(57)【要約】【課題】基板を載置する際に生じるキズ等の損傷を抑制し、且つ、複数の大きさの基板に対応できる基板用載置台を提供すること。【解決手段】基板用載置台は、基板を載置する基板用載置台であって、平面視において基板の外径より大きい底部と、底部の上側に設けられて基板の外周部を支持する３つ以上の支持部と、を備え、３つ以上の支持部はそれぞれ平面視における底部の中央部分を通る鉛直方向の軸線に対して放射状に配置され、且つ、軸線の方向に向かうにつれて下方に傾斜する傾斜部を有し、傾斜部により基板の外周部を支持する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置する基板用載置台であって、
平面視において前記基板の外径より大きい底部と、
前記底部の上側に設けられて前記基板の外周部を支持する３つ以上の支持部と、を備え、
前記３つ以上の支持部はそれぞれ平面視における前記底部の中央部分を通る鉛直方向の軸線に対して放射状に配置され、且つ、前記軸線の方向に向かうにつれて下方に傾斜する傾斜部を有し、前記傾斜部により前記基板の外周部を支持する基板用載置台。
【請求項２】
前記傾斜部の角度は、水平面に対して１０°〜５０°である請求項１に記載の基板用載置台。
【請求項３】
前記傾斜部は、表面に弾性体を有する請求項１又は請求項２に記載の基板用載置台。
【請求項４】
前記支持部は、平面視において矩形状である請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の基板用載置台。
【請求項５】
前記支持部は、平面視において扇状である請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の基板用載置台。
【請求項６】
前記３つ以上の支持部は、それぞれ平面視において前記軸線の軸周り方向において等間隔で設けられる請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の基板用載置台。
【請求項７】
前記３つ以上の支持部は、互いに同一の形状である請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の基板用載置台。
【請求項８】
前記３つ以上の支持部は、平面視において互いに前記中央部分に対して回転対称に配置される請求項７に記載の基板用載置台。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板載置台に関する。
【背景技術】
【０００２】
タンタル酸リチウム（ＬＴ）単結晶基板やニオブ酸リチウム（ＬＮ）単結晶基板は、主に携帯電話、スマートフォン、タブレット端末等の通信機器の送受信用のデバイスに用いられる表面弾性波（ＳＡＷ）フィルターの基板材料として使用されている。上記ＳＡＷフィルターはＬＴ、ＬＮ等の圧電材料で構成された基板上にＡｌ、Ｃｕ合金等の金属薄膜で一対の櫛形電極を形成した構造となっており、この櫛形電極がデバイスの特性を左右する重要な役割を担っている。上記櫛形電極は、圧電材料上にスパッタにより金属薄膜を形成した後、一対の櫛形パターンを残しフォトリソグラフ技術により不要な部分をエッチング除去することにより形成される。このため、ＬＴ、ＬＮ等の圧電材料で構成された基板の表面は、キズや異物の付着等が無いように厳しい管理が必要とされている。
【０００３】
ＬＮ、ＬＴの単結晶は、産業的には、主にチョクラルスキー法で、通常、高融点の貴金属ルツボを用い、電気炉中で育成され所定の冷却速度で冷却された後、電気炉から取り出されて製造される。育成後、結晶の熱応力による残留歪みを取り除くため、融点に近い均熱下で熱処理を行い、更に単一分極とするためのポーリング処理、すなわち、ＬＴ結晶を室温からキュリー温度以上の所定温度まで昇温し、結晶に電圧を印加し、電圧を印加したままキュリー温度以下の所定温度まで降温した後、電圧印加を停止して室温まで冷却する一連の処理を行う。ポーリング処理後、結晶の外形を整えるために外周研削され円柱状の結晶を得る。この円柱状の結晶よりウエハー状の単結晶基板へ加工する。円柱状の結晶よりウエハー状の単結晶基板の加工する手順は、例えば、化合物半導体の基板ではあるが、下記の特許文献１に開示されている。ＬＴ、ＬＮの単結晶基板も、特許文献１に記載される加工の手順と同様に、スライス、円形加工（べベル加工）、ラッピング、エッチング、ポリッシュ工程等の機械加工を経て、ＬＮ、ＬＴ単結晶基板となる。完成した単結晶基板の表面は、ポリッシュ加工により鏡面加工が施されており、鏡面加工が施された面には、キズ等の損傷及び異物がないように厳しく管理する必要があり、外観検査が行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１８２１３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記したＬＴ、ＬＮの単結晶基板の外観検査では、特にＳＡＷフィルターにおいて櫛形電極が形成される面がポリッシュ加工により鏡面加工されているため、この面を中心に外観検査が行われる。外観検査は、検査内容や範囲を絞って行うことで自動検査化が進んでいるが、目視による全数外観検査も行われている。このような目視検査では、例えば、複数の単結晶基板が保管されているウエハーケースより基板を１枚ずつ取り出し、基板１枚毎に表裏面を目視で観察することにより、キズ等の損傷の有無、異物の有無等が確認される。検査が終了した基板は、別のウエハーケースに収納される。この検査時、検査を一時中断することがある。この時、検査中の単結晶基板を基板用載置台（載置台）に載せていた。従来の載置台は、底板に３ヶ所の突起を設置し、この突起で単結晶基板を支える構成であった。
【０００６】
近年、酸化物単結晶、特にＬＴやＬＮなどの単結晶基板においては表面弾性波デバイス材料として市場が拡大しており、生産量を確保のため単結晶の大口径化が進められている。単結晶基板の大口径化により、例えば、８インチ径の単結晶基板では従来４インチの単結晶基板に比べ重量が格段に重くなり、従来の載置台では突起部と接触しているためキズが発生しやすい状況であった。また、外観検査工程では、口径（サイズ）が異なる単結晶基板を複数検査するケースも増加している。このようなケースでは、従来の載置台は特定のサイズの基板用であったため、基板の口径に合わせて載置台を交換する必要があり、手間及びコストがかかっていた。
【０００７】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであり、基板を載置する際に生じるキズ等の損傷を抑制し、且つ、複数の大きさの基板に対応できる基板用載置台を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の態様では、基板を載置する基板用載置台であって、平面視において基板の外径より大きい底部と、底部の上側に設けられて基板の外周部を支持する３つ以上の支持部とを備え、３つ以上の支持部はそれぞれ平面視における底部の中央部分を通る鉛直方向の軸線に対して放射状に配置され、且つ、軸線の方向に向かって下方に傾斜する傾斜部を有し傾斜部により基板の外周部を支持する基板用載置台が提供される。
【０００９】
また、傾斜部の角度は、水平面に対して１０°〜５０°でもよい。また、傾斜部は、表面に弾性体を有する構成でもよい。また、支持部は、平面視において矩形状である構成でもよい。また、支持部は、平面視において扇状である構成でもよい。また、３つ以上の支持部は、それぞれ平面視において、軸線の軸周り方向において等間隔で設けられる構成でもよい。また、３つ以上の支持部は、互いに同一の形状である構成でもよい。また、３つ以上の支持部は、平面視において互いに中央部分に対して回転対称に配置される構成でもよい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の態様の基板用載置台によれば、基板を載置する際に生じるキズ等の損傷を抑制し、且つ、複数の大きさの基板に対応できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】第１実施形態に係る基板用載置台の一例を示す斜視図である。
【図２】図１の基板用載置台の上面図である。
【図３】図２に示すＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図４】（Ａ）及び（Ｂ）は、基板用載置台の使用例を示す図である。
【図５】第２実施形態に係る基板用載置台の一例を示す斜視図である。
【図６】（Ａ）及び（Ｂ）は、第２実施形態の支持部の一例を示す図であり、（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は（Ａ）に示すＣ−Ｃ線に沿った断面図である。
【図７】支持部の変形例を示す上面図である。
【図８】支持部の変形例を示す上面図である。
【図９】支持部の変形例を示す上面図である。
【図１０】ベース及び底部の変形例を示す上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。ただし、本発明はこれに限定されない。また、図面においては実施形態を説明するため、一部分を大きく又は強調して記載するなど適宜縮尺を変更して表現している。また、以下の各図において、ＸＹＺ座標系を用いて図中の方向を説明する。このＸＹＺ座標系においては、鉛直方向をＺ方向とし、水平方向をＸ方向、Ｙ方向とする。また、Ｘ方向、Ｙ方向、及びＺ方向のそれぞれについて、適宜、矢印の先の側（方向）を＋側（方向）（例、＋Ｘ側（方向））と称し、その反対側（方向）を−側（方向）（例、−Ｘ側（方向））と称す。なお、本明細書において、数値等の範囲を「Ａ〜Ｂ」と記載した場合、「Ａ以上、Ｂ以下」であることを意味する。
【００１３】
［第１実施形態］
図１から図３は、第１実施形態に係る基板用載置台（以下、「載置台」と略す。）の一例を示す図である。図１は、斜視図である。図２は、上方（＋Ｚ側）から見た時の上面図である。図３は、図２に示すＡ−Ａ線に沿った断面図である。なお、本実施形態では、図２に示すＢ−Ｂ線に沿った断面図も図３と同様の断面図となる。
【００１４】
本実施形態の載置台１は、図１から図３に示すように、基板Ｓを載置する基板用載置台である。載置台１は、ＬＴ、ＬＮ等の単結晶の圧電材料で構成された基板Ｓを載置することができる。なお、本実施形態の載置台１を適用できる基板Ｓの材料は、限定されない。載置台１は、例えば、基板Ｓを仮置きする際に用いられる仮置き台としても用いることができる。ＬＴ、ＬＮ等の単結晶の基板Ｓは、大きさ（直径）が４インチ、６インチが主流であるが、最近では、８インチのサイズも使用される。このため、基板の載置台１は、少なくとも４インチ〜８インチの基板Ｓが共用で使用できることが望まれる。本実施形態の載置台１は、少なくとも４インチ〜８インチの基板Ｓを載置することができる。なお、本実施形態では、基板Ｓの形状が円板状である例を示すが、基板Ｓの形状は円板状に限定されない。
【００１５】
載置台１は、ベース２と、底部３と、３つ以上の支持部４と、を備える。３つ以上の支持部４は、それぞれ、底部３の上側（＋Ｚ側）に設けられ、基板Ｓを支持する。以下、個別に説明する。
【００１６】
ベース２は、底部３の下側に設けられる。ベース２は、載置台１において、机などに設置される部分である（図３参照）。ベース２は、底部３の下側に人間の指を挿入可能な空間部ＳＰを形成する形状に形成されている。この空間部ＳＰは、使用者が載置台１を把持する際の把持部６に利用される。把持部６は、底部３の下面と空間部ＳＰとにより構成され、使用者は空間部ＳＰに指を入れて底部３の下面を支持することにより、載置台１を把持することができる。載置台１が把持部６を備えることにより、使用者は載置台１を容易且つ安定した状態で把持することができる。本実施形態では、ベース２は、平面視（＋Ｚ側から見た時）において、底部３よりも小さいサイズに設定される。ベース２は、円板状である。ベース２の平面視における中心は、底部３の平面視における中心Ｃ１とほぼ同じ位置になるように配置されており、ベース２は底部３を安定して支持することができる。ベース２の平面視の大きさ、及び、厚さは、それぞれ、任意である。
【００１７】
ベース２の材料は、特に限定されず任意であり、例えば、ＰＥＥＫ（登録商標）等の樹脂材料を用いてもよい。なお、ベース２の構成は、上記した例に限定されない。ベース２の他の例については後述する。また、ベース２は任意の構成であり、載置台１はベース２を備えなくてもよい。例えば、載置台１は、ベース２を備えずに、底部３が設置される構成でもよい。また、使用者が載置台１を把持する把持部６は、上記した空間部ＳＰを用いる構成に限定されず、例えば、底部３に設けた取手とする構成でもよい。
【００１８】
底部３は、その上側において、３つ以上の支持部４を支持する。底部３は、平面視において、円形状である。底部３は、平面視において、基板Ｓの外径より大きいサイズである。底部３は、板状である。底部３の平面視の大きさ、及び、厚さは、それぞれ、任意である。底部３の上面及び下面は、ほぼ水平に形成されている。なお、底部３の構成は、上記した例に限定されず、任意に設定可能である。底部３の他の例については後述する。
【００１９】
支持部４は、３つ以上設けられる。本実施形態では、支持部４が４つ設けられる例を説明するが、支持部４の個数は、３つ以上であれば、限定されない。支持部４の個数の他の例については後述する。
【００２０】
本実施形態では、３つ以上の支持部４（各支持部４）は、互いに同一の形状である。各支持部４は、底部３に対して着脱可能に設けられてもよいし、固定されてもよい。例えば、各支持部４と底部３とは、嵌め合わせ機構等により着脱可能な構成となっている。各支持部４の形状が互いに同一の形状の場合、部品の共通化ができるため、製造コストを安くすることができ、また、支持部４を着脱可能な構成である場合に、支持部４の組み立て作業を簡単にすることができる。
【００２１】
本発明の支持部４の形状は限定されない。本実施形態の各支持部４の形状は、平面視において矩形状である。各支持部４の厚みＬ１（図２参照）は、特に限定はないが、例えば１０ｍｍ〜３０ｍｍに設定することが好ましい。また、各支持部４における角部は、基板Ｓと接触した際のキズ（損傷）の発生を抑制するため、Ｃ面あるいはＲ面を設ける等の面取りされた形状とするのが好ましい。
【００２２】
各支持部４は、それぞれ、平面視における底部３の中央部分ＣＰを通る鉛直方向の軸線ＡＸ１（以下、軸線ＡＸ１と略す）に対して、放射状に配置される。なお、本明細書において「中央部分ＣＰ」とは、平面視において底部３の外縁よりも、底部３の中心に近い部分を意味する。また、本明細書において「放射状」とは、底部３の軸線ＡＸ１側から底部３の外周方向に延びることを意味し、厳密に軸線ＡＸ１から底部３の外周方向に延びることを意味するものではない。本実施形態の載置台１では、中央部分ＣＰは、底部３の中心Ｃ１と同一に設定されている。中央部分ＣＰが底部３の中心Ｃ１に近い場合、載置台１の構造を安定にすることができる。
【００２３】
各支持部４は、軸線ＡＸ１に対して放射状に均等に配置されることが好ましい。各支持部４は、底部３の軸線ＡＸ１周りの方向において、等間隔に配置するのが好ましい。本実施形態では、各支持部４は、平面視において、軸線ＡＸ１周りに９０°間隔で底部３に配置されている。各支持部４は、平面視において、底部３の中央部分ＣＰに対して、互いに回転対称に配置されている。各支持部４が上記のように均等（等間隔）に配置される構成の場合、基板Ｓを均等な位置で支持するので、基板Ｓを安定した状態で支持することができる。
【００２４】
支持部４は、傾斜部７を有する。傾斜部７は、軸線ＡＸ１側（底部３の内側）に向かって上方から下方に傾斜する。本実施形態の傾斜部７は、軸線ＡＸ１の反対側から軸線ＡＸ１側に向かうにつれて徐々に下方に傾斜する。この傾斜部７に基板Ｓが支持される。傾斜部７により基板Ｓを支持する場合、基板Ｓを基板Ｓの外周部で支持することができる。基板Ｓを外周部で支持する場合、基板Ｓの両端面を傾斜部７に接触させずに基板Ｓを支持するので、基板Ｓの端面におけるキズ等の損傷の発生及び異物の付着を抑制することができる。
【００２５】
傾斜部７の配置及び形状は、載置する対象の基板Ｓのサイズ（大きさ）に応じて設定される。例えば、単結晶の基板Ｓは、上述したように、４インチ〜８インチ径（約１０１．６ｍｍ〜２０３．２ｍｍ）が扱われているため、この範囲の大きさの基板Ｓが載置できるように傾斜部７の配置及び形状を設定する。これにより、一台の載置台１で、径の異なる基板Ｓを共通して使用することが可能となる。本実施形態では、各支持部４において、傾斜部７の下端から軸線ＡＸ１までの距離Ｌ２（図３参照）は、対象とする基板Ｓの最少のサイズに応じて任意に設定可能である。例えば、本実施形態では、４インチ〜８インチ径（約１０１．６ｍｍ〜２０３．２ｍｍ）の基板Ｓを対象とするため、距離Ｌ２は、４５ｍｍ以下に設定される。また、本実施形態では、各支持部４において、傾斜部７の上端から軸線ＡＸ１までの距離Ｌ３（図３参照）は、対象とする基板Ｓの最大のサイズに応じて任意に設定可能である。例えば、本実施形態では、４インチ〜８インチ径の基板Ｓを対象とするため、距離Ｌ３は、１０５ｍｍ以上に設定される。
【００２６】
本実施形態の傾斜部７は、水平面に対して一定の角度で傾斜する。本実施形態の傾斜部７は、平面状に形成されている。傾斜部７の傾斜の角度θ１は、水平面に対して１０°〜５０°が好ましく、３０°〜４５°であるのがより好ましい。上記の傾斜の角度θ１が５０°を超える場合、基板Ｓを載置した時に、傾斜部７の傾斜が急なため、基板Ｓが滑り落ちる可能性がある。また、角度θ１が５０°を超える場合、径の大きい基板Ｓを載置する際に、基板Ｓが高い位置に載置されるため、基板Ｓを安定した状態で載置することが困難になる場合もある。また、上記の傾斜の角度θ１が１０°未満である場合、基板Ｓのたわみにより、基板Ｓと傾斜部７が接触して、キズ（損傷）が発生する可能性がある。なお、傾斜部７は、水平面に対して一定の角度で傾斜しない構成でもよい。例えば、傾斜部７の水平面に対する角度は、傾斜部７の部位によって異なっていてもよい（可変でもよい）。なお、傾斜部７は、平面状に形成されてなくてもよい。例えば、後述する第２実施形態の傾斜部７Ａのように曲面状に形成されてもよい。
【００２７】
また、支持部４の傾斜部７の下端は、底部３の上面から所定の間隔Ｄ１となるように設定されるのが好ましい（図３参照）。傾斜部７の下端と底部３とを所定の間隔Ｄ１とすることで、基板Ｓを載置する際あるいは載置した基板Ｓを取り外す際に、使用者の指が基板Ｓの下側に入り込みやすくなるので、作業性を向上させることができる。例えば、上記の間隔Ｄ１は、３０ｍｍ〜５０ｍｍに設定することが好ましい。また、傾斜部７の上端は、底部３の上面から、１５０ｍｍ以下に設定するのが好ましい。傾斜部７の上端を上記範囲に設定することにより、基板Ｓを安定して載置（支持）することができる。
【００２８】
また、傾斜部７の表面には、弾性体８を設けてもよい（図３参照）。弾性体８は、天然ゴム、合成ゴム等のゴム材料を用いることができ、例えば、シリコンゴムであるのが好ましい。弾性体８を設けることで、基板Ｓの滑り及びキズ（損傷）の発生を抑制することができる。なお、弾性体８を設けるか否かは、任意である。
【００２９】
なお、底部３及び支持部４の材質は、特に限定されないが、底部３及び支持部４の材質は、基板Ｓが接触した際のキズ（損傷）の発生を抑制する観点から、樹脂製が好ましい。例えばＰＥＥＫ材を使用することが好ましい。
【００３０】
上記した本実施形態の載置台１の使用態様について説明する。図４（Ａ）及び（Ｂ）は、載置台１の使用例について説明する図である。本実施形態の載置台１は、上述したようにサイズの異なる基板Ｓを載置することができる。例えば、本実施形態の載置台１は、４インチから８インチの基板Ｓ（４インチの基板Ｓ１（図４（Ａ）参照）、６インチの基板Ｓ（図３参照）、８インチの基板Ｓ２（図４（Ａ）参照））を載置することができる。また、本実施形態の載置台１は、基板Ｓの滑りを抑制する弾性体８を備えるので、図４（Ｂ）に示すように、基板Ｓが水平面から傾いた状態で載置することもできる。
【００３１】
以上説明したように、本実施形態の載置台１は、基板Ｓを載置する基板用載置台であって、平面視において、基板Ｓの外径より大きい底部３と、底部３の上側に設けられて、基板Ｓの外周部を支持する３つ以上の支持部４と、を備え、３つ以上の支持部４は、それぞれ、平面視における底部３の中央部分ＣＰを通る鉛直方向の軸線ＡＸ１に対して放射状に配置され、且つ、軸線ＡＸ１の方向に向かうにつれて下方に傾斜する傾斜部７を有し、傾斜部７により基板Ｓの外周部を支持する。本構成の載置台１によれば、基板Ｓを載置する際に生じるキズ等の損傷を抑制し、且つ、複数の大きさの基板Ｓに対応できる。なお、本実施形態の載置台１において、上記した構成以外の構成は、任意の構成であり、なくてもよい。
【００３２】
［第２実施形態］
第２実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を適宜省略あるいは簡略化する。また、本明細書の実施形態において説明する事項のうち、本実施形態に適用可能な構成は、適宜本実施形態でも適用する。
【００３３】
図５は、第２実施形態の載置台１Ａを示す上面図である。図６（Ａ）及び（Ｂ）は、第２実施形態の載置台１Ａの支持部４Ａを示す図である。図６（Ａ）は、斜視図である。図６（Ｂ）は、図６（Ａ）に示すＣ−Ｃ線に沿った水平面の断面図である。第２実施形態の載置台１Ａは、第１実施形態の載置台１の支持部４を支持部４Ａに代えた以外は、第１実施形態の載置台１の構成と同様である。
【００３４】
本発明において、支持部は、第１実施形態の支持部４の形状に限定されない。第２実施形態の支持部４Ａの形状は、図５に示すように、平面視において、扇状（扇形状）にしてもよい。本実施形態の載置台１Ａは、平面視において扇状である３つの支持部４Ａを備える。各支持部４Ａは、第１実施形態の支持部４と同様に、互いに、同一の形状である。各支持部４Ａは、それぞれ、軸線ＡＸ１に対して、放射状に均等に配置される。各支持部４Ａは、平面視において、軸線ＡＸ１周りに１２０°間隔で底部３に配置されている。各支持部４Ａは、平面視において、底部３の中央部分ＣＰに対して回転対称に配置されている。なお、支持部４Ａは４つ以上でもよい。
【００３５】
支持部４Ａは、図６（Ａ）に示すように、円錐の一部を構成する形状を有する。支持部４Ａは、円錐を分割した形状である。図６（Ｂ）に示すように、支持部４Ａの水平面の断面は、扇状である。すなわち、傾斜部７Ａの形状は曲面状である。なお、図６（Ｂ）に示した以外の高さにおける支持部４Ａの水平面の断面も、扇状である。
【００３６】
なお、傾斜部７Ａの水平面に対する角度θ３（図６（Ａ）参照）は、第１実施形態の角度θ１と同様である。傾斜部７Ａの表面には弾性体８が設けてもよい。また、各角部は第１実施形態と同様に面取りされた形状である。また、支持部４Ａ（傾斜部）と軸線ＡＸ１との距離Ｌ２、Ｌ３も第１実施形態と同様である。傾斜部７の下端と底部３との間隔Ｄ１も第１実施形態と同様である。
【００３７】
基板Ｓを載置する際、第１実施形態の支持部４のように形状が板状の場合、板状の角部に基板Ｓが接触する可能性がある。本実施形態の載置台１Ａでは、支持部４Ａの形状を上記のように扇状にすることで、基板Ｓと支持部４Ａが接触する部分以外の部分は曲面上となり（図６（Ａ）、（Ｂ）参照）、基板Ｓと支持部４Ａが接触する部分以外の部分が、基板Ｓと支持部４Ａとが接触する部分から徐々に離れるように設定される。このため、上記した角部との接触を防止することができる。支持部４Ａを平面視した時の扇形の中心角（開き角度）θ２は、３０°〜１２０°に設定するのが好ましい。図５に示す支持部４Ａは、中心角θ２が９０°の例を示している。上記の中心角θ２が１２０°を超える場合、開き角度が大きくなるため、他の支持部４Ａとの間隔が狭くなり、その結果、作業性が悪化する場合もある。上記の中心角θ２が３０°未満の場合、開き角度が小さくなり、基板Ｓが上記のように角部に接触する可能性があるため、好ましくない。
【００３８】
以上説明したように、本実施形態の載置台１Ａは、上記した平面視において扇状である支持部４Ａを備えている。これにより、基板Ｓを載置する際に生じるキズ等の損傷を効果的に抑制することができる。
【実施例】
【００３９】
以下、本発明の実施例について具体的に説明する。なお、本発明は実施例によって何ら限定されるものではない。
【００４０】
［実施例１］
実施例１の載置台として、第１実施形態と同様の載置台１を作成した。実施例１では、径が４インチ〜８インチ（約１０１．６ｍｍ〜２０３．２ｍｍ）の基板Ｓを載置可能な載置台とした。実施例１では、底部３は、外径φ２４０ｍｍ、厚み１０ｍｍ（Ｚ方向の寸法）とし、ＰＥＥＫ材により作成した。支持部４は、平面視において矩形で、底部３の中心軸ＡＸ１に対し、内径がφ８０ｍｍ、外径がφ２３０ｍｍになるように、放射状に４つ、それぞれ均等に設置した。支持部４の幅（図２に示すＬ１）は１０ｍｍとし、傾斜部７の水平面に対しての角度θ１は４５°とした。傾斜部７の下端と底部３の上面からの距離（図３に示すＤ１）を３０ｍｍとし、傾斜部７の上端と底部３の上面との距離を１００ｍｍとした。支持部４の角部はＲ面とした。支持部４の材質は、ＰＥＥＫ材を使用した。底部３の底面（−Ｚ側の面）には、外径がφ２２０ｍｍ、厚さ１０ｍｍのベース２を取付けた。
【００４１】
実施例１の載置台１では、４インチ〜８インチの基板Ｓを容易に載置することができ、載置した基板Ｓを容易に取り外すことができた。また、実施例１の載置台１では、基板Ｓを載置する際及び載置した基板Ｓを取り外す際における基板Ｓの損傷の発生が抑制された。
【００４２】
［実施例２］
実施例２の載置台として、第２実施形態と同様の載置台１Ａを作成した。載置台１Ａは、図１と同様の形状であって、実施例１の支持部４に代えて、図５並びに図６（Ａ）及び（Ｂ）に示す平面視において扇状の支持部４Ａとし、各支持部４Ａを底部３の中心軸ＡＸ１に対し放射状に３ヶ所均等に設置した。平面視における扇形の中心角θ２（開き角度）は９０°した。それ以外の構成は、実施例１と同様とした。
【００４３】
実施例２の載置台１Ａでは、４インチ〜８インチの基板Ｓを容易に載置することができ、載置した基板Ｓを容易に取り外すことができた。また、実施例２の載置台１Ａでは、基板Ｓを載置する際及び載置した基板Ｓを取り外す際における基板Ｓの損傷の発生が抑制された。
【００４４】
なお、本発明の技術範囲は、上述の実施形態などで説明した態様に限定されるものではない。上述の実施形態などで説明した要件の１つ以上は、省略されることがある。また、上述の実施形態などで説明した要件は、適宜組み合わせることができる。また、上述の実施形態などで説明した要件は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において各部材の改良、構造の変更を行ってもよい。また、法令で許容される限りにおいて、上述の実施形態などで引用した全ての文献の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【００４５】
例えば、第１実施形態では、支持部４を４つ備える構成の例を説明し、第２実施形態では、支持部４Ａを３つ備える構成の例を説明したが、支持部４、４Ａの数は、これらの例に限定されない。図７及び図８は、それぞれ、支持部の変形例を示す図である。例えば、基板Ｓの外径が小さい等の場合は、図７に示すように３つの支持部４を配置する構成でもよいし、基板Ｓの外径が大きく基板Ｓにたわみ等が発生する等の場合は、図８に示すように５つの支持部４を配置する構成でもよい。なお、図７及び図８に示す各支持部４は、第１実施形態の支持部４と同様であり、互いに同一の形状である。各支持部４は、それぞれ、軸線ＡＸ１に対して、放射状に均等に配置される。各支持部４は、平面視において、図７では、軸線ＡＸ１周りに１２０°間隔で底部３に配置され、図８では、軸線ＡＸ１周りに７２°間隔で底部３に配置されている。各支持部４Ａは、平面視において、底部３の中央部分ＣＰに対して回転対称に配置されている。
【００４６】
また、３以上の支持部４、４Ａは、軸線ＡＸ１に対して放射状に均等に配置されなくてもよい。図９は、支持部の変形例を示す図である。例えば、３以上の支持部４、４Ａのうちの少なくとも１つの支持部４、４Ａを、放射状に均等に配置される位置からずれた位置に配置してもよい。例えば、３以上の支持部４、４Ａは、基板Ｓの搬出入で作業性が悪い場合などにおいて、基板Ｓの設置（支持）に影響のない範囲で、放射状に均等に配置される位置からずれた位置に配置してもよい。例えば、図９に示すように、Ｘ方向に沿って配置された２つの支持部４（図２参照）を、軸線ＡＸ１周りに後方側（＋Ｙ側）にそれぞれ２０°ずらして配置する構成でもよい。図９に示す構成の場合、手前側（−Ｙ側）の作業空間を大きくすることができるため、作業性を向上させることができる。
【００４７】
また、例えば、ベース２及び底部３の構成は、それぞれ、上述の実施形態の例に限定されない。例えば、ベース２は底部３と一体の構造でもよい。図１０は、ベース及び底部３の変形例を示す図である。ベース２及び底部３の形状は、それぞれ、円板状に限定されず、例えば、図１０に示すように矩形板状でもよいし、また、ベース２は複数の棒状あるいは矩形柱状の部材等で構成されてもよい。
【００４８】
また、上述の実施形態では、中央部分ＣＰを底部３の中心Ｃ１と同一に設定される例を示したが、中央部分ＣＰは上述の例に限定されない。例えば、中央部分ＣＰは、上述したように、平面視において底部３の外縁よりも、底部３の中心に近い部分であればよい。
【符号の説明】
【００４９】
Ｓ、Ｓ１、Ｓ２…基板
１、１Ａ…載置台
２…ベース
３…底部
４、４Ａ…支持部
６…把持部
７、７Ａ…傾斜部
７Ａ…支持部
８…弾性体
Ｃ１…中心
ＣＰ…中央部分
Ｄ１…間隔
ＡＸ１…軸線
ＳＰ…空間部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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