(57)【要約】【課題】温度変化の影響を受けにくい腐食モニタリング方法を提供する。【解決手段】腐食モニタリング方法は、金属片の温度Ｔｔ及び電気抵抗Ｒｔを計測し、金属片の初期の電気抵抗Ｒ０と温度Ｔとの関係である温度依存関数Ｒ０（Ｔ）に基づいて、計測された温度Ｔｔにおける金属片の初期の電気抵抗Ｒ０（Ｔｔ）を算出し、算出された初期の電気抵抗Ｒ０（Ｔｔ）と計測された電気抵抗Ｒｔとの比Ｒ０（Ｔｔ）／Ｒｔに基づいて、金属片の残存板厚を算出する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属片の温度Ｔｔ及び電気抵抗Ｒｔを計測し、
前記金属片の初期の電気抵抗Ｒ０と温度Ｔとの関係である温度依存関数Ｒ０（Ｔ）に基づいて、前記計測された温度Ｔｔにおける前記金属片の初期の電気抵抗Ｒ０（Ｔｔ）を算出し、
前記算出された初期の電気抵抗Ｒ０（Ｔｔ）と前記計測された電気抵抗Ｒｔとの比Ｒ０（Ｔｔ）／Ｒｔに基づいて、前記金属片の残存板厚を算出する、腐食モニタリング方法。
【請求項２】
請求項１に記載の腐食モニタリング方法であって、
前記電気抵抗Ｒｔは、前記金属片に抵抗測定器を接続して計測され、
前記金属片と前記抵抗測定器との接続部に生じる熱起電力による計測ノイズを除去する対策を施す、腐食モニタリング方法。
【請求項３】
請求項１に記載の腐食モニタリング方法であって、
前記電気抵抗Ｒｔは、前記金属片に抵抗測定器を接続して計測され、
前記金属片と前記抵抗測定器との配線に、外部電磁場により生じる誘導起電力による計測ノイズを除去する対策を施す、腐食モニタリング方法。
【請求項４】
金属片と、
前記金属片の温度を計測する温度センサと、
前記金属片の電気抵抗を計測する抵抗測定器と、
前記温度センサによって計測された温度及び前記抵抗測定器によって計測された電気抵抗を時系列に沿って記録する記録装置と、を備える、腐食モニタリング装置。
【請求項５】
請求項４に記載の腐食モニタリング装置であって、
前記金属片の初期の電気抵抗Ｒ０と温度Ｔとの関係である温度依存関数Ｒ０（Ｔ）が記憶された記憶装置と、
前記温度依存関数Ｒ０（Ｔ）に基づいて、前記計測された温度Ｔｔにおける前記金属片の初期の電気抵抗Ｒ０（Ｔｔ）を算出し、
前記算出された初期の電気抵抗Ｒ０（Ｔｔ）と前記計測された電気抵抗Ｒｔとの比Ｒ０（Ｔｔ）／Ｒｔを算出し、
前記算出された比Ｒ０（Ｔｔ）／Ｒｔに基づいて、前記金属片の残存板厚を算出する、演算装置と、をさらに備える、腐食モニタリング装置。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の腐食モニタリング装置であって、
前記金属片は、矩形板状の形状を有する、腐食モニタリング装置。
【請求項７】
請求項４又は５に記載の腐食モニタリング装置であって、
前記金属片は、長尺状の形状を有する、腐食モニタリング装置。
【請求項８】
請求項４〜７のいずれか一項に記載の腐食モニタリング装置であって、
前記温度センサは、熱電対である、腐食モニタリング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、腐食モニタリング方法、及び腐食モニタリング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
鋼材の寿命推定や耐食鋼材の研究開発におけるニーズを背景として、鋼材の腐食モニタリング技術の開発が進められている。腐食モニタリングの手法の一つとして、板厚減少に伴う電気抵抗の増加に基づいて腐食量を測定する方法が知られている。
【０００３】
特開２０１６−１９７１０２号公報には、腐食センサの設計方法が開示されている。この腐食センサは、任意の環境に暴露されるセンサ部と、この任意の環境から遮断される参照部とを備える。同公報には、測定期間、測定間隔、平均気温、及び海塩粒子量に基づいて、センサ部の適切な厚さを設定する腐食センサの設計方法が開示されている。
【０００４】
特開２０１７−３３７６号公報には、任意の環境に暴露されるセンサ部と、この任意の環境から遮断される参照部とを備え、センサ部と参照部とが絶縁体を介して積層された腐食センサが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１６−１９７１０２号公報
【特許文献２】特開２０１７−３３７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記文献に開示されているように、従来の腐食モニタリング装置は、測定環境に暴露される計測金属（センサ部）と、測定環境から遮断して腐食されないようにした参照金属（参照部）とを備える。この構成によれば、参照金属の電気抵抗を用いて計測金属の電気抵抗を補正することで、温度による比抵抗の変化の影響を補償することができる。
【０００７】
具体的には、参照金属の初期の厚さをｄ０、計測金属の初期の電気抵抗をＲｍｅａ＿ｉｎｉｔ、測定時点における電気抵抗をＲｍｅａ、参照金属の初期の電気抵抗をＲｒｅｆ＿ｉｎｉｔ、測定時点における電気抵抗をＲｒｅｆとしたとき、計測金属の板厚減少量Δｄは、下記の式（１）から求めることができる。
【数１】
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【０００８】
従来の腐食モニタリング装置では、参照金属を測定環境から遮断するために（参照金属が腐食しないように）、例えば参照金属を防食性塗料等で被覆する。この被覆によって、参照金属と計測金属との温度差が大きくなる場合がある。特に、屋外のような直射日光が当たる環境や、屋内であっても放射熱が加わる加熱環境においては、腐食しない参照金属と腐食（発錆を含む）する計測金属との間で、腐食の進行などで表面状態に違い（発錆による材質変化、並びに色味及び表面積の変化など）が生じ、日光などの放射熱吸収の度合いが異なってくる。また、種々の液滴付着環境（例えば降雨、散布塩水、融雪塩水、飛沫（スプラッシュ状やミスト状）塩水及び腐食性液体などに暴露される環境）では、計測金属表面及び参照金属被覆面の状態に応じて、付着液滴のサイズ、分布、頻度、及び液自体の性質（濃度や粘度）が異なり、さらにその蒸発状況に応じて冷却度合いも異なってくる。これにより、例えば放射熱吸収や冷却状態に差が生じ、参照金属と計測金属の温度は本質的に同一にはなり得ない。その結果、従来法では腐食量の正確な評価が困難であるという課題がある。
【０００９】
本発明の目的は、例えば屋外のような直射日光が当たる環境や、屋内であっても放射熱が加わる加熱環境、あるいは種々の液滴付着とその蒸発による冷却を受ける環境など、温度変化の大きい環境下でも、温度変化の影響を受けにくい腐食モニタリング技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一実施形態による腐食モニタリング方法は、金属片の温度Ｔｔ及び電気抵抗Ｒｔを計測し、前記金属片の初期の電気抵抗Ｒ０と温度Ｔとの関係である温度依存関数Ｒ０（Ｔ）に基づいて、前記計測された温度Ｔｔにおける前記金属片の初期の電気抵抗Ｒ０（Ｔｔ）を算出し、前記算出された初期の電気抵抗Ｒ０（Ｔｔ）と前記計測された電気抵抗Ｒｔとの比Ｒ０（Ｔｔ）／Ｒｔに基づいて、前記金属片の残存板厚を算出する。
【００１１】
本発明の一実施形態による腐食モニタリング装置は、金属片と、前記金属片の温度を計測する温度センサと、前記金属片の電気抵抗を計測する抵抗測定器と、前記温度センサによって計測された温度及び前記抵抗測定器によって計測された電気抵抗を時系列に沿って記録する記録装置と、を備える。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、温度変化の影響を受けにくい腐食モニタリング方法、及び腐食モニタリング装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、本発明の一実施形態による腐食モニタリング装置の構成を模式的に示す図である。
【図２】図２は、演算装置の動作のフロー図である。
【図３】図３は、腐食センサの金属片の形状の他の例である。
【図４】図４は、腐食センサの金属片の形状のさらに他の例である。
【図５】図５は、実施例による腐食モニタリング装置の出力と、市販の腐食モニタリング装置の出力とを比較した図である。
【図６】図６は、実施例による腐食モニタリング装置による測定例である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態を詳しく説明する。図中同一又は相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。各図に示された構成部材間の寸法比は、必ずしも実際の寸法比を示すものではない。
【００１５】
［腐食モニタリング装置の構成］
図１は、本発明の一実施形態による腐食モニタリング装置１の構成を模式的に示す図である。腐食モニタリング装置１は、腐食センサ１０、記録装置３０、及び制御装置４０を備えている。
【００１６】
腐食センサ１０は、基板１１、基板１１上に配置された金属片１２、及び金属片１２の温度を計測する温度センサ１３を備え、金属片１２の電気抵抗を計測する抵抗測定器２０と接続可能に構成されている。
【００１７】
基板１１は、例えばプラスチック基板である。基板１１は、金属等の導体であってもよく、その場合、基板１１と金属片１２との間に絶縁体を配置すればよい。
【００１８】
金属片１２は、評価対象となる金属からなる。金属片１２は、端子１２ａ及び１２ｂを有しており、端子１２ａ及び１２ｂを介して抵抗測定器２０に電気的に接続されている。金属片１２と抵抗測定器２０とを繋ぐ配線２１ａ及び２２ａは、腐食によって断線しないように、被覆部材１４で被覆しておくことが好ましい。
【００１９】
図１では、金属片１２が矩形板状の形状である場合を図示しているが、金属片１２の形状はこれに限定されない。金属片１２の好ましい形状については後述する。
【００２０】
金属片１２は、測定環境に暴露される面を有している。すなわち、計測金属となる金属片１２の少なくとも一部は、被覆されずに露出している。図１では、金属片１２の上面及び端面（より正確には、端面のうち被覆部材１４と接する部分以外の部分）が測定環境に露出している。この構成は例示であり、金属片１２の端面を樹脂などで被覆し、上面のみを露出させる構成としてもよい。
【００２１】
温度センサ１３は、金属片１２の温度Ｔｔを計測する。温度センサ１３は、腐食によって断線しないように、被覆部材１３ａで被覆しておくことが好ましい。図１では、温度センサ１３は、絶縁テープ１３ｂによって金属片１２の下面（裏面）に固定されている。温度センサ１３の固定方法は任意であり、例えば磁石によって固定したり、ねじによって固定したりしてもよい。温度センサ１３の固定位置（測温位置）は任意である。温度センサ１３を複数用いて、金属片１２の複数の位置を計測してその平均値を用いてもよい。
【００２２】
温度センサ１３は、例えば熱電対である。温度センサ１３はこれに限定されず、金属片１２の温度が計測できるものであれば任意である。温度センサ１３は例えば、電気抵抗式の温度センサであってもよいし、赤外線放射温度計等の非接触式の温度センサであってもよい。また、温度センサ１３による計測は、連続・断続のどちらでもよい。
【００２３】
抵抗測定器２０は、定電流電源２１、及び電圧計２２を備えている。
【００２４】
定電流電源２１は、配線２１ａを介して金属片１２の端子１２ａ及び１２ｂに電気的に接続されており、端子１２ａと端子１２ｂとの間に一定電流を流す。電圧計２２は、配線２２ａを介して金属片１２の端子１２ａ及び１２ｂに電気的に接続されており、端子１２ａと端子１２ｂとの間の電圧Ｖを計測する。電圧Ｖを電流Ｉで除すことで、金属片１２の電気抵抗Ｒｔを求めることができる。
【００２５】
本実施形態では、後述するように、金属片１２の電気抵抗Ｒｔから金属片１２の残存率を求める。また、例えば金属片１２が板状の場合、この残存率に初期の板厚を乗じて残存板厚ｄｔを求める。残存率を正確に求めるためには、電気抵抗Ｒｔをできるだけ正確に計測することが好ましい。特に、腐食モニタリング装置１は、直射日光や放射熱の影響を受ける屋外での使用を念頭に置いていることから、装置各部の温度差に起因する熱起電力や、外部電磁場により生じる誘導起電力が計測ノイズとして電気抵抗Ｒｔの計測に大きく影響する。特に、直射日光など放射熱で加熱される場合、日光の当たり方や金属片１２の腐食状態によっては、金属片１２と配線２１a、２２ａとの接続部分の一方（端子１２ａ）と、金属片１２と配線２１a、２２ａとの接続部分の他方（端子１２ｂ）との間に温度差が生じやすくなる。この温度差による熱起電力は、ノイズとなって電気抵抗Ｒｔの正確な計測の大きな妨げとなる。
【００２６】
以上のことから、電気抵抗Ｒｔを正確に計測するために、金属片１２と配線２１ａ及び２２ａとの接続部分の熱起電力による計測ノイズを除去する対策を施すことが好ましい。熱起電力の影響を軽減するための具体的なノイズ対策法としては、（１）大きな測定電流で検出電圧を上げる、（２）測定電流のオフ時の電圧分をオン時の電圧から差し引いた値を電圧として計測する、（３）測定電流の極性を反転し、それぞれの場合の電圧の絶対値の平均値を電圧として計測する、（４）検出信号を交流（表皮効果を考慮し、１００ｋＨｚ以下の低周波域とすることが好ましい）にする、等が考えられる。
【００２７】
さらに、配線２１ａ及び２２ａとして、同軸ケーブル又は撚り線を採用することが好ましい。これにより、配線２１ａ及び２２ａによる外部電磁場が抵抗計測に与える影響を低減し、誘導起電力による計測ノイズを除去することができる。
【００２８】
上述した抵抗測定器２０の構成は例示である。腐食モニタリング装置１は、抵抗測定器２０に代えて、他の構成によって電気抵抗Ｒｔを計測する抵抗測定器を備えていてもよい。抵抗測定器は例えば、金属片１２に一定電圧を印加し、電流値から抵抗を計測するものであってもよい。また、抵抗測定器２０による計測は、連続・断続のどちらでもよいが、温度センサ１３による計測タイミングと抵抗測定器２０による計測タイミングは、同期されている必要がある。
【００２９】
記録装置３０は、温度センサ１３によって計測された温度Ｔｔ、及び抵抗測定器２０によって計測された電気抵抗Ｒｔを時系列に沿って記録する。記録装置３０の記録方式は、ディジタル方式又はアナログ方式の何れでもよい。なお、記録装置３０を介さずに、温度センサ１３による温度Ｔｔ、及び抵抗測定器２０による電気抵抗Ｒｔを直接制御装置４０に伝送してもよい。また、記録装置３０を制御装置４０に一体的に組み込んでもよい。
【００３０】
制御装置４０は、温度センサ１３によって計測された温度Ｔｔ、及び抵抗測定器２０によって計測された電気抵抗Ｒｔに基づいて、金属片１２の腐食量を算出する。
【００３１】
［制御装置４０の構成及び動作、並びに腐食モニタリング方法］
制御装置４０は、記憶装置４１、及び演算装置４２を備えている。
【００３２】
記憶装置４１には、金属片１２の初期の電気抵抗Ｒ０と温度Ｔとの関係である温度依存関数Ｒ０（Ｔ）が記憶されている。なお、金属片１２の初期の電気抵抗Ｒ０とは、金属片１２が腐食される前の時点における電気抵抗であり、換言すれば、金属片１２が初期の板厚を有しているときの電気抵抗である。    
【００３３】
温度依存関数Ｒ０（Ｔ）は、金属片１２を構成する金属の種類によって異なる。そのため、測定対象の金属ごとに、温度依存関数Ｒ０（Ｔ）を求める必要がある。温度依存関数Ｒ０（Ｔ）は、腐食モニタリングを実施するごとに実測して求めてもよいし、過去の測定から得られたものや、データベースに記録されたものを用いてもよい。あるいは、化学組成や組織から理論的に求めたものを用いてもよい。
【００３４】
金属片１２の温度依存関数Ｒ０（Ｔ）を実測して求める場合、金属片１２が腐食しない乾燥した環境で計測を実施することが好ましい。腐食モニタリングで対象とする温度範囲では、金属の電気抵抗は通常、温度と線形に近い関係を示す。そのため、例えば２点以上の温度で金属片１２の電気抵抗Ｒ０を計測し、これらを直線で近似して温度依存関数Ｒ０（Ｔ）としてもよい。温度依存関数Ｒ０（Ｔ）は、温度Ｔの二次以上の関数であってもよいし、電気抵抗Ｒ０と温度Ｔとの対応関係を記録したテーブルであってもよい。さらに、初期の温度依存関数Ｒ０（Ｔ）を、金属片１２の腐食がある程度進んだ段階での温度依存関数Ｒｔ１（Ｔ）としてもよい。この場合、温度依存関数Ｒｔ１（Ｔ）を求めたときの金属片１２の残存板厚ｄｔ１からの腐食量を求めることになる。
【００３５】
演算装置４２は、記憶装置４１から温度依存関数Ｒ０（Ｔ）を、記録装置３０から温度Ｔｔ及び電気抵抗Ｒｔを、それぞれ取得する。演算装置４２は、温度依存関数Ｒ０（Ｔ）、温度Ｔｔ、及び電気抵抗Ｒｔに基づいて、金属片１２の残存率を求め、例えば金属片１２が板状の場合、残存率に初期の板厚を乗じて残存板厚ｄｔを算出する。
【００３６】
図２は、演算装置４２の動作のフロー図である。演算装置４２はまず、記憶装置４１から温度依存関数Ｒ０（Ｔ）を取得する（ステップＳ１）。次に、記録装置３０から温度センサ１３によって計測された温度Ｔｔを、抵抗測定器２０によって計測された電気抵抗Ｒｔを、それぞれ取得する（ステップＳ２）。続いて、温度依存関数Ｒ０（Ｔ）に基づいて、計測された温度Ｔｔにおける金属片１２の初期の電気抵抗Ｒ０（Ｔｔ）を算出し（ステップＳ３）、算出された初期の電気抵抗Ｒ０（Ｔｔ）と計測された電気抵抗Ｒｔとの比Ｒ０（Ｔｔ）／Ｒｔ（金属片１２の残存率）を算出する（ステップＳ４）。
【００３７】
演算装置４２は、算出された比Ｒ０（Ｔｔ）／Ｒｔに基づいて、計測時点の金属片１２の残存板厚ｄｔを算出する（ステップＳ５）。残存板厚ｄｔは、具体的には、下記の式（２）から求めることができる。
【数２】
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ここで、ｄ０は、金属片１２の初期の板厚である。
【００３８】
以上の工程によって、計測時点の金属片１２の残存板厚ｄｔを求めることができる。計測時点までの板厚減少量Δｄは、Δｄ＝ｄ０−ｄｔから求めることができる。
【００３９】
上記の実施形態では、金属片１２の残存板厚ｄｔの算出を制御装置４０によって自動で実施する場合を説明した。しかし、金属片１２の残存板厚ｄｔの算出は、制御装置４０以外によって実施してもよい。例えば、温度依存関数Ｒ０（Ｔ）、記録装置３０によって記録した温度Ｔｔ、及び電気抵抗Ｒｔを用いて手動で実施してもよいし、これらの値を制御装置４０とは別の計算機に入力して残存板厚ｄｔを算出してもよい。
【００４０】
［金属片の形状］
上述のとおり、本実施形態では、金属片１２の電気抵抗Ｒｔから、金属片１２の残存板厚ｄｔを求める。金属片１２の初期の板厚ｄ０が小さいほど、板厚の減少による電気抵抗の変化が大きくなるので、測定精度を高くすることができる。一方、金属片１２の初期の板厚ｄ０を小さくすると、測定できる期間が短くなる。金属片１２の初期の板厚ｄ０は、金属の種類や環境、測定の目的によって異なるので一概にはいえないが、例えば０．０１〜１０ｍｍであり、好ましくは０．０２〜１．０ｍｍである。金属片１２の初期の板厚ｄ０は、金属片１２の全体にわたって均一であることが好ましい。
【００４１】
上記と同様の理由により、金属片１２は、幅（電流が流れる方向及び厚さ方向と垂直な方向の寸法）が狭いほど、あるいは長さ（電流が流れる方向に沿った寸法）が長いほど、測定精度を高くすることができる。すなわち、金属片１２は、細長い形状であるほど、測定精度を高くすることができる。一方、金属片１２を細長い形状にすると、局所的な腐食による影響を受けやすくなる。なお、金属片１２は板状でなくてもよく、例えば線状や棒状等の形状にして、腐食残存率を精度よく求める方法をとってもよい。
【００４２】
図３及び図４に、金属片の他の形状の例を示す。図３の金属片１８は、平面視で略Ｕ字型の形状を有している。金属片１８も金属片１２と同様に、端子１８ａ及び１８ｂを有し、この間の電気抵抗を計測できるように構成されている。図４の金属片１９は、平面視で略Ｍ字型の形状を有している。金属片１９も、端子１９ａ及び１９ｂを有し、この間の電気抵抗を計測できるように構成されている。
【００４３】
金属片を金属片１８や金属片１９のような長尺状の形状とすることで、金属片１２（図１）のような矩形板状の形状の場合と比較して、設置面積当たりの金属片の長さを長くすることができ、測定精度を高くすることができる。
【００４４】
一方、金属片を金属片１２（図１）のような矩形板状の形状にした場合、局所的な腐食による影響を受けにくいという利点がある。そのため、測定の目的に応じて、金属片の形状を選択することが好ましい。
【００４５】
以上、本発明の一実施形態による腐食モニタリング方法、及び腐食モニタリング装置を説明した。本実施形態では、金属片１２の温度Ｔｔ及び電気抵抗Ｒｔを計測し、温度依存関数Ｒ０（Ｔ）、温度Ｔｔ、及び電気抵抗Ｒｔに基づいて金属片１２の残存板厚ｄｔを算出する。金属片１２の初期の電気抵抗Ｒ０を、温度依存関数Ｒ０（Ｔ）を用いて補正することで、温度変化の影響を抑制し、より精度よく残存板厚ｄｔを算出することができる。そのため、本実施形態によれば、温度変化の影響を受けにくい腐食モニタリング方法、及び腐食モニタリング装置が得られる。
【実施例】
【００４６】
以下、実施例によって本発明をより具体的に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されない。
【００４７】
腐食センサ１０（図１）に準じた構成を有する腐食センサを作製した。金属片は、炭素鋼製で、寸法は長さ９０ｍｍ（電圧測定端子間の間隔は約５０ｍｍ）、幅５ｍｍ、厚さ０．２ｍｍとした。温度センサはＫ熱電対を使用した。
【００４８】
この腐食センサを実験室の窓際に夕刻３時間設置して、電気抵抗と温度とを計測した。計測した電気抵抗と温度との関係を直線で近似して、温度依存関数を取得した。
【００４９】
その後１日、この腐食センサを窓際に設置したまま計測を継続した。図５に、金属片の温度と、算出された板厚減少量との関係を示す。金属片の温度は約２０℃から３６℃まで大きく変化しているが、板厚減少量はほぼ一定（腐食量がほぼゼロ）となっており、正しく補正できていることを確認した。
【００５０】
比較として、市販の腐食センサの出力を図５に併せて示す。この腐食センサは、防食性塗装がされた参照金属の電気抵抗と、防食塗装がされていない計測金属の電気抵抗との比から、計測金属の板厚減少量を算出するものである。この腐食センサでは、特に日中の温度が上昇している時間において、温度変化の影響を打ち消せていないことが分かる。
【００５１】
図５から、本実施形態によれば、従来の腐食センサと比較して、顕著に精度の高い測定ができることが分かる。
【００５２】
次に、本実施形態による腐食センサに対して、腐食試験を実施して板厚減少量を測定した。具体的には、ＳＡＥＪ２３３４に準拠したラボ腐食試験を６サイクル実施した後、５日半放置し、その後、窓際に設置する試験を実施した。
【００５３】
ＳＡＥＪ２３３４に準拠したラボ腐食試験は、５０℃の湿潤状態での保持（６時間）、塩水への浸漬（１５分）、及び６０℃の乾燥状態での保持（１７時間４５分）を１サイクルとした。浸漬塩水の組成は０．５％ＮａＣｌ＋０．１％ＣａＣｌ２＋０．０７５％ＮａＨＣＯ３とした。
【００５４】
図６に、金属片の温度と、算出された板厚減少量との関係を示す（図中、破線となっている区間の値は、他の区間からの推測値である。）。図６から、ＳＡＥ試験、腐食センサに付着した塩によって腐食が徐々に進行していく様子が、温度変化が大きいにもかかわらず精度よく測定できていることが分かる。
【００５５】
以上、本発明の実施形態を説明したが、上述した実施形態は本発明を実施するための例示にすぎない。よって、本発明は上述した実施形態に限定されることなく、その趣旨を逸脱しない範囲で、上述した実施形態を適宜変形して実施することが可能である。
【符号の説明】
【００５６】
１  腐食モニタリング装置
１０  腐食センサ
１１  基板
１２  金属片
１３  温度センサ
１４  被覆部材
２０  抵抗測定器
２１  定電流電源
２２  電圧計
３０  記録装置
４０  制御装置
４１  記憶装置
４２  演算装置
【図１】
2020020735.tif 000005
【図２】
2020020735.tif 000006
【図３】
2020020735.tif 000007
【図４】
2020020735.tif 000008
【図５】
2020020735.tif 000009
【図６】
2020020735.tif 000010