(57)【要約】      （修正有）【課題】製造歩留りの低下を抑制することが可能な表示装置を提供する。【解決手段】画像を表示する表示領域ＤＡ、及び、表示領域を囲む非表示領域ＮＤＡを有し、非表示領域において折り曲げ領域ＢＡ１を有する表示パネルＰＮＬと、表示パネルＰＮＬの上に位置し、折り曲げ領域ＢＡ１と重なる端部ＰＬＥ２を有する第１光学フィルムＰＬ２と、第１光学フィルムＰＬ２と表示パネルＰＮＬとを接着する粘着層ＧＬ２と、折り曲げ領域ＢＡ１と重なり、第１光学フィルムＰＬ２と表示パネルＰＮＬとの間に位置する非粘着層１と、を備え、非粘着層１は、表示パネルＰＮＬの上面ＵＳに接する、表示装置。【選択図】図３
2020027190.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示する表示領域、及び、前記表示領域を囲む非表示領域を有し、前記非表示領域において折り曲げ領域を有する表示パネルと、
前記表示パネルの上に位置し、前記折り曲げ領域と重なる端部を有する第１光学フィルムと、
前記第１光学フィルムと前記表示パネルとを接着する粘着層と、
前記折り曲げ領域と重なり、前記第１光学フィルムと前記表示パネルとの間に位置する非粘着層と、を備え、
前記非粘着層は、前記表示パネルの上面に接する、表示装置。
【請求項２】
前記粘着層は、前記折り曲げ領域と重なる位置において、前記非粘着層と前記第１光学フィルムとの間に介在する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記非粘着層は、シリコーン、ススである、請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記粘着層と前記非粘着層との間の密着力は、前記表示パネルと前記非粘着層との間の密着力より大きい、請求項１乃至３の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記粘着層と前記非粘着層との間の密着力は、前記表示パネルと前記非粘着層との間の密着力より小さい、請求項１乃至３の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第１光学フィルムの下面は、前記非粘着層に接する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
さらに、前記表示パネルの下に位置し前記表示領域に重なる第２光学フィルムを備え、
前記折り曲げ領域は、前記表示領域側に折り曲げ開始点を有し、
前記第２光学フィルムの端部は、前記折り曲げ開始点と重なる、請求項１乃至６の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記表示パネルは、さらに、前記表示領域に位置する無機膜を備え、
前記折り曲げ領域は、前記表示領域側に折り曲げ開始点を有し、
前記無機膜の端部は、前記折り曲げ開始点に位置する、請求項１乃至７の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項９】
画像を表示する表示領域、及び、前記表示領域を囲む非表示領域を有し、前記非表示領域において折り曲げ領域を有する表示パネルと、
前記表示パネルの上に位置し、前記折り曲げ領域と重なる端部を有する第１光学フィルムと、
前記第１光学フィルムと前記表示パネルとを接着する粘着層と、
前記折り曲げ領域と重なり、前記第１光学フィルムと前記表示パネルとの間に位置する非粘着層と、を備え、
前記表示パネルは、前記折り曲げ領域において折り曲げられ、
前記第１光学フィルムの端部は、前記折り曲げ領域において前記表示パネルから離間している、表示装置。
【請求項１０】
前記非粘着層は、前記折り曲げ領域において、前記粘着層に付着する、請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記非粘着層は、シリコーン、ススである、請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記非粘着層は、前記折り曲げ領域において、前記第１光学フィルムに付着する、請求項９に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記表示パネルは、前記粘着層と接する絶縁基板を備え、
前記非粘着層は、前記折り曲げ領域において、前記絶縁基板に付着する、請求項９乃至１２の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項１４】
さらに、前記表示パネルの下に位置し前記表示領域に重なる第２光学フィルムを備え、
前記折り曲げ領域は、前記表示領域側に折り曲げ開始点を有し、
前記第２光学フィルムの端部は、前記折り曲げ開始点と重なる、請求項９乃至１３の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項１５】
前記表示パネルは、さらに、前記表示領域に位置する無機膜を備え、
前記折り曲げ領域は、前記表示領域側に折り曲げ開始点を有し、
前記無機膜の端部は、前記折り曲げ開始点に位置する、請求項９乃至１４の何れか１項に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置などの表示装置は、例えば、表示領域を覆うように配置された偏光板を備えている。偏光板は、粘着層を介して基板に接着されている。例えば、偏光板の収縮によって発生する表示パネルの反りを抑制するために、粘着層において、非粘着部を散在的に形成する技術が知られている。  
また、偏光板を表示パネルに貼り付ける際に、偏光板に貼付されているセパレータを剥離し粘着剤を露出させた後に貼り付ける。セパレータを偏光板から剥離する際に発生する帯電を減少させるために、偏光板の中央部にセパレータと粘着剤とが接着しない離型処理領域を形成し、セパレータの剥離面積を減らす技術が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−１７９７０号公報
【特許文献２】特開平１０−５４９８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本実施形態の目的は、製造歩留りの低下を抑制することが可能な表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本実施形態によれば、画像を表示する表示領域、及び、前記表示領域を囲む非表示領域を有し、前記非表示領域において折り曲げ領域を有する表示パネルと、前記表示パネルの上に位置し、前記折り曲げ領域と重なる端部を有する第１光学フィルムと、前記第１光学フィルムと前記表示パネルとを接着する粘着層と、前記折り曲げ領域と重なり、前記第１光学フィルムと前記表示パネルとの間に位置する非粘着層と、を備え、前記非粘着層は、前記表示パネルの上面に接する、表示装置が提供される。
【０００６】
本実施形態によれば、画像を表示する表示領域、及び、前記表示領域を囲む非表示領域を有し、前記非表示領域において折り曲げ領域を有する表示パネルと、前記表示パネルの上に位置し、前記折り曲げ領域と重なる端部を有する第１光学フィルムと、前記第１光学フィルムと前記表示パネルとを接着する粘着層と、前記折り曲げ領域と重なり、前記第１光学フィルムと前記表示パネルとの間に位置する非粘着層と、を備え、前記表示パネルは、前記折り曲げ領域において折り曲げられ、前記偏光板の端部は、前記折り曲げ領域において前記表示パネルから離間している、表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、本実施形態の表示装置の構成及び等価回路を示す図である。
【図２】図２は、図１に示した表示パネルの表示領域を示す断面図である。
【図３】図３は、図１に示したＡ−Ｂ線に沿った表示パネルの断面図である。
【図４】図４は、図３に示した表示パネルの折り曲げ領域が折り曲げられた状態を示す断面図である。
【図５】図５は、非粘着層の製造工程を示す図である。
【図６】図６は、非粘着層の変形例を示す断面図である。
【図７】図７は、非粘着層の変形例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【０００９】
まず、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰについて詳細に説明する。本実施形態においては、表示装置ＤＳＰが液晶表示装置である場合について説明するが、表示装置ＤＳＰは、有機ＥＬ表示装置であっても良い。
【００１０】
図１は、本実施形態の表示装置ＤＳＰの構成及び等価回路を示す図である。  
一例では、第１方向Ｘ、第２方向Ｙ、及び、第３方向Ｚは、互いに直交しているが、９０度以外の角度で交差していてもよい。第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、表示装置ＤＳＰを構成する基板の主面と平行な方向に相当し、第３方向Ｚは、表示装置ＤＳＰの厚さ方向に相当する。本明細書において、第３方向Ｚを示す矢印の先端に向かう方向を上方（あるいは、単に上）と称し、矢印の先端から逆に向かう方向を下方（あるいは、単に下）と称する。
【００１１】
表示装置ＤＳＰは、表示パネルＰＮＬと、ＩＣチップ２と、フレキシブルプリント回路基板３と、を備えている。
【００１２】
表示パネルＰＮＬは、液晶表示パネルであり、第１基板ＳＵＢ１と、第２基板ＳＵＢ２と、液晶層ＬＣと、信号線Ｓと、走査線Ｇと、スイッチング素子ＳＷと、画素電極ＰＥと、共通電極ＣＥなどを備えている。また、表示パネルＰＮＬは、画像を表示する表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡを囲む額縁状の非表示領域ＮＤＡと、を備えている。
【００１３】
第２基板ＳＵＢ２は、第１基板ＳＵＢ１と対向している。第１基板ＳＵＢ１は、第２基板ＳＵＢ２よりも第１方向Ｘに延出した実装部ＭＡを有している。第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２は、非表示領域ＮＤＡに位置する図示しないシールによって接着されている。表示領域ＤＡは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにマトリクス状に配置された複数の画素ＰＸを備えている。
【００１４】
上記した信号線Ｓ、走査線Ｇ、スイッチング素子ＳＷ、画素電極ＰＥ、共通電極ＣＥ、液晶層ＬＣは、表示領域ＤＡに位置している。信号線Ｓは第１方向Ｘに沿って延出し、走査線Ｇは第２方向Ｙに沿って延出している。スイッチング素子ＳＷは、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）によって構成され、走査線Ｇ及び信号線Ｓと電気的に接続されている。画素電極ＰＥは、スイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。画素電極ＰＥの各々は、共通電極ＣＥと対向し、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に生じる電界によって液晶層ＬＣを駆動している。保持容量ＣＳは、例えば、共通電極ＣＥと同電位の電極、及び、画素電極ＰＥと同電位の電極の間に形成される。
【００１５】
ＩＣチップ２及びフレキシブルプリント回路基板３は、実装部ＭＡに実装されている。ＩＣチップ２は、フレキシブルプリント回路基板３に実装されても良い。
【００１６】
表示パネルＰＮＬは、第１方向Ｘに延出する第１辺Ｅ１及び第２辺Ｅ２と、第２方向Ｙに延出する第３辺Ｅ３及び第４辺Ｅ４と、を有している。第１辺Ｅ１は、表示領域ＤＡを介して第２辺Ｅ２と対向している。第３辺Ｅ３は、表示領域ＤＡを介して第４辺Ｅ４と対向している。また、実装部ＭＡは、表示領域ＤＡと第４辺Ｅ４との間に位置している。
【００１７】
本実施形態の表示パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１の背面側からの光を選択的に透過させることで画像を表示する透過表示機能を備えた透過型、第２基板ＳＵＢ２の前面側からの光を選択的に反射させることで画像を表示する反射表示機能を備えた反射型、あるいは、透過表示機能及び反射表示機能を備えた半透過型のいずれであってもよい。
【００１８】
また、表示パネルＰＮＬの詳細な構成について、ここでは説明を省略するが、表示パネルＰＮＬは、基板主面に沿った横電界を利用する表示モード、基板主面の法線に沿った縦電界を利用する表示モード、基板主面に対して斜め方向に傾斜した傾斜電界を利用する表示モード、さらには、上記の横電界、縦電界、及び、傾斜電界を適宜組み合わせて利用する表示モードに対応したいずれの構成を備えていてもよい。ここでの基板主面とは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙで規定されるＸ−Ｙ平面と平行な面である。
【００１９】
また、本実施形態の表示パネルＰＮＬは、フレキシブルな基板によって構成されており折り曲げることが可能である。すなわち、非表示領域ＮＤＡにおいて表示パネルＰＮＬを折り曲げることで、表示装置ＤＳＰの額縁を小さくすることができる。図示した例では、表示パネルＰＮＬは、第１辺Ｅ１側の非表示領域ＮＤＡにおいて折り曲げ領域ＢＡ１を有している。また、表示パネルＰＮＬは、第２辺Ｅ２側の非表示領域ＮＤＡにおいて折り曲げ領域ＢＡ２を有している。つまり、図示した表示パネルＰＮＬにおいては、第１辺Ｅ１及び第２辺Ｅ２が表示領域ＤＡの下側に位置するように、折り曲げ領域ＢＡ１及びＢＡ２が折り曲げられる。
【００２０】
なお、本実施形態においては、表示パネルＰＮＬの第１辺Ｅ１側及び第２辺Ｅ２側が折り曲げられる例を示しているが、これに限定されない。第１辺Ｅ１、第２辺Ｅ２、第３辺Ｅ３、第４辺Ｅ４のうち、４辺側すべてが折り曲げられていても良いし、何れか１辺、又は、２辺、又は、３辺側が折り曲げられていても良い。また、図示した例では、表示パネルＰＮＬは、第１辺Ｅ１及び第２辺Ｅ２が長辺であり第３辺Ｅ３及び第４辺Ｅ４が短辺である長方形状であるが、第１辺Ｅ１及び第２辺Ｅ２が短辺であり第３辺Ｅ３及び第４辺Ｅ４が長辺である長方形状であっても良い。
【００２１】
図２は、図１に示した表示パネルＰＮＬの表示領域ＤＡを示す断面図である。図示した例は、表示パネルＰＮＬに、横電界を利用する表示モードの一つであるＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードが適用された例に相当する。
【００２２】
第１基板ＳＵＢ１は、絶縁基板１０、絶縁膜１１乃至１３、信号線Ｓ、共通電極ＣＥ、金属配線ＭＬ、画素電極ＰＥ、第１配向膜ＡＬ１などを備えている。なお、ここでは、スイッチング素子や走査線、これらの間に介在する各種絶縁膜等の図示を省略している。
【００２３】
絶縁基板１０は、例えば、可撓性の樹脂基板であり光透過性を有している。絶縁基板１０は、例えば、ポリイミドを用いて形成されている。絶縁膜１１は、絶縁基板１０の上に位置している。信号線Ｓは、絶縁膜１１の上に位置し、絶縁膜１２によって覆われている。絶縁膜１２は、絶縁膜１１の上にも位置している。
【００２４】
共通電極ＣＥは、絶縁膜１２の上に位置し、絶縁膜１３によって覆われている。共通電極ＣＥは、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）などの透明な導電材料によって形成された透明電極である。金属配線ＭＬは、共通電極ＣＥの上に位置し、共通電極ＣＥに接している。また、金属配線ＭＬは、信号線Ｓの直上に位置している。なお、金属配線ＭＬは、共通電極ＣＥと絶縁膜１２との間に位置していても良い。絶縁膜１３は、金属配線ＭＬも覆っている。画素電極ＰＥは、絶縁膜１３の上に位置し、第１配向膜ＡＬ１によって覆われている。また、画素電極ＰＥは、共通電極ＣＥと対向する位置にスリットＳＬを有している。画素電極ＰＥは、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明な導電材料によって形成された透明電極である。第１配向膜ＡＬ１は、絶縁膜１３の上にも位置している。
【００２５】
絶縁膜１１及び１３は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物などの無機絶縁材料によって形成された無機絶縁膜であり、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。絶縁膜１２は、例えば、アクリル樹脂などの有機絶縁材料によって形成された有機絶縁膜である。
【００２６】
第２基板ＳＵＢ２は、絶縁基板２０、遮光層ＢＭ、カラーフィルタＣＦ、オーバーコート層ＯＣ、第２配向膜ＡＬ２などを備えている。
【００２７】
絶縁基板２０は、絶縁基板１０と同様に、例えば、可撓性の樹脂基板であり光透過性を有している。絶縁基板２０は、例えば、ポリイミドを用いて形成されている。遮光層ＢＭ及びカラーフィルタＣＦは、絶縁基板２０の第１基板ＳＵＢ１と対向する側に位置している。遮光層ＢＭは、各画素を区画し、信号線Ｓの直上に位置している。カラーフィルタＣＦは、画素電極ＰＥと対向する位置に配置され、その一部が遮光層ＢＭに重なっている。カラーフィルタＣＦは、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、青色カラーフィルタなどを含む。オーバーコート層ＯＣは、カラーフィルタＣＦを覆っている。オーバーコート層ＯＣは、透明な樹脂によって形成されている。第２配向膜ＡＬ２は、オーバーコート層ＯＣを覆っている。第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２は、例えば、水平配向性を呈する材料によって形成されている。
【００２８】
上述した第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２は、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２が対向するように配置されている。第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２は、所定のセルギャップが形成された状態でシールによって接着されている。液晶層ＬＣは、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間のセルギャップにおいてシールによって囲まれた内側に保持されている。液晶層ＬＣは、液晶分子ＬＭを備えている。液晶層ＬＣは、ポジ型（誘電率異方性が正）の液晶材料、あるいは、ネガ型（誘電率異方性が負）の液晶材料によって構成されている。偏光板（第２光学フィルム）ＰＬ１は、表示パネルＰＮＬの下に位置し表示領域ＤＡに重なっている。偏光板ＰＬ１は、粘着層ＧＬ１によって絶縁基板１０に接着されている。偏光板（第１光学フィルム）ＰＬ２は、表示パネルＰＮＬの上に位置し表示領域ＤＡに重なっている。偏光板ＰＬ２は、粘着層ＧＬ２によって絶縁基板２０に接着されている。
【００２９】
このような表示パネルＰＮＬにおいては、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電界が形成されていないオフ状態において、液晶分子ＬＭは、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２の間で所定の方向に初期配向している。このようなオフ状態では、表示パネルＰＮＬの背面側に配置された照明装置ＢＬから表示パネルＰＮＬに向けて照射された光は、偏光板ＰＬ１及びＰＬ２によって吸収され、暗表示となる。一方、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電界が形成されたオン状態においては、液晶分子ＬＭは、電界により初期配向方向とは異なる方向に配向し、その配向方向は電界によって制御される。このようなオン状態では、照明装置ＢＬからの光の一部は、偏光板ＰＬ１及びＰＬ２を透過し、明表示となる。
【００３０】
図３は、図１に示したＡ−Ｂ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。図３においては、本実施形態の主要な構成のみを示し、その他の部材の図示を省略する。また、図３においては、折り曲げ領域ＢＡ１側の構成を示しているが、折り曲げ領域ＢＡ２側の構成についても折り曲げ領域ＢＡ１側と同様である。  
折り曲げ領域ＢＡ１は、折り曲げ部ＢＰ１及びＢＰ２を有している。後述するが、折り曲げ部ＢＰ１及びＢＰ２は、折り曲げ領域ＢＡ１が折り曲げられた際に曲率を有する部分に相当する。折り曲げ領域ＢＡ１のうち、最も表示領域ＤＡ側を折り曲げ開始点Ｐとする。折り曲げ開始点Ｐは、折り曲げ領域ＢＡ１が折り曲がり始める部分に相当する。
【００３１】
偏光板ＰＬ１は、折り曲げ部ＢＰ１及びＢＰ２には配置されていない。偏光板ＰＬ１は、第１部分ＰＬ１１、第２部分ＰＬ１２、第３部分ＰＬ１３を有している。第１部分ＰＬ１１は、表示領域ＤＡと重なり、第２部分ＰＬ１２及び第３部分ＰＬ１３は、非表示領域ＮＤＡと重なっている。第２部分ＰＬ１２は、折り曲げ領域ＢＡ１にも重なっている。第３部分ＰＬ１３は、折り曲げ領域ＢＡ１に対して、第１部分ＰＬ１１とは反対側に位置している。折り曲げ部ＢＰ１は、第１部分ＰＬ１１と第２部分ＰＬ１２との間に位置している。折り曲げ部ＢＰ２は、第２部分ＰＬ１２と第３部分ＰＬ１３との間に位置している。このような偏光板ＰＬ１の製造方法としては、例えば、偏光板ＰＬ１を表示パネルＰＮＬに貼付した後、偏光板ＰＬ１のうち折り曲げ部ＢＰ１及びＢＰ２に位置する部分をレーザーカットによって除去する方法が用いられる。
【００３２】
偏光板ＰＬ１の第１部分ＰＬ１１は、折り曲げ開始点Ｐまで延出している。すなわち、第１部分ＰＬ１１の端部ＰＬＥ１は、折り曲げ開始点Ｐと重なっている。無機膜である絶縁膜１１は、表示領域ＤＡに位置し、折り曲げ開始点Ｐまで延出している。すなわち、絶縁膜１１の端部１１Ｅは、折り曲げ開始点Ｐに位置している。第１基板ＳＵＢ１は、非表示領域ＮＤＡにおいて周辺配線ＷＲを備えている。周辺配線ＷＲは、絶縁膜１２の上に位置している。周辺配線ＷＲは、例えば、表示領域ＤＡの信号線Ｓ及び走査線Ｇが非表示領域ＮＤＡにおいて絶縁膜１２よりも上の層に変換されている。なお、周辺配線ＷＲは、非表示領域ＮＤＡにおいて信号線Ｓ及び走査線Ｇと同層に位置していても良い。また、周辺配線ＷＲは、折り曲げ領域ＢＡ１と重なっている。折り曲げ領域ＢＡ１が折り曲げられる際に周辺配線ＷＲが断線するのを抑制するために、無機膜が折り曲げ領域ＢＡ１に配置されないことが望ましい。シールＳＥは、折り曲げ領域ＢＡ１と重なる位置に配置されている。遮光層ＢＭは、非表示領域ＮＤＡを覆うように配置されている。
【００３３】
偏光板ＰＬ２は、表示領域ＤＡに配置され、非表示領域ＮＤＡまで延出している。本実施形態においては、偏光板ＰＬ２の端部ＰＬＥ２は、折り曲げ領域ＢＡ１と重なっている。粘着層ＧＬ２は、偏光板ＰＬ２と表示パネルＰＮＬを接着している。すなわち、粘着層ＧＬ２は、絶縁基板２０及び偏光板ＰＬ２に接している。
【００３４】
非粘着層１は、折り曲げ領域ＢＡ１と重なり、偏光板ＰＬ２と表示パネルＰＮＬとの間に位置している。図示した例では、非粘着層１は、絶縁基板２０と粘着層ＧＬ２との間に位置している。つまり、粘着層ＧＬ２は、折り曲げ領域ＢＡ１と重なる位置において、非粘着層１と偏光板ＰＬ２との間に介在している。非粘着層１は、表示パネルＰＮＬの上面ＵＳに接している。非粘着層１の第２方向Ｙに沿った幅は、例えば、折り曲げ部ＢＰ１の第２方向Ｙに沿った幅以下である。また、非粘着層１の表示領域ＤＡ側の端部１Ｅは、偏光板ＰＬ１の端部ＰＬＥ１より表示領域ＤＡ側に位置している。非粘着層１は、例えば、シリコーン、スス、ＵＶ照射で粘着力が低下する粘着剤を用いて形成される。非粘着層１がシリコーンを用いて形成される場合には、絶縁基板２０の上に非粘着層１を形成した後に、粘着剤ＧＬ２が塗布された偏光板ＰＬ２を表示パネルＰＮＬの上に接着する。そのため、図３に示すように、粘着層ＧＬ２が非粘着層１と偏光板ＰＬ２との間に介在している。なお、後述するが、非粘着層１が、ＵＶ照射で粘着力が低下する粘着剤を用いて形成される場合、非粘着層１は、表示パネルＰＮＬ上方から粘着層ＧＬ２へのレーザー光照射によって形成され、非粘着層１と偏光板ＰＬ２との間に粘着層ＧＬ２が介在しない。
【００３５】
図４は、図３に示した表示パネルＰＮＬの折り曲げ領域ＢＡ１が折り曲げられた状態を示す断面図である。  
折り曲げ領域ＢＡ１は、偏光板ＰＬ１の第１部分ＰＬ１１及び第３部分ＰＬ１３が第３方向Ｚに対向するように折り曲がっている。照明装置ＢＬは、第１部分ＰＬ１１と第３部分ＰＬ１３との間に位置している。折り曲げ部ＢＰ１及びＢＰ２は、折り曲げ領域ＢＡ１が折り曲げられた際に曲率を有している。また、折り曲げ部ＢＰ１と折り曲げ部ＢＰ２との間において、表示パネルＰＮＬは曲率を有していない。なお、表示パネルＰＮＬは、折り曲げ部ＢＰ１と折り曲げ部ＢＰ２との間においても曲率を有していても良く、その場合、偏光板ＰＬ１の第２部分ＰＬ１２は配置されない。折り曲げ開始点Ｐは、表示パネルＰＮＬの曲率を有する部分と曲率を有さない部分の境界に位置している。本実施形態においては、折り曲げ開始点Ｐは、偏光板ＰＬ１の端部ＰＬＥ１及び絶縁膜１１の端部１１Ｅによってその位置が定義される。なお、折り曲げ開始点Ｐは、端部ＰＬＥ１及び１１Ｅのうち少なくとも一方と重なる位置によって定義されていれば良く、端部ＰＬＥ１及び１１Ｅのうち、もう一方は、折り曲げ開始点Ｐ上に位置していなくても良い。
【００３６】
偏光板ＰＬ２の端部ＰＬＥ２は、折り曲げ領域ＢＡ１において表示パネルＰＮＬから離間している。換言すると、折り曲げ領域ＢＡ１においては、非粘着層１と絶縁基板２０との間に空間が介在している。つまり、偏光板ＰＬ２と表示パネルＰＮＬとの間に非粘着層１が介在することによって、表示パネルＰＮＬが折り曲げられる際に、偏光板ＰＬ２が表示パネルＰＮＬに追随して折り曲がらない。図示した例では、粘着層ＧＬ２と非粘着層１との間の密着力は、表示パネルＰＮＬと非粘着層１との間の密着力より大きい。そのため、非粘着層１は、折り曲げ領域ＢＡ１において粘着層ＧＬ２に付着している。このとき、表示パネルＰＮＬと非粘着層１との間の密着力は、５００ｍＮ／２５ｍｍ以下であることが望ましい。また、表示パネルＰＮＬと非粘着層１との間の密着力は、絶縁基板２０と非粘着層１との間の密着力で定義される。
【００３７】
折り曲げ領域ＢＡ１の剛性を増加させないために、折り曲げ領域ＢＡ１における表示パネルＰＮＬの厚さは薄い方が望ましい。そのため、偏光板ＰＬ２は、折り曲げ領域ＢＡ１に侵入しないことが望ましい。しかし、偏光板ＰＬ２の貼り付け精度によって、図示したように偏光板ＰＬ２が折り曲げ領域ＢＡ１に重なる場合がある。このように折り曲げ領域ＢＡ１の厚さが増加すると折り曲げ難くなる恐れがある。また、折り曲げ領域ＢＡ１に配置されている周辺配線は、中立面を制御することによって断線が抑制されている。しかし、折り曲げ領域ＢＡ１に侵入した偏光板ＰＬ２が絶縁基板２０に接着されていると、中立面が移動して周辺配線に大きな応力が生じ断線してしまう恐れがある。
【００３８】
本実施形態によれば、表示パネルＰＮＬは、折り曲げ領域と重なる位置において、偏光板ＰＬ２と絶縁基板２０との間に非粘着層１を備えている。そのため、偏光板ＰＬ２が折り曲げ領域ＢＡ１に侵入したとしても、折り曲げ領域ＢＡ１においては、偏光板ＰＬ２と絶縁基板２０が密着しない。よって、折り曲げ領域ＢＡ１が折り曲げられた際に、表示パネルＰＮＬに付随して偏光板ＰＬ２が折り曲がるのを抑制することができる。つまり、折り曲げ領域ＢＡ１の中立面が所望の位置からずれるのを抑制し、周辺配線が断線するのを抑制することができる。また、折り曲げ領域ＢＡ１の剛性が増加するのを抑制し、折り曲げ領域ＢＡ１が曲げ難くなるのを抑制することができる。したがって、製造歩留りの低下を抑制することができる。
【００３９】
図５は、非粘着層１の製造工程を示す図である。図５は、非粘着層１がススを用いて形成される場合の製造工程を示している。図５（ａ）は断面を示し、図５（ｂ）は、図５（ａ）と同一行程の平面を示している。また、図５は、偏光板ＰＬ１を貼りつけた後に、表示パネルＰＮＬ上に貼付されているガラス基板ＧＳを剥離する工程を示している。  
まず、非粘着層１を形成する領域にレーザーＬＬを照射する。レーザーＬＬが照射された領域の絶縁基板２０は炭化し、非粘着層１としてのススが発生する。第１辺Ｅ１側及び第２辺Ｅ２側が折り曲げられる表示パネルＰＮＬにおいては、図５（ｂ）に示すように、第１辺Ｅ１側及び第２辺Ｅ２側に直線状にレーザーＬＬを照射して非粘着層１を形成する。このとき、レーザーＬＬの焦点を調整することによって、照射部分の幅を変更することができる。
【００４０】
次に、表示パネルＰＮＬ全体をレーザースキャンすることによってガラス基板ＧＳを絶縁基板２０から剥離する。なお、偏光板ＰＬ２の粘着層ＧＬ２がＵＶ照射によって粘着力が低下する粘着剤である場合には、粘着層ＧＬ２を用いて非粘着層１を形成することができる。この場合、ガラス基板ＧＳを剥離した後に、粘着剤ＧＬ２を絶縁基板２０上に貼り、図５（ａ）に示すように直線状の領域にＵＶ照射する。
【００４１】
図６は、非粘着層１の変形例を示す断面図である。図６（ａ）に示す構成は、図４に示した構成と比較して、非粘着層１が折り曲げ領域ＢＡ１において絶縁基板２０に付着している点で相違している。
【００４２】
折り曲げ領域ＢＡ１においては、偏光板ＰＬ２と表示パネルＰＮＬとの間に空間が介在している。図示した例では、粘着層ＧＬ２と非粘着層１との間の密着力は、表示パネルＰＮＬと非粘着層１との間の密着力より小さい。そのため、非粘着層１は、折り曲げ領域ＢＡ１において表示パネルＰＮＬに付着している。このとき、粘着層ＧＬ２と非粘着層１との間の密着力は、５００ｍＮ／２５ｍｍ以下であることが望ましい。
【００４３】
また、図６（ｂ）に示す構成は、図４に示した構成と比較して、非粘着層１が折り曲げ領域ＢＡ１において粘着層ＧＬ２及び絶縁基板２０の両方に付着している点で相違している。例えば、粘着層ＧＬ２と非粘着層１との間の密着力は、表示パネルＰＮＬと非粘着層１との間の密着力と略同等である。  
このような構成においても上記したのと同様の効果を得ることができる。
【００４４】
図７は、非粘着層１の変形例を示す断面図である。図７（ａ）に示す構成は、図４に示した構成と比較して、非粘着層１と偏光板ＰＬ２との間に粘着層ＧＬ２が介在していない点で相違している。  
偏光板ＰＬ２の下面ＰＬＳは、非粘着層１に接している。例えば、非粘着層１がＵＶ照射によって粘着力が低下する粘着剤を用いて形成されている場合、表示パネルＰＮＬの上方からＵＶ照射されることで非粘着層１が形成されるため、偏光板ＰＬ２の下面ＰＬＳが非粘着層１に接する。図示した例では、偏光板ＰＬ２と非粘着層１との間の密着力は、表示パネルＰＮＬと非粘着層１との間の密着力より大きい。そのため、非粘着層１は、折り曲げ領域ＢＡ１において偏光板ＰＬ２に付着している。このとき、表示パネルＰＮＬと非粘着層１との間の密着力は、５００ｍＮ／２５ｍｍ以下であることが望ましい。
【００４５】
図７（ｂ）に示す構成は、図７（ａ）に示した構成と比較して、非粘着層１が折り曲げ領域ＢＡ１において絶縁基板２０に付着している点で相違している。図示した例では、偏光板ＰＬ２と非粘着層１との間の密着力は、表示パネルＰＮＬと非粘着層１との間の密着力より小さい。そのため、非粘着層１は、折り曲げ領域ＢＡ１において表示パネルＰＮＬに付着している。このとき、偏光板ＰＬ２と非粘着層１との間の密着力は、５００ｍＮ／２５ｍｍ以下であることが望ましい。
【００４６】
図７（ｃ）に示す構成は、図７（ａ）に示した構成と比較して、非粘着層１が折り曲げ領域ＢＡ１において偏光板ＰＬ２及び絶縁基板２０の両方に付着している点で相違している。例えば、偏光板ＰＬ２と非粘着層１との間の密着力は、表示パネルＰＮＬと非粘着層１との間の密着力と略同等である。  
このような構成においても上記したのと同様の効果を得ることができる。
【００４７】
なお、上記した実施形態においては、表示装置が液晶表示装置である場合を示したが、表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置であっても良い。その場合、偏光板ＰＬ１は支持フィルム等に置き換えられ、偏光板ＰＬ２はカバーフィルム等に置き換えられる。また、例えば、照明装置ＢＬは、支持基板に置き換えられる。
【００４８】
以上説明したように、本実施形態によれば、製造歩留りの低下を抑制することが可能な表示装置を得ることができる。
【００４９】
なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００５０】
ＤＳＰ…表示装置、ＰＮＬ…表示パネル、ＤＡ…表示領域、ＮＤＡ…非表示領域、
ＢＡ１、ＢＡ２…折り曲げ領域、ＰＬ１、ＰＬ２…偏光板、
ＰＬＥ１、ＰＬＥ２、１１Ｅ…端部、ＧＬ１、ＧＬ２…粘着層、１…非粘着層、
ＵＳ…上面、ＰＬＳ…下面、Ｐ…折り曲げ開始点、１０、２０…絶縁基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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