(57)【要約】【課題】撮像のためのシステム１０が提供される。【解決手段】システム１０は、Ｘ線源１４と、検出器１６と、コントローラ１８とを含む。Ｘ線源１４は、掃引角度によって画定された経路２２に沿って連続的に進行しながら、Ｘ線２０を被写体１２に透過させるように動作する。検出器１６は、被写体１２を通過したＸ線２０を受信するように動作する。コントローラ１８は、Ｘ線源１４および検出器１６を介して被写体１２に関する予備データ５６を取得し、予備データ５６から少なくとも１つの取得パラメータ６０を決定し、取得パラメータ６０に少なくとも部分的に基づいてＸ線源１４およびＸ線検出器１６を介して被写体１２の１つまたは複数の投影６４を取得するように動作する。【選択図】図２
2020044328.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像のためのシステム（１０）であって、
掃引角度（φ）によって画定された経路（２２）に沿って連続的に進行しながら、Ｘ線（２０）を被写体（１２）に透過させるように動作するＸ線源（１４）と、
前記被写体（１２）を通過した前記Ｘ線（２０）を受信するように動作する検出器（１６）と、
前記Ｘ線源（１４）および前記検出器（１６）を介して前記被写体（１２）に関する予備データ（５６）を取得し（５４）、
前記予備データ（５６）から少なくとも１つの取得パラメータ（６０）を決定し（５８）、
前記取得パラメータ（６０）に少なくとも部分的に基づいて前記Ｘ線源（１４）および前記Ｘ線検出器（１６）を介して前記被写体（１２）の１つまたは複数の投影（６４）を取得する（６２）
ように動作するコントローラ（１８）と
を備える、システム（１０）。
【請求項２】
前記取得パラメータ（６０）が、投影の数（６６）、前記Ｘ線源（１４）の回転速度（６８）、前記Ｘ線源（１４）の角度範囲（７０）、および前記１つまたは複数の投影（６４）の投影間の角度ステップ（７２）の少なくとも１つである、請求項１に記載のシステム（１０）。
【請求項３】
前記予備データ（５６）が、前記被写体（１２）の減衰特性（７４）を含む、請求項１に記載のシステム（１０）。
【請求項４】
前記減衰特性（７４）が、最も密度の高い場所でのポリメチルメタクリレート相当の厚さである、請求項３に記載のシステム（１０）。
【請求項５】
前記コントローラ（１８）が、前記Ｘ線源（１４）のアノード材料、前記Ｘ線源（１４）のフィルタ選択、前記Ｘ線源（１４）のピークキロ電圧、前記Ｘ線源（１４）のパルスあたりのミリアンペア、前記Ｘ線源（１４）の回転速度（６８）、および投影の数（６６）の１つに少なくとも部分的に基づいて前記少なくとも１つの取得パラメータ（６０）を決定する（５８）、請求項１に記載のシステム（１０）。
【請求項６】
前記コントローラ（１８）が、
前記１つまたは複数の投影（６４）から三次元画像を生成する
ようにさらに動作する、請求項１に記載のシステム（１０）。
【請求項７】
前記経路（２２）が、トモシンセシス用に構成される、請求項１に記載のシステム（１０）。
【請求項８】
前記コントローラ（１８）が、
前記Ｘ線源（１４）および前記検出器（１６）によって取得された前記１つまたは複数の投影（６４）の数が所望の投影数に等しいとき、または前記Ｘ線源（１４）の回転角度が所望の回転角度に達するときに前記１つまたは複数の投影（６４）の取得を停止する（７８）
ようにさらに動作する、請求項１に記載のシステム（１０）。
【請求項９】
撮像のための方法（５２）であって、
コントローラ（１８）、Ｘ線源（１４）、およびＸ線検出器（１６）を介して被写体（１２）の予備データ（５６）を取得すること（５４）であって、前記Ｘ線源（１４）は、掃引角度（φ）によって画定された経路（２２）に沿って連続的に進行しながら、Ｘ線（２０）を前記被写体（１２）に透過させるように動作し、前記検出器（１６）は、前記被写体（１２）を通過した前記Ｘ線（２０）を受信するように動作する、取得すること（５４）と、
前記コントローラ（１８）を介して前記予備データ（５６）から少なくとも１つの取得パラメータ（６０）を決定すること（５８）と、
前記取得パラメータ（６０）に少なくとも部分的に基づいて前記コントローラ（１８）、前記Ｘ線源（１４）、および前記検出器（１６）を介して前記被写体（１２）の１つまたは複数の投影（６４）を取得すること（６２）と
を含む、方法（５２）。
【請求項１０】
前記取得パラメータ（６０）が、投影の数（６６）、前記Ｘ線源（１４）の回転速度（６８）、前記Ｘ線源（１４）の角度範囲（７０）、および前記１つまたは複数の投影（６４）の投影間の角度ステップ（７２）の少なくとも１つである、請求項９に記載の方法（５２）。
【請求項１１】
前記予備データ（５６）が、前記被写体（１２）の減衰特性（７４）を含む、請求項９に記載の方法（５２）。
【請求項１２】
前記減衰特性（７４）が、最も密度の高い場所でのポリメチルメタクリレート相当の厚さである、請求項１１に記載の方法（５２）。
【請求項１３】
前記コントローラ（１８）を介して前記予備データ（５６）から少なくとも１つの取得パラメータ（６０）を決定すること（５８）が、前記Ｘ線源（１４）のアノード材料、前記Ｘ線源（１４）のフィルタ選択、前記Ｘ線源（１４）のピークキロ電圧、前記Ｘ線源（１４）のパルスあたりのミリアンペア、前記Ｘ線源（１４）の回転速度（６８）、および投影の数（６６）の１つに少なくとも部分的に基づく、請求項９に記載の方法（５２）。
【請求項１４】
前記コントローラ（１８）を介して前記１つまたは複数の投影（６４）から三次元画像を生成すること（７６）
をさらに含む、請求項９に記載の方法（５２）。
【請求項１５】
前記Ｘ線源（１４）および前記検出器（１６）によって取得された前記１つまたは複数の投影（６４）の数が所望の投影数に等しいとき、または前記Ｘ線源（１４）の回転角度が所望の回転角度に達するときに前記１つまたは複数の投影（６４）の取得を停止すること（７８）
をさらに含む、請求項９に記載の方法（５２）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、一般に、医学的技術に関し、より具体的には、被写体を撮像するためのシステムおよび方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタルトモシンセシスは、身体の選択した領域からボリュームデータを取得するための撮像技術である。多くのトモシンセシス撮像システムは、身体部分の複数の投影画像が得られるように、被写体に対して湾曲および／または直線経路に沿ってＸ線源を移動させる可動アームを含む。次に、デジタルプロセッサが投影画像から被写体の三次元（「３Ｄ」）画像を再構成する。被写体の周囲の円周全体を形成する投影画像からの３Ｄ画像の再構成を伴う従来のコンピュータ断層撮影（「ＣＴ」）とは異なり、トモシンセシス撮像システムで利用される投影画像は、典型的には、完全な円ではなく、部分的な円周、すなわち、円弧を形成する。
【０００３】
多くの従来のトモシンセシス撮像システムは、「ステップアンドシュート」画像取得技法を介して投影画像を取得し、すなわち、Ｘ線源が経路に沿った１つまたは複数の位置に移動して停止し、その後、Ｘ線ビームの放出中にＸ線源が静止した状態で各位置で投影画像が取得される。理解されるように、ステップアンドシュートスキャンを介して取得された投影は、典型的には、本明細書で単に「モーションブラー」とも呼ばれる、モーションブラーアーチファクトの影響を受けない。他の従来のトモシンセシスシステムは、「連続掃引」走査を介して投影を取得し、すなわち、投影は、Ｘ線源を停止せずに経路に沿った１つまたは複数の位置で取得される。連続掃引スキャンの平均スキャン時間は、ステップアンドシュートスキャンよりも短いが、連続掃引スキャンを介して取得された投影では、一般に、モーションブラーが発生するリスクが高くなる。
【０００４】
モーションブラーが起こるリスクを軽減するために、多くの従来のトモシンセシスシステムは、各スキャンに対して同じ厳密に制御された所定のパラメータを使用して連続掃引スキャンを実行する。各スキャンに同じ所定のパラメータを使用すると、多くの連続スキャンでモーションブラーのリスクが軽減されるが、「スキャン速度」、すなわち、経路に沿ったＸ線源の速度、および「パルス持続時間」、すなわち、１回の電磁放射線被曝の期間により、Ｘ線源が１回の被曝／パルス中に経路に沿って十分に遠く、例えば、約１ｍｍ移動する状況では、モーションブラーが発生することがある。したがって、多くの従来の連続スキャントモシンセシスシステムのスキャン速度および／またはパルス持続時間は、制限されている。言い換えれば、従来のトモシンセシスシステムによる各スキャンに対する同じ所定のパラメータの使用は、走査手順の「取得速度」、すなわち、トモシンセシスシステムが被写体をスキャンすることができる速度を制限する。
【０００５】
したがって、被写体を撮像するための改善されたシステムおよび方法が必要とされている。
【発明の概要】
【０００６】
一実施形態では、撮像のためのシステムが提供される。システムは、Ｘ線源と、検出器と、コントローラとを含む。Ｘ線源は、掃引角度によって画定された経路に沿って連続的に進行しながら、Ｘ線を被写体に透過させるように動作する。検出器は、被写体を通過したＸ線を受信するように動作する。コントローラは、Ｘ線源および検出器を介して被写体に関する予備データを取得し、予備データから少なくとも１つの取得パラメータを決定し、取得パラメータに少なくとも部分的に基づいてＸ線源およびＸ線検出器を介して被写体の１つまたは複数の投影を取得するように動作する。
【０００７】
別の実施形態では、撮像のための方法が提供される。方法は、コントローラ、Ｘ線源、およびＸ線検出器を介して被写体の予備データを取得することを含む。Ｘ線源は、掃引角度によって画定された経路に沿って連続的に進行しながら、Ｘ線を被写体に透過させるように動作する。検出器は、被写体を通過したＸ線を受信するように動作する。方法は、コントローラを介して予備データから少なくとも１つの取得パラメータを決定することと、取得パラメータに少なくとも部分的に基づいてコントローラ、Ｘ線源、および検出器を介して被写体の１つまたは複数の投影を取得することとをさらに含む。
【０００８】
さらに別の実施形態では、命令を記憶する非一時的コンピュータ可読媒体が提供される。記憶された命令は、Ｘ線源および検出器を介して被写体から予備データを取得するようにコントローラを適合させる。Ｘ線源は、掃引角度によって画定された経路に沿って連続的に進行しながら、Ｘ線を被写体に透過させるように動作する。検出器は、被写体を通過したＸ線を受信するように動作する。記憶された命令は、予備データから少なくとも１つの取得パラメータを決定し、取得パラメータに少なくとも部分的に基づいてＸ線源およびＸ線検出器を介して被写体の１つまたは複数の投影を取得するようにコントローラをさらに適合させる。
【０００９】
本発明は、非限定的な実施形態の以下の説明を、添付の図面を参照して読むことにより、よりよく理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態による、被写体を撮像するためのシステムの概略図である。
【図２】本発明の一実施形態による、図１のシステムの別の実施形態の概略図である。
【図３】本発明の一実施形態による、図２のシステムのさらに別の向きの概略図である。
【図４】本発明の一実施形態による、図２のシステムのさらにまた別の向きの概略図である。
【図５】本発明の一実施形態による、図２のシステムのさらにまた別の向きの概略図である。
【図６】本発明の一実施形態による、図２のシステムのさらにまた別の向きの概略図である。
【図７】本発明の一実施形態による、図１のシステムを利用して被写体を撮像するための方法を示すフローチャートである。
【図８】ステップアンドシュート画像取得を実証する、被写体を撮像するための一般的なシステムの概略図である。
【図９】連続掃引走査を実証する、被写体を撮像するための一般的なシステムの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の例示的な実施形態について詳しく説明するが、その例が添付の図面に示されている。可能な限り、図面全体を通して使用されている同一の参照符号は、同一または同様の部分を指し、重複する説明は省略する。
【００１２】
本明細書で使用する場合、「実質的に」「一般に」、および「約」という用語は、構成要素またはアセンブリの機能的目的を達成するのに適した理想的な所望の条件に対して、合理的に達成可能な製造およびアセンブリ公差内の条件を示す。本明細書で使用する場合、「電気的に結合された」、「電気的に接続された」、および「電気通信」とは、電流が一方から他方に流れるように、参照される要素が直接的または間接的に接続されることを意味する。接続は、直接的な導電性接続、すなわち、介在する容量性、誘導性または能動要素がない、誘導性接続、容量性接続、および／または任意の他の適切な電気接続を含むことができる。介在する構成要素が、存在してもよい。「リアルタイム」という用語は、本明細書で使用する場合、ユーザが十分に即座に感知する、またはプロセッサが外部プロセスに追いつくことを可能にする処理応答性のレベルを意味する。さらに本明細書で使用する場合、「スキャン」、「手順」、および／または「撮像手順」という用語は、被写体の１つまたは複数の画像が生成され得る撮像システムによるデータの取得を指す。「取得パラメータ」という用語は、本明細書で使用する場合、撮像システムの動作に影響を及ぼすデバイスの設定または撮像される被写体の特性を意味する。また本明細書で使用する場合、「連続掃引」および／または「連続掃引走査」という用語は、Ｘ線源が対応するＸ線検出器に対して経路に沿って連続的に移動する、すなわち、投影がＸ線源を停止せずに経路に沿った１つまたは複数の位置で取得される、撮像システムを介して画像を取得する方法を指す。「予備データ」という用語は、本明細書で使用する場合、例えば、減衰、サイズ、形状、密度など、被写体の撮像に影響を及ぼす被写体の特徴に関するデータを指す。
【００１３】
加えて、本明細書で開示される実施形態は、Ｘ線ベースの撮像システム、例えば、トモシンセシス撮像システムに関して説明されるが、本発明の実施形態は、断層撮影を実行し、パラメータ設定に対する公差が小さく、および／またはパラメータの計算が困難である他のデバイスおよび／または撮像システムに等しく適用可能であることを理解されたい。さらに、本発明が関連する撮像システムの実施形態は、一般に、内部で撮像することができる任意の材料内の対象物を分析するために使用することができる。したがって、本発明の実施形態は、ヒト組織内の対象物を分析することに限定されない。
【００１４】
ここで図１を参照すると、本発明の一実施形態による、被写体／患者１２（図２）を撮像するためのシステム１０の主要な構成要素が示されている。この実施形態では、システム１０はトモシンセシス用に構成されたマンモグラムマシンであるが、理解されるように、他の構成／実施形態（図２〜図６）が本明細書に開示されている。図１に示すように、システム１０は、Ｘ線源１４と、Ｘ線検出器１６と、コントローラ１８とを含む。Ｘ線源１４は、開始位置３４および終了／停止位置３６（両方とも交換可能であってもよい）を有する掃引角度φによって画定された経路２２に沿って連続的に進行しながら、Ｘ線２０（図２）を被写体１２（図２）に透過させるように動作する。Ｘ線検出器１６は、被写体１２を通過したＸ線２０を受信するように動作する。理解されるように、かつ以下により詳細に説明されるように、コントローラ１８は、Ｘ線源１４および検出器１６を介して被写体１２に関する／から予備データを取得し、予備データから少なくとも１つの取得パラメータを決定し、取得パラメータに少なくとも部分的に基づいて被写体１２の１つまたは複数の投影／画像を取得するように動作する。言い換えれば、本発明の実施形態は、被写体１２から取得された予備データに基づいて被写体１２に合わせた／カスタマイズされた取得パラメータを用いて、連続掃引を介して被写体１２の投影を取得する。
【００１５】
コントローラ１８は、図１に示すように少なくとも１つのプロセッサおよびメモリデバイスを有するワークステーションであってもよいし、または他の実施形態では、コントローラ１８は、上述のシステム１０の様々な構成要素の１つまたは複数に埋め込まれ／統合されてもよい。実施形態では、コントローラ１８は、電気および／または光通信接続４０を介してＸ線源１４、Ｘ線検出器１６、および／またはセンサ２４（図２）と電気通信することができる。接続４０は、有線および／または無線接続であり得る。理解されるように、実施形態では、コントローラ１８は、システム１０のオペレータをＸ線源１４によって放出されたＸ線２０から保護する放射線シールド４２を含むことができる。コントローラ１８は、ディスプレイ４４、キーボード４６、マウス４８および／または他の適切なユーザ入力デバイスをさらに含むことができ、これらは、例えば、グラフィカルユーザインターフェース（「ＧＵＩ」）などのユーザインターフェース５０を介したシステム１０の制御を容易にする。Ｘ線検出器１６によって受信されたＸ線２０に関するデータは、ケーブル／電子接続４０を介してＸ線検出器１６からコントローラ１８に電気的に通信され得、それによりコントローラ１８がディスプレイ４４に表示され得る１つまたは複数の画像を生成／再構成する。
【００１６】
したがって、図２に示すように、実施形態では、システム１０は、予備データを取得するように動作する、Ｘ線源１４に配置され得るセンサ２４をさらに含み得る。Ｘ線源１４は、支持構造２８、例えば、部屋のマウントおよび／または天井に固定された可動アーム２６に回転可能に装着することができ、それによりＸ線源１４は、可動アーム２６が経路２２に沿ってＸ線源１４を移動させると、Ｘ線検出器１６上の標的場所３２と連続的に交差する投影線３０、すなわち、光線２０の中心線に沿ってＸ線２０を向けることができる。経路２２は、投影線３０が掃引角度φによって画定された被写体１２の面積を掃引するように、開始位置３４および終了／停止位置３６を有することができる。理解されるように、経路２２は本明細書では線形として示されているが、他の実施形態では、経路２２は湾曲形状を有してもよく、例えば、システム１０は、図１に示すようなマンモグラムマシン、および／またはトモシンセシス用に構成された任意の他の形状であってもよいことが理解されるであろう。さらに、掃引角度φは、３６５°未満であってもよく、いくつかの実施形態では、約０°〜１８０°、２０°〜１００°、２０°〜８０°、２０°〜４０°、または２０°〜３０°であってもよい。理解されるように、いくつかの実施形態では、掃引角度φは、３６５°以上であってもよい。
【００１７】
図２にさらに示すように、Ｘ線検出器１６は、被写体１２がＸ線源１４とＸ線検出器１６との間に配置されるように、Ｘ線源１４の反対側に配置される。Ｘ線検出器１６は本明細書では被写体１２に対して静止しているように示されているが、他の実施形態では、Ｘ線検出器１６は被写体１２に対して移動する（例えば、Ｘ線源１４およびＸ線検出器１６の図１に示される軸Φの周りの回転）ことが理解されるであろう。加えて、Ｘ線検出器１６は、被写体支持構造３８、例えば、実施形態において被写体１２全体または被写体１２の一部を支持するように動作し得るテーブルおよび／または他のプラットフォーム構造に組み込まれてもよい。例えば、図１〜６に示すように、実施形態では、システム１０は、マンモグラフィ掃引（図１）、仰臥位撮像のためのテーブル水平掃引（図２）、直立撮像のためのウォールスタンド垂直掃引（ｗａｌｌｓｔａｎｄ  ｖｅｒｔｉｃａｌ  ｓｗｅｅｐ）（図３）、仰臥位撮像のためのテーブル側面掃引（図４）、横たわる（図５）および／または立っている（図６）患者のクロステーブル撮像のためのウォールスタンドクロステーブル掃引（ｗａｌｌｓｔａｎｄ  ｃｒｏｓｓ−ｔａｂｌｅ  ｓｗｅｅｐ）を実行するように構成されてもよい。
【００１８】
ここで図１、図２、および図７を参照すると、システム１０（図１）を利用して被写体１２（図２）を撮像するための方法５２（図７）が示されている。方法５２は、Ｘ線源１４が経路２２に沿って連続的に進行する間に、コントローラ１８、Ｘ線源１４、および検出器１６を介して被写体１２に関する／の／からの予備データ５６を取得すること５４を含む。方法５２は、予備データ５６から／に少なくとも部分的に基づいて少なくとも１つの取得パラメータ６０を決定すること５８をさらに含む。方法５２は、取得パラメータ６０に少なくとも部分的に基づいてコントローラ１８、Ｘ線源１４、および検出器１６を介して被写体１２の１つまたは複数の投影６４を取得すること６２をさらに含む。
【００１９】
したがって、図７に示すように、実施形態では、取得パラメータ６０は：投影の数６６、すなわち、Ｘ線源１４が経路２２に沿って連続的に進行するときにＸ線源１４および検出器１６によって取得された投影の数；Ｘ線源１４の回転速度６８、すなわち、Ｘ線源１４が経路２２に沿って回転し、光線２０（図２）が標的場所３２（図２）に向けられたままになる速度；Ｘ線源１４の角度範囲７０、すなわち、第１の位置３４（図２）における標的３２（図２）への光線２０の中心線３０（図２）と第２の位置３６（図２）における標的３２への光線２０の中心線３０（図２）との間の角度距離；および／または１つまたは複数の投影６４の投影間の角度ステップ７２、すなわち、Ｘ線源１４および検出器１６を介して取得された６２個々の投影６４間の経路２２に沿った距離であり得る。
【００２０】
実施形態では、予備データ５６は、被写体１２の減衰特性７４、例えば、最も密度の高い場所でのポリメチルメタクリレート相当の厚さ（「ＰＭＭＡ」）を含む。理解されるように、実施形態では、減衰特性７４は、１つまたは複数のモデル、例えば、アノード材料、フィルタ選択、ｋＶｐ、パルスあたりのｍＡｓおよび／または時間、回転速度、ならびに投影の数の値を含むルックアップテーブルを介して予備データ５６から導出され得る。理解されるように、実施形態では、予備データ５６は、センサ２４を介して取得された、および／または被写体１２に対するシステム１０のデバイス／構成要素、例えば、圧迫パドルの位置から導出された厚さ情報／データをさらに含み得る。
【００２１】
実施形態では、方法５２は、コントローラ１８を介して１つまたは複数の投影６４から３Ｄ画像、例えば、３Ｄデジタル乳房トモシンセシス画像を生成すること７６をさらに含むことができる。
【００２２】
上述のように、いくつかの実施形態では、センサ２４は、被写体１２から予備データ５６を取得する５４ように動作し得る。したがって、実施形態では、センサ２４は、被写体１２の画像／ピクチャを取得する光学カメラであり得、すなわち、予備データ５６は、光学画像である。したがって、センサ２４は、センサ２４から被写体１２への明確なアクセス、例えば、視線を提供するようにＸ線源１４、例えば、Ｘ線管、可動アーム２６、支持構造２８、および／または任意の他の方式で装着することができる。理解されるように、そのような実施形態では、センサ２４は、被写体１２を撮像するのに適した可視、赤外線、紫外線、および／または他の形態の電磁放射線で被写体１２を撮像するように動作し得る。さらに、センサ２４は、単一の画像および／または複数の画像を取得してもよい。実施形態では、センサ２４は、幾何学的形状、例えば、被写体１２の表面に沿った複数の点を取得することができ、これらの点は、画像を構成してもしなくてもよい。
【００２３】
実施形態では、予備データは、事前撮影／事前被曝中に取得する５４ことができ、これは、本明細書で使用する場合、Ｘ線源１４および検出器１６によって取得され、システム１０が被写体１２の後続の投影／画像を取得する６２前に分析される被写体１２の画像を意味する。例えば、一実施形態では、事前撮影は、Ｘ線源１４および検出器１６を介して続いて取得され、医学的診断を行うために使用される画像よりも低いＸ線線量を介して取得された低解像度二次元（「２Ｄ」）画像であり得る。加えて、事前撮影は、被写体１２の複数のビューを含んでもよい。
【００２４】
特定の態様では、予備データ５６は、システム１０の外部から得られてもよい。例えば、実施形態では、予備データは、放射線医療画像、例えば、Ｘ線、デジタルトモシンセシス、磁気共鳴画像（「ＭＲＩ」）、陽電子放出断層撮影（「ＰＥＴ」）画像、および／または異なる画像システムによって、または異なる時間に同じ撮像システムによって取得され、コントローラ１８がアクセス可能なデータベースに保存された任意の他の種類の医療画像であってもよい。同様に、コントローラ１８は、被写体１２に関する追加のデータ、例えば、システム１０が収容されている部屋の外部のデータベースに記憶された患者の病歴にアクセスすることができる。さらに、特定の態様では、人工知能（「ＡＩ」）および／または深層学習アルゴリズムを利用して、予備データを処理するおよび／または得ることができる。例えば、実施形態では、そのようなアルゴリズムは、上述のように、データベースから引き出された事前取得画像を含むように医学的情報を分析することによって予備データを生成する／得ることができる。
【００２５】
実施形態では、取得パラメータ６０を決定すること５８は、Ｘ線源１４のアノード材料、Ｘ線源１４のピークキロ電圧（「ｋＶｐ」）、Ｘ線源１４のパルスあたりのミリアンペア（「ｍＡ」）、すなわち、ミリアンペア秒（「ｍＡｓ」）であり得るパルス中に源１４の光線管／発生器を通って流れる電流の積分、および／または投影の数、例えば、Ｘ線源１４および検出器１６によって取得される所望の投影数の１つに基づいてもよい。理解されるように、いくつかの実施形態では、取得パラメータ６０は、キーボード４６、マウス４８、または他の適切な入力デバイス、例えば、タッチスクリーンを介してコントローラ１８によって受信された入力に基づいて決定され得る５８。例えば、システム１０は、ディスプレイ４４で被写体１２の光学画像を取得および表示することができ、次いで、システム１０のオペレータは、画像内の被写体１２の一部を選択することができ、これは、本明細書で開示される取得パラメータの１つまたは複数を調整するためにコントローラ１８によって使用され得る。
【００２６】
実施形態では、方法５２は、Ｘ線源１４および検出器１６によって取得された投影の数が所望の投影数に等しいとき、またはＸ線源の回転角度、すなわち、光線２０の中心線３０と検出器１６との間の角度が所望の度／回転角度に達するときに１つまたは複数の投影の取得を停止すること７８をさらに含む。
【００２７】
したがって、一実施形態による動作では、被写体１２は、検出器１６の上および／または前に載置される。次に、コントローラ１８は、事前スキャンを介して被写体１２から予備データ５６を取得する５４。次に、コントローラ１８は、予備データ５６から導出された１つまたは複数の減衰特性７４から、１つまたは複数の取得パラメータ６０、例えば、所望の投影数６６、回転速度６８、角度範囲７０、および／または角度ステップ７２を決定する５８。次に、コントローラ１８は、所望の速度／回転速度に達するまで経路２２に沿ってＸ線源１４を加速することによって投影６４の取得６２を開始する。所望の速度／回転速度にあるとき、コントローラ１８は、決定された５８取得パラメータ６０に従って投影６４の取得を開始する。所望の投影数を取得すると、および／または所望の回転角度に達すると、コントローラ１８は、投影の取得を停止する７８。投影を得ると、コントローラ１８は次に、投影から被写体１２の３Ｄ画像を生成すること７６に進む。
【００２８】
したがって、理解されるように、本発明のいくつかの実施形態は、被写体１２への総Ｘ線被曝を比較的多数の個々の被曝、例えば、典型的には２０〜３０、および／または実施形態では、最大で５０に分ける、すなわち、分割／等分し、これにより、正確な／計算された所望の投影数を取得する必要性から逸脱する、および／または所望の／計算された回転角度から逸脱する能力が提供される。
【００２９】
システム１０は、必要な電子機器、ソフトウェア、メモリ、ストレージ、データベース、ファームウェア、論理／状態マシン、マイクロプロセッサ、通信リンク、ディスプレイまたは他の視覚もしくは音声ユーザインターフェース、印刷デバイス、および本明細書に記載の機能を実行する、かつ／または本明細書に記載の結果を達成する、リアルタイムで達成され得る任意の他の入力／出力インターフェースを含むことができることも理解されたい。例えば、前述したように、システムは、少なくとも１つのプロセッサと、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）およびリードオンリメモリ（ＲＯＭ）を含むことができるシステムメモリ／データストレージ構造とを含むことができる。システムの少なくとも１つのプロセッサは、１つまたは複数の従来のマイクロプロセッサと、数学コプロセッサなどの１つまたは複数の補助コプロセッサとを含むことができる。本明細書で論じられるデータストレージ構造は、磁気、光学および／または半導体メモリの適切な組合せを含み、例えば、ＲＡＭ、ＲＯＭ、フラッシュドライブ、コンパクトディスクなどの光学ディスク、および／またはハードディスクまたはドライブを含むことができる。
【００３０】
加えて、本明細書に開示される方法を実行するようにコントローラを適合させるソフトウェアアプリケーションは、コンピュータ可読媒体から少なくとも１つのプロセッサのメインメモリに読み込まれてもよい。「コンピュータ可読媒体」という用語は、本明細書で使用する場合、実施のためにシステム１０の少なくとも１つのプロセッサ（または本明細書に記載のデバイスの任意の他のプロセッサ）に命令を提供するまたは提供することに関与する任意の媒体を指す。このような媒体は、不揮発性媒体および揮発性媒体を含むが、これに限定されない多くの形態をとることができる。不揮発性媒体は、例えば、メモリなどの光学、磁気、または光磁気ディスクを含む。揮発性媒体は、典型的にはメインメモリを構成する、ダイナミックランダムアクセスメモリ（ＤＲＡＭ）を含む。コンピュータ可読媒体の一般的な形態は、例えば、フロッピーディスク、フレキシブルディスク、ハードディスク、磁気テープ、任意の他の磁気媒体、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ、任意の他の光学媒体、ＲＡＭ、ＰＲＯＭ、ＥＰＲＯＭもしくはＥＥＰＲＯＭ（電子的に消去可能なプログラム可能なリードオンリメモリ）、ＦＬＡＳＨ−ＥＥＰＲＯＭ、任意の他のメモリチップもしくはカートリッジ、またはコンピュータが読み取ることができる任意の他の媒体を含む。
【００３１】
実施形態では、ソフトウェアアプリケーションにおける一連の命令の実施により、少なくとも１つのプロセッサによって本明細書に記載の方法／プロセスを実行させているが、ハードワイヤード回路は、本発明の方法／プロセスの具体化のため、ソフトウェア命令の代わりにまたはそれと組み合わせて使用され得る。したがって、本発明の実施形態は、ハードウェアおよび／またはソフトウェアの特定の組合せに限定されない。
【００３２】
最後に、図８および図９は、それぞれ、Ｘ線検出器１６によって支持された被写体１２上に配置されたＸ線源１４のステップアンドシュート（図８）および連続掃引走査（図９）の例を示す。Ｘ線源１４は、開始位置３４および終了位置３６を有する経路２２に沿って移動し、Ｘ線２０を放出する。図８に示されるステップアンドシュートの例に見られるように、Ｘ線源１４は、被写体１２の投影を取得するために経路２２に沿って一連の個々の停止を行い、これは、Ｘ線源１４が経路２２に沿って連続的に移動しながら被写体１２の投影を取得する図９に示される動きとは対照的である。
【００３３】
上記の説明は例示的なものであり、限定的なものではないことが意図されていることはさらに理解されるべきである。例えば、上述の実施形態（および／またはその態様）は、互いに組み合わせて使用されてもよい。加えて、本発明の範囲から逸脱することなく、特定の状況または材料を本発明の教示に適合させるために、多くの修正を行うことができる。
【００３４】
例えば、一実施形態では、被写体を撮像するためのシステムが提供される。システムは、Ｘ線源と、検出器と、コントローラとを含む。Ｘ線源は、掃引角度によって画定された経路に沿って連続的に進行しながら、Ｘ線を被写体に透過させるように動作する。検出器は、被写体を通過したＸ線を受信するように動作する。コントローラは、Ｘ線源および検出器を介して被写体に関する予備データを取得し、予備データから少なくとも１つの取得パラメータを決定し、取得パラメータに少なくとも部分的に基づいてＸ線源およびＸ線検出器を介して被写体の１つまたは複数の投影を取得するように動作する。特定の実施形態では、取得パラメータは、投影の数、Ｘ線源の回転速度、Ｘ線源の角度範囲、および１つまたは複数の投影の投影間の角度ステップの少なくとも１つである。特定の実施形態では、予備データは、被写体の減衰特性を含む。特定の実施形態では、減衰特性は、最も密度の高い場所でのポリメチルメタクリレート相当の厚さである。特定の実施形態では、コントローラは、Ｘ線源のアノード材料、Ｘ線源のフィルタ選択、Ｘ線源のピークキロ電圧、Ｘ線源のパルスあたりのミリアンペア、Ｘ線源の回転速度、および投影の数の１つに少なくとも部分的に基づいて少なくとも１つの取得パラメータを決定する。特定の実施形態では、コントローラは、１つまたは複数の投影から三次元画像を生成するようにさらに動作する。特定の実施形態では、経路は、トモシンセシス用に構成される。特定の実施形態では、コントローラは、Ｘ線源および検出器によって取得された１つまたは複数の投影の数が所望の投影数に等しいとき、またはＸ線源の回転角度が所望の回転角度に達するときに１つまたは複数の投影の取得を停止するようにさらに動作する。
【００３５】
他の実施形態は、被写体を撮像するための方法を提供する。方法は、コントローラ、Ｘ線源、およびＸ線検出器を介して被写体の予備データを取得することを含む。Ｘ線源は、掃引角度によって画定された経路に沿って連続的に進行しながら、Ｘ線を被写体に透過させるように動作する。検出器は、被写体を通過したＸ線を受信するように動作する。方法は、コントローラを介して予備データから少なくとも１つの取得パラメータを決定することと、取得パラメータに少なくとも部分的に基づいてコントローラ、Ｘ線源、および検出器を介して被写体の１つまたは複数の投影を取得することとをさらに含む。特定の実施形態では、取得パラメータは、投影の数、Ｘ線源の回転速度、Ｘ線源の角度範囲、および１つまたは複数の投影の投影間の角度ステップの少なくとも１つである。特定の実施形態では、予備データは、被写体の減衰特性を含む。特定の実施形態では、減衰特性は、最も密度の高い場所でのポリメチルメタクリレート相当の厚さである。特定の実施形態では、コントローラを介して予備データから少なくとも１つの取得パラメータを決定することは、Ｘ線源のアノード材料、Ｘ線源のフィルタ選択、Ｘ線源のピークキロ電圧、Ｘ線源のパルスあたりのミリアンペア、Ｘ線源の回転速度、および投影の数の１つに少なくとも部分的に基づく。特定の実施形態では、方法は、コントローラを介して１つまたは複数の投影から三次元画像を生成することをさらに含む。特定の実施形態では、方法は、Ｘ線源および検出器によって取得された１つまたは複数の投影の数が所望の投影数に等しいとき、またはＸ線源の回転角度が所望の回転角度に達するときに１つまたは複数の投影の取得を停止することをさらに含む。
【００３６】
またさらに他の実施形態は、命令を記憶する非一時的コンピュータ可読媒体を提供する。記憶された命令は、Ｘ線源および検出器を介して被写体から予備データを取得するようにコントローラを適合させる。Ｘ線源は、掃引角度によって画定された経路に沿って連続的に進行しながら、Ｘ線を被写体に透過させるように動作する。検出器は、被写体を通過したＸ線を受信するように動作する。記憶された命令は、予備データから少なくとも１つの取得パラメータを決定し、取得パラメータに少なくとも部分的に基づいてＸ線源およびＸ線検出器を介して被写体の１つまたは複数の投影を取得するようにコントローラをさらに適合させる。特定の実施形態では、取得パラメータは、投影の数、Ｘ線源の回転速度、Ｘ線源の角度範囲、および１つまたは複数の投影の投影間の角度ステップの少なくとも１つである。特定の実施形態では、予備データは、被写体の減衰特性を含む。特定の実施形態では、減衰特性は、最も密度の高い場所でのポリメチルメタクリレート相当の厚さである。特定の実施形態では、少なくとも１つの取得パラメータの決定は、Ｘ線源のアノード材料、Ｘ線源のフィルタ選択、Ｘ線源のピークキロ電圧、Ｘ線源のパルスあたりのミリアンペア、Ｘ線源の回転速度、および投影の数の１つに少なくとも部分的に基づく。
【００３７】
したがって、理解されるように、被写体の予備スキャン／事前スキャン中に取得された情報を活用することによって、本発明のいくつかの実施形態は、モーションブラーアーチファクトのリスクを軽減するために連続掃引スキャンの最適化された取得パラメータを提供し、これにより、連続スキャントモシンセシスのスキャン時間の高速化、パルス／被曝時間の延長、および／または取得時間の短縮が可能になる。言い換えれば、本発明のいくつかの実施形態は、多くの場合に万能のアプローチを実装する従来のシステムとは対照的に、連続トモシンセシス撮像システムの取得シーケンスをスキャンされる被写体に合わせることによってモーションブラーが少ない改善されたスキャン時間を提供する。
【００３８】
さらに理解されるように、取得シーケンスをスキャンされる被写体にカスタマイズする／合わせる、例えば、取得される投影の数を増やす／減らす、および／または回転速度を調整することによって、本発明のいくつかの実施形態は、各投影の個々の被曝時間を短縮し、これにより、従来の撮像システムと比較して、所与の画像品質に対して被写体へのＸ線線量が低くなる。したがって、本発明のいくつかの実施形態は、速度／線量と画像品質との間のバランスのトレードオフを調整しようと努める。
【００３９】
加えて、本明細書に記載の材料の寸法および種類は、本発明のパラメータを定義することを意図しているが、決して限定的ではなく例示的な実施形態である。多くの他の実施形態は、上記の説明を検討すると当業者には明らかであろう。したがって、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲を参照して、そのような特許請求の範囲が権利を与えられる等価物の全範囲と共に決定されるべきである。添付の特許請求の範囲において、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」および「ここにおいて（ｉｎ  ｗｈｉｃｈ）」という用語は、「備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」および「ここにおいて（ｗｈｅｒｅｉｎ）」というそれぞれの用語の平易な英語（ｐｌａｉｎ−Ｅｎｇｌｉｓｈ）の均等物として使用される。さらに、以下の添付の特許請求の範囲において、「第１の」、「第２の」、「第３の」、「上方」、「下方」、「底部」、「上部」などの用語は、単に名称として用いられ、その対象に数値的または定位置的な要件を課すことを意図していない。さらに、以下の特許請求の範囲の限定は、そのような特許請求の範囲の限定が「手段（ｍｅａｎｓ  ｆｏｒ）」の後にさらなる構造のない機能についての記載が続くフレーズを明白に用いない限り、そしてそうするまでは、ミーンズプラスファンクション形式で書かれたものではなく、そのように解釈されることを意図するものではない。
【００４０】
本明細書は例を用いて最良の形態を含む本発明のいくつかの実施形態を開示し、当業者によって任意のデバイスまたはシステムの作製および使用ならびに任意の組み込まれた方法の実行を含む本発明の実施形態を具体化させる。本発明の特許可能な範囲は、特許請求の範囲によって定義され、当業者に思い付く他の例を含むことができる。そのような他の例は、特許請求の範囲の文言と異ならない構造要素を有する場合、または特許請求の範囲の文言と実質的な差のない等価の構造要素を含む場合に、特許請求の範囲内にあることが意図されている。
【００４１】
本明細書で使用する場合、単数形で列挙され、「１つの（ａ）」または「１つの（ａｎ）」という単語に続けられる要素またはステップは、除外することが明示的に述べられない限り、複数の前記要素またはステップを除外しないと理解されたい。さらに、本発明の「一実施形態」への言及は、列挙された特徴をも組み込む追加の実施形態の存在を除外するものとして解釈されることを意図しない。さらに、明示的に反対の記載がない限り、特定の特性を有する要素または複数の要素を「備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、または「有する（ｈａｖｉｎｇ）」実施形態は、その特性を有さない追加のそのような要素を含むことができる。
【００４２】
本明細書に含まれる本発明の精神および範囲から逸脱することなく、上述した発明にある種の変更を加えることができるので、添付の図面に示された上記説明の主題のすべてが、単に本発明の概念を説明するための例として解釈され、本発明を限定するものではないことが意図される。
［実施態様１］
撮像のためのシステム（１０）であって、
掃引角度（φ）によって画定された経路（２２）に沿って連続的に進行しながら、Ｘ線（２０）を被写体（１２）に透過させるように動作するＸ線源（１４）と、
前記被写体（１２）を通過した前記Ｘ線（２０）を受信するように動作する検出器（１６）と、
前記Ｘ線源（１４）および前記検出器（１６）を介して前記被写体（１２）に関する予備データ（５６）を取得し（５４）、
前記予備データ（５６）から少なくとも１つの取得パラメータ（６０）を決定し（５８）、
前記取得パラメータ（６０）に少なくとも部分的に基づいて前記Ｘ線源（１４）および前記Ｘ線検出器（１６）を介して前記被写体（１２）の１つまたは複数の投影（６４）を取得する（６２）
ように動作するコントローラ（１８）と
を備える、システム（１０）。
［実施態様２］
前記取得パラメータ（６０）が、投影の数（６６）、前記Ｘ線源（１４）の回転速度（６８）、前記Ｘ線源（１４）の角度範囲（７０）、および前記１つまたは複数の投影（６４）の投影間の角度ステップ（７２）の少なくとも１つである、実施態様１に記載のシステム（１０）。
［実施態様３］
前記予備データ（５６）が、前記被写体（１２）の減衰特性（７４）を含む、実施態様１に記載のシステム（１０）。
［実施態様４］
前記減衰特性（７４）が、最も密度の高い場所でのポリメチルメタクリレート相当の厚さである、実施態様３に記載のシステム（１０）。
［実施態様５］
前記コントローラ（１８）が、前記Ｘ線源（１４）のアノード材料、前記Ｘ線源（１４）のフィルタ選択、前記Ｘ線源（１４）のピークキロ電圧、前記Ｘ線源（１４）のパルスあたりのミリアンペア、前記Ｘ線源（１４）の回転速度（６８）、および投影の数（６６）の１つに少なくとも部分的に基づいて前記少なくとも１つの取得パラメータ（６０）を決定する（５８）、実施態様１に記載のシステム（１０）。
［実施態様６］
前記コントローラ（１８）が、
前記１つまたは複数の投影（６４）から三次元画像を生成する
ようにさらに動作する、実施態様１に記載のシステム（１０）。
［実施態様７］
前記経路（２２）が、トモシンセシス用に構成される、実施態様１に記載のシステム（１０）。
［実施態様８］
前記コントローラ（１８）が、
前記Ｘ線源（１４）および前記検出器（１６）によって取得された前記１つまたは複数の投影（６４）の数が所望の投影数に等しいとき、または前記Ｘ線源（１４）の回転角度が所望の回転角度に達するときに前記１つまたは複数の投影（６４）の取得を停止する（７８）
ようにさらに動作する、実施態様１に記載のシステム（１０）。
［実施態様９］
撮像のための方法（５２）であって、
コントローラ（１８）、Ｘ線源（１４）、およびＸ線検出器（１６）を介して被写体（１２）の予備データ（５６）を取得すること（５４）であって、前記Ｘ線源（１４）は、掃引角度（φ）によって画定された経路（２２）に沿って連続的に進行しながら、Ｘ線（２０）を前記被写体（１２）に透過させるように動作し、前記検出器（１６）は、前記被写体（１２）を通過した前記Ｘ線（２０）を受信するように動作する、取得すること（５４）と、
前記コントローラ（１８）を介して前記予備データ（５６）から少なくとも１つの取得パラメータ（６０）を決定すること（５８）と、
前記取得パラメータ（６０）に少なくとも部分的に基づいて前記コントローラ（１８）、前記Ｘ線源（１４）、および前記検出器（１６）を介して前記被写体（１２）の１つまたは複数の投影（６４）を取得すること（６２）と
を含む、方法（５２）。
［実施態様１０］
前記取得パラメータ（６０）が、投影の数（６６）、前記Ｘ線源（１４）の回転速度（６８）、前記Ｘ線源（１４）の角度範囲（７０）、および前記１つまたは複数の投影（６４）の投影間の角度ステップ（７２）の少なくとも１つである、実施態様９に記載の方法（５２）。
［実施態様１１］
前記予備データ（５６）が、前記被写体（１２）の減衰特性（７４）を含む、実施態様９に記載の方法（５２）。
［実施態様１２］
前記減衰特性（７４）が、最も密度の高い場所でのポリメチルメタクリレート相当の厚さである、実施態様１１に記載の方法（５２）。
［実施態様１３］
前記コントローラ（１８）を介して前記予備データ（５６）から少なくとも１つの取得パラメータ（６０）を決定すること（５８）が、前記Ｘ線源（１４）のアノード材料、前記Ｘ線源（１４）のフィルタ選択、前記Ｘ線源（１４）のピークキロ電圧、前記Ｘ線源（１４）のパルスあたりのミリアンペア、前記Ｘ線源（１４）の回転速度（６８）、および投影の数（６６）の１つに少なくとも部分的に基づく、実施態様９に記載の方法（５２）。
［実施態様１４］
前記コントローラ（１８）を介して前記１つまたは複数の投影（６４）から三次元画像を生成すること（７６）
をさらに含む、実施態様９に記載の方法（５２）。
［実施態様１５］
前記Ｘ線源（１４）および前記検出器（１６）によって取得された前記１つまたは複数の投影（６４）の数が所望の投影数に等しいとき、または前記Ｘ線源（１４）の回転角度が所望の回転角度に達するときに前記１つまたは複数の投影（６４）の取得を停止すること（７８）
をさらに含む、実施態様９に記載の方法（５２）。
［実施態様１６］
非一時的コンピュータ可読媒体であって、
Ｘ線源（１４）および検出器（１６）を介して被写体（１２）から予備データ（５６）を取得し（５４）、前記Ｘ線源（１４）は、掃引角度（φ）によって画定された経路（２２）に沿って連続的に進行しながら、Ｘ線（２０）を前記被写体（１２）に透過させるように動作し、前記検出器（１６）は、前記被写体（１２）を通過した前記Ｘ線（２０）を受信するように動作し、
前記予備データ（５６）から少なくとも１つの取得パラメータ（６０）を決定し（５８）、
前記取得パラメータ（６０）に少なくとも部分的に基づいて前記Ｘ線源（１４）および前記Ｘ線検出器（１６）を介して前記被写体（１２）の１つまたは複数の投影（６４）を取得する（６２）
ようにコントローラを適合させる命令を記憶する、非一時的コンピュータ可読媒体。
［実施態様１７］
前記取得パラメータ（６０）が、投影の数（６６）、前記Ｘ線源（１４）の回転速度（６８）、前記Ｘ線源（１４）の角度範囲（７０）、および前記１つまたは複数の投影（６４）の投影間の角度ステップ（７２）の少なくとも１つである、実施態様１６に記載の非一時的コンピュータ可読媒体。
［実施態様１８］
前記予備データ（５６）が、前記被写体（１２）の減衰特性（７４）を含む、実施態様１６に記載の非一時的コンピュータ可読媒体。
［実施態様１９］
前記減衰特性（７４）が、最も密度の高い場所でのポリメチルメタクリレート相当の厚さである、実施態様１８に記載の非一時的コンピュータ可読媒体。
［実施態様２０］
前記少なくとも１つの取得パラメータ（６０）の決定が、前記Ｘ線源（１４）のアノード材料、前記Ｘ線源（１４）のフィルタ選択、前記Ｘ線源（１４）のピークキロ電圧、前記Ｘ線源（１４）のパルスあたりのミリアンペア、前記Ｘ線源（１４）の回転速度（６８）、および投影の数（６６）の１つに少なくとも部分的に基づく、実施態様１６に記載の非一時的コンピュータ可読媒体。
【符号の説明】
【００４３】
１０  システム
１２  被写体／患者
１４  Ｘ線源
１６  Ｘ線検出器
１８  コントローラ
２０  Ｘ線、光線
２２  経路
２４  センサ
２６  可動アーム
２８  支持構造
３０  投影線、中心線
３２  標的場所、標的
３４  開始位置、第１の位置
３６  終了／停止位置、第２の位置
３８  被写体支持構造
４０  電気および／または光通信接続、ケーブル／電子接続
４２  放射線シールド
４４  ディスプレイ
４６  キーボード
４８  マウス
５０  ユーザインターフェース
５２  方法
５４  予備データを取得する
５６  予備データ
５８  決定する
６０  取得パラメータ
６２  投影を取得する、投影／画像を取得する
６４  投影
６６  投影の数
６８  回転速度
７０  角度範囲
７２  角度ステップ
７４  減衰特性
７６  生成する
７８  停止する
φ  掃引角度
Φ  軸
【図１】
2020044328.tif 000003
【図２】
2020044328.tif 000004
【図３】
2020044328.tif 000005
【図４】
2020044328.tif 000006
【図５】
2020044328.tif 000007
【図６】
2020044328.tif 000008
【図７】
2020044328.tif 000009
【図８】
2020044328.tif 000010
【図９】
2020044328.tif 000011
【外国語明細書】
2020044328000001.pdf