(57)【要約】【課題】高価な分析機器を用いることなく、処理を的確に行うことができる電子部品製造ライン排水の処理方法及び装置を提供する。【解決手段】電子部品製造ライン１で発生した排水は、原水槽２に流入し、該原水槽２からポンプ３を介して曝気槽４に送水される。曝気槽４には散気管４ａが設置されており、ブロワ５から供給される空気によって曝気が行われる。曝気処理水は、沈殿槽６に送水されて沈殿処理され、上澄水が処理水として取り出される。沈殿汚泥の一部は、返送配管７を介して曝気槽４に返送され、余剰汚泥は配管８を介して排出される。水処理管理装置２０は、生産管理装置１０から生産予定データを受け取り、ライン１から発生する排水の流量及び有機物濃度の時系列値を算出し、これに基づいてポンプ３及びブロワ５を制御する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子部品製造ラインから排出される排水を処理手段で処理する電子部品製造ライン排水の処理方法において、
該電子部品製造ラインの作動を管理する生産管理装置の生産予定データに基づいて該電子部品製造ラインからの排水の水質及び流量を演算し、
この演算データに基づいて前記処理手段を制御することを特徴とする電子部品製造ライン排水の処理方法。
【請求項２】
前記処理手段は曝気槽を備えており、前記演算データに基づいて、該曝気槽における曝気強度を制御することを特徴とする請求項１に記載の電子部品製造ライン排水の処理方法。
【請求項３】
前記電子部品製造ライン排水の流量及び有機物濃度に基づいて前記曝気強度を制御することを特徴とする請求項２に記載の電子部品製造ライン排水の処理方法。
【請求項４】
電子部品製造ラインから排出される電子部品製造ライン排水の処理手段と、該処理手段を制御する水処理管理装置と
を有する電子部品製造ライン排水の処理装置において、
該水処理管理装置は、前記電子部品製造ラインを制御する生産管理装置から受け入れた電子部品製造ラインの運転予定データに基づいて電子部品製造ライン排水流量及び水質の時系列値を演算する流量及び水質解析部と、
該電子部品製造ライン排水流量及び水質の時系列値に基づいて前記処理手段を制御する制御部と
を備えたことを特徴とする電子部品製造ライン排水の処理装置。
【請求項５】
前記処理手段は曝気槽を備えており、前記水処理管理装置は、電子部品製造ライン排水の流量と有機物濃度とに基づいて該曝気槽の曝気強度を制御することを特徴とする請求項４に記載の電子部品製造ライン排水の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品製造ライン排水を処理する方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程等から排出される排水を生物処理することが広く行われている（特許文献１，２等）。
【０００３】
特許文献１には、この生物処理装置からの処理水のアミン濃度、アンモニウムイオン濃度、硝酸イオン濃度、亜硝酸イオン濃度を測定し、この測定結果に基づいて生物処理槽の運転調整を行うことが記載されている。
【０００４】
特許文献２には、原水のＴＯＣ濃度を測定し、この測定値に応じて原水にＴＯＣ源を添加して好気性生物処理することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許６１７９６３０号
【特許文献２】特開２０１４−２１３２６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
アミン濃度、アンモニウムイオン濃度等や、ＴＯＣを測定するには、高価な測定機器が必要であり、設備コストが嵩んでいた。
【０００７】
本発明は、高価な分析機器を用いることなく、処理を的確に行うことができる電子部品製造ライン排水の処理方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は次を要旨とする。
【０００９】
［１］  電子部品製造ラインから排出される排水を処理手段で処理する電子部品製造ライン排水の処理方法において、該電子部品製造ラインの作動を管理する生産管理装置の生産予定データに基づいて該電子部品製造ラインからの排水の水質及び流量を演算し、この演算データに基づいて前記処理手段を制御することを特徴とする電子部品製造ライン排水の処理方法。
【００１０】
［２］  前記処理手段は曝気槽を備えており、前記演算データに基づいて、該曝気槽における曝気強度を制御することを特徴とする［１］に記載の電子部品製造ライン排水の処理方法。
【００１１】
［３］  前記電子部品製造ライン排水の流量及び有機物濃度に基づいて前記曝気強度を制御することを特徴とする［２］に記載の電子部品製造ライン排水の処理方法。
【００１２】
［４］  電子部品製造ラインから排出される電子部品製造ライン排水の処理手段と、該処理手段を制御する水処理管理装置とを有する電子部品製造ライン排水の処理装置において、該水処理管理装置は、前記電子部品製造ラインを制御する生産管理装置から受け入れた電子部品製造ラインの運転予定データに基づいて電子部品製造ライン排水流量及び水質の時系列値を演算する流量及び水質解析部と、該電子部品製造ライン排水の流量及び水質の時系列値に基づいて前記処理手段を制御する制御部とを備えたことを特徴とする電子部品製造ライン排水の処理装置。
【００１３】
［５］  前記処理手段は曝気槽を備えており、前記水処理管理装置は、電子部品製造ライン排水の流量と有機物濃度とに基づいて該曝気槽の曝気強度を制御することを特徴とする［４］に記載の電子部品製造ライン排水の処理装置。
【００１４】
なお、電子部品としては、半導体、液晶パネルなどが例示されるが、これらに限定されない。
【発明の効果】
【００１５】
電子部品製造ラインにあっては、各工程におけるエッチング溶液等の使用薬液の種類、濃度、及び洗浄用超純水の使用量が厳密に管理されているので、電子部品製造ライン排水の発生量及びその水質の時系列値は当該ラインの稼動予定データから高精度で推定することができる。
【００１６】
そのため、該ラインからの排水を受け入れる処理手段、例えば曝気槽内に供給される排水量及び有機物濃度の時系列値も上記稼動予定データから高精度で推定することができる。
【００１７】
本発明では、このように推定された電子部品製造ライン排水の流量及び水質に基づいて処理手段を制御するので、高価な水質測定装置が不要となる。また、水質測定センサを頻繁にメンテナンスすることも不要となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】実施の形態に係る電子部品製造ライン排水の処理装置の構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図１を参照して実施の形態について説明する。
【００２０】
図１は電子部品製造工場における電子部品製造ライン排水の処理装置を示すものである。この工場では、電子部品製造ライン１から排出された電子部品製造ライン排水は、原水槽２に流入し、該原水槽２からポンプ３を介して曝気槽４に送水される。曝気槽４には散気管４ａが設置されており、ブロワ５から供給される空気によって曝気が行われ、好気性生物処理が行われる。曝気処理水は、沈殿槽６に送水されて沈殿処理され、上澄水が処理水として取り出される。沈殿汚泥の一部は、返送配管７を介して曝気槽４に返送され、余剰汚泥は配管８を介して排出される。
電子部品製造ライン１は、生産管理装置１０によって管理されている。
【００２１】
生産管理装置１０は、該ライン１での生産予定データに基づいて該ライン１を制御するので、ライン１から発生する排水の流量及び水質（この実施の形態では有機物濃度）の時系列値を、該生産予定データから正確に算出することができる。
【００２２】
水処理管理装置２０は、生産管理装置１０から生産予定データを受け取り、ライン１から発生する排水の流量及び有機物濃度の時系列値を演算し、この結果に基づいてポンプ３及びブロワ５を制御する。水処理管理装置２０には、有機物負荷（曝気槽4への流入排水量と有機物濃度との積）と曝気風量との関係を示すデータが記憶されている。
【００２３】
この実施の形態では、原水槽2への排水の流入量から原水槽２内の原水の貯留量の時系列値が高精度に予測されるので、曝気槽４に送水すべき水量を演算し、この演算結果に基づいてポンプ３を制御する。また、この実施の形態では、原水槽２内の排水の貯留量だけでなく該排水の有機物濃度の時系列値も高精度に予測されるので、曝気槽４に送水する原水量と有機物濃度の時系列値に基づいて曝気空気量を演算し、この演算結果に基づいてブロワ５を制御する。
【００２４】
例えば、ポンプ３は、原水槽２内の水位が規定の下限値と上限値との間になるように制御される。具体的には、原水槽２内の水量が多かったり今後流入する水量が多いと予想されるときには、ポンプ３の送水量を多くする。逆の場合には、ポンプ３の送水量を少なくする。
【００２５】
また、曝気槽４への送水量とそのときの水中の有機物濃度との積によって曝気槽４の有機物負荷が求まるので、この負荷に応じた曝気風量となるようにブロワ５が水処理管理装置２０によって制御される。
【００２６】
このようにして、電子部品製造ラインから排出される排水の流量及び有機物濃度を直接に計測することなく、的確に曝気風量（曝気強度）を制御して適正な有機物分解処理を行うことができる。
【００２７】
なお、ライン１からの排水中には、有機物以外にも、種々のイオンが含まれているので、イオンを凝集処理する凝集手段等の各種水処理手段を設置してもよい。。この場合、排水中のイオンの濃度の時系列値も精度よく予測できるので、この予測値に基づいて、該水処理手段を制御してもよい。
【符号の説明】
【００２８】
１  電子部品製造ライン
２  原水槽
３  ポンプ
４  曝気槽
５  ブロワ
６  沈殿槽
【図１】
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