(57)【要約】【課題】積層型の半導体素子において、半導体素子の歩留まりを向上させる。【解決手段】情報取得部は、複数の半導体ウェハのそれぞれに形成された複数の半導体チップのうち所定範囲内の測定値が測定された半導体チップのそれぞれを良品チップとして示す情報を取得する。回転角度取得部は、前記複数の半導体ウェハのうち一対の半導体ウェハの一方の回転前の外周の特定個所から中心への線分と回転後の特定個所から中心への線分とのなす回転角度のうち、一対の半導体ウェハの前記一方を他方に対して回転させて積層した際に重なり合う良品チップの個数が最大になる前記回転角度を前記情報に基づいて取得する。積層処理部は、前記一対の半導体ウェハの前記一方を前記他方に対して前記回転角度だけ回転させて積層する処理を行う。【選択図】図４
2020038946.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の半導体ウェハのそれぞれに形成された複数の半導体チップのうち所定範囲内の測定値が測定された半導体チップのそれぞれを良品チップとして示す情報を取得する情報取得部と、
前記複数の半導体ウェハのうち一対の半導体ウェハの一方の回転前の外周の特定個所から中心への線分と回転後の前記特定個所から前記中心への線分とのなす回転角度のうち、前記一対の半導体ウェハの前記一方を他方に対して回転させて積層した際に重なり合う前記良品チップの個数が最大になる前記回転角度を前記情報に基づいて取得する回転角度取得部と、
前記一対の半導体ウェハの前記一方を前記他方に対して前記回転角度だけ回転させて積層する処理を行う積層処理部と
を具備する半導体素子の製造システム。
【請求項２】
前記半導体チップの形状は、所定軸の周りに所定角度だけ回転させても変化しない形状であり、
前記回転角度取得部は、前記所定角度の倍数のいずれかを前記回転角度として求める
請求項１記載の製造システム。
【請求項３】
前記半導体チップの形状は正方形であり、
前記回転角度取得部は、９０度の倍数のいずれかを前記回転角度として求める
請求項２記載の製造システム。
【請求項４】
前記一対の半導体ウェハの前記他方に対応する前記半導体チップには、所定数の端子が形成され、
前記一対の半導体ウェハの前記一方には、前記所定角度ごとに前記所定数の端子が形成され、
前記一対の半導体ウェハの前記一方に係る前記端子の配列は、前記所定軸の周りに前記所定角度だけ回転させても変化しない形状である
請求項２記載の製造システム。
【請求項５】
前記一対の半導体ウェハの前記一方に係る前記端子は、前記所定角度ごとに異なるグループに属し、
前記一対の半導体ウェハの前記一方に対応する前記半導体チップには、前記グループそれぞれの回転対称な位置の前記端子に共通に接続された回路がさらに形成される
請求項４記載の製造システム。
【請求項６】
前記一対の半導体ウェハの前記一方に係る前記端子の配列は、矩形である
請求項４記載の製造システム。
【請求項７】
前記一対の半導体ウェハの前記一方に係る前記端子の配列は、十字形状である
請求項４記載の製造システム。
【請求項８】
前記一対の半導体ウェハの前記一方に係る前記端子の配列は、斜め十字形状である
請求項４記載の製造システム。
【請求項９】
前記一対の半導体ウェハの前記一方に係る前記端子の配列は、円形である
請求項４記載の製造システム。
【請求項１０】
前記一対の半導体ウェハの前記一方の前記特定個所にノッチが形成される
請求項１記載の製造システム。
【請求項１１】
前記複数の半導体チップの配列は、所定軸の周りに所定角度だけ回転させても変化しない形状である
請求項１記載の製造システム。
【請求項１２】
前記複数の半導体チップのいずれかが、前記一対の半導体ウェハのそれぞれの中心に配置される
請求項１１記載の製造システム。
【請求項１３】
前記複数の半導体チップのそれぞれは、前記一対の半導体ウェハのそれぞれの中心に位置しない
請求項１１記載の製造システム。
【請求項１４】
前記測定値が前記所定範囲内であるか否かを検査して判定結果を出力する検査部と、
前記検査結果に基づいて前記情報を生成して保持する外部データベースと
をさらに具備する
請求項１記載の製造システム。
【請求項１５】
所定数の端子が配列され、所定軸の周りに所定角度だけ回転させても変化しない形状の第１半導体チップと、
前記第１半導体チップに積層され、前記所定角度ごとに前記所定数の端子が配列された第２半導体チップと
を具備する半導体素子。
【請求項１６】
複数の半導体ウェハのそれぞれに形成された複数の半導体チップのうち所定範囲内の測定値が測定された半導体チップのそれぞれを良品チップとして示す情報を取得する情報取得手順と、
前記複数の半導体ウェハのうち一対の半導体ウェハの一方の回転前の外周の特定個所から中心への線分と回転後の前記特定個所から前記中心への線分とのなす回転角度のうち、前記一対の半導体ウェハの前記一方を他方に対して回転させて積層した際に重なり合う前記良品チップの個数が最大になる前記回転角度を前記情報に基づいて取得する回転角度取得手順と、
前記一対の半導体ウェハの前記一方を前記他方に対して前記回転角度だけ回転させて積層する処理を行う積層処理手順と
を具備する半導体素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、半導体素子の製造システム、半導体素子、および、半導体素子の製造方法に関する。詳しくは、複数の半導体チップを積層した半導体素子の製造システム、半導体素子、および、半導体素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、面積の削減を目的として、複数の半導体チップを積層した積層型の半導体素子が様々な電子装置において用いられている。例えば、２つの半導体ウェハのそれぞれに複数の半導体チップを形成し、それらの半導体ウェハを積層する製造システムが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１１５３４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述の従来技術では、半導体ウェハの積層により、多数の積層型の半導体素子を効率的に製造することができる。しかしながら、上述の製造システムでは、積層する複数の半導体チップの中に不良品が１つでも存在すると、その半導体素子全体が正常に動作せず、不良品となってしまう。そのため、半導体素子を量産した際の良品の比率である歩留まりを向上させることが難しい。
【０００５】
本技術はこのような状況に鑑みて生み出されたものであり、積層型の半導体素子において、半導体素子の歩留まりを向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本技術は、上述の問題点を解消するためになされたものであり、その第１の側面は、複数の半導体ウェハのそれぞれに形成された複数の半導体チップのうち所定範囲内の測定値が測定された半導体チップのそれぞれを良品チップとして示す情報を取得する情報取得部と、上記複数の半導体ウェハのうち一対の半導体ウェハの一方の回転前の外周の特定個所から中心への線分と回転後の上記特定個所から上記中心への線分とのなす回転角度のうち、上記一対の半導体ウェハの上記一方を他方に対して回転させて積層した際に重なり合う上記良品チップの個数が最大になる上記回転角度を上記情報に基づいて取得する回転角度取得部と、上記一対の半導体ウェハの上記一方を上記他方に対して上記回転角度だけ回転させて積層する処理を行う積層処理部とを具備する半導体素子の製造システム、および、その製造方法である。これにより、重なり合う良品チップの個数が最大になるという作用をもたらす。
【０００７】
また、この第１の側面において、上記半導体チップの形状は、所定軸の周りに所定角度だけ回転させても変化しない形状であり、上記回転角度取得部は、上記所定角度の倍数のいずれかを上記回転角度として求めてもよい。これにより、回転対称性に対応する回転角度により半導体ウェハが回転されるという作用をもたらす。
【０００８】
また、この第１の側面において、上記半導体チップの形状は正方形であり、上記回転角度取得部は、９０度の倍数のいずれかを上記回転角度として求めてもよい。これにより、正方形の半導体チップが積層されるという作用をもたらす。
【０００９】
また、この第１の側面において、上記一対の半導体ウェハの上記他方に対応する上記半導体チップには、所定数の端子が形成され、上記一対の半導体ウェハの上記一方には、上記所定角度ごとに上記所定数の端子が形成され、上記一対の半導体ウェハの上記一方に係る上記端子の配列は、上記所定軸の周りに上記所定角度だけ回転させても変化しない形状であってもよい。これにより、回転対称性に応じた個数の端子が配列されるという作用をもたらす。
【００１０】
また、この第１の側面において、上記一対の半導体ウェハの上記一方に係る上記端子は、上記所定角度ごとに異なるグループに属し、上記一対の半導体ウェハの上記一方に対応する上記半導体チップには、上記グループそれぞれの回転対称な位置の上記端子に共通に接続された回路がさらに形成されてもよい。これにより、回転前後で電気的な接続関係が変更されないという作用をもたらす。
【００１１】
また、この第１の側面において、上記一対の半導体ウェハの上記一方に係る上記端子の配列は、矩形であってもよい。これにより、矩形の配列の端子が信号線と接続されるという作用をもたらす。
【００１２】
また、この第１の側面において、上記一対の半導体ウェハの上記一方に係る上記端子の配列は、十字形状であってもよい。これにより、十字形状の配列の端子が信号線と接続されるという作用をもたらす。
【００１３】
また、この第１の側面において、上記一対の半導体ウェハの上記一方に係る上記端子の配列は、斜め十字形状であってもよい。これにより、斜め十字形状の配列の端子が信号線と接続されるという作用をもたらす。
【００１４】
また、この第１の側面において、上記一対の半導体ウェハの上記一方に係る上記端子の配列は、円形であってもよい。これにより、円形の配列の端子が信号線と接続されるという作用をもたらす。
【００１５】
また、この第１の側面において、上記一対の半導体ウェハの上記一方の上記特定個所にノッチが形成されてもよい。これにより、ノッチから中心への線分のなす角度で半導体ウェハが回転されるという作用をもたらす。
【００１６】
また、この第１の側面において、上記複数の半導体チップの配列は、所定軸の周りに所定角度だけ回転させても変化しない形状であってもよい。これにより、回転対称な形状に半導体チップが配列された半導体ウェハが積層されるという作用をもたらす。
【００１７】
また、この第１の側面において、上記複数の半導体チップのいずれかが、上記一対の半導体ウェハのそれぞれの中心に配置されてもよい。これにより、半導体ウェハ当たりの半導体チップの個数が増大するという作用をもたらす。
【００１８】
また、この第１の側面において、上記複数の半導体チップのそれぞれは、上記一対の半導体ウェハのそれぞれの中心に位置しなくてもよい。これにより、回転した際に全ての半導体チップの位置が変わるという作用をもたらす。
【００１９】
また、この第１の側面において、上記測定値が上記所定範囲内であるか否かを検査して判定結果を出力する検査部と、上記検査結果に基づいて上記情報を生成して保持する外部データベースとをさらに具備してもよい。これにより、外部データベースから良品、不良品に関する情報が取得されるという作用をもたらす。
【００２０】
また、本技術の第２の側面は、所定数の端子が配列され、所定軸の周りに所定角度だけ回転させても変化しない形状の第１半導体チップと、上記第１半導体チップに積層され、上記所定角度ごとに上記所定数の端子が配列された第２半導体チップとを具備する半導体素子である。これにより、半導体ウェハを回転させて積層する製造システムにより半導体素子が製造されるという作用をもたらす。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本技術の実施の形態における製造システムの一構成例を示すブロック図である。
【図２】本技術の実施の形態における上ウェハ製造部および下ウェハ製造部の一構成例を示すブロック図である。
【図３】本技術の実施の形態における良品・不良品情報の一例を示す図である。
【図４】本技術の実施の形態における積層ウェハ製造部の一構成例を示すブロック図である。
【図５】本技術の実施の形態における検査前後の上ウェハの平面図の一例である。
【図６】本技術の実施の形態における検査前後の下ウェハの平面図の一例である。
【図７】本技術の実施の形態における回転角度が０度である場合の積層前後のウェハの平面図の一例である。
【図８】本技術の実施の形態における回転角度が９０度である場合の積層前後のウェハの平面図の一例である。
【図９】本技術の実施の形態における回転角度が１８０度である場合の積層前後のウェハの平面図の一例である。
【図１０】本技術の実施の形態における回転角度が２７０度である場合の積層前後のウェハの平面図の一例である。
【図１１】本技術の実施の形態における半導体素子の積層構造の一例を示す図である。
【図１２】本技術の実施の形態における上チップの平面図の一例である。
【図１３】本技術の実施の形態における下チップの平面図の一例である。
【図１４】本技術の実施の形態におけるパッドの配列を変更した下チップの平面図の一例である。
【図１５】本技術の実施の形態における製造システムの動作の一例を示すフローチャートである。
【図１６】本技術の実施の形態における回転角度算出処理を示すフローチャートである。
【図１７】本技術の実施の形態の変形例における上ウェハの平面図の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本技術を実施するための形態（以下、実施の形態と称する）について説明する。説明は以下の順序により行う。
１．実施の形態（下チップを回転させて積層する例）
２．変形例
【００２３】
＜１．第１の実施の形態＞
［製造システムの構成例］
図１は、本技術の実施の形態における製造システムの一構成例を示すブロック図である。この製造システムは、積層型の半導体素子を製造するシステムであり、上ウェハ製造部１１０、下ウェハ製造部１２０、外部データベース１３０および積層ウェハ製造部２００を備える。
【００２４】
製造システムが製造する半導体素子は、複数（例えば、２つ）の半導体チップを積層したものであり、それらの半導体チップの一方を以下、「上チップ」と称し、他方を「下チップ」と称する。また、上チップと下チップとは、互いに異なる半導体ウェハ上に形成される。上チップが形成される半導体ウェハを以下、「上ウェハ」と称し、下チップが形成される半導体ウェハを「下ウェハ」と称する。
【００２５】
上ウェハ製造部１１０は、上ウェハを製造するものである。この上ウェハ製造部１１０は、複数の上チップを形成した半導体ウェハを上ウェハとして製造し、上ウェハを製造するたびにウェハ識別情報を付与する。また、上ウェハ製造部１１０は、上チップごとに物理的および電気的特性を測定する。物理的な特性は、例えば、半導体チップの配線層などの層厚、配線の幅や、格子欠陥の密度である。また、電気的な特性は、例えば、半導体チップに形成される回路の電流値、電圧値や周波数特性である。
【００２６】
そして、上ウェハ製造部１１０は、物理的および電気的な特性の測定値が、そのチップが正常に動作するための所定範囲内であるか否かを上チップごとに検査する。測定値が所定範囲外である場合には、その上チップは不良品であると判断され、所定範囲内である場合には、良品であると判断される。以下、不良品の半導体チップを「不良チップ」と称し、良品の半導体チップを「良品チップ」と称する。上ウェハ製造部１１０は、検査結果を外部データベース１３０に送信する。また、上ウェハ製造部１１０は、製造した上ウェハを積層ウェハ製造部２００に供給する。
【００２７】
下ウェハ製造部１２０は、下ウェハを製造するものである。この下ウェハ製造部１２０は、複数の下チップを形成した半導体ウェハを下ウェハとして製造し、下ウェハを製造するたびにウェハ識別情報を付与する。また、下ウェハ製造部１２０は、下チップごとに物理的および電気的特性を測定し、その測定値が所定範囲内であるか否かを上チップごとに検査して検査結果を外部データベース１３０に送信する。また、下ウェハ製造部１２０は、製造した下ウェハを積層ウェハ製造部２００に供給する。
【００２８】
外部データベース１３０は、上ウェハおよび下ウェハの検査結果に基づいて、上チップおよび下チップのそれぞれについて、そのチップが不良チップおよび良品チップのいずれであるかを示す良品・不良品情報を生成して保持するものである。
【００２９】
積層ウェハ製造部２００は、上ウェハと下ウェハとを積層するものである。この積層ウェハ製造部２００は、上ウェハおよび下ウェハのそれぞれの良品・不良品情報を外部データベース１３０から取得する。そして、積層ウェハ製造部２００は、それらの情報に基づいて、上ウェハおよび下ウェハの一方（例えば、上ウェハ）に対して他方（例えば、下ウェハ）を回転させて積層し、ウェハ積層体として後段の製造装置に供給する。このウェハ積層体における、積層された上チップおよび下チップは、積層型の１つの半導体素子として機能する。
【００３０】
なお、積層ウェハ製造部２００は、上ウェハに対して下ウェハを回転させているが、逆に下ウェハに対して上ウェハを回転させることもできる。また、上ウェハおよび下ウェハは、特許請求の範囲に記載の複数の半導体ウェハの一例である。
【００３１】
図２は、本技術の実施の形態における上ウェハ製造部１１０および下ウェハ製造部１２０の一構成例を示すブロック図である。同図におけるａは、上ウェハ製造部１１０の一構成例を示すブロック図であり、同図におけるｂは、下ウェハ製造部１２０の一構成例を示すブロック図である。上ウェハ製造部１１０は、欠陥検査部１１１および電気的検査部１１２を備える。一方、下ウェハ製造部１２０は、欠陥検査部１２１および電気的検査部１２２を備える。なお、同図において、上ウェハおよび下ウェハを製造するための各種の製造装置は、省略されている。
【００３２】
欠陥検査部１１１は、上チップのそれぞれの格子欠陥の密度を検査するものである。この欠陥検査部１１１は、検査結果を外部データベース１３０に供給する。電気的検査部１１２は、上チップのそれぞれの電気的特性を検査するものである。この電気的検査部１１２は、検査結果を外部データベース１３０に供給する。
【００３３】
欠陥検査部１２１は、下チップのそれぞれの格子欠陥の密度を検査するものである。この欠陥検査部１２１は、検査結果を外部データベース１３０に供給する。電気的検査部１２２は、下チップのそれぞれの電気的特性を検査するものである。この電気的検査部１２２は、検査結果を外部データベース１３０に供給する。
【００３４】
図３は、本技術の実施の形態における良品・不良品情報の一例を示す図である。この良品・不良品情報は、積層位置、ウェハ識別情報、チップ位置および検査結果を含む。積層位置は、半導体ウェハが積層される際に上側および下側のいずれに位置するかを示す。ウェハ識別情報は、半導体ウェハを識別するための識別情報である。チップ位置は、半導体ウェハ内の半導体チップの位置を示す。検査結果は、物理的および電気的な特性の検査結果を示す。例えば、上ウェハ製造部１１０が、上側のウェハ識別情報「Ｗ０１」の上ウェハにおいてチップ位置「Ｌ０１」の上チップを検査し、全ての測定値が正常な範囲内であった場合を考える。この場合に外部データベース１３０は、その上チップの検査結果として、良品チップであることを示す「Ｐａｓｓ」を生成して保持する。
【００３５】
また、上ウェハ製造部１１０が、上側のウェハ識別情報「Ｗ０１」の上ウェハにおいてチップ位置「Ｌ０２」の上チップを検査し、いずれかの測定値が正常な範囲外であった場合を考える。この場合に外部データベース１３０は、その上チップの検査結果として、不良チップであることを示す「Ｆａｉｌ」を生成して保持する。
【００３６】
［積層ウェハ製造部の構成例］
図４は、本技術の実施の形態における積層ウェハ製造部２００の一構成例を示すブロック図である。この積層ウェハ製造部２００は、上ウェハセット部２１１、下ウェハセット部２１２および取り出しアーム部２２０を備える。また、積層ウェハ製造部２００は、良品・不良品情報取得部２３０、回転角度取得部２４０、積層処理部２５０、搬送アーム部２６０、積層前処理部２７０および積層ウェハ払い出し部２８０を備える。
【００３７】
上ウェハセット部２１１は、上ウェハ製造部１１０からの上ウェハを取り出しアーム部２２０にセットするものである。下ウェハセット部２１２は、下ウェハ製造部１２０からの下ウェハを取り出しアーム部２２０にセットするものである。
【００３８】
取り出しアーム部２２０は、上ウェハおよび下ウェハを、セットされた位置から取り出して、搬送アーム部２６０に供給するものである。搬送アーム部２６０は、自身の一端から他端へ上ウェハおよび下ウェハを搬送するものである。
【００３９】
良品・不良品情報取得部２３０は、良品・不良品情報を外部データベース１３０から取得するものである。この良品・不良品情報取得部２３０は、上ウェハおよび下ウェハを搬送アーム部２６０から一時的に取り出し、それらのウェハのウェハ識別情報を読み取る。ウェハ識別情報は、例えば、上ウェハ製造部１１０および下ウェハ製造部１２０により半導体ウェハの所定位置に記載される。良品・不良品情報取得部２３０は、読み取ったウェハ識別情報に対応する良品・不良品情報内のチップ位置および検査結果を外部データベース１３０に問い合わせ、その情報を受信する。そして、良品・不良品情報取得部２３０は、取得した情報を回転角度取得部２４０に供給し、上ウェハおよび下ウェハを搬送アーム部２６０に戻す。なお、良品・不良品情報取得部２３０は、特許請求の範囲に記載の情報取得部の一例である。
【００４０】
積層前処理部２７０は、上ウェハおよび下ウェハに対し、洗浄などの所定の積層前処理を実行するものである。この積層前処理部２７０は、良品・不良品情報の取得後に上ウェハおよび下ウェハを搬送アーム部２６０から取り出し、それらについて積層前処理を実行する。処理後に積層前処理部２７０は、上ウェハおよび下ウェハを搬送アーム部２６０に戻す。
【００４１】
回転角度取得部２４０は、上ウェハに対して下ウェハを回転させた際に重なり合う良品チップの個数が最大になる回転角度を良品・不良品情報に基づいて取得するものである。ここで、下ウェハの回転角度として、回転前の下ウェハの外周の特定個所から中心への線分と、回転後のその特定個所から中心への線分とのなす角度が用いられる。回転角度取得部２４０は、取得した回転角度を積層処理部２５０に供給する。
【００４２】
積層処理部２５０は、取得された回転角度だけ上ウェハに対して下ウェハを回転させて、それらのウェハを積層するものである。この積層処理部２５０は、積層前処理後の上ウェハおよび下ウェハを搬送アーム部２６０から取り出し、下ウェハを回転させて積層する。そして、積層処理部２５０は、積層後のウェハ積層体を搬送アーム部２６０に戻す。
【００４３】
積層ウェハ払い出し部２８０は、ウェハ積層体を搬送アーム部２６０から外部へ払い出すものである。
【００４４】
図５は、本技術の実施の形態における検査前後の上ウェハ５１０の平面図の一例である。同図におけるａは、欠陥検査前の上ウェハ５１０の平面図の一例である。同図におけるｂは、欠陥検査後の上ウェハ５１０の平面図の一例であり、同図におけるｃは、電気的検査後の上ウェハ５１０の平面図の一例である。
【００４５】
上ウェハ５１０の形状は、円形であり、その外周の特定個所に切欠きがノッチ５１２として形成される。また、上ウェハ５１０には、複数の上チップ５１１が形成される。これらの上チップ５１１の配列は、上ウェハ５１０の中心軸の周りに、所定角度だけ回転させても変化しない形状である。このように、所定角度だけ回転させても形状が変化しない特性は、回転対称性と呼ばれる。３６０／ｎ（ｎは、整数）度だけ回転させても変化しない回転対称性は、ｎ回対称と呼ばれる。例えば、正方形は、９０度回転させても同じ形状であり、４回対称である。また、長方形は、１８０度回転させても同じ形状であり、２回対称である。
【００４６】
また、上チップ５１１の個々の形状も配列と同様にｎ回対称である。例えば、上チップ５１１の配列と、個々の形状との両方は、９０度回転させても同じ形状の４回対称である。４回対称の上チップ５１１として、例えば、正方形のチップが用いられる。また、上チップ５１１の配列の形状を４回対称にするために、例えば、ｉ行×ｊ列（ｉ、ｊは整数）で、その中心が上ウェハ５１０の中心に位置するように配置した際に、上ウェハ５１０内に位置しないチップ（４隅など）を削減した配列が用いられる。以下、半導体チップの位置を座標（ｉ、ｊ）により表す。
【００４７】
また、複数の上チップ５１１は、それぞれのチップが、上ウェハ５１０の中心に位置しないように配列される。例えば、ｉおよびｊは偶数に設定される。このような配列により、９０度回転させた際に、下チップの全ての位置を変えることができる。
【００４８】
上ウェハ製造部１１０は、欠陥検査を行い、（１、２）の位置において測定値が正常な範囲外であったものとする。この場合には、（１、２）の位置の上チップ５１１が不良チップであり、それ以外が良品チップである旨を示す良品・不良品情報が外部データベース１３０内に保持される。同図におけるｂの斜線部分は、欠陥検査終了時の不良チップを示す。
【００４９】
そして、上ウェハ製造部１１０は、電気的検査を行い、（２、２）の位置において測定値が正常な範囲外であったものとする。この場合には、良品・不良品情報において、（２、２）の位置の上チップ５１１に対応する検査結果が、不良チップである旨を示す情報に更新される。同図におけるｃの斜線部分は、電気的検査終了時の不良チップを示す。
【００５０】
図６は、本技術の実施の形態における検査前後の下ウェハ５２０の平面図の一例である。同図におけるａは、欠陥検査前の下ウェハ５２０の平面図の一例である。同図におけるｂは、欠陥検査後の下ウェハ５２０の平面図の一例であり、同図におけるｃは、電気的検査後の下ウェハ５２０の平面図の一例である。
【００５１】
下ウェハ５２０の形状およびサイズは、上ウェハ５１０と同一である。下ウェハ５２０の外周にも切欠きがノッチ５２２として形成される。また、下ウェハ５２０には、複数の下チップ５２１が形成される。これらの下チップ５２１の形状、サイズおよび配列は、上チップ５１１と同様である。また、上ウェハ５１０のノッチ５１２と下ウェハ５２０のノッチ５２２とのそれぞれは、初期状態において回転させずに積層した際に重なり合う個所に位置するものとする。
【００５２】
下ウェハ製造部１２０は、欠陥検査を行い、（３、１）の位置において測定値が正常な範囲外であったものとする。同図におけるｂの斜線部分は、欠陥検査終了時の不良チップを示す。そして、下ウェハ製造部１２０は、電気的検査を行い、（３、２）の位置において測定値が正常な範囲外であったものとする。同図におけるｃの斜線部分は、電気的検査終了時の不良チップを示す。
【００５３】
図５および図６に例示した不良チップの位置に基づいて、回転角度取得部２４０は、上ウェハに対して下ウェハを回転させた際に互いに重なり合う良品チップの個数が最大になる回転角度を求める。この回転角度は、回転前の下ウェハの外周の特定個所（ノッチなど）から中心への線分と、回転後のその特定個所（ノッチなど）から中心への線分とのなす角度である。回転角度の候補は、半導体チップの形状がｎ回対称の場合、３６０／ｎ度の倍数である。例えば、半導体チップの形状が４回対称（正方形など）である場合、９０度の倍数である、０度、９０度、１８０度および２７０度が回転角度の候補となる。
【００５４】
回転角度取得部２４０は、それぞれの候補の角度ごとに、その角度で回転させた際に、互いに重なり合う良品チップの個数を求める。不良チップの位置は、様々な要因により、半導体ウェハごとに同一とは限らず、ばらつきが生じる。このため、回転角度ごとに、重なり合う良品チップの個数が異なることがある。前述したように積層型の半導体素子では、積層する複数の半導体チップのそれぞれが協同して動作するため、それらのうち１つ以上に不良品があると、半導体素子全体が正常に動作しなくなる。したがって、不良チップと重なる良品チップの個数が多いほど、積層後において不良品の比率が高くなり、良品の比率である歩留まりが低下する。逆に、他の良品チップと重なる良品チップの個数が多いほど、不良品の比率が低下し、歩留まりが向上する。
【００５５】
図７は、本技術の実施の形態における回転角度が０度である場合の積層前後のウェハの平面図の一例である。同図におけるａは、上ウェハ５１０の平面図の一例であり、同図におけるｂは、回転角度が０度の下ウェハ５２０の平面図の一例である。同図におけるｃは、積層後の半導体素子の平面図の一例である。また、同図における斜線部分は、不良品の半導体チップないし半導体素子を示す。
【００５６】
上ウェハ５１０の不良チップは、（１、２）および（２、２）の位置であり、下ウェハ５２０の不良チップは、（３、１）および（３、２）の位置である。０度の回転角度で（すなわち、回転せずに）積層した場合、積層後において、不良品の半導体素子は、（１、２）、（２、２）、（３、１）および（３、２）の位置となる。良品は、１２個のうち８個であるため、歩留まりは、８／１２となる。なお、この積層後の半導体素子は、実際には製造されず、歩留まりは、回転角度取得部２４０によってシミュレーションにより求められる。
【００５７】
図８は、本技術の実施の形態における回転角度が９０度である場合の積層前後のウェハの平面図の一例である。同図におけるａは、上ウェハ５１０の平面図の一例であり、同図におけるｂは、回転前の下ウェハ５２０の平面図の一例である。同図におけるｃは、９０度だけ回転させた下ウェハ５２０の平面図の一例である。同図におけるｄは、積層後の半導体素子の平面図の一例である。また、同図における斜線部分は、不良品の半導体チップないし半導体素子を示す。
【００５８】
図８において回転前の上ウェハ５１０および下ウェハ５２０のそれぞれにおける不良チップの位置は、図７と同様である。上ウェハ５１０に対して、下ウェハ５２０を時計回りに９０度回転させた場合、不良チップの（３、１）および（３、２）の座標は、回転行列との積により、（１、２）および（２、２）となる。この回転後の下ウェハ５２０を上ウェハ５１０と積層した場合、上側の不良チップ２つが両方とも下側の不良チップと重なり合う。この結果、積層後において、不良品の半導体素子は、（１、２）および（２、２）の位置となる。良品は、１２個のうち１０個であるため、歩留まりは、１０／１２となる。
【００５９】
図９は、本技術の実施の形態における回転角度が１８０度である場合の積層前後のウェハの平面図の一例である。同図におけるａは、上ウェハ５１０の平面図の一例であり、同図におけるｂは、回転前の下ウェハ５２０の平面図の一例である。同図におけるｃは、１８０度だけ回転させた下ウェハ５２０の平面図の一例である。同図におけるｄは、積層後の半導体素子の平面図の一例である。また、同図における斜線部分は、不良品の半導体チップないし半導体素子を示す。
【００６０】
図９において回転前の上ウェハ５１０および下ウェハ５２０のそれぞれにおける不良チップの位置は、図７と同様である。上ウェハ５１０に対して、下ウェハ５２０を１８０度回転させた場合、不良チップの（３、１）および（３、２）の座標は、回転行列との積により、（２、４）および（２、３）となる。この回転後の下ウェハ５２０を上ウェハ５１０と積層した場合、上側および下側の不良チップのそれぞれが良品チップと重なり合う。この結果、積層後において、不良品の半導体素子は、（１、２）、（２、２）、（２、４）および（２、３）の位置となる。良品は、１２個のうち８個であるため、歩留まりは、８／１２となる。なお、この積層後の半導体素子は、実際には製造されず、歩留まりは、回転角度取得部２４０によってシミュレーションにより求められる。
【００６１】
図１０は、本技術の実施の形態における回転角度が２７０度である場合の積層前後のウェハの平面図の一例である。同図におけるａは、上ウェハ５１０の平面図の一例であり、同図におけるｂは、回転前の下ウェハ５２０の平面図の一例である。同図におけるｃは、２７０度だけ回転させた下ウェハ５２０の平面図の一例である。同図におけるｄは、積層後の半導体素子の平面図の一例である。また、同図における斜線部分は、不良品の半導体チップないし半導体素子を示す。
【００６２】
図１０において回転前の上ウェハ５１０および下ウェハ５２０のそれぞれにおける不良チップの位置は、図７と同様である。上ウェハ５１０に対して、下ウェハ５２０を時計回りに２７０度回転させた場合、不良チップの（３、１）および（３、２）の座標は、回転行列との積により、（４、３）および（３、３）となる。この回転後の下ウェハ５２０を上ウェハ５１０と積層した場合、上側および下側の不良チップのそれぞれが良品チップと重なり合う。この結果、積層後において、不良品の半導体素子は、（１、２）、（２、２）、（４、３）および（３、３）の位置となる。良品は、１２個のうち８個であるため、歩留まりは、８／１２となる。なお、この積層後の半導体素子は、実際には製造されず、歩留まりは、回転角度取得部２４０によってシミュレーションにより求められる。
【００６３】
図７乃至図１０に例示したように、回転角度の変更により、不良チップの位置が変化する。このため、重なり合う良品チップの個数が回転角度により変わり、歩留まりも変化する。図７乃至図１０より、回転角度が０度、１８０度および２７０度のときの歩留まりは８／１２であるのに対し、回転角度が９０度のときの歩留まりは１０／１２となる。このため、回転角度取得部２４０は、歩留まりが最も高くなる回転角度として９０度を取得する。そして、後段の積層処理部２５０は、上ウェハ５１０に対して下ウェハ５２０を９０度だけ回転し、それらのウェハを積層する。これにより、回転しない場合、すなわち、回転角度が０度の場合と比較して歩留まりを向上させることができる。
【００６４】
なお、積層処理部２５０は、上ウェハ５１０および下ウェハ５２０の２枚を積層しているが、３枚以上を積層することもできる。３枚以上を積層する際には、積層処理部２５０は、３枚のうち２枚を、残りの１枚に対して回転させればよい。また、上チップ５１１および下チップ５２１のそれぞれの半導体チップの形状を正方形としているが、回転対称性を有するものであれば、正方形に限定されない。例えば、半導体チップの形状は、２回対称の長方形であってもよい。
【００６５】
図１１は、本技術の実施の形態における半導体素子の積層構造の一例を示す図である。半導体素子として、例えば、固体撮像素子が製造される。この固体撮像素子は、下チップ５２１と、その下チップ５２１に積層された上チップ５１１とを備える。これらのチップは、ビアなどの接続部を介して電気的に接続される。なお、ビアの他、Ｃｕ−Ｃｕ接合やバンプ、ＴＣＩ（ThruChip Interface）などの誘導結合通信技術により接続することもできる。また、製造システムは、積層により固体撮像素子を製造しているが、固体撮像素子以外の半導体素子を積層により製造することもできる。
【００６６】
［上チップの構成例］
図１２は、本技術の実施の形態における上チップ５１１の平面図の一例である。この上チップ５１１には、画素アレイ部３１０と、ｍ（ｍは、整数）個のパッド３２１とが設けられる。画素アレイ部３１０には、複数の画素３１１が二次元格子状に配列される。
【００６７】
ｍ個のパッド３２１のそれぞれは、上チップ５１１の４辺のいずれかに沿って一列に配列される。これらのパッドは、下チップ５２１と電気的に接続するための端子として用いられる。なお、パッド３２１は、特許請求の範囲に記載の「端子」の一例である。
【００６８】
画素３１１は、光電変換により、光量に応じた画素信号を生成するものである。この画素３１１のそれぞれには、複数本の駆動線と、１本の垂直信号線とが配線される。駆動線は、画素３１１を駆動するための駆動信号が伝送される信号線であり、垂直信号線は、生成された画素信号が伝送される信号線である。これらの信号線は、互いに異なるパッド３２１に接続される。例えば、座標（０、０）の画素３１１の駆動線のいずれかが、パッド番号「１」のパッド３２１（すなわち、端子）に接続される。また、座標（０、１）の画素３１１の駆動線のいずれかが、パッド番号「２」のパッド３２１に接続される。座標（０、０）の画素３１１の他の駆動線および垂直信号線と、座標（０、１）の画素３１１の他の駆動線および垂直信号線とのそれぞれは、パッド番号「３」以降のパッド３２１に接続される。
【００６９】
なお、上チップ５１１は、特許請求の範囲に記載の第１半導体チップの一例である。
【００７０】
［下チップの構成例］
図１３は、本技術の実施の形態における下チップ５２１の平面図の一例である。この下チップ５２１には、回路配置部３３０が配置される。また、半導体チップの形状をｎ回対称として、回路配置部３３０の周囲には、３６０／ｎ度（例えば、９０度）ごとに、ｍ個のパッド３２２が配置される。半導体チップが４回対称の正方形である場合には、合計で４×ｍ個のパッド３２２が配置される。また、半導体チップが２回対称の長方形である場合には、合計で２×ｍ個のパッド３２２が配置される。回路配置部３３０には、例えば、駆動回路３３１、制御回路３３２、信号処理回路３３３およびＤＡＣ（Digital to Analog Converter）３３４が配置される。
【００７１】
駆動回路３３１は、画素３１１のそれぞれを駆動するものである。信号処理回路３３３は、画素３１１のそれぞれからの画素信号を処理するものである。例えば、アナログの画素信号とランプ信号との比較結果が反転するまでの時間に亘って計数を行うことによりデジタル信号を生成するＡＤ変換処理が実行される。
【００７２】
ＤＡＣ３３４は、ＤＡ変換によりランプ信号を生成して信号処理回路３３３に供給するものである。制御回路３３２は、駆動回路３３１、信号処理回路３３３およびＤＡＣ３３４を制御するものである。
【００７３】
また、パッド３２２のそれぞれは、３６０／ｎ度ごとに、異なるグループに属する。半導体チップが４回対称の正方形である場合には、４×ｍ個のパッド３２２は、それぞれがｍ個からなる４個のグループに分割される。４個のグループのそれぞれは、下チップ５２１の互いに異なる辺に沿って配列され、それらの配列の形状は、正方形となる。また、それぞれのグループにおいて相対位置が同一（言い換えれば、回転対称な位置）のパッド３２２には、同一のパッド番号が割り当てられる。このため、あるグループ内の特定のパッド番号（「１」など）のパッドを３６０／ｎ度（９０度など）の単位で回転させると、別のグループ内の同じパッド番号（「１」など）のパッドと重なることとなる。
【００７４】
駆動回路３３１は、グループのそれぞれにおいて相対位置が同一（例えば、パッド番号が「１」）のパッド３２２に共通に接続される。グループが４個である場合、パッド番号が同一の４個のパッド３２２に駆動回路３３１が共通に接続される。駆動回路３３１は、それらのパッド３２２を介して、対応する画素３１１を駆動する。同様に、信号処理回路３３３も、グループのそれぞれにおいて、パッド番号が同一のパッドに接続され、それらのパッドからの画素信号を処理する。
【００７５】
同図に例示したように９０度ごとにｍ個のパッドを下チップ５２１に配置することにより、９０度単位で下チップ５２１を回転させた際に、４個のグループのいずれかのパッド３２２を、上チップ５１１の対応する位置のパッド３２１と接続することができる。例えば、上チップ５１１のパッド番号「１」のパッドは、下チップ５２１内の４個のグループのいずれかのパッド番号「１」のパッドと接続される。これにより、上チップ５１１内の回路と、下チップ５２１内の回路との電気的な接続関係は、回転前後で変更されることが無い。したがって、下チップ５２１の回転によって電気的な接続関係が変更されて正常に動作しなくなることを防止することができる。
【００７６】
なお、下チップ５２１は、特許請求の範囲に記載の第２半導体チップの一例である。また、下チップ５２１のパッド３２２を正方形に配列しているが、パッド３２２の配列の形状は、ｎ回対称（４回対称など）であれば、正方形に限定されない。例えば、図１４におけるａに例示するように、十字形状であってもよいし、同図におけるｂに例示するように斜め十字形状であってもよい。また、同図におけるｃに例示するように円形であってもよい。
【００７７】
図１５は、本技術の実施の形態における製造システムの動作の一例を示すフローチャートである。この動作は、例えば、積層型の半導体素子の製造が指示されたときに開始される。
【００７８】
製造システム内の上ウェハ製造部１１０は、上ウェハ５１０を１ロット分、製造して上ウェハロットとして積層ウェハ製造部２００にセットする（ステップＳ９０１）。また、下ウェハ製造部１２０は、下ウェハ５２０を１ロット分、製造して下ウェハロットとして積層ウェハ製造部２００にセットする（ステップＳ９０２）。
【００７９】
そして、積層ウェハ製造部２００は、適切な回転角度を算出するための回転角度算出処理を実行し（ステップＳ９１０）、積層前処理を行う（ステップＳ９０３）。
【００８０】
積層ウェハ製造部２００は、算出した回転角度が０度より大きいか否かを判断する（ステップＳ９０４）。回転角度が０度より大きい場合（ステップＳ９０４：Ｙｅｓ）、積層ウェハ製造部２００は、上ウェハに対して下ウェハを、算出した回転角度だけ回転させる（ステップＳ９０５）。回転角度が０度である場合（ステップＳ９０４：Ｎｏ）、または、ステップＳ９０５の後に積層ウェハ製造部２００は、下ウェハの位置を測定し（ステップＳ９０６）、積層時に位置がずれないように、下ウェハの位置合わせを行う（ステップＳ９０７）。
【００８１】
続いて積層ウェハ製造部２００は、位置合わせ後の下ウェハに上ウェハを積層し（ステップＳ９０８）、ウェハ積層体の払い出しを行う（ステップＳ９０９）。ステップＳ９０９の後に、製造システムは、積層ウェハを製造するための動作を終了する。
【００８２】
図１６は、本技術の実施の形態における回転角度算出処理を示すフローチャートである。積層ウェハ製造部２００は、外部データベース１３０から、上ウェハおよび下ウェハのそれぞれの良品・不良品情報を取得する（ステップＳ９１１）。そして、積層ウェハ製造部２００は、その良品・不良品情報に基づいて、積層した際に重なり合う良品チップの個数が最大となる回転角度を算出する（ステップＳ９１２）。ステップＳ９１２の後に積層ウェハ製造部２００は、回転角度算出処理を終了する。
【００８３】
なお、上側のロットと下側のロットとの組合せは、固定としてもよいし、良品・不良品情報に基づいて製造開始時と異なる組合わせに変更してもよい。後者の場合、図４の積層ウェハ製造部２００に上下のウェハがセットされる前に、積層ウェハ製造部２００は、外部データベース１３０から良品・不良品情報を取得する。そして、積層ウェハ製造部２００は、取得済の良品・不良品情報に基づいて製造前に図１６の回転角度算出処理などを実行し、全てのリソースから最適の上下のロットの組合せと、最適の上下ウェハの組合せとを求める。そして、それらの組合わせにより、積層型半導体素子の製造が開始される。これにより、歩留まりをさらに改善することができる。
【００８４】
このように、本技術の第１の実施の形態によれば、重なり合う良品チップの個数が最大となる回転角度だけ、上ウェハに対して下ウェハを回転させて積層するため、重なり合う良品チップの個数を最大にして歩留まりを向上させることができる。
【００８５】
＜２．変形例＞
上述の実施の形態では、半導体ウェハの中心に半導体チップが位置しないように、複数の半導体チップを配列していたが、この配列方法では、半導体ウェハ当たりの半導体チップの個数を十分に多くすることができないおそれがある。この実施の形態の変形例の製造システムは、いずれかの半導体チップが半導体ウェハの中心に位置する配列により、半導体ウェハ当たりの半導体チップ数を増大させる点において実施の形態と異なる。
【００８６】
図１７におけるａは、本技術の実施の形態の変形例における上ウェハ５１０の平面図の一例である。この実施の形態の変形例の上ウェハ５１０は、その中心に、いずれかの上チップ５１１が位置するように、複数の上チップ５１１が配列される点において実施の形態と異なる。例えば、半導体チップの行数ｉおよび列数ｊを奇数にすれば、上ウェハ５１０の中心に、いずれかの上チップ５１１を配置することができる。このような配列により、実施の形態と比較して、上ウェハ５１０当たりの上チップ５１１の個数を増大することができる。
【００８７】
例えば、半導体ウェハの直径を「６」とし、半導体チップを一辺が「１」の正方形とし、説明を簡易にするために隣りと間を空けずに二次元格子状に半導体チップを配列する場合を考える。行数および列数を実施の形態と同様に偶数とすると、同図におけるｂに例示するように、最大で４行×４列の１６個の半導体チップを配列することができる。一方、行数および列数を実施の形態の変形例と同様に奇数とすると、同図におけるｃに例示するように最大で２１個の半導体チップを配列することができる。
【００８８】
なお、下ウェハ５２０における下チップ５２１の配列も、上チップ５１１と同様である。
【００８９】
このように、本技術の実施の形態の変形例によれば、いずれかの半導体チップが半導体ウェハの中心に位置するように、複数の半導体チップを配列したため、半導体ウェハ当たりの半導体チップの個数を増大することができる。
【００９０】
なお、上述の実施の形態は本技術を具現化するための一例を示したものであり、実施の形態における事項と、特許請求の範囲における発明特定事項とはそれぞれ対応関係を有する。同様に、特許請求の範囲における発明特定事項と、これと同一名称を付した本技術の実施の形態における事項とはそれぞれ対応関係を有する。ただし、本技術は実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において実施の形態に種々の変形を施すことにより具現化することができる。
【００９１】
なお、本明細書に記載された効果はあくまで例示であって、限定されるものではなく、また、他の効果があってもよい。
【００９２】
なお、本技術は以下のような構成もとることができる。
（１）複数の半導体ウェハのそれぞれに形成された複数の半導体チップのうち所定範囲内の測定値が測定された半導体チップのそれぞれを良品チップとして示す情報を取得する情報取得部と、
前記複数の半導体ウェハのうち一対の半導体ウェハの一方の回転前の外周の特定個所から中心への線分と回転後の前記特定個所から前記中心への線分とのなす回転角度のうち、前記一対の半導体ウェハの前記一方を他方に対して回転させて積層した際に重なり合う前記良品チップの個数が最大になる前記回転角度を前記情報に基づいて取得する回転角度取得部と、
前記一対の半導体ウェハの前記一方を前記他方に対して前記回転角度だけ回転させて積層する処理を行う積層処理部と
を具備する半導体素子の製造システム。
（２）前記半導体チップの形状は、所定軸の周りに所定角度だけ回転させても変化しない形状であり、
前記回転角度取得部は、前記所定角度の倍数のいずれかを前記回転角度として求める
前記（１）記載の製造システム。
（３）前記半導体チップの形状は正方形であり、
前記回転角度取得部は、９０度の倍数のいずれかを前記回転角度として求める
前記（２）記載の製造システム。
（４）前記一対の半導体ウェハの前記他方に対応する前記半導体チップには、所定数の端子が形成され、
前記一対の半導体ウェハの前記一方には、前記所定角度ごとに前記所定数の端子が形成され、
前記一対の半導体ウェハの前記一方に係る前記端子の配列は、前記所定軸の周りに前記所定角度だけ回転させても変化しない形状である
前記（２）または（３）に記載の製造システム。
（５）前記一対の半導体ウェハの前記一方に係る前記端子は、前記所定角度ごとに異なるグループに属し、
前記一対の半導体ウェハの前記一方に対応する前記半導体チップには、前記グループそれぞれの回転対称な位置の前記端子に共通に接続された回路がさらに形成される
請求項４記載の製造システム。
前記（４）記載の製造システム。
（６）前記一対の半導体ウェハの前記一方に係る前記端子の配列は、矩形である
前記（４）または（５）に記載の製造システム。
（７）前記一対の半導体ウェハの前記一方に係る前記端子の配列は、十字形状である
前記（４）または（５）に記載の製造システム。
（８）前記一対の半導体ウェハの前記一方に係る前記端子の配列は、斜め十字形状である
前記（４）または（５）に記載の製造システム。
（９）前記一対の半導体ウェハの前記一方に係る前記端子の配列は、円形である
前記（４）または（５）に記載の製造システム。
（１０）前記一対の半導体ウェハの前記一方の前記特定個所にノッチが形成される
前記（１）から（９）のいずれかに記載の製造システム。
（１１）前記複数の半導体チップの配列は、所定軸の周りに所定角度だけ回転させても変化しない形状である
前記（１）から（１０）のいずれかに記載の製造システム。
（１２）前記複数の半導体チップのいずれかが、前記一対の半導体ウェハのそれぞれの中心に配置される
前記（１１）記載の製造システム。
（１３）前記複数の半導体チップのそれぞれは、前記一対の半導体ウェハのそれぞれの中心に位置しない
前記（１１）記載の製造システム。
（１４）前記測定値が前記所定範囲内であるか否かを検査して判定結果を出力する検査部と、
前記検査結果に基づいて前記情報を生成して保持する外部データベースと
をさらに具備する
前記（１）から（１３）のいずれかに記載の製造システム。
（１５）所定数の端子が配列され、所定軸の周りに所定角度だけ回転させても変化しない形状の第１半導体チップと、
前記第１半導体チップに積層され、前記所定角度ごとに前記所定数の端子が配列された第２半導体チップと
を具備する半導体素子。
（１６）複数の半導体ウェハのそれぞれに形成された複数の半導体チップのうち所定範囲内の測定値が測定された半導体チップのそれぞれを良品チップとして示す情報を取得する情報取得手順と、
前記複数の半導体ウェハのうち一対の半導体ウェハの一方の回転前の外周の特定個所から中心への線分と回転後の前記特定個所から前記中心への線分とのなす回転角度のうち、前記一対の半導体ウェハの前記一方を他方に対して回転させて積層した際に重なり合う前記良品チップの個数が最大になる前記回転角度を前記情報に基づいて取得する回転角度取得手順と、
前記一対の半導体ウェハの前記一方を前記他方に対して前記回転角度だけ回転させて積層する処理を行う積層処理手順と
を具備する半導体素子の製造方法。
【符号の説明】
【００９３】
１１０  上ウェハ製造部
１１１、１２１  欠陥検査部
１１２、１２２  電気的検査部
１２０  下ウェハ製造部
１３０  外部データベース
２００  積層ウェハ製造部
２１１  上ウェハセット部
２１２  下ウェハセット部
２２０  取り出しアーム部
２３０  良品・不良品情報取得部
２４０  回転角度取得部
２５０  積層処理部
２６０  搬送アーム部
２７０  積層前処理部
２８０  積層ウェハ払い出し部
３１０  画素アレイ部
３１１  画素
３２１、３２２  パッド
３３０  回路配置部
３３１  駆動回路
３３２  制御回路
３３３  信号処理回路
３３４  ＤＡＣ
５１０  上ウェハ
５１１  上チップ
５１２、５２２  ノッチ
５２０  下ウェハ
５２１  下チップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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