(57)【要約】【課題】微細穴の内面に接触する細胞への影響を従来に比して低減することが可能な構成を備えた、微細穴を有する平板を得る。【解決手段】所定深さで形成された微細穴３を有する平板２であって、平板２のうちの微細穴３の内面４には、微細穴３の深さ方向に沿って筋状に延在し、周方向に間隔を空けて並ぶ複数本の縦溝５が形成されており、内面４は、微細穴の底部から微細穴の開口部の側に向かって所定深さの１／３までの底部側領域４Ａと、微細穴の開口部から底部の側に向かって所定深さの１／３までの開口部側領域４Ｃと、開口部側領域と底部側領域との間の中腹領域４Ｂとを含み、底部側領域の面粗度ＲｙをＲｙＡとし、中腹領域の面粗度ＲｙをＲｙＢとし、開口部側領域の面粗度ＲｙをＲｙＣとした場合、ＲｙＢ／ＲｙＡ＜０．５の関係を具備し、０．８＜ＲｙＣ／ＲｙＢ＜１．２の関係を具備する。【選択図】図３
2020184894.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定深さで形成された微細穴を有する平板であって、
前記平板のうちの前記微細穴の内面には、前記微細穴の深さ方向に沿って筋状に延在し、周方向に間隔を空けて並ぶ複数本の縦溝が形成されており、
前記内面は、前記微細穴の底部から前記微細穴の開口部の側に向かって前記所定深さの１／３までの底部側領域と、前記微細穴の前記開口部から前記底部の側に向かって前記所定深さの１／３までの開口部側領域と、前記開口部側領域と前記底部側領域との間の中腹領域とを含み、
前記底部側領域の面粗度ＲｙをＲｙＡとし、前記中腹領域の面粗度ＲｙをＲｙＢとし、前記開口部側領域の面粗度ＲｙをＲｙＣとした場合、
ＲｙＢ／ＲｙＡ＜０．５の関係を具備し、
０．８＜ＲｙＣ／ＲｙＢ＜１．２の関係を具備する、微細穴を有する平板。
【請求項２】
ＲｙＣ／ＲｙＢ≦１．０の関係を具備する、請求項１に記載の微細穴を有する平板。
【請求項３】
前記平板は、アクリル製である、請求項１または２に記載の微細穴を有する平板。
【請求項４】
前記微細穴の開口部の直径が１０〜９００μｍである、請求項１から３のいずれか１項に記載の微細穴を有する平板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の微細穴を有する平板を備える細胞培養基材。
【請求項６】
樹脂製の平板に微細穴を切削により形成する工程と、
前記平板のうちの前記微細穴が形成されている表面に真空紫外線を照射する工程とを含み、
前記照射する工程における前記真空紫外線の積算照射量は、０より大きく２６００ｍＪ／ｃｍ２以下である、微細穴を有する平板の製造方法。
【請求項７】
前記照射する工程における前記真空紫外線の積算照射量は、２５０ｍＪ／ｃｍ２以上である、請求項６に記載の微細穴を有する平板の製造方法。
【請求項８】
樹脂製の平板に微細穴を切削により形成する工程と、
前記平板のうちの前記微細穴が形成されている表面に、真空紫外線を照射する工程と、
前記真空紫外線を照射した平板の前記微細穴を取り囲む壁部を形成する工程とを含み、
前記照射する工程における前記真空紫外線の積算照射量は、０より大きく２６００ｍＪ／ｃｍ２以下である、細胞培養基材の製造方法。
【請求項９】
樹脂製の平板に微細穴を切削により形成する工程と、
前記平板のうちの前記微細穴が形成されている表面に、真空紫外線を照射する工程と、
前記真空紫外線を照射した微細穴を有する平板を電鋳の原盤にして作製した金型を用いて、前記原盤の微細穴が転写された穴を底面に備えた細胞培養基材を形成する工程とを含み、
前記照射する工程における前記真空紫外線の積算照射量は、０より大きく２６００ｍＪ／ｃｍ２以下である、細胞培養基材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細穴を有する平板およびその製造方法、並びに細胞培養基材およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
生体内の細胞周囲環境や形態を模倣することによって、より生体内に近い環境で細胞を培養する三次元の細胞培養技術が開発されている。近年、三次元の細胞培養のための培養容器として、マイクロオーダーの微細穴を複数有するプレートを備えるものが提案されている。
【０００３】
このような微細穴を形成するために、加工の容易さや費用の安さから、切削加工が多く用いられる。樹脂製の平板に切削加工によって微細穴を形成した場合には、機械振動などの種々の外部要因の影響を受けてツールマークが発生しやすい。ツールマークとは、例えばエンドミルなどの切削工具によって加工した面に形成される工具痕である（特許文献１参照）。
【０００４】
細胞培養容器に形成される微細穴は深い凹形状を有している場合があり、そのような微細穴を形成するために用いられる長い突出長を有する切削工具は加工時に揺動しやすく、また、剛性が低下しやすいため、ツールマークが顕著となりやすい。
【０００５】
ツールマークの存在は、細胞の培養および培養した細胞の光学的な分析や評価などに支障を及ぼし得る。このようなツールマークは、研磨することによって減少させることが可能であるが、マイクロオーダーの様々な加工形状を有する微細穴を研磨することは容易ではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−２８３４３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
微細穴に培地とともに播種された細胞は微細穴の中央やその付近を通過して開口側（入口側）から底部側に向かって移動したり、微細穴の内面に沿って微細穴の開口側から底部側に向かって移動したりする。微細穴の内面のツールマークは可能な限りない方が細胞への影響や光学的分析への影響を軽減できると考えられる。
【０００８】
本発明は、上述のような実情に鑑みて創作されたものであって、微細穴の内面に形成されたツールマークの影響を従来に比して低減することが可能な構成を備えた、微細穴を有する平板およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に基づく微細穴を有する平板は、所定深さで形成された微細穴を有する平板であって、上記平板のうちの上記微細穴の内面には、上記微細穴の深さ方向に沿って筋状に延在し、周方向に間隔を空けて並ぶ複数本の縦溝が形成されており、上記内面は、上記微細穴の底部から上記微細穴の開口部の側に向かって上記所定深さの１／３までの底部側領域と、上記微細穴の上記開口部から上記底部の側に向かって上記所定深さの１／３までの開口部側領域と、上記開口部側領域と上記底部側領域との間の中腹領域とを含み、上記底部側領域の面粗度ＲｙをＲｙＡとし、上記中腹領域の面粗度ＲｙをＲｙＢとし、上記開口部側領域の面粗度ＲｙをＲｙＣとした場合、ＲｙＢ／ＲｙＡ＜０．５の関係を具備し、０．８＜ＲｙＣ／ＲｙＢ＜１．２の関係を具備する。
【００１０】
本発明に基づく微細穴を有する平板の製造方法は、樹脂製の平板に微細穴を切削により形成する工程と、上記平板のうちの上記微細穴が形成されている表面に真空紫外線を照射する工程とを含み、上記照射する工程における上記真空紫外線の積算照射量は、０より大きく２６００ｍＪ／ｃｍ２以下である。
【００１１】
本発明に基づく細胞培養基材の製造方法は、樹脂製の平板に微細穴を切削により形成する工程と、上記平板のうちの上記微細穴が形成されている表面に、真空紫外線を照射する工程と、上記真空紫外線を照射した平板の上記微細穴を取り囲む壁部を形成する工程とを含み、上記照射する工程における上記真空紫外線の積算照射量は、０より大きく２６００ｍＪ／ｃｍ２以下である。
【００１２】
本発明に基づく細胞培養基材の製造方法の他の局面は、樹脂製の平板に微細穴を切削により形成する工程と、上記平板のうちの上記微細穴が形成されている表面に、真空紫外線を照射する工程と、上記真空紫外線を照射した微細穴を有する平板を電鋳の原盤にして作製した金型を用いて、上記原盤の微細穴が転写された穴を底面に備えた細胞培養基材を形成する工程とを含み、上記照射する工程における上記真空紫外線の積算照射量は、０より大きく２６００ｍＪ／ｃｍ２以下である。
【発明の効果】
【００１３】
上記構成によれば、微細穴の内面に形成されたツールマークの影響を従来に比して低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】（Ａ）は、細胞培養基材１を示す斜視図であり、（Ｂ）は、細胞培養基材１のプレート部２を示す斜視図である。
【図２】細胞培養基材１の底面（プレート部２）の領域７に形成された複数の微細穴３を拡大して示す平面図である。
【図３】図２中のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った矢視断面図である。
【図４】プレート部２に形成された微細穴３の内面４に形成された縦溝５の一例を示す写真である。
【図５】エキシマランプ８を用いて真空紫外線を照射している様子を模式的に示す図である。
【図６】照射距離Ｌと放射強度Ｉとの関係を示す表である。
【図７】実施例１で用いた微細穴の断面を示す画像であり、実施例１に関する測定条件を説明するための図である。
【図８】実施例１に関し、積算照射量（照射時間）と面粗度ＲｙＡ、ＲｙＢ、ＲｙＣとの関係を表すグラフである。
【図９】実施例１に関し、照射時間とＲｙＢ／ＲｙＡとの関係、および、照射時間とＲｙＣ／ＲｙＢとの関係を示す表である。
【図１０】実施例２で用いた微細穴の断面を示す画像であり、実施例２に関する測定条件を説明するための図である。
【図１１】実施例２に関し、照射距離を０．２ｍｍに設定した場合に得られた積算照射量と面粗度Ｒａ、Ｒｙ、Ｒｚとの関係を表すグラフである。
【図１２】実施例２に関し、照射距離を０．５ｍｍに設定した場合に得られた積算照射量と面粗度Ｒａ、Ｒｙ、Ｒｚとの関係を表すグラフである。
【図１３】実施例２に関し、照射距離を２．５ｍｍに設定した場合に得られた積算照射量と面粗度Ｒａ、Ｒｙ、Ｒｚとの関係を表すグラフである。
【図１４】実施例２に関し、照射距離を０．２ｍｍ、０．５ｍｍ、２．５ｍｍに設定した場合に得られた積算照射量と面粗度Ｒｙとの関係を表すグラフである。
【図１５】実施例３で用いた微細穴の断面を示す画像であり、実施例３に関する測定条件を説明するための図である。
【図１６】実施例３に関し、積算照射量（照射時間）と面粗度Ｒａ、Ｒｙ、Ｒｚとの関係を表すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
発明を実施するための形態について、以下、図面を参照しながら説明する。以下の説明において同一の部品および相当部品には同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。図１（Ａ）は、細胞培養基材１を示す斜視図であり、図１（Ｂ）は、細胞培養基材１のプレート部２を示す斜視図である。図２は、細胞培養基材１の底面（プレート部２）の領域７に形成された複数の微細穴３を拡大して示す平面図である。図３は、図２中のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った矢視断面図である。
【００１６】
（細胞培養基材１）
図１（Ａ）に示すように、細胞培養基材１は、樹脂製のプレート部２と、壁部６とを備える。プレート部２の表面２Ｓには、図１（Ｂ）に示すように、領域７に、所定深さＨ（図３）の複数の微細穴３が形成されている。細胞培養基材１において、領域７が底面となり、各微細穴３が細胞を培養する部分となる。プレート部２は例えばアクリル製の平板である。微細穴３は例えば、略円錐の形状を有し、開口部３Ｈの直径が５００μｍであり、底部３Ｂの直径Ｄが１０μｍであり、開口角θは７５°であり、深さＨが３２０μｍである。隣り合う２つの開口部３Ｈの中心軸間の距離は、例えば４５９μｍ〜５３０μｍである。微細穴３の各部のサイズに制限はないが、研磨することができないサイズであることが好ましい。例えば、微細穴３の開口部３Ｈの直径は、１ｍｍ未満、好ましくは１０〜９００μｍ、より好ましくは、１０〜５００μｍである。また、微細穴３の深さＨは１ｍｍ未満であり、好ましくは１０〜９００μｍ、よりこの好ましくは１０〜５００μｍである。壁部６は、例えばアクリル製の平板に、領域７を包含する又は領域７とほぼ等しい大きさの貫通孔が複数形成されている。プレート部２と壁部６は、適宜の方法により互いに接合されている。
【００１７】
図４は、ダイヤモンド工具でアクリル製の平板（プレート部）２に形成した微細穴３の内側の状態を示す画像である。この一例を示すように、プレート部２のうちの微細穴３が形成されている内面（表面）４には、微細穴３の深さ方向に沿って筋状に延在し、周方向に間隔を空けて並ぶ複数本の縦溝５が形成されている。図３に示すように、プレート部２のうちの微細穴３が形成されている内周面（内面）４は、底部側領域４Ａ、中腹領域４Ｂおよび開口部側領域４Ｃを含む。
【００１８】
底部側領域４Ａとは、微細穴３の底部３Ｂから微細穴３の開口部３Ｈの側に向かって所定深さＨの１／３までの領域である。開口部側領域４Ｃとは、微細穴３の開口部３Ｈから底部３Ｂの側に向かって所定深さＨの１／３までの領域である。中腹領域４Ｂとは、開口部側領域４Ｃと底部側領域４Ａとの間の領域である。
【００１９】
プレート部２においては、底部側領域４Ａの面粗度ＲｙをＲｙＡと定義し、中腹領域４Ｂの面粗度ＲｙをＲｙＢと定義し、開口部側領域４Ｃの面粗度ＲｙをＲｙＣと定義した場合には、ＲｙＢ／ＲｙＡ＜０．５の関係を具備しているとともに、０．８＜ＲｙＣ／ＲｙＢ＜１．２の関係を具備している。
【００２０】
上記構成を有する微細穴３は、例えば、ダイヤモンド工具または超硬工具などの切削工具を用いた加工をプレート部２に実施した後に、図５に示すように、プレート部２の加工面に、エキシマランプ８を用いて真空紫外線を照射することによって形成することが可能である。真空紫外線の波長は１０ｎｍ〜２００ｎｍ付近であり、例えば１７２ｎｍである。
【００２１】
ここで、放射強度Ｉ０が１０［ｍＷ／ｃｍ２］であり、吸収係数αが１６［ａｔｍ−１・ｃｍ−１］であり、大気中の酸素分圧ｐが０．２１［ａｔｍ］であり、照射距離がＬ［ｃｍ］である場合には、真空紫外線の放射強度Ｉ［ｍＷ／ｃｍ２］と照射距離Ｌ［ｍｍ］との関係は、次式で表わすことができる。
Ｉ＝Ｉ０×ｅｘｐ（−ｐαＬ）
図６は、上記式に基づき作成した照射距離Ｌと放射強度Ｉとの関係を表わしている。放射強度Ｉ［ｍＷ／ｃｍ２］を時間で積算することにより、積算照射量［ｍＪ／ｃｍ２］を算出することができる。積算照射量を変更することにより、ＲｙＡ、ＲｙＢおよびＲｙＣの各値を変更可能である。
【実施例１】
【００２２】
ツールマークの有無およびその多少は、表面性状の指標の一つである面粗度で評価できる。面粗度ＲｙＡ、ＲｙＢ、ＲｙＣの相対的な関係について検討した。具体的には、アクリル製の平板（厚み１ｍｍ）を準備し、ダイヤモンド工具を用いた切削加工を用いて、その表面に円錐形状の微細穴を形成した。円錐形状の開口部の直径は５００μｍ、深さは３２０μｍ、開口角は７５°、加工条件は回転数を５００００ｒｐｍ、送り速度を３ｍｍ／ｍｉｎ、ドウェルを１０μｓｅｃとした。その後、真空紫外線を微細穴に向けて照射した。照射条件は波長を１７２ｎｍとし、照射距離を０．５ｍｍとし、照射時間を１〜１０ｍｉｎとした。
【００２３】
各照射時間の面粗度Ｒｙは、レーザー顕微鏡で観察して算出した。具体的には、真空紫外線を所定時間照射した後の微細穴を有するアクリル板を、微細穴が、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線で切断されるように、アクリルカッターで切断し、その切断面の三次元形状をキーエンス製のレーザー顕微鏡ＶＫ−９７１０（光源波長：４０８ｎｍ）で測定し、その三次元形状から、付属の面粗度計算ソフト（ＶＫ−Ａｎａｌｙｚｅｒ  ＶＫ−Ｈ１Ａ１）を用いて面粗度を算出した。面粗度は、図７に示すように、微細穴の底部３Ｂの中心から開口部３Ｈが形成されている面（図３において、プレート部２の表面２Ｓ）に向かって垂直に伸びる直線上にある、底部３Ｂから４３．５μｍ離れた測定位置１、測定位置１から８７μｍ離れた測定位置２、および測定位置２から８７μｍ離れた測定位置３において、各測定位置を中心として周方向（つまり、底部３Ｂの中心からの等しい距離にある方向）に３μｍの長さの線分について測定した（図７中の測定箇所１、測定箇所２、測定箇所３）。測定箇所１、測定箇所２、測定箇所３で測定した面粗度Ｒｙを、それぞれ、ＲｙＡ、ＲｙＢ、ＲｙＣとした。
【００２４】
図８は、積算照射量（照射時間）と面粗度ＲｙＡ、ＲｙＢ、ＲｙＣとの関係を表すグラフである。図９は、照射時間とＲｙＢ／ＲｙＡとの関係、および、照射時間とＲｙＣ／ＲｙＢとの関係を示す表である。図８および図９に示すように、切削加工後であって真空紫外線を照射する前の状態（未処理の状態）では、ＲｙＢ／ＲｙＡ＜０．５の関係が成立しておらず、底部側領域４ＡのＲｙ（ＲｙＡ）に対する中腹領域４ＢのＲｙ（ＲｙＢ）の相対値であるＲｙＢ／ＲｙＡの値（０．５１２）が、処理後の場合に比べて高いことが分かる。
【００２５】
未処理の状態ではさらに、０．８＜ＲｙＣ／ＲｙＢ＜１．２の関係も成立しておらず、中腹領域４ＢのＲｙＢに対する開口部側領域４ＣのＲｙＣの相対値であるＲｙＣ／ＲｙＢの値（０．５４０）が、処理後の場合に比べて低いことが分かる。これらに対し、真空紫外線の照射後の状態はいずれも、ＲｙＢ／ＲｙＡ＜０．５の関係および０．８＜ＲｙＣ／ＲｙＢ＜１．２の関係を具備している。このように、開口部側領域４Ｃの底部側領域４Ａに対する面粗度を低くすることで、ツールマークが低減され、プレート部２に接触する細胞に対する影響を低減できるものと考えられる。
【００２６】
実施例１の結果によれば、積算照射量が２６００［ｍＪ／ｃｍ２］を超えると面粗度が増加することを確認した。したがって積算照射量が２６００［ｍＪ／ｃｍ２］以下であれば、ＲｙＣ／ＲｙＢ≦１．０の関係が成立し、より低い面粗度が得られることが分かる。
【実施例２】
【００２７】
積算照射量と面粗度Ｒａ、Ｒｙ、Ｒｚとの関係について検討した。具体的には、厚み１ｍｍのアクリル製の平板に、ダイヤモンド工具を用いた切削加工によって円錐形状の微細穴を形成した（図３参照）。円錐形状の開口部の直径は５００μｍ、深さは３２０μｍ、開口角は７５°、加工条件は回転数を５００００ｒｐｍ、送り速度を３ｍｍ／ｍｉｎ、ドウェルを１０μｓｅｃとした。その後、真空紫外線を微細穴に向けて照射した。
【００２８】
照射条件については、照射距離Ｌは、０．２ｍｍ、０．５ｍｍ、および２．５ｍｍの各々とし、照射時間は１〜１０ｍｉｎとした。面粗度の測定は、実施例１と同様に、微細穴の断面の三次元形状をレーザー顕微鏡ＶＫ−９７１０（光源波長：４０８ｎｍ）で測定し、その三次元形状から、付属の面粗度計算ソフト（ＶＫ−Ａｎａｌｙｚｅｒ  ＶＫ−Ｈ１Ａ１）を用いて算出した。具体的には、図１０に示すように、微細穴の底部３Ｂの中心から開口部３Ｈが形成されている面（プレート部２の表面２Ｓ）に向かって垂直に伸びる直線上で、底部３Ｂから５０μｍ離れた位置から、さらに２００μｍ離れた位置までの線分である測定箇所４の面粗度Ｒａ、Ｒｙ、Ｒｚを算出した。
【００２９】
図１１〜図１３は、それぞれ、照射距離を０．２ｍｍ、０．５ｍｍ、２．５ｍｍに設定した場合に得られた積算照射量と面粗度Ｒａ、Ｒｙ、Ｒｚとの関係を表すグラフである。図１４は、照射距離を０．２ｍｍ、０．５ｍｍ、２．５ｍｍに設定した場合に得られた積算照射量と面粗度Ｒｙとの関係を表すグラフである。図１１〜図１４に示すように、照射距離が０．２ｍｍ、０．５ｍｍ、２．５ｍｍのいずれにおいても、積算照射量が２６００［ｍＪ／ｃｍ２］以下の場合には面粗度Ｒｙが減少し、２６００［ｍＪ／ｃｍ２］を超えると面粗度Ｒｙが増加することを確認した。細胞培養基材の微細穴においては、細胞凝集体の培養および光学的な分析や評価には面粗度ＲｙがＲａ、Ｒｚに比べて支配的な影響を与える。したがって積算照射量が２６００［ｍＪ／ｃｍ２］以下であることが好ましいことが分かる。
【００３０】
図１１〜図１４に示す結果によれば、真空紫外線の照射直後から面粗度Ｒｙの改善効果が得られることが分かる。照射距離０．２ｍｍ、０．５ｍｍの結果に鑑みると、積算照射量が５００［ｍＪ／ｃｍ２］以上であれば面粗度Ｒｙの十分な改善効果が得られることが分かる。照射距離２．５ｍｍの結果に鑑みると、積算照射量が２５０［ｍＪ／ｃｍ２］以上であれば面粗度Ｒｙの十分な改善効果が得られることが分かる。
【実施例３】
【００３１】
切削工具を超硬工具に変更し、積算照射量と面粗度Ｒａ、Ｒｙ、Ｒｚとの関係について検討した。厚み１μｍのアクリル製の平板に、超硬工具を用いた切削加工によって円錐形状の微細穴を形成した。円錐形状の開口部の直径は５００μｍ、深さは３２０μｍ、開口角は７５°、加工条件は回転数を５００００ｒｐｍ、送り速度を３ｍｍ／ｍｉｎ、ドウェルを１０μｓｅｃとした。その後、真空紫外線を微細穴に向けて照射した。
【００３２】
照射条件については、照射距離Ｌは０．５ｍｍとし、照射時間は１〜１０ｍｉｎとした。面粗度の測定は、実施例１と同様に、微細穴の断面の三次元形状をレーザー顕微鏡ＶＫ−９７１０（光源波長：４０８ｎｍ）で測定し、その三次元形状を、付属の面粗度計算ソフト（ＶＫ−Ａｎａｌｙｚｅｒ  ＶＫ−Ｈ１Ａ１）を用いて算出した。具体的には、図１５に示すように、微細穴の底部３Ｂの中心から開口部３Ｈが形成されている面（図３において、プレート部２の表面２Ｓ）に向かって垂直に伸びる直線上で、底部３Ｂから５０μｍ離れた位置から、さらに２００μｍ離れた位置までの線分である測定箇所５の面粗度Ｒａ、Ｒｙ、Ｒｚを算出した。
【００３３】
図１６は、積算照射量と面粗度Ｒａ、Ｒｙ、Ｒｚとの関係を表すグラフである。図１６に示す結果によれば、真空紫外線の照射直後から面粗度Ｒｙの改善効果が得られることが分かる。積算照射量が２６００［ｍＪ／ｃｍ２］以下の場合には面粗度Ｒｙが減少し、２６００［ｍＪ／ｃｍ２］を超えると面粗度Ｒｙが増加することを確認した。
【００３４】
以上、実施の形態および実施例について説明したが、上記の開示内容はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【００３５】
例えば、上記実施例では、アクリル製の平板をプレート部、壁部に用いたが、例えば、ポリスチレン樹脂など適宜の樹脂製の平板を用いることができる。また、上記実施例では、複数の微細穴を複数形成し、紫外線照射した平板を細胞培養基材１のプレート部２として用いているが、複数の微細穴を形成し、紫外線照射した後の平板を原盤として電鋳により金型を形成し、この金型から適宜の成形技術（例えば、樹脂成形）により、複数の微細穴を有する平板を形成することも可能である。この金型から形成された平板は、ツールマークが低減された原盤を転写して形成されるため、上記実施例と同様の構成を有するといえる。また、この金型は、さらに壁部の金型を含んでいてもよい。この場合、プレート部２に壁部６を接合する工程は不要となり、プレート部と壁部を一体成形して細胞培養基材を作製することができる。
【符号の説明】
【００３６】
１  細胞培養基材、２  プレート部（平板）、２Ｓ  表面、３  微細穴、３Ｂ  底部、３Ｈ  開口部、４  内面、４Ａ  底部側領域、４Ｂ  中腹領域、４Ｃ  開口部側領域、５  縦溝、６  壁部、７  微細穴が形成される領域、８  エキシマランプ。
【図１】
2020184894.tif 000003
【図２】
2020184894.tif 000004
【図３】
2020184894.tif 000005
【図４】
2020184894.tif 000006
【図５】
2020184894.tif 000007
【図６】
2020184894.tif 000008
【図７】
2020184894.tif 000009
【図８】
2020184894.tif 000010
【図９】
2020184894.tif 000011
【図１０】
2020184894.tif 000012
【図１１】
2020184894.tif 000013
【図１２】
2020184894.tif 000014
【図１３】
2020184894.tif 000015
【図１４】
2020184894.tif 000016
【図１５】
2020184894.tif 000017
【図１６】
2020184894.tif 000018