(57)【要約】【課題】被焼成体との反応を確実に抑制する焼成用治具を提供する。【解決手段】焼成用治具１は、基材３と、中間層５と、表面層７と、を備えている。基材３は、Ａｌを含む酸化物からなる。中間層５は、基材３上に設けられている。中間層５は、ＢａとＡｌとを含む酸化物を主成分とする。表面層７は、中間層５上に設けられている。表面層７は、ＢａＺｒＯ３を主成分とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａｌを含む酸化物からなる基材と、
前記基材上に設けられており、ＢａとＡｌとを含む酸化物を主成分とする中間層と、
前記中間層上に設けられており、ＢａＺｒＯ３を主成分とする表面層と、を備えている、焼成用治具。
【請求項２】
前記中間層の厚みは、１０μｍ以上６０μｍ以下である、請求項１に記載の焼成用治具。
【請求項３】
Ａｌを含む酸化物からなる基材と、
前記基材上に設けられており、ＢａとＡｌとを含む酸化物を主成分とする第一中間層と、
前記第一中間層上に設けられており、ＺｒＯ２を主成分とする第二中間層と、
前記第二中間層上に設けられており、ＢａＺｒＯ３を主成分とする表面層と、を備えている、焼成用治具。
【請求項４】
前記第二中間層の主成分であるＺｒＯ２が、バデライトである、請求項３に記載の焼成用治具。
【請求項５】
前記第一中間層の厚みは、１０μｍ以上６０μｍ以下である、請求項３又は４に記載の焼成用治具。
【請求項６】
前記表面層の厚みは、１０μｍ以上である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の焼成用治具。
【請求項７】
前記基材の表面粗さは、１０μｍ以上である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の焼成用治具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、焼成用治具に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ａｌを含む酸化物からなる基材と、基材上に設けられており、安定化ジルコニアを主成分とする表面層と、を備えている焼成用治具が知られている（たとえば、特許文献１参照）。安定化ジルコニアを主成分とする表面層は、被焼成体と焼成用治具との反応を抑制する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開昭６３−０８４０１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、被焼成体との反応を確実に抑制する焼成用治具を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らの調査研究の結果、以下の事項が判明した。
被焼成体が含有する材料によっては、安定化ジルコニアを主成分とする表面層では、被焼成体と焼成用治具との反応を抑制しがたい。被焼成体が、たとえば、（Ｃａ，Ｓｒ）ＺｒＯ３系又は（Ｓｒ，Ｂａ）Ｎｂ２Ｏ６系の誘電体セラミック材料を含有している場合、安定化ジルコニアを主成分とする表面層は、被焼成体と反応する傾向がある。被焼成体と表面層とが反応する場合、焼成体が焼成用治具から剥がれがたくなるおそれがある。
【０００６】
本発明者らは、被焼成体と焼成用治具との反応を確実に抑制する構成について、更なる調査研究を行った。その結果、本発明者らは、以下の事実を見出し、本発明を想到するに至った。
ＢａＺｒＯ３を主成分とする表面層が、被焼成体と焼成用治具との反応を確実に抑制する。被焼成体が、たとえば、（Ｃａ，Ｓｒ）ＺｒＯ３系又は（Ｓｒ，Ｂａ）Ｎｂ２Ｏ６系の誘電体セラミック材料を含有している場合でも、ＢａＺｒＯ３を主成分とする表面層は、被焼成体と反応しがたい。
【０００７】
本発明の一つの態様に係る焼成用治具は、Ａｌを含む酸化物からなる基材と、基材上に設けられており、ＢａとＡｌとを含む酸化物を主成分とする中間層と、中間層上に設けられており、ＢａＺｒＯ３を主成分とする表面層と、を備えている。
【０００８】
上記一つの態様は、ＢａＺｒＯ３を主成分とする表面層を備えているので、被焼成体との反応を確実に抑制する。
基材と表面層との間に位置している中間層の主成分は、ＢａとＡｌとを含む酸化物である。中間層は、基材を構成する元素の一つであるＡｌを含んでいる。したがって、中間層と基材との密着性が高く、中間層と基材とは、剥離しがたい。中間層は、表面層を構成する元素であるＢａも含んでいる。したがって、中間層と表面層との密着性が高く、中間層と表面層とは、剥離しがたい。これらの結果、上記一つの態様は、表面層（中間層）の剥離を抑制する。
【０００９】
上記一つの態様では、中間層の厚みは、１０μｍ以上６０μｍ以下であってもよい。中間層の厚みは、１０μｍ以上６０μｍ以下である構成は、表面層（中間層）の剥離をより一層抑制する。
【００１０】
本発明の別の態様に係る焼成用治具は、Ａｌを含む酸化物からなる基材と、基材上に設けられており、ＢａとＡｌとを含む酸化物を主成分とする第一中間層と、第一中間層上に設けられており、ＺｒＯ２を主成分とする第二中間層と、第二中間層上に設けられており、ＢａＺｒＯ３を主成分とする表面層と、を備えている。
【００１１】
上記別の態様は、ＢａＺｒＯ３を主成分とする表面層を備えているので、被焼成体との反応を確実に抑制する。
第一中間層の主成分は、ＢａとＡｌとを含む酸化物である。第一中間層は、基材を構成する元素であるＡｌを含んでいる。したがって、第一中間層と基材との密着性が高く、第一中間層と基材とは、剥離しがたい。第一中間層と表面層との間に位置している第二中間層の主成分は、ＺｒＯ２である。ＺｒＯ２は、第一中間層及び表面層を構成する元素の一つであるＢａと強固な化合物を形成する傾向がある。したがって、第二中間層は、第一中間層及び表面層と密着性が高く、第二中間層と第一中間層及び表面層とは、剥離しがたい。これらの結果、上記一つの態様は、表面層（第一及び第二中間層）の剥離を抑制する。
【００１２】
第二中間層の主成分であるＺｒＯ２が、バデライト（Baddeleyite）であってもよい。
バデライトが主成分である層は、安定化ジルコニアが主成分である層に比して、微細なクラックが生じる傾向がある。微細なクラックが第二中間層に生じる場合、第二中間層に生じる微細なクラックに起因して、表面層にも微細なクラックが生じる。微細なクラックが生じた表面層は、微細なクラックが生じていない表面層に比して、被焼成体との接触面積が小さい。したがって、本構成は、被焼成体との反応をより一層確実に抑制する。
【００１３】
上記別の態様では、第一中間層の厚みは、１０μｍ以上６０μｍ以下であってもよい。第一中間層の厚みは、１０μｍ以上６０μｍ以下である構成は、表面層（第一及び第二中間層）の剥離をより一層抑制する。
【００１４】
上記一つの態様及び上記別の態様では、表面層の厚みは、１０μｍ以上であってもよい。表面層の厚みは、１０μｍ以上である構成は、被焼成体との反応をより一層確実に抑制する。
【００１５】
上記一つの態様及び上記別の態様では、基材の表面粗さは、１０μｍ以上であってもよい。基材の表面粗さは、１０μｍ以上である構成は、被焼成体との反応をより一層確実に抑制する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、被焼成体との反応を確実に抑制する焼成用治具が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１実施形態に係る焼成用治具の断面構成を示す図である。
【図２】各試料における剥離耐性及び被焼成体との反応性を示す図表である。
【図３】第２実施形態に係る焼成用治具の断面構成を示す図である。
【図４】各試料における剥離耐性及び被焼成体との反応性を示す図表である。
【図５】第一中間層、第二中間層、及び表面層の断面構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
【００１９】
（第１実施形態）
まず、図１を参照して、第１実施形態に係る焼成用治具１の構成を説明する。図１は、第１実施形態に係る焼成用治具の断面構成を示す図である。
焼成用治具１は、基材３と、中間層５と、表面層７と、を備えている。焼成用治具１は、いわゆるセッターである。焼成用治具１は、たとえば、積層セラミックコンデンサの製造過程に含まれる焼成過程で用いられる。この場合、被焼成体は、誘電体材料を含むセラミックグリーンシートの積層体を含む。誘電体材料は、たとえば、（Ｃａ，Ｓｒ）ＺｒＯ３系又は（Ｓｒ，Ｂａ）Ｎｂ２Ｏ６系の誘電体セラミック材料を含む。被焼成体は、誘電体材料を含むセラミック粉末のプレス成型体であってもよい。
【００２０】
基材３は、Ａｌを含む酸化物からなる。基材３は、たとえば、ムライト（Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２）からなる。基材３は、不可避的な微量の不純物を含有してもよい。基材３がムライトからなる場合、Ａｌ２Ｏ３の含有量は、たとえば、７１．８〜７７．２重量％である。基材３は、たとえば、ムライト・コランダムからなっていてもよい。ムライト・コランダムは、ムライトの結晶構造とコランダム（Ａｌ２Ｏ３）の結晶構造とが共存している状態を有する。基材３がムライト・コランダムからなる場合、Ａｌ２Ｏ３の含有量は、たとえば、７１．８〜１００重量％である。
【００２１】
基材３の表面粗さは、１０μｍ以上であってもよい。基材３の表面粗さは、たとえば、算術平均粗さ（Ｒａ）で規定される。算術平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２０１３（ＩＳＯ  ４２８７：１９９７）に定義されている。基材３の厚みは、たとえば、１〜１０ｍｍである。本実施形態では、基材３の厚みは、３ｍｍである。基材３は、たとえば、板状の部材である。基材３には、複数の基材３を積層する際に、隣り合う基材３の間に隙間を確保するためのスペーサが一体に設けられていてもよい。
【００２２】
中間層５は、基材３上に設けられている。中間層５は、ＢａとＡｌとを含む酸化物を主成分としている。ＢａとＡｌとを含む酸化物は、たとえば、ＢａＡｌ２Ｏ４、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３、又はＢａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。中間層５は、たとえば、ＢａＡｌ２Ｏ４、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３、及びＢａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）のうち少なくとも一種を含有している。中間層５において、主成分は、全成分中に８０重量％以上存在する成分を意味する。中間層５は、不可避的な微量の不純物を含有してもよい。
中間層５の厚みは、１０μｍ以上６０μｍ以下であってもよい。
【００２３】
表面層７は、中間層５上に設けられている。表面層７は、焼成用治具１の最外層であり、被焼成体と接する。表面層７は、ＢａＺｒＯ３を主成分としている。表面層７において、主成分は、全成分中に８０重量％％以上存在する成分を意味する。表面層７は、不可避的な微量の不純物を含有してもよい。
表面層７の厚みは、１０μｍ以上であってもよい。
【００２４】
基材３の表面粗さ、中間層５の厚み、及び表面層７の厚みと、表面層７（中間層５）の剥離耐性、及び、被焼成体との反応性の関係について詳細に説明する。
本発明者らは、上記関係を明らかにするために、以下の試験を行った。すなわち、本発明者らは、基材３の表面粗さ、中間層５の厚み、及び表面層７の厚みが異なる試料１〜２１を用意し、各試料１〜２１における、剥離耐性及び被焼成体との反応性とを確認した。試験の結果を図２に示す。図２は、各試料における剥離耐性及び被焼成体との反応性を示す図表である。
【００２５】
各試料１〜２１では、基材３は、ムライトからなり、平面視で矩形状を呈している。基材３のサイズは、１２０ｍｍ×６０ｍｍ×３ｍｍである。
試料１では、表面層７の厚みが３８μｍであり、中間層５の厚みが５９μｍであり、基材３の表面粗さが９μｍである。中間層５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。
試料２では、表面層７の厚みが２６μｍであり、中間層５の厚みが４４μｍであり、基材３の表面粗さが９μｍである。中間層５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。
試料３では、表面層７の厚みが３７μｍであり、中間層５の厚みが４５μｍであり、基材３の表面粗さが７μｍである。中間層５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。
試料４では、表面層７の厚みが８μｍであり、中間層５の厚みが４７μｍであり、基材３の表面粗さが９μｍである。中間層５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。
試料５では、表面層７の厚みが９μｍであり、中間層５の厚みが４１μｍであり、基材３の表面粗さが５μｍである。中間層５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。
試料６では、表面層７の厚みが７μｍであり、中間層５の厚みが４１μｍであり、基材３の表面粗さが８μｍである。中間層５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。
試料７では、表面層７の厚みが３８μｍであり、中間層５の厚みが６７μｍであり、基材３の表面粗さが５μｍである。中間層５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。
試料８では、表面層７の厚みが２４μｍであり、中間層５の厚みが６８μｍであり、基材３の表面粗さが７μｍである。中間層５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。
試料９では、表面層７の厚みが３８μｍであり、中間層５の厚みが６６μｍであり、基材３の表面粗さが５μｍである。中間層５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。
試料１０では、表面層７の厚みが３０μｍであり、中間層５の厚みが６μｍであり、基材３の表面粗さが６μｍである。中間層５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。
試料１１では、表面層７の厚みが２８μｍであり、中間層５の厚みが９μｍであり、基材３の表面粗さが８μｍである。中間層５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。
試料１２では、表面層７の厚みが２６μｍであり、中間層５の厚みが８μｍであり、基材３の表面粗さが５μｍである。中間層５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。
試料１３では、表面層７の厚みが３１μｍであり、中間層５の厚みが４８μｍであり、基材３の表面粗さが２７μｍである。中間層５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。
試料１４では、表面層７の厚みが３７μｍであり、中間層５の厚みが４９μｍであり、基材３の表面粗さが２５μｍである。中間層５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。
試料１５では、表面層７の厚みが３７μｍであり、中間層５の厚みが４１μｍであり、基材３の表面粗さが１４μｍである。中間層５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。
試料１６では、表面層７の厚みが３４μｍであり、中間層５の厚みが１２μｍであり、基材３の表面粗さが１２μｍである。中間層５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。
試料１７では、表面層７の厚みが３５μｍであり、中間層５の厚みが１５μｍであり、基材３の表面粗さが２９μｍである。中間層５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。
試料１８では、表面層７の厚みが３１μｍであり、中間層５の厚みが１１μｍであり、基材３の表面粗さが２４μｍである。中間層５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。
試料１９では、表面層７の厚みが２２μｍであり、中間層５の厚みが３５μｍであり、基材３の表面粗さが２２μｍである。中間層５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。
試料２０では、表面層７の厚みが３８μｍであり、中間層５の厚みが２８μｍであり、基材３の表面粗さが１５μｍである。中間層５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。
試料２１では、表面層７の厚みが３０μｍであり、中間層５の厚みが３１μｍであり、基材３の表面粗さが２６μｍである。中間層５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。
【００２６】
表面層７（中間層５）の剥離耐性は、以下のようにして確認した。
試料１〜２１ごとに、熱サイクル試験を実施した。熱サイクル試験では、焼成用治具１を、５００℃から１３００℃まで３時間かけて加熱し、その後、１３００℃から５００℃まで３時間かけて冷却する熱サイクルを１００回繰り返した。熱サイクルを３０回繰り返した後、熱サイクルを５０回繰り返した後、及び熱サイクルを１００回繰り返した後に、表面層７（中間層５）の剥離の有無を観察した。
【００２７】
熱サイクルを３０回繰り返した後では、各試料１〜２１とも、表面層７（中間層５）の剥離は観察されなかった。
熱サイクルを５０回繰り返した後では、試料７〜１２において、表面層７（中間層５）に剥離が生じていた。試料１〜６及び１３〜２１では、表面層７（中間層５）の剥離は観察されなかった。
熱サイクルを１００回繰り返した後では、試料４〜１２において、表面層７（中間層５）に剥離が生じていた。試料１〜３及び１３〜２１では、表面層７（中間層５）の剥離は観察されなかった。
【００２８】
被焼成体との反応性は、以下のようにして確認した。
被焼成体を各試料１〜２１（焼成用治具１）に載置して、被焼成体を所定の温度で焼成した。焼成後に、焼成により得られた焼成体の状態を観察した。
反応性“Ａ”は、Ｍｎが添加された（Ｃａ，Ｓｒ）ＺｒＯ３を含むセラミック粉末のプレス成型体である被焼成体との反応性である。焼成温度は、１３００℃である。
反応性“Ｂ”は、（Ｓｒ，Ｂａ）Ｎｂ２Ｏ６を含むセラミック粉末のプレス成型体である被焼成体との反応性である。焼成温度は、１３５０℃である。
反応性“Ｃ”は、（Ｓｒ，Ｂａ）Ｎｂ２Ｏ６を含むセラミック粉末のプレス成型体である被焼成体との反応性である。焼成温度は、１３７５℃である。
各被焼成体は、単板状である。本試験では、バインダー溶液が加えられたセラミック粉末を造粒した後、プレス成型により、単板状の成型体を得た。被焼成体（成型体）のサイズは、φ１２ｍｍである。プレス圧力は、１２ＭＰａである。
【００２９】
Ｍｎが添加された（Ｃａ，Ｓｒ）ＺｒＯ３を含むセラミック粉末のプレス成型体を１３００℃で焼成した場合、及び、（Ｓｒ，Ｂａ）Ｎｂ２Ｏ６を含むセラミック粉末のプレス成型体を１３５０℃で焼成した場合、各試料１〜２１とも、焼成体が焼成用治具１から剥がれた。焼成体に異常は観察されなかった。
（Ｓｒ，Ｂａ）Ｎｂ２Ｏ６を含むセラミック粉末のプレス成型体を１３７５℃で焼成した場合、試料１３〜２１では、焼成体が焼成用治具１から剥がれた。焼成体に異常は観察されなかった。試料１〜１２では、焼成体が焼成用治具１と反応しており、焼成体が焼成用治具１から剥がれなかった。
【００３０】
本発明者らは、以下の二つの対比試験も行った。
（対比試験Ｉ）
まず、基材３と、基材３上に設けられており、イットリウム安定化ジルコニウムからなる表面層と、を備えている焼成用治具を作製した。この焼成用治具を用いて、試料１〜２１と同様に、表面層の剥離耐性、及び、被焼成体との反応性を確認した。基材３は、試料１〜２１と同じく、ムライトからなり、平面視で矩形状を呈している。基材３のサイズは、１２０ｍｍ×６０ｍｍ×３ｍｍである。表面層の厚みは、２２μｍであり、基材３の表面粗さは、９μｍである。イットリウム安定化ジルコニウムでは、イットリウムが、酸化物に換算して、４ｗｔ％含有されている。対比試験Ｉに用いた焼成用治具は、上述した中間層５及び表面層７を備えていない。
熱サイクルを１００回繰り返した後の状態でも、表面層の剥離は観察されなかった。
反応性“Ａ”に関しては、焼成体の、焼成用治具（表面層）と接した面が白く変色していた。反応性“Ｂ”及び“Ｃ”に関しては、焼成体が焼成用治具と反応しており、焼成体が焼成用治具から剥がれなかった。
【００３１】
（対比試験ＩＩ）
まず、基材３と、基材３上に設けられており、ＢａＺｒＯ３を主成分としている表面層と、を備えている焼成用治具を作製した。この焼成用治具を用いて、試料１〜２１と同様に、表面層の剥離耐性、及び、被焼成体との反応性を確認した。基材３は、試料１〜２１と同じく、ムライトからなり、平面視で矩形状を呈している。基材３のサイズは、１２０ｍｍ×６０ｍｍ×３ｍｍである。表面層の厚みは、３４μｍであり、基材３の表面粗さは、６μｍである。対比試験ＩＩに用いた焼成用治具は、上述した中間層５を備えていない。
熱サイクルを３０回繰り返した後に、表面層が基材３から剥離した。
反応性“Ａ”に関しては、焼成体に異常は観察されなかった。反応性“Ｂ”及び“Ｃ”に関しては、焼成体が焼成用治具と反応しており、焼成体が焼成用治具から剥がれなかった。
【００３２】
以上のように、焼成用治具１は、ＢａＺｒＯ３を主成分とする表面層７を備えている。したがって、焼成用治具１は、被焼成体との反応を確実に抑制する。
基材３と表面層７との間に位置している中間層５の主成分は、ＢａとＡｌとを含む酸化物である。中間層５は、基材３を構成する元素の一つであるＡｌを含んでいる。したがって、中間層５と基材３との密着性が高く、中間層５と基材３とは、剥離しがたい。中間層５は、表面層７を構成する元素であるＢａも含んでいる。したがって、中間層５と表面層７との密着性が高く、中間層５と表面層７とは、剥離しがたい。これらの結果、焼成用治具１は、表面層７（中間層５）の剥離を抑制する。
【００３３】
中間層５の厚みが、１０μｍ以上６０μｍ以下である場合、焼成用治具１は、表面層７（中間層５）の剥離をより一層抑制する。
表面層７の厚みが、１０μｍ以上である場合、焼成用治具１は、被焼成体との反応をより一層確実に抑制する。
基材３の表面粗さが、１０μｍ以上である場合、焼成用治具１は、被焼成体との反応をより一層確実に抑制する。
【００３４】
（第２実施形態）
次に、図３を参照して、第２実施形態に係る焼成用治具１１の構成を説明する。図３は、第２実施形態に係る焼成用治具の断面構成を示す図である。
焼成用治具１１は、基材３と、第一中間層１５と、第二中間層１６と、表面層７と、を備えている。焼成用治具１１は、いわゆるセッターである。焼成用治具１１も、焼成用治具１と同じく、たとえば、積層セラミックコンデンサの製造過程に含まれる焼成過程で用いられる。この場合、被焼成体は、誘電体材料を含むセラミックグリーンシートの積層体を含む。誘電体材料は、たとえば、（Ｃａ，Ｓｒ）ＺｒＯ３系又は（Ｓｒ，Ｂａ）Ｎｂ２Ｏ６系の誘電体セラミック材料を含む。被焼成体は、誘電体材料を含むセラミック粉末のプレス成型体であってもよい。
【００３５】
第一中間層１５は、基材３上に設けられている。第一中間層１５は、ＢａとＡｌとを含む酸化物を主成分としている。ＢａとＡｌとを含む酸化物は、たとえば、ＢａＡｌ２Ｏ４、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３、又はＢａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。第一中間層１５は、たとえば、ＢａＡｌ２Ｏ４、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３、及びＢａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）のうち少なくとも一種を含有している。第一中間層１５において、主成分は、全成分中に８０重量％以上存在する成分を意味する。第一中間層１５は、不可避的な微量の不純物を含有してもよい。
第一中間層１５の厚みは、１０μｍ以上６０μｍ以下であってもよい。
【００３６】
第二中間層１６は、第一中間層１５上に設けられている。第二中間層１６は、ＺｒＯ２を主成分としている。ＢａとＡｌとを含む酸化物は、第二中間層１６において、主成分は、全成分中に８０重量％以上存在する成分を意味する。第二中間層１６は、不可避的な微量の不純物を含有してもよい。第二中間層１６の主成分であるＺｒＯ２は、バデライトであってもよい。
第二中間層１６の厚みは、たとえば、２０μｍ以上４０μｍ以下であってもよい。
【００３７】
表面層７は、第二中間層１６上に設けられている。表面層７は、焼成用治具１１の最外層であり、被焼成体と接する。
表面層７の厚みは、１０μｍ以上であってもよい。
【００３８】
基材３の表面粗さ、第一中間層１５の厚み、及び表面層７の厚みと、表面層７（第一中間層１５及び第二中間層１６）の剥離耐性、及び、被焼成体との反応性の関係について詳細に説明する。
本発明者らは、上記関係を明らかにするために、以下の試験を行った。すなわち、本発明者らは、基材３の表面粗さ、第一中間層１５の厚み、及び表面層７の厚みが異なる試料２２〜４２を用意し、各試料２２〜４２における、剥離耐性及び被焼成体との反応性とを確認した。試験の結果を図４に示す。図４は、各試料における剥離耐性及び被焼成体との反応性を示す図表である。
【００３９】
各試料２２〜４２では、基材３は、ムライトからなり、平面視で矩形状を呈している。基材３のサイズは、１２０ｍｍ×６０ｍｍ×３ｍｍである。
試料２２では、表面層７の厚みが２１μｍであり、第一中間層１５の厚みが５９μｍであり、基材３の表面粗さが２３μｍである。第一中間層１５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。第二中間層１６の厚みは、３０μｍである。
試料２３では、表面層７の厚みが３１μｍであり、第一中間層１５の厚みが４２μｍであり、基材３の表面粗さが２５μｍである。第一中間層１５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。第二中間層１６の厚みは、３０μｍである。
試料２４では、表面層７の厚みが３２μｍであり、第一中間層１５の厚みが４８μｍであり、基材３の表面粗さが２２μｍである。第一中間層１５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。第二中間層１６の厚みは、２１μｍである。
試料２５では、表面層７の厚みが２３μｍであり、第一中間層１５の厚みが６７μｍであり、基材３の表面粗さが２０μｍである。第一中間層１５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。第二中間層１６の厚みは、２０μｍである。
試料２６では、表面層７の厚みが３９μｍであり、第一中間層１５の厚みが７９μｍであり、基材３の表面粗さが２２μｍである。第一中間層１５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。第二中間層１６の厚みは、３７μｍである。
試料２７では、表面層７の厚みが２７μｍであり、第一中間層１５の厚みが７８μｍであり、基材３の表面粗さが２４μｍである。第一中間層１５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。第二中間層１６の厚みは、２３μｍである。
試料２８では、表面層７の厚みが２５μｍであり、第一中間層１５の厚みが８μｍであり、基材３の表面粗さが２１μｍである。第一中間層１５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。第二中間層１６の厚みは、３７μｍである。
試料２９では、表面層７の厚みが３１μｍであり、第一中間層１５の厚みが６μｍであり、基材３の表面粗さが２５μｍである。第一中間層１５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。第二中間層１６の厚みは、３６μｍである。
試料３０では、表面層７の厚みが３４μｍであり、第一中間層１５の厚みが４μｍであり、基材３の表面粗さが２１μｍである。第一中間層１５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。第二中間層１６の厚みは、２４μｍである。
試料３１では、表面層７の厚みが５μｍであり、第一中間層１５の厚みが４３μｍであり、基材３の表面粗さが２５μｍである。第一中間層１５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。第二中間層１６の厚みは、３３μｍである。
試料３２では、表面層７の厚みが７μｍであり、第一中間層１５の厚みが４４μｍであり、基材３の表面粗さが２０μｍである。第一中間層１５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。第二中間層１６の厚みは、３２μｍである。
試料３３では、表面層７の厚みが９μｍであり、第一中間層１５の厚みが４３μｍであり、基材３の表面粗さが２２μｍである。第一中間層１５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。第二中間層１６の厚みは、２７μｍである。
試料３４では、表面層７の厚みが２０μｍであり、第一中間層１５の厚みが５３μｍであり、基材３の表面粗さが７μｍである。第一中間層１５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。第二中間層１６の厚みは、３１μｍである。
試料３５では、表面層７の厚みが２４μｍであり、第一中間層１５の厚みが４６μｍであり、基材３の表面粗さが８μｍである。第一中間層１５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。第二中間層１６の厚みは、３９μｍである。
試料３６では、表面層７の厚みが２３μｍであり、第一中間層１５の厚みが４０μｍであり、基材３の表面粗さが８μｍである。第一中間層１５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。第二中間層１６の厚みは、３９μｍである。
試料３７では、表面層７の厚みが２３μｍであり、第一中間層１５の厚みが１３μｍであり、基材３の表面粗さが２０μｍである。第一中間層１５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。第二中間層１６の厚みは、３８μｍである。
試料３８では、表面層７の厚みが２４μｍであり、第一中間層１５の厚みが１４μｍであり、基材３の表面粗さが２５μｍである。第一中間層１５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。第二中間層１６の厚みは、２０μｍである。
試料３９では、表面層７の厚みが２４μｍであり、第一中間層１５の厚みが１１μｍであり、基材３の表面粗さが２１μｍである。第一中間層１５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。第二中間層１６の厚みは、２２μｍである。
試料４０では、表面層７の厚みが３２μｍであり、第一中間層１５の厚みが２６μｍであり、基材３の表面粗さが２１μｍである。第一中間層１５の主成分は、ＢａＡｌ２Ｏ４である。第二中間層１６の厚みは、２６μｍである。
試料４１では、表面層７の厚みが２１μｍであり、第一中間層１５の厚みが３３μｍであり、基材３の表面粗さが２８μｍである。第一中間層１５の主成分は、０．８２ＢａＯ・６Ａｌ２Ｏ３である。第二中間層１６の厚みは、３４μｍである。
試料４２では、表面層７の厚みが２９μｍであり、第一中間層１５の厚みが３１μｍであり、基材３の表面粗さが２０μｍである。第一中間層１５の主成分は、Ｂａ（Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８）である。第二中間層１６の厚みは、２０μｍである。
【００４０】
表面層７（第一中間層１５及び第二中間層１６）の剥離耐性は、以下のようにして確認した。
試料２２〜４２ごとに、熱サイクル試験を実施した。この熱サイクル試験でも、焼成用治具１を、５００℃から１３００℃まで３時間かけて加熱し、その後、１３００℃から５００℃まで３時間かけて冷却する熱サイクルを１００回繰り返した。熱サイクルを３０回繰り返した後、熱サイクルを５０回繰り返した後、及び熱サイクルを１００回繰り返した後に、表面層７（第一中間層１５及び第二中間層１６）の剥離の有無を観察した。
【００４１】
熱サイクルを３０回繰り返した後、及び、熱サイクルを５０回繰り返した後では、各試料２２〜４２とも、表面層７（第一中間層１５及び第二中間層１６）の剥離は観察されなかった。
熱サイクルを１００回繰り返した後では、試料２５〜３０において、表面層７（第一中間層１５及び第二中間層１６）に剥離が生じていた。試料２２〜２４及び３１〜４２では、表面層７（第一中間層１５及び第二中間層１６）の剥離は観察されなかった。
【００４２】
被焼成体との反応性は、以下のようにして確認した。
被焼成体を各試料２２〜４２（焼成用治具１１）に載置して、被焼成体を所定の温度で焼成した。焼成後に、焼成により得られた焼成体の状態を観察した。
反応性“Ａ”は、Ｍｎが添加された（Ｃａ，Ｓｒ）ＺｒＯ３を含むセラミック粉末のプレス成型体である被焼成体との反応性である。焼成温度は、１３００℃である。
反応性“Ｂ”は、（Ｓｒ，Ｂａ）Ｎｂ２Ｏ６を含むセラミック粉末のプレス成型体である被焼成体との反応性である。焼成温度は、１３５０℃である。
反応性“Ｃ”は、（Ｓｒ，Ｂａ）Ｎｂ２Ｏ６を含むセラミック粉末のプレス成型体である被焼成体との反応性である。焼成温度は、１３７５℃である。
各被焼成体は、単板状である。本試験でも、バインダー溶液が加えられたセラミック粉末を造粒した後、プレス成型により、単板状の成型体を得た。被焼成体（成型体）のサイズは、φ１２ｍｍである。プレス圧力は、１２ＭＰａである。
【００４３】
Ｍｎが添加された（Ｃａ，Ｓｒ）ＺｒＯ３を含むセラミック粉末のプレス成型体を１３００℃で焼成した場合、及び、（Ｓｒ，Ｂａ）Ｎｂ２Ｏ６を含むセラミック粉末のプレス成型体を１３５０℃で焼成した場合、各試料２２〜４２とも、焼成体が焼成用治具１から剥がれた。焼成体に異常は観察されなかった。
（Ｓｒ，Ｂａ）Ｎｂ２Ｏ６を含むセラミック粉末のプレス成型体を１３７５℃で焼成した場合、試料２２〜３０及び３７〜４２では、焼成体が焼成用治具１１から剥がれた。焼成体に異常は観察されなかった。試料３１〜３６では、被焼成体が焼成用治具１１と反応しており、焼成体が焼成用治具１１から剥がれなかった。
【００４４】
以上のように、焼成用治具１１は、ＢａＺｒＯ３を主成分とする表面層７を備えている。したがって、焼成用治具１１は、被焼成体との反応を確実に抑制する。
第一中間層１５の主成分は、ＢａとＡｌとを含む酸化物である。第一中間層１５は、基材３を構成する元素であるＡｌを含んでいる。したがって、第一中間層１５と基材３との密着性が高く、第一中間層１５と基材３とは、剥離しがたい。第一中間層１５と表面層７との間に位置している第二中間層１６の主成分は、ＺｒＯ２である。ＺｒＯ２は、第一中間層１５及び表面層７を構成する元素の一つであるＢａと強固な化合物を形成する傾向がある。したがって、第二中間層１６は、第一中間層１５及び表面層７と密着性が高く、第二中間層１６と第一中間層１５及び表面層７とは、剥離しがたい。これらの結果、焼成用治具１１は、表面層７（第一中間層１５及び第二中間層１６）の剥離を抑制する。
【００４５】
バデライトが主成分である層は、安定化ジルコニアが主成分である層に比して、微細なクラックが生じる傾向がある。微細なクラックが第二中間層１６に生じる場合、第二中間層１６に生じる微細なクラックに起因して、図５に示されるように、表面層７にも微細なクラックが生じる。微細なクラックが生じた表面層７は、微細なクラックが生じていない表面層に比して、被焼成体との接触面積が小さい。したがって、第二中間層１６の主成分であるＺｒＯ２が、バデライトである場合、焼成用治具１１は、被焼成体との反応をより一層確実に抑制する。図５は、第一中間層、第二中間層、及び表面層の断面構成を示す図である。
【００４６】
第一中間層１５の厚みが、１０μｍ以上６０μｍ以下である場合、焼成用治具１１は、表面層７（第一中間層１５及び第二中間層１６）の剥離をより一層抑制する。
表面層７の厚みが、１０μｍ以上である場合、焼成用治具１１は、被焼成体との反応をより一層確実に抑制する。
基材３の表面粗さが、１０μｍ以上である場合、焼成用治具１１は、被焼成体との反応をより一層確実に抑制する。
【００４７】
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
【００４８】
中間層５及び表面層７からなる層構造体、並びに、第一中間層１５、第二中間層１６、及び表面層７からなる層構造体は、基材３の一方面に配置されているが、各層構造体は、基材３の両面に配置されていてもよい。各層構造体は、基材３の表面全体を覆っていてもよい。
【００４９】
中間層５及び第一中間層１５の各厚みは、１０μｍ未満又は６０μｍより大きくてもよい。中間層５及び第一中間層１５の各厚みが１０μｍ以上６０μｍ以下である場合、上述したように、焼成用治具１，１１は、表面層７（中間層５、第一中間層１５、及び第二中間層１６）の剥離をより一層抑制する。
表面層７の厚みは、１０μｍ未満であってもよい。表面層７の厚みが１０μｍ以上である場合、上述したように、焼成用治具１，１１は、被焼成体との反応をより一層確実に抑制する。
基材３の表面粗さは、１０μｍ未満であってもよい。基材３の表面粗さが、１０μｍ以上である場合、上述したように、焼成用治具１，１１は、被焼成体との反応をより一層確実に抑制する。
【００５０】
上述した実施形態では、焼成用治具１，１１は、積層セラミックコンデンサの製造過程（焼成過程）で用いられる焼成用治具であるが、焼成用治具１，１１は、積層セラミックコンデンサ以外のセラミック電子部品の製造過程（焼成過程）で用いられる焼成用治具であってもよい。
焼成用治具１，１１を用いて焼成する被焼成体は、（Ｃａ，Ｓｒ）ＺｒＯ３系又は（Ｓｒ，Ｂａ）Ｎｂ２Ｏ６系の誘電体セラミック材料以外の、セラミック材料を含んでいてもよい。被焼成体は、たとえば、ＢａＴｉＯ３系、Ｂａ(Ｔｉ，Ｚｒ)Ｏ３系、又は（Ｂａ，Ｃａ）ＴｉＯ３系などの誘電体セラミック材料を含んでいてもよい。
【符号の説明】
【００５１】
１，１１…焼成用治具、３…基材、５…中間層、７…表面層、１５…第一中間層、１６…第二中間層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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