(57)【要約】【課題】ＥＱＥが良好な有機ＥＬデバイスを提供する。【解決手段】第１の電極と有機発光層と第２の電極とを含む画素、基板、該基板に設けられており画素を規定するためのバンクを備え、該画素はバンク内に配置され、有機発光層は平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有し、かつ、短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面において長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有し、画素は電流値が１０ｍＡ／ｃｍ２であるときの平均輝度が３０００ｃｄ／ｍ２以上であり、画素は上記断面における最大輝度の値を１とする規格化がなされた上記断面における輝度分布曲線について式：ＳＬ（７０）≦０．０１［ＳＬ（７０）は、長手方向中心の位置を０、一方端の位置を＋１００、他方端の位置を−１００とするとき、位置＋７０と位置−７０における輝度分布曲線の傾きの絶対値の平均値を表す。］を満たす有機ＥＬデバイスである。【選択図】図２
2020031187.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極と有機発光層と第２の電極とを含む画素を備える有機ＥＬデバイスであって、
前記有機ＥＬデバイスは、基板と、前記基板に設けられており前記画素を規定するためのバンクとを備え、
前記画素は、前記バンク内に配置され、
前記有機発光層は、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有し、かつ、前記短手方向の中心を通り前記長手方向に平行な断面において、長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有し、
前記画素は、電流値が１０ｍＡ／ｃｍ２であるときの平均輝度が３０００ｃｄ／ｍ２以上であり、
前記画素は、前記断面における最大輝度の値を１とする規格化がなされた前記断面における輝度分布曲線について、下記式（１）：
ＳＬ（７０）≦０．０１０          （１）
［式中、ＳＬ（７０）は、前記長手方向中心の位置を０、前記長手方向における一方端の位置を＋１００、前記長手方向における他方端の位置を−１００とするとき、位置＋７０における輝度分布曲線の傾きの絶対値と、位置−７０における輝度分布曲線の傾きの絶対値との平均値を表す。］
を満たす、有機ＥＬデバイス。
【請求項２】
第１の電極と有機発光層と第２の電極とを含む画素を形成する工程を含む有機ＥＬデバイスの製造方法であって、
前記有機ＥＬデバイスは、基板と、前記基板に設けられており前記画素を規定するためのバンクとを備え、
前記画素は、前記バンク内に配置され、
前記画素を形成する工程は、
前記第１の電極上に前記有機発光層を形成する工程と、
前記有機発光層上に前記第２の電極を形成する工程と、
得られた画素を検査する工程と、
を含み、
前記有機発光層は、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有し、かつ、前記短手方向の中心を通り前記長手方向に平行な断面において、長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有するように形成され、
前記画素は、電流値が１０ｍＡ／ｃｍ２であるときの輝度が３０００ｃｄ／ｍ２以上であり、
前記検査する工程は、前記画素の前記断面における輝度分布曲線の傾きに関する情報を取得し、該情報に基づいて前記画素の良否判定を行う工程を含む、有機ＥＬデバイスの製造方法。
【請求項３】
前記画素の良否判定を行う工程において、前記画素が、前記長手方向中心における輝度で規格化したときの前記断面における輝度分布曲線について、下記式（１）：
ＳＬ（７０）≦０．０１０          （１）
［式中、ＳＬ（７０）は、前記長手方向中心の位置を０、前記長手方向における一方端の位置を＋１００、前記長手方向における他方端の位置を−１００とするとき、位置＋７０における輝度分布曲線の傾きの絶対値と、位置−７０における輝度分布曲線の傾きの絶対値との平均値を表す。］
を満たすか否かに基づいて前記画素の良否判定を行う、請求項２に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
【請求項４】
前記第１の電極上に、塗布法によって有機発光層を形成する、請求項２又は３に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬデバイスの製造方法及び有機ＥＬデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）デバイスは、有機化合物の電界発光を利用した発光素子を含むデバイスである。有機ＥＬデバイスでは、各画素内に有機発光層が設けられ、画素毎に光が発せられる〔例えば、国際公開第２００８／１４９４９９号（特許文献１）〕。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２００８／１４９４９９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
有機ＥＬデバイスには、低消費電力及び長寿命化の観点から、外部量子効率（ＥＱＥ）の向上が求められている。
一方、バンク付きの画素を持つ有機ＥＬデバイスにおいては、端部で発光した場合にリーク（短絡）につながる危険性から各画素に設けられる有機発光層の断面形状を長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状にすることによって、リークの危険性を抑えていた。しかし、このような有機ＥＬデバイスにおいて、ＥＱＥについては改善の余地があった。
【０００５】
本発明の目的は、ＥＱＥが良好な有機ＥＬデバイスを提供することにある。
本発明の他の目的は、ＥＱＥが良好な有機ＥＬデバイスを生産性良く製造することのできる方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下に示す有機ＥＬデバイスの製造方法及び有機ＥＬデバイスを提供する。
［１］  第１の電極と有機発光層と第２の電極とを含む画素を備える有機ＥＬデバイスであって、
前記有機ＥＬデバイスは、基板と、前記基板に設けられており前記画素を規定するためのバンクとを備え、
前記画素は、前記バンク内に配置され、
前記有機発光層は、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有し、かつ、前記短手方向の中心を通り前記長手方向に平行な断面において、長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有し、
前記画素は、電流値が１０ｍＡ／ｃｍ２であるときの平均輝度が３０００ｃｄ／ｍ２以上であり、
前記画素は、前記断面における最大輝度の値を１とする規格化がなされた前記断面における輝度分布曲線について、下記式（１）：
ＳＬ（７０）≦０．０１０          （１）
［式中、ＳＬ（７０）は、前記長手方向中心の位置を０、前記長手方向における一方端の位置を＋１００、前記長手方向における他方端の位置を−１００とするとき、位置＋７０における輝度分布曲線の傾きの絶対値と、位置−７０における輝度分布曲線の傾きの絶対値との平均値を表す。］
を満たす、有機ＥＬデバイス。
［２］  第１の電極と有機発光層と第２の電極とを含む画素を形成する工程を含む有機ＥＬデバイスの製造方法であって、
前記有機ＥＬデバイスは、基板と、前記基板に設けられており前記画素を規定するためのバンクとを備え、
前記画素は、前記バンク内に配置され、
前記画素を形成する工程は、
前記第１の電極上に前記有機発光層を形成する工程と、
前記有機発光層上に前記第２の電極を形成する工程と、
得られた画素を検査する工程と、
を含み、
前記有機発光層は、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有し、かつ、前記短手方向の中心を通り前記長手方向に平行な断面において、長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有するように形成され、
前記画素は、電流値が１０ｍＡ／ｃｍ２であるときの輝度が３０００ｃｄ／ｍ２以上であり、
前記検査する工程は、前記画素の前記断面における輝度分布曲線の傾きに関する情報を取得し、該情報に基づいて前記画素の良否判定を行う工程を含む、有機ＥＬデバイスの製造方法。
［３］  前記画素の良否判定を行う工程において、前記画素が、前記長手方向中心における輝度で規格化したときの前記断面における輝度分布曲線について、下記式（１）：
ＳＬ（７０）≦０．０１０          （１）
［式中、ＳＬ（７０）は、前記長手方向中心の位置を０、前記長手方向における一方端の位置を＋１００、前記長手方向における他方端の位置を−１００とするとき、位置＋７０における輝度分布曲線の傾きの絶対値と、位置−７０における輝度分布曲線の傾きの絶対値との平均値を表す。］
を満たすか否かに基づいて前記画素の良否判定を行う、［２］に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
［４］  前記第１の電極上に、塗布法によって有機発光層を形成する、［２］又は［３］に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
【発明の効果】
【０００７】
ＥＱＥが良好な有機ＥＬデバイスを提供することができる。
また、ＥＱＥが良好な有機ＥＬデバイスを生産性良く製造することのできる方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】一実施形態に係る有機ＥＬデバイスを画素形成面側から見たときの平面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面の一部拡大図である。
【図３】図１の有機ＥＬデバイスが有するバンク付き基板を説明する図である。
【図４】画素の輝度分布曲線の一例を示す図である。
【図５】有機構造体形成工程を説明するための図である。
【図６】有機発光層形成工程を説明するための図である。
【図７】実施例、比較例及び参考例における有機発光層を形成する際の塗布膜を真空乾燥させる工程での減圧プロファイルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、実施形態を示しながら本発明について説明する。同一の要素には同一符号を付する。重複する説明は省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。
【００１０】
＜有機ＥＬデバイス＞
図１は、一実施形態に係る有機ＥＬデバイスを画素形成面側から見たときの平面図である。
図１に示される有機ＥＬデバイス１は有機ＥＬディスプレイパネルであり、複数の画素２を有する。それぞれの画素２は、有機ＥＬ素子部である。すなわち、有機ＥＬデバイス１は、複数の有機ＥＬ素子部が一体的に連結された構成を有する。
本明細書において、「画素」とは、光を発する単位（又は領域）を意味しており、少なくとも第１の電極と有機発光層と第２の電極とを含む。本実施形態において、画素２は、陽極（第１の電極）１２、正孔注入層２１、正孔輸送層２２、有機発光層２３及び陰極（第２の電極）３０で構成されている。
画素２の発光により画素２は色情報を有する。図１では、画素２を破線で模式的に示している。
【００１１】
複数の画素２のそれぞれは、赤色、緑色、及び青色のいずれかの光を出射する。この観点から、有機ＥＬデバイス１は、３種類の画素２、すなわち、赤色の光を出射する赤色画素２Ｒ、緑色の光を出射する緑色画素２Ｇ及び青色の光を出射する青色画素２Ｂを有する。以下では、画素２が発光する色を区別して説明する場合には、画素２を、上記のように、赤色画素２Ｒ、緑色画素２Ｇ及び青色画素２Ｂと称する場合もある。
【００１２】
複数の画素２は、二次元配列（又はマトリックス状）に配置されている。二次元配列の互いに直交する二方向をＸ方向（又は行方向）及びＹ方向（又は列方向）とも称す。この場合、複数の画素２を構成する３種類の赤色画素２Ｒ、緑色画素２Ｇ及び青色画素２Ｂは、例えば、以下の（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）の列を、Ｙ方向にこの順で繰り返し配置することによって、それぞれ整列して配置される。
（ｉ）赤色画素２ＲがＸ方向に所定の間隔をあけて配置される列。
（ｉｉ）緑色画素２ＧがＸ方向に所定の間隔をあけて配置される列。
（ｉｉｉ）青色画素２ＢがＸ方向に所定の間隔をあけて配置される列。
【００１３】
有機ＥＬデバイス１は、例えば、並列された赤色画素２Ｒ、緑色画素２Ｇ及び青色画素２Ｂを一つの表示画素単位として、表示画素単位に含まれる赤色画素２Ｒ、緑色画素２Ｇ及び青色画素２Ｂを制御することでフルカラー表示を行うことができる。
【００１４】
各列における画素２の間の間隔、各行における画素２の間の間隔、画素２の配置例及び画素２の数等は、有機ＥＬデバイス１の仕様等に応じて適宜設定される。
【００１５】
有機ＥＬデバイス１の構成についてより詳細に説明する。
図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面の一部拡大図である。図３は、図１の有機ＥＬデバイスが有するバンク付き基板を説明する図面であり、図２からバンク付き基板１０以外の構成要素を省略した図面に対応する。
有機ＥＬデバイス１は、バンク付き基板１０と、複数の有機ＥＬ構造部２０と、陰極（第２の電極）３０とを備える。有機ＥＬデバイス１は、トップエミッション型のデバイスでもよいし、ボトムエミッション型のデバイスでもよい。以下では断らない限り、ボトムエミッション型、すなわち、バンク付き基板１０側から光を取り出す場合について説明する。
図２及び図３に示されるように、バンク付き基板１０は、基板１１と、複数の陽極（第１の電極）１２と、バンク１３とを有する。
【００１６】
（１）基板
基板１１は、可視光（波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの光）に対して透光性を有する板状の透明部材である。基板１１は、陽極１２及びバンク１３を支持する支持体である。基板１１の厚みは、例えば３０μｍ以上１１００μｍ以下である。基板１１は、例えばガラス基板又はシリコン基板等のリジッド基板であってもよいし、プラスチック基板又は高分子フィルム等の可撓性基板であってもよい。可撓性基板を用いることで、有機ＥＬデバイス１が可撓性を有し得る。
【００１７】
基板１１には画素２を駆動させるための回路が予め形成されていてもよい。基板１１には、例えばＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）やキャパシタ等があらかじめ形成されていてもよい。
【００１８】
（２）陽極（第１の電極）
陽極１２は、基板１１の表面１１ａ上において各画素２に対応する画素領域２ａ上に設けられている。陽極１２の平面視形状（基板１１の厚み方向から見た形状）としては、例えば、長方形、正方形等の四角形、他の多角形、及び、四角形や他の多角形において角部に丸味を付けた形状等が挙げられる。陽極１２の平面視形状は、円形又は楕円形でもよい。また、陽極１２の平面視形状は、四角形や他の多角形において、少なくとも１辺を弧状（例えば円弧状）にした形状でもよい。
【００１９】
陽極１２は、金属酸化物、金属硫化物及び金属等からなる薄膜を用いることができ、具体的には酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム錫酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＺＯ）、金、白金、銀、及び銅等からなる薄膜が用いられる。有機ＥＬデバイス１がバンク付き基板１０側から光を出射する場合、光透過性を示す陽極１２が用いられる。
【００２０】
陽極１２の厚みは、光透過性、電気伝導度等を考慮して適宜決定することができる。陽極１２の厚みは、例えば１０ｎｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは２０ｎｍ以上１μｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。
【００２１】
陽極１２は、蒸着法又は塗布法によって形成され得る。蒸着法で形成する場合には、陽極１２の材料からなる層を基板１１上に形成した後、その層を複数の陽極１２のパターンにパターニングすればよい。塗布法で陽極１２を形成する際には、陽極１２の材料を含む塗布液を、複数の陽極１２に対応したパターンで基板１１上に塗布した後に、塗布膜を乾燥させることによって形成され得る。あるいは、陽極１２となるべき材料からなる塗布膜を基板１１に形成し乾燥させた後、陽極１２のパターンにパターニングしてもよい。
【００２２】
陽極１２の形成において塗布法を利用する場合、塗布法としては、インクジェット印刷法が挙げられるが、その他、公知の塗布法、例えば、スリットコート法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、及びノズルプリント法等を用いてもよい。陽極１２の材料を含む塗布液の溶媒は、陽極１２の材料を溶解できる溶媒であればよい。
【００２３】
一実施形態において、陽極１２と基板１１との間には、絶縁層等で構成される層が設けられてもよい。絶縁層等の層も基板１１の一部とみなすこともできる。
【００２４】
（３）バンク
バンク１３は、図２及び図３に示されるように、各陽極１２の周囲に設けられる。バンク１３は、隣り合う陽極１２の間に渡っても設けられている。バンク１３の一部は、陽極１２の周縁部に被さっていてもよい。バンク１３は、画素２（画素領域２ａ）を規定（区画）するための隔壁である。すなわち、バンク１３は、基板１１の表面１１ａ上において予め設定されている画素領域２ａを区画する開口を有するようなパターンで基板１１上に設けられている。本実施形態では、図１に示されるように、複数の画素２が二次元配列で配置されているため、格子状のバンク１３が基板１１に設けられている。
【００２５】
バンク１３は、例えば、樹脂から構成することができる。バンク１３は、例えば、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物である。撥液剤の例としては、フッ素樹脂を含有する撥液剤が挙げられる。バンク１３で規定される画素領域２ａ上には、後述するように、例えば塗布法によって有機発光層２３等の有機層が形成される。よって、バンク１３は、通常、バンク１３で規定される画素領域２ａ上に塗布法を利用して有機層を形成する際に、その有機層を好適に形成可能な特性（例えば濡れ性）を有するように形成されている。
【００２６】
バンク１３の形状及びその配置は、画素２の数及び解像度等の有機ＥＬデバイス１の仕様や製造の容易さ等に応じて適宜設定される。例えば、図２及び図３において、バンク１３の画素領域２ａに望む側面１３ａは、基板１１の表面１１ａに対して実質的に直交している。しかしながら、側面１３ａは、表面１１ａに対して鋭角をなすように傾斜していてもよいし、鈍角をなすように傾斜していてもよい。側面１３ａと、表面１１ａとが鋭角である場合、バンク１３の形状は順テーパ型として知られており、側面１３ａと、基板１１の表面とが鈍角である場合、バンク１３の形状は逆テーパ型として知られている。バンク１３の厚み（高さ）は、例えば０．３μｍ以上５μｍ以下程度である。
【００２７】
バンク付き基板１０は、例えば、基板１１に予め設定される複数の画素領域２ａ上に陽極１２を形成した後に、バンク１３を形成することで製造することができる。
【００２８】
バンク１３は、例えば、塗布法を利用して形成することができる。具体的には、バンク１３の材料を含む塗布液を、陽極１２が形成された基板１１に塗布してなる塗布膜を乾燥させた後、その塗布膜を所定のパターンにパターニングすることで形成できる。塗布法としては、例えば、スピンコート法、スリットコート法等が挙げられる。バンク１３を含む塗布液の溶媒は、バンク１３の材料を溶解できる溶媒であればよい。
【００２９】
（４）正孔注入層
正孔注入層２１は、陽極１２から有機発光層２３への正孔注入効率を改善する機能を有する有機層である。正孔注入層２１の材料は公知の正孔注入材料が用いられ得る。正孔注入材料としては、例えば、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム及び酸化アルミニウム等の酸化物；フェニルアミン化合物；スターバースト型アミン化合物；フタロシアニン化合物；アモルファスカーボン；ポリアニリン；ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体が挙げられる。
【００３０】
正孔注入層２１の厚みは、用いる材料によって最適値が異なり、求められる特性及び層の形成し易さ等を勘案して適宜決定される。正孔注入層２１の厚みは、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
【００３１】
正孔注入層２１は、必要に応じて、画素２の種類毎、すなわち、赤色画素２Ｒ、緑色画素２Ｇ及び青色画素２Ｂ毎にその材料又は厚みを異ならせて設けられる。正孔注入層２１の形成工程の簡易さの観点から、同じ材料、同じ厚みで全ての正孔注入層２１を形成してもよい。
【００３２】
（５）正孔輸送層
正孔輸送層２２は、陽極１２、正孔注入層２１又は陽極１２により近い正孔輸送層２２から有機発光層２３への正孔注入を改善する機能を有する層である。正孔輸送層２２の材料には、公知の正孔輸送入材料が用いられ得る。正孔輸送層２２の材料としては、例えば、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン若しくはその誘導体、ピラゾリン若しくはその誘導体、アリールアミン若しくはその誘導体、スチルベン若しくはその誘導体、トリフェニルジアミン若しくはその誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、及びポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体等が挙げられる。また、特開２０１２−１４４７２２号公報に開示されている正孔輸層材料も挙げることができる。
【００３３】
正孔輸送層２２の厚みは、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように適宜設定される。正孔輸送層２２の厚みは、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
【００３４】
正孔輸送層２２は、必要に応じて、画素２の種類毎、すなわち、赤色画素２Ｒ、緑色画素２Ｇ及び青色画素２Ｂ毎にその材料又は厚みを異ならせて設けられる。正孔輸送層２２の形成工程の簡易さの観点から、同じ材料、同じ厚みで全ての正孔注入層２１を形成してもよい。
【００３５】
（６）有機発光層
有機発光層２３は、正孔輸送層２２上に設けられる。有機発光層２３は、所定の波長の光を発光する機能を有する有機層である。有機発光層２３は、通常、主として蛍光及び／又はりん光を発光する有機物、あるいは、該有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。ドーパントは、例えば発光効率の向上や、発光波長を変化させるために加えられる。
有機発光層２３に含まれる有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよい。有機発光層２３を構成する発光材料としては、例えば、下記の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、ドーパント材料が挙げられる。
【００３６】
色素系の発光材料としては、例えば、シクロペンダミン若しくはその誘導体、テトラフェニルブタジエン若しくはその誘導体、トリフェニルアミン若しくはその誘導体、オキサジアゾール若しくはその誘導体、ピラゾロキノリン若しくはその誘導体、ジスチリルベンゼン若しくはその誘導体、ジスチリルアリーレン若しくはその誘導体、ピロール若しくはその誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン若しくはその誘導体、ペリレン若しくはその誘導体、オリゴチオフェン若しくはその誘導体、オキサジアゾールダイマー若しくはその誘導体、ピラゾリンダイマー若しくはその誘導体、キナクリドン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体等が挙げられる。
【００３７】
金属錯体系の発光材料としては、例えば、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属、又はＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｐｔ、Ｉｒ等を中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を配位子に有する金属錯体が挙げられる。金属錯体としては、例えば、イリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体等が挙げられる。
【００３８】
高分子系の発光材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリパラフェニレン若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、ポリアセチレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、上記色素材料、金属錯体材料を高分子化した材料等が挙げられる。
【００３９】
上記発光材料のうち、赤色に発光する材料（以下、「赤色発光材料」ともいう。）としては、例えば、クマリン若しくはその誘導体、チオフェン環化合物、及びそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。赤色発光材料としては、特開２０１１−１０５７０１号公報に開示されている材料も挙げられる。
【００４０】
緑色に発光する材料（以下、「緑色発光材料」ともいう。）としては、例えば、キナクリドン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体、及びそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。緑色発光材料としては、特開２０１２−０３６３８８号公報に開示されている材料も挙げられる。
【００４１】
青色に発光する材料（以下、「青色発光材料」ともいう。）としては、例えば、ジスチリルアリーレン若しくはその誘導体、オキサジアゾール若しくはその誘導体、及びそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリパラフェニレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。青色発光材料としては、特開２０１２−１４４７２２号公報に開示されている材料も挙げられる。
【００４２】
ドーパント材料としては、例えば、ペリレン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体、ルブレン若しくはその誘導体、キナクリドン若しくはその誘導体、スクアリウム若しくはその誘導体、ポルフィリン若しくはその誘導体、スチリル色素、テトラセン若しくはその誘導体、ピラゾロン若しくはその誘導体、デカシクレン若しくはその誘導体、フェノキサゾン若しくはその誘導体等が挙げられる。
【００４３】
有機発光層２３は、画素２の種類、すなわち、赤色画素２Ｒ、緑色画素２Ｇ及び青色画素２Ｂに応じて設けられる。赤色画素２Ｒに対応する凹部１４の正孔輸送層２２上には、赤色を発光する有機発光層２３が設けられ、緑色画素２Ｇに対応する凹部１４の正孔輸送層２２上には、緑色を発光する有機発光層２３が設けられ、青色画素２Ｂに対応する凹部１４の正孔輸送層２２上には、青色を発光する有機発光層２３が設けられる。以下、赤色画素２Ｒ、緑色画素２Ｇ及び青色画素２Ｂに含まれる有機発光層２３を赤色発光層２３Ｒ、緑色発光層２３Ｇ及び青色発光層２３Ｂとも称する場合がある。
【００４４】
図２に示されるように、複数の有機ＥＬ構造部２０は、バンク付き基板１０において、バンク１３と陽極１２とで形成される凹部１４（図２及び図３参照）内に設けられる。本実施形態において、有機ＥＬ構造部２０は、正孔注入層２１、正孔輸送層２２及び有機発光層２３を有する。
すなわち、各画素２は、バンク１３内（バンク１３によって規定される凹部１４内）に配置される。
【００４５】
少なくとも１つの画素２において、好ましくはすべての画素２において、有機発光層２３は、図１に示されるように、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有する。本明細書において、平面視とは、層の厚み方向から見ることを意味する。本実施形態において、有機ＥＬ構造部２０を構成する各層は、平面視において同一形状である。
長手方向と短手方向とを有する形状としては、長方形、長方形の角部に丸味を付けた形状、長方形における少なくとも１辺を弧状（例えば円弧状）にした形状、楕円形等が挙げられる。
【００４６】
少なくとも１つの画素２において、好ましくはすべての画素２において、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有する有機発光層２３は、短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面において、長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有する（図２参照）。このような凹形状を付与することによって、リークや局所発光を生じやすい有機発光層２３の外周部への電流注入量を減らして画素の輝度特定低下を抑えることができる。
上記凹形状を有する有機発光層２３における長手方向両端の厚みと中心の厚みとの差は、例えば１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、輝度向上及びＥＱＥ向上の観点から、好ましくは１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、より好ましくは１ｎｍ以上５ｎｍ以下である。
有機発光層の平均的な厚みは、例えば１ｎｍ以上２μｍ以下であり、好ましくは５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
【００４７】
有機発光層２３が凹形状を有していることは、例えば光学顕微鏡を用いて断面を観察することによって確認することができる。
バンク１３内に塗布法によって有機発光層２３を形成すると、表面張力の影響によって、通常、有機発光層２３は凹形状を有することとなる。
【００４８】
（７）陰極（第２の電極）
陰極３０は、有機発光層２３上に設けられる。陰極３０の材料としては、仕事関数が小さく、有機発光層２３への電子注入が容易で、電気伝導度の高い材料が好ましい。また、本実施形態で説明しているように、有機ＥＬデバイス１が陽極１２側から光を取り出す場合には、有機発光層２３から放射される光を陰極３０で陽極１２側に反射するために、陰極３０の材料としては可視光反射率の高い材料が好ましい。陰極３０には、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属及び周期表の１３族金属等を用いることができる。また、陰極３０として、導電性金属酸化物又は導電性有機物等からなる透明導電性陰極を用いることもできる。
【００４９】
陰極３０の厚みは、電気伝導度、耐久性を考慮して適宜設定される。陰極３０の厚みは、例えば１０ｎｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは２０ｎｍ以上１μｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。
有機発光層２３と陰極３０との間に、電子注入層、電子輸送層等の他の層を１又は２以上設けてもよい。
電子注入層は、陰極から有機発光層への電子注入効率を改善する機能を有する層である。電子注入層には公知の電子注入材料を用いることができる。このように電子注入層を設ける場合には、電子注入層と有機発光層との間に、電子輸送層が設けられてもよい。電子輸送層は、陰極、電子注入層又は陰極により近い電子輸送層からの電子注入を改善する機能を有する層である。電子輸送層には公知の電子輸送材料を用いることができる。
【００５０】
本実施形態では、陰極３０は複数の画素２が設けられる表示領域の全面に形成される。すなわち、陰極３０は、有機発光層２３上だけでなく、バンク１３上にも形成され、複数の画素２に共通の陰極として設けられる。
【００５１】
図１及び図２では図示を省略しているが、有機ＥＬデバイス１の陰極３０上には、通常、封止基板が設けられる。その他、有機ＥＬデバイス１は、例えば、有機ＥＬパネルディスプレイパネルが備える公知の他の要素を備え得る。
【００５２】
（８）画素の輝度特性及び輝度分布特性
有機ＥＬデバイス１において、複数の画素２のうち少なくとも１つは、下記〔Ａ〕及び〔Ｂ〕を充足する。以下、下記〔Ａ〕及び〔Ｂ〕を充足する画素を「特定画素」とも称する。
〔Ａ〕電流値が１０ｍＡ／ｃｍ２であるときの平均輝度が３０００ｃｄ／ｍ２以上である。
〔Ｂ〕有機発光層２３の短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面における最大輝度の値を１とする規格化がなされた該断面における輝度分布曲線について、下記式（１）：
ＳＬ（７０）≦０．０１０          （１）
を満たす。
【００５３】
本発明は、上記〔Ａ〕を満たすような輝度効率（単位：ｃｄ／Ａ）の高い特定画素を含む有機ＥＬデバイスにおいて、ＥＱＥ向上効果を有意に向上させる。ここでいう輝度効率は、輝度（単位：ｃｄ／ｍ２）の値を、電流値（単位：ｍＡ／ｃｍ２）で除したものである。
上記平均輝度とは、有機発光層２３の短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面における有機発光層２３の長手方向にわたる輝度の平均値を意味する。
電流値が１０ｍＡ／ｃｍ２であるときの平均輝度は、好ましくは４０００ｃｄ／ｍ２以上であり、より好ましくは５０００ｃｄ／ｍ２以上である。
【００５４】
電流値が１０ｍＡ／ｃｍ２であるときの平均輝度（平均輝度効率）は、主に、有機発光層２３に含まれる発光材料の種類に依存する。したがって、複数の画素２が有する有機発光層２３の少なくとも１つに用いる発光材料として、例えば上で例示した発光材料の中から、電流値が１０ｍＡ／ｃｍ２であるときの平均輝度が上記範囲になるものを選んで用いる。
【００５５】
上記〔Ｂ〕について説明すると、画素の輝度分布曲線の一例を示す図４を参照して、ＳＬ（７０）は、有機発光層（画素）の長手方向中心の位置を０、長手方向における一方端の位置を＋１００、長手方向における他方端の位置を−１００とするとき、位置＋７０における輝度分布曲線の傾きの絶対値と、位置−７０における輝度分布曲線の傾きの絶対値との平均値を表す。
ここでいう輝度分布曲線とは、有機発光層（画素）の長手方向における位置（横軸）と、その位置における輝度（縦軸）との関係を示す曲線グラフをいい、縦軸の輝度は、有機発光層２３の長手方向中心における最大輝度の値を１とする規格化がなされている（図４参照）。
【００５６】
位置＋７０における輝度分布曲線の傾きとは、該輝度分布曲線の座標を（位置，この位置における輝度）とするとき、５つの座標点（＋６８．４，この位置における輝度）、（＋６９．２，この位置における輝度）、（＋７０．０，この位置における輝度）、（＋７０．８，この位置における輝度）及び（＋７１．６，この位置における輝度）を用いて線形近似を行って得られる直線の傾きを意味する。
同様に、位置−７０における輝度分布曲線の傾きとは、５つの座標点（−７１．６，この位置における輝度）、（−７０．８，この位置における輝度）、（−７０．０，この位置における輝度）、（−６９．２，この位置における輝度）及び（−６８．４，この位置における輝度）を用いて線形近似を行って得られる直線の傾きを意味する。
【００５７】
〔Ａ〕及び〔Ｂ〕を充足する特定画素及びそれを含む有機ＥＬデバイスは、〔Ａ〕を充足するが〔Ｂ〕を充足しない画素及びそれを含む有機ＥＬデバイスに比べて、より高いＥＱＥを示すことができる。これは、画素の中でも、ＥＱＥがより低い発光を生じる領域部分の割合が減少し、ＥＱＥがより高い発光を生じる領域部分の割合が増加するためであると推測される。
【００５８】
ＳＬ（７０）は、ＥＱＥ向上効果の観点から、好ましくは０．００８以下であり、より好ましくは０．００５以下であり、さらに好ましくは０．００３以下であり、特に好ましくは０．００２以下である。
ＳＬ（７０）は、０の近傍が望ましい。
【００５９】
ＥＱＥ向上効果をより顕著に得るためには、特定画素は、〔Ａ〕及び〔Ｂ〕を充足し、かつ、下記〔Ｃ〕を充足することが好ましい。
〔Ｃ〕横軸を画素に供給する電流量（単位：ｍＡ／ｃｍ２）とし、縦軸を平均輝度（単位：ｃｄ／ｍ２）とする、電流量と平均輝度との関係を示すグラフにおいて、電流量の増加に従って、その電流値における平均輝度の値をその電流値で除した値（すなわち、上記グラフにおけるその電流値での傾きであり、その電流値での上記平均輝度効率を意味する。）が次第に低下する。
上記低下の程度が大きいほど、ＥＱＥ向上効果が大きくなる傾向にある。
【００６０】
なお、本発明者らの検討により、上記輝度分布曲線の傾きを求める位置が、例えば絶対値で８０を超える場合のように有機発光層の端部である（位置が絶対値で１００である）か、又は端部に近い場合には、外乱等の要因もあり、上記輝度分布曲線の傾きとＥＱＥとの間に関係性が認められないことが明らかとなっている。
上記輝度分布曲線の傾きを求める位置が、例えば絶対値で６０より小さい場合にも、上記輝度分布曲線の傾きとＥＱＥとの間に関係性が認められないことが明らかとなっている。
これに対して、上記輝度分布曲線の傾きを求める位置が、例えば絶対値で６０以上８０以下である場合には上記関係性を認めることができ、とりわけ絶対値で７０である場合にはその関係性がより明確であり、ＳＬ（７０）が０．０１０以下であるときと、そうでないときとで、ＥＱＥに有意な差が認められることが明らかとなった。
【００６１】
本発明において、有機ＥＬデバイスが複数の画素を有する場合、少なくとも１つの画素が特定画素であれば、その画素においてＥＱＥ向上効果を得ることができる。ただし、有機ＥＬデバイスとしてのＥＱＥ向上効果の観点から、有機ＥＬデバイスは、２以上の特定画素を有することが好ましく、できるだけ多くの特定画素を有することがより好ましい。
有機ＥＬデバイスとしてのＥＱＥ向上効果の観点及び有機ＥＬデバイスの生産性向上のから、有機ＥＬデバイスは、すべての赤色画素２Ｒが特定画素であるか、すべての緑色画素２Ｇが特定画素であるか、又は、すべての青色画素２Ｂが特定画素であることが好ましい。特に緑色画素２Ｇではその視感度曲線の特性上、輝度が上昇しやすいため、特定画素であることが好ましく、次いで赤色画素２Ｒ、青色画素２Ｂの順で特定画素であることがより好ましい。さらに、すべての赤色画素２Ｒ、すべての緑色画素２Ｇ及びすべての青色画素２Ｂからなる群より選択される２種以上の画素が特定画素であることが特に好ましい。
【００６２】
以上の説明では、バンク付き基板が有する第１の電極が陽極であり、第２の電極が陰極であったが、第１の電極が陰極で、第２の電極が陽極でもよい。また、以上の説明では、有機ＥＬデバイスは、赤色画素２Ｒ、緑色画素２Ｇ及び青色画素２Ｂの３種類の画素を有していたが、色の種類は、特に限定されず、全ての画素が同じ色を出射してもよい。
以上の説明では、有機発光層とバンク付き基板が有する電極との間に、正孔注入層及び正孔輸送層が形成されていたが、それらは形成されなくてもよい。例えば、バンク付き基板が有する電極に隣接して有機発光層が形成されてもよい。あるいは、正孔輸送層が形成されておらず、正孔注入層に隣接して有機発光層が形成されていてもよい。
有機ＥＬデバイスの例としては、有機ディスプレイパネルに限定されず、有機発光装置であればよい。
【００６３】
＜有機ＥＬデバイスの製造方法＞
次に、有機ＥＬデバイス１の製造方法について説明する。ここでは、バンク付き基板１０を準備した後の有機ＥＬデバイス１の製造方法について説明する。
有機ＥＬデバイス１の製造方法は画素を形成する工程を含み、画素を形成する工程は、下記の工程を含む。
陽極（第１の電極）１２上に有機発光層２３を形成する工程（有機発光層形成工程）Ｓ１０１、
有機発光層２３上に陰極（第２の電極）３０を形成する工程（陰極形成工程）Ｓ１０２、及び
得られた画素を検査する工程Ｓ１０３。
【００６４】
有機ＥＬデバイス１の製造においてはまず、バンク付き基板１０を準備した後、工程Ｓ１０１の前に、陽極（第１の電極）１２上に有機構造体４０を形成する工程（有機構造体形成工程）Ｓ１００を実施する。有機構造体形成工程Ｓ１０では、図５に示されるように、画素領域２ａに設けられた、換言すれば、凹部１４に設けられた陽極１２上に正孔注入層２１と正孔輸送層２２とをこの順に塗布法によって形成して正孔注入層２１と正孔輸送層２２の積層体である有機構造体４０を作製する。有機構造体４０は、画素の一部である。
【００６５】
具体的には、凹部１４の陽極１２上に、正孔注入材料を含む塗布液を滴下して塗布膜を形成した後、塗布膜を乾燥させることによって、正孔注入層２１を形成する。
【００６６】
塗布法としては、例えば、インクジェット印刷法が挙げられる。ただし、凹部１４内に層を形成可能な塗布法であれば他の公知の塗布法、例えば、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、及びノズルプリント法を用いてもよく、好ましくは、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、及びノズルプリント法を用いてもよい。
【００６７】
塗布液に用いられる溶媒としては、正孔注入材料を溶解できれば限定されないが、例えば、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩化物溶媒；テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル溶媒等が挙げられる。
【００６８】
塗布膜の乾燥方法は、塗布膜を乾燥できれば限定されないが、真空乾燥及び加熱乾燥等が挙げられる。
【００６９】
次に、正孔輸送材料を含む塗布液を凹部１４内の正孔注入層２１上に滴下して塗布膜を形成した後、塗布膜を乾燥させることによって、正孔輸送層２２を形成する。溶媒及び乾燥方法の例は、正孔注入層２１の場合と同様であり得る。
【００７０】
有機構造体形成工程Ｓ１００を実施した後に、有機発光層形成工程Ｓ１０１を実施する。有機発光層形成工程Ｓ１０１では、図６に示されるように、有機構造体４０上に、好ましくは塗布法によって有機発光層２３を形成する。
具体的には、有機発光層２３となるべき発光材料を含む塗布液をバンク１３内、すなわち、凹部１４内の正孔輸送層２２上に滴下して塗布膜を形成した後、塗布膜を乾燥させることによって、有機発光層２３を形成する。
赤色画素２Ｒ、緑色画素２Ｇ及び青色画素２Ｂに対応する凹部１４には、それぞれ、赤色用発光材料、緑色発光材料、及び青色発光材料を含む塗布液を用いて、赤色発光層２３Ｒ、緑色発光層２３Ｇ及び青色発光層２３Ｂを形成する。
【００７１】
塗布法としては、インクジェット印刷法が例示されるが、正孔注入層２１について例示したその他の公知の塗布法も利用し得る。塗布液に用いられる溶媒は、発光材料を溶解できれば限定されず、正孔注入層２１の形成の際に例示した溶媒と同様であり得る。
【００７２】
塗布膜の乾燥方法は、正孔注入層２１の場合と同様に、塗布膜を乾燥できれば限定されないが、真空乾燥及び加熱乾燥等が挙げられる。
【００７３】
有機発光層形成工程Ｓ１０１により、凹部１４内において陽極１２上には、有機構造体４０と有機発光層２３とからなる有機ＥＬ構造体２０が形成される。
【００７４】
上述のように、少なくとも１つの画素２において、好ましくはすべての画素２において、有機発光層２３は、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有する。本実施形態に係る有機ＥＬデバイス１において、有機ＥＬ構造部２０を構成する各層は、平面視において同一形状である。
また上述のように、少なくとも１つの画素２において、好ましくはすべての画素２において、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有する有機発光層２３は、短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面において、長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有する（図６参照）。
バンク１３内に塗布法によって有機発光層２３を形成すると、表面張力の影響によって、通常、有機発光層２３は凹形状を有することとなる。
【００７５】
有機発光層形成工程Ｓ１０１では、複数の画素２のうち少なくとも１つが上記〔Ａ〕を満たすように有機発光層２３が形成される。上記〔Ａ〕を満たすように、例えば上で例示した発光材料の中から、電流値が１０ｍＡ／ｃｍ２であるときの平均輝度が上記範囲になる発光材料を選んで有機発光層２３を形成する。〔Ａ〕の詳細については上述の記載が引用される。
【００７６】
有機発光層２３を形成した後、陰極（第２の電極）３０を形成する工程（陰極形成工程）Ｓ１０２を実施する。陰極３０の形成方法としては、例えば、陽極１２の場合と同様の蒸着法及び塗布法が挙げられる。この工程では、複数の凹部１４に形成された有機発光層２３上に渡って陰極３０を形成する。これにより、バンク１３内に画素２が形成された図１及び図２に示される有機ＥＬデバイス１が得られる。
【００７７】
陰極形成工程Ｓ１０２の後、得られた画素を検査する工程（検査工程）Ｓ１０３を実施する。検査工程Ｓ１０３は、画素に含まれる有機発光層２３の短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面における輝度分布曲線の傾きに関する情報を取得し、該情報に基づいて該画素の良否判定を行う工程を含む。輝度分布曲線については上述の記載が引用される。
画素の輝度分布曲線を測定し、該曲線から得られる情報に基づいて画素の良否判定を行う方法によれば、有機発光層２３そのものの形状（例えば厚みや厚み分布等）を測定し、その測定結果に基づいて画素の良否判定を行う方法に比べて簡便にかつ容易に良否判定を行えるため、有機ＥＬデバイス１の生産性を向上させることができる。
【００７８】
輝度分布曲線の傾きに関する情報は、好ましくは、絶対値で６０以上８０以下の位置での輝度分布曲線の傾きに関する情報であり、より好ましくは、絶対値で７０の位置での輝度分布曲線の傾きに関する情報、すなわち、ＳＬ（７０）である。輝度分布曲線の傾きに関する情報として、絶対値で６０以上８０以下の位置での輝度分布曲線の傾きに関する情報、とりわけＳＬ（７０）を選択することにより、簡便に画素の良否判定を行えるとともに、上記式（１）を満たすか否かを良否判定基準とすることにより、ＥＱＥが良好な有機ＥＬデバイスを精度良く生産することができる。
ＳＬ（７０）、その範囲及び好ましい範囲、並びに式（１）については上述の記載が引用される。
【００７９】
上記〔Ｂ〕を満たすように画素を形成する方法としては、有機発光層２３の形成において、塗布膜を真空乾燥させる工程における減圧プロファイル（乾燥炉内の気体を排気しながら減圧する操作における排気時間と乾燥炉内の真空度との関係）及び／又は乾燥温度を調整することが挙げられる。例えば、一例として、減圧にする速度を比較的大きくしたり、乾燥温度を低めに設定したりすることは、〔Ｂ〕を充足する画素を形成するうえで有利となる。
上記〔Ａ〕を満たす画素について行う検査工程Ｓ１０３において、例えば、上記式（１）を満たすか否かを良否判定基準とし、ＳＬ（７０）が０．０１０を超える場合、上記〔Ｂ〕を満たすようにするために、有機発光層２３の形成について上記調整を行う工程を実施することが好ましい。
【００８０】
本発明に係る製造方法によって得られる有機ＥＬデバイスは、ＥＱＥ向上の観点から、特定画素、すなわち、上記〔Ａ〕及び〔Ｂ〕を満たす画素を少なくとも１つ含む。ただし、有機ＥＬデバイスとしてのＥＱＥ向上効果の観点から、有機ＥＬデバイスは、２以上の特定画素を有することが好ましく、できるだけ多くの特定画素を有することがより好ましい。
有機ＥＬデバイスとしてのＥＱＥ向上効果の観点及び有機ＥＬデバイスの生産性向上のから、有機ＥＬデバイスは、すべての赤色画素２Ｒが特定画素であるか、すべての緑色画素２Ｇが特定画素であるか、又は、すべての青色画素２Ｂが特定画素であることが好ましい。特に緑色画素２Ｇではその視感度曲線の特性上、輝度が上昇しやすいため、特定画素であることが好ましく、次いで赤色画素２Ｒ、青色画素２Ｂの順で特定画素であることがより好ましい。さらに、すべての赤色画素２Ｒ、すべての緑色画素２Ｇ及びすべての青色画素２Ｂからなる群より選択される２種以上の画素が特定画素であることが特に好ましい。
【実施例】
【００８１】
以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【００８２】
＜実施例１＞
バンク付き基板１０の複数の凹部１４に、陽極１２側から正孔注入層２１、正孔輸送層２２及び有機発光層２３を形成し、有機発光層２３上に陰極３０を形成して複数の画素を作製した。これにより有機ＥＬデバイスを得た。正孔注入層２１、正孔輸送層２２及び有機発光層２３は、インクジェット印刷法により各層に対応する塗布液を用いて塗布膜を形成し、真空乾燥させることで形成した。各凹部１４内の有機発光層２３として緑色発光層２３Ｇを使用した。画素を構成する有機ＥＬ構造部２０は、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有する。
非接触３次元表面形状測定装置（Ｚｙｇｏ社製）を用いて確認したところ、有機発光層２３は、短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面において、長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有していた。以下の実施例２、比較例１及び２、並びに参考例１及び２においても同様であった。
【００８３】
形成された複数の画素２において、正孔注入層２１、正孔輸送層２２及び有機発光層２３には、同じ正孔注入材料、正孔輸送材料及び緑色発光材料を使用した。有機発光層２３を形成する際に行った真空乾燥において、真空チャンバ内の温度は２５℃であった。また、この真空乾燥での真空チャンバ内の減圧プロファイルは図７に示されるとおりとした。
【００８４】
＜実施例２＞
有機発光層２３を形成する際に行った真空乾燥での乾燥温度を３５℃としたこと以外は実施例１と同様にして有機ＥＬデバイス１を作製した。陽極１２、正孔注入層２１、正孔輸送層２２、有機発光層２３及び陰極３０の材料はそれぞれ、実施例１と実施例２とで同じである。
【００８５】
＜比較例１＞
有機発光層２３を形成する際に行った真空乾燥での真空チャンバ内の減圧プロファイルを図７に示されるとおりとしたこと以外は実施例１と同様にして有機ＥＬデバイス１を作製した。陽極１２、正孔注入層２１、正孔輸送層２２、有機発光層２３及び陰極３０の材料はそれぞれ、実施例１と比較例１とで同じである。
【００８６】
＜比較例２＞
有機発光層２３を形成する際に行った真空乾燥での真空チャンバ内の減圧プロファイルを図７に示されるとおりとしたこと以外は実施例１と同様にして有機ＥＬデバイス１を作製した。陽極１２、正孔注入層２１、正孔輸送層２２、有機発光層２３及び陰極３０の材料はそれぞれ、実施例１と比較例２とで同じである。
【００８７】
＜参考例１＞
バンク付き基板１０の複数の凹部１４に、陽極１２側から正孔注入層２１、正孔輸送層２２及び有機発光層２３を形成し、有機発光層２３上に陰極３０を形成して複数の画素を作製した。これにより有機ＥＬデバイスを得た。正孔注入層２１、正孔輸送層２２及び有機発光層２３は、インクジェット印刷法により各層に対応する塗布液を用いて塗布膜を形成し、真空乾燥させることで形成した。各凹部１４内の有機発光層２３として青色発光層２３Ｂを使用した。画素を構成する有機ＥＬ構造部２０は、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有する。
【００８８】
形成された複数の画素２において、正孔注入層２１、正孔輸送層２２及び有機発光層２３には、同じ正孔注入材料、正孔輸送材料及び青色発光材料を使用した。有機発光層２３を形成する際に行った真空乾燥において、真空チャンバ内の温度は３５℃であった。また、この真空乾燥での真空チャンバ内の減圧プロファイルは図７に示されるとおりとした。
【００８９】
＜参考例２＞
有機発光層２３を形成する際に行った真空乾燥での乾燥温度を５５℃としたこと以外は参考例１と同様にして有機ＥＬデバイス１を作製した。陽極１２、正孔注入層２１、正孔輸送層２２、有機発光層２３及び陰極３０の材料はそれぞれ、参考例１と参考例２とで同じである。
【００９０】
［測定・評価］
（１）電流値が１０ｍＡ／ｃｍ２であるときの平均輝度
Ｒａｄｉａｎｔ  Ｖｉｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製の２次元色彩輝度計を用い、複数の画素のうちの１つについて、印加した電流［単位：ｍＡ］及び発光面積［単位：ｃｍ２］から求められる電流値が１０ｍＡ／ｃｍ２となるときの平均輝度［単位：ｃｄ／ｍ２］を求めた。結果を表１に示す。平均輝度は、有機発光層２３の短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面について求めた。
【００９１】
（２）輝度分布曲線及びＳＬ（７０）
上記（１）の測定を行った画素について、Ｒａｄｉａｎｔ  Ｖｉｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製の２次元色彩輝度計を用いて画素内の輝度分布を取得し、輝度分布曲線を求めた。輝度分布曲線は、平均輝度は、有機発光層２３の短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面について求めた。
また、得られた輝度分布曲線から、上述の定義に従って、ＳＬ（７０）を求めた。結果を表１に示す。
【００９２】
（３）ＥＱＥ
上記（１）の測定を行った画素について、Ｒａｄｉａｎｔ  Ｖｉｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製の２次元色彩輝度計を用い、電圧［単位：Ｖ］、電流［単位：ｍＡ］及び発光スペクトルからＥＱＥを求めた。結果を表１に示す。
【００９３】
【表１】
2020031187.tif 000003
【符号の説明】
【００９４】
１  有機ＥＬデバイス、２  画素、２ａ  画素領域、２Ｒ  赤色画素、２Ｇ  緑色画素、２Ｂ  青色画素、１０  バンク付き基板、１１  基板、１１ａ  基板の表面、１２  陽極（第１の電極）、１３  バンク、１３ａ  バンクの側面、１４  凹部、２０  有機ＥＬ構造部、２１  正孔注入層、２２  正孔輸送層、２３  有機発光層、３０  陰極（第２の電極）、４０  有機構造体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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