(57)【要約】      （修正有）【課題】表示品位の低下を抑制することが可能な表示装置を提供する。【解決手段】画像を表示する表示領域ＤＡ、及び、表示領域ＤＡを囲む非表示領域ＮＤＡを有し、第１配向膜を備える第１基板ＳＵＢ１と、第２配向膜を備え前記第１基板と対向する第２基板ＳＵＢ２と、非表示領域ＮＤＡに位置し第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とを接着するシールＳＥと、を備え、第２基板ＳＵＢ２は、非表示領域ＮＤＡにおいて第１基板ＳＵＢ１側に突出する第１突起部ＰＪを備え、第１突起部ＰＪは、シールＳＥより表示領域ＤＡ側に位置し、表示領域ＤＡ側とは反対側に突出した複数の凸部１を有する、表示装置。【選択図】図１
2020027191.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示する表示領域、及び、前記表示領域を囲む非表示領域を有し、
第１配向膜を備える第１基板と、
第２配向膜を備え前記第１基板と対向する第２基板と、
前記非表示領域に位置し前記第１基板と前記第２基板とを接着するシールと、を備え、
前記第２基板は、前記非表示領域において前記第１基板側に突出する第１突起部を備え、
前記第１突起部は、前記シールより前記表示領域側に位置し、前記表示領域側とは反対側に突出した複数の凸部を有する、表示装置。
【請求項２】
前記第１突起部は、前記第２配向膜に接し、
前記第１突起部の吸湿性は、前記第２配向膜の吸湿性より大きい、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１突起部は、前記第１基板から離間している、請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１突起部は、前記第１基板から前記第２基板に向かう方向において複数の凸部を有する、請求項１乃至３の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
第１方向に延出する第１辺及び第２辺と、
前記第１方向と交差する第２方向に延出する第３辺及び第４辺と、
前記表示領域と前記第４辺との間に実装部と、を有し、
前記第１突起部は、前記第１辺に沿って配置された第１部分と、前記第２辺に沿って配置された第２部分と、前記第３辺に沿って配置された第３部分と、を有し、
前記第３部分は、前記第１部分及び前記第２部分とそれぞれ交差している、請求項１乃至４の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第２基板は、前記表示領域において前記第１基板側に突出するスペーサを有し、
前記第１突起部は、前記スペーサと同一材料を用いて形成され、前記スペーサと同一の高さを有する、請求項１乃至５の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１突起部の表面は、前記スペーサの表面より粗面である、請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第１突起部の前記表示領域側の側面は、第１無機絶縁膜によって覆われている、請求項１乃至７の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項９】
前記第１突起部は、前記第１無機絶縁膜を介して前記第１基板に当接する、請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第２基板は、共通電極を備え、
前記第１無機絶縁膜は、前記共通電極と同一材料によって形成される、請求項８又は９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記第１無機絶縁膜は、前記第２配向膜と前記第１突起部との間に介在する、請求項８乃至１０の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記第１基板は、前記非表示領域において前記第２基板側に突出する第２突起部を備え、
前記第２突起部は、前記シールより前記表示領域側に位置し、前記第１配向膜に接し、前記表示領域側とは反対側に突出した複数の凸部を有し、
前記第２突起部の吸湿性は、前記第１配向膜の吸湿性より大きい、請求項１乃至１１の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記第１基板は、前記表示領域及び前記非表示領域において有機絶縁膜を備え、
前記第２突起部は、前記有機絶縁膜と一体である、請求項１２に記載の表示装置。
【請求項１４】
前記第２突起部の前記表示領域側の側面は、第２無機絶縁膜によって覆われている、請求項１２又は１３に記載の表示装置。
【請求項１５】
画像を表示する表示領域、及び、前記表示領域を囲む非表示領域を有し、
第１基板と、
前記第１基板と対向する第２基板と、
前記非表示領域に位置し前記第１基板と前記第２基板とを接着するシールと、を備え、
前記第１基板は、前記非表示領域において前記第２基板側に突出する突起部を備え、
前記突起部は、前記シールより前記表示領域側に位置し、前記表示領域側とは反対側に突出した複数の凸部を有する、表示装置。
【請求項１６】
前記第１基板は、配向膜を備え、
前記突起部は、前記配向膜に接し、
前記突起部の吸湿性は、前記配向膜の吸湿性より大きい、請求項１５に記載の表示装置。
【請求項１７】
前記突起部の前記表示領域側の側面は、無機絶縁膜によって覆われ、
前記無機絶縁膜は、配向膜と前記突起部との間に介在する、請求項１５又は１６に記載の表示装置。
【請求項１８】
前記第１基板は、前記表示領域及び前記非表示領域において有機絶縁膜を備え、
前記突起部は、前記有機絶縁膜と一体である、請求項１５乃至１７の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項１９】
画像を表示する表示領域、及び、前記表示領域を囲む非表示領域を有し、
第１配向膜を備える第１基板と、
第２配向膜を備え前記第１基板と対向する第２基板と、
前記非表示領域に位置し前記第１基板と前記第２基板とを接着するシールと、を備え、
前記第２基板は、前記非表示領域において前記第１基板側に突出する第１突起部を備え、
前記第１突起部は、前記シールより前記表示領域側に位置し、前記第１基板から前記第２基板に向かう方向において複数の凸部を有する、表示装置。
【請求項２０】
前記第１突起部は、前記第２配向膜に接し、
前記第１突起部の吸湿性は、前記第２配向膜の吸湿性より大きい、請求項１９に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄型、軽量かつ低消費電力の表示装置として、液晶表示装置が広く普及している。液晶表示装置は、シールで貼り合わされた一対の基板と、シールで囲まれた領域に液晶層と、を有している。液晶層の製造工程においては、例えば、シールを一方の基板に塗布した後に液晶を滴下する、もしくは、一対の基板をシールによって貼り合わせた後に液晶を注入する。このとき、シールの硬化が十分ではない場合があり、未硬化のシールが液晶と接触反応して不純物粒子を発生させる恐れがある。そして、この不純物粒子が画像を表示するアクティブ領域に流入し、表示特性を低下させる原因となる。このような未硬化のシールと液晶の接触による汚染を抑制するために、液晶流動制御用の壁が形成される技術が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−３１５８１０号公報
【特許文献２】特開２００７−１３３３９２号公報
【特許文献３】特開２００３−２５５３６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本実施形態の目的は、表示品位の低下を抑制することが可能な表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本実施形態によれば、画像を表示する表示領域、及び、前記表示領域を囲む非表示領域を有し、第１配向膜を備える第１基板と、第２配向膜を備え前記第１基板と対向する第２基板と、前記非表示領域に位置し前記第１基板と前記第２基板とを接着するシールと、を備え、前記第２基板は、前記非表示領域において前記第１基板側に突出する第１突起部を備え、前記第１突起部は、前記シールより前記表示領域側に位置し、前記表示領域側とは反対側に突出した複数の凸部を有する、表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１は、本実施形態の表示装置の構成及び等価回路を示す図である。
【図２】図２は、図１に示したＡ−Ｂ線及びＣ−Ｄ線に沿った表示パネルの断面図である。
【図３】図３は、図１に示したＥ−Ｆ線に沿った表示パネルの断面図である。
【図４】図４は、図１に示したＡ−Ｂ線及びＣ−Ｄ線に沿った表示パネルの断面図である。
【図５】図５は、図１に示したＡ−Ｂ線及びＣ−Ｄ線に沿った表示パネルの断面図である。
【図６】図６は、図１に示したＡ−Ｂ線及びＣ−Ｄ線に沿った表示パネルの断面図である。
【図７】図７は、表示装置を構成する表示パネルの構成を示す図である。
【図８】図８は、図７に示したＡ−Ｂ線及びＣ−Ｄ線に沿った表示パネルの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【０００８】
まず、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰについて詳細に説明する。本実施形態においては、表示装置ＤＳＰは液晶表示装置である。
【０００９】
図１は、本実施形態の表示装置ＤＳＰの構成及び等価回路を示す図である。  
一例では、第１方向Ｘ、第２方向Ｙ、及び、第３方向Ｚは、互いに直交しているが、９０度以外の角度で交差していてもよい。第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、表示装置ＤＳＰを構成する基板の主面と平行な方向に相当し、第３方向Ｚは、表示装置ＤＳＰの厚さ方向に相当する。本明細書において、第３方向Ｚを示す矢印の先端に向かう方向を上方（あるいは、単に上）と称し、矢印の先端から逆に向かう方向を下方（あるいは、単に下）と称する。
【００１０】
表示装置ＤＳＰは、表示パネルＰＮＬと、ＩＣチップ２と、フレキシブルプリント回路基板３と、を備えている。
【００１１】
表示パネルＰＮＬは、液晶表示パネルであり、第１基板ＳＵＢ１と、第２基板ＳＵＢ２と、シールＳＥと、突起部ＰＪと、液晶層ＬＣと、信号線Ｓと、走査線Ｇと、スイッチング素子ＳＷと、画素電極ＰＥと、共通電極ＣＥと、スペーサＳＰなどを備えている。また、表示パネルＰＮＬは、画像を表示する表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡを囲む額縁状の非表示領域ＮＤＡと、を備えている。
【００１２】
第２基板ＳＵＢ２は、第１基板ＳＵＢ１と対向している。第１基板ＳＵＢ１は、第２基板ＳＵＢ２よりも第１方向Ｘに延出した実装部ＭＡを有している。シールＳＥは、非表示領域ＮＤＡに位置し、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とを接着している。図１において、シールＳＥが配置された領域は右上がり斜線で示されている。表示領域ＤＡは、シールＳＥによって囲まれた内側に位置している。表示領域ＤＡは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにマトリクス状に配置された複数の画素ＰＸを備えている。
【００１３】
上記した信号線Ｓ、走査線Ｇ、スイッチング素子ＳＷ、画素電極ＰＥ、共通電極ＣＥ、スペーサＳＰ、液晶層ＬＣは、表示領域ＤＡに位置している。信号線Ｓは第１方向Ｘに沿って延出し、走査線Ｇは第２方向Ｙに沿って延出している。スイッチング素子ＳＷは、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）によって構成され、走査線Ｇ及び信号線Ｓと電気的に接続されている。画素電極ＰＥは、スイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。画素電極ＰＥの各々は、共通電極ＣＥと対向し、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に生じる電界によって液晶層ＬＣを駆動している。保持容量ＣＳは、例えば、共通電極ＣＥと同電位の電極、及び、画素電極ＰＥと同電位の電極の間に形成される。スペーサＳＰは、表示領域ＤＡにおいて後述する遮光層と重なる領域に配置されている。
【００１４】
ＩＣチップ２及びフレキシブルプリント回路基板３は、実装部ＭＡに実装されている。ＩＣチップ２は、フレキシブルプリント回路基板３に実装されても良い。
【００１５】
表示パネルＰＮＬは、第１方向Ｘに延出する第１辺Ｅ１及び第２辺Ｅ２と、第２方向Ｙに延出する第３辺Ｅ３及び第４辺Ｅ４と、を有している。第１辺Ｅ１は、表示領域ＤＡを介して第２辺Ｅ２と対向している。第３辺Ｅ３は、表示領域ＤＡを介して第４辺Ｅ４と対向している。また、実装部ＭＡは、表示領域ＤＡと第４辺Ｅ４との間に位置している。
【００１６】
突起部ＰＪは、非表示領域ＮＤＡに位置している。図１において、突起部ＰＪが配置された領域は、左上がり斜線で示されている。突起部ＰＪは、第１辺Ｅ１に沿って配置された第１部分ＰＪ１１と、第２辺Ｅ２に沿って配置された第２部分ＰＪ１２と、第３辺Ｅ３に沿って配置された第３部分ＰＪ１３と、第４辺Ｅ４に沿って配置された第４部分ＰＪ１４と、を有している。第３部分ＰＪ１３は、第１部分ＰＪ１１及び第２部分ＰＪ１２とそれぞれ交差している。また、同様に、第４部分ＰＪ１４は、第１部分ＰＪ１１及び第２部分ＰＪ１２とそれぞれ交差している。第１部分ＰＪ１１乃至第４部分ＰＪ１４は、シールＳＥより表示領域ＤＡ側に位置している。
【００１７】
また、突起部ＰＪは、吸湿性を有している。すなわち、表示パネルＰＮＬの外部から表示領域ＤＡに向かって侵入した水分は、突起部ＰＪによって吸収される。なお、非表示領域ＮＤＡは、第４辺Ｅ４側の幅が第１辺Ｅ１乃至第３辺Ｅ３側の幅よりも大きい。そのため、第４辺Ｅ４側の非表示領域ＮＤＡは水分侵入経路が長く、第４部分ＰＪ１４は配置されていなくても良い。また、第１部分ＰＪ１１及び第３部分ＰＪ１３の交差部付近は、第１辺Ｅ１及び第３辺Ｅ３の両方から水分が侵入するため、突起部ＰＪが配置されていることが望ましい。同様に、第２部分ＰＪ１２及び第３部分ＰＪ１３の交差部付近は、第２辺Ｅ２及び第３辺Ｅ３の両方から水分が侵入するため、突起部ＰＪが配置されていることが望ましい。また、後述するが、突起部ＰＪは、第２基板ＳＵＢ２に配置され第１基板ＳＵＢ１側に突出した突起部ＰＪ１であっても良いし、第１基板ＳＵＢ１に配置され第２基板ＳＵＢ２側に突出した突起部ＰＪ２であっても良い。
【００１８】
また、突起部ＰＪは、表示領域ＤＡ側とは反対側に突出した複数の凸部１を有している。すなわち、第１部分ＰＪ１１の複数の凸部１は、第１辺Ｅ１に向かって突出している。第２部分ＰＪ１２の複数の凸部１は、第２辺Ｅ２に向かって突出している。第３部分ＰＪ１３の複数の凸部１は、第３辺Ｅ３に向かって突出している。第４部分ＰＪ１４の複数の凸部１は、第４辺Ｅ４に向かって突出している。凸部１は、Ｘ−Ｙ平面に沿って突出している。突起部ＰＪが凸部１を有することによって、水分を吸収するための表面積を拡大することができる。
【００１９】
本実施形態の表示パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１の背面側からの光を選択的に透過させることで画像を表示する透過表示機能を備えた透過型、第２基板ＳＵＢ２の前面側からの光を選択的に反射させることで画像を表示する反射表示機能を備えた反射型、あるいは、透過表示機能及び反射表示機能を備えた半透過型のいずれであってもよい。
【００２０】
また、表示パネルＰＮＬの詳細な構成について、ここでは説明を省略するが、表示パネルＰＮＬは、基板主面に沿った横電界を利用する表示モード、基板主面の法線に沿った縦電界を利用する表示モード、基板主面に対して斜め方向に傾斜した傾斜電界を利用する表示モード、さらには、上記の横電界、縦電界、及び、傾斜電界を適宜組み合わせて利用する表示モードに対応したいずれの構成を備えていてもよい。ここでの基板主面とは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙで規定されるＸ−Ｙ平面と平行な面である。
【００２１】
図２は、図１に示したＡ−Ｂ線及びＣ−Ｄ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。図示した例は、表示パネルＰＮＬに、横電界を利用する表示モードの一つであるＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードが適用された例に相当する。
【００２２】
まず、表示領域ＤＡにおける表示パネルＰＮＬの構成について説明する。第１基板ＳＵＢ１は、絶縁基板１０、絶縁膜１１乃至１５、信号線Ｓ、走査線Ｇ、共通電極ＣＥ、画素電極ＰＥ、第１配向膜ＡＬ１などを備えている。
【００２３】
絶縁基板１０は、ガラス基板や可撓性の樹脂基板などの光透過性を有する基板である。絶縁膜１１は、絶縁基板１０の上に位置している。絶縁膜１２は、絶縁膜１１の上に位置している。走査線Ｇは、絶縁膜１２の上に位置し、絶縁膜１３によって覆われている。絶縁膜１３は、絶縁膜１２の上にも位置している。信号線Ｓは、絶縁膜１３の上に位置し、絶縁膜１４によって覆われている。絶縁膜１４は、絶縁膜１３の上にも位置している。
【００２４】
共通電極ＣＥは、絶縁膜１４の上に位置し、絶縁膜１５によって覆われている。共通電極ＣＥは、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）などの透明な導電材料によって形成された透明電極である。画素電極ＰＥは、絶縁膜１５の上に位置し、第１配向膜ＡＬ１によって覆われている。画素電極ＰＥは、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明な導電材料によって形成された透明電極である。
【００２５】
絶縁膜１１乃至１３、及び、絶縁膜１５は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物などの無機絶縁材料によって形成された無機絶縁膜であり、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。絶縁膜１４は、例えば、アクリル樹脂などの有機絶縁材料によって形成された有機絶縁膜である。
【００２６】
第２基板ＳＵＢ２は、表示領域ＤＡにおいて、絶縁基板２０、遮光層ＢＭ、カラーフィルタＣＦ、オーバーコート層ＯＣ、第２配向膜ＡＬ２、スペーサＳＰなどを備えている。
【００２７】
絶縁基板２０は、絶縁基板１０と同様に、ガラス基板や樹脂基板などの光透過性を有する基板である。遮光層ＢＭ及びカラーフィルタＣＦは、絶縁基板２０の第１基板ＳＵＢ１と対向する側に位置している。カラーフィルタＣＦは、画素電極ＰＥと対向する位置に配置され、その一部が遮光層ＢＭに重なっている。オーバーコート層ＯＣは、カラーフィルタＣＦを覆っている。オーバーコート層ＯＣは、透明な樹脂によって形成されている。スペーサＳＰは、オーバーコート層ＯＣの第１基板ＳＵＢ１側に配置されている。スペーサＳＰは、表示領域ＤＡにおいて第１基板ＳＵＢ１側に突出している。第２配向膜ＡＬ２は、オーバーコート層ＯＣを覆っている。第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２は、例えば、水平配向性を呈する材料によって形成されている。
【００２８】
上述した第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２は、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２が対向するように配置されている。第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２は、所定のセルギャップが形成された状態でシールＳＥによって接着されている。液晶層ＬＣは、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間のセルギャップにおいてシールＳＥによって囲まれた内側に保持されている。液晶層ＬＣは、液晶分子ＬＭを備えている。液晶層ＬＣは、ポジ型（誘電率異方性が正）の液晶材料、あるいは、ネガ型（誘電率異方性が負）の液晶材料によって構成されている。
【００２９】
偏光板ＰＬ１を含む光学素子ＯＤ１は、絶縁基板１０に接着されている。偏光板ＰＬ２を含む光学素子ＯＤ２は、絶縁基板２０に接着されている。なお、光学素子ＯＤ１及び光学素子ＯＤ２は、必要に応じて位相差板、散乱層、反射防止層などを備えていてもよい。
【００３０】
このような表示パネルＰＮＬにおいては、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電界が形成されていないオフ状態において、液晶分子ＬＭは、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２の間で所定の方向に初期配向している。このようなオフ状態では、表示パネルＰＮＬの背面側に配置された照明装置から表示パネルＰＮＬに向けて照射された光は、光学素子ＯＤ１及び光学素子ＯＤ２によって吸収され、暗表示となる。一方、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電界が形成されたオン状態においては、液晶分子ＬＭは、電界により初期配向方向とは異なる方向に配向し、その配向方向は電界によって制御される。このようなオン状態では、照明装置からの光の一部は、光学素子ＯＤ１及び光学素子ＯＤ２を透過し、明表示となる。
【００３１】
次に、非表示領域ＮＤＡにおける表示パネルＰＮＬの構成について説明する。  
第１基板ＳＵＢ１は、さらに、非表示領域ＮＤＡにおいて周辺配線ＷＲ１乃至ＷＲ３、周辺電極ＰＲＥを備えている。周辺配線ＷＲ１は、絶縁膜１２の上に配置され絶縁膜１３に覆われている。周辺配線ＷＲ１は、走査線Ｇと同層に配置され、走査線Ｇと同一材料によって形成されている。周辺配線ＷＲ２は、絶縁膜１３の上に配置され絶縁膜１４に覆われている。周辺配線ＷＲ２は、信号線Ｓと同層に配置され、信号線Ｓと同一材料によって形成されている。周辺配線ＷＲ３及び周辺電極ＰＲＥは、絶縁膜１５の上に配置され、第１配向膜ＡＬ１によって覆われている。周辺配線ＷＲ３及び周辺電極ＰＲＥは、画素電極ＰＥと同層に配置され、画素電極ＰＥと同一材料によって形成されている。
【００３２】
第１基板ＳＵＢ１は、非表示領域ＮＤＡにおいて絶縁膜１４を貫通する溝部ＧＲを有している。溝部ＧＲは、シールＳＥと重なっている。溝部ＧＲによって、表示パネルＰＮＬの外部から絶縁膜１４を伝わる水分の侵入経路を遮断することができる。絶縁膜１５、第１配向膜ＡＬ１、及び、周辺電極ＰＲＥは、溝部ＧＲの内部にも配置されている。
【００３３】
遮光層ＢＭは、絶縁基板２０まで貫通するスリットＳＬ１を有している。遮光層ＢＭを伝わる水分の侵入経路をスリットＳＬ１によって遮断することができる。なお、第１基板ＳＵＢ１は、スリットＳＬ１と重なる位置において、周辺配線ＷＲ１を備えているため、スリットＳＬ１からの光漏れを抑制することができる。
【００３４】
遮光層ＢＭは、液晶層ＬＣと重なる領域においてスリットＳＬ２を有している。このため、遮光層ＢＭを介した表示領域ＤＡへの電荷の移動経路をスリットＳＬ２において遮断することができる。これにより、表示パネルＰＮＬの製造工程において、静電気が表示部ＤＡに集中するのを抑制し、表示パネルＰＮＬが損傷するのを抑制することが可能である。なお、第１基板ＳＵＢ１は、スリットＳＬ２と重なる位置において、周辺配線ＷＲ２を備えているため、スリットＳＬ２からの光漏れを抑制することができる。また、異なる色の赤色カラーフィルタＣＦＲ及び青色カラーフィルタＣＦＢは、スリットＳＬ２内に第３方向Ｚに重なって配置されている。このため、周辺配線ＷＲ２の周囲を透過した光に対してもスリットＳＬ２からの光漏れを抑制することができる。
【００３５】
第２基板ＳＵＢ２は、非表示領域ＮＤＡにおいて第１基板ＳＵＢ１側に突出した突起部（第１突起部）ＰＪ１を備えている。突起部ＰＪ１は、オーバーコート層ＯＣの第１基板ＳＵＢ１側に配置され、例えば、表示領域ＤＡに配置されたスペーサＳＰと同一材料を用いて形成されている。例えば、突起部ＰＪ１及びスペーサＳＰは、樹脂などの有機絶縁材料を用いて形成されている。突起部ＰＪ１は、例えば、スペーサＳＰと同一の高さＨ１を有し、第１基板ＳＵＢ１から離間している。高さＨ１は、例えば、約２．５μｍである。また、突起部ＰＪ１は、第２配向膜ＡＬ２に接している。突起部ＰＪ１の吸湿性は、第２配向膜ＡＬ２の吸湿性より大きい。突起部ＰＪ１は、表示領域ＤＡ側の側面ＳＳ１１と、側面ＳＳ１１の反対側の側面ＳＳ１２と、第１基板ＳＵＢ１側の頂部ＴＰ１と、を有している。第２配向膜ＡＬ２は、突起部ＰＪ１の側面ＳＳ１１、側面ＳＳ１２、頂部ＴＰ１の少なくとも何れかに付着していても良い。また、例えば、突起部ＰＪ１の側面ＳＳ１１、側面ＳＳ１２、頂部ＴＰ１を含む表面は、スペーサＳＰの表面より粗面である。そのため、突起部ＰＪ１の吸湿性をスペーサＳＰの吸湿性よりも大きくすることができる。
【００３６】
本実施形態によれば、表示パネルＰＮＬは、非表示領域ＮＤＡに吸湿性を有する突起部ＰＪ１を備えている。そのため、表示パネルＰＮＬを高温環境下に放置し表示パネルＰＮＬの外部から水分が侵入した場合にも、水分はシールＳＥから突起部ＰＪ１と接触している第２配向膜ＡＬ２へ誘導され、突起部ＰＪ１によって吸収される。すなわち、突起部ＰＪ１より表示領域ＤＡ側の第２配向膜ＡＬ２に水分が侵入するのを抑制することができる。また、水分は突起部ＰＪ１に向かって進行しやすいため、突起部ＰＪ１が配置されていない第１基板ＳＵＢ１側に水分が進行しづらくなる。よって、表示装置が狭額縁化されたとしても、水分が第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２の表示領域ＤＡ側に到達するのを抑制することができる。したがって、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２が水分を吸収することに起因した配向膜の特性変化を抑制することができる。
【００３７】
さらに、図示したような横電界を利用するモードでは第１基板ＳＵＢ１に配置された画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥによって電界が形成される。そのため、第２基板ＳＵＢ２よりも第１基板ＳＵＢ１に水分を侵入させない必要がある。本実施形態の構成においては、突起部ＰＪ１が配置されていない第１基板ＳＵＢ１側に水分が進行しづらいため、水分が第１配向膜ＡＬ１に侵入するのを抑制し、所望の電圧が得られないなどの不具合が生じるのを抑制することができる。また、これにより、１フレーム内の輝度が低下するフリッカーが視認されるのを抑制することができる。
【００３８】
なお、図示した例では、表示パネルＰＮＬにＦＦＳモードが適用されているが、縦電界を利用する表示モードや傾斜電界を利用する表示モードが適用されても良い。
【００３９】
図３は、図１に示したＥ−Ｆ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。  
突起部ＰＪ１は、第３方向Ｚに突出した複数の凸部４を有している。ここで、第３方向Ｚは、第１基板ＳＵＢ１から第２基板ＳＵＢ２に向かう方向と等しい。なお、突起部ＰＪ１は、図１に示したようなＸ−Ｙ平面に沿った凸部１を有さずに、図３に示した第３方向Ｚに沿った凸部４を有していても良い。
【００４０】
次に、本実施形態の第１変形例について説明する。  
図４は、図１に示したＡ−Ｂ線及びＣ−Ｄ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。図４に示す構成は、図２に示した構成と比較して、無機絶縁膜ＩＬ１が突起部ＰＪ１の側面ＳＳ１１を覆っている点で相違している。また、図示した例は、表示パネルＰＮＬに、縦電界を利用する表示モードの一つであるＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードが適用された例に相当する。
【００４１】
第２基板ＳＵＢ２は、オーバーコート層ＯＣと第２配向膜ＡＬ２との間に配置された共通電極ＣＥを備えている。無機絶縁膜ＩＬ１は、例えば、共通電極ＣＥと同一材料によって形成されている。また、無機絶縁膜ＩＬ１は、第２配向膜ＡＬ２と突起部ＰＪ１との間に介在している。このような無機絶縁膜ＩＬ１が配置されることによって、表示領域ＤＡ側の第２配向膜ＡＬ２及び液晶層ＬＣに突起部ＰＪ１から水分が侵入するのを抑制することができる。なお、図示した例では、表示パネルＰＮＬにＶＡモードが適用されているが、ＦＦＳモードが適用されても良い。  
このような第１変形例においても、上記した実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４２】
次に、本実施形態の第２変形例について説明する。  
図５は、図１に示したＡ−Ｂ線及びＣ−Ｄ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。図５に示す構成は、図４に示した構成と比較して、突起部ＰＪ１が無機絶縁膜ＩＬ１を介して第１基板ＳＵＢ１に当接している点で相違している。図示した例は、表示パネルＰＮＬにＦＦＳモードが適用されている。
【００４３】
無機絶縁膜ＩＬ１は、側面ＳＳ１１及び頂部ＴＰ１を覆っている。図示したように、突起部ＰＪ１が第１基板ＳＵＢ１に当接する場合には、頂部ＴＰ１が無機絶縁膜ＩＬ１によって覆われることが望ましい。頂部ＴＰ１が無機絶縁膜ＩＬ１によって覆われることで、頂部ＴＰ１から第１基板ＳＵＢ１に水分が侵入するのを抑制し、特に表示パネルＰＮＬがＦＦＳモードである場合に、所望の電圧が得られないなどの不具合が生じるのを抑制することができる。なお、図示した例では、表示パネルＰＮＬにＦＦＳモードが適用されているが、ＶＡモードが適用されても良い。  
このような第２変形例においても、上記した実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４４】
次に、本実施形態の第３変形例について説明する。  
図６は、図１に示したＡ−Ｂ線及びＣ−Ｄ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。図６に示す構成は、図２に示した構成と比較して、第１基板ＳＵＢ１が非表示領域ＮＤＡにおいて突起部ＰＪ２を備え、第２基板ＳＵＢ２が突起部ＰＪ１を備えていない点で相違している。図示した例では、表示パネルＰＮＬにＶＡモードが適用されている。
【００４５】
突出部ＰＪ２は、シールＳＥより表示領域ＤＡ側に位置し、第２基板ＳＵＢ２側に突出している。突起部ＰＪ２は、表示領域ＤＡから非表示領域ＮＤＡまで配置された絶縁膜（有機絶縁膜）１４と一体的に形成されている。突起部ＰＪ２は、第１基板ＳＵＢ１から離間している。また、突起部ＰＪ２は、第１配向膜ＡＬ１に接している。突起部ＰＪ２の吸湿性は、第１配向膜ＡＬ１の吸湿性より大きい。突起部ＰＪ２は、表示領域ＤＡ側の側面ＳＳ２１と、側面ＳＳ２１の反対側の側面ＳＳ２２と、第２基板ＳＵＢ２側の頂部ＴＰ２と、を有している。第１配向膜ＡＬ１は、突起部ＰＪ１の側面ＳＳ２１、側面ＳＳ２２、頂部ＴＰ２の少なくとも何れかに付着していても良い。また、例えば、突起部ＰＪ２の側面ＳＳ２１、側面ＳＳ２２、頂部ＴＰ２を含む表面は、スペーサＳＰの表面より粗面である。そのため、突起部ＰＪ２の吸湿性をスペーサＳＰの吸湿性よりも大きくすることができる。なお、スペーサＳＰは、第１基板ＳＵＢ１に形成されても良い。また、突出部ＰＪ２は、図１に示したように、表示領域ＤＡ側とは反対側に突出した複数の凸部１を有している。
【００４６】
無機絶縁膜ＩＬ２は、突起部ＰＪ２の側面ＳＳ２１を覆っている。無機絶縁膜ＩＬ２は、例えば、画素電極ＰＥと同一材料によって形成されている。無機絶縁膜ＩＬ２は、第１配向膜ＡＬ１と突起部ＰＪ２との間に介在している。このような無機絶縁膜ＩＬ２が配置されることによって、突起部ＰＪ２より表示領域ＤＡ側の第１配向膜ＡＬ１及び液晶層ＬＣに突起部ＰＪ２から水分が侵入するのを抑制することができる。なお、無機絶縁膜ＩＬ２は、配置されていなくても良い。また、図示した例では、表示パネルＰＮＬにＶＡモードが適用されているが、ＦＦＳモードが適用されても良い。  
このような第３変形例においても、上記した実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４７】
次に、本実施形態の第４変形例について説明する。  
図７は、表示装置を構成する表示パネルの構成を示す図である。図７に示す構成は、図１に示した構成と比較して、表示パネルＰＮＬが２つの突起部ＰＪ１及びＰＪ２を有している点で相違している。  
突起部ＰＪ１及びＰＪ２は、非表示領域ＮＤＡに位置している。図７において、突起部ＰＪ１及びＰＪ２が配置された領域は、左上がり斜線で示されている。ここでは、突起部ＰＪ１は、図１に示した突起部ＰＪに相当し、第１部分ＰＪ１１乃至第４部分ＰＪ１４を有している。突起部ＰＪ２は、第１辺Ｅ１に沿って配置された第１部分ＰＪ２１と、第２辺Ｅ２に沿って配置された第２部分ＰＪ２２と、第３辺Ｅ３に沿って配置された第３部分ＰＪ２３と、第４辺Ｅ４に沿って配置された第４部分ＰＪ２４と、を有している。第３部分ＰＪ２３は、第１部分ＰＪ２１及び第２部分ＰＪ２２とそれぞれ交差している。また、同様に、第４部分ＰＪ２４は、第１部分ＰＪ２１及び第２部分ＰＪ２２とそれぞれ交差している。第１部分ＰＪ２１乃至第４部分ＰＪ２４は、シールＳＥより表示領域ＤＡ側に位置している。非表示領域ＮＤＡは、第４辺Ｅ４側の幅が第１辺Ｅ１乃至第３辺Ｅ３側の幅よりも大きいため、第４辺Ｅ４側の非表示領域ＮＤＡは水分侵入経路が長く、第４部分ＰＪ１４及びＰＪ２４は配置されていなくても良い。
【００４８】
また、突起部ＰＪ２は、突起部ＰＪ１と同様に表示領域ＤＡ側とは反対側に突出した複数の凸部５を有している。すなわち、第１部分ＰＪ２１の複数の凸部５は、第１辺Ｅ１に向かって突出している。第２部分ＰＪ２２の複数の凸部５は、第２辺Ｅ２に向かって突出している。第３部分ＰＪ２３の複数の凸部５は、第３辺Ｅ３に向かって突出している。第４部分ＰＪ２４の複数の凸部５は、第４辺Ｅ４に向かって突出している。凸部５は、Ｘ−Ｙ平面に沿って突出している。突起部ＰＪ２が凸部５を有することによって、水分を吸収するための表面積を拡大することができる。
【００４９】
図８は、図７に示したＡ−Ｂ線及びＣ−Ｄ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。図８に示す構成は、図４に示した構成と比較して、第１基板ＳＵＢ１が非表示領域ＮＤＡにおいて、突起部ＰＪ２を有している点で異なっている。  
突起部ＰＪ１の構成は図４に示した構成と等しく、突起部ＰＪ２の構成は図６に示した構成と等しい。なお、無機絶縁膜ＩＬ１及びＩＬ２は、配置されていなくても良い。また、図示した例では、表示パネルＰＮＬにＶＡモードが適用されているが、ＦＦＳモードが適用されても良い。また、突起部ＰＪ２が突起部ＰＪ１より表示領域ＤＡ側に配置されていても良い。  
このような第４変形例においても、上記した実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００５０】
以上説明したように、本実施形態によれば、表示品位の低下を抑制することが可能な表示装置を得ることができる。
【００５１】
なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００５２】
ＤＳＰ…表示装置、ＤＡ…表示領域、ＮＤＡ…非表示領域、
ＳＵＢ１…第１基板、ＳＵＢ２…第２基板、ＡＬ１…第１配向膜、ＡＬ２…第２配向膜、
ＳＥ…シール、ＰＪ１、ＰＪ２…突起部、１、４、５…凸部、
Ｅ１…第１辺、Ｅ２…第２辺、Ｅ３…第３辺、Ｅ４…第４辺、ＭＡ…実装部、
ＰＪ１１、ＰＪ２１…第１部分、ＰＪ１２、ＰＪ２２…第２部分、
ＰＪ１３、ＰＪ２３…第３部分、ＰＪ１４、ＰＪ２４…第４部分、ＳＰ…スペーサ、
ＩＬ１、ＩＬ２…無機絶縁膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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