(57)【要約】【課題】浮上ステージの傾きを効率良く測定する技術を提供する。【解決手段】浮上ステージ３は、搬送シャトル５によって既定の搬送方向Ｄ１に搬送される基板Ｗに浮上力を付与する。浮上ステージ３の各上面３１Ｓ−３３Ｓは、エアを噴出する複数の孔が形成されている。ステージ測定治具８は、搬送幅方向Ｄ２に配された５つのステージ測定器８１と、各ステージ測定器８１を搬送シャトル５に接続する接続部として架橋構造８３を有する。各ステージ測定器８１は、浮上ステージ３の上面３１Ｓ−３３Ｓの鉛直位置を測定する。搬送シャトル５は、架橋構造８３とともに各ステージ測定器８１を搬送方向Ｄ１に移動させる。【選択図】図６
2020032364.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送シャトルによって既定の搬送方向に搬送される基板に浮上力を付与する浮上ステージが有する平面であって、かつ、エアを噴出する複数の孔が形成された鉛直方向上向きである上面の鉛直位置を測定するステージ測定治具であって、
前記浮上ステージの前記上面の鉛直位置を測定する少なくとも１つのステージ測定器と、
前記ステージ測定器を前記搬送方向に移動可能となるように前記搬送シャトルに接続する接続部と、
を含む、ステージ測定治具。
【請求項２】
請求項１のステージ測定治具であって、
前記接続部は、
前記搬送方向に直交する搬送幅方向に延びており、前記ステージ測定器を前記上面の上方にて支持する梁部と、
前記梁部を前記搬送シャトルに対して取り外し可能に連結する連結具と、
を備える、ステージ測定治具。
【請求項３】
請求項１又は請求項２のステージ測定治具であって、
前記上面の一部である対象部分の鉛直位置が浮上ステージに設けられた調整機構によって調整可能であり、
前記ステージ測定器は、前記対象部分の鉛直位置を測定可能な位置に設けられている、ステージ測定治具。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項のステージ測定治具であって、
前記搬送方向に直交する搬送幅方向に間隔をあけて、複数の前記ステージ測定器が設けられている、ステージ測定治具。
【請求項５】
基板に処理液を塗布する塗布装置であって、
基板を既定の方向に搬送する搬送シャトルと、
鉛直上向きの上面に設けられた複数の孔からエアを噴出することによって、前記搬送シャトルが搬送方向に搬送する基板に浮上力を付与する浮上ステージと、
前記エアを供給するエア供給部と、
前記上面の鉛直位置を測定する少なくとも１つのステージ測定器と、
前記ステージ測定器を前記搬送方向に移動可能となるように前記搬送シャトルに接続する接続部と、
前記上面の一部である対象部分の鉛直位置を調整する調整具と、
前記搬送シャトルによって前記搬送方向に搬送される基板に向けて処理液を吐出するノズルと、
を備える、塗布装置。
【請求項６】
搬送シャトルによって既定の搬送方向に搬送される基板に浮上力を付与する浮上ステージが有する平面であって、かつ、エアを噴出する複数の孔が形成された鉛直方向上向きである上面の鉛直位置を測定するステージ測定方法であって、
（ａ）  接続部を介してステージ測定器を前記搬送シャトルに接続する工程と、
（ｂ）  前記ステージ測定器を前記搬送シャトルの動力によって前記搬送方向に移動させる工程と、
（ｃ）  前記工程（ｂ）において、前記搬送方向に移動する前記ステージ測定器によって、前記上面における前記搬送方向に異なる部分の鉛直位置を測定する工程と、
を含む、ステージ測定方法。
【請求項７】
既定の搬送方向に搬送される基板に浮上力を付与する浮上ステージが有する平面であって、かつ、エアを噴出する複数の孔が形成された鉛直方向上向きである上面の鉛直位置を測定するステージ測定治具であって、
前記浮上ステージの前記上面の鉛直位置を測定する少なくとも１つのステージ測定器と、
前記ステージ測定器を前記搬送方向に移動させる移動部と、
を含む、ステージ測定治具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を処理する基板処理装置および基板処理方法に関し、特に、浮上力が付与されて搬送される基板への処理液の塗布を好適に行う技術に関する。処理対象となる基板には、例えば、半導体基板、液晶表示装置および有機ＥＬ（Electroluminescence）表示装置などのＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板およびプリント基板などが含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示装置などの電子部品等の製造工程では、基板の表面に塗布液を塗布する塗布装置が用いられている。このような塗布装置として、基板の裏面にエアを吹き付けて基板を浮上させた状態で当該基板を搬送しながら、当該基板の表面（基板の主面に相当）に対して基板の幅方向に延びるノズルから塗布液を吐出して基板に塗布液を塗布する装置が知られている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
特許文献１に記載の基板処理装置では、浮上ステージ上で基板を水平姿勢にて浮上させつつ、基板の周縁部を保持して水平方向に走行させることで当該基板を搬送し、基板搬送経路の上方に配置されたスリットノズルから塗布液を吐出させる。
【０００４】
ところで、基板を浮上ステージ上で精密に搬送するためには、浮上ステージの上面が水平であることが要求される。浮上ステージの上面を水平にするため、従来は、ダイヤルゲージおよびレーザ水準器などを用いて水平出しが行われていた。具体的には、浮上ステージにおいて、搬送方向に異なる地点で鉛直位置が測定されることによって、浮上ステージの傾きが測定されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−１４２５８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の水平出しの作業は、作業者がダイヤルゲージを用いて各地点の鉛直位置を測定する作業を要するため、作業内容が煩雑となっていた。また、浮上ステージの傾きを適正化するために一部の鉛直位置を調整した場合、その周辺部分の鉛直位置が変更される。このため、一部を調整するたびに、周辺の鉛直位置を再度測定する場合があり、作業工数が増大するという課題があった。このため、浮上ステージの傾きを効率良く測定する技術が求められていた。
【０００７】
そこで、本発明は、浮上ステージの傾きを効率良く測定する技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、第１態様は、搬送シャトルによって既定の搬送方向に搬送される基板に浮上力を付与する浮上ステージが有する平面であって、かつ、エアを噴出する複数の孔が形成された鉛直方向上向きである上面の鉛直位置を測定するステージ測定治具であって、前記浮上ステージの前記上面の鉛直位置を測定する少なくとも１つのステージ測定器と、前記ステージ測定器を前記搬送方向に移動可能となるように前記搬送シャトルに接続する接続部とを含む。
【０００９】
第２態様は、第１態様のステージ測定治具であって、前記接続部は、前記搬送方向に直交する搬送幅方向に延びており、前記ステージ測定器を前記上面の上方にて支持する梁部と、前記梁部を前記搬送シャトルに対して取り外し可能に連結する連結具とを備える。
【００１０】
第３態様は、第１態様または第２態様のステージ測定治具であって、前記上面の一部である対象部分の鉛直位置が浮上ステージに設けられた調整機構によって調整可能であり、前記ステージ測定器は、前記対象部分の鉛直位置を測定可能な位置に設けられている。
【００１１】
第４態様は、第１態様から第３態様のいずれか１つのステージ測定治具であって、前記搬送方向に直交する搬送幅方向に間隔をあけて、複数の前記ステージ測定器が設けられている。
【００１２】
第５態様は、基板に処理液を塗布する塗布装置であって、基板を既定の方向に搬送する搬送シャトルと、鉛直上向きの上面に設けられた複数の孔からエアを噴出することによって、前記搬送シャトルが搬送方向に搬送する基板に浮上力を付与する浮上ステージと、前記エアを供給するエア供給部と、前記上面の鉛直位置を測定する少なくとも１つのステージ測定器と、前記ステージ測定器を前記搬送方向に移動可能となるように前記搬送シャトルに接続する接続部と、前記上面の一部である対象部分の鉛直位置を調整する調整具と、前記搬送シャトルによって前記搬送方向に搬送される基板に向けて処理液を吐出するノズルとを備える。
【００１３】
第６態様は、搬送シャトルによって既定の搬送方向に搬送される基板に浮上力を付与する浮上ステージが有する平面であって、かつ、エアを噴出する複数の孔が形成された鉛直方向上向きである上面の鉛直位置を測定するステージ測定方法であって、（ａ）接続部を介してステージ測定器を前記搬送シャトルに接続する工程と、（ｂ）前記ステージ測定器を前記搬送シャトルの動力によって前記搬送方向に移動させる工程と、（ｃ）前記工程（ｂ）において、前記搬送方向に移動する前記ステージ測定器によって、前記上面における前記搬送方向に異なる部分の鉛直位置を測定する工程とを含む。
【００１４】
第７態様は、既定の搬送方向に搬送される基板に浮上力を付与する浮上ステージが有する平面であって、かつ、エアを噴出する複数の孔が形成された鉛直方向上向きである上面の鉛直位置を測定するステージ測定治具であって、前記浮上ステージの前記上面の鉛直位置を測定する少なくとも１つのステージ測定器と、前記ステージ測定器を前記搬送方向に移動させる移動部とを含む。
【発明の効果】
【００１５】
第１態様のステージ測定治具によると、ステージ測定器を搬送方向に移動させることによって、搬送方向における鉛直位置の分布を効率良く測定できる。このため、浮上ステージの上面の傾きを効率良く測定できる。
【００１６】
第２態様のステージ測定治具によると、必要に応じて、梁部を搬送シャトルから取り外しできる。これによって、梁部が他の要素と干渉することを抑制できる。
【００１７】
第３態様のステージ測定治具によると、調整機構によって鉛直位置が調整可能な対象部分の鉛直位置をステージ測定器で測定できる。また、測定結果に応じて、対象部分の鉛直位置を調整することによって、浮上ステージの上面の傾きを精度良く調整できる。
【００１８】
第４態様のステージ測定治具によると、複数のステージ測定器を搬送方向に移動させることによって、搬送幅方向に異なる各位置における鉛直位置の分布を一度に測定できる。このため、浮上ステージの上面の傾きを効率良く測定できる。
【００１９】
第５態様の塗布装置によると、搬送シャトルによってステージ測定器を搬送方向に移動させることによって、鉛直位置の分布を効率良く測定できる。この測定結果に基づいて、調整具で上面の対象部分の鉛直位置を調整することによって、浮上ステージの上面の傾きを効率的に修正できる。
【００２０】
第６態様の鉛直位置測定方法によると、ステージ測定器を搬送方向に移動させることによって、搬送方向における鉛直位置の分布を効率良く測定できる。このため、浮上ステージの上面の傾きを効率良く測定できる。
【００２１】
第７態様のステージ測定治具によると、ステージ測定器を搬送方向に移動させることによって、搬送方向における鉛直位置の分布を効率良く測定できる。このため、浮上ステージの上面の傾きを効率良く測定できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施形態の基板処理装置の一例である塗布装置１の全体構成を模式的に示す側面図である。
【図２】実施形態の塗布装置１を鉛直方向上側から見た概略平面図である。
【図３】実施形態の塗布機構６を除いた塗布装置１を示す概略平面図である。
【図４】図２に示すＡ−Ａ線に沿う位置における塗布装置１の概略断面図である。
【図５】実施形態の浮上ステージ３の一部を示す概略平面図である。
【図６】実施形態のステージ測定治具８を示す概略平面図である。
【図７】実施形態のステージ測定治具８を示す概略正面図である。
【図８】実施形態のステージ測定治具８を示す概略平面図である。
【図９】実施形態の制御ユニット９を示す概略ブロック図である。
【図１０】浮上ステージ３の各上面３１Ｓ−３３Ｓの鉛直位置を測定および調整する処理フローを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、この実施形態に記載されている構成要素はあくまでも例示であり、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。図面においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数が誇張又は簡略化して図示されている場合がある。
【００２４】
相対的または絶対的な位置関係を示す表現（例えば「平行」「直交」「中心」「同心」「同軸」等）は、特に断らない限り、その位置関係を厳密に表すのみならず、公差もしくは同程度の機能が得られる範囲で相対的に角度または距離に関して変位された状態も表すものとする。等しい状態であることを示す表現（例えば「同一」「等しい」「均質」「一致」等）は、特に断らない限り、定量的に厳密に等しい状態を表すのみならず、公差もしくは同程度の機能が得られる差が存在する状態も表すものとする。形状を示す表現（例えば、「四角形状」または「円筒形状」等）は、特に断らない限り、幾何学的に厳密にその形状を表すのみならず、同程度の効果が得られる範囲で、例えば凹凸や面取り等を有する形状も表すものとする。「〜の上」とは、特に断らない限り、２つの要素が接している場合のほか、２つの要素が離れている場合も含む。
【００２５】
＜１．  第１実施形態＞
図１は、実施形態の基板処理装置の一例である塗布装置１の全体構成を模式的に示す側面図である。図２は、実施形態の塗布装置１を鉛直方向上側から見た概略平面図である。図３は、実施形態の塗布機構６を除いた塗布装置１を示す概略平面図である。図４は、図２に示すＡ−Ａ線に沿う位置における塗布装置１の概略断面図である。図５は、実施形態の浮上ステージ３の一部を示す概略平面図である。
【００２６】
塗布装置１は、四角形状の基板Ｗを水平姿勢（基板Ｗの上面Ｗｆ（第１主面）及び下面（第２主面）が水平面（ＸＹ平面）に対して平行となる姿勢）で搬送するとともに、当該基板Ｗの上面Ｗｆに処理液（塗布液）を塗布するスリットコータである。各図において、塗布装置１の各部の位置関係を明確にするため、基板Ｗが搬送される搬送方向Ｄ１に平行な方向を「Ｘ方向」とし、入力コンベア１００から出力コンベア１１０へ向かう方向を「＋Ｘ方向」、その逆方向を「−Ｘ方向」とする。Ｘ方向と直交する水平方向を「Ｙ方向」とし、図１の手前に向かう方向を「−Ｙ方向」、その逆方向を「＋Ｙ方向」とする。Ｘ方向およびＹ方向に直交する鉛直方向をＺ方向とし、浮上ステージ３から見て塗布機構６側に向かう上向きを「＋Ｚ方向」、その逆方向を「−Ｚ方向」とする。
【００２７】
塗布装置１の基本的構成や動作原理は、特開２０１０−２２７８５０号公報、特開２０１０−２４０５５０公報に記載されたものと、部分的に共通または類似する。そこで、本明細書では、塗布装置１の各構成のうちこれらの公知文献に記載の物と同一または技術常識等に基づいて容易に類推できる構成については、適宜省略する場合がある。
【００２８】
塗布装置１は、基板Ｗが搬送される搬送方向Ｄ１（＋Ｘ方向）に沿って、順に、入力コンベア１００、入力移載部２、浮上ステージ３、出力移載部４、出力コンベア１１０を備える。これらは、互いに近接するように配置されており、これらにより、基板Ｗの搬送経路が形成される。なお、以下の説明において、基板Ｗの搬送方向である搬送方向Ｄ１と関連付けて位置関係を示すとき、「第１方向の上流側」を単に「上流側」と、「搬送方向Ｄ１の下流側」を「下流側」と略する場合がある。本例では、ある基準位置から見て、−Ｘ側が「上流側」であり、＋Ｘ側が「下流側」である。
【００２９】
入力コンベア１００は、コロコンベア１０１と、コロコンベア１０１を回転駆動する回転駆動機構１０２とを備える。コロコンベア１０１の回転により、基板Ｗは水平姿勢で下流側（＋Ｘ側）に搬送される。
【００３０】
入力移載部２は、コロコンベア２１と、コロコンベア２１を回転させる回転駆動機構２２とを備える。コロコンベア２１が回転することで、基板Ｗは＋Ｘ方向に搬送される。また、コロコンベア２１が昇降することにより、基板Ｗの鉛直位置が変更される。入力移載部２の動作により、基板Ｗは、入力コンベア１００から浮上ステージ３に移載される。
【００３１】
浮上ステージ３は、搬送方向Ｄ１に沿って、３つの平板状のステージを含む。具体的には、浮上ステージ３は、搬送方向Ｄ１に沿って順に入口浮上ステージ３１、塗布ステージ３２、出口浮上ステージ３３を備える。これらの各ステージの上面は、同一平面上にある。
【００３２】
入口浮上ステージ３１および出口浮上ステージ３３は、それぞれ、鉛直上向きの平面（すなわち、法線方向が鉛直方向である平面）である上面３１Ｓ，３３Ｓを有する。各上面３１Ｓ，３３Ｓには、浮上制御機構３５から供給されるエア（圧縮空気）を噴出する多数の噴出口３１ｈ，３３ｈがマトリクス状に設けられている。各噴出口３１ｈ，３３ｈから噴出される圧縮空気によって、基板Ｗに浮上力が浮力され、基板Ｗの下面（第２主面）が各ステージ３１，３３の上面３１Ｓ，３３Ｓから離間した状態で、基板Ｗが水平姿勢に支持される。基板Ｗの下面とステージ３１，３３の上面３１Ｓ，３３Ｓとの距離は、例えば１０−５００μｍ（マイクロメートル）としてもよい。
【００３３】
塗布ステージ３２は、鉛直上向きの平面である上面３２Ｓを有する。上面３２Ｓには、エア（圧縮空気）を噴出する複数の噴出口３２１ｈと、塗布ステージ３２の上方の雰囲気を吸引する多数の吸引口３２２ｈとが設けられている。塗布ステージ３２の上面３２Ｓでは、噴出口３２１ｈと吸引口３２２ｈとが、Ｘ方向及びＹ方向に沿って交互に設けられている。各噴出口３２１ｈから噴出される圧搾空気によって、基板Ｗに浮上力が付与され、基板Ｗの下面が塗布ステージ３２の上面３２Ｓから離間した状態で、基板Ｗが水平姿勢に支持される。
【００３４】
浮上制御機構３５は、各噴出口３２１ｈからの圧縮空気の噴出量と各吸引口３２２ｈからの雰囲気の吸引量とが釣り合うように制御する。これにより、基板Ｗの下面と塗布ステージ３２の上面３２Ｓと間の距離が精密に制御される。したがって、塗布ステージ３２の上方を通過する基板Ｗの上面Ｗｆの鉛直位置が既定の範囲内で制御される。浮上ステージ３として、特開２０１０−２２７８５０号公報に記載された浮上ステージの構成を採用してもよい。
【００３５】
入力移載部２を介して浮上ステージ３に搬入された基板Ｗは、コロコンベア２１の回転により、＋Ｘ方向への推進力を得て、入口浮上ステージ３１上に搬送される。浮上ステージ３における基板Ｗの搬送は、搬送シャトル５によって行われる。
【００３６】
搬送シャトル５は、チャック５１および吸着・走行制御機構５２を備える。チャック５１は、基板Ｗの下面周縁部に部分的に当接することによって基板Ｗを下方から支持する。吸着・走行制御機構５２は、チャック５１上端の支持部位に設けられた吸着パッドに負圧を与えて、チャック５１に基板Ｗを吸着保持させる機能を備える。また、吸着・走行制御機構５２は、チャック５１をＸ方向に沿って直線状に往復走行させる機能を備える。
【００３７】
チャック５１が基板Ｗを保持する状態では、基板Ｗの下面は、浮上ステージ３の各ステージ３１，３２，３３の上面よりも＋Ｚ側に位置する。基板Ｗは、チャック５１により周縁部を吸着保持され、浮上ステージ３から付与される浮上力により全体として水平姿勢を維持する。
【００３８】
入力移載部２から浮上ステージ３に搬入された基板Ｗをチャック５１が保持し、この状態でチャック５１が＋Ｘ方向に移動することにより、基板Ｗが入口浮上ステージ３１の上方から、塗布ステージ３２の上方を経由して、出口浮上ステージ３３の上方へ搬送される。基板Ｗは、出口浮上ステージ３３の＋Ｘ側に配置された出力移載部４に渡される。
【００３９】
出力移載部４は、コロコンベア４１と、当該コロコンベア４１を回転駆動する回転駆動機構４２とを備える。コロコンベア４１が回転することにより、基板Ｗに＋Ｘ方向への推進力が付与され、基板Ｗが搬送方向Ｄ１に搬送される。出力移載部４の動作により、基板Ｗは、出口浮上ステージ３３の上方から出力コンベア１１０に移載される。
【００４０】
出力コンベア１１０は、コロコンベア１１１を回転させる回転駆動機構１１２を備える。コロコンベア１１１の回転により、基板Ｗは＋Ｘ方向に搬送されて塗布装置１の外部へ払い出される。入力コンベア１００および出力コンベア１１０は、塗布装置１の一部として設けられていてもよいが、塗布装置１とは別体であってもよい。例えば、入力コンベア１００は、塗布装置１の上流側に設けられる別ユニットの基板払い出し機構であってもよい。また、出力コンベア１１０は、塗布装置１の下流側に設けられる別ユニットの基板受け入れ機構であってもよい。
【００４１】
基板Ｗの搬送系路上には、基板Ｗの上面Ｗｆに処理液を塗布する塗布機構６が設けられている。塗布機構６は、処理液を吐出するノズル６１を含むノズルユニット６０、ノズル６１を塗布位置Ｌ１１、予備吐出位置Ｌ１３、洗浄位置Ｌ１４の各位置に位置決めする移動機構６３、ノズル６１を保守するメンテナンスユニット６５を備える。図１では、予備吐出位置Ｌ１３にあるノズル６１が実線で、塗布位置Ｌ１１および洗浄位置Ｌ１４にあるノズル６１が破線でそれぞれ示されている。
【００４２】
ノズル６１は、搬送方向Ｄ１に直交する搬送幅方向Ｄ２（Ｙ方向）に延びる部材である。ノズル６１の下端部は、搬送幅方向に延びるとともに下向きに開口する吐出口６１１を有する。吐出口６１１からは、処理液が吐出される。
【００４３】
移動機構６３は、ノズル６１について、Ｘ方向およびＺ方向に移動させる。移動機構６３は、ノズル６１を、塗布ステージ３２の上方の塗布位置Ｌ１１に位置決めする。塗布位置Ｌ１１に位置決めされたノズル６１が基板Ｗの上面Ｗｆに向けて処理液を吐出することによって、基板Ｗに処理液が塗布される。塗布位置Ｌ１１は、塗布を実行するときのノズル６１の位置である。
【００４４】
メンテナンスユニット６５は、バット６５１、予備吐出ローラ６５２、ノズルクリーナ６５３およびメンテナンス制御機構６５４を備える。バット６５１は、ノズル６１の洗浄に使用される洗浄液を貯留する。メンテナンス制御機構６５４は、予備吐出ローラ６５２およびノズルクリーナ６５３を制御する。メンテナンスユニット６５の構成としては、例えば特開２０１０−２４０５５０号公報に記載されたノズル洗浄待機ユニットと同様の構成を採用してもよい。
【００４５】
移動機構６３は、ノズル６１を、吐出口６１１が予備吐出ローラ６５２の上方にてその表面に対向する予備吐出位置Ｌ１３に位置決めする。ノズル６１は、予備吐出位置Ｌ１３にて、吐出口６１１から予備吐出ローラ６５２の表面に対して処理液を吐出する（予備吐出処理）。ノズル６１は、上述の塗布位置Ｌ１１に位置決めされる前に予備吐出位置Ｌ１３に位置決めされて予備吐出処理を実行する。これにより、基板Ｗへの処理液の吐出を、初期段階から安定する。メンテナンス制御機構６５４が予備吐出ローラ６５２を回転させると、ノズル６１から吐出された処理液は、バット６５１に貯留された洗浄液に混合されて回収される。
【００４６】
移動機構６３は、ノズル６１を、その先端部（吐出口６１１およびその近くの領域を含む。）がノズルクリーナ６５３の上方に対向する洗浄位置Ｌ１４に位置決めする。ノズル６１が洗浄位置Ｌ１４にある状態で、ノズルクリーナ６５３が洗浄液を吐出しながらノズル６１の幅方向（Ｙ方向）に移動することによって、ノズル６１の先端部に付着した処理液などが洗い流される。
【００４７】
本実施形態の塗布機構６は、１つのノズル６１のみを備えているが、複数のノズル６１を備えていてもよい。この場合、各ノズル６１は、搬送方向Ｄ１に沿って間隔をあけて設けられていてもよい。また、各ノズル６１に対して異なる処理液を供給することによって、異なる処理液を基板Ｗに塗布してもよい。さらに、各ノズル６１に対応する移動機構６３及びメンテナンスユニット６５をそれぞれ設けてもよい。また、各ノズル６１が単一のメンテナンスユニット６５を共有で利用してもよい。
【００４８】
図４に示すように、ノズルユニット６０は、浮上ステージ３の上方でＹ方向に延びる梁部材６３１と、当該梁部材６３１の両側端部を支持する２つの柱部材６３２，６３３とを含む架橋構造を有する。柱部材６３２，６３３は、基台１０から上方に立設されている。柱部材６３２には昇降機構６３４が、柱部材６３３には昇降機構６３５がそれぞれ取り付けられている。昇降機構６３４，６３５は、例えばボールねじ機構を含む。昇降機構６３４，６３５は、梁部材６３１を支持する。昇降機構６３４には梁部材６３１の＋Ｙ側端部が、昇降機構６３５には梁部材６３１の−Ｙ側端部が取り付けられている。制御ユニット９からの制御指令に応じて昇降機構６３４，６３５が連動して、梁部材６３１が水平姿勢のまま鉛直方向（Ｚ方向）に移動される。
【００４９】
梁部材６３１の中央下部には、吐出口６１１を下向きにした姿勢のノズル６１が取り付けられている。昇降機構６３４，６３５が作動することで、ノズル６１の鉛直方向（Ｚ方向）における移動が実現される。
【００５０】
柱部材６３２，６３３は、基台１０上において移動可能に構成されている。Ｘ方向に延びる２つの走行ガイド８１Ｌ，８１Ｒが、基台１０の上面における＋Ｙ側端部および−Ｙ側端部に設けられている。柱部材６３２はその下部に取り付けられたスライダ６３６を介して＋Ｙ側の走行ガイド８１Ｌに係合されており、柱部材６３３はその下部に取り付けられたスライダ６３７を介して−Ｙ側の走行ガイド８１Ｒに係合されている。スライダ６３６，６３７は、走行ガイド８１Ｌ，８１Ｒに沿ってＸ方向に移動自在である。
【００５１】
柱部材６３２，６３３は、リニアモータ８２Ｌ，８２Ｒの作動によってＸ方向に移動する。リニアモータ８２Ｌ，８２Ｒは、固定子としてのマグネットモジュールと、移動子としてのコイルモジュールとを備える。マグネットモジュールは、基台１０に設けられており、Ｘ方向に延びている。コイルモジュールは、柱部材６３２，６３３のそれぞれの下部に取り付けられている。制御ユニット９からの制御指令に応じてリニアモータ８２Ｌ，８２Ｒの移動子が作動することによって、ノズルユニット６０全体がＸ方向に沿って移動する。これにより、ノズル６１のＸ方向（搬送方向Ｄ１）への移動が実現される。柱部材６３２，６３３のＸ方向位置は、スライダ６３６，６３７の近傍に設けられたリニアスケール８３Ｌ，８３Ｒによって検出される。
【００５２】
このように、ノズル６１は、昇降機構６３４，６３５の作動によってＺ方向に移動し、リニアモータ８２Ｌ，８２Ｒの作動によってＸ方向に移動する。すなわち、制御ユニット９が昇降機構６３４，６３５およびリニアモータ８２Ｌ，８２Ｒを制御することにより、ノズル６１の各停止位置Ｌ１１−Ｌ１４への位置決めが実現される。したがって、昇降機構６３４，６３５およびリニアモータ８２Ｌ，８２Ｒは、移動機構６３（図１参照）として機能する。
【００５３】
バット６５１はＹ方向に延びる梁部材６６１によって支持される。梁部材６６１の両端部のうち、一端部は柱部材６６２で支持され、他端部は柱部材６６３で支持されている。柱部材６６２，６６３は、Ｙ方向に延びるプレート６６４のＹ方向両端部にそれぞれ取り付けられている。
【００５４】
プレート６６４の両端部の下方には、それぞれ、Ｘ方向に延びる２つの走行ガイド８４Ｌ，８４Ｒが設けられている。２つの走行ガイド８４Ｌ，８４Ｒは、基台１０の上面に設けられている。プレート６６４の下面のＹ方向両端部のうち、＋Ｙ側端部にはスライダ６６６が設けられ、−Ｙ側端部にはスライダ６６７が設けられている。スライダ６６６，６６７は、走行ガイド８４Ｌ，８４Ｒに係合して、Ｘ方向に移動自在となっている。
【００５５】
プレート６６４の下方には、リニアモータ８５が設けられている。リニアモータ８５は、固定子であるマグネットモジュール及び移動子であるコイルモジュールを備える。マグネットモジュールは基台１０に設けられており、Ｘ方向に延びている。コイルモジュールはメンテナンスユニット６５（ここでは、プレート６６４）の下部に設けられている。
【００５６】
制御ユニット９からの制御指令に応じてリニアモータ８５が作動することにより、メンテナンスユニット６５全体がＸ方向に移動する。メンテナンスユニット６５のＸ方向位置は、スライダ６６６，６６７の近傍に設けられたリニアスケール８６によって検出される。
【００５７】
図４に示すように、チャック５１は、２つのチャック部材５１Ｌ，５１Ｒを備える。チャック部材５１Ｌ，５１Ｒは、ＸＺ平面に関して互いに対称な形状を有しており、Ｙ方向に離れて配置されている。
【００５８】
＋Ｙ側に配置されたチャック部材５１Ｌは、基台１０に設けられてＸ方向に延びる走行ガイド８７Ｌに支持される。チャック部材５１Ｌは、Ｘ方向に位置を異ならせて設けられた２つの水平なプレート部と、これらのプレート部を接続する接続部とを含むベース部５１２を備える（図２参照）。ベース部５１２の２つのプレート部の下部にはスライダ５１１が１つずつ設けられている。スライダ５１１は走行ガイド８７Ｌに係合されており、これによってチャック部材５１Ｌは走行ガイド８７Ｌに沿ってＸ方向に走行可能である。
【００５９】
ベース部５１２の２つのプレート部の上部それぞれには、支持部５１３が１つずつ設けられている。支持部５１３は、上方に延びており、その上端部に吸着パッド（不図示）を有する。ベース部５１２が走行ガイド８７Ｌに沿ってＸ方向に移動すると、これと一体的に２つの支持部５１３がＸ方向に移動する。なお、ベース部５１２の２つのプレート部位は互いに分離され、これらのプレート部位がＸ方向に一定の距離を保ちながら移動することで、見かけ上、一体のベース部として機能する構造としてもよい。この距離を基板の長さに応じて設定すれば、種々の長さの基板に対応することが可能となる。
【００６０】
チャック部材５１Ｌは、リニアモータ８８ＬによりＸ方向に移動する。リニアモータ８８は、固定子であるマグネットモジュール及び移動子であるコイルモジュールを備える。マグネットモジュールは基台１０に設けられており、Ｘ方向に延びる。コイルモジュールはチャック部材５１Ｌの下部に設けられている。制御ユニット９からの制御指令に応じてリニアモータ８８Ｌが作動することにより、チャック部材５１ＬがＸ方向に沿って移動する。チャック部材５１ＬのＸ方向位置は、走行ガイド８７Ｌの近傍に設けられたリニアスケール８９Ｌによって検出される。
【００６１】
−Ｙ側に設けられたチャック部材５１Ｒは、チャック部材５１Ｌと同様に、ベース部５１２と、２つの支持部５１３，５１３とを備えている。なお、チャック部材５１Ｒの形状は、ＸＺ平面に関してチャック部材５１Ｌとは対称である。チャック部材５１Ｒのベース部５１２の２つのプレート部の下部にはスライダ５１１が１つずつ設けられている。スライダ５１１は走行ガイド８７Ｒに係合されており、これによってチャック部材５１Ｒは走行ガイド８７Ｒに沿ってＸ方向に走行可能である。
【００６２】
チャック部材５１Ｒは、リニアモータ８８ＲによってＸ方向に移動可能である。リニアモータ８８Ｒは、Ｘ方向に延びるとともに基台１０に設けられた固定子としてのマグネットモジュールと、チャック部材５１Ｒの下部に設けられた移動子としてのコイルモジュールとを含む。制御ユニット９からの制御指令に応じてリニアモータ８８Ｒが作動することにより、チャック部材５１ＲがＸ方向に移動する。チャック部材５１ＲのＸ方向位置は、走行ガイド８７Ｒの近傍に設けられたリニアスケール８９Ｒにより検出される。
【００６３】
制御ユニット９は、チャック部材５１Ｌ，５１ＲがＸ方向において常に同一位置となるように、これらの位置制御を行う。これにより、１対のチャック部材５１Ｌ，５１Ｒが見かけ上一体のチャック５１として移動することになる。チャック部材５１Ｌ，５１Ｒを機械的に結合する場合に比べ、チャック５１と浮上ステージ３との干渉が容易に回避され得る。
【００６４】
図３に示すように、４つの支持部５１３はそれぞれ、保持される基板Ｗの四隅に対応して配置される。すなわち、チャック部材５１Ｌの２つの支持部５１３は、基板Ｗの＋Ｙ側周縁部であって搬送方向Ｄ１における上流側端部と下流側端部とをそれぞれ保持する。チャック部材５１Ｒの２つの支持部５１３，５１３は、基板Ｗの−Ｙ側周縁部であって搬送方向Ｄ１における上流側端部と下流側端部とをそれぞれ保持する。各支持部５１３の吸着パッドには必要に応じて負圧が供給され、これにより基板Ｗの四隅がチャック５１により下方から吸着保持される。
【００６５】
チャック５１が基板Ｗを保持しながらＸ方向に移動することで基板Ｗが搬送される。このように、リニアモータ８８Ｌ，８８Ｒの各支持部５１３に負圧を供給するための機構（図示せず）は、図１に示す吸着・走行制御機構５２として機能する。
【００６６】
図１および図４に示すように、チャック５１は、入口浮上ステージ３１、塗布ステージ３２および出口浮上ステージ３３の上面よりも上方に離して基板Ｗを保持する。チャック５１は、基板Ｗの下面を保持して、基板Ｗを搬送する。チャック５１は、基板Ｗのうち各ステージ３１，３２，３３と対向する中央部分よりもＹ方向外側の周縁部の一部のみを保持する。このため、基板Ｗの中央部は周縁部に対し下方に撓む。浮上ステージ３は、この状態の基板Ｗの中央部に浮上力を与えることによって、基板Ｗの鉛直位置を制御し、基板Ｗを水平姿勢に維持する。
【００６７】
塗布装置１は、複数（ここでは２つ）の基板測定器７０を備える。各基板測定器７０は、浮上ステージ３によって浮上力が付与されている基板Ｗの上面Ｗｆの鉛直位置を測定する。詳細には、基板測定器７０は、既定の鉛直方向の基準位置から、上面Ｗｆの鉛直位置までの距離を測定することにより、上面Ｗｆの鉛直位置を測定する。各基板測定器７０として、光、超音波などを用いて上面Ｗｆの鉛直位置を非接触で測定する反射型センサを採用してもよい。
【００６８】
基板測定器７０によって測定される上面Ｗｆの鉛直位置から、塗布ステージ３２の上面の高さ（鉛直位置）から上面Ｗｆの高さを算出してもよい。また、この上面Ｗｆの高さと基板Ｗの厚さから、基板Ｗの浮上量（塗布ステージ３２の上面から浮上基板Ｗの下面までの距離）を算出してもよい。
【００６９】
各基板測定器７０は、連結具７２によってノズル６１に連結されている。連結具７２の両側端部のうち、一端部はノズル６１の上流側の側面に取り付け可能な構造を有しており、他端部は基板測定器７０に取り付け可能な構造を有する。各基板測定器７０は、連結具７２に支持されることにより、ノズル６１よりも上流側（−Ｘ側）に配置される。
【００７０】
各基板測定器７０は、連結具７２によってノズル６１に連結されているため、ノズル６１に追従して移動する。すなわち、ノズル６１が移動機構６３によって水平方向または鉛直方向に移動すると、各基板測定器７０もこれに追従して同方向に移動する。
【００７１】
各基板測定器７０は、移動機構６３によって、塗布ステージ３２の上方の所定の測定位置に配置される。各基板測定器７０が測定位置に配置された状態で、各基板測定器７０は基板Ｗの上面Ｗｆの鉛直位置を測定する。
【００７２】
図４に示すように、２つの基板測定器７０は、搬送幅方向Ｄ２において、基板Ｗの幅（幅方向の長さ）よりも短い間隔をあけて設けられている。この２つの基板測定器７０を備えることにより、基板Ｗにおける幅方向に異なる２つの箇所の鉛直位置を測定することが可能である。なお、基板測定器７０は、２つに限定されるものではなく、１つ、または、３つ以上設けられてもよい。
【００７３】
＜ステージ測定治具８＞
図６は、実施形態のステージ測定治具８を示す概略平面図である。図７は、実施形態のステージ測定治具８を示す概略正面図である。図８は、実施形態のステージ測定治具８を示す概略平面図である。ステージ測定治具８は、浮上ステージ３（ステージ３１−３３）の各上面３１Ｓ−３３Ｓの鉛直位置を測定する装置である。ここでは、ステージ測定治具８は、各上面３１Ｓ−３３Ｓの平面出しをすることを目的に使用される。
【００７４】
ステージ測定治具８は、５つのステージ測定器８１、各ステージ測定器８１を搬送シャトル５に接続する接続部を備える。接続部は、本実施形態では、架橋構造８３および連結具８４１，８４３によって構成されている。
【００７５】
各ステージ測定器８１は、浮上ステージ３の上面の鉛直位置を測定する。各ステージ測定器８１としては、光又は超音波などを用いて上面３１Ｓ−３３Ｓの鉛直位置を非接触で測定する反射型センサを採用してもよい。
【００７６】
架橋構造８３は、浮上ステージ３の上方に配されて搬送幅方向Ｄ２に延びる梁部８３１と、梁部８３１の＋Ｙ側端部および−Ｙ側端部の各々から鉛直方向下方に延びる２つの支柱部８３２，８３３とを含む。梁部８３１は浮上ステージ３よりも長く搬送幅方向Ｄ２に延びており、各支柱部８３２，８３３は浮上ステージ３の搬送幅方向Ｄ２の両側にそれぞれに配される。
【００７７】
各ステージ測定器８１は、梁部８３１の搬送方向Ｄ１における一方側の側面８３１Ｓに取り付けられている。各ステージ測定器８１は、浮上ステージ３の搬送幅方向Ｄ２の両端よりも内側の範囲内に設けられており、かつ、搬送幅方向Ｄ２に所定の間隔をあけて設けられている。
【００７８】
支柱部８３２の下端部は搬送シャトル５が備えるチャック部材５１Ｒのベース部５１２の上面に、連結具８４１によって取り外し可能に固定される。支柱部８３３の下端部は搬送シャトル５が備えるチャック部材５１Ｌのベース部５１２の上面に、連結具８４３によって取り外し可能に固定される。連結具８４１，８４３は、例えば、ボルトなどの締結手段を含む構成としてもよい。支柱部８３２，８３３が各ベース部５１２に固定されることによって、梁部８３１が、チャック部材５１Ｒ，５１Ｌ各々の搬送方向Ｄ１に並ぶ２つの支持部５１３，５１３の間の位置に配される。
【００７９】
支柱部８３２，８３３が各ベース部５１２に固定された状態で、搬送シャトル５がチャック部材５１Ｒ，５１Ｌを連動させて搬送方向Ｄ１に移動させると、架橋構造８３が搬送方向Ｄ１に移動する。これにより、架橋構造８３に取り付けられた各ステージ測定器８１が、搬送方向Ｄ１に移動する。
【００８０】
連結具８４１，８４３は、支柱部８３２，８３３を各ベース部５１２の上流側および下流側のそれぞれに偏る各位置に取り付け可能に構成されている。架橋構造８３は、搬送シャトル５に対して、上流側寄りの位置（図６参照）および下流側寄りの位置（図８参照）に固定される。
【００８１】
支柱部８３２は、連結具８４１によって、チャック部材５１Ｒのベース部５１２だけではなく、チャック部材５１Ｌのベース部５１２にも固定可能に構成されている。また、支柱部８３３は、連結具８４３によって、チャック部材５１Ｌのベース部５１２だけではなくチャック部材５１Ｒのベース部５１２にも固定可能に構成されている。支柱部８３２，８３３のそれぞれを、チャック部材５１Ｒ，５１Ｌの各ベース部５１２に固定した場合には梁部８３１の側面８３１Ｓが上流側（−Ｘ側）を向き（図６参照）、チャック部材５１Ｌ，５１Ｒの各ベース部５１２に固定した場合には梁部８３１の側面８３１Ｓが下流側（−Ｘ側）を向く（図８参照）。
【００８２】
図６に示す例では、搬送シャトル５に対して架橋構造８３が上流側寄りの位置に固定されている。また、図６に示す例では、梁部８３１の側面８３１Ｓ（各ステージ測定器８１が取り付けられた側面）が上流側に向けられている。
【００８３】
この状態で搬送シャトル５が移動可能な全範囲を移動させた場合、各ステージ測定器８１が鉛直位置を測定できる搬送方向Ｄ１の範囲は、浮上ステージ３の上流側寄りの第１測定範囲ＲＡ１となっている。第１測定範囲ＲＡ１は、入口浮上ステージ３１および塗布ステージ３２の各上面３１Ｓ，３２Ｓの全面、および、出口浮上ステージ３３の上面３３Ｓのうち上流側の一部をカバーする。
【００８４】
図６に示すように、各ステージ測定器８１が梁部８３１の上流側に配置されることによって、浮上ステージ３の上面の上流側端部（具体的には、入口浮上ステージ３１における上流側端部）について、鉛直位置の測定が容易となる。
【００８５】
図８に示すように、架橋構造８３は、梁部８３１における各ステージ測定器８１が取り付けられた側面を搬送方向上流側に向けた姿勢で、搬送シャトル５に取り付けられている。図８に示す例では、搬送シャトル５に対して架橋構造８３が下流側寄りの位置に固定されている。また、図８に示す例では、梁部８３１の側面８３１Ｓが下流側に向けられている。この状態で搬送シャトル５が移動可能な全範囲を移動させた場合、各ステージ測定器８１によって測定できる搬送方向Ｄ１の範囲は、浮上ステージ３の下流側寄りの第２測定範囲ＲＡ２となる。第２測定範囲ＲＡ２は、塗布ステージ３２および出口浮上ステージ３３の各上面３２Ｓ，３３Ｓの全面、および、入口浮上ステージ３１の上面３１Ｓのうち下流側の一部をカバーする。
【００８６】
第１および第２測定範囲ＲＡ１，ＲＡ２は搬送方向Ｄ１において重複する領域を含む。このため、第１および第２測定範囲ＲＡ１，ＲＡ２の双方について、鉛直位置を測定することによって、浮上ステージ３の各上面３１Ｓ−３３Ｓ全部の傾きを測定できる。なお、第１および第２測定範囲ＲＡ１，ＲＡ２の重複する領域については、２回測定されることは必須ではなく、１度だけ測定されればよい。
【００８７】
図８に示すように、各ステージ測定器８１が梁部８３１の下流側に配置されることによって、浮上ステージ３の上面の下流側端部（具体的には、出口浮上ステージ３３における上面３３Ｓの下流側端部）について、鉛直位置の測定が容易となる。
【００８８】
図７に示すように、塗布装置１は、浮上ステージ３の上面（上面３１Ｓ，３２Ｓ，３３Ｓ）の鉛直位置を調整するための調整機構１３を設えている。調整機構１３は、各上面３１Ｓ−３３Ｓを支持する複数のレベリングボルト１３１と、および、各レベリングボルト１３１を支持する支持板１３３とを含む。各レベリングボルト１３１は、浮上ステージ３の各ステージ３１−３３を下方から支持する。各レベリングボルト１３１は、Ｘ方向及びＹ方向に既定の間隔をあけて設けられている。ここでは、搬送方向Ｄ１に間隔をあけて設けられた各レベリングボルト１３１で構成される列（ライン）が、搬送幅方向Ｄ２に間隔をあけて５つ設けられている。
【００８９】
浮上ステージ３の各ステージ３１−３３は、各レベリングボルト１３１によって複数点で支持される。各レベリングボルト１３１は、回転操作されることによって、鉛直方向に昇降する。すなわち１つのレベリングボルト１３１の鉛直位置を調整することによって、当該レベリングボルト１３１が支持するステージ３１−３３のいずれかの一部分（対象部分）の鉛直位置が変更される。各レベリングボルト１３１の鉛直位置を調整することによって、各ステージ３１−３３の各上面３１Ｓ−３３Ｓの水平出しが可能となっている。
【００９０】
図６−図８に示すように、各ステージ測定器８１は、搬送方向Ｄ１に並ぶレベリングボルト１３１の列（ライン）に対応する位置に設けられている。すなわち、各ステージ測定器８１は、各上面３１Ｓ−３３Ｓの各レベリングボルト１３１によって鉛直位置が調整される対象部分の鉛直位置を測定可能な位置に設けられている。
【００９１】
各レベリングボルト１３１に対応する各対象部分の鉛直位置を各ステージ測定器８１で測定することによって、各対象部分の鉛直位置のずれを測定できる。この場合、各対象分の鉛直位置が、既定の鉛直位置となるように調整できるため、浮上ステージ３の各上面３１Ｓ−３３Ｓの水平出しを精度良く行うことができる。
【００９２】
本実施形態では、各ステージ測定器８１を搬送シャトル５に接続する接続部は、門型の架橋構造８３によって構成されているが、これは必須ではない。例えば、梁部８３１の両端の支柱部８３２，８３３のうち一方を省略することによって、梁部８３１が片持ち状に支持されていてもよい。この場合、２つのチャック部材５１Ｒ，５１Ｌのどちらか一方の動力によって、各ステージ測定器８１を移動させることができる。
【００９３】
図９は、実施形態の制御ユニット９を示す概略ブロック図である。塗布装置１は、各部の動作を制御するための制御ユニット９を備える。制御ユニット９のハードウェア構成は、一般的なコンピュータと同一としてもよい。制御ユニット９は、各種演算処理を行うＣＰＵ９１、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲＯＭ、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリ９２、各種情報を表示するディスプレイを含む表示部９３を備える。
【００９４】
メモリ９２は、主記憶装置（ＲＡＭ）のほか、制御用アプリケーション（プログラム）およびデータ等を記憶する固定ディスクを含む。制御ユニット９は、ユーザーや外部装置との情報交換を担うインターフェース部、および、可搬性を有する記憶媒体（光学式メディア、磁気メディア、半導体メモリなど）に保存された情報（プログラム）を読み取る読取装置を備えていてもよい。
【００９５】
ＣＰＵ９１は、プログラムに従って動作することによって、搬送シャトル５を動作させてステージ測定治具８を搬送方向Ｄ１に移動させるとともに、ステージ測定治具８に備えられた５つのステージ測定器８１で浮上ステージ３の鉛直位置を測定する。ＣＰＵ９１は、各ステージ測定器８１が出力する測定結果を集計して、メモリ９２に保存する。浮上ステージ３の鉛直位置の測定結果は、表示部９３に適宜表示されてもよい。
【００９６】
＜動作説明＞
図１０は、浮上ステージ３の各上面３１Ｓ−３３Ｓの鉛直位置を測定および調整する処理フローを示す図である。以下に説明する処理フローは、一例であり、これに限定されるものではない。
【００９７】
まず、図６および図７に示すように、ステージ測定治具８が搬送シャトル５に取り付けられる（ステップＳ１０）。詳細には、支柱部８３２，８３３が、チャック部材５１Ｒ，５１Ｌの各ベース部５１２の上面に固定される。これによって、各ステージ測定器８１が、接続部である架橋構造８３を介して搬送シャトル５に接続される。
【００９８】
続いて、制御ユニット９は、搬送シャトル５および各ステージ測定器８１を制御して、浮上ステージ３の上面３１Ｓ−３３Ｓの鉛直位置を測定する（ステップＳ１１）。この処理によって、図６に示したように、浮上ステージ３のうち上流側の第１測定範囲ＲＡ１における鉛直位置の分布が取得される。制御ユニット９は、測定結果（鉛直位置の分布）を、適宜表示部９３に表示してもよい。
【００９９】
ステップＳ１１で得られた測定結果に基づいて、作業者は、傾きの調整を行うかどうか判断する（ステップＳ１２）。なお、制御ユニット９が、鉛直位置の測定結果および所定の判定基準に基づいて、傾きの調整が必要かどうか判定してもよい。傾きの調整が必要な場合は、制御ユニット９がその旨の表示を行うとよい。傾きの調整が必要な場合（ステップＳ１２においてＹｅｓ）、作業者は、鉛直位置の測定結果に応じて、鉛直位置の調整を行う（ステップＳ１３）。具体的には、調整が必要な箇所に対応するレベリングボルト１３１を操作することによって、鉛直位置のずれを適宜調整する。これによって、浮上ステージ３の各上面３１Ｓ−３３Ｓの水平出しが行われる。なお、出口浮上ステージ３３の上面３３Ｓのうち、第１測定範囲ＲＡ１に含まれない部分の鉛直位置の測定および調整は、後述するステップＳ１８で行われる。
【０１００】
傾きの調整が完了した場合、または、傾きの調整が不要な場合（ステップＳ１２においてＮｏ）、作業者は、浮上ステージ３の上面３１Ｓ−３３Ｓの鉛直位置を再測定するか否かを判断する（ステップＳ１４）。再測定が必要と判断された場合（ステップＳ１４においてＹｅｓ）、ステップＳ１１−Ｓ１３の各処理が再度実行される。なお、ステップＳ１４が実行される代わりに、例えば、予め決められた回数だけステップＳ１１−Ｓ１３が繰り返し実行されてもよい。
【０１０１】
再測定が行われない場合（ステップＳ１４においてＮｏ）、ステージ測定治具８の取付位置が変更される（ステップＳ１５）。詳細には、図８において説明したように、ステージ測定治具８が搬送シャトル５の下流側寄りの位置に取り付けられる。また、支柱部８３２がチャック部材５１Ｌのベース部５１２に、支柱部８３３がチャック部材５１Ｒのベース部５１２に取り付けられる。これにより、梁部８３１の側面８３１Ｓが下流側に向けられるため、各ステージ測定器８１が梁部８３１よりも下流側に配される。
【０１０２】
続いて、制御ユニット９は、搬送シャトル５および各ステージ測定器８１を制御して、浮上ステージ３の３１Ｓ−３３Ｓの鉛直位置を測定する（ステップＳ１６）。この処理によって、図８に示したように、浮上ステージ３のうち下流側の第２測定範囲ＲＡ２における鉛直位置の分布が取得される。制御ユニット９は、測定結果（鉛直位置の分布）を適宜表示部９３に表示してもよい。
【０１０３】
ステップＳ１６で得られた測定結果に基づいて、作業者は、傾きの調整を行うか否かを判断する（ステップＳ１７）。制御ユニット９が、鉛直位置の測定結果および所定の判定基準に基づいて、傾きの調整が必要かどうか判定してもよい。傾きの調整が必要な場合は、制御ユニット９がその旨の表示を行うとよい。傾きの調整が必要な場合（ステップＳ１７においてＹｅｓ）、作業者は、鉛直位置の測定結果に応じて、鉛直位置の調整を行う（ステップＳ１８）。具体的には、調整が必要な箇所に対応するレベリングボルト１３１を操作することによって、鉛直位置のずれを適宜調整する。これによって、浮上ステージ３の各上面３１Ｓ−３３Ｓの水平出しが行われる。なお、出口浮上ステージ３３の上面３３Ｓのうち、第２測定範囲ＲＡ２に含まれない部分の鉛直位置の測定および調整は、先のステップＳ１３において行われる。
【０１０４】
傾きの調整が完了した場合、または、傾きの調整が不要な場合（ステップＳ１７においてＮｏ）、作業者は、浮上ステージ３の上面３１Ｓ−３３Ｓ（ただし、第２測定範囲ＲＡ２内）の鉛直位置を再測定するか否かを判断する（ステップＳ１９）。再測定が必要である場合（ステップＳ１８においてＹｅｓ）、ステップＳ１６−Ｓ１８の各処理が再度実行される。なお、ステップＳ１９が実行される代わりに、例えば、予め決められた回数だけステップＳ１６−Ｓ１８が繰り返し実行されてもよい。
【０１０５】
以上の各処理によって、浮上ステージ３の各上面３１Ｓ−３３Ｓ鉛直位置の測定および調整処理が完了する。この一連の処理によって、各上面３１Ｓ−３３Ｓの平面出しが行われることによって、各上面３１Ｓ−３３Ｓの傾きが修正される。
【０１０６】
＜効果＞
ステージ測定治具８によると、塗布装置１において基板Ｗを搬送するために設けられた搬送シャトル５に各ステージ測定器８１を接続して、ステージ測定器８１を搬送方向Ｄ１に移動させる。このため、浮上ステージ３の搬送方向Ｄ１における鉛直位置の分布を効率良く測定できる。したがって、浮上ステージ３の各上面３１Ｓ−３３Ｓの傾きを効率良く測定できる。
【０１０７】
基板Ｗを搬送する搬送シャトル５は、直動機構であるため、各ステージ測定器８１を搬送方向Ｄ１に精度良く移動させることができる。したがって、各ステージ測定器８１を搬送シャトル５に接続することによって浮上ステージ３の各上面３１Ｓ−３３Ｓの傾きを精度良く測定できる。
【０１０８】
各ステージ測定器８１は、搬送幅方向Ｄ２に間隔を開けて配置されている。このため、各ステージ測定器８１を搬送方向Ｄ１に移動させることによって、搬送幅方向Ｄ２に異なる各位置における鉛直位置の分布を、一度に測定できる。このため、浮上ステージ３の各上面３１Ｓ−３３Ｓの傾きを効率良く測定できる。
【０１０９】
各ステージ測定器８１を架橋構造８３は取り外し可能である。このため、浮上ステージ３の上面３１Ｓ−３３Ｓの傾きの調整が完了した後、ステージ測定治具８を搬送シャトル５から取り外すことができる。これによって、ステージ測定治具８が、塗布装置１の、他の要素と干渉することを抑制できる。例えば、塗布機構６のメンテナンスユニット６５は、浮上ステージ３に比較的近い鉛直位置に配置されている。ステージ測定治具８を取り外すことによって、搬送シャトル５が塗布処理のために基板Ｗを搬送する際、梁部８３１がメンテナンスユニット６５に干渉することを抑制できる。
【０１１０】
＜２．  変形例＞
以上、実施形態について説明してきたが、本発明は上記のようなものに限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【０１１１】
例えば、架橋構造８３における梁部８３１の側面８３１Ｓに、各ステージ測定器８１を搬送幅方向Ｄ２に移動させる移動機構を設けてもよい。この場合、架橋構造８３に単一のステージ測定器８１のみを設けてもよい。この場合、搬送シャトル５と移動機構とによってステージ測定器８１を水平面内で移動させることにより、浮上ステージ３の各上面３１Ｓ−３３Ｓの鉛直位置分布を測定できる。また、２つ以上のステージ測定器８１を１つの連結部材に取り付けて一体化するとともに、当該連結部材を上記水平移動部が搬送幅方向Ｄ２に移動させることによって、各ステージ測定器８１を搬送幅方向Ｄ２に一体的に移動させてもよい。
【０１１２】
また、上記実施形態では、各ステージ測定器８１を基板Ｗの搬送に用いられる搬送シャトル５に接続されている。しかしながら、搬送シャトル５とは別に、ステージ測定治具８を搬送方向Ｄ１に移動させる移動部を設けてもよい。移動部としては、例えば、搬送シャトル５が備えるリニアモータ機構（走行ガイド８７Ｌ，８７Ｒおよびリニアモータ８８Ｌ，８８Ｒ）と同様の構成のほか、スライダ側のナット部材が螺合するネジ軸をサーボモータの駆動により回転駆動する電動スライダ機構などを採用できる。
【０１１３】
この発明は詳細に説明されたが、上記の説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。上記各実施形態及び各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り、組み合わせまたは省略ができる。
【符号の説明】
【０１１４】
１  塗布装置
１３  調整機構
１３１  レベリングボルト
１３３  支持板
３  浮上ステージ
３１  入口浮上ステージ
３２  塗布ステージ
３２１ｈ  噴出口
３２２ｈ  吸引口
３３  出口浮上ステージ
３１Ｓ，３２Ｓ，３３Ｓ  上面
３１ｈ，３３ｈ  噴出口
３５  浮上制御機構
５  搬送シャトル
６  塗布機構
８  ステージ測定治具
８１  ステージ測定器
８３  架橋構造
８３１  梁部
８３１Ｓ  側面
８３２，８３３  支柱部
８４１，８４３  連結具
Ｄ１  搬送方向
Ｄ２  搬送幅方向
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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