(57)【要約】【課題】砥粒保持力が高く且つ高い加工性能が得を有する砥粒電着ワイヤーを提供することにある。【解決手段】金属ワイヤー１２の表面に形成されたニッケルメッキ膜１４は、スラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率のうち、多角粒子を用いた場合である多角粒子摩耗率（エロージョン率）（μｍ／ｇ）が０．１５〜０．６μｍ／ｇを示し、および／または、球形粒子を用いた場合である球形粒子摩耗率（エロージョン率）（μｍ／ｇ）が０．６〜１．５μｍ／ｇを示す強度を有することから、砥粒保持力が高く且つ砥粒１６上のニッケルメッキ膜１４が適度にはがれて研削抵抗の増加が抑制されるので、高い加工性能が得られる。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
砥粒がニッケルメッキにより金属ワイヤーの表面に電着された砥粒電着ワイヤーであって、
前記金属ワイヤーの表面に形成されたニッケルメッキ膜は、多角粒子を用いたスラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率の平均値が、０．１５〜０．６μｍ／ｇを示す強度を有する
ことを特徴とする砥粒電着ワイヤー。
【請求項２】
砥粒がニッケルメッキにより金属ワイヤーの表面に電着された砥粒電着ワイヤーであって、
前記金属ワイヤーの表面に形成されたニッケルメッキ膜は、球形粒子を用いたスラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率の平均値が、０．６〜１．５μｍ／ｇを示す強度を有する
ことを特徴とする砥粒電着ワイヤー。
【請求項３】
砥粒がニッケルメッキにより金属ワイヤーの表面に電着された砥粒電着ワイヤーであって、
前記金属ワイヤーの表面に形成されたニッケルメッキ膜は、スラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率の平均値が、多角粒子を用いた場合には０．１５〜０．６μｍ／ｇであり、且つ、球形粒子を用いた場合には０．６〜１．５μｍ／ｇを示す強度を有する
ことを特徴とする砥粒電着ワイヤー。
【請求項４】
前記ニッケルメッキ膜は、多層構造である
ことを特徴とする請求項１から請求項３の何れか１項の砥粒電着ワイヤー。
【請求項５】
前記ニッケルメッキ膜は、前記砥粒の平均粒径の２５〜７０％の膜厚を有する
ことを特徴とする請求項１から請求項４の何れか１項の砥粒電着ワイヤー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属ワイヤーの表面に砥粒をメッキにより固定させた砥粒電着ワイヤーに関する。
【背景技術】
【０００２】
固定砥粒型の研削工具であるワイヤーソーとして、ピアノ線などの金属ワイヤーの外周面に砥粒をたとえばニッケルメッキにより固着した砥粒電着ワイヤーが知られている。特許文献１、特許文献２、特許文献３に記載された砥粒電着ワイヤーがそれである。これによれば、砥粒保持力および加工効率が高いという利点がある。
【０００３】
これに対して、砥粒を金属ワイヤーの表面に樹脂で固着するレジンワイヤーが知られている。特許文献４および特許文献５に記載のものがそれである。これによれば、柔軟性が高く、捩れに起因する断線が無く且つ加工面の面粗さが良好であるという利点がある一方で、砥粒保持力が小さく、加工効率が低いという欠点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１８１６９８号公報
【特許文献２】特階２００４−０２７２８３号公報
【特許文献３】特開平０９−１５０３１４号公報
【特許文献４】特開平１０−１３８１１４号公報
【特許文献５】特開平１１−３４７９１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、たとえば単結晶材料を切断加工するために砥粒電着ワイヤーを用いることが多用されて来ており、近年にはさらに硬い被削材であるサファイヤ、窒化ガリウム、炭化珪素などの難切削材の切断に対して高い加工効率が求められている。しかしながら、砥粒電着ワイヤーの加工性能は、砥粒を保持するニッケルメッキ膜の特性に依存しているが、そのニッケルメッキ膜の特性、特に強度や摩耗特性を客観的に表すことができなかった。このため、砥粒電着ワイヤーの加工性能の品質を保証することができず、経験に頼っていた。
【０００６】
砥粒電着ワイヤーにおいて、ニッケルメッキ膜の強度が高すぎると、ニッケルメッキ膜のうち砥粒を覆っている部分の除去が難しくなるので、研削抵抗の増加に起因して加工性能が低下する。反対に、ニッケルメッキ膜の強度が低すぎると、砥粒の保持力が低くなるので、脱粒によって加工性能が低下する。したがって、ニッケルメッキ膜の強度範囲をどのようにすれば、砥粒電着ワイヤーの加工性能を最適とすることができるかが、客観的に把握できていないので、砥粒保持力が高く且つ高い加工性能を有する砥粒電着ワイヤーを提供することができなかった。
【０００７】
本発明は、以上の事情を背景として為されたものであって、その目的とするところは、砥粒保持力が高く且つ高い加工性能を有する砥粒電着ワイヤーを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者等は、以上の事情を背景として種々検討を重ねた結果、スラリー局所噴射摩耗法を用いて、微細な無機粒子を含むスラリーをニッケルメッキ膜に局所的に噴射し、噴射を受けた局所のニッケルメッキ膜の投射粒子量に対する摩耗の度合い（深さ）の割合を摩耗率（＝最大摩耗深さμｍ／投射粒子量ｇ）を用いて数値化すると、その摩耗率とニッケルメッキ膜の強度との相関関係が好適に対応づけられること、および、ニッケルメッキ膜の強度に対応する摩耗率の数値範囲を用いて、砥粒電着ワイヤーの加工性能を客観的に特定できることを、見いだした。本発明は、このような知見に基づいて為されたものである。
【０００９】
すなわち、第１発明の要旨とするところは、砥粒がニッケルメッキにより金属ワイヤーの表面に電着された砥粒電着ワイヤーであって、前記金属ワイヤーの表面に形成されたニッケルメッキ膜は、多角粒子を用いたスラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率の平均値が、０．１５〜０．６μｍ／ｇを示す強度を有することにある。
【００１０】
第２発明の要旨とするところは、砥粒がニッケルメッキにより金属ワイヤーの表面に電着された砥粒電着ワイヤーであって、前記金属ワイヤーの表面に形成されたニッケルメッキ膜は、球形粒子を用いたスラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率の平均値が、０．６〜１．５μｍ／ｇを示す強度を有することにある。
【００１１】
第３発明の要旨とするところは、砥粒がニッケルメッキにより金属ワイヤーの表面に電着された砥粒電着ワイヤーであって、前記金属ワイヤーの表面に形成されたニッケルメッキ膜は、スラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率の平均値が、多角粒子を用いた場合には０．１５〜０．６μｍ／ｇであり、且つ、球形粒子を用いた場合には０．６〜１．５μｍ／ｇを示す強度を有することにある。
【００１２】
第４発明の要旨とするところは、第１発明から第３発明のいずれか１の発明において、前記ニッケルメッキ膜は、多層構造であることにある。
【００１３】
第５発明の要旨とするところは、第１発明から第４発明のいずれか１の発明において、前記ニッケルメッキ膜は、前記砥粒の平均粒径の２５〜７０％の膜厚を有することにある。
【発明の効果】
【００１４】
第１発明の砥粒電着ワイヤーによれば、前記金属ワイヤーの表面に形成されたニッケルメッキ膜は、多角粒子を用いたスラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率の平均値が、０．１５〜０．６μｍ／ｇを示す強度を有することから、砥粒保持力が高く且つ砥粒上のニッケルメッキが適度にはがれて研削抵抗の増加が抑制されるので、高い加工性能が得られる。
【００１５】
第２発明の砥粒電着ワイヤーによれば、前記金属ワイヤーの表面に形成されたニッケルメッキ膜は、球形粒子を用いたスラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率の平均値が、０．６〜１．５μｍ／ｇを示す強度を有することから、砥粒保持力が高く且つ砥粒上のニッケルメッキが適度にはがれて研削抵抗の増加が抑制されるので、高い加工性能が得られる。
【００１６】
第３発明の砥粒電着ワイヤーによれば、前記金属ワイヤーの表面に形成されたニッケルメッキ膜は、スラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率の平均値が、多角粒子を用いた場合には０．１５〜０．６μｍ／ｇであり、且つ、球形粒子を用いた場合には０．６〜１．５μｍ／ｇを示す強度を有することから、砥粒保持力が高く且つ砥粒上のニッケルメッキが適度にはがれて研削抵抗の増加が抑制されるので、高い加工性能が得られる。
【００１７】
第４発明の砥粒電着ワイヤーによれば、前記ニッケルメッキ膜は、多層構造である。これにより、たとえば、下地層の上に砥粒が電着されることにより、金属ワイヤーに対して高い砥粒保持力が得られる。
【００１８】
第５発明の砥粒電着ワイヤーによれば、前記ニッケルメッキ膜は、前記砥粒の平均粒径の２５〜７０％の膜厚を有する。このことから、砥粒のニッケルメッキ膜による保持と、ニッケルメッキ膜からの砥粒の突き出し量とのバランスがよく、高い研削加工性能が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施例の砥粒電着ワイヤーすなわちワイヤーソーの一部を拡大写真で示す図である。
【図２】図１の砥粒電着ワイヤーの製造工程を説明する図である。
【図３】電着ワイヤーの各試料についての、摩耗率、加工性能および寿命の評価結果である。
【図４】図２の製造工程で製造された砥粒電着ワイヤーの砥粒保持力および加工性能の評価に用いるスラリー局所噴射摩耗法を可能とするスラリー局所噴射摩耗装置の構成を説明する説明図である。
【図５】図４のスラリー局所噴射摩耗装置により電着ワイヤー試料の表面に形成された局所摩耗を、触針式計測器を用いて摩耗深さを測定したときのプロファイルの一例を示す図である。
【図６】電着ワイヤーの各試料についての、球形粒子摩耗率（μｍ／ｇ）と多角粒子摩耗率（μｍ／ｇ）とを、二次元座標に示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の実施例において図は適宜簡略化或いは変形されており、各部の寸法比および形状等は必ずしも正確に描かれていない。
【実施例】
【００２１】
図１は、本発明のワイヤー工具の一実施例の砥粒電着ワイヤー１０の長手方向における一部分の拡大写真を示している。砥粒電着ワイヤー１０は、たとえば単結晶或いは多結晶のサファイヤ、窒化ガリウム、炭化珪素などの難切削材、半導体のインゴット、磁性体材料等を切断するために用いられる砥粒固定型ワイヤーソーである。砥粒電着ワイヤー１０は、比較的硬質の金属ワイヤー１２と、その金属ワイヤー１２の外周面にニッケルメッキ膜１４によって固着された多数の砥粒１６とから構成されている。
【００２２】
上記の金属ワイヤー１２は、例えばピアノ線等の鋼線から成り、例えば０．０５〜０．３０（ｍｍ）程度の範囲内の線径を備えたものである。また、砥粒１６は、例えば５〜１００（μｍ）の範囲内、例えば５０（μｍ）程度の平均粒径を備えた単結晶ダイヤモンド砥粒或いはＣＢＮ砥粒すなわち超砥粒である。
【００２３】
また、ニッケルメッキ膜１４は、例えば１．２５〜７０（μｍ）の範囲内の膜厚を有し、砥粒１６の平均粒径の２５〜７０％の膜厚となるように形成されている。また、ニッケルメッキ膜１４は、たとえば、金属ワイヤー１２の表面に直接的に形成された下地層と、砥粒１６を固定するために下地層の上に形成された砥粒固定層とを有する多層メッキ膜である。この下地層により、ニッケルメッキ膜１４の金属ワイヤー１２に対する固着強度が高められ、結果的に、砥粒１６の金属ワイヤー１２に対する固着強度が高められている。図１では、砥粒１６はニッケルメッキ膜１４によって薄く覆われている。
【００２４】
また、ニッケルメッキ膜１４は、砥粒１６の平均粒径の２５〜７０％の膜厚となるように、金属ワイヤー１２の表面に形成されている。これにより、砥粒１６のニッケルメッキ膜１４による保持と、ニッケルメッキ膜１４からの砥粒１６の突き出し量とのバランスがよく、高い研削加工性能が得られる。
【００２５】
砥粒１６の保持力を高くし、且つ砥粒上のニッケルメッキが適度にはがれて研削抵抗の増加を抑制して高い加工性能を得るようにするために、ニッケルメッキ膜１４は、スラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率（エロージョン率）（μｍ／ｇ）の平均値が、多角粒子を用いた場合には０．１５〜０．６μｍ／ｇであり、且つ、球形粒子を用いた場合には０．６〜１．５μｍ／ｇを示す強度を有する。
【００２６】
図２は、砥粒電着ワイヤー１０の製造に用いられる製造設備の要部を説明する模式図である。図２において、アルカリ脱脂槽２０、水洗槽２２、酸洗浄槽２４、水洗槽２６、下地メッキ槽２８、電着槽３０が、フロア上に直列に配置されており、金属ワイヤー１２が、複数個の案内プーリ３２に案内されることにより、アルカリ脱脂槽２０、水洗槽２２、酸洗浄槽２４、水洗槽２６、下地メッキ槽２８、電着槽３０内をそれぞれ通過させられるようになっている。
【００２７】
アルカリ脱脂槽２０では、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムなどのナトリウム塩の水溶液が貯留されており、金属ワイヤー１２の表面に存在する油脂などをナトリウム塩の水溶液によりニッケルメッキに先立って除去するアルカリ脱脂工程が行われる。水洗槽２２では、洗浄水が貯留されており、アルカリ脱脂槽２０を通過した金属ワイヤー１２の表面に残存するナトリウム塩を水洗により除去する水洗工程が行なわれる。酸洗浄槽２４では、硫酸、塩酸などを含む水溶液が貯留されており、金属ワイヤー１２の表面に存在する酸化被膜、不動態被膜、錆などを酸の水溶液によりニッケルメッキに先立って除去する酸洗浄工程が行われる。水洗槽２６では、洗浄水が貯留されており、酸洗浄槽２４を通過した金属ワイヤー１２の表面に残存する酸を水洗により除去する水洗工程が行なわれる。
【００２８】
下地メッキ槽２８では、ニッケル・イオンを含む電着液（鍍金液）が貯留されており、金属ワイヤー１２の表面にニッケルメッキ膜１４の固着強度を高める下地層を形成する下地形成工程が行なわれる。この下地メッキ槽２８内の電着液すなわち鍍金浴は、たとえばスルファミン酸ニッケル、塩化ニッケル、および硼酸からなるスルファミン酸浴であり、例えば３．０〜５．０程度の範囲内のｐＨに調製されている。また、鍍金浴の温度は例えば３０〜６０（℃）程度の範囲内である。
【００２９】
また、電着槽３０では、砥粒１６が分散された、ニッケル・イオンを含む電着液が貯留されており、下地層が設けられた金属ワイヤー１２にニッケル鍍金によって砥粒１６を固着（電着）することで多層構造のニッケルメッキ膜１４を形成する砥粒電着工程が行なわれる。電着槽３０内の電着液すなわち鍍金浴も、下地メッキ槽２８と同様なスルファミン酸浴である。電着液中に含まれる砥粒１６は、選別された例えば粒径が５０（μｍ）程度の微粉ダイヤモンド（例えば（株）グローバルダイヤモンド製  ＦＭＭ  Ｍ４０／６０）である。ここには、その鍍金液の供給装置や、沈降した余剰の砥粒１６を回収するための回収装置等が適宜備えられている。
【００３０】
また、金属ワイヤー１２の進行経路のうち、下地メッキ槽２８および電着槽３０の前後３箇所には、その金属ワイヤー１２に接触する陰極電極が備えられており、それらの下地メッキ槽２８および電着槽３０内に備えられている陽極電極との間で、例えば０．５〜５０（Ａ／ｄｍ２）の範囲内の電流密度となるように通電が行なわれる。
【００３１】
このような製造設備を用いて砥粒電着ワイヤー１０を製造するに際しては、先ず、鍍金工程（砥粒電着工程）において、案内プーリ３２で案内されることによりアルカリ脱脂槽２０乃至電着槽３０内を順次に通されている金属ワイヤー１２を、その電着槽３０の先に備えられたモータ等の図示しない適宜の巻取り装置で巻き取ることにより、連続的に移動させる。金属ワイヤー１２の送り速度は、例えば１０００（ｍｍ／ｍｉｎ）以上である。
【００３２】
電着槽３０内には、金属ワイヤー１２の進行方向後方側の一部に設けられた砥粒沈降領域が設けられている。その砥粒沈降領域においては、金属ワイヤー１２に向かって上方から砥粒１６を含む鍍金液が供給されるので、陰極電極と接触させられることで負極となっている金属ワイヤー１２の外周面３２に、分散状態で沈降するその砥粒１６が付着させられ、且つ電着液中の金属イオン（ニッケル・イオン）がその外周面に引き寄せられてニッケルメッキ膜１４が形成される。これにより、砥粒１６がニッケルメッキ膜１４によって金属ワイヤー１２外周面に固着される。ニッケルメッキ膜１４は、砥粒１６の平均粒径の２５〜７０％の膜厚を有するように形成される。
【００３３】
なお、砥粒沈降領域は、電着槽３０のうち金属ワイヤー１２の進行方向後方側の一部に設けられているので、電着槽３０内において、金属ワイヤー１２はその外周面に砥粒１６が付着させられたまま水平方向に移動させられる。本実施例においては、このように砥粒１６を乗せたまま移動させられる過程で金属ワイヤー１２にニッケルメッキが施されて、砥粒１６が固着され、図１に示す砥粒電着ワイヤー１０が得られる。
【００３４】
本発明者等は、先ず、メッキ条件を異ならせることでニッケルメッキ膜の強度を相違させた他は同様の材料、寸法、および膜厚である複数種類（１２種類）の電着ワイヤー試料Ｗ１〜Ｗ１２を、図２に示される製造工程と同様の製造工程を用いて作製した。電着ワイヤー試料Ｗ１〜Ｗ１２は、試料番号が大きいほど高強度であることを示している。そして、本発明者等は、以下の示す加工試験を行なって各電着ワイヤー試料Ｗ１〜Ｗ１２の加工性能および寿命の評価をそれぞれ行った。
【００３５】
（加工試験）
・切断加工機：株式会社タカトリ製のワイヤーソー  ＷＳＤ−Ｋ２型
・被削材：サファイヤ
（加工性能の評価）
・予め設定された一定の加工性能評価時間（３０分）だけ被削材に切り込んだときの被削材への切込み量をそれぞれ測定し、実用上の観点から、○、△、×の３段階の相対評価を行なった。
（寿命の評価）
・予め定められた寿命評価本数だけ被削材を切断したときの、各電着ワイヤー試料Ｗ１〜Ｗ１２の径をマイクロメータを用いて複数個所（１０個所）においてそれぞれ測定して、切断加工開始前の径との径の減少量（径摩耗量）の平均値を算出し、その減少量とＳＥＭ観察による表面状態（砥粒の残存状態）とに基づいて、実用上の観点から、○、△、×の３段階の相対評価を行なった。
【００３６】
図３は、各電着ワイヤー試料Ｗ１〜Ｗ１２についての上記の加工性能および寿命の評価結果を示している。図３によれば、電着ワイヤー試料Ｗ３〜Ｗ１０の加工性能および寿命が、実用可能であると評価されている。
【００３７】
（スラリーの局所噴射による摩耗の形成）
次に、本発明者等は、上記の各電着ワイヤー試料Ｗ１〜Ｗ１２のニッケルメッキ膜を特性を評価するために、球形シリカを含むスラリーを用いたスラリー局所噴射摩耗法と、多角形アルミナ粒子を含むスラリーを用いたスラリー局所噴射摩耗法とに基づいて、各電着ワイヤー試料Ｗ１〜Ｗ１２のニッケルメッキ膜にスラリーの局所噴射により摩耗である凹所を形成した。
【００３８】
図４は、電着ワイヤー試料Ｗ１〜Ｗ１２のニッケルメッキ膜を特性を評価するために本発明者等が用いたスラリー局所噴射摩耗装置（株式会社パルメソ製のＭＳＲ−Ａ型）３３の構成を説明している。スラリー局所噴射摩耗装置３３としては、平均粒子径が５μｍの球形シリカを水に３容積％混入させた球形シリカスラリーを用いるものと、平均粒子径が１．２μｍの多角形アルミナを水に３容積％混入させた多角形アルミナスラリーを用いるものとの２種類が用いられているが、用いるスラリーだけが相違するだけで同様に構成されている。上記平均粒子径は、レーザー回折式粒径測定装置により測定されたものである。
【００３９】
図４において、スラリータンク３５内には、上記のスラリー３４が貯留され、攪拌機３６によって攪拌されている。圧縮空気源３８からは、スラリー圧調圧弁４０を介してスラリータンク３５内にスラリー圧Ｐｓが加えられることで、投射ガン４２にはスラリータンク３５からのスラリー３４がスラリー流量計４４を通して供給されるようになっている。また、圧縮空気源３８からは、エアー圧調圧弁４６およびエアー流量計４８を介して投射ガン４２にエアー圧が供給されるようになっている。投射ガン４２の下部に設けられた投射ノズル５０は、投射断面積１．０ｍｍ２（縦１ｍｍ×横１ｍｍ）のノズルを有し、投射ブース５４により覆われている。投射ガン４２は、供給されたスラリー３４とエアーとを混合して投射ノズル５０から、４ｍｍの投射距離で、治具５２に固定された電着ワイヤーの試料Ｗに向かって局所的に噴射し、電着ワイヤーの試料Ｗの表面を局所的に摩耗させた凹所を形成する。電着ワイヤーの試料Ｗが固定された治具５２は、テーブル駆動装置５６によって投射ブース５４内に出し入れされる。投射ブース５４内に貯留されたスラリー３４は、回収ポンプ５８によってスラリータンク３５内に戻されるようになっている。
【００４０】
球形シリカ粒子を含む球形シリカスラリーを用いたスラリー局所噴射摩耗法を用いる場合は、投射ノズル５０に供給されるエアー圧がたとえば０．３３５ＭＰａ、スラリー圧が０．３１７ＭＰａ、投射ノズル５０に供給されるエアー流量がたとえば１０．８Ｌ／ｍｉｎ、スラリー流量が１２５Ｌ／ｍｉｎに設定された衝撃モードが選択される。この衝撃モードの投射力は、アクリル樹脂製の標準片に形成されるエロージョン率が２４．０±５％μｍ／ｇであることで確認される。また、多角形アルミナ粒子を含む多角形アルミナスラリーを用いたスラリー局所噴射摩耗法を用いる場合は、投射ノズル５０に供給されるエアー圧がたとえば０．２１６ＭＰａ、スラリー圧が０．２１０ＭＰａ、投射ノズル５０に供給されるエアー流量がたとえば６．１Ｌ／ｍｉｎ、スラリー流量が１２５Ｌ／ｍｉｎに設定された切削モードが選択される。この切削モードの投射力は、シリコンウエハ製の標準片に形成されるエロージョン率が６．３６±５％μｍ／ｇであることで確認される。
【００４１】
（摩耗により形成された摩耗深さの測定およびエロージョン率の算出）
本発明者等は、スラリーの噴射によって、球形シリカ粒子を含む球形シリカスラリーを用いたスラリー局所噴射摩耗法と、多角形アルミナ粒子を含む多角形アルミナスラリーを用いたスラリー局所噴射摩耗法とを用いて、電着ワイヤー試料Ｗ１〜Ｗ１２のニッケルメッキ膜に局所的に形成された摩耗深さ（エロージョン深さ）を、以下の測定条件により複数位置でそれぞれ測定した。次いで、得られたプロファイルから摩耗深さの最大値Ｄ（μｍ）をそれぞれ計測する。図５は、そのプロファイルの一例である。次いで、球形シリカ粒子を含む球形シリカスラリーおよび多角形アルミナ粒子を含む多角形アルミナスラリーについての予め設定された関係から、投射ノズル５０に供給されスラリー流量に基づいて、電着ワイヤーの試料Ｗに投射される投射粒子量（ｇ）を算出する。そして、電着ワイヤー試料Ｗ１〜Ｗ１２について、最大値Ｄ（μｍ）の平均値を投射粒子量（ｇ）で除することにより、球形シリカ粒子を含む球形シリカスラリーを用いたスラリー局所噴射摩耗法を用いたときと、多角形アルミナ粒子を含む多角形アルミナスラリーを用いたスラリー局所噴射摩耗法を用いたときの、球形粒子摩耗率（球形粒子エロージョン率）（μｍ／ｇ）および多角粒子摩耗率（多角粒子エロージョン率）（μｍ／ｇ）をそれぞれ算出する。
【００４２】
（測定条件）
使用機種：株式会社小坂研究所製の触針式計測器（ＰＵ−ＥＵ１）
触針荷重：２００μＮ
計測倍率：１００００
側長    ：４ｍｍ
計測速度：０．２ｍｍ／ｓｅｃ
【００４３】
図６は、電着ワイヤー試料Ｗ１〜Ｗ１２について、球形シリカ粒子を含む球形シリカスラリーを用いたスラリー局所噴射摩耗法により得られた球形粒子摩耗率（エロージョン率）（μｍ／ｇ）と、多角形アルミナ粒子を含む多角形アルミナスラリーを用いたスラリー局所噴射摩耗法により得られた多角粒子摩耗率（エロージョン率）（μｍ／ｇ）とを、二次元座標に示した図である。図６から明らかなように、図３にて○評価を得た電着ワイヤー試料Ｗ３〜Ｗ１０は、横軸の多角粒子摩耗率（多角粒子エロージョン率）では０．１５〜０．６μｍ／ｇの範囲内に位置しており、縦軸の球形粒子摩耗率（球形粒子エロージョン率）では０．６〜１．５μｍ／ｇの範囲内に位置している。すなわち、電着ワイヤー試料Ｗ３〜Ｗ１０のニッケルメッキ膜の強度は、多角粒子摩耗率（多角粒子エロージョン率）が０．１５〜０．６μｍ／ｇの範囲内であること、および／または、縦軸の球形粒子摩耗率（球形粒子エロージョン率）が０．６〜１．５μｍ／ｇの範囲内であることによって、砥粒保持力が高く且つ砥粒上のニッケルメッキが適度にはがれて研削抵抗の増加が抑制されるので、高い加工性能が得られるものであるであることが明らかである。
【００４４】
図６に示すように、ニッケルメッキ膜の強度は、横軸に示される多角粒子摩耗率（エロージョン率）（μｍ／ｇ）および縦軸に示される球形粒子摩耗率（エロージョン率）（μｍ／ｇ）の少なくとも一方の数値範囲によって特定することができる。
【００４５】
上述のように、本実施例の砥粒電着ワイヤー１０によれば、金属ワイヤー１２の表面に形成されたニッケルメッキ膜１４は、スラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率（エロージョン率）のうち、多角粒子を用いた場合である多角粒子摩耗率（エロージョン率）（μｍ／ｇ）が０．１５〜０．６μｍ／ｇを示す強度を有することから、砥粒保持力が高く且つ砥粒１６上のニッケルメッキ膜１４が適度にはがれて研削抵抗の増加が抑制されるので、高い加工性能が得られる。
【００４６】
また、本実施例の砥粒電着ワイヤー１０によれば、金属ワイヤー１２の表面に形成されたニッケルメッキ膜１４は、スラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率のうち、球形粒子を用いた場合である球形粒子摩耗率（エロージョン率）（μｍ／ｇ）が０．６〜１．５μｍ／ｇを示す強度を有することから、砥粒保持力が高く且つ砥粒１６上のニッケルメッキ膜１４が適度にはがれて研削抵抗の増加が抑制されるので、高い加工性能が得られる。
【００４７】
また、本実施例の砥粒電着ワイヤー１０によれば、金属ワイヤー１２の表面に形成されたニッケルメッキ膜１４は、スラリー局所噴射摩耗法により得られた投射粒子量に対する摩耗の度合いである摩耗率のうち、多角粒子を用いた場合である多角粒子摩耗率（エロージョン率）（μｍ／ｇ）が０．１５〜０．６μｍ／ｇを示し、且つ球形粒子を用いた場合である球形粒子摩耗率（エロージョン率）（μｍ／ｇ）が０．６〜１．５μｍ／ｇを示す強度を有することから、砥粒保持力が高く且つ砥粒１６上のニッケルメッキ膜１４が適度にはがれて研削抵抗の増加が抑制されるので、高い加工性能が得られる。
【００４８】
また、本実施例の砥粒電着ワイヤー１０によれば、ニッケルメッキ膜１４は、多層構造である。たとえば、下地層の上に砥粒１６が電着される。これにより、金属ワイヤー１２に対して高い砥粒保持力が得られる。
【００４９】
また、本実施例の砥粒電着ワイヤー１０によれば、ニッケルメッキ膜１４は、砥粒１６の平均粒径の２５〜７０％の膜厚を有するため、砥粒１６のニッケルメッキ膜１４による保持と、ニッケルメッキ膜１４からの砥粒の突き出し量とのバランスがよく、高い研削加工性能が得られる。
【００５０】
以上、本発明を図面を参照して詳細に説明したが、本発明は更に別の態様でも実施でき、その主旨を逸脱しない範囲で種々変更を加え得るものである。
【符号の説明】
【００５１】
１０：砥粒電着ワイヤー
１２：金属ワイヤー
１４：ニッケルメッキ膜
１６：砥粒
２０：アルカリ脱脂槽
２２：水洗槽、
２４：酸洗浄槽
２６：水洗槽
２８：下地メッキ槽
３０：電着槽
３２：案内プーリ
３３：スラリー局所噴射摩耗装置
３４：スラリー
３５：スラリータンク
３６：攪拌機
３８：圧縮空気源
４０：スラリー圧調圧弁
４２：投射ガン
４４：スラリー流量計
４６：エアー圧調圧弁
４８：エアー流量計
５０：投射ノズル
５２：治具
５４：投射ブース
５６：テーブル駆動装置
５８：回収ポンプ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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