(57)【要約】【課題】隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を、液体の乾燥前に検査できる技術を提供する。【解決手段】基板に形成された隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を検査する検査装置であって、前記基板の前記隔壁が形成された主表面に対し斜めに入射光を照射することで、前記開口部の内部に供給された前記液体の、上に凸の液面に前記入射光を照射する発光部と、上に凸の前記液面で拡散反射された反射光を受光する受光部と、前記受光部の受光量に基づき、前記開口部の内部に供給された前記液体の液量を検出する検出部とを有する、検査装置。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に形成された隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を検査する検査装置であって、
前記基板の前記隔壁が形成された主表面に対し斜めに入射光を照射することで、前記開口部の内部に供給された前記液体の、上に凸の液面に前記入射光を照射する発光部と、
上に凸の前記液面で拡散反射された反射光を受光する受光部と、
前記受光部の受光量に基づき、前記開口部の内部に供給された前記液体の液量を検出する検出部とを有する、検査装置。
【請求項２】
前記受光部は、前記基板の主表面に対し斜めに進む前記反射光を受光する、請求項１に記載の検査装置。
【請求項３】
複数の前記開口部は、行方向および列方向にマトリックス状に配列され、
複数の前記開口部のそれぞれは、前記列方向の寸法が前記行方向の寸法よりも長く、
前記発光部は、前記基板の前記主表面に対し斜めに光を照射する線状光源であって、前記列方向に平行とされる、請求項１または２に記載の検査装置。
【請求項４】
前記受光部は、上に凸の前記液面で拡散反射された反射光を受光する受光素子を複数有し、
複数の前記受光素子が、前記列方向に平行に並ぶ、請求項３に記載の検査装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の検査装置と、
複数の前記開口部のそれぞれの内部に前記液体の液滴を吐出する吐出ノズルを複数有する塗布装置と、
前記検出部の検出結果に基づき、複数の前記吐出ノズルのそれぞれの吐出量を制御する制御装置とを備える、塗布システム。
【請求項６】
基板に形成された隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を検査する検査方法であって、
前記基板の前記隔壁が形成された主表面に対し斜めに入射光を照射することで、前記開口部の内部に供給された前記液体の、上に凸の液面に前記入射光を照射する工程と、
上に凸の前記液面で拡散反射された反射光を受光部で受光する工程と、
前記受光部の受光量に基づき、前記開口部の内部に供給された前記液体の液量を検出する工程とを有する、検査方法。
【請求項７】
請求項６に記載の検査方法の検査結果に基づき、前記開口部の内部に前記液体の液滴を吐出する吐出ノズルの吐出量を制御する工程を有する、塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、検査装置、塗布システム、検査方法、および塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１に記載の外観検査装置は、ライン照明光を基板に照射する照明部と、基板で反射するライン照明光を撮像してマクロ画像を取得するラインセンサカメラとを有し、例えば、基板上に形成されるレジスト膜の膜ムラを検査する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−９９８７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示の一態様は、隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を、液体の乾燥前に検査できる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一態様に係る検査装置は、
基板に形成された隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を検査する検査装置であって、
前記基板の前記隔壁が形成された主表面に対し斜めに入射光を照射することで、前記開口部の内部に供給された前記液体の、上に凸の液面に前記入射光を照射する発光部と、
上に凸の前記液面で拡散反射された反射光を受光する受光部と、
前記受光部の受光量に基づき、前記開口部の内部に供給された前記液体の液量を検出する検出部とを有する。
【発明の効果】
【０００６】
本開示の一態様によれば、隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を、液体の乾燥前に検査できる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、一実施形態に係る有機ＥＬパネルの要部を示す断面図である。
【図２】図２は、図１に示す隔壁の開口部の配置の一例を示す平面図である。
【図３】図３は、一実施形態に係る有機ＥＬ素子の製造方法を示すフローチャートである。
【図４】図４は、一実施形態に係る検査装置と塗布装置とを備えた基板処理システムを示す平面図である。
【図５】図５は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの塗布装置を示す平面図である。
【図６】図６は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの塗布装置を示す側面図である。
【図７】図７は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの検査装置を示す側面断面図である。
【図８】図８は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの検査装置を示す平面図である。
【図９】図９は、一実施形態に係る検査装置が検査を行うために基板に設定する複数の領域と、複数の領域のそれぞれにおける吐出ノズルの電圧比（印加電圧／基準電圧）とを示す平面図である。
【図１０】図１０は、一の吐出ノズルが異なる電圧比（印加電圧／基準電圧）で複数の開口部のそれぞれの内部に順番に供給したときの、液体の液量と電圧比との関係を示す。
【図１１】図１１は、変形例に係る検査装置と塗布装置とを備えた基板処理システムを示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本開示の実施形態について図面を参照して説明する。尚、各図面において同一の又は対応する構成には同一の又は対応する符号を付し、説明を省略することがある。
【０００９】
図１は、一実施形態に係る有機ＥＬパネルの要部を示す断面図である。図２は、図１に示す隔壁の開口部の配置の一例を示す平面図である。
【００１０】
有機ＥＬパネル２は、基板１０と、基板１０に形成される複数の有機ＥＬ素子１３とを有する。複数の有機ＥＬ素子１３は、行方向および列方向にマトリックス状に配列される。複数の有機ＥＬ素子１３のそれぞれは、陽極２１と、陰極２２と、陽極２１と陰極２２との間に形成される有機層２３とを有する。陽極２１と陰極２２との間に電圧を印加すると、有機層２３において光が発生する。
【００１１】
基板１０としては、例えばガラス基板または樹脂基板などの透明基板が用いられる。有機ＥＬパネル２がボトムエミッション型である場合、有機層２３において発生した光は基板１０を透過し、外部に取り出される。一方、有機ＥＬパネル２がトップエミッション型である場合、有機層２３において発生した光は基板１０とは反対側に取り出される。そのため、有機ＥＬパネル２がトップエミッション型である場合、基板１０は不透明基板であってもよい。
【００１２】
陽極２１は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などで形成される。有機ＥＬパネル２がボトムエミッション型である場合、陽極２１はＩＴＯなどで形成される透明電極のみを有する。一方、有機ＥＬパネル２がトップエミッション型である場合、陽極２１は、ＩＴＯなどで形成される透明電極の他に、アルミニウム（Ａｌ）または銀（Ａｇ）などで形成される反射電極を有する。反射電極は、有機層２３からの光を有機層２３に向けて反射するものであり、透明電極と基板１０との間に形成される。陽極２１は、有機ＥＬ素子１３毎に個別に形成される。
【００１３】
陰極２２は、例えばアルミニウム、またはマグネシウムと銀との混合材（Ｍｇ／Ａｌ）などで形成される。有機ＥＬパネル２がボトムエミッション型である場合、陰極２２は、有機層２３からの光を有機層２３に向けて反射する反射電極である。一方、有機ＥＬパネル２がトップエミッション型である場合、陰極２２は、有機層２３からの光を透過させる透明電極である。陰極２２は、複数の有機ＥＬ素子１３に亘って連続的に形成され、有機ＥＬパネル２の表示領域の全体に亘って連続的に形成される。
【００１４】
有機層２３は、例えば、陽極２１側から陰極２２側に向けて、正孔注入層２４と、正孔輸送層２５と、発光層２６と、電子輸送層２７と、電子注入層２８とをこの順で有する。陽極２１と陰極２２との間に電圧がかかると、陽極２１から正孔注入層２４に正孔が注入されると共に、陰極２２から電子注入層２８に電子が注入される。正孔注入層２４に注入された正孔は、正孔輸送層２５によって発光層２６へ輸送される。また、電子注入層２８に注入された電子は、電子輸送層２７によって発光層２６へ輸送される。そうして、発光層２６内で正孔と電子が再結合して、発光層２６の発光材料が励起され、発光層２６が発光する。
【００１５】
正孔注入層２４、正孔輸送層２５、および発光層２６は、陽極２１と同様に、有機ＥＬ素子１３毎に個別に形成される。尚、陽極２１から発光層２６に正孔を供給できればよく、正孔注入層２４は無くてもよい。また、陽極２１から発光層２６に正孔を供給できればよく、正孔注入層２４は無くてもよい。
【００１６】
発光層２６として、例えば、赤色に発光する赤色発光層２６Ｒと、緑色に発光する緑色発光層２６Ｇと、青色に発光する青色発光層２６Ｂとが形成される。１つの赤色発光層２６Ｒと、１つの緑色発光層２６Ｇと、１つの青色発光層２６Ｂとで、１つの画素が構成される。
【００１７】
１つの画素を構成する赤色発光層２６Ｒと緑色発光層２６Ｇと青色発光層２６Ｂとの配置は、図１に示す配置には限定されない。また、１つの画素は、赤色、緑色および青色以外の色（例えば黄色）に発光する発光層をさらに有してもよい。
【００１８】
電子輸送層２７および電子注入層２８は、陰極２２と同様に、マトリックス状に配置される複数の有機ＥＬ素子１３に亘って連続的に形成され、有機ＥＬパネル２の表示領域の全体に亘って連続的に供給される。尚、陰極２２から発光層２６に電子を供給できればよく、電子注入層２８は無くてもよい。また、陰極２２から発光層２６に電子を供給できればよく、電子輸送層２７は無くてもよい。
【００１９】
有機ＥＬパネル２は、図１に示すように、隔壁４０を有する。隔壁４０には複数の開口部４２が形成される。隔壁４０が複数の開口部４２を隔てる。複数の開口部４２は、図２に示すように、行方向（図２においてＸ軸方向）および列方向（図２においてＹ軸方向）にマトリックス状に配列される。複数の開口部４２のそれぞれは、例えば矩形状に形成される。本明細書において、「矩形状」とは、コーナーが面取りされた形状を含む。複数の開口部４２のそれぞれは、図２に示すように、列方向の寸法Ａが行方向の寸法Ｂよりも長い。複数の開口部４２のそれぞれの内部には、例えば正孔注入層２４、正孔輸送層２５、および発光層２６が形成される。
【００２０】
赤色発光層２６Ｒが内部に形成される開口部４２Ｒと、緑色発光層２６Ｇが内部に形成される開口部４２Ｇと、青色発光層２６Ｂが内部に形成される開口部４２Ｂとは、本実施形態では同じ大きさであるが、異なる大きさでもよい。赤色発光層２６Ｒ用の開口部４２Ｒ、緑色発光層２６Ｇ用の開口部４２Ｇ、および青色発光層２６Ｂ用の開口部４２Ｂは、それぞれ、列方向の寸法Ａが行方向の寸法Ｂよりも長ければよい。
【００２１】
尚、赤色発光層２６Ｒ用の開口部４２Ｒと、緑色発光層２６Ｇ用の開口部４２Ｇと、青色発光層２６Ｂ用の開口部４２Ｂとの配置は、図２に示す配置には限定されない。また、開口部４２は、赤色、緑色および青色以外の色（例えば黄色）に発光する発光層が内部に形成されるものであってもよい。
【００２２】
図３は、一実施形態に係る有機ＥＬ素子の製造方法を示すフローチャートである。尚、有機ＥＬ素子１３の製造方法は、少なくとも、陽極２１を形成する工程Ｓ１０１と、隔壁を形成する工程Ｓ１０２と、発光層２６を形成する工程Ｓ１０５と、陰極２２を形成する工程Ｓ１０８とを有していればよい。
【００２３】
有機ＥＬ素子１３の製造方法は、陽極２１を形成する工程Ｓ１０１を有する。陽極２１は、例えばスパッタリング法または真空蒸着法で成膜され、フォトリソグラフィ法およびエッチング法で予め定められたパターンに形成される。
【００２４】
有機ＥＬ素子１３の製造方法は、隔壁４０を形成する工程Ｓ１０２を有する。隔壁４０は、例えば感光性樹脂を用いて形成され、フォトリソグラフィ法によって予め定められたパターンに形成される。隔壁４０の開口部４２において陽極２１が露出する。
【００２５】
有機ＥＬ素子１３の製造方法は、正孔注入層２４を形成する工程Ｓ１０３を有する。正孔注入層２４は、例えばインクジェット法によって正孔注入層２４の材料を含む液滴を開口部４２に滴下して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで形成される。正孔注入層２４は、陽極２１の表面に接するように形成される。
【００２６】
有機ＥＬ素子１３の製造方法は、正孔輸送層２５を形成する工程Ｓ１０４を有する。正孔輸送層２５は、正孔注入層２４と同様に、例えばインクジェット法によって正孔輸送層２５の材料を含む液滴を開口部４２に滴下して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで形成される。正孔輸送層２５は、正孔注入層２４に接するように形成される。
【００２７】
有機ＥＬ素子１３の製造方法は、発光層２６を形成する工程Ｓ１０５を有する。発光層２６は、正孔注入層２４および正孔輸送層２５と同様に、例えばインクジェット法によって発光層２６の材料を含む液滴を開口部４２に滴下して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで形成される。
【００２８】
発光層２６として、例えば赤色発光層２６Ｒ、緑色発光層２６Ｇ、および青色発光層２６Ｂが形成される。隔壁４０は、赤色発光層２６Ｒの材料と、緑色発光層２６Ｇの材料と、青色発光層２６Ｂの材料とを隔てることで、これらの材料の混合を防止する。
【００２９】
有機ＥＬ素子１３の製造方法は、電子輸送層２７を形成する工程Ｓ１０６を有する。電子輸送層２７は、例えば真空蒸着法によって形成され、有機ＥＬパネル２の表示領域の全体に形成される。電子輸送層２７は、発光層２６の表面のみならず、隔壁４０の表面に接するように形成される。
【００３０】
有機ＥＬ素子１３の製造方法は、電子注入層２８を形成する工程Ｓ１０７を有する。電子注入層２８は、電子輸送層２７と同様に、例えば真空蒸着法によって形成され、有機ＥＬパネル２の表示領域の全体に形成される。電子注入層２８は、電子輸送層２７の表面に接するように形成される。
【００３１】
有機ＥＬ素子１３の製造方法は、陰極２２を形成する工程Ｓ１０８を有する。陰極２２は、電子輸送層２７および電子注入層２８と同様に、例えば真空蒸着法によって形成され、有機ＥＬパネル２の表示領域の全体に形成される。陰極２２は、電子注入層２８の表面に接するように形成される。このようにして、有機ＥＬ素子１３が製造される。
【００３２】
陰極２２の上には、封止層５０が形成される。封止層５０は、有機層２３が水分や空気に曝されるのを抑制し、有機層２３の劣化を抑制する。有機ＥＬパネル２がトップエミッション型である場合、封止層５０は発光層２６において発生した光を透過させる。封止層５０は、例えばＣＶＤ法によって形成され、有機ＥＬパネル２の表示領域の全体に形成される。このようにして、有機ＥＬパネル２が製造される。
【００３３】
図４は、一実施形態に係る検査装置と塗布装置とを備えた基板処理システムを示す平面図である。図４において斑点模様は検査装置２０１〜２０３の位置を示す。基板処理システム１００は、図３の工程Ｓ１０３〜Ｓ１０５に相当する各処理を行い、陽極２１上に正孔注入層２４、正孔輸送層２５および発光層２６を形成する。基板処理システム１００は、搬入ステーション１１０と、処理ステーション１２０と、搬出ステーション１３０と、制御装置１４０とを有する。
【００３４】
搬入ステーション１１０は、複数の基板１０を収容するカセットＣを外部から搬入させ、カセットＣから複数の基板１０を順次取り出す。各基板１０には、陽極２１、隔壁４０などが形成されている。
【００３５】
搬入ステーション１１０は、カセットＣを載置するカセット載置台１１１と、カセット載置台１１１と処理ステーション１２０との間に設けられる搬送路１１２と、搬送路１１２に設けられる基板搬送体１１３とを備える。基板搬送体１１３は、カセット載置台１１１に載置されたカセットＣと処理ステーション１２０との間で基板１０を搬送する。
【００３６】
処理ステーション１２０は、陽極２１上に、正孔注入層２４、正孔輸送層２５および発光層２６を形成する。処理ステーション１２０は、正孔注入層２４を形成する正孔注入層形成ブロック１２１と、正孔輸送層２５を形成する正孔輸送層形成ブロック１２２と、発光層２６を形成する発光層形成ブロック１２３を備える。
【００３７】
正孔注入層形成ブロック１２１は、正孔注入層２４の材料液を陽極２１上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、正孔注入層２４を形成する。正孔注入層２４の材料液は、有機材料および溶剤を含む。その有機材料は、ポリマー、モノマーのいずれでもよい。モノマーの場合、焼成によって重合され、ポリマーとされてもよい。
【００３８】
正孔注入層形成ブロック１２１は、塗布装置１２１ａと、検査装置２０１と、バッファ装置１２１ｂと、減圧乾燥装置１２１ｃと、熱処理装置１２１ｄと、温度調節装置１２１ｅとを備える。塗布装置１２１ａは、正孔注入層２４の材料液の液滴を、隔壁４０の開口部４２に向けて吐出する。検査装置２０１は、開口部４２の内部に供給された、正孔注入層２４の材料液の液量を検査する。検査装置２０１は、図４に示すように塗布装置１２１ａの内部に配置されるが、図１１に示すように塗布装置１２１ａの外部に配置されてもよく、後者の場合、バッファ装置１２１ｂを兼ねてもよい。バッファ装置１２１ｂは、処理待ちの基板１０を一時的に収容する。減圧乾燥装置１２１ｃは、塗布装置１２１ａによって形成した液膜を減圧乾燥し、液膜に含まれる溶剤を除去する。熱処理装置１２１ｄは、減圧乾燥装置１２１ｃによって乾燥した液膜を加熱処理する。温度調節装置１２１ｅは、熱処理装置１２１ｄで加熱処理された基板１０の温度を、所定の温度、例えば常温に調節する。
【００３９】
塗布装置１２１ａ、検査装置２０１、バッファ装置１２１ｂ、熱処理装置１２１ｄ、および温度調節装置１２１ｅは、内部が大気雰囲気に維持される。減圧乾燥装置１２１ｃは、内部の雰囲気を、大気雰囲気と減圧雰囲気とに切り替える。
【００４０】
尚、正孔注入層形成ブロック１２１において、塗布装置１２１ａ、検査装置２０１、バッファ装置１２１ｂ、減圧乾燥装置１２１ｃ、熱処理装置１２１ｄおよび温度調節装置１２１ｅの、配置や個数、内部の雰囲気は、任意に選択可能である。
【００４１】
また、正孔注入層形成ブロック１２１は、基板搬送装置ＣＲ１〜ＣＲ３と、受渡装置ＴＲ１〜ＴＲ３とを備える。基板搬送装置ＣＲ１〜ＣＲ３は、それぞれ隣接する各装置へ基板１０を搬送する。例えば、基板搬送装置ＣＲ１は、隣接する塗布装置１２１ａおよびバッファ装置１２１ｂへ基板１０を搬送する。基板搬送装置ＣＲ２は、隣接する減圧乾燥装置１２１ｃへ基板１０を搬送する。基板搬送装置ＣＲ３は、隣接する熱処理装置１２１ｄおよび温度調節装置１２１ｅへ基板１０を搬送する。受渡装置ＴＲ１〜ＴＲ３は、それぞれ順に、搬入ステーション１１０と基板搬送装置ＣＲ１の間、基板搬送装置ＣＲ１と基板搬送装置ＣＲ２の間、基板搬送装置ＣＲ２と基板搬送装置ＣＲ３の間に設けられ、これらの間で基板１０を中継する。基板搬送装置ＣＲ１〜ＣＲ３や受渡装置ＴＲ１〜ＴＲ３は、内部が大気雰囲気に維持される。
【００４２】
正孔注入層形成ブロック１２１の基板搬送装置ＣＲ３と、正孔輸送層形成ブロック１２２の基板搬送装置ＣＲ４との間には、これらの間で基板１０を中継する受渡装置ＴＲ４が設けられる。受渡装置ＴＲ４は、内部が大気雰囲気に維持される。
【００４３】
正孔輸送層形成ブロック１２２は、正孔輸送層２５の材料液を正孔注入層２４上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、正孔輸送層２５を形成する。正孔輸送層２５の材料液は、有機材料および溶剤を含む。その有機材料は、ポリマー、モノマーのいずれでもよい。モノマーの場合、焼成によって重合され、ポリマーとされてもよい。
【００４４】
正孔輸送層形成ブロック１２２は、塗布装置１２２ａと、検査装置２０２と、バッファ装置１２２ｂと、減圧乾燥装置１２２ｃと、熱処理装置１２２ｄと、温度調節装置１２２ｅとを備える。塗布装置１２２ａは、正孔輸送層２５の材料液の液滴を、隔壁４０の開口部４２に向けて吐出する。検査装置２０２は、開口部４２の内部に供給された、正孔輸送層２５の材料液の液量を検査する。検査装置２０２は、図４に示すように塗布装置１２２ａの内部に配置されるが、図１１に示すように塗布装置１２２ａの外部に配置されてもよく、後者の場合、バッファ装置１２２ｂを兼ねてもよい。バッファ装置１２２ｂは、処理待ちの基板１０を一時的に収容する。減圧乾燥装置１２２ｃは、塗布装置１２２ａによって形成した液膜を減圧乾燥し、液膜に含まれる溶剤を除去する。熱処理装置１２２ｄは、減圧乾燥装置１２２ｃによって乾燥した液膜を加熱処理する。温度調節装置１２２ｅは、熱処理装置１２２ｄで加熱処理された基板１０の温度を、所定の温度、例えば常温に調節する。
【００４５】
塗布装置１２２ａ、検査装置２０２、およびバッファ装置１２２ｂは、内部が大気雰囲気に維持される。一方、熱処理装置１２２ｄおよび温度調節装置１２２ｅは、正孔輸送層２５の有機材料の劣化を抑制するため、内部が低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。減圧乾燥装置１２２ｃは、内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替える。
【００４６】
ここで、低酸素の雰囲気とは、大気よりも酸素濃度が低い雰囲気、例えば酸素濃度が１０ｐｐｍ以下の雰囲気をいう。また、低露点の雰囲気とは、大気よりも露点温度が低い雰囲気、例えば露点温度が−１０℃以下の雰囲気をいう。低酸素かつ低露点の雰囲気は、例えば窒素ガス等の不活性ガスで形成される。
【００４７】
尚、正孔輸送層形成ブロック１２２において、塗布装置１２２ａ、検査装置２０２、バッファ装置１２２ｂ、減圧乾燥装置１２２ｃ、熱処理装置１２２ｄおよび温度調節装置１２２ｅの、配置や個数、内部の雰囲気は、任意に選択可能である。
【００４８】
また、正孔輸送層形成ブロック１２２は、基板搬送装置ＣＲ４〜ＣＲ６と、受渡装置ＴＲ５〜ＴＲ６とを備える。基板搬送装置ＣＲ４〜ＣＲ６は、それぞれ隣接する各装置へ基板１０を搬送する。受渡装置ＴＲ５〜ＴＲ６は、それぞれ順に、基板搬送装置ＣＲ４と基板搬送装置ＣＲ５の間、基板搬送装置ＣＲ５と基板搬送装置ＣＲ６の間に設けられ、これらの間で基板１０を中継する。
【００４９】
基板搬送装置ＣＲ４の内部は、大気雰囲気に維持される。一方、基板搬送装置ＣＲ５〜ＣＲ６の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。基板搬送装置ＣＲ５に隣接される減圧乾燥装置１２２ｃの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替えられるためである。また、基板搬送装置ＣＲ６に隣設される熱処理装置１２２ｄや温度調節装置１２２ｅの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持されるためである。
【００５０】
受渡装置ＴＲ５は、その内部の雰囲気を、大気雰囲気と、低酸素かつ低露点の雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。受渡装置ＴＲ６の下流側に減圧乾燥装置１２２ｃが隣設されるためである。一方、受渡装置ＴＲ６の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。
【００５１】
正孔輸送層形成ブロック１２２の基板搬送装置ＣＲ６と、発光層形成ブロック１２３の基板搬送装置ＣＲ７との間には、これらの間で基板１０を中継する受渡装置ＴＲ７が設けられる。基板搬送装置ＣＲ６の内部は低酸素かつ低露点の雰囲気に維持され、基板搬送装置ＣＲ７の内部は大気雰囲気に維持される。そのため、受渡装置ＴＲ７は、その内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、大気雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。
【００５２】
発光層形成ブロック１２３は、発光層２６の材料液を正孔輸送層２５上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、発光層２６を形成する。発光層２６の材料液は、有機材料および溶剤を含む。その有機材料は、ポリマー、モノマーのいずれでもよい。モノマーの場合、焼成によって重合され、ポリマーとされてもよい。
【００５３】
発光層形成ブロック１２３は、塗布装置１２３ａと、検査装置２０３と、バッファ装置１２３ｂと、減圧乾燥装置１２３ｃと、熱処理装置１２３ｄと、温度調節装置１２３ｅとを備える。塗布装置１２３ａは、発光層２６の材料液の液滴を、隔壁４０の開口部４２に向けて吐出する。検査装置２０３は、開口部４２の内部に供給された、発光層２６の材料液の液量を検査する。検査装置２０３は、図４に示すように塗布装置１２３ａの内部に配置されるが、図１１に示すように塗布装置１２３ａの外部に配置されてもよく、後者の場合、バッファ装置１２３ｂを兼ねてもよい。バッファ装置１２３ｂは、処理待ちの基板１０を一時的に収容する。減圧乾燥装置１２３ｃは、塗布装置１２３ａによって形成した液膜を減圧乾燥し、液膜に含まれる溶剤を除去する。熱処理装置１２３ｄは、減圧乾燥装置１２３ｃによって乾燥した液膜を加熱処理する。温度調節装置１２３ｅは、熱処理装置１２３ｄで加熱処理された基板１０の温度を、所定の温度、例えば常温に調節する。
【００５４】
塗布装置１２３ａ、検査装置２０３、およびバッファ装置１２３ｂは、内部が大気雰囲気に維持される。一方、熱処理装置１２３ｄおよび温度調節装置１２３ｅは、発光層２６の有機材料の劣化を抑制するため、内部が低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。減圧乾燥装置１２３ｃは、内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替える。
【００５５】
尚、発光層形成ブロック１２３において、塗布装置１２３ａ、検査装置２０３、バッファ装置１２３ｂ、減圧乾燥装置１２３ｃ、熱処理装置１２３ｄおよび温度調節装置１２３ｅの、配置や個数、内部の雰囲気は、任意に選択可能である。
【００５６】
また、発光層形成ブロック１２３は、基板搬送装置ＣＲ７〜ＣＲ９と、受渡装置ＴＲ８〜ＴＲ９とを備える。基板搬送装置ＣＲ７〜ＣＲ９は、それぞれ隣接する各装置へ基板１０を搬送する。受渡装置ＴＲ８〜ＴＲ９は、それぞれ順に、基板搬送装置ＣＲ７と基板搬送装置ＣＲ８の間、基板搬送装置ＣＲ８と基板搬送装置ＣＲ９の間に設けられ、これらの間で基板１０を中継する。
【００５７】
基板搬送装置ＣＲ７の内部は、大気雰囲気に維持される。一方、基板搬送装置ＣＲ８〜ＣＲ９の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。基板搬送装置ＣＲ８に隣接される減圧乾燥装置１２３ｃの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替えられるためである。また、基板搬送装置ＣＲ９に隣設される熱処理装置１２３ｄや温度調節装置１２３ｅの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持されるためである。
【００５８】
受渡装置ＴＲ８は、その内部の雰囲気を、大気雰囲気と、低酸素かつ低露点の雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。受渡装置ＴＲ８の下流側に減圧乾燥装置１２３ｃが隣設されるためである。受渡装置ＴＲ９の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。
【００５９】
発光層形成ブロック１２３の基板搬送装置ＣＲ９と、搬出ステーション１３０との間には、これらの間で基板１０を中継する受渡装置ＴＲ１０が設けられる。基板搬送装置ＣＲ９の内部は低酸素かつ低露点の雰囲気に維持され、搬出ステーション１３０の内部は大気雰囲気に維持される。そのため、受渡装置ＴＲ７は、その内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、大気雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。
【００６０】
搬出ステーション１３０は、複数の基板１０を順次カセットＣに収納し、カセットＣを外部に搬出させる。搬出ステーション１３０は、カセットＣを載置するカセット載置台１３１と、カセット載置台１３１と処理ステーション１２０との間に設けられる搬送路１３２と、搬送路１３２に設けられる基板搬送体１３３とを備える。基板搬送体１３３は、処理ステーション１２０と、カセット載置台１３１に載置されたカセットＣとの間で基板１０を搬送する。
【００６１】
制御装置１４０は、例えばコンピュータで構成され、ＣＰＵ（Central Processing Unit）１４１と、メモリなどの記憶媒体１４２と、入力インターフェースと、出力インターフェースとを有する。制御装置１４０は、記憶媒体１４２に記憶されたプログラムをＣＰＵ１４１に実行させることにより、各種の制御を行う。また、制御装置１４０は、入力インターフェースで外部からの信号を受信し、出力インターフェースで外部に信号を送信する。
【００６２】
制御装置１４０のプログラムは、情報記憶媒体に記憶され、情報記憶媒体からインストールされる。情報記憶媒体としては、例えば、ハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルデスク（ＭＯ）、メモリーカードなどが挙げられる。尚、プログラムは、インターネットを介してサーバからダウンロードされ、インストールされてもよい。
【００６３】
次に、上記構成の基板処理システム１００を用いた基板処理方法について説明する。複数の基板１０を収容したカセットＣがカセット載置台１１１上に載置されると、基板搬送体１１３が、カセット載置台１１１上のカセットＣから基板１０を順次取り出し、正孔注入層形成ブロック１２１に搬送する。
【００６４】
正孔注入層形成ブロック１２１は、正孔注入層２４の材料液を陽極２１上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、正孔注入層２４を形成する。検査装置２０１は、隔壁４０の開口部４２の内部に供給された、正孔注入層２４の材料液の液量を検査する。この検査は、正孔注入層２４の材料液の乾燥の前に行われる。正孔注入層２４が形成された基板１０は、受渡装置ＴＲ４によって、正孔注入層形成ブロック１２１から正孔輸送層形成ブロック１２２に受け渡される。
【００６５】
正孔輸送層形成ブロック１２２は、正孔輸送層２５の材料液を正孔注入層２４上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、正孔輸送層２５を形成する。検査装置２０２は、隔壁４０の開口部４２の内部に供給された、正孔輸送層２５の材料液の液量を検査する。この検査は、正孔輸送層２５の材料液の乾燥の前に行われる。正孔輸送層２５が形成された基板１０は、受渡装置ＴＲ７によって、正孔輸送層形成ブロック１２２から発光層形成ブロック１２３に受け渡される。
【００６６】
発光層形成ブロック１２３は、発光層２６の材料液を正孔輸送層２５上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、発光層２６を形成する。検査装置２０３は、隔壁４０の開口部４２の内部に供給された、発光層２６の材料液の液量を検査する。この検査は、発光層２６の材料液の乾燥の前に行われる。発光層２６が形成された基板１０は、受渡装置ＴＲ１０によって、発光層形成ブロック１２３から搬出ステーション１３０に受け渡される。
【００６７】
搬出ステーション１３０の基板搬送体１３３は、受渡装置ＴＲ１０から受取った基板１０を、カセット載置台１３１上の所定のカセットＣに収める。これにより、基板処理システム１００における一連の基板１０の処理が終了する。
【００６８】
基板１０は、カセットＣに収められた状態で、搬出ステーション１３０から外部に搬出される。外部に搬出された基板１０には、電子輸送層２７や電子注入層２８、陰極２２などが形成される。
【００６９】
次に、正孔注入層形成ブロック１２１の塗布装置１２１ａについて図５および図６を参照して説明する。図５は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの塗布装置を示す平面図である。図６は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの塗布装置を示す側面図である。尚、正孔輸送層形成ブロック１２２の塗布装置１２２ａ、および発光層形成ブロック１２３の塗布装置１２３ａは、正孔注入層形成ブロック１２１の塗布装置１２１ａと同様に構成されるため、図示および説明を省略する。
【００７０】
塗布装置１２１ａは、基板１０における機能液（例えば正孔注入層２４の材料液）の液滴の着弾位置をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させて、基板１０に機能液の描画パターンを描く。塗布装置１２１ａは、例えば、基板１０を保持する基板保持部１５０と、基板保持部１５０で保持されている基板１０に機能液の液滴を吐出する液滴吐出部１６０と、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に基板保持部１５０と液滴吐出部１６０とを相対的に移動させる移動部１７０とを備える。
【００７１】
基板保持部１５０は、基板１０に形成された隔壁４０の開口部４２を上に向けて、基板１０を水平に保持する。基板保持部１５０としては、例えば真空チャックが用いられるが、静電チャックなどが用いられてもよい。
【００７２】
液滴吐出部１６０は、基板保持部１５０で保持されている基板１０の上方から、隔壁４０の開口部４２の内部に機能液の液滴を吐出する。液滴吐出部１６０は、Ｙ軸方向に複数（例えば図５では１０個）並んでいる。複数の液滴吐出部１６０は、それぞれの下面に、Ｘ軸方向に間隔をおいて並ぶ複数の吐出ヘッド１６１を有する。
【００７３】
複数の吐出ヘッド１６１のそれぞれは、下面に、Ｙ軸方向に間隔をおいて一列に並ぶ複数の吐出ノズル１６２を有する。Ｙ軸方向に間隔をおいて一列に並ぶ複数の吐出ノズル１６２で構成される吐出ノズル列は、図６では吐出ヘッド１６１毎に１つ設けられるが、複数（例えば２つ）設けられてもよい。
【００７４】
複数の吐出ヘッド１６１のそれぞれは、Ｙ軸方向に間隔をおいて一列に並ぶ複数の開口部４２の内部に機能液の液滴を同時に供給する。一の吐出ヘッド１６１に備えられる吐出ノズル１６２の数は、一の吐出ヘッド１６１が同時に液滴を供給する開口部４２の数よりも多い。一の開口部４２に、複数の吐出ノズル１６２が同時に液滴を供給してよい。
【００７５】
複数の吐出ヘッド１６１のそれぞれは、吐出ノズル１６２毎にピエゾ素子を有する。ピエゾ素子に電圧をかけると、ピエゾ素子が変形して吐出ノズル１６２から液滴が吐出される。ピエゾ素子の代わりに、ヒータなどが用いられてもよい。ヒータに電圧をかけると、バブルが発生し、発生したバブルの圧力によって吐出ノズル１６２から液滴が吐出される。吐出ノズル１６２が吐出する機能液の吐出量は、吐出ノズル１６２毎に個別に制御可能である。
【００７６】
複数の吐出ヘッド１６１は、本実施形態では同じ材料の機能液を吐出するが、異なる材料の機能液を吐出してもよい。例えば、発光層形成ブロック１２３の塗布装置１２３ａは、赤色発光層２６Ｒの材料液を吐出する吐出ヘッドと、緑色発光層の材料液を吐出する吐出ヘッドと、青色発光層の材料液を吐出する吐出ヘッドとを有する。但し、同一の吐出ヘッド１６１に設けられる複数の吐出ノズル１６２は、同一の種類の機能液の液滴を吐出する。
【００７７】
移動部１７０は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に基板保持部１５０と液滴吐出部１６０とを相対的に移動させる。例えば、移動部１７０は、ベース１７１に対し基板保持部１５０をＸ軸方向に移動させるＸ軸方向移動部１７２を有する。Ｘ軸方向移動部１７２は、例えば、ベース１７１に敷設される一対のＸ軸ガイド１７３と、一対のＸ軸ガイド１７３に沿って基板保持部１５０を移動させる一対のＸ軸リニアモータとを有する。また、移動部１７０は、ベース１７１に対し基板保持部１５０をＹ軸方向に移動させるＹ軸方向移動部１７４（図６参照）とを有する。
【００７８】
移動部１７０が基板１０をＸ軸方向に移動させながら、液滴吐出部１６０が液滴を滴下する。その後、移動部１７０が基板１０をＹ軸方向に移動させることと、移動部１７０が基板１０をＸ軸方向に移動させながら液滴吐出部１６０が液滴を滴下することとを交互に繰り返すことで、塗布装置１２１ａが基板１０に機能液の描画パターンを描く。
【００７９】
尚、上記構成の移動部１７０は、基板１０上に所定のパターンを描画するため、基板保持部１５０を移動させるが、液滴吐出部１６０を移動させてもよいし、基板保持部１５０と液滴吐出部１６０の両方を移動させてもよい。
【００８０】
塗布装置１２１ａの内部には、検査装置２０１が配置される。検査装置２０１は、隔壁４０が隔てる複数の開口部４２のそれぞれの内部に供給された液体４５の液量を検査する（図７参照）。液体４５は、例えば正孔注入層２４の材料液である。開口部４２の内部に供給された液体４５の乾燥および焼成を行うことで、正孔注入層２４が形成される。開口部４２の内部に供給された液体４５の液量ＬＶと正孔注入層２４の厚さとは比例するため、液体４５の液量ＬＶを検査することで正孔注入層２４の厚さを検査できる。
【００８１】
検査装置２０１は、隔壁４０が隔てる複数の開口部４２のそれぞれの内部に供給された液体４５の液量ＬＶのばらつきを検査する。液体４５の液量ＬＶのばらつきが小さいほど、正孔注入層２４の厚さのばらつきが小さく、有機ＥＬパネル２を点灯させたときに複数の画素の発光量のばらつきが小さい。
【００８２】
従来の検査装置は、有機ＥＬパネル２を実際に点灯させたときの、複数の画素の発光量のばらつきを検査していた。その検査のためには、有機ＥＬパネル２の製造プロセスを最後まで進める必要がある。そのため、検査装置の検査結果を吐出ノズル１６２の吐出量の調整に反映するまでの待ち時間が長く、コストも高かった。
【００８３】
本実施形態の検査装置２０１は、開口部４２の内部に供給された液体４５の乾燥および熱処理の前に、液体４５の液量ＬＶを検査する。その検査は、有機ＥＬパネル２の製造プロセスの途中で行われる。そのため、検査装置２０１の検査結果を吐出ノズル１６２の吐出量の調整に反映するまでの待ち時間が短く、コストも低い。
【００８４】
次に、正孔注入層形成ブロック１２１の検査装置２０１について図７および図８を参照して説明する。図７は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの検査装置を示す側面断面図である。図８は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの検査装置を示す平面図である。尚、正孔輸送層形成ブロック１２２の検査装置２０２、および発光層形成ブロック１２３の検査装置２０３は、正孔注入層形成ブロック１２１の検査装置２０１と同様に構成されるため、図示および説明を省略する。
【００８５】
検査装置２０１は、液体４５の液量ＬＶの検査を実現するため、発光部２１０と、受光部２２０と、検出部２３０とを有する。
【００８６】
発光部２１０は、基板１０の隔壁４０が形成された主表面１１に対し斜めに入射光Ｌ１を照射することで、開口部４２の内部に供給された液体４５の、上に凸の液面４６に入射光Ｌ１を照射する。発光部２１０の光軸２１０Ａは、基板１０の主表面１１に対し斜めとされる。
【００８７】
受光部２２０は、上に凸の液面４６で拡散反射された反射光Ｌ２を受光する。反射光Ｌ２は、正反射されたものではなく、拡散反射されたものである。つまり、発光部２１０が照射する入射光Ｌ１の入射角θ１と、受光部２２０が受光する反射光Ｌ２の反射角θ２とは異なる。入射光Ｌ１の入射角θ１は、発光部２１０の光軸２１０Ａと、基板１０の主表面１１の法線ＮＶとのなす角である。反射光Ｌ２の反射角θ２は、受光部２２０の光軸２２０Ａと、基板１０の主表面１１の法線ＮＶとのなす角である。
【００８８】
液体４５の液量ＬＶが大きいほど、液面４６が上に凸に膨らみ、液面４６が鏡面ではなくなるため、入射光Ｌ１が基板１０の主表面１１に対し様々な角度で反射するようになる。そのため、液体４５の液量ＬＶが大きいほど、受光部２２０で受光される反射光Ｌ２の受光量が大きくなる。従って、反射光Ｌ２の受光量から、液体４５の液量ＬＶを求めることができる。
【００８９】
受光部２２０の光軸２２０Ａは基板１０の主表面１１に対し垂直とされてもよく、受光部２２０が受光する反射光Ｌ２の反射角θ２は０°でもよいが、本実施形態では図７に示すように受光部２２０の光軸２２０Ａは基板１０の主表面１１に対し斜めとされる。受光部２２０は、基板１０の主表面１１に対し斜めに進む反射光Ｌ２を受光する。
【００９０】
受光部２２０の光軸２２０Ａが基板１０の主表面１１に対し垂直とされる場合、基板１０の主表面１１に形成される配線パターン（不図示）で拡散反射された反射光が隔壁４０の表面４１や液体４５の液面４６などの屈折率の不連続面を透過しやすい。そのため、配線パターンで拡散反射された反射光が受光部２２０に入射しやすい。
【００９１】
配線パターンから受光部２２０に向う反射光が屈折率の不連続面を透過することを抑制するため、受光部２２０の光軸２２０Ａは基板１０の主表面１１に対し斜めとされ、受光部２２０は基板１０の主表面１１に対し斜めに進む反射光Ｌ２を受光する。受光部２２０の受光量に対する配線パターンの影響を低減でき、液体４５の液量ＬＶの検出精度を向上できる。
【００９２】
検出部２３０は、受光部２２０で受光される反射光Ｌ２の受光量に基づき、液体４５の液量ＬＶを検出する。検出部２３０は、制御装置１４０と同様に、例えばコンピュータで構成される。反射光Ｌ２の受光量と液体４５の液量ＬＶとの関係は、予め実験等で求められ、検出部２３０の記憶媒体に予め記憶される。
【００９３】
図８に示すように、複数の開口部４２は、行方向（図８においてＸ軸方向）および列方向（図８においてＹ軸方向）にマトリックス状に配列される。複数の開口部４２のそれぞれは、列方向の寸法Ａが行方向の寸法Ｂよりも長い。そのため、開口部４２の内部に供給された液体４５の液面４６も、列方向の寸法が行方向の寸法よりも長い。
【００９４】
発光部２１０は、基板１０の主表面１１に対し斜めに光を照射する線状光源である。線状光源は、例えば一列に並ぶ複数の発光素子を有する。発光素子は、例えばＬＥＤ（Light Emitting Diode）である。ＬＥＤは、紫外線を発光するものでもよいが、本実施形態では紫外線の照射による有機ＥＬ素子１３の劣化を抑制するため、可視光線を発光するものである。
【００９５】
発光部２１０は、行方向（図８においてＸ軸方向）に平行に配置されてもよいが、本実施形態では図８に示すように列方向（図８においてＹ軸方向）に平行に配置される。発光部２１０は、列方向に平行に配置される場合、列方向に長い液面４６を列方向に細長く均一に照らすことができる。液面４６の受光部２２０に向けて入射光Ｌ１を拡散反射する部分４７（図８参照）の面積を拡大でき、受光部２２０の受光量を向上でき、受光部２２０の感度を向上できる。
【００９６】
受光部２２０は、上に凸の液面４６で拡散反射された反射光Ｌ２を受光する受光素子２２１を複数有する。受光素子２２１は、例えばＣＣＤ（Charge Coupled Device）イメージセンサまたはＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）イメージセンサなどの撮像素子である。
【００９７】
複数の受光素子２２１が列方向（図８においてＹ軸方向）に平行に並び、且つ発光部２１０である線状光源が列方向に平行とされる。線状光源が列方向に一列に並ぶ複数の液面４６を同時に照らし、線状光源が同時に照らす複数の液面４６のそれぞれからの反射光Ｌ２を同時に受光部２２０が受光できる。同時に広い範囲を検査できるため、検査速度を向上できる。
【００９８】
複数の受光素子２２１は、列方向に平行に並べばよく、行方向および列方向にマトリックス状に配列されてもよいが、本実施形態では列方向にのみ一列に配列される。つまり、受光部２２０は、エリアセンサでもよいが、本実施形態ではラインセンサである。ラインセンサは、エリアセンサよりも高解像度の画像を撮像できる。
【００９９】
受光部２２０は、例えばラインスキャンカメラであって、受光部２２０の下方においてＸ軸方向に移動する基板１０を撮像する。ラインスキャンカメラの撮像範囲は、Ｙ軸方向に平行な直線状であって、例えば基板１０のＹ軸方向全体である。
【０１００】
塗布装置１２１ａの移動部１７０が基板１０をＸ軸方向に移動させながら、ラインスキャンカメラが基板１０のＹ軸方向全体を撮像する。これにより、検査装置２０１は基板１０のＸ軸方向およびＹ軸方向の全体において、液体４５の液量ＬＶを検査できる。
【０１０１】
尚、ラインスキャンカメラの撮像範囲は、本実施形態では、基板１０のＹ軸方向全体であるが、基板１０のＹ軸方向一部のみであってもよい。この場合、ラインスキャンカメラをＹ軸方向に移動させれば、基板１０のＹ軸方向全体を撮像できる。ラインスキャンカメラの数は、１つでもよいし、複数でもよい。
【０１０２】
尚、ラインスキャンカメラは、本実施形態では列方向（Ｙ軸方向）に一列に並ぶ複数の受光素子２２１を有するが、行方向（Ｘ軸方向）に一列に並ぶ複数の受光素子を有してもよい。この場合、ラインスキャンカメラをＸ軸方向に移動させれば、基板１０のＹ軸方向全体を撮像できる。
【０１０３】
尚、検査装置２０１が塗布装置１２１ａの内部に配置される場合、塗布装置１２１ａが基板保持部１５０や移動部１７０を備えるが、図１１に示すように検査装置２０１が塗布装置１２１ａの外部に配置される場合、検査装置２０１が基板保持部や移動部を備える。検査装置２０１の基板保持部は、塗布装置１２１ａの基板保持部１５０と同様に、基板１０に形成された隔壁４０の開口部４２を上に向けて、基板１０を水平に保持する。また、検査装置２０１の移動部は、塗布装置１２１ａの移動部１７０と同様に、発光部２１０および受光部２２０と基板保持部とを相対的に移動させ、基板保持部に保持されている基板１０の検査範囲を移動させる。
【０１０４】
図９は、一実施形態に係る検査装置が検査を行うために基板に設定する複数の領域と、複数の領域のそれぞれにおける吐出ノズルの電圧比（印加電圧／基準電圧）とを示す平面図である。電圧比ＶＲは、印加電圧Ｖと基準電圧Ｖ０との電圧比（ＶＲ＝Ｖ／Ｖ０）である。基準電圧Ｖ０は、吐出ノズル１６２毎に個別に設定された値であって、予め定められた液量の液滴が吐出されるように仮に決められた値である。基準電圧Ｖ０が吐出ノズル１６２毎に個別に設定されるのは、吐出ノズル１６２毎に例えば吐出口の口径が僅かに異なるためである。基準電圧Ｖ０は、検査装置２０１の過去の検査データなどに基づき設定される。印加電圧Ｖは、吐出ノズル１６２に印加される電圧である。吐出ノズル１６２は、上述の如く、印加電圧Ｖに応じた液量の液滴を吐出する。
【０１０５】
制御装置１４０は、一の吐出ノズル１６２が複数の開口部４２のそれぞれの内部に順番に液体４５を供給するときの電圧比ＶＲを変更する。制御装置１４０は、例えば、第１領域Ａ１の開口部４２に液体４５を供給するときの電圧比ＶＲ１と、第２領域Ａ２の開口部４２に液体４５を供給するときの電圧比ＶＲ２とを異ならせる。また、制御装置１４０は、第３領域Ａ３の開口部４２に液体４５を供給するときの電圧比ＶＲ３を、上記電圧比ＶＲ１、ＶＲ２とは異ならせる。さらに、制御装置１４０は、第４領域Ａ４の開口部４２に液体４５を供給するときの電圧比ＶＲ４を、上記電圧比ＶＲ１〜ＶＲ３とは異ならせる。異なる電圧比ＶＲが設定される領域の数は、複数であればよく、特に限定されない。
【０１０６】
検査装置２０１は、一の吐出ノズル１６２が異なる電圧比ＶＲで複数の開口部４２のそれぞれの内部に順番に供給した液体４５の液量ＬＶを検査する。液体４５の液量ＬＶは、開口部４２毎に個別に検査する。吐出ノズル１６２の吐出と、検査装置２０１の検査とが交互に行われてもよいし、吐出ノズル１６２の吐出がまとめて行われた後で、検査装置２０１の検査がまとめて行われてもよい。複数の開口部４２のそれぞれの内部に異なる電圧比ＶＲで吐出された液体４５の液量ＬＶが検査されればよい。
【０１０７】
検査装置２０１の検査に用いられる基板１０と、有機ＥＬパネル２の生産に用いられる基板１０とは、同じ寸法および同じ形状を有するものである。また、検査装置２０１の検査に用いられる隔壁４０と、有機ＥＬパネル２の生産に用いされる隔壁４０とは、同じ寸法および同じ形状を有するものである。検査と製品生産とで同じ寸法および同じ形状を有するものを用いるため、検査結果を生産条件にフィードバックしたときに、狙い通りの製品を製造することができる。
【０１０８】
尚、検査装置２０１の検査に用いられる基板１０と、有機ＥＬパネル２の生産に用いられる基板１０とは、少なくとも一部が、同じ寸法および同じ形状を有するものであればよい。例えば、検査装置２０１の検査に用いられる基板１０は、有機ＥＬパネル２の生産に用いられる基板１０の一部をカットしたものであってもよい。
【０１０９】
同様に、検査装置２０１の検査に用いられる隔壁４０と、有機ＥＬパネル２の生産に用いられる隔壁４０とは、少なくとも一部が、同じ寸法および同じ形状を有するものであればよい。例えば、検査装置２０１の検査に用いられる隔壁４０は、有機ＥＬパネル２の生産に用いられる隔壁４０の一部をカットしたものであってもよい。
【０１１０】
検査装置２０１の検査が終了した基板１０は、廃棄される。第１領域Ａ１と、第２領域Ａ２と、第３領域Ａ３と、第４領域Ａ４とでは、開口部４２の内部に供給された液体４５の液量ＬＶが異なるため、正孔注入層２４の厚さも異なり、点灯したときの画素の輝度が異なるためである。
【０１１１】
図１０は、一の吐出ノズルが異なる電圧比（印加電圧／基準電圧）で複数の開口部のそれぞれの内部に順番に供給したときの、液体の液量と電圧比との関係を示す。図１０において、一の吐出ノズル１６２が液体４５を供給する複数の開口部４２は、同じ寸法および同じ形状を有してよい。図１０において、黒丸は測定値を示し、直線Ｌは複数の測定値を最小二乗法を用いて近似した直線である。
【０１１２】
制御装置１４０は、検査装置２０１の検査結果（より詳細には、検出部２３０の検出結果）に基づき、複数の吐出ノズル１６２のそれぞれの吐出量を制御する。
【０１１３】
先ず、制御装置１４０は、例えば図１０に示すデータに基づき、開口部４２の内部に供給された液体４５の液量ＬＶが目標液量になるように、吐出ノズル１６２の印加電圧Ｖを決定する。印加電圧Ｖは、吐出ノズル１６２毎に個別に設定されてよい。吐出ノズル１６２毎に、例えば吐出口の口径が僅かに異なるためである。
【０１１４】
次いで、制御装置１４０は、有機ＥＬパネル２の生産時に、複数の吐出ノズル１６２のそれぞれに対し予め決定した印加電圧Ｖを印加し、複数の開口部４２のそれぞれの内部に液体４５を供給する。開口部４２の内部に供給された液体４５の液量ＬＶのばらつきを低減でき、正孔注入層２４の厚さのばらつきを低減できる。そのため、有機ＥＬパネル２を点灯させたときの複数の画素の発光量のばらつきを低減できる。
【０１１５】
以上、本開示に係る検査装置、塗布システム、検査方法、および塗布方法の実施形態について説明したが、本開示は上記実施形態などに限定されない。特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更、修正、置換、付加、削除、および組合わせが可能である。それらについても当然に本開示の技術的範囲に属する。
【０１１６】
例えば、検査装置２０１の検査結果（より詳細には、検出部２３０の検出結果）は、塗布装置１２１ａ以外の装置の制御に用いられてもよい。例えば、制御装置１４０は、有機ＥＬパネル２の生産時に、開口部４２の内部に供給された液体４５の液量ＬＶを監視し、その監視結果に基づき警報を報知する報知装置を制御してもよい。警報は、例えば、画像、音声、またはブザーの形態で報知される。制御装置１４０は、開口部４２の内部に供給された液体４５の液量ＬＶが第１閾値を超えたとき、または第２閾値を下回るとき、吐出ノズル１６２に異常が発生していると判断し、報知装置によって警報を報知してよい。ここで、第２閾値は第１閾値よりも小さい値である。
【符号の説明】
【０１１７】
１０  基板
１３  有機ＥＬ素子
２１  陽極
２２  陰極
２３  有機層
４０  隔壁
４２  開口部
４５  液体
４６  液面
１００  基板処理システム
１２１ａ、１２２ａ、１２３ａ  塗布装置
１４０  制御装置
１６２  吐出ノズル
２０１、２０２、２０３  検査装置
２１０  発光部
２２０  受光部
２２１  受光素子
２３０  検出部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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