(57)【要約】    【課題】分散安定性が高く、長期の貯蔵安定性に優れた顔料分散液を提供する。    【解決手段】（ａ）一般式（１）または（２）で表されるベンゾジフラノン系黒色顔料またはその異性体、（ｂ）塩基性基を有する顔料分散剤、（ｃ）４−メチルベンゼンスルホン酸、４−メチルベンゼンスルホン酸の水和物および４−メチルベンゼンスルホン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物、（ｄ）アセテート系有機溶剤および／またはエーテル系有機溶剤を含有する顔料分散液であって、該（ｃ）成分の含有量が、４−メチルベンゼンスルホン酸換算値で、該（ａ）成分の重量に対して１０〜５０００ｐｐｍである顔料分散液。【選択図】図１
2020070352.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）一般式（１）または（２）で表されるベンゾジフラノン系黒色顔料またはその異性体、
（ｂ）塩基性基を有する顔料分散剤、
（ｃ）４−メチルベンゼンスルホン酸、４−メチルベンゼンスルホン酸の水和物および４−メチルベンゼンスルホン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物、
（ｄ）アセテート系有機溶剤および／またはエーテル系有機溶剤
を含有する顔料分散液であって、
該（ｃ）成分の含有量が、４−メチルベンゼンスルホン酸換算値で、該（ａ）成分の重量に対して１０〜５０００ｐｐｍである顔料分散液。
【化１】
2020070352.tif 000032
（一般式（１）および（２）中、Ｒ１およびＲ６は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表す。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基を表す。）
【請求項２】
前記一般式（１）または（２）で表されるベンゾジフラノン系黒色顔料が、構造式（３）で表される化合物を含有する請求項１に記載の顔料分散液。
【化２】
2020070352.tif 000033
【請求項３】
前記（ｂ）塩基性基を有する顔料分散剤が、一般式（４）で表される構造とポリアルキレンオキサイド構造とを分子内に有する請求項１または２に記載の顔料分散液。
【化３】
2020070352.tif 000034
（一般式（４）中、ｎは１〜９を表す。＊は、ポリアルキレンオキサイド構造との結合部位を表す。）
【請求項４】
前記（ｂ）塩基性基を有する顔料分散剤のアミン価が１０〜３０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）である請求項１〜３いずれかに記載の顔料分散液。
【請求項５】
前記一般式（４）で表される構造とポリアルキレンオキサイド構造とを分子内に有する顔料分散剤が、一般式（１２）で表される顔料分散剤を含有する請求項３に記載の顔料分散液。
【化４】
2020070352.tif 000035
（一般式（１２）中、ｎは整数であり、１〜４を表す。
Ｒ２２〜Ｒ２５は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表す。
Ｒ２６およびＲ２７、Ｒ２８およびＲ２９、Ｒ３０およびＲ３１ならびにＲ３２およびＲ３３は、それぞれいずれか一方が水素原子であり、もう一方がメチル基である。
ｘ１〜ｘ４は、それぞれ独立に、エチレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数を表し、
ｙ１〜ｙ４は、それぞれ独立に、プロピレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数を表し、
（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４）／（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４＋ｙ１＋ｙ２＋ｙ３＋ｙ４）＝０．２０〜０．８０の関係を満たす。）
【請求項６】
有機ＥＬ表示装置の画素分割層形成用である請求項１〜５いずれかに記載の顔料分散液。
【請求項７】
請求項１〜５いずれかに記載の顔料分散液と、光重合開始剤と、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物とを含有するネガ型感光性組成物。
【請求項８】
請求項１〜５いずれかに記載の顔料分散液を含有する着色樹脂組成物を硬化した硬化物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、顔料分散液、それを用いて製造したネガ型感光性組成物および硬化物に関する。
【背景技術】
【０００２】
スマートフォン、タブレットＰＣ、テレビなどの薄型ディスプレイを有する表示装置において、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイを搭載した製品が数多く開発されている。一般に、有機ＥＬ表示装置は、発光素子の光取り出し側に、銀／マグネシウム合金などの透光性を有する第一電極を有し、発光素子の光取り出しでない側に、錫インジウム酸化物（ＩＴＯ）などの第二電極と、銀／銅合金などの金属反射層とを有する。さらに、レッド／ブルー／グリーンの各発光素子の画素間を分割するため、第一電極と第二電極との層間に絶縁層の機能を兼ね備えた微細パターン状の画素分割層が設けられる。
【０００３】
自発光型の表示装置である有機ＥＬ表示装置は、太陽光などの外光が表示部に入射すると視認性が低下しやすいという課題があり、外光反射による悪影響を低減するために画素分割層を黒色化する技術が近年注目されている。画素分割層を黒色化するための色材としては、カーボンブラックなどの無機黒色顔料と比べて高い絶縁性と低い誘電率とを兼ね備えた有機顔料であることが良い。中でも、可視光領域における高い遮光性と、近赤外線領域における高い透過性に加えて、高い耐熱性を有することから、アニオン性基またはカチオン性基などの高極性置換基を顔料骨格中に有さないベンゾジフラノン系黒色顔料が近年注目されている。例えば、無置換体のビス−オキソジヒドロインドリレン−ベンゾジフラノンを含有する顔料分散液、およびそれを用いて製造したネガ型感光性組成物が特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１７／０５７２８１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に開示されたベンゾジフラノン系黒色顔料を含有する顔料分散液は分散安定性が不十分であったため、長期に貯蔵すると粘稠度が高いハードケーキ状の沈降物が発生するという課題があり、該顔料分散液を含有する感光性組成物を用いて硬化膜を形成すると、硬化膜の遮光性が低下するという課題があった。
以上から、貯蔵安定性に優れたベンゾジフラノン系黒色顔料を含有する顔料分散液が切望されていた。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、（ａ）一般式（１）または（２）で表されるベンゾジフラノン系黒色顔料またはその異性体、（ｂ）塩基性基を有する顔料分散剤、（ｃ）４−メチルベンゼンスルホン酸、４−メチルベンゼンスルホン酸の水和物および４−メチルベンゼンスルホン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物、（ｄ）アセテート系有機溶剤および／またはエーテル系有機溶剤を含有する顔料分散液であって、該（ｃ）成分の含有量が、４−メチルベンゼンスルホン酸換算値で、該（ａ）成分の重量に対して１０〜５０００ｐｐｍである顔料分散液である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の顔料分散液によれば、ベンゾジフラノン系黒色顔料の分散安定性に優れ、沈降物の発生が抑制されており、長期に貯蔵しても、高い遮光性と高い平滑性を有する硬化膜を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の実施形態の一例を示す、画素分割層を具備する有機ＥＬ表示装置のＴＦＴ基板の断面図である。
【図２】本発明の実施形態の一例を示す、近赤外線透過性遮光膜を具備する加飾層付きカバーガラスを、化学強化ガラス基材面側から視認した場合の外観と、破線で示した箇所における断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
ｐｐｍとの単位は、重量ｐｐｍのことを意味する。画素分割層とは、有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層のことをいう。可視光線とは、波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ未満の領域の光を意味し、近赤外線とは、波長７８０ｎｍ以上１，０００ｎｍ以下の領域の光を意味する。遮光とは、硬化膜に対して垂直方向に入射した光の強度と比べて、透過した光の強度を低下させる機能を意味し、遮光性とは、特に断りがない限り可視光線を遮蔽する程度のことをいう。重量平均分子量（Ｍｗ）とは、テトラヒドロフランをキャリヤーとするゲルパーミエーションクロマトグラフィーで分析し、標準ポリスチレンによる検量線を用いて換算した値である。
【００１０】
本発明の顔料分散液は、（ａ）一般式（１）または（２）で表されるベンゾジフラノン系黒色顔料またはその異性体（以下、（ａ）成分と略記することがある。）、（ｂ）塩基性基を有する顔料分散剤（以下、（ｂ）成分と略記することがある。）、（ｃ）４−メチルベンゼンスルホン酸、４−メチルベンゼンスルホン酸の水和物および４−メチルベンゼンスルホン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物（以下、（ｃ）成分と略記することがある。）、（ｄ）アセテート系有機溶剤および／またはエーテル系有機溶剤（以下、（ｄ）成分と略記することがある。）を含有する顔料分散液であって、該（ｃ）成分の含有量が、４−メチルベンゼンスルホン酸換算値で、該（ａ）成分の重量に対して１０〜５０００ｐｐｍであることを特徴とする。
【００１１】
【化１】
2020070352.tif 000003
【００１２】
一般式（１）および（２）中、Ｒ１およびＲ６は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表す。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基を表す。
【００１３】
本発明の顔料分散液は、（ａ）一般式（１）または（２）で表されるベンゾジフラノン系黒色顔料またはその異性体を含有する。ここでいう異性体とは、幾何異性体および互変異性体を包括する。異性体は混合物として含まれていてもよく、異性体の関係にある複数種の化合物同士が混晶として１つの一次粒子を構成していてもよい。
【００１４】
（ａ）成分は、耐熱性に優れ、顔料分散液のチキソトロピー性を低くすることができる点で、Ｒ１〜Ｒ１０が水素原子であり、かつラクタム環構造を有する一般式（１）で表されるベンゾジフラノン系黒色顔料を含有することが好ましい。すなわち、下記構造式（３）で表される化合物を含有することが好ましい。顔料自身の耐熱性が高いことは、好ましくは２３０℃以上、より好ましくは２５０℃以上の高耐熱性が要求される有機ＥＬ表示装置の画素分割層の用途に好ましく用いることができる。
【００１５】
【化２】
2020070352.tif 000004
【００１６】
（ａ）成分の化学構造は、遠心分離または減圧処理により顔料分散液の濃縮物を得て、飛行時間型二次イオン質量分析（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）、飛行時間質量分析（ＴＯＦ−ＭＳ）、直接試料導入法−イオントラップ型質量スペクトル、ＮＭＲ分析、ＬＣ−ＭＳ、ＩＣＰ質量分析、赤外吸収スペクトル、ＣｕＫα線による粉末Ｘ線回折を組み合わせることにより同定することができる。ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系有機溶剤中に溶解させた溶液を分析試料として同定精度を高めてもよい。
【００１７】
本発明の顔料分散液中に含有する（ａ）成分は、顔料分散液を用いて製造される組成物の分散安定性、チキソトロピー性、塗布性、アルカリ現像性、撥水性などを制御する上で、必要に応じて、顔料表面の少なくとも一部が被覆材で被覆されていてもよい。また、少なくとも一部にベンゾジフラノン系黒色顔料固有の顔料表面が露出した部位があれば、後述する（ｂ）成分および（ｃ）成分の作用効果を得ることができ、被覆材で被覆されていたとしても、本発明の効果を得ることができる。
【００１８】
被覆材としては、シリカ、金属酸化物、金属水酸化物などの無機系被覆材や、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オルガノシロキサン樹脂、マレイン酸変性ロジン樹脂、フマル酸変性ロジン樹脂などの有機系被覆材が挙げられる。本発明の顔料分散液が、有機ＥＬ表示装置の画素分割層を形成するための感光性組成物に用いられる場合、ベンゾジフラノン系黒色顔料の表面を保護することで耐アルカリ性を向上させ、有機系アルカリ現像液を用いた現像工程中における再凝集を回避して現像残渣の発生を抑制する上では、シリカまたは金属酸化物が好ましく、顔料分散液の経時的な沈降を抑制する上で比重が小さいことがよく、シリカが好ましい。
【００１９】
本発明の顔料分散液には、さらに体質顔料を含有してもよい。体質顔料を含有することで（ａ）成分に由来する凹凸が平坦化され、硬化膜の平滑性がさらに向上できる場合がある。また、後述する熱硬化工程において、現像膜の収縮率が過度に高くなる部位が局所的に生ずることを回避し、硬化膜の断面が所望の形状となるよう制御する上で有用となる場合がある。ここでいう体質顔料とは、それ単独の粉末形態で白色ないし無色の非遮光性粒子のことをいう。体質顔料としては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、硫酸バリウムなどの無機系フィラーや、ポリメタクリル酸メチルやポリフェニレンスルフィド樹脂などの有機系フィラーが挙げられる。中でも、耐熱性および絶縁性が高く、誘電率が低い点からシリカが好ましい。シリカの一次粒子径分布は１〜５０ｎｍが好ましく、５〜２０ｎｍがより好ましい。中でも、粒度分布がシャープである点から、液相中でのビルドアップ法により造粒されたシリカゾル分散液、または溶融法により造粒されたシリカ粉末を含有させることが好ましい。シリカゾル分散液の具体例としては、ＰＧＭＥＡまたはＰＧＭＥを分散媒とし、一次粒子径の分布が１０〜１５ｎｍのシリカゾル分散液であるＰＭＡ−ＳＴ、ＰＧＭ−ＡＣ−２１４０ＹおよびＰＧＭ−ＳＴ（以上、いずれも日産化学製）が挙げられる。また、溶融法により造粒されたシリカ粉末の具体例としては、一次粒子径の分布が１０〜１５ｎｍの“アドマナノ”（登録商標）ＹＡ０１０Ｃ（アドマテック（株）製）が挙げられる。
【００２０】
本発明の顔料分散液は、（ｂ）塩基性基を有する顔料分散剤を含有する。顔料分散剤とは、顔料表面への吸着作用を有する顔料親和性基と、親溶媒性高分子鎖を併せ持ち、重量平均分子量（Ｍｗ）が５００以上である化合物をいい、本発明においては（ｂ）成分が有する塩基性基が顔料親和性基として機能する。顔料分散剤の作用としては、分散媒中での分散において主たる機構である酸−塩基相互作用に加えて、水素結合、Ｖａｎ−ｄｅｒ−Ｗａａｌｓ力、π電子相互作用などが複合的に関与し、顔料分散液を製造する際に行う湿式メディア分散処理において顔料同士の立体反発効果を高めることで顔料の解凝集を促進させ、かつ分散状態を安定化させる効果を奏する。なお、（ｂ）成分は、当業者の技術的常識において、いわゆる樹脂型分散剤またはその塩のことを意味しており、分子内に高分子鎖を有さず、塩基性基と顔料分子の残基とを有する顔料誘導体（シナジスト）などの非樹脂型顔料分散剤を包括しない。
【００２１】
本発明の顔料分散液が含有する（ｂ）成分が分子内に有する塩基性基としては、一級アミノ基、二級アミノ基、三級アミノ基、四級アンモニウム基が挙げられ、これら塩基性基は顔料分散液中において塩を形成していてもよく、後述する親溶媒性高分子鎖との結合形態として、末端基または連結基であってもよく、環状構造またはポリアミン構造をなしていてもよい。中でも、顔料表面への吸着力が高く、顔料分散液の低粘度化効果に優れる点で、三級アミノ基が特に好ましい。
【００２２】
環状構造を有する塩基性基の具体例としては、無置換もしくは置換基を有する含窒素複素環構造を有する有機基が挙げられ、ピリジル基、ピペラジニル基、Ｎ−メチルピペラジニル基、Ｎ−エチルピペラジニル基、Ｎ−ヒドロキシエチルピペラジニル基、ピペリジル基が挙げられる。
【００２３】
ポリアミン構造を有する塩基性基の具体例としては、三級アミノ基のみを含む直鎖状ポリアルキレンアミン構造、少なくとも四級アンモニウム基を含む直鎖状ポリアルキレンアミン構造、少なくとも一級アミノ基または二級アミノ基を含む直鎖状または分岐状ポリアルキレンイミン構造が挙げられる。中でも、顔料分散液の経時的な粘度の上昇を抑制する効果に優れる点で、三級アミノ基のみを含む直鎖状ポリアルキレンアミン構造が好ましい。
【００２４】
親溶媒性高分子鎖としては、ポリエーテル系高分子鎖、（メタ）アクリル系高分子鎖、ポリウレタン系高分子鎖、ポリシロキサン系高分子鎖、ポリエステル系高分子鎖が挙げられ、中でも、分散安定化効果に優れるだけでなく、感光性組成物の製造に用いられる際に幅広い樹脂種と高い相溶性を有し、高い平滑性を有する硬化膜が得られやすい点で、ポリエーテル系高分子鎖および／または（メタ）アクリル系高分子鎖が好ましく、少なくともポリエーテル系高分子鎖を有することがより好ましい。ここでいう（メタ）アクリル系とは、メタクリル系またはアクリル系を意味する。これら高分子鎖を有する（ｂ）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）としては１０００〜１５０００が好ましく、２０００〜１００００がより好ましい。
【００２５】
三級アミノ基のみを含む直鎖状ポリアルキレンアミン構造を有するポリエーテル系顔料分散剤の好ましい具体例としては、一般式（４）で表される構造とポリアルキレンオキサイド構造とを分子内に有するポリエーテル系顔料分散剤を挙げることができる。
【００２６】
【化３】
2020070352.tif 000005
【００２７】
一般式（４）中、ｎは整数であり、１〜９を表す。＊は、ポリアルキレンオキサイド構造との結合部位を表す。
【００２８】
三級アミノ基を末端に１つ有するポリエーテル系顔料分散剤の好ましい具体例としては、一般式（５）または一般式（６）で表される構造と、ポリアルキレンオキサイド構造とを有するポリエーテル系顔料分散剤を好ましく挙げることができる。
【００２９】
【化４】
2020070352.tif 000006
【００３０】
一般式（５）および一般式（６）中、Ｒ１３〜Ｒ１６は炭素数１〜５のアルキル基を表す。＊は、ポリアルキレンオキサイド構造との結合部位を表す。
【００３１】
中でも、顔料分散液の貯蔵後の粘度上昇を抑制する効果に優れ、また、最終的に得られる硬化膜の平滑性を高めることができる点から、一般式（４）で表される構造とポリアルキレンオキサイド構造とを分子内に有するポリエーテル系顔料分散剤が好ましい。
【００３２】
一般式（４）で表される構造単位は、ポリアルキレンアミン類を由来として、ポリエーテル系顔料分散剤の分子構造中に導入することができる。また、上記一般式（５）または一般式（６）で表される構造単位は、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルコール類を由来として、ポリエーテル系顔料分散剤の分子末端に導入することができる。
【００３３】
多点吸着による高い減粘効果および分散安定化効果を得る上で、一般式（４）中のｎは、１以上である。一方で、複数の顔料粒子への橋かけ型吸着による高粘度化を回避する上で、ｎは４以下であることが好ましい。一般式（４）で表される構造を導入するためのポリアルキレンアミン類としては、公知のエチレンアミン類を用いることができ、例えば、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミンが挙げられる。これら化合物はいずれも分子内に２つの一級アミノ基を両末端基として有する化合物であり、エチレンジアミンを除き、いずれも二級アミノ基を連結基として有する化合物である。
【００３４】
顔料表面への吸着性を高める上で、一般式（５）および一般式（６）中のＲ１３〜Ｒ１６は炭素数１または２のアルキル基であることが好ましく、Ｎ，Ｎ−ジアルキル構造を分子末端に導入するためのＮ，Ｎ−ジアルキルアミノアルコール類としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエタノール、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエタノール、Ｎ，Ｎ−ジエチルイソプロパノールアミンが好ましく挙げられる。これら化合物はいずれも分子内に三級アミノ基を片末端基として有する化合物である。
【００３５】
一般式（４）で表される構造中の窒素原子がそれぞれ結合するポリアルキレンオキサイド構造、および一般式（５）または一般式（６）で表される構造中の酸素原子が結合するポリアルキレンオキサイド構造としては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドおよび／またはブチレンオキサイドを繰り返し単位として含むポリアルキレンオキサイド構造が挙げられる。中でも、分散安定性の観点から、少なくともエチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイドを含むことが好ましい。なお、ここでいう、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイドとは、環状エーテル化合物のことではなく、二価の連結基を意味する。
【００３６】
ポリアルキレンオキサイド構造、すなわちポリエーテル高分子鎖は、ランダム型であってもブロック型であってもよいが、（ｂ）成分の１分子ごとの立体反発効果をより均一に制御し易く、優れた粘度安定性が得られる点からブロック型であることが好ましい。ポリエチレンオキサイド（以下、「ＰＥＯ」と略記することがある）およびポリプロピレンオキサイド（以下、「ＰＰＯ」と略記することがある）を有するブロック型のポリエーテル系高分子鎖としては、例えば、下記一般式（７）〜（１０）で表されるＰＥＯ−ＰＰＯジブロック型ポリエーテル系高分子鎖、下記一般式（１１）で表されるＰＥＯ−ＰＰＯ−ＰＥＯトリブロック型ポリエーテル系高分子鎖が挙げられる。
【００３７】
【化５】
2020070352.tif 000007
【００３８】
【化６】
2020070352.tif 000008
【００３９】
一般式（７）〜（１１）中、Ｒ１７〜Ｒ２１は水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表す。ｘおよびｚはエチレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数を表し、ｙはプロピレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数を表す。＊は結合部位を表す。
【００４０】
これらブロック型の直鎖状ポリエーテル系高分子鎖を（ｂ）成分の分子骨格中に導入する方法としては、液状のポリエチレングリコールおよびポリプロピレングリコールや、気化させたエチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイドを、それぞれ順に重合して段階的に、母体となる上記ポリアルキレンアミン類またはＮ，Ｎ−ジアルキルアミノアルコール類に付加する方法や、ブロック型ポリアルキレングリコール類の末端水酸基を反応点として一段階で付加する方法が挙げられる。ブロック型ポリアルキレングリコール類の市販品としては、例えば、‘‘Ｓｙｎｐｅｒｏｎｉｃ’’  Ｆ１０８、同Ｌ３５、同Ｌ６４、同１２１、“Ｐｏｌｏｘａｍｅｒ”（登録商標）２３７（以上、いずれもＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ製）、“Ｐｌｕｒｏｎｉｃ”（登録商標）Ｐ６５、同Ｐ８４、同Ｐ１０２、同１０５、同Ｆ３８、同Ｆ７７、同Ｆ８７（いずれも、ＢＡＳＦ製）が挙げられる。
【００４１】
以上より、本発明に好ましく用いることができるポリエーテル系顔料分散剤の具体例として、一般式（１２）で表されるポリエーテル系顔料分散剤、一般式（１３）で表されるポリエーテル系顔料分散剤を挙げることができる。中でも、チキソトロピー性を低くすることができる点で、一般式（１２）で表されるポリエーテル系顔料分散剤を含有することがより好ましい。ここでいう、チキソトロピー性とは、粘度における、せん断力依存性のことをいい、（ａ）成分の分散状態を示すパラメータのひとつである。チキソトロピー性が低い顔料分散液であるほど（ａ）成分が優れた分散状態にあり、結果として、最終的に得られる硬化膜の平滑性を向上することができる。また、チキソトロピー性が低い顔料分散液を含有する感光性組成物は、スリットコーターなどで薄膜塗布を行なう場合、吐出部における液詰まりによる塗布欠陥を抑制し、塗布速度を高めて生産性を向上することができる場合がある。
【００４２】
【化７】
2020070352.tif 000009
【００４３】
一般式（１２）中、ｎは整数であり、１〜４を表す。
Ｒ２２〜Ｒ２５は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表す。
Ｒ２６およびＲ２７は、いずれか一方が水素原子であり、もう一方がメチル基であり、Ｒ２８およびＲ２９、Ｒ３０およびＲ３１、Ｒ３２およびＲ３３についてもまた同様である。
ｘ１〜ｘ４は、それぞれ独立に、エチレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数を表し、
ｙ１〜ｙ４は、それぞれ独立に、プロピレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数を表し、
（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４）／（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４＋ｙ１＋ｙ２＋ｙ３＋ｙ４）＝０．２０〜０．８０の関係を満たす。
【００４４】
【化８】
2020070352.tif 000010
【００４５】
一般式（１３）中、Ｒ３４およびＲ３５は炭素数１〜５のアルキル基を表す。
Ｒ３６は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ３７およびＲ３８のうち、いずれか一方が水素原子であり、もう一方がメチル基を表す。Ｒ３９は水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表す。ｘ５は、エチレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数を表し、ｙ５は、プロピレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数を表し、ｘ５／（ｘ５＋ｙ５）＝０．２０〜０．８０の関係を満たす。
【００４６】
ここでいう、平均付加ｍｏｌ数とは、エチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの付加ｍｏｌ数の平均値を表し、付加ｍｏｌ数とは、繰り返し単位数のことを表す。すなわち、一般式（１２）で表されるポリエーテル系顔料分散剤および一般式（１３）で表されるポリエーテル系顔料分散剤は、各結合部位におけるポリエーテル系高分子鎖の長さや、一本のポリエーテル系高分子鎖を構成するエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドのｍｏｌ比率が異なる複数種の分子の混合物であってもよいことを意味する。
【００４７】
一般式（１２）中、（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４）／（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４＋ｙ１＋ｙ２＋ｙ３＋ｙ４）＝０．２０〜０．８０とは、エチレンオキサイドの付加ｍｏｌ数とプロピレンオキサイドの付加ｍｏｌ数の合計のうち、エチレンオキサイドの付加ｍｏｌ数が、２０〜８０ｍｏｌ％を占めることを意味する。また、一般式（１３）中、ｘ５／（ｘ５＋ｙ５）＝０．２０〜０．８０とは、エチレンオキサイドの付加ｍｏｌ数とプロピレンオキサイドの付加ｍｏｌ数の合計のうち、エチレンオキサイドの付加ｍｏｌ数が、２０〜８０ｍｏｌ％を占めることを意味する。一般式（１２）または一般式（１３）中の、エチレンオキサイドの付加ｍｏｌ数とプロピレンオキサイドの付加ｍｏｌ数の合計は、後述するアミン価が所望の値となるようにそれぞれ決定することが好ましい。
【００４８】
（ｂ）成分のアミン価は、後述する湿式分散処理工程においてベンゾジフラノン系黒色顔料の微細化を促進しつつ顔料分散液を低粘度化させる上で、それぞれ５（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上であることが好ましく、１０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上であることがより好ましい。一方で、（ｂ）成分の分子骨格中に占める親溶媒性高分子鎖長を十分に確保して高い立体反発効果を得て再凝集を抑制し、経時的な粘度の上昇を抑える上で、６０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下であることが好ましく、３０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下が好ましい。
【００４９】
ここでいうアミン価とは、顔料分散剤を合成するための原料の未反応成分、溶媒および触媒などを含まず、樹脂である顔料分散剤単独のアミン価を意味する。アミン価は樹脂１ｇを中和するために要する酸と当量の水酸化カリウム（ＫＯＨ）のｍｇ数のことであり、電位差自動滴定装置（ＡＴ−５１０；京都電子工業（株）製）を用い、滴定試薬として０．１ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液、滴定溶剤としてＴＨＦを用いて、「ＪＩＳ  Ｋ２５０１（２００３）」に基づき、電位差滴定法により測定して求めることができる。
【００５０】
三級アミノ基および／または四級アンモニウム塩基と、（メタ）アクリル系高分子鎖を有する顔料分散剤としては、三級アミノ基および／または四級アンモニウム塩基を有するエチレン性不飽和モノマーと、塩基性基を有さないエチレン性不飽和モノマーとを熱重合開始剤の存在下、アセテート系有機溶剤および／またはエーテル系有機溶剤中で共重合して得られる顔料分散剤が挙げられる。重合スキームとしては１段階で行うランダム共重合でも、多段で行うブロック共重合であってもよいが、分散安定性に優れる観点から、ブロック共重合であることが好ましい。
【００５１】
三級アミノ基を導入するためのエチレン性不飽和モノマーとしては、例えば、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジブチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、ジエチルアミノプロピルアクリルアミドが挙げられる。
【００５２】
四級アンモニウム塩基を導入するためのエチレン性不飽和モノマーとしては、例えば、
２−（メタクリロイルオキシ）エチルトリメチルアンモニウムクロライド、３−（メタクリロイルアミド）プロピルトリメチルアンモニウムクロライド、２−（メタクリロイルオキシ）エチルトリメチルアンモニウムメチルスルフェート、ジメチルアミノエチルアクリレートベンジルクロライド四級塩が挙げられる。
【００５３】
塩基性基を有さないエチレン性不飽和モノマーとしては、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、スチレンスルホン酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソステアリルが挙げられる。
【００５４】
三級アミノ基および／または四級アンモニウム塩基と、（メタ）アクリル系高分子鎖を有する顔料分散剤の具体例としては、一般式（１４）で表される構造単位および／または一般式（１５）で表される構造単位を有する顔料分散剤が好ましく挙げられる。
【００５５】
【化９】
2020070352.tif 000011
【００５６】
Ｒ４０は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ４１は炭素数１〜４の二価の連結基を表し、Ｒ４２およびＲ４３は、それぞれ独立に、炭素数１〜５のアルキル基を表す。
【００５７】
【化１０】
2020070352.tif 000012
【００５８】
Ｒ４４は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ４５は炭素数１〜４の二価の連結基を表し、Ｒ４６〜Ｒ４８は、それぞれ独立に、ベンジル基または炭素数１〜５のアルキル基を表す。Ｘ−はアンモニウムカチオンに対するカウンターアニオンであり、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｆ−、ＣＨ３ＣＯＯ−、ＣＨ３ＯＳＯ３−、ＣＨ３ＳＯ４−、Ｃ２Ｈ５ＳＯ４−、ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−を表す。
【００５９】
一般式（１５）で表される構造単位が有する四級アンモニウム塩基は、共重合により得られた（メタ）アクリル系高分子鎖を有する顔料分散剤が有する三級アミノ基の一部または全てを、四級化剤の存在下／窒素雰囲気下／液温５０〜８０℃条件下で１〜６時間撹拌することにより四級化処理をして得てもよく、また、アンモニウムカチオンに対する対イオン種、すなわちカウンターアニオン種が顔料分散液の製造工程中に交換されていてもよい。所望の四級アンモニウム塩基とするための四級化剤としては、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化ベンジル、硫酸ジアルキル、４−メチルベンゼンスルホン酸アルキルを用いることができる。
【００６０】
（ｂ）成分としては、公知のものを含有することができる。例えば、“ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ”（登録商標）−１４２、１４５、１６４、１６７、２００１、２００８、２００９、２０１０、２０２０、２０２５、２１６４、９０７６、９０７７、ＢＹＫ−ＬＰ  Ｎ６９１９、ＢＹＫ−ＬＰ  Ｎ２１１１６（以上、いずれもビックケミー社製）、“Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ”（登録商標）９０００、１１２００、１３６５０、２００００、２４０００、２４０００ＳＣ、２４０００ＧＲ、３２０００、３２５００、３２５５０、３２６０００、３３０００、３４７５０、３５１００、３５２００、３７５００、３９０００、５６０００（以上、いずれもルーブリゾール社製）、Ｅｆｋａ−ＰＸ４３００、４３１０、４３２０（以上、いずれもＢＡＳＦ社製）、アジスパーＰＢ８２１、ＰＢ８２２、ＰＢ８２４、ＰＢ８８１、ＰＢ８８３（以上、いずれも味の素ファインテクノ社製）が挙げられる。
【００６１】
（ｂ）成分の含有量は、顔料分散液の製造直後の粘度を低粘度化させ、かつ貯蔵時の沈降物の発生を抑制する上で、（ａ）成分１００重量部に対して１０重量部以上が好ましく、１５重量部以上がより好ましい。一方で、顔料分散液を用いて製造されるコーティング材料の諸特性を高める上で、（ａ）成分１００重量部に対して５０重量部以下が好ましく、３０重量部以下がより好ましい。ここでいう、コーティング材料の諸特性とは、例えば、塗布性、アルカリ現像性、パターン形状の制御、耐熱性が挙げられる。
【００６２】
本発明の顔料分散液は、（ｃ）４−メチルベンゼンスルホン酸、４−メチルベンゼンスルホン酸の水和物および４−メチルベンゼンスルホン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を、４−メチルベンゼンスルホン酸換算値で、（ａ）成分の重量に対して１０〜５０００ｐｐｍ含有する。
【００６３】
ここでいう４−メチルベンゼンスルホン酸イオンとは、４―メチルベンゼンスルホン酸が分子内に有するスルホ基がプロトン解離した、４−メチルベンゼンスルホナートアニオン（ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−）のことを意味し、遊離アニオンの形態だけでなく、（ｃ）成分以外の塩基性成分と塩を形成した形態にある場合を包括して意味する。また、ここでいう４−メチルベンゼンスルホン酸換算値とは、本発明の顔料分散液中の４−メチルベンゼンスルホン酸、４−メチルベンゼンスルホン酸の水和物および４−メチルベンゼンスルホン酸イオンの合計ｍｏｌ数と等しいｍｏｌ数の４−メチルベンゼンスルホン酸の重量の、該（ａ）成分の重量に対する割合をいう。すなわち、４−メチルベンゼンスルホン酸換算値とは、該（ｃ）成分に属する全ての化合物が、酸の形態（ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３Ｈ）で存在すると見なしたときの含有量（ｐｐｍ）を意味する。なお、換算に用いる４−メチルベンゼンスルホン酸の具体的な構造を構造式（１６）に示す。
【００６４】
【化１１】
2020070352.tif 000013
【００６５】
また、４−メチルベンゼンスルホン酸の水和物としての存在形態としては、４−メチルベンゼンスルホン酸一水和物が挙げられる。
４−メチルベンゼンスルホン酸イオンの、塩としての存在形態の具体例としては、アンモニウム塩、アミン塩、金属塩が挙げられる。
【００６６】
また、顔料分散液中において異なる存在形態にある（ｃ）成分に属する化合物が混在していてもよく、中でも、沈降物の発生をより好適に抑制できる上で、少なくとも一部の（ｃ）成分と、（ｂ）成分とが、塩形成していることが好ましい。
【００６７】
４−メチルベンゼンスルホン酸のアンモニウム塩としては、例えば、上記に例示した（ｂ）成分がその構造中に有する四級アンモニウムカチオンと、４−メチルベンゼンスルホン酸イオンとがイオン結合した形態にある四級アンモニウム塩基が挙げられ、具体例として、構造式（１７）で表される構造単位が挙げられる。構造式（１７）で表される構造単位を有する顔料分散剤は、一般式（１４）で表される構造単位を有する顔料分散剤を、四級化剤として４−メチルベンゼンスルホン酸アルキルを用いて四級化処理を行なうことで得ることができる。
【００６８】
【化１２】
2020070352.tif 000014
【００６９】
４−メチルベンゼンスルホン酸の金属塩としては、例えば、下記構造式（１８）で表される化合物、下記構造式（１９）で表される化合物が挙げられる。Ｍ１＋としては、例えば、Ｎａ＋、Ｋ＋が挙げられ、Ｍ２２＋としては、例えば、Ｃａ２＋、Ｎｉ２＋、Ｆｅ２＋、Ｃｕ２＋が挙げられる。
【００７０】
【化１３】
2020070352.tif 000015
【００７１】
構造式（１８）中、Ｍ１＋は、一価の金属陽イオンを表す。
構造式（１９）中、Ｍ２２＋は、二価の金属陽イオンを表す。
【００７２】
（ｃ）成分は、（ａ）成分を高濃度に含有する沈降物の発生を抑制する効果を奏する。また、沈降物中の凝集力の経時的な高まりを抑え、ハードケーキ状に堆積する現象を抑制する効果を奏する。この作用は、（ｃ）成分が分子内に有するベンゼン環を顔料表面側へ、スルホ基を分散媒側へ配向して吸着し、（ａ）成分の表面を改質することにより得られる効果であると考えられる。スルホ基のパラ位に位置するメチル基は、アセテート系有機溶剤またはエーテル系有機溶剤を含む分散媒に対する（ｃ）成分自身の溶解性を向上し、かつ（ａ）成分の表面への吸着力の向上に寄与する有機基として機能する。
【００７３】
（ｃ）成分が、上記４−メチルベンゼンスルホン酸換算値で（ａ）成分の重量に対して１０ｐｐｍ以上であると、ハードケーキ状沈降物の発生を抑制する効果が得られ、顔料分散液を長期に貯蔵しても高い遮光性を有する硬化膜を得ることができる。上記効果をさらに得られる点で、５０ｐｐｍ以上が好ましく、１００ｐｐｍ以上がより好ましい。一方で、５０００ｐｐｍ以下であると、経時的な粘度の上昇および粗大粒子の発生を抑制することができ、顔料分散液を長期に貯蔵しても高い平滑性を有する硬化膜を得ることができる。上記効果をさらに得られる点で、１０００ｐｐｍ以下が好ましく、５００ｐｐｍ以下がより好ましい。本発明の顔料分散液を画素分割層の形成に用いる場合、画素分割層の上部に成膜される電極の断線や、駆動時の電荷の偏りを抑制して、有機ＥＬ表示装置の発光素子が非点灯となってしまう現象を回避する上で、平滑性が高いほど望ましい。
【００７４】
（ｃ）成分の含有量を定量する方法としては、本発明の顔料分散液またはそれを用いて製造した組成物が含有する全ての構成成分を液状化させたものを分析試料とし、ＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィ）またはＬＣ−ＭＳ（液体クロマトグラフィ−質量スペクトル）を用いて、標品を用いて得られる検量線のピーク面積を基準として定量することができる。（ａ）成分を溶解させ、均一な溶液形態の分析試料とするための前処理用薬液としては、濃硝酸などの無機系の強酸、もしくは水酸化テトラメチルアンモニウムなどの有機系の強アルカリを用いることができ、これを過大希釈した液を検体として移動相に送液する。標品としては、４−メチルベンゼンスルホン酸または４−メチルベンゼンスルホン酸・１水和物を用いることができる。（ｃ）成分に属する全ての成分は、ＨＰＬＣまたはＬＣ−ＭＳにおける移動相中で遊離のアニオンとし、４−メチルベンゼンスルホン酸イオンとして検出される。さらに、ＮＭＲ（核磁気共鳴）を用いることで、さらに同定精度を高めることができる。
【００７５】
本発明の顔料分散液は、（ｄ）アセテート系有機溶剤および／またはエーテル系有機溶剤を含有する。なお、本明細書中において、エーテル結合を分子内に有していたとしても、アセテートである有機溶剤を、アセテート系有機溶剤に分類する。また、アルコール性水酸基などの水酸基を分子内に有していたとしても、エーテル結合を分子内に有する有機溶剤を、エーテル系有機溶剤に分類する。
【００７６】
以下に有機溶剤種と、有機溶剤種ごとのＳＰ値（Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ  Ｐａｒａｍｅｔｅｒ）および大気圧下における沸点を例示する。
【００７７】
アセテート系有機溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＳＰ値８．７；沸点１４６℃；以下、「ＰＧＭＥＡ」）、３−メトキシブチルアセテート（ＳＰ値８．７；沸点１７１℃；以下、「ＭＢＡ」）、ｎ−プロピルアセテート（ＳＰ値８．７；沸点１０２℃）、ブチルアセテート（ＳＰ値８．７；沸点１２６℃）、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＳＰ値９．０；沸点１４５℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＳＰ値８．７；沸点１４６℃）、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ＳＰ値８．９；沸点１８８℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＳＰ値９．０；沸点２１７℃）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ＳＰ値８．９；沸点２４７℃）、１，３−ブチレングリコールジアセテート（ＳＰ値９．５；沸点２３２℃）が挙げられる。
【００７８】
エーテル系有機溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＳＰ値１０．２；沸点１２１℃；以下、「ＰＧＭＥ」）、メトキシブタノール（ＳＰ値１０．９；沸点１６１℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（ＳＰ値１０．９；沸点２０２℃）、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル（ＳＰ値９．８；沸点１５０℃）、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル（ＳＰ値９．７；沸点１７０℃）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＳＰ値９．７；沸点１９０℃）、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル（ＳＰ値９．４；沸点２２９℃）が挙げられる。
【００７９】
中でも、分散安定性の観点から、顔料分散液中に含有する有機溶剤に占めるアセテート系有機溶剤の含有量が８０．０重量％以上であることが好ましい。また、ＳＰ値が９．０以下のアセテート系有機溶剤を少なくとも含有することがより好ましく、本発明の顔料分散液を用いて製造された組成物をスピンコーターやスリットコーターなどの薄膜塗布装置を用いて塗布する場合、高い塗布性と適度な乾燥速度が得られる上で、大気圧下における沸点が１３０〜１５０℃であることがよい。以上の観点から、本発明の顔料分散液が、有機ＥＬ表示装置の画素分割層や、近赤外線透過性遮光膜を形成するための感光性組成物の製造に用いられる場合、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含有することが最も好ましい。
【００８０】
また、これら以外の有機溶剤として、さらに、アルコール系、ケトン系、芳香族系の有機溶剤を併用しても構わない。なお、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系有機溶剤は、貯蔵中の（ａ）成分の経時的な溶解を回避し、遮光性の高い硬化膜を安定的に得る上で顔料分散液が含む全溶媒中０．５重量％以下であることが好ましい。
【００８１】
本発明の顔料分散液は、沈降物の発生を抑制する上で、非水系顔料分散液であることが好ましい。ここでいう非水系顔料分散液とは、顔料分散液中に含有する全ての溶媒に対して、水の含有量が１０．００重量％未満である顔料分散液のことを意味する。
【００８２】
顔料分散液中に含有する有機溶剤の含有量は、顔料分散液が含有する全溶媒中、９９．５重量％以上であることが好ましい。ここでいう溶媒とは、水および有機溶剤のことを指し、すなわち、水の含有量は全溶媒中０．５重量％未満であることがより好ましい。（ａ）成分の表面吸着水として水を微量含むことにより、沈降物の発生をより好適に抑制できる場合がある。なお、顔料分散液が含有する溶媒の含有量は、後述する顔料分散液の固形分との差分から決定される。
【００８３】
さらに、分散安定性を制御する上で、必要に応じて（ｃ）成分以外の有機酸を含有してもよく、例えば、エチルスルホン酸、プロパンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ベンゼントリスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物、ジノニルナフタレンスルホン酸、マレイン酸、フマル酸、酢酸が挙げられる。これら有機酸は（ａ）成分に対して、それぞれ０．１重量％未満の含有量であることが好ましい。
【００８４】
顔料分散液の固形分は、沈降物の発生をより好適に抑制する上で、５．０重量％以上が好ましい。一方で、後述する湿式メディア分散処理において顔料分散液を製造する際、（ａ）成分の微細化を促進することができる点で、３０．０重量％以下が好ましい。
【００８５】
本発明の顔料分散液は、さらに、アルカリ可溶性樹脂を含有してもよい。アルカリ可溶性樹脂を含有させることにより、顔料分散液を湿式メディア分散処理により製造する際、（ａ）成分に対する（ｂ）成分および（ｃ）成分の接触頻度を適度なものとして、（ａ）成分１粒あたりに吸着する（ｂ）成分および（ｃ）成分の分子数がより均一化されることにより、結果として平均分散粒子径を、後述する所望の範囲となるように制御することが容易となる。また、顔料分散液を用いて製造される感光性組成物の現像性を向上させることができる。ここでいう、アルカリ可溶性樹脂とは、アルカリ可溶性基として水酸基および／またはカルボキシル基を有し、かつ樹脂酸価が３０（ｍｇＫＯＨ／ｇ以上）であり、アミン価が０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００以上１５０，０００以下の樹脂のことをいう。ここでいう樹脂酸価とは、電位差自動滴定装置（ＡＴ−５１０；京都電子工業（株）製）を用い、滴定試薬として０．１ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ／エタノール溶液、滴定溶剤としてキシレン／ＤＭＦ＝１／１（重量比）を用いて、「ＪＩＳ  Ｋ２５０１（２００３）」に基づき、電位差滴定法により測定して求めることができる。
【００８６】
アルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ可溶性ポリイミド樹脂、アルカリ可溶性ポリイミド前駆体、アルカリ可溶性ポリベンゾオキサゾール樹脂、アルカリ可溶性ポリベンゾオキサゾール前駆体、アルカリ可溶性カルド樹脂、アルカリ可溶性エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、アルカリ可溶性ポリシロキサン樹脂、アルカリ可溶性ノボラック樹脂、アルカリ可溶性（メタ）アクリル樹脂、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、アルカリ可溶性ポリエステル樹脂が挙げられる。
【００８７】
本発明の顔料分散液が画素分割層を形成するための感光性組成物に用いられる場合、好ましくは２３０℃以上、より好ましくは２５０℃以上の高温条件下における画素分割層からのガス発生量（アウトガス）を少ないものとして発光素子の劣化を抑制する上で、耐熱性が高いアルカリ可溶性樹脂がよく、かつ（ａ）成分に対する分散安定性に優れたものであることが望ましい。それら観点から、アルカリ可溶性ポリイミド樹脂、アルカリ可溶性カルド樹脂、アルカリ可溶性エポキシ（メタ）アクリレート樹脂が好ましく、アルカリ可溶性ポリイミド樹脂がより好ましい。一方で、膜中における（ａ）成分の分散状態を維持して最終的に得られる硬化膜の平滑性をより高める上では、顔料分散液中もしくは感光性組成物中に、アルカリ可溶性カルド樹脂、アルカリ可溶性エポキシ（メタ）アクリレート樹脂のうち少なくともいずれかの樹脂を含有することが最も好ましい。
【００８８】
アルカリ可溶性カルド樹脂とは、カルド骨格を有するアルカリ可溶性樹脂のことをいい、カルド骨格とは、環状構造を構成する環炭素原子である４級炭素原子に、２つの芳香族基が単結合で繋がった骨格をいう。
【００８９】
アルカリ可溶性カルド樹脂の好ましい具体例としては、フルオレン骨格を有し、下記一般式（２０）で表される構造単位とラジカル重合性基とを有するアルカリ可溶性カルド樹脂、１−フェニル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン骨格を有し、下記一般式（２１）で表される構造単位とラジカル重合性基とを有するアルカリ可溶性カルド樹脂、Ｎ−フェニルフェノールフタレイン骨格を有し、下記一般式（２２）で表される構造単位とラジカル重合性基とを有するアルカリ可溶性カルド樹脂を挙げることができる。
【００９０】
【化１４】
2020070352.tif 000016
【００９１】
上記一般式（２０）、（２１）および（２２）中、Ｑ１〜Ｑ８は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、ベンゼン環に直接結合する置換基を示し、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基であり、ａ〜ｈは整数であり、１または２である。
【００９２】
アルカリ可溶性カルド樹脂としては、市販品を用いることもでき、例えば、“ＡＤＥＫＡ  ＡＲＫＬＳ”（登録商標）ＷＲ−３０１（（株）ＡＤＥＫＡ製）、“オグゾール”（登録商標）ＣＲ−ＴＲ１、ＣＲ−ＴＲ２、ＣＲ−ＴＲ３、ＣＲ−ＴＲ４、ＣＲ−ＴＲ５、ＣＲ−ＴＲ６（以上、いずれも大阪ガスケミカル（株）製）が挙げられる。
【００９３】
アルカリ可溶性エポキシ（メタ）アクリレート樹脂とは、エチレン性不飽和モノカルボン酸が有するカルボキシル基を、エポキシ樹脂が有するエポキシ基に開環付加させることによりエチレン性不飽和基を導入し、さらにエポキシ基の開環により生じた水酸基の少なくとも一部に、多塩基性カルボン酸（またはその無水物）を付加させることによりカルボキシル基を導入して得られる酸変性エポキシ樹脂のうち、上記カルド骨格を有さず、上記アルカリ可溶性樹脂に相当する樹脂のことをいう。好ましい具体例としては、下記構造式（２３）〜（２５）で表される部分構造を有するアルカリ可溶性エポキシ（メタ）アクリレート樹脂が挙げられる。母体原料となるエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビフェニル構造を有するエポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂が好ましく挙げられる。エポキシ樹脂を変性するために用いるエチレン性不飽和モノカルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸が好ましく挙げられる。多塩基性カルボン酸（またはその無水物）としては、例えば、マレイン酸無水物、コハク酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物が好ましく挙げられる。
【００９４】
【化１５】
2020070352.tif 000017
【００９５】
アルカリ可溶性エポキシ（メタ）アクリレート樹脂としては、市販品を用いることもでき、例えば、ＺＡＲ−１４９４Ｈ、ＺＡＲ−２００１Ｈ、ＺＦＲ−１４９１Ｈ、ＺＣＲ−１７９７Ｈ、ＺＣＲ−１５６９Ｈ、ＺＣＲ−１７９８Ｈ（いずれも、日本化薬（株）製）が挙げられる。
【００９６】
本発明の顔料分散液が含有する（ａ）成分の平均分散粒子径は、その用途に応じた好ましい範囲となるよう制御されることが好ましく、例えば、感光性組成物の製造に用いられる場合は、顔料分散液の粘度安定性と、最終的に得られる硬化膜の高いパターン直線性を両立させる上で、メジアン径Ｄ５０（累積５０％体積平均径）としては、７０〜１０００ｎｍが好ましく、１００〜５００ｎｍがより好ましい。メジアン径Ｄ９０（累積９０％体積平均径）としては、３００〜３０００ｎｍが好ましく、２００〜１０００ｎｍがより好ましい。メジアン径Ｄ５０およびＤ９０は、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置「ＵＰＡ１５０（Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ製）」を用いて、細かい粒子径の側を基点（０％）とした累積の体積平均径として算出することができる。
【００９７】
本発明の顔料分散液を製造する方法としては、例えば、（ａ）成分、（ｂ）成分、（ｃ）成分、（ｄ）成分、および必要に応じて他の成分を混合して機械的エネルギーを投入し、乾燥二次凝集の形態にある（ａ）成分を粉砕し分散させる方法が挙げられる。機械的エネルギーの投入方法としては、粉砕メディアを用いた、湿式メディア分散処理が好ましい。湿式メディア分散処理を行うための湿式分散機としては、横型または縦型ビーズミルやボールミルが挙げられ、例えば、“ＤＹＮＯ−ＭＩＬＬ”（登録商標）（Ｗｉｌｌｙ  Ａ．Ｂａｃｈｏｆｅｎ社製）、“スパイクミル”（登録商標）（（株）井上製作所製）、“サンドグラインダー”（登録商標）（デュポン社製）が挙げられる。分散機のベッセル内に充填するための粉砕メディアとしては、ジルコニアビーズ、ジルコンビーズ、無アルカリガラスビーズが挙げられ、欠けや摩砕によるコンタミネーションを回避するため、金属および金属イオン不純物源となる成分を含まないビーズを用いることが好ましい。また、ビーズの直径は０．０３〜１０ｍｍが好ましい。
【００９８】
上記所望の範囲のメジアン径Ｄ５０およびＤ９０となるよう製造するためには、直径が０．５ｍｍ以下の小径ビーズが充填されたビーズミル分散機を用いることがよく、分散機のベッセル内に充填されたビーズの運動性を高めて微細化を促進させるため、顔料分散液の製造直後の粘度が、Ｅ型粘度計（コーンプレート型粘度計）の実温２５℃のステージ上でプレート回転数５０ｒｐｍの条件下でせん断力をかけた際に、２．００（ｍＰａ・ｓ）以上１０．００（ｍＰａ・ｓ）未満の範囲となるように各構成成分の重量比率を設計することが好ましい。
【００９９】
上記の方法により得られる本発明の顔料分散液と、さらに最終用途上必要となる成分とを混合、撹拌することにより、種々のコーティング材料を製造することができる。該コーティング材料を硬化して得られる硬化膜は、特に、有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層や、近赤外線センサーが搭載された電子機器が具備する近赤外線透過性遮光膜などに好適に用いることができる。
【０１００】
本発明の実施形態の一例を示す、画素分割層を具備する有機ＥＬ表示装置のＴＦＴ基板の断面図を図１に示す。
基材６の表面に、ボトムゲート型またはトップゲート型のＴＦＴ１（薄膜トランジスタ）が行列状に設けられており、ＴＦＴ１と、ＴＦＴ１に接続された配線２とを覆う状態でＴＦＴ絶縁層３が形成されている。さらに、ＴＦＴ絶縁層３の表面には、平坦化層４が形成されており、平坦化層４には配線２を開口するコンタクトホール７が設けられている。平坦化層４の表面には、第二電極５がパターン形成されており、配線２に接続されている。第二電極５のパターン周縁を囲むようにして、画素分割層８が形成されている。画素分割層８には開口部が設けられており、開口部には有機ＥＬ発光材料を含む、発光画素９が形成されており、第一電極１０が、画素分割層８と発光画素９とを覆う状態で成膜されている。以上の積層構成からなるＴＦＴ基板を真空下で封止した後に発光画素部に直接電圧を印加すれば、有機ＥＬ表示装置として発光させることできる。
【０１０１】
発光画素９は、光の３原色である赤、青、緑領域それぞれの発光ピーク波長を有する異なる種類の画素が配列したもの、もしくは白色の発光光を放つ発光画素を全面に作製し、別途の積層部材として赤、青、緑のカラーフィルタを組み合わせたものであってもよい。通常表示される赤色領域のピーク波長は、５６０〜７００ｎｍ、青色領域のピーク波長は４２０〜５００ｎｍ、緑領域のピーク波長は、５００〜５５０ｎｍであるが、発光画素の種類は特に限定されず、発光光がいかなるピーク波長を有していてもよい。発光画素を構成する有機ＥＬ発光材料としては、発光層に加え、さらに正孔輸送層および／または電子輸送層を組み合わせた材料を好適に用いることができる。
【０１０２】
第二電極５としては、例えば、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）などの導電性金属酸化物を用いることができ、中でも、透明性と導電性に優れることから、ＩＴＯを好適に用いることができる。ＩＴＯをパターン形成する方法としては、まずスパッタ法でＩＴＯを全面成膜したのちに、エッチング用ポジ型レジスト材料をフォトリソグラフィ法によりパターン形成してＩＴＯ膜上にレジストパターンを得る。次に、該レジストパターン非形成部のＩＴＯ膜のみを液温２０〜６０℃のエッチング液により除去し、次いでレジストパターンを液温２０〜６０℃のレジスト剥離液により除去し、さらに必要に応じて所望の結晶化度となるよう熱処理を行う方法が挙げられる。ここでいうＩＴＯとは、いわゆるアモルファスＩＴＯを包括する。
【０１０３】
有機ＥＬ表示装置の光取り出し方向は、発光画素から放たれる発光光を、基材６を介して基材側へ取り出す、ボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置であってもよいし、第一電極を介して発光光を基材６の反対側へ取り出す、トップエミッション型有機ＥＬ表示装置であってもよく、特に限定されない。トップエミッション型有機ＥＬ表示装置である場合は、平坦化層４と第二電極５の間には、１方向への光取り出し効率を高めるため、パターン状の金属反射層をさらに設けるなどしてもよい。金属反射層としては、例えば、銅、ガリウム、マグネシウムなどの異種金属元素を含有する銀合金からなる導電膜が挙げられる。
【０１０４】
第一電極１０の具体例としては、ボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置である場合、光反射性に優れる点で、アルミニウムからなる層を好ましく用いることができ、トップエミッション型有機ＥＬ表示装置である場合、光透過性に優れる点で、銀／マグネシウムからなる銀合金からなる層を好ましく用いることができる。第一電極は通常スパッタ法で全面成膜されるため、局所的な成膜欠陥の発生を回避する上で、画素分割層８の表面平滑性が高いほど、その価値が高い。画素分割層は通常、フォトリソグラフィにより膜厚１．０〜３．０μｍの範囲でパターン形成される。
【０１０５】
基材６にガラスなどに代表される硬質の板状基材を用いれば、曲げることができないリジッドタイプの有機ＥＬ表示装置とすることができる。ガラスとしては、アルカリ金属元素の含有量が０．５％未満であり、ケイ素を主成分とする無アルカリガラスを好適に用いることができる。中でも、熱膨張係数が小さく、２５０℃以上の高温プロセスにおける寸法安定性に優れたものがよく、例えば、ＯＡ−１０Ｇ、ＯＡ−１１（以上、いずれも日本電気硝子（株）製）、ＡＮ−１００（旭硝子（株）製）が挙げられ、その厚さは、物理的耐久性の観点から通常は０．１〜０．５ｍｍである。
【０１０６】
本発明の実施形態の一例を示す、近赤外線透過性遮光膜を具備する加飾層付きカバーガラスを、化学強化ガラス基材面側から視認した場合の外観と、破線で示した箇所における断面図を図２に示す。近赤外線透過性遮光膜とは、可視光領域の光を遮光しつつ、近赤外線領域の光のみを選択的に多く透過させることを目的に形成された永久膜のことを意味する。近赤外線透過性遮光膜は、本発明の顔料分散液を用いたネガ型感光性組成物を硬化した硬化膜である。例えば、スマートフォンなどの電子機器において使用者に黒色に視認されていながら近接センサーの透過部として利用されるため、誤動作を防止し、検出感度を高める上で、近赤外線透過性が高いほどその価値が高い。化学強化ガラス基板１１としては、化学的処理によりガラス表面のナトリウムイオンをカリウムイオンに置換し、硬度など機械的物性を向上させたガラスを用いることができ、厚さは０．４〜１．０ｍｍが好ましく、平面状であってもよく、面内に曲面部を有したものであってもよい。化学強化ガラス基板としては、例えば、ＤＲＡＧＯＮ  ＴＲＡＩＬ（旭硝子（株）製）、Ｇｏｒｉｌｌａ  Ｇｌａｓｓ（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製）が挙げられる。加飾層（ベゼル）１２としては、黒色顔料や白色顔料を含有するネガ型感光性組成物または非感光性スクリーン印刷インキを用いて、フォトリソグラフィまたは印刷方式により膜厚１．０〜２０．０μｍの範囲でパターン形成される。近赤外線透過性遮光膜１３は通常、フォトリソグラフィまたは印刷方式により、膜厚１．０〜１０．０μｍの範囲で加飾層の開口部にパターン形成される。化学強化ガラス基板１１が面内に曲面部を有する場合、スプレーコーティング方式で塗布し、曲面用レーザー露光機を用いて露光し、次いで現像工程、熱硬化工程を行なうことでパターン形成することができる。本発明の顔料分散液を用いて製造された感光性組成物を用いれば、スプレーコーターの吐出口の目詰まり発生もまた抑制することができる。
【０１０７】
画素分割層を形成するためのコーティング材料としては、良好な加工性を維持しつつ遮光性の高いパターン形成が可能である点から、ネガ型感光性組成物であることが好ましい。ここでいうネガ型感光性とは、開口部を有する露光マスクを介して紫外線などの光をパターン状に露光した露光部の膜のみを光硬化させることにより、アルカリ現像液に対する溶解性を低下させ、露光されていない未露光部のみを現像液で除去することでパターン形成することができる特性をいう。アルカリ現像液としては、水酸化カリウム水溶液や、水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液などが通常用いられる。一方で、近赤外線透過性遮光膜を形成するためのコーティング材料としては、着色樹脂組成物であることが好ましく、フォトリソグラフィの他、印刷法、スプレー法などによる工法でパターン形成または全面成膜が可能である。ここでいう着色樹脂組成物とは、感光性組成物と非感光性組成物とを包括する。
【０１０８】
ネガ型感光性組成物を製造する方法としては、本発明の顔料分散液と、光重合開始剤と、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物と、必要に応じてその他成分とを混合、撹拌する方法が挙げられる。なお、本発明の顔料分散液を用いて製造されたネガ型感光性組成物、近赤外線遮蔽性着色樹脂組成物もまた本発明に包括される。
【０１０９】
光重合開始剤とは、露光によって結合開裂および／または反応してラジカル活性種を発生する化合物をいい、ラジカル活性種により、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物を光硬化させ、パターン形成することができる。
【０１１０】
光重合開始剤としては、オキシムエステル系光重合開始剤、α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤などを用いることができ、中でも、光硬化性に優れ、硬化膜の平滑性を向上できる点から、オキシムエステル系光重合開始剤が好ましく、市販品としては、例えば、“アデカクルーズ”（登録商標）ＮＣＩ−８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製；以下、「ＮＣＩ−８３１」）、“Ｉｒｇａｃｕｒｅ”（登録商標）ＯＸＥ−０２、ＯＸＥ−０３（以上、いずれもＢＡＳＦ社製）が挙げられる。光重合開始剤の含有量は、露光に対する感度向上の観点から、後述する２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物１００重量部に対して、５重量部以上が好ましく、１０重量部以上がより好ましい。また、露光に対する光硬化性の観点から、６０重量部以下が好ましく、４０重量部以下がより好ましい。
【０１１１】
２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物としては、ラジカル重合性基としてビニル基、または（メタ）アクリル基を分子内に２つ以上有する化合物が挙げられる。ここでいう、（メタ）アクリル基とは、メタクリル基またはアクリル基をいう。
【０１１２】
２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクタム変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクタム変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、９，９−ビス［４−（２−（メタ）アクリロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（３−（メタ）アクリロキシプロポキシ）フェニル］フルオレンが挙げられる。中でも、光硬化性に優れる点で、
４つ以上のラジカル重合性基を有する化合物を含有することが好ましく、中でも、ε−カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを含有することが好ましく、市販品としては、“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標）ＤＰＣＡ−６０（以下、「ＤＰＣＡ−６０」）、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−２０（以上、いずれも日本化薬（株）製）が挙げられる。
【０１１３】
２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物の含有量は、現像工程におけるアルカリ現像液の過度な染み込みを抑制して硬化膜の平滑性を高める上で、感光性組成物の全固形分中１０重量％以上が好ましく、１５重量％以上がより好ましい。また、熱硬化工程における過度な硬化収縮による皺の発生を抑制して硬化膜の平滑性を高める上で、６０重量％以下が好ましく、４０重量％以下がより好ましい。
【０１１４】
硬化膜とは、本発明の顔料分散液を含有するネガ型感光性組成物または着色樹脂組成物を、加熱時の雰囲気や圧力によらず、１８０℃以上４００℃以下の加熱条件下で熱処理を行なう工程を少なくとも含む成膜方法により得られる硬化物のことをいう。
【０１１５】
有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層または近赤外線センサーが搭載された電子機器が具備する近赤外線透過性遮光膜を形成する方法の具体例としては、例えば、塗布工程、プリベーク工程、露光工程、現像工程、熱硬化工程をこの順に含むフォトリソグラフィが挙げられる。
【０１１６】
塗布工程においては、ネガ型感光性組成物または着色樹脂組成物を基板に塗布して塗布膜を得る。塗布工程に用いる塗布装置としては、例えば、スリットコーター、スピンコーター、グラビアコーター、ディップコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、スプレーコーター、スクリーン印刷機、インクジェットが挙げられる。中でも、薄膜塗布においてピンホールなどの塗布欠陥が発生しづらく、塗布膜の膜厚均一性に優れることから、スリットコーターまたはスピンコーターが好ましい。
【０１１７】
プリベーク工程においては、加熱により塗布膜中の溶媒を揮散させることによりプリベーク膜を得る。加熱装置としては、例えば、熱風オーブン、ホットプレート、遠赤外線オーブン（ＩＲオーブン）などが挙げられる。ピンギャッププリベークあるいはコンタクトプリベークを行ってもよい。プリベーク温度は、５０〜１５０℃が好ましく、プリベーク時間は、３０秒間〜数時間が好ましい。膜厚均一性をより向上させるため、塗布工程の後に真空／減圧乾燥機により塗布膜が含む溶媒の少なくとも一部を揮散させた後に、加熱によるプリベーク工程を行っても良い。
【０１１８】
露光工程においては、プリベーク膜の膜面側から、フォトマスクを介して活性化学線を照射して露光膜を得る。露光工程に用いる露光装置としては、ステッパー、ミラープロジェクションマスクアライナー（ＭＰＡ）、パラレルライトマスクアライナー（ＰＬＡ）などが挙げられる。露光時に照射する活性化学線としては、例えば、紫外線、可視光線、電子線、Ｘ線、ＫｒＦ（波長２４８ｎｍ）レーザー、ＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）レーザーなどが挙げられる。中でも、水銀灯のｊ線（波長３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）またはｇ線（波長４３６ｎｍ）が好ましく、それらを含む混合線がより好ましい。露光量は通常１０〜４，０００ｍＪ／ｃｍ２程度（ｉ線換算値）である。フォトマスクとしては、例えば、ガラス、石英またはフィルムなどの露光波長における透光性を有する基材の片側の表面に、クロムなどの金属や黒色有機樹脂からなる露光光遮蔽性を有する薄膜がパターン状に成膜されたマスクが挙げられ、開口部のみ活性化学線を透過させてパターン露光することにより、露光膜を得る。
【０１１９】
現像工程においては、現像により未露光部を除去して、パターン状の現像膜を得る。現像方法としては、例えば、アルカリ現像液に、シャワー、ディッピング、パドルなどの方法により、露光膜を１０秒〜１０分間浸漬する方法が挙げられる。
露光膜において、露光部／未露光部のアルカリ現像液に対する溶解性の差を利用して、パターン状の現像膜を得ることができる。ここで、露光部とは、マスク開口部を介して露光光が照射された部位を意味し、一方で未露光部とは露光光が照射されない部位を意味する。
【０１２０】
アルカリ現像液としては、例えば、２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（以下、「ＴＭＡＨ」）水溶液、０．０４５重量％水酸化カリウム水溶液（以下、「ＫＯＨ」）を挙げることができ、通常は大気圧、１５〜３５℃の範囲で一定の液温で使用する。現像後は脱イオン水のシャワーによるリンス洗浄処理および／またはエアー噴射による水切り処理を加えることができる。
【０１２１】
熱硬化工程においては、加熱により現像膜を熱硬化させると同時に、水分、残留した現像液などの成分を揮散させて、硬化膜を得る。加熱装置としては、例えば、熱風オーブン、ＩＲオーブンなどが挙げられる。加熱温度は２００〜３００℃が好ましく、２３０〜２６０℃がより好ましい。加熱時の圧力は大気圧が好ましい。
【０１２２】
本発明の顔料分散液を含有するネガ型感光性組成物または着色樹脂組成物を硬化して得られる硬化膜を、有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層または近赤外線透過性遮光膜として用いる場合、膜厚１．０μｍあたりの光学濃度が、１．０以上であることが好ましい。また、顔料以外の成分の含有量を相対的に十分確保して良好なパターン加工性を得るため、２．０以下が好ましい。ここでいう光学濃度とは、透光性基材上に膜厚１．０μｍの膜厚となるよう形成した硬化膜を、光学濃度計（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製；Ｘ−Ｒｉｔｅ  ３６１Ｔ」を用いて入射光強度と透過光強度を測定し、以下の式から算出される値のことをいう。光学濃度が高いほど遮光性が高く、優れていることを示す。透光性基材としては、無アルカリガラス基板である「ＡＮ−１００」（旭硝子（株）製）を好ましく用いることができる。
光学濃度  ＝  ｌｏｇ１０（Ｉ０／Ｉ）
Ｉ０：入射光強度
Ｉ：透過光強度
【実施例】
【０１２３】
以下に本発明を、その実施例および比較例を挙げて詳細に説明するが、本発明の態様はこれらに限定されるものではない。
まず、各実施例および比較例における評価方法について説明する。
【０１２４】
（１）顔料分散液の耐沈降性の評価
実施例１〜１６および比較例１〜１３により得られた顔料分散液を、調製後１時間以内に容積１００ｍＬの円柱状のガラス瓶容器（底面の直径３センチ）の中に８０．０ｇ秤量して密栓し、大気圧下／遮光下／実温３０℃±１℃の恒温ボックス内で３時間静置させた後に取り出し開栓した。スパチュラを用いてガラス瓶容器の底面をかきとり、黒色沈降物の有無を確認し、沈降物が観られなかった顔料分散液のみを本評価の対象として再び密栓した。
【０１２５】
大気圧下／遮光下／実温３０℃±１℃の恒温ボックス内で静置させた状態で１００日間貯蔵させた後に取り出して開栓し、ガラス瓶容器を逆さにしたまま３分間保持し、顔料分散液をＳＵＳ製フィルタ（４００メッシュ）上で濾過する操作を行った。落下することなくガラス瓶容器内の底面または側面に付着して残った長径０．５ｍｍ以上の黒色沈降物の個数と、ＳＵＳ製フィルタ上に濾物としてトラップされた長径０．５ｍｍ以上の黒色沈降物の個数の合計値を評価した。
【０１２６】
黒色沈降物の発生が抑制されているほど優れているとし、以下の判定基準に基づいて耐沈降性を評価し、Ａ〜Ｃを合格、Ｄ〜Ｅを不合格とした。なお、長径２．０ｍｍ以上の大きさの黒色沈降物が観られた場合、もしくはガラス瓶容器の底面または側面に黒色沈降物が層状に堆積し、個数を数えることができなかった場合は、ハードケーキ状黒色沈降物が発生したものと判定し、その評価をＥとした。なお、下記（３）顔料分散液のチキソトロピー性の評価において経時粘度１が１０．００（ｍＰａ・ｓ）以上であった顔料分散液については静置粘度が高過ぎることにより正当な評価が困難であるため、評価対象から除外することとした。
Ａ  ：  黒色沈降物が全く観られなかった
Ｂ  ：  ５個未満の黒色沈降物が観られた
Ｃ  ：  ５個以上、１０個未満の黒色沈降物が観られた
Ｄ  ：  １０個以上の黒色沈降物が観られた
Ｅ  ：  ハードケーキ状黒色沈降物が観られた。
【０１２７】
（２）顔料分散液の粘度安定性の評価（増粘率）
実施例１〜１６および比較例１〜１３により得られた顔料分散液を、調製後１時間以内に容積１００ｍＬの円柱状のガラス瓶容器（底面の直径３センチ）の中に８０．０ｇ秤量して密栓し、大気圧下／遮光下／実温２５℃±１℃の恒温ボックス内で３時間静置させた後に取り出し開栓した。顔料分散液の上澄み液を１．０ｇ採取して、Ｅ型粘度計（コーンプレート型粘度計）の実温２５℃のステージ上に滴下し、回転数５０ｒｐｍの条件下せん断を与えて３分後に示した粘度を初期粘度（ｍＰａ・ｓ）とした。
次いで、大気圧下／遮光下／実温３０℃±１℃の恒温ボックス内で静置させた状態で１００日間貯蔵した後に取り出して開栓し、顔料分散液の上澄み液を１．０ｇ採取して、その粘度を同様の方法で測定し、これを経時粘度（ｍＰａ・ｓ）として下記の式から増粘率（％）を求めた。
【０１２８】
増粘率（％）の絶対値が小さいほど安定性に優れるとし、以下の判定基準に基づいて粘度安定性を評価し、Ａ〜Ｃを合格、Ｄ〜Ｅを不合格とした。初期粘度、経時粘度のいずれかが５０．００（ｍＰａ・ｓ）を超える場合は同条件下での測定が困難であるとし、増粘率に関わらず、その評価をＦとした。なお、上記（１）顔料分散液の耐沈降性の評価において不合格であった顔料分散液については顔料の濃度勾配が顕著であり正当な評価が困難であるため、評価対象から除外することとした。なお、本評価における経時粘度（ｍＰａ・ｓ）は下記チキソトロピー性評価における経時粘度２と同一の値であったため、初期粘度と増粘率の値のみを表中に示す。
増粘率（％）＝（経時粘度−初期粘度）／初期粘度×１００
Ａ  ：  ５．０％未満
Ｂ  ：  ５．０％以上、１０．０％未満
Ｃ  ：  １０．０％以上、３０．０％未満
Ｄ  ：  ３０．０％以上、５０．０％未満
Ｅ  ：  ５０．０％以上
Ｆ  ：  粘度が高過ぎるため評価が困難。
【０１２９】
（３）貯蔵後の顔料分散液のチキソトロピー性（チキソトロピーインデックス）の評価
実施例１〜１６および比較例１〜１３により得られた顔料分散液を、容積１００ｍＬの円柱状のガラス瓶容器（底面の直径３センチ）の中に８０．０ｇ秤量して密栓し、大気圧下／遮光下／実温３０℃±１℃の恒温ボックス内で静置させた状態で１００日間貯蔵した。次いで、容器を取り出して開栓し、ガラス瓶容器の撹拌を行わずに顔料分散液の上澄み液を１．０ｇ採取し、Ｅ型粘度計（コーンプレート型粘度計）の実温２５℃のステージ上に滴下し、低いせん断力（プレート回転数１０ｒｐｍ）を与えて３分後に示した粘度を経時粘度１（ｍＰａ・ｓ）とし、さらに、高いせん断力（プレート回転数５０ｒｐｍ）を与えて３分後に示した粘度を経時粘度２（ｍＰａ・ｓ）とし、少数点第二位までの値を測定した。
次いで、下記式によりＴＩ値（チキソトロピーインデックス）を求め、小数点第二位を四捨五入して少数点第一までの値を求めた。
【０１３０】
ＴＩ値の絶対値が１．０（ニュートニアン流体）に近い値であるほどチキソトロピー性が低く、すなわち、せん断力の依存性が低く、優れた顔料分散液である。以下の判定基準に基づいてチキソトロピー性を評価し、Ａ〜Ｃを合格、Ｄ〜Ｅを不合格とした。なお、上記（１）顔料分散液の耐沈降性の評価において不合格であった顔料分散液については顔料の濃度勾配が顕著であり正当な評価が困難であるため、評価対象から除外することとした。
ＴＩ値＝経時粘度１（ｍＰａ・ｓ）／経時粘度２（ｍＰａ・ｓ）
Ａ  ：  ＴＩ値の絶対値が１．０以上、１．１未満
Ｂ  ：  ＴＩ値の絶対値が１．１以上、１．３未満
Ｃ  ：  ＴＩ値の絶対値が１．３以上、１．５未満
Ｄ  ：  ＴＩ値の絶対値が１．５以上、２．０未満
Ｅ  ：  ＴＩ値の絶対値が２．０以上。
【０１３１】
（４）硬化膜の遮光性の評価
実施例１〜１６および比較例１〜１３により得られた無アルカリガラス（旭硝子（株）製ＡＮ−１００）の表面に硬化膜を具備する光学特性評価用基板について、光学濃度計（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製；Ｘ−Ｒｉｔｅ  ３６１Ｔ）を用いて膜面側から面内３箇所において光学濃度（ＯＤ値）を測定し、その平均値の小数点第二位を四捨五入して、小数点第一位までの数値を求めた。その数値を硬化膜の厚さ（μｍ）で除することにより、硬化膜の厚さ１．０μｍあたりのＯＤ値（ＯＤ／μｍ）を算出した。ＯＤ値が高いほど遮光性に優れた硬化膜であり、貯蔵する前後での遮光性の低下が少ないほど優れた顔料分散液であるとの判定基準により評価を行った。硬化膜を形成していない無アルカリガラス自身の基板固有のＯＤ値を別途測定した結果、０．００であったため、光学特性評価用基板のＯＤ値を、硬化膜のＯＤ値とみなした。硬化膜の厚さは、触針式膜厚測定装置（東京精密（株）；サーフコム）を用いて、面内３箇所において測定し、その平均値の小数点第二位を四捨五入して、小数点第一位までの数値を求めた。なお、面内３箇所の厚さの実測値のうち、最大値と最小値の差が０．２０μｍ以上であった場合は、巨視的に観て膜の平滑性に劣り、膜厚均一性の高い薄膜を形成することができないため正当な評価が困難であると判定し、評価対象から除外した。
【０１３２】
（５）硬化膜の平滑性の評価
実施例１〜１５および比較例１〜１１により得られた無アルカリガラス（旭硝子（株）製ＡＮ−１００）の表面に硬化膜を具備する平滑性評価用基板について、光沢度計ＩＧ−３２０（ＨＯＲＩＢＡ製；入射角６０°−受光角６０°；表示範囲０〜１９９；測定エリア６ｍｍ×１２ｍｍの楕円）で膜面側から面内３箇所において光沢度を測定して平均値を算出し、小数点第一位を四捨五入した値を求めた。光沢度が高い値であるほど散乱反射光が抑制されており、すなわち、硬化膜の表面凹凸が少なく顔料粒子の分散状態が優れており、微視的に観て硬化膜の平滑性に優れている。
【０１３３】
以下の判定基準に基づいて平滑性を評価し、Ａ〜Ｃを合格、Ｄ〜Ｅを不合格とした。なお、全ての平滑性評価用基板は、同一の黒色遮光台紙の上に置いて測定を行った。同測定機での測定における黒色遮光台紙の表面の光沢度は１であり、本評価において下地からの反射光による影響を無視できるものと判断した。また、ＡＮ−１００の表面の光沢度は測定上限値（１９９）以上であり、本評価を行なうために十分に高い平滑性を有する基板であると判断した。
Ａ  ：  １７０以上
Ｂ  ：  １６０以上、１７０未満
Ｃ  ：  １５０以上、１６０未満
Ｄ  ：  １４０以上、１５０未満
Ｅ  ：  １４０未満。
【０１３４】
（６）近赤外線透過膜の近赤外線透過率の評価
実施例１６および比較例１２〜１３により得られた光学特性評価用基板について、分光光度計「Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）」を用いて、波長１，０００ｎｍにおける化学強化ガラスの透過光強度と、近赤外線透過膜形成部の透過光強度との比から求めた光透過率の小数点第二位を四捨五入して小数点第一位までの数値を求め、近赤外線透過率（％）とした。波長１，０００ｎｍにおける光透過率が高いほど優れた近赤外線透過膜であるとの判定基準により評価した。
【０１３５】
（合成例１；アルカリ可溶性ポリイミド樹脂１の合成と、アルカリ可溶性ポリイミド樹脂溶液Ａおよびアルカリ可溶性ポリイミド樹脂溶液Ｂの調製）
乾燥窒素気流下、三口フラスコに、ジアミンとして、１５５．６５ｇ（０．４２ｍｏｌ）の２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、６．２０ｇ（０．０２ｍｏｌ）の１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサンを添加し、末端封止剤として、１０．９０ｇ（０．１０ｍｏｌ）の３−アミノフェノール、合成溶媒として、７５０．００ｇのＮ−メチルピロリドンを秤量して溶解させた。
【０１３６】
ここに、１５５．１０ｇ（０．５０ｍｏｌ）のビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物を、２５０．００ｇのＮ−メチルピロリドンに溶解させた溶液を添加して、２０℃で１時間攪拌し、次いで５０℃で４時間攪拌した。次いで、キシレン１５ｇを添加し、水をキシレンとともに共沸しながら、１５０℃で５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水１０Ｌに投入し、析出した固体沈殿物を濾過して得た。得られた固体沈殿物を脱イオン水で３回洗浄した後、８０℃の真空乾燥機で２４時間乾燥し、固形分１００重量％の粉末状の樹脂であり、アルカリ可溶性基としてフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性ポリイミド樹脂１を得た。アルカリ可溶性ポリイミド樹脂１は、アミン価０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、重量平均分子量２７，０００であった。
【０１３７】
別途、アルカリ可溶性ポリイミド樹脂の溶剤溶解性試験を行った結果、固形分３０重量％のＰＧＭＥＡ溶液、固形分３０重量％のＭＢＡ溶液または固形分３０重量％のＰＧＭＥ溶液を析出物やゲル物が発生することなくそれぞれ作製することができ、アセテート系有機溶剤またはエーテル系有機溶媒に対して高い溶解性を有することを確認した。また、後述する全ての顔料分散剤、沈降防止剤または有機酸をそれぞれＰＧＭＥＡ、ＭＢＡまたはＰＧＭＥを用いて溶解して得られた固形分１０重量％溶液と、上記アルカリ可溶性ポリイミド樹脂の固形分３０重量％溶液とを、それぞれ１：１の重量比率で混合させた結果、溶剤種を問わず析出物やゲル物が発生することなく相溶性が良好であることを確認した。
【０１３８】
（合成例２；顔料分散剤１の合成）
１０３．００ｇのジエチレントリアミン（１ｍｏｌ）を耐圧容器１に仕込み、窒素雰囲気下、攪拌しながら１００℃まで昇温させた。次いで、４４０５．００ｇのエチレンオキサイド（１００ｍｏｌ）を耐圧容器２に仕込み、１００℃まで昇温させて、０．１〜０．３ＭＰａの圧力下、ガス吹き込み管を通じて、気化させたエチレンオキサイドを窒素ガスにより加圧しながら耐圧容器１に連続して送り込みながら１０分間撹拌を行い、ジエチレントリアミンとエチレンオキサイドとの付加反応生成物Ａを得た。一旦２５℃に自然冷却した後に開放系とし、付加重合を促進するためのアルカリ触媒として、０．５ｇの水酸化カリウムを添加し、撹拌した後に再び１００℃まで昇温させ、耐圧容器１に気化させたエチレンオキサイドを連続して送り込みながら撹拌を２時間行い、付加反応生成物Ｂを得た。
【０１３９】
別途、５８１０．００ｇのプロピレンオキサイド（１００ｍｏｌ）を耐圧容器３に仕込み、１００℃まで昇温させて、０．１〜０．３ＭＰａの圧力下、ガス吹き込み管を通じて、気化させたプロピレンオキサイドを窒素ガスにより加圧しながら耐圧容器１に連続して送り込みながら３時間撹拌を行い、付加反応生成物Ｃを得た。５０℃下にて５０．００ｇの固体酸吸着剤（合成ケイ酸アルミニウム）を加えて３時間撹拌することでアルカリ触媒を吸着させた後に濾別により除去して、常温／大気圧下、淡黄色であり液状の顔料分散剤１を得た。
なお、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの耐圧容器１への送り込み量の終点は、ジエチレントリアミンに対してグラフト付加させたエチレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数と、プロピレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数が等しくなるように設定し、かつ、それぞれの平均付加ｍｏｌ数の合計は、最終的に得られる顔料分散剤１のアミン価が２０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）となるように設定した。
【０１４０】
顔料分散剤１の化学構造の解析は核磁気共鳴装置（１Ｈ−ＮＭＲ）を用いて行い、エチレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数と、プロピレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数の比率は、ピーク面積比（エチレンオキサイド由来プロトン：化学シフト３．６５ｐｐｍ、プロピレンオキサイド由来プロトン：化学シフト１．１０ｐｐｍ）に基づき、ジエチレントリアミンに対して最終的に付加したｍｏｌ比率を定量化して確認した。また、顔料分散剤１が有するアルキレンオキサイド構造としては、エチレンオキサイド構造とプロピレンオキサイド構造のみであり、それら以外の混入が無いこともまた確認した。別途、赤外吸収スペクトルを用いた解析を行い、波長１５５０ｃｍ−１における吸収ピークの消失により、ジエチレントリアミンを由来とする二級アミノ基の消失を確認し、一方で、１６００ｃｍ−１における吸収ピークの消失により、ジエチレントリアミンを由来とする一級アミノ基の消失を確認したことから、原料として用いたジエチレントリアミンの水素原子が、全てポリアルキレンオキサイドに置換され、三級化したものと考えられた。
【０１４１】
さらに、熱分解ＧＣ−ＭＳを用いた解析（カラム温度４０℃を基点に昇温速度毎分２０℃にて３２０℃まで昇温）を行った結果、一般式（４）で表される構造に由来する、加熱によりポリエーテル系高分子鎖が開裂した後の熱分解物と考えられる三級アミン化合物（Ｎ，Ｎ−ジエチルメチルアミン）を検出し、ジエチレントリアミン由来の窒素原子に３つの炭素原子が結合した形態にあることを確認した。最後に、アミン価を「ＪＩＳ  Ｋ２５０１（２００３）」に基づき、電位差滴定法により測定して求めた結果、２０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であることを確認した。以上の手順により合成した顔料分散剤１は、分析の結果、目的とする化合物であることを確認することができた。
顔料分散剤１は、一般式（１２）で表される顔料分散剤に相当し、ｎが２であり、ポリエーテル系高分子鎖の末端基であるＲ２２〜Ｒ２５が全て水素原子であり、（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４）／（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４＋ｙ１＋ｙ２＋ｙ３＋ｙ４）＝０．５０であり、Ｒ２２〜Ｒ２５が水素原子であり、アミン価２０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、固形分１００重量％である、直鎖状ポリアルキレンアミン構造とポリエーテル系高分子鎖とを有する顔料分散剤である。
【０１４２】
（合成例３；顔料分散剤２の合成）
アミン価が３０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）となるようにエチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイドをそれぞれ順に付加重合させた以外は合成例２と同様の手順で、顔料分散剤２を合成した。
顔料分散剤２は、一般式（１２）で表される顔料分散剤に相当し、ｎが２であり、Ｒ２２〜Ｒ２５が全て水素原子であり、（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４）／（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４＋ｙ１＋ｙ２＋ｙ３＋ｙ４）＝０．５０であり、アミン価３０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、固形分１００重量％である、直鎖状ポリアルキレンアミン構造とポリエーテル系高分子鎖とを有する顔料分散剤である。
【０１４３】
（合成例４；顔料分散剤３の合成）
アミン価が４０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）となるようにエチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイドをそれぞれ順に付加重合させた以外は合成例２と同様の手順で、顔料分散剤３を合成した。
顔料分散剤３は、一般式（１２）で表される顔料分散剤に相当し、ｎが２であり、Ｒ２２〜Ｒ２５が全て水素原子であり、（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４）／（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４＋ｙ１＋ｙ２＋ｙ３＋ｙ４）＝０．５０であり、アミン価４０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、固形分１００重量％である、直鎖状ポリアルキレンアミン構造とポリエーテル系高分子鎖とを有する顔料分散剤である。
【０１４４】
（合成例５；顔料分散剤４の合成）
アミン価が８（ｍｇＫＯＨ／ｇ）となるようにエチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイドをそれぞれ順に付加重合させた以外は合成例２と同様の手順で、顔料分散剤４を合成した。
顔料分散剤４は、一般式（１２）で表される顔料分散剤に相当し、ｎが２であり、Ｒ２２〜Ｒ２５が全て水素原子であり、（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４）／（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４＋ｙ１＋ｙ２＋ｙ３＋ｙ４）＝０．５０であり、アミン価８（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、固形分１００重量％であり、直鎖状ポリアルキレンアミン構造とポリエーテル系高分子鎖とを有する顔料分散剤である。
【０１４５】
（合成例６；顔料分散剤５の合成）
１０３．００ｇのジエチレントリアミンに替えて、２３２．３７ｇのペンタエチレンヘキサミン（１ｍｏｌ）を用いた以外は合成例２と同様の手順で、顔料分散剤５を合成した。
顔料分散剤５は、一般式（４）で表される構造を有するが、一般式（１２）で表される顔料分散剤に相当しない、ｎが５であり、アミン価２０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、固形分１００重量％であり、直鎖状ポリアルキレンアミン構造とポリエーテル系高分子鎖とを有する顔料分散剤。
【０１４６】
（合成例７；顔料分散剤６の合成）
エチレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数と、プロピレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数の比率を、１：９とした以外は合成例２と同様の手順で、顔料分散剤６を合成した。
顔料分散剤６は、一般式（４）で表される構造を有するが、一般式（１２）で表される顔料分散剤に相当しない、ｎが２であり、アミン価２０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、固形分１００重量％であり、直鎖状ポリアルキレンアミン構造とポリエーテル系高分子鎖とを有する顔料分散剤である。
【０１４７】
（合成例８；顔料分散剤７の合成）
１０３．００ｇのジエチレントリアミンに替えて、１１７．１９ｇのＮ，Ｎ−ジエチルアミノエタノール（１ｍｏｌ）を用い、エチレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数と、プロピレンオキサイドの平均付加ｍｏｌ数の比率を、４：６とした以外は合成例２と同様の手順で、顔料分散剤７を合成した。
顔料分散剤７は、一般式（１３）で表される顔料分散剤に相当し、Ｒ３４およびＲ３５がエチル基であり、Ｒ３６が水素原子であり、ｘ５／（ｘ５＋ｙ５）＝０．４０であり、アミン価２０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、固形分１００重量％であり、片末端基としてＮ，Ｎ−ジアルキル構造の三級アミノ基とポリエーテル系高分子鎖とを有する顔料分散剤である。
【０１４８】
（合成例９；顔料分散剤８の合成）
アミン価が３０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）となるようにエチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイドをそれぞれ順に付加重合させた以外は合成例８と同様の手順で、顔料分散剤８を合成した。
顔料分散剤８は、一般式（１３）で表される顔料分散剤に相当し、Ｒ３４およびＲ３５がエチル基であり、Ｒ３６が水素原子であり、ｘ５／（ｘ５＋ｙ５）＝０．４０であり、アミン価３０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、固形分１００重量％であり、片末端基としてＮ，Ｎ−ジアルキル構造の三級アミノ基とポリエーテル系高分子鎖とを有する顔料分散剤である。
【０１４９】
以下に、実施例および比較例で用いた原料を示す。
「ベンゾジフラノン系黒色顔料１」：構造式（３）で表される化合物。（ＢＥＴ法による比表面積１１ｍ２／ｇ）
「ベンゾジフラノン系黒色顔料２」：一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９およびＲ１０が水素原子、Ｒ３およびＲ８がＣＨ３である化合物。（ＢＥＴ法による比表面積１１ｍ２／ｇ）
「ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２００００」：アミン価３２（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、固形分１００重量％であり、一般式（４）で表される構造を有さず、片末端基としてＮ，Ｎ−ジアルキル構造の三級アミノ基を有し、直鎖ポリエーテル系高分子鎖を有する顔料分散剤。
「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１６４」：アミン価が２３（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、固形分６０重量％の樹脂溶液（酢酸ブチル／ＰＧＭＥＡの重量比率＝４０／６０）であり、含窒素複素環構造を有する有機基とウレタン系高分子鎖とを有する顔料分散剤。
「ＢＹＫ−ＬＰ  Ｎ２１１１６」：アミン価が７６（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、固形分４０重量％の樹脂溶液（ＰＧＭＥＡ／エチレングリコールモノブチルエーテルの重量比率＝５０／５０）である顔料分散剤。塩基性基として、一般式（１４）中、Ｒ４０、Ｒ４２およびＲ４３がメチル基であり、Ｒ４１がＣ２Ｈ４である三級アミノ基を含む構造単位と、一般式（１５）中、Ｒ４４、Ｒ４６およびＲ４７がメチル基であり、Ｒ４５がＣ２Ｈ４であり、Ｒ４８がベンジル基であり、Ｘ−がＣｌ−である四級アンモニウム塩基を含む構造単位とを有する（メタ）アクリル系高分子鎖（Ａブロック）と、アミノ基を有さない（メタ）アクリル系高分子鎖（Ｂブロック）からなる、ＡＢブロック重合型顔料分散剤。
【０１５０】
「ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ  １２０００」：スルホン酸基を有する銅フタロシアニン系顔料誘導体。
「アルカリ可溶性ポリイミド樹脂溶液Ａ」：上記アルカリ可溶性ポリイミド樹脂１を、固形分３０重量％となるようにＰＧＭＥＡを用いて溶解して得られた樹脂溶液。
「アルカリ可溶性ポリイミド樹脂溶液Ｂ」：上記アルカリ可溶性ポリイミド樹脂１を、固形分３０重量％となるようにＭＢＡを用いて溶解して得られた樹脂溶液。
「アルカリ可溶性カルド樹脂溶液Ａ」：アミン価０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、樹脂酸価９０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、固形分４４．２重量％であり、アルカリ可溶性基としてカルボキシル基を有するアルカリ可溶性カルド樹脂のＰＧＭＥＡ溶液である、“ＡＤＥＫＡ  ＡＲＫＬＳ”（登録商標）ＷＲ−３０１（（株）ＡＤＥＫＡ製）。
「４−ドデシルベンゼンスルホン酸」：下記構造式（２６）で表される有機酸であり、（ｃ）成分に該当しない化合物。
【０１５１】
【化１６】
2020070352.tif 000018
【０１５２】
「ベンゼンホスホン酸」：下記構造式（２７）で表される有機酸であり、（ｃ）成分に該当しない化合物。
【０１５３】
【化１７】
2020070352.tif 000019
【０１５４】
「ＢＹＫ−４３１」：ウレア変性ポリアマイド系沈降防止剤（固形分２５重量％；イソブタノール／モノフェニルグリコール溶液）。
【０１５５】
（実施例１；顔料分散液１の製造および評価）
（ｄ）成分である、７４２．３９ｇのＰＧＭＥＡ中に、（ｂ）成分である、１５．００ｇのＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２００００を添加した後に、（ｃ）成分である、４−メチルベンゼンスルホン酸を１．００重量％含有するＰＧＭＥＡ溶液を２．７０ｇ添加した。次いで、大気圧下／液温２５℃で１時間撹拌後、さらに６時間静置させることにより、（ｂ）成分が有する塩基性基と、（ｃ）成分が有するスルホ基とを、予め塩形成させた。さらに、１４９．９１ｇのアルカリ可溶性ポリイミド樹脂溶液Ａ（固形分３０．０重量％）を加え、３０分間撹拌した後に、（ａ）成分である、９０．００ｇのベンゾジフラノン系黒色顔料１を混合して２０分間撹拌し、予備分散液を得た。分散用メディアとして、０．４ｍｍφのジルコニアビーズ（東レ製“トレセラム”（登録商標））が７５体積％充填されたビーズミルに予備分散液を送液して１パス分散処理を行い、次いで、循環式で湿式メディア分散処理を行った。３０分間を経過して以降、分散処理時間が１０分間経過するごとに分散機の吐出口からガラス瓶容器の中へ適量抜き出してサンプリングした顔料分散液を、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置「ＵＰＡ１５０（Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ製）」にセットして平均分散粒子径を測定した。サンプリングしてから３０分間経過した時点での平均分散粒子径が、メジアン径Ｄ５０（累積５０％体積平均径）として１５０±１０ｎｍであり、かつメジアン径Ｄ９０（累積９０％体積平均径）として３００±３０ｎｍの範囲内となった顔料分散液を、「顔料分散液１」とした。顔料分散液１は、固形分１５．００重量％であり、（ａ）成分／（ｂ）成分／（ｃ）成分／アルカリ可溶性ポリイミド樹脂＝６０／１０／０．０１８／２９．９８（各成分の重量比率）であり、（ｃ）成分の含有量は（ａ）成分の重量に対して３００ｐｐｍである。
製造した顔料分散液１について、前途の方法により耐沈降性、増粘率、チキソトロピーインデックスを評価した。各原料の配合量（ｇ）と評価結果を表１に示す。
【０１５６】
次に、顔料分散液１の硬化膜としての特性を評価するために、ネガ型感光性組成物を製造した。
（製造後１２時間以内の顔料分散液を用いて製造したネガ型感光性組成物、着色樹脂組成物およびそれを用いて製造した評価用基板の名称末尾には「−１」の符号を付け、１００日間の貯蔵および撹拌の工程を経た顔料分散液を用いて製造したネガ型感光性組成物、着色樹脂組成物およびそれを用いて製造した評価用基板の名称末尾には「−２」の符号を付けて表記することとする。）
黄色灯下、光重合開始剤である、０．２０ｇのＮＣＩ−８３１を、１３．０１ｇのＰＧＭＥＡに添加して３分間攪拌して溶解させた。これに、４．２８ｇのアルカリ可溶性ポリイミド樹脂溶液Ａと、１．０２ｇのアルカリ可溶性カルド樹脂溶液Ａを添加し、２つ以上のラジカル重合性基を有する化合物である、０．９９ｇのＤＰＣＡ−６０を添加して攪拌して調合液を得た。この調合液と、ガラス瓶容器の上澄み液からサンプリングした１０．５０ｇの顔料分散液１とを混合して３０分間撹拌し、「ネガ型感光性組成物１−１」を得た。
【０１５７】
１００ｍｍ×１００ｍｍの無アルカリガラス基板（旭硝子（株）製ＡＮ−１００）の表面に、ネガ型感光性組成物１−１を、最終的に得られる硬化膜の厚さが１．０μｍとなるように回転数を調節してスピンコーターで塗布して塗布膜を得て、ホットプレート（ＳＣＷ−６３６；大日本スクリーン製造（株）製）を用いて、塗布膜を大気圧下１００℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を得た。両面アライメント片面露光装置（マスクアライナーＰＥＭ−６Ｍ；ユニオン光学（株）製）を用いて超高圧水銀灯のｊ線（波長３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）およびｇ線（波長４３６ｎｍ）の混合線を、露光量１００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線換算値）でプリベーク膜に照射して、露光膜を得た。次いで、フォトリソグラフィ用小型現像装置（ＡＤ−２０００；滝沢産業（株）製）を用いて、２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液で６０秒間現像し、脱イオン水で３０秒間リンスして、現像膜を得て、高温イナートガスオーブン（ＩＮＨ−９ＣＤ−Ｓ；光洋サーモシステム（株）製）を用いて、窒素雰囲気下、現像膜を２３０℃で６０分間加熱して、厚さ１．０μｍの硬化膜を具備する光学特性評価用基板１−１を得て、前途の方法で遮光性（ＯＤ／μｍ）を評価した。なお、ここでいう厚さ１．０μｍとは、硬化膜の面内３箇所において測定し、その平均値の小数点第二位を四捨五入し、小数点第一位までの数値を求めた結果が１．０μｍであることを意味する。
【０１５８】
別途、顔料分散液１を容積１００ｍＬの円柱状のガラス瓶容器（底面の直径３センチ）の中に８０．０ｇ秤量して密栓し、大気圧下／遮光下／実温３０℃±１℃の恒温ボックス内で静置させた状態で１００日間貯蔵した後に取り出し、卓上ロータリーシェーカーで旋回回転数１００（ｒｐｍ／ｍｉｎ）の条件下で１０分間撹拌した。貯蔵および撹拌の工程を経た顔料分散液１を入れたガラス瓶容器を開栓して、その上澄み液を１０．５０ｇサンプリングし、上記ネガ型感光性組成物１−１と同一の原料の配合量（ｇ）で、ネガ型感光性組成物１−２を製造して、上記と同様の手順で厚さ１．０μｍの硬化膜を具備する基板を二枚得て、うち一枚を光学特性評価用基板１−２とし、もう一枚を平滑性評価用基板１−２とし、前途の方法で遮光性と平滑性を評価した。各原料の配合量（ｇ）と、貯蔵前後の評価結果を表２に示す。
【０１５９】
【表１】
2020070352.tif 000020
【０１６０】
【表２】
2020070352.tif 000021
【０１６１】
（実施例２；顔料分散液２の製造および評価）
ＰＧＭＥＡに替えてＭＢＡを用い、アルカリ可溶性ポリイミド樹脂溶液Ａに替えてアルカリ可溶性ポリイミド樹脂溶液Ｂを用いた以外は実施例１と同様の手順で、表１に示す原料の配合量で顔料分散液２を製造し、前途の方法により耐沈降性、増粘率、チキソトロピーインデックスを評価した結果を表１に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液２を用いて、実施例１と同様の手順で、表２に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物２−１および２−２を製造し、前途の方法で遮光性と平滑性を評価した結果を表２に示す。
【０１６２】
（実施例３〜５；顔料分散液３〜５の製造および評価）
ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２００００に替えて顔料分散剤１を用い、かつ（ａ）成分に対する（ｃ）成分の含有量が、それぞれ３００ｐｐｍ、１００ｐｐｍ、４０００ｐｐｍとなるように割合を替えて配合した以外は実施例１と同様の手順で、表１に示す原料の配合量で顔料分散液３〜５を製造して、前途の方法により耐沈降性、増粘率、チキソトロピーインデックスを評価した結果を表１に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液３〜５を用いて、実施例１と同様の手順で、表２に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物３−１および３−２、４−１および４−２、５−１および５−２を製造し、前途の方法で遮光性と平滑性を評価した結果を表２に示す。
【０１６３】
（実施例６〜１０；顔料分散液６〜１０の製造および評価）
ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２００００に替えて顔料分散剤２〜６を用いた以外は実施例１と同様の手順で、表１に示す原料の配合量で顔料分散液６〜１０を製造して、前途の方法により耐沈降性、増粘率、チキソトロピーインデックスを評価した結果を表３に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液６〜１０を用いて、実施例１と同様の手順で、表３に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物６−１および６−２、７−１および７−２、８−１および８−２、９−１および９−２、１０−１および１０−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表４に示す。
【０１６４】
【表３】
2020070352.tif 000022
【０１６５】
【表４】
2020070352.tif 000023
【０１６６】
（実施例１１；顔料分散液１１の製造および評価）
ベンゾジフラノン系黒色顔料１に替えて、ベンゾジフラノン系黒色顔料２を用いた以外は実施例３と同様の手順で、表５に示す原料の配合量で顔料分散液１１を製造して、前途の方法により耐沈降性、増粘率、チキソトロピーインデックスを評価した結果を表５に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液１１を用いて、実施例１と同様の手順で、表６に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物１１−１および１１−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表６に示す。
【０１６７】
【表５】
2020070352.tif 000024
【０１６８】
【表６】
2020070352.tif 000025
【０１６９】
（実施例１２〜１３；顔料分散液１２〜１３の製造および評価）
顔料分散剤１に替えて、顔料分散剤７および８を用いた以外は実施例３と同様の手順で、表５に示す原料の配合量で顔料分散液１２〜１３を製造して、前途の方法により耐沈降性、増粘率、チキソトロピーインデックスを評価した結果を表５に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液１２〜１３を用いて、実施例１と同様の手順で、表６に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物１２−１および１２−２、１３−１および１３−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表６に示す。
【０１７０】
（実施例１４；顔料分散液１４の製造および評価）
全溶媒中、ＰＧＭＥＡ／ＰＧＭＥ＝７５／２５重量比率となるように有機溶剤の組成を変えた以外は実施例３と同様の手順で、表５に示す原料の配合量で顔料分散液１４を製造して、前途の方法により耐沈降性、増粘率、チキソトロピーインデックスを評価した結果を表５に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液１４を用いて、実施例１と同様の手順で、表６に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物１４−１および１４−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表６に示す。
【０１７１】
（実施例１５；顔料分散液１５の製造および評価）
ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２００００に替えてＢＹＫ−ＬＰＮ２１１１６を用い、かつ（ａ）成分に対する（ｃ）成分の含有量が、５００ｐｐｍとなるように配合した以外は実施例１と同様の手順で、表５に示す原料の配合量で顔料分散液１５を製造して、前途の方法により耐沈降性、増粘率、チキソトロピーインデックスを評価した結果を表５に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液１５を用いて、実施例１と同様の手順で、表６に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物１５−１および１５−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表６に示す。
【０１７２】
（比較例１；顔料分散液１６の製造および評価）
（ｃ）成分を用いなかった以外は実施例１と同様の手順で、表７に示す原料の配合量で顔料分散液１６を製造して、前途の方法により耐沈降性を評価した結果を表５に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液１６を用いて、実施例１と同様の手順で、表６に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物１６−１および１６−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表８に示す。
【０１７３】
【表７】
2020070352.tif 000026
【０１７４】
【表８】
2020070352.tif 000027
【０１７５】
（比較例２；顔料分散液１７の製造および評価）
（ｃ）成分を用いなかった以外は実施例２と同様の手順で、表７に示す原料の配合量で顔料分散液１７を製造して、前途の方法により耐沈降性のみを評価した結果を表７に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液１７を用いて、実施例１と同様の手順で、表８に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物１７−１および１７−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表８に示す。
【０１７６】
（比較例３；顔料分散液１８の製造および評価）
（ａ）成分に対する（ｃ）成分の含有量が、５ｐｐｍとなるように配合した以外は実施例１と同様の手順で、表７に示す原料の配合量で顔料分散液１８を製造して、前途の方法により耐沈降性のみを評価した結果を表７に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液１８を用いて、実施例１と同様の手順で、表７に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物１８−１および１８−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表８に示す。
【０１７７】
（比較例４；顔料分散液１９の製造および評価）
（ａ）成分に対する（ｃ）成分の含有量が、８０００ｐｐｍとなるように配合した以外は実施例１と同様の手順で、表７に示す原料の配合量で顔料分散液１９を製造して、前途の方法により耐沈降性のみを評価した結果を表７に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液１９を用いて、実施例１と同様の手順で、表７に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物１９−１および１９−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表８に示す。
【０１７８】
（比較例５；顔料分散液２０の製造および評価）
（ａ）成分に対する（ｂ）成分の含有量を２倍とし、かつ（ｃ）成分を用いなかった以外は実施例１と同様の手順で、表７に示す原料の配合量で顔料分散液２０を製造して、前途の方法により耐沈降性のみを評価した結果を表７に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液２０を用いて、実施例１と同様の手順で、表７に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物２０−１および２０−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表８に示す。
【０１７９】
（比較例６；顔料分散液２１の製造および評価）
（ｂ）成分を用いなかった以外は実施例１と同様の手順で、表７に示す原料の配合量で顔料分散液２１を製造して、前途の方法により耐沈降性、増粘率、チキソトロピーインデックスを評価した結果を表７に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液２１を用いて、実施例１と同様の手順で、表７に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物２１−１および２１−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表８に示す。
【０１８０】
（比較例７；顔料分散液２２の製造および評価）
ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２００００に替えて、顔料分散剤２およびＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１６４を併用し、かつ（ｃ）成分を用いなかった以外は実施例１と同様の手順で、表９に示す原料の配合量で顔料分散液２２を製造して、前途の方法により耐沈降性のみを評価した結果を表９に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液２２を用いて、実施例１と同様の手順で、表９に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物２２−１および２２−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表１０に示す。
【０１８１】
【表９】
2020070352.tif 000028
【０１８２】
【表１０】
2020070352.tif 000029
【０１８３】
（比較例８〜９；顔料分散液２３〜２４の製造および評価）
ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２００００に替えて顔料分散剤２を用い、かつ４−メチルベンゼンスルホン酸のＰＧＭＥＡ溶液（固形分１重量％）に替えてドデシルベンゼンスルホン酸のＰＧＭＥＡ溶液（固形分１重量％）またはベンゼンホスホン酸のＰＧＭＥＡ溶液（固形分１重量％）を、（ａ）成分に対して３００ｐｐｍとなるようにそれぞれ配合した以外は実施例１と同様の手順で、表９に示す原料の配合量で顔料分散液２３〜２４を製造して、前途の方法により耐沈降性のみを評価した結果を表９に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液２３〜２４を用いて、実施例１と同様の手順で、表９に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物２３−１および２３−２、２４−１および２４−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表１０に示す。
【０１８４】
（比較例１０；顔料分散液２５の製造および評価）
（ｃ）成分に替えてＢＹＫ−４３１を用い、（ａ）成分に対するＢＹＫ−４３１中の固形分が１０００ｐｐｍとなるように配合した以外は実施例２と同様の手順で、表９に示す原料の配合量で顔料分散液２５を製造して、前途の方法により耐沈降性のみを評価した結果を表９に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液２５を用いて、実施例１と同様の手順で、表９に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物２５−１および２５−２を製造し、前途の方法で硬化膜の平滑性のみを評価した結果を表１０に示す。
【０１８５】
（比較例１１；顔料分散液２６の製造および評価）
（ｃ）成分を用いなかった以外は実施例１５と同様の手順で、表９に示す原料の配合量で顔料分散液２６を製造して、前途の方法により耐沈降性、増粘率、チキソトロピーインデックスを評価した結果を表９に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液２６を用いて、実施例１と同様の手順で、表９に示す原料の配合量でネガ型感光性組成物２６−１および２６−２を製造し、前途の方法で硬化膜の遮光性と平滑性を評価した結果を表１０に示す。
【０１８６】
（実施例１６；顔料分散液２７の製造および評価）
アルカリ可溶性ポリイミド樹脂溶液Ａに替えてアルカリ可溶性カルド樹脂溶液Ａを用い、（ａ）成分に対する（ｃ）成分の含有量が１００ｐｐｍとなるように配合した以外は実施例３と同様の手順で、表１１に示す原料の配合量で顔料分散液２７を製造して、前途の方法により耐沈降性、増粘率、チキソトロピーインデックスを評価した結果を表１１に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液２７を用いて、実施例１と同様の手順で、表１２に示す原料の配合量で着色樹脂組成物１を製造し、２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液に替えて、０．０４５重量％ＫＯＨ水溶液を用いて９０秒間現像した以外は実施例１と同様の手順で光学特性評価用基板を得て、前途の方法で硬化膜の遮光性と近赤外線透過率を評価した結果を表１２に示す。
【０１８７】
【表１１】
2020070352.tif 000030
【０１８８】
【表１２】
2020070352.tif 000031
【０１８９】
（比較例１２；顔料分散液２８の製造および評価）
（ｃ）成分を用いなかった以外は実施例１と同様の手順で、表１１に示す原料の配合量で顔料分散液２７を製造して、前途の方法により耐沈降性のみを評価した結果を表１１に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液２８を用いて、実施例１と同様の手順で、表１２に示す原料の配合量で着色樹脂組成物２を製造し、２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液に替えて、０．０４５重量％ＫＯＨ水溶液を用いて９０秒間現像した以外は実施例１と同様の手順で光学特性評価用基板を得て、前途の方法で硬化膜の遮光性と近赤外線透過率を評価した結果を表１２に示す。
【０１９０】
（比較例１３；顔料分散液２９の製造および評価）
ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２００００に替えてＢＹＫ−ＬＰＮ２１１１６およびＳＯＬＳＰＥＲＳＥ  １２０００を用い、かつ（ｃ）成分を用いなかった以外は実施例１と同様の手順で、表１１に示す原料の配合量で顔料分散液２９を製造して、前途の方法により増粘率、チキソトロピーインデックスを評価した結果を表１１に示す。また、顔料分散液１に替えて顔料分散液２９を用いて、実施例１と同様の手順で、表１２に示す原料の配合量で着色樹脂組成物３を製造し、２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液に替えて、０．０４５重量％ＫＯＨ水溶液を用いて９０秒間現像した以外は実施例１と同様の手順で光学特性評価用基板を得て、前途の方法で硬化膜の遮光性のみを評価した結果を表１２に示す。
【０１９１】
概して、比較例１〜１３の顔料分散液では、沈降物の発生、高い増粘率、高いチキソトロピー性、貯蔵前後における遮光性または近赤外線透過率の低下、硬化膜の平滑性の悪化のうち、少なくともいずれかの課題が生じていることがわかる。
【０１９２】
一方、実施例１〜１６の顔料分散液では、チキソトロピー性が低く、低い増粘率でありながら沈降物の発生が抑制されており、また、貯蔵前後における遮光性および近赤外線透過率の低下が観られず、硬化膜の平滑性においてもまた優れていることがわかる。
以上から、本発明の顔料分散液が有用であることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１９３】
本発明の顔料分散液は貯蔵安定性に優れており、高い遮光性と高い平滑性とを有する硬化膜を安定的に得ることが要求される用途、例えば、有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層を形成するための感光性組成物や、近赤外線センサーが搭載された電子機器が具備する近赤外線透過性遮光膜を形成するための着色樹脂組成物の製造に利用することができる。
【符号の説明】
【０１９４】
１：ＴＦＴ
２：配線
３：ＴＦＴ絶縁膜
４：平坦化層
５：第二電極（ＩＴＯ電極）
６：基材
７：コンタクトホール
８：画素分割層
９：発光画素
１０：第一電極
１１：化学強化ガラス基板
１２：加飾層（ベゼル）
１３：近赤外線透過性遮光膜
【図１】
2020070352.tif 000036
【図２】
2020070352.tif 000037