(57)【要約】【課題】溜められた液体に吸引力が作用する場合であっても、液体を自重により排出することができる排液タンク及び工作機械を提供する。【解決手段】排液タンク２０は、ワークＷを吸着する多孔質パッドユニット１２と真空室Ｓｐを真空とする真空源１６との間の流路に設けられ、真空室Ｓｐからの空気とクーラント液Ｃｌｔが混じる混合流体Ｍｘに含まれるクーラント液Ｃｌｔを溜める。排液タンク２０は、真空室Ｓｐに流路管１９ｅを介して接続され、真空室Ｓｐから混合流体Ｍｘが流入する流入口２０ｉと、真空源１６に流路管１９ｄを介して接続され、真空源１６が動作することにより排液タンク２０内の空気が流出する流出口２０ｏと、流入口２０ｉ及び流出口２０ｏよりも下方向に位置し、排液タンク２０に溜められたクーラント液Ｃｌｔを排出する排液口２０ａと、を備える。排液タンク２０は、上方向に向かうにつれてサイズが小さくなる中空状に形成されている。【選択図】図１
2020146816.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを吸着する多孔質パッドユニットと前記多孔質パッドユニットの真空室を真空とする真空源との間の流路に設けられ、前記真空室からの気体と液体が混じる混合流体に含まれる前記液体を溜める排液タンクであって、
前記真空室に第１流路管を介して接続され、前記真空室から前記混合流体が流入する流入口と、
前記真空源に第２流路管を介して接続され、前記真空源が動作することにより前記排液タンク内の前記気体が流出する流出口と、
前記流入口及び前記流出口よりも重力方向に沿う下方向に位置し、前記排液タンクに溜められた前記液体を排出する排液口と、を備え、
前記排液タンクは、上方向に向かうにつれてサイズが小さくなる中空状に形成されている、
排液タンク。
【請求項２】
前記排液口に設けられ、前記真空源が動作することにより前記排液タンク内の前記液体に作用する吸引力から前記排液タンク内の前記液体の重さを差し引いた差分値が閾値未満となったときに前記排液タンク内の前記液体を外部に排出するように開くバルブを備える、
請求項１に記載の排液タンク。
【請求項３】
前記液体は、加工中の前記ワークに供給されるクーラント液であり、
前記バルブは、開いたときに前記排液タンク内の前記クーラント液をクーラント液タンクに排出する、
請求項２に記載の排液タンク。
【請求項４】
前記排液タンクは、
大径部と、
前記大径部よりも小さい径で形成され、前記大径部よりも前記上方向に位置する小径部と、を備える、
請求項１から３のいずれか１項に記載の排液タンク。
【請求項５】
前記排液タンクは、
前記大径部及び前記小径部の間に位置し、前記大径部から前記小径部に近づくにつれて径が小さくなるように形成されるテーパ部を備える、
請求項４に記載の排液タンク。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の排液タンクと、
前記多孔質パッドユニットと、
前記多孔質パッドユニットに吸着された前記ワークを加工する加工部と、
前記排液タンクの前記排液口から排出された前記液体であるクーラント液を溜めるクーラント液タンクを有し、加工中の前記ワークに前記クーラント液タンクに溜められた前記クーラント液を供給するクーラント液供給システムと、
前記真空源と、を備え、
前記排液タンクに溜められた前記クーラント液は、前記クーラント液の液面が規定高さ以上となったとき、前記真空源の動作により作用する吸引力に抗して自重により前記排液口を介して前記クーラント液タンクに排出される、
工作機械。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、排液タンク及び工作機械に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、真空により被加工物をチャックテーブルに吸着した状態でワークを加工する加工装置が知られている。例えば、特許文献１に記載の加工装置は、被加工物を吸着するチャックテーブルと、チャックテーブルに吸着された被加工物に加工液を供給しながら加工する加工手段と、被加工物をチャックテーブルに吸引する吸引手段と、チャックテーブルと吸引手段の間の吸引路に設けられる気液分離手段と、を備える。気液分離手段は、吸引されるエアに含まれる加工液を溜めるタンクである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−２３３７９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１に記載の気液分離手段であるタンク内は吸引手段により負圧となる。よって、タンク内の加工液には重力方向に対向する反重力方向に持ち上げる吸引力が作用する。この吸引力が作用するため、タンク内の加工液をその自重によって外部に排出することが困難となっていた。
【０００５】
本発明は、上記実状を鑑みてなされたものであり、溜められた液体に吸引力が作用する場合であっても、液体を自重により排出することができる排液タンク及び工作機械を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明の第１の観点に係る排液タンクは、ワークを吸着する多孔質パッドユニットと前記多孔質パッドユニットの真空室を真空とする真空源との間の流路に設けられ、前記真空室からの気体と液体が混じる混合流体に含まれる前記液体を溜める排液タンクであって、前記真空室に第１流路管を介して接続され、前記真空室から前記混合流体が流入する流入口と、前記真空源に第２流路管を介して接続され、前記真空源が動作することにより前記排液タンク内の前記気体が流出する流出口と、前記流入口及び前記流出口よりも重力方向に沿う下方向に位置し、前記排液タンクに溜められた前記液体を排出する排液口と、を備え、前記排液タンクは、上方向に向かうにつれてサイズが小さくなる中空状に形成されている。
【０００７】
また、前記排液タンクは、前記排液口に設けられ、前記真空源が動作することにより前記排液タンク内の前記液体に作用する吸引力から前記排液タンク内の前記液体の重さを差し引いた差分値が閾値未満となったときに前記排液タンク内の前記液体を外部に排出するように開くバルブを備える、ようにしてもよい。
【０００８】
また、前記液体は、加工中の前記ワークに供給されるクーラント液であり、前記バルブは、開いたときに前記排液タンク内の前記クーラント液をクーラント液タンクに排出する、ようにしてもよい。
【０００９】
また、前記排液タンクは、大径部と、前記大径部よりも小さい径で形成され、前記大径部よりも前記上方向に位置する小径部と、を備える、ようにしてもよい。
【００１０】
また、前記排液タンクは、前記大径部及び前記小径部の間に位置し、前記大径部から前記小径部に近づくにつれて径が小さくなるように形成されるテーパ部を備える、ようにしてもよい。
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明の第２の観点に係る工作機械は、前記排液タンクと、前記多孔質パッドユニットと、前記多孔質パッドユニットに吸着された前記ワークを加工する加工部と、前記排液タンクの前記排液口から排出された前記液体であるクーラント液を溜めるクーラント液タンクを有し、加工中の前記ワークに前記クーラント液タンクに溜められた前記クーラント液を供給するクーラント液供給システムと、前記真空源と、を備え、前記排液タンクに溜められた前記クーラント液は、前記クーラント液の液面が規定高さ以上となったとき、前記真空源の動作により作用する吸引力に抗して自重により前記排液口を介して前記クーラント液タンクに排出される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、排液タンク及び工作機械において、溜められた液体に吸引力が作用する場合であっても、液体を自重により排出することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施形態に係る工作機械の概略図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る排液タンクの概略図である。
【図３】本発明の変形例に係る排液タンクの概略図である。
【図４】本発明の変形例に係る排液タンクの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明に係る排液タンク及び工作機械の一実施形態について図面を参照して説明する。
図１に示すように、工作機械１は、真空チャック装置１０と、加工部４０と、クーラント液供給システム５０と、を備える。
加工部４０は、真空チャック装置１０に固定されたワークＷを切削又は研磨する工具４１を備える。
【００１５】
クーラント液供給システム５０は、ノズル５１と、クーラント液タンク５２と、ポンプ５３と、流路管１９ａ，１９ｂと、を備える。
クーラント液タンク５２にはクーラント液Ｃｌｔが溜められる。クーラント液Ｃｌｔは例えば切削油である。クーラント液タンク５２は、後述する排液タンク２０に流路管１９ａを介して接続され、ノズル５１に流路管１９ｂを介して接続されている。
ポンプ５３は、流路管１９ｂに設けられており、クーラント液タンク５２内のクーラント液Ｃｌｔをノズル５１に供給する。
ノズル５１は、真空チャック装置１０に固定されたワークＷに対向して位置し、加工中のワークＷにクーラント液Ｃｌｔを供給する。
ワークＷは、例えば、太陽電池パネル、半導体パネル、液晶パネル、プリント基板、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）パネル、ガラス板又はポリマー等のフィルムである。
【００１６】
図１に示すように、真空チャック装置１０は、多孔質パッドユニット１２と、真空源１６と、排液タンク２０と、流路管１９ｄ，１９ｅと、を備える。多孔質パッドユニット１２は、多孔質パッド１１と、ケース部１３と、を備える。真空源１６は、エア供給部１４と、エジェクタ１５と、を備える。
【００１７】
ケース部１３は、例えば、金属により形成され、上方向に開口した箱状をなす。
多孔質パッド１１は、長方形の板状に形成され、流体を通過させる通気性及び通水性を有するセラミックである。多孔質パッド１１は、ケース部１３の開口部を塞ぐように位置する。多孔質パッド１１によりケース部１３内の真空室Ｓｐが閉じられる。真空室Ｓｐは、流路管１９ｅを介して、排液タンク２０の後述する流入口２０ｉに接続される。真空室Ｓｐが負圧とされることにより、ワークＷが多孔質パッド１１の上面である設置面１１ｃに吸着される。
多孔質パッド１１は、例えば、アルミナ又は炭化ケイ素等の無機質材料の粉粒体からなる骨材とその骨材相互を結合するための結合材、例えば、ビトリファイドボンド、レジノイド、セメント、ゴム及びガラス等の混合材料を成型金型に投入して焼結することで形成される。多孔質パッド１１は、微細気孔が多数形成された多孔質構造となっている。多孔質パッド１１の気孔率（気孔密度）は、骨材と結合材の混合割合により調整することができる。また、気孔の平均孔径は、骨材の粒度を選定することにより調整することができる。多孔質パッド１１は、連なった微細気孔を介して気体又は液体を通過させることができる通気性及び通水性を有する。
【００１８】
エア供給部１４は圧縮エアをエジェクタ１５に供給する。
エジェクタ１５は、エア供給部１４からの圧縮エアを受けて、流路管１９ｄ，１９ｅを介して、排液タンク２０の内部空間と真空室Ｓｐを負圧とする。真空室Ｓｐが真空となることにより、ワークＷは設置面１１ｃに吸着する。
【００１９】
図２に示すように、排液タンク２０は、多孔質パッドユニット１２と真空源１６の間の流路に設けられ、真空室Ｓｐからの混合流体Ｍｘに含まれるクーラント液Ｃｌｔを溜める。
排液タンク２０は、流入口２０ｉと、流出口２０ｏと、排液口２０ａと、バルブ２０ｂと、を備える。
流入口２０ｉ及び流出口２０ｏは排液タンク２０の上端面に位置する。流入口２０ｉは流路管１９ｅを介して真空室Ｓｐに接続されている。流入口２０ｉは、真空室Ｓｐから排液タンク２０内に混合流体Ｍｘを吸入するために設けられる。
流出口２０ｏは流路管１９ｄを介して真空源１６に接続されている。流出口２０ｏは、排液タンク２０内の空気Ａｒを真空源１６に排出するために設けられる。
排液口２０ａは排液タンク２０の側周面の下部に位置している。すなわち、排液口２０ａは、流入口２０ｉ及び流出口２０ｏよりも重力方向に沿う下方向に位置している。排液口２０ａは流路管１９ａを介してクーラント液タンク５２に接続されている。排液口２０ａは上向きに形成されている。これにより、バルブ２０ｂが開いたときにクーラント液タンク５２内の空気が排液タンク２０内に進入し、排液タンク２０内の圧力が低下することが抑制される。
【００２０】
バルブ２０ｂは、排液口２０ａに設けられる。バルブ２０ｂは、排液口２０ａからクーラント液タンク５２へのクーラント液Ｃｌｔの流れを調整し、クーラント液タンク５２から排液口２０ａへのクーラント液Ｃｌｔの逆流を抑制する逆止弁である。バルブ２０ｂは排液タンク２０内のクーラント液タンク５２から正圧を受けると開く。バルブ２０ｂが開くと、排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔは流路管１９ａを介してクーラント液タンク５２に供給される。
詳しくは、バルブ２０ｂは上方向に向けて開く弁部材２０ｃを備える。バルブ２０ｂがスイング式逆止弁の場合には、弁部材２０ｃの端部を中心に回転可能に構成される。弁部材２０ｃが端部を中心に上方向に回転したときに排液タンク２０からクーラント液タンク５２にクーラント液Ｃｌｔが流通可能となるようにバルブ２０ｂが開き、弁部材２０ｃが端部を中心に下方向に回転したときに排液タンク２０からクーラント液タンク５２にクーラント液Ｃｌｔの流通が制限されるようにバルブ２０ｂが閉じる。
バルブ２０ｂは、スイング式逆止弁に限らず、例えば、スプリングディスク式逆止弁又はゴム等の弾性部材からなるダックヒルバルブ等であってもよい。
【００２１】
排液タンク２０は、上方向に向かうにつれてサイズが小さくなる中空の円柱状に形成されている。詳しくは、排液タンク２０は、大径部２３と、小径部２１と、テーパ部２２と、を備える。
大径部２３は排液タンク２０の下部に位置し、小径部２１は排液タンク２０の上部に位置し、テーパ部２２は大径部２３と小径部２１の間に位置する。大径部２３は小径部２１よりも大きい径を有する。テーパ部２２は、大径部２３から小径部２１をつなぐように小径部２１に近づくにつれて径が小さくなる。
【００２２】
排液タンク２０の径が小さくなるにつれて、クーラント液Ｃｌｔの液面の面積が小さくなる。真空源１６により排液タンク２０内の空気Ａｒが吸引されると、クーラント液Ｃｌｔにはクーラント液Ｃｌｔの液面の面積に応じた吸引力Ｆｖが作用する。よって、クーラント液Ｃｌｔの液面が小径部２１に位置しているとき、クーラント液Ｃｌｔの液面が大径部２３に位置しているときに比べて、クーラント液Ｃｌｔの液面の面積が小さくなるため吸引力Ｆｖが小さくなる。また、排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔの量が増えるにつれて、クーラント液Ｃｌｔの重さＦは大きくなる。クーラント液Ｃｌｔの重さＦは、吸引力Ｆｖとは反対方向に作用する。重さＦに対して吸引力Ｆｖが小さくなると、例えば、吸引力Ｆｖから重さＦを差し引いた差分値Ｆｖ−Ｆが負となると、バルブ２０ｂには正圧が加わり、バルブ２０ｂが開く。これにより、排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔはクーラント液タンク５２に供給される。
【００２３】
次に、工作機械１の使用方法について説明する。
まず、図１に示すように、図示しない作業者又は搬送装置により、ワークＷが多孔質パッド１１の設置面１１ｃに設置される。そして、真空源１６が動作することにより、排液タンク２０の内部空間と真空室Ｓｐが真空となる。これにより、ワークＷが設置面１１ｃに吸着される。吸着されたワークＷは加工部４０により加工される。この加工と同時に、ポンプ５３が動作し、クーラント液タンク５２内のクーラント液Ｃｌｔがノズル５１から吐出される。このため、加工中のワークＷにはクーラント液Ｃｌｔが供給される。この際、真空源１６が動作しているため、クーラント液Ｃｌｔと空気が混合した混合流体Ｍｘは、多孔質パッド１１、真空室Ｓｐ、流路管１９ｅ及び流入口２０ｉを経て、排液タンク２０内に流入する。排液タンク２０内の混合流体Ｍｘのうちクーラント液Ｃｌｔは排液タンク２０内に溜められ、排液タンク２０内の混合流体Ｍｘのうち空気Ａｒは流出口２０ｏ及び流路管１９ｄを経て真空源１６により吸引される。このように、排液タンク２０により混合流体Ｍｘからクーラント液Ｃｌｔが除去されるため、クーラント液Ｃｌｔが真空源１６に入り込むことが抑制される。このため、真空源１６の故障を抑制することができる。
【００２４】
排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔの液面が規定高さＴｈ以上となり、差分値Ｆｖ−Ｆが負となると、バルブ２０ｂが開く。バルブ２０ｂが開くと、排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔが流路管１９ａを介してクーラント液タンク５２に供給される。これにより、排液タンク２０内の液面が規定高さＴｈ未満まで下がると、バルブ２０ｂが閉じる。バルブ２０ｂが閉じると、排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔの液面が上昇する。
このように、真空源１６が動作している期間においては、クーラント液Ｃｌｔの液面は規定高さＴｈに維持される。よって、排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔが満タン状態となることが抑制され、クーラント液タンク５２からクーラント液Ｃｌｔがなくなることが抑制される。規定高さＴｈは、図２の例では、小径部２１とテーパ部２２の境界線に位置していたが、小径部２１とテーパ部２２の何れの位置に存在していてもよい。
ワークＷの加工が完了すると、真空源１６とポンプ５３の動作が停止される。
【００２５】
（シミュレーション結果）
次に、真空チャック装置１０において各種数値を設定した場合のシミュレーション結果について説明する。
排液タンク２０において、大径部２３の直径Ｄ３は２５０ｍｍに設定され、小径部２１の直径Ｄ１は４０ｍｍに設定される。また、大径部２３の基準高さＨ０からの高さＨ３は４００ｍｍに設定され、テーパ部２２の高さＨ２は５０ｍｍに設定され、小径部２１の高さＨ１は５０ｍｍに設定される。基準高さＨ０は、真空源１６の動作が停止されて、排液タンク２０内が大気圧となったときの排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔの液面の高さに設定される。クーラント液Ｃｌｔの密度は、１ｇ／ｃｍ３に設定され、真空源１６の動作中の排液タンク２０内の圧力は−１００ｋＰａに設定される。
上記のような条件のもと、クーラント液Ｃｌｔの液面高さＺ、吸引力Ｆｖ、クーラント液Ｃｌｔの重さＦ、差分値Ｆｖ−Ｆ及びクーラント液Ｃｌｔの液面面積Ａは以下の表１に示される。なお、クーラント液Ｃｌｔの重さＦは、基準高さＨ０以下のクーラント液Ｃｌｔの重さを含まない。
【００２６】
【表１】
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【００２７】
上記表１に示すように、液面高さＺが０ｍｍの場合、クーラント液Ｃｌｔの重さＦは０ｋｇとなり、吸引力Ｆｖは約５００ｋｇとなる。よって、差分値Ｆｖ−Ｆは正の値をとり、バルブ２０ｂは閉じた状態となる。液面高さＺが４００ｍｍ以下では、言い換えると、液面が大径部２３に位置する場合では、液面高さＺが増加するにつれて、クーラント液Ｃｌｔの重さＦが増加するものの、液面面積Ａが変わらないため、吸引力Ｆｖは約５００ｋｇに維持される。よって、差分値Ｆｖ−Ｆは、クーラント液Ｃｌｔの重さＦの増加分だけ僅かに減少するが、正の値を維持する。液面高さＺが４００ｍｍを超えると、言い換えると、液面がテーパ部２２に到達すると、液面高さＺが増加するにつれて、クーラント液Ｃｌｔの重さＦが増加しつつ、液面面積Ａも減少するため、吸引力Ｆｖも減少する。よって、差分値Ｆｖ−Ｆは大きく減少する。
具体的には、液面高さＺが４００ｍｍでは吸引力Ｆｖは５００．６ｋｇ、差分値Ｆｖ−Ｆは４８０．９ｋｇ、液面高さＺが４２０ｍｍでは吸引力Ｆｖは２２０．７ｋｇ、差分値Ｆｖ−Ｆは２００．４ｋｇ、液面高さＺが４４０ｍｍでは吸引力Ｆｖは５３．９ｋｇ、差分値Ｆｖ−Ｆは３３．３ｋｇとなる。液面高さＺが４６０ｍｍでは吸引力Ｆｖは１２．８ｋｇ、差分値Ｆｖ−Ｆは−７．８ｋｇとなる。このように、液面高さＺが約４５０ｍｍに到達すると差分値Ｆｖ−Ｆは負の値をとり、バルブ２０ｂが開く。これにより、排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔがクーラント液タンク５２に供給される。
上記表１では、液面高さＺが４６０ｍｍ以降の各値について記載されているが、実際には、バルブ２０ｂの開閉を通じて、液面高さＺが約４５０ｍｍに維持される。すなわち、このシミュレーションでは、基準高さＴｈは、約４５０ｍｍである。
【００２８】
（効果）
以上、説明した一実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）排液タンク２０は、ワークＷを吸着する多孔質パッドユニット１２と多孔質パッドユニット１２の真空室Ｓｐを真空とする真空源１６との間の流路に設けられ、真空室Ｓｐからの気体である空気と液体であるクーラント液Ｃｌｔが混じる混合流体Ｍｘに含まれるクーラント液Ｃｌｔを溜める。排液タンク２０は、真空室Ｓｐに第１流路管の一例である流路管１９ｅを介して接続され、真空室Ｓｐから混合流体Ｍｘが流入する流入口２０ｉと、真空源１６に第２流路管の一例である流路管１９ｄを介して接続され、真空源１６が動作することにより排液タンク２０内の空気が流出する流出口２０ｏと、流入口２０ｉ及び流出口２０ｏよりも重力方向に沿う下方向に位置し、排液タンク２０に溜められたクーラント液Ｃｌｔを排出する排液口２０ａと、を備える。排液タンク２０は、上方向に向かうにつれてサイズが小さくなる中空状に形成されている。
この構成によれば、クーラント液Ｃｌｔの液面が高くなるにつれてクーラント液Ｃｌｔに作用する吸引力Ｆｖが小さくなる。よって、溜められたクーラント液Ｃｌｔに吸引力Ｆｖが作用する場合であっても、クーラント液Ｃｌｔの重さＦ、すなわち自重により、クーラント液Ｃｌｔは排液口２０ａを介して外部に排出される。よって、排液タンク２０内がクーラント液Ｃｌｔで満たされて、クーラント液Ｃｌｔが真空源１６に流れることが抑制される。これにより、真空源１６の故障が抑制される。
【００２９】
（２）排液タンク２０は、排液口２０ａに設けられ、真空源１６が動作することにより排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔに作用する吸引力Ｆｖから排液タンク２０内の液体の重さＦを差し引いた差分値Ｆｖ−Ｆが閾値未満、例えば負の値となったときに排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔが外部に流出するように開くバルブ２０ｂを備える。
この構成によれば、排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔの液面が規定高さＴｈ以上となり、差分値Ｆｖ−Ｆが負の値となると、バルブ２０ｂが開く。バルブ２０ｂが開くと、排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔが外部に排出される。これにより、排液タンク２０内の液面が規定高さＴｈ未満まで下がると、バルブ２０ｂが閉じる。バルブ２０ｂが閉じると、排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔの液面が上昇する。このように、クーラント液Ｃｌｔの液面は規定高さＴｈに維持される。
【００３０】
（３）クーラント液Ｃｌｔは、加工中のワークＷに供給される。バルブ２０ｂは、開いたときに排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔをクーラント液タンク５２に排出する。
この構成によれば、無電力かつ自動で、排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔをクーラント液タンク５２に供給することができる。よって、ポンプや手作業で、排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔをクーラント液タンク５２に移し替える必要がない。
【００３１】
（４）排液タンク２０は、大径部２３と、大径部２３よりも小さい径で形成され、大径部２３よりも上方向に位置する小径部２１と、を備える。
この構成によれば、クーラント液Ｃｌｔの液面が小径部２１に到達したときに吸引力Ｆｖが小さくなり、クーラント液Ｃｌｔの重さＦにより、クーラント液Ｃｌｔは排液口２０ａを介して外部に排出される。
一方、吸引力Ｆｖを小さく保つために、小径部２１と同一径の中空の円柱状に排液タンクを形成することも考えられる。しかしながら、この場合には、排液タンクの容量を確保するためには排液タンクが上下方向に長くなる。このため、コンパクトに構成することが困難である。この点、本実施形態では、排液タンク２０は大径部２３を有しているため、排液タンク２０を上下方向にコンパクトに構成しつつ、排液タンク２０の容量を確保することができる。
【００３２】
（５）排液タンク２０は、大径部２３及び小径部２１の間に位置し、大径部２３から小径部２１に近づくにつれて径が小さくなるように形成されるテーパ部２２を備える。
この構成によれば、テーパ部２２により吸引力Ｆｖの急激な変化を抑制することができる。
【００３３】
（６）工作機械１は、排液タンク２０と、多孔質パッドユニット１２と、多孔質パッドユニット１２に吸着されたワークＷを加工する加工部４０と、排液タンク２０の排液口２０ａから排出された液体であるクーラント液Ｃｌｔを溜めるクーラント液タンク５２を有し、加工中のワークＷにクーラント液タンク５２に溜められたクーラント液Ｃｌｔを供給するクーラント液供給システム５０と、真空源１６と、を備える。排液タンク２０に溜められたクーラント液Ｃｌｔは、液面が規定高さＴｈ以上となったとき、真空源１６の動作により作用する吸引力Ｆｖに抗して自重（重さＦ）により排液口２０ａを介してクーラント液タンク５２に排出される。
この構成によれば、工作機械１において、ポンプや手作業で、排液タンク２０内のクーラント液Ｃｌｔをクーラント液タンク５２に移し替える必要がない。
【００３４】
なお、本発明は以上の実施形態及び図面によって限定されるものではない。本発明の要旨を変更しない範囲で、適宜、変更（構成要素の削除も含む）を加えることが可能である。以下に、変形の一例を説明する。
【００３５】
（変形例）
上記実施形態においては、排液タンク２０は、テーパ部２２を備えていたが、図３に示すように、テーパ部２２は省略され、大径部２３及び小径部２１のみを備えていてもよい。また、図４に示すように、排液タンク２０はテーパ部２２のみを備えていてもよい。
【００３６】
上記実施形態においては、真空源１６は、エア供給部１４及びエジェクタ１５を備えていたが、これに限らず、真空ポンプであってもよい。
【００３７】
上記実施形態においては、排液タンク２０は、上方向に向かうにつれて径が小さくなる中空の円柱状に形成されていたが、これに限らず、上方向に向かうにつれてサイズが小さくなる中空の角柱状に形成されてもよい。
【００３８】
上記実施形態においては、液体はクーラント液Ｃｌｔであったが、クーラント液Ｃｌｔ以外の液体であってもよい。また、気体は空気であったが、空気以外の気体であってもよい。さらに、加工部４０は省略されてもよい。
【符号の説明】
【００３９】
１  工作機械
１０  真空チャック装置
１１  多孔質パッド
１１ｃ  設置面
１２  多孔質パッドユニット
１３  ケース部
１６  真空源
１９ａ，１９ｂ，１９ｄ，１９ｅ  流路管
２０  排液タンク
２０ａ  排液口
２０ｂ  バルブ
２０ｉ  流入口
２０ｏ  流出口
２１  小径部
２２  テーパ部
２３  大径部
４０  加工部
５０  クーラント液供給システム
５１  ノズル
５２  クーラント液タンク
５３  ポンプ
Ａ  液面面積
Ｗ  ワーク
Ａｒ  空気
Ｆｖ  吸引力
Ｆｖ−Ｆ  差分値
Ｓｐ  真空室
Ｍｘ  混合流体
Ｃｌｔ  クーラント液
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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