(57)【要約】      （修正有）【課題】無機触媒等の有機合成的な方法を用いず、高圧下で加熱処理することによって、従来よりも低温で、効率よくレスベラトロール誘導体を製造することができる方法を提供すること。【解決手段】レスベラトロールを含む溶液を１ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下の高圧下で加熱処理してレスベラトロール誘導体を生成させることを特徴とする、レスベラトロール誘導体の製造方法。前記加熱処理の温度としては５０℃以上１００℃未満が挙げられる。前記加熱処理の時間としては１時間以上２０時間以下が挙げられる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
レスベラトロールを含む溶液を１ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下の高圧下で加熱処理してレスベラトロール誘導体を生成させることを特徴とする、レスベラトロール誘導体の製造方法。
【請求項２】
加熱処理の温度が５０℃以上１００℃未満である、請求項１に記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。  
【請求項３】
加熱処理の時間が１時間以上２０時間以下である、請求項１又は２に記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。
【請求項４】
前記レスベラトロール誘導体が式（１）：
【化１】
2020094007.tif 000020
、式（２）：
【化２】
2020094007.tif 000021
、又は式（３）：
【化３】
2020094007.tif 000022
で示されるものである、請求項１〜３のいずれかに記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。
【請求項５】
前記溶液にさらにカフェ酸を加えることで式（４）：
【化４】
2020094007.tif 000023
で示されるレスベラトロール誘導体を製造することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。
【請求項６】
前記溶液にさらにフェルラ酸を加えることで式（５）：
【化５】
2020094007.tif 000024
、又は式（６）：
【化６】
2020094007.tif 000025
で示されるレスベラトロール誘導体を製造することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。
【請求項７】
前記溶液にさらにシナピン酸を加えることで式（７）：
【化７】
2020094007.tif 000026
で示されるレスベラトロール誘導体を製造することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。
【請求項８】
前記溶液にさらにプレノールを加えることで式（８）：
【化８】
2020094007.tif 000027
で示されるレスベラトロール誘導体を製造することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高圧を利用したレスベラトロール誘導体の新規な製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
レスベラトロール（３，４’，５−ｔｒｉｈｙｄｒｏｘｙ−ｔｒａｎｓ−ｓｔｉｌｂｅｎｅ）は、植物がカビや細菌などから身を守るために生成するフィトキシアレンと呼ばれる植物性抗菌物質の一種であり、ブドウやピーナッツの果皮中に多く含まれており、また、フランス人は肉やバターのような高脂肪食摂取にもかかわらず、虚血性心疾患による死亡率が比較的低いという、いわゆる「フレンチパラドクス」を説明する赤ワイン中のポリフェノールとしても知られている。
【０００３】
レスベラトロールについては、当初はその強い抗酸化作用から，血中の低比重リポたんぱく質（ＬＤＬ）の酸化変性をおさえることで、酸化ＬＤＬを取り込んだマクロファージの泡沫化、血管壁への沈着抑制を通して、虚血性心疾患の原因となる動脈硬化を防ぐことで注目され、その後の研究で、エストロゲン様作用、抗炎症作用、抗腫瘍作用など、様々な生理作用があることが報告されている。最近では、酵母において、ＮＡＤ＋依存性蛋白質脱アセチル化酵素をコードするｓｉｒ２遺伝子を活性化することで、ＤＮＡの安定性を増大させ、細胞寿命を７０％延長させる効果があることが報告され注目されている。
【０００４】
このように、レスベラトロールには様々な生理活性があることから、本物質をリード化合物として様々な化学修飾を施し、より高い活性を有するレスベラトロール誘導体を生み出す研究が盛んに行われている。例えば、ＳＩＲＴ１遺伝子（ｓｉｒ２遺伝子のヒトホモログ）の活性化作用がレスベラトロールに比べて約１０００倍高いレスベラトロール誘導体（非特許文献１）や、同様にラジカル消去活性がレスベラトロールに比べて約６２倍増強されたレスベラトロール誘導体が報告されている（非特許文献２）。このように、新しく合成されたレスベラトロールの誘導体には、思いがけない生理活性が見出される場合も多く、注目が集まっている。
【０００５】
前記のような特定の化学修飾を施した化合物を得る手法として、一般に、様々な無機触媒を用いて、化学合成的手法が採用されているが、化学合成は有機溶媒下高温条件下で行われ、目的化合物まで合成するのに多数のステップを必要としていて、環境に対する負荷が大きいなど問題点も多いとされている。
【０００６】
そこで、本件出願人も、これまでにレスベラトロールから様々な生理活性を有する新規のレスベラトロール誘導体を数多く得ることに成功している（特許文献１〜７）。しかし、これらのレスベラトロール誘導体を製造する際には、生成反応を１２０℃や１３０℃の高温で行っているが、目的化合物以外の様々な副成物も生じやすい傾向があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第５５２１７８８号公報
【特許文献２】特許第６１５２７３５号公報
【特許文献３】特許第６３７９８０７号公報
【特許文献４】特許第５６７３０９１号公報
【特許文献５】特許第５７２８９７２号公報
【特許文献６】特許第５７２９１３４号公報
【特許文献７】特開２０１４−２８７７１号公報
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】Ｍｉｌｎｅ  ＪＣ  ｅｔ  ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ，４５０（７１７０）：７１２−７１６（２００７）．
【非特許文献２】Ｆｕｋｕｈａｒａ  Ｋ  ｅｔ  ａｌ．，Ｃｈｅｍ  Ｒｅｓ  Ｔｏｘｉｃｏｌ，２１（２）：２８２−２８７（２００８）.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、無機触媒等の有機合成的な方法を用いず、高圧下で加熱処理することによって、従来よりも低温で、効率よくレスベラトロール誘導体を製造することができる方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らが鋭意研究した結果、意外にも高圧下で加熱処理を行うことにより、従来よりも低温環境下でありながら、目的のレスベラトロール誘導体を効率的に製造することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１１】
すなわち、本発明は、以下のとおりである。
［１］レスベラトロールを含む溶液を１ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下の高圧下で加熱処理してレスベラトロール誘導体を生成させることを特徴とする、レスベラトロール誘導体の製造方法。
［２］加熱処理の温度が５０℃以上１００℃未満である、前記［１］に記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。
［３］加熱処理の時間が１時間以上２０時間以下である、前記［１］又は［２］に記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。
［４］前記レスベラトロール誘導体が式（１）：
【００１２】
【化１】
2020094007.tif 000002
【００１３】
、式（２）：
【００１４】
【化２】
2020094007.tif 000003
【００１５】
、又は式（３）：
【００１６】
【化３】
2020094007.tif 000004
【００１７】
で示されるものである、前記［１］〜［３］のいずれかに記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。
［５］前記溶液にさらにカフェ酸を加えることで式（４）：
【００１８】
【化４】
2020094007.tif 000005
【００１９】
で示されるレスベラトロール誘導体を製造することを特徴とする、前記［１］〜［３］のいずれかに記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。
［６］前記溶液にさらにフェルラ酸を加えることで式（５）：
【００２０】
【化５】
2020094007.tif 000006
【００２１】
、又は式（６）：
【００２２】
【化６】
2020094007.tif 000007
【００２３】
で示されるレスベラトロール誘導体を製造することを特徴とする、前記［１］〜［３］のいずれかに記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。
［７］前記溶液にさらにシナピン酸を加えることで式（７）：
【００２４】
【化７】
2020094007.tif 000008
【００２５】
で示されるレスベラトロール誘導体を製造することを特徴とする、前記［１］〜［３］のいずれかに記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。
［８］前記溶液にさらにプレノールを加えることで式（８）：
【００２６】
【化８】
2020094007.tif 000009
【００２７】
で示されるレスベラトロール誘導体を製造することを特徴とする、前記［１］〜［３］のいずれかに記載のレスベラトロール誘導体の製造方法。
【発明の効果】
【００２８】
本発明のレスベラトロール誘導体の製造方法は、高圧下で加熱処理することにより従来よりも、より低温においてレスベラトロール誘導体を効率よく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】図１は、実施例１及び比較例１の製造方法で製造したレスベラトロール誘導体の生成量を示した図である。
【図２】図２は、実施例２及び比較例２の製造方法で製造したレスベラトロール誘導体の生成量を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明の具体的な実施形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。なお、説明が重複する箇所については、適宜説明を省略する場合があるが、本発明を限定するものではない。
【００３１】
＜高圧加熱処理によるレスベラトロール誘導体の製造方法＞
本発明の方法は、レスベラトロールを含む溶液を１ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下の高圧下で加熱処理してレスベラトロール誘導体を生成させることを特徴とする。
【００３２】
本発明の製造方法において、必須の原料として、レスベラトロールを用いる。
レスベラトロールにはトランス体とシス体の構造異性体が存在するが、加熱や紫外線によってトランス体とシス体の変換が一部生じる。したがって、本発明では、レスベラトロールとしては、トランス体でもシス体でも、あるいはトランス体とシス体の混合物であってもよい。また、レスベラトロールは、ブドウ果皮・茎・葉、ピーナッツの渋皮、メリンジョ、イタドリ、リンゴンベリー等の原料から抽出・精製した天然由来のものであっても、化学合成された純度の高い化成品であってもよい。天然由来のレスベラトロールを用いる場合は、完全に精製されたものである必要はなく、レスベラトロール以外の成分を含む混合物も使用できる。また、レスベラトロールには、塩等も含まれる。ただし、レスベラトロール誘導体の回収率の観点からは、レスベラトロール換算で５重量％以上含有された混合物が原料として望ましい。具体的には、例えば、ブドウ果皮・茎・葉、ピーナッツの渋皮、メリンジョ、イタドリ、リンゴンベリー等の原料からの抽出物、凍結乾燥品等を使用してもよい。
【００３３】
本発明の製造方法では、レスベラトロールを適切な溶媒に溶解又は懸濁させる。前記溶媒としては、水、有機溶媒、水と有機溶媒との混合液が使用できる。水と有機溶媒の配合比や、有機溶媒の種類に特に制限はなく、原料化合物が十分に溶解すれば良い。中でも、エタノールやメタノールのみの溶媒や、水とエタノール、水とメタノールの混合液を使用することが、コスト面から好ましい。また、レスベラトロール誘導体を含む反応液に対して最終的な精製を十分に適用せずに食品に使用する場合には、安全性や法規面から、溶媒として水、エタノールや含水エタノールを使用することが好ましい。
【００３４】
本発明の製造方法では、レスベラトロールを含む溶液を高圧下で加熱処理する。この高圧下で加熱処理することにより、従来よりも低温で目的のレスベラトロール誘導体の生成反応が効率的に進行する。本発明において、「高圧」とは、１ＭＰａ以上の圧力がかかる環境をいう。
高圧処理は、当該技術分野において公知の様々な加圧装置を用いて行うことができる。前記加圧装置としては、１〜６００ＭＰａ程度まで加圧することができるものであればよく、装置の材質、構成などについて特に限定はない。
本発明の製造方法における高圧処理条件としては、１ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下、好ましくは１０ＭＰａ以上３００ＭＰａ以下、より好ましくは５０ＭＰａ以上１５０ＭＰａ以下である。実際の高圧処理においては、原料含有溶液の液面に加圧面が接触していればよい。
なお、前記特許文献１〜７でも、オートクレーブを用い、１２０℃〜１３０℃の温度下、で目的のレスベラトロール誘導体を生成させているが、加圧条件としては約０．１ＭＰａ程度であり、高圧下ではない。
【００３５】
また、本発明の方法では、レスベラトロール誘導体の生成反応を効率的に進行させるために、高圧をかけるとともに、レスベラトロールを含有する溶液の加熱温度を調節することが好ましい。加熱温度としては、５０℃以上１００℃未満、好ましくは７０℃以上１００℃未満、より好ましくは８０℃以上１００℃未満である。また、回収効率面から、溶液温度が均一に所定の温度になるように加熱することが、さらに好ましい。
【００３６】
また、本発明の方法では、レスベラトロール誘導体の生成反応を効率的に進行させるために、前記圧力及び温度とともに、処理時間を調節することが好ましい。処理時間も圧力及び温度と同様に限られたものではなく、目的のレスベラトロール誘導体を生成させる反応が効率的に進行する時間条件とすればよい。詳細には、前記処理時間は、圧力及び温度との兼ね合いにより決まるものであり、圧力及び温度に応じた処理時間にすることが望ましい。例えば、１００ＭＰａの高圧下、９０℃付近で加熱処理する場合は、１時間以上２０時間以下の処理時間が望ましい。
但し、加熱温度が高くなると、目的のレスベラトロール誘導体以外の不純物（副生成物）も生成しやすいため、目的のレスベラトロール誘導体の生成収量が確保できる範囲内で、生成反応時の温度はできる限り低温に調整することが好ましい。
【００３７】
前記高圧下での加熱処理によるレスベラトロール誘導体の生成反応の終了は、例えば、ＨＰＬＣによる成分分析によりレスベラトロール誘導体の生成量を確認して判断することができる。
【００３８】
以上のような本発明の方法により製造することができるレスベラトロール誘導体としては、レスベラトロールの重合化合物である、式（１）：
【００３９】
【化９】
2020094007.tif 000010
で示される化合物、式（２）：
【００４０】
【化１０】
2020094007.tif 000011
【００４１】
、式（３）：
【００４２】
【化１１】
2020094007.tif 000012
で示される化合物等が挙げられる。
【００４３】
また、前記のようにして得られるレスベラトロール誘導液を含む反応液は、前記式（１）、式（２）及び式（３）で示されるレスベラトロール誘導体の混合組成物となっているが、前記式（１）で示されるレスベラトロール誘導体、式（２）で示されるレスベラトロール誘導体及び式（３）で示されるレスベラトロール誘導体をそれぞれ分離する場合、公知の方法で実施可能である。例えば、クロロホルム、酢酸エチル、エタノール、メタノール等を用いた溶媒抽出法や炭酸ガスによる超臨界抽出法等で抽出してレスベラトロール誘導体を濃縮することができる。また、カラムクロマトグラフィーを利用して分離することも可能である。必要に応じて、再結晶法や限外ろ過膜等の膜処理法も適用可能である。
【００４４】
また、本発明の方法では、前記レスベラトロールに、他の原料を加えることで、前記とは別のレスベラトロール誘導体を製造することができる。
前記他の原料としては、カフェ酸、フェルラ酸、シナピン酸及びプレノールが挙げられる。
【００４５】
例えば、レスベラトロールとカフェ酸とを高圧下で加熱処理することで、式（４）：
【００４６】
【化１２】
2020094007.tif 000013
【００４７】
で示される化合物を製造することができる。
なお、高圧下で加熱処理する方法及び条件は、前記と同様であればよい。
【００４８】
原料として用いることができるカフェ酸は、天然由来のものであっても、化学合成された純度の高い化成品であっても良い。天然由来のカフェ酸を用いる場合は、完全に精製されたものである必要はなく、所望の生成反応が進み、最終的に前記式（４）で示されるレスベラトロール誘導体の製造に使用できるものであれば特に限定されず、カフェ酸以外の成分を含む混合物もカフェ酸含有原料として使用することができる。ただし、前記式（４）で示されるレスベラトロール誘導体の回収量の観点からは、カフェ酸をできるだけ多く含有しているものが原料として望ましい。このような原料としては、様々な果実やジュース、濃縮果汁、又は、破棄されることの多い果皮の抽出物、あるいは微生物発酵によるカフェ酸含有培養液や酵素反応後のカフェ酸含有溶液等が挙げられる。
【００４９】
また、前記溶媒にレスベラトロール及びカフェ酸を混合して得られるレスベラトロール、カフェ酸、又はレスベラトロールとカフェ酸との混合物を含有する溶液中のレスベラトロール及びカフェ酸の濃度について制限はない。それぞれの濃度が高いほど、溶媒使用量が少ない等のメリットもあるため、レスベラトロール及びカフェ酸の濃度は各々の溶媒に対しレスベラトロール及びカフェ酸がそれぞれ飽和する濃度又はそれ以上にすることが好ましい。
【００５０】
また、本発明の方法では、前記レスベラトロールと、フェルラ酸とを高圧下で加熱処理することで、式（５）：
【００５１】
【化１３】
2020094007.tif 000014
【００５２】
又は式（６）：
【００５３】
【化１４】
2020094007.tif 000015
【００５４】
で示される化合物を製造することができる。
なお、高圧下で加熱処理する方法及び条件は、前記と同様であればよい。
【００５５】
原料として用いることができるフェルラ酸は、天然由来のものであっても、化学合成された純度の高い化成品であってもよい。天然由来のフェルラ酸を用いる場合は、完全に精製されたものである必要はなく、所望の生成反応が進み、最終的に前記式（５）及び／又は前記式（６）で示されるレスベラトロール誘導体の製造に使用できるものであれば特に限定されず、フェルラ酸以外の成分を含む混合物もフェルラ酸含有原料として使用することができる。このような原料としては、食品添加物のフェルラ酸の他、米糠抽出物、小麦ふすま抽出物等が挙げられる。
【００５６】
また、前記溶媒にレスベラトロール及びフェルラ酸を混合して得られるレスベラトロール、フェルラ酸、又はレスベラトロールとフェルラ酸との混合物を含有する溶液中のレスベラトロール及びフェルラ酸の濃度について制限はない。それぞれの濃度が高いほど、溶媒使用量が少ない等のメリットもあるため、レスベラトロール及びフェルラ酸の濃度は各々の溶媒に対しレスベラトロール及びフェルラ酸がそれぞれ飽和する濃度又はそれ以上にすることが好ましい。
【００５７】
また、前記のようにして得られるレスベラトロール誘導液を含む反応液は、前記式（５）で示されるレスベラトロール誘導体及び式（６）で示されるレスベラトロール誘導体の混合組成物となっているが、前記式（５）で示されるレスベラトロール誘導体と式（６）で示されるレスベラトロール誘導体とを分離する場合、公知の方法で実施可能である。例えば、クロロホルム、酢酸エチル、エタノール、メタノール等を用いた溶媒抽出法や炭酸ガスによる超臨界抽出法等で抽出してレスベラトロール誘導体を濃縮することができる。また、カラムクロマトグラフィーを利用して分離することも可能である。必要に応じて、再結晶法や限外ろ過膜等の膜処理法も適用可能である。
【００５８】
また、本発明の方法では、前記レスベラトロールと、シナピン酸とを、高圧下で加熱処理することで、式（７）：
【００５９】
【化１５】
2020094007.tif 000016
【００６０】
で示される化合物を製造することができる。
なお、高圧下で加熱処理する方法及び条件は、前記と同様であればよい。
【００６１】
原料として用いることができるシナピン酸は、天然由来のものであっても、化学合成された純度の高い化成品であってもよい。天然由来のシナピン酸を用いる場合は、完全に精製されたものである必要はなく、所望の生成反応が進み、最終的に前記式（７）で示されるレスベラトロール誘導体の製造に使用できるものであれば特に限定されず、シナピン酸以外の成分を含む混合物もシナピン酸含有原料として使用することができる。このような原料としては、カラシやワサビ等の抽出物やそれらの酵素処理物等が挙げられる。
【００６２】
また、前記溶媒にレスベラトロール及びシナピン酸を混合して得られるレスベラトロール、シナピン酸、又はレスベラトロールとフェルラ酸との混合物を含有する溶液中のレスベラトロール及びフェルラ酸の濃度について制限はない。それぞれの濃度が高いほど、溶媒使用量が少ない等のメリットもあるため、レスベラトロール及びシナピン酸の濃度は各々の溶媒に対しレスベラトロール及びシナピン酸がそれぞれ飽和する濃度又はそれ以上にすることが好ましい。
【００６３】
また、本発明の方法では、前記レスベラトロールと、プレノールとを、高圧下で加熱処理することで、式（８）：
【００６４】
【化１６】
2020094007.tif 000017
【００６５】
で示される化合物を製造することができる。
なお、高圧下で加熱処理する方法及び条件は、前記と同様であればよい。
【００６６】
原料として用いることができるプレノールは、天然由来のものであっても、化学合成された純度の高い化成品であってもよい。天然由来のプレノールを用いる場合は、完全に精製されたものである必要はなく、所望の生成反応が進み、最終的に前記式（８）で示されるレスベラトロール誘導体の製造に使用できるものであれが特に限定されず、プレノール以外の成分を含む混合物もプレノール含有原料として使用することができる。ただし、前記式（８）で示されるレスベラトロール誘導体の回収量の観点からは、プレノールができるだけ多く含有されているものが原料として望ましい。このような原料としては、柑橘類、クランベリー、コケモモ、スグリ、ブドウ、ラズベリー、ブラックベリー、トマト、精白パン、ホップ油、コーヒー、キイチゴ、クラウドベリー、パッションフルーツ等が挙げられる。
【００６７】
また、前記溶媒にレスベラトロール及びシナピン酸を混合して得られるレスベラトロール、シナピン酸、又はレスベラトロールとフェルラ酸との混合物を含有する溶液中のレスベラトロール及びフェルラ酸の濃度について制限はない。それぞれの濃度が高いほど、溶媒使用量が少ない等のメリットもあるため、レスベラトロール及びシナピン酸の濃度は各々の溶媒に対しレスベラトロール及びシナピン酸がそれぞれ飽和する濃度又はそれ以上にすることが好ましい。
【００６８】
以上のようにして得られる反応液中には、前記のようなレスベラトロール誘導体が含有されている。また、安全な原料のみを用いた工程でレスベラトロール誘導体を製造した場合には、レスベラトロール誘導体を含む混合物の状態で食品、医薬品又は医薬部外品に使用することが可能である。例えば、天然由来のレスベラトロールを含水エタノール溶媒に溶解し、ミネラルウォーター等を用い、上記の高圧加熱処理を行った場合には、得られる反応液を食品原料の一つとして使用することが可能である。
【００６９】
また、風味面での改良やさらなる高機能化を望む場合は、前記反応液を濃縮してレスベラトロール誘導体の濃度を高める、あるいは前記反応液を精製しレスベラトロール誘導体の純品を得ることができる。濃縮、精製は、公知の方法で実施可能である。例えば、クロロホルム、酢酸エチル、エタノール、メタノール等の溶媒抽出法や炭酸ガスによる超臨界抽出法等で抽出してレスベラトロール誘導体を濃縮することができる。また、カラムクロマトグラフィーを利用して濃縮や精製を施すことも可能である。再結晶法や限外ろ過膜等の膜処理法も適用可能である。
【００７０】
また、前記反応液からレスベラトロール誘導体を分離して回収する場合には、カラムクロマトグラフィー、ＨＰＬＣ等を用いてもよい。また、前記濃縮物や精製物を、必要に応じて、減圧乾燥や凍結乾燥して溶媒除去することで、粉末状のレスベラトロール誘導体を得ることができる。さらに、得られたレスベラトロール誘導体は、必要に応じて、当該分野で公知の方法により、レスベラトロール誘導体の塩としてもよい。
【００７１】
以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【００７２】
〔実施例１〕高圧加熱処理によるレスベラトロール誘導体の製造（組成Ａ）
カフェ酸（富士フィルム和光純薬株式会社製）、レスベラトロール（テクノサイエンス株式会社製）、エタノール、及び０．５Ｍホウ酸水溶液を表１の組成（組成Ａ）で調製し、三方シール袋に入れて脱気包装した。この試料を、５０℃又は９０℃に予熱した加圧装置に投入し、１００ＭＰａまで加圧後、この条件で表１の各時間処理することにより前記式（４）で示されるレスベラトロール誘導体の製造を試みた。加圧装置は、株式会社東洋高圧製の高圧処理装置「まるごとエキス（登録商標）」を使用した。
【００７３】
〔比較例１〕低圧下でのレスベラトロール誘導体の製造（組成Ａ）
カフェ酸（富士フィルム和光純薬株式会社製）、レスベラトロール（テクノサイエンス株式会社製）、エタノール、及び０．５Ｍホウ酸水溶液を表１の組成（組成Ａ）で調製し、三方シール袋に入れて脱気包装した。この試料を、５０℃又は９０℃に予熱した加圧装置に投入し、０．１ＭＰａまで加圧後、この条件で表１の各時間処理することにより前記式（４）で示されるレスベラトロール誘導体の製造を試みた。加圧装置は、株式会社東洋高圧製の高圧処理装置「まるごとエキス（登録商標）」を使用した。
【００７４】
【表１】
2020094007.tif 000018
【００７５】
〔実施例２〕高圧加熱処理によるレスベラトロール誘導体の製造（組成Ｂ）
カフェ酸（富士フィルム和光純薬株式会社製）、レスベラトロール（テクノサイエンス株式会社製）、エタノール、及び０．５Ｍホウ酸水溶液を表２の組成（組成Ｂ）で調製し、三方シール袋に入れて脱気包装した。この試料を、５０℃又は９０℃に予熱した加圧装置に投入し、１００ＭＰａまで加圧後、この条件で表２の各時間処理することにより前記式（４）で示されるレスベラトロール誘導体の製造を試みた。加圧装置は、株式会社東洋高圧製の高圧処理装置「まるごとエキス（登録商標）」を使用した。
【００７６】
〔比較例２〕低圧下でのレスベラトロール誘導体の製造（組成Ｂ）
カフェ酸（富士フィルム和光純薬株式会社製）、レスベラトロール（テクノサイエンス株式会社製）、エタノール、及び０．５Ｍホウ酸水溶液を表２の組成（組成Ｂ）で調製し、三方シール袋に入れて脱気包装した。この試料を、５０℃又は９０℃に予熱した加圧装置に投入し、０．１ＭＰａまで加圧後、この条件で表２の各時間処理することにより前記式（４）で示されるレスベラトロール誘導体の製造を試みた。加圧装置は、株式会社東洋高圧製の高圧処理装置「まるごとエキス（登録商標）」を使用した。
【００７７】
【表２】
2020094007.tif 000019
【００７８】
〔実施例３〕レスベラトロール誘導体の定量
上記の各条件下で製造した前記式（４）で示されるレスベラトロール誘導体（ＵＨＡ６０５２という）の生成量をＬＣ−ＭＳにより定量した。すなわち、まずＵＨＡ６０５２標準品（ＵＨＡ６０５２標準品は、前記特許文献３（特許第６３７９８０７号公報）に記載の方法により調製したレスベラトロール誘導体を用いた）をメタノールで希釈し、２、１０、５０ｎｇ／ｍＬに調製した。調製した標準品をＬＣ−ＭＳ(ＭＲＭモード) のよって分析した。得られたプロダクトイオン（ｍ／ｚ  ３４５．１２）のピークエリアから検量線を作成した。次に、上記の実施例及び比確例において調製した各試料を適宜希釈後、同様にＬＣ−ＭＳで分析し、得られたプロダクトイオンのピークエリアから、標準品の検量線を用いて定量した。ここで用いたＬＣ−ＭＳの分析条件は以下の通りである。
【００７９】
〈ＬＣ−ＭＳ分析条件〉
カラム：ＣＡＰＣＥＬ  ＰＡＫ  Ｃ１８  ＵＧ８０（５μｍ，２．０ｍｍφ×１５０ｍｍ）
溶媒  ：Ａ）水（０．１％ギ酸），Ｂ）アセトニトリル（０．１％ギ酸）
グラジエント：Ｂ）２５％（０分），２５％（５分），１００％（６分），１００％（１４分） 
流速  ：２００μＬ／分
分析計：ＡＢ  Ｓｃｉｅｘ  ３２００Ｑ  ＴＲＡＰ
スキャンモード：ＭＲＭ（Ｎｅｇａｔｉｖｅ）
プレカーサーイオン（ｍ／ｚ）：３６１．１４
プロダクトイオン（ｍ／ｚ）：３４５．１２
【００８０】
結果を図１及び図２に示した。図１は前記組成Ａにおける結果、図２は前記組成Ｂにおける結果である。図１に示したように、組成Ａにおいては、５０℃の温度下、０．１ＭＰａ、１８時間の加圧処理では、ＵＨＡ６０５２を検出することはできなかった（比（１））。一方、５０℃の温度下、１００ＭＰａ、１８時間の加圧処理では、２０２．７ｎｇ／ｍＬのＵＨＡ６０５２が生成されることが確認された（実（１））。さらに、９０℃の温度下、０．１ＭＰａ、１時間及び５時間の加圧処理では、ＵＨＡ６０５２の生成量は、それぞれ１０１．３ｎｇ／ｍＬ（比（２））及び１７３．４ｎｇ／ｍＬ（比（３））の生成量であった。一方、９０℃の温度下、１００ＭＰａ、１時間及び５時間の加圧処理では、ＵＨＡ６０５２の生成量は、８４０．０ｎｇ／ｍＬ（実（２））及び９３９５．６ｎｇ／ｍＬ（実（３））と、０．１ｍＰａの場合と比べて、それぞれ８．３倍、５４．２倍と格段に生成量が増大していることが確認された。
【００８１】
図２に示したように、組成Ｂにおいては、５０℃の温度下、０．１ＭＰａ、１８時間の加圧処理では、ＵＨＡ６０５２の生成量は１０４．０ｎｇ／ｍＬ（比（４））であったのに対し、５０℃の温度下、１００ＭＰａ、１８時間の加圧処理では、３７９．１ｎｇ／ｍＬのＵＨＡ６０５２が生成されることが確認された（実（４））。さらに、９０℃の温度下、０．１ＭＰａ、１時間及び５時間の加圧処理では、ＵＨＡ６０５２の生成量は、それぞれ１０５．６ｎｇ／ｍＬ（比（５））及び１１５７．２ｎｇ／ｍＬ（比（６））の生成量であった。一方、９０℃の温度下、１００ＭＰａ、１時間及び５時間の加圧処理では、ＵＨＡ６０５２の生成量は、１２６４７．９ｎｇ／ｍＬ（実（５））及び１１４０９４．７ｎｇ／ｍＬ（実（６））と、０．１ｍＰａの場合と比べて、それぞれ１１９．８倍、９８．６倍と格段に生成量が増大していることが確認された。
【００８２】
以上の結果から、レスベラトロール及びカフェ酸を含む溶液に９０℃という比較的低い温度下、高い圧力をかけることにより、式（４）で示されるレスベラトロール誘導体を効率的に製造することが可能であることが判明した。
【００８３】
なお、以上のように、本発明において、高圧下で加熱処理することで目的のレスベラトロール誘導体が著量生成するのは、高圧下においては、全体の体積が減少する方向に力がかかっているため、体積が減少する化学反応がより起こり易くなるためと考えられる。また、本発明の製造方法においては、従来よりも、副生成物が生じ難いという特徴があるが、その一因としては、レスベラトロール中に存在するフェノール性水酸基など反応性の高い官能基を介した種々の重合反応が、より低温での反応のために起こりにくくなっていることが考えられる。
【図１】
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【図２】
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