(57)【要約】【課題】シリコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等においてより品質の高い鏡面、すなわち鏡面性の面内均一性が高く、欠陥が少ない鏡面を得られる、鏡面研磨に好適な研磨シートの提供。【解決手段】    軟質多孔層を表側に有する研磨シートであって、前記軟質多孔層は表面に複数の開口部を有し、前記開口部から内部に涙滴状の孔を有し、前記研磨シートが研磨する被研磨基板が研磨中に接触する研磨シートの軟質多孔層表面の範囲内には複数の溝からなる溝群が複数存在しており、（ａ）その一つである溝群Ａは、正三角形または正六角形から形成される想像網目の想像線上に存在する略直線状の溝であって、溝群Ａに属する略直線状の溝どうしは互いに交差しない配置となっており、（ｂ）別の溝群の一つである溝群Ｂは、格子状に配置されている略直線状の溝からなることを特徴とする研磨シート。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟質多孔層を表側に有する研磨シートであって、前記軟質多孔層は表面に複数の開口部を有し、前記開口部から内部に涙滴状の孔を有し、前記研磨シートが研磨する被研磨基板が研磨中に接触する研磨シートの軟質多孔層表面の範囲内には複数の溝からなる溝群が複数存在しており、（ａ）その一つである溝群Ａは、正三角形または正六角形から形成される想像網目の想像線上に存在する略直線状の溝であって、溝群Ａに属する略直線状の溝どうしは互いに交差しない配置となっており、（ｂ）別の溝群の一つである溝群Ｂは、格子状に配置されている略直線状の溝からなることを特徴とする研磨シート。
【請求項２】
溝群Ａの正三角形または正六角形から形成される想像網目の想像線上の８０％以上に略直線状の溝が存在することを特徴とする請求項１記載の研磨シート。
【請求項３】
溝群Ａで想像網目を形成する正三角形または正六角形の一辺の長さが１０〜５０ｍｍであることを特徴とする請求項２記載の研磨シート。
【請求項４】
前記溝群Ａに属する略直線状の溝の長さが、前記正三角形または正六角形の一辺の長さの７０％以上であることを特徴とする請求項２または３記載の研磨シート。
【請求項５】
前記溝群Ａに属する略直線状の溝の端部と他の溝との距離が１ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１〜４いずれかに記載の研磨シート。
【請求項６】
前記溝群Ｂの格子状に配置されている互いが交差している略直線状の溝の溝ピッチが２０ｍｍ〜７０ｍｍであることを特徴とする請求項１〜５いずれかに記載の研磨シート。
【請求項７】
請求項１〜６いずれかに記載の研磨シートで被研磨基板を研磨することを特徴とする研磨方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等において良好な鏡面を形成するために使用される仕上げ用に好適な研磨シートに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、シリコンベアウェハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等を鏡面化する手段として、研磨シートを用いた研磨加工法が採用されている。研磨シートは、合成繊維と合成ゴム等とを素材とする不織布や編織布を基材にして、その上面にポリウレタン系溶液が塗布され、湿式凝固法によりポリウレタン系溶液が凝固される工程を経て、表面に複数の開口部を有し、前記開口部から内部に涙滴状の孔を複数有する軟質多孔層を表層に有する構造となっている。表面に複数の開口部を有するために、内部に有する涙滴状の孔を複数有する軟質多孔層の表皮層の表面が研削、除去されることにより開口部を形成する（以下、表面が研削されたものをスエードと表現することがある。）、製造方法とされている。（特許文献１参照。）。
【０００３】
このような研磨シートは、既に、シリコンベアウェハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク等の鏡面研磨工程で広く使用されている。研磨シートの軟質多孔層表面は、以前は溝などの加工が施されないものだったが、基板の大口径化に伴い、基板表面の鏡面性の面内均一性が不十分となることから、軟質多孔層表面に溝をいれることが知られている。溝の形状としては、格子状（特許文献２参照）、亀甲溝、五角形溝（特許文献３参照）、円溝（特許文献４参照）などが知られており、このような溝形状を施した研磨シートは、鏡面性の面内均一性は改善されるものの、欠陥が増えるという問題があり、より品質の高い鏡面を得られる研磨シートが求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−３３５９７９号公報
【特許文献２】特開平１１−３３３６９９号公報
【特許文献３】特開２００１−１５０３３２号公報
【特許文献４】特開平１０−３３７６５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、上記従来技術の背景に鑑み、シリコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等においてより品質の高い鏡面、すなわち鏡面性の面内均一性が高く、欠陥が少ない鏡面を得られる、鏡面研磨に好適な研磨シートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するために、次の手段を採用するものである。すなわち、本発明は、軟質多孔層を表側に有する研磨シートであって、前記軟質多孔層は表面に複数の開口部を有し、前記開口部から内部に涙滴状の孔を有し、前記研磨シートが研磨する被研磨基板が研磨中に接触する研磨シートの軟質多孔層表面の範囲内には複数の溝からなる溝群が複数存在しており、（ａ）その一つである溝群Ａは、正三角形または正六角形から形成される想像網目の想像線上に存在する略直線状の溝であって、溝群Ａに属する略直線状の溝どうしは互いに交差しない配置となっており、（ｂ）別の溝群の一つである溝群Ｂは、格子状に配置されている略直線状の溝からなることを特徴とする研磨シートである。
【０００７】
本発明の一態様は、上記研磨シートを使用して、シリコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等の被研磨基板を研磨する研磨方法である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、リコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等においてより品質の高い鏡面、すなわち鏡面性の面内均一性が高く、欠陥が少ない鏡面を得られる、鏡面研磨に好適な研磨シートが得られる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】研磨シートにおける正三角形を基本とした想像網目上に形成した溝群Ａおよび格子状の溝群Ｂの構成図
【図２】研磨シートにおける正六角形を基本とした想像網目上に形成した溝群Ａおよび格子状の溝群Ｂの構成図
【図３】研磨シートにおける正三角形を基本とした想像網目上に形成した溝群Ａ、格子状の溝群Ｂおよび溝群Ｃの構成図
【図４】研磨シートにおける正六角形を基本とした想像網目上に形成した溝群Ａ、格子状の溝群Ｂおよび溝群Ｃの構成図
【図５】実施例１で使用した研磨シートにおける想像網目上に形成した溝群Ａおよび格子状の溝群Ｂの構成図
【図６】実施例１で作製した研磨シート
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の研磨シートは、軟質多孔層を表側に有する研磨シートであって、前記軟質多孔層は表面に複数の開口部を有し、前記開口部から内部に涙滴状の孔を有し、前記研磨シートが研磨する被研磨基板が研磨中に接触する研磨シートの軟質多孔層表面の範囲内には複数の溝からなる溝群が複数存在しており、（ａ）その一つである溝群Ａは、正三角形または正六角形から形成される想像網目の想像線上に存在する略直線状の溝であって、溝群Ａに属する略直線状の溝どうしは互いに交差しない配置となっており、（ｂ）別の溝群の一つである溝群Ｂは、格子状に配置されている略直線状の溝からなることを特徴とするものである。
【００１１】
本発明の好ましい態様によれば、  溝群Ａの正三角形または正六角形から形成される想像網目の想像線上の８０％以上に略直線状の溝が存在することを特徴とする前記いずれかの研磨シートである。
【００１２】
本発明の好ましい態様によれば、前記想像網目を形成する正三角形または正六角形の一辺の長さが１０〜５０ｍｍであることを特徴とする前記研磨シートである。
【００１３】
本発明の好ましい態様によれば、前記溝群Ａに属する略直線状の溝の長さが、前記正三角形または正六角形の一辺の長さの７０％以上であることを特徴とする前記いずれかの研磨シートである。
【００１４】
本発明の好ましい態様によれば、前記溝群Ａに属する略直線状の溝の端部と他の溝との距離が１ｍｍ以上であることを特徴とする前記いずれかの研磨シートである。
【００１５】
本発明の好ましい態様によれば、前記溝群Ｂの格子状に配置されている略直線状溝の溝ピッチが２０ｍｍ〜７０ｍｍであることを特徴とする前記いずれかの研磨シートである。
【００１６】
また本発明は前記研磨シートで被研磨基板を研磨することを特徴とする研磨方法もある。
【００１７】
まず、本発明で用いられる研磨シートについて説明する。
【００１８】
本発明において、上記の軟質多孔層を表層に有する研磨シートは、ポリウレタン等の湿式凝固法で軟質多孔層を形成できる軟質樹脂を有機溶媒に溶解させたポリウレタン等の軟質樹脂溶液を、シート状の基材の表側に塗布後、水系凝固液中で軟質樹脂を凝固再生させることにより、製造することができる。本製造方法で、製造された軟質多孔層の表面をサンドペーパー等で表面を研削することで表面に複数の開口部を形成させることができる。湿式凝固法により製造される軟質多孔層は、前記開口部から内部に向けて涙滴状の孔を有している
軟質多孔層の厚みは、２００〜９００μｍの範囲で被研磨基板および研磨プロセスに応じて設定される。開口部の開口径は、１０〜１５０μｍの範囲で被研磨基板および研磨プロセスに応じて設定される。
【００１９】
ポリウレタン樹脂等の湿式凝固再生などの方法により生じた緻密に存在する微多孔が厚さ数μｍオーダーで表面に存在する層（以下「スキン層」）を有し、それより内部には、スキン層の微多孔より平均孔径が大きい、多数の粗大孔が形成されていることが好ましい。この形状は断面観察で涙滴状のかたちをとる。この孔の大きさは表層から５０〜４００μｍ程度の深さであることが好ましい。
【００２０】
スキン層に形成された孔の径が小さいため、スキン層の表面はマクロに見ると平坦性を有している。このスキン層表面の平坦性を使用して、被研磨物であるシリコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等の仕上げ研磨加工を行う。
【００２１】
本発明の軟質多孔層に用いることができるポリウレタン樹脂等、末端に複数の活性水素を有するプレポリマと複数のイソシアネート基を有する化合物を重付加して得られたウレタン結合を有する重合体である。重合体の内部にはジアミンを原料としたウレア結合を含有していてもよい。
【００２２】
末端に複数の活性水素を有するプレポリマとしては、主鎖骨格としてポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系およびポリカプロラクタン系などが例示される。
【００２３】
上記湿式凝固法に使用されるポリウレタン溶液の溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下「ＤＭＦ」）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキサンおよびＮ−メチルピロリドン等の極性を有する溶媒が用いられる。上記ポリウレタンを溶解させる溶媒としては、ＤＭＦが好適である。
【００２４】
上記ポリウレタン溶液は、他の樹脂、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホンおよびポリスルホン等のポリマーを適宜含有することができる。また、ポリウレタン溶液は、必要に応じて、カーボンや有機顔料、表面張力を下げる界面活性剤および撥水性を付与できる撥水剤等も含有することもできる。
【００２５】
本発明で用いられる基材の例としては、綿、レーヨン、ポリアミド、ポリエステルおよびポリアクリロニトリル等の繊維またはこれらの混合物よりなる編物、織物および不織布などの布帛が挙げられる。さらにこれらに合成ゴムやポリウレタン等の樹脂を含浸して得られるシート類も挙げられる。他にもポリエステルフィルム等の樹脂シートも挙げられる。
【００２６】
研磨シートの厚みは、０．５ｍｍから３ｍｍであることが好ましい。
【００２７】
基材に上記ポリウレタン溶液を塗布する手段の例としては、ロールコーター、ナイフコーター、ナイフオーバーロールコーターおよびダイコーター等が挙げられる。ポリウレタン溶液を塗布した後、多孔質層を形成させる凝固浴には、ＤＭＦとは親和性を有するが、ポリウレタンは溶解しない溶媒を使用する。一般的には、水または水とＤＭＦとの混合溶液が使用される。
【００２８】
次に本発明の特徴である軟質多孔層表面にある複数存在する略直線状の溝群について説明する。ここで溝群とは、同じ繰り返し構造を有する形状を構成する溝の集合である。溝群の数はふたつであっても、それ以上あってもいい。少なくとも溝群Ａおよび溝群Ｂは、少なくとも被研磨基板が研磨中に接触する研磨シートの軟質多孔層表面で重なって存在している。
【００２９】
本発明において、本発明の軟質多孔層表面には複数の溝からなる溝群が複数存在しており、（ａ）その一つである溝群Ａは、正三角形または正六角形から形成される想像網目の想像線上に存在する略直線状の溝であって、溝群Ａに属する略直線状の溝どうしは互いに交差しない配置となっており、（ｂ）該別の溝群の一つである溝群Ｂは、格子状に配置されている略直線状の溝である。被研磨基板は自転をしながら、回転する研磨定盤に取り付けられた研磨シートの表面に接触する。交差本発明の研磨シートにより被研磨基板の鏡面性の面内均一性が大幅に向上し、欠陥も少なくなる。
【００３０】
本発明で略直線状という用語を定義するのであれば、溝群Ａであれば、溝の始点と終点とを直線で結び、その直線からの最大ずれ幅を溝の始点と終点の直線距離で除した値が３％以下の範囲の収まる範囲での直線状となる。また、溝群Ｂであれば、格子上にある隣接した交点どうしを結んだ直線からの溝の最大ずれ幅を、交点の直線距離で除した値が３％以下の範囲の収まる範囲での直線状となる。
【００３１】
本発明の溝群Ａは、正三角形または正六角形から形成される想像網目の想像線上に、溝群Ａに属する略直線状の溝は交差しないで配置されている。研磨シートの表面上に一つの単位が、正三角形または正六角形でありそれが繰り返される想像上の網目（以下「想像網目」）を考える。溝群Ａに属する溝どうしは互いに交わらないで配置されていることが、被研磨基板の鏡面性の面内均一性が向上し、欠陥が少なくなるので効果があるが、後で説明する溝群Ｂが同時に存在することにより、被研磨基板の鏡面性が驚くべき程に向上し、欠陥も驚くべき程に少なくなる。
【００３２】
さらに溝群Ｂは、格子状に配置されている略直線状溝からなる、溝群Ａに溝群Ｂが同時に研磨シート表面に存在することで、被研磨基板の鏡面性が驚くべき程に向上し、欠陥も驚くべき程に少なくなる。
【００３３】
本発明の好ましい態様によれば、  溝群Ａの正三角形または正六角形から形成される想像網目の想像線上の８０％以上に略直線状の溝が存在する。  
【００３４】
本発明では、発明の効果を阻害しない限り溝群Ａおよび溝群Ｂの範疇に入らない溝群が軟質多孔層上にあってもいい。ただその溝群を構成する溝の全長は、溝群Ａおよび溝群Ｂの溝の全長の３０％以下であることが好ましい。
【００３５】
被研磨基板が研磨中に接触する研磨シートの軟質多孔層表面の範囲内に、溝群Ａの正三角形または正六角形から形成される想像網目の想像線上の８０％以上に略直線状の溝が存在することが、被研磨基板の鏡面性の面内均一性を大幅に向上させ、欠陥も少なくなるので好ましい。この比率が下がってくると欠陥が多くなる傾向がある。被研磨基板の鏡面性の面内均一性が下がる傾向がある。
【００３６】
本発明の研磨シートの好ましい態様によれば、溝群Ａの前記想像網目を形成する正三角形または正六角形の一辺の長さが１０〜５０ｍｍである。想像網目を形成する正三角形または正六角形の一辺の長さが小さい場合は、被研磨基板の欠陥が発生しやすくなる。また、一辺の長さが大きすぎると、被研磨基板の鏡面性の面内均一性が低下する傾向がある。
【００３７】
本発明の研磨シートの好ましい態様によれば、溝群Ａの想像網目を形成する正三角形または正六角形の上にあり、略直線状の溝の長さが、これら正三角形または正六角形の一辺の長さの７０％以上である。この値が小さい場合は、被研磨基板の鏡面性の面内均一性が低下する傾向にある。
【００３８】
本発明の研磨シートの好ましい態様によれば、溝群Ａに属する略直線状の溝の端部と溝群Ａに属する他の溝との距離が、１ｍｍ以上である。最接近距離が小さいと、軟質多孔層が溝により分離している部分が干渉するようであり、被研磨基板の欠陥が増える傾向にある。
【００３９】
本発明の研磨シートの好ましい態様によれば、溝群Ｂの格子状に配置されている略直線状の溝ピッチが２０ｍｍ以上７０ｍｍ以下である。溝ピッチが２０ｍｍ未満では、被研磨基板の欠陥が増える傾向にあり、溝ピッチが７０ｍｍを超える場合も、被研磨基板の欠陥が増える傾向にある。
【００４０】
本発明の研磨シートは、表面に複数の開口部を有し、前記開口部から内部に涙滴状の孔を複数有する軟質多孔層を表層に有する研磨シートであって、被研磨基板が研磨中に接触する研磨シートの軟質多孔層表面の範囲内には少なくとも略直線状の溝群が複数存在しており、（ａ）該複数の溝群の一つである溝群Ａは、正三角形または正六角形から形成される想像網目のほとんどの想像線上に存在する略直線状の溝であって、該溝群Ａに属する略直線状の溝どうしは互いに交差しない配置となっており、（ｂ）該複数の溝群Ｂは、格子状に配置されている略直線状溝であることを特徴とする研磨シートである。以下のような特徴の溝群Ｃがさらに共存することで、さらに、被研磨基板の鏡面性の面内均一性が向上し、被研磨基板の欠陥が低減されることが見出されている。溝群Ｃは、溝群Ａの繰り返し単位の正多角形の内部の領域で、例えば正三角形の想像網目上の一辺に形成された略直線状の溝に囲まれた略正三角形領域内において、溝群Ａに交差することなく、かつ、正多角形の内領域で、互いに交差することなく配置された略直線状の集まりが、同じパターンで繰り返されている溝群である。
【００４１】
本要件に当てはまる溝群Ｃが共存する場合は、少なくとも被研磨基板の鏡面性の面内均一性を悪化することなく、被研磨基板の欠陥が悪化することなく、被研磨基板の鏡面性の面内均一性が向上し、被研磨基板の欠陥が低減され得ることを見出している。溝群Ｃを構成する溝の全長は、溝群Ａおよび溝群Ｂの溝の全長の３０％以下であることが好ましい。
【００４２】
本発明の溝群Ａおよび溝群Ｂに属する略直線状の溝の溝幅は、０．５ｍｍ〜３ｍｍが好ましく、溝深さは、ナップ層厚みの３０％〜８０％が好ましい範囲である。
【００４３】
図１（ａ）に、本発明の一実施形態である正三角形の想像網目を表わしている。図１（ｂ）は、溝群Ａとして正三角形の想像網目上の各辺に、略直線状の溝を形成し、溝群Ａに属する溝どうしは交差していないように配置をされており、溝群Ｂの格子状に配置した互いに交差している略直線状の溝が共存している実施形態を表わしている。
【００４４】
図２（ａ）に、本発明の一実施形態である正六角形の想像網目を表わしている。図２（ｂ）は、溝群Ａとして正六角形の想像網目上の各辺に、略直線状の溝を形成し、溝群Ａに属する溝どうしは交差していないように配置をされており、溝群Ｂの格子状に配置した互いに交差している略直線状の溝が共存している実施形態を表わしている。
【００４５】
図３（ａ）に、本発明の一実施形態である正三角形の想像網目を表わしている。図３（ｂ）に、溝群Ａとして正三角形の想像網目上の各辺に、略直線状の溝を形成し、溝群Ａに属する溝どうしは交差していないように配置をされており、溝群Ｂの格子状に配置した互いに交差している略直線状の溝が共存しており、さらに正三角形内に溝群Ａに交差することなく、また互いに交差することなく配置されている略直線状の溝が複数存在している溝群Ｃも共存している実施形態を表わしている。本実施形態でも、より被研磨基板の鏡面性の面内均一性が良好となり、被研磨基板の欠陥も少なくなる。
【００４６】
図４（ａ）に、本発明の一実施形態である正六角形の想像網目を表わしている。図４（ｂ）に、溝群Ａとして正六角形の想像網目上の各辺に、略直線状の溝を形成し、溝群Ａに属する溝どうしは交差していないように配置をされており、溝群Ｂの格子状に配置した互いに交差している略直線状の溝が共存しており、さらに正六角形内に溝群Ａに交差することなく、また互いに交差することなく配置されている略直線状の溝が複数存在している溝群Ｃも共存している実施形態を表わしている。本実施形態でも、より被研磨基板の鏡面性の面内均一性が良好となり、被研磨基板の欠陥も少なくなる。  
【００４７】
なお図１〜図４において（ａ）では想像網目、（ｂ）では略直線状の溝の構造を示している。図示した範囲の上下左右にも、想像網目または略直線状の溝が存在しているが、それらは図示を省略している。                                                            
【００４８】
本発明の研磨シートは、シリコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等においてより品質の高い鏡面、すなわち鏡面性の面内均一性が高く、欠陥が少ない鏡面を得られる。
【実施例】
【００４９】
以下、実施例によって、さらに本発明の詳細を説明する。しかしながら、本実施例により本発明が限定して解釈される訳ではない。研磨評価および各測定は以下のとおりに行った。
【００５０】
〔研磨評価〕
岡本工作機械製作所製研磨装置（型式：ＳＰＰ６００）を使用し、 “ＳＵＢＡ”６００パッド で一次研磨し、 “ＳＵＢＡ”４００パッドで二次研磨した８インチシリコンベアウエハを用いて、試作した研磨パッドを用いて次の条件で評価を行った。
・プラテン回転：４６ｒｐｍ
・ウエハヘッド回転：４９ｒｐｍ
・ヘッド荷重：１００ｇ／ｃｍ２
・スラリー量：７００ｍｌ／ｍｉｎ（スラリー：コロイダルシリカスラリー砥粒濃度１％）
・研磨時間：１５分。
【００５１】
〔シリコンウェハ上の欠陥、鏡面性の面内均一性〕
上記研磨条件で研磨したシリコンウェハ表面を、ケーエルエー・テンコール社製、  ＳＵＲＦＳＣＡＮ  ＳＰ−３で分析を行い、０．０２６μｍの欠陥数、鏡面の均一性の指標である、平均ヘイズレベル、およびヘイズレベルのシリコンウェハ面内バラツキであるヘイズレベル標準偏差を平均ヘイズレベルで除した値を求めた。
【００５２】
〔研磨シートの製造〕
ポリエステルとジフェニルメタンジイソシアネート（以下「ＭＤＩ」）との重付加体であるポリウレタン樹脂２５質量部を、ＤＭ１００質量部に溶解した。さらに、これにカーボンブラックを２質量部と疎水性活性剤とを２質量部添加し、ポリウレタン溶液Ａを調整した。
【００５３】
次いで、基材として東洋紡(株)製、表面易接着ポリエステルフィルムＡ４３００−１８８（１８８μｍ厚み）上に、グラビアコーターでポリエステルＭＤＩ（ジフェニルメタンジイソシアネート）ポリウレタン樹脂の１０質量％―ＤＭＦ溶液を、ウェット厚み１００μｍで塗布して乾燥し、ポリウレタンコートフィルムを作製した。本ポリウレタンコートフィルム上に、上記ポリウレタン溶液Ａをナイフコーターで、ウェット厚み７００μｍで塗布し、水浴に浸漬してポリウレタンを凝固再生し、水による洗浄でポリウレタン中のＤＭＦを除去した後、水分を乾燥し、ポリエステルフィルムを基材とした凝固再生ポリウレタンシートを作製した。
【００５４】
得られた凝固再生ポリウレタンシートの微多孔形成面を、＃２００のサンドペーパーでバフ掛けすることにより、軟質多孔ポリウレタン層とした。軟質多孔ポリウレタン層は、表面に複数の開口部を有し、開口部の直径は数平均で５０μｍであり、内部には涙滴状の孔を有するものであった。またこの層は厚み４００μｍ、見かけ密度０．２５ｇ／ｃｍ３、圧縮回復率０．５％であった。この積層体のポリエステルフィルム側にニトリルゴム発泡シート（Ｃ硬度＝４０、厚み：１ｍｍ）を両面テープで貼りつけて、軟質多孔層を有する研磨シート１を作製した。
【００５５】
以下、実施例および比較例を説明する。表１に研磨シートの溝の構造を示し、表２には研磨シートによる研磨特性を示す。  
【００５６】
［実施例１］
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、研磨シート１の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度１２０℃、圧力１９．６Ｐａで１０分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、図５−ａ左図に示すような正三角形を繰り返し構造とする想像網目に合わせて、図５−ａ右図に示すように独立した直線状の溝を複数形成した。想像網目を構成する正三角形の一辺の長さは５０ｍｍであり、その想像網目の上に設けられた一辺の直線状の溝の長さは４５ｍｍ、溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍとした。想像網目を構成する正三角形の一辺に対する直線状の溝の長さの割合は９０％であった。また、独立する溝同士の最接近距離は、２．５ｍｍであった。この溝群を溝群Ａ１とする。溝群Ａ１を配置した研磨シート１の上に格子溝状の突起を設けた金属板を載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度１２０℃、圧力１９．６Ｐａで１０分間加圧して、格子状の溝群Ｂ１をさらに形成し、図５−ｂに示すように複数の溝群を作製した。溝群Ｂ１は、溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍ、溝ピッチは５０ｍｍであった。
【００５７】
溝をつけた研磨シートに両面テープを貼り、直径６１０ｍｍの円形にカットして、研磨装置に取り付けて研磨評価をおこなった。８インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内で、溝群Ａ１において想像網目を構成する多角形にある辺の数に対する略直線状の溝の数の割合は１００％であった。
【００５８】
得られた研磨シートで、研磨装置でシリコンウエハを研磨し、欠陥数および鏡面性の面内均一性は、表２に示すように良好であった。
【００５９】
［実施例２］
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、研磨シート１の上に載せて、実施例１と同じエンボス条件で溝群Ａ２および溝群Ｂ２を形成した。
【００６０】
想像網目を構成する正三角形の一辺の長さは１０ｍｍであった。その想像網目に合わせて、独立して設けられた直線状の溝の長さは７ｍｍ、溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍであるような溝群Ａ２を形成した。想像網目を構成する正三角形一辺に対する直線状の溝の長さの割合は７０％であった。また、独立する溝同士の最接近距離は、１．５ｍｍであった。溝群Ｂ２は、実施例１の溝群Ｂ１と同様の格子状溝を形成した。
【００６１】
溝をつけた研磨シートに両面テープを貼り、６１０ｍｍΦにカットして、研磨装置に取り付けて研磨評価をおこなった。８インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内において、溝群Ａ２において想像網目を構成する多角形にある辺の数に対する略直線状の溝の数の割合は１００％であった。
【００６２】
得られた研磨シートで、研磨装置でシリコンウエハを研磨し、欠陥数および鏡面性の面内均一性は、表２に示すように良好であった。
【００６３】
［実施例３］
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、研磨シート１の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度１２０℃、圧力１９．６Ｐａで１０分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
【００６４】
想像網目を構成する正三角形一辺の長さは５０ｍｍであり、その想像網目に合わせて設けられた直線状の溝の長さは４５ｍｍ、溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍであるような溝群Ａ３を形成した。想像網目の正三角形の一辺に対する直線状の溝の長さの割合は９０％であった。また、原則として独立する溝同士の最接近距離は、２．５ｍｍでとした。溝群Ｂ３は、実施例１の溝群Ｂ１と同様の格子状溝を形成した。
【００６５】
溝をつけた研磨シートに両面テープを貼り、６１０ｍｍΦにカットして、研磨装置に取り付けて研磨評価をおこなった。８インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内で、溝群Ａ３において想像網目のすべての辺には略直線状の溝がすべては配置されてはおらず、配置されている割合は８０％であった。
【００６６】
得られた研磨シートで、研磨装置でシリコンウエハを研磨し、欠陥数および鏡面性の面内均一性は、表２に示すように良好であった。  
【００６７】
［実施例４］
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、研磨シート１の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度１２０℃、圧力１９．６Ｐａで１０分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
【００６８】
想像網目を構成する正三角形一辺の長さは５０ｍｍであり、その想像網目に合わせて設けられた直線状の溝の長さは４５ｍｍ、溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍであるような溝群Ａ４と図３−ｂに示すような、正三角形の領域内に、三本の独立した直線状の溝が放射状に配置されており、該溝の長さが１０ｍｍである溝群Ｃを形成した。想像網目の正三角形の一辺に対する直線状の溝の長さの割合は９０％であった。また、原則として独立する溝同士の最接近距離は、２．５ｍｍでとした。溝群Ｂ４は、実施例１の溝群Ｂ１と同様の格子状溝を形成した。
【００６９】
溝をつけた研磨シートに両面テープを貼り、６１０ｍｍΦにカットして、研磨装置に取り付けて研磨評価をおこなった。８インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内で、溝群Ａ４において想像網目を構成する多角形にある辺の数に対する略直線状の溝の数の割合は１００％であった。
【００７０】
得られた研磨シートで、研磨装置でシリコンウエハを研磨し、欠陥数および鏡面性の面内均一性は、表２に示すように良好であった。
【００７１】
［実施例５］
実施例１と同様な溝群Ａ１を形成し、溝群Ｂ５は、溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍ、溝ピッチは２０ｍｍであった。
【００７２】
溝をつけた研磨シートに両面テープを貼り、直径６１０ｍｍの円形にカットして、研磨装置に取り付けて研磨評価をおこなった。８インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内で、溝群Ａ５において想像網目を構成する多角形にある辺の数に対する略直線状の溝の数の割合は１００％であった。
【００７３】
得られた研磨シートで、研磨装置でシリコンウエハを研磨し、欠陥数および平均ヘイズレベルとヘイズレベル標準偏差を平均ヘイズレベルで除した数字である鏡面性の面内均一性は、表２に示すように良好であった。
【００７４】
［実施例６］
実施例１と同様な溝群Ａ１を形成し、溝群Ｂ６は、溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍ、溝ピッチは７０ｍｍであった。
【００７５】
溝をつけた研磨シートに両面テープを貼り、直径６１０ｍｍの円形にカットして、研磨装置に取り付けて研磨評価をおこなった。８インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内で、溝群Ａ１において想像網目を構成する多角形にある辺の数に対する略直線状の溝の数の割合は１００％であった。
【００７６】
得られた研磨シートで、研磨装置でシリコンウエハを研磨し、欠陥数および鏡面性の面内均一性は、表２に示すように良好であった。
【００７７】
［実施例７］
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、ン研磨シート１の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度１２０℃、圧力１９．６Ｐａで１０分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
【００７８】
想像網目を構成する正六角形の一辺の長さは１０ｍｍであり、想像網目に合わせて独立して形成された直線状の溝の長さは７ｍｍ、溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍであるような溝群Ａ７を形成した。想像網目の一辺に対する直線状の溝の長さの割合は７０％であった。また、独立する溝同士の最接近距離は、２．６ｍｍであった。溝群Ｂ７は、実施例１の溝群Ｂ１と同様の格子状溝を形成した。該研磨シートに両面テープを貼り、６１０ｍｍΦにカットして、研磨装置に取り付けて研磨評価をおこなった。８インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内で、溝群Ａ７において想像網目を構成する多角形にある辺の数に対する略直線状の溝の数の割合は１００％であった。
【００７９】
得られた研磨シートで、研磨装置でシリコンウエハを研磨し、欠陥数および鏡面性の面内均一性は、表２に示すように良好であった。  
【００８０】
[比較例１]
金属板に突起を設けたエンボス用板を用意し、研磨シート１の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度１２０℃、圧力１９．６Ｐａで１０分加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
【００８１】
溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍで溝のピッチ２０ｍｍの格子状の溝を研磨シート全面に形成した。該研磨シートに両面テープを貼り、６１０ｍｍΦにカットして、研磨装置に取り付けて研磨評価をおこなった。８インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内に、溝群Ａのような独立した溝は存在していない。
【００８２】
得られた研磨シートで、研磨装置でシリコンウェハを研磨し、欠陥数および鏡面性の面内均一性は、表２に示すように、いずれの特性も極めて不良であった。
［実施例８］
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、ン研磨シート１の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度１２０℃、圧力１９．６Ｐａで１０分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
【００８３】
想像網目を構成する正六角形の一辺の長さは５０ｍｍであり、想像網目に合わせて独立して形成された直線状の溝の長さは４５ｍｍ、溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍであるような溝群Ａ８を形成した。想像網目の一辺に対する直線状の溝の長さの割合は９０％であった。また、独立する溝同士の最接近距離は、２．６ｍｍであった。溝群Ｂ８は、実施例１の溝群Ｂ１と同様の格子状溝を形成した。該研磨シートに両面テープを貼り、６１０ｍｍΦにカットして、研磨装置に取り付けて研磨評価をおこなった。８インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内で、溝群Ａ８において想像網目を構成する多角形にある辺の数に対する略直線状の溝の数の割合は１００％であった。
【００８４】
得られた研磨シートで、研磨装置でシリコンウエハを研磨し、欠陥数および鏡面性の面内均一性は、表２に示すように良好であった。  
【００８５】
［実施例９］
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、ン研磨シート１の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度１２０℃、圧力１９．６Ｐａで１０分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
【００８６】
想像網目を構成する正六角形の一辺の長さは６０ｍｍであり、想像網目に合わせて独立して形成された直線状の溝の長さは５５ｍｍ、溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍであるような溝群Ａ９を形成した。想像網目の一辺に対する直線状の溝の長さの割合は９２％であった。また、独立する溝同士の最接近距離は、２．６ｍｍであった。溝群Ｂ９は、実施例１の溝群Ｂ１と同様の格子状溝を形成した。該研磨シートに両面テープを貼り、６１０ｍｍΦにカットして、研磨装置に取り付けて研磨評価をおこなった。８インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内で、溝群Ａ９において想像網目を構成する多角形にある辺の数に対する略直線状の溝の数の割合は１００％であった。
【００８７】
得られた研磨シートで、研磨装置でシリコンウエハを研磨し、欠陥数および鏡面性の面内均一性は、表２に示す。  
【００８８】
［実施例１０］
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、ン研磨シート１の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度１２０℃、圧力１９．６Ｐａで１０分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
【００８９】
想像網目を構成する正六角形の一辺の長さは５０ｍｍであり、想像網目に合わせて独立して形成された直線状の溝の長さは３０ｍｍ、溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍであるような溝群Ａ１０を形成した。想像網目の一辺に対する直線状の溝の長さの割合は６０％であった。また、独立する溝同士の最接近距離は、１７ｍｍであった。溝群Ｂ１０は、実施例１の溝群Ｂ１と同様の格子状溝を形成した。該研磨シートに両面テープを貼り、６１０ｍｍΦにカットして、研磨装置に取り付けて研磨評価をおこなった。８インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内で、溝群Ａ１０において想像網目を構成する多角形にある辺の数に対する略直線状の溝の数の割合は１００％であった。
【００９０】
得られた研磨シートで、研磨装置でシリコンウエハを研磨し、欠陥数および鏡面性の面内均一性を、表２に示す。  
【００９１】
［実施例１１］
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、ン研磨シート１の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度１２０℃、圧力１９．６Ｐａで１０分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
【００９２】
想像網目を構成する正六角形の一辺の長さは５０ｍｍであり、想像網目に合わせて独立して形成された直線状の溝の長さは４５ｍｍ、溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍであるような溝群Ａ１１と図４−ｂに示すような、正六角形の領域内に、独立した直線状の溝が六角形状に配置されており、該溝の長さが２０ｍｍである溝群Ｃを形成した。形成した。想像網目の一辺に対する直線状の溝の長さの割合は９０％であった。また、独立する溝同士の最接近距離は、２．６ｍｍであった。溝群Ｂ１１は、実施例１の溝群Ｂ１と同様の格子状溝を形成した。該研磨シートに両面テープを貼り、６１０ｍｍΦにカットして、研磨装置に取り付けて研磨評価をおこなった。８インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内で、溝群Ａ８において想像網目を構成する多角形にある辺の数に対する略直線状の溝の数の割合は１００％であった。
【００９３】
得られた研磨シートで、研磨装置でシリコンウエハを研磨し、欠陥数および鏡面性の面内均一性は、表２に示すように良好であった。
【００９４】
[比較例２]
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、ン研磨シート１の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度１２０℃、圧力１９．６Ｐａで１０分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
【００９５】
想像網目を構成する正六角形の一辺の長さは５０ｍｍであり、想像網目に合わせて独立して形成された直線状の溝の長さは４５ｍｍ、溝幅０．８ｍｍ、溝深さ０．３ｍｍであるような溝群Ａ８を形成した。想像網目の一辺に対する直線状の溝の長さの割合は９０％であった。また、独立する溝同士の最接近距離は、２．６ｍｍであった。溝群Ｂの格子状溝を形成しなかった。該研磨シートに両面テープを貼り、６１０ｍｍΦにカットして、研磨装置に取り付けて研磨評価をおこなった。８インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内で、溝群Ａ８において想像網目を構成する多角形にある辺の数に対する略直線状の溝の数の割合は１００％であった。
【００９６】
得られた研磨シートで、研磨装置でシリコンウエハを研磨し、欠陥数および平鏡面性の面内均一性は、表２に示すように、いずれの特性も極めて不良であった。
【００９７】
【表１】
2020032469.tif 000002
【００９８】
【表２】
2020032469.tif 000003
【図１】
2020032469.tif 000004
【図２】
2020032469.tif 000005
【図３】
2020032469.tif 000006
【図４】
2020032469.tif 000007
【図５】
2020032469.tif 000008
【図６】
2020032469.tif 000009