(57)【要約】【課題】有害物質を効率よく除去できる新規な多孔質構造体を提供する。【解決手段】多孔質構造体１０は、複数の粒子１１が連結された構造を有し、かつ複数の粒子１１の間隙を細孔１２として有する。粒子１１は配位高分子から構成される。配位高分子の組成は下記一般式（１）で表される。下記一般式（１）中、ＭＮは、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｚｎ２＋、Ｍｎ２＋、Ｃｏ２＋、Ｇａ３＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｃｕ２＋、Ｎｉ２＋、Ｓｃ３＋、Ｐｔ４＋、Ｐｔ２＋、Ｐｄ２＋及びＡｇ＋からなる群より選択される少なくとも一種を表す。ＭＣは、Ｆｅ２＋、Ｃｏ３＋、Ｉｒ３＋、Ｒｕ２＋、Ｐｔ４＋、Ｆｅ３＋、Ｒｈ３＋、Ｃｒ３＋及びＭｎ３＋からなる群より選択される少なくとも一種を表す。Ｌは、シアン化物イオン又はチオシアン酸イオンを表す。ｘ及びｙは、各々独立に、１以上４以下の整数を表す。ｎは、２以上８以下の整数を表す。ＭＮｘ［ＭＣＬｎ］ｙ      （１）【選択図】図１
2020138884.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の粒子が連結された構造を有し、かつ前記複数の粒子の間隙を細孔として有する多孔質構造体であって、
前記粒子は、配位高分子から構成され、
前記配位高分子の組成は、下記一般式（１）で表される、多孔質構造体。
ＭＮｘ［ＭＣＬｎ］ｙ      （１）
（前記一般式（１）中、
ＭＮは、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｚｎ２＋、Ｍｎ２＋、Ｃｏ２＋、Ｇａ３＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｃｕ２＋、Ｎｉ２＋、Ｓｃ３＋、Ｐｔ４＋、Ｐｔ２＋、Ｐｄ２＋、及びＡｇ＋からなる群より選択される少なくとも一種を表し、
ＭＣは、Ｆｅ２＋、Ｃｏ３＋、Ｉｒ３＋、Ｒｕ２＋、Ｐｔ４＋、Ｆｅ３＋、Ｒｈ３＋、Ｃｒ３＋、及びＭｎ３＋からなる群より選択される少なくとも一種を表し、
Ｌは、シアン化物イオン又はチオシアン酸イオンを表し、
ｘ及びｙは、各々独立に、１以上４以下の整数を表し、
ｎは、２以上８以下の整数を表す。）
【請求項２】
前記一般式（１）中、
ＭＮは、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｚｎ２＋、Ｍｎ２＋、Ｃｏ２＋、及びＧａ３＋からなる群より選択される少なくとも一種を表し、
ＭＣは、Ｆｅ２＋、Ｃｏ３＋、Ｉｒ３＋、Ｒｕ２＋、Ｐｔ４＋、及びＦｅ３＋からなる群より選択される少なくとも一種を表す、請求項１に記載の多孔質構造体。
【請求項３】
前記一般式（１）中、Ｌは、シアン化物イオンを表す、請求項１又は２に記載の多孔質構造体。
【請求項４】
前記配位高分子の組成は、Ｆｅ４［Ｆｅ（ＣＮ）６］３、Ｆｅ［Ｃｏ（ＣＮ）６］、Ｆｅ［Ｉｒ（ＣＮ）６］、Ｆｅ４［Ｒｕ（ＣＮ）６］３、Ｆｅ３［Ｃｏ（ＣＮ）６］２、Ｆｅ３［Ｉｒ（ＣＮ）６］２、Ｆｅ２［Ｒｕ（ＣＮ）６］、Ｆｅ［Ｐｔ（ＣＮ）６］、Ｚｎ３［Ｆｅ（ＣＮ）６］２、Ｍｎ３［Ｆｅ（ＣＮ）６］２、Ｃｏ３［Ｆｅ（ＣＮ）６］２、Ｃｏ３［Ｃｏ（ＣＮ）６］２、Ｇａ［Ｆｅ（ＣＮ）６］、Ｇａ４［Ｆｅ（ＣＮ）６］３、Ｆｅ［Ｐｔ（ＳＣＮ）６］、Ｃｏ［Ｐｔ（ＳＣＮ）６］、又はＦｅ３［Ｉｒ（ＳＣＮ）６］２で表される、請求項１に記載の多孔質構造体。
【請求項５】
前記粒子の個数平均粒子径は、１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の多孔質構造体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多孔質構造体に関する。
【背景技術】
【０００２】
配位高分子を有害物質の除去剤として使用することが検討されている（例えば、特許文献１参照）。配位高分子は、複数の金属イオンが架橋性配位子を介して架橋された構造を有する金属錯体の高分子である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−１０１５２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の技術だけでは、有害物質を効率よく除去することが困難となる場合がある。
【０００５】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、有害物質を効率よく除去できる新規な多孔質構造体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る多孔質構造体は、複数の粒子が連結された構造を有し、かつ前記複数の粒子の間隙を細孔として有する多孔質構造体である。前記粒子は、配位高分子から構成される。前記配位高分子の組成は、下記一般式（１）で表される。
ＭＮｘ［ＭＣＬｎ］ｙ      （１）
【０００７】
前記一般式（１）中、ＭＮは、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｚｎ２＋、Ｍｎ２＋、Ｃｏ２＋、Ｇａ３＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｃｕ２＋、Ｎｉ２＋、Ｓｃ３＋、Ｐｔ４＋、Ｐｔ２＋、Ｐｄ２＋、及びＡｇ＋からなる群より選択される少なくとも一種を表す。ＭＣは、Ｆｅ２＋、Ｃｏ３＋、Ｉｒ３＋、Ｒｕ２＋、Ｐｔ４＋、Ｆｅ３＋、Ｒｈ３＋、Ｃｒ３＋、及びＭｎ３＋からなる群より選択される少なくとも一種を表す。Ｌは、シアン化物イオン又はチオシアン酸イオンを表す。ｘ及びｙは、各々独立に、１以上４以下の整数を表す。ｎは、２以上８以下の整数を表す。
【０００８】
ある実施形態では、前記一般式（１）中のＭＮは、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｚｎ２＋、Ｍｎ２＋、Ｃｏ２＋、及びＧａ３＋からなる群より選択される少なくとも一種を表し、前記一般式（１）中のＭＣは、Ｆｅ２＋、Ｃｏ３＋、Ｉｒ３＋、Ｒｕ２＋、Ｐｔ４＋、及びＦｅ３＋からなる群より選択される少なくとも一種を表す。
【０００９】
ある実施形態では、前記一般式（１）中のＬは、シアン化物イオンを表す。
【００１０】
ある実施形態では、前記配位高分子の組成は、Ｆｅ４［Ｆｅ（ＣＮ）６］３、Ｆｅ［Ｃｏ（ＣＮ）６］、Ｆｅ［Ｉｒ（ＣＮ）６］、Ｆｅ４［Ｒｕ（ＣＮ）６］３、Ｆｅ３［Ｃｏ（ＣＮ）６］２、Ｆｅ３［Ｉｒ（ＣＮ）６］２、Ｆｅ２［Ｒｕ（ＣＮ）６］、Ｆｅ［Ｐｔ（ＣＮ）６］、Ｚｎ３［Ｆｅ（ＣＮ）６］２、Ｍｎ３［Ｆｅ（ＣＮ）６］２、Ｃｏ３［Ｆｅ（ＣＮ）６］２、Ｃｏ３［Ｃｏ（ＣＮ）６］２、Ｇａ［Ｆｅ（ＣＮ）６］、Ｇａ４［Ｆｅ（ＣＮ）６］３、Ｆｅ［Ｐｔ（ＳＣＮ）６］、Ｃｏ［Ｐｔ（ＳＣＮ）６］、又はＦｅ３［Ｉｒ（ＳＣＮ）６］２で表される。
【００１１】
ある実施形態では、前記粒子の個数平均粒子径は、１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、有害物質を効率よく除去できる新規な多孔質構造体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態に係る多孔質構造体の構造の一例を示す図である。
【図２】実施例の多孔質構造体の走査型電子顕微鏡写真である。
【図３】実施例、比較例及び参照例を評価した際における、ガスの流通時間と熱伝導度検出器の出力電圧との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の好適な実施形態について説明する。なお、個数平均粒子径は、何ら規定していなければ、走査型電子顕微鏡を用いて測定した、１００個の粒子の円相当径（ヘイウッド径：粒子の投影面積と同じ面積を有する円の直径）の個数平均値である。また、以下において、「細孔」は、複数の粒子の間隙を意味する。
【００１５】
本実施形態に係る多孔質構造体は、複数の粒子が連結された構造を有し、かつ複数の粒子の間隙を細孔として有する多孔質構造体である。粒子は、配位高分子から構成される。配位高分子の組成は、下記一般式（１）で表される。
ＭＮｘ［ＭＣＬｎ］ｙ      （１）
【００１６】
一般式（１）中、ＭＮは、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｚｎ２＋、Ｍｎ２＋、Ｃｏ２＋、Ｇａ３＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｃｕ２＋、Ｎｉ２＋、Ｓｃ３＋、Ｐｔ４＋、Ｐｔ２＋、Ｐｄ２＋、及びＡｇ＋からなる群より選択される少なくとも一種を表す。ＭＣは、Ｆｅ２＋、Ｃｏ３＋、Ｉｒ３＋、Ｒｕ２＋、Ｐｔ４＋、Ｆｅ３＋、Ｒｈ３＋、Ｃｒ３＋、及びＭｎ３＋からなる群より選択される少なくとも一種を表す。Ｌは、シアン化物イオン又はチオシアン酸イオンを表す。ｘ及びｙは、各々独立に、１以上４以下の整数を表す。ｎは、２以上８以下の整数を表す。
【００１７】
以下、一般式（１）で表される組成を有する配位高分子を「特定配位高分子」と記載することがある。また、特定配位高分子から構成される粒子を「特定錯体粒子」と記載することがある。
【００１８】
本実施形態に係る多孔質構造体は、上述の構成を備えるため、有害物質を効率よく除去できる。その理由は、以下のように推測される。
【００１９】
本実施形態に係る多孔質構造体は、特定錯体粒子が連結された構造を有しているため、多孔質構造を安定して維持できる。このため、本実施形態に係る多孔質構造体は、細孔内に有害物質（より具体的には、有機リン化合物、一酸化炭素、硫化水素等）を容易に取り込むことができる。また、本実施形態に係る多孔質構造体では、細孔内に取り込まれた有害物質が、細孔の内壁に囲まれた状態で細孔内に吸着される。これにより、吸着された有害物質の細孔外への脱離が抑制されるため、本発明の多孔質構造体によれば、有害物質を効率よく除去できる。
【００２０】
特定錯体粒子は、例えば、ＭＣで表される金属イオン及びＬで表される配位子から構成されるアニオンと、ＭＮで表される金属イオンとを、溶液中で反応させることで、三次元的にＭＣ−Ｌ−ＭＮの構造を作りながら生成した高分子が徐々に不溶化するため、沈殿物として得ることができる。
【００２１】
Ｌ（配位子）がシアン化物イオン（ＣＮ−）である場合、特定配位高分子では、ＭＮで表される金属イオンとシアン化物イオンのＮ原子との間で配位結合が形成されている。また、Ｌ（配位子）がシアン化物イオンである場合、特定配位高分子では、ＭＣで表される金属イオンとシアン化物イオンのＣ原子との間で配位結合が形成されている。
【００２２】
また、Ｌ（配位子）がチオシアン酸イオン（ＳＣＮ−）である場合、特定配位高分子では、ＭＮで表される金属イオンとチオシアン酸イオンのＮ原子との間で配位結合が形成されている。また、Ｌ（配位子）がチオシアン酸イオンである場合、特定配位高分子では、ＭＣで表される金属イオンとチオシアン酸イオンのＳ原子との間で配位結合が形成されている。
【００２３】
なお、特定配位高分子は、別の配位子（シアン化物イオン及びチオシアン酸イオンとは異なる配位子）を有していてもよい。別の配位子としては、例えば水分子が挙げられる。
【００２４】
本実施形態に係る多孔質構造体において、有害物質をより効率よく除去するためには、一般式（１）中のｙが１以上３以下の整数を表すことが好ましい。
【００２５】
本実施形態に係る多孔質構造体において、有害物質をより効率よく除去するためには、一般式（１）中のｎが、２以上６以下の整数を表すことが好ましく、４以上６以下の整数を表すことがより好ましく、６を表すことが更に好ましい。
【００２６】
本実施形態に係る多孔質構造体において、有害物質をより効率よく除去するためには、一般式（１）中のＭＮが、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｚｎ２＋、Ｍｎ２＋、Ｃｏ２＋、及びＧａ３＋からなる群より選択される少なくとも一種を表し、かつ一般式（１）中のＭＣが、Ｆｅ２＋、Ｃｏ３＋、Ｉｒ３＋、Ｒｕ２＋、Ｐｔ４＋、及びＦｅ３＋からなる群より選択される少なくとも一種を表すことが好ましい。
【００２７】
本実施形態に係る多孔質構造体において、有害物質をより効率よく除去するためには、一般式（１）中のＬが、シアン化物イオンを表すことが好ましい。
【００２８】
本実施形態に係る多孔質構造体において、有害物質を更に効率よく除去するためには、特定配位高分子の組成が、Ｆｅ４［Ｆｅ（ＣＮ）６］３、Ｆｅ［Ｃｏ（ＣＮ）６］、Ｆｅ［Ｉｒ（ＣＮ）６］、Ｆｅ４［Ｒｕ（ＣＮ）６］３、Ｆｅ３［Ｃｏ（ＣＮ）６］２、Ｆｅ３［Ｉｒ（ＣＮ）６］２、Ｆｅ２［Ｒｕ（ＣＮ）６］、Ｆｅ［Ｐｔ（ＣＮ）６］、Ｚｎ３［Ｆｅ（ＣＮ）６］２、Ｍｎ３［Ｆｅ（ＣＮ）６］２、Ｃｏ３［Ｆｅ（ＣＮ）６］２、Ｃｏ３［Ｃｏ（ＣＮ）６］２、Ｇａ［Ｆｅ（ＣＮ）６］、Ｇａ４［Ｆｅ（ＣＮ）６］３、Ｆｅ［Ｐｔ（ＳＣＮ）６］、Ｃｏ［Ｐｔ（ＳＣＮ）６］、又はＦｅ３［Ｉｒ（ＳＣＮ）６］２で表されることが好ましい。
【００２９】
なお、以下において、Ｆｅ４［Ｆｅ（ＣＮ）６］３で表される組成を有する配位高分子を、「プルシアンブルー」と記載することがある。
【００３０】
以下、本実施形態に係る多孔質構造体の詳細について、適宜図面を参照しながら説明する。参照する図１は、本実施形態に係る多孔質構造体の構造の一例を示す図である。なお、参照する図１は、理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の大きさ、個数、形状等は、図面作成の都合上から実際とは異なる場合がある。
【００３１】
図１に示される多孔質構造体１０は、複数の特定錯体粒子１１が連結された構造を有し、かつ複数の特定錯体粒子１１の間隙を細孔１２として有する。なお、多孔質構造体１０において、特定錯体粒子１１の個数は特に限定されない。
【００３２】
多孔質構造体１０では、細孔１２内に取り込まれた有害物質（図示せず）が、細孔１２の内壁１２Ａに囲まれた状態で細孔１２内に吸着される。これにより、吸着された有害物質の脱離が抑制されるため、多孔質構造体１０によれば、有害物質を効率よく除去できる。なお、細孔１２内に取り込まれた有害物質は、例えばファンデルワールス力により細孔１２の内壁１２Ａに吸着される。
【００３３】
多孔質構造体１０の形状は、特に限定されず、用途に応じて、薄膜状、バルク状、粒子状等の形状を選択できる。
【００３４】
複数の特定錯体粒子１１は、例えば物理吸着（ファンデルワールス力）により互いに連結されている。なお、特定錯体粒子１１同士の連結態様は、細孔１２が形成される限り、特に限定されない。例えば、特定錯体粒子１１同士がバインダー樹脂（図示せず）により連結されていてもよい。
【００３５】
有害物質をより効率よく除去するためには、特定錯体粒子１１の個数平均粒子径は、１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００３６】
特定錯体粒子１１の製造方法としては、特に制限されず、例えば公知の製造方法を採用することができる。例えば、ＭＮ（金属イオン）を含む金属イオン水溶液と、ＭＣ（金属イオン）及びＬ（配位子）を含む金属イオン水溶液とを混合し、沈殿物を回収することによって、特定配位高分子から構成される特定錯体粒子１１が得られる。また、上述した２種の金属イオン水溶液を混合する際、得られる特定錯体粒子１１の形状を安定化させる安定化剤と共に混合すると、得られる特定錯体粒子１１の粒子径を均一化できる。安定化剤としては、例えば、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリスチレン、キトサン、及びグルコースが挙げられる。
【００３７】
また、プルシアンブルーから構成される特定錯体粒子１１を製造する場合は、還元作用を有する安定化剤（より具体的には、ポリビニルピロリドン等）を含む酸性水溶液中で、フェリシアン化カリウムを加熱する方法を採用することもできる。この方法では、フェリシアン化カリウム中のＦｅ３＋の一部が安定化剤により還元されると共に、還元により生成したＦｅ２＋とＦｅ３＋とがシアン化物イオンを介して架橋され、プルシアンブルーから構成される特定錯体粒子１１が得られる。また、この方法では、安定化剤を使用するため、上述したように、得られる特定錯体粒子１１の粒子径を均一化できる。
【００３８】
特定錯体粒子１１の製造方法において、使用する金属イオン及び配位子に適した安定化剤を選択することにより、得られる特定錯体粒子１１の粒子径を均一化できるだけでなく、得られる特定錯体粒子１１の形状を真球に近い形状にすることもできる。これにより、特定錯体粒子１１を用いて多孔質構造体１０を製造する際に、細孔１２を容易に形成できる。また、安定化剤の種類及び使用量の少なくとも一方を変更することにより、得られる特定錯体粒子１１の個数平均粒子径を調整できる。
【００３９】
有害物質をより効率よく除去できる多孔質構造体１０を得るためには、安定化剤としては、ポリビニルピロリドンが好ましい。安定化剤としてポリビニルピロリドンを使用すると、得られる特定錯体粒子１１の形状が真球により近くなり、かつ得られる特定錯体粒子１１の粒子径を、細孔１２の形成に好適な範囲（例えば、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲）に調整できる。よって、安定化剤としてポリビニルピロリドンを使用して得た特定錯体粒子１１を、多孔質構造体１０の製造に使用すると、例えば、細孔１２の細孔径を有害物質の除去に好適な範囲（より具体的には、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲）に調整できる。
【００４０】
多孔質構造体１０の製造方法としては、特に限定されないが、多孔質構造体１０を容易に製造するためには、上記例示した方法で得られた特定錯体粒子１１を蒸留水で洗浄した後、１５℃以上３０℃以下の雰囲気温度で真空乾燥する方法が好ましい。特定錯体粒子１１を１５℃以上３０℃以下の雰囲気温度で真空乾燥することにより、多数の特定錯体粒子１１が粒子間に間隙を残しつつ凝集し、多孔質構造体１０が得られる。細孔１２を容易に形成するためには、特定錯体粒子１１を真空乾燥する際の圧力条件としては、０．１ｋＰａ以上１０ｋＰａ以下が好ましく、０．５ｋＰａ以上５ｋＰａ以下がより好ましい。また、細孔１２を容易に形成するためには、特定錯体粒子１１を真空乾燥する際の乾燥時間としては、８時間以上２４時間以下が好ましく、１０時間以上１５時間以下がより好ましい。
【００４１】
多孔質構造体１０は、有害物質の除去剤に好適である。有害物質としては、例えば、有機リン化合物、一酸化炭素、及び硫化水素が挙げられる。
【００４２】
有機リン化合物としては、例えば、メチルホスホン酸ジメチル（以下、ＤＭＭＰと記載することがある）等のホスホン酸エステル化合物、及びリン酸エステル化合物が挙げられる。なお、多孔質構造体１０の用途は、有害物質の除去剤に限定されない。
【実施例】
【００４３】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は実施例の範囲に何ら限定されるものではない。なお、粒子中の金属の組成は、蛍光Ｘ線分析装置（株式会社島津製作所製「ＥＤＸ−７３０」）により確認した。粒子の結晶構造は、Ｘ線回折装置（株式会社島津製作所製「ＸＤ−３Ａ」）により確認した。粒子の配位構造は、フーリエ変換赤外分光光度計（日本分光株式会社製「ＦＴ／ＩＲ−６２００」）により確認した。
【００４４】
＜ＤＭＭＰの除去剤の作製＞
ＤＭＭＰの除去剤（以下、単に「除去剤」と記載する）の作製方法について説明する。まず、実施例の除去剤（以下、除去剤Ａと記載する）の作製方法について説明した後、比較例の除去剤（以下、除去剤Ｂと記載する）の作製方法について説明する。
【００４５】
［除去剤Ａの作製］
まず、蒸留水に、２．５ｇのポリビニルピロリドン（富士フイルム和光純薬株式会社製「ポリビニルピロリドンＫ３０」）と、フェリシアン化カリウムとを加えた後、塩酸を加えてｐＨを１．８に調整した酸性水溶液３０ｍＬを準備した。酸性水溶液中のフェリシアン化カリウムの濃度は、６．８ｍｍоｌ／Ｌであった。
【００４６】
次いで、準備した酸性水溶液３０ｍＬをフッ素樹脂製のオートクレーブに入れた後、オートクレーブ内の酸性水溶液を温度１２０℃で１時間加熱した。次いで、オートクレーブの内容物を、その温度が２５℃になるまで冷却し、得られた紺色の沈殿物を遠心分離により回収した。次いで、回収した沈殿物を蒸留水に分散させた後、分散させた沈殿物を遠心分離により回収した。更に、分散と遠心分離による回収を３回繰り返して、沈殿物を洗浄した。
【００４７】
次いで、洗浄した沈殿物（後述する図２に示す特定錯体粒子１１）を、ダイアフラム型ドライ真空ポンプ（アルバック機工株式会社製「ＤＴＣ−１２０」）を用いて、温度２５℃の雰囲気下、圧力１ｋＰａの条件で１２時間真空乾燥した。その結果、多孔質構造体である除去剤Ａが得られた。
【００４８】
得られた除去剤Ａを、走査型電子顕微鏡（日本電子株式会社製「ＪＳＭ−６５００Ｆ」）を用いて観察した。図２は、上記走査型電子顕微鏡を用いて撮影された、除去剤Ａの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ写真）を示す。図２に示すように、除去剤Ａは、複数の特定錯体粒子１１（詳しくは、プルシアンブルーから構成される特定錯体粒子１１）が連結された構造を有し、かつ複数の特定錯体粒子１１の間隙を細孔１２として有していた。
【００４９】
また、除去剤Ａを構成する特定錯体粒子１１の個数平均粒子径は、１５０ｎｍであった。なお、特定錯体粒子１１の個数平均粒子径は、走査型電子顕微鏡（日本電子株式会社製「ＪＳＭ−６５００Ｆ」）を用いて測定した。
【００５０】
［除去剤Ｂの作製］
反応容器に硫酸鉄（ＩＩ）水溶液（硫酸鉄（ＩＩ）の濃度：０．１８ｍоｌ／Ｌ）２ｍＬを入れた後、容器内容物を攪拌しながら、反応容器内にフェリシアン化カリウム水溶液（フェリシアン化カリウムの濃度：０．１２ｍоｌ／Ｌ）２ｍＬを滴下した。次いで、反応容器内の温度を２５℃に保持しながら、容器内容物を３時間攪拌し、得られた青色沈殿物を遠心分離により回収した。次いで、回収した沈殿物を蒸留水に分散させた後、分散させた沈殿物を遠心分離により回収した。更に、分散と遠心分離による回収を３回繰り返して、沈殿物を洗浄した。
【００５１】
次いで、洗浄した沈殿物（詳しくは、プルシアンブルーから構成される粒子）を、オーブンを用いて、温度６０℃の雰囲気下、圧力１０１ｋＰａの条件で１２時間乾燥し、除去剤Ｂを得た。
【００５２】
得られた除去剤Ｂを、走査型電子顕微鏡（日本電子株式会社製「ＪＳＭ−６５００Ｆ」）を用いて観察し、除去剤Ｂが多孔質構造体（詳しくは、複数の粒子が連結された構造を有し、かつ複数の粒子の間隙を細孔として有する構造体）ではないことを確認した。
【００５３】
＜除去剤の評価＞
［評価用ガスの準備］
評価用ガスとして、ヘリウムガス（以下、ガスＨと記載することがある）、及びヘリウムガスにＤＭＭＰを飽和蒸気圧で混合したガス（以下、ガスＤと記載することがある）を準備した。なお、ガスＤ中のＤＭＭＰの飽和蒸気圧は、６２Ｐａであった。
【００５４】
［評価方法］
除去剤Ａ及び除去剤Ｂについて、触媒分析装置（マイクロトラック・ベル株式会社製「ＢＥＬＣＡＴ（登録商標）−ＩＩ」）を用いてＤＭＭＰの吸着性能を評価した。なお、評価前に、評価に用いる除去剤を、ヘリウムガス気流下、温度１５０℃で１時間加熱し、除去剤中に含まれる水分及び酸素を除去した。
【００５５】
評価手順は、まず、上記触媒分析装置に付属する試料管に除去剤（除去剤Ａ及び除去剤Ｂのいずれか）６０ｍｇを入れた。なお、使用した試料管には、ガスの流入口及び流出口が設けられていた。次いで、試料管内において、温度６０℃のガスＨを５０ｍＬ／分の速度で１０分間流通させた。次いで、試料管内において、温度６０℃のガスＤを５０ｍＬ／分の速度で７０分間流通させた後、温度６０℃のガスＨを５０ｍＬ／分の速度で２０分間流通させた。ガス（ガスＨ及びガスＤのいずれか）を流通させている間、上記触媒分析装置に備えられた熱伝導度検出器を用いて、試料管の流出口から流出するＤＭＭＰの濃度（ガス中の濃度）を検出した。なお、試料管から流出するＤＭＭＰの濃度が低くなるほど、熱伝導度検出器の出力電圧（以下、出力電圧と記載することがある）が低くなる。
【００５６】
また、参照例として、試料管に除去剤を入れなかったこと以外は、除去剤Ａ及び除去剤Ｂの評価手順と同じ手順で、試料管の流出口から流出するＤＭＭＰの濃度を検出した。
【００５７】
［評価結果］
図３に、除去剤Ａ、除去剤Ｂ及び参照例の評価結果を示す。図３において、実線で描かれたグラフＧ１は、除去剤Ａを評価した際のガスの流通時間（単位：分）と出力電圧（単位：μＶ）との関係を示す。図３において、破線で描かれたグラフＧ２は、除去剤Ｂを評価した際のガスの流通時間（単位：分）と出力電圧（単位：μＶ）との関係を示す。図３において、一点鎖線で描かれたグラフＧ３は、参照例を評価した際のガスの流通時間（単位：分）と出力電圧（単位：μＶ）との関係を示す。
【００５８】
図３において、横軸の「ガスの流通時間」の１０分から２４分までの範囲では、グラフＧ２の出力電圧よりもグラフＧ１の出力電圧が低い結果となった。この結果から、ガスＤの流通開始直後において、除去剤Ａが、除去剤Ｂよりも短時間で多くのＤＭＭＰを吸着できることが明らかになった。
【００５９】
また、図３において、横軸の「ガスの流通時間」の８０分から１００分までの範囲では、グラフＧ２の出力電圧よりもグラフＧ１の出力電圧が低い結果となった。この結果から、除去剤Ａが、除去剤Ｂよりも吸着されたＤＭＭＰの脱離を抑制できることが明らかになった。
【００６０】
以上の結果から、本発明の多孔質構造体によれば、有害物質を効率よく除去できることが示された。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明に係る多孔質構造体は、例えば有害物質の除去剤として利用することができる。
【符号の説明】
【００６２】
１０    ：多孔質構造体
１１    ：特定錯体粒子（粒子）
１２    ：細孔
【図１】
2020138884.tif 000003
【図２】
2020138884.tif 000004
【図３】
2020138884.tif 000005