(57)【要約】【課題】非引火性で安全性が高く、かつ水溶性汚れのほか、乾固した汚れをも除去できる洗浄性を有する非引火性洗浄液組成物およびこれを用いる洗浄システムを提供する。【解決手段】非引火性洗浄液組成物は、常圧下での沸点が１２０〜２７５℃であるグリコールエーテル類を含む溶剤と、洗浄液組成物総量に対して５〜４０体積％の水とを含む。この非引火性洗浄液組成物を洗浄液として用いる洗浄システムは、ワーク４の洗浄工程および乾燥工程と、洗浄後の洗浄液を蒸留再生する再生工程と、を含む。【選択図】図１
2020070310.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
常圧下での沸点が１２０〜２７５℃であるグリコールエーテル類を含む溶剤と、洗浄液組成物総量に対して５〜４０体積％の水とを含む非引火性洗浄液組成物。
【請求項２】
前記グリコールエーテル類は、常圧下での沸点が１３５〜２３０℃である請求項１に記載の非引火性洗浄液組成物。
【請求項３】
前記グリコールエーテル類が、下記一般式（Ｉ）で示されるプロピレングリコール類および下記一般式（ＩＩ）で示されるエチレングリコール類から選ばれる１種または２種以上である請求項１または２に記載の非引火性洗浄液組成物。
一般式（Ｉ）：  Ｒ1Ｏ（Ｃ3Ｈ6Ｏ）nＲ2
一般式（ＩＩ）：Ｒ1Ｏ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）mＲ2
（各式中、Ｒ1は直鎖状もしくは分枝したアルキル基、アシル基またはフェニル基を表し、Ｒ2は水素原子、直鎖状もしくは分枝したアルキル基、アシル基またはフェニル基を表し、ｎおよびｍは１〜３の整数を表す。）
【請求項４】
前記溶剤が、さらに疎水性溶剤を含む請求項１〜３のいずれかに記載の非引火性洗浄液組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の非引火性洗浄液組成物を洗浄液として用いる被洗浄物の洗浄工程および乾燥工程と、洗浄後の洗浄液を蒸留再生する再生工程と、を含む洗浄システム。
【請求項６】
前記再生工程が、前記溶剤と水とを分離する低温蒸留工程と、分離された溶剤から汚れ成分を分離する高温蒸留工程と、汚れ成分を分離した溶剤と水とを調合して洗浄液を調合する調合工程と、を含む請求項５に記載の洗浄システム。
【請求項７】
前記高温蒸留工程で分離した溶剤を用いて前記乾燥工程ですすぎを行い、すすぎ後の溶剤を前記調合工程に送る請求項６に記載の洗浄システム。
【請求項８】
前記低温蒸留工程と高温蒸留工程との間に、溶剤から水分を除去するための脱気工程を含む請求項６または７に記載の洗浄システム。
【請求項９】
前記洗浄液を洗浄槽と蒸留再生システムとの間を循環させて、前記洗浄工程と再生工程とを連続的に行うと共に、前記乾燥工程は、溶剤を乾燥槽と蒸留機との間を循環させて、乾燥槽ですすぎを行った溶剤を蒸留して水分を除去する請求項５に記載の洗浄システム。
【請求項１０】
前記乾燥槽から前記蒸留機に向かう経路に、溶剤から水分を除去するための脱気装置を設けた請求項９に記載の洗浄システム。
【請求項１１】
前記乾燥工程で使用する前記溶剤が、請求項１〜４のいずれかに記載の非引火性洗浄液組成物における溶剤と同一または異なる請求項９または１０に記載の洗浄システム。
【請求項１２】
前記蒸留再生システムが、汚れ成分を洗浄液から分離する蒸留工程と、分離された洗浄液の蒸気を凝縮させる回収工程と、回収した洗浄液の水分量を調整するための調整工程と、を含む請求項９に記載の洗浄システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば各種機械部品等の加工品を洗浄するための非引火性洗浄液組成物およびこれを用いる洗浄システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
機械部品等の加工には種々の加工油が使用されるため、加工品を洗浄して加工油を除去する必要がある。従来使用されている洗浄液としては、アルコール系、炭化水素系などの引火性を有する洗浄液が知られているが、引火性のために安全上の問題がある。
【０００３】
一方、近時は、水溶性加工油を用いた金属加工も広く行われている。そのため、加工品に付着した、いわゆる水溶性汚れを除去するために、水性洗浄液が使用される。しかし、水性洗浄液は、界面活性剤等の不揮発成分を含有しているため、使用後の洗浄液を蒸留再生することができない。
【０００４】
特許文献１には、油溶性汚れや水溶性汚れを洗浄するための洗浄液組成物が記載されている。この洗浄液組成物は、特定のプロピレングリコール類とクレゾール類とからなる。
しかしながら、特許文献１に記載の洗浄液組成物は、引火性であり、かつ水溶性汚れ、特に止まり穴内の汚れや乾固した汚れを十分に除去できないという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２２１６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、非引火性であるため安全性が高く、かつ水溶性汚れのほか、止まり穴内の汚れや乾固した汚れをも除去できる洗浄性を有する非引火性洗浄液組成物およびこれを用いる洗浄システムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、以下の構成からなる解決手段を見出し、本発明を完成するに至った。
（１）常圧下での沸点が１２０〜２７５℃であるグリコールエーテル類を含む溶剤と、洗浄液組成物総量に対して５〜４０体積％の水とを含む非引火性洗浄液組成物。
（２）前記グリコールエーテル類は、常圧下での沸点が１３５〜２３０℃である（１）に記載の非引火性洗浄液組成物。
（３）前記グリコールエーテル類が、下記一般式（Ｉ）で示されるプロピレングリコール類および下記一般式（ＩＩ）で示されるエチレングリコール類から選ばれる１種または２種以上である（１）または（２）に記載の非引火性洗浄液組成物。
一般式（Ｉ）：  Ｒ1Ｏ（Ｃ3Ｈ6Ｏ）nＲ2
一般式（ＩＩ）：Ｒ1Ｏ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）mＲ2
（各式中、Ｒ1は直鎖状もしくは分枝したアルキル基、アシル基またはフェニル基を表し、Ｒ2は水素原子、直鎖状もしくは分枝したアルキル基、アシル基またはフェニル基を表し、ｎおよびｍは１〜３の整数を表す。）
（４）前記溶剤が、さらに疎水性溶剤を含む（１）〜（３）のいずれかに記載の非引火性洗浄液組成物。
（５）上記（１）〜（４）のいずれかに記載の非引火性洗浄液組成物を洗浄液として用いる被洗浄物の洗浄工程および乾燥工程と、洗浄後の洗浄液を蒸留再生する再生工程と、を含む洗浄システム。
（６）前記再生工程が、前記溶剤と水とを分離する低温蒸留工程と、分離された溶剤から汚れ成分を分離する高温蒸留工程と、汚れ成分を分離した溶剤と水とを調合して洗浄液を調合する調合工程と、を含む（５）に記載の洗浄システム。
（７）高温蒸留工程で分離した溶剤を用いて前記乾燥工程ですすぎを行い、すすぎ後の溶剤を前記調合工程に送る（６）に記載の洗浄システム。
（８）前記低温蒸留工程と高温蒸留工程との間に、溶剤から水分を除去するための脱気工程を含む（６）または（７）に記載の洗浄システム。
（９）前記洗浄液を洗浄槽と蒸留再生システムとの間を循環させて、前記洗浄工程と再生工程とを連続的に行うと共に、前記乾燥工程は、溶剤を乾燥槽と蒸留機との間を循環させて、乾燥槽ですすぎを行った溶剤を蒸留して水分を除去する（５）に記載の洗浄システム。
（１０）前記乾燥槽から前記蒸留機に向かう経路に、溶剤から水分を除去するための脱気装置を設けた（９）に記載の洗浄システム。
（１１）前記乾燥工程で使用する前記溶剤が、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の非引火性洗浄液組成物における溶剤と同一または異なる（９）または（１０）に記載の洗浄システム。
（１２）前記蒸留再生システムが、汚れ成分を洗浄液から分離する蒸留工程と、分離された洗浄液の蒸気を凝縮させる回収工程と、回収した洗浄液の水分量を調整するための調整工程と、を含む（９）に記載の洗浄システム。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の非引火性洗浄液組成物は、水より沸点が高いグリコールエーテル類を含む溶剤と水とを含むことにより、非引火性であるため安全性が高く、かつ水溶性汚れのほか、止まり穴内の汚れや乾固した汚れ（特に水溶性汚れ）をも除去できる優れた洗浄性を有すると共に、洗浄液の蒸留再生が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る洗浄システムを示す構成図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係る洗浄システムを示す構成図である。
【図３】本発明の第３実施形態に係る洗浄システムを示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の非引火性洗浄液組成物（以下、単に洗浄液組成物ということがある）は、グリコールエーテル類を含む溶剤と、洗浄液組成物総量に対して５〜４０体積％の水とを含む。
【００１１】
グリコールエーテル類は、常圧下での沸点が１２０〜２７５℃、好ましくは１３５〜２３０℃である。これにより、蒸留再生時に水と分離しやすくなり、かつ洗浄液の乾燥性に優れる。すなわち、グリコールエーテル類の沸点が１２０℃未満であると、蒸留再生時に水と分離しにくくなる。また、グリコールエーテル類の沸点が２７５℃を超えると、乾燥工程でワークが乾燥しにくくなる。
上記のように、グリコールエーテル類は、水との間に沸点差があることによって、水と分離しやすくなり、そのため短時間で蒸留量・温度・洗浄液組成を安定化することができる。
【００１２】
使用可能なグリコールエーテル類としては、下記一般式（Ｉ）で示されるプロピレングリコール類および下記一般式（ＩＩ）で示されるエチレングリコール類から選ばれる１種または２種以上が挙げられる。
一般式（Ｉ）：  Ｒ1Ｏ（Ｃ3Ｈ6Ｏ）nＲ2
一般式（ＩＩ）：Ｒ1Ｏ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）mＲ2
（各式中、Ｒ1は直鎖状もしくは分枝したアルキル基またはアシル基を表し、Ｒ2は水素原子、直鎖状もしくは分枝したアルキル基またはアシル基を表し、ｎおよびｍは１〜３の整数を表す。）
【００１３】
アルキル基としては炭素数１〜６の低級アルキル基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、ｎ-ブチル、sec‐ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられる。
アシル基としては炭素数２〜６の低級アシル基であり、例えばアセチル、プロパノイル、ヘキサノイルなどが挙げられる。
【００１４】
一般式（Ｉ）で示されるプロピレングリコール類の具体例としては、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテルなどが挙げられる。
【００１５】
一般式（ＩＩ）で示されるエチレングリコール類の具体例としては、ジエチレングリコールメチルエーテル、トリエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、トリエチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールヘキシルエーテル、ジエチレングリコールヘキシルエーテル、エチレングリコールｎ−ブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールｎ−ブチルエーテルアセテート、エチレングリコールフェニルエーテルなどが挙げられる。
【００１６】
また、プロピレングリコール類およびエチレングリコール類は、引火点が３０℃以上、好ましくは４０℃以上である。このような低い引火点のグリコールエーテル類が使用可能であるのは、水と混合するからである。これにより、非引火性の洗浄液が得られる。なお、引火点はタグ密閉式引火点測定器(JIS K 2265-1)により測定される。
【００１７】
本発明では、特に水溶性汚れに対して効果的な親水性のグリコールエーテル類を使用するのが好ましい。このような親水性のグリコールエーテル類としては、例えばプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテルなどのプロピレングリコール類；およびエチレングリコールｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、トリエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、トリエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールn-ブチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールメチルエーテル、3-メトキシ-3-メチル-1-ブタノールなどのエチレングリコール類が挙げられる。
【００１８】
また、油溶性汚れを除去するために親油性溶剤を混合してもよい。親油性溶剤は、常圧下での沸点が水の沸点より高いものが好ましいが、特に限定されない。親油性溶剤としては、親油性のグリコールエーテル類の他、例えば、ヘキサン、ナフサなどの炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール系溶剤などが挙げられる。親油性溶剤の添加量は、洗浄液組成物総量に対して３０〜６０体積％程度であるのがよい。
また、洗浄液組成物に、酸化防止剤等を適宜添加することができる。
【００１９】
グリコールエーテル類を含む溶剤は水と混合される。水は、洗浄液組成物総量に対して５〜４０体積％、好ましくは１０〜３０体積％であるのがよい。水の割合がこの範囲を下回る場合は、非引火性に劣るようになる。一方、水の割合が前記範囲を上回る場合は、溶剤量が相対的に減少するので、洗浄性が劣るようになる。
【００２０】
本実施形態に係る洗浄液組成物の配合例を以下に示すが、本発明は以下の配合例に限定されるものではない。以下の配合例で使用されるグリコールエーテル類はいずれも親水性溶剤として機能する。
【００２１】
（配合例１）
エチレングリコールモノアルキルエーテル      ６０〜８０体積％
（沸点：１３５〜１７０℃）
水                                          ２０〜４０体積％
【００２２】
（配合例２）
プロピレングリコールモノアルキルエーテル    ６０〜８０体積％
（沸点：１３５〜１７０℃）
水                                          ２０〜４０体積％
【００２３】
（配合例３）
エチレングリコールモノアルキルエーテル      ３０〜４０体積％
（沸点：１３５〜１７０℃）
プロピレングリコールモノアルキルエーテル    ３０〜４０体積％
（沸点：１３５〜１７０℃）
水                                          ２０〜４０体積％
【００２４】
次に、上記洗浄液組成物を用いる洗浄システムを説明する。本発明の洗浄システムは、主として各種機械部品等の加工品（以下、ワークということがある）を洗浄するために使用され、上記洗浄液組成物を洗浄液として用いるワークの洗浄工程および乾燥工程と、洗浄後の洗浄液を蒸留再生する再生工程と、を含む。
【００２５】
本発明の第１実施形態に係る洗浄システムを図１に基づいて説明する。図１に示す洗浄装置は、第１洗浄槽１、第２洗浄槽２および乾燥槽３を備える。第１洗浄槽１および第２洗浄槽２は槽内に超音波洗浄機（ＵＳ）が設置されており、ワーク４は、第１洗浄槽１および第２洗浄槽２の順で超音波洗浄され、乾燥槽３ですすぎ（蒸気洗浄）後、乾燥される。
【００２６】
洗浄液は、ワーク４とは逆に、第２洗浄槽２および第１洗浄槽１の順で送られ、第１洗浄槽１から排出された洗浄液は第１蒸留機５に送られ、溶剤と水とを沸点差を利用して分離する低温蒸留が行われる（低温蒸留工程）。第１蒸留機５から留出した水は回収塔６（ポット）に貯留される。一方、第１蒸留機５の底部から溶剤が排出される。
【００２７】
第１蒸留機５から排出された溶剤は、残存する水分を除去するために脱気装置７に送られる。脱気装置７は、図示していない真空ポンプで缶内を減圧状態に維持したうえで、液を噴霧するように構成したものである。溶剤に含まれる水分は、真空ポンプによって排出されやすくなる。水分が除去された溶剤は脱気装置７から第２蒸留機８に送られ、溶剤の沸点より高い高温で蒸留され、溶剤から汚れ成分を分離する（高温蒸留工程）。汚れ成分は缶底より排出される。
【００２８】
第２蒸留機８から留出した溶剤の蒸気は、三方弁９を経て、乾燥槽３に送られ、洗浄後のワーク４のすすぎに使用される。すすぎ後、溶剤は乾燥槽３から排出され、調合槽１０に送られる。また、すすぎに使用しない溶剤は、三方弁９を経て直接調合槽１０に送られる。
このように、脱気装置７で水分を除去した溶剤を使用するのは、ワーク４が錆びたり腐食したりするのを防止するためである。なお、ワーク４が錆び難く腐食し難い場合は、脱気装置７を省略してもよい。
【００２９】
すすぎ後、ワーク４は乾燥槽３内で乾燥される。乾燥は、減圧下で必要に応じて加熱して行われるが、常圧下で温風ないし熱風で乾燥してもよい。
【００３０】
調合槽１０では、汚れ成分を分離した溶剤と、回収塔６に貯留された水とを調合して洗浄液を調合する（調合工程）。調合された洗浄液は、第２洗浄槽２に送られる。
このようにして、洗浄液は、低温蒸留工程と高温蒸留工程と調合工程とを経て再生される。
【００３１】
本発明の第２実施形態に係る洗浄システムを図２に基づいて説明する。なお、図２において、図１と同じ部材には同一の符号を付して説明を省略する。図２に示す洗浄装置は、第１実施形態と同様に、第１洗浄槽１、第２洗浄槽２および乾燥槽３を備える。ワーク４は、第１洗浄槽１および第２洗浄槽２の順で超音波洗浄され、乾燥槽３ですすぎ（蒸気洗浄）後、乾燥される。
【００３２】
第１洗浄槽１および第２洗浄槽２を結ぶ循環路には蒸留再生システム１１が形成されている。この蒸留再生システム１１は後述する第３実施形態（図３）に記載の蒸留システム１１と同じ構成を有する。蒸留再生システム１１の詳細は第３実施形態において詳細に説明する。洗浄液は蒸留再生システム１１と洗浄槽１，２との間を循環して、洗浄工程と再生工程とが連続的に行われる。これにより、蒸留再生システム１１内の蒸留機の温度が安定し、蒸気量も安定するので、洗浄液の組成も安定する。
【００３３】
一方、乾燥工程では、溶剤を乾燥槽３と蒸留機１２との間を循環させて、乾燥槽３ですすぎを行った溶剤を蒸留して水分を除去する。
【００３４】
すなわち、運転開始時には、三方弁１３を操作して必要量の洗浄液を補給路１４から第１回収塔１５へ送り、さらに脱気装置７を経て蒸留機１２に送る。蒸留機１２で洗浄液を蒸留して、初期に留出する水分を第２回収塔１６で回収する。そして、蒸留機１２内の温度が上昇（水分が減少）した時点で、三方弁１７を切り替えて、溶剤を第１回収塔１５に送り、脱気装置７を経て溶剤を回収する。
なお、三方弁１３から補給路１４を経て第１回収塔１５に送られた洗浄液に含まれる汚れ成分は、蒸留機１２の缶底から排出される。
【００３５】
そして、留出する水分量がほぼなくなった時点で三方弁１８を切り替えて、溶剤を乾燥槽３と蒸留機１２との間を循環させて、乾燥槽３ですすぎ（蒸気洗浄）を行った溶剤を蒸留して水分を除去する。その際、蒸留機１２の上流側に脱気装置７が設けられていると、すすぎで排出された溶剤に含まれる水分を除去できるので、蒸留機１２での水分離による温度低下等を防止することができ、安定してすすぎ・乾燥を行うことができる。なお、乾燥工程は、減圧雰囲気で行うのが好ましい。
使用する溶剤は、洗浄工程で使用した洗浄液の溶剤を利用するのが好ましいが、当該溶剤と異なる他の溶剤を使用してもよい。
【００３６】
この実施形態において、第１回収塔１５を省略し、補給路１４および乾燥槽３の排出路を図示しない開閉弁（例えば三方弁）を介して脱気装置７に直接接続してもよい。
【００３７】
本発明の第３実施形態に係る洗浄システムを図３に基づいて説明する。なお、図３において、図１、図２と同じ部材には同一の符号を付して説明を省略する。図３に示す洗浄装置は、第１実施形態と同様に、第１洗浄槽１、第２洗浄槽２および乾燥槽３を備える。ワーク４は、第１洗浄槽１および第２洗浄槽２の順で超音波洗浄され、乾燥槽３ですすぎ（蒸気洗浄）後、乾燥される。
【００３８】
本実施形態における洗浄液の再生工程は、連続式の単蒸留システム（蒸留再生システム１１）である。すなわち、第１洗浄槽１から排出された洗浄液は、リザーブタンク１９を経て第１蒸留機２０に送られて蒸留されて汚れ成分を分離し（蒸留工程）、第１蒸留機２０から留出した洗浄液の蒸気はコンデンサ２１で凝縮させて洗浄液を回収し（回収工程）、ついで洗浄液を調整槽２２に送り洗浄液の水分量を調整する（調整工程）。調整は、例えば比重計測部２３によって液の比重が管理されており、水の補充が必要な場合は、三方弁２４を操作して水を補充する。調整槽２２にて水分量が調整された洗浄液は、再び第２洗浄槽２に送られる。
【００３９】
乾燥工程では、第２蒸留機（蒸気発生機）２５にて洗浄液を気化させて、乾燥槽３にて蒸気によりワーク４のすすぎを行う。すすぎ後、ワーク４は減圧下で乾燥させる。乾燥槽３内の洗浄液は、回収塔２６（ポット）を経て再び蒸留機（蒸気発生機）２５に戻される。
【００４０】
なお、乾燥工程でのすすぎ（蒸気洗浄）は、錆びやすいワーク４や乾燥しにくいワーク４の場合、水分を含まない溶剤で行うのが好ましい。その際、前記した脱気装置７を第２蒸留機２５の上流側に設置してもよい。
一方、錆の発生がなく、乾燥しやすいワーク４の場合、水分を除去した溶剤による蒸気洗浄や真空乾燥を行わなくてもよく、水を含んだ洗浄液による蒸気洗浄や、温風ないし熱風の乾燥でも適用可能である。
【００４１】
以上の各実施形態において、蒸留機での蒸留は常圧下で行ってもよいが、減圧下で行うのが好ましい。
【符号の説明】
【００４２】
１  第１洗浄槽
２  第２洗浄槽
３  乾燥槽
４  ワーク
５  第１蒸留機
６  回収塔
７  脱気装置
８  第２蒸留機
９  三方弁
１０  調合槽
１１  蒸留再生システム
１２  蒸留機
１３  三方弁
１４  補給路
１５  第１回収塔
１６  第２回収塔
１７，１８  三方弁
１９  リザーブタンク
２０  第１蒸留機
２１  コンデンサ
２２  調合槽
２３  比重計測部
２４  三方弁
２５  第２蒸留機
２６  回収塔
【図１】
2020070310.tif 000003
【図２】
2020070310.tif 000004
【図３】
2020070310.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】令和2年2月14日(2020.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
常圧下での沸点が１２０〜２７５℃である親水性グリコールエーテル類からなる溶剤と、洗浄液組成物総量に対して５〜４０体積％の水とからなり、
前記親水性グリコールエーテル類が、下記一般式（Ｉ）で示されるプロピレングリコール類および下記一般式（ＩＩ）で示されるエチレングリコール類から選ばれる１種または２種以上である非引火性洗浄液組成物。
一般式（Ｉ）：  Ｒ1Ｏ（Ｃ3Ｈ6Ｏ）nＲ2
一般式（ＩＩ）：Ｒ1Ｏ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）mＲ2
（各式中、Ｒ1は直鎖状もしくは分枝したアルキル基、アシル基またはフェニル基を表し、Ｒ2は水素原子を表し、ｎおよびｍは１〜３の整数を表す。）
【請求項２】
前記親水性グリコールエーテル類は、常圧下での沸点が１３５〜２３０℃である請求項１に記載の非引火性洗浄液組成物。
【請求項３】
請求項１または２に記載の非引火性洗浄液組成物を洗浄液として用いる洗浄システムであって、
被洗浄物の洗浄工程および乾燥工程と、洗浄後の洗浄液を蒸留再生する再生工程と、を含み、
前記再生工程が、前記溶剤と水とを分離する低温蒸留工程と、分離された溶剤から汚れ成分を分離する高温蒸留工程と、汚れ成分を分離した溶剤と水とを調合して洗浄液を調合する調合工程と、を含む洗浄システム。
【請求項４】
前記高温蒸留工程で分離した溶剤を用いて前記乾燥工程ですすぎを行い、すすぎ後の溶剤を前記調合工程に送る請求項３に記載の洗浄システム。
【請求項５】
前記低温蒸留工程と高温蒸留工程との間に、溶剤から水分を除去するための脱気工程を含む請求項３または４に記載の洗浄システム。
【請求項６】
請求項１または２に記載の非引火性洗浄液組成物を洗浄液として用いる洗浄システムであって、
前記洗浄液を洗浄槽と蒸留再生システムとの間を循環させて、洗浄工程と再生工程とを連続的に行うと共に、乾燥工程は、溶剤を乾燥槽と蒸留機との間を循環させて、前記乾燥槽ですすぎを行った溶剤を蒸留して水分を除去する洗浄システム。
【請求項７】
前記乾燥槽から前記蒸留機に向かう経路に、溶剤から水分を除去するための脱気装置を設けた請求項６に記載の洗浄システム。
【請求項８】
前記乾燥工程で使用する前記溶剤が、請求項１または２に記載の非引火性洗浄液組成物における溶剤と同一または異なる請求項６または７に記載の洗浄システム。
【請求項９】
前記蒸留再生システムが、汚れ成分を洗浄液から分離する蒸留工程と、分離された洗浄液の蒸気を凝縮させる回収工程と、回収した洗浄液の水分量を調整するための調整工程と、を含む請求項６に記載の洗浄システム。