(57)【要約】【課題】植物の生育に悪影響を与えることなく、バグフィルタを再生することができる排ガス供給方法を提供する。【解決手段】燃焼設備２から排出された排ガスを処理して植物栽培施設４に供給する排ガス供給方法であって、排ガスに含まれる酸性ガスをバグフィルタ３６に通過させて低減する低減工程と、バグフィルタ３６を再生する再生工程とを包含し、再生工程を、植物栽培施設４で栽培されている植物が光合成を行う時間外において、植物栽培施設４への排ガスの供給を停止した状態で実施するものとする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃焼設備から排出された排ガスを処理して植物栽培施設に供給する排ガス供給方法であって、
前記排ガスに含まれる酸性ガスをバグフィルタに通過させて低減する低減工程と、
前記バグフィルタを再生する再生工程とを包含し、
前記再生工程は、前記植物栽培施設で栽培されている植物が光合成を行う時間外において、前記植物栽培施設への前記排ガスの供給を停止した状態で実施される排ガス供給方法。
【請求項２】
前記バグフィルタには、前記酸性ガスを中和する中和薬剤が担持されている請求項１に記載の排ガス供給方法。
【請求項３】
前記バグフィルタにおける前記中和薬剤の担持量は、前記バグフィルタを通過した排ガスに含まれる前記酸性ガスの濃度が、前記植物栽培施設で栽培されている植物が光合成を行う時間内において所定値以下となる量に設定されている請求項２に記載の排ガス供給方法。
【請求項４】
前記再生工程は、前記バグフィルタに前記排ガスを通気させたときに計測される前後間の差圧が所定値以上となった場合に実施される請求項１〜３の何れか一項に記載の排ガス供給方法。
【請求項５】
前記再生工程は、前記排ガスに含まれる前記酸性ガスと前記中和薬剤との反応により生成した堆積物を前記バグフィルタから脱離する脱離工程と、前記バグフィルタに新たな中和薬剤を付与する付与工程とを包含する請求項２〜４の何れか一項に記載の排ガス供給方法。
【請求項６】
前記脱離工程は、前記バグフィルタに圧縮ガスを噴射することにより実施される請求項５に記載の排ガス供給方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、燃焼設備から排出された排ガスを処理して植物栽培施設に供給する排ガス供給方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
廃棄物やバイオマス燃料（木くず等）等を焼却炉で燃焼させるに伴い発生した排ガスには、煤塵（飛灰）の他に、燃焼物に塩素（Ｃｌ）や硫黄（Ｓ）が含まれている場合、塩化水素（ＨＣｌ）や硫黄酸化物（ＳＯｘ）等の酸性ガスが含まれている。これらの酸性ガスを除去するための酸性ガス除去方法としては、排ガスが流れる煙道（ダクト）中に消石灰や重曹系薬剤等の中和薬剤を吹き込み、中和薬剤と酸性ガスとを反応させて、反応生成物をバグフィルタで煤塵と共に捕集して除去するという方法が一般的である。
【０００３】
上記の酸性ガス除去方法においては、バグフィルタの後段（下流側）の酸性ガス成分の濃度を連続的に測定し、この測定結果に基づいて中和薬剤の吹込み量を変動させたり、中和薬剤の吹込み位置の上流側と下流側とで酸性ガス成分の濃度を測定し、この測定結果に基づいて中和薬剤の吹込み量を変動させたりして、酸性ガス成分濃度が管理値を超えないように制御されている。
【０００４】
上記の酸性ガス除去方法の実施を継続すると、煙道中に吹き込まれた中和薬剤と排ガス中の煤塵とがバグフィルタのろ布上に付着・堆積し、堆積層が次第に成長して通気抵抗が増加するため、バグフィルタのろ布の内外の差圧が一定以上になったときに、ろ布上に堆積したダスト（煤塵＋中和薬剤）の払落しが行われる。なお、ろ布の内外の差圧に関わらず、定期的にダストの払落しが行われることもある。
【０００５】
ここで、ダストの払落しの方式としては、圧縮空気をろ布の内表面へと噴射して、圧縮空気をろ布の内周面側から外周面側へと通過させることにより、ろ布上に堆積したダストを吹き飛ばして払い落とすというパルスジェット払落し方式が広く採用されている。
【０００６】
上述したように、バイオマス燃料等の燃焼に伴い発生した排ガスには、酸性ガス等の有害ガスが含まれているが、それ以外に、植物育成に役立つ二酸化炭素も含まれている。そこで、焼却炉からの排ガスの一部を抜き出し、抜き出した排ガス中の有害ガスを低減して、二酸化炭素を含む排ガスを植物生育ガスとして植物栽培施設に供給するようにした排ガス供給方法が提案されている（例えば、特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１７−９３３９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記特許文献１に係る排ガス供給方法においては、植物の健全な育成の観点から、焼却炉からの排ガスの一部を抜き出した排ガス中の酸性ガス濃度をできるだけ低減することが望まれている。そこで、焼却炉からの排ガスの一部を抜き出した排ガスに対しても、前述した酸性ガス除去方法が適用されることになり、この場合、抜き出した排ガスに含まれる酸性ガスを別途用意したバグフィルタに通過させて低減することが行われることになる。
【０００９】
そうすると、前述したように、バグフィルタのろ布上にダストが次第に堆積していき、通気抵抗が増加するとともに、未反応中和薬剤が減少するため、バグフィルタを元の性能の状態に再生するために、ダスト払い落とし処理を含む再生工程を実施する必要がある。
【００１０】
ところで、ダスト払い落とし処理を含む再生工程を実施すると、ろ布上に堆積しているダストが一時的ではあるが、一気に剥離してしまうため、払い落としをしたろ布の通気抵抗が一気に低下し、ろ過能力の低い部分に大量の排ガスが流れることになる。このため、植物栽培施設に対して排ガスを供給している状態において、ダスト払い落とし処理を含む再生工程を実施してしまうと、酸性ガスが十分に低減されていない排ガスが植物栽培施設に供給されることがあり、植物の生育に悪影響を与える虞れがあるという問題点がある。
【００１１】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、植物の生育に悪影響を与えることなく、バグフィルタを再生することができる排ガス供給方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するための本発明に係る排ガス供給方法の特徴構成は、
燃焼設備から排出された排ガスを処理して植物栽培施設に供給する排ガス供給方法であって、
前記排ガスに含まれる酸性ガスをバグフィルタに通過させて低減する低減工程と、
前記バグフィルタを再生する再生工程とを包含し、
前記再生工程は、前記植物栽培施設で栽培されている植物が光合成を行う時間外において、前記植物栽培施設への前記排ガスの供給を停止した状態で実施されることにある。
【００１３】
本構成の排ガス供給方法によれば、バグフィルタを再生する再生工程が、植物栽培施設で栽培されている植物が光合成を行う時間外において、植物栽培施設への排ガスの供給を停止した状態で実施されるので、植物の生育に悪影響を与えることなく、バグフィルタを再生することができる。
【００１４】
本発明に係る排ガス供給方法において、
前記バグフィルタには、前記酸性ガスを中和する中和薬剤が担持されていることが好ましい。
【００１５】
本構成の排ガス供給方法によれば、燃焼設備からの排ガスに含まれる酸性ガスが、バグフィルタに担持されている中和薬剤との中和反応の後に、バグフィルタを通過して処理ガスとなり、植物栽培施設へと供給されるので、植物栽培施設へと供給される排ガス中の酸性ガス濃度を確実に低減することができる。
【００１６】
本発明に係る排ガス供給方法において、
前記バグフィルタにおける前記中和薬剤の担持量は、前記バグフィルタを通過した排ガスに含まれる前記酸性ガスの濃度が、前記植物栽培施設で栽培されている植物が光合成を行う時間内において所定値以下となる量に設定されていることが好ましい。
【００１７】
本構成の排ガス供給方法によれば、酸性ガスの濃度が所定値以下に抑えられた排ガスを、植物が光合成を行う時間においてより安定的に植物栽培施設へと供給することができる。また、十分な量の未反応の中和薬剤がバグフィルタに担持されることになるので、突発的な酸性ガス濃度の上昇にも対応して低濃度まで酸性ガスを低減することができる。
【００１８】
本発明に係る排ガス供給方法において、
前記再生工程は、前記バグフィルタに前記排ガスを通気させたときに計測される前後間の差圧が所定値以上となった場合に実施されることが好ましい。
【００１９】
本構成の排ガス供給方法によれば、再生工程の実施回数を少なく抑えることができ、中和薬剤の使用量及び廃棄量をそれぞれ低減することができる。また、通気抵抗が過剰に増加するのを防ぐことができるので、圧力損失を抑えることができ、無駄な動力を削減することができる。
【００２０】
本発明に係る排ガス供給方法において、
前記再生工程は、前記排ガスに含まれる前記酸性ガスと前記中和薬剤との反応により生成した堆積物を前記バグフィルタから脱離する脱離工程と、前記バグフィルタに新たな中和薬剤を付与する付与工程とを包含することが好ましい。
【００２１】
本構成の排ガス供給方法によれば、排ガスに含まれる酸性ガスと中和薬剤との反応により生成した堆積物がバグフィルタから脱離された後に、新たな中和薬剤がバグフィルタに付与されるので、バグフィルタを初期の性能にまで確実に再生することができる。
【００２２】
本発明に係る排ガス供給方法において、
前記脱離工程は、前記バグフィルタに圧縮ガスを噴射することにより実施されることが好ましい。
【００２３】
本構成の排ガス供給方法によれば、比較的コンパクトな装置構成によってバグフィルタ上の堆積物を確実に脱離させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る排ガス供給方法を実施するための排ガス供給システムの全体構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明について、図１を参照しながら説明する。ただし、本発明は、以下に説明する実施形態や図面に記載される構成に限定されることは意図しない。
【００２６】
＜排ガス供給システムの概略構成＞
図１に示される排ガス供給システム１は、バイオマスや一般ゴミ等を燃焼させる燃焼設備２から排出された二酸化炭素を含む燃焼ガス（以下、「排ガス」と称する。）を、排ガス高度処理設備３において浄化処理し、植物生育ガスとして植物栽培施設４に供給するように構成されている。
【００２７】
＜燃焼設備＞
燃焼設備２において、廃棄物やバイオマス燃料（木くず等）等を焼却炉１１で燃焼させるに伴い発生した排ガスは、ボイラ１２やエコノマイザ１３へと送られて熱回収される。排ガスには、煤塵や重金属類が含まれるとともに、塩化水素（ＨＣｌ）や硫黄酸化物（ＳＯｘ）等の酸性ガス、ダイオキシン類やＮＯｘ等の有害物質が含まれているため、熱回収後の排ガスは、排ガス処理設備１４へと送られた後に、誘引通風機１５により吸引されて、煙突１６から大気中に放出される。
【００２８】
＜排ガス処理設備＞
排ガス処理設備１４は、排ガス流れの上流側から下流側に向って順に配設される中和薬剤吹込み装置２１、活性炭吹込み装置２２及びバグフィルタ装置２３を備えて構成されている。この排ガス処理設備１４においては、エコノマイザ１３とバグフィルタ装置２３とを接続するダクト２４に対し、中和薬剤吹込み装置２１から中和薬剤（例えば、ＪＩＳ特号消石灰、高反応消石灰、重曹系薬剤等）が吹き込まれるとともに、活性炭吹込み装置２２から活性炭が吹き込まれる。これにより、排ガスに含まれる酸性ガスと中和薬剤とを反応させて、反応生成物をバグフィルタ装置２３で煤塵と共に捕集して酸性ガスを低減することができるとともに、排ガスに含まれる有害物質を活性炭に吸着させて、有害物質を吸着した活性炭をバグフィルタ装置２３で煤塵と共に捕集して有害物質を低減することができる。なお、バグフィルタ装置２３は、後述するバグフィルタ装置３２と基本的に同構造のものであり、説明の都合上、後述するバグフィルタ装置３２の構造説明をもって、バグフィルタ装置２３の構造説明を行ったものとし、ここでのバグフィルタ装置２３の構造説明は省略することとする。
【００２９】
上記のようにして、バグフィルタ装置２３において浄化処理された後の排ガスは、バグフィルタ装置２３と誘引通風機１５との間のダクト２５を流れ、このダクト２５を流れる排ガスの一部は、ダクト２５から分岐する分岐ダクト２６を介して排ガス高度処理設備３へと導入され、排ガス高度処理設備３にて更に浄化処理された排ガスが、誘引通風機２７により吸引され、冷却装置２８で適温に冷却された後に、植物栽培施設４に供給される。ここで、分岐ダクト２６には、ダンパ装置２９が介設されており、ダンパ装置２９のダンパ開度は、制御装置３０からのダンパ開度信号により制御され、ダンパ開度の制御により、植物栽培施設４に供給される排ガスの供給量が制御される。
【００３０】
＜排ガス高度処理設備＞
排ガス高度処理設備３は、分岐ダクト２６に中和薬剤を吹き込む中和薬剤吹込み装置３１と、上述した排ガス処理設備１４におけるバグフィルタ装置２３とは別に独立して設けられるバグフィルタ装置３２とを備えて構成されている。
【００３１】
［中和薬剤吹込み装置］
中和薬剤吹込み装置３１としては、上述した中和薬剤吹込み装置２１と基本的に同構造のものであり、図示による詳細説明は省略するが、分岐ダクト２６へと向かう押込み気流をブロワの作動によって粉体輸送管３３内に発生させながらサイロ内に貯留されている例えば消石灰や重曹系薬剤等の中和薬剤をフィーダによって粉体輸送管３３内へと供給することにより、中和薬剤が粉体輸送管３３内の押込み気流によって運ばれて分岐ダクト２６内に吹き込むことができる構成のものを用いることができる。ここで、粉体輸送管３３には、調節弁３４が介設されており、調整弁３４の弁開度は、制御装置３０からの弁開度信号により制御され、調整弁３４の弁開度の制御により、分岐ダクト２６内に吹き込まれる中和薬剤の吹込み量が制御される。なお、中和薬剤吹込み装置３１においては、後述するバグフィルタ３６に中和薬剤を担持させる作業でろ布上に一次付着層を形成する際には、中和薬剤に代えて反応性のない無機質系の粉体をサイロ内に充填して、この無機質系の粉体を分岐ダクト２６内に吹き込む場合がある。
【００３２】
［バグフィルタ装置］
バグフィルタ装置３２は、ろ過式集塵装置であって、ケーシング３５の内部に、多数のバグフィルタ３６が組み込まれてなるものである。なお、バグフィルタ装置３２で捕集されたダスト（煤塵＋中和薬剤）は、図示されないスクリューコンベヤやロータリーバルブ等を介して順次排出されて飛灰処理設備３７へと搬送される。
【００３３】
ケーシング３５の内部は、ケージプレート４０によって上下に仕切られており、ケーシング３５の内部には、ケージプレート４０の下側にろ過処理前排ガス室４１が、ケージプレート４０の上側にろ過処理後排ガス室４２が、それぞれ区画形成されている。ろ過処理前排ガス室４１には、分岐ダクト２６が連通状態で接続され、ろ過処理後排ガス室４２には、誘引通風機２７に繋がるダクト４５が連通状態で接続されている。
【００３４】
ケージプレート４０には、バグフィルタ３６の吊り下げ用の開口部が所要個数設けられており、各開口部からは、バグフィルタ３６がろ過処理前排ガス室４１内に配されるように吊り下げ支持されている。
【００３５】
バグフィルタ３６は、一端側（下端側）が閉鎖され他端側が開放された円筒形状のフィルタであり、下端側がろ過処理前排ガス室４１内に差し込まれる一方で、上端側がろ過処理後排ガス室４２に臨ませて配設されている。バグフィルタ３６は、図示による詳細説明は省略するが、主として、有底円筒形状のろ布と、このろ布の円筒形状を維持するためにろ布の内部に組み込まれる骨材とにより構成されている。なお、ろ布の構成材としては、例えば、ガラス繊維やＰＴＦＥ繊維からなる二重織、綾織り、平織り等の織布またはフェルトなどが好適に用いられる。
【００３６】
［払落し装置］
バグフィルタ装置３２には、払落し装置５０が付設されている。払落し装置５０は、エアコンプレッサ５１と、このエアコンプレッサ５１からの圧縮空気が流通される主供給管５２と、この主供給管５２から分岐して各バグフィルタ３６のグループへと延設される分岐供給管５３と、分岐供給管５３の先端側に接続され、バグフィルタ３６におけるろ布の内表面側に向けた噴射口を有する噴射ノズル５４と、分岐供給管５３の管路を開閉する開閉弁５５とを備え、弁開信号により開閉弁５５が開かれると、エアコンプレッサ５１からの圧縮空気が主供給管５２および分岐供給管５３を介して噴射ノズル５４からバグフィルタ３６におけるろ布の内表面側へと噴射され、圧縮空気をろ布の内周側から外周側へと通過させることでろ布の外表面側に付着堆積したダスト（煤塵＋中和薬剤）を吹き飛ばすことができるようになっている。なお、ここでは、バグフィルタ３６のろ布に向けて噴射する圧縮ガスとして、圧縮空気を用いた例を示したが、ろ布の外表面側に付着堆積したダストを吹き飛ばすことができる程に圧縮されたガスであれば、ガスの種類は特に限定されるものではなく、圧縮窒素ガス等を用いてもよい。
【００３７】
［差圧検出器］
バグフィルタ装置３２におけるろ過処理前排ガス室４１とろ過処理後排ガス室４２との差圧は、差圧検出器６０によって検出される。差圧検出器６０によって検出された差圧検出信号は、制御装置３０へと送られる。制御装置３０は、差圧検出信号に基づいて、ろ過処理前排ガス室４１とろ過処理後排ガス室４２との差圧が所定値以上（例えば、２．０ｋＰａ以上）になったと判断した場合に、開閉弁５５に向けて弁開信号を送信する。これにより、開閉弁５５が開かれることになる。
【００３８】
＜植物栽培施設＞
植物栽培施設４としては、例えば、ビニールハウス、ガラスハウス、植物工場等が挙げられる。ここで、植物工場とは、建物内で肥料を溶かした水溶液を利用して野菜を育てるシステムであり、植物工場には、閉鎖された空間でＬＥＤ等の人工光を利用して野菜を作る完全閉鎖型と、ビニールハウスのように太陽光を利用して野菜を水耕栽培する太陽光型の２種類がある。
【００３９】
＜バグフィルタに中和薬剤を担持させる作業＞
以上に述べたように構成される排ガス供給システム１の初期操業を開始するにあたっては、まず、ダンパを閉じる（ダンパ開度０）ためのダンパ開度信号を制御装置３０からダンパ装置２９へと送り、ダンパ装置２９により分岐ダクト２６を閉鎖して、植物栽培施設４への排ガスの供給を停止した状態とする。次いで、中和薬剤吹込み装置３１において、反応性のない無機質系の粉体をサイロ内に充填して、調節弁３４を所定の開度で開くための弁開度信号を制御装置３０から調整弁３４へと送り、調節弁３４を所定の開度で開いて、中和薬剤吹込み装置３１のブロワの作動により、新鮮な空気とともに、反応性のない無機質系の粉体を分岐ダクト２６内に吹き込む。こうして、バグフィルタ３６における新鮮なろ布の表面に反応性のない無機質系粉体を衝突させて、後述するダスト払い落とし処理を実施しても剥離しない強固な一次付着層を形成する。この後、調節弁３４を閉じる弁開度信号を制御装置３０から調整弁３４へと送り、調節弁３４を閉じる。このようにして形成された一次付着層は、ろ布を保護するろ布保護層として機能する。
【００４０】
次いで、中和薬剤吹込み装置３１において、中和薬剤をサイロ内に充填して、調節弁３４を所定の開度で開くための弁開度信号を制御装置３０から調整弁３４へと送り、調節弁３４を所定の開度で開くとともに、中和薬剤吹込み装置３１のブロワの作動により、新鮮な空気とともに中和薬剤を分岐ダクト２６内に吹き込む。こうして、バグフィルタ３６における一次付着層の表面に中和薬剤を更に衝突させ、二次付着層を形成する。この二次付着層としてバグフィルタ３６に担持されている中和薬剤の担持量は、バグフィルタ３６を通過した排ガスに含まれる酸性ガスの濃度が、植物栽培施設４で栽培されている植物が光合成を行う時間内、ここでは一例として、植物が光合成を行う時間長さが８時間／日で１日の期間において所定値以下（例えば、ＨＣｌ：５ｐｐｍ，ＳＯｘ：５ｐｐｍ以下）となる量に設定されている。
【００４１】
ここで、植物が光合成を行う時間としては、植物栽培施設４が完全閉鎖型の植物工場の場合には、ＬＥＤ等の人工光を利用するため、電気使用料金が比較的安い夜間の例えば午後１１時から翌日午前７時までの８時間であり、植物栽培施設４が太陽光型の植物工場の場合には、太陽光を利用するため、季節によって若干変動するものの、例えば午前７時から午後３時までの８時間である。なお、完全閉鎖型の植物工場では、午後１１時から翌日午前７時までの８時間以外でも、植物の光合成が行われる場合があり、ＬＥＤ等の人工光を利用するため、植物の光合成が行われる時間帯は特に限定されるものではない。
【００４２】
＜植物栽培施設への排ガス供給動作＞
植物栽培施設４が、完全閉鎖型の植物工場の場合は午後１１時になれば、太陽光型の植物工場の場合は午前７時になれば、ダンパを所定の開度で開くためのダンパ開度信号を制御装置３０からダンパ装置２９へと送り、ダンパ装置２９により分岐ダクト２６を開いて、植物栽培施設４への排ガスの供給を開始する。すると、ダクト２５を流れる排ガスの一部が、分岐ダクト２６を介してバグフィルタ装置３２へと流れ込む。
【００４３】
ところで、排ガス処理装置１４におけるバグフィルタ装置２３にて排ガス中のダストは殆ど除去されており、ダクト２５を流れる排ガスに含まれるダストの量は、１０ｍｇ／ｍ３Ｎ未満である。ダクト２５を流れる排ガスの一部が分岐ダクト２６に流れ込むため、分岐ダクト２６を流れる排ガスに含まれるダストの量は少ないものの、バグフィルタ装置３２へと通ガスする時間が長くなるにつれて、排ガス中のダストがバグフィルタ３６の二次付着層に捕捉されて表面に堆積し、次第にダスト堆積層が形成される。また、排ガスに含まれる酸性ガスは、十分な厚さを持った未反応の二次付着層の空隙を通り抜けるため、ほぼ完全な中和反応をした後、１次付着層及びろ布を透過して高度に浄化処理された処理ガスとなり、誘引通風機２７に吸引されて、植物栽培施設４へと供給される。
【００４４】
そして、この状態で運転を継続すると、バグフィルタ３６の二次付着層上に堆積しているダスト堆積層が次第に成長して通気抵抗が増大するとともに、バグフィルタ３６の二次付着層の未反応部分は次第に減少して、処理ガス中の酸性ガス濃度が上昇してくる。このため、バグフィルタ３６を初期の性能にまで再生するための再生工程を実施する必要がある。
【００４５】
＜バグフィルタの再生工程＞
バグフィルタ３６の再生工程は、（１）植物栽培施設４で栽培されている植物が光合成を行う時間外であり、（２）バグフィルタ３６のろ布の内側と外側との差圧が所定値以上であり、（３）植物栽培施設４への排ガスの供給を停止した状態である、という３つの条件を満足したときに実施される。なお、上記の条件（２）で規定する所定値（閾値）は、バグフィルタ３６の仕様等により異なるが、０．５〜５ｋＰａ程度の範囲に設定することができる。
【００４６】
ここで、バグフィルタ３６の再生工程は、バグフィルタ３６の二次付着層上に堆積しているダスト堆積層（堆積物）を二次付着層と共にバグフィルタ３６から払落し装置５０により払い落として脱離させる脱離工程と、バグフィルタ３６に新たな中和薬剤、すなわち新たな二次付着層を付与する付与工程とを包含するものである。
【００４７】
［脱離工程］
植物栽培施設４が、完全閉鎖型の植物工場の場合は午前７時よりも後で午後１１時になる前の間において、太陽光型の植物工場の場合は午後３時よりも後で翌日午前７時になる前の間において、制御装置３０は、差圧検出器６０からの差圧検出信号に基づいて、バグフィルタ３６のろ布の内側と外側との差圧が所定値以上になったと判断した場合、ダンパを閉じる（ダンパ開度０）ためのダンパ開度信号をダンパ装置２９へと送り、ダンパ装置２９により分岐ダクト２６を閉鎖し、植物栽培施設４への排ガスの供給を停止した状態とする。次いで、制御装置３０は、開閉弁５５に向けて弁開信号を送信して、開閉弁５５を開くようにする。
【００４８】
このとき、バグフィルタ装置３２に対し例えば６０分のサイクルタイムで逆洗を行う。すなわち、複数のバグフィルタ３６で１つのグループを構成し、このグループの数がｎ個の場合、バグフィルタ３６のｎ個のグループに対応するそれぞれの開閉弁５５に対して制御装置３０から弁開信号を６０／ｎ分おきに所定の順番で送信する。こうして、バグフィルタ３６のｎ個のグループに対して６０／ｎ分おきに所定の順番で圧縮空気を供給し、逆洗を行うことで、全てのバグフィルタ３６においてろ布上の古い二次付着層及びダスト堆積層を確実に払い落とすことができる。
【００４９】
［付与工程］
上記のダスト払い落とし処理（脱離工程）の実施により、バグフィルタ３６の二次付着層上に堆積しているダスト堆積層を二次付着層と共にバグフィルタ３６から払落したら、調節弁３４を所定の開度で開くための弁開度信号を制御装置３０から調整弁３４へと送り、調節弁３４を所定の開度で開いて、中和薬剤吹込み装置のブロワの作動により、新鮮な空気とともに中和薬剤を分岐ダクト２６内に吹き込む。こうして、バグフィルタ３６における一次付着層の表面に新しい中和薬剤を衝突させ、新しい二次付着層を形成する。
【００５０】
＜本実施形態の効果＞
本実施形態の排ガス供給方法によれば、バグフィルタ３６を再生する再生工程が、植物栽培施設４で栽培されている植物が光合成を行う時間外、すなわち、完全閉鎖型の植物工場の場合は午前７時よりも後で午後１１時になる前の間において、太陽光型の植物工場の場合は午後３時よりも後で翌日午前７時になる前の間において、植物栽培施設４への排ガスの供給を停止した状態で実施されるので、植物の生育に悪影響を与えることなく、バグフィルタ３６を再生することができる。
【００５１】
また、燃焼設備２からの排ガスに含まれる酸性ガスは、バグフィルタ３６における十分な厚さを持った未反応の二次付着層の空隙を通り抜けるため、ほぼ完全な中和反応をした後、１次付着層及びろ布を透過して高度に浄化処理された処理ガスとなり、誘引通風機２７に吸引されて、植物栽培施設４へと供給されるので、植物栽培施設４へと供給される排ガス中の酸性ガス濃度を確実に低減することができる。
【００５２】
また、十分な量の未反応の中和薬剤がバグフィルタ３６に担持されることになるので、突発的な酸性ガス濃度の上昇にも対応して低濃度まで酸性ガスを低減することができる。
【００５３】
また、再生工程は、バグフィルタ３６に排ガスを通気させたときに計測される前後間の差圧が所定値以上となった場合に実施されるので、再生工程の実施回数を少なく抑えることができ、中和薬剤の使用量及び廃棄量をそれぞれ低減することができる。加えて、通気抵抗が過剰に増加するのを防ぐことができるので、圧力損失を抑えることができ、無駄な動力を削減することができる。
【００５４】
また、再生工程が、脱離工程と付与工程とを包含する構成の採用により、排ガスに含まれる酸性ガスと中和薬剤との反応により生成した堆積物（ダスト堆積層）がバグフィルタ３６から脱離された後に、新たな中和薬剤がバグフィルタ３６に付与されるので、バグフィルタ３６を初期の性能にまで確実に再生することができる。
【００５５】
また、脱離工程は、払落し装置５０を用いてバグフィルタ３６に圧縮空気を噴射することにより実施されるので、比較的コンパクトな装置構成によってバグフィルタ３６上の堆積物を確実に脱離させることができる。
【００５６】
上記の実施形態においては、バグフィルタ３６に二次付着層として担持されている中和薬剤の担持量として、バグフィルタ３６を通過した排ガスに含まれる酸性ガスの濃度が、植物栽培施設４で栽培されている植物が光合成を行う時間長さが８時間／日で１日の期間において所定値以下（例えば、ＨＣｌ：５ｐｐｍ，ＳＯｘ：５ｐｐｍ以下）となる量に設定されている例を示したが、勿論これに限定されるものではない。例えば、植物栽培施設４で栽培されている植物が光合成を行う時間長さが８時間／日で例えば７日の期間において排ガス中の酸性ガス濃度を所定値以下となるようにしたいときには、バグフィルタ３６を通過した排ガスに含まれる酸性ガスの濃度が５６時間内において所定値以下となるように設定した量の中和薬剤を二次付着層としてバグフィルタ３６に担持させておく。一般化して述べると、バグフィルタ３６に対して排ガスを計画値の酸性ガス濃度とガス量で通ガスさせる場合において、植物栽培施設４で栽培されている植物が光合成を行う時間長さがＴ時間／日でＮ日の期間において排ガス中の酸性ガス濃度を所定値以下となるようにしたいときには、バグフィルタ３６を通過した排ガスに含まれる酸性ガスの濃度がＴ×Ｎ時間内において所定値以下となるように設定した量の中和薬剤を二次付着層としてバグフィルタ３６に担持させておく。
【００５７】
上記の実施形態においては、予めバグフィルタ装置２３によってダストが除去されているため、排ガス高度処理設備３で浄化処理する前の排ガスに含まれるダストの量は１０ｍｇ／ｍ３Ｎ未満であり、バグフィルタ装置３２において差圧が所定値以上に上昇する頻度は少ないことから、払落し装置５０によるダスト払落し処理を実施する回数は少ない。そこで、排ガス供給システム１の使用条件として、ダクト２５から分岐ダクト２６を介して排ガス高度処理設備３に導入される排ガスに含まれるダストの量を１０ｍｇ／ｍ３Ｎ未満と定めることにより、ダスト払落し処理の実施を最小限に抑えることができ、バグフィルタ３６のろ布に中和薬剤を二次付着層として長期間担持させておくことができ、中和薬剤の使用量及び廃棄量をそれぞれ大幅に低減することができるという効果を奏する。なお、言うまでもないが、本発明の排ガス処理方法は、ここで述べた使用条件に限定されるものではない。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明の排ガス供給方法は、燃焼設備から排出された排ガスを処理して植物栽培施設に供給する用途において利用可能である。
【符号の説明】
【００５９】
１    排ガス供給システム
２    燃焼設備
３    排ガス高度処理設備
４    植物栽培施設
２３  バグフィルタ装置
３１  中和薬剤吹込み装置
３２  バグフィルタ装置
３６  バグフィルタ
５０  払落し装置
６０  差圧検出器
【図１】
2020000038.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月30日(2019.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
焼却炉から排出された排ガスを排ガス処理設備で処理するとともに、前記排ガス処理設備の下流側に接続されるダクトから分岐する分岐ダクトを介して前記排ガス処理設備に接続される排ガス高度処理設備で処理して植物栽培施設に供給する排ガス供給方法であって、
前記排ガスに含まれる酸性ガスを前記排ガス高度処理設備に設けられるバグフィルタに通過させて低減する低減工程と、
前記排ガス高度処理設備に設けられるバグフィルタを再生する再生工程とを包含し、
前記再生工程は、前記植物栽培施設で栽培されている植物が光合成を行う時間外において、前記分岐ダクトを閉鎖することにより、前記植物栽培施設への前記排ガスの供給を停止した状態で実施される排ガス供給方法。
【請求項２】
前記バグフィルタには、前記酸性ガスを中和する中和薬剤が担持されている請求項１に記載の排ガス供給方法。
【請求項３】
前記バグフィルタにおける前記中和薬剤の担持量は、前記バグフィルタを通過した排ガスに含まれる前記酸性ガスの濃度が、前記植物栽培施設で栽培されている植物が光合成を行う時間内において所定値以下となる量に設定されている請求項２に記載の排ガス供給方法。
【請求項４】
前記再生工程は、前記バグフィルタに前記排ガスを通気させたときに計測される前後間の差圧が所定値以上となった場合に実施される請求項１〜３の何れか一項に記載の排ガス供給方法。
【請求項５】
前記再生工程は、前記排ガスに含まれる前記酸性ガスと前記中和薬剤との反応により生成した堆積物を前記バグフィルタから脱離する脱離工程と、前記バグフィルタに新たな中和薬剤を付与する付与工程とを包含する請求項２〜４の何れか一項に記載の排ガス供給方法。
【請求項６】
前記脱離工程は、前記バグフィルタに圧縮ガスを噴射することにより実施される請求項５に記載の排ガス供給方法。