(57)【要約】【課題】ウェブの振動を低減することができるシール装置を提供すること。【解決手段】本発明に係るシール装置は、第１空間と前記第１空間よりも圧力が低い第２空間とを隔離しつつウェブＷを連続搬送可能とするシール装置Ｓであって、前記第１空間と前記第２空間との間を区分する隔壁部１と、前記隔壁部１に近接して設けられ、前記ウェブＷを案内する少なくとも１つのガイドローラ２，３と、を備え、前記第１空間及び前記第２空間を接続し、前記ウェブが通過する搬送路４と、少なくとも前記搬送路４の近傍で前記第１空間に開口し、低圧源に接続され、前記第１空間内の気体を外部に排出する排気流路５と、を有する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１空間と前記第１空間よりも圧力が低い第２空間とを隔離しつつウェブを連続搬送可能とするシール装置であって、
前記第１空間と前記第２空間との間を区分する隔壁部と、
前記隔壁部に近接して設けられ、前記ウェブを案内する少なくとも１つのガイドローラと、
を備え、
前記第１空間及び前記第２空間を接続し、前記ウェブが通過する搬送路と、
少なくとも前記搬送路の近傍で前記第１空間に開口し、低圧源に接続され、前記第１空間内の気体を外部に排出する排気流路と、
を有するシール装置。
【請求項２】
前記排気流路は、前記ガイドローラの外周面のうち前記ウェブが当接しない角度領域に対向又は隣接する位置で前記第１空間に開口する請求項１に記載のシール装置。
【請求項３】
前記排気流路は、前記第１空間及び前記第２空間を接続する連通部と、前記連通部を前記低圧源に接続する接続部とを有する請求項１又は請求項２に記載のシール装置。
【請求項４】
前記排気流路は、異なる前記低圧源に接続される複数の前記連通部を有する請求項３に記載のシール装置。
【請求項５】
前記ガイドローラは、前記隔壁部に形成される開口内に配置され、前記第１空間及び前記第２空間にそれぞれ部分的に露出し、
前記ガイドローラと前記開口の内縁との間に形成される２つの空間の一方が前記搬送路とされ、他方が前記排気流路の前記連通部とされ、
前記排気流路の前記ガイドローラの周方向の長さが前記搬送路の前記ガイドローラの周方向の長さよりも大きい請求項３又は４に記載のシール装置。
【請求項６】
前記隔壁部は、前記開口の内壁面のうち、前記ガイドローラの周面に対向する面及び前記ガイドローラの端面に対向する面に連続して形成される排気溝を有する、請求項５に記載のシール装置。
【請求項７】
前記隔壁部と前記ガイドローラの周面との隙間を封止するシャッタ部をさらに備え、
前記シャッタ部は、前記ガイドローラの周面に対向するとともに定常運転時における前記ガイドローラの撓みに合わせて前記ガイドローラの側に凸状又は凹状に湾曲している先端縁を有するシール部材を含む、請求項５又は６に記載のシール装置。
【請求項８】
前記ガイドローラが前記ウェブを加熱するために発熱可能である請求項１から７のいずれかに記載のシール装置。
【請求項９】
前記搬送路の前記ウェブの厚み方向の平均長さは、０．１ｍｍ以上１．０ｍｍ以下である請求項１から８のいずれかに記載のシール装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載のシール装置と、前記第２空間を画定する低圧室とを備える真空装置。
【請求項１１】
前記第１空間の圧力が大気圧である請求項１０に記載の真空装置。
【請求項１２】
真空引きされる成膜室と、
前記成膜室の前記ウェブの搬送方向前後にそれぞれ直列して設けられる複数の緩衝室と、
隣接し合う前記成膜室間並びに前記成膜室及び前記緩衝室間の少なくともいずれかに、前記緩衝室を前記第１空間を画定する高圧室とし、前記成膜室又は前記成膜室側に隣接する前記緩衝室を前記第２空間を画定する低圧室として設けられる請求項１から９のいずれかに記載のシール装置と、
を備える成膜装置。
【請求項１３】
前記成膜室の上流側の前記緩衝室と下流側の前記緩衝室とが一体であり、前記ウェブが折り返して搬送される請求項１２に記載の成膜装置。
【請求項１４】
請求項１０又は１１に記載の真空装置を用いて前記ウェブに加工する工程を備えるフィルム製造方法。
【請求項１５】
前記搬送路を通過する際の前記ウェブの平均厚みが２０μｍ以上１００μｍ以下である請求項１４に記載のフィルム製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シール装置、真空装置、成膜装置、及びフィルム製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば蒸着フィルムの製造等では、ウェブを大気圧と異なる圧力の空間に配置して加工を行う工程が必要とされる。このような加工工程は、ウェブを巻き取ったリールを加工チャンバの内部に搬入し、ウェブを巻き戻しながら所定の加工を行い、加工したウェブを巻き取ったリールを加工チャンバから搬出するバッチ処理により行われていた。リールの搬入及び搬出時にも加工チャンバ内の圧力を一定に保持してバッチ処理を効率的に行うために、加工チャンバに隣接する前室（ロードロック）を設け、この前室の圧力を外部の圧力と加工チャンバの圧力との間で増減する装置が知られている。
【０００３】
しかしながら、前室を設けたとしてもバッチ処理では生産性を十分に向上できないため、ウェブを連続的に加圧又は減圧された空間内に供給し、加工されたウェブを加圧又は減圧された空間から連続的に排出する連続処理が求められている。
【０００４】
ウェブの連続処理を行う場合、圧力が異なる２つの空間を区分する隔壁にウェブが通過する開口（スリット）が必要となるが、この開口を通して高圧側の空間内の雰囲気ガスが低圧側の空間内に流入する。各空間の圧力を効率よく要求される圧力で保持するために、ウェブが通過する開口部に雰囲気ガスの移動を抑制するシール装置を配設する技術が知られている。
【０００５】
薄い樹脂フィルム等、ウェブの種類によっては、ウェブに接触するシール部材を有するシール装置は使用することができないため、高圧側空間内の雰囲気ガスが低圧側の空間に流入する流路を完全に閉鎖することが困難である。また、薄い樹脂フィルム等は、大きな張力を付与できないので、隔壁の近傍にガイドローラを配置して、隔壁の開口を通過する際に振動して開口の内壁に接触することを防止することが望まれる。しかしながら、隔壁の近傍に配置されたガイドローラは隔壁の開口に流れ込むガスがウェブに衝突するような流路を形成し、ガスの衝突によってウェブを振動させ得る。
【０００６】
特許文献１には、ウェブ（ストリップ）が通過する扁平な内部空間（インナークリアランス）を形成する内筒（シール筒）と、この内筒を取り囲む外筒（アウターシールバー）とを備え、内筒及び外筒の高圧空間側の先端部をガイドローラに沿う形状としたシール装置が提案されている。特許文献１のシール装置は、ガイドローラに沿って内筒内に流入しようとする空気を内筒と外筒との間の空間を通して低圧側の空間に逃がすことで、ウェブに衝突する空気量を低減してウェブの振動を抑制することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平４−１４７９７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年、ウェブの中でも特に光学用フィルムの傷に対する要求が厳しくなってきている。具体的には、従来は欠陥とはみなされなかった微細な傷が許容されないことが増えてきている。また、近年、より圧力差が大きい空間の間でウェブを搬送することが求められている。隣接する空間の差圧が大きくなると、雰囲気ガスの移動量が増大するため、ウェブの振動が大きくなりやすい。ウェブの振動は、ウェブの搬送ローラ等に対する滑りを生じさせることにより、ウェブに周期的な傷を発生させる。ウェブの張力を大きくすればウェブの振動を抑制できるが、熱収縮率等を不安定にする原因となり得るため、薄い光学用フィルム等の製造ではウェブに大きな張力を付与することができない。
【０００９】
そこで、本発明は、ウェブの振動を低減することができるシール装置、真空装置、成膜装置、及びフィルム製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明にかかるシール装置は、第１空間と前記第１空間よりも圧力が低い第２空間とを隔離しつつウェブを連続搬送可能とするシール装置であって、前記第１空間と前記第２空間との間を区分する隔壁部と、前記隔壁部に近接して設けられ、前記ウェブを案内する少なくとも１つのガイドローラと、を備え、前記第１空間及び前記第２空間を接続し、前記ウェブが通過する搬送路と、少なくとも前記搬送路の近傍で前記第１空間に開口し、低圧源に接続され、前記第１空間内の気体を外部に排出する排気流路と、を有する。
【００１１】
本発明にかかるシール装置において、前記排気流路は、前記ガイドローラの外周面のうち前記ウェブが当接しない角度領域に対向又は隣接する位置で前記第１空間に開口してもよい。
【００１２】
本発明にかかるシール装置において、前記排気流路は、前記第１空間及び前記第２空間を接続する連通部と、前記連通部を前記低圧源に接続する接続部とを有してもよい。
【００１３】
本発明にかかるシール装置において、前記排気流路は、異なる前記低圧源に接続される複数の前記連通部を有してもよい。
【００１４】
本発明にかかるシール装置において、前記ガイドローラは、前記隔壁部に形成される開口内に配置され、前記第１空間及び前記第２空間にそれぞれ部分的に露出し、前記ガイドローラと前記開口の内縁との間に形成される２つの空間の一方が前記搬送路とされ、他方が前記排気流路の前記連通部とされ、前記排気流路の前記ガイドローラの周方向の長さが前記搬送路の前記ガイドローラの周方向の長さよりも大きくてもよい。
【００１５】
前記隔壁部は、前記開口の内壁面のうち、前記ガイドローラの周面に対向する面及び前記ガイドローラの端面に対向する面に連続して形成される排気溝を有してもよい。
【００１６】
前記隔壁部と前記ガイドローラの周面との隙間を封止するシャッタ部をさらに備え、前記ガイドローラの周面に対向するとともに定常運転時における前記ガイドローラの撓みに合わせて前記ガイドローラの側に凸状又は凹状に湾曲している先端縁を有するシール部材を含んでもよい。
【００１７】
本発明にかかるシール装置において、前記ガイドローラが前記ウェブを加熱するために発熱可能であってもよい。
【００１８】
本発明にかかるシール装置において、前記搬送路の前記ウェブの厚み方向の平均長さは、０．１ｍｍ以上１．０ｍｍ以下であってもよい。
【００１９】
本発明にかかる真空装置は、上記したシール装置と、前記第２空間を画定する低圧室とを備える。
【００２０】
本発明にかかる真空装置において、前記第１空間の圧力が大気圧であってもよい。
【００２１】
本発明にかかる成膜装置は、真空引きされる成膜室と、前記成膜室の前記ウェブの搬送方向前後にそれぞれ直列して設けられる複数の緩衝室と、隣接し合う前記成膜室間並びに前記成膜室及び前記緩衝室間の少なくともいずれかに、前記緩衝室を前記第１空間を画定する高圧室とし、前記成膜室又は前記成膜室側に隣接する前記緩衝室を前記第２空間を画定する低圧室として設けられる上記したシール装置と、を備える。
【００２２】
本発明にかかる成膜装置において、前記成膜室の上流側の前記緩衝室と下流側の前記緩衝室とが一体であり、前記ウェブが折り返して搬送されてもよい。
【００２３】
本発明にかかるフィルム製造方法は、上記した成膜装置を用いて前記ウェブに加工する工程を備える。
【００２４】
本発明にかかるフィルム製造方法において、前記搬送路を通過する際の前記ウェブの平均厚みが２０μｍ以上１００μｍ以下であってもよい。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、ウェブの振動を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の一実施形態にかかる成膜装置を示す断面図である。
【図２】図１の成膜装置のシール装置を詳細に示す断面図である。
【図３】本発明の図１とは異なる実施形態にかかる成膜装置を示す断面図である。
【図４】図３の成膜装置のシール装置を詳細に示す断面図である。
【図５】本発明の図２及び図４とは異なる実施形態にかかるシール装置を示す断面図である。
【図６】本発明の図２、図４及び図５とは異なる実施形態にかかるシール装置を示す断面図である。
【図７】本発明の図２、図４乃至図６とは異なる実施形態にかかるシール装置を示す断面図である。
【図８】本発明の図２、図４乃至図７とは異なる実施形態にかかるシール装置を示す断面図である。
【図９】本発明の図２、図４乃至図８とは異なる実施形態にかかるシール装置を示す断面図である。
【図１０】本発明の図２、図４乃至図９とは異なる実施形態にかかるシール装置を示す断面図である。
【図１１】図１０のシール装置のガイドローラ回転軸に沿う断面図である。
【図１２】本発明の図２、図４乃至図１０とは異なる実施形態にかかるシール装置を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施形態の各例について説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。また、便宜上、ハッチング及び部材符号等を省略する場合もあるが、かかる場合、他の図面を参照するものとする。
【００２８】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の一実施形態にかかる成膜装置Ｆを示す断面図である。成膜装置Ｆは、ウェブＷの表面に被膜を積層する装置である。成膜装置Ｆは、第１緩衝室Ｒ１、第２緩衝室Ｒ２、第３緩衝室Ｒ３、成膜室Ｒｆ、第４緩衝室Ｒ４、第５緩衝室Ｒ５及び第６緩衝室Ｒ６がこの順番にウェブＷが連続して通過するよう直列して設けられている。つまり、成膜装置Ｆは、成膜室ＲｆのウェブＷの搬送方向前後に複数の緩衝室（Ｒ１〜Ｒ３及びＲ４〜Ｒ５）がそれぞれ直列して設けられている。
【００２９】
第１緩衝室Ｒ１と第２緩衝室Ｒ２とは第１隔壁Ｐ１により区分されている。第１隔壁Ｐ１には開口が形成され、この開口に第１緩衝室Ｒ１内の空間と第２緩衝室Ｒ２内の空間とを隔離しつつウェブＷを連続搬送可能とする第１のシール装置Ｓが配設されている。同様に、第２緩衝室Ｒ２と第３緩衝室Ｒ３とは第２隔壁Ｐ２により区分され、第２隔壁Ｐ２に第２のシール装置Ｓが配設されている。第３緩衝室Ｒ３と成膜室Ｒｆとは第３隔壁Ｐ３により区分され、第３隔壁Ｐ３に第３のシール装置Ｓが配設されている。成膜室Ｒｆと第４緩衝室Ｒ４とは第４隔壁Ｐ４により区分され、第４隔壁Ｐ４に第４のシール装置Ｓが配設されている。第４緩衝室Ｒ４と第５緩衝室Ｒ５とは第５隔壁Ｐ５により区分され、第５隔壁Ｐ５に第４のシール装置Ｓが配設されている。第５緩衝室Ｒ５と第６緩衝室Ｒ６とは第６隔壁Ｐ６により区分され、第６隔壁Ｐ６に第６のシール装置Ｓが配設されている。
【００３０】
成膜装置Ｆの６つのシール装置Ｓは、それぞれが本発明に係るシール装置の一実施形態である。また、成膜装置Ｆのうち、シール装置Ｓのいずれかと、このシール装置Ｓのいずれかによって隔離される空間を形成する緩衝室Ｒ１〜Ｒ６及び成膜室Ｒｆのうちの２つとを含む部分は、本発明に係る真空装置の一実施形態と解される。なお、「真空」とは、いわゆる高真空に限られず、低真空を含み、大気圧よりも圧力が低い状態を広く包含する概念である。
【００３１】
ウェブＷとしては、特に限定されないが、典型的には樹脂フィルムが考えられる。樹脂フィルムの具体的な材質としては、例えばポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリオレフィン、トリアセチルセルロース等を挙げることができる。また、樹脂フィルムは、保護膜を両面に有するもの、片面に有するもの、保護膜がないもの等、どのようなフィルムであってもよい。
【００３２】
第１緩衝室Ｒ１及び第６緩衝室Ｒ６は、大気開放されており、内部空間の圧力が大気圧となっている。第２緩衝室Ｒ２、第３緩衝室Ｒ３、成膜室Ｒｆ、第４緩衝室Ｒ４及び第５緩衝室Ｒ５には、例えば真空ポンプ、イジェクタ等の排気装置によって構成される低圧源Ｖ１〜Ｖ５がそれぞれ接続され、内部空間がそれぞれ設定される圧力に保持される。第２緩衝室Ｒ２の内部空間は第１緩衝室Ｒ１の内部空間よりも圧力が低く、第３緩衝室Ｒ３の内部空間は第２緩衝室Ｒ２の内部空間よりも圧力が低く、成膜室Ｒｆの内部空間は第３緩衝室Ｒ３の内部空間よりも圧力が低い。第５緩衝室Ｒ５の内部空間は第６緩衝室Ｒ１の内部空間よりも圧力が低く、第４緩衝室Ｒ４の内部空間は第５緩衝室Ｒ５の内部空間よりも圧力が低く、成膜室Ｒｆの内部空間は第３緩衝室Ｒ３の内部空間よりも圧力が低い。つまり、成膜装置Ｆは、真空引きされる成膜室Ｒｆの上流側に配置される複数の緩衝室Ｒ１〜Ｒ３によって段階的に圧力を下げ、真空引きされる成膜室Ｒｆの下流側に配置される複数の緩衝室Ｒ４〜Ｒ６によって段階的に圧力を上げることで、成膜室Ｒｆの内部空間の圧力を、大気圧との差が単一のシール装置Ｓの能力を超えるような所望の真空とすることができる。低圧源Ｖ１として用いられる真空ポンプとしては、例えばダイヤフラム式ポンプ、ロータリーポンプ、ドライポンプ、クライオポンプ、メカニカルブースターポンプ、ターボ分子ポンプ、イオンポンプ、ゲッターポンプ等が挙げられ、これらを複数組み合わせた装置を用いてもよい。
【００３３】
成膜装置Ｆは、シール装置Ｓに個別に接続され、緩衝室Ｒ１〜Ｒ６及び成膜室Ｒｆから独立して設けられる低圧源Ｖ１１〜Ｖ１６を備える。低圧源Ｖ１１〜Ｖ１６は、低圧源Ｖ１〜Ｖ５と同様の排気装置によって構成することができる。
【００３４】
成膜室Ｒｆの内部には、ウェブＷの表面に膜を形成する機構が設けられる。図示する例では、成膜室Ｒｆの内部には、ウェブＷが巻き付けられるドラムＤと、このドラムＤに巻き付けられているウェブＷの表面に他の材料を供給して積層するスパッタリングデバイスＥとが配設されている。
【００３５】
＜シール装置＞
以下、成膜装置Ｆのシール装置Ｓについて、詳しく示す図２を参照しながら説明する。なお、以下では、第１緩衝室Ｒ１と第２緩衝室Ｒ２との間に配置されるシール装置Ｓを例に説明するが、他のシール装置についても同様である。また、シール装置Ｓの両側の空間（隣接する緩衝室Ｒ１〜Ｒ６及び成膜室Ｒｆが画定する内部空間）のうち、圧力が高い方を第１空間（それを画定する緩衝室Ｒ１〜Ｒ６を高圧室）、圧力が低い方を第２空間（それを画定する成膜室Ｒｆ又は成膜室Ｒｆ側の緩衝室Ｒ２〜Ｒ５を低圧室）と呼ぶ。このため、成膜室Ｒのウェブ搬送方向上流側に配置されるシール装置Ｓに関しては、上流側の空間が第１空間であり、下流側の空間が第２空間であるのに対し、成膜室Ｒの下流側に配置されるシール装置Ｓに関しては、下流側の空間が第１空間であり、上流側の空間が第２空間である。このため、成膜室Ｒｆの下流側に配置されるシール装置Ｓは、図２のシール装置Ｓとは、鏡写しに形成される（ウェブＷの搬送方向が逆方向と考えてもよい）。最も上流側のシール装置Ｓ及び最も下流側のシール装置Ｓにおいて、第１空間の圧力は大気圧である。
【００３６】
シール装置Ｓは、隔壁Ｐ１と一体となって第１空間と第２空間とを隔離する隔壁部１と、隔壁部１に近接して設けられ、ウェブＷを案内する２つのガイドローラ（第１空間側の第１ガイドローラ２及び第２空間側の第２ガイドローラ３）とを備える。このシール装置Ｓは、第１空間及び第２空間を接続し、ウェブＷが通過するよう形成された搬送路４と、搬送路４の近傍で第１空間に開口し、低圧源Ｖ１１に接続され、第１空間内の気体を外部に排出する形成された排気流路５とを有する。
【００３７】
ガイドローラ２，３は、隔壁部１に接触しないよう隔壁部１との間に小さい隙間を形成すると共に、両者の１つの接線（ガイドローラ２，３間に掛け渡されるウェブＷの搬送経路）が搬送路４内に位置するよう配置される。ウェブＷは、ガイドローラ２，３の周面の一部の角度範囲内に当接して折り曲げられ、一対のガイドローラ２，３の接線上を搬送されて搬送路４を通過するよう案内される。このため、ウェブＷは、搬送路４から見て第１ガイドローラ２の中心軸側に傾斜する方向からシール装置Ｓに進入し、搬送路４から見て第２ガイドローラ３の中心軸側に傾斜する方向にシール装置Ｓから退出する。
【００３８】
ガイドローラ２，３の少なくとも一方は、ウェブＷを加熱するために発熱可能であってもよい。具体的には、ガイドローラ２，３は、内部にヒータを有してもよく、表面近傍に抵抗発熱体パターンが形成されていてもよく、隣接して配置される励磁コイルにより印加される高周波磁界により発熱する金属層を有していてもよい。このように、ガイドローラ２，３によりウェブＷを加熱するよう構成することで、成膜室Ｒｆ内の装置の数を少なくすることができる。これにより、成膜室Ｒｆを小さくすることができるので、低圧源Ｖ３の負荷を低減してエネルギー効率を向上することや、成膜装置Ｆの設備コストを低減することができる。
【００３９】
搬送路４及び排気流路５は、隔壁部１に形成され、ガイドローラ２，３の軸と平行な方向に長い断面形状を有するスリット状の穴である。搬送路４は、隔壁部１を垂直に貫通し、第１空間と第２空間とを最短距離で接続するよう形成されることが好ましい。排気流路５は、隔壁部１を貫通して第１空間及び第２空間を接続する連通部６と、連通部６を低圧源に接続する接続部７とを有する。連通部６は、搬送路４と平行に、隔壁部１を垂直に貫通するよう形成されることが好ましい。接続部７は、一端が連通部６に接続され、他端に低圧源Ｖ１１が接続される。
【００４０】
ウェブＷが厚み５０μｍ以下の光学フィルムである場合、搬送路４のウェブＷの厚み方向の平均長さ（ウェブＷに対向する内壁面間の平均距離）の下限としては、０．１ｍｍが好ましい。一方、搬送路４のウェブＷの厚み方向の平均長さの上限としては、１．０ｍｍが好ましく、０．５ｍｍがより好ましく、０．３ｍｍがさらに好ましい。搬送路４のウェブＷの厚み方向の平均長さが上記下限に満たない場合、設計技術的に難易度が高いため、搬送路４の形成コストやガイドローラ２，３の支持構造のコストなどが不必要に増大するおそれや、ウェブＷが搬送路４の内壁に接触して損傷しやすくなるおそれがある。逆に、搬送路４のウェブＷの厚み方向の平均長さが上記上限を超える場合、シール装置Ｓが保持できる第１空間と第２空間との差圧が小さくなるおそれがある。
【００４１】
排気流路５の連通部６は、第１ガイドローラ２の外周面のうちウェブＷが当接しない角度領域に対向する位置で第１空間に開口し、第２ガイドローラ３の外周面のうちウェブＷが当接しない角度領域に対向する位置で第２空間に開口することが好ましい。つまり、連通部６は、好ましくはその流路中心の延長線がガイドローラ２，３と交差するよう形成される。連通部６が、第１ガイドローラ２に対向するよう開口することで、第１ガイドローラ２に沿って搬送路４に流れ込もうとする雰囲気ガスの一部を効率よく排気流路５から吸引して外部に排気することができる。これにより、隔壁部１と第１ガイドローラ２との隙間を通ってウェブＷに衝突してから搬送路４に流れ込む雰囲気ガスの量を低減し、その結果としてウェブＷの振動を抑制することができる。
【００４２】
搬送路４に流れ込もうとする雰囲気ガスを効率よく排気流路５に吸引できるよう、連通部６の開口方向は、連通部６の流路中心の延長線と交差する第１ガイドローラ２の外周上の点における径方向又はそれより第１ガイドローラ２の回転方向下流側に傾斜した方向とすること、つまり搬送路４に流れ込もうとする雰囲気ガスの流れ方向と排気流路５に吸い込まれる方向との角度変化を小さくすることがより好ましい。
【００４３】
排気流路５の接続部７に接続される第１低圧源Ｖ１１の圧力としては、第１空間の圧力より低く、第２空間の圧力より高い圧力とすることができる。つまり、第１低圧源Ｖ１１としては、第２空間の圧力を保持する第２低圧源Ｖ２よりも能力の低い真空ポンプ等を用いることができる。
【００４４】
排気流路５の接続部７から外部に排気されるガスの流量としては、搬送路４及び排気流路５の連通部６を通して第１空間から第２空間に流入するガスの流量の５％以上２０％以下、例えば１０％程度とすることができる。シール装置Ｓは、このように比較的少量のガスを排気流路５から外部に排出するだけで、ウェブＷの振動を大幅に抑制することができる。
【００４５】
従って、シール装置Ｓは、第１空間と第２空間との差圧が同じであれば、排気流路５を有しない従来のシール装置よりもウェブＷの振動を小さくすることができ、ウェブＷの振動を同程度に抑制する場合には、第１空間と第２空間との差圧を従来のシール装置よりも大きくすることができる。このため、成膜装置Ｆは、緩衝室Ｒ１〜Ｒ６の段数を少なくしても成膜室Ｒｆの内部空間の圧力を従来の成膜装置と同等にすることができる。例として、緩衝室Ｒ１〜Ｒ６の段数を従来の半分程度にすることができる。また、緩衝室Ｒ１〜Ｒ６の段数が同じであれば従来の成膜装置に比して成膜室Ｒｆの内部空間の圧力をより小さくすることができる。
【００４６】
以上のように、本実施形態のシール装置Ｓは、搬送路４の近傍で第１空間に開口し、低圧源Ｖ１１に接続される排気流路５を備えるシール装置Ｓは、搬送路４に流れ込もうとする雰囲気ガス（本実施形態では空気が想定される）の一部を排気流路５に吸引して外部に排出することによって、第１空間から第１ガイドローラ２に沿って搬送路４に流入する雰囲気ガスの量を低減することができる。これにより、シール装置Ｓは、ウェブＷに衝突する雰囲気ガスのエネルギーを低減し、ウェブＷの振動を抑制することができる。また、排気流路５は、第２空間（第２空間に接続される低圧源Ｖ１）から独立した低圧源Ｖ１１から独立した低圧源Ｖ１に接続されるので、排気流路５を介して外部に排出する雰囲気ガスの量を最適化してウェブＷの振動を効率よく抑制することができる。
【００４７】
シール装置Ｓを備える成膜装置Ｆは、シール装置ＳによってウェブＷの振動を抑制し、少ない数の緩衝室Ｒ１〜Ｒ６で成膜室Ｒｆの圧力を低くすることができ、ウェブＷの傷つきを抑制しながら効率よく成膜することができるので、高品質な積層フィルムを比較的安価に製造することができる。例えば、ウェブＷが２０μｍ級の薄物のフィルムや表面硬度が低い樹脂製フィルム等である場合、ウェブＷの張力を大きくすることができないにもかかわらず、ウェブＷのガイドローラ２，３や他の搬送ローラに対する滑りを抑制することが重要となる。この場合、成膜装置Ｆを用いることで、ウェブＷの張力を小さくしてもウェブＷの振動が抑制され、振動に起因するウェブＷのガイドローラ２，３に対する滑りを抑制することができる。
【００４８】
＜フィルム製造方法＞
本発明に係るフィルム製造方法の一実施形態は、図１の成膜装置Ｆ（本発明に係る真空装置の一実施形態）を用いてウェブＷの表面に異なる材料を積層する加工を施す工程を備える。成膜装置Ｆの第１緩衝室Ｒ１には、ウェブＷを巻き取ったリール（不図示）からウェブＷを連続的に供給することができる。また、第６緩衝室Ｒ６から連続して排出される加工済みのウェブＷ（製造されたフィルム）は、別のリール（不図示）に巻き取って回収することができる。
【００４９】
このフィルム製造方法によれば、シール装置ＳによってウェブＷの振動を抑制することができるので、高品質なフィルムを効率よく製造することができる。
【００５０】
このため、搬送路４を通過する際の平均厚みが２０μｍ以上１００μｍ以下であり、大きな張力を付与できないウェブＷを用いる場合には、ウェブＷの振動を抑制する効果が顕著となる。
【００５１】
中でも、光学フィルムの品質基準は、年々厳しくなっており、例えば長さ１０μｍ幅５０μｍ程度の微小な傷であっても設備に由来して周期的に発生する場合には許容されなくなってきている。本発明に係るフィルム製造方法は、このような品質基準を満足させるために特に有用であり、加工前のウェブが保護膜を有していない場合にはその効果がより顕著となる。
【００５２】
また、成膜装置Ｆを用いてフィルムを製造することによって、成膜装置Ｆの上流側及び下流側において、つまり大気圧下において、オーブン乾燥工程、塗布工程、外観検査工程、スリット（フィルム分割）工程を行うことができる。つまり、成膜装置Ｆ内では、真空下で行う必要がある工程のみを行うようにすることができるので、全工程を真空下で行うことができるような大規模な製造設備を設けることなく、比較的安価に連続してフィルムを製造することができる。
【００５３】
〔第２実施形態〕
図３に示す成膜装置Ｆａは、図１の成膜装置Ｆと同様に、ウェブＷの表面に被膜を積層する装置である。本実施形態の成膜装置Ｆａは、第１緩衝室Ｒ１ａ、第２緩衝室Ｒ２ａ、第３緩衝室Ｒ３ａ、成膜室Ｒｆａ、第４緩衝室Ｒ４ａ、第５緩衝室Ｒ５ａ及び第６緩衝室Ｒ６ａがこの順番にウェブＷが連続して通過するよう直列して設けられている。成膜装置Ｆａにおいて、成膜室Ｒｆａより上流側の緩衝室Ｒ１ａ〜Ｒ３ａと下流側の緩衝室Ｒ４ａ〜Ｒ６ａとは一体である。より詳しくは、第１緩衝室Ｒ１ａと第６緩衝室Ｒ６ａ、第２緩衝室Ｒ２ａと第５緩衝室Ｒ５ａ、第３緩衝室Ｒ３ａと第４緩衝室Ｒ４は、それぞれ一体に形成されている。このため、成膜装置Ｆでは、ウェブＷが成膜室Ｒｆａにおいて折り返して搬送される。
【００５４】
緩衝室Ｒ１〜Ｒ６及び成膜室Ｒｆの間は、それぞれ隔壁Ｐ１ａ〜Ｐ６ａにより区分されている。第１隔壁Ｐ１ａと第６隔壁Ｐ６ａ、第２隔壁Ｐ２ａと第５隔壁Ｐ５ａ、第３隔壁Ｐ３ａと第４隔壁Ｐ４ａはそれぞれ一体である。これらの隔壁Ｐ１ａ〜Ｐ６ａには、それぞれシール装置Ｓａが設けられている。
【００５５】
シール装置Ｓａは、本発明に係るシール装置の別の実施形態であり、成膜装置Ｆａにおいてシール装置Ｓａのいずれかとその両側の緩衝室Ｒ１ａ〜Ｒ６ａ又は成膜室Ｒｆａを含む部分は本発明に係る真空装置の別の実施形態と解される。
【００５６】
第１緩衝室Ｒ１ａ及び第６緩衝室Ｒ６ａを構成する部屋は大気開放されている。成膜室Ｒｆａには独立した低圧源Ｖ３が接続されている。第２緩衝室Ｒ２ａ及び第５緩衝室Ｒ５ａを構成する部屋には低圧源Ｖ６が接続され、第３緩衝室Ｒ３ａ及び第４緩衝室Ｒ４ａを構成する部屋には低圧源Ｖ７が接続されている。
【００５７】
成膜装置Ｆａは、成膜室Ｒｆａの上流側の緩衝室Ｒ１ａ〜Ｒ３ａと下流側の緩衝室Ｒ６ａ〜Ｒ４ａとを一体にしたため、必要とされる低圧源Ｖ３，Ｖ６，Ｖ７の数が少ない。つまり、第２緩衝室Ｒ２ａ及び第５緩衝室Ｒ５、並びに第３緩衝室Ｒ３ａ及び第４緩衝室Ｒ４ａは、それぞれ１つの低圧源Ｖ６，Ｖ７を共有する。また、成膜装置Ｆａは成膜室ＲｆａにおいてウェブＷを折り返して搬送するため、装置全体の専有面積が比較的小さい。
【００５８】
＜シール装置＞
図４に詳しく示すように、成膜装置Ｆａのシール装置Ｓａは、隔壁Ｐ１と一体となって第１空間と第２空間とを隔離する隔壁部１ａと、２つのガイドローラ（第１空間側の第１ガイドローラ２及び第２空間側の第２ガイドローラ３）とを備える。このシール装置Ｓａは、第１空間及び第２空間を接続し、ウェブが通過するよう形成された搬送路４と、搬送路４の近傍で第１空間に開口し、低圧源Ｖ１１に接続され、第１空間内の気体を外部に排出するよう形成された排気流路５ａとを有する。
【００５９】
図４のシール装置Ｓａでは、隔壁部１ａに形成される排気流路５ａが、図２のシール装置Ｓの隔壁部１に形成される排気流路５とは異なる。一方、図４のシール装置Ｓａにおけるガイドローラ２，３及び搬送路４の構成は、図２のシール装置Ｓにおけるガイドローラ２，３及び搬送路４の構成と同様である。
【００６０】
排気流路５ａは、ガイドローラ２，３の軸に垂直な断面において、端部が第１ガイドローラ２に向かって開口するＬ字状に形成されており、第１空間には開口するが第２空間には開口しない。つまり、図４のシール装置Ｓａにおける排気流路５ａは、図２のシール装置Ｓにおける排気流路５の連通部６の接続部７よりも第２空間側の部分を省略した形状とされている。
【００６１】
このような排気流路５ａを有するシール装置Ｓａは、排気流路５ａが第２空間に連通していないので、第１空間から第２空間に流入する雰囲気ガスの量を低減してウェブＷの振動を抑制することが比較的容易である。しかしながら、シール装置Ｓａでは、第１ガイドローラ２に沿って搬送路４に流れ込もうとする雰囲気ガスを排気流路５に吸引するために第２空間の圧力を利用できず、低圧源Ｖ１１のみに依存するため、低圧源Ｖ１１としてより安定した装置を用いることが望まれる。
【００６２】
〔第３実施形態〕
図５に示す本発明のまた別の実施形態に係るシール装置Ｓｂは、隔壁Ｐ１と一体となって第１空間と第２空間とを隔離する隔壁部１ｂと、２つのガイドローラ（第１空間側の第１ガイドローラ２及び第２空間側の第２ガイドローラ３）とを備える。このシール装置Ｓｂは、第１空間及び第２空間を接続し、ウェブＷが通過するよう形成された搬送路４と、搬送路４の近傍で第１空間に開口し第１空間内の気体を外部に排出するよう形成された排気流路５ａとを有する。
【００６３】
図５のシール装置Ｓｂにおけるガイドローラ２，３、搬送路４及び排気流路５ａの構成は、図４のシール装置Ｓにおけるガイドローラ２，３、搬送路４及び排気流路５ａの構成と同様である。図５のシール装置Ｓｂは、隔壁部１ｂが、排気流路５ａの第１空間側の開口部に隣接する位置に、隔壁部１ｂと第１ガイドローラ２との隙間を小さくする突起部８を有する。
【００６４】
このように、シール装置Ｓｂは、突起部８を有することにより、第１ガイドローラ２に沿って搬送路４に流れ込もうとする雰囲気ガスのより多くの部分を排気流路５ａに吸引することができる。このため、シール装置Ｓｂは、第１空間と第２空間との差圧を比較的大きくすることができる。
【００６５】
〔第４実施形態〕
図６に示す本発明のまた別の実施形態に係るシール装置Ｓｃは、第１空間と第２空間とを隔離する隔壁部１ｃと、２つのガイドローラ（第１空間側の第１ガイドローラ２及び第２空間側の第２ガイドローラ３）とを備える。このシール装置Ｓｃは、第１空間及び第２空間を接続し、ウェブＷが通過するよう形成された搬送路４と、搬送路４の近傍で第１空間に開口し、第１空間内の気体を外部に排出するよう形成された排気流路５ｃとを有する。
【００６６】
図６のシール装置Ｓｃでは、隔壁部１ｃに形成される排気流路５ｃが、図２のシール装置Ｓの隔壁部１に形成される排気流路５とは異なる。一方、図６のシール装置Ｓｃにおけるガイドローラ２，３及び搬送路４の構成は、図２のシール装置Ｓにおけるガイドローラ２，３及び搬送路４の構成と同様である。
【００６７】
排気流路５ｃは、隔壁部１を垂直に貫通して第１空間及び第２空間を接続する連通部６と、連通部６を異なる低圧源に接続する２つの接続部（第１接続部７ｃ１及び第２接続部７ｃ２）とを有する。第１接続部７ｃ１は、第２接続部７ｃ２よりも第１空間側で連通部６に接続されている。
【００６８】
このように、複数の接続部７ｃ１，７ｃ２を有する排気流路５ｃを設けたシール装置Ｓｃは、連通部６を通して第１空間から第２空間に流入する雰囲気ガスの量を効果的に抑制し、ウェブＷの振動をさらに低減することができる。このため、シール装置Ｓｃは、第１空間と第２空間との差圧を比較的大きくすることができる。
【００６９】
特に、複数の接続部７ｃ１，７ｃ２を設ける場合、各接続部７ｃ１，７ｃ２に接続される低圧源の圧力を異ならせることで、第１空間と第２空間との差圧をより大きくすることができる。具体的には、第２空間側の接続部７ｃ２に接続される低圧源の圧力をより低くすることが好ましい。第２空間を高真空とする場合、最も第２空間側の接続部７ｃ２に接続される低圧源は、ターボ分子ポンプを有することが好ましく、ターボ分子ポンプの上流側に冷却により水蒸気を凝縮させて除去するトラップをさらに有することがより好ましい。
【００７０】
〔第５実施形態〕
図７に示す本発明のさらに別の実施形態に係るシール装置Ｓｄは、第１空間と第２空間とを隔離する隔壁部１ｄと、１つのガイドローラ９とを備える。ガイドローラ９は、隔壁部１ｄに形成される開口１０内に配置され、第１空間及び第２空間にそれぞれ部分的に露出している。シール装置Ｓｄでは、断面視で開口１０の内縁とガイドローラ９との間に形成される２つの空間の一方（図面下側）がウェブＷが通過する搬送路４ｄとされ、他方（図面上側）が第１空間内の気体を外部に排出する排気流路５ｄの連通部６ｄとされている。隔壁部１ｄの開口１０のガイドローラ９に対向する内縁は、ガイドローラ９との隙間を一定にするような円筒面とされている。また、隔壁部１ｄには、連通部６ｄを低圧源に接続する接続部７ｄが形成されている。ガイドローラ９は、ウェブＷを加熱するために発熱可能であってもよく、ウェブＷを冷却するために冷媒が挿通されてもよい。
【００７１】
排気流路５ｄの連通部６の一方の内面はガイドローラ９によって画定されているため、排気流路５ｄの第１空間側の開口は、ガイドローラ９のウェブＷに当接しない角度領域に隣接して開口している。このため、本実施形態のシール装置Ｓｄは、第１空間からガイドローラ９に沿って搬送路４ｄに流入しようとする雰囲気ガスの一部を排気流路５ｄに吸引して外部に排気することで、ウェブＷの振動を抑制することができる。
【００７２】
シール装置Ｓｄにおいて、隔壁部１ｄは、図示するように、連通部６ｄを延長するよう、第１空間側及び第２空間側に突出し、ガイドローラ９の周面に沿って開口１０の内縁を延長する面を有する第１延長突部１１及び第２延長突部１２を有してもよい。このように、排気流路５ｄのガイドローラ９の周方向の長さが搬送路４ｄのガイドローラ９の周方向の長さよりも大きくなるよう連通部６ｄをガイドローラ９に沿って搬送路４ｄ側に向かって延長することにより、搬送路４ｄに流入する雰囲気ガスの量をより低減することができるので、ウェブＷの振動をより効果的に抑制することができる。
【００７３】
また、開口１０の内部にガイドローラ９を配置することを可能にしつつ、搬送路４ｄ及び排気流路５ｄの連通部６ｄの厚みを小さくするために、隔壁部１ｄは、その開口１０のガイドローラ９に対向する内縁の一方を含む部分が他の部分から分離可能に構成されていてもよい。
【００７４】
〔第６実施形態〕
図８に示す本発明のさらに別の実施形態に係るシール装置Ｓｅは、第１空間と第２空間とを隔離する隔壁部１ｅと、２つのガイドローラ（第１空間側の第１ガイドローラ２及び第２空間側の第２ガイドローラ３）と、ウェブＷを挟んでガイドローラ２，３と反対側に配置される２つの補助ローラ（第１空間側の第１補助ローラ１３及び第２空間側の第２補助ローラ１４）とを備える。このシール装置Ｓｅは、第１空間及び第２空間を接続し、ウェブが通過するよう形成された搬送路４と、搬送路４の近傍で第１ガイドローラ２に対向するよう第１空間に開口し、低圧源に接続されて第１空間内の気体を外部に排出するよう形成された第１の排気流路５と、搬送路４の近傍で第１ガイドローラ２に対向するよう第１空間に開口し、低圧源に接続されて第１空間内の気体を外部に排出するよう形成された第２の排気流路５ｅとを有する。
【００７５】
図８のシール装置Ｓｅにおけるガイドローラ２，３、搬送路４及び第１の排気流路５の構成は、図２のシール装置Ｓにおけるガイドローラ２，３、搬送路４及び排気流路５の構成と同様である。つまり、図８のシール装置Ｓｅは、図２のシール装置Ｓに補助ローラ１３，１４及び第２の排気流路５ｅを追加したものである。
【００７６】
補助ローラ１３，１４は、第１空間のウェブＷを挟んで第１ガイドローラ２と反対側から搬送路４に流入する雰囲気ガスの量を低減する。また、補助ローラ１３，１４は、ガイドローラ２，３との間にウェブＷを挟み込むことによりウェブＷを搬送路４を通過するよう案内する。このため、シール装置Ｓｅは、図示するようにウェブＷを直線的に搬送することができる。
【００７７】
補助ローラ１３，１４は、ウェブＷの表裏で雰囲気ガスの流路となりえる空間形状を略等しくできるよう、ガイドローラ２，３と略等しい径を有し、ウェブＷを挟んで対称に配置されることが好ましい。
【００７８】
補助ローラ１３，１４は、ガイドローラ２，３と等しい構成を有してもよいが、少なくとも表面に弾性を有し、剛性を有するガイドローラ２，３にウェブＷを押圧できるよう構成されてもよい。
【００７９】
第２の排気流路５ｅは、隔壁部１ｅを貫通して第１空間及び第２空間を接続する連通部６ｅと、連通部６ｅを低圧源に接続する接続部７ｅとを有する。この第２の排気流路５ｅは、第１補助ローラ１３に沿って第１空間から搬送路４に流入しようとする雰囲気ガスの一部を吸引して外部に排出する。これよって、第２の排気流路５ｅは、第１補助ローラ１３に沿って搬送路４に向かって流れ、ウェブＷに衝突する雰囲気ガスの量を低減することにより、ウェブＷの振動を抑制する。
【００８０】
第２の排気流路５ｅと第１補助ローラ１３との関係は、第１の排気流路５と第１ガイドローラ２との関係と同じである。従って、第２の排気流路５ｅの連通部６ｅは、第１補助ローラ１３の外周面のうちウェブＷが当接しない角度領域に対向する位置で第１空間に開口し、第２補助ローラ１４の外周面のうちウェブＷが当接しない角度領域に対向する位置で第２空間に開口することが好ましい。より好ましくは、第２の排気流路５ｅは、ウェブＷの表裏で搬送路４に流入する雰囲気ガスの流れを略等しくするために、ウェブＷを挟んで第１の排気流路５と略対称に形成される。
【００８１】
〔第７実施形態〕
図９に示す本発明のまた別の実施形態に係るシール装置Ｓｆは、第１空間と第２空間とを隔離する隔壁部１ｆと、２つのガイドローラ（第１空間側の第１ガイドローラ２及び第２空間側の第２ガイドローラ３）とを備える。このシール装置Ｓｆは、第１空間及び第２空間を接続し、ウェブＷが通過するよう形成された搬送路４と、搬送路４の近傍で第１空間に開口し、第１空間内の気体を外部に排出するよう形成された排気流路５ｆと、排気流路５ｆに外部から気体を供給する供給流路１５とを有する。
【００８２】
図９のシール装置Ｓｆにおけるガイドローラ２，３及び搬送路４の構成は、図２のシール装置Ｓにおけるガイドローラ２，３及び搬送路４の構成と同様である。
【００８３】
排気流路５ｆは、隔壁部１を垂直に貫通して第１空間及び第２空間を接続する連通部６と、連通部６を低圧源に接続する接続部７ｆとを有する。供給流路１５は、接続部７ｆと異なる位置で、例えば接続部７ｆの上流側で連通部６に接続されている。
【００８４】
供給流路１５には、例えば清浄な乾燥空気、窒素等が供給される。これにより、連通部６から第２空間に流入する気体中の好ましくない不純物（例えば水蒸気、酸素等）の含有量を低減することができる。
【００８５】
供給流路１５から供給される気体の流量としては、接続部７ｆから外部に排気される気体の流量の例えば１／１０００００以上１／１００以下とすることができる。
【００８６】
〔第８実施形態〕
図１０及び図１１に示す本発明のさらに別の実施形態に係るシール装置Ｓｇは、第１空間と第２空間とを隔離する隔壁部１ｇと、隔壁部１ｇに形成される開口１０内に配置されたガイドローラ９と、ガイドローラ９の前後でウェブＷを案内する一対の補助ローラ１６と、を備える。ガイドローラ９は、隔壁部１ｇに形成される開口１０内に配置され、第１空間及び第２空間にそれぞれ部分的に露出している。シール装置Ｓｇでは、断面視で開口１０の内縁とガイドローラ９の周面との間に形成される２つの空間の一方（図面下側）がウェブＷが通過する搬送路４ｇとされ、他方（図面上側）が第１空間内の気体を外部に排出する排気流路５ｇの連通部６ｇとされている。隔壁部１ｇの開口１０のガイドローラ９の周面に対向する内縁は、ガイドローラ９との隙間を一定にするような円筒面とされている。隔壁部１ｇは、開口１０の内壁面のうち、ガイドローラ９のウェブＷに当接しない側の周面に対向する面、ガイドローラ９の端面に対向する面、及びガイドローラ９のウェブＷに当接しない側の周面に対向する面に連続して形成される排気溝１７を有する。また、隔壁部１ｇには、連通部６ｇを低圧源に接続するために、それぞれ排気溝１７に開口する複数の接続部７ｇが形成されている。
【００８７】
排気溝１７は、連通部６ｇの内圧をガイドローラ９の軸方向に均等化する。これにより、ウェブＷに衝突しようとする気体を幅方向全体に亘って均等に排気して、ウェブＷの振動をより効果的に抑制することができる。
【００８８】
また、排気溝１７は、開口１０の内縁のうち、ガイドローラ９の周面のウェブＷに当接しない側に対向する面からガイドローラ９の端面に対向する面、さらにはガイドローラ９の周面のウェブＷに当接する側に対向する面に連続して形成されている。このため、排気溝１７は、隔壁部１ｇとガイドローラ９の端面との隙間及びガイドローラ９の周面のウェブＷに当接する側との隙間を通過して第２空間に進入しようとする気体を外部に排出することができる。これにより、第２空間の圧力上昇を抑制して第１空間と第２空間との差圧をより大きくすることができる。
【００８９】
さらに、シール装置Ｓｇは、複数の排気溝１７及び接続部７ｇを有している。これにより、第１空間から第２空間に向かって連通部６ｇの内部の圧力を段階的に低下させることができるので、第１空間と第２空間との差圧をさらに大きくすることができる。このように、連通部６ｇの内部の圧力を段階的に低下させるため、複数の接続部７ｇには、異なる低圧源が接続されることが好ましい。
【００９０】
〔第９実施形態〕
図１２に示す本発明のさらに別の実施形態に係るシール装置Ｓｈは、第１空間と第２空間とを隔離する隔壁部１ｈと、隔壁部１ｈに形成される開口１０内に配置されたガイドローラ９と、ガイドローラ９の前後でウェブＷを案内する一対の補助ローラ１６と、隔壁部１ｈとガイドローラ９との間を封止するシャッタ部１８と、を備える。シール装置Ｓｈでは、断面視で開口１０の内縁とガイドローラ９の周面との間に形成される２つの空間の一方（図面下側）がウェブＷが通過する搬送路４ｈとされ、他方（図面上側）が第１空間内の気体を外部に排出する排気流路５ｈの連通部６ｈとされている。隔壁部１ｈは、開口１０の内壁面のうち、ガイドローラ９のウェブＷに当接しない側の周面に対向する面、ガイドローラ９の端面に対向する面、及びガイドローラ９のウェブＷに当接しない側の周面に対向する面に連続して形成される排気溝１７を有する。また、隔壁部１ｈには、連通部６ｈを低圧源に接続するために、それぞれ排気溝１７に開口する複数の接続部７ｈが形成されている。図１２のシール装置Ｓｈにおける隔壁部１ｈは、図１０のシール装置Ｓｈにおける隔壁部１ｇと同様である。つまり、図１２のシール装置Ｓｈの搬送路４ｈ、排気流路５ｈ（連通部６ｈ及び接続部７ｈ）は、図１０のシール装置Ｓｇの搬送路４ｇ、排気流路５ｇ（連通部６ｇ及び接続部７ｇ）と同様である。したがって、図１２のシール装置Ｓｈは、図１０のシール装置Ｓｇにシャッタ部１８を付加したものである。
【００９１】
シャッタ部１８は、ガイドローラ９の周面のウェブＷを案内しない部分に対向するよう、隔壁部１ｈの第２空間側に配置されている。つまり、シャッタ部１８は、連通部６ｈの第２空間側の端部を封止するよう配設されている。シャッタ部１８は、先端縁をガイドローラ９の周面に近接させるシール部材１９と、シール部材１９をガイドローラ９との間隔を調節可能に保持する保持機構２０と、を含む。
【００９２】
シール部材１９の少なくともガイドローラ９に近接する先端部は、角棒状又は帯板状に形成されることが好ましい。シール部材１９は、ガイドローラ９の回転軸方向視において、その先端面がガイドローラ９の周面の対向部分と略平行になるよう配向されることが好ましい。これにより、シール部材１９とガイドローラ９との隙間を通過する気体の流路抵抗を大きくし、第１空間と第２空間との差圧を大きくしやすくなる。また、シール部材１９の先端縁は、成膜装置の定常運転時におけるガイドローラ９の撓みに合わせてガイドローラ９の側に凸状又は凹状に湾曲している。
【００９３】
ガイドローラ９は、自重及び第１空間と第２空間との差圧により撓む。このため、シール部材１９の先端縁は、成膜装置ｂの定常運転時におけるガイドローラ９の撓みに合わせてガイドローラ９の側に凸状又は凹状に湾曲していることが好ましい。
【００９４】
ガイドローラ９の構造並びに第１空間及び第２空間の設定圧力によっても異なるが、ガイドローラ９に作用する力は、第１空間と第２空間との差圧による成分が支配的となること多い。このため、ガイドローラ９を撓ませる合力は、略開口１０の貫通方向となり得る。このため、第１空間側に配設されるシャッタ部１８のシール部材１９の先端縁は、ガイドローラ９の側に凹状に湾曲する。
【００９５】
成膜装置の定常運転時におけるガイドローラ９のシャッタ部１８が配設される角度位置における径方向の撓み量（長さ方向中央部において観測される最大変位）としては、例えば長さ１２００ｍｍのガイドローラ９において３０μｍ程度となる。また、同じ条件で第１空間と第２空間との差圧がなく自重のみによってガイドローラ９が撓む場合、ガイドローラ９の撓み量は５μ程度となる。
【００９６】
成膜装置の定常運転時におけるシール部材１９とガイドローラ９との間隔としては、得ようとする第１空間と第２空間との差圧にもよるが、例えば１００μｍ以下とすることが必要となり得る。シール部材１９とガイドローラ９との間隔が大きくなると、第１空間内の気体がシール部材１９とガイドローラ９と隙間を通って第２空間に流れ込み、第２空間の内圧を上昇させ得る。また、シール部材１９とガイドローラ９とが接触するとシール部材１９又はガイドローラ９が摩耗し、摩耗粉がウェブＷに付着するおそれがあるため、シール部材１９とガイドローラ９とは接触しないようにしなければならない。
【００９７】
シャッタ部１８は、シール部材１９の先端縁が湾曲していることによって、シール部材１９とガイドローラ９との間隔を全体的に小さくすることができる。逆に言うと、シール部材１９の先端縁が直線状である場合、ガイドローラ９の撓みによるガイドローラ９の端部と中央部とにおけるシール部材１９との間隔の差に組み立ての誤差や機械的振動等が加わると、シール部材１９とガイドローラ９との間隔をガイドローラ９の全長に亘って上述の範囲内に収めることができない。先端縁が湾曲しているシール部材１９を有するシャッタ部１８を備えるシール装置Ｓｈは、第１空間から第２空間に流れ込む気体の量を小さくできるので、第２空間から気体を排出する低圧源の能力が小さくても第１空間と第２空間との差圧を比較的大きくすることができる。
【００９８】
シール部材１９は、鋼、ステンレス鋼等によって形成することができる。また、シール部材１９は、例えば停電等により真空ポンプが緊急停止して低圧側の圧力が急上昇した場合、何等かの原因で大きな振動を受けた場合などの不測の事態によりガイドローラ９に接触してもガイドローラ９を傷つけないよう、先端部が樹脂等で被覆されることが好ましい。シール部材１９の先端部を被覆する樹脂としては、硬度が高く耐摩耗性に優れるウレタン樹脂、アクリル樹脂、スチレンアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、ポリウレア樹脂、ＮＢＲ樹脂等を用いることが好ましい。シール部材１９の先端部を被覆する樹脂の厚みとしては、シール部材１９の先端縁の形状の誤差を抑制するために、数十μｍ程度とすることが好ましい。
【００９９】
保持機構２０は、隔壁部１ｈに配設されるベース部材２１、シール部材１９をガイドローラ９の径方向に突退可能に保持し、且つベース部材２１に対してガイドローラ９の径方向に移動可能に取り付けられる可動支持部材２２と、シール部材１９を可動支持部材２２上で位置決めする調節部２３と、可動支持部材２２ひいてはシール部材１９をガイドローラ９に向かって突出するよう付勢する弾性部材２４と、を有する構成とすることができる。
【０１００】
保持機構２０は、シャッタ部１８にシール効果を発揮させるために、調節部２３により可動支持部材２２をガイドローラ９の側に突出させることによってシール部材１９とガイドローラ９との隙間を小さくする。また、保持機構２０は、何らかの不測の事態によりガイドローラ９の撓みが減少してシール部材１９にガイドローラ９が接触した場合には、弾性部材２４の付勢力に抗してシール部材１９が後退可能とすることで、ガイドローラ９及びシール部材１９の損傷を防止する。
【０１０１】
ベース部材２１は、隔壁部１ｈと一体に形成されてもよく、隔壁部１ｈに気密に取り付けられてもよい。可動支持部材２２は、ベース部材２１に気密に取り付けられ、且つシール部材１９を気密に保持することが好ましい。調節部２３は、例えばマイクロメーターヘッド等によって構成することができる。弾性部材２４は、通常は可動支持部材２２を封止ローラ側の移動端に圧接するよう配設され、例えばつる巻ばね等によって構成することができる。
【０１０２】
調節部２３は、真空装置Ｕの運転状態に合わせて自動的にシール部材１９とガイドローラ９との隙間を調節するよう構成されてもよいが、オペレータが主導で操作するよう構成されてもよい。調節部２３を手動で操作されるよう構成する場合、オペレータが容易にアクセスできるよう、シャッタ部１８は、第１空間、即ち減圧室Ｒの外側に設けられることが好ましい。
【０１０３】
本実施形態のシール装置Ｓｈは、シャッタ部１８によって、第１空間から連通部６ｈを通して第２空間に流入する気体の量を低減することができるので、第１空間と第２空間との差圧をさらに大きくすることができる。
【０１０４】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されることなく、種々の変更及び変形が可能である。
【０１０５】
例として、本発明に係る成膜装置における緩衝室の数は任意であり、成膜室の上流側と下流側で緩衝室の数が異なっていてもよい。また、本発明に係る成膜装置は、少なくとも１組の隣接し合う緩衝室間又は緩衝室及び成膜室間に本発明に係るシール装置が配設されていればよい。本発明に係る成膜装置において、比較的圧力が高い緩衝室間には、本発明に係るシール装置が設けられることが好ましい。具体的には、隣接する緩衝室間を吹き抜ける空気（雰囲気ガス）の運動状態が粘性流となる部分には、本発明に係るシール装置を設けることで、ウェブの振動を効果的に抑制できる。一方、隣接する緩衝室間を吹き抜ける空気の運動状態が中間流又は分子流となる場合には、空気がウェブを振動させる可能性が低いため、より簡素な構成のシール装置を設けてもよい。
【０１０６】
本発明に係るシール装置は、大気圧よりも圧力が高い空間を第１空間として、この第１空間から雰囲気ガスが流出することを抑制するためにも使用することができる。この場合、排気流路から排出したガスは第１空間に還流させてもよい。
【０１０７】
本発明に係る真空装置及び本発明に係る成膜装置において、隣接する室間を区分する隔壁全体が本発明に係るシール装置の隔壁部であってもよい。
【０１０８】
第１空間の圧力が大気圧より高い場合、本発明に係るシール装置の排気流路に接続される低圧源は、２次側が大気開放され、排気流路に所望の背圧を与える調圧弁等の圧力調節機構であってもよい。
【０１０９】
本発明に係るシール装置の排気流路は、連通路に接続される３以上の接続部を有してもよい。また、複数の接続部が接続される連通路に外部から気体を供給する供給流路を接続してもよい。接続部と供給流路の位置関係は特に限定されず、最も第２空間側に供給流路が接続されてもよい。
【０１１０】
本発明に係るシール装置の排気流路は、図示した実施形態では隔壁内に形成される流路を介して低圧源に接続されているが、第１空間又は第２空間を通るパイプやチューブを介して低圧源に接続されてもよい。
【０１１１】
本発明に係るシール装置の排気溝は、開口の内壁面のうち、少なくともガイドローラのウェブに当接しない側の周面に対向する面に形成されていればよい。
【０１１２】
本発明に係るフィルム製造方法は、ウェブに他の材料を積層する方法に限られず、本発明に係る真空装置によって大気から隔離さられた真空の空間内でウェブに例えばプラズマ処理、減圧乾燥、窒化処理、熱処理、脱水処理、減圧アーク表面除染処理等の加工を施すものであってもよい。また、これらの加工と共に、真空の空間外で例えばＸ線膜厚測定、組成測定等の各種検査を行ってもよい。また、ウェブに他の材料を積層する方法としては、スパッタリングに限られず、他のＰＶＤ（物理蒸着法）、ＣＶＤ（化学蒸着法）、溶射等を採用してもよい。積層される材料は、特に限定されず、ＤＬＣコート、ＰＶＤセラミクスハードコート等を形成してもよい。
【符号の説明】
【０１１３】
１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆ  隔壁部
２，３，９  ガイドローラ
４，４ｄ  搬送路
５，５ａ，５ｃ，５ｄ，５ｅ，５ｆ  排気流路
６，６ａ，６ｄ，６ｅ  連通部
７，７ｃ１，７ｃ２，７ｅ，７ｆ  接続部
８  突起部
９  ガイドローラ
１０  開口
１１  第１延長突部
１２  第２延長突部
１３，１４  補助ローラ
１５  供給流路
１７  排気溝
１８  シャッタ部
Ｄ  ドラム
Ｅ  スパッタリングデバイス
Ｆ  成膜装置
Ｐ１〜Ｐ６，Ｐ１ａ〜Ｐ６ａ  隔壁
Ｒ１〜Ｒ６，Ｒ１ａ〜Ｒ６ａ  緩衝室
Ｒｆ、ＲＦａ  成膜室
Ｓ，Ｓａ，Ｓｂ，Ｓｃ，Ｓｄ，Ｓｅ，Ｓｆ  シール装置
Ｖ１〜Ｖ５，Ｖ６，Ｖ７，Ｖ１１〜Ｖ１６  低圧源
Ｗ  ウェブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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