(57)【要約】      （修正有）【課題】光源の破損を確実に防止しながらメンテナンス作業のための光源の冷却待ち時間を短縮するのに有利な光源装置を提供する。【解決手段】光源装置１００は、光源２と、光源２の冷却を行う冷却部１５０と、冷却部１５０の動作を制御する制御部７と、を有し、制御部７は、光源２を破損させない範囲で、光源２の駆動が停止されてからの経過時間に応じて冷却部１５０の冷却能力を高める。また、制御部７は、光源２の冷却速度が光源２を破損させる冷却速度を超えないように、経過時間に応じて冷却部１５０の冷却能力を高める。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
前記光源の冷却を行う冷却部と、
前記冷却部の動作を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記光源を破損させない範囲で、前記光源の駆動が停止されてからの経過時間に応じて前記冷却部の冷却能力を高める
ことを特徴とする光源装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記光源の冷却速度が前記光源を破損させる冷却速度を超えないように、前記経過時間に応じて前記冷却部の冷却能力を高めることを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項３】
前記光源は放電ランプであり、
前記冷却部は、前記放電ランプに冷媒を供給する冷媒供給部と、前記放電ランプの周囲の気体を排出する排気部とを含み、
前記制御部は、単位時間あたりの、前記冷媒供給部による冷媒の供給量および前記排気部により排出される気体の流量を増加させることにより、前記冷却能力を高める
ことを特徴とする請求項１または２に記載の光源装置。
【請求項４】
前記冷媒供給部は、前記放電ランプの陽極側口金部および陰極側口金部にそれぞれ冷媒を供給する陽極冷却ノズルおよび陰極冷却ノズルを含むことを特徴とする請求項３に記載の光源装置。
【請求項５】
前記冷媒供給部は、前記放電ランプのバルブに冷媒を供給するバルブ冷却ノズルを更に含むことを特徴とする請求項４に記載の光源装置。
【請求項６】
前記制御部は、
前記放電ランプの駆動時は、前記陽極冷却ノズルおよび前記陰極冷却ノズルのみから冷媒を供給し、
前記放電ランプの駆動が停止されると、前記バルブ冷却ノズルから冷媒を追加的に供給する
ことを特徴とする請求項５に記載の光源装置。
【請求項７】
前記制御部は、
前記放電ランプの駆動時は、前記陽極冷却ノズルおよび前記陰極冷却ノズルのみから冷媒を供給し、
前記放電ランプの駆動が停止されると、前記陽極冷却ノズルおよび前記陰極冷却ノズルからの冷媒を供給を停止し、かわりに前記バルブ冷却ノズルから冷媒を供給し、所定時間経過後、前記陽極冷却ノズルおよび前記陰極冷却ノズルからの冷媒を供給を再開する
ことを特徴とする請求項５に記載の光源装置。
【請求項８】
前記冷媒供給部は、前記放電ランプの陽極側ステム部および陰極側ステム部にそれぞれ冷媒を供給する陽極側ステム部冷却ノズルおよび陰極側ステム部冷却ノズルを更に含むことを特徴とする請求項４に記載の光源装置。
【請求項９】
前記制御部は、
前記放電ランプの駆動時は、前記陽極冷却ノズルおよび前記陰極冷却ノズルのみから冷媒を供給し、
前記放電ランプの駆動が停止されると、前記陽極側ステム部冷却ノズルおよび前記陰極側ステム部冷却ノズルから冷媒を追加的に供給する
ことを特徴とする請求項８に記載の光源装置。
【請求項１０】
前記制御部は、
前記放電ランプの駆動時は、前記陽極冷却ノズルおよび前記陰極冷却ノズルのみから冷媒を供給し、
前記放電ランプの駆動が停止されると、前記陽極冷却ノズルおよび前記陰極冷却ノズルからの冷媒を供給を停止し、かわりに前記陽極側ステム部冷却ノズルおよび前記陰極側ステム部冷却ノズルから冷媒を供給し、所定時間経過後、前記陽極冷却ノズルおよび前記陰極冷却ノズルからの冷媒を供給を再開する
ことを特徴とする請求項８に記載の光源装置。
【請求項１１】
前記光源またその近傍に配置された温度センサを更に有し、
前記制御部は、前記温度センサの検知結果に応じて前記冷却能力を制御する
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１２】
前記制御部は、前記検知結果から前記光源の温度を求め、該求められた温度が所定温度を下回った場合、そのことをユーザに報知することを特徴とする請求項１１に記載の光源装置。
【請求項１３】
基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の光源装置を有し、
前記光源装置からの光を用いて前記基板上の感光剤を露光することにより前記基板にパターンを形成することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された基板を加工する工程と、
を有し、前記加工された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光源装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶表示素子等の製造工程であるリソグラフィ工程で使用される露光装置においては、放電ランプのような高出力の光源が用いられる。放電ランプは発光熱により高温となる。そのため、放電ランプのメンテナンス（例えば交換作業）を行う際には、放電ランプの温度を手作業を安全に行える温度にまで下げる必要がある。この温度が下がるのを自然に任せていたのでは待機時間が長くなるため、例えば特許文献１では、光源の駆動停止後においても、冷媒の供給または照明系内の排気による強制冷却を行うようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−２５０７６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、放電ランプの温度は発光を繰り返すことにより例えば５００℃を超える可能性があり、そのような状態から上記従来手法によって急激に冷却を行うと、放電ランプが破裂する可能性がある。
【０００５】
本発明は、例えば、光源の破損を確実に防止しながらメンテナンス作業のための光源の冷却待ち時間を短縮するのに有利な光源装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一側面によれば、光源と、前記光源の冷却を行う冷却部と、前記冷却部の動作を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記光源を破損させない範囲で、前記光源の駆動が停止されてからの経過時間に応じて前記冷却部の冷却能力を高めることを特徴とする光源装置が提供される。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、例えば、光源の破損を確実に防止しながらメンテナンス作業のための光源の冷却待ち時間を短縮するのに有利な光源装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施形態に係る露光装置の構成を示す図。
【図２】第１実施形態における光源装置の構成を示す図。
【図３】第２実施形態における光源装置の構成を示す図。
【図４】第３実施形態における光源装置の構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。尚、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
【００１０】
本明細書および添付図面においては、水平面をＸＹ平面とするＸＹＺ座標系において方向を示す。ＸＹＺ座標系におけるＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸にそれぞれ平行な方向をＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向とする。
【００１１】
以下の実施形態では、本発明の光源装置が適用されるリソグラフィ装置に関して説明する。リソグラフィ装置は、基板上にパターンを形成する装置であり、リソグラフィ装置の例として、露光装置およびインプリント装置を挙げることができる。露光装置は、例えば、感光剤が塗布された基板に投影光学系を介して原版のパターンを投影することによって原版のパターンに対応する潜像パターンを感光剤に形成する。インプリント装置は、例えば、基板の上に配置されたインプリント材に原版（モールド）を接触させた状態でインプリント材を照明して硬化させることによってインプリント材を原版のパターンに対応するパターンに成形する。
【００１２】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明に係る光源装置を備えた、リソグラフィ装置の１つである露光装置の構成を示すブロック図である。この露光装置は、光源を含む光源装置１００と、照明光学系２００と、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳと、投影光学系３００と、基板であるウエハＷを保持するウエハステージＷＳと、制御部４００とを含む。
【００１３】
照明光学系２００は、不図示のレンズ、ミラー、オプティカルインテグレータ、絞り等を含み、これらによって光源装置１００からの光を調整し、被照明領域であるレチクルＲを照明する。レチクルＲは、ウエハＷ上に転写されるべきパターン（例えば回路パターン）が形成された、例えば石英ガラス製の原版（マスク）である。レチクルステージＲＳは、レチクルＲを保持してＸ，Ｙ，Ｚの各軸方向および各軸周りの回転方向に可動であり、不図示のリニアモータ等の駆動機構によって駆動される。投影光学系３００は、レチクルＲを通過した光を所定の倍率でウエハＷ上に投影する。ウエハＷは、表面上にフォトレジスト（感光性材料）が塗布された、例えば単結晶シリコンからなる基板である。ウエハステージＷＳは、不図示のウエハチャックを介してウエハＷを保持し、Ｘ，Ｙ，Ｚの各軸方向および各軸周りの回転方向に可動であり、不図示のリニアモータ等の駆動機構によって駆動される。
【００１４】
制御部４００は、例えば、ＣＰＵ４０１、メモリ４０２、表示部４０３を含むコンピュータ装置によって構成され、露光装置の各部を統括的に制御して、レチクルＲに形成されたパターンをウエハＷに転写する露光処理を実行する。
【００１５】
図２は、光源装置１００の構成を示す図である。光源装置１００は、光源である放電ランプ２と、集光ミラー４と、放電ランプ２および集光ミラー４を収容するハウジング５と、放電ランプ２の冷却を行う冷却部１５０とを含む。放電ランプ２は、例えば、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等の光を供給する超高圧水銀ランプでありうる。放電ランプ２には、高圧水銀ランプの他、キセノンランプやエキシマレーザー等が用いられてもよい。集光ミラー４は、放電ランプ２から出た光を集光するための集光光学系である。集光ミラー４の内表面は、放物楕円面の一部を切り取った形状の反射面を有している。したがってこのような集光ミラーは楕円ミラーともよばれる。集光ミラー４の第１焦点から放射状に射出した光は、楕円の内面で反射すると第２焦点に集光する特性を有している。そこで光源である放電ランプ２の輝点を集光ミラー４の第１焦点に一致させて配置すると、放電ランプ２から放射状に拡散した照明光は第２焦点に集光する。集光ミラー４の反射面には熱線透過膜がコーティングされていて、放電ランプ２から拡散した照明光のうち、熱線の成分は集光ミラー４を透過してその他の波長成分だけが反射される。更に、不図示の波長選択フィルタによって露光に不必要な波長成分を更に排除して第２焦点側へ照明光を集光させている。
【００１６】
放電ランプ２は、電極（陽極および陰極）を収容しているバルブ３１と、バルブ３１の一端に取り付けられた陽極側口金部３ａと、バルブ３１の他端に取り付けられた陰極側口金部３ｂとを有する。放電ランプ２に超高電圧が印加されることにより放電ランプ２は発光すると同時に、放電ランプ２自身が発熱する。放電ランプ２に水銀ランプが使用される場合、放電ランプ２の内部には、室温での封入圧力が０．１〜０．８ＭＰａ程度のハロゲン希ガスと、少量の水銀が封入される。内部のハロゲン希ガスの種類や水銀についての詳細は、特開平２−１４８５６１号公報、特開平１０−１１２２８９号公報等に、ランプの特性に従って種々の例が開示されているので、ここでは省略する。放電ランプ２が点灯状態になると、内部の温度が上昇して、圧力は１５ＭＰａ以上にも達する。放電ランプ２は、このような圧力下において陽極と陰極との間でのアーク放電により輝点を発生させるものであるが、内部の温度上昇と同時にバルブ３１の表面も当然のことながら温度が上昇する。これに伴い、陽極側口金部３ａおよび陰極側口金部３ｂの温度も上昇することになる。一方、水銀ランプの場合、ランプの温度は低すぎても、ランプ内部の水銀蒸気圧が安定せず、所望の発光特性を得られないため、ランプの表面温度は通常、５００℃以上７００℃以下に設定される。しかし、陽極側口金部３ａおよび陰極側口金部３ｂでは、それらの構造上、例えば１５０℃以下に温度を抑えなければならない。
【００１７】
冷却部１５０は、放電ランプ２に冷媒（例えば、冷却用圧縮空気）を供給する冷媒供給部１６０を有する。具体的には、冷媒供給部１６０は、陽極冷却ノズル６ａおよび陰極冷却ノズル６ｂを含む。冷却部１５０は、陽極冷却ノズル６ａおよび陰極冷却ノズル６ｂから陽極側口金部３ａおよび陰極側口金部３ｂに向けて冷媒を吹き付けることで冷却を行う。冷媒流量調整部１１は、陽極冷却ノズル６ａおよび陰極冷却ノズル６ｂから吹き出される冷媒の流量を調節する。
【００１８】
また、冷却部１５０は、ハウジング５内の換気も併せて行う。具体的には、ハウジング５は、空気を室内に導入するための吸気経路９ａと、室内の空気を排出するための排気経路９ｂとにつながっている。排気経路９ｂには、強制排気を行うことで放電ランプ２の周囲の気体を排出する排気部である排気流量調整部２１が設けられている。排気流量調整部２１は例えばファンを含み、このファンを駆動することによってハウジング５内の強制排気を行う。排気流量調整部２１は、そのファンの駆動量を調整することにより、排出される気体の流量を調整する。冷却部１５０の動作は冷却制御部７によって行われる。すなわち、冷媒流量調整部１１および排気流量調整部２１は、冷却制御部７によって制御される。なお、冷却制御部７は、制御部４００とは別に構成されていてもよいし、冷却制御部７は制御部４００に含まれていてもよい。すなわち、制御部４００が冷却制御部７の機能を果たすように構成されていてもよい。
【００１９】
放電ランプ２のメンテナンス（例えば交換作業）を行う場合、放電ランプ２の駆動が停止される。その後、作業者は、放電ランプ２の温度が手作業を安全に行える温度に下がるまで待機することになる。このとき、この温度が下がるのを自然に任せていたのでは待機時間が長くなるため、放電ランプ２の駆動停止後もなお、冷媒の供給および強制排気による冷却動作が継続される。しかし、急激に冷却した場合には放電ランプ２が破裂するおそれもある。そこで本実施形態では、放電ランプ２を破損させない範囲で、放電ランプ２の駆動が停止されてからの経過時間に応じて冷却部１５０の冷却能力を高める。以下に具体例を示す。
【００２０】
放電ランプ２の駆動が停止（消灯）されると、冷却制御部７は、単位時間あたりの冷媒供給量および排出される気体の流量を、放電ランプ２の駆動（点灯）時の例えば１．２倍に増加させる。この状態で、第１所定時間（ｔ１）、放電ランプ２の冷却を行う。ここで、第１所定時間（ｔ１）は、放電ランプ２の温度が過冷却によるランプ破裂が起きない温度に下がるまでの時間として、実験等によって予め設定された時間である。したがって、その後に冷却能力を高めても、過冷却によって放電ランプ２が破損することはない。
【００２１】
第１所定時間経過後、冷却制御部７は、単位時間あたりの冷媒供給量および排出される気体の流量を、点灯時の例えば１．５倍に増加させる。この状態で、第２所定時間（ｔ２）、放電ランプ２の冷却を行う。ここで、第２所定時間（ｔ２）は、放電ランプ２の温度が交換作業が可能な温度に下がるまでの時間として予め設定された時間である。これにより、冷媒の過剰な供給および過剰な強制排気、言い換えると、強冷却動作が必要以上に長い時間継続されること、が防止される。
【００２２】
第２所定時間経過後、冷却制御部７は、単位時間あたりの冷媒供給量および排出される気体の流量を、点灯時と同じ量に戻す。あるいは、第２所定時間経過後は、冷却動作を終了してもよい。
【００２３】
このように、第１所定時間、第２所定時間、およびそれらの間の冷却能力を設定することで、冷却制御部７は、放電ランプ２の冷却速度が放電ランプ２を破損させるような冷却速度を超えないように冷却部１５０の冷却能力を段階的に高める。なお、冷却能力に関して上記した１．２倍、１．５倍といった値は単なる例示にすぎない。また、上記した第１所定時間および第２所定時間だけでなく更に多くの所定時間に分割して冷却能力を設定してもよい。更には例えば、放電ランプ２の駆動が停止されてからの経過時間に応じて冷却能力が段階的または連続的に高まるような経過時間の関数によって冷却能力が設定されてもよい。
【００２４】
＜第２実施形態＞
図３は、第２実施形態における光源装置１００の構成を示す図である。図３では、図２の構成に加えて、放電ランプ２のバルブ３１を冷却するためのバルブ冷却ノズル３２が構成されている。すなわち、本実施形態の冷媒供給部１６０は、陽極冷却ノズル６ａ、陰極冷却ノズル６ｂ、およびバルブ冷却ノズル３２を含む。バルブ冷却ノズル３２から吹き出される冷媒の流量は、冷媒流量調整部１１によって調整される。以下に、本実施形態における冷却能力の制御の具体例を示す。
【００２５】
一例において、放電ランプ２の点灯時（駆動時）は、冷却制御部７は、陽極冷却ノズル６ａおよび陰極冷却ノズル６ｂからのみ冷媒を供給している。メンテナンスのために放電ランプ２が消灯されると、冷却制御部７は、バルブ冷却ノズル３２から冷媒を追加的に供給する。このとき、第１実施形態と同様に、陽極冷却ノズル６ａおよび陰極冷却ノズル６ｂからの冷媒供給量を、点灯時の例えば１．２倍に上げてもよい。この状態で、第１所定時間（ｔ１）、放電ランプ２の冷却を行う。第１所定時間経過後、冷却制御部７は、単位時間あたりの、陽極冷却ノズル６ａ、陰極冷却ノズル６ｂ、およびバルブ冷却ノズル３２からの冷媒供給量と、排出される気体の流量を、点灯時の例えば１．５倍に上げる。この状態で、第２所定時間（ｔ２）、放電ランプ２の冷却を行う。第２所定時間経過後、冷却制御部７は、単位時間あたりの冷媒供給量および排出される気体の流量を、点灯時と同じ量に戻す。あるいは、第２所定時間経過後は、冷却動作を終了してもよい。
【００２６】
別の例においては、メンテナンスのために放電ランプ２が消灯されると、冷却制御部７は、陽極冷却ノズル６ａおよび陰極冷却ノズル６ｂからの冷媒の供給を停止し、バルブ冷却ノズル３２からのみ冷媒を供給する。この状態で、第１所定時間（ｔ１）、放電ランプ２の冷却を行う。第１所定時間経過後、冷却制御部７は、陽極冷却ノズル６ａおよび陰極冷却ノズル６ｂからの冷媒の供給を再開することにより冷却能力を高める。この状態で、第２所定時間（ｔ２）、放電ランプ２の冷却を行う。第２所定時間経過後、冷却制御部７は、単位時間あたりの冷媒供給量および排出される気体の流量を、点灯時と同じ量に戻す。あるいは、第２所定時間経過後は、冷却動作を終了してもよい。
【００２７】
上記の例では、冷却制御部７は、放電ランプ２が消灯されたタイミングで陽極側ステム部冷却ノズル３４ａおよび陰極側ステム部冷却ノズル３４ｂからの冷媒の供給を追加したが、更に遅いタイミングで追加してもよい。
【００２８】
＜第３実施形態＞
図４は、第３実施形態における光源装置１００の構成を示す図である。図４では、図２の構成に加えて、放電ランプ２の陽極側ステム部３３ａおよび陰極側ステム部３３ｂを冷却するための陽極側ステム部冷却ノズル３４ａおよび陰極側ステム部冷却ノズル３４ｂが構成されている。すなわち、本実施形態の冷媒供給部１６０は、陽極冷却ノズル６ａ、陰極冷却ノズル６ｂ、陽極側ステム部冷却ノズル３４ａ、および陰極側ステム部冷却ノズル３４ｂを含む。陽極側ステム部冷却ノズル３４ａおよび陰極側ステム部冷却ノズル３４ｂから吹き出される冷媒の流量は、冷媒流量調整部１１によって調整される。以下、本実施形態における冷却能力の制御の具体例を示す。
【００２９】
一例において、放電ランプ２の点灯時は、冷却制御部７は、陽極冷却ノズル６ａおよび陰極冷却ノズル６ｂからのみ冷媒を供給している。メンテナンスのために放電ランプ２が消灯されると、冷却制御部７は、陽極側ステム部冷却ノズル３４ａおよび陰極側ステム部冷却ノズル３４ｂから冷媒を追加的に供給する。このとき、第１実施形態と同様に、陽極冷却ノズル６ａおよび陰極冷却ノズル６ｂからの冷媒供給量を、点灯時の例えば１．２倍に上げてもよい。この状態で、第１所定時間（ｔ１）、放電ランプ２の冷却を行う。第１所定時間経過後、冷却制御部７は、単位時間あたりの、陽極冷却ノズル６ａ、陰極冷却ノズル６ｂ、陽極側ステム部冷却ノズル３４ａ、陰極側ステム部冷却ノズル３４ｂからの冷媒供給量と、排出される気体の流量を、点灯時の例えば１．５倍に上げる。この状態で、第２所定時間（ｔ２）、放電ランプ２の冷却を行う。第２所定時間経過後、冷却制御部７は、単位時間あたりの冷媒供給量および排出される気体の流量を、点灯時と同じ量に戻す。あるいは、第２所定時間経過後は、冷却動作を終了してもよい。
【００３０】
別の例においては、メンテナンスのために放電ランプ２が消灯されると、冷却制御部７は、陽極冷却ノズル６ａおよび陰極冷却ノズル６ｂからの冷媒の供給を停止する。そのかわりに、陽極側ステム部冷却ノズル３４ａおよび陰極側ステム部冷却ノズル３４ｂから冷媒を供給する。この状態で、第１所定時間（ｔ１）、放電ランプ２の冷却を行う。第１所定時間経過後、冷却制御部７は、陽極冷却ノズル６ａおよび陰極冷却ノズル６ｂからの冷媒の供給を再開することにより冷却能力を高める。この状態で、第２所定時間（ｔ２）、放電ランプ２の冷却を行う。第２所定時間経過後、冷却制御部７は、単位時間あたりの冷媒供給量および排出される気体の流量を、点灯時と同じ量に戻す。あるいは、第２所定時間経過後は、冷却動作を終了してもよい。
【００３１】
上記の例では、冷却制御部７は、放電ランプ２が消灯されたタイミングで陽極側ステム部冷却ノズル３４ａおよび陰極側ステム部冷却ノズル３４ｂからの冷媒の供給を追加したが、更に遅いタイミングで追加してもよい。
【００３２】
＜第４実施形態＞
第４実施形態では、放電ランプ２またはその近傍に温度センサが配置される。図２〜図４の例においては、排気経路９ｂ内に温度センサ８が配置されている。
【００３３】
冷却制御部７は、温度センサ８の検知結果をモニタしており、その検知結果に応じて冷却能力の制御を行うようにしてもよい。
【００３４】
例えば、制御部４００は、表示部４０３を備える。制御部４００は、冷却制御部７から温度センサ８の検知結果を受信し、その検知結果から求められる放電ランプ２の温度を表示部４０３に表示させることができる。また、その求められた温度が所定温度、例えば、放電ランプ２の交換等の手作業を安全に行える温度として定められた温度（例えば４０℃）、を下回った場合にはそのことをユーザに報知するための表示が表示部４０３によって行われてもよい。あるいは、そのようなユーザへの報知は音声出力によって行われてもよい。
【００３５】
＜物品製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態における物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、上記のリソグラフィ装置（露光装置やインプリント装置、描画装置など）を用いて基板に原版のパターンを形成する形成工程と、該形成工程でパターンが形成された基板を加工する加工工程とを含みうる。更に、かかる物品製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含みうる。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００３６】
発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。
【符号の説明】
【００３７】
１００：光源装置、２：放電ランプ、３ａ：陽極側口金部、３ｂ：陰極側口金部、４：集光ミラー、５：ハウジング、７：冷却制御部、１１：冷媒流量調整部、２１：排気流量調整部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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