(57)【要約】【課題】広帯域において優れた反射特性（低反射性）を有し、かつ、色付きの抑制された反射防止フィルムを提供すること。【解決手段】本発明の反射防止フィルムは、透明基材と、該透明基材から順に、密着層と、第１のＮｂ２Ｏ５層と、第１のＳｉＯ２層と第２と、第２のＮｂ２Ｏ５層と、第２のＳｉＯ２層と、防汚層とをこの順に有し、第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が２８ｎｍ〜３３ｎｍであり、第１のＳｉＯ２層の光学膜厚が、４３ｎｍ〜５７ｎｍであり、第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が、２６４ｎｍ〜２８８ｎｍであり、第２のＳｉＯ２層の光学膜厚が、１１３ｎｍ〜１２９ｎｍである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、該透明基材から順に、密着層と、第１のＮｂ２Ｏ５層と、第１のＳｉＯ２層と第２と、第２のＮｂ２Ｏ５層と、第２のＳｉＯ２層と、防汚層とをこの順に有し、
第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が２８ｎｍ〜３３ｎｍであり、
第１のＳｉＯ２層の光学膜厚が、４３ｎｍ〜５７ｎｍであり、
第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が、２６４ｎｍ〜２８８ｎｍであり、
第２のＳｉＯ２層の光学膜厚が、１１３ｎｍ〜１２９ｎｍである、
反射防止フィルム。
【請求項２】
前記防汚層の屈折率が、１．００〜１．５０である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記防汚層の厚さが、３ｎｍ〜１５ｎｍである、請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
波長４２０ｎｍ〜６６０ｎｍの範囲における反射率の最大値が、０．５％以下である、請求項１から３のいずれかにに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記透明基材が、ハードコート層を含む、請求項１から４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記透明基材の前記密着層とは反対側の面に、光学フィルムをさらに備える、請求項１から５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の反射防止フィルムを備える、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ＣＲＴ、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネルなどのディスプレイ画面への外光の映り込みを防止するため、ディスプレイ画面の表面に配置される反射防止フィルムが広く用いられている。反射防止フィルムとしては、例えば、屈折率が異なる複数の層を有する多層フィルムが知られている。このような多層フィルムを用いることにより高い反射防止性能（広帯域において低い反射率）を得ることができることが知られている。反射防止フィルムの反射防止性能は一般的には視感反射率Ｙ（％）で評価され、当該視感反射率が低いほど反射防止性能が優れている。しかし、視感反射率を低くしようとすると、反射色相が色付きやすいという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−２０４０６５号公報
【特許文献２】特許５２４９０５４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、広帯域において優れた反射特性（低反射性）を有し、かつ、色付きの抑制された反射防止フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の反射防止フィルムは、透明基材と、該透明基材から順に、密着層と、第１のＮｂ２Ｏ５層と、第１のＳｉＯ２層と第２と、第２のＮｂ２Ｏ５層と、第２のＳｉＯ２層と、防汚層とをこの順に有し、第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が２８ｎｍ〜３３ｎｍであり、第１のＳｉＯ２層の光学膜厚が、４３ｎｍ〜５７ｎｍであり、第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚が、２６４ｎｍ〜２８８ｎｍであり、第２のＳｉＯ２層の光学膜厚が、１１３ｎｍ〜１２９ｎｍである。
１つの実施形態においては、上記防汚層の屈折率が、１．００〜１．５０である。
１つの実施形態においては、上記防汚層の厚さが、３ｎｍ〜１５ｎｍである。
１つの実施形態においては、上記反射防止フィルムは、波長４２０ｎｍ〜６６０ｎｍの範囲における反射率の最大値が、０．５％以下である。
１つの実施形態においては、上記透明基材が、ハードコート層を含む。
１つの実施形態においては、上記反射防止フィルムは、上記透明基材の上記密着層とは反対側の面に、光学フィルムをさらに備える。
本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記反射防止フィルムを備える。
【０００６】
本発明によれば、複数配置されたＮｂ２Ｏ５層、ＳｉＯ２層の光学膜厚を適切に調整することにより、広帯域において優れた反射特性（低反射性）を有し、かつ、色付きの抑制された反射防止フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の１つの実施形態による反射防止フィルムの概略断面図である。
【図２】実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの反射率スペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
Ａ．反射防止フィルムの概要
図１は、本発明の１つの実施形態による反射防止フィルムの概略断面図である。この反射防止フィルム１００は、透明基材１０と、透明基材１０から順に、密着層２０と、第１のＮｂ２Ｏ５層３０と、第１のＳｉＯ２層４０と、第２のＮｂ２Ｏ５層５０と、第２のＳｉＯ２層６０と、防汚層７０とをこの順に有する。なお、図１について、見やすくするために、図面における厚み等の縮尺は実際とは異なっている。
【０００９】
本発明において、第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚（屈折率×物理膜厚）は、２８ｎｍ〜３３ｎｍである。また、第１のＳｉＯ２層の光学膜厚は、４３ｎｍ〜５７ｎｍである。また、第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚は、２６４ｎｍ〜２８８ｎｍである。また、第２のＳｉＯ２層の光学膜厚は、１１３ｎｍ〜１２９ｎｍである。
【００１０】
本発明においては、第１のＮｂ２Ｏ５層３０と、第１のＳｉＯ２層４０と、第２のＮｂ２Ｏ５層５０と、第２のＳｉＯ２層６０とをこの順に積層することにより、優れた反射特性（低反射性）を有する反射防止フィルムを得ることができる。さらに、上記のように各層の光学膜厚を特定の範囲に調整することにより、防汚層を有する反射防止フィルムとして、ニュートラルな反射色相を有する反射防止フィルムを提供することができる。また、各層の光学膜厚を特定の範囲に調整することにより、短波長、長波長の入射光に対しても低い反射率を示す反射防止フィルムとすることができる。防汚層を有する反射防止フィルムとして、広帯域において優れた反射特性（低反射性）と、ニュートラルな反射色相とを両立し得る反射防止フィルムを提供できたことは、本発明の成果のひとつである。
【００１１】
上記反射防止フィルムの波長４２０ｎｍ〜６６０ｎｍの範囲における反射率の最大値は、０．５％以下であり、好ましくは０．４％以下であり、さらに好ましくは０．３％以下である。「波長４２０ｎｍ〜６６０ｎｍの範囲における反射率の最大値」は低いほど好ましいが、その下限は、例えば、０．０５％（好ましくは、０．０３％）である。なお、本明細書において、反射率とは、視感反射率Ｙを意味する。測定方法は、後述する。
【００１２】
図示していないが、上記反射防止フィルムは、任意の適切なその他の層、フィルムをさらに備え得る。例えば、透明基材の密着層とは反対側の面に、光学フィルムが配置され得る。
【００１３】
１つの実施形態においては、上記反射防止フィルムを備える画像表示装置が提供される。画像表示装置としては、特に限定されず、例えば、ＣＲＴ、液晶表示装置、プラズマディスプレイ等が挙げられる。１つの実施形態においては、上記画像表示装置において、反射防止フィルムは、視認側最外側に設けられる。
【００１４】
Ｂ．透明基材
上記透明基材は、本発明の効果が得られる限りにおいて、任意の適切な樹脂フィルムで構成され得る。樹脂フィルムを構成する樹脂の具体例としては、ポリオレフィン系樹脂（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン）、ポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリアミド系樹脂（例えば、ナイロン−６、ナイロン−６６）、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、（メタ）アクリル樹脂、（メタ）アクリロニトリル樹脂、セルロース系樹脂（例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン）が挙げられる。透明基材は、単一層であってもよく、複数の樹脂フィルムの積層体であってもよく、樹脂フィルム（単一層または積層体）と下記のハードコート層との積層体であってもよい。透明基材（実質的には、透明基材を形成するための組成物）は、任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤の具体例としては、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤が挙げられる。なお、透明基材を構成する材料は当業界において周知であるので、詳細な説明は省略する。
【００１５】
透明基材は、１つの実施形態においては、ハードコート層として機能し得る。すなわち、透明基材は、上記のとおり、樹脂フィルム（単一層または積層体）と以下に説明するハードコート層との積層体であってもよく、当該ハードコート層単独で透明基材を構成してもよい。透明基材が樹脂フィルムとハードコート層との積層体で構成される場合、ハードコート層は上記密着層に隣接して配置され得る。１つの実施形態においては、ハードコート層は、任意の適切な電離線硬化型樹脂の硬化層である。電離線としては、例えば、紫外線、可視光、赤外線、電子線が挙げられる。好ましくは紫外線であり、したがって、電離線硬化型樹脂は好ましくは紫外線硬化型樹脂である。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。例えば、（メタ）アクリル系樹脂の代表例としては、（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する多官能性モノマーが紫外線により硬化した硬化物（重合物）が挙げられる。多官能性モノマーは単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。多官能性モノマーには、任意の適切な光重合開始剤が添加され得る。なお、ハードコート層を構成する材料は当業界において周知であるので、詳細な説明は省略する。
【００１６】
ハードコート層には、任意の適切な無機または有機微粒子を分散させることができる。微粒子の粒径は、例えば０．０１μｍ〜３μｍである。あるいは、ハードコート層の表面に凹凸形状を形成することができる。このような構成を採用することにより、一般的にアンチグレアと呼ばれる光拡散性機能を付与することができる。ハードコート層に分散させる微粒子としては、屈折率、安定性、耐熱性等の観点から、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）が好適に用いられ得る。さらに、ハードコート層（実質的には、ハードコート層を形成するための組成物）は、任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤の具体例としては、レベリング剤、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤が挙げられる。
【００１７】
ハードコート層は、鉛筆硬度試験で好ましくはＨ以上、より好ましくは３Ｈ以上の硬度を有する。鉛筆硬度試験は、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に準じて測定され得る。
【００１８】
透明基材の厚みは、目的、透明基材の構成等に応じて適切に設定され得る。透明基材が樹脂フィルムの単一層または積層体として構成される場合には、厚みは、例えば１０μｍ〜２００μｍである。透明基材がハードコート層を含む場合またはハードコート層単独で構成される場合には、ハードコート層の厚みは、例えば１μｍ〜５０μｍである。
【００１９】
透明基材の光透過率は、好ましくは６０％〜９９％であり、より好ましくは８０％〜９９％である。
【００２０】
透明基材の屈折率（透明基材が積層構造を有する場合には密着層に隣接する層の屈折率）は、好ましくは１．４５〜１．６５であり、より好ましくは１．５０〜１．６０である。なお、本明細書において「屈折率」は、特に言及しない限り、温度２５℃、波長λ＝５８０ｎｍにおけるＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に基づいて測定した屈折率をいう。
【００２１】
Ｃ．密着層
上記密着層は、隣接する層間（例えば、透明基材と第１のＮｂ２Ｏ５層）の密着性を高めるために設けられ得る層である。密着層は、例えばケイ素（シリコン）で構成され得る。密着層の厚みは、例えば２ｎｍ〜５ｎｍである。
【００２２】
密着層は、透明基材と第１のＮｂ２Ｏ５層との間の他、第１のＮｂ２Ｏ５層と第１のＳｉＯ２層との間、第１のＳｉＯ２層と第２のＮｂ２Ｏ５層との間、第２のＮｂ２Ｏ５層第２のＳｉＯ２層との間のいずれかに形成されていてもよい。
【００２３】
密着層は、代表的にはドライプロセスにより形成される。ドライプロセスの具体例としては、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法が挙げられる。ＰＶＤ法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法が挙げられる。ＣＶＤ法としては、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。インライン処理を行う場合には、スパッタリング法が好適に用いられ得る。
【００２４】
Ｄ．第１のＮｂ２Ｏ５層
上記第１のＮｂ２Ｏ５層は、Ｎｂ２Ｏ５（屈折率：２．３４）から構成される。本発明においては、第１のＮｂ２Ｏ５層（ならびに、下記第１のＳｉＯ２層、第２のＮｂ２Ｏ５層および第２のＳｉＯ２層）について、屈折率を適切な値とすることのみならず、層を構成する材料を特定することにより、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
【００２５】
第１のＮｂ２Ｏ５層（ならびに、下記第１のＳｉＯ２層、第２のＮｂ２Ｏ５層および第２のＳｉＯ２層）は、いわゆるドライプロセスにより形成され得る。ドライプロセスの具体例としては、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法が挙げられる。ＰＶＤ法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法が挙げられる。ＣＶＤ法としては、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。１つの実施形態においては、スパッタリング法が好適に用いられ得る。スパッタリング法を用いれば、反射色味のバラツキを低減することができる。
【００２６】
上記のとおり、第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚は、２８ｎｍ〜３３ｎｍである。第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚は、好ましくは２８ｎｍ〜３２ｎｍであり、より好ましくは２８ｎｍ〜３０ｎｍである。このような範囲であれば、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
【００２７】
第１のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚に対する第１のＳｉＯ２層の光学膜厚の比は、好ましくは１．４〜２．１であり、より好ましくは１．７〜２．１である。このような範囲であれば、反射特性に優れ、かつ、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
【００２８】
第１のＮｂ２Ｏ５層の厚みは、好ましくは１２．０ｎｍ〜１４．１ｎｍであり、より好ましくは１２．０ｎｍ〜１３．７ｎｍであり、さらに好ましくは１２．０ｎｍ〜１２．８ｎｍである。
【００２９】
Ｅ．第１のＳｉＯ２層
上記第１のＳｉＯ２層は、ＳｉＯ２（屈折率：１．４６）から構成される。
【００３０】
上記のとおり、第１のＳｉＯ２層の光学膜厚は、４３ｎｍ〜５７ｎｍである。このような範囲であれば、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
【００３１】
第１のＳｉＯ２層の光学膜厚に対する第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚の比は、好ましくは４．７〜６．７であり、より好ましくは５．１〜６．１である。このような範囲であれば、反射特性に優れ、かつ、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
【００３２】
第１のＳｉＯ２層の厚みは、好ましくは２９．５ｎｍ〜３９．０ｎｍである。
【００３３】
Ｆ．第２のＮｂ２Ｏ５層
上記第２のＮｂ２Ｏ５層は、Ｎｂ２Ｏ５（屈折率：２．３４）から構成される。
【００３４】
上記のとおり、第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚は、２６４ｎｍ〜２８８ｎｍである。このような範囲であれば、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
【００３５】
第２のＮｂ２Ｏ５層の光学膜厚に対する第２のＳｉＯ２層の光学膜厚の比は、好ましくは０．４０〜０．４８であり、より好ましくは０．４３〜０．４４である。このような範囲であれば、反射特性に優れ、かつ、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
【００３６】
第２のＮｂ２Ｏ５層の厚みは、好ましくは１１２．８ｎｍ〜１２３．１ｎｍである。
【００３７】
Ｇ．第２のＳｉＯ２層
上記第２のＳｉＯ２層は、ＳｉＯ２（屈折率：１．４６）から構成される。
【００３８】
上記のとおり、第２のＳｉＯ２層の光学膜厚は、１１３ｎｍ〜１２９ｎｍである。このような範囲であれば、反射色相がニュートラルな反射防止フィルムを得ることができる。
【００３９】
第１のＳｉＯ２層の厚みは、好ましくは７７．４ｎｍ〜８８．４ｎｍである。
【００４０】
Ｈ．防汚層
必要に応じて設けられる防汚層は、反射防止フィルムの表面に撥水性、撥油性、耐汗性、防汚性などを付与し得る層である。本発明は、防汚層の存在を加味して、上記無機層（第１のＮｂ２Ｏ５層、第１のＳｉＯ２層、第２のＮｂ２Ｏ５層および第２のＳｉＯ２層）の光学膜厚を調整したことを、特徴のひとつとする。
【００４１】
防汚層を構成する材料としては、フッ素含有化合物が好ましい。フッ素含有化合物は、防汚性を付与するとともに、低屈折率化にも寄与し得る。中でも、撥水性に優れ、高い防汚性を発揮できることから、パーフルオロポリエーテル骨格を含有するフッ素系ポリマーが好ましい。防汚性を高める観点から、剛直に並列可能な主鎖構造を有するパーフルオロポリエーテルが特に好ましい。パーフルオロポリエーテルの主鎖骨格の構造単位としては、炭素数１〜４の分枝を有していてもよいパーフルオロアルキレンオキシドが好ましく、例えば、パーフルオロメチレンオキシド、（−ＣＦ２Ｏ−）、パーフルオロエチレンオキシド（−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−）、パーフルオロプロピレンオキシド（−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−）、パーフルオロイソプロピレンオキシド（−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−）等が挙げられる。
【００４２】
防汚層の屈折率は、好ましくは１．００〜１．５０であり、より好ましくは１．１０〜１．５０であり、さらに好ましくは１．２０〜１．４５である。このような範囲であれば、第１のＮｂ２Ｏ５層、第１のＳｉＯ２層、第２のＮｂ２Ｏ５層および第２のＳｉＯ２層の光学膜厚を上記範囲とすることの効果がより大きくなり、広帯域において優れた反射特性（低反射性）を有し、かつ、色付きの抑制された反射防止フィルムを提供することができる。
【００４３】
１つの実施形態においては、本発明の反射防止フィルムは、防汚層の屈折率と第２のＳｉＯ２層の屈折率との差が小さくなるように構成される。防汚層の屈折率と第２のＳｉＯ２層の屈折率との差（第２のＳｉＯ２層の屈折率−防汚層の屈折率）は、好ましくは−０．１〜０．３であり、より好ましくは−０．０５〜０．２であり、さらに好ましくは０〜０．１５である。
【００４４】
防汚層の厚さは、好ましくは３ｎｍ〜１５ｎｍであり、より好ましくは３ｎｍ〜１０ｎｍである。このような範囲であれば、色ムラが少なく、かつ、防汚性能に優れる防汚層を形成することができる。また、防汚層の厚さが上記範囲であれば、第１のＮｂ２Ｏ５層、第１のＳｉＯ２層、第２のＮｂ２Ｏ５層および第２のＳｉＯ２層の光学膜厚を上記範囲とすることの効果がより大きくなり、広帯域において優れた反射特性（低反射性）を有し、かつ、色付きの抑制された反射防止フィルムを提供することができる。
【００４５】
防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法、化学的気相成長法、リバースコート法、ダイコート法、グラビアコート法等の湿式コーティング法等を用いることができる。
【００４６】
Ｉ．光学フィルム
必要に応じて設けられる光学フィルムとしては、偏光板、位相差フィルム、輝度向上フィルム、拡散フィルム、導電性フィルム等が挙げられる。光学フィルムは、任意の適切な粘着剤または接着剤を介して透明基材に積層され得る。
【実施例】
【００４７】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例には限定されない。実施例における試験および評価方法は以下のとおりである。また、特に明記しない限り、実施例における「％」は重量基準である。
【００４８】
＜評価方法＞
（１）物理厚み
各層の厚みを、ＴＥＭ断面観察により、測定した。
（２）屈折率
各層に応じた評価用サンプルを用い、分光エリプソメーターにより各層の屈折率を測定した。
（３）光学膜厚
物理厚みと屈折率とを乗算することで光学膜厚を算出した。
（４）反射特性Ｅ
反射防止フィルムの透明基材側に、粘着剤を介して、遮光性の黒色アクリル板を貼り合せて評価用サンプルを作製した。
次いで、反射防止面の視感反射率Ｙ、反射Ｌ、反射色相ａ＊、反射色相ｂ＊の値を日立製作所製分光光度計「Ｕ４１００」を用いて、５°正反射（波長：３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）の条件で測定を実施した。
Ｅ値を、下記式にて算出した。Ｅ値は、色味を評価するための指標であり、Ｅ値が低いほど反射色相がニュートラルに近くなることを意味する。
【数１】
2020067582.tif 000003
なお、上記評価で取得した反射率のスペクトルを図２に示す。
【００４９】
［実施例１］
（透明基材の作成）
ウレタンアクリレート樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名「ＵＮＩＤＩＣ  Ｖ４０２５」、屈折率１．５２）１００重量部と、無機粒子としてナノシリカ粒子（日産化学工業社製、商品名「ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ」、平均粒子径５０ｎｍ）が５０重量部と、ＵＶ開始剤としてＢＡＳＦ社製、商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」５重量部とを混合した。次いで、希釈溶剤としてＭＥＫとＰＧＭの混合溶液を上記溶液に加え溶剤比率がＭＥＫ／ＰＧＭ＝４０／６０になるように調整し、ハードコート層形成用組成物を得た。
該ハードコート層形成用組成物を、樹脂フィルム（ＴＡＣ：富士フィルム社製、商品名「ＴＤ８０ＵＬ」）の片面に乾燥後の厚みが５μｍとなるように塗布し、８０℃２分間乾燥させた。その後、高圧水銀ランプを用いて、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、塗布層を硬化させ樹脂フィルム上にハードコート層を形成した。
（無機層の形成）
Ｓｉスパッタリングターゲットを、マグネトロンスパッタリング装置にセットし、上記ハードコート層上にＳｉＯｘ層から構成される密着層（厚み５ｎｍ）を形成した。
次いで、Ｎｂターゲットをマグネトロンスパッタリング装置にセットし、反応性スパッタリングを行い、上記密着層上に、第１のＮｂ２Ｏ５層（厚み１２ｎｍ、屈折率２．３４）を形成した。
次いで、Ｓｉターゲットをマグネトロンスパッタリング装置にセットし、反応性スパッタリングを行い、第１のＮｂ２Ｏ５層上に、第１のＳｉＯ２層（厚み３９ｎｍ、屈折率１．４６）を形成した。
次いで、上記第１のＳｉＯ２層上に、第１のＮｂ２Ｏ５層の形成方法と同様の方法にて、第２のＮｂ２Ｏ５層（厚み１１９ｎｍ、屈折率２．３４）を形成した。さらに、第２のＮｂ２Ｏ５層上に、第１のＳｉＯ２層の形成方法と同様の方法にて第２のＳｉＯ２層（厚み：７８ｎｍ、屈折率１．４６）を形成した。
（防汚層の形成）
第２のＳｉＯ２層上に、フッ素系樹脂（主鎖骨格に−（ＣＦ２−ＣＦ２−Ｏ）−および−（ＣＦ２−Ｏ）−を含むパーフルオロエーテルを含有するフッ素系樹脂）溶液をグラビアコート法にてコーティングして厚さ９ｎｍ、屈折率１．３２の防汚層を形成した。
このようにして、透明基材（樹脂フィルム／ハードコート層）／密着層（ＳｉＯｘ層）／第１のＮｂ２Ｏ５層／第１のＳｉＯ２層／第２のＮｂ２Ｏ５層／第２のＳｉＯ２層／防汚層）の構成を有する反射防止フィルムを得た。得られた反射防止フィルムを上記評価に供した。結果を表１に示す。
【００５０】
［実施例２〜６、比較例１〜６］
第１のＮｂ２Ｏ５層、第１のＳｉＯ２層、第２のＮｂ２Ｏ５層、第２のＳｉＯ２層および防汚層の厚みを表１に示す厚みとしたこと以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。得られた反射防止フィルムを上記評価に供した。結果を表１に示す。
【００５１】
［比較例７］
実施例１と同様にして、透明基材を作製した。
次いで、ＺｒＯ２を真空蒸着装置にセットし、真空蒸着を行い、上記透明基材上に、第１のＺｒＯ２層（厚み１３ｎｍ、屈折率２．２２）を形成した。
次いで、ＭｇＦ２を真空蒸着装置にセットし、真空蒸着を行い、上記第１のＺｒＯ２層上に、第１のＭｇＦ２層（厚み３４ｎｍ、屈折率１．３８）を形成した。
次いで、上記第１のＭｇＦ２層上に、第１のＺｒＯ２層の形成方法と同様の方法にて、第２のＺｒＯ２層（厚み１１８ｎｍ、屈折率２．２２）を形成した。さらに、第２のＺｒＯ２層上に、第１のＭｇＦ２層の形成方法と同様の方法にて第２のＭｇＦ２層（厚み９１ｎｍ、屈折率１．３８）を形成した。
第２のＭｇＦ２層上に、フッ素系樹脂（主鎖骨格に−（ＣＦ２−ＣＦ２−Ｏ）−および−（ＣＦ２−Ｏ）−を含むパーフルオロエーテルを含有するフッ素系樹脂）溶液をグラビアコート法にてコーティングして厚さ５ｎｍ、屈折率１．３２の防汚層を形成した。
このようにして、透明基材（樹脂フィルム／ハードコート層）／密着層（ＳｉＯｘ層）／第１のＺｒＯ２層／第１のＭｇＦ２層／第２のＺｒＯ２層／第２のＭｇＦ２層／防汚層）の構成を有する反射防止フィルムを得た。得られた反射防止フィルムを上記評価に供した。結果を表１に示す。
【００５２】
【表１】
2020067582.tif 000004
【００５３】
表１から明らかなように、本発明の反射防止フィルムは、特定の無機物から構成された層を複数層設け、各層の光学膜厚を特定の値に制御することにより、低反射特性を有しながらも、反射色相がニュートラルである。また、図２から明らかなように、本発明の反射防止フィルムは、広帯域において優れた反射特性（具体的には、波長４２０ｎｍ〜６６０ｎｍの範囲における反射率の最大値が１．５％以下）を有する。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明の反射防止フィルムは、ＣＲＴ、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネルなどの画像表示装置における外光の映り込み防止に好適に利用することができる。
【符号の説明】
【００５５】
１０    透明基材
２０    密着層
３０    第１のＮｂ２Ｏ５層
４０    第１のＳｉＯ２層
５０    第２のＮｂ２Ｏ５層
６０    第２のＳｉＯ２層
７０    防汚層
１００    反射防止フィルム
【図１】
2020067582.tif 000005
【図２】
2020067582.tif 000006