(57)【要約】【課題】特にナノメートルオーダーでの分離の信頼性と素材の選択の自由度を高め、かつ製造コストを低減する。【解決手段】フィルタ１０は、金属又は樹脂により環状に形成され、内周端から外周端に延びる溝１４が形成された基板１２，１３を有し、基板１１，１２，１３が複数積層されて結合され、互いに重なり合う基板１１，１２，１３の間の溝１４を分離流路１６としたものである。【選択図】図１
2020131186.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
環状かつ板状の基部の表面に、前記基部の内周端から外周端に延びる突条を形成することでマスタを作製する第１工程と、
前記マスタを用いて、前記突条により溝が形成される環状の基板を作製する第２工程と、
前記基板を積層して結合し、前記基板の前記溝と該基板の前記溝側に重なる他の前記基板とで分離流路を形成する第３工程と、
を有するフィルタの製造方法。
【請求項２】
金属又は樹脂により環状に形成され、内周端から外周端に延びる溝が形成された基板を有し、
前記基板が複数積層されて結合され、互いに重なり合う前記基板の間の前記溝を分離流路としたフィルタ。
【請求項３】
前記溝の幅は、前記内周端側から前記外周端側に向かって拡大している請求項２に記載のフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、体液中にある、特に、ナノメートルオーダーのエクソソームを分離するフィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
化学蒸着（ＣＶＤ）法によって基板に白金等の金属を蒸着して、高さが１０〜２０ｎｍの円柱状のストッパーを所定の間隔で基板上に形成し、該基板を積層することで、常温時の基板相互の間隔（濾過処理時の開口幅）をストッパーで規定した濾過用フィルタが開示されている（特許文献１参照）。また、この文献には、基板に対するプラズマエッチング処理により、基板上にストッパーを一体的に形成することが開示されている。更に、プラズマエッチングの条件を調節することで、ストッパーの高さを１〜１０００００ｎｍに調整するとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−２１０６１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、化学蒸着法を用いた場合、ナノメートルオーダーの高さのコントロールは難しく、上記した従来例のように、高さが１０〜２０ｎｍのストッパーを基板上に形成することは難しいと考えられる。プラズマエッチングを用いた場合でも、オーバーエッチング等が生ずることがあるため、基板上にストッパーを一体的に形成すること、及びストッパーの高さをナノメートルオーダーで調整することは難しいと考えられる。
【０００５】
また、化学蒸着法やプラズマエッチングを行うため、基板やストッパーの素材として金属やシリコンが用いられており、素材の選択に制約が伴う。
【０００６】
更に、各々の基板を化学蒸着法やプラズマエッチングにより加工する必要があるため、製造コストが嵩むおそれがある。
【０００７】
本発明は、特に、細胞内の多胞体（多胞小体）を介して放出されるナノメートルオーダーのエクソソーム（大きさ３０ｎｍ〜１００ｎｍ）を体液である流体から分離するのに適した信頼性と素材の選択の自由度を高め、かつ製造コストを低減したフィルタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
第１の態様に係るフィルタの製造方法は、環状かつ板状の基部の表面に、前記基部の内周端から外周端に延びる突条を形成することでマスタを作製する第１工程と、
前記マスタを用いて、前記突条により溝が形成される環状の基板を作製する第２工程と、前記基板を積層して結合し、前記基板の前記溝と該基板の前記溝側に重なる他の前記基板とで分離流路を形成する第３工程と、を有する。
【０００９】
このフィルタでは、ナノメートルオーダーの高さを有する突条が形成されたマスタを用いて、該突条に対応する溝を有する環状の基板を作製する。つまり、マスタにおける突条の形状を基板に転写して溝を形成する。例えば、電鋳を用いることで、ナノメートルオーダーでの突条の高さ（基板の溝の深さ）のコントロールが容易となる。このため、ナノメートルオーダーでの分離の信頼性を高めることができる。
【００１０】
また、基板の作製にマスタを用いることで、基板の材料として金属だけでなく樹脂を用いることも可能である。このため、フィルタに求められる特性に応じて素材を選択できる。
【００１１】
更に、マスタにより基板を容易に複製できるので、基板の製造コストを低減できる。
【００１２】
第２の態様に係るフィルタは、金属又は樹脂により環状に形成され、内周端から外周端に延びる溝が形成された基板を有し、前記基板が複数積層されて結合され、互いに重なり合う前記基板の間の前記溝を分離流路としている。
【００１３】
このフィルタでは、金属又は樹脂で形成された基板にナノメートルオーダーの深さの溝が形成されており、該溝により分離流路が形成されているので、ナノメートルオーダーでの分離の信頼性を高めることができる。基板の素材として、例えば電鋳金属を用いることで、ばね性等の機械的特性を要求される用途に使用できる。また、基板の素材として樹脂を用いることで、生物不活性であることが要求される用途に使用できる。
【００１４】
第３の態様は、第２の態様に係るフィルタにおいて、前記溝の幅が、前記内周端側から前記外周端側に向かって拡大している。
【００１５】
このフィルタでは、分離対象が内周側に供給され、分離流路を通過可能なエクソソーム等の粒子が内周側から外周側に向かって通過する。このとき、基板における溝の幅が内周端側から外周端側に向かって拡大しているので、溝の幅が最も狭い部位を通過したエクソソーム等の粒子は、その後円滑に外周端側へ進む。したがって、分離流路に詰まりが生じ難い。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、体液である流体から、特にナノメートルオーダーのエクソソームを分離する信頼性を高め、素材の選択の自由度を高め、かつ製造コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１実施形態に係るフィルタを示す斜視図である。
【図２】第１実施形態に係るフィルタを示す分解斜視図である。
【図３】（Ａ）は、幅が一定の溝と、該溝を通過可能な粒子を示す斜視図である。（Ｂ）は、幅が内周端側から外周端側に向かって拡大している溝を、エクソソーム等の粒子が通過する状態を示す斜視図である。（Ｃ）フィルタの内周に沿って体液である流体を流したときの、溝を通過するエクソソーム等の粒子と溝を通過しないエクソソーム等の粒子の流れを示す平面図である。
【図４】マスタの製造工程を模式的に示す断面図である。
【図５】（Ａ）は、突条を有するマスタを示す断面図である。（Ｂ）は、突条を有するマスタに電鋳金属を形成する工程を示す断面図である。（Ｃ）は、電鋳金属の余分な盛り上がりを除去する工程を示す断面図である。（Ｄ）は、マスタから取り外された基板を示す断面図である。
【図６】第２実施形態に係るフィルタを示す斜視図である。
【図７】第２実施形態に係るフィルタを示す分解斜視図である。
【図８】第２実施形態に係るフィルタの使用例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための形態として、流体（体液）中にあるエクソソームを分離するフィルタを図面に基づき説明する。
【００１９】
［第１実施形態］
図１、図２において、本実施形態に係るフィルタ１０は、基板が複数積層されて互いに結合されている。具体的には、最上部に位置する１枚の基板１１と、中央部の複数の基板１２と、最下部に位置する１枚の基板１３とが積層されて、固定手段１８により互いに結合されている。固定手段１８は、クランプ、ボルト及びナット、接着、加締め、常温接合等、基板１１〜１３を軸方向に結合できるものであればよい。
【００２０】
フィルタ１０による分離対象は、バイオ・医療分野や産業分野、食品分野で多く扱われているナノサイズの粒子であり、医療分野では特に血液中に含まれるエクソソームやcfDNA（cell free DNA）等のナノ粒子を対象としている。現在、バイオ・医療分野においてはエクソソームやcfDNA以外にも未知のナノサイズ粒子が病気のメカニズムを解明するための重要な研究対象となっており、それらを捕捉するために分離するナノサイズフィルターには大きな注目が集まっている。
【００２１】
最上部の基板１１と中央部の基板１２は、例えばそれぞれ断面四角形の環状部材である。図示の例では、基板１１は円環状に形成されている。基板１１〜１３の厚さは、例えばそれぞれミリメートルオーダー（０．０５〜１．５ｍｍ）又はマイクロメートルオーダー（５〜５０μｍ）である。基板１１〜１３は、金属又は樹脂により環状に形成されている。金属の素材としては、ニッケル、ルテニウム、イリジウム、パラジウム、白金、又はこれらの合金を用いることができる。分離対象の粒子が細胞等である場合には、生命に影響を与えない、例えば白金、金が用いられる。樹脂としては、例えば、ＭＥＭＳ技術によるシリコン樹脂又はＰＭＭＡアクリル樹脂、熱プレス成型や射出成形によるCOP（シクロオレフィンポリマー）等の生体適合性樹脂でも良い。
【００２２】
基板１１，１２は、軸方向（図面では上下方向）に貫通している。基板１３は、軸方向において基板１１と反対側（図面では最下部）に位置している。基板１３は、例えば断面四角形の環状部１３Ａ及び底部１３Ｂを一体的に有している。底部１３Ｂが存在することにより、基板１３は軸方向に貫通していない。図示の例では、環状部１３Ａは、円環状に形成されている。
【００２３】
基板１２，１３には、内周端から外周端に延びる、例えばナノメートルオーダー（大きさ３０ｎｍ〜１００ｎｍ）の深さの溝１４が形成されている。基板１２での溝１４の深さは、端面１２Ａを基準とする。基板１３での溝１４の深さは、端面１３Ｃを基準とする。溝の断面形状は、例えば矩形である。溝１４の深さは一定であってもよく、また内周側から外周側に向かって深さが漸増していてもよい。基板１２においては、溝１４は、例えば、軸方向の一方側の端面１２Ａにおける周方向の複数箇所に均等に配置されている。基板１３においては、溝１４は、例えば軸方向の一方側の端面１３Ｃにおける周方向の複数箇所に均等に配置されている。端面１３Ｃは、基板１２と接する側の端面である。底部１３Ｂは、軸方向において端面１３Ｃと反対側に位置している。
【００２４】
基板１１，１２における軸方向の他方側の端面（図面では底面）は、それぞれ平面状に形成されている。基板１１，１２，１３が重ねられることで、溝１４の上方は、該上方に重なる基板１１又は基板１２により塞がれている。これによって、図１に示されるように、基板１１と基板１２との間の溝１４、互いに重なり合う基板１２の間の溝１４、基板１２と最下部の基板１３の間の溝１４が、例えば断面矩形状の分離流路１６としてそれぞれ形成されている。分離流路１６は、フィルタ１０の内周端側から外周端側に連通している。分離流路１６以外の部分は、内周端側から外周端側に連通していない。
【００２５】
図２に示される例では、１つの基板１２，１３の周方向における溝１４の周方向の平均幅Ｗ１（平均長さ）の合計が、溝１４でない領域の周方向の平均幅Ｗ２（平均長さ）の合計よりも小さくなっている。
【００２６】
分離流路１６を通過可能な大きさは、溝１４の幅及び深さのうち小さい方により定まる。溝１４の深さが溝１４の幅より小さい場合には、分離流路１６を通過可能な大きさは溝１４の深さにより定まる。溝１４の幅が溝１４の深さより小さい場合には、分離流路１６を通過可能な大きさは溝１４の幅により定まる。溝１４の深さと幅が等しい場合には、分離流路１６を通過可能な大きさは、溝１４の幅及び深さの双方により定まる。
【００２７】
図３（Ａ）に示されるように、溝１４の周方向の幅は一定でもよく、また、図３（Ｂ）に示されるように、内周端側から外周端側に向かって拡大していてもよい。図３（Ａ）に示される構成の場合、溝１４の深さと幅が等しく、分離流路１６を通過できるエクソソーム等の粒子２２の大きさを溝１４の深さと幅の双方で制限することができるようになっている。尚、溝１４の深さが溝１４の平均幅よりも小さい構成であってもよい。この場合、分離流路１６を通過できる粒子２２の大きさは、溝１４の寸法の最も小さい部分である溝１４の深さで制限される。
【００２８】
図３（Ｂ）に示される構成の場合、溝１４の深さと最小幅が等しく、分離流路１６を通過できるエクソソーム等の粒子２２の大きさを溝１４の深さと最小幅の双方で制限することができるようになっている。
【００２９】
図３（Ｃ）に示されるように、溝１４の周方向の幅が、内周端側から外周端側に向かって拡大しつつ、溝１４の中心線ＣＬが径方向Ｒに対して所定方向に傾斜していてもよい。この例では、溝１４の中心線ＣＬが径方向Ｒに対して左側に傾斜している。
【００３０】
（作用）
本実施形態は、上記のように構成されており、以下その作用について説明する。図３（Ａ）において、本実施形態に係るフィルタ１０では、例えば基板１２にナノメートルオーダー（大きさ３０ｎｍ〜１００ｎｍ）の深さの溝１４が形成されており、該溝１４により分離流路１６が形成されている。したがって、特にナノメートルオーダーでの濾過の信頼性を高めることができる。
【００３１】
具体的には、図３（Ａ）に示されるように、ナノメートルオーダー（大きさ３０ｎｍ〜１００ｎｍ）のエクソソーム等の粒子２２，及びマイクロメートルオーダー（大きさ８μｍ程度）の末梢循環腫瘍細胞又は希少細胞、赤血球等の粒子２４を含む流体（体液）が基板１１側からフィルタ１０の内部に供給されると、分離流路１６を通過可能な大きさのエクソソーム等の粒子２２が該分離流路１６を内周側から外周側に向かって通過する。また、分離流路１６を通過できない大きさのマイクロメートルオーダー（大きさ８μｍ程度）の末梢循環腫瘍細胞又は希少細胞、赤血球等の粒子２４は、フィルタ１０の内周側に留まる。これにより、末梢循環腫瘍細胞又は希少細胞、赤血球等の粒子２４を捕捉し、エクソソーム等の粒子２２を流体（体液）から分離することができる。
【００３２】
図３（Ｂ）に示される例では、基板１２における溝１４の幅が内周端側から外周端側に向かって拡大しているので、溝１４の幅が最も狭いところを粒子２２が通過すると、その後は粒子２２が溝壁に接触し難くなる。分離流路１６に詰まりが生じ難いため、濾過効率を向上させることが可能である。
【００３３】
図３（Ｃ）に示される例では、溝１４の中心線ＣＬが基板１２の径方向Ｒに対して左側に傾斜しているので、粒子２２、２４を含む流体をフィルタ１０の内周に沿って矢印Ａ方向に流すことにより、溝１４（分離流路１６）を通過できない大きさを有する粒子２４が、溝１４（分離流路１６）に引っ掛かり難くなる。このため、目詰まりの抑制が可能となる。溝１４（分離流路１６）を通過できる大きさの粒子２２は、該溝１４（分離流路１６）を通過して行く。
【００３４】
また、基板１１〜１３は、金属又は樹脂により形成するようにすれば、素材の選択の自由度を高め、かつ製造コストを低減することができる。基板１１〜１３（図１）の素材として電鋳金属を用いることで、ばね性等の機械的特性を要求される用途に使用できる。また、基板１１〜１３の素材として樹脂を用いることで、生物不活性であることが要求される用途に使用できる。
【００３５】
（フィルタの製造方法）
本実施形態に係るフィルタの製造方法は、第１工程Ｓ１（図４）と、第２工程Ｓ２（図５）と、第３工程Ｓ３（図１）とを有している。
【００３６】
図４において、第１工程Ｓ１は、基部２６の表面に突条２８を電鋳により形成することでマスタ３２を作製する。基部２６は環状かつ板状であるが、図示の例では簡単のため板状に描かれている。突条２８は、基部２６の表面を基準として例えばナノメートルオーダー（３０ｎｍ〜１００ｎｍ）の高さを有し、基部２６の内周端から外周端に延びる形状となっている（図示せず）。
【００３７】
具体的には、導電性を有する基板３４の上にフォトレジスト３６を塗布し、図示しないマスクを用いてリソグラフィを行い、フォトレジスト３６の例えば中央部分を除去する。これにより、基板３４の一部が露出する。この露出部分に電鋳を行うことで基部２６を作製する。次に、基部２６の上にフォトレジスト３８を塗布し、図示しないマスクを用いてリソグラフィを行い、フォトレジスト３８の一部を除去する。これによって、基部２６の一部が露出する。この露出部分に電鋳を行うことで、基部２６の表面に突条２８を一体的に作製する。続いて、フォトレジスト３６，３８を除去し、更に基部２６を基板３４から剥離させることにより、マスタ３２が得られる。
【００３８】
図５において、第２工程Ｓ２では、マスタ３２を用いて、突条２８によって溝１４が形成される環状の基板１２を作製する。具体的には、マスタ３２の突条２８側に、例えば電鋳を行い、基部２６及び突条２８に沿った形状を有する基板１２を作製する。このとき、基部２６に対して突条２８が突出していることから、突条２８が存在する部分には、電鋳金属の盛上り部４０が形成される。この盛上り部４０は、研摩により除去される。そして、基板１２をマスタ３２から剥離させることにより、溝１４を有する基板１２が得られる。尚、第２工程Ｓ２により、基板１３を作製することも可能である。
【００３９】
図１において、第３工程Ｓ３では、基板１１〜１３を積層して結合し、基板１２，１３の溝１４と該基板１２，１３の溝１４側に重なる他の基板１１，１２とで分離流路１６を形成する（図１参照）。基板１１〜１３を結合するための固定手段１８は、クランプ、ボルト及びナット、接着、加締め、常温接合等である。このようにして、フィルタ１０を製造することができる。
【００４０】
このフィルタの製造方法では、電鋳により例えばナノメートルオーダーの高さを有する突条２８が形成されたマスタ３２を用いて、該突条２８に対応する溝１４を有する環状の基板１２，１３を作製する。つまり、マスタ３２における突条２８の形状を基板１２，１３に転写して溝１４を形成する。電鋳を用いることで、ナノメートルオーダーでの突条２８の高さ（基板１２，１３の溝１４の深さ）のコントロールが容易となる。このため、特にナノメートルオーダーでの濾過の信頼性を高めることができる。
【００４１】
また、基板１２，１３の作製にマスタ３２を用いることで、基板１２，１３の材料として金属だけでなく樹脂を用いることも可能である。このため、フィルタ１０に求められる特性に応じて素材を選択できる。
【００４２】
更に、マスタ３２により基板１２，１３を容易に複製できるので、基板１２，１３の製造コストを低減できる。
【００４３】
尚、溝１４を有する基板１２，１３の全体を電鋳で作製してもよいし、予め作成しておいた基部２６上に、溝１４を有する層を電鋳で積み上げて作成してもよい（方法については図示せず）。
【００４４】
［第２実施形態］
図６、図７において、本実施形態に係るフィルタ２０では、基板１１，４２Ａ〜４２Ｇ，４３の直径が、基板１１側から基板４３側に向かって次第に縮小している。具体的には、最上部に位置する１枚の基板１１と、中央部の複数の基板４２〜４２Ｇと、最下部に位置する１枚の基板４３とが積層されて互いに結合されている（固定手段は図示せず）。
【００４５】
基板１１，４２Ａ〜４２Ｇは、例えばそれぞれ断面四角形の環状部材である。図示の例では、基板１１，４２Ａ〜４２Ｇは円環状に形成されている。基板１１，４２Ａ〜４２Ｇ，４３の厚さは、例えばそれぞれミリメートルオーダー（０．０５〜１．５ｍｍ）又はマイクロメートルオーダー（５〜５０μｍ）である。
【００４６】
基板１１，４２Ａ〜４２Ｇ，４３は、例えば同軸上に重なっている。換言すれば、基板１１，４２Ａ〜４２Ｇ，４３における外径と内径は、互いに隣り合う基板同士が部分的に重なることが可能なように設定されている。基板４２Ａの外径は、基板１１の内径よりも大きく、外径よりも小さい。また、基板４２Ｂの外径は、基板４２Ａの内径よりも大きく、外径よりも小さい。基板４２Ｃ〜４２Ｇ，４３についても同様である。
【００４７】
基板１１，４２Ａ〜４２Ｇ，４３は、電鋳金属又は樹脂により環状に形成されている。電鋳金属の素材としては、ニッケル、ルテニウム、イリジウム、パラジウム、白金、又はこれらの合金を用いることができる。濾過対象の粒子が細胞等である場合には、生命に影響を与えない、例えば白金、金が用いられる。
【００４８】
基板１１，４２Ａ〜４２Ｇは、軸方向（図面では上下方向）に貫通している。基板４３は、軸方向において基板１１と反対側（図面では最下部）に位置している。図７に示されるように、基板４３は、例えば断面四角形の環状部４３Ａ及び底部４３Ｂを一体的に有している。底部４３Ｂが存在することにより、基板４３は軸方向に貫通していない。図示の例では、環状部４３Ａは、円環状に形成されている。
【００４９】
基板４２Ａ〜４２Ｇ，４３には、内周端から外周端に延びる、例えばナノメートルオーダー（３０ｎｍ〜１００ｎｍ）の深さの溝１４が形成されている。基板４２Ａでの溝１４の深さは、端面４２Ａ１を基準とする。基板４３での溝１４の深さは、端面４３Ｃを基準とする。溝の断面形状は、例えば矩形である。溝１４の深さは一定であってもよく、また内周側から外周側に向かって深さが漸増していてもよい。基板４２Ａにおいては、溝１４は、例えば、軸方向の一方側の端面４２Ａ１における周方向の複数箇所に均等に配置されている。基板４３においては、溝１４は、例えば軸方向の一方側の端面４３Ｃにおける周方向の複数箇所に均等に配置されている。端面４３Ｃは、基板４２Ｇと接する側の端面である。底部４３Ｂは、軸方向において端面４３Ｃと反対側に位置している。
【００５０】
基板４２Ａ〜４２Ｇにおける軸方向の他方側の端面（図面では底面）は、それぞれ平面状に形成されている。基板１１，４２Ａ〜４２Ｇ，４３が順に重ねられることで、溝１４の上方は、該上方に隣接する基板１１又は基板４２Ａ〜４２Ｇにより塞がれている。これによって、図６に示されるように、基板１１と基板４２Ａとの間の溝１４、互いに重なり合う基板４２Ａ〜４２Ｇの間の溝１４、及び基板４２Ｇと最下部の基板４３の間の溝１４が、例えば断面矩形状の分離流路１６としてそれぞれ形成されている。分離流路１６は、フィルタ２０の内周端側から外周端側に連通している。分離流路１６以外の部分は、内周端側から外周端側に連通していない。
【００５１】
このフィルタ２０では、第１実施形態と同様に、基板１１側からフィルタ２０の内部に
粒子２２、２４を含む流体（体液）を供給し、分離を行うことができる。分離の詳細については、第１実施形態と同様である。
【００５２】
尚、図８に示されるように、フィルタ２０の上側が小径側となるように、該フィルタ２０を倒立状態で円筒４４内に配置してもよい。この例では、基板１１の外周が円筒４４の内周に密着しており、液体（体液）が通過しないようになっている。水密性や気密性を確保するために、基板１１の外周が円筒４４の内周との間に、Ｏリング等のシール材を配置してもよい。
【００５３】
円筒４４における基板４２Ａの径方向外側には、貫通孔４４Ａが形成されている。この貫通孔４４Ａの大きさは、分離流路１６を通過できない大きさの粒子２４も通過できる大きさに設定されている。そして、貫通孔４４Ａには、図示しない戻り経路が設定される。この戻り経路の下流側は、円筒４４内におけるフィルタ２０より上方の位置に接続される。つまり、粒子２２、２４を含む流体（体液）は、戻り経路を通じて矢印Ｂ方向に循環するようになっている。
【００５４】
円筒４４内におけるフィルタ２０の上方に粒子２２、２４を含む流体（体液）が供給されると、分離流路１６を通過可能な大きさの粒子２２が該分離流路１６を外周側から内周側に向かって通過し、円筒４４内を矢印Ｃ方向へ流れて行く。また、分離流路１６を通過できない大きさの粒子２４は、フィルタ２０の外周に留まる。粒子２４は、円筒４４の貫通孔４４Ａから戻り経路により、円筒４４内におけるフィルタ２０の上方に矢印Ｂ方向に戻される。この戻りの流れには、分離流路１６に入ることができなかった粒子２２も含まれていることがある。この場合でも、循環を繰り返すことにより当該粒子２２は次第に分離流路１６を通過して行くので、分離流路１６を通過できない大きさの粒子２４がフィルタ２０の上側に残されることになる。このようにして、粒子２４を捕捉し、粒子２２を分離することができる。
【００５５】
他の部分については、第１実施形態と同様であるので、同一の部分には図面に同一の符号を付し、説明を省略する。
【００５６】
［他の実施形態］
以上、本発明の実施形態の一例について説明したが、本発明の実施形態は、上記に限定されるものでなく、上記以外にも、その主旨を逸脱しない範囲内において種々変形して実施可能であることは勿論である。
【００５７】
上記したフィルタの製造方法では、電鋳によりマスタ３２を作製して基板１２，１３を作製するものとしたが、電鋳以外にシリコンやフォトレジストで形成する方法でもよい。シリコンマスタの製作プロセスは、シリコンウエハ上にリソグラフィによってフォトレジストパターンを形成した後にシリコンをエッチングして溝を形成する方法である。また、フォトレジストマスタの製作プロセスは金属やシリコン、ガラス等の基板上にフォトリソグラフィによってフォトレジストの突条を形成する方法である。
更に、LIGA(Lithogaphie Galvanoformung Abfomung)技術を利用することによって作製してもよい（服部正、表面技術、Vol. 62, No. 12, 619-624, 2011; W. Elufeld and H. Lhe, Radiat. Phys. Chem., 45(3): 340-365, 1995）。
【００５８】
尚、基板１２，１３の全体がLIGA技術により作製されていてもよいし、溝１４の部分がLIGA技術により作製されていてもよい。後者の場合、溝１４が形成されていない基板１２，１３（図示せず）のうち、溝１４に相当する部分以外に金属を積層することで、溝１４を形成することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明のフィルタは、上述したとおり、溝の深さ（分離流路の高さ）をナノメートルオーダー（大きさ３０ｎｍ〜１００ｎｍ）に設定すればエクソソームを体液である流体から分離できるため、電鋳技術を用いてもフィルタにナノメートルオーダーの微細な孔を作製するのが困難であった問題を解消することができ、医療・バイオ分野におけるエクソソームの検体に極めて有用である。
また、ナノメートルオーダーの粒子は、エクソソーム以外に、工業分野における金属ナノ粒子（金ナノ粒子、銀ナノ粒子、ニッケルナノ粒子、酸化鉄等の磁性ナノ粒子）、有機系ナノ粒子（アクリル系、スチレン系等）、セラミックナノ粒子等があり、これらの粒子も本発明のフィルタで分離することができるため、工業分野においても極めて有用である。
【符号の説明】
【００６０】
１０    フィルタ
１１    基板
１２    基板
１３    基板
１４    溝
１６    分離流路
２０    フィルタ
２６    基部
２８    突条
３２    マスタ
４２Ａ  基板
４２Ｂ  基板
４２Ｃ  基板
４２Ｄ  基板
４２Ｅ  基板
４２Ｆ  基板
４２Ｇ  基板
４３    基板
Ｓ１    第１工程
Ｓ２    第２工程
Ｓ３    第３工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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