(57)【要約】【課題】負荷の小さな撹拌用のパドルの駆動機構を提供する。【解決手段】一実施形態によれば、湿式基板処理装置が提供され、かかる湿式基板処理装置は、処理液を保持するための処理液槽と、前記処理槽の内側に配置される撹拌パドルと、前記撹拌パドルを駆動するための駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、回転モータと、前記回転モータに連結される中心回転部材と、前記中心回転部材から離間して前記中心回転部材の外側を囲う外側固定リングと、前記外側固定リングの内側で回転するように、前記中心回転部材に連結される遊星部材と、前記遊星部材および前記撹拌パドルに連結され、前記外側固定リングの半径方向に延びる駆動軸と、を有し、前記モータが回転することで、前記駆動軸が長手方向に往復運動するように構成されている。【選択図】図４
2020193358.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
湿式基板処理装置であって、
処理液を保持するための処理液槽と、
前記処理槽の内側に配置される撹拌パドルと、
前記撹拌パドルを駆動するための駆動機構と、を有し、
前記駆動機構は、
回転モータと、
前記回転モータに連結される中心回転部材と、
前記中心回転部材から離間して前記中心回転部材の外側を囲う外側固定リングと、
前記外側固定リングの内側で回転するように、前記中心回転部材に連結される遊星部材と、
前記遊星部材および前記撹拌パドルに連結され、前記外側固定リングの半径方向に延びる駆動軸と、を有し、
前記モータが回転することで、前記駆動軸が長手方向に往復運動するように構成されている、
湿式基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の湿式基板処理装置であって、
前記駆動軸の往復運動をガイドするための軸受を有する、
湿式基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の湿式基板処理装置であって、
前記軸受は非接触式の軸受を有する、
湿式基板処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の湿式基板処理装置であって、
前記軸受は流体軸受を有する、
湿式基板処理装置。
【請求項５】
請求項２に記載の湿式基板処理装置であって、
前記軸受は接触式の軸受を有する、
湿式基板処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の湿式基板処理装置であって、
前記軸受は回転ローラを有する、
湿式基板処理装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の湿式基板処理装置であって、
前記外側固定リングと前記遊星部材との間にグリースを供給するためのグリース供給装置を有する、
湿式基板処理装置。
【請求項８】
請求項７に記載の湿式基板処理装置であって、
前記外側固定リングは半径方向に延びる貫通孔を有し、
前記遊星部材は、前記外側リングの貫通孔に連絡可能な溝を有し、
前記外側リングの貫通孔は、グリースを供給するためのノズルに連結可能に構成されている、
湿式基板処理装置。
【請求項９】
請求項７または８に記載の湿式基板処理装置であって、
前記撹拌パドルを駆動するための駆動機構の状態を監視するための監視装置と、
前記グリース供給装置の動作を制御するための制御装置と、を有し、
前記制御装置は、前記撹拌パドルの駆動状態に応じて、前記グリース供給装置を駆動するように構成されている、
湿式基板処理装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の湿式基板処理装置であって、
前記監視装置は、前記撹拌パドルを駆動するための駆動機構の（１）稼働時間または走行距離、（２）撹拌パドルの振動の大きさ、および（３）前記回転モータの負荷率、の少なくとも１つを監視し、
前記制御装置は、前記撹拌パドルを駆動するための駆動機構の（１）稼働時間または運走行距離、（２）撹拌パドルの振動の大きさ、および（３）前記回転モータの負荷率、の少なくとも１つの状態に応じて前記グリース供給装置を駆動するように構成されている、湿式基板処理装置。
【請求項１１】
駆動機構を有する湿式基板処理装置に用いられる自動グリース供給システムであって、
前記駆動機構の状態を監視するための監視装置と、
前記駆動機構の動作を制御するための制御装置と、
前記駆動機構へグリースを供給するためのグリース供給装置と、を有し、
前記制御装置は、前記駆動機構の状態に応じて前記グリース供給装置を動作させるように構成されている、
自動グリース供給システム。
【請求項１２】
請求項１１に記載の自動グリース供給システムであって、
前記監視装置は、（１）前記駆動機構の稼働時間または走行距離、（２）、前記駆動機構の振動の大きさ、および（３）前記駆動機構の負荷率、の少なくとも１つを監視し、
前記制御装置は、（１）前記駆動機構の稼働時間または走行距離、（２）、前記駆動機構の振動の大きさ、および（３）前記駆動機構の負荷率、の少なくとも１つの状態に応じて前記グリース供給装置を動作させるように構成されている、
自動グリース供給システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、湿式処理装置、特にめっき装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造において、電気めっきが用いられることがある。電気めっき法によれば、高純度の金属膜（めっき膜）が容易に得られ、しかも金属膜の成膜速度が比較的速く、金属膜の厚みの制御も比較的容易に行うことができる。半導体ウェハ上への金属膜形成において、高密度実装、高性能化、および高い歩留りを追及するため、膜厚の面内均一性も要求される。電気めっきによれば、めっき液の金属イオン供給速度分布や電位分布を均一にすることにより、膜厚の面内均一性に優れた金属膜を得ることができると期待されている。電気めっきにおいては、十分な量のイオンを基板に均一に供給するために、めっき液を撹拌することがある。めっき液を撹拌するために、撹拌用のパドルを備えるめっき装置が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１６−６２２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
電気めっきにおいて、十分な量のイオンを基板に均一に供給するために、撹拌用のパドルの撹拌スピードが大きくなる傾向にある。撹拌用のパドルは、たとえば駆動機構によりめっき液内で直線往復運動するように駆動される。一例として、撹拌用のパドルの駆動機構はクランク機構を備え、クランク機構によりモータの回転運動を直線往復運動に変換している。撹拌スピードが大きくなると、クランク機構などの駆動力の伝達機構に大きな負荷がかかり、駆動機構の寿命が短くなる。また、駆動機構にかかる負荷を低減させるためには、駆動機構への定期的なグリスアップが重要である。しかし、駆動機構をグリスアップする作業は非常に時間がかかる。そこで、本願は、負荷の小さな撹拌用のパドルの駆動機構を提供することを一つの目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
一実施形態によれば、湿式基板処理装置が提供され、かかる湿式基板処理装置は、処理液を保持するための処理液槽と、前記処理槽の内側に配置される撹拌パドルと、前記撹拌パドルを駆動するための駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、回転モータと、前記回転モータに連結される中心回転部材と、前記中心回転部材から離間して前記中心回転部材の外側を囲う外側固定リングと、前記外側固定リングの内側で回転するように、前記中心回転部材に連結される遊星部材と、前記遊星部材および前記撹拌パドルに連結され、前記外側固定リングの半径方向に延びる駆動軸と、を有し、前記モータが回転することで、前記駆動軸が長手方向に往復運動するように構成されている。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】一実施形態による、めっき装置を示す模式図である。
【図２】一実施形態による、めっき装置を示す断面側面図である。
【図３】一実施形態による、パドルの駆動機構をめっき槽と共に示す図である。
【図４】一実施形態による、パドルの駆動機構を示す斜視図である。
【図５】図４中の矢印の方から見た断面図である。
【図６Ａ】図４に示される駆動機構を上から見た上面図である。
【図６Ｂ】図４に示される駆動機構を上から見た上面図である。
【図６Ｃ】図４に示される駆動機構を上から見た上面図である。
【図６Ｄ】図４に示される駆動機構を上から見た上面図である。
【図７】一実施形態による、シャフトガイドの例を示す斜視図である。
【図８Ａ】図７に示されるシャフトガイドの側面図である。
【図８Ｂ】図７に示されるシャフトガイドの側面図である。
【図９】一実施形態による、シャフトガイドの例を示す斜視図である。
【図１０】図４中の矢印１０の方から見た部分断面図である。
【図１１】一実施形態によるめっき装置の監視―制御システムを概略的に示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下に、本発明に係る湿式基板処理装置の一例としてめっき装置の実施形態を添付図面とともに説明する。添付図面において、同一または類似の要素には同一または類似の参照符号が付され、各実施形態の説明において同一または類似の要素に関する重複する説明は省略することがある。また、各実施形態で示される特徴は、互いに矛盾しない限り他の実施形態にも適用可能である。
【０００８】
図１は、めっき装置の一実施形態を示す模式図である。図１に示されるように、めっき装置は、架台１０１と、めっき装置の運転を制御する制御部１０３と、めっき対象である基板Ｗをロードおよびアンロードするロード/アンロード部１７０Ａと、基板ホルダ１１に基板Ｗをセットし、かつ基板ホルダ１１から基板Ｗを取り外す基板セット部（メカ室）１７０Ｂと、基板Ｗをめっきするプロセス部（前処理室、めっき室）１７０Ｃと、基板ホルダ１１を格納するホルダ格納部（ストッカ室）１７０Ｄと、めっきされた基板Ｗを洗浄および乾燥する洗浄部１７０Ｅとを備えている。本実施形態に係るめっき装置は、めっき液に電流を流すことで基板Ｗの表面を金属でめっきする電気めっき装置である。また、本実施形態の処理対象となる基板Ｗは、たとえば半導体パッケージ基板等である。
【０００９】
図１に示すように、架台１０１は、複数の架台部材１０１ａ〜１０１ｈから構成されており、これら架台部材１０１ａ〜１０１ｈは連結可能に構成されている。ロード/アンロード部１７０Ａの構成要素は第１の架台部材１０１ａ上に配置されており、基板セット部１７０Ｂの構成要素は第２の架台部材１０１ｂ上に配置されており、プロセス部１７０Ｃの構成要素は第３の架台部材１０１ｃ〜第６の架台部材１０１ｆ上に配置されており、ホルダ格納部１７０Ｄの構成要素は第７の架台部材１０１ｇおよび第８の架台部材１０１ｈ上に配置されている。
【００１０】
ロード/アンロード部１７０Ａには、めっき前の基板Ｗを収納したカセット（図示しない）が搭載されるロードステージ１０５と、プロセス部１７０Ｃでめっきされた基板Ｗを受け取るカセット（図示しない）が搭載されるアンロードステージ１０７とが設けられている。さらに、ロード/アンロード部１７０Ａには、基板Ｗを搬送する搬送用ロボットからなる基板搬送装置１２２が配置されている。
【００１１】
基板搬送装置１２２はロードステージ１０５に搭載されたカセットにアクセスし、めっき前の基板Ｗをカセットから取り出し、基板Ｗを基板セット部１７０Ｂに渡すように構成されている。基板セット部１７０Ｂでは、めっき前の基板Ｗが基板ホルダ１１にセットされ、めっき後の基板Ｗが基板ホルダ１１から取り出される。
【００１２】
プロセス部１７０Ｃには、プリウェット槽１２６と、プリソーク槽１２８と、第１リンス槽１３０ａと、ブロー槽１３２と、第２リンス槽１３０ｂと、第１めっき槽１０ａと、第２めっき槽１０ｂと、第３リンス槽１３０ｃと、第３めっき槽１０ｃとが配置されてい
る。これら槽１２６，１２８，１３０ａ，１３２，１３０ｂ，１０ａ，１０ｂ，１３０ｃ，１０ｃは、この順に配置されている。
【００１３】
プリウェット槽１２６では、前処理準備として、基板Ｗが脱気された純水に浸漬される。プリソーク槽１２８では、基板Ｗの表面に形成されたシード層などの導電層の表面の酸化膜が薬液によってエッチング除去される。第１リンス槽１３０ａでは、プリソーク後の基板Ｗが洗浄液（例えば、純水）で洗浄される。
【００１４】
第１めっき槽１０ａ、第２めっき槽１０ｂ、および第３めっき槽１０ｃの少なくとも１つのめっき槽１０では、基板Ｗがめっきされる。なお、図１に示される実施形態においては、めっき槽１０は、３つであるが、他の実施形態として任意の数のめっき槽１０を備えるようにしてもよい。
【００１５】
第２リンス槽１３０ｂでは、第１めっき槽１０ａまたは第２めっき槽１０ｂでめっきされた基板Ｗが基板ホルダ１１とともに洗浄液（例えば、純水）で洗浄される。第３リンス槽１３０ｃでは、第３めっき槽１０ｃでめっきされた基板Ｗが基板ホルダ１１とともに洗浄液（例えば、純水）で洗浄される。ブロー槽１３２では、洗浄後の基板Ｗの液切りが行われる。
【００１６】
プリウェット槽１２６、プリソーク槽１２８、リンス槽１３０ａ〜１３０ｃ、およびめっき槽１０ａ〜１０ｃは、それらの内部に処理液（液体）を貯留できる処理槽である。これら処理槽は、処理液を貯留する複数の処理セルを備えているが、この実施形態に限定されず、これら処理槽は単一の処理セルを備えてもよい。また、これら処理槽の少なくとも一部が単一の処理セルを備えており、他の処理槽は複数の処理セルを備えてもよい。
【００１７】
めっき装置は、基板ホルダ１１を搬送する搬送機１４０をさらに備えている。搬送機１４０はめっき装置の構成要素の間を移動可能に構成されている。搬送機１４０は、基板セット部１７０Ｂからプロセス部１７０Ｃまで水平方向に延びる固定ベース１４２と、固定ベース１４２に沿って移動可能に構成された複数のトランスポータ１４１とを備えている。
【００１８】
これらトランスポータ１４１は、基板ホルダ１１を保持するための可動部（図示しない）をそれぞれ有しており、基板ホルダ１１を保持するように構成されている。トランスポータ１４１は、基板セット部１７０Ｂ、ホルダ格納部１７０Ｄ、およびプロセス部１７０Ｃとの間で基板ホルダ１１を搬送し、さらに基板ホルダ１１を基板Ｗとともに上下動させるように構成されている。トランスポータ１４１の移動機構として、例えばモータとラックアンドピニオンとの組み合わせが挙げられる。なお、図１に示される実施形態では、３つのトランスポータが設けられているが、他の実施形態として任意の数のトランスポータを採用してもよい。
【００１９】
図２は、一実施形態によるめっき装置を示す断面側面図である。図２に示されるように、めっき装置は、内部にめっき液Ｑを保持するめっき槽１０を有し、めっき槽１０の上方外周には、めっき槽１０の縁から溢れ出ためっき液Ｑを受け止めるオーバーフロー槽１２が備えられている。オーバーフロー槽１２の底部には、ポンプ１４を備えためっき液供給路１６の一端が接続され、めっき液供給路１６の他端は、めっき槽１０の底部に設けられためっき液供給口１８に接続されている。これにより、オーバーフロー槽１２内に溜まっためっき液Ｑは、ポンプ１４の駆動に伴ってめっき槽１０内に還流される。めっき液供給路１６には、ポンプ１４の下流側に位置して、めっき液Ｑの温度を調節する恒温ユニット２０と、めっき液内の異物をフィルタリングして除去するフィルタ２２が介装されている。
【００２０】
めっき装置には、基板（被めっき体）Ｗを着脱自在に保持して、基板Ｗを鉛直状態でめっき槽１０内のめっき液Ｑに浸漬させる基板ホルダ１１が備えられている。めっき槽１０内の基板ホルダ１１に対向する位置には、アノード２６を保持するアノードホルダ２８が配置されている。アノード２６として、この例では、含リン銅が使用されている。基板Ｗとアノード２６は、めっき電源３０を介して電気的に接続され、基板Ｗとアノード２６との間に電流を流すことにより基板Ｗの表面にめっき膜（銅膜）が形成される。
【００２１】
めっき液Ｑ中に配置された基板ホルダ１１に保持された基板Ｗとアノード２６との間には、基板Ｗの表面と平行に往復運動してめっき液Ｑを攪拌するパドル３２が配置されている。このように、めっき液Ｑをパドル３２で攪拌することで、十分な銅イオンを基板Ｗの表面に均一に供給することができる。パドル３２と基板Ｗとの距離は、好ましくは５ｍｍ〜１１ｍｍである。更に、パドル３２とアノード２６との間には、基板Ｗの全面に亘る電位分布をより均一にするための誘電体からなる調整板（レギュレーションプレート）３４が配置されている。
【００２２】
図３は、一実施形態による、パドル３２の駆動機構をめっき槽１０と共に示す図である。図３は、図２に示されるパドル３２を左側から見た図に相当する。パドル３２は、パドル３２の上端に固着したクランプ３６によって、水平方向に延びるシャフト３８に固定されている。シャフト３８は、シャフトガイド４０−１、４０−２に保持されつつ左右に摺動できるようになっている。シャフト３８の端部は、パドル３２を左右に直進往復運動させる駆動機構４２に連結される。駆動機構４２は、後述するようにモータ４４の回転をシャフト３８の直進往復運動に変換する。一実施形態において、モータ４４の回転数は制御装置６００により制御するように構成することができる。
【００２３】
図４は、一実施形態によるパドル３２の駆動機構４２を示す斜視図である。図５は、図４中の矢印５の方から見た断面図である。図６は、図４に示される駆動機構４２を上から見た上面図である。図示のように、駆動機構４２は、モータ４４を備える。図示のようにモータ４４の回転子には中心回転部材２０２が連結されている。そのため、中心回転部材２０２は、モータ４４により回転駆動される。中心回転部材２０２は円板状の部材である。中心回転部材２０２は、中心から半径方向外側に位置する上方に突出する凸部２０４を備える。中心回転部材２０２の凸部２０４には、ボールベアリング２０６を介して遊星部材２０８が連結されている。ボールベアリング２０６により中心回転部材２０２と遊星部材２０８とは相対的に回転可能に連結されている。遊星部材２０８は円形の歯車であり、遊星歯車と称することもできる。駆動機構４２は、中心回転部材２０２から離間して中心回転部材２０２の外側を囲う外側固定リング２１０を有する。図示されるように、外側固定リング２１０は内歯車であり、遊星部材２０８が外側固定リング２１０の内側で回転可能に構成されている。すなわち、遊星部材２０８は、モータ４４および中心回転部材２０２の回転により、自転しながら外側固定リング２１０の内側で中心回転部材２０２の中心の周りを回る。なお、外側固定リング２１０は、ベース部材２１２に固定されており、回転しないように構成されている。図示のように、遊星部材２０８の上面には、遊星部材２０８と一緒に回転する支持部材２１４が固定されている。支持部材２１４は上方に突出する凸部２１６を備える。支持部材２１４の凸部２１６は、遊星部材２０８の中心から半径方向外側に位置している。図示されるように、支持部材２１４の凸部２１６には、ボールベアリング２１８を介してシャフト基部２２０が連結されている。ボールベアリング２１８により、シャフト基部２２０は、支持部材２１４および凸部２１６に対して回転可能に支持されている。図示されるように、シャフト基部２２０にはシャフト３８が連結されている。
【００２４】
一実施形態において、図４に示されるようにシャフト基部２２０には、シャフトガイド
４０−１が連結されている。図４に示される実施形態においては、シャフトガイド４０−１は、非接触式の軸受けとすることができる。図４に示される実施形態においては、非接触式の軸受として空気軸受を使用しており、シャフト３８の運動方向に延びるガイドシャフト４１に沿って移動可能である。そのため、シャフト基部２２０に連結されるシャフト３８は、ガイドシャフト４１に沿って直線往復運動が可能である。空気軸受は非接触式の軸受であるため、摩擦がなく、寿命が長い。
【００２５】
図６は、一実施形態による、駆動機構４２によりシャフト３８の移動する様子を示す上面図である。図６Ａに示される状態において、モータ４４により中心回転部材２０２が反時計回りに回転すると、遊星部材２０８および支持部材２１４は時計回りに回転（自転）しながら、全体としては外側固定リング２１０の内側で、中心回転部材２０２を中心として反時計回りに回転（公転）する。このとき、支持部材２１４の自転と公転によりシャフト基部２２０は、図中の上方向に移動することで、シャフト３８が上方向に移動する。その結果、シャフト３８に連結されているパドル３２がめっき液中で直線移動する。このような動作により、図６Ａに示される状態から、図６Ｂに示される状態へ移動する。同様に、モータ４４の回転により上述したように各種の部材が回転して図６Ｂに示される状態から、図６Ｃに示される状態に動作し、図６Ｄに示される状態に至り、再び図６Ａに示される状態になる。このような駆動機構４２の動作により、シャフト３８を直線往復運動させて、シャフト３８に連結されたパドル３２をめっき槽１０内で直線往復運動させて、めっき液を撹拌することができる。
【００２６】
図４、５に示される空気軸受によるシャフトガイド４０−１は、図３に示される駆動機構４２の近くに配置されるものを示しているが、同様の空気軸受によるシャフトガイドを駆動機構４２から遠くに配置されるシャフトガイド４０−２としても配置することができる。
【００２７】
上述の実施形態による駆動機構４２は、クランク機構を使用していないので、モータの回転速度が大きくなってきても、クランク機構ほどは駆動機構の伝達機構に大きな負荷がかからない。そのため、駆動機構の寿命が長くなる。
【００２８】
上述の実施形態においては、シャフトガイド４０−１、４０−２は摩擦抵抗を低減させるために非接触式の空気軸受により構成されているが、他の実施形態において、他の方式、たとえば接触式のシャフトガイドを使用してもよい。図７は、一実施形態によるシャフトガイド４０−１の例を示す斜視図である。図８Ａ、図８Ｂは、図７に示されるシャフトガイド４０−１の側面図である。
【００２９】
図７に示されるように、略Ｕ字状の固定部材３００がベース部材２１２の上面に固定されている。固定部材３００の内側にはシャフト３０２が配置されており、シャフト３０２に下ローラ３０４が回転可能に取り付けられている。図７に示されるように、下ローラ３０４は、Ｕ字状の固定部材３００の内側に配置されている。図示のように、固定部材３００の一方の外側側面に調整部材３０６が固定されている。さらに、調整部材３０６には、Ｌ字部材３０８が連結されている。図示のように、Ｌ字部材３０８はＬ字の二本の直線部分が交わる交点のところでピン３１０により調整部材３０６に連結されている。Ｌ字部材３０８はピン３１０を中心に回転可能に調整部材３０６に連結されている。Ｌ字部材３０８の一方の端部には、シャフト３１２が取り付けられ、また、シャフト３１２には上ローラ３１４が回転可能に取り付けられている。上ローラ３１４は、下ローラ３０４の真上に配置されるように構成されている。図示のように、調整部材３０６には調整ボルト３１６が取り付けられている。図示のように、調整ボルト３１６の端部は、Ｌ字部材３０８の他方の端部に向いている。調整ボルト３１６の端部は、Ｌ字部材３０８の他方の端部に接触可能に構成されている。そのため、調整ボルト３１６を回して調整ボルト３１６の端部で
Ｌ字部材３０８の他方の端部を押すことで、Ｌ字部材３０８の一方の端部に取り付けられている上ローラ３１４を下方向に移動させることができる。図８Ｂは、図８Ａの状態から調整ボルト３１６を移動させて、上ローラ３１４を下ローラ３０４の方に向けて移動させた状態を示している。パドル３２が連結されているシャフト３８は、上ローラ３１４と下ローラ３０４との間を支持されながら直線往復運動することができる。上ローラ３１４および下ローラ３０４は、耐衝撃性、耐薬品性に優れる、たとえば超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）などから形成されている。
【００３０】
図９は、一実施形態によるシャフトガイド４０−２の例を示す斜視図である。図９に示されるシャフトガイド４０−２は、図３に示されるように、駆動機構４２から遠くに配置されるシャフトガイド４０−２の例である。図９に示されるシャフトガイド４０−２は、駆動機構４２から見て左側にある左ローラ３２４、および右側にある右ローラ３３４によりシャフト３８を支持する。図９に示されるシャフトガイド４０−２は、図７、８に示される実施形態と同様または類似の機構により、左ローラと右ローラとを相対的に近接するように付勢することができるように構成される。たとえば、シャフトガイド４０−２は、図７、８に示されるシャフトガイド４０−１の向きを９０度変えた構成とすることができる。なお、この際、シャフトガイド４０−２に関する、固定部材３００、調整部材３０６、Ｌ字部材３０８などに相当する部材の具体的な形状は、シャフトガイド４０−１のものと異なる形状であってもよい。
【００３１】
図７−図９に示される実施形態においては、駆動機構４２に近い位置にあるシャフトガイド４０−１でシャフト３８の上下方向を支持し、駆動機構４２から遠い位置にあるシャフトガイド４０−２でシャフト３８の左右方向を支持している。他の実施形態として、駆動機構４２に近い位置にあるシャフトガイド４０−１でシャフト３８の左右方向を支持し、駆動機構４２から遠い位置にあるシャフトガイド４０−２でシャフト３８の上下方向を支持してもよい。
【００３２】
上述の実施形態においては、駆動機構４２に関して、めっき槽１０内のめっき液Ｑを撹拌するためのパドル３２の駆動機構として説明したが、本開示による駆動機構４２は任意の液体を撹拌するためのパドルの駆動機構として利用することができる。たとえば、プリウェット槽１２６の脱気された純水に基板Ｗを浸漬する際に、駆動機構４２を用いたパドル３２で純水を撹拌するようにしてもよい。これにより、基板Ｗの表面の凹部からの気泡除去が促進される。
【００３３】
一実施形態において、めっき装置は駆動機構４２に自動的にグリースを供給するための自動グリース供給装置を備える。図４は自動グリース供給装置４００を示している。図４に示される実施形態において、自動グリース供給装置４００は、グリースを貯蔵するグリースタンク４０２を有する。グリースタンク４０２内のグリースは、図示しないポンプによりグリースライン４０４からグリースを供給することができる。グリースタンク４０２およびポンプは任意の公知のものを使用することができる。
【００３４】
図１０は、図４中の矢印１０の方から見た部分断面図である。図１０に示されるように、外側固定リング２１０の外側の一部に凹部２１１が形成されている。外側固定リング２１０の凹部２１１には、グリースライン４０４の先端に取り付けられたグリースノズル４０６が取り付けられている。図１０に示されるように、外側固定リング２１０には、外側固定リング２１０の凹部２１１から外側固定リング２１０の内側まで延びる貫通孔２１３が画定されている。また、図１０に示されるように、外側固定リング２１０の内側の面に対向する遊星部材２０８の外面には溝２０９が画定されている。溝２０９は、遊星部材２０８の外面の全体に渡って設けられている。また、遊星部材２０８の溝２０９は、外側固定リング２１０の貫通孔２１３と整合する位置に設けられている。そのため、グリースノ
ズル４０６から外側固定リング２１０の貫通孔２１３を通してグリースが遊星部材２０８の溝２０９に供給される。グリースが溝２０９に供給されながら遊星部材２０８が外側固定リング２１０の内面を回転移動することで、外側固定リング２１０の内側面と遊星部材２０８の外側面の全体にグリースが供給される。グリースの供給時間は、例えば１０〜１５秒である。
【００３５】
一実施形態において、めっき装置は、駆動機構の動作を監視するための監視装置および駆動機構の動作を制御するための制御装置を備える。図１１は、一実施形態によるめっき装置の監視―制御システムを概略的に示すブロック図である。図１１に示されるめっき装置の監視―制御システムは、監視装置５００および制御装置６００を備える。監視装置５００は、上述の駆動機構４２の動作を監視するように構成される。制御装置６００は、上述の駆動機構４２の動作を制御するように構成される。監視装置５００および制御装置６００は、一般的なコンピュータまたは専用コンピュータから構成することができる。監視装置５００および制御装置６００は、同一のハードウェアから構成されてもよく、異なるハードウェハから構成されてもよい。
【００３６】
一実施形態において、制御装置６００は、駆動機構４２の各種アクチュエータに動作指令を与え、所定の条件で駆動機構４２を動作させるように構成される。一実施形態において、監視装置５００は、駆動機構４２の稼働時間、パドル３２の往復運動の運行距離、駆動機構４２の振動状態、モータ４４の負荷率などを監視するように構成される。監視装置５００は、駆動機構４２に電気的または電子的に接続されており、これらの情報を取得できるように構成される。一実施形態において、監視装置５００はインターネットなどのネットワークを介してこれらの情報を駆動機構４２から取得できるように構成してもよい。
【００３７】
なお、監視装置５００は、上述の駆動機構４２の動作状態だけでなく、めっき装置の他の駆動機構の動作状態を監視するように構成されてもよい。また、制御装置６００は、上述の駆動機構４２の動作だけでなく、めっき装置の他の駆動機構の動作を制御するように構成されてもよい。
【００３８】
一実施形態において、制御装置６００は、所定の条件に応じて自動グリース供給装置４００を制御してグリースを駆動機構４２に自動的に供給するように構成することができる。たとえば、監視装置５００において、所定の条件が検出されたら、制御装置６００から自動グリース供給装置４００へ動作指令を送るように構成することができる。たとえば、制御装置６００は、（１）駆動機構４２の稼働時間または走行距離、（２）パドル３２の振動の大きさ、（３）モータ４４の負荷率の少なくとも１つの状態に応じて自動グリース供給装置４００へ動作指令を送るように構成することができる。
【００３９】
上述の自動グリース供給装置によれば、駆動機構４２の動作を止めずにグリースを供給することができる。そのため、めっき装置のメンテナンス時間を短縮することができる。また、駆動機構４２の動作状態を監視しておき、グリースの供給が必要なタイミングで自動的にグリースを供給できるので、駆動機構４２に過剰な負荷を与えることがなく、常に適切な状態で駆動機構４２を動作させることができ、結果として駆動機構４２の寿命を長くすることができる。
【００４０】
以上、いくつかの例に基づいて本発明の実施形態について説明してきたが、上記した発明の実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明には、その均等物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能であ
る。
【００４１】
上述の実施形態から少なくとも以下の技術的思想が把握される。
［形態１］形態１によれば、湿式基板処理装置が提供され、かかる湿式基板処理装置は、処理液を保持するための処理液槽と、前記処理槽の内側に配置される撹拌パドルと、前記撹拌パドルを駆動するための駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、回転モータと、前記回転モータに連結される中心回転部材と、前記中心回転部材から離間して前記中心回転部材の外側を囲う外側固定リングと、前記外側固定リングの内側で回転するように、前記中心回転部材に連結される遊星部材と、前記遊星部材および前記撹拌パドルに連結され、前記外側固定リングの半径方向に延びる駆動軸と、を有し、前記モータが回転することで、前記駆動軸が長手方向に往復運動するように構成されている。
【００４２】
［形態２］形態２によれば、形態１による湿式基板処理装置において、前記駆動軸の往復運動をガイドするための軸受を有する。
【００４３】
［形態３］形態３によれば、形態２による湿式基板処理装置において、前記軸受は非接触式の軸受を有する。
【００４４】
［形態４］形態４によれば、形態３による湿式基板処理装置において、前記軸受は流体軸受を有する。
【００４５】
［形態５］形態５によれば、形態２による湿式基板処理装置において、前記軸受は接触式の軸受を有する。
【００４６】
［形態６］形態６によれば、形態５による湿式基板処理装置において、前記軸受は回転ローラを有する。
【００４７】
［形態７］形態７によれば、形態１から形態６のいずれか１つの形態による湿式基板処理装置において、前記外側固定リングと前記遊星部材との間にグリースを供給するためのグリース供給装置を有する。
【００４８】
［形態８］形態８によれば、形態７による湿式基板処理装置において、前記外側固定リングは半径方向に延びる貫通孔を有し、前記遊星部材は、前記外側リングの貫通孔に連絡可能な溝を有し、前記外側リングの貫通孔は、グリースを供給するためのノズルに連結可能に構成されている。
【００４９】
［形態９］形態９によれば、形態７または形態８による湿式基板処理装置において、前記撹拌パドルを駆動するための駆動機構の状態を監視するための監視装置と、前記グリース供給装置の動作を制御するための制御装置と、を有し、前記制御装置は、前記撹拌パドルの駆動状態に応じて、前記グリース供給装置を駆動するように構成されている。
【００５０】
［形態１０］形態１０によれば、形態９による湿式基板処理装置において、前記監視装置は、前記撹拌パドルを駆動するための駆動機構の（１）稼働時間または走行距離、（２）撹拌パドルの振動の大きさ、および（３）前記回転モータの負荷率、の少なくとも１つを監視し、前記制御装置は、前記撹拌パドルを駆動するための駆動機構の（１）稼働時間または運走行距離、（２）撹拌パドルの振動の大きさ、および（３）前記回転モータの負荷率、の少なくとも１つの状態に応じて前記グリース供給装置を駆動するように構成されている。
【００５１】
［形態１１］形態１１によれば、駆動機構を有する湿式基板処理装置に用いられる自動
グリース供給システムが提供され、かかる自動グリース供給システムが提供は、前記駆動機構の状態を監視するための監視装置と、前記駆動機構の動作を制御するための制御装置と、前記駆動機構へグリースを供給するためのグリース供給装置と、を有し、前記制御装置は、前記駆動機構の状態に応じて前記グリース供給装置を動作させるように構成されている。
【００５２】
［形態１２］形態１２によれば、形態１１による自動グリース供給システムにおいて、前記監視装置は、（１）前記駆動機構の稼働時間または走行距離、（２）、前記駆動機構の振動の大きさ、および（３）前記駆動機構の負荷率、の少なくとも１つを監視し、前記制御装置は、（１）前記駆動機構の稼働時間または走行距離、（２）、前記駆動機構の振動の大きさ、および（３）前記駆動機構の負荷率、の少なくとも１つの状態に応じて前記グリース供給装置を動作させるように構成されている。
【符号の説明】
【００５３】
１０…めっき槽
１１…基板ホルダ
３２…パドル
３６…クランプ
３８…シャフト
４０−１…シャフトガイド
４０−２…シャフトガイド
４１…ガイドシャフト
４２…駆動機構
４４…モータ
２０２…中心回転部材
２０４…凸部
２０６…ボールベアリング
２０８…遊星部材
２０９…溝
２１０…外側固定リング
２１１…凹部
２１２…ベース部材
２１３…貫通孔
２１４…支持部材
２１６…凸部
２１８…ボールベアリング
２２０…シャフト基部
３００…固定部材
３０２…シャフト
３０４…下ローラ
３０６…調整部材
３０８…Ｌ字部材
３１０…ピン
３１２…シャフト
３１４…上ローラ
３１６…調整ボルト
３２４…左ローラ
３３４…右ローラ
４００…自動グリース供給装置
４０２…グリースタンク
４０４…グリースライン
４０６…グリースノズル
５００…監視装置
６００…制御装置
Ｗ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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