(57)【要約】【課題】塗布材料を薄く且つ均一に塗布するとともに、構成の簡素化を図り且つ製造コストの増加を抑制することができる塗布装置を提供すること。【解決手段】被塗布部材が載置されるステージと、塗布材料が供給される供給部と、前記塗布材料を前記被塗布部材に向けて吐出する吐出部と、前記供給部と前記吐出部との間に配設され、前記塗布材料を貯留する貯留空間を備える貯留部と、前記貯留部との相対的な位置関係にともなって前記貯留空間に対する占拠率を変更し、前記塗布材料の塗布量を調整する塗布量調整部と、前記ステージ又は前記吐出部のいずれか、及び前記貯留部又は前記塗布量調整部のいずれかを移動させる移動機構と、前記移動機構は、前記ステージ又は前記吐出部の移動させるものの移動速度及び移動量と、前記貯留部又は前記塗布量調整部の移動させるものの移動速度及び移動量を同一にする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗布部材の塗布面に対して塗布材料を塗布する塗布装置であって、
前記被塗布部材が載置されるステージと、
前記塗布材料が供給される供給口を備える供給部と、
前記塗布材料を前記被塗布部材に向けて吐出する吐出口を備える吐出部と、
前記供給部と前記吐出部との間に配設され、前記塗布材料を貯留する貯留空間を備える貯留部と、
前記貯留空間に少なくとも一部が配置され、前記貯留部との相対的な位置関係にともなって前記貯留空間に対する占拠率を変更し、前記塗布材料の塗布量を調整する塗布量調整部と、
前記ステージ又は前記吐出部の一方を停止した状態において、他方を前記塗布面に平行な平面における所定方向に移動させ、且つ前記貯留部又は前記塗布量調整部の一方を停止した状態において、他方を前記所定方向に移動させる移動機構と、
前記移動機構は、前記ステージ又は前記吐出部の移動させるものの移動速度及び移動量と、前記貯留部又は前記塗布量調整部の移動させるものの移動速度及び移動量を同一にする塗布装置。
【請求項２】
前記塗布量調整部は、柱状であって延在方向に直交する断面寸法が複数存在する外形を備える棒状部材であって、前記貯留部に貫挿される請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記塗布量調整部は、前記貯留部に対する移動にともなって前記貯留空間に対する占拠率を増加させる段差を側面に備える請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記塗布量調整部は、前記貯留部に対する移動にともなって前記貯留空間に対する占拠率を減少させる溝を側面に備える請求項３に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記貯留部は、前記貯留空間に対して前記供給口及び前記吐出口を連通する連通口を備える請求項１乃至４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記貯留部は、前記供給部と前記吐出部との間において回転自在であり
前記連通口は、前記貯留部の回転に伴って前記供給口及び前記吐出口との連通が調整される請求項５に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粘性材料及び液状材料等の各種の塗布材料を塗布するための塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、パワー半導体の分野においては、半導体装置の高性能化に伴って、大きな電力を扱う傾向にあり、パワー半導体において生じる熱量も大きくなり、各種の熱対策が不可欠となっている。パワー半導体の熱対策としては、例えば、サーマルコンパウンドを薄く且つ均一に塗布することが、特許文献１に開示されている。
【０００３】
近年においては、自動車の電動化の普及、および自動運転の研究開発の活発化により、パワー半導体市場は拡大している。パワー半導体の主材料としては、シリコン（Ｓｉ）が従来から多く利用されてきたが、より優れた導電性を備え且つ電力損失の発生が抑制できる材料として、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、窒化ガリウム（ＧａＮ）の実用化が進んでいる。
【０００４】
このような新しい材料が使用される場合には、パワー半導体に供給される電力が更に増大し、発熱量も増加することになる。このため、従来よりも熱対策への要求が厳しくなり、例えば、サーマルコンパウンドをより薄く且つ均一に塗布する方法が求められることになる。このような要求に対応する方法として、例えば、塗布材料の塗布量、及び吐出口の移動量をそれぞれ制御し、連動させる方法が、特許文献２に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−５３３３０号公報
【特許文献２】特開２００４−２６７９９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、塗布材料の塗布量及び吐出口の移動量をそれぞれ制御するとともに連動させるためには、塗布量及び移動量を計測するためセンサ及び制御するための演算装置が必要となり、更には塗布量及び移動量を連動させるため複雑な演算が必要となる。このため、塗布装置自体の構成が複雑化し、更には製造コストの増加が問題となる。
【０００７】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、塗布材料を薄く且つ均一に塗布するとともに、構成の簡素化を図り且つ製造コストの増加を抑制することができる塗布装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した目的を達成するため、第１の態様に係る塗布装置は、被塗布部材の塗布面に対して塗布材料を塗布する塗布装置であって、前記被塗布部材が載置されるステージと、前記塗布材料が供給される供給口を備える供給部と、前記塗布材料を前記被塗布部材に向けて吐出する吐出口を備える吐出部と、前記供給部と前記吐出部との間に配設され、前記塗布材料を貯留する貯留空間を備える貯留部と、前記貯留空間に少なくとも一部が配置され、前記貯留部との相対的な位置関係にともなって前記貯留空間に対する占拠率を変更し、前記塗布材料の塗布量を調整する塗布量調整部と、前記ステージ又は前記吐出部の一方を停止した状態において、他方を前記塗布面に平行な平面における所定方向に移動させ、且つ前記貯留部又は前記塗布量調整部の一方を停止した状態において、他方を前記所定方向に移動させる移動機構と、
前記移動機構は、前記ステージ又は前記吐出部の移動させるものの移動速度及び移動量と、前記貯留部又は前記塗布量調整部の移動させるものの移動速度及び移動量を同一にする。
【０００９】
第１の態様に係る塗布装置においては、ステージ又は吐出部の一方、及び貯留部又は塗布量調整部の一方を停止した状態において、ステージ又は吐出部の他方、及び貯留部又は塗布量調整部の他方を、同一移動速度及び移動量にて移動させ塗布量調整部の占拠率を変更している。当該占拠率の変化に対応して、貯留空間の内圧も変化することになり、吐出口から塗布材料の塗布が可能になる。
【００１０】
ここで、塗布装置において、吐出口から吐出される塗布材料の吐出量は、吐出口の開口寸法、及び貯留空間における内圧に依存することになる。また、貯留空間における内圧は、貯留空間に対する塗布量調整部の占拠率の変化に伴って変化する。そして、塗布量調整部の占拠率の変化は、塗布量調整部に対する貯留部の相対的な移動に依存する。一方で、被塗布部材に対する塗布位置の調整は、ステージに対する吐出部の相対的な移動に依存する。ステージ又は吐出部の一方、及び貯留部又は塗布量調整部の一方を停止した状態において、ステージ又は吐出部の他方、及び貯留部又は塗布量調整部の他方を、同一移動速度及び移動量にて移動させることにより、一定の吐出量を確保することができる。
【００１１】
従って、塗布材料の塗布量及び吐出口の移動量をそれぞれ制御するとともに連動させる必要もなくなり、塗布材料を薄く且つ均一に塗布するとともに、構成の簡素化を図り且つ製造コストの増加を抑制することが可能になる。
【００１２】
第２の態様に係る塗布装置は、上記第１の態様において、前記塗布量調整部が、柱状であって延在方向に直交する断面寸法が複数存在する外形を備える棒状部材であって、前記貯留部に貫挿されることである。これにより、ステージ又は吐出部の一方、及び貯留部又は塗布量調整部の一方を停止した状態において、ステージ又は吐出部の他方、及び貯留部又は塗布量調整部の他方を、同一移動速度及び移動量にて移動させると、当該断面寸法の相違により、貯留空間に対する塗布量調整部の占拠率が変化することになる。そして、このような比較的に簡易な塗布量調整部の構成により、塗布材料を薄く且つ均一に塗布することが可能となり、塗布装置自体の製造コストの増加を抑制することができる。
【００１３】
第３の態様に係る塗布装置は、上記第２の態様において、前記塗布量調整部が、前記貯留部に対する移動にともなって前記貯留空間に対する占拠率を増加させる段差を側面に備えることである。これにより、ステージ又は吐出部の一方、及び貯留部又は塗布量調整部の一方を停止した状態において、ステージ又は吐出部の他方、及び貯留部又は塗布量調整部の他方を、同一移動速度及び移動量にて移動させると、当該段差により、貯留空間に対する塗布量調整部の占拠率が変化することになる。そして、このような比較的に簡易な段差により、塗布材料を薄く且つ均一に塗布することが可能となり、塗布装置自体の製造コストの増加を抑制することができる。
【００１４】
第４の態様に係る塗布装置は、上記第３の態様において、前記塗布量調整部が、前記貯留部に対する移動にともなって前記貯留空間に対する占拠率を減少させる溝を側面に備えることである。これにより、塗布完了時において、貯留空間内に負圧を発生させることができるため、塗布材料を吐出口から貯留空間に向けて引き戻し、塗布材料の垂れを防止することができる。
【００１５】
第５の態様に係る塗布装置は、上記第１乃至第４の態様のいずれかにおいて、前記貯留部が、前記貯留空間に対して前記供給口及び前記吐出口を連通する連通口を備えることである。これにより、貯留空間に対する塗布材料の導入と、貯留空間からの塗布材料の導出を適宜行うことができ、塗布材料の供給及び吐出を独立して行うことが可能になる。
【００１６】
第６の態様に係る塗布装置は、上記第５の態様において、前記貯留部が前記供給部と前記吐出部との間において回転自在であり、前記連通口が前記貯留部の回転に伴って前記供給口及び前記吐出口との連通が調整されることである。これにより、貯留空間に対する塗布材料の導入と、貯留空間からの塗布材料の導出を選択的に行うことができ、塗布材料の供給及び吐出を独立して行うことが可能になる。そして、このような比較的に簡易な構成により、塗布装置自体の製造コストの増加を抑制することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、塗布材料を薄く且つ均一に塗布するとともに、構成の簡素化を図り且つ製造コストの増加を抑制することができる塗布装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】実施例１に係る塗布装置の上面図である。
【図２】図１の矢印Ａに沿って塗布装置を視た場合の正面図である。
【図３】図１の矢印Ｂに沿って塗布装置を視た場合の側面図である。
【図４】図１の線IV-IVに沿った塗布装置のＹＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布装置の構成部材を分離した状態を示す図である。
【図５】図１の線V-Vに沿った塗布装置の塗布ヘッドのＸＺ平面における部分拡大断面図である。
【図６】図１の線IV-IVに沿った塗布装置のＹＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布材料供給状態を示す図である。
【図７】図１の線V-Vに沿った塗布装置の塗布ヘッドのＸＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布材料供給状態を示す図である。
【図８】図１の線IV-IVに沿った塗布装置のＹＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布開始状態を示す図である。
【図９】図１の線V-Vに沿った塗布装置の塗布ヘッドのＸＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布開始状態を示す図である。
【図１０】図１の線IV-IVに沿った塗布装置のＹＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布終了状態を示す図である。
【図１１】図１の線IV-IVに沿った塗布装置のＹＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布材料の再供給を開始する状態を示す図である。
【図１２】実施例２に係る塗布装置の正面図である。
【図１３】実施例２に係る塗布装置の側面図である。
【図１４】実施例３に係る塗布装置の正面図である。
【図１５】実施例３に係る塗布装置の側面図である。
【図１６】実施例４に係る塗布装置の正面図である。
【図１７】実施例４に係る塗布装置の側面図である。
【図１８】実施例５に係る塗布装置の正面図である。
【図１９】実施例５に係る塗布装置の側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照しながら、本発明の塗布装置について詳細に説明する。なお、本発明は以下に説明する内容に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において任意に変更して実施することが可能である。また、各実施例の説明に用いる図面は、いずれも本発明に係る塗布装置を模式的に示すものであって、理解を深めるべく部分的な強調、拡大、縮小、又は省略等を行っており、各構成部分の縮尺や形状等を正確に表すものとはなっていない場合がある。更に、各実施例で用いる一部の数値は、いずれも一例を示すものであり、必要に応じて様々に変更することが可能である。
【００２０】
＜実施例１＞
先ず、図１乃至図３を参照し、実施例１に係る塗布装置の概略構成について説明する。ここで、図１は、実施例１に係る塗布装置の上面図（ＸＹ平面図）である。また、図２は、図１の矢印Ａに沿って塗布装置を視た場合の正面図（ＹＺ平面図）である。更に、図３は、図１の矢印Ｂに沿って塗布装置を視た場合の側面図（ＸＺ平面図）である。なお、図１乃至図３において、水平平面における一方向をＸ方向とし、当該水平平面において当該Ｘ方向に直交する方向をＹ方向として、高さ方向をＺ方向と定義している。また、本明細書においては、単に「方向」と記載する場合には、「正方向」、「負方向」を含むものであり、「向き」とは異なる意味となる。このため、単に「所定方向」と記載する場合は、向きが限定されていない。一方、「＋Ｘ方向」という記載であれば、その向きが正に限定され、「−Ｘ方向」という記載であれば、その向きが負に限定される。
【００２１】
図１乃至図３から分かるように、塗布装置１０は、基台１１、ステージ１２、塗布ヘッド１３、塗布量調整機構１４、及び移動機構１５を有している。すなわち、塗布装置１０は、基台１１上のステージ１２に載置された基板Ｗに対して、塗布ヘッド１３を相対的に移動させ、基板Ｗの塗布面に塗布材料を塗布することが可能になっている。なお、本実施例において使用される塗布材料は、所望の粘度を備える流体であり、例えば、サーマルコンパウンド、ソルダーレジスト、インク材料である。また、比較的に流動性の高い液体も、本実施例においては塗布材料として使用することができる。
【００２２】
基台１１は、全体として直方体状の形状を有しており、ステージ１２、塗布量調整機構１４、及び移動機構１５を配設可能とする設置面１１ａを有している。また、基台１１は、直方体状の１つの金属部材から構成されてもよく、又は複数の金属部材を組み立てることによって形成されてもよい。なお、基台１１の材料としては、金属に限定されず、比較的に強固な材料（例えばプラスチック）であってもよい。更に、基台１１は、ステージ１２をＺ方向に変位自在とする移動機構（図示せず）を内部に備えている。すなわち、基台１１のステージ１２が設置されている部分は、設置面１１ａの一部から自在に突出し、その突出量を調整することが可能になっている。これにより、基板Ｗの厚みに応じて、基板Ｗから塗布ヘッド１３までのＺ方向の距離を調整することができ、最適な塗布を実現することができる。
【００２３】
ステージ１２は、図示しない接合部材により、基台１１に対して固定されている。具体的に、ステージ１２はＸ方向及びＹ方向において変位することがなく、Ｚ方向において基台１１の一部とともに変位する。また、ステージ１２は、被塗布部材である基板Ｗを載置するための載置面１２ａを有している。載置面１２ａは平坦面であり、基板Ｗを水平に載置することができる。これにより、基板Ｗの塗布面に対して、塗布材料を均一に塗布することができる。
【００２４】
塗布ヘッド１３は、金属等の比較的に強固な部材からなる供給部２１、吐出部２２、及び貯留部２３をボルト等の接合部材（図示せず）によって一体的に組み立てられた構造を有している。本実施例において、供給部２１、吐出部２２、及び貯留部２３は、Ｚ方向に積層されるように配置され且つ接合されている。より具体的には、供給部２１と吐出部２２とを組み立てると、貯留部２３を嵌装するための開口が形成され、当該開口に貯留部２３を嵌装することによって塗布ヘッド１３が形成されることになる。塗布ヘッド１３の内部には、塗布材料が外部から供給された後に貯留され、貯留した塗布材料を吐出するための空隙（経路）が形成されている。また、当該空隙は、供給部２１、吐出部２２、及び貯留部２３のそれぞれに形成されており、供給部２１の空隙と貯留部２３の空隙とが連通可能となっており、更には吐出部２２の空隙と貯留部２３の空隙とも連通可能となっている。当該空隙の構造及び連通については、図４及び図５を参照して後述する。
【００２５】
供給部２１は、樋状の凹部が表面に形成された略直方体状の外形を有するとともに、塗布材料が供給されるための供給口２４（図４及び図５に示す）、及び上述した空隙を有する。具体的に、供給部２１の供給口２４には、塗布材料が供給されるための経路である供給管２５が接続されており、当該塗布材料が供給管２５を介して供給部２１の内部に供給されることになる。なお、供給管２５は、塗布材料の供給源（図示せず）に接続されており、図示しないポンプの駆動によって、当該供給源から供給部２１に当該塗布材料を供給することが可能になっている。
【００２６】
吐出部２２は、供給部２１と同様に、樋状の凹部が表面に形成された略直方体状の外形を有している。また、吐出部２２は、塗布材料を基板Ｗに向けて吐出させるための吐出口２６を備える吐出ヘッド２２ａ、及び吐出ヘッド２２ａを着脱自在に保持する保持体２２ｂから構成されている。そして、吐出ヘッド２２ａ及び保持体２２ｂの内部には、塗布材料が通過するための上述した空隙が形成されている。ここで、吐出口２６は、図５に示すように、Ｘ方向に連続的に延在しており、１度の塗布動作によってもＸ方向に所定の幅を持たせた塗布が可能になる。なお、吐出口２６は、Ｘ方向に断続的に延在してもよく、この場合であっても、１度の塗布動作によってもＸ方向に所定の幅を持たせた塗布が可能である。
【００２７】
吐出部２２は、吐出ヘッド２２ａが着脱自体であるため、吐出口２６の開口寸法及び形状（すなわち、所定動作による吐出量）が異なる吐出ヘッド２２ａを選択することにより、吐出量を適宜変更することが可能になる。また、所定動作における吐出量が異なる吐出部２２を準備する場合であっても、保持体２２ｂの共通化を図ることができるため、吐出部２２の準備コストの増加を抑制することができる。なお、吐出ヘッド２２ａ及び保持体２２ｂを１つの部材によって形成する場合においても、吐出口２６の開口寸法及び形状が異なる吐出部２２を複数準備することにより、塗布装置１０自体の吐出量を適宜変更することが可能になる。
【００２８】
貯留部２３は、略円柱状の外形を有している。また、貯留部２３は、供給部２１と吐出部２２との間に配設されており、供給部２１及び吐出部２２が接合されて形成される円柱状の開口に嵌装されている。換言すると、貯留部２３は、供給部２１及び吐出部２２によって挟持されている。更に、貯留部２３は、供給部２１を介して供給された塗布材料を、吐出部２２に導入する前に貯留するための空隙である貯留空間２７（図４及び図５に示す）を有する。そして、貯留部２３は、塗布量調整機構１４の後述する構成部材の一部を貫挿するための貫通孔２８（図４に示す）が形成されている。ここで、貯留空間２７と貫通孔２８は連通して形成されている。すなわち、塗布量調整機構１４の後述する構成部材の一部は、当該貯留空間内にも配置されていることになる。これらのことについては、図４を参照して後述する。
【００２９】
なお、供給部２１及び吐出部２２を１つの金属筐体から構成し、貯留部２３を構成する別の金属筐体をはめ込むことにより、塗布ヘッド１３を形成してもよい。
【００３０】
塗布量調整機構１４は、支柱部３１、連結部３２、及び塗布量調整部３３を有している。支柱部３１は、外形が円柱状の金属部材から構成されている。また、支柱部３１は、接合部材（図示せず）によってその一端が基台１１に固定されており、Ｚ方向に延在している。
【００３１】
連結部３２は、外形が直方体状の金属部材から構成されている。また、連結部３２は、支柱部３１の基台１１に固定された一端とは反対側の端部（他端）に設置されている。例えば、支柱部３１を篏合するための開口部（図示せず）に支柱部３１の他端が篏合され、これによって支柱部３１の他端に連結部３２が固定されてもよい。更に、連結部３２は、塗布量調整部３３をＹ方向に延在させつつ、いずれの方向においても塗布量調整部３３が変位しないように固定している。例えば、連結部３２には開口部（図示せず）が設けられ、当該開口部に塗布量調整部３３の一端が篏合されてもよい。このような構造により、連結部３２は、支柱部３１に対して塗布量調整部３３を連結している。
【００３２】
塗布量調整部３３は、外形が略円柱状の金属の棒状部材から構成されている。また、塗布量調整部３３は、一端部が連結部３２に固定され、連結部３２に固定された一端部とは反対側の他端部が貯留部２３に接触しつつ、貯留部２３を貫通している。すなわち、塗布量調整部３３の少なくとも一部は、貯留部２３の内部（貯留空間２７）に配置されている。このため、塗布量調整部３３は、Ｙ方向に延在していることになる。更に、塗布量調整部３３において、貯留部２３を貫通している他端部である先端側が、連結部３２に固定されている一端部及び中央部分と比較して、その直径（ＸＺ平面における寸法）が小さくなっている。このことは、後述する塗布材料の塗布手順とともに、図６乃至図１１を参照して詳細に説明する。
【００３３】
移動機構１５は、レール３４、支柱部３５、連結部３６、及び支持部３７を有している。レール３４は、基台１１の設置面１１ａにおいて、Ｙ方向に沿って延在するように設置されている。すなわち、レール３４は、塗布量調整部３３と平行に延在している。レール３４は、公知の金属からなる一般的なレールを用いることができるが、塗布ヘッド１３の位置調整が可能であれば、その他の材料及び構造としてもよい。
【００３４】
支柱部３５は、外形が直方体状の金属部材から構成されている。また、支柱部３５の一端は、レール３４に対してスライド可能となるように、レール３４に取り付けられている。例えば、支柱部３５の一端部に溝が設けられて、当該溝にレール３４がはめ込まれるようにしてもよい。すなわち、レール３４が支柱部３５によって挟持されるような接続方式であってもよい。
【００３５】
連結部３６は、外形が直方体状の金属部材から構成されている。また、連結部３６は、レール３４に接続した一端とは反対側の端部（他端）に設置されている。例えば、支柱部３５を篏合するための開口部（図示せず）に支柱部３５の他端が篏合され、これによって支柱部３５の他端に連結部３６が固定されてもよい。更に、連結部３６は、支持部３７をＸ方向に延在させつつ、連結部３６に対して支持部３７が変位しないように固定している。例えば、連結部３６には開口部（図示せず）が設けられ、当該開口部に支持部３７の一端が篏合されてもよい。このような構造により、連結部３６は、支柱部３５に対して支持部３７を連結している。
【００３６】
支持部３７は、外形が直方体状の金属部材から構成されている。また、支持部３７の他端（連結部３６に接続された一端とは反対側の端部）には、接合部材（図示せず）によって塗布ヘッド１３の供給部２１が取り付けられている。これにより、塗布ヘッド１３が支持部３７によって、移動機構１５に連結されることになる。
【００３７】
このような移動機構１５の構成により、支柱部３５をレール３４に沿って移動させると、塗布ヘッド１３も塗布量調整部３３に沿って移動することになる。すなわち、レール３４に沿った支柱部３５の移動に対して、塗布ヘッド１３が追従してＹ方向に移動することになる。ここで、支柱部３５をレール３４に沿って移動させる方法としては、制御部（図示せず）からの移動信号を支柱部３５に供給し、支柱部３５に内蔵されたモータ（図示せず）の駆動力によって支柱部３５を移動させてもよく、又は手動によって支柱部３５を移動さてもよい。
【００３８】
なお、本実施例においては、基台１１、支柱部３１、及び連結部３２により、ステージ１２と塗布量調整部３３が固定されていることになる。すなわち、基台１１、支柱部３１、及び連結部３２がステージ１２と塗布量調整部３３を固定する固定部として機能する。
【００３９】
次に、塗布ヘッド１３及び塗布量調整機構１４の詳細構造について、図４及び図５を参照して詳細に説明する。ここで、図４は、図１の線IV-IVに沿った塗布装置のＹＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布装置の構成部材を分離した状態を示す。また、図５は、図１の線V-Vに沿った塗布装置の塗布ヘッドのＸＺ平面における部分拡大断面図である。
【００４０】
図４及び図５から分かるように、塗布ヘッド１３を構成する供給部２１には、供給管２５から塗布材料が供給されるための供給口２４、及び供給口２４からＺ方向に延在する空隙である供給路４１が形成されている。そして、吐出部２２には、塗布材料を基板Ｗに向けて吐出口２６、及び吐出口２６からＺ方向に延在する空隙である吐出路４２が形成されている。特に、吐出ヘッド２２ａに形成されている吐出路４２は、ＹＺ平面における断面形状が略三角形状であって全体的にスリット状に形成されており、吐出口２６に近づくにつれてＹ方向における開口寸法が徐々に小さくなっている。また、吐出ヘッド２２ａに形成されている吐出路４２は、ＸＺ平面における断面形状も略三角形状であり、吐出口２６に近づくにつれてＸ方向における開口寸法が徐々に大きくなっている。
【００４１】
また、図４及び図５に示すように、貯留部２３には、供給部２１から供給された塗布材料を貯留するための空隙である貯留空間２７、貯留空間２７に対して供給口２４及び供給路４１、並びに吐出口２６及び吐出路４２を連通するための連通口４３ａ、４３ｂ、４３ｃ、４３ｄ（以下において、いずれかの連通口に限定して説明しない場合には、単に連通口４３とも称する）が形成されている。特に、貯留空間２７はＹ方向に延在するとともに、中央部分がＺ方向にも延在して連通口４３ａ、４３ｂ、４３ｃ、４３ｄにつながっている。連通口ａ、４３ｂ、４３ｃ、４３ｄの配置関係としては、連通口４３ａと連通口４３ｂとが対向する位置に設けられ、連通口４３ｃ及び連通口４３ｄが連通口４３ｂの近傍において対照的に設けられている。ここで、連通口４３ａを介して貯留空間２７と供給口２４及び供給路４１とが連通する場合には、連通口４３ｂを介して貯留空間２７と吐出口２６及び吐出路４２とが連通することになる。一方、連通口４３ｃ又は連通口４３ｄを介して貯留空間２７と吐出口２６及び吐出路４２とが連通する場合には、貯留空間２７と供給口２４及び供給路４１とは連通しない。同様に、連通口４３ｃ又は連通口４３ｄを介して貯留空間２７と供給口２４及び供給路４１とが連通する場合には、貯留空間２７と吐出口２６及び吐出路４２とは連通しない。
【００４２】
更に、図４に示すように、貯留空間２７のＹ方向における両端には、外部空間と貯留空間２７とを連結する貫通孔２８が形成されている。これにより、貯留部２３には、塗布量調整部３３を貫挿可能とする空隙（貯留空間２７及び貫通孔２８）が形成されていることになる。また、貫通孔２８によって露出している貯留部２３の内側面２３ａには、溝４４が形成されている。更に、溝４４には、環状のゴムパッキンであるＯリング（オーリング）４５が嵌め込まれている。すなわち、貯留部２３の一部分は、Ｏリング４５を介して塗布量調整部３３と接触している。このようなＯリング４５を設けることにより、塗布量調整部３３を貫挿可能としつつも、連通口４３を閉じる場合（すなわち連通口４３が供給路４１又は吐出路４２と接続してない状態）において貯留空間２７を密閉することが可能になる。
【００４３】
そして、図４に示すように、貯留部２３は、その外周面２３ｂに溝４６を有している。溝４６には、環状のゴムパッキンであるＯリング４７が嵌め込まれている。すなわち、貯留部２３の一部分は、Ｏリング４７を介して供給部２１及び吐出部２２と接触している。このため、貯留部２３は、供給部２１と吐出部２２との間において、Ｙ方向を回転軸として回転自在としつつも、塗布量調整部３３が貫挿され、且つ連通口４３を閉じる場合において貯留空間２７を密閉することが可能になる。
【００４４】
ここで、貯留部２３の回転は、貯留部２３の側面に設けられた突起４８（図１及び図２に示す）に回転力を付加することによって可能となる。当該回転力の付加については、作業者の手から直接加えられてもよく、又はモータ（図示せず）の駆動力を伝達するようにしてもよい。すなわち、貯留部２３の回転は、手動で行ってもよく、又は機械制御によって行ってもよい。
【００４５】
図４に示すように、塗布量調整部３３の先端は、徐々に直径が小さくなっている。これにより、貯留部２３への貫挿を容易に行うことが可能になる。また、塗布量調整部３３は、互いに直径が異なる第１貫挿部３３ａ、及び第２貫挿部３３ｂを有している。第１貫挿部３３ａは、先端側に位置し、第２貫挿部３３ｂの直径よりも小さい直径を有する。このような直径の違いにより、第１貫挿部３３ａと第２貫挿部３３ｂとの境界部分には、段差３３ｃが形成されている。例えば、本実施例においては、第１貫挿部３３ａの直径は８．０ｍｍであり、第２貫挿部３３ｂの直径は８．１ｍｍであるが、当該寸法は、塗布材料の吐出量に応じて適宜調整されることになる。
【００４６】
更に、塗布量調整部３３の第２貫挿部３３ｂの側面には、溝３３ｄが形成されている。溝３３ｄは、塗布終了時において貯留空間２７内に負圧を発生させるために設けられており、その寸法及び形状は、発生させる負圧の大きさに応じて、適宜調整されることになる。当該負圧の発生については、後述する塗布材料の塗布手順とともに、図５乃至図８を参照して詳細に説明する。
【００４７】
次に、塗布材料の塗布手順について、図６乃至図１１を参照して詳細に説明する。ここで、図６は、図１の線IV-IVに沿った塗布装置のＹＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布材料供給状態を示す。図７は、図１の線V-Vに沿った塗布装置の塗布ヘッドのＸＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布材料供給状態を示す図である。図８は、図１の線IV-IVに沿った塗布装置のＹＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布開始状態を示す。図９は、図１の線V-Vに沿った塗布装置の塗布ヘッドのＸＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布開始状態を示す図である。図１０は、図１の線IV-IVに沿った塗布装置のＹＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布終了状態を示す。図１１は、図１の線IV-IVに沿った塗布装置のＹＺ平面における部分拡大断面図であって、塗布材料の再供給を開始する状態を示す図である。
【００４８】
塗布材料供給状態においては、図６及び図７に示すように、貯留部２３に形成された連通口４３ａが供給部２１側に位置するとともに、連通口４３ｂが吐出部２２側に位置している。すなわち、供給部２１の供給路４１及び供給口２４と貯留空間２７とが連通し、吐出部２２の吐出路４２及び吐出口２６と貯留空間２７とが連通している。換言すると、供給口２４から吐出口２６まで連通していることになる。この状態において、供給管２５を経由して導入される塗布材料が供給部２１を介して貯留部２３及び吐出部２２に供給され、貯留空間２７、供給路４１、及び吐出路４２が塗布材料によって充填される。
【００４９】
次に、貯留部２３の表面に設けられた突起４８に、貯留部２３を回転させる回転力を付与し、Ｙ方向を回転軸として、貯留部２３を約４５度回転させる。これにより、図８及び図９に示すように、連通口４３ｃが吐出部２２側に位置するとともに、吐出部２２の吐出路４２及び吐出口２６と連通することになる。これにより、塗布が開始できる状態となる。
【００５０】
次に、移動機構１５の支柱部３５がレール３４を−Ｙ方向に一定の速度で移動すると、塗布ヘッド１３も塗布量調整部３３に沿って、−Ｙ方向に同一の速度で移動することになる。すなわち、移動機構１５の動作により、ステージ１２及び塗布量調整部３３を停止した状態において、吐出部２２及び貯留部２３を所定方向である−Ｙ方向に一体的に移動させることになる。この際、吐出部２２及び貯留部２３の移動量及び移動速度は同一となる。これらのことを換言すると、移動機構１５は、ステージ１２又は吐出部２２の一方であるステージ１２を停止した状態において、他方である吐出部２２を塗布面に平行な平面における−Ｙ方向に移動させ、且つ貯留部２３又は塗布量調整部３３の一方である塗布量調整部３３を停止した状態において、他方である貯留部２３を−Ｙ方向に移動させ、移動させるものの移動速度及び移動量を同一にしている。
【００５１】
塗布ヘッド１３のこのような移動により、塗布量調整部３３の段差３３ｃの位置が、貯留空間２７の一端側から他端側に変位することになる。そして、段差３３ｃの当該変位に伴い、貯留空間２７に対する塗布量調整部３３の占拠率が徐々に増加し、貯留空間２７における内圧も徐々に増加する。これにより、吐出口２６から塗布材料が吐出されることになる。
【００５２】
ここで、本実施例に係る塗布装置１０において、吐出口２６から吐出される塗布材料の吐出量は、吐出口２６の開口寸法、及び貯留空間２７における内圧に依存することになる。貯留空間２７における内圧は、貯留空間２７に対する塗布量調整部３３の占拠率の増加に伴って増加するが、当該占拠率の増加は塗布量調整部３３の段差３３ｃの位置に依存する。そして、段差３３ｃの位置は塗布ヘッド１３の移動に依存することから、塗布ヘッド１３の移動量に応じて吐出量が決まることになる。すなわち、塗布ヘッド１３の移動速度を一定にしなくとも、塗布ヘッド１３を移動させることにより、常に一定の吐出量を確保することができる。
【００５３】
従って、本実施例に係る塗布装置１０においては、塗布材料の塗布量及び吐出口２６の移動量をそれぞれ制御するとともに連動させる必要がなく、塗布ヘッド１３の移動量のみを調整して塗布量の一定化を図ることができる。そして、塗布ヘッド１３の吐出口２６の開口寸法、及び段差３３ｃによる占拠率の増加率を調整することにより、塗布材料をより薄く塗布することも可能になる。すなわち、本実施例に係る塗布装置１０においては、塗布材料を薄く且つ均一に塗布するとともに、構成の簡素化を図り且つ製造コストの増加を抑制することが可能である。
【００５４】
塗布終了状態においては、図１０に示すように、塗布量調整部３３の溝３３ｄが貯留空間２７に位置することになる。これにより、貯留空間２７に対する塗布量調整部３３の占拠率が減少することになり、貯留空間２７における内圧も減少することになる。すなわち、溝３３ｄが貯留空間２７に位置することにより、負圧が発生することになる。当該負圧の発生に伴って、吐出口２６及び吐出路４２に存在する塗布材料が貯留空間２７に向けて引き込まれ、図１０に示すように、吐出路４２の先端に塗布材料が充填されていない状態となる。このため、塗布終了時における吐出口２６からの塗布材料の不要な更なる吐出（吐出垂れ）を防止することができる。
【００５５】
そして、再度の塗布を行う場合には、移動機構１５の支柱部３５がレール３４を−Ｙ方向に一定の速度で移動させ、塗布ヘッド１３を塗布量調整部３３に沿って、−Ｙ方向に更に移動させる（図１１）。この状態においては、貯留空間２７に対する塗布量調整部３３の占拠率が増加することになり、貯留空間２７及び吐出路４２が塗布材料によって満たされることになる。その後、貯留部２３の表面に設けられた突起４８に、貯留部２３を回転させる回転力を付与し、Ｙ方向を回転軸として貯留部２３を回転させ、連通口４３ｄを供給部２１側に位置させる。すなわち、供給部２１の供給路４１及び供給口２４と貯留空間２７とを連通口４３ｄを介して連通させる。この際、吐出部２２の吐出路４２及び吐出口２６と貯留空間２７とは連通していない。続いて、移動機構１５の支柱部３５がレール３４を＋Ｙ方向に一定の速度で移動させ、塗布ヘッド１３を塗布量調整部３３に沿って、＋Ｙ方向に更に移動させる。これにより、貯留空間２７に対する塗布量調整部３３の占拠率が減少することになり、供給路４１の塗布材料が貯留空間２７に引き込まれ、塗布材料の再充填が完了する。その後、上述した塗布手順を繰り返すことになる。
【００５６】
なお、上述した実施例１において、塗布量調整部３３は略円柱状の外形を有していたが、これに限定されることはない。例えば、塗布量調整部３３の外形を三角柱、又は四角柱等の角柱としてもよい。このような場合においても、延在方向に直交する断面寸法が複数存在するように、段差を形成することになる。
【００５７】
また、上述した実施例１においては、１つの段差３３ｃが塗布量調整部３３に形成されていたが、段差の数量はこれに限定されない。例えば、段差を複数設けることにより、塗布ヘッド１３の移動に伴って塗布量を段階的に変化させてもよい。
【００５８】
また、上述した実施例１においては、塗布量調整部３３に段差３３ｃを形成し、塗布量調整部３３に対して貯留部２３を移動させ、貯留空間２７に対する塗布量調整部３３の占拠率を変化させることにより、貯留空間２７の内圧を調整し、塗布材料の塗布量を調整していたが、塗布量調整部３３の占拠率の変化を生じさせる方法は段差３３ｃに限定されない。例えば、塗布量調整部３３が貯留部２３を貫挿することなく、塗布量調整部３３の一端が貯留空間２７内に残存するようにしてもよい。すなわち、ステージ１２及び塗布量調整部３３を停止した状態において、吐出部２２及び貯留部２３が一体化された塗布ヘッド１３を移動させつつ、貯留空間２７内に残存する塗布量調整部３３が徐々に増加するため、塗布量調整部３３の占拠率の変化を生じさせることができる。このような場合には、段差３３ｃは不要となる。
【００５９】
また、上述した実施例１においては、貯留部２３の回転により、供給口２４及び吐出口２６と貯留部２３の連通口４３とを適宜連通していたが、当該連通方法は貯留部２３の回転に限定されない。例えば、供給口２４及び吐出口２６と連通する連通口を２つ設け、当該連通口を開閉する弁機構を設けてもよい。このような場合には、当該弁機構の開閉を制御し、供給口２４及び吐出口２６と貯留部２３の連通口４３とを適宜連通させ、塗布材料の供給及び吐出を可能にする。従って、このような場合には、貯留部２３の回転は不要となる。
【００６０】
また、上述した実施例１においては、貯留部２３が４つの連通口４３を備えていたが、連通口４３を１つとし、貯留部２３の回転により、供給路４１又は吐出路４２の一方と貯留部２３の連通口４３を選択的に連通させ、塗布材料の供給及び吐出を行ってもよい。このような場合には、貯留空間２７、供給路４１、及び吐出路４２に空気が残存しないように、塗布材料を充填する必要がある。このような場合における塗布材料の充填の方法の一例としては、１つの連通口を吐出部２２側に位置させ、貯留空間２７と吐出路４２を連通させる。次に、塗布ヘッド１３を−Ｙ方向に移動させ、貯留空間２７に対する塗布量調整部３３の占拠率を増加させ、貯留空間２７に存在する一部の空気を吐出路４２を経由して吐出口２６から押し出す。その後、当該１つの連通口を供給部２１側に位置させ、貯留空間２７と供給路４１を連通させる。続いて、塗布ヘッド１３を＋Ｙ方向に移動させ、貯留空間２７に対する塗布量調整部３３の占拠率を減少させ、供給路４１から貯留空間２７に塗布材料を引き込ませる。そして、上記動作を繰り返すことにより、貯留空間２７と吐出路４２を塗布材料によって充填させる。
【００６１】
上述した連通口が１つの場合における塗布材料の充填の方法の他の例としては、貯留部２３に貯留空間２７内の空気を排出するための空気排出口を設けることが考えられる。このような場合には、先ず、１つの連通口４３を供給部２１側に位置させ、かつ空気排出口を開放させ、貯留空間２７を塗布材料で満たす。次に、空気排出口を閉じ、当該１つの連通口を吐出部２２側に位置させる。次に、塗布ヘッド１３を−Ｙ方向に移動させ、貯留空間２７に対する塗布量調整部３３の占拠率を増加させ、塗布材料を吐出路４２へ押し出す。続いて、当該１つの連通口を供給部２１側に位置させ、塗布ヘッド１３を＋Ｙ方向に移動させ、貯留空間２７に対する塗布量調整部３３の占拠率を減少させ、供給路４１から塗布材料を貯留空間２７に引き込ませる。その後、空気排出口を開けることなく、当該１つの連通口を吐出部２２側に位置させる状態に戻し、上記動作を繰り返すことにより、常に空気排出口が閉じた状態で、貯留空間２７と吐出路４２を塗布材料によって充填させる。
【００６２】
また、上述した実施例１においては、塗布ヘッド１３がＺ方向へ移動しないことが前提となっていたが、連結部３２及び連結部３６をＺ方向に移動可能とし、塗布ヘッド１３のＺ方向への移動を実現してもよい。この場合には、支柱部３１に対する連結部３２のＺ方向への移動と、支柱部３５に対する連結部３６のＺ方向への移動とを同期させることになる。例えば、連結部３２及び連結部３６のＺ方向における移動は、ラックアンドピニオンによって行うことができる。
【００６３】
＜実施例２＞
上述した実施例１においては、吐出部２２及び貯留部２３を一体化させることにより、塗布時において吐出部２２及び貯留部２３を同一の向き（−Ｙ方向）に移動させていたが、吐出部２２及び貯留部２３を互いに異なる向きに移動させてもよい。以下において、塗布の際に、吐出部２２を＋Ｙ方向に移動させ、貯留部２３を−Ｙ方向に移動させる場合を、実施例２として説明する。なお、実施例１と同一の部材及び構造については、同一符号を付し、その説明を省略する。
【００６４】
図１２及び図１３からわかるように、吐出部１２２が供給部２１及び貯留部２３から分離して設けられている。また、吐出部１２２の代わりとして、補助固定部１２９が供給部２１及び貯留部２３と一体的に組み立てられている。更に、吐出部１２２及び補助固定部１２９は、比較的に柔軟な部材から形成された供給管１５０を介して接続されている。このため、貯留部２３に貯留された塗布部材は、補助固定部１２９に形成された貫通孔（空隙）及び供給管１５０を経由して吐出部１２２まで供給可能となっている。
【００６５】
ここで、供給管１５０の長さは、吐出部１２２のＹ方向への移動を阻害することがないよう長さに調整されている。また、補助固定部１２９は、実施例１の吐出部２２の保持体２２ｂと同様な構造となっている。
【００６６】
また、図１２及び図１３からわかるように、吐出部１２２は、移動機構１１５によって、貯留部２３から独立して、Ｙ方向に移動自在となっている。具体的に、移動機構１１５は、レール１３４、支柱部１３５、連結部１３６、及び支持部１３７を有している。ここで、レール１３４はレール３４と、支柱部１３５は支柱部３５と、連結部１３６は連結部３６と、支持部１３７は支持部３７と同一の構成であるため、その説明は省略する。
【００６７】
このような移動機構１１５の構成により、支柱部１３５をレール１３４に沿って移動させると、吐出部１２２が供給部２１及び貯留部２３から独立してＹ方向に移動することになる。ここで、支柱部１３５をレール１３４に沿って移動させる方法としては、制御部（図示せず）からの移動信号を支柱部１３５に供給し、支柱部１３５に内蔵されたモータ（図示せず）の駆動力によって支柱部１３５を移動させてもよく、又は手動によって支柱部１３５を移動さてもよい。このような場合であっても吐出部２２と貯留部２３との移動量及び移動速度は同一にする必要があるため、当該制御部の共通化が好ましい。また、移動機構１５及び移動機構１１５の共通化を図り、吐出部２２と貯留部２３との移動量及び移動速度を同一にすることを容易に行えるようにしてもよい。
【００６８】
実施例２においては、吐出部１２２及び貯留部２３を互いに異なる向きに移動させる点、及び当該移動に係る移動機関の追加が行われるだけであり、上述した実施例１と同様に、塗布材料を薄く且つ均一に塗布するとともに、構成の簡素化を図り且つ製造コストの増加を抑制することができる。
【００６９】
＜実施例３＞
上述した実施例１においては、ステージ１２を停止させた状態で吐出部２２を移動させ、更に塗布量調整部３３を停止させた状態で貯留部２３を移動させていたが、ステージ１２を停止させた状態で吐出部２２を移動させ、更に貯留部２３を停止させた状態で塗布量調整部３３を移動させてもよい。このような場合を実施例３として、図１４及び図１５を参照しつつ説明する。なお、実施例１又は実施例２と同一の部材及び構造については、同一符号を付し、その説明を省略する。
【００７０】
図１４及び図１５からわかるように、実施例３においても実施例２と同様に、吐出部１２２が供給部２１及び貯留部２３から分離して設けられている。また、吐出部１２２の代わりとして、補助固定部１２９が供給部２１及び貯留部２３と一体的に組み立てられている。更に、吐出部１２２及び補助固定部１２９は、比較的に柔軟な部材から形成された供給管１５０を介して接続されている。
【００７１】
また、図１４からわかるように、塗布量調整部３３は、移動機構１１６によって、Ｙ方向に移動自在となっている。具体的に、移動機構１１６は、レール１５１、支柱部３１、連結部３２を有している。支柱部３１には、モータ（図示せず）が内蔵され、当該モータの駆動力によって支柱部３１をレール１５１上において移動させることができる。
【００７２】
一方で、実施例１と異なり、実施例３における支柱部３５は、基台１１の設置面１１ａに直接的に固定されている。すなわち、支柱部３５は不動であり、これに固定されている供給部２１及び貯留部２３も不動である。
【００７３】
このような移動機構１１６の構成、及び貯留部２３を固定した構成により、支柱部３１をレール１５１に沿って移動させると、貯留部２３に対して塗布量調整部３３が移動することなり、塗布量調整部３３の貯留部２３によって覆われる部分が変位することになる。ここで、本実施例に係る塗布装置による塗布においては、塗布量調整部３３を−Ｙ方向に移動することにより、貯留空間２７における塗布量調整部３３の占有率を増加させるため、連結部３２に連結した塗布量調整部３３の一端側よりも、連結部３２に連結していない塗布量調整部３３の他端側が太くなっている。すなわち、実施例１と比較して、第１貫挿部３３ａと、第２貫挿部３３ｂの位置が反対となっている。
【００７４】
このような場合であっても吐出部２２と塗布量調整部３３との移動量及び移動速度は同一にする必要があるため、当該制御部の共通化が好ましい。また、移動機構１１５及び移動機構１１６の共通化を図り、吐出部２２と塗布量調整部３３との移動量及び移動速度の同一化を容易に行えるようにしてもよい。
【００７５】
実施例３においても、移動させる部材及び停止させる部材、並びにこれらの移動機構及び固定構造が異なるだけであり、上述した実施例１と同様に、塗布材料を薄く且つ均一に塗布するとともに、構成の簡素化を図り且つ製造コストの増加を抑制することができる。
【００７６】
なお、上述した実施例３においては、吐出部２２及び塗布量調整部３３を同一の向き（−Ｙ方向）に移動させて塗布を行うことを想定しているが、吐出部２２及び塗布量調整部３３を互いに異なる向きに移動させてもよい。例えば、上述した制御部による吐出部２２及び塗布量調整部３３の制御を分け、互いに異なる制御内容となる制御信号を当該制御部から支柱部１３５及び支柱部３１に供給してもよい。
【００７７】
＜実施例４＞
【００７８】
上述した実施例１においては、ステージ１２を停止させた状態で吐出部２２を移動させ、更に塗布量調整部３３を停止させた状態で貯留部２３を移動させていたが、吐出部２２を停止させた状態でステージ１２を移動させ、更に貯留部２３を停止させた状態で塗布量調整部３３を移動させてもよい。このような場合を実施例４として、図１６及び図１７を参照しつつ説明する。なお、実施例１乃至実施例３のいずれかと同一の部材及び構造については、同一符号を付し、その説明を省略する。
【００７９】
また、図１６及び図１７からわかるように、ステージ１２及び塗布量調整部３３は、移動機構１１７によって、Ｙ方向に移動自在となっている。具体的に、移動機構１１７は、レール１５２、支柱部３１、連結部３２を有している。ここで、レール１５２以外の部材は、実施例１乃至実施例３のいずれかの部材と同一であるため、各説明は省略する。一方、レール１５２も、レール３４、レール１４３、レール１５１と同一の構成である。そして、当該レール１５２に対してスライド可能となるように、ステージ１２及び支柱部３１が取り付けられている。例えば、ステージ１２及び支柱部３１には、モータが内蔵されており、Ｙ方向における移動が実現されている。
【００８０】
一方で、実施例１と異なり、実施例４における支柱部３５は、基台１１の設置面１１ａに直接的に固定されている。すなわち、支柱部３５は不動であり、これに固定されている供給部２１、吐出部２２、及び貯留部２３も不動である。
【００８１】
このような移動機構１１７の構成、及び塗布ヘッド１３の固定された構成により、ステージ１２及び支柱部３１をレール１５２に沿って移動させると、停止した吐出部２２及び貯留部２３に対してステージ１２及び塗布量調整部３３が移動することになる。このため、貯留空間２７における塗布量調整部３３の占有率を変化させつつ、塗布ヘッド１３に対して基板Ｗを移動させ、塗布材料の塗布が可能になる。
【００８２】
実施例４においても、移動させる部材及び停止させる部材、並びにこれらの移動機構及び固定構造が異なるだけであり、上述した実施例１と同様に、塗布材料を薄く且つ均一に塗布するとともに、構成の簡素化を図り且つ製造コストの増加を抑制することができる。
【００８３】
なお、上述した実施例４においては、ステージ１２及び塗布量調整部３３を同一の向き（＋Ｙ方向）に移動させて塗布を行うことを想定しているが、ステージ１２及び塗布量調整部３３を互いに異なる向きに移動させてもよい。例えば、ステージ１２の移動機構と、塗布量調整部３３の移動機構とを独立させ、互いに異なる向きへの移動を実現してもよい。
【００８４】
＜実施例５＞
上述した実施例１においては、ステージ１２を停止させた状態で吐出部２２を移動させ、更に塗布量調整部３３を停止させた状態で貯留部２３を移動させていたが、吐出部２２を停止させた状態でステージ１２を移動させ、更に塗布量調整部３３を停止させた状態で貯留部２３を移動させてもよい。このような場合を実施例５として、図１８及び図１９を参照しつつ説明する。なお、実施例１乃至実施例４と同一の部材及び構造については、同一符号を付し、その説明を省略する。
【００８５】
図１８及び図１９からわかるように、実施例５においても実施例２及び実施例３と同様に、吐出部１２２が供給部２１及び貯留部２３から分離して設けられている。また、吐出部１２２の代わりとして、補助固定部１２９が供給部２１及び貯留部２３と一体的に組み立てられている。更に、吐出部１２２及び補助固定部１２９は、比較的に柔軟な部材から形成された供給管１５０を介して接続されている。そして、実施例２及び実施例３とは異なり、吐出部１２２は、基台１１に固定され、不動となっている。すなわち、実施例５において、支柱部１３５は、基台１１の設置面１１ａに直接的に設置されている。
【００８６】
これに対して、図１８及び図１９からわかるように、ステージ１２は、移動機構１１８によって、Ｙ方向に移動自在となっている。具体的に、移動機構１１８は、レール１５３を有している。例えば、ステージ１２にはモータ（図示せず）が内蔵されており、当該モータの駆動力によってステージ１２をレール１５３上において移動させることができる。
【００８７】
このような移動機構１１８の構成、及び移動機構１５の構成により、吐出部２２及び塗布量調整部３３が停止した状態において、ステージ１２及び貯留部２３がＹ方向に移動することになり、貯留空間２７における塗布量調整部３３の占有率が変化することになる。このような場合であってもステージ１２及び貯留部２３との移動量及び移動速度は同一にする必要があるため、当該制御部の共通化が好ましい。また、移動機構１５及び移動機構１１８の共通化を図り、ステージ１２及び貯留部２３との移動量及び移動速度を同一にすることを容易に行えるようにしてもよい。
【００８８】
実施例５においても、移動させる部材及び停止させる部材、並びにこれらの移動機構及び固定構造が異なるだけであり、上述した実施例１と同様に、塗布材料を薄く且つ均一に塗布するとともに、構成の簡素化を図り且つ製造コストの増加を抑制することができる。
【００８９】
なお、上述した実施例５においては、ステージ１２及び貯留部２３を同一の向き（−Ｙ方向）に移動させて塗布を行うことを想定しているが、ステージ１２及び貯留部２３を互いに異なる向きに移動させてもよい。例えば、上述した制御部による吐出部２２及び塗布量調整部３３の制御を分け、互いに異なる制御内容となる制御信号を当該制御部からステージ１２及び支柱部３５に供給してもよい。
【符号の説明】
【００９０】
１０    塗布装置
１１    基台
１１ａ    設置面
１２    ステージ
１２ａ    載置面
１３    塗布ヘッド
１４    塗布量調整機構
１５    移動機構
２１    供給部
２２    吐出部
２２ａ    吐出ヘッド
２２ｂ    保持体
２３    貯留部
２３ａ    内側面
２３ｂ    外周面
２４    供給口
２５    供給管
２６    吐出口
２７    貯留空間
２８    貫通孔
３１    支柱部
３２    連結部
３３    塗布量調整部
３３ａ    第１貫挿部
３３ｂ    第２貫挿部
３３ｃ    段差
３３ｄ    溝
３４    レール
３５    支柱部
３６    連結部
３７    支持部
４１    供給路
４２    吐出路
４３    連通口
４４    溝
４５    Ｏリング
４６    溝
４７    Ｏリング
４８    突起
Ｗ    基板（被塗布部材）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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