(57)【要約】【課題】締め付けや肌へのダメージ等のストレスなく爪先部のずれを抑制する。【解決手段】レッグウェア（１）は、母趾関節側方領域（Ｐ１）および子趾関節側方領域（Ｐ２）を含む伸縮性を有する本体部（２）と、母趾関節側方領域（Ｐ１）および子趾関節側方領域（Ｐ２）の周囲に配置され、足（Ｆ）に対する前記領域（Ｐ１・Ｐ２）の下方向および前後方向へのずれを抑制する低伸縮部（１０）とを備え、低伸縮部（１０）は、本体部（２）よりも伸縮性が低いおよび本体部（２）よりも足（Ｆ）に対する摩擦が大きい特性の少なくとも一方を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも足の爪先から母趾中足趾関節および子趾中足趾関節までを覆い、前記母趾中足趾関節の側方を覆う母趾関節側方領域および前記子趾中足趾関節の側方を覆う子趾関節側方領域を含む、伸縮性を有する本体部と、
前記母趾関節側方領域および前記子趾関節側方領域の少なくとも一方の領域の周囲に配置され、前記足の厚み方向を上下方向、前記足の長手方向を前後方向と定義したとき、前記足に対する前記領域の下方向および前後方向へのずれを抑制する低伸縮部とを備え、
前記低伸縮部は、前記本体部よりも伸縮性が低いおよび前記本体部よりも前記足に対する摩擦が大きい特性の少なくとも一方を有することを特徴とするレッグウェア。
【請求項２】
前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域に対して、上方向および前後方向に配置されることを特徴とする請求項１に記載のレッグウェア。
【請求項３】
前記足に接する前記低伸縮部の内面は、前記足に接する前記本体部の内面よりも、前記足に対する摩擦が大きいことを特徴とする請求項１または２に記載のレッグウェア。
【請求項４】
前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域および前記子趾関節側方領域の周囲にそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項１から３までのいずれか１項に記載のレッグウェア。
【請求項５】
前記低伸縮部は、帯状であることを特徴とする請求項１から４までのいずれか１項に記載のレッグウェア。
【請求項６】
前記帯状の前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の前後方向から挟むように配置され、
２つの前記低伸縮部の下端部の距離は、少なくとも前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の幅以上であることを特徴とする請求項５に記載のレッグウェア。
【請求項７】
前記低伸縮部は、
前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の前後方向の伸縮を抑制する第１帯状部と、該領域の上下方向の伸縮を抑制する第２帯状部と、
を含むことを特徴とする請求項５または６に記載のレッグウェア。
【請求項８】
前記第２帯状部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域を前後方向から挟むように配置されていることを特徴とする請求項７に記載のレッグウェア。
【請求項９】
前記低伸縮部は、前記足の足底側に開口した略コの字型の形状であることを特徴とする請求項８に記載のレッグウェア。
【請求項１０】
前記第２帯状部の下方向の下端が、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の上下方向の中心位置よりも下方向に位置することを特徴とする請求項７から９までのいずれか１項に記載のレッグウェア。
【請求項１１】
前記第１帯状部の前記母趾関節側方領域側の辺の長さ、または前記子趾関節側方領域側の辺の長さは、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の幅よりも短く、
前記第２帯状部の長さは前記第１帯状部よりも長く、かつ前記第２帯状部の下方にいくにつれて前記第２帯状部の距離が互いに離れるようにハの字型に配置されることを特徴とする請求項８から１０のいずれか１項に記載のレッグウェア。
【請求項１２】
前記第１帯状部と前記第２帯状部とは、一連に形成されていることを特徴とする請求項７から１１のいずれか１項に記載のレッグウェア。
【請求項１３】
前記本体部は、編地で構成されており、前記爪先を覆う爪先部、前記足の足底を覆う足底部、前記足の両側辺を覆う側辺部、および前記足の踵を覆う踵部を含むことを特徴とする請求項１から１２までのいずれか１項に記載のレッグウェア。
【請求項１４】
前記足の足甲および足首を露出させるフットカバーであることを特徴とする請求項１３に記載のレッグウェア。
【請求項１５】
前記フットカバーは、前記足の足指の分岐部位の一部を露出させる浅履き形状であることを特徴とする請求項１４に記載のレッグウェア。
【請求項１６】
前記爪先部は、足指の外郭にそって親指側から小指側へなだらかに傾斜する形状であることを特徴とする請求項１５に記載のレッグウェア。
【請求項１７】
前記踵部の内面に滑り止めが設けられていることを特徴とする請求項１３から１６までのいずれか１項に記載のレッグウェア。
【請求項１８】
前記低伸縮部は、前記本体部の内面に塗布された樹脂であることを特徴とする請求項１から１７までのいずれか１項に記載のレッグウェア。
【請求項１９】
前記本体部は、前記爪先を覆う爪先部に複数の指収納部が形成されていることを特徴とする請求項１から１８までのいずれか１項に記載のレッグウェア。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、足に着用するレッグウェアに関し、より詳細には、歩行などの動作によるずれや脱げを抑制するレッグウェアに関する。
【背景技術】
【０００２】
靴下等のレッグウェアを着用して歩行・運動する際、爪先部の生地が幅方向もしくは足長方向にずれ、不快感を生じることがある。特に足甲部の生地が浅いフットカバーにおいては踵部の脱げもさることながら、爪先部の脱げも着用感を大きく損なうことが問題となっている。
【０００３】
この問題に対する従来技術として、例えば次の技術が開示されている。特許文献１には、履き口部の前方周辺に全周の伸縮部を設けるとともに、後方に細幅の部分伸縮を設けることにより履き心地を維持しつつ、脱げを防止するフットカバーが開示されている。また、特許文献２には、履き口部周縁に伸縮性および粘着性を備えた、帯状のシリコン部を設けたフットカバーが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】実用新案登録第３２１１５１４号
【特許文献２】特開２０１５−１３７４２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１では、履き口部前方に伸縮部を設けたとしても爪先部のずれや回転を効果的に防止することができないという問題がある。また、締め付ける箇所を増やすと着用感の悪化を招き、さらに、締め付け力を強化したとしても不快感が生じる。つまり、締め付けによる脱げ防止は、締め付けを弱くすると効果が薄れ、締め付けを強くすると着用感が悪化するため、好適とはいえない。
【０００６】
また、特許文献２では、足甲部の幅方向にシリコン部を設ける構造が開示されているが、踵部の皮膚とは異なり足甲部の皮膚は薄いため、シリコン部との摩擦により足甲部の皮膚が炎症を起こしやすいという問題がある。また、足指の一部が露出するような浅履きタイプのフットカバーについては、シリコン部が足指の上面に位置するため、シリコン部と皮膚との接触面積が小さくなり、十分な脱げ抑制効果が得られないという問題がある。
【０００７】
上記のような問題に鑑み、本発明の一態様は、締め付けや肌へのダメージ等のストレスなく、効果的に爪先部のずれ、または脱げを抑制するレッグウェアを実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係るレッグウェアは、少なくとも足の爪先から母趾中足趾関節および子趾中足趾関節までを覆い、前記母趾中足趾関節の側方を覆う母趾関節側方領域および前記子趾中足趾関節の側方を覆う子趾関節側方領域を含む、伸縮性を有する本体部と、前記母趾関節側方領域および前記子趾関節側方領域の少なくとも一方の領域の周囲に配置され、前記足の厚み方向を上下方向、前記足の長手方向を前後方向と定義したとき、前記足に対する前記領域の下方向および前後方向へのずれを抑制する低伸縮部とを備え、前記低伸縮部は、前記本体部よりも伸縮性が低いおよび前記本体部よりも前記足に対する摩擦が大きい特性の少なくとも一方を有することを特徴とする。
【０００９】
上記構成によれば、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の下方向および前後方向へのずれ（動き）が、該領域の周囲に配置された低伸縮部によって抑制される。そのため、足を締め付けることなく、レッグウェアの爪先部のずれ、または脱げを抑制することができる。その結果、締め付けや肌へのダメージ等のストレスなく、効果的に爪先部のずれ、または脱げを抑制するレッグウェアを実現することができる。
【００１０】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域に対して、上方向および前後方向に配置されていてもよい。
【００１１】
上記構成によれば、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の下方向および前後方向へのずれを効果的に抑制することができる。
【００１２】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記足に接する前記低伸縮部の内面は、前記足に接する前記本体部の内面よりも、前記足に対する摩擦が大きくてもよい。
【００１３】
上記構成によれば、足に対する低伸縮部の動きが抑制されるため、低伸縮部によって母趾関節側方領域または子趾関節側方領域のずれをさらに効果的に抑制することができる。
【００１４】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域および前記子趾関節側方領域の周囲にそれぞれ設けられていてもよい。
【００１５】
上記構成によれば、足の幅方向の両側において、レッグウェアの爪先部のずれ、または脱げを抑制することができるため、確実に爪先部のずれ、または脱げを抑制することができる。
【００１６】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記低伸縮部は、帯状であってもよい。
【００１７】
上記構成によれば、低伸縮部が帯状であることによって、低伸縮部がストッパーの役割を果たすため、より高いずれ防止効果を得ることができる。
【００１８】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記帯状の前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の前後方向から挟むように配置され、２つの前記低伸縮部の下端部の距離は、少なくとも前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の幅以上であってもよい。
【００１９】
上記構成によれば、歩行時において、母趾中足趾関節および子趾中足趾関節を軸とした屈曲時（蹴り出し開始から蹴り出し終了時）に、中足趾関節の可動を妨げることなく生地が伸縮するため、好適にレッグウェアのずれ、脱げを抑制することができる。
【００２０】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記低伸縮部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の前後方向の伸縮を抑制する第１帯状部と、該領域の上下方向の伸縮を抑制する第２帯状部と、を含んでいてもよい。
【００２１】
上記構成によれば、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の前後方向の伸縮が第１帯状部によって抑制され、該領域の上下方向の伸縮を第２帯状部によって抑制される。これにより、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の下方向および前後方向へのずれを抑制することができる。
【００２２】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記第２帯状部は、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域を前後方向から挟むように配置されていてもよい。
【００２３】
上記構成によれば、前後方向から挟むように第２帯状部が配置されているため、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の足に対しての前後方向への移動を、効果的に抑制することができる。
【００２４】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記低伸縮部は、前記足の足底側に開口した略コの字型の形状であってもよい。
【００２５】
上記構成によれば、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域を前後方向から挟むように第２帯状部を設置することができる。これにより母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の下方向へのずれを効果的に抑制することができる。また、同時にこれらの第２帯状部の上端部を第１帯状部によって接続もしくは近傍に配置することにより、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の足に対しての下方向へのずれを抑制することができる。そのため、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の上方向を除く全ての方向へのずれを効果的に抑制することができる。
【００２６】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記第２帯状部の下方向の下端が、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の上下方向の中心位置よりも下方向に位置していてもよい。
【００２７】
上記構成によれば、母趾関節側方領域または子趾関節側方領域の下方向へのずれを十分に抑制することができる。
【００２８】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記第１帯状部の前記母趾関節側方領域側の辺の長さ、または前記子趾関節側方領域側の辺の長さは、前記母趾関節側方領域または前記子趾関節側方領域の幅よりも短く、前記第２帯状部の長さは前記第１帯状部よりも長く、かつ前記第２帯状部の下方にいくにつれて前記第２帯状部の距離が互いに離れるようにハの字型に配置されていてもよい。
【００２９】
上記構成によれば、歩行・運動による母趾中足趾関節および子趾中足趾関節を軸とした屈曲に応じて低伸縮部のハの字が広がり、関節の可動を妨げることなく生地が伸長する。そのため、着用感を妨げることなく、レッグウェアと低伸縮母趾関節側方領域または子趾関節側方領域とのずれ、レッグウェアの脱げを好適に抑制することができる。
【００３０】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記第１帯状部と前記第２帯状部とは、一連に形成されていてもよい。
【００３１】
上記構成によれば、帯状部が一連に形成されることにより、帯状部相互間の部分的な位置ずれが生じにくくすることができる。
【００３２】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記本体部は、編地で構成されており、前記爪先を覆う爪先部、前記足の足底を覆う足底部、前記足の両側辺を覆う側辺部、および前記足の踵を覆う踵部を含んでいてもよい。
【００３３】
上記構成によれば、足にレッグウェアがフィットするため、効果的に爪先部のずれ、脱げを抑制する靴下を実現することができる。
【００３４】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記足の足甲および足首を露出させるフットカバーであってもよい。
【００３５】
本願発明は、フットカバーに好適に適用され、爪先部のずれ、脱げを抑制することができる。
【００３６】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記フットカバーは、前記足の足指の分岐部位の一部を露出させる浅履き形状であってもよい。
【００３７】
本願発明は、浅履き形状のフットカバーに特に好適に適用され、爪先部のずれ、脱げを抑制することができる。
【００３８】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記爪先部は、足指の外郭にそって親指側から小指側へなだらかに傾斜する形状であってもよい。
【００３９】
上記の構成によれば、爪先部のフィット感が向上するため、より好適に爪先部のずれ、脱げを抑制することができる。
【００４０】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記踵部の内面に滑り止めが設けられていてもよい。
【００４１】
上記構成によれば、滑り止めを踵部の内面に設けることによって、レッグウェアの踵部のずれや脱げを抑制することができる。
【００４２】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記低伸縮部は、前記本体部の内面に塗布された樹脂であってもよい。
【００４３】
上記構成によれば、樹脂からなる低伸縮部が肌に密着し、より好適に爪先部のずれ、脱げを抑制することができる。
【００４４】
また、本発明に係るレッグウェアでは、前記本体部は、前記爪先を覆う爪先部に複数の指収納部が形成されていてもよい。
【００４５】
上記構成によれば、例えば、二股の指収納部、または５本指の指収納部を有するレッグウェアにおいて、指収納部に指が収まり本体生地の動きが抑制されるため、効果的に爪先部のずれ、脱げを抑制することができる。
【発明の効果】
【００４６】
本発明の一態様によれば、締め付けや肌へのダメージ等のストレスなく、効果的に爪先部のずれまたは脱げを抑制するレッグウェアを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】（ａ）は本発明の実施形態に係る右足用のフットカバーの外観構成を示す斜視図である。（ｂ）はレッグウェアにおける上下方向および前後方向を説明する図である。
【図２】母趾中足趾関節および子趾中足趾関節を説明する図面である。（ａ）は右足背側の骨の平面図である。（ｂ）は右足の骨の左側面図である。（ｃ）は右足の骨の右側面図である。
【図３】歩行時の足底に係る荷重の移動を示す図面である。
【図４】足底の横アーチについて説明する図である。（ａ）は足底の横アーチを示す右足の斜視図である。（ｂ）は横アーチを説明する右足裏側からの骨の平面図である。（ｃ）は横アーチを説明する右足の骨の断面図である。
【図５】皮膚の厚さを説明する図である。（ａ）は母趾中足趾関節および子趾中足趾関節の皮膚の厚さを示す図である。（ｂ）は足の指の上側の皮膚の厚さを示す図である。
【図６】（ａ）から（ｏ）は、本実施形態に係る低伸縮部の変形例を示す図である。
【図７】歩行・運動による母趾中足趾関節および子趾中足趾関節を軸とした右足の屈曲を説明する図である。（ａ）は足が屈曲する前を示す図であり、（ｂ）は足が屈曲している状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００４８】
以下、本発明の実施の一形態について、図１から図６に基づいて説明すれば以下のとおりである。
【００４９】
〔レッグウェアの構成〕
図１の（ａ）は、本実施形態に係る右足用のレッグウェア１の外観構成を示す斜視図である。図１の（ｂ）は、レッグウェア１における上下方向および前後方向を説明する図である。図１の（ａ）に示すように、レッグウェア１は、足Ｆに着用される本体部２、および本体部２のずれや脱げを防止する低伸縮部１０を備えている。なお、以下の説明において足の厚み方向を上下方向（図１の（ｂ）のｙ方向）、足の長手方向を前後方向（図１の（ｂ）のｘ方向）とする。
【００５０】
（本体部２）
本体部２は、足Ｆの足底を覆う足底部２１、足Ｆの爪先を覆う爪先部２２、足Ｆの両側辺を覆う側辺部２３、および足Ｆの踵を覆う踵部２４で形成されている。また、本体部２には、足底部２１に対して上下反対側に足を出し入れするための履き口部２ａが設けられている。また、踵部２４の内面には滑り止めが設けられていることが望ましい。
【００５１】
履き口部２ａは、足甲および足首が露出するように大きく開口されており、これにより、靴を履いたときに本体部２全体が靴の中に隠れるように構成されている。レッグウェア１は、足Ｆの足指の分岐部位の一部を露出させる浅履き形状である。
【００５２】
本体部２は、少なくとも足Ｆの爪先から母趾中足趾関節Ｑ１および子趾中足趾関節Ｑ２までを覆う。本体部２は、伸縮性の高い生地からなり、母趾中足趾関節Ｑ１の側方（外側面）を覆う母趾関節側方領域Ｐ１および子趾中足趾関節Ｑ２の側方（外側面）を覆う子趾関節側方領域Ｐ２を含む。
【００５３】
図２は、母趾中足趾関節Ｑ１および子趾中足趾関節Ｑ２を説明する図面である。図２の（ａ）は、右足背側の骨の平面図である。図２の（ｂ）は、右足の骨の左側面図である。図２の（ｃ）は、右足の骨の右側面図である。中足趾関節とは、図２の（ａ）に示す、指節骨Ｎ１と中足骨Ｎ２とをつなぐ関節である。母趾中足趾関節Ｑ１は、図２の（ａ）から図２の（ｃ）に示すように、中足趾関節において親指に対応する関節である。子趾中足趾関節Ｑ２は、中足趾関節において小指に対応する関節である。
【００５４】
母趾関節側方領域Ｐ１は、本体部２のうち、レッグウェア１を装着した状態で母趾中足趾関節Ｑ１の側方を覆う領域である。母趾関節側方領域Ｐ１は、レッグウェア１を装着した状態で、少なくとも母趾中足趾関節Ｑ１の最も外側に突出している領域Ｑ１１を覆う領域であればよい。
【００５５】
子趾関節側方領域Ｐ２は、本体部２のうち、レッグウェア１を装着した状態で子趾中足趾関節Ｑ２の側方を覆う領域である。子趾関節側方領域Ｐ２は、レッグウェア１を装着した状態で、少なくとも子趾中足趾関節Ｑ２の最も外側に突出している領域Ｑ１２を覆う領域であればよい。
【００５６】
（本体部の生地）
本発明のレッグウェア１は、幅方向に伸縮性のある生地を用いることができる。これにより、歩行により重心が移動し中足趾関節の外面部が生地を押し広げる際に、中足趾関節の外面部と生地とが密着し、ずれ抑制効果を高めることができる。中足趾関節の外面部が生地を押し広げる動作について、詳しくは後述する。伸縮性の強さ（収縮力）はレッグウェア１の用途によるが、例えば日常用であれば、肌面と生地とが常にフィットする程度の収縮力があればよく、締め付け感が生じるよう収縮力までは必要ない。
【００５７】
生地は上述のように目的にあった伸縮性があればどのようなものでもよいが、編成組織や編成糸により適宜収縮力を調整可能であることから編地を用いることが望ましい。また、レッグウェア１に用いる生地は、切断面に縫製等の処理を施さなくとも端面がほつれない生地（フリーカットあるいは切りっぱなしと呼ばれる）を用いることができる。これにより、履き口周縁に位置する生地端部に凹凸がなくなり、履き口周縁がフラットとなるため足甲部の肌への刺激を軽減することができる。
【００５８】
レッグウェア１にクッション性を持たせるために、足底部２１にパイル編地を用いることも可能である。素材はナイロンを用いることができ、綿などの天然繊維、あるいは合成繊維との混紡糸を用いてもよく、足底部２１と側辺部２３とで素材を使い分けてもよい。
【００５９】
なお、本実施形態では、本体部２は編地を用いることが望ましいとしているが、織り機により織成した生地を縫着する等の方法によって本体部２を形成することも可能である。また、本体部２は、爪先部を足指の外郭にそって親指側から小指側へなだらかに傾斜する形状としてもよいし、爪先を覆う爪先部２２に複数の指収納部が形成されていてもよい。
【００６０】
（低伸縮部）
低伸縮部１０は、母趾関節側方領域Ｐ１および子趾関節側方領域Ｐ２の少なくとも一方の領域の周囲に配置され、これらの領域が足Ｆに対して下方向および前後方向へずれる（動く）ことを抑制する。低伸縮部１０は、下記の（１）または（２）どちらかの特性を備える。低伸縮部１０は、下記の（１）および（２）の両方の特性を備えるものであってもよい。（１）本体部２よりも伸縮性が低い、または（２）本体部２よりも足Ｆに対する摩擦が大きい。ここでいう摩擦とは静止摩擦係数を指し、例えば最大静止摩擦力（Ｎ１）／垂直抗力（Ｎ２）で算出することができる。本実施形態では、低伸縮部１０は、母趾関節側方領域Ｐ１および子趾関節側方領域Ｐ２の両方の周囲にそれぞれ設けられている。なお、以下において、母趾関節側方領域Ｐ１の周囲に配置された低伸縮部１０について説明するが、子趾関節側方領域Ｐ２の周囲に配置される低伸縮部１０も同様である。
【００６１】
本実施形態では、図１の（ａ）に示すように、低伸縮部１０は、帯状である。ここでいう帯状とは、主に幅と長さをもった切れ目のない面形状を指すが、例えば、後述する図６の（ａ）から図６の（ｏ）の低伸縮部１０に示すような、線や点、任意の部分形状等が略帯状に集合した形状など、全体として実質的に帯状と同等の機能を奏する形状も含む。また、一定の幅を有する必要はなく、部分的に細幅もしくは太幅であっても構わないし、直線、曲線などの形状も問わない。低伸縮部１０は、母趾関節側方領域Ｐ１の前後方向の伸縮を抑制する第１帯状部１１ｃと、母趾関節側方領域Ｐ１の上下方向の伸縮を抑制する第２帯状部１１ａ・１１ｂと、を有する。
【００６２】
第１帯状部１１ｃは母趾関節側方領域Ｐ１の上方向に前後方向に延伸するように配置されている。
【００６３】
第２帯状部１１ａおよび第２帯状部１１ｂは、母趾関節側方領域Ｐ１を前後方向から挟むように配置されている。第２帯状部１１ａおよび第２帯状部１１ｂの上端部は、第１帯状部１１ｃによって接続されている。言い換えると、低伸縮部１０は、足Ｆの足底側に開口した略コの字型の形状である。このとき、第２帯状部１１ａ・１１ｂの下方向の下端が、母趾関節側方領域Ｐ１上下方向の中心位置よりも下方向に位置することが望ましい。第１帯状部１１ｃと第２帯状部１１ａ・１１ｂとは、一連に形成されていてもよい。また、足に接する低伸縮部１０の内面は、足Ｆに接する本体部２の内面よりも、足Ｆに対する摩擦が大きいことが望ましい。
【００６４】
さらに、第１帯状部１１ｃの長さは、母趾関節側方領域Ｐ１または子趾関節側方領域Ｐ２の幅よりも短い。これにより、第２帯状部１１ａ・１１ｂと母趾関節側方領域Ｐ１または子趾関節側方領域Ｐ２とが接する。また、第２帯状部１１ａ・１１ｂの長さは第１帯状部１１ｃよりも長く、かつ第２帯状部１１ａ・１１ｂの下方にいくにつれて、第２帯状部１１ａと第２帯状部１１ｂとの距離が互いに離れるように、第２帯状部１１ａ・１１ｂがハの字型に配置されている。これにより、図７の（ａ）および図７の（ｂ）に示すような、歩行・運動による母趾中足趾関節Ｑ１および子趾中足趾関節Ｑ２を軸とした足Ｆの屈曲に応じて、第２帯状部１１ａ・１１ｂのハの字が自然に扇状に広がる。そのため、中足趾関節の可動を妨げることなく、レッグウェア１の生地が自然に伸縮するので、着用感を妨げることなく母趾関節側方領域Ｐ１または子趾関節側方領域Ｐ２のずれ、レッグウェア１の脱げを好適に抑制することができる。図７は、歩行・運動による母趾中足趾関節Ｑ１および子趾中足趾関節Ｑ２を軸とした右足Ｆの屈曲を説明する図である。図７の（ａ）は足Ｆが屈曲する前を示す図であり、図７の（ｂ）は足Ｆが屈曲している状態を示す図である。
【００６５】
低伸縮部１０の形成については、例えば、以下の（１）〜（４）の方法がある。（１）本体部２の生地よりも伸縮性の低い布製のテープを接着することで低伸縮部１０を形成する。（２）低伸縮部１０の編目（度目）を本体部２の生地よりも小さくすることで低伸縮部１０を形成する。（３）タック編み等の伸縮を抑制する編成で低伸縮部１０を形成する。（４）本体部２の内面に樹脂を塗布するか、もしくはシート状の樹脂を貼り付けることで低伸縮部１０を形成する。
【００６６】
本実施形態では、本体部２の内面にシート状の樹脂を貼り付けることで低伸縮部１０を形成している。これにより、肌に対する摩擦力を抑え、レッグウェア１のずれを効果的に抑制することができる。
【００６７】
（低伸縮部の効果）
図３は、歩行時の足底に係る荷重の移動を示す図面である。図３に示すように、人は歩行の際、踵Ｒ１の接地とともに踵Ｒ１に重心がかかり、徐々に爪先Ｒ４側へと重心を移動させる。足Ｆの裏において、指の根元の膨らんだ部分である指球部付近においては、外側（小指側指球部Ｒ２）から内側（親指側指球部Ｒ３）へと重心が移動する。最後に、中足趾関節の可動により、接地面を蹴り出すように親指側指球部Ｒ３から爪先Ｒ４にかけて重心が移動する。
【００６８】
従来のレッグウェアを装着していた場合、外側（小指側指球部Ｒ２）に重心がかかった際に、小指付近の生地が回転したりずれたりする。また、内側（親指側指球部Ｒ３）への重心の移動とともにさらにずれが進み、特に従来のレッグウェアが甲部の浅いフットカバー等であった場合は、生地が小指から外れ最後に親指からも外れる。結果、従来のレッグウェアは爪先部から脱げてしまう。
【００６９】
ここで、図４の（ａ）から図４の（ｃ）に示すように、中足趾関節は、横アーチＳ１を有している。図４は、足底の横アーチＳ１について説明する図である。図４の（ａ）は、足底の横アーチＳ１を示す右足の斜視図である。図４の（ｂ）は、横アーチＳ１を説明する右足裏側からの骨の平面図である。図４の（ｃ）は、横アーチＳ１を説明する図４の（ｂ）のＦ１−Ｆ２断面図である。点Ｆ１および点Ｆ２は中足趾関節上の両端に位置する点である。中足趾関節は足Ｆの幅方向にやや突出した形状をしており、歩行時において図３に示す踵Ｒ１から爪先Ｒ４へと重心が移動する際、横アーチＳ１が足Ｆの幅方向に広がるとともに、中足趾関節が足Ｆの幅方向の外側にさらに突き出る。言い換えると、横アーチＳ１により曲面を成す骨格が平面状に伸びる。
【００７０】
低伸縮部１０はストッパーの役割を果たすため、レッグウェア１において、母趾関節側方領域Ｐ１および子趾関節側方領域Ｐ２は、足Ｆに対して下方向および前後方向へ移動することが抑制される。そのため、ユーザが歩行して、中足趾関節の外面部（母趾中足趾関節Ｑ１および子趾中足趾関節Ｑ２）がレッグウェア１の生地を押し広げる場合であっても、母趾中足趾関節Ｑ１の側方と母趾関節側方領域Ｐ１がずれない。また、子趾中足趾関節Ｑ２の側方と子趾関節側方領域Ｐ２とがずれない。
【００７１】
このように、歩行時において中足趾関節の外面部がレッグウェア１の生地を押し広げる状態において、レッグウェア１が足Ｆからずれないため、靴の内側面にレッグウェア１の生地を押し付けるように力が働き、中足趾関節の外面部がレッグウェア１と密着する。さらに、低伸縮部１０は下方が開口しているので蹴り出し時における中足趾関節の可動を妨げない。その結果、レッグウェア１が足Ｆから脱げることを防ぐことができる。
【００７２】
なお、本実施形態では、レッグウェア１において、母趾中足趾関節Ｑ１の側方および子趾中足趾関節Ｑ２の側方に対応する両位置に低伸縮部１０を設けたが、歩行メカニズムにおいて小指側から脱げることが多いことから、子趾中足趾関節Ｑ２側のみに低伸縮部１０を設けてもよい。
【００７３】
さらに、低伸縮部１０を踵部２４に配置してもよい。これにより、踵部２４の脱げを防止することができる。踵部２４が脱げると足Ｆへのフィット感が極端になくなる。また、爪先の脱げにも直結するため、踵部２４へ低伸縮部１０を設けることは爪先の脱げ防止に繋がる。
【００７４】
（皮膚のダメージについて）
レッグウェア１の低伸縮部１０に樹脂を用いても、足甲部の履き口周縁に樹脂の滑り止めを設けている従来のレッグウェアに比べ、レッグウェア１は皮膚炎症等が軽減可能であることを皮膚の厚さの観点から補足する。
【００７５】
皮膚の角質層は圧迫や摩擦のような刺激を受けることで徐々に硬く厚くなる。母趾中足趾関節Ｑ１と子趾中足趾関節Ｑ２付近の皮膚は歩くたびに靴に当たることが多く刺激を受けやすい。反対に足Ｆの指の上側の皮膚は中足趾関節付近の皮膚に比べると刺激が少ない。そのため、個人差はあるものの、図５の（ａ）および図５の（ｂ）に示すように、一般的に母趾中足趾関節Ｑ１および子趾中足趾関節Ｑ２付近の皮膚の厚さは足Ｆの指の上側の皮膚よりも厚い。
【００７６】
図５は、皮膚の厚さを説明する図である。図５の（ａ）は、母趾中足趾関節Ｑ１および子趾中足趾関節Ｑ２の皮膚の厚さを示す図である。図５の（ｂ）は、足Ｆの指の上側の皮膚の厚さを示す図である。図５の（ａ）において、厚さＴ１は、母趾中足趾関節Ｑ１および子趾中足趾関節Ｑ２の皮膚全体の厚さを示す。厚さＴ１１は、母趾中足趾関節Ｑ１および子趾中足趾関節Ｑ２の皮膚において、炎症を起こす皮膚の厚さを示す。厚さＴ１２は、母趾中足趾関節Ｑ１および子趾中足趾関節Ｑ２の皮膚において、炎症を起こさない皮膚の厚さを示す。図５の（ｂ）において、厚さＴ２は足Ｆの指の上側の皮膚全体の厚さを示す。厚さＴ２１は、足Ｆの指の上側の皮膚において炎症を起こす皮膚の厚さを示す。厚さＴ２２は、足Ｆの指の上側の皮膚において炎症を起こさない皮膚の厚さを示す。
【００７７】
図５の（ａ）および図５の（ｂ）に示すように、レッグウェア１では、皮膚全体の厚さに対して、炎症等を受ける皮膚表面の厚さの割合が従来のレッグウェアと比較すると相対的に低くなるため炎症等が軽減する。
【００７８】
上述したように、中足趾関節の外面は歩行時に靴に押し付けられる力が働く。しかしながら、レッグウェア１の低伸縮部１０は、皮膚が比較的丈夫にできており、かつ足甲部に比べ炎症等の皮膚障害が生じるリスクが低い中足趾関節に設けられているため、樹脂を塗布して低伸縮部１０を形成しても肌へのダメージが少なくなる。樹脂としては、シリコンのほか、ウレタンゴムや、肌に優しいとされるＥＶＡ（エチレンビニルアセテート）を用いることができる。
【００７９】
〔変形例１〕
低伸縮部１０の変形例について、図６の（ａ）から図６の（ｏ）に基づき説明する。図６の（ａ）から図６の（ｏ）は、本実施形態に係る低伸縮部１０の変形例を示す図である。なお、本変形例では、母趾関節側方領域Ｐ１の周囲に配置される低伸縮部１０について説明するが、子趾中足趾関節Ｑ２の周囲に配置される低伸縮部１０についても同様である。なお、図６における母趾関節側方領域Ｐ１において、色の濃いところは母趾中足趾関節Ｑ１の最も外側に突出している領域Ｑ１１に対応する領域を示す。
【００８０】
上述の実施形態では、低伸縮部１０を足Ｆの足底側に開口した略コの字型に配置したが、低伸縮部１０を、Ｕ字・Ｙ字・Ｖ字・Ｏ字型に配置してもよい。また、低伸縮部１０を、下方向および前後方向の生地の動きを抑制可能な位置に点状に設けてもよい。具体的な例を以下に示す。
【００８１】
例えば、図６の（ａ）に示す低伸縮部１０では、図１の（ａ）に示す低伸縮部１０において、第１帯状部１１ｃと第２帯状部１１ａ・１１ｂとが、一連に形成されている。また、第１帯状部１１ｃの母趾関節側方領域Ｐ１側の辺の長さは、母趾関節側方領域Ｐ１の幅よりも短く、第２帯状部１１ａ・１１ｂの下端部は、母趾関節側方領域Ｐ１の中心より下方に位置する。さらに、第２帯状部１１ａ・１１ｂの下方にいくにつれて、第２帯状部１１ａと第２帯状部１１ｂとの距離が互いに離れるように、第２帯状部１１ａ・１１ｂがハの字型に配置されている。
【００８２】
図６の（ｂ）に示す低伸縮部１０では、図１の（ａ）に示す低伸縮部１０において、第１帯状部１１ｃ、第２帯状部１１ａおよび第２帯状部１１ｂが、それぞれ離れて配置されている。また、第１帯状部１１ｃが母趾関節側方領域Ｐ１の幅よりも短く、第２帯状部１１ａ・１１ｂの下端部は、母趾関節側方領域Ｐ１の中心より下方に位置する。さらに、第２帯状部１１ａ・１１ｂの下方にいくにつれて、第２帯状部１１ａと第２帯状部１１ｂとの距離が互いに離れるように、第２帯状部１１ａ・１１ｂがハの字型に配置されている。
【００８３】
図６の（ｃ）に示す低伸縮部１０では、図１の（ｂ）に示す低伸縮部１０において、母趾関節側方領域Ｐ１の前方に位置する第２帯状部１１ａの下端部は、母趾関節側方領域Ｐ１の中心より下方に位置する。また、母趾関節側方領域Ｐ１の後方に位置する第２帯状部１１ｂの下端部は、母趾関節側方領域Ｐ１の中心より上方に位置する。
【００８４】
図６の（ｄ）に示す低伸縮部１０では、図６の（ｃ）に示す低伸縮部１０において、第２帯状部１１ａ・１１ｂがハの字型に配置されておらず、母趾関節側方領域Ｐ１の前方に位置する第２帯状部１１ａの下端部も、母趾関節側方領域Ｐ１の中心より上方に位置する。また、第２帯状部１１ａと第２帯状部１１ｂとは略平行に配置されている。
【００８５】
図６の（ｅ）に示す低伸縮部１０では、図６の（ｄ）に示す低伸縮部１０において、第２帯状部１１ａ・１１ｂの下端部は、母趾関節側方領域Ｐ１の中心より下方に位置している。また、第１帯状部１１ｃおよび第２帯状部１１ａ・１１ｂは、前後方向ｘに略平行な、太さが異なる第３帯状部１１ｄが不連続に配置されることにより構成されている。言い換えると、図６の（ｅ）における第１帯状部１１ｃおよび第２帯状部１１ａ・１１ｂは、第３帯状部１１ｄが集合した形状である。
【００８６】
図６の（ｆ）に示す低伸縮部１０では、図６の（ｅ）に示す低伸縮部１０における第１帯状部１１ｃおよび第２帯状部１１ａ・１１ｂは、第３帯状部１１ｄではなく点１１ｅが略帯状に集合することにより形成されている。
【００８７】
図６の（ｇ）に示す低伸縮部１０では、図６の（ｅ）に示す低伸縮部１０における第１帯状部１１ｃおよび第２帯状部１１ａ・１１ｂが、第３帯状部１１ｄではなく線状部１１ｆが略帯状に集合することにより形成されている。具体的には、第１帯状部１１ｃは、第１帯状部１１ｃより細い複数の線状部１１ｆが前後方向ｘに略平行に配置されることにより形成されている。第２帯状部１１ａ・１１ｂは、第２帯状部１１ａ・１１より細い複数の線状部１１ｆが上下方向ｙに略平行に配置されることにより形成されている。また、第１帯状部１１ｃは、母趾関節側方領域Ｐ１の幅よりも長い。
【００８８】
図６の（ｈ）に示す低伸縮部１０では、第１帯状部１１ｃと第２帯状部１１ａ・１１ｂとが、一連に形成されている。第２帯状部１１ａ・１１ｂの下端部は母趾関節側方領域Ｐ１の中心より下方に位置し、低伸縮部１０は、足底側に開口した略コの字型の形状となる。また、第１帯状部１１ｃは母趾関節側方領域Ｐ１の幅よりも長い。
【００８９】
図６の（ｉ）に示す低伸縮部１０では、図６の（ｇ）に示す低伸縮部１０における第１帯状部１１ｃおよび第２帯状部１１ａ・１１ｂが、細幅の波線状で形成されている。
【００９０】
図６の（ｊ）では、低伸縮部１０は、略前後方向ｘおよび略上下方向ｙとは異なる斜め方向へ延伸する２つの斜め型帯状部１２ａ・１２ｂを含み、斜め型帯状部１２ａ・１２ｂは母趾関節側方領域Ｐ１を挟むように配置されている。斜め型帯状部１２ａ・１２ｂは斜め型帯状部１２ａ・１２ｂの下方にいくにつれて、斜め型帯状部１２ａと斜め型帯状部１２ｂとの距離が互いに離れるように、ハの字型に配置されている。
【００９１】
図６の（ｋ）では、低伸縮部１０は、所定の大きさの円状部１３ａ・１３ｂ・１３ｃを含み、円状部１３ａ・１３ｂは母趾関節側方領域Ｐ１を前後方向から挟むように配置され、円状部１３ｃは母趾関節側方領域Ｐ１の上部に配置されている。
【００９２】
図６の（ｌ）では、低伸縮部１０は、所定の大きさの円状部１３ｄ・１３ｅを含み、円状部１３ｄは母趾関節側方領域Ｐ１の前方向かつ上方向に配置され、円状部１３ｅは母趾関節側方領域Ｐ１の後方向かつ上方向に配置されていている。
【００９３】
図６の（ｍ）では、低伸縮部１０は、母趾関節側方領域Ｐ１の下端部より上側において、母趾関節側方領域Ｐ１を中心として、母趾関節側方領域Ｐ１から上方向に向けて放射線状に延伸する複数の線状部１４ａが配置されている。
【００９４】
図６の（ｎ）では、低伸縮部１０は、母趾関節側方領域Ｐ１を囲むような略環状である環状部１５ａにより形成されている。
【００９５】
図６の（ｏ）では、低伸縮部１０は、曲線状の曲線型帯状部１６ａが母趾関節側方領域Ｐ１の下端部から上側を囲むように配置されていている。曲線型帯状部１６ａは曲線型帯状部１６ａの中心にいくにつれて太幅となる。
【００９６】
低伸縮部１０の形状についてまとめる。低伸縮部１０の形状は、下記の（１）および（２）の生地の動きの抑制するような構成であればどのような位置・大きさ・形状であってもよい。（１）母趾中足趾関節Ｑ１に対する、母趾関節側方領域Ｐ１の下方向および前後方向への生地の動き。（２）子趾中足趾関節Ｑ２に対する子趾関節側方領域Ｐ２の下方向および前後方向への生地の動き。なお、未着用状態で、母趾中足趾関節Ｑ１に対する、母趾関節側方領域Ｐ１の位置、または子趾中足趾関節Ｑ２に対する子趾関節側方領域Ｐ２の位置が特定できないとしても、着用状態において、かかる位置関係が特定できればよい。上記の（１）および（２）の生地の動きの抑制するような構成として、以下の条件（Ａ）および（Ｂ）が挙げられる。なお、上述した変形例は、以下の条件を満たしている。
【００９７】
条件（Ａ）は、母趾関節側方領域Ｐ１の前後方向の前方・後方両方に低伸縮部１０が位置してなくてならないことである。母趾関節側方領域Ｐ１の前後方向のどちらか一方のみに低伸縮部１０が位置するだけでは、母趾中足趾関節Ｑ１と母趾関節側方領域Ｐ１との位置がずれてしまう。なお、この点についても上述した通り、未着用状態で母趾関節側方領域Ｐ１の前後・後方における低伸縮部１０の位置が特定できないとしても、着用状態で、母趾関節側方領域Ｐ１と低伸縮部１０との位置関係が特定できればよい。ここで、未着用状態で母趾関節側方領域Ｐ１の前後・後方における低伸縮部１０の位置が特定できない状態とは、例えば、レッグウェア１の生地が縮小した状態であるがゆえに明らかに母趾中足趾関節Ｑ１上に低伸縮部１０が重なってしまう状態である。また、着用状態で、母趾関節側方領域Ｐ１と低伸縮部１０との位置関係が特定できる状態とは、着用によりレッグウェア１の生地が伸長した結果、母趾関節側方領域Ｐ１の前方・後方に低伸縮部１０が位置するようになる状態である。
【００９８】
条件（Ｂ）は、低伸縮部１０が一連に繋がっている、または、低伸縮部１０が一連に繋がっておらず複数に分かれている場合は、低伸縮部１０の構成同士の距離が、母趾関節側方領域Ｐ１より短いことである。図６の（ｊ）に基づき説明すると、斜め型帯状部１２ａの上端部と、斜め型帯状部１２ｂの上端部との距離Ｗ１は、母趾関節側方領域Ｐ１の幅Ｗ２よりも短い必要がある。また、中足趾関節と低伸縮部１０とは近接していることが望ましいが、中足趾関節と低伸縮部１０との距離を置いた分、中足趾関節と低伸縮部１０とのずれが生じうる。そのため、中足趾関節と低伸縮部１０との距離は、母趾中足趾関節Ｑ１に対し母趾関節側方領域Ｐ１が、もしくは、子趾中足趾関節Ｑ２に対し子趾関節側方領域Ｐ２がずれたとしても、最低限、脱げに影響しない（足指が完全に露出しない）距離に留まっていればよい。
【００９９】
また、低伸縮部１０は母趾関節側方領域Ｐ１の下端部よりも下方向に位置していても位置してなくても、どちらでもよい。低伸縮部１０は、少なくとも母趾関節側方領域Ｐ１が母趾中足趾関節Ｑ１に対して下方向にずれることを、低伸縮部１０が母趾中足趾関節Ｑ１にひっかかることによって抑制する構成を備えていればよい。図６の（ａ）に示すように、低伸縮部１０（斜め型帯状部１２ａおよび斜め型帯状部１２ｂ）の下端部が母趾関節側方領域Ｐ１の上端の位置Ｈ１を下方向に超えていればよい。
【０１００】
また、母趾関節側方領域Ｐ１の前後方向は、少しでも低伸縮部１０が位置していればよい。低伸縮部１０の前後方向への幅、および低伸縮部の厚さについては特に規定はない。
【０１０１】
本発明のレッグウェア１は、浅履きのレッグウェア１を例として説明したが、上記に限らない。レッグウェア１は、中足趾関節が覆われているものであればよい。レッグウェア１は、浅履き深履きを問わず、フットカバーはもちろん、クルー丈、ハイソックス等の靴下にも適用できる。また、レッグウェア１は、タイツ等の下腿部を覆うレッグウェア、爪先のみの爪先カバー、および踵部を帯状にひっかけるようなフットカバーにも適用できる。
【０１０２】
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【符号の説明】
【０１０３】
１  レッグウェア
２  本体部
１０  低伸縮部
２１  足底部
２２  爪先部
２３  側辺部
２４  踵部
１１ａ・１１ｂ  第２帯状部
１１ｃ  第１帯状部
Ｆ  足
Ｑ１  母趾中足趾関節
Ｑ２  子趾中足趾関節
Ｐ１  母趾関節側方領域
Ｐ２  子趾関節側方領域
ｘ  前後方向
ｙ  上下方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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