(57)【要約】【課題】本発明は、熱耐久性に優れた偏光板を作製できる重合性液晶組成物、光学異方性層、位相差膜、偏光板、積層体、液晶表示装置および有機電界発光装置を提供することを課題とする。【解決手段】酸無水物と逆波長分散性を示す重合性液晶化合物とを含有する、重合性液晶組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸無水物と逆波長分散性を示す重合性液晶化合物とを含有する、重合性液晶組成物。
【請求項２】
前記酸無水物が、下記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物である、請求項１に記載の重合性液晶組成物。
【化１】
2020084070.tif 000074
（ここでR１及びR２は互いに連結して環を形成してもよい、R1とR２の合計炭素数が２〜５０の置換基であり、さらに置換基を有していても良い。）
【請求項３】
前記酸無水物が、下記式（ＩＶ）で表わされる化合物である、請求項１に記載の重合性液晶組成物。
【化２】
2020084070.tif 000075
（ここでR３及びR４は、互いに連結して環を形成してもよい、R３とR４の合計炭素数が０〜３０の置換基である。点線部の結合は単結合もしくは二重結合を表わす。）
【請求項４】
前記酸無水物の分子量が、４５０以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項５】
前記逆波長分散性を示す重合性液晶化合物が、下記式（ＩＩ）で表される、請求項１に記載の重合性液晶組成物。
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２      ・・・（ＩＩ）
ここで、前記式（ＩＩ）中、
Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−、または、−ＣＯ−ＮＲ１−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、前記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−で置換されていてもよい。さらに、脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基は複数が単結合していても良い。
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方は、重合性基を有する１価の基を表す。
Ａｒは、下記式（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）、（ＩＩ−３）、または、（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基を表す。
【化３】
2020084070.tif 000076
前記式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、
Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−、または、−ＮＲ１１−を表す。
Ｒ１１は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｙ１は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３、または、−ＳＲ１２を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−、−Ｓ−およびＣＯ−からなる群から選択される基を表し、Ｒ２１は、水素原子または置換基を表す。
Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４族〜第１６族の非金属原子を表す。
Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜３０の有機基を表す。
ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
Ｑ２は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を用いて形成される光学異方性層。
【請求項７】
酸無水物と液晶化合物を含有し、波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（４５０）と、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）と、波長６５０ｎｍで測定した面内レターデーションの値であるＲｅ（６５０）とが、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係にある、光学異方性層。
【請求項８】
前記液晶化合物が、下記式（Ｉ）で表される部分構造を有する重合体である、請求項７に記載の光学異方性層。
＊−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−＊      ・・・（Ｉ）
ここで、前記式（Ｉ）中、
Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−、または、−ＣＯ−ＮＲ１−を表す。
Ａｒは、下記式（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）、（ＩＩ−３）、または、（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基を表す。
【化４】
2020084070.tif 000077
前記式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、
Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−、または、−ＮＲ１１−を表す。
Ｒ１１は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｙ１は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３、または、−ＳＲ１２を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−、−Ｓ−およびＣＯ−からなる群から選択される基を表し、Ｒ２１は、水素原子または置換基を表す。
Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４族〜第１６族の非金属原子を表す。
Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜３０の有機基を表す。
ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
Ｑ２は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【請求項９】
前記式（Ｉ）中、Ｄ１およびＤ２の少なくとも一方が、−Ｏ−、または、−ＣＯ−Ｏ−を表す、請求項８に記載の光学異方性層。
【請求項１０】
前記酸無水物が、上記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物である、請求項７〜９のいずれか１項に記載の光学異方性層。
【請求項１１】
液晶化合物を含有する光学異方性層と、上記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物を含有する層、とを有する位相差膜であり、前記光学異方性層は、４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（４５０）と、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）と、波長６５０ｎｍで測定した面内レターデーションの値であるＲｅ（６５０）とが、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係にある、位相差膜。
【請求項１２】
前記液晶化合物が、下記式（Ｉ）で表される部分構造を有する重合体である、請求項１１に記載の位相差膜。
【請求項１３】
前記光学異方性層がポジティブＡプレートである、請求項６〜１０のいずれか１項に記載の光学異方性層、もしくは請求項１１または１２のいずれか１項に記載の位相差膜。
【請求項１４】
前記ポジティブＡプレートがλ／４板である、請求項１３に記載の光学異方性層もしくは位相差膜。
【請求項１５】
請求項６〜１０のいずれか１項に記載の光学異方性層もしくは請求項１１または１２のいずれか１項に記載の位相差膜と、偏光子を有する、偏光板。
【請求項１６】
請求項１５に記載の偏光板を有する、液晶表示装置。
【請求項１７】
請求項１５に記載の偏光板を有する、有機電界発光装置。
【請求項１８】
２枚の基板と、前記２枚の基板の間に配置された請求項１５に記載の偏光板とを有する積層体であって、前記基板の透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である、積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、重合性液晶組成物、光学異方性層、位相差膜、偏光板、積層体、液晶表示装置および有機電界発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、光学異方性層と偏光子とを有する偏光板が、光学補償や反射防止などを目的として、液晶表示装置や有機電界発光装置などに用いられている。
近年、可視光域の光線が混在している合成波である白色光に対して、全ての波長の光線に対応して同様の効果を与えることができる偏光板（いわゆる広帯域偏光板）の開発が進められており、特に、偏光板が適用される装置の薄型化の要求から、偏光板に含まれる光学異方性層についても薄型化が求められている。
このような要求に対して、例えば、特許文献１および２においては、光学異方性層の形成に使用する重合性化合物として、逆波長分散性の重合性液晶化合物の利用が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１４／０１０３２５号
【特許文献２】特開２０１１−２０７７６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者は、特許文献１および２に記載されている化合物（重合性液晶化合物）を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる光学異方性層を有する偏光板について検討したところ、実用上の態様（例えば、有機電界発光方式のスマートフォンの反射防止を目的とした円偏光板など）に即して、偏光板を両側からガラスに挟みこみ、高温下の条件に長時間曝した場合、面内の中央部に赤みムラが生じることを明らかとした。
なお、逆波長分散性の重合性液晶化合物は、高温高湿環境での耐久性に劣ることは知られているが、上述したようにガラスで挟み込んだ環境、すなわち、水分の供給されないドライの環境における高温条件で赤みムラが生じることは、意外な問題点である。
【０００５】
そこで、本発明は、熱耐久性に優れた偏光板を作製できる重合性液晶組成物、光学異方性層、位相差膜、偏光板、積層体、液晶表示装置および有機電界発光装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題について鋭意検討した結果、特定の重合性液晶化合物とともに、酸無水物を含有する重合性液晶組成物を用いることで、熱耐久性に優れた偏光板を作製できることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明者は、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
【０００７】
［１］  酸無水物と逆波長分散性を示す重合性液晶化合物とを含有する、重合性液晶組成物。
［２］  上記酸無水物が、下記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物である、［１］に記載の重合性液晶組成物。
【０００８】
【化１】
2020084070.tif 000002
【０００９】
（ここでR１及びR２は互いに連結して環を形成してもよい、R1とR２の合計炭素数が２〜５０の置換基であり、さらに置換基を有していても良い。）
［３］  上記酸無水物が、下記式（ＩＶ）で表わされる化合物である、［１］に記載の重合性液晶組成物。
【００１０】
【化２】
2020084070.tif 000003
【００１１】
（ここでR３及びR４は、互いに連結して環を形成してもよい、R３とR４の合計炭素数が０〜３０の置換基である。点線部の結合は単結合もしくは二重結合を表わす。）
［４］  上記酸無水物の分子量が、４５０以下である、［１］〜［３］のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
［５］  上記逆波長分散性を示す重合性液晶化合物が、下記式（ＩＩ）で表される、［１］に記載の重合性液晶組成物。
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２      ・・・（ＩＩ）
ここで、上記式（ＩＩ）中、
Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−、または、−ＣＯ−ＮＲ１−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−で置換されていてもよい。さらに、脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基は複数が単結合していても良い。
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方は、重合性基を有する１価の基を表す。
Ａｒは、下記式（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）、（ＩＩ−３）、または、（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基を表す。
【００１２】
【化３】
2020084070.tif 000004
【００１３】
上記式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、
Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−、または、−ＮＲ１１−を表す。
Ｒ１１は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｙ１は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３、または、−ＳＲ１２を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−、−Ｓ−およびＣＯ−からなる群から選択される基を表し、Ｒ２１は、水素原子または置換基を表す。
Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４族〜第１６族の非金属原子を表す。
Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜３０の有機基を表す。
ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
Ｑ２は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
［６］  ［１］〜［５］のいずれかに記載の重合性液晶組成物を用いて形成される光学異方性層。
［７］  酸無水物と液晶化合物を含有し、波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（４５０）と、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）と、波長６５０ｎｍで測定した面内レターデーションの値であるＲｅ（６５０）とが、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係にある、光学異方性層。
［８］  上記液晶化合物が、下記式（Ｉ）で表される部分構造を有する重合体である、［７］に記載の光学異方性層。
＊−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−＊      ・・・（Ｉ）
ここで、上記式（Ｉ）中、
Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−、または、−ＣＯ−ＮＲ１−を表す。
Ａｒは、下記式（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）、（ＩＩ−３）、または、（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基を表す。
【００１４】
【化４】
2020084070.tif 000005
【００１５】
上記式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、
Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−、または、−ＮＲ１１−を表す。
Ｒ１１は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｙ１は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３、または、−ＳＲ１２を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−、−Ｓ−およびＣＯ−からなる群から選択される基を表し、Ｒ２１は、水素原子または置換基を表す。
Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４族〜第１６族の非金属原子を表す。
Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜３０の有機基を表す。
ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
Ｑ２は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
［９］  上記式（Ｉ）中、Ｄ１およびＤ２の少なくとも一方が、−Ｏ−、または、−ＣＯ−Ｏ−を表す、［８］に記載の光学異方性層。
［１０］  上記酸無水物が、上記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物である、［７］〜［９］のいずれかに記載の光学異方性層。
［１１］  液晶化合物を含有する光学異方性層と、上記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物を含有する層、とを有する位相差膜であり、上記光学異方性層は、４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（４５０）と、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）と、波長６５０ｎｍで測定した面内レターデーションの値であるＲｅ（６５０）とが、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係にある、位相差膜。
［１２］  上記液晶化合物が、下記式（Ｉ）で表される部分構造を有する重合体である、［１１］に記載の位相差膜。
［１３］  上記光学異方性層がポジティブＡプレートである、［６］〜［１０］のいずれかに記載の光学異方性層、もしくは［１１］または［１２］のいずれかに記載の位相差膜。
［１４］  上記ポジティブＡプレートがλ／４板である、［１３］に記載の光学異方性層もしくは位相差膜。
［１５］  ［６］〜［１０］のいずれかに記載の光学異方性層もしくは［１１］または［１２］のいずれかに記載の位相差膜と、偏光子を有する、偏光板。
［１６］  ［１５］に記載の偏光板を有する、液晶表示装置。
［１７］  ［１５］に記載の偏光板を有する、有機電界発光装置。
［１８］２枚の基板と、上記２枚の基板の間に配置された［１５］に記載の偏光板とを有する積層体であって、上記基板の透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である、積層体。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、熱耐久性に優れた偏光板を作製できる重合性液晶組成物、光学異方性層、位相差膜、偏光板、積層体、液晶表示装置および有機電界発光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１Ａ】本発明の偏光板の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。
【図１Ｂ】本発明の偏光板の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。
【図１Ｃ】本発明の偏光板の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。
【図１Ｄ】本発明の偏光板の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、表記される二価の基（例えば、−Ｏ−ＣＯ−）の結合方向は、結合位置を明記している場合を除き、特に制限されず、例えば、後述する式（ＩＩ）中のＤ１が−ＣＯ−Ｏ−である場合、Ｇ１側に結合している位置を＊１、Ａｒ側に結合している位置を＊２とすると、Ｄ１は、＊１−ＣＯ−Ｏ−＊２であってもよく、＊１−Ｏ−ＣＯ−＊２であってもよい。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
また、本明細書において、角度に関する「直交」および「平行」とは、厳密な角度±１０°の範囲を意味するものとし、角度に関する「同一」および「異なる」は、その差が５°未満であるか否かを基準に判断できる。
また、本明細書において、「可視光」とは、３８０〜７８０ｎｍのことをいう。
また、本明細書において、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
次に、本明細書で用いられる用語について説明する。
【００１９】
＜含水量＞
本明細書において、「含水量」とは、切り出された試料の初期重量、および１２０℃で２時間乾燥後の乾燥重量の変化量を単位面積当たりに換算した重量を意味する。
【００２０】
＜遅相軸＞
本明細書において、「遅相軸」とは、面内において屈折率が最大となる方向を意味する。なお、光学異方性層の遅相軸という場合は、光学異方性層全体の遅相軸を意図する。
【００２１】
＜Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）＞
本明細書において、「Ｒｅ（λ）」および「Ｒｔｈ（λ）」は、それぞれ、波長λにおける面内のレターデーション、および、厚さ方向のレターデーションを表す。
ここで、面内レターデーションおよび厚み方向のレターデーションの値は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定した値をいう。
具体的には、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１にて、平均屈折率（（Ｎｘ＋Ｎｙ＋Ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１で算出される数値として表示され
るものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
【００２２】
［重合性液晶組成物］
本発明の重合性液晶組成物は、酸無水物（以下、単に「特定化合物」とも略す。）と、逆分散性を示す重合性液晶化合物（以下、単に「特定液晶化合物」とも略す。）とを含有する。
【００２３】
本発明においては、上述した通り、特定液晶化合物とともに、酸無水物を配合した重合性液晶組成物を用いることにより、形成される光学異方性層を有する偏光板の熱耐久性が良好となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者は以下のように推測している。
【００２４】
逆波長分散性を示す重合性液晶化合物は水などの求核種による分解を受けやすく、特にアミン化合物が存在する場合において、この問題が顕著になる傾向にある。
具体的には、本発明者は、特定液晶化合物を用いて作製した光学異方性層を高温高湿条件下に曝した場合、一定の誘導期間を経て、光学異方性層に含まれる特定液晶化合物の分解が急激に起こり、面内のレターデーション値の変動が大きくなることを知見している。この理由は、以下の現象によるものと推測される。
特定液晶化合物を逆波長分散性にするための１つの方法として、電子求引性の性質を持たせることがあるが、これにより特定液晶化合物を構成する炭素原子のプラスの分極が大きくなり、求核種（水あるいはアミンと推定）の攻撃を受けやすくなるものと推測される。
【００２５】
その一方で、偏光板を両側からガラスに挟みこんだ環境下においては、水などの求核種が外部からは供給されにくいため微量であり、かつ外部に放出されにくいと推測される。
そのため、本発明においては、限られた量の酸無水物であっても水あるいはアミンと反応することにより分解反応が抑制され改良効果が得られたものと考えられる。
以下、本発明の重合性液晶組成物の各成分について詳細に説明する。
【００２６】
〔酸無水物〕
本発明の重合性液晶組成物は酸無水物を含有する。酸無水物は鎖状、環状のいずれであっても効果を発現するが、環状化合物の方が好ましい。
【００２７】
酸無水物の構造は、下記一般式（ＩＩＩ）の構造が好ましい。
【００２８】
【化５】
2020084070.tif 000006
【００２９】
（ここでR１及びR２は互いに連結して環を形成してもよい、R1とR２の合計炭素数が炭素数２〜５０の置換基であり、さらに置換基を有していても良い。）
【００３０】
ここでR１及びR２は互いに連結して環を形成してもよい、R1とR２の合計炭素数が炭素数２〜５０の置換基であり、好ましくは炭素数２〜３５、より好ましくは炭素数２〜３０の置換基である。
【００３１】
置換基としては、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が挙げられる。
【００３２】
更に詳しくは、水素原子、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２―エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）を包含するものである。］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基、アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３から２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p-クロロフェノキシカルボニルアミノ、m-ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホンアミド、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５,−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４から３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２―ピリジルカルボニル、２―フリルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバ��イル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）が挙げられる。
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００３３】
酸無水物の構造は、下記一般式（ＩＶ）の構造がさらに好ましい。
【００３４】
【化６】
2020084070.tif 000007
【００３５】
（ここでR３及びR４は、互いに連結して環を形成してもよい、R３とR４の合計炭素数が炭素数０〜２０の置換基である。点線部の結合は単結合もしくは二重結合を表わす。）
【００３６】
具体的構造としては、以下に本発明で用いる酸無水物を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。無置換の場合、即ち水素原子が置換している場合は表記を省略している。
【００３７】
【化７】
2020084070.tif 000008
【００３８】
【化８】
2020084070.tif 000009
【００３９】
【化９】
2020084070.tif 000010
【００４０】
【化１０】
2020084070.tif 000011
【００４１】
【化１１】
2020084070.tif 000012
【００４２】
【化１２】
2020084070.tif 000013
【００４３】
【化１３】
2020084070.tif 000014
【００４４】
【化１４】
2020084070.tif 000015
【００４５】
【化１５】
2020084070.tif 000016
【００４６】
【化１６】
2020084070.tif 000017
【００４７】
【化１７】
2020084070.tif 000018
【００４８】
【化１８】
2020084070.tif 000019
【００４９】
更に、本発明においては、液晶化合物の配向性を維持する観点から、上記酸無水物の分子量が４５０以下であることが好ましい。
【００５０】
上記酸無水物の含有量は、後述する特定液晶化合物の配向性の観点、および、形成される光学異方性層を有する偏光板の熱耐久性が更に向上する理由から、後述する特定液晶化合物１００質量部に対して、０．５〜２０質量部であることが好ましく、０．８〜１０質量部であることがより好ましく、１．０〜６．０質量部であることが更に好ましい。
【００５１】
〔特定液晶化合物〕
本発明の重合性液晶組成物が含有する特定液晶化合物は、重合性液晶化合物であり、「逆波長分散性」を示す化合物である。
ここで、本明細書において「逆波長分散性」を示す化合物とは、これを用いて作製された光学異方性層の特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいい、後述するようにＲｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たすものをいう。
【００５２】
本発明の特定液晶化合物の好ましい構造のひとつは、下記式（ＩＩ）で表わされる。
Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２      ・・・（ＩＩ）
上記式（ＩＩ）中、Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−、−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ１Ｒ２−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＲ３Ｒ４−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＲ１Ｒ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ１Ｒ２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−、−ＮＲ１−ＣＲ２Ｒ３−、または、−ＣＯ−ＮＲ１−を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のそれぞれが複数存在する場合には、複数のＲ１、複数のＲ２、複数のＲ３および複数のＲ４はそれぞれ、互いに同一でも異なっていてもよい。
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−で置換されていてもよい。さらに、脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基は複数が単結合していても良い。
Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方は、重合性基を有する１価の基を表す。
Ａｒは、下記式（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）、（ＩＩ−３）、または、（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基を表す。
【００５３】
【化１９】
2020084070.tif 000020
【００５４】
上記式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、Ｑ１は、−Ｓ−、−Ｏ−、または−ＮＲ１１−を表し、
Ｒ１１は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｙ１は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表し（なお、上記芳香族炭化水素基および上記芳香族複素環基は置換基を有していてもよい）、
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３または−ＳＲ１２を表し、
Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２およびＲ１３はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−、−Ｓ−および−ＣＯ−からなる群から選ばれる基であって、Ｒ２１は、水素原子または置換基を表し、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４族〜第１６族の非金属原子（好ましくは、＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ’、＝Ｃ(Ｒ’)Ｒ’が挙げられる（ここでＲ’は置換基を表す））を表し、
Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表し、好ましくは、芳香族炭化水素環基；芳香族複素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルキル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルケニル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルケニル基が挙げられ、
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜３０の有機基を表し、この有機基の好適態様は、上記Ａｘの有機基の好適態様と同じであり、
ＡｘおよびＡｙにおける芳香環はそれぞれ、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは結合して、環を形成していてもよく、
Ｑ２は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
なお、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アリール基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、またはこれらを組み合わせた基が挙げられる。
【００５５】
上記式（ＩＩ）で表される重合性液晶化合物の各置換基の定義および好ましい範囲については、特開２０１２−２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＤ１、Ｄ２、Ｇ１、Ｇ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｘ１、Ｙ１、Ｑ１、Ｑ２に関する記載をそれぞれＤ１、Ｄ２、Ｇ１、Ｇ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｑ１、Ｙ１、Ｚ１、およびＺ２について参照でき、特開２００８−１０７７６７号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡ１、Ａ２、およびＸに関する記載をそれぞれＡ１、Ａ２、およびＸについて参照でき、国際公開第２０１３／０１８５２６号に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡｘ、Ａｙ、Ｑ１に関する記載をそれぞれＡｘ、Ａｙ、Ｑ２について参照できる。Ｚ３については特開２０１２−２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＱ１の記載を参照できる。
【００５６】
特に、Ｌ１およびＬ２で示される有機基としては、それぞれ、特に、−Ｄ３−Ｇ３−Ｓｐ−Ｐ３で表される基であることが好ましい。
Ｄ３は、Ｄ１と同義である。
Ｇ１およびＧ３は、単結合、炭素数６〜１２の２価の芳香環基もしくは複素環基、または炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ７−で置換されていてもよく、ここでＲ７は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
さらに、脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基は複数が単結合していても良い。特に、シクロヘキサン環が２個結合した基であることは好ましい。
Ｓｐは、単結合、−（ＣＨ２）ｎ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−（ＣＨ２−Ｏ−）ｎ−、−（ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−）ｍ、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２−Ｏ−）ｎ−、−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−）ｍ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２−Ｏ−）ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−）ｍ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ８）−（ＣＨ２）ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ８）−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ８）−（ＣＨ２−Ｏ−）ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ８）−（ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−）ｍ、または、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−で表されるスペーサー基を表す。ここで、ｎは２〜１２の整数を表し、ｍは２〜６の整数を表し、Ｒ８は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。また、上記各基における−ＣＨ２−の水素原子は、メチル基で置換されていてもよい。
Ｐ３は重合性基を示す。
【００５７】
重合性基は特に限定されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も高複屈折性液晶の重合性基として同様に使用することができる。
カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性が挙げられ、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基が挙げられる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。
【００５８】
【化２０】
2020084070.tif 000021
【００５９】
なお、本明細書において、「アルキル基」は、直鎖状、分枝鎖状および環状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基が挙げられる。
【００６０】
上記式（ＩＩ）で表される重合性液晶化合物の好ましい例を以下に示すが、これらの液晶化合物に限定されるものではない。
【００６１】
【化２１】
2020084070.tif 000022
【００６２】
【化２２】
2020084070.tif 000023
【００６３】
【化２３】
2020084070.tif 000024
【００６４】
なお、上記式中、「＊」は結合位置を表す。
【００６５】
ＩＩ−２−８
【化２４】
2020084070.tif 000025
【００６６】
ＩＩ−２−９
【化２５】
2020084070.tif 000026
【００６７】
なお、上記式ＩＩ−２−８およびＩＩ−２−９中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
【００６８】
【化２６】
2020084070.tif 000027
【００６９】
【化２７】
2020084070.tif 000028
【００７０】
【化２８】
2020084070.tif 000029
【００７１】
【化２９】
2020084070.tif 000030
【００７２】
【化３０】
2020084070.tif 000031
【００７３】
【化３１】
2020084070.tif 000032
【００７４】
上記の好ましい例に加えて、他に好ましい側鎖構造の例を以下に示す。
【００７５】
【表１】
2020084070.tif 000033
【００７６】
【表２】
2020084070.tif 000034
【００７７】
また、本発明の特定液晶化合物の好ましい構造として、下記の一般式（Ｖ）の構造も含まれる。
Ｌ１−[Ｄ１−Ｇ１]ｍ−Ｅ１−Ａ−Ｅ２−[Ｇ２−Ｄ２]ｎ−Ｌ２      ・・・（Ｖ）
上記一般式（Ｖ）において、
Ａは、炭素数５〜８の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数６〜２０の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であり；   
Ｅ１、Ｅ２、Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり；   
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１Ｒ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ１、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ１、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＳＲ１、−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ２Ｒ１、−ＯＨ、−ＮＯ２、−ＣＦ３、−ＳＦ３、置換もしくは非置換のシリル、置換もしくは非置換の炭素数１〜４０のカルビルまたはヒドロカルビル、または−Ｓｐ−Ｐであって、上記Ｌ１およびＬ２のうちの少なくとも１つは、−Ｓｐ−Ｐであり、上記Ｐは、重合性基であり、上記Ｓｐは、スペーサー基または単結合であり、上記Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルであり；   
ｍおよびｎは、それぞれ独立に、１〜５の整数であって；上記ｍまたはｎが２以上であれば、２以上繰り返される−（Ｄ１−Ｇ１）−または−（Ｇ２−Ｄ２）−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく；   
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数６〜２０の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であって、上記Ｇ１およびＧ２のうちの少なくとも１つは、上記炭素環式もしくはヘテロ環式基であり、上記炭素環式もしくはヘテロ環式基に含まれているいずれか１つの水素は、下記一般式（VI）で表される基で置換されている：   
＊−[Ｑ１]ｐ−Ｂ１      ・・・（VI）
上記一般式（VI）において、   
ｐは、１〜１０の整数であって、ｐが２以上であれば、２以上繰り返される−（Ｑ１）−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく、   
Ｑ１は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＹ１＝ＣＹ２−、および炭素数６〜２０の置換もしくは非置換の芳香族基、またはヘテロ芳香族基からなる群より選択された２価基であって、上記Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、または−Ｒ１であり、   
Ｂ１は、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１Ｒ２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ１、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＳＲ１、−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ２Ｒ１、−ＯＨ、−ＮＯ２、−ＣＦ３、−ＳＦ３、重合性基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数２〜４のアシル基、末端に炭素数２〜４のアシル基が結合した炭素数２〜６のアルキニレン基、炭素数１〜５のアルコール基、または炭素数１〜１２のアルコキシ基であり、上記Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである。  
【００７８】
上記一般式（Ｖ）の好ましい具体例を下記に示す。
【００７９】
【化３２】
2020084070.tif 000035
【００８０】
【化３３】
2020084070.tif 000036
【００８１】
【化３４】
2020084070.tif 000037
【００８２】
【化３５】
2020084070.tif 000038
【００８３】
本発明においては、特定液晶化合物の含有量は特に制限されないが、組成物中の全固形分に対して、５０〜１００質量％が好ましく、７０〜９９質量％がより好ましい。
固形分とは、組成物中の溶媒を除いた他の成分を意味し、その性状が液状であっても固形分として計算する。
【００８４】
〔重合性棒状化合物〕
本発明の重合性液晶組成物は、液晶配向性を制御する観点から、上述した特定液晶化合物以外に、重合性棒状化合物を含有していてもよい。なお、上記重合性棒状化合物は、液晶性の有無を問わない。
【００８５】
上記重合性棒状化合物は、上述した特定液晶化合物との相溶性の観点から、直鎖状のアルキル基で水素原子が１個置換されたシクロヘキサン環を一部に有する化合物（以下、「アルキルシクロヘキサン環含有化合物」とも略す。）であることが好ましい。
ここで、「直鎖状のアルキル基で水素原子が１個置換されたシクロヘキサン環」とは、例えば、下記式（２）に示すように、シクロヘキサン環を２つ有する場合には、分子末端側に存在するシクロヘキサン環の水素原子が直鎖状のアルキル基で１個置換されたシクロヘキサン環をいう。
【００８６】
アルキルシクロヘキサン環含有化合物としては、例えば、下記式（２）で表される構造を有する化合物が挙げられ、なかでも、光学異方性層の湿熱耐久性付与の観点から、（メタ）アクリロイル基を有する下記式（３）で表される化合物であるのが好ましい。
【００８７】
【化３６】
2020084070.tif 000039
【００８８】
ここで、上記式（２）中、＊は結合位置を表す。
また、上記式（２）および（３）中、Ｒ2は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｎは１または２を表し、Ｗ1およびＷ2はそれぞれアルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、また、Ｗ1およびＷ2はこれらが互いに結合し、置換基を有していてもよい環構造を形成していてもよい。
また、上記式（３）中、Ｚは−ＣＯＣ−または−ＯＣＯ−を表し、Ｌは炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ3は水素原子またはメチル基を表す。
【００８９】
このようなアルキルシクロヘキサン環含有化合物としては、具体的には、例えば、下記式Ａ−１〜Ａ−５で表される化合物が挙げられる。なお、下記式Ａ−３中、Ｒ4は、エチル基またはブチル基を表す。
【００９０】
【化３７】
2020084070.tif 000040
【００９１】
上記重合性棒状化合物を含有する場合、上記重合性棒状化合物の含有量は、上述した特定液晶化合物および上記重合性棒状化合物の合計質量に対して、１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることが更に好ましい。
【００９２】
〔その他の重合性液晶化合物〕
本発明の重合性液晶組成物は、上述した特定液晶化合物および重合性棒状化合物以外の重合性液晶化合物（以下、「他の重合性液晶化合物」とも略す。）を含有してもよい。
ここで、他の重合性液晶化合物が有する重合性基は特に限定されず、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられる。なかでも、（メタ）アクリロイル基を有しているのが好ましい。
【００９３】
本発明においては、光学異方性層の耐久性が向上する理由などから、他の重合性液晶化合物は、重合性基を２〜４個有する重合性化合物であるのが好ましく、重合性基を２個有する重合性化合物であるのがより好ましい。
【００９４】
このような他の重合性液晶化合物としては、例えば、特開２０１４−０７７０６８号公報の［００３０］〜［００３３］段落に記載された式（Ｍ１）、（Ｍ２）、（Ｍ３）で表される化合物が挙げられ、より具体的には、同公報の［００４６］〜［００５５］段落に記載された具体例が挙げられる。
他の重合性液晶化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
【００９５】
他の重合性液晶化合物を含有する場合、他の重合性液晶化合物の含有量は、上述した特定液晶化合物、重合性棒状化合物および他の重合性液晶化合物の合計質量に対して、１〜４０質量％であることが好ましく、１〜１０質量％であることがより好ましい。
【００９６】
〔非液晶性の多官能重合性化合物〕
本発明の重合性液晶組成物は、形成される光学異方性層を有する偏光板の熱耐久性が更に向上する理由から、非液晶性の多官能重合性化合物を含有していることが好ましい。
これは、架橋点密度が増えることにより、加水分解反応の触媒となる化合物（液晶分解物と推定）の動きが抑制された結果、加水分解反応の速度が遅くなり、その間に水分の端部への拡散が進行するためと推定している。
【００９７】
非液晶性の多官能重合性化合物は、上述した特定液晶化合物の配向性の観点から、アクリル当量が低い化合物が好ましい。
具体的には、アクリル当量が１２０以下である化合物が好ましく、１００以下である化合物がより好ましく、９０以下である化合物が更に好ましい。
ここで、アクリル当量とは、分子量をアクリル官能基の数で割ったものである。
【００９８】
このような非液晶性の多官能重合性化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼン及びその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが含まれる。
【００９９】
非液晶性の多官能重合性化合物を含有する場合の含有量は、形成される光学異方性層の位相差の発現の観点から、重合性液晶組成物の固形分濃度で、０．１〜２０質量％となる量であることが好ましく、０．１〜１０質量％となる量であることがより好ましく、１〜６質量％となる量であることが更に好ましい。
【０１００】
〔重合開始剤〕
本発明の重合性液晶組成物は、重合開始剤を含有していることが好ましい。
使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報、特開平１０−２９９９７号公報記載）等が挙げられる。
【０１０１】
本発明においては、光学異方性層の耐久性がより良好となる理由から、重合開始剤がオキシム型の重合開始剤であるのが好ましく、具体的には、下記式（ＩＩＩ）で表される重合開始剤であるのがより好ましい。
【０１０２】
【化３８】
2020084070.tif 000041
【０１０３】
ここで、上記式（ＩＩＩ）中、Ｘは、水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｙは、１価の有機基を表す。
また、Ａｒ3は、２価の芳香族基を表し、Ｌ6は、炭素数１〜１２の２価の有機基を表し、Ｒ10は、炭素数１〜１２のアルキル基を表す。
【０１０４】
上記式（ＩＩＩ）中、Ｘが示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、なかでも、塩素原子であるのが好ましい。
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ａｒ3が示す２価の芳香族基としては、上記式（ＩＩ）中のＡｒ2として例示した芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する２価の基などが挙げられる。
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ｌ6が示す炭素数１〜１２の２価の有機基としては、例えば、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基が挙げられ、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が好適に挙げられる。
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ｒ10が示す炭素数１〜１２のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が好適に挙げられる。
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ｙが示す１価の有機基としては、例えば、ベンゾフェノン骨格（（Ｃ6Ｈ5）2ＣＯ）を含む官能基が挙げられる。具体的には、下記式（２ａ）および下記式（２ｂ）で表される基のように、末端のベンゼン環が無置換または１置換であるベンゾフェノン骨格を含む官能基が好ましい。
【０１０５】
【化３９】
2020084070.tif 000042
【０１０６】
ここで、上記式（３ａ）および上記式（３ｂ）中、＊は結合位置、すなわち、上記式（ＩＩＩ）におけるカルボニル基の炭素原子との結合位置を表す。
【０１０７】
上記式（ＩＩＩ）で表されるオキシム型の重合開始剤としては、例えば、下記式Ｓ−１で表される化合物や、下記式Ｓ−２で表される化合物などが挙げられる。
【０１０８】
【化４０】
2020084070.tif 000043
【０１０９】
本発明においては、上記重合開始剤の含有量は特に限定されないが、重合開始剤の含有量は、本発明の重合性液晶組成物に含まれる特定液晶化合物１００質量部に対して、０．５〜１０質量部であることが好ましく、１〜５質量部であることがより好ましい。
【０１１０】
〔配向制御剤〕
本発明の重合性液晶組成物は、必要に応じて、配向制御剤を含有することができる。
配向制御剤としては、例えば、低分子の配向制御剤や高分子の配向制御剤を用いることができる。低分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００２−２０３６３号公報の段落０００９〜００８３、特開２００６−１０６６６２号公報の段落０１１１〜０１２０や、特開２０１２−２１１３０６公報の段落００２１−００２９の記載を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。また、高分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００４−１９８５１１号公報の段落００２１〜００５７の記載や、特開２００６−１０６６６２号公報の段落０１２１〜０１６７を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
配向制御剤の使用量は、重合性組成物中における本発明の液晶組成物の固形分の０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．０５〜５質量％であることがさらに好ましい。配向制御剤を用いることにより、例えば、本発明の液晶化合物を層の表面と並行に配向したホモジニアス配向状態とすることができる。
【０１１１】
〔有機溶媒〕
本発明の重合性液晶組成物は、光学異方性層を形成する作業性等の観点から、有機溶媒を含有するのが好ましい。
有機溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１１２】
〔その他の成分〕
本発明の重合性液晶組成物は、上述した成分以外の成分を含有してもよく、例えば、上述した重合性液晶化合物以外の液晶化合物、界面活性剤、チルト角制御剤、配向助剤、可塑剤、および、架橋剤などが挙げられる。
【０１１３】
［光学異方性層］
本発明の第１の態様に係る光学異方性層は、上述した本発明の重合性液晶組成物を重合して得られる光学異方性層である。
光学異方性層の形成方法としては、例えば、上述した本発明の重合性液晶組成物を用いて、所望の配向状態とした後に、重合により固定化する方法などが挙げられる。
ここで、重合条件は特に限定されないが、光照射による重合においては、紫外線を用いることが好ましい。照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ２〜５０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ２〜５Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ２〜３Ｊ／ｃｍ２であることが更に好ましく、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２であることが特に好ましい。また、重合反応を促進するため、加熱条件下で実施してもよい。
なお、本発明においては、光学異方性層は、後述する本発明の偏光板における任意の支持体上や、偏光子上に形成することができる。
【０１１４】
本発明の第２の態様に係る光学異方性層は、酸無水物と液晶化合物を含有し、波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（４５０）と、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）と、波長６５０ｎｍで測定した面内レターデーションの値であるＲｅ（６５０）とが、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係にある。すなわち、この関係は、上述した逆波長分散性を表す関係といえる。
各波長における面内レターデーション値の測定方法は、上述した通りである。
なお、酸無水物は、上述した本発明の重合性液晶組成物において説明した酸無水物と同様である。
【０１１５】
本発明の第２の態様に係る上記液晶化合物は、下記式（Ｉ）で表される部分構造を有する重合体とを含有することが好ましい。
＊−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−＊      ・・・（Ｉ）
【０１１６】
ここで、上記式（Ｉ）中、＊は、結合位置を表し、Ａｒは、上述した式（ＩＩ）中のＡｒと同様であり、Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、上述した式（ＩＩ）中のＤ１およびＤ２と同様である。
【０１１７】
本発明においては、偏光板の熱耐久性が良好となる効果が顕在化する理由から、上記式（Ｉ）中の、Ｄ１およびＤ２の少なくとも一方が、−Ｏ−、または、−ＣＯ−Ｏ−を表すことが好ましい。
【０１１８】
上記式（Ｉ）で表される部分構造を有する重合体としては、例えば、上述した特定液晶化合物を重合させた重合体が挙げられる。
【０１１９】
本発明の第１の態様および第２の態様に係る光学異方性層（以下、特に区別を要しない場合は単に「本発明の光学異方性層」とも略す。）の厚みについては特に限定されないが、１〜５μｍであることが好ましく、１〜４μｍであることがより好ましく、１〜３μｍであることがさらに好ましい。
【０１２０】
［位相差膜］
本発明の第３の態様は、液晶化合物を含有する光学異方性層と、上記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物を含有する層、とを有する位相差膜であり、上記光学異方性層は、４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（４５０）と、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）と、波長６５０ｎｍで測定した面内レターデーションの値であるＲｅ（６５０）とが、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係にある、位相差膜である。
なお、液晶化合物は、上述した本発明の第２の態様に係る光学異方性層において説明した液晶化合物と同様である。
また、この態様においては、上記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物を含有する層は、上記液晶化合物を含有する光学異方性層と異なる層であれば良い。
【０１２１】
〔ポジティブＡプレート〕
本発明の光学異方性層は、ポジティブＡプレートであることが好ましい。
なお、本明細書において、ポジティブＡプレートは以下のように定義する。ポジティブＡプレート（正のＡプレート）は、フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚとしたとき、式（Ａ１）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示す。
式（Ａ１）    ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｙ−ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、−１０〜１０ｎｍ、好ましくは−５〜５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれる。
【０１２２】
ポジティブＡプレートを得るには、上記重合性液晶組成物のような棒状の重合性液晶化合物を水平配向させることにより得ることができる。ポジティブＡプレートの製造方法の詳細は、例えば、特開２００８−２２５２８１号公報や特開２００８−０２６７３０号公報などの記載を参酌できる。
【０１２３】
〔λ／４板〕
上記ポジティブＡプレートは、λ／４板として機能することが好ましい。
λ／４板は、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板であり、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／４を満たす板のことをいう。
この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよいが、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍの関係を満たすことが好ましく、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５０ｎｍを満たすことがより好ましい。
【０１２４】
〔ポジティブＣプレート〕
また好ましい一つの様態として、光学異方性層をポジティブＣプレートとすることができる。なお、本明細書において、ポジティブＣプレートは以下のように定義する。ポジティブＣプレート（正のＣプレート）は、フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚとしたとき、式（Ａ１）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ２）    ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、−１０〜１０ｎｍ、好ましくは−５〜５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。
また、ポジティブＣプレートでは、上記の定義より、Ｒｅ≒０となる。
【０１２５】
ポジティブＣプレートを得るには、棒状の重合性液晶化合物を垂直配向させることにより得ることができる。ポジティブＣプレートの製造方法の詳細は、例えば、特開２０１７−１８７７３２号公報や特開２０１６−５３７０９号公報、特開２０１５−２００８６１号公報などの記載を参酌できる。
【０１２６】
［偏光板］
本発明の偏光板は、上述した本発明の光学異方性層と、偏光子と、を有する。
図１Ａ、図１Ｂ、図１Ｃおよび図１Ｄに、本発明の偏光板の一例を示す模式的な断面図を示す。
ここで、図１Ａに示す偏光板１０は、偏光子保護膜１１、ポリビニルアルコール偏光子膜１２、偏光子保護膜１３およびポジティブＡプレート１４をこの順に有する層構成の偏光板である。
また、図１Ｂに示す偏光板２０は、偏光子保護膜１１、ポリビニルアルコール偏光子膜１２、偏光子保護膜１３、ポジティブＡプレート１４およびポジティブＣプレート１５をこの順に有する層構成の偏光板である。
また、図１Ｃに示す偏光板３０は、偏光子保護膜１１、ポリビニルアルコール偏光子膜１２、ポジティブＡプレート１４およびポジティブＣプレート１５をこの順に有する層構成の偏光板である。
また、図１Ｄに示す偏光板４０は、偏光子保護膜１１、ポリビニルアルコール偏光子膜１２、偏光子保護膜１３、光配向膜１６、ポジティブＡプレート１４およびポジティブＣプレート１５をこの順に有する層構成の偏光板である。
【０１２７】
〔偏光子〕
本発明の偏光板が有する偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有するいわゆる直線偏光子である。偏光子としては、特に限定されないが、吸収型偏光子を利用することができる。
偏光子の種類は、通常用いられているポリビニルアルコールを主成分とする偏光子を利用することができる。例えば、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。ポリビニルアルコールを主成分とするとは、固形分重量パーセントで５０％以上であるということである。
一方で、ポリビニルアルコールは非常に親水的で吸水性が高く、偏光板全体の含水量に対する寄与が非常に大きい。偏光子作製時の乾燥条件の変更や偏光子の膜厚低減により含水量を調整することが可能となる。また、特開２０１５−１２９８２６号公報に記載のように、非液晶ＰＥＴ基材に９μｍ厚のポリビニルアルコール層が製膜された積層体を染色、延伸することで厚さ４μｍのポリビニルアルコール層が得られることが開示されており、このような方法を用いることも好ましい。
また、ＷＯ２０１７−１９５８３３号公報や特開２０１７−８３８４３号公報に記載されているように、偏光子として、ポリビニルアルコールをバインダーとして用いずに、液晶化合物と二色性アゾ色素（例えば、ＷＯ２０１７−１９５８３３号公報に記載の光吸収性異方性膜に用いられる二色性アゾ色素）を用い、塗布等により作製した塗布型偏光子も好ましい。
偏光子の厚みは特に制限されないが、５〜２０μｍであることが好ましく、３〜１５μｍであることがより好ましく、２〜１０μｍがさらに好ましい。偏光子厚みを薄くすることで、表示装置の薄型化できるだけでなく、含水量をより下げることが可能となり、熱耐久性をさらに向上することが可能となる。
【０１２８】
〔支持体〕
本発明の偏光板は、上記光学異方性層を支持するための支持体を有していてもよい。
このような支持体層は、透明であるのが好ましく、具体的には光透過率が８０％以上であるのが好ましい。
【０１２９】
このような支持体としては、例えば、ガラス基板やポリマーフィルムが挙げられ、ポリマーフィルムの材料としては、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
また、上述した偏光子がこのような支持体を兼ねる態様であってもよい。
【０１３０】
本発明においては、上記支持体の厚みについては特に限定されないが、５〜８０μｍであるのが好ましく、１０〜４０μｍであるのがより好ましい。
【０１３１】
〔配向膜〕
本発明の偏光板は、上述した任意の支持体を有する場合、支持体と光学異方性層との間に、配向膜を有しているのが好ましい。なお、上述した支持体が配向膜を兼ねる態様であってもよい。
【０１３２】
光学異方性層の一態様であるポジティブＡプレートを形成するためには、液晶化合物の分子を所望の配向状態にするための技術が用いられ、例えば、配向膜を利用して、液晶化合物を所望の方向に配向させる技術が一般的である。
配向膜としては、ポリマー等の有機化合物を含む層のラビング処理膜や無機化合物の斜方蒸着膜、マイクログルーブを有する膜、あるいはω−トリコサン酸やジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルの如き有機化合物のラングミュア・ブロジェット法によるＬＢ（Langmuir-Blodgett）膜を累積させた膜などが挙げられる。さらに光の照射で配向機能が生じる配向膜なども挙げられる。
配向膜としては、ポリマーなどの有機化合物を含む層（ポリマー層）の表面をラビング処理して形成されたものを好ましく用いることができる。ラビング処理は、ポリマー層の表面を紙や布で一定方向（好ましくは支持体の長手方向）に数回こすることにより実施される。配向膜の形成に使用するポリマーとしては、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特許第３９０７７３５号公報の段落番号［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコール、特開平９−１５２５０９号公報に記載された重合性基を有するポリマー等を用いることが好ましい。
配向膜の厚さは、配向機能を発揮することができれば特に限定されないが、０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。
【０１３３】
配向膜としては、光配向性の素材に偏光または非偏光を照射して配向層とした、いわゆる光配向膜（光配向層）を用いることも好ましい態様である。光配向膜には、垂直方向または斜め方向から偏光照射する工程、または、斜め方向から非偏光照射する工程により配向規制力を付与することが好ましい。
光配向膜を利用することで、特定液晶化合物を優れた対称性で水平配向させることが可能である。そのため、光配向膜を利用して形成されたポジティブＡプレートは、特にＩＰＳ（In-Place-Switching）モード液晶表示装置のように駆動液晶のプレ傾斜角が必要無い液晶表示装置における光学補償に有用である。
【０１３４】
光配向膜に用いられる光配向材料としては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、またはエステル、特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報、国際公開第２０１０/１５０７４８号、特開２０１３−１７７５６１号公報、特開２０１４−１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物、特にシンナメート化合物、カルコン化合物、クマリン化合物が挙げられる。特に好ましい例としては、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、エステル、シンナメート化合物、カルコン化合物が挙げられる。
【０１３５】
本発明においては、上記配向膜の厚さは特に限定されないが、支持体に存在しうる表面凹凸を緩和して均一な膜厚の光学異方性膜を形成するという観点から、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがより好ましく、０．０１〜０．５μｍであることがさらに好ましい。
【０１３６】
〔その他の層〕
＜偏光子保護フィルム＞
本発明の偏光板は、偏光子の表面上に、偏光子保護フィルムが配置されていてもよい。偏光子保護フィルムは、偏光子の片面上（光学異方性層側とは反対側の表面上）にのみ配置されていてもよいし、偏光子の両面上に配置されていてもよい。
偏光子保護フィルムの構成は特に制限されず、例えば、いわゆる透明支持体やハードコート層であっても、透明支持体とハードコート層との積層体であってもよい。
ハードコート層としては、公知の層を使用することができ、例えば、多官能モノマーを重合硬化して得られる層であってもよい。
また、透明支持体としては、公知の透明支持体を使用することができ、例えば、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、「セルロースアシレート」という。）や、熱可塑性ノルボルネン系樹脂（日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等）、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂を使用することができる。熱可塑性ノルボルネン系樹脂やポリスチレン系樹脂等の含水しにくい樹脂は、偏光板のトータル含水量を抑制するためには好ましい。
偏光子保護フィルムの厚みは特に限定されないが、偏光板の厚みを薄くできる等の理由から４０μｍ以下が好ましく、２５μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下がさらに好ましく、５μｍ以下が最も好ましい。下限は特に制限されないが、１μｍ以上の場合が多い。
【０１３７】
各層の間の密着性担保のために、各層の間に粘着層または接着層を配置してもよい。さらに、各層の間に透明支持体を配置してもよい。
【０１３８】
本発明の偏光板は、含水量が５．０ｇ／ｍ２以下が好ましく、３．０ｇ／ｍ２以下がより好ましく、１．５ｇ／ｍ２以下が更に好ましく、０．８ｇ／ｍ２以下が特に好ましい。
【０１３９】
［積層体］
本発明の偏光板の好ましい態様の一つとして、２枚の基板と、上記２枚の基板の間に配置された請求項１５に記載の偏光板とを有する積層体であって、上記基板の透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である、積層体との構成をとり得る。
【０１４０】
＜基板（第１基板および第２基板）＞
積層体は、２枚の基板を有する。
基板の透湿度は、１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である。なかでも、積層体が適用される有機電界発光装置および液晶表示装置などの耐久性の点で、１０−４ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下が好ましく、１０−５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、１０−１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上の場合が多い。
基板の透湿度の測定方法は、以下の通りである。測定温度４０℃、相対湿度９０％の条件下で、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ，ＩＮＣ．製のＡＱＵＡＴＲＡＮ２（商標登録））を用いて測定する。
【０１４１】
基板を構成する材料は特に制限されず、無機物であっても、有機物であってもよい。
基板としては、透湿度が規定より低ければ特に制限されないが、ガラス基板、および、ガスバリアフィルムが挙げられる。より具体的には、有機電界発光装置に用いられる封止ガラス、液晶セル用中のガラス、および、表面カバーガラスなどのガラス基板、並びに、ハイバリアフィルムおよび有機電界発光装置に用いられるバリアフィルムなどのガスバリアフィルムが挙げられる。
基板は、単層構造であってもよいし、複層構造であってもよい。
【０１４２】
基板は、透明であることが好ましく、いわゆる透明基板であることが好ましい。
なお、本明細書において、「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００％未満の場合が多い。
【０１４３】
基板の厚さは特に制限されないが、薄型化の点から、８００μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、１０μｍ以上が好ましい。
【０１４４】
［液晶表示装置、有機電界発光装置］
上記偏光板は、有機電界発光装置（好ましくは、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置）や、液晶表示装置などに好ましく用いることができる。
【０１４５】
〔液晶表示装置〕
本発明の液晶表示装置は、画像表示装置の一例であり、上述した本発明の偏光板と、液晶セルとを有する。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として本発明の偏光板を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光板として本発明の偏光板を用いるのがより好ましい。また、偏光板に含まれる上記光学異方性層は、液晶セル側に配置されることが好ましい。
すなわち、本発明の光学異方性層は、光学補償フィルムとして好適に使用できる。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
【０１４６】
＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、又はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、及び特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シート（光学補償フィルム）を用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
【０１４７】
〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の有機電界発光装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、本発明の偏光板と、有機ＥＬ表示パネルとをこの順で有する態様が好適に挙げられる。偏光板に含まれる光学異方性層は、有機ＥＬ表示パネル側に配置されることが好ましい。
すなわち、本発明の光学異方性層は、いわゆる反射防止フィルムとして使用される。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
【実施例】
【０１４８】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１４９】
［作製例１］
以下のようにして、熱耐久性の評価に使用する偏光板１を作製した。
【０１５０】
〔直線偏光板１の作製〕
セルローストリアセテートフィルムＴＪ２５（富士フイルム製：厚み２５μｍ）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和した後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
厚さ６０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中でＭＤ（Machine Direction）方向に連続して延伸し、乾燥して厚さ９μｍの偏光子（偏光膜）を得た。上記の偏光子の両方の面に、上記でアルカリ鹸化処理をした偏光子保護フィルムとしてセルローストリアセテートフィルムＴＪ２５を貼り合わせた直線偏光板１を作製した。
【０１５１】
〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
＜コア層セルロースアシレートドープの調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
─────────────────────────────────
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート        １００質量部
・特開２０１５−２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ                          １２質量部
・下記化合物Ｇ                                            ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                      ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤）                                ６４質量部
─────────────────────────────────
【０１５２】
化合物Ｇ
【化４１】
2020084070.tif 000044
【０１５３】
＜外層セルロースアシレートドープの調製＞
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
マット剤溶液
─────────────────────────────────
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）       ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                        ７６質量部
・メタノール（第２溶剤）                                １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ                  １質量部
─────────────────────────────────
【０１５４】
＜セルロースアシレートフィルム１の流延＞
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍのセルロースアシレートフィルム１を作製した。セルロースアシレートフィルム１におけるコア層は厚みが３６μｍであり、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚みが２μｍであった。また、得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。
【０１５５】
〔光配向膜１の作製〕
特開２０１２ー１５５３０８号公報、実施例３の記載を参考に、光配向膜用塗布液１を調製し、上記セルロースアシレートフィルム１にワイヤーバーで塗布した。６０℃の温風で６０秒乾燥し、厚み３００ｎｍの光配向膜１を作製した。
【０１５６】
〔光学異方性層１の作製〕
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１の調製＞
下記組成のポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶化合物Ｘ−１                      １６．００質量部
・下記特定液晶化合物Ｌ−１                        ４２．００質量部
・下記特定液晶化合物Ｌ−２                        ４２．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ−１                              ０．５０質量部
・下記酸無水物Ｋ−１                                ４．００質量部
・下記重合性化合物Ｂ−１                            ２．００質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｔ−１）                  ０．２０質量部
・メチルエチルケトン（溶媒）                    ２３０．００質量部
・シクロペンタノン（溶媒）                        ７０．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１５７】
【化４２】
2020084070.tif 000045
【０１５８】
【化４３】
2020084070.tif 000046
【０１５９】
【化４４】
2020084070.tif 000047
【０１６０】
【化４５】
2020084070.tif 000048
【０１６１】
作製した光配向膜１に、大気下にて超高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子（Moxtek社製, ProFlux PPL02）を光配向膜１の面と平行になるようにセットして露光し、光配向処理を行った。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（紫外線Ａ波、波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１０ｍＪ／ｃｍ２とした。
【０１６２】
次いで、光配向処理を施した光配向膜１の面上に、ポジティブＡプレートＡ１形成用塗布液Ａ１をバーコーターを用いて塗布した。膜面温度１００℃で２０秒間加熱熟成し、９０℃まで冷却した後に、空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて３００ｍJ／ｃｍ２の紫外線を照射して、ネマチック配向状態を固定化することにより光学異方性層１（ポジティブＡプレートＡ１）を形成した。
【０１６３】
形成されたポジティブＡプレートＡ１は、膜厚が２．５μｍであった。
ポジティブＡプレートＡ１について、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性および光軸のチルト角を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１４５ｎｍ、Ｒｔｈが７３ｎｍ、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（４５０）が１．１２、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０１、光軸のチルト角は０°であり、特定液晶化合物はホモジニアス配向であった。
【０１６４】
＜粘着剤Ｎ１の調製＞
特開２０１７−１３４４１４号公報、実施例１の記載を参考に、粘着剤Ｎ１を調製し、粘着剤付きフィルム１を得た。
【０１６５】
〔偏光板１の作製〕
直線偏光板１の一方の面に対して、ポジティブＡプレートＡ１の光学異方性層側を、上記粘着剤Ｎ１を用いて貼合し、光配向膜と光学異方性層の界面で剥離して、光配向膜付きのセルロースアシレートフィルム１を取り除いた。このとき、偏光板の吸収軸に対し遅相軸方向が直交であった（すなわち、特定液晶化合物が偏光板の吸収軸に対して直交に配向していた）。
さらに、適当に調湿条件を調整することにより、偏光板含水量を、２．６ｇ／ｍ２とし、偏光板１とした。その含水量を保ったまま、熱耐久性評価のため、両側から粘着剤１を用いてガラス板に挟み込んだ。
【０１６６】
［作製例２〜６］
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２〜Ａ３の調製＞
作製例１で用いたポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１において、酸無水物Ｋ−１を４．０質量部用いた代わりに、下記表１に示すように、酸無水物の配合量を変更した以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１と同様の方法で、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２〜Ａ３を調製した。
【０１６７】
＜粘着剤Ｎ２の調製＞
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器および滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、２−エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）２００部、２−ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）８部、ＡＩＢＮ０．４部、および酢酸エチル３１２部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を６５℃付近に保って６時間重合反応を行うことにより、ＮＶ４０％のアクリル系ポリマー（Ｐ１）溶液を調製した。このアクリル系ポリマー（Ｐ１）のＴｇは−１０℃以下であり、Ｍｗは５５×１０４、酸価は０．０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
上記アクリル系ポリマー（Ｐ１）溶液に酢酸エチルを加えてＮＶ２０％に希釈した溶液１００部（２０部のアクリル系ポリマー（Ｐ１）を含有する。）に対し、１−ブチル−３−メチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（日本カーリット社製、商品名「ＣＩＬ−３１２」、２５℃において液状のイオン液体）０．０４部、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体（三井化学社製、商品名「タケネートR７００」）０．３部、架橋触媒としてのジラウリン酸ジブチルスズ（１％酢酸エチル溶液）０．４部を加え、２５℃で約１分間攪拌混合した。このようにして、アクリル系ポリマー（Ｐ１）１００部当たり、イオン性化合物としてのイオン液体０．２部を含むアクリル系粘着剤組成物（Ｎ２）を調製した。
【０１６８】
＜粘着シートの作製＞
一方の面（第一面）にコロナ処理が施された厚さ３８μｍ、幅３０ｃｍ、長さ４０ｃｍの透明なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムのコロナ処理面に、バーコーター（＃２）を用いてコーティング組成物（Ｄ１）を塗布した。この塗布物を１３０℃で２分間加熱して乾燥させることにより、ＰＥＴフィルムの第一面に厚さ１０ｎｍの帯電防止層を有する基材フィルム（Ｅ１ａ）を作製した。この帯電防止層の上に、イオン液体を含む粘着剤組成物（Ｎ２）を塗布し、１３０℃で２分間加熱して乾燥させることにより、厚さ１５μｍの粘着剤層を形成した。この粘着剤層に、片面にシリコーン系剥離処理剤による剥離処理が施された厚さ２５μｍのＰＥＴフィルム（剥離ライナー）の剥離処理面を貼り合わせて、本例に係る粘着シートを作製した。
【０１６９】
［偏光板２〜６の作製］
表２に示すように、ポジティブＡプレート形成用塗布液と粘着剤を変えた以外は、偏光板１と同様にして偏光板２〜６を作製した。
【０１７０】
＜作製例１〜６の偏光板の熱耐久評価＞
作製例１〜６について、８０℃の環境下に４００時間放置した後のＲｅ変化を、下記表１に示す。粘着剤をＮ１からＮ２に変更することで、Ｒｅの変化が顕著に現れたが、酸無水物の添加で非常に大きな改良効果があることが分かった。
粘着剤Ｎ２で使用しているヘキサメチレンジイソシアネートが活性の高い触媒（ジラウリン酸ジブチルスズ）の存在下、水と反応することでアミンが副生し、求核剤として作用した結果、液晶分解が促進されたと推定。
【０１７１】
【表３】
2020084070.tif 000049
【０１７２】
［作製例７〜３１］
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ４〜Ａ７の調製＞
作製例１で用いたポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１において、酸無水物Ｋ−１を４．０質量部用いた代わりに、下記表２に示すように、酸無水物の種類を変更した以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ４〜Ａ７を調製した。
【０１７３】
【化４６】
2020084070.tif 000050
2020084070.tif 000051
2020084070.tif 000052
2020084070.tif 000053
【０１７４】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ８の調製＞
作製例１で用いたポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１において、重合性液晶化合物Ｘ−１、特定液晶化合物Ｌ−１、および、特定液晶化合物Ｌ−２の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−６を１００質量部用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１と同様の方法で、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ８を調製した。
【０１７５】
【化４７】
2020084070.tif 000054
【０１７６】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ９の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ８において、酸無水物Ｋ−１を配合しなかった以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ８と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ８を調製した。
【０１７７】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１０の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１において、重合性液晶化合物Ｘ−１、特定液晶化合物Ｌ−１、および、特定液晶化合物Ｌ−２の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−９を１００質量部用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１と同様の方法で、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１０を調製した。
【０１７８】
特定液晶化合物Ｌ−９
【化４８】
2020084070.tif 000055
【０１７９】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１１の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１０において、酸無水物Ｋ−１を配合しなかった以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ９と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ１１を調製した。
【０１８０】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２の調製＞
下記組成のポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記特定液晶化合物Ｌ−５                        ９５．００質量部
・上記重合性液晶化合物Ｘ−１                        ５．００質量部
・重合開始剤ＯＸＥ−０３（ＢＡＳＦジャパン）        ４．００質量部
・アデカアークルズＮＣＩ−８３１（アデカ）          ５．００質量部
・上記酸無水物Ｋ−１                                ４．００質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｔ−１）                  ０．１０質量部
・酸化防止剤ＢＨＴ（東京化成工業）                  ０．９０質量部
・メチルエチルケトン（溶媒）                      ６０．００質量部
・シクロペンタノン（溶媒）                      ２４０．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１８１】
【化４９】
2020084070.tif 000056
【０１８２】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１３の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２において、酸無水物Ｋ−１を配合しなかった以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ１３を調製した。
【０１８３】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１４の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２において、特定液晶化合物Ｌ−５の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−７を用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ１４を調製した。
【０１８４】
【化５０】
2020084070.tif 000057
【０１８５】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１５の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１４において、酸無水物Ｋ−１を配合しなかった以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１４と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ１５を調製した。
【０１８６】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１６の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２において、特定液晶化合物Ｌ−５の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−８を用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ１６を調製した。
【０１８７】
【化５１】
2020084070.tif 000058
【０１８８】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１７の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１６において、酸無水物Ｋ−１を配合しなかった以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１６と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ１７を調製した。
【０１８９】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１８の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２において、特定液晶化合物Ｌ−５の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−１０を用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ１８を調製した。
【０１９０】
【化５２】
2020084070.tif 000059
【０１９１】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１９の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１８において、酸無水物Ｋ−１を配合しなかった以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１８と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ１９を調製した。
【０１９２】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２０の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２において、特定液晶化合物Ｌ−５の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−１１を用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ２０を調製した。
【０１９３】
特定液晶化合物Ｌ−１１
【化５３】
2020084070.tif 000060
【０１９４】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２１の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２０において、酸無水物Ｋ−１を配合しなかった以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２０と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ２１を調製した。
【０１９５】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２２の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２において、特定液晶化合物Ｌ−５の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−１２を用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ２２を調製した。
【０１９６】
特定液晶化合物Ｌ−１２
【化５４】
2020084070.tif 000061
【０１９７】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２３の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２２において、酸無水物Ｋ−１を配合しなかった以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２２と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ２３を調製した。
【０１９８】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２４の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２において、特定液晶化合物Ｌ−５の代わりに、下記特定液晶化合物Ｌ−１３を用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１２と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ２４を調製した。
【０１９９】
特定液晶化合物Ｌ−１３
【化５５】
2020084070.tif 000062
【０２００】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２５の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２４において、酸無水物Ｋ−１を配合しなかった以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２４と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ２５を調製した。
【０２０１】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２６の調製＞
下記組成のポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２６を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２６の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記特定液晶化合物Ｌ−１４                      ３５．００質量部
・上記重合性液晶化合物Ｘ−１                      １５．００質量部
・下記液晶化合物Ｘ−２                            ３５．００質量部
・下記液晶化合物Ｘ−３                            １５．００質量部
・重合開始剤ＯＸＥ−０３（ＢＡＳＦジャパン）        ５．００質量部
・アデカアークルズＮＣＩ−８３１（アデカ）          ４．００質量部
・上記酸無水物Ｋ−１                                ４．００質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｔ−１）                  ０．１０質量部
・酸化防止剤ＢＨＴ（東京化成工業）                  ０．９０質量部
・メチルエチルケトン（溶媒）                      ６０．００質量部
・シクロペンタノン（溶媒）                      ２４０．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２０２】
特定液晶化合物Ｌ−１４
【化５６】
2020084070.tif 000063
【０２０３】
液晶化合物Ｘ−２
【化５７】
2020084070.tif 000064
【０２０４】
液晶化合物Ｘ−３
【化５８】
2020084070.tif 000065
【０２０５】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２７の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２６において、酸無水物Ｋ−１を配合しなかった以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２６と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ２７を調製した。
【０２０６】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２８の調製＞
下記組成のポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２８を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２８の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記特定液晶化合物Ｌ−１５                      ４２．００質量部
・下記特定液晶化合物Ｌ−１６                      ４２．００質量部
・上記重合性液晶化合物Ｘ−１                        ５．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｘ−５                      １１．００質量部
・上記重合開始剤Ｓ−１                              ０．５０質量部
・上記酸無水物Ｋ−１                                ４．００質量部
・上記重合性化合物Ｂ−１                            ２．００質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｔ−１）                  ０．２３質量部
・メチルエチルケトン（溶媒）                      ５０．００質量部
・シクロペンタノン（溶媒）                      ２５０．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２０７】
特定液晶化合物Ｌ−１５
【化５９】
2020084070.tif 000066
【０２０８】
特定液晶化合物Ｌ−１６
【化６０】
2020084070.tif 000067
【０２０９】
重合性液晶化合物Ｘ−５
【化６１】
2020084070.tif 000068
【０２１０】
＜ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２９の調製＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２８において、酸無水物Ｋ−１を配合しなかった以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ２８と同様の方法で、ポジティブＡプレート塗布液Ａ２９を調製した。
【０２１１】
〔偏光板７〜３２の作製〕
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ１に代えて、下記表２に示す塗布液を用いた以外は、偏光板４と同様の方法で、偏光板７〜３２を作製した。
【０２１２】
［熱耐久性］
上述した各作製例で作製した偏光板について、含水量を保ったまま、両側から粘着剤１を用いてガラス板に挟み込んだ。
Ａｘｏ  Ｓｃａｎ（０ＰＭＦ−１、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）を用いて、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）値を測定し、下記の指標で評価した。結果を下記表２に示す。
具体的には、初期（作製直後）のＲｅ値と、８０℃の環境下に４００時間放置した後のＲｅとの差（ΔＲｅ）を算出した。
また、共通する液晶性化合物を配合し、酸無水物を配合していない比較例（例えば、作製例１と対比する比較例は作製例３）に対して、Ｒｅ良化率が高いほど、耐久性改良効果が良好であると判断することができる。
ここで、Ｒｅ良化率は下記式で表される。
Ｒｅ良化率＝〔（酸無水物を配合しない比較例のΔＲｅ）−（酸無水物を配合する実施例のΔＲｅ）〕／（酸無水物を配合する実施例のΔＲｅ）
【０２１３】
ＡＡ：Ｒｅ良化率が、９０％以上
Ａ：Ｒｅ良化率が、７０％以上９０％未満
Ｂ：Ｒｅ良化率が、２０％以上７０％未満
Ｃ：Ｒｅ良化率が、２０％未満
【０２１４】
【表４】
2020084070.tif 000069
【０２１５】
上記表２に示す結果から、酸無水物を含有するポジティブＡプレートを有する偏光板は、いずれも熱耐久性が良いことが分かった。
なお、比較例として酸無水物ではない化合物Ｋ−５を含む作製例１０は熱耐久性改良効果が小さかった。
【０２１６】
［作製例３３〜３６］
＜ポジティブＣプレート１の作製＞
仮支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム「Ｚ−ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた。これを「セルロースアシレートフィルム２」という。
セルロースアシレートフィルム２を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２を作製した。
【０２１７】
─────────────────────────────────
アルカリ溶液の組成（質量部）
─────────────────────────────────
・水酸化カリウム                                      ４．７質量部
・水                                                １５．８質量部
・イソプロパノール                                  ６３．７質量部
・含フッ素界面活性剤ＳＦ−１
（Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ）                    １．０質量部
・プロピレングリコール                              １４．８質量部
─────────────────────────────────
【０２１８】
上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム２を用い、下記の組成の配向層形成用塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向層を形成した。
【０２１９】
─────────────────────────────────
配向層形成用塗布液の組成
─────────────────────────────────
・ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３）      ２．４質量部
・イソプロピルアルコール                              １．６質量部
・メタノール                                            ３６質量部
・水                                                    ６０質量部
─────────────────────────────────
【０２２０】
上記で形成した配向層を有するセルロースアシレートフィルム２上に、下記塗布液ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ−１を塗布し、６０℃６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、重合性棒状液晶化合物を垂直配向させ、膜厚６００ｎｍのポジティブＣプレート１を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−６０ｎｍであった。
【０２２１】
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ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１の組成
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・上記液晶性化合物Ｘ−５                                ８０質量部
・下記液晶性化合物Ｘ−６                                ２０質量部
・下記垂直配液晶化合物向剤（Ｓ０１）                      １質量部
・エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                      ８質量部
・上記重合開始剤Ｓ−１                              ０．５０質量部
・下記化合物Ｂ０３                                    ０．４質量部
・メチルエチルケトン                                  １７０質量部
・シクロヘキサノン                                      ３０質量部
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【０２２２】
重合性液晶化合物Ｘ−６
【化６２】
2020084070.tif 000070
2020084070.tif 000071
2020084070.tif 000072
【０２２３】
＜ポジティブＣプレート２，３の作製＞
ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１に対して、表３に示すように酸無水物Ｋ−１を加えたこののみ変えたポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ２、Ｃ３を作製し、ポジティブＣプレートＣ１と同様にして、ポジティブＣプレートＣ２、Ｃ３を作製した。
【０２２４】
＜偏光板３３〜３６の作製＞
作製例４の偏光板のポジティブＡプレート側に、上記粘着剤Ｎ１を介して上記で作製したポジティブＣプレート１を張り合わせ、配向膜とセルロースアシレートフィルム１を除去して、偏光板３３を作製した。
さらに、作製例６の偏光板のポジティブＡプレート側に、上記粘着剤Ｎ１を介して、表２に示すようにポジティブＣプレートを貼り合わせ、配向膜とセルロースアシレートフィルム１を除去して、偏光板３４〜３６を作製した。
【０２２５】
［熱耐久性評価］
上述した偏光板３３〜３６について、含水量を保ったまま、両側から粘着剤１を用いてガラス板に挟み込み、上記と同様の熱耐久性評価を行った結果を表３に示す。
【０２２６】
【表５】
2020084070.tif 000073
【０２２７】
上記表３に示す結果から、酸無水物を含有しないポジティブＡプレートを有する偏光板でも他層に酸無水物が存在すれば熱耐久性が良いことが分かった。
【０２２８】
＜有機ＥＬ装置の作製＞
有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ  Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記で作製した偏光板３３〜３６をポジティブＣプレート側がパネル側になるようにタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０２２９】
作製した有機ＥＬ表示装置について、λ／４板として、ピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）を用いた場合と同様の評価を行ったところ、λ／４板として、ポジティブＡプレートとポジティブＣプレートの光学積層体を用いた場合でも同様の効果が発揮されることを確認した。
【符号の説明】
【０２３０】
１０、２０、３０，４０  偏光板
１１  偏光子保護膜
１２  ポリビニルアルコール偏光子
１３  偏光子保護膜
１４  ポジティブＡプレート
１５  ポジティブＣプレート
１６  光配向膜
【図１Ａ】
2020084070.tif 000078
【図１Ｂ】
2020084070.tif 000079
【図１Ｃ】
2020084070.tif 000080
【図１Ｄ】
2020084070.tif 000081