(57)【要約】【課題】光学機能を有する転写フィルムと液晶配向膜との剥離性が良好であり、かつ転写後の表面粗さが小さく、液晶配向性が良好な転写フィルムを得ること。【解決手段】積層体１０は、支持体１１と、支持体１１上に形成された液晶配向膜１２と、液晶配向膜１２上に形成された光学フィルム１３とを備える。液晶配向膜１２は、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体であって光配向性基を有する第一の重合体と、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルとは異なる主鎖を有する重合体であって光配向性基を有する第二の重合体とを含有する液晶配向剤を用いて形成されてなる。光学フィルム１３は液晶組成物を硬化させて得られたものである。【選択図】図１
2020173425.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、前記支持体上に形成された液晶配向膜と、前記液晶配向膜上に形成された光学フィルムと、を有する積層体であって、
前記液晶配向膜は、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体であって光配向性基を有する第一の重合体と、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルとは異なる主鎖を有する重合体であって光配向性基を有する第二の重合体とを含有する液晶配向剤を用いて形成されてなり、
前記光学フィルムは液晶組成物を硬化させて得られたものである、
積層体。
【請求項２】
前記積層体が有する前記光学フィルムを被着体に転写して被着体上に光学フィルム層を形成するための積層体である、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記液晶配向剤は、前記第一の重合体として、主鎖に光配向性基を有する重合体を含有する、請求項１又は２に記載の積層体。
【請求項４】
前記液晶配向剤は、前記第一の重合体として、主鎖に桂皮酸構造を有する重合体を含有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項５】
支持体と、前記支持体上に形成された液晶配向膜と、前記液晶配向膜上に形成された光学フィルムと、を有する積層体の製造方法であって、
ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体であって光配向性基を有する第一の重合体と、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルとは異なる主鎖を有する重合体であって光配向性基を有する第二の重合体とを含有する液晶配向剤を前記支持体上に塗布して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜に液晶配向能を付与することにより前記支持体上に液晶配向膜を形成する工程と、
前記液晶配向膜上に前記光学フィルムを形成する工程と、
を含む、積層体の製造方法。
【請求項６】
被着体上に光学フィルムを形成する方法であって、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体が有する光学フィルムを、前記被着体上に転写する工程を含む、光学フィルムの形成方法。
【請求項７】
位相差フィルム付きの偏光フィルムの製造方法であって、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体が有する光学フィルムを、偏光フィルム上に転写する工程を含む、位相差フィルム付き偏光フィルムの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体が有する光学フィルムが偏光フィルム上に転写されてなる、位相差フィルム付き偏光フィルム。
【請求項９】
位相差層と、樹脂層と、液晶配向膜と、偏光層とが順に積層されており、
前記位相差層及び前記偏光層はそれぞれ、液晶組成物を硬化させて形成されてなり、
前記液晶配向膜は、光配向性基を有する重合体を含有する液晶配向剤を用いて形成されてなる、円偏光板。
【請求項１０】
液晶表示素子の製造方法であって、
対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間に設けられた液晶層とを有する液晶セルを構築する工程と、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体が有する光学フィルムを、前記液晶セルの前記一対の基板の少なくとも一方の外側に転写する工程と、
を含む、液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体、積層体の製造方法及び光学フィルムの製造方法に関し、詳しくは、光学フィルムを被着体上に転写して被着体上に光学機能を付与する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどの液晶表示装置には種々の光学材料が用いられている。光学材料としては、例えば、位相差フィルムや視野角補償フィルム、反射防止フィルム等といった光学補償フィルムが知られている。これらのうち、例えば位相差フィルムは、表示の着色を解消したり、視覚方向によって表示色及びコントラスト比が変化するといった視野角依存性を解消したりする目的で使用されている。位相差フィルムとしては、プラスチックフィルムに延伸処理を施したものや、液晶塗布技術を用いたものなどが知られている。
【０００３】
液晶ディスプレイなどにおける表示品位の更なる改善を図るべく、従来、種々の位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献１や特許文献２参照）。特許文献１及び特許文献２には、プラスチックフィルム上に形成された液晶配向膜及び光学異方性膜のうち光学異方性膜のみを液晶表示装置の基板や偏光板に転写して転写フィルムを貼り付けることにより、被着体に所望の機能を付与することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第５３６３０２２号公報
【特許文献２】国際公開第２０１６／１５８２９８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
転写フィルムにより被着体に光学機能を付与する場合に、転写フィルムが液晶配向膜から剥がれにくいと、転写フィルムを被着体に転写した後において、液晶配向膜が部分的に転写フィルムに付着した状態になるおそれがある。この場合、被着体に十分な光学機能を付与できないことが懸念される。また、表示装置の用途に用いる場合、被着体において転写フィルムによる光学補償効果等を十分に得るためには、転写フィルムが液晶配向膜から剥がれやすいとともに、転写後の転写フィルムの表面粗さが小さく、また液晶配向性が良好であることが求められる。
【０００６】
本発明は、光学機能を有する転写フィルムと液晶配向膜との剥離性が良好であり、かつ転写後の表面粗さが小さく、液晶配向性が良好な転写フィルムを得ることができる液晶配向膜を形成するための液晶配向剤を提供することを一つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
＜１＞  支持体と、前記支持体上に形成された液晶配向膜と、前記液晶配向膜上に形成された光学フィルムと、を有する積層体であって、前記液晶配向膜は、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体であって光配向性基を有する第一の重合体と、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルとは異なる主鎖を有する重合体であって光配向性基を有する第二の重合体とを含有する液晶配向剤を用いて形成されてなり、前記光学フィルムは液晶組成物を硬化させて得られたものである、積層体。
＜２＞  前記積層体が有する前記光学フィルムを被着体に転写して被着体上に光学フィルム層を形成するための積層体である、上記＜１＞の積層体。
【０００８】
＜３＞  前記液晶配向剤は、前記第一の重合体として、主鎖に光配向性基を有する重合体を含有する、上記＜１＞の積層体。
＜４＞  前記液晶配向剤は、前記第一の重合体として、主鎖に桂皮酸構造を有する重合体を含有する、上記＜１＞〜＜３＞のいずれかの積層体。
＜５＞  支持体と、前記支持体上に形成された液晶配向膜と、前記液晶配向膜上に形成された光学フィルムと、を有する積層体の製造方法であって、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体であって光配向性基を有する第一の重合体と、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルとは異なる主鎖を有する重合体であって光配向性基を有する第二の重合体とを含有する液晶配向剤を前記支持体上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜に液晶配向能を付与することにより前記支持体上に液晶配向膜を形成する工程と、前記液晶配向膜上に前記光学フィルムを形成する工程と、を含む、積層体の製造方法。
【０００９】
＜６＞  被着体上に光学フィルムを形成する方法であって、上記＜１＞〜＜４＞のいずれかの積層体が有する光学フィルムを、前記被着体上に転写する工程を含む、光学フィルムの形成方法。
＜７＞  位相差フィルム付きの偏光フィルムの製造方法であって、
上記＜１＞〜＜４＞のいずれかの積層体が有する光学フィルムを、偏光フィルム上に転写する工程を含む、位相差フィルム付き偏光フィルムの製造方法。
＜８＞  上記＜１＞〜＜４＞のいずれかの積層体が有する光学フィルムが偏光フィルム上に転写されてなる、位相差フィルム付き偏光フィルム。
【００１０】
＜９＞  位相差層と、樹脂層と、液晶配向膜と、偏光層とが順に積層されており、前記位相差層及び前記偏光層はそれぞれ、液晶組成物を硬化させて形成されてなり、前記液晶配向膜は、光配向性基を有する重合体を含有する液晶配向剤を用いて形成されてなる、円偏光板。
＜１０＞  液晶表示素子の製造方法であって、対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間に設けられた液晶層とを有する液晶セルを構築する工程と、上記＜１＞〜＜４＞のいずれかの積層体が有する光学フィルムを、前記液晶セルの前記一対の基板の少なくとも一方の外側に転写する工程と、を含む、液晶表示素子の製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の積層体によれば、液晶配向性が良好であって、かつ液晶膜の表面粗さに優れた光学フィルムを基材上に形成することができる。そのため、本発明の積層体を用いて被着体上に形成された光学フィルムは、液晶表示素子の表示品位の改良効果が高く、よって、画像表示分野等に好適に用いることができる。また、本発明の液晶配向剤によれば、光学機能を有する光学フィルム（転写フィルム）との剥離性が良好であり、剥離後の液晶膜の表面粗さに優れた転写フィルムを得ることができる液晶配向膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】光学フィルムの形成方法を示す模式図。
【図２】円偏光板の概略構成図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
《第１実施形態》
以下、本実施形態について、適宜図面を参照しつつ説明する。一実施形態は、図１に示すように、支持体１１、液晶配向膜１２及び光学フィルム１３がこの順に積層された積層体１０である。液晶配向膜１２は、液晶配向剤を用いて形成されている。液晶配向剤は、積層体１０から、光学フィルム１３を支持体１１とは別の基材（被着体２１）に転写することによって、光学フィルム１３を有する被着体２１を得るための液晶配向膜１２を形成する用途の液晶配向剤である。光学フィルム１３が「転写フィルム」に相当する。
【００１４】
液晶配向剤は、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体であって光配向性基を有する第一の重合体［Ａ］と、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルとは異なる主鎖を有する重合体であって光配向性基を有する第二の重合体［Ｂ］とを含有する。以下に、液晶配向剤に配合される成分、及び必要に応じて任意に配合されるその他の成分について説明する。
【００１５】
＜液晶配向剤＞
・第一の重合体［Ａ］
第一の重合体［Ａ］が有する光配向性基は、光照射による光異性化反応、光二量化反応、光分解反応、光フリース転位反応等によって膜に異方性を付与する官能基である。光配向性基の具体例としては、例えばアゾベンゼン又はその誘導体を基本骨格として含むアゾベンゼン含有基、桂皮酸又はその誘導体を基本骨格として含む桂皮酸構造含有基、カルコン又はその誘導体を基本骨格として含むカルコン含有基、ベンゾフェノン又はその誘導体を基本骨格として含むベンゾフェノン含有基、クマリン又はその誘導体を基本骨格として含むクマリン含有基等が挙げられる。これらの中でも、第一の重合体［Ａ］が有する光配向性基は、アゾベンゼン含有基及び桂皮酸構造含有基よりなる群から選ばれる一種であることが好ましい。特に、高い配向能を有する点及び重合体への導入が容易である点で、桂皮酸構造含有基であることが好ましく、具体的には、下記式（１）で表される基であることが好ましい。
【化１】
2020173425.tif 000003
（式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基又はシアノ基である。Ｒ３は、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基又はシアノ基である。ａは０〜４の整数である。但し、ａが２以上の場合、複数のＲ３は同じでも異なっていてもよい。Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＲ８−（ただし、Ｒ８は水素原子又は１価の有機基である。）である。「＊」は結合手であることを示す。）
【００１６】
上記式（１）で表される基としては、桂皮酸が有するカルボキシル基又は桂皮酸アミドが有するアミノカルボニル基の水素原子１個を除去して得られる１価の基、又は当該１価の基が有するベンゼン環に置換基が導入された基（以下、これらを「順シンナメート基」ともいう。）や、桂皮酸が有するカルボキシル基又は桂皮酸アミドが有するアミノカルボニル基がエステル化され、かつベンゼン環に２価の有機基が結合してなる１価の基、又は当該１価の基が有するベンゼン環に置換基が導入された基（以下、これらを「逆シンナメート基」ともいう。）等が挙げられる。
Ｘ１が−ＮＲ８−である場合、Ｒ８は、水素原子、炭素数１〜６の１価の炭化水素基又はｔ−ブトキシカルボニル基が好ましい。ａは０又は１が好ましい。
【００１７】
順シンナメート基は例えば下記式（ｃｎ−１）で表すことができ、逆シンナメート基は例えば下記式（ｃｎ−２）で表すことができる。
【化２】
2020173425.tif 000004
（式（ｃｎ−１）中、Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基又はシアノ基である。Ｒ５は、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基若しくはシクロヘキシレン基、又はこれらの基が有する水素原子の少なくとも一部が、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、当該アルコキシ基の水素原子の少なくとも一部がハロゲン原子で置換された１価の基によって置換された基又はシアノ基である。Ａ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、炭素数１〜３のアルカンジイル基、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＮＨ−、＊１−ＣＯＯ−、＊１−ＯＣＯ−、＊１−ＮＨ−ＣＯ−、＊１−ＣＯ−ＮＨ−、＊１−ＣＨ２−Ｏ−又は＊１−Ｏ−ＣＨ２−（「＊１」はＲ５との結合手を示す。）である。ｂは０又は１である。
式（ｃｎ−２）中、Ｒ６は、炭素数１〜３のアルキル基である。Ａ２は、酸素原子、＊２−ＣＯＯ−、＊２−ＯＣＯ−、＊２−ＮＨ−ＣＯ−又は＊２−ＣＯ−ＮＨ−（「＊２」はＲ７との結合手を示す。）である。Ｒ７は、炭素数１〜６のアルカンジイル基である。ｃは０又は１である。
式（ｃｎ−１）及び式（ｃｎ−２）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ１及びａは、上記式（１）と同義である。「＊」は結合手であることを示す。）
【００１８】
第一の重合体［Ａ］につき、光配向性基の含有割合は、第一の重合体［Ａ］の合成に使用する単量体の全量に対して、１〜７０モル％であることが好ましく、３〜６０モル％であることがより好ましく、５〜６０モル％であることがさらに好ましい。
【００１９】
（ポリアミック酸）
第一の重合体［Ａ］としてのポリアミック酸は、光配向性基を主鎖中に有することが好ましい。当該ポリアミック酸は、例えば、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを反応させて得ることができる。モノマーの選択の自由度が高い点で、第一の重合体［Ａ］としてのポリアミック酸は、光反応性基を主鎖中に含むジアミン（以下「特定ジアミン」ともいう。）を用いた重合により得られる重合体であることが好ましい。ポリアミック酸の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物としては、特に限定されず、例えば特開２０１０−９７１８８号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物等、従来公知の種々のテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。
【００２０】
特定ジアミンとしては、下記式（２）で表される芳香族ジアミンを好ましく使用できる。
【化３】
2020173425.tif 000005
（式（２）中、Ｘ２及びＸ３は、それぞれ独立して、単結合又は２価の連結基であり、Ｙ１は、上記式（１）で表される２価の基である。ａ１は０又は１である。ただし、ａが０の場合、Ｘ２は単結合であって、かつ上記式（１）中のベンゼン環に式（２）中の１級アミノ基が結合している。）
【００２１】
特定ジアミンの具体例としては、例えば下記式で表される化合物等が挙げられる。なお、特定ジアミンは、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
【化４】
2020173425.tif 000006
【００２２】
ポリアミック酸の合成に際しては、特定ジアミン以外のその他のジアミンを併用してもよい。その他のジアミンは特に限定されず、例えば特開２０１０−９７１８８号公報に記載のジアミン等、従来公知のジアミン化合物を用いることができる。その他のジアミンを併用する場合、特定ジアミンの使用割合は、合成に使用するジアミン化合物の合計量に対して、１０モル％以上とすることが好ましく、３０モル％以上とすることがより好ましい。その他のジアミンとしては、１種を単独で用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
【００２３】
ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。このときの反応温度は−２０℃〜１５０℃が好ましく、反応時間は０．１〜２４時間が好ましい。反応に使用する有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノール系溶媒、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素等が挙げられる。有機溶媒の使用量は、テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の合計量が、反応溶液の全量に対して、０．１〜５０質量％になる量とすることが好ましい。
【００２４】
（ポリイミド）
第一の重合体［Ａ］がポリイミドの場合、ポリイミドは、上記の如くして合成されたポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。
【００２５】
ポリイミドは、その前駆体であるポリアミック酸が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造が併存する部分イミド化物であってもよい。ポリイミドは、そのイミド化率が３０％以上であることが好ましく、４０〜９９％であることがより好ましく、５０〜９９％であることが更に好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。ここで、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。
【００２６】
ポリアミック酸の脱水閉環は、好ましくはポリアミック酸を加熱する方法により、又はポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行われる。このうち、後者の方法によることが好ましい。
【００２７】
ポリアミック酸の溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加する方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸のアミック酸構造の１モルに対して０．０１〜２０モルとすることが好ましい。脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン等の３級アミンを用いることができる。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤１モルに対して０．０１〜１０モルとすることが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは０〜１８０℃であり、より好ましくは１０〜１５０℃である。反応時間は、好ましくは１．０〜１２０時間であり、より好ましくは２．０〜３０時間である。
【００２８】
このようにしてポリイミドを含有する反応溶液が得られる。この反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリイミドを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。これらの精製操作は公知の方法に従って行うことができる。その他、ポリイミドは、ポリアミック酸エステルのイミド化によって得ることもできる。
【００２９】
（ポリアミック酸エステル）
第一の重合体［Ａ］がポリアミック酸エステルの場合、ポリアミック酸エステルは、例えば、［I］上記合成反応により得られたポリアミック酸とエステル化剤とを反応させる方法、［II］テトラカルボン酸ジエステルとジアミンとを反応させる方法、［III］テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物とジアミンとを反応させる方法、などによって得ることができる。
【００３０】
なお、本明細書において「テトラカルボン酸ジエステル」とは、テトラカルボン酸が有する４個のカルボキシル基のうち２個がエステル化され、残りの２個がカルボキシル基である化合物を意味する。「テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物」とは、テトラカルボン酸が有する４個のカルボキシル基のうち２個がエステル化され、残りの２個がハロゲン化された化合物を意味する。
【００３１】
方法［Ｉ］で使用するエステル化剤としては、例えば水酸基含有化合物、アセタール系化合物、ハロゲン化物、エポキシ基含有化合物等が挙げられる。これらの具体例としては、水酸基含有化合物として、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、フェノール、クレゾール等のフェノール類などを；アセタール系化合物として、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミドジエチルアセタールなどを；ハロゲン化物として、例えば臭化メチル、臭化エチル、臭化ステアリル、塩化メチル、塩化ステアリル、１，１，１−トリフルオロ−２−ヨードエタンなどを；エポキシ基含有化合物として、例えばプロピレンオキシドなどを、それぞれ挙げることができる。
【００３２】
方法［II］で使用するテトラカルボン酸ジエステルは、例えばポリアミック酸の合成で例示したテトラカルボン酸二無水物を、メタノールやエタノール等のアルコール類を用いて開環することにより得ることができる。なお、方法［II］では、酸誘導体としてテトラカルボン酸ジエステルのみを使用してもよいが、テトラカルボン酸二無水物を併用してもよい。使用するジアミンとしては、ポリアミック酸の合成で例示したジアミンが挙げられる。
方法［II］の反応は、有機溶媒中、適当な脱水触媒の存在下で行うことが好ましい。有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水触媒としては、例えば４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリニウムハライド、カルボニルイミダゾール、リン系縮合剤などが挙げられる。このときの反応温度は、−２０〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましい。反応時間は、０．１〜２４時間が好ましく、０．５〜１２時間がより好ましい。
【００３３】
方法［III］で使用するテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物は、例えば上記の如くして得たテトラカルボン酸ジエステルを、塩化チオニル等の適当な塩素化剤と反応させることにより得ることができる。なお、方法［III］では、酸誘導体としてテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物のみを使用してもよいが、テトラカルボン酸二無水物を併用してもよい。使用するジアミンとしては、ポリアミック酸の合成で例示したジアミンが挙げられる。
【００３４】
方法［III］の反応は、有機溶媒中、適当な塩基の存在下で行うことが好ましい。有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン等の３級アミン；水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類などを好ましく使用することができる。このときの反応温度は、−２０〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましい。反応時間は、０．１〜２４時間が好ましく、０．５〜１２時間がより好ましい。
【００３５】
液晶配向剤に含有させるポリアミック酸エステルは、アミック酸エステル構造のみを有していてもよく、アミック酸構造とアミック酸エステル構造とが併存する部分エステル化物であってもよい。なお、ポリアミック酸エステルを溶解してなる反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸エステルを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリアミック酸エステルを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリアミック酸エステルの単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。
【００３６】
（溶液粘度及び重量平均分子量）
以上のようにして得られるポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドは、これを濃度１０質量％の溶液としたときに、１０〜８００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を示すものであることが好ましく、１５〜５００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を示すものであることがより好ましい。なお、重合体の溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、当該重合体の良溶媒（例えばγ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等）を用いて調製した濃度１０質量％の重合体溶液につき、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃において測定した値である。
【００３７】
以上のようにして得られるポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００〜５００，０００であり、より好ましくは２，０００〜３００，０００である。分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは７以下であり、より好ましくは５以下である。
【００３８】
・第二の重合体［Ｂ］
第二の重合体［Ｂ］が有する光配向性基は、上記第一の重合体が有する光配向性基の具体例と同様のものを用いることができる。特に、高い配向能を有する点及び重合体への導入が容易である点で、桂皮酸構造含有基であることが好ましい。
【００３９】
第二の重合体［Ｂ］は、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルとは異なる重合体である限り限定されるものではないが、ポリオルガノシロキサン、スチレン−マレイミド系共重合体、及び（メタ）アクリル系重合体よりなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。以下に、ポリオルガノシロキサン、スチレン−マレイミド系共重合体、及び（メタ）アクリル系重合体のそれぞれについて説明する。
【００４０】
（ポリオルガノシロキサン）
第一の重合体［Ａ］が、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（以下「ポリオルガノシロキサン［Ａ］」ともいう。）である場合、ポリオルガノシロキサン［Ａ］を合成する方法は特に限定されないが、簡便であって、かつ光配向性基の導入率を高くできる点で、エポキシ基含有のアルコキシシラン、又はエポキシ基含有のアルコキシシランとその他のシラン化合物との混合物を加水分解縮合してエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを得て、次いで、得られたエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと、光配向性基を有するカルボン酸（以下「特定カルボン酸」ともいう。）と、を反応させる方法によることが好ましい。
【００４１】
エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンは、例えば、加水分解性のシラン化合物を加水分解・縮合することにより得ることができる。使用するシラン化合物としては、加水分解性を示す限り特に制限されないが、例えば、テトラアルコキシシラン、フェニルトリアルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、モノアルキルトリアルコキシシラン、メルカプトアルキルトリアルコキシシラン、ウレイドアルキルトリアルコキシシラン、アミノアルキルトリアルコキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリアルコキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、ｐ−スチリルトリアルコキシシラン、トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物等を挙げることができる。シラン化合物は、これらの１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用できる。
【００４２】
シラン化合物の加水分解・縮合反応は、上記の如きシラン化合物の１種又は２種以上と水とを、好ましくは適当な触媒及び有機溶媒の存在下で反応させることにより行う。加水分解・縮合反応に際し、水の使用割合は、シラン化合物（合計量）１モルに対して、好ましくは１〜３０モルである。触媒としては、例えば酸、アルカリ金属化合物、有機塩基、チタン化合物、ジルコニウム化合物などを挙げることができる。触媒の使用量は、触媒の種類、温度などの反応条件などにより異なり、適宜に設定されるべきであるが、例えばシラン化合物の合計量に対して、好ましくは０．０５〜１倍モルである。反応に使用する有機溶媒としては、例えば炭化水素、ケトン、エステル、エーテル、アルコール等が挙げられる。これらのうち、非水溶性又は難水溶性の有機溶媒を用いることが好ましい。有機溶媒の使用割合は、反応に使用するシラン化合物の合計１００質量部に対して、好ましくは１０〜１，０００質量部である。
【００４３】
上記の加水分解・縮合反応は、例えば油浴などにより加熱（例えば、４０〜１３０℃に加熱）して実施することが好ましい。加熱時間は、０．５〜８時間とすることが好ましい。反応終了後において、反応液から分取した有機溶媒層を必要に応じて水で洗浄し、有機溶媒層を乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、目的とするポリオルガノシロキサンを得ることができる。なお、ポリオルガノシロキサンの合成方法は、上記の加水分解・縮合反応に限らず、例えば加水分解性シラン化合物をシュウ酸及びアルコールの存在下で反応させる方法などにより行ってもよい。
【００４４】
得られたエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを、次いで特定カルボン酸と反応させる。これにより、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基と、カルボン酸とが反応してポリオルガノシロキサン［Ａ］が得られる。
【００４５】
特定カルボン酸は、光配向性基を有していれば特に限定されないが、桂皮酸構造含有基を有するカルボン酸であることが好ましい。このような特定カルボン酸としては、例えば上記式（ｃｎ−１）及び上記式（ｃｎ−２）のそれぞれで表される基のＸ１が酸素原子である基における結合手の部分に水素原子が結合したカルボン酸などを挙げることができる。なお、特定カルボン酸は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４６】
エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと特定カルボン酸との反応に際しては、光配向性基を有さないカルボン酸（その他のカルボン酸）を使用してもよい。使用するその他のカルボン酸は、特に制限されないが、重合性基を有するカルボン酸（以下、「重合性基含有カルボン酸」ともいう。）が好ましく用いられ、当該重合性基が（メタ）アクリロイル基であるカルボン酸がより好適に用いられる。エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと特定カルボン酸との反応に際し、重合性基含有カルボン酸を併用することにより、光学異方性膜と液晶配向膜との剥離性がより良好な液晶配向膜が得られる点で好適である。重合性基の具体例としては、重合体［Ａ］が有していてもよい重合性基についての上記説明が適用される。ポリオルガノシロキサン［Ａ］は、少なくともエポキシ基を有することが好ましく、（メタ）アクリロイル基とエポキシ基とを有することがより好ましい。エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと反応させるカルボン酸は無水カルボン酸であってもよい。
【００４７】
重合性基含有カルボン酸の具体例としては、例えば（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸；無水トリメリット酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、シス−１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物等の不飽和多価カルボン酸無水物、などが挙げられる。重合性基含有カルボン酸は、これらの１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。その他のカルボン酸としては、重合性基含有カルボン酸以外の他、例えばプロピオン酸、安息香酸、メチル安息香酸、垂直配向性基を有するカルボン酸等を使用してもよい。
【００４８】
エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンとカルボン酸との反応に際し、カルボン酸の使用割合は、当該反応を十分に行わせつつ、未反応のカルボン酸の量を少なくする観点から、ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基の合計１モルに対して、０．００１〜１．５モルとすることが好ましく、光学異方性膜と液晶配向膜との剥離性がより良好な液晶配向膜を得る観点から、０．０１モル以上１．０モル未満とすることがより好ましく、０．１〜０．８モルとすることが更に好ましい。上記反応に際し、カルボン酸の使用割合を、ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基の合計１モルに対して１モル未満とすることにより、光配向性基及びエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン［Ａ］が得られる点で好ましい。ポリオルガノシロキサン［Ａ］は、液晶配向膜と光学異方性膜との剥離性をより高くできる点で、エポキシ基を側鎖に有していることが好ましい。
【００４９】
特定カルボン酸の使用割合（２種以上使用する場合にはその合計量）は、液晶配向膜１２の液晶配向性を良好にする観点から、反応に使用するカルボン酸の全量に対して、１０モル％以上とすることが好ましく、２０モル％以上とすることがより好ましい。重合性基含有カルボン酸を使用する場合、その使用割合は、反応に使用するカルボン酸の全量に対して、１モル％以上とすることが好ましく、３〜５０モル％とすることがより好ましく、５〜３０モル％とすることが更に好ましい。
【００５０】
エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンとカルボン酸との反応は、好ましくは触媒及び有機溶媒の存在下で行われる。触媒としては、３級有機アミン又は４級有機アミンを用いることが好ましい。触媒の使用割合は、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン１００質量部に対して、好ましくは０．１〜２０質量部である。使用する有機溶媒としては、原料及び生成物の溶解性、並びに生成物の精製のしやすさの観点から、エーテル、エステル及びケトンよりなる群から選ばれる少なくとも一種とすることが好ましい。特に好ましい溶媒の具体例として、２−ブタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び酢酸ブチル等を挙げることができる。当該有機溶媒は、固形分濃度（反応溶液中の溶媒以外の成分の合計質量が、溶液の全質量に対して占める割合）が、５〜５０質量％となる割合で使用することが好ましい。反応温度は、好ましくは０〜２００℃であり、反応時間は、好ましくは０．１〜５０時間である。反応終了後は、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。
【００５１】
ポリオルガノシロキサン［Ａ］につき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００〜５０，０００の範囲にあることが好ましく、２００〜１０，０００の範囲にあることがより好ましい。
【００５２】
（スチレン−マレイミド系共重合体）
第一の重合体［Ａ］が、光配向性基を有するスチレン−マレイミド系共重合体（以下「重合体［Ａｓ］」ともいう。）である場合、重合体［Ａｓ］を合成する方法は特に限定されない。重合体［Ａｓ］は重合性基をさらに有していてもよい。重合体［Ａｓ］が有する重合性基は、光又は熱によって同一又は異なる分子間に共有結合を形成可能な基であることが好ましく、例えば（メタ）アクリロイル基、ビニル基、ビニルフェニル基、ビニルエーテル基、アリル基、エチニル基、アリル基、アリルオキシ基、環状エーテル基、下記式（２２）〜式（２５）のそれぞれで表される基等が挙げられる。なお、下記の式中において、Ｒ１２〜Ｒ１５の２価の有機基としては、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、当該２価の炭化水素基の炭素−炭素結合間に−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−等を有する基などが挙げられる。これらのうち、重合体［Ａｓ］が有する重合性基は、（メタ）アクリロイル基又はエポキシ基が好ましく、エポキシ基がより好ましい。
【化５】
2020173425.tif 000007
（式（２２）〜式（２５）中、Ｒ１２〜Ｒ１４は、それぞれ独立に単結合又は２価の有機基であり、Ｒ１５は２価の有機基である。「＊」は結合手であることを示す。）
【００５３】
重合体［Ａｓ］は、スチレン基を有する単量体（以下、「スチレン系化合物」ともいう。）に由来する構造単位と、マレイミド基を有する単量体（以下、「マレイミド系化合物」ともいう。）に由来する構造単位のみを有していてもよいし、スチレン系化合物及びマレイミド系化合物以外の単量体に由来する構造単位をさらに有していてもよい。スチレン系化合物に由来する構造単位の含有割合は、スチレン−マレイミド系共重合体の全構造単位に対して、２〜８０モル％であることが好ましく、５〜７０モル％であることがより好ましい。また、マレイミド系化合物に由来する構造単位の含有割合は、スチレン−マレイミド系共重合体の全構造単位に対して、２〜８０モル％であることが好ましく、５〜７０モル％であることがより好ましい。
【００５４】
スチレン系化合物の具体例としては、例えばスチレン、メチルスチレン、ジビニルベンゼン、３−ビニル安息香酸、４−ビニル安息香酸、３−（グリシジルオキシメチル）スチレン、４−（グリシジルオキシメチル）スチレン、４−グリシジル−α−メチルスチレン等を挙げることができる。マレイミド系化合物としては、例えばＮ−メチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、３−（２，５−ジオキソ−３−ピロリン−１−イル)安息香酸、４−（２，５−ジオキソ−３−ピロリン−１−イル)安息香酸、４−（２，５−ジオキソ−３−ピロリン−１−イル)安息香酸メチル、下記式（ｍ３−１）〜式（ｍ３−５）
【化６】
2020173425.tif 000008
のそれぞれで表される光配向性基含有化合物等を挙げることができる。なお、スチレン系化合物、マレイミド系化合物としては、これらの１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００５５】
重合体［Ａｓ］は、スチレン系化合物及びマレイミド系化合物を用いた重合により得ることができる。当該重合は、好ましくは重合開始剤の存在下、有機溶媒中で行われる。使用する重合開始剤としては、例えば２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物が好ましい。重合開始剤の使用割合は、反応に使用する全モノマー１００質量部に対して、０．０１〜３０質量部とすることが好ましい。使用する有機溶媒としては、例えばアルコール、エーテル、ケトン、アミド、エステル、炭化水素化合物等が挙げられる。このとき、反応温度は３０℃〜１２０℃とすることが好ましく、反応時間は１〜３６時間とすることが好ましい。有機溶媒の使用量（ａ）は、反応に使用するモノマーの合計量（ｂ）が、反応溶液の全体量（ａ＋ｂ）に対して、０．１〜６０質量％になるような量にすることが好ましい。
【００５６】
重合体［Ａｓ］は、エポキシ基と、加熱によりエポキシ基と反応する官能基と、光配向性基とを有するスチレン−マレイミド系共重合体であることが、液晶配向膜と光学異方性膜との剥離性をより高くできる点で好ましい。加熱によりエポキシ基と反応する官能基としては、保存安定性が高く、かつエポキシ基との反応性が高い点で、カルボキシル基又は保護カルボキシル基であることが好ましい。
重合体［Ａｓ］がエポキシ基と、加熱によりエポキシ基と反応する官能基とを有する場合、重合体［Ａｓ］におけるエポキシ基の含有割合は、重合体［Ａｓ］の合成に使用する単量体の全量に対して、１〜６０モル％であることが好ましく、１０〜５０モル％であることがより好ましい。また、加熱によりエポキシ基と反応する官能基の含有割合は、１〜９０モル％であることが好ましく、１０〜８０モル％であることがより好ましい。
【００５７】
重合体［Ａｓ］につき、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００〜３００，０００であり、より好ましくは２，０００〜１００，０００である。Ｍｗと、ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）との比で表される分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１０以下であり、より好ましくは８以下である。
【００５８】
（（メタ）アクリル系重合体）
第一の重合体［Ａ］が、光配向性基を有する（メタ）アクリル系重合体（以下「重合体［Ａｍ］」ともいう。）である場合、重合体［Ａｍ］を合成する方法は特に限定されない。重合体［Ａｍ］は重合性基をさらに有していてもよい。
【００５９】
重合体［Ａｍ］は、重合性基としてエポキシ基を側鎖に有していることが好ましい。こうした重合体［Ａｍ］は、例えば、エポキシ基を有する（メタ）アクリル系化合物を含む単量体を重合開始剤の存在下で重合し、次いで、得られた重合体（以下「エポキシ基含有ポリ（メタ）アクリレート」ともいう。）と、光配向性基含有カルボン酸とを反応させる方法によって得ることができる。なお、合成反応における各種条件については重合体［Ａｓ］の説明が適用される。
【００６０】
エポキシ基含有の（メタ）アクリル系単量体としては、例えばエポキシ基を有する不飽和カルボン酸エステルが挙げられ、その具体例としては、例えば（メタ）アクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸６，７−エポキシヘプチル、アクリル酸４−ヒドロキシブチルグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル等が挙げられる。
【００６１】
上記重合に際しては、エポキシ基含有の（メタ）アクリル系単量体以外のその他の単量体として、エポキシ基含有の（メタ）アクリル系単量体とともに、例えば、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、ビニル安息香酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等を併用してもよい。なお、その他の単量体は、これらの１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００６２】
重合体［Ａｍ］につき、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は、２５０〜５００，０００であることが好ましく、５００〜１００，０００であることがより好ましく、１，０００〜５０，０００であることが更に好ましい。
【００６３】
第二の重合体［Ｂ］としては、光学フィルムの剥離性及び転写後の光学フィルムの透明性をより良好にできる点で、ポリオルガノシロキサンであることが好ましい。
第二の重合体［Ｂ］の含有割合は、液晶配向剤中に含まれる重合体成分の合計１００質量部に対して、５質量部以上とすることが好ましく、５〜９０質量部とすることがより好ましく、１０〜８０質量部とすることがさらに好ましい。なお、第二の重合体［Ｂ］の主骨格が上記のいずれかであることによって液晶配向膜の光学フィルムに対する接着性が適度に弱まり、これにより光学フィルムの剥離性を良好にできたことが一つの理由として推測される。
【００６４】
本実施形態の液晶配向剤は、光学フィルムとの剥離性、透明性及び液晶配向性をより良好にできる液晶配向膜を得る観点から、第一の重合体［Ａ］と第二の重合体［Ｂ］のいずれか一方または両方が重合性基を有しているとよい。この場合、液晶配向膜に対する光学フィルムの剥離性、透明性及び液晶配向性の改善効果が高く好ましい。なお、液晶配向剤中の成分が重合性基を有する場合に上記効果がより高くなる理由としては、重合性基による分子間又は分子内の架橋により、液晶配向膜の硬度が高くなり、また支持体に対する液晶配向膜の接着性が向上し、これにより光学異方性膜が液晶配向膜からきれいに剥離された結果、光学異方性膜の配向規制力及び透明性が高くなったことが推測される。
【００６５】
重合性基としては、光又は熱によって同一又は異なる分子間に共有結合を形成可能な基であることが好ましく、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、ビニルフェニル基、ビニリデン基、ビニルオキシ基（ＣＨ２＝ＣＨ−Ｏ−）、マレイミド基、アリル基、エチニル基、アリル基、アリルオキシ基、環状エーテル基（オキセタニル基、オキシラニル基など）等が挙げられる。これらの中でも、光に対する反応性が高い点で、（メタ）アクリロイル基及びエポキシ基が好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基及びメタクリロイル基を含む意味であり、エポキシ基は、オキシラニル基及びオキセタニル基を含む意味である。重合性基の含有割合は、第一の重合体［Ａ］および第二の重合体［Ｂ］を構成する単量体単位の合計量に対して、１モル％以上であることが好ましく、２モル％以上であることがより好ましい。また、重合性基の含有割合は、第一の重合体［Ａ］および第二の重合体［Ｂ］を構成する単量体単位の合計量に対して、５０モル％以下であることが好ましく、４０モル％以下であることがより好ましい。
【００６６】
第一の重合体［Ａ］、第二の重合体［Ｂ］の好ましい使用割合としては、重合体［Ｂ］１００質量部に対して重合体［Ａ］の使用量が、１００質量部以上であることが好ましく、１５０質量部以上であることがより好ましく、２００質量部以上であることがさらに好ましい。また、重合体［Ｂ］１００質量部に対する重合体［Ａ］の使用量は、１００，０００質量部以下であることが好ましく、５，０００質量部以下であることがより好ましく、３，０００質量部以下であることがさらに好ましい。
【００６７】
・その他の成分
本実施形態の液晶配向剤は、必要に応じて、第一の重合体［Ａ］、第二の重合体［Ｂ］以外のその他の成分を含有していてもよい。当該その他の成分としては、例えば、第一の重合体［Ａ］及び第二の重合体［Ｂ］とは異なる重合体（以下、「その他の重合体」ともいう。）、硬化触媒、硬化促進剤等が挙げられる。
【００６８】
（その他の重合体）
その他の重合体としては、特に制限されないが、例えば、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリエステル、ポリアミド、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、スチレン−マレイミド系共重合体、（メタ）アクリル系重合体などを主骨格とする重合体であって、光配向性基を有さない重合体が挙げられる。その他の重合体は、その主鎖が、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド又は（メタ）アクリル系重合体であることがより好ましい。なお、その他の重合体としては、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。その他の重合体を配合する場合、その使用割合は、第一の重合体［Ａ］と第二の重合体［Ｂ］とその他の重合体との合計量に対して、９０質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以下であることが更に好ましく、２０質量％以下であることが特に好ましい。
【００６９】
（硬化触媒）
硬化触媒は、エポキシ構造間の架橋反応に対する触媒作用を有する成分であり、当該架橋反応を促進することを目的として液晶配向剤中に含有される。硬化触媒は金属キレート化合物が好ましく、アルミニウム、チタニウム及びジルコニウムから選択される金属のアセチルアセトン錯体又はアセト酢酸錯体を用いることが好ましい。具体的には、例えばジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、ジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトネート）チタニウム、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどを挙げることができる。金属キレート化合物の使用割合は、液晶配向剤中の重合体成分の合計１００質量部に対して、好ましくは０．１〜５０質量部、より好ましくは０．５〜３０質量部である。
【００７０】
（硬化促進剤）
硬化促進剤は、硬化触媒の触媒作用を強化し、エポキシ構造間の架橋反応を促進することを目的として液晶配向剤中に含有される成分である。硬化促進剤としては、例えばフェノール基、シラノール基、チオール基、リン酸基、スルホン酸基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基などを有する化合物を使用することができる。効果促進剤の具体例としては、例えば、シアノフェノール、ニトロフェノール、メトキシフェノキシフェノール、チオフェノキシフェノール、４−ベンジルフェノール、トリメチルシラノール、トリエチルシラノール、１，１，３，３−テトラフェニル−１，３−ジシロキサンジオール、１，４−ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼン、トリフェニルシラノール、トリ（ｐ−トリル）シラノール、ジフェニルシランジオール、トリメリット酸等が挙げられる。硬化促進剤の使用割合は、液晶配向剤中の重合体成分の合計１００質量部に対して、好ましくは３０質量部以下、より好ましくは０．１〜２０質量部である。
【００７１】
なお、液晶配向剤は、本発明の目的及び効果を妨げない範囲内において、上記以外の成分を含有していてもよい。かかる成分としては、例えば、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物、官能性シラン化合物、界面活性剤、シリカ粒子、充填剤、消泡剤、光増感剤、分散剤、酸化防止剤、密着助剤、帯電防止剤、抗菌剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。なお、これらの配合割合は、配合する各化合物に応じて、本発明の効果を妨げない範囲で適宜設定することができる。
【００７２】
（溶剤）
液晶配向剤は、第一の重合体［Ａ］、第二の重合体［Ｂ］及び任意に使用されるその他の成分が、好ましくは適当な溶媒中に分散又は溶解してなる液状の組成物として調製される。
【００７３】
使用する溶媒は有機溶媒が好ましい。溶媒としては、アルコール、エーテル、ケトン、アミド、エステル、炭化水素などを好適に使用することができる。中でも、多価アルコールの部分エステル、多価アルコールエーテル、エーテル、ケトン及びエステルから選択される１種以上の溶剤（以下、「Ａ溶剤」ともいう。）を使用することが好ましい。具体的には、多価アルコールの部分エステルとしては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを；多価アルコールエーテルとしては、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）から選択される１種以上を；エーテルとしては、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル及びテトラヒドロフランから選択される１種以上を；ケトンとしては、メチルエチルケトン、シクロペンタノン及びシクロヘキサノンから選択される１種以上を；エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｔ−ブチル、アセト酢酸エチル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートから選択される１種以上を、それぞれ好ましく使用することができる。
【００７４】
液晶配向剤の調製に際し、溶媒としては、上記Ａ溶剤を単独で使用してもよいが、Ａ溶剤とともにその他の溶剤（以下、「Ｂ溶剤」ともいう。）を使用してもよい。Ｂ溶剤としては非プロトン性極性溶媒が挙げられ、例えばＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、１，２−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。Ｂ溶剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用できる。
【００７５】
使用するＡ溶剤及びＢ溶剤の使用割合は、重合体の溶剤に対する溶解性に応じて適宜選択することができる。具体的には、Ａ溶剤の使用割合は、液晶配向剤の調製に使用する溶剤の合計量に対して、５質量％以上とすることが好ましく、１０質量％以上とすることがより好ましい。Ｂ溶剤の使用割合は、液晶配向剤の調製に使用する溶剤の合計量に対して、９５質量％以下とすることが好ましく、９０質量％以下とすることがより好ましい。また、Ｂ溶剤の使用割合は、液晶配向剤の調製に使用する溶剤の合計量に対して、５質量％以上とすることが好ましく、１０質量％以上とすることがより好ましい。
【００７６】
溶剤の使用割合は、液晶配向剤の塗布性、及び形成される塗膜の膜厚を適度にする観点から、液晶配向剤の固形分濃度（液晶配向剤中の溶媒以外の全成分の合計質量が、重合体組成物の全質量に占める割合）が０．２〜１０質量％となる割合とすることが好ましく、３〜１０質量％となる割合とすることがより好ましい。
【００７７】
＜積層体及びその製造方法＞
本実施形態の積層体１０は、図１に示すように、支持体１１、液晶配向膜１２及び光学フィルム１３がこの順に積層されてなる。光学フィルム１３は、液晶化合物を含む薄膜であり、単層からなる薄膜であってもよく、多層からなる薄膜であってもよい。光学フィルム１３が多層構造である場合の例としては、例えば、リタデーションが相互に異なる２つ以上の液晶層が積層されてなる多層構造；液晶層と液晶層との間に他の層（例えば、接着層や粘着層など）が介在されてなる多層構造等が挙げられる。積層体１０は、例えば以下の工程１〜工程３を含む方法により製造することができる。
【００７８】
（工程１：塗膜の形成）
まず、支持体１１上に液晶配向剤を塗布し、好ましくは塗布面を加熱することにより支持体１１上に塗膜を形成する。支持体１１としては、透明な樹脂フィルムを好ましく使用することができる。具体的には、例えば、セルロースアシレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド、ポリイミド、ポリ（メタ）アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、環状ポリオレフィンなどの合成樹脂からなるフィルムが挙げられる。支持体１１としては、これらのうち、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリ（メタ）アクリレート、ポリカーボネート又はポリエーテルエーテルケトンの樹脂材料により形成されていることが好ましい。これらの樹脂材料により形成されてなる支持体１１は、第一の重合体［Ａ］と第二の重合体［Ｂ］を含有する液晶配向剤の調製に際して好適に使用される溶剤（Ａ溶剤単独、又はＡ溶剤とＢ溶剤との混合溶媒）に対する耐性が適度であり、支持体１１上に形成される液晶配向膜の支持体１１への密着性と液晶配向性とをより良好にできる点で好ましい。使用する支持体１１に対しては、支持体１１の表面と液晶配向膜１２との密着性をさらに良好にするために、液晶配向膜１２を形成する面に、鹸化処理などの従来公知の前処理が施されていてもよい。
【００７９】
支持体１１への液晶配向剤の塗布は、適宜の塗布方法によることができる。具体的には、例えばロールコーター法、スピンナー法、インクジェット印刷法、バーコーター法、エクストリューションダイ法、ダイレクトグラビアコーター法、チャンバードクターコーター法、オフセットグラビアコーター法、含浸コーター法、ＭＢコーター法などを採用することができる。液晶配向剤の塗布後は、塗布面を加熱（ベーク）することが好ましい。この時の加熱温度は、好ましくは４０〜１５０℃、より好ましくは８０〜１４０℃である。加熱時間は、好ましくは０．１〜１５分、より好ましくは１〜１０分である。支持体１１上に形成される塗膜の膜厚は、好ましくは１ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは５ｎｍ〜０．５μｍである。これにより、液晶配向膜１２となる塗膜が支持体１１上に形成される。
【００８０】
（工程２：光配向処理）
次いで、上記のようにして基板上に形成された塗膜に対し光を照射することにより、塗膜に液晶配向能を付与して液晶配向膜１２とする。ここで、照射する光としては、例えば１５０〜８００ｎｍの波長の光を含む紫外線、可視光線などを挙げることができる。これらのうち、３００〜４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。照射光は偏光であっても非偏光であってもよい。偏光としては、直線偏光を含む光を使用することが好ましい。光の照射は、用いる光が偏光である場合には、基板面に垂直の方向から行っても斜め方向から行ってもよく、あるいはこれらを組み合わせて行ってもよい。非偏光を照射する場合には、基板面に対して斜めの方向から行う必要がある。
【００８１】
使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、水銀−キセノンランプ（Ｈｇ−Ｘｅランプ）などを挙げることができる。偏光は、これらの光源を例えばフィルター、回折格子などと併用する手段などにより得ることができる。光の照射量は、０．１ｍＪ／ｃｍ２〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２とすることが好ましく、１〜５００ｍＪ／ｃｍ２とすることがより好ましい。
【００８２】
（工程３：光学フィルムの形成）
次いで、上記のようにして光照射した後の塗膜（液晶配向膜１２）上に、重合性液晶化合物を含有する液晶組成物を塗布して硬化させる。これにより、液晶配向膜１２の表面上に、光学機能を有する転写フィルムとしての光学フィルム１３が形成される。ここで使用される重合性液晶化合物は、加熱及び光照射のうちの少なくともいずれかの処理によって重合する液晶化合物である。重合性液晶化合物が有する重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、ビニルフェニル基、アリル基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００８３】
重合性液晶化合物としては、重合性官能基を有する液晶化合物であればよく、従来公知のものを使用することができる。具体的には、例えば非特許文献１（「ＵＶキュアラブル液晶とその応用」、液晶、第３巻第１号（１９９９年）、ｐｐ３４〜４２）に記載されているネマチック液晶を挙げることができる。この場合、好ましくは（メタ）アクリロイル基とメソゲン骨格とを有する液晶化合物である。また、コレステリック液晶、ディスコティック液晶、カイラル剤を添加されたツイストネマティック配向型液晶などであってもよい。重合性液晶化合物を用いて、光学フィルム１３である光学異方性膜を形成する場合、複数の液晶化合物の混合物を用いてもよく、さらに公知の重合開始剤や適当な溶媒、重合性モノマー、界面活性剤などを含有する組成物を用いてもよい。形成された液晶配向膜１２上に重合性液晶化合物を塗布するには、例えばバーコーター法、ロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法などの適宜の塗布方法を採用することができる。
【００８４】
液晶組成物は、重合性液晶化合物とともに色素を含有していてもよい。色素を含有する液晶組成物を用いることにより、光学フィルム１３として偏光機能を有する異方性色素膜を形成することができる。色素は、可視光領域（３８０〜７８０ｎｍ）の少なくとも一部の波長を吸収する化合物であり、二色性色素を好ましく使用することができる。
【００８５】
色素は特に限定されず、公知の化合物を使用することができる。色素の具体例としては、アゾ系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、スチルベン系色素、ペリレン系色素、オキサジン系色素、アクリジン系色素、イジジゴ系色素、ポリヨウ素等が挙げられる。これらのうち、耐光性に優れ、かつ二色性が高い点で、アゾ系色素又はアントラキノン系色素が好ましく、アゾ系色素（例えば、ジスアゾ化合物、トリスアゾ化合物、テトラキスアゾ化合物等）が特に好ましい。なお、公知の色素化合物としては、例えば特開平１−１０５２０４号公報、特開２０１２−０８３７３４号公報、特開２０１４−０９５８９９号公報、特開２０１７−０２５３１７号公報に記載の二色性色素等が挙げられる。なお、色素としては、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８６】
液晶組成物中に色素を含有させる場合、色素の含有割合は、液晶組成物の全量に対して、０．０１質量％以上であることが好ましく、０．０５質量％以上であることがより好ましい。また、色素の含有割合は、液晶組成物の全量に対して、３０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることが更に好ましい。色素が０．０５質量％以上であると、偏光機能が十分に発揮される光学フィルムを得ることができ、３０質量％以下であると、過剰量の色素に起因する配向能の低下の影響を少なくできる点で好ましい。
【００８７】
続いて、上記のように形成された重合性液晶化合物の塗膜に対して、加熱及び光照射から選択される１種以上の処理を施すことにより、該塗膜を硬化して液晶層（光学フィルム１３）を形成する。これらの処理を重畳的に行うことが、良好な配向が得られることから好ましい。塗膜の加熱温度は、使用する重合性液晶化合物の種類によって適宜に選択される。例えば、メルク社製のＲＭＳ０３−０１３Ｃを使用する場合、４０〜８０℃の範囲の温度で加熱することが好ましい。加熱時間は、好ましくは０．５〜５分である。塗膜に対する照射光としては、２００〜５００ｎｍの範囲の波長を有する非偏光の紫外線を好ましく使用することができる。光の照射量としては、５０〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ２とすることが好ましく、１００〜５，０００ｍＪ／ｃｍ２とすることがより好ましい。なお、塗膜に対する偏光放射線の照射は、所定の偏光方向から１回のみ行ってもよく、偏光方向（入射方向）が異なる放射線を塗膜に対して複数回照射してもよい。
【００８８】
形成される光学フィルム１３の厚みとしては、所望の光学特性によって適宜に設定される。例えば、位相差フィルムとして、波長５４０ｎｍの可視光における１／２波長板を製造する場合は、位相差フィルムとしての光学フィルム１３の位相差が２４０〜３００ｎｍとなるような厚さが選択され、１／４波長板であれば、位相差が１２０〜１５０ｎｍとなるような厚さが選択される。目的の位相差が得られる光学フィルム１３の厚みは、使用する重合性液晶化合物の光学特性によって異なる。例えばメルク製のＲＭＳ０３−０１３Ｃを使用する場合、１／４波長板を製造するための厚さは、０．６〜１．５μｍの範囲である。こうして積層体１０が得られる。なお、光学フィルム１３が多層構造である場合、当該光学フィルム１３は、例えば、重合性液晶化合物の塗布と硬化処理とを繰り返し行うことにより得ることができる。
【００８９】
＜光学補償フィルムの形成方法＞
積層体１０によれば、積層体１０が有する光学フィルム１３を被着体２１（図１（ｂ）参照）に転写することにより、該被着体２１上に転写フィルム２３としての光学フィルムを形成することができる（図１（ｃ）参照）。具体的には、まず、上記の如くして積層体１０を得て（図１（ａ）参照）、次いで、積層体１０の光学フィルム１３側の面と、被着体２１の一方の面とを貼り合わせる（図１（ｂ）参照）。このとき、積層体１０の光学フィルム１３側の面、及び被着体２１の面の少なくとも一方に接着層２２を形成し、接着層２２を介して積層体１０と被着体２１とを貼り合わせてもよい。次いで、支持体１１を被着体２１から引き離す。これにより、液晶配向膜１２と光学フィルム１３との境界部分で剥がれが生じ、光学フィルム１３が被着体２１の表面上に転写される。こうして、被着体２１上に、光学フィルム１３（転写フィルム２３）が形成される（図１（ｃ）参照）。光学フィルム１３としては、例えば位相差フィルム、視野角補償フィルム、反射防止フィルム等が挙げられる。
【００９０】
光学フィルム１３を転写する被着体２１は特に限定されない。例えば、対向配置された一対の基板間に液晶層が設けられた液晶セルを構築し、当該液晶セルにおける一対の基板（例えばガラス基板）を被着体２１とする。そして、当該一対の基板の少なくとも一方の外側に、積層体１０の光学フィルム１３側の面を貼り合わせて光学フィルム１３を転写する。これにより、液晶セルにおける一対の基板の外側に、光学フィルム１３からなる転写フィルム２３を有する液晶表示素子を得ることができる。あるいは、偏光フィルムを被着体２１とし、偏光フィルム上に（好ましくは、偏光フィルムの偏光層側の面に）、積層体１０の光学フィルム１３側の面を貼り合わせて光学フィルム１３を転写してもよい。偏光フィルムの偏光層側の面に光学フィルム１３を転写する場合、偏光フィルムの被転写面は、転写時の収縮が小さい材質からなることが好ましい。具体的には、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）からなる保護層、又はポリビニルアルコールにヨウ素が吸着された液晶層等の表面が被転写面である態様が挙げられる。
【００９１】
光学フィルム１３が位相差フィルムである場合、これにより、光学フィルム１３を有する偏光フィルム（位相差フィルム付き偏光フィルム）を得ることができる。当該位相差フィルム付き偏光フィルムは、例えば円偏光板として使用することができる。また、光学フィルム１３は、直線偏光板と組み合わせることで、反射防止機能を有する光学フィルムとして有用である。被着体２１は、好ましくはガラス基材、トリアセチルセルロース基材又はポリビニルアルコール基材であり、より好ましくはガラス基材又はトリアセチルセルロース基材である。
【００９２】
被着体２１に対しては、複数の積層体１０を用いて、光学フィルム１３の転写を複数回行ってもよい。具体的には、まず、第１の液晶配向膜及び第１の光学フィルムがこの順に支持体上に積層された第１の積層体を被着体２１の一方の面に貼り合わせることによって第１の光学フィルムを被着体２１上に転写する。続いて、第２の液晶配向膜及び第２の光学フィルムがこの順に支持体上に積層された第２の積層体を、被着体２１における第１の光学フィルムの形成面に貼り合わせ、第１の光学フィルムの表面上に第２の光学フィルムを転写する。これにより、被着体２１の一方の面に、第１の光学フィルム及び第２の光学フィルムを含む多層構造からなる光学フィルムを形成することができる。なお、多層構造からなる光学フィルムにおいて、光学フィルムは２層に限らず、３層以上としてもよい。また、被着体が、対向配置された一対の基板と、一対の基板間に配置された液晶層とを備える液晶セルである場合、この液晶セルの少なくとも一方の基板の外側に、上記積層体の光学フィルム側を貼り合わせ、支持体と液晶配向膜とを引き剥がすことにより、光学フィルム付きの液晶素子を得ることができる。
【００９３】
《第２実施形態》
本実施形態の円偏光板及びその製造に用いられる液晶配向剤について説明する。本実施形態の円偏光板は、位相差層と、樹脂層と、液晶配向膜と、偏光層とが順に積層されることにより形成されている。以下に、本実施形態の円偏光板、及び液晶配向膜を形成するために用いられる液晶配向剤の成分について、上記第１実施形態の液晶配向剤との相違点を中心に説明する。
【００９４】
図２に、本実施形態の円偏光板３０の一例を示す。円偏光板３０は、基材３１と、第１配向膜３２と、位相差層３３と、樹脂層３４と、第２配向膜３５と、偏光層３６とを備えており、これら各層がこの順に積層されている。基材３１としては、透明な樹脂フィルム又はガラス基材を用いることができる。樹脂フィルムの具体例及び好ましい例については、上記第１実施形態の支持体１１の説明が適用される。
【００９５】
第１配向膜３２及び第２配向膜３５は、光配向性基を有する重合体（以下、「重合体［Ｐ］」ともいう。）を含有する液晶配向剤を用いて形成されている。重合体［Ｐ］が有する光配向性基の具体例及び好ましい例については、上記第１実施形態における第一の重合体［Ａ］の説明が適用される。また、重合体［Ｐ］の主鎖は特に限定されないが、偏光性能に優れた円偏光板を得る観点から、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体であって光配向性基を有する重合体（すなわち、第一の重合体［Ａ］）であることが好ましい。
【００９６】
第１配向膜３２及び第２配向膜３５を形成するための液晶配向剤は、重合体成分として第一の重合体［Ａ］のみを含有していてもよい。あるいは、該液晶配向剤は、第一の重合体［Ａ］と第二の重合体［Ｂ］とを含有していてもよいし、第一の重合体［Ａ］とその他の重合体とを含有していてもよい。なお、第１配向膜３２と第２配向膜３５は、同一組成の液晶配向剤を用いて形成されていてもよく、異なる組成の液晶配向剤を用いて形成されていてもよい。
【００９７】
樹脂層３４は、好ましくは重合体が溶剤に溶解された液状の重合体組成物を用いて形成されている。重合体組成物に含有される重合体（以下、「重合体［Ｑ］ともいう。」）としては、第２配向膜３５による液晶配向機能を十分に高くし、優れた偏光機能を示す偏光層２６を形成する観点から、ポリオルガノシロキサン、（メタ）アクリル系重合体、及びスチレン−マレイミド系共重合体よりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましく、ポリオルガノシロキサンが特に好ましい。なお、樹脂層３４の構成成分である重合体は、光配向性基を有しないことが好ましい。
【００９８】
重合体［Ｑ］は、架橋性基を有していることが好ましい。重合体［Ｑ］が架橋性基を有すると、偏光機能により優れた円偏光板３０を形成できる点で好ましい。架橋性基は、光又は熱によって同一又は異なる分子間に共有結合を形成可能な基であることが好ましく、例えば（メタ）アクリル酸又はその誘導体を基本骨格とする（メタ）アクリル含有基、ビニル基を有する基（アルケニル基、スチリル基など）、エチニル基、エポキシ基（オキシラニル基、オキセタニル基）等が挙げられる。これらのうち、重合体［Ｑ］が有する架橋性基は、エポキシ基が特に好ましい。
【００９９】
樹脂層３４の形成に用いられる重合体組成物が、架橋性基を有する重合体［Ｑ］を含有する場合、硬化触媒及び硬化促進剤よりなる群から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。硬化触媒及び硬化促進剤、並びに溶剤の具体例等については、上記第１実施形態の説明が適用される。樹脂層３４の膜厚は、好ましくは１ｎｍ〜１μｍであり、より好ましくは５ｎｍ〜０．５μｍである。
【０１００】
位相差層３３及び偏光層３６は、それぞれ、液晶化合物を硬化させることにより形成されている。これらのうち、偏光層３６の形成に用いる液晶組成物には、十分な偏光機能を膜に付与する観点から、液晶化合物とともに色素が含有されていることが好ましい。色素の具体例及び好ましい例については、上記第１実施形態の説明が適用される。
【０１０１】
次に、円偏光板３０を製造する工程について説明する。まず、基材３１上に液晶配向剤を塗布し、好ましくは塗布面を加熱することにより基材３１上に塗膜を形成する。次いで、塗膜に対し光を照射することにより、塗膜に液晶配向能を付与し、光配向膜である第１配向膜３２とする。続いて、第１配向膜３２の上に液晶組成物を塗布し、硬化させることにより位相差層３３を形成する。その後、位相差層３３の上に、重合体［Ｑ］を含有する重合体組成物を塗布し、好ましくは加熱処理又は減圧処理等を行い、樹脂層３４を形成する。樹脂層３４の形成に際し、重合体組成物の塗布方法等については、上記第１実施形態における工程１の説明が適用される。
【０１０２】
その後さらに、樹脂層３４の上に液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、塗膜に光配向処理を行い、第２配向膜３５を形成する。またさらに、第２配向膜３５の上に液晶組成物（好ましくは、色素を含有する液晶組成物）を塗布し、硬化させることにより偏光層３６を形成する。こうして円偏光板３０が得られる。この円偏光板３０は、フィルム状であってもよく、シート状であってもよい。
【０１０３】
なお、上記第２実施形態では、基材３１上に第１配向膜３２を形成し、第１配向膜３２の上に位相差層３３を形成する場合について説明したが、上記第１実施形態の積層体、すなわち、支持体１１と液晶配向膜１２と光学フィルム１３としての位相差フィルムとを備える積層体を用い、この積層体の位相差フィルムを基材３１上に転写することにより位相差層３３を形成してもよい。この場合、第１配向膜３２を備えない円偏光板を製造することができる。
【０１０４】
ここで、液相プロセスにより円偏光板の各層を形成すれば、円偏光板の薄型化や製造コストの低減等を図ることが可能であると考えられる。その一方で、液相プロセスによる成膜の場合、互いに隣接する一方の層が他方の層に影響を及ぼす等に起因して、十分な偏光機能を示す円偏光板を得ることができないことが懸念される。
【０１０５】
こうした問題に対し、本実施形態の塗布型の円偏光板３０によれば、液相プロセスによる成膜により各層を製造することができ、比較的簡易な製法により優れた偏光機能を示す円偏光板を製造することができる。また、位相差層３３と第２配向膜３５との間に樹脂層３４を設けることにより、第２配向膜３５の液晶配向能を確保でき、偏光層３６の機能を十分に高めることができる。
【実施例】
【０１０６】
以下、実施例により更に具体的に説明するが、本発明の内容はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１０７】
以下の例において、重合体の重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎ及びエポキシ当量、並びに重合体溶液の溶液粘度は、以下の方法により測定した。以下の例で用いた原料化合物及び重合体の必要量は、下記の合成例に示す合成スケールでの合成を必要に応じて繰り返すことにより確保した。
【０１０８】
［重合体の重量平均分子量Ｍｗ及び数平均分子量Ｍｎ］
Ｍｗ及びＭｎは、以下の条件におけるＧＰＣにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム：東ソー（株）製、ＴＳＫｇｅｌＧＲＣＸＬＩＩ
溶剤：テトラヒドロフラン、又は、リチウムブロミド及びリン酸含有のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液
温度：４０℃
圧力：６８ｋｇｆ／ｃｍ２
［エポキシ当量］
エポキシ当量は、JIS C 2105に記載の塩酸−メチルエチルケトン法により測定した。
［重合体溶液の溶液粘度］
重合体溶液の溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃で測定した。
なお、以下では、式（Ｘ）で表される化合物を単に「化合物（Ｘ）」と略すことがある。「部」及び「％」は、特に断らない場合、質量基準である。
【０１０９】
＜エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成＞
［合成例１］
撹拌機、温度計、滴下漏斗及び還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン７０．５ｇ、テトラエトキシシラン１４．９ｇ、エタノール８５．４ｇ及びトリエチルアミン８．８ｇを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水７０．５ｇを滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で攪拌しつつ、８０℃で２時間反応させた。反応溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２ 回繰り返すことにより、トリエチルアミン及び水を留去し、ポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）を含む重合体溶液を得た。１Ｈ−ＮＭＲ分析を行ったところ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）のＭｗは１１，０００、エポキシ当量は１８２ｇ／モルであった。
【０１１０】
＜桂皮酸誘導体の合成＞
桂皮酸誘導体の合成反応は不活性雰囲気中で行った。
［合成例２］
冷却管を備えた５００ｍＬの三口フラスコに、１−ブロモ−４−シクロヘキシルベンゼン１９．２ｇ、酢酸パラジウム０．１８ｇ、トリス（２−トリル）ホスフィン０．９８ｇ、トリエチルアミン３２．４ｇ、ジメチルアセトアミド１３５ｍＬを混合した。この混合溶液に、シリンジでアクリル酸を７ｇ加えて撹拌した。さらに、混合溶液を１２０℃で３時間、加熱しながら撹拌した。ＴＬＣ（薄層クロマトグラフィー）で反応の終了を確認した後、反応溶液を室温まで冷却した。沈殿物をろ別した後、ろ液を１Ｎ塩酸水溶液３００ｍＬに注ぎ、沈殿物を回収した。回収した沈殿物を、酢酸エチルとヘキサンの１：１（質量比）溶液で再結晶することにより、下記式（Ｍ−１）で表される化合物（桂皮酸誘導体（Ｍ−１））を１０．２ｇ得た。
【化７】
2020173425.tif 000009
【０１１１】
＜光配向性ポリオルガノシロキサンの合成＞
［合成例３］
１００ｍＬの三口フラスコに、合成例１で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）１１．３ｇ、酢酸ｎ−ブチル１３．３ｇ、合成例２で得た桂皮酸誘導体（Ｍ−１）１．７ｇ及び４級アミン塩（サンアプロ社、ＵＣＡＴ１８Ｘ）０．１０ｇを仕込み、８０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、酢酸ｎ−ブチルをさらに２０ｇ追加し、この溶液を３回水洗した後、酢酸ｎ−ブチルをさらに２０ｇ追加し、固形分濃度１０質量％となるように溶媒を留去した。これにより、光配向性ポリオルガノシロキサンである重合体（Ｓ−１）を含有する固形分濃度１０質量％の酢酸ｎ−ブチル溶液を得た。重合体（Ｓ−１）の重量平均分子量Ｍｗは１７，０００であった。
【０１１２】
＜ポリ（メタ）アクリレートの合成＞
［合成例４］
国際公開第２０１３／０８１０６６号の段落［００６８］に記載に従い、下記式（１０）で表されるモノマーをテトラヒドロフラン中に溶解し、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を添加して重合することで、重合体（ＰＡＣ−１）を得た。
【化８】
2020173425.tif 000010
【０１１３】
＜ポリアミック酸の合成＞
［合成例５］
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物１９．６１ｇ（０．１モル）、及び２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル２１．２３ｇ（０．１モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン３６７．６ｇに溶解し、室温で６時間反応を行った。反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥することにより、ポリアミック酸（ＰＡＡ−１）を３５ｇ得た。
［合成例６］
下記式（ａａ−１）で表される化合物３９．８９ｇ（０．０９４モル）、及び下記式（ｄａ−１）で表される化合物２６．８３ｇ（０．１モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン３７８．０８ｇに溶解し、４０℃で６時間反応を行った。反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥することにより、ポリアミック酸（ＰＡＡ−２）を５０ｇ得た。
【化９】
2020173425.tif 000011
【０１１４】
＜液晶配向膜の作製及び評価〔１〕＞
［実施例１］
１．光学異方性膜（光学フィルム）形成用液晶配向剤の調製
重合体成分として、合成例６で得たポリアミック酸（ＰＡＡ−２）を１００質量部に相当する量、合成例３で得られた重合体（Ｓ−１）を５質量部に相当する量、触媒として、トリス（アセチルアセトネート）アルミニウムを１０質量部に相当する量、硬化促進剤として、トリ（ｐ−トリル）シラノールを２０質量部に相当する量を混合し、これに溶媒として、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ブチルセロソルブ（ＢＣ）、及び酢酸ｎ−ブチル（ＢＡ）を加え、固形分濃度が５質量％、各溶媒の質量比がＮＭＰ：ＢＣ：ＢＡ＝４０：４０：２０となるように調製した。次いで、この得られた溶液を孔径１μｍのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤（Ａ−１）を調製した。
【０１１５】
２．転写用積層体の作製
支持体としてのポリエーテルエーテルケトンフィルム上に、上記で調製した液晶配向剤（Ａ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、オーブン内にて１２０℃で２分間ベークして膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて、３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２をフィルム面の法線方向から照射し、液晶配向膜を作製した。次いで、重合性液晶組成物（ＲＭ−１）を孔径０．２μｍのフィルターでろ過し、バーコーターを用いて液晶配向膜の表面に塗布した。続いて、６５℃に設定したオーブンで１分間ベークを行った後、Ｈｇ−Ｘｅランプを用いて、３６５ｎｍの輝線を含む非偏光の紫外線１，０００ｍＪ／ｃｍ２を重合性液晶組成物の層に照射し、硬化させることにより液晶膜を形成した。得られた膜の膜厚は１．０μｍであった。
【０１１６】
３．液晶塗布性の評価
上記２．で得られた転写用積層体を、クロスニコル下、液晶配向方向が偏光板の偏光軸と４５°ずれるように配置し、目視により重合性液晶のハジキやピンホールの有無を観察した。評価は、ピンホールやハジキによる塗布ムラが観察されなかった場合を液晶塗布性「良好」、ピンホールやハジキによる塗布ムラが観察された場合を液晶塗布性「不良」とした。本実施例では、ピンホールやハジキによる塗布ムラが観察されず、液晶塗布性は「良好」と判断された。
４．積層体（液晶膜表面）の粗さ評価
上記２．で得られた転写用積層体を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて観察し、中心平均粗さ（Ｒａ）を測定した。評価は、Ｒａが２．０ｎｍ未満の場合を表面粗さ「良好（Ａ）」、２．０ｎｍ以上５．０ｎｍ未満であった場合を「可（Ｂ）」、５．０ｎｍ以上の場合を「不良（Ｃ）」として行った。本実施例の表面粗さは「良好（Ａ）」であった。
【０１１７】
５．液晶剥離性の評価
上記２．で得られた転写用積層体を用い、ＪＩＳ規格Ｋ５６００−５−６（ＩＳＯ２４０９）に記載のクロスカット試験により、液晶配向膜に対する光学異方性膜の剥離性を評価した。塗膜のカットは、直角の格子パターンを塗膜に切り込み、その切り込みが支持体の表面まで達した状態で評価した。最表面の光学異方性膜がテープに十分に密着して完全に剥離され、液晶配向膜が支持体に残る場合、液晶配向膜に対する光学異方性膜の剥離性が良好であるといえる。具体的には、試験結果を下記６分類のうちいずれに該当するかによって評価を行った。このとき、分類０又は１の場合に剥離性「良好」、分類２又は３の場合に剥離性「可」、分類４又は５の場合に剥離性「不良」であると判断した。本実施例では分類０であり、剥離性は「良好」であった。
分類０：カットの縁が完全に滑らかで，どの格子の目にも配向膜のはがれがなく、光学異方性膜のみが剥離された状態。
分類１：カットの交差点において配向膜が光学異方性膜と共に小さなはがれを生じている。ただし、クロスカット部分で影響を受けるのは明確に５％を上回らない状態。
分類２：配向膜がカットの縁に沿って剥がれているか、交差点において光学異方性膜と共に剥がれているか、又はその両者である状態。ただし、クロスカット部分で影響を受けるのは明確に５％を超えるが１５％を上回らない状態。 
分類３：配向膜がカットの縁に沿って、部分的若しくは全面的に光学異方性膜と共に大きく剥がれを生じているか、目のいろいろな部分が部分的若しくは全面的に光学異方性膜と共に剥がれているか、又はその両者である状態。ただし、クロスカット部分で影響を受けるのは明確に１５％を超えるが３５％を上回らない状態。 
分類４：配向膜がカットの縁に沿って部分的若しくは全面的に光学異方性膜と共に大きな剥がれを生じているか、数か所の目が部分的若しくは全面的に光学異方性膜と共に剥がれているか、又はその両者である状態。ただし、クロスカット部分で影響を受けるのは明確に３５％を超えるが６５％を上回らない状態。 
分類５：分類４にも分類されない大きな剥がれが生じている状態。
【０１１８】
６．剥離後の液晶膜の表面粗さ評価
ガラス基板に粘着剤を塗工し、これに上記「２．転写用積層体の作製」で液晶配向膜上に形成した液晶膜をガラス基板上に転写した。得られた液晶膜の表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて観察し、中心平均粗さ（Ｒａ）を測定した。評価は、Ｒａが２．０ｎｍ未満の場合を表面粗さ「良好（Ａ）」、２．０ｎｍ以上５．０ｎｍ未満であった場合を「可（Ｂ）」、５．０ｎｍ以上の場合を「不良（Ｃ）」として行った。なお、液晶膜の表面粗さが小さいほど、転写後の液晶膜（すなわち転写フィルム）は高透過率であるといえる。本実施例の表面粗さは「良好（Ａ）」であった。
【０１１９】
７．液晶配向性の評価
ガラス基板に転写した光学異方性膜につき、クロスニコル下での目視及び偏光顕微鏡により液晶配向性を観察した。目視にて液晶配向性が良好と観察され、かつ偏光顕微鏡にて異常ドメインが観察されなかった場合を「良好（Ａ）」、目視では配向性良好と観察されたが、偏光顕微鏡にて異常ドメインが観察された場合を「可（Ｂ）」、目視にて液晶配向性の異常が観察された場合を「不良（Ｃ）」と評価した。その結果、この実施例では、液晶配向性は「良好（Ａ）」の評価であった。
【０１２０】
［実施例２〜４、比較例１〜３］
液晶配向剤の配合組成を下記表１に記載の通りに変更した以外は、実施例１において液晶配向剤（Ａ−１）を調製した方法と同様に液晶配向剤（Ａ−２）〜（Ａ−４）並びに（Ｒ−１）及び（Ｒ−２）を調製した。また、液晶配向剤（Ａ−１）に代えて、下記表１に示す通りの液晶配向剤（Ａ−２）〜（Ａ−４）並びに（Ｒ−１）〜（Ｒ−３）を用いた点以外は、実施例１と同様にして各種評価を行った。
【０１２１】
【表１】
2020173425.tif 000012
【０１２２】
表１中の「配合量」の数値は、液晶配向剤の調製に使用した重合体成分の合計１００質量部に対する各化合物の配合割合（質量部）を示す。表１中、化合物の略号は以下の通りである。
＜触媒＞
Ｂ−１：トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム（アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル製）
＜硬化促進剤＞
Ｋ−１：トリ（ｐ−トリル）シラノール
＜溶剤＞
ＢＡ：酢酸ｎ−ブチル
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
ＢＣ：ブチルセロソルブ
実施例１〜４及び比較例１〜３の各種評価結果を下記表２にまとめた。
【０１２３】
【表２】
2020173425.tif 000013
【０１２４】
＜重合性液晶組成物の調製＞
重合性液晶組成物（ＲＭ−１）〜（ＲＭ−４）を調製した。各重合性液晶組成物は以下のとおりである。
・ＲＭ−１：
下記式（ＲＭＭ−１）で表される化合物を５０質量部、ＢＡＳＦ社製ＬＣ２４２を５０質量部、シクロペンタノンを３００質量部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７）を５質量部、２，５−ジ−ターシャリーブチルハイドロキノリンを０．１質量部、及び３Ｍ社製ＦＣ１７１を０．１質量部混合した組成物。
・ＲＭ−２：
下記式（ＲＭＭ−２）で表される化合物を５０質量部、ＢＡＳＦ社製ＬＣ２４２を５０質量部、シクロペンタノンを３００質量部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７）を５質量部、２，５−ジ−ターシャリーブチルハイドロキノリンを０．１質量部、及び３Ｍ社製ＦＣ１７１を０．１質量部混合した組成物。
・ＲＭ−３：
下記式（ＲＭＭ−３）で表される化合物を１００質量部、下記式（ＲＭＭ−４）で表される化合物を３３質量部、イルガキュア３６９を８質量部、レベリング剤としてポリアクリレート化合物（ＢＹＫ−３６１Ｎ）を０．１質量部、ＬＡＬＯＭＥＲＬＲ９０００を６．７質量部、シクロペンタノン５４６質量部、Ｎ−メチルピロリドンを３６４質量部混合した組成物。
・ＲＭ−４：
ＢＡＳＦ社製ＬＣ２４２を１００質量部、シクロペンタノンを３００質量部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７）を５質量部、２，５−ジ−ターシャリーブチルハイドロキノリンを０．１質量部、及び３Ｍ社製ＦＣ１７１を０．１質量部混合した組成物。
【化１０】
2020173425.tif 000014
【化１１】
2020173425.tif 000015
【化１２】
2020173425.tif 000016
【化１３】
2020173425.tif 000017
【０１２５】
（円偏光板としての利用）
実施例１における「２．転写用積層体の作製」と同様にして積層体を製造した。なお、重合性液晶層の厚みは１／４λとなるように調整した。次いで、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８に粘着剤を塗工し、上記積層体を、積層体の遅相軸方向と偏光板の吸収軸との角度が４５度になるように貼り合わせた。次いで、支持体及び配向膜を剥がし、円偏光板を製造した。
得られた円偏光板につき、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、円偏光板面の法線方向から入射角（極角）５°における出射角５°の鏡面反射率を測定したところ、０．２％と良好な反射防止機能を有していることがわかった。
【０１２６】
以上の通り、第一の重合体［Ａ］と第二の重合体［Ｂ］を含有する液晶配向剤を用いることで、液晶配向膜の表面粗さが小さく、光学異方性膜との剥離性が良好となり、しかも剥離後の光学異方性膜の液晶配向性が良好な液晶配向膜が得られることが明らかとなった。したがって、第一の重合体［Ａ］と第二の重合体［Ｂ］を含有する液晶配向剤を用いて形成した液晶配向膜の表面上に光学異方性膜（液晶層）を形成し、得られた積層体の光学異方性膜側を被着体に密着させた後、剥離することで、被着体上に光学異方性膜のみが転写された構造体を得るのに有用である。
【０１２７】
＜液晶配向膜の作製及び評価〔２〕＞
［実施例５］
１．光学異方性膜（光学フィルム）形成用液晶配向剤の調製
重合体成分として、合成例６で得たポリアミック酸（ＰＡＡ−２）に、溶媒として、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）及びブチルセロソルブ（ＢＣ）を加え、固形分濃度が４質量％、各溶媒の質量比がＮＭＰ：ＢＣ＝６０：４０となるように調製した。次いで、この得られた溶液を孔径１μｍのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤（Ａ−５）を調製した。
【０１２８】
２．異方性色素膜形成用組成物の調製
クロロホルム７９．８０質量部に、液晶化合物（Ｉ−１）の２０．００質量部、式（ＩＩ−１）のアゾ色素（株式会社林原製）０．１２質量部、式（ＩＩ−２）のアゾ色素（昭和化工株式会社製）０．０８質量部を加え、撹拌して相溶させた後、溶媒を除去することにより、異方性色素膜形成用組成物（ＤＹ−１）を得た。
【化１４】
2020173425.tif 000018
【０１２９】
３．異方性色素膜の作製
ガラス基板上に、上記で調製した液晶配向剤（Ａ−５）を、スピンコーターを用いて塗布し、オーブン内にて１２０℃で２分間ベークして膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて、３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２をフィルム面の法線方向から照射し、液晶配向膜を作製した。次いで、上記で調製した異方性色素膜形成用組成物（ＤＹ−１）を液晶配向膜付き基板にスリットコーターを用いて塗布し、オーブン内にて１５０℃で１分間ベークを行った後、５℃／ｍｉｎで室温まで冷却した。次いで、Ｈｇ−Ｘｅランプを用いて、３６５ｎｍの輝線を含む非偏光の紫外線５００ｍＪ／ｃｍ２を照射し、硬化させることで膜厚１０μｍの異方性色素膜を形成した。
【０１３０】
４．異方性色素膜の吸収軸／偏光軸方向の偏光に対する透過率の測定および二色比
上記、３．異方性色素膜の作製で得られた異方性色素膜について、二色比を測定し、その中で、最大の二色比を示し波長における二色比をその異方性色素膜の二色比と決定した。
なお、異方性色素膜の吸収軸／ 偏光軸方向の偏光に対する透過率は、グラントムソン偏光子を備える分光光度計（大塚電子（株）製、製品名「ＲＥＴＳ−１００」）を用いて測定した。異方性色素膜に直線偏光の測定光を入射し、異方性色素膜の吸収軸方向の偏光に対する透過率および異方性色素膜の偏光軸方向の偏光に対する透過率を測定し、次式により二色比（Ｄ）を算出した。その中で、最大の二色比を示した温度および波長における二色比をその異方性色素膜の二色比と決定した。また、異方性色素膜の二色比が、５０以上のものを「良好」、５０未満のものを「不良」と評価した。
Ｄ＝Ａｚ／Ａｙ
（式中、Ａｙは、−ｌｏｇ（Ｔｙ）であり、Ａｚは、−ｌｏｇ（Ｔｚ）であり、Ｔｚは、異方性色素膜の吸収軸方向の偏光に対する透過率であり、Ｔｙは、異方性色素膜の偏光軸方向の偏光に対する透過率である。）
評価の結果、この異方性色素膜の二色比は、５７１ｎｍにおいて５２．３であり、「良好」の評価であった。
【０１３１】
［比較例４］
実施例１において、液晶配向剤（Ａ−１）に代えて日立化成デュポンマイクロシステムズ社製ＬＸ１４００を用い、また、光配向処理に代えてラビング配向処理を行った以外は、実施例１と同様に異方性色素膜を作製し、二色比を測定した。その結果、この異方性色素膜の二色比は４３．１であり、「不良」の評価であった。
【０１３２】
＜円偏光板の作製及び評価＞
［実施例６］
１．樹脂層形成用組成物の調製
合成例１で得たポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）を含有する酢酸ｎ−ブチル溶液を、ポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）に換算して１００質量部に相当する量、及び硬化促進剤として無水トリメリット酸（ＴＡ）２０質量部を混合し、これに溶媒として、酢酸ｎ−ブチル（ＢＡ）及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を加え、固形分濃度が３質量％、各溶媒の質量比がＢＡ：ＰＧＭＥＡ＝８０：２０となるように調製した。次いで、この得られた溶液を孔径１μｍのフィルターでろ過することにより、樹脂層形成用組成物（ＩＭ−１）を調製した。
【０１３３】
２．円偏光フィルム（円偏光板）の作製
（１）位相差層の作製
ガラス基板上に粘着剤を塗工して粘着層を形成し、この粘着層の形成面上に、上記実施例１で作製した転写用積層体の液晶膜を転写することにより、ガラス基板上に位相差層を形成した。
（２）樹脂層の作製
上記（１）で得たガラス基板／位相差層の積層体の位相差層上に、上記１．で調製した樹脂層形成用組成物（ＩＭ−１）を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、オーブン内にて１２０℃で２分間ベークして平均厚さ０．１μｍの塗膜（樹脂層）を形成した。
【０１３４】
（３）偏光層の作製
上記「（２）樹脂層の作製」で得られた、位相差層及び樹脂層付きの基板について、上記実施例５で調製した液晶配向剤（Ａ−５）を、スピンコーターを用いて塗布し、オーブン内にて１２０℃で２分間ベークして膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この基板を上記（１）の偏光軸と７５°ずらして配置し、塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて、３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２をフィルム面の法線方向から照射し、液晶配向膜を作製した。次いで、異方性色素膜形成用組成物（ＤＹ−１）を上記で得た液晶配向膜付き基板にスリットコーターを用いて塗布し、１５０℃に設定したオーブン内にて１分間ベークを行った後、５℃／ｍｉｎで室温まで冷却した。次いで、Ｈｇ−Ｘｅランプを用いて、３６５ｎｍの輝線を含む非偏光の紫外線５００ｍＪ／ｃｍ２を照射し、硬化させることで膜厚１０μｍの異方性色素膜を形成することで偏光層を作製し、円偏光フィルムを得た。得られた基板は、位相差層（１／４λ板）と偏光層を有し、円偏光板として機能する。
【０１３５】
３．評価
（１）反射防止性（偏光性）
得られた円偏光フィルムについて、大塚電子社製の顕微分光膜厚計「ＯＰＴＭ−Ａ１」を用いて、反射率を測定した。反射率が３％未満を「良好（Ａ）」、３％以上７％未満を「可（Ｂ）」、７％以上を「不良（Ｃ）」と評価した。その結果、この実施例６では、反射防止性「良好（Ａ）」の評価であった。
（２）熱安定性
得られた円偏光フィルムを６０℃の恒温槽に１００時間保管した後、上記（１）に示した方法で反射率を評価した。反射率の変化（Δ反射率：絶対値）が０．１％未満を「良好（Ａ）」、０．１％以上０．５％未満を「可（Ｂ）」、０．５％以上を「不良（Ｃ）」と評価した。その結果、この実施例６では、熱安定性「良好（Ａ）」であった。
【０１３６】
［実施例７］
１．円偏光フィルム（円偏光板）の作製
（１）位相差層の作製
ガラス基板上に、上記実施例５で調製した液晶配向剤（Ａ−５）を、スピンコーターを用いて塗布し、オーブン内にて１２０℃で２分間ベークして膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて、３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線４０ｍＪ／ｃｍ２をフィルム面の法線方向から照射し、液晶配向膜を作製した。同様の作業をすることで、液晶配向膜付きのガラス基板を複数枚用意した。次いで、重合性液晶組成物（ＲＭ−１）を孔径０．２μｍのフィルターでろ過し、バーコーターを用いて液晶配向膜の表面に塗布した。続いて、６５℃に設定したオーブンで１分間ベークを行った後、Ｈｇ−Ｘｅランプを用いて、３６５ｎｍの輝線を含む非偏光の紫外線１，０００ｍＪ／ｃｍ２を重合性液晶に照射し、硬化させた。得られた位相差層の膜厚は３．０μｍであった。
【０１３７】
（２）樹脂層の作製
上記（１）で得たガラス基板／液晶配向膜／位相差層からなる積層体の位相差層上に、上記実施例６で調製した樹脂層形成用組成物（ＩＭ−１）を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、オーブン内にて１２０℃で２分間ベークして平均厚さ０．１μｍの塗膜（樹脂層）を形成した。
（３）偏光層の作製
上記「（２）樹脂層の作製」で得られた、位相差層及び樹脂層付きの基板について、上記実施例６と同様の操作を行うことにより、液晶配向膜及び膜厚１０μｍの異方性色素膜を樹脂層の上に作製し、円偏光フィルムを得た。得られた基板は、位相差層（１／４λ板）と偏光層を有し、円偏光板として機能する。
【０１３８】
３．評価
得られた円偏光フィルムについて、上記実施例６と同様にして反射防止性（偏光性）及び熱安定性を評価した。その結果、この実施例７では、反射防止性「良好（Ａ）」、熱安定性「良好（Ａ）」の評価であった。
【符号の説明】
【０１３９】
１０…積層体、１１…支持体、１２…液晶配向膜、１３…光学フィルム、２１…被着体、２２…接着層、２３…転写フィルム、３０…円偏光板、３１…基材、３２…第１配向膜、３３…位相差層、３４…樹脂層、３５…第２配向膜、３６…偏光層。
【図１】
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【図２】
2020173425.tif 000020