(57)【要約】【課題】信頼性が向上する光デバイスを提供する。【解決手段】光デバイス２は、第１の光ファイバ７と、第１の光ファイバ７に融着された第２の光ファイバ３とを有する。第２の光ファイバ３の入射端面３２は、第１の光ファイバ７の出射端面７２よりも大径に形成されており、第１の光ファイバ７の出射端面７２に融着された融着領域３３と、外部に露出する露出領域３４とを含む。第２の光ファイバ３の入射端面３２は、第２の光ファイバ３の中心軸Ｊに沿った断面視において、中心軸Ｊに近づくほど後方に凹む凹状曲面として形成されている。この光デバイス２は、収容体１１と、第１の光ファイバ７を収容体１１に固定する固定材料１２とを備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の光伝送路と、
前記第１の光伝送路の後方に位置する第２の光伝送路と
を備え、
前記第２の光伝送路の入射端面は、前記第１の光伝送路の出射端面よりも大径に形成されており、前記第１の光伝送路の前記出射端面に接続された接続領域と、外部に露出する露出領域とを含み、
前記露出領域の少なくとも一部には、前記第２の光伝送路の中心軸に沿った断面視において、前記中心軸に近づくほど後方に凹む凹部が形成されており、
前記光デバイスは、
前記出射端面を含む第１の光伝送路の一部と、前記入射端面を含む前記第２の光伝送路の一部とを内部に収容する収容体と、
前記第１の光伝送路を前記収容体の内面に固定する固定材料と
をさらに備える、
光デバイス。
【請求項２】
前記第２の光伝送路の後方で前記第２の光伝送路に接続される第３の光伝送路をさらに備える、請求項１に記載の光デバイス。
【請求項３】
前記凹部は曲面から形成される、請求項１又は２に記載の光デバイス。
【請求項４】
前記凹部から漏れ出した漏れ光の光路上に位置して該漏れ光を処理する光処理部をさらに備える、請求項１から３のいずれか一項に記載の光デバイス。
【請求項５】
前記光処理部は前記収容体の内面に設けられている、請求項４に記載の光デバイス。
【請求項６】
前記固定材料は空気よりも屈折率が大きい材料から形成されており、
前記固定材料の近傍に、前記第１の光伝送路を伝搬する光をモニタするセンサが設けられている、
請求項１から５のいずれか一項に記載の光デバイス。
【請求項７】
前記センサは前記固定材料の直上に設けられている、請求項６に記載の光デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光デバイスに係り、特に複数の光伝送路が接続された光デバイスに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来このような光デバイスとして、コア径やクラッド径が異なる光ファイバ（光伝送路）同士を融着して構成したものがある（例えば、特許文献１参照）。このような構成では、融着部における径が小さな小径光ファイバと、融着部における径が大きな大径光ファイバとが融着されるため、大径ファイバの融着端面に小径光ファイバが融着されずに外部に露出する露出領域が生じることとなる。このような光デバイスは、概して、融着部におけるレーザ光の結合ロスを抑制する等の観点から、小径光ファイバを入力側、大径光ファイバを出力側として使用される。
【０００３】
しかしながら、例えば、このような光デバイスを用いて被加工物を加工した場合には、光デバイスから出力されたレーザ光が被加工物で反射して出射端から入射し、この反射光が大径光ファイバから小径光ファイバに向かって伝搬してくることがある。この場合、反射光が大径光ファイバの融着端面の露出領域から外部に漏れ出してしまい、小径ファイバを収容体に固定する樹脂などがこの漏れ光に照射されてダメージを受け、光デバイスの信頼性が低下するおそれがあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１７−１９１２６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、このような従来技術の問題点に鑑みてなされたもので、信頼性が向上する光デバイスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様によれば、信頼性が向上する光デバイスが提供される。この光デバイスは、第１の光伝送路と、上記第１の光伝送路の後方に位置する第２の光伝送路とを有する。このような光デバイスにおいて、上記第２の光伝送路の入射端面は、上記第１の光伝送路の出射端面よりも大径に形成されており、上記第１の光伝送路の上記出射端面に接続された接続領域と、外部に露出する露出領域とを含む。上記露出領域の少なくとも一部には、上記第２の光伝送路の中心軸に沿った断面視において、上記中心軸に近づくほど後方に凹む凹部が形成されている。そして、上記光デバイスは、上記出射端面を含む第１の光伝送路の一部と、上記入射端面を含む上記第２の光伝送路の一部とを内部に収容する収容体と、上記第１の光伝送路を上記収容体の内面に固定する固定材料とを備える。
【０００７】
なお、第１の光伝送路が複数の光伝送路から形成される実施形態において、本明細書における「大径」という語には、第２の光伝送路の入射端面の外径が第１の光伝送路の出射端面の外径よりも大きい場合だけでなく、第１の光伝送路の出射端面の外径と第２の光伝送路の入射端面の外径とが等しい場合であって、第２の光伝送路の入射端面における第１の光伝送路の出射端面の充填率が１未満である場合が含まれる。
【０００８】
このような光デバイスによれば、第２の光伝送路の出射端面の露出領域の少なくとも一部に、第２の光伝送路の中心軸に沿った断面視において該中心軸に近づくほど後方に大きく凹む凹部が形成されているため、第２の光ファイバから上記凹部に伝搬してきた反射光は、上記凹部において、スネルの法則に従い上記中心軸から離れるように屈折して収容体の内部空間に漏れ出す。したがって、固定材料へ照射される漏れ光の量やパワー密度が減少し、固定材料のダメージが低減されるため、光デバイスの信頼性が向上する。
【０００９】
この光デバイスは、上記第２の光伝送路の後方で上記第２の光伝送路に接続される第３の光伝送路をさらに備えてもよい。
【００１０】
上記凹部は、傾斜面として形成されてもよく、曲面として形成されてもよい。ただし、反射光を第２光伝送路からより効果的に漏出させるために、上記凹部を曲面から形成することが好ましい。
【００１１】
上記光デバイスは、上記凹部から漏れ出した漏れ光の光路上に位置して該漏れ光を処理する光処理部をさらに備えていてもよい。この光処理部は上記収容体の内面に設けることが好ましい。この場合、収容体の内面の該当箇所を黒アルマイト処理したり、非メッキ処理部にしたりすることによって、光処理部を形成することができる。
【００１２】
上記固定材料を空気よりも屈折率が大きい材料から形成してもよい。この場合、固定材料を、第１の光伝送路の最外殻構造（例えば、被覆が除去された光ファイバにおいては、最も外側に位置するクラッド）よりも屈折率が大きな材料から形成することが好ましい。このような態様において、上記固定材料の近傍に、上記第１の光伝送路を伝搬する光をモニタするセンサを設けてもよい。このような構成によれば、第１の光伝送路の最外殻構造を伝搬する光を固定材料を介して第１の光伝送路の外部に漏出させた上、この光をモニタすることができる。なお、このような光をより正確にモニタするために、上記センサを上記固定材料の直上に設けてもよい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、信頼性が向上する光デバイスを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明の第１の実施形態におけるレーザ装置の構成を模式的に示す図である。
【図２】図２は、本発明の第１の実施形態における光デバイスの一部を模式的に示す、第２の光ファイバの中心軸に沿った部分断面図である。
【図３】図３は、図２に示す光デバイスの変形例を模式的に示す部分断面図である。
【図４】図４は、本発明の第２の実施形態における光デバイスの一部を模式的に示す、第２の光ファイバの中心軸に沿った部分断面図である。
【図５】図５は、本発明の光デバイスの変形例を示す図である。
【図６】図６は、図５のＡ−Ａ線断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明に係る光デバイス及びレーザ装置の実施形態について図１から図６を参照して詳細に説明する。なお、図１から図６において、同一又は相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。また、図１から図６においては、各構成要素の縮尺や寸法が誇張されて示されている場合や一部の構成要素が省略されている場合がある。
【００１６】
図１は、本発明の第１の実施形態におけるレーザ装置１を模式的に示す図である。図１に示すように、このレーザ装置１は、光デバイス２と、レーザ光を生成して、このレーザ光を光デバイス２に入射させるレーザ生成部９とを備えている。このようなレーザ装置１の例としては、レーザ生成部９で生成されたレーザ光を増幅して出力するファイバレーザが挙げられる。
【００１７】
光デバイス２は、第１の光伝送路を構成する第１の光ファイバ７と、第２の光伝送路を構成する第２の光ファイバ３と、第１の光ファイバ７と第２の光ファイバ３とを接続するコンバイナ１０と、第２の光ファイバ３に接続され、第３の光伝送路を構成する出射部８０とを備えている。第１の光ファイバ７は、複数の細径ファイバ７０から構成されている。
【００１８】
レーザ生成部９は、レーザ光を生成する複数のレーザ光源９０を有しており、これらのレーザ光源９０から発せられたレーザ光が、各細径ファイバ７０に入射する。細径ファイバ７０の出射端のそれぞれは被覆が除去されてクラッドが露出されており、互いに束ねられてバンドル部を形成している。一方、第２の光ファイバ３は、単一の太径ファイバから構成されており、入射端の被覆が除去されてクラッドが露出されている。このような第１の光ファイバ７の出射端面と第２の光ファイバ３の入射端面とは互いに融着されており、本実施形態におけるコンバイナ１０を構成している。
【００１９】
出射部８０は、例えば石英からなるブロック状の部材である。この出射部８０は、第２の光ファイバ３の出射端面よりも大きな外径に形成されており、第２の光ファイバ３の出射端面に融着されている。第２の光ファイバ３から出射部８０に入射したレーザ光は、第２の光ファイバ３よりも大径に形成された出射部８０内を広がりながら伝搬し、加工ヘッド（図示せず）によって集光されて被加工物に出射される。このように、出射部８０は、レーザ光を広げつつレーザ光を被加工物に向かって伝搬させる第３の光伝送路として機能する。
【００２０】
以上のように、本実施形態におけるレーザ装置１によれば、レーザ生成部９から第１の光ファイバ７に入射したレーザ光が、第２の光ファイバ３を経て出射部８０から出射されるようになっている。以下、本明細書において、レーザ生成部９側を「前」又は「前方」ということがあり、出射部８０側を「後」又は「後方」ということがある。
【００２１】
ここで、図２は、コンバイナ１０の近傍を模式的に示す図であり、第２の光ファイバ３の中心軸Ｊに沿った部分断面図である。図２に示すように、本実施形態におけるコンバイナ１０は、第１の光ファイバ７の出射端であるバンドル部７１と、第２の光ファイバ３の入射端３１とを含んでいる。なお、図２では、理解を容易にするために、バンドル部７１を構成する複数の細径ファイバ７０の図示を省略し、バンドル部７１を一本の光ファイバとして示している。
【００２２】
本実施形態において、第２の光ファイバ３の入射端３１の入射端面３２は、第１の光ファイバ７のバンドル部７１の出射端面７２よりも大径に形成されている。バンドル部７１は、その中心軸が第２の光ファイバ３の中心軸Ｊと同軸になるように第２の光ファイバ３の入射端面３２に融着されている。すなわち、第２の光ファイバ３の入射端面３２は、第１の光ファイバ７の出射端面７２に融着された融着領域３３（接続領域）と、出射端面７２に融着されずに外部に露出している露出領域３４とを含んでいる。このように入射端面３２を出射端面７２よりも大径に形成することで、第１の光ファイバ７を伝搬してきたレーザ光が第２の光ファイバ３に入射する際に、レーザ光の結合ロスが生じることが抑制される。なお、後に詳細に説明するが、第２の光ファイバ３の入射端面３２は、中心軸Ｊに近づくほど後方に大きく凹む凹状曲面として形成されている。
【００２３】
このような構成によれば、複数の細径ファイバ７０を伝搬してきたレーザ光のそれぞれが、上述のコンバイナ１０で合波されて合波レーザ光ＬCとなり、この合波レーザ光ＬCが第２の光ファイバ３を出射部８０に向かって伝搬していく。このように、本実施形態におけるコンバイナ１０は、複数の光ファイバから伝搬してきたレーザ光を合波して高出力を実現する出力コンバイナとして機能する。
【００２４】
図２に示すように、このコンバイナ１０は、収容体１１の内部空間Ｓに収容されている。より具体的には、第１の光ファイバ７（バンドル部７１）の一部が固定材料１２を介して収容体１１の内面１１Ａに固定されており、第２の光ファイバ３（入射端３１）の一部が固定材料１３を介して内面１１Ａに固定されている。本実施形態において、固定材料１２は、空気よりも高屈折率で光透過性の高い樹脂から形成されており、好ましくは、細径ファイバ７０の最外殻構造よりも屈折率が高い樹脂から形成される。
【００２５】
なお、上述のように、第１の光ファイバ７のバンドル部７１の被覆は除去されており、クラッドが露出されている。また、第２の光ファイバの３の入射端３１の被覆は除去されており、クラッドが露出されている。したがって、以下、第１の光ファイバ７のバンドル部７１の最外殻構造と、第２の光ファイバ３の入射端３１の最外殻構造とは、いずれも各々の光ファイバのクラッドを意味するものとする。後述する第２の実施形態においても同様である。
【００２６】
図２の断面視において、収容体１１のうち固定材料１２の直上に位置する部分には、嵌入孔が形成されており、この嵌入孔に、光センサ５０が嵌め込まれている。この光センサ５０は、図示しない導線を介して制御部やディスプレイなどに接続されている。
【００２７】
また、図２の断面視において、収容体１１の内面１１Ａのうち、固定材料１２よりも後方かつ第２の光ファイバ３の入射端面３２よりも前方の部分には、レーザ光の反射を抑制する光処理部１５が形成されている。本実施形態において、この光処理部１５は、レーザ光を吸収するように黒アルマイト処理部や非メッキ処理部として形成される。なお、この光処理部１５は、必ずしも漏れ光ＬTを吸収する必要はなく、漏れ光ＬTを透過或いは散乱するように形成されてもよい。
【００２８】
次に、このような構成を有するレーザ装置１及び光デバイス２の作用及び効果について説明する。
【００２９】
レーザ光がレーザ生成部９から細径ファイバ７０に入射すると、これらのレーザ光がコンバイナ１０で合波されて高出力の合波レーザ光ＬCとなり、この合波レーザ光ＬCが第２の光ファイバ３を伝搬して出射部８０に入射する。出射部８０に入射した合波レーザ光ＬCは、出射部８０内を広がりながら伝搬し、加工ヘッドにより集光されて高出力レーザとして被加工物に照射される。これにより、被加工物の加工がなされる（図１参照）。
【００３０】
ところで、このようなレーザ加工工程において、被加工物に照射された高出力レーザの一部は、被加工物で反射して出射部８０に入射することがある。すなわち、このような反射光が、合波レーザ光ＬCの伝搬方向と反対方向に、換言すれば、後方から前方に向かって、第２の光ファイバ３内を伝搬してくることがある。
【００３１】
ここで、上述のように、光ファイバ３，７の融着部の前方において、第１の光ファイバ７は、空気よりも高屈折率（好ましくは、第１の光ファイバのクラッドよりも高屈折率）の固定材料１２によって覆われている。したがって、上記反射光のうち、第２の光ファイバ３の融着領域３３を介して第１の光ファイバ７のクラッドに入射したクラッドモード光は、固定材料１２が設けられている部分において、クラッドから固定材料１２へと漏出していく。以上のように、本実施形態における固定材料１２は、第１の光ファイバ７を収容体１１の内面１１Ａに固定するだけでなく、第１の光ファイバ７のクラッドを伝搬するクラッドモード光を第１の光ファイバ７から除去するクラッドモードストリッパ（ＣＭＳ）として機能する。
【００３２】
そして、この固定材料１２は、上述のように光透過性の高い材料から形成されているため、図２に示すように、固定材料１２に漏出したクラッドモード光ＬEは、固定材料１２を透過して上方に漏れ出し、光センサ５０へ照射される。光センサ５０は、このようなクラッドモード光ＬEを検知し、図示しない制御部を介してクラッドモード光の光量などをモニタする。
【００３３】
ところで、上述のように、第２の光ファイバ３の入射端面３２は第１の光ファイバ７の出射端面７２に比べて大径に形成されているため、入射端面３２のうち露出領域３４に達した反射光ＬRは、第１の光ファイバ７に結合することなく収容体１１の内部空間Ｓに漏れ出し、漏れ光ＬTとなる。したがって、この漏れ光ＬTが光センサ５０や固定材料１２に照射されると、これらの光がノイズとなってクラッドモード光ＬEの正確な検知が阻害されてしまう。
【００３４】
しかしながら、本発明に係る光デバイス２によれば、このような問題が効果的に抑制される。以下、この点について説明する。
【００３５】
図２に示すように、第２の光ファイバ３の入射端面３２は、後方に向かって凹む曲面として構成されている。より具体的には、入射端面３２は、第２の光ファイバ３の中心軸Ｊに沿った断面視において、中心軸Ｊに近づくほど後方に大きく凹む凹状曲面として形成されている。したがって、第２の光ファイバ３の入射端面３２に達した反射光ＬRは、スネルの法則に従い中心軸Ｊから離れるように屈折する。
【００３６】
本実施形態によれば、上述のように、収容体１１の内面１１Ａのうち、固定材料１２よりも後方かつ第２の光ファイバ３の入射端面３２よりも前方の部分、より具体的には、収容体１１の内面１１Ａのうち漏れ光ＬTの光路上に位置する部分に、レーザ光を吸収する光処理部１５が設けられている。したがって、露出領域３４から漏れ出した漏れ光ＬTがこの光処理部１５で処理されるため、光センサ５０や固定材料１２へ照射される漏れ光ＬTの量やパワー密度が減少する。そのため、光センサ５０によるクラッドモード光ＬEのモニタリングが正確になり、光デバイス２の信頼性が向上する。
【００３７】
また、第１の光ファイバ７のクラッドを後方に向かって伝搬するクラッドモード光も存在するが、このようなクラッドモード光は、反射光に起因するクラッドモード光をモニタリングする場合にはノイズとなるため、このようなクラッドモード光を除去するクラッドモード光除去装置を固定材料１２よりも前方に設けることが好ましい。この場合には、反射光に起因するクラッドモード光をより精度よく検出することが可能となる。
【００３８】
また、本実施形態によれば、上述のように、固定材料１２へ照射される漏れ光ＬTの量が減少するため、漏れ光ＬTの照射によって固定材料１２が受けるダメージが低減される。そのため、この点においても光デバイス２の信頼性が向上する。
【００３９】
本実施形態では、第２の光ファイバ３が一定の径を有しているが、図３に示すように、第２の光ファイバ３の入射端３１として、後方に向かって径が徐々に小さくなるテーパ部３５を有するブリッジファイバ３６を用い、ブリッジファイバ３６の後端に一定径の光ファイバ３７を接続してもよい。
【００４０】
上述の第１の実施形態では、第２の光ファイバの入射端面３２の全体が凹状曲面として形成されている例を説明したが、中心軸Ｊに沿った断面視において、第２の光ファイバの入射端面の露出領域の少なくとも一部に、中心軸Ｊに近づくほど後方に大きく凹む凹部が形成されているのであれば、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４１】
図４は、本発明の第２の実施形態におけるレーザ装置１０１及び光デバイス１０２の一部を示す図であり、図２に対応する部分断面図である。図４に示すように、本実施形態におけるレーザ装置１０１及び光デバイス１０２は、第１の実施形態におけるレーザ装置１及び光デバイス２と概ね同様の構成を有する。しかしながら、第２の光ファイバ１０３の入射端面１３２の形状が第１の実施形態における入射端面３２（図２参照）と相違している。
【００４２】
より具体的には、非溶接領域１３４のうち入射端面１３２の外周縁が、図４の断面視において傾斜状にカットされている。より具体的には、入射端面１３２の外周縁は、図４の断面視において、中心軸Ｊに近づくほど後方に大きく凹む傾斜面１３６（凹部）として形成されており、入射端面１３２の外周縁以外の部分は平坦面として形成されている。
【００４３】
このような構成によれば、図４に示すように、傾斜面１３６に達した反射光ＬRは、スネルの法則に従い中心軸Ｊから遠ざかるように屈折して内部空間Ｓに漏れ出す。ここで、収容体１１の内面１１Ａには、第１の実施形態と同様に光処理部１５が形成されている。すなわち、第２の光ファイバ３の入射端面３２よりも前方かつ固定材料１２よりも後方であって、漏れ光ＬTの光路上に位置する部分に光処理部１５が形成されている。したがって、漏れ光ＬTは光処理部１５へ照射されて処理されることとなり、固定材料１２や光センサ５０に照射される漏れ光の量が減少する。したがって、この第２の実施形態における光デバイス１０２によっても、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４４】
ただし、第２の実施形態における光デバイス１０２と、第１の実施形態における光デバイス２とを比較すると、概して以下の点において光デバイス２がより優れている。すなわち、（１）光デバイス２によれば、凹部が曲面から形成されているため、凹部が傾斜面から形成されている光デバイス２０２に比べて、反射光がより内部空間に漏出しやすい。そのため、第２の光ファイバ内に滞留する反射光を低減できる点において光デバイス２が優れている。また、（２）光デバイス２によれば、入射端面の全体が凹部として形成されているため、入射端面の一部にしか凹部が形成されていない光デバイス２０２よりも多くの漏れ光を光処理部に集めることができる。すなわち、より多くの漏れ光を処理できる点において光デバイス２が優れている。
【００４５】
上述の第２実施形態においても、第２の光ファイバとして図３に示すようなテーパ部３５を有するブリッジファイバ３６を用い、ブリッジファイバ３６の後端に一定径の光ファイバ３７を接続してもよいことは言うまでもない。
【００４６】
また、上述の第１ないし第２の実施形態では、第２の光ファイバの入射端面の外径が第１の光ファイバの出射端面の外径よりも大きい例を説明したが（図２及び図４参照）、第１の光ファイバの出射端面の外径と第２の光ファイバの入射端面の外径とが等しくてもよい。すなわち、例えば、図５に示すように、第１の光ファイバ３０７が複数の細径ファイバ７０から構成されている場合に、第１の光ファイバ３０７の出射端面３７２の外径Ｄ1と、第２の光ファイバ３０３の入射端面３３２の外径Ｄ2とが等しくてもよい。この場合、図６に示すように、第２の光ファイバ３０３の入射端面３３２における第１の光ファイバ３０７の出射端面３７２の充填率、換言すれば、入射端面３３２における各細径ファイバ７０の出射端面の集まりが占める割合は１未満になっている。そして、このような構成により、第２の光ファイバ３０３の入射端面３３２の外周縁に、出射端面３７２が融着されずに外部に露出する露出領域３３４が形成されている。したがって、露出領域３３４の少なくとも一部に上述の凹部を形成することで、第１及び第２の実施形態と同様に、固定材料１２に到達する漏れ光ＬTの量を減少させることができる。
【００４７】
本明細書における「大径」という語には、第１の光伝送路が複数の光伝送路から形成されている実施形態において、第２の光伝送路の入射端面の外径が第１の光伝送路の出射端面の外径よりも大きい場合だけでなく、第１の光伝送路の出射端面の外径Ｄ1と第２の光伝送路の入射端面の外径Ｄ2とが等しい場合であって、第２の光伝送路の入射端面における第１の光伝送路の出射端面の充填率が１未満である場合が含まれる（図６参照）。
【００４８】
また、上述の第１及び第２の実施形態では、光センサが固定材料の直上に位置している例を説明したが、固定材料から漏れ出したレーザ光をモニタできるのであれば、光センサを取り付ける位置は適宜変更することができる。ただし、光センサを固定材料の近傍、特に固定材料の直上に配置することで、固定材料から漏れ出したレーザ光のモニタリングをより正確に行うことできる。
【００４９】
また、上述の第１及び第２の実施形態では、固定材料から漏れ出したレーザ光をモニタリングするセンサとして光センサを設けた例を説明したが、他の実施形態では、光センサに代えて他の種類のセンサ（例えば、熱センサ）を設けてもよい。熱センサを設ける場合には、熱伝導性を考慮して、固定材料に接触するように熱センサを設けてもよい。
【００５０】
また、上述の第１及び第２の実施形態では、固定材料から漏れ出したレーザ光をモニタリングするセンサを取り付けた例を説明したが、他の実施形態では、必ずしもこのようなセンサを設ける必要はない。このような実施形態において、第２の光伝送路の入射端面の露出領域の少なくとも一部に凹部を設けた場合には、固定材料に照射される漏れ光の量が減少する。したがって、漏れ光の照射によって固定材料が受けるダメージが低減され、光デバイスの信頼性が向上する。
【００５１】
また、上述の第１及び第２の実施形態では、第１の光ファイバが複数の細径ファイバから構成された例を説明したが、第１の光ファイバが単一の光ファイバから構成されてもよい。
【００５２】
また、上述の第１及び第２の実施形態では、光デバイスに出力コンバイナが構成された例を説明したが、光デバイスにその他のコンバイナ（例えば、ポンプコンバイナ）が構成されてもよい。
【００５３】
また、第１の光伝送路の入射端に他の光伝送路が接続されてもよく、第３の光伝送路の出射端に他の光伝送路が接続されてもよい。あるいは、第２の光伝送路に第３の光伝送路が接続されなくてもよい。
【００５４】
また、上述の第１及び第２の実施形態では、固定材料１２として樹脂を使用した例を説明したが、その他の材料を使用してもよい
【００５５】
これまで本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、その技術的思想の範囲内において種々異なる形態にて実施されてよいことは言うまでもない。
【００５６】
なお、本明細書において使用した位置関係を示す用語は、図示した実施形態との関連において使用されているのであり、装置の相対的な位置関係によって変化するものである。
【符号の説明】
【００５７】
１，１０１        レーザ装置
２，１０２        光デバイス
３，１０３        第２の光ファイバ（第２の光伝送路）
７        第１の光ファイバ（第１の光伝送路）
９        レーザ生成部
１０        出力コンバイナ
１１        収容体
１２        固定材料
１３        固定樹脂
１５        光処理部
３１        入射端
３２，１３２        入射端面
３３        融着領域（接続領域）
３４，１３４        露出領域（露出領域）
３５        テーパ部
３６        ブリッジファイバ
５０        光センサ
７０        細径ファイバ
７１        バンドル部
７２        出射端面
８０        出射部（第３の光伝送路）
９０        レーザ光源
１３６        傾斜面
【図１】
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【図２】
2020008618.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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