(57)【要約】【課題】計数率を正確に補正することができるＸ線分析装置を提供することにある。【解決手段】Ｘ線分析装置１００は、試料Ｓから放出されたＸ線を検出して、段差の高さがＸ線のエネルギーに相当する信号を出力するＸ線検出器１６ｂと、Ｘ線検出器１６ｂの出力信号を、第１パルス信号に変換するパルス生成回路と、パルス幅を設定するパルス幅設定回路と、第１パルス信号を、パルス幅設定回路で設定されたパルス幅に変換して第２パルス信号とするパルス幅変換回路と、第２パルス信号を、第２パルス信号の波高で弁別する波高弁別器４０と、弁別された第２パルス信号の計数率を求める計数回路５０と、計数回路５０で求められた計数率を補正する数え落とし補正処理部６２と、を含み、数え落とし補正処理部６２は、パルス幅設定回路で設定されたパルス幅に基づいて、計数率を補正する。【選択図】図１
2020027073.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料から放出されたＸ線を検出して、段差の高さがＸ線のエネルギーに相当する信号を出力するＸ線検出器と、
前記Ｘ線検出器の出力信号を、第１パルス信号に変換するパルス生成部と、
パルス幅を設定するパルス幅設定部と、
前記第１パルス信号を、前記パルス幅設定部で設定された前記パルス幅に変換して第２パルス信号とするパルス幅変換部と、
前記第２パルス信号を、前記第２パルス信号の波高で弁別する波高弁別部と、
弁別された前記第２パルス信号の計数率を求める計数部と、
前記計数部で求められた前記計数率を補正する補正処理部と、
を含み、
前記補正処理部は、前記パルス幅設定部で設定された前記パルス幅に基づいて、前記計数率を補正する、Ｘ線分析装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記Ｘ線検出器は、比例計数管を含む、Ｘ線分析装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
Ｘ線を分光する複数の分光素子を含み、
前記パルス幅設定部は、前記分光素子の種類に応じて、前記パルス幅を設定する、Ｘ線分析装置。
【請求項４】
請求項１または２において、
Ｘ線を分光する複数の分光素子を含み、
前記Ｘ線検出器は、複数設けられ、
前記パルス幅設定部は、前記分光素子と前記Ｘ線検出器の組み合わせに応じて、前記パルス幅を設定する、Ｘ線分析装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項において、
前記補正処理部は、前記パルス幅設定部で設定された前記パルス幅に対応する時間をデッドタイムとして、前記計数部で求められた前記計数率を補正する、Ｘ線分析装置。
【請求項６】
試料から放出されたＸ線を検出して、段差の高さがＸ線のエネルギーに相当する信号を出力するＸ線検出器を備えたＸ線分析装置におけるＸ線の計数率の補正方法であって、
前記Ｘ線検出器の出力信号を、第１パルス信号に変換する工程と、
パルス幅を設定する工程と、
前記第１パルス信号を、設定された前記パルス幅に変換して第２パルス信号とする工程と、
前記第２パルス信号を、前記第２パルス信号の波高で弁別する工程と、
弁別された前記第２パルス信号の計数率を求める工程と、
前記第２パルス信号の計数率を補正する工程と、
を含み、
前記第２パルス信号の計数率を補正する工程では、前記パルス幅を設定する工程で設定された前記パルス幅に基づいて、前記計数率を補正する、計数率の補正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線分析装置および計数率の補正方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
試料表面に電子線を照射し、試料から放出される特性Ｘ線を分光して検出することにより試料の分析を行う電子プローブマイクロアナライザー（Electron Probe Micro Analyzer、ＥＰＭＡ）が知られている。
【０００３】
電子プローブマイクロアナライザーには、一般的に、波長分散型Ｘ線分光器（Wavelength Dispersive X-Ray spectrometer、ＷＤＳ）が搭載されている。波長分散型Ｘ線分光器では、Ｘ線検出器として、例えば、比例計数管が用いられている。
【０００４】
波長分散型Ｘ線分光器では、試料から放出された特性Ｘ線は、分光結晶で分光され、Ｘ線検出器で検出される。Ｘ線検出器で検出された信号は、パルス信号に変換される。このパルス信号の波高は、特性Ｘ線のエネルギーに比例している。パルス信号は、波高弁別器に送られる。波高弁別器では、所定の波高範囲のパルス信号が弁別される。弁別されたパルス信号は、計数回路に送られる。計数回路では、弁別されたパルス信号を計数して計数率（単位時間あたりのパルス数、単位ｃｐｓ（counts per second））が求められる。パルス信号の計数率を求めることで、Ｘ線の計数率を得ることができる。
【０００５】
ここで、Ｘ線検出器には、デッドタイム（不感時間）が存在するため、パルス信号の数え落としが生じる。そのため、次式を用いて、計数率Ｎ０を補正する（例えば特許文献１参照）。
【０００６】
【数１】
2020027073.tif 000003
【０００７】
ただし、Ｎは補正された計数率であり、Ｎ０は測定された計数率であり、τはデッドタイムである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第５０７６０１２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ここで、Ｘ線検出器として用いられる比例計数管では、Ｘ線が入射すると、検出ガスが電離して、電子雪崩現象により多数の電子とイオンが発生する。これらの電子とイオンは、検出ガス中を移動して、芯線や検出器のフレーム電極等に到達して基底状態に戻る。電離されてから基底状態に戻るまでの電子の移動時間は、数十ｎｓ〜数百ｎｓ（ナノ秒）程度である。しかしながら、電離されてから基底状態に戻るまでのイオンの移動時間は、数秒程度かかることがある。
【００１０】
そのため、強度の強いＸ線が連続して入射すると、電離した検出ガスが基底状態に戻る
前に、すなわち、Ｘ線が検出可能な状態に戻る前に、次のＸ線が入射することになる。これにより、電離可能な検出ガスが少なくなり、同じエネルギーのＸ線が入射してもパルス信号の幅および波高が小さくなってしまう。
【００１１】
また、比例計数管では、検出したＸ線のエネルギーに応じて、パルス信号の幅および波高が変化する。
【００１２】
上記の理由から、Ｘ線検出器のデッドタイムは変化する。このようにデッドタイムが変化する場合、上記式（１）を用いても、計数率を正確に補正することができない。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係るＸ線分析装置の一態様は、
試料から放出されたＸ線を検出して、段差の高さがＸ線のエネルギーに相当する信号を出力するＸ線検出器と、
前記Ｘ線検出器の出力信号を、第１パルス信号に変換するパルス生成部と、
パルス幅を設定するパルス幅設定部と、
前記第１パルス信号を、前記パルス幅設定部で設定された前記パルス幅に変換して第２パルス信号とするパルス幅変換部と、
前記第２パルス信号を、前記第２パルス信号の波高で弁別する波高弁別部と、
弁別された前記第２パルス信号の計数率を求める計数部と、
前記計数部で求められた前記計数率を補正する補正処理部と、
を含み、
前記補正処理部は、前記パルス幅設定部で設定された前記パルス幅に基づいて、前記計数率を補正する。
【００１４】
このようなＸ線分析装置では、パルス幅変換部において、パルス信号のパルス幅がパルス幅設定部で設定されたパルス幅に変換される。さらに、補正処理部において、パルス幅設定部で設定されたパルス幅に基づいて計数率が補正される。そのため、このようなＸ線分析装置では、デッドタイムを一定にでき、計数率を精度よく求めることができる。
【００１５】
本発明に係る計数率の補正方法の一態様は、
試料から放出されたＸ線を検出して、段差の高さがＸ線のエネルギーに相当する信号を出力するＸ線検出器を備えたＸ線分析装置におけるＸ線の計数率の補正方法であって、
前記Ｘ線検出器の出力信号を、第１パルス信号に変換する工程と、
パルス幅を設定する工程と、
前記第１パルス信号を、設定された前記パルス幅に変換して第２パルス信号とする工程と、
前記第２パルス信号を、前記第２パルス信号の波高で弁別する工程と、
弁別された前記第２パルス信号の計数率を求める工程と、
前記計数率を補正する工程と、
を含み、
前記計数率を補正する工程では、前記パルス幅を設定する工程で設定された前記パルス幅に基づいて、前記計数率を補正する。
【００１６】
このような計数率の補正方法では、パルス信号のパルス幅が設定されたパルス幅に変換される。さらに、設定されたパルス幅に基づいて計数率が補正される。そのため、このような計数率の補正方法では、デッドタイムを一定にでき、計数率を精度よく求めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】実施形態に係るＸ線分析装置の構成を示す図。
【図２】波形整形回路の構成を示す図。
【図３】Ｘ線検出器の出力信号、微分信号、およびパルス信号を示す図。
【図４】パルス幅変換回路の処理を説明するための図。
【図５】パルス幅変換回路の処理を説明するための図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
【００１９】
１．  Ｘ線分析装置の構成
まず、本実施形態に係るＸ線分析装置について、図面を参照しながら説明する。ここでは、Ｘ線分析装置が、電子プローブマイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）である場合について説明する。
【００２０】
図１は、本実施形態に係るＸ線分析装置１００の構成を示す図である。図２は、波形整形回路３０の構成を示す図である。
【００２１】
Ｘ線分析装置１００は、本体部１０と、増幅器２０と、波形整形回路３０と、波高弁別器４０（波高弁別部の一例）と、計数回路５０（計数部の一例）と、数え落とし補正処理部６２（補正処理部の一例）を含む制御装置６０と、を含む。
【００２２】
本体部１０は、電子銃１１と、集束レンズ１２と、偏向器１３と、対物レンズ１４と、試料ステージ１５と、波長分散型Ｘ線分光器１６と、を含んで構成されている。
【００２３】
電子銃１１は、電子線ＥＢを発生させる。電子銃１１は、所定の加速電圧により加速された電子線ＥＢを試料Ｓに向けて放出する。
【００２４】
集束レンズ１２は、電子銃１１から放出された電子線ＥＢを集束させるためのレンズである。
【００２５】
偏向器１３は、電子線ＥＢを二次元的に偏向させる。偏向器１３に制御回路（図示せず）を介して走査信号が入力されることによって、集束レンズ１２および対物レンズ１４で集束された電子線ＥＢ（電子プローブ）で試料Ｓ上を走査することができる。
【００２６】
対物レンズ１４は、電子線ＥＢを試料Ｓ上で集束させて、電子線ＥＢを電子プローブとして試料Ｓに照射するためのレンズである。
【００２７】
試料ステージ１５は、試料Ｓを支持することができる。試料ステージ１５上には、試料Ｓが載置される。図示はしないが、試料ステージ１５は、試料Ｓを移動させるための移動機構を備えている。試料ステージ１５で試料Ｓを移動させることにより、試料Ｓ上での分析位置（電子線ＥＢ（電子プローブ）が照射される位置）を移動させることができる。
【００２８】
波長分散型Ｘ線分光器１６は、分光素子（分光結晶）１６ａと、Ｘ線検出器１６ｂと、を含んで構成されている。波長分散型Ｘ線分光器１６では、試料Ｓから発生した特性Ｘ線を分光素子１６ａで分光し、分光されたＸ線をＸ線検出器１６ｂで検出する。
【００２９】
分光素子１６ａは、例えば、Ｘ線の回折現象を利用して分光を行うための結晶である。Ｘ線検出器１６ｂは、例えば、比例計数管を含んで構成されている。Ｘ線検出器１６ｂは
、試料Ｓから放出された特性Ｘ線を検出して、段差の高さがＸ線のエネルギーに相当する信号を出力する。
【００３０】
なお、本体部１０は、さらに、二次電子検出器、エネルギー分散型Ｘ線分析装置などを備えていてもよい。
【００３１】
図３は、Ｘ線検出器１６ｂの出力信号ＳＧ２、微分信号ＳＧ４、およびパルス信号ＳＧ６を示す図である。
【００３２】
増幅器２０は、Ｘ線検出器１６ｂの出力信号ＳＧ２を増幅する回路である。増幅器２０で増幅された信号ＳＧ２は、波形整形回路３０に送られる。
【００３３】
波形整形回路３０は、図２に示すように、微分処理回路３２と、パルス生成回路３４（パルス生成部の一例）と、パルス幅設定回路３６（パルス幅設定部の一例）と、パルス幅変換回路３８（パルス幅変換部の一例）と、を含んで構成されている。
【００３４】
微分処理回路３２は、増幅器２０で増幅された信号ＳＧ２を微分処理して、微分信号ＳＧ４として出力する。微分信号ＳＧ４は、パルス生成回路３４に送られる。
【００３５】
パルス生成回路３４は、微分信号ＳＧ４をパルス信号ＳＧ６に変換する。パルス信号ＳＧ６の波高は、例えば、特性Ｘ線のエネルギーに比例している。
【００３６】
パルス幅設定回路３６は、パルス幅（単位は時間）を設定する。パルス幅設定回路３６でパルス幅が設定されると、パルス幅変換回路３８において、パルス信号ＳＧ６がパルス幅設定回路３６で設定されたパルス幅に変換される。また、パルス幅設定回路３６でパルス幅が設定されると、数え落とし補正処理部６２において、パルス幅設定回路３６で設定されたパルス幅に対応する時間をデッドタイムとして、計数率が補正される。
【００３７】
パルス幅変換回路３８は、パルス生成回路３４から出力されたパルス信号ＳＧ６のパルス幅を、パルス幅設定回路３６で設定されたパルス幅に変換する。
【００３８】
図４および図５は、パルス幅変換回路３８の処理を説明するための図である。
【００３９】
パルス幅変換回路３８は、図４に示すように、パルス信号ＳＧ６のパルス幅が、パルス幅設定回路３６で設定されたパルス幅ＴＨ（「設定パルス幅ＴＨ」ともいう）以下の場合、パルス信号ＳＧ６のパルス幅を設定パルス幅ＴＨに変換する。一方、パルス幅変換回路３８は、パルス信号ＳＧ６のパルス幅が設定パルス幅ＴＨよりも大きい場合、パルス幅の変換を行わずに、そのままパルス信号ＳＧ６を出力する。
【００４０】
例えば、あらかじめパルス信号ＳＧ６のパルス幅の最大値を求めることで、図５に示すように、当該最大値を設定パルス幅ＴＨとすることができる。パルス幅は特性Ｘ線の種類に応じて変わるため、パルス幅が最大となる特性Ｘ線を用いて、Ｘ線の数と数え落としの量との関係を調べることで、パルス幅の最大値を求めることができる。
【００４１】
パルス幅設定回路３６は、あらかじめ決められた時間を設定パルス幅ＴＨとして設定する。なお、パルス幅設定回路３６は、複数のパルス幅の情報を有しており、当該複数のパルス幅の情報から選択された１つを設定パルス幅ＴＨとしてもよい。また、パルス幅設定回路３６は、制御装置６０からパルス幅の情報の入力があった場合に、当該パルス幅の情報から特定されるパルス幅を設定パルス幅ＴＨとしてもよい。
【００４２】
パルス幅変換回路３８は、上記の処理により、パルス信号ＳＧ６のパルス幅を設定パルス幅ＴＨに変換し、波高弁別器４０に送る。
【００４３】
波高弁別器４０は、パルス幅変換回路３８からのパルス信号を、波高で弁別する。波高弁別器４０は、設定された波高範囲内の波高のパルス信号を弁別して出力する。設定された波高範囲外の波高のパルス信号は、波高弁別器４０から出力されない。弁別されたパルス信号は、計数回路５０に送られる。
【００４４】
計数回路５０は、弁別されたパルス信号を計数してパルス信号の計数率を求める。計数率の単位は、ｃｐｓ（counts per second）である。このパルス信号の計数率から、Ｘ線の計数率が得られる。
【００４５】
制御装置６０は、Ｘ線分析装置１００の各部を制御する。制御装置６０は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）および記憶装置（ＲＡＭ（Random Access Memory）およびＲＯＭ（Read Only Memory）など）を含んで構成されている。制御装置６０では、ＣＰＵで記憶装置に記憶されたプログラムを実行することにより、各種計算処理、各種制御処理を行う。制御装置６０は、数え落とし補正処理部６２を含む。
【００４６】
数え落とし補正処理部６２は、パルス幅設定回路３６で設定されたパルス幅（設定パルス幅ＴＨ）に基づいて、計数回路５０で求められたパルス信号の計数率を補正する。数え落とし補正処理部６２は、次式（２）を用いて、計数回路５０で求められた計数率を補正する。
【００４７】
【数２】
2020027073.tif 000004
【００４８】
なお、Ｎは補正された計数率である。また、Ｎ０は計数回路５０で求められた計数率である。また、τ´はデッドタイムであり、デッドタイムτ´は設定パルス幅ＴＨに等しい。
【００４９】
パルス幅設定回路３６に設定パルス幅ＴＨが設定されると、数え落とし補正処理部６２は、デッドタイムτ´として設定パルス幅ＴＨに対応する時間、すなわち、τ´＝ＴＨとして、上記式（２）を用いて、計数率Ｎ０を補正する。
【００５０】
２．  Ｘ線分析装置の動作
次に、Ｘ線分析装置１００の動作について説明する。
【００５１】
Ｘ線分析装置１００では、電子銃１１から放出された電子線ＥＢは、集束レンズ１２および対物レンズ１４で集束されて試料Ｓに照射される。これにより、試料Ｓから特性Ｘ線が放出される。試料Ｓから放出された特性Ｘ線は、分光素子１６ａで分光され、分光されたＸ線はＸ線検出器１６ｂで検出される。
【００５２】
Ｘ線検出器１６ｂでＸ線を検出すると、Ｘ線検出器１６ｂからは、段差の高さがＸ線のエネルギーに相当する信号ＳＧ２が出力される。信号ＳＧ２は、増幅器２０で増幅され、波形整形回路３０に送られる。
【００５３】
増幅器２０で増幅された信号ＳＧ２は、微分処理回路３２において、微分処理されて微
分信号ＳＧ４となり、パルス生成回路３４に送られる。微分信号ＳＧ４は、パルス生成回路３４において、パルス信号ＳＧ６に変換される。パルス信号ＳＧ６の波高は、検出されたＸ線のエネルギーに対応している。パルス信号ＳＧ６のパルス幅は、パルス幅変換回路３８において、パルス幅設定回路３６で設定されたパルス幅（設定パルス幅ＴＨ）に変換される。
【００５４】
このとき、パルス信号ＳＧ６のパルス幅が設定パルス幅ＴＨ以下の場合には、パルス幅変換回路３８にて、パルス信号ＳＧ６のパルス幅が設定パルス幅ＴＨに変換される。一方、パルス信号ＳＧ６のパルス幅が設定パルス幅ＴＨよりも大きい場合には、パルス幅変換回路３８にて、パルス信号ＳＧ６のパルス幅の変換は行われない（図４参照）。
【００５５】
なお、設定パルス幅ＴＨが、パルス幅の最大値に設定されている場合（図５参照）には、パルス幅変換回路３８において、すべてのパルス信号ＳＧ６のパルス幅が設定パルス幅ＴＨに変換される。
【００５６】
パルス幅変換回路３８にてパルス幅が変換されたパルス信号は、波高弁別器４０において弁別されて、所定の波高範囲のパルス信号のみが出力される。波高弁別器４０で弁別されたパルス信号は、計数回路５０において、計数されて計数率Ｎ０が求められる。計数回路５０にて求められた計数率Ｎ０の情報は、数え落とし補正処理部６２に送られる。
【００５７】
数え落とし補正処理部６２では、上記式（２）を用いて、計数率Ｎ０を補正する。このとき、設定パルス幅ＴＨに対応する時間をデッドタイムτ´として用いる（ＴＨ＝τ´）。これにより、計数率Ｎ０が補正され、計数率Ｎを得ることができる。
【００５８】
上記の処理により、計数率Ｎを精度よく求めることができる。以下、この理由について説明する。
【００５９】
例えば、マップ分析において、高い計数率の領域と、低い計数率の領域と、が混在する場合、Ｘ線検出器１６ｂ（比例計数管）では、デッドタイムが変動する。このような場合に、上記式（１）を用いて計数率を補正しても、高い精度は得られない。
【００６０】
これに対して、Ｘ線分析装置１００では、パルス幅変換回路３８において、パルス信号のパルス幅が設定パルス幅ＴＨに変換される。そのため、数え落とし補正処理部６２において、計数率を補正する際に、上記式（２）において、デッドタイムτ´を一定に（設定パルス幅ＴＨ）にできるため、計数率を精度よく求めることができる。
【００６１】
３．  特徴
Ｘ線分析装置１００は、例えば、以下の特徴を有する。
【００６２】
Ｘ線分析装置１００は、試料Ｓから放出されたＸ線を検出して、段差の高さがＸ線のエネルギーに相当する信号ＳＧ２を出力するＸ線検出器１６ｂと、Ｘ線検出器１６ｂの出力信号ＳＧ２を、パルス信号ＳＧ６（第１パルス信号）に変換するパルス生成回路３４と、パルス幅を設定するパルス幅設定回路３６と、パルス信号ＳＧ６（第１パルス信号）を、パルス幅設定回路３６で設定されたパルス幅（設定パルス幅ＴＨ）に変換して第２パルス信号とするパルス幅変換回路３８と、第２パルス信号を、第２パルス信号の波高で弁別する波高弁別器４０と、弁別された第２パルス信号から計数率を求める計数回路５０と、計数回路５０で求められたＸ線の計数率を補正する数え落とし補正処理部６２と、を含む。また、数え落とし補正処理部６２は、パルス幅設定回路３６で設定されたパルス幅（設定パルス幅ＴＨ）に基づいて計数率を補正する。
【００６３】
このように、Ｘ線分析装置１００では、パルス幅変換回路３８において、パルス信号のパルス幅が設定パルス幅ＴＨに変換される。さらに、数え落とし補正処理部６２において、計数率を補正する際に、設定パルス幅ＴＨに基づいて計数率を補正するため、デッドタイムτ´を一定にできる。したがって、Ｘ線分析装置１００では、計数率を精度よく求めることができる。
【００６４】
４．  変形例
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
【００６５】
４．１．  第１変形例
例えば、Ｘ線分析装置１００において、波長分散型Ｘ線分光器１６は、複数の分光素子１６ａを有していてもよい。例えば、結晶面間隔が互いに異なる複数の分光結晶の各々を、分光素子１６ａとして用いてもよい。これにより、広い波長範囲のＸ線を検出することができる。
【００６６】
この場合、パルス幅設定回路３６は、分光素子１６ａの種類に応じて、パルス幅を設定する。すなわち、パルス幅設定回路３６は、複数の分光素子１６ａに対応する複数の設定パルス幅ＴＨが設定可能に構成されている。これにより、より精度よく計数率を補正することができる。
【００６７】
ここで、互いに種類の異なる複数の分光素子１６ａ間では、デッドタイムも異なる。そのため、互いに種類の異なる複数の分光素子１６ａに対して、共通の設定パルス幅ＴＨを用いた場合、精度よく計数率を補正することができない。これに対して、Ｘ線分析装置１００では、分光素子１６ａの種類に応じて、パルス幅が設定されるため、精度よく計数率を補正することができる。
【００６８】
例えば、Ｘ線分析装置１００は、分光素子１６ａの種類の情報と、分光素子１６ａの種類に最適な設定パルス幅ＴＨと、が関連付けられたデータベースを有している。制御装置６０から分光素子１６ａの種類の情報が入力されると、パルス幅設定回路３６は、当該データベースを検索して、分光素子１６ａの種類に応じたパルス幅を設定する。
【００６９】
４．２．  第２変形例
例えば、第１変形例で説明したように、Ｘ線分析装置１００において、波長分散型Ｘ線分光器１６は、複数の分光素子１６ａを有していてもよい。さらに、波長分散型Ｘ線分光器１６は、複数のＸ線検出器１６ｂ（比例計数管）を有していてもよい。
【００７０】
この場合、パルス幅設定回路３６は、分光素子１６ａとＸ線検出器１６ｂの組み合わせに応じてパルス幅を設定する。すなわち、パルス幅設定回路３６は、分光素子１６ａとＸ線検出器１６ｂの組み合わせに対応する複数の設定パルス幅ＴＨが設定可能に構成されている。これにより、より精度よく計数率を補正することができる。
【００７１】
ここで、分光素子１６ａとＸ線検出器１６ｂの組み合わせが異なると、デッドタイムも異なる。そのため、分光素子１６ａとＸ線検出器１６ｂの複数の組み合わせに対して、共通の設定パルス幅ＴＨを用いた場合、精度よく計数率を補正することができない。これに対して、Ｘ線分析装置１００では、分光素子１６ａとＸ線検出器１６ｂの組み合わせに応じて、パルス幅が設定されるため、精度よく計数率を補正することができる。
【００７２】
例えば、Ｘ線分析装置１００は、分光素子１６ａの種類とＸ線検出器１６ｂとの組み合わせの情報と、当該組み合わせに最適な設定パルス幅ＴＨと、が関連付けられたデータベ
ースを有している。制御装置６０から組み合わせの情報が入力されると、パルス幅設定回路３６は、当該データベースを検索して、組み合わせに応じたパルス幅を設定する。
【００７３】
４．３．  第３変形例
例えば、Ｘ線分析装置１００では、Ｘ線検出器１６ｂが比例計数管を含んで構成されている場合について説明したが、Ｘ線検出器１６ｂは、半導体検出器などの検出器を含んで構成されていてもよい。
【００７４】
なお、上述した実施形態及び変形例は一例であって、これらに限定されるわけではない。例えば各実施形態及び各変形例は、適宜組み合わせることが可能である。
【００７５】
本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【符号の説明】
【００７６】
１０…本体部、１１…電子銃、１２…集束レンズ、１３…偏向器、１４…対物レンズ、１５…試料ステージ、１６…波長分散型Ｘ線分光器、１６ａ…分光素子、１６ｂ…Ｘ線検出器、２０…増幅器、３０…波形整形回路、３２…微分処理回路、３４…パルス生成回路、３６…パルス幅設定回路、３８…パルス幅変換回路、４０…波高弁別器、５０…計数回路、６０…制御装置、６２…落とし補正処理部、１００…Ｘ線分析装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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