(57)【要約】【課題】エナメル皮膜に発生した皮膜異常の検出感度を向上させることができるエナメル線の皮膜異常検出装置、エナメル線の製造装置、エナメル線の皮膜異常の検出方法、及びエナメル線の製造方法を提供する。【解決手段】エナメル線を所定の速度で一定の方向へ線状に移動する工程と、接触部材を用いて移動中のエナメル線のエナメル皮膜に接触する工程と、エナメル皮膜の表面に発生した皮膜異常と接触することにより異常の高さに応じて接触部材が変位する工程と、接触部材の変位を増幅する工程と、増幅した変位を出力電圧に変換して変位の量を測定する工程と、出力電圧が所定の閾値を超えたときに異常が発生していると判定する工程と、を含む、エナメル線の皮膜異常の検出方法。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定の方向へ線状に移動するエナメル線のエナメル皮膜の表面に接触し、前記エナメル皮膜の表面に発生した皮膜異常の高さに応じて変位する接触部材と、
前記接触部材が変位した量を取得する変位計と、
を備える、エナメル線の皮膜異常検出装置。
【請求項２】
前記一定の方向を第１の方向とした場合に、
前記接触部材は、前記第１の方向と略垂直な第２の方向に変位する第１の接触部材と、前記第２の方向において固定的に保持され、前記エナメル線の前記第１の接触部材側の第１の面と反対側の第２の面側に配置された第２の接触部材とを備える、
請求項１に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
【請求項３】
前記第１の接触部材は、該第１の接触部材よりも前記第１の方向の前方に設けられた支軸を支点として回転可能に支持されている、
請求項２に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
【請求項４】
前記第１の接触部材に接続され、該第１の接触部材の前記第２の方向の変位を増幅する増幅部材と、
前記増幅部材の前記第１の方向の後方側の先端部に対向する位置で前記変位計を固定的に支持する固定部材と、
をさらに備え、
固定された前記変位計は、前記増幅部材によって増幅された前記先端部の前記第２方向の変位の量を測定することによって前記接触部材が変位した量を取得する、
請求項３に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
【請求項５】
前記第１の接触部材及び前記第２の接触部材はともに、略円柱形状の形状を有する回転体からなる、
請求項１から４のいずれか１項に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
【請求項６】
前記第２の接触部材は、前記エナメル線を前記第２の方向において挟んで前記第１の接触部材と対向する位置に設けられており、
前記第１の接触部材と前記第２の接触部材とで前記エナメル皮膜の一対の対向する面を挟むことにより、前記一対の対向する面に発生した皮膜異常を検出する、
請求項５に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
【請求項７】
前記第１の接触部材及び前記第２の接触部材はともに、中心軸が前記第１の方向と直交するように配置されているとともに、互いに略平行に配置されている、
請求項６に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
【請求項８】
前記第１の接触部材及び前記第２の接触部材は、前記エナメル線を厚み方向に挟んで対向する位置において、前記エナメル皮膜の上面及び下面と略平行に設けられており、
前記第１の接触部材と前記第２の接触部材とが前記上面及び前記下面にそれぞれ接触することにより、前記上面又は前記下面に発生した皮膜異常を検出する、
請求項６又は７に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
【請求項９】
前記第１の接触部材及び前記第２の接触部材は、前記エナメル線を幅方向に挟んで対向する位置において、前記エナメル皮膜の側面のうち前記第１の方向に沿った一対の側面と略平行に設けられており、
前記第１の接触部材と前記第２の接触部材とが前記一対の側面にそれぞれ接触することにより、前記一対の側面のいずれかに発生した皮膜異常を検出する、
請求項６又は７に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
【請求項１０】
前記第１の接触部材は、略円柱状の形状の側面に、側面視において略Ｖ字型の形状を有する溝部が形成された第３の接触部材からなる、
請求項１から９のいずれか１項に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
【請求項１１】
前記第２の接触部材は、前記第３の接触部材と略同一の形状を有する第４の接触部材及び第５の接触部材とからなり、
前記第３の接触部材、前記第４の接触部材及び前記第５の接触部材は、前記エナメル線を挟んで互い違いに配置されており、
前記第３の接触部材と、前記第４の接触部材及び前記第５の接触部材のうち少なくともいずれか一方とで前記エナメル線を挟むことにより、前記エナメル皮膜の角部に発生した皮膜異常を検出する、
請求項１０に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
【請求項１２】
前記第３の接触部材、前記第４の接触部材及び前記第５の接触部材は、前記エナメル線を厚み方向に挟んで互い違いに配置されている、
請求項１１に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
【請求項１３】
前記第３の接触部材、前記第４の接触部材及び前記第５の接触部材は、前記エナメル線を幅方向に挟んで互い違いに配置されている、
請求項１１に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
【請求項１４】
導体にエナメル塗料を塗布する塗料塗布部と、
前記エナメル塗料の焼付けを行ってエナメル皮膜を形成する焼鈍炉と、
形成された前記エナメル皮膜に発生した皮膜異常を検出する、請求項１から１０に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置と、
を備える、エナメル線の製造装置。
【請求項１５】
エナメル線を所定の速度で一定の方向へ線状に移動する工程と、
接触部材を用いて移動中の前記エナメル線のエナメル皮膜に接触する工程と、
前記エナメル皮膜の表面に発生した皮膜異常と接触することにより前記異常の高さに応じて前記接触部材が変位する工程と、
前記接触部材の変位を増幅する工程と、
増幅した前記変位を出力電圧に変換して前記変位の量を測定する工程と、
前記出力電圧が所定の閾値を超えたときに前記皮膜異常が発生していると判定する工程と、
を含む、エナメル線の皮膜異常の検出方法。
【請求項１６】
導体にエナメル塗料を塗布する工程と、
前記エナメル塗料の焼付けを行ってエナメル皮膜を形成する工程と、
前記エナメル皮膜に発生した皮膜異常を検出する、請求項１５に記載の工程と、
を含む、エナメル線の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エナメル線の皮膜異常検出装置、エナメル線の製造装置、エナメル線の皮膜異常の検出方法、及びエナメル線の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光源等の光学式のセンサを用いて長尺物の外観を検査する方法が提供されている（特許文献１参照）。
【０００３】
特許文献１には、長尺物の表面に向かって所定の光源から線状光を照射するとともに、光源と長尺物とを長尺物の長手方向に相対的に移動させながら、線状光が長尺物の外周面に照射されて成る照射線を所定時間おきに撮像する工程と、撮像データ内における照射線の位置に基づき、撮像データ幅方向の複数の所定位置ごとに照射線の高さ方向位置データを求めることにより成る照射線位置データ群を撮像データごとに作成する工程とを含む長尺物の外観検査方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−１９７１０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
エナメル線では、導体の周囲に設けられた皮膜の高さの異常（以下、単に「皮膜異常」ともいう。）を検出することが検討されている。この皮膜異常を検出するための方法（以下、単に「皮膜異検出方法」ともいう。）に、例えば、特許文献１に記載の方法を用いることが考えられる。
【０００６】
しかし、特許文献１に記載の方法によれば、例えば、エナメル線が搬送されるときにエナメル線に傾斜や捩れが生じているような場合、一定の大きさを有しない小さい皮膜異常がエナメル線の陰に隠れてしまうことによって検出が困難になる等、検出感度の低下を招く虞がある。
【０００７】
本発明の目的は、エナメル線の皮膜異常の検出感度を向上させることができるエナメル線の皮膜異常検出装置、エナメル線の製造装置、エナメル線の皮膜異常の検出方法、及びエナメル線の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記目的を達成するために、下記の［１］〜［１３］のエナメル線の皮膜異常検出装置、［１４］のエナメル線の製造装置、［１５］のエナメル線の皮膜異常の検出方法、［１６］の及びエナメル線の製造方法を提供する。
【０００９】
［１］一定の方向へ線状に移動するエナメル線のエナメル皮膜の表面に接触し、前記エナメル皮膜の表面に発生した皮膜異常の高さに応じて変位する接触部材と、
前記接触部材が変位した量を取得する変位計と、
を備える、エナメル線の皮膜異常検出装置。
［２］前記一定の方向を第１の方向とした場合に、
前記接触部材は、前記第１の方向と略垂直な第２の方向に変位する第１の接触部材と、前記第２の方向において固定的に保持され、前記エナメル線の前記第１の接触部材側の第１の面と反対側の第２の面側に配置された第２の接触部材とを備える、
前記［１］に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
［３］前記第１の接触部材は、該第１の接触部材よりも前記第１の方向の前方に設けられた支軸を支点として回転可能に支持されている、
前記［２］に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
［４］前記第１の接触部材に接続され、該第１の接触部材の前記第２の方向の変位を増幅する増幅部材と、
前記増幅部材の前記第１の方向の後方側の先端部に対向する位置で前記変位計を固定的に支持する固定部材と、
をさらに備え、
固定された前記変位計は、前記増幅部材によって増幅された前記先端部の前記第２方向の変位の量を測定することによって前記接触部材が変位した量を取得する、
前記［３］に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
［５］前記第１の接触部材及び前記第２の接触部材はともに、略円柱形状の形状を有する回転体からなる、
前記［１］から［４］のいずれか１つに記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
［６］前記第２の接触部材は、前記エナメル線を前記第２の方向において挟んで前記第１の接触部材と対向する位置に設けられており、
前記第１の接触部材と前記第２の接触部材とで前記エナメル皮膜の一対の対向する面を挟むことにより、前記一対の対向する面に発生した皮膜異常を検出する、
前記［５］に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
［７］前記第１の接触部材及び前記第２の接触部材はともに、中心軸が前記第１の方向と直交するように配置されているとともに、互いに略平行に配置されている、
前記［６］に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[８]前記第１の接触部材及び前記第２の接触部材は、前記エナメル線を厚み方向に挟んで対向する位置において、前記エナメル皮膜の上面及び下面と略平行に設けられており、
前記第１の接触部材と前記第２の接触部材とが前記上面及び前記下面にそれぞれ接触することにより、前記上面又は前記下面に発生した皮膜異常を検出する、
前記［６］又は［７］に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
[９]前記第１の接触部材及び前記第２の接触部材は、前記エナメル線を幅方向に挟んで対向する位置において、前記エナメル皮膜の側面のうち前記第１の方向に沿った一対の側面と略平行に設けられており、
前記第１の接触部材と前記第２の接触部材とが前記一対の側面にそれぞれ接触することにより、前記一対の側面のいずれかに発生した皮膜異常を検出する、
前記［６］又は［７］に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
［１０］前記第１の接触部材は、略円柱状の形状の側面に、側面視において略Ｖ字型の形状を有する溝部が形成された第３の接触部材からなる、
前記［１］から［９］のいずれか１つに記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
［１１］前記第２の接触部材は、前記第３の接触部材と略同一の形状を有する第４の接触部材及び第５の接触部材とからなり、
前記第３の接触部材、前記第４の接触部材及び前記第５の接触部材は、前記エナメル線を挟んで互い違いに配置されており、
前記第３の接触部材と、前記第４の接触部材及び前記第５の接触部材のうち少なくともいずれか一方とで前記エナメル線を挟むことにより、前記エナメル皮膜の角部に発生した皮膜異常を検出する、
前記［１０］に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
［１２］前記第３の接触部材、前記第４の接触部材及び前記第５の接触部材は、前記エナメル線を厚み方向に挟んで互い違いに配置されている、
前記［１１］に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
［１３］前記第３の接触部材、前記第４の接触部材及び前記第５の接触部材は、前記エナメル線を幅方向に挟んで互い違いに配置されている、
前記［１１］に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置。
［１４］導体にエナメル塗料を塗布する塗料塗布部と、
前記エナメル塗料の焼付けを行ってエナメル皮膜を形成する焼鈍炉と、
形成された前記エナメル皮膜に発生した皮膜異常を検出する、請求項１から１０に記載のエナメル線の皮膜異常検出装置と、
を備える、エナメル線の製造装置。
［１５］エナメル線を所定の速度で一定の方向へ線状に移動する工程と、
接触部材を用いて移動中の前記エナメル線のエナメル皮膜に接触する工程と、
前記エナメル皮膜に発生した皮膜異常と接触することにより前記皮膜異常の高さに応じて前記接触部材が変位する工程と、
前記接触部材の変位を増幅する工程と、
増幅した前記変位を出力電圧に変換して前記変位の量を測定する工程と、
前記出力電圧が所定の閾値を超えたときに前記皮膜異常が発生していると判定する工程と、
を含む、エナメル線の皮膜異常の検出方法。
［１６］導体にエナメル塗料を塗布する工程と、
前記エナメル塗料の焼付けを行ってエナメル皮膜を形成する工程と、
前記エナメル皮膜に発生した皮膜異常を検出する、前記［１５］に記載の工程と、
を含む、エナメル線の製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のエナメル線の皮膜異常の検出方法、エナメル線の皮膜異常検出装置、エナメル線の製造方法、及びエナメル線の製造装置によれば、エナメル線の皮膜異常の検出感度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施の形態に係るエナメル線の製造装置の一例を示す概略図である。
【図２】第１の実施の形態に係る皮膜異常検出装置の構成の一例を概略的に示す図であり、（ａ）は、側面図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ‘断面図である。
【図３】第１の接触部材の変位の一例を示す図である。
【図４】第２の実施の形態に係る皮膜異常検出装置の構成の一例を概略的に示す図である。
【図５】第２の実施の形態に係る接触部材の一例を概略的に示す図である。
【図６】皮膜異常の検出結果の一例を示すグラフ図である。
【図７】皮膜異常検出装置の一変形例を概略的に示す図である。
【図８】皮膜異常検出装置の他の変形例を概略的に示す図である。
【図９】比較例における皮膜異常の検出の一例を概略的に示す図であり、（ａ）は、皮膜異常の検出方法を模式的に示す図、（ｂ）は、検出漏れを引き起こす原因の一例を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、本発明を実施する上での好適な具体例として示すものであり、技術的に好ましい種々の事項を具体的に例示している部分もあるが、本発明の技術的範囲は、この具体的態様に限定されるものではない。また、各図面に示した各構成要素の寸法比は、必ずしも実際の寸法比と一致するものではない。
【００１３】
〔エナメル線の製造装置及び製造方法〕
図１は、本発明の実施の形態に係るエナメル線の製造装置の一例を示す概略図である。なお、以下では、エナメル線１２用に供給される心線として、断面が平角形状の導体１０を用いる場合を例に挙げて説明する。また、本実施の形態において使用される導体１０の素材には、例えば、銅、銅合金等を使用することができる。また、説明の便宜上、エナメル線の製造装置１を構成する各種機器を横型に配置するタイプのものを例に挙げて説明するが、縦型に配置するタイプでもよい。
【００１４】
図１に示すように、導体１０は、塗料塗布部２へ導かれ、導体１０の外周にエナメル塗料が塗布される。なお、エナメル塗料としては、エナメル皮膜１２ａ（図２（ａ）参照）に使用可能なものであれば特に限定されることなく用いることができる。
【００１５】
また、エナメル塗料中の溶剤としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン(ＮＭＰ)、クレゾール、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、シクロヘキサノン等が挙げられる。また、エナメル塗料中の樹脂としては、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエステルイミド等が挙げられる。また、導体１０は、焼鈍炉（不図示）によって焼鈍が行われたものを用いることができる。
【００１６】
エナメル塗料が塗布された導体１０は、焼付炉３中を走行し、エナメル塗料の乾燥（すなわちエナメル塗料中の溶剤の蒸発）及びエナメル塗料中の樹脂の硬化（すなわち皮膜の焼付）が行われる。なお、エナメル塗料中の溶剤の蒸発及びエナメル塗料中の樹脂の硬化の方法は、特に限定されるものではなく、熱風等により加熱することで行なうことができる。また、エナメル塗料中の溶剤の蒸発とエナメル塗料中の樹脂の硬化とは、別々の装置で行うことでもよい。
【００１７】
導体１０は、下流側のターンプーリ５ｂを介して上流側のターンプーリ５ａに戻り、塗料塗布部２によるエナメル塗料の塗布、及び焼付炉３によるエナメル塗料の乾燥・焼付が所望の厚さのエナメル皮膜１２ａとなるまで繰り返し行われる。このように、外周に塗布されたエナメル塗料が乾燥・焼付されることによって、導体１０は、その外周に所望の厚さからなるエナメル皮膜１２ａを有するエナメル線１２となる。
【００１８】
乾燥・焼付が終了したエナメル線１２は、皮膜異常を検出する装置（以下、「皮膜異常検出装置」ともいう。）に導かれる。皮膜異常とは、例えば、塗料塗布部２へ導入される導体１０の周辺に浮遊する固形状や繊維状の塵埃（環境異物）が導体１０の外周に塗布されたエナメル塗料に取り込まれること、導体１０或いはエナメル皮膜１２ａの表面に発生する傷によってエナメル皮膜１２ａの表面に空隙が発生すること、及びエナメル塗料中に発泡等が生じることにより、エナメル皮膜１２ａの表面に発生した凸状の形状をいう。なお、エナメル皮膜１２ａの表面とは、エナメル皮膜１２ａの上面１２ａａ及び下面１２ａｂ（図２各図参照、「フラット面」ともいう。）、側面１２ｂ（図９（ｂ）参照）、及び角部１２ｒ（図５参照、「エッジ面」ともいう。）を含めるものとする。
【００１９】
皮膜異常検出装置４（図２各図参照）は、皮膜異常１２０のうち、特に、エナメル皮膜１２ａの外方に突出し、所定の値以上の高さを有する皮膜異常１２０、すなわち凸状の形状を有する皮膜異常１２０を検出する装置である。以下、皮膜異常１２０として凸状の形状を有するものを例に挙げて説明する。皮膜異常検出装置４の構成の詳細は、後述する。
【００２０】
なお、所定の高さ以上の皮膜異常１２０が検出された場合、例えば、レーザマーカー等のマーキング装置（不図示）を使用して検出された皮膜異常１２０の位置にマーキングを施してもよい。また、皮膜異常１２０のエナメル皮膜１２ａ上の位置情報を記録しておき、検査後に皮膜異常１２０やその周囲を切断する等の所望の処理を施してもよい。なお、皮膜異常の高さとは、皮膜異常が発生していないエナメル皮膜１２ａの表面からエナメル皮膜１２ａの外方に突出した皮膜異常１２０の頂部までの距離をいう。
【００２１】
エナメル皮膜１２ａの検査が終了したエナメル線１２は、巻取機（不図示）に巻き取られる。
【００２２】
〔皮膜異常検出装置４〕
［第１の実施の形態］
次に、図２を参照して第１の実施の形態に係る皮膜異常検出装置４について説明する。図２は、皮膜異常検出装置４の構成の一例を概略的に示す図であり、（ａ）は、側面図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ‘断面図である。第１の実施の形態に係る皮膜異常検出装置４は、主として、エナメル皮膜１２ａの上面１２ａａ、下面１２ａｂ、及び側面１２ｂに発生する皮膜異常１２０を検出する。
【００２３】
上面１２ａａ及び下面１２ａｂは、一対の対向する面の一例である。互いに対向する一対の側面１２ｂは、一対の対向する面の一例である。また、上面１２ａａは、第１の面の一例である。下面１２ａｂは、第２の面の一例である。以下、（１）上面１２ａａや下面１２ａｂに発生した皮膜異常１２０を検出する第１の構成と、（２）側面１２ｂに発生した皮膜異常１２０を検出する第２の構成とに分けてそれぞれ説明する。
【００２４】
（１）第１の構成（上面１２ａａや下面１２ａｂの皮膜異常１２０の検出）
図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、皮膜異常検出装置４は、一定の方向（以下、「進行方向」ともいう。矢印「Ｂ」参照。図２（ａ）では右方向とする。）に線状に搬送されるエナメル線１２を一定の方向に対して略垂直な方向（単に「厚み方向」ともいう。）において挟んで互いに対向する位置に設けられ、エナメル皮膜１２ａの上面１２ａａ及び下面１２ａｂにそれぞれ接触する一対の接触部材４１と、これら一対の接触部材４１のうち一方の接触部材（以下、「第１の接触部材４１Ａ」ともいう。）に接続し、第１の接触部材４１Ａのエナメル線１２の厚み方向の変位を増幅する第１のアーム部材４２と、第１のアーム部材４２がエナメル線１２の厚み方向に変位した量を測定する変位計４３と、皮膜異常検出装置４に対して変位計４３を固定的に支持する第２のアーム部材４４とを有して構成されている。進行方向は、第１の方向の一例である。第１のアーム部材４２は、増幅部材の一例である。第２のアーム部材４４は、固定部材の一例である。エナメル線１２の厚み方向は、第２の方向の一例である。
【００２５】
（接触部材４１）
第１の接触部材４１Ａ、及び一対の接触部材４１のうち他方の接触部材（以下、「第２の接触部材４１Ｂ」ともいう。）は、例えば、略円柱又は略円筒状の形状を有し、それぞれの中心軸Ｏ１，Ｏ２を回転軸として自転する回転体からなる平ロールである。第１の接触部材４１Ａ及び第２の接触部材４１Ｂは、好ましくは、エナメル線１２の幅以上の長さを有する。
【００２６】
第１の接触部材４１Ａ及び第２の接触部材４１Ｂはともに、それぞれの中心軸Ｏ１，Ｏ２と、エナメル線１２の進行方向とが互いに直交するように配置される。また、第１の接触部材４１Ａ及び第２の接触部材４１Ｂは、互いに平行に配置される。さらに、第１の接触部材４１Ａ及び第２の接触部材４１Ｂはともに、エナメル皮膜１２ａの上面１２ａａ及び下面１２ａｂと略平行に配置される。
【００２７】
第１の接触部材４１Ａ及び第２の接触部材４１Ｂの素材は、特定の素材に限定されないが、好ましくは、第１の接触部材４１Ａ及び第２の接触部材４１Ｂは、ステンレス鋼（ＳＵＳ）等の所定の硬さを有する金属により形成される。また、接触部材４１の表面４１ａは、例えば、ハードクロムメッキ等の方法によりコーテイングしてもよい。
【００２８】
第２の接触部材４１Ｂは、長手方向における両端部で、皮膜異常検出装置４に固定された台座部材４５に連結されている。また、第２の接触部材４１Ｂは、エナメル線１２の厚み方向においてエナメル線１２に対して固定的に保持されている。具体的には、第２の接触部材４１Ｂは、台座部材４５を介して皮膜異常検出装置４に対して固定的に保持されている。
【００２９】
台座部材４５は、例えば、略Ｌ字型の形状を有する一対のベースフレームであり、第２の接触部材４１Ｂと連結する上腕部４５１と、この上腕部４５１と直交して連続する前腕部４５２とを備えて構成される。台座部材４５は、例えば、第２のアーム部材４４に固定してもよい。
【００３０】
第１の接触部材４１Ａは、エナメル皮膜１２ａの上面１２ａａ及び下面１２ａｂの凹凸形状に応じて、エナメル線１２の厚み方向に可動するようになっている。具体的には、第１の接触部材４１Ａは、皮膜異常１２０の高さに応じてエナメル線１２の厚み方向に変位するようになっている。
【００３１】
本実施の形態では、第１の接触部材４１Ａは、長手方向における両端部で、皮膜異常検出装置４に対して回転可能に支持されたピックアップ部材４６と接続している。図２（ｂ）に示すように、ピックアップ部材４６は、所定の厚みを有する平板状の部材の両端を同一の方向に略直角に折り曲げて構成される、平面視において略Ｕ字型の形状を有している。
【００３２】
ピックアップ部材４６は、底部４６ｂがエナメル線１２の進行方向の後方側に位置するとともに、開口端側がエナメル線１２の進行方向の前方側に位置するように設けられている。また、ピックアップ部材４６の内側には、第１の接触部材４１Ａが連結されている。
【００３３】
また、ピックアップ部材４６の内側には、エナメル線１２の進行方向において第１の接触部材４１Ａよりも前方の位置に、第１の接触部材４１Ａと略平行に配置され、ピックアップ部材４６の開口端側の両端部４６ａを貫通する支軸４６１がさらに設けられている。
【００３４】
支軸４６１は、一対の台座部材４５のうちの一方の台座部材４５の上腕部４５１と、他方の台座部材４５の上腕部４５１とをともに貫通している。すなわち、ピックアップ部材４６の開口端側の両端部４６ａは、支軸４６１によって、一対の台座部材４５の内側にそれぞれ回転可能に取り付けられている。なお、台座部材４５とピックアップ部材４６との位置関係は上記のものに限定されず、ピックアップ部材４６を台座部材４５の外側に取り付けてもよい。
【００３５】
ピックアップ部材４６は、支軸４６１の中心軸Ｏ６を支点として回転可能に支持されている。換言すれば、ピックアップ部材４６は、台座部材４５に対して相対的に回転可能に支持されている。
【００３６】
第１の接触部材４１Ａ及び第２の接触部材４１Ｂは、好ましくは、互いの中心軸Ｏ１，Ｏ２がエナメル線１２の長手方向において略同一の位置になるように配置される。換言すれば、第１の接触部材４１Ａ及び第２の接触部材４１Ｂは、第１の接触部材４１Ａの中心軸Ｏ１、及び第２の接触部材４１Ｂの中心軸Ｏ２を結ぶ線分がエナメル線１２の長手方向と略直交するように配置される。
【００３７】
また、第１の接触部材４１Ａは、表面４１Ａａがエナメル線１２の上面１２ａａに接するように配置される。また、第２の接触部材４１Ｂは、表面４１Ｂａがエナメル線１２の下面１２ａｂに接するように配置される。かかる配置を実現するために、例えば、第１の接触部材４１Ａの半径Ｒ１や第２の接触部材４１Ｂの半径Ｒ２を適宜調整してもよく、台座部材４５の上腕部４５１の長さを適宜調整してもよく、ピックアップ部材４６を台座部材４５に固定する支軸４６１の、エナメル線１２の厚み方向における位置を適宜調整してもよい。
【００３８】
図３は、第１の接触部材４１Ａの変位の一例を示す図であり、第１の接触部材４１Ａが皮膜異常１２０により変位した状態を示している。なお、図３では、説明の便宜上、凸状の皮膜異常１２０が第１の接触部材４１Ａの略真下に位置しているとき、すなわち、皮膜異常１２０の重心が第１の接触部材４１Ａの中心軸Ｏ１、及び第２の接触部材４１Ｂの中心軸Ｏ２を結ぶ線分上に位置している状態を例に挙げて説明する。
【００３９】
図３に示すように、第１の接触部材４１Ａの表面４１Ａａが皮膜異常１２０に接触すると、第１の接触部材４１Ａには、接触した皮膜異常１２０の大きさに応じた変位が加えられる。変位の量は、皮膜異常１２０の大きさ（特に高さ）に応じて決まるものである。なお、変位の量とは、エナメル線１２の厚み方向において第１の接触部材４１Ａの中心軸Ｏ１が移動した量をいい、具体的には、皮膜異常１２０の高さに相当する値である。
【００４０】
第１の接触部材４１Ａは、第１の接触部材４１Ａが支軸４６１の中心軸Ｏ６を支点とするとともに、エナメル皮膜１２ａの上面１２ａａと接する点を作用点とする回転を開始する（図３の矢印「Ｃ」参照）。かかる構成により、第１の接触部材４１Ａを略水平の状態でエナメル線１２の厚み方向に持ち上げるよりも容易に第１の接触部材４１Ａの高さを変位させることができる。
【００４１】
（第１のアーム部材４２）
第１のアーム部材４２は、ピックアップ部材４６の底部４６ｂに接続されている。第１のアーム部材４２は、例えば、棒状の形状を有する。好ましくは、第１のアーム部材４２は、多角形状の断面を有する、略平坦状の形状を有する側面に囲まれた部材である。
【００４２】
好ましくは、第１のアーム部材４２は、略平坦な一側面が変位計４３側を向くように、すなわち略平坦な一側面が上向きになるように配置される。第１のアーム部材４２の長さは、特に限定されないが、第１の接触部材４１Ａの、エナメル線１２の厚み方向の変位を増幅する増幅率を大きくする点で、長い方が好ましい。
【００４３】
ここで、第１の接触部材４１Ａの中心軸Ｏ１と支軸４６１の中心軸Ｏ６との間の距離（以下、「第１の距離」ともいう。）をＬ１とし、第１の接触部材４１Ａの中心軸Ｏ１と第１のアーム部材４２のエナメル線１２の進行方向の後方側に位置する端面４２ａとの間の距離（以下、「第２の距離」ともいう。）をＬ２としたとき、第１の接触部材４１Ａの、エナメル線１２の厚み方向の変位の増幅率ｈは、以下の関係式（１）で表すことができる。
ｈ＝（Ｌ１＋Ｌ２）／Ｌ１・・・（１）
【００４４】
上述の第１の距離Ｌ１及び第２の距離Ｌ２は、皮膜異常検出装置４のサイズや、機械部品の配置、所望の検出感度を勘案して適宜設定してよい。例えば、Ｌ１：Ｌ２を、１：４としてもよい。この場合、増幅率ｈは、約５倍となる。
【００４５】
（第２のアーム部材４４）
第２のアーム部材４４は、上述したように、皮膜異常検出装置４に固定される。また、第２のアーム部材４４のエナメル線１２の進行方向の後方側に位置する先端部には、変位計４３が取り付けられている。
【００４６】
（変位計４３）
変位計４３は、対象物の変位に関する情報を電圧に変換して変位の量を測定するセンサである。変位計４３には、例えば、超音波センサや、リニア近接センサ等の公知の技術を採用してよい。ただし、変位計４３には、非接触式のタイプのものを採用するのが好ましい。一例として、変位計４３には、光学式のセンサを用いてよい。
【００４７】
変位計４３は、第２のアーム部材４４を介して、皮膜異常検出装置４に固定されている。具体的には、変位計４３は、図２及び図３に示すように、第２のアーム部材４４の進行方向の後方側の先端部において、第１のアーム部材４２のエナメル線１２の進行方向の後方側の先端部と対向する位置に固定されている。
【００４８】
変位計４３は、第１のアーム部材４２の進行方向の後方側の先端部の、エナメル線１２の厚み方向の変位の量、すなわち増幅された第１の接触部材４１Ａの変位の量を測定することによって、第１の接触部材４１Ａの変位の量、すなわち皮膜異常１２０の高さの情報を取得できるようになっている。ここで、「第１のアーム部材４２の進行方向の後方側の先端部の、エナメル線１２の厚み方向の変位の量」とは、第１のアーム部材４２の進行方向の後方側の先端部が、エナメル線１２の厚み方向において移動した量をいう。
【００４９】
（２）第２の構成（側面１２ｂの皮膜異常１２０の検出）
側面１２ｂの皮膜異常１２０の検出する第２の構成について説明する。なお、上述した第１の構成と相違する点を中心に説明し、実質的に同一の内容については説明の詳細は省略する。第２の構成では、第１の接触部材４１Ａ及び第２の接触部材４１Ｂをエナメル線１２の側面１２ｂに接触するように配置する。この場合、第１の接触部材４１Ａは、エナメル線１２のいずれかの側面１２ｂに発生した皮膜異常１２０の大きさに応じてエナメル線１２の幅方向（進行方向および厚み方向の両方に対して垂直な方向）に変位する。
【００５０】
具体的には、第２の構成では、第１の接触部材４１Ａ及び第２の接触部材４１Ｂは、エナメル線１２を幅方向において挟んで互いに対向する位置に設けられ、エナメル線１２の４つの側面のうち進行方向に沿って延在する一対の側面１２ｂにそれぞれ接触する。また、第１の接触部材４１Ａ及び第２の接触部材４１Ｂはともに、それぞれの中心軸Ｏ１，Ｏ２とエナメル線１２の進行方向とが互いに直交し、かつ、当該一対の側面１２ｂと略平行に配置される。
【００５１】
また、第１の接触部材４１Ａは、表面４１Ａａがエナメル線１２の当該一対の側面１２ｂの一方に接するように配置される。また、第２の接触部材４１Ｂは、表面４１Ｂａが上述の側面１２ｂと対向して対をなす他方の側面１２ｂに接するように配置される。
【００５２】
なお、この場合、第１の接触部材４１Ａをエナメル線１２に押し付ける手段（不図示）、例えばバネ等が必要となる。エナメル線１２の幅方向は、第２の方向の一例である。また、一対の側面１２ｂのうち、第１の接触部材４１Ａと接触する側の一方の面は、第１の面の一例である。第１の接触部材４１Ａと接触する側の他方の面と反対側、すなわち対向する側面は、第２の面の一例である。
【００５３】
［第２の実施の形態］
次に、図４を参照して第２の実施の形態に係る皮膜異常検出装置４を説明する。図４は、第２の実施の形態に係る皮膜異常検出装置４の構成の一例を概略的に示す図である。第２の実施の形態に係る皮膜異常検出装置４は、主として、エナメル皮膜１２ａの４つの角部１２ｒ（図５参照）に発生する皮膜異常を検出する。
【００５４】
また、第２の実施の形態に係る皮膜異常検出装置４は、３つの接触部材４１を備える点、及び接触部材４１の形状が異なる点で、第１の実施の形態に係る皮膜異常検出装置４と相違する。以下、第１の実施の形態で説明した構成要素と実質的に同一の機能を有する構成要素については、同一の符号を付しその重複した説明を省略するとともに、第１の実施の形態と相違する点を中心に説明する。
【００５５】
図４に示すように、第２の実施の形態に係る皮膜異常検出装置４は、第３の接触部材４１Ｃと、第４の接触部材４１Ｄと、第５の接触部材４１Ｅとを備える。第３の接触部材４１Ｃは、第１の接触部材４１Ａと同様に、支軸４６１の中心軸Ｏ６を支点とするとともに、エナメル皮膜１２ａの上面１２ａａの角部と接する点を作用点として回転可能に支持されたピックアップ部材４６に接続されており、皮膜異常１２０の高さに応じてエナメル線１２の厚み方向に変位するようになっている。
【００５６】
第４の接触部材４１Ｄ及び第５の接触部材４１Ｅはともに、第３の接触部材４１Ｃが接触するエナメル皮膜１２ａの一方の主面（図４で示す例では、上面１２ａａ）と反対側の面（図４で示す例では、下面１２ａｂ）の角部に接触するように配置されている。一方の主面は、第１の面の一例である。反対側の面は、第２の面の一例である。
【００５７】
また、第３の接触部材４１Ｃ、第４の接触部材４１Ｄ及び第５の接触部材４１Ｅは、エナメル線１２の長手方向において互いに異なる位置に配置されている。すなわち、第３の接触部材４１Ｃ、第４の接触部材４１Ｄ及び第５の接触部材４１Ｅは、この順に、エナメル線１２を厚み方向において挟んで上下方向に互い違いに配置されている。
【００５８】
また、第３の接触部材４１Ｃと、第４の接触部材４１Ｄ及び第５の接触部材４１Ｅとは、側面視（図５参照）において、構成要素（例えば、第１の接触部４１２の端部や第２の接触部４１４の端部、図５参照。）の一部が互いに重なる程度に近付けて配置してもよい。
【００５９】
すなわち、第３の接触部材４１Ｃの半径をＲ３とし、第４の接触部材４１Ｄの半径をＲ４とし、第５の接触部材４１Ｅの半径をＲ５とし、第３の接触部材４１Ｃの中心軸Ｏ３からエナメル線１２の上面１２ａａまでの距離（以下、「第３の距離」ともいう。）をＬ３とし、第４の接触部材４１Ｄの中心軸Ｏ４からエナメル線１２の下面１２ａｂまでの距離（以下、「第４の距離」ともいう。）をＬ４とし、第５の接触部材４１Ｅの中心軸Ｏ５からエナメル線１２の下面１２ａｂまでの距離（以下、「第５の距離」ともいう。）をＬ５としたとき、以下の関係式（２）や、関係式（３）を満たすように配置してよい。
Ｒ３＋Ｒ４＞Ｌ３＋Ｌ４・・・（２）
Ｒ３＋Ｒ５＞Ｌ３＋Ｌ５・・・（３）
【００６０】
次に、図５を参照して、第３の接触部材４１Ｃ、第４の接触部材４１Ｄ及び第５の接触部材４１Ｅの形状について説明する。図５は、第３の接触部材４１Ｃ、第４の接触部材４１Ｄ及び第５の接触部材４１Ｅの一例を概略的に示す図である。具体的には、図５は、図４に示す皮膜異常検出装置４から第３の接触部材４１Ｃ、第４の接触部材４１Ｄ及び第５の接触部材４１Ｅを抜き出して図４の図示左側から視た図である。
【００６１】
なお、図５では、説明の便宜上、第３の接触部材４１Ｃ、第４の接触部材４１Ｄ及び第５の接触部材４１Ｅが互いに同一の形状を有するとともに同一の方向を向くように配置され、かつ、第４の接触部材４１Ｄ及び第５の接触部材４１Ｅが、エナメル線１２の厚み方向において同一の位置に配置されている構成を例に挙げて説明する。また、第５の接触部材４１Ｅは、図５の紙面奥側において、第４の接触部材４１Ｄと重なって配置されているためその記載は省略する。以下、第３から第５の接触部材４１Ｃ，４１Ｄ，４１Ｅを代表して第４の接触部材４１Ｄについて詳細を説明するが、特に記述のない限り、第３の接触部材４１Ｃ及び第５の接触部材４１Ｅについても同様である。
【００６２】
図５に示すように、第４の接触部材４１Ｄの側面には、略Ｖ字型の形状を有する溝部４１０ａが形成されている。具体的には、溝部４１０ａは、第１の壁面４１２ａと、この第１の壁面４１２ａの第４の接触部材４１Ｄの中心側の一端と接続する第２の壁面４１４ａとにより構成されている。
【００６３】
換言すれば、第４の接触部材４１Ｄは、中心部側に向かって縮径する外周面を有する円錐台状の第１の接触部４１２と、第４の接触部材４１Ｄの長手方向の中央部においてこの第１の接触部４１２と連続的に接続するとともに、第４の接触部材４１Ｄにおける第１の接触部４１２と反対側の端部に向かって拡径する外周面を有する逆円錐台状の第２の接触部４１４とを一体に備えて構成されている。
【００６４】
なお、第１の接触部４１２の外周面は、溝部４１０ａの第１の壁面４１２ａを形成し，第２の接触部４１４の外周面は、溝部４１０ａの第２の壁面４１４ａを形成する。以下、第１の壁面４１２ａ及び第２の壁面４１４ａを特に区別して特定する必要が無い場合は、総称して単に「壁面４１２ａ，４１４ａ」ともいう。
【００６５】
第３の接触部材４１Ｃ及び第４の接触部材４１Ｄは、それぞれ２つの壁面４１２ａ，４１４ａがエナメル線１２の角部１２ｒに接触するように、エナメル線１２の厚み方向において互いに近付けて配置される。同様に、第３の接触部材４１Ｃ及び第５の接触部材４１Ｅは、それぞれの２つの壁面４１２ａ，４１４ａがエナメル線１２の角部１２ｒに接触するように、エナメル線１２の厚み方向において互いに近付けて配置される。
【００６６】
かかる構成によれば、エナメル線１２の角部１２ｒのいずれかに皮膜異常１２０が発生している場合、皮膜異常１２０から第３の接触部材４１Ｃの壁面４１２ａ，４１４ａに対して垂直な方向に変位が加えられる。そして、第３の接触部材４１Ｃは、支軸４６１の中心軸Ｏ６を支点とする回転する。なお、第３の接触部材４１Ｃがエナメル線１２の厚み方向に変位するメカニズムは、上述した第１の接触部材４１Ａと同様のため、説明の詳細は省略する。
【００６７】
なお、第３の接触部材４１Ｃ、第４の接触部材４１Ｄ及び第５の接触部材４１Ｅがいずれも同一の形状を有するものとして説明したが、エナメル線１２の撓みの量が所定の値以下に抑制できればよく、例えば、各接触部材の半径や、エナメル線１２の厚み方向における位置等は目的に応じて個別に適宜調整してよい。
【００６８】
次に、図６を参照して皮膜異常１２０の検出感度について説明する。図６（ａ）は、上述した実施の形態に係る皮膜異常検出装置４によって行われた皮膜異常１２０の検出結果の一例を示すグラフ図であり、（ｂ）は、図６の一部（円枠の領域）を拡大した図である。図６各図の横軸は、変位計４３から出力された電圧（Ｖ）（以下、単に「出力電圧」ともいう。）を示し、縦軸は、皮膜異常１２０の高さ（μｍ）（以下、「粒高さ」ともいう。）を示す。なお、図６各図に示す結果は、エナメル線１２を毎分約７．０ｍの速さで進行させて取得した。
【００６９】
図６（ａ）に示すように、少なくとも粒高さが０〜９００μｍの範囲において、出力電圧（Ｖ）と粒高さ（μｍ）との間の直線性が維持されることが確認された。また、図６（ｂ）に示すように、粒高さが１００μｍ以下の範囲においても、出力電圧（Ｖ）と粒高さ（μｍ）との間に一定の直線性が維持されることが確認された。すなわち、粒高さが１００μｍ以下の範囲においても、皮膜異常１２０の見逃し（以下、単に「検出漏れ」ともいう。）や過検出を抑制することができることを示している。
【００７０】
また、出力電圧についての閾値を適宜調整することにより、検出する皮膜異常１２０の大きさに対する所望の閾値を設定することができる。例えば、図６（ｂ）に示すように、出力電圧の閾値を０．１２Ｖとすると、この閾値に対応する粒高さ（２０μｍ）を、不良とするか良とするかを判定する基準値とする皮膜異常１２０の検出を行うことができる。
【００７１】
＜変形例＞
上述した第１のアーム部材４２を設けることは、必須ではない。第１のアーム部材４２を備えない皮膜異常検出装置４の変形例について図７及び図８を参照して説明する。図７は、皮膜異常検出装置４の一変形例を概略的に示す図である。図８は、第１の実施の形態に係る皮膜異常検出装置４の他の変形例を概略的に示す図である。
【００７２】
例えば、図７に示すように、ピックアップ部材４６の底部４６ｂが変位計４３の位置に配置されるよう、ピックアップ部材４６をエナメル線１２の進行方向の後方側に所定の範囲で延長してもよい。図７のように構成しても、第１の接触部材４１Ａのエナメル線１２の厚み方向の変位を増幅することができる。但し、第１のアーム部材４２を別途設ける方がピックアップ部材４６の重量を抑えることができ、皮膜異常１２０への荷重を抑制することができるため、皮膜異常１２０の高さを正確に測定、検出する点で好ましい。
【００７３】
また、例えば、図８に示すように、第２のアーム部材４４を短くすることによって、エナメル線１２の長手方向において、変位計４３がピックアップ部材４６の底部４６ｂの位置に配置されるように構成してもよい。図７に示す構成と比較してピックアップ部材４６のサイズが小さく重量が小さくなるため、皮膜異常１２０の高さをより正確に測定、検出する点で好ましい。但し、第１の接触部材４１Ａのエナメル線１２の厚み方向の変位を増幅できる点では、第１のアーム部材４２を別途設ける構成の方がより好ましい。
【００７４】
〔エナメル線１２の皮膜異常検出方法〕
本発明にかかる皮膜異常１２０の検出方法は、例えば、上述した皮膜異常検出装置４を用いて実行する。本発明にかかる皮膜異常１２０の検出方法は、エナメル線１２が所定の速度で一定の方向へ線状に移動する工程と、接触部材４１が移動中のエナメル線１２のエナメル皮膜１２ａの上面１２ａａ、下面１２ａｂ、及び４つの角部１２ｒのうち少なくとも１つ以上に接触する工程と、エナメル皮膜１２ａ上に発生した凸状の皮膜異常１２０と接触部材４１とが接触することにより皮膜異常１２０の高さに応じて接触部材４１がエナメル皮膜１２ａに対して変位する工程と、変位を増幅する工程と、増幅した変位を出力電圧に変換して検出することによって接触部材４１の変位の量を測定する工程と、出力電圧が所定の閾値を超えたときに皮膜異常１２０が発生していると判定する工程と、を含む。なお、上記実施の形態のフローにおいて、他の工程の追加、削除、変更、上記の工程の入替え等が可能である。
【００７５】
〔本発明の実施の形態の効果〕
本発明の実施の形態によれば、エナメル線１２の皮膜異常１２０の検出感度を向上させることができる。
【００７６】
具体的には、第２のアーム部材４４の先端側に変位計４３を設け、第１のアーム部材４２の先端部の厚み方向、あるいは幅方向などへの変位の量を測定するようにしたことによって、可動する接触部材（すなわち、第１の実施の形態における第１の接触部材４１Ａ、又は第２の実施の形態における第３の接触部材４１Ｃのこと。）の厚み方向、あるいは幅方向などへの変位を増幅させて測定することができる。これにより、皮膜異常１２０の検出感度がさらに向上し、より低い高さの皮膜異常１２０であっても検出することができる。
【００７７】
図９は、比較例における皮膜異常１２０の検出の一例を概略的に示す図であり、（ａ）は、皮膜異常１２０の検出方法を模式的に示し、（ｂ）は、検出漏れを引き起こす原因の一例を模式的に示す。図９（ａ）に示すように、比較例として、光源６から照射される照射光６０によって皮膜異常１２０を検出する従来の方法を例に挙げる。何らかの原因で搬送中のエナメル線１２に傾斜や捩れが生じているとき、図９（ｂ）に示すように、皮膜異常１２０が一定の大きさを有しない小さいものである場合、皮膜異常１２０がエナメル皮膜１２ａの側面１２ｂの陰になって照射光６０が皮膜異常１２０に当たらず、皮膜異常１２０を検出することができなくなる虞があった。
【００７８】
また、本発明の実施の形態によると、少なくとも２つ以上の接触部材４１でエナメル線１２を挟むようにしてエナメル線１２を搬送するため、エナメル線１２が何らかの原因で傾斜している場合や捩れている場合であっても、傾斜や捩れを解消しながら皮膜異常１２０の検出を行うことができる。そのため、図９に示す検出方法と比較して、照射光６０が皮膜異常１２０に当たらなくなることによって引き起こされ得る検出漏れを抑制することができる。
【００７９】
また、２つの接触部材４１のうち一方の接触部材４１が進行方向に対して垂直な方向に変位するため、２つの接触部材４１の軸間距離が皮膜異常１２０の高さに応じて変化することができる。これにより、皮膜異常１２０の高さが所定の値を超える場合であっても、皮膜異常１２０と接触部材４１との接触がエナメル線１２の搬送の障害となることを回避することができる。
【００８０】
なお、本発明は、上記実施の形態に限定されず種々に変形実施が可能である。例えば、導体１０は、平角線に限定されるものではなく、丸線、異形状の線等でもよい。また、上述の実施の形態では、皮膜異常１２０がエナメル皮膜１２ａの上面１２ａａに発生している場合を例に挙げて説明したが、下面１２ａｂに発生している場合であっても同様の方法で検出することができる。  
【００８１】
また、第１の実施の形態に係る構成と第２の実施の形態に係る構成とは、それぞれ別々の皮膜異常検出装置４として構成もよく、１つの皮膜異常検出装置４内に設けてもよい。１つの皮膜異常検出装置４内に第１の実施の形態に係る構成と第２の実施の形態に係る構成とを設けることにより、１つの皮膜異常検出装置４で、エナメル皮膜１２ａの上面１２ａａ、下面１２ａｂ、及び４つの角部１２ｒに発生している皮膜異常１２０をそれぞれ検出することができる。
【００８２】
また、必ずしも可動する接触部材４１Ａ，４１Ｃを、支軸４６１を支点とするとともに、エナメル皮膜１２ａの上面１２ａａと接する点を作用点として回転させて厚み方向、あるいは幅方向に変位させる構成に限られるものではなく、例えば、可動する接触部材４１Ａ，４１Ｃの長手方向における両端部を支持する支持部（不図示）を備え、皮膜異常１２０の高さに応じて可動する接触部材４１Ａ，４１Ｃを略水平に維持した状態で上側に変位する構成としてもよい。
【００８３】
また、第２の実施の形態において、第３の接触部材４１Ｃをエナメル線１２の厚み方向に可動させる構成に限られるものでなく、エナメル線１２の幅方向、すなわち横型の配置において水平方向に可動させる構成としてもよい。具体的には、第３から第５の接触部材４１Ｃ，４１Ｄ，４１Ｅを、各中心軸Ｏ３，Ｏ４，Ｏ５が鉛直方向と略平行となる向きとし、かつ、エナメル線１２を幅方向に挟んで上面視において互い違いになるように配置してもよい。この場合、エナメル線１２の幅方向は、第２の方向の一例である。但し、この場合は、第３の接触部材４１Ｃをエナメル線１２の側面１２ｂに押し付ける手段、例えばバネ等が必要となる。
【００８４】
また、上述の実施の形態では、接触部材４１をエナメル線１２の厚み方向において挟んで対向する位置に設ける場合に、鉛直方向の上側に第１の接触部材４１Ａ及び第３の接触部材４１Ｃを配置するとともに、鉛直方向の下側に第２の接触部材４１Ｂ、第４の接触部材４１Ｄ及び第５の接触部材４１Ｅを配置したが、上下を逆に配置してもよく、具体的には、第１の接触部材４１Ａや第３の接触部材４１Ｃを下側に配置し、第２の接触部材４１Ｂや第４及び第５の接触部材４１Ｄ，４１Ｅを上側に配置してもよい。また、同様に、接触部材４１をエナメル線１２の幅方向において挟んで対向する位置に設ける場合に、左右を逆に配置してもよい。
【００８５】
また、接触部材４１の数は、上述した２つや３つに限定されず、所望の検出感度に応じて適宜増加してもよい。また、支軸４６１を第１の接触部材４１Ａよりもエナメル線１２の進行方向の前方側に設ける構成を説明したが、支軸４６１を第１の接触部材４１Ａよりもエナメル線１２の進行方向の後ろ方側に設ける構成でもよい。
【符号の説明】
【００８６】
１…エナメル線の製造装置、１０…導体、１２…エナメル線、１２ａ…エナメル皮膜、１２ａａ…上面、１２ａｂ…下面、１２ｂ…側面、１２ｒ…角部、１２０…皮膜異常、２…塗料塗布部、３…焼付炉、４…皮膜異常検出装置、４１…接触部材、４１Ａ…第１の接触部材、４１Ｂ…第２の接触部材、４１Ｃ…第３の接触部材、４１Ｄ…第４の接触部材、４１Ｅ…第５の接触部材、４１ａ，４１Ａａ，４１Ｂａ…表面、４１０ａ…溝部、４１２…第１の接触部、４１２ａ…第１の壁面、４１４ａ…第２の壁面、４１４…第２の接触部、４２…第１のアーム部材、４２ａ…端面、４２１…突起部、４３…変位計、４３ａ…空間部、４４…第２のアーム部材、４５…台座部材、４５１…上腕部、４５２…前腕部、４６…ピックアップ部材、４６ａ…両端部、４６ｂ…底部、４６１…支軸、５ａ，５ｂ…ターンプーリ、６…光源、６０…照射光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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