(57)【要約】      （修正有）【課題】表示装置等の光学フィルタに有用な新規な化合物及びその製造方法の提供。【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。2020019766.tif 000064［式中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｈ又は置換基を有していてもよいＣ１〜６の１価の炭化水素基、Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、Ｈ又は置換基を有していてもよいＣ１〜６の１価の炭化水素基、Ｙ１及びＹ２は、いずれか一方が置換基を有していてもよい１価の芳香族基を表し、他方が置換基を有していてもよい１価の芳香族基、Ｈ、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよいＣ１〜６の１価の炭化水素基（該炭化水素基は１価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい）を表す。］【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）で表される化合物。
【化１】
2020019766.tif 000058
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｙ１及びＹ２は、いずれか一方が置換基を有していてもよい１価の芳香族基を表し、他方が置換基を有していてもよい１価の芳香族基、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基（該炭化水素基は１価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）を表す。］
【請求項２】
式（ＩＩ）で表される化合物。
【化２】
2020019766.tif 000059
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｘ１及びＸ２は、いずれか一方が群Ａより選ばれるいずれかの基を表し、他方が群Ａより選ばれるいずれかの基、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基（該炭化水素基は１価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）を表す。
群Ａ：ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、及び−Ｂ（ＯＨ）２からなる群。］
【請求項３】
式（Ｉａ）で表される化合物の製造方法であって、
式（ＩＩａ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ−１ａ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ−２ａ）で表される化合物とを、ニッケル触媒又はパラジウム触媒の存在下で反応させる工程を含む、製造方法。
【化３】
2020019766.tif 000060
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｙ１ａ及びＹ２ａは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい１価の芳香族基を表す。］
【化４】
2020019766.tif 000061
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、前記と同じ意味を表す。
Ｔ１及びＴ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｘ１ａ及びＸ２ａは、それぞれ独立して、群Ａより選ばれるいずれかの基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、及び−Ｂ（ＯＨ）２からなる群。］
Ｙ１ａ−Ｚ１      （ＩＩＩ−１ａ）
Ｙ２ａ−Ｚ２      （ＩＩＩ−２ａ）
［式（ＩＩＩ−１ａ）及び式（ＩＩＩ−２ａ）中、
Ｙ１ａ及びＹ２ａは、前記と同じ意味を表す。
Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−Ｂ（ＯＨ）２、アルキルスルホネート基、又はアリールスルホネート基を表す。］
【請求項４】
式（Ｉｂ）で表される化合物の製造方法であって、
式（ＩＩｂ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ−１ｂ）で表される化合物とを、ニッケル触媒又はパラジウム触媒の存在下で反応させる工程を含む、製造方法。
【化５】
2020019766.tif 000062
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｙ１ｂは、置換基を有していてもよい１価の芳香族基を表す。
Ｘ２ｂは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基（該炭化水素基は１価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）を表す。］
【化６】
2020019766.tif 000063
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、前記と同じ意味を表す。
Ｔ１及びＴ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｘ１ｂは、群Ａより選ばれるいずれかの基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、及び−Ｂ（ＯＨ）２からなる群。
Ｘ２ｂは、前記と同じ意味を表す。］
Ｙ１ｂ−Ｚ１      （ＩＩＩ−１ｂ）
［式中、
Ｙ１ｂは、前記と同じ意味を表す。
Ｚ１は、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−Ｂ（ＯＨ）２、アルキルスルホネート基、又はアリールスルホネート基を表す。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規化合物及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置等の表示装置では、色調の調整や色純度を向上することが行われている。特許文献１には、プラズマディスプレイから放射されるネオン発光を有効にカットすることができるプラズマディスプレイパネル用フィルターに、スクアリリウム系化合物を用いることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１８３５２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、表示装置等の光学フィルタに有用な新規な化合物及びその製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、以下に示す化合物及びその製造方法を提供する。
〔１〕  式（Ｉ）で表される化合物。
【化１】
2020019766.tif 000002
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｙ１及びＹ２は、いずれか一方が置換基を有していてもよい１価の芳香族基を表し、他方が置換基を有していてもよい１価の芳香族基、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基（該炭化水素基は１価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）を表す。］
〔２〕  式（ＩＩ）で表される化合物。
【化２】
2020019766.tif 000003
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｘ１及びＸ２は、いずれか一方が群Ａより選ばれるいずれかの基を表し、他方が群Ａより選ばれるいずれかの基、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基（該炭化水素基は１価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）を表す。
群Ａ：ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、及び−Ｂ（ＯＨ）２からなる群。］
〔３〕  式（Ｉａ）で表される化合物の製造方法であって、
式（ＩＩａ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ−１ａ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ−２ａ）で表される化合物とを、ニッケル触媒又はパラジウム触媒の存在下で反応させる工程を含む、製造方法。
【化３】
2020019766.tif 000004
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｙ１ａ及びＹ２ａは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい１価の芳香族基を表す。］
【化４】
2020019766.tif 000005
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、前記と同じ意味を表す。
Ｔ１及びＴ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｘ１ａ及びＸ２ａは、それぞれ独立して、群Ａより選ばれるいずれかの基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、及び−Ｂ（ＯＨ）２からなる群。］
Ｙ１ａ−Ｚ１      （ＩＩＩ−１ａ）
Ｙ２ａ−Ｚ２      （ＩＩＩ−２ａ）
［式（ＩＩＩ−１ａ）及び式（ＩＩＩ−２ａ）中、
Ｙ１ａ及びＹ２ａは、前記と同じ意味を表す。
Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−Ｂ（ＯＨ）２、アルキルスルホネート基、又はアリールスルホネート基を表す。］
〔４〕  式（Ｉｂ）で表される化合物の製造方法であって、
式（ＩＩｂ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ−１ｂ）で表される化合物とを、ニッケル触媒又はパラジウム触媒の存在下で反応させる工程を含む、製造方法。
【化５】
2020019766.tif 000006
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｙ１ｂは、置換基を有していてもよい１価の芳香族基を表す。
Ｘ２ｂは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基（該炭化水素基は１価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）を表す。］
【化６】
2020019766.tif 000007
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、前記と同じ意味を表す。
Ｔ１及びＴ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｘ１ｂは、群Ａより選ばれるいずれかの基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、及び−Ｂ（ＯＨ）２からなる群。
Ｘ２ｂは、前記と同じ意味を表す。］
Ｙ１ｂ−Ｚ１      （ＩＩＩ−１ｂ）
［式中、
Ｙ１ｂは、前記と同じ意味を表す。
Ｚ１は、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−Ｂ（ＯＨ）２、アルキルスルホネート基、又はアリールスルホネート基を表す。］
【発明の効果】
【０００６】
本発明の化合物は、表示装置等の光学フィルタに好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】（ａ）及び（ｂ）は、光学フィルタの一例を示す概略断面図である。
【図２】（ａ）は、有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図であり、（ｂ）は、液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
（式（Ｉ）で表される化合物）
本発明は、下記式（Ｉ）で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ）」ということがある。）に関する。
【化７】
2020019766.tif 000008
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｙ１及びＹ２は、いずれか一方が置換基を有していてもよい１価の芳香族基を表し、他方が置換基を有していてもよい１価の芳香族基、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基（該炭化水素基は１価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）を表す。］
【０００９】
化合物（Ｉ）には、式（Ｉ）で表される表記以外にも、例えば下式で表されるような共鳴構造の互変異性体が存在する。化合物（Ｉ）はあらゆる互変異性体を含むものとする。
【化８】
2020019766.tif 000009
【００１０】
式（Ｉ）中、Ｒ１〜Ｒ４における炭素数１〜６の１価の炭化水素基としては、１価の飽和炭化水素基又は１価の不飽和炭化水素基が挙げられる。
１価の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、又はヘキシル基等の直鎖状アルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、又はネオペンチル基等の分岐鎖状アルキル基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、又はシクロヘキシル基等の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
１価の不飽和炭化水素基としては、芳香族炭化水素基であるフェニル基；ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、又はペンテニル基等の１価の不飽和脂肪族炭化水素基；シクロプロペニル基、シクロペンテニル基、又はシクロヘキセニル基等の１価の脂環式不飽和炭化水素基等が挙げられる。
【００１１】
式（Ｉ）中、Ｒ１〜Ｒ４における置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基の置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトロ基、スルファモイル基、スルホ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。
【００１２】
式（Ｉ）中、Ｔ１及びＴ２における置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基としては、Ｒ１〜Ｒ４において例示したものが挙げられる。
【００１３】
式（Ｉ）中、Ｙ１及びＹ２は、いずれか一方が置換基を有していてもよい１価の芳香族基であればよく、両方がそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい１価の芳香族基であってもよい。Ｙ１及びＹ２のうち、一方が１価の芳香族基である場合、他方は、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基であってもよく、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。
【００１４】
Ｙ１及びＹ２における置換基を有していてもよい１価の芳香族基としては、置換基を有していてもよい１価の芳香族炭化水素基、又は、置換基を有していてもよい１価の芳香族複素環基が挙げられる。１価の芳香族基は、単環構造であってもよく、縮合環構造であってもよい。
１価の芳香族炭化水素基の炭素数は、通常６〜３０であり、６〜２０であることが好ましく、６〜１３であることがより好ましい。１価の芳香族炭化水素基としては、フェニル基；ナフチル基；アントラセニル基；フェナントリル基；ピレニル基；フルオレニル基等が挙げられる。また、１価の芳香族炭化水素基は、上記した基に含まれる水素がアルキル基（該アルキル基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい）、アリール基等の炭化水素基に置換された基であるものを含み、例えば、トリル基、キシリル基、メシチル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、プロピルビフェニル基等であってもよい。
【００１５】
１価の芳香族複素環基の炭素数は、通常２〜３０であり、４〜２０であることが好ましく、４〜１０であることがより好ましい。
１価の芳香族複素環基における複素原子は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等を表す。１価の芳香族複素環基としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、フラザン、トリアゾール、オキサジアゾール、イソオキサゾール、テトラゾール、ピラン、ピリジン、チオピラン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、インドリン、イソインドリン、クロメン、イソクロメン、クロマン、イソクロマン、ベンゾピラン、キノリン、イソキノリン、キノリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾチアジアゾール、インダゾール、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、キナゾリジン、シンノリン、フタラジン、プリン、プテリジン、カルバゾール、キサンテン、フェナントリジン、アクリジン、β-カルボリン、ペリミジン、フェナントロリン、チアントレン、フェノキサチイン、フェノキサジン、フェノチアジン、フェナジン等の複素環式化合物から水素原子を１個除いた基が挙げられる。また、１価の芳香族複素環基は、上記した基に含まれる水素がアルキル基、アリール等の炭化水素基に置換された基であるものを含み、例えば、Ｎ−ビフェニルカルバゾールから水素原子を１個除いた基であってもよい。
【００１６】
置換基を有していてもよい１価の芳香族基における置換基としては、例えば上記したハロゲン原子；ヒドロキシ基；アミノ基；ニトロ基；アリールオキシ基；アリールカルボニル基；アリールオキシカルボニル基；カルボキシ基；スルホ基；カルバモイル基；スルファモイル基等が挙げられる。
【００１７】
式（Ｉ）中、Ｙ１及びＹ２のうちのいずれかにおける、１価の芳香族基以外の炭化水素基であって、置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基としては、Ｒ１〜Ｒ４において例示した置換基を有していてもよい１価の飽和炭化水素基、置換基を有していてもよい１価の不飽和脂肪族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい１価の脂環式不飽和炭化水素基等が挙げられる。
該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよく、このような基としては、例えば−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣＨ２ＣＨ３が挙げられる。
【００１８】
化合物（Ｉ）としては、例えば下式で表される化合物が挙げられる。
【化９】
2020019766.tif 000010
【化１０】
2020019766.tif 000011
【化１１】
2020019766.tif 000012
【化１２】
2020019766.tif 000013
【００１９】
化合物（Ｉ）は、表示装置等における光学フィルタに用いることができる。例えば光学フィルタをなす層に化合物（Ｉ）を添加することにより、５８０ｎｍ付近（５７５〜５９０ｎｍ）の光（好ましくは最大吸収波長が５８０ｎｍの光）を吸収することができる光学フィルタとすることができる。これにより、光学フィルタを透過した光は、光学フィルタに入射する光に比較して、緑色の光と赤色の光との分離性を高め、緑色の光及び赤色の光の色純度を向上することが期待できる。そのため、化合物（Ｉ）を用いた光学フィルタを表示装置等に適用することにより、色純度を向上した表示装置を得ることができる。
【００２０】
（式（ＩＩ）で表される化合物）
本発明の下記式（ＩＩ）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＩ）」ということがある。）は、化合物（Ｉ）を製造するための中間体として用いることができる。
【化１３】
2020019766.tif 000014
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｘ１及びＸ２は、いずれか一方が群Ａより選ばれるいずれかの基を表し、他方が群Ａより選ばれるいずれかの基、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基（該炭化水素基は１価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）を表す。
群Ａ：ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、及び−Ｂ（ＯＨ）２からなる群。］
【００２１】
化合物（ＩＩ）には、式（ＩＩ）で表される表記以外にも、例えば下式で表されるような共鳴構造の互変異性体が存在する。化合物（ＩＩ）はあらゆる互変異性体を含むものとする。
【化１４】
2020019766.tif 000015
【００２２】
式（ＩＩ）中、Ｒ１〜Ｒ４、Ｔ１及びＴ２における置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
【００２３】
式（ＩＩ）中、Ｘ１及びＸ２は、いずれか一方が群Ａより選ばれるいずれかの基を表し、両方が群Ａより選ばれるいずれかの基であってもよい。Ｘ１及びＸ２のうち、一方が群Ａより選ばれるいずれかの基である場合、他方は、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基であってもよく、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。
【００２４】
式（ＩＩ）中、群Ａにおけるハロゲン原子は、上記したものが挙げられる。
Ｘ１及びＸ２におけるホウ酸エステル基としては、下記式で表される基が挙げられる。下記式中、＊は結合手を表す。
【化１５】
2020019766.tif 000016
【００２５】
式（ＩＩ）中、Ｘ１及びＸ２のうちのいずれかにおける、１価の芳香族基以外の炭化水素基であって、置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基としては、Ｒ１〜Ｒ４において例示した１価の飽和炭化水素基、１価の不飽和脂肪族炭化水素基、又は１価の脂環式不飽和炭化水素基等が挙げられる。
該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよく、このような基としては、例えば−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣＨ２ＣＨ３が挙げられる。
【００２６】
化合物（ＩＩ）としては、例えば下式で表される化合物が挙げられる。
【化１６】
2020019766.tif 000017
【００２７】
（化合物（Ｉ）の製造方法［１］）
本発明の化合物（Ｉ）において、Ｙ１及びＹ２の両方が置換基を有していてもよい１価の芳香族基である場合の化合物（下記式（Ｉａ）で表される化合物（以下、「化合物（Ｉａ）」ということがある。））の製造方法について説明する。
【００２８】
【化１７】
2020019766.tif 000018
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｙ１ａ及びＹ２ａは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい１価の芳香族基を表す。］
【００２９】
式（Ｉａ）中、Ｒ１〜Ｒ４、Ｔ１及びＴ２における置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
式（Ｉａ）中のＹ１ａ及びＹ２ａにおける置換基を有していてもよい１価の芳香族基は、上記した式（Ｉ）中のＹ１及びＹ２で表される置換基を有していてもよい１価の芳香族基として例示したものが挙げられる。
【００３０】
化合物（Ｉａ）の製造方法は、式（ＩＩａ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ−１ａ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ−２ａ）で表される化合物とを、ニッケル触媒又はパラジウム触媒の存在下で反応させる工程を含んでいてもよい。
【００３１】
【化１８】
2020019766.tif 000019
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、前記と同じ意味を表す。
Ｔ１及びＴ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｘ１ａ及びＸ２ａは、それぞれ独立して、群Ａより選ばれるいずれかの基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、及び−Ｂ（ＯＨ）２からなる群。］
【００３２】
Ｙ１ａ−Ｚ１      （ＩＩＩ−１ａ）
Ｙ２ａ−Ｚ２      （ＩＩＩ−２ａ）
［式（ＩＩＩ−１ａ）及び式（ＩＩＩ−２ａ）中、
Ｙ１ａ及びＹ２ａは、前記と同じ意味を表す。
Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−Ｂ（ＯＨ）２、アルキルスルホネート基、又はアリールスルホネート基を表す。］
【００３３】
式（ＩＩａ）中、Ｒ１〜Ｒ４、Ｔ１及びＴ２における置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
式（ＩＩａ）中のＸ１ａ及びＸ２ａの群Ａにおけるハロゲン原子、ホウ酸エステル基は、上記したものが挙げられる。
式（ＩＩＩ−１ａ）及び式（ＩＩＩ−２ａ）中、Ｚ１及びＺ２におけるハロゲン原子、ホウ酸エステル基は、上記したものが挙げられる。
Ｚ１及びＺ２におけるアルキルスルホネート基としては、メタンスルホネート基、エタンスルホネート基、又はトリフルオロメタンスルホネート基等のハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキルスルホネート基が挙げられる。ハロゲン原子としては、上記で例示したものが挙げられる。
Ｚ１及びＺ２におけるアリールスルホネート基としては、ベンゼンスルホネート基、ｐ−トルエンスルホネート基、ベンジルスルホネート基等の炭素数６〜１８のアリールスルホネート基が挙げられる。
Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立してハロゲン原子、ホウ酸エステル基、又は−Ｂ（ＯＨ）２が好ましい。
【００３４】
式（ＩＩａ）で表される化合物としては、例えば下式で表される化合物が挙げられる。
【化１９】
2020019766.tif 000020
【００３５】
式（ＩＩＩ−１ａ）及び式（ＩＩＩ−２ａ）で表される化合物としては、２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノール、３，４，５−トリメトキシフェニルボロン酸、４−ヘキシルフェニルボロン酸、４−ヘキシルオキシフェニルボロン酸、４−（ジメチルアミノ）フェニルボロン酸、４−（ジフェニルアミノ）フェニルボロン酸、４’−プロピル−４−ビフェニルボロン酸、６−エトキシ−２−ナフタレンボロン酸、９，９−ジメチルフルオレン−２−ボロン酸、ベンゾ[ｂ]チオフェン−２−ボロン酸、９−エチルカルバゾール−３−ボロン酸、９−（４−ビフェニリル）カルバゾール−３−ボロン酸ピナコール、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルボロン酸、４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニルボロン酸、４−カルボキシフェニルボロン酸ピナコール、１−チアントレニルボロン酸、４−メチル−１−ナフタレンボロン酸等を挙げることができる。
【００３６】
化合物（Ｉａ）を製造する工程では、式（ＩＩａ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ−１ａ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ−２ａ）で表される化合物とを、パラジウム触媒存在下又はニッケル触媒存在下によりカップリングする方法が好ましく、パラジウム触媒存在下によるカップリング方法が最も好ましい。
パラジウム触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム（ＩＩ）及びヘキサクロロパラジウム（ＩＶ）酸カリウム等が挙げられる。
ニッケル触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（０）、［ビス（１，５−シクロオクタジエン）］ニッケル（０）、［１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］ジクロロニッケル（ＩＩ）、ビス(２，４−ペンタンジオナト)ニッケル（ＩＩ）、ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）ジクロリド及びハロゲン化ニッケル（ＩＩ）等が挙げられる。
パラジウム触媒又はニッケル触媒の使用量は、式（ＩＩａ）で表される化合物１モルに対して、０．１モル％以上５０モル％以下であることが好ましい。
【００３７】
式（ＩＩＩ−１ａ）で表される化合物の使用量は、式（ＩＩａ）で表される化合物１モルに対して、１モル以上５モル以下であることが好ましく、１．１モル以上３モル以下であることがより好ましい。
式（ＩＩＩ−２ａ）で表される化合物の使用量は、式（ＩＩａ）で表される化合物１モルに対して、１モル以上５モル以下であることが好ましく、１．１モル以上３モル以下であることがより好ましい。
【００３８】
反応温度は、３０℃〜１８０℃であることが好ましく、８０℃〜１４０℃であることがより好ましい。反応時間は、１時間〜２０時間であることが好ましく、３時間〜１５時間であることがより好ましい。
【００３９】
反応は、収率の点から、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；ヘキサン、シクロヘキサン、デカリン等の炭化水素溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール溶媒；ニトロベンゼン等のニトロ炭化水素溶媒；メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１−メチル−２−ピロリドン等のアミド溶媒；等が挙げられ、これらを混合して使用してもよい。これらのうち、テトラヒドロフランが好ましい。また、パラジウム触媒を用いたカップリング反応のような水との２相系又は混合系での反応で行うこともできる。有機溶媒の使用量は、式（ＩＩａ）で表される化合物１質量部に対して、１０質量部以上２００質量部以下であることが好ましく、２０質量部以上１５０質量部以下であることがより好ましい。
【００４０】
また、式（ＩＩａ）で表される化合物、式（ＩＩＩ−１ａ）で表される化合物及び式（ＩＩＩ−２ａ）で表される化合物の反応には、塩基を添加してもよい。該塩基は、反応に用いる溶媒に十分に溶解するものが好ましい。塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、リン酸三カリウム等の無機塩基；ブチルリチウム、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、フッ化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム等の有機塩基が挙げられる。塩基を混合する方法としては、反応液をアルゴンや窒素等の不活性雰囲気下で撹拌しながら、塩基の溶液を添加する方法や、塩基の溶液に反応液を添加する方法が挙げられる。
塩基の使用量は、式（ＩＩａ）で表される化合物１モルに対して、２モル以上２０モル以下であることが好ましい。
【００４１】
反応混合物から目的化合物である化合物（Ｉａ）を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用できる。例えば冷却後、析出した結晶を濾取する方法が挙げられる。濾取した結晶は、水等で洗浄し、次いで乾燥することが好ましい。また、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等の公知の手法によってさらに精製してもよい。
【００４２】
（化合物（Ｉ）の製造方法［２］）
本発明の化合物（Ｉ）において、Ｙ１が置換基を有していてもよい１価の芳香族基であり、Ｙ２が水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基（該炭化水素基は１価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）である場合の化合物（下記式（Ｉｂ）で表される化合物（以下、「化合物（Ｉｂ）」ということがある。））の製造方法について説明する。
【００４３】
【化２０】
2020019766.tif 000021
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｙ１ｂは、置換基を有していてもよい１価の芳香族基を表す。
Ｘ２ｂは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基（該炭化水素基は１価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）を表す。］
【００４４】
式（Ｉｂ）中、Ｒ１〜Ｒ４、Ｔ１及びＴ２における置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基は、上記した式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ４で例示したものが挙げられる。
式（Ｉｂ）中、Ｙ１ｂにおける置換基を有していてもよい１価の芳香族基は、上記した式（Ｉ）中のＹ１及びＹ２で例示したものが挙げられる。
式（Ｉｂ）中、Ｘ２ｂにおける置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基は、上記した式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ４で例示したものが挙げられる。
【００４５】
化合物（Ｉｂ）の製造方法は、式（ＩＩｂ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ−１ｂ）で表される化合物とを、ニッケル触媒又はパラジウム触媒の存在下で反応させる工程を含んでいてもよい。
【００４６】
【化２１】
2020019766.tif 000022
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、前記と同じ意味を表す。
Ｔ１及びＴ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｘ１ｂは、群Ａより選ばれるいずれかの基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、及び−Ｂ（ＯＨ）２からなる群。
Ｘ２ｂは、前記と同じ意味を表す。］
【００４７】
Ｙ１ｂ−Ｚ１      （ＩＩＩ−１ｂ）
［式中、
Ｙ１ｂは、前記と同じ意味を表す。
Ｚ１は、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−Ｂ（ＯＨ）２、アルキルスルホネート基、又はアリールスルホネート基を表す。］
【００４８】
式（ＩＩｂ）及び式（ＩＩＩ−１ｂ）中、Ｒ１〜Ｒ４、Ｔ１及びＴ２、Ｘ２ｂにおける置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基は、上記した式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ４で例示したものが挙げられる。
式（ＩＩｂ）及び式（ＩＩＩ−１ｂ）中、Ｙ１ｂにおける置換基を有していてもよい１価の芳香族基は、上記した式（Ｉ）中のＹ１及びＹ２で例示したものが挙げられる。
式（ＩＩｂ）中、Ｘ１ｂにおけるハロゲン原子、ホウ酸エステル基は、上記したものが挙げられる。
【００４９】
式（ＩＩｂ）で表される化合物としては、例えば下式で表される化合物が挙げられる。
【化２２】
2020019766.tif 000023
【００５０】
式（ＩＩＩ−１ｂ）で表される化合物としては、上記した式（ＩＩＩ−１ａ）及び式（ＩＩＩ−２ａ）で表される化合物に例示した化合物が挙げられる。
【００５１】
化合物（Ｉｂ）を製造する工程では、式（ＩＩｂ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ−１ｂ）で表される化合物とを、パラジウム触媒存在下又はニッケル触媒存在下によりカップリングする方法が好ましく、パラジウム触媒存在下によるカップリング方法が最も好ましい。パラジウム触媒及びニッケル触媒としては上記したものが挙げられる。
【００５２】
式（ＩＩＩ−１ｂ）で表される化合物の使用量は、式（ＩＩｂ）で表される化合物１モルに対して、１モル以上５モル以下であることが好ましく、１．１モル以上３モル以下であることがより好ましい。
パラジウム触媒又はニッケル触媒の使用量は、式（ＩＩｂ）で表される化合物１モルに対して、０．１モル％以上５０モル％以下であることが好ましい。
【００５３】
反応温度は、３０℃〜１８０℃であることが好ましく、８０℃〜１４０℃であることがより好ましい。反応時間は、１時間〜２０時間であることが好ましく、３時間〜１５時間であることがより好ましい。
【００５４】
反応は、収率の点から、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としては、上記で例示したものが挙げられる。有機溶媒の使用量は、式（ＩＩｂ）で表される化合物１質量部に対して、１０質量部以上２００質量部以下であることが好ましく、２０質量部以上１５０質量部以下であることがより好ましい。
【００５５】
反応混合物から目的化合物である化合物（Ｉｂ）を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用でき、例えば上記した方法が挙げられる。
【００５６】
（化合物（Ｉ）の製造方法［３］）
本発明の化合物（Ｉ）の製造方法は、下記式（ＩＶ）で表されるスクアリン酸（３，４−ジヒドロキシ−３−シクロブテン−１，２−ジオン）又は式（ＩＶ−１）で表される化合物（以下、化合物（ＩＶ−１）という場合がある。）と、下記式（Ｖ１）で表される化合物（以下、「ピロール系化合物（Ｖ１）」ということがある。）と、下記式（Ｖ２）で表される化合物（以下、「ピロール系化合物（Ｖ２）」ということがある。）とを反応させる工程を含んでいてもよい。
【００５７】
【化２３】
2020019766.tif 000024
［式（ＩＶ−１）、式（Ｖ１）及び式（Ｖ２）中、
Ｒ１〜Ｒ４は、前記と同じ意味を表す。
Ｙ１及びＹ２は、いずれか一方が置換基を有していてもよい１価の芳香族基を表し、他方が置換基を有していてもよい１価の芳香族基、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基（該炭化水素基は１価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）を表す。
Ｔ１及びＴ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基を表す。］
【００５８】
式（Ｖ１）及び式（Ｖ２）中、Ｒ１〜Ｒ４、Ｔ１及びＴ２における置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
式（Ｖ１）及び式（Ｖ２）中、Ｙ１及びＹ２における置換基を有していてもよい１価の芳香族基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
【００５９】
ピロール系化合物（Ｖ１）及びピロール系化合物（Ｖ２）としては、例えば下式で表される化合物が挙げられる。
【化２４】
2020019766.tif 000025
【化２５】
2020019766.tif 000026
【００６０】
化合物（Ｉ）を製造する工程では、スクアリン酸と、ピロール系化合物（Ｖ１）と、ピロール系化合物（Ｖ２）とを、有機溶媒中、脱水縮合する方法が好ましい。有機溶媒としては、上記したものが挙げられ、ブタノール及びトルエンの混合溶媒が好ましい。
【００６１】
スクアリン酸とピロール系化合物（Ｖ１）とピロール系化合物（Ｖ２）とを反応させる工程でのスクアリン酸の使用量は、ピロール系化合物（Ｖ１）及びピロール系化合物（Ｖ２）の合計１モルに対して、０．４５モル以上０．６モル以下であることが好ましく、０．４７モル以上０．５１モル以下であることがより好ましい。
ピロール系化合物（Ｖ２）の使用量は、ピロール系化合物（Ｖ１）１モルに対して、１モル以上１．５モル以下であることが好ましい。
【００６２】
式（ＩＶ）で表される化合物又は化合物（ＩＶ−１）と、ピロール系化合物（Ｖ１）と、ピロール系化合物（Ｖ２）との反応は、式（ＩＶ）で表される化合物又は化合物（ＩＶ−１）とピロール系化合物（Ｖ１）とピロール系化合物（Ｖ２）とを混合することにより行う。反応は、式（ＩＶ）で表される化合物又は化合物（ＩＶ−１）とピロール系化合物（Ｖ１）とピロール系化合物（Ｖ２）とを全て一緒に反応させてもよい。また、式（ＩＶ）で表される化合物又は化合物（ＩＶ−１）とピロール系化合物（１）とを先に混合させ、その後ピロール系化合物（２）を混合する方法であってもよいし、式（ＩＶ）で表される化合物又は化合物（ＩＶ−１）とピロール系化合物（２）とを先に混合させ、その後ピロール系化合物（１）を混合する方法であってもよい。
【００６３】
反応温度は、３０℃〜１８０℃であることが好ましく、８０℃〜１４０℃であることがより好ましい。反応時間は、１時間〜２０時間であることが好ましく、３時間〜１５時間であることがより好ましい。
【００６４】
反応は、収率の点から、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としては、上記で例示したものが挙げられる。有機溶媒の使用量は、スクアリン酸１質量部に対して、５質量部以上２００質量部以下であることが好ましく、８質量部以上１６０質量部以下であることがより好ましい。
【００６５】
反応混合物から目的化合物である化合物（Ｉ）を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用でき、例えば上記した方法が挙げられる。
【００６６】
ピロール系化合物（Ｖ１）は、例えば、下記式（Ｖ１’）（以下、「ピロール系化合物（Ｖ１’）」ということがある。）と、ハロゲン化剤とを反応させた後、この反応生成物と下記式（ＩＩＩ−１）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＩＩ−１）」ということがある。）とを反応させることによって製造することができる。また、ピロール系化合物（Ｖ２）は、例えば、下記式（Ｖ２’）で表される化合物（以下、「ピロール系化合物（Ｖ２’）」ということがある。）と、ハロゲン化剤とを反応させた後、この反応生成物と下記式（ＩＩＩ−２）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＩＩ−２）」ということがある。）とを反応させることによって製造することができる。また、所望の位置に化合物（ＩＩＩ−１）及び化合物（ＩＩＩ−２）を反応させるため、（Ｖ１’）及び（Ｖ２’）は反応させたくない位置にエトキシカルボニル基のような保護基を有していてもよく、反応後に脱保護することにより、所望のピロール系化合物（Ｖ１）及びピロール系化合物（Ｖ２）を製造することができる。
【００６７】
【化２６】
2020019766.tif 000027
［式（Ｖ１’）及び式（Ｖ２’）中、
Ｒ１〜Ｒ４は、前記と同じ意味を表す。
Ｔ１及びＴ２は、前記と同じ意味を表す。］
【００６８】
式（Ｖ１’）及び式（Ｖ２’）中のＲ１〜Ｒ４、Ｔ１及びＴ２における置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
【００６９】
Ｙ１−Ｚ１      （ＩＩＩ−１）
Ｙ２−Ｚ２      （ＩＩＩ−２）
［式（ＩＩＩ−１）及び式（ＩＩＩ−２）中、
Ｙ１及びＹ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−Ｂ（ＯＨ）２、アルキルスルホネート基、又はアリールスルホネート基を表す。］
【００７０】
式（ＩＩＩ−１）及び式（ＩＩＩ−２）中、Ｙ１及びＹ２における置換基を有していてもよい１価の芳香族基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
式（ＩＩＩ−１）及び式（ＩＩＩ−２）中、Ｚ１及びＺ２におけるハロゲン原子、ホウ酸エステル基、アルキルスルホネート基、又はアリールスルホネート基は、上記したものが挙げられる。
【００７１】
ピロール系化合物（Ｖ１’）及びピロール系化合物（Ｖ２’）としては、例えば２，４−ジメチルピロールが挙げられる。
化合物（ＩＩＩ−１）及び化合物（ＩＩＩ−２）としては、例えば４−ヘキシルフェニルボロン酸等が挙げられる。
【００７２】
ハロゲン化剤としては、Ｎ−ハロゲンスクシンイミド（ＮＸＳ）として表される、Ｎ−フルオロスクシンイミド（ＮＦＳ）、Ｎ−クロロスクシンイミド（ＮＣＳ）、Ｎ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）、Ｎ−ヨードスクシンイミド（ＮＩＳ）、Ｎ−クロロフタル酸イミド、Ｎ−クロロジエチルアミン、Ｎ−クロロジブチルアミン、Ｎ−クロロシクロへキシルアミン、塩素、ヨウドトリクロライド、三塩化アルミ、塩化テルル（ＩＶ）、塩化モリブデン、塩化アンチモン、塩化鉄（ＩＩＩ）、四塩化チタン、五塩化リン、塩化チオニル、Ｎ−ブロモフタル酸イミド、Ｎ−ブロモジトリフルオロメチルアミン、臭素、１，２−ジブロモエタン、三臭化ホウ素、臭化銅、臭化銀、臭化−ｔ−ブチル、酸化臭素等が挙げられ、Ｎ−ハロゲンスクシンイミドが好ましい。
【００７３】
ピロール系化合物（Ｖ１）及びピロール系化合物（Ｖ２）を製造する工程において、ピロール系化合物（Ｖ１’）又はピロール系化合物（Ｖ２’）とハロゲン化剤とを反応させて得られる反応生成物と、化合物（ＩＩＩ−１）又は化合物（ＩＩＩ−２）との反応は、パラジウム触媒存在下又はニッケル触媒存在下によりカップリングする方法が好ましく、パラジウム触媒存在下によるカップリング方法が最も好ましい。パラジウム触媒及びニッケル触媒としては、上記したものが挙げられる。
【００７４】
ピロール系化合物（Ｖ１’）又はピロール系化合物（Ｖ２’）とハロゲン化剤との反応生成物と、化合物（ＩＩＩ−１）又は化合物（ＩＩＩ−２）との反応をパラジウム触媒存在下で行い、ハロゲン化剤によって反応生成物に導入された置換基がハロゲン原子である場合、化合物（ＩＩＩ−１）におけるＺ１又は化合物（ＩＩＩ−２）におけるＺ２は、それぞれ独立して、ホウ酸エステル基又は−Ｂ（ＯＨ）２であることが好ましい。上記反応をニッケル触媒存在下で行い、ハロゲン化剤によって反応生成物に導入された置換基がハロゲン原子である場合、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立してハロゲン原子であることが好ましい。また、上記反応をパラジウム触媒存在下で行い、ハロゲン化剤によって反応生成物に導入された置換基を常法によりホウ酸エステル基又は−Ｂ（ＯＨ）２に変換した場合、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立してアルキルスルホネート基又はアリールスルホネート基であることが好ましい。
【００７５】
ピロール系化合物（Ｖ１’）又はピロール系化合物（Ｖ２’）とハロゲン化剤との反応は、ピロール系化合物（Ｖ１’）又はピロール系化合物（Ｖ２’）１モルに対して、ハロゲン化剤が１モル以上５モル以下であることが好ましく、１．０５モル以上３モル以下であることがより好ましい。
【００７６】
反応温度は、−８０℃〜溶媒の沸点であることが好ましい。反応時間は、１時間〜２０時間であることが好ましく、３時間〜１５時間であることがより好ましい。
【００７７】
反応は、収率の点から、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としては、上記で例示したものが挙げられる。有機溶媒の使用量は、ピロール系化合物（Ｖ１’）又はピロール系化合物（Ｖ２’）１質量部に対して、５質量部以上１００質量部以下であることが好ましく、８質量部以上５０質量部以下であることがより好ましい。
【００７８】
反応混合物から目的化合物であるピロール系化合物（Ｖ１’）又はピロール系化合物（Ｖ２’）とハロゲン化剤との反応生成物を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用でき、例えば上記した方法が挙げられる。
【００７９】
ピロール系化合物（Ｖ１’）とハロゲン化剤との反応生成物及び化合物（ＩＩＩ−１）の反応において、化合物（ＩＩＩ−１）の使用量はピロール系化合物（Ｖ１’）１モルに対して１モル以上５モル以下であることが好ましく、１．１モル以上３モル以下であることがより好ましい。
ピロール系化合物（Ｖ２’）とハロゲン化剤との反応生成物及び化合物（ＩＩＩ−２）の反応において、化合物（ＩＩＩ−２）の使用量は、ピロール系化合物（Ｖ２’）１モルに対して１モル以上５モル以下であることが好ましく、１．１モル以上３モル以下であることがより好ましい。
【００８０】
反応温度は、３０℃〜１８０℃であることが好ましく、８０℃〜１４０℃であることがより好ましい。反応時間は、１時間〜２０時間であることが好ましく、３時間〜１５時間であることがより好ましい。
【００８１】
反応混合物から目的化合物であるピロール系化合物（Ｖ１）又はピロール系化合物（Ｖ２）を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用でき、例えば上記した方法が挙げられる。
【００８２】
（化合物（Ｉ）の製造方法［４］）
本発明の化合物（Ｉ）において、Ｙ１が置換基を有していてもよい１価の芳香族基であり、Ｙ２がハロゲン原子である場合の化合物（以下、「化合物（Ｉｃ）」ということがある。））の製造方法について説明する。
【００８３】
化合物（Ｉｃ）は、上記した式（Ｉｂ）で表される化合物のＸ２ｂが水素原子である化合物において、このＸ２ｂで表される水素原子をハロゲン化することによって製造することができる。ハロゲン化は、例えば上記したハロゲン化剤を用いて行うことができる。
【００８４】
（化合物（ＩＩ）の製造方法（１））
本発明の化合物（ＩＩ）の製造方法は、例えば、化合物（ＩＩ）が式（ＩＩ）においてＸ１及びＸ２がハロゲン原子である化合物（以下、「化合物（ＩＩｃ）」ということがある。）の場合は、上記した式（ＩＶ）で表されるスクアリン酸と、上記したピロール系化合物（Ｖ１’）と、ピロール系化合物（Ｖ２’）とを反応させて、下記式（ＩＩ’）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＩ’）」）を得る工程と、化合物（ＩＩ’）とハロゲン化剤とを反応させて化合物（ＩＩｃ）を得る工程とを含むことができる。
【化２７】
2020019766.tif 000028
［式中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。
Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基を表す。］
【００８５】
式（ＩＩ’）中、Ｒ１〜Ｒ４、Ｔ１及びＴ２における置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
ハロゲン化剤としては、上記したものが挙げられる。
【００８６】
上記化合物（ＩＩ’）としては、例えば下式で表される化合物が挙げられる。
【化２８】
2020019766.tif 000029
【００８７】
スクアリン酸とピロール系化合物（Ｖ１’）とピロール系化合物（Ｖ２’）とを反応させる工程でのスクアリン酸の使用量は、ピロール系化合物（Ｖ１’）及びピロール系化合物（Ｖ２’）の合計１モルに対して、０．４５モル以上０．６モル以下であることが好ましく、０．４７モル以上０．５１モル以下であることが好ましい。
ピロール系化合物（Ｖ２’）の使用量は、ピロール系化合物（Ｖ１’）１モルに対して、１モル以上１．５モル以下であることが好ましい。
【００８８】
反応温度は、３０℃〜１８０℃であることが好ましく、８０℃〜１４０℃であることがより好ましい。反応時間は、１時間〜２０時間であることが好ましく、３時間〜１５時間であることがより好ましい。
【００８９】
反応は、収率の点から、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としては、上記で例示したものを用いることができる。有機溶媒の使用量は、ピロール系化合物（Ｖ１’）及びピロール系化合物（Ｖ２’）の合計１質量部に対して、５質量部以上２００質量部以下であることが好ましく、８質量部以上１００質量部以下であることがより好ましい。
【００９０】
反応混合物から目的化合物である化合物（ＩＩ’）を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用でき、例えば上記した方法を用いることができる。
【００９１】
化合物（ＩＩ’）とハロゲン化剤との反応は、化合物（ＩＩ’）１モルに対して、ハロゲン化剤を２モル以上６モル以下であることが好ましく、２．２モル以上５モル以下であることが好ましい。
反応温度は、−８０℃〜溶媒の沸点であることが好ましい。反応時間は、１時間〜２０時間であることが好ましく、３時間〜１５時間であることがより好ましい。
【００９２】
反応は、収率の点から、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としては、上記で例示したものを用いることができる。有機溶媒の使用量は、化合物（ＩＩ’）１質量部に対して、５質量部以上２００質量部以下であることが好ましく、１０質量部以上１００質量部以下であることがより好ましい。
【００９３】
反応混合物から目的化合物である化合物（ＩＩｃ）を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用でき、例えば上記した方法を用いることができる。
【００９４】
（化合物（ＩＩ）の製造方法（２））
本発明の化合物（ＩＩ）の製造方法は、式（ＩＩ）においてＸ１及びＸ２がホウ酸エステル基又は−Ｂ（ＯＨ）２である化合物（以下、「化合物（ＩＩｄ）」ということがある。）の場合、例えば、化合物（ＩＩｃ）［式（ＩＩ）においてＸ１及びＸ２がハロゲン原子である化合物］とマグネシウム小片とを反応させてＧｒｉｇｎａｒｄ中間体を調製し、これに２−イソプロピルオキシ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン等を作用させる方法；塩基の存在下で、パラジウム触媒を用いて、化合物（ＩＩｃ）とビス（ピナコラト）ジボロンとを反応させることにより、ホウ酸エステル化する方法；トリメトキシボランやトリイソプロピルオキシボラン等を作用させた後に加水分解することでホウ酸化する方法等が挙げられる。
【００９５】
（光学フィルタ）
化合物（Ｉ）は、例えば、表示装置等の光学フィルタに用いることができる。光学フィルタは、通常、透光性を有する（好ましくは光学的に透明な）熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂を含む組成物から形成される層であり、例えばフィルム状物とすることができるものである。光学フィルタは、化合物（Ｉ）を含む層（以下、「色補正層」ということがある。）を有していればよく、色補正層の単層構造からなる色補正フィルムであってもよいし、色補正層を含む多層構造を有する積層体であってもよい。光学フィルタが多層構造の場合、１層の色補正層が含まれていてもよく、２層以上の色補正層が含まれていてもよく、２層以上の層に含まれる化合物（Ｉ）は互いに同じであってもよく互いに異なっていてもよい。
【００９６】
光学フィルタが積層体である場合、色補正層は、接着層であってもよく、接着層以外の樹脂層（以下、単に「樹脂層」ということがある。）であってもよい。色補正層が接着層である場合、光学フィルタに含まれる２つの層を互いに貼合するものであってもよく、光学フィルタを、例えば画像表示素子等の他部材に貼合するためのものであってもよい。接着層は、接着剤組成物で形成された接着剤層、粘着剤組成物で形成された粘着剤層、又は、接着剤組成物及び粘着剤組成物で形成された層とすることができる。
【００９７】
色補正層が、単層構造の光学フィルタ（色補正フィルム）である場合や、多層構造の光学フィルタにおいて接着層以外の樹脂層である場合、色補正フィルムや樹脂層に化合物（Ｉ）を含有させる方法は特に限定されない。例えば、［ｉ］色補正フィルムや樹脂層をなす樹脂と混練してフィルム状に加熱成形する方法、［ｉｉ］色補正フィルムや樹脂層をなす樹脂又はこの樹脂の単量体と、化合物（Ｉ）とを、有機溶剤に分散又は溶解させ、キャスト法等によりフィルム状に成形する方法、を採用することができる。また、［ｉｉｉ］化合物（Ｉ）をバインダー樹脂や有機溶剤に分散又は溶解させたコーティング液を、樹脂基材フィルムにコーティングしたものを樹脂層としてもよく、この樹脂層から樹脂基材フィルムを剥離したものを色補正フィルムとしてもよい。色補正フィルムや樹脂層の厚みは特に限定されないが、例えば１μｍ〜２００μｍとすることができる。
【００９８】
色補正フィルムや樹脂層が化合物（Ｉ）を含有する場合、その含有量は特に限定されない。例えば、色補正フィルムや樹脂層をなすベースポリマー１００質量部に対して、化合物（Ｉ）を０．００１質量部以上とすることができ、０．０２質量部以上であることが好ましく、０．０５質量部以上であることがより好ましく、また、１０質量部以下とすることができ、３質量部以下であることが好ましく、０．５質量部以下であることがより好ましい。
【００９９】
色補正層が接着層である場合に、接着層に化合物（Ｉ）を含有させる方法についても特に限定されず、接着層をなす接着剤組成物又は粘着剤組成物を調製する際に、化合物（Ｉ）を添加すればよい。接着層の厚みは特に限定されないが、例えば１μｍ〜１００μｍとすることができる。
【０１００】
接着層が化合物（Ｉ）を含有する場合も、その含有量は特に限定されない。例えば、接着層に含まれる接着剤組成物及び／又は粘着剤組成物をなすベースポリマー１００質量部に対して、化合物（Ｉ）を０．０１質量部以上とすることができ、０．０２質量部以上であることが好ましく、０．０５質量部以上であることがより好ましく、また、１０質量部以下とすることができ、５質量部以下であることが好ましく、０．５質量部以下であることがより好ましい。
【０１０１】
光学フィルタは、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置や液晶表示装置等の表示装置に用いることができ、この表示装置の画像表示素子の視認側に貼合して用いることができる。この場合、光学フィルタは、接着層と接着層以外の樹脂層とを有することが好ましく、接着層及び樹脂層のうちの少なくとも一方が、化合物（Ｉ）を含む色補正層であることが好ましい。
【０１０２】
光学フィルタが積層体である場合、その積層構造は特に限定されないが、例えば、図１（ａ）及び（ｂ）に示す積層構造を有することができる。図１（ａ）及び（ｂ）は、光学フィルタの一例を示す概略断面図である。図１（ａ）に示す光学フィルタ１０は、有機ＥＬ表示装置に用いることができる。光学フィルタ１０は、例えば、画像表示素子用粘着剤層１１、位相差フィルム１２、粘着剤層１３、第１保護フィルム１４、偏光フィルム１５、第２保護フィルム１６をこの順に含むことができる。画像表示素子用粘着剤層１１及び粘着剤層１３は、いずれも上記した接着層に相当し、位相差フィルム１２、第１保護フィルム１４、偏光フィルム１５、及び第２保護フィルム１６は、いずれも上記した樹脂層に相当する。
【０１０３】
光学フィルタ１０中の第１保護フィルム１４、偏光フィルム１５、及び第２保護フィルム１６は、偏光板をなし、第１保護フィルム１４及び第２保護フィルム１６は、偏光フィルム１５との貼合面側に接着層を有していてもよい。画像表示素子用粘着剤層１１は、有機ＥＬ表示装置の画像表示素子である有機ＥＬ素子を含む発光層に貼合するために用いられる。画像表示素子用粘着剤層１１の位相差フィルム１２とは反対側の面には、図示しないセパレータ（剥離フィルム）が設けられていてもよい。
【０１０４】
図１（ｂ）に示す光学フィルタ２０は、液晶表示装置に用いることができる。光学フィルタ２０は、例えば、画像表示素子用粘着剤層２１、第１保護フィルム２４、偏光フィルム２５、第２保護フィルム２６をこの順に含むことができる。画像表示素子用粘着剤層２１は、上記した接着層に相当し、第１保護フィルム２４、偏光フィルム２５、及び第２保護フィルム２６は、いずれも上記した樹脂層に相当する。
【０１０５】
光学フィルタ２０中の第１保護フィルム２４、偏光フィルム２５、及び第２保護フィルム２６は、偏光板をなし、第１保護フィルム２４及び第２保護フィルム２６は、偏光フィルム２５との貼合面側に接着層を有していてもよい。画像表示素子用粘着剤層２１は、液晶表示装置の画像表示素子である液晶セルに貼合するために用いられる。画像表示素子用粘着剤層２１の第１保護フィルム２４とは反対側の面には、図示しないセパレータ（剥離フィルム）が設けられていてもよい。
【０１０６】
図１（ａ）及び（ｂ）に示す光学フィルタ１０及び２０をなす樹脂層及び接着層の少なくともいずれかに、化合物（Ｉ）を含むことができる。図１（ａ）に示す光学フィルタ１０では、例えば、画像表示素子用粘着剤層１１、粘着剤層１３、第１保護フィルム１４、第２保護フィルム１６のうちの１つ以上に、上記化合物（Ｉ）を含むことができる。図１（ｂ）に示す光学フィルタ２０では、例えば、画像表示素子用粘着剤層２１、第１保護フィルム２４、第２保護フィルム２６のうちの１つ以上に、化合物（Ｉ）を含むことができる。
【０１０７】
図１（ａ）及び（ｂ）に示す光学フィルタ１０及び２０は一例にすぎず、上記以外の積層構造を有するものであってもよい。例えば、第２保護フィルム１６，２６の偏光フィルム１５，２５とは反対側の面に、防眩機能付きフィルムや表面反射防止機能付きフィルム等のさらなる層を有していてもよい。また、第１保護フィルム１４，２４が、位相差フィルムとしての機能を有していてもよく、第２保護フィルム１６，２６が、防眩機能や表面反射防止機能、位相差フィルムとしての機能等を有していてもよい。さらに、図１（ａ）及び（ｂ）に示す光学フィルタ１０及び２０をなす各層とは別に、化合物（Ｉ）を含む色補正層を任意の位置に設けてもよい。
【０１０８】
上記の光学フィルタは、化合物（Ｉ）を含むため、５８０ｎｍ付近（５７５〜５９０ｎｍ）の光（好ましくは最大吸収波長が５８０ｎｍの光）を吸収することができる。これにより、上記の光学フィルタを、表示装置の画像表示素子の視認側に積層することにより、光学フィルタに入射する光から、５８０ｎｍ付近（５７５〜５９０ｎｍ）の波長域に吸収波長を有する光を吸収することができ、光学フィルタを透過した光は、光学フィルタに入射する光に比較して、緑色の光及び赤色の光の色純度を向上することができる。上記の光学フィルタを用いていない従来の表示装置では、緑色の光と赤色の光との分離性が十分ではなかったが、上記の光学フィルタを用いた表示装置では、緑色の光と赤色の光との分離性の向上が期待できる。
【０１０９】
以下、光学フィルタをなす各部材について詳述する。
（接着層）
接着層に用いることができる接着剤組成物としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、及びこれらの組み合わせが挙げられる。水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等が挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤とは、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含むもの等が挙げられる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性（メタ）アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等が挙げられる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものが挙げられる。なお、本明細書において「（メタ）アクリル系」とは、「アクリル系及びメタクリル系の少なくとも１種」を意味する。
【０１１０】
接着層に用いることができる粘着剤組成物としては、従来公知の粘着剤組成物を用いることができる。粘着剤組成物としては、例えば、（メタ）アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤、フッ素系粘着剤、ゴム系粘着剤等が挙げられる。また、エネルギー線硬化型粘着剤、熱硬化型粘着剤等であってもよい。これらの中でも、透明性、粘着力、信頼性等の観点から、（メタ）アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。
【０１１１】
アクリル系粘着剤としては、特に限定されるものではないが、（メタ）アクリル酸エステルを主成分とする（５０質量％以上含有する）重合体であり、１種類の（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体であってもよく、（メタ）アクリル酸エステルと他の（メタ）アクリル酸エステル等との共重合体であってもよい。（メタ）アクリル酸エステルとしては、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸２−フェノキシエチルが挙げられる。さらに、これらの（メタ）アクリル酸エステルを主体とする重合体には、極性モノマーが共重合されていてもよい。極性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の、カルボキシ基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等の極性官能基を有するモノマーが挙げられる。アクリル系粘着剤に用いる（メタ）アクリル系樹脂は、重量平均分子量（Ｍｗ）が１０万以上であるものを用いることができ、６０万以上であることが好ましく、通常２５０万以下である。
【０１１２】
これらのアクリル系粘着剤は、単独で使用することもできるが、通常、架橋剤と併用される。架橋剤としては、２価又は多価金属イオンであって、カルボキシ基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの、アミン化合物であって、カルボキシ基との間でアミド結合を形成するもの、エポキシ化合物やジオール化合物であって、カルボキシ基との間でエステル結合を形成するもの、イソシアネート化合物であって、カルボキシ基との間でアミド結合を形成するもの等が挙げられる。中でも、イソシアネート化合物が好ましく用いられる。
【０１１３】
イソシアネート系化合物の中でも、キシリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート若しくはヘキサメチレンジイソシアネート；これらのイソシアネート化合物にグリセロールやトリメチロールプロパン等のポリオールを反応させたアダクト体；これらのイソシアネート化合物を二量体、三量体等にしたもの又はそれらの混合物；以上に挙げたイソシアネート系化合物の２種以上の混合物等が、好ましく用いられる。
好適なイソシアネート系化合物として、トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートにポリオールを反応させたアダクト体、トリレンジイソシアネートの二量体、及びトリレンジイソシアネートの三量体、また、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートにポリオールを反応させたアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートの二量体、及びヘキサメチレンジイソシアネートの三量体が挙げられる。
【０１１４】
アクリル系粘着剤における架橋剤の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂の１００質量部に対して、通常０質量部以上５質量部以下、好ましくは０．０５質量部以上２質量部以下である。
【０１１５】
アクリル系粘着剤は、シラン化合物をさらに含有することができる。アクリル系粘着剤がシラン化合物を含有すると、得られる粘着剤層とガラス基板等の光学部材との密着性を高め得る。
【０１１６】
シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラン、３−グリシドキシプロピルエトキシジメチルシラン等が挙げられる。２種以上のシラン化合物を使用してもよい。
【０１１７】
シラン化合物は、シリコーンオリゴマータイプのものであってもよい。シリコーンオリゴマーを（単量体）オリゴマーの形式で示すと、例えば、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー等が挙げられる。
【０１１８】
アクリル系粘着剤におけるシラン化合物の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂１００質量部に対して、通常０．０１質量部以上１０質量部以下、好ましくは０．０５質量部以上５質量部以下、より好ましくは０．１質量部以上２質量部以下である。シラン化合物の含有量が０．０１質量部以上であると、粘着剤層とガラス基板等の光学部材との密着性向上効果が得られやすい。またシラン化合物の含有量が１０質量部以下であると、粘着剤層からのシラン化合物のブリードアウトを抑制することができる。
【０１１９】
アクリル系粘着剤は、帯電防止性を付与するための帯電防止剤としてイオン性化合物をさらに含有していてもよい。イオン性化合物は、無機カチオン又は有機カチオンと、無機アニオン又は有機アニオンとを有する化合物である。アクリル系粘着剤は２種以上のイオン性化合物を含有していてもよい。
【０１２０】
無機カチオンとしては、例えば、リチウムカチオン〔Ｌｉ＋〕、ナトリウムカチオン〔Ｎａ＋〕、カリウムカチオン〔Ｋ＋〕等のアルカリ金属イオンや、ベリリウムカチオン〔Ｂｅ２＋〕、マグネシウムカチオン〔Ｍｇ２＋〕、カルシウムカチオン〔Ｃａ２＋〕等のアルカリ土類金属イオン等が挙げられる。
有機カチオンとしては、例えば、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、アンモニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ホスホニウムカチオン等が挙げられる。
【０１２１】
無機アニオンとしては、例えば、クロライドアニオン〔Ｃｌ−〕、ブロマイドアニオン〔Ｂｒ−〕、ヨーダイドアニオン〔Ｉ−〕、テトラクロロアルミネートアニオン〔ＡｌＣｌ４−〕、ヘプタクロロジアルミネートアニオン〔Ａｌ２Ｃｌ７−〕、テトラフルオロボレートアニオン〔ＢＦ４−〕、ヘキサフルオロホスフェートアニオン〔ＰＦ６−〕、パークロレートアニオン〔ＣｌＯ４−〕、ナイトレートアニオン〔ＮＯ３−〕、ヘキサフルオロアーセネートアニオン〔ＡｓＦ６−〕、ヘキサフルオロアンチモネートアニオン〔ＳｂＦ６−〕、ヘキサフルオロニオベートアニオン〔ＮｂＦ６−〕、ヘキサフルオロタンタレートアニオン〔ＴａＦ６−〕、ジシアナミドアニオン〔（ＣＮ）２Ｎ−〕等が挙げられる。
【０１２２】
有機アニオンとしては、例えば、アセテートアニオン〔ＣＨ３ＣＯＯ−〕、トリフルオロアセテートアニオン〔ＣＦ３ＣＯＯ−〕、メタンスルホネートアニオン〔ＣＨ３ＳＯ３−〕、トリフルオロメタンスルホネートアニオン〔ＣＦ３ＳＯ３−〕、ｐ−トルエンスルホネートアニオン〔ｐ−ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−〕、ビス（フルオロスルホニル）イミドアニオン〔（ＦＳＯ２）２Ｎ−〕、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン〔（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−〕、トリス（トリフルオロメタンスルホニル）メタニドアニオン〔（ＣＦ３ＳＯ２）３Ｃ−〕、ジメチルホスフィネートアニオン〔（ＣＨ３）２ＰＯＯ−〕、（ポリ）ハイドロフルオロフルオライドアニオン〔Ｆ（ＨＦ）ｎ−〕（ｎは１以上３以下程度）、チオシアンアニオン〔ＳＣＮ−〕、パーフルオロブタンスルホネートアニオン〔Ｃ４Ｆ９ＳＯ３−〕、ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミドアニオン〔（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）２Ｎ−〕、パーフルオロブタノエートアニオン〔Ｃ３Ｆ７ＣＯＯ−〕、（トリフルオロメタンスルホニル）（トリフルオロメタンカルボニル）イミドアニオン〔（ＣＦ３ＳＯ２）（ＣＦ３ＣＯ）Ｎ−〕等が挙げられる。
【０１２３】
イオン性化合物の具体例は、上記カチオン成分とアニオン成分の組み合わせから選択することができる。
【０１２４】
有機カチオンを有するイオン性化合物の例としては、Ｎ−オクチルピリジニウム  ヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−オクチル−４−メチルピリジニウム  ヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−ブチル−４−メチルピリジニウム  ヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−デシルピリジニウム  ビス（フルオロスルホニル）イミド、Ｎ−ヘキシルピリジニウム  ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ−オクチルピリジニウム  ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド等のピリジニウム塩、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム  ヘキサフルオロホスフェート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム  ｐ−トルエンスルホネート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム  ビス（フルオロスルホニル）イミド、  １−エチル−３−メチルイミダゾリウム  ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム  メタンスルホネート等のイミダゾリウム塩；Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルピロリジニウム  ヘキサフルオロホスフェート、Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルピロリジニウム  ビス（フルオロスルホニル）イミド、Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルピロリジニウム  ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド等のピロリジニウム塩；テトラブチルアンモニウム  ヘキサフルオロホスフェート、テトラブチルアンモニウム  ｐ−トルエンスルホネート等の４級アンモニウム塩が挙げられる。
【０１２５】
無機カチオンを有するイオン性化合物の例としては、リチウム  ブロマイド、リチウム  ヨーダイド、ナトリウム  ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
【０１２６】
イオン性化合物は、帯電防止性能保持の観点から、室温において固体であることが好ましい。イオン性化合物は、３０℃以上、さらには３５℃以上の融点を有することが好ましい。一方で、その融点があまり高すぎると、（メタ）アクリル系樹脂との相溶性が悪くなるため、イオン性化合物の融点は、好ましくは９０℃以下、より好ましくは７０℃以下、さらに好ましくは５０℃未満である。
【０１２７】
アクリル系粘着剤におけるイオン性化合物の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上８質量部以下、より好ましくは０．２質量部以上６質量部以下、さらに好ましくは０．５質量部以上５質量部以下、特に好ましくは１質量部以上５質量部以下である。イオン性化合物の含有量が０．１質量部以上であることは、帯電防止性能の向上に有利であり、８質量部以下であることは粘着剤層の耐久性維持に有利である。
【０１２８】
接着剤組成物や粘着剤組成物には、さらに各種の添加剤が配合されていてもよい。添加剤としては、リワーク剤、粘着性付与樹脂、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、腐食剤、微粒子等の光拡散剤等が挙げられる。
【０１２９】
（樹脂層）
樹脂層としては、偏光フィルム；偏光フィルム等の表面を保護するために設けられる保護フィルム；位相差フィルム；位相差フィルム以外の光学補償フィルム；表面に凹凸形状を有する防眩機能付きフィルム、表面反射防止機能付きフィルム；表面に反射機能を有する反射フィルム；反射機能と透過機能とを併せ持つ半透過反射フィルム；光拡散フィルム；ハードコートフィルム；色補正フィルム等が挙げられる。光学フィルタは、上記した樹脂層を１種又は２種以上含むことができる。
【０１３０】
偏光フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂層にヨウ素が配向しているものや、液晶化合物と二色性色素とが配向したもの等が挙げられる。
【０１３１】
樹脂層が、偏光フィルム以外である場合の材料としては、特に限定されないが、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂（ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂等）、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂等）等のポリオレフィン系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリル酸メチル等の（メタ）アクリル系樹脂；ポリビニルアルコール及びポリ酢酸ビニル等のビニルアルコール系樹脂；ポリスチレン系樹脂；これらの混合物、共重合物等が挙げられる。これらの樹脂は、滑剤、可塑剤、分散剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、微粒子等の光拡散剤等の添加剤を１種又は２種以上含有していてもよい。
【０１３２】
（表示装置）
上記した光学フィルタは、有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）表示装置、電子放出表示装置等の表示装置に好適に用いることができる。光学フィルタを、表示装置の画像表示素子よりも視認側に配置することにより、光学フィルタに入射する光のうち、波長５８０ｎｍ付近（５７５〜５９０ｎｍ）の光（好ましくは最大吸収波長が５８０ｎｍの光）を吸収することができる。これにより、光学フィルタを透過した光は、光学フィルタを透過しない場合に比較して、緑色の光及び赤色の光の色純度が高くなるため、表示装置において表現できる色域を拡大することができる。上記光学フィルタを用いていない従来の表示装置では、緑色の光と赤色の光との分離性が十分ではなかったが、上記した光学フィルタを用いた表示装置では、緑色の光と赤色の光との分離性を向上することが期待できる。
【０１３３】
図２（ａ）及び（ｂ）は、光学フィルタを備えた表示装置の一例を示す概略断面図である。図２（ａ）に示す表示装置は、図１（ａ）に示す光学フィルタ１０と、有機ＥＬ素子を含む発光層である画像表示素子１とを含む有機ＥＬ表示装置である。光学フィルタ１０は、画像表示素子用粘着剤層１１を介して、画像表示素子１の視認側に配置することができる。
【０１３４】
図２（ｂ）に示す表示装置は、図１（ｂ）に示す光学フィルタ２０と、液晶層を含む液晶セルである画像表示素子２とを含む液晶表示装置である。光学フィルタ２０は、画像表示素子用粘着剤層２１を介して、画像表示素子２の視認側に配置することができる。
【実施例】
【０１３５】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。実施例、比較例、適用例、比較適用例中の「％」及び「部」は、特記しない限り、質量％及び質量部である。
【０１３６】
［化合物の同定］
化合物の構造は、質量分析（ＬＣ；Ａｇｉｌｅｎｔ製１２００型、ＭＡＳＳ；Ａｇｉｌｅｎｔ製ＬＣ／ＭＳＤ型）を行って同定した。
【０１３７】
［最大吸収波長の測定］
実施例及び比較例で得られた化合物（式（Ｉ）で表される化合物）を表１に示す溶媒に溶解して得た溶液について、紫外可視分光光度計（Ｖ−６５０ＤＳ；日本分光（株）製）（石英セル、光路長；１ｃｍ）を用いて最大吸収波長を測定した。
適用例及び比較適用例で得た粘着剤シートについても、上記紫外可視分光光度計を用いて最大吸収波長を測定した。
【０１３８】
〔実施例１（式（ＩＩ）で表される化合物）〕
３，４−ジヒドロキシ−３−シクロブテン−１，２−ジオン（富士フィルム和光純薬（株）製）３．０部、２，４−ジメチルピロール（東京化成工業（株）製）５．０部、１−ブタノール１７５部及びトルエン２９０部を混合した。得られた混合物を、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ管を用いて生成した水を除きながら温度１１０℃で３時間撹拌した。反応終了後、溶媒を溜去し、イオン交換水を３００部加えた後、析出した固体を濾取した。濾取した固体をメタノール／イオン交換水で洗浄した。得られた固体を温度６０℃で１２時間減圧乾燥し、式（Ａ−１）で示される化合物４．０部を得た。
【化２９】
2020019766.tif 000030
【０１３９】
化合物（Ａ−１）２．３部をテトラヒドロフラン２００部の存在下、氷浴で冷却後、Ｎ−ブロモスクシンイミド（東京化成工業（株）製）３．２部を添加し、氷浴下で３時間撹拌した。得られた反応マス（反応液）を室温まで昇温後、チオ硫酸ナトリウム水溶液を添加し、反応をクエンチした。溶媒を溜去し、得られた固体をメタノール／イオン交換水で洗浄した。得られた固体を乾燥し、式（Ａ−２）で表される化合物３．６部を得た。得られた化合物について、質量分析を行った。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ４２４．９
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：４２３．９
【化３０】
2020019766.tif 000031
【０１４０】
〔実施例２（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例１にて得られた式（Ａ−２）で表される化合物０．８５部、テトラヒドロフラン８９部及びイオン交換水７０部を混合した。１ｍｏｌ／Ｌの炭酸セシウム水溶液６部、トリス（ジベンジリデンアセトン）−ジパラジウム（０）０．３７部、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスホニウム  テトラフルオロボレート０．４６部、２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノール（東京化成工業（株）製）１．４９部を添加し、２時間還流させた。反応終了後、１０％酢酸水を添加し反応を停止した。１０％食塩水を加え、分液後、有機層を濃縮した。得られた固体をトルエン／１−ブタノール＝１／１の溶液１００部で再結晶を行い、式（Ａ−３）で表される化合物０．４部を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ５０９．２
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：５０８．２４
【化３１】
2020019766.tif 000032
【０１４１】
〔実施例３（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、３，４，５−トリメトキシフェニルボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−４）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ６０１．３
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：６００．２５
【化３２】
2020019766.tif 000033
【０１４２】
〔実施例４（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、４−ヘキシルフェニルボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−５）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ５８９．４
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：５８８．３７
【化３３】
2020019766.tif 000034
【０１４３】
〔実施例５（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、４−ヘキシルオキシフェニルボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−６）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ６２１．４
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：６２０．３６
【化３４】
2020019766.tif 000035
【０１４４】
〔実施例６（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、４−（ジメチルアミノ）フェニルボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−７）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ５０７．３
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：５０６．２７
【化３５】
2020019766.tif 000036
【０１４５】
〔実施例７（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、４−（ジフェニルアミノ）フェニルボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−８）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ７５４．３
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：７５４．３３
【化３６】
2020019766.tif 000037
【０１４６】
〔実施例８（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、４’−プロピル−４−ビフェニルボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−９）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ６５７．３
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：６５６．３４
【化３７】
2020019766.tif 000038
【０１４７】
〔実施例９（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、６−エトキシ−２−ナフタレンボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−１０）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ６０９．３
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：６０８．２７
【化３８】
2020019766.tif 000039
【０１４８】
〔実施例１０（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、９，９−ジメチルフルオレン−２−ボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−１１）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ６５３．３
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：６５２．３１
【化３９】
2020019766.tif 000040
【０１４９】
〔実施例１１（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、ベンゾ[ｂ]チオフェン−２−ボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−１２）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ５３３．１
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：５３２．１３
【化４０】
2020019766.tif 000041
【０１５０】
〔実施例１２（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、９−エチルカルバゾール−３−ボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−１３）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ６５５．３
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：６５４．３０
【化４１】
2020019766.tif 000042
【０１５１】
〔実施例１３（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、９−（４−ビフェニリル）カルバゾール−３−ボロン酸ピナコールを用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−１４）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ９０３．４
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：９０２．３６
【化４２】
2020019766.tif 000043
【０１５２】
〔比較例１〕
実施例１の式（Ａ−１）で表される化合物の合成法における２，４−ジメチルピロールに代えて、３−エチル−２，４−ジメチルピロールを用いたこと以外は、式（Ａ−１）で表される化合物と同様に合成し、式（Ｂ−１）で表される化合物を得た。得られた化合物について、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
【化４３】
2020019766.tif 000044
【０１５３】
〔比較例２〕
実施例１の式（Ａ−１）で表される化合物の合成法の手順で式（Ａ−１）で表される化合物を得た。得られた化合物について、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
【０１５４】
〔実施例１４（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−１５）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ５３３．３
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：５３２．３
【化４４】
2020019766.tif 000045
【０１５５】
〔実施例１５（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニルボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−１６）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ５３７．２
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：５３６．３
【化４５】
2020019766.tif 000046
【０１５６】
〔実施例１６（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、４−カルボキシフェニルボロン酸ピナコールを用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−１７）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ５０９．５
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：５０８．２
【化４６】
2020019766.tif 000047
【０１５７】
〔実施例１７（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、１−チアントレニルボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−１８）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ６９７．２
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：６９６．１
【化４７】
2020019766.tif 000048
【０１５８】
〔実施例１８（式（Ｉ）で表される化合物）〕
実施例２における２，６−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボラン−２−イル）フェノールに代えて、４−メチル−１−ナフタレンボロン酸を用いたこと以外は、実施例２と同様に合成し、式（Ａ−１９）で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ５４９．２
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：５４８．３
【化４８】
2020019766.tif 000049
【０１５９】
〔実施例１９（式（ＩＩ）で表される化合物）〕
３，４−ジブトキシ−３−シクロブテン−１，２−ジオン（東京化成工業（株）製）１１．８９部及び１−ブタノール３８．９部を混合し、１１０℃で加熱撹拌した。得られた混合物に、２，４−ジメチルピロール（東京化成工業（株）製）５．０部を１０分かけて滴下し、３時間加熱還流を行った。得られた混合物を、室温まで冷却し、析出した結晶をろ過して溶液と結晶とを分別した。得られた結晶に対し、ヘキサン３２７部を用いてリパルプ洗浄を実施したところ、淡緑色の固体を得た。
濃塩酸７．１部及び蒸留水４０部で調整した水溶液に、酢酸４８．３部と前記固体とを混合し、１１０℃で２時間加熱還流を行ったところ、淡緑色から淡橙色へ色変化が起こり、反応が停止した。
得られた反応液を室温まで冷却し、淡橙色の粉体をろ別した。得られた粉末をヘキサン１６４部でリパルプ洗浄を行い、淡黄色の式（Ｃ−１）で表される化合物５．６５部（収率５６．２％）得た。
【化４９】
2020019766.tif 000050
【０１６０】
式（Ｃ−１）で表される化合物１．３９部、３−アセチル−２，４−ジメチルピロール（東京化成工業（株）製）１．０部、１−ブタノール２１．６部及びトルエン３５．７部を混合し、１１０℃で３時間加熱還流を行った。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶を、ろ過を行い溶液と結晶を分別した。結晶に対し、ヘキサン３２７部を用いてリパルプ洗浄を行い、紫色の式（Ｃ−２）で表される化合物を０．９６部（収率８５．３％）得た。
【化５０】
2020019766.tif 000051
【０１６１】
式（Ｃ−２）で表される化合物０．８０部及び脱水テトラヒドロフラン５９．５部を混合し、氷温下（５℃）で窒素置換を行いながら３０分撹拌した。
得られた混合物に、Ｎ−ブロモスクシイミド０．９４部を投入し、氷温下（５℃）で２時間撹拌した。得られた反応液に純水を加え、ろ過を行い、結晶を分取した。得られた結晶をテトラヒドロフランに再溶解させた後、純水を加え、再び結晶を析出させて、黒紫色の式（Ａ−２０）で表される化合物を０．９１部（収率９０．７％）得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ３８９．２
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：３８８．０４
【化５１】
2020019766.tif 000052
【０１６２】
〔実施例２０（式（Ｉ）で表される化合物）〕
四つ口フラスコに、式（Ａ−２０）で表される化合物０．１９５部、テトラヒドロフラン２２．２部及び、純水１７．５部加え、８０℃で６０分間窒素ガスを導入し、バブリングを行った。得られた混合物にトリス（ジベンジリデンアセトン）パラジウムを０．０９２部、［トリ（ターシャリーブチル）ホスホニウム］テトラフルオロボレートを０．１１６部、１ｍｏｌ／Ｌの炭酸セシウム水溶液を１．５部加えた。反応液をオイルバスの温度が８０℃の条件で撹拌しながら、０．２４３部のベンゾフラン−２−ボロン酸（東京化成工業（株）製）を６．６６部のテトラヒドロフランに溶解させて得られた溶液を１０分かけて滴下し、２時間撹拌した。得られた混合物に、１０質量％の酢酸水溶液１００部を加え、窒素雰囲気下で１５分間撹拌した。
得られた混合物に、１０％食塩水０．３部加え分液操作を行い有機層の分取を行った。有機層をエバポレータを用いて乾燥させ、タール状の粗精製物１を得た。粗精製物１に対し、メタノールを用いた抽出を行い、その後メタノールを除去することで、粗生成物２を得た。得られた粗生成物２に対し、トルエン／ブタノール＝１／１の溶液１００部を用い加熱溶解させ、再結晶を行うことで、式（Ａ−２１）で表される化合物０．０７部（収率３２．８％）を得た。
得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表１に測定した最大吸収波長を示す。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］＋  ４２７．１
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：４２６．１６
【化５２】
2020019766.tif 000053
【０１６３】
【表１】
2020019766.tif 000054
【０１６４】
〔適用例１〕
（（メタ）アクリル系樹脂の製造）
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌機を備えた反応容器に、溶媒としての酢酸エチル８１.８部、単量体としてアクリル酸ブチル６９.８部、アクリル酸メチル２０部、アクリル酸２−ヒドロキシエチル１部、アクリル酸２−フェノキシエチル８部、アクリル酸２−メトキシエチル１部並びにアクリル酸０.２部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで反応容器内の空気を置換して酸素不含としながら内温を５５℃に上げた。得られた混合溶液に、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０.１４部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。得られた混合物を、内温を５５℃で１時間保持し、次いで内温を５５℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度１７.３部／ｈｒで反応容器内へ連続的に加え、（メタ）アクリル系樹脂の濃度が３５％となった時点で酢酸エチルの添加を止めて８時間重合させた。最後に（メタ）アクリル系樹脂の濃度が２０％となるように酢酸エチルを加えて、（メタ）アクリル系樹脂の酢酸エチル溶液を調製した。得られた（メタ）アクリル系樹脂について、重量平均分子量（Ｍｗ）及び多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を測定したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１４０万であり、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は５．１であった。
【０１６５】
（粘着剤組成物１の調製）
上記（メタ）アクリル系樹脂の製造で得た（メタ）アクリル系樹脂の固形分１００部に対し、架橋剤（東ソー（株）から入手した「コロネートＨＸＲ」（ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性体））を０．６部、シラン化合物（信越化学工業（株）から入手した「ＫＢＭ−４０３」（３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）を０．５部、帯電防止剤としてＮ−ヘキシル−４−メチルピリジニウム６フッ化リンを３部、式（Ａ−５）で表される化合物０．１部を混合し、さらに固形分濃度が１４％となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物１の溶液を調製した。
【０１６６】
（粘着剤シート１の作製）
離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる第１セパレータフィルム（リンテック（株）から入手した「ＰＬＲ−３８２１９０」）の離型処理面に、アプリケータを用いて、粘着剤組成物１を塗布し、１００℃で１分間乾燥させて粘着剤層を作製した。得られた粘着剤層の厚みは２０μｍであった。得られた粘着剤層上に、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる第２セパレータフィルム（リンテック（株）から入手した「ＰＬＲ−２５１１３０」）の離型処理面を貼り合わせ、粘着剤シート１とした。得られた粘着剤シート１のセパレータフィルムの片方を剥がし、無アルカリガラス（コーニング社製  ＥａｇｌｅＸＧ）の片方の面に貼合し、紫外可視分光光度計（島津製作所社製  ＵＶ−２４５０）を用いて最大吸収波長を測定した。その結果を表２に示す。なお、上記したセパレータフィルム及び無アルカリガラスの波長４００ｎｍ〜７００ｎｍにおける吸光度はほぼ０である。
【０１６７】
〔適用例２〕
式（Ａ−５）に示す化合物の代わりに式（Ａ−６）に示す化合物を使用したこと以外は粘着剤組成物１の調製と同様の方法により、粘着剤組成物２を調製した。得られた粘着剤組成物２を用いたこと以外は粘着剤シート１の作製と同様の方法により、粘着剤シート２を作製して、最大吸収波長を測定した。その結果を表２に示す。
【０１６８】
〔適用例３〜１１〕
式（Ａ−５）に示す化合物の代わりに表２に示す化合物を使用したこと以外は粘着剤組成物１の調製と同様の方法により、粘着剤組成物５〜１１を調製した。得られた粘着剤組成物５〜１１を用いたこと以外は粘着剤シート１の作製と同様の方法により、粘着剤シート５〜１１を作成して、最大吸収波長を測定した。その結果を表２に示す。
【０１６９】
〔比較適用例１〕
式（Ａ−５）に示す化合物の代わりに式（Ｂ−１）に示す化合物を使用したこと以外は粘着剤組成物１の調製と同様の方法により、粘着剤組成物３を調製した。得られた粘着剤組成物３を用いたこと以外は粘着剤シート１の作製と同様の方法により、粘着剤シート３を作製して、最大吸収波長を測定した。その結果を表２に示す。
【０１７０】
〔比較適用例２〕
式（Ａ−５）に示す化合物の代わりに式（Ａ−１）に示す化合物を使用したこと以外は粘着剤組成物１の調製と同様の方法により、粘着剤組成物４を調製した。得られた粘着剤組成物４を用いたこと以外は粘着剤シート１の作製と同様の方法により、粘着剤シート４を作製して、最大吸収波長を測定した。その結果を表２に示す。
【０１７１】
【表２】
2020019766.tif 000055
【０１７２】
〔比較適用例３〕
式（Ａ−５）に示す化合物を使用しないこと以外は粘着剤組成物１の調製と同様の方法により、粘着剤組成物１４を調製した。得られた粘着剤組成物１４を用いたこと以外は粘着剤シート１の作製と同様の方法により、粘着剤シート１４を作製した。
【０１７３】
（再現可能な色域範囲の算出）
適用例３の粘着剤シート５について得られた吸収スペクトルをもとに、粘着剤シート５を汎用のバックライト及び汎用のカラーフィルターを持つパネルに適用した際に、パネルにおいて再現可能な色域範囲［％］をシミュレーションにより算出した。なお、シミュレーションに用いた汎用のバックライトは、Ｂｌｕｅ  ＬＥＤにＹＡＧ蛍光体を混ぜたものであり、汎用のカラーフィルターは、ｓＲＧＢ準拠の標準ディスプレイである。また、再現可能な色域範囲［％］については、ＤＣＩ  Ｐ３色規格に対する色再現可能範囲をＣＩＥ１９７６表色系で算出し比較を行った。
粘着剤シート５の代わりに粘着剤シート１４を適用した場合についても同様に算出した。粘着剤シート１４の色再現可能範囲を基準とし、以下の式に基づいて色再現可能範囲を算出した。
色再現可能範囲［％］＝
（粘着剤シート５を適用した際の色再現可能範囲）／（粘着剤シート１４を適用した際の色再現可能範囲）×１００
【０１７４】
粘着剤シート３及び粘着剤シート４についてもそれぞれ上記と同様にして再現可能な色域範囲を算出した。結果を表３に示す。
【０１７５】
（バックライトの透過率の算出）
粘着剤層シート５を汎用のバックライト及び汎用のカラーフィルターを持つパネルに適用した際のバックライトの透過量をシミュレーションにより算出した。なお、シミュレーションに用いた汎用のバックライトは、Ｂｌｕｅ  ＬＥＤにＹＡＧ蛍光体を混ぜたものであり、汎用のカラーフィルターは、ｓＲＧＢ準拠の標準ディスプレイである。
粘着剤シート５の代わりに粘着剤シート１４を適用した場合についても同様に算出した。粘着剤シート１４を適用した場合のバックライトの透過量を基準として、以下の計算式に基づき、粘着剤シート５をパネルに適用した際のバックライトの透過率を計算した。結果を表３に示す。
バックライトの透過率［％］＝
（粘着剤シート５を適用した際のバックライトの透過量）／（粘着剤シート１４を適用した際のバックライトの透過量）×１００
【０１７６】
粘着剤シート３及び粘着剤シート４についてもそれぞれ上記と同様にしてバックライトの透過率を算出した。結果を表３に示す。
【０１７７】
【表３】
2020019766.tif 000056
【０１７８】
本発明の化合物を（メタ）アクリル樹脂溶液に混合し、粘着剤シートを作製することで、波長５８０ｎｍ付近（波長５７５〜５９０ｎｍ）の波長域に最大吸収波長を有する光学フィルタを作製することができた。また、化合物（Ｉ）を含む粘着剤シート（光学フィルタ）を表示装置に適用することで、透過する光における緑色の光と赤色の光との分離性を向上することができるため、再現可能な色域範囲を拡大することができた。また、バックライトの透過率の低減も抑制できた。
【０１７９】
〔適用例１２（光硬化性接着剤液１の調製）〕
３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル  ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート８０部に対し、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテルを２０部、光カチオン重合開始剤を３部、式（Ａ−１６）に示す化合物１部を混合し脱泡することにより光硬化性接着剤液１を調製した。
【０１８０】
〔適用例１３（光硬化性接着剤液２の調製）〕
式（Ａ−１６）に示す化合物の代わりに式（Ａ−１８）に示す化合物を添加した以外は光硬化性接着剤液１と同じ調製を行うことにより、光硬化性接着剤液２を調製した。
【０１８１】
〔適用例１４（偏光板１の作製）〕
紫外線吸収剤を含む厚さ６０μｍのトリアセチルセルロースフィルム〔商品名“フジタックＴＧ６０ＵＬ”、富士フィルム（株）製〕の表面にコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面に、上記で調製した光硬化性接着剤液１を硬化後の膜厚が約２μｍとなるように、バーコーターを用いて塗工した。この塗工によって形成した接着剤層に、厚さ２８μｍのポリビニルアルコール−ヨウ素系偏光子を貼合した。また、環状ポリオレフィン系樹脂からなる厚さ５０μｍの位相差フィルム〔商品名“ＺＥＯＮＯＲ”、日本ゼオン（株）製〕の表面にコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面に、光硬化性接着剤液１を硬化後の膜厚が約２μｍとなるように、バーコーターを用いて塗工した。この塗工によって形成した接着剤層に、上記で作製したトリアセチルセルロースフィルムが片面に貼合された偏光子の偏光子側を貼合し、積層物を作製した。この積層物の位相差フィルム側から、ベルトコンベア付き紫外線照射装置（ランプは、フュージョンＵＶシステムズ社製の“Ｄバルブ”使用）を用いて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線を照射し、接着剤を硬化させた。こうして、偏光子の両面に保護膜が貼合された偏光板１を作製した。得られた偏光板を４０ｍｍ×４０ｍｍに裁断し、位相差フィルムと反対側の面より測定光を入射する形に配置して、紫外可視分光光度計（島津製作所社製  ＵＶ−２４５０）を用いて波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲における偏光板の透過軸方向の透過スペクトル測定を行った。得られたスペクトルにおいて、透過率が極小となる波長を最大吸収波長とした。結果を表４に示す。
【０１８２】
〔適用例１５（偏光板２の作製）〕
光硬化性接着剤液１の代わりに光硬化性接着剤液２を用いたこと以外は偏光板１の作製と同様の方法により、偏光子の両面に保護膜が貼合された偏光板２を作製した。得られた偏光板を４０ｍｍ×４０ｍｍに裁断し、偏光板１と同様の手法を用いて最大吸収波長を求めた。結果を表４に示す。
【０１８３】
【表４】
2020019766.tif 000057
【符号の説明】
【０１８４】
１，２  画像表示素子、１０  光学フィルタ、１１  画像表示素子用粘着剤層、１２  位相差フィルム、１３  粘着剤層、１４  第１保護フィルム、１５  偏光フィルム、１６  第２保護フィルム、２０  光学積層体、２１  画像表示素子用粘着剤層、２４  第１保護フィルム、２５  偏光フィルム、２６  第２保護フィルム。
【図１】
2020019766.tif 000065
【図２】
2020019766.tif 000066