(57)【要約】      （修正有）【課題】ボンド磁石の強度、ボンド磁石及びシャフトの結合強度が高いシャフト一体型ボンド磁石及びこのシャフト一体型ボンド磁石を圧縮成形にて製造する製造方法を提供する。【解決手段】磁粉の粒径を二山分布とした磁粉と樹脂からなる混合物を用い、円柱状のシャフト２の周面に円筒状のボンド磁石３が一体的に設けられているシャフト一体型ボンド磁石であって、シャフト２の中央部２ａの周面に、シャフト２の軸方向に沿って延在する複数の溝部２ｄ、２ｅが形成されており、溝部の軸方向両側周面２ｇ、２ｆにローレットが形成されている。【選択図】図４
2020202369.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系急冷磁石粉末であって、粒径２０μm以下の第１磁石粉末と粒径２０μm超２２０μm以下でピーク粒度が８０〜１２０μmの第２磁石粉末を、前記第１磁石粉末を５〜１５質量％、前記第２磁石粉末を８５〜９５質量％とし合計１００質量％となるように混合した磁石粉末を用い、前記磁石粉末と成形体用樹脂（磁石粉末を１００質量％としたときに磁石粉末に対して１〜２質量％）を混錬して混合物を作製し、前記混合物を１〜２．５ＧＰａの成形圧力で圧縮成形後硬化したボンド磁石成形体に対し、粘度が１００〜６００ｍＰａ・sの含浸用樹脂を減圧後加圧雰囲気で含浸させ、硬化することを特徴とする、ボンド磁石の製造方法。
【請求項２】
前記成形体用樹脂は、熱硬化型エポキシであることを特徴とする請求項１に記載のボンド磁石の製造方法。
【請求項３】
前記成形体用樹脂は２液性のエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項１に記載のボンド磁石の製造方法。
【請求項４】
前記含浸用樹脂は熱硬化型のエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１に記載のボンド磁石の製造方法。
【請求項５】
前記含浸用樹脂は２液性のエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１に記載のボンド磁石の製造方法
【請求項６】
軸長方向の中央部の周面にローレットが形成されている円柱状のシャフトに、
前記シャフトの前記中央部の全域を覆って円筒状のボンド磁石が一体的に設けられているシャフト一体型ボンド磁石を製造する方法において、
円筒状のダイと、該ダイに上方向から挿通可能であって、円筒状の第１上パンチ、該第１上パンチに挿通可能な第２上パンチ、及び該第２上パンチに挿通可能な円柱状の上コアからなる上側金型と、前記ダイに下方向から挿通可能であって、円筒状の第１下パンチ、該第１下パンチに挿通可能な第２下パンチ、及び該第２下パンチに挿通可能な円柱状の下コアからなる下側金型とを用いており、
前記第１下パンチを下降させて前記第２下パンチと前記ダイとの間に空間を形成する工程と、
前記空間内に磁性粉末と樹脂との混合物を充填する工程と、
前記下コアを下降させて前記第２下パンチの内部を開放し、シャフトの一端部を挿入する工程と、
前記第２下パンチ及び下コアを下降させて、前記シャフトの中央部及び両端部の一部を前記材料中に埋没させる工程と、
前記上コア及び下コアにて前記シャフトを挟持しながら、前記第１上パンチ及び第２上パンチと前記第１下パンチ及び第２下パンチにて前記混合物を1〜2.5GPaの成形圧力で圧縮成形して成形体を作製するとともに、
前記混合物及び前記シャフトを一体化する工程と、
を有し前記混合物はＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系急冷磁石粉末であって、粒径２０μm以下の第１磁石粉末と粒径２０μm超２２０μm以下でピーク粒度が８０〜１２０μmの第２磁石粉末を、前記第１磁石粉末を５〜１５質量％、前記第２磁石粉末を８５〜９５質量％とし合計で１００質量％となるように混合した磁石粉末を用い、前記磁石粉末と成形体用樹脂（磁石粉末を１００質量％としたときに磁石粉末に対して１〜２質量％）を混錬して作製する
ことを特徴とするシャフト一体型ボンド磁石の製造方法。
【請求項７】
前記ローレットは綾目ローレットであることを特徴とする請求項６に記載のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法。
【請求項８】
前記綾目ローレットの傾斜角度は１０度以上４５度以下であることを特徴とする請求項７に記載のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法。
【請求項９】
前記ローレットは平目ローレットであることを特徴とする請求項６に記載のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法。
【請求項１０】
前記平目ローレットの端部に深さ方向にテーパーが形成されていることを特徴とする請求項９に記載のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法。
【請求項１１】
前記ローレットの深さは５０μｍ以上２００μｍ以下であることを特徴とする請求項６〜１０のいずれか１に記載のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法。
【請求項１２】
前記シャフトの軸長方向の中央部の周面に、前記シャフトの周方向に沿って延在する溝部が形成されていることを特徴とする請求項６から１１のいずれか１に記載のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法。
【請求項１３】
前記溝部はシャフトの軸長方向に複数形成されていることを特徴とする請求項１２記載のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法。
【請求項１４】
前記混合物及び前記シャフトを一体化する工程後の前記成形体に、粘度が１００〜６００ｍＰａ・sの含浸用樹脂を減圧後加圧雰囲気で含浸させ、硬化することを特徴とする特徴とする請求項６から１３のいずれか１に記載のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種モータに利用されるボンド磁石、シャフト一体型ボンド磁石、及び、成形装置を用いてシャフト一体型ボンド磁石を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁性粉末と、該磁性粉末の結合剤としての樹脂とを固化成形してなるボンド磁石は、焼結磁石に比べて、寸法精度が高く、形状自由度が高いという利点がある。このような円筒状のボンド磁石にロータ軸となるシャフトを装入させて一体化したシャフト一体型ボンド磁石は、電子機器、カメラ、自動車などにおける各種モータに利用されている。
【０００３】
このようなシャフト一体型ボンド磁石及びその製造方法が、特許文献１に開示されている。特許文献１では、圧縮成形装置の金型内に、ロータ軸が装入されたロータ継鉄からなる支持部材を配設し、支持部材周囲にＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末及びエポキシ系樹脂からなる磁性組成物を供給し、加圧成形して得られるシャフト一体型ボンド磁石が記載されている。
【０００４】
特許文献１によれば、磁性粉末と結合剤とを混合してなる磁性組成物における磁性粉末の重量比率及び体積比率を高くしたシャフト一体型ボンド磁石を比較的容易に提供することができる。そのため、モータの小型化、高性能化を図ることが可能である。
【０００５】
特許文献２には、希土類ボンド磁石成形体に対し、減圧及び加圧することで熱硬化性樹脂の低粘度溶液を含浸させ希土類ボンド磁石の機械強度を向上させる技術が開示されている。
【０００６】
特許文献３には、平均粒径の異なる２種類の粉末を混合、成形することでボンド磁石成形体の密度を向上させる技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平６−１４０２３５号公報
【特許文献２】特開平４−２７３４１３号公報
【特許文献３】特開２０１１−１７６０１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
このようなシャフト一体型ボンド磁石にあっては、ボンド磁石とシャフトとの結合強度が低下して、ボンド磁石がシャフトから分離するおそれがある。ボンド磁石がシャフトから分離した場合、ボンド磁石がシャフトに対して相対的に回転したり、ボンド磁石がシャフトの軸長方向に移動したりして、ボンド磁石に生じるトルクをシャフトに適正に伝達できなくなるという不具合が発生する。
またボンド磁石をモータの回転子として極めて高い回転数で使用した場合、ボンド磁石自体の強度が足りず、ボンド磁石が破損してしまう場合がある。更にボンド磁石が高温となった場合には高い回転数で破損する可能性は高くなる。シャフト一体型ボンド磁石におけるボンド磁石及びシャフトの結合強度及びボンド磁石自体の強度の向上が課題となっている。
【０００９】
本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、強度が高いボンド磁石の製造方法及びボンド磁石及びシャフトの結合強度が高いシャフト一体型ボンド磁石を圧縮成形にて製造するシャフト一体型ボンド磁石の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明におけるボンド磁石の製造方法は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系急冷磁石粉末であって、粒径２０μm以下の第1磁石粉末と粒径２０μm超２２０μm以下でピーク粒度が８０〜１２０μmの第２磁石粉末を、前記第1磁石粉末を５〜１５質量％、前記第２磁石粉末を８５〜９５％とし合計が１００質量％となるように混合した磁石粉末を用い、前記磁石粉末と成形体用樹脂（磁石粉末を１００質量％としたときに磁石粉末に対して１〜２質量％）を混錬して混合物を作製し、前記混合物を１〜２．５ＧＰａの成形圧力で圧縮成形後硬化したボンド磁石成形体に対し、粘度が１００〜６００ｍＰａ・sの含浸用樹脂を減圧後加圧雰囲気で含浸させ、硬化することを特徴とする、ボンド磁石の製造方法である。
【００１１】
本発明によれば、ボンド磁石自体の強度を高くすることが可能である。
【００１２】
本発明におけるボンド磁石の製造方法において、前記成形体用樹脂は熱硬化型のエポキシ樹脂であることを特徴とする。
【００１３】
本発明によれば、ボンド磁石自体の強度を高くかつ、加熱による簡便な方法でボンド磁石成形体を得ることができる。
【００１４】
本発明におけるボンド磁石の製造方法において、前記成形体用樹脂は２液性のエポキシ樹脂であることを特徴とする。
【００１５】
本発明によれば、ボンド磁石自体の強度を高くすることができ、かつ耐薬品性、電気絶縁性の更に優れたボンド磁石成形体を得ることができる。
【００１６】
本発明におけるボンド磁石の製造方法において、前記含浸用樹脂は熱硬化型のエポキシ樹脂であることを特徴とする。
【００１７】
本発明によれば、ボンド磁石自体の強度を高くかつ、加熱による簡便な方法でボンド磁石成形体を得ることができる。
【００１８】
本発明におけるボンド磁石の製造方法において、前記含浸用の樹脂は２液性のエポキシ樹脂であることを特徴とする。
【００１９】
本発明によれば、ボンド磁石自体の強度を高くすることができ、かつ耐薬品性、電気絶縁性の更に優れたボンド磁石成形体を得ることができる。
【００２０】
本発明のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法は軸長方向の中央部の周面にローレットが形成されている円柱状のシャフトに、
前記シャフトの前記中央部の全域を覆って円筒状のボンド磁石が一体的に設けられているシャフト一体型ボンド磁石を製造する方法において、
円筒状のダイと、該ダイに上方向から挿通可能であって、円筒状の第１上パンチ、該第１上パンチに挿通可能な第２上パンチ、及び該第２上パンチに挿通可能な円柱状の上コアからなる上側金型と、前記ダイに下方向から挿通可能であって、円筒状の第１下パンチ、該第１下パンチに挿通可能な第２下パンチ、及び該第２下パンチに挿通可能な円柱状の下コアからなる下側金型とを用いており、
前記第１下パンチを下降させて前記第２下パンチと前記ダイとの間に空間を形成する工程と、
前記空間内に磁性粉末と樹脂との混合物を充填する工程と、
前記下コアを下降させて前記第２下パンチの内部を開放し、シャフトの一端部を挿入する工程と、
前記第２下パンチ及び下コアを下降させて、前記シャフトの中央部及び両端部の一部を前記材料中に埋没させる工程と、
前記上コア及び下コアにて前記シャフトを挟持しながら、前記第１上パンチ及び第２上パンチと前記第１下パンチ及び第２下パンチにて前記混合物を１〜２．５GPaの成形圧力で圧縮成形して成形体を作製するとともに  前記混合物及び前記シャフトを一体化する工程を有し前記混合物はＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系急冷磁石粉末であって、粒径２０μm以下の第1磁石粉末と粒径２０μm超２２０μm以下でピーク粒度が８０〜１２０μmの第２磁石粉末を、前記第１磁石粉末を５〜１５質量％、前記第２磁石粉末を８５〜９５質量％とし合計１００質量％となるように混合した磁石粉末を用い、前記磁石粉末と成形体用樹脂（磁石粉末を１００質量％としたときに磁石粉末に対して１〜２質量％）を混錬して作製することを特徴とする。
【００２１】
本発明にあっては、磁性粉末及び樹脂の混合物と軸長方向の中央部の周面にローレットが形成されている円柱状のシャフトとを圧縮成形することにより混合物及びシャフトを一体化する。また粒径２０μm以下の第1磁石粉末と粒径２０μm超２２０μm以下でピーク粒度が８０〜１２０μmの第２磁石粉末を、第1磁石粉末を５〜１５質量％、第２磁石粉末を８５〜９５質量％とし合計１００質量％となるように混合した磁石粉末を用いるので、強度の高いシャフト一体型ボンド磁石を製造することができる。また簡単な製造工程にて、ボンド磁石及びシャフトの結合強度が高いシャフト一体型ボンド磁石を製造することができる。
【００２２】
本発明のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法は、前記ローレットは綾目ローレットであることを特徴とする。
【００２３】
本発明にあっては、ローレットとして綾目ローレットを使用している。よって、軸長方向及び回転方向におけるボンド磁石及びシャフトの結合強度は高く、ボンド磁石がシャフトに対して軸長方向に移動したりシャフトに対して回転したりするような不具合は生じない。
【００２４】
本発明のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法は、綾目ローレットの綾目の傾斜角度は１０度以上４５度以下であることを特徴とする。
【００２５】
本発明にあっては、軸長方向及び回転方向におけるボンド磁石及びシャフトの結合強度は高く、ボンド磁石がシャフトに対して軸長方向に移動したりシャフトに対して回転したりするような不具合は生じない。
【００２６】
本発明のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法は、前記ローレットは平目ローレットであることを特徴とする。
【００２７】
本発明にあっては、ローレットとして平目ローレットを使用している。よって、回転方向におけるボンド磁石及びシャフトの結合強度は高く、ボンド磁石がシャフトに対して回転したりするような不具合は生じない。
【００２８】
本発明のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法は、平目ローレットの端部に深さ方向にテーパーが形成されていることを特徴とする。
【００２９】
本発明にあっては、平目ローレットの端部に深さ方向にテーパーが形成されており、シャフト一体型ボンド磁石の成形時に、磁性粉末と樹脂の混合物がテーパーの無い場合に比べてスムーズにローレットの凹部に入り成形時のクラック等が低減できる。
【００３０】
本発明のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法は、ローレット深さは５０μｍ以上２００μｍ以下であることを特徴とする。
【００３１】
本発明にあっては、シャフトとボンド磁石間の回転方向及びスラスト方向の強度を確保できるとともに、成形時のクラック発生を抑制できる。
【００３２】
本発明のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法は、前記シャフトの軸長方向の中央部の周面に、前記シャフトの周方向に沿って延在する溝部が形成されていることを特徴とする。
【００３３】
本発明にあっては、シャフトの軸長方向の中央部の周面に、シャフトの周方向に沿って延在する溝部が形成されている。よって、成形体をダイから抜き出す際に生じる混合物のスプリングバックにより、混合物が溝部を押圧するため、ボンド磁石及びシャフト結合強度が高く、ボンド磁石がシャフトの軸方向に動くような不具合は生じない。
【００３４】
本発明に係るシャフト一体型ボンド磁石は、前記溝部はシャフトの軸長方向に複数形成されていることを特徴とする。
【００３５】
溝部はシャフトの軸長方向に複数形成されている。よって、成形体をダイから抜き出す際に生じる混合物のスプリングバックにより、混合物が溝部を押圧するため、ボンド磁石及びシャフト結合強度が高く、ボンド磁石がシャフトの軸方向に動くような不具合は生じない。
【００３６】
本発明のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法は、前記混合物及び前記シャフトを一体化する工程後の前記成形体に、粘度が１００〜６００ｍＰａ・sの含浸用樹脂を減圧後加圧雰囲気で含浸させ、硬化することを特徴とする工程をさらに有することを特徴とする。
【００３７】
本発明にあっては、成形体に、樹脂を含浸させているので、高い強度を有し、かつ成形体とシャフトの固着力を高めることができる。さらにボンド磁石の対候性を高めることができる。
【発明の効果】
【００３８】
本発明のボンド磁石及びシャフト一体型ボンド磁石の製造方法によれば、強度が高いボンド磁石の製造方法及びボンド磁石及びシャフトの結合強度が高いシャフト一体型ボンド磁石を圧縮成形にて製造するシャフト一体型ボンド磁石の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石を示す斜視図である。
【図２】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石を示す断面図である。
【図３】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石におけるシャフトを示す斜視図である。
【図４】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石におけるシャフトを示す平面図である。
【図５】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法の工程手順を示す断面図である。
【図６】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法の工程手順を示す断面図である。
【図７】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法の工程手順を示す断面図である。
【図８】シャフト一体型ボンド磁石の製造方法における成形体の上側金型及び下側金型の内／外の応力の状態を示す断面図である。
【図９】第２の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石に用いるシャフトの平面図である。
【図１０】第３の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石に用いるシャフトの平面図である。
【図１１】実施例の断面観察結果である。
【図１２】比較例の断面検察結果である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下、本発明をその実施の形態を示す図面に基づいて詳述する。
【００４１】
（第１の実施形態）
図１及び図２は、第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石を示す斜視図及び断面図である。    また、図３及び図４は、第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石１におけるシャフト２を示す斜視図及び平面図である。
シャフト一体型ボンド磁石１は、円柱状のシャフト２と円筒状のボンド磁石３とを一体化して構成されている。シャフト２の形状の違いにより、第１の実施形態と後述する第２の実施形態及び第３の実施形態とが存在する。
第１の実施形態において本発明を実現する好ましい態様について記述する。
【００４２】
第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石１におけるシャフト２は、全体として円柱状をなしているが、その軸長方向の中央部２ａを挟むように周方向に沿って二つの溝部、第１溝部２ｄ，第２溝部２ｅが形成されている。（以降溝部２ｄ、溝部２ｅと呼称する場合がある）
中央部２ａの周面及び二つの溝部２ｄ、２ｅのシャフト２の端部側(２ｂ側及び２ｃ側）の周面（２ｆ及び２ｇ）には、綾目ローレットが形成されている。言い換えると、溝部２ｄ，２ｅの軸方向の両側の周面には、綾目ローレットが形成されている（図３、図４参照）。綾目ローレットとは凹凸が交差することで、軸方向に対する抜け止めの効果を奏する。
溝部２ｄ、２eは同じ幅、同じ深さである。中央部２ａは両端部２ｃ、２ｂと同径となっている。図４において点線でしめすようにシャフト２の中央部２ａの全域の外周面、ならびに、二つの溝部２ｄ，２ｅの外周面、ローレットのある部位（２ｇ、２f）の外周面及びローレットの両端部（一端部２ｂ及び他端部２ｃ）側の一部の領域の外周面を覆う態様にて、ボンド磁石３が一体的に設けられている。
【００４３】
シャフト２の材料としては、鉄材、珪素鋼、アルミニウム合金、磁性ステンレス鋼などを使用でき、樹脂または樹脂と金属粉末や合金粉末との複合材料を用いてもよい。
【００４４】
ボンド磁石３は、磁性粉末と樹脂との混合物（磁性組成物）から形成される。磁性粉末として、希土類系磁性粉末を使用することができる。希土類系磁性粉末としては、Ｒ−Ｔ−Ｂ系磁性粉末（Ｒは少なくとも一種の希土類元素であってＮｄ、Ｐｒのいずれか一方を必ず含む、ＴはＦｅまたはＦｅとＣｏ、Ｂは硼素であって一部をＣ（炭素）で置換できる）が好ましい。Ｒ−Ｔ−Ｂ系磁性粉末の形状は、急冷法により製造された磁性粉末であり、好ましくは扁平形状（例えば、粉末粒子の形状アスペクト比＝短径／長径が０．３以下）である。扁平形状を有するＲ−Ｔ−Ｂ系磁性粉末を用いることにより、材料（磁性粉末及び樹脂の混合物）の圧縮成形の際に、磁性粉末が積層し易くなる。また、成形時に磁性粉末間に空隙または樹脂溜まりが比較的でき難くなり、高密充填が可能となる。Ｒ−Ｔ−Ｂ系磁性粉末の粒子径は、粒径２０μｍ以下の第1磁石粉末と粒径２０μｍ超２２０μｍ以下でピーク粒度が８０〜１２０μｍの第２磁石粉末を第１磁石粉末が５〜１５質量％、第２磁石粉末が８５〜９５質量％とし合計で１００質量％となるように混合した磁石粉末を用いる。ここで、平均粒子径は体積分布の算術平均径であり、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定する。
【００４５】
一方、ボンド磁石３に使用する樹脂（成形体用樹脂）は、一般的なボンド磁石に用いられる熱硬化性樹脂あるいは２液性の樹脂であって、好ましい樹脂として、例えばエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。
磁石粉末を１００質量％としたときに１〜２質量％の樹脂を混ぜるのが望ましい。１質量％未満では成形体強度が低下するおそれがある。また２質量％超の場合には磁粉の含有量が相対的に低下し磁気特性が低くなるおそれがある。
【００４６】
ボンド磁石３の密度は５．８〜６．２ｇ／ｃｍ3 である。本発明のシャフト一体型ボンド磁石１では、後述するように圧縮成形にて製造するので、射出成形にて製造されるシャフト一体型ボンド磁石（通常、密度は５．０〜５．５ｇ／ｃｍ3 程度）に比べて、密度が高いため（単位体積あたりの磁性粉末の量が多いため）、優れた磁気特性を期待できる。
なお、本発明において成形圧力は１〜２．５ＧＰａであるのが望ましい。１ＧＰａ以下では成形体強度が低下する。また２．５ＧＰａを超えた場合でも実質的に成形体強度の増大は見込めず、２．５ＧＰａ超の成形圧力は必要ない。
【００４７】
以上の実施形態では、第１溝部２ｄと第２溝部２ｅとの両方を設ける構成としたが、シャフト一体型ボンド磁石１の構成に応じて、第１溝部２ｄまたは第２溝部２ｅのいずれか一つを有する構成としてもよい。
【００４８】
以下、上述したシャフト一体型ボンド磁石１を圧縮成形にて製造する方法について説明する。図５−図７は、第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石１の製造方法の工程手順を示す断面図である。
【００４９】
なお第１の実施形態に用いた混合物は次のように作製した。平均粒径１５０μmの磁粉をボールミルで粉砕し、＜２０μmの磁粉を取り除いた後、再度粉砕した。このようにして粉砕と分級を繰り返して、＜２０μmの磁粉を残りの磁粉（ピーク粒度１００μm）と混合し、＜２０μmの磁粉が１０質量％となるように調整した。
この磁粉と、常温で固体の熱硬化性エポキシ樹脂（磁粉に対して1質量％）を溶媒（MEK）で希釈したものを混錬して混合物を作製した。
【００５０】
図５Ａは、製造工程において使用する成形装置の成形動作の開始位置（以下「定位置」という）を示している。この成形装置は、円筒状のダイ１０と、上側金型２０と、下側金型３０とを備えている。
【００５１】
上側金型２０は、ダイ１０の内径にほぼ等しい外径を有する長尺円筒状の第１上パンチ２１と、第１上パンチ２１の内径にほぼ等しい外径を有する長尺円筒状の第２上パンチ２２と、第２上パンチ２２の内径にほぼ等しい直径を有する長尺円柱状の上コア２３とを備えた三重構成であり、ダイ１０内を上方向から挿通可能である。第１上パンチ２１はダイ１０内を上下方向に挿通可能であって、第２上パンチ２２は第１上パンチ２１内を上下方向に挿通可能であり、上コア２３は第２上パンチ２２内を上下方向に挿通可能である。第１上パンチ２１の移動（上昇／下降）と、第２上パンチ２２の移動（上昇／下降）と、上コア２３の移動（上昇／下降）とは、互いに独立して行える。
【００５２】
下側金型３０は、ダイ１０の内径にほぼ等しい外径を有する長尺円筒状の第１下パンチ３１と、第１下パンチ３１の内径にほぼ等しい外径を有する長尺円筒状の第２下パンチ３２と、第２下パンチ３２の内径にほぼ等しい直径を有する長尺円柱状の下コア３３とを備えた三重構成であり、ダイ１０内を下方向から挿通可能である。第１下パンチ３１はダイ１０内を上下方向に挿通可能であって、第２下パンチ３２は第１下パンチ３１内を上下方向に挿通可能であり、下コア３３は第２下パンチ３２内を上下方向に挿通可能である。第１下パンチ３１の移動（上昇／下降）と、第２下パンチ３２の移動（上昇／下降）と、下コア３３の移動（上昇／下降）とは、互いに独立して行える。
【００５３】
まず、図５Ｂに示す如く、第１下パンチ３１を下降させて第２下パンチ３２とダイ１０との間に空間４１を形成する。次いで、図５Ｃに示す如く、この空間４１内にボンド磁石３の材料４２（磁性粉末及び樹脂の混合物（磁性組成物））を充填する。このときの下降距離ｄ１（空間４１の深さ）は、製造されるシャフト一体型ボンド磁石１におけるボンド磁石３の長さと、後述する圧縮成形工程での材料４２の圧縮率とを考慮して決定される。
【００５４】
次に、図５Ｄに示す如く、下コア３３を下降させて第２下パンチ３２の内部に開放部４３を形成する。このときの下降距離ｄ２（開放部４３の長さ）は、シャフト一体型ボンド磁石１において外周面がボンド磁石３で覆われないシャフト２の一端部２ｂの領域の長さを考慮して決定される。
【００５５】
次いで、図６Ａに示す如く、予め準備しておいたシャフト２の一端部２ｂの一部を、開放部４３に挿入する。この際、シャフト２は、シャフト２の一端部２ｂの一端面が下コア３３に当接するまで下降させる。シャフト２は、自重によって下降させてもよいし、手動あるいは専用治具（専用装置）などを用いて下降させてもよい。
【００５６】
次に、図６Ｂに示す如く、第１上パンチ２１、第２上パンチ２２及び上コア２３を下降させる。上コア２３はシャフト２の他端部２ｃの一端面に当接するまで下降させて上コア２３及び下コア３３によってシャフト２を挟持する。また、第１上パンチ２１及び第２上パンチ２２は、シャフト２の他端部２ｃの一部の領域を覆う位置まで下降させる。第１上パンチ２１及び第２上パンチ２２の下降位置は、シャフト一体型ボンド磁石１において外周面がボンド磁石３で覆われないシャフト２の他端部２ｃの領域の長さを考慮して決定される。
【００５７】
なお、図５Ｄから図６Ａに基づく前記実施の形態に代えて、図５Ｄにおいて、下コア３３を下降させて第２下パンチ３２の内部に開放部４３を形成する際、その下降距離ｄ２（開放部４３の長さ）を、シャフト一体型ボンド磁石１において外周面がボンド磁石３で覆われないシャフト２の一端部２ｂの領域の長さと外周面がボンド磁石３で覆われる領域の長さとの合計に対応する長さとしてもよい。このとき、図６Ａにおいて、シャフト２の一端部２ｂの全部が開放部４３に挿入されることとなり、結果として、シャフト２の一端部２ｂ及び中央部２ａの境界と、充填した材料４２の上面と、第２下パンチ３２の上面と、ダイ１０の上面とは、上下方向で同じ位置になる。
【００５８】
次いで、図６Ｃに示す如く、第２下パンチ３２、上コア２３及び下コア３３を連動して下降させる。このとき、第１上パンチ２１及び第２上パンチ２２をさらに連動して下降させる。そして、図６Ｄに示す如く、シャフト２の一端部２ｂの一部、中央部２ａ及び他端部２ｃの一部を材料４２中に埋没させる。このときの上コア２３及び下コア３３ならびに第１上パンチ２１及び第２上パンチ２２の下降距離（図６Ｂの上コア２３及び下コア３３ならびに第１上パンチ２１及び第２上パンチ２２の位置から図６Ｄの上コア２３及び下コア３３ならびに第１上パンチ２１及び第２上パンチ２２の位置までの距離）は、シャフト２の一端部２ｂ及び他端部２ｃの外周面がボンド磁石３で覆われる領域の長さ、及び前記圧縮率を考慮して決定される。
【００５９】
図６Ｄに示す如く、第１上パンチ２１及び第２上パンチ２２は、材料４２の上面に当接するまで、もしくはダイ１０の上面まで下降させる。この結果、シャフト２及び材料４２は、上側金型２０と下側金型３０とで封止された状態となる。
【００６０】
なお、図６Ｂから図６Ｄに基づく前記実施の形態においては、第２下パンチ３２を下降させる際、第１下パンチ３１の下降位置まで下降（図５Ｂに示す下降距離ｄ１だけ下降）させているが、シャフト一体型ボンド磁石１の形状などに応じて、第２下パンチ３２の下降位置を、第１下パンチ３１の下降位置よりも上または下に位置させてもよい。
【００６１】
また、図６Ｂから図６Ｄに基づく前記実施の形態において、予め上コア２３と下コア３３によってシャフト２を挟持して、第２下パンチ３２を下降させながら、上コア２３及び下コア３３を連動して下降させて、シャフト２の一端部２ｂの一部、中央部２ａ及び他端部２ｃの一部を材料４２中に埋没させる工程に代えて、予め上コア２３と下コア３３によってシャフト２を挟持せず、第２下パンチ３２を下降させながら、下コア３３のみを下降させて、下コア３３上にシャフト２が載置された状態で自重によって下降させてもよい。また、シャフト２の下降は手動あるいは専用治具（専用装置）などを用いて行ってもよい。
【００６２】
次いで、図７Ａに示す如く、第１下パンチ３１を下降させるとともに、第２上パンチ２２を下降させる。
ここで、図７Ａでは、第１下パンチ３１を下降させるとともに、第２上パンチ２２を下降させたが、第１下パンチ３１を下降させるとともに、第２上パンチ２２及び第１上パンチ２１を下降させても良い。  その後、図７Ｂに示す如く、ダイ１０を下降させるとともに、上コア２３と下コア３３によってシャフト２を挟持しながら上コア２３、下コア３３、第１上パンチ２１及び第２上パンチ２２を下降させる。ここで、第１上パンチ２１と第２上パンチ２２の材料４２と接する面の高さ位置が同じになるよう、第１上パンチ２１と第２上パンチ２２の下降量を調整する。また、第１下パンチ３１と第２下パンチ３２の材料４２と接する面の高さ位置が同じになるよう、第１下パンチ３１と第２下パンチ３２の上昇量を調整する。ダイ１０の下降によって、第１下パンチ３１及び第２下パンチ３２が相対的に上昇することになる。そして、第１上パンチ２１及び第２上パンチ２２と第１下パンチ３１及び第２下パンチ３２とにより材料４２を、下方向と上方向との２方向から圧縮して、シャフト２及び材料４２を一体化して成形する。
【００６３】
なお、ダイ１０を下降させることしたが、第１下パンチ３１及び第２下パンチ３２を、直接上昇させるようにしてもよい。図７Ａ，図７Ｂに基づく前記実施形態において、ダイ１０の下降距離と上コア２３と下コア３３の下降距離は同じであってもよいし、異なっていてもよい。ダイ１０、上コア２３と下コア３３、第１上パンチ２１及び第２上パンチ２２の下降距離、あるいは第１下パンチ３１及び第２下パンチ３２を上昇させる場合の上昇距離などは、後述する成形体４４の形状などを考慮して決定すればよい。
【００６４】
次に、図７Ｃに示す如く、ダイ１０、第１上パンチ２１、第２上パンチ２２、上コア２３、第１下パンチ３１、第２下パンチ３２、及び下コア３３を全て上昇させる。この際、ダイ１０、第１下パンチ３１、及び第２下パンチ３２が定位置に戻るまで、上昇動作を行う。次いで、図７Ｄに示す如く、第１上パンチ２１、第２上パンチ２２及び上コア２３を更に上昇させて定位置まで戻す。その後、成形体４４をダイ１０から取り出して、成形処理を終了する。なお、図7Ｃから図７Ｄに基づく前記実施の形態に代えて、ダイ１０のみを下降させて成形体４４をダイ１０から取り出した後、ダイ１０、第１上パンチ２１、第２上パンチ２２、上コア２３、第１下パンチ３１、第２下パンチ３２、及び下コア３３の全てを定位置に戻るように動作させてもよい。
なお第１の実施形態において成形圧力は２ＧＰａとした。      
【００６５】
取り出された成形体４４は、樹脂が硬化されていないので、取り出した成形体４４に対して、２００℃で１時間の熱処理を施し、樹脂を硬化させた。これにより、所望の密度、形状を有するシャフト一体型ボンド磁石１が得られた
あるいは２液性の樹脂を用いる場合は、室温でも硬化するが、熱処理により硬化を促進しても良い。
【００６６】
作製したボンド磁石成形体に対し、常温で液体の熱硬化性エポキシ樹脂（粘度が１００〜６００ｍＰａ・s）を減圧後加圧雰囲気で含浸させた後、洗浄や遠心分離などの工程を経て磁石表面の余分な樹脂を除去し、２００℃で１時間加熱硬化してボンド磁石を作製した。
【００６７】
上述した実施の形態では、ボンド磁石３が磁性粉末と熱硬化性樹脂との混合物（磁性組成物）にて構成されていることとしたが、ボンド磁石３が主剤と硬化剤とからなる２液性のエポキシ樹脂と磁性粉末との混合物とからなっていても良い。またボンド磁石に対して熱硬化性のエポキシ樹脂を含浸する構成を示したが、ボンド磁石３に対して２液性のエポキシ樹脂を含浸させても良い。  含浸は公知の方法を用いれば良く、含侵は、減圧法、加圧法、真空加圧法等の方法を適用すればよい。
【００６８】
このような磁性粉末及び熱硬化性エポキシ樹脂、２液性のエポキシ樹脂を含む構成では、磁性粉末の充填率が高くて強度のばらつきが少ないシャフト一体型ボンド磁石１を提供でき、磁気特性の向上を図ることができる。
【００６９】
シャフトを一体成形したボンド磁石に樹脂を含浸させた際の効果についてさらに説明する。含浸された樹脂はボンド磁石の磁性粉と樹脂の隙間に入り込みボンド磁石の強度を向上させる。さらに含浸された樹脂は磁性粉と樹脂とシャフトの間に入り込み、ボンド磁石成形体とシャフトを強固に結合させるという格別の効果を有している。
シャフトの外周面にローレットを有する場合、シャフト一体成形を行うと、磁性粉と樹脂はローレットの形状に倣い成形されるため、シャフトとボンド磁石は固着される。この状態でも必要十分な強度であるが、更に高い固着性能を要求される場合に樹脂含浸を行うと、含浸された樹脂は、ボンド磁石とシャフトの接着強度を高めるとともに、例えばシャフトのローレット凹部に磁粉と樹脂が入っていない空隙がある場合でも、ボンド磁石とシャフトの隙間に入りこみ(充填され)  シャフトとボンド磁石を一体化する効果を発し、さらに高い固着性能を発揮することができる。
またボンド磁石の対候性を高めるとともに、渦電流損失を低減できる可能性を有する。
【００７０】
含浸に用いる樹脂は、エポキシ樹脂が使用可能である。  エポキシ樹脂としては、加熱硬化型、主剤と硬化剤からなる２液性エポキシ樹脂を利用できる。２液性であっても、常温硬化のみならず、加熱により硬化を促進しても良い。
【００７１】
次に成形体用樹脂と含浸用樹脂の組み合わせについて説明する。成形体用樹脂に熱硬化型のエポキシ樹脂を用い含浸用樹脂に熱硬化型の樹脂を用いることができる。また成形体用樹脂に熱硬化型樹脂、含浸用樹脂に２液性のエポキシを用いても良い２液性のエポキシ樹脂を含浸した後加熱しても良い。また含浸用樹脂の硬化剤のみを先に含浸させ主剤を後で含浸しても良い。硬化剤を主剤を混合しないで含浸した場合、主剤の硬化が進まないので、主剤を長く使用することができる。成形体用樹脂に２液性エポキシ、含浸用樹脂に加熱硬化型樹脂を用いても良い。成形体用樹脂に２液性エポキシ、含浸用樹脂に２液性エポキシを用いても良い。  ２液性のエポキシ樹脂の場合、加熱しなくても硬化するが硬化促進のため加熱しても良い。
【００７２】
上述したシャフト一体型ボンド磁石１の製造手順にあって、磁性粉末と樹脂との混合物、または、磁性粉末のみである材料４２に、潤滑剤を添加するようにしてもよい。このような潤滑剤を加えることにより、材料４２とダイ１０との摩擦が和らげられて、成形装置の長寿命化を図れる。
【００７３】
以下、上述したシャフト一体型ボンド磁石１におけるボンド磁石３とシャフト２との結合強度について説明する。
【００７４】
前述したように、シャフト２の中央部の周面には、周方向に沿って延在する２つ溝部、第１溝部２ｄ，第２溝部２ｅが形成されており、かつ中央部２ａの周面及び第１溝部及び第２溝部のシャフト端部側の周面にはローレットが形成されている。
【００７５】
図８Ａは、上述したシャフト一体型ボンド磁石１の製造方法における成形体４４の金型内での形状、図１２Ｂは金型外での形状を示している。第１溝部２ｄの断面形状は、矩形状である。
【００７６】
成形体４４が金型から取り外される際に、磁性粉末及び樹脂の混合物である材料４２のシャフト２に対するスプリングバックにより発生する応力（図８Ｂの矢符参照）により、溝部２ｄ及び溝部２ｅにて材料４２とシャフト２との強力な結合が実現される。この結果、軸方向におけるボンド磁石３及びシャフト２の結合強度は高くなり、シャフト一体型ボンド磁石１にあって、ボンド磁石３がシャフト２に対して軸方向に移動するような不具合は生じない。このように、溝部２ｄの形成が、スラストトルク対策となっている。
【００７７】
また同様に、綾目ローレットの凹凸とボンド磁石との強力な結合が実現される。この結果、周方向におけるボンド磁石３及びシャフト２の結合強度は高くなり、シャフト一体型ボンド磁石１にあって、ボンド磁石３がシャフト２に対して相対的に回転するような不具合は生じない。このように綾目ローレットの形成は、スリップトルク対策となっている。さらにローレットを綾目形成していることから、軸方向のスラストトルク対策にも貢献している。
【００７８】
（第２の実施形態）
図９は、第２の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石に用いるシャフトの形状を示す平面図である。ローレットを平目としたほかは、第１の実施形態と製造方法および作用効果はほぼ同じであり、詳細については割愛する。第２の実施形態にかかるシャフト一体型ボンド磁石の製造方法は第１の実施形態と同じであるので詳細は割愛する。
【００７９】
(第３の実施形態)
図１０のＡ，Ｂは本発明のシャフト一体型ボンド磁石に用いるシャフトの形状を示す平面図である。  周面に溝部を持たず、シャフト中央部（５ａ，６ａ）に、平目ローレット(図１０、Ａ)または綾目ローレットが(図１０、Ｂ)が施されている。
周面に溝部を有しないため、これらのシャフトを用いてシャフト一体成形により、ボンド磁石を成形した場合には、実施の形態１、実施の形態２に比較して若干のスラスト方向の強度が低下するおそれがあるが、回転子として用いる場合で、スラスト方向の力があまりかからない用途については有効である。さらにシャフトの太さが一定なので、応力集中する部分が無く、高速回転した場合の強度低下が少ないという利点を有する。
スラスト方向の力がかからない用途の場合、本実施形態のシャフトを用いシャフト一体成形を行った後に、含浸処理を行うと、高速回転に非常に適したシャフト一体型ボンド磁石を得ることができる。
第３の実施形態にかかるシャフト一体型ボンド磁石及び製造方法は、第１の実施形態と同じであるので詳細は割愛する。
【００８０】
図１１は第３の実施形態において、図１０Ｂに示す綾目ローレットの綾目の角度を変えた場合である。ここで綾目ローレットの綾目の角度とは、シャフトの軸線と同じ方向の線（基準線）をシャフトの表面に描画した場合に、綾目を形成する凸部の基準線に対する傾斜角度をいう。
図１１は第３の実施形態において、図１０Ｂに示す綾目ローレット部分６ａの拡大図である。図１１Ａ（６ａ）は傾斜角度４５度、図１１Ｂ（６ｄ）は傾斜角度２２．５度、図１２Ｃ（６ｅ）は傾斜角度１０度の場合を示した。
【００８１】
高い成形圧力でシャフト一体型ボンド磁石を成形する場合、ローレットの傾斜角度が小さくなるにつれて、シャフトとボンド磁石を一体成形する際に、磁性粉末と樹脂の混合物が、傾斜角度が大きい場合に比べてスムーズにローレット凹部に入り、圧縮成形時の磁性粉末と樹脂の混合物とシャフト間の抵抗を低減し、成形されたボンド磁石に発生するクラック等を低減できる。綾目ローレットの傾斜角度は、必要なシャフト一体型ボンド磁石の仕様に合わせ適宜設定すればよいが、綾目ローレットの傾斜角度は１０度以上４５度以下が望ましい。１０度以上２２．５度以下がさらに望ましく。１０度が最も望ましい。
【００８２】
綾目ローレットのローレット深さ（ローレットの凹部と凸部の距離：後述のローレット山部７ｅとローレット谷部７ｆの距離）は５０μｍ以上２００μｍ以下が望ましい。ローレット深さが深くなるにつれて、回転方向及びスラスト方向の強度は大きくなるので望ましい。ローレット深さが浅くなると、シャフトとボンド磁石を一体成形する際に、磁性粉末と樹脂の混合物がローレット深さが深い場合に比べてスムーズにローレットの凹部に入り、圧縮成形時の磁性粉末と樹脂の混合物とシャフトの間の抵抗を低減し、成形されたボンド磁石に発生するクラック等を低減できる。ローレット深さ５０μｍ以上２００μ以下で回転方向及びスラスト方向の強度を高くできるとともに、クラック等の発生を抑制できる。
【００８３】
綾目ローレットのローレット深さは、必要なシャフト一体型ボンド磁石の仕様及びローレット角度も考慮し適宜決定すればよい。
【００８４】
図１２は本発明のシャフト一体型ボンド磁石に用いるシャフトの形状を示す平面図である。周面に溝部を持たず、シャフト中央部（７ｄ）に平目ローレットが形成されている。
図１２に示すシャフトは図１０Ａに示すシャフトと同様に平目ローレットが形成されているが、図１０Ａに示す平目ローレットとの違いは、ローレットの端部にテーパーが形成されていることである。図１２の円で示したローレット端部Ａの拡大図を図１１のＢに示した。
ここで７ｅはローレット山部、７ｆはローレット谷部、７ｇはローレットの表面からローレットの谷部７ｆまでの傾斜（テーパー）面を示す。
特に高い成形圧力で成形する場合、ローレットの端部をテーパーとすることで、シャフトとボンド磁石を一体成形する際に、磁性粉末と樹脂の混合物がテーパーの無い場合に比べてスムーズにローレットの凹部に入り、圧縮成形時の磁性粉末と樹脂の混合物とシャフトの間の抵抗を低減し、成形されたボンド磁石に発生するクラック等を低減できる。
【００８５】
本発明の製造方法により製造されるシャフト一体型ボンド磁石に用いられるローレットは平目ローレットがより望ましい。本発明では、シャフトに平行な向きに加圧するため、加圧により磁粉はシャフトに沿ってスムーズに動き成形される。この際ローレットの向きが加圧方向に平行な平目ローレットの場合、加圧により磁粉はローレットに沿ってスムーズに入りローレットが磁粉の動きを妨げることは少ない。よって加圧による成形された磁石のクラックやヒビの発生を低減できる。
【００８６】
綾目ローレットの場合には、ローレットの目が加圧方向に対して傾斜しているので傾斜面は成形時の磁粉の動きに対して抵抗となる。よって平目ローレットに比べると高圧成形による成形された磁石のクラックやヒビの発生は多くなる傾向となる。ただし必要なシャフト一体型ボンド磁石の仕様によっては十分使用可能である。
なおシャフトに平行方向のみではなく、直角方向からも成形可能な多軸の成形装置（サーボプレス等）を用いて成形した場合にはシャフト面に直角方向からも圧力が印可されるため、綾目ローレットの溝部にも磁粉と樹脂がスムーズに充填されクラックやヒビの低減が期待される。
【００８７】
(実施例及び比較例)
第３の実施の形態で得られたシャフト一体型ボンド磁石と第３の実施の形態にて磁粉のみを変更した比較の形態について成形体強度を比較した。
比較の形態の磁粉は平均粒径を１５０μｍとした以外は第３の実施の形態と同じとした。ローレットは綾目ローレットとした。
第３の実施の形態により作られたものを実施例、比較の形態により作られたものを比較例とした。
それぞれのシャフト一体型ボンド磁石を試験温度１００℃の環境下で回転させスピン強度を調べた。比較の形態は１３万ｒｐｍにて磁石が破壊し飛散した。第３の実施の形態では２０万ｒｐｍでも磁石は破壊せず回転した。
実施例と比較例の磁石の断面観察を行った。結果を図１３及び図１４に示す。図１３が実施例、図１４が比較例である。
第３の実施の形態のボンド磁石成形体では黒く見える空隙部分のサイズが１０μm以下で非常に小さいものの集まりであることがわかった。ここの含浸樹脂を含浸しても樹脂の体積は非常に小さくなり、樹脂と磁粉の熱膨張係数の違いによる応力差が発生しにくいことが推測できる。
一方、比較の形態のボンド磁石成形体では実施例よりも大きな空隙部分が磁石全域に、そしてより多く見られる。ここに含浸樹脂を含浸させた場合、比較的体積の大きい樹脂部分が多数存在すると考えられ、その部分と磁粉との応力差が発生してしまうことが推測され、高温時の磁石強度が弱くなると考えられる。
【００８８】
開示された実施の形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上述の説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００８９】
１  シャフト一体型ボンド磁石
２、４、５、６、７  シャフト
２ａ、４ａ、５ａ、６ａ、６ｄ、６ｅ、７ａ中央部
２ｂ、４ｂ、５ｂ、６ｂ、７ｂ  一端部
２ｃ、４ｃ、５ｃ、６ｃ、７ｃ  他端部
２ｄ、４ｄ  第１溝部
２ｅ、４ｅ  第２溝部
３  ボンド磁石
７ｅ  ローレット山部
７ｆ  ローレット谷部
７ｇ  テ−パ−
１０    ダイ
２０    上側金型
３０    下側金型
４２    材料
４４    成形体
【図１】
2020202369.tif 000003
【図２】
2020202369.tif 000004
【図３】
2020202369.tif 000005
【図４】
2020202369.tif 000006
【図５】
2020202369.tif 000007
【図６】
2020202369.tif 000008
【図７】
2020202369.tif 000009
【図８】
2020202369.tif 000010
【図９】
2020202369.tif 000011
【図１０】
2020202369.tif 000012
【図１１】
2020202369.tif 000013
【図１２】
2020202369.tif 000014
【図１３】
2020202369.tif 000015
【図１４】
2020202369.tif 000016
【手続補正書】
【提出日】令和2年9月7日(2020.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
【図１】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石を示す斜視図である。
【図２】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石を示す断面図である。
【図３】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石におけるシャフトを示す斜視図である。
【図４】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石におけるシャフトを示す平面図である。
【図５】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法の工程手順を示す断面図である。
【図６】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法の工程手順を示す断面図である。
【図７】第１の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石の製造方法の工程手順を示す断面図である。
【図８】シャフト一体型ボンド磁石の製造方法における成形体の上側金型及び下側金型の内／外の応力の状態を示す断面図である。
【図９】第２の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石に用いるシャフトの平面図である。
【図１０】第３の実施形態のシャフト一体型ボンド磁石に用いるシャフトの平面図である。
【図１１】第３の実施形態において綾目ローレットの綾目の角度を変えた場合を示す平面図である。（１０Ｂ、６ａ部分の拡大図である。）
【図１２】本発明のシャフト一体型ボンド磁石に用いるシャフトの形状を示す平面図である。
【図１３】実施例の断面観察結果である。
【図１４】比較例の断面検察結果である。