(57)【要約】【課題】直流高電圧電源装置の出力電圧の安定性が向上し、質量精度が改善された質量分析装置を提供する。【解決手段】質量分析装置は、試料をイオン化するイオン化部５２０と、イオン化部５２０により生成されたイオンが導入され、イオンが飛行する飛行部５５５と、直流高圧電源装置５１とを備える。直流高圧電源装置５１は、昇圧電圧を出力する昇圧回路３と、昇圧回路３の出力と接地電源との間に直列接続された高圧側抵抗１１と低圧側抵抗１２とを含み、昇圧電圧を分圧した分圧電圧を生成する抵抗分割回路Ｒ１と、基準電圧と分圧電圧との誤差を増幅して、昇圧電圧の大きさを制御する制御信号を出力する誤差増幅器４と、昇圧回路３の出力と接地電源との間に抵抗分割回路Ｒ１と並列に接続される保護抵抗１３とを備える。昇圧電圧が供給される、試料由来のイオンが飛行する飛行部を形成する少なくとも一つの電極を備える。【選択図】図３
2020057513.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料をイオン化するイオン化部と、
前記イオン化部により生成されたイオンが導入され、当該イオンが飛行する飛行部と、
直流高圧電源装置とを備え、
前記直流高圧電源装置は、
入力される電圧を昇圧した昇圧電圧を出力する昇圧回路と、
前記昇圧回路の出力と接地電源との間に直列接続された高圧側抵抗と低圧側抵抗とを含み、前記昇圧電圧を分圧した分圧電圧を生成する抵抗分割回路と、
基準電圧と前記分圧電圧との誤差を増幅して、前記昇圧電圧の大きさを制御する制御信号を出力する誤差増幅器と、
前記昇圧回路の出力と前記接地電源との間に前記抵抗分割回路と並列に接続される少なくとも１つの保護抵抗とを含み、
前記昇圧電圧が供給される、試料由来のイオンが飛行する飛行部を形成する少なくとも一つの電極を備える質量分析装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つの保護抵抗は、第１の保護抵抗を含み、
前記抵抗分割回路の前記高圧側抵抗を構成する抵抗体のパターン上のある一点の電位に対する、該一点と最短距離にある前記第１の保護抵抗の抵抗体のパターン上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下である、請求項１に記載の質量分析装置。
【請求項３】
前記抵抗分割回路の前記高圧側抵抗を構成する抵抗体のパターン上のある一点の電位に対する、該一点と最短距離にある前記第１の保護抵抗の抵抗体のパターン上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下である、請求項２に記載の質量分析装置。
【請求項４】
前記抵抗分割回路の前記高圧側抵抗を構成する抵抗体のパターン上のある一点の電位に対する、該一点と最短距離にある前記第１の保護抵抗の抵抗体のパターン上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下である、請求項２に記載の質量分析装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの保護抵抗は、さらに、前記第１の保護抵抗と直列に接続された第２の保護抵抗を含み、
前記抵抗分割回路の前記低圧側抵抗を構成する抵抗体のパターン上のある一点の電位に対する、該一点と最短距離にある前記第２の保護抵抗の抵抗体のパターン上の一点の比が、９０％以上かつ１１０％以下である請求項２に記載の質量分析装置。
【請求項６】
前記抵抗分割回路の前記低圧側抵抗を構成する抵抗体のパターン上のある一点の電位に対する、該一点と最短距離にある前記第２の保護抵抗の抵抗体のパターン上の一点の比が、９５％以上かつ１０５％以下である、請求項５に記載の質量分析装置。
【請求項７】
前記抵抗分割回路の前記低圧側抵抗を構成する抵抗体のパターン上のある一点の電位に対する、該一点と最短距離にある前記第２の保護抵抗の抵抗体のパターン上の一点の比が、９９％以上かつ１０１％以下である、請求項５に記載の質量分析装置。
【請求項８】
前記少なくとも１つの保護抵抗は、第１の保護抵抗を含み、
前記抵抗分割回路の前記高圧側抵抗は、円筒型であり、
前記第１の保護抵抗は、前記円筒型の前記高圧側抵抗の周りを覆うリング型である、請求項１記載の質量分析装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの保護抵抗は、さらに、前記第１の保護抵抗と直列に接続された第２の保護抵抗を含み、
前記抵抗分割回路の前記低圧側抵抗は、円筒型であり、
前記第２の保護抵抗は、前記円筒型の前記低圧側抵抗の周りを覆うリング型である、請求項８記載の質量分析装置。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの保護抵抗は、第１の保護抵抗を含み、
前記抵抗分割回路の前記高圧側抵抗は、平板状の第１の基板上に形成され、
前記第１の保護抵抗は、平板状の第２の基板上に形成される、請求項１記載の質量分析装置。
【請求項１１】
前記第２の基板は、前記第１の基板に平行である、請求項１０記載の質量分析装置。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの保護抵抗は、さらに、前記第１の保護抵抗と並列に接続された第２の保護抵抗を含み、
前記第２の保護抵抗は、前記第１の基板に平行で、かつ前記第１の基板を挟んで前記第２の基板と反対側に配置される平板状の第３の基板上に形成される、請求項１１記載の質量分析装置。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの保護抵抗は、さらに、前記第１の保護抵抗と直列に接続された第３の保護抵抗と、前記第２の保護抵抗と直列に接続された第４の保護抵抗とを含み、
前記第３の保護抵抗は、前記第２の基板上に形成され、前記第４の保護抵抗は、前記第３の基板上に形成される、請求項１２記載の質量分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、直流高圧電源装置を備えた質量分析装置に関し、特に高圧の出力電圧を誤差増幅器で取り扱える電圧にまで分圧する抵抗分割回路を備えた直流高圧電源装置を備えた質量分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
精密な分析を行う分析装置には、高い安定性で動作する電源装置が用いられる。例えば、特許文献１には、フライトチューブを有する飛行時間型質量分析装置が記載されている。フライトチューブには、電圧印加部（電源装置）により±数kVの直流の高電圧が供給される。
【０００３】
飛行時間型質量分析装置においては、試料から生成されたイオンが、フライトチューブの飛行空間に導入され、質量電荷比に応じた速度で飛行空間を飛行する。その後、イオンは、質量電荷比が小さい順に検出器に到達し、検出器により検出される。検出されたイオンの飛行時間が質量電荷比に換算されることによりマススペクトルが作成される。作成されたマススペクトルに基づいて、試料の質量分析が行われる。
【０００４】
そのような飛行時間型質量分析装置には、従来から、昇圧された高圧の出力電圧を誤差増幅器で取り扱える電圧にまで分圧する抵抗分割回路を備えた電源装置が用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２０１７／１５８８４２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
抵抗分割回路は、高圧の出力電圧を誤差増幅器で取り扱える電圧にまで分圧するために用いられるが、抵抗分割回路から周囲へのリーク電流が変化すると抵抗分割回路の分圧比が変化し、ひいては高圧出力電圧の変動につながる。
【０００７】
このような問題を防止するため、通常、抵抗分割回路の周囲には体積抵抗率の高いシリコーン樹脂またはエポキシ樹脂などを充填することが広く一般に行われている。しかしながら、樹脂を充填するためにコストと手間が掛かるとともに、電源装置の重量が増加するという問題がある。また、樹脂を充填すると、直流高圧電源装置の周囲温度の変化によって樹脂の体積抵抗率が変化し、直流高圧電源装置の対温度変動率が悪化するという問題がある。
【０００８】
一般に飛行時間型質量分析装置には、検出したイオンの測定質量電荷比の変動（つまり質量精度）が1ppm未満におさまることが求められており、他の分析装置に比べて非常に高い精度が要求される。従来の直流高圧電源装置により生成された電圧を飛行時間型質量分析装置の分析部電極に供給した場合、電圧変動により検出されるイオンの質量電荷比が変動してしまい、許容できない質量精度の悪化につながる。
【０００９】
それゆえに、本発明の目的は、直流高電圧電源装置の出力電圧の安定性が向上し、質量精度が改善された質量分析装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の質量分析装置は、試料をイオン化するイオン化部と、イオン化部により生成されたイオンが導入され、当該イオンが飛行する飛行部と、直流高圧電源装置とを備える。直流高圧電源装置は、入力される電圧を昇圧した昇圧電圧を出力する昇圧回路と、昇圧回路の出力と接地電源との間に直列接続された高圧側抵抗と低圧側抵抗とを含み、昇圧電圧を分圧した分圧電圧を生成する抵抗分割回路と、基準電圧と分圧電圧との誤差を増幅して、昇圧電圧の大きさを制御する制御信号を出力する誤差増幅器と、昇圧回路の出力と接地電源との間に抵抗分割回路と並列に接続される少なくとも１つの保護抵抗とを含む。昇圧電圧が供給される、試料由来のイオンが飛行する飛行部を形成する少なくとも一つの電極を備える。
【００１１】
これにより、対温度変動率が悪化せず、かつ抵抗分割回路の分圧比が変動しないようにすることができる。その結果、直流高電圧電源装置の出力電圧の安定性が向上し、質量分析装置の質量精度を改善することができる。
【００１２】
好ましくは、少なくとも１つの保護抵抗は、第１の保護抵抗を含む。抵抗分割回路の高圧側抵抗を構成する抵抗体のパターン上のある一点の電位に対する、該一点と最短距離にある第１の保護抵抗の抵抗体のパターン上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下である。
【００１３】
これによって、抵抗分割回路の高圧型抵抗から周囲へ流れるリーク電流などを効果的に遮断できる。
【００１４】
より好ましくは、抵抗分割回路の高圧側抵抗を構成する抵抗体のパターン上のある一点の電位に対する、該一点と最短距離にある第１の保護抵抗の抵抗体のパターン上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下である。
【００１５】
これによって、抵抗分割回路の高圧型抵抗から周囲へ流れるリーク電流などをより効果的に遮断できる。
【００１６】
さらに好ましくは、抵抗分割回路の高圧側抵抗を構成する抵抗体のパターン上のある一点の電位に対する、該一点と最短距離にある第１の保護抵抗の抵抗体のパターン上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下である。
【００１７】
これによって、抵抗分割回路の高圧型抵抗から周囲へ流れるリーク電流などをさらに効果的に遮断できる。
【００１８】
好ましくは、少なくとも１つの保護抵抗は、さらに、第１の保護抵抗と直列に接続された第２の保護抵抗を含む。抵抗分割回路の低圧側抵抗を構成する抵抗体のパターン上のある一点の電位に対する、該一点と最短距離にある第２の保護抵抗の抵抗体のパターン上の一点の比が、９０％以上かつ１１０％以下である。
【００１９】
これによって、抵抗分割回路の低圧型抵抗から周囲へ流れるリーク電流などを効果的に遮断できる。
【００２０】
より好ましくは、抵抗分割回路の低圧側抵抗を構成する抵抗体のパターン上のある一点の電位に対する、該一点と最短距離にある第２の保護抵抗の抵抗体のパターン上の一点の比が、９５％以上かつ１０５％以下である。
【００２１】
これによって、抵抗分割回路の低圧型抵抗から周囲へ流れるリーク電流などをより効果的に遮断できる。
【００２２】
さらに好ましくは、抵抗分割回路の低圧側抵抗を構成する抵抗体のパターン上のある一点の電位に対する、該一点と最短距離にある第２の保護抵抗の抵抗体のパターン上の一点の比が、９９％以上かつ１０１％以下である。
【００２３】
これによって、抵抗分割回路の低圧型抵抗から周囲へ流れるリーク電流などをさらに効果的に遮断できる。
【００２４】
好ましくは、少なくとも１つの保護抵抗は、第１の保護抵抗を含む。抵抗分割回路の高圧側抵抗は、円筒型である。第１の保護抵抗は、円筒型の高圧側抵抗の周りを覆うリング型である。
【００２５】
これによって、抵抗分割回路の高圧側抵抗が円筒型の場合に、高圧型抵抗から周囲にリーク電流が流れるのを効果的に防止できる。
【００２６】
好ましくは、少なくとも１つの保護抵抗は、さらに、第１の保護抵抗と直列に接続された第２の保護抵抗を含む。抵抗分割回路の低圧側抵抗は、円筒型である。第２の保護抵抗は、円筒型の低圧側抵抗の周りを覆うリング型である。
【００２７】
これによって、抵抗分割回路の低圧側抵抗が円筒型の場合に、高圧型抵抗から周囲にリーク電流が流れるのを効果的に防止できる。
【００２８】
好ましくは、少なくとも１つの保護抵抗は、第１の保護抵抗を含む。抵抗分割回路の高圧側抵抗は、平板状の第１の基板上に形成される。第１の保護抵抗は、平板状の第２の基板上に形成される。
【００２９】
これによって、抵抗分割回路の高圧側抵抗が平板状の場合に、高圧型抵抗から周囲にリーク電流が流れるのを効果的に防止できる。
【００３０】
好ましくは、第２の基板は、第１の基板に平行である。
これによって、高圧型抵抗から周囲にリーク電流が流れるのを効果的に防止できる。
【００３１】
好ましくは、少なくとも１つの保護抵抗は、さらに、第１の保護抵抗と並列に接続された第２の保護抵抗を含む。第２の保護抵抗は、第１の基板に平行で、かつ第１の基板を挟んで第２の基板と反対側に配置される平板状の第３の基板上に形成される。
【００３２】
これによって、高圧型抵抗から周囲にリーク電流が流れるのをより効果的に防止できる。
【００３３】
好ましくは、少なくとも１つの保護抵抗は、さらに、第１の保護抵抗と直列に接続された第３の保護抵抗と、第２の保護抵抗と直列に接続された第４の保護抵抗とを含む。第３の保護抵抗は、第２の基板上に形成される。第４の保護抵抗は、第３の基板上に形成される。
【００３４】
これによって、低圧型抵抗から周囲にリーク電流が流れるのを効果的に防止できる。
【発明の効果】
【００３５】
本発明によれば、対温度変動率が悪化せず、かつ抵抗分割回路の分圧比が変動しないようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】第１の従来例の直流高圧電源装置１の構成を表わす図である。
【図２】抵抗分割回路Ｒ１の構造を表わす図である。
【図３】第１の実施形態の直流高圧電源装置５１の構成を表わす図である。
【図４】抵抗分割回路Ｒ１と保護抵抗１３の構造を表わす図である。
【図５】（ａ）は、抵抗１１の抵抗体のパターンを表わす図である。（ｂ）は、保護抵抗１３の抵抗体のパターンを表わす図である。
【図６】第２の実施形態の直流高圧電源装置５２の構成を表わす図である。
【図７】抵抗分割回路Ｒ１と、保護抵抗１３と、保護抵抗５３の構造を表わす図である。
【図８】（ａ）は、抵抗１１の抵抗体のパターンを表わす図である。（ｂ）は、保護抵抗１３の抵抗体のパターンを表わす図である。（ｃ）は、抵抗１２の抵抗体のパターンを表わす図である。（ｄ）は、保護抵抗５３の抵抗体のパターンを表わす図である。
【図９】第２の従来例の直流高圧電源装置９１の構成を表わす図である。
【図１０】（ａ）は、抵抗分割回路Ｒ２を第１の方向から見た図である。（ｂ）は、抵抗分割回路Ｒ２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。
【図１１】第３の実施形態の直流高圧電源装置５２の構成を表わす図である。
【図１２】抵抗分割回路Ｒ２、保護抵抗３１、保護抵抗４１を第１の方向から見た図である。
【図１３】（ａ）は、抵抗分割回路Ｒ２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。（ｂ）は、保護抵抗３１を第１の方向と垂直な方向から見た図である。（ｃ）は、保護抵抗４１を第１の方向と垂直な方向から見た図である。
【図１４】第４の実施形態の直流高圧電源装置５４の構成を表わす図である。
【図１５】抵抗分割回路Ｒ２、保護抵抗３１、抵抗３２、保護抵抗４１、保護抵抗４２を第１の方向から見た図である。
【図１６】（ａ）は、抵抗分割回路Ｒ２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。（ｂ）は、保護抵抗３１、抵抗３２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。（ｃ）は、保護抵抗４１、保護抵抗４２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。
【図１７】（ａ）は、抵抗分割回路Ｒ２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。（ｂ）は、保護抵抗３１、抵抗３２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。（ｃ）は、保護抵抗４１、保護抵抗４２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。
【図１８】第６の実施形態の直流高圧電源装置６３の構成を表わす図である。
【図１９】抵抗分割回路Ｒ２、抵抗７１，７２を第１の方向から見た図である。
【図２０】抵抗分割回路Ｒ２、抵抗７１，７２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、実施の形態について、図面を参照して説明する。
［第１の実施形態］
まず、従来の直流高圧電源装置１を説明する。
【００３８】
図１は、第１の従来例の直流高圧電源装置１の構成を表わす図である。
直流高圧電源装置１は、インバータ回路２と、昇圧回路３と、抵抗分割回路Ｒ１と、誤差増幅器４とを備える。
【００３９】
インバータ回路２は、直流電源電圧ＶＩＮを受けて、交流電圧に変換する。
昇圧回路３は、インバータ回路２から出力される交流電圧を直流の高電圧に昇圧して、直流の昇圧電圧ＶＯＵＴを出力する。
【００４０】
抵抗分割回路Ｒ１は、抵抗１１と抵抗１２によって構成される。
抵抗１１は、昇圧回路３の出力端子と接続されるノードＮ１とノードＮ２との間に接続される。抵抗１１は、高圧型抵抗である。抵抗１２は、ノードＮ２とグランドＧＮＤとの間に接続される。抵抗１２は、低圧側抵抗である。抵抗１１の抵抗値が大きく、抵抗１２の抵抗値は小さく設定される。たとえば、抵抗１１の抵抗値は、抵抗１２の抵抗値の１００倍とすることができる。これによって、誤差増幅器４へ入力される電圧を小さくすることができる。
【００４１】
誤差増幅器４は、ノードＮ２の電圧と基準電圧ＶＲＥＦとの誤差を増幅して、制御信号ＣＴをインバータ回路２に出力することによって、インバータ回路２のスイッチングを制御する。
【００４２】
図２は、抵抗分割回路Ｒ１の構造を表わす図である。抵抗分割回路Ｒ１を構成する抵抗１１および抵抗１２は、円筒型の形状を有する。
【００４３】
抵抗分割回路Ｒ１と周囲との間にリーク電流の流れを遮断するものが存在しないので、抵抗分割回路Ｒ１から、周囲へリーク電流が流れるという問題がある。これによって、ノードＮ２の電圧が変動し、インバータ回路２を正しく制御することができない。
【００４４】
図３は、第１の実施形態の質量分析装置の構成を表わす図である。
この質量分析装置は、質量分析部５０１と、直流高圧電源装置５１とを備える。
【００４５】
質量分析部５０１は、略大気圧であるイオン化室５２０と真空ポンプ（図示なし）により真空排気された高真空の分析室５２４との間に、段階的に真空度が高められた第１中間室５２１、第２中間室５２２、及び第３中間室５２３を備えた多段差動排気系の構成を有している。
【００４６】
イオン化室５２０には液体試料に電荷を付与しながら噴霧するエレクトロスプレイイオン化用プローブ（ＥＳＩプローブ）２０１が設置されている。これによって、液体試料がイオン化される。
【００４７】
イオン化室５２０は、試料をイオン化するイオン化部を構成する。
イオン化室５２０と第１中間室５２１は細径の加熱キャピラリ２０２を通して連通している。第１中間室５２１と第２中間室５２２は頂部に小孔を有するスキマー２１２で隔てられる。第１中間室５２１と第２中間室５２２にはそれぞれ、イオンを収束させつつ後段へ輸送するためのイオンガイド２１１、２２１が配置されている。第３中間室５２３には、イオンを質量電荷比に応じて分離する四重極マスフィルタ２３１、多重極イオンガイド２３３を内部に備えたコリジョンセル２３２、及びコリジョンセル２３２から放出されたイオンを輸送するためのイオンガイド２３４が配置されている。コリジョンセル２３２の内部には、アルゴン、窒素などのＣＩＤガスが必要に応じて供給される。
【００４８】
第３中間室５２３に位置するコリジョンセル２３２から放出されたイオンは、直交加速電極２４２（対向配置された１組の電極２４２Ａ、２４２Ｂからなり、電極２４２Ｂはグリッド電極）のイオン加速領域に進入し、該進入方向と直交する方向（グリッド電極２４２Ｂの側）に加速される。グリッド電極２４２Ｂを通過したイオンは、さらにイオン軌道の両側に配置された加速電極（第２加速電極）２４３によって加速されて飛行部５５５に入射される。
【００４９】
質量分析部５０１は、飛行部５５５を備える。飛行部５５５は、試料由来のイオンが飛行空間を飛行するために、複数の電極を備える。複数の電極は、飛行空間の外縁に位置するフライトチューブ２４６と、バックプレート２４７と、飛行空間においてイオンの折り返し軌道を形成する複数のリフレクトロン電極２４４とを含む。これらの複数の電極によって飛行空間内に形成されたポテンシャルによって、飛行空間に入射されたイオンの飛行経路が制御される。すなわち、イオンは、リフレクトロン電極２４４とバックプレート２４７からなる折り返し部に入射して徐々に減速し、飛行経路が折り返されて検出器２４５に入射する。
【００５０】
直流高圧電源装置５１は、飛行部５５５に含まれる複数の電極のうちの少なくとも１つの電極に高電圧ＶＯＵＴを供給する。
【００５１】
直流高圧電源装置５１は、第１の従来例の直流高圧電源装置１の構成に加えて、保護抵抗１３を備える。保護抵抗１３は、ノードＮ１とグランドＧＮＤとの間に、抵抗分割回路Ｒ１と並列に接続される。
【００５２】
図４は、抵抗分割回路Ｒ１と保護抵抗１３の構造を表わす図である。
第１の従来例と同様に、抵抗分割回路Ｒ１を構成する抵抗１１および抵抗１２は、円筒型の形状を有する。保護抵抗１３は、円筒型の抵抗１１の外周を囲むリング型の形状を有する。
【００５３】
図５（ａ）は、抵抗１１の抵抗体のパターンを表わす図である。抵抗１１は、パターンＰＴ１の抵抗体を有する。図５（ｂ）は、保護抵抗１３の抵抗体のパターンを表わす図である。保護抵抗１３は、パターンＰＴ２の抵抗体を有する。パターンＰＴ１およびパターンＰＴ２は、いずれも円筒の外周上の巻線状の形状を有する。パターンＰＴ１およびパターンＰＴ２は、巻線の太さまたは間隔が相違する。
【００５４】
ここで、パターンＰＴ１とパターンＰＴ２の形状、たとえば、巻線の太さまたは間隔を調整することによって、次のように設定することができる。
【００５５】
パターンＰＴ１上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ２上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下とする。
【００５６】
より好ましくは、パターンＰＴ１上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ２上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下とする。
【００５７】
さらに好ましくは、パターンＰＴ１上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ２上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下とする。
【００５８】
以上のような設定によって、抵抗１１から周囲へ流れるリーク電流などを効果的に遮断できる。なお、点Ｐは、パターンＰＴ１上のすべての点としてもよい。
【００５９】
抵抗１２の周りには、保護抵抗が配置されないが、抵抗１２の電圧は、抵抗１１の電圧に比べて微小なため、抵抗１２から周囲へリーク電流が流れたとしても、ノードＮ２の電圧の変動は無視できる。
【００６０】
本実施の形態によれば、保護抵抗によって抵抗分割回路からのリーク電流を大幅に低減（理想的にはゼロ）することができ、結果として抵抗分割回路の分圧比が抵抗周囲の体積抵抗率の影響を受けなくなる。これにより、樹脂の充填を不要することができ、電源装置のコスト低減、および軽量化を実現できる。また、絶縁等の理由で樹脂充填する場合、電源装置の周囲温度の変化によって樹脂の体積抵抗率が変化したとしても、電源装置の対温度変動率が悪化しないという利点がある。
【００６１】
[第２の実施形態]
図６は、第２の実施形態の質量分析装置の構成を表わす図である。
【００６２】
この質量分析装置は、質量分析部５０１と、直流高圧電源装置５２とを備える。
第２の実施形態の直流高圧電源装置５２は、第１の実施形態の直流高圧電源装置５１の構成に加えて、保護抵抗５３を備える。
【００６３】
直列接続された保護抵抗１３および保護抵抗５３は、ノードＮ１とグランドＧＮＤとの間に、抵抗分割回路Ｒ１と並列に接続される。
【００６４】
図７は、抵抗分割回路Ｒ１と、保護抵抗１３と、保護抵抗５３の構造を表わす図である。
【００６５】
第１の従来例および第１の実施形態と同様に、抵抗分割回路Ｒ１を構成する抵抗１１および抵抗１２は、円筒型の形状を有する。第１の実施形態と同様に、保護抵抗１３は、円筒型の抵抗１１の外周を囲むリング型の形状を有する。本実施の形態では、保護抵抗５３は、円筒型の抵抗１２の外周を囲むリング型の形状を有する。
【００６６】
図９（ａ）は、抵抗１１の抵抗体のパターンを表わす図である。抵抗１１は、パターンＰＴ１の抵抗体を有する。図９（ｂ）は、保護抵抗１３の抵抗体のパターンを表わす図である。保護抵抗１３は、パターンＰＴ２の抵抗体を有する。パターンＰＴ１およびパターンＰＴ２は、いずれも円筒の外周上の巻線上の形状を有する。パターンＰＴ１およびパターンＰＴ２は、巻線の太さまたは間隔が相違する。
【００６７】
図９（ｃ）は、抵抗１２の抵抗体のパターンを表わす図である。抵抗１２は、パターンＰＴ１１の抵抗体を有する。図９（ｄ）は、保護抵抗５３の抵抗体のパターンを表わす図である。保護抵抗５３は、パターンＰＴ１２の抵抗体を有する。パターンＰＴ１１およびパターンＰＴ１２は、いずれも円筒の外周上の巻線上の形状を有する。パターンＰＴ１１およびパターンＰＴ１２は、巻線の太さまたは間隔が相違する。
【００６８】
ここで、パターンＰＴ１とパターンＰＴ２の形状、たとえば、巻線の太さまたは間隔を調整することによって、次のように設定することができる。
【００６９】
パターンＰＴ１上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ２上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下とする。
【００７０】
より好ましくは、パターンＰＴ１上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ２上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下とする。
【００７１】
さらに好ましくは、パターンＰＴ１上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ２上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下とする。
【００７２】
また、パターンＰＴ１１とパターンＰＴ１２の形状、たとえば、巻線の太さまたは間隔を調整することによって、次のように設定することができる。
【００７３】
パターンＰＴ１１上のある一点Ｑの電位に対する、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ１２上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下とする。
【００７４】
より好ましくは、パターンＰＴ１１上のある一点Ｑの電位に対する、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ１２上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下とする。
【００７５】
さらに好ましくは、パターンＰＴ１１上のある一点Ｑの電位に対する、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ１２上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下とする。
【００７６】
以上のような設定によって、抵抗１１、抵抗１２から周囲へ流れるリーク電流などを効果的に遮断できる。なお、点Ｐは、パターンＰＴ１上のすべての点としてもよい。点Ｑは、パターンＰＴ１１上のすべての点としてもよい。
【００７７】
［第３の実施形態］
図９は、第２の従来例の直流高圧電源装置９１の構成を表わす図である。
【００７８】
第２の従来例の直流高圧電源装置９１は、第１の従来例の直流高圧電源装置９１の抵抗分割回路Ｒ１に代えて、抵抗分割回路Ｒ２を備える。
【００７９】
抵抗分割回路Ｒ２は、抵抗２１ａ、２１ｂによって構成される。抵抗２１ａは、ノードＮ１とノードＮ２との間に接続される。抵抗２１ｂは、ノードＮ２とグランドＧＮＤとの間に接続される。抵抗２１ａは、高圧型抵抗である。抵抗２１ｂは、低圧側抵抗である。抵抗２１ａの抵抗値が大きく、抵抗２１ｂの抵抗値は小さく設定される。たとえば、抵抗２１ａの抵抗値は、抵抗２１ｂの抵抗値の１００倍とすることができる。これによって、誤差増幅器４へ入力される電圧を小さくすることができる。
【００８０】
図１０（ａ）は、抵抗分割回路Ｒ２を第１の方向から見た図である。図１０（ｂ）は、抵抗分割回路Ｒ２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。
【００８１】
抵抗分割回路Ｒ２は、平板型の形状を有する。抵抗２１ａ、２１ｂは、平板状のセラミックス基板に形成される抵抗体のパターンＰＴ３，ＰＴ４で構成される。
【００８２】
第１の従来例の抵抗分割回路Ｒ１と同様に、抵抗分割回路Ｒ２と周囲との間にリーク電流の流れを遮断するものが存在しないので、抵抗分割回路Ｒ２から、周囲へリーク電流が流れるという問題がある。これによって、ノードＮ２の電圧が変動し、インバータ回路２を正しく制御することができない。
【００８３】
図１１は、第３の実施形態の質量分析装置の構成を表わす図である。
この質量分析装置は、質量分析部５０１と、直流高圧電源装置８３とを備える。
【００８４】
第３の実施形態の直流高圧電源装置８３は、第２の従来例の直流高圧電源装置９１の構成に加えて、保護抵抗３１、保護抵抗４１を備える。
【００８５】
保護抵抗３１は、ノードＮ１とグランドＧＮＤとの間に、抵抗分割回路Ｒ２と並列に接続される。保護抵抗４１は、ノードＮ１とグランドＧＮＤとの間に、抵抗分割回路Ｒ２と並列に接続される。
【００８６】
図１２は、抵抗分割回路Ｒ２、保護抵抗３１、保護抵抗４１を第１の方向から見た図である。
【００８７】
図１３（ａ）は、抵抗分割回路Ｒ２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。第２の従来例と同様に、抵抗分割回路Ｒ２は、平板型の形状を有する。抵抗２１ａ、２１ｂは、平板状のセラミックス基板に形成される抵抗体のパターンＰＴ３，ＰＴ４で構成される。
【００８８】
図１３（ｂ）は、保護抵抗３１を第１の方向と垂直な方向から見た図である。保護抵抗３１は、平板型の形状を有する。保護抵抗３１は、平板状のセラミックス基板に形成される抵抗体のパターンＰＴ５で構成される。
【００８９】
図１３（ｃ）は、保護抵抗４１を第１の方向と垂直な方向から見た図である。保護抵抗４１は、平板型の形状を有する。保護抵抗４１は、平板状のセラミックス基板に形成される抵抗体のパターンＰＴ６で構成される。
【００９０】
保護抵抗３１が形成される基板と、保護抵抗４１が形成される基板は、抵抗分割回路Ｒ２が形成される基板とは平行である。保護抵抗４１が形成される基板は、抵抗分割回路Ｒ２が形成される基板を挟んで、保護抵抗３１が形成される基板と反対側に位置する。
【００９１】
ここで、パターンＰＴ３とパターンＰＴ２とパターンＰＴ６の形状を略同一とすることによって、次のように設定することができる。
【００９２】
パターンＰＴ３上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ５上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下とし、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ６上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下とする。
【００９３】
より好ましくは、パターンＰＴ３上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ５上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下とし、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ６上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下とする。
【００９４】
さらに好ましくは、パターンＰＴ３上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ５上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下とし、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ６上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下とする。
【００９５】
以上のような設定によって、抵抗２１ａから周囲へ流れるリーク電流などを効果的に遮断できる。なお、点Ｐは、パターンＰＴ３上のすべての点としてもよい。
【００９６】
抵抗２１ｂの周りには、保護抵抗が配置されないが、抵抗２１ｂの電圧は、抵抗２１ａの電圧に比べて微小なため、抵抗１２から周囲へリーク電流が流れたとしても、ノードＮ２の電圧の変動は無視できる。
【００９７】
［第４の実施形態］
図１４は、第４の実施形態の質量分析装置の構成を表わす図である。
【００９８】
この質量分析装置は、質量分析部５０１と、直流高圧電源装置５４とを備える。
第４の実施形態の直流高圧電源装置５４は、第３の実施形態の直流高圧電源装置８３の構成に加えて、保護抵抗３２および保護抵抗４２を備える。
【００９９】
直列接続された保護抵抗３１および保護抵抗３２は、ノードＮ１とグランドＧＮＤとの間に、抵抗分割回路Ｒ２と並列に接続される。直列接続された保護抵抗４１および保護抵抗４２は、ノードＮ１とグランドＧＮＤとの間に、抵抗分割回路Ｒ２と並列に接続される。
【０１００】
図１５は、抵抗分割回路Ｒ２、保護抵抗３１、保護抵抗３２、保護抵抗４１、保護抵抗４２を第１の方向から見た図である。
【０１０１】
図１６（ａ）は、抵抗分割回路Ｒ２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。抵抗分割回路Ｒ２は、平板型の形状を有する。抵抗２１ａ、２１ｂは、平板状のセラミックス基板に形成される抵抗体のパターンＰＴ３，ＰＴ４で構成される。
【０１０２】
図１６（ｂ）は、保護抵抗３１、保護抵抗３２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。保護抵抗３１、３２は、平板型の形状を有する。保護抵抗３１，３２は、平板状のセラミックス基板に形成される抵抗体のパターンＰＴ５，ＰＴ７で構成される。
【０１０３】
図１６（ｃ）は、保護抵抗４１、保護抵抗４２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。保護抵抗４１、４２は、平板型の形状を有する。保護抵抗４１，４２は、平板状のセラミックス基板に形成される抵抗体のパターンＰＴ６，ＰＴ８で構成される。
【０１０４】
保護抵抗３１、３２が形成される基板と、保護抵抗４１、４２が形成される基板は、抵抗分割回路Ｒ２が形成される基板とは平行である。保護抵抗４１、４２が形成される基板は、抵抗分割回路Ｒ２が形成される基板を挟んで、保護抵抗３１、３２が形成される基板と反対側に位置する。
【０１０５】
ここで、パターンＰＴ３とパターンＰＴ２とパターンＰＴ６の形状を略同一とすることによって、次のように設定することができる。
【０１０６】
パターンＰＴ３上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ５上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下とし、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ６上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下とする。
【０１０７】
より好ましくは、パターンＰＴ３上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ５上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下とし、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ６上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下とする。
【０１０８】
さらに好ましくは、パターンＰＴ３上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ５上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下とし、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ６上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下とする。
【０１０９】
ここで、パターンＰＴ４とパターンＰＴ７とパターンＰＴ８の形状を略同一とすることによって、次のように設定することができる。
【０１１０】
パターンＰＴ４上のある一点Ｑの電位に対する、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ７上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下とし、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ８上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下とする。
【０１１１】
より好ましくは、パターンＰＴ４上のある一点Ｑの電位に対する、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ７上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下とし、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ８上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下とする。
【０１１２】
さらに好ましくは、パターンＰＴ４上のある一点Ｑの電位に対する、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ７上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下とし、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ８上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下とする。
【０１１３】
以上のような設定によって、抵抗２１ａ、２１ｂから周囲へ流れるリーク電流などを効果的に遮断できる。なお、点Ｐは、パターンＰＴ３上のすべての点としてもよい。点Ｑは、パターンＰＴ４上のすべての点としてもよい。
【０１１４】
［第５の実施形態］
図１７（ａ）は、抵抗分割回路Ｒ２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。第４の実施形態と同様に、抵抗分割回路Ｒ２は、平板型の形状を有する。抵抗２１ａ、２１ｂは、平板状のセラミックス基板に形成される抵抗体のパターンＰＴ３，ＰＴ４で構成される。
【０１１５】
図１７（ｂ）は、保護抵抗３１、保護抵抗３２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。保護抵抗３１、３２は、平板型の形状を有する。保護抵抗３１，３２は、平板状のセラミックス基板に形成される抵抗体のパターンＰＴ２１，ＰＴ２２で構成される。
【０１１６】
図１７（ｃ）は、保護抵抗４１、保護抵抗４２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。保護抵抗４１、４２は、平板型の形状を有する。保護抵抗４１，４２は、平板状のセラミックス基板に形成される抵抗体のパターンＰＴ２３，ＰＴ２４で構成される。
【０１１７】
保護抵抗３１、３２が形成される基板と、保護抵抗４１、４２が形成される基板は、抵抗分割回路Ｒ２が形成される基板とは平行である。保護抵抗４１、４２が形成される基板は、抵抗分割回路Ｒ２が形成される基板を挟んで、保護抵抗３１、３２が形成される基板と反対側に位置する。
【０１１８】
ここで、パターンＰＴ３とパターンＰＴ２１とパターンＰＴ２３の形状を略同一とすることによって、次のように設定することができる。
【０１１９】
パターンＰＴ３上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ２１上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下とし、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ２３上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下とする。
【０１２０】
より好ましくは、パターンＰＴ３上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ２１上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下とし、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ２３上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下とする。
【０１２１】
さらに好ましくは、パターンＰＴ３上のある一点Ｐの電位に対する、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ２１上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下とし、一点Ｐと最短距離にあるパターンＰＴ２３上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下とする。
【０１２２】
ここで、パターンＰＴ４とパターンＰＴ２２とパターンＰＴ２４の形状を略同一とすることによって、次のように設定することができる。
【０１２３】
パターンＰＴ４上のある一点Ｑの電位に対する、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ２２上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下とし、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ２４上の一点の電位の比が、９０％以上かつ１１０％以下とする。
【０１２４】
より好ましくは、パターンＰＴ４上のある一点Ｑの電位に対する、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ２２上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下とし、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ２４上の一点の電位の比が、９５％以上かつ１０５％以下とする。
【０１２５】
さらに好ましくは、パターンＰＴ４上のある一点Ｑの電位に対する、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ２２上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下とし、一点Ｑと最短距離にあるパターンＰＴ２４上の一点の電位の比が、９９％以上かつ１０１％以下とする。
【０１２６】
以上のような設定によって、抵抗２１ａ、２１ｂから周囲へ流れるリーク電流などを効果的に遮断できる。なお、点Ｐは、パターンＰＴ３上のすべての点としてもよい。点Ｑは、パターンＰＴ４上のすべての点としてもよい。
【０１２７】
［第６の実施形態］
図１８は、第６の実施形態の質量分析装置の構成を表わす図である。
【０１２８】
この質量分析装置は、質量分析部５０１と、直流高圧電源装置６３とを備える。
第６の実施形態の直流高圧電源装置６３は、第２の従来例の直流高圧電源装置９１の構成に加えて、保護抵抗７１，７２を備える。
【０１２９】
直列接続された保護抵抗７１，７２は、ノードＮ１とグランドＧＮＤとの間に、抵抗分割回路Ｒ２と並列に接続される。保護抵抗７１，７２は、平板型の形状を有する。
【０１３０】
保護抵抗７１，７２の平板は、ノイズ源と、抵抗分割回路Ｒ２との間に配置されるようにすることができる。
【０１３１】
図１９は、抵抗分割回路Ｒ２、保護抵抗７１，７２を第１の方向から見た図である。図２０は、抵抗分割回路Ｒ２、保護抵抗７１，７２を第１の方向と垂直な方向から見た図である。図１９および図２０において、抵抗分割回路Ｒ２、保護抵抗７１，７２の抵抗体のパターンの記載は省略している。
【０１３２】
たとえば、平板状の抵抗分割回路Ｒ２の平板に平行な方向からノイズを受ける場合には、図１９、図２０に示すように、保護抵抗７１，７２が形成される平板状の基板を抵抗分割回路Ｒ２が形成される平板状の基板に垂直に配置して、抵抗分割回路Ｒ２にノイズが流入するのを防止することができる。
【０１３３】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【０１３４】
１，５１，５２，５４，６３，８３，９１  直流高圧電源装置、２  インバータ回路、３  昇圧回路、４  誤差増幅器、１１，１２，２１ａ，２１ｂ  抵抗  １３，３１，３２，４１，４２，５３，７１，７２  保護抵抗、２０１  エレクトロスプレイイオン化用プローブ（ＥＳＩプローブ）、２０２  加熱キャピラリ、２１１，２２１，２３４  イオンガイド、  ２１２  スキマー、２３１  四重極増すフィルタ、２３２  コリジョンセル、２３３  多重極イオンガイド、２４２  直交加速電極、２４３  第２加速電極、２４４  リフレクトロン電極、２４５  検出器、２４６  フライトチューブ、２４７  バックプレート、５０１  質量分析部、５２０  イオン化室、５２１  第１中間室、５２２  第２中間室、５３２  第３中間室、５２４  分析室、５５５  飛行部、Ｒ１，Ｒ２  抵抗分割回路、ＰＴ１，ＰＴ２，ＰＴ３，ＰＴ４，ＰＴ５，ＰＴ６，ＰＴ７，ＰＴ８，ＰＴ１１，ＰＴ１２，ＰＴ２１，ＰＴ２２，ＰＴ２３，ＰＴ２４  抵抗体のパターン。
【図１】
2020057513.tif 000003
【図２】
2020057513.tif 000004
【図３】
2020057513.tif 000005
【図４】
2020057513.tif 000006
【図５】
2020057513.tif 000007
【図６】
2020057513.tif 000008
【図７】
2020057513.tif 000009
【図８】
2020057513.tif 000010
【図９】
2020057513.tif 000011
【図１０】
2020057513.tif 000012
【図１１】
2020057513.tif 000013
【図１２】
2020057513.tif 000014
【図１３】
2020057513.tif 000015
【図１４】
2020057513.tif 000016
【図１５】
2020057513.tif 000017
【図１６】
2020057513.tif 000018
【図１７】
2020057513.tif 000019
【図１８】
2020057513.tif 000020
【図１９】
2020057513.tif 000021
【図２０】
2020057513.tif 000022