(57)【要約】【課題】フォトメモリの発生の抑制に優れた電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供すること。【解決手段】導電性支持体と、下引き層と、感光層と、をこの順で有する電子写真感光体であって、該下引き層がチタン酸ストロンチウム粒子および結着樹脂を含有し、該感光層がブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを含有することを特徴とする電子写真感光体。【選択図】図１
2020067598.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体と、下引き層と、感光層と、をこの順で有する電子写真感光体であって、該下引き層がチタン酸ストロンチウム粒子および結着樹脂を含有し、該感光層がブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを含有することを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
前記ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンが、下記式（１）で示されることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【化１】
2020067598.tif 000010
（式（１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ水素または炭素数２以下のアルキル基を示し、Ｒ１とＲ２の炭素数の合計は２である。）
【請求項３】
前記ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンが、下記式（２）で示されることを特徴とする請求項１または２に記載の電子写真感光体。
【化２】
2020067598.tif 000011
【請求項４】
前記感光層が、さらに未付加体チタニルフタロシアニンを含有することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記未付加体チタニルフタロシアニンが、下記式（３）で示されることを特徴とする請求項４に記載の電子写真感光体。
【化３】
2020067598.tif 000012
【請求項６】
前記下引き層の全質量に対するチタン酸ストロンチウム粒子の含有量が、５０質量％以上であることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項７】
前記チタン酸ストロンチウム粒子の一次粒子の個数平均粒径が１５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、およびクリーニング手段からなる群より選ばれた少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱可能であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項９】
請求項１から７のいずれか１項に記載の電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段、および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電子写真感光体、並びに該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機電子写真感光体（以下、「電子写真感光体」と称する。）として、金属酸化物粒子を含有する下引き層と、該下引き層上に形成された感光層とを有する電子写真感光体が用いられている。
【０００３】
電子写真感光体の感度を高めるために、感光層には高感度な電荷発生物質を含有させることが一般的である。
例えば、電子写真感光体の高感度化を達成しつつ、環境変化による特性変動を抑制する技術として、特許文献１ではブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを感光層に含有させる技術が開示されている。
【０００４】
一方で、特許文献２に開示されているように、酸化チタン粒子を下引き層に含有させ、ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを感光層に含有させる構成では、光疲労（フォトメモリ）が発生し易いという課題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平５−２７３７７５号公報
【特許文献２】特開２０１５−１１４６４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記課題に対して本発明者らが検討したところ、下引き層に含有させる金属酸化物粒子としてチタン酸ストロンチウム粒子を用いることで、感光層に電荷発生物質としてブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを用いた場合の光疲労（フォトメモリ）の発生を抑制できることが分かった。
【０００７】
したがって、本発明の目的は、感光層の電荷発生物質としてブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを用いた場合に、フォトメモリの発生の抑制に優れた電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、導電性支持体と、下引き層と、感光層と、をこの順で有する電子写真感光体であって、該下引き層がチタン酸ストロンチウム粒子および結着樹脂を含有し、該感光層がブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを含有することを特徴とする電子写真感光体、並びに該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、感光層がブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを含有する場合、下引き層がチタン酸ストロンチウム粒子を含有することにより、フォトメモリの発生の抑制に優れた電子写真感光体、並びに該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の電子写真感光体の層構成の１例を示す図である。
【図２】本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の１例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の電子写真感光体、並びに該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置は、電子写真感光体の下引き層がチタン酸ストロンチウム粒子を含有し、感光層がブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを含有する。
【００１２】
本発明者らは鋭意検討を行った結果、感光層において電荷発生物質としてブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを用いる場合、下引き層にチタン酸ストロンチウム粒子を含有させることがフォトメモリの発生の抑制に重要であることを見出した。
【００１３】
このことに関して詳細な理由は不明であるが、ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンは高感度であるため、そもそも光曝露に対して発生する電荷量が多く、層内や層間での電荷の滞留が発生し易く、フォトメモリを発生させ易い性質を有している。
さらに、電子供与性を有するブタンジオールの付加によってエネルギー準位が変化していることが予想される。
【００１４】
酸化チタン粒子と比較して、チタン酸ストロンチウム粒子は、ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンとのエネルギー準位の相性が良いために、電荷の授受に有利であったと考えられる。
そのため、下引き層がチタン酸ストロンチウム粒子を含有する場合、酸化チタン粒子のみを含有する場合と比較して、強烈な光曝露によって生じる感光層と下引き層との層間における電荷の滞留が抑制され、フォトメモリの発生を抑制することができたと考えられる。
【００１５】
また、ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンが、下記式（１）で示される構造を有する場合、フォトメモリの発生がさらに抑制されるため好ましく、下記式（２）で示される構造を有する場合さらに好ましい。
【００１６】
これは、付加するブタンジオールの構造によってブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンのエネルギー準位が変化するため、チタン酸ストロンチウム粒子とエネルギー準位の相性の良い構造が下記式（１）や下記式（２）で示される構造であるためと考えられる。
【００１７】
【化１】
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式（１）中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ水素または炭素数２以下のアルキル基を示し、Ｒ１とＲ２の炭素数の合計は２である。
【００１８】
【化２】
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【００１９】
また、感光層がさらに未付加体チタニルフタロシアニンを含有する場合、フォトメモリの発生がさらに抑制されるため好ましく、未付加体チタニルフタロシアニンが下記式（３）で示される場合さらに好ましい。
これは、感光層が未付加体チタニルフタロシアニンを含むことで、チタン酸ストロンチウム粒子とのエネルギー準位の相性がさらに良くなる場合があるためと考えられる。
【化３】
2020067598.tif 000005
【００２０】
本発明の電子写真感光体が有する下引き層は、チタン酸ストロンチウム粒子および結着樹脂を含有する。
【００２１】
本発明の電子写真感光体の下引き層が含有するチタン酸ストロンチウム粒子の一次粒子の個数平均粒径は、特に限定はないが、フォトメモリの発生を抑制する観点からは１５０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２２】
これは、下引き層に含有されるチタン酸ストロンチウム粒子の大きさがある程度小さくなることで、感光層に含まれるブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンとの接触面積を大きくすることができ、電荷の授受に有利になるためと考えられる。
【００２３】
本発明の電子写真感光体の下引き層が含有するチタン酸ストロンチウム粒子は、必要に応じて表面処理を施してあってもよい。表面処理法としては種々の方法が知られているが、例えば表面処理剤をチタン酸ストロンチウム粒子の表面に吸着または反応させて表面処理する方法や、水蒸気雰囲気中に暴露して加湿処理を施す方法などを挙げることができる。これらの表面処理方法は、複数の方法を組み合わせて用いても良い。
【００２４】
表面処理剤を用いる場合には、シランカップリング剤を表面処理剤として好適に用いることができる。
シランカップリング剤の例としては、例えば、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、（フェニルアミノメチル）メチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルメチルジエトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００２５】
また、本発明の電子写真感光体の下引き層が含有するチタン酸ストロンチウム粒子は、下引き層全体の質量に対して、３０質量％以上含有されていることが電気特性の観点から好ましく、５０質量％以上含有されていることがフォトメモリの発生の抑制の観点からより好ましい。
【００２６】
これは、下引き層中にチタン酸ストロンチウム粒子がある程度多く含まれていることで、感光層に含まれるブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンとの接触箇所が多くなり、電荷の授受に有利になるためと考えられる。
また、本発明の電子写真感光体の下引き層が含有するチタン酸ストロンチウム粒子の含有量の割合は、下引き層全体の質量に対して９０質量％以下であることが製膜性の観点から好ましい。
【００２７】
下引き層が含有する結着樹脂としては、アクリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エチルセルロース樹脂、エチレン−アクリル酸コポリマー、エポキシ樹脂、カゼイン樹脂、シリコーン樹脂、ゼラチン樹脂、フェノール樹脂、ブチラール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリルエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリプロピレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂が好適に用いることができる。
【００２８】
［電子写真感光体］
本発明の電子写真感光体は、例えば、図１に示すように、支持体上に下引き層を有し、さらに下引き層上に感光層を有する。図１中、１−１は支持体であり、１−２は下引き層であり、１−３は感光層である。
【００２９】
本発明の電子写真感光体を製造する方法としては、後述する各層の塗布液を調製し、所望の層の順番に塗布して、乾燥させる方法が挙げられる。このとき、塗布液の塗布方法としては、浸漬塗布、スプレー塗布、インクジェット塗布、ロール塗布、ダイ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布、ワイヤーバー塗布、リング塗布などが挙げられる。これらの中でも、効率性および生産性の観点から、浸漬塗布が好ましい。
【００３０】
＜支持体＞
本発明において、電子写真感光体は、支持体１−１を有する。本発明において、支持体１−１は導電性を有する導電性支持体であることが好ましい。また、支持体１−１の形状としては、円筒状、ベルト状、シート状などが挙げられる。中でも、円筒状支持体であることが好ましい。また、支持体の表面に、陽極酸化などの電気化学的な処理や、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。
【００３１】
支持体１−１の材質としては、金属、樹脂、ガラスなどが好ましい。金属としては、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金、ステンレスや、これらの合金などが挙げられる。中でも、アルミニウムを用いたアルミニウム製支持体であることが好ましい。
【００３２】
また、樹脂やガラスには、導電性材料を混合または被覆するなどの処理によって、導電性を付与してもよい。
【００３３】
＜導電層＞
本発明において、支持体１−１の上に、導電層を設けてもよい。導電層を設けることで、支持体表面の傷や凹凸を隠蔽することや、支持体表面における光の反射を制御することができる。
導電層は、導電性粒子と、樹脂と、を含有することが好ましい。
【００３４】
導電性粒子の材質としては、金属酸化物、金属、カーボンブラックなどが挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ビスマスなどが挙げられる。金属としては、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などが挙げられる。これらの中でも、導電性粒子として、金属酸化物を用いることが好ましく、特に、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛を用いることがより好ましい。導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、金属酸化物の表面をシランカップリング剤などで処理したり、金属酸化物にリンやアルミニウムなど元素やその酸化物をドーピングしたりしてもよい。
【００３５】
また、導電性粒子は、芯材粒子と、その粒子を被覆する被覆層とを有する積層構成としてもよい。芯材粒子としては、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛などが挙げられる。被覆層としては、酸化スズなどの金属酸化物が挙げられる。
【００３６】
また、導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、その体積平均粒子径が１ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましく、３ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００３７】
樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などが挙げられる。
【００３８】
また、導電層は、シリコーンオイル、樹脂粒子、酸化チタンなどの隠蔽剤などをさらに含有してもよい。
【００３９】
導電層の平均膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上４０μｍ以下であることが特に好ましい。
【００４０】
導電層は、上述の各材料および溶剤を含有する導電層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。導電層用塗布液中で導電性粒子を分散させるための分散方法としては、ペイントシェーカー、サンドミル、ボールミル、液衝突型高速分散機を用いた方法が挙げられる。
【００４１】
＜下引き層＞
本発明において、支持体１−１または導電層の上に、下引き層１−２を設ける。
本発明の電子写真感光体の下引き層１−２は、上述のように、チタン酸ストロンチウム粒子および結着樹脂を含有する。
【００４２】
また、本発明の電子写真感光体の下引き層１−２は、電気特性を高める目的で、電子輸送物質、金属酸化物、金属、導電性高分子などをさらに含有してもよい。これらの中でも、電子輸送物質、金属酸化物を用いることが好ましい。
【００４３】
電子輸送物質としては、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物、フルオレノン化合物、キサントン化合物、ベンゾフェノン化合物、シアノビニル化合物、ハロゲン化アリール化合物、シロール化合物、含ホウ素化合物などが挙げられる。中でもベンゾフェノン化合物は好適に用いることができる。電子輸送物質として、重合性官能基を有する電子輸送物質を用い、重合性官能基を有するモノマーと共重合させることで、硬化膜として下引き層を形成してもよい。
【００４４】
金属酸化物としては、酸化インジウムスズ、酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素などが挙げられる。金属としては、金、銀、アルミなどが挙げられる。
【００４５】
また、下引き層１−２には、表面粗さの調整またはひび割れ軽減などを目的として、有機樹脂粒子や、レベリング剤をさらに含有させてもよい。有機樹脂粒子としては、シリコーン粒子等の疎水性有機樹脂粒子や、架橋ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）粒子等の親水性有機樹脂粒子を用いることができる。特に、ＰＭＭＡ粒子を用いると、下引き層１−２の上に形成する電荷発生層との密着性が改善し、感光体の繰り返し使用時の電位変動を抑制することができる。レベリング剤としては、シリコーンオイルやフッ素系オイルなどが挙げられる。
【００４６】
下引き層１−２の平均膜厚は、０．１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上４０μｍ以下であることがより好ましく、０．３μｍ以上３０μｍ以下であることがさらに好ましい。
【００４７】
下引き層１−２は、上述の各材料および溶剤を含有する下引き層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥および／または硬化させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
【００４８】
＜感光層＞
本発明の電子写真感光体の感光層１−３は、主に、（１）積層型感光層と、（２）単層型感光層とに分類される。（１）積層型感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層と、を有する。（２）単層型感光層は、電荷発生物質と電荷輸送物質を共に含有する単一の層である。
【００４９】
（１）積層型感光層
積層型感光層は、電荷発生層と、電荷輸送層と、を有する。
【００５０】
（１−１）電荷発生層
本発明において感光層を積層型感光層とする場合、電荷発生層には前記のブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを含有させる。
【００５１】
また本発明の電荷発生層には、さらに他の電荷発生物質を含有させても良い。他の電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、フタロシアニン顔料などが挙げられる。中でも前記の未付加体チタニルフタロシアニンを含有させることが好ましい。
【００５２】
また、電荷発生層には樹脂を含有させることが好ましい。樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルブチラール樹脂がより好ましい。
【００５３】
また、電荷発生層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの添加剤をさらに含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、などが挙げられる。
【００５４】
電荷発生層の平均膜厚は、０．１μｍ以上１μｍ以下であることが好ましく、０．１５μｍ以上０．４μｍ以下であることがより好ましい。
【００５５】
電荷発生層は、上述の各材料および溶剤を含有する電荷発生層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
【００５６】
（１−２）電荷輸送層
電荷輸送層は、電荷輸送物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
【００５７】
電荷輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、エナミン化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物や、これらの物質から誘導される基を有する樹脂などが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物が好ましい。
【００５８】
電荷輸送層中の電荷輸送物質の含有量は、電荷輸送層の全質量に対して、２５質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上５５質量％以下であることがより好ましい。
【００５９】
樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂が好ましい。ポリエステル樹脂としては、特にポリアリレート樹脂が好ましい。
【００６０】
電荷輸送物質と樹脂との含有量比（質量比）は、４：１０〜２０：１０が好ましく、５：１０〜１２：１０がより好ましい。
【００６１】
また、電荷輸送層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、滑り性付与剤、耐摩耗性向上剤などの添加剤を含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ホウ素粒子などが挙げられる。
【００６２】
電荷輸送層の平均膜厚は、５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、８μｍ以上４０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上３０μｍ以下であることが特に好ましい。
【００６３】
電荷輸送層は、上述の各材料および溶剤を含有する電荷輸送層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。これらの溶剤の中でも、エーテル系溶剤または芳香族炭化水素系溶剤が好ましい。
【００６４】
（２）単層型感光層
本発明において感光層を単層型感光層とする場合には、単層型感光層に前記のブタンジオール付加体チタニルフタロシアニン、電荷輸送物質、樹脂を含有させる。また、単層型感光層にブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを含有させ、さらに他の電荷発生物質を含有させても良く、他の電荷発生物質としては、「（１）積層型感光層」における材料の例示と同様である。電荷輸送物質、樹脂としては、上記「（１）積層型感光層」における材料の例示と同様である。
【００６５】
これらのブタンジオール付加体チタニルフタロシアニン、他の電荷発生物質、電荷輸送物質、樹脂および溶剤を含有する感光層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで単層型感光層を形成することができる。
【００６６】
＜保護層＞
本発明において、感光層１−３の上に、保護層を設けてもよい。保護層を設けることで、耐久性を向上することができる。
保護層は、導電性粒子および／または電荷輸送物質と、樹脂とを含有することが好ましい。
【００６７】
導電性粒子としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物の粒子が挙げられる。
電荷輸送物質としては、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、エナミン化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物や、これらの物質から誘導される基を有する樹脂などが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物が好ましい。
【００６８】
樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂が好ましい。
【００６９】
また、保護層は、重合性官能基を有するモノマーを含有する組成物を重合することで硬化膜として形成してもよい。その際の反応としては、熱重合反応、光重合反応、放射線重合反応などが挙げられる。重合性官能基を有するモノマーが有する重合性官能基としては、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。重合性官能基を有するモノマーとして、電荷輸送能を有する材料を用いてもよい。
【００７０】
保護層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、滑り性付与剤、耐摩耗性向上剤、などの添加剤を含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ホウ素粒子などが挙げられる。
【００７１】
保護層の平均膜厚は、０．５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上７μｍ以下であることが好ましい。
【００７２】
保護層は、上述の各材料および溶剤を含有する保護層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥および／または硬化させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、スルホキシド系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。
【００７３】
［プロセスカートリッジ、電子写真装置］
本発明のプロセスカートリッジは、これまで述べてきた電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱可能であることを特徴とする。
また、本発明の電子写真装置は、これまで述べてきた電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする。
【００７４】
図２に、電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成の一例を示す。
円筒状の電子写真感光体１は、軸２を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。電子写真感光体１の表面は、帯電手段３により、正または負の所定電位に帯電される。なお、図においては、ローラ型帯電部材によるローラ帯電方式を示しているが、コロナ帯電方式、近接帯電方式、注入帯電方式などの帯電方式を採用してもよい。帯電された電子写真感光体１の表面には、露光手段（不図示）から露光光４が照射され、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成される。電子写真感光体１の表面に形成された静電潜像は、現像手段５内に収容されたトナーで現像され、電子写真感光体１の表面にはトナー像が形成される。電子写真感光体１の表面に形成されたトナー像は、転写手段６により、転写材７に転写される。トナー像が転写された転写材７は、定着手段８へ搬送され、トナー像の定着処理を受け、電子写真装置の外へプリントアウトされる。電子写真装置は、転写後の電子写真感光体１の表面に残ったトナーなどの付着物を除去するための、クリーニング手段９を有していてもよい。また、クリーニング手段を別途設けず、上記付着物を現像手段などで除去する、所謂、クリーナーレスシステムを用いてもよい。電子写真装置は、電子写真感光体１の表面を、前露光手段（不図示）からの前露光光１０により除電処理する除電手段を有していてもよい。また、本発明のプロセスカートリッジ１１を電子写真装置本体に着脱するために、レールなどの案内手段１２を設けてもよい。
【００７５】
本発明の電子写真感光体は、レーザービームプリンター、ＬＥＤプリンター、複写機、ファクシミリ、および、これらの複合機などに用いることができる。
【実施例】
【００７６】
以下、実施例および比較例を用いて本発明をさらに詳細に説明する。本発明は、その要旨を超えない限り、下記の実施例によって何ら限定されるものではない。なお、以下の実施例の記載において、「部」とあるのは特に断りのない限り質量基準である。
【００７７】
［チタン酸ストロンチウム粒子の製造方法］
＜チタン酸ストロンチウム粒子１の製造例＞
硫酸チタニル水溶液を加水分解して得られた含水酸化チタンスラリーをアルカリ水溶液で洗浄した。次に、前記含水酸化チタンのスラリーに塩酸を添加して、ｐＨを０．７に調整してチタニアゾル分散液を得た。
前記チタニアゾル分散液２．２モル（酸化チタン換算）に対し、１．１倍モル量の塩化ストロンチウム水溶液を加えて反応容器に入れ、窒素ガス置換した。さらに、酸化チタン換算で１．１モル／Ｌになるように純水を加えた。次に、撹拌混合し、９０℃に加温した後、超音波振動を加えながら、１０Ｎ水酸化ナトリウム水溶液４４０ｍＬを１５分かけて添加し、その後、２０分間反応を行った。反応後のスラリーに５℃の純水を加えて３０℃以下になるまで急冷した後、上澄み液を除去した。さらに、前記スラリーにｐＨ５．０の塩酸水溶液を加えて１時間撹拌した後、純水で洗浄を繰り返した。さらに、水酸化ナトリウムにて中和して、ヌッチェで濾過を行い、純水で洗浄した。得られたケーキを乾燥し、チタン酸ストロンチウム粒子１を得た。
【００７８】
＜チタン酸ストロンチウム粒子２の製造例＞
前記チタニアゾル分散液１．０モル（酸化チタン換算）に対し、１．２倍モル量の塩化ストロンチウム水溶液を加えて反応容器に入れ、窒素ガス置換した。さらに、酸化チタン濃度で０．５モル／Ｌになるように純水を加えた。次に、撹拌混合し、７０℃に加温した後、超音波振動を加えながら、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１１００ｍＬを４０分かけて添加し、その後、２０分間反応を行った。反応後のスラリーを３０℃以下になるまで冷却した後、上澄み液を除去した。さらに、前記スラリーにｐＨ５．０の塩酸水溶液を加えて１時間撹拌した後、純水で洗浄を繰り返した。得られたケーキを乾燥し、チタン酸ストロンチウム粒子２を得た。
【００７９】
＜チタン酸ストロンチウム粒子３の製造例＞
前記チタニアゾル分散液０．４モル（酸化チタン換算）に対し、１．２倍モル量の塩化ストロンチウム水溶液を加えて反応容器に入れ、窒素ガス置換した。さらに、酸化チタン濃度で０．２モル／Ｌになるように純水を加えた。次に、撹拌混合し、７０℃に加温した後、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液６００ｍＬを６６０分かけて添加し、その後、２０分間反応を行った。反応後のスラリーを３０℃以下になるまで冷却した後、上澄み液を除去した。さらに、前記スラリーに対して純水で洗浄を行い、得られたケーキを乾燥し、チタン酸ストロンチウム粒子３を得た。
【００８０】
＜チタン酸ストロンチウム粒子４の製造例＞
前記チタニアゾル分散液０．６モル（酸化チタン換算）に対し、１．３倍モル量の塩化ストロンチウム水溶液を加えて反応容器に入れ、窒素ガス置換した。さらに、酸化チタン濃度で０．１モル／Ｌになるように純水を加えた。次に、撹拌混合し、７０℃に加温した後、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液７５０ｍＬを９００分かけて添加し、その後、２０分間反応を行った。反応後のスラリーを３０℃以下になるまで冷却した後、上澄み液を除去した。さらに、前記スラリーに対して純水で洗浄を行い、得られたケーキを乾燥し、チタン酸ストロンチウム粒子４を得た。
【００８１】
［ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンの製造方法］
＜非晶質チタニルフタロシアニンの製造方法＞
α−クロロナフタレン１００部中、ｏ−フタロジニトリル５．０部、四塩化チタン２．０部を２００℃にて３時間加熱攪拌した後、５０℃まで冷却して析出した結晶を濾別してジクロロチタニウムフタロシアニンのペーストを得た。次に、これを１００℃に加熱したＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００部で攪拌洗浄し、次いで６０℃のメタノール１００部で２回洗浄を繰り返し濾別した。さらに、この得られたペーストを脱イオン水１００部中８０℃で１時間攪拌し、濾別して青色のチタニルフタロシアニン顔料を得た。次に、この顔料を濃硫酸３０部に溶解させ２０℃の脱イオン水３００部中に攪拌下で滴下して再析出し、濾過して十分に水洗し、非晶質チタニルフタロシアニンを得た。
【００８２】
＜電荷発生物質Ｇ−１の製造例＞
α−クロロナフタレン１５０部に、上述の方法で得られた非晶質チタニルフタロシアニン８部、および２，３−ブタンジオール（東京化成工業（株）製）０．７５部を混合し、温度６０℃で６時間撹拌した。その後、室温まで冷却した後濾別し、メタノールで洗浄を繰り返し、減圧乾燥することにより、チタニルフタロシアニンと２，３−ブタンジオールの反応生成物である電荷発生物質Ｇ−１を得た。
【００８３】
電荷発生物質Ｇ−１は、マススペクトルにおいてｍ／Ｚ＝５７６、および６４８にピークを示した。また、ＩＲスペクトルにおいて９７０ｃｍ−１付近のＴｉ＝Ｏ構造に由来すると考えられる吸収、および６３０ｃｍ−１付近のＯ−Ｔｉ−Ｏ構造に由来すると考えられる吸収が見られた。以上のことから、電荷発生物質Ｇ−１が、２，３−ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンと、未付加体チタニルフタロシアニンの混晶であると推定した。
【００８４】
＜電荷発生物質Ｇ−２の製造例＞
α−クロロナフタレン１５０部に、上述の方法で得られた非晶質チタニルフタロシアニン８部、および２，３−ブタンジオール（東京化成工業（株）製）２．０部を混合し、温度１８０℃で６時間撹拌した。その後、室温まで冷却した後濾別し、メタノールで洗浄を繰り返し、減圧乾燥することにより、チタニルフタロシアニンと２，３−ブタンジオールの反応生成物である電荷発生物質Ｇ−２を得た。
【００８５】
電荷発生物質Ｇ−２は、マススペクトルにおいてｍ／Ｚ＝６４８にピークを示した。また、ＩＲスペクトルにおいて６３０ｃｍ−１付近のＯ−Ｔｉ−Ｏ構造に由来すると考えられる吸収が見られた。以上のことから、電荷発生物質Ｇ−２が、２，３−ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンの単一結晶であると推定した。
【００８６】
＜電荷発生物質Ｇ−３の製造例＞
α−クロロナフタレン１５０部に、上述の方法で得られた非晶質チタニルフタロシアニン８部、および１，２−ブタンジオール（東京化成工業（株）製）０．７５部を混合し、温度６０℃で６時間撹拌した。その後、室温まで冷却した後濾別し、メタノールで洗浄を繰り返し、減圧乾燥することにより、チタニルフタロシアニンと１，２−ブタンジオールの反応生成物である電荷発生物質Ｇ−３を得た。
【００８７】
電荷発生物質Ｇ−３は、マススペクトルにおいてｍ／Ｚ＝５７６、および６４８にピークを示した。また、ＩＲスペクトルにおいて９７０ｃｍ−１付近のＴｉ＝Ｏ構造に由来すると考えられる吸収、および６３０ｃｍ−１付近のＯ−Ｔｉ−Ｏ構造に由来すると考えられる吸収が見られた。以上のことから、電荷発生物質Ｇ−３が、１，２−ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンと、未付加体チタニルフタロシアニンの混晶であると推定した。
【００８８】
［実施例１］
上述の方法で製造したチタン酸ストロンチウム粒子１を１００部と、トルエン５００部とを撹拌混合し、これにシランカップリング剤としてＮ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、１３０℃で６時間加熱乾燥し、表面処理されたチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−１を得た。
次に、ポリアミド樹脂（商品名：ＣＭ８０００、東レ（株）製）２０部をメタノール１８０部、エタノール２０部の混合液に溶解した。この溶液に、表面処理されたチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−１を８０部と、添加剤として２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン（東京化成工業（株）製）０．４部を加え、これを直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で２３±３℃雰囲気下で３時間分散した。分散後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング（株）製）０．０１部を分散液に加えて攪拌し、下引き層用塗布液を得た。
得られた下引き層用塗布液を、直径３０ｍｍ、長さ３５７．５ｍｍのアルミニウムシリンダー上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を加熱乾燥することにより、膜厚が２．０μｍの下引き層を形成した。
【００８９】
次に、上記製造した電荷発生物質Ｇ−１を２０部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：＃６０００−Ｃ、電気化学工業（株）製）１０部、酢酸ｔ−ブチル７００部、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン３００部を混合し、サンドミルを用いて１０時間分散し、電荷発生層用塗布液を作製した。
この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を加熱乾燥することにより、膜厚が０．３μｍの電荷発生層を形成した。
次に、下記式（Ａ）で示される化合物（電荷輸送物質）６０部、下記式（Ｂ）で示される化合物（電荷輸送物質）３０部、下記式（Ｃ）で示される化合物１０部、ポリカーボネート樹脂（商品名：ユーピロンＺ４００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製、ビスフェノールＺ型のポリカーボネート）１００部、下記式（Ｄ）で示されるポリカーボネート（粘度平均分子量Ｍｖ：２００００）０．０２部を、ｏ−キシレン６００部およびジメトキシメタン２００部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。
この電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を加熱乾燥することにより、膜厚２３μｍの電荷輸送層を形成した。
【化４】
2020067598.tif 000006
以上のようにして、感光体１を作製した。
【００９０】
[電子写真感光体の評価]
＜フォトメモリ評価＞
上記の感光体１を２本用意し、そのうち１本をキヤノン社製の電子写真装置（複写機）（商品名：ｉＲ−ＡＤＶ  Ｃ５２５５）の改造機のシアンステーションに装着した。２３℃／５０％ＲＨ環境下で、電子写真感光体の暗部電位（Ｖｄ）が−７００Ｖ、レーザー光が感光体表面で０．３５μＪ／ｃｍ２になるように帯電装置および画像露光装置の条件をあらかじめ調整した。
次に、準備したもう一方の感光体１の表面に、感光体の回転方向に１５ｍｍ、感光体の長手方向に１００ｍｍの長方形状に穴をあけた遮光シートを巻きつけ、遮光シートの穴部に露出した感光体表面を２０００ｌｘの昼白色光に２０分間曝露した。その後、巻きつけた遮光シートを取り外し、感光体を上記評価装置のシアンステーションに設置し、光曝露終了から５分後にあらかじめ設定した条件で感光体の表面電位の測定を行った。
【００９１】
遮光シートに穴をあけ昼白色光に曝露した部分と、遮光していた部分との明部電位の差の絶対値をフォトメモリとした。ランクについては下記のように設定した。
Ａ：０Ｖ以上１０Ｖ未満
Ｂ：１０Ｖ以上１５Ｖ未満
Ｃ：１５Ｖ以上２０Ｖ未満
Ｄ：２０Ｖ以上２５Ｖ未満
Ｅ：２５Ｖ以上
上記評価は感光体に遮光部材がついていない場合に、どの程度メモリ現象が生じるのかを評価するための手法として用いた。結果を表１に示す。
【００９２】
＜チタン酸ストロンチウム粒子の個数平均一次粒径評価＞
下引き層に含まれるチタン酸ストロンチウム粒子の一次粒子の個数平均粒径は、以下のようにして求めた。
まず、作製した電子写真感光体の下引き層の断面をＳＥＭにより拡大撮影する。この断面写真と、ＳＥＭに付属させたＸＭＡ（Ｘ線マイクロアナライザ）などの元素分析手段によってチタン酸ストロンチウム粒子の元素でマッピングした断面写真とを対照する。次に、チタン酸ストロンチウム粒子１００個の一次粒子の投影面積を測定し、測定されたチタン酸ストロンチウム粒子の投影面積に等しい円の相当径を、チタン酸ストロンチウム粒子の一次粒径として求めた。その結果に基づいて、チタン酸ストロンチウム粒子の一次粒子の個数平均粒径を算出した。結果を表１に示す。
【００９３】
［実施例２〜４］
チタン酸ストロンチウム粒子１をチタン酸ストロンチウム粒子２〜４に変更した以外は実施例１と同様にして、表面処理されたチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−２〜４をそれぞれ得た。表面処理されたチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−１を表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして、感光体２〜４を作製し、フォトメモリの評価、およびチタン酸ストロンチウム粒子の個数平均一次粒径の評価を行った。結果を表１に示す。
【００９４】
［実施例５］
実施例１において、下引き層用塗布液に使用するポリアミド樹脂２０部、表面処理したチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−１の８０部を、ポリアミド樹脂３３部、表面処理したチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−１の６７部にそれぞれ変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、感光体５を作製し、フォトメモリの評価、およびチタン酸ストロンチウム粒子の個数平均一次粒径の評価を行った。結果を表１に示す。
【００９５】
［実施例６］
実施例１において、下引き層用塗布液に使用するポリアミド樹脂２０部、表面処理したチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−１の８０部を、ポリアミド樹脂５０部、表面処理したチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−１の５０部にそれぞれ変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、感光体６を作製し、フォトメモリの評価、およびチタン酸ストロンチウム粒子の個数平均一次粒径の評価を行った。結果を表１に示す。
【００９６】
［実施例７］
上述の方法で製造したチタン酸ストロンチウム粒子１を１００部と、トルエン５００部とを撹拌混合し、これにシランカップリング剤としてのＮ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、１３０℃で６時間加熱乾燥し、表面処理されたチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−５を得た。
【００９７】
次に、ポリアミド樹脂（商品名：ＣＭ８０００、東レ（株）製）２０部をメタノール１８０部、エタノール２０部の混合液に溶解した。この溶液に、上記表面処理したチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−５を５０部、酸化チタン粒子（商品名：ＭＴ−５００ＳＡ、テイカ（株）製）２０部と、添加剤として２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン（東京化成工業（株）製）０．４部を加え、これを直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で２３±３℃雰囲気下で３時間分散した。
分散後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング（株）製）０．０１部を分散液に加えて攪拌し、下引き層用塗布液を得た。
【００９８】
実施例１において、下引き層用塗布液を上記で作製した下引き層用塗布液に変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、感光体７を作製し、フォトメモリの評価、およびチタン酸ストロンチウム粒子の個数平均一次粒径の評価を行った。結果を表１に示す。
【００９９】
［実施例８］
実施例１において、下引き層用塗布液に使用するポリアミド樹脂２０部、表面処理したチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−１の８０部を、ポリアミド樹脂６０部、表面処理したチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−１の４０部にそれぞれ変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、実施例８の感光体８を作製し、フォトメモリの評価、およびチタン酸ストロンチウム粒子の個数平均一次粒径の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１００】
［実施例９および１０］
実施例１において、電荷発生層用塗布液に使用する電荷発生物質Ｇ−１を、表１に示すように変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、感光体９および１０を作製し、フォトメモリの評価、およびチタン酸ストロンチウム粒子の個数平均一次粒径の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０１】
［実施例１１］
実施例１と同様にして、電荷発生層までを形成した。
実施例１と同様にして電荷輸送層塗布液を調製し、この電荷輸送層用塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を加熱乾燥することにより、膜厚１８μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１０２】
次に、下記式（Ｍ１）で示される繰り返し構造単位および下記式（Ｍ２）で示される繰り返し構造単位を有する樹脂（重量平均分子量：１３０，０００、共重合比（Ｍ１）／（Ｍ２）＝１／１（モル比））１．６５部を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）社製）４０部および１−プロパノール５５部の混合溶剤に溶解した。その後、四フッ化エチレン樹脂粉体（商品名：ルブロンＬ−２、ダイキン工業（株）製）３０部を加えた液を、高圧分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０ＥＨ、米Ｍｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ（株）製）に通し、分散液を得た。
その後、下記式（Ｅ）で示される正孔輸送性化合物５２．０部、下記式（Ｆ）で示される化合物（アロニックスＭ−３１５、東亞合成（株）製）１６．０部、下記式（Ｇ）で示される化合物（シグマ−アルドリッチ製）２．０部、シロキサン変性アクリル化合物０．７５部（ＢＹＫ−３５５０、ビックケミー・ジャパン（株）製）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン３５部および１−プロパノール１５部を前記分散液に加え、ポリフロンフィルター（商品名：ＰＦ−０４０、アドバンテック東洋（株）製）で濾過を行い、保護層用塗布液を調製した。
【化５】
2020067598.tif 000007
【化６】
2020067598.tif 000008
この保護層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を５分間４０℃で乾燥した。乾燥後、窒素雰囲気下にて、加速電圧７０ｋＶ、吸収線量１５ｋＧｙの条件で１．６秒間電子線を塗膜に照射した。その後、窒素雰囲気下にて、塗膜の温度が１３５℃になる条件で１５秒間加熱処理を行った。なお、電子線の照射から１５秒間の加熱処理までの酸素濃度は１５ｐｐｍであった。次に、大気中において、塗膜が１０５℃になる条件で１時間加熱処理を行い、膜厚５μｍである保護層を形成した。
【０１０３】
以上のようにして、感光体１１を作製し、フォトメモリの評価、およびチタン酸ストロンチウム粒子の個数平均一次粒径の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０４】
［比較例１］
実施例１において、下引き層用塗布液に使用するポリアミド樹脂２０部、表面処理したチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−１の８０部を、ポリアミド樹脂２５部、酸化チタン粒子（商品名：ＭＴ−５００ＳＡ、テイカ（株）製）７５部にそれぞれ変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、比較例１の比較感光体１を作製し、フォトメモリの評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０５】
［比較例２］
実施例１０において、下引き層用塗布液に使用するポリアミド樹脂２０部、表面処理したチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−１の８０部を、ポリアミド樹脂２５部、酸化チタン粒子（商品名：ＭＴ−５００ＳＡ、テイカ（株）製）７５部にそれぞれ変更した。それ以外は、実施例１０と同様にして、比較例２の比較感光体２を作製し、フォトメモリの評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０６】
［比較例３］
実施例１１において、下引き層用塗布液に使用するポリアミド樹脂２０部、表面処理したチタン酸ストロンチウム粒子ＴＳ−１の８０部を、ポリアミド樹脂２５部、酸化チタン粒子（商品名：ＭＴ−５００ＳＡ、テイカ（株）製）７５部にそれぞれ変更した。それ以外は、実施例１１と同様にして、比較例３の比較感光体３を作製し、フォトメモリの評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０７】
【表１】
2020067598.tif 000009
【０１０８】
表１に示すように、下引き層がチタン酸ストロンチウム粒子を含有し、感光層がブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンを含有する本発明の電子写真感光体、並びに本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を用いるとフォトメモリの発生が抑制された。
【符号の説明】
【０１０９】
１−１  支持体
１−２  下引き層
１−３  感光層
１  電子写真感光体
２  軸
３  帯電手段
４  露光光
５  現像手段
６  転写手段
７  転写材
８  定着手段
９  クリーニング手段
１０  前露光光
１１  プロセスカートリッジ
１２  案内手段
【図１】
2020067598.tif 000013
【図２】
2020067598.tif 000014