(57)【要約】      （修正有）【課題】質感に優れたかつ清掃性にも優れたマット調の釉薬層を備えた衛生陶器の提供。【解決手段】陶器素地８０と、表面に釉薬層１０とを備えてなる衛生陶器であって、前記釉薬層が、当該釉薬層の表面から１０μｍの深さまでの領域の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察したときに、二軸平均径が１μｍ以上である粒子として観察される箇所の面積が、当該領域の面積に対して６％未満の割合か、または粒子として観察される箇所が存在しないものであり、前記表面の６０°光沢度が１８以上５０未満であり、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（２００１）で規定されるＲｚおよびＲｓｋが、ＪＩＳ  Ｂ０６３３（２００１）で規定された条件で測定したとき、１．４４μｍ≦Ｒｚ＜２．３７μｍ、−１．１４＜Ｒｓｋ＜０．１７である衛生陶器は、優れたマット調でありながら、その清掃性にも優れる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
陶器素地と、表面に釉薬層とを備えてなる衛生陶器であって、
前記釉薬層が、
当該釉薬層の表面から１０μｍの深さまでの領域の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察したときに、二軸平均径が１μｍ以上である粒子として観察される箇所の面積が、当該領域の面積に対して６％未満の割合か、または粒子として観察される箇所が存在しないものであり、
前記釉薬層の表面の
６０°光沢度が１８以上５０未満であり、かつ
ＪＩＳ  Ｂ０６０１（２００１）で規定されるＲｚおよびＲｓｋが、ＪＩＳ  Ｂ０６３３（２００１）で規定された条件で測定したとき、
１．４４μｍ≦Ｒｚ＜２．３７μｍ、−１．１４＜Ｒｓｋ＜０．１７であること
を特徴とする、衛生陶器。
【請求項２】
当該釉薬層の表面から１０μｍの深さまでの領域の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真により観察したときに、二軸平均径が１μｍ以上である粒子として観察される箇所の面積の、当該領域の面積に対する割合が、
前記釉薬層の表面から１０μｍを越え５００μｍの深さまでの領域の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真により観察したときに、二軸平均径が１μｍ以上である粒子として観察される箇所の面積の、当該領域の面積に対する割合よりも小である、請求項１に記載の衛生陶器。
【請求項３】
前記釉薬層の表面の、ＩＳＯ  ２５１７８−２（２０１２）で規定される最大谷深さＳｖが、ＩＳＯ  ２５１７８−３（２０１２）で規定された条件で測定したとき、
１．０μｍ＜Ｓｖ＜４．０μｍである、
請求項１または２に記載の衛生陶器。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の衛生陶器の製造方法であって、
釉薬層を備えた物品を用意し、
前記釉薬層の表面をウエットブラストにより処理することを
含んでなる、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、清掃性に優れた、すなわち表面の汚れを容易に取り除くことが出来る、マット調の表面の衛生陶器に関する。
【背景技術】
【０００２】
衛生陶器の外観は、一般的には艶のある光沢調で高級感や清潔感を想起させる質感としている。これに対して、光沢調とは反対に艶のないマット調の衛生陶器が市場において評価されつつある。マット調とすることで、製品の外観（意匠性）を高め、また、同じ空間にある壁や器具類の質感と調和させることが可能となり、デザインのバリエーションを広げることが出来るからである。
【０００３】
衛生陶器のマット調は、基本的に表面に凹凸を形成することで光を散乱させて得ている。この凹凸は、時に衛生陶器の清掃性を低下させるため、表面性状を適切に制御することで清掃性を下げないようにする必要がある。しかしながら、衛生陶器の表面は使用によって徐々に釉薬表面のガラス質が侵食されるなど、表面形状が乱されることがある。このような状況にも対応するものとして、その表面を設計し、製造しなければならない。
【０００４】
特開２０１２−４６３６４号公報（特許文献１）は、釉薬焼成時に結晶粒子を析出させてマット調の表面を形成させる技術が開示されている。特定の物性の表面とすることで、防汚性とマット調の両立を図ることができるとされている。
【０００５】
また、特開２０１８−１０４２７２号公報（特許文献２）には、施釉面をブラスト処理することでマット調と防汚性を備えた表面を得る技術が記載されている。
【０００６】
これらを含め従来のマット調の衛生陶器をさらに改良し、マット調でありながら、清掃性に優れた衛生陶器が依然として求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１２−４６３６４号公報
【特許文献２】特開２０１８−１０４２７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明者らは、今般、特定の表面性状を備えた釉薬層の表面が、清掃性に優れたマット調のもとなることを見出した。
【０００９】
したがって、本発明は、清掃性に優れたマット調の釉薬層を備えた衛生陶器の提供をその目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
そして、本発明による衛生陶器は、
陶器素地と、表面に釉薬層とを備えてなる衛生陶器であって、
前記釉薬層が、
当該釉薬層の表面から１０μｍの深さまでの領域の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察したときに、二軸平均径が１μｍ以上である粒子として観察される箇所の面積が、当該領域の面積に対して６％未満の割合か、または粒子として観察される箇所が存在しないものであり、
前記釉薬層の表面の
６０°光沢度が１８以上５０未満であり、かつ
ＪＩＳ  Ｂ０６０１（２００１）で規定されるＲｚおよびＲｓｋが、ＪＩＳ  Ｂ０６３３（２００１）で規定された条件で測定したとき、
１．４４μｍ≦Ｒｚ＜２．３７μｍ、−１．１４＜Ｒｓｋ＜０．１７であること
を特徴とするものである。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明による衛生陶器の断面構造を説明する模式図である。
【図２】本発明による衛生陶器の釉薬層であって、粒子が観察される断面のＳＥＭ写真の例である。
【図３】本発明による衛生陶器の釉薬層であって、粒子が観察されない断面のＳＥＭ写真の例である。
【図４】本発明の一つの態様による衛生陶器の断面模式図であり、領域１２における粒子５０の存在が、領域１１よりも少ない態様である。
【図５】本発明の一つの態様による衛生陶器の断面模式図であり、領域１２における粒子５０の存在が領域１１と大きく異ならない態様である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
定義
本発明において、「衛生陶器」とは、トイレおよび洗面所周りで用いられる陶器製品を意味し、具体的には大便器、小便器、便器のサナ、便器タンク、洗面台の洗面器、手洗い器などを意味する。
【００１３】
表面性状
本発明による衛生陶器が備える釉薬層は、その表面性状として、
（１）  当該釉薬層の表面から１０μｍの深さまでの領域の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真により観察したときに、二軸平均径が１μｍ以上である粒子として観察される箇所の面積が、当該領域の面積に対して６％未満の割合か、または粒子として観察される箇所が存在しないものであり、
（２）  その表面の６０°光沢度が１８以上５０未満であり、
（３）  その表面の、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（２００１）で規定されるＲｚおよびＲｓｋが、ＪＩＳ  Ｂ０６３３（２００１）で規定された条件で測定したとき、
１．４４μｍ≦Ｒｚ＜２．３７μｍ、−１．１４＜Ｒｓｋ＜０．１７である
の三つの要件を満たす。
【００１４】
本発明において、ＳＥＭ写真は以下のとおり撮影される。図１は、本発明による衛生陶器の表面付近の構造を表した模式図である。衛生陶器１００は、釉薬層１０が、陶器素地８０の上に形成された表面層構造を持ち、両者は界面８０ａで接合されている。また、釉薬層１０はその表面１０ａを有している。
【００１５】
このような構造の衛生陶器を釉薬表面の法線（図中、Ｚ）を含むように切断し、断面を露出させる。この断面について、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真を撮影するが、その前に、断面を鏡面加工することが好ましい。断面の撮影は、釉薬層の表面１０ａから１０μｍの深さまでの領域について行う。好ましい態様によれば、倍率は１万倍とし、電界放出形走査電子顕微鏡により、加速電圧４ｋＶ、観察倍率１万倍の二次電子像モードを用いて行う。画像は、釉薬の表面に対して横方向に少なくとも５０μｍ以上の範囲で複数枚を取得する。
【００１６】
本発明による衛生陶器の釉薬層は、得られたＳＥＭ写真について、二軸平均径が１μｍ以上である粒子として観察される箇所の面積が、当該領域の面積に対して６％未満の割合か、または粒子として観察される箇所が存在しないものである。好ましくは５％以下である。図２は、粒子が観察される断面のＳＥＭ写真の例であり、画像に他の領域と異なる相として、粒子が観察される。図３は、粒子が観察されない断面のＳＥＭ写真の例であり、釉薬層の断面は一様である。面積の算出は、画像解析ソフトにより実施することが出来る。
【００１７】
本発明の一つの態様によれば、ＳＥＭ写真を観察する際に、画像コントラストや明暗などを適宜調整し、粒子の存在が最も見やすくなるように調整してもよい。また、サンプルの状態によっては粒子と釉薬の他の相との識別がどうしても困難である場合には、観察の前処理として、サンプル表面を７０℃の５重量％水酸化ナトリウム水溶液にて１時間程度エッチング処理を施してもよい。
【００１８】
本発明の好ましい態様によれば、釉薬層の表面から１０μｍの深さまでの領域の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真により観察したときに、二軸平均径が１μｍ以上である粒子として観察される箇所の面積の、当該領域の面積に対する割合が、釉薬層の表面から１０μｍを越え５００μｍの深さまでの領域の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真により観察したときに、二軸平均径が１μｍ以上である粒子として観察される箇所の面積の、当該領域の面積に対する割合よりも小である衛生陶器が好ましい。この態様において、釉薬層の厚さが５００μｍ以下であれば、釉薬層の表面から１０μｍを越えた領域の下限は、釉薬層と陶器素地との界面とする。この態様よれば、より良好な清掃性が実現できる。なお、画像は、釉薬層の表面から１０μｍを超え、５００μｍ以下の領域については、その両端を含むように深さ方向に等間隔に少なくとも５枚以上取得する。ただし、釉薬層の領域外を含まれる粒子はカウントしないものとする。
【００１９】
図４は、この態様による衛生陶器の断面模式図である。図中、衛生陶器１０１は、釉薬層１０が、陶器素地８０の上に形成された表面構造を持つ。釉薬層１０は、釉薬層の表面から１０μｍの深さまでの領域１２と、釉薬層の表面から１０μｍを越え５００μｍの深さまでの領域１１とからなる。この態様にあっては、領域１２において観察される粒子５０の面積の当該領域の面積に対する割合が、領域１１において観察される粒子５０の面積の当該領域の面積に対する割合よりも小である。他方、図５は、本態様と異なり、領域１１および領域１２において、粒子５０の面積がほぼ同じである釉薬層を示す。但し、この図５の態様にあっても、領域１２において、二軸平均径が１μｍ以上である粒子として観察される箇所の面積の、当該領域の面積に対する割合が６％未満であれば、本発明に包含される。
【００２０】
さらに、いずれの態様においても、釉薬層１０と陶器素地８０との間に他の釉薬層があっても良い。
【００２１】
粒子は、原料中に含まれる結晶質粒子や焼成によって析出される結晶質粒子が存在する。材質としては、ジルコン、石英、ジオプサイド、アノーサイトなどがある。
【００２２】
次に本発明による衛生陶器の釉薬層は、（２）その表面が６０°光沢度が１８以上５０未満とされる。さらに、（３）その表面が、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（２００１）で規定されるＲｚおよびＲｓｋを、ＪＩＳ  Ｂ０６３３（２００１）で規定された条件で測定した値とき、
１．４４μｍ≦Ｒｚ＜２．３７μｍ、−１．１４＜Ｒｓｋ＜０．１７であるものとされる。
【００２３】
本発明による衛生陶器の釉薬層が備える（２）および（３）の性状は、後記するように好ましくは、好ましくはウエットブラスト処理により実現される。
【００２４】
本発明による上記性状を有する釉薬層の表面は、マット調となり、かつ、清掃性に優れる。本発明者の得た知見によれば、艶消し調の表面を実現するための釉薬層の凹凸について、光沢度８０を超えるような光沢調の表面では汚れ除去性の低下はそれほどないが、光沢度が５０未満に小さくなると、マット調の外観を呈するようにはなるが、汚れ除去性が悪化する傾向にある。おそらくは、凹凸形状に汚れが入り込んでしまい、除去することが困難になるか、除去のためには高い清掃負荷をかけなければならない。本発明にあっては、光沢度が５０未満の低い値の釉薬層表面であっても、上記のとおり、その表面近傍に粒子が少なく、かつ、表面のＲｚおよびＲｓｋを所定範囲にすることで、高い清掃性、すなわち汚れが一旦ついても容易に除去できることを見出した。本発明によれば、清掃性の程度は、光沢度８０を超えるような光沢調の表面に劣らないものである。さらに、本発明による衛生陶器は、油性、水性のいずれの汚れに対しても優れた清掃性を備える有利なものである。
【００２５】
さらに、本発明による衛生陶器の釉薬層は、その表面が、ＩＳＯ  ２５１７８−２（２０１２）で規定される最大谷深さＳｖの値が１．０μｍ＜Ｓｖ＜４．０μｍであることが好ましく、１．２μｍ＜Ｓｖ＜３．８μｍであることがより好ましい。このような表面を持つ釉薬層とすることで、低い清掃負荷で優れた清掃性を得ることができる。最大谷深さＳｖの特に好ましい範囲は１．３μｍ＜Ｓｖ＜３．２μｍであり、この範囲とすることで油性の汚れの除去性および水性の汚れの除去性が共に高くなり有利である。なお、この最大谷深さＳｖはＩＳＯ  ２５１７８−３（２０１２）に規定された条件で、具体的には後述する観察条件および解析条件で測定した値である。
【００２６】
釉薬層の組成
本発明によれば、種々の釉薬層、すなわち当業者が一般的に釉薬層と理解するものにおいて、上記性状を備えたマット調の表面を実現することが出来る。本発明においては、釉薬層は、上記した性状がその表面において実現できる限り、当業者が一般的に釉薬層と理解する組成を備えるものとされてよい。
【００２７】
本発明の好ましい態様によれば、釉薬層の組成は、酸化物に換算して以下の表に記載される組成を備える。
【表１】
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【００２８】
また、本発明のさらに一つの態様によれば、上記表における成分の外、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｒＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＢａＯ、Ｂ２Ｏ３、Ｌｉ２Ｏ、Ｓｂ２Ｏ３、ＣｕＯ、ＭｎＯ、ＮｉＯ、ＣｏＯ、ＭｏＯ３、ＳｎＯ２、ＰｂＯなどを含んでもいてもよい。
【００２９】
物品の製造
本発明による衛生陶器は、陶器素地上に釉薬層を形成し、さらに、釉薬層の表面を上記した表面性状となるよう加工することにより製造することができる。
【００３０】
本発明において、釉薬層を形成する釉薬の原料は、前記釉薬層の組成を実現できる限り特に限定されないが、一般的には、釉薬原料として、珪砂、長石、石灰石等の天然鉱物粒子の混合物、コバルト化合物、鉄化合物等の顔料、珪酸ジルコニウム、酸化錫等の乳濁剤などが使用される。釉薬原料を高温で溶融した後、急冷してガラス化させることで釉薬層を得ることができる。本発明において好ましい釉薬組成は、例えば、長石が１０ｗｔ％〜３０ｗｔ％、珪砂が１５ｗｔ％〜４０ｗｔ％、炭酸カルシウムが１０ｗｔ％〜２５ｗｔ％、コランダム、タルク、ドロマイト、亜鉛華が、それぞれ１０ｗｔ％以下、乳濁剤および顔料が合計１５ｗｔ％以下のものである。上記した釉薬を基材に塗布し、その後乾燥、焼成して物品を得る。焼成温度は釉薬が軟化する１，０００℃以上１，３００℃以下の温度が好ましい。
【００３１】
本発明において、上記した釉薬層の表面の性状は、好ましくはウエットブラスト処理により実現できる。ウエットブラスト処理は、釉薬層の表面に対して水と研磨材と圧縮空気の混合物を同時に噴射することで表面を削り、所望の表面状態を形成する手法である。研磨材の種類、平均粒径、圧縮空気の供給圧力、投射距離、投射角度、投射時間等を適宜選択することで、本発明によるマット調の表面を得ることが出来る。本発明の好ましい態様によれば、研磨材として非球形のアルミナ粒子を用い、その粒径範囲が１μｍ〜１００μｍの範囲にあるものを用いることが好ましい。
【実施例】
【００３２】
実施例１〜９に使用するサンプルの用意
衛生陶器（ＴＯＴＯ株式会社製、色品番：＃ＮＷ１）を用意し、平面部を約１０ｃｍ切り出し、評価サンプルを得た。実施例１〜８に使用した評価サンプルは、釉薬層として、特許第３３３９６４０号公報に記載されている２層構造を有している。具体的には、ガラスと顔料を混合した釉薬層の上に透明なガラス層を設けたものである。そして、後記するように、これらサンプルの釉薬層は、その表面から１０μｍの深さまでの領域の断面をＳＥＭ写真により観察したときに、二軸平均径が１μｍ以上である粒子が観察されないものである。
【００３３】
比較例１〜６および１１に使用するサンプルの用意
ガラスと顔料とを含んでなる釉薬層を備え、その上に透明なガラス層を備えていない衛生陶器（ＴＯＴＯ株式会社製、色品番：＃ＮＷ１）を用意し、平面部を約１０ｃｍ切り出し、評価サンプルを得た。そして、後記するように、これらサンプルの釉薬層は、その表面から１０μｍの深さまでの領域の断面をＳＥＭ写真により観察したときに、二軸平均径が１μｍ以上である粒子が、この領域の面積に対して６％以上観察されるものである。
【００３４】
ブラスト処理
上記の評価サンプル釉薬層の表面を、市販のウエットブラスト装置を用いて処理した。研磨材として非球形のアルミナ粒子を用い、研磨材の粒径範囲を１μｍ〜１００μｍから選択し、圧縮空気の供給圧力、投射距離、投射角度、投射時間を適宜選択して処理を行った。こうして得られたサンプルを実施例１〜９および比較例１〜６および１１とした。
【００３５】
比較例７〜１０
天然鉱物粒子２ｋｇと水１ｋｇ及び球石４ｋｇを、容積６リットルの陶器製ポットに入れ、ボールミルにより約２４時間粉砕し釉薬スラリーを得た。次に、ケイ砂、長石、粘土等を原料として調製した衛生陶器素地泥漿を用いて、７０×７０ｍｍの板状試験片を作製した。この板状試験片上に、釉薬を濡れ吹き法によるスプレーコーティングで厚み０．５ｍｍになるように塗布し、その後、１１００〜１２００℃で焼成することで試料を得た。以上のようにして、衛生陶器の例７〜１０を得た。なお、比較例７〜１０の釉薬層の組成は、表２に示される通りであった。
【表２】
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【００３６】
表面性状の測定
（１）粒子の面積割合の測定
実施例１〜９および比較例１〜１１の釉薬層を、その表面の法線を含むように切断し、断面に対して鏡面加工を施した。その後、電界放出形走査電子顕微鏡（ＳＵ８２２０、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）により、加速電圧４ｋＶ、観察倍率１万倍の二次電子像モードを用いて、釉薬表面部から深さ方向に１０μｍ以上の範囲を含む観察視野にて画像を取得した。画像は、釉薬の表面に対して横方向に少なくとも５０μｍ以上の範囲で複数枚を取得した。それらの画像について、釉薬表面から深さ１０μｍ、幅５０μｍの範囲内に存在する粒子の二軸平均径が１μｍ以上である粒子の占める面積割合を算出した。結果は後記の表３に示されるとおりであった。
【００３７】
（２）表面形状の測定（Ｒｓｋ、Ｒｚ、ＲＳｍ、Ｒｃ）
実施例１〜９および比較例１〜１１の試料について、ＪＩＳ Ｂ０６５１（２００１年）に準拠した触針式表面粗さ測定装置（株式会社ミツトヨ製ＳＶ−３２００）を用い、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（２００１年）による定義と表示に従い、各表面粗さパラメータ（Ｒｓｋ、Ｒｚ、ＲＳｍ、Ｒｃ）を算出した。測定条件は、ＪＩＳ  Ｂ０６３３（２００１年）の規定に従い、評価長さ４ｍｍ、カットオフ値λｃ０．８ｍｍ、λｓ０．００２５ｍｍ、フィルタ種別Ｇａｕｓｓｉａｎ、補正は傾斜補正（全体）とし、計１０箇所の線粗さを測定し、それらの平均値をサンプルの粗さパラメータの値として採用した。結果は後記の表３に示されるとおりであった。
【００３８】
（３）光沢度の測定
実施例１〜９および比較例１〜１１の試料について、その６０°光沢度を、ＪＩＳ Ｚ８７４１に基づき、光沢計（コニカミノルタ社製ＧＭ−２６８ｐｌｕｓ）により測定した。結果は後記の表に示されるとおりであった。
【００３９】
（４）  油性汚れに対する清掃性の評価
以下の方法によって、実施例１〜９および比較例１〜１１の表面の油性固形物に対する清掃性を評価した。色差計には、ＳＰＥＣＴＲＯＰＨＯＴＯＭＥＴＥＲ  ＣＭ−２６００ｄ（コニカミノルタ製）を用いた。測定条件の設定は、表色系：Ｌ＊ａ＊ｂ＊、マスク／グロス：Ｓ／Ｉ＋Ｅ、ＵＶ設定：ＵＶ１００％、光源：Ｄ６５、観察視野：１０度、表示：色差絶対値を用いて、同一箇所の３回測定の平均値を正反射光を含むＳＣＩに表示されるａ＊値を用いた。
（ａ）サンプル表面のａ＊を色差計で測定し、その値をａ０＊とした。なお、以下も含めて、ａ＊の測定時には、５ｍｍ幅の白いマスクを線上に被せて、にじみによる測定バラツキを防止した。
（ｂ）赤色のクレパス（登録商標）でサンプル上に３ｍｍ幅の線を書き、線上のａ＊を色差計で測定し、その値をａ１＊とした。
（ｃ）市販のトイレ掃除シート（商品名：トイレクイックル、花王（株）製、「クイックル」は花王（株）の登録商標）を用いて、線と垂直な方向に２５ｇ／ｃｍ２の荷重をかけた状態で、５往復拭き取った。
（ｄ）摺動後のサンプルのクレパスの線上の色を、色差計で測定し、その値をａ２＊とした。
（ｅ）汚れ除去性を下記の式から算出した。
汚れ除去性（％）＝（ａ１＊−ａ２＊）／（ａ１＊−ａ０＊）
得られた結果は、後記の表３に示されるとおりであった。
【００４０】
（５）水性染料（メチレンブルー）に対する清掃性の評価
以下の方法によって、実施例１〜９および比較例１〜１１の表面の水性染料に対する清掃性を評価した。
（ａ）上記実施例１〜９および比較例１〜１１と同じ評価サンプルとして、縦横サイズが５０ｍｍ〜１００ｍｍの角形平板を用意した。
（ｂ）前処理として、評価サンプル表面を７０℃の５重量％水酸化ナトリウム水溶液に１時間浸漬した。その後、サンプル表面を蒸留水で十分にすすぎ、室温にて完全に乾燥させた。
（ｃ）釉薬表面に０．５重量％メチレンブルー水溶液を直径約１０ｍｍ以上になるように滴下し、完全に乾燥させた。
（ｄ）蒸留水で湿らせた布によって、残渣を拭き取った。
（ｅ）清掃性の評価は目視によって行い、染色残りが確認されなかった場合を〇とし、染色残りが確認された場合を×として判定した。結果は、後記の表３に示されるとおりであった。
【００４１】
（６）表面形状の測定（Ｓｖ）
得られた試料について、ＩＳＯ２５１７８−２（２０１２）に規定された最大谷深さＳｖを、ＩＳＯ２５１７８−３（２０１２）に規定された条件で、レーザー顕微鏡  ＬＥＸＴ  ＯＬＳ４５００（オリンパス製）を用いて測定した。測定は、以下の観察条件にて得られた画像を、以下の解析条件で解析することで行った。
【００４２】
観察条件は、倍率：１０７１倍、高精度モード（ピッチ０．２μｍ）を選択し、１視野あたり２５８μｍ×２５８μｍの画像を撮影した。
【００４３】
解析条件は、評価領域を２５８μｍ×２５８μｍとし、画像補正として、レーザー顕微鏡に付属している解析ソフトウェアを用いて、水平補正（自動）およびノイズ除去を行った。フィルタ処理は、Lフィルタのカットオフ値（λｃ）を３０μｍ、Ｓフィルタのカットオフ値（λｓ）を設定なしとした。測定パラメータは「粗さ」を選択した。以上の条件にて、最大谷深さＳｖを測定した。
【００４４】
測定に用いたレーザー顕微鏡、解析ソフトウェアの構成を以下に示す。
レーザー顕微鏡
装置：ＯＬＳ４５００
製品バージョン：1.1.8
光源：405nm半導体レーザー
検出系：フォトマルチプライヤー
対物レンズ：OLYMPUS MPlan APO N 50X/0.95 LEXT
解析ソフトウェア
ＯＬＳ４５００アプリケーション（バージョン：1.1.8.3）
【００４５】
１つのサンプルについて、それぞれ視野が重ならないように、３箇所で測定を行い、それらの平均値をサンプルのＳｖとした。結果は後記の表３に示されるとおりであった。
【表３】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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