(57)【要約】【課題】排水の水質に応じた分別が不要であり、また処理の過不足なく効率よく排水を処理することができる排水処理装置を提供する。【解決手段】無機系排水は、凝集・沈殿装置１で凝集及び沈殿処理された後、流動床型好気性生物処理装置２を経て合流槽５へ送られる。流動床型好気性生物処理装置２を迂回するようにバイパスライン４が設けられており、凝集沈殿処理水を流動床型好気性生物処理装置２又はバイパスライン４に択一的に流すように切替弁３が設けられている。有機系排水は、硝化・脱窒装置６で硝化及び脱窒処理された後、沈殿槽７で沈殿処理され、次いで前記合流槽５へ送られる。凝集・沈殿処理水のＴＯＣ濃度が所定濃度Ａよりも低い場合は、凝集・沈殿装置１からの凝集沈殿処理水をバイパスライン４に流し、Ａよりも高い場合には凝集沈殿処理水を流動床型好気性生物処理装置２に導入する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機系排水又はその凝集・沈殿処理水を生物処理して無機系生物処理水を得る無機系排水用生物処理装置と、
有機系排水を生物処理して有機系生物処理水を得る有機系排水用生物処理装置と、
該無機系生物処理水及び有機系生物処理水が流入する合流槽と
を備える排水処理装置において、
該無機系排水用生物処理装置を迂回するバイパスラインと、
無機系排水又はその凝集・沈殿処理水中の有機物濃度が所定値以下の場合に、無機系排水又はその凝集・沈殿処理水を該バイパスラインに流すように制御する制御手段と
を備えたことを特徴とする排水処理装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記無機系排水又はその凝集・沈殿処理水の有機物濃度が合流槽の有機物濃度以下である場合に無機系排水を前記バイパスラインに流すように制御することを特徴とする請求項１の排水処理装置。
【請求項３】
前記有機物濃度がＴＯＣ濃度であることを特徴とする請求項２の排水処理装置。
【請求項４】
前記無機系生物処理装置が、流動床型好気性生物処理装置であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかの排水処理装置。
【請求項５】
前記無機系排水用生物処理装置の前段に固液分離装置が設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかの排水処理装置。
【請求項６】
前記有機系排水用生物処理装置が、硝化・脱窒装置であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかの排水処理装置。
【請求項７】
前記有機系排水用生物処理装置の後段かつ前記合流槽の前段に固液分離装置が設置されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかの排水処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無機系排水と有機系排水とを処理する排水処理装置に関する。詳しくは、本発明は、電子部品等の製造工程等からの排水の処理に好適な排水処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子部品の製造工場では、各製造工程から各種水質の排水が排出される。通常は、主に無機系排水と有機系排水とが異なる水槽に貯留され、それぞれ処理される場合と、無機系排水と有機系排水をそれぞれ処理したのち合流混合した後、一系統で処理することもある。この合流槽からの処理では、有機系排水の処理水に多く含まれるＴＯＣなどの影響を大きく受ける。無機系排水中のＴＯＣ濃度は有機系排水に比べ希薄である。この無機系排水についても生物処理等によりＴＯＣを除去していることがあり、除去すべきＴＯＣが少ない場合であっても生物処理（曝気）を稼働させていたため、運転コストがかかっている。
【０００３】
特許文献１には、各工程からの排水を水質に応じて分別し、分別した排水を水質の似たもの同士でまとめ、各まとめた排水をそれぞれの水質に応じて処理することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−１７３９５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、排水の水質に応じた分別が不要であり、また処理の過不足なく効率よく排水を処理することができる排水処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は次を要旨とする。
【０００７】
［１］  無機系排水又はその凝集・沈殿処理水を生物処理して無機系生物処理水を得る無機系排水用生物処理装置と、有機系排水を生物処理して有機系生物処理水を得る有機系排水用生物処理装置と、該無機系生物処理水及び有機系生物処理水が流入する合流槽と
を備える排水処理装置において、該無機系排水用生物処理装置を迂回するバイパスラインと、無機系排水又はその凝集・沈殿処理水中の有機物濃度が所定値以下の場合に、無機系排水又はその凝集・沈殿処理水を該バイパスラインに流すように制御する制御手段とを備えたことを特徴とする排水処理装置。
【０００８】
［２］  前記制御手段は、前記無機系排水又はその凝集・沈殿処理水の有機物濃度が合流槽の有機物濃度以下である場合に無機系排水を前記バイパスラインに流すように制御することを特徴とする［１］の排水処理装置。
【０００９】
［３］  前記有機物濃度がＴＯＣ濃度であることを特徴とする［２］の排水処理装置。
【００１０】
［４］  前記無機系生物処理装置が、流動床型好気性生物処理装置であることを特徴とする［１］〜［３］のいずれかの排水処理装置。
【００１１】
［５］  前記無機系排水用生物処理装置の前段に固液分離装置が設けられていることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの排水処理装置。
【００１２】
［６］  前記有機系排水用生物処理装置が、硝化・脱窒装置であることを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの排水処理装置。
【００１３】
［７］  前記有機系排水用生物処理装置の後段かつ前記合流槽の前段に固液分離装置が設置されていることを特徴とする［１］〜［６］のいずれかの排水処理装置。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の排水処理装置によると、無機系排水の有機物濃度に応じて、生物処理（流動床式担体）など曝気動力で運転コストがかかる部分をバイパスする制御を行うことで、排水処理全体の運転コスト低減が可能になる。
【００１５】
また、有機物濃度が低い生物処理水を混合することで、合流後の有機物負荷を低減し、安定な運転が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】実施の形態に係る排水処理装置のフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図面を参照して実施の形態について説明する。
【００１８】
この排水処理装置は、電子部品の製造工程等から生じた無機系排水と有機系排水とを処理するためのものである。
【００１９】
この実施の形態では、無機系排水とは、ＴＯＣ濃度が３０ｐｐｍ未満特に２０ｐｐｍ以下のものである。
【００２０】
電子部品が液晶等の場合は、ＴＯＣ成分は酢酸などの有機酸や希薄なアミン等であることが多い。無機成分としては、リン酸やフッ素などが例示される。有機系排水は、ＴＯＣ濃度が３０ｐｐｍ以上であり、通常は８０ｐｐｍ以上特に１００ｐｐｍ以上である。
【００２１】
電子部品が液晶等の場合は、ＴＯＣ成分はエッチングプロセス等で排出される有機物が主体であり、例えば剥離液等で使用されるアミン、エーテル系の薬剤が主体となる。有機系排水には、無機成分も微量に存在する。
【００２２】
図１の通り、無機系排水は、凝集・沈殿装置１で凝集及び沈殿処理された後、流動床型好気性生物処理装置２（又は後述のバイパスライン４）を経て合流槽５へ送られる。
【００２３】
流動床型好気性生物処理装置２を迂回するようにバイパスライン４が設けられており、凝集沈殿処理水を流動床型好気性生物処理装置２又はバイパスライン４に択一的に流すように切替弁３が設けられている。
【００２４】
有機系排水は、硝化・脱窒装置６で硝化及び脱窒処理された後、沈殿槽７で沈殿処理され、次いで前記合流槽５へ送られる。
【００２５】
合流槽５内の水は、後段処理装置８で処理され、処理水となる。この後段処理装置としては、加圧浮上装置のほか、重力濾過した後、活性炭濾過し、次いでＲＯ処理するもの等が例示されるが、これに限定されない。
【００２６】
凝集・沈殿処理水のＴＯＣ濃度を測定するようにＴＯＣセンサ（図示略）が設けられると共に、合流槽５にＴＯＣセンサ１０が設置されており、これらの検出信号が制御装置１１に入力され、該制御装置１１が切替弁３を制御する。
【００２７】
この実施の形態では、凝集・沈殿処理水のＴＯＣ濃度が所定濃度Ａよりも低い場合は、凝集・沈殿装置１からの凝集沈殿処理水をバイパスライン４に流し、Ａよりも高い場合には凝集沈殿処理水を流動床型好気性生物処理装置２に導入するように切替弁３が制御される。本発明の一態様では、所定濃度Ａは合流槽５のＴＯＣ濃度又はその±５０％の範囲に設定されてもよい。
【００２８】
このように構成された排水処理装置によると無機系排水中のＴＯＣ濃度が所定濃度Ａよりも低い場合には、凝集沈殿処理水が、流動床型好気性生物処理装置２で生物処理されることなくバイパスライン４を介して直接的に合流槽５へ流入するので、流動床型好気性生物処理装置２での曝気動力コストを節減することができる。なお、ＴＯＣ濃度の低い無機系排水処理水が合流槽５において有機系排水処理水に合流され、合流槽５内の水のＴＯＣ濃度が低下するので、後段処理の負荷が低下し、処理が安定して行われるようになる。
【００２９】
上記実施の形態ではバイパスライン４は流動床型好気性生物処理装置２を迂回するように設けられているが凝集・沈殿装置１を迂回するように設けられてもよい。この場合、無機系排水のＴＯＣ濃度が低い場合に無機系排水を凝集装置１をバイパスさせる。
【００３０】
本発明では、合流槽５内のＴＯＣ濃度が所定値よりも低い場合、前記バイパスを行わず、凝集・沈殿装置１での凝集剤やポリマー凝結剤の添加量を減少させるような制御を行ってもよく、また、流動床型好気性生物処理装置２でｐＨや曝気量を調整する運転を行ってもよい。この所定値は、３〜１０ｐｐｍ特に４〜８ｐｐｍの間から選定された値、例えば５ｐｐｍに設定される。ＴＯＣ低減工程での負荷を低下させる運転を行ってもよい。
【符号の説明】
【００３１】
１  凝集・沈殿装置
４  バイパスライン
５  合流槽
６  硝化・脱窒装置
【図１】
2020146670.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月25日(2019.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
この実施の形態では、凝集・沈殿処理水のＴＯＣ濃度が所定濃度Ａよりも低い場合は、凝集・沈殿装置１からの凝集沈殿処理水をバイパスライン４に流し、Ａよりも高い場合には凝集沈殿処理水を流動床型好気性生物処理装置２に導入するように切替弁３が制御される。本発明の一態様では、所定濃度Ａは合流槽５のＴＯＣ濃度又はその＋５０％の範囲に設定されてもよい。