(57)【要約】【課題】支持体の再利用が可能であり、かつ水による赤外線反射顔料の変質を避けることができる赤外線反射顔料の製造方法などの提供。【解決手段】  支持体上に、有機溶剤に溶解可能な溶解可能層を形成する工程と、  前記溶解可能層上に、金属薄膜層と前記金属薄膜層の両面に配された誘電体層とを有する積層体を形成する工程と、  前記支持体上に前記溶解可能層と前記積層体とが積層された積層構造体を、前記有機溶剤に浸し、前記溶解可能層を前記有機溶剤に溶解させることで、前記支持体から前記積層体を剥離する工程と、を含む赤外線反射顔料の製造方法である。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、有機溶剤に溶解可能な溶解可能層を形成する工程と、
前記溶解可能層上に、金属薄膜層と前記金属薄膜層の両面に配された誘電体層とを有する積層体を形成する工程と、
前記支持体上に前記溶解可能層と前記積層体とが積層された積層構造体を、前記有機溶剤に浸し、前記溶解可能層を前記有機溶剤に溶解させることで、前記支持体から前記積層体を剥離する工程と、
を含むことを特徴とする赤外線反射顔料の製造方法。
【請求項２】
前記金属薄膜層が、銀、アルミニウム、銅、金、パラジウム、亜鉛、チタン、クロム及び珪素の少なくともいずれかを含有する請求項１に記載の赤外線反射顔料の製造方法。
【請求項３】
前記金属薄膜層が、ＡｇＣｕ合金、ＡｇＳｎ合金、ＡｇＺｎ合金、及びＡｇＢｉＮｄ合金の少なくともいずれかを含有する請求項１から２のいずれかに記載の赤外線反射顔料の製造方法。
【請求項４】
前記誘電体層が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、錫添加酸化インジウム、及びアンチモン添加酸化錫の少なくともいずれかを含有する請求項１から３のいずれかに記載の赤外線反射顔料の製造方法。
【請求項５】
前記誘電体層が、ＴｉＯ２、Ｔｉ４Ｏ７、及びＴｉ３Ｏ５の少なくともいずれかを含有する請求項１から４のいずれかに記載の赤外線反射顔料の製造方法。
【請求項６】
前記積層体を形成する工程と、前記支持体から前記積層体を剥離する工程との間に、前記積層体を１２時間以上放置する工程を含む、請求項１から５のいずれかに記載の赤外線反射顔料の製造方法。
【請求項７】
前記支持体から剥離された前記積層体を粉砕する工程を含む、請求項１から６のいずれかに記載の赤外線反射顔料の製造方法。
【請求項８】
前記支持体が、筒体であり、
前記溶解可能層が、前記筒体の外側面に形成される、
請求項１から７のいずれかに記載の赤外線反射顔料の製造方法。
【請求項９】
支持体と、
前記支持体上に配された有機溶剤に溶解可能な溶解可能層と、
前記溶解可能層上に配された、金属薄膜層と前記金属薄膜層の両面に配された誘電体層とを有する積層体と、
を有することを特徴とする積層構造体。
【請求項１０】
赤外線反射顔料の製造に用いられる請求項９に記載の積層構造体。
【請求項１１】
前記金属薄膜層が、銀、アルミニウム、銅、金、パラジウム、亜鉛、チタン、クロム及び珪素の少なくともいずれかを含有する請求項９から１０のいずれかに記載の積層構造体。
【請求項１２】
前記金属薄膜層が、ＡｇＣｕ合金、ＡｇＳｎ合金、ＡｇＺｎ合金、及びＡｇＢｉＮｄ合金の少なくともいずれかを含有する請求項９から１１のいずれかに記載の積層構造体。
【請求項１３】
前記誘電体層が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、錫添加酸化インジウム、及びアンチモン添加酸化錫の少なくともいずれかを含有する請求項９から１２のいずれかに記載の積層構造体。
【請求項１４】
前記誘電体層が、ＴｉＯ２、Ｔｉ４Ｏ７、及びＴｉ３Ｏ５の少なくともいずれかを含有する請求項９から１３のいずれかに記載の積層構造体。
【請求項１５】
前記支持体が、筒体であり、
前記溶解可能層が、前記筒体の外側面に形成されている、
請求項９から１４のいずれかに記載の積層構造体。
【請求項１６】
請求項１から８の赤外線反射顔料の製造方法に用いられる請求項９から１５のいずれかに記載の積層構造体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、赤外線反射顔料の製造方法、及び前記製造方法に好適に用いられる積層構造体に関する。
【背景技術】
【０００２】
工場、住宅、物置、畜舎等の建物、及び自動車等の車両は、日光に晒されていることから、特に夏場には居住性向上、及び空調負荷の低減のために、内部温度の上昇を抑えることが求められている。また、日光による路面の温度上昇を抑えることが求められている。
そのような温度上昇抑制の手段として、赤外線反射顔料を用いた塗料が用いられている。
【０００３】
赤外線反射顔料は、例えば、少なくとも１層の金属薄膜層と、少なくとも２層の透明な誘電体層とを有する鱗片状の積層体である（例えば、特許文献１参照）。
このような赤外線反射顔料は、例えば、水溶性の支持体上に積層体を形成し、前記支持体を水中で溶解させた後に、積層体を粉砕することで製造される（例えば、特許文献１の段落〔００４０〕〜段落〔００４６〕参照）。しかし、この製法の場合、支持体を再利用できず非経済的である上に、積層体及び赤外線反射顔料が水により変質する恐れがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１６／００６６６４号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、支持体の再利用が可能であり、かつ水による赤外線反射顔料の変質を避けることができる赤外線反射顔料の製造方法、及び前記製造方法に使用可能な積層構造体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  支持体上に、有機溶剤に溶解可能な溶解可能層を形成する工程と、
前記溶解可能層上に、金属薄膜層と前記金属薄膜層の両面に配された誘電体層とを有する積層体を形成する工程と、
前記支持体上に前記溶解可能層と前記積層体とが積層された積層構造体を、前記有機溶剤に浸し、前記溶解可能層を前記有機溶剤に溶解させることで、前記支持体から前記積層体を剥離する工程と、
を含むことを特徴とする赤外線反射顔料の製造方法である。
＜２＞  前記金属薄膜層が、銀、アルミニウム、銅、金、パラジウム、亜鉛、チタン、クロム及び珪素の少なくともいずれかを含有する前記＜１＞に記載の赤外線反射顔料の製造方法である。
＜３＞  前記金属薄膜層が、ＡｇＣｕ合金、ＡｇＳｎ合金、ＡｇＺｎ合金、及びＡｇＢｉＮｄ合金の少なくともいずれかを含有する前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の赤外線反射顔料の製造方法である。
＜４＞  前記誘電体層が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、錫添加酸化インジウム、及びアンチモン添加酸化錫の少なくともいずれかを含有する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の赤外線反射顔料の製造方法である。
＜５＞  前記誘電体層が、ＴｉＯ２、Ｔｉ４Ｏ７、及びＴｉ３Ｏ５の少なくともいずれかを含有する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の赤外線反射顔料の製造方法である。
＜６＞  前記積層体を形成する工程と、前記支持体から前記積層体を剥離する工程との間に、前記積層体を１２時間以上放置する工程を含む、前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の赤外線反射顔料の製造方法である。
＜７＞  前記支持体から剥離された前記積層体を粉砕する工程を含む、前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の赤外線反射顔料の製造方法である。
＜８＞  前記支持体が、筒体であり、
前記溶解可能層が、前記筒体の外側面に形成される、
前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の赤外線反射顔料の製造方法である。
＜９＞  支持体と、
前記支持体上に配された有機溶剤に溶解可能な溶解可能層と、
前記溶解可能層上に配された、金属薄膜層と前記金属薄膜層の両面に配された誘電体層とを有する積層体と、
を有することを特徴とする積層構造体である。
＜１０＞  赤外線反射顔料の製造に用いられる前記＜９＞に記載の積層構造体である。
＜１１＞  前記金属薄膜層が、銀、アルミニウム、銅、金、パラジウム、亜鉛、チタン、クロム及び珪素の少なくともいずれかを含有する前記＜９＞から＜１０＞のいずれかに記載の積層構造体である。
＜１２＞  前記金属薄膜層が、ＡｇＣｕ合金、ＡｇＳｎ合金、ＡｇＺｎ合金、及びＡｇＢｉＮｄ合金の少なくともいずれかを含有する前記＜９＞から＜１１＞のいずれかに記載の積層構造体である。
＜１３＞  前記誘電体層が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、錫添加酸化インジウム、及びアンチモン添加酸化錫の少なくともいずれかを含有する前記＜９＞から＜１２＞のいずれかに記載の積層構造体である。
＜１４＞  前記誘電体層が、ＴｉＯ２、Ｔｉ４Ｏ７、及びＴｉ３Ｏ５の少なくともいずれかを含有する前記＜９＞から＜１３＞のいずれかに記載の積層構造体である。
＜１５＞  前記支持体が、筒体であり、
前記溶解可能層が、前記筒体の外側面に形成されている、
前記＜９＞から＜１４＞のいずれかに記載の積層構造体である。
＜１６＞  前記＜１＞から＜８＞の赤外線反射顔料の製造方法に用いられる前記＜９＞から＜１５＞のいずれかに記載の積層構造体である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、支持体の再利用が可能であり、かつ水による赤外線反射顔料の変質を避けることができる赤外線反射顔料の製造方法、及び前記製造方法に使用可能な積層構造体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、積層構造体の一例を示す断面模式図である。
【図２】図２は、積層構造体の他の一例を示す断面模式図である。
【図３】図３は、積層構造体の他の一例を示す断面模式図である。
【図４】図４は、赤外線反射顔料の製造方法の一例のフローチャートである。
【図５Ａ】図５Ａは、赤外線反射顔料の製造方法の一例を説明するための概略断面図である（その１）。
【図５Ｂ】図５Ｂは、赤外線反射顔料の製造方法の一例を説明するための概略断面図である（その２）。
【図５Ｃ】図５Ｃは、赤外線反射顔料の製造方法の一例を説明するための概略断面図である（その３）。
【図５Ｄ】図５Ｄは、赤外線反射顔料の製造方法の一例を説明するための概略断面図である（その４）。
【図６】図６は、ＡｇＣｕ合金層の反射率測定結果である。
【図７】図７は、ＡｇＳｎ合金層の反射率測定結果である。
【図８】図８は、ＡｇＺｎ合金層の反射率測定結果である。
【図９】図９は、ＡｇＢｉＮｄ合金層の反射率測定結果である。
【図１０】図１０は、ＡｇＣｕ合金層又はＡｇ層の透過率測定結果である。
【図１１】図１１は、酸化チタン層の透過損失測定結果である。
【図１２】図１２は、赤外線反射顔料の好適構造の分光特性である。
【図１３】図１３は、赤外線反射顔料の一例の分光特性である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
（赤外線反射顔料の製造方法、積層構造体）
本発明の赤外線反射顔料の製造方法は、溶解可能層形成工程と、積層体形成工程と、剥離工程とを少なくとも含み、好ましくは、放置工程、粉砕工程を含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。
製造される赤外線反射顔料は、扁平状の顔料であり、赤外線を反射する特性を有する。前記赤外線反射顔料は、更に、可視光透過性を備えることが好ましい。
【００１０】
前記赤外線反射顔料の製造方法においては、支持体の再利用が可能である。そのため、製造方法にかかるコストを低減できる。
【００１１】
また、赤外線反射顔料は、水により変質（例えば、酸化）が生じるところ、前記赤外線反射顔料の製造方法においては、剥離工程において水を用いないため、水による赤外線反射顔料の変質を避けることができる。
【００１２】
本発明の積層構造体は、支持体と、溶解可能層と、積層体とを有する。
前記積層体は、金属薄膜層と、誘電体層とを少なくとも有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
【００１３】
＜溶解可能層形成工程＞
前記溶解可能層形成工程としては、支持体上に、有機溶剤に溶解可能な溶解可能層を形成する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００１４】
＜＜支持体＞＞
前記支持体としては、前記有機溶剤に不溶であるかぎり、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記支持体の材質は、例えば、金属製であってもよいし、樹脂製であってもよい。
前記支持体の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記支持体の形状としては、例えば、枚様であってもよいし、筒状であってもよい。
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．０１ｍｍ〜１０ｍｍであってもよいし、０．１ｍｍ〜５ｍｍであってもよい。
【００１５】
前記支持体が、筒体である場合、前記溶解可能層は、前記筒体の外側面に形成される。
前記支持体が前記筒体である場合、前記筒体の筒断面の大きさ、及び筒断面に直交する方向の長さとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記筒体は、変形自由であってもよい。
【００１６】
＜＜溶解可能層＞＞
前記溶解可能層としては、有機溶剤に溶解可能である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、樹脂製の層が挙げられる。
樹脂としては、例えば、アクリル樹脂などが挙げられる。
【００１７】
前記溶解可能層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００１８】
前記支持体上に前記溶解可能層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、樹脂を有機溶剤に溶解させた溶液を、前記支持体上に層状に塗布し、その後乾燥させる方法などが挙げられる。
塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、バーコーター法、ディッピング法、スピンコーター法、スプレー法などが挙げられる。
【００１９】
＜＜有機溶剤＞＞
前記有機溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルコール、エステル、ケトン、エーテル、炭化水素、ハロゲン化物などが挙げられる。
前記炭化水素としては、例えば、芳香族炭化水素などが挙げられる。
【００２０】
前記アルコールとしては、例えば、炭素数１〜４のアルコールなどが挙げられる。前記炭素数１〜４のアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、エチレングリコールなどが挙げられる。
【００２１】
前記エステルとしては、例えば、炭素数２〜１０のエステルなどが挙げられる。前記炭素数２〜１０のエステルとしては、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピルなどが挙げられる。
【００２２】
前記ケトンとしては、例えば、炭素数３〜６のケトンなどが挙げられる。前記炭素数３〜６のケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチルケトンなどが挙げられる。
【００２３】
前記エーテルとしては、例えば、炭素数２〜１０のエーテルなどが挙げられる。前記炭素数２〜１０のエーテルとしては、例えば、ジメチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ブチルエーテル、ジオキサンなどが挙げられる。
【００２４】
前記炭化水素としては、例えば、炭素数５〜１０の炭化水素などが挙げられる。前記炭素数５〜１０の炭化水素としては、例えば、ベンゼン、キシレン、トルエンなどが挙げられる。
【００２５】
前記ハロゲン化物としては、例えば、塩化メチレンなどが挙げられる。
【００２６】
＜積層体形成工程＞
前記積層体形成工程としては、前記溶解可能層上に、積層体を形成する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記積層体形成工程により前記積層体が形成されるとともに、前記支持体上に前記溶解可能層と前記積層体とが積層された積層構造体が得られる。
【００２７】
＜＜積層体＞＞
前記積層体は、金属薄膜層と、誘電体層とを少なくとも有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
【００２８】
＜＜＜金属薄膜層＞＞＞
前記金属薄膜層は、赤外線を反射する機能を有する。
前記金属薄膜層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、銀、アルミニウム、銅、金、パラジウム、亜鉛、チタン、クロム、珪素などを含有する。
これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２９】
前記金属薄膜層としては、ＡｇＣｕ合金、ＡｇＳｎ合金、ＡｇＺｎ合金、及びＡｇＢｉＮｄ合金の少なくともいずれかを含有することが好ましい。各合金における金属元素の比率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、Ａｇ以外の金属の含有量が、Ａｇに対して０．１ａｔ％〜２０ａｔ％であることが好ましい。
これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３０】
前記金属薄膜層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５ｎｍ〜５０ｎｍであってもよいし、１０ｎｍ〜３０ｎｍであってもよい。
ここで、平均厚みは、透過型電子顕微鏡を用いて、任意の１０箇所を測定した際の算術平均値である。
【００３１】
前記金属薄膜層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、化学気相蒸着法（ＣＶＤ）、スパッタリング法、電子ビーム蒸着法（ＥＢ）、イオンプレーティング法などが挙げられる。
【００３２】
＜＜＜誘電体層＞＞＞
前記積層体において、前記誘電体層は、前記金属薄膜層の両面に配される。
前記誘電体層は、例えば、透明であり、前記金属薄膜層の可視光周辺域における反射防止層として機能する。即ち、前記誘電体層は、可視光周辺域の入射光の透過率を向上させる機能を有する。
【００３３】
前記誘電体層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、錫添加酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫などを含有する。
これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３４】
前記誘電体層は、ＴｉＯ２、Ｔｉ４Ｏ７、及びＴｉ３Ｏ５の少なくともいずれかを含有することが好ましい。
【００３５】
前記誘電体層の各層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１０ｎｍ〜１００ｎｍであってもよいし、２０ｎｍ〜５０ｎｍであってもよい。
ここで、平均厚みは、透過型電子顕微鏡を用いて、任意の１０箇所を測定した際の算術平均値である。
【００３６】
前記誘電体層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、化学気相蒸着法（ＣＶＤ）、スパッタリング法、電子ビーム蒸着法（ＥＢ）、イオンプレーティング法などが挙げられる。
【００３７】
ここで、積層構造体の一例を図を用いて説明する。
図１は、積層構造体の一例を示す断面模式図である。
図１の積層構造体１０は、枚様の支持体１１と、支持体１１上に、溶解可能層１２と、積層体１３とをこの順で有する。積層体１３は、誘電体層２Ａと、金属薄膜層１と、誘電体層２Ｂとをこの順で有する。
【００３８】
図２は、積層構造体の他の一例を示す断面模式図である。
図２の積層構造体１０は、枚様の支持体１１と、支持体１１上に、溶解可能層１２と、積層体１３とをこの順で有する。積層体１３は、誘電体層２Ａと、金属薄膜層１Ａと、誘電体層２Ｂと、金属薄膜層１Ｂと、誘電体層２Ｃとをこの順で有する。
【００３９】
図３は、積層構造体の他の一例を示す断面模式図である。
図３の積層構造体１０は、筒体の支持体１１と、筒体の支持体１１の外側面に、溶解可能層１２と、積層体１３とをこの順で有する。積層体１３は、誘電体層２Ａと、金属薄膜層１と、誘電体層２Ｂとをこの順で有する。
【００４０】
＜放置工程＞
前記放置工程としては、前記積層体を形成する工程と、前記支持体から前記積層体を剥離する工程との間に、前記積層体を放置する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記放置工程における放置時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１２時間以上が好ましい。前記放置時間の上限値としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記放置時間は、４８時間以下が挙げられる。
前記放置工程においては、通常、常温、常湿環境下に放置される。
【００４１】
前記放置工程を行うことで、前記積層体の層間の密着性が高まり、前記剥離工程や前記粉砕工程の際の前記積層体内の層間剥離を防止することができる。
【００４２】
＜剥離工程＞
前記剥離工程としては、前記支持体上に前記溶解可能層と前記積層体とが積層された積層構造体を、前記有機溶剤に浸し、前記溶解可能層を前記有機溶剤に溶解させることで、前記支持体から前記積層体を剥離する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記積層構造体を前記有機溶剤に浸漬させる方法などが挙げられる。
【００４３】
前記積層構造体を前記有機溶剤に浸漬させる時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００４４】
＜粉砕工程＞
前記粉砕工程としては、前記支持体から剥離された前記積層体を粉砕する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
粉砕方法としては、例えば、粉砕機による機械的粉砕、振動ミル、ボールミル、ジェットミル等を用いた湿式粉砕、乾式粉砕などが挙げられる。
湿式粉砕の場合、有機溶剤を使用する。使用する有機溶剤としては、前記積層体の構成成分が溶解しない有機溶剤であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルコール、エステル、ケトン、エーテル、炭化水素、ハロゲン化物などが挙げられる。
乾式で粉砕する際には、前記積層体を液体窒素等で冷却して、硬い状態としてから粉砕してもよい。
また、超音波浴中で粉砕法を用いてもよい。
【００４５】
ここで、赤外線反射顔料の製造方法の一例をフローチャート及び概略図を用いて説明する。
図４は、赤外線反射顔料の製造方法の一例のフローチャートである。
図５Ａ〜図５Ｄは、赤外線反射顔料の製造方法の一例を説明するための概略断面図である。
【００４６】
〔Ｓ１：溶解可能層形成工程〕
まず、有機溶剤に不溶である支持体１１上に、有機溶剤に溶解可能な溶解可能層１２を形成する（図５Ａ）。溶解可能層１２は、例えば、樹脂を有機溶剤に溶解させた溶液を、支持体１１上に層状に塗布し、その後乾燥させることにより形成される。
【００４７】
〔Ｓ２：積層体形成工程〕
次に、溶解可能層１２上に、積層体１３を形成する。積層体１３は、誘電体層２Ａと、金属薄膜層１と、誘電体層２Ｂとをこの順で有する。
誘電体層２Ａ、金属薄膜層１、及び誘電体層２Ｂは、例えば、電子ビーム蒸着法（ＥＢ）などで形成される。
積層体形成工程により、積層体１３が形成されるとともに、積層構造体１０が得られる（図５Ｂ）。
【００４８】
〔Ｓ３：放置工程〕
次に、剥離工程を行う前に、積層構造体１０を、放置する。放置することで、積層体１３の層間の密着性が高まり、剥離工程Ｓ４や粉砕工程Ｓ５の際の積層体１３内の層間剥離を防止することができる。
【００４９】
〔Ｓ４:剥離工程〕
次に、積層構造体１０を、有機溶剤に浸し、溶解可能層１２を有機溶剤に溶解させることで、支持体１１から積層体１３を剥離する（図５Ｃ）。
剥離工程は、例えば、有機溶剤が入った容器に積層構造体１０を入れ、積層構造体１０を有機溶剤に浸すことで行われる。
【００５０】
〔Ｓ５：粉砕工程〕
次に、支持体１１から剥離された積層体１３を粉砕する。
粉砕工程は、例えば、有機溶剤が入った浴に積層体１３を入れ、そこに超音波を付与することで行われる。
そうすることで、積層体１３の粉砕物である鱗片状の赤外線反射顔料１４が得られる（図５Ｄ）。
【００５１】
＜赤外線反射顔料＞
本発明の赤外線反射顔料の製造方法によって得られる赤外線反射顔料の一例を説明する。
赤外線反射顔料は、金属薄膜層と、誘電体層とを有する。
前記誘電体層は、前記金属薄膜層の両面に配されている。
【００５２】
＜＜金属薄膜層＞＞
前記金属薄膜層は、赤外線を反射する機能を有する。
銀は、反射率に優れるため、前記金属薄膜層の材料として好ましいものの、耐熱性に劣る。
一方、ＡｇＣｕ合金、及びＡｇＢｉＮｄ合金の少なくともいずれかを含有する前記金属薄膜層は、反射率が高く、かつ耐熱性に優れる。
その点で、前記金属薄膜層は、ＡｇＣｕ合金、及びＡｇＢｉＮｄ合金の少なくともいずれかを含有することが好ましい。ただし、ＡｇＢｉＮｄ合金を用いた金属薄膜層は、蒸着法での成膜が困難であることから、ＡｇＣｕ合金を用いた金属薄膜層が最も好ましい。
【００５３】
ここで、ＡｇＣｕ合金、ＡｇＳｎ合金、ＡｇＺｎ合金、及びＡｇＢｉＮｄ合金の反射率を測定した。
使用した合金の組成は以下の通りである。
・ＡｇＣｕ合金；Ａｇに対してＣｕを２ａｔ％
・ＡｇＳｎ合金；Ａｇに対してＳｎを２ａｔ％
・ＡｇＺｎ合金；Ａｇに対してＺｎを２ａｔ％
・ＡｇＢｉＮｄ合金；Ａｇに対してＢｉ及びＮｄを各２ａｔ％
【００５４】
ＡｇＣｕ合金、ＡｇＳｎ合金、又はＡｇＺｎ合金については、各合金を用い、蒸着法により、ガラス基板上に、３０ｎｍ厚みの金属薄膜層を形成した。
ＡｇＢｉＮｄ合金については、スパッタリング法により、ガラス基板上に、３０ｎｍ厚みの金属薄膜層を形成した。
形成した金属薄膜層について、形成初期、及び１５０℃２時間保存後の反射率を測定した。反射率は、分光光度計（大塚電子社製）を用いて、３５０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲で測定した。結果を表１に示した。また、図６〜図９に、各金属薄膜層の反射率を示した。
【００５５】
【表１】
2020147660.tif 000003
【００５６】
以上の結果から、ＡｇＣｕ合金、又はＡｇＢｉＮｄ合金を用いた金属薄膜層が、優れた反射率と、優れた耐熱性とを両立していることが確認できた。
【００５７】
前記ＡｇＣｕ合金におけるＣｕの含有量としては、Ａｇに対して、０ａｔ％超３０ａｔ％以下が好ましく、０．１ａｔ％以上３０ａｔ％以下がより好ましく、２ａｔ％以上２５ａｔ％以下が更により好ましく、５ａｔ％以上２０ａｔ％以下が特に好ましい。Ｃｕの含有量が少ないと、耐熱性が低下して耐熱試験後の透過率が大きく低下する傾向にあり、Ｃｕの含有量が多いと、着色する傾向にある。着色を防ぎつつ、優れた耐熱性を得る点で、５ａｔ％以上２０ａｔ％以下が特に好ましい。
【００５８】
ここで、Ｃｕの含有量を変えて、金属薄膜層（ＡｇＣｕ合金層又はＡｇ層）の耐熱試験（２００℃で２時間）を行い、透過率を確認した。
試験片は、蒸着法により、ガラス基板上に、３０ｎｍ厚みの金属薄膜層（ＡｇＣｕ合金層又はＡｇ層）を形成することで作製した。
透過率は、分光光度計（大塚電子社製）を用いて、４００ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲で測定した。結果を図１０に示した。
なお、図１０における符号は以下の表２のとおりである。
【００５９】
【表２】
2020147660.tif 000004
【００６０】
その結果、Ｃｕの含有量を６ａｔ％としたときが、耐熱試験後の透過率の低下が最も少なかった。一方、Ｃｕの含有量が多いほど、着色が多い傾向にあった。
【００６１】
前記金属薄膜層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５ｎｍ〜５０ｎｍであってもよいし、１０ｎｍ〜３０ｎｍであってもよい。
ここで、平均厚みは、透過型電子顕微鏡を用いて、任意の１０箇所を測定した際の算術平均値である。
【００６２】
＜＜誘導体層＞＞
前記赤外線反射顔料において、前記誘電体層は、前記金属薄膜層の両面に配される。
前記誘電体層は、例えば、透明であり、前記金属薄膜層の可視光周辺域における反射防止層として機能する。即ち、前記誘電体層は、可視光周辺域の入射光の透過率を向上させる機能を有する。
【００６３】
前記誘電体層は、酸化チタンを含有することが好ましく、ＴｉＯ２、Ｔｉ４Ｏ７、及びＴｉ３Ｏ５の少なくともいずれかを含有することがより好ましく、Ｔｉ４Ｏ７、及びＴｉ３Ｏ５の少なくともいずれかを含有することが更により好ましく、Ｔｉ４Ｏ７を含有することが特に好ましい。
【００６４】
前記誘電体層は、例えば、蒸着により形成されるが、その際、蒸着源が均一に溶解するためには、蒸着源が導電性を有することが好ましい。蒸着の際に蒸着源が均一に溶解していないと、形成される誘電体層において、点状の膜欠陥が生じる恐れがある。ここで、ＴｉＯ２は導電性がないが、Ｔｉ４Ｏ７、Ｔｉ３Ｏ５、及びＴｉＯは、導電性を有する。
一方、Ｔｉ４Ｏ７、Ｔｉ３Ｏ５、及びＴｉＯは、ＴｉＯ２と比べて透明性が低い恐れがある。
そこで、Ｔｉ４Ｏ７、Ｔｉ３Ｏ５、ＴｉＯ、及びＴｉＯ２について、透明性（透過損失）を調べた。
試験片は、蒸着法により、ガラス基板上に、５０ｎｍ厚みの誘電体層（酸化チタン層）を形成することで作製した。
透過損失は、分光光度計（日本分光社製）を用いて、４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で測定した。結果を図１１に示した。
図１１より、透過損失が少ない点で、Ｔｉ４Ｏ７、Ｔｉ３Ｏ５が好ましく、Ｔｉ４Ｏ７がより好ましいことが確認できた。
【００６５】
前記誘電体層の各層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１０ｎｍ〜１００ｎｍであってもよいし、２０ｎｍ〜５０ｎｍであってもよい。
ここで、平均厚みは、透過型電子顕微鏡を用いて、任意の１０箇所を測定した際の算術平均値である。
【００６６】
ここで、前記赤外線反射顔料の好適構造を以下に示す。
（１）金属薄膜層は、ＡｇＣｕを含有する。
（２）金属薄膜層の平均厚みは、１５ｎｍ〜２５ｎｍである。
（３）誘電体層は、Ｔｉ４Ｏ７を含有する。
（４）誘電体層の平均厚みは、２５ｎｍ〜３５ｎｍである。
（５）誘電体層と、金属薄膜層と、誘電体層とをこの順で積層した構造である。
上記（１）〜（５）を満たす赤外線反射顔料の分光特性を図１２に示す。
図１２の分光特性は、分光光度計（日本分光社製）を用いて、４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で測定した結果である。
測定においては、基板上に赤外線反射顔料と同じ層構造を蒸着法により形成し、粉砕して赤外線反射顔料とする前の状態の試験片を用いた。試験片の層構造は、誘電体層（Ｔｉ４Ｏ７、３０ｎｍ）／金属薄膜層（ＡｇＣｕ、２０ｎｍ）／誘電体層（Ｔｉ４Ｏ７、３０ｎｍ）の３層構造である。
また、比較するために、誘電体層（ＴｉＯ２、３５ｎｍ）／金属薄膜層（ＡｇＰｄ、１０ｎｍ）／誘電体層（ＴｉＯ２、６０ｎｍ）／金属薄膜層（ＡｇＰｄ、１０ｎｍ）／誘電体層（ＴｉＯ２、３５ｎｍ）の５層構造の赤外線反射顔料の分光特性を、同様の方法で測定した。結果を図１３に示した。
図１２と図１３とを比較すると、上記（１）〜（５）を満たす赤外反射顔料では、透過率と反射率とのバランスに優れていた。
また、上記（１）〜（５）を満たす赤外反射顔料では、目視による色味もほとんど観察されなかった。これは、金属薄膜層の吸収・反射特性と、誘電体層の吸収・反射特性とを考慮し、金属薄膜層と誘電体層とを積層した際の各吸収・反射特性の重ね合わせにより色味がなくなるように、金属薄膜層の厚み及び誘電体層の厚みを調整したことによる。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明の赤外線反射顔料の製造方法は、支持体の再利用が可能であり、かつ水による赤外線反射顔料の変質を避けることができることから、塗料に配合する遮熱顔料として好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００６８】
１    金属薄膜層
１Ａ  金属薄膜層
１Ｂ  金属薄膜層
２Ａ  誘電体層
２Ｂ  誘電体層
２Ｃ  誘電体層
１０  積層構造体
１１  支持体
１２  溶解可能層
１３  積層体
１４  赤外線反射顔料
【図１】
2020147660.tif 000005
【図２】
2020147660.tif 000006
【図３】
2020147660.tif 000007
【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
2020147660.tif 000010
【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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