(57)【要約】【課題】被接触部位とプローブとの間の接触抵抗値を特定する。【解決手段】シート体１００の各被接触部位に接触しているプローブを介して入出力する電気信号（Ｓ１，Ｓ２）に基づいて各被接触部位の間の抵抗値を測定する測定処理を実行する測定部１１と、測定された抵抗値の測定値Ｒｍに基づいてシート体１００とプローブとの間の接触抵抗値Ｒｃを特定する特定処理を実行する処理部１６とを備え、測定部１１は、Ｎ（Ｎは３以上の自然数）箇所の被接触部位のうちの一対の被接触部位の間の抵抗値を測定する測定処理を、Ｎ箇所の被接触部位から一対の被接触部位を選択する全ての組み合わせであるＭ（Ｍ＝ＮＣ２）組の一対の被接触部位について実行し、処理部１６は、特定処理において、各測定処理で測定されたＭ個の測定値Ｒｍと、各組の一対の被接触部位の間の距離からそれぞれ算出される複数のパラメータとに基づいて接触抵抗値Ｒｃ値を特定する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定対象における複数の被接触部位に接触しているプローブを介して入出力する電気信号に基づいて当該各被接触部位の間の抵抗値を測定する測定処理を実行する測定部と、
前記測定部によって測定された前記抵抗値の測定値に基づいて前記測定対象と前記プローブとの間の接触抵抗値を特定する特定処理を実行する処理部とを備え、
前記測定部は、Ｎ（Ｎは３以上の自然数）箇所の前記被接触部位のうちの一対の被接触部位の間の前記抵抗値を測定する前記測定処理を、前記Ｎ箇所の被接触部位から前記一対の被接触部位を選択する全ての組み合わせであるＭ（Ｍ＝ＮＣ２）組の当該一対の被接触部位について実行し、
前記処理部は、前記特定処理において、前記各測定処理で測定されたＭ個の前記測定値と、前記各組の一対の被接触部位の間の距離からそれぞれ算出される複数のパラメータとに基づいて前記接触抵抗値を特定する測定装置。
【請求項２】
前記処理部は、前記特定処理において、前記各一対の被接触部位における各前記接触抵抗値と当該各接触抵抗値を含まない当該各一対の被接触部位の間の真の抵抗値とをそれぞれ未知の値とすると共に当該各一対の被接触部位の間の前記各測定値をそれぞれ既知の値とするＭ個の第１方程式と、各前記真の抵抗値をそれぞれ未知の値とすると共に前記各パラメータをそれぞれ既知の値とするＬ（Ｌ＝ＮＣ２−１）個の第２方程式とで構成された連立方程式を解いて前記各接触抵抗値を特定する請求項１記載の測定装置。
【請求項３】
前記処理部は、前記特定処理において、前記各パラメータを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌ）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍ）列の係数行列と、前記各未知の値を要素とするＪ次元の第１ベクトルと、前記各既知の値を要素とするＫ次元の第２ベクトルとで構成されて前記連立方程式に対応する行列方程式における当該係数行列の一般化逆行列を求め、当該一般化逆行列を用いて前記連立方程式を解く請求項２記載の測定装置。
【請求項４】
前記処理部は、前記特定処理において、前記パラメータを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌ、Ｌ＝ＮＣ２−１）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍ）列の係数行列、および未知の値としての前記各一対の被接触部位における各前記接触抵抗値と当該各接触抵抗値を含まない当該各一対の被接触部位の間の真の抵抗値とを要素とするＪ次元の第１ベクトルを乗算したベクトルと、前記既知の値を要素とするＫ次元の第２ベクトルとの差分を示す差分ベクトルを求める行列方程式に、前記未知の値の代入値を代入して当該差分ベクトルを算出し、当該差分ベクトルと予め決められた比較用ベクトルとを比較する比較処理を当該代入値を変更しつつ実行し、当該比較処理における比較結果が予め規定された規定条件を満たしたときの前記各接触抵抗値に対応する前記代入値を当該各接触抵抗値として特定する請求項１記載の測定装置。
【請求項５】
前記処理部は、いずれか１組の前記一対の被接触部位の間の距離と当該１組の一対の被接触部位を除く他の組み合わせの一対の被接触部位の間の距離との比率を前記パラメータとして用いて前記特定処理を実行する請求項１から４のいずれかに記載の測定装置。
【請求項６】
測定対象における複数の被接触部位に接触しているプローブを介して入出力する電気信号に基づいて当該各被接触部位の間の抵抗値を測定する測定処理を実行し、
前記測定処理によって測定した前記抵抗値の測定値に基づいて前記測定対象と前記プローブとの間の接触抵抗値を特定する特定処理を実行する際に、
Ｎ（Ｎは３以上の自然数）箇所の前記被接触部位のうちの一対の被接触部位の間の前記抵抗値を測定する前記測定処理を、前記Ｎ箇所の被接触部位から前記一対の被接触部位を選択する全ての組み合わせであるＭ（Ｍ＝ＮＣ２）組の当該一対の被接触部位について実行し、
前記特定処理において、前記各測定処理で測定されたＭ個の前記測定値と、前記各組の一対の被接触部位の間の距離からそれぞれ算出される複数のパラメータとに基づいて前記接触抵抗値を特定する測定方法。
【請求項７】
前記特定処理において、前記各一対の被接触部位における各前記接触抵抗値と当該各接触抵抗値を含まない当該各一対の被接触部位の間の真の抵抗値とをそれぞれ未知の値とすると共に当該各一対の被接触部位の間の前記各測定値をそれぞれ既知の値とするＭ個の第１方程式と、各前記真の抵抗値をそれぞれ未知の値とすると共に前記各パラメータをそれぞれ既知の値とするＬ（Ｌ＝ＮＣ２−１）個の第２方程式とで構成された連立方程式を解いて前記各接触抵抗値を特定する請求項６記載の測定方法。
【請求項８】
前記特定処理において、前記各パラメータを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌ）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍ）列の係数行列と、前記各未知の値を要素とするＪ次元の第１ベクトルと、前記各既知の値を要素とするＫ次元の第２ベクトルとで構成されて前記連立方程式に対応する行列方程式における当該係数行列の一般化逆行列を求め、当該一般化逆行列を用いて前記連立方程式を解く請求項７記載の測定方法。
【請求項９】
前記特定処理において、前記パラメータを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌ、Ｌ＝ＮＣ２−１）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍ）列の係数行列、および未知の値としての前記各一対の被接触部位における各前記接触抵抗値と当該各接触抵抗値を含まない当該各一対の被接触部位の間の真の抵抗値とを要素とするＪ次元の第１ベクトルを乗算したベクトルと、前記既知の値を要素とするＫ次元の第２ベクトルとの差分を示す差分ベクトルを求める行列方程式に、前記未知の値の代入値を代入して当該差分ベクトルを算出し、当該差分ベクトルと予め決められた比較用ベクトルとを比較する比較処理を当該代入値を変更しつつ実行し、当該比較処理における比較結果が予め規定された規定条件を満たしたときの前記各接触抵抗値に対応する前記代入値を当該各接触抵抗値として特定する請求項６記載の測定方法。
【請求項１０】
いずれか１組の前記一対の被接触部位の間の距離と当該１組の一対の被接触部位を除く他の組み合わせの一対の被接触部位の間の距離との比率を前記パラメータとして用いて前記特定処理を実行する請求項６から９のいずれかに記載の測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、測定対象とプローブとの間の接触抵抗の抵抗値（以下、「接触抵抗値」ともいう）を特定する測定装置および測定方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
測定対象の抵抗値を測定する装置として、下記特許文献１において出願人が開示した検査システムが知られている。この検査システムは、検査装置を備えて検査対象（電子部品）の良否を検査可能に構成されている。検査装置は、検査対象が接続されている被接触部位（プロービングポイント）に接触（プロービング）させたプローブを介して検査用の電気信号を供給したときにプローブを介して入力する電気信号に基づいて検査対象の抵抗値を測定する測定処理を実行する測定部を備えて構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１８−４０５７９号公報（第４−６頁、第１図）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、上記の検査システムを含む従来のこの種の装置には、改善すべき以下の課題がある。具体的には、従来の装置では、測定対象の被接触部位に接触させたプローブを介して入出力する電気信号に基づいて検査対象の抵抗値を測定しているが、抵抗値を正しく測定するためには、測定対象とプローブとの接触状態が良好である必要がある。この場合、測定対象とプローブとの接触状態の良否を判定する方法として、測定対象とプローブとの間の接触抵抗値を特定し、その接触抵抗値に基づいて接触状態の良否を判定する方法が考えられる。しかしながら、従来の装置には、測定対象とプローブとの間の接触抵抗値を特定する機能が備えられていないため、測定対象とプローブとの接触状態の良否を判定することが困難となっており、その改善が望まれている。
【０００５】
本発明は、かかる課題に鑑みてなされたものであり、被接触部位とプローブとの間の接触抵抗値を特定し得る測定装置および測定方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成すべく請求項１記載の測定装置は、測定対象における複数の被接触部位に接触しているプローブを介して入出力する電気信号に基づいて当該各被接触部位の間の抵抗値を測定する測定処理を実行する測定部と、前記測定部によって測定された前記抵抗値の測定値に基づいて前記測定対象と前記プローブとの間の接触抵抗値を特定する特定処理を実行する処理部とを備え、前記測定部は、Ｎ（Ｎは３以上の自然数）箇所の前記被接触部位のうちの一対の被接触部位の間の前記抵抗値を測定する前記測定処理を、前記Ｎ箇所の被接触部位から前記一対の被接触部位を選択する全ての組み合わせであるＭ（Ｍ＝ＮＣ２）組の当該一対の被接触部位について実行し、前記処理部は、前記特定処理において、前記各測定処理で測定されたＭ個の前記測定値と、前記各組の一対の被接触部位の間の距離からそれぞれ算出される複数のパラメータとに基づいて前記接触抵抗値を特定する。
【０００７】
また、請求項２記載の測定装置は、請求項１記載の測定装置において、前記処理部は、前記特定処理において、前記各一対の被接触部位における各前記接触抵抗値と当該各接触抵抗値を含まない当該各一対の被接触部位の間の真の抵抗値とをそれぞれ未知の値とすると共に当該各一対の被接触部位の間の前記各測定値をそれぞれ既知の値とするＭ個の第１方程式と、各前記真の抵抗値をそれぞれ未知の値とすると共に前記各パラメータをそれぞれ既知の値とするＬ（Ｌ＝ＮＣ２−１）個の第２方程式とで構成された連立方程式を解いて前記各接触抵抗値を特定する。
【０００８】
また、請求項３記載の測定装置は、請求項２記載の測定装置において、前記処理部は、前記特定処理において、前記各パラメータを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌ）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍ）列の係数行列と、前記各未知の値を要素とするＪ次元の第１ベクトルと、前記各既知の値を要素とするＫ次元の第２ベクトルとで構成されて前記連立方程式に対応する行列方程式における当該係数行列の一般化逆行列を求め、当該一般化逆行列を用いて前記連立方程式を解く。
【０００９】
また、請求項４記載の測定装置は、請求項１記載の測定装置において、前記処理部は、前記特定処理において、前記パラメータを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌ、Ｌ＝ＮＣ２−１）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍ）列の係数行列、および未知の値としての前記各一対の被接触部位における各前記接触抵抗値と当該各接触抵抗値を含まない当該各一対の被接触部位の間の真の抵抗値とを要素とするＪ次元の第１ベクトルを乗算したベクトルと、前記既知の値を要素とするＫ次元の第２ベクトルとの差分を示す差分ベクトルを求める行列方程式に、前記未知の値の代入値を代入して当該差分ベクトルを算出し、当該差分ベクトルと予め決められた比較用ベクトルとを比較する比較処理を当該代入値を変更しつつ実行し、当該比較処理における比較結果が予め規定された規定条件を満たしたときの前記各接触抵抗値に対応する前記代入値を当該各接触抵抗値として特定する。
【００１０】
また、請求項５記載の測定装置は、請求項１から４のいずれかに記載の測定装置において、前記処理部は、いずれか１組の前記一対の被接触部位の間の距離と当該１組の一対の被接触部位を除く他の組み合わせの一対の被接触部位の間の距離との比率を前記パラメータとして用いて前記特定処理を実行する。
【００１１】
また、請求項６記載の測定方法は、測定対象における複数の被接触部位に接触しているプローブを介して入出力する電気信号に基づいて当該各被接触部位の間の抵抗値を測定する測定処理を実行し、前記測定処理によって測定した前記抵抗値の測定値に基づいて前記測定対象と前記プローブとの間の接触抵抗値を特定する特定処理を実行する際に、Ｎ（Ｎは３以上の自然数）箇所の前記被接触部位のうちの一対の被接触部位の間の前記抵抗値を測定する前記測定処理を、前記Ｎ箇所の被接触部位から前記一対の被接触部位を選択する全ての組み合わせであるＭ（Ｍ＝ＮＣ２）組の当該一対の被接触部位について実行し、前記特定処理において、前記各測定処理で測定されたＭ個の前記測定値と、前記各組の一対の被接触部位の間の距離からそれぞれ算出される複数のパラメータとに基づいて前記接触抵抗値を特定する。
【００１２】
また、請求項７記載の測定方法は、請求項６記載の測定方法において、前記特定処理では、前記各一対の被接触部位における各前記接触抵抗値と当該各接触抵抗値を含まない当該各一対の被接触部位の間の真の抵抗値とをそれぞれ未知の値とすると共に当該各一対の被接触部位の間の前記各測定値をそれぞれ既知の値とするＭ個の第１方程式と、各前記真の抵抗値をそれぞれ未知の値とすると共に前記各パラメータをそれぞれ既知の値とするＬ（Ｌ＝ＮＣ２−１）個の第２方程式とで構成された連立方程式を解いて前記各接触抵抗値を特定する。
【００１３】
また、請求項８記載の測定方法は、請求項７記載の測定方法において、前記特定処理では、前記各パラメータを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌ）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍ）列の係数行列と、前記各未知の値を要素とするＪ次元の第１ベクトルと、前記各既知の値を要素とするＫ次元の第２ベクトルとで構成されて前記連立方程式に対応する行列方程式における当該係数行列の一般化逆行列を求め、当該一般化逆行列を用いて前記連立方程式を解く。
【００１４】
また、請求項９記載の測定方法は、請求項６記載の測定方法において、前記特定処理では、前記パラメータを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌ、Ｌ＝ＮＣ２−１）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍ）列の係数行列、および未知の値としての前記各一対の被接触部位における各前記接触抵抗値と当該各接触抵抗値を含まない当該各一対の被接触部位の間の真の抵抗値とを要素とするＪ次元の第１ベクトルを乗算したベクトルと、前記既知の値を要素とするＫ次元の第２ベクトルとの差分を示す差分ベクトルを求める行列方程式に、前記未知の値の代入値を代入して当該差分ベクトルを算出し、当該差分ベクトルと予め決められた比較用ベクトルとを比較する比較処理を当該代入値を変更しつつ実行し、当該比較処理における比較結果が予め規定された規定条件を満たしたときの前記各接触抵抗値に対応する前記代入値を当該各接触抵抗値として特定する。
【００１５】
また、請求項１０記載の測定方法は、請求項６から９のいずれかに記載の測定方法において、いずれか１組の前記一対の被接触部位の間の距離と当該１組の一対の被接触部位を除く他の組み合わせの一対の被接触部位の間の距離との比率を前記パラメータとして用いて前記特定処理を実行する。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１記載の測定装置、および請求項６記載の測定方法では、測定対象におけるＮ（Ｎは３以上の自然数）箇所の被接触部位のうちの一対の被接触部位の間の抵抗値を測定する測定処理を、Ｎ箇所の被接触部位から一対の被接触部位を選択する全ての組み合わせであるＭ（Ｍ＝ＮＣ２）組の一対の被接触部位について実行し、各測定処理で測定されたＭ個の測定値と、各組の一対の被接触部位の間の距離からそれぞれ算出される複数のパラメータとに基づいて接触抵抗値を特定する特定処理を実行する。このため、この測定装置および測定方法によれば、測定値だけでは特定することが困難な接触抵抗値を確実に特定することができる。したがって、この測定装置および測定方法によれば、特定した接触抵抗値に基づいて被接触部位とプローブとの接触状態の良否を判定し、接触状態が良好なときに測定対象の抵抗値を測定することができる。
【００１７】
また、請求項２記載の測定装置、および請求項７記載の測定方法では、特定処理において、各一対の被接触部位における各接触抵抗値と各接触抵抗値を含まない各一対の被接触部位の間の真の抵抗値とをそれぞれ未知の値とすると共に各一対の被接触部位の間の各測定値をそれぞれ既知の値とするＭ個の第１方程式と、各真の抵抗値をそれぞれ未知の値とすると共に各パラメータをそれぞれ既知の値とするＬ（Ｌ＝ＮＣ２−１）個の第２方程式とで構成された連立方程式を解いて各接触抵抗値を特定する。このため、この測定装置および測定方法によれば、Ｍ個の測定値から導き出されるＭ個の方程式だけで構成された連立方程式を解くことでは困難な未知数としての各接触抵抗値を確実に特定することができる。
【００１８】
また、請求項３記載の測定装置、および請求項８記載の測定方法では、特定処理において、パラメータを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌ）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍ）列の係数行列と、各未知の値を要素とするＪ次元の第１ベクトルと、各既知の値を要素とするＫ次元の第２ベクトルとで構成されて連立方程式に対応する行列方程式における係数行列の一般化逆行列を求め、一般化逆行列を用いて連立方程式を解く。このため、この測定装置および測定方法によれば、多元連立方程式（未知の値の数が多い連立方程式）を容易に解くことができるため、特定処理の処理効率を十分に向上させることができる。
【００１９】
また、請求項４記載の測定装置、および請求項９記載の測定方法では、特定処理において、パラメータを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌ、Ｌ＝ＮＣ２−１）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍ）列の係数行列、および未知の値としての各一対の被接触部位における各接触抵抗値と各接触抵抗値を含まない各一対の被接触部位の間の真の抵抗値とを要素とするＪ次元の第１ベクトルを乗算したベクトルと、既知の値を要素とするＫ次元の第２ベクトルとの差分を示す差分ベクトルを求める行列方程式に、未知の値の代入値を代入して差分ベクトルを算出し、差分ベクトルと予め決められた比較用ベクトルとを比較する比較処理を代入値を変更しつつ実行し、比較処理における比較結果が予め規定された規定条件を満たしたときの各接触抵抗値に対応する代入値を各接触抵抗値として特定する。このため、この測定装置および測定方法によれば、接触抵抗値を求めることの目的に応じて、比較用ベクトルの絶対値を小さい値に規定して規定条件を厳しくして特定処理によって特定する接触抵抗値の精度を向上させたり、接触抵抗値の精度に優先して特定処理の処理時間の短縮を図るために比較用ベクトルの絶対値を小さい値に規定して規定条件を緩和したりする調整を任意に行うことができる。
【００２０】
また、請求項５記載の測定装置、および請求項１０記載の測定方法では、いずれか一対の被接触部位の間の距離と他の組み合わせの一対の被接触部位の間の距離との比率をパラメータとして用いて特定処理を実行する。この場合、２組の一対の被接触部位の間の各抵抗値の比率が、２組の一対の被接触部位の間の距離の比率と等しい（または、ほぼ等しい）。このため、この測定装置および測定方法によれば、既知の値である２組の一対の被接触部位の間の距離の比率から未知の値である２組の一対の被接触部位の間の各抵抗値の比率との関係を正確に表す第２方程式を用いた連立方程式を解くことで接触抵抗値を正確に特定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】測定装置１の構成を示す構成図である。
【図２】シート体１００にプローブ２１を接触させた状態を説明する説明図である。
【図３】被接触部位Ｐ１〜Ｐ４を示すシート体１００の平面図である。
【図４】特定処理５０のフローチャートである。
【図５】被接触部位Ｐの組み合わせ毎の測定値Ｒｍを説明する説明図である。
【図６】被接触部位Ｐの組み合わせ毎のパラメータαを説明する説明図である。
【図７】被接触部位Ｐの組み合わせ毎の第１方程式を説明する説明図である。
【図８】被接触部位Ｐの組み合わせ毎の第２方程式を説明する説明図である。
【図９】特定処理６０のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、測定装置および測定方法の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。
【００２３】
最初に、測定装置の一例としての図１に示す測定装置１の構成について説明する。測定装置１は、同図に示すように、測定部１１、プローブユニット１２、操作部１３、記憶部１４、表示部１５および処理部１６を備え、例えば、図２，３に示すシート体１００（シート状の測定対象）の抵抗値Ｒｔ、および測定の際にシート体１００の表面１０１に接触させて電気信号（後述する測定用信号Ｓ１および入力信号Ｓ２）を入出力するためのプローブ２１とシート体１００との間の接触抵抗値Ｒｃを特定可能に構成されている。なお、抵抗値Ｒｔは、接触抵抗値Ｒｃを含まない（接触抵抗値Ｒｃが０のときの）真の抵抗値を意味する。
【００２４】
測定部１１は、シート体１００の表面１０１における互いに異なるＮ（Ｎは３以上の自然数であって、この例では、「４」）箇所の被接触部位Ｐ１〜Ｐ４（図３参照：以下、区別しないときには「被接触部位Ｐ」ともいう）に接触しているプローブユニット１２のプローブ２１（図２参照）を介して測定用信号Ｓ１（例えば、直流定電流）を供給している状態で各プローブ２１を介して入力する入力信号Ｓ２（例えば、直流電圧）に基づいて各被接触部位Ｐの間の抵抗値を測定する。具体的には、測定部１１は、各被接触部位Ｐのうちのいずれか一対の被接触部位Ｐの間の抵抗値を２端子法で測定する測定処理を、Ｎ（この例では、「４」）箇所の被接触部位Ｐから一対の被接触部位Ｐを選択する全ての組み合わせであるＭ（この例では、Ｍ＝４Ｃ２＝６）組の一対の被接触部位Ｐについて実行する。なお、測定部１１によって測定される抵抗値の測定値を以下「測定値Ｒｍ」ともいう。この場合、測定値Ｒｍには、各被接触部位Ｐの間の抵抗値Ｒｔ（真の抵抗値）、および各被接触部位Ｐにおける接触抵抗値Ｒｃが含まれている。
【００２５】
プローブユニット１２は、図２に示すように、シート体１００における被接触部位Ｐの数と同数（この例では、４本）のプローブ２１と、プローブ２１を支持する支持部２２とを備えて構成されている。この場合、各プローブ２１は、各被接触部位Ｐの配置パターン（図３参照）と同じ配置パターンで支持部２２によって支持されている。
【００２６】
操作部１３は、各種のボタンやキーを備え、これらが操作されたときに操作信号を出力する。
【００２７】
記憶部１４は、処理部１６の制御に従い、測定部１１によって測定された測定値Ｒｍを記憶する。また、記憶部１４は、処理部１６によって特定される接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔを記憶する。
【００２８】
表示部１５は、処理部１６の制御に従い、処理部１６によって実行される特定処理５０（図４参照）において特定される接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔを表示する。
【００２９】
処理部１６は、操作部１３から出力される操作信号に従って測定部１１、記憶部１４、および表示部１５を制御すると共に、各種の処理を実行する。具体的には、処理部１６は、測定部１１によって測定された抵抗値の測定値Ｒｍに基づいて被接触部位Ｐとプローブ２１との間の接触抵抗値Ｒｃ、および一対の被接触部位Ｐの間の抵抗値Ｒｔを特定する特定処理５０（図４参照）を実行する。この場合、処理部１６は、特定処理５０において、測定部１１によって実行されるＭ（この例では、「６」）組の一対の被接触部位Ｐについての各測定処理で測定されたＭ個の測定値Ｒｍと、Ｍ組の一対の被接触部位Ｐの間の距離（図３に示す距離ｄ１２〜ｄ３４：（以下、距離ｄ１２〜ｄ３４を区別しないときには「距離ｄ」ともいう）を用いて算出されるパラメータαとに基づいて接触抵抗値Ｒｃを特定する。
【００３０】
次に、測定装置１を用いて、シート体１００とプローブ２１との間の接触抵抗値Ｒｃおよびシート体１００の抵抗値Ｒｔ（真の抵抗値）を特定する方法（測定方法）について説明する。なお、上記したように、シート体１００の表面１０１における４（Ｎの一例）箇所の被接触部位Ｐにプローブ２１をそれぞれ接触させて６（Ｍ組の一例）組の一対の被接触部位Ｐの間の抵抗値を測定し、測定した抵抗値の各測定値Ｒｍを用いて、４箇所の被接触部位Ｐにおける４個の接触抵抗値Ｒｃおよび６組の一対の被接触部位Ｐの間の６個の抵抗値Ｒｔを特定する例について説明する。
【００３１】
まず、図２に示すように、載置台２００の上にシート体１００を載置する。次いで、各プローブ２１の先端部を下向きにした状態のプローブユニット１２をシート体１００の上に載置する。この際に、同図に示すように、シート体１００の表面１０１における各被接触部位Ｐに各プローブ２１の先端部がそれぞれ接触する。
【００３２】
続いて、操作部１３を操作して測定の開始を指示する。これに応じて、処理部１６が、図４に示す特定処理５０を実行する。この特定処理５０では、処理部１６は、測定部１１に対して測定処理の実行を指示する（ステップ５１）。
【００３３】
これに応じて、測定部１１は、１回目の測定処理を実行する。１回目の測定処理では、測定部１１は、被接触部位Ｐ１〜Ｐ４のうちのいずれか一対の被接触部位Ｐ（例えば、被接触部位Ｐ１，Ｐ２）を選択し、被接触部位Ｐ１，Ｐ２に接触しているプローブ２１を介して図外の電源部から出力させた測定用信号Ｓ１（一例として、直流定電流）を被接触部位Ｐ１，Ｐ２に供給する。次いで、測定部１１は、測定用信号Ｓ１の供給によって各プローブ２１を介して入力する入力信号Ｓ２（例えば、直流電圧）に基づいて（測定用信号Ｓ１の電流値と入力信号Ｓ２の電圧値とに基づいて）被接触部位Ｐ１，Ｐ２の間の抵抗値を２端子法で測定する。
【００３４】
続いて、測定部１１は、２回目の測定処理を実行する。２回目の測定処理では、測定部１１は、一対の被接触部位Ｐの組み合わせを変更して、例えば、被接触部位Ｐ１，Ｐ３を選択する。次いで、測定部１１は、被接触部位Ｐ１，Ｐ３に接触しているプローブ２１を介して被接触部位Ｐ１，Ｐ３に測定用信号Ｓ１を供給すると共に、各プローブ２１を介して入力する入力信号Ｓ２に基づいて被接触部位Ｐ１，Ｐ３の間の抵抗値を２端子法で測定する。
【００３５】
以下同様にして、測定部１１は、一対の被接触部位Ｐの組み合わせを変更しつつ測定処理を実行する。つまり、測定部１１は、被接触部位Ｐ１〜Ｐ４のうちのいずれか一対の被接触部位Ｐの間の抵抗値を２端子法で測定する測定処理を、４箇所の被接触部位Ｐから一対の被接触部位Ｐを選択する全ての組み合わせである６組の一対の被接触部位Ｐについて実行する。
【００３６】
また、処理部１６は、測定部１１によって測定された６組の一対の被接触部位Ｐの間の６個の測定値Ｒｍを一対の被接触部位Ｐを示す情報と関連づけて記憶部１４に記憶させる（ステップ５２）。なお、図５に示すように、一対の被接触部位Ｐの組み合わせ毎の測定値Ｒｍを区別するために、一対の被接触部位Ｐの組み合わせを示す符号を各測定値Ｒｍに付して（例えば、被接触部位Ｐ１，Ｐ２の測定値Ｒｍについては「１２」の符号をＲｍに付して）以下説明する。
【００３７】
続いて、処理部１６は、測定値Ｒｍを用いて、４箇所の被接触部位Ｐにおける４個の接触抵抗値Ｒｃ、および６組の一対の被接触部位Ｐの間の６個の抵抗値Ｒｔを特定する。なお、図７に示すように、被接触部位Ｐ毎の接触抵抗値Ｒｃを区別するために、被接触部位Ｐを示す符号を各接触抵抗値Ｒｃに付して（例えば、被接触部位Ｐ１の接触抵抗値Ｒｃについては「１」の符号をＲｃに付してＲｃ１として）以下説明する。また、同図に示すように、一対の被接触部位Ｐの組み合わせ毎の抵抗値Ｒｔを区別するために、一対の被接触部位Ｐの組み合わせを示す符号を各抵抗値Ｒｔに付して（例えば、被接触部位Ｐ１，Ｐ２の抵抗値Ｒｔについては「１２」の符号をＲｔに付して）以下説明する。
【００３８】
具体的には、処理部１６は、一対の被接触部位Ｐにおける各接触抵抗値Ｒｃ、および一対の被接触部位Ｐの間の抵抗値Ｒｔをそれぞれ未知の値とすると共に一対の被接触部位Ｐの間の抵抗値の測定値Ｒｍをそれぞれ既知の値とする６（Ｍ）組の一対の被接触部位Ｐについての６（Ｍ）個の方程式（以下、この方程式を「第１方程式」ともいう）を生成する（ステップ５３）。この場合、一対の被接触部位Ｐにおける２個の接触抵抗値Ｒｃと一対の被接触部位Ｐの間の抵抗値Ｒｔとの和（合成抵抗）が測定値Ｒｍに相当する。したがって、処理部１６は、例えば、被接触部位Ｐ１，Ｐ２について、Ｒｃ１＋Ｒｃ２＋Ｒｔ１２＝Ｒｍ１２との第１方程式を生成する。同様にして、処理部１６は、図７に示すように、合計で６個の第１方程式を生成する。
【００３９】
ここで、４（Ｎ）個の接触抵抗値Ｒｃおよび６（Ｍ）個の抵抗値Ｒｔ、すなわち合計で１０（Ｎ＋Ｍ）個の未知数は、１０個以上の方程式で構成された連立方程式の解として求めることができる。しかしながら、６個の測定値Ｒｍから生成できる方程式は、上記した６個の第１方程式に限られるため、この６個の第１方程式で構成された連立方程式から１０個の未知数、すなわち４個の接触抵抗値Ｒｃおよび６個の抵抗値Ｒｔを正確に求めるのは困難である。そこで、発明者らは、上記した６（Ｍ）個の方程式に加えて、測定値Ｒｍ以外のパラメータを用いた方程式の利用の可否を検討した。この結果、発明者らは、抵抗値Ｒｔと各被接触部位Ｐの間の距離ｄとの間に相関関係があることに着目して、抵抗値Ｒｔを距離ｄの関数として表すことができることを見いだし、距離ｄから算出されるパラメータαを用いた方程式を抵抗値Ｒｔおよび接触抵抗値Ｒｃの特定に利用することとした。さらに、発明者らは、２組の一対の被接触部位Ｐの間の各抵抗値Ｒｔの比率が、２組の一対の被接触部位Ｐの間の各距離ｄの比率と等しい（または、ほぼ等しい）ことを見いだし、２組の一対の被接触部位Ｐの間の各距離ｄの比率をパラメータαとして用いた方程式を、特定処理５０において、次のようにして処理部１６に生成させることとした。
【００４０】
まず、処理部１６は、距離ｄからパラメータαを算出する（ステップ５４）。この場合、処理部１６は、６組の一対の被接触部位Ｐの中の１組として例えば被接触部位Ｐ１，Ｐ２を選択し、被接触部位Ｐ１，Ｐ２の間の距離ｄ１２（図３参照）を基準として、距離ｄ１２に対する、他の組み合わせの一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄ１３〜ｄ３４（同図参照）の比率（全部でＬ（Ｌ＝ＮＣ２−１であって、この例では「５」）個の比率）をパラメータαとして算出する。なお、図６に示すように、一対の被接触部位Ｐの組み合わせ毎のパラメータαを区別するために、一対の被接触部位Ｐの組み合わせを示す符号を各パラメータαに付して（例えば、被接触部位Ｐ１，Ｐ２の間の距離ｄ１２に対する被接触部位Ｐ１，Ｐ３の間の距離ｄ１３の比率であるパラメータα（α＝ｄ１３／ｄ１２）については「１３」の符号をαに付してα１３として）以下説明する。
【００４１】
次いで、処理部１６は、算出した５個のパラメータαを用いた方程式（以下、この方程式を「第２方程式」ともいう）を生成する（ステップ５５）。具体的には、処理部１６は、抵抗値Ｒｔを未知の値とすると共に各パラメータαを既知の値とする第２方程式を生成する。この場合、上記したように、２組の一対の被接触部位Ｐの間の各抵抗値Ｒｔの比率が、２組の一対の被接触部位Ｐの間の各距離ｄの比率と等しい（または、ほぼ等しい）ため、例えば、一対の被接触部位Ｐ１，Ｐ２および一対の被接触部位Ｐ１，Ｐ３の各抵抗値Ｒｔおよび各距離ｄについて、Ｒｔ１３／Ｒｔ１２＝ｄ１３／ｄ１２＝α１３の関係が成り立つ。このことから、処理部１６は、パラメータα１３を用いて、−α１３×Ｒｔ１２＋Ｒｔ１３＝０との第２方程式を生成する。同様にして、処理部１６は、図８に示すように、パラメータαを用いて、合計でＬ（Ｌ＝ＮＣ２−１であって、この例では「５」）個の第２方程式の第２方程式を生成する。
【００４２】
続いて、処理部１６は、６（Ｍ）個の第１方程式および５（Ｌ）個の第２方程式（合計で１１個の方程式）で構成された連立方程式を解いて抵抗値Ｒｔおよび接触抵抗値Ｒｃを特定する。この場合、処理部１６は、次のようにして、行列およびベクトルを用いて連立方程式を解く。
【００４３】
処理部１６は、まず、上記した連立方程式に対応する次に示す行列方程式（１）を生成する（ステップ５６）。
Ａ・Ｒ↑＝Ｒｍ↑・・・行列方程式（１）
この場合、行列方程式（１）におけるＡは、下記［数１］に示すように、上記したステップ５４において算出した各パラメータαを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌであって、この例では、「１１」）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍであって、この例では、「１０」）列の係数行列を表す。
【００４４】
【数１】
2020101375.tif 000003
【００４５】
また、行列方程式（１）におけるＲ↑は、下記［数２］に示すように、未知の値である接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔを要素とするＪ（この例では、「１０」）次元のベクトル（以下、「第１ベクトル」ともいう）を表す。
【００４６】
【数２】
2020101375.tif 000004
【００４７】
また、行列方程式（１）におけるＲｍ↑は、下記［数３］に示すように、既知の値である測定値Ｒｍ、および第２方程式の右辺の値であって既知の値である「０」を要素とするＫ（この例では、「１１」）次元のベクトル（以下、「第２ベクトル」ともいう）を表す。
【００４８】
【数３】
2020101375.tif 000005
【００４９】
次いで、処理部１６は、上記行列方程式（１）におけるＡ（係数行列）の一般化逆行列を求める（ステップ５７）。この場合、処理部１６は、一例として、ムーア・ペンローズの疑似逆行列を一般化逆行列として求める。なお、ムーア・ペンローズの疑似逆行列を含む一般化逆行列を求めるアルゴリズムは公知のため、求め方についての詳細な説明を省略する。
【００５０】
続いて、処理部１６は、一般化逆行列を用いて、接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔを特定する（ステップ５８）。具体的には、処理部１６は、次に示す行列方程式（２）から上記した第１ベクトル（Ｒ↑）を算出する。
Ｒ↑＝Ａ＋・Ｒｍ↑・・・行列方程式（２）
【００５１】
この場合、行列方程式（２）におけるＡ＋は、上記したステップ５６において生成した行列方程式（１）におけるＡ（各パラメータαを要素として含むＫ（１１）行、Ｊ（１０）列の係数行列）の一般化逆行列（ムーア・ペンローズの疑似逆行列）を表す。また、行列方程式（２）におけるＲｍ↑は、上記した第２ベクトルを表す。つまり、処理部１６は、一般化逆行列と第２ベクトルとを乗算して第１ベクトルを算出し、算出した第１ベクトルを構成する各要素を接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔとして特定する。
【００５２】
次いで、処理部１６は、特定した接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔを記憶部１４に記憶させると共に、表示部１５に表示させて（ステップ５９）、特定処理５０を終了する。
【００５３】
この場合、表示部１５に表示された接触抵抗値Ｒｃと、接触状態が良好なときの接触抵抗値として予め決められた基準値とを比較してシート体１００の被接触部位Ｐとプローブ２１との接触状態の良否を判定することができる。具体的には、接触抵抗値Ｒｃが基準値以下のときには、被接触部位Ｐとプローブ２１との接触状態が良好であると判断することができ、この際には、その状態（接触状態が良好な状態）で測定した測定値Ｒｍに基づいて特定した抵抗値Ｒｔをシート体１００の抵抗値として採用することができる。
【００５４】
なお、例えば、基準値を記憶部１４に予め記憶させ、処理部１６が、基準値を記憶部１４から読み出して、特定した接触抵抗値Ｒｃと基準値とを比較してシート体１００の被接触部位Ｐとプローブ２１との接触状態の良否を判定し、判定結果を表示部１５に表示させる構成および方法を採用することもできる。
【００５５】
このように、この測定装置１および測定方法では、シート体１００における４（Ｎ）箇所の被接触部位Ｐのうちのいずれか一対の被接触部位Ｐの間の抵抗値を測定する測定処理を、４箇所の被接触部位Ｐから一対の被接触部位Ｐを選択する全ての組み合わせである６（Ｍ）組の一対の被接触部位Ｐについて実行し、各測定処理で測定された６（Ｍ）個の抵抗値の測定値Ｒｍと、各組の一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄからそれぞれ算出されるパラメータαとに基づいてシート体１００とプローブ２１との間の接触抵抗値Ｒｃを特定する特定処理５０を実行する。このため、この測定装置１および測定方法によれば、測定値Ｒｍだけでは特定することが困難な接触抵抗値Ｒｃを確実に特定することができる。したがって、この測定装置１および測定方法によれば、特定した接触抵抗値Ｒｃに基づいて被接触部位Ｐとプローブとの接触状態の良否を判定し、接触状態が良好なときに測定対象の抵抗値を測定することができる。
【００５６】
また、この測定装置１および測定方法では、特定処理５０において、一対の被接触部位Ｐにおける各接触抵抗値Ｒｃと一対の被接触部位Ｐの間の真の抵抗値Ｒｔとをそれぞれ未知の値とすると共に一対の被接触部位Ｐの間の測定値Ｒｍをそれぞれ既知の値とする６（Ｍ）組の一対の被接触部位Ｐについての６（Ｍ）個の第１方程式と、抵抗値Ｒｔを未知の値とすると共にパラメータαを既知の値とする５（Ｌ）個の第２方程式とで構成された連立方程式を解いて各接触抵抗値Ｒｃを特定する。このため、この測定装置１および測定方法によれば、６（Ｍ）個の測定値Ｒｍから導き出される６（Ｍ）個の方程式だけで構成された連立方程式を解くことでは困難な１０（Ｍ＋Ｎ）個の未知数としての各接触抵抗値Ｒｃおよび各抵抗値Ｒｔを確実に特定することができる。
【００５７】
また、この測定装置１および測定方法では、特定処理５０において、パラメータαを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌであって、この例では「１１」）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍであって、この例では「１０」）列の係数行列Ａと、未知の値を要素とするＪ次元の第１ベクトルと、既知の値を要素とするＫ次元の第２ベクトルとで構成されて連立方程式に対応する行列方程式における係数行列Ａの一般化逆行列Ａ＋を求め、一般化逆行列Ａ＋を用いて連立方程式を解く。このため、この測定装置１および測定方法によれば、多元連立方程式（未知の値の数が多い連立方程式）を容易に解くことができるため、特定処理５０の処理効率を十分に向上させることができる。
【００５８】
また、この測定装置１および測定方法では、いずれか一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄと他の組み合わせの一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄとの比率をパラメータとして用いて特定処理５０を実行する。この場合、２組の一対の被接触部位Ｐの間の各抵抗値Ｒｔの比率が、２組の一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄの比率と等しい（または、ほぼ等しい）。このため、この測定装置１および測定方法によれば、既知の値である２組の一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄの比率から未知の値である２組の一対の被接触部位Ｐの間の各抵抗値Ｒｔの比率との関係を正確に表す第２方程式を用いた連立方程式を解くことで接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔを正確に特定することができる。
【００５９】
次に、測定装置の他の一例としての図１に示す測定装置１Ａおよび測定装置１Ａを用いる測定方法について説明する。なお、以下の説明において、上記した測定装置１および測定方法と同様の構成要素および動作等については、同じ符号を付して、重複する説明を省略する。
【００６０】
この測定装置１Ａでは、処理部１６が、特定処理５０に代えて、図９に示す特定処理６０を実行する。この特定処理６０では、処理部１６は、測定部１１に対して測定処理の実行を指示する（ステップ６１）。これに応じて、測定部１１は、一対の被接触部位Ｐの間の抵抗値を２端子法で測定する測定処理を、４（Ｎ）箇所の被接触部位Ｐから一対の被接触部位Ｐを選択する全ての組み合わせである６（Ｍ）組の一対の被接触部位Ｐについて実行する。また、処理部１６は、測定部１１によって測定された６組の一対の被接触部位Ｐの間の６（Ｍ）個の測定値Ｒｍを一対の被接触部位Ｐを示す情報と関連づけて記憶部１４に記憶させる（ステップ６２）。
【００６１】
続いて、処理部１６は、パラメータαとして、被接触部位Ｐ１，Ｐ２の間の距離ｄ１２に対する、他の５組の組み合わせの一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄ１３〜ｄ３４のＬ（Ｌ＝ＮＣ２−１であって、この例では「５」）個の比率を算出する（ステップ６３）。
【００６２】
次いで、処理部１６は、次に示す行列方程式（３）を生成する（ステップ６４）。
Ａ・Ｒ↑−Ｒｍ↑＝Ｒｄ↑・・・行列方程式（３）
この場合、行列方程式（３）におけるＡは、上記した［数１］と同様にして、上記したステップ６３において算出した各パラメータαを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌであって、この例では、「１１」）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍであって、この例では、「１０」）列の係数行列を表す。
【００６３】
また、行列方程式（３）におけるＲ↑は、上記した［数２］と同様にして、未知の値である接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔを要素とするＪ（この例では、「１０」）次元の第１ベクトルを表す。
【００６４】
また、行列方程式（３）におけるＲｍ↑は、上記した［数３］と同様にして、既知の値を要素とするＫ（この例では、「１１」）次元の第２ベクトルを表す。
【００６５】
また、行列方程式（３）におけるＲｄ↑は、係数行列Ａおよび第１ベクトルＲ↑を乗算したベクトルと第２ベクトルＲｍ↑との差分を示すベクトル（以下、「差分ベクトル」ともいう）を表す。
【００６６】
続いて、処理部１６は、上記した行列方程式（３）における第１ベクトルＲ↑を構成する要素としての接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔ（未知の値）に任意の値を代入してシート体１００についての接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔを特定する処理を実行する。具体的には、処理部１６は、接触抵抗値Ｒｃに代入する値（以下、接触抵抗値Ｒｃに代入する値を「代入接触抵抗値Ｒｐｃ」ともいう）、および抵抗値Ｒｔに代入する値（以下、抵抗値Ｒｔに代入する値を「代入抵抗値Ｒｐｔ」ともいう）の各初期値を設定する（ステップ６５）。この場合、初期値として設定する代入接触抵抗値Ｒｐｃおよび代入抵抗値Ｒｐｔは、任意の値に設定することができる。一例として、各代入接触抵抗値Ｒｐｃの初期値を０Ωに設定したり、代入抵抗値Ｒｐｔの初期値を、シート体１００の抵抗率、シート体１００の断面積および一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄから算出される抵抗値に設定したりすることができる。
【００６７】
次いで、処理部１６は、代入接触抵抗値Ｒｐｃおよび代入抵抗値Ｒｐｔの初期値を行列方程式（３）に代入して、差分ベクトルＲｄ↑を算出する（ステップ６６）。
【００６８】
続いて、処理部１６は、記憶部１４に予め記憶されている比較用ベクトルε↑を読み出し、差分ベクトルＲｄ↑の絶対値と比較用ベクトルε↑の絶対値とを比較する比較処理を実行する（ステップ６７）。具体的には、処理部１６は、差分ベクトルＲｄ↑の絶対値が比較用ベクトルε↑の絶対値未満であるか否かを判別する。この場合、処理部１６は、ステップ６７において、差分ベクトルＲｄ↑の絶対値が比較用ベクトルε↑の絶対値以上（差分ベクトルＲｄ↑の絶対値が比較用ベクトルε↑の絶対値未満ではない）と判別したときには、代入接触抵抗値Ｒｐｃおよび代入接触抵抗値Ｒｐｃを変更して（ステップ６８）、上記したステップ６６，６７を実行する。以下、処理部１６は、ステップ６７において、差分ベクトルＲｄ↑の絶対値が比較用ベクトルε↑の絶対値以上と判別したときには、ステップ６６，６７を繰り返して実行する。
【００６９】
一方、処理部１６は、ステップ６７において、差分ベクトルＲｄ↑の絶対値が比較用ベクトルε↑の絶対値未満である（予め規定された規定条件を満たした）と判別したときには、その時点において行列方程式（３）に代入した代入接触抵抗値Ｒｐｃおよび代入抵抗値Ｒｐｔをシート体１００についての接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔとして決定し（ステップ６９）、決定した接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔを記憶部１４に記憶させると共に、表示部１５に表示させて（ステップ７０）、特定処理６０を終了する。
【００７０】
このように、この測定装置１Ａおよび測定方法においても、シート体１００における４（Ｎ）箇所の被接触部位Ｐのうちのいずれか一対の被接触部位Ｐの間の抵抗値を測定する測定処理を、４箇所の被接触部位Ｐから一対の被接触部位Ｐを選択する全ての組み合わせである６（Ｍ）組の一対の被接触部位Ｐについて実行し、各測定処理で測定された６（Ｍ）個の抵抗値の測定値Ｒｍと、各組の一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄを用いて算出されるパラメータαとに基づいてシート体１００とプローブ２１との間の接触抵抗値Ｒｃを特定する特定処理６０を実行する。このため、この測定装置１Ａおよび測定方法によれば、測定値Ｒｍだけでは特定することが困難な接触抵抗値Ｒｃを確実に特定することができる。したがって、この測定装置１Ａおよび測定方法によれば、特定した接触抵抗値Ｒｃに基づいて被接触部位Ｐとプローブとの接触状態の良否を判定し、接触状態が良好なときに測定対象の抵抗値を測定することができる。
【００７１】
また、この測定装置１Ａおよび測定方法では、特定処理６０において、パラメータαを要素として含むＫ（Ｋ＝Ｍ＋Ｌであって、この例では「１１」）行、Ｊ（Ｊ＝Ｎ＋Ｍであって、この例では「１０」）列の係数行列Ａ、および未知の値を要素とするＪ次元の第１ベクトルＲ↑を乗算したベクトルと、既知の値を要素とするＫ次元の第２ベクトルＲｍ↑との差分を示す差分ベクトルＲｄ↑を求める行列方程式（３）に、未知の値の代入値（代入接触抵抗値Ｒｐｃおよび代入抵抗値Ｒｐｔ）を代入して差分ベクトルＲｄ↑を算出し、差分ベクトルＲｄ↑と比較用ベクトルε↑とを比較する比較処理を代入値を変更しつつ実行し、比較処理における比較結果が予め規定された規定条件を満たしたときの代入接触抵抗値Ｒｐｃおよび代入抵抗値Ｒｐｔを各接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔとして特定する。このため、この測定装置１Ａおよび測定方法によれば、接触抵抗値Ｒｃを求めることの目的に応じて、比較用ベクトルε↑の絶対値を小さい値に規定して規定条件を厳しくして特定処理６０によって特定する接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔの精度を向上させたり、接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔの精度に優先して特定処理６０の処理時間の短縮を図るために比較用ベクトルε↑の絶対値を小さい値に規定して規定条件を緩和したりする調整を任意に行うことができる。
【００７２】
また、この測定装置１Ａおよび測定方法においても、いずれか一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄと他の組み合わせの一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄとの比率をパラメータとして用いて特定処理６０を実行する。このため、この測定装置１Ａおよび測定方法では、既知の値である２組の一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄの比率から未知の値である２組の一対の被接触部位Ｐの間の各抵抗値Ｒｔの比率との関係を正確に表すパラメータαを用いて係数行列Ａを用いることで、接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔを正確に特定することができる。
【００７３】
なお、測定装置、測定方法および測定対象は、上記の構成、方法および測定対象に限定されない。例えば、Ｎ箇所の一例として４箇所の被接触部位Ｐから一対の被接触部位Ｐを選択する全ての組み合わせであるＭ組（４Ｃ２組）としての６組の一対の被接触部位Ｐについて測定処理を実行し、各測定処理で測定されたＭ個（４Ｃ２個）の測定値Ｒｍと、各組の一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄから算出されるパラメータαとに基づいて接触抵抗値Ｒｃを特定する例について上記したが、被接触部位Ｐの数であるＮ箇所は、３箇所以上の任意の箇所数とする（Ｎを３以上の任意の自然数に規定する）ことができる。この場合、例えば、Ｎを３に規定したときには、Ｎ（３）箇所の被接触部位Ｐにおける３個の接触抵抗値ＲｃとＭ（３Ｃ２）組としての３組の一対の被接触部位Ｐの間の３個の抵抗値Ｒｔとの合計６個が未知の値となる。一方、これらの未知の値を特定する際には、３組の一対の被接触部位Ｐについての測定処理で測定した３個の測定値Ｒｍに基づいてＭ（３Ｃ２）個としての３個の第１方程式と、Ｌ（３Ｃ２−１）個としての２個の第２方程式の合計５個の方程式しか生成することができない。つまり、未知の値である接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔの数よりも方程式の数が少ないこととなる。このため、これらの５個の方程式で構成された連立方程式から未知の値である接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔを特定したときには、やや正確性に欠けるおそれがある。これに対して、Ｎが４以上のときには、未知の値である接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔの数よりも方程式の数が多くなるため、各方程式で構成される連立方程式を解くことによって各接触抵抗値Ｒｃおよび各抵抗値Ｒｔを正確に特定することができる。このため、Ｎを４以上の自然数に規定するのが好ましい。
【００７４】
また、シート体１００（シート状の物体）を測定対象とした例について上記したが、測定対象の形状は、シート状に限定されず任意の形状の物体を測定対象とすることができる。また、電気部品を測定対象として、電気部品の端子を被接触部位Ｐとして電気部品の抵抗値Ｒｔを測定する際の接触抵抗値Ｒｃを測定する際に適用することもできる。
【００７５】
また、一般化逆行列（疑似逆行列）としてムーア・ベンローズの疑似逆行列を用いる例について上記したが、最小二乗型疑似逆行列や最小ノルム型一般化逆行列等の他の一般化逆行列を用いる構成および方法を採用することもできる。
【００７６】
また、測定用信号Ｓ１として直流定電流を用いる例について上記したが、電流測定部を備えて電流値を測定可能な構成および方法を採用するときには、直流定電流に代えて直流電流を測定用信号Ｓ１として用いることもできる。また、直流電流に代えて、交流電流（一例として、交流定電流）を測定用信号Ｓ１として用いる構成および方法を採用することもできる。
【００７７】
また、一対の被接触部位Ｐ１，Ｐ２の間の距離ｄ１２を基準として、距離ｄ１２に対する他の組み合わせの一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄ１３〜ｄ３４の比率をパラメータαとして用いる例について上記したが、被接触部位Ｐ１，Ｐ２以外の他の組み合わせの一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄを基準とする比率をパラメータαとして用いる構成および方法を採用することもできる。
【００７８】
また、いずれか一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄに対する、他の組み合わせの一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄの比率をパラメータαとして用いる構成および方法に代えて、いずれか一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄと、他の組み合わせの一対の被接触部位Ｐの間の距離ｄとの差分値をパラメータαとして用いる構成および方法を採用することもできる。
【００７９】
また、特定処理５０，６０において接触抵抗値Ｒｃおよび抵抗値Ｒｔを特定する例について上記したが、特定処理５０，６０において接触抵抗値Ｒｃだけを特定する構成および方法を採用することもできる。
【符号の説明】
【００８０】
１，１Ａ  測定装置
１１  測定部
１６  処理部
２１  プローブ
１００  シート体
α  パラメータ
ε↑  比較用ベクトル
Ａ  係数行列
Ａ＋  一般化逆行列
ｄ  距離
ｄ↑  差分ベクトルＲ
Ｐ１〜Ｐ４  被接触部位
Ｒｃ  接触抵抗値
Ｒｄ↑  差分ベクトル
Ｒｍ  測定値
Ｒｍ↑  第２ベクトル
Ｒｔ  抵抗値
Ｒ↑  第１ベクトル
Ｓ１  測定用信号
Ｓ２  入力信号
【図１】
2020101375.tif 000006
【図２】
2020101375.tif 000007
【図３】
2020101375.tif 000008
【図４】
2020101375.tif 000009
【図５】
2020101375.tif 000010
【図６】
2020101375.tif 000011
【図７】
2020101375.tif 000012
【図８】
2020101375.tif 000013
【図９】
2020101375.tif 000014