発熱部と熱伝達部材の間にゲルやグリースを塗布した場合、（ａ）ポンプアウトが発生する可能性がある、（ｂ）ゲル、グリースの再利用が不可能である、（ｃ）取り扱い性が悪い、といった問題が発生する場合があった。また、電子機器の発熱部と熱伝達部材の間に特許文献１のような熱伝導性シートを用いた場合、電子部品の発熱部および熱伝達部材への密着性や、これらの部材の被接触面に応じた形状変化性について更に向上の余地があった。すなわち、熱伝導性シートの密着性を高めることを目的として熱伝導性シートに大きな力を負荷すると、熱伝導性高分子層と樹脂層などの異なる層の間で剥離が起こったり、電子部品の損傷に至る場合があった。このため、密着性を高めるために熱伝導性シートに負荷できる力にも限界があった。また、熱伝導性シートの表面を構成する樹脂層は高い硬度を有するため、被接触面に応じた形状変化性についても限界があった。更に、上記のような問題点を解決するために、低硬度の材料からなる熱伝導性シートの使用も検討されているが、このような熱伝導性シートは高い粘着性を有するため取り扱い性が悪く、形状を保持できないために再利用が困難である、といった問題があった。
【０００７】
本発明者らは上記の問題点について検討を行った。その結果、本発明者らは、架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含み比較的、高い硬度を有する架橋ゴム層と、未架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含み低硬度のゴム基材とを有する熱伝導性ゴム組成物とすることで、上記のような問題点を解決できることを発見し、本発明を完成させるに至った。
また、本発明者らは、未架橋ゴムおよび紫外線不透過性の熱伝導性粒子を含むゴム材料の表面領域に紫外線を照射して該表面領域の未架橋ゴムを架橋させて架橋ゴムとすることにより、低硬度のゴム基材と、比較的、高い硬度を有し該表面領域から構成される架橋ゴム層とを有する熱伝導性ゴム組成物が得られることを発見し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、被接触物への密着性、形状変化性、および取り扱い性に優れると共に、再利用が可能で放熱特性に優れた熱伝導性ゴム組成物ならびにその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の要旨構成は、以下のとおりである。
［１］未架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含む、ゴム基材と、
前記ゴム基材の少なくとも一部の表面を覆うと共に、架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含む、架橋ゴム層と、
を有し、
前記未架橋ゴムは、紫外線硬化性のゴムであり、
前記熱伝導性粒子は、紫外線不透過性の粒子である、熱伝導性ゴム組成物。
［２］前記熱伝導性粒子は、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、ダイヤモンド、カーボンナノチューブ、黒鉛、および金属からなる群から選択される粒子である、上記［１］に記載の熱伝導性ゴム組成物。
［３］前記未架橋ゴムおよび架橋ゴムと、熱伝導性粒子との体積比である（未架橋ゴムおよび架橋ゴム）：（熱伝導性粒子）＝５０：５０〜１０：９０である、上記［１］または［２］に記載の熱伝導性ゴム組成物。
［４］前記架橋ゴムは、前記未架橋ゴムの架橋物である、上記［１］から［３］までの何れか１項に記載の熱伝導性ゴム組成物。
［５］上記［１］から［４］までの何れか１項に記載の熱伝導性ゴム組成物を有する、放熱シート。
［６］上記［４］に記載の熱伝導性ゴム組成物を有する、放熱部材。
［７］紫外線硬化性の未架橋ゴムおよび紫外線不透過性の熱伝導性粒子を含む、ゴム材料を準備する工程と、
前記ゴム材料の少なくとも一部の表面領域に紫外線を照射することにより前記ゴム材料の表面領域の未架橋ゴムを架橋させて架橋ゴムとし、前記未架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含むゴム基材と、前記架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含む前記表面領域から構成される架橋ゴム層とを有する熱伝導性ゴム組成物を形成する工程と、
を有する、熱伝導性ゴム組成物の製造方法。
［８］前記熱伝導性粒子は、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、ダイヤモンド、カーボンナノチューブ、黒鉛、および金属からなる群から選択される粒子である、上記［７］に記載の熱伝導性ゴム組成物の製造方法。
［９］前記ゴム材料を準備する工程において、前記ゴム材料中の未架橋ゴムと熱伝導性粒子の体積比である（未架橋ゴム）：（熱伝導性粒子）＝５０：５０〜１０：９０である、上記［７］または［８］に記載の熱伝導性ゴム組成物の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
被接触物への密着性、形状変化性、および取り扱い性に優れると共に、再利用が可能で放熱特性に優れた熱伝導性ゴム組成物ならびにその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、一実施形態の熱伝導性ゴム組成物を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
１．熱伝導性ゴム組成物
一実施形態の熱伝導性ゴム組成物は、未架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含むゴム基材と、ゴム基材の少なくとも一部の表面を覆うと共に架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含む架橋ゴム層とを有する。また、未架橋ゴムは紫外線硬化性のゴムであり、熱伝導性粒子は紫外線不透過性の粒子である。
【００１２】
一実施形態の熱伝導性ゴム組成物は、ゴム基材の少なくとも一部の表面を覆うように、架橋ゴムを含む架橋ゴム層を有する。架橋ゴム層は架橋ゴムを含むことにより、未架橋ゴムを含むゴム基材と比べてその硬度が高くなっている。従って、熱伝導性ゴム組成物の被接触物との接触面は粘着性を有さず、優れた取り扱い性を有すると共に繰り返しの再利用が可能となる。また、ゴム基材は未架橋ゴムを含むため硬度が低く、高い流動性を有する。従って、電子部品の発熱部および熱伝達部材などの被接触物への密着性や、被接触物との接触面の形状に応じた形状変化性に優れたものとなる。この結果、熱伝導性ゴム組成物と被接触物との接触面積を大きくして、優れた放熱性を有することができる。
【００１３】
図１は、一実施形態の熱伝導性ゴム組成物を表す図である。
図１（ａ）の熱伝導性ゴム組成物４では、未架橋ゴム６と熱伝導性粒子２とを含むゴム基材３の一方の面上に、架橋ゴム５と熱伝導性粒子２とを含む架橋ゴム層１が設けられている。後述するように、この熱伝導性ゴム組成物４は、未架橋ゴム６と熱伝導性粒子２を含むゴム材料に対して一方の表面側から紫外線を照射することにより作製したものである。ゴム材料の一方の表面近傍に存在する熱伝導性粒子２が紫外線不透過性であるため、一方の表面側から照射された紫外線は該熱伝導性粒子２によって吸収、反射、または散乱される。この結果、紫外線は、熱伝導性粒子２が存在する深さよりも深いゴム材料の領域にまで到達することができず、ゴム材料の表面領域の未架橋ゴムのみが照射された紫外線によって架橋されて硬化し、架橋ゴム５となる。そして、該表面領域から構成され、架橋ゴム５と熱伝導性粒子２とを含む架橋ゴム層１が形成される。
【００１４】
図１（ｂ）の熱伝導性ゴム組成物４では、未架橋ゴム６と熱伝導性粒子２とを含むゴム基材３の互いに対向する二つの面上に、架橋ゴム５と熱伝導性粒子２とを含む二つの架橋ゴム層１が設けられている。架橋ゴム層１は図１（ａ）と同様の方法で、ゴム材料の互いに対向する二つの面に紫外線を照射することで形成することができる。
【００１５】
なお、架橋ゴム層１を形成する形態は図１に限定されず、ゴム基材の一部または全部の表面を覆うように架橋ゴム層１を設けてもよい。この場合、ゴム材料の露出した表面のうち、架橋ゴム層１を設ける部分に対応する領域に紫外線を照射することで架橋ゴム層１を設ければよい。
また、図１では層状の熱伝導性ゴム組成物を示したが、熱伝導性ゴム組成物の形状は層状に限定されない。熱伝導性ゴム組成物の使用目的・用途・被接触物との接触面の形状などに応じて適宜、所望の形状とすることができる。例えば、熱伝導性ゴム組成物を、電子部品の発熱部と熱伝達部材との間に配置させて該発熱部で発生した熱を放熱させる場合、熱伝導性ゴム組成物を、電子部品の発熱部および熱伝達部材との接触面に応じた形状とすることができる。
【００１６】
熱伝導性ゴム組成物全体の硬度は、Ｅ硬度で５０以下が好ましく、３０以下がより好ましい。
熱伝導性ゴム組成物全体の熱伝導率は、０．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上が好ましい。
【００１７】
以下では、一実施形態の熱伝導性ゴム組成物を構成する各材料について詳細に説明する。
【００１８】
（未架橋ゴム）
未架橋ゴムは、紫外線を照射することによって架橋されて硬化する、紫外線硬化性のゴムであれば特に限定されない。このような未架橋ゴムとしては例えば、紫外線硬化性シリコーンゴム、紫外線硬化性エポキシ樹脂、紫外線硬化性ウレタンゴムなどを挙げることができ、未架橋ゴムは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、紫外線硬化性シリコーンゴムは液状またはゲル状であってもよく、一液型、二液型の何れのタイプの紫外線硬化性シリコーンゴムであってもよい。このような紫外線硬化性シリコーンゴムとしては、市販品を用いることができる。紫外線硬化性シリコーンゴムの市販品は目的に応じて適宜、選択できるが、例えば、Ｓｉｌｏｐｒｅｎ  ＵＶ  ＬＳＲ  ２０３０、同２０６０、信越シリコーン製ＵＶ硬化型ＲＴＶシリコーンゴムシリーズ（ＫＥＲ４６９０など）、ＬＵＭＩＳＩＬ  ４１１ ＵＶを挙げることができる。
【００１９】
（架橋ゴム）
一例では、架橋ゴムは、未架橋ゴムを架橋して硬化させることにより得られた架橋物であり、未架橋ゴムに由来するゴムであれば特に限定されない。
【００２０】
（熱伝導性粒子）
熱伝導性粒子は高い熱伝導率を有すると共に、紫外線不透過性であれば、特に限定されない。
【００２１】
紫外線を吸収する性質を有する熱伝導性粒子としては、紫外線吸収剤と、必要に応じて熱伝導性物質とを含む熱伝導性粒子を挙げることができる。紫外線吸収剤としては一実施形態の熱伝導性ゴム組成物の効果を損なわないものであれば特に限定されないが例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系紫外線吸収剤の有機紫外線吸収剤が挙げられる。
【００２２】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（へキシル）オキシ］−フェノール、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−ベンゾトリアゾール−２−イル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）フェノール等が挙げられる。
紫外線吸収剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００２３】
紫外線を反射、散乱する性質を有する熱伝導性粒子としては、紫外線を反射、散乱する物質と、必要に応じて熱伝導性物質とを含む熱伝導性粒子を挙げることができる。このような熱伝導性粒子の材料としては金属、金属酸化物、その他の化合物を挙げることができる。具体的には、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、ダイヤモンド、カーボンナノチューブ、黒鉛、および金属からなる群から選択される材料からなる熱伝導性粒子を挙げることができる。これらの熱伝導性粒子を用いることにより、熱伝導性ゴム組成物は優れた熱伝導性、成形性、および形状変化性を両立させることができる。一実施形態の熱伝導性ゴム組成物を電子機器用に用いる場合、該熱伝導性ゴム組成物は低い導電性を有することが好ましい。このような低い導電性を有する熱伝導性粒子としては例えば、金属酸化物や、金属からなるコア部とコア部の表面を被覆する絶縁性のシェル部とを有するコア−シェル粒子を挙げることができる。
【００２４】
未架橋ゴムおよび架橋ゴムと熱伝導性粒子の体積比である（未架橋ゴムおよび架橋ゴム）：（熱伝導性粒子）＝５０：５０〜１０：９０であることが好ましい。熱伝導性粒子の含量が上記範囲内であることによって、熱伝導性ゴム組成物は良好な熱伝導性を有すると共に優れた成形性を有し、精度良く所望の形状に成形することができる。
【００２５】
（その他の添加物）
ゴム基材および架橋ゴム層は、上記材料以外に他の添加剤を含有していてもよい。他の添加剤としては例えば、架橋剤、光硬化剤（光増感剤）、導電性付与剤、難燃性付与剤、軟化剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、着色剤等を挙げることができる。
【００２６】
２．熱伝導性ゴム組成物の製造方法
一実施形態の熱伝導性ゴム組成物の製造方法は、
（ａ）紫外線硬化性の未架橋ゴムおよび紫外線不透過性の熱伝導性粒子を含む、ゴム材料を準備する工程と、
（ｂ）ゴム材料の表面領域に紫外線を照射することによりゴム材料の少なくとも一部の表面領域の未架橋ゴムを架橋させて架橋ゴムとし、未架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含むゴム基材と、架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含む表面領域から構成される架橋ゴム層とを有する熱伝導性ゴム組成物を形成する工程と
を有する。
【００２７】
一実施形態の熱伝導性ゴム組成物の製造方法では、準備したゴム材料の少なくとも一部の表面領域に紫外線を照射する。この際、ゴム材料の表面近傍には、紫外線不透過性の熱伝導性粒子が存在する。この熱伝導性粒子は紫外線を吸収、反射、散乱させるなどの機能を有し、紫外線が粒子内部を透過するのを妨げる。この結果、紫外線は、ゴム材料中の熱伝導性粒子が存在する領域よりも深い領域にまで到達することができず、ゴム材料の表面領域の未架橋ゴムのみが照射された紫外線によって架橋されて硬化して架橋ゴムとなる。これにより、硬化された表面領域から構成され、架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含む架橋ゴム層が形成される。この架橋ゴム層は硬度が高くなる。従って、上記方法により得られた熱伝導性ゴム組成物は高い粘着性を有さず、優れた取り扱い性を有すると共に、繰り返しの再利用が可能となる。一方で、ゴム材料の該表面領域よりも深い領域には紫外線が到達しないため、これらの領域に存在する未架橋ゴムは架橋されず低い硬度が保たれる。従って、電子部品の発熱部および熱伝達部材などの被接触物への密着性や被接触物との接触面の形状に応じた形状変化性に優れたものとなる。この結果、熱伝導性ゴム組成物と被接触物との接触面積を大きくして、優れた放熱性を有することができる。
【００２８】
上記工程（ａ）では、紫外線硬化性の未架橋ゴムおよび紫外線不透過性の熱伝導性粒子を含む、ゴム材料を準備する。この際、熱伝導性粒子は、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、ダイヤモンド、カーボンナノチューブ、黒鉛、および金属からなる群から選択される粒子であることが好ましい。未架橋ゴムと熱伝導性粒子の体積比である（未架橋ゴム）：（熱伝導性粒子）＝５０：５０〜１０：９０であることが好ましい。
【００２９】
また、ゴム材料は上記材料以外に他の添加剤を含有してもよい。他の添加剤としては例えば、架橋剤、光硬化剤（光増感剤）、導電性付与剤、難燃性付与剤、軟化剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、着色剤等を挙げることができる。好ましくは、他の添加剤として、ゴム材料中に架橋剤、光硬化剤を添加するのがよい。
【００３０】
架橋剤は、未架橋ゴムの種類に応じて適宜、好適なものを使用できるが例えば、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（ｔｅｒｔブチルパーオキシ）ブタン等のパーオキシケタール系有機過酸化物、イソブチリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等のジアシル系有機過酸化物、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、α，α’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ｐ−ジイソプロピルベンゼン等のジアルキル系有機過酸化物、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等のエステル系有機過酸化物を挙げることができる。架橋剤は、１種を単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３１】
光硬化剤は、紫外線により未架橋ゴムの架橋反応を発生させる作用を有するものである限り、特に制限はなく、適宜、選択することができる。光硬化剤としては例えば、２−２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−フェニル−フォスフィンオキサイド等を挙げることができる。
【００３２】
上記工程（ａ）では、ゴム材料は新たに調製してもよいし、市販のものを用いてもよい。ゴム材料を新たに調製する場合は例えば、所定量の未架橋ゴム、熱伝導性粒子、および必要に応じて他の添加剤を２本ロール、ニーダー、バンバリーミキサー、遠心脱泡機等で攪拌、混練り等を行うことによって得ることができる。
【００３３】
次に、工程（ｂ）では、工程（ａ）で準備したゴム材料の少なくとも一部の表面領域に紫外線を照射することによりゴム材料の表面領域の未架橋ゴムを架橋させて架橋ゴムとする。この工程（ｂ）では、上述のように、熱伝導性粒子による紫外線の吸収、反射、散乱などにより、ゴム材料の表面領域に紫外線が照射されてゴム材料の表面領域を選択的に架橋させる。これにより、未架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含むゴム基材と、架橋ゴムと熱伝導性粒子とを含む表面領域から構成される架橋ゴム層とを有する熱伝導性ゴム組成物を形成する。未架橋ゴムの架橋は数回に分けて行ってもよいが、各架橋工程においてゴム材料の表面領域が架橋されるようにする。また、ゴム材料を、紫外線を透過する所定形状の型内に封入した状態で架橋を行うことで、熱伝導性ゴム組成物を所望の形状に成形することができる。この場合、熱伝導性ゴム組成物の形状は、その使用方法や用途に応じて適宜、変更することができ、例えば、シート状、箱状、筒状、多角錐状などの形状を挙げることができる。これ以外にも、熱伝導性ゴム組成物は該熱伝導性ゴム組成物が接触する電子部品等の表面形状に対応する形状を有していてもよい。例えば、電子部品の表面形状の少なくとも一部に対応する形状の凹部、凸部を有する熱伝導性ゴム組成物とすることができる。この場合、凹部を構成する窪み部分の形状、および凸部の形状は、電子部品の表面形状に対応するものであれば特に限定されないが、箱状、円柱状、段階的に深さ又は高さが変化する形状などを挙げることができる。また、熱伝導性ゴム組成物を単独で、またはその他の基材などと組み合わせて用いることができる。例えば、熱伝導性ゴム組成物を有する、シート形状の放熱シートとすることができる。
また、熱伝導性ゴム組成物を有する放熱部材として用いることもできる。放熱部材の形態は特に限定されないが例えば、放熱シート、放熱テープ、放熱接着剤、放熱基板などを挙げることができる。
【００３４】
紫外線の照射源としては特に限定されないが、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、キセノン−水銀ランプ、金属ハライドランプ等を用いればよく、一般に入手し易い高圧水銀灯を挙げることができる。紫外線の照射条件は特に限定されず、未架橋ゴムおよび熱伝導性粒子の種類、ゴム材料中の含量に応じて、ゴム材料の表面領域に選択的に紫外線が照射されるような条件に設定する。例えば、紫外線強度（紫外線照射量）は、５００ｍＪ／ｃｍ２以上８０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ２以上５０００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。紫外線照射時のゴム材料の温度は特に限定されないが、室温付近であれば特に問題はなく、例えば０〜７０℃が好ましく、１０〜４０℃がより好ましい。
【００３５】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の概念および特許請求の範囲に含まれるあらゆる態様を含み、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
【実施例】
【００３６】
次に、本発明の効果をさらに明確にするために、実施例について説明するが、本発明は該実施例に限定されるものではない。
【００３７】
（実施例１）
体積比で、紫外線硬化性液状シリコーンゴム（モメンティブ株式会社製、「Ｓｉｌｏｐｒｅｎ  ＵＶ  ＬＳＲ２０３０」）（未架橋ゴム）  １００に対して、アルミナ粒子（日本軽金属株式会社製、「充填用アルミナ  Ｖ３２５Ｆ」）（熱伝導性粒子）  １００を、遠心脱泡機で６分間混練してゴム材料を得た。次に、得られたゴム材料を透明ポリカーボネート製の樹脂型に入れた後、該ゴム材料の表面にＵＶ強度１７０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間１５ｍｉｎの条件下で紫外線を照射して、該ゴム材料の表面側に位置する紫外線硬化性液状シリコーンゴムを架橋して硬化させた架橋ゴムとした。これにより、紫外線硬化性液状シリコーンゴム（未架橋ゴム）とアルミナ粒子（熱伝導性粒子）を含むゴム基材と、表面側に、架橋ゴムとアルミナ粒子（熱伝導性粒子）を含む厚さが１．２ｍｍの架橋ゴム層とを有するスペーサー（熱伝導性ゴム組成物）を得た。
【符号の説明】
【００３８】
１…架橋ゴム層、２…熱伝導性粒子、３…ゴム基材、４…熱伝導性ゴム組成物、５…架橋ゴム、６…未架橋ゴム
【図１】
2020009811.tif 000003