(57)【要約】【課題】像担持体との相対位置が互いに異なる複数の発光素子が用いられても、像担持体の上に形成される静電潜像の劣化を抑えるための技術を提供すること。【解決手段】光書き込み装置では、感光体２００の曲面において、複数の発光素子群１１１Ａ〜１１１Ｃからの光で静電潜像が形成される。発光素子群１１１Ａ〜１１１Ｃのそれぞれの面積は、それぞれから感光体２００までの距離に従って調整されている。当該距離が長くなるほど、発光素子群の面積は小さくなる。【選択図】図４
2020116833.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
像担持体と、
前記像担持体の曲面を露光する露光部と、
前記露光部を制御する制御回路とを備え、
前記露光部は、
前記像担持体との位置関係が互いに異なる複数の発光素子群を含み、
各発光素子群から前記像担持体の前記曲面に到達する光が前記像担持体に入射する角度および各発光素子群の前記像担持体からの距離の少なくとも一方に応じて調整された構成を有する、光書き込み装置。
【請求項２】
前記露光部では、各発光素子群の形状が、
各発光素子群から前記像担持体の前記曲面に到達する光が前記像担持体に入射する角度が９０度から離れるほど、または、
各発光素子群の前記像担持体からの距離が長くなるほど、
小さな面積を有するように調整されている、請求項１に記載の光書き込み装置。
【請求項３】
前記制御回路は、前記複数の発光素子群のそれぞれの単位時間当たりの発光時間を、各発光素子群の面積が小さくなるほど長くなるように制御する、請求項１に記載の光書き込み装置。
【請求項４】
前記露光部は、前記複数の発光素子群のそれぞれから前記像担持体の前記曲面に到達する光を規制する遮蔽部材を含み、
前記遮蔽部材は、
各発光素子群から前記像担持体の前記曲面に到達する光が前記像担持体に入射する角度が９０度から離れるほど、または、
各発光素子群の前記像担持体からの距離が長くなるほど、
小さな面積で各発光素子群からの光を透過させる複数の透過部を有する、請求項３に記載の光書き込み装置。
【請求項５】
前記制御回路は、前記複数の発光素子群のそれぞれの単位時間当たりの発光時間を、各発光素子群に対応する透過部の面積が小さくなるほど長くなるように制御する、請求項４に記載の光書き込み装置。
【請求項６】
前記複数の発光素子群のそれぞれは同一の形状を有する、請求項４または請求項５に記載の光書き込み装置。
【請求項７】
前記複数の発光素子群のそれぞれは、それぞれに対応する透過部と同一の形状または透過部を覆う形状を有する、請求項４〜請求項６のいずれか１項に記載の光書き込み装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、光書き込み装置に関し、特に、像担持体に光学的に情報を書き込む光書き込み装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、画像形成装置（たとえば、ＭＦＰ（Multi-Functional  Peripheral））において、像担持体（たとえば、感光体）への光学的な情報の書き込むについて種々の技術が提案されていた。たとえば、特開２００４−０７４５１５号公報（特許文献１）では、複数の発光素子のそれぞれからの光をレンズを介して像担持体に照射することにより像担持体上に情報を書き込む画像形成装置において、各発光素子の大きさをレンズの中心軸からの距離に応じて変化させる技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−０７４５１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の技術では、各発光素子からの光が像担持体の上にどのように結像されるかについては検討がなされていない。たとえば、像担持体の曲面に各発光素子からの光が照射される場合、像担持体と各発光素子との相対位置によって、各発光素子からの光が像担持体の上に結像する態様が変化する事態が想定される。像担持体の感光態様が、形成される画像のデータ以外の要因で変化すれば、像担持体に形成される静電潜像に劣化が生じ得、これにより、当該像担持体を利用して形成される画像にも劣化が生じ得る。
【０００５】
本開示は、係る実情に鑑み考え出されたものであり、その目的は、像担持体との相対位置が互いに異なる複数の発光素子が用いられても、像担持体の上に形成される静電潜像の劣化を抑えるための技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示のある局面に従うと、像担持体と、像担持体の曲面を露光する露光部と、露光部を制御する制御回路とを備え、露光部は、像担持体との位置関係が互いに異なる複数の発光素子群を含み、各発光素子群から像担持体の曲面に到達する光が像担持体に入射する角度および各発光素子群の像担持体からの距離の少なくとも一方に応じて調整された構成を有する、光書き込み装置が提供される。
【０００７】
露光部では、各発光素子群の形状が、各発光素子群から像担持体の曲面に到達する光が像担持体に入射する角度が９０度から離れるほど、または、各発光素子群の像担持体からの距離が長くなるほど、小さな面積を有するように調整されていてもよい。
【０００８】
制御回路は、複数の発光素子群のそれぞれの単位時間当たりの発光時間を、各発光素子群の面積が小さくなるほど長くなるように制御してもよい。
【０００９】
露光部は、複数の発光素子群のそれぞれから像担持体の曲面に到達する光を規制する遮蔽部材を含んでいてもよい。遮蔽部材は、各発光素子群から像担持体の曲面に到達する光が像担持体に入射する角度が９０度から離れるほど、または、各発光素子群の像担持体からの距離が長くなるほど、小さな面積で各発光素子群からの光を透過させる複数の透過部を有していてもよい。
【００１０】
制御回路は、複数の発光素子群のそれぞれの単位時間当たりの発光時間を、各発光素子群に対応する透過部の面積が小さくなるほど長くなるように制御してもよい。
【００１１】
複数の発光素子群のそれぞれは同一の形状を有していてよい。
複数の発光素子群のそれぞれは、それぞれに対応する透過部と同一の形状または透過部を覆う形状を有していてもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本開示によれば、露光部において、複数の発光素子群のそれぞれから像担持体の曲面に到達する光は、各発光素子群から像担持体の曲面に到達する光の入射角および像担持体からの距離の少なくとも一方に従って調整される。これにより、複数の発光素子群のそれぞれから像担持体の曲面に到達する光の入射角または像担持体からの距離が異なることにより、各発光素子群による像担持体の感光態様が、形成される画像のデータ以外の要因で変化することが抑制され得る。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】光書き込み装置の一例である画像形成装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１の感光体２００近傍の拡大図である。
【図３】発光基板１１の平面図である。
【図４】互いに直径が異なる複数の発光素子群１１１Ａ〜１１１Ｃからの光の感光体２００上の結像を模式的に示す図である。
【図５】発光素子群１１１Ａ，１１１Ｃの形状の変形例を示す図である。
【図６】図５の発光基板１１を用いて感光体２００の曲面が露光された状態を模式的に示す図である。
【図７】画像形成装置６００の変形例における、感光体２００近傍の拡大図である。
【図８】図７に示された遮蔽部材１３の一例の平面図である。
【図９】図７に示された発光基板１１の平面図である。
【図１０】図８の遮蔽部材１３を用いた例における感光体２００上の結像を模式的に示す図である。
【図１１】図７に示された遮蔽部材１３の他の例の平面図である。
【図１２】図１１の遮蔽部材１３を用いた例における感光体２００上の結像を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に、図面を参照しつつ、光書き込み装置の一実施の形態について説明する。以下の説明では、同一の部品および構成要素には同一の符号を付してある。それらの名称および機能も同じである。したがって、これらの説明は繰り返さない。
【００１５】
［１．光書き込み装置の構成］
図１は、光書き込み装置の一例である画像形成装置の構成を概略的に示す図である。画像形成装置６００は、例えば、プリンターまたはデジタル複写機である。図１に示されるように、シアン、マゼンタ、イエロー、ブラックの色ごとに設けられた複数の光書込ユニット１００と、光書込ユニット１００に対応して設けられた感光体ドラム等の感光体（像担持体）２００と、感光体２００を帯電させる帯電部２１０と、光を照射された感光体２００に現像剤を供給することで静電潜像を現像剤による像に顕像化する現像部２２０と、中間転写ベルト３００と、現像剤による像を用紙Ｐに転写する転写ローラー（転写部）４００と、転写ローラー４００により転写された現像剤による像を用紙Ｐに定着する定着部５００と、を備える。
【００１６】
画像形成装置６００は、制御ユニット６１０を備える。制御ユニット６１０は、ＣＰＵ（Central  Processing  Unit）６１１と、メモリー６１２と、通信インターフェイス６１３とを備える。ＣＰＵ６１１は、画像形成装置６００の動作を制御する。メモリー６１２は、ＣＰＵ６１１によって実行されるプログラムを含む種々のデータを記録する。通信インターフェイス６１３は、たとえばネットワークカードによって構成され、パーソナルコンピューターなどの外部装置と通信する。一例では、ＣＰＵ６１１は、外部装置からの印刷指示に従って、光書込ユニット１００等の要素を使用して用紙Ｐ上に画像を形成する。
【００１７】
画像形成装置６００における画像形成の工程の概略を説明する。帯電部２１０により帯電された感光体２００に対して、光書込ユニット１００は、画像パターンに従って光を照射する。これにより、感光体２００の上に静電潜像が形成される。感光体２００の上の静電潜像に現像部２２０によってトナーが供給されることにより、感光体２００の上にトナー像が形成される。当該トナー像は、中間転写ベルト３００の上に転写される。次に、画像形成装置６００では、中間転写ベルト３００に転写されたトナー像が、転写ローラー４００によって用紙Ｐに押圧される。これにより、トナー像が用紙Ｐに転写される。定着部５００によって当該用紙Ｐを加熱及び加圧することで、トナー像が用紙Ｐ上に定着される。そして、用紙Ｐは、排紙ローラー（図示省略）等によって搬送されることにより、トレイ（図示省略）へ出力される。
【００１８】
図２は、図１の感光体２００近傍の拡大図である。図２に示されるように、光書込ユニット１００は、露光部の一例であって、発光基板１１と、レンズアレイ１２とを含む。発光基板１１には、複数の発光素子群１１１と、複数の制御回路１１０とが設けられている。図２では、発光素子群１１１と制御回路１１０とは交互に配置されている。
【００１９】
発光素子群１１１における各発光素子は、たとえば有機物質を利用したＥＬ（Electro  Luminescence）素子である。発光基板１１は、線膨張係数の小さいガラス（例えば、無アルカリガラス）によって構成される。各制御回路１１０は、各発光素子群１１１を制御する。ＣＰＵ６１１は、形成する画像データに従って、各制御回路１１０を制御する。レンズアレイ１２は、複数の結合レンズ１２１を含む。各発光素子群１１１は、たとえば図２に光Ｌで示されるように、結合レンズ１２１を介して、感光体２００に向けて光を発する。
【００２０】
以下の説明では、感光体２００に対し、以下の３つの軸が定義される。
Ｘ軸：感光体２００上の主走査方向に延びる軸
Ｙ軸：感光体２００上の副走査方向に延びる軸
Ｚ軸：Ｘ軸およびＹ軸に直交する方向に延びる軸
感光体２００は、Ｘ軸およびＹ軸に沿う面上に静電潜像を形成され、Ｙ軸に沿って回転する。
【００２１】
図２では、発光基板１１及びレンズアレイ１２の長手方向がＸ軸に沿い、短手方向がＹ軸に沿う。以下の説明では、便宜上、光書込ユニット１００において、レンズアレイ１２は発光基板１１に対して上側に配置されているものとする。
【００２２】
［２．複数の発光素子群のパターン］
図３は、発光基板１１の平面図である。図３に示されるように、発光基板１１は、略矩形状を有する。複数の発光素子群１１１は、Ｘ軸に沿って配列された３種類のグループ（第１〜第３のグループ）を含む。第１のグループの発光素子群１１１は、発光素子群１１１Ａとして示される。第２のグループの発光素子群１１１は、発光素子群１１１Ｂとして示される。第３のグループの発光素子群１１１は、発光素子群１１１Ｃとして示される。各発光素子群１１１は、複数の発光素子がほぼ円形を構成するように配列されている。
【００２３】
各グループの発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃは、それぞれ、円の直径が異なる。発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃの直径は、それぞれ、直径Ｗ１１，Ｗ１２，Ｗ１３である。
【００２４】
発光基板１１では、Ｙ軸方向（感光体２００の副走査方向）において、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃは互いにずらされて配置されている。すなわち、発光基板１１では、Ｙ軸方向において互いに位置が異なる発光素子群１１１（発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃ）は、互いに異なる直径を有する。
【００２５】
［３．発光素子群からの光の結像パターン］
図４は、互いに直径が異なる複数の発光素子群１１１Ａ〜１１１Ｃからの光の感光体２００上の結像を模式的に示す図である。
【００２６】
図４では、感光体２００の曲面に対向する複数の発光素子群（発光素子群１１１Ａ〜１１１Ｃ）のそれぞれが、発光基板１１において互いに異なる面積を有することをより明確に説明するために、発光素子群１１１Ａ〜１１１Ｃの記載の向きを、感光体２００の記載の向きとは異なる向きとしている。すなわち、図４において、感光体２００は、主走査方向が紙面を付け抜ける方向に沿うように記載されており、発光素子群１１１Ａ〜１１１Ｃは、主走査方向が図の上下方向に沿うように記載されている。この関係は、図６、図１０、および図１２においても同様である。
【００２７】
図４において、発光素子群１１１Ａ〜１１１Ｃのそれぞれは、感光体２００の曲面に対して光を発する。経路Ｌ１１，Ｌ１２，Ｌ１３のそれぞれは、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃのそれぞれから感光体２００の表面までの光軸に沿った経路を表す。
【００２８】
発光基板１１の表面は平面であり、感光体２００の発光基板１１と対向する面は曲面である。発光素子群１１１Ｂは、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｃよりも、感光体２００の表面からの直線方向の距離が短い。すなわち、経路Ｌ１１（長さＬＳ）は、経路Ｌ１２，Ｌ１３よりも短い。
【００２９】
図４には、像ＢＳ１１，ＢＳ１２，ＢＳ１３として、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃからの光によって感光体２００上に形成される像が示される。図４では、さらに、像ＢＳ１１，ＢＳ１２，Ｂ１３のそれぞれの感光体２００上の形状が模式的に示されている。
【００３０】
画像形成装置６００では、直径Ｗ１１，Ｗ１２，Ｗ１３が、発光素子群から感光体２００までの距離が長くなるほど小さくされ、これにより、像ＢＳ１１，ＢＳ１２，Ｂ１３の面積が等しくなるように調整される。換言すれば、複数の発光素子群１１１の間における、感光体２００表面までの距離の相違が、各発光素子群１１１の面積の相違によって補完される。これにより、感光体２００の副走査方向について互いに異なる位置に配列された発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃは、感光体２００の曲面を同じ態様で感光させることができる。したがって、感光体２００の副走査方向においても良好な解像度を保持することができる。
【００３１】
画像形成装置６００の一実施の形態では、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃのそれぞれの単位時間（たとえば、１秒間）当たりの発光時間を、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃのそれぞれの面積が小さいほど長くなるように調整する。これにより、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃのそれぞれから出力される光の単位時間当たりの量の差異が抑制される。
【００３２】
［４．発光素子群の形状の変形例］
図５は、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｃの形状の変形例を示す図である。図５の例では、発光基板１１において、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｃのそれぞれは、Ｙ軸方向（副走査方向）に短辺を有する楕円形状を有する。発光素子群１１１Ａ，１１１Ｃのそれぞれの短辺の長さは、長さＷ２１，Ｗ２３として示される。発光素子群１１１Ｂは、円形を有する。当該円の直径は、長さＷ２２として示される。発光素子群１１１Ａ，１１１Ｃのそれぞれの面積は、発光素子群１１１Ｂの面積より小さい。
【００３３】
図６は、図５の発光基板１１を用いて感光体２００の曲面が露光された状態を模式的に示す図である。図６において、経路Ｌ２１，Ｌ２２，Ｌ２３は、それぞれ、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃから感光体２００表面までの光軸に沿った経路を表す。接線Ｔ２１，Ｔ２２，Ｔ２３は、それぞれ、経路Ｌ２１，Ｌ２２，Ｌ２３と感光体２００との交点を含む感光体２００上の接線を表す。角度θ１，θ２，θ３のそれぞれは、経路Ｌ２１，Ｌ２２，Ｌ２３と接線Ｔ２１，Ｔ２２，Ｔ２３の間の角度を表す。角度θ１，θ２，θ３は、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃのそれぞれの感光体２００への入射角に相当する。角度θ２は９０度であり、角度θ１，θ３は鋭角である。
【００３４】
図６には、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃからの光による、感光体２００の上の結像が、像ＢＳ２１，ＢＳ２２，ＢＳ２３として模式的に示されている。
【００３５】
感光体２００は、Ｙ軸方向において湾曲している。発光素子群１１１Ａ，１１１ＣはそれぞれＹ軸方向に短辺を有する楕円形状を有するため、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｃからの光の入射角が鋭角であっても、像ＢＳ２１，ＢＳ２３の形状はほぼ円形となる。すなわち、複数の発光素子群の間において、各発光素子群の副走査方向の寸法の相違（感光体２００への入射角が９０度から離れるほど副走査方向の寸法が短くなる）によって補完される。
【００３６】
感光体２００への入射角が９０度から離れるほど、感光体２００上の結像の副走査方向における寸法は大きくなる。したがって、発光素子群の副走査方向の寸法は、当該発光素子群からの光の感光体２００への入射角が９０度から離れるほど、短くされることが好ましい。
【００３７】
一実施の形態では、図５および図６を参照して説明された例において、制御回路１１０は、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃのそれぞれの単位時間当たりの発光時間を、発光素子群１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃのそれぞれの面積が小さいほど長くなるように調整する。
【００３８】
［５．遮蔽部材による発光素子群からの光の調整（１）］
図７は、画像形成装置６００の変形例における、感光体２００近傍の拡大図である。図２の例と比較して、図７の例では、光書込ユニット１００は、遮蔽部材１３をさらに備える。遮蔽部材１３は、発光基板１１とレンズアレイ１２との間に設けられている。
【００３９】
図８は、図７に示された遮蔽部材１３の一例の平面図である。図９は、図７に示された発光基板１１の平面図である。図９の例では、発光基板１１における複数の発光素子群１１１は、すべて同じ形状（直径が等しい円）を有している。
【００４０】
図８に示された遮蔽部材１３は、複数の円形の穴を有する。複数の穴は、Ｘ軸に沿って３列に配列されている。一列目に配列された穴が穴１３１Ａとして示され、二列目に配列された穴が穴１３１Ｂとして示され、三列目に配列された穴が穴１３１Ｃとして示されている。穴１３１Ａ，１３１Ｂ，１３１ＣのそれぞれのＹ軸方向の長さは、長さＷ３１，Ｗ３２，Ｗ３３である。
【００４１】
図１０は、図８の遮蔽部材１３を用いた例における感光体２００上の結像を模式的に示す図である。図８の遮蔽部材１３の穴１３１Ａは、発光素子群１１１からの光が、感光体２００上に、図３の発光素子群１１１Ａからの光と同様の像を形成する形状を有する。穴１３１Ｂ，１３１Ｃのそれぞれは、発光素子群１１１からの光が、感光体２００上に、図３の発光素子群１１１Ｂ，１１１Ｃのそれぞれからの光と同様の像を形成する形状を有する。つまり、図１０の像ＢＳ１１，ＢＳ１２，ＢＳ１３のそれぞれは、穴１３１Ａ，１３１Ｂ，１３１Ｃのそれぞれを介した光の像であり、図４の像ＢＳ１１，ＢＳ１２，ＢＳ１３のそれぞれと同様の形状を有する。
【００４２】
以上より、図７〜図１０を参照して説明された例では、遮蔽部材１３が採用されることにより、発光基板１１において複数の発光素子群１１１が同一の形状を有していても、図３を参照して説明された例（複数の発光素子群の形状が副走査方向における位置に従って調整される）と同様の効果が得られる。一例では、発光基板１１において複数の発光素子群１１１が同一の形状を有している既存の画像形成装置に、遮蔽部材１３が採用されることにより、当該画像形成装置が本実施の形態の画像形成装置６００として機能する。
【００４３】
図９の発光素子群１１１のそれぞれは、対向する穴（穴１３１Ａ，１３１Ｂ，１３１Ｃのいずれか）と同一の形状、または、当該穴よりも広く当該穴を覆う形状を有していてもよい。
【００４４】
一実施の形態では、図７〜図１０を参照して説明された例において、制御回路１１０は、発光素子群１１１のそれぞれの単位時間当たりの発光時間を、各発光素子群１１１が対向する穴の面積が小さいほど長くなるように調整する。
【００４５】
［６．遮蔽部材による発光素子群からの光の調整（２）］
図１１は、図７に示された遮蔽部材１３の他の例の平面図である。図１１の遮蔽部材１３は、複数の穴を有する。複数の穴は、Ｘ軸方向に沿って３列に配列されている。一列目に配列された穴が穴１３２Ａとして示され、二列目に配列された穴が穴１３２Ｂとして示され、三列目に配列された穴が穴１３２Ｃとして示されている。穴１３２Ｂは円形状を有し、穴１３２Ａ，１３２Ｃは楕円形状を有する。穴１３２Ａ，１３２Ｂ，１３２ＣのそれぞれのＹ軸方向の長さは、長さＷ４１，Ｗ４２，Ｗ４３である。
【００４６】
図１２は、図１１の遮蔽部材１３を用いた例における感光体２００上の結像を模式的に示す図である。図１１の遮蔽部材１３の穴１３２Ａは、発光素子群１１１からの光が、感光体２００上に、図５の発光素子群１１１Ａからの光と同様の像を形成する形状を有する。穴１３２Ｂ，１３２Ｃのそれぞれは、発光素子群１１１からの光が、感光体２００上に、図５の発光素子群１１１Ｂ，１１１Ｃのそれぞれからの光と同様の像を形成する形状を有する。つまり、図１２の像ＢＳ２１，ＢＳ２２，ＢＳ２３のそれぞれは、穴１３１Ａ，１３１Ｂ，１３１Ｃのそれぞれを介した光の像であり、図６の像ＢＳ２１，ＢＳ２２，ＢＳ２３のそれぞれと同様の形状を有する。
【００４７】
以上より、図１１および図１２を参照して説明された例では、遮蔽部材１３が採用されることにより、発光基板１１における複数の発光素子群１１１が同一の形状を有していても、図５を参照して説明された例（複数の発光素子群の副走査方向における寸法が、副走査方向における位置に従って調整される）と同様の効果が得られる。一例では、発光基板１１において複数の発光素子群１１１が同一の形状を有している既存の画像形成装置に、遮蔽部材１３が採用されることにより、当該画像形成装置が本実施の形態の画像形成装置６００として機能する。
【００４８】
図１１〜図１２を参照して説明された例においても、図９の発光素子群１１１のそれぞれは、対向する穴（穴１３２Ａ，１３２Ｂ，１３２Ｃのいずれか）と同一の形状、または、当該穴よりも広く当該穴を覆う形状を有していてもよい。
【００４９】
一実施の形態では、図１１〜図１２を参照して説明された例において、制御回路１１０は、発光素子群１１１のそれぞれの単位時間当たりの発光時間を、各発光素子群１１１が対向する穴の面積が小さいほど長くなるように調整する。
【００５０】
今回開示された各実施の形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。また、実施の形態および各変形例において説明された発明は、可能な限り、単独でも、組合わせても、実施することが意図される。
【符号の説明】
【００５１】
１１  発光基板、１２  レンズアレイ、１３  遮蔽部材、１００  光書込ユニット、１１０  制御回路、１１１，１１１Ａ，１１１Ｂ，１１１Ｃ  発光素子群、１２１  結合レンズ、１３１Ａ，１３１Ｂ，１３１Ｃ，１３２Ａ，１３２Ｂ，１３２Ｃ  穴、２００  感光体、２１０  帯電部、２２０  現像部、３００  中間転写ベルト、４００  転写ローラー、５００  定着部、６００  画像形成装置、６１０  制御ユニット、６１１  ＣＰＵ、６１２  メモリー、６１３  通信インターフェイス。
【図１】
2020116833.tif 000003
【図２】
2020116833.tif 000004
【図３】
2020116833.tif 000005
【図４】
2020116833.tif 000006
【図５】
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【図６】
2020116833.tif 000008
【図７】
2020116833.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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