(57)【要約】【課題】ウェハー表面の光学的検査を容易に行うことが可能な固定用治具を提供する。【解決手段】ウェハー表面を観察するための固定用治具であって、第１の主面および第２の主面を有する板状体と、第１の主面および第２の主面を通って板状体に設けられた貫通孔と、貫通孔の内周部に沿って設けられた、ウェハーを保持可能な保持部と、ウェハーの把持具を挿入することが可能であるように貫通孔の内周部および第１の主面から連続して設けられた複数のポケットとを有する、固定用治具。【選択図】図１
2020067440.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハー表面を観察するための固定用治具であって、
第１の主面および第２の主面を有する板状体と、
前記第１の主面および前記第２の主面を通って前記板状体に設けられた貫通孔と、
前記貫通孔の内周部に沿って設けられた、ウェハーを保持可能な保持部と、
ウェハーの把持具を挿入することが可能であるように前記貫通孔の内周部および前記第１の主面から連続して設けられた、複数のポケットと、
を有することを特徴とする、固定用治具。
【請求項２】
前記複数のポケットは、少なくとも一対のポケットを含み、
前記一対のポケットは、前記貫通孔を挟んで対向するように設けられている、
請求項１に記載の固定用治具。
【請求項３】
前記板状体は帯電防止樹脂からなる、
請求項１又は２に記載の固定用治具。
【請求項４】
前記板状体は透明である、
請求項１〜３のいずれかに記載の固定用治具。
【請求項５】
前記板状体の外周部の角部が面取りされている、
請求項１〜４のいずれかに記載の固定用治具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、試料の固定に用いられる治具に関する。
【背景技術】
【０００２】
発光素子や集積回路等の半導体素子は、現代の産業にとって不可欠となっている。一般に半導体素子は、ウェハー（基板）上に素子構造を形成することにより製造される。半導体素子を製造するためのウェハーとしては、シリコン、サファイア、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、ガリウムヒ素、炭化ケイ素、等からなるウェハーが知られている。ウェハーを半導体素子の製造プロセスに供するにあたっては、ウェハーの表面が清浄であることが重要である。例えば金属酸化物半導体電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）のゲート長は１０ｎｍ未満の水準にまで微細化が進んでおり、ウェハー表面の汚れが極めて微細なものであっても半導体素子の製造歩留りを低下させ得る。
【０００３】
半導体デバイス製造業者においてはしばしば、ウェハー製造業者から購入したウェハーが用いられている。ウェハー表面を清浄に保つために、通常、ウェハーはクリーンルーム内で管理および処理されるが、例えば流通プロセスの途中でウェハー表面に汚れ（例えば埃等。）が付着する場合がある。クリーンルーム内でさらなる処理に供される前のウェハー表面に汚れが存在すると、望ましくない結果を招き得る。したがって、ウェハーをさらなる処理に供する前に、ウェハー表面を光学的に検査することが望ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−００６１０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ウェハー表面の光学的検査は、何らかの手段によりウェハーを保持して、ウェハー表面に検査用の光を照射することにより行うことができる。一般にウェハー表面は平滑に処理されているので、ウェハー表面に対して斜めに光を照射すると、ウェハ―表面の汚れ（付着物）からは他の箇所とは異なる反射光または散乱光が発生する。この反射光または散乱光により、ウェハー表面の汚れを観察することができる。
【０００６】
特許文献１には、フォトマスク用ブランクの表面を検査するための固定用治具として、「特定の傾斜角度でのみ観察可能である板状基板表面の傷や異物を撮影するための固定用治具であって、面の傾斜角度を調整・固定することが可能な基板保持部を有し、前記基板保持部の四つ角部分に前記板状基板を接触させて載置させることを特徴とする固定用治具」が記載されている。
【０００７】
しかしながら、ウェハー表面を光学的に検査する際、ウェハーの保持に特許文献１に記載の固定用治具を用いた場合には、ウェハー表面に対して斜めに光を照射すると基板保持部の四つ角部分によって光が遮られ、光が照射されない部分がウェハー表面に生じるため、ウェハーの全面を検査することが難しい。
【０００８】
本発明は、ウェハー表面の光学的検査を容易に行うことが可能な、固定用治具を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一の実施形態は、ウェハー表面を観察するための固定用治具であって、第１の主面および第２の主面を有する板状体と、第１の主面および第２の主面を通って板状体に設けられた貫通孔と、貫通孔の内周部に沿って設けられた、ウェハーを保持可能な保持部と、ウェハーの把持具を挿入することが可能であるように貫通孔の内周部および第１の主面から連続して設けられた複数のポケットと、を有することを特徴とする、固定用治具である。
【００１０】
一の実施形態において、上記複数のポケットは、少なくとも一対のポケットを含み、該一対のポケットは、貫通孔を挟んで対向するように設けられていることが好ましい。
【００１１】
一の実施形態において、上記板状体は帯電防止樹脂からなることが好ましい。
【００１２】
一の実施形態において、上記板状体は透明であることが好ましい。
【００１３】
一の実施形態において、板状体の外周部の角部が面取りされていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、ウェハー表面の光学的検査を容易に行うことが可能な、固定用治具を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】（Ａ）一の実施形態に係る固定用治具１００を説明する平面図である。（Ｂ）固定用治具１００を説明する底面図である。
【図２】（Ａ）固定用治具１００を説明する正面図である。（Ｂ）固定用治具１００を説明する左側面図である。
【図３】（Ａ）図１（Ａ）のＡ−Ａ線断面図である。（Ｂ）図１（Ａ）のＢ−Ｂ断面図である。（Ｃ）図１（Ａ）のＣ−Ｃ線断面図である。（Ｄ）図１（Ａ）のＤ−Ｄ線断面図である。（Ｅ）図１（Ａ）のＥ−Ｅ線断面図である。（Ｆ）図１（Ａ）のＦ−Ｆ断面図である。
【図４】（Ａ）固定用治具１００の使用状態を説明する平面図である。（Ｂ）図４（Ａ）のＡ−Ａ線断面図である。（Ｃ）図４（Ａ）のＣ−Ｃ線断面図である。（Ｄ）図４（Ａ）のＥ−Ｅ線断面図である。
【図５】（Ａ）他の一の実施形態に係る固定用治具２００を説明する平面図である。（Ｂ）固定用治具２００を説明する底面図である。
【図６】（Ａ）固定用治具２００を説明する正面図である。（Ｂ）固定用治具２００を説明する左側面図である。
【図７】（Ａ）図５（Ａ）のＡ−Ａ線断面図である。（Ｂ）図５（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。（Ｃ）図５（Ａ）のＣ−Ｃ線断面図である。（Ｄ）図５（Ａ）のＤ−Ｄ線断面図である。（Ｅ）図５（Ａ）のＥ−Ｅ線断面図である。（Ｆ）図５（Ａ）のＦ−Ｆ線断面図である。（Ｇ）図５（Ａ）のＧ−Ｇ線断面図である。（Ｈ）図５（Ａ）のＨ−Ｈ線断面図である。（Ｉ）図５（Ａ）のＩ−Ｉ線断面図である。（Ｊ）図５（Ａ）のＪ−Ｊ線断面図である。（Ｋ）図５（Ａ）のＫ−Ｋ線断面図である。（Ｌ）図５（Ａ）のＬ−Ｌ線断面図である。
【図８】（Ａ）固定用治具２００の使用状態を説明する平面図である。（Ｂ）図８（Ａ）のＡ−Ａ線断面図である。（Ｃ）図８（Ａ）のＥ−Ｅ線断面図である。（Ｄ）図８（Ａ）のＩ−Ｉ線断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の上記した作用および利得は、以下に説明する発明を実施するための形態から明らかにされる。以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。ただし、本発明はこれらの形態に限定されるものではない。なお、図面は必ずしも正確な寸法を反映したものではない。また図では、一部の符号を省略することがある。本明細書においては特に断らない限り、数値Ａ及びＢについて「Ａ〜Ｂ」という表記は「Ａ以上Ｂ以下」を意味するものとする。かかる表記において数値Ｂのみに単位を付した場合には、当該単位が数値Ａにも適用されるものとする。また「又は」及び「若しくは」の語は、特に断りのない限り論理和を意味するものとする。
【００１７】
＜１．固定用治具（１）＞
図１（Ａ）は、本発明の一の実施形態に係る固定用治具１００（以下において「治具１００」ということがある。）を説明する平面図であり、図１（Ｂ）は治具１００を説明する底面図である。図２（Ａ）は治具１００を説明する正面図であり、図２（Ｂ）は治具１００を説明する左側面図である。治具１００の背面図は正面図（図２（Ａ））と対称であり、治具１００の右側面図は左側面図（図２（Ｂ））と対称である。図３（Ａ）は図１（Ａ）のＡ−Ａ線断面図であり、図３（Ｂ）は図１（Ａ）のＢ−Ｂ断面図であり、図３（Ｃ）は図１（Ａ）のＣ−Ｃ線断面図であり、図３（Ｄ）は図１（Ａ）のＤ−Ｄ線断面図であり、図３（Ｅ）は図１（Ａ）のＥ−Ｅ線断面図であり、図３（Ｆ）は図１（Ａ）のＦ−Ｆ断面図である。
【００１８】
治具１００は、ウェハー表面を観察するための固定用治具である。治具１００は、第１の主面１１及び第２の主面１２を有する板状体１と、第１の主面１１及び第２の主面１２を通って板状体１に設けられた貫通孔２と、貫通孔２の内周部に沿って設けられた保持部３１、３２と、貫通孔２の内周部および第１の主面１１から連続して設けられた複数のポケット４１、４２と、を有している。
【００１９】
板状体１は樹脂からなり、第１の主面１１（図１（Ａ））、第２の主面１２（図１（Ｂ））、側面１３、１３（図２（Ａ））、及び側面１４、１４（図２（Ｂ））を有する。板状体１を構成する樹脂は不透明な樹脂（例えば黒色の樹脂。）であってもよいが、透明な樹脂であることが好ましい。板状体１を構成する樹脂の例としては、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ＰＰ（ポリプロピレン）、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合合成樹脂）、ＰＥＴ樹脂（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＥＫ樹脂（ポリエーテルエーテルケトン）等を挙げることができる。透明な樹脂で構成されている板状体１を備える治具１００によれば、観察すべきウェハーが透明である場合に、観察の背景として暗色の背景（例えば黒色の背景。）を用いることにより、ウェハーの全面にわたって暗色の背景をバックに観察することができるので、ウェハー表面の汚れから発せられる反射光または散乱光を検出することが容易になる。板状体１の厚さ（第１の主面１１と第２の主面１２との間の距離）は特に制限されるものではなく、作業者が扱いやすい厚さを自由に選択することができ、例えば１〜１０ｍｍとすることができる。
【００２０】
板状体１を構成する樹脂は、帯電防止樹脂、すなわち、帯電防止剤を含有する樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。板状体１を構成する樹脂に含有させる帯電防止剤としては、樹脂用の練り込み型帯電防止剤、及び／又はカーボンブラックを特に制限なく用いることができ、ノニオン性界面活性剤を含んでなる練り込み型帯電防止剤を好ましく用いることができる。板状体１が帯電防止樹脂で構成されていることにより、治具１００が帯びた静電気により埃等の汚れが観察中のウェハーに付着する事態を抑制することが容易になるほか、治具１００を洗浄した後の拭き取り及び乾燥の作業中に治具１００が静電気を帯びることが抑制されるので、治具１００自体に埃等の汚れが付着する事態を抑制することも容易になる。
【００２１】
板状体１の外周部の角部は、面取りされていることが好ましい。すなわち、第１の主面１１と側面１３、１３との接続部、第１の主面１１と側面１４、１４との接続部、第２の主面１２と側面１３、１３との接続部、第２の主面１２と側面１４、１４との接続部、側面１３、１３と側面１４、１４との接続部のそれぞれが、内角が９０度以下の角部を有しないことが好ましい（図１（Ａ）及び（Ｂ）、並びに図２（Ａ）及び（Ｂ）参照。）。板状体１の外周部の角部における面取りは、図１及び図２に示すように角面を形成すること（例えば４５°面取り等。）により行われていてもよく、また丸面を形成すること（丸み面取り）により行われていてもよい。板状体１の外周部の角部が面取りされていることにより、作業者が着用している手袋が治具１００を用いた観察作業中に破れる事態を抑制することが容易になる。
【００２２】
貫通孔２は、第１の主面１１及び第２の主面１２を通るように板状体１を貫通して設けられた、貫通孔である。第１の主面１１における開口部において、貫通孔２は、観察すべきウェハーを挿入可能な形状を有している。第１の主面１１における貫通孔２の開口部の形状は、観察すべきウェハーの形状に合わせた円形であることが好ましい。貫通孔２は、例えば射出成型により形成されていてもよく、また例えば穴あけ加工により形成されていてもよい。
【００２３】
治具１００において、貫通孔２は、板状体１の長手方向（図１（Ａ）紙面左右方向）の中心から、該長手方向に（図１（Ａ）において紙面左側に）ずれた位置に設けられている。このように貫通孔２が板状体１の中心から長手方向にずれた位置に設けられていることにより、作業者が板状体１のうち貫通孔２から離れた部分を掴むことが容易になるので、治具１００を用いた観察作業が容易になる。同様の観点から、治具１００の平面視（図１（Ａ））において、貫通孔２の内周部と板状体１の外周部（すなわち側面１３、１３及び側面１４、１４。）との間の領域が、ある程度の広さを有することが好ましい。具体的には、治具１００の平面視（図１（Ａ））において、貫通孔２の内周部と板状体１の外周部との間の最短距離が、３ｍｍ以上であることが好ましく、５ｍｍ以上であることがより好ましい。貫通孔２の内周部と板状体１の外周部との間の最短距離の上限値は特に制限されるものではないが、例えば２００ｍｍ以下とすることができる。
【００２４】
保持部３１、３２は、貫通孔２の内周部に沿って設けられた凸部である（図３（Ａ）〜（Ｆ）参照。）。保持部３１、３２が存在する部分において、貫通孔２の断面の短径は、貫通孔２の第１の主面１１における開口部の短径よりも小さくなっている。図４（Ａ）は、固定用治具１００によって円形のウェハー５０を保持した姿勢を説明する平面図であり、図１（Ａ）に対応する。図４（Ｂ）は図４（Ａ）のＡ−Ａ線断面図であり、図３（Ａ）に対応する図である。図４（Ｃ）は図４（Ａ）のＣ−Ｃ線断面図であり、図３（Ｃ）に対応する図である。図４（Ｄ）は図４（Ａ）のＥ−Ｅ線断面図であり、図３（Ｅ）に対応する図である。図４（Ａ）〜（Ｄ）において、図１〜３に表れた要素には図１〜３における符号と同一の符号を付し、説明を省略する。保持部３１、３２は、第１の主面１１に平行な保持面を画定しており、貫通孔２の開口部に第１の主面１１側からウェハー５０を挿入すると（図４（Ａ）参照。）、保持部３１、３２によってウェハー５０が裏面から保持される（図４（Ｂ）〜（Ｄ）参照。）。保持部３１、３２によって画定される保持面と、第１の主面１１との距離（すなわち保持部の深さ）は、観察すべきウェハー５０の厚さよりも短い（浅い）ことが好ましい。保持部の深さが観察すべきウェハー５０の厚さよりも浅いことにより、保持部３１、３２によって保持されたウェハー５０の表面が第１の主面１１から飛び出す（図４（Ｂ）〜（Ｄ）参照。）ので、治具１００に保持されたウェハー５０の表面に対して斜めに検査用の光を照射した際に、治具１００の部材に光が遮られてウェハー５０の表面に影を生じることがない。したがってウェハー５０の全面にわたって表面の光学的検査を容易に行うことができる。保持部の深さは、観察すべきウェハー５０の厚さより浅い限りにおいて特に制限されるものではないが、例えば０．１〜３ｍｍとすることができる。また保持部３１、３２が存在する部分における貫通孔２の短径は、貫通孔２の第１の主面１１における開口部の短径の８０％〜９９％であることが好ましく、９０〜９９％であることがより好ましい。当該割合が上記下限値以上であることにより、治具１００に保持したウェハー５０の表面を、レンズを有する光学系（例えば光学顕微鏡、カメラ等。）を用いて観察する際に、ウェハー５０の裏側に治具１００の部材が存在しない領域を広く取ることができる。また当該割合が上記上限値以下であることにより、保持部３１、３２によってウェハー５０を安定的に保持することが容易になる。保持部３１、３２は、例えば射出成型により形成されていてもよく、また例えば切削加工により形成されていてもよい。
【００２５】
一対のポケット４１、４２（以下において単に「ポケット４１、４２」ということがある。）は、貫通孔２の内周部および第１の主面１１から連続して設けられた凹部であり（図１（Ａ）、図３（Ａ）〜（Ｄ）参照。）、ウェハー５０の把持具（例えばピンセット等。）を挿入することが可能な寸法を有している。ポケット４１、４２は、ポケット４１、４２に挿入した把持具によってウェハー５０を把持することが容易であるように、貫通孔２を挟んで相互に対向するように設けられている（図１（Ａ）、図３（Ｃ）及び（Ｄ）、並びに図４（Ｃ）参照）。ポケット４１、４２は、例えば射出成型により形成されていてもよく、また例えば切削加工により形成されていてもよい。
【００２６】
固定用治具１００によれば、治具１００に保持したウェハー５０の表面に対して斜めに検査用の光を照射した際に、治具１００の部材によってウェハー５０の表面に影を生じることがないので、ウェハー５０の全面にわたって表面の光学的検査を容易に行うことができる。
また、治具１００が貫通孔２を備えることにより、ウェハー５０と、ウェハー５０の裏側（第２の主面１２側）に存在する物体（背景）とは、物理的に離されることになる。そのため、治具１００に保持したウェハー５０の表面を、レンズを有する光学系（例えば光学顕微鏡、カメラ等。）を用いて観察する場合には、光学系のピントをウェハー５０の表面に合わせると、光学系のピントはウェハー５０の裏側の物体（背景）には合わなくなる。したがって、ウェハー５０が透明な場合であっても、ウェハー５０表面の汚れからの反射光または散乱光のみを明瞭に観察することが可能である。また、ウェハー５０と、ウェハー５０の裏側に存在する物体（背景）とが接触しないので、観察中にウェハー５０の裏側に存在する物体に由来する汚れ（例えば埃等。）がウェハー５０の裏面に付着することがない。そのため、洗浄が困難なステージ（例えば石定盤等。）の上で治具１００を用いる場合であっても、ウェハー５０の裏面の汚染を防止することが可能である。
また、保持部３１、３２は貫通孔２の内周部に沿って、且つ第１の主面１１よりも第２の主面１２側に設けられているので（図３（Ａ）（Ｂ）（Ｅ）及び（Ｆ）参照。）、治具１００に保持されたウェハー５０の動きは、保持部３１、３２がなす保持面によって第１の主面１１に交差する方向に制限されるだけでなく、貫通孔２の内周部によって第１の主面１１に平行な方向にも制限される。そのため、治具１００に保持されたウェハー５０を固定するには治具１００を固定すれば十分であり、ウェハー５０をテープ、錘、磁石等で直接固定する必要はない。したがって、治具１００の表面が清浄に保たれている限り、ウェハー５０の固定手段に由来する汚れによるウェハー５０の汚染を防止することが可能である。
【００２７】
上記説明では、板状体１を構成する樹脂が帯電防止樹脂、すなわち、帯電防止剤を含有する樹脂組成物の硬化物である形態の固定用治具１００を例に挙げたが、本発明は当該形態に限定されない。例えば、板状体を構成する樹脂が帯電防止剤を含有せず、治具の表面全体が帯電防止剤で被覆されている形態の固定用治具とすることも可能である。治具の表面を被覆する帯電防止剤としては、樹脂用の表面塗布型帯電防止剤（例えば、両イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、帯電防止フッ素樹脂コーティング等。）を特に制限なく用いることができる。板状体を構成する樹脂が帯電防止剤を含有しない場合、治具表面の帯電防止被覆層は、保持部およびポケットを形成した後に形成することが好ましく、保持部およびポケットの形成、並びに板状体外周部の面取り処理の後に形成することが好ましい。なお、洗浄処理による帯電防止性能の低下を抑制する観点からは、板状体を構成する樹脂は、帯電防止剤を含有する樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
【００２８】
＜２．固定用治具（２）＞
上記説明では、２つ（一対）のポケット４１、４２を有する形態の固定用治具１００を例に挙げたが、本発明は当該形態に限定されない。例えば、３つ以上のポケットを有する形態の固定用治具とすることも可能である。図５（Ａ）は、そのような他の一の実施形態に係る固定用治具２００（以下において「治具２００」ということがある。）を説明する平面図であり、図５（Ｂ）は治具２００を説明する底面図である。図６（Ａ）は治具２００を説明する正面図であり、図６（Ｂ）治具２００を説明する左側面図である。治具２００の背面図は正面図（図６（Ａ））と対称であり、治具２００の右側面図は左側面図（図５（Ｂ））と対称である。図７（Ａ）は図５（Ａ）のＡ−Ａ線断面図であり、図７（Ｂ）は図５（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図であり、図７（Ｃ）は図５（Ａ）のＣ−Ｃ線断面図であり、図７（Ｄ）は図５（Ａ）のＤ−Ｄ線断面図であり、図７（Ｅ）は図５（Ａ）のＥ−Ｅ線断面図であり、図７（Ｆ）は図５（Ａ）のＦ−Ｆ線断面図であり、図７（Ｇ）は図５（Ａ）のＧ−Ｇ線断面図であり、図７（Ｈ）は図５（Ａ）のＨ−Ｈ線断面図であり、図７（Ｉ）は図５（Ａ）のＩ−Ｉ線断面図であり、図７（Ｊ）は図５（Ａ）のＪ−Ｊ線断面図であり、図７（Ｋ）は図５（Ａ）のＫ−Ｋ線断面図であり、図７（Ｌ）は図５（Ａ）のＬ−Ｌ線断面図である。図８（Ａ）は治具２００にウェハー５１を保持した姿勢を説明する平面図であり、図５（Ａ）に対応する図である。図８（Ｂ）は図８（Ａ）のＡ−Ａ線断面図であり、図７（Ａ）に対応する図である。図８（Ｃ）は図８（Ａ）のＥ−Ｅ線断面図であり、図７（Ｅ）に対応する図である。図８（Ｄ）は図８（Ａ）のＩ−Ｉ線断面図であり、図７（Ｉ）に対応する図である。図５〜図８において、図１〜４に既に表れた要素には図１〜４における符号と同一の符号を付し、説明を省略する。
【００２９】
治具２００は、計４つのポケット（一対のポケット４１、４２、及び他の一対のポケット２４１、２４２（以下において単に「ポケット２４１、２４２」ということがある。））を有する点、及び、保持部３１がポケット２４１によって保持部２３１と保持部２３３とに分かたれ、保持部３２がポケット２４２によって保持部２３２と保持部２３４とに分かたれている点において、治具１００と異なっている。
【００３０】
ポケット２４１、２４２は、ポケット４１、４２と同様に、貫通孔２の内周部および第１の主面１１から連続して設けられた凹部であり（図５（Ａ）、図７（Ａ）〜（Ｌ）参照。）、ウェハー５１の把持具（例えばピンセット等。）を挿入することが可能な寸法を有している。ポケット２４１、２４２は、ポケット２４１、２４２に挿入した把持具によってウェハー５１を把持することが容易であるように、貫通孔２を挟んで相互に対向するように設けられている（図５（Ａ）、図７（Ａ）〜（Ｄ）、並びに図８（Ｂ）参照。）。ポケット２４１、２４２は、例えば射出成型により形成されていてもよく、また例えば切削加工により形成されていてもよい。
【００３１】
保持部２３１〜２３４は、第１の主面１１に平行な保持面を画定しており、貫通孔２の開口部に第１の主面１１側からウェハー５１を挿入すると（図８（Ａ）参照。）、保持部２３１〜２３４によってウェハー５１が裏面から保持される（図８（Ｂ）〜（Ｄ）参照。）。保持部２３１〜２３４によって画定される保持面と、第１の主面１１との距離（すなわち保持部の深さ）は、観察すべきウェハー５１の厚さよりも短い（浅い）ことが好ましい。保持部の深さが観察すべきウェハー５１の厚さよりも浅いことにより、保持部２３１〜２３４によって保持されたウェハー５１の表面が第１の主面１１から飛び出す（図８（Ｂ）〜（Ｄ）参照。）ので、治具２００に保持されたウェハー５１の表面に対して斜めに検査用の光を照射した際に、治具２００の部材に光が遮られてウェハー５１の表面に影を生じることがない。したがってウェハー５１の全面にわたって表面の光学的検査を容易に行うことができる。保持部の深さは、観察すべきウェハー５１の厚さより浅い限りにおいて特に制限されるものではないが、例えば０．１〜３ｍｍとすることができる。また保持部２３１〜２３４が存在する部分における貫通孔２の短径は、貫通孔２の第１の主面１１における開口部の短径の８０％〜９９％であることが好ましく、９０％〜９９％であることがより好ましい。当該割合が上記下限値以上であることにより、治具２００に保持したウェハー５１の表面を、レンズを有する光学系（例えば光学顕微鏡、カメラ等。）を用いて観察する際に、ウェハー５１の裏側に治具２００の部材が存在しない領域を広く取ることができる。また当該割合が上記上限値以下であることにより、保持部２３１〜２３４によってウェハー５１を安定的に保持することが容易になる。保持部２３１〜２３４は、例えば射出成型により形成されていてもよく、また例えば切削加工により形成されていてもよい。
【００３２】
図４（Ａ）においてはウェハー５０として円形のウェハーを例に挙げたが、図８（Ａ）に示すように、ウェハー５１は、オリエンテーションフラット５１ａを有することにより部分的に歪んだ円形のウェハーである。一般に、ウェハーの形状が、貫通孔２の第１の主面１１側の開口部に挿入可能であって且つ保持部（２３１〜２３４）によって保持可能な形状であれば、本発明の固定用治具を用いて該ウェハーを保持することができる。
【００３３】
本発明に関する上記説明では、偶数個のポケット（４１及び４２、又は４１、４２、２４１、及び２４２）を有する形態の固定用治具１００、２００を例に挙げたが、本発明は当該形態に限定されない。例えば、奇数個のポケットを有する形態の固定用治具とすることも可能である。奇数個のポケットを有する形態の一例としては、貫通孔の周部を３等分するように設けられた３つのポケットを有する形態を挙げることができる。そのような形態の固定用治具は、奇数個の方向（例えば３方向。）からウェハーを把持する形態の把持具を用いる場合に、好ましく用いることができる。ポケットの総数は２個以上である限りにおいて特に制限されるものではないが、各ポケットの広さを確保する観点、及び、固定用治具の製造コストの観点からは、好ましくは６個以下である。
【００３４】
また本発明に関する上記説明では、一対または二対のポケットが貫通孔を挟んで対向するように設けられている形態の固定用治具１００、２００を例に挙げたが、本発明は当該形態に限定されない。例えば、奇数個のポケットを有する場合には特に、２つのポケットが貫通孔を挟んで正対していない形態の固定用治具とすることも可能である。
【符号の説明】
【００３５】
１００、２００  固定用治具
１  板状体
１１  第１の主面
１２  第２の主面
１３、１４  側面
２  貫通孔
３１、３２、２３１、２３２、２３３、２３４  保持部
４１、４２、２４１、２４２  ポケット
５０、５１  試料（ウェハー）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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