(57)【要約】      （修正有）【課題】外部環境からの損傷を防止して、信頼性が向上し、優れた色再現性及び高い輝度を示し、薄型を実現したバックライトユニット及びこれを含む液晶表示装置を提供する。【解決手段】バックライトユニットＢＬＵ−１は、光が入射する入射面ＬＧＭ−Ｆと光が出射する出射面ＬＧＭ−Ｔを含む導光部材ＬＧＭと、導光部材ＬＧＭの入射面ＬＧＭ−Ｆに配置され、光を発生する光源ＬＤと、導光部材ＬＧＭの出射面上に配置される低屈折層ＬＲＬと、低屈折層上に配置される色変換層ＣＣＭと、色変換層上に配置される光学層ＯＰＬと、を備える。光学層ＯＰＬは、鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、複数の光学パターン部を含んで優れた発光効率及び信頼性を有する。【選択図】図２
2020119894.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光が入射する入射面と光が出射する出射面を含む導光部材と、
前記導光部材の前記入射面に配置され、前記光を発生する光源と、
前記導光部材の前記出射面上に配置される低屈折層と、
前記低屈折層上に配置される色変換層と、
前記色変換層上に配置される光学層と、を備えるバックライトユニットであり、
前記光学層は、鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、複数の光学パターン部を含む、ことを特徴とするバックライトユニット。
【請求項２】
前記複数の光学パターン部は、前記出射面方向に突出した凸レンズの形状であり、アスペクト比（ａｓｐｅｃｔ  ｒａｔｉｏ）が０．５乃至１．５である、ことを特徴とする請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項３】
前記複数の光学パターン部の平均直径は、１００ｎｍ乃至２０μｍである、ことを特徴とする請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項４】
前記複数の光学パターン部は、互いに離隔して配列され、前記光学層は、前記複数の光学パターン部の間の離隔平面を含む、ことを特徴とする請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項５】
前記光学層は、多官能重合性樹脂を含む、ことを特徴とする請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項６】
前記光学層は、シリカ粒子をさらに含む、ことを特徴とする請求項５に記載のバックライトユニット。
【請求項７】
前記光学層は、バックライトユニットの最外領域に配置される、ことを特徴とする請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項８】
前記色変換層は、量子ドットを含む、ことを特徴とする請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項９】
光の提供を受けてイメージを表示する液晶ディスプレイパネルと、
前記光を提供するバックライトユニットと、を備え、
前記バックライトユニットは、
前記光を発生する光源と、
前記光源から発生する前記光をガイドする導光部材と、
前記導光部材上に配置され、量子ドットを含む色変換層と、
前記色変換層上に配置され、互いに離隔して配置された複数の光学パターン部を含む光学層と、を有する、ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】
導光部材上に低屈折層を形成する段階と、
前記低屈折層上に色変換層を形成する段階と、
前記色変換層上に光学層を形成する段階と、を備えるバックライトユニットの製造方法であって、
前記光学層を形成する段階は、
多官能重合性樹脂を含む静電噴霧材料を準備する段階と、
前記静電噴霧材料に電圧を印加した状態で、ノズルを介して噴射する段階と、
前記色変換層上に前記静電噴霧材料が積層される段階と、
積層された前記静電噴霧材料を硬化させる段階と、を有する、ことを特徴とするバックライトユニットの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バックライトユニット（ｂａｃｋｌｉｇｈｔ  ｕｎｉｔ）及びこれを含む液晶表示装置に係り、より詳しくは、光取り出し効率に優れながら、色変換部材を効果的に保護して、信頼性が向上したバックライトユニット及びこれを含む液晶表示装置に関する。
【０００２】
また、本発明は、バックライトユニットの製造方法に係り、より詳しくは、光取り出し効率に優れながら、色変換層を効果的に保護して、信頼性が向上したバックライトユニットを提供できる製造方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
イメージ情報を提供するために、多様な形態の表示装置が使われており、液晶表示装置は、低消費電力の利点に起因して大型表示装置、携帯表示装置などに多様に使用されている。一方、液晶表示装置の場合には、光効率を増加させ、色再現性を高めるために、バックライトユニットに多様な種類の光学部材が追加されている。
【０００４】
一方、製造工程中に発生するスクラッチ（ｓｃｒａｔｃｈ）等によりバックライトユニットに外部の水分や酸素などが浸透するようになり、これにより表示品質が低下する問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】韓国公開特許第１０−２０１６−００７０９０４号公報
【特許文献２】韓国公開特許第１０−２０１２−００３２１１４号公報
【特許文献３】韓国登録特許第１０−１０３９５５９号公報
【特許文献４】韓国登録特許第１０−０９３６７３４号公報
【特許文献５】米国特許第９８８５８２０号明細書
【特許文献６】米国特許第７４８３２１４号明細書
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  ｍｉｃｒｏｌｅｎｓ  ａｒｒａｙ  ｆｏｒ  ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ  ｉｍｐｒｏｖｅｍｅｎｔ  ｏｆ  ｓｍａｌｌ  ｐｉｘｅｌａｔｅｄ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｅｖｉｃｅｓ＿ＯＳＡ＿２００８．０７．２１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、外部環境からの損傷を防止して、信頼性が向上したバックライトユニット及びこれを含む液晶表示装置を提供することにある。
【０００８】
また、本発明の目的は、優れた色再現性と高い輝度を示し、薄型を実現したバックライトユニット及びこれを含む液晶表示装置を提供することにある。
【０００９】
さらに、本発明の目的は、向上した信頼性と高い輝度を実現できるバックライトユニットの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様によるバックライトユニット及びこれを含む液晶表示装置は、光が入射する入射面と光が出射する出射面を含む導光部材と、前記導光部材の前記入射面に配置されて前記光を発生する光源と、前記導光部材の前記出射面上に配置される低屈折層と、前記低屈折層上に配置される色変換層と、前記色変換層上に配置される光学層と、を備えるバックライトユニットであって、前記光学層は４Ｈ以上の鉛筆硬度を有し、複数の光学パターン部を含む。
【００１１】
前記光学パターン部は前記出射面方向に突出した凸レンズの形状であり、０．５〜１．５のアスペクト比（ａｓｐｅｃｔ  ｒａｔｉｏ）を有し得る。
【００１２】
前記光学パターン部の平均直径は、２０ｎｍ〜１００μｍであり得る。
【００１３】
前記複数の光学パターン部は互いに離隔して配列され、前記光学層は前記複数の光学パターン部の間の離隔平面を含み得る。
【００１４】
前記光学層は、多官能重合性樹脂（ｐｏｌｙｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ  ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｂｌｅ  ｒｅｓｉｎ）を含み得る。
【００１５】
前記光学層は、シリカ（ｓｉｌｉｃａ）粒子をさらに含み得る。
【００１６】
前記光学層は、バックライトユニットの最外領域に配置できる。
【００１７】
前記色変換層は、量子ドットを含み得る。
【００１８】
前記色変換層は、ベース樹脂及び前記ベース樹脂に分散された光散乱粒子をさらに含み得る。
【００１９】
前記低屈折層の屈折率は、１．２〜１．４であり得る。
【００２０】
前記低屈折層は、前記導光部材上に直接配置できる。
【００２１】
前記色変換層の少なくとも一つの面に隣接して配置された少なくとも一つのバリア層（ｂａｒｒｉｅｒ  ｌａｙｅｒ）をさらに含み得る。
【００２２】
前記少なくとも一つのバリア層は、少なくとも一つの無機膜を含み得る。
【００２３】
前記色変換層と前記低屈折層との間に、及び前記色変換層と前記光学層との間にそれぞれ配置されたバリア層をさらに含み得る。
【００２４】
前記導光部材は導光パターンを含み得る。
【００２５】
一実施形態では、光の提供を受けてイメージを表示する液晶ディスプレイパネルと、前記光を提供するバックライトユニットと、を有し、前記バックライトユニットは、前記光を発生する光源と、前記光源から発生する前記光をガイドする導光部材と、前記導光部材上に配置され、量子ドットを含む色変換層及び前記色変換層上に配置され、互いに離隔して配列される複数の光学パターン部を含む光学層と、を備える液晶表示装置を提供する。
【００２６】
前記光学層は、光学パターン部の間の離隔平面をさらに含み、４Ｈ以上の鉛筆硬度を有し得る。
【００２７】
光学パターン部は、前記液晶ディスプレイパネルの方向に突出した凸レンズの形状であり、０．５〜１．５のアスペクト比（ａｓｐｅｃｔ  ｒａｔｉｏ）を有し得る。
【００２８】
一実施形態では、導光部材上に低屈折層を形成する段階と、前記低屈折層上に色変換層を形成する段階と、前記色変換層上に光学層を形成する段階と、を備えるバックライトユニットの製造方法を提供する。
【００２９】
前記光学層を形成する段階は、多官能重合性樹脂を含む静電噴霧材料を準備する段階と、前記静電噴霧（ｅｌｅｃｔｒｉｃ  ｓｐｒａｙ）材料を電圧を印加した状態でノズル通して噴射する段階と、前記色変換層上に静電噴霧材料が積層される段階と、積層された前記静電噴霧材料を硬化させる段階と、を有する。
【００３０】
前記静電噴霧材料は、シリカ粒子をさらに含み、２０ｃＰ以下の粘度を有し得る。
【００３１】
前記静電噴霧材料は、液滴の状態で噴射されるものであり得る。
【００３２】
前記色変換層を形成する段階は、量子ドットが分散されたベース樹脂を準備する段階と、前記ベース樹脂を前記低屈折層にコーティングする段階と、を含み得る。
【発明の効果】
【００３３】
一実施形態において、光効率を向上させて高輝度を表し、色変換層を外部環境から保護して信頼性が向上したバックライトユニット及びその製造方法を提供できる。
【００３４】
一実施形態において、優れた色再現性及び表示品質を有する液晶表示装置を提供できる。
【００３５】
一実施形態において、保護シートと集光シートとの役割を同時に遂行できる光学層を含んで薄型を実現したバックライトユニット、及びこれを含む液晶表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】一実施形態の液晶表示装置の分解斜視図である。
【図２】図１に示す一実施形態の液晶表示装置の中で、Ｉ−Ｉ’に対応する部分での一実施形態のバックライトユニットの断面図である。
【図３】一実施形態のバックライトユニットに含まれる色変換層の一部を示す断面図である。
【図４Ａ】光学パターン部がない光学層での光の経路を示す図面である。
【図４Ｂ】本発明の一実施形態による光学層での光の経路を示す図面である。
【図５Ａ】光学層の一実施形態を示す斜視図である。
【図５Ｂ】図５ＡのＩＶ−ＩＶ’に対応する部分での断面図である。
【図５Ｃ】光学パターン部の密度による光効率の増加を測定したグラフである。
【図５Ｄ】光学層の平面を光学顕微鏡で撮影したイメージである。
【図６Ａ】一実施形態のバックライトユニットを示す断面図である。
【図６Ｂ】一実施形態のバックライトユニットを示す断面図である。
【図７】図１に示した一実施形態の液晶表示装置のＩＩ−ＩＩ’に対応する部分における一実施形態の液晶表示装置の断面図である。
【図８】本発明の一実施形態による液晶ディスプレイパネルの断面図である。
【図９】一実施形態のバックライトユニットの製造手順を概略的に示した図面である。
【図１０】一実施形態の光学層を製造する方法を概略的に示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
本発明は、多様な変更を加えることができ、多様な態様を有し得るため、特定の実施形態を図面に例示して本文で詳しく説明する。しかし、これは本発明を特定の開示形態に対して限定するものではなく、本発明の思想及び技術的範囲に含まれるすべての変更、均等物又は代替物を有するものと理解されるべきである。
【００３８】
各図面を説明しながら類似の参照符号を類似の構成要素について使用した。添付した図面において、構造物の寸法は、本発明の明確性のために実際より拡大して示したものである。第１、第２などの用語を、多様な構成要素を説明するために使用するが、前記構成要素は、前記用語によって限定されてはならない。前記用語は、１つの構成要素を他の構成要素から区別するためにのみ使用する。例えば、本発明の権利範囲を逸脱せずに、第１の構成要素は、第２の構成要素として命名され得、同様に第２の構成要素も第１の構成要素として命名され得る。単数の表現は、文脈上明らかに別の意味を示していると判定されない限り、複数の表現を含む。
【００３９】
本出願では、「含む」又は「有する」などの用語は、明細書上に記載した特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品又はこれらを組み合せたものが存在することを指定するものであって、一つ以上の他の特徴、数字、段階、動作、構成要素、部分品又はこれらを組み合せたものの存在又は付加可能性を予め排除しないものと理解されるべきである。
【００４０】
本出願において、レイヤー、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上に」又は「上部に」あるとする場合には、これは他の部分の「真上に」ある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も含む。また、レイヤー、膜、領域、板などの部分が他の部分の「下に」又は「下部に」あるとする場合には、これは他の部分の「すぐ下に」ある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も含む。さらに、本出願において、「上に」配置されるというのは、上部だけでなく、下部に配置される場合も含む。
【００４１】
一方、本出願において、「直接配置」されるというのは、レイヤー、膜、領域、板などの部分と他の部分との間に追加されるレイヤー、膜、領域、板などがないことを示す。たとえば、「直接配置」されるというのは、２つのレイヤー又は２つの部材の間に接着部材などの追加の部材を使用せずに配置することを意味する。
【００４２】
以下では、図面を参照して、本発明の一実施形態によるバックライトユニット及び液晶表示装置を説明する。
【００４３】
図１は、一実施形態の液晶表示装置の分解斜視図である。図２は、図１に示す一実施形態の液晶表示装置の中で、Ｉ−Ｉ’に対応する部分での一実施形態のバックライトユニットの断面図である。図３は、一実施形態のバックライトユニットに含まれる色変換層の一部を示す断面図である。
【００４４】
図１において、第１の方向軸（ＤＲ１）〜第３の方向軸（ＤＲ３）を示した。本明細書において説明する方向軸は相対的なものであり、説明の便宜のために、図１で第３の方向軸（ＤＲ３）の方向は、ユーザーにイメージが提供される方向と定義する。また、第１の方向軸（ＤＲ１）と第２の方向軸（ＤＲ２）とは、互いに直交し、第３の方向軸（ＤＲ３）は、第１の方向軸（ＤＲ１）と第２の方向軸（ＤＲ２）とが定義する平面に対する法線方向であり得る。
【００４５】
図１を参照すると、一実施形態の液晶表示装置（ＤＤ）は、液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）及びバックライトユニット（ＢＬＵ）を含み得る。バックライトユニット（ＢＬＵ）は、液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）の少なくとも一側に配置できる。
【００４６】
液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）は、イメージを表示する。液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）は、互いに対向する第１の基板（ＳＵＢ１）と、第２の基板（ＳＵＢ２）と、第１の基板（ＳＵＢ１）と第２の基板（ＳＵＢ２）との間に配置される液晶層（ＬＣＬ）と、を備える。
【００４７】
バックライトユニット（ＢＬＵ）は、液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）に光を提供する。バックライトユニット（ＢＬＵ）は、光を出射する少なくとも一つの光源（ＬＤ）と、光を液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）の方向にガイドする導光部材（ＬＧＭ）と、色変換層（ＣＣＭ）と、光学層（ＯＰＬ）と、を有する。光源（ＬＤ）は複数存在でき、複数の光源（ＬＤ）は支持台（ＳＦ）に配置できる。
【００４８】
本発明のバックライトユニット（ＢＬＵ）は、エッジ型バックライト調光ユニット（ｅｄｇｅ  ｔｙｐｅ  ｂａｃｋｌｉｇｈｔ  ｕｎｉｔ）である。つまり、バックライトユニット（ＢＬＵ）は、光源（ＬＤ）が液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）の下から導光部材（ＬＧＭ）の側面に光（Ｌ、図２）を提供し、前記光は導光部材（ＬＧＭ）を介して前記液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）に伝達するように形成できる。
【００４９】
図示していないが、一実施形態において、液晶表示装置（ＤＤ）は、液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）及びバックライトユニット（ＢＬＵ）を収納するハウジングをさらに含み得る。ハウジングは、液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）の表示面である第２の基板（ＳＵＢ２）の上部面が露出されるようにバックライトユニット（ＢＬＵ）及び液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）をカバーして配置できる。さらに、ハウジングは、液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）の側面と底面だけでなく、上部面である第２の基板（ＳＵＢ２）の一部をカバーできる。
【００５０】
図２は、図１に示した一実施形態の液晶表示装置（ＤＤ）のＩ−Ｉ’線に対応するバックライトユニット（ＢＬＵ−１）を示す断面図である。図２は、第２の方向軸（ＤＲ２）と第３の方向軸（ＤＲ３）とが定義する平面に平行する面におけるバックライトユニット（ＢＬＵ−１）の断面を示すものである。
【００５１】
一実施形態のバックライトユニット（ＢＬＵ−１）は、光（Ｌ）が入射する入射面（ＬＧＭ−Ｆ）及び光（Ｌ）が出射する出射面（ＬＧＭ−Ｔ）を含む導光部材（ＬＧＭ）と、導光部材の入射面（ＬＧＭ−Ｆ）に配置され、光（Ｌ）を発生する光源（ＬＤ）と、導光部材の出射面（ＬＧＭ−Ｔ）上に配置される低屈折層（ＬＲＬ）と、低屈折層（ＬＲＬ）上に配置される色変換層（ＣＣＭ）と、色変換層（ＣＣＭ）上に配置される光学層（ＯＰＬ）と、を備える。図２において、導光部材（ＬＧＭ）、低屈折層（ＬＲＬ）、色変換層（ＣＣＭ）、及び光学層（ＯＰＬ）は、第３の方向軸（ＤＲ３）の方向に順次積層して配置されたものであり得る。
【００５２】
支持台（ＳＦ）に配置される光源（ＬＤ）は、導光部材（ＬＧＭ）の一面に光（Ｌ）を出射する。光源（ＬＤ）から発生する光（Ｌ）は、導光部材（ＬＧＭ）の一側面、すなわち入射面（ＬＧＭ−Ｆ）に入射する。光源（ＬＤ）から入射した光（Ｌ）は、液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）に伝達するために導光部材（ＬＧＭ）の一側面、すなわち出射面（ＬＧＭ−Ｔ）に伝達される。
【００５３】
導光部材（ＬＧＭ）は、ガラスからなるものであり得る。しかし、実施形態がこれに限定されるものではなく、導光部材（ＬＧＭ）は、高分子樹脂からなるものであり得、例えば、アクリル樹脂などを含んで形成されるものであり得る。導光部材（ＬＧＭ）は、後述する低屈折層（ＬＲＬ）、色変換層（ＣＣＭ）、光学層（ＯＰＬ）などが配置される基板の役割を行うものであり得る。
【００５４】
導光部材（ＬＧＭ）は導光パターン部（ＧＰ）を含むものであり得る。導光パターン部（ＧＰ）は、第３の方向軸（ＤＲ３）の方向に導光部材（ＬＧＭ）の出射面（ＬＧＭ−Ｔ）の反対側に配置できる。導光パターン部（ＧＰ）は、光源（ＬＤ）から放出され、導光部材（ＬＧＭ）の一側面に入射する光を導光部材（ＬＧＭ）の他の側面に伝達するか、又は導光部材（ＬＧＭ）の出射面（ＬＧＭ−Ｔ）の方向に伝達するように光の方向を変化させ得る。
【００５５】
図２の断面図では、導光パターン部（ＧＰ）は、断面が半円形状を有するものとして図示したが、実施形態がこれに限定されるものではなく、導光パターン部（ＧＰ）の断面は、傾斜面であり得る。さらに、図２の図示とは異なり、導光パターン部（ＧＰ）のサイズは、互いに異なることができ、また、導光部材（ＬＧＭ）に配置される導光パターン部（ＧＰ）の配置密度は、光源（ＬＤ）との距離に応じて導光部材（ＬＧＭ）上で異なるように調節できる。
【００５６】
導光パターン部（ＧＰ）は、導光部材（ＬＧＭ）の一側面から突出して導光部材（ＬＧＭ）と一体に形成されるものであり得る。また、図面に示してはいないが、導光パターン部（ＧＰ）は、導光部材（ＬＧＭ）の一側面から第３方向軸（ＤＲ３）の方向に陥没して定義される凹形状のパターンであり得る。
【００５７】
導光部材（ＬＧＭ）上には、低屈折層（ＬＲＬ）が配置される。低屈折層（ＬＲＬ）は導光部材（ＬＧＭ）上に直接配置される。低屈折層（ＬＲＬ）は、導光部材（ＬＧＭ）上に直接形成されて導光部材（ＬＧＭ）の出射面（ＬＧＭ−Ｔ）に接して配置できる。ただし、これに限定されるものではなく、導光部材（ＬＧＭ）と低屈折層（ＬＲＬ）との間にバリア層が配置されてもよい。
【００５８】
低屈折層（ＬＲＬ）の屈折率は、導光部材（ＬＧＭ）の屈折率よりも小さいものであり得る。低屈折層（ＬＲＬ）の屈折率は、導光部材（ＬＧＭ）及び色変換層（ＣＣＭ）の屈折率よりも小さいものであり得る。低屈折層（ＬＲＬ）の屈折率は、１．２〜１．４であり得、好ましくは低屈折層（ＬＲＬ）の屈折率は、１．２〜１．３であり得る。低屈折層（ＬＲＬ）の屈折率と導光部材（ＬＧＭ）の屈折率の差は０．２以上であり得る。
【００５９】
低屈折層（ＬＲＬ）は、導光部材（ＬＧＭ）よりも小さい屈折率を有することにより、光源（ＬＤ）から導光部材（ＬＧＭ）に入射する光（Ｌ）が、光源（ＬＤ）と相対的に離隔している導光部材（ＬＧＭ）の他の側面まで効果的に伝達されるようにする。つまり、低屈折層（ＬＲＬ）は、導光部材（ＬＧＭ）よりも小さい屈折率である１．２〜１．４であり、好ましくは１．２〜１．３の屈折率を有することにより、導光部材（ＬＧＭ）と低屈折層（ＬＲＬ）との境界で全反射が効果的に行われるようにして、光源（ＬＤ）から放出された光（Ｌ）が、光源（ＬＤ）と相対的に離隔した導光部材（ＬＧＭ）の側面まで効果的に伝達されるようにする。
【００６０】
導光部材（ＬＧＭ）及び低屈折層（ＬＲＬ）上に色変換層（ＣＣＭ）が配置され得る。色変換層（ＣＣＭ）は、量子ドットを含み得る。色変換層（ＣＣＭ）は、光源（ＬＤ）から提供される光（Ｌ）の色を変化させて液晶層（ＬＣＬ）に伝達するものであり得る。例えば、光源（ＬＤ）から提供される光は、色変換層（ＣＣＭ）を通過した後、白色光として液晶層（ＬＣＬ）に提供され得る。
【００６１】
図３に示した一実施形態において、色変換層（ＣＣＭ）は、ベース樹脂（ＢＲ）及び量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）を含むものであり得る。量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）は、ベース樹脂（ＢＲ）に分散されるものであり得る。
【００６２】
ベース樹脂（ＢＲ）は、量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）が分散される媒質としては、一般的にバインダー（ｂｉｎｄｅｒ）と称される多様な樹脂組成物からなる。ただし、それに限定されるものではなく、本明細書において、量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）を分散配置できる媒質であれば、その名称、追加の他の機能、構成物質などに関係なしに、ベース樹脂（ＢＲ）と称される。ベース樹脂（ＢＲ）は、高分子樹脂であり得る。例えば、ベース樹脂（ＢＲ）は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、エポキシ系樹脂などであり得る。ベース樹脂（ＢＲ）は、透明樹脂であり得る。
【００６３】
量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）は、光源（ＬＤ、図２）から提供される光の波長を変換する粒子であり得る。量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）は数ナノメートルのサイズの結晶構造を有する物質であり、数百〜数千個程度の原子から構成され、サイズが小さいため、エネルギーバンドギャップ（ｂａｎｄ  ｇａｐ）が大きくなる量子閉じ込め（ｑｕａｎｔｕｍ  ｃｏｎｆｉｎｅｍｅｎｔ）効果を表す。量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）にバンドギャップよりも高いエネルギーの波長の光が入射する場合には、量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）は、その光を吸収して励起状態となり、特定の波長の光を放出しながら基底状態に至る。放出された波長の光は、バンドギャップに相当する値を有する。量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）は、そのサイズと組成等を調節することで、量子閉じ込め効果による発光特性を調節できる。
【００６４】
量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）はＩＩ−ＶＩ族化合物、ＩＩＩ−Ｖ族化合物、ＩＶ−ＶＩ族化合物、ＩＶ族元素、ＩＶ族化合物、及びこれらの組み合せから選択される。
【００６５】
ＩＩ−ＶＩ族化合物は、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＺｎＯ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＭｇＳｅ、ＭｇＳ、及びこれらの混合物からなる群から選択される２元素化合物と、ＡｇＩｎＳ、ＣｕＩｎＳ、ＣｄＳｅＳ、ＣｄＳｅＴｅ、ＣｄＳＴｅ、ＺｎＳｅＳ、ＺｎＳｅＴｅ、ＺｎＳＴｅ、ＨｇＳｅＳ、ＨｇＳｅＴｅ、ＨｇＳＴｅ、ＣｄＺｎＳ、ＣｄＺｎＳｅ、ＣｄＺｎＴｅ、ＣｄＨｇＳ、ＣｄＨｇＳｅ、ＣｄＨｇＴｅ、ＨｇＺｎＳ、ＨｇＺｎＳｅ、ＨｇＺｎＴｅ、ＭｇＺｎＳｅ、ＭｇＺｎＳ、及びこれらの混合物からなる群から選択される３元素化合物と、ＨｇＺｎＴｅＳ、ＣｄＺｎＳｅＳ、ＣｄＺｎＳｅＴｅ、ＣｄＺｎＳＴｅ、ＣｄＨｇＳｅＳ、ＣｄＨｇＳｅＴｅ、ＣｄＨｇＳＴｅ、ＨｇＺｎＳｅＳ、ＨｇＺｎＳｅＴｅ、ＨｇＺｎＳＴｅ及びこれらの混合物からなる群から選択される４元素化合物と、から構成される群から選択される。
【００６６】
ＩＩＩ−Ｖ族化合物は、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＡｌＳｂ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＳｂ、及びこれらの混合物からなる群から選択される２元素化合物と、ＧａＮＰ、ＧａＮＡｓ、ＧａＮＳｂ、ＧａＰＡｓ、ＧａＰＳｂ、ＡｌＮＰ、ＡｌＮＡｓ、ＡｌＮＳｂ、ＡｌＰＡｓ、ＡｌＰＳｂ、ＩｎＧａＰ、ＩｎＮＰ、ＩｎＮＡｓ、ＩｎＮＳｂ、ＩｎＰＡｓ、ＩｎＰＳｂ、ＧａＡｌＮＰ、及びこれらの混合物からなる群から選択される３元素化合物と、ＧａＡｌＮＡｓ、ＧａＡｌＮＳｂ、ＧａＡｌＰＡｓ、ＧａＡｌＰＳｂ、ＧａＩｎＮＰ、ＧａＩｎＮＡｓ、ＧａＩｎＮＳｂ、ＧａＩｎＰＡｓ、ＧａＩｎＰＳｂ、ＩｎＡｌＮＰ、ＩｎＡｌＮＡｓ、ＩｎＡｌＮＳｂ、ＩｎＡｌＰＡｓ、ＩｎＡｌＰＳｂ、及びこれらの混合物からなる群から選択される４元素化合物と、から構成される群から選択される。
【００６７】
ＩＶ−ＶＩ族化合物は、ＳｎＳ、ＳｎＳｅ、ＳｎＴｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＰｂＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される２元素化合物と、ＳｎＳｅＳ、ＳｎＳｅＴｅ、ＳｎＳＴｅ、ＰｂＳｅＳ、ＰｂＳｅＴｅ、ＰｂＳＴｅ、ＳｎＰｂＳ、ＳｎＰｂＳｅ、ＳｎＰｂＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される３元素化合物と、ＳｎＰｂＳＳｅ、ＳｎＰｂＳｅＴｅ、ＳｎＰｂＳＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される４元素化合物と、から構成される群から選択され得る。ＩＶ族元素ではＳｉ、Ｇｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される。ＩＶ族化合物としてはＳｉＣ、ＳｉＧｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される２元素化合物であり得る。
【００６８】
このとき、２元素化合物、３元素化合物又は４元素化合物は、均一な濃度で粒子内に存在するか、部分的に異なる濃度分布の状態に分けられて同一の粒子内に存在するものであり得る。
【００６９】
量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）は、コア（ｃｏｒｅ）とコアを取り囲むシェル（ｓｈｅｌｌ）を含むコアシェル構造であり得る。さらに、一つの量子ドットが、他の量子ドットを取り囲むコア／シェル構造を有し得る。コアとシェルの界面は、シェルに存在する元素の濃度が中心に行くほど低くなる濃度勾配（ｇｒａｄｉｅｎｔ）を有し得る。
【００７０】
いくつかの実施形態において、量子ドットは、前述したナノ結晶を含むコア及び前記コアを取り囲むシェルを含むコア／シェル構造を有し得る。前記量子ドットのシェルは、前記コアの化学的変性を防止して、半導体特性を維持するための保護層の役割及び／又は量子ドットに電気泳動特性を付与するためのチャージング層（ｃｈａｒｇｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）の役割を遂行できる。前記シェルは、単層又は複数層でできている。コアとシェルの界面は、シェルに存在する元素の濃度が中心に行くほど低くなる濃度勾配（ｇｒａｄｉｅｎｔ）を有し得る。前記量子ドットのシェルの例としては、金属若しくは非金属の酸化物、半導体化合物、又はこれらの組み合わせなどが挙げられる。
【００７１】
例えば、前記金属又は非金属の酸化物は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＭｎＯ、Ｍｎ２Ｏ３、Ｍｎ３Ｏ４、ＣｕＯ、ＦｅＯ、Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＣｏＯ、Ｃｏ３Ｏ４、ＮｉＯなどの２元素化合物、又はＭｇＡｌ２Ｏ４、ＣｏＦｅ２Ｏ４、ＮｉＦｅ２Ｏ４、ＣｏＭｎ２Ｏ４などの３元素化合物を例示できるものの、本発明がこれに限定されるものではない。
【００７２】
また、前記半導体化合物は、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＺｎＳｅＳ、ＺｎＴｅＳ、ＧａＡｓ、ＧａＰ、ＧａＳｂ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＩｎＡｓ、ＩｎＰ、ＩｎＧａＰ、ＩｎＳｂ、ＡｌＡｓ、ＡｌＰ、ＡｌＳｂなどを例示できるが、本発明がこれに限定されるものではない。
【００７３】
量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）は、ナノメートルスケールのサイズを有する粒子であり得る。量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）は約４５ｎｍ以下、好ましくは約４０ｎｍ以下、より好ましくは約３０ｎｍ以下の発光波長スペクトルの半値幅（ｆｕｌｌ  ｗｉｄｔｈ  ｏｆ  ｈａｌｆ  ｍａｘｉｍｕｍ、ＦＷＨＭ）を有し得、この範囲で色純度や色再現性を向上させ得る。さらに、これらの量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）を介して発光する光は、全方向に放出するため、広視野角が向上できる。
【００７４】
また、量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）の形態は、当分野で一般的に使用される形態のものに特に限定しないが、より具体的には球形、ピラミッド型、マルチアーム（ｍｕｌｔｉ−ａｒｍ）又は立方体（ｃｕｂｉｃ）のナノ粒子、ナノチューブ、ナノワイヤー、ナノ繊維、ナノ板状粒子などの形態のものであり得る。
【００７５】
量子ドットは、粒子のサイズに応じて放出する光の色相を調節することができ、これにより、量子ドットは、青色、赤色、緑色などの多様な発光色を有し得る。
【００７６】
一実施形態では、色変換層（ＣＣＭ）は、入射する光を異なる波長領域の色に変換する複数の量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）を、例えば、特定の波長の入射光を第１の波長に変換して放出する第１の量子ドット（ＱＤ１）、及び第２の波長に変換して放出する第２の量子ドット（ＱＤ２）を含み得る。
【００７７】
一実施形態では、色変換層（ＣＣＭ）は、散乱粒子（ＦＰ）をさらに含み得る。散乱粒子（ＦＰ）は、ＴｉＯ２又はシリカ系ナノ粒子などであり得る。散乱粒子（ＦＰ）は、量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）から放出される光を散乱させて、色変換層（ＣＣＭ）の外部に放出できるようにする。
【００７８】
例えば、色変換層（ＣＣＭ）が複数の量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）を含む場合には、光源（ＬＤ、図２）から提供される光が青色の波長領域の光であるときに、第１量子ドット（ＱＤ１）は青色光を緑色光の波長の光に変換させ、第２量子ドット（ＱＤ２）は、青色光を赤色光の波長の光に変換させ得る。具体的には、光源（ＬＤ、図２）から提供される光が４２０〜４７０ｎｍの波長で最大の発光ピークを有する青色光であるときに、第１量子ドット（ＱＤ１）は５２０ｎｍ〜５７０ｎｍの波長で最大の発光ピークを有する緑色光を放出し、第２量子ドット（ＱＤ２）は６２０ｎｍ〜６７０ｎｍで最大の発光ピークを有する赤色光を放出することができる。ただし、青色光、緑色光、及び赤色光が上で提示された波長範囲の例示に限定されるものではなく、本技術分野において、青色光、緑色光、及び赤色光として認識される波長範囲のすべてを含むものとして理解されるべきである。
【００７９】
一方、量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）の粒子のサイズに応じて放出する光の色相は変化することができ、第１量子ドット（ＱＤ１）及び第２量子ドット（ＱＤ２）の粒子のサイズは、互いに異なることがある。例えば、第１量子ドット（ＱＤ１）の粒子のサイズは、第２量子ドット（ＱＤ２）の粒子のサイズよりも小さいものであり得る。このとき、第１量子ドット（ＱＤ１）は、第２量子ドット（ＱＤ２）より短波長の光を放出するものであり得る。
【００８０】
再び図２を参照すれば、色変換層（ＣＣＭ）は、低屈折層（ＬＲＬ）上に直接配置され得る。例えば、色変換層（ＣＣＭ）は、低屈折層（ＬＲＬ）上にコーティングして形成され得る。色変換層（ＣＣＭ）はスリットコーティング、スピンコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、インクジェットプリンティングなどの多様な方法を利用して、低屈折層（ＬＲＬ）上に提供される。ただし、これに限定されるものではなく、色変換層（ＣＣＭ）と低屈折層（ＬＲＬ）との間に、後述するバリア層が配置され得る。
【００８１】
色変換層（ＣＣＭ）上に光学層（ＯＰＬ）が配置され得る。光学層（ＯＰＬ）は、色変換層（ＣＣＭ）を保護する役割と出射される光を集光させる役割とを同時に遂行することができる。光学層（ＯＰＬ）に対しては図４Ａ〜図５Ｂを参照して詳しく説明する。
【００８２】
図４Ａは、光学パターン部（ＰＡＴ）がない光学層（ＯＰＬ−１）での光の経路を示す図面であり、図４Ｂは、本発明の一実施形態による光学層（ＯＰＬ）における光の経路を示す図面である。図５Ａは、光学層（ＯＰＬ）の一実施形態を示す斜視図であり、図５Ｂは図５ＡのＩＶ−ＩＶ’に対応する部分での断面図である。図５Ｃは、光学パターン部の密度による光効率の増加を測定したグラフである。図５Ｄは、光学層（ＯＰＬ）の平面を光学顕微鏡で撮影したイメージである。
【００８３】
一実施形態において、光学層（ＯＰＬ）は、液晶層（ＬＣＬ）の方向に光を集光するための複数の光学パターン部（ＰＡＴ）を含むものであり得る。図４Ａに示すように、光学パターン部（ＰＡＴ）を含まない光学層（ＯＰＬ−１）は、導光部材（ＬＧＭ）から出射される光が臨界角の近くの入射角を有している場合には、ほとんどの光が光学層（ＯＰＬ−１）の境界面の法線方向に集光されず、液晶ディスプレイパネル（ＤＰ、図１）に光が伝達されないため、低い光効率を有するようになる。一方、図５Ｂに示すように、光学パターン部（ＰＡＴ）を含む光学層（ＯＰＬ）は、臨界角の近くの入射角を有する光を光学パターン部（ＰＡＴ）によって集光させるため、液晶ディスプレイパネル（ＤＰ、図１）に効果的に光を伝達して光効率を向上させ得る。
【００８４】
図５Ａ、図５Ｂ及び図５Ｄを参照すると、光学パターン部（ＰＡＴ）は、出射面（ＬＧＭ−Ｔ、図２）の方向に突出した凸レンズの形状であり得、光学パターン部（ＰＡＴ）は、互いに離隔して一定の間隔で配置されるか、又はランダムに配置される。光学パターン部（ＰＡＴ）の間には離隔平面（ＳＰ）が形成され得る。
【００８５】
光学層（ＯＰＬ）の総面積で複数の光学パターン部（ＰＡＴ）が占める総面積を光学パターン部（ＰＡＴ）の密度（％）というとき、一実施形態では、光学パターン部（ＰＡＴ）の密度は５０％以上であり得る。図５Ｃを参照すると、光学パターン部（ＰＡＴ）の密度が高いほど、光取り出し効率が向上でき、その値が５０％以上である場合には、光効率の増加１００％を達成することができる。
【００８６】
一実施形態において、光学層（ＯＰＬ）は、ベース層（ＯＢＰ）をさらに含み得、光学パターン部（ＰＡＴ）は、ベース層（ＯＢＰ）上に提供される。光学パターン部（ＰＡＴ）は、一定の範囲の高さ（Ｈ１）及び直径（Ｄ１）を含み、これにより、光学パターン部（ＰＡＴ）は、０．５〜１．５の縦横比（ａｓｐｅｃｔ  ｒａｔｉｏ、Ｈ１／Ｄ１）を有する。縦横比が０．５未満であるか、又は１．５を超える場合には、最適の集光範囲を逸脱するようになって光効率が低減され得る。一方、高さ（Ｈ１）は、ベース層（ＯＢＰ）から光学パターン部（ＰＡＴ）の最高点までの垂直距離を意味し、直径（Ｄ１）は、中心を通る最長距離を意味する。
【００８７】
一実施形態において、光学パターン部（ＰＡＴ）は、平均直径が１００ｎｍ〜２０μｍである。光学パターン部（ＰＡＴ）の平均直径が１００ｎｍ未満である場合には、光学パターン部（ＰＡＴ）の製作が困難になり、平均直径が２０μｍを超える場合には、最適な集光範囲を逸脱し、光効率が低減する。
【００８８】
光学パターン部（ＰＡＴ）の導光部材（ＬＧＭ）に平行な断面は、円形又は楕円形状であり得る。さらに、光学パターン部（ＰＡＴ）の導光部材（ＬＧＭ）に垂直な断面は、半円又は半楕円形状であり得る。ただし、これに限定されず、前記縦横比を満足する場合には、光学パターン部（ＰＡＴ）は多様な形状を有し得る。
【００８９】
一実施形態において、光学層（ＯＰＬ）は、鉛筆硬度が４Ｈ以上である。色変換層（ＣＣＭ）は、工程中にスクラッチが発生しやすく、この場合に、外部の酸素及び／又は水分の浸透により、色変換層（ＣＣＭ）の量子ドットが劣化して、液晶表示装置にブラックスポット又はホワイトスポットが発生する問題が起こる。本発明の光学層（ＯＰＬ）は４Ｈ以上の鉛筆硬度を有することにより、色変換層（ＣＣＭ）を保護する役割を遂行することができ、工程中の色変換層（ＣＣＭ）にスクラッチなどの発生を防止することができる。一方、鉛筆硬度は１ｋｇの荷重で鉛筆の接触角度が４５度であるときに、鉛筆の移動速度を１ｍｍ／ｓｅｃにして測定した。
【００９０】
光学層（ＯＰＬ）を形成する材料は、前記鉛筆硬度を満足して、透過率の高い材料ならば特に限定されず、例えば、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂であり得る。４Ｈ以上の鉛筆硬度を有する熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂としては、多官能アクリレート樹脂、多官能エポキシ樹脂又はシルセスキオキサン誘導体である。
【００９１】
多官能性アクリレート樹脂としては、例えば、二官能性（メタ）アクリレート、３つ以上の官能性（メタ）アクリレート、多官能性ウレタン（メタ）アクリレート、多官能性エポキシ（メタ）アクリレート、多官能性ポリエステル（メタ）アクリレート、多官能性ポリエーテル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。ここで、二官能性（メタ）アクリレートとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバル酸変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル酸性リン酸ジエステルのような脂肪族化合物と、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシ）ペンタシクロなどの［６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３］ペンタデカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３］ペンタデカン＝ジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス［４−（β−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル］プロパン、１，３−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル）シクロヘキサンのような脂環式化合物と、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールＡ（２，２’−ジフェニルプロパン）型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性ビスフェノールＡ（２，２’−ジフェニルプロパン）タイプのジ（メタ）アクリレートのような芳香族化合物とが挙げられる。３つ以上の官能性（メタ）アクリレートとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリ���イルオキシエトキシトリメチロールプロパン、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートのような脂肪族化合物と、１，３，５−トリス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル）シクロヘキサンなどの脂環式化合物とが挙げられる。これらのいずれか１つ又は２つ以上の組み合せを使用することもできる。
【００９２】
多官能エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ポリオレフィン付加ビスフェノールＡジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ポリオレフィン付加ビスフェノールＦジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、脂環式ジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂などが挙げられる。これらのいずれか１つ又は２つ以上の組み合せを使用することもできる。
【００９３】
一実施形態では、光学層（ＯＰＬ）はシリカ粒子をさらに含み得る。シリカ粒子を含む場合には、光学パターン層（ＰＡＴ）の形成がより容易になる。シリカ粒子のサイズは、５０ｎｍ〜２００ｎｍであり得るが、これに限定されるものではない。
【００９４】
光学層（ＯＰＬ）の鉛筆硬度が４Ｈ未満の場合と４Ｈ以上の場合を満足するようにそれぞれ形成した後、耐摩耗特性及び透過率を測定した。その結果は、表１の通りである。一方、耐摩耗特性は１．５ｋｇ荷重でｓｔｅｅｌ  ｗｏｏｌ＃００００を使用して１０回往復の移動で、スクラッチが発生するか否かを評価した。
【００９５】
【表１】
2020119894.tif 000003
【００９６】
従来の光学層として主に使用されるポリイミド樹脂の場合には、鉛筆硬度が４Ｈ未満で測定されており、耐摩耗特性評価の結果として、多数のスクラッチが発生することを確認できる。一方、鉛筆硬度が４Ｈ以上の場合には、耐摩耗特性評価の結果として、スクラッチが発生しないことを確認しており、これに応じて効果的に色変換層（ＣＣＭ）を保護することを予測できる。
【００９７】
したがって、本発明の光学層（ＯＰＬ）は集光効果を高め、光効率を向上させつつ、同時に保護層の役割を行うことができるため、追加の光学シートを必要とせず薄型の液晶表示装置を実現する効果を有する。
【００９８】
光学層（ＯＰＬ）は、色変換層（ＣＣＭ）上に直接配置されている可能性がある。ただし、これに限定されるものではなく、光学層（ＯＰＬ）と色変換層（ＣＣＭ）との間にバリア層が配置され得る。光学層（ＯＰＬ）は、バックライトユニット（ＢＬＵ）の最外領域に配置して保護層の役割を遂行することができる。光学層（ＯＰＬ）は、色変換層（ＣＣＭ）上に静電噴霧法を用いて形成され得る。光学層（ＯＰＬ）の製造方法に対しては、図９及び図１０により詳しく説明する。
【００９９】
図６Ａ及び図６Ｂは、一実施形態のバックライトユニットを示す断面図である。図６Ａ及び図６Ｂに示した一実施形態のバックライトユニット（ＢＬＵ−２、ＢＬＵ−３）は、図２に示した一実施形態のバックライトユニット（ＢＬＵ−１）に比較してバリア層（ＢＡＬ１、ＢＡＬ２）の構成において差がある。以下では、図１〜図５Ｄを参照して説明した構成と同じ構成に対する詳しい説明は省略する。
【０１００】
バックライトユニット（ＢＬＵ−２、ＢＬＵ−３）は、少なくとも一つのバリア層（ＢＡＬ１、ＢＡＬ２）をさらに含むものであり得る。少なくとも一つのバリア層（ＢＡＬ１、ＢＡＬ２）は、色変換層（ＣＣＭ）の一面に隣接して配置されるものであり得る。
【０１０１】
バリア層（ＢＡＬ１、ＢＡＬ２）は、水分及び／又は酸素の浸透を防ぐ役割をする。バリア層（ＢＡＬ１、ＢＡＬ２）は、少なくとも一つの無機層を含み得る。つまり、バリア層（ＢＡＬ１、ＢＡＬ２）は無機物質を含んで形成される。例えば、バリア層（ＢＡＬ１、ＢＡＬ２）は、窒化シリコン、窒化アルミニウム、窒化ジルコニウム、窒化チタン、窒化ハフニウム、窒化タンタル、酸化シリコン、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化セリウム及び酸窒化シリコンや光透過度を有する金属薄膜などを含んで形成される。一方、バリア層（ＢＡＬ１、ＢＡＬ２）は、有機膜をさらに含み得る。バリア層（ＢＡＬ１、ＢＡＬ２）は、単一層又は複数の層で構成され得る。バリア層（ＢＡＬ１、ＢＡＬ２）の厚さは、特に限定されないが、例えば、０．４μｍ〜１．０μｍであり得る。
【０１０２】
図６Ａに示した実施形態では、バックライトユニット（ＢＬＵ−２）は、色変換層（ＣＣＭ）と光学層（ＯＰＬ）との間に配置される第１バリア層（ＢＡＬ１）を含むものであり得る。第１バリア層（ＢＡＬ１）は色変換層（ＣＣＭ）上に直接配置することができ、光学層（ＯＰＬ）に接することができる。第１バリア層（ＢＡＬ１）は、１つの層で示しているが、実施形態がこれに限定されるものではなく、複数の層を含むものであり得る。第１バリア層（ＢＡＬ１）が複数の層を含む場合には、第１バリア層（ＢＡＬ１）は、複数の無機膜を含むか、又は無機膜と有機膜の両方を含む。
【０１０３】
図６Ｂに示した一実施形態では、バックライトユニット（ＢＬＵ−３）は、色変換層（ＣＣＭ）と光学層（ＯＰＬ）との間に配置された第１バリア層（ＢＡＬ１）、及び低屈折層（ＬＲＬ）と色変換層（ＣＣＭ）との間に配置された第２バリア層（ＢＡＬ２）を含むものであり得る。第２バリア層（ＢＡＬ２）は低屈折層（ＬＲＬ）上に直接配置することができ、色変換層（ＣＣＭ）に接することができる。第２バリア層（ＢＡＬ２）は、単一の層で図示しているが、実施形態がこれに限定されるものではなく、複数の層を含み得る。第２バリア層（ＢＡＬ２）が複数の層を含む場合には、第２バリア層（ＢＡＬ２）は、複数の無機膜を含むか、又は無機膜と有機膜の両方を含み得る。
【０１０４】
図７は、図１に示した一実施形態の液晶表示装置のＩＩ−ＩＩ’に対応する部分における一実施形態の液晶表示装置の断面図である。図８は、本発明の一実施形態による液晶ディスプレイパネルの断面図である。
【０１０５】
図７に示した一実施形態では、バックライトユニット（ＢＬＵ）上に液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）が配置され得る。
【０１０６】
バックライトユニット（ＢＬＵ）は、導光部材（ＬＧＭ）と、導光部材（ＬＧＭ）上に配置される低屈折層（ＬＲＬ）と、低屈折層（ＬＲＬ）上に配置される色変換層（ＣＣＭ）と、色変換層（ＣＣＭ）上に配置される光学層（ＯＰＬ）と、を備える。
【０１０７】
液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）は、第１ベース基板（ＢＬ１）及び回路層（ＣＬ）を含む第１の基板（ＳＵＢ１）と、第２ベース基板（ＢＬ２）と、カラーフィルター層（ＣＦ）を含む第２の基板（ＳＵＢ２）と、第１の基板（ＳＵＢ１）と第２の基板（ＳＵＢ２）の間に配置される液晶層（ＬＣＬ）と、を備える。
【０１０８】
なお、図示していないが、液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）は、偏光層をさらに含み得る。偏光層は、第１の基板（ＳＵＢ１）の下部、第２の基板（ＳＵＢ２）の上部、第１の基板（ＳＵＢ１）の内部及び／又は第２の基板（ＳＵＢ２）の内部（ｉｎ  ｃｅｌｌ  ｐｏｌ）に配置することができる。偏光層はコーティング型偏光層であるか、又は蒸着によって形成できる。あるいは、これとは異なり、偏光層は、フィルム型の偏光部材であり得る。
【０１０９】
図８に示した実施形態では、液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）は、互いに離隔して配置された第１の基板（ＳＵＢ１）と、第２の基板（ＳＵＢ２）と、第１の基板（ＳＵＢ１）と第２の基板（ＳＵＢ２）との間に配置された液晶層（ＬＣＬ）と、を備える。ただし、液晶ディスプレイパネル（ＤＰ）の構造は、これに限定されるものではなく、例えば、第１ベース基板（ＢＬ１）及び第２ベース基板（ＢＬ２）は、裏返され得る。
【０１１０】
第１の基板（ＳＵＢ１）は、第１ベース基板（ＢＬ１）と、第１ベース基板（ＢＬ１）上に配置されて第１ベース基板（ＢＬ１）より液晶層（ＬＣＬ）に隣接して配置された回路層（ＣＬ）と、を含み得る。
【０１１１】
第１ベース基板（ＢＬ１）は、ポリマー基板、プラスチック基板、ガラス基板、又は石英基板などであり得る。第１ベース基板（ＢＬ１）は、透明な絶縁基板であり得る。第１ベース基板（ＢＬ１）はリジッド（ｒｉｇｉｄ）な、又はフレキシブルなものであり得る。第１ベース基板（ＢＬ１）は、回路層（ＣＬ）などが配置される基材の役割をするものであり得る。
【０１１２】
回路層（ＣＬ）は、ゲートラインと、ストレージラインと、液晶層（ＬＣＬ）に電界を形成する電極と、を備える。トランジスタ（Ｔ）は、ゲート電極（ＧＥ）と、ゲート電極（ＧＥ）に重畳する活性化部と、データライン（ＤＡＬ）に連結されたソース電極（ＳＥ）と、ソース電極（ＳＥ）と離隔して配置されるドレイン電極（ＤＥ）と、を備える。半導体パターン（ＳＭ）は、ゲート絶縁膜（ＧＩ）を間に置いてゲート電極（ＧＥ）上に提供される。半導体パターン（ＳＭ）は、一部の領域がゲート電極（ＧＥ）に重畳する。半導体パターン（ＳＭ）は、ゲート絶縁膜（ＧＩ）上に提供されたアクティブパターン（図示せず）と、アクティブパターン上に形成されたオーミックコンタクト層（図示せず）と、を備える。オーミックコンタクト層は、ソース電極（ＳＥ）及びドレイン電極（ＤＥ）とアクティブパターンとの間をそれぞれオーミックコンタクト（ｏｈｍｉｃ  ｃｏｎｔａｃｔ）させる。
【０１１３】
ソース電極（ＳＥ）は、データライン（ＤＡＬ）から分岐して提供される。ソース電極（ＳＥ）は、オーミックコンタクト層上に形成され、一部の領域がゲート電極（ＧＥ）に重畳する。データのデータライン（ＤＡＬ）は、ゲート絶縁膜（ＧＩ）の中で半導体パターン（ＳＭ）が配置されていない領域に配置できる。
【０１１４】
ドレイン電極（ＤＥ）は、半導体パターン（ＳＭ）を間に置いてソース電極（ＳＥ）から離隔して提供される。ドレイン電極（ＤＥ）は、オーミックコンタクト層上に形成され、一部の領域がゲート電極（ＧＥ）に重畳するように提供される。
【０１１５】
これにより、ソース電極（ＳＥ）とドレイン電極（ＤＥ）との間のアクティブパターンの上面が露出され、ゲート電極（ＧＥ）の電圧印加の有無に応じて、ソース電極（ＳＥ）とドレイン電極（ＤＥ）との間で伝導チャネル（ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  ｃｈａｎｎｅｌ）をなすチャンネル部となる。ソース電極（ＳＥ）とドレイン電極（ＤＥ）とは、ソース電極（ＳＥ）とドレイン電極（ＤＥ）との間に離隔して形成されたチャンネル部を除いた領域で、半導体パターン（ＳＭ）の一部に重畳する。
【０１１６】
画素電極（ＰＥ）は、保護膜（ＰＳＶ）を間に置いてドレイン電極（ＤＥ）に連結される。保護膜（ＰＳＶ）は、ソース電極（ＳＥ）、ドレイン電極（ＤＥ）、チャンネル部、及びゲート絶縁膜（ＧＩ）をカバーし、ドレイン電極（ＤＥ）の一部を露出するコンタクトホール（ＣＨ）を有する。保護膜（ＰＳＶ）は、例えば、シリコン窒化物や、シリコン酸化物を含み得る。画素電極（ＰＥ）は、保護膜（ＰＳＶ）に形成されたコンタクトホール（ＣＨ）を介してドレイン電極（ＤＥ）に連結される。画素電極（ＰＥ）は、透明な導電性物質で形成される。
【０１１７】
液晶層（ＬＣＬ）は、第１の基板（ＳＵＢ１）と第２の基板（ＳＵＢ２）との間に配置され、複数の液晶分子を含む。液晶層（ＬＣＬ）は誘電率の異方性を有する液晶分子が配列して提供され得る。液晶層（ＬＣＬ）は通常使用される液晶分子であれば、特に限定されず、使用することができ、例えば、液晶分子は、アルケニル系液晶化合物、アルコキシ系液晶化合物が使用され得る。実施形態において使用された液晶分子は、負の誘電率の異方性を有し得るが、実施形態がこれに限定されるものではなく、例えば、正の誘電率の異方性を有する液晶分子が使用されることもある。
【０１１８】
一方、図示していないが、第１ベース基板（ＢＬ１）の一面上に１つ以上の絶縁層が配置される。また、第１ベース基板（ＢＬ１）と液晶層（ＬＣＬ）との間に配向膜がさらに配置される。前記配向膜は、液晶層（ＬＣＬ）に注入された液晶の配向角度を制御することができる。
【０１１９】
第２の基板（ＳＵＢ２）は、第２ベース基板（ＢＬ２）、前記第２ベース基板（ＢＬ２）の下部面に配置されるカラーフィルタ層（ＣＦ）、及び共通電極（ＣＥ）を含み得る。
【０１２０】
第２ベース基板（ＢＬ２）は、ポリマー基板、プラスチック基板、ガラス基板、又は石英基板などであり得る。第２ベース基板（ＢＬ２）は、透明な絶縁基板であり得る。第２ベース基板（ＢＬ２）は、リジッド又はフレキシブルなものであり得る。第２ベース基板（ＢＬ２）は、カラーフィルター層（ＣＦ）などが配置される基材の役割をするものであり得る。
【０１２１】
第２ベース基板（ＢＬ２）の下面上にカラーフィルター層（ＣＦ）が配置され得る。カラーフィルター層（ＣＦ）は、一定の波長領域の光を透過させるフィルター部（ＣＦ１）を含み得る。図示していないが、複数のカラーフィルター層（ＣＦ）は、複数のフィルター部を含み、この場合には、各フィルター部は互いに異なる波長領域の光を透過させ得る。例えば、カラーフィルター層（ＣＦ）は、赤色フィルター部、緑色フィルター部、青色フィルター部、白色フィルター部などを含み得るが実施形態がこれに限定されるものではない。
【０１２２】
また、カラーフィルター層（ＣＦ）は、光を遮光して光漏れ現象を防止する遮光部（ＢＭ）をさらに含み得る。遮光部（ＢＭ）は、ブラックマトリックスであり得る。遮光部（ＢＭ）は、ブラック顔料又は染料を含む有機遮光物質又は無機遮光物質を含んで形成できる。カラーフィルター層（ＣＦ）が複数のフィルター部を含む場合には、隣り合うフィルター部の間を区分する遮光部（ＢＭ）がさらに配置され得る。遮光部（ＢＭ）は、隣り合うフィルター部の境界に重畳して配置される。
【０１２３】
カラーフィルター層（ＣＦ）の下側に共通電極（ＣＥ）が配置され得る。共通電極（ＣＥ）は、カラーフィルター層（ＣＦ）の下面に直接配置するものとして示したが、これに限定されない。共通電極（ＣＥ）とカラーフィルター層（ＣＦ）との間に絶縁層がさらに配置され得る。共通電極（ＣＥ）は、画素電極（ＰＥ）とともに電界を形成することにより、液晶層（ＬＣＬ）を制御する。本発明の一実施形態では、共通電極（ＣＥ）が第２ベース基板（ＢＬ２）上に配置されるものを開示したが、これに限定されるものではなく、共通電極（ＣＥ）は、第１ベース基板（ＢＬ１）上に配置されることもある。
【０１２４】
本実施形態では、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードの液晶ディスプレイパネルを例として説明したが、本発明の一実施形態において、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード又はＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ−Ｆｉｅｌｄ  ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＰＬＳ（Ｐｌａｎｅ  ｔｏ  Ｌｉｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＳＶＡ（Ｓｕｐｅｒ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＳＳ−ＶＡ（Ｓｕｒｆａｃｅ−Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードの液晶ディスプレイパネルが適用され得る。
【０１２５】
一方、図１、図７、図８に示して説明した液晶ディスプレイパネルの実施形態は、例としてのものであり、第１の基板（ＳＵＢ１）及び第２の基板（ＳＵＢ２）のそれぞれの構成は、本発明の範囲内で多様に変形することができる。
【０１２６】
上述した一実施形態のバックライトユニット及びこれを含む液晶表示装置は、導光部材と、色変換層と、一定の範囲以上の強度を有して光学パターン部を含む光学層と、を備えることにより、集光効果を高めて光効率を改善し、色再現性に優れ、輝度を向上することができる。また、色変換層を効果的に保護して、色変換層が外部環境に露出される場合に発生する信頼性の問題を改善することができ、薄型の液晶表示装置を実現する効果を有する。また、量子ドットを含む色変換層をバックライトユニットに導入することにより、表示品質を向上させることができる。
【０１２７】
以下では、図面を参照して、一実施形態のバックライトユニットの製造方法に対して説明する。
【０１２８】
図９は、上述した一実施形態のバックライトユニットの製造手順を概略的に示した図面である。図１０は、図９のステップ３に対応する一実施形態の光学層を製造する方法を概略的に示す図面である。以下では、図１〜図８を参照して説明した構成と同じ構成に対する詳しい説明は省略する。
【０１２９】
図９のステップ１〜ステップ５は、バックライトユニットの製造手順を順次的に示したが、実施形態がこれに限定されるものではなく、例えば、導光パターン部（ＧＰ）を形成するステップ５は、ステップ１の以前又はステップ１以降の段階で進行され得る。
【０１３０】
ステップ１を参照すると、まず導光部材（ＬＧＭ）上に低屈折層（ＬＲＬ）が形成される。低屈折層（ＬＲＬ）は０．１μｍ〜１０μｍの厚さで形成され得る。低屈折層（ＬＲＬ）は導光部材（ＬＧＭ）の出射面（ＬＧＭ−Ｔ、図２）上にコーティングして形成され得る。具体的には低屈折層（ＬＲＬ）はスリットコーティング、スピンコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、インクジェットプリンティングなどの方法で形成され得るが、これらに限定されるものではない。あるいは、これとは異なり低屈折層（ＬＲＬ）は転写方法（ｔｒａｎｓｆｅｒ  ｍｅｔｈｏｄ）などの多様な方法を利用して、導光部材（ＬＧＭ）上に形成され得る。
【０１３１】
次に、ステップ２は、色変換層（ＣＣＭ）を形成する段階である。色変換層（ＣＣＭ）は、低屈折層（ＬＲＬ）上に形成される。色変換層（ＣＣＭ）は、量子ドットを含む色変換層であり得る。色変換層（ＣＣＭ）は、少なくとも一つの量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）を含むものであり得、量子ドット（ＱＤ１、ＱＤ２）は、ベース樹脂に分散して含まれ得る。色変換層（ＣＣＭ）は、散乱粒子（ＦＰ）をさらに含み得る。
【０１３２】
色変換層（ＣＣＭ）は、第１低屈折層（ＬＲＬ）上に直接形成することができる。色変換層（ＣＣＭ）は０．５μｍ〜１００μｍの厚さで形成することができる。色変換層（ＣＣＭ）は、コーティング工程を利用して、低屈折層（ＬＲＬ）上に形成することができ、具体的にはスリットコーティング、スピンコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、又はインクジェットプリンティング工程で形成することができるが、これに限定されるものではない。
【０１３３】
一方、バックライトユニットの製造手順では、色変換層（ＣＣＭ）の一面に接するバリア層を形成する段階をさらに含み得る。バリア層は、色変換層（ＣＣＭ）を外部から保護するために形成することができる。バリア層は、色変換層（ＣＣＭ）と低屈折層（ＬＲＬ）との間に、及び／又は色変換層（ＣＣＭ）と光学層（ＯＰＬ）との間に配置されるように形成することができる。バリア層が、色変換層（ＣＣＭ）と低屈折層（ＬＲＬ）との間に配置するように形成される場合には、バリア層は色変換層（ＣＣＭ）が形成されるベース面になれる。バリア層は、無機膜又は有機膜を含むものであり得る。バリア層は、単層又は多層で提供され得る。バリア層を形成する段階は、ステップ１とステップ２との間に及び／又はステップ２とステップ３との間に進行することができる。
【０１３４】
ステップ３及びステップ４は、光学層（ＯＰＬ−１、ＯＰＬ−２）を提供する段階を示したものである。
【０１３５】
ステップ３は色変換層（ＣＣＭ）上に光学層（ＯＰＬ−１）を蒸着する段階であり、静電噴霧法を利用し、静電噴霧法は、図１０を参照して説明する。図１０に示す一実施形態の静電噴霧法は、静電噴霧材料が噴射される静電噴霧ノズル１０と、電圧を印加する電圧供給装置と、電気噴霧ノズルを介して噴射される静電噴霧材料が蒸着される積層体と、を備える。積層体は、導光部材（ＬＧＭ）、低屈折層（ＬＲＬ）、及び色変換層（ＣＣＭ）を順次積層した構造であり得る。
【０１３６】
色変換層（ＣＣＭ）上に光学層（ＯＰＬ−１）を蒸着する段階は、まず、静電噴霧材料を準備し、準備された静電噴霧材料を静電噴霧ノズル１０に満たした後に、色変換層（ＣＣＭ）上に噴射する。静電噴霧ノズル１０を介して噴射される静電噴霧材料は液滴の形態２０に積層体に蒸着されて、別途のパターニング工程なしに光学パターンを含む光学層（ＯＰＬ−１）を形成することができる。
【０１３７】
一実施形態では、静電噴霧材料は、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂を含み、これにより、その次の硬化工程を経て光学層（ＯＰＬ−２）を形成することができる。静電噴霧材料はシリカ粒子をさらに含み得る。
【０１３８】
静電噴霧材料の粘度は２０ｃＰ以下であり得る。噴霧材料の粘度が２０ｃＰを超える場合には、液滴の形態で噴射しにくく、静電噴霧法を適用することは困難であり得る。
【０１３９】
ステップ４は、蒸着された光学層（ＯＰＬ−１）を硬化させて、鉛筆硬度４Ｈ以上の光学層（ＯＰＬ−２）を形成する段階である。光学層（ＯＰＬ−２）は、熱硬化工程又は光硬化工程により形成することができる。例えば、光学層（ＯＰＬ−１）を１００℃〜１８０℃の温度で１０分〜３０分間熱硬化するか、露光エネルギーの約２Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させて光学層（ＯＰＬ−２）を形成することができる。
【０１４０】
ステップ５は、導光パターン部（ＧＰ）を形成した段階を示す。導光パターン部（ＧＰ）は、導光部材（ＬＧＭ）の下部面に直接パターンニングして形成するか、又は転写工程を利用して、導光部材（ＬＧＭ）に提供され得る。
【０１４１】
上述した一実施形態のバックライトユニットの製造方法は、従来のパターン層を形成するために、別途のインプリンティング工程を遂行したのとは異なり、静電噴霧法を利用して、材料の蒸着と同時にすぐに光学パターン層を形成することができるため、工程が簡素化されて生産性を向上できる。
【０１４２】
以上では、本発明の好ましい実施形態を参照して説明したが、当該技術分野における熟練された当業者又は当該技術分野における通常の知識を有する者であれば、後述する特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び技術的領域から逸脱しない範囲内で、本発明を多様に修正及び変更することが理解できるだろう。
【０１４３】
したがって、本発明の技術的範囲は、明細書の詳細な説明部分に記載された内容に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって定められるべきである。
【符号の説明】
【０１４４】
１０  静電噴霧ノズル
２０  液滴の形態
ＢＡＬ１、ＢＡＬ２  バリア層
ＢＬ１  第１ベース基板
ＢＬ２  第２ベース基板
ＢＭ  遮光部
ＢＲ  ベース樹脂
ＢＬＵ、ＢＬＵ−１、ＢＬＵ−２、ＢＬＵ−３  バックライトユニット
ＣＣＭ  色変換層
ＣＥ  共通電極
ＣＦ  カラーフィルター層
ＣＨ  コンタクトホール
ＣＬ  回路層
ＤＡＬ  データライン
ＤＤ  液晶表示装置
ＤＥ  ドレイン電極
ＤＰ  液晶ディスプレイパネル
ＦＰ  散乱粒子
ＧＥ  ゲート電極
ＧＩ  ゲート絶縁膜
ＧＰ  導光パターン部
Ｌ  光
ＬＣＬ  液晶層
ＬＤ  光源
ＬＧＭ  導光部材
ＬＧＭ−Ｆ  入射面
ＬＧＭ−Ｔ  出射面
ＬＲＬ  低屈折層
ＯＢＰ  ベース層
ＯＰＬ、ＯＰＬ−１、ＯＰＬ−２  光学層
ＰＡＴ  光学パターン部
ＰＥ  画素電極
ＰＳＶ  保護膜
ＱＤ１、ＱＤ２  量子ドット
ＳＥ  ソース電極
ＳＦ  支持台
ＳＭ  半導体パターン
ＳＰ  離隔平面
ＳＵＢ１  第１の基板
ＳＵＢ２  第２の基板
Ｔ  トランジスタ
【図１】
2020119894.tif 000004
【図２】
2020119894.tif 000005
【図３】
2020119894.tif 000006
【図４Ａ】
2020119894.tif 000007
【図４Ｂ】
2020119894.tif 000008
【図５Ａ】
2020119894.tif 000009
【図５Ｂ】
2020119894.tif 000010
【図５Ｃ】
2020119894.tif 000011
【図５Ｄ】
2020119894.tif 000012
【図６Ａ】
2020119894.tif 000013
【図６Ｂ】
2020119894.tif 000014
【図７】
2020119894.tif 000015
【図８】
2020119894.tif 000016
【図９】
2020119894.tif 000017
【図１０】
2020119894.tif 000018