(57)【要約】      （修正有）【課題】樹脂成形を行うことが可能な温度に成形型が昇温されている状態においても熱による影響を抑えつつ使用することができる成形型クリーニング装置を提供する。【解決手段】成形型クリーニング装置１０は、成形型２５を構成する上型２５１と上型２５１に対向する下型２５２のいずれか一方の表面に付着した付着物を除去する装置であって、上型２５１と下型２５２の間の空間の外に設けられた、レーザビームを出射するレーザ光源１１と、反射鏡１３と、ＸＹステージ（反射鏡移動機構）１４とを有し、反射鏡１３が第１位置にあるときに反射鏡１３で反射されるレーザビームが上型２５１又は下型２５２の表面に照射されるように反射鏡１３の向きが設定されているレーザビーム反射機構と、空間の外に設けられた、レーザビームを第１位置にあるときの反射鏡１３に対して移動させるレーザビーム移動部（レーザビーム移動機構）１２とを備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
成形型を構成する第１型及び該第１型に対向する第２型の少なくともいずれか一方の表面に付着した付着物を除去する装置であって、
a) 前記第１型と前記第２型の間の空間の外に設けられた、前記レーザビームを出射するレーザ光源と、
b) 反射鏡と、該反射鏡を前記空間の中の第１位置と前記空間の外の第２位置との間で移動させる反射鏡移動機構とを有し、該反射鏡が該第１位置にあるときに該反射鏡で反射されるレーザビームが前記第１型又は前記第２型の表面に照射されるように該反射鏡の向きが設定されているレーザビーム反射機構と、
c) 前記空間の外に設けられた、前記レーザビームを前記第１位置にあるときの前記反射鏡に対して移動させるレーザビーム移動機構と
を備えることを特徴とする成形型クリーニング装置。
【請求項２】
前記レーザビーム移動機構がガルバノスキャンヘッドであることを特徴とする請求項１に記載の成形型クリーニング装置。
【請求項３】
前記レーザビーム反射機構が、前記反射鏡の向きを変更する反射方向変更機構をさらに有することを特徴とする請求項１又は２に記載の成形型クリーニング装置。
【請求項４】
前記反射鏡が、互いに向きが異なる第１反射鏡と第２反射鏡を含み、前記レーザビーム反射機構がさらに、前記レーザビームが照射される鏡を切り替える鏡切替機構を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の成形型クリーニング装置。
【請求項５】
さらに、
前記反射鏡の両側部に一対接続された第１回動軸体及び第２回動軸体と、
前記第１回動軸体及び前記第２回動軸体の少なくとも一方を軸方向に可動に保持する回動軸体保持具と
を備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の成形型クリーニング装置。
【請求項６】
表面の少なくとも一部にコーティングが施された前記成形型に付着した付着物を除去する装置であって、
前記レーザ光源及び前記レーザビーム移動機構が、前記付着物上にプラズマを生成したうえで前記付着物が気化する温度以上の温度に該プラズマを加熱可能な照射強度であって、且つ前記コーティングに損傷を与える照射強度よりも低い照射強度で、レーザビームを前記成形型に照射するものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の成形型クリーニング装置。
【請求項７】
前記レーザビーム移動機構が、
前記レーザビームを前記成形型に対して第１方向に往復移動させると共に、
前記レーザビームを該第１方向に片道移動させる毎に、該レーザビームを該第１方向に垂直な第２方向に、該レーザビームが前記成形型に照射されたスポットの1個分だけ移動させる
ものであって、
さらに、前記レーザビーム移動機構と前記成形型の間に、前記第１方向における往復移動の両端の前記スポットの1個分の部分を遮蔽する遮蔽部を備える
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の成形型クリーニング装置。
【請求項８】
成形型を構成する第１型及び該第１型に対向する第２型の少なくともいずれか一方の表面に付着した付着物を除去する方法であって、
前記第１型と前記第２型の間の空間の中に反射鏡を配置し、
前記空間の外に設けられたレーザ光源からレーザビームを出射しつつ、前記空間の外に設けられたレーザビーム移動機構により該レーザビームを前記反射鏡に対して移動させながら、該レーザビームを前記反射鏡に照射し、
前記反射鏡で反射された前記レーザビームを前記第１型又は前記第２型に照射する
ことを特徴とする成形型クリーニング方法。
【請求項９】
前記レーザビーム移動機構がガルバノスキャンヘッドであることを特徴とする請求項８に記載の成形型クリーニング方法。
【請求項１０】
前記反射鏡の向きを変更することを特徴とする請求項８又は９に記載の成形型クリーニング方法。
【請求項１１】
前記反射鏡が、互いに向きが異なる第１反射鏡と第２反射鏡を含み、該レーザビームが照射される鏡を切り替えることを特徴とする請求項８又は９に記載の成形型クリーニング方法。
【請求項１２】
前記反射鏡の両側部に一対接続された第１回動軸体及び第２回動軸体と、前記第１回動軸体及び前記第２回動軸体の少なくとも一方を軸方向に可動に保持する回動軸体保持具とを用いることを特徴とする請求項８〜１１のいずれかに記載の成形型クリーニング方法。
【請求項１３】
表面の少なくとも一部にコーティングが施された前記成形型に付着した付着物を除去する方法であって、
前記付着物上にプラズマを生成したうえで前記付着物が気化する温度以上の温度に該プラズマを加熱可能な照射強度であって、且つ前記コーティングに損傷を与える照射強度よりも低い照射強度で、前記レーザビームを前記成形型に照射することを特徴とする請求項８〜１２のいずれかに記載の成形型クリーニング方法。
【請求項１４】
前記成形型と、請求項１〜７のいずれかに記載の成形型クリーニング装置とを備えることを特徴とする樹脂成形装置。
【請求項１５】
請求項８〜１３のいずれかに記載の成形型クリーニング方法を実施した後、前記成形型を用いて樹脂成形品を製造することを特徴とする樹脂成形品製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成形型クリーニング装置及び方法、樹脂成形装置、並びに樹脂成形品製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
樹脂成形装置において成形型を用いて樹脂成形を行うと、成形品を取り出した後も成形型の表面に樹脂がわずかに付着して残り、同じ成形型で樹脂成形を繰り返し行ううちに付着物が徐々に増加してゆく。このような付着物が成形型の表面に付着した状態で樹脂成形を行うと、付着物の形状が樹脂成形品に転写される可能性がある。
【０００３】
そこで、定期的に樹脂成形品の製造を一時停止し、成形型の付着物を除去するクリーニングが行われる。特許文献１には、成形型を構成する上型と下型の間の空間にレーザ光源を配置し、下型の上面（又は上型の下面）に沿ってレーザ光源を移動させながらレーザビームを下型（上型）に照射することにより、付着物を下型（上型）から剥離させる処理を行う装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開2008-149705号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
樹脂成形の際には、樹脂が溶融等させるために、例えば180℃前後の温度に成形型を昇温しておく必要がある。特許文献１に記載の装置では、成形型を昇温したままの状態でクリーニングを行うと、レーザ光源やそれを移動させる移動装置を成形型の近傍（例えば上型と下型の中間）に配置して使用することから、それらレーザ光源や移動装置が配置される空間の熱や、成形型からの輻射熱等の熱によって、レーザの照射位置等の精度が悪化する等の不具合を生じるおそれがある。このような不具合を回避するために成形型を一旦冷却してからクリーニングを行うと、クリーニング後に樹脂成形のために再び成形型を昇温して安定した温度になるまでの時間を含めて待ち時間が発生し、樹脂成形工程においてタクトタイムが延び、樹脂成形品の製造効率が低下するおそれがある。
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、樹脂成形を行うことが可能な温度に成形型が昇温されている状態においても熱による影響を抑えつつ使用することができる成形型クリーニング装置及び方法、樹脂成形装置、並びに樹脂成形品製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る成形型クリーニング装置は、成形型を構成する第１型及び該第１型に対向する第２型の少なくともいずれか一方の表面に付着した付着物を除去する装置であって、
a) 前記第１型と前記第２型の間の空間の外に設けられた、前記レーザビームを出射するレーザ光源と、
b) 反射鏡と、該反射鏡を前記空間の中の第１位置と前記空間の外の第２位置との間で移動させる反射鏡移動機構とを有し、該反射鏡が該第１位置にあるときに該反射鏡で反射されるレーザビームが前記第１型又は前記第２型の表面に照射されるように該反射鏡の向きが設定されているレーザビーム反射機構と、
c) 前記空間の外に設けられた、前記レーザビームを前記第１位置にあるときの前記反射鏡に対して移動させるレーザビーム移動機構と
を備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明に係る成形型クリーニング方法は、成形型を構成する第１型及び該第１型に対向する第２型の少なくともいずれか一方の表面に付着した付着物を除去する方法であって、
前記第１型と前記第２型の間の空間の中に反射鏡を配置し、
前記空間の外に設けられたレーザ光源からレーザビームを出射しつつ、前記空間の外に設けられたレーザビーム移動機構により該レーザビームを前記反射鏡に対して移動させながら、該レーザビームを前記反射鏡に照射し、
前記反射鏡で反射された前記レーザビームを前記第１型又は前記第２型に照射する
ことを特徴とする。
【０００９】
本発明に係る樹脂成形装置は、前記成形型と、前記成形型クリーニング装置とを備えることを特徴とする。
【００１０】
本発明に係る樹脂成形品製造方法は、前記成形型クリーニング方法を実施した後、前記成形型を用いて樹脂成形品を製造することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、樹脂成形を行うことが可能な温度に成形型が昇温されている状態においても熱による影響を抑えつつ使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】クリーニング後であって未だ樹脂成形を行っていない成形型(a)、並びにクリーニング後に樹脂成形を200回(b)、400回(c)、600回(d)及び800回(e)、それぞれ行った後の成形型につき、表面を撮影した電子顕微鏡写真。
【図２】本発明に係る成形型クリーニング装置及びそれを有する樹脂成形装置の一実施形態を示す概略構成図。
【図３】本実施形態の樹脂成形装置における成形型及びその近傍の拡大図。
【図４】レーザビーム移動部によるレーザビームが移動する様子を示す平面図(a)及び側面図(b)。
【図５】本実施形態の成形型クリーニング装置における反射鏡及びその付属部の斜視及び部分断面図。
【図６】反射鏡の付属部の部分断面拡大図であって、一方の回動軸体付近を表す図(a)、他方の回動軸体付近(b)を表す図、並びに他方の回動軸体が(b)の場合よりも反射鏡の反対側に移動した状態を示す図(c)。
【図７】反射鏡を把持する１対の把持具をシャフトで接続した状態を示す図(a)、及び一方の把持具が(a)の場合よりも反射鏡の反対側に移動した状態を示す図(b)。
【図８】本実施形態の成形型クリーニング装置が使用位置(a)及び待機位置(b)にある状態を示す概略図。
【図９】レーザ光源及びレーザビーム移動部と反射鏡を、Ｙ方向に延びる連結棒で連結した構成を示す図。
【図１０】Ｘ方向におけるレーザビームの照射範囲よりもＸ方向の幅が大きい反射鏡を用いる例を示す図。
【図１１】本実施形態の樹脂成形装置における樹脂成形時の動作であって、リードフレームを下型に載置すると共に樹脂材料を下型のポットに供給した状態を示す図(a)、及び成形型を型締めして樹脂材料をキャビティに供給した状態を示す図(b)。
【図１２】パルスレーザビームのスポットがジグザグ状に移動してゆく様子を示す図。
【図１３】下型又は上型の表面におけるレーザビームの軌跡（細実線）と、レーザビームが1回ジグザグ移動することによりレーザビームが照射される領域の境界（太破線）を示す図。
【図１４】成形型にパルスレーザビームが照射されることによって成形型の表面近傍にプラズマが生成される状態を示す概略図(a)、及び、プラズマにパルスレーザビームが繰り返し照射されることによってプラズマが加熱され、付着物が気化する状態を示す概略図(b)。
【図１５】遮蔽部を用いる例を示す上面図(a)及び縦断面図(b)。
【図１６】下型又は上型の表面におけるレーザビームの軌跡の他の例であって、照射領域内を繰り返し片道移動する例(a)、及び下型又は上型の表面全体をジグザグ状に移動する例(b)を示す図。
【図１７】反射鏡をＸ方向に移動させるＸ方向移動機構の例を示す概略図。
【図１８】本発明に係る成形型クリーニング装置の他の実施形態を示す平面図。
【図１９】本発明に係る成形型クリーニング装置のさらに別の実施形態を示す図であって、第１の反射鏡を使用する状態を示す平面図(a-1)及び側面図(a-2)、並びに第２の反射鏡を使用する状態を示す平面図(b)。
【図２０】成形モジュール等の複数のモジュールから成る樹脂成形ユニットの一例を示す概略構成図。
【図２１】樹脂成形ユニットにおいて成形モジュールの1つに成形型クリーニング装置が搬入された状態を示す概略構成図。
【図２２】複数のモジュールから成る樹脂成形ユニットの他の例を示す概略構成図。
【図２３】断面が円形であるレーザビームのスポット(a)及び該スポットが移動してゆく様子(b)、並びに断面が円環状であるレーザビームのスポット(c)及び該スポットが移動してゆく様子(d)を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明に係る成形型クリーニング装置では、樹脂成形を一時停止したうえで成形型に対してレーザビームを照射することによる処理（成形型クリーニング装置ではクリーニング）を行う際に、反射鏡移動機構によって反射鏡を第１型と第２型の間の空間の中である第１位置に移動させたうえで、該空間の外に設けられたレーザ光源によってレーザビームを該反射鏡に照射する。これにより、レーザビームは反射鏡で反射されて第１型又は第２型の表面に照射される。ここで、前記空間の外に設けられたレーザビーム移動機構によって、レーザビームを反射鏡に対して移動させることにより、第１型又は第２型の表面に照射されるレーザビームのスポットが該表面上を移動する。これにより、第１型又は第２型の表面の一定の範囲内にレーザビームが照射される。これにより、第１型又は第２型に対して、それらの表面に付着していた付着物を除去（クリーニング）する等の処理が施される。成形型の処理が終了した後、反射鏡を前記空間の外である第２位置に移動させたうえで、樹脂成形を再開する。
【００１４】
本発明に係る成形型クリーニング装置によれば、第１型や第２型が昇温されている状態であっても、レーザ光源及びレーザビーム移動機構は該空間の外に設けられているため、それらが受ける、該空間内の熱あるいは第１型や第２型からの輻射熱等の熱による影響を抑えることができる。一方、反射鏡は、前記空間内に配置されるものの、レーザ光源及びレーザビーム移動機構よりも熱の影響を受け難い。これらの理由により、本発明に係る成形型クリーニング装置は、樹脂成形を行うことが可能な温度に成形型が昇温されている状態においても熱による影響を抑えつつ使用することができる。
【００１５】
本発明に係る成形型クリーニング装置において、前記レーザビーム移動機構はガルバノスキャンヘッドであることが好ましい。ガルバノスキャンヘッドは、1つの回動軸で回動する鏡を1個、又は回動軸の傾きが異なる鏡を2個組み合わせて用いることにより、レーザビームを1方向又は異なる2方向に移動させる装置である。これにより、第１型や第２型の表面に照射されるレーザビームのスポットを１次元状又は２次元状に移動させることができる。ガルバノスキャンヘッドは、レーザビームのスポットを高速に移動させることができるため処理時間を短くすることができる。また、レーザビームのスポットを移動させる際にガルバノスキャンヘッド自体を成形型に対して移動させる必要がないため、設置スペースを小さくすることができる。
【００１６】
本発明に係る成形型クリーニング装置はさらに、反射鏡の向きを変更する反射方向変更機構を有するという構成を取ることができる。あるいは、本発明に係る成形型クリーニング装置は、前記反射鏡が、互いに向きが異なる第１反射鏡と第２反射鏡を含み、前記レーザビーム反射機構がさらに、前記レーザビームが照射される鏡を切り替える鏡切替機構を備えるという構成を取ることもできる。いずれの場合にも、第１型や第２型にレーザビームが入射する角度を変更することができる。例えば、レーザビームが或る方向に向かって第１型に照射されているときに、第１型のキャビティを構成する壁面がそのレーザビームに平行である場合には、入射角を変更することによって、その壁面にレーザビームを照射し易くすることができる。
【００１７】
本発明に係る成形型クリーニング装置はさらに、
前記反射鏡の両側部に一対接続された第１回動軸体及び第２回動軸体と、
前記第１回動軸体及び前記第２回動軸体の少なくとも一方を軸方向に可動に保持する回動軸体保持具と
を備えるという構成を取ることができる。これにより、樹脂成形時に生成された熱によって成形型の処理時に反射鏡が熱膨張したり、あるいは反射鏡を第２位置に移動させることでの温度が低下することにより反射鏡が収縮しても、回動軸体保持具に保持された回動軸体が軸方向に移動し、反射鏡が軸方向に膨張又は収縮することが許容されるため、反射鏡の変形を抑えることができる。なお、第１回動軸体と第２回動軸体の双方をそれぞれ回動軸体保持具に軸方向に可動に保持するようにしてもよいし、他方の回動軸体を（回動軸の周りに回動することを許容しつつ）軸方向に固定するようにしてもよい。
【００１８】
本発明に係る成形型クリーニング装置は、表面の少なくとも一部にコーティングが施された前記成形型に付着した付着物を除去する装置であって、前記レーザ光源及び前記レーザビーム移動機構は、前記付着物上にプラズマを生成したうえで前記付着物が気化する温度以上の温度に該プラズマを加熱可能な照射強度であって、且つ前記コーティングに損傷を与える照射強度よりも低い照射強度で、レーザビームを前記成形型に照射するものであることが望ましい。
【００１９】
これにより、付着物の少なくとも一部は、それが気化する温度以上の温度に加熱されて気化し、成形型の表面から除去される。一方、成形型の表面には多くの場合、クロム等から成るコーティングが施されており（なお、本発明では成形型のコーティングの材料は特に限定されない）、付着物を除去する際にこのコーティングが損傷することを抑制する必要がある。レーザビームが成形型のコーティングに与えるダメージについての知見を得るために、本発明者が成形型の表面を観察することで付着物の形成過程を調べたところ、付着物は、初めは点状に付着し、その後徐々に成形型のキャビティ面のほぼ全面を覆う皮膜状の形状に近づいてゆくことが明らかになった（図１の電子顕微鏡写真に、符号Aを付して付着物を示す）。そのため、付着物が点状である段階でレーザビームを照射したときに、点状又は十分に面積が拡がっていない付着物の間隙（付着物が付着していない部分）が存在することにより、レーザビームがコーティングに直接照射され、それによりコーティングにダメージを与えるおそれがある。そこで、コーティングに損傷を与える照射強度よりも低い照射強度でレーザビームを成形型に照射することにより、コーティングが受けるダメージを抑えることができる。
【００２０】
ここで成形型に照射されるレーザビームの照射強度は、レーザ光源から出射するレーザビームの強度及びレーザビーム移動機構によるレーザビームの移動速度を、例えば、1秒あたりの走査レーザパワー密度が2〜15W/cm2となるように調整することにより定めることができる。「1秒あたりの走査レーザパワー密度」は、単位面積（単位・cm2）に単位時間（同・sec（秒））照射されるレーザのエネルギー（同・J（ジュール）=Wsec（ワット秒））で定義され、その単位はJ/(cm2sec)=Wsec/(cm2sec)、すなわちW/cm2で表される。この1秒あたりの走査レーザパワー密度は、照射されるレーザビームの平均出力を、1秒間にレーザビームのスポットが成形型に対して相対的に移動する距離と該スポットの幅とから導き出される面積とスポット1個分（移動前の初期位置に照射された分）の面積との和で除することにより求めることができる（言い換えると、1秒あたりの走査レーザパワー密度は、1秒間にレーザビームが移動しながら照射される部分における単位面積あたりの出力である）。
【００２１】
1秒あたりの走査レーザパワー密度を2〜15W/cm2とする場合において、レーザ光源が1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04〜0.7J/cm2であるパルスレーザビームを出射することが望ましい。また、1秒あたりの走査レーザパワー密度を2〜15W/cm2とする場合において、隣接パルスレーザビームの重なり率（後述）を85％以上とすることが望ましい。これらのいずれか一方又は両方の構成を取ることにより、成形型の表面に付着した付着物上にプラズマを生成しつつ、様々な種類の付着物が気化する温度以上の温度にプラズマを加熱することができる。
【００２２】
ここで「重なり率」とは、プラズマが生成される空間中において1つのパルスレーザビームが占める体積のうち、隣接して生成されるパルスレーザビームと重なり合う部分の体積の割合で定義される。隣接する2つのパルスレーザビームが平行であれば、重なり率は、プラズマが生成される空間中の任意の位置における1つのパルスレーザビームのそれに垂直な断面のうち、隣接して生成されるパルスレーザビームのそれに垂直な断面と重なり合う部分の面積の割合で求めることができる。重なり率の逆数は、同一箇所に照射されるパルスレーザビームの回数に該当する。なお、仮にパルスレーザビームを移動させなければ重なり率が100％となるが、本発明ではパルスレーザビームを移動させるため、重なり率は100％未満である。
【００２３】
本発明に係る成形型クリーニング装置において、
前記レーザビーム移動機構が、
前記レーザビームを前記成形型に対して第１方向に往復移動させると共に、
前記レーザビームを該第１方向に片道移動させる毎に、該レーザビームを該第１方向に垂直な第２方向に、該レーザビームが前記成形型に照射されたスポットの1個分だけ移動させる
ものであって、
さらに、前記レーザビーム移動機構と前記成形型の間に、前記第１方向における往復移動の両端の前記スポットの1個分の部分を遮蔽する遮蔽部を備える
ことが望ましい。これにより、前記両端においてレーザビームが第２方向に移動する際に、該両端以外の位置と対比して過剰に照射されるレーザビームを遮蔽部が遮蔽するため、成形型の表面をより高い均一性でクリーニングすることができる。
【００２４】
ここまで、本発明に係る成形型クリーニング装置について説明したが、成形型クリーニング方法、樹脂成形装置、並びに樹脂成形品製造方法も同様の作用・効果を奏する。
【００２５】
以下、図２〜図２３を参照しつつ、本発明に係る成形型クリーニング装置及び方法、樹脂成形装置、並びに樹脂成形品製造方法のより具体的な実施形態を説明する。
【００２６】
(1) 本実施形態の成形型クリーニング装置及び樹脂成形装置の構成
図２に示すように、本実施形態の成形型クリーニング装置１０は、本実施形態の樹脂成形装置１の構成要素の一部である。樹脂成形装置１は、成形型クリーニング装置１０と共に樹脂成形部２０を有する。
【００２７】
まず、樹脂成形部２０の構成を説明する。樹脂成形部２０は、本実施形態では移送（トランスファー）成形を行う装置であって、基盤２１１と、基盤２１１上に立設された4本（図２には2本のみ示す）のタイバー２１２と、上下に移動可能なようにタイバー２１２に保持された可動プラテン２２１と、タイバー２１２の上端に固定された固定プラテン２２２と、基盤２１１上に設けられた、可動プラテン２２１を上下動させるトグルリンク２１３とを備える。可動プラテン２２１の上面と固定プラテン２２２の下面の間には、上型（第１型）２５１と下型（第２型）２５２とが対向して設けられた成形型２５が配置されている。
【００２８】
図３に、成形型２５及びその近傍を拡大して示す。上型２５１の下面には上方に向かってキャビティＣが2個並んで形成されており、下型２５２の上面にも下方に向かってキャビティＣが2個並んで形成されている。上型２５１の下面、下型２５２の上面、並びに各キャビティＣを囲む上型２５１及び下型２５２の面には、窒化クロム製のコーティングＣＴが施されている。コーティングＣＴには、窒化クロムの代わりに、ハードクロム等の他の材料を用いてもよい。本実施形態では、キャビティは直方体状とするが、製造する樹脂成形品の形状に応じて円柱状等の形状とすることもできる。
【００２９】
下型２５２の2個のキャビティＣの周囲にある下型２５２の上面はそれぞれ、リードフレームＬを載置することができるようになっている。なお、リードフレームＬの代わりに、基板等を下型２５２の上面に載置してもよい。
【００３０】
下型２５２の2個のキャビティＣの間には、樹脂材料を収容するポット２５２１及びポット２５２１から樹脂材料を押し出すプランジャ２５２２が設けられている。また、下型２５２の2個のキャビティＣはそれぞれ、後述のように軟化又は溶融した樹脂材料が通過する通路であるランナ２５２３によりポット２５２１と接続されている。上型２５１の2個のキャビティＣの間であってポット２５２１と対向する位置には、カルブロック２５１１が設けられている。上型２５１の2個のキャビティＣはそれぞれ、ランナ２５１３によってカルブロック２５１１の直下の空間と接続されている。
【００３１】
また、樹脂成形部２０は、上型２５１及び下型２５２を昇温して樹脂成形時にリードフレームＬ及び樹脂材料を所定の温度に維持するヒータプレート２５３を有する。ヒータプレート２５３にはヒータ２５３１が内蔵されている。ヒータ２５３１には、例えばカートリッジヒータを用いることができる。
【００３２】
成形型クリーニング装置１０は、レーザ光源１１と、レーザビーム移動部（レーザビーム移動機構）１２と、反射鏡１３と、ＸＹステージ１４と、ＸＹステージドライバ１５とを有する。
【００３３】
レーザ光源１１はパルスレーザを出射する光源である。本実施形態では、レーザ光源１１が出射するパルスレーザは、後述の理由により、1パルスあたりのレーザフルエンスを0.04〜0.7J/cm2の範囲内、1秒あたりの走査レーザパワー密度を2〜15W/cm2の範囲内、パルス幅を1〜200nsecの範囲内、パルス繰り返し周波数を300kHz〜10MHzの範囲内とする。また、本実施形態では、レーザ光源１１は、ビームに垂直な断面での形状（ビームスポット）が正方形となるように成形されていると共に該断面の中央から端部まで略等しいトップハット型の照射強度分布を有するパルスレーザビームを出射するものを用いる。なお、ビームスポットの形状は、長方形、円形、円環状等の、正方形以外の形状であってもよい。ここでビームスポットの範囲（サイズ）は、1/e2法（86%法）で定義される。スポットサイズはオフィール社、又はコヒレント社製のカメラ式ビームプロファイラで測定することができる。また、オフィール社、又はコヒレント社製のパワーメータを用いて、レーザビームの平均出力を求め、スポットサイズ及びレーザビームの平均出力から1秒あたりの走査レーザパワー密度を求めることができる。1パルスあたりのレーザフルエンスは、上記のレーザビームの平均出力をパルス繰り返し周波数で除した値である。パルス幅は、アジレント・テクノロジー社製のオシロスコープを用いて測定することができる。なお、レーザビームの平均出力は「レーザビームの平均出力[W]＝パルスエネルギー[J]×パルス繰返し周波数[Hz]」の式で求めることができる。
【００３４】
レーザビーム移動部１２は、ガルバノスキャンヘッド１２１とレンズ１２２とを有する（図４参照）。ガルバノスキャンヘッド１２１は、レーザ光源１１から導入されるパルスレーザビームＢを、Ｘ方向（図２の紙面に垂直な方向）に繰り返し往復移動させる（図４(a)）と共に、Ｚ方向（図２の縦方向）にも移動させる（図４(b)）ように出射する。レーザビーム移動部１２によるパルスレーザビームの移動速度は、本実施形態では重なり率が85％以上となるようにする。この移動の際に、、パルスレーザビームＢの移動範囲の大きさによっては中心位置付近と端部付近でスポットサイズが変化する可能性があり、そうすると照射強度が位置によって変化してしまう。そこで、レンズ１２２にテレセントリック又は照射深度が十分に長いものを用いることにより、位置によるスポットサイズの変化を抑制することが望ましい。なお、図４に示した例ではガルバノスキャンヘッド１２１の後段にレンズ１２２を配置したが、ガルバノスキャンヘッド１２１の前段に、複数枚のレンズを有する電動式ビーム径可変レンズ（図示省略）を配置してもよいし、レンズ１２２と電動式ビーム径可変レンズを併用してもよい。電動式ビーム径可変レンズを用いる場合には、前記繰り返し往復移動に合わせてビーム径を変化させることにより、成形型２５の表面におけるスポットサイズを略一定にすることができる。
【００３５】
反射鏡１３は、パルスレーザビームＢを反射する鏡であって、レーザビーム移動部１２がパルスレーザビームＢを往復移動させる範囲よりも広い幅をＸ方向に有する。反射鏡１３には、例えば合成石英ガラス（フューズドシリカ）を含む鏡を用いることができる。また、反射鏡１３の表面には、金属膜から成るコーティングが施されていてもよい。そのようなコーティングとして、金製のもの、銀製のもの、アルミ製のもの、誘電体多層膜等から最適ものを選択すればよい。
【００３６】
反射鏡１３は、図５に示すように、Ｘ方向の一方の端が第１把持具１３１Ｌで、他方の端が第２把持具１３１Ｒで、それぞれ把持されている。第１把持具１３１Ｌ、第２把持具１３１Ｒにはそれぞれ、Ｘ方向に延びる第１回動軸体１３２Ｌ、第２回動軸体１３２Ｒが設けられている。第１回動軸体１３２Ｌは軸受１３３Ｌに挿通されている。また、第２回動軸体１３２Ｒは、回動軸体可動保持具１３３Ｒに挿通されている。回動軸体可動保持具１３３Ｒは軸受であってもよい。なお、図５では、斜視図中に、第１回動軸体１３２Ｌ及び第２回動軸体１３２Ｒを通過するＺ方向の断面を合わせて示すと共に、反射鏡１３に関しては該断面よりもＹ方向の奥側を実線で示し、手前側を破線で示している（すなわち、反射鏡１３はこの破線の部分にも存在する）。
【００３７】
図６(a)に拡大して示すように、軸受１３３Ｌよりも回動軸方向の外側（Ｘ方向で反射鏡１３の反対側）の第１回動軸体１３２Ｌの表面には、回動軸の回りを１周する溝１３２１Ｌが設けられている。溝１３２１Ｌには、第１固定具１３５Ｌが嵌め込まれている。なお、第１固定具１３５Ｌは溝１３２１Ｌより延出していればよく、軸受１３３Ｌよりも外径が小さい。第１固定具１３５Ｌは、第１回動軸体１３２Ｌにその径が異なるように形成された段差と第１固定具１３５Ｌで軸方向に挟むことにより、第１回動軸体１３２ＬがＸ方向の回動軸の回りに回動することを許容しつつ、軸受１３３Ｌを介して該回動軸に平行な方向にはほとんど移動しないように規制している。軸受１３３Ｌは、軸受保持部１３４Ｌと、反射鏡１３から見て該軸受保持部１３４Ｌの外側に設けられた軸受固定具１３７Ｌに挟まれて固定されている。
【００３８】
また、図６(b)に拡大して示すように、回動軸体可動保持具１３３Ｒよりも回動軸方向の外側の第２回動軸体１３２Ｒの表面には溝１３２１Ｒが設けられている。溝１３２１Ｒには、第２固定具１３５Ｒが嵌め込まれている。なお、第２固定具１３５Ｒは、溝１３２１Ｒの全体に亘って設ける必要はない。回動軸体可動保持具１３３Ｒは、第２回動軸体１３２Ｒにその径が異なるように形成された段差と第２固定具１３５Ｒで軸方向に挟むことにより、軸方向には第２回動軸体１３２Ｒとの位置関係を固定しつつ、第２回動軸体１３２ＲがＸ方向の回動軸の回りに回動することが許容されるよう、該第２回動軸体１３２Ｒを保持している。回動軸体可動保持具１３３Ｒは、外側保持具１３４Ｒに保持されており、該外側保持具１３４Ｒに対して、第２回動軸体１３２Ｒと共に軸方向に移動可能となっている。図６(c)に、(b)の場合よりも反射鏡１３が膨張し、それに伴って第２回動軸体１３２Ｒ及び回動軸体可動保持具１３３Ｒが反射鏡１３の反対側に移動した状態の例を示す。このように第２回動軸体１３２Ｒ及び回動軸体可動保持具１３３Ｒが移動することにより、反射鏡１３に加わる負荷を抑え、反射鏡１３の変形を抑制することができる。反射鏡１３が収縮する際には第２回動軸体１３２Ｒ及び回動軸体可動保持具１３３Ｒが逆方向に移動し、それによって反射鏡１３の変形を抑制することができる。なお、回動軸体可動保持具１３３Ｒ、外側保持具１３４Ｒ及び第２固定具１３５Ｒを合わせたものを回動軸体可動保持具とみなしてもよい。
【００３９】
ここでは１対の回動軸体のうちの一方（第１回動軸体１３２Ｌ）を第１固定具１３５Ｌ並びに軸受保持部１３４Ｌ及び軸受固定具１３７Ｌで固定された軸受１３３Ｌによって回動軸に平行な方向にはほとんど移動しないように規制しているが、双方の回動軸体を回動軸体可動保持具及び留め具によって回動軸に平行な方向に一定の範囲内で可動としてもよい。
【００４０】
図７(a)に示すように、第１把持具１３１Ｌと第２把持具１３１Ｒは、反射鏡１３の背面側（図５に示した反射鏡１３の裏側）において、２本のシャフト１３８（図５では図示省略）で連結されている。シャフト１３８は、第１把持具１３１Ｌには固定されているのに対して、第２把持具１３１Ｒにはすべり軸受（ブッシュ）１３９を介して取り付けられている。シャフト１３８は、反射鏡１３が回動する際に反射鏡１３に生じる捻れ等の負荷を減少させる役割を有する他、組立時に、第１回動軸体１３２Ｌと第２回動軸体１３２Ｒの回転軸中心を合わせる役割を有する。図７(b)に、(a)の場合よりも反射鏡１３が膨張し、それに伴って第２把持具１３１Ｒが反射鏡１３の反対側に移動した状態の例を示す。このように第２把持具１３１Ｒが移動することにより、反射鏡１３に加わる負荷を抑え、反射鏡１３の変形を抑制することができる。反射鏡１３が収縮する際には第２把持具１３１Ｒが逆方向に移動し、それによって反射鏡１３の変形を抑制することができる。
【００４１】
反射鏡１３にはさらに、回動軸の周りに該反射鏡１３を回転させるモータ（反射方向変更機構）１３６（図２参照）が、例えばギア、又はプーリ及びベルトといった動力伝達機構（図示省略）を介して接続されている。動力伝達機構は、通常、軸受保持部１３４Ｌ又は外側保持具１３４Ｒの少なくとも一方に作用する。動力伝達機構から軸受保持部１３４Ｌ及び外側保持具１３４Ｒの一方に伝達された動力は、反射鏡１３を介して他方に伝達される。その際、シャフト１３８は反射鏡１３に掛かる捻れ等の負荷を減少させるよう働くため、反射鏡１３の厚みが十分に厚くない場合であっても、変形を抑制できる。モータ１３６によって、反射鏡１３の反射面が下向き且つＹ軸に対して45°傾斜したときには、パルスレーザビームＢは下型２５２の表面に垂直に照射される。また、反射鏡１３の反射面が上向き且つＹ軸に対して45°傾斜したときには、パルスレーザビームＢは上型２５１の表面に垂直に照射される。一方、反射鏡１３の反射面が下向き又は上向きであってＹ軸に対して45°以外の角度で傾斜したときには、パルスレーザビームＢは下型２５２又は上型２５１の表面に対して傾斜した角度で照射される。
【００４２】
レーザ光源１１、レーザビーム移動部１２及び反射鏡１３は、ＸＹステージ１４上に取り付けられている。ＸＹステージ１４は、ＸＹステージドライバ１５の制御により、これらレーザ光源１１、レーザビーム移動部１２及び反射鏡１３を、それら3つの構成要素の相対的な位置関係を維持しつつＸ方向及びＹ方向に移動させる。このＸＹステージ１４により、クリーニング時には、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれ、上型２５１及び下型２５２のＸ方向及びＹ方向の幅よりもやや広い範囲内で反射鏡１３等が移動する。それと共にＸＹステージ１４は、Ｙ方向には、成形型クリーニング装置１０の位置を、クリーニング時には反射鏡１３が上型２５１と下型２５２の間の空間内に配置される使用位置（図８(a)）に、樹脂成形時には反射鏡１３を含む成形型クリーニング装置１０の全体が前記空間の外の位置である待機位置（図８(b)）に、それぞれ配置されるように移動させる機能も有する。
【００４３】
ＸＹステージ１４は、レーザ光源１１、レーザビーム移動部１２及び反射鏡１３の相対的な位置関係を維持しつつＸ方向に移動させるために、図９に示すように、レーザ光源１１及びレーザビーム移動部１２と反射鏡１３を、Ｙ方向に延びる連結棒１４１で連結するようにしてもよい。ここでレーザ光源１１及びレーザビーム移動部１２は台１１２上に載置し、この台１１２に連結棒１４１を固定する。反射鏡１３の側では、軸受保持部１３４Ｌ及び外側保持具１３４Ｒに連結棒１４１を固定する。これら軸受保持部１３４Ｌ及び外側保持具１３４Ｒには、第１回動軸体１３２Ｌ及び第２回動軸体１３２Ｒと同方向に延びる穴（図示せず）を設けられており、この穴に挿通されるガイド棒１４２に沿って反射鏡１３及びその付属品である軸受保持部１３４Ｌや外側保持具１３４ＲがＹ方向に移動するようになっている。このような構成により、Ｙ方向に離れて配置されているレーザ光源１１及びレーザビーム移動部１２と反射鏡１３を、1個の動力源（図示せず）のみによりＸ方向に移動させることができる。このように動力源の数を少なくすることにより、動力源が成形型から受ける熱による影響を抑えるために該動力源を冷却する冷却機構（図示せず）の数も少なくすることができる。
【００４４】
なお、上型２５１と下型２５２のＸ方向の幅がレーザビーム移動部１２によるパルスレーザビームＢの往復移動の範囲よりも狭い場合には、ＸＹステージ１４及びＸＹステージドライバ１５の代わりに、上記3つの構成要素をＹ方向のみに移動させる機構を用いてもよい。あるいは、レーザ光源１１及びレーザビーム移動部１２と反射鏡１３のＹ方向の相対的な位置関係を維持することは必須ではなく、Ｙ方向には反射鏡１３のみを移動させるようにしてもよい。また、図１０に示すように、成形型２５のＸ方向におけるレーザビームの照射範囲よりもＸ方向の幅が大きい反射鏡１３Ｗを用いる場合には、レーザ光源１１及びレーザビーム移動部１２のみをＹ方向に移動させればよく、Ｘ方向には反射鏡１３Ｗを移動させる必要はない。
【００４５】
成形型クリーニング装置１０は、上記の各構成要素の他に、上型２５１及び下型２５２の間の空間において気体を吸引して樹脂成形装置１の外に排出する気化付着物除去部（図示省略）を有していてもよい。この場合にはさらに、気化付着物除去部に気化付着物捕集フィルタ（図示省略）を設けてもよい。
【００４６】
(2) 本実施形態の成形型クリーニング装置及び樹脂成形装置の動作、並びに本実施形態の成形型クリーニング方法及び樹脂成形方法
本実施形態の成形型クリーニング装置１０及び樹脂成形装置１の動作、並びに本実施形態の成形型クリーニング方法及び樹脂成形方法を説明する。以下ではまず、樹脂成形装置１中の樹脂成形部２０による（成形型のクリーニングの動作を除いた）樹脂成形時の動作を説明し、次に樹脂成形装置１中の成形型クリーニング装置１０の動作を説明する。この成形型クリーニング装置１０の動作が、本発明に係る成形型クリーニング方法の実施形態に該当する。また、樹脂成形部２０の動作と成形型クリーニング装置１０の動作を組み合わせたものが、本発明に係る樹脂成形方法の実施形態に該当する。
【００４７】
(2-1) 樹脂成形部２０による樹脂成形時の動作
図１１を用いて、樹脂成形部２０により樹脂成形品を製造する際の動作を説明する。樹脂成形品を製造する際には予め、ＸＹステージ１４により、成形型クリーニング装置１０の全体を待機位置（図８(b)）に移動させておく。待機位置は前述のように上型２５１と下型２５２の間の空間の外の位置であり、樹脂成形品を製造する際の樹脂成形部２０の動作を成形型クリーニング装置１０が妨げることはない。
【００４８】
まず、可動プラテン２２１を降下させることにより、上型２５１と下型２５２を上下に離した型開きの状態とする（図１１(a)）。この状態で、電子部品を上面及び下面に装着したリードフレームＬを、該電子部品とキャビティＣの横方向の位置を合わせるようにして、下型２５２の上面に載置する。また、図示せぬ樹脂材料供給機構により、ポット２５２１内にタブレット状の樹脂材料Ｐを供給する。樹脂材料Ｐは、例えば熱硬化性樹脂（エポキシ系樹脂等）を含有する複合材料である。樹脂材料Ｐには、ワックス（高級脂肪酸エステル等）、硬化促進剤（リン系触媒、アミノ系触媒等）、カップリング剤、着色剤、難燃剤、難燃助剤等が含まれていてもよい。樹脂材料供給機構は、従来の樹脂成形装置で広く用いられているものであり、詳細な説明を省略する。樹脂材料Ｐ内の熱硬化性樹脂は、ヒータプレート２５３から供給される熱によって、ポット２５２１内で軟化又は溶融する。上型２５１もヒータプレート２５３により所定の温度に昇温された状態としておく。
【００４９】
ポット２５２１内の熱硬化性樹脂が軟化又は溶融したところで、トグルリンク２１３により可動プラテン２２１を上昇させる（図１１(b)）。これにより、可動プラテン２２１上の下型２５２がリードフレームＬを介して上型２５１に当接して該上型２５１を押し、上型２５１が固定プラテン２２２に固定されていることから、成形型２５が型締めされる。この状態でプランジャ２５２２を上昇させることにより、ポット２５２１内の樹脂材料Ｐを、ランナ２５１３及び２５２３を通して上型２５１及び下型２５２のキャビティＣに供給する。所定時間が経過すると、樹脂材料Ｐ内の熱硬化性樹脂が硬化し、リードフレームＬに樹脂がモールドされた樹脂成形品が得られる。その後、トグルリンク２１３により可動プラテン２２１を下降させることにより成形型２５を型開きし、樹脂成形品を成形型２５から取り外す。
【００５０】
ここまでの動作を繰り返し行うことにより、樹脂成形品を多数製造することができる。しかし、樹脂成形品の製造を繰り返し行う間に、樹脂材料Ｐに含まれる熱硬化性樹脂やフィラー等の一部が徐々に成形型２５の表面に付着してゆく。そこで、樹脂成形品を所定個数製造する毎、あるいは所定時間毎に、以下に述べるように成形型クリーニング装置１０を動作させることにより、成形型２５の表面をクリーニングする。
【００５１】
(2-2) 成形型クリーニング装置１０の動作
まず、成形型２５が型開きしている状態で、ＸＹステージ１４により、成形型クリーニング装置１０を使用位置（図８(a)）、すなわち反射鏡１３が上型２５１と下型２５２の間に配置されるように移動させる（図２参照）。このとき、反射鏡１３の反射面は、上向き及び下向きのいずれの状態であってもよく、前者の場合にはまず上型２５１をクリーニングし、後者の場合にはまず下型２５２をクリーニングすることになる。以下では、この時点での反射鏡１３が、図２及び図４(b)に実線で示すように反射面が下向きである場合を例として説明する。成形型２５に付着した付着物は、樹脂材料Ｐ、基板又はリードフレームに含まれるいずれかの材料・成分が含有しいる。また、パーティング面（上型２５１の下面及び下型２５２の上面）やランナなどの樹脂通路にも付着物が付着する場合があり、それらが連続成形を阻害するおそれがある。
【００５２】
この状態で、レーザ光源１１は、上述した1パルスあたりのレーザフルエンス及びパルス幅を有するパルスレーザビームＢを上述のパルス繰り返し周波数で出射する。これにより、パルスレーザビームＢは、反射鏡１３で90°反射されて下型２５２の表面に照射される。その際、レーザビーム移動部１２は、図４(a)の平面図及び(b)の側面図で概念的に示すように、パルスレーザビームＢを、Ｘ方向には所定範囲（同図中のＸＬとＸＲの間の範囲）内で繰り返し往復移動させつつ、Ｘ方向に片道1回移動する毎にＺ方向にパルスレーザビームＢのスポットＢＳの1個分ずつ所定範囲（同図中のＺＴとＺＢの間の範囲）内で移動させる。これにより、下型２５２の表面では、まず、パルスレーザビームＢのスポットがＸ方向に前記所定範囲だけ移動する（図４(a)）。その後、パルスレーザビームＢがスポットＢＳの1個分だけＺ方向に移動すると、パルスレーザビームＢが反射鏡１３で90°反射されて下型２５２の表面に生じるスポットＢＳはＹ方向に1個分だけ移動する（図４(b)）。これにより、下型２５２の表面におけるスポットＢＳは、Ｘ方向に片道移動し、続いてスポットＢＳの1個分だけＹ方向に移動し、Ｘ方向に先程とは逆向きに移動する、というジグザグの移動を繰り返す（図１２）。
【００５３】
このようにスポットＢＳがジグザグに移動することにより、パルスレーザビームＢは下型２５２の表面の一部又は全部の範囲内に照射される。ここでパルスレーザビームＢが下型２５２の表面の一部にのみ照射される場合には、1回のジグザグ移動によるパルスレーザビームＢの照射が終了した後、ＸＹステージ１４は反射鏡１３を下型２５２の表面のうち未だパルスレーザビームＢが照射されていない領域の上に移動させる。なお、十分な可動距離を持つ電動ビーム径可変レンズを搭載した場合は、内部のレンズでスポットサイズを調整することができるため、レーザビーム移動部１２はＸＹステージ１４のみから成る構成とすることも可能である。そして、上記と同様の方法により、当該領域にパルスレーザビームＢをジグザグ移動させながら照射する。以上の動作を繰り返すことにより、下型２５２の表面全体にパルスレーザビームＢを照射する。図１３に、下型２５２の表面におけるパルスレーザビームＢのジグザグの軌跡を細実線で例示すると共に、1回のジグザグ移動によるパルスレーザビームＢの照射領域の境界を太破線で例示する。
【００５４】
その後、反射鏡１３を回動させることにより、反射面を下向きから上向きに切り替える。そして、下型２５２の場合と同様に、上型２５１の表面にもパルスレーザビームＢを照射する。
【００５５】
本実施形態の成形型クリーニング装置１０では、1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04〜0.7J/cm2の範囲内であるパルスレーザビームＢを成形型２５（上型２５１及び下型２５２）の表面に照射することにより、成形型２５の表面にプラズマＰＬが生成される（図１４(a)）。プラズマＰＬの発生源は特に限定されないが、パルスレーザビームＢを付着物に照射することにより、付着物ＡＧの表面付近が高温・高圧状態となり、プラズマＰＬを発生させることができる。そして、上記と同じレーザフルエンスを有するパルスレーザビームＢを重なり率が85％以上となるように移動させることにより、このパルスレーザビームＢがプラズマＰＬ中の同一箇所に6回以上照射され、それによって、通常の樹脂成形において成形型２５の表面に付着する付着物Ａが含有する樹脂を気化させることができる温度まで、プラズマＰＬが加熱される（図１４(b)）。これにより、成形型２５の表面上の付着物Ａの少なくとも一部が気化し、該表面から除去される。その際、プラズマＰＬにより加熱されたコーティングＣＴからの伝熱、放射（輻射）による熱が付着物ＡＧにコーティングＣＴ側から作用してもよい。なお、パルスレーザビームＢが移動する範囲のうちＸ方向の両端部であってパルスレーザビームＢのＸ方向の幅の1個分未満（例えば、重なり率が85％の場合には該幅の17/20）の部分では、パルスレーザビームＢが照射される回数が6回未満となり得るが、通常は該幅が十分に小さく、その周囲で加熱されたプラズマＰＬが当該部分に流入するため、問題とはならない。気化した付着物ＡＧは、成形型クリーニング装置１０が気化付着物除去装置を有する場合には、成形型２５の表面近傍から吸引除去される。
【００５６】
上記のように上型２５１及び下型２５２がヒータプレート２５３によって昇温された状態では、上型２５１と下型２５２の間の空間が高温になり得る。しかし、本実施形態の成形型クリーニング装置１０では、熱による悪影響を受け易いレーザ光源１１及びレーザビーム移動部１２は当該空間の外に配置されると共に、反射鏡１３は当該空間内に配置されるもののレーザ光源１１及びレーザビーム移動部１２よりも熱による影響を受け難い。そのため、本実施形態の成形型クリーニング装置１０は上記のような高温でも使用することができる。
【００５７】
反射鏡１３は、前記空間に配置されることで熱膨張する。しかし、第２回動軸体１３２Ｒが回動軸に平行な方向に、第２把持具１３１Ｒが外側保持具１３４Ｒに当接するまで移動することが許容されているため、反射鏡１３が熱膨張によって変形することを抑えることができる。また、シャフト１３８は反射鏡１３の熱膨張に伴ってすべり軸受１３９ですべることにより軸方向に移動するため、反射鏡１３に力を付加して反射鏡１３を変形させることを抑えることができる。さらに、成形型クリーニング装置１０の終了後に反射鏡１３を前記空間の外に退出させたときには、温度の低下に伴って反射鏡１３が収縮するが、そのときにも、第２回動軸体１３２Ｒが回動軸に平行な方向に移動することが許容されているため、反射鏡１３の変形を抑えることができる。
【００５８】
さらに、本実施形態の成形型クリーニング装置１０では、上述のようにプラズマＰＬを発生させたうえで該プラズマＰＬを加熱し、その熱で付着物Ａの少なくとも一部を気化させるというプロセスで付着物Ａを除去することにより、より照射強度（レーザフルーエンス、レーザパワー密度）の大きいレーザビームを直接付着物Ａに照射することで付着物Ａを除去する場合よりも、成形型２５のコーティングＣＴに与えるダメージを抑えることができる。
【００５９】
パルスレーザビームを発振するレーザ光源１１及びレーザビーム移動部１２を用いる場合において、付着物をより確実に成形型２５の表面から除去し、且つ窒化クロムやハードクロム等から成るコーティングが受けるダメージをより抑えるために、パルス幅は50〜120nsec、1パルスあたりのレーザフルエンスは0.1〜0.6J/cm2、重なり率は90％以上、1秒当たりの走査レーザパワー密度が3〜11W/cm2であることが望ましい。
【００６０】
また、パルスレーザビームを発振するレーザ光源１１及びレーザビーム移動部１２を用いる場合において、付着物をより確実に成形型の表面から除去し、且つ窒化クロムやハードクロム等から成るコーティングが受けるダメージをより抑えるために、前記パルス幅は50〜120nsec、前記1パルスあたりのレーザフルエンスは0.04〜0.1J/cm2、前記重なり率は98％以上、1秒当たりの走査レーザパワー密度が5〜11W/cm2という構成を取ることもできる。
【００６１】
(3) 成形型クリーニング装置の他の実施形態
以下、本発明に係る成形型クリーニング装置の他の実施形態を説明する。
図１５に示す構成では、パルスレーザビームＢのスポットＢＳが上型２５１の下面又は下型２５２の上面上を前述の図１２に示した経路で移動する場合であって、該経路のＸ方向（すなわちスポットＢＳが往復運動する方向。前記第１方向に相当。）の両端であってレーザビーム移動部１２と上型２５１又は下型２５２の間に、スポットＢＳの1個分の幅だけパルスレーザビームＢを遮蔽する遮蔽部１７（図１５(a)では太実線で示したもの）を設けることができる。なお、遮蔽部１７は、レーザビーム移動部１２と上型２５１の間、及びレーザビーム移動部１２と下型２５２の間の双方に設けてもよい。
【００６２】
この遮蔽部１７が設けられる部分において、前述の実施形態のように遮蔽部１７を設けることなく且つレーザ光源１１からのパルスレーザビームＢの出射を継続したままスポットＢＳをＹ方向（前記第２方向に相当）に移動させると、その移動の速さによっては、他の部分よりも多いパルス数でパルスレーザビームＢが照射される。例えば、照射の始点となる部分又はＸ方向の移動とＹ方向の移動とが切り替わる部分は、それ以外の部分と比べてパルスレーザビームＢが照射される回数が異なる箇所が存在する場合がある。また、この遮蔽部１７が設けられる部分は、前述のようにパルスレーザビームＢが照射される回数が6回未満となり得る位置でもある。それに対して、スポットＢＳの1個分だけＸ方向の両端において遮蔽部１７によってパルスレーザビームＢを遮蔽し、この遮蔽がなされていない部分を通過したパルスレーザビームＢでクリーニングを行うことにより、クリーニング処理の均一性をより高くすることができる。
【００６３】
遮蔽部１７を用いる代わりに、Ｙ方向にスポットＢＳを移動させる間、レーザ光源１１からのパルスレーザビームＢの出射を停止するようにしてもよい。また、パルスレーザビームの移動の速さを変更し、それに応じて1パルスあたりのレーザフルエンス及び／又は繰り返し周波数を変更するようにしてもよい。例えば、レーザビームをより速く移動させ、それに応じて1パルスあたりのレーザフルエンスを大きく及び／又は繰り返し周波数を大きくすることにより、同じ時間でパルスレーザビームを照射することができる領域を拡大することができる。
【００６４】
スポットＢＳは、図１２や図１３に示したようにジグザグ状に移動させること以外に、例えば図１６(a)に示すように、Ｘ方向に片道移動（図中の細実線の経路）した後に、レーザ光源１１からのパルスレーザビームＢの出射を停止し、Ｘ方向には最初の位置に戻りながらＹ方向にスポットＢＳの1個分だけ移動し（図中の細破線の経路）、さらにＸ方向に片道移動するという動作を繰り返してもよい。あるいは、図１６(b)に示すように、1回のジグザグ移動（又は図１６(a)の片道繰り返し移動）によって、（前述のように複数の照射領域に分けることなく）クリーニング対象の全体にパルスレーザビームＢを照射するようにしてもよい。
【００６５】
反射鏡１３をＸ方向に移動させるために、図１７に示すように、Ｘ方向レール１８１と、Ｘ方向ベルト１８２と、ベルト取り付け部材１８３と、Ｘ方向モータ１８４と、Ｘ方向プーリ１８５、モータブロック１８６と、プーリブロック１８７と、Ｙ方向レール１８８とを有するＸ方向移動機構１８を用いてもよい。Ｘ方向レール１８１は上型２５１の直下又は下型２５２の直上に、それらの型を横断するようにＸ方向に延びるレールである。Ｘ方向ベルト１８２はＸ方向レール１８１に略平行に延び、ベルト取り付け部材１８３によって反射鏡１３の軸受保持部１３４Ｌ又は外側保持具１３４Ｒが取り付けられている。Ｘ方向ベルト１８２に取り付けられた軸受保持部１３４Ｌ又は外側保持具１３４Ｒは、Ｘ方向レール１８１に支持されている。Ｘ方向モータ１８４はモータブロック１８６内に収容され、モータブロック１８６はＸ方向レール１８１の一方の端に固定されている。また、Ｘ方向プーリ１８５はプーリブロック１８７内に収容され、プーリブロック１８７はＸ方向レール１８１の他方の端に固定されている。Ｘ方向ベルト１８２は、Ｘ方向モータ１８４及びＸ方向プーリ１８５に掛けられている。モータブロック１８６はＹ方向レール１８８に載置されており、Ｙ方向レール１８８以外のＸ方向移動機構１８の各構成要素はＹ方向レール１８８に沿ってＹ方向に移動可能である。
【００６６】
このＸ方向移動機構１８では、Ｘ方向モータ１８４の回転に伴ってＸ方向プーリ１８５が回転し、それによりＸ方向ベルト１８２がＸ方向に移動することにより、軸受保持部１３４Ｌ又は外側保持具１３４Ｒを介してＸ方向ベルト１８２に取り付けられた反射鏡１３がＸ方向に移動する。このＸ方向移動機構１８によれば、Ｘ方向モータ１８４が上型２５１及び下型２５２よりもＸ方向の外側に配置されているため、上型２５１及び下型２５２からの熱がＸ方向モータ１８４に与える影響を抑えることができる。なお、レーザ光源１１及びレーザビーム移動部１２をＸ方向に移動させるために、Ｘ方向移動機構１８と同様のものを用いることもできる。
【００６７】
図１８に、本発明に係る成形型クリーニング装置の他の実施形態を示す。この実施形態の成形型クリーニング装置１０Ａは、上記成形型クリーニング装置１０と同様のレーザ光源１１と、レーザビーム移動部１２と、ＸＹステージ１４と、ＸＹステージドライバ１５とを有する。図１８では、ＸＹステージ１４及びＸＹステージドライバ１５は図示を省略する。また、成形型クリーニング装置１０Ａは、上記成形型クリーニング装置１０における反射鏡１３の代わりに、第１反射鏡１３Ｘ及び第２反射鏡１３Ｙを有する。さらに、成形型クリーニング装置１０Ａは、光路切替鏡１６１と光路切替鏡移動部１６２から成る鏡切替部（鏡切替機構）１６を備える。
【００６８】
第１反射鏡１３ＸはＸ方向に延びる回動軸で回動可能であって、レーザビーム移動部１２から出射されるパルスレーザビームＢの光路上に配置されている。第２反射鏡１３Ｙは、第１反射鏡１３ＸをＺ軸の周りに90°回動させた構成を有しており、Ｙ方向に延びる回動軸で回動可能であって、レーザビーム移動部１２から出射されるパルスレーザビームＢの光路の側方に配置されている。
【００６９】
光路切替鏡１６１は、反射面がＺ軸に平行であって且つレーザビーム移動部１２から出射されるパルスレーザビームＢに対して45°傾斜した方向を向いている。光路切替鏡移動部１６２は、光路切替鏡１６１を、レーザビーム移動部１２から出射されるパルスレーザビームＢの光路の外（側方）と光路内の間で移動させるものである。
【００７０】
成形型クリーニング装置１０Ａの動作を説明する。まず、光路切替鏡移動部１６２により光路切替鏡１６１をパルスレーザビームＢの光路の外に配置した状態で、第１反射鏡１３Ｘの反射面を下向き且つＸＺ平面に対して45°だけ傾斜させる。そして、前記成形型クリーニング装置１０の場合と同様に、パルスレーザビームＢを、レーザ光源１１から出射したうえでレーザビーム移動部１２によりＸ方向に往復移動、及びＹ方向に移動させる。これにより、パルスレーザビームＢは第１反射鏡１３Ｘで反射されて下型２５２の表面に照射される。ここでは、第１反射鏡１３Ｘの反射面がＸＺ平面に対して45°傾斜しているため、パルスレーザビームＢは下型２５２の上面に垂直に入射する。但し、そうすると、例えばキャビティＣに面する側面のように、下型２５２中の上面に垂直な面にはパルスレーザビームＢを照射し難い。そこで、ここまでの動作の終了後に、第１反射鏡１３Ｘの反射面の角度を45°からそれ以外の大きさに変更し、下型２５２のＸ方向に平行な側面にパルスレーザビームＢを照射することができる。
【００７１】
続いて、第１反射鏡１３Ｘの反射面を上向き且つＸＺ平面に対して45°だけ傾斜させたうえでパルスレーザビームＢをレーザビーム移動部１２によりＸ方向に往復移動、及びＹ方向に移動させることにより、パルスレーザビームＢを上型２５１の表面に照射させる。このときにも、第１反射鏡１３Ｘの反射面の角度を45°として操作を行った後に該角度を45°以外の大きさに変更することにより、上型２５１のＸ方向に平行な側面にパルスレーザビームＢを照射することができる。
【００７２】
但し、ここまでの動作によっても、下型２５２及び上型の２５１中のＹ方向に平行な側面にはパルスレーザビームＢを照射することはできない。そこで、光路切替鏡移動部１６２は、光路切替鏡１６１を、レーザビーム移動部１２から出射されるパルスレーザビームＢの光路内に移動させる。そして、第２反射鏡１３Ｙの反射面を下向きであってＸＺ平面と成す角度を45°以外の大きさとし、パルスレーザビームＢを、レーザ光源１１から出射したうえでレーザビーム移動部１２によりＸ方向に往復移動、及びＹ方向に移動させることにより、下型２５２のＹ方向に平行な側面にパルスレーザビームＢを照射することができる。さらに、電動ビーム径可変レンズを搭載した場合は、内蔵するレンズを電動で動かすことにより、前記第２反射鏡１３Ｙの角度に合わせてスポットサイズを調整することができる。ここで述べた各操作は、上型２５１に対しても行うことができる。
【００７３】
以上のように、成形型クリーニング装置１０Ａによれば、下型２５２及び上型の２５１中のＸ方向及びＹ方向に平行な側面にもパルスレーザビームＢを照射することができ、より確実に下型２５２及び上型の２５１をクリーニングすることができる。
【００７４】
図１９に、本発明に係る成形型クリーニング装置のさらに別の実施形態である成形型クリーニング装置１０Ｂを示す。この実施形態の成形型クリーニング装置１０Ｂは、上記成形型クリーニング装置１０と同様のレーザ光源１１と、レーザビーム移動部１２と、ＸＹステージ１４と、ＸＹステージドライバ１５とを有する。図１９では、ＸＹステージ１４及びＸＹステージドライバ１５は図示を省略する。また、成形型クリーニング装置１０Ｂは、上記成形型クリーニング装置１０における反射鏡１３の代わりに、第１反射鏡１３Ａ及び第２反射鏡１３Ｂを有する。さらに、成形型クリーニング装置１０Ｂは、鏡切替部（鏡切替機構）１６Ａを備える
【００７５】
第１反射鏡１３Ａは、前述のように鏡切替部１６ＡによってＺ方向の軸の回りに回動であると共に、ＸＹ平面上の回動軸でも回動可能であって、レーザビーム移動部１２から出射されるパルスレーザビームＢの光路上に配置されている。第２反射鏡１３Ｂは、Ｙ方向に延びる回動軸で回動可能であって、レーザビーム移動部１２から出射されるパルスレーザビームＢの光路の側方に配置されている。鏡切替部１６Ａは、第１反射鏡１３Ａの下側に設けられており、円環状のレールに沿って第１反射鏡１３ＡをＺ方向の軸の回りに回動させるように構成されている。
【００７６】
成形型クリーニング装置１０Ｂの動作を説明する。まず、鏡切替部１６Ａにより、第１反射鏡１３Ａの反射面とＸＹ平面の交線がＸ軸に平行になるように第１反射鏡１３Ａの向きを設定する（図１９(a)）。その状態で、前述の成形型クリーニング装置１０Ａにおける第１反射鏡１３Ｘと同様に、Ｘ方向に延びる回動軸で第１反射鏡１３Ａを回動させ、第１反射鏡１３Ａの反射面を、下向き且つＸＺ平面に対して45°だけ傾斜させた状態、下向き且つＸＺ平面に対して45°以外の角度で傾斜させた状態、上向き且つＸＺ平面に対して45°だけ傾斜させた状態、上向き且つＸＺ平面に対して45°以外の角度で傾斜させた状態、という4つの状態でそれぞれ、パルスレーザビームＢを第１反射鏡１３Ａに照射する。これにより、パルスレーザビームＢは第１反射鏡１３Ａで反射され、ＸＺ平面にほぼ平行な側面を含む下型２５２又は上型２５１の表面に照射することができる。反射面を下向きにしてパルスレーザビームＢを下型２５２に照射する際には、第１反射鏡１３Ａで反射されたパルスレーザビームＢは、鏡切替部１６Ａの円環状のレールよりも内側の中空部を通過する。
【００７７】
次に、反射面がＸＹ面に垂直になるように第１反射鏡１３Ａを直立させ、該反射面をＸＺ平面に対して45°の方向に向けるように、鏡切替部１６Ａが第１反射鏡１３ＡをＺ軸の周りに回動させる（図１９(b)）。この状態で、第１反射鏡１３Ａに照射されるパルスレーザビームＢは、第１反射鏡１３Ａで反射されて第２反射鏡１３Ｂに入射する。そして、第２反射鏡１３Ｂの反射面を下向きであってＸＺ平面と成す角度を45°以外の大きさとし、パルスレーザビームＢを、レーザ光源１１から出射したうえでレーザビーム移動部１２によりＸ方向に往復移動、及びＹ方向に移動させることにより、下型２５２のＹ方向に平行な側面にパルスレーザビームＢを照射することができる。さらに、レンズ１２２として電動ビーム径可変レンズを搭載した場合は、内蔵するレンズを電動で移動させることにより、第１反射鏡１３Ａで反射した時と同じスポットサイズとなるように、第２反射鏡１３Ｂで反射した場合の光路及び前記第２反射鏡１３Ｂの角度に合わせてスポットサイズを調整することができる。ここで述べた各操作は、上型２５１に対しても行うことができる。
【００７８】
以上のように、成形型クリーニング装置１０Ｂも成形型クリーニング装置１０Ａと同様に、下型２５２及び上型の２５１中のＸＺ平面及びＸＺ平面にほぼ平行な側面にもパルスレーザビームＢを照射することができ、より確実に下型２５２及び上型の２５１をクリーニングすることができる。
【００７９】
図２０に、複数組の樹脂成形部２０と、1組の成形型クリーニング装置１０を備える樹脂成形ユニット３０の構成を示す。この樹脂成形ユニット３０は、1台の材料受入モジュール３１、複数台の成形モジュール３２、1台の払出モジュール３３、及び1台の成形型クリーニング装置待機モジュール３４を有する。材料受入モジュール３１は、タブレット状の樹脂材料Ｐ、及びリードフレームＬを外部から受け入れて成形モジュール３２に送出するための装置であって、リードフレーム受入部３１１及びタブレット供給部３１２を有する。1台の成形モジュール３２は、上記実施形態の樹脂成形装置１のうち樹脂成形部２０を1台有する。図２０には成形モジュール３２が3台示されているが、樹脂成形ユニット３０には成形モジュール３２を任意の台数設けることができる。また、樹脂成形ユニット３０を組み上げて使用を開始した後であっても、成形モジュール３２を増減することができる。払出モジュール３３は、成形モジュール３２で製造された樹脂成形品を成形モジュール３２から搬入して保持しておくものであって、樹脂成形品保持部３３１を有する。成形型クリーニング装置待機モジュール３４は、成形型クリーニング装置１０を使用しないときにそれを収容するものである。
【００８０】
搬送装置３５は、樹脂成形ユニット３０内に設けられた搬送レールに沿って、材料受入モジュール３１から成形モジュール３２に基板や樹脂材料を搬入すると共に、成形された樹脂成形品を成形モジュール３２から払出モジュール３３に搬出する装置である。また、搬送装置３５は、或る成形モジュール３２において成形型のクリーニングを行うときに、該成形モジュール３２に成形型クリーニング装置１０を搬入する（図２１）と共に、該成形型のクリーニングが完了した後に成形型クリーニング装置１０を該成形モジュール３２から搬出する機能も有する。
【００８１】
この樹脂成形ユニット３０は、複数の成形モジュール３２で並行して樹脂成形品を製造することができるため、樹脂成形品を大量生産するのに適している。その際、成形型に基板を取り付けてから樹脂成形品を作製したうえで搬出するまでの間には相応の時間を要することから、或る成形モジュール３２で樹脂成形を製造している時間に、他の成形モジュール３２に成形対象物を取り付けたり、他の成形型から樹脂成形品を搬出することにより、樹脂成形品の製造効率を高くことができると共に、搬送装置に要するコストを抑えることができる。さらに、成形型クリーニング装置１０を複数台の成形モジュール３２で共用することも可能である。
【００８２】
上記樹脂成形ユニット３０では、他のモジュールと同じ列に並べて配置した成形型クリーニング装置待機モジュール３４を用いているが、その代わりに、図２２に示す樹脂成形ユニット３０Ａのように、他のモジュールが並ぶ列に沿って延びる成形型クリーニング装置収容・移動モジュール３４Ａを用いてもよい。樹脂成形ユニット３０Ａ中の材料受入モジュール３１、成形モジュール３２、及び払出モジュール３３の構成は樹脂成形ユニット３０の場合と同様である。成形型クリーニング装置収容・移動モジュール３４Ａは、成形型クリーニング装置１０を収容すると共に、他のモジュールが並ぶ列の方向に成形型クリーニング装置１０を移動させる成形型クリーニング装置移動部３５Ａを内部に有する。各成形モジュール３２の樹脂成形部２０から見ると、成形型クリーニング装置収容・移動モジュール３４Ａ及びその内部の成形型クリーニング装置移動部３５Ａは、搬送装置３５の反対側に設けられている。樹脂成形ユニット３０Ａの動作は、成形型クリーニング装置１０を成形モジュール３２に搬入及び成形モジュール３２から搬出する際に成形型クリーニング装置移動部３５Ａを用いる点を除いて、樹脂成形ユニット３０と同様である。
【００８３】
本発明は上記の各実施形態には限定されず、本発明の主旨の範囲内でさらなる種々の変形が可能である。
【００８４】
例えば、上記実施形態では、1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04〜0.7J/cm2、1秒あたりの走査レーザパワー密度を2〜15W/cm2の範囲内、パルス幅が1〜200nsec、パルス繰り返し周波数が300kHz〜10MHzの各範囲内にあるパルスレーザビームを用いるが、それらの値は上記の範囲内には限定されない。また、パルスレーザビームの代わりに、連続発振するレーザのビームを用いてもよい。さらに、上記実施形態では、ビームに垂直な断面での形状が正方形となるように成形され、トップハット型の照射強度分布を有する（パルス）レーザビームを用いるが、該断面で円形、円環（リング形、凹形）状等の他の形状を有するレーザビームや、ガウス型等の他の照射強度分布を有するレーザビームを用いてもよい。図２３に、断面が円形であるレーザビームのスポット(a)及び該スポットが移動してゆく様子(b)、並びに断面が円環状であるレーザビームのスポット(c)及び該スポットが移動してゆく様子(d)を示す。
【００８５】
上記実施形態では、重なり率が85％以上となるようにパルスレーザビームを移動させるが、パルスレーザビームの移動速度はそれには限定されず、連続発振するレーザのビームを用いる場合には移動速度を適宜設定すればよい。また、上記実施形態では、上型２５１又は下型２５２の表面でスポットがジグザグに移動するように（パルス）レーザビームを移動させるが、スポットの移動経路はこれには限定されない。例えば、Ｘ方向に片道移動をした後に、レーザビームを停止し、Ｘ方向には最初の位置に戻りながらＹ方向にスポットの1個分だけ移動し、さらにＸ方向に片道移動するという動作を繰り返してもよい。
【００８６】
上記実施形態では、ガルバノスキャンヘッド１２１を用いてパルスレーザビームＢをＸ方向に往復移動させると共にＺ方向（上型２５１又は下型２５２の表面ではスポットをＹ方向）させるが、その代わりに、ガルバノスキャンヘッド１２１ではＸ方向の往復移動のみを行い、反射鏡１３をＹ方向に移動させることによって上型２５１又は下型２５２の表面でスポットをＹ方向させるようにしてもよい。
【符号の説明】
【００８７】
１０、１０Ａ、１０Ｂ…成形型クリーニング装置
１１…レーザ光源
１１２…台
１２…レーザビーム移動部（レーザビーム移動機構）
１２１…ガルバノスキャンヘッド
１２２…レンズ
１３、１３Ｗ…反射鏡
１３Ａ、１３Ｘ…第１反射鏡
１３Ｂ、１３Ｙ…第２反射鏡
１３１Ｌ…第１把持具
１３１Ｒ…第２把持具
１３２Ｌ…第１回動軸体
１３２Ｒ…第２回動軸体
１３２１Ｌ、１３２１Ｒ…溝
１３３Ｌ…軸受
１３３Ｒ…回動軸体可動保持具
１３４Ｌ…軸受保持部
１３４Ｒ…外側保持具
１３５Ｌ…第１固定具
１３５Ｒ…第２固定具
１３６…モータ
１３７Ｌ…軸受固定具
１４…ＸＹステージ
１４１…連結棒
１４２…ガイド棒
１５…ＸＹステージドライバ
１６、１６Ａ…鏡切替部（鏡切替機構）
１６１…光路切替鏡
１６２…光路切替鏡移動部
１７…遮蔽部
１８…Ｘ方向移動機構
１８１…Ｘ方向レール
１８２…Ｘ方向ベルト
１８３…ベルト取り付け部材
１８４…Ｘ方向モータ
１８５…Ｘ方向プーリ
１８６…モータブロック
１８７…プーリブロック
１８８…Ｙ方向レール
２０…樹脂成形部
２１１…基盤
２１２…タイバー
２１３…トグルリンク
２２１…可動プラテン
２２２…固定プラテン
２５…成形型
２５１…上型
２５１１…カルブロック
２５１３…ランナ
２５２…下型
２５２１…ポット
２５２２…プランジャ
２５２３…ランナ
２５３…ヒータプレート
２５３１…ヒータ
３０…樹脂成形ユニット
３１…材料受入モジュール
３１１…リードフレーム受入部
３１２…タブレット供給部
３２…成形モジュール
３３…払出モジュール
３３１…樹脂成形品保持部
３４…成形型クリーニング装置待機モジュール
３４Ａ…成形型クリーニング装置収容・移動モジュール
３５…搬送装置
３５Ａ…成形型クリーニング装置移動部
Ａ…付着物
ＡＧ…気化した付着物
Ｂ…パルスレーザビーム
ＢＳ…パルスレーザビームのスポット
Ｃ…キャビティ
ＣＴ…コーティング
Ｌ…リードフレーム
Ｐ…樹脂材料
ＰＬ…プラズマ
【図１】
2020006600.tif 000003
【図２】
2020006600.tif 000004
【図３】
2020006600.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
2020006600.tif 000008
【図７】
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【図８】
2020006600.tif 000010
【図９】
2020006600.tif 000011
【図１０】
2020006600.tif 000012
【図１１】
2020006600.tif 000013
【図１２】
2020006600.tif 000014
【図１３】
2020006600.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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