(57)【要約】【課題】低抵抗と高光透過率の両立を図ることができるＣＮＴパターン配線を提供する。【解決手段】一面を有する基台１と、一面上に形成され、高さＨが１μｍ以上とされたライン状のＣＮＴであるＣＮＴライン２ａを有するＣＮＴパターン２と、を有している。そして、前記一面上の一方向に切断した断面において、隣り合う複数のＣＮＴライン２ａの間に開口部５が位置したラインアンドスペース状膜とされているＣＮＴパターン配線とされている。【選択図】図２
2020119744.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一面を有する基台（１）と、
前記一面上に形成され、高さ（Ｈ）が１μｍ以上とされたライン状のカーボンナノチューブであるカーボンナノチューブライン（２ａ）を有するＣＮＴパターン（２）と、を備え、
前記一面上の一方向に切断した断面において、隣り合う複数の前記カーボンナノチューブラインの間に開口部（５）が位置したラインアンドスペース状膜とされたカーボンナノチューブパターン配線。
【請求項２】
前記カーボンナノチューブラインを構成する前記カーボンナノチューブが前記基台に対してランダムに配向した状態で配置されている請求項１に記載のカーボンナノチューブパターン配線。
【請求項３】
密度が０．１ｇ／ｃｍ３〜１．１ｇ／ｃｍ３の範囲の請求項１または２に記載のカーボンナノチューブパターン配線。
【請求項４】
前記カーボンナノチューブラインの高さが５μｍ以上とされている請求項１ないし３のいずれか１つに記載のカーボンナノチューブパターン配線。
【請求項５】
前記カーボンナノチューブラインは、前記一面に対する法線方向を高さ方向とする基部（２ｂ）を有し、該基部の幅が３５０μｍ以下とされている請求項１ないし４のいずれか１つに記載のカーボンナノチューブパターン配線。
【請求項６】
前記カーボンナノチューブラインは、前記一面側において前記基部から張り出した鍔部（２ｃ）を有し、前記基部の幅となる第１幅（Ｗ１）に対して前記鍔部の幅となる第２幅（Ｗ２）の比が１．３５以上になっている請求項５に記載のカーボンナノチューブパターン配線。
【請求項７】
前記カーボンナノチューブラインは、前記一面側において前記基部から張り出した鍔部（２ｃ）を有し、隣り合う複数の前記カーボンナノチューブラインの間において前記鍔部が繋がった状態となっている請求項５に記載のカーボンナノチューブパターン配線。
【請求項８】
請求項５ないし７のいずれか１つに記載のカーボンナノチューブパターン配線（１００）を有し、
前記基台が透明基板によって構成されており、
前記基部の幅が１０μｍ以下とされている透明導電基板。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１つに記載のカーボンナノチューブパターン配線にて構成されたヒータ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カーボンナノチューブ（以下、ＣＮＴという）パターン配線、それを有する透明導電基板およびヒータに関する。
【背景技術】
【０００２】
基台上にＣＮＴ導電膜を形成したＣＮＴ配線として、例えば基台となる透明基板上にＣＮＴ導電膜を形成したフレキシブルなＣＮＴ透明電極が知られている。ＣＮＴ導電膜は金属メッシュ導電膜に比べて、ヘイズ値が小さい、また伸縮に対しての導電性の変化が小さい特性を有しているため、ＣＮＴ透明電極は、３Ｄディスプレイパネルや透明ヒータなどへの適用が期待されているものである。
【０００３】
近年、デバイスの微細化に連れてＣＮＴ配線の低抵抗化が求められている。しかしながら、ＣＮＴ配線における光透過率Ｔとシート抵抗Ｒｓとは、所定の定数Ｋを用いて次式に示す関係で表現されるため、高導電性、つまり低抵抗と高光透過率を両立することが困難である。
【０００４】
（数１）  Ｔ＝ｅｘｐ［−１／（Ｋ×Ｒｓ）］
このため、ＣＮＴ配線におけるＣＮＴ導電膜をパターン化し、ＣＮＴ導電膜を網目状に形成することでＣＮＴ透明電極とすることが検討されている。例えば、非特許文献１には、複数の畝によってＣＮＴパターン配線を製造することが開示されている。具体的には、メンブレンフィルタを用意し、メンブレンフィルタ上または下にＣＮＴパターンを形成するためのマスクレジストを配置したのち、マスクレジストおよびメンブレンフィルタを介してＣＮＴを含むガスを濾過する。これにより、メンブレンフィルタ上にＣＮＴによる薄膜が形成される。そして、メンブレンフィルタ上に形成されたＣＮＴを基台に転写することにより、ＣＮＴパターン配線を形成している。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】ＡＣＳ  Ｎａｎｏ，２０１４，８（４），ｐｐ３２８５−３２９３
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、非特許文献１に開示されているように、上記した製造方法によってＣＮＴパターン配線を形成した場合、ＣＮＴパターン配線の厚みが０．１４μｍ程度にしかならない。この厚みだと、光透過率は高くできるものの、シート抵抗Ｒｓが例えば６０〜７０[Ω／□]と高くなり、低抵抗を実現することができない。
【０００７】
本発明は上記点に鑑みて、低抵抗と高光透過率の両立を図ることができるＣＮＴパターン配線、それを有する透明導電基板およびヒータを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、請求項１に記載のＣＮＴパターン配線は、一面を有する基台（１）と、一面上に形成され、高さ（Ｈ）が１μｍ以上とされたライン状のＣＮＴであるＣＮＴライン（２ａ）を有するＣＮＴパターン（２）と、を有し、前記一面上の一方向に切断した断面において、隣り合う複数のＣＮＴラインの間に開口部（５）が位置したラインアンドスペース状膜とされている。
【０００９】
このような構成のＣＮＴパターン配線は、基台の上に複数本のＣＮＴラインを形成した構造とされている。そして、各ＣＮＴラインの間には、ＣＮＴが形成されておらず開口部とされた部分が設けられ、ＣＮＴラインと開口部とが交互に配置されたラインアンドスペース状膜が構成されている。したがって、開口部を通じて光を透過させることが可能となる。一方、ＣＮＴラインの高さについては、１μｍ以上とされている。このため、ＣＮＴパターンの低抵抗化を図ることが可能となる。よって、低抵抗と高光透過率の両立を図ることができるＣＮＴパターン配線とすることが可能となる。
【００１０】
なお、各構成要素等に付された括弧付きの参照符号は、その構成要素等と後述する実施形態に記載の具体的な構成要素等との対応関係の一例を示すものである。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】第１実施形態にかかるＣＮＴパターン配線の上面図である。
【図２】図１のII-II断面図である。
【図３】ＣＮＴの厚みとシート抵抗の関係を示した図である。
【図４】ＣＮＴパターン配線の光の透過の様子を示した図である。
【図５Ａ】図１および図２に示すＣＮＴパターン配線の製造工程を示した断面図である。
【図５Ｂ】図５Ａに続くＣＮＴパターン配線の製造工程を示した断面図である。
【図５Ｃ】図５Ｂに続くＣＮＴパターン配線の製造工程を示した断面図である。
【図５Ｄ】図５Ｃに続くＣＮＴパターン配線の製造工程を示した断面図である。
【図５Ｅ】図５Ｄに続くＣＮＴパターン配線の製造工程を示した断面図である。
【図５Ｆ】図５Ｅに続くＣＮＴパターン配線の製造工程を示した断面図である。
【図５Ｇ】図５Ｆに続くＣＮＴパターン配線の製造工程を示した断面図である。
【図６】電子顕微鏡により撮影したＣＮＴラインの画像を２値化した図である。
【図７】他の実施形態で説明するＣＮＴパターン配線の断面図である。
【図８】他の実施形態で説明するＣＮＴパターン配線の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、同一符号を付して説明を行う。
【００１３】
（第１実施形態）
第１実施形態について説明する。本実施形態では、ＣＮＴパターン配線がヒータに適用される場合を例に挙げて説明する。
【００１４】
図１に示すように、基台１の上に、ＣＮＴパターン２が形成されると共にＣＮＴパターン２の両端に第１電極３と第２電極４がそれぞれ配置されることでＣＮＴパターン配線１００が構成されている。
【００１５】
基台１は、例えば透明プラスティックフィルムのようなフレキシブルな透明基板などで構成されている。ここでは、基台１として、光が透過して基台１と反対側まで視認できるような透明基板を用いているが、基台１の一面が視認できる非透明のものが用いられていても良い。
【００１６】
例えば、基台１を介してＣＮＴパターン配線１００の取り付け対象を視認でき、ＣＮＴパターン配線１００については視認できないように、もしくは目立たないようにしたい場合には、基台１が透明基板で構成される。また、ＣＮＴパターン配線１００が取り付け対象に直接ＣＮＴパターン２などが形成されることで取り付け対象の一部と共にＣＮＴパターン配線１００が構成される場合は、基台１は例えば取り付け対象の筐体などで構成される。その場合、基台１の一面が視認できてもよいことから、基台１が非透明のもので構成されていても良い。
【００１７】
ＣＮＴパターン２は、基台１の一面上に所望のパターンに形成されたＣＮＴである。本実施形態の場合、ＣＮＴパターン２は、図１に示すように複数本のＣＮＴライン２ａが一定間隔に並べられることでストライプ状とされている。また、本実施形態では、各ＣＮＴライン２ａは、図２に示すように、断面形状が、基台１の一面に対する法線方向を高さ方向とする面状または棒状の基部２ｂと、基台１側において基部２ｂから張り出した鍔部２ｃとを有した形状とされている。本実施形態の場合、基部２ｂは、第１幅Ｗ１とされ、鍔部２ｃは、第１幅Ｗ１のうち最も幅広な部分よりも大きくされた第２幅Ｗ２とされている。なお、図２では、ＣＮＴライン２ａの第１幅Ｗ１を小さくした縮尺で図示したため、ＣＮＴライン２ａの断面形状が逆Ｔ字形状になっているが、この形状は第１幅Ｗ１や第２幅Ｗ２および高さＨによって変わる。
【００１８】
第１幅Ｗ１は、要求されるシート抵抗や高等化率に基づいて設定されており、例えば３５０μｍ以下とされている。具体的には、第１幅Ｗ１は、ＣＮＴパターン２自体が視認できないようにする場合には１０μｍ以下とされ、視認できても良い場合には例えば５０〜１００μｍとされる。第２幅Ｗ２については任意であるが、例えば第１幅Ｗ１：第２幅Ｗ２が１：１．３５とされている。ＣＮＴライン２ａのうち第２幅Ｗ２とされた鍔部２ｃについては必須ではなく、すべて第１幅Ｗ１の基部２ｂとされていても良い。また、鍔部２ｃが備えられる構造とされる場合、ここで説明した第１幅Ｗ１：第２幅Ｗ２の値も一例を示したに過ぎず、他の値であっても構わない。ただし、ＣＮＴライン２ａに鍔部２ｃを備えることにより、この部分で基台１との密着性が向上し、幅狭で構成した場合のＣＮＴライン２ａの横倒れを抑制できることから、鍔部２ｃを備えることが好ましい。特に、第１幅Ｗ１に対する第２幅Ｗ２の比が上記した１．３５以上になると、より高い密着性を得ることができる。
【００１９】
鍔部２ｃの幅や厚みについては任意であるが、光透過率を考慮して設定される。例えば、第２幅Ｗ２が大きければ、基台１が鍔部２ｃで覆われる部分の面積が大きくなる。ＣＮＴの厚みが薄ければ高光透過率が得られるが、厚くなると得られない。このため、光透過率を考慮して鍔部２ｃの幅と厚みが設定される。
【００２０】
なお、各ＣＮＴライン２ａの形成ピッチは、基部２ｂの部分と基部２ｂ以外の部分とが１：９となるようにしてある。つまり、基台１のうちＣＮＴパターン２が形成された部分の面積に対し、基部２ｂ同士の間においてＣＮＴが形成されておらず開口部５とされた部分の形成割合が９０％の割合となるようにしている。この開口部５の形成割合は、要求される光透過率に応じて決めれば良く、９０％以上にすると、より高光透過率を得ることが可能となる。
【００２１】
また、各ＣＮＴライン２ａの高さＨは等しくなっており、基台１から先端までの高さが１μｍ以上、好ましくは５μｍ以上とされている。この高さＨと抵抗値とは相関関係があり、高さＨが高いほど低抵抗にできる。なお、ＣＮＴの厚み、つまりＣＮＴライン２ａの高さＨとシート抵抗［Ω／□]との関係は例えば図３のように示される。この関係は、ＣＮＴへのドーパントの種類など膜質によって異なったものになるが、図３と同様の傾向になる。そして、高さＨが１μｍのときにシート抵抗が３０[Ω／□]となるため、高さＨが１μｍ以上となるようにすることで、より低抵抗化を図ることが可能となる。また、ＣＮＴライン２ａを構成するＣＮＴは、密度が０．１ｇ／ｃｍ３〜１．１ｇ／ｃｍ３の範囲となっている。ＣＮＴライン２ａを構成するＣＮＴの配向については任意であるが、基台１に対してランダムに配向したものとすることができる。
【００２２】
第１電極３と第２電極４は、それぞれ、各ＣＮＴライン２ａの一端側と他端側とを連結するように配置されている。第１電極３と第２電極４は、銀などの電極材料で構成されており、例えば一方が電源の正極、他方が負極に接続されることでＣＮＴパターン配線１００に対して電流を流すようになっている。
【００２３】
以上のようにして、本実施形態のＣＮＴパターン配線１００が構成されている。このように構成されるＣＮＴパターン配線１００は、基台１の上に複数本のＣＮＴライン２ａを有するＣＮＴパターン２を形成した構造とされている。そして、各ＣＮＴライン２ａの間における基部２ｂ同士の間には、ＣＮＴが形成されておらず開口部５とされた部分が設けられている。このため、ＣＮＴライン２ａと開口部５とが交互に配置されたラインアンドスペース状膜が構成されている。したがって、図４に示すように、開口部５を通じて光を透過させることが可能となり、開口部５の形成割合を９０％以上にすれば、光透過率も９０％以上という高い値にすることができる。
【００２４】
一方、各ＣＮＴライン２ａの高さＨについては、１μｍ以上とされている。このため、シート抵抗が３０［Ω／□]以下となるようにでき、ＣＮＴパターン２の低抵抗化を図ることが可能となる。
【００２５】
よって、低抵抗と高光透過率の両立を図ることができるＣＮＴパターン配線１００とすることが可能となる。そして、基台１を透明基板とした場合には、基部２ｂの第１幅Ｗ１を１０μｍ以下とすることで、低抵抗と高光透過率の両立を図ることができるＣＮＴパターン配線１００を有する透明導電基板とすることができる。
【００２６】
さらに、本実施形態のようなＣＮＴパターン配線１００をヒータとして適用することもできる。ＣＮＴパターン配線１００が適用されるヒータとしては、車両用空調装置における除霜運転を行う際のヒータなどが挙げられる。その場合、霜が付着する室外機などにＣＮＴパターン配線１００を取り付けることでヒータとして機能させることができる。さらにカメラなどの除霜・結露防止用ヒータなどに適用できる。
【００２７】
また、車両における車室内の様々な場所にヒータを配置すること、例えばダッシュボードの下面に配置するフットヒータなどが検討されているが、そのようなヒータとしてＣＮＴパターン配線１００を適用することもできる。このようなヒータに用いる場合には、ＣＮＴパターン配線１００は目立たないようにしたいため、基台１を透明基板で構成したり、ヒータの取り付け対象の筐体などによって基台１を構成すると好ましい。
【００２８】
続いて、このように構成される本実施形態のＣＮＴパターン配線１００の製造方法について説明する。
【００２９】
〔図５Ａに示す工程〕
まず、フィルタ１０を用意する。フィルタ１０は、ＣＮＴの濾過を行うことができる材料で構成されており、例えばメンブレンフィルタなどによって構成されている。そして、このフィルタ１０の一面側に、レジスト１１を配置する。
【００３０】
レジスト１１にはネガレジストを用いており、ここではアルカリ可溶材料で構成されるネガレジストを用いている。レジスト１１については、スピンコートなどの一般的な手法ではなく、ドライフィルムレジスト等の厚膜のフィルムレジストをフィルタ１０に貼り付けることによって配置している。レジスト１１の厚みについては、ＣＮＴパターン２を構成するＣＮＴライン２ａの高さＨと同程度、すなわち１μｍ以上、好ましくは５μｍ以上とされ、例えば１０μｍとされる。
【００３１】
〔図５Ｂに示す工程〕
例えば、クロム系のマスク１２によってＣＮＴパターン２の形成予定領域を覆い、マスク１２上から紫外線による露光処理を行う。これにより、露光された部分が固化する。
【００３２】
〔図５Ｃに示す工程〕
露光後のレジスト１１およびフィルタ１０に対して現像、リンス処理を行う。すなわち、マスク１２を除去した後、露光後のレジスト１１およびフィルタ１０を炭酸ナトリウム水溶液などのリンス液に浸す。これにより、マスク１２によって覆われて露光されなかった遮光部が溶解させられ、ＣＮＴパターン２の形成予定領域において溝部１１ａが形成される。
【００３３】
〔図５Ｄに示す工程〕
ＣＮＴ捕獲処理を行う。この処理については、公知となっている手法を用いて実施することができる。例えば、ＣＮＴを含む気相分散媒となるエアロゾルや液相分散媒となるコロイド溶液などの分散媒を用意し、この分散媒を溝部１１ａが設けられたレジスト１１側からフィルタ１０を透過させる。これにより、分散媒に含まれるＣＮＴがフィルタ１０によって濾過され、溝部１１ａ内にＣＮＴが捕獲されていく。
【００３４】
〔図５Ｅに示す工程〕
上記した図５Ｄに示す工程を連続的に行うと、溝部１１ａ内が埋込まれるようにＣＮＴが捕獲される。それをさらに続けると溝部１１ａの外部にはみ出すようにＣＮＴが捕獲され、Ｔ字状のＣＮＴパターン２が形成される。このとき、ＣＮＴパターン２を構成する各ＣＮＴライン２ａの高さＨは、レジスト１１の高さ以上になることから、１μｍ以上の高さ、ここでは１０μｍ以上の高さとなる。
【００３５】
〔図５Ｆに示す工程〕
透明基板などで構成される基台１を用意する。そして、その基台１の一面側に、ＣＮＴパターン２が形成されたレジスト１１およびフィルタ１０を配置する。このとき、フィルタ１０側ではなくＣＮＴパターン２側が基台１の一面側に向くようにして、ＣＮＴパターン２の一端が基台１の一面に当接するようにする。
【００３６】
〔図５Ｇに示す工程〕
そして、フィルタ１０およびレジスト１１を持ち上げると、基台１にＣＮＴパターン２が転写される。これにより、高さＨを有するＣＮＴライン２ａで構成されたＣＮＴパターン２が形成される。なお、図６は、形成後のＣＮＴライン２ａの試料について、電子顕微鏡で確認したときの画像を示している。この画像から判るように、ＣＮＴが成膜されていることが確認できる。また、ＣＮＴライン２ａの高さについても１０μｍとなっており、上記した高さ通りとなっている。図６については、ＣＮＴライン２ａを斜めから撮影した画像であるため、ＣＮＴライン２ａの上面も映り込んでいるが、上面も側面も滑らかな一面となっている。
【００３７】
この後の工程については図示しないが、ＣＮＴパターン２における各ＣＮＴライン２ａの両端に第１電極３と第２電極４とを形成する。例えば、電極材料として銀などを所望パターンに塗布することによって第１電極３と第２電極４とを形成する。これにより、図１に示すＣＮＴパターン配線１００が完成する。
【００３８】
以上説明したように、本実施形態では、レジスト１１をスピンコートなどにより形成するのではなく、厚膜のフィルムレジストによって構成している。このため、レジスト１１を露光して溝部１１ａを設け、フィルタ１０にてＣＮＴを濾過するときに溝部１１ａ内にＣＮＴが捕獲されるようにすることで、ＣＮＴライン２ａの高さＨを高くすることが可能となる。したがって、本実施形態で説明した低抵抗と高光透過率の両立を図ることができるＣＮＴパターン配線１００とすることが可能となる。
【００３９】
また、レジスト１１としてフィルムレジストを用いることにより、従来の塗布により形成する場合と比較して、スピンコートやベーキングが必要ない簡素な工程によってレジスト１１を形成できる。また、フィルムレジストについてはロール状のものを用いることができ、塗布後に再びロール状に巻き取るロールｔｏロール方式とすることができることから、高い量産性を得ることができる。
【００４０】
（他の実施形態）
本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
【００４１】
例えば、上記実施形態では、ＣＮＴライン２ａの断面形状が図２のような逆Ｔ字形状となる場合を例に挙げているが、これ以外の形状であっても良い。すなわち、断面形状が基台１の一面に対する法線方向を高さ方向とする面状または棒状の基部２ｂが備えられた構造となっていれば良く、基部２ｂにおいてＣＮＴライン２ａの高さＨが１μｍ以上となっていれば良い。
【００４２】
例えば、図７に示すように、基部２ｂのみによって各ＣＮＴライン２ａが構成されていても良い。また、図８に示すように、隣同士のＣＮＴライン２ａにおいて鍔部２ｃが繋がっていても良い。このような構造とされる場合、下地となる基台１の一面上にＣＮＴが形成された構造となるが、ＣＮＴの膜厚が薄いほど光透過率が高いことから、薄い鍔部２ｃによって覆われていてもそれを透過して基台１が視認できる。したがって、隣同士のＣＮＴライン２ａの間において鍔部２ｃが繋がった状態となっていても、所望の光透過率を得ることができる。また、このような構造の場合でも、基部２ｂ同士の間においてＣＮＴが形成されていない部分が開口部５となる。
【００４３】
なお、ＣＮＴライン２ａの形状については、ＣＮＴ捕獲処理の条件に応じて決まる。例えば、分散媒をフィルタ１０で濾過する際に、レジスト１１の溝部１１ａ内にＣＮＴが捕獲されることになるが、溝部１１ａ内のみで捕獲されるように処理時間などを制御すれば、ＣＮＴライン２ａは図７のような基部２ｂのみの形状となる。また、溝部１１ａからはみ出るように処理時間を増やせば、ＣＮＴライン２ａは第１実施形態のような形状もしくは図８のような形状となる。
【００４４】
さらに、基部２ｂの幅である第１幅Ｗ１についても一定であっても良いし、図２に示したように、例えば先端に行くほど第１幅Ｗ１が狭くなるような先細り形状となっていても良い。その場合でも、基部２ｂのうち最も幅広となる部分において第１幅Ｗ１が３５０μｍ以下とされていれば良いし、視認できないようにするのであれば１０μｍ以下にすると良い。鍔部２ｃの幅となる第２幅Ｗ２についても一定である必要はなく、例えば基台１側に近づくほど幅広となる構造であっても良い。
【００４５】
また、上記実施形態では、ラインアンドスペース構造の一例として、複数の直線状のＣＮＴライン２ａがストライプ状に並べられた構造について説明した。しかしながら、これも一例を示したに過ぎない。すなわち、ＣＮＴパターン配線１００を基台１の一面上の一方向に切断した断面上において、ＣＮＴライン２ａと開口部５が交互に並ぶ構造であれば良い。
【００４６】
例えば、上面形状がＣＮＴライン２ａを四角形格子状にレイアウトしたもの、複数の六角形状を並べてハニカム状にレイアウトしたものによってＣＮＴパターン２を構成しても良い。
【００４７】
なお、ＣＮＴライン２ａの第１幅Ｗ１の幅やＣＮＴライン２ａの上面形状については、レジスト１１を形成する際の溝部１１ａの形状によって決まる。このため、溝部１１ａの深い位置に行くほど幅が徐々に狭くなる形状とすればＣＮＴライン２ａを先細り形状にできるし、溝部１１ａを四角形格子状もしくはハニカム状とすれば、その形状のＣＮＴライン２ａにできる。
【００４８】
また、上記実施形態では、ＣＮＴパターン配線１００をヒータに適用した場合を例に挙げて説明したが、この他のものに適用することもできる。例えば、３ＤディスプレイパネルなどにＣＮＴパターン配線１００が取り付けられる場合が想定される。その場合、例えば、３Ｄディスプレイパネルを構成するＥＬ素子などの駆動用の配線などにＣＮＴパターン配線１００を適用することができる。このように３Ｄディスプレイパネルに対してＣＮＴパターン配線１００が取り付けられる場合、下地となる３Ｄディスプレイパネルが視認でき、かつ、ＣＮＴパターン配線１００が視認されないようにすることが望まれる。その反面、ＣＮＴパターン配線１００が低抵抗であることも望まれる。このため、ＣＮＴライン２ａの幅を１０μｍ以下とし、かつ、高さＨを１μｍ以上とすることで、低抵抗と高光透過率の両立が図れるようにすることが好ましい。
【符号の説明】
【００４９】
１      基台
２      ＣＮＴパターン
２ａ    ＣＮＴライン
２ｂ    基部
２ｃ    鍔部
５      開口部
１０    フィルタ
１１    レジスト
１１ａ  溝部
１００  ＣＮＴパターン配線
【図１】
2020119744.tif 000003
【図２】
2020119744.tif 000004
【図３】
2020119744.tif 000005
【図４】
2020119744.tif 000006
【図５Ａ】
2020119744.tif 000007
【図５Ｂ】
2020119744.tif 000008
【図５Ｃ】
2020119744.tif 000009
【図５Ｄ】
2020119744.tif 000010
【図５Ｅ】
2020119744.tif 000011
【図５Ｆ】
2020119744.tif 000012
【図５Ｇ】
2020119744.tif 000013
【図６】
2020119744.tif 000014
【図７】
2020119744.tif 000015
【図８】
2020119744.tif 000016