(57)【要約】    【課題】  掛け流し式の表面処理装置における処理液Ｑの飛散量を減少させる。    【解決手段】  搬送用ハンガー１６の鉛直下方にはハニカム部材６０が設けられている。ハニカム部材６０は、六角形の穴が空いた筒状部材が複数連結されている。鉛直方向(矢印α方向)に処理液Ｑが落ちると、かかる処理液Ｑはハニカム部材の貫通穴を通過する。そして液面Ｈにぶつかると、その一部が反射される。反射された処理液Ｑの一部はななめ方向に反射するので、ハニカム部材６０の貫通穴の内壁に衝突する。これにより貫通穴よりも上面に再び出現する処理液Ｑの量が減少する。これによりハニカム部材６０は、飛散防止機能を果たす。【選択図】  図３
2020111780.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第１の処理室、
前記第１の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第１の処理液を掛け流す第１の処理液掛け流し機構、
前記第１の処理室に隣接し、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第２の処理室、
前記第２の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第２の処理液を掛け流す第２の処理液掛け流し機構、
前記第１の処理室と前記第２の処理室との間に設けられた区分け壁であって、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入可能とする搬入可能開口部を有する区分け壁、
前記区分け壁近傍の前記第１の処理室または前記第２の処理室に設けられ、前記被処理物の下部から落下した処理液が着地面で跳ねて、前記搬入可能開口部から隣接する処理室内に前記跳ねた処理液の混入を減少させる混入減少機構、
を備え、
前記混入減少機構は、開口部が鉛直方向に向くように縦長の個別筒状部材が複数配置された形状であること、
を備えた表面処理装置。
【請求項２】
請求項１の表面処理装置において、
前記縦長の個別筒状部材が複数配置された形状は、ハニカム類似形状であること、
を特徴とする表面処理装置。
【請求項３】
請求項１の表面処理装置において、
前記ハニカム類似形状はハニカム形状であること、
を特徴とする表面処理装置。
【請求項４】
請求項１の表面処理装置において、
さらに、前記被処理物の下部から落下した第１の処理液を回収して、前記第１の処理液掛け流し機構に与える第１の処理液回収機構、または、前記被処理物の下部から落下した第２の処理液を回収して、前記第２の処理液掛け流し機構に与える第２の処理液回収機構を有すること、
を特徴とする表面処理装置。
【請求項５】
請求項１の表面処理装置において、
前記第１の処理室内の前記被処理物の下方には前記被処理物の下部から落下した第１の処理液を溜める、液表面が露出した第１の処理液溜部を有しており、
前記液表面と前記混入減少機構の下面との間には隙間が設けられていること、
を特徴とする表面処理装置。
【請求項６】
請求項１の表面処理装置において、
前記第１の処理液掛け流し機構は、前記第１の処理液溜部に溜められた第１の処理液をくみ上げて、前記第１の処理液を掛け流すこと、
を特徴とする表面処理装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかの表面処理装置において、さらに、
前記着地面で跳ねる処理液を前記鉛直方向に引き戻すように空気の流れを制御する空気流量制御機構を有すること、
を特徴とする表面処理装置。
【請求項８】
請求項７の表面処理装置において、
前記被処理物は、シート状であり、
前記空気流量制御機構は、
前記シート状の被処理物に向かって前記搬入される方向に横長の開口を有しており、
前記開口から空気を吸引すること、
を特徴とする表面処理装置。
【請求項９】
シート状の被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第１の処理室、
前記第１の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第１の処理液を掛け流す第１の処理液掛け流し機構、
前記第１の処理室に隣接し、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第２の処理室、
前記第２の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第２の処理液を掛け流す第２の処理液掛け流し機構、
前記第１の処理室と前記第２の処理室との間に設けられた区分け壁であって、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入可能とする搬入可能開口部を有する区分け壁、
前記区分け壁近傍の前記第１の処理室または前記第２の処理室に設けられ、前記被処理物の下部から落下した処理液が着地面で跳ねて、前記搬入可能開口部から隣接する処理室内に前記跳ねた処理液の混入を減少させる混入減少機構、
を備え、
前記混入減少機構は、前記シート状の被処理物の２つの平面に沿って、鉛直方向に空気が流れるように制御することにより、前記着地面で跳ねる処理液の量を減少させること、
を特徴とする表面処理装置。
【請求項１０】
請求項８の表面処理装置において、
前記空気流量制御機構は、前記シート状の被処理物の２つの平面に沿って前記シート状の被処理物の下部近傍に設けられたスリット状の案内部を有すること、
を特徴とする表面処理装置。
【請求項１１】
請求項９の表面処理装置において、
前記混入減少機構は、前記シート状の被処理物の２つの平面に沿って前記シート状の被処理物の下部近傍に設けられたスリット状の案内部を有すること、
を特徴とする表面処理装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１の表面処理装置において、
前記混入減少機構の開口部と、前記被処理物との距離を調整する高さ調整機構を有すること、
を特徴とする表面処理装置。
【請求項１３】
被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第１の処理室、
前記第１の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第１の処理液を掛け流す第１の処理液掛け流し機構、
前記第１の処理室に隣接し、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第２の処理室、
前記第２の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第２の処理液を掛け流す第２の処理液掛け流し機構、
前記第１の処理室と前記第２の処理室との間に設けられた区分け壁であって、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入可能とする搬入可能開口部を有する区分け壁、
前記区分け壁近傍の前記第１の処理室または前記第２の処理室に設けられ、前記被処理物の下部から落下した処理液が着地面で跳ねて、前記搬入可能開口部から隣接する処理室内に前記跳ねた処理液の混入を減少させる混入減少機構、
を備え、
前記混入減少機構は、前記着地面の形状が、前記搬入可能開口部に近づくにつれて鉛直方向に高くなる跳ね返り方向変換部であること、
を備えた表面処理装置。
【請求項１４】
被処理物が鉛直方向に保持された状態で第１の処理室に搬入されると、搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第１の処理液を掛け流し、前記第１の処理液が掛け流された被処理物が、鉛直方向に保持された状態で、前記第１の処理室に隣接する第２の処理室に搬入されると、搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第２の処理液を掛け流す表面処理方法であって、
前記第１の処理室と前記第２の処理室との間には、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入可能とする搬入可能開口部が設けられており、
前記区分け壁近傍の前記第１の処理室または前記第２の処理室には、前記被処理物の下部から落下した処理液が着地面で跳ねて、前記搬入可能開口部から隣接する処理室内に前記跳ねた処理液の混入を減少させるために、開口部が鉛直方向に向くように縦長の個別筒状部材が複数配置されていること、
を特徴とする表面処理方法。
【請求項１５】
被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される処理室、
前記処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、処理液を掛け流す処理液掛け流し機構、
前記処理室に設けられた区分け壁であって、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入可能とする搬入可能開口部を有する区分け壁、
前記区分け壁近傍の前記処理室に設けられ、前記被処理物の下部から落下した処理液が着地面で跳ねて前記搬入可能開口部から処理室の外部に跳ねる処理液の混入を減少させる混入減少機構、
を備え、
前記混入減少機構は、開口部が鉛直方向に向くように縦長の個別筒状部材が複数配置された形状であること、
を備えた表面処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、掛け流し式の表面処理装置に関し、特に隣接する処理室への液の飛び跳ね防止に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１の図１０には、ワークの下部に、飛散防止材を設けた掛け流し式の表面処理装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−８８６００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の飛散防止材としては、スポンジ、フィルター、繊維状素材（東洋クッション社製の化繊ロック（商標））が開示されている（特許文献１の段落００８５）が、これでは十分な飛散防止効果を奏しない。これは、いずれも上記飛散防止材の表面に当たった滴がそのまま反射するからである。かかる反射が生ずると、隣接する処理室へ液が混在するおそれがある。
【０００５】
かかる問題を解決するために、処理室間の距離を大きくしたり、処理室の間に設ける仕切りの下面を、滴の反射面よりもかなり高くすることも考えられるが、その結果、装置全体が大型化する。
【０００６】
本発明は、上記問題を解決し、隣接する処理室へ液が混在することなく、かつ、小型化が可能な掛け流し式の表面処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
１）本発明にかかる表面処理装置は、被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第１の処理室、前記第１の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第１の処理液を掛け流す第１の処理液掛け流し機構、前記第１の処理室に隣接し、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第２の処理室、前記第２の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第２の処理液を掛け流す第２の処理液掛け流し機構、前記第１の処理室と前記第２の処理室との間に設けられた区分け壁であって、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入可能とする搬入可能開口部を有する区分け壁、前記区分け壁近傍の前記第１の処理室または前記第２の処理室に設けられ、前記被処理物の下部から落下した処理液が着地面で跳ねて、前記搬入可能開口部から隣接する処理室内に前記跳ねた処理液の混入を減少させる混入減少機構、を備え、前記混入減少機構は、開口部が鉛直方向に向くように縦長の個別筒状部材が複数配置された形状である。
【０００８】
前記開口部が通過した処理液が着地面で反射すると、縦長の個別筒状部材の内壁で前記処理液が衝突して、前記着地面のほうに落下する。これにより、隣接する処理室へ液が混在することなく、かつ、小型化が可能な掛け流し式の表面処理装置を提供することができる。
【０００９】
２）本発明にかかる表面処理装置においては、前記縦長の個別筒状部材が複数配置された形状は、ハニカム類似形状である。したがって、前記ハニカム類似形状の縦長の個別筒状部材の内壁で前記処理液が衝突して、前記着地面のほうに落下する。
【００１０】
３）本発明にかかる表面処理装置においては、前記ハニカム類似形状はハニカム形状である。したがって、前記ハニカム形状の縦長の個別筒状部材の内壁で前記処理液が衝突して、前記着地面のほうに落下する。
【００１１】
４）本発明にかかる表面処理装置においては、さらに、前記被処理物の下部から落下した第１の処理液を回収して、前記第１の処理液掛け流し機構に与える第１の処理液回収機構、または、前記被処理物の下部から落下した第２の処理液を回収して、前記第２の処理液掛け流し機構に与える第２の処理液回収機構を有する。したがって、回収して使用される処理液に、異なる処理液が混在するのを減らすことができる。
【００１２】
５）本発明にかかる表面処理装置においては、前記第１の処理室内の前記被処理物の下方には前記被処理物の下部から落下した第１の処理液を溜める、液表面が露出した第１の処理液溜部を有しており、前記液表面と前記混入減少機構の下面との間には隙間が設けられている。前記第１の処理液の表面からの飛散量を減少させることができる。
【００１３】
６）本発明にかかる表面処理装置においては、前記第１処理液掛け流し機構は、前記第１の処理液溜部に溜められた第１の処理液をくみ上げて、前記第１の処理液を掛け流す。したがって、回収して使用される第１の処理液に、前記第２の処理液が混在するのを減らすことができる。
【００１４】
７）本発明にかかる表面処理装置においては、さらに、前記着地面で跳ねる処理液を前記鉛直方向に引き戻すように空気の流れを制御する空気流量制御機構を有する。これにより、前記着面からの跳ね返りを減少させることができる。
【００１５】
８）本発明にかかる表面処理装置においては、前記被処理物は、シート状であり、前記空気流量制御機構は、前記シート状の被処理物に向かって前記搬入される方向に横長の開口を有しており、前記開口から空気が吸引される。したがって、空気の流れにより、前記着地面からの跳ね返りを減少させることができる。
【００１６】
９）本発明にかかる表面処理装置においては、シート状の被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第１の処理室、前記第１の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第１の処理液を掛け流す第１の処理液掛け流し機構、前記第１の処理室に隣接し、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第２の処理室、前記第２の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第２の処理液を掛け流す第２の処理液掛け流し機構、前記第１の処理室と前記第２の処理室との間に設けられた区分け壁であって、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入可能とする搬入可能開口部を有する区分け壁、前記区分け壁近傍の前記第１の処理室または前記第２の処理室に設けられ、前記被処理物の下部から落下した処理液が着地面で跳ねて、前記搬入可能開口部から隣接する処理室内に前記跳ねた処理液の混入を減少させる混入減少機構、を備え、前記混入減少機構は、前記シート状の被処理物の２つの平面に沿って、鉛直方向に空気が流れるように制御することにより、前記着地面で跳ねる処理液の量を減少させる。
【００１７】
したがって、前記シート状の被処理物の２つの平面に沿った鉛直方向への空気の流れによって、前記前記着地面で跳ねる処理液の量を減少させることができる。これにより、隣接する処理室へ液が混在することなく、かつ、小型化が可能な掛け流し式の表面処理装置を提供することができる。
【００１８】
１０）本発明にかかる表面処理装置においては、前記空気流量制御機構は、前記シート状の被処理物の２つの平面に沿って前記シート状の被処理物の下部近傍に設けられたスリット状の案内部を有する。かかる案内部により、空気の吸入速度を高めることができる。
【００１９】
１１）本発明にかかる表面処理装置においては、前記混入減少機構は、前記シート状の被処理物の２つの平面に沿って前記シート状の被処理物の下部近傍に設けられたスリット状の案内部を有する。したがって、前記シート状の被処理物の２つの平面に沿って、鉛直方向に流れる空気の速度を高くすることができる。  １２）本発明にかかる表面処理装置においては、前記混入減少機構の開口部と、前記被処理物との距離を調整する高さ調整機構を有する。したがって、前記被処理物の大きさに応じて、前記混入減少機構の開口部と前記被処理物との距離を調整することができる。
【００２０】
１３）本発明にかかる表面処理装置は、被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第１の処理室、前記第１の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第１の処理液を掛け流す第１の処理液掛け流し機構、前記第１の処理室に隣接し、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第２の処理室、前記第２の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第２の処理液を掛け流す第２の処理液掛け流し機構、前記第１の処理室と前記第２の処理室との間に設けられた区分け壁であって、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入可能とする搬入可能開口部を有する区分け壁、前記区分け壁近傍の前記第１の処理室または前記第２の処理室に設けられ、前記被処理物の下部から落下した処理液が着地面で跳ねて、前記搬入可能開口部から隣接する処理室内に前記跳ねた処理液の混入を減少させる混入減少機構、を備え、前記混入減少機構は、前記着地面の形状が、前記搬入可能開口部に近づくにつれて鉛直方向に高くなる跳ね返り方向変換部である。
【００２１】
前記跳ね返り方向変換部は前記着地面の形状が、前記搬入可能開口部に近づくにつれて鉛直方向に高くなる。したがって、前記跳ね返りの方向を前記前記搬入可能開口部から離れる方向とすることができる。これにより、隣接する処理室へ液が混在することなく、かつ、小型化が可能な掛け流し式の表面処理装置を提供することができる。
【００２２】
１４）本発明にかかる表面処理方法においては、被処理物が鉛直方向に保持された状態で第１の処理室に搬入されると、搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第１の処理液を掛け流し、前記第１の処理液が掛け流された被処理物が、鉛直方向に保持された状態で、前記第１の処理室に隣接する第２の処理室に搬入されると、搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第２の処理液を掛け流す表面処理方法であって、前記第１の処理室と前記第２の処理室との間には、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入可能とする搬入可能開口部が設けられており、前記区分け壁近傍の前記第１の処理室または前記第２の処理室には、前記被処理物の下部から落下した処理液が着地面で跳ねて、前記搬入可能開口部から隣接する処理室内に前記跳ねた処理液の混入を減少させるために、開口部が鉛直方向に向くように縦長の個別筒状部材が複数配置されている。
【００２３】
これにより、隣接する処理室へ液が混在することなく、かつ、小型化が可能な掛け流し式の表面処理装置を提供することができる。
【００２４】
１５）本発明にかかる表面処理装置は、被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される処理室、前記処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、処理液を掛け流す処理液掛け流し機構、前記処理室に設けられた区分け壁であって、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入可能とする搬入可能開口部を有する区分け壁、前記区分け壁近傍の前記処理室に設けられ、前記被処理物の下部から落下した処理液が着地面で跳ねて前記搬入可能開口部から処理室の外部に跳ねる処理液の混入を減少させる混入減少機構、を備え、前記混入減少機構は、開口部が鉛直方向に向くように縦長の個別筒状部材が複数配置された形状である。
【００２５】
これにより、隣接する処理室へ液が混在することなく、かつ、小型化が可能な掛け流し式の表面処理装置を提供することができる。
【００２６】
本明細書において「ハニカム類似形状」とは、多角形や円形の個別筒状部材の開口部が鉛直方向に向くように複数配置された形状をいう。また、「ハニカム構造」とは上記ハニカム類似構造のうち、個別筒状部材が六角形のものをいう。
【００２７】
「上部から下部に掛け流し」とは、結果的に上部から下部に掛け流し状態となればよく、前記被処理物に直接または、前記被処理物を保持する保持部を介して間接に掛け流すことを含む。
【００２８】
この発明の特徴、他の目的、用途、効果等は、実施形態および図面を参酌することにより明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】表面処理装置３００を上方から見た配置図である。
【図２】表面処理装置３００をα方向から見た側面図である。
【図３】表面処理装置３００の一部を構成する無電解銅めっき槽２００のβ−β断面図である。
【図４】無電解銅めっき槽２００を上方から見た状態を示す図である。
【図５】液噴出部４の構成を示す図である。
【図６】液噴出部４の噴出口６から噴出された処理液Ｑの流れを示す図である。
【図７】液噴出部４に変流部材４０を設けた改良例を示す図である。
【図８】変流部材４０に当たる前後における処理液Ｑの液流の断面図である。
【図９】搬送機構１８の移動動作を制御するための接続関係を示す図である。
【図１０】第３水洗槽３１２と無電解銅めっき槽２００の間におけるガイドレール１４の断面を示す図である。
【図１１】ハニカム部材６０の詳細（斜視図、要部拡大図）を示す。
【図１２】滴と反射の関係について説明するための図である。
【図１３】飛散防止効果の確認実験の条件を示す図である。
【図１４】飛散防止効果の確認実験の結果を示す図である。
【図１５】跳ね返り方向変換図の一例を示す図である。
【図１６】第３実施形態の正面図である。
【図１７】図１６矢印γ方向からみた板状ワーク１０とトレイ８０の位置関係を示す図である。
【図１８】トレイ８０の詳細を示す図である。
【図１９】図１６の矢印δ１からみた板状ワーク１０とトレイ８０の位置関係を示す図である。
【図２０】案内部１２０を設けた実施形態を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
(１．第１実施形態）
１．１  表面処理装置３００の構成
まず、図１および図２を用いて、本発明の表面処理装置３００の構成について説明する。なお、図１は、表面処理装置３００を上方から見た配置図である。図２は、図１に示す表面処理装置３００をα方向から見た側面図である。なお、図１では、図２に示す搬送用ハンガー１６および搬送機構１８は省略している。
【００３１】
図１に示すように、表面処理装置３００には、被処理物である板状ワーク１０（図２）の搬送方向Ｘに沿って、ロード部３０２、第１水洗槽３０４、デスミア槽３０６、第２水洗槽３０８、前処理槽３１０、第３水洗槽３１２、無電解銅めっき槽２００、水洗槽３１４、アンロード部３１６が順に設けられており、その順で、無電解銅めっきに必要な各工程が行われる。各槽には、図２に示す搬送用ハンガー１６の通路を形成する切り欠き８（図１）が鉛直方向に延伸して設けられている。なお、各工程の詳細については、後述する。
【００３２】
表面処理装置３００は、さらに、クランプ１５（図２）で把持し、鉛直方向に保持した板状ワーク１０を水平方向に搬送する搬送用ハンガー１６と、搬送用ハンガー１６を各槽内に搬送する搬送機構１８とを備えている。なお、図２は、板状ワーク１０がロード部３０２で搬送用ハンガー１６に取り付けられた状態を示している。
【００３３】
ロード部３０２で板状ワーク１０が取り付けられた後、搬送機構１８は、水平方向Ｘへの移動を開始し、それによって、板状ワーク１０が各槽内（無電解銅めっき槽２００等）を通過する。その後、搬送機構１８は、最終的に、アンロード部３１６において停止し、めっき処理が施された板状ワーク１０が搬送用ハンガー１６から取り外されることになる。
【００３４】
図３は、表面処理装置３００の一部を構成する無電解銅めっき槽２００（図１）のβ−β断面図である。図４は、図３に示す無電解銅めっき槽２００を上方から見た状態を示す図である。なお、図４では、搬送用ハンガー１６および搬送機構１８を省略している。
【００３５】
図３に示す無電解銅めっき槽２００は、フレーム５６の上に載置された槽体２と、槽体２内の底部に貯まった処理液Ｑ（無電解銅めっき液）を液噴出部４に供給して循環させるための循環ポンプ５０とを備えている。
【００３６】
板状ワーク１０に対する処理を行うため、無電解銅めっき槽２００などの各槽の内部には、噴出口６を有する液噴出部４が設けられている。液噴出部４の噴出口６からは、図３に示すように、板状ワーク１０に向けて、処理液Ｑが水平面に対して斜め上方に噴出される。これにより、槽体２の内部において、搬送用ハンガー１６により把持された板状ワーク１０の上部に処理液Ｑ（無電解銅めっき液）が当てられる。その結果、板状ワーク１０を伝って処理液Ｑが移動する間に、板状ワーク１０の表面に処理液Ｑを付着させることができる。なお、液噴出部４の詳細な構造については後述する。
【００３７】
このように、貯留した処理液Ｑの中に板状ワーク１０を浸漬させずに、循環させた処理液Ｑを板状ワーク１０に伝わせる方式を採用したことで、浸漬式のものと比較して表面処理装置３００全体で使用される処理液Ｑの総量を少なくすることができる。
【００３８】
搬送機構１８は、図３に示すガイドレール１２、１４、支持部材２０および搬送ローラー２２、２４で構成される。支持部材２０の底部には、搬送機構１８がガイドレール１２、１４の上を移動するための搬送ローラー２２、２４が取り付けられている。搬送ローラー２２、２４はモーター（図示せず）によって駆動される。なお、ガイドレール１２、１４は、それぞれフレーム５２、５４の上に固定されている。このような水平方向に搬送するようにしたため、板状ワークの昇降動作が不要となり、装置の高さを低くできるため省スペース化が図られる。
【００３９】
図３に示すように、搬送用ハンガー１６は、２本のガイドレール１２、１４に渡って懸架するように取り付けられた支持部材２０の下方に固定されている。これにより、板状ワーク１０の振動を低減し、搬送機構１８を支える構造体（ガイドレール１２、１４、フレーム５２、５４等）の歪みを低減することができる。
【００４０】
また、図４に示すガイドレール１２、１４上の所定位置には複数の磁石２１が埋め込まれている。搬送機構１８は、ガイドレール１２、１４上の磁石２１を検知するための磁気センサー１９を備える。磁気センサー１９は、支持部材２０の下方（ガイドレール１４側の１カ所）に設けられている。
【００４１】
これにより、無電解銅めっき槽２００内に移動した搬送用ハンガー１６を、所定位置（例えば、図４に示す無電解銅めっき槽２００の中央位置）に停止させることができる。
【００４２】
各槽に設けられる循環ポンプ５０は、図３に示すように、槽体２の底部に接続され、槽体２と液噴出部４とは循環ポンプ５０を介して連通されている（点線矢印で示す）。これにより、槽体２の底部に溜まった処理液Ｑが、循環ポンプ５０によって、再び液噴出部４に供給される。
【００４３】
槽体２は、側壁２ａ、２ｂと、底部２ｃとによって構成されており、これらをＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）などの素材を加工、接着などして組み立てることにより、一体の部材として成形することができる。槽体２は、板状ワーク１０に当てられた処理液を下方の底部２ｃで受ける。なお、槽体２は、図１に示す無電解銅めっき槽２００以外の各槽にも同じ形状のものが用いられる。すなわち、各槽の構造は同じであり、各槽で用いられる処理液（めっき液、デスミア液、洗浄水など）の種類だけが異なっている。
【００４４】
また、図３に示す槽体２の側壁２ｂには、鉛直方向に延伸される切り欠きであるスリット８が成形されている。これにより、搬送用ハンガー１６が搬送された時に、板状ワーク１０がスリット８を通過することができる。なお、スリット８の下端８ａを低くし過ぎると、槽体２に溜まった処理液Ｑが溢れ出し、外部に流出するおそれがある。
【００４５】
このため、槽体２に溜まった処理液Ｑの液面Ｈ（図３）が、常にスリット８の下端８ａよりも下に位置するように、処理液Ｑの供給量を調整する必要がある。この実施形態では、槽体２に溜まった処理液Ｑの液面Ｈ（図３）がスリット８の下端８ａよりも下に位置するように、使用する処理液Ｑの総量を決定し、かつ、循環ポンプ５０を介して槽体２と液噴出部４とを連通させている。
【００４６】
［液噴出部４の構造］
図５に、液噴出部４の構造を示す。図５は、図３に示す液噴出部４の拡大図である。
【００４７】
図５に示すように、液噴出部４は、側壁２ａに角パイプ材を固定して設けたベースＦ１上に、２つのＵ字型の留め具Ｆ２によって締め付けて取り付けられている。なお、この実施形態では、液噴出部４を、手動で回転させることができる適度の強さで締め付けている。
【００４８】
液噴出部４は、図４に示すように、内部に空間を有する管部材である丸パイプで構成されており、長手方向の両端は密閉されている。また、所定間隔を空けて長手方向に配置される複数の孔によって、噴出口６が構成される。また、液噴出部４には、槽体の側壁２ａを貫通して連通する可撓性パイプＴ１および配管Ｔ２が連結されている。配管Ｔ２はポンプ５０の吐出口につながっている。これにより、ポンプ５０から受けた処理液Ｑを、噴出口６から噴出することができる。
【００４９】
図６Ａに示すように、噴出口６の噴出角度θは、水平面Ｌに対して斜め上方向（例えば、５°〜８５°の範囲）に向けて設置されている。このため、噴出口６から噴出された処理液Ｑの液流は、放物線上を移動する。頂点Ｚの位置は、処理液Ｑの噴出流速Ｖおよび噴出角度θにより決まる。なお、処理液Ｑの噴出流速Ｖは、ポンプ５０からの圧力と、噴出口６の大きさに依存する。
【００５０】
この実施形態では、液噴出部４（半径ｒ）を板状ワーク１０から所定距離Ｄだけ離れた位置に配置した条件下において、噴出流速Ｖで噴出された処理液Ｑが、放物線の頂点Ｚで板状ワーク１０に当たるように噴出角度θを設計している。図６Ｂに示す放物線の頂点Ｚの位置では、処理液Ｑの鉛直方向の速度成分Ｖｙが無くなり、噴出されたときの水平方向の速度成分Ｖｘだけが残るため、泡立ちの発生を低減することができるためである。
【００５１】
さらに、液流が板状ワーク１０の面に対して垂直に当たるので、板状ワーク１０に当たった処理液Ｑが面上を同心円状に均一に拡がる。なお、頂点付近、すなわち、頂点Ｚよりも所定距離だけ前方または後方で当てるようにしてもよい。
【００５２】
処理液Ｑを水平面Ｌに対して斜め上方向に噴出せず、水平方向または水平方向より下方向に噴出した場合、処理液Ｑの鉛直方向の速度成分Ｖｙは増加し続け、合成速度Ｖもその分増加する。その結果、板状ワーク１０に当たった処理液Ｑがｙ方向に飛び散って泡立ちが発生し易い。
【００５３】
以上のように、水平面Ｌに対して斜め上方向に向けて処理液を噴出することで、ワークに衝突する際に生じる泡立ちの発生を抑えて、処理液Ｑ中の溶存酸素量が増加するのを防止することが可能になる。
【００５４】
さらに、図７に示すように、噴出口６を覆うように、噴出される処理液Ｑの流れの向きを変えるための変流部材４０を液噴出部４の外周に取り付けるようにしてもよい。なお、変流部材４０は、噴出口６から間隔を空けて設けられる。
【００５５】
図７は、変流部材４０によって噴出された処理液Ｑの向きを変えた状態を示す拡大図、図８Ａは、噴出された処理液Ｑ（変流部材４０に当たる前）のγ１断面図、図８Ｂは、変流部材４０に当たった後の処理液Ｑのγ２断面図である。
【００５６】
変流部材４０を用いると、各噴出口６から出た液流（図８Ａに示す断面積）が変流板に当たって断面積が大きくなる（図８Ｂ）。このため、板状ワーク１０に当たったときに、隣接する各噴出口６からの液流が連結し（図８Ｂ）、板状ワーク１０の表面に当たる処理液Ｑの均一化を図ることができる。
【００５７】
すなわち、理想的には、図２１に示すようなスリット（長孔）から出る液流のように均一化を図ることができる。また、スリット（長孔）から出る液流と同じ放物線を描くためには、スリットの幅を細くする必要があり（噴出時に同じ流速を得るには、スリットの面積を孔の合計の面積と同じにする必要があるため）、ごみが詰まりやすい欠点がある。このため、孔を用いてスリットと同じ効果を出すこととした。
【００５８】
１．２  表面処理装置３００における各工程の内容
図９などを用いて、表面処理装置３００において行われる各工程の内容について説明する。なお、この実施形態では、表面処理装置３００の各槽内で使用される処理液Ｑは、各槽の循環ポンプ５０によって常時循環されていることとする。
【００５９】
図９は、搬送機構１８の動作を制御する制御部の接続関係を示す図である。図９に示すように、磁気センサー１９（図４）は、ＰＬＣ３０に接続されており、ガイドレール１４の上に配置された磁石の上部に達したことを検知する。磁気センサー１９が検知した信号は、ＰＬＣ３０に与えられる。信号を受けたＰＬＣ３０は、モーター２８をオン／オフして、搬送ローラー２２、２４の動作（前進、後退、停止など）を制御する。
【００６０】
まず、図１に示すロード部３０２において、作業者または取付装置（図示せず）によって、めっき処理の対象である板状ワーク１０が搬送用ハンガー１６に取り付けられる（図２に示す状態）。
【００６１】
その後、作業者が搬送スイッチ（図示せず）を押下すると、搬送用ハンガー１６は、ガイドレール１２、１４に沿って、第１水洗槽３０４内に移動する。すなわち、ＰＬＣ３０が、モーター２８をオンして搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる。
【００６２】
つぎに、第１水洗槽３０４では、板状ワーク１０に表裏両面から水を当てることにより、水洗い処理が行われる。搬送用ハンガー１６は、第１水洗槽３０４で所定時間だけ停止し、その後、デスミア槽３０６内に移動する。
【００６３】
例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９から第１水洗槽３０４の中央に到達したことを示す信号を受けてから、モーター２８を１分間だけ停止させる。その後、モーター２８をオンして搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる。なお、第２水洗槽３０８、第３水洗槽３１２、第４水洗槽３１４でも同様の制御が行われる。
【００６４】
デスミア槽３０６で、搬送用ハンガー１６は、所定時間（例えば、５分間）だけ停止し、板状ワーク１０に表裏両面からデスミア処理液（膨潤液、レジンエッチング液、中和液等）が当てられる。ここで、デスミア処理とは、板状ワーク１０に孔を開ける等の際に残った加工時のスミア（樹脂）を除去する処理である。
【００６５】
例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９からデスミア槽３０６の中央に到達したことを示す信号を受けてから、モーター２８を５分間だけ停止させる。その後、モーター２８をオンして搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる。以下の前処理槽３１０でも同様の制御が行われる。
【００６６】
つぎに、第２水洗槽３０８では、板状ワーク１０に表裏両面から水を当てることにより、水洗い処理が行われる。搬送用ハンガー１６は、第２水洗槽３０８で所定時間（例えば、１分間）だけ停止し、その後、前処理槽３１０内に移動する。
【００６７】
前処理槽３１０で、搬送用ハンガー１６は所定時間（例えば、５分間）だけ停止し、板状ワーク１０に表裏両面から前処理液が当てられる。
【００６８】
つぎに、第３水洗槽３１２では、板状ワーク１０に表裏両面から水を当てることにより、水洗い処理が行われる。搬送用ハンガー１６は、第３水洗槽３１２で所定時間（例えば、１分間）だけ停止する。
【００６９】
その後、無電解銅めっき槽２００（図３、図４）内に移動するまでに、以下に示す往復移動を所定回数だけ行う。板状ワーク１０にスルホール等の孔が開けられている場合、そこに空気（気泡）がたまって処理液Ｑが板状ワーク１０に付着しないおそれがあるため、無電解銅めっき処理を行う前に、空気（気泡）を確実に除去する必要があるからである。  図１０に、第３水洗槽３１２と無電解銅めっき槽２００（図１）の間におけるガイドレール１４の断面図を示す。図１０および図１に示すように、ガイドレール１４には、衝撃発生部である凸部２６が１つ設けられている。搬送ローラー２４が、この凸部２６を乗り越えた衝撃により、処理液Ｑの水切りをすることができる。
【００７０】
例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９から図１０に示す磁石２１が中央に到達したこと（すなわち、搬送ローラー２４が凸部２６を乗り越えたこと）を示す信号を受けてから、搬送ローラー２２、２４を所定距離だけ後退駆動させるようにモーター２８を制御する（図１０に示すＹ１方向）。その後、再び磁石２１を検知するまで搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる（図１０に示すＹ２方向）。上記前後移動を所定回数（例えば、３回往復）だけ繰り返した後、無電解銅めっき槽２００内の中央位置（図４）に停止する。  無電解銅めっき槽２００で、搬送用ハンガー１６は所定時間だけ停止し、板状ワーク１０に表裏両面から無電解銅めっき液が当てられる。
【００７１】
例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９から無電解銅めっき槽２００の中央に到達したことを示す信号を受けてから、モーター２８を５分間だけ停止させる。その後、モーター２８をオンして搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる。
【００７２】
つぎに、第４水洗槽３１４では、板状ワーク１０に表裏両面から水を当てることにより、水洗い処理が行われる。搬送用ハンガー１６は、第４水洗槽３１４で所定時間（例えば、１分間）だけ停止し、その後、アンロード部３１６に移動する。
【００７３】
最後に、アンロード部３１６に移動した搬送用ハンガー１６を停止させる。例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９からアンロード部３１６に到達したことを示す信号を受けてから、モーター２８を停止させる。その後、作業者などにより、板状ワーク１０が搬送用ハンガーから取り外される。これにより、無電解めっき処理の一連の工程が終了する。
【００７４】
なお、上記実施形態では、複数の槽（図１に示す第１水洗槽３０４、デスミア槽３０６、前処理槽３１０、無電解銅めっき槽２００など）を表面処理装置３００が備える構成としたが、表面処理装置３００がこれらのうち少なくとも１つの槽を備える構成としてもよい。
【００７５】
なお、上記実施形態では、表面処理装置３００によって、板状ワーク１０に無電解銅めっきを行うこととしたが、板状ワーク１０にその他の無電解めっき（例えば、無電解ニッケルめっき、無電解スズめっき、無電解金めっきなど）を行うようにしてもよい。
【００７６】
また、搬送機構１８の構成については限定されない。
【００７７】
１．３  ハニカム部材
搬送用ハンガー１６の鉛直下方に設けたハニカム部材６０について、図１１を用いて説明する。ハニカム部材６０は、六角形の穴が空いた筒状部材が複数連結されている。鉛直方向(矢印α方向)に、処理液の滴が落ちるので、滴は貫通穴６１を通過する(図１２Ａ参照)。貫通穴６１を通過した滴は、図１２Ｂに示すように、液面Ｈにぶつかるので、滴の形状がつぶれて、一部が反射される。その際、反射された滴の一部はななめ方向に反射するので、筒状部材の内壁に衝突する。これにより貫通穴６１よりも上面に出てくる滴の量が減少する。かかる内壁による反射により、ハニカム部材６０は、飛散防止機能を果たす。
【００７８】
ハニカム部材６０による飛散防止効果の確認実験について、図１３を用いて説明する。図１３Ａに示すように、第１室７４と第２室７５の間に、開口部７２を有する側壁７１を設ける。第１室７４にて側壁７１より距離M離れた位置にて、高さ750mmから、0.3L/min/Nで水を第１室７４の底板に向けて供給する。
【００７９】
第２室７５の側壁７１に隣接させて、バレット７６を設置し、第１室７４から第２室７５に飛び跳ねた水を収集し、量を計測した。本実施形態においては、パレット７６は、長さD：180mm、幅W：125mm 、高さH：60mmとした。
【００８０】
図１４に、上記条件をいろいろ変更した場合の計測結果を示す。実験１〜３は、図１３Aのように底面に何も設置しなかった。この場合、距離M=180mm、開口部７２の下面の高さをL1＝60mm、160mm、260mmと変えると、飛び跳ね量は、それぞれ330mL/30分、36mL/30分、7mL/30分と、高くなるほど飛び跳ね量が減少した。
【００８１】
また、実験４，５は、実験１と比べて、距離M=100mm、側壁７１に近づいた位置から水を供給した場合である。この場合、L1＝60mm、160mmで、飛び跳ね量は、それぞれ330mL/30分、32mL/30分であった。
【００８２】
実験１〜５により、側壁７１からの距離を多少離しても、飛び跳ね量は変わらないが、仕切り高さL1を高くすると、飛び跳ね量は減少することがわかる。
【００８３】
実験６は、図１３Ｂに示すように、第1室７４の底面に20mmの高さまで水を溜めた場合であり、他は実験１と同様である。この場合、飛び跳ね量は、100mL/30分であった。このように、水面を設けることで、仕切り高さL1を高くしなくても、飛び跳ね量は１／３以下に減少する。これは、図１２Ｂに示すように、水面で反射されるからと考えられる。
【００８４】
実験７、８は、図１３Ｃに示すように、表面の高さが開口部７２と同じ位置となるように、ハニカム部材HC1を設置した場合である。本実施形態においては、ハニカムHC１として、L：530mm(ピッチP:23mm)、 W：350mm(セルサイズCL：12mm)x 高さH：55mm x厚みt：0.2mm(図１１参照)のハニカム部材を採用した。実験７，８から明らかなように、仕切り高さL1：60mmでも、距離M：180mm、100mmのいずれでも、飛び跳ね量は、15mL/30分と、実験１の約1/20以下に減少する。
【００８５】
実験７，８では、底面にて滴が反射される。この場合は、図１２Ｃに示すように、第１室７４の底面で反射された滴は、水面で反射された場合と同様に、崩れてその一部が反射される。この場合も、反射された滴の一部は、ハニカム部材６０の内壁で阻止される。
【００８６】
実験９は、ハニカム部材HC2を設置した場合である。ハニカムHC2は、L：530mm(ピッチP:5.4mm)、 W：350mm(セルサイズCL：3.3mm)、  高さH55mm 、厚み t：0.1mmである。すなわち、貫通穴６１の大きさが実験７，８と比べると小さくなった場合である。このように貫通穴６１を小さくしても、飛び跳ね量は、実験１と比べると、約1/4以下に減少する。実験9のほうが飛び跳ね量が多いのは、ハニカム部材HC1と比べると、ハニカム部材HC2のほうが、貫通穴６１の露出面に比べて厚みtの面積が増えるため、水滴が貫通穴６１に入らず、上面で反射されるためだと発明者は理解した。
【００８７】
上記のハニカム部材６０を設けることで、側壁２ｂの開口部までの高さを低くしても、跳ね返りの少ない表面処理装置を提供することができる。これにより全体としてコンパクトな表面処理装置でも、隣接する処理室への液の混入を減少させることができる。
【００８８】
１．４  変形例について
上記実施形態においては、跳ね返り阻止部として、ハニカム構造のハニカム部材６０を採用したが、これに限定されず、６角形以外の多角形や円形の筒状部材が、ハニカム部材６０のように複数配置されたハニカム類似構造、すなわち、開口部が鉛直方向に向くように縦長の個別筒状部材が複数配置された形状であってもよい。かかる構造であれば、個別筒状部材の上面から入った滴が、貫通穴を通過して、底面などに反射して、再度個別筒状部材の下面から個別筒状部材に入った滴は、個別筒状部材の内面で反射して、個別筒状部材の上面から滴が飛び出ることを阻止できるからである。
【００８９】
実施形態においては、図３に示すように、液噴出部４から板状ワーク１０に直接、処理液Ｑを噴出する表面処理装置について説明したが、板状ワーク１０に間接的に処理液Ｑを噴出する表面処理装置であってもよい。すなわち、以下のような表面処理装置であれば、本件発明を適用可能である。
【００９０】
被処理物を搬送する搬送用ハンガーと、
内部において、前記搬送用ハンガーにより搬送された前記被処理物に処理液を付着させるための槽体と、
前記搬送用ハンガーを、前記槽体内に搬送する搬送機構と、
を備えた表面処理装置であって、
前記槽体が、前記被処理物に当てられた処理液を受けるための液受け部と、前記液受け部よりも上方に設けられ、前記被処理物に当てようとする前記処理液を滞留させるための液滞留部と、前記液滞留部から溢れ出て流下した前記処理液を被処理物に向かって流出させるための液流出部であって、先端が前記液滞留部または前記液受け部との連結部から突出するように構成された液流出部と、を備えた表面処理装置。
【００９１】
なお、本実施形態においては、各処理室において異なる処理液が被処理物に当てられる。たとえば、第１の処理液がメッキ液である場合、これが隣接する第２の処理液である水と混ざると、第２の処理室では特に問題はないが、第２の処理室に混入する分だけ、メッキ液が減る。逆に、第１の処理液が水である場合、これが隣接する第２の処理液であるメッキ液と混ざると、第２の処理室のメッキ液中に水が混在する。水が混在したメッキ液は、くみ上げられて再度、被処理物に吹き付けられるので、その分だけメッキ液の機能が低下する。
【００９２】
このように、第１の処理液が第２の処理液側に混入する場合、第２の処理液が第１の処理液側に混入する場合、いずれも問題となる。
【００９３】
また、本実施形態においては、基板１０の下部に処理液Ｑの液槽を設けるようにしたが、これについては任意である。
【００９４】
２．（第２実施形態）
図１５に、第２実施形態を示す。上記実施形態では、底面で跳ねた滴を隣接する処理室に飛び跳ねるのを阻止する跳ね返り阻止部を設けることにより、隣接する処理室への混入を防止させるようにしたが、滴が跳ねても、側壁２ｂの開口部から離れる方向に跳ね返るように、図１５に示すような跳ね返り方向変換部７９を設けるようにしてもよい。このよう滴の跳ね返る方向を制御することにより、隣接する処理室への跳ね返り量を少なくすることができる。かかる跳ね返り方向変換部は、図１５では搬入可能開口部８に近づくにつれて鉛直方向の高さが高くなる曲線形状としたが、直線形状であってもよい。すなわち、搬入可能開口部８に近づくにつれて鉛直方向に高くなる形状であればどのようなものであってもよい。
【００９５】
３．（第３実施形態）
図１６に第３実施形態を示す。この実施形態では、処理室内の空気を上から下に流すことにより、ハニカム部材６０の表面で跳ねた滴の跳ね返り量を低減する流量制御機構が設けられている。流量制御機構は、後述するように、空気および液体を下方に吸引することにより、飛び跳ね量を減らす。
【００９６】
本実施形態においては、流量制御機構として、ハニカム部材６０の下部に、図１６に示すような形状のトレイ８０を設け、空気の流れを制御するようにした。図１７は、図１６の矢印α方向からみた図である。なお、図１７ではわかりやすくするために、フレーム５４がないものとして図示している。トレイ８０は、図１７に示すように、板状ワーク１０の下部で、かつスリット８の近傍に、２カ所設けられている。これは、スリット８の近傍にて隣接する処理室への飛び跳ねを減少するためである。
【００９７】
トレイ８０の形状について、図１８を用いて説明する。図１８では説明を容易にするために、ハニカム部材６０は破線で相対位置を示している。枠８２の端部には平面８２aが連続して形成されている。平面８２aの内端部からx方向に斜面８４が形成されている。斜面８４の端部からはy方向に斜面８５が形成されている。また、パイプ８１の上面には、溝８１aが形成されるような一対の蓋８１bがはめこまれている。
【００９８】
本実施形態においては、溝８１aの距離d1は約2mmとした。かかる幅の決定は、パイプ８１が単位時間あたりに吸い込むことのできる許容量（内径で決定される）が、トレイ８０が単位時間あたりに収集する液体の量よりも多くなるようにすればよい。ただし、あまりに距離d1を大きくすると吸引空気の流量(Q=AV)一定の状態では、流速が低下するので、5mm以下が望ましい。
【００９９】
図１９に、図１６矢印δ１方向からの矢視図を示す。このように上からみると、板状ワーク１０の両側に斜面８４が位置し、２つの斜面８４の端面間で形成される溝の方向が、板状ワーク１０と平行となるように、トレイ８０が配置されている。
【０１００】
斜面８５の端部には縦パイプ状部材８１が連結されている。縦パイプ状部材８１の途中には図１６に示すように、横パイプ状部材８８が連通するように接続されている。
【０１０１】
これにより、ハニカム部材６０の貫通穴６１を通過した液は、斜面８４、８５を通って、縦パイプ状部材８１に集められる。また、本実施形態においては、パイプ９３の先に設けたポンプ９２で、部屋９４が負圧状態となるように、吸引している。
【０１０２】
処理室の上部には空気取り入れ口９５が設けられている。したがって、上記吸引により、空気取り入れ口９５から取り入れられた空気は、ハニカム部材６０の貫通穴６１から、斜面８４，８５を通って、縦パイプ状部材８１、横パイプ状部材８８へ流れる。また、収集した液も合わせて、縦パイプ状部材８８から部屋９４に排出される。
【０１０３】
また、図１９に示すように、板状ワーク１０の両側に斜面８４が位置し、２つの斜面８４の端面間で形成される溝の方向が、板状ワーク１０と平行となるように、トレイ８０が配置されている。したがって、前記ポンプ９２によって吸引されると、図１６のような矢印δ２方向の空気の流れが生ずる。このように、板状ワーク１０の下部にて矢印δ２方向の空気の流れが生ずることにより、厚みが薄い板状ワーク１０の姿勢が安定するという効果も奏する。
【０１０４】
本実施形態においては、ハニカム部材６０の下部にトレイ８０を設けたが、ハニカム部材６０以外の部材であってもよい。また、ハニカム部材６０なしで、トレイ８０を設けてもよい。この場合でも、前記吸入による空気の流れが滴の跳ね返りを防止できる。
【０１０５】
また、流量制御機構としてトレイ８０以外の形状を採用してもよい。すなわち、処理室内の空気を上から下に流すことにより、ハニカム部材６０の表面で跳ねた滴の跳ね返り量を低減することができる流量制御機構であればどのようなものであってもよい。
【０１０６】
本実施形態においては、ポンプ９２による吸引によって、処理室内の制御風速が0.2〜0.5m/sとなるようにした。この程度とすることにより、板状ワーク１０の姿勢を安定させつつ、ハニカム部材６０の表面による跳ね返りを低減させることができる。
【０１０７】
本実施形態においては、ハニカム部材６０の下部のトレイ８０の形状は、傾斜している。したがって、ハニカム部材６０を通過した滴は、斜めに跳ね返るので、跳ね返った滴が、貫通穴６１を通過することを防止する。
【０１０８】
本実施形態においては、一対の蓋８１bで溝８１ a を形成したが、溝８１aの形状のパイプを採用するなど、他のやり方であってもよい。
【０１０９】
図２０Aに空気を吸い込む案内部１２０を設けた実施形態を示す。図２０AのA-A断面図、B-B断面図を、それぞれ図２０B，Cに示す、案内部１２０は、蓋１２１a、bで構成されている。案内部１２０は、蓋１２１a、bで構成されている。蓋１２１aの斜視図を図２０Dに示す。蓋１２１aは側面１２２、斜面部１２３および半円部１２５を有している。側面１２２には複数の貫通穴１２２aが設けられている。蓋１２１bは蓋１２１aと対称形状である。
【０１１０】
蓋１２１a、１２１bをトレイ８０に位置させると、斜面８４、８５と斜面部１２３が合わされて保持され、半円部１２５により縦パイプ状部材８１の一部がふさがれる。また、ハニカム部材６０を2つに分けて、その間から、側面１２２ではされまれた距離d1の隙間が縦パイプ部材８１上に形成される。これにより、吸込口を基板に近づけることができるので、吸引力を高くすることができる。また、吸入口を狭くすることができるので、板状ワーク１０下部の空気の流速を高くすることができる。これにより滴の跳ね返りを低下させることができる。
【０１１１】
なお、蓋１２１a、１２１bにより、トレイ８０内に滴がたまるという問題は、貫通穴１２２aを設けることで解消できる。貫通穴１２２aの位置および個数については、トレイ８０にたまる液体の量に応じて設計すればよい。
【０１１２】
図２０では、側面１２２を有する蓋１２１a、bを採用したが、別途保持する機構を設ければ、斜面部１２３は必須ではない。さらに、側面１２２を無くしてよい。この場合でも、半円部１２５だけで構成された蓋で吸入口を狭くすることができるので、板状ワーク１０下部の空気の流速を高くすることができる。
【０１１３】
なお、板状ワーク１０の形状によっては、トレイ８０との距離が変動することも考えられる。この場合は、図２０Ｂに示すように、トレイ８０を高さ方向にスライド自在に構成すればよい。かかる高さ調整は、トレイ８０の下部に縦パイプ部材８１の内径とほぼ同じ外径のパイプ部８３を設けてもよいし、蛇腹構造のようにしてもよい。トレイ８０の高さをスライド自在に保持する機構としては周知の機構を採用すればよい。
【０１１４】
なお、処理室内の制御風速は上記範囲に限定されない。
【０１１５】
なお、上記空気取り入れ口９３およびポンプ９２は各処理室に設ければよい。これにより、処理室内で図１７矢印R方向への流れ（開口部８方向への流れ）はほぼなくなり、空気の流れは、ほぼ鉛直方向となるので、板状ワーク１０の姿勢が安定する。
【０１１６】
また、フレーム５２の下端面が処理液Ｑよりも下側に位置している。したがって、部屋９４への空気の連通は縦パイプ状部材８１と横パイプ状部材８８を介しておこなわれる。
【０１１７】
本実施形態においては、処理液Ｑである場合について説明したが、水洗いをおこなう水洗い槽（図１参照）についても同様の構成とすることができる。
【０１１８】
なお、トレイ８０の形状については上記には限定されない。
【０１１９】
本実施形態においては、跳ね返りを減少させるために、流量制御機構を採用したが、姿勢安定のみのために流量制御機構を採用してもよい。
【０１２０】
この場合、実施形態３の装置を以下のような発明思想を有する装置として把握することができる。
【０１２１】
シート状の被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第１の処理室、
前記第１の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第１の処理液を掛け流す第１の処理液掛け流し機構、
前記第１の処理室に隣接し、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入される第２の処理室、
前記第２の処理室に設けられ、前記搬入された被処理物の上部から前記鉛直方向に保持された被処理物の表面領域に、第２の処理液を掛け流す第２の処理液掛け流し機構、
前記第１の処理室と前記第２の処理室との間に設けられた区分け壁であって、前記被処理物が鉛直方向に保持された状態で搬入可能とする搬入可能開口部を有する区分け壁、
前記区分け壁近傍の前記第１の処理室または前記第２の処理室に設けられ、前記被処理物の下部から落下した処理液が着地面で跳ねて、前記搬入可能開口部から隣接する処理室内に前記跳ねた処理液の混入を減少させる混入減少機構、
を備え、
前記混入減少機構は、前記シート状の被処理物の２つの平面に沿って、鉛直方向に空気が流れるように制御する空気流量制御機構を有すること、
を特徴とする表面処理装置。
【０１２２】
かかる発明においても、図２０のように、案内部１２０を設けることで、空気の流速が早くなるので、板状ワーク１０を安定させるという効果も奏する。
【０１２３】
上記においては、本発明を好ましい実施形態として説明したが、限定のために用いたのではなく、説明のために用いたものであって、本発明の範囲および精神を逸脱することなく、添付のクレームの範囲において、変更することができるものである。
【符号の説明】
【０１２４】
６０・・・・・・・・ハニカム部材
６１・・・・・・・・貫通穴
７９・・・・・・・・跳ね変え方向変換部
８０・・・・・・・・トレイ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
2020111780.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【手続補正書】
【提出日】令和2年3月17日(2020.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
すなわち、理想的には、スリット（長孔）から出る液流のように均一化を図ることができる。また、スリット（長孔）から出る液流と同じ放物線を描くためには、スリットの幅を細くする必要があり（噴出時に同じ流速を得るには、スリットの面積を孔の合計の面積と同じにする必要があるため）、ごみが詰まりやすい欠点がある。このため、孔を用いてスリットと同じ効果を出すこととした。