(57)【要約】      （修正有）【課題】広角方向の視認性に優れる光学フィルムを提供する。【解決手段】ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含み、全光線透過率が８５％以上でありヘーズが０．５％以下である光学フィルムであって、ＪＩＳ−Ｋ−７３７４に準拠して光学櫛の幅が０．１２５ｍｍである場合に得られる、該光学フィルムの平面に対して垂直方向から製造時の機械流れ方向に平行なＭＤ方向に６０°傾斜した方向の第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ）と、該垂直方向から該機械流れ方向に垂直なＴＤ方向に６０°傾斜した方向の第２透過写像性値Ｃ６０（ＴＤ）と、該垂直方向の第３透過写像性値Ｃ０とが、式（１）：８７％≦Ｃ６０（ＭＤ）≦１００％、式（２）：８７％≦Ｃ６０（ＴＤ）≦１００％、及び式（３）：０．８≦Ｃ６０（ＭＤ）／Ｃ０≦１．０・・・（３）を満たす、光学フィルム。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含み、全光線透過率が８５％以上でありヘーズが０．５％以下である光学フィルムであって、
該光学フィルム面内において製造時の機械流れ方向に平行な方向をＭＤ方向とし、該機械流れ方向に垂直な方向をＴＤ方向としたときに、
ＪＩＳ  Ｋ  ７３７４に準拠して光学櫛の幅が０．１２５ｍｍである場合に得られる、該光学フィルムの平面に対して垂直方向から該ＭＤ方向に６０°傾斜した方向の第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ）と、該垂直方向から該ＴＤ方向に６０°傾斜した方向の第２透過写像性値Ｃ６０（ＴＤ）と、該垂直方向の第３透過写像性値Ｃ０とが、
式（１）：
８７％≦Ｃ６０（ＭＤ）≦１００％・・・（１）、
式（２）：
８７％≦Ｃ６０（ＴＤ）≦１００％・・・（２）、及び
式（３）：
０．８≦Ｃ６０（ＭＤ）／Ｃ０≦１．０・・・（３）
を満たす、光学フィルム。
【請求項２】
前記第２透過写像性値及び前記第３透過写像性値は、式（４）：
０．９≦Ｃ６０（ＴＤ）／Ｃ０≦１．０・・・（４）
を更に満たす、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−１に準拠した耐屈曲性試験前後の前記ヘーズの差ΔＨａｚｅが０．３％未満である、請求項１又は請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−１に準拠した耐屈曲性試験前後の前記第１透過写像性値の差ΔＣ６０（ＭＤ）、前記第２透過写像性値の差ΔＣ６０（ＴＤ）、及び前記第３透過写像性値の差ΔＣ０がそれぞれ１５未満である、請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項５】
厚さが１０〜１５０μｍである、請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項６】
８０℃における引張弾性率が４，０００〜９，０００ＭＰａである、請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項７】
少なくとも一方の面にハードコート層を有する、請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記ハードコート層の厚さは、３〜３０μｍである、請求項７に記載の光学フィルム。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置。
【請求項１０】
更に、タッチセンサを備える、請求項９に記載のフレキシブル表示装置。
【請求項１１】
更に、偏光板を備える、請求項９又は１０に記載のフレキシブル表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含む光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、太陽電池や画像表示装置等の表示部材の材料としてガラスが用いられてきた。しかしながら、近年の小型化、薄型化、軽量化及びフレキシブル化の要求に対して、十分な材質を有していなかった。そのため、ガラスの代替材料として各種フィルムが検討されている。このようなフィルムとしては、例えば、ポリイミドフィルムがある（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−２１５４１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ポリイミドフィルムがフレキシブル表示装置の前面板などの透明部材に適用される場合には、画像表示面が屈曲した状態で映像を表示する場合があるため、非屈曲性の画像表示面に比べ広角方向の優れた視認性が要求される。しかしながら、本発明者の検討によれば従来のポリイミド系樹脂フィルムでは、この広角方向の視認性を十分に満足できない場合があった。
【０００５】
従って、本発明の目的は、広角方向の視認性に優れる光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含み、全光線透過率が８５％以上でありヘーズが０．５％以下である光学フィルムにおいて、透過写像性値｛Ｃ６０（ＭＤ）、Ｃ６０（ＴＤ）｝及び透過写像性値の比｛Ｃ６０（ＭＤ）／Ｃ０｝をそれぞれ所定範囲に調整すれば、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明には、以下の態様が含まれる。
【０００７】
［１］ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含み、全光線透過率が８５％以上でありヘーズが０．５％以下である光学フィルムであって、
該光学フィルム面内において製造時の機械流れ方向に平行な方向をＭＤ方向とし、該機械流れ方向に垂直な方向をＴＤ方向としたときに、
ＪＩＳ  Ｋ  ７３７４に準拠して光学櫛の幅が０．１２５ｍｍである場合に得られる、該光学フィルムの平面に対して垂直方向から該ＭＤ方向に６０°傾斜した方向の第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ）と、該垂直方向から該ＴＤ方向に６０°傾斜した方向の第２透過写像性値Ｃ６０（ＴＤ）と、該垂直方向の第３透過写像性値Ｃ０とが、
式（１）：
８７％≦Ｃ６０（ＭＤ）≦１００％・・・（１）、
式（２）：
８７％≦Ｃ６０（ＴＤ）≦１００％・・・（２）、及び
式（３）：
０．８≦Ｃ６０（ＭＤ）／Ｃ０≦１．０・・・（３）
を満たす、光学フィルム。
［２］前記第２透過写像性値及び前記第３透過写像性値は、式（４）：
０．９≦Ｃ６０（ＴＤ）／Ｃ０≦１．０・・・（４）
を更に満たす、［１］に記載の光学フィルム。
［３］ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−１に準拠した耐屈曲性試験前後の前記ヘーズの差ΔＨａｚｅが０．３％未満である、［１］又は［２］に記載の光学フィルム。
［４］ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−１に準拠した耐屈曲性試験前後の前記第１透過写像性値の差ΔＣ６０（ＭＤ）、前記第２透過写像性値の差ΔＣ６０（ＴＤ）、及び前記第３透過写像性値の差ΔＣ０が１５未満である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルム。
［５］厚さが１０〜１５０μｍである、［１］〜［４］のいずれかに記載の光学フィルム。
［６］８０℃における引張弾性率が４，０００〜９，０００ＭＰａである、［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルム。
［７］少なくとも一方の面にハードコート層を有する、［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルム。
［８］前記ハードコート層の厚さは、３〜３０μｍである、［７］に記載の光学フィルム。
［９］［１］〜［８］のいずれかに記載の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置。
［１０］更に、タッチセンサを備える、［９］に記載のフレキシブル表示装置。
［１１］更に、偏光板を備える、［９］又は［１０］に記載のフレキシブル表示装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、広角方向の視認性に優れた光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、第１透過写像性値の測定における光軸を示す図である。
【図２】図２は、第２透過写像性値の測定における光軸を示す図である。
【図３】図３は、第３透過写像性値の測定における光軸を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更をすることができる。また、特定のパラメータについて複数の上限値及び下限値が記載されている場合、これらの上限値及び下限値のうち任意の上限値と下限値とを組合せて好適な数値範囲とすることができる。
【００１１】
＜光学フィルム＞
本発明の光学フィルムは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含み、全光線透過率が８５％以上でありヘーズが０．５％以下である光学フィルムであって、
該光学フィルム面内において製造時の機械流れ方向に平行な方向をＭＤ方向とし、該機械流れ方向に垂直な方向をＴＤ方向としたときに、
ＪＩＳ  Ｋ  ７３７４に準拠して光学櫛の幅が０．１２５ｍｍである場合に得られる、該光学フィルムの平面に対して垂直方向から該ＭＤ方向に６０°傾斜した方向の第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ）と、該垂直方向から該ＴＤ方向に６０°傾斜した方向の第２透過写像性値Ｃ６０（ＴＤ）と、該垂直方向の第３透過写像性値Ｃ０とが、
式（１）：
８７％≦Ｃ６０（ＭＤ）≦１００％・・・（１）、
式（２）：
８７％≦Ｃ６０（ＴＤ）≦１００％・・・（２）、及び
式（３）：
０．８≦Ｃ６０（ＭＤ）／Ｃ０≦１．０・・・（３）
を満たす。
【００１２】
［１．式（１）］
（ＭＤ方向、ＴＤ方向）
ＭＤ方向は、光学フィルム面内において製造時の機械流れ方向に平行な方向であり、例えば、溶液キャスト法で製造された場合における光学フィルムが搬送された方向と平行な方向を示す。ＴＤ方向は、該機械流れ方向に垂直な方向であり、例えば、前記搬送された方向に垂直な方向を示す。光学フィルム面内のＭＤ方向及びＴＤ方向は、その方向が不明な場合、以下の方法により決定する。ＭＤとＴＤに関しては、光学フィルムの少なくとも２０点以上の異なる方向の断面出しを行う。より詳細には、光学フィルムの任意の１点を中心とする円を想定し、当該光学フィルムからその半円を切り出して、更にその半円を切断した後の扇形の中心角が略均等になるように、光学フィルムを直線状に切断し、２０個以上の断面出しを行う。得られた複数の断面の厚さの中心をレーザーラマンによる測定し、１，６２０ｃｍ−１付近のピーク強度が最も大きいものをＭＤ方向とする。
【００１３】
（第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ））
第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ）は、日本工業規格（ＪＩＳ）  Ｋ  ７３７４に準拠して得られる、光学フィルムの平面に対して垂直方向からＭＤ方向に６０°傾斜した方向の透過写像性値である。図１を参照して、第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ）をより具体的に説明する。図１は、第１透過写像性値の測定における光軸を示す図である。光学フィルム１の面上の任意の点（第１入射位置１１）を支点として、光学フィルム１に対して垂直な軸（垂直軸３）からＭＤ方向に角度６０°傾斜した軸（第１光軸１４）に沿って第１入射光１０（白色光：図１中、実線で表記）を光学フィルム１に照射する。次いで、光学フィルム１を透過した第１ａ透過光１２（図１中、破線で表記）を、第１光軸１４に垂直に延在する第１光学櫛１６に透過させる。次いで、第１光学櫛１６を透過した第１ｂ透過光１８（図１中、一点鎖線で表記）を第１光軸１４に垂直に延在する第１受光器１９で受光する。第１光学櫛１６は、第１ａ透過光１２を透過させる開口部と、第１ａ透過光１２を遮断する遮光部とを有する。第１光学櫛１６のスリット幅（開口部の幅）は、０．１２５ｍｍである。
第１光学櫛１６の平面に対して平行であり、かつ第１光学櫛１６におけるスリットが配列する方向（矢印Ａの方向）に、第１光学櫛１６を所定の単位幅移動させて第１ｂ透過光１８を受光することを繰り返して、受光波形を得る。得られた受光波形から相対光量の最大値Ｍ及び最小値ｍを得る。得られたＭ及びｍから式（５）
【数１】
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に基づいて第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ）を算出する。透過写像性値（第１透過写像性値、並びに後述の第２透過写像性値及び第３透過写像性値）は、写像性測定器を用いて測定することができる。
【００１４】
第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ）が式（１）を満たすと、光学フィルムはＭＤ方向における広角方向の視認性に優れる。光学フィルムのＭＤ方向における広角方向の視認性を更に向上させる観点から、第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ）は、式（１）において８７％以上、好ましくは８９％以上、より好ましくは９０％以上、更に好ましくは９２％以上、より更に好ましくは９３％以上であり、１００％以下である。
【００１５】
［２．式（２）］
（第２透過写像性値Ｃ６０（ＴＤ））
第２透過写像性値Ｃ６０（ＴＤ）は、ＪＩＳ  Ｋ  ７３７４に準拠して得られる、光学フィルムの平面に対して垂直方向からＴＤ方向に６０°傾斜した方向の透過写像性値である。図２を参照して、第２透過写像性値Ｃ６０（ＴＤ）をより具体的に説明する。図２は、第２透過写像性値の測定における光軸を示す図である。光学フィルム１の面上の任意の点（第２入射位置２１）を支点として、光学フィルム１に対して垂直な軸（垂直軸３）からＴＤ方向に角度６０°傾斜した軸（第２光軸２４）に沿って第２入射光２０（白色光：図２中、実線で表記）を光学フィルム１に照射する。次いで、光学フィルム１を透過した第２ａ透過光２２（図２中、破線で表記）を、第２光軸２４に垂直に延在する第２光学櫛２６に透過させる。次いで、第２光学櫛２６を透過した第２ｂ透過光２８（図２中、一点鎖線で表記）を第２光軸２４に垂直に延在する第２受光器２９で受光する。第２光学櫛２６は、第２ａ透過光２２を透過させる開口部と、第２ａ透過光２２を遮断する遮光部とを有する。第２光学櫛２６のスリット幅（開口部の幅）は、０．１２５ｍｍである。
第２光学櫛２６の平面に対して平行であり、かつ第２光学櫛２６におけるスリットの配列する方向（矢印Ｂの方向）に、第２光学櫛２６を所定の単位幅移動させて第２ｂ透過光２８を受光することを繰り返して、受光波形を得る。得られた受光波形から相対光量の最大値Ｍ及び最小値ｍを得る。得られたＭ及びｍから式（５）に基づいて第２透過写像性値Ｃ６０（ＴＤ）を算出する。
【００１６】
第２透過写像性値Ｃ６０（ＴＤ）が式（２）を満たすと、光学フィルムはＴＤ方向における広角方向の視認性に優れる。光学フィルムのＴＤ方向における広角方向の視認性を更に向上させる観点から、Ｃ６０（ＴＤ）は、式（２）において８７％以上、好ましくは８９％以上、より好ましくは９０％以上、更に好ましくは９２％以上、より更に好ましくは９３％以上であり、１００％以下である。
【００１７】
［３．式（３）］
（第３透過写像性値Ｃ０）
第３透過写像性値Ｃ０は、ＪＩＳ  Ｋ  ７３７４に準拠して得られる、光学フィルムの平面に対して垂直方向の透過写像性値である。図３を参照して、第３透過写像性値Ｃ０により具体的に説明する。図３は、第３写像性値の測定における光軸を示す図である。光学フィルム１に対して垂直な軸（垂直軸３）と平行な軸（第３光軸３４）に沿って第３入射光３０（白色光：図３中、実線で表記）を光学フィルム１の面上の任意の点（第３入射位置３１）に照射する。次いで、光学フィルム１を透過した第３ａ透過光３２（図３中、破線で表記）を、第３光軸３４に垂直に延在する第３光学櫛３６に透過させる。次いで、第３光学櫛３６を透過した第３ｂ透過光３８（図３中、一点鎖線で表記）を第３光軸３４に垂直に延在する受光器３９で受光する。第３光学櫛３６は、第３ａ透過光３２を透過させる開口部と、第３ａ透過光３２を遮断する遮光部とを有する。第３光学櫛３６のスリット幅（開口部の幅）は、０．１２５ｍｍである。
第３光学櫛３６の平面に対して平行であり、かつ第３光学櫛３６におけるスリットが配列する方向（矢印Ｃの方向）に、第３光学櫛３６を所定の単位幅移動させて第３ｂ透過光３８を受光することを繰り返して、受光波形を得る。得られた受光波形から相対光量の最大値Ｍ及び最小値ｍを得る。得られたＭ及びｍから式（５）に基づいて第３透過写像性値Ｃ０を算出する。
【００１８】
第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ）及び第３透過写像性値Ｃ０が式（３）を満たすと、光学フィルムは、光学フィルムの垂直方向に対するＭＤ方向における視認性に優れる。ＭＤ方向における視認性を更に向上させる観点から、第３透過写像性値Ｃ０に対する第１写像性値Ｃ６０（ＭＤ）の比（Ｃ６０（ＭＤ）／Ｃ０）は、０．８以上、好ましくは０．９０以上、より好ましくは０．９３以上、更に好ましくは０．９４以上であり、１．０以下である。
【００１９】
第３透過写像性値Ｃ０は、式（３）において好ましくは９７％以上、より好ましくは９８％以上、更に好ましくは９９％以上である。第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ）は、式（３）において好ましくは８９％以上、より好ましくは９０％以上、更に好ましくは９２％以上、特に好ましくは９３％以上である。
【００２０】
透過写像性値（より具体的には、第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ）、第２透過写像性値Ｃ６０（ＴＤ）、及び第３透過写像性値Ｃ０）は、光学フィルム表面の平滑性を向上させて、光学フィルム表面における透過光の散乱等を抑制することにより、調整することができる。更に、光学フィルム表面の平滑性は、例えば、光学フィルムの組成（より具体的には、フィラーの種類、粒子径及び含有量等）、及び光学フィルムの製造条件（より具体的には、乾燥温度、乾燥時間、乾燥系での気流、塗膜の厚さ、乾燥工程での搬送速度及びワニス中の溶媒量等）により調製することができる。光学フィルムが更にハードコート層を含む場合は、ハードコート層表面の平滑性を向上させて、ハードコート層表面における散乱等を抑制することにより、調整することができる。ハードコート層の平滑性は、上記光学フィルムの平滑性の調製方法に加え、例えば、溶剤の種類、成分比、固形分濃度の調整及びレベリング剤の添加などにより調整することができる。
【００２１】
［４．式（４）］
本発明の光学フィルムの垂直方向に対するＴＤ方向における視認性を高める観点から、前記第２透過写像性値及び前記第３透過写像性値は、式（４）：
０．９≦Ｃ６０（ＴＤ）／Ｃ０≦１．０・・・（４）
を更に満たすことが好ましい。本発明のＴＤ方向における視認性を更に高める観点から、前記第３透過写像性値に対する前記第１透過写像性値の比（Ｃ６０（ＴＤ）／Ｃ０）は、好ましくは０．９以上、より好ましくは０．９１以上、更に好ましくは０．９２以上、とりわけ好ましくは０．９３以上、特に好ましくは０．９４以上であり、１．０以下である。
【００２２】
第２透過写像性値Ｃ６０（ＴＤ）は、式（４）において好ましくは８９％以上、より好ましくは９０％以上、更に好ましくは９２％以上、特に好ましくは９３％以上である。第３透過写像性値Ｃ０は、式（４）において好ましくは９７％以上、より好ましくは９８％以上、さららに好ましくは９９％以上である。
【００２３】
［５．透過写像性値の耐屈曲性］
特に、本発明の光学フィルムをフレキシブルデバイスの前面板に適用した場合、広角方向の視認性を更に向上させる観点から、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−１に準拠した耐屈曲性試験前後の第１透過写像性値の差の絶対値ΔＣ６０（ＭＤ）、第２透過写像性値の差の絶対値ΔＣ６０（ＴＤ）、及び第３透過写像性値の差の絶対値ΔＣ０が好ましくはそれぞれ１５未満である。耐屈曲試験前後の該透過写像性値の差が１５未満であると、特にフレキシブルデバイスの画像表示面が屈曲した状態で使用しても及び／又は屈曲した状態で使用した後であっても、広角方向の優れた視認性を有する。ΔＣ６０（ＭＤ）は、より好ましくは１．５未満、更に好ましくは１．０未満、特に好ましくは０．５未満である。ΔＣ６０（ＴＤ）は、より好ましくは２．８未満、更に好ましくは２．３未満、特に好ましくは２．１未満、非常に特に好ましくは１．５未満である。ΔＣ０は、より好ましくは２未満、更に好ましくは１未満、特に好ましくは０．７未満であり、非常に特に好ましくは０．５未満である。
【００２４】
［６．全光線透過率］
本発明の光学フィルムの全光線透過率は、８５％以上であり、視認性を更に向上させる観点から、好ましくは８７％以上、より好ましくは８９％以上、更に好ましくは９０％以上、とりわけ好ましくは９１％以上、特に好ましくは９２％以上であり、通常１００％以下である。光学フィルムの全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６−１：１９９７に準拠して測定することができる。全光線透過率の測定方法は実施例にて詳細に説明する。
【００２５】
［７．ヘーズ、ヘーズの差］
本発明の光学フィルムのヘーズは、０．５％以下であり、視認性を更に向上させる観点から、好ましくは０．４％以下、より好ましくは０．３％以下、更に好ましくは０．２％以下である。
本発明の光学フィルムは、ヘーズの耐屈曲性を更に向上させる観点から、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−１に準拠した耐屈曲性試験前後の前記ヘーズの差の絶対値ΔＨａｚｅが好ましくは０．３％未満、より好ましくは０．２％未満、更に好ましくは０．１％未満である。
光学フィルムのヘーズは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６：２０００に準拠して測定することができる。ヘーズの測定方法及びヘーズの差の算出方法は、実施例にて詳細に説明する。
【００２６】
［８．黄色度（ＹＩ）］
本発明の光学フィルムの黄色度（ＹＩ）は、視認性を更に向上させる観点から、好ましくは４．０以下、より好ましくは３．０以下、更に好ましくは２．５以下、特に好ましくは２．０以下である。ＹＩの測定方法は実施例にて詳細に説明する。
【００２７】
［９．折曲げ回数］
本発明の光学フィルムの折曲げ回数は、耐折性を向上させる観点から、好ましくは２０，０００回以上、より好ましくは１００，０００回以上、更に好ましくは２００，０００回以上、特に好ましくは３５０，０００回以上、非常に特に好ましくは７００，０００回以上である。折曲げ回数が上記の下限以上であると、光学フィルムを折り曲げてもクラックや割れ等が生じにくい。また、折曲げ回数の上限は、通常５０，０００，０００回以下である。光学フィルムの折曲げ回数は、ＡＳＴＭ規格Ｄ２１７６−１６に準拠したＭＩＴ耐折疲労試験で測定する。ＭＩＴ耐折疲労試験は、例えば、実施例に記載の試験である。
【００２８】
［１０．厚さ］
本発明の光学フィルムの厚さは、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上、更に好ましくは２５μｍ以上、とりわけ好ましくは３０μｍ以上であり、好ましくは１５０μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下、更に好ましくは８５μｍ以下である。光学フィルムの厚さの測定方法は、実施例にて詳細に説明する。
【００２９】
［１１．引張弾性率］
本発明の光学フィルムの８０℃における引張弾性率は、好ましくは４，０００〜９，０００ＭＰａ、より好ましくは４，５００〜８，５００ＭＰａである。該弾性率の測定方法は、実施例にて詳細に説明する。引張弾性率が上記範囲内であると、光学フィルムに凹み欠陥が生じにくくなる。光学フィルムの引張弾性率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に準拠して測定することができる。引張弾性率の測定方法は実施例にて詳細に説明する。
【００３０】
［１２．ハードコート層］
本発明の光学フィルムは、好ましくは少なくとも一方の面にハードコート層を有する。両面にハードコート層を有する場合、２つのハードコート層は、含まれる成分が互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００３１】
ハードコート層としては、例えばアクリル系、エポキシ系、ウレタン系、ベンジルクロリド系、ビニル系等の公知のハードコート層が挙げられる。これらの中でも光学フィルムの広角方向の視認性の低下を抑制し、かつ耐屈曲性を向上させる観点から、アクリル系、ウレタン系、及びそれらの組合せのハードコート層を好ましく用いることができる。ハードコート層は、活性エネルギー線の照射により、硬化性化合物を重合して硬化して形成する。重合性化合物としては、例えば、多官能（メタ）アクリレート系化合物が挙げられる。多官能（メタ）アクリレート系化合物とは、分子中に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物である。
【００３２】
多官能（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリス（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、；ホスファゼン化合物のホスファゼン環に（メタ）アクリロイルオキシ基が導入されたホスファゼン系（メタ）アクリレート化合物；分子中に少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び水酸基を有するポリオール化合物との反応により得られるウレタン（メタ）アクリレート化合物；分子中に少なくとも２個のカルボン酸ハロゲン化物と少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び水酸基を有するポリオール化合物との反応により得られるポリエステル（メタ）アクリレート化合物；ならびに、上記各化合物の２量体、３量体などのようなオリゴマーなどである。これらの化合物はそれぞれ単独又は２種以上を混合して用いられる。
【００３３】
硬化性化合物には、上記の多官能（メタ）アクリレート系化合物の他に、単官能（メタ）アクリレート系化合物を含んでよい。単官能（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。これらの化合物は単独又は２種類以上を混合して用いられる。単官能（メタ）アクリレート系化合物の含有量は、硬化性組成物に含まれる化合物の固形分を１００質量％としたとき、好ましくは１０質量％以下である。なお、本明細書において、固形分とは硬化性組成物に含まれる溶媒を除く、全ての成分を意味する。
【００３４】
ハードコート層を形成する硬化性組成物は、多官能（メタ）アクリレート系化合物及び重合性オリゴマーの他に、添加剤を含んでもよい。添加剤としては、例えば、重合開始剤、シリカ、レベリング剤、溶媒等が挙げられる。溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
【００３５】
また、硬化性化合物は重合性オリゴマーを含有していてもよい。重合性オリゴマーを含有させることにより、ハードコート層の硬度を調整することができる。重合性オリゴマーとしては、末端（メタ）アクリレートポリメチルメタクリレート、末端スチリルポリ（メタ）アクリレート、末端（メタ）アクリレートポリスチレン、末端（メタ）アクリレートポリエチレングリコール、末端（メタ）アクリレートアクリロニトリル−スチレン共重合体、末端（メタ）アクリレートスチレン−メチル（メタ）アクリレート共重合体などのマクロモノマーを挙げることができる。重合性オリゴマーの含有量は、硬化性組成物に含まれる化合物の固形分を１００質量％としたとき、好ましくは５〜５０質量％である。
【００３６】
ハードコート層の厚さは、光学フィルムの硬度を向上させる観点から、好ましくは３〜３０μｍ、より好ましくは５〜２５μｍ、更に好ましくは５〜２０μｍである。
【００３７】
［１３．保護フィルム］
本発明の一実施態様において、光学フィルムは、少なくとも一方の面（片面又は両面）に保護フィルムを有していてもよい。例えば光学フィルムの片面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、光学フィルム側の表面又は機能層側の表面に積層されていてもよく、光学フィルム側と機能層側の両方に積層されていてもよい。光学フィルムの両面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、片方の機能層側の表面に積層されていてもよく、両方の機能層側の表面に積層されていてもよい。保護フィルムは、光学フィルム又は機能層の表面を一時的に保護するためのフィルムであり、光学フィルム又は機能層の表面を保護できる剥離可能なフィルムである限り特に限定されない。保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム；ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィン系樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルム等が挙げられ、ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルム及びアクリル系樹脂フィルムからなる群から選択されることが好ましい。光学フィルムが保護フィルムを２つ有する場合、各保護フィルムは同一又は異なっていてもよい。
【００３８】
保護フィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、通常、１０〜１２０μｍ、好ましくは１０〜１１０μｍ、より好ましくは１５〜１００μｍである。光学フィルムが保護フィルムを２つ有する場合、各保護フィルムの厚さは同じであってもよく、異なっていてもよい。
【００３９】
［１４．ポリイミド、ポリアミド系樹脂］
本発明の光学フィルムは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含む。ポリイミド系樹脂とは、イミド基を含む繰返し構造単位を含有する樹脂（以下、ポリイミド樹脂と記載することがある）、並びにイミド基及びアミド基の両方を含む繰返し構造単位を含有する樹脂（以下、ポリアミドイミド樹脂と記載することがある）からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を示す。また、ポリアミド系樹脂とは、アミド基を含む繰り返し構造単位を含有する樹脂（以下、ポリアミド系樹脂と記載することがある）を示す。
【００４０】
ポリイミド系樹脂は、式（１０）で表される繰り返し構造単位を有することが好ましい。ここで、Ｇは４価の有機基であり、Ａは２価の有機基である。ポリイミド系樹脂は、Ｇ及び／又はＡが異なる、２種類以上の式（１０）で表される繰り返し構造単位を含んでいてもよい。
【化１】
2020184077.tif 000004
【００４１】
ポリイミド系樹脂は、光学フィルムの各種物性を損なわない範囲で、式（１１）、式（１２）及び式（１３）で表される繰り返し構造単位からなる群から選択される１以上の繰り返し構造単位を含んでいてもよい。
【００４２】
【化２】
2020184077.tif 000005
【００４３】
式（１０）及び式（１１）中、Ｇ及びＧ１は、それぞれ独立して、４価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｇ及びＧ１としては、式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）又は式（２９）で表される基並びに４価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。光学フィルムの黄色度（ＹＩ値）を抑制しやすいことから、なかでも、式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）又は式（２７）で表される基が好ましい。
【００４４】
【化３】
2020184077.tif 000006
【００４５】
式（２０）〜式（２９）中、
＊は結合手を表し、
Ｚは、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ａｒ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−Ｏ−Ａｒ−Ｏ−、−Ａｒ−Ｏ−Ａｒ−、−Ａｒ−ＣＨ２−Ａｒ−、−Ａｒ−Ｃ（ＣＨ３）２−Ａｒ−又は−Ａｒ−ＳＯ２−Ａｒ−を表す。Ａｒはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。
【００４６】
式（１２）中、Ｇ２は３価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｇ２としては、式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）又は式（２９）で表される基の結合手のいずれか１つが水素原子に置き換わった基並びに３価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。
【００４７】
式（１３）中、Ｇ３は２価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｇ３としては、式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）又は式（２９）で表される基の結合手のうち、隣接しない２つが水素原子に置き換わった基及び炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。
【００４８】
式（１０）〜式（１３）中、Ａ、Ａ１、Ａ２及びＡ３は、それぞれ独立して、２価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ａ、Ａ１、Ａ２及びＡ３としては、式（３０）、式（３１）、式（３２）、式（３３）、式（３４）、式（３５）、式（３６）、式（３７）もしくは式（３８）で表される基；それらがメチル基、フルオロ基、クロロ基もしくはトリフルオロメチル基で置換された基；並びに炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。
【００４９】
【化４】
2020184077.tif 000007
【００５０】
式（３０）〜式（３８）中、
＊は結合手を表し、
Ｚ１、Ｚ２及びＺ３は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−又は−ＣＯ−を表す。
１つの例は、Ｚ１及びＺ３が−Ｏ−であり、かつ、Ｚ２が−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−又は−ＳＯ２−である。Ｚ１とＺ２との各環に対する結合位置、及び、Ｚ２とＺ３との各環に対する結合位置は、それぞれ、各環に対してメタ位又はパラ位であることが好ましい。
【００５１】
ポリイミド系樹脂は、視認性を向上させやすい観点から、式（１０）で表される繰り返し構造単位と式（１３）で表される繰り返し構造単位を少なくとも有するポリアミドイミド樹脂であることが好ましい。また、ポリアミド系樹脂は、式（１３）で表される繰り返し構造単位を少なくとも有することが好ましい。
【００５２】
本発明の一実施態様において、ポリイミド系樹脂は、ジアミン及びテトラカルボン酸化合物（酸クロリド化合物、テトラカルボン酸二無水物等のテトラカルボン酸化合物類縁体）、並びに、必要に応じて、ジカルボン酸化合物（酸クロリド化合物等のジカルボン酸化合物類縁体）、トリカルボン酸化合物（酸クロリド化合物、トリカルボン酸無水物等のトリカルボン酸化合物類縁体）等を反応（重縮合）させて得られる縮合型高分子である。式（１０）又は式（１１）で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン及びテトラカルボン酸化合物から誘導される。式（１２）で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン及びトリカルボン酸化合物から誘導される。式（１３）で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン及びジカルボン酸化合物から誘導される。
【００５３】
本発明の一実施態様において、ポリアミド系樹脂は、ジアミンとジカルボン酸化合物とを反応（重縮合）させて得られる縮合型高分子である。すなわち、式（１３）で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン及びジカルボン酸化合物から誘導される。
【００５４】
テトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物；及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。
【００５５】
芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）、１，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物及び４，４’−（ｐ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物及び４，４’−（ｍ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。
【００５６】
脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル−３，３’，４，４’−テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。
【００５７】
上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、高透明性及び低着色性の観点から、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物及び４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物が好ましい。また、テトラカルボン酸として、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体を用いてもよい。
【００５８】
トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、２種以上を併用してもよい。
具体例としては、１，２，４−ベンゼントリカルボン酸の無水物；２，３，６−ナフタレントリカルボン酸−２，３−無水物；フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−もしくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。
【００５９】
ジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、それらを２種以上併用してもよい。それらの具体例としては、テレフタル酸ジクロリド（テレフタロイルクロリド（ＴＰＣ））；イソフタル酸ジクロリド；ナフタレンジカルボン酸ジクロリド；４，４’−ビフェニルジカルボン酸ジクロリド；３，３’−ビフェニルジカルボン酸ジクロリド；４，４’−オキシビス（ベンゾイルクロリド）（ＯＢＢＣ）；炭素数８以下である鎖式炭化水素のジカルボン酸化合物及び２つの安息香酸が単結合、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−もしくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。
【００６０】
ジアミンとしては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン又はこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、芳香環がベンゼン環であることが好ましい。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。
【００６１】
脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン及び１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。
【００６２】
芳香族ジアミンとしては、例えば、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、２，４−トルエンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、１，５−ジアミノナフタレン、２，６−ジアミノナフタレン等の、芳香環を１つ有する芳香族ジアミン；４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、ビス〔４−（３−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ））、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−クロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−フルオロフェニル）フルオレン等の、芳香環を２つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。
【００６３】
上記ジアミンの中でも、高透明性及び低着色性の観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる１種以上を用いることが好ましく、２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル及び４，４’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる１種以上を用いることがより好ましく、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジンを用いることが更に好ましい。
【００６４】
ポリイミド系樹脂は、上記ジアミン、テトラカルボン酸化合物、トリカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物等の各原料を慣用の方法、例えば、攪拌等の方法により混合した後、得られた中間体をイミド化触媒及び必要に応じて脱水剤の存在下で、イミド化することにより得られる。ポリアミド系樹脂は、上記ジアミン、ジカルボン酸化合物等の各原料を慣用の方法、例えば、攪拌等の方法により混合することで得られる。
【００６５】
イミド化工程で使用されるイミド化触媒としては、特に限定されないが、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン；Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ−プロピルピペリジン、Ｎ−ブチルピロリジン、Ｎ−ブチルピペリジン、及びＮ−プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン（単環式）；アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン、アザビシクロ［３．２．１］オクタン、アザビシクロ［２．２．２］オクタン、及びアザビシクロ［３．２．２］ノナン等の脂環式アミン（多環式）；並びに２−メチルピリジン、３−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、３−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２，４−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、３，４−シクロペンテノピリジン、５，６，７，８−テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。
【００６６】
イミド化工程で使用される脱水剤としては、特に限定されないが、例えば無水酢酸、プロピオン酸無水物、イソ酪酸無水物、ピバル酸無水物、酪酸無水物、イソ吉草酸無水物などが挙げられる。
【００６７】
各原料の混合及びイミド化工程において、反応温度は、特に限定されないが、例えば１５〜３５０℃、好ましくは２０〜１００℃である。反応時間も特に限定されないが、例えば１０分〜１０時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。また、反応は溶媒中で行ってよく、溶媒としては、例えばワニスの調製に使用される溶媒として例示のものが挙げられる。反応後、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂を精製する。精製方法としては、例えば反応液に貧溶媒を加えて再沈殿法により樹脂を析出させ、乾燥し沈殿物を取りだし、必要に応じて沈殿物をメタノール等の溶媒で洗浄して乾燥させる方法等が挙げられる。
なお、ポリイミド系樹脂の製造は、例えば特開２００６−１９９９４５号公報又は特開２００８−１６３１０７号公報に記載の製造方法を参照してもよい。また、ポリイミド系樹脂は、市販品を使用することもでき、その具体例としては、三菱瓦斯化学（株）製ネオプリム（登録商標）、河村産業（株）製ＫＰＩ−ＭＸ３００Ｆ等が挙げられる。
【００６８】
ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、好ましくは２００，０００以上、より好ましくは２５０，０００以上、更に好ましくは３００，０００以上であり、好ましくは６００，０００以下、より好ましくは５５０，０００以下、更に好ましくは５００，０００である。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の重量平均分子量が大きいほど、フィルム化した際の高い耐屈曲性を発現しやすい傾向がある。そのため、光学フィルムの耐屈曲性を高める観点からは、重量平均分子量が上記の下限以上であることが好ましい。一方、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の重量平均分子量が小さいほど、ワニスの粘度を低くしやすく、加工性を向上させやすい傾向がある。また、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の延伸性が向上しやすい傾向がある。そのため、加工性及び延伸性の観点からは、重量平均分子量が上記の上限以下であることが好ましい。なお、本願において重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定を行い、標準ポリスチレン換算により求めることができ、例えば実施例に記載の方法により算出できる。
【００６９】
光学フィルムにおけるポリイミド系樹脂のイミド化率は、好ましくは９５〜１００％、より好ましくは９７〜１００％、更に好ましくは９８〜１００％、特に好ましくは１００％である。ワニスの安定性、得られた光学フィルムの機械物性の観点からは、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。なお、イミド化率は、ＩＲ法、ＮＭＲ法などにより求めることができる。上記観点から、ワニス中に含まれるポリイミド系樹脂のイミド化率が上記範囲内であることが好ましい。
【００７０】
本発明の好ましい一実施形態において、本発明の光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂は、例えば上記の含フッ素置換基等によって導入することができる、フッ素原子等のハロゲン原子を含んでよい。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂がハロゲン原子を含む場合、光学フィルムの弾性率を向上させかつ黄色度（ＹＩ値）を低減させやすい。光学フィルムの弾性率が高いと、該フィルムにおけるキズ及びシワ等の発生を抑制しやすく、また、光学フィルムの黄色度が低いと、該フィルムの透明性を向上させやすくなる。ハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂にフッ素原子を含有させるために好ましい含フッ素置換基としては、例えばフルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
【００７１】
ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の質量を基準として、好ましくは１〜４０質量％であり、より好ましくは５〜４０質量％であり、更に好ましくは５〜３０質量％である。ハロゲン原子の含有量が１質量％以上であると、フィルム化した際の弾性率をより向上させ、吸水率を下げ、黄色度（ＹＩ値）をより低減し、透明性をより向上させやすい。ハロゲン原子の含有量が４０質量％を越えると、合成が困難になる場合がある。
【００７２】
本発明の一実施形態において、光学フィルム中におけるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の含有量は、光学フィルムの全質量を基準として、好ましくは４０質量％以上であり、より好ましくは５０質量％以上であり、更に好ましくは７０質量％以上である。ポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の含有量が上記の下限以上であることが、耐屈曲性等を高めやすい観点から好ましい。なお、光学フィルム中におけるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の含有量は、光学フィルムの全質量を基準として、通常１００質量％以下である。
【００７３】
本発明の光学フィルムは、好ましくは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される２つ以上の樹脂を含む。光学フィルムが前記２つ以上の樹脂を含むと、言い換えると、例えば、後述する光学フィルムの製造方法においてワニスが前記２つ以上の樹脂を含むと、ワニスの粘度を適切な範囲へ容易に調整することができる。特に、前記製造方法の塗布工程においてワニスを基材に塗布し、均一な塗膜を形成することが容易となる。その結果、製造される光学フィルムを式（１）〜式（３）の範囲に調整しやすくなる。かかる場合、光学フィルムの広角方向の視認性がより向上する。
【００７４】
前記２つ以上の樹脂としては、例えば、２つ以上のポリイミド系樹脂、２つ以上のポリアミド系樹脂、及び１つ以上のポリイミド系樹脂と１つ以上のポリアミド系樹脂との組み合わせである。
特に前記２つ以上の樹脂の中でも、好ましくは、互いに異なる重量平均分子量を有する、２つ以上のポリイミド系樹脂又は２つ以上のポリアミド系樹脂である。２つ以上のポリイミド系樹脂又は２つ以上のポリアミド系樹脂のうち、少なくとも一つのポリイミド系樹脂又は少なくとも一つのポリアミド系樹脂の重量平均分子量は２５０，０００〜５００，０００であってもよく、別の少なくとも１つのポリイミド系樹脂又は別の少なくとも１つのポリアミド系樹脂の重量平均分子量は２００，０００〜４５０，０００であってもよい。
特に前記２つ以上の樹脂の中でも、より好ましくは、互いに異なる重量平均分子量を有する２つのポリイミド系樹脂又は２つのポリアミド系樹脂である。２つのポリイミド系樹脂又は２つのポリアミド系樹脂のうち、一方のポリイミド系樹脂又は一方のポリアミド系樹脂の重量平均分子量は２５０，０００〜５００，０００であってもよく、他方のポリイミド系樹脂又は他方のポリアミド系樹脂の重量平均分子量は２００，０００〜４５０，０００であってもよい。
【００７５】
光学フィルムが２つのポリイミド系樹脂又は２つのポリアミド系樹脂を含む場合、一方のポリイミド系樹脂又は一方のポリアミド系樹脂と、他方のポリイミド系樹脂又は他方のポリアミド系樹脂との重量割合（前者／後者）は、樹脂の種類や所望とするワニスの固形分濃度に応じて適宜選択でき、例えば、５／９５〜９５／５であってもよい。
【００７６】
［１５．添加剤］
本発明の光学フィルムは、添加剤を更に含んでもよい。このような添加剤としては、例えば、フィラー（より具体的には、シリカ粒子等）、紫外線吸収剤、増白剤、シリカ分散剤、酸化防止剤、ｐＨ調整剤及びレベリング剤が挙げられる。
【００７７】
（シリカ粒子）
本発明の光学フィルムは、添加剤としてシリカ粒子を更に含んでもよい。シリカ粒子の含有量は、該光学フィルムの総質量を基準として好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、更に好ましくは５質量％以上である。また、シリカ粒子の含有量は、該光学フィルムの総質量を基準として好ましくは６０質量％以下、より好ましくは５０質量％以下、更に好ましくは４５質量％以下である。また、シリカ粒子の含有量は、これらの上限値及び下限値のうち、任意の下限値と上限値とを選択して組合せることができる。シリカ粒子の含有量が上記上限値及び／又は下限値の数値範囲であると、本発明の光学フィルムにおいて、シリカ粒子が凝集しにくく、一次粒子の状態で均一に分散する傾向にあるため、本発明の光学フィルムの視認性の低下を抑制することができる。
【００７８】
シリカ粒子の粒子径は、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは３ｎｍ以上、更に好ましくは５ｎｍ以上、特に好ましくは８ｎｍであり、好ましくは３０ｎｍ以下、より好ましくは２８ｎｍ以下、更に好ましくは２５ｎｍ以下である。シリカ粒子の含有量が上記上限値及び／又は下限値の数値範囲であると、本発明の光学フィルムにおいて、白色光における特定の波長の光と相互作用をしにくいため、本発明の光学フィルムの視認性の低下を抑制することができる。本明細書において、シリカ粒子の粒子径は、平均一次粒子径を示す。光学フィルム内のシリカ粒子の粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いた撮像から測定することができる。光学フィルムを作製する前（例えば、ワニスに添加する前）のシリカ粒子の粒子径は、レーザー回折式粒度分布計により測定することができる。シリカ粒子の粒子径の測定方法は、実施例にて詳細に説明する。
【００７９】
シリカ粒子の形態としては、例えば、シリカ粒子が有機溶媒等に分散したシリカゾル、及び気相法で調製したシリカ粉末が挙げられる。これらの中でも、作業性の観点からシリカゾルが好ましい。
【００８０】
シリカ粒子は、表面処理を施してもよく、例えば、水溶性アルコール分散シリカゾルから溶媒（より具体的には、γ−ブチロラクトン等）置換したシリカ粒子であってもよい。水溶性アルコールは、該水溶性アルコール分子１個においてヒドロキシ基１個当たりの炭素数が３以下のアルコールであり、メタノール、エタノール、１−プロパノール、及び２−プロパノールなどが挙げられる。シリカ粒子とポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の種類との相性によるが、通常、シリカ粒子が表面処理されると、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂との相溶性が向上し、シリカ粒子の分散性が向上する傾向にあるため、本発明の視認性の低下を抑制することができる。
【００８１】
（紫外線吸収剤）
本発明の光学フィルムは、紫外線吸収剤を更に含んでもよい。例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、及びシアノアクリレート系紫外線吸収剤などが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。好適な市販の紫外線吸収剤としては、例えば、住化ケムテックス（株）製のＳｕｍｉｓｏｒｂ（登録商標）  ３４０、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカスタブ（登録商標）  ＬＡ−３１、及びＢＡＳＦジャパン（株）製のチヌビン（登録商標）  １５７７等が挙げられる。紫外線吸収剤の含有量は、本発明の光学フィルムの質量を基準として、好ましくは１ｐｈｒ以上１０ｐｈｒ以下、より好ましくは３ｐｈｒ以上６ｐｈｒ以下である。
【００８２】
（増白剤）
本発明の光学フィルムは、増白剤（以下、ＢＡと略すことがある）を更に含んでもよい。増白剤は、例えば、増白剤以外の添加剤を添加した場合に、色味を調整するために添加することができる。増白剤としては、例えば、モノアゾ系染料、トリアリールメタン系染料、フタロシアニン系染料、及びアンスラキノン系染料が挙げられる。これらの中でもアンスラキノン系染料が好ましい。好適な市販の増白剤としては、例えば、ランクセス社製のマクロレックス（登録商標）  バイオレット  Ｂ、住化ケムテックス（株）製のＳｕｍｉｐｌａｓｔ（登録商標）  Ｖｉｏｌｅｔ  Ｂ、及び三菱化学（株）製のダイアレジン（登録商標）  ブルー  Ｇ等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。増白剤の含有量は、本発明の光学フィルムの質量を基準として、好ましくは５ｐｐｍ以上４０ｐｐｍ以下である。
【００８３】
本発明の光学フィルムの用途は特に限定されず、種々の用途に使用してよい。本発明の光学フィルムは、上記に述べたように単層であっても、積層体であってもよく、本発明の光学フィルムをそのまま使用してもよいし、更に他のフィルムとの積層体として使用してもよい。本発明の光学フィルムは、優れた面品質を有するため、画像表示装置等における光学フィルムとして有用である。なお、光学フィルムが積層体である場合、光学フィルムの片面又は両面に積層された全ての層を含めて光学フィルムと称する。
【００８４】
本発明の光学フィルムの用途は特に限定されず、種々の用途に使用してもよい。本発明の光学フィルムは、広角方向の視認性に優れるため、画像表示装置等における光学フィルムとして有用である。特に本発明の光学フィルムは、画像表示装置の前面板、特にフレキシブルディスプレイの前面板（ウインドウフィルム）として有用である。フレキシブルディスプレイは、例えば、フレキシブル機能層と、フレキシブル機能層に重ねられて前面板として機能する上記光学フィルムを有する。すなわち、フレキシブルディスプレイの前面板は、フレキシブル機能層の上の視認側に配置される。この前面板は、フレキシブル機能層を保護する機能を有する。
【００８５】
［１６．光学フィルムの製造方法］
本発明の光学フィルムは、特に限定されないが、例えば以下の工程：
（ａ）前記樹脂及び前記フィラーを含む液（以下、ワニスと記載することがある）を調製する工程（ワニス調製工程）、
（ｂ）ワニスを基材に塗布して塗膜を形成する工程（塗布工程）、及び
（ｃ）塗布された液（塗膜）を乾燥させて、光学フィルムを形成する工程（光学フィルム形成工程）
を含む方法によって製造することができる。
【００８６】
ワニス調製工程において、前記樹脂を溶媒に溶解し、前記フィラー及び必要に応じて他の添加剤を添加して攪拌混合することによりワニスを調製する。なお、フィラーとしてシリカを用いる場合、シリカを含むシリカゾルの分散液を、前記樹脂が溶解可能な溶媒、例えば下記のワニスの調製に用いられる溶媒で置換したシリカゾルを樹脂に添加してもよい。
【００８７】
ワニスの調製に用いられる溶媒は、前記樹脂を溶解可能であれば特に限定されない。かかる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒；γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）、γ−バレロラクトン等のラクトン系溶媒；ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒；及びそれらの組合せが挙げられる。これらの中でも、アミド系溶媒又はラクトン系溶媒が好ましい。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。また、ワニスには水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、非環状エステル系溶媒、エーテル系溶媒などが含まれてもよい。ワニスの固形分濃度は、好ましくは１〜２５質量％、より好ましくは５〜２０質量％である。
【００８８】
塗布工程において、公知の塗布方法により、基材上にワニスを塗布して塗膜を形成する。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、流涎成形法等が挙げられる。
【００８９】
光学フィルム形成工程において、塗膜を乾燥（第１乾燥と称する）し、基材から剥離後、乾燥塗膜を更に乾燥（第２乾燥又はポストベーク処理と称する）することにより光学フィルムを形成する。第１乾燥は、必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において実施されてもよい。第１乾燥は比較的低温で時間をかけて行うことが好ましい。比較的低温で時間をかけて第１乾燥を行うと、作製される光学フィルムの反射写像性値が式（１）〜式（３）を満たしやすい。
【００９０】
ここで、本発明の光学フィルムを工業的に生産する場合、ラボレベルでの製造環境と比較して実際の製造環境は広角方向の視認性を高めるのに不利である場合が多く、その結果、光学フィルムの広角方向の視認性を高めることが困難である。第１乾燥を比較的低温で時間をかけて行うことが好ましいことは上記に述べたとおりであるが、実験室レベルでは、第１乾燥を行う際に、乾燥を密閉した乾燥器内で行うことができるため、外的要因による光学フィルムの表面の荒れが比較的生じにくい。これに対し、光学フィルムを工業的に生産する場合には、例えば、第１乾燥において広い面積を加熱する必要があるため、加熱の際に送風装置を使用することもある。その結果、光学フィルムの表面状態が荒れやすくなり、光学フィルムの広角方向の視認性を高めることが困難である。
【００９１】
加熱により乾燥を行う場合、特に光学フィルムを工業的に生産する際に上記のような外的要因を考慮すると、第１乾燥の温度は、好ましくは６０〜１５０℃、より好ましくは６０〜１４０℃、更に好ましくは７０〜１４０℃である。第１乾燥の時間は好ましくは１〜６０分、より好ましくは５〜４０分である。特に光学フィルムを工業的に生産する際の上記のような外的要因を考慮すると、第１乾燥は、３段階以上の乾燥温度条件で実施することが好ましい。多段階の条件は、それぞれの段階において、同一又は異なる温度条件及び／又は乾燥時間で実施することができ、例えば３〜１０段階、好ましくは３〜８段階で乾燥を行ってもよい。第１乾燥を３段階以上の多段階条件下で実施すると、作製される光学フィルムの反射写像性値が式（１）〜式（３）を満たしやすくなり、広角方向の視認性が向上する。３段階以上の多段階条件下での態様では、第１乾燥の温度プロファイルが昇温及び降温を含むことが好ましい。すなわち、光学フィルム形成工程における第１乾燥条件は、温度プロファイルが昇温及び降温を含む３段階以上の加熱温度条件であることが好ましい。このような温度プロファイルとして４段階の場合を例に挙げると、第１乾燥の温度は、順に７０〜９０℃（第１の温度）、９０〜１２０℃（第２の温度）、８０〜１２０℃（第３の温度）及び８０〜１００℃（第４の温度）である。この例では、第１乾燥の温度は、第１の温度から第２の温度へ昇温し、次いで第２の温度から第３の温度へ降温し、更に第３の温度から第４の温度に降温する。ここで第１乾燥の時間は各段階において、例えば、５〜１５分である。乾燥塗膜の溶媒残存量が、乾燥塗膜の質量に対して、好ましくは５〜１５質量％、より好ましくは６〜１２質量％となるように、第１乾燥は実施されることが好ましい。溶媒残存量が上記範囲であると、乾燥塗膜の基材からの剥離性が良好となり、作製される光学フィルムの反射写像性値が式（１）〜式（３）を満たしやすい。
【００９２】
第２乾燥の温度は、好ましくは１５０〜３００℃、より好ましくは１８０〜２５０℃、更に好ましくは１８０〜２３０℃である。第２乾燥の時間は、好ましくは１０〜６０分、より好ましくは３０〜５０分である。
【００９３】
第２乾燥は、枚葉式で行ってもよいが、工業的に生産する場合には、製造効率の観点から、ロール・ツー・ロール方式で行うことが好ましい。枚葉式では、面内方向に均一に伸長させた状態で乾燥させることが好ましい。
ロール・ツー・ロール方式では、式（１）〜式（３）の範囲を満たしやすい観点から、乾燥塗膜を搬送方向に伸長させた状態で乾燥させることが好ましく、搬送速度は、好ましくは０．１〜５ｍ／分、より好ましくは０．５〜３ｍ／分、更に好ましくは０．７〜１．５ｍ／分である。第２乾燥は１段階又は多段階の条件で実施されてもよい。多段階の条件は、好ましくは、それぞれの段階において、同一又は異なる温度条件、乾燥時間及び熱風の風速から選択される少なくとも１種で実施することができ、例えば、３〜１０段階、好ましくは３〜８段階で乾燥を行ってもよく、光学フィルムが式（１）〜式（３）の範囲を満たしやすい観点から、多段階の条件で実施することが好ましい。また、各段階では、熱風の風速は、作製される光学フィルムの反射写像性値が式（１）〜式（３）を満たしやすい観点から、好ましくは５〜２０ｍ／分、より好ましくは１０〜１５ｍ／分、更に好ましくは１１〜１４ｍ／分である。
【００９４】
本発明の光学フィルムがハードコート層を備える場合、ハードコート層は、例えば、光学フィルムの少なくとも一方の面に硬化性組成物を塗布して塗膜を形成し、該塗膜に高エネルギー線を照射し、塗膜を硬化させて形成することができる。
【００９５】
基材の例としては、金属系であれば、ＳＵＳ板、樹脂系であればＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルム、他のポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂フィルム、シクロオレフィン系ポリマー（ＣＯＰ）フィルム、アクリル系フィルム等が挙げられる。中でも、平滑性、耐熱性に優れる観点から、ＰＥＴフィルム、ＣＯＰフィルム等が好ましく、更に光学フィルムとの密着性及びコストの観点から、ＰＥＴフィルムがより好ましい。
【００９６】
本発明の光学フィルムがハードコート層を備える場合、ハードコート層は、例えば、ハードコート層形成用組成物を用いて形成する。ハードコート層形成用組成物は、例えば、モノマー及び／又はオリゴマー、光開始剤、シリカ、レベリング剤、並びに溶媒を含む。モノマーとしては、例えば、多官能モノマー（より具体的には、２官能モノマー及び３官能モノマー等）が挙げられる。オリゴマーとしては、例えば、１０官能ウレタンオリゴマーが挙げられる。溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルなどが挙げられる。
【００９７】
ハードコート層形成工程において、塗膜に高エネルギー線（例えば活性エネルギー線）を照射し、塗膜を硬化させてハードコート層を形成する。照射強度は、硬化性組成物の組成によって適宜決定され、特に限定されないが、重合開始剤の活性化に有効な波長領域の照射が好ましい。照射強度は、好ましくは０．１〜６，０００ｍＷ／ｃｍ２、より好ましくは１０〜１，０００ｍＷ／ｃｍ２、更に好ましくは２０〜５００ｍＷ／ｃｍ２である。照射強度が前記範囲内であると、適当な反応時間を確保でき、光源から輻射される熱及び硬化反応時の発熱による樹脂の黄変や劣化を抑えることができる。照射時間は、硬化性組成物の組成によって適宜選択すればよく、特に制限されるものではないが、前記照射強度と照射時間との積として表される積算光量が好ましくは１０〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは５０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２、更に好ましくは８０〜５００ｍＪ／ｃｍ２となるように設定される。積算光量が前記範囲内であると、重合開始剤由来の活性種を十分量発生させて、硬化反応をより確実に進行させることができ、また、照射時間が長くなりすぎず、良好な生産性を維持できる。また、この範囲での照射工程を経ることでハードコート層の硬度を更に高め得るため有用である。ハードコート層の平滑性を向上させ、光学フィルムの広角方向の視認性を更に向上させる観点から、溶剤の種類、成分比、固形分濃度の最適化及びレベリング剤の添加などが挙げられる。
【００９８】
＜フレキシブル画像表示装置＞
本発明は、前記光学フィルムを備える、フレキシブル表示装置を包含する。本発明の光学フィルムは、好ましくはフレキシブル画像表示装置において前面板として用いられ、該前面板はウインドウフィルムと称されることがある。該フレキシブル画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなり、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側にフレキシブル画像表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル画像表示装置用積層体としては、更に偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサまたはウインドウフィルム、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサよりも視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、前記ウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
【００９９】
［偏光板］
本発明のフレキシブル表示装置は、上記の通り、偏光板、好ましくは円偏光板を備えることが好ましい。円偏光板は、直線偏光板にλ／４位相差板を積層することにより右若しくは左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ＥＬパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ＥＬの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ／４位相差板の遅相軸は理論上４５°である必要があるが、実用的には４５±１０°である。直線偏光板とλ／４位相差板は必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側に更にλ／４位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。
【０１００】
直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独または直線偏光子及びその少なくとも一面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、２００μｍ以下であってもよく、好ましくは、０．５〜１００μｍである。直線偏光板の厚さが前記の範囲にあると直線偏光板の柔軟性が低下し難い傾向にある。
【０１０１】
前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略すことがある）系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したＰＶＡ系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、またはＰＶＡに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はＰＶＡ系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルムと積層された状態で行うこともできる。用いられるＰＶＡ系フィルムの厚さは好ましくは１０〜１００μｍであり、前記延伸倍率は好ましくは２〜１０倍である。
【０１０２】
更に前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子が挙げられる。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は、液晶状態を示す性質を有していればよく、特にスメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は、重合性官能基を有することが好ましい。
前記二色性色素化合物は、前記液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、重合性官能基を有していてもよく、また、二色性色素自身が液晶性を有していてもよい。
【０１０３】
液晶偏光組成物に含まれる化合物のいずれかは重合性官能基を有する。前記液晶偏光組成物は更に開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
【０１０４】
前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができ、その厚さは好ましくは０．５〜１０μｍ、より好ましくは１〜５μｍである。
【０１０５】
前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することにより製造される。前記配向膜形成組成物は、配向剤を含み、更に溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類が挙げられる。偏光照射により配向性を付与する配向剤を用いる場合、シンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量は、例えば、１０，０００〜１，０００，０００程度である。前記配向膜の厚さは、好ましくは５〜１０，０００ｎｍであり、配向規制力が十分に発現される点で、より好ましくは１０〜５００ｎｍである。
【０１０６】
前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
【０１０７】
前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく前記ウインドウフィルムの透明基材に使用される材料や添加剤と同じものが使用できる。また、エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。該保護フィルムは、必要により可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。該保護フィルムの厚さは、好ましくは２００μｍ以下であり、より好ましくは１〜１００μｍである。保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、該フィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。
【０１０８】
前記λ／４位相差板は、入射光の進行方向に直交する方向（フィルムの面内方向）にλ／４の位相差を与えるフィルムである。前記λ／４位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。前記λ／４位相差板は、必要により位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。
【０１０９】
前記延伸型位相差板の厚さは、好ましくは２００μｍ以下であり、より好ましくは１〜１００μｍである。延伸型位相差板の厚さが前記の範囲にあると、該延伸型位相差板の柔軟性が低下し難い傾向にある。
【０１１０】
更に前記λ／４位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板が挙げられる。
【０１１１】
前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す液晶性化合物を含む。前記液晶性化合物は、重合性官能基を有する。
【０１１２】
前記液晶組成物は、更に開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
【０１１３】
前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層と同様に、液晶組成物を下地上に塗布、硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは０．５〜１０μｍ、より好ましくは１〜５μｍである。
【０１１４】
前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
【０１１５】
一般的には、短波長ほど複屈折が大きく長波長になるほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ／４の位相差を達成することはできないので、視感度の高い５６０ｎｍ付近に対してλ／４となるように、面内位相差は、好ましくは１００〜１８０ｎｍ、より好ましくは１３０〜１５０ｎｍとなるように設計される。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ／４位相差板は、視認性が良好となる点で好ましい。このような材料としては、例えば延伸型位相差板は特開２００７−２３２８７３号公報等に、液晶塗布型位相差板は特開２０１０−３０９７９号公報等に記載されているものを用いることができる。
【０１１６】
また、他の方法としてはλ／２位相差板と組合せることで広帯域λ／４位相差板を得る技術も知られている（例えば、特開平１０−９０５２１号公報など）。λ／２位相差板もλ／４位相差板と同様の材料方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板の組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることにより厚さを薄くすることができる。
【０１１７】
前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のＣプレートを積層する方法が知られている（例えば、特開２０１４−２２４８３７号公報など）。正のＣプレートは、液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。該位相差板の厚さ方向の位相差は、好ましくは−２００〜−２０ｎｍ、より好ましくは−１４０〜−４０ｎｍである。
【０１１８】
［タッチセンサ］
本発明のフレキシブル表示装置は、上記の通り、タッチセンサを備えることが好ましい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が挙げられ、好ましくは静電容量方式が挙げられる。
【０１１９】
静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と、前記基板の活性領域に形成された感知パターンと、前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウフィルムの透明基板と同様の材料が使用できる。
【０１２０】
前記感知パターンは、第１方向に形成された第１パターン及び第２方向に形成された第２パターンを備えることができる。第１パターンと第２パターンとは互いに異なる方向に配置される。第１パターン及び第２パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第１パターンは複数の単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第２パターンは複数の単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第２パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。第２パターンの接続のための電極には、周知の透明電極を適用することができる。該透明電極の素材としては、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＺＴＯ）、インジウムガリウム亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ）、カドミウムスズ酸化物（ＣＴＯ）、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、グラフェン、金属ワイヤなどが挙げられ、好ましくはＩＴＯが挙げられる。これらは単独または２種以上混合して使用できる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、セレニウム、クロムなどが挙げられ、これらは単独または２種以上混合して使用することができる。
【０１２１】
ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成されることができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタンまたはこれらのうちの２種以上の合金で形成することもできる。
【０１２２】
第１パターンと第２パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。該絶縁層は、第１パターンの継ぎ手とブリッジ電極との間にのみ形成することや、感知パターン全体を覆う層として形成することもできる。感知パターン全体を覆う層の場合、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第２パターンを接続することができる。
【０１２３】
前記タッチセンサは、感知パターンが形成されたパターン領域と、感知パターンが形成されていない非パターン領域との間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層を更に含むことができる。該光学調節層は、無機絶縁物質または有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子を更に含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を高くすることができる。
【０１２４】
前記光硬化性有機バインダーは、本発明の効果を損ねない範囲で、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
【０１２５】
前記無機粒子としては、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などが挙げられる。
【０１２６】
前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤を更に含むこともできる。
【０１２７】
［接着層］
前記フレキシブル画像表示装置用積層体を形成する各層（ウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサ）並びに各層を構成するフィルム部材（直線偏光板、λ／４位相差板等）は接着剤によって接合することができる。該接着剤としては、水系接着剤、水系溶剤揮散型接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤（粘着剤）、再湿型接着剤等、通常使用されている接着剤等が使用でき、好ましくは水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤を使用できる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、好ましくは０．０１〜５００μｍ、より好ましくは０．１〜３００μｍである。前記フレキシブル画像表示装置用積層体には、複数の接着層が存在するが、それぞれの厚さや種類は、同じであっても異なっていてもよい。
【０１２８】
前記水系溶剤揮散型接着剤としては、ポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン−酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン−ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。前記主剤ポリマーと水とに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜１μｍである。前記水系溶剤揮散型接着剤を複数層に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。
【０１２９】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物に含まれるものと同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物は、ハードコート組成物におけるラジカル重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
【０１３０】
前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物におけるカチオン重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
【０１３１】
活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物が特に好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。
【０１３２】
活性エネルギー線組成物は、粘度を低下させるために、単官能の化合物を含むことができる。該単官能の化合物としては、１分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート系単量体や、１分子中に１個のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、例えば、グリシジル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【０１３３】
活性エネルギー線組成物は、更に重合開始剤を含むことができる。該重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、これらは適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合またはカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。
【０１３４】
前記活性エネルギー線硬化組成物は更に、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって２つの被接着層を接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか一方または両方に塗布後、貼合し、いずれかの被着層または両方の被接着層に活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、で接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１〜２０μｍ、より好ましくは０．１〜１０μｍである。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数の接着層形成に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。
【０１３５】
前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類され何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着剤層接着層が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．１〜５００μｍ、より好ましくは１〜３００μｍである。前記粘着剤を複数層用いる場合には、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。
【０１３６】
［遮光パターン］
前記遮光パターンは、前記フレキシブル画像表示装置のベゼルまたはハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記フレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層または複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーであってもよい。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独または２種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、好ましくは１〜１００μｍ、より好ましくは２〜５０μｍである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。
【実施例】
【０１３７】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部を意味する。まず評価方法について説明する。
【０１３８】
＜１．光学フィルムの製造＞
［１−１．樹脂の調製］
（製造例１：ポリイミド樹脂１の調製）
セパラブルフラスコにシリカゲル管、攪拌装置、及び温度計を取り付けた反応容器と、オイルバスとを準備した。オイルバスに設置した反応容器内に、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物（６ＦＤＡ）  ７５．６ｇと、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）  ５４．５ｇとを投入した。反応容器内の内容物を４００ｒｐｍで攪拌しながらＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）  ５３０ｇを更に反応容器内に投入し、反応容器内の内容物が均一な溶液になるまで攪拌を続けた。続いて、オイルバスを用いて容器内温度が２０〜３０℃の範囲になるように調整しながら更に２０時間攪拌を続け、反応させてポリアミック酸を生成させた。３０分後、攪拌速度を１００ｒｐｍに変更した。２０時間攪拌後、反応系温度を室温（２５℃）に戻し、ＤＭＡｃ  ６５０ｇを反応容器内に更に投入してポリマー濃度が反応容器内の内容物の総質量を基準として１０質量％となるように調整した。更に、ピリジン  ３２．３ｇと、無水酢酸  ４１．７ｇとを反応容器内に更に投入し、反応容器内の内容物を室温で１０時間攪拌してイミド化を行った。反応容器からポリイミドワニスを取り出した。得られたポリイミドワニスをメタノール中に滴下して再沈殿を行った。沈殿物を濾過で取り出し、得られた沈殿物を加熱乾燥して溶媒を除去し、固形分（粉体）としてポリイミド樹脂１を得た。得られたポリイミド樹脂１について、ＧＰＣ測定を行ったところ、重量平均分子量は３５０，０００であった。また、ポリイミド樹脂１のイミド化率は９８．８％であった。
【０１３９】
（製造例２：ポリイミド樹脂２の調製）
反応時間を２０時間から１６時間に変更した以外は製造例１と同様にして、重量平均分子量２８０，０００、イミド化率９８．３％のポリイミド樹脂２を製造した。
【０１４０】
（製造例３：ポリアミドイミド樹脂１の調製）
容量１Ｌセパラブルフラスコに攪拌翼を取り付けた反応容器と、オイルバスとを準備した。オイルバスに設置した反応容器内にＴＦＭＢ  ４５ｇ（１４０．５２ｍｍｏｌ）と、ＤＭＡｃ  ７６８．５５ｇとを投入した。窒素ガス雰囲気下、反応容器内の内容物を室温で攪拌し、ＴＦＭＢをＤＭＡｃに溶解させた。次いで、６ＦＤＡ  １８．９２ｇ（４２．５８ｍｍｏｌ）を反応容器内に更に投入し、反応容器内の内容物を室温で３時間攪拌を続けた。その後、４，４’−オキシビス（ベンゾイルクロリド）（ＯＢＢＣ）  ４．１９ｇ（１４．１９ｍｍｏｌ）、次いでテレフタロイルクロリド（ＴＰＣ）  １７．２９ｇ（８５．１６ｍｍｏｌ）を反応容器内に更に投入し、室温で１時間攪拌を続けた。次いで、反応容器内に４−メチルピリジン  ４．６３ｇ（４９．６８ｍｍｏｌ）と無水酢酸  １３．０４ｇ（１２７．７５ｍｍｏｌ）とを更に投入し、反応容器内の内容物を室温で３０分間攪拌した。その後、オイルバスを用いて容器内温度を７０℃に昇温した。容器内温度を７０℃に維持して反応容器内の内容物を、更に３時間攪拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入した。析出した沈殿物を取り出し、メタノールで６時間浸漬した。その後、沈殿物をメタノールで洗浄した。次に、１００℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂１を得た。ポリアミドイミド樹脂１の重量平均分子量は４００，０００であり、イミド化率は９８．１％であった。
【０１４１】
（製造例４：ポリアミドイミド樹脂２の調製）
容量１Ｌセパラブルフラスコに攪拌翼を取り付けた反応容器と、オイルバスとを準備した。オイルバスに設置した反応容器内にＴＦＭＢ  ４５ｇ（１４０．５２ｍｍｏｌ）と、ＤＭＡｃ  ７６８．５５ｇとを投入した。窒素ガス雰囲気下、室温で反応容器内の内容物を攪拌し、ＴＦＭＢをＤＭＡｃに溶解させた。次に、反応容器内に６ＦＤＡ  １９．０１ｇ（４２．７９ｍｍｏｌ）を更に投入し、反応容器内の内容物を室温で３時間攪拌した。その後、ＯＢＢＣ  ４．２１ｇ（１４．２６ｍｍｏｌ）、次いでＴＰＣ  １７．３０ｇ（８５．５９ｍｍｏｌ）を反応容器内に更に投入し、反応容器内の内容物を室温で１時間攪拌した。次いで、反応容器内に４−メチルピリジン  ４．６３ｇ（４９．６８ｍｍｏｌ）と無水酢酸  １３．０４ｇ（１２７．７５ｍｍｏｌ）とを更に投入し、反応容器内の内容物を室温で３０分間攪拌した。その後、オイルバスを用いて容器内の温度を７０℃に昇温した。容器内温度を７０℃に維持して更に３時間攪拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで６時間浸漬した。その後、沈殿物をメタノールで洗浄した。次に、１００℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂２を得た。得られたポリアミドイミド樹脂２の重量平均分子量は３６５，０００であり、イミド化率は９８．３％であった。
【０１４２】
［１−２．シリカ分散液の調製］
（製造例５：分散液１の調製）
メタノール分散有機化処理シリカ（粒径２５ｎｍ）をγ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）に置換し、ＧＢＬ分散有機化処理シリカ（固形分３０．５％）を得た。この分散液を分散液１とした。
【０１４３】
［１−３．ハードコート層形成用組成物の製造］
（製造例６：ハードコート層形成用組成物１の製造）
イソプロパノールシリカゾル（日産化学工業（株）製「ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ」、粒径２０〜３０ｎｍ）２５質量％、１０官能ウレタンアクリレートオリゴマー（シンアＴ＆Ｃ社製「ＵＶ１０００」）１５質量％、３官能モノマー（Ｍ３４０、ＭＩＲＡＭＥＲ）１８．５質量％、光開始剤（ＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）  −１８４」）１．２質量％、レベリング剤（ＢＹＫ社製「ＢＹＫ−３５３０」）０．３質量％、及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）４０質量％を混合してハードコート層形成用組成物１を製造した。
【０１４４】
（製造例７：ハードコート層形成用組成物の製造）
１０官能ウレタンアクリレートオリゴマー（シンアＴ＆Ｃ社製「ＵＶ１０００」）７質量％、２官能モノマー（Ｍ２００、ＭＩＲＡＭＥＲ）３８．５質量％、光開始剤（ＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４」）１．２質量％、レベリング剤（ＢＹＫ社製「ＢＹＫ−３５３０」）０．３質量％、及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）５３質量％を混合してハードコート層形成用組成物２を製造した。
【０１４５】
［１−４．ワニスの調製］
（製造例８：ワニス（１）及び（２）の調製）
ワニス（１）及び（２）は、表１に示す組成にて、溶媒にポリイミド系樹脂を溶解させて、製造した。
なお、表１中、欄「溶媒」の含有量（単位：質量％）は、全て溶媒の総質量に対する特定の溶媒の質量の割合（単位：質量％）を示す。欄「ポリイミド系樹脂」の含有量（単位：質量％）は、全てのポリイミド系樹脂の総質量に対する特定のポリイミド系樹脂の質量の割合（単位：質量％）を示す。欄「ポリイミド系樹脂」のＰＩ−１、ＰＩ−２、ＰＡＩ−１、及びＰＡＩ−２は、それぞれポリイミド樹脂１、ポリイミド樹脂２、ポリアミドイミド樹脂１、及びポリアミドイミド樹脂２を示す。欄「固形分比」の含有量（単位：％）は、ワニスの質量に対する溶媒以外の成分の総質量の割合（単位：質量％）を示す。
【０１４６】
【表１】
2020184077.tif 000008
【０１４７】
（製造例９：ワニス（３）の調製）
ワニス（３）は、表１に示す組成にて製造した。具体的には、ワニス（３）は、室温にてＧＢＬ溶媒にポリマー及びフィラー（分散液１に含まれる）の組成比（質量比）が６０：４０となるように混合させ、更に紫外線吸収剤としての住化ケムテックス（株）製のＳｕｍｉｓｏｒｂ  ３４０（ＵＶＡ）、及び増白剤としての住化ケムテックス（株）製のＳｕｍｉｐｌａｓｔ（登録商標）  Ｖｉｏｌｅｔ  Ｂ（ＢＡ）をポリマーとシリカの合計質量に対してそれぞれ５．７ｐｈｒ及び３５ｐｐｍとなるように添加し、均一になるまで攪拌し、ワニス（３）を得た。
なお、表１中、欄「フィラー」の含有量（単位：ｗｔ％）は、全フィラー分散液の総質量に対するフィラーの質量の割合（単位：質量％）を示す。欄「添加剤  ＵＶＡ」の含有量（単位：Ｐｈｒ）は、ポリイミド系樹脂及び分散液１の固形分（シリカ）の総質量に対するＵＶＡの質量の割合（単位：質量％）を示す。欄「添加剤  ＢＡ」の含有量（単位：ｐｐｍ）は、ポリイミド系樹脂及び分散液１の固形分（シリカ）の総質量に対するＢＡの質量の割合（単位：ｐｐｍ）を示す。
【０１４８】
［１−５．光学フィルムの製造］
（実施例１：光学フィルム１の製造）
ワニス（１）を、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）フィルム（東洋紡（株）製「Ａ４１００」、厚さ１８８μｍ、厚さ分布±２μｍ）上において流涎成形により塗膜を成形した。線速は０．４ｍ／分であった。順に７０℃で８分間、１００℃で１０分間、９０℃で８分間、及び８０℃で８分間加熱することによって塗膜を乾燥させ、ＰＥＴフィルムから塗膜を剥離した。得た原料フィルム１（幅７００ｍｍ）を把持具としてクリップを用いたテンター式乾燥機（１〜６室構成）を用い、溶媒を除去し、厚さ７９μｍのポリイミドフィルム１を得た。乾燥機内の温度を２００℃に設定し、クリップ把持幅２５ｍｍ、フィルムの搬送速度１．０ｍ／分、乾燥機入口のフィルム幅（クリップ間距離）及び乾燥炉出口のフィルム幅の比が１．０となるように調整し、テンター式乾燥機の各室における風速を、１室では１３．５ｍ／秒、２室では１３ｍ／秒、３〜６室では１１ｍ／秒となるように調整した。フィルムがクリップから離された後、クリップ部をスリットし、そのフィルムにＰＥＴ系保護フィルムを貼合し、ＡＢＳ製６インチコアに巻きとり、ロールフィルムを得た。
【０１４９】
（実施例２：光学フィルム２の製造）
製造例６で作製したハードコート層形成用組成物１を、実施例１で得た光学フィルム１の製膜時に基材のＰＥＴフィルムと接触していた面に硬化後２０μｍの厚さ（ハードコート層）になるように塗布し、８０℃のオーブンで１分間乾燥させた。その後、高圧水銀ランプを用いて３５０ｍＪ／ｃｍ２の光量で光を照射し、塗膜を硬化して第１ハードコート層を形成した。もう一方の面に、製造例７で作製したハードコート層形成用組成物２を、硬化後１５μｍとなるように塗布し、８０℃のオーブンで２分間乾燥させた。その後、高圧水銀ランプを用いて３５０ｍＪ／ｃｍ２の光量で光を照射して、塗膜を硬化して第２ハードコート層を形成して、ハードコート層を含む光学フィルム２を製造した。
【０１５０】
（実施例３：光学フィルム３の製造）
ワニス（１）をワニス（２）に変更し、線速を０．４ｍ／分から０．３ｍ／分に変更し、塗膜の加熱条件を順に７０℃で８分間、１００℃で１０分間、９０℃で８分間、及び８０℃で８分間から８０℃で１０分間、１００℃で１０分間、９０℃で１０分間、８０℃で１０分間に変更した以外は、光学フィルム１の製造方法と同様にして厚さ４９μｍの光学フィルム３を製造した。
【０１５１】
（実施例４：光学フィルム４の製造）
ワニス（１）をワニス（３）に変更し、線速を０．４ｍ／分から０．２ｍ／分に変更した以外は、光学フィルム１の製造方法と同様にして、厚さ７９μｍの光学フィルム４を製造した。
【０１５２】
（実施例５：光学フィルム５の製造）
加熱条件を７０℃で８分間、１００℃で１０分間、９０℃で８分間、８０℃で８分間から７０℃で８分間、９０℃で１０分間、８５℃で８分間、８０℃で８分間に変更した以外は、光学フィルム４の製造と同様にして厚さ３０μｍの光学フィルム５を製造した。
【０１５３】
（比較例１：光学フィルム６の準備）
光学フィルム６としてポリイミドフィルム（宇部興産（株）製「ＵＰＩＬＥＸ」、厚さ５０μｍ）を準備した。
【０１５４】
組成物の処方及び光学フィルムの組成を表２にまとめた。なお、表２中、欄「ＨＣ有無」は、ハードコート層を備えるか（有）、否か（無）を示す。
【０１５５】
【表２】
2020184077.tif 000009
【０１５６】
＜２．測定方法＞
実施例及び比較例で得られた光学フィルムは、保護フィルムを有する場合、下記測定及び評価は、保護フィルムを剥離した状態の光学フィルムを用いて実施した。
（２−１．光学フィルムの透過写像性値の測定）
ＪＩＳ  Ｋ  ７３４５に準拠して写像性測定器（スガ試験機（株）製「ＩＣＭ−１」）を用いて、以下のように透過法にて光学フィルムの透過写像性値を測定した。
光学フィルムを写像性測定器に設置した。この光学フィルムは、設置前に両面をエタノールで軽くふき、乾燥させ、表面から異物を除去した状態で設置した。次いで、光量及び断面積を調整し、平行光に調整した白色光を、光学フィルム平面に対してＭＤ方向に６０°傾斜した角度（入射角）から設置された光学フィルムに照射した。光学フィルムを透過した透過光を、断面積を調整して照射光の光軸に垂直に延在する光学櫛に透過させ、光学櫛を透過した光を受光器で受光した。
光学櫛の平面に対して平行であり、かつ光学櫛におけるスリットが配列する方向に光学櫛（スリット幅：０．１２５ｍｍ）を所定の単位幅移動させて光学櫛の透過光を受光することを繰り返した。その結果、受光波形を得た。得られた受光波形から相対光量の最大値Ｍ及び最小値ｍを得た。得られたＭ及びｍから式（５）に基づいて第１透過写像性値Ｃ６０（ＭＤ）を算出した。
【０１５７】
入射角を光学フィルム平面に対して垂直方向からＴＤ方向に６０°傾斜した角度、及び光学フィルム平面に対して垂直な角度（０°傾斜した角度）に変更した以外は、第１透過写像性値と同様にして、それぞれ第２透過写像性値Ｃ６０（ＴＤ）及び第３透過写像性値Ｃ０を算出した。
【０１５８】
（２−２．光学フィルムの全光線透過率及びヘーズ）
光学フィルムの全光線透過率はＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１：１９９７に準拠して、ヘーズはＪＩＳ  Ｋ  ７１３６：２０００に準拠して、スガ試験機（株）製の全自動直読ヘーズコンピュータＨＧＭ−２ＤＰを用いて測定した。測定試料は、実施例及び比較例の光学フィルムを３０ｍｍ×３０ｍｍの大きさにカットして作製した。
【０１５９】
（２−３．光学フィルムの黄色度）
光学フィルムのイエローインデックス（黄色度：ＹＩ値）を、日本分光（株）製の紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−６７０によって測定した。サンプルがない状態でバックグランド測定を行った後、光学フィルムをサンプルホルダーにセットして、３００〜８００ｎｍの光に対する透過率測定を行い、３刺激値（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を求めた。ＹＩ値を、下記の式に基づいて算出した。なお、光学フィルムの支持体とは反対面に保護フィルムを積層している場合は、保護フィルムを剥離して、イエローインデックスを測定する。
ＹＩ値＝１００×（１．２７６９Ｘ−１．０５９２Ｚ）／Ｙ
【０１６０】
（２−４．光学フィルムの引張弾性率）
光学フィルムの引張弾性率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に準拠して、電気機械式万能試験機（インストロン社製）を用いて、試験速度５ｍ／分及びロードセル５ｋＮで引っ張り試験を行い測定した。
【０１６１】
（２−５．光学フィルムの厚さ）
マイクロメーター（（株）ミツトヨ製「ＩＤ−Ｃ１１２ＸＢＳ」）を用いて、１０点以上の光学フィルムの厚さを測定し、その平均値を算出した。
【０１６２】
（２−６．ポリイミド系樹脂の分子量（重量平均分子量））
ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定は、（株）島津製作所製の液体クロマトグラフＬＣ−１０ＡＴｖｐを用いて行った。
（１）前処理方法
試料をγ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）に溶解させて２０質量％溶液とした後、ＤＭＦ溶離液にて１００倍に希釈し、０．４５μｍメンブランフィルターろ過したものを測定溶液とした。
（２）測定条件
カラム：ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ×２＋ＳｕｐｅｒＡＷ２５００×１（６．０ｍｍ  Ｉ．Ｄ．×１５０ｍｍ×３本）
溶離液：ＤＭＦ（１０ｍｍｏｌの臭化リチウム添加）
流量：０．６ｍＬ／分
検出器：ＲＩ検出器
カラム温度：４０℃
注入量：２０μＬ
分子量標準：標準ポリスチレン
【０１６３】
（２−７．シリカ粒子の粒子径）
シリカ粒子の粒子径は、ＪＩＳ  Ｚ  ８８３０に準じ、ＢＥＴ吸着法による比表面積測定値から算出した。シリカゾルを３００℃で乾燥させた粉末の比表面積を比表面積測定装置（ユアサアイオニクス（株）製「モノソーブ（登録商標）ＭＳ−１６」）を用いて測定した。
【０１６４】
（２−８．イミド化率）
イミド化率は、１Ｈ−ＮＭＲ測定により以下のようにして求めた。
（１）前処理方法
ポリイミド系樹脂を含む光学フィルムを重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ−ｄ６）に溶解させて２質量％溶液としたものを測定試料とした。
（２）測定条件
測定装置：ＪＥＯＬ製  ４００ＭＨｚ  ＮＭＲ装置  ＪＮＭ−ＥＣＺ４００Ｓ／Ｌ１
標準物質：ＤＭＳＯ−ｄ６（２．５ｐｐｍ）
試料温度：室温
積算回数：２５６回
緩和時間：５秒
（３）イミド化率解析方法
（ポリイミド樹脂のイミド化率）
ポリイミド樹脂を含む測定試料で得られた１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、観測されたベンゼンプロトンのうちイミド化前後で変化しない構造に由来するベンゼンプロトンＡの積分値をＩｎｔＡとした。また、観測されたポリイミド樹脂中に残存するアミック酸構造に由来するアミドプロトンの積分値をＩｎｔＢとした。これらの積分値から以下の式に基づいてポリイミド樹脂のイミド化率を求めた。
イミド化率（％）＝１００×（１−ＩｎｔＢ／ＩｎｔＡ）
【０１６５】
（ポリアミドイミド樹脂のイミド化率）
ポリアミドイミド樹脂を含む測定試料で得られた１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、観測されたベンゼンプロトンのうちイミド化前後で変化しない構造に由来し、ポリアミドイミド樹脂中に残存するアミック酸構造に由来する構造に影響を受けないベンゼンプロトンＣの積分値をＩｎｔＣとした。また、観測されたベンゼンプロトンのうちイミド化前後で変化しない構造に由来し、ポリアミドイミド樹脂中に残存するアミック酸構造に由来する構造に影響を受けるベンゼンプロトンＤの積分値をＩｎｔＤとした。得られたＩｎｔＣ及びＩｎｔＤから以下の式によりβ値を求めた。
β＝ＩｎｔＤ／ＩｎｔＣ
次に、複数のポリアミドイミド樹脂について上記式のβ値及び上記式のポリイミド樹脂のイミド化率を求め、これらの結果から以下の相関式を得た。
イミド化率（％）＝ｋ×β＋１００
上記相関式中、ｋは定数である。
βを相関式に代入してポリアミドイミド樹脂のイミド化率（％）を得た。
【０１６６】
（２−９．耐屈曲性試験）
光学フィルムについてＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−１に準拠して耐屈曲性試験を実施した。耐屈曲性試験は、小型卓上型耐久試験機（ユアサシステム機器（株）製）を用いて実施された。耐屈曲試験後の光学フィルムについて上述の測定方法と同様にして、透過写像性値、及びヘーズをそれぞれ測定した。耐屈曲試験前後の透過写像性値及びヘーズの差の絶対値をそれぞれとり、透過写像性値の差（第１透過写像性値の差ΔＣ６０（ＭＤ）、第２透過写像性値の差ΔＣ６０（ＴＤ）及び第３透過写像性値の差ΔＣ０）及びヘーズの差（ΔＨａｚｅ）をそれぞれ得た算出した。
【０１６７】
（２−１０．耐折性試験（ＭＩＴ））
ＡＳＴＭ規格Ｄ２１７６−１６に準拠して、実施例及び比較例における光学フィルムの折曲げ回数を以下のように求めた。該光学フィルムを、ダンベルカッターを用いて１５ｍｍ×１００ｍｍの短冊状にカットし、測定試料を作製した。測定試料をＭＩＴ耐折疲労試験機（（株）東洋精機製作所製「型式０５３０」）本体にセットした。詳しくは、測定試料の一端を荷重クランプに固定して、他端を折り曲げクランプに固定し、測定試料にテンションを加えた。この状態で、試験速度１７５ｃｐｍ、折り曲げ角度１３５°、荷重０．７５ｋｇｆ、折り曲げクランプの屈曲半径Ｒ＝１ｍｍの条件の下、測定試料が破断するまでの裏表方向への往復折曲げ運動を行った。前記折曲げ回数を測定した。
【０１６８】
＜３．評価方法＞
（３−１．視認性）
光学フィルムを１０ｃｍ角にカットした。同サイズ（１０ｃｍ角）の粘着層付き偏光板のＭＤ方向とカットした光学フィルムのＭＤ方向とを揃えて、カットした光学フィルムに粘着層付き偏光板を貼合し、評価用試料を作製した。１つの実施例及び比較例の光学フィルムに対してそれぞれ２つの評価用試料を作製した。
２つの評価用試料のうち一方の評価用試料を、評価用試料平面の垂直方向に蛍光灯が位置し、かつ評価用試料のＭＤ方向に対して前記蛍光灯の長手方向が水平となるように台の上に固定した。
評価用試料平面の垂直方向に対して３０°傾けた角度から、観察者が目視にて評価用試料表面に映る蛍光灯像を観察した。
蛍光灯の長手方向を水平から垂直に変更した以外は同様にして、もう一方の評価用試料を台に固定し、蛍光灯像を観察した。
観察結果から下記の評価基準に基づいて視認性を評価した。
（視認性の評価基準）
◎：蛍光灯像の歪みがほとんど視認されない。
○：蛍光灯像の歪みが若干視認できる。
△：蛍光灯像の歪みが視認される。
×：蛍光灯像の歪みが明確に視認される。
【０１６９】
＜４．評価結果＞
実施例１〜５及び比較例１の光学フィルムについて全光線透過率、ヘーズ、透過写像性値、黄色度および折曲げ回数を測定し、視認性を評価した。測定及び評価結果を表３〜５にまとめた。なお、表３の欄「Ｔｔ（％）」は、光学フィルムの全光線透過率（単位：％）を示す。表３の「Ｈａｚｅ（％）」は、光学フィルムのヘーズ（単位：％）を示す。
【０１７０】
【表３】
2020184077.tif 000010
【０１７１】
【表４】
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【０１７２】
【表５】
2020184077.tif 000012
【０１７３】
実施例１〜５の光学フィルム１〜５は、いずれもポリイミド系樹脂を含み、全光線透過率が８５％以上でありヘーズが０．５％以下であった。また、光学フィルム１〜５は、第１透過写像性値及び第２透過写像性値がいずれも８７％以上１００％以下であり、比Ｃ６０（ＭＤ）／Ｃ０が０．８以上１．０以下であった。すなわち、光学フィルム１〜５は、式（１）〜式（３）を満たしていた。
更に、光学フィルム１〜５は、視認性の評価結果が◎、○及び△のいずれかであった。
【０１７４】
比較例１の光学フィルム６は、全光線透過率が８５％未満でありヘーズが０．５％より大きく、第２透過写像性値が８７％未満であった。
更に、光学フィルム６は、視認性の評価結果が×であった。
【０１７５】
実施例１〜５の光学フィルムは、比較例１の光学フィルムに比べ、広角方向の視認性に優れ、かつ視認性の角度依存性が小さいことが明らかである。
【０１７６】
また、実施例１〜５の光学フィルムは、黄色度が低く、優れた耐折性を有することも確認された。
【符号の説明】
【０１７７】
１    光学フィルム
３    垂直軸
１０  第１入射光
１１  第１入射位置
１２  第１ａ透過光
１４  第１光軸
１６  第１光学櫛
１８  第１ｂ透過光
１９  第１受光器
２０  第２入射光
２１  第２入射位置
２２  第２ａ透過光
２４  第２光軸
２６  第２光学櫛
２８  第２ｂ透過光
２９  第２受光器
３０  第３入射光
３１  第３入射位置
３２  第３ａ透過光
３４  第３光軸
３６  第３光学櫛
３８  第３ｂ透過光
３９  第３受光器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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