(57)【要約】【課題】耐熱試験後の反射率に優れる硬化物を得ることができる、柔軟性に優れる樹脂組成物；当該樹脂組成物を含む樹脂シート；反射シート；及びプリント配線板の提供。【解決手段】（Ａ）２５℃で液状又は半固形状のエポキシ樹脂、（Ｂ）フッ素原子含有フェノキシ樹脂、（Ｃ）白色無機酸化物、及び（Ｄ）硬化促進剤、を含有する、樹脂組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）２５℃で液状又は半固形状のエポキシ樹脂、
（Ｂ）フッ素原子含有フェノキシ樹脂、
（Ｃ）白色無機酸化物、及び
（Ｄ）硬化促進剤、を含有する、樹脂組成物。
【請求項２】
（Ｄ）成分が、リン系硬化促進剤を含む、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項３】
リン系硬化促進剤が、ホスホニウム塩及びホスフィンからなる群より選ばれる１以上を含む、請求項２に記載の樹脂組成物。
【請求項４】
（Ｃ）成分の含有量が、樹脂組成物中の固形分成分を１００質量％とした場合、６０質量％以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｃ）成分が、アルミナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、及びチタン酸バリウムから選ばれる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項６】
さらに、（Ｅ）酸化防止剤を含有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項７】
さらに、（Ｆ）紫外線吸収剤を含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項８】
さらに、（Ｈ）シリカを含有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項９】
光反射用である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【請求項１０】
支持体と、該支持体上に設けられた、請求項１〜９のいずれか１項に記載の樹脂組成物を含む樹脂組成物層とを含む、樹脂シート。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の樹脂組成物の硬化物を含む、反射シート。
【請求項１２】
請求項１１に記載の反射シートを含む、プリント配線板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂組成物に関する。さらには、当該樹脂組成物を用いて得られる、樹脂シート、反射シート及びプリント配線板に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線板においては、携帯端末、コンピューター、テレビ等の液晶ディスプレイのバックライト；照明器具の光源など、低電力で発光する発光ダイオード（ＬＥＤ）を直接実装して用いられる用途が増えてきている。
【０００３】
このようなプリント配線板の最外層には、光源から発せられる光の取り出し効率を高めるため、光を反射させるための反射シートが形成されている。
【０００４】
この反射シートには、高い光の反射率を有することが求められており、反射シートの材料として、例えば、特許文献１には、塩素法により製造されたルチル型酸化チタン、及び硬化性樹脂を含有し、前記のルチル型酸化チタンの配合率が、硬化性樹脂１００質量部に対して３０〜６００質量部であり、活性エネルギー線硬化性樹脂は含有しない樹脂組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１７−２２０６８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１に記載の樹脂組成物からなる反射シートは、光源からの熱により反射シートが継時的に劣化してしまい、反射率が劣ってしまう。また、光源の様々な形状に対応するため、反射シートには柔軟性が求められる。
【０００７】
本発明の課題は、前記の課題に鑑みて創案されたもので、耐熱試験後の反射率に優れる硬化物を得ることができる、柔軟性に優れる樹脂組成物；当該樹脂組成物を含む樹脂シート；反射シート；及びプリント配線板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、樹脂組成物に（Ａ）２５℃で液状又は半固形状のエポキシ樹脂、（Ｂ）フッ素原子含有フェノキシ樹脂、（Ｃ）白色無機酸化物、及び（Ｄ）硬化促進剤を含有させることで、耐熱試験後の反射率に優れる硬化物を得ることができ、さらには柔軟性に優れるようになることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明は以下の内容を含む。
［１］  （Ａ）２５℃で液状又は半固形状のエポキシ樹脂、
（Ｂ）フッ素原子含有フェノキシ樹脂、
（Ｃ）白色無機酸化物、及び
（Ｄ）硬化促進剤、を含有する、樹脂組成物。
［２］  （Ｄ）成分が、リン系硬化促進剤を含む、［１］に記載の樹脂組成物。
［３］  リン系硬化促進剤が、ホスホニウム塩及びホスフィンからなる群より選ばれる１以上を含む、［２］に記載の樹脂組成物。
［４］  （Ｃ）成分の含有量が、樹脂組成物中の固形分成分を１００質量％とした場合、６０質量％以上である、［１］〜［３］のいずれかに記載の樹脂組成物。
［５］  （Ｃ）成分が、アルミナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、及びチタン酸バリウムから選ばれる、［１］〜［４］のいずれかに記載の樹脂組成物。
［６］  さらに、（Ｅ）酸化防止剤を含有する、［１］〜［５］のいずれかに記載の樹脂組成物。
［７］  さらに、（Ｆ）紫外線吸収剤を含有する、［１］〜［６］のいずれかに記載の樹脂組成物。
［８］  さらに、（Ｈ）シリカを含有する、［１］〜［７］のいずれかに記載の樹脂組成物。
［９］  光反射用である、［１］〜［８］のいずれかに記載の樹脂組成物。
［１０］  支持体と、該支持体上に設けられた、［１］〜［９］のいずれかに記載の樹脂組成物を含む樹脂組成物層とを含む、樹脂シート。
［１１］  ［１］〜［９］のいずれかに記載の樹脂組成物の硬化物を含む、反射シート。
［１２］  ［１１］に記載の反射シートを含む、プリント配線板。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、耐熱試験後の反射率に優れる硬化物を得ることができる、柔軟性に優れる樹脂組成物；当該樹脂組成物を含む樹脂シート；反射シート；及びプリント配線板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、エポキシ樹脂の液状、半固形状、及び固形状の判定に用いた２本の試験管の一例を示す概略側面図である。
【図２】図２は、プリント配線板の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。ただし、本発明は、下記実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施され得る。
【００１３】
［樹脂組成物］
本発明の樹脂組成物は、（Ａ）２５℃で液状又は半固形状のエポキシ樹脂、（Ｂ）フッ素原子含有フェノキシ樹脂、（Ｃ）白色無機酸化物、及び（Ｄ）硬化促進剤を含有する。本発明では、（Ａ）〜（Ｄ）成分を含有させることで、耐熱試験後の反射率に優れる硬化物を得ることができる、柔軟性に優れる樹脂組成物を得ることができる。また、通常は、反射率に優れる硬化物を得ることができる。
【００１４】
樹脂組成物は、（Ａ）〜（Ｄ）成分に組み合わせて、さらに任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分としては、例えば、（Ｅ）酸化防止剤、（Ｆ）紫外線吸収剤、（Ｇ）固体状のエポキシ樹脂、（Ｈ）シリカ、及び（Ｉ）その他の添加剤等が挙げられる。以下、樹脂組成物に含まれる各成分について詳細に説明する。
【００１５】
＜（Ａ）２５℃で液状又は半固形状のエポキシ樹脂＞
樹脂組成物は、（Ａ）成分として、２５℃で液状又は半固形状のエポキシ樹脂を含有する。（Ａ）成分を樹脂組成物に含有させることにより、溶融粘度を低下させ、柔軟性を向上させることが可能となる。（Ａ）成分は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１６】
ここで、液状、半固形状、及び固形状の判定は、危険物の試験及び性状に関する省令（平成元年自治省令第１号）の別紙第２の「液状の確認方法」に準じて行う。具体的な判定方法は、下記のとおりである。
【００１７】
（１）装置
恒温水槽：
攪拌機、ヒーター、温度計、自動温度調節器（±０．１℃で温度制御が可能なもの）を備えたもので深さ１５０ｍｍ以上のものを用いる。
なお、後述する実施例で用いたエポキシ樹脂の判定では、いずれもヤマト科学社製の低温恒温水槽（型式ＢＵ３００）と投入式恒温装置サーモメイト（型式ＢＦ５００）の組み合わせを用い、水道水約２２リットルを低温恒温水槽（型式ＢＵ３００）に入れ、これに組み付けられたサーモメイト（型式ＢＦ５００）の電源を入れて設定温度（２５℃又は６０℃）に設定し、水温を設定温度±０．１℃にサーモメイト（型式ＢＦ５００）で微調整したが、同様の調整が可能な装置であればいずれも使用できる。
【００１８】
試験管：
試験管としては、図１に示すように、内径３０ｍｍ、高さ１２０ｍｍの平底円筒型透明ガラス製のもので、管底から５５ｍｍおよび８５ｍｍの高さのところにそれぞれ標線１１Ａ、１２Ｂが付され、試験管の口をゴム栓１３ａで密閉した液状判定用試験管１０ａと、同じサイズで同様に標線が付され、中央に温度計を挿入・支持するための孔があけられたゴム栓１３ｂで試験管の口を密閉し、ゴム栓１３ｂに温度計１４を挿入した温度測定用試験管１０ｂを用いる。以下、管底から５５ｍｍの高さの標線を「Ａ線」、管底から８５ｍｍの高さの標線を「Ｂ線」という。
温度計１４としては、ＪＩＳ  Ｂ７４１０（１９８２）「石油類試験用ガラス製温度計」に規定する凝固点測定用のもの（ＳＯＰ−５８目盛範囲０〜１００℃）を用いるが、０〜１００℃の温度範囲が測定できるものであればよい。
【００１９】
（２）試験の実施手順
温度２５℃の大気圧下で２４時間以上放置した試料を、図１（ａ）に示す液状判定用試験管１０ａと図１（ｂ）に示す温度測定用試験管１０ｂにそれぞれ１１Ａ線まで入れる。２本の試験管１０ａ、１０ｂを低温恒温水槽に１２Ｂ線が水面下になるように直立させて静置する。温度計は、その下端が１１Ａ線よりも３０ｍｍ下となるようにする。
試料温度が設定温度±０．１℃に達してから１０分間そのままの状態を保持する。１０分後、液状判断用試験管１０ａを低温恒温水槽から取り出し、直ちに水平な試験台の上に水平に倒し、試験管内の液面の先端が１１Ａ線から１２Ｂ線まで移動した時間をストップウォッチで測定し、記録する。
【００２０】
同様に、温度６０±５℃の大気圧下で２４時間以上放置した試料についても、温度２５℃の大気圧下で２４時間以上放置した場合と同様に試験を実施し、試験管内の液面の先端が１１Ａ線から１２Ｂ線まで移動した時間をストップウォッチで測定し、記録する。
【００２１】
２５℃において、測定された時間が９０秒以内のものを２５℃で液状と判定する。
２５℃において、測定された時間が９０秒を超え、６０℃において、測定された時間が９０秒以内のものを２５℃で半固形状と判定する。
６０℃において、測定された時間が９０秒を超えるものを２５℃で固体状と判定する。
【００２２】
２５℃で液状又は半固形状であるエポキシ樹脂は、１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を含むことが好ましい。また、エポキシ樹脂は、芳香族構造を有することが好ましく、２種以上のエポキシ樹脂を用いる場合は少なくとも１種が芳香族構造を有することがより好ましい。芳香族構造とは、一般に芳香族と定義される化学構造であり、多環芳香族及び芳香族複素環をも含む。１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂の割合は、エポキシ樹脂の不揮発成分１００質量％に対して、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは６０質量％以上、特に好ましくは７０質量％以上である。
【００２３】
２５℃で液状エポキシ樹脂及び半固形状エポキシ樹脂としては、グリシロール型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、及びフェノールノボラック型エポキシ樹脂等の芳香族系エポキシ樹脂；エステル骨格を有する脂環式エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、及びブタジエン構造を有するエポキシ樹脂等の非芳香族系エポキシ樹脂が好ましく、芳香族系エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、及びビスフェノールＦ型エポキシ樹脂がより好ましい。液状エポキシ樹脂及び半固形状エポキシ樹脂の具体例としては、ＤＩＣ社製の「ＨＰ４０３２」、「ＨＰ４０３２Ｄ」、「ＨＰ４０３２ＳＳ」（ナフタレン型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「ＨＰ８２０」（芳香族系エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「８２８ＵＳ」、「ｊＥＲ８２８ＥＬ」（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂）、「ｊＥＲ８０７」（ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂）、「ｊＥＲ１５２」（フェノールノボラック型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「６３０」、「６３０ＬＳＤ」（グリシジルアミン型エポキシ樹脂）、ＡＤＥＫＡ社製の「ＥＤ−５２３Ｔ」（グリシロール型エポキシ樹脂（アデカグリシロール））、「ＥＰ−３９８０Ｓ」（グリシジルアミン型エポキシ樹脂）、「ＥＰ−４０８８Ｓ」（ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂）；日鉄ケミカル＆マテリアル社製の「ＺＸ１０５９」（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂とビスフェノールＦ型エポキシ樹脂の混合品）；ナガセケムテックス社製の「ＥＸ−７２１」（グリシジルエステル型エポキシ樹脂）；ダイセル社製の「セロキサイド２０２１Ｐ」（エステル骨格を有する脂環式エポキシ樹脂）、「ＰＢ−３６００」（ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂）；日鉄ケミカル＆マテリアル社製の「ＺＸ１６５８」、「ＺＸ１６５８ＧＳ」（液状１，４−グリシジルシクロヘキサン）、住友化学社製の「ＥＬＭ−１００」等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２４】
２５℃で液状又は半固形状であるエポキシ樹脂のエポキシ当量は、好ましくは５０ｇ／ｅｑ．〜５０００ｇ／ｅｑ．、より好ましくは５０ｇ／ｅｑ．〜３０００ｇ／ｅｑ．、さらに好ましくは８０ｇ／ｅｑ．〜２０００ｇ／ｅｑ．、さらにより好ましくは１１０ｇ／ｅｑ．〜１０００ｇ／ｅｑ．である。この範囲となることで、硬化物の架橋密度が十分となり表面粗さの小さい硬化物層をもたらすことができる。なお、エポキシ当量は、ＪＩＳ  Ｋ７２３６に従って測定することができ、１当量のエポキシ基を含む樹脂の質量である。
【００２５】
２５℃で液状又は半固形状であるエポキシ樹脂の重量平均分子量は、好ましくは１００〜５０００、より好ましくは２５０〜３０００、さらに好ましくは４００〜１５００である。ここで、エポキシ樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量である。
【００２６】
（Ａ）成分の含有量としては、最低溶融粘度を低下させることができるとともに埋め込み性を向上させる観点から、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、さらに好ましくは５質量％以上であり、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１５質量％以下、さらに好ましくは１０質量％以下である。なお、本発明において、樹脂組成物中の各成分の含有量は、別途明示のない限り、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％としたときの値である。
【００２７】
＜（Ｂ）フッ素原子含有フェノキシ樹脂＞
樹脂組成物は、（Ｂ）成分として、（Ｂ）フッ素原子含有フェノキシ樹脂を含有する。本発明者らの鋭意研究の結果、（Ｂ）成分を含有させることにより、（Ｂ）成分中のフッ素原子は、樹脂組成物の硬化物の反射率及び耐熱性を向上させることができ、その結果、反射率及び耐熱試験後の反射率が向上した硬化物を得ることが可能となることを見出した。（Ｂ）成分は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２８】
（Ｂ）フッ素原子含有フェノキシ樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量は８，０００〜７０，０００の範囲が好ましく、１０，０００〜６０，０００の範囲がより好ましく、２０，０００〜６０，０００の範囲がさらに好ましい。（Ｂ）フッ素原子含有フェノキシ樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法で測定される。具体的には、（Ｂ）フッ素原子含有フェノキシ樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量は、測定装置として島津製作所社製ＬＣ−９Ａ／ＲＩＤ−６Ａを、カラムとして昭和電工社製Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ−８００Ｐ／Ｋ−８０４Ｌ／Ｋ−８０４Ｌを、移動相としてクロロホルム等を用いて、カラム温度を４０℃にて測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて算出することができる。
【００２９】
（Ｂ）フッ素原子含有フェノキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ骨格、ビスフェノールＦ骨格、ビスフェノールＡＦ骨格、ビスフェノールＳ骨格、ビスフェノールアセトフェノン骨格、ノボラック骨格、ビフェニル骨格、フルオレン骨格、ジシクロペンタジエン骨格、ノルボルネン骨格、ナフタレン骨格、アントラセン骨格、アダマンタン骨格、テルペン骨格、及びトリメチルシクロヘキサン骨格からなる群から選択される１種以上の骨格を有するフェノキシ樹脂にフッ素原子を含有する樹脂が挙げられる。
【００３０】
（Ｂ）フッ素原子含有フェノキシ樹脂は、フッ素原子を１つ以上有するフェノキシ樹脂を用いることができる。中でも、本発明の所望の効果を得る観点から、フェノキシ樹脂を構成する骨格中にフッ素原子が含有することが好ましい。フェノキシ樹脂を構成する骨格とは、（Ｂ）成分を構成する繰り返し単位を表す。
【００３１】
フェノキシ樹脂を構成する骨格中に有するフッ素原子の個数は、フェノキシ樹脂を構成する骨格１つ当たり、好ましくは１つ以上、より好ましくは２つ以上、さらに好ましくは３つ以上、５つ以上であり、上限は特に制限はないが１０つ以下等とし得る。
【００３２】
このようなフッ素原子含有フェノキシ樹脂としては、例えば、三菱ケミカル社製の「ＹＬ７８７６Ｂ４０」、「ＹＬ７９５７Ｂ４０」、「ＹＬ７３８３ＢＨ３０」、「ＹＬ７３８４ＢＨ３０」等が挙げられる。
【００３３】
（Ｂ）成分の含有量は、反射率及び耐熱試験後の反射率が向上した硬化物を得る観点から、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、好ましくは１質量％以上、さらに好ましくは３質量％以上、より好ましくは５質量％以上である。上限は、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、さらに好ましくは１５質量％以下である。
【００３４】
樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合の（Ａ）成分の含有量をＡ１とし、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合の（Ｂ）成分の含有量をＢ１としたとき、Ａ１／Ｂ１は、好ましくは０．１以上、より好ましくは０．３以上、さらに好ましくは０．５以上であり、好ましくは５以下であり、より好ましくは３以下、さらに好ましくは２以下である。Ａ１／Ｂ１を斯かる範囲内となるように調整することにより、柔軟性をより向上させることが可能となる。
【００３５】
＜（Ｃ）白色無機酸化物＞
樹脂組成物は、（Ｃ）成分として、（Ｃ）白色無機酸化物を含有する。但し、シリカは、（Ｃ）白色無機酸化物に含めない。（Ｃ）白色無機酸化物を樹脂組成物に含有させることで、反射率及び耐熱試験後の反射率が向上した硬化物を得ることが可能となる。ここで、（Ｃ）白色無機酸化物とは、５００ｎｍの光における反射率が９０％以上である無機酸化物のことをいう。
【００３６】
（Ｃ）白色無機酸化物の材料の例としては、アルミナ、アルミノシリケート、コーディエライト、シリコン酸化物、硫酸バリウム、炭酸バリウム、タルク、クレー、雲母粉、酸化亜鉛、ハイドロタルサイト、ベーマイト、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化マンガン、ホウ酸アルミニウム、炭酸ストロンチウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸バリウム、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、リン酸ジルコニウム、及びリン酸タングステン酸ジルコニウム等が挙げられる。これらの中でもアルミナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、及びチタン酸バリウムから選ばれることが好ましく、酸化チタンが特に好適である。（Ｃ）白色無機酸化物は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３７】
（Ｃ）成分における酸化チタンは、ルチル型、アナタース型、及びブルカイト型のいずれを用いてもよい。中でも、反射率及び耐熱試験後の反射率をより向上させる観点から、ルチル型が好ましい。酸化チタンは、硫酸法、塩素法などの方法により得られたものを用いることができる。
【００３８】
（Ｃ）成分の市販品としては、例えば、堺化学社製のＰＸ３７８８；石原産業社製のタイペークＣＲ−５０、タイペークＣＲ−５７、タイペークＣＲ−８０、タイペークＣＲ−９０、タイペークＣＲ−９３、タイペークＣＲ−９５、タイペークＣＲ−９７、タイペークＣＲ−６０、タイペークＣＲ−６３、タイペークＣＲ−６７、タイペークＣＲ−５８、タイペークＣＲ−８５、タイペークＵＴ７７１；デュポン社製のタイピュアＲ−１００、タイピュアＲ−１０１、タイピュアＲ−１０２、タイピュアＲ−１０３、タイピュアＲ−１０４、タイピュアＲ−１０５、タイピュアＲ−１０８、タイピュアＲ−９００、タイピュアＲ−９０２、タイピュアＲ−９６０、タイピュアＲ−７０６、タイピュアＲ−９３１；日本軽金属社製「ＡＨＰ３００」、昭和電工社製「アルナビーズ（登録商標）ＣＢ」（例えば、「ＣＢ−Ｐ０５」、「ＣＢ−Ａ３０Ｓ」）などが挙げられる。
【００３９】
（Ｃ）成分の比表面積としては、好ましくは０．５ｍ２／ｇ以上、より好ましくは１ｍ２／ｇ以上、特に好ましくは２ｍ２／ｇ以上である。上限に特段の制限は無いが、好ましくは８０ｍ２／ｇ以下、７０ｍ２／ｇ以下又は６０ｍ２／ｇ以下である。比表面積は、ＢＥＴ法に従って、比表面積測定装置（マウンテック社製Ｍａｃｓｏｒｂ  ＨＭ−１２１０）を使用して試料表面に窒素ガスを吸着させ、ＢＥＴ多点法を用いて比表面積を算出することで得られる。
【００４０】
（Ｃ）成分の平均粒径は、本発明の所望の効果を顕著に得る観点から、好ましくは０．０１μｍ以上、より好ましくは０．０５μｍ以上、さらに好ましくは０．１μｍ以上であり、好ましくは５μｍ以下、より好ましくは２μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以下である。
【００４１】
（Ｃ）成分の平均粒径は、ミー（Ｍｉｅ）散乱理論に基づくレーザー回折・散乱法により測定することができる。具体的には、レーザー回折散乱式粒径分布測定装置により、（Ｃ）成分の粒径分布を体積基準で作成し、そのメディアン径を平均粒径とすることで測定することができる。測定サンプルは、（Ｃ）成分１００ｍｇ、メチルエチルケトン１０ｇをバイアル瓶に秤取り、超音波にて１０分間分散させたものを使用することができる。測定サンプルを、レーザー回折式粒径分布測定装置を使用して、使用光源波長を青色及び赤色とし、フローセル方式で（Ｃ）成分の体積基準の粒径分布を測定し、得られた粒径分布からメディアン径として平均粒径を算出できる。レーザー回折式粒径分布測定装置としては、例えば堀場製作所社製「ＬＡ−９６０」等が挙げられる。
【００４２】
（Ｃ）成分は、耐湿性及び分散性を高める観点から、表面処理剤で処理されていることが好ましい。表面処理剤としては、例えば、ビニルシラン系カップリング剤、（メタ）アクリル系カップリング剤、フッ素含有シランカップリング剤、アミノシラン系カップリング剤、エポキシシラン系カップリング剤、メルカプトシラン系カップリング剤、シラン系カップリング剤、アルコキシシラン、オルガノシラザン化合物、チタネート系カップリング剤等が挙げられる。中でも、本発明の効果を顕著に得る観点から、アミノシラン系カップリング剤が好ましい。また、表面処理剤は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上を任意に組み合わせて用いてもよい。
【００４３】
表面処理剤の市販品としては、例えば、信越化学工業社製「ＫＢＭ１００３」（ビニルトリエトキシシラン）、信越化学工業社製「ＫＢＭ５０３」（３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン）、信越化学工業社製「ＫＢＭ４０３」（３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）、信越化学工業社製「ＫＢＭ８０３」（３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン）、信越化学工業社製「ＫＢＥ９０３」（３−アミノプロピルトリエトキシシラン）、信越化学工業社製「ＫＢＭ５７３」（Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン）、信越化学工業社製「ＳＺ−３１」（ヘキサメチルジシラザン）、信越化学工業社製「ＫＢＭ１０３」（フェニルトリメトキシシラン）、信越化学工業社製「ＫＢＭ−４８０３」（長鎖エポキシ型シランカップリング剤）、信越化学工業社製「ＫＢＭ−７１０３」（３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン）等が挙げられる。
【００４４】
表面処理剤による表面処理の程度は、無機充填材の分散性向上の観点から、所定の範囲に収まることが好ましい。具体的には、無機充填材１００質量部は、０．２質量部〜５質量部の表面処理剤で表面処理されていることが好ましく、０．２質量部〜３質量部で表面処理されていることが好ましく、０．３質量部〜２質量部で表面処理されていることが好ましい。
【００４５】
表面処理剤による表面処理の程度は、無機充填材の単位表面積当たりのカーボン量によって評価することができる。無機充填材の単位表面積当たりのカーボン量は、無機充填材の分散性向上の観点から、０．０２ｍｇ／ｍ２以上が好ましく、０．１ｍｇ／ｍ２以上がより好ましく、０．２ｍｇ／ｍ２以上が更に好ましい。一方、樹脂ワニスの溶融粘度及びシート形態での溶融粘度の上昇を抑制する観点から、１ｍｇ／ｍ２以下が好ましく、０．８ｍｇ／ｍ２以下がより好ましく、０．５ｍｇ／ｍ２以下が更に好ましい。
【００４６】
無機充填材の単位表面積当たりのカーボン量は、表面処理後の無機充填材を溶剤（例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ））により洗浄処理した後に測定することができる。具体的には、溶剤として十分な量のＭＥＫを表面処理剤で表面処理された無機充填材に加えて、２５℃で５分間超音波洗浄する。上澄液を除去し、固形分を乾燥させた後、カーボン分析計を用いて無機充填材の単位表面積当たりのカーボン量を測定することができる。カーボン分析計としては、堀場製作所社製「ＥＭＩＡ−３２０Ｖ」等を使用することができる。
【００４７】
（Ｃ）成分の含有量は、反射率及び耐熱試験後の反射率が向上した硬化物を得る観点から、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、好ましくは６０質量％以上であり、より好ましくは６５質量％以上、さらに好ましくは７０質量％以上、７５質量％以上であり、好ましくは９５質量％以下、より好ましくは９０質量％以下、さらに好ましくは８０質量％以下である。
【００４８】
樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合の（Ｃ）成分の含有量をＣ１としたとき、Ｂ１／Ｃ１は、好ましくは０．０１以上、より好ましくは０．０３以上、さらに好ましくは０．０５以上であり、好ましくは１以下であり、より好ましくは０．５以下、さらに好ましくは０．３以下である。Ｂ１／Ｃ１を斯かる範囲内となるように調整することにより、本発明の効果をより向上させることが可能となる。
【００４９】
また、（Ａ１＋Ｂ１）／Ｃ１は、好ましくは０．０１以上、より好ましくは０．０５以上、さらに好ましくは０．１以上であり、好ましくは３以下であり、より好ましくは１以下、さらに好ましくは０．５以下である。（Ａ１＋Ｂ１）／Ｃ１を斯かる範囲内となるように調整することにより、本発明の効果をより向上させることが可能となる。
【００５０】
＜（Ｄ）硬化促進剤＞
樹脂組成物は、（Ｄ）成分として、（Ｄ）硬化促進剤を含有する。（Ｄ）硬化促進剤は、通常、（Ａ）成分と反応して樹脂組成物を硬化させる機能を有する。（Ｄ）硬化促進剤としては、例えば、リン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、グアニジン系硬化促進剤、金属系硬化促進剤等が挙げられる。中でも、（Ｄ）硬化促進剤としては、より高い反射率を達成する観点から、リン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤が好ましく、リン系硬化促進剤がより好ましい。（Ｄ）硬化促進剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５１】
リン系硬化促進剤としては、より高い反射率を達成する観点から、ホスホニウム塩及びホスフィンからなる群より選ばれる１以上を含むことが好ましい。
【００５２】
ホスホニウム塩としては、例えば、ホスホニウムボレート化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、ｎ−ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラブチルホスホニウムデカン酸塩、（４−メチルフェニル）トリフェニルホスホニウムチオシアネート、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、ブチルトリフェニルホスホニウムチオシアネート等が挙げられる。
【００５３】
ホスフィンとしては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン等が挙げられる。
【００５４】
リン系硬化促進剤としては、市販品を用いてもよく、例えば、北興社製の「ＴＢＰ−ＤＡ」等が挙げられる。
【００５５】
イミダゾール系硬化促進剤としては、例えば、２−メチルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−［２’−ウンデシルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−［２’−エチル−４’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）]−エチル−ｓ−トリアジンイソシアヌル酸付加物、２−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール、１−ドデシル−２−メチル−３−ベンジルイミダゾリウムクロライド、２−メチルイミダゾリン、２−フェニルイミダゾリン等のイミダゾール化合物及びイミダゾール化合物とエポキシ樹脂とのアダクト体が挙げられ、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾールが好ましい。
【００５６】
イミダゾール系硬化促進剤としては、市販品を用いてもよく、例えば、三菱ケミカル社製の「Ｐ２００−Ｈ５０」、四国化成社製の「１Ｂ２ＰＺ−１０Ｍ」等が挙げられる。
【００５７】
アミン系硬化促進剤としては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、ベンジルジメチルアミン、２，４，６，−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）−ウンデセン等が挙げられ、４−ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）−ウンデセンが好ましい。
【００５８】
グアニジン系硬化促進剤としては、例えば、ジシアンジアミド、１−メチルグアニジン、１−エチルグアニジン、１−シクロヘキシルグアニジン、１−フェニルグアニジン、１−（ｏ−トリル）グアニジン、ジメチルグアニジン、ジフェニルグアニジン、トリメチルグアニジン、テトラメチルグアニジン、ペンタメチルグアニジン、１，５，７−トリアザビシクロ［４．４．０］デカ−５−エン、７−メチル−１，５，７−トリアザビシクロ［４．４．０］デカ−５−エン、１−メチルビグアニド、１−エチルビグアニド、１−ｎ−ブチルビグアニド、１−ｎ−オクタデシルビグアニド、１，１−ジメチルビグアニド、１，１−ジエチルビグアニド、１−シクロヘキシルビグアニド、１−アリルビグアニド、１−フェニルビグアニド、１−（ｏ−トリル）ビグアニド等が挙げられ、ジシアンジアミド、１，５，７−トリアザビシクロ［４．４．０］デカ−５−エンが好ましい。
【００５９】
金属系硬化促進剤としては、例えば、コバルト、銅、亜鉛、鉄、ニッケル、マンガン、スズ等の金属の、有機金属錯体又は有機金属塩が挙げられる。有機金属錯体の具体例としては、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトナート、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトナート等の有機コバルト錯体、銅（ＩＩ）アセチルアセトナート等の有機銅錯体、亜鉛（ＩＩ）アセチルアセトナート等の有機亜鉛錯体、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート等の有機鉄錯体、ニッケル（ＩＩ）アセチルアセトナート等の有機ニッケル錯体、マンガン（ＩＩ）アセチルアセトナート等の有機マンガン錯体等が挙げられる。有機金属塩としては、例えば、オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸スズ、ステアリン酸亜鉛等が挙げられる。
【００６０】
（Ｄ）硬化促進剤の含有量は、より高い反射率を達成する観点から、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％としたとき、好ましくは０．０１質量％以上、より好ましくは０．０５質量％以上、特に好ましくは０．１質量％以上であり、好ましくは３質量％以下、より好ましくは１質量％以下、特に好ましくは０．５質量％以下である。
【００６１】
＜（Ｅ）酸化防止剤＞
樹脂組成物は、上述した成分以外に、任意の成分として、更に（Ｅ）酸化防止剤を含有していてもよい。
【００６２】
（Ｅ）酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が挙げられる。中でも、耐熱処理後の反射率をより高める観点から、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましい。（Ｅ）酸化防止剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６３】
（Ｅ）酸化防止剤の具体例としては、例えば、ジブチルヒドロシキトルエン（ＢＨＴ）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）（チバジャパン社製「ＩＲＧＡＮＯＸ  １０１０」）、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（チバジャパン社製「ＩＲＧＡＮＯＸ  １０３５」）、１，３，５−トリス［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン（チバジャパン社製「ＩＲＧＡＮＯＸ  ３１１４」）等が挙げられる。
【００６４】
（Ｅ）酸化防止剤の含有量としては、耐熱処理後の反射率をより高める観点から、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％としたとき、好ましくは０．０１質量％以上、より好ましくは０．０２質量％以上、さらに好ましくは０．０３質量％以上であり、好ましくは３質量％以下、より好ましくは２質量％以下、さらに好ましくは１質量％以下である。
【００６５】
＜（Ｆ）紫外線吸収剤＞
樹脂組成物は、樹脂組成物の光安定性をより向上させる観点から、任意の成分として、更に（Ｆ）紫外線吸収剤を含有していてもよい。
【００６６】
（Ｆ）紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤等が挙げられる。（Ｆ）紫外線吸収剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６７】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−４−オクチロキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチル−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
【００６８】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｎ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］などが挙げられる。
【００６９】
サリチル酸系紫外線吸収剤としては、例えば、フェニルサルチレート、４−ｔ−ブチルフェニル−２−ヒドロキシベンゾエート、フェニル−２−ヒドロキシベンゾエート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、エチレン−２−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリレート、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オキトシキベンゾフェノン等が挙げられる。
【００７０】
（Ｆ）紫外線吸収剤は、市販品を用いることができる。（Ｆ）紫外線吸収剤の市販品としては、ＢＡＳＦ社製「Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ  ８１  ＦＬ」、ＡＤＥＫＡ社製のＬＡ−５２（ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル)、ＬＡ−５７（１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル)、ＬＡ−６３Ｐ（１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールおよび３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンとの混合エステル化物）、ＬＡ−７２（セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）等が挙げられる。
【００７１】
（Ｆ）紫外線吸収剤の含有量としては、樹脂組成物の光安定性をより向上させる観点から、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％としたとき、好ましくは０．０１質量％以上、より好ましくは０．０２質量％以上、さらに好ましくは０．０３質量％以上であり、好ましくは１質量％以下、より好ましくは０．５質量％以下、さらに好ましくは０．１質量％以下である。
【００７２】
＜（Ｇ）２５℃で固体状のエポキシ樹脂＞
樹脂組成物は、任意の成分として、更に（Ｇ）２５℃で固体状のエポキシ樹脂（以下、「固体状エポキシ樹脂」ということがある。）を含有していてもよい。
【００７３】
固体状エポキシ樹脂は、１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を含むことが好ましい。また、固体状エポキシ樹脂は、芳香族構造を有することが好ましく、２種以上のエポキシ樹脂を用いる場合は少なくとも１種が芳香族構造を有することがより好ましい。１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂の割合は、エポキシ樹脂の不揮発成分１００質量％に対して、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは６０質量％以上、特に好ましくは７０質量％以上である。
【００７４】
固体状エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、及びパーフルオロアルキル型エポキシ樹脂等のフッ素含有エポキシ樹脂；ナフタレン型４官能エポキシ樹脂；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂；ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂；トリスフェノール型エポキシ樹脂；ナフトール型エポキシ樹脂；ビフェニル型エポキシ樹脂；ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂；アントラセン型エポキシ樹脂；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂が好ましく、フッ素含有エポキシ樹脂がより好ましい。固体状エポキシ樹脂の具体例としては、ＤＩＣ社製の「ＨＰ４０３２Ｈ」（ナフタレン型エポキシ樹脂）、「ＨＰ−４７００」、「ＨＰ−４７１０」（ナフタレン型４官能エポキシ樹脂）、「Ｎ−６９０」（クレゾールノボラック型エポキシ樹脂）、「Ｎ−６９５」（クレゾールノボラック型エポキシ樹脂）、「ＨＰ−７２００」（ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂）、「ＨＰ−７２００ＨＨ」、「ＨＰ−７２００Ｈ」、「ＥＸＡ−７３１１」、「ＥＸＡ−７３１１−Ｇ３」、「ＥＸＡ−７３１１−Ｇ４」、「ＥＸＡ−７３１１−Ｇ４Ｓ」、「ＨＰ６０００」（ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂）；日本化薬社製の「ＥＰＰＮ−５０２Ｈ」（トリスフェノール型エポキシ樹脂）、「ＮＣ７０００Ｌ」（ナフトールノボラック型エポキシ樹脂）、「ＮＣ３０００Ｈ」、「ＮＣ３０００」、「ＮＣ３０００Ｌ」、「ＮＣ３１００」（ビフェニル型エポキシ樹脂）；日鉄ケミカル＆マテリアル社製の「ＥＳＮ４７５Ｖ」（ナフタレン型エポキシ樹脂）、「ＥＳＮ４８５」（ナフトールノボラック型エポキシ樹脂）；三菱ケミカル社製の「ＹＸ４０００Ｈ」、「ＹＸ４０００」、「ＹＬ６１２１」（ビフェニル型エポキシ樹脂）、「ＹＸ４０００ＨＫ」（ビキシレノール型エポキシ樹脂）、「ＹＸ８８００」（アントラセン型エポキシ樹脂）；大阪ガスケミカル社製の「ＰＧ−１００」、「ＣＧ−５００」、三菱ケミカル社製の「ＹＬ７７６０」（ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂）、「ＹＬ７８００」（フルオレン型エポキシ樹脂）、「ｊＥＲ１０１０」（固体状ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂）、「ｊＥＲ１０３１Ｓ」（テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂）、「ＹＬ７７６０」（ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂）等が挙げられる。
【００７５】
固体状エポキシ樹脂のエポキシ当量、及び重量平均分子量は、（Ａ）成分と同様である。
【００７６】
（Ｇ）２５℃で固体状のエポキシ樹脂の含有量としては、本発明の効果を顕著に得る観点から、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％としたとき、好ましくは１質量％以上、より好ましくは２質量％以上、特に好ましくは３質量％以上であり、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは８質量％以下、特に好ましくは５質量％以下である。
【００７７】
＜（Ｈ）シリカ＞
樹脂組成物は、任意の成分として、更に（Ｈ）シリカを含有していてもよい。
【００７８】
（Ｈ）シリカとしては、例えば、無定形シリカ、溶融シリカ、結晶シリカ、合成シリカ、中空シリカ等が挙げられる。また、（Ｈ）シリカとしては、球状シリカが好ましい。（Ｈ）シリカの比表面積及び平均粒径は、（Ｃ）成分と同様である。（Ｈ）シリカは、１種類単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７９】
（Ｈ）シリカの市販品としては、例えば、デンカ社製の「ＵＦＰ−３０」；日鉄ケミカル＆マテリアル社製の「ＳＰ６０−０５」、「ＳＰ５０７−０５」；アドマテックス社製の「ＹＣ１００Ｃ」、「ＹＡ０５０Ｃ」、「ＹＡ０５０Ｃ−ＭＪＥ」、「ＹＡ０１０Ｃ」；トクヤマ社製の「シルフィルＮＳＳ−３Ｎ」、「シルフィルＮＳＳ−４Ｎ」、「シルフィルＮＳＳ−５Ｎ」；アドマテックス社製の「ＳＣ２５００ＳＱ」、「ＳＯ−Ｃ４」、「ＳＯ−Ｃ２」、「ＳＯ−Ｃ１」；などが挙げられる。
【００８０】
（Ｈ）シリカは、耐湿性及び分散性を高める観点から、表面処理剤で処理されていることが好ましい。表面処理剤としては、（Ｃ）成分における表面処理剤と同様である。
【００８１】
（Ｈ）シリカの含有量は、本発明の効果を顕著に得る観点から、樹脂組成物中の不揮発成分を１００質量％とした場合、好ましくは１０質量％以上であり、より好ましくは２０質量％以上、さらに好ましくは２５質量％以上であり、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは４０質量％以下、さらに好ましくは３０質量％以下である。
【００８２】
＜（Ｉ）その他の添加剤＞
樹脂組成物は、上述した成分以外に、任意の成分として、更にその他の添加剤を含んでいてもよい。このような添加剤としては、例えば、増粘剤、消泡剤、レベリング剤、密着性付与剤等の樹脂添加剤などが挙げられる。これらの添加剤は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。それぞれの含有量は当業者であれば適宜設定できる。
【００８３】
本発明の樹脂組成物の調製方法は、特に限定されるものではなく、例えば、配合成分を、必要により溶媒等を添加し、回転ミキサーなどを用いて混合・分散する方法などが挙げられる。
【００８４】
＜樹脂組成物の物性、用途＞
本発明の樹脂組成物は、（Ａ）〜（Ｄ）成分を含有するので、反射率及び耐熱試験処理後の反射率に優れる硬化物を得ることができる。したがって、本発明の樹脂組成物は、光反射用途の硬化物を得るための樹脂組成物（光反射用樹脂組成物）として好適に使用することができる。具体的には、プリント配線板の最外層上に形成される反射シート用途の樹脂組成物として好適に使用することができる。また、本発明の樹脂組成物は、プリント配線板のソルダーレジスト層の絶縁用途の樹脂組成物としても好適に使用することができる。したがって、本発明の樹脂組成物は、ソルダーレジスト層及び反射シートの両方を兼ねる層を形成するための樹脂組成物として好適に使用することができる。
【００８５】
本発明の樹脂組成物は、（Ａ）成分を含むので、溶融粘度が低いという特性を示す。樹脂組成物の溶融粘度としては、好ましくは１００００ｐｏｉｓｅ未満、より好ましくは５０００ｐｏｉｓｅ未満、さらに好ましくは４５００ｐｏｉｓｅ以下である。溶融粘度の下限値は１００ｐｏｉｓｅ以上、より好ましくは５００ｐｏｉｓｅ以上、さらに好ましくは１０００ｐｏｉｓｅ以上である。ここで、用語「溶融粘度」は、６０℃から２００℃での最低溶融粘度を指す。最低溶融粘度は、動的粘弾性測定装置を用いて測定することができる。前記の最低溶融粘度の測定は、後述する実施例に記載の方法に従って測定することができる。樹脂組成物の最低溶融粘度が斯かる範囲内であることで柔軟性に優れるようになる。
【００８６】
樹脂組成物を１７０℃、６０分の硬化条件で硬化させた硬化物は、波長が４６０ｎｍの光の反射率に優れるという特性を示す。よって、前記硬化物は、高い反射率で光を反射でき、例えば、波長が４６０ｎｍの光の反射率が向上した反射シートをもたらす。反射率は、好ましくは８５％を超え、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９２％以上である。反射率の上限値は１００％以下等とし得る。反射率の測定は、後述する実施例に記載の方法に従って測定することができる。
【００８７】
樹脂組成物を１７０℃、６０分の硬化条件で硬化させ、さらに１２５℃１００時間の硬化条件で耐熱試験処理した硬化物は、高い反射率で光を反射でき、例えば、波長が４６０ｎｍの光の反射率に優れるという特性を示す。よって、前記硬化物は、耐熱試験処理後の波長が４６０ｎｍの光の反射率が向上した反射シートをもたらす。耐熱試験処理後の反射率は、好ましくは８０％を超え、より好ましくは８５％以上、さらに好ましくは８８％以上である。耐熱試験処理後の反射率の上限値は１００％以下等とし得る。耐熱試験処理後の反射率の測定は、後述する実施例に記載の方法に従って測定することができる。
【００８８】
［樹脂シート］
本発明の樹脂シートは、支持体と、該支持体上に設けられた、本発明の樹脂組成物で形成された樹脂組成物層を含む。
【００８９】
樹脂組成物層の厚さは、プリント配線板の薄型化、及び当該樹脂組成物の硬化物が薄膜であっても絶縁性に優れた硬化物を提供できるという観点から、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下、さらに好ましくは８０μｍ以下である。樹脂組成物層の厚さの下限は、特に限定されないが、通常、５μｍ以上、１０μｍ以上等とし得る。
【００９０】
支持体としては、例えば、プラスチック材料からなるフィルム、金属箔、離型紙が挙げられ、プラスチック材料からなるフィルム、金属箔が好ましい。
【００９１】
支持体としてプラスチック材料からなるフィルムを使用する場合、プラスチック材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（以下「ＰＥＴ」と略称することがある。）、ポリエチレンナフタレート（以下「ＰＥＮ」と略称することがある。）等のポリエステル、ポリカーボネート（以下「ＰＣ」と略称することがある。）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のアクリル、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルファイド（ＰＥＳ）、ポリエーテルケトン、ポリイミド等が挙げられる。中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましく、安価なポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
【００９２】
支持体として金属箔を使用する場合、金属箔としては、例えば、銅箔、アルミニウム箔等が挙げられ、銅箔が好ましい。銅箔としては、銅の単金属からなる箔を用いてもよく、銅と他の金属（例えば、スズ、クロム、銀、マグネシウム、ニッケル、ジルコニウム、ケイ素、チタン等）との合金からなる箔を用いてもよい。
【００９３】
支持体は、樹脂組成物層と接合する面にマット処理、コロナ処理、帯電防止処理を施してあってもよい。
【００９４】
また、支持体としては、樹脂組成物層と接合する面に離型層を有する離型層付き支持体を使用してもよい。離型層付き支持体の離型層に使用する離型剤としては、例えば、アルキド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、及びシリコーン樹脂からなる群から選択される１種以上の離型剤が挙げられる。離型層付き支持体は、市販品を用いてもよく、例えば、アルキド樹脂系離型剤を主成分とする離型層を有するＰＥＴフィルムである、リンテック社製の「ＰＥＴ５０１０１０」、「ＳＫ−１」、「ＡＬ−５」、「ＡＬ−７」；東レ社製の「ルミラーＴ６０」；帝人社製の「ピューレックス」；ユニチカ社製の「ユニピール」等が挙げられる。
【００９５】
支持体の厚みとしては、特に限定されないが、５μｍ〜７５μｍの範囲が好ましく、１０μｍ〜６０μｍの範囲がより好ましい。なお、離型層付き支持体を使用する場合、離型層付き支持体全体の厚さが上記範囲であることが好ましい。
【００９６】
一実施形態において、樹脂シートは、さらに必要に応じて、その他の層を含んでいてもよい。斯かるその他の層としては、例えば、樹脂組成物層の支持体と接合していない面（即ち、支持体とは反対側の面）に設けられた、支持体に準じた保護フィルム等が挙げられる。保護フィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、例えば、１μｍ〜４０μｍである。保護フィルムを積層することにより、樹脂組成物層の表面へのゴミ等の付着やキズを抑制することができる。
【００９７】
樹脂シートは、例えば、有機溶剤に樹脂組成物を溶解した樹脂ワニスを調製し、この樹脂ワニスを、ダイコーター等を用いて支持体上に塗布し、更に乾燥させて樹脂組成物層を形成させることにより製造することができる。
【００９８】
有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）及びシクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びカルビトールアセテート等の酢酸エステル類；セロソルブ及びブチルカルビトール等のカルビトール類；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）及びＮ−メチルピロリドン等のアミド系溶剤等を挙げることができる。有機溶剤は１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００９９】
乾燥は、加熱、熱風吹きつけ等の公知の方法により実施してよい。乾燥条件は特に限定されないが、樹脂組成物層中の有機溶剤の含有量が１０質量％以下、好ましくは５質量％以下となるように乾燥させる。樹脂ワニス中の有機溶剤の沸点によっても異なるが、例えば３０質量％〜６０質量％の有機溶剤を含む樹脂ワニスを用いる場合、５０℃〜１５０℃で３分間〜１０分間乾燥させることにより、樹脂組成物層を形成することができる。
【０１００】
樹脂シートは、ロール状に巻きとって保存することが可能である。樹脂シートが保護フィルムを有する場合、保護フィルムを剥がすことによって使用可能となる。
【０１０１】
樹脂組成物層に用いられる本発明の樹脂組成物は溶融粘度が低く、よって、柔軟性に優れる。したがって、樹脂シートは、柔軟性に優れるという特性を示す。具体的には、樹脂シートを、支持体が内側になるように直径１ｍｍの軸に沿わせて１８０℃折り曲げた場合に、樹脂シートの割れが抑制される。
【０１０２】
［硬化物］
本発明の硬化物は、本発明の樹脂組成物を硬化させて得られる。樹脂組成物の硬化条件は、後述する工程（ＩＩ）の条件を使用してよい。また、樹脂組成物を硬化させる前に予備加熱をしてもよく、加熱は予備加熱を含めて複数回行ってもよい。
【０１０３】
［反射シート、プリント配線板］
本発明の反射シートは、本発明の樹脂組成物の硬化物を含む。また、本発明のプリント配線板は、本発明の反射シートを含む。図２に一例を示したように、プリント配線板１は、基板２上に反射シート３が形成されており、反射シート３の面３１上に発光ダイオード（ＬＥＤ）等の光源４が配置されている。
【０１０４】
反射シートは、本発明の樹脂組成物の硬化物を含むことから、高い反射率で光を反射でき、例えば、波長が４６０ｎｍの光の反射率が、好ましくは８５％を超え、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９２％以上である。反射率の上限値は１００％以下等とし得る。また、反射シートは、本発明の樹脂組成物の硬化物を含むことから、耐熱試験処理後でも高い反射率で光を反射でき、例えば、耐熱試験処理後の波長が４６０ｎｍの光の反射率が、好ましくは８０％を超え、より好ましくは８５％以上、さらに好ましくは８８％以上である。耐熱試験処理後の反射率の上限値は１００％以下等とし得る。反射率及び耐熱試験処理後の反射率は、例えば、マルチチャンネル分光器（大塚電子社製、ＭＣＰＤ−７７００）を用いて測定することができる。
【０１０５】
本発明のプリント配線板及び反射シートは、例えば、上述の樹脂シートを用いて下記（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の工程を含む方法により製造することができる。
（Ｉ）基板上に、樹脂シートの樹脂組成物層が基板と接合するように積層する工程
（ＩＩ）樹脂組成物層を熱硬化して反射シートを形成する工程
（ＩＩＩ）反射シートに光源を配置する工程
【０１０６】
工程（Ｉ）で用いる基板に制限はなく、例えば、絶縁層と、この絶縁層上に形成された導体層と、導体層上に形成されたソルダーレジスト層とを備える回路基板を用い得る。
【０１０７】
基板と樹脂シートの積層は、例えば、支持体側から樹脂シートを基板に加熱圧着することにより行うことができる。樹脂シートを基板に加熱圧着する部材（以下、「加熱圧着部材」ともいう。）としては、例えば、加熱された金属板（ＳＵＳ鏡板等）又は金属ロール（ＳＵＳロール）等が挙げられる。なお、加熱圧着部材を樹脂シートに直接プレスするのではなく、基板の表面凹凸に樹脂シートが十分に追随するよう、耐熱ゴム等の弾性材を介してプレスするのが好ましい。
【０１０８】
基板と樹脂シートの積層は、真空ラミネート法により実施してよい。真空ラミネート法において、加熱圧着温度は、好ましくは６０℃〜１６０℃、より好ましくは８０℃〜１４０℃の範囲であり、加熱圧着圧力は、好ましくは０．０９８ＭＰａ〜１．７７ＭＰａ、より好ましくは０．２９ＭＰａ〜１．４７ＭＰａの範囲であり、加熱圧着時間は、好ましくは２０秒間〜４００秒間、より好ましくは３０秒間〜３００秒間の範囲である。積層は、好ましくは圧力２６．７ｈＰａ以下の減圧条件下で実施する。
【０１０９】
積層は、市販の真空ラミネーターによって行うことができる。市販の真空ラミネーターとしては、例えば、名機製作所社製の真空加圧式ラミネーター、ニッコー・マテリアルズ社製のバキュームアップリケーター、バッチ式真空加圧ラミネーター等が挙げられる。
【０１１０】
積層の後に、常圧下（大気圧下）、例えば、加熱圧着部材を支持体側からプレスすることにより、積層された樹脂シートの平滑化処理を行ってもよい。平滑化処理のプレス条件は、上記積層の加熱圧着条件と同様の条件とすることができる。平滑化処理は、市販のラミネーターによって行うことができる。なお、積層と平滑化処理は、上記の市販の真空ラミネーターを用いて連続的に行ってもよい。
【０１１１】
支持体は、工程（Ｉ）と工程（ＩＩ）の間に除去してもよく、工程（ＩＩ）の後に除去してもよい。
【０１１２】
工程（ＩＩ）において、樹脂組成物層を熱硬化して反射シートを形成する。例えば、樹脂組成物層の熱硬化条件は、樹脂組成物の種類等によっても異なるが、硬化温度は好ましくは１２０℃〜２４０℃、より好ましくは１３０℃〜２２０℃、さらに好ましくは１５０℃〜２１０℃である。硬化時間は好ましくは５分間〜１２０分間、より好ましくは１０分間〜１００分間、さらに好ましくは１５分間〜１００分間とすることができる。
【０１１３】
樹脂組成物を硬化させる前に、樹脂組成物を硬化温度よりも低い温度にて予備加熱してもよい。例えば、樹脂組成物を熱硬化させるのに先立ち、５０℃以上１２０℃未満（好ましくは６０℃以上１１５℃以下、より好ましくは７０℃以上１１０℃以下）の温度にて、樹脂組成物を５分間以上（好ましくは５分間〜１５０分間、より好ましくは１５分間〜１２０分間、さらに好ましくは１５分間〜１００分間）予備加熱してもよい。
【０１１４】
反射シートは、光源から発せられる光の取り出し効率を高めるため、反射シートの光源側の面は、図２のような平面状以外に凹部を有していてもよい。
【０１１５】
工程（ＩＩＩ）において、光源を反射シートに配置する。例えば、反射シートの面に凹部を有する場合は、凹部内に光源を配置する。
【０１１６】
必要に応じて光源を電気的に接続した後、光源に封止処理等を行い、光源を固定してもよい。
【実施例】
【０１１７】
以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下の記載において、別途明示のない限り、「部」及び「％」は「質量部」及び「質量％」をそれぞれ意味する。
【０１１８】
＜サンプルＡ及びサンプルＢの作製＞
（１）内層回路基板の下地処理
ガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板（銅箔の厚さ１８μｍ、基板の厚さ０．８ｍｍ、松下電工社製「Ｒ５７１５ＥＳ」）の両面にエッチングにより回路パターンを形成し、面内銅面積が３０％の内層回路基板を作製した。得られた内層回路基板の銅回路を、マイクロエッチング剤（メック社製「ＣＺ８１００」）で粗化処理した。
【０１１９】
（２）樹脂シートのラミネート
各実施例で作製した樹脂シートを、バッチ式真空加圧ラミネーター（ＭＶＬＰ−５００、名機社製）を用いて、上記（１）で作製した内層回路基板の両面にラミネートした。ラミネートは、３０秒間減圧して気圧を１３ｈＰａ以下とし、その後１２０℃、３０秒間、圧力０．７４ＭＰａで圧着させることにより行った。
【０１２０】
（３）樹脂シートの硬化
樹脂シートを、１７０℃、６０分の硬化条件で硬化して、反射シートを形成することでサンプルＡを得た。
【０１２１】
（４）耐熱試験処理
上記サンプルＡを１２５℃１００時間の硬化条件で加熱することでサンプルＢを得た。
【０１２２】
＜溶融粘度の測定＞
樹脂シートの樹脂組成物層を２５枚重ね合わせて１ｍｍ厚とした樹脂組成物層を直径２０ｍｍに打ち抜き、測定試料を調製した。調製した測定試料について、動的粘弾性測定装置（ＵＢＭ社製「Ｒｈｅｏｇｅｌ−Ｇ３０００」）を使用して、開始温度６０℃から２００℃まで、昇温速度５℃／ｍｉｎ、測定温度間隔２．５℃、振動周波数１Ｈｚの測定条件にて動的粘弾性率を測定することで溶融粘度を測定し、以下の基準で評価した。
○：５０００ｐｏｉｓｅ未満
△：５０００ｐｏｉｓｅ以上１００００ｐｏｉｓｅ未満
×：１００００ｐｏｉｓｅ以上
【０１２３】
＜柔軟性の評価＞
各実施例で作製した樹脂シートを、離型層付きＰＥＴフィルムが内側になるように直径１ｍｍの軸に沿わせて１８０°折り曲げ、樹脂シートの割れがない場合を「〇」と評価し、割れがない場合を「×」と評価した。
【０１２４】
＜硬化後の反射率の測定＞
サンプルＡを幅５０ｍｍ、長さ５０ｍｍに切り出し、断面を研磨後、マルチチャンネル分光器（大塚電子社製、ＭＣＰＤ−７７００）にて、波長が４６０ｎｍの光の反射率を測定し、以下の基準で評価した。
○：反射率が９０％を超える
△：反射率が８５％以上９０％以下
×：反射率が８５％未満
【０１２５】
＜耐熱試験処理後の反射率の測定＞
サンプルＢを幅５０ｍｍ、長さ５０ｍｍに切り出し、断面を研磨後、マルチチャンネル分光器（大塚電子社製、ＭＣＰＤ−７７００）にて、波長が４６０ｎｍの光の反射率を測定し、以下の基準で評価した。
○：反射率が８５％を超える
△：反射率が８０％以上８５％以下
×：反射率が８０％未満
【０１２６】
＜実施例１＞
液状ビスフェノール型エポキシ樹脂（日鉄ケミカル＆マテリアル社製「ＺＸ１０５９」、ビスフェノールＡ型とビスフェノールＦ型の１：１混合品、エポキシ当量１６９ｇ／ｅｑ．）２０部と、フッ素原子含有フェノキシ樹脂（三菱ケミカル社製「ＹＬ７８７６Ｂ４０」、固形分４０質量％のＭＥＫ溶液）５０部、酸化防止剤（ジブチルヒドロシキトルエン（ＢＨＴ））０．０７部、紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製「Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ  ８１  ＦＬ」）０．０７部を、ＭＥＫ６０部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、白色無機酸化物（酸化チタン（平均粒径０．２６μｍ、堺化学社製「ＰＸ３７８８」、アミノシラン処理付き））１６０部、硬化促進剤（リン系触媒（北興化学社製「ＴＢＰ−ＤＡ−５０Ｍ」）をＭＥＫで不揮発分５０％に調整した溶液）０．５部、を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂ワニスＡを調製した。
【０１２７】
支持体として、離型層付きＰＥＴフィルム（リンテック社製「ＰＥＴ５０１０１０」、厚さ３８μｍ）を用意した。この支持体の離型層上に、樹脂ワニスＡを、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが５０μｍとなるように均一に塗布した。その後、樹脂ワニスＡを８０℃で４分間加熱することで厚さが５０μｍの樹脂組成物層を含む樹脂シートＡを得た。
【０１２８】
＜実施例２＞
実施例１において、液状ビスフェノール型エポキシ樹脂（日鉄ケミカル＆マテリアル社製「ＺＸ１０５９」、ビスフェノールＡ型とビスフェノールＦ型の１：１混合品、エポキシ当量１６９ｇ／ｅｑ．）２２０部を、液状エポキシ樹脂（エポキシ当量２００ｇ／ｅｑ．、三菱ケミカル社製「ＨＰ８２０」）２０部に変えた。
以上の事項以外は実施例１と同様にして樹脂ワニスＢ及び樹脂シートＢを作製した。
【０１２９】
＜実施例３＞
実施例１において、白色無機酸化物（酸化チタン（平均粒径０．２６μｍ、堺化学社製「ＰＸ３７８８」、アミノシラン処理付き））の量を１６０部から２００部に変えた。
以上の事項以外は実施例１と同様にして樹脂ワニスＣ及び樹脂シートＣを作製した。
【０１３０】
＜実施例４＞
実施例１において、フッ素原子含有フェノキシ樹脂（三菱ケミカル社製「ＹＬ７８７６Ｂ４０」、固形分４０質量％のＭＥＫ溶液）の量を５０部から３０部に変え、さらに、固体状フッ素原子含有エポキシ樹脂（エポキシ当量２４５ｇ／ｅｑ．、三菱ケミカル社製「ＹＬ７７６０」）８部を用いた。
以上の事項以外は実施例１と同様にして樹脂ワニスＤ及び樹脂シートＤを作製した。
【０１３１】
＜実施例５＞
実施例１において、硬化促進剤（リン系触媒（北興化学社製「ＴＢＰ−ＤＡ−５０Ｍ」）をＭＥＫで不揮発分５０％に調整した溶液）０．５部を、硬化促進剤（イミダゾール系触媒（１Ｂ２ＰＺ−１０Ｍ、四国化成社製）をＭＥＫで不揮発分１０％に調整した溶液）３部に変えた。
以上の事項以外は実施例１と同様にして樹脂ワニスＥ及び樹脂シートＥを作製した。
【０１３２】
＜実施例６＞
実施例１において、硬化促進剤（リン系触媒（北興化学社製「ＴＢＰ−ＤＡ−５０Ｍ」）をＭＥＫで不揮発分５０％に調整した溶液）の量を０．５部から０．３部に変え、さらに、硬化促進剤（イミダゾール系触媒（１Ｂ２ＰＺ−１０Ｍ、四国化成社製）をＭＥＫで不揮発分１０％に調整した溶液）１．５部を用いた。
以上の事項以外は実施例１と同様にして樹脂ワニスＦ及び樹脂シートＦを作製した。
【０１３３】
＜実施例７＞
実施例１において、白色無機酸化物（酸化チタン（平均粒径０．２６μｍ、堺化学社製「ＰＸ３７８８」、アミノシラン処理付き））の量を１６０部から１００部に変え、さらに、球形シリカ（平均粒径０．５μｍ、アドマテックス製「ＳＯ−Ｃ２」、アミノシラン処理付き）６０部を用いた。
以上の事項以外は実施例１と同様にして樹脂ワニスＧ及び樹脂シートＧを作製した。
【０１３４】
＜実施例８＞
実施例１において、酸化防止剤（ジブチルヒドロシキトルエン（ＢＨＴ））０．０７部を用いず、紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製「Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ  ８１  ＦＬ」）０．０７部を用いなかった。
以上の事項以外は実施例１と同様にして樹脂ワニスＨ及び樹脂シートＨを作製した。
【０１３５】
＜比較例１＞
実施例１において、フッ素原子含有フェノキシ樹脂（三菱ケミカル社製「ＹＬ７８７６Ｂ４０」、固形分４０質量％のＭＥＫ溶液）５０部を、ビスフェノールＡ型フェノキシ樹脂（三菱ケミカル社製「１２５６Ｂ４０」、固形分４０質量％のＭＥＫ溶液）５０部に変えた。
以上の事項以外は実施例１と同様にして樹脂ワニスＩ及び樹脂シートＩを作製した。
【０１３６】
＜比較例２＞
実施例１において、フッ素原子含有フェノキシ樹脂（三菱ケミカル社製「ＹＬ７８７６Ｂ４０」、固形分４０質量％のＭＥＫ溶液）５０部を、ビスフェノールＡ型フェノキシ樹脂（三菱ケミカル社製「１２５６Ｂ４０」、固形分４０質量％のＭＥＫ溶液）２０部に変え、さらに、固体状フッ素原子含有エポキシ樹脂（エポキシ当量２４５ｇ／ｅｑ．、三菱ケミカル社製「ＹＬ７７６０」）１２部を用いた。
以上の事項以外は実施例１と同様にして樹脂ワニスＪ及び樹脂シートＪを作製した。
【０１３７】
＜比較例３＞
実施例１において、液状ビスフェノール型エポキシ樹脂（日鉄ケミカル＆マテリアル社製「ＺＸ１０５９」、ビスフェノールＡ型とビスフェノールＦ型の１：１混合品、エポキシ当量１６９ｇ／ｅｑ．）２０部を、固体状フッ素原子含有エポキシ樹脂（エポキシ当量２４５ｇ／ｅｑ．、三菱ケミカル社製「ＹＬ７７６０」）２０部に変えた。
以上の事項以外は実施例１と同様にして樹脂ワニスＫ及び樹脂シートＫを作製した。
【０１３８】
【表１】
2020147689.tif 000002
【符号の説明】
【０１３９】
１      プリント配線板
２      基板
３      反射シート
３１    反射シートの面
４      光源
１０ａ  液状判定用試験管
１０ｂ  温度測定用試験管
１３ａ  ゴム栓
１３ｂ  ゴム栓
１４    温度計
【図１】
2020147689.tif 000003
【図２】
2020147689.tif 000004