(57)【要約】【課題】シール材の広がりを防止し、かつ、カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板との接着性を良好にする。【解決手段】少なくとも透明基板上にブラックマトリックス層と複数の色画素層とスペーサ層とを有し、さらに前記色画素層を形成した表示部と、その周辺部の額縁部を備えるカラーフィルタ基板であって、前記額縁部がブラックマトリックス層と２以上の色画素層が積層された構造であり、その最上層が前記複数の色画素層のいずれか１つの色画素層と同じ材質で、かつ、凹凸形状となっているカラーフィルタ基板を用いる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも透明基板上にブラックマトリックス層と複数の色画素層とスペーサ層とを有し、さらに前記色画素層を形成した表示部と、その周辺部の額縁部を備えるカラーフィルタ基板であって、
前記額縁部がブラックマトリックス層と２以上の色画素層が積層された構造であり、その最上層が前記複数の色画素層のいずれか１つの色画素層と同じ材質で、かつ、凹凸形状となっていることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項２】
少なくとも透明基板上にブラックマトリックス層と複数の色画素層とスペーサ層とを有し、さらに前記色画素層を形成した表示部と、その周辺部の額縁部を備えるカラーフィルタ基板であって、
前記額縁部がブラックマトリックス層と２以上の色画素層が積層された構造であり、前記額縁部の最上層がスペーサ層と同じ材質で、かつ、凹凸形状となっていることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項３】
表示部と、その周辺部の額縁部を備えたカラーフィルタ基板が、透明基板上にブラックマトリックス層と複数の色画素層とスペーサ層とを有し、前記額縁部が、ブラックマトリックス層と２以上の色画素層が積層された構造であり、前記色画素層の最上層が前記複数の色画素層のいずれか１つの色画素層と同じ材質で凹凸形状に形成され、前記カラーフィルタ基板が、前記額縁部上のシール材層を介してＴＦＴ基板に積層され、さらに前記カラーフィルタ基板と前記ＴＦＴ基板の間隙に液晶を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
表示部と、その周辺部の額縁部を備えたカラーフィルタ基板が、透明基板上にブラックマトリックス層と複数の色画素層とスペーサ層とを有し、前記額縁部が、ブラックマトリックス層と２以上の色画素層が積層された構造であり、前記額縁部の最上層がスペーサ層と同じ材質で凹凸形状に形成され、前記カラーフィルタ基板が、前記額縁部上のシール材層を介してＴＦＴ基板に積層され、さらに前記カラーフィルタ基板と前記ＴＦＴ基板の間隙に液晶を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
少なくとも、表示部と、その周辺部の額縁部を備えたカラーフィルタ基板であって、透明基板上にブラックマトリックス層と複数の色画素層とスペーサ層とを有し、前記額縁部が、ブラックマトリックス層と２以上の色画素層が積層された構造であり、前記色画素層の最上層が前記複数の色画素層のいずれか１つの色画素層と同じ材質で凹凸形状に形成されたカラーフィルタ基板を製造する工程と、前記カラーフィルタ基板の前記額縁部にシール材層を塗布する工程と、前記カラーフィルタ基板に前記シール材層を介してＴＦＴ基板を貼り合せる工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
少なくとも、表示部と、その周辺部の額縁部を備えたカラーフィルタ基板であって、透明基板上にブラックマトリックス層と複数の色画素層とスペーサ層とを有し、前記額縁部が、ブラックマトリックス層と２以上の色画素層が積層された構造であり、前記額縁部の最上層がスペーサ層と同じ材質で、かつ、凹凸形状に形成されたカラーフィルタ基板を製造する工程と、前記カラーフィルタ基板の前記額縁部にシール材層を塗布する工程と、前記カラーフィルタ基板に前記シール材層を介してＴＦＴ基板を貼り合せる工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はカラーフィルタ基板、液晶表示装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、シール材を介してカラーフィルタ基板とＴＦＴ基板を貼り合わせている。そして、シール材により規定された間隙に液晶を注入して製造している。（特許文献１）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−１８０８７２号公報
【特許文献２】特開２０１６−１８６５５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記した様に、シール材により液晶を注入する間隙を規定するため、シール材の塗布厚が厚くなるので、カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板を貼り合わせると、シール材が広がり、画像表示部まで入り込んでしまい、表示装置の品質を低下させる原因となっていた。
【０００５】
そこで、貼り合せ時にシール材が必要以上に広がらない様にするため、基板の外周の額縁部に凹凸のダミーパターンを設けている。（特許文献２）
【０００６】
しかし、シール材は液晶層の厚み（カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板間の間隙）を規定するため、厚く形成する必要がある。このため、カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板を貼り合わせる際にシール材の広がりが避けられず、額縁部を狭くする要求に応えることができなかった。
【０００７】
上記、問題点に鑑み、本発明は、狭い額縁部であっても、カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板を貼り合せる際にシール材が表示領域に入り込むことがなく、かつ、ＴＦＴ基板との接着性の良好なカラーフィルタ基板を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記課題を解決するために、少なくとも透明基板上にブラックマトリックス層と複数の色画素層とスペーサ層とを有し、さらに前記色画素層を形成した表示部と、その周辺部の額縁部を備えるカラーフィルタ基板であって、前記額縁部がブラックマトリックス層と２以上の色画素層が積層された構造であり、その最上層が前記複数の色画素層のいずれか１つの色画素層と同じ材質で、かつ、凹凸形状となっていることを特徴とするカラーフィルタ基板である。
【０００９】
また、本発明は、少なくとも透明基板上にブラックマトリックス層と複数の色画素層とスペーサ層とを有し、さらに前記色画素層を形成した表示部と、その周辺部の額縁部を備えるカラーフィルタ基板であって、前記額縁部がブラックマトリックス層と２以上の色画素層が積層された構造であり、前記額縁部の最上層がスペーサ層と同じ材質で、かつ、凹凸形状となっていることを特徴とするカラーフィルタ基板である。
【００１０】
また、本発明は、表示部と、その周辺部の額縁部を備えたカラーフィルタ基板が、透明基板上にブラックマトリックス層と複数の色画素層とスペーサ層とを有し、前記額縁部が
、ブラックマトリックス層と２以上の色画素層が積層された構造であり、前記色画素層の最上層が前記複数の色画素層のいずれか１つの色画素層と同じ材質で凹凸形状に形成され、前記カラーフィルタ基板が、前記額縁部上のシール材層を介してＴＦＴ基板に積層され、さらに前記カラーフィルタ基板と前記ＴＦＴ基板の間隙に液晶を有することを特徴とする液晶表示装置である。
【００１１】
また、本発明は、表示部と、その周辺部の額縁部を備えたカラーフィルタ基板が、透明基板上にブラックマトリックス層と複数の色画素層とスペーサ層とを有し、前記額縁部が、ブラックマトリックス層と２以上の色画素層が積層された構造であり、前記額縁部の最上層がスペーサ層と同じ材質で凹凸形状に形成され、前記カラーフィルタ基板が、前記額縁部上のシール材層を介してＴＦＴ基板に積層され、さらに前記カラーフィルタ基板と前記ＴＦＴ基板の間隙に液晶を有することを特徴とする液晶表示装置である。
【００１２】
本発明によれば、ＴＦＴ基板と貼り合せたときのシール材の広がりが少なくすることができるので、額縁部の幅の狭い、より意匠性の高い表示装置とすることができるという効果が得られる。
【００１３】
また、本発明は、少なくとも、表示部と、その周辺部の額縁部を備えたカラーフィルタ基板であって、透明基板上にブラックマトリックス層と複数の色画素層とスペーサ層とを有し、前記額縁部が、ブラックマトリックス層と２以上の色画素層が積層された構造であり、前記色画素層の最上層が前記複数の色画素層のいずれか１つの色画素層と同じ材質で凹凸形状に形成されたカラーフィルタ基板を製造する工程と、前記カラーフィルタ基板の前記額縁部にシール材層を塗布する工程と、前記カラーフィルタ基板に前記シール材層を介してＴＦＴ基板を貼り合せる工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
【００１４】
また、本発明は、少なくとも、表示部と、その周辺部の額縁部を備えたカラーフィルタ基板であって、透明基板上にブラックマトリックス層と複数の色画素層とスペーサ層とを有し、前記額縁部が、ブラックマトリックス層と２以上の色画素層が積層された構造であり、前記額縁部の最上層がスペーサ層と同じ材質で、かつ、凹凸形状に形成されたカラーフィルタ基板を製造する工程と、前記カラーフィルタ基板の前記額縁部にシール材層を塗布する工程と、前記カラーフィルタ基板に前記シール材層を介してＴＦＴ基板を貼り合せる工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、本発明の構成によれば表示部の領域より高くなった額縁部にシール材を塗布することで、シール材の塗布量が少なくできるので、カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板を貼り合わせる際に、シール材が広がる量が減少し、額縁部の狭い設計の液晶表示装置にも対応可能となるため、貼り合せ工程がより多品種に対応できるようになるという効果が得られる。
【００１６】
さらに、  ブラックマトリックス、色画素レジストを積層した構造の上にシール材を塗布するため、従来よりも少ない量のシール材でシールすることができるため、コストの低減ができるという効果も得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】（ａ）本発明の第１の実施形態のカラーフィルタ基板の平面図である。（ｂ）同、カラーフィルタ基板の平面図の一部拡大図である。（ｃ）同、一部拡大図の一部の斜視図である。（ｄ）同、カラーフィルタ基板の断面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態のカラーフィルタ基板の額縁部２０の上の複数の着色材突起３ｂのパターンを示す平面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を示す概略断面図（その１）である。
【図４】本発明の第１の実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を示す概略断面図（その２）である。
【図５】本発明の第２の実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を示す概略断面図（その１）である。
【図６】本発明の第２の実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を示す概略断面図（その２）である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
＜第１の実施形態＞
本発明の第１の実施形態を図１〜図４を参照して説明する。図１（ａ）は、カラーフィルタのパターン複数を編集して形成したカラーフィルタ基板１０の平面図であり、図１（ｂ）はその一部の拡大図である。図１（ｃ）は額縁部２０の斜視図であり、図１（ｄ）は、カラーフィルタ基板１０の概略の断面図である。カラーフィルタ基板上には透明導電層（図示せず）を設ける。
【００１９】
本発明の第１の実施形態のカラー液晶装置は、図４（ｇ）の断面図のように、カラーフィルタ基板１０とＴＦＴ基板１１を、カラーフィルタ基板１０の表示部の領域の外側（外周部）の額縁部２０にシール材層４を塗布して貼り合わせ、シール材層４によって環状に閉ざされた内側の表示部の領域に液晶５を注入してカラー液晶装置を製造する。
【００２０】
そして、カラーフィルタ基板１０の透明導電層で形成した電極とＴＦＴ基板１１上に設けた電極の間に印加する電圧を制御することによってカラー液晶装置の表示部に像を表示する。
【００２１】
（カラーフィルタ基板１０）
本実施形態では、図１の様に、カラーフィルタ基板１０へシール材層４を塗布する場合を示すが、シール材層４を、ＴＦＴ基板１１に塗布しても良く、シール材層４を塗布する基板はカラーフィルタ基板１０に限定されない。以下、図１を参照してカラーフィルタ基板１０を説明する。
【００２２】
図１（ｄ）のカラーフィルタ基板１０の断面図において、１は透明基板である。透明基板１の材料は、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダガラスなどの無機ガラス、ＰＥＴ、ＰＥＳ、ＰＣなどのプラスチック基板、又はこれらガラス基板やプラスチック基板上に、酸化シリコンや酸化アルミニウム、窒化シリコン、酸窒化シリコンなどの無機薄膜を成膜したものを、使用の目的・用途に応じて使い分けて用いることができる。
【００２３】
２はブラックマトリックス層であり、膜厚が１μｍ〜２μｍに形成する。ブラックマトリックス層２は、表示部の領域のブラックマトリックス層２ａのパターンと、額縁部２０のブラックマトリックス層２ｂのパターンを形成する。
【００２４】
３は色画素層であり、透明基板１上の表示部の領域に区画して形成する。色画素層３は、ブラックマトリックス層２の格子状のパターンで区画された表示部の領域に、複数色の、例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３色の色画素層３を例えば膜厚が２μｍ〜３μｍに形成する。
【００２５】
ブラックマトリックス層２及び色画素層３は感光性着色樹脂組成物を用いて形成し、その感光性着色樹脂組成物は、透明樹脂中に、着色剤となる顔料、光開始剤、重合性モノマ
ー等を適切な溶剤により分散させて製造する。
【００２６】
また、シール材層４を形成する位置の額縁部２０のブラックマトリックス層２ｂの上に額縁部色画素層３ａを形成して土台の高さを高くし、その上に着色材突起３ｂのパターンを形成する。すなわち、ブラックマトリックス層２ｂの上に額縁部色画素層３ａを形成することで表示部の領域のブラックマトリックス層２ａよりも厚い土台を形成し、その土台の上に、色画素層３の材料で形成した着色材突起３ｂのパターンを形成する。
【００２７】
そのブラックマトリックス層２と色画素層３の上を透明なオーバーコート層ＯＣで被覆する。そのオーバーコート層ＯＣの上にＩＴＯ等からなる透明導電層（図示せず）を設け、さらにスペーサ層（図示せず）、あるいは配向制御用突起（図示せず）を設けてカラーフィルタ基板１０とする。
【００２８】
こうして、シール材層４を形成する位置の額縁部のブラックマトリックス層２ｂの上に額縁部色画素層３ａを形成することで厚く形成した土台の上に、着色材突起３ｂのパターンを形成する。それにより、額縁部２０の上面の高さを、表示部の領域の色画素層３の上面の高さよりも高く形成する。
【００２９】
従来は、ＴＦＴ基板１１とカラーフィルタ基板１０とを貼り合わせるためにシール材層４が、その接着を確実なものとするため、一般的にはスペーサ層ＰＳの高さより幾分厚く盛られていたので、カラーフィルタ基板１０とＴＦＴ基板１１を貼り合わせる際に、シール材層４が押し出され、基板面方向に広がろうとする問題があった。
【００３０】
本発明では、額縁部２０で厚く形成した土台の上に着色材突起３ｂのパターンを形成することで、従来の、カラーフィルタ基板１０とＴＦＴ基板１１を貼り合わせる際に、シール材層４が押し出され基板面方向に広がろうとする問題を改善できる。
【００３１】
すなわち、額縁部２０の土台と着色材突起３ｂの高さを表示部の領域の高さよりも高く形成した分だけ、額縁部２０に形成するシール材層４の厚さを薄くすることができ、それにより、カラーフィルタ基板１０とＴＦＴ基板１１を貼り合わせる際に、シール材層４が基板面方向に広がる量を少なくできる効果がある。
【００３２】
図２の平面図のパターンの様に、複数の着色材突起３ｂのパターンを額縁部２０の土台の上に形成することができる。図２（ａ）と図２（ｂ）の様に、矩形の表示部の領域を囲む額縁部２０の土台の上に複数の着色材突起３ｂのパターンを設ける事ができる。また、図２（ｃ）の様に、角を丸めた表示部の領域を囲む額縁部２０の土台の上に複数の着色材突起３ｂのパターンを設ける事ができる。
【００３３】
その着色材突起３ｂのパターンの上を、透明なオーバーコート層ＯＣで被覆する。そのオーバーコート層ＯＣは、その表面が着色材突起３ｂの間が凹む様に形成する。すなわち、着色材突起３ｂによる凹凸パターンがオーバーコート層ＯＣで平坦化されないように、感光性材料のオーバーコート層ＯＣをハーフトーン・カットフィルターで遮光して露光し現像してオーバーコート層ＯＣを形成することで、着色材突起３ｂの間が凹んだオーバーコート層ＯＣを形成する。
【００３４】
このオーバーコート層ＯＣの表面は、額縁部２０の上では、ブラックマトリックス層２ｂ及び複数の色の色画素層３の層によって高さが高くされ、表示部の領域上のオーバーコート層ＯＣの表面の高さは低く、段差を持つオーバーコート層ＯＣに形成される。
【００３５】
その額縁部２０の上のオーバーコート層ＯＣの上にシール材層４を塗布し、ＴＦＴ基板
１１を重ねてシール材層４によって貼り合わせる。ここで、額縁部２０に塗布するシール材層４の厚さは、額縁部２０のブラックマトリックス層２ｂと額縁部色画素層３ａで構成した土台と着色材突起３ｂとの層の厚さを表示部の領域のブラックマトリックス層２ａよりも厚く形成した分だけ薄くすることができる。
【００３６】
そうしてシール材層４の厚さを薄くすることで、カラーフィルタ基板１０とＴＦＴ基板１１を貼り合わせる際に、シール材層４が基板面方向に広がる量を少なくできる。それにより、シール材層４の形成領域を狭く設定できるので、カラー液晶装置の額縁部２０の幅を狭くできる効果がある。
【００３７】
（製造方法）
次に、図３と図４を参照して、本実施形態のカラー液晶装置の製造方法について説明する。
【００３８】
（工程１）ブラックマトリックス層２の形成
先ず、図３（ａ）の様な透明基板１の上に、図３（ｂ）の様なブラックマトリックス層２を、インクジェット法、印刷法、フォトリソグラフィ法など何れかの方法でパターニングして作製する。
【００３９】
ブラックマトリックス層２を、例えば、樹脂中に顔料を、光開始剤、重合性モノマーと共に適当な溶剤に分散させた着色樹脂組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜にパターン露光、現像することで形成する。
【００４０】
（工程２）色画素層３の形成
次に、その上に、透明な樹脂中に顔料を、光開始剤、重合性モノマーと共に適当な溶剤に分散させた着色樹脂組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜にパターン露光、現像することで一色の色画素層３を形成する工程を各色毎に繰り返し行って、図３（ｃ）の様に表示部の領域に色画素層３を形成する。
【００４１】
その際に、シール材層４を形成する額縁部２０のブラックマトリックス層２ｂの上に、色画素層３の材料の複数の層を重ねて額縁部色画素層３ａを形成することで、表示部の領域のブラックマトリックス層２ａの厚さの数倍厚い土台を形成する。その土台の上に色画素層３の材料で着色材突起３ｂを設けて、凹凸パターンを額縁部２０の上に形成する。
【００４２】
（工程３）オーバーコート層ＯＣの形成
図４（ｄ）の様に、そのブラックマトリックス層２及び色画素層３上の全面を透明なオーバーコート層ＯＣで被覆する。ここで、額縁部２０のブラックマトリックス層２ｂの上に形成した着色材突起３ｂによる凹凸パターンがオーバーコート層ＯＣで平坦化されないように、感光性材料のオーバーコート層ＯＣを使用し、ハーフトーン・カットフィルターで遮光して露光し現像することで、着色材突起３ｂの間が凹んだオーバーコート層ＯＣを形成する。
【００４３】
そのオーバーコート層ＯＣの上にＩＴＯをスパッタリングにより成膜処理し、そのＩＴＯ膜をパターニングして透明導電層（図示せず）を設ける。更に、その上に、スペーサ層ＰＳ、あるいは配向制御用突起のパターン（図示せず）を形成してカラーフィルタ基板１０を形成する。
【００４４】
（工程４）シール材層４の塗布
そのカラーフィルタ基板１０の額縁部２０のオーバーコート層ＯＣの上に、図４（ｅ）の様に、シール材層４のパターンを塗布する。
【００４５】
（工程５）ＴＦＴ基板１１の貼り合わせ
そうしてシール材層４のパターンを形成したカラーフィルタ基板１０の上に、図４（ｆ）の様に、ＴＦＴ基板１１を重ねて貼り合わせる。
【００４６】
ここで、シール材層４の厚さを薄く形成することで、カラーフィルタ基板１０とＴＦＴ基板１１を貼り合わせる際に、シール材層４が基板面方向に広がる量を少なくすることができる効果がある。
【００４７】
（工程６）液晶５の注入
次に、図４（ｇ）の様に、表示部の領域を環状に囲む額縁部２０のシール材層４で閉ざされた内側の表示部の領域のカラーフィルタ基板１０とＴＦＴ基板１１の間隙に液晶５を注入する。
【００４８】
＜第２の実施形態＞
本発明の第２の実施形態を図５と図６を参照して説明する。
（工程１）
図５のカラーフィルタ基板１０の断面図において、第１の実施形態の工程１と同様にして、図５（ａ）のように、透明基板１の上にブラックマトリックス層２を設ける。
【００４９】
（工程２）
次に、工程２と同様にして、図５（ｂ）のように、表示部の領域に色画素層３を形成する。その際に、額縁部のブラックマトリックス層２ｂの上に、複数層の色画素層３の層を複数層重ねて額縁部色画素層３ａを形成して表示部の領域のブラックマトリックス層２ａの厚さの数倍厚い土台を形成する。
【００５０】
（工程３）オーバーコート層ＯＣの形成
図５（ｃ）のように、その上を透明なオーバーコート層ＯＣで被覆することで、額縁部２０の高さを高くしてオーバーコート層ＯＣの上面に段差を形成することができる。
【００５１】
（工程４）スペーサ層ＰＳの形成
そのオーバーコート層ＯＣの上にＩＴＯ等からなる透明導電層（図示せず）を設ける。さらに、図５（ｄ）のように、スペーサ層ＰＳ形成用の感光性樹脂にフォトマスクのパターンを露光・現像してスペーサ層ＰＳを形成する。
【００５２】
スペーサ層ＰＳのパターン露光用のフォトマスクは、額縁部２０の領域にハーフトーン・カットフィルター等を形成したフォトマスクを用いてスペーサ層ＰＳ形成用の感光性樹脂を露光・現像することで、図５（ｄ）の様に、額縁部２０の領域に形成するスペーサ層ＰＳｂの膜厚を、表示部の領域に形成するスペーサ層ＰＳの膜厚より薄くして、スペーサ層ＰＳｂの高さを表示部の領域のスペーサ層ＰＳと高さを揃えて形成する。
【００５３】
そうして、額縁部２０の領域にも形成したスペーサ層ＰＳｂによって額縁部２０のオーバーコート層ＯＣの上に凹凸パターンを形成する。
【００５４】
（工程５）シール材層４の塗布
次に、図６（ｅ）のように、スペーサ層ＰＳｂによって凹凸パターンを形成した額縁部２０の上に、シール材層４を塗布する。
【００５５】
（工程６）ＴＦＴ基板１１の貼り合わせ
図６（ｆ）のように、シール材層４のパターンを形成したカラーフィルタ基板１０の上
に、ＴＦＴ基板１１を重ねて貼り合わせる。
【００５６】
（工程７）液晶５の注入
次に、図６（ｇ）の様に、表示部の領域の周囲の環状の額縁部２０とシール材層４で閉ざされた内側の表示部の領域のカラーフィルタ基板１０とＴＦＴ基板１１の間隙に液晶５を注入する。
【符号の説明】
【００５７】
１・・透明基板
２・・・ブラックマトリックス層
２ａ・・・表示部の領域のブラックマトリックス層
２ｂ・・・額縁部のブラックマトリックス層
３・・・色画素層
３ａ・・・額縁部色画素層
３ｂ・・・着色材突起
４・・・シール材層
５・・・液晶
１０・・・カラーフィルタ基板
１１・・・ＴＦＴ基板
２０・・・額縁部
ＯＣ・・・オーバーコート層
ＰＳ・・・スペーサ層
ＰＳｂ・・・額縁部の領域のスペーサ層
【図１】
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【図２】
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【図３】
2020173332.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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