(57)【要約】【課題】複数のチャンバそれぞれのための複数のチャンバ圧力センサの機差を低減することが可能な方法を提供する。【解決手段】例示的実施形態に係る基板処理システムでは、複数のガス供給部の各々が、その第１のガス流路を介して複数のチャンバのうち対応のチャンバ内にガスを供給するように構成されている。複数のチャンバ圧力センサの各々が、対応のチャンバ内の圧力を測定するように構成されている。第２のガス流路が、複数のガス供給部の各々の第１のガス流路に接続されている。基準圧力センサが、第２のガス流路内の圧力を測定するように構成されている。例示的実施形態に係る方法では、複数のチャンバ圧力センサの各々は、対応のチャンバ、対応のガス供給部の第１のガス流路、及び第２のガス流路内の圧力が維持された状態におけるその圧力測定値及び基準圧力センサの圧力測定値を用いて、校正される。【選択図】図１
2020148473.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理システムの複数のチャンバ圧力センサを校正する方法であって、
前記基板処理システムは、
複数のチャンバと、
前記複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ測定するよう設けられた前記複数のチャンバ圧力センサと、
各々が複数のチャンバのうち対応のチャンバの内部空間にガスを供給するように構成された複数のガス供給部であり、
流量制御器と、
前記流量制御器の一次側に接続された一次バルブと、
前記流量制御器の二次側に接続された二次バルブと、
第１の端部、第２の端部、及び、第３の端部を含み、該第１の端部が前記二次バルブに接続されており、該第３の端部が前記対応のチャンバの内部空間に接続可能に構成された第１のガス流路と、
を有する、該複数のガス供給部と、
前記複数のチャンバの内部空間に複数の排気流路を介してそれぞれ接続された複数の排気装置と、
前記複数のガス供給部の各々の前記第２の端部に接続された第２のガス流路と、
前記第２のガス流路内の圧力を測定するよう設けられた基準圧力センサと、
を備え、
該方法は、
前記複数のガス供給部のうち選択されたガス供給部の前記第１のガス流路、前記第２のガス流路、及び前記複数のチャンバのうち前記選択されたガス供給部に対応する選択されたチャンバの内部空間を含む選択された空間の中で圧力が維持された状態を形成する工程であり、該状態が前記選択されたガス供給部又は別のガス供給部から設定圧力で供給されるガスを用いて形成される、該工程と、
前記複数のチャンバ圧力センサのうち前記選択されたチャンバ用の選択されたチャンバ圧力センサを用いて、前記状態における前記選択されたチャンバ内の圧力の測定値である複数の第１の圧力測定値を取得する工程と、
前記基準圧力センサを用いて、前記状態における前記第２のガス流路内の圧力の測定値である複数の第２の圧力測定値を取得する工程と、
前記複数の第１の圧力測定値の平均値に等しい前記選択されたチャンバ圧力センサの圧力測定値と前記複数の第２の圧力測定値の平均値との差を解消するように、前記選択されたチャンバ圧力センサを校正する工程と、
を含み、
前記設定圧力として複数の異なる設定圧力をそれぞれ用いて、状態を形成する前記工程、複数の第１の圧力測定値を取得する前記工程、複数の第２の圧力測定値を取得する前記工程、及び校正する前記工程を含むシーケンスの繰り返しが行われ、
前記複数のチャンバ圧力センサが前記選択されたチャンバ圧力センサとして順に選択されて前記シーケンスの前記繰り返しが実行される、
方法。
【請求項２】
前記基板処理システムは、
各々が前記複数のガス供給部のうち対応のガス供給部の前記第３の端部に接続された複数のフロースプリッタと、
各々が前記複数のフロースプリッタのうち対応のフロースプリッタと前記複数のチャンバのうち対応のチャンバとを接続する複数の分配流路を含む複数の分配流路群と、
各々が前記複数の分配流路群のうち対応の分配流路群の前記複数の分配流路に含まれる一つの分配流路にガスを注入するように設けられた複数のガス注入部と、
各々が前記複数の分配流路群のうち対応の分配流路群の前記一つの分配流路と前記複数のフロースプリッタのうち対応のフロースプリッタとの間で接続された複数のバルブと、
前記複数のチャンバと前記複数の排気装置との間にそれぞれ設けられており、前記複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ調整するように構成された複数の圧力制御弁と、
を更に備え、
状態を形成する前記工程において、
前記選択されたチャンバに接続された前記一つの分配流路と前記複数のフロースプリッタのうち該選択されたチャンバ用のフロースプリッタとの間で接続された、前記複数のバルブのうちの選択されたバルブが閉じられ、
前記選択されたチャンバに接続された前記一つの分配流路を更に含む前記選択された空間に、前記別のガス供給部として前記複数のガス注入部のうち前記選択されたチャンバに接続された前記一つの分配流路用のガス注入部からガスが供給され、
前記選択されたチャンバ内の圧力が前記複数の圧力制御弁のうち前記選択されたチャンバ用の圧力制御弁によって前記設定圧力に調整される、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記基板処理システムは、前記複数のチャンバと前記複数の排気装置との間にそれぞれ設けられており、前記複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ調整するように構成された複数の圧力制御弁を更に備え、
状態を形成する前記工程において、前記複数の圧力制御弁のうち前記選択されたチャンバ用の圧力制御弁が閉じられた状態で、前記選択されたガス供給部からの前記ガスが前記選択された空間に供給される、
請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記シーケンス内で、状態を形成する前記工程の前に、前記選択された空間が真空引きされた状態で、前記選択されたチャンバ圧力センサの０点を調整する工程を更に含む、請求項１〜３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記シーケンスにおいて、前記複数の第１の圧力測定値の各々と該複数の第１の圧力測定値の前記平均値とを互いに比較する工程を更に含む、請求項１〜４の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記シーケンスにおいて、前記複数の第２の圧力測定値の各々と該複数の第２の圧力測定値の前記平均値とを互いに比較する工程を更に含む、請求項１〜５の何れか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記複数のチャンバ圧力センサに対して順に行われる前記シーケンスの前記繰り返しの前に、前記基準圧力センサである第１の基準圧力センサの校正を実行する工程を更に含み、
第１の基準圧力センサの校正を実行する前記工程は、
前記第２のガス流路に第２の基準圧力センサを接続する工程と、
前記複数のガス供給部のうち一つのガス供給部の前記第１のガス流路、前記第２のガス流路、及び前記複数のチャンバのうち前記一つのガス供給部に対応する一つのチャンバの内部空間を含む対象空間の中で圧力が維持された別の状態を形成する工程であり、該別の状態が前記一つのガス供給部又は前記別のガス供給部から校正圧力で供給されるガスを用いて形成される、該工程と、
前記第１の基準圧力センサを用いて、前記別の状態における前記第２のガス流路内の圧力の測定値である複数の第３の圧力測定値を取得する工程と、
前記第２の基準圧力センサを用いて、前記別の状態における前記第２のガス流路内の圧力の測定値である複数の第４の圧力測定値を取得する工程と、
前記複数の第３の圧力測定値の平均値に等しい前記第１の基準圧力センサの圧力測定値と前記複数の第４の圧力測定値の平均値との差を解消するように、前記第１の基準圧力センサを校正する工程と、
を含み、
前記校正圧力として複数の異なる校正圧力をそれぞれ用いて、別の状態を形成する前記工程、複数の第３の圧力測定値を取得する前記工程、複数の第４の圧力測定値を取得する前記工程、及び前記第１の基準圧力センサを校正する前記工程を含む別のシーケンスの繰り返しが行われる、
請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記基板処理システムは、
各々が前記複数のガス供給部のうち対応のガス供給部の前記第３の端部に接続された複数のフロースプリッタと、
各々が前記複数のフロースプリッタのうち対応のフロースプリッタと前記複数のチャンバのうち対応のチャンバとを接続する複数の分配流路を含む複数の分配流路群と、
各々が前記複数の分配流路群のうち対応の分配流路群の前記複数の分配流路に含まれる一つの分配流路にガスを注入するように設けられた複数のガス注入部と、
各々が前記複数の分配流路群のうち対応の分配流路群の前記一つの分配流路と前記複数のフロースプリッタのうち対応のフロースプリッタとの間で接続された複数のバルブと、
前記複数のチャンバと前記複数の排気装置との間にそれぞれ設けられており、前記複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ調整するように構成された複数の圧力制御弁と、
を更に備え、
別の状態を形成する前記工程では、
前記複数のバルブのうち一つのバルブが閉じられ、該一つのバルブは、前記一つのチャンバに接続された前記一つの分配流路と前記複数のフロースプリッタのうち該一つのチャンバ用のフロースプリッタとの間で接続されており、
前記一つのチャンバに接続された前記一つの分配流路を更に含む前記対象空間に、前記別のガス供給部として前記複数のガス注入部のうち該一つのチャンバに接続された前記一つの分配流路用のガス注入部からガスが供給され、
前記一つのチャンバ内の圧力が前記複数の圧力制御弁のうち前記一つのチャンバ用の圧力制御弁によって前記校正圧力に調整される、
請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記基板処理システムは、前記複数のチャンバと前記複数の排気装置との間にそれぞれ設けられており、前記複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ調整するように構成された複数の圧力制御弁を更に備え、
別の状態を形成する前記工程では、前記複数の圧力制御弁のうち前記一つのチャンバ用の圧力制御弁が閉じられた状態で、前記一つのガス供給部からの前記ガスが前記対象空間に供給される、
請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記別のシーケンスの前記繰り返しの前に、前記対象空間が真空引きされた状態で、前記第１の基準圧力センサ及び前記第２の基準圧力センサの各々の０点を調整する工程を更に含む、請求項７〜９の何れか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記別のシーケンスにおいて、前記複数の第３の圧力測定値の各々と該複数の第３の圧力測定値の前記平均値とを互いに比較する工程を更に含む、請求項７〜１０の何れか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記別のシーケンスにおいて、前記複数の第４の圧力測定値の各々と該複数の第４の圧力測定値の前記平均値とを互いに比較する工程を更に含む、請求項７〜１１の何れか一項に記載の方法。
【請求項１３】
複数のチャンバと、
前記複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ測定するよう設けられた複数のチャンバ圧力センサと、
各々が複数のチャンバのうち対応のチャンバの内部空間にガスを供給するように構成された複数のガス供給部であり、
流量制御器と、
前記流量制御器の一次側に接続された一次バルブと、
前記流量制御器の二次側に接続された二次バルブと、
第１の端部、第２の端部、及び、第３の端部を含み、該第１の端部が前記二次バルブに接続されており、該第３の端部が前記対応のチャンバの内部空間に接続可能に構成された第１のガス流路と、
を有する、該複数のガス供給部と、
前記複数のチャンバの内部空間に複数の排気流路を介してそれぞれ接続された複数の排気装置と、
前記複数のガス供給部の各々の前記第２の端部に接続された第２のガス流路と、
前記第２のガス流路内の圧力を測定するよう設けられた基準圧力センサと、
複数のチャンバ圧力センサの校正を行うための制御を実行するように構成された制御部と、
を備え、
前記制御部は、
前記複数のガス供給部のうち選択されたガス供給部又は別のガス供給部を制御する第１制御であり、該選択されたガス供給部又は該別のガス供給部から設定圧力で供給されるガスを用いて、該選択されたガス供給部の前記第１のガス流路、前記第２のガス流路、及び前記複数のチャンバのうち前記選択されたガス供給部に対応する選択されたチャンバの内部空間を含む選択された空間の中で圧力が維持された状態を形成する、該第１制御を実行し、
前記状態における前記選択されたチャンバ内の圧力の測定値である複数の第１の圧力測定値を取得するように前記複数のチャンバ圧力センサのうち前記選択されたチャンバ用の選択されたチャンバ圧力センサを制御する第２制御を実行し、
前記状態における前記第２のガス流路内の圧力の測定値である複数の第２の圧力測定値を取得するように前記基準圧力センサを制御する第３制御を実行し、
前記複数の第１の圧力測定値の平均値に等しい前記選択されたチャンバ圧力センサの圧力測定値と前記複数の第２の圧力測定値の平均値との差を解消するように前記選択されたチャンバ圧力センサの校正を実行し、
前記複数のチャンバ圧力センサを前記選択されたチャンバ圧力センサとして順に選択して、前記設定圧力として複数の異なる設定圧力をそれぞれ用いて、前記第１制御、前記第２制御、前記第３制御、及び前記選択されたチャンバ圧力センサの前記校正を含む制御シーケンスの繰り返しを実行する、
ように構成されている、基板処理システム。
【請求項１４】
各々が前記複数のガス供給部のうち対応のガス供給部の前記第３の端部に接続された複数のフロースプリッタと、
各々が前記複数のフロースプリッタのうち対応のフロースプリッタと前記複数のチャンバのうち対応のチャンバとを接続する複数の分配流路を含む複数の分配流路群と、
各々が前記複数の分配流路群のうち対応の分配流路群の前記複数の分配流路に含まれる一つの分配流路にガスを注入するように設けられた複数のガス注入部と、
各々が前記複数の分配流路群のうち対応の分配流路群の前記一つの分配流路と前記複数のフロースプリッタのうち対応のフロースプリッタとの間で接続された複数のバルブと、
前記複数のチャンバと前記複数の排気装置との間にそれぞれ設けられており、前記複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ調整するように構成された複数の圧力制御弁と、
を更に備え、
前記制御部は、前記第１制御おいて、
前記選択されたチャンバに接続された前記一つの分配流路と前記複数のフロースプリッタのうち該選択されたチャンバ用のフロースプリッタとの間で接続された、前記複数のバルブのうちの選択されたバルブを閉じるために該バルブを制御し、
前記選択されたチャンバに接続された前記一つの分配流路を更に含む前記選択された空間にガスを供給するために、前記複数のガス注入部のうち該選択されたチャンバに接続された前記一つの分配流路用のガス注入部を前記別のガス供給部として制御し、
前記選択されたチャンバ内の圧力を前記設定圧力に調整するために、前記複数の圧力制御弁のうち前記選択されたチャンバ用の圧力制御弁を制御する、
よう構成されている、請求項１３に記載の基板処理システム。
【請求項１５】
前記複数のチャンバと前記複数の排気装置との間にそれぞれ設けられており、前記複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ調整するように構成された複数の圧力制御弁を更に備え、
前記制御部は、前記第１制御において、前記複数の圧力制御弁のうち前記選択されたチャンバ用の圧力制御弁を閉じるために、該選択されたチャンバ用の該圧力制御弁を制御し、且つ、前記選択された空間にガスを供給するために、前記選択されたガス供給部を制御するよう構成されている、
請求項１３に記載の基板処理システム。
【請求項１６】
前記制御部は、前記制御シーケンスにおいて前記第１制御の前に、前記選択された空間が真空引きされた状態で、前記選択されたチャンバ圧力センサの０点を調整するように構成されている、請求項１４又は１５に記載の基板処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示の例示的実施形態は、複数のチャンバ圧力センサを校正する方法及び基板処理システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子デバイスの製造では基板処理装置が用いられている。基板処理装置は、チャンバを備える。基板処理の実行時には、基板がチャンバ内に配置された状態で、チャンバ内にガスが供給される。チャンバ内の圧力は、基板処理結果に影響を与える。したがって、チャンバ内の圧力が、圧力センサによって測定される。圧力センサの状態は、経時的に変化し得る。したがって、圧力センサは校正される必要がある。
【０００３】
基板処理装置の圧力センサの校正については、特許文献１に記載されている。特許文献１には、チャンバ内の圧力を測定する二つの圧力センサを用いることが記載されている。二つの圧力センサのうち一方の圧力センサは、基板処理時にチャンバ内の圧力を測定するために用いられる。二つの圧力センサのうち他方の圧力センサは、一方の圧力センサの校正のために用いられる。具体的には、一方の圧力センサは、その測定値が他方の圧力センサの測定値と同じ値になるように、校正される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−２５１４６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
複数のチャンバそれぞれのための複数のチャンバ圧力センサの機差を低減することが求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
一つの例示的実施形態において、基板処理システムの複数のチャンバ圧力センサを校正する方法が提供される。基板処理システムは、複数のチャンバ、複数のチャンバ圧力センサ、複数のガス供給部、及び複数の排気装置を備える。複数のチャンバ圧力センサは、複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ測定するよう設けられている。複数のガス供給部の各々は、複数のチャンバのうち対応のチャンバの内部空間にガスを供給するように構成されている。複数のガス供給部の各々は、流量制御器、一次バルブ、二次バルブ、及び第１のガス流路を有する。一次バルブは、流量制御器の一次側に接続されている。二次バルブは、流量制御器の二次側に接続されている。第１のガス流路は、第１の端部、第２の端部、及び、第３の端部を含む。第１の端部は、二次バルブに接続されている。第３の端部は、対応のチャンバの内部空間に接続可能に構成されている。複数の排気装置は、複数のチャンバの内部空間に複数の排気流路を介してそれぞれ接続されている。基板処理システムは、第２のガス流路及び基準圧力センサを更に備える。第２のガス流路は、複数のガス供給部の各々の第２の端部に接続されている。基準圧力センサは、第２のガス流路内の圧力を測定するよう設けられている。
【０００７】
一つの例示的実施形態に係る方法は、選択された空間の中で圧力が維持された状態を形成する工程を含む。選択された空間は、複数のガス供給部のうち選択されたガス供給部の第１のガス流路、第２のガス流路、及び複数のチャンバのうち選択されたガス供給部に対応する選択されたチャンバの内部空間を含む。この状態は、選択されたガス供給部又は別のガス供給部から設定圧力で供給されるガスを用いて形成される。方法は、複数のチャンバ圧力センサのうち選択されたチャンバ用の選択されたチャンバ圧力センサを用いて、上記状態における選択されたチャンバ内の圧力の測定値である複数の第１の圧力測定値を取得する工程を更に含む。方法は、基準圧力センサを用いて、上記状態における第２のガス流路内の圧力の測定値である複数の第２の圧力測定値を取得する工程を更に含む。方法は、複数の第１の圧力測定値の平均値に等しい選択されたチャンバ圧力センサの圧力測定値と複数の第２の圧力測定値の平均値との差を解消するように、選択されたチャンバ圧力センサを校正する工程とを更に含む。この方法では、設定圧力として複数の異なる設定圧力をそれぞれ用いて、状態を形成する工程、複数の第１の圧力測定値を取得する工程、複数の第２の圧力測定値を取得する工程、及び校正する工程を含むシーケンスの繰り返しが行われる。この方法では、複数のチャンバ圧力センサが選択されたチャンバ圧力センサとして順に選択されて、シーケンスの繰り返しが実行される。
【発明の効果】
【０００８】
一つの例示的実施形態によれば、複数のチャンバそれぞれのための複数のチャンバ圧力センサの機差を低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】一つの例示的実施形態に係る基板処理システムの複数のチャンバ圧力センサを校正する方法の流れ図である。
【図２】一つの例示的実施形態に係る基板処理システムを概略的に示す図である。
【図３】図１に示す方法の工程ＳＴＣの例を示す流れ図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、種々の例示的実施形態について説明する。
【００１１】
一つの例示的実施形態において、基板処理システムの複数のチャンバ圧力センサを校正する方法が提供される。基板処理システムは、複数のチャンバ、複数のチャンバ圧力センサ、複数のガス供給部、及び複数の排気装置を備える。複数のチャンバ圧力センサは、複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ測定するよう設けられている。複数のガス供給部の各々は、複数のチャンバのうち対応のチャンバの内部空間にガスを供給するように構成されている。複数のガス供給部の各々は、流量制御器、一次バルブ、二次バルブ、及び第１のガス流路を有する。一次バルブは、流量制御器の一次側に接続されている。二次バルブは、流量制御器の二次側に接続されている。第１のガス流路は、第１の端部、第２の端部、及び、第３の端部を含む。第１の端部は、二次バルブに接続されている。第３の端部は、対応のチャンバの内部空間に接続可能に構成されている。複数の排気装置は、複数のチャンバの内部空間に複数の排気流路を介してそれぞれ接続されている。基板処理システムは、第２のガス流路及び基準圧力センサを更に備える。第２のガス流路は、複数のガス供給部の各々の第２の端部に接続されている。基準圧力センサは、第２のガス流路内の圧力を測定するよう設けられている。
【００１２】
一つの例示的実施形態に係る方法は、選択された空間の中で圧力が維持された状態を形成する工程を含む。選択された空間は、複数のガス供給部のうち選択されたガス供給部の第１のガス流路、第２のガス流路、及び複数のチャンバのうち選択されたガス供給部に対応する選択されたチャンバの内部空間を含む。この状態は、選択されたガス供給部又は別のガス供給部から設定圧力で供給されるガスを用いて形成される。方法は、複数のチャンバ圧力センサのうち選択されたチャンバ用の選択されたチャンバ圧力センサを用いて、上記状態における選択されたチャンバ内の圧力の測定値である複数の第１の圧力測定値を取得する工程を更に含む。方法は、基準圧力センサを用いて、上記状態における第２のガス流路内の圧力の測定値である複数の第２の圧力測定値を取得する工程を更に含む。方法は、複数の第１の圧力測定値の平均値に等しい選択されたチャンバ圧力センサの圧力測定値と複数の第２の圧力測定値の平均値との差を解消するように、選択されたチャンバ圧力センサを校正する工程とを更に含む。この方法では、設定圧力として複数の異なる設定圧力をそれぞれ用いて、状態を形成する工程、複数の第１の圧力測定値を取得する工程、複数の第２の圧力測定値を取得する工程、及び校正する工程を含むシーケンスの繰り返しが行われる。この方法では、複数のチャンバ圧力センサが選択されたチャンバ圧力センサとして順に選択されて、シーケンスの繰り返しが実行される。
【００１３】
上記実施形態の方法によれば、複数のチャンバ圧力センサが、一つの基準圧力センサを用いて校正される。したがって、複数のチャンバ圧力センサの機差が低減される。また、基準圧力センサによって取得される共通の第２のガス流路内の圧力の測定値を用いて、複数のチャンバ圧力センサが校正される。したがって、複数のチャンバ圧力センサの校正が容易に行われ得る。
【００１４】
一つの例示的実施形態において、基板処理システムは、複数のフロースプリッタ、複数の分配流路群、複数のガス注入部、複数のバルブ、複数の圧力制御弁を更に備えていてもよい。複数のフロースプリッタの各々は、複数のガス供給部のうち対応のガス供給部の第３の端部に接続されている。複数の分配流路群の各々は、複数の分配流路を含む。複数の分配流路は、複数のフロースプリッタのうち対応のフロースプリッタと複数のチャンバのうち対応のチャンバとを接続する。複数のガス中入部の各々は、複数の分配流路群のうち対応の分配流路群の複数の分配流路に含まれる一つの分配流路にガスを注入するように設けられている。複数のバルブの各々は、複数の分配流路群のうち対応の分配流路群の一つの分配流路と複数のフロースプリッタのうち対応のフロースプリッタとの間で接続されている。複数の圧力制御弁は、複数のチャンバと複数の排気装置との間にそれぞれ設けられており、複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ調整するように構成されている。状態を形成する工程においては、複数のバルブのうち選択されたバルブが閉じられる。選択されたバルブは、選択されたチャンバに接続された一つの分配流路と複数のフロースプリッタのうち選択されたチャンバ用のフロースプリッタとの間で接続されている。状態を形成する工程においては、選択されたチャンバに接続された一つの分配流路を更に含む上記選択された空間に、別のガス供給部として複数のガス注入部のうち選択されたチャンバに接続された一つの分配流路用のガス注入部からガスが供給されてもよい。状態を形成する工程においては、選択されたチャンバ内の圧力が複数の圧力制御弁のうち選択されたチャンバ用の圧力制御弁によって設定圧力に調整されてもよい。
【００１５】
一つの例示的実施形態において、基板処理システムは、複数の圧力制御弁を更に備えていてもよい。複数の圧力制御弁は、複数のチャンバと複数の排気装置との間にそれぞれ設けられており、複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ調整するように構成されている。状態を形成する工程において、複数の圧力制御弁のうち選択されたチャンバ用の圧力制御弁が閉じられた状態で、選択されたガス供給部からのガスが選択された空間に供給されてもよい。
【００１６】
一つの例示的実施形態において、方法は、シーケンス内で、状態を形成する工程の前に、選択されたチャンバ圧力センサの０点を調整する工程を更に含んでいてもよい。０点を調整する工程は、選択された空間が真空引きされた状態で、行われる。
【００１７】
一つの例示的実施形態において、方法は、シーケンスにおいて、複数の第１の圧力測定値の各々と複数の第１の圧力測定値の平均値とを互いに比較する工程を更に含んでいてもよい。
【００１８】
一つの例示的実施形態において、方法は、シーケンスにおいて、複数の第２の圧力測定値の各々と複数の第２の圧力測定値の平均値とを互いに比較する工程を更に含んでいてもよい。
【００１９】
一つの例示的実施形態において、方法は、複数のチャンバ圧力センサに対して順に行われるシーケンスの繰り返しの前に、基準圧力センサである第１の基準圧力センサの校正を実行する工程を更に含んでいてもよい。第１の基準圧力センサの校正を実行する工程は、第２のガス流路に第２の基準圧力センサを接続する工程を含む。第１の基準圧力センサの校正を実行する工程は、対象空間の中で圧力が維持された別の状態を形成する工程を更に含む。対象空間は、複数のガス供給部のうち一つのガス供給部の第１のガス流路、第２のガス流路、及び複数のチャンバのうち一つのガス供給部に対応する一つのチャンバの内部空間を含む。別の状態は、一つのガス供給部又は別のガス供給部から校正圧力で供給されるガスを用いて形成される。第１の基準圧力センサの校正を実行する工程は、第１の基準圧力センサを用いて、上記別の状態における第２のガス流路内の圧力の測定値である複数の第３の圧力測定値を取得する工程を更に含む。第１の基準圧力センサの校正を実行する工程は、第２の基準圧力センサを用いて、上記別の状態における第２のガス流路内の圧力の測定値である複数の第４の圧力測定値を取得する工程を更に含む。第１の基準圧力センサの校正を実行する工程は、複数の第３の圧力測定値の平均値に等しい第１の基準圧力センサの圧力測定値と複数の第４の圧力測定値の平均値との差を解消するように、第１の基準圧力センサを校正する工程を更に含む。この実施形態では、別のシーケンスの繰り返しが行われる。別のシーケンスは、別の状態を形成する工程、複数の第３の圧力測定値を取得する工程、複数の第４の圧力測定値を取得する工程、及び第１の基準圧力センサを校正する工程を含む。別のシーケンスの繰り返しでは、校正圧力として複数の異なる校正圧力が用いられる。
【００２０】
一つの例示的実施形態において、基板処理システムは、複数のフロースプリッタ、複数の分配流路群、複数のガス注入部、複数のバルブ、複数の圧力制御弁を更に備えていてもよい。複数のフロースプリッタの各々は、複数のガス供給部のうち対応のガス供給部の第３の端部に接続されている。複数の分配流路群の各々は、複数の分配流路を含む。複数の分配流路は、複数のフロースプリッタのうち対応のフロースプリッタと複数のチャンバのうち対応のチャンバとを接続する。複数のガス中入部の各々は、複数の分配流路群のうち対応の分配流路群の複数の分配流路に含まれる一つの分配流路にガスを注入するように設けられている。複数のバルブの各々は、複数の分配流路群のうち対応の分配流路群の一つの分配流路と複数のフロースプリッタのうち対応のフロースプリッタとの間で接続されている。複数の圧力制御弁は、複数のチャンバと複数の排気装置との間にそれぞれ設けられており、複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ調整するように構成されている。別の状態を形成する工程では、複数のバルブのうち一つのバルブが閉じられてもよい。一つのバルブは、一つのチャンバに接続された一つの分配流路と複数のフロースプリッタのうち一つのチャンバ用のフロースプリッタとの間で接続されている。別の状態を形成する工程において、一つのチャンバに接続された一つの分配流路を更に含む上記対象空間に、別のガス供給部として複数のガス注入部のうち一つのチャンバに接続された一つの分配流路用のガス注入部からガスが供給されてもよい。別の状態を形成する工程において、一つのチャンバ内の圧力が複数の圧力制御弁のうち一つのチャンバ用の圧力制御弁によって校正圧力に調整されてもよい。
【００２１】
一つの例示的実施形態において、基板処理システムは、複数の圧力制御弁を更に備えていてもよい。複数の圧力制御弁は、複数のチャンバと複数の排気装置との間にそれぞれ設けられており、複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ調整するように構成されている。別の状態を形成する工程において、複数の圧力制御弁のうち一つのチャンバ用の圧力制御弁が閉じられた状態で、一つのガス供給部からのガスが一つのチャンバの内部空間に供給されてもよい。
【００２２】
一つの例示的実施形態において、方法は、別のシーケンスの繰り返しの前に、第１の基準圧力センサ及び第２の基準圧力センサの各々の０点を調整する工程を更に含んでいてもよい。０点を調整する工程は、対象空間が真空引きされた状態で、行われる。
【００２３】
一つの例示的実施形態において、方法は、別のシーケンスにおいて複数の第３の圧力測定値の各々と複数の第３の圧力測定値の平均値とを互いに比較する工程を更に含んでいてもよい。
【００２４】
一つの例示的実施形態において、方法は、別のシーケンスにおいて複数の第４の圧力測定値の各々と複数の第４の圧力測定値の平均値とを互いに比較する工程を更に含んでいてもよい。
【００２５】
別の例示的実施形態においては、基板処理システムが提供される。基板処理システムは、複数のチャンバ、複数のチャンバ圧力センサ、複数のガス供給部、及び複数の排気装置を備える。複数のチャンバ圧力センサは、複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ測定するよう設けられている。複数のガス供給部の各々は、複数のチャンバのうち対応のチャンバの内部空間にガスを供給するように構成されている。複数のガス供給部の各々は、流量制御器、一次バルブ、二次バルブ、及び第１のガス流路を有する。一次バルブは、流量制御器の一次側に接続されている。二次バルブは、流量制御器の二次側に接続されている。第１のガス流路は、第１の端部、第２の端部、及び、第３の端部を含む。第１の端部は、二次バルブに接続されている。第３の端部は、対応のチャンバの内部空間に接続可能に構成されている。複数の排気装置は、複数のチャンバの内部空間に複数の排気流路を介してそれぞれ接続されている。基板処理システムは、第２のガス流路及び基準圧力センサを更に備える。第２のガス流路は、複数のガス供給部の各々の第２の端部に接続されている。基準圧力センサは、第２のガス流路内の圧力を測定するよう設けられている。基板処理システムは、制御部を更に備える。制御部は、複数のチャンバ圧力センサの校正を行うための制御を実行するように構成されている。
【００２６】
制御部は、複数のチャンバ圧力センサを選択されたチャンバ圧力センサとして順に選択して、設定圧力として複数の異なる設定圧力をそれぞれ用いて、制御シーケンスの繰り返しを実行する。制御シーケンスは、第１制御、第２制御、第３制御、及び選択されたチャンバ圧力センサの校正を含む。第１制御では、制御部は、複数のガス供給部のうち選択されたガス供給部又は別のガス供給部を制御する。第１制御では、制御部は、選択されたガス供給部又は別のガス供給部から設定圧力で供給されるガスを用いて、選択された空間の中で圧力が維持された状態を形成する。選択された空間は、選択されたガス供給部の第１のガス流路、第２のガス流路、及び複数のチャンバのうち選択されたガス供給部に対応する選択されたチャンバの内部空間を含む。第２制御では、制御部は、上記状態における選択されたチャンバ内の圧力の測定値である複数の第１の圧力測定値を取得するように複数のチャンバ圧力センサのうち選択されたチャンバ用の選択されたチャンバ圧力センサを制御する。第３制御では、制御部は、上記状態における第２のガス流路内の圧力の測定値である複数の第２の圧力測定値を取得するように基準圧力センサを制御する。制御部は、複数の第１の圧力測定値の平均値に等しい選択されたチャンバ圧力センサの圧力測定値と複数の第２の圧力測定値の平均値との差を解消するように選択されたチャンバ圧力センサの校正を実行する。
【００２７】
一つの例示的実施形態において、基板処理システムは、複数のフロースプリッタ、複数の分配流路群、複数のガス注入部、複数のバルブ、複数の圧力制御弁を更に備えていてもよい。複数のフロースプリッタの各々は、複数のガス供給部のうち対応のガス供給部の第３の端部に接続されている。複数の分配流路群の各々は、複数の分配流路を含む。複数の分配流路は、複数のフロースプリッタのうち対応のフロースプリッタと複数のチャンバのうち対応のチャンバとを接続する。複数のガス中入部の各々は、複数の分配流路群のうち対応の分配流路群の複数の分配流路に含まれる一つの分配流路にガスを注入するように設けられている。複数のバルブの各々は、複数の分配流路群のうち対応の分配流路群の一つの分配流路と複数のフロースプリッタのうち対応のフロースプリッタとの間で接続されている。複数の圧力制御弁は、複数のチャンバと複数の排気装置との間にそれぞれ設けられており、複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ調整するように構成されている。制御部は、第１制御おいて、選択されたバルブを閉じるために当該バルブを制御する。選択されたバルブは、選択されたチャンバに接続された一つの分配流路と複数のフロースプリッタのうち選択されたチャンバ用のフロースプリッタとの間で接続されている。制御部は、第１制御おいて、選択されたチャンバに接続された一つの分配流路を更に含む上記選択された空間にガスを供給するために、複数のガス注入部のうち選択されたチャンバに接続された一つの分配流路用のガス注入部を別のガス供給部として制御する。制御部は、第１制御おいて、選択されたチャンバ内の圧力を設定圧力に調整するために、複数の圧力制御弁のうち選択されたチャンバ用の圧力制御弁を制御する。
【００２８】
一つの例示的実施形態において、基板処理システムは、複数の圧力制御弁を更に備えていてもよい。複数の圧力制御弁は、複数のチャンバと複数の排気装置との間にそれぞれ設けられており、複数のチャンバ内の圧力をそれぞれ調整するように構成されている。制御部は、第１制御において、複数の圧力制御弁のうち選択されたチャンバ用の圧力制御弁を閉じるために、選択されたチャンバ用の該圧力制御弁を制御し、且つ、選択されたチャンバの内部空間にガスを供給するために、選択されたガス供給部を制御する。
【００２９】
一つの例示的実施形態において、制御部は、制御シーケンスにおいて第１制御の前に、選択された空間が真空引きされた状態で、選択されたチャンバ圧力センサの０点を調整してもよい。
【００３０】
以下、図面を参照して種々の例示的実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。
【００３１】
図１は、一つの例示的実施形態に係る基板処理システムの複数のチャンバ圧力センサを校正する方法の流れ図である。図１に示す方法は、基板処理システムの複数のチャンバ圧力センサを校正するために実行される。図２は、一つの例示的実施形態に係る基板処理システムを概略的に示す図である。図１に示す方法ＭＴは、図２に示す基板処理システム１０において実行され得る。
【００３２】
基板処理システム１０は、複数のチャンバ１２、複数のチャンバ圧力センサ１３、複数のガス供給部１４、及び複数の排気装置１６を備えている。基板処理システム１０において、チャンバ１２の個数、複数のチャンバ圧力センサ１３の個数、及び排気装置１６の個数の各々は、Ｎ個である。基板処理システム１０において、ガス供給部１４の個数はＮ個であり得る。「Ｎ」は２以上の整数である。以下の説明においては、基板処理システム１０のＮ個の要素のうち一つの要素を参照する場合に、当該要素を表す参照符号の末尾に「ｎ」の下付き文字を付加する。例えば、複数のチャンバ１２のうち一つのチャンバを参照する場合には、参照符号「１２ｎ」を用いる。ここで、ｎは、１以上の整数である。基板処理システム１０は、複数のプロセスモジュールを備えている。複数のプロセスモジュールの各々は、同一の番号ｎを有するチャンバ１２ｎ、ガス供給部１４ｎ、及び排気装置１６ｎを含んでいる。
【００３３】
複数のチャンバ１２の各々は、内部空間を提供している。複数のチャンバ１２の各々は、その内部空間の中に基板を収容するように構成されている。複数のチャンバ圧力センサ１３は、複数のチャンバ１２のうち対応のチャンバ内の圧力（対応のチャンバの内部空間の中のガス圧力）を測定するように構成されている。即ち、チャンバ圧力センサ１３ｎは、チャンバ１２ｎ内の圧力を測定するように構成されている。
【００３４】
複数のガス供給部１４の各々は、複数のチャンバ１２のうち対応のチャンバの内部空間にガスを供給するように構成されている。具体的に、基板処理システム１０では、ガス供給部１４１〜１４Ｎはそれぞれ、チャンバ１２１〜１２Ｎの内部空間にガスを供給するように構成されている。即ち、ガス供給部１４ｎは、チャンバ１２ｎの内部空間にガスを供給するように構成されている。
【００３５】
複数のガス供給部１４の各々は、一つ以上の流量制御器、一つ以上の一次バルブ、一つ以上の二次バルブ、及び第１のガス流路２１を有している。一実施形態において、複数のガス供給部１４の各々は、複数の流量制御器１８、複数の一次バルブ１９、複数の二次バルブ２０、及び、第１のガス流路２１を有している。複数のガス供給部１４の各々は、筐体１７を更に有していてもよい。複数のガス供給部１４の各々は、バルブ２２を更に有していてもよい。一実施形態において、複数のガス供給部１４の各々の流量制御器１８の個数、一次バルブ１９の個数、二次バルブ２０の個数は、Ｍ個である。Ｍは、２以上の整数である。なお、以下の説明においては、複数のガス供給部１４の各々の複数の要素のうち一つの要素を参照する場合に、当該要素を表す参照符号の末尾に「ｍ」の下付き文字を付加する。例えば、複数の流量制御器１８のうち一つの流量制御器を参照する場合には、参照符号「１８ｍ」を用いる。ここで、ｍは、１以上の整数である。
【００３６】
筐体１７は、容器である。複数のガス供給部１４の各々において、複数の流量制御器１８、複数の一次バルブ１９、及び複数の二次バルブ２０は、筐体１７内に収容されている。複数の流量制御器１８は、マスフローコントローラ又は圧力制御式の流量制御器である。複数の一次バルブ１９はそれぞれ、複数の流量制御器１８の一次側に接続されている。複数の一次バルブ１９の各々は、その一次側（上流側）に設けられた対応のガスソースに接続されている。複数の二次バルブ２０はそれぞれ、複数の流量制御器１８の二次側に接続されている。
【００３７】
第１のガス流路２１は、一つ以上の第１の端部２１ａ、第２の端部２１ｂ、及び、第３の端部２１ｃを含んでいる。一実施形態において、第１のガス流路２１は、複数の第１の端部２１ａ、即ちＭ個の第１の端部２１ａを含んでいる。複数の第１の端部２１ａはそれぞれ、複数の二次バルブ２０に接続されている。即ち、複数の第１の端部２１ａはそれぞれ、複数の二次バルブ２０を介して複数の流量制御器１８の二次側に接続されている。第１のガス流路２１は、複数の第１の端部２１ａから延びる複数の流路を含んでいる。複数の第１の端部２１ａから延びる複数の流路は、共通の流路に接続している。第１のガス流路２１の共通の流路の一端は、第２の端部２１ｂである。複数の第１の端部２１ａから第２の端部２１ｂまで延びる第１のガス流路２１の部分は、筐体１７内に設けられている。
一実施形態において、第２の端部２１ｂは、バルブ２２に接続されている。バルブ２２は、筐体１７内に設けられている。
【００３８】
第３の端部２１ｃは、筐体１７の外部に設けられている。第３の端部２１ｃを含む流路は第１のガス流路２１の上記の共通の流路に接続している。第３の端部２１ｃは、複数のチャンバ１２のうち対応のチャンバの内部空間に接続可能に設けられている。即ち、ガス供給部１４ｎの第１のガス流路２１の第３の端部２１ｃは、チャンバ１２ｎの内部空間に接続可能に設けられている。
【００３９】
一実施形態において、基板処理システム１０は、複数のフロースプリッタＦＳ、複数の分配流路群２４、及び複数のガス注入部ＩＵを更に備えていてもよい。複数のフロースプリッタＦＳの個数及び複数の分配流路群２４の個数の各々は、Ｎ個である。複数のガス注入部ＩＵの個数は、Ｎ個であり得る。複数のフロースプリッタＦＳの各々の入力ポートは、複数のガス供給部１４のうち対応のガス供給部の第１のガス流路２１の第３の端部２１ｃに接続されている。即ち、フロースプリッタＦＳｎの入力ポートは、ガス供給部１４ｎの第１のガス流路２１の第３の端部２１ｃに接続されている。複数のフロースプリッタＦＳの各々は、その入力ポートに供給されたガスを分配する。即ち、複数のフロースプリッタＦＳの各々は、その入力ポートに供給されたガスをその複数の出力ポートから出力する。
【００４０】
複数の分配流路群２４の各々は、複数の分配流路を含んでいる。図示された例では、複数の分配流路の個数は４個であるが限定されるものではない。複数の分配流路群２４の各々の複数の分配流路は、複数のフロースプリッタＦＳのうち対応のフロースプリッタと複数のチャンバ１２のうち対応のチャンバとの間で並列に接続されている。即ち、分配流路群２４ｎの複数の分配流路は、フロースプリッタＦＳｎとチャンバ１２ｎとの間で並列に接続されている。複数の分配流路群２４の各々の複数の分配流路は、複数のバルブ２５を介して対応のフロースプリッタの複数の出力ポートに接続されている。複数の分配流路群２４の各々の複数の分配流路は、対応のフロースプリッタの複数の出力ポートに直接的に接続されていてもよい。複数の分配流路群２４の各々の複数の分配流路は、複数のバルブ２６を介して対応のチャンバに接続されている。複数の分配流路群２４の各々の複数の分配流路には、対応のガス供給部から対応のフロースプリッタに供給されたガスが分配される。複数の分配流路群２４の各々の複数の分配流路は、対応のチャンバ内に配置された基板の複数の異なる領域にそれぞれガスを供給するために設けられている。一実施形態では、基板の複数の異なる領域は、基板の中心をそれらの中心とする複数の同心領域である。
【００４１】
複数のガス注入部ＩＵの各々は、複数の分配流路群２４のうち対応の分配流路群の一つの分配流路（図示の例では、分配流路２４ａ）に接続されている。即ち、ガス注入部ＩＵｎは、分配流路群２４ｎの複数の分配流路のうち分配流路２４ａに接続されている。複数のガス注入部ＩＵの各々は、対応の分配流路群の一つの分配流路にガスを注入するように構成されている。一実施形態において、複数のガス注入部ＩＵは、流量制御器２７、一次バルブ２８、及び二次バルブ２９を含んでいる。一次バルブ２８は、流量制御器２７の一次側に接続されている。二次バルブ２９は、流量制御器２７の二次側に接続されている。流量制御器２７は、一次バルブ２８を介してガスソースに接続されている。流量制御器２７は、二次バルブ２９を介して、対応の分配流路群の一つの分配流路に接続されている。なお、基板処理システム１０は、Ｎ個よりも多い個数のガス注入部ＩＵを備えていてもよい。この場合に、複数の分配流路群２４の各々の複数の分配流路のうち二つ以上の分配流路の各々に、ガス注入部が接続されていてもよい。
【００４２】
基板処理システム１０は、複数の圧力制御弁３２を更に備えている。基板処理システム１０は、複数のターボ分子ポンプ３４、複数の排気流路３６、及び複数のバルブ３８を更に備えていてもよい。圧力制御弁３２の個数、ターボ分子ポンプ３４の個数、排気流路３６の個数、バルブ３８の個数の各々は、Ｎ個である。複数の圧力制御弁３２の各々は、例えば自動圧力制御弁である。圧力制御弁３２ｎは、対応のチャンバ１２ｎの内部空間の中の圧力を調整するように構成されている。排気流路３６ｎは、圧力制御弁３２ｎ、ターボ分子ポンプ３４ｎ、及びバルブ３８ｎを介して、対応のチャンバ１２ｎの内部空間に接続されている。バルブ３８ｎの下流では、排気装置１６ｎが排気流路３６ｎに接続されている。複数の排気装置１６の各々は、例えばドライポンプであり得る。
【００４３】
基板処理システム１０は、第２のガス流路４０及び基準圧力センサ５０（第１の基準圧力センサ）を更に備えている。第２のガス流路４０は、複数のガス供給部１４の各々の第１のガス流路２１の第２の端部２１ｂに接続されている。一実施形態において、第２のガス流路は、ガス流路４２、ガス流路４３、ガス流路４４、及びガス流路４５を含んでいる。
【００４４】
ガス流路４２は、複数の端部４２ａ及び一つの端部４２ｂを含んでいる。ガス流路４２は、複数の端部４２ａから端部４２ｂまで延びている。複数の端部４２ａは、複数のガス供給部１４のうち対応のガス供給部の第１のガス流路２１の第２の端部２１ｂに接続されている。一実施形態では、複数の端部４２ａは、複数のガス供給部１４のうち対応のガス供給部のバルブ２２を介して、対応のガス供給部の第１のガス流路２１の第２の端部２１ｂに接続されている。ガス流路４２は、複数の端部４２ａをそれぞれ含む複数の流路、及び、当該複数の流路が接続する共通の流路を含んでいる。ガス流路４２の共通の流路は、端部４２ｂを含んでいる。
【００４５】
ガス流路４３は、端部４３ａ及び端部４３ｂを含んでいる。ガス流路４３は、端部４３ａから端部４３ｂまで延びている。ガス流路４２の端部４２ｂとガス流路４３の端部４３ａとの間には、バルブ５１が接続されている。ガス流路４４は、端部４４ａ、端部４４ｂ、及び端部４４ｃを有している。ガス流路４４は、部分流路４４ｄ及び部分流路４４ｅを有している。部分流路４４ｄは、端部４４ａと４４ｂとの間で延びている。部分流路４４ｅは、部分流路４４ｄから分岐して端部４４ｃまで延びている。ガス流路４３の端部４３ｂとガス流路４４の端部４４ａとの間には、バルブ５２が接続されている。ガス流路４４の端部４４ｂは、バルブ５３を介して複数の排気装置１６の各々と接続されている。一実施形態では、複数の排気流路３６には、Ｎ個のバルブ５８がそれぞれ接続されている。バルブ５３は、バルブ５８ｎ及び排気流路３６ｎを介して排気装置１６ｎに接続されている。
【００４６】
ガス流路４５は、一端及び他端を有する。ガス流路４５の一端とガス流路４４の端部４４ｃとの間には、バルブ５４が接続されている。ガス流路４５の他端にはバルブ５９が接続されている。
【００４７】
基準圧力センサ５０は、第２のガス流路４０内の圧力を測定するように構成されている。一実施形態では、基準圧力センサ５０は、バルブ５４とバルブ５９との間においてガス流路４５内の圧力を測定するように設けられている。
【００４８】
一実施形態において、基板処理システム１０は、圧力センサ４７、圧力センサ４８、及び温度センサ４９を更に備えていてもよい。圧力センサ４７及び圧力センサ４８の各々は、ガス流路４３内の圧力を測定するように構成されている。温度センサ４９は、ガス流路４３内の温度を測定するように構成されている。
【００４９】
方法ＭＴでは、後述するように、基準圧力センサ６０（第２の基準圧力センサ）が利用され得る。基準圧力センサ６０は、携帯型の圧力センサであり得る。基準圧力センサ６０は、基準圧力センサ５０の校正のために用いられる。例えば基準圧力センサ６０は、複数の基板処理システムの基準圧力センサの校正のために共用され得る。基準圧力センサ６０は、バルブ５９に取り外し可能に接続される。基準圧力センサ６０は、バルブ５９が開かれている状態では、第２のガス流路４０内の圧力（例えば、ガス流路４５内の圧力）を測定し得る。
【００５０】
一実施形態において、基板処理システム１０は、制御部ＣＵを更に備え得る。制御部ＣＵは、ＣＰＵといったプロセッサ、メモリといった記憶装置、キーボードといった入力装置、表示装置等を有するコンピュータ装置であり得る。制御部ＣＵは、記憶装置に記憶されている制御プログラムをプロセッサによって実行し、記憶装置に記憶されているレシピデータに従って基板処理システム１０の各部を制御する。なお、方法ＭＴは、制御部ＣＵによる基板処理システム１０の各部の制御及び演算によって実施され得る。
【００５１】
再び図１を参照する。以下では、方法ＭＴについて詳細に説明する。また、方法ＭＴの実行のための制御部ＣＵによる制御及び演算について説明する。図１に示すように、一実施形態において、方法ＭＴは、工程ＳＴＣを含んでいてもよい。工程ＳＴＣでは、基準圧力センサ５０の校正が行われる。
【００５２】
図３は、図１に示す方法の工程ＳＴＣの例を示す流れ図である。図３に示すように、工程ＳＴＣは、工程ＳＴａで開始する。工程ＳＴａでは、基準圧力センサ６０が第２のガス流路４０に接続される。基準圧力センサ６０は、例えばバルブ５９に接続される。
【００５３】
工程ＳＴＣでは、校正圧力として複数の異なる校正圧力をそれぞれ用いて、工程ＳＴ２４〜工程ＳＴ２９を含むシーケンスＳＱＣを繰り返すことにより、基準圧力センサ５０が校正される。
【００５４】
一実施形態において、工程ＳＴＣは、シーケンスＳＱＣの繰り返しを行う前に、工程ＳＴ２１〜工程ＳＴ２３を含んでいてもよい。工程ＳＴ２１では、対象空間の真空引きが実行される。対象空間は、一つのガス供給部１４ｎの第１のガス流路２１、第２のガス流路４０、及び一つのチャンバ１２ｎの内部空間を含む。一実施形態では、対象空間は、一つの分配流路群２４ｎの複数の分配流路を更に含む。
【００５５】
工程ＳＴ２１の実行のために、ガス供給部１４ｎのバルブ２２、圧力制御弁３２ｎ、バルブ３８ｎ、バルブ５１、バルブ５２、バルブ５４、及びバルブ５９が、開かれる。工程ＳＴ２１の実行のために、複数のガス供給部１４のうちガス供給部１４ｎ以外のガス供給部のバルブ２２、ガス供給部１４ｎの複数の二次バルブ２０、及びバルブ５３が閉じられる。そして、工程ＳＴ２１の実行のために、排気装置１６ｎが作動される。これらのバルブの開閉動作及び排気装置１６ｎの作動は、制御部ＣＵによって制御される。
【００５６】
続く工程ＳＴ２２においては、リークチェックが行われる。工程ＳＴ２２の実行のために、バルブ５４が閉じられる。工程ＳＴ２２では、基準圧力センサ６０の圧力測定値が変化しないか、或いは、基準圧力センサ６０の圧力測定値の増加量が所定値以上であれば、バルブ５９又は基準圧力センサ６０の接続部にリークが生じているものと判断される。工程ＳＴ２２においてリークが生じていると判断されると、リークしている部分（バルブ５９又は基準圧力センサ６０の接続部）の交換又は修理が行われる。工程ＳＴ２２においてリークが生じていないと判定されると、処理は工程ＳＴ２３に移る。
【００５７】
工程ＳＴ２３では、基準圧力センサ５０及び基準圧力センサ６０の各々の０点が調整される。工程ＳＴ２３では、工程ＳＴ２１で第２のガス流路４０が真空引きされた状態において取得された基準圧力センサ５０の圧力測定値をゼロに補正するように基準圧力センサ５０が校正される。また、工程ＳＴ２３では、工程ＳＴ２１で第２のガス流路４０が真空引きされた状態において取得された基準圧力センサ６０の圧力測定値をゼロに補正するように基準圧力センサ６０が校正される。工程ＳＴ２３では、制御部ＣＵからの信号により、基準圧力センサ５０及び基準圧力センサ６０の各々の０点が調整される。
【００５８】
シーケンスＳＱＣ内の工程ＳＴ２４では、校正圧力が選択される。シーケンスＳＱＣの繰り返しにおいて、校正圧力は複数の異なる校正圧力から順に選択される。工程ＳＴ２４では、シーケンスＳＱＣの繰り返しにおいて用いられる校正圧力が徐々に増加するように、複数の異なる校正圧力から用いられる校正圧力が選択され得る。
【００５９】
続く工程ＳＴ２５では、対象空間の中の圧力が維持された第１の状態が形成される。対象空間は、ガス供給部１４ｎの第１のガス流路２１、第２のガス流路４０、及びチャンバ１２ｎの内部空間を含む。一実施形態では、対象空間は、一つの分配流路群２４ｎの複数の分配流路を更に含む。一実施形態では、第１の状態を形成するために、ガス供給部１４ｎからのガスが用いられる。工程ＳＴ２５において、ガス供給部１４ｎからは、選択された校正圧力でガスが供給される。ガス供給部１４ｎは、基準圧力センサ５０又は基準圧力センサ６０の圧力測定値が選択された校正圧力に一致するように、制御部ＣＵによって制御される。
【００６０】
工程ＳＴ２５のために、ガス供給部１４ｎの一次バルブ１９ｍ、ガス供給部１４ｎの二次バルブ２０ｍ、ガス供給部１４ｎのバルブ２２、バルブ５１、バルブ５２、バルブ５４、及びバルブ５９が開かれる。工程ＳＴ２５のために、複数のガス供給部１４のうちガス供給部１４ｎ以外のガス供給部のバルブ２２、ガス供給部１４ｎの二次バルブ２０ｍ以外の全ての二次バルブ２０、及びバルブ５３が閉じられる。
【００６１】
一実施形態においては、工程ＳＴ２５のために、圧力制御弁３２ｎが閉じられる。また、分配流路群２４ｎの複数の分配流路とチャンバ１２ｎとの間で接続された複数のバルブ２６が開かれる。また、分配流路群２４ｎの複数の分配流路とフロースプリッタＦＳｎとの間で接続された複数のバルブ２５が開かれる。この実施形態では、複数の分配流路群２４の各々の複数の分配流路は対応のフロースプリッタの複数の出力ポートに直接的に接続されていてもよい。この実施形態では、ガス供給部１４ｎの流量制御器１８ｍからのガスが、対象空間に供給される。工程ＳＴ２５において、上述したバルブ、圧力制御弁、及び流量制御器は、制御部ＣＵによって制御される。
【００６２】
別の実施形態においては、工程ＳＴ２５のために、分配流路群２４ｎの複数の分配流路とチャンバ１２ｎとの間で接続された複数のバルブ２６が開かれる。また、分配流路群２４ｎの複数の分配流路とフロースプリッタＦＳｎとの間で接続された複数のバルブ２５のうち一つの分配流路２４ａに接続された一つのバルブ２５ａが閉じられる。分配流路群２４ｎの複数の分配流路とフロースプリッタＦＳｎとの間で接続された複数のバルブ２５のうち一つのバルブ２５ａ以外のバルブは開かれる。また、バルブ３８ｎが開かれる。また、排気装置１６ｎが作動される。この実施形態では、工程ＳＴ２５の実行のために、別のガス供給部であるガス注入部ＩＵｎからのガスが、分配流路群２４ｎの一つの分配流路２４ａに供給される。具体的には、ガス注入部ＩＵｎの一次バルブ２８及び二次バルブ２９が開かれて、流量制御器２７から出力されるガスの流量が調整される。この実施形態では、ガス注入部ＩＵｎからのガスが、対象空間に選択された校正圧力で与えられる。対象空間は、ガス供給部１４ｎの第１のガス流路２１、第２のガス流路４０、チャンバ１２ｎの内部空間、及び一つの分配流路群２４ｎの複数の分配流路を含む。即ち、対象空間は、分配流路群２４ｎの一つの分配流路２４ａを更に含む。チャンバ１２ｎの内部空間の中の圧力は、圧力制御弁３２ｎの開度によって調整される。圧力制御弁３２ｎの開度は、選択された校正圧力に応じた所定の開度に制御されてもよい。圧力制御弁３２ｎの開度は、チャンバ圧力センサ１３ｎの圧力測定値が選択された校正圧力に一致するように制御されてもよい。工程ＳＴ２５において、上述したバルブ、圧力制御弁、及び流量制御器は、制御部ＣＵによって制御される。
【００６３】
次いで、工程ＳＴ２６及び工程ＳＴ２７が実行される。工程ＳＴ２６及び工程ＳＴ２７は、工程ＳＴ２５においてチャンバ１２ｎの内部空間の圧力及び第２のガス流路４０内の圧力が安定する時間長が経過した後に実行される。この時間長は、所定の時間長であってもよい。或いは、この時間長は、チャンバ圧力センサ１３ｎ、基準圧力センサ５０、及び基準圧力センサ６０のうち少なくとも一つのセンサの圧力測定値の変動量が所定量以下になっているときに経過したものと判断される。
【００６４】
工程ＳＴ２６では、基準圧力センサ５０によって複数の圧力測定値Ｐ５３（複数の第３の圧力測定値）が取得される。複数の圧力測定値Ｐ５３は、第１の状態における第２のガス流路４０内の圧力の測定値である。工程ＳＴ２６の実行のために、制御部ＣＵは、複数の圧力測定値Ｐ５３を取得するよう、基準圧力センサ５０を制御する。工程ＳＴ２７では、基準圧力センサ６０によって複数の圧力測定値Ｐ６４（複数の第４の圧力測定値）が取得される。複数の圧力測定値Ｐ６４は、第１の状態における第２のガス流路４０内の圧力の測定値である。工程ＳＴ２７の実行のために、制御部ＣＵは、複数の圧力測定値Ｐ６４を取得するよう、基準圧力センサ６０を制御する。
【００６５】
続く工程ＳＴ２８では、複数の圧力測定値Ｐ５３のバラツキ及び複数の圧力測定値Ｐ６４のバラツキが評価される。工程ＳＴ２８における評価は、制御部ＣＵによって実行される。複数の圧力測定値Ｐ５３のバラツキが基準値以上であれば、基準圧力センサ５０が交換される。複数の圧力測定値Ｐ６４のバラツキが基準値以上であれば、基準圧力センサ６０が交換される。複数の圧力測定値Ｐ５３のバラツキは、複数の圧力測定値Ｐ５３の各々と複数の圧力測定値Ｐ５３の平均値Ｐ５３Ａとを互いに比較することにより評価され得る。複数の圧力測定値Ｐ６４のバラツキは、複数の圧力測定値Ｐ６４の各々と複数の圧力測定値Ｐ６４の平均値Ｐ６４Ａとを互いに比較することにより評価され得る。
【００６６】
工程ＳＴ２８において、複数の圧力測定値Ｐ５３のバラツキ及び複数の圧力測定値Ｐ６４のバラツキは、例えば、以下の（１）式及び（２）式により評価される。
｜Ｐ５３ｊ−Ｐ５３Ａ｜＜Ｐ５３Ｒ      …（１）
｜Ｐ６４ｊ−Ｐ６４Ａ｜＜Ｐ６４Ｒ      …（２）
（１）式及び（２）式において、「ｊ」は、複数の圧力測定値Ｐ５３及び複数の圧力測定値Ｐ６４の各々に対するインデックスである。Ｐ５３Ａは、複数の圧力測定値Ｐ５３の平均値である。Ｐ６４Ａは、複数の圧力測定値Ｐ６４の平均値である。Ｐ５３Ｒは、基準値であり、例えば基準圧力センサ５０の精度である。Ｐ６４Ｒは、基準値であり、例えば基準圧力センサ６０の精度である。（１）式が満たされる場合には、基準圧力センサ５０は交換されない。（２）式が満たされる場合には、基準圧力センサ６０は交換されない。
【００６７】
続く工程ＳＴ２９では、基準圧力センサ５０が校正される。工程ＳＴ２９において、基準圧力センサ５０は、平均値Ｐ５３Ａに等しい基準圧力センサ５０の圧力測定値と平均値Ｐ６４Ａとの差を解消するように、校正される。一例の工程ＳＴ２９では、基準圧力センサ５０の校正のために、平均値Ｐ５３Ａと平均値Ｐ６４Ａとの間の差が補正量として求められてもよい。この例では、補正量が基準圧力センサ５０に与えられることにより、基準圧力センサ５０が校正される。別の例の工程ＳＴ２９では、それを平均値Ｐ５３Ａに対して乗じることによって平均値Ｐ６４Ａに実質的に等しい圧力測定値を得ることができる係数が、求められる。この係数を基準圧力センサ５０に設定することにより、基準圧力センサ５０が校正される。工程ＳＴ２９における演算及び基準圧力センサ５０の校正は、制御部ＣＵによって実行される。
【００６８】
続く工程ＳＴ３０では、全ての校正圧力が用いられたか否かが判定される。全ての校正圧力が用いられていない場合には、複数の校正圧力のうち用いられていない校正圧力が選択されて、シーケンスＳＱＣが再び実行される。一方、全ての校正圧力が用いられている場合には、工程ＳＴＣは終了する。工程ＳＴＣの終了後、バルブ５９が閉じられ、基準圧力センサ６０はバルブ５９から取り外されてもよい。
【００６９】
図１に示すように、工程ＳＴＣの実行後に、シーケンスＳＱの繰り返しが実行されることにより、複数のチャンバ圧力センサ１３の校正が行われる。方法ＭＴでは、複数のチャンバ圧力センサ１３が、チャンバ圧力センサ１３ｎとして順に選択される。チャンバ圧力センサ１３ｎは、工程ＳＴ１において選択される。方法ＭＴでは、シーケンスＳＱの繰り返しにおいて複数の異なる設定圧力をそれぞれ用いることにより、選択されたチャンバ圧力センサ１３ｎが校正される。
【００７０】
一実施形態において、方法ＭＴは、シーケンスＳＱの繰り返しを行う前に、工程ＳＴ２〜工程ＳＴ３を含んでいてもよい。工程ＳＴ２では、選択された空間の真空引きが実行される。選択された空間は、ガス供給部１４ｎの第１のガス流路２１、第２のガス流路４０、及びチャンバ１２ｎの内部空間を含む。チャンバ１２ｎは、選択されたチャンバ圧力センサ１３ｎに対応する選択されたチャンバである。チャンバ１２ｎ内の圧力は、選択されたチャンバ圧力センサ１３ｎによって測定される。ガス供給部１４ｎは、チャンバ１２ｎに対応する選択されたガス供給部であり、チャンバ１２ｎの内部空間にガスを供給するように構成されている。一実施形態では、選択された空間は、分配流路群２４ｎの複数の分配流路を更に含む。分配流路群２４ｎは、チャンバ１２ｎとフロースプリッタＦＳｎとの間で接続されている。
【００７１】
工程ＳＴ２の実行のために、ガス供給部１４ｎのバルブ２２、圧力制御弁３２ｎ、バルブ３８ｎ、バルブ５１、バルブ５２、及びバルブ５４が、開かれる。工程ＳＴ２の実行のために、複数のガス供給部１４のうちガス供給部１４ｎ以外のガス供給部のバルブ２２、ガス供給部１４ｎの複数の二次バルブ２０、バルブ５３、及びバルブ５９が閉じられる。そして、工程ＳＴ２の実行のために、排気装置１６ｎが作動される。これらのバルブの開閉動作及び排気装置１６ｎの作動は、制御部ＣＵによって制御される。
【００７２】
工程ＳＴ３では、チャンバ圧力センサ１３ｎの０点が調整される。工程ＳＴ３では、工程ＳＴ２でチャンバ１２ｎの内部空間が真空引きされた状態において取得されたチャンバ圧力センサ１３ｎの圧力測定値をゼロに補正するようにチャンバ圧力センサ１３ｎが校正される。工程ＳＴ３では、制御部ＣＵからの信号により、チャンバ圧力センサ１３ｎの０点が調整される。
【００７３】
シーケンスＳＱ内の工程ＳＴ４では、設定圧力が選択される。シーケンスＳＱの繰り返しにおいて、設定圧力は複数の異なる設定圧力から順に選択される。工程ＳＴ４では、シーケンスＳＱの繰り返しにおいて用いられる設定圧力が徐々に増加するように、複数の異なる設定圧力から用いられる設定圧力が選択され得る。
【００７４】
続く工程ＳＴ５では、選択された空間の中の圧力が維持された第２の状態が形成される。選択された空間は、ガス供給部１４ｎの第１のガス流路２１、第２のガス流路４０、及びチャンバ１２ｎの内部空間を含む。一実施形態では、選択された空間は、分配流路群２４ｎの複数の分配流路を更に含む。一実施形態では、第２の状態を形成するために、ガス供給部１４ｎからのガスが用いられる。工程ＳＴ５において、ガス供給部１４ｎからは、選択された設定圧力でガスが供給される。ガス供給部１４ｎは、基準圧力センサ５０の圧力測定値が選択された設定圧力に一致するように、制御部ＣＵによって制御される。
【００７５】
工程ＳＴ５のために、ガス供給部１４ｎの一次バルブ１９ｍ、ガス供給部１４ｎの二次バルブ２０ｍ、ガス供給部１４ｎのバルブ２２、バルブ５１、バルブ５２、及びバルブ５４が開かれる。工程ＳＴ５のために、複数のガス供給部１４のうちガス供給部１４ｎ以外のガス供給部のバルブ２２、ガス供給部１４ｎの二次バルブ２０ｍ以外の全ての二次バルブ２０、バルブ５３、及びバルブ５９が閉じられる。
【００７６】
一実施形態においては、工程ＳＴ５のために、圧力制御弁３２ｎが閉じられる。また、分配流路群２４ｎの複数の分配流路とチャンバ１２ｎとの間で接続された複数のバルブ２６が開かれる。また、分配流路群２４ｎの複数の分配流路とフロースプリッタＦＳｎとの間で接続された複数のバルブ２５が開かれる。この実施形態では、複数の分配流路群２４の各々の複数の分配流路は対応のフロースプリッタの複数の出力ポートに直接的に接続されていてもよい。この実施形態では、ガス供給部１４ｎの流量制御器１８ｍからのガスが、選択された空間に供給される。工程ＳＴ５において、上述したバルブ、圧力制御弁、及び流量制御器は、制御部ＣＵによって制御される。
【００７７】
別の実施形態においては、工程ＳＴ５のために、分配流路群２４ｎの複数の分配流路とチャンバ１２ｎとの間で接続された複数のバルブ２６が開かれる。また、分配流路群２４ｎの複数の分配流路とフロースプリッタＦＳｎとの間で接続された複数のバルブ２５のうち一つのバルブ２５ａが閉じられる。分配流路群２４ｎの複数の分配流路とフロースプリッタＦＳｎとの間で接続された複数のバルブ２５のうち一つのバルブ２５ａ以外のバルブは開かれる。また、バルブ３８ｎが開かれる。また、排気装置１６ｎが作動される。この実施形態では、工程ＳＴ５の実行のために、別のガス供給部であるガス注入部ＩＵｎからのガスが、分配流路群２４ｎの一つの分配流路２４ａに供給される。具体的には、ガス注入部ＩＵｎの一次バルブ２８及び二次バルブ２９が開かれて、流量制御器２７から出力されるガスの流量が調整される。この実施形態では、ガス注入部ＩＵｎからのガスが、選択された空間に選択された設定圧力で与えられる。選択された空間は、ガス供給部１４ｎの第１のガス流路２１、第２のガス流路４０、チャンバ１２ｎの内部空間、及び分配流路群２４ｎの複数の分配流路を含む。即ち、選択された空間は、分配流路群２４ｎの一つの分配流路２４ａを更に含む。チャンバ１２ｎの内部空間の中の圧力は、圧力制御弁３２ｎの開度によって調整される。圧力制御弁３２ｎの開度は、選択された設定圧力に応じた所定の開度に制御されてもよい。圧力制御弁３２ｎの開度は、チャンバ圧力センサ１３ｎの圧力測定値が選択された設定圧力に一致するように制御されてもよい。工程ＳＴ５において、上述したバルブ、圧力制御弁、及び流量制御器は、制御部ＣＵによって制御される。
【００７８】
次いで、工程ＳＴ６及び工程ＳＴ７が実行される。工程ＳＴ６及び工程ＳＴ７は、工程ＳＴ５において、チャンバ１２ｎの内部空間の圧力及び第２のガス流路４０内の圧力が安定する時間長が経過した後に実行される。この時間長は、所定の時間長であってもよい。或いは、この時間長は、チャンバ圧力センサ１３ｎ及び基準圧力センサ５０のうち少なくとも一つのセンサの圧力測定値の変動量が所定量以下になっているときに経過したものと判断される。
【００７９】
工程ＳＴ６では、チャンバ圧力センサ１３ｎによって、複数の圧力測定値ＰＣ（複数の第１の圧力測定値）が取得される。複数の圧力測定値ＰＣは、第２の状態におけるチャンバ１２ｎ内の圧力である。工程ＳＴ６の実行のために、制御部ＣＵは、複数の圧力測定値ＰＣを取得するよう、チャンバ圧力センサ１３ｎを制御する。工程ＳＴ７では、基準圧力センサ５０によって複数の圧力測定値Ｐ５２（複数の第２の圧力測定値）が取得される。複数の圧力測定値Ｐ５２は、第２の状態における第２のガス流路４０内の圧力の測定値である。工程ＳＴ７の実行のために、制御部ＣＵは、複数の圧力測定値Ｐ５２を取得するよう、基準圧力センサ５０を制御する。
【００８０】
続く工程ＳＴ８では、複数の圧力測定値ＰＣのバラツキ及び複数の圧力測定値Ｐ５２のバラツキが評価される。工程ＳＴ８における評価は、制御部ＣＵによって実行される。複数の圧力測定値ＰＣのバラツキが基準値以上であれば、チャンバ圧力センサ１３ｎが交換される。複数の圧力測定値Ｐ５２のバラツキが基準値以上であれば、基準圧力センサ５０が交換される。複数の圧力測定値ＰＣのバラツキは、複数の圧力測定値ＰＣの各々と複数の圧力測定値ＰＣの平均値ＰＣＡとを互いに比較することにより評価され得る。複数の圧力測定値Ｐ５２のバラツキは、複数の圧力測定値Ｐ５２の各々と複数の圧力測定値Ｐ５２の平均値Ｐ５２Ａとを互いに比較することにより評価され得る。
【００８１】
工程ＳＴ８において、複数の圧力測定値ＰＣのバラツキ及び複数の圧力測定値Ｐ５２のバラツキは、例えば、以下の（３）式及び（４）式により評価される。
｜ＰＣｊ−ＰＣＡ｜＜ＰＣＲ      …（３）
｜Ｐ５２ｊ−Ｐ５２Ａ｜＜Ｐ５２Ｒ      …（４）
（１）式において、「ｊ」は、複数の圧力測定値ＰＣ及び複数の圧力測定値Ｐ５２の各々に対するインデックスである。ＰＣＡは、複数の圧力測定値ＰＣの平均値である。Ｐ５２Ａは、複数の圧力測定値Ｐ５２の平均値である。ＰＣＲは、基準値であり、例えばチャンバ圧力センサ１３ｎの精度である。Ｐ５２Ｒは、基準値であり、例えば基準圧力センサ５０の精度である。（３）式が満たされる場合には、チャンバ圧力センサ１３ｎは交換されない。（４）式が満たされる場合には、基準圧力センサ５０は交換されない。
【００８２】
続く工程ＳＴ９では、チャンバ圧力センサ１３ｎが校正される。工程ＳＴ９において、チャンバ圧力センサ１３ｎは、平均値ＰＣＡに等しいチャンバ圧力センサ１３ｎの圧力測定値と平均値Ｐ５２Ａとの差を解消するように、校正される。一例の工程ＳＴ９では、チャンバ圧力センサ１３ｎの校正のために、平均値ＰＣＡと平均値Ｐ５２Ａとの間の差が補正量として求められてもよい。この例では、補正量が基準圧力センサ５０に与えられることにより、基準圧力センサ５０が校正される。別の例の工程ＳＴ９では、それを平均値ＰＣＡに対して乗じることによって平均値Ｐ５２Ａに実質的に等しい圧力測定値を得ることができる係数が、求められる。この係数をチャンバ圧力センサ１３ｎに設定することにより、チャンバ圧力センサ１３ｎが校正される。工程ＳＴ９における演算及びチャンバ圧力センサ１３ｎの校正は、制御部ＣＵによって実行される。
【００８３】
続く工程ＳＴ１０では、全ての設定圧力が用いられたか否かが判定される。全ての設定圧力が用いられていない場合には、複数の設定圧力のうち用いられていない設定圧力が選択されて、シーケンスＳＱが再び実行される。一方、全ての設定圧力が用いられている場合には、処理は工程ＳＴ１１に移る。
【００８４】
続く工程ＳＴ１１では、全てのチャンバ圧力センサ１３が選択されたか否かが判定される。全てのチャンバ圧力センサ１３が選択されていない場合には、複数のチャンバ圧力センサ１３のうち未選択のチャンバ圧力センサが選択されて、工程ＳＴ１からの処理、即ち、シーケンスＳＱを含む処理が再び実行される。一方、全てのチャンバ圧力センサ１３が既に選択されていた場合には、方法ＭＴは終了する。
【００８５】
方法ＭＴによれば、複数のチャンバ圧力センサ１３が、一つの基準圧力センサ５０を用いて校正される。したがって、複数のチャンバ圧力センサ１３の機差が低減される。また、基準圧力センサ５０によって取得される共通の第２のガス流路４０内の圧力の測定値を用いて、複数のチャンバ圧力センサ１３が校正される。したがって、複数のチャンバ圧力センサ１３の校正が容易に行われ得る。
【００８６】
以上、種々の例示的実施形態について説明してきたが、上述した例示的実施形態に限定されることなく、様々な省略、置換、及び変更がなされてもよい。また、異なる実施形態における要素を組み合わせて他の実施形態を形成することが可能である。
【００８７】
例えば、方法ＭＴでは、基準圧力センサ５０の代わりに、圧力センサ４７又は圧力センサ４８が用いられてもよい。
【００８８】
以上の説明から、本開示の種々の実施形態は、説明の目的で本明細書で説明されており、本開示の範囲及び主旨から逸脱することなく種々の変更をなし得ることが、理解されるであろう。したがって、本明細書に開示した種々の実施形態は限定することを意図しておらず、真の範囲と主旨は、添付の特許請求の範囲によって示される。
【符号の説明】
【００８９】
１０…基板処理システム、１２…チャンバ、１３…チャンバ圧力センサ、１４…ガス供給部、１６…排気装置、２１…第１のガス流路、４０…第２のガス流路、５０…基準圧力センサ、ＭＴ…方法。
【図１】
2020148473.tif 000003
【図２】
2020148473.tif 000004
【図３】
2020148473.tif 000005