(57)【要約】【課題】  狭額縁化を可能とし、さらに製品の歩留まり向上が可能な表示装置を提供する。【解決手段】  表示領域と額縁領域とを含む第１領域と、前記第１領域に隣接する第２領域と、を有する第１基板と、前記第１領域と前記第２領域との境界に位置する第１端部と、前記第１端部と異なる第２端部と、を有し、前記第１領域に重なる第２基板と、前記額縁領域に位置し、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシールと、を備え、前記第１端部と前記表示領域との間の前記額縁領域の幅は、前記第２端部と前記表示領域との間の前記額縁領域の幅より小さく、前記第１端部と前記表示領域との間の前記シールの幅は、前記第２端部と前記表示領域との間の前記シールの幅より小さい、表示装置。【選択図】  図７
2020193992.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域と額縁領域とを含む第１領域と、前記第１領域に隣接する第２領域と、を有する第１基板と、
前記第１領域と前記第２領域との境界に位置する第１端部と、前記第１端部と異なる第２端部と、を有し、前記第１領域に重なる第２基板と、
前記額縁領域に位置し、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシールと、を備え、
前記第１端部と前記表示領域との間の前記額縁領域の幅は、前記第２端部と前記表示領域との間の前記額縁領域の幅より小さく、
前記第１端部と前記表示領域との間の前記シールの幅は、前記第２端部と前記表示領域との間の前記シールの幅より小さい、表示装置。
【請求項２】
前記第１基板と前記第２基板との間に位置する液晶層と、を備え、
前記シールは前記液晶層を封止し、
前記第１基板は、前記額縁領域において、前記第２基板に対向し平坦な上面を有する第１有機絶縁層と、前記上面の上方に形成された金属配線と、前記金属配線及び前記第１有機絶縁層の上方に位置する第２有機絶縁層と、を備え、
前記第２有機絶縁層は、前記表示領域と前記第１端部との間に位置し前記シールに重なる第１部を有し、
前記第１部は、平坦な第１主面と、前記第１主面に開口して前記第２基板から前記第１基板に向かって窪み前記シールに対向する凹部と、を有する請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１部は、前記第１主面の反対側の第２主面を有し、
前記第２主面から前記凹部の底面までの距離は、前記第２主面から前記第１主面までの距離の５０％以上かつ８０％以下である請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
さらに、前記第１端部に連続する側面を有し、前記第２基板と前記第２有機絶縁層との間に位置する第１スペーサを備え、
前記シールは、前記側面と前記表示領域との間に位置している請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
さらに、前記第１基板と前記第２基板との間に位置する第２スペーサを備え、
前記シールは、前記第１部に重なる位置において、前記表示領域に対向する第１シール部を有し、
前記第２スペーサは、前記第１シール部と前記表示領域との間に位置している請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第１基板は、さらに、前記第１部の上方に形成された無機絶縁層と、前記無機絶縁層の上方に形成され前記第１部に重なる透明導電層と、前記透明導電層を覆い前記シールに接着された配向膜と、を備え、
前記透明導電層は、前記無機絶縁層及び前記配向膜のそれぞれに接し、電気的にフローティング状態である請求項２に記載の表示装置。
【請求項７】
さらに、前記第１基板と前記第２基板との間に位置する第３スペーサを備え、
前記第２基板は、遮光層と、前記遮光層を覆う透明層と、前記遮光層と前記透明層との間に位置し前記第１主面に対向するカラーフィルタと、を備え、
前記第３スペーサは、前記カラーフィルタに対向し、前記透明層と前記第１主面との間に位置し、前記第１端部に沿って延出している請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第３スペーサは、断続的に延出し、間隔をおいて並んだ複数のスペーサによって構成されている請求項７に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、画素電極、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向する対向基板と、を備え、二つの基板と平行方向の電界によって液晶分子を回転させる表示装置が種々検討されている。一例では、有機絶縁層が、二つの基板が重なる領域において、液晶を挟持した領域を囲むように形成された溝状スルーホールを有している表示装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−２２５２２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本実施形態の目的は、狭額縁化を可能とし、さらに製品の歩留まり向上が可能な表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本実施形態によれば、
表示領域と額縁領域とを含む第１領域と、前記第１領域に隣接する第２領域と、を有する第１基板と、前記第１領域と前記第２領域との境界に位置する第１端部と、前記第１端部と異なる第２端部と、を有し、前記第１領域に重なる第２基板と、前記額縁領域に位置し、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシールと、を備え、前記第１端部と前記表示領域との間の前記額縁領域の幅は、前記第２端部と前記表示領域との間の前記額縁領域の幅より小さく、前記第１端部と前記表示領域との間の前記シールの幅は、前記第２端部と前記表示領域との間の前記シールの幅より小さい、表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１は、一実施形態の液晶表示装置を示す平面図である。
【図２】図２は、図１に示した画素の基本構成及び等価回路を示す図である。
【図３】図３は、図１に示した表示パネルの一構成例を示す断面図である。
【図４】図４は、図１に示した第２基板ＳＵＢ２の平面図であり、表示領域ＤＡを説明するための図である。
【図５】図５は、図１に示した液晶表示装置を示す平面図であり、溝部と配線群との位置関係を説明するための図である。
【図６】図６は、図５に示した液晶表示装置を示す平面図であり、溝部と凹部との位置関係を説明するための図である。
【図７】図７は、図６に示したＡ−Ｂ線に沿った表示パネルの断面図である。
【図８】図８は、図６に示したＣ−Ｄ線に沿った表示パネルの断面図である。
【図９】図９は、本実施形態の変形例のスペーサを説明するための平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【０００８】
図１は、一実施形態の液晶表示装置ＤＳＰを示す平面図である。一例では、第１方向Ｘ、第２方向Ｙ、及び、第３方向Ｚは、互いに直交しているが、９０度以外の角度で交差していてもよい。第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、液晶表示装置ＤＳＰを構成する基板の主面と平行な方向に相当し、第３方向Ｚは、液晶表示装置ＤＳＰの厚さ方向に相当する。本明細書において、第３方向Ｚを示す矢印の先端側の位置を上と称し、矢印の先端とは逆側の位置を下と称する。また、第３方向Ｚを示す矢印の先端側に液晶表示装置ＤＳＰを観察する観察位置があるものとし、この観察位置から、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙで規定されるＸ−Ｙ平面に向かって見ることを平面視という。  
図１に示すように、液晶表示装置ＤＳＰは、表示パネルＰＮＬと、ＩＣチップ１と、配線基板Ｆ１と、を備えている。
【０００９】
表示パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１と、第２基板ＳＵＢ２と、液晶層ＬＣと、シールＳＥと、を備えている。図１において、液晶層ＬＣ及びシールＳＥは、異なる斜線で示している。表示パネルＰＮＬは、第２方向Ｙに並んだ第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２を備えている。
【００１０】
第１基板ＳＵＢ１は、第１方向Ｘに沿って延出した端部Ｅ１１及びＥ１２と、第２方向Ｙに沿って延出した端部Ｅ１３及びＥ１４とを有している。第２基板ＳＵＢ２は、第１方向Ｘに沿って延出した端部Ｅ２１及びＥ２２と、第２方向Ｙに沿って延出した端部Ｅ２３及びＥ２４とを有している。端部Ｅ２１は、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２との境界に位置する基板端に相当する。つまり、第１領域Ａ１は、端部Ｅ２１、Ｅ１２、Ｅ１３及びＥ１４によって囲まれた領域に相当する。第２領域Ａ２は、端部Ｅ１１、Ｅ２１、Ｅ１３及びＥ１４によって囲まれた領域に相当する。また、第１領域Ａ１は第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とが重なり合う表示パネルＰＮＬの２枚部分、第２領域Ａ２は第１基板ＳＵＢ１が第２基板ＳＵＢ２から露出する表示パネルＰＮＬの１枚部分ということも出来る。
【００１１】
第１領域Ａ１は、画像を表示する表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡを囲む額縁状の額縁領域ＦＡとを含んでいる。
【００１２】
表示領域ＤＡは、実質的に四角形の領域で示しているが、４つの角が丸みを有していてもよく、四角形以外の多角形や円形であってもよい。また、端部Ｅ１２及び端部Ｅ２２にカメラ用のノッチが形成されるものであってもよい。表示領域ＤＡは、シールＳＥで囲まれた内側に位置している。表示領域ＤＡは、第１方向Ｘに沿って延出した辺ＥＤ１及びＥＤ２と、第２方向Ｙに沿って延出した辺ＥＤ３及び辺ＥＤ４とを有している。辺ＥＤ１は端部Ｅ２１に近接し、辺ＥＤ２は端部Ｅ２２に近接し、辺ＥＤ３は端部Ｅ２３に近接し、辺ＥＤ４は端部Ｅ２４に近接している。  
表示領域ＤＡには、第１方向（列方向）Ｘ及び第２方向（行方向）Ｙにマトリクス状（行列状）に配置された複数の画素ＰＸが位置している。ここでの画素ＰＸとは、画素信号に応じて個別に制御することができる最小単位を示し、副画素と称する場合がある。画素ＰＸは、例えば、赤色を表示する赤画素、緑色を表示する緑画素、青色を表示する青画素、または、白色を表示する白画素のいずれかである。
【００１３】
シールＳＥは、額縁領域ＦＡに位置し、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とを接合するとともに、液晶層ＬＣを封止している。シールＳＥは、第１方向Ｘに沿って延出した第１シール部Ｐ１及び第２シール部Ｐ２と、第２方向Ｙに沿って延出した第３シール部Ｐ３及び第４シール部Ｐ４とを有している。第１シール部Ｐ１は、辺ＥＤ１と端部Ｅ２１との間に位置し、実質的に一定の幅Ｗ１を有している。図示した例では、第１シール部Ｐ１は端部Ｅ２１から離れている。第２シール部Ｐ２は、端部Ｅ２２に重なり、実質的に一定の幅Ｗ２を有している。第３シール部Ｐ３は、端部Ｅ２３に重なり、実質的に一定の幅Ｗ３を有している。第４シール部Ｐ４は、端部Ｅ２４に重なり、実質的に一定の幅Ｗ４を有している。ここで、幅Ｗ１乃至Ｗ４は、シールＳＥの延出方向と直交する方向に沿った長さに相当する。図示した例では、幅Ｗ１は幅Ｗ２乃至Ｗ４のそれぞれより小さい。一例として、幅Ｗ１は約３５０μｍであり、幅Ｗ２乃至Ｗ４はそれぞれ約４００μｍである。なお、幅Ｗ１は幅Ｗ２乃至Ｗ４のそれぞれと同等であってもよい。  
昨今、液晶表示装置を含む表示装置は額縁領域ＦＡの幅を狭める狭額縁化が求められており、額縁領域ＦＡの狭額縁化に伴いシールＳＥの幅も細くなっている。さらに狭額縁化は単にパネル上額縁・左右額縁に限らず下額縁も上左右同様程度に狭めることが好ましい。パネル上額縁は、本説明においては、第１基板ＳＵＢ１の端部Ｅ１２及び第２基板ＳＵＢ２の端部Ｅ２２から成るパネル上辺と表示領域ＤＡの辺ＥＤ２とからなる幅ＷＦ２を有する額縁領域である。パネル左額縁は、本説明においては、第１基板ＳＵＢ１の端部Ｅ１３及び第２基板ＳＵＢ２の端部Ｅ２３から成るパネル左辺と表示領域ＤＡの辺ＥＤ３とからなる幅ＷＦ３を有する額縁領域である。パネル右額縁は、本説明においては、第１基板ＳＵＢ１の端部Ｅ１４及び第２基板ＳＵＢ２の端部Ｅ２４から成るパネル右辺と表示領域ＤＡの辺ＥＤ４とからなる幅ＷＦ４を有する額縁領域である。パネル下額縁は、本説明においては、第１基板ＳＵＢ１の第２領域Ａ２と、パネル下辺そのものである第１基板ＳＵＢ１の端部Ｅ１１と、さらに第２基板ＳＵＢ２の端部Ｅ２１と表示領域ＤＡの辺ＥＤ１とからなる額縁領域である。ここで第２基板ＳＵＢ２の端部Ｅ２１と表示領域ＤＡの辺ＥＤ１とは、第２基板ＳＵＢ２の端子辺側額縁ということもでき、第２基板ＳＵＢ２の端子辺側額縁は幅ＷＦ１を有している。ここで、幅ＷＦ１は、幅ＷＦ２乃至幅ＷＦ４のそれぞれより小さい。一例では、幅ＷＦ２乃至ＷＦ４は０．７〜１．０ｍであり、幅ＷＦ１は、０．４ｍ〜０．６９ｍとしている。第１基板ＳＵＢ１の第２領域Ａ２を考慮すれば、パネルの上下左右額縁町域の狭額縁化のためには、幅ＷＦ１は小さければ小さいだけ好ましい。本実施例においては、ＩＣチップ１及び配線基板Ｆ１の実装があるため第１基板ＳＵＢ１の第２領域Ａ２を狭額縁化することには制約があり、第２基板ＳＵＢ２の端部Ｅ２１と表示領域の辺ＥＤ１との幅ＷＦ１を狭めることに注目している。
【００１４】
ＩＣチップ１及び配線基板Ｆ１は、表示パネルＰＮＬからの信号を読み出す場合もあるが、主として表示パネルＰＮＬに信号を供給する信号源として機能する。これらの信号源は、第２領域Ａ２に実装されている。図示した例では、配線基板Ｆ１及びＩＣチップ１は、それぞれ第２領域Ａ２に実装されている。なお、ＩＣチップ１は、配線基板Ｆ１に実装されてもよい。ＩＣチップ１は、画像を表示する画像表示モードにおいて画像表示に必要な信号を出力するディスプレイドライバＤＤを内蔵している。また、図示した例では、ＩＣチップ１は、液晶表示装置ＤＳＰへの物体の接近又は接触を検出するタッチセンシングモードを制御するタッチコントローラＴＣＮを内蔵している。図中において、ディスプレイドライバＤＤ及びタッチコントローラＴＣＮは点線で示している。配線基板Ｆ１は、折り曲げ可能なフレキシブルプリント基板である。  
本実施形態の表示パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１の背面側からの光を選択的に透過させることで画像を表示する透過表示機能を備えた透過型の表示パネルＰＮＬ、第２基板ＳＵＢ２の前面側からの光を選択的に反射させることで画像を表示する反射表示機能を備えた反射型の表示パネルＰＮＬ、あるいは、透過表示機能及び反射表示機能を備えた半透過型の表示パネルＰＮＬいずれであってもよい。  
また、表示パネルＰＮＬの詳細な構成について、ここでは説明を省略するが、表示パネルＰＮＬは、基板主面に沿った横電界を利用する表示モード、基板主面の法線に沿った縦電界を利用する表示モード、基板主面に対して斜め方向に傾斜した傾斜電界を利用する表示モード、さらには、上記の横電界、縦電界、及び、傾斜電界を適宜組み合わせて利用する表示モードに対応したいずれの構成を備えていてもよい。ここでの基板主面とは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙで規定されるＸ−Ｙ平面と平行な面である。
また、表示パネルＰＮＬは液晶表示装置ＤＳＰに限らず第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とシールＳＥとがあれば、有機ＥＬ（Electro  Luminescence）表示装置、マイクロＬＥＤ（Light  Emitting  Diode）表示装置のような自発光型の表示装置にも適用可能である。有機ＥＬ表示装置では例えばシールＳＥは液晶表示装置に用いられる樹脂シールであってもよくガラスフリットが考えられる。
【００１５】
図２は、図１に示した画素ＰＸの基本構成及び等価回路を示す図である。
図２に示すように、複数本の走査線Ｇは走査線駆動回路ＧＤに接続され、複数本の信号線Ｓは信号線駆動回路ＳＤに接続されている。走査線ＧＥは、走査線駆動回路ＧＤに接続された走査線Ｇのうち図１に示した端部Ｅ２１に最も近接した走査線である。本実施形態において、走査線ＧＥは表示領域ＤＡと額縁領域ＦＡとの境界に位置し、表示領域ＤＡの辺ＥＤ１に沿って延出している。  
走査線Ｇ及び信号線Ｓは、それぞれ、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、銀（Ａｇ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）などの金属材料や、これらの金属材料を組み合わせた合金などによって形成されている。走査線Ｇ及び信号線Ｓは、それぞれ、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。なお、走査線Ｇ及び信号線Ｓは、必ずしも直線的に延出していなくてもよく、それらの一部が屈曲していてもよい。
【００１６】
共通電極ＣＥは、複数の画素ＰＸにわたって配置されている。共通電極ＣＥは、電圧供給部ＣＤ及び図１に示したタッチコントローラＴＣＮに接続されている。画像表示モードにおいては、電圧供給部ＣＤは、共通電極ＣＥにコモン電圧（Ｖｃｏｍ）を供給する。タッチセンシングモードにおいては、タッチコントローラＴＣＮは、コモン電圧とは異なるタッチ駆動電圧を共通電極ＣＥに供給する。
【００１７】
各画素ＰＸは、スイッチング素子ＳＷ、画素電極ＰＥ、共通電極ＣＥ、液晶層ＬＣ等を備えている。スイッチング素子ＳＷは、例えばＴＦＴによって構成され、走査線Ｇ及び信号線Ｓと電気的に接続されている。走査線Ｇは、第１方向Ｘに並んだ画素ＰＸの各々におけるスイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。信号線Ｓは、第２方向Ｙに並んだ画素ＰＸの各々におけるスイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。走査線Ｇには、スイッチング素子ＳＷを制御するための制御信号が供給される。信号線Ｓには、制御信号とは異なる信号として、映像信号が供給される。画素電極ＰＥは、スイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。液晶層ＬＣは、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に生じる電界によって駆動されている。容量ＣＳは、例えば、共通電極ＣＥと同電位の電極、及び、画素電極ＰＥと同電位の電極の間に形成される。
【００１８】
図３は、図１に示した表示パネルＰＮＬの一構成例を示す断面図である。図示した例は、横電界を利用する表示モードの一つであるＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードが適用された例に相当する。  
図３に示すように、第１基板ＳＵＢ１は、絶縁基板１０、絶縁層１１乃至１６、半導体層ＳＣ、信号線Ｓ、金属配線ＭＬ、共通電極ＣＥ、画素電極ＰＥ、配向膜ＡＬ１などを備えている。絶縁基板１０は、ガラス基板や可撓性の樹脂基板などの透明基板である。絶縁層１１は、絶縁基板１０の上に位置している。半導体層ＳＣは、絶縁層１１の上に位置し、絶縁層１２によって覆われている。半導体層ＳＣは、例えば、多結晶シリコンによって形成されているが、アモルファスシリコンや酸化物半導体によって形成されていてもよい。絶縁層１２は、絶縁層１３によって覆われている。図２に示した走査線Ｇは、絶縁層１２及び１３の間に位置している。絶縁層１４は、下面１４Ａと、下面１４Ａの反対側の上面１４Ｂとを有している。絶縁層１５は、上面１４Ｂに対向する下面１５Ａと、下面１５Ａの反対側の上面１５Ｂとを有している。信号線Ｓは、絶縁層１３の上に位置し、絶縁層１４によって覆われている。金属配線ＭＬは、上面１４Ｂに位置し、絶縁層１５によって覆われている。金属配線ＭＬは、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、銀（Ａｇ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）などの金属材料や、これらの金属材料を組み合わせた合金などによって形成されている。金属配線ＭＬは、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。金属配線ＭＬは、それぞれ信号線Ｓと平行に延出し、信号線Ｓの直上に位置している。
【００１９】
共通電極ＣＥは、上面１５Ｂに位置し、絶縁層１６によって覆われている。画素電極ＰＥは、絶縁層１６の上に位置し、配向膜ＡＬ１によって覆われている。画素電極ＰＥの各々は、絶縁層１６を介して、共通電極ＣＥと対向している。共通電極ＣＥ及び画素電極ＰＥは、例えば、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）などの透明な導電材料によって形成されている。画素電極ＰＥは、線状電極であり、共通電極ＣＥは、複数の画素ＰＸにわたって共通に設けられた平板状の電極である。なお、画素電極ＰＥを平板状の電極とし、画素電極ＰＥと液晶層ＬＣとの間に線状の共通電極を設ける構造であってもよい。
【００２０】
絶縁層１１、絶縁層１２、絶縁層１３及び１６は、シリコン酸化物（ＳｉＯ）、シリコン窒化物（ＳｉＮ）、シリコン酸窒化物（ＳｉＯＮ）などの無機絶縁材料によって形成された無機絶縁層である。絶縁層１６は、例えば、シリコン窒化物によって形成されている。絶縁層１１、絶縁層１２、絶縁層１３及び１６は、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。絶縁層１４及び１５は、例えば、アクリル樹脂などの有機絶縁材料によって形成された有機絶縁層である。上面１４Ｂ、下面１５Ａ及び上面１５Ｂはそれぞれ平坦化されている。絶縁層１５は、厚さＨ１を有している。厚さＨ１は、
第３方向Ｚにおいて下面１５Ａから上面１５Ｂまでの距離に相当する。厚さＨ１は、例えば１．５μｍである。
【００２１】
第２基板ＳＵＢ２は、絶縁基板２０と、カラーフィルタＣＦと、遮光層ＢＭと、透明層ＯＣと、配向膜ＡＬ２とを備えている。絶縁基板２０は、ガラス基板や可撓性の樹脂基板などの透明基板である。カラーフィルタＣＦ、遮光層ＢＭ、及び、透明層ＯＣは、絶縁基板２０と液晶層ＬＣとの間に位置している。配向膜ＡＬ２は、液晶層ＬＣに接している。配向膜ＡＬ１及びＡＬ２は、例えば、水平配向性を呈する材料によって形成されている。透明層ＯＣは、カラーフィルタＣＦ及び遮光層ＢＭを覆っている。透明層ＯＣは、例えば、透明な有機絶縁層である。なお、図示した例では、カラーフィルタＣＦは、第２基板ＳＵＢ２に設けられたが、第１基板ＳＵＢ１に設けられてもよい。カラーフィルタＣＦは、赤カラーフィルタＣＦＲ、緑カラーフィルタＣＦＧ、及び、青カラーフィルタＣＦＢを含んでいる。緑カラーフィルタＣＦＧは、画素電極ＰＥと対向している。赤カラーフィルタＣＦＲ及び青カラーフィルタＣＦＢも、それぞれ図示しない他の画素電極ＰＥと対向している。
【００２２】
液晶層ＬＣは、第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２の間に位置し、配向膜ＡＬ１と配向膜ＡＬ２との間に保持されている。液晶層ＬＣは、液晶分子ＬＭを備えている。液晶層ＬＣは、ポジ型（誘電率異方性が正）の液晶材料、あるいは、ネガ型（誘電率異方性が負）の液晶材料によって構成されている。
【００２３】
このような表示パネルＰＮＬにおいては、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電界が形成されていないオフ状態において、液晶分子ＬＭは、配向膜ＡＬ１及びＡＬ２の間で所定の方向に初期配向している。このようなオフ状態では、照明装置ＩＬから表示パネルＰＮＬに向けて照射された照明光は、光学素子ＯＤ１及びＯＤ２によって吸収され、暗表示となる。一方、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電界が形成されたオン状態においては、液晶分子ＬＭは、電界により初期配向方向とは異なる方向に配向し、その配向方向は電界によって制御される。このようなオン状態では、照明装置ＩＬからの照明光の一部は、光学素子ＯＤ１及びＯＤ２を透過し、明表示となる。
【００２４】
図４は、図１に示した第２基板ＳＵＢ２の平面図であり、表示領域ＤＡを説明するための図である。  
図４に示すように、遮光層ＢＭは端部Ｅ２１乃至Ｅ２４のそれぞれまで延出し、第１領域Ａ１全域に設けられている。遮光層ＢＭは複数の開口ＯＰを有している。各開口ＯＰは、それぞれ図２及び図３に示した各画素ＰＸに対応している。例えば、第１方向Ｘにおいて１つの画素を構成する単位である、赤カラーフィルタＣＦＲ、緑カラーフィルタＣＦＧ、青カラーフィルタＣＦＢが順に並ぶように各開口ＯＰに配置される。辺ＥＤ１は端部Ｅ２１に近接した複数の開口ＯＰの最外辺と同一線上に位置し、辺ＥＤ２は端部Ｅ２２に近接した複数の開口ＯＰの最外辺と同一線上に位置している。また、表示領域ＤＡは、遮光層ＢＭの複数の開口ＯＰを含む領域という事もできる。
【００２５】
図５は、図１に示した液晶表示装置ＤＳＰを示す平面図であり、溝部ＧＲ１と配線群ＷＧとの位置関係を説明するための図である。  
図５に示すように、表示パネルＰＮＬは、溝部ＧＲ１と、配線群ＷＧと、を備えている。
【００２６】
溝部ＧＲ１は、額縁領域ＦＡに設けられ、端部Ｅ２２乃至Ｅ２４それぞれに沿って延出している。溝部ＧＲ１は、端部ＥＧ１及びＥＧ２を有している。端部ＥＧ１及びＥＧ２は、端部Ｅ２１と辺ＥＤ１との間に位置している。
【００２７】
配線群ＷＧは、図３に示した複数の信号線Ｓ及び複数の金属配線ＭＬを含み、ＩＣチップ１に接続されている。配線群ＷＧは、端部ＥＧ１と端部ＥＧ２との間に位置している。
図５において拡大して示すように、複数の信号線Ｓは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する方向に間隔ＤＳをおいて並んでいる。信号線Ｓは、実質的に一定の幅ＷＳを有する帯状に形成され、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する方向に沿って延出している。ここで、間隔ＤＳ及び幅ＷＳは、信号線Ｓの延出方向と直交する方向に沿った長さに相当する。一例として、間隔ＤＳは２．５μｍ、幅ＷＳは２．０μｍである。  
複数の金属配線ＭＬは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する方向に間隔ＤＭをおいて並んでいる。金属配線ＭＬは、実質的に一定の幅ＷＭを有する帯状に形成され、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する方向に沿って延出している。ここで、間隔ＤＭ及び幅ＷＭは、金属配線ＭＬの延出方向と直交する方向に沿った長さに相当する。一例として、間隔ＤＭは３．５μｍ、幅ＷＭは２．０μｍである。
【００２８】
図６は、図５に示した液晶表示装置ＤＳＰを示す平面図であり、溝部ＧＲ１と凹部ＣＣとの位置関係を説明するための図である。シールＳＥは斜線で示している。  
図６に示すように、表示パネルＰＮＬは複数の凹部ＣＣを有している。凹部ＣＣは、第１方向Ｘにおいて端部ＥＧ１と端部ＥＧ２との間に位置し、第２方向Ｙにおいて辺ＥＤ１と端部Ｅ２１との間に位置している。各凹部ＣＣは、それぞれ平面視でシールＳＥの第１シール部Ｐ１に重なり、第１シール部Ｐ１の内側に位置している。図示した例では、２つの凹部ＣＣがお互いに離れて設けられているが、１つの凹部ＣＣであってもよい。溝部ＧＲ１は、平面視で第２シール部Ｐ２乃至第３シール部Ｐ４のそれぞれに重なっている。
【００２９】
図７は、図６に示したＡ−Ｂ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。図７では、信号線Ｓ及び金属配線ＭＬの図示を省略している。  
図７に示すように、絶縁層１５は、第１部１５Ｐを有している。第１部１５Ｐは、端部Ｅ２１と表示領域ＤＡの辺ＥＤ１との間に位置し、シールＳＥの第１シール部Ｐ１に重なっている。第１部１５Ｐは、主面１５Ｃと、主面１５Ｄと、複数の凹部ＣＣと、を有している。主面１５Ｃは図３に示した下面１５Ａに相当し、主面１５Ｄは図３に示した上面１５Ｂに相当する。凹部ＣＣは、それぞれシールＳＥに対向し、主面１５Ｄに開口し第３方向Ｚにおいて第２基板ＳＵＢ２から第１基板ＳＵＢ１に向かって窪んだ部分である。凹部ＣＣは、底面ＢＰを有している。底面ＢＰは、第３方向Ｚにおいて、主面１５Ｃと主面１５Ｄとの間に位置している。絶縁層１５は、底面ＢＰが存在する領域において厚さＨ２を有している。厚さＨ２は、第３方向Ｚにおいて、主面１５Ｃから底面ＢＰまでの距離に相当する。厚さＨ２は、例えば１．０μｍである。凹部ＣＣの深さＤ１は０．５μｍである。深さＤ１は、第３方向Ｚにおけて、底面ＢＰから主面１５Ｄまでの距離に相当する。図示した例で、深さＤ１は厚さＨ１の約３３．３％である。深さＤ１は厚さＨ１の２０％以上かつ５０％以下の範囲内であり、好ましくは厚さＨ１の５０％である。言い換えると、主面１５Ｃから底面ＢＰまでの距離は、主面１５Ｃから主面１５Ｄまでの距離の５０％以上かつ８０％以下の範囲内である。
【００３０】
第１基板ＳＵＢ１は、さらに、複数の透明導電層ＭＰＡを備えている。透明導電層ＭＰＡは、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明な導電材料によって形成されている。透明導電層ＭＰＡは、第１部１５Ｐに重なる位置において、絶縁層１６の上方に形成され、配向膜ＡＬ１に覆われている。透明導電層ＭＰＡは、絶縁層１６及び配向膜ＡＬ１のそれぞれに接している。図示した例では、透明導電層ＭＰＡは、主面１５Ｃの上方に形成されていないが、主面１５Ｃの上方に形成されていてもよい。各透明導電層ＭＰＡは間隔をおいて並んでいて、電気的にフローティング状態である。透明導電層ＭＰＡと配向膜ＡＬ１との接着強度は、絶縁層１５と配向膜ＡＬ１との接着強度より強いため、配向膜ＡＬ１はシールＳＥの第１シール部Ｐ１との接着による応力を受け絶縁層１６から剥離する可能性を抑制することができる。
【００３１】
遮光層ＢＭは、絶縁基板２０まで貫通するスリットＳＴ１を有している。スリットＳＴ１を形成することで遮光層ＢＭを伝わって外部から表示領域ＤＡに水分が浸入することを防止できる。また、遮光層ＢＭは、液晶層ＬＣと重畳する領域においてスリットＳＴ２を有している。スリットＳＴ２を形成することで遮光層ＢＭを介した表示領域ＤＡへの電荷の移動を遮断できる。これにより、表示パネルＰＮＬの製造工程において、静電気が表示領域ＤＡに集中するのを抑制し、表示パネルＰＮＬが損傷するのを抑制することが可能である。また、赤カラーフィルタＣＦＲ及び青カラーフィルタＣＦＢは、スリットＳＬ２内に第３方向Ｚに重畳して配置されている。このため、スリットＳＬ２からの光漏れを抑制することができる。
【００３２】
複数のスペーサＳＰ（ＳＰ１、ＳＰ２、…）は、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に位置し、透明層ＯＣの下面から第１基板ＳＵＢ１に向かって突出している。スペーサＳＰは、樹脂材料によって形成されている。  
スペーサＳＰ１は、端部Ｅ２１に連続する側面ＳＦを有している。図示した例では、スペーサＳＰ１は、透明層ＯＣの下面に設けられ、第２基板ＳＵＢ２と絶縁層１５との間に位置し、シールＳＥには接していない。なお、スペーサＳＰ１はシールＳＥに接していてもよい。シールＳＥは、側面ＳＦと表示領域ＤＡとの間に位置している。スペーサＳＰ１は、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２をシールＳＥで接合する際、シールＳＥが端部Ｅ２１より第２領域Ａ２側に延伸するのを抑制するためのものである。  
スペーサＳＰ２は、カラーフィルタＧＦＢに対向し、主面１５Ｃと透明層ＯＣとの間に位置し、第１方向Ｘにおいて端部Ｅ２１に沿って延出している。スペーサＳＰ２は、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とのセルギャップを維持するためのものである。  
スペーサＳＰ３は、シールＳＥの第１シール部Ｐ１と表示領域ＤＡの辺ＥＤ１との間に位置している。図示した例では、スペーサＳＰ３はシールＳＥに接してないが、接していてもよい。スペーサＳＰ３は、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２をシールＳＥで接合する際、シールＳＥが表示領域ＤＡ側に広がるのを抑制するためのものである。
【００３３】
本実施形態によれば、有機絶縁層１５が、表示領域ＤＡの辺ＥＤ１と端部Ｅ２１との間において、第２基板ＳＵＢ２から第１基板ＳＵＢ１に向かって窪んだ凹部ＣＣを有している。有機絶縁層１５が凹部ＣＣを有していない場合と比較して、額縁領域ＦＡにおいて受け入れ可能なシールＳＥの体積を増加することができる。これにより、額縁領域ＦＡにおいて、シールＳＥの幅Ｗ１を狭くすることができ、表示パネルＰＮＬを狭額縁化することができる。また、シールＳＥが例えばディスペンサーによって塗布される際、シールＳＥは凹部ＣＣに流れ込むため、シールＳＥの第２領域Ａ２又は表示領域ＤＡへの広がりを抑制することができる。このため、ＩＣチップ１の端子がシールＳＥによって覆われることに起因したＩＣチップ１の接触不良やシールＳＥが表示領域ＤＡに延出したことに起因した表示パネルＰＮＬの表示不良を抑制することができ、液晶表示装置ＤＳＰの製品の歩留まり向上が可能である。
【００３４】
凹部ＣＣの深さＤ１が大きいほど、受け入れ可能なシールＳＥの体積を増加させることができるが、厚さＨ２が小さくなりすぎると、凹部ＣＣが絶縁層１５を貫通する恐れがある。また、凹部ＣＣの深さＤ１が小さすぎると、受け入れ可能なシールＳＥの体積をあまり増加させることができず、シールＳＥの幅Ｗ１を小さくすることができない。本実施形態によれば、主面１５Ｃから凹部ＣＣの底面ＢＰまでの距離（厚さＨ２）は主面１５Ｃから主面１５Ｄまでの距離（厚さＨ１）の５０％以上かつ８０％以下である。凹部ＣＣの深さＤ１は、厚さＨ１の２０％以上５０％以下である。これにより、上記の製品の歩留まりの低下を抑制することができる。
【００３５】
図８は、図６に示したＣ−Ｄ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。  
図８に示すように、第１基板ＳＵＢ１は、さらに金属配線ＷＲ１及び透明導電層ＭＰＢを備えている。金属配線ＷＲ１は、絶縁層１２の上方に位置し、絶縁層１３に覆われている。金属配線ＷＲ１は、スリットＳＴ１の直下に位置しているため、スリットＳＴ１からの光漏れを抑制できる。また、金属配線ＷＲ１は、各種配線よりも端部Ｅ１３に近接しているため、静電気や外部からの電界が表示領域ＤＡに作用することを防ぐガードリングとして機能する。
【００３６】
溝部ＧＲ１は、絶縁層１４及び１５のそれぞれを貫通したものである。絶縁層１４は、溝部ＧＲ１において、複数の突出部１４Ｅを有している。突出部１４Ｅは、第２基板ＳＵＢ２に向かって先細る形状に形成され、絶縁層１６に覆われている。このため、製造時に配向膜ＡＬ１を第１基板ＳＵＢ１に塗布したとしても、突出部１４Ｅの上端の直上に位置する領域には配向膜ＡＬ１は残らないため、絶縁層１６が配向膜ＡＬ１から露出する。第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とを張り合わせた際に、突出部１４Ｅの上端に位置する絶縁層１６は、シールＳＥと直接接着する。シールＳＥと絶縁層１６との接着力は、シールＳＥと配向膜ＡＬ１との接着力より強いため、液晶表示装置ＤＳＰは、十分な接着強度で接着可能な領域を形成することができる。
【００３７】
透明導電層ＭＰＢは、絶縁層１６の上に位置し、配向膜ＡＬ１に覆われている。透明導電層ＭＰＢと配向膜ＡＬ１との接着強度は、絶縁層１５と配向膜ＡＬ１との接着強度より強いため、配向膜ＡＬ１はシールＳＥの第３シール部Ｐ３との接着による応力を受け絶縁層１６から剥離する可能性を抑制することができる。
ここでは、シールＳＥの第３シール部Ｐ３の周辺構造を説明したが、第２シール部Ｐ２の周辺構造及び第４シール部Ｐ４の周辺構造は第３シール部Ｐ３の周辺構造と同様である。
【００３８】
上記した構成例において、端部Ｅ２１は第１端部に相当し、端部Ｅ２２乃至Ｅ２４は第２端部に相当し、金属配線ＭＬは金属配線に相当し、絶縁層１４は第１有機絶縁層に相当し、絶縁層１５は第２有機絶縁層に相当し、主面１５Ｄは第１主面に相当し、主面１５Ｃは第２主面に相当し、スペーサＳＰ１は第１スペーサに相当し、スペーサＳＰ３は第２スペーサに相当し、スペーサＳＰ２は第３スペーサに相当する。
【００３９】
図９は、本実施形態の変形例のスペーサＳＰ２を説明するための平面図である。凹部ＣＣは、一点鎖線で示している。  
図９に示すように、本実施形態の変形例は本実施形態と比較して、スペーサＳＰ２が、断続的に延出し間隔をおいて並んでいる複数のスペーサＳＰＭによって構成されている点で相違している。
【００４０】
このような変形例においても、上記した本実施形態と同様の効果が得られる。加えて、隣り合うスペーサＳＰＭの間にシールＳＥが延出することができるため、辺ＥＤ１と端部Ｅ２１との間において受け入れ可能なシールＳＥの体積をさらに増加することができる。
【００４１】
以上説明したように、本実施形態によれば、狭額縁化を可能とし、さらに製品の歩留まり向上が可能な表示装置を提供することができる。
【００４２】
なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００４３】
ＤＳＰ…液晶表示装置  ＰＮＬ…表示パネル  
Ａ１…第１領域  Ａ２…第２領域  ＤＡ…表示領域  ＦＡ…額縁領域
ＳＵＢ１…第１基板  ＳＵＢ２…第２基板  ＬＣ…液晶層
ＳＥ…シール  Ｐ１〜Ｐ４…第１シール部乃至第４シール部  Ｗ１〜Ｗ４…幅
ＳＰ…スペーサ  ＡＬ…配向膜  １１〜１６…絶縁層
１５Ｐ…第１部  １５Ｃ、１５Ｄ…主面  ＣＣ…凹部  ＢＰ…底面
ＢＭ…遮光層  ＯＣ…透明層  ＣＦ…カラーフィルタ
ＭＬ…金属配線  ＭＰＡ、ＭＰＢ…透明導電層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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