(57)【要約】【課題】長期間の繰り返し使用による電荷の蓄積とリークを抑制した電子写真感光体を提供する。【解決手段】支持体、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層をこの順に有する電子写真感光体において、該下引き層が、ポリアミド樹脂と、有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子とを含有し、該有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子の疎水化度をα［％］としたとき、１０≦α≦７０を満足し、該酸化チタン粒子の平均一次粒径をβ［μｍ］、該酸化チタン粒子に対する該有機珪素化合物のＳｉ元素の重量比をγ［ｗｔ％］としたとき、０．０１５≦（β×γ）≦０．０４０を満足することを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層をこの順に有する電子写真感光体において、
該下引き層が、ポリアミド樹脂と、有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子とを含有し、
該有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子の疎水化度をα［％］としたとき、式（ｉ）：１０≦α≦７０を満足し、
該有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子の平均一次粒径をβ［μｍ］、該有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子におけるＳｉ元素の重量比をγ［ｗｔ％］としたとき、式（ｉｉ）：０．０１５≦（β×γ）≦０．０４０を満足することを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
前記下引き層が、式（ｉｉｉ）：０．４≦（α×β×γ）≦１．０を満足する請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記酸化チタン粒子の平均一次粒径β［μｍ］が、式（ｉｖ）：０．０１≦β≦０．０５である請求項１または２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記下引き層中のポリアミド樹脂の体積に対する酸化チタン粒子の体積をδ、下引き層の膜厚をε［μｍ］としたとき、式（ｖ）：７．０≦δ／（β×ε）≦１１．０を満足する請求項１乃至３の何れか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
下引き層の膜厚ε［μｍ］が、式（ｖｉ）：１．０≦ε≦３．０である請求項１乃至４の何れか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
前記酸化チタン粒子の結晶系がルチル型である請求項１乃至５の何れか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか１項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項８】
請求項１乃至６の何れか１項に記載の電子写真感光体、並びに、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、並びに、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プロセスカートリッジや電子写真装置に搭載される電子写真感光体として、有機光導電性物質（電荷発生物質）を含有する電子写真感光体が用いられている。電子写真感光体は、一般的に、支持体、支持体上に形成された感光層を有し、電荷発生層及び電荷発生層上に形成された電荷輸送層を有している。感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層上に電荷輸送物質を含有する電荷輸送層を積層している積層型感光層が好ましく用いられている。さらに、支持体と感光層との間の接着力を高め、また、支持体から電荷発生層側への電荷注入を抑制し、局所的な帯電性能の低下によるカブリ、リークなどの発生を抑えることを目的として、支持体と電荷発生層との間には下引き層が設けられることが多い。
【０００３】
支持体から電荷発生層側への電荷注入を抑制し、局所的な帯電性能の低下によるカブリ、リークなどの発生を抑える下引き層としては、ポリアミド樹脂中に酸化チタン粒子を分散させた下引き層が用いられている。
【０００４】
近年、より長寿命な電子写真装置が求められており、電子写真感光体の長期間の繰り返し使用による安定性や環境安定性のために、電荷の蓄積が少ない下引き層が求められている。
【０００５】
電荷の蓄積が少なく、局所的な帯電性能の低下を抑えた下引き層として、特許文献１では、酸化チタン粒子の疎水化度を調整して用いる技術が記載されている。
また、特許文献２では、酸化チタン粒子の表面における有機ケイ素化合物の割合を調整して用いる技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−２８７３９６号公報
【特許文献２】特開２０１０−２３０７４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
近年、長寿命な電子写真感光体が望まれるようになっており、長期間の繰り返し使用による電子写真感光体の安定性や環境安定性のために、下引き層として電荷の蓄積とリークの抑制の両立を高水準で達成した電子写真感光体が求められている。
【０００８】
本発明者らが検討を行った結果、特許文献１及び２に開示されている技術では、長期間の繰り返し使用において、電荷の蓄積またはリークの抑制が十分でない場合があることがわかった。
【０００９】
本発明の目的は、長期間の繰り返し使用による電荷の蓄積とリークを抑制した電子写真感光体、並びに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の電子写真感光体は、支持体、下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に有する電子写真感光体において、該下引き層が、ポリアミド樹脂と、有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子とを含有し、該有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子の疎水化度をα［％］としたとき、式（ｉ）：１０≦α≦７０を満足し、該有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子の平均一次粒径をβ［μｍ］、該有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子におけるＳｉ元素の重量比をγ［ｗｔ％］としたとき、式（ｉｉ）：０．０１５≦（β×γ）≦０．０４０を満足することを特徴とする。
【００１１】
また、本発明は、上記電子写真感光体と、帯電手段、現像手段及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジに関する。
【００１２】
また、本発明は、上記電子写真感光体、並びに、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有することを特徴とする電子写真装置に関する。
【発明の効果】
【００１３】
長期間の繰り返し使用による電荷の蓄積とリークを抑制した電子写真感光体、並びに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。
【図２】電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の電子写真感光体は、支持体、下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層をこの順に有する電子写真感光体において、該下引き層が、ポリアミド樹脂と、有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子とを含有し、該有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子の疎水化度をα［％］としたとき、式（ｉ）：１０≦α≦７０を満足し、該有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子の平均一次粒径をβ［μｍ］、該有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子におけるＳｉ元素の重量比をγ［ｗｔ％］としたとき、式（ｉｉ）：０．０１５≦（β×γ）≦０．０４０を満足することを特徴とする。
【００１６】
係る電子写真感光体が、長期間の繰り返し使用によっても電荷の蓄積とリークが抑制される理由について、本発明者らは、以下のように推測している。
【００１７】
従来、ポリアミド樹脂中に酸化チタン粒子を分散させた下引き層が用いられてきた。酸化チタン粒子は、その表面に無機処理や有機処理を行うことで、酸化チタン粒子表面に存在する水酸基を減らし、疎水性を付与することができる。これらの表面処理によって、ポリアミド樹脂中の分散性を高め、また酸化チタン粒子表面の状態を適宜調整することで、所望の下引き層についての検討がなされている。
【００１８】
本発明においては、長期間の繰り返し使用による電荷の蓄積とリークを抑制した電子写真感光体を得るために、特に、低温低湿環境における電位変動の抑制と、高電界時におけるリークの抑制を高水準で達成するために、酸化チタン粒子の疎水化度とＳｉ元素の重量比について着目した。
【００１９】
有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子の疎水化度α［％］が式（ｉ）：１０≦α≦７０を満足することで、ポリアミド樹脂中の分散性を高め、高電界時におけるリークの抑制効果が得られる。疎水化度が式（ｉ）の範囲内であることにより、高電界時におけるリークの抑制効果が満足できない水準とならず、有機珪素化合物種によってポリアミド樹脂中の分散性が不十分となる場合がない。さらに疎水化度が式（ｉ）の範囲内であることにより、ポリアミド樹脂中の分散性が損なわれず、不均一性からの低温低湿環境における電位変動の抑制効果が満足できる水準となる。
【００２０】
有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子の平均一次粒径β［μｍ］に応じて、有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子におけるＳｉ元素の重量比γ［ｗｔ％］のよりよい値があることを見出し、式（ｉｉ）：０．０１５≦（β×γ）≦０．０４０を満足することで、低温低湿環境における電位変動の抑制効果と、高電界時におけるリークの抑制効果が得られる。
【００２１】
有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子において、αの値は、酸化チタン粒子の表面を覆っている有機化合物も含めた表面の疎水性を規定しており、β×γの値は、酸化チタン粒子表面の疎水性を規定していると考えている。本発明においては、式（ｉ）と式（ｉｉ）の一方だけ満足していればよいのではなく、式（ｉ）と式（ｉｉ）を同時に満足させることが、低温低湿環境における電位変動の抑制と、高電界時におけるリークの抑制を高水準で達成するために必要な条件である。
【００２２】
上述した先行技術文献１及び２では、疎水化度のみ、もしくはＳｉ元素の重量比のみしか規定されておらず、酸化チタン粒子の平均一次粒径に応じて、酸化チタン粒子におけるＳｉ元素の重量比のよりよい値があることや、これらを同時に満足させなければならないという技術的な示唆はされていなかった。
【００２３】
また、これらαとβ×γの値は、一般的に相関がある値ではない。すなわち、式（ｉ）と式（ｉｉ）の片方の式を満足させれば自動的にもう片方の式が満足するというものではなく、この二式を同時に満足させるためには、有機珪素化合物の種類を適切に選び、この選択された有機珪素化合物を酸化チタン粒子に適切に表面処理させる必要がある。
【００２４】
例えば、オクチルトリエトキシシランのようなアルキル基の鎖長の長い有機珪素化合物で表面処理しようとした場合、β×γの値に比べてαの値が大きくなり過ぎるため、式（ｉ）と式（ｉｉ）の二式を同時に満足させるのは容易ではない。また、同様に、メチルトリメトキシシランのようなアルキル基の鎖長の短い有機珪素化合物で表面処理しようとした場合、β×γの値に比べてαの値がほぼ０となってしまうため、式（ｉ）と式（ｉｉ）の二式を同時に満足させるのは容易ではない。
【００２５】
本発明の電子写真感光体は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、該下引き層直上に形成された電荷発生層及び該電荷発生層上に形成された電荷輸送層を有する。
【００２６】
図１は、本発明の電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。図１中、電子写真感光体は、支持体１０１、下引き層１０２、電荷発生層１０４及び電荷輸送層１０５を有する。
【００２７】
〔支持体〕
支持体としては、導電性を有するもの（導電性支持体）が好ましく、例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金などの金属またはこれら金属の合金の支持体を用いることができる。また、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ガラスなどの絶縁性支持体上にアルミニウム、クロム、銀、金などの金属の薄膜を形成した支持体または酸化インジウム、酸化スズなどの導電性材料の薄膜を形成した支持体が挙げられる。支持体の表面には、電気的特性の改善や干渉縞の抑制のため、陽極酸化などの電気化学的な処理や、湿式ホーニング処理、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。
【００２８】
支持体と下引き層との間には、導電層を設けてもよい。導電層は、導電性粒子を樹脂に分散させた導電層用塗布液の塗膜を支持体上に形成し、乾燥させることで得られる。
【００２９】
〔下引き層〕
支持体または導電層と電荷発生層との間に、下引き層が設けられる。
下引き層は、ポリアミド樹脂と、有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子とを含有し、上記式（ｉ）及び式（ｉｉ）を満たす。
【００３０】
ポリアミド樹脂としては、アルコール系溶剤に可溶なポリアミド樹脂が好ましい。例えば、３元系（６−６６−６１０）共重合ポリアミド、４元系（６−６６−６１０−１２）共重合ポリアミド、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン、重合脂肪酸系ポリアミド、重合脂肪酸系ポリアミドブロック共重合体、ジアミン成分を有する共重合ポリアミドなどが好ましく用いられる。
【００３１】
酸化チタン粒子としては、電荷の蓄積の抑制という観点から、結晶系がルチル型またはアナターゼ型であることが好ましく、光触媒活性の弱いルチル型であることがより好ましい。ルチル型である場合、ルチル化率９０％以上であることが好ましい。酸化チタン粒子の形状は球形であることが好ましく、その平均一次粒径β［μｍ］は、電荷の蓄積とリークの抑制という観点から、式（ｉｖ）：０．０１≦β≦０．０５を満足させることが好ましい。酸化チタン粒子は、有機珪素化合物で表面処理されており、下記式（１）で示される化合物や下記式（２）で示される化合物などが挙げられる。
【化１】
2020085991.tif 000002
（式（１）中、Ｒ１１は、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を示す。Ｒ１２は、水素原子、メチル基を示す。Ｒ１３は、メチル基、エチルキを示す。ｓ＋ｔ＋ｕ＝４であり、ｓは１以上の整数、ｔは０以上の整数、ｕは２以上の整数である。但し、ｓ＋ｕ＝４のとき、Ｒ１２は存在しない。）
【化２】
2020085991.tif 000003
（式（２）中、Ｒ２１〜Ｒ２５は、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を示す。但し、Ｒ２１とＲ２２が共に水素原子であることはなく、Ｒ２３〜Ｒ２５がいずれも水素原子であることはない。ｎは０以上の整数である。）
【００３２】
表面処理を行った後に、疎水化度α［％］とＳｉ元素の重量比γ［ｗｔ％］を測定する（測定方法は後述する。）。式（ｉ）：１０≦α≦７０と式（ｉｉ）：０．０１５≦（β×γ）≦０．０４０を同時に満足させることで、低温低湿環境における電位変動の抑制と高電界時におけるリークの抑制を高水準で両立することができる。
【００３３】
有機珪素化合物の酸化チタン粒子への表面処理方法としては、有機珪素化合物と酸化チタン粒子の他に有機溶媒を用いない乾式法や、有機溶媒を用いる湿式法があるが、式（ｉ）と式（ｉｉ）を満たすのであれば如何なる方法を用いてもよい。本発明においては、酸化チタン粒子に対して有機珪素化合物の表面処理量が相対的に多くなる場合に、仕込み量に対して実際に表面処理された量（γの値）は表面処理方法によって変わってくる場合がある。この場合は、式（ｉ）及び式（ｉｉ）を満たすように適切な表面処理方法を選ばなければならない。
【００３４】
また、酸化チタン粒子は、有機珪素化合物で表面処理される前に無機物で表面処理が行われていてもよいが、Ｓｉ元素が含まれる無機物で表面処理を行う場合においても、式（ｉｉ）を満たすように処理しなければならない。
【００３５】
式（ｉ）及び式（ｉｉ）を満たす中でも、本発明の効果をより高水準で達成するためには、式（ｉｉｉ）：０．４≦（α×β×γ）≦１．０を満たすことがより好ましい。
【００３６】
下引き層中の、酸化チタン粒子とポリアミド樹脂の体積比（ポリアミド樹脂の体積に対する酸化チタン粒子の体積）δは、０．２≦δ≦１．２であることが好ましい。酸化チタン粒子とポリアミド樹脂の体積比が上記範囲内であることにより、本発明における電荷の蓄積の抑制効果が十分に得られ、本発明におけるリークの抑制効果が十分に得られる。δのより好ましい範囲は、０．３≦δ≦０．９である。
【００３７】
下引き層の膜厚ε［μｍ］は、式（ｖｉ）：１．０≦ε≦３．０を満足させることが好ましい。εが上記範囲内であることにより、リークの抑制効果が高まり、かつ、電荷の蓄積の抑制効果が高まる。
【００３８】
特に、δ、β、εの好ましい範囲の中でも、式（ｖ）：７．０≦δ／（β×ε）≦１１．０を満たしていることで、低温低湿環境における電位変動の抑制と高電界時におけるリークの抑制を高水準で両立することができる。
【００３９】
本発明における下引き層は、上記ポリアミド樹脂や酸化チタン粒子以外にも、電子写真感光体の干渉縞防止効果を高めたり、下引き層の成膜性を高めたりする目的で、有機物粒子やレベリング剤などの添加剤を含有してもよい。但し、下引き層における添加剤の含有量は、下引き層の全質量に対して１０質量％以下であることが好ましい。
【００４０】
下引き層は、機能を分離するなどの目的で、２層以上設けてもよい。この場合、複数の下引き層の内一番上層にある、少なくとも電荷発生層と接している層は、ポリアミド樹脂と、有機珪素化合物で表面処理された酸化チタン粒子を含有し、式（ｉ）及び式（ｉｉ）を満たしていなければならない。
【００４１】
〔電荷発生層〕
下引き層の直上には、電荷発生層が設けられる。
電荷発生層は、電荷発生物質と結着樹脂を含有する。
【００４２】
電荷発生層に用いられる電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、ビオラントロン誘導体、イソビオラントロン誘導体、インジゴ誘導体、チオインジゴ誘導体、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料や、ビスベンズイミダゾール誘導体などが挙げられる。これらの中でも、フタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが好ましい。
【００４３】
電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレンなどのビニル化合物の重合体及び共重合体や、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂が好ましく、特に、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。
【００４４】
電荷発生層において、電荷発生物質と結着樹脂との質量比率（電荷発生物質／結着樹脂）は、１０／１〜１／１０の範囲であることが好ましく、５／１〜１／５の範囲であることがより好ましい。電荷発生層の膜厚は、０．０５μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。
【００４５】
〔電荷輸送層〕
電荷発生層上には、電荷輸送層が設けられる。
【００４６】
電荷輸送層に用いられる電荷輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物、トリフェニルアミンなどが挙げられる。また、これらの化合物から誘導される基を主鎖または側鎖に有するポリマーも挙げられる。
【００４７】
電荷輸送層に用いられる結着樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好ましい。結着樹脂の重量平均分子量は、１０，０００〜３００，０００の範囲であることが好ましい。
【００４８】
電荷輸送層において、電荷輸送物質と結着樹脂との質量比率（電荷輸送物質／結着樹脂）は、１０／５〜５／１０の範囲であることが好ましく、１０／８〜６／１０の範囲であることがより好ましい。電荷輸送層の膜厚は、５μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上２５μｍ以下であることがより好ましい。
【００４９】
電荷輸送層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。
【００５０】
また、電荷輸送層上には、導電性粒子または電荷輸送物質と結着樹脂とを含有する保護層（表面保護層）を設けてもよい。保護層には、潤滑剤などの添加剤をさらに含有させてもよい。また、保護層の結着樹脂自体に導電性や電荷輸送性を有させてもよく、その場合、保護層には、当該結着樹脂以外の導電性粒子や電荷輸送物質を含有させなくてもよい。また、保護層の結着樹脂は、熱可塑性樹脂でもよいし、熱、光、放射線（電子線など）などにより硬化させてなる硬化性樹脂であってもよい。
【００５１】
導電層、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層などの電子写真感光体を構成する各層を形成する方法としては、以下の方法が好ましい。すなわち、各層を構成する材料を溶剤に溶解及び／または分散させて得られた塗布液を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を乾燥及び／または硬化させることによって形成する方法である。塗布液を塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法（浸漬コーティング法）、スプレーコーティング法、カーテンコーティング法、スピンコーティング法、リング法などが挙げられる。これらの中でも、効率性及び生産性の観点から、浸漬塗布法が好ましい。
【００５２】
〔プロセスカートリッジ及び電子写真装置〕
図２に、本発明の電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成の一例を示す。
【００５３】
図２に示す電子写真装置は、円筒状の電子写真感光体１を有し、軸２を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。回転駆動される電子写真感光体１の表面（周面）は、帯電手段３（一次帯電手段：帯電ローラーなど）により、正または負の所定電位に均一に帯電される。次いで、均一に帯電された電子写真感光体１の表面は、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段（不図示）からの露光光（画像露光光）４で露光される。こうして電子写真感光体１の表面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。
【００５４】
電子写真感光体１の表面に形成された静電潜像は、次いで現像手段５の現像剤に含まれるトナーにより現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体１の表面に形成担持されているトナー像が、転写手段（転写ローラーなど）６からの転写バイアスによって、転写材（紙など）Ｐに順次転写されていく。なお、転写材Ｐは、転写材供給手段（不図示）から電子写真感光体１と転写手段６との間（当接部）に電子写真感光体１の回転と同期して取り出されて給送される。
【００５５】
トナー像の転写を受けた転写材Ｐは、電子写真感光体１の表面から分離されて定着手段８へ導入されて像定着を受けることにより画像形成物（プリント、コピー）として装置外へ排出される。
【００５６】
トナー像転写後の電子写真感光体１の表面は、クリーニング手段（クリーニングブレードなど）７によって転写残りの現像剤（転写残トナー）の除去を受けて清浄面化される。次いで、清浄面化された電子写真感光体１の表面は、前露光手段（不図示）からの前露光（不図示）により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、図２に示すように、帯電手段３が帯電ローラーなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。
【００５７】
上記の電子写真感光体１、帯電手段３、現像手段５、転写手段６及びクリーニング手段７などの構成要素のうち、複数の構成要素を選択して容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に支持する。このプロセスカートリッジを複写機やレーザービームプリンターなどの電子写真装置本体に対して着脱自在に構成することができる。図２では、電子写真感光体１と、帯電手段３、現像手段５及びクリーニング手段７とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールなどの案内手段１０を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ９としている。
【実施例】
【００５８】
以下、実施例と比較例により、本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例と比較例中の「部」は「質量部」を意味する。
【００５９】
（実施例１）
長さ２６０．５ｍｍ、直径３０ｍｍのアルミニウムシリンダー（ＪＩＳ  Ｈ  ４０００：２００６  Ａ３００３Ｐ、アルミニウム合金）を切削加工（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２０１４、十点平均粗さＲｚｊｉｓ：０．８μｍ）し、それを支持体（導電性支持体）として用いた。
【００６０】
次に、ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：５０ｎｍ、テイカ製）１００部をメタノール４００部、メチルエチルケトン１００部と撹拌混合し、ビニルトリメトキシシラン５．０部を添加し、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて８時間分散処理した。ガラスビーズを取り除いた後、メタノールとメチルエチルケトンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
前記有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１８．０部、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）４．５部、共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）１．５部を、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が２．０μｍの下引き層を形成した。
【００６１】
この下引き層において、パラメータα＝４５、β＝０．０５０、γ＝０．７０、δ＝０．７８、ε＝２．０であり、β×γ＝０．０３５、α×β×γ＝１．６、δ／（β×ε）＝７．８であった。αの値は、有機珪素化合物で表面処理済みの酸化チタン粒子のメタノール濡れ性を測定して求めた。メタノール濡れ性を測定は、粉体濡れ性試験機（商品名：ＷＥＴ１００Ｐ、レスカ製）を用いて以下のように行った。２００ｍｌのビーカーに、有機珪素化合物で表面処理済みの酸化チタン粒子０．２ｇとイオン交換水５０ｇを加え、ビュレットを用いてビーカーをゆっくり撹拌しながらメタノールを滴下する。ビーカーの内部の光透過率が１０％となったときのメタノール滴下量をａとしたとき、式（ｖｉｉ）：α＝１００×ａ／（ａ＋５０）より疎水化度αの値を算出した。βの値は、電子写真感光体作製後、電子写真感光体の断面を電界放出形走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ、商品名：Ｓ−４８００、日立ハイテクノロジーズ製）を用いた顕微鏡像から求めた。γの値は、表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子作製後、粒子を波長分散型蛍光Ｘ線分析装置（ＸＲＦ、商品名：Ａｘｉｏｓ  ａｄｖａｎｃｅｄ、ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ製）を用いた分析結果から、検出されたＴｉ元素のみを酸化物であると仮定し、ソフトウェア（ＳｐｅｃｔｒａＥｖａｌｕａｔｉｏｎ、ｖｅｒｔｉｏｎ５．０Ｌ）にてＴｉＯ２に対するＳｉ元素の含有量（質量％）から求めた。
【００６２】
次に、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°及び２８．３°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶（電荷発生物質）を用意した。このヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶１０部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業製）５部及びシクロヘキサノン２６０部を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルに入れ、１．５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除いた。次に、これに酢酸エチル２４０部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を、下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１０分間８０℃で乾燥させることによって、膜厚が０．２５μｍの電荷発生層を形成した。
【００６３】
次に、下記式（３）で示されるアミン化合物（電荷輸送物質）１０部、及び下記式（４−１）で示される構造単位と、下記式（４−２）で示される構造単位とを５／５の割合で有し、重量平均分子量が１００，０００であるポリアリレート樹脂１０部を、ジメトキシメタン３０部及びクロロベンゼン７０部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を６０分間１２０℃で乾燥させることによって、膜厚が１５μｍの電荷輸送層を形成した。
【化３】
2020085991.tif 000004
【化４】
2020085991.tif 000005
以上のようにして、支持体上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を有する電子写真感光体を製造した。
【００６４】
（低温低湿環境における電位変動分の評価）
評価機としてヒューレットパッカード製のレーザービームプリンター（商品名：ＨＰ  ＬａｓｅｒＪｅｔ  Ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅ６００  Ｍ６０９ｄｎ、非接触現像方式、プリント速度：Ａ４縦７１枚／分）を改造し、電位変動分の評価を行った。製造した電子写真感光体は、ＨＰ  ＬａｓｅｒＪｅｔ  Ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅ６００  Ｍ６０９ｄｎ用のプロセスカートリッジに装着し、現像位置に電位プローブ（商品名：ｍｏｄｅｌ６０００Ｂ−８、トレック・ジャパン製）を装着するよう改造した。その後、電子写真感光体の中央部（約１３０ｍｍ位置）の電位を表面電位計（商品名：ｍｏｄｅｌ３４４、トレック・ジャパン製）を使用して測定した。電子写真感光体の表面電位は、温度１５℃、湿度１０％ＲＨの環境下にて、初期暗部電位（Ｖｄ０）が−６００Ｖ、初期明部電位（Ｖｌ０）が−１５０Ｖになるよう、画像露光の光量を設定した。その状態（現像機の部分に電位プローブがある状態）で設定した露光量において、温度１５℃、湿度１０％ＲＨの環境下にて、Ａ４サイズの普通紙で印字比率１％の画像を、２枚画像形成するごとに停止する間欠モードにより、４０，０００枚の画像形成を行い、繰り返し使用後の明部電位（Ｖｌｆ）を測定した。その明部電位の電位変動分ΔＶｌ＝Ｖｌｆ−Ｖｌ０（単位：Ｖ）を、表１に示す。
【００６５】
（高電界時における耐リーク性能の評価）
評価機としてヒューレットパッカード製のレーザービームプリンター（商品名：ＨＰ  ＬａｓｅｒＪｅｔ  Ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅ６００  Ｍ６０９ｄｎ、非接触現像方式、プリント速度：Ａ４縦７１枚／分）を改造し、耐リーク性能の評価を行った。製造した電子写真感光体は、ＨＰ  ＬａｓｅｒＪｅｔ  Ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅ６００  Ｍ６０９ｄｎ用のプロセスカートリッジに装着し、帯電ローラーを長さ１０ｃｍとなるように芯金から剥がし、残った１０ｃｍ部分に薄さ０．５ｍｍのアルミニウムシートを巻き付けた。また、電子写真感光体の表面電位は、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの環境下にて、初期暗部電位（Ｖｄ１）が−３，０００Ｖにできるように電源を改造し、設定した。その状態で設定したＶｄ１において、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの環境下にて電圧を印加しながら電流量を測定し続け、過大な電流が観測された時間をリーク時間とした。測定は４ヶ所行い、それらの平均値をリーク時間として下記の４水準に分類した。リーク時間が長い程、耐リーク性能が高く、リーク抑制効果が高いことを示す。なお、本発明においては、評価基準のＡ、Ｂを好ましい水準とし、Ｃ、Ｄを許容できない水準とした。
Ａ：リーク時間が３０分以上であった。
Ｂ：リーク時間が１０分以上３０分未満であった。
Ｃ：リーク時間が１分以上１０分未満であった。
Ｄ：リーク時間が１分未満であった。
【００６６】
（実施例２）
実施例１の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製において、ビニルトリメトキシシラン５．０部を、３．５部に変更した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００６７】
（実施例３）
実施例１の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製において、ビニルトリメトキシシラン５．０部を、３．０部に変更した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００６８】
（実施例４）
実施例１の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製において、ビニルトリメトキシシラン５．０部を、２．０部に変更した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００６９】
（実施例５）
実施例１の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製を、以下のように作製した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００７０】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：５０ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、ビニルトリメトキシシラン５．０部を添加してから撹拌機で８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【００７１】
（実施例６）
実施例５の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製において、ビニルトリメトキシシラン５．０部を、ｎ−プロピルトリメトキシシラン６．０部に変更した以外は実施例５と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００７２】
（実施例７）
実施例５の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製において、ビニルトリメトキシシラン５．０部を、イソブチルトリメトキシシラン５．０部に変更した以外は実施例５と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００７３】
（実施例８）
実施例１で用いた下引き層用塗布液を、以下のように調製した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００７４】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：３５ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、ビニルトリメトキシシラン４．３部を添加してから撹拌機で８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
前記有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１６．０部、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）６．０部、共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）２．０部を、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。
【００７５】
（実施例９）
実施例１で用いた下引き層用塗布液を、以下のように調製した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００７６】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：１５ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、ビニルトリメトキシシラン１０．０部を添加してから撹拌機で８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
前記有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１３．４部、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）８．０部、共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）２．６部を、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。
【００７７】
(実施例１０)
実施例１の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製を、以下のように作製した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００７８】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：８０ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、ビニルトリメトキシシラン１０．０部を添加してから撹拌機で８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【００７９】
（実施例１１）
実施例１で用いた下引き層用塗布液を、以下のように調製した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００８０】
実施例１の有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１９．２部、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）３．６部、共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）１．２部を、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。
【００８１】
（実施例１２）
実施例１で用いた下引き層用塗布液を、以下のように調製した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００８２】
実施例１の有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１９．６部、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）３．３部、共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）１．１部を、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。
【００８３】
（実施例１３）
実施例８で用いた下引き層用塗布液を、以下のように調製した以外は実施例８と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００８４】
実施例８の有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１４．４部、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）７．２部、共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）２．４部を、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。
【００８５】
（実施例１４）
実施例１０で用いた下引き層用塗布液を、以下のように調製した以外は実施例１０と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００８６】
実施例１０の有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１９．２部、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）３．６部、共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）１．２部を、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。
【００８７】
（実施例１５〜１８）
実施例１で用いた下引き層の膜厚ε［μｍ］を、表１のように変更した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００８８】
（実施例１９）
実施例２で用いた下引き層を、以下のように形成した以外は実施例２と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００８９】
実施例２の有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１７．１部、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）５．２部、共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）１．７部を、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調整した。この下引き層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が１．５μｍの下引き層を形成した。
【００９０】
（実施例２０）
実施例１で用いた下引き層用塗布液を、以下のように調製した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００９１】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：１５ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、イソブチルトリメトキシシラン１０．０部を添加してから撹拌機で８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【００９２】
前記有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１２．０部、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）６．０部、共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）３．０部を、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。
【００９３】
（比較例１）
実施例５の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製において、ビニルトリメトキシシラン５．０部を、３．０部に変更した以外は実施例５と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００９４】
（比較例２）
実施例１の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製を、以下のように作製した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００９５】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：５０ｎｍ、テイカ製）１００部をヘンシェルミキサーで撹拌しながら１０分１００℃で乾燥させた後、１時間８０℃で加熱撹拌しているところにビニルトリメトキシシラン３．０部を窒素ガスで噴霧させることによって、有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【００９６】
（比較例３）
実施例５の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製において、ビニルトリメトキシシラン５．０部を、メチルトリメトキシシラン５．０部に変更した以外は実施例５と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００９７】
（比較例４）
実施例５の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製において、ビニルトリメトキシシラン５．０部を、オクチルトリメトキシシラン５．０部に変更した以外は実施例５と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００９８】
（比較例５）
実施例１６の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製を、以下のように作製した以外は実施例１６と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００９９】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：３５ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、ヘキシルトリメトキシシラン５．０部を添加してから撹拌機で８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【０１００】
（比較例６）
実施例１１の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製を、以下のように作製した以外は実施例１１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【０１０１】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：５０ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、イソブチルトリメトキシシラン５．０部を添加してから撹拌機で８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【０１０２】
（比較例７）
実施例１６で用いた下引き層用塗布液を、以下のように調製した以外は実施例１６と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【０１０３】
アナターゼ型酸化チタン粒子（平均一次粒径：３０ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、フッ化エチルトリメトキシシラン３．０部を添加してから撹拌機で８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、有機珪素化合物で表面処理済みのアナターゼ型酸化チタン粒子を得た。
【０１０４】
前記有機珪素化合物で表面処理済みのアナターゼ型酸化チタン粒子１８．０部、共重合ナイロン樹脂（商品名：Ｘ１０１０、ダイセル・デグサ製）６．０部を、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
【０１０５】
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。
【０１０６】
（比較例８）
比較例７の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのアナターゼ型酸化チタン粒子の作製において、フッ化エチルトリメトキシシラン３．０部を、オクチルトリメトキシシラン１．５部に変更した以外は比較例７と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【０１０７】
（比較例９）
実施例１７で用いた下引き層用塗布液を、以下のように調製した以外は実施例１７と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分と耐リーク性能の評価を行った。結果を、表１に示す。
【０１０８】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：１０ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、メチルハイドロジェンポリシロキサン１．０部を添加してから撹拌機で８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、有機珪素化合物で表面処理済みのアナターゼ型酸化チタン粒子を得た。
【０１０９】
前記有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１８．０部、共重合ナイロン樹脂（商品名：Ｘ１０１０、ダイセル・デグサ製）６．０部を、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
【０１１０】
（比較例１０）
比較例９の下引き層用塗布液に用いた有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製を、以下のように作製した以外は比較例９と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【０１１１】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：３５ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、メチルハイドロジェンポリシロキサン２．０部を添加してから撹拌機で８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、有機珪素化合物で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【０１１２】
【表１】
2020085991.tif 000006
【図１】
2020085991.tif 000007
【図２】
2020085991.tif 000008