(57)【要約】【課題】搬送物の搭載位置の精度を維持しつつ更なる高スループット化を達成した露光装置を提供する。【解決手段】本発明に係る露光装置１００は、搬送物２が載置される第１のステージ４と、第１の方向Ｚに駆動され、第１のステージ４に載置されている搬送物２を搬送する搬送装置１と、搬送物２の状態及び搬送装置１の第１の方向Ｚに垂直な第２の方向Ｘの振動に関するパラメータに基づいて第１のステージ４の駆動を制御する制御部７とを備えることを特徴とする。【選択図】図１
2020013000.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送物が載置される第１のステージと、
第１の方向に駆動され、前記第１のステージに載置されている前記搬送物を搬送する搬送装置と、
前記搬送物の状態及び前記搬送装置の前記第１の方向に垂直な第２の方向の振動に関するパラメータに基づいて前記第１のステージの駆動を制御する制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記搬送装置は、前記第１のステージに載置されている前記搬送物を第２のステージ上に載置するように搬送することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記搬送装置が前記搬送物を前記第２のステージ上に載置した後、該搬送物の位置を計測し、該計測された位置から前記搬送物の前記状態及び前記搬送装置の前記パラメータの少なくとも一方を算出して更新することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記搬送物の前記状態、前記搬送物の質量、前記搬送装置の前記パラメータ及び前記第２のステージの前記搬送物の載置の際に発生する前記第２の方向の移動量に基づいて前記第２のステージの駆動を制御することを特徴とする請求項２または３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記搬送装置が前記第２のステージ上に前記搬送物を載置するまでに、前記第２のステージの駆動を制御することを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記搬送装置が前記搬送物を前記第２のステージ上に載置した後、該搬送物の位置を計測し、該計測された位置から前記搬送物の前記状態、前記搬送物の質量、前記搬送装置の前記パラメータ、及び前記第２のステージの前記移動量の少なくとも一つを算出して更新することを特徴とする請求項４または５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記搬送物の前記状態、前記搬送装置の振動周期、前記搬送装置の振動振幅及び前記搬送装置の振動位相に基づいて前記第１のステージの駆動を制御することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記搬送物の前記状態は、前記搬送物の厚さ、外形寸法、質量、表面状態及び形状の少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記搬送装置が前記第１のステージ上に載置されている前記搬送物を取得した際に、該搬送物の位置を計測し、該計測された位置から前記搬送物の前記状態及び前記搬送装置の前記パラメータの少なくとも一方を算出して更新することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記制御部は、前記搬送装置が前記第１のステージ上に載置されている前記搬送物を取得するまでに、前記第１のステージの駆動を制御することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記搬送装置は、前記搬送物を真空吸着する保持部と該保持部が前記搬送物を真空吸着する際の吸着圧を計測する圧力センサとを備え、
前記制御部は、前記搬送装置の駆動の際の前記吸着圧の変化から前記搬送物の前記状態を算出し、該算出された前記搬送物の前記状態に基づいて前記第１のステージの駆動を制御することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記搬送装置は、複数の保持部を有しており、
前記制御部は、前記複数の保持部それぞれの前記パラメータを有することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光する工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含み、
前記現像する工程で現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、および物品製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置においてスループットを向上させるためには、搬送装置によってレチクルと呼ばれるパターン原版を搭載準備ステージであるプリアライメントステージから搭載ステージであるレチクルステージへ搬送する時間を短縮することが重要である。
しかしながら、そのために搬送装置の駆動を高速化すると、それに伴って、搬送装置の駆動軸に垂直な方向の振動が増大するため、レチクルがレチクルステージへ搭載された際の位置精度が低下してしまう。
【０００３】
特許文献１は、搬送装置によって搬送物をステージへ搭載する際に、搬送装置の駆動軸に垂直な方向における搬送装置とステージとの間の相対変位を逐次計測し、互いを追従させることで搬送物の搭載位置の精度の低下を抑制している露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−１５１４７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、搬送装置の駆動軸に垂直な方向の振動に伴う変位を予め求めて搬送装置とステージとの間の相対変位を調整しておけば、搬送装置とステージとを互いに逐次追従させる必要が無くなる。そのため、搬送物の搭載位置の精度を維持しつつ更なる高スループット化を達成することができる。
そこで本発明は、搬送物の搭載位置の精度を維持しつつ更なる高スループット化を達成した露光装置、および物品製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る露光装置は、搬送物が載置される第１のステージと、第１の方向に駆動され、第１のステージに載置されている搬送物を搬送する搬送装置と、搬送物の状態及び搬送装置の第１の方向に垂直な第２の方向の振動に関するパラメータに基づいて第１のステージの駆動を制御する制御部とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、搬送物の搭載位置の精度を維持しつつ更なる高スループット化を達成した露光装置、および物品製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】第一実施形態に係る露光装置に設けられたレチクル搬送部の模式的断面図。
【図２】第一実施形態に係る露光装置におけるレチクル搬送動作を示した模式的断面図。
【図３】第一実施形態に係る露光装置におけるレチクル搬送動作を示したフローチャート。
【図４】第一実施形態に係る露光装置における搬送装置チャックのＸ方向の位置の時間変化を示した図。
【図５】レチクル厚み差分を変化させたときのレチクル送り込み量誤差の変化を示した図。
【図６】第二実施形態に係る露光装置におけるレチクル搬送動作を示したフローチャート。
【図７】第三実施形態に係る露光装置におけるレチクル搬送動作を示したフローチャート。
【図８】第三実施形態に係る露光装置における搬送装置チャックの吸着圧とＺ方向の位置との関係を示した図。
【図９】第四実施形態に係る露光装置におけるレチクル搬送動作を示したフローチャート。
【図１０】第五実施形態に係る露光装置におけるレチクル搬送動作を示したフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に、本実施形態に係る露光装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている。
【００１０】
［第一実施形態］
図１は、第一実施形態に係る露光装置１００に設けられたレチクル搬送部の模式的断面図を示している。
【００１１】
本実施形態に係る露光装置１００は、レチクル搬送部を構成するレチクル搬送装置１（搬送装置）、レチクルステージ３（第２のステージ）、プリアライメントステージ４（第１のステージ）を備えている。また、本実施形態に係る露光装置１００は、レチクル搬送部を構成するレチクルアライメント計測部５ａ及び５ｂ、レチクルプリアライメント計測部６ａ及び６ｂ、コントローラ７（制御部）を備えている。
【００１２】
レチクル搬送装置１は、搬送装置駆動部１０１、搬送装置ベース１０２、搬送装置チャック１０３ａ及び１０３ｂ（保持部）を有しており、位置合わせマークが付されたレチクル２（搬送物）をプリアライメントステージ４からレチクルステージ３へ搬送する。
本実施形態においては、搬送装置チャックは、複数、すなわち２つの搬送装置チャック１０３ａ及び１０３ｂから構成され、レチクル２を上面から保持する機能を有している。
なお、搬送装置チャックの数はこれに限らず、１つまたは３つ以上でも構わない。
【００１３】
搬送装置チャック１０３ａ及び１０３ｂは、不図示の真空ソースに接続されており、真空吸着によりレチクル２を保持する。
搬送装置チャック１０３ａ及び１０３ｂそれぞれと不図示の真空ソースとの間には、不図示の流路切替機能部が設けられており、搬送装置チャック１０３ａ及び１０３ｂを大気解放するための外部への流路と真空ソースへの流路とを切り替える機能を有している。
【００１４】
搬送装置ベース１０２は、搬送装置駆動部１０１と搬送装置チャック１０３ａ及び１０３ｂとを連結している。
搬送装置駆動部１０１は、不図示のアクチュエータを有しており、搬送装置ベース１０２を、不図示の露光装置１００の本体構造体に対してＺ方向（第１の方向）及びそれに垂直なＸＹ平面内で駆動する機能を有する。
【００１５】
レチクル２は、不図示の描画パターンと、例えばレチクルマーク２０１ａ及び２０１ｂのような位置合わせマークとを有している。
レチクルステージ３は、レチクルステージ駆動部３０１とレチクルステージチャック３０２ａ及び３０２ｂとを有している。
レチクルステージチャック３０２ａ及び３０２ｂは、不図示の真空ソース及び圧空ソースそれぞれと連結しており、レチクル２を吸着保持する機能及び微小浮上させる機能を有する。
レチクルステージ駆動部３０１は、不図示のアクチュエータを有しており、不図示の露光装置１００の本体構造体に対してレチクルステージチャック３０２ａ及び３０２ｂを移動させる機能を有する。
【００１６】
プリアライメントステージ４は、プリアライメントステージ駆動部４０１とプリアライメントステージチャック４０２ａ及び４０２ｂとを有している。
プリアライメントステージチャック４０２ａ及び４０２ｂは、不図示の真空ソース及び圧空ソースそれぞれと連結しており、レチクル２を吸着保持する機能及び微小浮上させる機能を有する。
プリアライメントステージ駆動部４０１は、不図示のアクチュエータを有しており、不図示の露光装置１００の本体構造体に対してプリアライメントステージチャック４０２ａ及び４０２ｂを移動させる機能を有する。
【００１７】
レチクルアライメント計測部５ａ及び５ｂは、レチクルステージ３近傍におけるレチクル２の位置を計測する機能を有している。
本実施形態では、レチクル２に付されたレチクルマーク２０１ａ及び２０１ｂを計測することで、レチクル２の位置を計測する。しかしながら、これに限らず、別の方法でレチクル２の位置を計測してもよい。
レチクルプリアライメント計測部６ａ及び６ｂは、プリアライメントステージ４近傍におけるレチクル２の位置を計測する機能を有している。
【００１８】
本実施形態では、レチクル２に付されたレチクルマーク２０１ａ及び２０１ｂを計測することで、レチクル２の位置を計測する。しかしながら、これに限らず、別の方法でレチクル２の位置を計測してもよい。
コントローラ７は、本実施形態に係る露光装置１００におけるレチクル搬送動作の計算処理やシーケンス処理を行う機能を有している。
【００１９】
図２（ａ）乃至（ｆ）は、本実施形態に係る露光装置１００におけるレチクル搬送動作を示した模式的断面図である。
また、図３は、本実施形態に係る露光装置１００におけるレチクル搬送動作を示したフローチャートである。
【００２０】
本実施形態に係る露光装置１００では、図２（ａ）に示されているようなレチクル２がプリアライメントステージ４に載置されている状態からレチクルステージ３へ搬送する動作において、まず、レチクルプリアライメントＳ１を実施する。
【００２１】
レチクルプリアライメントＳ１においては、レチクルプリアライメント計測部６ａ及び６ｂを用いてレチクルプリアライメント計測Ｓ１０１を行う。
レチクルプリアライメント計測Ｓ１０１においては、レチクル２のプリアライメント目標位置に対するプリアライメント位置ずれ量を算出する。
その後、レチクルプリアライメント判定Ｓ１０２を行い、算出されたプリアライメント位置ずれ量が所定値より大きい、すなわちレチクル２の位置がプリアライメント目標位置の範囲外であった場合には、プリアライメントステージ位置合わせ駆動Ｓ１０４を行う。なお、プリアライメントステージ位置合わせ駆動Ｓ１０４を行う際には、プリアライメント位置ずれ量を駆動指令値とする。
【００２２】
そして、プリアライメントステージ位置合わせ駆動Ｓ１０４を実施した後に、再度、レチクルプリアライメント計測Ｓ１０１を行い、レチクル２のプリアライメント目標位置に対するプリアライメント位置ずれ量を算出する。その後、レチクルプリアライメント判定Ｓ１０２を行い、プリアライメント位置ずれ量を判定する。
そして、プリアライメント位置ずれ量が所定値より小さい、すなわちレチクル２の位置がプリアライメント目標位置の範囲内である場合には、プリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３を実施する。
【００２３】
プリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３は、レチクルステージ３へのレチクル２の送り込み量誤差ＬＥを低減するための補正駆動である。
図４は、図２（ｂ）に示されるようなレチクル取得駆動Ｓ２０１における搬送装置チャック１０３ａのＸ方向（第２の方向）の位置の時間変化を示している。
【００２４】
レチクル取得駆動Ｓ２０１では、搬送装置チャック１０３ａは、搬送装置駆動部１０１によってＺ方向に移動する。
その際に、レチクル搬送装置１内の不図示のＺガイドの剛性によっては、搬送装置チャック１０３ａのＸ方向の位置は、図４に示されるような振動的挙動を示す。
【００２５】
この振動波形をｓｉｎ関数で近似し、搬送装置チャック１０３ａのＸ位置の振動振幅を搬送装置振動振幅Ｌｘ、振動周期を搬送装置振動周期Ｔｘとする。そして、レチクル取得駆動Ｓ２０１における搬送装置チャック１０３ａがレチクル２に接触する際のＺ方向の速度を搬送装置Ｚ駆動速度Ｖｚとする。このとき、搬送装置チャック１０３ａとレチクル２との相対変位である搬送装置−レチクル間相対変位ΔＬは以下の式（１）で表される。
【数１】
2020013000.tif 000003
ここで、ΔＤはレチクル厚み差分（レチクル基準厚みからの差分）、αは搬送装置振動位相である。
【００２６】
すなわち、レチクルステージ３へのレチクル２の送り込み量誤差ＬＥには、以下の式（２）で表されるように搬送装置−レチクル間相対変位ΔＬが加算される。
ＬＥ＝ΔＬ＋Ａ  ・・・（２）
ここで、Ａはその他の誤差要因である。
【００２７】
図５は、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置Ｚ駆動速度Ｖｚを定数に固定し、レチクル厚み差分ΔＤを変化させたときのレチクル送り込み量誤差ＬＥの変化を示している。
図５に示されているように、レチクル厚み差分ΔＤに応じて、送り込み量誤差ＬＥが変動してしまうことがわかる。
なお、その他の誤差要因であるＡは、レチクル搬送装置１に固有であるため、定数で固定してよく、本実施形態では０としている。
【００２８】
以上から、プリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３において、その駆動指令値Ｓｐｃを以下の式（３）のように設定し、プリアライメントステージ４を駆動する。これにより、送り込み量誤差ＬＥにおける搬送装置−レチクル間相対変位ΔＬの寄与分をキャンセルすることが可能となる。
Ｓｐｃ＝−ΔＬ  ・・・（３）
【００２９】
式（１）に示されているように、搬送装置−レチクル間相対変位ΔＬの算出には、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ、搬送装置Ｚ駆動速度Ｖｚ、レチクル厚み差分ΔＤ及び搬送装置振動位相αが必要となる。
このうち、搬送装置Ｚ駆動速度Ｖｚは、搬送装置駆動部１０１への駆動指令値からわかるが、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ、レチクル厚み差分ΔＤ及び搬送装置振動位相αは予め取得しておく必要がある。
【００３０】
ここで、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αについては、露光装置１００の製造時に、予めデータとして計測しておいてもよく、また、設計値から算出してもよい。
更に、搬送装置チャックが複数有る場合には、搬送装置チャックごとに搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αを取得してよい。すなわち、本実施形態に係る露光装置１００においては、搬送装置チャック１０３ａ及び１０３ｂのそれぞれについて取得しておくことが好ましい。
【００３１】
また、レチクル厚み差分ΔＤについては、レチクル２を露光装置１００へ投入する前に予め計測して取得することが可能である。
なお、上記のプリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３の説明においては、理解を容易にするために、Ｘ方向に限定したが、Ｙ方向についても同様の計算及び補正が可能である。
【００３２】
次に、レチクルプリアライメントＳ１に続いて、レチクル搬送Ｓ２が実施される。
レチクル搬送Ｓ２においては、まず、レチクル取得駆動Ｓ２０１が実施され、搬送装置チャック１０３ａは、図２（ｂ）に示されるように、搬送装置駆動部１０１によってＺ方向に下降し、レチクル２の上面を保持する。
【００３３】
次に、搬送装置チャック上昇駆動Ｓ２０２が実施され、搬送装置チャック１０３ａは、図２（ｃ）に示されるようにレチクル２を保持した状態で、搬送装置駆動部１０１によってＺ方向に上昇する。
そして、搬送装置チャック旋回駆動Ｓ２０３が実施され、搬送装置チャック１０３ａは、図２（ｄ）に示されるようにレチクル搬送装置１によって旋回駆動される。すなわち搬送装置チャック１０３ａは、レチクル２のＸＹ平面内の位置がプリアライメントステージ４上方からレチクルステージ３上方へ移動するように、レチクル搬送装置１によって旋回駆動される。
【００３４】
次に、搬送装置チャック下降駆動Ｓ２０４が実施され、搬送装置チャック１０３ａは、図２（ｅ）に示されるように搬送装置駆動部１０１によってＺ方向に下降し、レチクル２をレチクルステージ３近傍へ移動させる。
【００３５】
次に、レチクル搬送Ｓ２に続いて、レチクルアライメントＳ３が実施される。
レチクルアライメントＳ３の開始時においては、レチクルステージチャック３０２ａ及び３０２ｂはエアブロー状態であり、レチクル２は、レチクルステージチャック３０２ａ及び３０２ｂに対して微小浮上状態となっている。
この状態において、まず、レチクル浮上時アライメント計測Ｓ３０１が実施され、レチクルアライメント計測部５ａ及び５ｂによって、レチクル２とレチクルステージ３との間のレチクル浮上時相対変位ΔＲＳ１が計測及び算出される。
【００３６】
次に、レチクルマーク範囲内確認Ｓ３０２が実施され、レチクル２に付されたレチクルマーク２０１ａ及び２０１ｂが所定の範囲外にある場合には、エラー時処理Ｓ３０４へ進む。一方、レチクル２に付されたレチクルマーク２０１ａ及び２０１ｂが所定の範囲内にあった場合には、レチクルステージ位置合わせ駆動Ｓ３０３へ進む。
【００３７】
エラー時処理Ｓ３０４においては、レチクル搬送動作に戻り、レチクルプリアライメントＳ１からやり直しとなる。
特に、１回目のレチクル浮上時アライメント計測Ｓ３０１において計測したレチクル浮上時相対変位ΔＲＳ１は、送り込み量誤差ＬＥと同義である。
すなわち、送り込み量誤差ＬＥが大きいと、レチクル搬送動作をレチクルプリアライメントＳ１からやり直しとなってしまう。
そのため、送り込み量誤差ＬＥを小さくするためには、レチクルプリアライメントＳ１においてプリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３を行うことが重要となる。
【００３８】
次に、レチクルステージ位置合わせ駆動Ｓ３０３が実施され、レチクル浮上時相対変位ΔＲＳ１を駆動指令値として、レチクルステージ３が位置合わせ駆動される。
そして、レチクルステージレチクル吸着Ｓ３０５が実施され、レチクルステージチャック３０２ａ及び３０２ｂにレチクル２を保持させる。
次に、レチクル吸着時アライメント計測Ｓ３０６が実施され、レチクル２とレチクルステージ３との間のレチクル吸着時相対変位ΔＲＳ２が計測及び算出される。
【００３９】
そして、レチクルアライメント判定Ｓ３０７が実施され、レチクル吸着時相対変位ΔＲＳ２が目標値の範囲内かどうか判定を行う。
レチクル吸着時相対変位ΔＲＳ２が目標値の範囲内であれば、レチクルアライメントＳ３は終了処理される。一方、レチクル吸着時相対変位ΔＲＳ２が目標値の範囲外であった場合には、レチクルステージレチクル解放Ｓ３０８へ進む。
【００４０】
レチクルステージレチクル解放Ｓ３０８においては、レチクルステージチャック３０２ａ及び３０２ｂのレチクル保持を解除すると同時にエアブロー状態に変更し、レチクル２を微小浮上状態にする。その後、レチクル浮上時アライメント計測Ｓ３０１からレチクルアライメントＳ３を再度やり直す。
なお、レチクルアライメントＳ３を実施している間は、図２（ｅ）の状態が維持されている。
【００４１】
そして最後に、レチクルアライメントＳ３に続いて、搬送装置チャック退避駆動Ｓ４が実施される。
搬送装置チャック退避駆動Ｓ４においては、搬送装置チャック１０３ａによるレチクル２の吸着が解除され、搬送装置駆動部１０１によって図２（ｆ）に示されるように搬送装置チャック１０３ａが上昇駆動される。
【００４２】
なお、本実施形態に係る露光装置１００では、レチクル２の厚さをレチクル２の状態のパラメータとしたが、これに限らず、レチクル２の外形寸法、質量、表面状態や形状をパラメータとして考慮しても構わない。
【００４３】
上記のように、本実施形態に係る露光装置１００では、レチクル搬送装置１の駆動軸Ｚに垂直なＸ方向の振動に伴う変位ΔＬを予め求めて、レチクル搬送装置１とプリアライメントステージ４との間の相対変位を調整している。それにより、レチクル搬送装置１とプリアライメントステージ４とを互いに逐次追従させること無く、レチクル２のレチクルステージ３上における載置位置の精度を維持しつつ更なる高スループット化を達成することができる。
【００４４】
［第二実施形態］
図６は、第二実施形態に係る露光装置におけるレチクル搬送動作を示したフローチャートである。
なお、本実施形態に係る露光装置は、第一実施形態に係る露光装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して重複する部分についての説明を省略する。
【００４５】
本実施形態に係る露光装置では、以下に示すように、プリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３におけるプリアライメントステージ４の駆動指令値Ｓｐｃを式（３）によって算出する際に用いられる各パラメータを装置内で取得し補正（更新）することができる。
【００４６】
具体的には、プリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３における駆動指令値Ｓｐｃの算出には、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ、搬送装置Ｚ駆動速度Ｖｚ、レチクル厚み差分ΔＤ及び搬送装置振動位相αのパラメータが用いられる。
ここで、レチクル厚み差分ΔＤについては、露光装置におけるレチクル搬送動作を含めた動作において変化しないと考えてよい。
また、搬送装置Ｚ駆動速度Ｖｚについても、搬送装置駆動部１０１によって決まる既知のパラメータである。
【００４７】
一方、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αは、中長期的な装置使用においては変化するパラメータであるため、補正する必要がある。
また、レチクル厚み差分ΔＤについても、露光装置の外部で計測器を用いて計測するだけに限らず、露光装置内で計測することも可能である。
【００４８】
本実施形態に係る露光装置では、以下に示すように、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ、レチクル厚み差分ΔＤ及び搬送装置振動位相αの少なくとも一つを露光装置内で補正する。
【００４９】
まず、第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、レチクルプリアライメントＳ１及びレチクル搬送Ｓ２が実施される。
そして、レチクルアライメントＳ３において、まず、レチクル浮上時アライメント計測Ｓ３０１が実施される。その際、レチクルアライメント計測部５ａ及び５ｂによってレチクル２とレチクルステージ３との間のレチクル浮上時相対変位ΔＲＳ１が計測及び算出される。
【００５０】
次に、レチクルマーク範囲内確認Ｓ３０２が実施され、レチクル２に付されたレチクルマーク２０１ａ及び２０１ｂが所定の範囲外にある場合には、エラー時処理Ｓ３０４へ進む。一方、レチクル２に付されたレチクルマーク２０１ａ及び２０１ｂが所定の範囲内にあった場合には、レチクル浮上時アライメント計測回数判定Ｓ５へ進む。
【００５１】
レチクル浮上時アライメント計測回数判定Ｓ５では、レチクル浮上時アライメント計測Ｓ３０１の実施回数を判定する。
レチクル浮上時アライメント計測Ｓ３０１の実施が１回目の際には、レチクル状態既知判定Ｓ６へ進む。一方、レチクル浮上時アライメント計測Ｓ３０１の実施が２回目以降の際には、レチクルステージ位置合わせ駆動Ｓ３０３へ進む。
【００５２】
ここで、１回目のレチクル浮上時アライメント計測Ｓ３０１で計測されるレチクル浮上時相対変位ΔＲＳ１は、送り込み量誤差ＬＥと同一である。
レチクル状態既知判定Ｓ６では、レチクル２の状態が既知であるかどうかを判定する。
【００５３】
レチクル２の状態が不明であった場合には、式（１）を変形して得られる以下の式（４）において、レチクル浮上時相対変位ΔＲＳ１からレチクル厚み差分ΔＤを求めて更新する（レチクル状態更新Ｓ８）。なお、このとき搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αについては既知の値とする。
【数２】
2020013000.tif 000004
【００５４】
一方、レチクル２の状態が既知であった場合には、レチクル厚み差分ΔＤについて既知の値を用いて、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αを補正する（搬送装置状態更新Ｓ７）。
この際、不定変数が３個であるのに対して式が１つしかないため、同時に全変数を補正することはできない。
従って、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αのうちの２つのパラメータについては、製造時に計測したデータ若しくは設計値を使用する。そして、残りの１つのパラメータを、いずれも式（１）を変形して得られる以下の式（５）乃至（７）から補正する。
【００５５】
【数３】
2020013000.tif 000005
【数４】
2020013000.tif 000006
【数５】
2020013000.tif 000007
なお、レチクル厚み差分ΔＤが既知の３種類のレチクルを搬送することで、式（５）乃至（７）の連立方程式から搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αを求めて補正してもよい。
【００５６】
そして、第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、レチクルステージ位置合わせ駆動Ｓ３０３、レチクルステージレチクル吸着Ｓ３０５及びレチクル吸着時アライメント計測Ｓ３０６が実施される。そして、第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、レチクルアライメント判定Ｓ３０７が実施され、本実施形態に係る露光装置におけるレチクルアライメントＳ３が終了する。
そして最後に、第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、レチクルアライメントＳ３に続いて、搬送装置チャック退避駆動Ｓ４が実施される。
【００５７】
本実施形態に係る露光装置の運用においては、新規のレチクルが投入された際には、式（４）を用いてレチクル厚み差分ΔＤを算出すると共にデータベースに逐次蓄積していってもよい。一方で、既知のレチクルが投入された際には、式（５）乃至（７）を用いて、レチクル搬送装置１の状態を逐次更新していってもよい。
【００５８】
上記のように、本実施形態に係る露光装置では、プリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３におけるプリアライメントステージ４の駆動指令値Ｓｐｃを算出する際に用いられる各パラメータを装置内で取得し補正することができる。
これにより、装置運用中にレチクル２の情報を蓄積し、レチクル搬送装置１のパラメータを補正することが可能となり、送り込み量誤差ＬＥを低減しつつ高スループット化を達成することができる。
【００５９】
［第三実施形態］
図７は、第三実施形態に係る露光装置におけるレチクル搬送動作を示したフローチャートである。
なお、本実施形態に係る露光装置は、第一実施形態に係る露光装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して重複する部分についての説明を省略する。
【００６０】
本実施形態に係る露光装置では、以下に示すように、露光装置の運用の際にレチクル厚み差分ΔＤの値をより直接的に計測している。
【００６１】
まず、本実施形態に係る露光装置では、第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、レチクルプリアライメントＳ１が実施され、レチクル搬送Ｓ２に進む。
次に、レチクル搬送Ｓ２の実施において、まず、レチクル取得駆動Ｓ２０１が実施され、その際に、レチクル厚み差分ΔＤの値が取得される。
【００６２】
具体的には、本実施形態に係る露光装置では、搬送装置チャック１０３ａ及び１０３ｂに不図示の圧力センサが搭載されており、搬送装置チャック１０３ａ及び１０３ｂに印加されている吸着圧を計測することができる。
搬送装置チャック１０３ａが不図示の流路切替機能部によって真空ソースに接続され、且つレチクル２を真空吸着している際には、圧力センサによって示される吸着圧は、真空ソースの相対圧とほぼ等しい値となる。
【００６３】
一方、搬送装置チャック１０３ａが不図示の流路切替機能部によって真空ソースに接続され、搬送装置チャック１０３ａがレチクル２を吸着していない状態では、圧力センサによって示される吸着圧として配管圧損分の圧力値が計測される。すなわち、その値は真空ソースの相対圧に比べて低くなる。
【００６４】
本実施形態に係る露光装置では、レチクル取得駆動Ｓ２０１において、搬送装置チャック１０３ａが、不図示の流路切替機能部によって真空ソースに接続された後、搬送装置駆動部１０１によってＺ方向に下降し、レチクル２の上面を保持する。
その際の不図示の圧力センサが示す吸着圧と搬送装置チャック１０３ａのＺ方向の位置との関係を図８に示す。
【００６５】
図８に示されているように、搬送装置チャック１０３ａの所定の始点位置（例えば、待機位置）からＺ方向の距離が短い位置（すなわち、レチクル２から十分離間している位置）では、吸着圧Ｐは配管圧損Ｐｐｌとなる。そして、所定の位置を超えてＺ方向の距離が大きくなる（すなわち、レチクル２に近づく）と吸着圧Ｐは上昇し始める。
そして、搬送装置チャック１０３ａが搬送装置チャックレチクル取得位置Ｚｃｒｇに到達すると、吸着圧Ｐは、真空ソース圧力Ｐｖｓに最も近づく。
【００６６】
吸着圧Ｐが搬送装置チャック接触判定圧力Ｐｔｈになるときの搬送装置チャック１０３ａのＺ方向の位置を搬送装置チャック接触Ｚ位置Ｚｃｒｃと定義する。このとき、レチクル厚み差分ΔＤは、以下の式（８）から求められて更新される（レチクル状態更新Ｓ８）。
ΔＤ＝Ｚｃｒｇ−Ｚｃｒｃ−Ｚｄ０  ・・・（８）
ここで、Ｚｄ０はレチクル厚みが基準厚み（すなわち、ΔＤ＝０）であったときのＺｃｒｇ−Ｚｃｒｃの値であり、露光装置の製造時に取得しておけば、基本的には不変な値である。
【００６７】
そして、レチクル状態更新Ｓ８に続いて、第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、搬送装置チャック上昇駆動Ｓ２０２、搬送装置チャック旋回駆動Ｓ２０３が実施される。そして、第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、搬送装置チャック下降駆動Ｓ２０４が実施され、本実施形態に係る露光装置におけるレチクル搬送Ｓ２が終了する。
次に、第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、レチクルアライメントＳ３が実施され、最後に搬送装置チャック退避駆動Ｓ４が実施される。
【００６８】
上記のように、本実施形態に係る露光装置では、露光装置の運用の際にレチクル厚み差分ΔＤの値をより直接的に計測している。
これにより、プリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３におけるプリアライメントステージ４の駆動指令値Ｓｐｃの算出をより正確に行うことが可能となり、送り込み量誤差ＬＥを低減しつつ高スループット化を達成することができる。
【００６９】
［第四実施形態］
図９は、第四実施形態に係る露光装置におけるレチクル搬送動作を示したフローチャートである。
なお、本実施形態に係る露光装置は、第一実施形態に係る露光装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して重複する部分についての説明を省略する。
【００７０】
本実施形態に係る露光装置では、以下に示すように、式（３）で定義されるプリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３の駆動指令値Ｓｐｃを露光装置内で取得し補正（更新）することができる。
【００７１】
まず、本実施形態に係る露光装置では、第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、レチクルプリアライメントＳ１が実施され、レチクル搬送Ｓ２に進む。
次に、レチクル搬送Ｓ２の実施において、まず、レチクル取得駆動Ｓ２０１が実施され、搬送装置チャック１０３ａがレチクル２を取得した状態で、レチクル取得時プリアライメント計測Ｓ９が実施される。
【００７２】
この時、レチクルプリアライメント計測Ｓ１０１を実施した際に得られるレチクル位置計測値をプリアライメント後レチクル位置Ｌｐａとする。また、レチクル取得時プリアライメント計測Ｓ９を実施した際に得られるレチクル位置計測値をレチクル吸着時プリアライメント計測値Ｌｐｃｒとする。このとき、補正駆動残差Ｌｃｅは以下の式（９）のように求められる。
Ｌｃｅ＝Ｌｐｃｒ−Ｌｐａ  ・・・（９）
【００７３】
この補正駆動残差Ｌｃｅは、プリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３の駆動指令値Ｓｐｃが正確であれば、０に近づく。
しかしながら、駆動指令値Ｓｐｃを構成しているレチクル厚み差分ΔＤ、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αの少なくとも一つが変化している場合には、必ずしも０にはならない。
従って、この場合には、補正駆動残差Ｌｃｅが０に近づくように、レチクル厚み差分ΔＤ、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αを補正すればよい。
【００７４】
まず、レチクル取得時プリアライメント計測Ｓ９の次に、レチクル状態既知判定Ｓ６を実施し、レチクル２の状態が既知であるかどうかを判定する。
レチクル２の状態が不明であった場合には、式（１）を変形して得られる以下の式（１０）において、補正駆動残差Ｌｃｅからレチクル厚み差分ΔＤを求めて更新する（レチクル状態更新Ｓ８）。なお、このとき搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αについては既知の値を用いる。
【数６】
2020013000.tif 000008
【００７５】
一方、レチクル２の状態が既知であった場合には、レチクル厚み差分ΔＤについて既知の値を用いて、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αを補正する（搬送装置状態更新Ｓ７）。
この際、不定変数が３個であるのに対して式が１つしかないため、同時に全変数を補正することはできない。
従って、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αのうちの２つのパラメータについては、製造時に計測したデータ若しくは設計値を使用する。そして、残りの１つのパラメータを、いずれも式（１）を変形して得られる以下の式（１１）乃至（１３）から補正する。
【００７６】
【数７】
2020013000.tif 000009
【数８】
2020013000.tif 000010
【数９】
2020013000.tif 000011
なお、レチクル厚み差分ΔＤが既知の３種類のレチクルを搬送することで、式（１１）乃至（１３）の連立方程式から搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αを求めて補正してもよい。
【００７７】
そして、第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、搬送装置チャック上昇駆動Ｓ２０２、搬送装置チャック旋回駆動Ｓ２０３及び搬送装置チャック下降駆動Ｓ２０４が実施され、本実施形態に係る露光装置におけるレチクル搬送Ｓ２が終了する。
次に、第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、レチクルアライメントＳ３が実施され、最後に搬送装置チャック退避駆動Ｓ４が実施される。
【００７８】
上記のように、本実施形態に係る露光装置では、プリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３の駆動指令値Ｓｐｃを露光装置内で取得し補正することができる。
これにより、装置運用中にレチクル２の情報を蓄積し、レチクル搬送装置１のパラメータを補正することが可能となり、送り込み量誤差ＬＥを低減しつつ高スループット化を達成することができる。
【００７９】
［第五実施形態］
図１０は、第五実施形態に係る露光装置におけるレチクル搬送動作を示したフローチャートである。
なお、本実施形態に係る露光装置は、第一実施形態に係る露光装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して重複する部分についての説明を省略する。
【００８０】
本実施形態に係る露光装置では、以下に示すように、レチクル搬送装置１を用いてレチクル２をプリアライメントステージ４からレチクルステージ３へ載置する際に発生する置き位置誤差を補正することができる。
【００８１】
まず、本実施形態に係る露光装置では、第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、レチクルプリアライメントＳ１が実施され、レチクル搬送Ｓ２に進む。
次に、レチクル搬送Ｓ２の実施において、まず、レチクル取得駆動Ｓ２０１及び搬送装置チャック上昇駆動Ｓ２０２が実施され、搬送装置チャック旋回駆動Ｓ２０３と同時に、レチクルステージ補正駆動Ｓ１０が実施される。
【００８２】
レチクルステージ補正駆動Ｓ１０は、レチクルステージ３を駆動させるシーケンスであり、レチクルステージ補正駆動Ｓ１０の駆動量の駆動指令値Ｓｒｃは、以下の式（１４）のように表される。
【数１０】
2020013000.tif 000012
ここで、Ｍｒはレチクル２の質量、Ｅｒｓはレチクル載置時ずれ量（レチクルステージ３のレチクル２の載置の際に発生するＸ方向の移動量）である。なお、搬送装置振動周期Ｔｘは、搬送装置チャック１０３ａが保持しているレチクル２の質量により変動するため、レチクル質量Ｍｒの関数としている。
【００８３】
そして、搬送装置チャック旋回駆動Ｓ２０３の終了とレチクルステージ補正駆動Ｓ１０の終了との同期をとった後、搬送装置チャック下降駆動Ｓ２０４が実施され、レチクル搬送Ｓ２が終了した後、レチクルアライメントＳ３に進む。
【００８４】
レチクルアライメントＳ３においては、まず、レチクルステージレチクル吸着Ｓ３０５が実施され、その後、レチクル吸着時アライメント計測Ｓ３０６が実施される。
レチクル吸着時アライメント計測Ｓ３０６においては、レチクル吸着時相対変位ΔＲＳ２が計測される。
その後、レチクル状態既知判定Ｓ６が実施され、レチクル２の状態が既知であるかどうかを判定する。
【００８５】
レチクル２の状態が不明であった場合には、レチクル吸着時相対変位ΔＲＳ２からレチクル厚み差分ΔＤ、レチクル質量Ｍｒ及びレチクル載置時ずれ量Ｅｒｓの少なくとも一つを求めて更新する（レチクル状態更新Ｓ８）。その際、式（１４）を変形して得られる以下の式（１５）乃至（１７）を用い、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αについては既知の値を用いる。
【００８６】
【数１１】
2020013000.tif 000013
【数１２】
2020013000.tif 000014
【数１３】
2020013000.tif 000015
ここで、ＦはＴｘ（Ｍｒ）の逆関数である。なお、搬送装置振動周期Ｔｘに対するレチクル質量Ｍｒの変化の影響は微小であり、レチクル厚み差分ΔＤは別途計測する手段があるため、レチクル載置時ずれ量Ｅｒｓのみを求めて更新してもよい。
【００８７】
一方、レチクル２の状態が既知であった場合には、レチクル厚み差分ΔＤについて既知の値を用いて、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αを補正する（搬送装置状態更新Ｓ７）。
この際、不定変数が３個であるのに対して式が１つしかないため、同時に全変数を補正することはできない。
従って、搬送装置振動振幅Ｌｘ、搬送装置振動周期Ｔｘ及び搬送装置振動位相αのうちの２つのパラメータについては、製造時に計測したデータ若しくは設計値を使用する。そして、残りの１つのパラメータを、いずれも式（１４）を変形して得られる以下の式（１８）乃至（２０）から補正する。
【００８８】
【数１４】
2020013000.tif 000016
【数１５】
2020013000.tif 000017
【数１６】
2020013000.tif 000018
【００８９】
そして、レチクルアライメント判定Ｓ３０７が実施され、レチクル吸着時相対変位ΔＲＳ２が目標値の範囲内かどうか判定を行う。
レチクル吸着時相対変位ΔＲＳ２が目標値の範囲内であれば、レチクルアライメントＳ３は終了処理される。一方、レチクル吸着時相対変位ΔＲＳ２が目標値の範囲外であった場合には、レチクルアライメントリトライシーケンスＳ３０９が実施された後、再度レチクルアライメント判定Ｓ３０７が実施される。
【００９０】
そして、レチクルアライメントＳ３が終了した後、最後に第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、搬送装置チャック退避駆動Ｓ４が実施される。
【００９１】
なお上記では、レチクル搬送における動作について本実施形態を説明しているが、上記の動作をウェハ搬送に適用しても構わない。
例えば、半導体露光装置で処理されるウェハでは、半導体プロセスを経た影響によって理想的な円盤形状からの反り等の変形が発生しうる。
そのため、ウェハ搬送系からウェハステージへウェハを受け渡す際に、変形量や変形形状に応じて、受け渡し位置が変化する可能性がある。
【００９２】
これは、ウェハが経たプロセスに応じてウェハステージ上の載置時ずれ量が異なることを意味している。
従って、例えば一枚目のウェハをウェハステージへ受け渡した後のウェハアライメントの結果からずれ量を算出する。そして、そのずれ量に基づいて二枚目以降のウェハをウェハステージへ受け渡す際に、算出されたずれ量の分だけウェハステージに対して補正駆動を行ってもよい。
【００９３】
上記のように、本実施形態に係る露光装置では、レチクル搬送装置１を用いてレチクル２をプリアライメントステージ４からレチクルステージ３へ載置する際に発生する置き位置誤差を補正することができる。
これにより、外形寸法や変形量が異なるレチクル２についてもレチクル搬送装置１からレチクルステージ３へ載置する際の置き位置誤差を補正することが可能となり、搬送精度をしつつ高スループット化を達成することができる。
【００９４】
［第六実施形態］
第六実施形態に係る露光装置では、搬送装置要因偏差やレチクル要因偏差等によりプリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３の駆動指令値Ｓｐｃを求め、その駆動指令値Ｓｐｃに基づいてレチクル搬送動作を行うものである。
なお、本実施形態に係る露光装置は、第一実施形態に係る露光装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して重複する部分についての説明を省略する。
【００９５】
本実施形態に係る露光装置では、駆動指令値Ｓｐｃを以下の式（２１）に示されるように定義している。
Ｓｐｃ＝Ｅｓ＋ΔＥｓ＋Ｅｒ＋ΔＥｒ  ・・・（２１）
ここで、Ｅｓは搬送装置要因偏差、Ｅｒはレチクル要因偏差である。また、ΔＥｓは装置運用の際のＥｓの変動値、ΔＥｒは基準レチクルからの個々のレチクルのオフセット量である。
搬送装置要因偏差Ｅｓとレチクル要因偏差Ｅｒとは、露光装置の製造時に取得しておく基準値であり、ΔＥｓとΔＥｒとは、露光装置の運用時に更新していく値である。
【００９６】
次に、本実施形態に係る露光装置における駆動指令値Ｓｐｃの補正方法について示す。
本実施形態に係る露光装置では、第二実施形態に係る露光装置と同様に、図６に示されているフローチャートに基づいてレチクル搬送動作を行う。
【００９７】
具体的には、まず、第二実施形態に係る露光装置と同様に、レチクルプリアライメントＳ１及びレチクル搬送Ｓ２が実施される。
そして、レチクルアライメントＳ３において、まず、レチクル浮上時アライメント計測Ｓ３０１が実施される。その際、レチクルアライメント計測部５ａ及び５ｂによって、レチクル２とレチクルステージ３との間のレチクル浮上時相対変位ΔＲＳ１が計測及び算出される。
【００９８】
次に、レチクルマーク範囲内確認Ｓ３０２が実施され、レチクル２に付されたレチクルマーク２０１ａ及び２０１ｂが所定の範囲外にある場合には、エラー時処理Ｓ３０４へ進む。一方、レチクル２に付されたレチクルマーク２０１ａ及び２０１ｂが所定の範囲内にあった場合には、レチクル浮上時アライメント計測回数判定Ｓ５へ進む。
【００９９】
レチクル浮上時アライメント計測回数判定Ｓ５では、レチクル浮上時アライメント計測Ｓ３０１の実施回数を判定する。
レチクル浮上時アライメント計測Ｓ３０１の実施が１回目の際には、レチクル状態既知判定Ｓ６へ進む。一方、レチクル浮上時アライメント計測Ｓ３０１の実施が２回目以降の際には、レチクルステージ位置合わせ駆動Ｓ３０３へ進む。
【０１００】
ここで、１回目のレチクル浮上時アライメント計測Ｓ３０１で計測されるレチクル浮上時相対変位ΔＲＳ１は、送り込み量誤差ＬＥと同一である。
レチクル状態既知判定Ｓ６では、レチクル２の状態が既知であるかどうかを判定する。
レチクル２の状態が不明であった場合には、レチクル浮上時相対変位ΔＲＳ１を用いて、式（２１）を変形して得られる以下の式（２２）からΔＥｓ＝０であるとして、このレチクル２におけるΔＥｒを取得して更新する（レチクル状態更新Ｓ８）。
ΔＥｒ＝ΔＲＳ１−Ｅｓ−Ｅｒ  ・・・（２２）
【０１０１】
一方、レチクル２の状態が既知であれば、式（２１）を変形して得られる以下の式（２３）からΔＥｓを補正する。
ΔＥｓ＝ΔＲＳ１−Ｅｒ−Ｅｓ−ΔＥｒ  ・・・（２３）
そして、得られたΔＥｓを次回のレチクル搬送動作シーケンス時においてプリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３の駆動指令値Ｓｐｃに加算する。
なお、レチクル状態が不明の２種類の新規レチクルを搬送することで、式（２２）の連立方程式からΔＥｒ及びΔＥｓを求めてもよい。
【０１０２】
上記のように、本実施形態に係る露光装置では、搬送装置要因偏差やレチクル要因偏差等によりプリアライメントステージ補正駆動Ｓ１０３の駆動指令値Ｓｐｃを求め、その駆動指令値Ｓｐｃに基づいてレチクル搬送動作を行うことができる。
これにより、より簡潔に送り込み量誤差ＬＥを低減しつつ高スループット化を達成することができる。
【０１０３】
［物品製造方法の実施形態］
本実施形態に係る物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。
本実施形態に係る物品製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。
更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。
本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも一つにおいて有利である。
【符号の説明】
【０１０４】
１  レチクル搬送装置（搬送装置）
２  レチクル（搬送物）
４  プリアライメントステージ（第１のステージ）
７  コントローラ（制御部）
【図１】
2020013000.tif 000019
【図２】
2020013000.tif 000020
【図３】
2020013000.tif 000021
【図４】
2020013000.tif 000022
【図５】
2020013000.tif 000023
【図６】
2020013000.tif 000024
【図７】
2020013000.tif 000025
【図８】
2020013000.tif 000026
【図９】
2020013000.tif 000027
【図１０】
2020013000.tif 000028