(57)【要約】【課題】プレス方式の部分メッキ装置において、メッキエリア単位ごとにメッキ液圧力の制御を可能にするスパージャーを提供する。【解決手段】マスキングゴムを基材に貼り付け載置するスパージャーであって、前記マスキングゴムの前記穴に連通する噴出口を有し、一括メッキ処理されるメッキ処理部のまとまりであるメッキエリアに送られる前記メッキ液を通す往路と、回収される前記メッキ液の戻り口を有し、回収先に送られる前記メッキ液を通す復路と、を備え、前記噴出口が前記メッキエリアの中心部に相当する位置に設けられ、前記メッキ液は前記マスキングゴムの底面側の前記基材の設けた分岐したガイドを通り前記穴に流れ、前記穴に連通する前記メッキエリアの複数のメッキ処理箇所に到達し、前記戻り口は、前記メッキエリアに２以上設けられ、かつ１つの前記戻り口が２箇所又は４箇所の前記メッキエリアに連通することを特徴とするスパージャーとした。【選択図】図３
2020094274.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メッキ液で部分メッキされる被メッキ物のメッキ処理面側に配置され、
前記被メッキ物のメッキしない部分に当接するマスク部と、前記メッキ液を通し前記被メッキ物のメッキ処理部に連通する穴を備え、
前記マスク部の前記被メッキ物に接触する表面が、
前記穴の周囲は前記メッキ液の漏出を起こさない幅を有する平らな平滑面で、
前記平滑面の周囲は表面を荒らした梨地面であることを特徴とする
梨地マスキングゴム。
【請求項２】
請求項１に記載の梨地マスキングゴムを基材に貼り付け載置するスパージャーであって、
前記梨地マスキングゴムの前記穴に連通する噴出口を有し、一括メッキ処理されるメッキ処理部のまとまりであるメッキエリアに送られる前記メッキ液を通す往路と、
回収される前記メッキ液の戻り口を有し、回収先に送られる前記メッキ液を通す復路と、
を備え、
前記噴出口が前記メッキエリアの中心部に相当する位置に設けられ、
前記メッキ液は前記梨地マスキングゴムの底面側の前記基材の設けた分岐したガイドを通り前記穴に流れ、前記穴に連通する前記メッキエリアの複数のメッキ処理箇所に到達し、
前記戻り口は、前記メッキエリアに２以上設けられ、かつ１つの前記戻り口が２箇所又は４箇所の前記メッキエリアに連通することを特徴とする
スパージャー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＭＡＰ（一括モールド）リードフレーム、コネクターなどの被メッキ物の部分メッキ用の冶具、例えばマスキングゴム、スパージャー、それらを含む部分メッキ装置などに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の部分メッキ冶具を用いる部分メッキ装置用は、特許文献１、２にあるように、概要を示せば、図７のような構成である。
【０００３】
従来の部分メッキ装置１１は、メッキ液１０を通す穴１３ｂを有するマスキングゴム１３と、メッキ液１０を被メッキ物２に向け噴射する噴出口１４ｂ、及びメッキ液１０をメッキ液１０の貯留槽に送るための戻り口１４ｄを備え、メッキ液１０を循環させるスパージャー１４と、押さえゴム５と、プレスプレート６とからなり、被メッキ物２を梨地マスキングゴム３と押さえゴム５の間に挟持し、プレスプレート６でスパージャー１４方向に押圧するプレス方式によって部分メッキする。
【０００４】
従来のマスキングゴム１３の被メッキ物２に接触するマスク部１３ａの表面は一様に平滑面である。マスク部１３ａが一様に平坦、平滑面であると、プレス方式によるメッキでは、被メッキ物２、例えば、リードフレームはマスキングゴム１３に強く貼り付く。
【０００５】
そのため、被メッキ物を次の処理工程に進めるため、マスキングゴム１３に貼り付いた被メッキ物２を剥がす必要がある。その剥離の際、無理な剥離作業を行うと、被メッキ物２が変形し、不良品が多発する。他方、被メッキ物２の変形を抑制すべく、ゆっくりとした剥離作業にすれば生産性が低下する。
【０００６】
また、メッキ液１０は、スパージャー１４の往路１４ａの端部に連設する複数の噴出口１４ｂから被メッキ物２に向け噴射され、両サイドに位置する戻り口１４ｄから取り込まれ、復路１４ｃを通り、メッキ液１０の貯留槽に戻される。そして、再び往路１４ａに流れ、噴出口１４ｂから噴射される。このように、往路１４ａからメッキエリア、復路１４ｃへ繰り返し流され、循環使用される。戻り口１４ｄは、噴出口１４ｂの数に比べて圧倒的に数が少ない。
【０００７】
戻り口１４ｄが、噴出口１４ｂに比べ少なく、両サイドに位置すると、１箇所のメッキエリアごとに流入量と流出量（圧力）の制御ができず、メッキ厚にバラツキが生じ、また、マスキング圧力を吊り（図示省略）のみで支持するためマスキングゴムが変形、破損しやすく、使用回数が低くコスト高になる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−８１９９２号公報
【特許文献２】特開２００１−００７２６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで、本発明は、プレス方式の部分メッキ装置において、被メッキ物とマスキングゴムの貼り付き強度を低下させ、被メッキ物の剥離を容易にし、剥離の際の被メッキ物の変形不良品を抑制するマスキングゴムの提供、及び、メッキエリア単位ごとにメッキ液圧力の制御を可能にするスパージャーを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上記課題を解決するため、
（１）
メッキ液で部分メッキされる被メッキ物のメッキ処理面側に配置され、
前記被メッキ物のメッキしない部分に当接するマスク部と、前記メッキ液を通し前記被メッキ物のメッキ処理部に連通する穴を備え、
前記マスク部の前記被メッキ物に接触する表面が、
前記穴の周囲は前記メッキ液の漏出を起こさない幅を有する平らな平滑面で、
前記平滑面の周囲は表面を荒らした梨地面であることを特徴とする梨地マスキングゴム。
（２）
（１）に記載の梨地マスキングゴムを基材に貼り付け載置するスパージャーであって、
前記梨地マスキングゴムの前記穴に連通する噴出口を有し、一括メッキ処理されるメッキ処理部のまとまりであるメッキエリアに送られる前記メッキ液を通す往路と、
回収される前記メッキ液の戻り口を有し、回収先に送られる前記メッキ液を通す復路と、
を備え、
前記噴出口が前記メッキエリアの中心部に相当する位置に設けられ、
前記メッキ液は前記梨地マスキングゴムの底面側の前記基材の設けた分岐したガイドを通り前記穴に流れ、前記穴に連通する前記メッキエリアの複数のメッキ処理箇所に到達し、
前記戻り口は、前記メッキエリアに２以上設けられ、かつ１つの前記戻り口が２箇所又は４箇所の前記メッキエリアに連通することを特徴とするスパージャー。
とした。
【発明の効果】
【００１１】
本発明は、上記構成であるので、プレス方式の部分メッキ装置において、被メッキ物とマスキングゴムの貼り付き強度を低下させ、被メッキ物の剥離を容易にし、剥離の際の被メッキ物の変形不良品を低減することができる。
【００１２】
また、メッキ液の戻り口は、メッキ液の噴出口と同数、又は２以上、好ましくは、１つのメッキエリア単位ごとに外縁に位置し、噴出口の１箇所に対して２箇所又は４箇所設けられることで、１つのメッキエリア単位ごとメッキ液圧力を制御でき、マスキングゴムをメッキエリア単位毎に支えることができ、マスキングゴムの破損を低減することができる、ことを一番の特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明である梨地マスキングゴムと、スパージャーを含む部分メッキ装置の模式図である。
【図２】本発明である梨地マスキングゴムの説明図である。図２（Ａ）は平面図、図２（Ｂ）は（Ａ）のＡ部拡大図である。
【図３】本発明の第一の実施形態のスパージャーの説明である。図３（Ａ）は部分平面図、図３（Ｂ）は（Ａ）のＡ−Ａ‘位を含む部分断面矢視図、図３（Ｃ）は（Ｃ）Ｂ−Ｂ’位を含む部分断面矢視図である。
【図４】電気メッキ用の陽極の一例、線状陽極の平面図である。
【図５】本発明の第二の実施形態のスパージャーの説明である。図５（Ａ）は部分平面図、図５（Ｂ）は（Ａ）のＣ−Ｃ‘位を含む部分断面矢視図、図５（Ｃ）は（Ａ）Ｄ−Ｄ’位を含む部分断面矢視図である。
【図６】電気メッキ用の陽極の一例、線状陽極の平面図である。
【図７】従来の部分メッキ装置の縦断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、添付図面に基づき、本発明の実施の形態について詳細に説明する。ただし、本発明はそれら実施形態の形状、大きさに限定されるものではない。
【実施例１】
【００１５】
図１に、本発明の第一の実施形態である  マスキング部材３と、スパージャー４を含む部分メッキ装置１を示した。図１（Ａ）は、図１（Ｂ）のＡ−Ｂ位置断面矢視図である。なお、図１（Ｂ）においては、一点鎖線の構成（プレスプレート６，押さえゴム５，被メッキ物２）を透視し、マスキング部材３からの平面模式図である。
【００１６】
部分メッキ装置１は、マスキング部材３と、スパージャー４と、押さえゴム５と、プレスプレート６とからなり、被メッキ物２をマスキング部材３と押さえゴム５の間に挟持、押圧プレスして部分メッキする。
【００１７】
図１−２に示すように、マスキング部材３は、メッキ液１０で部分メッキされる被メッキ物２のメッキ処理面側に配置される梨地マスキングゴム３ｇと、梨地マスキングゴム３ｇを貼り付ける基材３ｈからなる。梨地マスキングゴム３ｇは、被メッキ物２のメッキしない部分に当接するマスク部３ａと、メッキ液１０を通し被メッキ物２のメッキエリア２ａに連通する穴３ｂを備える。ここでは、メッキエリア２ａは穴３ｂと一致する。
【００１８】
マスク部３ａの被メッキ物２に接触する表面において、穴３ｂの周囲はメッキ液１０の漏出を起こさない幅０．２ｍｍ〜３ｍｍ、より好ましくは０．５ｍｍ〜２ｍｍ、さらに好ましくは１ｍｍ〜１．５ｍｍ、１ｍｍ程度の平な平滑面３ｃとする。
【００１９】
さらに、平滑面３ｃの周囲は表面を荒らした梨地面３ｄとする。梨地面３ｄは、砂などの研磨材を梨地処理が必要な箇所に吹き付ける加工法、サンドブラスト法などで必要箇所に表面を荒らした梨地処理（細かな凹凸、段差、キズ）を施すことでできる。梨地面３ｄで被メッキ物２への貼りつきを抑え、平滑面３ｃでメッキ液１０の漏出も防止することができる。
【００２０】
スパージャー４は、例えば、図３に示すように、ベース部４ｅと、ベース部ｅの上層に線状陽極４ｇ（図４に平面例示、図３の線状陽極４ｇは図４Ｅ−Ｅ‘矢視断面）を配置する電極層４ｆを積層してなり、
梨地マスキングゴム３の穴３ｂに連通する噴出口４ｂを有し、一括メッキ処理されるメッキ処理部のまとまりであるメッキエリア２ａに送られるメッキ液１０を通す往路４ａと、
回収されるメッキ液１０の戻り口４ｄを有し、回収先に送られるメッキ液１０を通す復路４ｃと、
を備える。
【００２１】
梨地マスキングゴム３ｇの底面側には、図１，３に示すように、基材３ｈが配置され、穴３ｂと噴出口４ｂに連通するとともに穴３ｂに向け分岐し、傾斜面３ｅを備える空間であるガイド３ｆを有する。このガイド３ｆにより、往路４ａから復路４ｃに、メッキエリア２ａごとに、メッキ液１０の流れを形成し、圧力も調整できる。その結果、メッキ厚に均一性も高まる。
【００２２】
噴出口４ｂは、メッキエリア２ａの中心部に相当する位置（ここではベース部４ｅの開口）に設けられ、メッキ液１０は分岐したガイド３ｆを通り穴３ｂに流れ、穴３ｂに連通するメッキエリア２ａの複数のメッキ処理箇所に到達する。
【００２３】
戻り口４ｄは、メッキエリア２ａの四隅に４つ設けられ、かつ１つの戻り口４ｄが４箇所のメッキエリア２ａに連通する。
【実施例２】
【００２４】
次に、図５，６を参照して、第二の実施形態のスパージャー４ｎについて説明する。実施例１のスパージャー４と、ガイド３ｆが、平面視４５°回転し、戻り口４ｄの配置位置が、四角形状のメッキエリア２ａの二辺である点で異なる。当該配置であっても、実施例１と同様に、スムーズなメッキ液１０の流れ、適切な液圧を形成でき、メッキ厚の均一性精度も、従来に比べ高まる。
【００２５】
すなわち、  スパージャー４ｎは、例えば、図５に示すように、ベース部４ｅと、ベース部４ｅの上層に板状陽極４ｑ（図６に平面例示、図６の板状陽極４ｑは図６Ｆ−Ｆ‘矢視断面）を配置する電極層４ｐを積層してなり、
梨地マスキングゴム３の穴３ｂに連通する噴出口４ｂを有し、一括メッキ処理されるメッキ処理部のまとまりであるメッキエリア２ａに送られるメッキ液１０を通す往路４ａと、
回収されるメッキ液１０の戻り口４ｄを有し、回収先に送られるメッキ液１０を通す復路４ｃと、
を備える。なお、板状陽極４ｑの第一孔４ｓは往路４ａの一部を形成し、第二孔４ｔは復路４ｃの一部を形成する。
【００２６】
梨地マスキングゴム３ｇの底面側には、図５に示すように、基材３ｈが配置され、穴３ｂと噴出口４ｂに連通するとともに穴３ｂに向け分岐し、傾斜面３ｅを備える空間であるガイド３ｆを有する。このガイド３ｆにより、往路４ａから復路４ｃに、メッキエリア２ａごとに、メッキ液１０の流れを形成し、圧力も調整できる。その結果、メッキ厚に均一性も高まる。
【００２７】
噴出口４ｂは、メッキエリア２ａの中心部に相当する位置（ここではベース部４ｅの開口）に設けられ、メッキ液１０は分岐したガイド３ｆを通り穴３ｂに流れ、穴３ｂに連通するメッキエリア２ａの複数のメッキ処理箇所に到達する。
【００２８】
戻り口４ｄは、メッキエリア２ａの二辺に２つ設けられ、かつ１つの戻り口４ｄが２箇所のメッキエリア２ａに連通する。
【符号の説明】
【００２９】
１      部分メッキ装置    
２      被メッキ物
２ａ    メッキエリア
３      マスキング部材
３ａ    マスク部
３ｂ    穴
３ｃ    平滑面
３ｄ    梨地面
３ｅ    傾斜面
３ｆ    ガイド
３ｇ    梨地マスキングゴム
３ｈ    基材
４      スパージャー
４ａ    往路
４ｂ    噴出口
４ｃ    復路
４ｄ    戻り口
４ｅ    ベース部
４ｆ    電極層
４ｇ    線状陽極
４ｎ    スパージャー
４ｐ    電極層
４ｑ    板状陽極
４ｓ    第一孔
４ｔ    第二孔
５      押さえゴム
６      プレスプレート
１０    メッキ液
１１    従来の部分メッキ装置
１３    マスキングゴム
１３ａ  マスク部
１３ｂ  穴
１４    スパージャー
１４ａ  往路
１４ｂ  噴出口
１４ｃ  復路
１４ｄ  戻り口
【図１】
2020094274.tif 000003
【図２】
2020094274.tif 000004
【図３】
2020094274.tif 000005
【図４】
2020094274.tif 000006
【図５】
2020094274.tif 000007
【図６】
2020094274.tif 000008
【図７】
2020094274.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】令和2年1月30日(2020.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＭＡＰ（一括モールド）リードフレーム、コネクターなどの被メッキ物の部分メッキ用の冶具、例えばマスキングゴム、スパージャー、それらを含む部分メッキ装置などに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の部分メッキ冶具を用いる部分メッキ装置用は、特許文献１、２にあるように、概要を示せば、図７のような構成である。
【０００３】
従来の部分メッキ装置１１は、メッキ液１０を通す穴１３ｂを有するマスキングゴム１３と、メッキ液１０を被メッキ物２に向け噴射する噴出口１４ｂ、及びメッキ液１０をメッキ液１０の貯留槽に送るための戻り口１４ｄを備え、メッキ液１０を循環させるスパージャー１４と、押さえゴム５と、プレスプレート６とからなり、被メッキ物２をマスキングゴム１３と押さえゴム５の間に挟持し、プレスプレート６でスパージャー１４方向に押圧するプレス方式によって部分メッキする。
【０００４】
従来のマスキングゴム１３の被メッキ物２に接触するマスク部１３ａの表面は一様に平滑面である。マスク部１３ａが一様に平坦、平滑面であると、プレス方式によるメッキでは、被メッキ物２、例えば、リードフレームはマスキングゴム１３に強く貼り付く。
【０００５】
そのため、被メッキ物を次の処理工程に進めるため、マスキングゴム１３に貼り付いた被メッキ物２を剥がす必要がある。その剥離の際、無理な剥離作業を行うと、被メッキ物２が変形し、不良品が多発する。他方、被メッキ物２の変形を抑制すべく、ゆっくりとした剥離作業にすれば生産性が低下する。
【０００６】
また、メッキ液１０は、スパージャー１４の往路１４ａの端部に連設する複数の噴出口１４ｂから被メッキ物２に向け噴射され、両サイドに位置する戻り口１４ｄから取り込まれ、復路１４ｃを通り、メッキ液１０の貯留槽に戻される。そして、再び往路１４ａに流れ、噴出口１４ｂから噴射される。このように、往路１４ａからメッキエリア、復路１４ｃへ繰り返し流され、循環使用される。戻り口１４ｄは、噴出口１４ｂの数に比べて圧倒的に数が少ない。
【０００７】
戻り口１４ｄが、噴出口１４ｂに比べ少なく、両サイドに位置すると、１箇所のメッキエリアごとに流入量と流出量（圧力）の制御ができず、メッキ厚にバラツキが生じ、また、マスキング圧力を吊り（図示省略）のみで支持するためマスキングゴムが変形、破損しやすく、使用回数が低くコスト高になる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−８１９９２号公報
【特許文献２】特開２００１−００７２６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで、本発明は、プレス方式の部分メッキ装置において、被メッキ物とマスキングゴムの貼り付き強度を低下させ、被メッキ物の剥離を容易にし、剥離の際の被メッキ物の変形不良品を抑制するマスキングゴムの提供、及び、メッキエリア単位ごとにメッキ液圧力の制御を可能にするスパージャーを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上記課題を解決するため、
（１）
メッキ液で部分メッキされる被メッキ物のメッキ処理面側に配置され、
前記被メッキ物のメッキしない部分に当接するマスク部と、前記メッキ液を通し前記被メッキ物のメッキ処理部に連通する穴を備え、
前記マスク部の前記被メッキ物に接触する表面が、
前記穴の周囲は前記メッキ液の漏出を起こさない幅を有する平らな平滑面で、
前記平滑面の周囲は表面を荒らした梨地面であることを特徴とする梨地マスキングゴム。
マスキングゴムを基材に貼り付け載置するスパージャーであって、
前記マスキングゴムの前記穴に連通する噴出口を有し、一括メッキ処理されるメッキ処理部のまとまりであるメッキエリアに送られる前記メッキ液を通す往路と、
回収される前記メッキ液の戻り口を有し、回収先に送られる前記メッキ液を通す復路と、
を備え、
前記噴出口が前記メッキエリアの中心部に相当する位置に設けられ、
前記メッキ液は前記マスキングゴムの底面側の前記基材の設けた分岐したガイドを通り前記穴に流れ、前記穴に連通する前記メッキエリアの複数のメッキ処理箇所に到達し、
前記戻り口は、前記メッキエリアに２以上設けられ、かつ１つの前記戻り口が２箇所又は４箇所の前記メッキエリアに連通することを特徴とするスパージャー。
とした。
【発明の効果】
【００１１】
本発明は、上記構成であるので、プレス方式の部分メッキ装置において、被メッキ物とマスキングゴムの貼り付き強度を低下させ、被メッキ物の剥離を容易にし、剥離の際の被メッキ物の変形不良品を低減することができる。
【００１２】
また、メッキ液の戻り口は、メッキ液の噴出口と同数、又は２以上、好ましくは、１つのメッキエリア単位ごとに外縁に位置し、噴出口の１箇所に対して２箇所又は４箇所設けられることで、１つのメッキエリア単位ごとメッキ液圧力を制御でき、マスキングゴムをメッキエリア単位毎に支えることができ、マスキングゴムの破損を低減することができる、ことを一番の特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明である梨地マスキングゴムと、スパージャーを含む部分メッキ装置の模式図である。
【図２】本発明である梨地マスキングゴムの説明図である。図２（Ａ）は平面図、図２（Ｂ）は（Ａ）のＡ部拡大図である。
【図３】本発明の第一の実施形態のスパージャーの説明である。図３（Ａ）は部分平面図、図３（Ｂ）は（Ａ）のＡ−Ａ‘位を含む部分断面矢視図、図３（Ｃ）は（Ｃ）Ｂ−Ｂ’位を含む部分断面矢視図である。
【図４】電気メッキ用の陽極の一例、線状陽極の平面図である。
【図５】本発明の第二の実施形態のスパージャーの説明である。図５（Ａ）は部分平面図、図５（Ｂ）は（Ａ）のＣ−Ｃ‘位を含む部分断面矢視図、図５（Ｃ）は（Ａ）Ｄ−Ｄ’位を含む部分断面矢視図である。
【図６】電気メッキ用の陽極の一例、線状陽極の平面図である。
【図７】従来の部分メッキ装置の縦断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、添付図面に基づき、本発明の実施の形態について詳細に説明する。ただし、本発明はそれら実施形態の形状、大きさに限定されるものではない。
【実施例１】
【００１５】
図１に、本発明の第一の実施形態である  マスキング部材３と、スパージャー４を含む部分メッキ装置１を示した。図１（Ａ）は、図１（Ｂ）のＡ−Ｂ位置断面矢視図である。なお、図１（Ｂ）においては、一点鎖線の構成（プレスプレート６，押さえゴム５，被メッキ物２）を透視し、マスキング部材３からの平面模式図である。
【００１６】
部分メッキ装置１は、マスキング部材３と、スパージャー４と、押さえゴム５と、プレスプレート６とからなり、被メッキ物２をマスキング部材３と押さえゴム５の間に挟持、押圧プレスして部分メッキする。
【００１７】
図１−２に示すように、マスキング部材３は、メッキ液１０で部分メッキされる被メッキ物２のメッキ処理面側に配置される梨地マスキングゴム３ｇと、梨地マスキングゴム３ｇを貼り付ける基材３ｈからなる。梨地マスキングゴム３ｇは、被メッキ物２のメッキしない部分に当接するマスク部３ａと、メッキ液１０を通し被メッキ物２のメッキエリア２ａに連通する穴３ｂを備える。ここでは、メッキエリア２ａは穴３ｂと一致する。
【００１８】
マスク部３ａの被メッキ物２に接触する表面において、穴３ｂの周囲はメッキ液１０の漏出を起こさない幅０．２ｍｍ〜３ｍｍ、より好ましくは０．５ｍｍ〜２ｍｍ、さらに好ましくは１ｍｍ〜１．５ｍｍ、１ｍｍ程度の平な平滑面３ｃとする。
【００１９】
さらに、平滑面３ｃの周囲は表面を荒らした梨地面３ｄとする。梨地面３ｄは、砂などの研磨材を梨地処理が必要な箇所に吹き付ける加工法、サンドブラスト法などで必要箇所に表面を荒らした梨地処理（細かな凹凸、段差、キズ）を施すことでできる。梨地面３ｄで被メッキ物２への貼りつきを抑え、平滑面３ｃでメッキ液１０の漏出も防止することができる。
【００２０】
スパージャー４は、例えば、図３に示すように、ベース部４ｅと、ベース部ｅの上層に線状陽極４ｇ（図４に平面例示、図３の線状陽極４ｇは図４Ｅ−Ｅ‘矢視断面）を配置する電極層４ｆを積層してなり、
梨地マスキングゴム３の穴３ｂに連通する噴出口４ｂを有し、一括メッキ処理されるメッキ処理部のまとまりであるメッキエリア２ａに送られるメッキ液１０を通す往路４ａと、
回収されるメッキ液１０の戻り口４ｄを有し、回収先に送られるメッキ液１０を通す復路４ｃと、
を備える。
【００２１】
梨地マスキングゴム３ｇの底面側には、図１，３に示すように、基材３ｈが配置され、穴３ｂと噴出口４ｂに連通するとともに穴３ｂに向け分岐し、傾斜面３ｅを備える空間であるガイド３ｆを有する。このガイド３ｆにより、往路４ａから復路４ｃに、メッキエリア２ａごとに、メッキ液１０の流れを形成し、圧力も調整できる。その結果、メッキ厚に均一性も高まる。
【００２２】
噴出口４ｂは、メッキエリア２ａの中心部に相当する位置（ここではベース部４ｅの開口）に設けられ、メッキ液１０は分岐したガイド３ｆを通り穴３ｂに流れ、穴３ｂに連通するメッキエリア２ａの複数のメッキ処理箇所に到達する。
【００２３】
戻り口４ｄは、メッキエリア２ａの四隅に４つ設けられ、かつ１つの戻り口４ｄが４箇所のメッキエリア２ａに連通する。
【実施例２】
【００２４】
次に、図５，６を参照して、第二の実施形態のスパージャー４ｎについて説明する。実施例１のスパージャー４と、ガイド３ｆが、平面視４５°回転し、戻り口４ｄの配置位置が、四角形状のメッキエリア２ａの二辺である点で異なる。当該配置であっても、実施例１と同様に、スムーズなメッキ液１０の流れ、適切な液圧を形成でき、メッキ厚の均一性精度も、従来に比べ高まる。
【００２５】
すなわち、  スパージャー４ｎは、例えば、図５に示すように、ベース部４ｅと、ベース部４ｅの上層に板状陽極４ｑ（図６に平面例示、図６の板状陽極４ｑは図６Ｆ−Ｆ‘矢視断面）を配置する電極層４ｐを積層してなり、
梨地マスキングゴム３の穴３ｂに連通する噴出口４ｂを有し、一括メッキ処理されるメッキ処理部のまとまりであるメッキエリア２ａに送られるメッキ液１０を通す往路４ａと、
回収されるメッキ液１０の戻り口４ｄを有し、回収先に送られるメッキ液１０を通す復路４ｃと、
を備える。なお、板状陽極４ｑの第一孔４ｓは往路４ａの一部を形成し、第二孔４ｔは復路４ｃの一部を形成する。
【００２６】
梨地マスキングゴム３ｇの底面側には、図５に示すように、基材３ｈが配置され、穴３ｂと噴出口４ｂに連通するとともに穴３ｂに向け分岐し、傾斜面３ｅを備える空間であるガイド３ｆを有する。このガイド３ｆにより、往路４ａから復路４ｃに、メッキエリア２ａごとに、メッキ液１０の流れを形成し、圧力も調整できる。その結果、メッキ厚に均一性も高まる。
【００２７】
噴出口４ｂは、メッキエリア２ａの中心部に相当する位置（ここではベース部４ｅの開口）に設けられ、メッキ液１０は分岐したガイド３ｆを通り穴３ｂに流れ、穴３ｂに連通するメッキエリア２ａの複数のメッキ処理箇所に到達する。
【００２８】
戻り口４ｄは、メッキエリア２ａの二辺に２つ設けられ、かつ１つの戻り口４ｄが２箇所のメッキエリア２ａに連通する。
【符号の説明】
【００２９】
１      部分メッキ装置    
２      被メッキ物
２ａ    メッキエリア
３      マスキング部材
３ａ    マスク部
３ｂ    穴
３ｃ    平滑面
３ｄ    梨地面
３ｅ    傾斜面
３ｆ    ガイド
３ｇ    梨地マスキングゴム
３ｈ    基材
４      スパージャー
４ａ    往路
４ｂ    噴出口
４ｃ    復路
４ｄ    戻り口
４ｅ    ベース部
４ｆ    電極層
４ｇ    線状陽極
４ｎ    スパージャー
４ｐ    電極層
４ｑ    板状陽極
４ｓ    第一孔
４ｔ    第二孔
５      押さえゴム
６      プレスプレート
１０    メッキ液
１１    従来の部分メッキ装置
１３    マスキングゴム
１３ａ  マスク部
１３ｂ  穴
１４    スパージャー
１４ａ  往路
１４ｂ  噴出口
１４ｃ  復路
１４ｄ  戻り口
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスキングゴムを基材に貼り付け載置するスパージャーであって、
前記マスキングゴムの前記穴に連通する噴出口を有し、一括メッキ処理されるメッキ処理部のまとまりであるメッキエリアに送られる前記メッキ液を通す往路と、
回収される前記メッキ液の戻り口を有し、回収先に送られる前記メッキ液を通す復路と、
を備え、
前記噴出口が前記メッキエリアの中心部に相当する位置に設けられ、
前記メッキ液は前記マスキングゴムの底面側の前記基材の設けた分岐したガイドを通り前記穴に流れ、前記穴に連通する前記メッキエリアの複数のメッキ処理箇所に到達し、
前記戻り口は、前記メッキエリアに２以上設けられ、かつ１つの前記戻り口が２箇所又は４箇所の前記メッキエリアに連通することを特徴とするスパージャー。