(57)【要約】      （修正有）【課題】ファセット素子の表面積の高い利用率又は高密度の実装を容易に確保できる光学ユニット及び光学素子を支持する方法を提供する。【解決手段】ファセットミラーユニットは、光学素子（１０９）及び支持装置（１１１）を備え、光学素子は、主延在平面及び主延在平面内の主延在方向を規定する光学面（１０９．１）を有する光学ユニットに関する。支持装置（１１１）は、支持ユニット及びアクチュエータユニット（１１３）を含み、アクチュエータユニットは、主延在平面に対して傾いて働く傾斜モーメント（Ｍ１）を光学素子に加えることで光学面を傾斜させるよう構成される。支持ユニット（１１２）は、アクチュエータユニット（１１３）の傾斜モーメントによる光学面の傾斜時に光学面の主延在平面内に実質的にある光学面の傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を予め規定するよう構成される。【選択図】図３
2020170192.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学ユニット、特にファセットミラーユニットであって、
光学素子（１０９；２０９）及び
支持装置（１１１）
を備え、前記光学素子（１０９；２０９）は、主延在平面（ＰＭＥ）及び該主延在平面（
ＰＭＥ）内の主延在方向を規定する光学面（１０９．１；２０９．１）、特に細長い光学
面（１０９：２０９）を有し、
前記支持装置（１１１）は、支持ユニット及びアクチュエータユニット（１１３）を含
み、
前記アクチュエータユニット（１１３）は、該アクチュエータユニット（１１３）が傾
斜モーメントを前記光学素子（１０９．１；２０９．１）に加えることで前記光学面を傾
斜させるよう構成される、光学ユニットにおいて、
前記傾斜モーメント（Ｍ１）は前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて働き、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記アクチュエータユニット（１１３）の前
記傾斜モーメント（Ｍ１）による前記光学面（１０９．１；２０９．１）の傾斜時に該光
学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的にある前記光学面の傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２
）を予め規定するよう構成されることを特徴とする光学ユニット。
【請求項２】
請求項１に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前
記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）が前記主延在方向と実質的に平行に、特に同一直線上に延び
るように設計され、且つ／又は
前記傾斜モーメント（Ｍ１）は、前記光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）及び／又は前
記主延在方向に対して１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８°〜１
５°傾き、且つ／又は
前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）は、少なくと
も１つの傾斜軸点で、前記光学面（１０９．１；２０９．１）上に実質的にあり、該光学
面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）は、特に該傾斜軸点で規
定された前記光学面（１０９．１；２０９．１）の接平面内にある光学ユニット。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、受動要素により前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２
）を規定する受動装置として設計され、且つ／又は
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を規定する少
なくとも２つの少なくとも部分的に弾性変形可能な支持要素（１１２．１〜１１２．４；
２１２．１２）を含み、且つ／又は
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、少なくとも２つの支持要素（１１２．１〜１
１２．４；２１２．１２）、特に少なくとも３つの支持要素（１１２．１〜１１２．４；
２１２．１２）とベース要素（１１２．７；２１２．７）とを含み、前記光学素子（１０
９；２０９）の重量の少なくとも大部分が、少なくとも１つの動作状態で前記支持要素（
１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）により前記ベース要素（１１２．７；２１２．
７）に導入され、特に前記光学素子（１０９；２０９）の重量の少なくとも８０％、好ま
しくは少なくとも９０％、より好ましくは９５％〜１００％が前記ベース要素（１１２．
７；２１２．７）に導入され、且つ／又は
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記光学素子（１０９；２０９）に接続され
且つ前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）の規定のために前記光学素子（１０９；２０９）の少
なくとも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限する少なくとも１つの案内ユニ
ット（２１５；３１５）を含み、且つ／又は
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記光学素子（１０９；２０９）に接続され
且つ前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）の規定のために前記光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ
）に対して垂直に作用する前記傾斜モーメントの成分を吸収するよう構成された少なくと
も１つの案内ユニット（２１５；３１５）を含む光学ユニット。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を規定する板
ばね状に設計された少なくとも２つの弾性変形可能な支持要素（１１２．１〜１１２．４
；２１２．１２）を含み、
特に、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）のそれぞれが板ばね主
延在平面を規定し、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、前記板
ばね主延在平面同士が前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）で交差するように相互に対して傾い
て配置され、且つ／又は
特に、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、
前記光学素子（１０９；２０９）の重量の荷重のみを受ける状態で実質的に平面状である
よう構成された板ばねとして設計され、且つ／又は
特に、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、
長手方向軸に沿った長さ寸法と、該長さ寸法の特に４％未満、好ましくは２％未満、より
好ましくは０．２％〜１％である板ばね主延在平面に対して垂直な最大厚さ寸法とを有す
る薄い板ばねとして設計され、且つ／又は
特に、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）のそれぞれが板ばね主
延在平面を規定し、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくと
も１つは、その板ばね主延在平面において実質的に平行四辺形の外形輪郭を有し、該外形
輪郭の少なくとも１対の辺が前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）と実質的に平行に延びる光学
ユニット。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を規定する弾
性支柱状に設計された少なくとも３つの弾性変形可能な支持要素（１１２．１〜１１２．
４；２１２．１２）を含み、
特に、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は三脚状に配置され、
且つ／又は
特に、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）のそれぞれが支柱長手
方向軸を規定し、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、前記支柱
長手方向軸同士が前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）の１点で交差するように相互に対して傾
いて配置され、且つ／又は
特に、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）はそれぞれ支柱長手方
向軸を規定し、その支柱長手方向軸に沿って実質的に同じ長さ寸法を有し、且つ／又は
特に、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、
前記光学素子（１０９；２０９）の重量の荷重のみを受ける状態で実質的に直線状である
よう構成された棒ばねとして設計され、且つ／又は
特に、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、
長手方向軸に沿った長さ寸法と、該長さ寸法の特に４％未満、好ましくは２％未満、より
好ましくは０．３％〜１．８％である前記長手方向軸に対して垂直な最大横寸法とを有す
る細い棒ばねとして設計される光学ユニット。
【請求項６】
請求項５に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、ベース要素（１１２．７；２１２．７）と前
記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を規定するための少なくとも１つの案内ユニット（２１５；
３１５）とを含み、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、前記ベース要素（１１２
．７；２１２．７）上に支持され、且つ
前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）
と前記光学素子（１０９；２０９）との間で前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２
１２．１２）と運動学的に平行に配置され、
特に、前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記光学素子（１０９；２０９）の少
なくとも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限し、且つ／又は
特に、前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ
）に対して垂直に作用する前記傾斜モーメントの成分を吸収するよう設計され、且つ／又
は
特に、前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記傾斜モーメント（Ｍ１）による前
記光学面（１０９；２０９）の傾斜時に、該光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して
垂直に作用する前記傾斜モーメントの成分の少なくとも一部、特に少なくとも７５％、好
ましくは少なくとも８５％、より好ましくは９０％〜１００％を補償する対抗モーメント
が前記光学素子（１０９；２０９）に加わるように設計される光学ユニット。
【請求項７】
請求項６に記載の光学ユニットにおいて、
前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記光学素子（１０９；２０９）及び前記ベ
ース要素（１１２．７；２１２．７）に関節式に接続された少なくとも１つの案内要素（
２１５．１）を有し、且つ／又は
前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記光学素子及び前記ベース要素（１１２．
７；２１２．７）に関節式に接続された少なくとも２つの案内要素（２１５．１）を有し
、該案内要素（２１５．１）は、前記主延在平面(ＰＭＥ)内にあり前記主延在方向に対し
て垂直に延びる前記光学素子（１０９；２０９）の横方向で、特に、前記光学素子（１０
９；２０９）の両側に配置され、且つ／又は
前記案内ユニット（２１５；３１５）は、板ばね状に設計された少なくとも１つの案内
要素（２１５．１）を有する光学ユニット。
【請求項８】
請求項７に記載の光学ユニットにおいて、
少なくとも１つの案内要素（２１５．１）が、前記光学素子（１０９；２０９）上の第
１関節点（２１５．４）及び前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）上の第２関節点
（２１５．５）を規定し、且つ
前記第１関節点（２１５．４）と前記第２関節点（２１５．５）との間の接続線が、前
記主延在平面（ＰＭＥ）に対して垂直且つ前記傾斜モーメント（Ｍ１）と平行に延びる平
面内で、第１傾斜角だけ前記傾斜モーメント（Ｍ１）に対して傾いて延び、且つ／又は
前記第１関節点（２１５．４）と前記第２関節点（２１５．５）との間の接続線が、前
記主延在平面（ＰＭＥ）に対して垂直且つ前記傾斜モーメント（Ｍ１）と平行に延びる平
面内で、第２傾斜角だけ前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて延び、
特に、前記第１傾斜角は、１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８
°〜１５°であり、且つ／又は
特に、前記第２傾斜角は、１０°〜１０°、好ましくは−５°〜５°、より好ましくは
０°〜２°であり、且つ／又は
特に、前記接続線は、前記主延在平面（ＰＭＥ）と同じ回転方向で前記傾斜モーメント
（Ｍ１）に対して傾く光学ユニット。
【請求項９】
請求項８に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、特に前記主延在平面（Ｐ
ＭＥ）内にある回転点を規定し、且つ
前記第１関節点は、特に前記光学素子（１０９；２０９）の前記横方向で、前記回転点
から回転点距離だけ離れており、
前記第１関節点（２１５．４）と前記第２関節点（２１５．５）との間の関節点距離及
び／又は前記回転点距離及び／又は前記第１傾斜角及び／又は前記第２傾斜角は、前記ア
クチュエータユニット（１１３）の前記傾斜モーメント（Ｍ１）による前記光学面の傾斜
時に、該光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的にある傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）
が前記光学面（１０９．１；２０９．１）に関して予め規定されるように選択される光学
ユニット。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記傾斜軸（ＴＡ１）は前記光学面の第１傾斜軸であり、
前記傾斜モーメント（Ｍ１）は第１傾斜モーメントであり、且つ
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記第１傾斜モーメント（Ｍ１）に対して横
方向に、特に垂直に働く第２傾斜モーメント（Ｍ２）の影響下で、前記第１傾斜軸（ＴＡ
１）に対して横方向に、特に垂直に延びる前記光学面の第２傾斜軸（ＴＡ２）を規定する
目的で構成され、
前記第２傾斜軸（ＴＡ２）は、特に前記光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的
にある光学ユニット。
【請求項１１】
請求項１０に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、受動要素により前記第２傾斜軸（ＴＡ２）を
規定する受動装置として設計され、且つ／又は
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記第２傾斜軸（ＴＡ２）を規定する少なく
とも２つの部分的に弾性変形戒能な支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）
を含み、且つ／又は
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記光学素子（１０９；２０９）に接続され
且つ前記第２傾斜軸（ＴＡ２）の規定のために前記光学素子（１０９；２０９）の少なく
とも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限する少なくとも１つの案内ユニット
（２１５；３１５）を含み、且つ／又は
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記第２傾斜軸（ＴＡ２）を規定する板ばね
状に、特に薄い板ばねとして設計された少なくとも２つの弾性変形可能な支持要素（１１
２．１〜１１２．４；２１２．１２）を含み、該支持要素（１１２．１〜１１２．４；２
１２．１２）のそれぞれが、特に板ばね主延在平面を規定し、前記支持要素（１１２．１
〜１１２．４；２１２．１２）は、前記板ばね主延在平面同士が前記第２傾斜軸（ＴＡ２
）で交差するように相互に対して傾いて配置され、前記支持要素（１１２．１〜１１２．
４；２１２．１２）の少なくとも１つは、特に、その板ばね主延在平面において実質的に
平行四辺形の外形輪郭を有し、該外形輪郭の少なくとも１対の辺が前記第２傾斜軸（ＴＡ
２）と実質的に平行に延びる光学ユニット。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記光学面（１０９．１；２０９．１）は、前記主延在方向に細長くなるように設計さ
れ、且つ／又は
前記光学面（１０９．１；２０９．１）は、前記主延在方向に対して横方向に細くなる
ように設計され、且つ／又は
前記光学面（１０９．１；２０９．１）は、前記主延在方向の第１最大寸法と、該第１
最大寸法の１０％未満、好ましくは５％未満、より好ましくは０．２％〜２％、より好ま
しくは０．５％〜１％である前記主延在方向に対して垂直な第２最大寸法とを有する光学
ユニット。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記アクチュエータユニット（１１３）は、一動作状態において、前記主延在平面（Ｐ
ＭＥ）に対して傾いて働く前記傾斜モーメント（Ｍ１）を前記光学素子（１０９；２０９
）に専ら加えるよう構成され、且つ／又は
前記アクチュエータユニット（１１３）は、一動作状態において、前記主延在平面（Ｐ
ＭＥ）に対して傾いて働く前記傾斜モーメント（Ｍ１）に対して横方向に、特に垂直に働
く傾斜モーメントを前記光学素子（１０９：２０９）に専ら加えるよう構成される光学ユ
ニット。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の少なくとも１つの光学ユニットを備えた光学モ
ジュール、特にファセットミラーであって、特に、
複数の光学素子の支持ユニット（１１２；２１２）が、共通のベース要素（１１２．７
；２１２．７）を有し、且つ／又は
前記光学素子（１０９；２０９）は、０．１ｍｍ２〜２００ｍｍ２、好ましくは０．５
ｍｍ２〜１００ｍｍ２、より好ましくは１．０ｍｍ２〜５０ｍｍ２の表面積を特に有する
光学有効面（１０９．１；２０９．１）を有するファセット素子であり、且つ／又は
特に、１００個〜１０００００個、好ましくは１００個〜１００００個、より好ましく
は１０００個〜１００００個のファセット素子（１０９；２０９）が設けられ、且つ／又
は
特に、５０個〜１００００個、好ましくは１００個〜７５００個、より好ましくは５０
０個〜５０００個のファセット素子（１０９；２０９）が設けられる光学モジュール。
【請求項１５】
特にマイクロリソグラフィ用の光学結像装置であって、
第１光学素子群（１０６）を有する照明装置（１０２）と、
物体（１０４．１）を収容する物体装置（１０４）と、
第２光学素子群（１０７）を有する投影装置（１０３）と、
像装置（１０５）と
を備え、前記照明装置（１０２）は前記物体（１０４．１）を照明するよう構成され、且
つ
前記投影装置（１０３）は前記物体（１０４．１）の像を前記像装置（１０５）に投影
するよう構成される光学結像装置において、
前記照明装置（１０２）及び／又は前記投影装置（１０３）は、請求項１４に記載の光
学モジュール（１０６．１；２０６．１）を備えることを特徴とする光学結像装置。
【請求項１６】
光学素子、特にファセットミラーのファセット素子を支持装置（１１１）により支持す
る方法であって、前記光学素子（１０９；２０９）は、主延在平面（ＰＭＥ）及び該主延
在平面（ＰＭＥ）内の主延在方向を規定する光学面（１０９．１；２０９．１）、特に細
長い光学面（１０９．１；２０９．１）を有し、
傾斜モーメント（Ｍ１）が前記光学素子（１０９；２０９）に加わることで、前記光学
素子（１０９；２０９）を傾斜させる方法において、
前記傾斜モーメント（Ｍ１）は、前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて働き、
支持ユニット（１１２；２１２）が、前記傾斜モーメント（Ｍ１）による前記光学面（
１０９．１；２０９．１）の傾斜時に該光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的に
ある前記光学面の傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を予め規定することを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の方法において、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記主延在方向と実質的に平行に、特に実質
的に同一直線上に延びる前記光学面（１０９．１；２０９．１）の傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ
２）を予め規定し、且つ／又は
前記傾斜モーメント（Ｍ１）を、前記光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）及び／又は前
記主延在方向に対して１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８°〜１
５°傾け、且つ／又は
前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）は、少なくと
も１つの傾斜軸点で、前記光学面（１０９．１；２０９．１）上に実質的にあり、該光学
面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）は、特に該傾斜軸点で規
定された前記光学面（１０９．１；２０９．１）の接平面内にある方法。
【請求項１８】
請求項１６又は１７に記載の方法において、
前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）の規定のために、前記光学素子（１０９；２０９）の少
なくとも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限し、且つ／又は
前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）の規定のために、前記光学面の前記主延在方向（ＰＭＥ
）に対して垂直に作用する前記傾斜モーメントの成分を、前記支持ユニット（１１２；２
１２）の少なくとも１つの案内ユニット（２１５；３１５）により吸収し、且つ／又は
前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記光学面（１０９；２０９）の傾斜時に、
該光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して垂直に作用する前記傾斜モーメントの成分
の少なくとも一部、特に少なくとも７５％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましく
は９０％〜１００％を補償する対抗モーメントを前記光学素子に加える方法。
【請求項１９】
請求項１６〜１８のいずれか１項に記載の方法において、
前記傾斜軸（ＴＡ１）は前記光学面の第１傾斜軸であり、
前記傾斜モーメント（Ｍ１）は第１傾斜モーメントであり、且つ
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記第１傾斜モーメント（Ｍ１）に対して横
方向に、特に垂直に働く第２傾斜モーメント（Ｍ２）の影響下で、前記第１傾斜軸（ＴＡ
１）に対して横方向に、特に垂直に延びる前記光学面の第２傾斜軸（ＴＡ２）を規定し、
前記第２傾斜軸（ＴＡ２）は、特に前記光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的
にある方法。
【請求項２０】
請求項１６〜１９のいずれか１項に記載の方法において、
一動作状態において、前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて働く前記傾斜モーメン
ト（Ｍ１）を、前記光学素子（１０９；２０９）に専ら加え、且つ／又は
一動作状態において、前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて働く前記傾斜モーメン
ト（Ｍ１）に対して横方向に、特に垂直に働く傾斜モーメントを、前記光学素子（１０９
：２０９）に専ら加える方法。
【請求項２１】
特にマイクロリソグラフィ用の光学結像法であって、
第１光学素子群（１０６）を有する照明装置（１０２）により物体（１０４．１）を照
明し、
第２光学素子群（１０７）を有する投影装置（１０３）により前記物体（１０４．１）
の像を像装置（１０５）上に生成する光学結像法において、
請求項１６〜２０のいずれか１項に記載の方法を前記照明装置（１０２）及び／又は前
記投影装置（１０３）で用いる光学結像法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学ユニット及び光学素子を支持する方法に関する。本発明は、任意所望の
光学装置又は光学結像法と共に適用することができる。特に、本発明は、超小型電子回路
の製造又はマイクロリソグラフィシステムの測定システムの製造で用いられるマイクロリ
ソグラフィに関連して用いることができる。
【０００２】
［関連出願の相互参照］
本願は、特に米国特許法第１１９条の下で、２０１４年８月５日付けで出願された独国
特許出願第１０  ２０１４  ２１５  ４５２．９号の優先権を主張する。この独国特許出
願の開示を本願に明示的に援用する。
【背景技術】
【０００３】
特にマイクロリソグラフィの分野において、最大限の精度で構成されたコンポーネント
の使用のほかに、要件の中には、結像装置の光学モジュール、すなわちレンズ、ミラー、
又は回折格子等の光学素子を有するモジュールの、また用いられるマスク及び基板の位置
及び幾何学的形状を、動作中に所定の設定値に従って、できる限り正確に設定すること、
又はそれに対応して高い結像品質を達成するためにかかるコンポーネントを所定の位置又
は幾何学的形状で安定化することがある。
【０００４】
マイクロリソグラフィの分野では、精度要件は、約数ナノメートル以下の微視的領域に
ある。これらの要件は、この場合は特に、製造する超小型電子回路の小型化を進めるため
に超小型電子回路の製造で用いられる光学系の分解能を高めることが常に要求される結果
として生じる。
【０００５】
高い分解能と、概してそれに伴う使用光の短波長化とにより、使用コンポーネントの位
置及び向きの精度の要件は当然増加する。特にＵＶ領域での（例えば１９３ｎｍの領域の
）、特に５ｎｍ〜２０ｎｍの（通常は１３ｎｍの領域の）動作波長のいわゆる極ＵＶ領域
（ＥＵＶ）での、マイクロリソグラフィで用いられる短い動作波長では、これは当然なが
ら、関与するコンポーネントの位置決め及び／又は向きの精度に関する高い要件を維持す
るために費やさなければならない労力に影響を及ぼす。
【０００６】
特に上記ＥＵＶシステムに関連して、結像に用いる光の強度分布に正確に影響を及ぼす
ことが重要性を増している。この目的で、概していわゆるファセットミラーが用いられ、
ファセットミラーでは、所定の基準に対しての光学有効面の位置及び／又は向きが正確に
規定された複数の非常に小さなファセット素子が、できる限り密集した格子状に配置され
る。この点で、（例えば照明設定の変更のために）ファセット素子の配列を変えること、
したがってその結果としてそれらの光学面を傾斜させることが望ましいか又は必要とされ
ることが多い。
【０００７】
それぞれの開示を参照により本明細書に援用する特許文献１（Holderer他）及び特許文
献２（Dinger）から、ＥＵＶシステムのファセットミラーのファセット素子の規定の位置
決め及び向きに関連して、これらのファセット素子を個別に調整することが知られている
。この目的で、割り当てられたアクチュエータユニットがファセット素子に加えた対応す
る傾斜モーメントにより、支持構造が定めた傾斜軸に関してファセット素子を傾斜させる
。
【０００８】
特許文献１から知られている回転対称ファセット素子のいくつかの場合、傾斜軸は、光
学面の主延在平面内にあり、アクチュエータユニットが加える傾斜モーメントが光学面の
主延在平面と平行に働くので、ファセット素子がファセット素子用に設けられた設置空間
から横方向に変位することなく光学面のみが傾斜する。
【０００９】
傾斜時の横変位がないことにより、既知のファセット素子を原理上は特に相互の近くに
位置決めすることができ、したがってファセット素子間に大きなギャップを必要としない
。しかしながら、ここで問題なのは、回転対称の設計自体によって、表面積の利用率が比
較的低くなってしまうか、又はファセット素子間のギャップを比較的大きくなってしまい
、これにより光の損失が比較的大きくなり得ることである。
【００１０】
ファセット素子間のギャップに起因した、又は特定の照明設定の結果としてのこのよう
な光の損失を回避するために、原理上は特定の配列または特定の切り換え状態でほぼ隙間
なく相互に当接する、多くの場合は細長い非回転対称ファセット素子が用いられる。この
ような構成は、例えば特許文献２から既知であり、これは、ファセット素子の支持構造の
平面と平行に延びる２つの直交傾斜軸を有するファセット素子用のカルダン支持体を記載
している。
【００１１】
このような細長い非回転対称ファセット素子のための同様の支持体が、特許文献３（La
tzel他）からも既知であり、その開示を参照により本明細書に援用する。ここでは、支持
構造上の各ファセット素子の支持が、三桿支持体により玉継手状に実現され、ファセット
素子の光学面は支持構造の平面と平行に延びる。玉継手状の支持体は、この場合、各ファ
セット素子に関して無限数の傾斜軸を規定するので、実際の傾斜軸が作動機構により予め
規定されなければならない。ここでも、作動機構はファセット素子の支持構造の平面と平
行に作用するので、ファセット素子に加わる傾斜モーメントは光学面内にある。したがっ
て、ここでも、作動機構は、結果としてファセット素子の支持構造の平面と平行に延びる
傾斜軸を提供する。
【００１２】
しかしながら、特定の設定では、ファセット素子の一部（場合によっては全部）の光学
面の主延在平面がそれらの支持構造の基本要素の主延在平面に対して傾いて延びる必要が
ある。特に設置空間に関する既存の制約の結果として、これは多くの場合、作動機構が（
その支持構造のベース要素の領域で）もたらした傾斜モーメントが光学面の主延在平面に
対して傾いて働くことを意味する。
【００１３】
主延在平面に対する傾斜モーメントのこの傾きには、主延在平面と平行な所望の成分（
光学面の傾斜をもたらす）のほかに、傾斜モーメントが主延在平面に対して垂直な寄生成
分も有し、これが主延在平面における光学面の望ましくない回転を伴うという欠点がある
。特に長く細いファセット素子の場合、主延在平面における光学面のこの回転は、ファセ
ット素子の自由端の多少の横変位につながり、これに対応して（最小限の光の損失の側面
から）望ましくない隙間をファセット素子間に設ける必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】独国特許出願公開第１０２  ０５  ４２５号明細書
【特許文献２】独国特許出願公開第１０  ２００８  ００９  ６００号明細書
【特許文献３】独国特許出願公開第１０  ２０１２  ２２３  ０３４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
したがって、本発明は、上記欠点がないか又は上記欠点が少なくともより少なく、特に
、光学面の傾斜の可能性があるにも関わらずファセット素子の表面積の特に高い利用率又
は特に高密度の実装を容易に確保する、光学ユニット及び光学素子を支持する方法を提供
するという目的に基づく。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は、支持ユニットが、アクチュエータユニットの傾斜モーメントによる光学面の
傾斜時に光学面の主延在平面内に実質的にある光学面の傾斜軸を予め規定するよう構成さ
れている場合、傾斜の可能性があるにも関わらず、ファセット素子の表面積の特に高い利
用率又は特に高密度の実装を容易に達成できるという概念に基づく。
【００１７】
傾斜モーメントの位置合わせに関して記載した悪条件下でも、（従来の設計の場合に、
例えば特許文献３からの設計の場合に必要とされるような）作動機構の細密な変更を行わ
ずに、光学面の主延在平面内に実質的にある光学面の傾斜軸を支持装置の領域において単
純で純粋に受動的な措置により予め規定することが可能であり、したがってこうした状況
でも光学面の傾斜時に光学素子の一部の横変位を防止することが可能であることが分かっ
ている。したがってそれにより、（例えば照明設定の変更時の）能動的な調整性にも関わ
らず光をほとんど損失せずに光学素子の特に高密度の実装を実現することも可能である。
【００１８】
したがって、第１態様によれば、本発明は、光学ユニット、特にファセットミラーユニ
ットであって、光学素子及び支持装置を備え、光学素子は、主延在平面及び主延在平面内
の主延在方向を規定する光学面、特に細長い光学面を有し、支持装置は、支持ユニット及
びアクチュエータユニットを含む光学ユニットに関する。アクチュエータユニットは、主
延在平面に対して傾いて働く傾斜モーメントを光学素子に加えることで光学面を傾斜させ
るよう構成される。支持ユニットは、アクチュエータユニットの傾斜モーメントによる光
学面の傾斜時に光学面の主延在平面内に実質的にある光学面の傾斜軸を予め規定するよう
構成される。
【００１９】
傾斜軸は、原理上は主延在平面内でほぼ任意所望の方法で方向付けることができる。し
かしながら、光学面の傾斜軸が主延在方向と実質的に平行に、特に実質的に同一直線上に
延びるように支持要素が設計されれば、光学素子の特に高密度の実装又は密接した配置が
可能である。
【００２０】
本発明は、原理上、主延長平面に対する傾斜モーメントの任意所望の傾きを有する任意
所望の配置構成の場合に用いることができる。傾斜モーメントが光学面の主延在平面及び
／又は主延在方向に対して１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８°
〜１５°傾いている場合、特に好ましい結果を得ることができる。こうした場合、主延在
平面に対して傾いた傾斜モーメント又は（寄生的な横回転運動をもたらす）主延在平面に
対して垂直なその寄生成分を、特に単純な受動的手段により効果的に補償することができ
る。
【００２１】
傾斜軸は、原理上は光学面から特定の距離に延び得る。しかしながら、光学面の傾斜軸
が光学面上の少なくとも１つの傾斜軸点に実質的にある場合、特に好ましい運動学的条件
を得ることができる。この点で、光学面の傾斜軸が傾斜軸点に規定された光学面の接平面
にあれば特に好ましい。
【００２２】
原理上、能動又は半能動コンポーネントを用いて、主延在平面に対して垂直な傾斜モー
メントの寄生成分を補償することができる。本発明の特に有利な変形形態の場合、支持ユ
ニットは、受動要素により傾斜軸を規定する受動装置として設計される。
【００２３】
支持ユニットは、原理上は光学素子を支持するよう任意所望の適当な方法で設計するこ
とができる。支持ユニットは、少なくとも２つの支持要素、特に少なくとも３つの支持要
素とベース要素とを備え、光学素子の重量の少なくとも大部分が、少なくとも１つの動作
状態で支持要素によりベース要素に導入され、光学素子の重量の特に少なくとも８０％、
好ましくは少なくとも９０％、より好ましくは９５％〜１００％がベース要素に導入され
ることが好ましい。これにより、傾斜モーメントの寄生成分の受動的補償の容易な組込み
も可能にする特に単純な構成の設計を達成することが可能となる。
【００２４】
特に単純な設計の本発明の変形形態の場合、支持ユニットは、傾斜軸を規定する少なく
とも２つの少なくとも部分的に弾性変形可能な支持要素を含む。この点で、例えば、対応
する弾性変形可能部分を形成する板ばね状等に設計された要素を用いることが可能である
。
【００２５】
さらに、支持ユニットは少なくとも１つの案内ユニットを含み、これは、光学素子に接
続され且つ傾斜軸の規定のために光学素子の少なくとも２つの運動自由度、特に３つの運
動自由度を制限する。
【００２６】
ここで、光学面の主延在平面に対して垂直な回転自由度を制限して、傾斜モーメントの
寄生成分の補償を達成することが特に好ましい。したがって、支持ユニットは、光学素子
に接続され且つ傾斜軸の規定のために光学面の主延在平面に対して垂直に作用する傾斜モ
ーメントの成分を吸収するように設計された、少なくとも１つの案内ユニットを含むこと
が好ましい。
【００２７】
特に単純な設計の本発明の変形形態の場合、支持ユニットは、傾斜軸を規定する板ばね
状に設計された少なくとも２つの弾性変形可能な支持要素を含む。支持要素のそれぞれが
、この場合は板ばね主延在平面を規定し、支持要素は、板ばね主延在平面同士が傾斜軸で
交差するよう相互に対して傾いて配置される。傾斜モーメントの寄生成分の所望の向き又
はその所望の補償を、それにより特に容易に達成することができる。
【００２８】
支持要素の幾何学的形状は、原理上は傾斜軸を所望の位置で規定するよう任意所望の適
当な方法で選択することができる。支持要素の少なくとも１つは、光学素子の重量の荷重
のみを受ける状態で実質的に平面状であるよう構成された板ばねとして設計されることが
好ましい。これは、特に容易に製造できる堅牢な構成をもたらす。
【００２９】
支持要素の少なくとも１つが、長手方向軸に沿った長さ寸法と、長さ寸法の特に４％未
満、好ましくは２％未満、より好ましくは０．２％〜１％である板ばね主延在平面に対し
て垂直な最大厚さ寸法とを有する薄い板ばねとして設計される場合、動的側面で有利な変
形形態が得られる。
【００３０】
板ばね要素は、その板ばね主延在平面同士が傾斜軸で交差する限り、原理上は任意所望
の外形輪郭を有することができる。支持要素のそれぞれが板ばね主延在平面を規定し、支
持要素の少なくとも１つがその板ばね主延在平面において実質的に平行四辺形の外形輪郭
を有し、外形輪郭の少なくとも１対の辺が傾斜軸と実質的に平行に延びる場合、特に容易
に製造できる堅牢な構成が得られる。
【００３１】
容易に実現できるという理由で好ましい本発明のさらに他の変形形態の場合、支持ユニ
ットは、傾斜軸を規定する弾性支柱状に設計された少なくとも３つの弾性変形可能な支持
要素を含む。この目的で、例えば棒ばね状の単純な設計の弾性支柱を用いることができる
。原理上、弾性支柱の配置は、この場合は任意所望の方法で選択することができるが、支
持要素が三脚状に配置されることが好ましい。
【００３２】
本発明の好ましい変形形態の場合、支持要素のそれぞれが支柱長手方向軸を規定し、支
持要素は、支柱長手方向軸同士が傾斜軸点で交差するように相互に対して傾いて配置され
る。これが最終的に、玉継手状に設計された光学素子の取り付けの実現を可能にする。こ
れは、対応する案内ユニットにより特に容易に補うことができ、これにより、傾斜軸の所
望の向き又は傾斜モーメントの寄生成分の所望の補償を達成できる。
【００３３】
支持要素がそれぞれ支柱長手方向軸を規定し、その支柱長手方向軸に沿って実質的に同
じ長さ寸法を有することが好ましい。これにより、特に容易に実現できる設計が得られる
。
【００３４】
弾性支柱はさらに、原理上は任意所望の方法で設計することができ、特に任意所望の一
部湾曲し且つ／又は一部多角形の形状を有することができる。支持要素の少なくとも１つ
は、光学素子の重量の荷重のみを受ける状態で実質的に直線状であるよう構成された棒ば
ねとして設計されることが好ましい。
【００３５】
支持要素の少なくとも１つは、長手方向軸に沿った長さ寸法と、長さ寸法の特に４％未
満、好ましくは２％未満、より好ましくは０．３％〜１．８％である長手方向軸に対して
垂直な最大横寸法とを有する細い棒ばねとして設計されることが好ましい。これにより、
動的側面で特に有利な設計を達成することができる。
【００３６】
傾斜軸の所望の向きは、任意所望の方法で定めることができる。支持ユニットが、ベー
ス要素と傾斜軸の規定のための少なくとも１つの案内要素とを備え、支持要素がベース要
素上に支持され、案内ユニットがベース要素と光学素子との間で支持要素と運動学的に平
行に配置されることが好ましい。
【００３７】
傾斜モーメントの寄生成分の所望の補償を達成するために、案内ユニットが光学素子の
少なくとも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限することが好ましい。光学面
の主延在平面に対して垂直な回転自由度は、当然ながら、ここでは傾斜モーメントの対応
する寄生成分を補償するよう制限されることが好ましい。したがって、案内ユニットは、
特に光学面の主延在平面に対して垂直に作用する傾斜モーメントの成分を吸収するように
設計されることが好ましい。
【００３８】
光学面の主延在平面に対して垂直に作用する傾斜モーメントの寄生成分を部分的にしか
補償しないことも可能である。傾斜モーメントによる光学面の傾斜時に、光学面の主延在
平面に対して垂直に作用する傾斜モーメントの成分の少なくとも一部、特に少なくとも７
５％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは９０％〜１００％を補償する対抗モ
ーメントが光学素子に加わるように、案内ユニットが設計されることが好ましい。
【００３９】
傾斜モーメントの寄生成分の所望の少なくとも部分的な補償が達成される限り、案内ユ
ニットは、原理上は任意所望の方法で設計することができる。本発明の有利な変形形態の
場合、案内ユニットは、光学素子及びベース要素に関節式に接続されて傾斜モーメントの
寄生成分の少なくとも部分的な補償をもたらす少なくとも１つの案内要素を有する。
【００４０】
特に堅牢であるが単純に設計される本発明の変形形態の場合、案内ユニットは、光学素
子及びベース要素に関節式に接続された少なくとも２つの案内要素を有し、案内要素は、
特に、主延在平面内にあり主延在方向に対して垂直に延びる光学素子の横方向で、光学素
子の両側に配置される。
【００４１】
案内ユニットは、原理上は傾斜モーメントの寄生成分の補償を達成するよう任意所望の
方法で設計することができる。したがって、１つ又は複数の単純な棒要素等を用いて、所
望の対抗モーメントを光学素子に導入することができる。単純で堅牢な変形形態の場合、
案内ユニットは、板ばね状に設計された少なくとも１つの案内要素を有する。
【００４２】
光学素子とベース要素との間の接続は、原理上は傾斜モーメントの寄生成分の補償を達
成するよう任意所望の方法で設計することができる。少なくとも１つの案内要素が、光学
素子上の第１関節点及びベース要素上の第２関節点を規定し、第１関節点と第２関節点と
の間の接続線が、主延在平面に対して垂直且つ傾斜モーメントと平行に延びる平面内で、
特に１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８°〜１５°の第１傾斜角
だけ傾斜モーメントに対して傾いて延びることが好ましい。付加的又は代替的に、第１関
節点と第２関節点との間の接続線は、主延在平面に対して垂直且つ傾斜モーメントと平行
に延びる平面内で、特に−１０°〜１０°、好ましくは−５°〜５°、より好ましくは０
°〜２°の第２傾斜角だけ主延在平面に対して傾いて延びることができる。これにより、
傾斜モーメントの寄生成分の少なくとも部分的な補償をいずれの場合も特に容易に達成す
ることができる。この場合の接続線は、主延在平面と同じ回転方向で傾斜モーメントに対
して傾斜させることが好ましい。
【００４３】
傾斜モーメントの寄生成分の容易で効果的な補償を伴う特に好ましい設計の変形形態の
場合、支持要素が特に主延在平面内にある回転点を規定する一方で、第１関節点は、特に
光学素子の横方向で、回転点から回転点距離だけ離れている。第１関節点と第２関節点と
の間の関節点距離及び／又は第１回転点距離及び／又は第１傾斜角及び／又は第２傾斜角
は、このとき、アクチュエータユニットの傾斜モーメントによる光学素子の傾斜時に、光
学面の主延在平面内に実質的にある傾斜角が光学面に関して予め規定されるように選択さ
れる。
【００４４】
言うまでもなく、達成すべき結像の要件に応じて、又は達成すべき設定の数及び／又は
タイプに応じて、上述した傾斜軸は、光学面に関して予め規定された唯一の傾斜軸であり
得る。したがって、傾斜モーメントは、動作中に予め規定されるか又は発生する唯一の傾
斜モーメントであり得る。
【００４５】
しかしながら、本発明の好ましい変形形態の場合、複数の傾斜軸周りで光学素子の複数
の傾斜運動がもたらされる。したがって、こうした場合、上述した傾斜軸は光学面の第１
傾斜軸であり、関連する傾斜モーメントは第１傾斜モーメントである。こうした場合、支
持ユニットは、第１傾斜モーメントに対して横方向に、特に垂直に働く第２傾斜モーメン
トの影響下で、第１傾斜軸に対して横方向に、特に垂直に延びる光学面の第２傾斜軸を規
定する目的で構成される。第２傾斜軸が、この場合も光学面の主延在平面内に実質的にあ
ることが好ましい。
【００４６】
原理上、上述した（第１）傾斜軸と同じ措置を第２傾斜軸又はその規定に用いることが
できる。したがって、これにも関連して、支持ユニットが受動要素により第２傾斜軸を規
定する受動装置として設計されることが好ましい。支持ユニットはさらに、少なくとも１
つの案内ユニットを含み、これは、光学素子に接続され且つ第２傾斜軸の規定のために光
学素子の少なくとも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限する。
【００４７】
支持ユニットは、第２傾斜軸を規定する少なくとも２つの少なくとも部分的に弾性変形
可能な支持要素を含み、これらはさらに、板ばね状に設計された支持要素であることが好
ましい。特に、支持ユニットは、第２傾斜軸を規定する板ばね状に、特に薄い板ばねとし
て設計された少なくとも２つの弾性変形可能な支持要素を含み得る。ここで、支持要素の
それぞれが板ばね主延在平面を規定し、支持要素が、板ばね主延在平面同士が第２傾斜軸
で交差するように相互に対して傾いて配置されるものとすることができる。さらに、支持
要素の少なくとも１つがその板ばね主延在平面において実質的に平行四辺形の外形輪郭を
有し、外形輪郭の少なくとも１対の辺が第２傾斜軸と実質的に平行に延びるものとするこ
とができる。
【００４８】
本発明は、原理上、光学面の傾斜時に作動機構の傾斜モーメントが光学面の主延在平面
で光学素子の望ましくない横回転をもたらす寄生成分を発生させる全ての構成に用いるこ
とができる。
【００４９】
利点が特によく現れるのは、細い又は細長い光学素子に関連する場合だが、その理由は
、（このような場合に見られる）光学素子の自由端から傾斜軸までの大きな距離に起因し
て、このような寄生的な横回転がこれらの自由端での比較的大きな寄生的撓みにつながる
からである。通常であれば、これらの寄生的撓みのために光学素子間に対応する隙間を設
ける必要があるが、それに対応して光の大きな損失を伴う。
【００５０】
したがって、本発明の使用の特に有利な変形形態の場合、光学面は、主延在方向に細長
く且つ／又は主延在方向に対して横方向に細くなるように設計される。特に好ましい配置
構成が得られるのは、光学面が主延在方向の第１最大寸法と、第１最大寸法の１０％未満
、好ましくは５％未満、より好ましくは０．２％〜２％、より好ましくは０．５％〜１％
である主延在方向に対して垂直な第２最大寸法とを有する場合である。
【００５１】
アクチュエータユニットは、原理上は任意の適当な所望の方法で設計することができ、
関係する傾斜モーメントを発生させる任意所望の適当なアクチュエータを場合によっては
含むことができる。特に単純に設計されるという理由で好ましい変形形態の場合、アクチ
ュエータユニットは、一動作状態において、主延在平面に対して傾いて働く傾斜モーメン
トを光学素子に専ら加えるよう構成される。付加的又は代替的に、アクチュエータユニッ
トは、一動作状態において、主延在平面に対して傾いて働く傾斜モーメントに対して横方
向に、特に垂直に働く傾斜モーメントを光学素子に専ら加えるよう構成することができる
。
【００５２】
本発明は、本発明による少なくとも１つの光学ユニットを有する光学モジュール、特に
ファセットミラーにも関する。これにより、本発明による光学ユニットに関連して上述し
た変形形態及び利点を同程度に実現することが可能となるので、この点で上記説明を参照
されたい。
【００５３】
本発明による光学モジュールの場合、光学ユニットは、原理上は適当な方法で相互に接
続された別個のユニットとして設計することができる。しかしながら、好ましい変形形態
の場合、複数の光学ユニットを共有するコンポーネントが設けられる。したがって、複数
の光学ユニットの支持ユニットが共通のベース要素を有するものとすることができる。
【００５４】
原理上、任意所望の（反射及び／又は屈折及び／又は回折）光学素子が光学素子として
考慮される。光学素子が、０．１ｍｍ２〜２００ｍｍ２、好ましくは０．５ｍｍ２〜１０
０ｍｍ２、より好ましくは１．０ｍｍ２〜５０ｍｍ２の表面積を特に有する光学有効面を
有するファセット素子であることが好ましい。
【００５５】
光学モジュールは、原理上は任意所望の数の光学素子を備えることができる。１００個
〜１０００００個、好ましくは１００個〜１００００個、より好ましくは１０００個〜１
００００個のファセット素子が設けられることが好ましい。本発明のさらに他の変形形態
の場合、５０個〜１００００個、好ましくは１００個〜７５００個、より好ましくは５０
０個〜５０００個のファセット素子を設けることができる。
【００５６】
本発明は、特にマイクロリソグラフィ用の光学結像装置であって、第１光学素子群を有
する照明装置（１０２）と、物体を収容する物体装置と、第２光学素子群を有する投影装
置と、像装置とを備え、照明装置は物体を照明するよう構成され、投影装置は物体の像を
像装置に投影するよう構成される光学結像装置にも関する。照明装置及び／又は投影装置
は、本発明による光学モジュール又は本発明による少なくとも１つの光学ユニットをそれ
ぞれ備える。これにより、本発明による光学ユニットに関連して上述した変形形態及び利
点を同程度に実現することが可能となるので、この点で上記説明を参照されたい。
【００５７】
さらに別の態様によれば、本発明は、光学素子、特にファセットミラーのファセット素
子を支持装置により支持する方法であって、光学素子は、主延在平面及び主延在平面内の
主延在方向を規定する光学面、特に細長い光学面を有する方法に関する。この方法では、
傾斜モーメントが光学素子に加わることで、光学素子は傾斜している。傾斜モーメントは
、この場合は主延在平面に対して傾いて働き、支持ユニットが、傾斜モーメントによる光
学面の傾斜時に光学面の主延在平面内に実質的にある光学面の傾斜軸を予め規定する。こ
れによっても、本発明による光学ユニットに関連して上述した変形形態及び利点を同程度
に実現することが可能となるので、この点で上記説明を参照されたい。
【００５８】
支持ユニットが、主延在方向と実質的に平行に、特に実質的に同一直線上に延びる光学
面の傾斜軸を予め規定することが好ましい。傾斜軸の規定のために、光学素子の少なくと
も２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限することも好ましい。
【００５９】
傾斜軸の規定のために、光学面の主延在平面に対して垂直に作用する傾斜モーメントの
成分が、支持ユニットの少なくとも１つの案内ユニットにより吸収されることが好ましい
。有利な変形形態の場合、案内ユニットは、光学面の傾斜時に、光学面の主延在平面に対
して垂直に作用する傾斜モーメントの成分の少なくとも一部、特に少なくとも７５％、好
ましくは少なくとも８５％、より好ましくは９０％〜１００％を補償する対抗モーメント
を光学素子に加える。
【００６０】
好ましくは、ここでも、傾斜軸は光学面の第１傾斜軸であり、傾斜モーメントは第１傾
斜モーメントであり、支持ユニットはこのとき、第１傾斜モーメントに対して横方向に、
特に垂直に働く第２傾斜モーメントの影響下で、第１傾斜軸に対して横方向に、特に垂直
に延びる光学面の第２傾斜軸を規定する。ここでも、第２傾斜軸が光学面の主延在平面内
に実質的にあることが好ましい。この場合も、一動作状態において、主延在平面に対して
傾いて働く傾斜モーメントのみが光学素子に加わることが好ましい。付加的又は代替的に
、一動作状態において、主延在平面に対して傾いて働く傾斜モーメントに対して横方向に
、特に垂直に作用する傾斜モーメントのみを、光学素子に加えることができる。
【００６１】
最後に、本発明は、特にマイクロリソグラフィ用の光学結像法であって、第１光学素子
群を有する照明装置により物体を照明し、第２光学素子群を有する投影装置により物体の
像を像装置上に生成し、本発明による方法を照明装置及び／又は投影装置の光学素子の支
持に用いる光学結像法に関する。これによっても、本発明による光学ユニットに関連して
上述した変形形態及び利点を同程度に実現することが可能となるので、この点で上記説明
を参照されたい。
【００６２】
本発明のさらに他の好ましい実施形態は、従属請求項と、添付図面を参照する以下の好
ましい例示的な実施形態の説明とから明らかとなる。ここで、特許請求の範囲での言及に
関係なく、開示された特徴のいかなる組み合わせも本発明の主題の一部である。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明による方法の好ましい実施形態を光学素子の支持に用いる、本発明による光学ユニットの好ましい実施形態を有する本発明による光学モジュールの好ましい実施形態を備えた、本発明による光学結像装置の好ましい実施形態の概略図である。
【図２】図１からの本発明による光学モジュールの概略斜視図である。
【図３】図２からの本発明による光学ユニットの概略斜視図である。
【図４】（図３からの線ＩＶ−ＩＶに沿った）図３からの光学ユニットの一部の概略断面図である。
【図５】本発明による光学ユニットのさらに別の好ましい変形形態の概略斜視図である。
【図６】図５からの光学ユニットの概略側面図である。
【図７】図５からの光学ユニットの概略平面図である。
【図８】本発明による光学ユニットのさらに別の好ましい変形形態の概略側面図である。
【図９】図８からの光学ユニットの概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００６４】
第１実施形態
本発明による光学結像装置１０１の第１実施形態を、図１〜図４を参照して以下で説明
する。以下の説明の理解を容易にするために、ｚ方向が重力の方向と一致する直交ｘｙｚ
座標系を添付図面に導入した。しかしながら、言うまでもなく、このｘｙｚ座標系又は空
間内の光学結像装置のコンポーネントの任意所望の他の配置も、本発明の他の変形形態で
選択することができる。
【００６５】
図１は、超小型電子回路の製造に用いられるマイクロリソグラフィ装置１０１の形態の
光学結像装置の、一定の縮尺でない概略図である。結像装置１０１は、照明装置１０２及
び光学投影装置１０３を備え、光学投影装置１０３は、結像過程でマスク装置１０４のマ
スク４．１に形成された投影パターンの像を基板装置１０５の基板１０５．１に投影する
よう構成される。この目的で、照明装置１０２は、マスク１０４．１を照明光ビーム（こ
れ以上具体的には図示せず）で照明する。投影装置１０３は、続いてマスク１０４．１か
らの投影光（図１に線１０１．１で示す）を受け取り、マスク１０４．１の投影パターン
の像を基板１０５．１に、例えばいわゆるウェーハ等に投影する。
【００６６】
照明装置１０２は、特に本発明による光学モジュール１０６．１を含む光学素子系１０
６（図１には非常に概略的な形態でしか示さない）を備える。以下でより詳細に説明する
ように、光学モジュール１０６．１はファセットミラーとして設計される。光学投影装置
１０３は、複数の光学モジュール１０７．１を含むさらに別の光学素子系１０７を備える
。光学系１０６及び１０７の光学モジュールは、この場合は結像装置１０１の折り返し光
軸１０１．１に沿って配置される。
【００６７】
図示の例では、結像装置１０１は、５ｎｍ〜２０ｎｍの波長、より具体的には約１３ｎ
ｍの波長のＥＵＶ領域の光で作動する。結果として、照明装置１０２及び投影装置１０３
の光学素子は、専ら反射光学素子として設計される。しかしながら、言うまでもなく、異
なる波長で作動する本発明の他の変形形態で、任意所望のタイプの光学素子（例えば、屈
折、反射、又は回折光学素子）を個別に又は任意所望の組み合わせで用いることもできる
。さらに、投影装置１０３は、本発明によるさらに別の光学モジュールを、例えばさらに
別のファセットミラーの形態で含むこともできる。
【００６８】
特に図２〜図５から分かるように、ファセットミラー１０６．１は、ベース構造１０８
の形態の支持構造を含み、ベース構造１０８はファセット素子１０９の形態の複数の光学
素子を支持し、ファセット素子１０９は、それぞれが本発明による光学ユニット１１０（
図３及び図４には単一の光学素子１１０のみを示す）の構成部品である。以下でより詳細
に説明するように、各光学ユニット１１０は、ファセット素子１０９が照明設定の変更の
ために能動的に調整可能であるよう設計される。
【００６９】
さらに、本例では、ファセット素子１０９は、ファセット素子群１０６．２に分割され
、各ファセット素子群１０６．２のファセット素子１０９の光学面１０９．１は、全てが
支持構造１０８の主延在平面（ｘｙ平面）に対して比較的粗く位置合わせされている。図
２から分かるように、ファセット素子群１０６．２は、この粗い位置合わせに関してそれ
ぞれが異なる。
【００７０】
図２には、全体的な明確化のために、ファセット素子群１０６．２のファセット素子１
０９を１１個だけ明示的に示してある。しかしながら、言うまでもなく、ファセットミラ
ー１０６．１は、実際にははるかに多くのファセット素子１０９を含むこともできる。同
じく言うまでもなく、本発明の他の変形形態の場合、任意所望の数の（任意所望の）光学
素子を対応する支持構造上で支持することができる。
【００７１】
ファセット装置の場合、できる限り多くのファセット素子１０９を設けてできる限り広
範な光の均質化を達成することが好ましいことに留意されたい。特にＥＵＶ領域でのリソ
グラフィで用いられるファセット装置の場合、１００〜１０００００個、好ましくは１０
０個〜１００００個、より好ましくは１０００個〜１００００個のファット素子が設けら
れることが好ましい。しかしながら、特に検査目的での、例えばマスク検査での使用の場
合、用いられるファセット素子がより少なくてもよい。このような装置では、５０個〜１
０００００個、好ましくは１００個〜７５００個、より好ましくは５００個〜５０００個
のファセット素子が設けられることが好ましい。
【００７２】
図示の例では、最小限の放射パワー損失を達成するために、ファセット素子１０９は、
最大幅が約０．２００ｍｍ〜０．３００ｍｍ（すなわち約２００μｍ〜３００μｍ）の狭
いギャップＧが間に残るように各ファセット素子群１０６．２に配置される。しかしなが
ら、言うまでもなく、本発明の他の変形形態の場合、結像装置の光学的要件に応じて、支
持構造により支持された光学素子の任意所望の他の配置を実現することもできる。
【００７３】
特に、それらの設計に応じて、特に光学有効面１０９．１の設計タイプに応じて、ファ
セット素子１０９同士をより接近して設定することもできる。したがって、ファセット素
子１０９間の最大ギャップＧは、結果として０．２ｍｍ未満でもあり得る。
【００７４】
特に図２、図３、及び図４から分かるように、ファセット素子１０９は、反射面、した
がって光学有効面１０９．１（以下では光学面１０９．１とも称する）を有する。反射面
１０９．１は、ファセット素子１０９のファセット本体１０９．２のうちベース構造１０
８に面しておらず照明光ビームに面した前側に形成される。
【００７５】
ファセット素子１０９の光学有効面１０９．１の表面積は、好ましくは０．１ｍｍ２〜
２００ｍｍ２、好ましくは０．５ｍｍ２〜１００ｍｍ２、より好ましくは１．０ｍｍ２〜
５０ｍｍ２である。本例では、光学有効面１０９．１の表面積は約７０ｍｍ２である。
【００７６】
図示の例では、光学有効面１０９．１は、実質的に平面状であるようにも構成される。
この場合、光学面１０９．１は、細長く略弓形の外形輪郭を有する。本例では、光学面１
０９．１は、主延在方向ＤＭＥに第１最大寸法を有する一方で、主延在方向ＤＭＥに対し
て垂直な方向に、本例では第１最大寸法の約６％である第２最大寸法を有する。しかしな
がら、言うまでもなく、他の変形形態の場合には異なる比を選択することもできる。第２
最大寸法が第１最大寸法の１０％未満、好ましくは５％未満、より好ましくは０．２％〜
２％、より好ましくは０．５％〜１％である場合、特に好ましい配置構成が得られる。
【００７７】
光学面１０９．１の外形輪郭は、主延在方向ＤＭＥ及び主延在平面ＰＭＥも画定し、主
延在平面ＰＭＥは、本例ではいずれの場合もベース構造１０８の主延在平面１０８．１に
対して傾いて延びる（本例での傾斜角は約１２°である）。主延在方向ＤＭＥは、この場
合、主延在平面ＰＭＥにおいて光学面１０９．１が最大寸法を有する方向を示す。しかし
ながら、言うまでもなく、他の変形形態の場合には任意所望の他の、少なくとも部分的に
多角形の且つ／又は少なくとも部分的に湾曲した外形輪郭を設けることができる。
【００７８】
図３及び図４から分かるように、ファセット素子１０９のほかに、光学ユニット１１０
は支持装置１１１を備え、支持装置１１１によりファセット素子１０９がベース構造１０
８上で支持される。支持装置１１１は、この場合、ベース構造１０８上に取り付けられて
ファセット素子１０９の全重量をベース構造１０８に導入する受動支持ユニット１１２を
含み、ファセット素子１０９及び結果として光学面１０９．１を傾斜させるよう構成され
たアクチュエータユニット１１３も含む。
【００７９】
この目的で、支持ユニット１１２は、板ばね１１２．１〜１１２．４の形態の一連の支
持要素を含み、支持要素はそれぞれが支持ユニット１１２の弾性変形可能部分を形成し、
それらの機能方法は以下でより詳細に説明する。これらの支持要素１１２．１〜１１２．
４により、ファセット本体１０９．２はベース構造１０８に接続される。この目的で、フ
ァセット本体１０９．２は、最初に支持ユニット１１２のヘッド要素１１２．５に接続さ
れる。ヘッド要素１１２．５と中間要素１１２．６との間に、２つの第１板ばね１１２．
１及び１１２．２が（支持方向で）相互に運動学的に平行に配置される。中間要素１１２
．６とベース要素１１２．７との間には、２つの第２板ばね１１２．３及び１１２．４が
（支持方向で）相互に運動学的に平行に配置される。最後に、ベース要素１１２．７は、
任意所望の適当な方法でベース構造１０８に実質的に剛接続される。
【００８０】
本例では、支持ユニット１１２は、適当な材料のモノリシックユニットとして設計され
る。しかしながら、言うまでもなく、本発明の他の変形形態の場合、支持ユニットの少な
くとも一部が適当な方法で相互に接続された別個のコンポーネントからなることもできる
、異なる構成タイプを選択することができる。
【００８１】
アクチュエータユニット１１３は、（非常に概略的にしか図示しない）アクチュエータ
１１３．１及び棒形の調整要素１１３．２を含む。本例では、アクチュエータ１１３．１
は、ベース構造１０８のうちファセット素子１０９に面しない側に固定され、調整要素１
１３．２と相互作用できるようになっている。調整要素１１３．２（図３にはその長手方
向軸１１３．３のみで示す）は、ベース構造１０８及び支持構造１１２の対応する凹部を
貫通し、ファセット本体１０９．２に実質的に剛接続される。
【００８２】
光学素子１０９．１を傾斜させるために、本例では、アクチュエータ１１３．１が、結
像装置１０１の第１動作状態で第１力Ｆ１（ｘ軸と平行に働く）を、結像装置１０１の第
２動作状態で第２力Ｆ２（ｙ軸と平行に働く）を調整要素１１３．２の自由端に加える。
本例では、２つの力Ｆ１及びＦ２は、相互に実質的に直交し、ベース構造１０８の主延在
平面１０８．１と実質的に平行に延びる平面内にある。
【００８３】
同じく図３及び図４から分かるように、第１力Ｆ１は、調整要素１１３．２により光学
面１０９．１の領域で第１傾斜モーメントＭ１を発生させ、第２力Ｆ２は、調整要素１１
３．２により光学面１０９．１の領域で第２傾斜モーメントＭ２を発生させる。２つの傾
斜モーメントＭ１及びＭ２は、この場合はベース構造１０８の主延在平面１０８．１と実
質的に平行に延びる平面内にある。
【００８４】
第２傾斜モーメントＭ２は、この場合は光学面１０９．１の主延在平面ＰＭＥ内にある
が、第１傾斜モーメントＭ１は、光学面１０９．１の主延在平面ＰＭＥに対して傾斜角Ａ
Ｉだけ傾いて働き、傾斜角ＡＩは本例ではＡＩ＝１２°である。
【００８５】
主延在平面ＰＭＥに対する第１傾斜モーメントＭ１のこの傾きの結果として、光学面１
０９．１の傾斜時に、主延在平面ＰＭＥ内にある第１傾斜モーメントＭ１の傾斜成分ＭＴ
１のほかに、主延在平面ＰＭＥに対して垂直な寄生成分ＭＰ１がある。
【００８６】
支持構造の平面と平行に延びる２つの直交傾斜軸を有するカルダン支持体を通常は提供
する、支持装置の従来の設計の場合、図３に点線輪郭１１４（全体的な明確化のために誇
張する）で示すように、光学素子の望ましくない寄生的な横回転運動が主延在平面ＰＭＥ
で発生する。
【００８７】
従来の設計の場合、ファセット素子１１４のこの寄生的な横回転運動の影響として、光
学面の所望の傾斜運動を実現できるように相互に対して対応して大きな隙間又はギャップ
を伴ってしかファセット素子を配置できない。ファセット素子１１４間のこれらの大きな
ギャップにはさらに、照明光の損失の割合が比較的大きいという結果が伴う。
【００８８】
ファセット素子がファセットミラー１０６．１と同様に配置された従来のファセットミ
ラーの場合、約４５０μｍのギャップ幅が通常は設けられる。こうした従来の設計の場合
、光出力の損失（透過損失とも称する）は約１１％である。
【００８９】
この透過損失を低減するために、本例では、支持ユニット１１２が、アクチュエータユ
ニット１１３の傾斜モーメントＭ１による光学面１０９．１の傾斜時に光学面１０９．１
の主延在平面ＰＭＥ内に実質的にある光学素子１０９．１の第１傾斜軸ＴＡ１を予め規定
するよう構成される。
【００９０】
第１傾斜軸ＴＡ１は、原理上は主延在平面ＰＭＥ内でほぼ任意所望の向きにすることが
できる。しかしながら、本例では、支持ユニット１１２が光学面１０９．１の主延在方向
ＤＭＥと実質的に平行に延びる第１傾斜軸ＴＡ１を規定することにより、ファセット素子
１０９の特に高密度の実装又は密接した配置が達成される。結果として、第１傾斜モーメ
ントＭ１による傾斜時にファセット素子１０９の特に小さな寄生運動が達成されることが
有利である。
【００９１】
言うまでもなく、光学面又はファセット素子の設計に応じて、傾斜時に、ファセット素
子間に対応するギャップを設けることを必要とする何らかの寄生運動が不可避である可能
性がある。これは特に、光学面が直線形態から大きく外れている、すなわち例えば顕著な
弓形設計を有するファセット素子の場合に当てはまる。光学面の形態が直線状であるほど
、本発明により寄生運動を低減することができる。第１傾斜軸ＴＡ１が光学面の主延在方
向ＤＭＥと同一直線上に延びる場合に、特に好ましい設計が得られる。
【００９２】
光学面１０９．１の平面設計により、本例では、第１傾斜軸ＴＡ１は光学面１０９．１
上に実質的にある。結果として、第１傾斜モーメントＭ１による傾斜時に特に小さな寄生
運動が得られる。
【００９３】
しかしながら、言うまでもなく、湾曲した光学面の場合にはこのような配置構成を実現
することができず、こうした場合、このような寄生運動を最小化するために、第１傾斜軸
が少なくとも１つの傾斜軸点で光学面と交差するか又は光学面に対する接線を形成するこ
とが好ましい。後者の場合、光学面の第１傾斜軸は、光学面が傾斜軸点で規定するその接
平面内にある。結果として、このような場合、寄生運動が最小限である特に好ましい運動
学的条件も得られる。
【００９４】
同じく言うまでもなく、他の変形形態の場合、傾斜軸は、原理上は光学面から特定の距
離に延びることもできる。これにより寄生運動が生じるが、特に隣接するファセット素子
同士の同期した寄生運動に従うことを可能にする場合は常に適切であり得るので、寄生運
動にも関わらずファセット素子の高密度の実装が可能である。
【００９５】
第１傾斜軸ＴＡ１を規定するために、本例では、２つの第１板ばね１１２．１及び１１
２．２が薄く（ファセット素子１０９の重量から生じる荷重下で）実質的に平面状のばね
要素として設計され、これらは、その主延在平面１１２．８及び１１２．９が第１傾斜軸
ＴＡ１で交差することにより第１傾斜軸ＴＡ２を規定するように相互に対して傾いて配置
される。なお、これに関連して、相互に対して傾いた２つの板ばねがその主延在平面の交
線でこのような傾斜軸を規定することは、十分によく知られているで、この点については
これ以上詳細には論じない。
【００９６】
第１傾斜軸ＴＡ１がこうして規定されるほかに、第１板ばね１１２．１及び１１２．２
の上記配置には、第１板ばね１１２．１及び１１２．２が傾斜モーメントＭ１の寄生成分
ＭＰ１により各自の主延在平面１１２．８又は１１２．９で剪断荷重を主に受けるという
利点がある。２つの第１板ばね１１２．１及び１１２．２は、当然ながら高い剪断抵抗を
有するので、板ばね１１２．１、１１２．２の対は、板ばね１１２．１及び１１２．２の
大きな変形を伴わずに寄生成分ＭＰ１を吸収してそれを対応する対抗弾性モーメントによ
り補償する。
【００９７】
換言すれば、板ばね１１２．１及び１１２．２は、特に光学面１０９．１の主延在平面
ＰＭＥに対して垂直な回転自由度を制限し、それにより傾斜モーメントＭ１の寄生成分Ｍ
Ｐ１の補償を達成することが有利である。
【００９８】
同様のことが、２つの第２板ばね１１２．３及び１１２．４を含む第２板ばね対にも当
てはまり、これらも同じく、傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１により各自の主延在平
面１１２．１０又は１１２．１１で剪断荷重を主に受ける。
【００９９】
結果として、この設計には、主延在平面ＰＭＥに対して傾いているにも関わらず、傾斜
モーメントＭ１が第１傾斜軸に関する光学面１０９．１の傾斜のみをほぼ招く一方で、寄
生成分ＭＰ１が引き起こした寄生運動は、板ばね１１２．１〜１１２．４の高い剪断抵抗
によりほぼ完全に防止されるという効果がある。
【０１００】
第２傾斜軸ＴＡ２も規定するために、本例では、２つの第２板ばね１１２．３及び１１
２．４が同様に薄く実質的に平面状のばね要素として設計され、これらは、主延在平面１
１２．１０及び１１２．１１が第２傾斜軸ＴＡ２で交差することにより第２傾斜軸ＴＡ２
を規定するように相互に対して傾いて配置される。
【０１０１】
本例では、第２傾斜モーメントＭ２は、光学面１０９．１の主延在平面ＰＭＥにあるの
で、主延在平面ＰＭＥに対して垂直な寄生成分を有しない。しかしながら、言うまでもな
く、他の変形形態の場合には主延在平面ＰＭＥに対して第２傾斜モーメントＭ２が傾くこ
ともあり得る。こうした場合、第２傾斜モーメントＭ２による光学面１０９．１の傾斜時
に第２傾斜モーメントＭ２のこのような寄生成分ＭＰ２を吸収及び補償し、それにより対
応する寄生運動を回避するために、第１板ばね１１２．１及び１１２．２のものと類似の
設計を第２板ばね１１２．３及び１１２．４の場合にも選択することができる。
【０１０２】
傾斜モーメントＭ１の位置合わせに関する悪条件下でも、結果として本例の場合では、
アクチュエータユニット１１３、特にアクチュエータ１１３．１の細密な変更を行わずに
、光学面１０９．１の主延在平面ＰＭＥ内に実質的にある光学面１０９．１の傾斜軸ＴＡ
１を支持装置１１１の領域における単純で純粋に受動的な措置により予め規定することが
可能である。したがって、こうした状況下でも、光学面１０９．１の傾斜時にファセット
素子１０９の一部の横変位を防止することが可能であることが有利である。
【０１０３】
したがって、これにより、（例えば照明設定の変更時の）光学面１０９．１の能動的な
調整性にも関わらず透過損失をほとんど伴わずにファセット素子１０９の特に高密度の実
装を実現することが可能である。本例の場合、ファット素子１０９間で依然として必要な
ギャップＧにおける透過損失は約４．５％である。結果として、上述した従来の設計（透
過損失約１１％）と比べて、約６０％の透過損失の低減をファセット素子１０９の高密度
の実装により達成することができる。
【０１０４】
支持要素の幾何学的形状は、原理上、各傾斜軸ＴＡ１又はＴＡ２を所望の位置に規定す
るよう任意所望の適当な方法で選択することができる。板ばね１１２．１〜１１２．４が
、長手方向軸に沿った長さ寸法と、長さ寸法の４％未満、好ましくは２％未満、より好ま
しくは０．２％〜１％である主延在平面１１２．８〜１１２．１１に対して垂直な最大厚
さ寸法とを有する薄く細長い板ばねとして設計される場合、動的側面で有利な変形形態が
得られる。本例では、板ばね１１２．１〜１１２．４の最大厚さ寸法は、いずれの場合も
長さ寸法の約５％である。
【０１０５】
この時点で、板ばね対内で板ばね主延在平面１１２．８〜１１２．１１が各傾斜軸ＴＡ
１又はＴＡ２で交差する限り、板ばね１１２．１〜１１２．４が原理上は任意所望の外形
輪郭を有し得ることが言及されるべきである。本例では、（各板ばね対の）２つの板ばね
１１２．１、１１２．２又は１１２．３、１１２．４がその板ばね主延在平面において実
質的に平行四辺形の外形輪郭を有し、外形輪郭の一対の辺が傾斜軸と実質的に平行に延び
るという点で、特に製造し易い構成が選択される。
【０１０６】
特に図４から分かるように、この場合、これが当てはまるのは、一方ではヘッド要素１
１２．５及び中間要素１１２．６に隣接する板ばね１１２．１及び１１２．２の辺を含む
各対、また他方では中間要素１１２．６及びベース要素１１２．７に隣接する板ばね１１
２．３及び１１２．４の辺を含む各対である。
【０１０７】
本例では、主延在平面ＰＭＥに対する第１傾斜モーメントＭ１の傾斜角は、言及したよ
うにＡＩ＝１２°である。しかしながら、言うまでもなく、本発明は、原理上は主延在平
面ＰＭＥに対する傾斜モーメントＭ１の任意所望の傾きを用いることもできる。この点で
、傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１は、傾斜角ＡＩが大きいほど大きくなることに留
意されたい。傾斜モーメントが光学面の主延在平面及び／又は主延在方向に対して１°〜
３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８°〜１５°傾いている場合、寄生運
動が比較的小さな特に好ましい結果を通常は達成できる。
【０１０８】
本発明による方法の場合、本発明による結像プロセスの過程で用いられる光学素子を結
像装置１０１において支持するために、光学ユニット１１０を上述した構成でベース構造
１０８に固定することで、最初に取付けステップにおいて第１ファセット素子１０９をベ
ース構造１０８に取り付ける。続いて設定ステップにおいて、調整すべきファセット素子
１０９の光学面１０９．１の所望の傾斜が起こる。傾斜は、この場合は結像と同時に且つ
／又は結像時まで起こり得る。
【０１０９】
この時点で、本発明の特定の変形形態の場合、ファセット素子１０９の傾斜が２つの傾
斜軸の一方ＴＡ１又はＴＡ１に関する傾斜のみに制限され得ることに留意されたい。した
がって、結果として、アクチュエータ１１３．１は、第１力Ｆ１又は第２力Ｆ２を発生さ
せることができるよう設計することができる。同様に、当然ながら、アクチュエータ１１
３．１が第１力Ｆ１のみを発生させることができるようにしてもよい。いくつかの変形形
態の場合、当然ながら、アクチュエータ１１３．１が力Ｆ１及びＦ２を同時に発生させる
ことができるようにしてもよい。
【０１１０】
力Ｆ１及びＦ２毎に別個のアクチュエータユニットが設けられる場合、特に単純な構成
のアクチュエータ機構が得られる。これらは単純なリニアアクチュエータであり得る。し
かしながら、言うまでもなく、本発明の他の変形形態の場合には任意所望の他のアクチュ
エータを用いることもできる。特に、対応するモーメントを直接発生させるアクチュエー
タを用いることができる。
【０１１１】
第２実施形態
本発明による光学ユニット２１０のさらに別の好ましい実施形態を有する本発明による
光学モジュール２０６．１のさらに別の好ましい実施形態を、図１、図２、及び図５〜図
７を参照して以下で説明する。光学モジュール２０６．１は、結像装置１０１において光
学モジュール１０６．１の代わりに用いることができ（これを、破線で示すファセット素
子２０９で図２に示す）、その基本設計及び機能方法が図３及び図４からの光学モジュー
ルに対応するので、相違点のみをここで論じる。特に、同一のコンポーネントには同一の
参照符号を設け、同様のコンポーネントには値１００を足した参照符号を設ける。以下で
別段の記載のない限り、それらのコンポーネントの特徴、機能、及び利点に関して例示的
な第１実施形態に関連した上記記載を参照されたい。
【０１１２】
図３及び図４からの光学モジュール１０６．１からの相違点は、ファセット素子の設計
にある。特に図５〜図７から分かるように、ファセット素子２０９は、実質的に平面状の
反射光学面２０９．１を有するが、その表面積はこの場合も約７０ｍｍ２である。この場
合、光学面１０９．１は、細長く実質的に矩形の外形輪郭を有し、これはこの場合も主延
在方向ＤＭＥ及び主延在平面ＰＭＥも画定し、主延在平面ＰＭＥは、本例ではいずれの場
合もベース構造１０８の主延在平面１０８．１に対して傾いて延びる（傾斜角は、本例で
も約１２％である）。この例でも、光学面は細長い外形輪郭を有し、その第２最大寸法は
さらに第１最大寸法の約６％である。
【０１１３】
図３及び図４からの光学モジュール１０６．１と比べたさらに別の相違点は、支持装置
２１１、特に支持ユニット２１２の設計にある。図５〜図７から分かるように、本例では
、２対の板ばねの代わりに３つの支持要素２１２．１２が設けられ、これらは、ファセッ
ト素子２０９のファセット本体２０９．２とベース構造１０８に取り付け固定されたベー
ス要素２０９．７との間で三脚状に相互に対して運動学的に平行に配置される。支持ユニ
ット２１２は、傾斜軸ＴＡ１及びＴＡ２の規定のための案内ユニット２１５も有し、案内
ユニットは、ベース要素２１２．７とファセット素子２０９との間で支持要素２１２．１
２と運動学的に平行に配置される。
【０１１４】
本例では、支持要素２１２．１２は、単純な細い直線状の棒ばねにより形成された弾性
変形可能な支柱であり、各自の支柱長手方向軸２１２．１３に沿って実質的に同じ長さを
有する。本例では、支柱２１２．１２は、ファセット素子２０９の重量の荷重のみを受け
る状態でファセット素子２０９の重量の約９８％を吸収してそれをベース要素２１２．７
に導入するよう設計される。これにより、傾斜モーメントの寄生成分の受動的補償の容易
な組込みも可能にする特に単純な構成の設計を達成することが可能となる。
【０１１５】
本例での細い支柱２１２．１２の最大横寸法は、その長さ寸法の約ＫＬＭＮ％であり、
それにより動的側面から有利である軽量且つ剛性の設計が得られる。しかしながら、本発
明の他の変形形態の場合、異なる細長度（degree of slenderness）を与えることもでき
る。好ましくは、最大横寸法は、長さ寸法の４％未満、好ましくは２％未満、より好まし
くは０．３％〜１．８％である。これが、動的側面から特に有利な設計の達成を可能にす
る。
【０１１６】
ここでは言うまでもなく、支柱２１２はさらに、他の変形形態の場合に異なる設計であ
ってもよく、特に任意所望の部分的に湾曲し且つ／又は部分的に多角形の形状を有するこ
とができる。
【０１１７】
本例では、支柱２１２．１２の支柱長手方向軸２１２．１３は、光学面２０９．１上に
ある第１傾斜軸ＴＡ１の点ＲＰで交差するように相互に対して傾いている。したがって、
玉継手状に設計されたファセット素子２０９の取付けが、ベース要素２１２．７上で、し
たがってベース構造１０８上で、支柱２１２．１２により（十分によく知られた方法で）
実現される。
【０１１８】
傾斜軸ＴＡ１及びＴＡ２の所望の向き及び第１傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１の
所望の補償をそれぞれ達成するために、運動学的に平行に配置された案内ユニット２１５
は、支柱２１２．１２により実現されるこの玉継手状の取り付けを補う。
【０１１９】
この目的で、案内ユニット２１５は２つの案内要素２１５．１を有し、これらは、傾斜
モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１を吸収して補償する対応する対抗モーメントを発生させ
るために、ファセット素子２０９及びベース要素２１２．７に関節式に接続され、ファセ
ット素子２０９の横方向ＴＤでファセット素子２０９の両側に配置される。横方向ＴＤは
、この場合は主延在平面ＰＭＥ内にあり、主延在方向ＤＭＥに対して垂直に延びる。
【０１２０】
ファセット素子２０９への各案内要素２１５．１の接続は、ファセット素子２０９に実
質的に剛接続されて横方向ＴＤに延びる横支柱２１５．２の自由端によりいずれの場合も
行われる。ベース要素２１２．７への取り付けは、ベース要素２１２．７に実質的に剛接
続されてベース構造１０８の主延在平面１０８．１に対して実質的に垂直且つ調整要素１
１３．２と実質的に平行に延びる柱要素２１５．３の自由端によりいずれの場合も行われ
る。
【０１２１】
本例では、案内要素２１５．１はそれぞれ板ばね状に形成される。しかしながら、言う
までもなく、本発明の他の変形形態の場合、傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１に関す
る所望の対抗モーメントが案内要素２１５．１により加えられる限り、任意所望の他の設
計の案内要素２１５．１を設けることもできる。したがって、他の変形形態の場合、案内
要素２１５．１は、関節式に取り付られた単純な棒要素として設計することができる。
【０１２２】
各案内要素２１５．１は、この場合、ファセット素子２０９上の第１関節点２１５．４
及びベース要素２１２．７上の（より正確には柱要素２１５．３上の）第２関節点２１５
．５を規定する。第１関節点２１５．４と第２関節点２１５．５との間の接続線２１５．
６は、この場合は主延在平面ＰＭＥに対して垂直且つ第１傾斜モーメントＭ１と平行に延
びる平面内に延びる。接続線２１５．６は、この場合は第１傾斜モーメントＭ１に対して
第１傾斜角ＡＩ１＝９°だけ傾いて延びる一方で、主延在平面ＰＭＥに対して第２傾斜角
ＡＩ２＝３°だけ傾いて延び、接続線２１５．６は、主延在平面ＰＭＥが第１傾斜モーメ
ントＭ１に対して傾くのと同じ回転方向に傾く。
【０１２３】
さらに、第１関節点２１５．４は、横方向ＴＤに回転点ＲＰからいずれの場合も回転点
距離ＲＰＤだけ離れているが、第１関節点２１５．４及び第２関節点２１５．５は、関節
点距離ＡＰＤだけ相互に離れている。
【０１２４】
第１傾斜軸ＴＡ１に関する光学面２０９．１の傾斜時に得られる補償効果又は補償運動
は、傾斜角ＡＩ１又はＡＩ２、関節点距離ＡＰＤ、及び回転点距離ＲＰＤにより設定する
ことができる。本例では、設定は、傾斜軸ＴＡ１が主延在平面ＰＭＥ内で主延在方向ＤＭ
Ｅと同一直線上にあるよう行われる。特にこの点で、傾斜角ＡＩ１又はＡＩ２を各柱要素
２１５．３とベース要素２１２．７との間の間隔要素２１５．７により設定することがで
きるものとする。
【０１２５】
しかしながら、言うまでもなく、本発明の他の変形形態の場合、光学面２０９．１の傾
斜時に寄生運動を最小化するか又はそれらを所望の形状に適合させるために、特にファセ
ット素子２０９の幾何学的形状及び／又は位置合わせに適合させた第１傾斜軸ＴＡ１の異
なる位置合わせを行うことができる。
【０１２６】
ここで、第１傾斜角が好ましくは１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好まし
くは８°〜１５°であると同時に、又は代替的に、第２傾斜角は−１０°〜１０°、好ま
しくは−５°〜５°、より好ましくは０°〜２°であり得る。これにより、傾斜モーメン
トＭ１の寄生成分ＭＰ１の少なくとも部分的な補償をいずれの場合も特に容易に達成する
ことができる。
【０１２７】
本例では、案内ユニット２１５は、３つの運動自由度を制限し、具体的には（ｘ方向及
びｙ方向の）２つの並進自由度及び（ｚ軸に関する）１つの回転自由度、したがってその
結果として、光学面２０９．１の主延在平面ＰＭＥに対して垂直な回転自由度も制限する
ことで、傾斜モーメントＭ１の対応する寄生成分ＭＰ１を補償するようにする。
【０１２８】
ここでは言うまでもなく、言及したように、特定の変形形態の場合、傾斜モーメントＭ
１の寄生成分ＭＰ１を部分的に補償できるだけである可能性があり、したがって場合によ
っては他の隣接するファセット素子２０９の寄生運動に従うために特定の寄生運動が許さ
れる可能性もある。案内ユニット２１５は、その場合、傾斜モーメントＭ１による光学面
２０９．１の傾斜時に第１傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１の少なくとも一部、特に
少なくとも７５％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは９０％〜１００％を補
償する対抗モーメントＣＭがファセット素子２０９に加わるように設計されることが好ま
しい。
【０１２９】
同じく図５〜図７から分かるように、第２力Ｆ２はさらに、光学面１０９．１の領域で
調整要素１１３．２により第２傾斜モーメントＭ２を発生させ、第２モーメントＭ２又は
第２傾斜軸ＴＡ２は、案内ユニット２１５による取り付けの結果として主延在平面ＰＭＥ
と実質的に平行に延びるが、回転点ＲＰと２つの第１関節点２１５．４により規定された
軸との間にある。これにより、支柱２１２．１２が特定の荷重を受ける結果となるので、
本例は、傾斜が少なくとも主に、好ましくは専ら第１傾斜軸ＴＡ１に関して起こる用途に
用いられることが好ましい。
【０１３０】
第３実施形態
本発明による光学ユニット３１０のさらに別の好ましい実施形態を有する本発明による
光学モジュール３０６．１のさらに別の好ましい実施形態を、図１、図２、図６、及び図
９を参照して以下で説明する。光学モジュール３０６．１は、結像装置１０１において光
学モジュール１０６．１の代わりに用いることができ、その基本設計及び機能方法が図５
〜図７からの光学モジュールに対応するので、相違点のみをここで論じる。特に、同一の
コンポーネントには同一の参照符号を設け、同様のコンポーネントには値１００を足した
参照符号を設ける。以下で別段の記載のない限り、それらのコンポーネントの特徴、機能
、及び利点に関して例示的な第１及び第２実施形態に関連した上記記載を参照されたい。
【０１３１】
図５〜図７からの光学モジュール２０６．１と比べた唯一の相違点は、案内ユニット３
１５にある。図８及び図９から分かるように、２つの柱要素の代わりに、案内ユニット３
１５の場合、ヒンジ継手として設計されたフレクシャ３１５．８によりベース要素２１２
．７上に関節接合された単一の実質的に板形の柱要素３１５．３が設けられる。
【０１３２】
これにより、傾斜軸ＴＡ１及びＴＡ２の規定のために、本例では、案内ユニット３１５
が２つの運動自由度のみ、具体的には（ｘ方向の）１つの並進自由度及び（ｚ軸に関する
）１つの回転自由度、したがってその結果として、光学面２０９．１の主延在平面ＰＭＥ
に対して垂直な回転自由度も制限することで、傾斜モーメントＭ１の対応する寄生成分Ｍ
Ｐ１を補償するようにするという効果が得られる。
【０１３３】
図８及び図９から分かるように、それに加えて、これにより、第２力Ｆ２が光学面１０
９．１の領域で調整要素１１３．２により第２傾斜モーメントＭ２を発生させ、第２モー
メントＭ２又は第２傾斜軸ＴＡ２は、その場合、案内ユニット３１５による取り付けの結
果として実質的に主延在平面ＰＭＥ内に、正確には回転点ＲＰを通って延びるので、第２
傾斜モーメントＭ２による傾斜時に寄生運動も大幅に排除される。
【０１３４】
本発明は、専らファセットミラーに基づいて上述した。しかしながら、言うまでもなく
、本発明を任意所望の他の光学モジュール又は光学素子に関連して用いることもできる。
【０１３５】
本発明は、専らマイクロリソグラフィの分野からの例にも基づいて上述した。しかしな
がら、言うまでもなく、本発明を任意所望の他の光学的用途、特に他の波長での結像法に
関連して用いることもできる。
【０１３６】
したがって、本発明は、物体の検査、例えば、マイクロリソグラフィ用のマスクの完全
性等を検査するいわゆるマスク検査に関連して用いることができる。図１では、（さらな
る加工のために）マスク１０４．１の投影パターンの結像を感知するセンサユニットが、
続いて基板１０５．１の代わりとなる。このマスク検査は、その場合、その後のマイクロ
リソグラフィプロセスで用いられるのと実質的に同じ波長で行うことができる。しかしな
がら、そこから外れた任意所望の波長を検査に用いることも同様に可能である。
【０１３７】
最後に、本発明は、添付の特許請求の範囲に記載される特徴の特定の組み合わせを示す
特定の例示的な実施形態に基づいて上述した。この時点で、本発明の主題がこれらの特徴
の組み合わせに制限されるのではなく、本発明の主題が、添付の特許請求の範囲から明ら
かとなるような他の全ての特徴の組み合わせも含むことに明らかに留意されたい。
【図１】
2020170192.tif 000003
【図２】
2020170192.tif 000004
【図３】
2020170192.tif 000005
【図４】
2020170192.tif 000006
【図５】
2020170192.tif 000007
【図６】
2020170192.tif 000008
【図７】
2020170192.tif 000009
【図８】
2020170192.tif 000010
【図９】
2020170192.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月29日(2020.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学ユニット、特にファセットミラーユニットであって、
光学素子（１０９；２０９）及び
支持装置（１１１）
を備え、前記光学素子（１０９；２０９）は、光学面（１０９．１；２０９．１）の主延在平面（ＰＭＥ）及び該主延在平面（ＰＭＥ）内の主延在方向を規定する該光学面（１０９．１；２０９．１）、特に細長い光学面（１０９．１；２０９．１）を有し、
前記支持装置（１１１）は、ベース要素（１１２．７；２１２．７）を有する支持ユニットを含み、
前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）は、該ベース要素（１１２．７；２１２．７）の延在平面を規定する、光学ユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、少なくとも２つの弾性変形可能な支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）を含み、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）のそれぞれは、支持要素主延在面を規定し、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、前記支持要素主延在面が前記光学面（１０９．１；２０９．１）の傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を規定する線で交差するように、相互に対して傾いて配置され、
前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）は、該光学面（１０９．１；２０９．１）の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的にあり、前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）の前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いていることを特徴とする光学ユニット。
【請求項２】
請求項１に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）が前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記主延在方向と実質的に平行か、又は、前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記主延在方向と同一直線上に延びるように設計される光学ユニット。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学ユニットにおいて、
前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）は、前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）の前記主延在平面（ＰＭＥ）及び／又は前記主延在方向に対して１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８°〜１５°傾いている光学ユニット。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）は、少なくとも１つの傾斜軸点で、前記光学面（１０９．１；２０９．１）上に実質的にあり、又は、
前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）は、少なくとも一つの傾斜軸点で、該傾斜軸点で規定された前記光学面（１０９．１；２０９．１）の接平面内にある光学ユニット。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
請求項１又は２に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、受動要素により前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を専ら規定する受動装置として設計される光学ユニット。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記光学素子（１０９；２０９）の重量の少なくとも大部分が、少なくとも１つの動作状態で前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）により前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）に導入される光学ユニット。
【請求項７】
請求項６に記載の光学ユニットにおいて、
前記光学素子（１０９；２０９）の重量の少なくとも８０％、好ましくは少なくとも９０％、より好ましくは９５％〜１００％が前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）により前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）に導入される光学ユニット。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）のそれぞれは、板ばね状に設計される光学ユニット。
【請求項９】
請求項８に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）のそれぞれが板ばね主延在平面を規定し、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、前記板ばね主延在平面同士が前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）で交差するように相互に対して傾いて配置される光学ユニット。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、前記光学素子（１０９；２０９）の重量の荷重のみを受ける状態で実質的に平面状であるよう構成された板ばねとして設計される光学ユニット。
【請求項１１】
請求項８から１０のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、長手方向軸に沿った長さ寸法と、板ばね主延在平面に対して垂直な最大厚さ寸法とを有する薄い板ばねとして設計される光学ユニット。
【請求項１２】
請求項１１に記載の光学ユニットにおいて、
前記最大厚さ寸法は、前記長さ寸法の４％未満、好ましくは２％未満、より好ましくは０．２％〜１％である光学ユニット。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）のそれぞれが板ばね主延在平面を規定し、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、その板ばね主延在平面において実質的に平行四辺形の外形輪郭を有し、該外形輪郭の少なくとも１対の辺が前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）と実質的に平行に延びる光学ユニット。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記傾斜軸（ＴＡ１）は前記光学面の第１傾斜軸であり、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記第１傾斜軸（ＴＡ１）に対して横方向に、又は、垂直に延びる前記光学面の第２傾斜軸（ＴＡ２）を規定するために構成される光学ユニット。
【請求項１５】
請求項１４に記載の光学ユニットにおいて、
前記第２傾斜軸（ＴＡ２）は、前記光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的にある光学ユニット。
【請求項１６】
請求項１４又は１５に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、受動要素により前記傾斜軸（ＴＡ２）を専ら規定する受動装置として設計される光学ユニット。
【請求項１７】
請求項１４から１６のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記第２傾斜軸（ＴＡ２）を規定する少なくとも２つの部分的に弾性変形戒能な支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）を含む光学ユニット。
【請求項１８】
請求項１４から１７のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、少なくとも２つの弾性変形可能な支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）を含み、該支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、それぞれ前記第２傾斜軸（ＴＡ２）を規定する板ばね状に、特に薄い板ばねとして設計される光学ユニット。
【請求項１９】
請求項１８に記載の光学ユニットにおいて、
該支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）のそれぞれが、板ばね主延在平面を規定し、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、前記板ばね主延在平面同士が前記第２傾斜軸（ＴＡ２）で交差するように相互に対して傾いて配置される光学ユニット。
【請求項２０】
請求項１８に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、その板ばね主延在平面において実質的に平行四辺形の外形輪郭を有し、
該外形輪郭の少なくとも１対の辺が前記第２傾斜軸（ＴＡ２）と実質的に平行に延びる光学ユニット。
【請求項２１】
請求項１から２０のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記光学面（１０９．１；２０９．１）は、前記主延在方向に細長くなるように設計され、又は
前記光学面（１０９．１；２０９．１）は、前記主延在方向に対して横方向に細くなるように設計され、又は
前記光学面（１０９．１；２０９．１）は、前記主延在方向の第１最大寸法と、該第１最大寸法の１０％未満、好ましくは５％未満、より好ましくは０．２％〜２％、より好ましくは０．５％〜１％である前記主延在方向に対して垂直な第２最大寸法とを有する光学ユニット。
【請求項２２】
請求項１から２１のいずれか１項に記載の光学ユニットにおいて、
前記支持装置（１１１）は、アクチュエータユニット（１１３）を含み、
前記アクチュエータユニット（１１３）は、一動作状態において、前記光学素子（１０９：２０９）の前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて働く第１の傾斜モーメント（Ｍ１）を前記光学素子（１０９；２０９）に専ら加えるよう構成される光学ユニット。
【請求項２３】
請求項２２に記載の光学ユニットにおいて、
前記アクチュエータユニット（１１３）は、一動作状態において、前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて働く前記第１の傾斜モーメント（Ｍ１）に対して横方向に又は垂直に働く第２の傾斜モーメント（Ｍ２）を前記光学素子（１０９：２０９）に専ら加えるよう構成される光学ユニット。
【請求項２４】
請求項１から２３のいずれか１項に記載の少なくとも１つの光学ユニットを備えた、特にファセットミラーである、光学モジュール。
【請求項２５】
請求項２４に記載の光学モジュールであって、
複数の光学素子の支持ユニット（１１２；２１２）が、共通のベース要素（１１２．７；２１２．７）を有する光学モジュール。
【請求項２６】
請求項２４又は２５に記載の光学モジュールであって、
前記光学素子（１０９；２０９）は、０．１ｍｍ２〜２００ｍｍ２、好ましくは０．５ｍｍ２〜１００ｍｍ２、より好ましくは１．０ｍｍ２〜５０ｍｍ２の表面積を特に有する光学有効面（１０９．１；２０９．１）を有するファセット素子である光学モジュール。
【請求項２７】
請求項２４から２６のいずれか１項に記載の光学モジュールであって、
１００個〜１００，０００個、好ましくは１００個〜１０，０００個、より好ましくは１，０００個〜１０，０００個のファセットミラー（１０９；２０９）が設けられる光学モジュール。
【請求項２８】
請求項２４に記載の光学モジュールであって、
５０個〜１０，０００個、好ましくは１００個〜７，５００個、より好ましくは５００個〜５，０００個のファセットミラー（１０９；２０９）が設けられる光学モジュール。
【請求項２９】
特にマイクロリソグラフィ用の光学結像装置であって、
第１光学素子群（１０６）を有する照明装置（１０２）と、
物体（１０４．１）を収容する物体装置（１０４）と、
第２光学素子群（１０７）を有する投影装置（１０３）と、
像装置（１０５）と
を備え、前記照明装置（１０２）は前記物体（１０４．１）を照明するよう構成され、且つ
前記投影装置（１０３）は前記物体（１０４．１）の像を前記像装置（１０５）に投影するよう構成される光学結像装置において、
前記照明装置（１０２）及び／又は前記投影装置（１０３）は、請求項２４から２８のいずれか１項に記載の光学モジュール（１０６．１；２０６．１）を備えることを特徴とする光学結像装置。
【請求項３０】
光学素子、特にファセットミラーのファセット素子を支持装置（１１１）により支持する方法であって、前記光学素子（１０９；２０９）は、主延在平面（ＰＭＥ）及び該主延在平面（ＰＭＥ）内の主延在方向を規定する光学面（１０９．１；２０９．１）、特に細長い光学面（１０９．１；２０９．１）を有し、
傾斜モーメント（Ｍ１）が前記光学素子（１０９；２０９）に加わることで、前記光学素子（１０９；２０９）を前記支持装置（１１１）のベース要素（１１２．７；２１２．７）であって該ベース要素（１１２．７；２１２．７）の主延在平面を規定するベース要素（１１２．７；２１２．７）に対して傾斜させる方法において、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、少なくとも２つの弾性変形可能な支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）を含み、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）のそれぞれは、支持要素主延在面を規定し、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、前記支持要素主延在面が前記光学面（１０９．１；２０９．１）の傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を規定する線で交差するように、相互に対して傾いて配置され、
前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）は、該光学面（１０９．１；２０９．１）の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的にあり、前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）の前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いていることを特徴とする方法。
【請求項３１】
特にマイクロリソグラフィ用の光学結像法であって、
第１光学素子群（１０６）を有する照明装置（１０２）により物体（１０４．１）を照明し、
第２光学素子群（１０７）を有する投影装置（１０３）により前記物体（１０４．１）の像を像装置（１０５）上に生成する光学結像法において、
請求項３０に記載の方法を前記照明装置（１０２）及び／又は前記投影装置（１０３）で用いる光学結像法。
【外国語明細書】
2020170192000001.pdf