(57)【要約】【課題】金属ナノ粒子焼結体膜が形成される範囲を一層正解に限定することができるとともに、簡素な工程で金属ナノ粒子焼結体膜を形成することができる金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法を提供する。【解決手段】基板３の上面の所定の領域１３の縁１１が尖るように、基板３の上面に凹部５を形成し、所定の領域１３上に金属ナノインク２１を塗布し、金属ナノインク２１を焼成する金属ナノ粒子焼結体膜７の形成方法である。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上面の所定の領域の縁が尖るように、前記基板の上面に凹部を形成する凹部形成工程と、
前記凹部形成工程で形成された所定の領域上に金属ナノインクを塗布する塗布工程と、
前記塗布工程で塗布された金属ナノインクを焼成する焼成工程と、
を有することを特徴とする金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法。
【請求項２】
請求項１に記載の金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法であって、
前記凹部形成工程は、プレス加工によって前記凹部を形成する工程であることを特徴とする金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法であって、
凹部形成工程で形成される凹部によって、前記所定の領域が囲まれていることを特徴とする金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法。
【請求項４】
基材と、
前記基材の厚さ方向の少なくとも一方の面に、縁が尖っている所定の領域を形成するように設けられている凹部と、
前記所定の領域を覆っている金属ナノ粒子焼結体膜と、
を有することを特徴とする金属ナノ粒子焼結体膜付き部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材への金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法および金属ナノ粒子焼結体膜付き部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、図８で示すような、高密着性金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法（金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法）が知られている（たとえば特許文献１参照）。
【０００３】
従来の高密着性金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法では、撥液剤被覆層３０３により表面をコートした基板（基材）３０５上に、所定の塗布液厚で金属ナノ粒子分散液を塗布し、この塗布液で形成された塗布液層３０７の表面から、所定の波長のレーザ光を垂直照射し、金属ナノ粒子分散液と接する撥液剤被覆層３０３のレーザ露光領域を選択的に除去し、引き続き、塗布液層３０７に所定の波長のレーザ光を照射し、基板３０５と塗布液層３０７との界面の温度を上昇させ、基板３０５表面に高い密着性を示す金属ナノ粒子焼結体膜３０１を形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２８３７８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、従来の金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法において、レーザ光で撥液剤被覆層３０３を選択的に除去しないとすると、基材３０５の表面に塗布液（金属ナノインク）で塗布液層３０７を形成する場合、図９で示すように、塗布液層３０７が基材３０５の表面で流動してしまい、塗布液層３０７が形成される領域３０９を正確に限定することができないおそれがある。
【０００６】
そこで、従来の金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法では、上述したように、塗布液層３０７の表面から所定の波長のレーザ光を垂直照射し金属ナノ粒子分散液と接する撥液剤被覆層３０３のレーザ露光領域を選択的に除去し、この後、塗布液層３０７に所定の波長のレーザ光を照射し、基板３０５表面に撥液剤被覆層３０３を介することなく高い金属ナノ粒子焼結体膜３０１を形成している。
【０００７】
従来の金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法では、撥液剤被覆層３０３の形成、レーザ露光による撥液剤被覆層３０３の選択的な除去等をするので、金属ナノ粒子焼結体膜３０１の形成工程が煩雑であるという問題がある。
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、金属ナノ粒子焼結体膜が形成される範囲を一層正解に限定することができるとともに、簡素な工程で金属ナノ粒子焼結体膜を形成することができる金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法および金属ナノ粒子焼結体膜付き部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、基板の上面の所定の領域の縁が尖るように、前記基板の上面に凹部を形成する凹部形成工程と、前記凹部形成工程で形成された所定の領域上に金属ナノインクを塗布する塗布工程と、前記塗布工程で塗布された金属ナノインクを焼成する焼成工程とを有する金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、金属ナノ粒子焼結体膜が形成される範囲を一層正解に限定することができるとともに、簡素な工程で金属ナノ粒子焼結体膜を形成することができる金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法および金属ナノ粒子焼結体膜付き部材を提供することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】（ａ）は本発明の実施形態に係る端子の斜視図であり、（ｂ）は（ａ）におけるＩＢ−ＩＢ断面を示す図である。
【図２】（ａ）は本発明の実施形態に係る端子の製造工程の一部を示す図であり、（ａ）は折り曲げ前の端子が生成された平板状の素材の厚さ方向の一方の面を示しており、（ｂ）は折り曲げ前の端子が生成された平板状の素材の厚さ方向の他方の面を示している。
【図３】本発明の実施形態に係る金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法を示す図である。
【図４】図１（ｂ）におけるＩＶ部や図２（ａ）におけるＩＶ部を拡大して示した斜視図である。
【図５】変形例に係る端子を示す図である。
【図６】変形例に係る端子を示す図である。
【図７】変形例に係る金属ナノ粒子焼結体膜を示す図である。
【図８】従来の金属ナノ粒子焼結体膜を示す図である。
【図９】従来の金属ナノ粒子焼結体膜の生成過程を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の実施形態に係る金属ナノ粒子焼結体膜付き部材１は、たとえば端子に採用されるものであり、金属製の基材（基板）３と凹部５と金属ナノ粒子焼結体膜７とを備えて構成されている。凹部５や金属ナノ粒子焼結体膜７が設けられている端子１の部位は、端子１の接点部９になっている（図１、図２参照）。
【００１３】
凹部５は、図３（ｃ）や図４で示すように、基材３の厚さ方向の少なくとも一方の面に設けられている（たとえば上面に設けられている）。凹部５は、縁１１が尖っている所定の領域１３を形成する（囲む）ように設けられている。
【００１４】
金属ナノ粒子焼結体膜７は、所定の領域１３のみに存在し凹部５には非存在になっている。また、金属ナノ粒子焼結体膜７は、所定の領域１３の総てを覆っている。すなわち、金属ナノ粒子焼結体膜７は、所定の領域１３のみを覆っており、凹部５や、基板３の、凹部５と所定の領域１３とを除く上面の箇所１９には非存在になっている。
【００１５】
さらに説明すると、図３（ｃ）で示すように、基板３は、基板本体部（たとえば、銅や銅合金で構成されている基板本体部）１５とメッキ層（たとえばニッケルのメッキ層）１７とを備えて構成されている。メッキ層１７は、基板本体部１５の厚さ方向の、少なくとも一方の面（上面）を覆っている。
【００１６】
凹部５は、メッキ層１７だけなく、基板本体部１５にも形成されている。すなわち、基板本体部１５に形成されている凹部を一定の厚さのメッキ層１７が覆っていることで、メッキ層１７の表面（上面）に凹部５が存在している状態になっている。
【００１７】
また、凹部５の断面形状は、矩形状になっている。そして、基板３の上面の所定の領域１３の縁１１では、基板３の肉部の角度αが、９０°になっている、なお、縁１１の角度αを、９０°〜１５０°の範囲内（より好ましくは、９０°〜１２０°の範囲内）の所定の角度に設置してもよい。また、この縁１１の角部には、面取りがされておらずエッジがたっている。なお、縁１１の角部にごく僅かな面取りやＲ部がされていてもよい。
【００１８】
次に、端子１の製造方法について説明する。
【００１９】
まず、金属ナノ粒子焼結体膜７の形成方法（高密着性金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法）について説明する。
【００２０】
メッキ層１７が設けられている所定幅で長い素材（薄い平板状の素材；基材３を構成する素材）２３（図２参照）の厚さ方向の一方の面（上面）に、たとえば、プレス加工によって、図２（ａ）に参照符号９で示すところに凹部５を形成する（凹部形成工程；図３（ａ）も併せて参照）。凹部５を形成することで、縁１１が尖っている所定の領域１３が形成される。
【００２１】
平板状の基板３は、厚さ方向が上下方向になっており、凹部形成工程で凹部５が形成された状態では、凹部５で所定の領域１３が囲まれており、また、凹部５以外の上面は、上下方向で面一になっている。
【００２２】
すなわち、基板３の所定の領域１３の上面と、基板３の、凹部５と所定の領域１３とを除く上面の箇所（凹部所定領域除外箇所）１９とが上下方向と同じ高さ位置に存在しており、基板３の凹部５は、基板３の所定の領域１３や凹部所定領域除外箇所１９よりも僅かに下側に位置している。
【００２３】
続いて、凹部形成工程で形成された所定の領域１３上に金属ナノインク（たとえば金ナノインク）２１を塗布する（塗布工程；図３（ａ）（ｂ）参照）。なお、金属ナノインクとして銀（Ａｇ）インクやスズ（Ｓｎ）インク等の他の金属インクを採用してもよい。
【００２４】
塗布工程でも、凹部形成工程で凹部５が形成された面が上面になっている。また、塗布工程で、塗布される金属ナノインク２１の量は、たとえば、所定の領域１３の全域を覆うことができる量よりも多く、しかも、所定の領域１３から凹部５内にあふれ出でしまう量よりも少ない量である。
【００２５】
続いて、塗布工程で塗布された金属ナノインク２１を、ヒータやレーザ光を使って焼成する（焼成工程；図３（ｃ）、図４参照）ことで、金属ナノ粒子焼結体膜７を形成する。
【００２６】
次に、端子１の製造方法について説明する。
【００２７】
一部に金属ナノ粒子焼結体膜７を形成された素材２３について、たとえば、プレス加工によって、平板状で所定形状の端子構成材２５を得る（図２参照）。
【００２８】
続いて、端子構成材２５に曲げ加工を施して、端子１を得る。
【００２９】
なお、上記説明では、素材２３に金属ナノ粒子焼結体膜７を形成してから端子構成材２５を形成しているが、端子構成材２５を形成してから金属ナノ粒子焼結体膜７を形成してもよい。
【００３０】
金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法によれば、基板３の所定の領域１３の縁１１が尖るように凹部５を形成し、この形成された所定の領域１３上に金属ナノインク２１を塗布し、この塗布された金属ナノインク２１を焼成するので、金属ナノインク２１の表面張力によって、所定の領域１３上にのみ金属ナノインク２１を確実に塗布することができ、金属ナノ粒子焼結体膜７が形成される範囲を容易にしかも一層正解に限定することができる。
【００３１】
なお、所定の領域１３の縁１１の形態であるが、所定の領域１３に金属ナノインク２１を塗布したときに、金属ナノインク２１の表面張力で金属ナノインク２１が凹部５内に流れ出ないように形成されていることが必要である。
【００３２】
また、金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法によれば、従来のように撥水剤や撥水剤の除去が不要になり、簡素な工程で金属ナノ粒子焼結体膜７を形成することができ、金属ナノ粒子焼結体膜７を形成するとめの時間と費用を削減することができる。
【００３３】
また、金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法によれば、金属ナノインク２１の表面張力によって所定の領域１３上にのみ金属ナノインクを確実に塗布することができるので、所定の領域１３上に塗布される金属ナノインク２１の量を正確なものとすることができ、金属ナノインク２１を焼成することで得られる金属ナノ粒子焼結体膜７の厚さを正確なものにすることができる。
【００３４】
また、金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法によれば、プレス加工によって凹部５を形成するので、基板３の上面の所定の領域１３の縁１１を尖らせつつ、正確な形状の所定の領域１３を容易に形成することができる。
【００３５】
また、金属ナノ粒子焼結体膜の形成方法によれば、金属ナノインク２１が塗布される所定の領域１３が凹部５によって囲まれているので、所定の領域１３のみに金属ナノインク２１を一層確実に塗布することができる。
【００３６】
また、端子１によれば、凹部５が形成されているので、金属ナノ粒子焼結体膜７が形成された領域を肉眼で容易に視認することができる。
【００３７】
なお、図１、図２で示すものでは、金属ナノ粒子焼結体膜７をメス端子１の接点部９を設けているが、図５（ａ）（ｂ）（ｃ）で示すように、金属ナノ粒子焼結体膜７をオス端子１ａのタブ部の接点部９を設けてもよいし、図６で示すように、プリント配線板の端子１ｂの接点部９に設けてもよい。図５（ｄ）で示すものは、変形例に係るタブ部に金属ナノ粒子焼結体膜７を設けたものである。
【００３８】
また、図３で示すものは、所定の領域１３が平板状に形成されているが、図７（ａ）で示すように、所定の領域１３の中央部に、たとえば、プレス成形で、凹部５を形成すると同時に、凹部２７を設けてもよい。
【００３９】
また、図７（ｂ）で示すように、メッキ層１７のみに凹部５を形成してもよい。この場合、メッキ層１７の凹部５はたとえばエッチングで形成される。
【符号の説明】
【００４０】
１  金属ナノ粒子焼結体膜付き部材（端子）
３  基板（基材）
５  凹部
７  金属ナノ粒子焼結体膜
１１  縁
１３  所定の領域
２１  金属ナノインク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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