(57)【要約】【課題】従来よりも光漏れを抑制することができる偏光板を提供する。【解決手段】偏光板１Ａは、偏光子３と、その一方側の面に積層された第１の位相差層４及び第２の位相差層５とを備えている。第１の位相差層４の遅相軸と偏光子３の吸収軸とは互いに略直交又は略平行している。面内の屈折率が最大となる方向の屈折率をｎｘとし、その面内において当該方向に直交する方向の屈折率をｎｙとし、厚さ方向の屈折率をｎｚとするとき、第２の位相差層５は、ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙを満たす。波長λｎｍの光に対する厚さ方向の位相差値をＲｔｈ（λ）とするとき、第２の位相差層５は、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．００を満たす。【選択図】図１
2020020996.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光子と、前記偏光子の一方側の面に積層された第１の位相差層及び第２の位相差層とを備え、
前記第１の位相差層の遅相軸と前記偏光子の吸収軸とが、互いに略直交又は略平行しており、
面内の屈折率が最大となる方向の屈折率をｎｘとし、その面内において当該方向に直交する方向の屈折率をｎｙとし、厚さ方向の屈折率をｎｚとするとき、前記第２の位相差層は、ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙを満たし、
波長λｎｍの光に対する厚さ方向の位相差値をＲｔｈ（λ）とするとき、前記第２の位相差層は、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．００を満たす、偏光板。
【請求項２】
前記第１の位相差層の遅相軸と前記偏光子の吸収軸とが、互いに略直交しており、
前記偏光子、前記第１の位相差層、前記第２の位相差層をこの順に備える請求項１記載の偏光板。
【請求項３】
前記第１の位相差層の遅相軸と前記偏光子の吸収軸とが、互いに略平行しており、
前記偏光子、前記第２の位相差層、前記第１の位相差層をこの順に備える請求項１記載の偏光板。
【請求項４】
前記第１の位相差層は、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚを満たす、請求項１〜３のいずれか一項記載の偏光板。
【請求項５】
前記偏光子の前記第１の位相差層及び前記第２の位相差層が積層されている側の最外層の表面に設けられた粘着剤層を更に備える、請求項１〜４のいずれか一項記載の偏光板。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項記載の偏光板とＩＰＳモードの液晶セルとを含む液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置の視野角補償が課題とされている。すなわち、バックライトを点灯させた液晶表示装置を斜め方向から観察した場合に、偏光板から光漏れが生じるために完全な黒色表示を達成できないこと（コントラストの低下）や、見かけの位相差が変化することによって偏光板を透過してくる光の波長が変化すること（カラーシフト）等が、解決すべき課題として存在する。これに関し、例えば特許文献１には、所定の正の屈折率異方性を有する二枚の位相差フィルムを用いた楕円偏光板によって、コントラストの低下を抑制しつつカラーシフトを改善することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３８８０９９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
これらの課題は完全に解決することは困難であり、なお一層の視野角補償を求めて研究開発が進められている。本発明は、従来よりも光漏れを抑制することができる偏光板、及び、これを用いた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、偏光子と、偏光子の一方側の面に積層された第１の位相差層及び第２の位相差層とを備え、第１の位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とが、互いに略直交又は略平行しており、面内の屈折率が最大となる方向の屈折率をｎｘとし、その面内において当該方向に直交する方向の屈折率をｎｙとし、厚さ方向の屈折率をｎｚとするとき、第２の位相差層は、ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙを満たし、波長λｎｍの光に対する厚さ方向の位相差値をＲｔｈ（λ）とするとき、第２の位相差層は、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．００を満たす偏光板を提供する。この偏光板によれば、従来よりも光漏れを抑制することができる。
【０００６】
この偏光板において、第１の位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とが、互いに略直交しており、偏光子、第１の位相差層、第２の位相差層をこの順に備えていてもよい。あるいは、この偏光板において、第１の位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とが、互いに略平行しており、偏光子、第２の位相差層、第１の位相差層をこの順に備えていてもよい。
【０００７】
第１の位相差層は、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚを満たすことが好ましい。これによれば、視野角の変化によって生じる偏光子の軸変化に基づくコントラストの低下を抑制することができ、カラーシフトを改善することができる。
【０００８】
本発明の偏光板は、偏光子の第１の位相差層及び第２の位相差層が積層されている側の最外層の表面に設けられた粘着剤層を更に備えていてもよい。偏光板が粘着剤層を備えていると、液晶表示装置を構成する液晶セルに貼着するのに都合がよい。
【０００９】
また、本発明は上記偏光板とＩＰＳモードの液晶セルとを含む液晶表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、従来よりも光漏れを抑制することができる偏光板、及び、これを用いた液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】第１の実施形態に係る偏光板の断面図である。
【図２】第２の実施形態に係る偏光板の断面図である。
【図３】第１の実施形態に係る偏光板を備える液晶表示装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において同一部分又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１３】
＜偏光板＞
（第１の実施形態）
図１に示されているとおり、本実施形態の偏光板１Ａは、偏光子３の一方側の面に位相差層４，５を備えるものであり、保護フィルム２と、偏光子３と、第１の位相差層４と、第２の位相差層５と、粘着剤層６とがこの順に積層されて成るものである。これらの層は、いずれもフィルム状である。なお、図示していないが、第１の位相差層４と第２の位相差層５との間や、偏光子３と第１の位相差層４との間に、後述する配向膜（水平配向膜，垂直配向膜）、接着剤（接着剤層）、粘着剤層、保護フィルムを備えていてもよい。
【００１４】
［保護フィルム］
保護フィルム２は、偏光子３を物理的に保護する層である。構成材料は特に制限されず、例えば、多官能アクリレート（メタクリレート）、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等からなるアクリル系オリゴマーあるいはポリマー；ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、デンプン類、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等の水溶性ポリマーと溶媒とを含有する保護層形成用組成物から形成されることが好ましい。また、構成材料としてポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー等が挙げられる。他に、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマーが挙げられる。保護フィルム２の膜厚は、好ましくは０．１μｍ〜４０μｍ、より好ましくは０．５μｍ〜３５μｍ、更に好ましくは１μｍ〜３０μｍである。
【００１５】
［偏光子］
偏光子３は、吸収異方性を有するヨウ素等の二色性色素を吸着させた延伸フィルムであり、材料としてはポリビニルアルコールが挙げられる。偏光子３は、二色性色素と重合性液晶化合物とを含む組成物を塗布し硬化させて得られるもの、すなわち、重合性液晶化合物の硬化層中に二色性色素が配向したものであってもよい。偏光子３は、液晶性を有する二色性色素を含む組成物を塗布し硬化させて得られるものであってもよい。偏光子３の厚さは、１μｍ〜４０μｍであることができ、好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
【００１６】
［第１の位相差層］
第１の位相差層４は、少なくとも面内方向の位相差を有する層であり、波長５９０ｎｍの光に対する面内方向の位相差値ＲＯは、１１０〜１５０ｎｍであることが好ましい。偏光板１Ａにおいて、第１の位相差層４の遅相軸と偏光子３の吸収軸とが互いに略直交するように、第１の位相差層４と偏光子３とが積層されている。なお、図示していないが、第１の位相差層４と偏光子３とは、例えば接着剤を用いて貼り合わされている。
【００１７】
第１の位相差層４は、フィルム平面内に屈折率異方性を有することが好ましく、一軸配向した正の屈折率異方性を有することが好ましい。すなわち、面内の屈折率が最大となる方向の屈折率をｎｘとし、その面内において当該方向に直交する方向の屈折率をｎｙとし、厚さ方向の屈折率をｎｚとするとき、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ（ポジティブＡプレート）を満たすことが好ましい。これによれば、視野角の変化によって生じる偏光子の軸変化に基づくコントラストの低下を抑制することができ、カラーシフトを改善することができる。ｎｙ≒ｎｚは、ｎｙとｎｚとが完全に等しい場合に加え、ｎｙとｎｚとが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、ｎｙとｎｚとの差の大きさが０．０１以内であれば、ｎｙとｎｚとが実質的に等しいと言うことができる。
【００１８】
第１の位相差層４は、上述の保護フィルムの構成材料として例示された樹脂から得られる延伸フィルムや重合性液晶化合物を含む組成物の重合体であることができる。第１の位相差層４は、重合性液晶化合物を含む組成物の重合体から形成されていることが好ましい。重合性液晶化合物は、重合性官能基、特に光重合性官能基を有する液晶化合物である。光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。
【００１９】
本発明において、重合性液晶化合物は、正の波長分散性を示す重合性液晶化合物であることが好ましく、下記式（ＩＩ）
【化１】
2020020996.tif 000003
で表される化合物が好ましい。
【００２０】
式（ＩＩ）中、Ｇ１、Ｇ２及びＧ３はそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。
【００２１】
Ｌ１、Ｌ２、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。
【００２２】
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０〜３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。
【００２３】
Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｉ−で置換されていてもよい。Ｐ１及びＰ２は互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。
【００２４】
Ｇ１、Ｇ２及びＧ３は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子及び炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−フェニレンジイル基、ハロゲン原子及び炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４−フェニレンジイル基、無置換の１，４−フェニレンジイル基、又は無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４−フェニレンジイル基、又は無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロへキサンジイル基である。また、複数存在するＧ１及びＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ１又はＬ２に結合するＧ１及びＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。
【００２５】
Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒａ１ＯＲａ２−、−Ｒａ３ＣＯＯＲａ４−、−Ｒａ５ＯＣＯＲａ６−、Ｒａ７ＯＣ＝ＯＯＲａ８−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲｃ＝ＣＲｄ−、又はＣ≡Ｃ−である。ここで、Ｒａ１〜Ｒａ８はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒｃ及びＲｄは炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子を表す。Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲａ２−１−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯＲａ４−１−、又はＯＣＯＲａ６−１−である。ここで、Ｒａ２−１、Ｒａ４−１、Ｒａ６−１はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−のいずれかを表す。Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−、又はＯＣＯ−である。
【００２６】
Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒａ９ＯＲａ１０−、−Ｒａ１１ＣＯＯＲａ１２−、−Ｒａ１３ＯＣＯＲａ１４−、又はＲａ１５ＯＣ＝ＯＯＲａ１６−である。ここで、Ｒａ９〜Ｒａ１６はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１〜４のアルキレン基を表す。Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲａ１０−１−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯＲａ１２−１−、又はＯＣＯＲａ１４−１−である。ここで、Ｒａ１０−１、Ｒａ１２−１、Ｒａ１４−１はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−のいずれかを表す。Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−、又はＯＣＯＣＨ２ＣＨ２−、である。
【００２７】
ｋ及びｌは、１≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、１≦ｋ＋ｌ≦４の範囲がより好ましく、ｋ＋ｌ＝２の構造がさらに好ましい。２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ１及びＢ２、並びに、Ｇ１、Ｇ２及びＧ３は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００２８】
Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４〜１２のアルカンジイル基がより好ましい。
【００２９】
Ｐ１又はＰ２で表される重合性基としては、例えばエポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、及びオキセタニル基等が挙げられる。これらの中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
【００３０】
上に挙げた重合性液晶化合物は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。二種以上併用する場合、式（ＩＩ）で表される化合物の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは５０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、さらに好ましくは８０質量部以上である。
【００３１】
第１の位相差層４の形成に使用する重合性液晶化合物を含む組成物（以下、位相差層形成用組成物ともいう）は、溶媒、光重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、密着性向上剤等の添加材をさらに含むことができる。これらの添加剤は種々の公知のものを使用することができ、単独又は二種以上組み合わせて使用することができる。
【００３２】
重合性液晶化合物の含有量は、位相差層形成用組成物の固形分１００質量部に対して、例えば７０〜９９．５質量部であり、好ましくは８０〜９９質量部であり、より好ましくは９０〜９８質量部である。含有量が上記範囲内であれば、第１の位相差層４の配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、組成物から溶媒を除いた成分の合計量のことをいう。
【００３３】
第１の位相差層４の膜厚は、偏光板の薄膜化の観点から、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは３μｍ以下、さらに好ましくは２．５μｍ以下である。また、第１の位相差層４の膜厚の下限は、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．５μｍ以上、さらに好ましくは１．０μｍ以上である。第１の位相差層４の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。
【００３４】
［第２の位相差層］
第２の位相差層５は、少なくとも厚さ方向の位相差を有する層であり、波長５９０ｎｍの光に対する厚さ方向の位相差値Ｒｔｈは、−１５０〜−３０ｎｍであることが好ましい。
【００３５】
第２の位相差層５は、フィルム平面に対して垂直な方向に屈折率異方性を有することが好ましく、一軸配向した正の屈折率異方性を有することが好ましい。すなわち、面内の屈折率が最大となる方向の屈折率をｎｘとし、その面内において当該方向に直交する方向の屈折率をｎｙとし、厚さ方向の屈折率をｎｚとするとき、前記第２の位相差層は、ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ（ポジティブＣプレート）を満たすことが好ましい。ｎｘ≒ｎｙは、ｎｘとｎｙとが完全に等しい場合に加え、ｎｘとｎｙとが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、ｎｘとｎｙとの差の大きさが０．０１以内であれば、ｎｘとｎｙとが実質的に等しいと言うことができる。
【００３６】
第２の位相差層５は、波長分散性が逆分散性である。すなわち、波長λｎｍの光に対する厚さ方向の位相差値をＲｔｈ（λ）とするとき、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．００を満たす。この値が１．０を超えると、偏光板１Ａでの光漏れを抑制することが難しくなる。「Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）」の値は、好ましくは０．７５〜０．９２、より好ましくは０．７７〜０．８７、さらに好ましくは０．７９〜０．８５である。
【００３７】
第２の位相差層５を構成する材料としては、下記式（Ｉ）
【化２】
2020020996.tif 000004
で表される重合性液晶化合物が好ましい。
【００３８】
式（Ｉ）中、Ｇ１、Ｇ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｂ１、Ｂ２、ｋ、ｌ、Ｅ１、Ｅ２、Ｐ１、お
よびＰ２は前記構造式（ＩＩ）と同様に定義されるものである。
【００３９】
ｋ及びｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるためさらに好ましい。
【００４０】
式（Ｉ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。ここで言う芳香族基とは、平面性を有する環状構造の基であり、該環構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い［４ｎ＋２］個であるものをいう。ここで、ｎは整数を表す。−Ｎ＝や−Ｓ−等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。
【００４１】
Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、及び電子求引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、及びフェナンスロリン環等が挙げられる。これらの中でも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、又はベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。
【００４２】
式（Ｉ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎπは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。
【００４３】
Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。
【化３】
2020020996.tif 000005
【００４４】
式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２２）中、＊印は連結部を表し、Ｚ０、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
【００４５】
Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ２’Ｒ３’−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ２’−、−ＣＯ−又はＯ−を表し、Ｒ２’及びＲ３’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
【００４６】
Ｊ１、及びＪ２は、それぞれ独立に、炭素原子、又は窒素原子を表す。
【００４７】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。
【００４８】
Ｗ１及びＷ２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表し、ｍは０〜６の整数を表す。
【００４９】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。
【００５０】
Ｙ１及びＹ２は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、又は芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、又は芳香環集合に由来する基をいう。
【００５１】
Ｚ０、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ１及びＺ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。
【００５２】
Ｑ１及びＱ２は、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＮＲ２’−、−Ｏ−が好ましく、Ｒ２’は水素原子が好ましい。中でも−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−が特に好ましい。
【００５３】
式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２２）の中でも、式（Ａｒ−６）及び式（Ａｒ−７）が分子の安定性の観点から好ましい。
【００５４】
式（Ａｒ−１６）〜（Ａｒ−２２）において、Ｙ１は、これが結合する窒素原子及びＺ０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ１は、これが結合する窒素原子及びＺ０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。なお、前記式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法に準じて製造することができる。
【００５５】
第２の位相差層５は、式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を単独で用いて形成してもよく、式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物と式（ＩＩ）で表される重合性液晶化合物とを組み合わせて形成してもよい。両者を組み合わせることで逆波長分散性の大小の程度を調整することができる。この場合、式（Ｉ）で表される重合性化合物が重量比で好ましくは７０％以上であり、より好ましくは８０％以上であり、更に好ましくは９０％以上である。
【００５６】
上記重合性液晶化合物に添加する添加材については、第１の位相差層４を構成する材料と同様のものを用いることができる。
【００５７】
第２の位相差層５の膜厚は、偏光板の薄膜化の観点から、好ましくは３μｍ以下であり、より好ましくは２μｍ以下、さらに好ましくは１．５μｍ以下である。また、第２の位相差層５の膜厚の下限は、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．３μｍ以上、さらに好ましくは０．５μｍ以上である。第２の位相差層５の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。
【００５８】
［粘着剤］
粘着剤層６は、偏光板１Ａのうち、偏光子３の第１の位相差層４及び第２の位相差層５が積層されている側の最外層（ここでは第２の位相差層５）の表面に設けられている。粘着剤層６としては、例えば感圧式粘着剤が挙げられる。感圧式粘着剤は、通常、ポリマーを含み、溶媒を含んでいてもよい。ポリマーとしては、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、又はポリエーテル等が挙げられる。中でも、アクリル系ポリマーを含むアクリル系の粘着剤は、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を有し、粘着性に優れ、さらには耐候性や耐熱性等が高く、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等が生じ難いため好ましい。感圧式粘着剤の厚さは、その密着力等に応じて決定されるため特に制限されないが、通常１μｍ〜４０μｍである。加工性や耐久性等の点から、当該厚さは３μｍ〜２５μｍが好ましく、５μｍ〜２０μｍがより好ましい。
【００５９】
［偏光板の製造方法］
偏光板１Ａは、以下のようにして製造することができる。
【００６０】
偏光子３は、例えばポリビニルアルコールから形成する場合、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造される。二色性色素として、ヨウ素や二色性の有機染料が挙げられる。
【００６１】
このようにして得られた偏光子３と任意の保護フィルム２とを接着剤を用いて貼り合せる。貼り合わせには一対の貼合ロールを用いることができる。
【００６２】
第１の位相差層４を形成する前に、水平配向膜を形成する。一般に配向膜は、位相差層を構成する重合性液晶化合物を所定方向に配向させる配向規制力を有する膜である。また、配向膜の種類やラビング条件や光照射条件によって、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向、及び傾斜配向等の様々な配向の制御が可能である。この中でも、水平配向膜は、位相差層を構成する重合性液晶化合物を水平方向に配向させる配向規制力を有する配向膜である。
【００６３】
配向膜としては、重合性液晶組成物の塗布等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。
【００６４】
第１の位相差層４を構成する重合性液晶化合物を水平方向（面内方向）に配向させる配向規制力を示す水平配向膜としては、ラビング配向膜、光配向膜及び、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜等が挙げられる。例えば長尺のロール状フィルムに適用する場合には、配向方向を容易に制御できる点で、光配向膜が好ましい。
【００６５】
ラビング配向膜は、通常、配向性ポリマーと溶媒とを含む組成物（以下、ラビング配向膜形成用組成物ともいう）を基材（基材については後述する。）等の上に塗布し、溶媒を除去して塗布膜を形成し、該塗布膜をラビングすることで配向規制力を付与することができる。
【００６６】
配向性ポリマーとしては、例えば、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類が挙げられる。これらの配向性ポリマーは単独又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００６７】
光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶媒とを含む組成物を基材（基材については後述する。）等の上に塗布し、溶媒を除去後に偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる。
【００６８】
グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。
【００６９】
水平配向膜の膜厚は、光学補償機能付き位相差板の薄膜化の観点から、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以下、さらに好ましくは０．３μｍ以下である。また、水平配向膜の膜厚は、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは５ｎｍ以上、さらに好ましくは１０ｎｍ以上、特に好ましくは３０ｎｍ以上である。水平配向膜の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。
【００７０】
水平配向膜の上に、第１の位相差層４を形成する。第１の位相差層４は、式（ＩＩ）で表される重合性液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を水平配向膜上に塗布し、次いで溶媒を除去し、配向状態の重合性液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を加熱及び／又は活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。
【００７１】
位相差層形成用組成物を水平配向膜上に塗布する方法（以下、塗布方法Ａという場合がある）としては、例えば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗布方法が好ましい。
【００７２】
溶媒を除去する方法（以下、溶媒除去方法Ａという場合がある）としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥及びこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥又は加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０〜２００℃の範囲が好ましく、２０〜１５０℃の範囲がより好ましく、５０〜１３０℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間〜２０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間〜１０分間である。
【００７３】
位相差層形成用組成物を活性エネルギー線によって硬化させる場合、照射する活性エネルギー線としては、含まれている重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類）、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、及びγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、及び光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。
【００７４】
前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【００７５】
紫外線照射強度は、通常、１０〜３，０００ｍＷ／ｃｍ２である。紫外線照射強度は、
好ましくは光カチオン重合開始剤又は光ラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．１秒〜５分、より好ましくは０．１秒〜３分、さらに好ましくは０．１秒〜１分である。このような紫外線照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、１０〜３，０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２である。積算光量が上記の下限以下である場合には、重合性液晶化合物の硬化が不十分となり、良好な転写性が得られない場合がある。逆に、積算光量が上記の上限以上である場合には、第１の位相差層４を含む光学補償機能付き位相差板が着色する場合がある。
【００７６】
このようにして式（ＩＩ）で表される重合性液晶化合物を用いて水平配向膜上に形成された第１の位相差層４は、正の波長分散性を有するポジティブＡプレートになる。なお、第１の位相差層４を形成するには、位相差層形成用組成物を水平配向膜上に塗布する方法のほか、あらかじめ延伸した樹脂フィルムを接着剤によって偏光子３に貼合する方法を用いることもできる。
【００７７】
次に、第２の位相差層５を形成する。ただし、第２の位相差層５を形成する前に、垂直配向膜を形成する。
【００７８】
垂直配向膜は、位相差層を構成する重合性液晶化合物を垂直方向に配向させる配向規制力を有する配向膜である。このため、垂直配向膜を用いることで、垂直配向液晶膜を形成することができる。
【００７９】
垂直配向膜としては、基材等の表面の表面張力を下げるような材料を適用することが好ましい。このような材料としては、上述した配向性ポリマー、例えばポリイミド、ポリアミド、その加水分解物であるポリアミック酸、パーフルオロアルキル等のフッ素系ポリマー、及びシラン化合物並びにそれらの縮合反応により得られるポリシロキサン化合物が挙げられる。垂直配向膜は、このような材料と溶媒とを含む組成物（以下、垂直配向膜形成用組成物ともいう）を基材等の上に塗布し、溶媒除去後、塗布膜に加熱等施すことで得ることができる。
【００８０】
垂直配向膜にシラン化合物を使用する場合には、表面張力を低下させやすく、垂直配向膜に隣接する層との密着性を高めやすい観点から、垂直配向膜は構成元素にＳｉ元素とＣ元素とを含む化合物からなる膜が好ましく、シラン化合物を好適に使用することができる。本実施形態において第１の位相差層４と第２の位相差層５との間に垂直配向膜が配置される場合、垂直配向膜と、第１の位相差層４及び第２の位相差層５との高い密着性が発現され、位相差層４，５において、各層間の界面における剥がれを有効に抑制又は防止することができる。
【００８１】
密着性をより向上しやすい観点、及び位相差層形成用組成物の塗布性の観点、及び後述する光学補償機能付き位相差板の製造方法において下層に配置される層が溶解しにくい観点から、垂直配向膜は、構成元素にＳｉ元素、Ｃ元素及びＯ元素を含む化合物からなる膜であることが好ましい。また、垂直配向膜を形成するシラン化合物のＳｉ原子に結合するＣ原子を含む置換基、好ましくはアルキル基又はアルコキシ基の炭素原子数は、好ましくは１〜３０、より好ましくは２〜２５、さらに好ましくは３〜２０である。すなわち、Ｓｉ元素とＣ元素との比率（Ｓｉ／Ｃ、モル比）は、好ましくは０．０３〜１．００、より好ましくは０．０４〜０．５０、さらに好ましくは０．０５〜０．３３である。Ｓｉ／Ｃ比が上記の下限以上であると、位相差層形成用組成物の塗布性が向上し、Ｓｉ／Ｃ比が上記の上限以下であると隣接する層との密着性を向上できる。
【００８２】
溶媒は、例えば第１の位相差層４の項で例示した溶媒を使用することができる。垂直配向膜形成用組成物を塗布する方法としては、上記塗布方法Ａが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、上記溶媒除去方法Ａが挙げられる。
【００８３】
垂直配向膜形成用組成物は溶媒の他、第１の位相差層の項に例示の添加剤等を含むことができる。
【００８４】
垂直配向膜の膜厚は、光学補償機能付き位相差板の薄膜化、及び配向規制力の発現の観点から、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１μｍ以下である。また、垂直配向膜の膜厚は、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは５ｎｍ以上、さらに好ましくは１０ｎｍ以上、特に好ましくは３０ｎｍ以上である。垂直配向膜の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。
【００８５】
垂直配向膜の上に、第２の位相差層５を形成する。第２の位相差層５は、式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を垂直配向膜上に塗布し、次いで溶媒を除去し、配向状態の重合性液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を加熱及び／又は活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。
【００８６】
位相差層形成用組成物を垂直配向膜上に塗布する方法は、第１の位相差層４を形成する際と同じ方法を使用することができる。
【００８７】
溶媒を除去する方法は、第１の位相差層４を形成する際と同じ方法を使用できる。
【００８８】
前記活性エネルギー線の種類や光源としては、第１の位相差層４を形成する際に使用するものと同じものが使用できる。照射強度に関しても、第１の位相差層４を形成する際と同様に行うことができる。
【００８９】
このようにして式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を用いて垂直配向膜上に形成された第２の位相差層５は、逆波長分散性を有するポジティブＣプレートになる。ここで、逆波長分散性の大小の程度は、式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物に対して式（ＩＩ）で表される重合性液晶化合物を混合して用いることで調整することができる。すなわち、逆波長分散性を示す式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物と、正波長分散性を示す式（ＩＩ）で表される重合性液晶化合物との混合比を変化させることで、第２の位相差層５全体としての逆波長分散性の大きさを調整することができる。
【００９０】
［基材］
ここで、水平配向膜及び垂直配向膜を形成するための土台となる基材について説明する。基材は、剥離して基材上に塗布した膜を転写できる設計であっても、基材との密着性が付与され転写できない設計であってもどちらでも良いが、薄膜化の観点から被転写体への転写し、基材を剥離できる設計が好ましい。上述のような基材としては、ガラス基材及びフィルム基材が挙げられ、加工性の観点からフィルム基材が好ましく、連続的に製造できる点で長尺のロール状フィルムがより好ましい。
【００９１】
フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド等のプラスチックが挙げられる。この基材表面にシリコーン処理のような離型処理が施されたものであることができる。このような樹脂を、溶媒キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。
【００９２】
基材は、水平配向膜や垂直配向膜を積層しやすく、かつ剥離が容易な厚さであることが好ましい。このような基材の厚さは、通常５〜３００μｍであり、好ましくは２０〜２００μｍである。
【００９３】
また、基材を別途準備する代わりに、水平配向膜を形成する基材として偏光子３を使用してもよく、垂直配向膜を形成する基材として、形成済みの第１の位相差層４を使用してもよい。
【００９４】
第２の位相差層５の表面に、従来公知の方法で粘着剤層６を積層する。これによって、偏光板１Ａが完成する。
【００９５】
（第２の実施形態）
上記第１の実施形態では保護フィルム２と、偏光子３と、第１の位相差層４と、第２の位相差層５と、粘着剤層６とがこの順に積層されて成る偏光板１Ａを示したが、第１の位相差層４と第２の位相差層５とは積層順が逆であってもよい。
【００９６】
図２に示されているとおり、第２の実施形態の偏光板１Ｂは、偏光子３の一方側の面に位相差層４，５を備えるものであり、保護フィルム２と、偏光子３と、第２の位相差層５と、第１の位相差層４と、粘着剤層６とがこの順に積層されて成るものである。偏光板１Ｂにおいて、第１の位相差層４の遅相軸と偏光子３の吸収軸とが互いに略平行するように、第１の位相差層４と偏光子３とが積層されている。
【００９７】
第２の実施形態の偏光板１Ｂにおいて、各層の構成材料や特性、製造方法については第１の実施形態の偏光板１Ａと同様とすることができる。
【００９８】
＜液晶表示装置＞
本発明の偏光板は、ＩＰＳモード（横電界方式）の液晶セルに貼着して液晶表示装置を製造するのに好適である。図３に示されているとおり、偏光板１Ａを液晶セル８の視認側に貼着し、他の偏光板１１を液晶セル８の背面側に貼着して液晶パネル９を構成し、これにバックライト（面光源装置）その他の部材を組み合わせることで、液晶表示装置１０を作製することができる。他の偏光板１１は、偏光子、保護フィルム、及び輝度向上フィルムを含むものであることができる。他の偏光板１１が備える保護フィルムの位相差値について、波長５９０ｎｍの光に対する面内方向の位相差値が１０ｎｍ以下であることが好ましく、波長５９０ｎｍの光に対する厚さ方向の位相差値の絶対値が１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【実施例】
【００９９】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の内容をより具体的に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【０１００】
＜使用材料＞
使用材料として、以下のものを準備した。
【０１０１】
［保護フィルム］
一方の面にハードコート層を有するトリアセチルセルロースフィルムを準備した。このフィルムの厚さは３０μｍであった。
【０１０２】
［偏光子］
ポリビニルアルコール樹脂にヨウ素が吸着配向した偏光子を準備した。偏光子の厚さは８μｍであった。
【０１０３】
［第１の位相差層］
延伸された環状オレフィン系樹脂フィルムを準備した。面内位相差値は、波長５９０ｎｍにおいて１２５ｎｍであった。第１の位相差層はｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚを満たすλ／４板であり、正波長分散性を示した。
【０１０４】
［位相差層形成用組成物］
第２の位相差層を形成するための組成物として、以下の「位相差層Ｐ形成用組成物」及び「位相差層Ｑ形成用組成物」を調製した。
【０１０５】
・位相差層Ｐ形成用組成物
以下に示す構造を有する重合性液晶化合物Ａ及び重合性液晶化合物Ｂを９０：１０の質量比で混合した。この混合物１００質量部に対して、レベリング剤（製品名「Ｆ−５５６」、ＤＩＣ社製）を１．０質量部、及び、光重合開始剤である２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（製品名「イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を６質量部添加した。更に、固形分濃度が１３質量％となるようにＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加した。混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、位相差層Ｐ形成用組成物を得た。
（重合性液晶化合物Ａ）
【化４】
2020020996.tif 000006
（重合性液晶化合物Ｂ）
【化５】
2020020996.tif 000007
【０１０６】
・位相差層Ｑ形成用組成物
重合性液晶化合物であるＰａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）ＬＣ２４２  １００質量部に対して、レベリング剤として上記「Ｆ−５５６」を０．１質量部、及び、重合開始剤として上記「イルガキュア３６９」を３質量部添加した。固形分濃度が１３％となるようにシクロペンタノンを添加して、位相差層Ｑ形成用組成物を得た。
【０１０７】
＜実施例１＞
シランカップリング剤であるＫＢＥ−９１０３（信越化学工業株式会社製）を、エタノールと水とを９：１（質量比）の割合で混合した溶媒に溶解させ、固形分０．５％の垂直配向膜形成用組成物を得た。次いで、基材としての第１の位相差層の表面をコロナ処理した。コロナ処理した表面上にその垂直配向膜形成用組成物をバーコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥し、垂直配向膜を得た。得られた垂直配向膜の膜厚は５０ｎｍであった。垂直配向膜上に、バーコーターを用いて位相差層Ｐ形成用組成物を塗布し、１２０℃で１分間乾燥した。高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射することにより、位相差層Ｐを形成した。紫外線の照射は、窒素雰囲気下で、波長３６５ｎｍにおける積算光量が５００ｍＪ／ｃｍ２となるように行った。
【０１０８】
得られた位相差層Ｐの特性は以下のとおりであった。
・膜厚：１．２μｍ
・厚さ方向の位相差値：波長５９０ｎｍにおいて−１４０ｎｍ
・種別：ポジティブＣプレート（ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ）
・波長分散性（Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０））：０．８５
【０１０９】
保護フィルムと偏光子とを接着剤層により貼合した。偏光子と第１の位相差層とを粘着剤層により貼合した。このようにして保護フィルム、偏光子、第１の位相差層、位相差層Ｐ（第２の位相差層）がこの順に積層された偏光板を得た。このとき、第１の位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とが直交するように積層した。
【０１１０】
＜実施例２＞
積層順が保護フィルム、偏光子、位相差層Ｐ（第２の位相差層）、第１の位相差層となるように変更したこと、及び、第１の位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とが平行になるように積層したこと以外は実施例１と同様にして、偏光板を得た。
【０１１１】
＜比較例１＞
基材としての第１の位相差層の表面をコロナ処理した。コロナ処理した表面上に、垂直配向膜形成用組成物としてのサンエバー（登録商標）ＳＥ６１０（日産化学工業株式会社製）をバーコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥し、垂直配向膜を得た。得られた垂直配向膜の膜厚は５０ｎｍであった。垂直配向膜上に、バーコーターを用いて位相差層Ｑ形成用組成物を塗布し、９０℃で１２０秒間乾燥した。上記高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照射することにより、位相差層Ｑを形成した。紫外線の照射は、窒素雰囲気下で、波長３６５ｎｍにおける積算光量が５００ｍＪ／ｃｍ２となるように行った。
【０１１２】
得られた位相差層Ｑの特性は以下のとおりであった。
・膜厚：１．０μｍ
・厚さ方向の位相差値：波長５９０ｎｍにおいて−１４０ｎｍ
・種別：ポジティブＣプレート（ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ）
・波長分散性（Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０））：１．０１
【０１１３】
保護フィルムと偏光子とを接着剤層により貼合した。偏光子と第１の位相差層とを粘着剤層により貼合した。このようにして保護フィルム、偏光子、第１の位相差層、位相差層Ｑ（第２の位相差層）がこの順に積層された偏光板を得た。このとき、第１の位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とが直交するように積層した。
【０１１４】
＜比較例２＞
積層順が保護フィルム、偏光子、位相差層Ｑ（第２の位相差層）、第１の位相差層となるように変更したこと、及び、第１の位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とが平行になるように積層したこと以外は比較例１と同様にして、偏光板を得た。
【０１１５】
＜評価＞
視野角特性測定評価装置により、斜め方向のコントラストを測定した。視野角特性測定評価装置には、ＥＬＤＩＭ社製のＥＺ−ｃｏｎｔｒａｓｔを使用した。各実施例及び比較例で作製した偏光板の表面に粘着剤層を積層させた。粘着剤層は、位相差層（第１の位相差層又は第２の位相差層）側の表面に積層させた。ガラス板を用意し、粘着剤層を介して各実施例及び比較例で作製した偏光板をガラス板の一方の面に貼着した。ガラス板のもう一方の面には、背面側偏光板を貼着した。ここで背面側偏光板は、粘着剤層、保護フィルム（波長５９０ｎｍの光に対する面内方向の位相差値≦１０ｎｍ、波長５９０ｎｍの光に対する厚さ方向の位相差値の絶対値≦１０ｎｍ）、偏光子、粘着剤層、及び輝度向上フィルムがこの順に積層された偏光板であった。一対の偏光板は、互いに吸収軸が直交するように貼合した。バックライトを点灯し、斜め方向のコントラストを評価した。結果を表１に示す。
【０１１６】
【表１】
2020020996.tif 000008
【０１１７】
この結果によれば、実施例１は比較例１に比べて斜め方向の光漏れが小さかったことがわかる。実施例２は、比較例２に比べて斜め方向の光漏れが小さかったことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１１８】
本発明は、液晶表示装置の作製に利用することができる。
【符号の説明】
【０１１９】
１Ａ，１Ｂ…偏光板、２…保護フィルム、３…偏光子、４…第１の位相差層、５…第２の位相差層、６…粘着剤層、８…液晶セル、９…液晶パネル、１０…液晶表示装置、１１…他の偏光板。
【図１】
2020020996.tif 000009
【図２】
2020020996.tif 000010
【図３】
2020020996.tif 000011