(57)【要約】【課題】信頼性の高い光ファイバが製造され易い光ファイバ用母材の製造方法、及び信頼性の高い光ファイバが製造され易い光ファイバの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】光ファイバ用母材の製造方法は、長手方向に垂直な断面形状が多角形である光ファイバ用母材１Ｐを準備する準備工程Ｐ１と、誘電体の研磨材１１２と、アルカリ性の研磨液１１１とを有するスラリー１１０を用いて、光ファイバ用母材１Ｐの被研磨面ＰＳを化学機械研磨する化学機械研磨工程Ｐ２と、を備える。【選択図】    図７
2020164362.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向に垂直な断面形状が多角形である光ファイバ用母材を準備する準備工程と、
誘電体の研磨材と、アルカリ性の研磨液とを有するスラリーを用いて、前記光ファイバ用母材の被研磨面を化学機械研磨する化学機械研磨工程と、
を備える
ことを特徴とする光ファイバ用母材の製造方法。
【請求項２】
前記化学機械研磨工程において前記被研磨面を正に帯電させる
ことを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ用母材の製造方法。
【請求項３】
前記化学機械研磨工程において、前記スラリーを保持する研磨パッドと、前記研磨パッドに対向して設けられ前記光ファイバ用母材を保持する母材保持部との間に所定の電圧を印加して、前記母材保持部を正に帯電させる
ことを特徴とする請求項２に記載の光ファイバ用母材の製造方法。
【請求項４】
前記所定の電圧は、０．０４Ｖ以上１．５Ｖ以下である
ことを特徴とする請求項３に記載の光ファイバ用母材の製造方法。
【請求項５】
前記研磨材はシリカから成る
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の光ファイバ用母材の製造方法。
【請求項６】
前記研磨液のｐＨが７以上１２以下である
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の光ファイバ用母材の製造方法。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の光ファイバ用母材の製造方法により製造された光ファイバ用母材を線引きする線引工程を備える
ことを特徴とする光ファイバの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバ用母材の製造方法、及び光ファイバの製造方法に関し、具体的には、長手方向に垂直な断面形状が多角形の光ファイバ用母材の製造方法、及び当該光ファイバ用母材を用いた光ファイバの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバの一種として、ファイバレーザなどに使用される活性元素添加光ファイバが知られている。活性元素添加光ファイバは、一般的に、活性元素が添加されたコアと、コアよりも低屈折率の内側クラッドと、内側クラッドよりも低屈折率の外側クラッドとを有するダブルクラッド構造とされる。したがって、活性元素添加光ファイバの内側クラッドに励起光が入射すると、励起光が内側クラッドと外側クラッドとの界面で反射しながら伝搬して、当該励起光がコアに入射する。そして、コアに入射した励起光によって活性元素が励起され、コアを伝搬する光が増幅される。
【０００３】
しかし、上記のようなダブルクラッド構造の光ファイバにおいて、内側クラッドの断面形状が円形である場合、励起光が内側クラッドと外側クラッドとの界面において一定の角度で反射し続け、励起光がコアに入射せずに内側クラッドを伝搬する場合がある。このように、コアを通過せずにクラッドを伝搬する光をスキュー光という。スキュー光が生じると、コアに入射する励起光が少なくなるため、コアに添加される活性元素が励起され難くなる。
【０００４】
上記のようなスキュー光を抑制する技術として、内側クラッドの断面形状を多角形とする技術が知られている。内側クラッドの断面形状が多角形とされることによって、クラッドを伝搬する励起光は、クラッドの外周面において反射角を変えながら反射を繰り返し、コアに入射し易くなると考えられる。
【０００５】
上記のような多角形の内側クラッドを有する光ファイバは、軸方向の断面形状が多角形の光ファイバ用母材を線引きすることによって製造することができる。このような断面形状が多角形の光ファイバ用母材は、例えば下記特許文献１に記載されるように、円柱状の光ファイバ用母材の側面の一部を切削することによって製造し得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−１７１６１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、上記特許文献１に開示された方法では、光ファイバ用母材の側面が機械的に切削されるため、切削後の光ファイバ用母材の側面に加工傷が生じ、この傷が残る場合がある。また、このような光ファイバ用母材を線引きすることによって、加工傷が残存した状態の光ファイバが製造され、当該光ファイバに例えば捻りや曲げなどの外力が付与されると、加工傷の近傍に応力が集中して光ファイバが破断する懸念があり、信頼性の高い光ファイバが得られ難い。
【０００８】
そこで、切削後の多角形の光ファイバ用母材の側面を火炎研磨することが考えられる。しかし、上記加工傷が深い場合において、当該加工傷を無くすために加熱温度を上げると、光ファイバ用母材の角が丸くなり得るため、加熱温度を所定温度よりも上げることが難しい。このため、火炎研磨しても深い加工傷を減らすことが難しい。このように、切削後に光ファイバ用母材を火炎研磨する場合であっても、光ファイバ用母材の角が丸くなることを抑制しつつ、切削によって生じた加工傷を十分に減らすことが難しく、線引きされた光ファイバが破断する懸念が依然として残る。
【０００９】
そこで、本発明は、信頼性の高い光ファイバが製造され易い光ファイバ用母材の製造方法、及び信頼性の高い光ファイバが製造され易い光ファイバの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的の達成のため、本発明の光ファイバ用母材の製造方法は、長手方向に垂直な断面形状が多角形である光ファイバ用母材を準備する準備工程と、誘電体の研磨材と、アルカリ性の研磨液とを有するスラリーを用いて、前記光ファイバ用母材の被研磨面を化学機械研磨する化学機械研磨工程と、を備えることを特徴とするものである。
【００１１】
上述のように、この光ファイバ用母材の製造方法は、断面形状が多角形の光ファイバ用母材の被研磨面を化学機械研磨するものである。このため、研磨材による研磨作用によって光ファイバ用母材の被研磨面を研磨することができ、光ファイバ用母材の被研磨面を例えば火炎研磨する場合に比べて、多角形の光ファイバ用母材の角が丸くなることを抑制しつつ、光ファイバ用母材の被研磨面の加工傷を効果的に減らし得る。また、研磨液のエッチング作用によって光ファイバ用母材の被研磨面に水和膜が形成され得るため、例えば機械研磨する場合に比べて、光ファイバ用母材の被研磨面を平滑にし得る。
【００１２】
ところで、研磨液がアルカリ性である場合、研磨液が中性や酸性である場合に比べて、スラリーにおける研磨材のゼータ電位が負側に大きくなる傾向がある。すなわち、研磨液がアルカリ性である場合、研磨材が負側に帯電し、研磨材同士が反発し合う傾向がある。
【００１３】
本発明の光ファイバ用母材の製造方法では、アルカリ性の研磨液に研磨材が懸濁されてスラリーが形成される。したがって、研磨材のそれぞれが負側に帯電して、スラリーにおいて研磨材同士が反発し合うため、スラリーの全体に渡って研磨材が分散し得る。したがって、スラリーの研磨液が中性や酸性である場合に比べて、光ファイバ用母材の被研磨面をむらなく研磨し得る。
【００１４】
このように、本発明の光ファイバ用母材の製造方法によれば、光ファイバ用母材の被研磨面を平滑にしつつむらなく研磨することができるため、円柱状の光ファイバ用母材を切削して多角形にした際に被研磨面に加工傷が生じていた場合でも、この加工傷を取り除き得る。また、本発明の光ファイバ用母材の製造方法によれば、火炎研磨ではなく化学機械研磨によって被研磨面に生じた加工傷を除去することができるため、火炎研磨を行う場合に比べて、多角形の光ファイバ用母材の角が丸くなることを抑制することができる。
【００１５】
したがって、本発明の光ファイバ用母材の製造方法によって作製された光ファイバ用母材を用いることで、傷及び角の丸みの少ない光ファイバが製造され得、クラッドが多角形である信頼性の高い光ファイバが製造され得る。
【００１６】
なお、前記化学機械研磨工程において前記被研磨面を正に帯電させることが好ましい。
【００１７】
上述のように、本発明の光ファイバ用母材の製造方法では、上記研磨液がアルカリ性であることによって研磨材が負側に帯電する。このため、化学機械研磨工程において、光ファイバ用母材の被研磨面を正に帯電させることによって、負側に帯電している研磨材が光ファイバ用母材の被研磨面に引き寄せられ、被研磨面に接触し易くなる。したがって、上記被研磨面を帯電させない場合、あるいは、上記被研磨面を負に帯電させる場合に比べて、光ファイバ用母材の被研磨面を効果的に研磨することができる。
【００１８】
この場合、前記化学機械研磨工程において、前記スラリーを保持する研磨パッドと、前記研磨パッドに対向して設けられ前記光ファイバ用母材を保持する母材保持部との間に所定の電圧を印加して、前記母材保持部を正に帯電させることが好ましい。
【００１９】
化学機械研磨工程では、一般的に、被研磨面をスラリーに接触させるために、被研磨面が研磨パッドに保持されたスラリー側を向くように光ファイバ用母材を母材保持部に取り付ける。こうして、光ファイバ用母材の被研磨面は、光ファイバ用母材のうち母材保持部に保持されている側とは反対側を向いた状態とされる。このため、母材保持部が正に帯電する場合、光ファイバ用母材のうち母材保持部に保持されている部分が負に帯電し、当該部分に対向する被研磨面が正に帯電する。このように、母材保持部を正に帯電させることによって、被研磨面を効果的に正に帯電させることができる。
【００２０】
この場合、前記所定の電圧は、０．０４Ｖ以上１．５Ｖ以下であることが好ましい。
【００２１】
このような電圧を印加することによって、母材保持部をより効果的に正に帯電させることができ、その結果、被研磨面をより効果的に正に帯電させることができる。
【００２２】
また、前記研磨材はシリカから成ることが好ましい。
【００２３】
この場合、光ファイバ用母材を形成する材料で光ファイバ用母材が研磨されるため、研磨材が不純物となることを抑制でき、当該不純物が光ファイバ製造の際に光ファイバ内に拡散することを抑制することができる。
【００２４】
また、前記研磨液のｐＨが７以上１２以下であってもよい。
【００２５】
研磨液がこのようなｐＨであれば、研磨液が７以上１２以下以外のｐＨである場合に比べて、研磨材をより負に帯電させ得る。
【００２６】
また、上記目的の達成のため、本発明の光ファイバの製造方法は、上記いずれかの光ファイバ用母材の製造方法により製造された光ファイバ用母材を線引きする線引工程を備えることを特徴とするものである。
【００２７】
この光ファイバの製造方法は、上記光ファイバ用母材の製造方法により製造された光ファイバ用母材を線引きするものであり、傷や不純物が少ない側面を有する光ファイバ用母材を線引きするものであるため、傷や不純物の少ない光ファイバが製造され得、クラッドが多角形である信頼性の高い光ファイバが製造され得る。
【発明の効果】
【００２８】
以上のように、本発明によれば、信頼性の高い光ファイバが製造され易い光ファイバ用母材の製造方法、及び信頼性の高い光ファイバが製造され易い光ファイバの製造方法が提供され得る。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本実施形態に係る光ファイバの長手方向に垂直な断面の構造を示す図である。
【図２】光ファイバ用母材を製造する工程及び光ファイバを製造する工程を示すフローチャートである。
【図３】図１に示す光ファイバの製造に用いられる光ファイバ用母材を示す図である。
【図４】切削された光ファイバ用母材を示す図である。
【図５】化学機械研磨工程の様子を概略的に説明する側面図である。
【図６】化学機械研磨工程の様子を概略的に説明する平面図である。
【図７】化学機械研磨工程における研磨材等の帯電の様子を説明する模式図である。
【図８】線引工程の様子を概略的に説明する図である。
【図９】比較例の様子を図５と同様の視点で示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明に係る光ファイバ用母材の製造方法、及び、光ファイバの製造方法を実施するための形態が添付図面とともに例示される。以下に例示する実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定して解釈するためのものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、以下の実施形態から変更、改良することができる。また、本明細書では、理解を容易にするために、各部材の寸法が誇張して示されている場合がある。
【００３１】
図１は、本実施形態に係る光ファイバの長手方向に垂直な断面の構造を示す図である。本実施形態の光ファイバ１は、活性元素添加光ファイバとされる。図１に示すように、本実施形態の光ファイバ１は、コア１０と、コア１０の外周面を隙間なく囲む内側クラッド１１と、内側クラッド１１の外周面を被覆する外側クラッド１２と、外側クラッド１２の外周面を被覆する保護層１３と、を主な構成として備える。このように光ファイバ１は、いわゆるダブルクラッド構造とされている。内側クラッド１１の屈折率はコア１０の屈折率よりも低く、外側クラッド１２の屈折率は内側クラッド１１の屈折率よりも低くされている。
【００３２】
コア１０を構成する材料は、活性元素としてイッテルビウム（Ｙｂ）、ツリウム（Ｔｍ）、セリウム（Ｃｅ）、ネオジウム（Ｎｄ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、エルビウム（Ｅｒ）等の希土類元素が添加されたシリカガラスが挙げられる。また、コア１０を構成する材料には、屈折率を上昇させるゲルマニウム（Ｇｅ）等の元素や、結晶化やフォトダークニングを抑制し得るアルミニウム（Ａｌ）やリン（Ｐ）等の元素が更に添加されてもよい。さらに、コア１０を構成する材料には、屈折率を調節するために、フッ素（Ｆ）やホウ素（Ｂ）等の屈折率を下げる元素が添加されてもよい。
【００３３】
内側クラッド１１を構成する材料としては、例えば、何らドーパントが添加されていない純粋なシリカガラスを挙げることができる。なお、内側クラッド１１を構成する材料には、屈折率を低下させるフッ素（Ｆ）等の元素が添加されてもよい。内側クラッド１１の上記長手方向に垂直な断面形状は非円形とされ、具体的には、この断面形状は、例えば、多角形、あるいは円の一部が直線状に形成された断面形状とされる。本実施形態では、図１に示すように、内側クラッド１１の断面形状は七角形とされ、内側クラッド１１は７つの側面１１Ａを有している。
【００３４】
外側クラッド１２は、例えば樹脂から成り、当該樹脂としては例えば紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂が挙げられる。
【００３５】
保護層１３を構成する材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂が挙げられる。外側クラッド１２が樹脂から成る場合、保護層１３を構成する材料は外側クラッド１２を構成する樹脂とは異なる樹脂とされる。
【００３６】
このような光ファイバ１によれば、内側クラッド１１が、内側クラッド１１より屈折率の高いコア１０と、内側クラッド１１より屈折率の低い外側クラッド１２との間に配置されているため、内側クラッド１１に入射する励起光をコア１０に入射させることができる。また、内側クラッド１１の上記長手方向に垂直な断面形状が多角形であるため、内側クラッド１１に入射する励起光は、内側クラッド１１と外側クラッド１２との界面において反射角を変えながら反射を繰り返し易くなる。このため、スキュー光の発生が抑制され、励起光がコア１０に入射し易くなる。したがって、光ファイバ１によれば、コア１０に添加された希土類元素を励起させ易く、コア１０を伝搬する光を増幅させ易い。
【００３７】
なお、内側クラッド１１には、光ファイバ１の軸方向に沿って恒久的な捩じれが付与されてもよい。このような恒久的な捩じれが内側クラッド１１に付与されることによって、スキュー光の発生をより効果的に抑制することができる。
【００３８】
次に、本実施形態に係る光ファイバの製造方法について説明する。
【００３９】
図２は、本実施形態に係る光ファイバ１の製造方法を示すフローチャートである。図２に示すように、本実施形態の光ファイバ１の製造方法は、準備工程Ｐ１と、化学機械研磨工程Ｐ２と、線引工程Ｐ３と、被覆工程Ｐ４と、巻取工程Ｐ５とを主な工程として備える。
【００４０】
＜準備工程Ｐ１＞
本工程は、長手方向に垂直な断面形状が多角形である光ファイバ用母材を準備する工程である。
【００４１】
本工程では、まず、図３に示すような円柱状の光ファイバ用母材１ＰＡを準備する。この光ファイバ用母材１ＰＡは、光ファイバ１のコア１０となるコアガラス体１０Ｐと、内側クラッド１１となるクラッドガラス体１１Ｐとを有している。コアガラス体１０Ｐは、光ファイバ１のコア１０となるため、コア１０と同じ材料で形成される。また、クラッドガラス体１１Ｐは、上述のように内側クラッド１１となるため、内側クラッド１１と同じ材料で形成される。このような光ファイバ用母材１ＰＡの製造方法としては、特に限定されないが、例えば、ＭＣＶＤ法、ＶＡＤ法、ＯＶＤ法等のスートプロセスを用いる方法を挙げることができる。
【００４２】
次に、光ファイバ用母材１ＰＡを、長手方向に垂直な断面形状が多角形となるように切削する。本実施形態では、上記断面形状が七角形となるように光ファイバ用母材１ＰＡを切削する。光ファイバ用母材１ＰＡを切削する装置としては、特に限定されないが、例えば、ロータリー切削盤、マシニングセンタ、あるいはフライス盤などを挙げることができる。こうして、光ファイバ用母材１ＰＡの側面が切削されて、図４に示すように、長手方向に垂直な断面形状が七角形である光ファイバ用母材１Ｐが形成される。すなわち、この光ファイバ用母材１Ｐは、７つの側面１１ＰＡを有している。
【００４３】
＜化学機械研磨工程Ｐ２＞
次に、本工程を行う。本工程は、後述するスラリーを用いて、光ファイバ用母材１Ｐの側面１１ＰＡの少なくとも１つを化学機械研磨する工程である。図５は本工程の様子を概略的に示す側面図であり、図６は本工程の様子を概略的に示す平面図である。
【００４４】
図５及び図６に示すように、本工程は、化学機械研磨装置１００を用いて行われる。この化学機械研磨装置１００は、スラリー１１０を用いて、光ファイバ用母材１Ｐの側面１１ＰＡを１面ずつ化学機械研磨できるように構成されている。すなわち、本工程において、光ファイバ用母材１Ｐの側面１１ＰＡの１つが、化学機械研磨される被研磨面ＰＳとされる。化学機械研磨装置１００は、研磨パッド１０１と、パッド保持部１０２と、母材保持部１０３と、スラリー供給部１０４と、を主な構成として備える。
【００４５】
研磨パッド１０１は、スラリー１１０を保持する部材であり、本実施形態では円盤状の外形を有している。ただし、研磨パッドの外形は特に限定されない。研磨パッド１０１を形成する材料は特に限定されないが、例えば、ポリウレタン、不織布、スウェードなどを用いることができる。
【００４６】
パッド保持部１０２は、研磨パッド１０１を保持する部材であり、平面視における外形が円形になるように形成されている。ただし、研磨パッド１０１の外形は特に限定されない。このパッド保持部１０２の上面の概ね全面に、研磨パッド１０１が固定される。パッド保持部１０２は接地されており、不図示の機構によりパッド保持部１０２の軸中心に回転可能とされる。したがって、研磨パッド１０１も、パッド保持部１０２の回転に伴ってパッド保持部１０２の軸中心に回転する。
【００４７】
母材保持部１０３は、光ファイバ用母材１Ｐを保持する部材であり、本実施形態では円盤状の外形を有している。ただし、母材保持部１０３の外形は特に限定されない。母材保持部１０３は、研磨パッド１０１の上方に研磨パッド１０１に対向して設けられる。母材保持部１０３によって光ファイバ用母材１Ｐを保持する手段は特に限定されないが、例えば、母材保持部１０３に所定の保持構造を設けて光ファイバ用母材１Ｐを母材保持部１０３に取り付けてもよいし、樹脂を介して光ファイバ用母材１Ｐを母材保持部１０３に取り付けてもよい。母材保持部１０３は、所定の電源に接続されており、この電源を介して正に帯電される。なお、この電源の一端は接地されている。また、母材保持部１０３は、不図示の構成によって、母材保持部１０３の中心周りに回転可能とされるとともに、研磨パッド１０１の主面方向に搖動可能とされる。また、母材保持部１０３は、取り付けられた光ファイバ用母材１Ｐを押圧可能に構成されている。
【００４８】
スラリー供給部１０４は、研磨パッド１０１の上方に配置される。スラリー供給部１０４は、スラリー１１０を収容するとともに、所定の速度でスラリー１１０を滴下して、研磨パッド１０１にスラリー１１０を供給する。
【００４９】
次に、スラリー１１０について説明する。
【００５０】
スラリー１１０は、アルカリ性の研磨液と、誘電体の研磨材とを含んでいる。アルカリ性の研磨液としては、特に限定されないが、例えば、水酸化アンモニウム系、水酸化ナトリウム系、水酸化カリウム系、炭酸ナトリウム系などの研磨液を挙げることができる。なお、後述する研磨材の負への帯電を大きくする観点等から、水酸化ナトリウム系の研磨液を使用することが好ましい。また、誘電体の研磨材としては、特に限定されないが、例えば、シリカ（ＳｉＯ２）、セリア（ＣｅＯ２）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）などを挙げることができる。なお、不純物の光ファイバ用母材１Ｐへの付着を抑制する観点等から、研磨材としてシリカを使用することが好ましい。また、誘電体の研磨材の粒径は、研磨の際に被研磨面ＰＳを傷付けることを抑制する等の観点から、小さい方が好ましく、例えば、１０μｍ〜１００μｍであることが好ましく、２０μｍ〜５０μｍであることがより好ましい。なお、研磨材の粒径の測定方法は特に限定されないが、例えば、動的光散乱法、電界放射型二次電子顕微鏡像の画像解析に基づいて測定してもよい。
【００５１】
本工程では、まず、光ファイバ用母材１Ｐの被研磨面ＰＳが研磨パッド１０１側を向くように、光ファイバ用母材１Ｐを母材保持部１０３に取り付ける。また、パッド保持部１０２を動作させて研磨パッド１０１を回転させながら、スラリー供給部１０４からスラリー１１０を研磨パッド１０１に滴下する。このように回転する研磨パッド１０１にスラリー１１０が滴下されることで、スラリー１１０が研磨パッド１０１の概ね全面に行き渡る。こうして、光ファイバ用母材１Ｐの被研磨面ＰＳとスラリー１１０とが接した状態となる。
【００５２】
次に、研磨パッド１０１を回転させたままにして、上記電源を介して母材保持部１０３を正に帯電させるとともに、母材保持部１０３を動作させる。これにより、光ファイバ用母材１Ｐが、回転する研磨パッド１０１上で回転しつつ研磨パッド１０１の主面方向に搖動する。また、光ファイバ用母材１Ｐがスラリー１１０に向かって押圧される。その結果、光ファイバ用母材１Ｐの被研磨面ＰＳがスラリー１１０に擦り合わせられ、被研磨面ＰＳが化学機械研磨される。具体的には、誘電体の研磨材による研磨作用によって被研磨面ＰＳが研磨される。ただし、この際、アルカリ性の研磨液のエッチング作用によって被研磨面ＰＳに水和膜が形成され、被研磨面ＰＳは、この水和膜を介して研磨される。このため、被研磨面ＰＳが過度に研磨されることが抑制され、被研磨面ＰＳの平滑性が保たれ得る。
【００５３】
なお、本工程において母材保持部１０３を研磨パッド１０１の主面方向に搖動させることは必須ではない。母材保持部１０３を研磨パッド１０１の主面方向に搖動させない場合でも、被研磨面ＰＳをスラリー１１０に効果的に擦り合わせ得る。また、本工程においてパッド保持部１０２を回転させることは必須ではない。例えば、パッド保持部１０２を固定して、母材保持部１０３をパッド保持部１０２の周方向に沿って回転させてもよい。この場合でも、被研磨面ＰＳをスラリー１１０に効果的に擦り合わせ得る。
【００５４】
ところで、研磨液がアルカリ性である場合、研磨液が中性や酸性である場合に比べて、スラリー１１０における研磨材のゼータ電位が負側に大きくなる傾向があり、研磨材がシリカであれば尚更である。すなわち、研磨液をアルカリ性にすることで、研磨材が負側に帯電し、研磨材同士が反発し合う傾向がある。
【００５５】
この点についてより詳細に説明する。図７は、本工程における研磨材等の帯電の様子を説明する模式図である。
【００５６】
図７に示すように、スラリー１１０は、アルカリ性の研磨液１１１と、誘電体の研磨材１１２とを含んでいる。したがって、上述のように、研磨材１１２は、研磨液１１１が中性やアルカリ性の場合に比べて、負側に大きく帯電する。ここで、研磨液１１１のｐＨが７〜１２である場合、研磨材１１２の負側への帯電がより大きくなる傾向がある。このように研磨材１１２のそれぞれが負側に帯電することによって、研磨材１１２同士が反発し合い、スラリー１１０の全体に渡って研磨材１１２が分散し得る。
【００５７】
また、本実施形態では、上述のように、母材保持部１０３が正に帯電される。このため、光ファイバ用母材１Ｐのうち母材保持部１０３に保持されている部分１ＰＢが負に帯電し、母材保持部１０３に保持されている部分１ＰＢの反対側に位置する被研磨面ＰＳが正に帯電する。上述のように、研磨材１１２は負側に帯電しているため、被研磨面ＰＳが正に帯電することによって、研磨材１１２は被研磨面ＰＳに引き寄せられて、被研磨面と接触し易くなる。ここで、研磨パッド１０１と母材保持部１０３との間に印加される所定の電圧を例えば０．０４Ｖ以上１．５Ｖ以下とした場合、研磨材１１２が被研磨面ＰＳにより引き寄せられ易くなる傾向がある。
【００５８】
本実施形態では、光ファイバ用母材１Ｐの７つの側面１１ＰＡの全てに対して、本工程が行われる。すなわち、本工程が７回行われる。こうして、７つの側面１１ＰＡの全てが被研磨面ＰＳとされ、７つの側面１１ＰＡのそれぞれが化学機械研磨される。
【００５９】
このような準備工程Ｐ１と化学機械研磨工程Ｐ２とを経て、７つの側面１１ＰＡを有する光ファイバ用母材１Ｐが製造される。すなわち、本実施形態の光ファイバ用母材の製造方法は、長手方向に垂直な断面形状が多角形である光ファイバ用母材１Ｐを準備する準備工程Ｐ１と、誘電体の研磨材１１２と、アルカリ性の研磨液１１１とを有するスラリー１１０を用いて、光ファイバ用母材１Ｐの被研磨面ＰＳを化学機械研磨する化学機械研磨工程Ｐ２と、を備えている。
【００６０】
＜線引工程Ｐ３＞
準備工程Ｐ１及び化学機械研磨工程Ｐ２によって光ファイバ用母材１Ｐを作製した後、本工程を行う。本工程は、光ファイバ用母材１Ｐを線引きする工程である。図８は、本工程の様子を概略的に示す図である。
【００６１】
図８に示すように、本工程を行う準備段階として、光ファイバ用母材１Ｐを紡糸炉３１０に設置する。その後、紡糸炉３１０の加熱部３１１を発熱させて、光ファイバ用母材１Ｐの下端部を加熱する。これにより、光ファイバ用母材１Ｐの下端部は、例えば約２０００℃に加熱されて溶融状態になり、粘性が下がって下方に行くほど径が先細りになる。こうして、線引きされた溶融状態のガラスが紡糸炉３１０から出ると、すぐに固化して、コアガラス体１０Ｐがコア１０となり、クラッドガラス体１１Ｐが内側クラッド１１となる。すなわち、紡糸炉から出たガラスが、コア１０と内側クラッド１１とを有し、７つの側面１１Ａを有する光ファイバ裸線１Ｅとなる。
【００６２】
その後、この光ファイバ裸線１Ｅは、冷却装置３２０を通過して、適切な温度まで冷却される。冷却装置３２０に入る際、光ファイバ裸線１Ｅの温度は、例えば１８００℃程度であるが、冷却装置３２０を出る際には、光ファイバ裸線１Ｅの温度は、例えば４０℃〜５０℃となる。
【００６３】
＜被覆工程Ｐ４＞
次に本工程を行う。本工程は、光ファイバ裸線１Ｅを外側クラッド１２及び保護層１３で被覆する工程である。
【００６４】
冷却装置３２０を出た光ファイバ裸線１Ｅは、外側クラッド１２となる第１樹脂が入った第１被覆装置３３１を通過する。この際、内側クラッド１１が第１樹脂で被覆され、内側クラッド１１の外周面に第１樹脂からなる外側クラッド１２が形成される。
【００６５】
その後、外側クラッド１２で覆われた光ファイバ裸線１Ｅは、第１樹脂とは異なる材料からなる第２樹脂が入った第２被覆装置３３２を通過する。この際、外側クラッド１２が第２樹脂で被覆され、外側クラッド１２の外周面に第２樹脂からなる保護層１３が形成される。
【００６６】
なお、第１樹脂が紫外線硬化樹脂である場合、第２樹脂を第１樹脂と異なる紫外線硬化樹脂とし、第１樹脂が熱硬化樹脂である場合、第２樹脂を第１樹脂と異なる熱硬化樹脂としてもよい。また、第１樹脂及び第２樹脂の一方を紫外線硬化樹脂とし、他方を熱硬化樹脂としてもよい。
【００６７】
こうして、本工程によって、コア１０と内側クラッド１１とを含む光ファイバ裸線１Ｅが、コア１０と内側クラッド１１と外側クラッド１２と保護層１３とを含む図１に示す光ファイバ１となる。
【００６８】
＜巻取工程Ｐ５＞
次に、本工程を行う。本工程は、光ファイバ１を巻き取る工程である。光ファイバ１は、ターンプーリー３４１により方向が変換された後、リール３４２によって巻き取られる。
【００６９】
以上説明したように、本実施形態の光ファイバ用母材の製造方法及び光ファイバの製造方法によれば、以下のような作用効果を得ることができる。
【００７０】
上述のように、本実施形態における光ファイバ用母材の製造方法は、長手方向に垂直な断面形状が多角形である光ファイバ用母材１Ｐを準備する準備工程Ｐ１と、誘電体の研磨材１１２と、アルカリ性の研磨液１１１とを有するスラリー１１０を用いて、光ファイバ用母材１Ｐの被研磨面ＰＳを化学機械研磨する化学機械研磨工程Ｐ２と、を備える。
【００７１】
この光ファイバ用母材の製造方法では、断面形状が多角形の光ファイバ用母材１Ｐの被研磨面ＰＳが化学機械研磨されるため、スラリー１１０の研磨材１１２による研磨作用によって光ファイバ用母材１Ｐの被研磨面ＰＳを研磨することができる。このため、円柱状の光ファイバ用母材１ＰＡの側面を切削して多角形の光ファイバ用母材１Ｐにした際に、光ファイバ用母材１Ｐの側面１１ＰＡに加工傷が生じる場合であっても、被研磨面ＰＳを例えば火炎研磨する場合に比べて、多角形の光ファイバ用母材の角が丸くなることを抑制しつつ、被研磨面ＰＳにおける加工傷を効果的に減らし得る。また、スラリー１１０の研磨液１１１のエッチング作用によって被研磨面ＰＳに水和膜が形成されるため、被研磨面ＰＳを例えば機械研磨する場合に比べて、被研磨面ＰＳを平滑にすることができる。
【００７２】
また、上述のように、スラリー１１０の研磨液１１１をアルカリ性にすることで、研磨液１１１が中性や酸性である場合に比べて、スラリー１１０の研磨材１１２が負側に帯電し得る。
【００７３】
このように本実施形態の光ファイバ用母材の製造方法では、アルカリ性の研磨液１１１に研磨材１１２が懸濁されてスラリー１１０が形成される。したがって、研磨材１１２のそれぞれが負側に帯電して、スラリー１１０において研磨材１１２同士が反発し合うため、スラリー１１０の全体に渡って研磨材１１２が分散し得る。したがって、スラリー１１０の研磨液１１１が中性や酸性である場合に比べて、被研磨面ＰＳをむらなく研磨し得る。
【００７４】
このように、本実施形態の光ファイバ用母材の製造方法によれば、光ファイバ用母材１Ｐの被研磨面ＰＳを平滑にしつつむらなく研磨することができるため、円柱状の光ファイバ用母材１ＰＡを切削して多角形にした際に被研磨面ＰＳに加工傷が生じていた場合でも、この加工傷を取り除き得る。また、本発明の光ファイバ用母材の製造方法によれば、火炎研磨ではなく化学機械研磨によって被研磨面に生じた加工傷を除去することができるため、火炎研磨を行う場合に比べて、多角形の光ファイバ用母材の角が丸くなることを抑制することができる。
【００７５】
したがって、本実施形態の光ファイバ用母材の製造方法によって作製された光ファイバ用母材を用いることで、傷及び角の丸みの少ない光ファイバが製造され得、クラッドが多角形である信頼性の高い光ファイバが製造され得る。
【００７６】
また、上述のように、本実施形態の化学機械研磨工程Ｐ２では、被研磨面ＰＳが正に帯電される。このため、負側に帯電している研磨材１１２が被研磨面ＰＳに引き寄せられ、被研磨面ＰＳに接触し易くなる。したがって、被研磨面ＰＳを帯電させない場合、あるいは、被研磨面ＰＳを負に帯電させる場合に比べて、被研磨面ＰＳを効果的に研磨することができる。
【００７７】
また、上述のように、本実施形態の化学機械研磨工程Ｐ２では、スラリー１１０を保持する研磨パッド１０１と、研磨パッド１０１に対向して設けられ光ファイバ用母材１Ｐを保持する母材保持部１０３との間に所定の電圧が印加され、母材保持部１０３が正に帯電される。このため、光ファイバ用母材１Ｐのうち母材保持部１０３に保持されている部分１ＰＢが負に帯電し、被研磨面ＰＳが正に帯電する。このように、母材保持部１０３を正に帯電させることによって、光ファイバ用母材１Ｐのうち母材保持部１０３に保持されている部分を負に帯電させることができ、当該部分に対向する被研磨面ＰＳを正に帯電させることができる。したがって、被研磨面ＰＳを効果的に正に帯電させることができる。
【００７８】
なお、上記所定の電圧を０．０４Ｖ以上１．５Ｖ以下とすることで、母材保持部１０３をより効果的に正に帯電させ得る。
【００７９】
また、研磨材１１２を、光ファイバ用母材１Ｐを形成する材料であるシリカとすれば、研磨材１１２が不純物となることを抑制することができ、当該不純物が光ファイバ製造の際に光ファイバ内に拡散することを抑制することができる。
【００８０】
また、研磨液１１１のｐＨを７以上１２以下とすることで、研磨液のｐＨが７以上１２以下以外のｐＨである場合に比べて、研磨材１１２をより負に帯電させ得る。
【００８１】
また、本実施形態の光ファイバの製造方法は、上記光ファイバ用母材の製造方法により製造された光ファイバ用母材１Ｐを線引きして光ファイバを製造するものである。上記光ファイバ用母材の製造方法によれば、光ファイバ用母材１ＰＡを切削して多角形にした際に被研磨面ＰＳに加工傷が生じていた場合でも、多角形の光ファイバ用母材１Ｐの角が丸くなることを抑制しつつ、加工傷を取り除き得る。したがって、本実施形態の光ファイバの製造方法によれば、傷及び角の丸みの少ない光ファイバが製造され得、クラッドが多角形である信頼性の高い光ファイバが製造され得る。
【００８２】
以上、本発明について、上記実施形態を例に説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００８３】
例えば、上記実施形態では、光ファイバ用母材１Ｐの側面１１ＰＡの全てに対して化学機械研磨工程Ｐ２を行う例を説明したが、側面１１ＰＡの少なくとも１つに対して化学機械研磨工程Ｐ２を行ってもよい。すなわち、側面１１ＰＡの少なくとも１つを被研磨面ＰＳとしてもよい。側面１１ＰＡの少なくとも１つが化学機械研磨されることによって、当該側面１１ＰＡにおいて加工傷や不純物が効果的に除去され得るため、信頼性の高い光ファイバが製造され易い。また、７つの側面１１ＰＡのうちの一部、例えば、５つの側面１１ＰＡに対してのみ化学機械研磨工程Ｐ２を行う場合、光ファイバ用母材１Ｐの研磨時間を短縮することができる。
【００８４】
また、上記実施形態では、化学機械研磨工程Ｐ２において被研磨面ＰＳが正に帯電される例を説明したが、被研磨面ＰＳを正に帯電させることは必須ではない。したがって、研磨パッド１０１と母材保持部１０３との間に所定の電圧を印加して、母材保持部１０３を正に帯電することも必須ではない。この場合でも、負側に帯電した研磨材１１２同士が反発し合ってスラリー１１０全体に分散するため、被研磨面ＰＳをむらなく化学機械研磨し得る。また、この場合、上記所定の電圧を印加する必要がなくなるため、上記電源を設ける必要がなくなり、化学機械研磨装置１００の構成を簡易にし得る。ただし、上述のように、被研磨面ＰＳを正に帯電させた場合、研磨材１１２が被研磨面ＰＳに接触し易くなるため、被研磨面ＰＳをより効果的に化学機械研磨し得る。
【００８５】
また、上記実施形態では、光ファイバ１がダブルクラッド構造である例を説明したが、これに限られない。例えば、光ファイバ１がシングルクラッド構造であってもよい。
【００８６】
また、上記実施形態では、光ファイバ１のコア１０に活性元素が添加される例を説明したが、コアに活性元素が添加される必要はない。
【００８７】
次に、本発明の具体的な実施例について比較例とともに説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００８８】
（実施例１）
まず、上記光ファイバ用母材１ＰＡをＭＣＶＤ法により作製した。具体的には、外径が４５ｍｍで、肉厚が２ｍｍで、長さが１０００ｃｍの石英管に、コア１０となる成分を内付けした後、中実化して、光ファイバ用母材１ＰＡを作製した。なお、コア１０に添加する活性元素としてイッテルビウムを選択した。すなわち、気化したＹｂ（ＤＰＭ）３を石英管内部で酸と反応させることで、コア１０にイッテルビウムをドーピングした。
【００８９】
次に、上記のように作製した円柱状の光ファイバ用母材１ＰＡをロータリー切研削盤で１面ずつ切研削して、中心から各頂点までの距離が９．１ｍｍである七角形の断面形状を有する光ファイバ用母材１Ｐを作製した。具体的には、まず、粒度＃２３０のダイヤモンドホイールを用いて面出しをした。その後、粒度＃１０００のダイヤモンドホイールを用いて、中心から各頂点までの距離が８．９ｍｍである七角形の断面形状を形成し、光ファイバ用母材１Ｐを作製した。
【００９０】
次に、光ファイバ用母材１Ｐの各側面１１ＰＡに対して、化学機械研磨工程Ｐ２を行った。具体的には、以下の様にして化学機械研磨工程Ｐ２を行った。
【００９１】
まず、スラリー１１０を以下のように調製した。研磨液１１１として水酸化ナトリウム水溶液を用い、この研磨液１１１に対して、平均粒径が３０ｎｍ以上４０ｎｍ以下のシリカを４０ｗｔ％の配合量で懸濁し、希釈前スラリーを調整した。なお、上記平均粒径は、動的光散乱法に基づいて測定した。この希釈前スラリーに対して、イオン交換水と濃度３５％の過酸化水素水とを容積比で０．５ずつ混合して、希釈前スラリーを２倍に希釈した。この希釈されたスラリーのｐＨは９であった。この希釈されたスラリーを、化学機械研磨工程Ｐ２に使用するスラリー１１０とした。
【００９２】
化学機械研磨装置として、上記の化学機械研磨装置１００を用いた。なお、化学機械研磨装置１００の研磨パッド１０１として発泡ポリウレタン製スウェード地のものを使用した。光ファイバ用母材１Ｐを母材保持部１０３に取り付けた後、化学機械研磨装置１００を以下のように動作させた。すなわち、被研磨面ＰＳに対して５００ｇ／ｃｍ２の圧力を負荷しつつ、２０ｍｌ／ｍｉｎの速度でスラリー１１０を研磨パッド１０１に供給しながら、研磨パッド１０１及び母材保持部１０３を回転させた。なお、パッド保持部１０２の回転速度を１．６７ｒ／ｓに設定し、母材保持部１０３の回転速度を０．６ｒ／ｓに設定した。また、母材保持部１０３とパッド保持部１０２との間に、母材保持部１０３が正に帯電するように０．５Ｖの電圧を印加した。この条件の下、光ファイバ用母材１Ｐの各側面１１ＰＡに対して、それぞれ１時間にわたって化学機械研磨工程Ｐ２を行った。
【００９３】
（実施例２）
化学機械研磨工程Ｐ２において電圧を印加しなかった点を除いて、光ファイバ用母材１ＰＡの寸法、光ファイバ用母材１ＰＡを切削する方法、光ファイバ用母材１ＰＡを構成する材料、化学機械研磨工程Ｐ２に使用するスラリー１１０の成分、研磨液１１１のｐＨ、研磨材１１２の平均粒径、研磨材１１２の配合量、化学機械研磨装置１００の動作条件等、をすべて実施例１と同様にした。
【００９４】
（比較例）
まず、実施例１及び実施例２と同様にして、光ファイバ用母材１Ｐを作製した。すなわち、光ファイバ用母材の寸法や光ファイバ用母材を構成する材料等のすべてが実施例１及び実施例２の光ファイバ用母材と同様の光ファイバ用母材１Ｐを準備した。
【００９５】
次に、この比較例では、この光ファイバ用母材１Ｐの各側面１１ＰＡに対して化学機械研磨工程Ｐ２を行う代わりに、各側面１１ＰＡに対して以下の機械研磨を行った。図９は、この機械研磨の様子を図５と同様の視点で示す図である。
【００９６】
図９に示すように、この機械研磨に使用される機械研磨装置２００は、研磨パッド１０１を備えない点、パッド保持部１０２の代わりに、樹脂とメタルとの複合体から形成されるラップ盤２０２を備える点、母材保持部１０３に電圧を印加する電源を備えない点を除いて、概ね化学機械研磨装置１００と同様の構成を有する。なお、この比較例では、ラップ盤２０２を形成する上記樹脂をレジンボンドとし、ラップ盤２０２を形成する上記メタルを錫とした。
【００９７】
この機械研磨を行うために、以下のスラリー２１０を用いた。すなわち、日本エンギス株式会社製ダイヤモンドスラリーＳ−４８８９の平均粒径が３μｍのものと、同ダイヤモンドスラリーＳ−４８８９の平均粒径が１μｍのものとをスラリー２１０として利用した。なお、粒径を変えた理由は表面粗さを低下させるためであり、３μｍタイプで研磨した後に１μｍタイプで研磨した。
【００９８】
光ファイバ用母材１Ｐを母材保持部１０３に取り付けた後、機械研磨装置２００を以下のように動作させた。すなわち、被研磨面ＰＳに対して５００ｇ／ｃｍ２の圧力を負荷しつつ、２０ｍｌ／ｍｉｎの速度でスラリー２１０をラップ盤２０２に供給しながら、ラップ盤２０２及び母材保持部１０３を回転させた。なお、ラップ盤の回転速度を１．６７ｒ／ｓに設定し、母材保持部１０３の回転速度を０．６ｒ／ｓに設定した。この条件の下、光ファイバ用母材１Ｐの各側面１１ＰＡをそれぞれ１時間にわたって研磨した。
【００９９】
ところで、上記スラリー２１０に含まれる油分は、実施例１及び実施例２で使用したアルカリ性の研磨液１１１と比較して、エッチングなどの化学作用をガラスとの間で起こしにくい傾向にある。このため、この比較例では、被研磨面ＰＳに上記水和膜が殆ど形成されず、被研磨面ＰＳがダイヤモンド砥粒によって直接研磨されると考えられる。こうして、この比較例では、被研磨面ＰＳがダイヤモンド砥粒によって機械研磨された。
【０１００】
実施例１、実施例２、及び比較例を行った後、光ファイバ用母材１Ｐの各側面１１ＰＡにおける厚さ方向の平均削れ量、各側面１１ＰＡにおける加工傷の有無、及び各側面１１ＰＡの算術平均粗さＲａを調べた。加工傷の有無は光学顕微鏡により観察し、算術平均粗さＲａは白色干渉計により測定した。なお、上記平均削れ量が大きい程、単位時間当たりの研磨量が多いことを意味し、研磨速度が速いことを意味する。また、算術平均粗さＲａが小さい程、被研磨面ＰＳが平滑であることを意味する。この結果を以下の表１に示す。
【０１０１】
【表１】
2020164362.tif 000003
【０１０２】
表１に示すように、各側面１１ＰＡを機械研磨した比較例では、各側面１１ＰＡに加工傷が見られた。一方、各側面１１ＰＡに対して化学機械研磨工程Ｐ２を行った実施例１及び実施例２では、各側面１１ＰＡに加工傷が見られなかった。したがって、各側面１１ＰＡに対して化学機械研磨工程Ｐ２を行うことで、光ファイバ用母材１ＰＡを切削する際に生じた加工傷を効果的に除去し得るとともに、この化学機械研磨工程Ｐ２において被研磨面ＰＳに加工傷が生じることを効果的に抑制し得ることが分かった。
【０１０３】
また、比較例における算術平均粗さは１０ｎｍであるのに対し、実施例１及び実施例２における算術平均粗さは０．７ｎｍであった。すなわち、比較例では、被研磨面ＰＳの表面粗さを極力抑制するために平均粒径が１μｍのものと３μｍのものとをスラリー２１０として用いたにも関わらず、実施例１及び実施例２における算術平均粗さは比較例における算術平均粗さの１／１０よりも小さい値であった。したがって、側面１１ＰＡに対して化学機械研磨工程Ｐ２を行うことで、側面１１ＰＡに対して機械研磨を行う場合に比べて、側面１１ＰＡをより平滑にし得ることが分かった。
【０１０４】
また、比較例における平均削れ量は５μｍであるのに対し、実施例１及び実施例２の平均削れ量はそれぞれ２８μｍ、１５μｍであった。すなわち、実施例１及び実施例２の研磨速度は比較例の研磨速度の３倍以上であり、比較例に比べて迅速に側面１１ＰＡを研磨し得ることが分かった。
【０１０５】
また、上述のように、実施例２の平均削れ量が１５μｍであるのに対し、実施例１の平均削れ量は２８μｍである。すなわち、実施例１の研磨速度が実施例２の研磨速度よりも概ね２倍速いことが分かった。実施例１と実施例２との間には、母材保持部１０３に電圧を印加して母材保持部１０３を正に帯電させるか否かの相違しかない。したがって、母材保持部１０３に電圧を印加して母材保持部１０３を正に帯電させることで、研磨速度をより速くし得ることが確認された。
【０１０６】
次に、実施例１、実施例２、及び比較例によって作製した各光ファイバ用母材１Ｐを、以下の条件で線引きした。なお、比較例によって作製した光ファイバ用母材１Ｐについては、上述のように側面１１ＰＡに加工傷が残存していたため、側面１１ＰＡの加工傷を極力減らすために、線引き前に各側面１１ＰＡを火炎研磨した。
【０１０７】
紡糸炉３１０として、加熱部３１１にカーボン発熱体が使用されたものを用いた。光ファイバ用母材１Ｐ及び紡糸炉３１０の炉心管をそれぞれ鉛直方向に配置した。炉心管内の酸素をアルゴンでパージして炉心管内に酸素分圧を下げた後に、加熱部３１１による加熱を開始した。この加熱により、炉心管内の温度を２２５０℃とした。この炉心管に、光ファイバ用母材１Ｐを挿入し、張力１．５Ｎ及び線速６０ｍ／ｍｉｎで線引きした。また、この際、光ファイバ用母材１Ｐの軸中心に光ファイバ用母材１Ｐを回転させ、線引きされた光ファイバ裸線１Ｅに恒久的な捩じれを付与した。具体的には、線引きされた光ファイバ裸線１Ｅの１ｍあたり捩じれが４回転となるように、光ファイバ用母材１Ｐの回転数と線速とを調整した。得られた光ファイバ裸線１Ｅを熱硬化性のシリコーン樹脂で被覆して、光ファイバ裸線１Ｅに外側クラッド１２を設け、さらに、外側クラッド１２を熱硬化性のシリコーン樹脂で被覆して、保護層１３を設けた。こうして、光ファイバ１を製造した。
【０１０８】
次に、実施例１によって作製した光ファイバ用母材１Ｐから製造された光ファイバ１、実施例２によって作製した光ファイバ用母材１Ｐから製造された光ファイバ１、比較例によって作製した光ファイバ用母材１Ｐから製造された光ファイバ１のそれぞれ５ｋｍの区間に対して、１％の曲げプルーフ試験を行った。
【０１０９】
その結果、比較例で製造された光ファイバ１では、線引き前に火炎研磨を行って加工傷を減らすように努めたにも関わらず、断線が多発した。一方、実施例１及び実施例２で製造された光ファイバ１は、比較例と異なり線引き前に火炎研磨を行っていないにも関わらず、全長破断することなく試験を通過した。すなわち、実施例１及び実施例２で製造された光ファイバ１は、線引前に火炎研磨がされない場合でも、十分な機械的強度を有しており、信頼性が高いことが確認された。
【０１１０】
こうして、本発明の光ファイバ用母材の製造方法及び光ファイバの製造方法を実施することで信頼性の高い光ファイバを製造し得ることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１１１】
本発明によれば、信頼性の高い光ファイバが製造され易い光ファイバ用母材の製造方法、及び信頼性の高い光ファイバが製造され易い光ファイバの製造方法が提供され、例えば活性元素添加光ファイバなどの分野において利用可能である。
【符号の説明】
【０１１２】
１・・・光ファイバ
１Ｅ・・・光ファイバ裸線
１Ｐ・・・光ファイバ用母材
１０・・・コア
１１・・・内側クラッド
１１Ｐ・・・クラッドガラス体
１１ＰＡ・・・側面
１００・・・化学機械研磨装置
１０１・・・研磨パッド
１０３・・・母材保持部
１１０・・・スラリー
１１１・・・研磨液
１１２・・・研磨材
３１０・・・紡糸炉
３３１・・・第１被覆装置
３３２・・・第２被覆装置
【図１】
2020164362.tif 000004
【図２】
2020164362.tif 000005
【図３】
2020164362.tif 000006
【図４】
2020164362.tif 000007
【図５】
2020164362.tif 000008
【図６】
2020164362.tif 000009
【図７】
2020164362.tif 000010
【図８】
2020164362.tif 000011
【図９】
2020164362.tif 000012