(57)【要約】【課題】熱パッファ室の圧力を高い状態に保ち、遮断性能の向上を実現する。【解決手段】固定接触子(2)と、前記固定接触子(2)の長手方向に移動することにより前記固定接触子(2)と接離可能な可動接触子(3)と、前記可動接触子(3)を取り巻くようにして前記可動接触子(3)に対して固定され、前記可動接触子(3)との間に前記可動接触子(3)の長手方向に延びる熱パッファ室(18)を形成するシリンダ(4)と、前記固定接触子(2)および前記可動接触子(3)を取り巻くようにして前記シリンダ(4)に対して固定され、前記熱パッファ室(18)と連通して前記可動接触子(3)との間に延びるガス流路(26)を形成する第1のガイド(5)と、前記熱パッファ室(18)と前記ガス流路(26)との接続領域に流れるガス流量を調整する流量調整弁(24)とを有する。【選択図】図２
2020205223.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定接触子と、
前記固定接触子の長手方向に移動することにより前記固定接触子と接離可能な可動接触子と、
前記可動接触子を取り巻くようにして前記可動接触子に対して固定され、前記可動接触子との間に前記可動接触子の長手方向に延びる熱パッファ室を形成するシリンダと、
前記固定接触子および前記可動接触子を取り巻くようにして前記シリンダに対して固定され、前記熱パッファ室と連通して前記可動接触子との間に延びるガス流路を形成する第1のガイドと、
前記熱パッファ室と前記ガス流路との接続領域に流れるガス流量を調整する流量調整弁と
を有することを特徴とするガス遮断器。
【請求項２】
前記ガス流路の長手方向に垂直な面の断面積が、前記熱パッファ室の長手方向に垂直な面の断面積よりも小さく、
前記流量調整弁は、前記可動接触子の回りにつば状に設けられ、前記ガス流路の長手方向に垂直な面の断面積よりも大きな表面積を備え、且つ、前記ガス流路の長手方向に垂直な面の断面積よりも小さな孔を備え、前記可動接触子に対して摺動自在に前記熱パッファ室内に配置される
ことを特徴とする請求項１に記載のガス遮断器。
【請求項３】
前記ガス流路から前記熱パッファ室へガスが流入するとき、前記流量調整弁は前記接続領域から前記熱パッファ室内方へ摺動移動し、
前記熱パッファ室から前記ガス流路へガスが流出するとき、前記流量調整弁は前記熱パッファ室の内方から前記接続領域へ摺動移動し、前記孔からガスを流出させることにより、ガス流量を調整する
ことを特徴とする請求項２に記載のガス遮断器。
【請求項４】
前記流量調整弁が前記接続領域から前記熱パッファ室内方へ摺動移動する場合、前記可動接触子が、摺動移動距離を制限する制限機構を更に有することを特徴とする請求項２または３に記載のガス遮断器。
【請求項５】
前記可動接触子の先端を取り巻くようにして前記可動接触子に対して固定され、前記第１のガイドとの間に延びるガス流路を形成する第２のガイドを更に有し、
前記ガス流路によって、前記固定接触子と前記可動接触子との間に生じるアークに対してガスが導かれる
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のガス遮断器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電力系統における故障電流を遮断するために用いられ、接触子間に発生したアークにガスを吹き付けて遮断する熱パッファ消弧方式のガス遮断器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガス遮断器は、性能の確保は当然のことながら高い信頼性が要求される。その点で、より低い操作エネルギで性能を確保し、機械的なストレスを低減できる消弧室構造とすることが理想的である。消弧性能向上の一環として、ガス遮断器の消弧室内の圧力上昇動作を早くする試みが注目されている。
【０００３】
このような技術の一例として、例えば、特許文献１に開示されたガス遮断器が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開昭４９−３１６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１に記載された技術については、以下のような問題点がある。まず、特許文献１に記載された構成では、ガスの出入り口が同じであるため、熱パッファ室の圧力が十分高く維持できない。したがって、消弧までの時間が長い場合、消弧性能が低下する。
【０００６】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、パッファ室の圧力低下をゆるやかにし、圧力の高い状態を長く維持することにより、消弧性能が向上したガス遮断器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するために、本発明の態様１に係るガス遮断器は、固定接触子と、前記固定接触子の長手方向に移動することにより前記固定接触子と接離可能な可動接触子と、前記可動接触子を取り巻くようにして前記可動接触子に対して固定され、前記可動接触子との間に前記可動接触子の長手方向に延びる熱パッファ室を形成する第１のシリンダと、前記固定接触子および前記可動接触子を取り巻くようにして前記第１のシリンダに対して固定され、前記熱パッファ室と連通して前記可動接触子との間に延びるガス流路を形成する第1のガイドと、前記熱パッファ室と前記ガス流路との接続領域に流れるガス流量を調整する流量調整弁とを有する構成である。
【０００８】
上記の構成によれば、大電流により電極間に発生したアークにより高温となったガスがガス流路を通じて熱パッファ室へ流入する場合、流量調整弁が開いて熱パッファ室へガスが入り、熱パッファ室の圧力を上昇させることができる。熱パッファ室からガス流路を通じてガスが流出する場合、流量調整弁が閉じて、ガスの流出量を制御することができ、遮断の瞬間まで熱パッファ室の圧力を高い状態に保つことができ、遮断性能の向上を実現することができる。
【０００９】
本発明の態様２に係るガス遮断器は、上記の態様１において、前記ガス流路の長手方向に垂直な面の断面積が、前記熱パッファ室の長手方向に垂直な面の断面積よりも小さく、前記流量調整弁は、前記可動接触子の回りにつば状に設けられ、前記ガス流路の長手方向に垂直な面の断面積よりも大きな表面積を備え、且つ、前記ガス流路の長手方向に垂直な面の断面積よりも小さな孔を備え、前記可動接触子に対して摺動自在に前記熱パッファ室内に配置される構成としてもよい。
【００１０】
上記の構成によれば、熱パッファ室からガスが流出する場合、流量調整弁が閉じ、流量調整弁に設けられた孔を介してガスの流出量を制御することができる。
【００１１】
本発明の態様３に係るガス遮断器は、上記の態様２において、前記ガス流路から前記熱パッファ室へガスが流入するとき、前記流量調整弁は前記接続領域から前記熱パッファ室内方へ摺動移動し、前記熱パッファ室から前記ガス流路へガスが流出するとき、前記流量調整弁は前記熱パッファ室の内方から前記接続領域へ摺動移動し、前記孔からガスを流出させることにより、ガス流量を調整する構成としてもよい。
【００１２】
上記の構成によれば、熱パッファ室のガスの流入流出を、流量調整弁が摺動移動することにより調整し、熱パッファ室の圧力を保持することができる。
【００１３】
本発明の態様４に係るガス遮断器は、上記の態様２または３において、前記流量調整弁が前記接続領域から前記熱パッファ室内方へ摺動移動する場合、前記可動接触子が、摺動移動距離を制限する制限機構を更に有する構成としてもよい。
【００１４】
上記の構成によれば、熱パッファ室からガスが流出する場合、流量調整弁が閉じ、流量調整弁に設けられた孔を介してガスの流出量を制御することができる。
【００１５】
本発明の態様５に係るガス遮断器は、上記の態様１から４のいずれかにおいて、前記可動接触子の先端を取り巻くようにして前記可動接触子に対して固定され、前記第１のガイドとの間に延びるガス流路を形成する第２のガイドを更に有し、前記ガス流路によって、前記固定接触子と前記可動接触子との間に生じるアークに対してガスが導かれる構成としてもよい。
【００１６】
上記の構成によれば、所望のガス流路を形成することができ、アークの所望の位置に消弧ガスを吹き付けることができる。
【００１７】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、熱パッファ室の圧力を高い状態に保ち、遮断性能の向上を実現することにある。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、大電流により電極間に発生したアークにより高温となったガスがガス流路を通じて熱パッファ室へ流入する場合、流量調整弁が開いて熱パッファ室へガスが入り、熱パッファ室の圧力を上昇させることができる。熱パッファ室からガス流路を通じてガスが流出する場合、流量調整弁が閉じて、ガスの流出量を制御することができ、遮断の瞬間まで熱パッファ室の圧力を高い状態に保つことができ、遮断性能の向上を実現することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】従来技術の例によるシングルブラスト型のガス遮断器の概略断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係るガス遮断器の遮断部を模式的に示した概略断面図である。
【図３】本発明の実施形態に係るガス遮断器のガス流路を模式的に示した概略断面図である。
【図４】本発明の実施形態に係るガス遮断器のガス流路を模式的に示した概略断面図である。
【図５】本発明の実施形態に係るガス遮断器の流量調整弁を模式的に示した概略図である。
【図６】本発明の実施形態に係るガス遮断器の流量調整弁を模式的に示した概略図である。
【図７】本発明の別の実施形態に係るガス遮断器のガス流路を模式的に示した概略断面図である。
【図８】本発明の別の実施形態に係るガス遮断器のガス流路を模式的に示した概略断面図である。
【図９】本発明の別の実施形態に係るガス遮断器の流量調整弁を模式的に示した概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
〔実施形態１〕
以下、本発明の実施形態と一部共通する構成を備えた従来技術の構成と対比して、本発明の一実施形態について、詳細に説明する。
【００２１】
＜従来技術のガス遮断器全体の構成＞
図１は、従来技術の例によるガス遮断器１００の概略断面図である。図１の１０１は、碍子内部のガス室であり、ＳＦ６ガスが２〜３ｋｇ／ｃｍ２の圧力で封入されている。１０２は、固定接触子（「固定電極」とも称する）であり、１０３は、可動接触子（「可動電極」とも称する）である。１０４は、シリンダであり、可動接触子１０３と一体となっている。
【００２２】
図１の３次元直交座標軸は、接触子の長手方向をＹ軸とし、当該Ｙ軸と直交するシリンダ１０４の半径方向のうち紙面に平行な方向をＸ軸とし、紙面に垂直な方向をＺ軸とした。Ｙ軸方向に平行な中心線を、Ｘ軸およびＺ軸の原点を通るよう配置した。図１では、Ｘ軸負方向領域にて電源投入状態を表し、Ｘ軸正方向領域にて遮断状態を表している。
【００２３】
当該シリンダ１０４は、可動接触子１０３を取り巻くように可動接触子１０３に対して固定され、可動接触子１０３との間にシリンダ内室を形成している。１０５は、シリンダの一部であり、耐アーク性の絶縁物を使用し、冷却効果が増すように設計された、ガス流のガイドである。１０６は、可動接触子１０３を支えるガイドであり、ＳＦ６ガスが漏れないようにシールを施してある。
【００２４】
１０７は、ピストンでありシリンダ１０４内で可動である。当該ピストン１０７は、シリンダ内室の操作機構側の端部を閉じるように設けられている。リーク防止板１１６は、固定接触子１０２の回りにつば状に設けられ、一方ガイド１０５は、リーク防止板１１６に向かって延び、ガス遮断器１００が投入状態にあるときにリーク防止板１１６に係合してシリンダ内室を密閉する。
【００２５】
また、リーク防止板１１７は、シリンダ内室の中間に設けられ、シリンダ内室を固定接触子１０２側に位置する第1の消弧室１１８（熱パッファ室に相当）と、操作機構側に位置する第2の消弧室（機械パッファ室に相当）とに分けるように設けられ、可動接触子１０３およびシリンダ１０４に対して固定されている。ピストン１０７は、ガス遮断器１００が投入状態にある間に、可動接触子１０３を駆動する駆動装置１１０とは別個の駆動装置１１１により駆動され、シリンダ１０４に対してピストン運動する。
【００２６】
１０８は可動接触子１０３からの電流取り出し口の一例であり、１０９は固定接触子１０２からの電流取り出し口の一例である。１１２は、可動接触子１０３と駆動装置１１０とを連結する絶縁棒、１１３はピストン１０７と駆動装置１１１とを連結する装置、１１４はガス容器を形成する碍子である。１１５は絶縁筒で、遮断部と駆動部との間を絶縁するためのものである。
【００２７】
＜本実施形態の遮断部の構成＞
図１に示した構成における遮断部のうち、ガス室内に配置され、シリンダ内を高圧に保持するための本発明に係る特徴的な機構について詳細に説明する。
【００２８】
図２は、本発明の一実施形態に係るガス遮断器の遮断部を模式的に示した概略断面図である。本発明の一実施形態に係るガス遮断器は少なくとも、固定接触子２と、前記固定接触子２の長手方向に移動することにより前記固定接触子２と接離可能な可動接触子３と、前記可動接触子３を取り巻くようにして前記可動接触子３に対して固定され、前記可動接触子３との間に前記可動接触子３の長手方向に延びる熱パッファ室１８を形成する第１のシリンダ４と、前記固定接触子２および前記可動接触子３を取り巻くようにして前記第１のシリンダ４に対して固定され、前記熱パッファ室１８と連通して前記可動接触子３との間に延びるガス流路２６を形成する第１のガイド５と、前記熱パッファ室１８と前記ガス流路２６との接続領域に流れるガス流量を調整する流量調整弁２４とを有することを特徴とする。
【００２９】
図２の３次元直交座標軸についても図１と同様に、接触子の長手方向をＹ軸とし、当該Ｙ軸と直交するシリンダ４の半径方向のうち紙面に平行な方向をＸ軸とし、紙面に垂直な方向をＺ軸とした。Ｙ軸方向に平行な中心線を、Ｘ軸およびＺ軸の原点を通るよう配置した。
【００３０】
図２に示す消弧室構造は、大電流遮断時のアークエネルギを利用して昇圧する熱パッファ室１８と、中小電流遮断時の機械的圧縮作用により昇圧する機械パッファ室２０の２室構造となっている。
【００３１】
大電流遮断時には、アークエネルギによって熱パッファ室１８の圧力を必要な値まで昇圧させ、電流ゼロ点にてガスをアークに吹き付けて消弧する。一方、中小電流域ではアークエネルギによる昇圧が小さいので、機械パッファ室２０の圧縮によりガスの吹き付けを行い消弧する。
【００３２】
第1のシリンダ４の操作機構側には、熱パッファ室１８と機械パッファ室２０とを連通する孔が設けられ、該孔には弁１９が配置されている。同様に第２のシリンダ２１の操作機構側にも、孔が設けられ、該孔には弁２２を配置してもよい。
【００３３】
少なくとも可動接触子３、第１のシリンダ４、第１のガイド５が一体構造物を構成する。別の好ましい実施形態では、可動接触子３、第１のシリンダ４、第１のガイド５、第２のガイド２３（後述）が一体構造物を構成する。当該一体構造物が第２のシリンダ２１に対して駆動装置（図示せず）により相対駆動されることにより機械パッファ室２０が圧縮される。
【００３４】
弁１９は逆止弁であり、当該逆止弁により機械パッファ室２０から熱パッファ室１８へのガスの流入は許容されるが、熱パッファ室１８から機械パッファ室２０へのガスの流出は阻止される。弁２２は、機械パッファ室２０の圧力が高まることによる駆動装置への反力を低減するために、機械パッファ室２０の圧力が一定値よりも高くならないように作用する。
【００３５】
固定接触子（固定電極）２および可動接触子（可動電極）３は金属から構成されることが好ましい。固定接触子（固定電極）２および可動接触子（可動電極）３は、同一の金属であってもよいが、異なる金属であってもよい。
【００３６】
好ましい実施形態では、熱パッファ室１８を構成する第１のシリンダ４、機械パッファ室２０を構成する第２のシリンダ２１、弁１９、弁２２は金属から構成される。各部材は、同一の金属により構成されてもよいが、異なる金属によって構成されてもよい。
【００３７】
＜高圧保持機構＞
図２において点線で囲まれた矩形領域を拡大した概略図を図３および図４に示す。
【００３８】
図３は、本発明の一実施形態に係るガス遮断器のガス流路２６を通じてガスが熱パッファ室１８に流入する様子を模式的に示した概略断面図である。図４は、本発明の一実施形態に係るガス遮断器のガス流路２６を通じてガスが熱パッファ室１８から流出する様子を模式的に示した概略断面図である。
【００３９】
図２〜図４に示すように、流量調整弁２４は、熱パッファ室１８とガス流路２６との接続領域を塞ぐように、熱パッファ室１８内の可動接触子３の回りにつば状に設けられることが好ましい。流量調整弁２４は、熱パッファ室１８とガス流路２６とを連通する孔２４１を備えることが好ましい。当該孔２４１のＸＺ平面における断面積は、ガス流路２６のＸＺ平面における断面積よりも小さい。
【００４０】
換言すれば、本発明の一実施形態に係るガス遮断器では、ガス流路２６の長手方向に垂直な面の断面積が、熱パッファ室１８の長手方向に垂直な面の断面積よりも小さく、流量調整弁２４は、可動接触子３の回りにつば状に設けられ、ガス流路２６の長手方向に垂直な面の断面積よりも大きな表面積を備え、且つ、ガス流路２６の長手方向に垂直な面の断面積よりも小さな孔２４１を備えることを特徴とする。
【００４１】
＜ガスの流量調整＞
本発明の一実施形態に係るガス遮断器では、流量調整弁２４は、可動接触子３に対して摺動自在に前記熱パッファ室１８内に配置されることを特徴とする。
【００４２】
図３に示すように、固定接触子２と可動接触子３との間にアーク２７が生成され、大電流遮断時には、当該アーク２７のエネルギによって昇圧されたガスが、ガス流路２６を介して熱パッファ室１８に流入する。この場合、孔２４１を介して熱パッファ室１８にガスが流入するだけでなく、熱パッファ室１８とガス流路２６との接続領域を塞いでいた流量調整弁２４が操作機構側に摺動する。当該摺動運動により、大量のガスが熱パッファ室１８に流入し、熱パッファ室１８の圧力が上昇する。
【００４３】
換言すれば、本発明の一実施形態に係るガス遮断器では、ガス流路２６から熱パッファ室１８へガスが流入するとき、流量調整弁２４は接続領域から熱パッファ室１８内方へ摺動移動することを特徴とする。
【００４４】
流量調整弁２４の操作機構側への摺動運動は、制限機構により一定の摺動距離内に制限されることが好ましい。好ましい実施形態では、可動接触子３の外周表面に制限機構としてバンプ２５を設けてもよい。流量調整弁２４がバンプ２５と係止することにより所望の摺動移動距離に制限される。
【００４５】
換言すれば、本発明の一実施形態に係るガス遮断器では、流量調整弁２４が接続領域から熱パッファ室１８内方へ摺動移動する場合、可動接触子３が摺動移動距離を制限する制限機構を更に有することを特徴とする。熱パッファ室１８とガス流路２６との接続領域からバンプ２５までの距離は、任意に決定することができる。
【００４６】
一方、熱パッファ室１８からガスが流出する場合、図４に示すように、流量調整弁２４が、バンプ２５と係止していた位置から、熱パッファ室１８とガス流路２６との接続領域まで摺動する。熱パッファ室１８内のガスは、流量調整弁２４の孔２４１を介してガス流路２６に流出し、ガス流路２６を介して第1のガイド５に沿って、アーク２７に吹き付けられる。
【００４７】
換言すれば、本発明の一実施形態に係るガス遮断器では、熱パッファ室１８からガス流路２６へガスが流出するとき、流量調整弁２４は熱パッファ室１８の内方から接続領域へ摺動移動し、孔２４１からガスを流出させることにより、ガス流量を調整することを特徴とする。
【００４８】
熱パッファ室１８内のガスが流出する場合、流量調整弁２４が閉じることにより、孔２４１の断面積の大きさに応じて、ガスの流出量が制限される。上述したように、電流値が大きい場合には、接触子間に発生したアークにより高温となったガスがガス流路２６を介して熱パッファ室１８に入り、熱パッファ室１８の圧力が上昇する。熱パッファ室１８の圧力をより高くするためには、高温ガスを多く取り込む必要があるが、流量調整弁２４を備えない従来の構成では、ガスの出入り口（接続領域に相当）が同じであるため、ガスが熱パッファ室１８から流出する量も多くなっていた。そのため、消弧までの時間が長くなると、熱パッファ室１８の圧力低下により消弧性能が低下していた。
【００４９】
本実施形態にかかる流量調整弁２４を接続領域に設けることにより、ガスの流出量が制限され、遮断の瞬間まで熱パッファ室１８内の圧力を高い状態に保持することができ、遮断性能が向上する。
【００５０】
ガスの流量調整は、ガスの出入り口（接続領域）を塞ぐために十分な大きさ（ＸＺ平面における環状断面積の大きさ）の流量調整弁２４が、接続領域を塞いだ際に孔２４１により流量を調整する態様に限定されない。
【００５１】
別の好ましい実施形態では、図７および図８に示した流量調整弁２８によりガスの流量調整を行うことができる。図７および図８は、図３および図４と同様に、図２において点線で囲まれた矩形領域を拡大した概略図である。
【００５２】
図７は、本発明の別の実施形態に係るガス遮断器のガス流路２６を通じてガスが熱パッファ室１８に流入する様子を模式的に示した概略断面図である。図８は、本発明の別の実施形態に係るガス遮断器のガス流路２６を通じてガスが熱パッファ室１８から流出する様子を模式的に示した概略断面図である。図７および図８は、図３および図４の流量調整弁２４に代えて流量調整弁２８を採用したものである。
【００５３】
本発明の別の実施形態に係るガス遮断器では、流量調整弁２８は、可動接触子３に対して摺動自在に前記熱パッファ室１８内に配置されることを特徴とする。流量調整弁２８の外径は、流量調整弁２４の外径より小さく、接続領域を完全に塞がない。接続領域のＸＺ平面において、ガス流路の外径と流量調整弁２８の外径との間に隙間を構成する。
【００５４】
図７に示すように、固定接触子２と可動接触子３との間にアーク２７が生成され、大電流遮断時には、当該アーク２７のエネルギによって昇圧されたガスが、ガス流路２６を介して熱パッファ室１８に流入する。この場合、接続領域の一部を塞いでいた流量調整弁２８が操作機構側に摺動する。当該摺動運動により、大量のガスが熱パッファ室１８に流入し、熱パッファ室１８の圧力が上昇する。
【００５５】
流量調整弁２８の操作機構側への摺動運動は、制限機構により一定の摺動距離内に制限されることが好ましい。好ましい実施形態では、可動接触子３の外周表面に制限機構としてバンプ２５を設けてもよい。流量調整弁２８がバンプ２５と係止することにより所望の摺動移動距離に制限される。熱パッファ室１８とガス流路２６との接続領域からバンプ２５までの距離は、任意に決定することができる。
【００５６】
一方、熱パッファ室１８からガスが流出する場合、図８に示すように、流量調整弁２８が、バンプ２５と係止していた位置から、熱パッファ室１８とガス流路２６との接続領域まで摺動する。熱パッファ室１８内のガスは、流量調整弁２８の外径の外側に生じた隙間を介してガス流路２６に流出し、ガス流路２６を介して第１のガイド５に沿って、アーク２７に吹き付けられる。
【００５７】
このような別の実施形態にかかる流量調整弁２８を接続領域に設けることにより、ガスの流出量が制限され、遮断の瞬間まで熱パッファ室１８内の圧力を高い状態に保持することができ、遮断性能が向上する。
【００５８】
以上、摺動移動する流量調整弁２４について具体的に説明したが、ガスの流量調整は、流量調整弁２４を摺動移動させる態様に限定されない。
【００５９】
更に別の好ましい実施形態では、熱パッファ室１８とガス流路２６との接続領域にダイアフラムタイプの流動調整弁を配置することができる。摺動移動する流量調整弁２４と同様の孔を備えた環状平板から構成されるダイアフラムの内側円部分を接続領域において可動接触子３の外周表面に配置することができる。
【００６０】
ガス流路２６から熱パッファ室１８へガスが流入するとき、環状ダイアフラムの流量調整弁の内側円部分は摺動移動せず、外側円部分が接続領域から熱パッファ室１８内方へ傾斜するように変形する。この場合、孔を介して熱パッファ室１８にガスが流入するだけでなく、ダイアフラムの変形により生じた隙間を介して、大量のガスが熱パッファ室１８に流入し、熱パッファ室１８の圧力が上昇する。
【００６１】
一方、熱パッファ室１８からガスが流出する場合、環状ダイアフラムが、変形していた状態から、環状平板状態に戻る。熱パッファ室１８内のガスは、流量調整弁の孔を介してガス流路２６に流出し、ガス流路２６を介して第1のガイド５に沿って、アーク２７に吹き付けられる。
【００６２】
＜流量調整弁＞
図５は、本発明の実施形態に係るガス遮断器の流量調整弁２４を模式的に示した概略図である。図５では、図２にて方位を説明した３次元直交座標のＸＺ平面視における流量調整弁２４を模式的に示している。図５に示した、Ｘ軸とＺ軸との交点（原点）を通って紙面に垂直な方向にＹ軸が配置されている。
【００６３】
図５に示す好ましい実施形態では、流量調整弁２４は、Ｘ軸とＺ軸との交点を中心点とする環状の金属平板から形成される。環状の内径は、可動接触子３の外径と略同一であることが好ましい。
【００６４】
図５に示す好ましい実施形態では、ＸＺ平面にて環状の内径を構成する内側の円に沿って４個の弧状の孔２４１が配置されている。孔２４１は、流量調整弁２４がシリンダ４に当接して配置される際に、ガス流路２６と熱パッファ室１８とを連通することができるように配置される（図４参照）。図５に示した例では、４個の弧状の孔２４１を示しているが、孔２４１の個数は、４個に限定されず任意の数の弧状の孔を設けることができる。
【００６５】
図６は、本発明の別の好ましい実施形態に係るガス遮断器の流量調整弁２４’を模式的に示した概略図である。図５の流量調整弁２４と同様に、流量調整弁２４’も、Ｘ軸とＺ軸との交点を中心点とする環状の金属平板から形成される。
【００６６】
図５の流量調整弁２４との相違点は、ＸＺ平面にて環状の内径を構成する内側の円に沿って複数の円形の孔２４２が配置されている。当該孔２４２も、孔２４１と同様に、流量調整弁２４’がシリンダ４に当接して配置される際に、ガス流路２６と熱パッファ室１８とを連通することができるように配置されることが好ましい。
【００６７】
図６に示した流量調整弁２４’では、１６個の孔２４２を設けた例を示しているが、孔２４２の個数は１６個に限定されず任意の数の孔２４２を設けることができる。また孔２４２の形状は円形に限定されず、任意の形状の孔とすることができる。
【００６８】
孔２４２のＸＺ平面における断面積の合計は、ＸＺ平面におけるガス流路２６の断面積よりも小さくなるように構成される。
【００６９】
図９は、本発明の別の好ましい実施形態に係るガス遮断器の流量調整弁２８を模式的に示した概略図である。図５に示した流量調整弁２４と同様に、流量調整弁２８も、Ｘ軸とＺ軸との交点を中心点とする環状の金属平板から形成されることが好ましい。
【００７０】
図５に示した流量調整弁２４と流量調整弁２８との相違点は、上述した通り、流量調整弁２８は、流量調整弁２４よりＸＺ平面における環状の外径および内径の大きさが小さく、ＸＺ平面における接続領域の一部を塞ぐ外径であることが好ましい。接続領域におけるガス流路の外径と流量調整弁２８の外径との間に生じた隙間のＸＺ平面における断面積の合計は、ガス流路２６のＸＺ平面における断面積よりも小さくなるように、流量調整弁２８を構成することが好ましい。
【００７１】
＜ガイド＞
図４に関して上述したように、ガスは第1のガイド５に沿って、アーク２７に吹き付けられる。アークの所望の位置に消弧ガスを吹き付けるために、第２のガイド２３を更に設けることが好ましい。図４に示すように、可動接触子３の先端を取り巻くようにして第２のガイド２３を配置する。当該第２のガイド２３と第１のガイド５との間に環状のガス流路２６を構成することができる。
【００７２】
換言すれば、本発明の一実施形態に係るガス遮断器では、可動接触子３の先端を取り巻くようにして可動接触子３に対して固定され、第１のガイド５との間に延びるガス流路２６を形成する第２のガイド２３を更に有し、前記ガス流路２６によって、固定接触子２と可動接触子３との間に生じるアーク２７に対してガスが導かれることを特徴とする。
【００７３】
第１のガイド５および第２のガイド２３は、大電流遮断時のアークエネルギによる高温ガス環境に適応したテフロン（登録商標）樹脂などから構成されることが好ましい。ガス流路２６を流れるガスは、アーク２７のエネルギにより摂氏千度以上になる場合もある。耐熱性のあるテフロン（登録商標）樹脂であっても、かかる高温環境では、各ガイド表面からガスが発生する場合もある。このように発生したガスも、熱パッファ室１８の圧力上昇に寄与する場合がある。
【００７４】
〔実施形態２〕
本発明の他の実施形態について、以下に説明する。なお、説明の便宜上、上記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。
【００７５】
本実施形態では、第２のガイド２３は、可動接触子３の先端だけでなく、熱パッファ室１８の内部まで延伸して取り巻くように配置することができる。かかる場合、流量調整弁は、第２のガイド２３の外周回りにつば状に設けられる構成を特徴とする。
【００７６】
本実施形態では、環状平板から形成される流量調整弁の環状の内径は、第２のガイド２３の外径と略同一であることが好ましい。
【００７７】
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００７８】
２  固定接触子
３  可動接触子
４  第１のシリンダ
５  第１のガイド
１８  熱パッファ室
１９  逆止弁
２０  機械パッファ室
２１  第２のシリンダ
２３  第２のガイド
２４、２４’、２８  流量調整弁
２５  バンプ（制限機構）
２６  ガス流路
２７  アーク
１００  ガス遮断器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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