(57)【要約】      （修正有）【課題】正確かつ容易に微小移動可能なハイトゲージを提供する。【解決手段】定盤の定盤面１０ａに沿って移動可能に載置されるベース１１と、ベースに立設された支柱１２と、支柱に沿って昇降可能に設けられ測定子１３を有するスライダ１４と、スライダの高さ方向の変位量を検出する変位センサ４５と、ベースから定盤面に向けて浮上用エアーを噴射してベースを定盤面に対して浮上させる浮上用噴射部２１を有するエアー噴射手段２０と、エアー噴射手段によるエアー噴射を制御する制御部４１と、を備えたハイトゲージ１である。このハイトゲージにおいて、エアー噴射手段は、ベースが定盤面に対して浮上している状態で定盤面に向けて方向制御用エアーを噴射してベースを定盤面に沿って移動させる方向制御用噴射部２２を有する。【選択図】図１
2020012712.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
定盤の定盤面に沿って移動可能に載置されるベースと、
前記ベースに立設された支柱と、
前記支柱に沿って昇降可能に設けられ測定子を有するスライダと、
前記スライダの高さ方向の変位量を検出する変位センサと、
前記ベースから前記定盤面に向けて浮上用エアーを噴射して前記ベースを前記定盤面に対して浮上させる浮上用噴射部を有するエアー噴射手段と、
前記エアー噴射手段によるエアー噴射を制御する制御部と、を備えたハイトゲージであって、
前記エアー噴射手段は、前記ベースが前記定盤面に対して浮上している状態で前記定盤面に向けて方向制御用エアーを噴射して前記ベースを前記定盤面に沿って移動させる方向制御用噴射部を有する、ことを特徴とするハイトゲージ。
【請求項２】
前記ベースの移動方向の指示を受け付ける方向操作部をさらに備え、
前記制御部は、前記方向操作部によって受け付けた移動方向の指示に基づき、前記浮上用エアーおよび前記方向制御用エアーのそれぞれの噴射量を制御することを特徴とする請求項１記載のハイトゲージ。
【請求項３】
前記ベースの移動速度の指示を受け付ける速度操作部をさらに備え、
前記制御部は、前記速度操作部によって受け付けた移動速度の指示に基づき、前記方向制御用エアーの噴射量を制御する、ことを特徴とする請求項１または２に記載のハイトゲージ。
【請求項４】
前記方向制御用噴射部は、互いに異なる４方向へ前記方向制御用エアーを噴射可能な複数の方向制御用噴射孔を有し、
前記制御部は、前記複数の方向制御用噴射孔から前記方向制御用エアーを噴射する量のバランスによって前記ベースを所定の方向に移動させる制御を行う、ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１つに記載のハイトゲージ。
【請求項５】
前記方向制御用噴射部によって前記ベースの前記定盤面に沿った移動速度と移動時間とに基づき前記ベースの移動距離を演算する移動距離演算部をさらに備えた、請求項１から４のいずれか１つに記載のハイトゲージ。
【請求項６】
前記制御部は、前記ベースの一連の移動動作を記憶したプログラムに従い、前記浮上用エアーおよび前記方向制御用エアーのそれぞれの噴射量および噴射タイミングを制御する、ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１つに記載のハイトゲージ。
【請求項７】
前記ベースと前記定盤面との距離を検知する定盤面センサをさらに備え、
前記制御部は、前記距離が一定の閾値を超えたことを前記定盤面センサによって検知した場合、前記ベースの移動を停止すること、報知すること、の少なくともいずれかを行う、ことを特徴とする請求項１から６のいずれか１つに記載のハイトゲージ。
【請求項８】
前記定盤面センサは、前記ベースにおける前記定盤面との対向面の前記浮上用噴射部よりも前記ベースの縁に近い位置に配置された、請求項７記載のハイトゲージ。
【請求項９】
前記定盤面センサは、前記定盤面との対向面に３つ以上設けられ、
複数の前記定盤面センサを結んで得られる多角形の内側に、全ての前記浮上用噴射部が位置するように配置される、ことを特徴とする請求項７または８に記載のハイトゲージ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、対象物の高さを測定するハイトゲージに関し、より詳しくは、定盤の定盤面に沿って移動可能なハイトゲージに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
定盤の定盤面に載置された対象物の高さを測定するハイトゲージは、定盤面に沿って移動可能に載置されるベースと、このベースに立設された支柱と、この支柱に沿って昇降可能に設けられ測定子を有するスライダと、このスライダの高さ方向の変位量を検出する変位センサとを備える。
【０００３】
ハイトゲージは、測定子を対象物の測定点に近づけるため、定盤面に沿ってベースを移動させる必要がある。例えば、特許文献１には、ベースから定盤上にエアーを噴出してベースを定盤に対して浮上させるエアー浮上手段を備えたハイトゲージが開示される。このハイトゲージでは、エアー浮上手段へのエアー供給／遮断を制御するスイッチが設けられたハンドルを備えており、測定子と対象物との位置関係を確認しながら、楽な姿勢でハイトゲージを移動させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第４００９３７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
エアー浮上手段を備えたハイトゲージにおいては、ベースが浮上した状態で人手によって定盤上を移動させている。したがって、微細な距離を移動したり、正確な位置で停止させたりすることが難しい。例えば、対象物に設けられた小穴の径を測定する場合、穴径φ３ｍｍ、測定子の先端径φ１ｍｍでは、測定子と穴径とのクリアランスは１ｍｍしかない。この条件で穴への測定子の挿入、倣い測定にて前後、左右へ測定子を微細移動するには、人手によるハンドル操作で実現することは非常に困難である。
【０００６】
本発明は、正確かつ容易に微小移動可能なハイトゲージを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様は、定盤の定盤面に沿って移動可能に載置されるベースと、ベースに立設された支柱と、支柱に沿って昇降可能に設けられ測定子を有するスライダと、スライダの高さ方向の変位量を検出する変位センサと、ベースから定盤面に向けて浮上用エアーを噴射してベースを定盤面に対して浮上させる浮上用噴射部を有するエアー噴射手段と、エアー噴射手段によるエアー噴射を制御する制御部と、を備えたハイトゲージである。このハイトゲージにおいて、エアー噴射手段は、ベースが定盤面に対して浮上している状態で定盤面に向けて方向制御用エアーを噴射してベースを定盤面に沿って移動させる方向制御用噴射部を有する、ことを特徴とする。
【０００８】
このような構成によれば、エアー噴射手段の浮上用噴射部から噴射される浮上用エアーによってベースが浮き上がり、方向制御用噴射部から噴射される方向制御用エアーによってベースが定盤面に沿って移動することになる。すなわち、エアーによってベースの浮上とともに定盤面に沿った移動を行うことができる。
【０００９】
上記ハイトゲージにおいて、ベースの移動方向の指示を受け付ける方向操作部をさらに備え、制御部は、方向操作部によって受け付けた移動方向の指示に基づき、浮上用エアーおよび方向制御用エアーのそれぞれの噴射量を制御するようにしてもよい。これにより、方向操作部で受け付けた方向へベースを浮上移動させることができる。
【００１０】
上記ハイトゲージにおいて、ベースの移動速度の指示を受け付ける速度操作部をさらに備えていてもよい。この場合、制御部は、速度操作によって受け付けた移動速度の指示に基づき、方向制御用エアーの噴射量を制御する。これにより、速度操作部で受け付けた速度でベースを浮上移動させることができる。
【００１１】
上記ハイトゲージにおいて、方向制御用噴射部は、互いに異なる４方向へ方向制御用エアーを噴射可能な複数の方向制御用噴射孔を有していることが好ましい。この場合、制御部は、複数の方向制御用噴射孔から方向制御用エアーを噴射する量のバランスによってベースを所定の方向に移動させる制御を行う。これにより、ベースを定盤面に沿った所望の方向へ浮上移動させることができる。
【００１２】
上記ハイトゲージにおいて、方向制御用噴射部によってベースの定盤面に沿った移動速度と移動時間とに基づきベースの移動距離を演算する移動距離演算部をさらに備えていてもよい。これにより、移動距離演算部によってベースの浮上移動の距離を得ることができる。
【００１３】
上記ハイトゲージにおいて、制御部は、ベースの一連の移動動作を記憶したプログラムに従い、浮上用エアーおよび方向制御用エアーのそれぞれの噴射量および噴射タイミングを制御してもよい。これにより、予め設定されたプログラムに従い、ベースを連続的に浮上移動させることができる。
【００１４】
上記ハイトゲージにおいて、ベースと前記定盤面との距離を検知する定盤面センサをさらに備えていてもよい。この場合、制御部は、定盤面との距離が一定の閾値を超えたことを定盤面センサによって検知した場合、ベースの移動を停止すること、報知すること、の少なくともいずれかを行う。これにより、ベースを浮上移動させる際に、ベースが定盤面から脱落しそうになることを防止することができる。
【００１５】
上記ハイトゲージにおいて、定盤面センサは、ベースにおける定盤面との対向面の浮上用噴射部よりもベースの縁に近い位置に配置されていることが好ましい。これにより、ベースを浮上移動させる際に、ベースが定盤面の縁に近づいたことを定盤面センサで検知させることができる。
【００１６】
上記ハイトゲージにおいて、定盤面センサは、定盤面との対向面に３つ以上設けられ、複数の定盤面センサを結んで得られる多角形の内側に、全ての浮上用噴射部が位置するように配置されることが好ましい。これにより、ベースを浮上移動させる際に、浮上用噴射部が定盤面の縁から外方に出てしまう前に、定盤面センサで確実に検知することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１実施形態に係るハイトゲージを例示する斜視図である。
【図２】（ａ）および（ｂ）は、本実施形態に係るハイトゲージを例示する部分拡大斜視図である。
【図３】ベースの下面の模式図である。
【図４】ベースの模式断面図である。
【図５】本実施形態に係るハイトゲージのブロック図である。
【図６】ハイトゲージの移動方向の定義を例示する模式図である。
【図７】ベースの移動処理を例示するフローチャートである。
【図８】ベースの停止処理を例示するフローチャートである。
【図９】（ａ）および（ｂ）は、ベースの移動について説明する模式図である。
【図１０】第２実施形態に係るハイトゲージのブロック図である。
【図１１】定盤面センサの配置を例示する模式図である。
【図１２】脱落防止処理を例示するフローチャートである。
【図１３】（ａ）および（ｂ）は、脱落防止状態を例示する模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の説明では、同一の部材には同一の符号を付し、一度説明した部材については適宜その説明を省略する。
【００１９】
〔第１実施形態〕
図１は、第１実施形態に係るハイトゲージを例示する斜視図である。
図２（ａ）および（ｂ）は、本実施形態に係るハイトゲージを例示する部分拡大斜視図である。
本実施形態に係るハイトゲージ１は、定盤１０上に載置された対象物の高さを測定する測定機である。ハイトゲージ１は、定盤１０の定盤面１０ａに沿って移動可能に載置されるベース１１と、ベース１１に立設された支柱１２と、支柱１２に沿って昇降可能に設けられ測定子１３を有するスライダ１４と、スライダ１４の高さ方向の変位量を検出する変位センサ４５と、ベース１１から定盤面１０ａに向けて浮上用エアーを噴射してベース１１を定盤面１０ａに対して浮上させる浮上用噴射部２１を有するエアー噴射手段２０と、エアー噴射手段２０によるエアー噴射を制御する制御部４１と、を備える。
【００２０】
また、ベース１１上における支柱１２の裏面側にはグリップ部１５が設けられる。このグリップ部１５ の上面に旋回可能に設けられ表面にＬＣＤなどの表示装置１６およびキー入力部１７を有する表示操作部１８が設けられる。
【００２１】
このようなハイトゲージ１において、浮上用噴射部２１は、ベース１１の下面（定盤面１０ａとの対向面）に設けられエアー噴出孔を有する複数のエアーパッド２１Ａと、このエアーパッド２１Ａにエアーを供給するコンプレッサ（図示していないが、グリップ部１５の下部に設置）などを備える。浮上用噴射部２１は、コンプレッサを駆動するモータの回転数を変化させることによって、ベース１１から定盤面１０ａに向けてエアーを噴出し、ベース１１を定盤面１０ａに対して所定の隙間を有して浮上させる。
【００２２】
エアー噴射手段２０は、浮上用噴射部２１に加え、方向制御用噴射部２２を有する。方向制御用噴射部２２は、ベース１１が定盤面１０ａに対して浮上している状態で定盤面１０ａに向けて方向制御用エアーを噴射する。この方向制御用エアーの噴射によって、ベース１１を定盤面１０ａに沿って移動させる。ベース１１の浮上および移動によって、ハイトゲージ１の全体が定盤面１０ａに沿って移動可能となる。
【００２３】
図２（ａ）に示すように、ハイトゲージ１は、ベース１１の移動方向の指示を受け付ける方向操作部３１を備える。また、ハイトゲージ１は、ベース１１の移動速度の指示を受け付ける速度操作部３２を備えていてもよい。方向操作部３１や速度操作部３２は、例えばベース１１の上面に設けられる。
【００２４】
図２（ｂ）に示すように、例えば、方向操作部３１は移動方向を矢印で示す複数のボタン３１Ａを備える。所望の移動方向に対応した矢印の示されているボタン３１Ａを選択することで、ベース１１をその矢印の方向に移動させることができる。また、移動を停止させるため、停止（ストップ）を指示するボタン３１Ａも設けられており、また、速度操作部３２は、例えばスライドレバー３２Ａを備える。スライドレバー３２Ａの位置に応じて移動速度を設定することができる。例えば、スライドレバー３２Ａを左に移動させるほど移動速度が遅くなり、右に移動させるほど移動速度が速くなる。
【００２５】
図３は、ベースの下面の模式図である。
図４は、ベースの模式断面図である。図４には、図３のＡ−Ａ線断面図が示される。
図３に示すように、ベース１１の下面には浮上用噴射部２１の３つのエアーパッド２１Ａが設けられる。３つのエアーパッド２１Ａは、ベース１１の下面において直線上に並ばない位置に配置される。また、ベース１１の下面に中央部分（３つのエアーパッド２１Ａで囲まれる領域内）には方向制御用噴射部２２のエアー吐出口２２Ａが複数設けられる。
【００２６】
図４に示すように、エアーパッド２１Ａはベース１１を定盤面１０ａに対して浮上させるために浮上用エアーＡ１を吐出する。一方、エアー吐出口２２Ａは、定盤面１０ａに対して斜めに方向制御用エアーＡ２を吐出する。複数のエアー吐出口２２Ａは、互いに異なる４方向へ方向制御用エアーＡ２を噴射できるようになっている。具体的には、前方噴射用、後方噴射用、左噴射用および右噴射用の４方向のエアー吐出口２２Ａが設けられる。これにより、それぞれのエアー吐出口２２Ａから噴射される方向制御用エアーＡ２の量のバランスによってベース１１の移動方向が決まる。
【００２７】
例えば、複数のエアー吐出口２２Ａから図４における左側に多くの方向制御用エアーＡ２を噴射すると、ベース１１は右方向へ移動することになる。すなわち、ベース１１を移動させたい方向とは反対側に多くの方向制御用エアーＡ２を噴射することで、ベース１１を定盤面１０ａに沿って所望の方向へ平行移動させることができる。
【００２８】
図５は、本実施形態に係るハイトゲージのブロック図である。
ハイトゲージ１の制御部４１は、ＣＰＵ４２とメモリ４３とを有する。
ＣＰＵ４２には、キー入力部１７、方向操作部３１のボタン３１Ａ、速度操作部３２のスライドレバー３２Ａ、表示装置１６、エアー噴射手段２０が接続される。
【００２９】
エアー噴射手段２０の浮上用噴射部２１は、ポンプ２１１と流速調節部２１２とを有する。ポンプ２１１はＣＰＵ４２の指示に基づく電圧Ｖ１によって駆動する。ポンプ２１１の駆動によって加圧されたエアーは流速調節部２１２のバルブ（１）〜（３）から浮上用エアーＡ１として噴射される。バルブ（１）〜（３）は常に開いており、浮上用エアーＡ１の量は電圧Ｖ１に基づくポンプ２１１からエアー吐出量によって調整される。
【００３０】
エアー噴射手段２０の方向制御用噴射部２２は、ポンプ２２１と流速調節部２２２とを有する。ポンプ２２１はＣＰＵ４２の指示に基づく電圧Ｖ２によって駆動する。ポンプ２２１の駆動によって加圧されたエアーは流速調節部２２２のバルブ（前／後／左／右）によって流速が調整され、方向制御用エアーＡ２として噴射される。
【００３１】
このほかに、ＣＰＵ４２には、スライダ１４を支柱１２に沿って昇降させる昇降駆動手段４４、昇降駆動手段４４によって昇降されるスライダ１４の高さ方向の変位量を検出する変位センサ４５が接続される。
【００３２】
昇降駆動手段４４は、上下動モータ４４Ａと、この上下動モータ４４Ａの出力軸に設けられた定圧機構４４Ｂとを含む。定圧機構４４Ｂは、上下動モータ４４Ａの回転をベルトなどの伝達手段を介してスライダ１４に伝達してスライダ１４を昇降させるとともに、スライダ１４に一定以上の負荷がかかったときに空転する機能を備える。
【００３３】
変位センサ４５は、支柱１２に沿って設けられた光学格子を有するスケールと、このスケールに対向してスライダ１４に配置された検出器とを含み、この両者の協働によって支柱１２上におけるスライダ１４の高さ方向の変位量を電気的信号として検出する。
【００３４】
メモリ４３には、各種測定項目についての測定手順プログラムが記憶されているとともに、その各測定手順プログラムの各ステップに対応して、測定項目の内容を表すシンボルと文字データ、各ステップを表すシンボルと文字データ、操作ガイダンス情報、各ステップの完了を知らせる音声情報などが記憶されている。また、測定データが記憶されるとともに、これらの測定データを演算して得られた演算結果データが記憶されるようになっている。
【００３５】
また、メモリ４３には、ベース１１の一連の移動動作を記憶したプログラムが格納されていてもよい。ＣＰＵ４２は、このプログラムに従い、浮上用エアーおよび方向制御用エアーのそれぞれの噴射量および噴射タイミングを制御する。これにより、ベース１１を予めプログラムした通りに連続的に浮上移動させることができる。
【００３６】
ＣＰＵ４２は、移動時間カウンタ４２１と、移動距離演算部４２２と、浮上エアー演算部４２３と、バルブ開閉指令部４２４と、移動エアー演算部４２５とを含む。
ベース１１を浮上させるタイミングおよび浮上量はＣＰＵ４２によって判断される。浮上エアー演算部４２３は、ベース１１の浮上量を演算し、浮上量に応じた電圧Ｖ１をポンプ２１１へ出力する。電圧Ｖ１によりポンプ２１１のエアー吐出量を大／小させ、ベース１１の浮上量を増／減させる。
【００３７】
ハイトゲージ１の方向操作は、方向操作部３１の操作結果によりＣＰＵ４２で操舵方向を演算することによって行われる。具体的には、方向制御用エアー孔の内部にあるバルブ（前／後／左／右）の開閉をバルブ開閉指令部４２４にて制御する。右に移動する場合、バルブ(左)のみ開とし、その他バルブは閉とする。
【００３８】
ハイトゲージ１の速度操作は、速度操作部３２の操作結果によりＣＰＵ４２で移動速度を演算することによって行われる。具体的には、移動エアー演算部４２５でベース１１の移動速度を演算し、移動速度に応じた電圧Ｖ２をポンプ２２１へ出力する。電圧Ｖ２によりポンプ２２１のエアー吐出量を大／小させ、移動速度を高／低させる。
【００３９】
移動時間カウンタ４２１は、方向操作部３１によって受け付けた移動指示をトリガーとして、ベース１１を浮上移動させている時間を計数する。移動距離演算部４２２は、速度操作部３２によって受け付けた速度Ｖの情報と、移動時間カウンタ４２１で計数した移動時間とに基づき、移動距離Ｓを演算する。これにより、ベース１１を浮上移動させた際の移動距離Ｓを得ることができる。移動距離Ｓは、例えば表示装置１６のＬＣＤに表示される。また、移動距離Ｓの情報はＣＰＵ４２に送られ、ＣＰＵ４２によるベース１１の移動制御に用いられる。
【００４０】
次に、ハイトゲージ１の動作について説明する。
図６は、ハイトゲージの移動方向の定義を例示する模式図である。
以下の説明では、ハイトゲージ１の測定子１３が延出する方向を「前」、その反対方向を「後」、前後方向と直交し定盤面１０ａに沿った方向の一方を「左」、他方を「右」と言うことにする。
【００４１】
図７は、ベースの移動処理を例示するフローチャートである。
図８は、ベースの停止処理を例示するフローチャートである。
図９（ａ）および（ｂ）は、ベースの移動について説明する模式図である。
先ず、図７および図９（ａ）に沿ってベース１１の移動処理について説明する。なお、ここでは、「右」への移動指示が出された場合を例として説明する。
【００４２】
先ず、図７のステップＳ１０１に示すように、方向操作部３１の右矢印のボタン３１Ａが押下されると、ボタン３１Ａによる移動開始および移動方向の情報がＣＰＵ４２に送られる。
【００４３】
次に、図７のステップＳ１０２に示すように、浮上用エアーＡ１を連続噴射する。すなわち、方向操作部３１から移動開始および移動方向の情報がＣＰＵ４２に送られると、ＣＰＵ４２は、浮上用噴射部２１の流速調節部２１２を制御して、３つのエアーパッド２１Ａから浮上用エアーＡ１を噴出させる。これにより、ベース１１が定盤面１０ａに対して浮き上がる状態となる。
【００４４】
次に、ベース１１が浮上した状態で、図７のステップＳ１０３に示すように、左側エアーを連続噴射する。すなわち、ＣＰＵ４２は、浮上用噴射部２１による浮上用エアーＡ１の噴出によるベース１１の浮上を行った状態で、方向制御用噴射部２２の流速調節部２２２を制御して、エアー吐出口２２Ａから左側に向けて方向制御用エアーＡ２を噴射する。図９（ａ）に示すように、複数のエアー吐出口２２Ａのうち左側のエアー吐出口２２Ａから左側に向けて方向制御用エアーＡ２を噴射する。これにより、浮上しているベース１１は方向制御用エアーＡ２によって右方向へ浮上移動することになる。
【００４５】
なお、上記では右矢印のボタン３１Ａが押下され、ベース１１を「右」へ移動する場合の動作を説明したが、他の方向でも同様である。例えば、左矢印のボタン３１Ａが押下された場合には、ベース１１を浮上した後、エアー吐出口２２Ａから右側に向けて方向制御用エアーＡ２を噴射する。前方向のボタン３１Ａが押下された場合には、ベース１１を浮上した後、エアー吐出口２２Ａから後ろ側に向けて方向制御用エアーＡ２を噴射する。後ろ方向のボタン３１Ａが押下された場合には、ベース１１を浮上した後、エアー吐出口２２Ａから前側に向けて方向制御用エアーＡ２を噴射する。それぞれ、ベース１１を移動させる方向とは反対側に方向制御用エアーＡ２を噴射すればよい。
【００４６】
次に、図８および図９（ｂ）に沿ってベース１１の停止処理について説明する。
図８のステップＳ２０１に示すように、方向操作部３１の右矢印のボタン３１Ａの押下が解除されるか、停止ボタンが押下されると、停止処理が実行される。
【００４７】
停止処理は、先ず、図８のステップＳ２０２に示すように、移動方向とは反対の右側エアーを連続噴射する。すなわち、ＣＰＵ４２は、方向制御用噴射部２２の流速調節部２２２を制御して、エアー吐出口２２Ａから右側に向けて方向制御用エアーＡ２を噴射する。この際、エアー吐出口２２Ａから左側に向けて噴射される方向制御用エアーＡ２と同じ流量で右側に向けて方向制御用エアーＡ２を噴射する。
【００４８】
図９（ｂ）に示すように、ベース１１を右方向に移動させるためエアー吐出口２２Ａから左側に方向制御用エアーＡ２を噴射している状態で、これと同じ流量でエアー吐出口２２Ａから右側に方向制御用エアーＡ２を噴射する。これにより、ベース１１の右方向への移動は徐々に停止することになる。
【００４９】
次に、図８のステップＳ２０３に示すように、停止待ち時間を経過したか否かの判断を行う。ＣＰＵ４２は、右側エアーの噴射開始から予め設定された停止待ち時間を経過するまで右側エアーの噴射を継続する。
【００５０】
停止待ち時間が経過した後は、図８のステップＳ２０４に示すように、左側および右側のエアーの噴射を同時に停止する。その後、図８のステップＳ２０５に示すように、浮上用エアーＡ１の噴射を停止する。これにより、ベース１１の右方向への移動が止まるとともに、ベース１１の浮上が解除され、定盤面１０ａに接地することになる。
【００５１】
このように、方向操作部３１のボタン３１Ａの操作によって、ベース１１を浮上させた状態でハイトゲージ１を定盤面１０ａに沿って平行移動させることができる。ボタン３１Ａの操作だけで微小な距離であっても容易に移動可能である。また、移動距離Ｓを表示装置１６に表示させることで、ボタン３１Ａの操作で正確な距離だけハイトゲージ１を移動させることも可能となる。
【００５２】
また、ＣＰＵ４２は、メモリ４３に記憶されたプログラムに従い、上記のような所望の方向への移動処理および停止処理を連続的に行うようにしてもよい。これにより、方向操作部３１によって移動開始を指示するだけで、予め設定された方向および移動量だけハイトゲージ１を自動的に移動させることができる。また、測定子１３による対象物の測定プログラムと連動して自動的な移動処理を行うようにしてもよい。これにより、対象物の測定と、ハイトゲージ１の移動とを連動させて自動的な測定を行うことが可能となる。
【００５３】
〔第２実施形態〕
図１０は、第２実施形態に係るハイトゲージのブロック図である。
図１０に示すように、本実施形態に係るハイトゲージ１Ｂは、第１実施形態に係るハイトゲージ１の構成に加え、定盤面センサ５１とスピーカ６１とを備えている。
【００５４】
定盤面センサ５１は、ベース１１と定盤面１０ａとの距離を検知するセンサである。定盤面センサ５１は、接触式でも非接触式でもよい。図１１は、定盤面センサの配置を例示する模式図である。図１１に示すように、定盤面センサ５１は、例えばベース１１の下面（定盤面１０ａとの対向面）に設けられる。定盤面センサ５１は、浮上用噴射部２１よりもベース１１の縁１１ａに近い位置に配置されることが好ましく、全ての定盤面センサ５１を結んで得られる多角形（図１１の例では７角形）の内側に、全ての浮上用噴射部２１が位置するように配置されることがより好ましい。
【００５５】
定盤面センサ５１は、ベース１１の下面と定盤面１０ａとの距離が一定の閾値を超えた場合に制御部４１のＣＰＵ４２に信号を送る。ＣＰＵ４２は定盤面センサ５１から送られた信号を受けると、ハイトゲージ１の浮上を停止すること、報知すること、の少なくともいずれかを行う。本実施形態では、ハイトゲージ１の浮上停止処理を行うとともに、スピーカ６１から警告音を出力する。これにより、ハイトゲージ１を浮上移動させる際に、ベース１１が定盤面１０ａから脱落しそうになることを防止することができる。
【００５６】
ここで、脱落防止処理について説明する。
図１２は、脱落防止処理を例示するフローチャートである。
図１３（ａ）および（ｂ）は、脱落防止状態を例示する模式断面図である。図１３には、図１１のＢ−Ｂ線断面図が示される。
先ず、図１２のステップＳ３０１に示すように、ハイトゲージ１が浮上中か否かを判断する。これは、ＣＰＵ４２の制御によって浮上用噴射部２１から浮上用エアーＡ１を噴出しているか否かによって判断される。
【００５７】
ハイトゲージ１が浮上中の場合、図１２のステップＳ３０２に示すように、脱落兆候を検知したか否かを判断する。ベース１１が浮上している間、定盤面センサ５１によって定盤面１０ａの検知を行う。そして、図１３（ａ）に示すように、定盤面センサ５１によって定盤面１０ａが検知されている場合（ベース１１の下面と定盤面１０ａとの距離が一定に閾値を超えていない場合）、定盤面１０ａを検知しているとして、ハイトゲージ１の浮上移動を継続する。
【００５８】
一方、図１３（ｂ）に示すように、ハイトゲージ１が定盤１０の端部近傍まで移動して、定盤面センサ５１の検知エリアから定盤１０が外れると、ベース１１の下面と定盤面１０ａとの距離が一定に閾値を超えたと判断し、定盤面センサ５１からＣＰＵ４２に信号が送られる。ＣＰＵ４２が定盤面センサ５１から送られる信号を受けると、脱落兆候を検知したとして、図１２のステップＳ３０３に示す停止処理を行う。これにより、ハイトゲージ１が定盤１０から脱落する前にハイトゲージ１の浮上が解除され、定盤面１０ａに着地することになる。
【００５９】
次に、図１２のステップＳ３０４に示すように、浮上停止したことを通知する。例えば、スピーカ６１から警告音を出力する。これにより、ハイトゲージ１が定盤１０から脱落しそうになり、浮上を解除したことを作業者に通知することができる。
【００６０】
以上説明したように、実施形態によれば、正確かつ容易に微小移動可能なハイトゲージ１，１Ｂを提供することが可能となる。
【００６１】
〔実施形態の変形〕
なお、上記に本実施形態を説明したが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例えば、方向操作部３１や速度操作部３２はハイトゲージ１，１Ｂの本体から離れて設けられていてもよい。例えば、方向操作部３１のボタン３１Ａや速度操作部３２のスライドレバー３２Ａをリモートコントローラとして設けておき、遠隔操作できるようにしてもよい。また、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、設計変更を行ったものや、各実施形態の特徴を適宜組み合わせたものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含有される。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
以上のように、本発明は、対象物の高さの測定のほか、表面形状を測定する装置に好適に利用できる。
【符号の説明】
【００６３】
１，１Ｂ…ハイトゲージ
１０…定盤
１０ａ…定盤面
１１…ベース
１１ａ…縁
１２…支柱
１３…測定子
１４…スライダ
１５…グリップ部
１６…表示装置
１７…キー入力部
１８…表示操作部
２０…エアー噴射手段
２１…浮上用噴射部
２１Ａ…エアーパッド
２２…方向制御用噴射部
２２Ａ…エアー吐出口
３１…方向操作部
３１Ａ…ボタン
３２…速度操作部
３２Ａ…スライドレバー
４１…制御部
４２…ＣＰＵ
４３…メモリ
４４…昇降駆動手段
４４Ａ…上下動モータ
４４Ｂ…定圧機構
４５…変位センサ
５１…定盤面センサ
６１…スピーカ
２１１…ポンプ
２１２…流速調節部
２２１…ポンプ
２２２…流速調節部
４２１…移動時間カウンタ
４２２…移動距離演算部
４２３…浮上エアー演算部
４２４…バルブ開閉指令部
４２５…移動エアー演算部
Ａ１…浮上用エアー
Ａ２…方向制御用エアー
Ｓ…移動距離
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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