(57)【要約】      （修正有）【課題】光学部材を高精度に保持するのに有利な保持装置を提供する。【解決手段】光学部材２の光軸が鉛直方向に直交する方向に沿った方向となるように前記光学部材２を保持する保持装置であって、前記光学部材２を挟持するばね部材１と、前記ばね部材１に対して、前記鉛直方向に与圧を付加する付加部材４と、を有し、前記ばね部材１は、前記光学部材の第１面２ａを押圧する第１部分１ａと、前記光学部材の第２面２ｂを押圧する第２部分１ｂと、前記第１部分１ａと前記第２部分１ｂとの間に位置し、前記付加部材４に接して前記付加部材４から与圧が付加される第３部分１ｃとを含み、前記第１部分１ａと前記第２部分１ｂと前記第３部分１ｃとは、ひと続きに構成されていることを特徴とする保持装置を提供する。【選択図】図２
2020012987.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部材の光軸が鉛直方向に直交する方向に沿った方向となるように前記光学部材を保持する保持装置であって、
前記光学部材を挟持するばね部材と、
前記ばね部材に対して、前記鉛直方向に与圧を付加する付加部材と、を有し、
前記ばね部材は、前記光学部材の第１面を押圧する第１部分と、前記光学部材の第２面を押圧する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分との間に位置し、前記付加部材に接して前記付加部材から与圧が付加される第３部分とを含み、
前記第１部分と前記第２部分と前記第３部分とは、ひと続きに構成されていることを特徴とする保持装置。
【請求項２】
前記ばね部材は、前記第１部分、前記第２部分及び前記第３部分のそれぞれを腹とする波状形状を有することを特徴とする請求項１に記載の保持装置。
【請求項３】
前記光学部材の前記第２面に接する接触部分を含み、前記光学部材を収納する鏡筒を更に有し、
前記第１部分は、前記光学部材の前記第１面のコバ面に設けられた第１凹部に嵌合して、前記第１凹部を介して前記光学部材の前記第１面を押圧し、
前記第２部分は、前記鏡筒の前記接触部分に設けられた第２凹部に嵌合して、前記第２凹部を介して前記光学部材の前記第２面を押圧することを特徴とする請求項２に記載の保持装置。
【請求項４】
前記付加部材は、前記第３部分に対して与圧を付加して前記第３部分を前記鉛直方向に変位させることを特徴とする請求項３に記載の保持装置。
【請求項５】
前記付加部材は、前記ばね部材が、前記鏡筒に熱負荷が作用した場合に前記鏡筒の前記鉛直方向への熱膨張に起因する変位量以上の変位量で、前記鏡筒の前記熱膨張に起因する変位の方向とは逆方向に変位するように、前記第３部分に対して与圧を付加することを特徴とする請求項４に記載の保持装置。
【請求項６】
前記ばね部材は、前記第１部分及び前記第２部分のそれぞれを曲面とし、前記第３部分を平面とする形状を有することを特徴とする請求項１に記載の保持装置。
【請求項７】
前記光学部材の前記第２面に接する接触部分を含み、前記光学部材を収納する鏡筒を更に有し、
前記第１部分は、前記光学部材の前記第１面のコバ面に設けられた第１テーパー面に接して、前記第１テーパー面を介して前記光学部材の前記第１面を押圧し、
前記第２部分は、前記鏡筒の前記接触部分のコバ面に設けられた第２テーパー面に接して、前記第２テーパー面を介して前記光学部材の前記第２面を押圧することを特徴とする請求項６に記載の保持装置。
【請求項８】
前記ばね部材は、ステンレス又は形状記憶合金で構成されていることを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の保持装置。
【請求項９】
被照明面を照明する照明光学系であって、
光源からの光を前記被照明面に導くための光学部材と、
前記光学部材を保持する保持装置と、を有し、
前記保持装置は、請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の保持装置を含むことを特徴とする照明光学系。
【請求項１０】
基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板に形成すべきパターンに対応するパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と、
保持装置と、を含み、
前記照明光学系は、光源からの光を前記マスクに導くための光学部材を含み、
前記保持装置は、前記光学部材を保持する請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の保持装置を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記マスクのパターンからの光を前記基板に投影する投影光学系を更に有することを特徴とする請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保持装置、照明光学系、リソグラフィ装置及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射鏡などの光学部材を保持する保持機構として、光学部材の第１面に対して少なくとも１つの接触点を有する拘束要素と、光学部材の第２面に対して少なくとも１つの接触点を有する力要素と、を有する保持機構が提案されている（特許文献１参照）。また、弾性体を用いて光学部品を保持する保持機構も提案されている（特許文献２参照）。特許文献２には、側面に凹部を含む反射鏡と、反射鏡を支持するベースと、反射鏡の凹部のベース側の面をベース側に押し付ける弾性部材と、を有する保持機構が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特表２０１６−５０５８９５号公報
【特許文献２】特開２００３−２２７９９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来技術では、近年要求されている精度で光学部材を保持するには不十分である。例えば、特許文献１に開示された保持機構では、力要素が光軸に対して垂直な方向に与圧を付加していないため、光学部材が光軸に対してずれる可能性がある。また、保持機構に熱負荷が作用する場合、光学部材を保持する各要素が熱膨張し、それに起因して光学部材に作用する与圧が変動するため、光学部材に対する保持力の低下を招いて、光学部材が光軸に対してずれる可能性が高まる。更に、光学部材がずれた状態で熱の除荷が起こると、光学部材を保持する各要素が収縮する際に光学部材のエッジ部に応力が集中し、光学部材が破損する可能性もある。
【０００５】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、光学部材を高精度に保持するのに有利な保持装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての保持装置は、光学部材の光軸が鉛直方向に直交する方向に沿った方向となるように前記光学部材を保持する保持装置であって、前記光学部材を挟持するばね部材と、前記ばね部材に対して、前記鉛直方向に与圧を付加する付加部材と、を有し、前記ばね部材は、前記光学部材の第１面を押圧する第１部分と、前記光学部材の第２面を押圧する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分との間に位置し、前記付加部材に接して前記付加部材から与圧が付加される第３部分とを含み、前記第１部分と前記第２部分と前記第３部分とは、ひと続きに構成されていることを特徴とする。
【０００７】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、例えば、光学部材を高精度に保持するのに有利な保持装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第１実施形態における保持装置の構成を示す概略正面図である。
【図２】図１に示す保持装置のＡ−Ａ断面図である。
【図３】図１に示す保持装置の斜視図である。
【図４】図１に示す保持装置の分解図である。
【図５】図１に示す保持装置のばね部材の変位特性を説明するための図である。
【図６】図１に示す保持装置のばね部材の変位特性を説明するための図である。
【図７】図１に示す保持装置のばね部材自体の熱膨張に起因するばね部材の変位を示す図である。
【図８】本発明の第２実施形態における保持装置の構成の一部を示す概略断面図である。
【図９】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【図１０】照明光学系の構成を示す概略図である。
【図１１】本発明の比較例としての保持機構の構成を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１１】
まず、図１１を参照して、本発明の比較例として、特許文献１に開示された保持機構４００について説明する。図１１に示す保持機構４００は、光学部材４２０を保持する機構であって、紙面左右方向を光軸方向とする。保持機構４００は、力要素としての波状ばね４１０と、保持要素４３０とを有する。また、保持機構４００では、光学部材４２０の第１表面４２０ａにおいて、保持要素４３０とは異なる拘束要素（不図示）と接触する。保持機構４００では、波状ばね４１０によって光学部材４２０の第２表面４２０ｂに光軸方向の与圧を付加し、波状ばね４１０及び拘束要素によって光学部材４２０を保持する。
【００１２】
但し、波状ばね４１０は、光軸に対して垂直な方向に与圧を付加していないため、光学部材４２０が光軸に対してずれてしまうことがある。また、熱負荷が作用すると、波状ばね４１０や拘束要素が熱膨張して光学部材４２０に作用する与圧が変動し、光学部材４２０に対する保持力の低下に起因して光学部材４２０が光軸に対してずれる可能性が高くなってしまう。更に、かかる状態から熱負荷が取り除かれると、波状ばね４１０や拘束要素が収縮する際に光学部材４２０のエッジ部に応力が集中し、光学部材４２０が破損してしまうこともある。
【００１３】
そこで、本実施形態では、光学部材を保持する保持装置に熱負荷が作用する（熱膨張する）場合であっても、光学部材が光軸方向及び光軸に直交する方向にずれることを抑制することが可能な保持装置を提供する。
【００１４】
＜第１実施形態＞
図１、図２、図３及び図４を参照して、本発明の第１実施形態における保持装置１００について説明する。図１は、保持装置１００の構成を示す正面図であり、紙面垂直方向を光軸方向とする。図２は、図１に示す保持装置１００のＡ−Ａ断面図であり、図３は、図１に示す保持装置１００の斜視図であり、図４は、図１に示す保持装置１００の分解図である。
【００１５】
保持装置１００は、光学部材としてのレンズ２を保持する装置であって、図２に示すように、レンズ２の光軸が鉛直方向（重力方向）に直交する方向に沿った方向となるようにレンズ２を保持する。保持装置１００は、ばね部材１と、鏡筒３と、付加部材４とを有する。本実施形態では、光学部材を、第１面２ａと、第１面２ａとは反対側の第２面２ｂとを含み、第１面２ａ及び第２面２ｂを光が通過するレンズ２としている。但し、光学部材は、レンズ２に限定されるものではなく、ミラーやフィルタなどのその他の光学部材を含む。
【００１６】
鏡筒３は、レンズ２を支持して収納する。鏡筒３は、図２や図３に示すように、レンズ２の第２面２ｂに接する接触部分３ａと、レンズ２の周囲を囲む囲み部分３ｂと、レンズ２の側面を支持する支持部分３ｃとを含む。
【００１７】
ばね部材（弾性体）１は、図１、図３及び図４に示すように、レンズ２の周囲の３箇所に配置されている。ばね部材１は、レンズ２を挟持（保持）し、光軸方向においてレンズ２を位置決めする機能を有する。ばね部材１は、図２に示すように、第１部分１ａと、第２部分１ｂと、第１部分１ａと第２部分１ｂとの間に位置する第３部分１ｃとを含む。また、第１部分１ａ、第２部分１ｂ及び第３部分１ｃは、１つの部材として連続的に、即ち、ひと続きに構成されている。ばね部材１は、本実施形態では、第１部分１ａ、第２部分１ｂ及び第３部分１ｃのそれぞれを腹とする、即ち、３つの腹を含む波状形状を有する波状ばねを用いている。第１部分１ａ及び第２部分１ｂは、それぞれ、レンズ２の第１面２ａ及び第２面２ｂを押圧するために設けられている。また、第３部分１ｃは、付加部材４に接して付加部材４から与圧が付加される部分である。ばね部材１は、例えば、ステンレス（ステンレス鋼）で構成されている。
【００１８】
付加部材４は、ばね部材１に対して、光軸に直交する方向、即ち、鉛直方向に与圧を付加する機能を有する。具体的には、付加部材４は、ばね部材１の第３部分１ｃに対して与圧を付加して、第３部分１ｃを鉛直方向に変位させる。また、付加部材４は、ばね部材１が、鏡筒３に熱負荷が作用した場合に鏡筒３の鉛直方向への熱膨張に起因する変位量以上の変位量で、鏡筒３の熱膨張に起因する変位の方向とは逆方向に変位するように、ばね部材１の第３部分１ｃに対して与圧を付加する。付加部材４がばね部材１に付加する与圧の大きさは、例えば、付加部材４を変位させるねじ機構（不図示）によって調整可能である。
【００１９】
付加部材４から与圧が付加されたばね部材１では、図２に示すように、第１部分１ａがレンズ２の第１面２ａのコバ面に設けられた第１凹部５に嵌合して、第１凹部５を介してレンズ２の第１面２ａを押圧する。また、第２部分１ｂが鏡筒３の接触部分３ａに設けられた第２凹部６に嵌合して、第２凹部６を介してレンズ２の第２面２ｂを押圧する。これにより、ばね部材１の外側の２つの腹、具体的には、第１部分１ａ及び第２部分１ｂでレンズ２（及び鏡筒３）を挟持する。なお、第１凹部５及び第２凹部６は、それぞれ、ばね部材１の第１部分１ａ及び第２部分１ｂの形状と同形状を有する。
【００２０】
本実施形態では、与圧の調整を目的として、付加部材４を保持装置１００に設けている。但し、適当な与圧が予めわかっている場合には、ばね部材１に対して、鏡筒３の一部分で与圧を付加することも可能である。この場合、鏡筒３の一部分が付加部材４として機能するため、保持部材１００の構成から付加部材４を除外しても、同等の効果を得ることができる。
【００２１】
図５及び図６を参照して、第１部分１ａ、第２部分１ｂ及び第３部分１ｃのそれぞれを腹とする、即ち、３つの腹を含む波状形状を有するばね部材１の変位特性について説明する。図５及び図６は、ばね部材１を２つの平行平板の間に配置し、かかる平行平板によって与圧を付加した場合におけるばね部材１の変位（変形）を示している。図５は、ばね部材１が変位する前の状態を示し、図６は、２つの平行平板の間の距離を大きくする方向に平行平板を移動させることでばね部材１が変位した後の状態を示している。図５及び図６において、３１１は、変位前のばね部材１を表し、３１２は、変位後のばね部材１を表している。
【００２２】
ここで、平行平板から付加される単位面積当たりの与圧をｐとし、２つの平行平板の間の距離をＨとし、ばね部材１の腹（波状形状）の半径をａとし、ばね部材１の腹のピッチを２ｃとする。また、ばね部材１のヤング率をＥとし、ばね部材１の変位後の２つの平行平板の間の距離をＨ＋δＶとし、変位後のばね部材１の腹のピッチを２ｃ−δＨとする。この場合、以下の式（１）及び式（２）が成り立つ。
【００２３】
【数１】
2020012987.tif 000003
【００２４】
【数２】
2020012987.tif 000004
【００２５】
式（１）及び式（２）における断面二次モーメントＩは、以下の式（３）で決定される。なお、式（３）において、ｈは、ばね部材１の厚さ（板厚）である。
【００２６】
【数３】
2020012987.tif 000005
【００２７】
式（１）を参照するに、ばね部材１の鉛直方向の変位δＶは、レンズ２の熱膨張と鏡筒３の熱膨張との差によって生じる鉛直方向のクリアランスに相当し、レンズ２及び鏡筒３の寸法及び材質から求めることが可能である。また、このようにして求めたばね部材１の鉛直方向の変位δＶから、式（１）及び式（２）を用いて、ばね部材１の水平方向（光軸方向）の変位δＨも求めることが可能である。熱膨張に起因してレンズ２と鏡筒３との鉛直方向のクリアランスが増加する場合、図６に示すように、ばね部材１の第１部分１ａと第２部分１ｂ（外側の２つの腹）とが互いに近づく方向に変位する。
【００２８】
図７は、ばね部材１自体の熱膨張に起因するばね部材１の変位（変形）を示す図である。図７において、３１３は、熱膨張前（変位前）のばね部材１を表し、３１４は、熱膨張後（変位後）のばね部材１を表している。図７（ｃ）に示すように、ばね部材１自体の熱膨張に起因して、ばね部材１の第１部分１ａと第２部分１ｂ（外側の２つの腹）とは互いに離れる方向に変位する。但し、鏡筒３の熱膨張に起因するばね部材１の変位δＨを、ばね部材１自体の熱膨張による変位δｄよりも大きくすることで、熱負荷が作用する場合であっても、ばね部材１によるレンズ２の保持力を維持することができる。
【００２９】
このように、第１実施形態における保持装置１００によれば、熱負荷が作用する（鏡筒３が熱膨張する）場合であっても、レンズ２が光軸方向及び光軸に直交する方向（鉛直方向）にずれることを抑制することができる。従って、鏡筒３の熱膨張に起因するレンズ２の光軸ずれや鏡筒３の熱収縮に起因するレンズ２の破損を防止する効果を得ることができる。
【００３０】
また、本実施形態では、ばね部材１を波状ばねとして説明したが、これに限定されるものではない。例えば、ばね部材１をＶ字形状とし、Ｖ字形状の頂点部分で付加部材４と接し、頂点部分から延在する部分でレンズ２（及び鏡筒３の接触部分３ａ）を挟持するようにしてもよい。
【００３１】
＜第２実施形態＞
図８を参照して、本発明の第２実施形態における保持装置２００について説明する。図８は、保持装置２００の構成の一部を示す概略断面図であり、紙面左右方向を光軸方向とする。保持装置２００は、光学部材としてのレンズ２２を保持する装置であって、図８に示すように、レンズ２２の光軸が鉛直方向（重力方向）に直交する方向に沿った方向となるようにレンズ２２を保持する。保持装置２００は、ばね部材２１と、鏡筒２３と、付加部材２４とを有する。
【００３２】
鏡筒２３は、レンズ２２を支持して収納する。なお、図８では、レンズ２２の第２面２２ｂに接する接触部分のみを示している。
【００３３】
ばね部材（弾性体）２１は、例えば、レンズ２２の周囲の３箇所に配置されている。ばね部材２１は、レンズ２２を挟持（保持）し、光軸方向においてレンズ２２を位置決めする機能を有する。ばね部材２１は、図８に示すように、第１部分２１ａと、第２部分２１ｂと、第１部分２１ａと第２部分２１ｂとの間に位置する第３部分２１ｃとを含む。また、第１部分２１ａ、第２部分２１ｂ及び第３部分２１ｃは、１つの部材として連続的に、即ち、ひと続きに構成されている。ばね部材２１は、本実施形態では、第１部分２１ａ及び第２部分２１ｂのそれぞれを曲面とし、第３部分２１ｃを平面とする形状を有する。第１部分２１ａ及び第２部分２１ｂは、それぞれ、レンズ２２の第１面２２ａ及び第２面２２ｂを押圧するために設けられている。また、第３部分２１ｃは、付加部材２４に接して付加部材２４から与圧が付加される部分である。ばね部材２１は、例えば、ステンレス（ステンレス鋼）で構成されている。
【００３４】
付加部材２４は、ばね部材２１（第３部分２１ｃ）に対して、光軸に直交する方向、即ち、鉛直方向に与圧を付加する機能を有する。図８に示すように、ばね部材２１の第１部分２１ａは、レンズ２２の第１面２２ａのコバ面に設けられた第１テーパー面２５に接して、第１テーパー面２５を介してレンズ２２の第１面２２ａを押圧する。また、ばね部材２１の第２部分２１ｂは、鏡筒２３の接触部分のコバ面に設けられた第２テーパー面２６に接して、第２テーパー面２６を介してレンズ２２の第２面２２ｂを押圧する。これにより、ばね部材２１の第１部分２１ａ及び第２部分２１ｂでレンズ２２（及び鏡筒２３）を挟持する。なお、第１テーパー面２５及び第２テーパー面２６の形状は、それぞれ、ばね部材２１の第１部分２１ａ及び第２部分２１ｂとの接点、接線又は接面が互いに近づく方向に変位しようとする力をレンズ２２（及び鏡筒２３）に伝達できる形状とする。また、第１テーパー面２５及び第２テーパー面２６の形状は、ばね部材２１の第１部分２１ａ及び第２部分２１ｂとの接点、接線又は接面が遠ざかる方向に変位した場合に、レンズ２２が変位しないようにするために、ばね部材２１の逃がしを有する形状とする。
【００３５】
第２実施形態における保持装置２００によれば、レンズ２２に対して、光軸方向及び光軸に直交する方向（鉛直方向）に与圧が付加されているため、レンズ２が光軸方向及び光軸に直交する方向にずれることを抑制することができる。従って、鏡筒２３の熱膨張に起因するレンズ２２の光軸ずれや鏡筒２３の熱収縮に起因するレンズ２２の破損を防止する効果を得ることができる。
【００３６】
第１実施形態及び第２実施形態では、ばね部材１及び２１をステンレスで構成しているが、これに限定されるものではない。例えば、ばね部材１及び２１を形状記憶合金で構成してもよい。この場合、形状記憶合金の変態温度を、熱負荷が作用した際の鏡筒の温度以下にする。これにより、鏡筒に熱負荷が作用して鏡筒の温度が上昇し、鏡筒の温度が形状記憶合金の変態温度を超えると、形状記憶合金が記憶形状に戻ろうとする力を生じるため、レンズなどの光学部材（及び鏡筒）を挟持することができる。
【００３７】
以下、図９を参照して、露光装置５００について説明する。露光装置５００は、半導体デバイスや液晶表示素子の製造工程であるリソグラフィ工程に採用され、基板にパターンを形成するリソグラフィ装置である。露光装置５００は、マスク（原版）を介して基板を露光して、マスクのパターンを基板に転写する。
【００３８】
露光装置５００は、図９に示すように、照明光学系５１０と、投影光学系５２０と、マスク５３０を保持して移動するマスクステージ５４０と、基板５５０を保持して移動する基板ステージ５６０とを有する。更に、露光装置５００は、ＣＰＵやメモリなどを含むコンピュータで構成され、記憶部に記憶されたプログラムに従って露光装置５００の各部を統括的に制御して露光装置５００を動作させる制御部５７０を有する。
【００３９】
照明光学系５１０は、図１０に示すように、複数のレンズ５１２やミラー５１４などの光学部材を含み、光源ＬＳからの光でマスク５３０（被照明面）を照明する光学系である。照明光学系５１０は、光源ＬＳの近傍に位置する光学系であるため、照明光学系５１０を構成する光学部材やかかる光学部材を保持する保持装置には熱負荷が作用する。そこで、照明光学系５１０を構成する光学部材を保持する保持装置には、各実施形態で説明した保持装置１００又は２００を適用する。例えば、照明光学系５１０を構成する光学部材の１つである凸レンズは、光軸に直交する方向の変位（軸ずれ）に対する許容範囲が比較的広いため、かかる凸レンズを保持する保持装置として保持装置１００又は２００は好適である。これにより、熱負荷が作用しても、照明光学系５１０を構成する光学部材が光軸方向及び光軸に直交する方向にずれることを抑制することができるため、マスク５３０を高精度に照明することができる。
【００４０】
マスク５３０は、マスクステージ５４０に保持されている。マスク５３０には、基板５５０に形成すべきパターンに対応するパターンが形成されている。基板５５０は、基板ステージ５６０に保持されている。マスク５３０と基板５５０とは、投影光学系５２０を介して、光学的にほぼ共役な位置（投影光学系５２０の物体面及び像面の位置）に配置されている。投影光学系５２０は、物体を像面に投影する光学系である。投影光学系５２０には、図９に示す反射系だけではなく、屈折系や反射屈折系も適用することができる。投影光学系５２０は、本実施形態では、所定の投影倍率を有し、マスク５３０に形成されたパターンを基板５５０に投影する。そして、マスクステージ５４０及び基板ステージ５６０を、投影光学系５２０の物体面と平行な方向（例えば、Ｘ方向）に、投影光学系５２０の投影倍率に応じた速度比で走査する。これにより、マスク５３０に形成されたパターンを基板５５０に転写することができる。
【００４１】
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス（半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など）などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置５００を用いて、基板にパターンを形成する工程と、パターンが形成された基板を処理する工程と、処理された基板から物品を製造する工程とを含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００４２】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【符号の説明】
【００４３】
１００：保持装置    １：ばね部材    ２：レンズ    ３：鏡筒    ４：付加部材
【図１】
2020012987.tif 000006
【図２】
2020012987.tif 000007
【図３】
2020012987.tif 000008
【図４】
2020012987.tif 000009
【図５】
2020012987.tif 000010
【図６】
2020012987.tif 000011
【図７】
2020012987.tif 000012
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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