(57)【要約】      （修正有）【課題】蒸着マスクとフレームとの密着性が良好な蒸着マスク装置製造装置の提供。【解決手段】蒸着マスク装置の製造装置は、蒸着マスク２０を載せる載置台７２と、蒸着マスクの上方に位置する上方クランプ５１と、蒸着マスクの下方に位置する下方クランプ５２と、上方クランプ及び下方クランプを駆動する駆動装置５３と、を備える。駆動装置は、上方クランプ及び下方クランプのうちの一方のクランプが蒸着マスクに接触した後、上方クランプ及び下方クランプのうちの他方のクランプが蒸着マスクに接触するように、上方クランプ及び下方クランプを駆動する。これにより、上方クランプ及び下方クランプが蒸着マスクを掴む際の衝撃が軽減され、衝撃によって蒸着マスクに撓みや波打ち現象が生じることを抑えることができる。【選択図】図２０
2020084306.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着マスク装置の製造装置であって、
蒸着マスクを載せる載置台と、
前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、
前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプと、
前記上方クランプ及び前記下方クランプを駆動する駆動装置と、を備え、
前記駆動装置は、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの一方のクランプが前記蒸着マスクに接触した後、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの他方のクランプが前記蒸着マスクに接触するように、前記上方クランプ及び前記下方クランプを駆動する、蒸着マスク装置の製造装置。
【請求項２】
前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方は、前記蒸着マスクとの間で位置決めを行う位置決め部を有する、請求項１記載の蒸着マスク装置の製造装置。
【請求項３】
前記載置台は、前記蒸着マスクを磁力によって保持する電磁石装置を有する、請求項１又は２記載の蒸着マスク装置の製造装置。
【請求項４】
前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方は、前記載置台の載置面の法線方向周りに回転可能である、請求項１乃至３のいずれか一項記載の蒸着マスク装置の製造装置。
【請求項５】
蒸着マスク装置の製造装置であって、
蒸着マスクを載せる載置台と、
前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、
前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプと、を備え、
前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方は、前記蒸着マスクとの間で位置決めを行う位置決め部を有する、蒸着マスク装置の製造装置。
【請求項６】
蒸着マスク装置の製造装置であって、
蒸着マスクを載せる載置台と、
前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、
前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプと、を備え、
前記載置台は、前記蒸着マスクを磁力によって保持する電磁石装置を有する、蒸着マスク装置の製造装置。
【請求項７】
蒸着マスク装置の製造装置であって、
蒸着マスクを載せる載置台と、
前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、
前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプと、を備え、
前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方は、前記載置台の載置面の法線方向周りに回転可能である、蒸着マスク装置の製造装置。
【請求項８】
蒸着マスク装置の製造方法であって、
載置台に蒸着マスクを載置する工程と、
前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプとによって、前記蒸着マスクを掴む工程と、を備え、
前記蒸着マスクを掴む工程において、前記上方クランプ及び前記下方クランプは、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの一方のクランプが前記蒸着マスクに接触した後、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの他方のクランプが前記蒸着マスクに接触するように駆動される、蒸着マスク装置の製造方法。
【請求項９】
前記蒸着マスクを掴む工程において、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方の位置決め部を用いて、前記蒸着マスクとの間で位置決めを行う、請求項８記載の蒸着マスク装置の製造方法。
【請求項１０】
前記載置台は、前記蒸着マスクを磁力によって保持する電磁石装置を有し、前記載置台の前記電磁石装置の磁力によって、前記蒸着マスクが保持される、請求項８又は９記載の蒸着マスク装置の製造方法。
【請求項１１】
前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方が、前記載置台の載置面の法線方向周りに回転することにより、前記蒸着マスクの位置を修正する工程を更に備えた、請求項８乃至１０のいずれか一項記載の蒸着マスク装置の製造方法。
【請求項１２】
蒸着マスク装置の製造方法であって、
載置台に蒸着マスクを載置する工程と、
前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプとによって、前記蒸着マスクを掴む工程と、を備え、
前記蒸着マスクを掴む工程において、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方の位置決め部を用いて、前記蒸着マスクとの間で位置決めを行う、蒸着マスク装置の製造方法。
【請求項１３】
蒸着マスク装置の製造方法であって、
電磁石装置を有する載置台に蒸着マスクを載置する工程と、
前記載置台の前記電磁石装置の磁力によって、前記蒸着マスクを保持する工程と、
前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプとによって、前記蒸着マスクを掴む工程と、を備えた、蒸着マスク装置の製造方法。
【請求項１４】
蒸着マスク装置の製造方法であって、
載置台に蒸着マスクを載置する工程と、
前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプとによって、前記蒸着マスクを掴む工程と、
前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方が、前記載置台の載置面の法線方向周りに回転することにより、前記蒸着マスクの位置を修正する工程と、を備えた、蒸着マスク装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示の一実施形態は、蒸着マスク装置の製造装置及び蒸着マスク装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、スマートフォンやタブレットＰＣ等の持ち運び可能なデバイスで用いられる表示装置に対して、高精細であること、例えば画素密度が５００ｐｐｉ以上であることが求められている。また、持ち運び可能なデバイスにおいても、ウルトラフルハイビジョンに対応することへの需要が高まっており、この場合、表示装置の画素密度が例えば８００ｐｐｉ以上であることが求められる。
【０００３】
表示装置の中でも、応答性の良さ、消費電力の低さやコントラストの高さのため、有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置の画素を形成する方法として、所望のパターンで配列された貫通孔が形成された蒸着マスクを用い、所望のパターンで画素を形成する方法が知られている。具体的には、はじめに、有機ＥＬ表示装置用の基板に対して蒸着マスクを密着させ、次に、密着させた蒸着マスクおよび基板を共に蒸着装置に投入し、有機材料を基板に蒸着させる蒸着工程を行う。この場合、高い画素密度を有する有機ＥＬ表示装置を精密に作製するためには、蒸着マスクの貫通孔の位置や形状を設計に沿って精密に再現することが求められる。
【０００４】
有機材料などの蒸着材料を基板に蒸着させる蒸着工程を行う蒸着装置は、蒸着マスクと、蒸着マスクを支持するフレームと、を含む蒸着マスク装置を備える。フレームは、蒸着マスクが撓まないように、蒸着マスクを引っ張った状態で支持する。蒸着マスクは、溶接によってフレームに固定される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第５３８２２５９号公報
【特許文献２】特開２００１−２３４３８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
蒸着材料を所望のパターンで精度良く基板に蒸着させるためには、蒸着マスクの厚みが小さいことが好ましい。ところで、蒸着マスクの厚みを小さくした場合、蒸着マスクを引っ張った状態でフレームに支持させた際に、蒸着マスクに撓みや波打ち形状が発生することがある。このため、蒸着マスクとフレームとの密着性が低下し、蒸着マスクとフレームとの非密着部において溶接不良が発生することにより、蒸着マスクの溶接部の強度が十分に確保できないことが考えられる。とりわけ、蒸着マスクの厚みが小さい場合には、この溶接部の強度が問題になり得る。
【０００７】
本開示は、このような課題を効果的に解決し得る蒸着マスク装置の製造装置及び蒸着マスク装置の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示の一実施形態は、蒸着マスク装置の製造装置であって、蒸着マスクを載せる載置台と、前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプと、前記上方クランプ及び前記下方クランプを駆動する駆動装置と、を備え、前記駆動装置は、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの一方のクランプが前記蒸着マスクに接触した後、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの他方のクランプが前記蒸着マスクに接触するように、前記上方クランプ及び前記下方クランプを駆動する、蒸着マスク装置の製造装置である。
【０００９】
本開示の一実施形態による蒸着マスク装置の製造装置において、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方は、前記蒸着マスクとの間で位置決めを行う位置決め部を有してもよい。
【００１０】
本開示の一実施形態による蒸着マスク装置の製造装置において、前記載置台は、前記蒸着マスクを磁力によって保持する電磁石装置を有してもよい。
【００１１】
本開示の一実施形態による蒸着マスク装置の製造装置において、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方は、前記載置台の載置面の法線方向周りに回転可能であってもよい。
【００１２】
本開示の一実施形態は、蒸着マスク装置の製造装置であって、蒸着マスクを載せる載置台と、前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプと、を備え、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方は、前記蒸着マスクとの間で位置決めを行う位置決め部を有する、蒸着マスク装置の製造装置である。
【００１３】
本開示の一実施形態は、蒸着マスク装置の製造装置であって、蒸着マスクを載せる載置台と、前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプと、を備え、前記載置台は、前記蒸着マスクを磁力によって保持する電磁石装置を有する、蒸着マスク装置の製造装置である。
【００１４】
本開示の一実施形態は、蒸着マスク装置の製造装置であって、蒸着マスクを載せる載置台と、前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプと、を備え、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方は、前記載置台の載置面の法線方向周りに回転可能である、蒸着マスク装置の製造装置である。
【００１５】
本開示の一実施形態は、蒸着マスク装置の製造方法であって、載置台に蒸着マスクを載置する工程と、前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプとによって、前記蒸着マスクを掴む工程と、を備え、前記蒸着マスクを掴む工程において、前記上方クランプ及び前記下方クランプは、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの一方のクランプが前記蒸着マスクに接触した後、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの他方のクランプが前記蒸着マスクに接触するように駆動される、蒸着マスク装置の製造方法である。
【００１６】
本開示の一実施形態による蒸着マスク装置の製造方法において、前記蒸着マスクを掴む工程において、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方の位置決め部を用いて、前記蒸着マスクとの間で位置決めを行ってもよい。
【００１７】
本開示の一実施形態による蒸着マスク装置の製造方法において、前記載置台は、前記蒸着マスクを磁力によって保持する電磁石装置を有し、前記載置台の前記電磁石装置の磁力によって、前記蒸着マスクが保持されてもよい。
【００１８】
本開示の一実施形態による蒸着マスク装置の製造方法において、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方が、前記載置台の載置面の法線方向周りに回転することにより、前記蒸着マスクの位置を修正する工程を更に備えてもよい。
【００１９】
本開示の一実施形態は、蒸着マスク装置の製造方法であって、載置台に蒸着マスクを載置する工程と、前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプとによって、前記蒸着マスクを掴む工程と、を備え、前記蒸着マスクを掴む工程において、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方の位置決め部を用いて、前記蒸着マスクとの間で位置決めを行う、蒸着マスク装置の製造方法である。
【００２０】
本開示の一実施形態は、蒸着マスク装置の製造方法であって、電磁石装置を有する載置台に蒸着マスクを載置する工程と、前記載置台の前記電磁石装置の磁力によって、前記蒸着マスクを保持する工程と、前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプとによって、前記蒸着マスクを掴む工程と、を備えた、蒸着マスク装置の製造方法である。
【００２１】
本開示の一実施形態は、蒸着マスク装置の製造方法であって、載置台に蒸着マスクを載置する工程と、前記蒸着マスクの上方に位置する上方クランプと、前記蒸着マスクの下方に位置する下方クランプとによって、前記蒸着マスクを掴む工程と、前記上方クランプ及び前記下方クランプのうちの少なくとも一方が、前記載置台の載置面の法線方向周りに回転することにより、前記蒸着マスクの位置を修正する工程と、を備えた、蒸着マスク装置の製造方法である。
【発明の効果】
【００２２】
本開示の一実施形態によれば、蒸着マスクに撓みや波打ち形状が発生することを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本開示の一実施形態による蒸着マスク装置を備えた蒸着装置を示す図である。
【図２】図１に示す蒸着マスク装置を用いて製造した有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図３】本開示の一実施形態による蒸着マスク装置を示す平面図である。
【図４】図３に示す蒸着マスク装置の耳部を拡大して示す平面図（図３のIV部に対応する平面図）である。
【図５】図４の蒸着マスク装置をＶ−Ｖ方向から見た断面図である。
【図６】蒸着マスクの中間部を拡大して示す平面図である。
【図７】図６の中間部をVII−VII方向から見た断面図である。
【図８】本開示の一実施形態による蒸着マスク装置の製造装置を示す平面図である。
【図９】蒸着マスク装置の製造装置の載置台を示す平面図である。
【図１０】蒸着マスク装置の製造装置の載置台をＸ−Ｘ方向から見た断面図である。
【図１１】図８の蒸着マスク装置の製造装置をXI−XI方向から見た断面図である。
【図１２】図１１のクランプを拡大して示す断面図である。
【図１３】母材を圧延して所望の厚みを有する金属板を得る工程を示す図である。
【図１４】圧延によって得られた金属板をアニールする工程を示す図である。
【図１５】蒸着マスクの製造方法の一例を全体的に説明するための模式図である。
【図１６】金属板上にレジストパターンを形成する工程を示す図である。
【図１７】第１面エッチング工程を示す図である。
【図１８】第２面エッチング工程を示す図である。
【図１９】金属板から樹脂及びレジストパターンを除去する工程を示す図である。
【図２０】蒸着マスクを上方クランプ及び下方クランプによって掴む工程を示す図である。
【図２１】溶接工程を説明する図である。
【図２２】溶接工程を説明する図である。
【図２３】図２３は、有機ＥＬ基板に蒸着材料を蒸着させる工程を示す図である。
【図２４】図２４は、有機ＥＬ基板に蒸着材料を蒸着させる工程を示す図である。
【図２５】図２５は、有機ＥＬ基板に蒸着材料を蒸着させる工程を示す図である。
【図２６】蒸着マスク装置の製造装置の第１の変形例を示す平面図である。
【図２７】図２６の蒸着マスク装置の製造装置をXXVII−XXVII方向から見た断面図である。
【図２８】蒸着マスク装置の製造装置の第２の変形例を示す平面図である。
【図２９】図２８の蒸着マスク装置の製造装置をXXIX−XXIX方向から見た断面図である。
【図３０】蒸着マスク装置の製造装置の第３の変形例を示す平面図である。
【図３１】図３０の蒸着マスク装置の製造装置の作用を示す概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、図面を参照して本開示の実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００２５】
なお、本明細書において、例えば、「板」との用語は、シートやフィルムと呼ばれ得るような部材と同等の意味を有するものとして使用している。
【００２６】
本明細書において、「平面視」とは、対称となる板状の部材を全体的かつ大局的に見た場合において、板状の部材の平面方向に直交する法線方向から見た状態を指す。例えば、ある板状の部材が「平面視において矩形状の形状を有する」とは、当該部材を法線方向から見たときに、当該部材が矩形状の形状を有していることを指す。
【００２７】
さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件および物理的特性並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」、「同等」等の用語や長さや角度並びに物理的特性の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
【００２８】
なお、本開示の実施形態は、矛盾の生じない範囲で、その他の実施形態や変形例と組み合わせられ得る。また、その他の実施形態同士や、その他の実施形態と変形例も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。また、変形例同士も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。
【００２９】
また、本開示の実施形態において、製造方法などの方法に関して複数の工程を開示する場合に、開示されている工程の間に、開示されていないその他の工程が実施されてもよい。また、開示されている工程の順序は、矛盾の生じない範囲で任意である。
【００３０】
本実施形態においては、マスクが、有機ＥＬ表示装置を製造する際に有機材料を所望のパターンで基板上にパターニングするために用いられる蒸着マスクである例について説明する。ただし、マスクの用途が特に限定されることはなく、種々の用途に用いられるマスクに対し、本実施形態を適用することができる。例えば、仮想現実いわゆるＶＲや拡張現実いわゆるＡＲを表現するための画像や映像を表示又は投影するための装置を製造するために、本実施形態のマスクを用いてもよい。
【００３１】
まず、対象物に蒸着材料を蒸着させる蒸着処理を実施する蒸着装置９０について、図１を参照して説明する。図１に示すように、蒸着装置９０は、蒸着源（例えばるつぼ９４）、ヒータ９６、及び蒸着マスク装置１０を備える。るつぼ９４は、有機発光材料などの蒸着材料９８を収容する。ヒータ９６は、るつぼ９４を加熱して蒸着材料９８を蒸発させる。蒸着マスク装置１０は、るつぼ９４と対向するよう配置されている。
【００３２】
次に、蒸着マスク装置１０について説明する。図１に示すように、蒸着マスク装置１０は、蒸着マスク２０と、蒸着マスク２０を支持するフレーム１５と、を備える。フレーム１５は、蒸着マスク２０が撓んでしまうことがないように、蒸着マスク２０をその面方向に引っ張った状態で支持する。蒸着マスク装置１０は、図１に示すように、蒸着マスク２０が、蒸着材料９８を付着させる対象物である基板、例えば有機ＥＬ基板９２に対面するよう、蒸着装置９０内に配置される。以下の説明において、蒸着マスク２０の面のうち、有機ＥＬ基板９２側の面を第１面２０ａと称し、第１面２０ａの反対側に位置する面を第２面２０ｂと称する。このうち蒸着マスク２０の第２面２０ｂにフレーム１５の表面１５ａが面している。
【００３３】
蒸着マスク装置１０は、図１に示すように、有機ＥＬ基板９２の、蒸着マスク２０と反対の側の面に配置された磁石９３を備えていてもよい。磁石９３を設けることにより、磁力によって蒸着マスク２０を磁石９３側に引き寄せて、蒸着マスク２０を有機ＥＬ基板９２に密着させることができる。
【００３４】
図３は、蒸着マスク装置１０を蒸着マスク２０の第１面２０ａ側から見た場合を示す平面図である。図３に示すように、蒸着マスク装置１０は、平面視において細長い形状を有する複数の蒸着マスク２０を備え、各蒸着マスク２０は、蒸着マスク２０の長手方向における一対の端部２０ｅの近傍に位置する後述する溶接部１７ａにおいて、溶接によってフレーム１５に固定されている。
【００３５】
図１に示すように、蒸着マスク２０は、蒸着マスク２０を貫通する複数の貫通孔２５を含む。るつぼ９４から蒸発して蒸着マスク装置１０に到達した蒸着材料９８は、蒸着マスク２０の貫通孔２５を通って有機ＥＬ基板９２に付着する。これによって、蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置に対応した所望のパターンで、蒸着材料９８を有機ＥＬ基板９２の表面に成膜することができる。
【００３６】
図２は、図１の蒸着装置９０を用いて製造した有機ＥＬ表示装置１００を示す断面図である。有機ＥＬ表示装置１００は、有機ＥＬ基板９２と、パターン状に設けられた蒸着材料９８を含む画素と、を備える。なお、図２の有機ＥＬ表示装置１００においては、蒸着材料９８を含む画素に電圧を印加する電極等が省略されている。また、有機ＥＬ基板９２上に蒸着材料９８をパターン状に設ける蒸着工程の後、図２の有機ＥＬ表示装置１００には、有機ＥＬ表示装置のその他の構成要素が更に設けられ得る。従って、図２の有機ＥＬ表示装置１００は、有機ＥＬ表示装置の中間体と呼ぶこともできる。
【００３７】
なお、複数の色によるカラー表示を行いたい場合には、各色に対応する蒸着マスク２０が搭載された蒸着装置９０をそれぞれ準備し、有機ＥＬ基板９２を各蒸着装置９０に順に投入する。これによって、例えば、赤色用の有機発光材料、緑色用の有機発光材料および青色用の有機発光材料を順に有機ＥＬ基板９２に蒸着させることができる。
【００３８】
ところで、蒸着処理は、高温雰囲気となる蒸着装置９０の内部で実施される場合がある。この場合、蒸着処理の間、蒸着装置９０の内部に保持される蒸着マスク２０、フレーム１５および有機ＥＬ基板９２も加熱される。この際、蒸着マスク２０、フレーム１５および有機ＥＬ基板９２は、各々の熱膨張係数に基づいた寸法変化の挙動を示すことになる。この場合、蒸着マスク２０やフレーム１５と有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数が大きく異なっていると、それらの寸法変化の差異に起因した位置ずれが生じ、この結果、有機ＥＬ基板９２上に付着する蒸着材料の寸法精度や位置精度が低下してしまう。
【００３９】
このような課題を解決するため、蒸着マスク２０およびフレーム１５の熱膨張係数が、有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数と同等の値であることが好ましい。例えば、有機ＥＬ基板９２としてガラス基板が用いられる場合、蒸着マスク２０およびフレーム１５の主要な材料として、ニッケルを含む鉄合金を用いることができる。鉄合金は、ニッケルに加えてコバルトを更に含んでいてもよい。例えば、蒸着マスク２０を構成する金属板の材料として、ニッケル及びコバルトの含有量が合計で３０質量％以上且つ５０質量％以下であり、且つコバルトの含有量が０質量％以上且つ６質量％以下である鉄合金を用いることができる。ニッケル若しくはニッケル及びコバルトを含む鉄合金の具体例としては、３４質量％以上且つ３８質量％以下のニッケルを含むインバー材、３０質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルに加えてさらにコバルトを含むスーパーインバー材、４８質量％以上且つ５４質量％以下のニッケルを含む低熱膨張Ｆｅ−Ｎｉ系めっき合金などを挙げることができる。
【００４０】
なお蒸着処理の際に、蒸着マスク２０、フレーム１５および有機ＥＬ基板９２の温度が高温には達しない場合は、蒸着マスク２０およびフレーム１５の熱膨張係数を、有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数と同等の値にする必要は特にない。この場合、蒸着マスク２０を構成する材料として、上述の鉄合金以外の材料を用いてもよい。例えば、クロムを含む鉄合金など、上述のニッケルを含む鉄合金以外の鉄合金を用いてもよい。クロムを含む鉄合金としては、例えば、いわゆるステンレスと称される鉄合金を用いることができる。また、ニッケルやニッケル−コバルト合金など、鉄合金以外の合金を用いてもよい。
【００４１】
次に、蒸着マスク２０について詳細に説明する。図３に示すように、蒸着マスク２０は、蒸着マスク２０の長手方向における一対の端部２０ｅを構成する一対の耳部１７と、一対の耳部１７の間に位置する中間部１８と、を備えている。
【００４２】
耳部１７について詳細に説明する。耳部１７は、蒸着マスク２０のうちフレーム１５に固定される部分である。本実施の形態において、耳部１７は、第２面２０ｂ側において溶接によってフレーム１５に固定される。以下の説明において、耳部１７及びフレーム１５のうち溶接によって互いに接合されている部分のことを、接合部１９と称する。
【００４３】
図４は、蒸着マスク装置１０の耳部１７及びその周辺部分を拡大して示す平面図である。この耳部１７は、フレーム１５の表面１５ａに溶接される溶接部１７ａと、溶接部１７ａと蒸着マスク２０の端部２０ｅとの間に位置する延在部１７ｂと、を含む。本実施の形態において、溶接部１７ａは、蒸着マスク２０の長手方向において、図４の仮想線（二点鎖線）で囲まれる領域に対応し、延在部１７ｂは、図４の仮想線（二点鎖線）のうち、端部２０ｅ側の仮想線と、端部２０ｅとの間の領域に対応している。このうち溶接部１７ａは、接合部１９が形成される部分である。耳部１７の溶接部１７ａに形成される接合部１９は、溶接痕１９ａを含む。溶接痕１９ａとは、蒸着マスク２０の第２面２０ｂをフレーム１５に溶接したことに起因して、蒸着マスク２０及びフレーム１５の一部に形成された痕跡である。例えば、図４に示すように、接合部１９は、蒸着マスク２０の幅方向に沿って並ぶ複数の点状の溶接痕１９ａを含む。このような複数の点状の溶接痕１９ａは、例えば、蒸着マスク２０の幅方向に沿う各位置において、後述する溶接装置７６により耳部１７にレーザー光を間欠的に点状に照射することによって形成される。なお、平面視における溶接痕１９ａの配置や形状が特に限られることはない。例えば、溶接痕１９ａは、蒸着マスク２０の幅方向に沿って線状に延びていてもよく、あるいは、点状に形成された溶接痕と線状に形成された溶接痕とを含んでいてもよい。
【００４４】
図４に示すように、耳部１７のうち、端部２０ｅ側の領域に、切欠き１７ｃが形成されている。切欠き１７ｃは、蒸着マスク２０の端部２０ｅ側に向けて切り欠かれている。また切欠き１７ｃは、蒸着マスク２０の短手方向中央部に形成されている。なお、切欠き１７ｃは、フレーム１５及び接合部１９から離間した位置に存在する。切欠き１７ｃの縁部は、平面視略Ｕ字状となっているが、これに限らず、平面視略Ｖ字状、平面視略コ字状（Ｕ字状の角部を直角にした形状）、平面視略半円状としても良い。このように蒸着マスク２０の端部２０ｅに切欠き１７ｃを形成したことにより、蒸着マスク２０の切欠き１７ｃの両側には、第１突出片１６ａ及び第２突出片１６ｂが設けられる。第１突出片１６ａ及び第２突出片１６ｂは、切欠き１７ｃを介して互いに蒸着マスク２０の短手方向に離間して配置されている。
【００４５】
図５は、図４の蒸着マスク装置をＶ−Ｖ方向から見た断面図である。図５に示すように、溶接痕１９ａは、耳部１７の第１面２０ａから第２面２０ｂを介してフレーム１５に至っている。溶接痕１９ａは、蒸着マスク２０の耳部１７及びフレーム１５のうち、溶接時に溶融した部分が固化した部分であり、耳部１７の第１面２０ａから第２面２０ｂに至る部分及びフレーム１５の一部を含んでいる。この溶接痕１９ａは、蒸着マスク２０の耳部１７とフレーム１５とを互いに接合している。
【００４６】
また、図３乃至図５に示すように、延在部１７ｂは、フレーム１５の後述する外側面１５ｃよりも外側にまで延びている。「外側」とは、図３において矢印Ａで表すように、蒸着マスク２０の長手方向において、蒸着マスク２０の中心線ＣＬから遠ざかる側である。ここで、蒸着マスク２０の中心線ＣＬとは、蒸着マスク２０の長手方向に直交する方向に延びる直線のうち、蒸着マスク２０の長手方向における一対の端部２０ｅ間を二等分する中間点Ｃ（図３参照）を通る直線である。この延在部１７ｂは、後述するクランプ装置５０に支持される部分であり、本実施の形態においては、上方クランプ５１及び下方クランプ５２に挟持される部分である。
【００４７】
なお、図５において、蒸着処理の際に蒸着マスク２０に密着する有機ＥＬ基板９２を、点線で表す。図５に示すように、有機ＥＬ基板９２は、蒸着マスク２０のうち接合部１９が形成される部分にまで延在していてもよい。
【００４８】
次に、中間部１８について説明する。図３乃至図５に示すように、中間部１８は、第１面２０ａから第２面２０ｂに至る貫通孔２５が形成された有効領域２２と、有効領域２２を取り囲む周囲領域２３と、を含む。周囲領域２３は、有効領域２２を支持するための領域であり、有機ＥＬ基板９２へ蒸着されることを意図された蒸着材料が通過する領域ではない。例えば、有効領域２２は、蒸着マスク２０のうち、有機ＥＬ基板９２の表示領域に対面する領域である。
【００４９】
図３に示すように、有効領域２２は、例えば、平面視において略四角形形状、さらに正確には平面視において略矩形状の輪郭を有する。なお図示はしないが、各有効領域２２は、有機ＥＬ基板９２の表示領域の形状に応じて、様々な形状の輪郭を有することができる。例えば各有効領域２２は、円形状の輪郭を有していてもよい。
【００５０】
図３に示すように、中間部１８は、蒸着マスク２０の長手方向に沿って所定の間隔を空けて配列された複数の有効領域２２を含む。一つの有効領域２２は、一つの有機ＥＬ表示装置１００の表示領域に対応する。このため、図１に示す蒸着マスク装置１０によれば、有機ＥＬ表示装置１００の多面付蒸着が可能である。
【００５１】
以下、中間部１８について詳細に説明する。図６は、中間部１８を拡大して示す平面図であり、図７は、図６の中間部１８をVII−VII方向から見た断面図である。図６に示すように、複数の貫通孔２５は、有効領域２２において、互いに直交する二方向に沿ってそれぞれ所定のピッチで規則的に配列される。
【００５２】
以下、有効領域２２について詳細に説明する。図６は、蒸着マスク２０の第２面２０ｂ側から有効領域２２を拡大して示す平面図である。図６に示すように、図示された例において、各有効領域２２に形成された複数の貫通孔２５は、当該有効領域２２において、互いに直交する二方向に沿ってそれぞれ所定のピッチで配列されている。
【００５３】
図７に示すように、複数の貫通孔２５は、蒸着マスク２０の第１面２０ａから、第２面２０ｂへ貫通している。図示された例では、後に詳述するように、蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎにおける一方の側となる金属板６４の第１面６４ａに第１凹部３０がエッチングによって形成され、当該法線方向Ｎにおける他方の側となる金属板６４の第２面６４ｂに第２凹部３５が形成される。第１凹部３０は、第２凹部３５に接続され、これによって第２凹部３５と第１凹部３０とが互いに通じ合うように形成される。貫通孔２５は、第２凹部３５と、第２凹部３５に接続された第１凹部３０とによって構成されている。図６及び図７に示すように、第１凹部３０の壁面３１と、第２凹部３５の壁面３６とは、周状の接続部４１を介して接続されている。接続部４１は、蒸着マスク２０の平面視において貫通孔２５の開口面積が最小になる貫通部４２を画成する。
【００５４】
図７に示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａ側において、隣り合う二つの貫通孔２５は、金属板６４の第１面６４ａに沿って互いから離間している。蒸着マスク２０の第２面２０ｂ側においても、隣り合う二つの第２凹部３５が、金属板６４の第２面６４ｂに沿って互いから離間していてもよい。すなわち、隣り合う二つの第２凹部３５の間に金属板６４の第２面６４ｂが残存していてもよい。以下の説明において、金属板６４の第２面６４ｂの有効領域２２のうちエッチングされずに残っている部分のことを、トップ部４３とも称する。このようなトップ部４３が残るように蒸着マスク２０を作製することにより、蒸着マスク２０に十分な強度を持たせることができる。このことにより、例えば搬送中などに蒸着マスク２０が破損してしまうことを抑制することができる。なおトップ部４３の幅βが大きすぎると、蒸着工程においてシャドーが発生し、これによって蒸着材料９８の利用効率が低下することがある。従って、トップ部４３の幅βが過剰に大きくならないように蒸着マスク２０が作製されることが好ましい。
【００５５】
図１に示すようにして蒸着マスク装置１０が蒸着装置９０に収容された場合、図７に二点鎖線で示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａが、有機ＥＬ基板９２に対面し、蒸着マスク２０の第２面２０ｂが、蒸着材料９８を保持したるつぼ９４側に位置する。したがって、蒸着材料９８は、次第に開口面積が小さくなっていく第２凹部３５を通過して有機ＥＬ基板９２に付着する。図７において第２面２０ｂ側から第１面２０ａへ向かう矢印で示すように、蒸着材料９８は、るつぼ９４から有機ＥＬ基板９２に向けて蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎに沿って移動するだけでなく、当該法線方向Ｎに対して大きく傾斜した方向に移動することもある。このとき、蒸着マスク２０の厚みが大きいと、斜めに移動する蒸着材料９８が、トップ部４３、第２凹部３５の壁面３６や第１凹部３０の壁面３１に引っ掛かり易くなり、この結果、貫通孔２５を通過できない蒸着材料９８の比率が多くなる。従って、蒸着材料９８の利用効率を高めるためには、蒸着マスク２０の厚みｔを小さくし、これによって、第２凹部３５の壁面３６や第１凹部３０の壁面３１の高さを小さくすることが好ましいと考えられる。すなわち、蒸着マスク２０を構成するための金属板６４として、蒸着マスク２０の強度を確保できる範囲内で可能な限り厚みｔの小さな金属板６４を用いることが好ましいと言える。この点を考慮し、本実施の形態において、蒸着マスク２０の厚みｔは、例えば３０μｍ以下、好ましくは２５μｍ以下、更に好ましくは２０μｍ以下になっている。一方、蒸着マスク２０の厚みが小さくなり過ぎると、蒸着マスク２０の強度が低下し、蒸着マスク２０に損傷や変形が生じやすくなる。この点を考慮し、蒸着マスク２０の厚みｔは、好ましくは５μｍ以上であることが好ましい。蒸着マスク２０の厚みｔは、８μｍ以上であってもよく、１０μｍ以上であってもよく、１２μｍ以上であってもよく、１３μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよい。蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、５μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上２５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２０μｍ以下であってもよい。また、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、２０μｍ以上２５μｍ以下であってもよい。また、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、１３μｍ以上１５μｍ以下であってもよい。なお厚みｔは、周囲領域２３の厚み、すなわち蒸着マスク２０のうち第１凹部３０および第２凹部３５が形成されていない部分の厚みである。従って厚みｔは、金属板６４の厚みであると言うこともできる。
【００５６】
図７において、貫通孔２５の最小開口面積を持つ部分となる接続部４１と、第２凹部３５の壁面３６の他の任意の位置と、を通過する直線Ｌ１が、蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎに対してなす最小角度が、符号θ１で表されている。斜めに移動する蒸着材料９８を、壁面３６に到達させることなく可能な限り有機ＥＬ基板９２に到達させるためには、角度θ１を大きくすることが有利となる。角度θ１を大きくする上では、蒸着マスク２０の厚みｔを小さくすることの他にも、上述のトップ部４３の幅βを小さくすることも有効である。
【００５７】
図７において、符号αは、金属板６４の第１面６４ａの有効領域２２のうちエッチングされずに残っている部分（以下、リブ部とも称する）の幅を表している。リブ部の幅αおよび貫通部４２の寸法ｒは、有機ＥＬ表示装置の寸法および表示画素数に応じて適宜定められる。例えば、リブ部の幅αは５μｍ以上且つ４０μｍ以下であり、貫通部４２の寸法ｒは１０μｍ以上且つ６０μｍ以下である。
【００５８】
なお、図６及び図７においては、隣り合う二つの第２凹部３５の間に金属板６４の第２面６４ｂが残存している例を示したが、これに限られることはない。図示はしないが、隣り合う二つの第２凹部３５が接続されるようにエッチングが実施されてもよい。すなわち、隣り合う二つの第２凹部３５の間に、金属板６４の第２面６４ｂが残存していない場所が存在していてもよい。
【００５９】
次に、フレーム１５について詳細に説明する。図１及び図３乃至図５に示すように、フレーム１５は、表面（すなわち第３面）１５ａと、表面１５ａに対向する裏面（すなわち第４面）１５ｂと、表面１５ａと裏面１５ｂとの間に延びる外側面（すなわち第５面）１５ｃと、を含む。図５に示すように、表面１５ａ及び裏面１５ｂは、蒸着マスク２０の第１面２０ａ法線方向Ｎに沿った断面で見たとき、法線方向Ｎに直交する方向に互いに平行に延びている。外側面１５ｃは、蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎに沿った断面で見たとき、法線方向Ｎに延びており、表面１５ａ及び裏面１５ｂに直交するように接続している。このようなフレーム１５には、表面１５ａから裏面１５ｂに至る貫通孔１５ｄが形成されている。蒸着時には、るつぼ９４から蒸発した蒸着材料９８は、フレーム１５の貫通孔１５ｄを通って有機ＥＬ基板９２に付着する。なお、外側面（すなわち第５面）１５ｃは、蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎに沿った断面で見たとき、法線方向Ｎに対して傾斜するように延びていてもよい。
【００６０】
次に、図８乃至図１２を参照して、蒸着マスク装置１０の製造装置（以下、製造装置と記す）７０について説明する。
【００６１】
図８に示すように、製造装置７０は、蒸着マスク２０を載せる載置台７２と、蒸着マスク２０を支持するクランプ装置５０と、フレーム１５と接触するステージ７１と、を備えている。なお、図中、Ｄｘ方向は、蒸着マスク２０の短手方向に平行な方向であり、Ｄｙ方向は、蒸着マスク２０の長手方向に平行な方向であり、Ｄｚ方向は、Ｄｘ方向及びＤｙ方向の両方に垂直な方向である。
【００６２】
図８乃至図１０に示すように、載置台７２は、ステージ７１に隣接して配置されており、その上には蒸着マスク２０が載置される。この載置台７２に載せられた蒸着マスク２０は、クランプ装置５０及び搬送装置７８によって順次ステージ７１に搬送され、フレーム１５に固定される。載置台７２は、平坦なトレー７９と、トレー７９の上面７９ａ上に位置する粘着部材８１とを有している。トレー７９は、平面視略矩形状であり、その上面は蒸着マスク２０の第２面２０ｂと接触する。粘着部材８１は、平面視で蒸着マスク２０の短手方向に直線状に延びている。この粘着部材８１は、蒸着マスク２０の第２面２０ｂに粘着することにより、蒸着マスク２０を一時的にトレー７９上に仮固定するものである。この場合、粘着部材８１は一対設けられ、それぞれ蒸着マスク２０の長手方向両端部側に位置している。しかしながら、粘着部材８１の個数や位置はこれに限られるものではない。例えば、１つ又は３つ以上の粘着部材８１が設けられていても良く、粘着部材８１が蒸着マスク２０の長手方向端部から離れた位置にあっても良い。また、トレー７９の上面７９ａからは、ガイドピン８４が突き出している。このガイドピン８４は、蒸着マスク２０の側面２０ｃ（図９参照）に当たって接触することにより、蒸着マスク２０の位置がずれないように、蒸着マスク２０をトレー７９上の所定位置に案内するものである。この場合、ガイドピン８４は一対設けられ、それぞれ粘着部材８１の近傍に位置している。しかしながら、ガイドピン８４の個数や位置はこれに限られるものではない。例えば、１つ又は３つ以上のガイドピン８４が設けられていても良く、ガイドピン８４が粘着部材８１から離れた位置にあっても良い。
【００６３】
クランプ装置５０は、蒸着マスク２０の各延在部１７ｂをそれぞれ支持している。このクランプ装置５０は、第１クランプ装置５０Ａと、蒸着マスク２０を挟んで第１クランプ装置５０Ａの反対側に位置する第２クランプ装置５０Ｂと、を有している。言い換えれば、蒸着マスク２０の一対の耳部１７のうち一方の耳部１７の延在部１７ｂを挟持する第１クランプ装置５０Ａと、一対の耳部１７のうち他方の耳部１７の延在部１７ｂを挟持する第２クランプ装置５０Ｂと、を有している。なお、以下の説明において、第１クランプ装置５０Ａおよび第２クランプ装置５０Ｂに共通する構成、機能、動作などを説明する場合には、第１クランプ装置５０Ａおよび第２クランプ装置５０Ｂを総称してクランプ装置５０とも称する。
【００６４】
本実施の形態によるクランプ装置５０は、それぞれ上方クランプ５１と下方クランプ５２とを含んでいる。上方クランプ５１は、蒸着マスク２０の上方に位置しており、下方クランプ５２は、蒸着マスク２０の下方に位置している。この上方クランプ５１と下方クランプ５２とが接近することにより、蒸着マスク２０の各延在部１７ｂを掴むように構成されている。本実施の形態においては、複数の上方クランプ５１と複数の下方クランプ５２とが設けられている。例えば、製造装置７０は、一の延在部１７ｂを２つの上方クランプ５１と２つの下方クランプ５２によって挟持するように構成されている。すなわち、図９に示すように、第１の上方クランプ５１ａと第１の下方クランプ５２ａとにより、蒸着マスク２０の第１突出片１６ａが掴まれ、第２の上方クランプ５１ｂと第２の下方クランプ５２ｂとにより、第２突出片１６ｂが掴まれる。この場合、各クランプ装置５０の２つの上方クランプ５１（第１の上方クランプ５１ａ及び第２の上方クランプ５１ｂ）は、互いに平行に配置され、２つの下方クランプ５２（第１の下方クランプ５２ａ及び第２の下方クランプ５２ｂ）は、互いに平行に配置されている。なお、以下においては、第１の上方クランプ５１ａ及び第２の上方クランプ５１ｂを総称して上方クランプ５１ともいい、第１の下方クランプ５２ａ及び第２の下方クランプ５２ｂを総称して下方クランプ５２ともいう。このように、一の延在部１７ｂを複数の上方クランプ５１及び複数の下方クランプ５２によって挟持することにより、蒸着マスク２０の面方向に略均一に張力を加えることができる。なお、一の延在部１７ｂに対して、上方クランプ５１及び下方クランプ５２の個数は任意であり、１つであってもよく、３つ以上であってもよい。
【００６５】
上方クランプ５１及び下方クランプ５２は、それぞれ平坦な板状の部材から構成されていても良い。上方クランプ５１及び下方クランプ５２は、例えば平坦な金属板を含む。また、この金属板のうち蒸着マスク２０側の面に、シリコンラバー等の滑り止め部材が配置されていても良い。
【００６６】
クランプ装置５０の上方クランプ５１及び下方クランプ５２は、駆動装置５３によって駆動される。駆動装置５３は、上方クランプ５１を駆動する第１駆動手段５３ａと、下方クランプ５２を駆動する第２駆動手段５３ｂとを含んでいても良い。上方クランプ５１及び下方クランプ５２は、それぞれ第１駆動手段５３ａ及び第２駆動手段５３ｂに連結されている。第１駆動手段５３ａ及び第２駆動手段５３ｂは、それぞれ例えばエアシリンダや油圧シリンダ、サーボモータ等であっても良い。この場合、上方クランプ５１及び下方クランプ５２は、それぞれ第１駆動手段５３ａ及び第２駆動手段５３ｂによって制御され、少なくともＤｘ方向、Ｄｙ方向及びＤｚ方向に直線移動自在となっている。また、上方クランプ５１及び下方クランプ５２は、互いに独立して移動可能となっている。本実施の形態においては、１つの蒸着マスク２０は、４つの上方クランプ５１と４つの下方クランプ５２とによって掴まれ、これらの上方クランプ５１及び下方クランプ５２が全て互いに独立して、対応する第１駆動手段５３ａ及び第２駆動手段５３ｂによって移動しても良い。これにより、蒸着マスク２０に撓みや波打ち形状が発生すること抑えつつ、蒸着マスク２０を引っ張った状態で搬送することができる。なお、駆動装置５３は、必ずしも第１駆動手段５３ａ及び第２駆動手段５３ｂを有していなくても良く、１つの駆動手段が上方クランプ５１及び下方クランプ５２の両方を駆動するものであっても良い。
【００６７】
第１駆動手段５３ａ及び第２駆動手段５３ｂは、それぞれ搬送装置７８に対して移動可能に取り付けられている。搬送装置７８は、Ｄｘ方向に延びている。搬送装置７８は、クランプ装置５０（上方クランプ５１、下方クランプ５２）及び駆動装置５３（第１駆動手段５３ａ、第２駆動手段５３ｂ）をＤｘ方向に直線移動させるものである。この搬送装置７８は、蒸着マスク２０の長手方向各端部に対応する位置にそれぞれ配置されている。これにより、上方クランプ５１及び下方クランプ５２に掴まれた蒸着マスク２０が、載置台７２からステージ７１へ搬送されるようになっている。
【００６８】
図１１及び図１２に示すように、ステージ７１は、３次元方向に移動可能に構成されるとともに、蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎに直交する所定の回動軸を中心に回動可能な駆動部７３を介してベース７４に支持されており、少なくとも法線方向Ｎに移動可能に構成されている。この際、ステージ７１の移動範囲は、例えば３０μｍ以上９０μｍ以下の範囲内に設定されていてもよい。なお、このステージ７１は、駆動部７３を駆動することにより、法線方向Ｎに直交する水平方向（蒸着マスク２０の第１面２０ａの面方向）に移動可能に構成されるとともに、例えば床面に対する角度を変更可能に構成されており、後述するように、フレーム１５上に配置された蒸着マスク２０の水平方向における位置等を調整できるようになっている。この場合、駆動部７３は、例えば、エアシリンダや油圧シリンダ、サーボモータ等を用いて、ステージ７１を移動させてもよい。
【００６９】
また図１１及び図１２に示すように、クランプ装置５０は、ステージ７１上で蒸着マスク２０を支持した状態において、溶接部１７ａの第２面２０ｂがフレーム１５の表面１５ａに接触し、且つ、延在部１７ｂの第２面２０ｂが少なくとも部分的にフレーム１５の表面１５ａよりもフレーム１５の裏面１５ｂ側に位置するように構成されている。言い換えれば、蒸着マスク２０の第２面２０ｂのうち少なくとも一部がフレーム１５の表面（すなわち第３面）１５ａに接触しており、蒸着マスク２０の第２面２０ｂのうち、フレーム１５と重ならない部分は、表面１５ａと同一平面上になく、表面１５ａに対して裏面１５ｂ側（Ｄｚ方向マイナス側）に位置している。本実施の形態では、上方クランプ５１及び下方クランプ５２は、蒸着マスク２０の延在部１７ｂを挟持した状態において、溶接部１７ａの第２面２０ｂがフレーム１５の表面１５ａに接触し、且つ、延在部１７ｂの第２面２０ｂが少なくとも部分的にフレーム１５の表面１５ａよりもフレーム１５の裏面１５ｂ側に位置するように構成されている。このようにして、クランプ装置５０は、フレーム１５の表面１５ａに配置された蒸着マスク２０に撓みや波打ち形状が発生してしまうことがないように、蒸着マスク２０をその面方向に架張する。ここで、本明細書中、「架張」とは、張力を加えることを意味する。例えば、蒸着マスク２０をその面方向に架張する、とは、蒸着マスク２０に対して、その面方向に沿った張力を加えることを意味する。
【００７０】
また、図１１に示すように、製造装置７０は、蒸着マスク２０の溶接部１７ａをフレーム１５に接合する溶接装置７６を更に備えている。この溶接装置７６は、例えば、レーザー光Ｌを照射するレーザー装置であってもよい。この場合、レーザー光Ｌとしては、例えば、ＹＡＧレーザー装置によって生成されるＹＡＧレーザー光（波長３５５ｎｍ、５３２ｎｍ、１０６４ｎｍ）を用いることができる。ＹＡＧレーザー装置としては、例えば、ＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）にＮｄ（ネオジム）を添加した結晶を発振用媒質として備えたものを用いることができる。
【００７１】
次に、蒸着マスク装置１０を製造する方法について説明する。まず、蒸着マスク装置１０の蒸着マスク２０を製造する方法について説明する。
【００７２】
はじめに、蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の製造方法について説明する。
【００７３】
まず、鉄及びニッケル並びにその他の原材料を準備する。例えば、原材料全体に対する鉄の比率及びニッケルの比率がそれぞれ約６４重量％及び約３６重量％となるよう、各原材料を準備する。続いて、各原材料を必要に応じて粉砕した後、各原材料を溶解炉にて溶解する溶解工程を実施する。例えば、アーク放電などの気体放電を利用して各原材料を溶解して混合する。これによって、金属板のための母材を得ることができる。
【００７４】
溶解時の温度は、原材料に応じて設定するが、例えば１５００℃以上である。溶解工程は、脱酸、脱水、脱窒素などのためにアルミニウム、マンガン、シリコンなどを溶解炉に投入する工程を含んでいてもよい。また、溶解工程は、大気圧よりも低い低圧状態で、アルゴンガスなどの不活性ガスの雰囲気下で実施してもよい。
【００７５】
母材を溶解炉から取り出した後、母材の表面を削り取る研削工程を実施してもよい。これによって、スケールなどの酸化物の被膜を除去することができる。この際、具体的な研削方法は特には限られないが、砥石車を回転させて母材の表面を削る、いわゆるグラインディング法や、母材を切削具に押し込んで母材の表面を削る、いわゆる押し込み法などを採用することができる。研削工程は、母材の厚みが均一になるように実施されてもよい。
【００７６】
続いて、図１３に示すように、ニッケルを含む鉄合金から構成された母材６０を圧延する圧延工程を実施する。例えば、一対の圧延ロール（ワークロール）６６ａ，６６ｂを含む圧延装置６６に向けて、矢印Ｄ１で示す方向に沿って搬送する。一対の圧延ロール６６ａ，６６ｂの間に到達した母材６０は、一対の圧延ロール６６ａ，６６ｂによって圧延され、この結果、母材６０は、その厚みが低減されるとともに、搬送方向に沿って伸ばされる。これによって、所定の厚みを有する金属板６４を得ることができる。図１３に示すように、金属板６４をコア６１に巻き取ることによって巻き体６２を形成してもよい。
【００７７】
なお図１３は、圧延工程の概略を示すものに過ぎず、圧延工程を実施するための具体的な構成や手順が特に限られることはない。例えば圧延工程は、母材６０を構成する鉄合金の結晶配列を変化させる温度以上の温度で母材を加工する熱間圧延工程や、鉄合金の結晶配列を変化させる温度以下の温度で母材を加工する冷間圧延工程を含んでいてもよい。また、一対の圧延ロール６６ａ，６６ｂの間に母材６０や金属板６４を通過させる際の向きが一方向に限られることはない。例えば、図１３において、紙面左側から右側への向き、および紙面右側から左側への向きで繰り返し母材６０や金属板６４を一対の圧延ロール６６ａ，６６ｂの間に通過させることにより、母材６０や金属板６４を徐々に圧延してもよい。
【００７８】
また、冷間圧延工程においては、母材６０と圧延ロール６６ａ，６６ｂとの間に灯油などのクーラントを供給してもよい。これにより、母材の温度を制御することができる。
【００７９】
その後、圧延によって金属板６４内に蓄積された残留応力を取り除くため、図１４に示すように、アニール装置６７を用いて金属板６４をアニール処理するアニール工程を実施してもよい。アニール工程は、図１４に示すように、金属板６４を搬送方向（長手方向）に引っ張りながら実施されてもよい。すなわち、アニール工程は、いわゆるバッチ式の焼鈍ではなく、搬送しながらの連続焼鈍として実施されてもよい。この場合、金属板６４に座屈折れなどの変形が生じることを抑制するように温度や搬送速度を設定することが好ましい。アニール工程を実施することにより、残留歪がある程度除去された金属板６４を得ることができる。
【００８０】
その後、金属板６４の幅が所定の範囲内になるよう、圧延工程によって得られた金属板６４の幅方向における両端をそれぞれ所定の範囲にわたって切り落とすスリット工程を実施してもよい。このスリット工程は、圧延に起因して金属板６４の両端に生じ得るクラックを除去するために実施される。このようなスリット工程を実施することにより、金属板６４が破断してしまう現象、いわゆる板切れが、クラックを起点として生じてしまうことを防ぐことができる。また、このスリット工程を、上述のアニール工程の前に実施してもよい。
【００８１】
なお、上述の圧延工程、アニール工程及びスリット工程のうちの少なくとも２つの工程を複数回繰り返すことによって、所定の厚みの長尺状の金属板６４を作製してもよい。また図１４においては、アニール工程が、金属板６４を長手方向に引っ張りながら実施される例を示したが、これに限られることはなく、アニール工程を、金属板６４がコア６１に巻き取られた状態で実施してもよい。すなわちバッチ式の焼鈍が実施されてもよい。なお、金属板６４がコア６１に巻き取られた状態でアニール工程を実施する場合、金属板６４に、巻き体６２の巻き取り径に応じた反りの癖がついてしまうことがある。従って、巻き体６２の巻き径や母材６０を構成する材料によっては、金属板６４を長手方向に引っ張りながらアニール工程を実施することが有利である。
【００８２】
また、圧延工程の後、若しくはアニール工程の後、金属板６４の外観を検査する外観検査工程を実施してもよい。外観検査工程は、自動検査機を用いて金属板６４の外観を検査する工程を含んでいてもよい。また、外観検査工程は、目視で金属板６４の外観を検査する工程を含んでいてもよい。
【００８３】
また、圧延工程の後、若しくはアニール工程の後、金属板６４の形状を検査する形状検査工程を実施してもよい。例えば、３次元測定器を用いて、厚み方向における金属板６４の表面の位置を金属板６４の所定の領域内で測定してもよい。
【００８４】
次に、上述した工程により得られた金属板６４を用いて蒸着マスク２０を製造する方法について、主に図１５乃至図１９を参照して説明する。図１５は、金属板６４を用いて蒸着マスク２０を製造する処理装置８０を示す図である。まず、金属板６４をコア６１に巻き取った巻き体６２を準備する。そして、このコア６１を回転させて巻き体６２を巻き出すことにより、図１５に示すように、帯状に延びる金属板６４を供給する。
【００８５】
供給された金属板６４は、搬送ローラー８５によって、加工装置８２、分離装置８３へ順に搬送される。加工装置８２は、金属板６４を加工して金属板６４に貫通孔２５を形成する加工工程を実施する。なお本実施の形態においては、複数枚の蒸着マスク２０に対応する多数の貫通孔２５を金属板６４に形成する。言い換えると、金属板６４に複数枚の蒸着マスク２０を割り付ける。分離装置８３は、金属板６４のうち１枚分の蒸着マスク２０に対応する複数の貫通孔２５が形成された部分を金属板６４から分離する分離工程を実施する。このようにして、枚葉状の蒸着マスク２０を得ることができる。
【００８６】
図１６乃至図１９を参照して、加工工程について説明する。まず、金属板６４の第１面６４ａ上および第２面６４ｂ上に感光性レジスト材料を含むレジスト膜を形成する。例えば、カゼインなどの感光性レジスト材料を含む塗布液を金属板６４に塗布し、その後、塗布液を乾燥させることにより、レジスト膜を形成する。若しくは、金属板６４にドライフィルムを貼り付けることにより、レジスト膜を形成してもよい。続いて、レジスト膜を露光及び現像する。これにより、図１６に示すように、金属板６４の第１面６４ａ上に第１レジストパターン６５ａを形成し、金属板６４の第２面６４ｂ上に第２レジストパターン６５ｂを形成することができる。
【００８７】
次に、図１７に示すように、金属板６４の第１面６４ａのうち第１レジストパターン６５ａによって覆われていない領域を、第１エッチング液を用いてエッチングする第１面エッチング工程を実施する。例えば、第１エッチング液を、搬送される金属板６４の第１面６４ａに対面する側に配置されたノズルから、第１レジストパターン６５ａ越しに金属板６４の第１面６４ａに向けて噴射する。この結果、図１７に示すように、金属板６４のうちの第１レジストパターン６５ａによって覆われていない領域で、第１エッチング液による浸食が進む。これによって、金属板６４の第１面６４ａに多数の第１凹部３０が形成される。第１エッチング液としては、例えば塩化第２鉄溶液及び塩酸を含むものを用いる。
【００８８】
次に、図１８に示すように、金属板６４の第２面６４ｂのうち第２レジストパターン６５ｂによって覆われていない領域をエッチングし、第２面６４ｂに第２凹部３５を形成する第２面エッチング工程を実施する。第２面エッチング工程は、第１凹部３０と第２凹部３５とが互いに通じ合い、これによって貫通孔２５が形成されるようになるまで実施される。第２エッチング液としては、上述の第１エッチング液と同様に、例えば塩化第２鉄溶液及び塩酸を含むものを用いる。なお、第２面エッチング工程の際、図１８に示すように、第２エッチング液に対する耐性を有した樹脂６９によって第１凹部３０が被覆されていてもよい。
【００８９】
その後、図１９に示すように、金属板６４から樹脂６９を除去する。樹脂６９は、例えばアルカリ系剥離液を用いることによって、除去することができる。アルカリ系剥離液が用いられる場合、図１９に示すように、樹脂６９と同時にレジストパターン６５ａ，６５ｂも除去される。なお、樹脂６９を除去した後、樹脂６９を剥離させるための剥離液とは異なる剥離液を用いて、樹脂６９とは別途にレジストパターン６５ａ，６５ｂを除去してもよい。
【００９０】
その後、金属板６４のうち１枚分の蒸着マスク２０に対応する複数の貫通孔２５が形成された部分を金属板６４から分離することにより、蒸着マスク２０を得ることができる。
【００９１】
なお、上述した分離工程の後に、蒸着マスク２０を検査する蒸着マスク検査工程を実施してもよい。蒸着マスク検査工程においては、例えば、蒸着マスク２０を構成する金属板６４の表面に局所的な突起や凹みなどの変形部が存在するか否かを検査してもよい。
【００９２】
次に、上述のようにして得られた蒸着マスク２０を、製造装置７０を用いてフレーム１５に搬送し、フレーム１５に溶接する溶接工程を実施する。これによって、蒸着マスク２０及びフレーム１５を備える蒸着マスク装置１０を得ることができる。
【００９３】
この間、まず蒸着マスク２０を製造装置７０の載置台７２上に載せる（図８乃至図１０参照）。具体的には、蒸着マスク２０の第２面２０ｂが載置台７２のトレー７９に接触するように、蒸着マスク２０を配置する。この場合、蒸着マスク２０はトレー７９上に載せられ、その側面２０ｃがガイドピン８４に当たって接触することにより、蒸着マスク２０の位置が予め定められた位置に位置決めされる。このとき蒸着マスク２０は、粘着部材８１に粘着するので、蒸着マスク２０はトレー７９上の所定位置に仮固定される。
【００９４】
次に、図２０（ａ）に示すように、蒸着マスク２０の各延在部１７ｂにそれぞれクランプ装置５０を配置する。具体的には、駆動装置５３により、蒸着マスク２０の各延在部１７ｂの上方に上方クランプ５１が配置され、蒸着マスク２０の各延在部１７ｂの下方に下方クランプ５２が配置される。このとき、上方クランプ５１は、蒸着マスク２０の第１面２０ａから離れており、下方クランプ５２は、蒸着マスク２０の第２面２０ｂから離れている。
【００９５】
続いて、図２０（ｂ）に示すように、駆動装置５３の第２駆動手段５３ｂにより、下方クランプ５２が上昇するように駆動される。これにより、下方クランプ５２が蒸着マスク２０の第２面２０ｂに接触し、下方クランプ５２が停止する。これにより、蒸着マスク２０が下方クランプ５２によって下方から支持される。このとき、上方クランプ５１は、蒸着マスク２０の第１面２０ａから離れた状態を維持する。なお、下方クランプ５２とともに上方クランプ５１も一体となって上昇しても良い。
【００９６】
次に、図２０（ｃ）に示すように、駆動装置５３の第１駆動手段５３ａにより、上方クランプ５１が下降するように駆動される。これにより、上方クランプ５１が蒸着マスク２０の第１面２０ａに接触し、上方クランプ５１が停止する。一方、下方クランプ５２は、蒸着マスク２０の第２面２０ｂに接触した状態を維持する。このとき、上方クランプ５１と下方クランプ５２とが互いに圧力を加え、上方クランプ５１及び下方クランプ５２によって蒸着マスク２０を挟んでも良い。このようにして、蒸着マスク２０は、上方クランプ５１及び下方クランプ５２によって掴まれる。その後、上方クランプ５１及び下方クランプ５２は、蒸着マスク２０を掴んだ状態で、トレー７９から離れる方向（図２０（ａ）−（ｃ）の左方向）に移動し、蒸着マスク２０を長手方向に引っ張る。
【００９７】
なお、上記作用については、第１の上方クランプ５１ａ及び第１の下方クランプ５２ａと、第２の上方クランプ５１ｂ及び第２の下方クランプ５２ｂとの両方について行われても良い（図９及び図１０参照）。すなわち、第１の下方クランプ５２ａが蒸着マスク２０の第１突出片１６ａに接触した後、第１の上方クランプ５１ａが蒸着マスク２０の第１突出片１６ａに接触し、第１突出片１６ａを掴んでも良い。また、第２の下方クランプ５２ｂが蒸着マスク２０の第２突出片１６ｂに接触した後、第２の上方クランプ５１ｂが蒸着マスク２０の第２突出片１６ｂに接触し、第２突出片１６ｂを掴んでも良い。さらに、上記作用については、蒸着マスク２０の一対の延在部１７ｂのそれぞれについて行われても良い。すなわち第１クランプ装置５０Ａおよび第２クランプ装置５０のそれぞれに関して、まず下方クランプ５２が蒸着マスク２０に接触した後、上方クランプ５１が蒸着マスク２０に接触するように駆動しても良い。
【００９８】
ところで、蒸着マスク２０を上方クランプ５１及び下方クランプ５２によって同時に掴んだ場合、そのときの衝撃で蒸着マスク２０に撓みや波打ち現象が発生しやすい。これに対して、本実施の形態によれば、蒸着マスク２０を掴む工程において、上方クランプ５１及び下方クランプ５２は、まず下方クランプ５２が蒸着マスク２０に接触した後、上方クランプ５１が蒸着マスク２０に接触するように駆動される。これにより、上方クランプ５１及び下方クランプ５２が蒸着マスク２０を掴む際の衝撃が軽減され、衝撃によって蒸着マスク２０に撓みや波打ち現象が生じることを抑えることができる。
【００９９】
なお、上記においては、まず下方クランプ５２が蒸着マスク２０に接触し、その後、上方クランプ５１が蒸着マスク２０に接触する場合を例にとって説明した。しかしながら、これに限らず、まず上方クランプ５１が蒸着マスク２０に接触し、その後、下方クランプ５２が蒸着マスク２０に接触するようにしても良い。この場合においても、上方クランプ５１及び下方クランプ５２が蒸着マスク２０を掴む際の衝撃によって蒸着マスク２０に撓みや波打ち現象が生じることを抑えることができる。
【０１００】
その後、蒸着マスク２０は、製造装置７０のステージ７１上に位置するフレーム１５に移動される。この際、蒸着マスク２０は、その長手方向両端をそれぞれクランプ装置５０の上方クランプ５１及び下方クランプ５２によって掴まれ、長手方向に引っ張られた状態のまま、搬送装置７８によってステージ７１に搬送される。このステージ７１において、蒸着マスク２０は、クランプ装置５０によって張力を加えられたままフレーム１５上で停止する。また、同様にして、複数の蒸着マスク２０が順次載置台７２からクランプ装置５０及び搬送装置７８によってステージ７１に搬送され、フレーム１５上に配置される。この場合、蒸着マスク２０は、第２面２０ｂがフレーム１５に面するようにフレーム１５上に配置される。
【０１０１】
次に、製造装置７０による蒸着マスク２０の位置決めを行う。この場合、アライメントマークが形成されたガラススケール（図示せず）を準備し、アライメントマークに基づいて蒸着マスク２０が所定の位置に位置付けられるように、クランプ装置５０を蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎに直交する水平方向（第１面２０ａの面方向）に移動させる。このようにして、蒸着マスク２０の仮の位置決めを行うとともに、蒸着マスク２０を張った状態に保持する。次に、駆動部７３を駆動し、ステージ７１の位置および例えば床面に対する角度を調整することにより、ガラススケールのアライメントマークに基づいて蒸着マスク２０の位置決めを行う。この際、各々のクランプ装置５０を独立して駆動することにより、蒸着マスク２０の位置を調整してもよく、各々のクランプ装置５０を同時に駆動して蒸着マスク２０の位置を調整してもよい。なお、ガラススケールを用いることなく、製造装置７０による蒸着マスク２０の位置決めを行ってもよい。この場合、蒸着マスク２０の位置決めは、任意の位置決め手段を用いることにより行われてもよく、例えば製造装置７０に設計座標を読み込み、設計座標に到達するように蒸着マスク２０の位置を調整してもよい。さらに、製造装置７０による蒸着マスク２０の位置決めを行う場合、クランプ装置５０とともに、製造装置７０のステージ７１を第１面２０ａの法線方向Ｎおよび面方向に移動させてもよい。
【０１０２】
次に、図２１に示すように、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの少なくとも一部がフレーム１５の表面（すなわち第３面）１５ａに接触し、且つ、第１面２０ａの法線方向Ｎから見た場合に、蒸着マスク２０のうち、フレーム１５と重ならない部分の第２面２０ｂの少なくとも一部を、フレーム１５の表面１５ａよりもフレーム１５の裏面（すなわち第４面）１５ｂ側に位置させて、蒸着マスク２０に張力を加える。すなわち、溶接部１７ａの第２面２０ｂがフレーム１５の表面１５ａに接触し、且つ、延在部１７ｂの第２面２０ｂが少なくとも部分的にフレーム１５の表面１５ａよりもフレーム１５の裏面１５ｂ側（図２１における下方）に位置するように蒸着マスク２０に張力を加える。この際、例えば、フレーム１５を蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎのうち、第２面２０ｂから第１面２０ａへ向かう方向へ移動させる。この場合、駆動部７３を駆動することにより、製造装置７０のステージ７１を上昇させ、フレーム１５を移動させる。
【０１０３】
ところで、本実施の形態では、クランプ装置５０（ここでは上方クランプ５１及び下方クランプ５２）が蒸着マスク２０を挟持した状態において、溶接部１７ａの第２面２０ｂがフレーム１５の表面１５ａに接触し、且つ、延在部１７ｂの第２面２０ｂが少なくとも部分的にフレーム１５の表面１５ａよりもフレーム１５の裏面１５ｂ側に位置する。これにより、蒸着マスク２０をフレーム１５の表面１５ａよりもフレーム１５の裏面１５ｂ側（図２１における下方）に引っ張ることができる。また、この際、延在部１７ｂのうち、フレーム１５の外側面１５ｃよりも外側に延びている部分に張力が加えられ、当該部分がフレーム１５の裏面１５ｂ側に引っ張られる状態になる。このため、蒸着マスク２０が全体としてフレーム１５の裏面１５ｂ側に押し付けられるような状態になり、蒸着マスク２０の中間部１８の溶接部１７ａと、フレーム１５との密着性を向上させることができる。このため、蒸着マスク２０をその面方向に効果的に架張することができるとともに、蒸着マスク２０とフレーム１５との密着性を向上させることができる。この結果、蒸着マスク２０に撓みや波打ち形状が発生すること抑制することができる。
【０１０４】
次に、図２２に示すように、蒸着マスク２０の溶接部１７ａをフレーム１５に接合する接合工程を実施する。この場合、蒸着マスク２０に張力が加えられた状態で、蒸着マスク２０の溶接部１７ａをフレーム１５に接合する。この際、例えば、溶接装置７６により、蒸着マスク２０の第１面２０ａ側からレーザー光Ｌを照射する。これによって、蒸着マスク２０の耳部１７の一部及びフレーム１５の一部が溶融して、耳部１７の第１面２０ａから第２面２０ｂを介してフレーム１５に至る溶融領域が形成される。
【０１０５】
レーザー光Ｌとしては、例えば、ＹＡＧレーザー装置によって生成されるＹＡＧレーザー光を用いることができる。ＹＡＧレーザー装置としては、例えば、ＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）にＮｄ（ネオジム）を添加した結晶を発振用媒質として備えたものを用いることができる。この場合、基本波として、波長が約１０６４ｎｍのレーザー光が生成される。また、基本波を非線形光学結晶に通すことによって、波長が約５３２ｎｍの第２高調波が生成される。また、基本波および第２高調波を非線形光学結晶に通すことによって、波長が約３５５ｎｍの第３高調波が生成される。
【０１０６】
ＹＡＧレーザー光の第３高調波は、ニッケルを含む鉄合金に吸収され易い。従って、蒸着マスク２０の耳部１７およびフレーム１５が、ニッケルを含む鉄合金を含む場合、蒸着マスク２０の耳部１７およびフレーム１５の一部を効率良く溶融させるためにはレーザー光ＬがＹＡＧレーザー光の第３高調波を含むことが好ましい。
【０１０７】
レーザー光Ｌの照射が終了すると、溶融領域の温度が低下し、溶融領域が固化して溶接痕１９ａとなる。このことにより、蒸着マスク２０の耳部１７とフレーム１５とが溶接痕１９ａによって互いに接合される。このようにして、フレーム１５と、接合部１９によってフレーム１５に接合された蒸着マスク２０と、を備える蒸着マスク装置１０を得ることができる。
【０１０８】
次に、上述した工程により得られた蒸着マスク装置１０を用いて有機ＥＬ基板９２に蒸着材料９８を蒸着する蒸着材料の蒸着方法について、図２３乃至図２５を参照して説明する。
【０１０９】
まず、図２３に示すように、上述した工程により得られた蒸着マスク装置１０を準備する。この際、蒸着材料９８が収容されたるつぼ９４及びヒータ９６を準備し、蒸着装置９０を準備する。
【０１１０】
また、有機ＥＬ基板９２を準備する。
【０１１１】
次に、図２４に示すように、有機ＥＬ基板９２を蒸着マスク装置１０の蒸着マスク２０上に設置する。この際、例えば有機ＥＬ基板９２の図示しないアライメントマークと、蒸着マスク２０の図示しないアライメントマークとを直接観察し、当該アライメントマーク同士が重なるように有機ＥＬ基板９２の位置決めを行いながら、有機ＥＬ基板９２を蒸着マスク装置１０に設置する。
【０１１２】
次いで、蒸着マスク装置１０の蒸着マスク２０上に設置された有機ＥＬ基板９２に蒸着材料９８を蒸着させる。この際、例えば、図２５に示すように、有機ＥＬ基板９２の、蒸着マスク装置１０と反対の側の面に磁石９３が配置される。このように磁石９３を設けることにより、磁力によって蒸着マスク装置１０を磁石９３側に引き寄せて、蒸着マスク２０を有機ＥＬ基板９２に密着させることができる。次に、蒸着装置９０の内部が高真空状態となるように、蒸着装置９０の内部を図示しない排気手段により排気する。次に、ヒータ９６が、るつぼ９４を加熱して蒸着材料９８を蒸発させる。そして、るつぼ９４から蒸発して蒸着マスク装置１０に到達した蒸着材料９８は、蒸着マスク２０の貫通孔２５を通って有機ＥＬ基板９２に付着する（図１参照）。
【０１１３】
このようにして、蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置に対応した所望のパターンで、蒸着材料９８が有機ＥＬ基板９２に蒸着される。
【０１１４】
このように、本実施の形態によれば、製造装置７０の上方クランプ５１及び下方クランプ５２を用いて蒸着マスク２０を掴む際、まず下方クランプ５２が蒸着マスク２０に接触し、その後、上方クランプ５１が蒸着マスク２０に接触するように、上方クランプ５１及び下方クランプ５２が駆動される。これにより、蒸着マスク２０を掴む際、蒸着マスク２０と上方クランプ５１及び下方クランプ５２との衝撃が緩和され、衝撃によって蒸着マスク２０と上方クランプ５１及び下方クランプ５２との位置関係にずれが生じにくい。この結果、蒸着マスク２０に撓みや波打ち現象が生じることを抑えることができる。
【０１１５】
なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
【０１１６】
（蒸着マスク装置の製造装置の第１の変形例）
上述の本実施の形態においては、製造装置７０の上方クランプ５１及び下方クランプ５２がそれぞれ平坦な板状部材である例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図２６及び図２７に示すように、上方クランプ５１及び下方クランプ５２のうちの少なくとも一方は、蒸着マスク２０との間で位置決めを行う位置決め部５４を有してもよい。この場合、蒸着マスク２０の第１突出片１６ａ及び第２突出片１６ｂに、それぞれ貫通孔２７が形成されている。また、下方クランプ５２は、円錐形状の突起ピンである位置決め部５４を有している。この位置決め部５４は、上方クランプ５１側に向けて突出している。上方クランプ５１は、位置決め部５４の上端を収容する収容凹部５１ｃを有する。下方クランプ５２の位置決め部５４は、蒸着マスク２０の貫通孔２７内に挿入され、蒸着マスク２０の位置決めが行われる。
【０１１７】
貫通孔２７は平面視円形状であるが、これに限らず、平面視多角形状、平面視楕円形状等としても良い。なお、貫通孔２７が平面視円形状である場合、上方クランプ５１及び下方クランプ５２が蒸着マスク２０を引っ張った際に、蒸着マスク２０が位置決め部５４に対して動きやすいため好ましい。位置決め部５４は、蒸着マスク２０の貫通孔２７に挿入可能な形状であれば良い。例えば蒸着マスク２０の貫通孔２７が平面視円形状である場合、位置決め部５４は、円錐形状、円錐台形状、円柱形状等としても良い。なお、位置決め部５４を円錐形状とした場合、位置決め部５４が上昇するに従って、その傾斜した外面によって蒸着マスク２０の位置を微調整することができる。なお、位置決め部５４は、上方クランプ５１に存在しても良い。また、上方クランプ５１又は下方クランプ５２に複数の位置決め部５４が存在しても良い。なお、図示しないが、蒸着マスク２０に貫通孔２７に代えて切欠きを設け、この切欠きに下方クランプ５２の位置決め部５４を位置合わせしても良い。
【０１１８】
本変形例において、上方クランプ５１と下方クランプ５２とによって蒸着マスク２０を掴む工程において、下方クランプ５２の位置決め部５４を用いて、蒸着マスク２０との間で位置決めを行う。具体的には、下方クランプ５２の位置決め部５４が蒸着マスク２０の貫通孔２７に挿入され、これにより位置決め部５４と蒸着マスク２０の貫通孔２７とが所定の位置に位置決めされる。この場合、駆動装置５３によって上方クランプ５１及び下方クランプ５２を駆動することにより、上方クランプ５１及び下方クランプ５２を同時に動かして、蒸着マスク２０を掴んでも良い。あるいは、上述した実施の形態（図２０（ａ）−（ｃ）参照）と同様に、まず下方クランプ５２が蒸着マスク２０に接触し、その後、上方クランプ５１が蒸着マスク２０に接触するようにしても良い。
【０１１９】
本変形例によれば、蒸着マスク２０を掴む際、蒸着マスク２０と上方クランプ５１及び下方クランプ５２とが所望の位置関係に位置合わせされる。このため、蒸着マスク２０と上方クランプ５１及び下方クランプ５２とにずれが生じにくく、蒸着マスク２０に撓みや波打ち現象が生じることを抑えることができる。
【０１２０】
（蒸着マスク装置の製造装置の第２の変形例）
上述の本実施の形態においては、製造装置７０の載置台７２は、トレー７９上に位置する粘着部材８１を有している。しかしながら、これに限られることはなく、図２８及び図２９に示すように、載置台７２は、鉄合金等の磁性体である蒸着マスク２０を磁力によって保持する電磁石装置５５を有してもよい。この場合、電磁石装置５５は、トレー７９上に位置しており、電磁石装置５５の上面はトレー７９の上面７９ａと同一平面上にある。電磁石装置５５は、平面視で蒸着マスク２０の短手方向に直線状に延びている。電磁石装置５５は、電源装置５６に電気的に接続されている。電磁石装置５５は、電源装置５６によって通電された際、蒸着マスク２０の第２面２０ｂを磁力で引き寄せることにより、蒸着マスク２０を一時的にトレー７９上に仮固定する。一方、電磁石装置５５は、電源装置５６による通電が停止した際、蒸着マスク２０を引き寄せる磁力が失われ、これにより蒸着マスク２０の仮固定が解除される。本変形例において、電磁石装置５５は一対設けられ、それぞれ蒸着マスク２０の長手方向端部側に位置している。しかしながら、電磁石装置５５の個数や位置はこれに限られるものではなく、例えば、１つ又は３つ以上の電磁石装置５５が設けられていても良く、電磁石装置５５が蒸着マスク２０の長手方向端部から離れた位置にあっても良い。
【０１２１】
本変形例において、まず載置台７２の電磁石装置５５への通電を停止した状態で、載置台７２のトレー７９上に蒸着マスク２０を載せる。次に、電磁石装置５５を通電し、電磁石装置５５の磁力によって、蒸着マスク２０を磁力で引き付けて保持する。続いて、上方クランプ５１と下方クランプ５２とによって蒸着マスク２０を掴み、その後、電磁石装置５５の通電を停止する。これにより、上方クランプ５１と下方クランプ５２によって掴まれた蒸着マスク２０を載置台７２から移動させることができる。この場合、駆動装置５３によって上方クランプ５１及び下方クランプ５２を駆動することにより、上方クランプ５１及び下方クランプ５２を同時に動かして、蒸着マスク２０を掴んでも良い。あるいは、上述した実施の形態（図２０（ａ）−（ｃ）参照）と同様に、まず下方クランプ５２が蒸着マスク２０に接触し、その後、上方クランプ５１が蒸着マスク２０に接触するようにしても良い。
【０１２２】
本変形例によれば、蒸着マスク２０を掴む際、電磁石装置５５の磁力によって蒸着マスク２０がトレー７９上にしっかり保持される。このため、蒸着マスク２０をトレー７９上で仮固定した状態で、蒸着マスク２０を上方クランプ５１及び下方クランプ５２で掴むことができる。このため、蒸着マスク２０が不意に動いてしまうことにより蒸着マスク２０に撓みや波打ち現象が生じることを抑えることができる。一方、上方クランプ５１と下方クランプ５２により蒸着マスク２０を掴んだ後、電磁石装置５５の通電を解除することにより、上方クランプ５１及び下方クランプ５２を用いて蒸着マスク２０をスムーズに移動することができる。
【０１２３】
（蒸着マスク装置の製造装置の第３の変形例）
上述の本実施の形態においては、製造装置７０の上方クランプ５１及び下方クランプ５２がそれぞれＤｘ方向、Ｄｙ方向及びＤｚ方向に直線移動する例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図３０及び図３１に示すように、上方クランプ５１及び下方クランプ５２は、載置台７２の載置面７２ａ（トレー７９の上面７９ａ）の法線方向（Ｄｚ方向）周りに回転可能となっていてもよい。この場合、上方クランプ５１及び下方クランプ５２は、それぞれ第１駆動手段５３ａ及び第２駆動手段５３ｂによってＤｚ方向周りに回転可能となっていてもよい。あるいは、上方クランプ５１及び下方クランプ５２は、図示しない他の駆動手段によってＤｚ方向周りに回転可能となっていてもよい。また、上方クランプ５１及び下方クランプ５２のうち一方のみがＤｚ方向周りに回転可能となっていてもよい。
【０１２４】
図３０及び図３１において、第１突出片１６ａを掴む第１の上方クランプ５１ａ及び第１の下方クランプ５２ａと、第２突出片１６ｂを掴む第２の上方クランプ５１ｂ及び第２の下方クランプ５２ｂとが存在する。この場合、第１の上方クランプ５１ａ及び第１の下方クランプ５２ａと、第２の上方クランプ５１ｂ及び第２の下方クランプ５２ｂとが、互いに独立してＤｚ方向周りに回転可能となっていてもよい。すなわち第１の上方クランプ５１ａ及び第１の下方クランプ５２ａの回転角度と、第２の上方クランプ５１ｂ及び第２の下方クランプ５２ｂの回転角度とが互いに異なるように回転しても良い。
【０１２５】
本変形例において、まず上方クランプ５１と下方クランプ５２とによって蒸着マスク２０を掴む。この場合、駆動装置５３によって上方クランプ５１及び下方クランプ５２を駆動することにより、上方クランプ５１及び下方クランプ５２を同時に動かして、蒸着マスク２０を掴んでも良い。あるいは、上述した実施の形態（図２０（ａ）−（ｃ）参照）と同様に、まず下方クランプ５２が蒸着マスク２０に接触し、その後、上方クランプ５１が蒸着マスク２０に接触するようにしても良い。このとき、図３１（ａ）に示すように、上方クランプ５１及び下方クランプ５２が、蒸着マスク２０を平面視で曲がった状態で掴んだ場合を想定する。この場合、図３１（ｂ）に示すように、上方クランプ５１及び下方クランプ５２が、Ｄｚ方向に平行な回転軸Ａｚ周りに回転することにより、蒸着マスク２０の位置を修正する。
【０１２６】
本変形例によれば、蒸着マスク２０を掴む際、仮に蒸着マスク２０が平面視で曲がった状態で掴まれた場合でも、上方クランプ５１及び下方クランプ５２がＤｚ方向に平行な回転軸Ａｚ周りに回転することにより、蒸着マスク２０の位置を修正することができる。これにより、蒸着マスク２０に生じた撓みや波打ち現象を修正することができる。
【符号の説明】
【０１２７】
１０        蒸着マスク装置
１５        フレーム
１７        耳部
２０        蒸着マスク
２２        有効領域
２３        周囲領域
５０        クランプ装置
５０Ａ      第１クランプ装置
５０Ｂ      第２クランプ装置
５１        上方クランプ
５２        下方クランプ
５３        駆動装置
５３ａ      第１駆動手段
５３ｂ      第２駆動手段
７０        製造装置
７１        ステージ
７２        載置台
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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