(57)【要約】【課題】フッ素系コーティング被膜を表面に施した基板において、該フッ素系コーティング被膜上の、前記基板と密着せずに残留する非密着層を拭取り部材によって拭取ることにより前記非密着層を除去する、基板の浄化方法、基板の製造方法、及び基板の浄化装置であって、拭きスジ等が残ることなく十分な拭取り性を確保でき、且つモップによる拭取り作業に比べてより長期に渡って繰返し拭取り作業を実施可能な高い再利用性を有する基板の浄化方法、基板の製造方法、及び基板の浄化装置を提供する。【解決手段】拭取り部材３に洗浄剤３１を含浸させる含浸工程と、含浸工程によって洗浄剤３１を含浸させた拭取り部材３を用いて非密着層１３を拭取る拭取り工程と、を備え、拭取り部材３は発泡樹脂からなり、発泡樹脂の、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が、２００％以上である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素系コーティング被膜を表面に施した基板において、
該フッ素系コーティング被膜上の、前記基板と密着せずに残留する非密着層を拭取り部材によって拭取ることにより前記非密着層を除去する、基板の浄化方法であって、
前記拭取り部材に洗浄剤を含浸させる含浸工程と、
前記含浸工程によって洗浄剤を含浸させた前記拭取り部材を用いて前記非密着層を拭取る拭取り工程と、
を備え、
前記拭取り部材は発泡樹脂からなり、
前記発泡樹脂の、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が、２００％以上である、
ことを特徴とする基板の浄化方法。
【請求項２】
前記発泡樹脂の前記吸水率は、３００％以上、且つ１０００％以下である、
ことを特徴とする、請求項１に記載の基板の浄化方法。
【請求項３】
前記発泡樹脂は、ポリウレタンまたはポリオレフィンからなる、
ことを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の基板の浄化方法。
【請求項４】
前記拭取り工程を複数回繰り返す、
ことを特徴とする、請求項１〜請求項３の何れか一項に記載の基板の浄化方法。
【請求項５】
前記拭取り工程の終了後、
前記非密着層が除去された前記フッ素系コーティング被膜上を乾拭きする乾拭き工程をさらに備える、
ことを特徴とする、請求項１〜請求項４の何れか一項に記載の基板の浄化方法。
【請求項６】
前記拭取り部材は、
ロール形状であるとともに、
外周面において、前記基板における前記フッ素系コーティング被膜が施された表面と当接するようにして、軸回り方向に回転駆動可能に配置され、
前記基板は、前記拭取り部材に対して前記拭取り部材の外周面の当接箇所における接線方向に相対移動可能に配置され、
前記拭取り工程において、
前記基板は、前記接線方向の一方側に移動され、且つ
前記拭取り部材は、前記拭取り部材の外周面の当接箇所において、前記基板の移動方向と反対方向に回転駆動される、
ことを特徴とする、請求項１〜請求項５の何れか一項に記載の基板の浄化方法。
【請求項７】
前記拭取り部材において、
外周面のＪＩＳ  Ｚ８７４１で規定する６０°光沢度が、４．７〜５．５％である、
ことを特徴とする、請求項６に記載の基板の浄化方法。
【請求項８】
フッ素系コーティング被膜を表面に施した基板の製造方法であって、
請求項１〜請求項７の何れかに記載の浄化方法によって、
前記フッ素系コーティング被膜上の、前記基板と密着せずに残留する非密着層が除去される、
ことを特徴とする基板の製造方法。
【請求項９】
フッ素系コーティング被膜を表面に施した基板において、
該フッ素系コーティング被膜上の、前記基板と密着せずに残留する非密着層を拭取ることにより前記非密着層を除去する、基板の浄化装置であって、
洗浄剤を含浸させて前記非密着層を拭取る拭取り部材を備え、
前記拭取り部材は発泡樹脂からなり、
前記発泡樹脂の、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が、２００％以上である、
ことを特徴とする基板の浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の浄化方法、基板の製造方法、及び基板の浄化装置の技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、タッチパネルやショーケース等に用いられるガラスやプラスチックなどの透光性部材においては、指紋の付着防止等を目的として、基板となる透光性部材の表面に、フッ素系コーティング被膜を成膜する技術が知られている（例えば、特許文献１を参照）。
フッ素系コーティング被膜は、優れた防汚性、撥水性、撥油性、及び表面滑り性等を発揮することが知られており、例えば、以下の工程からなる湿潤被覆法等によって、基板の表面に成膜される。
即ち、溶媒で稀釈されたフッ素系化合物を、例えばスプレー装置等によって噴き付けながら基板の表面に所定量塗布し（塗布工程）、所定温度で一旦乾燥させた後（乾燥工程）、不飽和水蒸気圧の雰囲気下において、所定温度且つ所定時間（例えば、１５０℃で約１時間）の条件にて、一旦乾燥させた基板を焼成する（焼成工程）。
これにより、基板に塗布されたフッ素系化合物間において、加水分解後のＳｉに結合した基同士が速やかに脱水縮合し、当該化合物間で結合が形成される。
また、基板と、フッ素系化合物との間において、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基が、基板の表面に存在する反応性基と速やかに反応し、基板と当該化合物との間で結合が形成される。
その結果、基板の表面にフッ素系コーティング被膜が成膜される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特表２０１５−５１１１７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、焼成直後の基板においては、フッ素系コーティング被膜を構成する化合物間の結合が十分でなく、基板と密着せずに残留する層（以下、「非密着層」と記載する）が、成膜されたフッ素系コーティング被膜の表面上に存在していることが多い。
このような非密着層は、基板の外観を悪化させたり、基板を曇らす要因となることから、洗浄または拭取る等して、成膜されたフッ素系コーティング被膜の表面から除去し、基板を浄化する必要がある。
【０００５】
ここで、例えば洗浄によって非密着層を除去する場合、非密着層はフッ素系化合物から構成されるため、洗浄後の廃液が、自然環境を悪化させる要因となることが考えられる。
また、除去された非密着層を含有する洗浄液が、基板の裏面（フッ素系コーティング被膜が成膜された表面に対して反対側の面）に伝って渡り、その結果、洗浄液が乾燥することで、一旦除去された非密着層が、当該裏面に再び残渣となって残留することも考えられる。
このようなことから、非密着層を除去する方法としては、洗浄に比べて拭取りの方がより好ましいと考えられる。
【０００６】
そこで、非密着層を除去する方法として、例えば、モップの先端に取付けられた不織布に有機溶剤を浸み込ませ、当該モップを用いて、作業者の手により成膜されたフッ素系コーティング被膜の表面を拭取る方法が、従来から実施されている。
しかしながら、このような作業者の手によるモップを用いた拭取り作業によって、非密着層を除去する場合、除去しきれずに僅かに残った非密着層の一部が、モップ（より具体的には、不織布）の移動に応じて、フッ素系コーティング被膜の表面上に拭きスジとなって残り易く、拭取り性が低いという問題があった。
また、モップに取付けられる不織布は、数十回拭取るごとに使用不可能な状態となるため、その都度新たな不織布と交換しなければならず、再利用性に乏しく大量生産に対応し難いという問題があった。
【０００７】
本発明は、以上に示した現状の問題点に鑑みてなされたものであり、フッ素系コーティング被膜を表面に施した基板において、該フッ素系コーティング被膜上の、前記基板と密着せずに残留する非密着層を拭取り部材によって拭取ることにより前記非密着層を除去する、基板の浄化方法、基板の製造方法、及び基板の浄化装置であって、拭きスジ等が残ることなく十分な拭取り性を確保でき、且つモップによる拭取り作業に比べてより長期に渡って繰返し拭取り作業を実施可能な高い再利用性を有する基板の浄化方法、基板の製造方法、及び基板の浄化装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。
【０００９】
即ち、本発明に係る基板の浄化方法は、フッ素系コーティング被膜を表面に施した基板において、該フッ素系コーティング被膜上の、前記基板と密着せずに残留する非密着層を拭取り部材によって拭取ることにより前記非密着層を除去する、基板の浄化方法であって、前記拭取り部材に洗浄剤を含浸させる含浸工程と、前記含浸工程によって洗浄剤を含浸させた前記拭取り部材を用いて前記非密着層を拭取る拭取り工程と、を備え、前記拭取り部材は発泡樹脂からなり、前記発泡樹脂の、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が、２００％以上であることを特徴とする。
このような構成からなる基板の浄化方法によれば、後述する検証実験からも明らかなように、十分な拭取り性、及び高い再利用性を実現することができる。
【００１０】
また、本発明に係る基板の浄化方法において、前記発泡樹脂の前記吸水率は、３００％以上、且つ１０００％以下であることが好ましい。
ここで、発泡樹脂の吸水率が３００％以上であれば、拭取り部材に含浸させた洗浄剤が当該拭取り部材に十分に保持できる。
また、発泡樹脂の吸水率が１０００％以下であれば、拭取り部材によって基板と密着せずに残留する非密着層を拭取る際に、拭取り部材に含浸させた洗浄剤が基板上に滲み出しすぎないため、拭取り後に基板上に洗浄剤が残って拭き跡が生じない。
このようなことから、発泡樹脂の吸水率を３００％以上、且つ１０００％以下に設定することにより、フッ素系コーティング被膜上の非密着層を、拭取り部材によって、より確実に拭取ることができる。
【００１１】
また、本発明に係る基板の浄化方法において、前記発泡樹脂は、ポリウレタンまたはポリオレフィンからなることが好ましい。
このような発泡樹脂からなる拭取り部材によれば、後述する検証実験からも明らかなように、拭取り性、及び再利用性の何れにおいても向上することとなり、フッ素系コーティング被膜上の非密着層を、拭取り部材によって、より確実に拭取ることができる。
【００１２】
また、本発明に係る基板の浄化方法においては、前記拭取り工程を複数回繰り返すことが好ましい。
このような構成を有することにより、例えば、一度の拭取り工程において、フッ素系コーティング被膜上の非密着層が、十分に除去しきれなかったとしても、その後、拭取り工程を複数回実施することによって、フッ素系コーティング被膜上の非密着層を、拭取り部材によって、より確実に拭取ることができる。
【００１３】
また、本発明に係る基板の浄化方法においては、前記拭取り工程の終了後、前記非密着層が除去された前記フッ素系コーティング被膜上を乾拭きする乾拭き工程をさらに備えることが好ましい。
このように、拭取り工程の終了後に乾拭き工程を設けることで、たとえ拭取り工程において、拭取り部材によって一旦拭取られた非密着層のうち、一部の非密着層が当該拭取り部材に十分吸収されずにフッ素系コーティング被膜の表面に残ったとしても、当該一部の非密着層を確実に拭取ることができ、非密着層１３の拭取り効果の向上を図ることができる。
【００１４】
また、本発明に係る基板の浄化方法において、前記拭取り部材は、ロール形状であるとともに、外周面において、前記基板における前記フッ素系コーティング被膜が施された表面と当接するようにして、軸回り方向に回転駆動可能に配置され、前記基板は、前記拭取り部材に対して前記拭取り部材の外周面の当接箇所における接線方向に相対移動可能に配置され、前記拭取り工程において、前記基板は、前記接線方向の一方側に移動され、且つ前記拭取り部材は、前記拭取り部材の外周面の当接箇所において、前記基板の移動方向と反対方向に回転駆動されることが好ましい。
このような構成を有することにより、フッ素系コーティング被膜の表面から非密着層を掻き出しながら、より確実に非密着層を拭取ることができる。
【００１５】
また、本発明に係る基板の浄化方法においては、前記拭取り部材において、外周面のＪＩＳ  Ｚ８７４１で規定する６０°光沢度が、４．７〜５．５％であることが好ましい。
このような構成を有することにより、拭取り部材の外周面は、研磨加工を施すことなく表面の平滑な状態にしておくこととなり、その結果、非密着層との間の摩擦力が高くなり、より確実に、フッ素系コーティング被膜の表面から、非密着層を拭取ることができる。
【００１６】
さらに、本発明に係る基板の製造方法は、フッ素系コーティング被膜を表面に施した基板の製造方法であって、請求項１〜請求項７の何れかに記載の浄化方法によって、前記フッ素系コーティング被膜上の、前記基板と密着せずに残留する非密着層が除去されることを特徴とする。
このような構成からなる基板の製造方法によれば、後述する検証実験からも明らかなように、十分な拭取り性、及び高い再利用性を実現することができる。
【００１７】
一方、本発明に係る基板の浄化装置は、フッ素系コーティング被膜を表面に施した基板において、該フッ素系コーティング被膜上の、前記基板と密着せずに残留する非密着層を拭取ることにより前記非密着層を除去する、基板の浄化装置であって、洗浄剤を含浸させて前記非密着層を拭取る拭取り部材を備え、前記拭取り部材は発泡樹脂からなり、前記発泡樹脂の、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が、２００％以上であることを特徴とする。
このような構成からなる基板の浄化装置によれば、後述する検証実験からも明らかなように、十分な拭取り性、及び高い再利用性を実現することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の効果として、以下に示すような効果を奏する。
即ち、本発明に係る基板の浄化方法、基板の製造方法、及び基板の浄化装置によれば、基板に施したフッ素系コーティング被膜の表面に残留する非密着層を、拭きスジ等が残ることなく十分に拭取ることができ、且つモップによる拭取り作業に比べてより長期に渡って繰返し拭取り作業を実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施形態に係る浄化装置の全体的な構成を示した概略図である。
【図２】本発明の別実施形態に係る浄化装置の全体的な構成を示した概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
次に、本発明の実施形態について、図１及び図２を用いて説明する。
なお、以下の説明に関しては便宜上、図１及び図２の上下方向を、浄化装置１または浄化装置１０１の上下方向と規定して記述する。
また、図１及び図２における矢印Ａの方向を、基板１１の搬送方向と規定して記述する。
【００２１】
［基板１１の浄化方法の概要］
先ず、本実施形態によって具現化される基板の浄化方法の概要について、図１を用いて説明する。
本実施形態における基板の浄化方法は、例えば、湿潤被覆法によって表面にフッ素系コーティング被膜１２が形成された、基板１１を浄化するための方法である。
【００２２】
ここで、湿潤被覆法によって形成されたフッ素系コーティング被膜１２の表面には、基板１１と密着せずに、フッ素系コーティング被膜１２の表面上に残留する非密着層１３が存在する。
そのため、基板１１の表面にフッ素系コーティング被膜１２が一旦形成された後には、当該フッ素系コーティング被膜１２の表面から非密着層１３を十分に除去して、基板１１を浄化する必要がある。
【００２３】
本実施形態における基板の浄化方法は、後述するように、洗浄剤３１を含浸させた拭取り部材３によって拭取ることで、例えばモップ等によって拭取る場合に比べて、拭きスジ等が残ることなく十分な拭取り性を確保し、且つ数十回拭取るごとに使用不可能な状態となることもなく耐久性の高い基板の浄化方法を実現するものである。
【００２４】
［浄化装置１の構成］
次に、浄化装置１の構成について、図１を用いて説明する。
浄化装置１は、表面にフッ素系コーティング被膜１２が被覆された直後の基板１１に対して、当該フッ素系コーティング被膜１２の表面上の非密着層１３を、洗浄剤３１を含浸させた拭取り部材３によって拭取り除去することで、基板１１を浄化するための装置である。
【００２５】
ここで、本実施形態において、浄化装置１による浄化の対象となる基板１１の材質としては、例えば、タッチパネルやショーケース等に用いられるガラス、セラミックス、樹脂、石英、サファイア等などの透光性部材が挙げられる。
また、基板１１の形状は、特に限定されず、各種携帯端末やショーケースの形状等に応じて任意に選択できる。
【００２６】
なお、基板１１は、０．０５〜０．３ｍｍ程度の複数枚の透明ガラスフィルムを積層させた積層体や、複数枚の透明ガラスフィルムの間に０．１〜１５ｍｍ程度のポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等の透明樹脂板やフィルムを積層させた積層体でもよい。
【００２７】
基板１１は、無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラスなどのガラスにより構成されることが好ましい。
また、基板１１は、強化ガラスにより構成されていてもよい。基板１１に好ましく用いられる強化ガラスの具体例としては、例えば、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２  ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３  ５〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０〜１５％、Ｎａ２Ｏ  １〜２０％、Ｋ２Ｏ  ０〜１０％を含有するガラスを、化学強化した化学強化ガラスが挙げられる。このなかでも、無アルカリガラスや強化ガラスであることが好ましい。
【００２８】
基板１１の表面には、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。
また、反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。
【００２９】
反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ケイ素、アルミニウム、チタン、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、ハフニウムの酸化物、窒化物、酸窒化物などが挙げられる。
これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してよい。
【００３０】
また、多層反射防止層とする場合、その最外層にはケイ素の酸化物であるＳｉＯ２を用いることが好ましい。
製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。
【００３１】
なお、基材１１は、その具体的仕様等に応じて、帯電防止層、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜、ハードコーティング層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【００３２】
一方、基板１１の表面に形成されたフッ素系コーティング被膜１２の成分としては、例えばフッ素含有有機シラン化合物などのフッ素系化合物が挙げられるが、その中でも、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が好ましい。
【００３３】
フッ素含有有機シラン化合物としては、例えば、Ｓｉに結合した加水分解可能な基を有し、且つ、フッ素を含む撥水性の官能基を側鎖に有する化合物が挙げられる。
【００３４】
なお、フッ素含有有機シラン化合物としては、例えば、ＫＹ１３０（信越化学工業社製）、オプツ−ルＤＳＸ（ダイキン工業社製）、ＴＳＬ８２５７、ＴＳＬ８２３３、ＴＳＬ８３１（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）、ＫＢＭ７８０３（信越化学工業社製）、ＡＹ４３−１５８Ｅ（東レ・ダウコーニング社製）、ＫＰ８０１Ｍ（信越化学工業社製）が挙げられる。
【００３５】
以上のような構成からなる、フッ素系コーティング被膜１２が形成された基板１１に対して、浄化装置１は、洗浄剤３１を含浸させた拭取り部材３によって拭取り除去することで、基板１１を浄化する。
【００３６】
浄化装置１は、主に支持テーブル２、及び拭取り部材３等により構成される。
【００３７】
支持テーブル２は、基板１１を支持するとともに、後述する拭取り部材３に対して当該基板１１を所定方向に相対移動させるためのものである。
支持テーブル２は、水平面状の載置面２ａを有し、当該載置面２ａにおいて、基板１１は、フッ素系コーティング被膜１２が形成された平面を上方に向けた、水平姿勢の状態にて載置され支持される。
【００３８】
そして、支持テーブル２には、図示せぬ駆動機構が備えられており、当該駆動機構によって、支持テーブル２が所定方向（図１中における矢印Ａの方向）に向かって移動されることにより、基板１１は、拭取り部材３に対して相対移動される。
【００３９】
なお、支持テーブル２の構成については、本実施形態に限定されるものでなく、例えば、上述したような駆動機構（図示せず）を備えることなく、支持テーブル２は移動不能に構成されるとともに、拭取り部材３が、支持テーブル２に対して相対移動可能に構成されていてもよい。
【００４０】
次に、拭取り部材３について説明する。
拭取り部材３は、基板１１の表面に形成されたフッ素系コーティング被膜１２に当接させて、当該フッ素系コーティング被膜１２の表面上の非密着層１３を拭取るためのものである。
【００４１】
拭取り部材３は、例えばロール形状の発泡樹脂からなり、支持テーブル２の上方において、軸方向を水平方向、且つ支持テーブル２の移動方向（矢印Ａの方向）との直交方向に向けた状態にて配置される。
また、拭取り部材３は、外周面において、基板１１におけるフッ素系コーティング被膜１２が施された表面と当接するようにして、図示せぬ駆動機構によって軸回り方向に回転駆動可能に配置される。
【００４２】
そして、支持テーブル２が所定方向（矢印Ａの方向）に向かって移動することにより、当該支持テーブル２によって支持された基板１１は、拭取り部材３に向かって相対移動され、当該拭取り部材３を通過する。
この際、拭取り部材３における外周面の下端部が、フッ素系コーティング被膜１２の表面と当接され、当該フッ素系コーティング被膜１２の表面から非密着層１３が拭取られる。
換言すると、基板１１は、拭取り部材３の外周面の当接箇所（外周面の下端部）における接線方向（本実施形態においては、矢印Ａの方向）に向かって、拭取り部材３に対して相対移動可能に配置されており、基板１１が拭取り部材３を通過することにより、当該基板１１に形成されたフッ素系コーティング被膜１２の表面から、非密着層１３が拭取られる。
【００４３】
ここで上述したように、本実施形態においては、拭取り部材３が、駆動機構（図示せず）によって軸回り方向に回転駆動可能に構成されており、基板１１が、前記接線方向の一方側、つまり所定方向側（矢印Ａの方向側）に向かって移動されて拭取り部材３を通過し終えるまでの間、拭取り部材３は、基板１１の移動方向との反対側、つまり所定方向側との反対側（図１中における矢印Ｂの方向側）に向かって回転駆動される構成となっている。
【００４４】
なお、拭取り部材３の回転駆動については、本実施形態に限定されるものではなく、例えば、基板１１が拭取り部材３を通過し終えるまでの間、拭取り部材３の回転駆動を停止させていてもよい。
しかしながら、本実施形態のように、基板１１が拭取り部材３を通過し終えるまでの間、拭取り部材３を軸回り方向（矢印Ｂの方向）に回転駆動させることで、フッ素系コーティング被膜１２の表面から非密着層１３を掻き出しながら、より確実に非密着層１３を拭取ることができる。
【００４５】
拭取り部材３の素材である発泡樹脂は、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が、２００％以上である素材である。
より好ましくは、前記発泡樹脂の吸水率は、３００％以上、且つ１０００％以下であることが望ましい。
【００４６】
ここで、発泡樹脂の吸水率が３００％以上であれば、拭取り部材３に含浸させた洗浄剤３１が当該拭取り部材３に十分に保持できる。
また、発泡樹脂の吸水率が１０００％以下であれば、拭取り部材３によって基板１１と密着せずに残留する非密着層１３を拭取る際に、拭取り部材３に含浸させた洗浄剤３１が基板１１上に滲み出しすぎないため、拭取り後に基板１１上に洗浄剤が残って拭き跡が生じない。
本実施形態においては、拭取り部材３の吸水率を３００％以上、且つ１０００％以下に設定することにより、拭取り部材３に含浸させた洗浄剤３１は、当該拭取り部材３に適度に保持され、基板１１と密着せずに残留する非密着層１３を拭取る際には、拭取り部材３から十分に滲み出させることができ、フッ素系コーティング被膜１２上の非密着層１３を、拭取り部材３によって、より確実に拭取ることができる。
【００４７】
このような吸水率を有する発泡樹脂としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルホルマール（ＰＶＦＭ）、ポリウレタン（ＰＵ）、及びポリオレフィン（ＰＡＯ）などが挙げられるが、その中でもポリウレタン（ＰＵ）またはポリオレフィン（ＰＡＯ）からなる発泡樹脂が、３００％以上、且つ１０００％以下の吸水率を有するため好ましい。
【００４８】
拭取り部材３の外周面には研磨加工が施されておらず、材質である発泡樹脂の素地のままの状態となっている。
即ち、研磨加工された発泡樹脂の、ＪＩＳ  Ｚ８７４１で規定する６０°光沢度が、２．４〜２．８であるのに対して、本実施形態における拭取り部材３の外周面の、ＪＩＳ  Ｚ８７４１で規定する６０°光沢度は、４．７〜５．５％となっている。
【００４９】
このように、拭取り部材３の外周面を、研磨加工を施すことなく表面の平滑な状態にしておくことで、非密着層１３との間の摩擦力が向上し、より確実に、フッ素系コーティング被膜１２の表面から、非密着層１３を拭取ることができる。
【００５０】
以上のような構成からなる浄化装置１によって、フッ素系コーティング被膜１２の表面に残留する非密着層１３を拭取り除去する場合、先ず拭取り部材３に洗浄剤３１を含浸させる（含浸工程）。
【００５１】
拭取り部材３に含浸させる洗浄剤３１としては、フッ素系の洗浄剤３１が好ましく、そのなかでもハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）類、ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）類、またはハイドロフルオロオレフィン（ＨＦＣ）類のフッ素系有機溶剤が、除去される非密着層１３との相性がよく、高い洗浄効果が期待できるため望ましい。
【００５２】
なお、拭取り部材３に含浸させる洗浄剤３１として、例えば純水やエタノールを用いた場合、非密着層１３は撥水性を有することから十分に除去することができず、その結果、残った非密着層１３の一部が、基板１１に対する拭取り部材３の相対移動に応じて、拭きスジとなって残り易く好ましくない。
【００５３】
前記含浸工程において、拭取り部材３に洗浄剤３１を含浸させた後、当該拭取り部材３を軸回り方向（矢印Ｂの方向）に回転駆動させる。
一方、支持テーブル２の載置面２ａに基板１１を載置し、フッ素系コーティング被膜１２が形成された平面を上方に向けた状態にて、当該基板１１を支持する。
【００５４】
なお、拭取り部材３の回転駆動については、前記含浸工程の実施前に行うこととし、拭取り部材３を回転駆動させながら、当該拭取り部材３に洗浄剤３１を含浸させることとしてもよい。
【００５５】
そして、支持テーブル２を所定方向（矢印Ａの方向）に向かって移動させ、基板１１が拭取り部材３を通過することにより、当該拭取り部材３における外周面の下端部が、フッ素系コーティング被膜１２の表面と当接され、当該フッ素系コーティング被膜１２の表面から非密着層１３が拭取られる（拭取り工程）。
【００５６】
その後、基板１１が拭取り部材３を完全に通過し終えることにより、浄化装置１による基板１１の浄化は終了する。
【００５７】
このように、本実施形態においては、浄化装置１によって、拭取り部材３にフッ素系の洗浄剤３１を含浸させる含浸工程と、前記含浸工程によって洗浄剤３１を含浸させた拭取り部材３を用いて、フッ素系コーティング被膜１２の表面から非密着層１３を拭取る拭取り工程と、を経時的に順に実施することにより、フッ素系コーティング被膜１２の表面上の非密着層１３を十分に除去して、基板１１を浄化する構成となっている。
【００５８】
なお、前記拭取り工程の実施回数については、本実施形態のように１回に限定されるものではなく、非密着層１３の状態（除去するべき分量や、フッ素系コーティング被膜１２との付着度合いなど）に応じて、複数回繰り返すこととしてもよい。
【００５９】
このような構成を有することにより、例えば、一度の拭取り工程において、フッ素系コーティング被膜１２上の非密着層１３が、十分に除去しきれなかったとしても、その後、拭取り工程を複数回実施することによって、フッ素系コーティング被膜１２上の非密着層１３を、拭取り部材３によって、より確実に拭取ることができる。
【００６０】
また、拭取り部材３の構成については、本実施形態のようなロール形状の発泡樹脂に限定されるものではなく、例えば、一対のローラ（繰出しローラ、及び巻取りローラ）によって両端部が巻き取られた帯状の発泡樹脂の下面の一部を、これら一対のローラの間に設けられるアイドラによって、フッ素系コーティング被膜１２の表面に押し当てるような構成であってもよい。
【００６１】
［別実施形態における浄化装置１０１の構成］
次に、別実施形態における浄化装置１０１の構成について、図２を用いて説明する。
別実施形態における浄化装置１０１は、前述した浄化装置１と略同等な構成を有する一方、乾拭き部材１０４が設けられている点について、浄化装置１と相違する。
よって、以下の説明においては、主に前述した浄化装置１との相違点について記載し、当該浄化装置１と同等な構成についての記載は省略する。
【００６２】
別実施形態における浄化装置１０１は、主に支持テーブル１０２、拭取り部材１０３、及び乾拭き部材１０４等により構成される。
なお、支持テーブル１０２、及び拭取り部材１０３の構成については、前述した浄化装置１における支持テーブル２、及び拭取り部材３と同等な構成からなるため、説明の記載は省略する。
【００６３】
乾拭き部材１０４は、拭取り部材１０３によって非密着層１３が拭取られた直後の、フッ素系コーティング被膜１２の表面を乾拭きするためのものである。
【００６４】
乾拭き部材１０４は、例えばロール形状の発泡樹脂からなり、支持テーブル１０２の上方において、拭取り部材１０３と平行、且つ当該拭取り部材１０３に対して支持テーブル１０２の移動方向（図２中の矢印Ａの方向）の下流側に配置される。
また、乾拭き部材１０３は、外周面において、基板１１におけるフッ素系コーティング被膜１２が施された表面と当接するようにして、図示せぬ駆動機構によって軸回り方向に回転駆動可能に配置される。
【００６５】
そして、支持テーブル１０２が所定方向（矢印Ａの方向）に向かって移動することにより、当該支持テーブル２によって支持された基板１１は、拭取り部材１０３を通過した後、直ちに乾拭き部材１０４を通過する。
この際、乾拭き部材１０４における外周面の下端部が、フッ素系コーティング被膜１２の表面と当接され、非密着層１３が拭取られた直後のフッ素系コーティング被膜１２の表面が、乾拭き部材１０４によって乾拭きされる。
【００６６】
なお、上述したように、乾拭き部材１０４も拭取り部材１０３と同様に、駆動機構（図示せず）によって、基板１１の移動方向（矢印Ａの方向側）との反対側（図２中における矢印Ｃの方向側）に向かって回転駆動される構成となっている。
しかしながら、これに限定されることはなく、例えば、基板１１が乾拭き部材１０４を通過し終えるまでの間、乾拭き部材１０４の回転駆動を停止させていてもよい。
【００６７】
乾拭き部材１０４の素材である発泡樹脂は、特に限定されないが、拭取り部材１０３の場合と同じく、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が、２００％以上であり、より好ましくは、３００％以上、且つ１０００％以下であることが望ましい。
【００６８】
このような吸水率を有する発泡樹脂であれば、拭取り部材１０３によって非密着層１３が拭取られた直後の、フッ素系コーティング被膜１２の表面に残る一部の非密着層１３を、確実に吸収して乾拭きを行うことができる。
【００６９】
以上のような構成からなる浄化装置１０１によって、フッ素系コーティング被膜１２の表面に残留する非密着層１３を拭取り除去する場合、前述した浄化装置１と同じく、拭取り部材１０３にフッ素系の洗浄剤１３１を含浸させる含浸工程と、前記含浸工程によって洗浄剤１３１を含浸させた拭取り部材１０３を用いて、フッ素系コーティング被膜１２の表面から非密着層１３を拭取る拭取り工程と、を経時的に順に実施するとともに、前記拭取り工程の終了後、非密着層１３が除去されたフッ素系コーティング被膜１２上を、乾拭き部材１０４を用いて乾拭きする乾拭き工程を実施することとなる。
【００７０】
このように、拭取り工程の終了後に乾拭き工程を設けることで、たとえ拭取り工程において拭取り部材１０３によって一旦拭取られた非密着層１３のうち、一部の非密着層１３が当該拭取り部材１０３に十分吸収されずにフッ素系コーティング被膜１２の表面に残ったとしても、乾拭き部材１０４により当該一部の非密着層１３を確実に拭取ることができ、非密着層１３の拭取り効果の向上を図ることができる。
【００７１】
なお、別実施形態における浄化装置１０１においては、一本の拭取り部材１０３に対して、支持テーブル１０２の移動方向（矢印Ａの方向）の下流側に、一本の乾拭き部材１０４を設ける構成としているが、これに限定されることはなく、例えば、複数本の乾拭き部材１０４・１０４・・・を設ける構成としてもよい。
また、支持テーブル１０２の移動方向（矢印Ａの方向）の上流側及び下流側にそれぞれ設けられる、一本の拭取り部材１０３、及び一本の乾拭き部材１０４からなる組合せを、複数組み設けることとしてもよい。
【００７２】
［検証実験］
次に、本発明に係る基板の浄化方法において、その有効性を確認するために行った検証実験について説明する。
【００７３】
先ず始めに、本発明の実施形態のサンプルとして、実施例１、２、３なる３種類のロール形状の拭取り部材を各々２本ずつ用意した。
【００７４】
ここで、実施例１における拭取り部材の素材については、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が３００〜４００％のポリウレタン（トーヨーポリマー（株）製：ルビーセルＰロール）を使用することとした。
なお、この素材の平均孔径は１０〜３０μｍであり、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された気孔率は７５〜９０％であり、デュロメーター硬さは１０である。
なお、デュロメーター硬さは、タイプＣで測定した値である。測定条件は、アスカーゴム硬度計Ｃ型を用いて、推針が試験片の測定面に垂直になるようにして加圧面を密着させ、直ちに目盛りを読み取った値である。なお、デュロメーター硬さの測定は、ＪＩＳ  Ｋ  ７３１２付属書２に準拠している。
【００７５】
また、実施例２における拭取り部材の素材については、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が４００％のポリウレタン（アイオン（株）製：ソフラスロール）を使用することとした。
なお、この素材の平均孔径は２５μｍであり、気孔率は８３％であり、デュロメーター硬さは１１である。
【００７６】
さらに、実施例３における拭取り部材の素材については、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が４００％のポリオレフィン（アイオン（株）製：ピオラスローラ）を使用することとした。
なお、この素材の平均孔径は２５μｍであり、気孔率は６３％であり、デュロメーター硬さは１５である。
【００７７】
一方、これらのサンプル（実施例１、実施例２、実施例３）によって、非密着層の拭取り作業を実施する対象物として、膜厚１０μｍのフッ素系コーティング被膜（ダイキン工業株式会社製：商品名  オプツールＵＦ−５０３）が施された直後の、厚み１．１ｍｍの板ガラス（日本電気硝子株式会社製：商品名  Ｔ２Ｘ−１）からなる基板を用意した。
【００７８】
そして、それぞれのサンプル（実施例１、実施例２、実施例３）において、２本の拭取り部材を互いに平行、且つ平面視にて基板の搬送方向と直交するようにして配置し、これら２本の拭取り部材にフッ素系の洗浄剤（ハイドロフルオロエーテル；ＨＦＥ）を各々含浸させた後、これら２本の拭取り部材を２回通過させることにより、基板に形成されたフッ素系コーティング被膜の非密着層の拭取り作業を実施した。
【００７９】
なお、これら２本の拭取り部材を通過する際における、基板の搬送速度については、２ｍ／ｍｉｎに設定することとした。
また、これら２本の拭取り部材の、基板に対する押し込み量（拭取り部材の外周面が、基板（より具体的にはフッ素系コーティング被膜）の表面に当接した位置から、さらに基板に向かって拭取り部材を押し込んだ量）については、２ｍｍに設定することとした。
【００８０】
このような手法に基づき拭取り作業を実施した後、それぞれのサンプル（実施例１、実施例２、実施例３）に対して、拭取り性、及び再利用性に関する評価を目視にて行い、次の［表１］に示す結果を得た。
なお、評価結果において、拭取り性については、フッ素系コーティング被膜の表面に取り残された非密着層がほとんど見られない場合には「〇」と表記し、少量の取り残された非密着層が見られる場合には「△」と表記し、ほとんどの非密着層が取り残されている場合には「×」と表記している。
また、評価結果において、再利用性については、数百回繰り返し拭取り作業を実施しても、拭取り部材に欠損等がほとんど見られない場合には「〇」と表記し、百回程度繰り返し拭取り作業を実施した場合に、拭取り部材に欠損等が見られた場合には「△」と表記し、数十回繰り返し拭取り作業を実施しだけで、拭取り部材に欠損等が見られた場合には「×」と表記している。
【００８１】
【表１】
2020044503.tif 000003
【００８２】
［表１］に示すように、実施例１、実施例２、実施例３においては、拭取り性、及び再利用性の双方とも「〇」であり、良好な結果を得ることができた。
【００８３】
次に、本発明の他の実施形態のサンプルとして、実施例１１、実施例１２なる２種類のロール形状の拭取り部材を各々２本ずつ用意した。
【００８４】
ここで、実施例１１における拭取り部材の素材については、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が１１００％のポリビニルアルコール：ＰＶＡ（（株）アイシン産業製：ＰＶＡスポンジ）を使用することとした。
なお、この素材の平均孔径は６０μｍであり、３０％変形に対応する圧縮応力は８．８ｋＰａである。
【００８５】
また、実施例１２における拭取り部材の素材については、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が１３００％のポリビニルホルマール：ＰＶＦＭ（アイオン（株）製：ビーファイン）を使用することとした。
なお、この素材の平均孔径は２００μｍであり、気孔率は９２％であり、２５％変形に対応する圧縮応力は２．０ｋＰａである。
【００８６】
そして、上述の実施例１、実施例２、実施例３と同様の手法に基づき、基板に被覆されたフッ素系コーティング被膜の非密着層の拭取り作業を実施した後、それぞれのサンプル（実施例１１、実施例１２）に対して、拭取り性、及び再利用性に関する評価を目視にて行い、次の［表２］に示す結果を得た。
なお、評価結果において、拭取り性、及び再利用性についての表記の意味は、上述の［表１］と同様である。
【００８７】
【表２】
2020044503.tif 000004
【００８８】
［表２］に示すように、実施例１１、実施例１２においては、再利用性については「〇」であり、良好な結果を得ることができた。
一方、拭取り性については、実施例１１、実施例１２の双方ともに「△」であり、拭取り部材に一旦吸収された非密着層の一部が滲み出し、フッ素系コーティング被膜に残留する液戻り現象が僅かに見受けられたが、品質的に問題となるレベルには至らなかった。
【００８９】
次に、これらの実施例１、実施例２、実施例３、及び実施例１１、実施例１２の比較対象として、比較例１、比較例２なる２種類のロール形状の拭取り部材を各々２本ずつ用意した。
【００９０】
ここで、比較例１における拭取り部材の素材については、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が５％以下の天然ゴム：ＮＲ（和気産業（株）業製：ＮＲスポンジゴム）を使用することとした。
なお、この素材の見掛密度は０．１０〜０．２４ｇ／ｃｍ３であり、デュロメーター硬さは３〜３８である。
【００９１】
また、比較例２における拭取り部材の素材については、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が５％の合成ゴム：ＥＰＤＭ（和気産業（株）業製：ＥＰＤＭスポンジゴム）を使用することとした。
なお、この素材の見掛密度は０．１０〜０．２４ｇ／ｃｍ３であり、デュロメーター硬さは２〜４０である。
【００９２】
そして、上述の実施例１、実施例２、実施例３と同様の手法に基づき、基板に被覆されたフッ素系コーティング被膜の非密着層の拭取り作業を実施した後、それぞれのサンプル（比較例１、比較例２）に対して、拭取り性、及び再利用性に関する評価を目視にて行い、次の［表３］に示す結果を得た。
なお、評価結果において、拭取り性、及び再利用性についての表記の意味は、上述の［表１］と同様である。
【００９３】
【表３】
2020044503.tif 000005
【００９４】
［表３］に示すように、天然ゴム（ＮＲ）及び合成ゴム（ＥＰＤＭ）は、吸水率が非常に低く、洗浄剤や一旦拭取られた非密着層がほとんど拭取り部材に吸収されずに、フッ素系コーティング被膜の表面に残留してしまうことから、比較例１、比較例２の双方ともに、拭取り性は「×」であり、不良な結果を得ることとなった。
なお、拭取り性の評価に鑑み、再利用性の評価については中止することとした。
【００９５】
次に、これらの実施例１、実施例２、実施例３、及び実施例１１、実施例１２の比較対象として、比較例１１、比較例１２、比較例１３、比較例１４なる４種類の布状部材を用意した。
【００９６】
ここで、比較例１１における布状部材の素材については、パルプ不織布（日本製紙クレシア（株）製：クッキングペーパーＮＥＯ）を使用することとした。
【００９７】
また、比較例１２における布状部材の素材については、パルプ（日本製紙クレシア（株）製：キムタオル）を使用することとした。
【００９８】
また、比較例１３における布状部材の素材については、ポリエステル（（株）ブラストン製：ポリエステルワイパー）を使用することとした。
【００９９】
また、比較例１４における布状部材の素材については、不織布研磨材（富士紡ホールディングス（株）製：ＰＯＬＹＰＡＳ  ＦＰシリーズ）を使用することとした。
【０１００】
そして、それぞれのサンプル（比較例１１、比較例１２、比較例１３、比較例１４）において、モップの先端に布状部材を取付け、当該布状部材にフッ素系の洗浄剤（ハイドロフルオロエーテル；ＨＦＥ）を含浸させた後、前記布状部材を用いて基板に形成されたフッ素系コーティング被膜の非密着層の拭取り作業を実施した。
【０１０１】
このような手法に基づき拭取り作業を実施した後、それぞれのサンプル（比較例１１、比較例１２、比較例１３、比較例１４）に対して、拭取り性、及び再利用性に関する評価を目視にて行い、次の［表４］に示す結果を得た。
なお、評価結果において、拭取り性、及び再利用性についての表記の意味は、上述の［表１］と同様である。
【０１０２】
【表４】
2020044503.tif 000006
【０１０３】
［表４］に示すように、比較例１１、比較例１２、比較例１３においては、拭取り性については「〇」であり、良好な結果を得ることができた。
しかしながら、比較例１４においては、フッ素系コーティング被膜の表面からほとんど非密着層を拭取ることができず、拭取り性については「×」の評価結果となった。
一方、再利用性については、比較例１１では、数回の拭取り作業によって毛羽立ちや発塵などが見られ、また比較例１２、比較例１３、比較例１４においても数回の拭取り作業によって発塵が見られたことから、比較例１１、比較例１２、比較例１３、比較例１４の全てが「×」であり、不良な結果を得ることとなった。
【０１０４】
以上の検証実験の結果により、ＡＳＴＭ  Ｄ  １０５６に準拠して測定された吸水率が２００％以上の発泡樹脂からなる拭取り部材（実施例１〜３、及び実施例１１、１２）であれば、ほぼ良好な拭取り性、及び再利用性を実現することが可能であることが明らかであり、本発明に係る基板の浄化方法の有効性を確認することができた。
【符号の説明】
【０１０５】
１    浄化装置
２    支持テーブル
３    拭取り部材
１１    基板
１２    フッ素系コーティング被膜
１３    非密着層
３１    洗浄剤
１０１    浄化装置
１０２    支持テーブル
１０３    拭取り部材
１０４    乾拭き部材
１３１    洗浄剤
【図１】
2020044503.tif 000007
【図２】
2020044503.tif 000008