(57)【要約】【課題】被乾燥物に付着する水分を低減する。【解決手段】乾燥装置１は、乾燥室１０と、乾燥室１０と隣接して設けられた分散室１２と、乾燥室１０に流動化ガスを供給する第１ガス供給部（散気管３４、流動化ガス供給源３６）と、分散室１２に流動化ガスを供給する第２ガス供給部（風箱６２、流動化ガス供給源３６）と、乾燥室１０と分散室１２とを仕切るオーバーフロー壁２４と、オーバーフロー壁２４の上方、もしくは、オーバーフロー壁２４自体に設けられ、乾燥室１０と分散室１２とを連通させる供給口３２と、分散室１２の内外を連通させ、供給口３２の最下部よりも上方に位置する投入口８６と、分散室１２内において投入口８６と供給口３２との間に位置し、供給口３２の最下部よりも下方まで延在し、分散室１２の底面から離隔して設けられる仕切り板７０と、を備える。【選択図】図２
2020085289.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乾燥室と、
前記乾燥室と隣接して設けられた分散室と、
前記乾燥室に流動化ガスを供給する第１ガス供給部と、
前記分散室に流動化ガスを供給する第２ガス供給部と、
前記乾燥室と前記分散室とを仕切るオーバーフロー壁と、
前記オーバーフロー壁の上方、もしくは、前記オーバーフロー壁自体に設けられ、前記乾燥室と前記分散室とを連通させる供給口と、
前記分散室の内外を連通させ、前記供給口の最下部よりも上方に位置する投入口と、
前記分散室内において前記投入口と前記供給口との間に位置し、前記供給口の最下部よりも下方まで延在し、前記分散室の底面から離隔して設けられる仕切り板と、
を備える乾燥装置。
【請求項２】
前記仕切り板に対して前記オーバーフロー壁とは反対側に設けられ、鉛直下方に向かって前記分散室内の水平断面積を漸減させる傾斜部をさらに備える請求項１に記載の乾燥装置。
【請求項３】
前記傾斜部は、水平面に対する角度が被乾燥物の安息角以上である請求項２に記載の乾燥装置。
【請求項４】
前記仕切り板と前記傾斜部の頂部との間の水平断面積と、前記仕切り板と前記オーバーフロー壁との間の水平断面積とが等しい請求項２または３に記載の乾燥装置。
【請求項５】
前記仕切り板の最下部は、前記傾斜部の頂部以下に位置する請求項２から４のいずれか１項に記載の乾燥装置。
【請求項６】
前記仕切り板の最下部は、前記傾斜部の最下部よりも前記オーバーフロー壁側に位置する請求項２から５のいずれか１項に記載の乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、乾燥装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、乾燥室内の被乾燥物を流動させて乾燥する流動層乾燥装置が開示されている。かかる技術では、乾燥室を形成するオーバーフロー堰を介して予備乾燥室が連設されている。被乾燥物の投入口は、予備乾燥室の上部に設けられており、予備乾燥室および乾燥室の両方に連通している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１−１１１１９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の技術では、被乾燥物の投入口が乾燥室にも連通しているため、投入された被乾燥物が予備乾燥室に十分に滞在せずに乾燥室に移動してしまうことがある。このため、かかる技術では、被乾燥物が十分に予備乾燥されないことがある。
【０００５】
本開示は、被乾燥物に付着する水分を低減することが可能な乾燥装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本開示の一態様に係る乾燥装置は、乾燥室と、乾燥室と隣接して設けられた分散室と、乾燥室に流動化ガスを供給する第１ガス供給部と、分散室に流動化ガスを供給する第２ガス供給部と、乾燥室と分散室とを仕切るオーバーフロー壁と、オーバーフロー壁の上方、もしくは、オーバーフロー壁自体に設けられ、乾燥室と分散室とを連通させる供給口と、分散室の内外を連通させ、供給口の最下部よりも上方に位置する投入口と、分散室内において投入口と供給口との間に位置し、供給口の最下部よりも下方まで延在し、分散室の底面から離隔して設けられる仕切り板と、を備える。
【０００７】
また、仕切り板に対してオーバーフロー壁とは反対側に設けられ、鉛直下方に向かって分散室内の水平断面積を漸減させる傾斜部をさらに備えてもよい。
【０００８】
また、傾斜部は、水平面に対する角度が被乾燥物の安息角以上であってもよい。
【０００９】
また、仕切り板と傾斜部の頂部との間の水平断面積と、仕切り板とオーバーフロー壁との間の水平断面積とが等しくてもよい。
【００１０】
また、仕切り板の最下部は、傾斜部の頂部以下に位置してもよい。
【００１１】
また、仕切り板の最下部は、傾斜部の最下部よりもオーバーフロー壁側に位置してもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本開示によれば、被乾燥物に付着する水分を低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】乾燥装置の構成を示す透視斜視図である。
【図２】乾燥装置の構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に添付図面を参照しながら、本開示の実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本開示を限定するものではない。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本開示に直接関係のない要素は図示を省略する。
【００１５】
図１は、乾燥装置１の構成を示す透視斜視図である。図２は、乾燥装置１の構成を示す断面図である。乾燥装置１は、石炭（例えば、褐炭）などの被乾燥物を流動化させて乾燥する。被乾燥物を流動化させる流動化ガスは、例えば、１００℃以上の蒸気である。図１および図２では、流動化ガスの流れの方向を実線の矢印で示している。また、図１および図２では、被乾燥物の流れの方向を一点鎖線の矢印で示している。また、図１および図２では、信号の流れの方向を破線の矢印で示している。なお、図１では、乾燥装置１内の被乾燥物の表記を省略している。
【００１６】
乾燥装置１は、乾燥室１０および分散室１２を含んで構成される。分散室１２は、水分を含んだ被乾燥物を予備的に乾燥（予備乾燥）する予備乾燥室である。乾燥室１０は、分散室１２で予備乾燥された被乾燥物をさらに乾燥（本乾燥）する本乾燥室である。
【００１７】
乾燥室１０は、本体２０およびテーパ部２２を含んで構成される。本体２０は、中空の箱状に形成されている。本体２０は、１個のオーバーフロー壁２４および３個の側壁２６により区画されている。オーバーフロー壁２４および側壁２６は、鉛直方向に延在している。分散室１２は、オーバーフロー壁２４を挟んで乾燥室１０に隣接して設けられている。オーバーフロー壁２４は、乾燥室１０と分散室１２とを仕切る。
【００１８】
側壁２６の頂部は、本体２０を塞ぐ天井部２８に接続されている。オーバーフロー壁２４は、鉛直方向の高さが側壁２６よりも低くなっており、天井部２８に接続されていない。つまり、オーバーフロー壁２４の頂部３０と天井部２８との間には、乾燥室１０と分散室１２とを連通させる供給口３２が形成されている。供給口３２の最下部は、オーバーフロー壁２４の頂部３０に相当し、供給口３２の最上部は天井部２８に相当する。オーバーフロー壁２４の頂部３０と天井部２８との離隔距離（供給口３２の開口高さ）は、被乾燥物の粒径よりも十分に長い。被乾燥物は、供給口３２を通じて、すなわち、オーバーフロー壁２４の頂部３０を超えて分散室１２から乾燥室１０に供給される。
【００１９】
テーパ部２２は、本体２０の下部に連続している。テーパ部２２は、鉛直下方に向かうにしたがって水平断面積が漸減する中空の角錐状に形成されている。テーパ部２２内における本体２０付近には、複数の散気管３４が設けられている。複数の散気管３４は、オーバーフロー壁２４と交差する方向（図１および図２の横方向）に、互いに平行して延在している。複数の散気管３４は、互いに離隔している。
【００２０】
散気管３４には、ボイラなどの流動化ガス供給源３６から流動化ガス（蒸気）が供給される。散気管３４は、流動化ガスを乾燥室１０内に供給する。つまり、散気管３４および流動化ガス供給源３６は、乾燥室１０に流動化ガスを供給する第１ガス供給部として機能する。乾燥室１０内に供給された流動化ガスは、乾燥室１０内を上昇し、乾燥室１０内の被乾燥物を流動化させる。これにより、乾燥室１０内の被乾燥物は、流動層を形成することとなる。また、乾燥室１０内に供給された流動化ガスは、乾燥室１０内の被乾燥物と接触することで、流動化ガスの熱によって被乾燥物を乾燥させる。
【００２１】
天井部２８の一部には、乾燥室１０の内外を連通させる開口部３８が設けられている。開口部３８には、配管３９が接続されている。配管３９は、例えば、サイクロンに接続される。乾燥室１０内を上昇した流動化ガスは、開口部３８を通じて配管３９（乾燥装置１外）に送出される。配管３９には、流動化ガスに同伴して、被乾燥物から発生する微小粒子（紛じん）が送出される。微小粒子を伴う流動化ガスは、配管３９を通じてサイクロンに送られる。サイクロンは、流動化ガスから微小粒子を除去する。微小粒子が除去された流動化ガスは、散気管３４等（後述の内管４０および風箱６２）に送られ、再利用される。
【００２２】
本体２０には、複数の内管４０が設けられている。複数の内管４０は、水平方向であり、散気管３４に交差する方向に、互いに平行して延在している。複数の内管４０は、鉛直方向および散気管３４の延在方向に、互いに離隔して並べられている。また、複数の内管４０は、散気管３４よりも鉛直上方であり、オーバーフロー壁２４の頂部３０よりも鉛直下方の範囲に配置されている。複数の内管４０の両端は、各々ヘッダ４２で集合されている。
【００２３】
複数の内管４０には、ヘッダ４２を通じて熱媒体が供給される。具体的に説明すると、複数の内管４０には、流動化ガス供給源３６から１００℃以上の蒸気が熱媒体として供給される。つまり、ここでは、蒸気を流動化ガスと熱媒体とで併用している。複数の内管４０は、乾燥室１０内の被乾燥物に熱媒体の熱を伝える。これにより、乾燥室１０では、散気管３４から供給される流動化ガスの熱と複数の内管４０を通じた伝熱とによって、被乾燥物が十分に加熱され、被乾燥物の乾燥が促進される。
【００２４】
テーパ部２２の下部は、フィーダ４４に接続されている。フィーダ４４は、例えば、ロータリーフィーダである。フィーダ４４には、複数の散気管３４の隙間を通じて鉛直下方に移動した被乾燥物が供給される。フィーダ４４は、乾燥された被乾燥物を乾燥装置１外に送出する（抜き出す）。
【００２５】
乾燥室１０には、乾燥室１０内の被乾燥物の層高（堆積高さ）を検出するレベルセンサ４６が設けられている。また、層高制御部４８は、中央処理装置（ＣＰＵ）、プログラム等が格納されたＲＯＭ、ワークエリアとしてのＲＡＭ等を含む半導体集積回路から構成される。層高制御部４８は、レベルセンサ４６の検出結果に基づいて、被乾燥物の送出量（フィーダ４４の回転量）を制御することで、乾燥室１０内の被乾燥物の層高を制御する。
【００２６】
分散室１２は、中空の箱状に形成されている。分散室１２は、乾燥室１０と共用のオーバーフロー壁２４、１個の前壁５０および２個の側壁５２により区画されている。オーバーフロー壁２４、前壁５０および側壁５２は、鉛直方向に延在している。
【００２７】
前壁５０の頂部および側壁５２の頂部は、乾燥室１０の側壁２６の頂部と同じ高さに位置する。前壁５０の頂部および側壁５２の頂部は、分散室１２を塞ぐ天井部５４に接続されている。分散室１２の天井部５４は、乾燥室１０の天井部２８に連続している。オーバーフロー壁２４は、鉛直方向の高さが前壁５０および側壁５２よりも低くなっており、天井部５４に接続されていない。
【００２８】
前壁５０は、オーバーフロー壁２４に対して対向方向に離隔して配置されている。換言すると、前壁５０は、後述する仕切り板７０に対してオーバーフロー壁２４とは反対側に設けられている。前壁５０は、鉛直部５６と傾斜部５８とから構成される。鉛直部５６は、前壁５０における上部に位置し、鉛直方向に延在している。傾斜部５８は、前壁５０における下部に位置し、鉛直部５６に連続している。以後、鉛直部５６と傾斜部５８との境界を、傾斜部５８の頂部６０と呼ぶことがある。傾斜部５８の頂部６０は、オーバーフロー壁２４の頂部３０よりも下方に位置する。
【００２９】
傾斜部５８は、鉛直下方に向かって分散室１２内の水平断面積を漸減させるように傾斜している。傾斜部５８は、水平面に対する傾斜角が被乾燥物の安息角以上となっている。具体的には、傾斜部５８は、水平面に対する傾斜角が約６０度となっている。
【００３０】
分散室１２の下方には、風箱６２が設けられる。風箱６２は、中空の箱状に形成されている。風箱６２の上部は、分散板６４で形成されている。分散板６４は、傾斜部５８の最下部６６に連続しており、分散室１２の底面としても機能する。分散板６４には、起立した複数のノズル６８が所定間隔で設けられている。ノズル６８には、被乾燥物の粒径よりも小さい径の開孔が設けられている。ノズル６８の開孔は、分散板６４を挟んで風箱６２内と分散室１２内とを連通させる。風箱６２には、流動化ガス供給源３６から流動化ガス（蒸気）が供給される。風箱６２は、流動化ガスを、複数のノズル６８を通じて分散室１２内に均一に供給する。つまり、風箱６２および流動化ガス供給源３６は、分散室に流動化ガスを供給する第２ガス供給部として機能する。
【００３１】
分散室１２内には、鉛直方向に延在する仕切り板７０が設けられている。仕切り板７０は、オーバーフロー壁２４に平行して設けられている。仕切り板７０の頂部７２は、前壁５０および側壁５２の頂部と同じ高さに位置しており、天井部５４に接続されている。仕切り板７０の頂部７２は、供給口３２の最上部（天井部２８、５４）と同じ高さに位置する。仕切り板７０は、オーバーフロー壁２４の頂部３０（供給口３２の最下部）よりも下方まで延在している。仕切り板７０は、一方の側壁５２から他方の側壁５２に亘って設けられている。
【００３２】
仕切り板７０は、分散室１２内における前壁５０側の領域とオーバーフロー壁２４側の領域とを区画する。以下、仕切り板７０と前壁５０との間の領域を、前壁側領域Ａ１と呼ぶことがある。また、仕切り板７０とオーバーフロー壁２４との間の領域を、オーバーフロー壁側領域Ａ２と呼ぶことがある。
【００３３】
仕切り板７０は、傾斜部５８より上方（鉛直部５６）の前壁側領域Ａ１の水平断面積と、オーバーフロー壁側領域Ａ２の水平断面積とが等しくなるように区画する。具体的には、仕切り板７０と傾斜部５８の頂部６０との間の水平断面積は、仕切り板７０とオーバーフロー壁２４との間の水平断面積と等しくなっている。
【００３４】
仕切り板７０の頂部７２の一部には、切欠き部７４が設けられている。切欠き部７４は、仕切り板７０のオーバーフロー壁２４側と前壁５０側とを連通させる。切欠き部７４は、頂部７２から所定深さだけ窪んでいる。所定深さは、例えば、１０ｍｍ（ミリメートル）程度であるが、この例に限らない。切欠き部７４は、頂部７２の稜線方向（一方の側壁５２から他方の側壁５２へ向かう方向）に延在している。切欠き部７４は、稜線方向の中央部と一方の側壁５２との間の一区間、および、稜線方向の中央部と他方の側壁５２との間の一区間に設けられている。つまり、頂部７２における稜線方向の中央部付近、および、両側壁５２付近には、切欠き部７４が設けられていない。仕切り板７０は、頂部７２における切欠き部７４が設けられていない中央部付近および両側壁５２付近において天井部５４に接続されている。
【００３５】
天井部５４における仕切り板７０よりも前壁５０側には、開口部７６が設けられている。開口部７６には、ホッパ８０が接続されている。ホッパ８０は、テーパ部８２およびスカート部８４を含む。テーパ部８２は、鉛直下方に向かうにしたがって水平断面積が漸減する中空の錐状に形成されている。スカート部８４は、中空の筒状に形成されており、鉛直方向に延在する。スカート部８４の一端は、テーパ部８２の下部に連続している。スカート部８４におけるテーパ部８２とは反対側端は、開口部７６を介して分散室１２内に挿入されている。
【００３６】
スカート部８４におけるテーパ部８２とは反対側端には、分散室１２内に開口する投入口８６が形成されている。投入口８６は、ホッパ８０を通じて分散室１２の内外を連通させる。投入口８６は、仕切り板７０の頂部７２よりも下方に位置する。具体的には、投入口８６は、仕切り板７０の切欠き部７４の下端よりも下方に位置する。また、投入口８６は、仕切り板７０よりも前壁５０側に位置する。換言すると、仕切り板７０は、投入口８６と供給口３２との水平方向の間に位置する。
【００３７】
分散室１２には、ホッパ８０および投入口８６を通じて、水分を含んだ被乾燥物（例えば、褐炭）が投入される。分散室１２には、例えば、単位時間あたり所定量（例えば、３０t／ｈなど）の被乾燥物が連続的に投入される。
【００３８】
仕切り板７０の最下部８８は、分散板６４（分散室１２の底面）から離隔している。分散室１２内における仕切り板７０の最下部８８よりも下方では、前壁側領域Ａ１とオーバーフロー壁側領域Ａ２とが連通している。このため、前壁側領域Ａ１に投入された被乾燥物は、仕切り板７０の最下部８８の下方を通じてオーバーフロー壁側領域Ａ２に移動可能となっている。仕切り板７０の最下部８８と分散板６４との離隔距離は、例えば、被乾燥物が仕切り板７０の最下部８８の下方を通過する際の摩擦抵抗が所定値以下となるように設定される。
【００３９】
このように、仕切り板７０は、分散室１２の下部において前壁側領域Ａ１とオーバーフロー壁側領域Ａ２とを連通させつつ、分散室１２の上部において前壁側領域Ａ１とオーバーフロー壁側領域Ａ２とを区画する。
【００４０】
また、仕切り板７０の最下部８８は、傾斜部５８の頂部６０以下に位置する。また、仕切り板７０の最下部８８は、傾斜部５８の最下部６６よりもオーバーフロー壁２４側に位置する。
【００４１】
上述のように、風箱６２には流動化ガスが供給される。風箱６２を通じて分散室１２に供給された流動化ガスは、分散室１２内を上昇し、分散室１２内の被乾燥物を流動化させる。これにより、分散室１２内の被乾燥物は、流動層を形成することとなる。また、分散室１２内に供給された流動化ガスは、分散室１２内の被乾燥物と接触することで、流動化ガスの熱によって被乾燥物を乾燥させる。分散室１２内の流動化ガスは、切欠き部７４、供給口３２および開口部３８を通じて配管３９に送出される。なお、分散室１２の天井部５４に、配管３９に接続される開口部が形成されてもよい。
【００４２】
分散室１２には、例えば、乾燥室１０に供給される流動化ガスと同じ条件の流動化ガスが供給される。ところが、分散室１２には、乾燥室１０とは異なり、流動抵抗の要因となる複数の内管４０が設けられていない。このため、分散室１２における空塔速度は、乾燥室１０における空塔速度よりも高くなる。空塔速度が高くなると、被乾燥物の分散性（被乾燥物と流動化ガスとの混合性）が高くなる。このため、分散室１２では、複数の内管４０がなくとも、流動化ガスで被乾燥物が予備乾燥される。なお、乾燥室１０では、複数の内管４０による伝熱が加わるため、空塔速度が低くても分散室１２以上に被乾燥物を乾燥させることができる。
【００４３】
次に、乾燥装置１の動作を説明する。被乾燥物は、投入口８６を通じて分散室１２の前壁側領域Ａ１に投入される。前壁側領域Ａ１に堆積された被乾燥物は、風箱６２を通じて供給された流動化ガスによって上方に押し上げられる。
【００４４】
ここで、前壁側領域Ａ１では、傾斜部５８の最下部６６から鉛直部５６に向かって水平断面積が漸増している。これにより、前壁側領域Ａ１における流動化ガスの速度は、鉛直上方に進むにしたがって低下する。つまり、前壁側領域Ａ１では、鉛直上方に向かうにしたがって、被乾燥物を上方に押し上げる力が低下する。
【００４５】
このため、押し上げられた被乾燥物のうち自重（粒径）が大きな粒子は、上層に到達する前に自重で落下する。落下した粒子は、傾斜部５８の斜面を転がり落ち、傾斜部５８の最下部６６付近において、再び流動化ガスによって上方に押し上げられる。このようにして、前壁側領域Ａ１では、図２の一点鎖線の矢印Ｂ１に示すように、被乾燥物の循環流が形成される。乾燥装置１では、分散室１２の前壁側領域Ａ１で被乾燥物が循環するため、被乾燥物と流動化ガスとの混合性がより高くなり、被乾燥物の乾燥がより促進される。
【００４６】
前壁側領域Ａ１で循環されて乾燥された被乾燥物の一部は、仕切り板７０の最下部８８の下方を通じてオーバーフロー壁側領域Ａ２に移動し、流動化ガスによって上方に押し上げられる。
【００４７】
上述のように、分散室１２では、鉛直部５６における前壁側領域Ａ１の水平断面積とオーバーフロー壁側領域Ａ２の水平断面積とが等しくなっている。これにより、分散室１２内の被乾燥物は、オーバーフロー壁側領域Ａ２の被乾燥物の層高と前壁側領域Ａ１の被乾燥物の層高とが等しくなるように流動する。具体的には、被乾燥物が投入されて前壁側領域Ａ１の層高が高くなると、両領域の層高が等しくなるように、仕切り板７０の最下部８８の下方を通じてオーバーフロー壁側領域Ａ２に移動する被乾燥物の量が増加する。これにより、オーバーフロー壁側領域Ａ２の層高が上昇する。
【００４８】
このとき、オーバーフロー壁側領域Ａ２の層高が、既に最大高さ（オーバーフロー壁２４の頂部３０）に達していた場合、図２の一点鎖線の矢印Ｂ２に示すように、被乾燥物がオーバーフロー壁２４を超えて乾燥室１０側に溢れる（オーバーフローする）。このように、被乾燥物は、オーバーフローによって分散室１２から乾燥室１０に供給される。このため、乾燥装置１では、オーバーフロー壁２４の頂部３０の稜線方向において、被乾燥物の乾燥室１０への供給量を均一にすることができる。
【００４９】
また、乾燥装置１では、投入口８６と供給口３２とが仕切り板７０によって隔てられている。このため、乾燥装置１では、被乾燥物が投入口８６から供給口３２に至るまでに時間がかかり、被乾燥物の分散室１２での滞在時間が長い。したがって、被乾燥物は、分散室１２で十分に予備乾燥される。具体的には、被乾燥物の表面に付着している水分（表面水分）が、分散室１２で十分に除去される。
【００５０】
乾燥室１０に供給された被乾燥物は、表面水分が除去されているため、複数の内管４０の外面に接触しても付着（固着）しない。このため、乾燥装置１では、付着した被乾燥物によって複数の内管４０の隙間が実質的に狭くなって被乾燥物の流動化が阻害される事態を防止できる。その結果、乾燥室１０内の被乾燥物は、流動化ガスと複数の内管４０とによって十分に本乾燥される。具体的には、乾燥室１０では、被乾燥物の内部の水分（固有水分）まで除去される。そして、本乾燥された被乾燥物は、散気管３４の隙間を通じてフィーダ４４に移動し、乾燥装置１外に送出される。
【００５１】
また、乾燥室１０内の被乾燥物の層高は、基本的には、複数の内管４０よりも高く制御されている。しかし、場合によっては、被乾燥物の層高が低くなり、複数の内管４０のうち一部の内管４０が被乾燥物の上層から露出することがある。内管４０が露出すると、供給口３２を通じて供給される被乾燥物が、露出した内管４０に直接的に接触することがある。乾燥装置１では、分散室１２で被乾燥物の表面水分が十分に除去されているため、乾燥室１０に供給される被乾燥物が内管４０に直接的に接触したとしても、被乾燥物が内管４０に付着しない。このため、乾燥装置１では、被乾燥物の層高が低くなったとしても、乾燥室１０内の被乾燥物の流動化が阻害される事態を防止できる。
【００５２】
以上のように、本実施形態の乾燥装置１では、分散室１２内において投入口８６と供給口３２との間に位置する仕切り板７０が設けられている。仕切り板７０は、供給口３２の最下部よりも下方まで延在し、分散室１２の底面から離隔している。つまり、本実施形態の乾燥装置１では、分散室１２の投入口８６と乾燥室１０の供給口３２とが、仕切り板７０で区切られており、直接的に連通していない。
【００５３】
このため、本実施形態の乾燥装置１では、被乾燥物が分散室１２に滞在する時間を長くすることができる。したがって、本実施形態の乾燥装置１によれば、被乾燥物を予備乾燥することで、被乾燥物に付着する水分を低減することが可能となる。その結果、本実施形態の乾燥装置１では、乾燥室１０内の複数の内管４０に被乾燥物が付着して流動化が阻害される事態を防止できる。
【００５４】
また、予備乾燥を行わない比較例の乾燥装置では、起動時において、乾燥済で保管されていた被乾燥物を乾燥装置に先に投入し、その後、水分を含む被乾燥物を乾燥装置に投入する必要があった。これに対し、本実施形態の乾燥装置１は、水分を含む被乾燥物を、起動開始から分散室１２に投入することができる。このため、本実施形態の乾燥装置１は、上述の比較例に比べ、乾燥装置１の起動にかかる時間を短縮することができる。
【００５５】
また、本実施形態の乾燥装置１では、仕切り板７０に対してオーバーフロー壁２４とは反対側の前壁５０に、鉛直下方に向かって分散室１２内の水平断面積を漸減させる傾斜部５８が形成されている。これにより、本実施形態の乾燥装置１では、前壁側領域Ａ１において被乾燥物の循環流を形成することができる。このため、本実施形態の乾燥装置１では、被乾燥物を十分に予備乾燥することが可能となる。
【００５６】
また、本実施形態の乾燥装置１では、傾斜部５８の水平面に対する角度が被乾燥物の安息角以上となっている。このため、本実施形態の乾燥装置１では、前壁側領域Ａ１における被乾燥物を十分に循環させることができる。
【００５７】
また、本実施形態の乾燥装置１では、仕切り板７０と傾斜部５８の頂部６０との間の水平断面積と、仕切り板７０とオーバーフロー壁２４との間の水平断面積とが等しい。これにより、本実施形態の乾燥装置１では、前壁側領域Ａ１の圧損とオーバーフロー壁側領域Ａ２の圧損との差を最小限とすることができる。このため、本実施形態の乾燥装置１では、被乾燥物を分散室１２から乾燥室１０に円滑に供給することが可能となる。
【００５８】
また、本実施形態の乾燥装置１では、仕切り板７０の最下部８８が傾斜部５８の頂部６０以下に位置している。このため、本実施形態の乾燥装置１では、前壁側領域Ａ１における被乾燥物を十分に循環させることができる。
【００５９】
また、本実施形態の乾燥装置１では、仕切り板７０の最下部８８が傾斜部５８の最下部６６よりもオーバーフロー壁２４側に位置している。このため、本実施形態の乾燥装置１では、前壁側領域Ａ１における被乾燥物を十分に循環させることができる。
【００６０】
以上、添付図面を参照しながら実施形態について説明したが、本開示は上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本開示の技術的範囲に属するものと了解される。
【００６１】
例えば、上記実施形態では、供給口３２がオーバーフロー壁２４の上方（オーバーフロー壁２４の頂部３０と天井部２８との間）に設けられていた。しかし、供給口３２は、オーバーフロー壁２４自体に設けられてもよい。つまり、供給口３２は、オーバーフロー壁２４における鉛直方向の一部の区間において形成されてもよい。この態様においても、被乾燥物は、オーバーフロー壁２４自体に設けられた供給口３２の最下部からオーバーフローして乾燥室１０に移動可能である。なお、この場合、オーバーフロー壁２４の頂部３０は天井部２８に接続されてもよい。
【００６２】
また、上記実施形態では、仕切り板７０の頂部７２に切欠き部７４が設けられていた。しかし、切欠き部７４が仕切り板７０に設けられていなくともよい。
【００６３】
また、上記実施形態において、投入口８６は、仕切り板７０の頂部７２よりも下方に位置していた。しかし、投入口８６は、仕切り板７０の頂部７２と同じ高さに位置してもよい。つまり、投入口８６は、仕切り板７０の頂部７２以下であり、供給口３２の最下部よりも上方に位置してもよい。
【００６４】
また、上記実施形態において、仕切り板７０の頂部７２は、供給口３２の最上部と同じ高さに位置していた。しかし、仕切り板７０の頂部７２は、供給口３２の最上部よりも上方に位置してもよい。
【００６５】
また、仕切り板７０は、仕切り板７０と傾斜部５８の頂部６０との間の水平断面積と、仕切り板７０とオーバーフロー壁２４との間の水平断面積とが異なるように、前壁５０側あるいはオーバーフロー壁２４側に偏った位置に配置されてもよい。
【００６６】
また、仕切り板７０の最下部８８は、傾斜部５８の頂部６０よりも上方に位置してもよい。また、仕切り板７０の最下部８８は、傾斜部５８の最下部６６よりも前壁５０側に位置してもよい。
【００６７】
また、傾斜部５８は、水平面に対する角度が被乾燥物の安息角よりも小さくてもよい。また、傾斜部５８の頂部６０は、オーバーフロー壁２４の頂部３０より上方に位置してもよい。また、傾斜部５８が前壁５０に設けられていなくてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００６８】
本開示は、乾燥装置に利用することができる。
【符号の説明】
【００６９】
１  乾燥装置
１０  乾燥室
１２  分散室
２４  オーバーフロー壁
３０  頂部
３２  供給口
５０  前壁
５８  傾斜部
６０  頂部
６６  最下部
７０  仕切り板
７２  頂部
８６  投入口
８８  最下部
【図１】
2020085289.tif 000003
【図２】
2020085289.tif 000004