(57)【要約】【課題】画像表示装置、方法およびプログラムにおいて、体動が発生していることを正しく判断できるようにする。【解決手段】画像取得部３１が、被写体に放射線を照射するトモシンセシス撮影を撮影装置に行わせることにより生成された、トモシンセシス撮影時における複数の線源位置のそれぞれに対応する複数の投影画像を取得する。構造位置特定部３３が、被写体内における１つの構造位置を特定する。表示制御部３４が、構造位置の複数の投影画像における投影位置を特定し、投影位置を表示部３の予め定められた位置に一致させて、複数の投影画像を表示部３に切り替え表示する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線源を検出部に対して相対的に移動させ、前記放射線源の移動による複数の線源位置において、被写体に放射線を照射するトモシンセシス撮影により生成された、前記複数の線源位置のそれぞれに対応する複数の投影画像を取得する画像取得部と、
前記被写体内における１つの構造位置を特定する構造位置特定部と、
前記構造位置の、前記複数の投影画像における投影位置を特定し、該投影位置を表示部の予め定められた位置に一致させて、前記複数の投影画像を前記表示部に切り替え表示する表示制御部とを備えた画像表示装置。
【請求項２】
前記複数の投影画像を再構成することにより、前記被写体の少なくとも１つの断層面における断層画像を生成する再構成部をさらに備え、
前記構造位置特定部は、前記断層画像に含まれる特徴点を特定し、該特徴点の前記断層面が並ぶ方向における信号値の分布を算出し、該分布において最も信号値が高い位置または最も信号値が低い位置を、前記構造位置として特定する請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項３】
前記構造位置特定部は、前記信号値の分布を、前記断層画像よりも小さい断層面の間隔となる他の断層画像に基づいて算出する請求項２に記載の画像表示装置。
【請求項４】
前記構造位置特定部は、前記被写体における複数の構造位置候補を検出し、該複数の構造位置候補から前記１つの構造位置を特定する請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項５】
前記複数の投影画像を再構成することにより、前記被写体の少なくとも１つの断層面における断層画像を生成する再構成部をさらに備え、
前記構造位置特定部は、前記断層画像に含まれる複数の特徴点を特定し、該複数の特徴点のそれぞれについて、前記断層面が並ぶ方向における信号値の分布を算出し、該分布において最も信号値が高い位置または最も信号値が低い位置を、前記複数の特徴点のそれぞれについての前記構造位置候補として特定し、該複数の構造位置候補のうち、最も信号値が高い構造位置候補または最も信号値が低い構造位置候補を、前記構造位置として特定する請求項４に記載の画像表示装置。
【請求項６】
前記構造位置特定部は、前記信号値の分布を、前記断層画像よりも小さい断層面の間隔となる他の断層画像に基づいて算出する請求項５に記載の画像表示装置。
【請求項７】
前記構造位置特定部は、前記複数の投影画像間において同一の構造を表す対応点を特定し、前記複数の投影画像間の対応点を再構成して、前記被写体における前記対応点を含む位置を、前記構造位置として特定する請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項８】
前記構造位置特定部は、前記複数の投影画像間において同一の構造を表す複数の対応点を特定し、前記複数の投影画像間において前記複数の対応点のそれぞれを再構成して、前記被写体における前記複数の対応点を含む位置を前記複数の構造位置候補として特定し、該複数の構造位置候補のうち、最も信号値が高い構造位置候補または最も信号値が低い構造位置候補を、前記構造位置として特定する請求項４に記載の画像表示装置。
【請求項９】
前記構造位置特定部は、前記複数の投影画像間において同一の構造を表す少なくとも１つの対応点を特定し、前記複数の投影画像のそれぞれにおける対応点と、前記複数の投影画像のそれぞれを取得した際の線源位置とを結ぶ複数の直線を設定し、前記放射線源の移動方向と直交する方向から見た場合における前記複数の直線についての複数の第１の交点を算出し、該第１の交点に基づいて基準点を設定し、該基準点を含み、前記検出部の検出面に平行な面において、前記放射線源の移動方向に平行な方向から見た場合における前記複数の直線の前記平行な面との複数の第２の交点を算出し、前記基準点および前記第２の交点に基づいて前記構造位置を特定する請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項１０】
前記構造位置特定部は、前記複数の投影画像間において同一の構造を表す複数の対応点を特定し、前記複数の対応点のそれぞれに関して、前記複数の投影画像のそれぞれにおける対応点と、前記複数の投影画像のそれぞれを取得した際の線源位置とを結ぶ複数の直線を設定し、前記放射線源の移動方向と直交する方向から見た場合における前記複数の直線についての複数の第１の交点を算出し、該第１の交点に基づいて基準点を設定し、前記基準点を含み、前記検出部の検出面に平行な面において、前記放射線源の移動方向に平行な方向から見た場合における前記複数の直線の前記平行な面との複数の第２の交点を算出し、前記基準点および前記第２の交点に基づいて前記複数の構造位置候補を特定し、該複数の構造位置候補のそれぞれについての前記複数の第１の交点および前記複数の第２の交点のばらつきに基づいて、前記複数の構造位置候補から前記構造位置を特定する請求項４に記載の画像表示装置。
【請求項１１】
前記複数の投影画像を再構成することにより、前記被写体の少なくとも１つの断層面における断層画像を生成する再構成部をさらに備え、
前記構造位置特定部は、前記断層画像に含まれる特徴点を特定し、該特徴点を前記複数の投影画像に投影して、該複数の投影画像のそれぞれにおける前記特徴点に対応する特徴投影位置を特定し、前記複数の投影画像のそれぞれにおいて、前記特徴投影位置を含む領域を設定し、前記複数の投影画像のそれぞれにおける前記領域間において、同一の構造を表す少なくとも１つの対応点を特定し、前記複数の投影画像間の対応点を再構成して、前記被写体における前記対応点を含む位置を、前記構造位置として特定する請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項１２】
前記複数の投影画像を再構成することにより、前記被写体の少なくとも１つの断層面における断層画像を生成する再構成部をさらに備え、
前記構造位置特定部は、前記断層画像に含まれる複数の特徴点を特定し、該複数の特徴点のそれぞれに関して、前記特徴点を前記複数の投影画像に投影して、該複数の投影画像のそれぞれにおける前記特徴点に対応する特徴投影位置を特定し、前記複数の投影画像のそれぞれにおいて、前記特徴投影位置を含む領域を設定し、前記複数の投影画像のそれぞれにおける前記領域間において、同一の構造を表す少なくとも１つの対応点を特定し、前記複数の投影画像間の対応点を再構成して、前記被写体における前記対応点を含む位置を前記複数の構造位置候補に特定し、該複数の構造位置候補のうち、最も信号値が高い構造位置候補または最も信号値が低い構造位置候補を、前記構造位置として特定する請求項４に記載の画像表示装置。
【請求項１３】
前記複数の投影画像を再構成することにより、前記被写体の少なくとも１つの断層面における断層画像を生成する再構成部をさらに備え、
前記構造位置特定部は、前記断層画像に含まれる複数の特徴点を特定し、該複数の特徴点のそれぞれに関して、前記特徴点を前記複数の投影画像に投影して、該複数の投影画像のそれぞれにおける前記特徴点に対応する特徴投影位置を特定し、前記複数の投影画像のそれぞれにおいて、前記特徴投影位置を含む領域を設定し、前記複数の投影画像のそれぞれにおける前記領域間において、同一の構造を表す少なくとも１つの対応点を特定し、前記複数の対応点のそれぞれに関して、前記複数の投影画像のそれぞれにおける対応点と、前記複数の投影画像のそれぞれを取得した際の線源位置とを結ぶ複数の直線を設定し、前記放射線源の移動方向と直交する方向から見た場合における前記複数の直線についての複数の第１の交点を算出し、該第１の交点に基づいて基準点を設定し、前記基準点を含み、前記検出部の検出面に平行な面において、前記放射線源の移動方向に平行な方向から見た場合における前記複数の直線の前記平行な面との複数の第２の交点を算出し、前記基準点および前記第２の交点に基づいて前記複数の構造位置候補を特定し、該複数の構造位置候補のそれぞれについての前記複数の第１の交点および前記複数の第２の交点のばらつきに基づいて、前記複数の構造位置候補から前記構造位置を特定する請求項４に記載の画像表示装置。
【請求項１４】
前記表示制御部は、前記複数の投影画像における前記投影位置を含む特定の大きさの領域のみを前記表示部に切り替え表示する請求項１から１３のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１５】
前記表示制御部は、前記構造位置を含む断層面の断層画像をさらに前記表示部に表示する請求項１から１４のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１６】
前記表示制御部は、前記投影画像における前記構造位置を強調して前記表示部に表示する請求項１５に記載の画像表示装置。
【請求項１７】
前記被写体が乳房である請求項１から１６のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１８】
前記被写体の体動を検出する体動検出部をさらに備え、
前記構造位置特定部は、前記体動が検出された場合に前記構造位置を特定し、
前記表示制御部は、前記体動が検出された場合に、前記複数の投影画像を前記表示部に切り替え表示する請求項１から１７のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１９】
前記被写体の体動を検出する体動検出部と、
前記体動が検出された場合に、前記投影画像に対して体動補正を行う体動補正部とをさらに備え、
前記表示制御部は、体動補正が行われた前記複数の投影画像において前記投影位置を特定し、該投影位置を表示部の予め定められた位置に一致させて、体動補正が行われた前記複数の投影画像を前記表示部に切り替え表示する請求項１から１７のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項２０】
放射線源を検出部に対して相対的に移動させ、前記放射線源の移動による複数の線源位置において、被写体に放射線を照射するトモシンセシス撮影により生成された、前記複数の線源位置のそれぞれに対応する複数の投影画像を取得し、
前記被写体内における１つの構造位置を特定し、
前記構造位置の、前記複数の投影画像における投影位置を特定し、該投影位置を表示部の予め定められた位置に一致させて、前記複数の投影画像を前記表示部に切り替え表示する画像表示方法。
【請求項２１】
放射線源を検出部に対して相対的に移動させ、前記放射線源の移動による複数の線源位置において、被写体に放射線を照射するトモシンセシス撮影により生成された、前記複数の線源位置のそれぞれに対応する複数の投影画像を取得する手順と、
前記被写体内における１つの構造位置を特定する手順と、
前記構造位置の、前記複数の投影画像における投影位置を特定し、該投影位置を表示部の予め定められた位置に一致させて、前記複数の投影画像を前記表示部に切り替え表示する手順とをコンピュータに実行させる画像表示プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、複数の線源位置のそれぞれにおいて被写体を撮影して複数の投影画像を取得し、複数の投影画像から断層画像を生成するに際し、投影画像を表示するための画像表示装置、方法およびプログラムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、Ｘ線、ガンマ線等の放射線を用いた放射線画像撮影装置において、患部をより詳しく観察するために、放射線源を移動させて複数の線源位置から被写体に放射線を照射して撮影を行い、これにより取得した複数の投影画像から所望とする断層面を強調した断層画像を生成するトモシンセシス撮影が提案されている。トモシンセシス撮影では、撮影装置の特性や必要な断層画像に応じて、放射線源を放射線検出器と平行に移動させたり、円または楕円の弧を描くように移動させたりして、複数の線源位置において被写体を撮影することにより複数の投影画像を取得し、シフト加算法、単純逆投影法あるいはフィルタ逆投影法（ＦＢＰ法；Filtered Back Projection法）等の再構成方法を用いてこれらの投影画像を再構成して断層画像を生成する。このような断層画像を被写体における複数の断層面において生成することにより、断層面が並ぶ深さ方向に重なり合った構造を分離することができる。このため、従来の単純撮影により取得される２次元画像においては検出が困難であった病変を発見することが可能となる。
【０００３】
一方、トモシンセシス撮影は、撮影装置の機械的な誤差、および複数の線源位置のそれぞれにおける撮影の時間差に起因する被写体の体動等の影響により、再構成された断層画像がぼけてしまうという問題もある。このように断層画像がぼけてしまうと、とくに乳房が被写体である場合において、乳癌の早期発見に有用な、微小な石灰化等の病変を発見することが困難となる。
【０００４】
このため、トモシンセシス撮影により取得された複数の投影画像を順次表示することにより、操作者に被写体の体動を認識させる手法が提案されている（特許文献１参照）。
【０００５】
しかしながら、トモシンセシス撮影は、Ｘ線源を移動させて異なる角度から被写体にＸ線を照射して撮影を行っているため、Ｘ線源の位置に応じてＸ線の検出器におけるＸ線の照射領域の位置が異なる。例えば、Ｘ線源の移動経路において検出器の重心を通る垂線と交差する位置（すなわち移動範囲の中央位置）にＸ線源が位置する場合、Ｘ線照の射領域は検出器の中央に位置するが、Ｘ線源が中央位置から離れると、Ｘ線の照射範囲が移動する。具体的には、Ｘ線源の移動経路に直交する方向から見て、Ｘ線源が中央位置の左側にある場合、Ｘ線の照射位置は検出器の右側へ移動し、Ｘ線源が中央位置の右側にある場合、Ｘ線の照射位置は検出器の左側へ移動する。
【０００６】
このため、投影画像に含まれる被写体領域内の基準点、具体的には断層画像の再構成範囲の中心点の投影位置を、モニタの表示画面における所定位置と一致させるよう投影画像の表示位置を調整する手法が提案されている（特許文献２参照）。特許文献２に記載された手法によれば、複数の投影画像を順次表示する際に、被写体領域が表示画面において移動することがなくなるため、撮影中の被写体の体動を容易に観察することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−１９４２９７号公報
【特許文献２】特開２０１２−７０８４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献２に記載された手法では、被写体の全体が数ｃｍ動くような比較的大きな体動は観察できるものの、被写体内部の構造が数ｍｍしか動かないような比較的小さな体動を観察することは困難である。例えば、投影画像内の基準点とは異なる場所に、比較的コントラストが高い構造物が存在する場合、投影画像を順次表示すると、図２６に示すように、基準点１０１は移動しなくても構造物１００が移動するように見えてしまう。このため、特許文献２に記載された手法では、体動が発生していた場合であっても、本当に体動が発生しているのかどうかを正しく判断することは困難である。
【０００９】
本開示は上記事情に鑑みなされたものであり、体動が発生していることを正しく判断できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本開示による画像表示装置は、放射線源を検出部に対して相対的に移動させ、放射線源の移動による複数の線源位置において、被写体に放射線を照射するトモシンセシス撮影により生成された、複数の線源位置のそれぞれに対応する複数の投影画像を取得する画像取得部と、
被写体内における１つの構造位置を特定する構造位置特定部と、
構造位置の、複数の投影画像における投影位置を特定し、投影位置を表示部の予め定められた位置に一致させて、複数の投影画像を表示部に切り替え表示する表示制御部とを備える。
【００１１】
「放射線源を検出部に対して相対的に移動させる」とは、放射線源のみを移動する場合、検出部のみを移動する場合、および放射線源と検出部との双方を移動する場合のいずれをも含む。
【００１２】
「トモシンセシス撮影」とは、放射線源を検出部に対して相対的に移動させ、放射線源の移動による複数の線源位置において、被写体に放射線を照射して、複数の線源位置のそれぞれに対応する複数の画像を取得する撮影方法である。
【００１３】
なお、本開示による画像表示装置においては、複数の投影画像を再構成することにより、被写体の少なくとも１つの断層面における断層画像を生成する再構成部をさらに備え、
構造位置特定部は、断層画像に含まれる特徴点を特定し、特徴点の断層面が並ぶ方向における信号値の分布を算出し、分布において最も信号値が高い位置または最も信号値が低い位置を、構造位置として特定するものであってもよい。
【００１４】
また、本開示による画像表示装置においては、構造位置特定部は、信号値の分布を、断層画像よりも小さい断層面の間隔となる他の断層画像に基づいて算出するものであってもよい。
【００１５】
また、本開示による画像表示装置においては、構造位置特定部は、被写体における複数の構造位置候補を検出し、複数の構造位置候補から１つの構造位置を特定するものであってもよい。
【００１６】
また、本開示による画像表示装置においては、複数の投影画像を再構成することにより、被写体の少なくとも１つの断層面における断層画像を生成する再構成部をさらに備え、
構造位置特定部は、断層画像に含まれる複数の特徴点を特定し、複数の特徴点のそれぞれについて、断層面が並ぶ方向における信号値の分布を算出し、分布において最も信号値が高い位置または最も信号値が低い位置を、複数の特徴点のそれぞれについての構造位置候補として特定し、複数の構造位置候補のうち、最も信号値が高い構造位置候補または最も信号値が低い構造位置候補を、構造位置として特定するものであってもよい。
【００１７】
この場合、構造位置特定部は、信号値の分布を、断層画像よりも小さい断層面の間隔となる他の断層画像に基づいて算出するものであってもよい。
【００１８】
また、本開示による画像表示装置においては、構造位置特定部は、複数の投影画像間において同一の構造を表す対応点を特定し、複数の投影画像間の対応点を再構成して、被写体における対応点を含む位置を、構造位置として特定するものであってもよい。
【００１９】
また、本開示による画像表示装置においては、構造位置特定部は、複数の投影画像間において同一の構造を表す複数の対応点を特定し、複数の投影画像間において複数の対応点のそれぞれを再構成して、被写体における複数の対応点を含む位置を複数の構造位置候補として特定し、複数の構造位置候補のうち、最も信号値が高い構造位置候補または最も信号値が低い構造位置候補を、構造位置として特定するものであってもよい。
【００２０】
また、本開示による画像表示装置においては、構造位置特定部は、複数の投影画像間において同一の構造を表す少なくとも１つの対応点を特定し、複数の投影画像のそれぞれにおける対応点と、複数の投影画像のそれぞれを取得した際の線源位置とを結ぶ複数の直線を設定し、放射線源の移動方向と直交する方向から見た場合における複数の直線についての複数の第１の交点を算出し、第１の交点に基づいて基準点を設定し、基準点を含み、検出部の検出面に平行な面において、放射線源の移動方向に平行な方向から見た場合における複数の直線の平行な面との複数の第２の交点を算出し、基準点および第２の交点に基づいて構造位置を特定するものであってもよい。
【００２１】
また、本開示による画像表示装置においては、構造位置特定部は、複数の投影画像間において同一の構造を表す複数の対応点を特定し、複数の対応点のそれぞれに関して、複数の投影画像のそれぞれにおける対応点と、複数の投影画像のそれぞれを取得した際の線源位置とを結ぶ複数の直線を設定し、放射線源の移動方向と直交する方向から見た場合における複数の直線についての複数の第１の交点を算出し、第１の交点に基づいて基準点を設定し、基準点を含み、検出部の検出面に平行な面において、放射線源の移動方向に平行な方向から見た場合における複数の直線の平行な面との複数の第２の交点を算出し、基準点および第２の交点に基づいて複数の構造位置候補を特定し、複数の構造位置候補のそれぞれについての複数の第１の交点および複数の第２の交点のばらつきに基づいて、複数の構造位置候補から構造位置を特定するものであってもよい。
【００２２】
また、本開示による画像表示装置においては、複数の投影画像を再構成することにより、被写体の少なくとも１つの断層面における断層画像を生成する再構成部をさらに備え、
構造位置特定部は、断層画像に含まれる特徴点を特定し、特徴点を複数の投影画像に投影して、複数の投影画像のそれぞれにおける特徴点に対応する特徴投影位置を特定し、複数の投影画像のそれぞれにおいて、特徴投影位置を含む領域を設定し、複数の投影画像のそれぞれにおける領域間において、同一の構造を表す少なくとも１つの対応点を特定し、複数の投影画像間の対応点を再構成して、被写体における対応点を含む位置を、構造位置として特定するものであってもよい。
【００２３】
また、本開示による画像表示装置においては、複数の投影画像を再構成することにより、被写体の少なくとも１つの断層面における断層画像を生成する再構成部をさらに備え、
構造位置特定部は、断層画像に含まれる複数の特徴点を特定し、複数の特徴点のそれぞれに関して、特徴点を複数の投影画像に投影して、複数の投影画像のそれぞれにおける特徴点に対応する特徴投影位置を特定し、複数の投影画像のそれぞれにおいて、特徴投影位置を含む領域を設定し、複数の投影画像のそれぞれにおける領域間において、同一の構造を表す少なくとも１つの対応点を特定し、複数の投影画像間の対応点を再構成して、被写体における対応点を含む位置を複数の構造位置候補に特定し、複数の構造位置候補のうち、最も信号値が高い構造位置候補または最も信号値が低い構造位置候補を、構造位置として特定するものであってもよい。
【００２４】
また、本開示による画像表示装置においては、複数の投影画像を再構成することにより、被写体の少なくとも１つの断層面における断層画像を生成する再構成部をさらに備え、
構造位置特定部は、断層画像に含まれる複数の特徴点を特定し、複数の特徴点のそれぞれに関して、特徴点を複数の投影画像に投影して、複数の投影画像のそれぞれにおける特徴点に対応する特徴投影位置を特定し、複数の投影画像のそれぞれにおいて、特徴投影位置を含む領域を設定し、複数の投影画像のそれぞれにおける領域間において、同一の構造を表す少なくとも１つの対応点を特定し、複数の対応点のそれぞれに関して、複数の投影画像のそれぞれにおける対応点と、複数の投影画像のそれぞれを取得した際の線源位置とを結ぶ複数の直線を設定し、放射線源の移動方向と直交する方向から見た場合における複数の直線についての複数の第１の交点を算出し、第１の交点に基づいて基準点を設定し、基準点を含み、検出部の検出面に平行な面において、放射線源の移動方向に平行な方向から見た場合における複数の直線の平行な面との複数の第２の交点を算出し、基準点および第２の交点に基づいて複数の構造位置候補を特定し、複数の構造位置候補のそれぞれについての複数の第１の交点および複数の第２の交点のばらつきに基づいて、複数の構造位置候補から構造位置を特定するものであってもよい。
【００２５】
また、本開示による画像表示装置においては、表示制御部は、複数の投影画像における投影位置を含む特定の大きさの領域のみを表示部に切り替え表示するものであってもよい。
【００２６】
また、本開示による画像表示装置においては、表示制御部は、構造位置を含む断層面の断層画像をさらに表示部に表示するものであってもよい。
【００２７】
また、本開示による画像表示装置においては、表示制御部は、投影画像における構造位置を強調して表示部に表示するものであってもよい。
【００２８】
また、本開示による画像表示装置においては、被写体が乳房であってもよい。
また、本開示による画像表示装置においては、被写体の体動を検出する体動検出部をさらに備え、
構造位置特定部は、体動が検出された場合に構造位置を特定し、
表示制御部は、体動が検出された場合に、複数の投影画像を表示部に切り替え表示するものであってもよい。
また、本開示による画像表示装置においては、  被写体の体動を検出する体動検出部と、
体動が検出された場合に、投影画像に対して体動補正を行う体動補正部とをさらに備え、
表示制御部は、体動補正が行われた複数の投影画像において投影位置を特定し、該投影位置を表示部の予め定められた位置に一致させて、体動補正が行われた複数の投影画像を表示部に切り替え表示するものであってもよい。
【００２９】
本開示による画像表示方法は、放射線源を検出部に対して相対的に移動させ、放射線源の移動による複数の線源位置において、被写体に放射線を照射するトモシンセシス撮影により生成された、複数の線源位置のそれぞれに対応する複数の投影画像を取得し、
被写体内における１つの構造位置を特定し、
構造位置の、複数の投影画像における投影位置を特定し、投影位置を表示部の予め定められた位置に一致させて、複数の投影画像を表示部に切り替え表示する。
【００３０】
なお、本開示による画像表示方法をコンピュータに実行させるためのプログラムとして提供してもよい。
【００３１】
本開示による他の画像表示装置は、コンピュータに実行させるための命令を記憶するメモリと、
記憶された命令を実行するよう構成されたプロセッサとを備え、プロセッサは、
放射線源を検出部に対して相対的に移動させ、放射線源の移動による複数の線源位置において、被写体に放射線を照射するトモシンセシス撮影により生成された、複数の線源位置のそれぞれに対応する複数の投影画像を取得し、
被写体内における１つの構造位置を特定し、
構造位置の、複数の投影画像における投影位置を特定し、投影位置を表示部の予め定められた位置に一致させて、複数の投影画像を表示部に切り替え表示する処理を実行する。
【発明の効果】
【００３２】
本開示によれば、トモシンセシス撮影を撮影装置に行わせることにより生成された、複数の線源位置のそれぞれに対応する複数の投影画像が取得される。そして、被写体内における１つの構造位置が特定され、構造位置の複数の投影画像における投影位置が特定され、投影位置を表示部の予め定められた位置に一致させて、複数の投影画像が表示部に切り替え表示される。このように投影画像を切り替え表示した場合、投影画像における構造位置に存在する構造物の移動の仕方が、体動が発生しているか否かに応じて異なるものとなる。
すなわち、体動が発生していない場合、構造位置に存在する構造物は、各投影画像における構造位置の投影位置に存在するか、投影位置を通り放射線源の移動方向と一致する線上に存在することとなる。このため、体動が発生していない場合、切り替え表示される投影画像においては、構造位置に存在する構造物は移動しないか、放射線源の移動方向と同一方向に移動する。一方、体動が発生している場合、構造位置に存在する構造物は、各投影画像における構造位置の投影位置には必ずしも存在しないものとなる。このため、体動が発生している場合、切り替え表示される投影画像においては、構造位置に存在する構造物は不規則な方向に不規則に移動する。
したがって、本開示によれば、切り替え表示される投影画像において、投影画像に含まれる構造位置以外の構造物の移動の仕方を観察することにより、トモシンセシス撮影中に体動が発生しているか否かを容易に確認することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】第１の実施形態による画像表示装置を適用した放射線画像撮影装置の概略構成図
【図２】放射線画像撮影装置を図１の矢印Ａ方向から見た図
【図３】第１の実施形態において、コンピュータに画像表示プログラムをインストールすることにより実現される画像表示装置の概略構成を示す図
【図４】投影画像の取得を説明するための図
【図５】特徴点の探索を説明するための図
【図６】細かい間隔の断層画像の生成を説明するための図
【図７】画素値のプロファイルを示す図
【図８】投影画像における構造位置の投影位置の特定を説明するための図
【図９】投影画像の切り替え表示を説明するための図
【図１０】第１の実施形態において行われる処理を示すフローチャート
【図１１】体動が発生している場合の投影画像の切り替え表示を説明するための図
【図１２】乳房内における対応点により表される構造の３次元空間における位置の構造位置としての特定を説明するための図
【図１３】構造位置の投影位置の特定を説明するための図
【図１４】第２の実施形態において行われる処理を示すフローチャート
【図１５】特徴投影位置を含む領域の設定を説明するための図
【図１６】第３の実施形態において行われる処理を示すフローチャート
【図１７】第４の実施形態における構造位置の特定を説明するための図
【図１８】第４の実施形態における構造位置の特定を説明するための図
【図１９】投影画像の切り替え表示の例を示す図
【図２０】投影画像の切り替え表示の例を示す図
【図２１】投影画像の切り替え表示の例を示す図
【図２２】投影画像の切り替え表示の例を示す図
【図２３】投影画像の切り替え表示の例を示す図
【図２４】画像表示装置の他の例の概略構成を示す図
【図２５】画像表示装置の他の例の概略構成を示す図
【図２６】従来の投影画像の表示を説明するための図
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、図面を参照して本開示の実施形態について説明する。図１は本開示の第１の実施形態による画像表示装置を適用した放射線画像撮影装置の概略構成図、図２は放射線画像撮影装置を図１の矢印Ａ方向から見た図である。放射線画像撮影装置１は、乳房のトモシンセシス撮影を行って断層画像を生成するために、複数の線源位置から被写体である乳房Ｍを撮影して、複数の放射線画像、すなわち複数の投影画像を取得するマンモグラフィ撮影装置である。図１に示すように放射線画像撮影装置１は、撮影部１０、撮影部１０に接続されたコンピュータ２、並びにコンピュータ２に接続された表示部３および入力部４を備えている。
【００３５】
撮影部１０は、不図示の基台に対して回転軸１１により連結されたアーム部１２を備えている。アーム部１２の一方の端部には撮影台１３が、その他方の端部には撮影台１３と対向するように放射線照射部１４が取り付けられている。アーム部１２は、放射線照射部１４が取り付けられた端部のみを回転することが可能に構成されており、これにより、撮影台１３を固定して放射線照射部１４のみを回転することが可能となっている。なお、アーム部１２の回転は、コンピュータ２により制御される。
【００３６】
撮影台１３の内部には、フラットパネルディテクタ等の放射線検出器１５が備えられている。また、撮影台１３の内部には、放射線検出器１５から読み出された電荷信号を電圧信号に変換するチャージアンプ、チャージアンプから出力された電圧信号をサンプリングする相関２重サンプリング回路、および電圧信号をデジタル信号に変換するＡＤ変換部等が設けられた回路基板等も設置されている。なお、放射線検出器１５が検出部に対応する。
【００３７】
放射線検出器１５は、放射線画像の記録および読み出しを繰り返して行うことができるものであり、放射線の照射を直接受けて電荷を発生する、いわゆる直接型の放射線検出器を用いてもよいし、放射線を一旦可視光に変換し、その可視光を電荷信号に変換する、いわゆる間接型の放射線検出器を用いるようにしてもよい。また、放射線画像信号の読出方式としては、ＴＦＴ（thin film transistor）スイッチをオンおよびオフすることによって放射線画像信号が読み出される、いわゆるＴＦＴ読出方式のもの、または読取光を照射することによって放射線画像信号が読み出される、いわゆる光読出方式のものを用いることが望ましいが、これに限らずその他のものを用いるようにしてもよい。なお、放射線検出器１５が検出部に対応する。
【００３８】
放射線照射部１４の内部には、放射線源であるＸ線源１６が収納されている。Ｘ線源１６から放射線であるＸ線を照射するタイミングおよびＸ線源１６におけるＸ線発生条件、すなわちターゲットおよびフィルタの材質の選択、管電圧並びに照射時間等は、コンピュータ２により制御される。
【００３９】
また、アーム部１２には、撮影台１３の上方に配置されて乳房Ｍを押さえつけて圧迫する圧迫板１７、圧迫板１７を支持する支持部１８、および支持部１８を図１および図２の上下方向に移動させる移動機構１９が設けられている。なお、圧迫板１７と撮影台１３との間隔、すなわち圧迫厚はコンピュータ２に入力される。
【００４０】
表示部３は、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）または液晶モニタ等の表示装置であり、後述するように取得された投影画像および２次元画像、並びに生成された断層画像の他、操作に必要なメッセージ等を表示する。なお、表示部３は音声を出力するスピーカを内蔵するものであってもよい。
【００４１】
入力部４はキーボード、マウスあるいはタッチパネル方式の入力装置からなり、操作者による放射線画像撮影装置１の操作を受け付ける。また、トモシンセシス撮影を行うために必要な、撮影条件等の各種情報の入力および情報の修正の指示も受け付ける。本実施形態においては、操作者が入力部４から入力した情報に従って、放射線画像撮影装置１の各部が動作する。
【００４２】
コンピュータ２には、本開示の実施形態による画像表示プログラムがインストールされている。本実施形態においては、コンピュータは、操作者が直接操作するワークステーションあるいはパソコンでもよいし、それらとネットワークを介して接続されたサーバコンピュータでもよい。画像表示プログラムは、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）、ＣＤ−ＲＯＭ（Compact Disc Read Only Memory）等の記録媒体に記録されて配布され、その記録媒体からコンピュータにインストールされる。もしくは、ネットワークに接続されたサーバコンピュータの記憶装置、あるいはネットワークストレージに、外部からアクセス可能な状態で記憶され、要求に応じてコンピュータにダウンロードされ、インストールされる。
【００４３】
図３はコンピュータ２に画像表示プログラムをインストールすることにより実現された画像表示装置の概略構成を示す図である。図３に示すように、画像表示装置は、標準的なコンピュータの構成として、ＣＰＵ(Central Processing Unit)２１、メモリ２２およびストレージ２３を備えている。
【００４４】
ストレージ２３は、ハードディスクまたはＳＳＤ（Solid State Drive）等のストレージデバイスからなり、放射線画像撮影装置１の各部を駆動するためのプログラムおよび画像表示プログラムを含む各種情報が記憶されている。また、トモシンセシス撮影により取得された投影画像、および後述するように生成された断層画像も記憶される。
【００４５】
メモリ２２には、各種処理をＣＰＵ２１に実行させるために、ストレージ２３に記憶されたプログラム等が一時的に記憶される。画像表示プログラムは、ＣＰＵ２１に実行させる処理として、放射線画像撮影装置１にトモシンセシス撮影を行わせて、複数の線源位置のそれぞれに対応する乳房Ｍの複数の投影画像を取得する画像取得処理、複数の投影画像を再構成することにより、乳房Ｍの断層面における断層画像を生成する再構成処理、乳房Ｍ内における１つの構造位置を特定する構造位置特定処理、および構造位置の、複数の投影画像における投影位置を特定し、投影位置を表示部３の予め定められた位置に一致させて、複数の投影画像を表示部３に切り替え表示する表示制御処理を規定している。
【００４６】
そして、ＣＰＵ２１が画像表示プログラムに従いこれらの処理を実行することで、コンピュータ２は、画像取得部３１、再構成部３２、構造位置特定部３３および表示制御部３４として機能する。なお、本実施形態においては、ＣＰＵ１１が画像表示プログラムによって、各部の機能を実行するようにしたが、ソフトウェアを実行して各種の処理部として機能する汎用的なプロセッサとしては、ＣＰＵ２１の他、ＦＰＧＡ (Field Programmable Gate Array)等の製造後に回路構成を変更可能なプロセッサであるプログラマブルロジックデバイス（Programmable Logic Device:ＰＬＤ）を用いることができる。また、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）等の特定の処理を実行させるために専用に設計された回路構成を有するプロセッサである専用電気回路等により、各部の処理を実行するようにしてもよい。
【００４７】
１つの処理部は、これら各種のプロセッサのうちの１つで構成されてもよいし、同種または異種の２つ以上のプロセッサの組み合わせ（例えば、複数のＦＰＧＡ、またはＣＰＵとＦＰＧＡの組み合わせ等）で構成されてもよい。また、複数の処理部を１つのプロセッサで構成してもよい。複数の処理部を１つのプロセッサで構成する例としては、第１に、クライアントおよびサーバ等のコンピュータに代表されるように、１つ以上のＣＰＵとソフトウェアとの組み合わせで１つのプロセッサを構成し、このプロセッサが複数の処理部として機能する形態がある。第２に、システムオンチップ（System On Chip:ＳｏＣ）等に代表されるように、複数の処理部を含むシステム全体の機能を１つのＩＣ（Integrated Circuit）チップで実現するプロセッサを使用する形態がある。このように、各種の処理部は、ハードウェア的な構造として、上記各種のプロセッサを１つ以上用いて構成される。
【００４８】
さらに、これらの各種のプロセッサのハードウェア的な構造は、より具体的には、半導体素子等の回路素子を組み合わせた電気回路（circuitry）である。
【００４９】
画像取得部３１は、アーム部１２を回転軸１１の周りに回転させることによりＸ線源１６を移動させ、Ｘ線源１６の移動による複数の線源位置において、被写体である乳房ＭにＸ線を照射し、乳房Ｍを透過したＸ線を放射線検出器１５により検出するトモシンセシス撮影を放射線画像撮影装置１に行わせて、複数の線源位置における複数の投影画像Ｇｉ（ｉ＝１〜ｎ、ｎは線源位置の数であり、例えばｎ＝１５）を取得する。図４は投影画像Ｇｉの取得を説明するための図である。なお、図４は乳房ＭをＸ線源１６の移動方向に直交する方向から見たものとなっている。図４に示すように、Ｘ線源１６をＳ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎの各線源位置に移動し、各線源位置においてＸ線源１６を駆動して乳房ＭにＸ線を照射し、乳房Ｍを透過したＸ線を放射線検出器１５により検出することにより、各線源位置Ｓ１〜Ｓｎに対応して、投影画像Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇｎが取得される。なお、各線源位置Ｓ１〜Ｓｎにおいては、同一の線量のＸ線が乳房Ｍに照射される。取得された複数の投影画像Ｇｉはストレージ２３に保存される。また、画像表示プログラムとは別個のプログラムにより複数の投影画像Ｇｉを取得してストレージ２３に保存するようにしてもよい。この場合、画像取得部３１は、ストレージ２３に保存された複数の投影画像Ｇｉを、再構成処理および表示等のためにストレージ２３から読み出すものとなる。
【００５０】
再構成部３２は、投影画像Ｇｉを再構成することにより、乳房Ｍの所望とする断層面を強調した断層画像を生成する。具体的には、再構成部３２は、シフト加算法、単純逆投影法あるいはフィルタ逆投影法等の周知の逆投影法等を用いて投影画像Ｇｉを再構成して、乳房Ｍの複数の断層面のそれぞれにおける断層画像Ｄｊ（ｊ＝１〜ｍ：ｍは断層面の数）を生成する。なお、生成する断層画像は１つのみであってもよい。
【００５１】
構造位置特定部３３は、乳房Ｍ内における１つの構造位置を特定する。第１の実施形態においては、構造位置特定部３３は、再構成部３２が生成した複数の断層画像Ｄｊに含まれる特徴点を特定し、特徴点に関して特徴点の断層面が並ぶ方向における信号値の分布を算出し、算出した分布において最も信号値が高い位置または最も信号値が低い位置を、構造位置として特定する。以下、第１の実施形態における構造位置特定処理について詳細に説明する。
【００５２】
第１の実施形態においては、構造位置特定部３３は、まず再構成部３２が生成した複数の断層画像Ｄｊのそれぞれから特徴点候補を検出する。具体的には、Ｈａｒｒｉｓのコーナー検出法、ＳＩＦＴ(Scale-Invariant Feature Transform)、ＦＡＳＴ（Features from Accelerated Segment Test）あるいはＳＵＲＦ(Speeded Up Robust Features)等のアルゴリズムを用いて、複数の断層画像Ｄｊに含まれる、エッジ、エッジの交点およびエッジの角部等を特徴点候補として検出する。ここで、特徴点候補は１つの画素のみからなるものであってもよいが、複数の画素を含む領域を特徴点候補としてもよい。特徴点候補が複数の画素からなる場合、特定された構造位置も複数の画素からなるものとなる。なお、１つの断層画像Ｄｊにおいて複数の特徴点候補が検出された場合には、複数の特徴点候補のうち、アルゴリズムが算出した特徴量が最も大きい特徴点候補を、その断層画像Ｄｊの特徴点候補として特定する。さらに、構造位置特定部３３は、複数の断層画像Ｄｊのそれぞれにおいて特定された特徴点候補のうち、アルゴリズムが算出した特徴量が最も大きい特徴点候補を、構造位置特定処理に使用する特徴点に決定する。また、生成された断層画像が１つのみである場合、構造位置特定部３３は、その１つの断層画像から特徴点を検出すればよい。
【００５３】
なお、構造位置特定部３３は、断層画像Ｄｊを表示部３に表示し、表示された断層画像Ｄｊに対する操作者による入力部４を用いた特徴点の指定を受け付けることにより、特徴点を特定するものであってもよい。また、構造位置特定部３３を、ディープラーニング等により学習がなされた判別器を用いたＣＡＤ（Computer-Aided Diagnosis）を実施可能なものとし、ＣＡＤにより断層画像Ｄｊを解析して、断層画像Ｄｊに含まれる病変等の領域、とくに乳房Ｍ内における石灰化の領域等を検出し、検出した病変の位置を特徴点として特定してもよい。また、複数の断層画像Ｄｊを最大値投影法（ＭＩＰ（Maximum Intensity Projection）法）により投影してＭＩＰ画像を生成し、ＭＩＰ画像から特徴点を検出し、検出した特徴点の断層面の位置を求めることにより、特徴点を特定してもよい。また、特徴点特定の処理の演算時間を短縮するために、複数の断層画像Ｄｊのうちの１つの断層画像に含まれる特徴点を特定してもよい。例えば、圧迫厚の１／２となる断層面を表す断層画像において特徴点を特定すればよい。
【００５４】
ここで、構造位置特定部３３は、特定した特徴点を構造位置として特定してもよいが、ある断層面の断層画像において特定した特徴点は、他の断層面に含まれる特徴点が映り込んだリップルアーチファクトである可能性がある。このため、第１の実施形態においては、構造位置特定部３３は、特定した特徴点を断層面が並ぶ方向（すなわち、Ｘ線源１６から見た乳房Ｍの深さ方向）に探索して、構造位置を特定する。
【００５５】
図５は特徴点の探索を説明するための図である。なお、図５においては、説明を簡単なものとするために、３枚の断層画像Ｄ１〜Ｄ３のみを示し、断層画像Ｄ２において特徴点Ｔ０が特定されたものとする。なお、断層画像Ｄｊにおける断層面の間隔は１ｍｍであるものとする。このように断層画像Ｄ２において特徴点Ｔ０を特定した場合、特徴点Ｔ０がリップルアーチファクトである可能性がある。例えば、図５に示すように、断層画像Ｄ１により表される断層面と断層画像Ｄ２により表される断層面との間に存在する構造物４０のリップルアーチファクトが、断層画像Ｄ２に含まれる特徴点Ｔ０となっている場合がある。
【００５６】
このために、構造位置特定部３３は、断層画像Ｄｊよりも細かい断層面の間隔の断層画像Ｄｓｊを生成するよう、再構成部３２に対して指示を行う。なお、断層画像Ｄｓｊが他の断層画像に対応する。この際、フィルタ逆投影法により断層画像Ｄｓｊを生成すると、フィルタの影響により、断層画像Ｄｓｊにオーバーシュートまたはアンダーシュート等のアーチファクトが生じる。このため、再構成部３２は、フィルタを使用しない逆投影法（例えば単純逆投影法）を用いて、投影画像Ｇｉを再構成して断層画像Ｄｓｊを生成する。
【００５７】
図６は、細かい間隔の断層画像の生成を説明するための図である。なお。図６においては、断層画像Ｄｓｊの断層面の間隔は０．２５ｍｍであり、断層画像Ｄｓ１が断層画像Ｄ１に、断層画像Ｄｓ５が断層画像Ｄ２に、断層画像Ｄｓ９が断層画像Ｄ３にそれぞれ対応する。また、断層画像Ｄｓ３に構造物４０の像が含まれるとする。なお、断層画像Ｄｓｊの断層面の間隔はより細かくすることが好ましい。また、再構成のための演算時間を短縮するために、特徴点Ｔ０を含む予め定められた範囲内の領域においてのみ、断層画像Ｄｓｊを生成するようにしてもよい。なお、断層画像Ｄｊと同一サイズとなるように、断層画像Ｄｓｊを生成してもよいことはもちろんである。
【００５８】
ここで、各断層画像Ｄｓｊには、構造物４０のリップルアーチファクトが含まれる。リップルアーチファクトは図６の破線に示すように、構造物Ｃ０を含む断層画像Ｄｓ３から離れるほど拡大する。このため、リップルアーチファクトの画素値は構造物Ｃ０を含む断層画像Ｄｓ３から離れるほど小さくなる。したがって、構造位置特定部３３は、すべての断層画像Ｄｓｊにおいて、断層画像Ｄ２（断層画像Ｄｓ５）に含まれる特徴点Ｔ０と対応する位置の画素値を求め、断層面が並ぶ方向（以下、深さ方向とする）における画素値のプロファイルを生成する。
【００５９】
図７は画素値のプロファイルを示す図である。図７において、横軸は断層画像Ｄｓｊの断層面の位置を、縦軸は画素値を表す。なお、図７においては、断層面の位置を断層画像Ｄｓｊに付与された番号で示す。また、図７において断層面の間の位置における画素値は隣接する断層面の画素値により補間している。図７に示すように、断層画像Ｄｓｊのうちの断層画像Ｄｓ５（断層画像Ｄ２）以外の断層画像に構造物４０が存在する場合、その断層画像においては、特徴点Ｔ０に対応する画素の画素値は、断層画像Ｄ２（断層画像Ｄｊ５）において特定された特徴点Ｔ０よりも小さくなる。したがって、構造位置特定部３３は、画素値のプロファイルにおいて最小値となる断層画像Ｄｓｊ（ここでは断層画像Ｄｓ３）における特徴点Ｔ０に対応する画素位置を、構造位置Ｔ１に特定する。また、特徴点となる構造の種類にもよるが、画素値のプロファイルが最大値となる断層画像における、特徴点Ｔ０に対応する位置を構造位置Ｔ１に特定してもよい。
【００６０】
表示制御部３４は、構造位置特定部３３が特定した構造位置Ｔ１の、複数の投影画像Ｇｉにおける投影位置を特定し、投影位置を表示部３の予め定められた位置に一致させて、複数の投影画像Ｇｉを表示部３に切り替え表示する。
【００６１】
図８は投影画像における構造位置の投影位置の特定を説明するための図である。なお、図８においては説明を簡単なものとするために、３つの線源位置Ｓ１〜Ｓ３に対応する３つの投影画像Ｇ１〜Ｇ３における投影位置の特定について説明する。また、図８においては、説明のため投影画像Ｇ１〜Ｇ３が異なる平面に存在するように示しているが、実際には同一平面に存在することとなる。図８に示すように、撮影時においては、乳房Ｍに含まれる構造位置Ｔ１は、投影画像Ｇ１〜Ｇ３のそれぞれにおける位置Ｐ１〜Ｐ３に投影される。ここで、線源位置Ｓ１〜Ｓ３および乳房Ｍ内の構造位置Ｔ１の３次元空間における位置は既知である。また、投影画像Ｇ１〜Ｇ３が生成される放射線検出器１５の検出面の位置も既知である。このため、構造位置特定部３３は、線源位置Ｓ１〜Ｓ３および乳房Ｍ内の構造位置Ｔ１の３次元空間における位置、並びに投影画像Ｇ１〜Ｇ３が生成される放射線検出器１５の検出面の位置に基づいて、投影画像Ｇ１〜Ｇ３における構造位置Ｔ１の投影位置Ｐ１〜Ｐ３を算出することにより、投影位置Ｐ１〜Ｐ３を特定する。
【００６２】
そして、表示制御部３４は、投影画像Ｇ１〜Ｇ３を表示部３において切り替え表示する。この際に、表示制御部３４は、投影画像Ｇ１〜Ｇ３のそれぞれにおける構造位置Ｔ１の投影位置Ｐ１〜Ｐ３を、表示部３の予め定められた位置に一致させる。図９は投影画像の切り替え表示を説明するための図である。なお、図９においては、投影画像Ｇ１〜Ｇ３における構造位置Ｔ１の投影位置Ｐ１〜Ｐ３を、表示部３の中心位置（すなわち、画面の対角線の交点）と一致させて表示する状態を示している。なお、表示制御部３４は、操作者による入力部４からの指示により投影画像Ｇ１〜Ｇ３を切り替え表示してもよいが、予め定められた時間間隔により、投影画像Ｇ１〜Ｇ３を切り替え表示するものであってもよい。
【００６３】
次いで、第１の実施形態において行われる処理について説明する。図１０は第１の実施形態において行われる処理を示すフローチャートである。なお、本開示は投影画像を表示する点に特徴を有するため、ここでは投影画像を表示する処理についてのみ説明し、複数の投影画像を用いた再構成の処理についての説明は省略する。操作者による処理開始の指示を入力部４が受け付けるとトモシンセシス撮影が行われて、画像取得部３１が複数の投影画像Ｇｉを取得する（ステップＳＴ１）。次いで、再構成部３２が、複数の投影画像Ｇｉを再構成することにより、乳房Ｍの少なくとも１つの断層面における断層画像Ｄｊを生成する（ステップＳＴ２）。
【００６４】
次いで、構造位置特定部３３が、断層画像を用いて、乳房Ｍ内における１つの構造位置Ｔ１を特定する（ステップＳＴ３）。さらに、表示制御部３４が、構造位置Ｔ１の、複数の投影画像Ｇｉにおける投影位置を特定し（ステップＳＴ４）、投影位置を表示部３の予め定められた位置に一致させて、複数の投影画像Ｇｉを表示部３に切り替え表示し（ステップＳＴ５）、処理を終了する。
【００６５】
このように、第１の実施形態においては、乳房Ｍ内における１つの構造位置Ｔ１を特定し、構造位置Ｔ１の複数の投影画像Ｇｉにおける投影位置を特定し、投影位置を表示部３の予め定められた位置に一致させて、複数の投影画像Ｇｉを表示部３に切り替え表示するようにした。
【００６６】
このように投影画像Ｇｉを切り替え表示した場合、切り替え表示される投影画像Ｇｉにおける構造位置Ｔ１に存在する構造物の移動の仕方が、体動が発生しているか否かに応じて異なるものとなる。すなわち、トモシンセシス撮影中に乳房Ｍの体動が発生していない場合、構造位置Ｔ１に存在する構造物は、各投影画像Ｇｉにおける構造位置Ｔ１の投影位置に存在するか、投影位置を通りＸ線源１６の移動方向と一致する線上に存在することとなる。このため、投影位置を表示部３の予め定められた位置に一致させて投影画像Ｇｉを切り替え表示すると、構造位置Ｔ１の投影位置にある構造物は、図９に示すように移動しないか、または図Ｘ線源１６の移動方向に線源位置の間隔に対応するほぼ一定の移動量で移動する。
一方、体動が発生している場合、構造位置Ｔ１に存在する構造物は、各投影画像Ｇｉにおける構造位置Ｔ１の投影位置には必ずしも存在しないものとなる。このため、体動が発生している場合、投影位置を表示部３の予め定められた位置に一致させて切り替え表示される投影画像Ｇｉにおいては、図１１に示すように、構造位置Ｔ１に存在する構造物は、不規則な方向に不規則な移動量で移動することとなる。
【００６７】
このため、切り替え表示される投影画像Ｇｉにおいて、投影画像Ｇｉに含まれる構造位置Ｔ１に存在する構造物の移動の仕方を観察することにより、トモシンセシス撮影中に体動が発生しているか否かを容易に確認することができる。
【００６８】
なお、上記第１の実施形態においては、構造位置特定部３３は、断層画像Ｄｊを再構成した場合よりも細かい断層面の間隔にて断層画像Ｄｓｊを生成して構造位置Ｔ１を特定しているが、これに限定されるものではない。断層画像Ｄｊにおいて検出された特徴点Ｔ０を構造位置Ｔ１として用いてもよい。
【００６９】
また、上記第１の実施形態においては、構造位置特定部３３は、断層画像Ｄｊから乳房Ｍにおける複数の構造位置候補を検出し、複数の構造位置候補から１つの構造位置を特定してもよい。この場合、構造位置特定部３３は、複数の断層画像Ｄｊに含まれる複数の特徴点を特定する。そして、複数の特徴点のそれぞれについて、図７に示すように断層面が並ぶ方向（以下、深さ方向とする）における画素値のプロファイルを生成する。さらに、構造位置特定部３３は、各特徴点のプロファイルにおいて、最小値となる断層画像Ｄｓｊにおける特徴点に対応する位置を構造位置候補に特定する。すなわち、複数の特徴点のそれぞれについて、１つの構造位置候補を特定する。さらに、構造位置特定部３３は、複数の構造位置候補のうち、画素値が最小値となる構造位置候補を構造位置に決定する。
【００７０】
次いで、本開示の第２の実施形態について説明する。なお、第２の実施形態による画像表示装置の構成は、第１の実施形態による画像表示装置の構成と同一であり、構造位置特定部３３が行う処理のみが異なるため、ここでは構成についての詳細な説明は省略する。上記第１の実施形態においては、断層画像を用いて構造位置を特定しているが、第２の実施形態においては、投影画像を用いて構造位置を特定するようにした点が第１の実施形態と異なる。
【００７１】
第２の実施形態においては、構造位置特定部３３は、まず、複数の投影画像Ｇｉに含まれる共通の構造である対応点を特定する。具体的には、上記第１の実施形態における断層画像からの特徴点の検出と同様に、Ｈａｒｒｉｓのコーナー検出法、ＳＩＦＴ、ＦＡＳＴあるいはＳＵＲＦ等のアルゴリズムを用いて、投影画像Ｇｉに含まれる、エッジ、エッジの交点およびエッジの角部等の、投影画像Ｇｉ内の構造である対応点を少なくとも１つ特定する。なお、ここでは１つの対応点を特定するものとする。ここで、対応点は１つの画素のみからなるものであってもよいが、複数の画素を含む領域を対応点としてもよい。対応点が複数の画素からなる場合、特定された構造位置も複数の画素からなるものとなる。
【００７２】
なお、第１の実施形態における特徴点の特定と同様に、ＣＡＤにより投影画像Ｇｉを解析することにより対応点を特定してもよい。また、投影画像Ｇｉを表示部３に表示して、操作者による対応点の指定を受け付けることにより、対応点を特定してもよい。
【００７３】
次いで、構造位置特定部３３は、投影画像Ｇｉにおいて検出された対応点を逆投影して、乳房Ｍ内における対応点により表される構造の３次元空間における位置を構造位置として特定する。この際、構造位置特定部３３は、再構成部３２に対して指示を行い、再構成部３２が対応点を逆投影するようにしてもよい。図１２は乳房Ｍ内における対応点により表される構造の３次元空間における位置の構造位置としての特定を説明するための図である。なお、図１２においては説明を簡単なものとするために、３つの線源位置Ｓ１〜Ｓ３に対応する３つの投影画像Ｇ１〜Ｇ３を用いての構造位置の特定について説明する。また、図１２においては、説明のため投影画像Ｇ１〜Ｇ３が異なる平面に存在するように示しているが、実際には同一平面に存在することとなる。図１２に示すように、投影画像Ｇ１における対応点Ｐ１１、投影画像Ｇ２における対応点Ｐ１２および投影画像Ｇ３における対応点Ｐ１３を逆投影することにより、乳房Ｍ内における対応点Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３により表される構造位置Ｔ２を特定する。逆投影により、構造位置Ｔ２が存在する断層面およびその断層面における２次元上の位置を算出することができ、その結果、構造位置Ｔ２の３次元空間における座標位置を特定することができる。
【００７４】
第２の実施形態においては、構造位置特定部３３が構造位置を特定する際に断層画像Ｄｊを使用しないものである。このため、構造位置特定のための処理を高速に行うことができる。
【００７５】
第２の実施形態において、表示制御部３４は、構造位置特定部３３が特定した構造位置Ｔ２の投影画像Ｇ１〜Ｇ３上における投影位置Ｐ２１，Ｐ２２，Ｐ２３を特定する。図１３は構造位置Ｔ２の投影位置の特定を説明するための図である。なお、図１３においては説明を簡単なものとするために、３つの線源位置Ｓ１〜Ｓ３に対応する３つの投影画像Ｇ１〜Ｇ３における構造位置Ｔ２の投影位置の特定について説明する。また、図１３においては、説明のため投影画像Ｇ１〜Ｇ３が異なる平面に存在するように示しているが、実際には同一平面に存在することとなる。図１３に示すように、構造位置Ｔ２は、投影画像Ｇ１〜Ｇ３のそれぞれにおける位置Ｐ２１〜Ｐ２３に投影される。線源位置Ｓ１〜Ｓ３および構造位置Ｔ２の３次元空間における位置は既知である。また、投影画像Ｇ１〜Ｇ３が生成される放射線検出器１５の検出面の位置も既知である。このため、表示制御部３４は、線源位置Ｓ１〜Ｓ３および構造位置Ｔ２の３次元空間における位置、並びに投影画像Ｇ１〜Ｇ３が生成される放射線検出器１５の検出面の位置に基づいて、投影画像Ｇ１〜Ｇ３における構造位置Ｔ２の投影位置Ｐ２１〜Ｐ２３を算出することにより、投影位置Ｐ２１〜Ｐ２３を特定する。
【００７６】
第２の実施形態において、表示制御部３４は、投影画像Ｇｉを切り替え表示する際、投影画像Ｇ１〜Ｇ３における構造位置Ｔ２の投影位置Ｐ２１〜Ｐ２３を、表示部３の中心位置（すなわち、画面の対角線の交点）と一致させて表示する。
【００７７】
次いで、第２の実施形態において行われる処理について説明する。図１４は第２の実施形態において行われる処理を示すフローチャートである。なお、本開示は投影画像を表示する点に特徴を有するため、ここでは投影画像を表示する処理についてのみ説明し、複数の投影画像を用いた再構成の処理についての説明は省略する。操作者による処理開始の指示を入力部４が受け付けるとトモシンセシス撮影が行われて、画像取得部３１が複数の投影画像Ｇｉを取得する（ステップＳＴ１１）。
【００７８】
次いで、構造位置特定部３３が、投影画像Ｇｉにおける対応点を特定し（ステップＳＴ１２）、対応点を逆投影して乳房Ｍ内における１つの構造位置Ｔ２を特定する（ステップＳＴ１３）。さらに、表示制御部３４が、構造位置Ｔ２の、複数の投影画像Ｇｉにおける投影位置を特定し（ステップＳＴ１４）、投影位置を表示部３の予め定められた位置に一致させて、複数の投影画像Ｇｉを表示部３に切り替え表示し（ステップＳＴ１５）、処理を終了する。
【００７９】
なお、上記第２の実施形態においては、乳房Ｍにおける複数の構造位置候補を検出し、複数の構造位置候補から１つの構造位置を特定してもよい。この場合、構造位置特定部３３は、複数の投影画像Ｇｉ間において同一の構造を表す複数の対応点を特定し、複数の投影画像Ｇｉ間において複数の対応点のそれぞれを再構成して、乳房Ｍにおける複数の対応点を含む位置を複数の構造位置候補として特定する。そして、構造位置特定部３３は、複数の構造位置候補のうち、最も信号値が高い構造位置候補または最も信号値が低い構造位置候補を、構造位置として特定する。
【００８０】
次いで、本開示の第３の実施形態について説明する。なお、第３の実施形態による画像表示装置の構成は、第１の実施形態による画像表示装置の構成と同一であり、構造位置特定部３３が行う処理のみが異なるため、ここでは構成についての詳細な説明は省略する。上記第１の実施形態においては、断層画像を用いて構造位置を特定しているが、第３の実施形態においては、断層画像において特定した構造位置を投影画像に投影し、さらに構造位置の投影位置を含む領域内において対応点を特定し、対応点を用いてさらに断層画像において構造位置を特定するようにした点が第１の実施形態と異なる。
【００８１】
第３の実施形態においては、構造位置特定部３３は、まず第１の実施形態と同様にして断層画像Ｄｊから構造位置Ｔ１を特定する。なお、第３の実施形態においては、構造位置Ｔ１は最終的な構造位置ではないため、特徴点Ｔ１１と称する。そして、構造位置特定部３３は、第１の実施形態における表示制御部３４と同様に、特徴点Ｔ１１を投影画像Ｇｉに投影する。第３の実施形態においては、構造位置特定部３３は、投影画像Ｇｉに投影された特徴点Ｔ１１の投影位置（以下、特徴投影位置とする）を含む領域を投影画像Ｇｉに設定する。図１５は特徴投影位置を含む領域の設定を説明するための図である。なお、図１５においては説明のために３つの投影画像Ｇ１〜Ｇ３における領域の設定について説明する。図１５に示すように、構造位置特定部３３は、投影画像Ｇ１〜Ｇ３において、特徴投影位置Ｐ２１〜Ｐ２３を中心とする予め定められた大きさの領域Ｒ１〜Ｒ３を設定する。
【００８２】
次いで、構造位置特定部３３は、複数の投影画像Ｇｉのそれぞれに設定した領域Ｒｉに含まれる共通の構造である対応点を特定する。具体的には、上記第２の実施形態における対応点の検出と同様に、Ｈａｒｒｉｓのコーナー検出法、ＳＩＦＴ、ＦＡＳＴあるいはＳＵＲＦ等のアルゴリズムを用いて、投影画像Ｇｉ内の領域Ｒｉに含まれる、エッジ、エッジの交点およびエッジの角部等の、領域Ｒｉ内の構造である対応点を少なくとも１つ特定する。なお、第１の実施形態における特徴点の特定と同様に、ＣＡＤにより投影画像Ｇｉを解析することにより対応点を特定してもよい。また、投影画像Ｇｉを表示部３に表示して、操作者による対応点の指定を受け付けることにより、対応点を特定してもよい。
【００８３】
ここで、対応点は１つの画素のみからなるものであってもよいが、複数の画素を含む領域を対応点としてもよい。対応点が複数の画素からなる場合、特定された構造位置も複数の画素からなるものとなる。このように、複数の投影画像Ｇｉのそれぞれに設定した領域Ｒｉにおいて対応点を特定することにより、投影画像Ｇｉの全体において対応点を特定する場合と比較して演算量を低減することができるため、対応点特定のための処理を高速に行うことができる。
【００８４】
次いで、構造位置特定部３３は、領域Ｒｉにおいて検出された対応点を逆投影して、乳房Ｍ内における対応点により表される構造の３次元空間における位置を構造位置として特定する。表示制御部３４は、構造位置特定部３３が特定した構造位置の投影画像上における投影位置を特定する。第３の実施形態における構造位置の特定および投影位置の特定は、領域Ｒｉ内の対応点を用いる点を除いて第２の実施形態と同一であるため、ここでは詳細な説明は省略する。
【００８５】
次いで、第３の実施形態において行われる処理について説明する。図１６は第３の実施形態において行われる処理を示すフローチャートである。なお、本開示は投影画像を表示する点に特徴を有するため、ここでは投影画像を表示する処理についてのみ説明し、複数の投影画像を用いた再構成の処理についての説明は省略する。操作者による処理開始の指示を入力部４が受け付けるとトモシンセシス撮影が行われて、画像取得部３１が複数の投影画像Ｇｉを取得する（ステップＳＴ２１）。次いで、再構成部３２が、複数の投影画像Ｇｉを再構成することにより、乳房Ｍの少なくとも１つの断層面における断層画像を生成する（ステップＳＴ２２）。
【００８６】
次いで、構造位置特定部３３が、断層画像を用いて、乳房Ｍ内における１つの特徴点Ｔ１１を特定し（ステップＳＴ２３）、特徴点Ｔ１１の、複数の投影画像Ｇｉにおける投影位置である特徴投影位置を特定する（ステップＳＴ２４）。そして、構造位置特定部３３は、投影画像Ｇｉにおいて特徴投影位置を含む領域Ｒｉを設定し（ステップＳＴ２５）、領域Ｒｉ間における対応点を特定する（ステップＳＴ２６）。
【００８７】
次いで、構造位置特定部３３は、対応点を逆投影して乳房Ｍ内における１つの構造位置を特定する（ステップＳＴ２７）。さらに、表示制御部３４が、構造位置の、複数の投影画像Ｇｉにおける投影位置を特定し（ステップＳＴ２８）、投影位置を表示部３の予め定められた位置に一致させて、複数の投影画像Ｇｉを表示部３に切り替え表示し（ステップＳＴ２９）、処理を終了する。
【００８８】
なお、上記第３の実施形態においては、構造位置特定部３３は、断層画像Ｄｊから、乳房Ｍにおける複数の構造位置候補を検出し、複数の構造位置候補から１つの構造位置を特定するものであってもよい。以下、第３の実施形態において複数の構造位置候補からの１つの構造位置の特定について説明する。
【００８９】
まず、構造位置特定部３３は、複数の断層画像Ｄｊに含まれる複数の特徴点を特定する。そして、複数の特徴点のそれぞれに関して、特徴点を投影画像Ｇｉに投影する。そして、構造位置特定部３３は、投影画像Ｇｉに投影された複数の特徴点の投影位置である特徴投影位置を含む領域を投影画像Ｇｉに設定する。次いで、構造位置特定部３３は、複数の投影画像Ｇｉのそれぞれに設定した複数の領域に含まれる共通の構造である対応点を特定する。次いで、構造位置特定部３３は、複数の領域のそれぞれにおいて検出された対応点を逆投影して、乳房Ｍ内における対応点により表される構造の３次元空間における位置を構造位置候補として算出する。そして、構造位置特定部３３は、複数の構造位置候補のうち、最も信号値が高い構造位置候補または最も信号値が低い構造位置候補を、構造位置として特定する。
【００９０】
次いで、本開示の第４の実施形態について説明する。上記第２の実施形態において、複数の構造位置候補を検出し、複数の構造位置候補から１つの構造位置を特定する際に、複数の投影画像Ｇｉ間において複数の対応点のそれぞれを再構成して、乳房Ｍにおける複数の対応点を含む位置を構造位置候補として特定している。第４の実施形態においては、複数の投影画像のそれぞれにおける対応点と、複数の投影画像のそれぞれを取得した際の線源位置とを結ぶ複数の直線を設定し、複数の直線の交点に基づいて構造位置を特定するようにしたものである。
【００９１】
図１７は第４の実施形態における構造位置の特定を説明するための図である。なお、図１７においては、左右方向をｘ方向、上下方向をｚ方向、紙面に垂直な方向をｙ方向とする座標系を設定している。また、図１７においては説明を簡単なものとするために、５つの線源位置Ｓ１〜Ｓ５に対応する５つの投影画像Ｇ１〜Ｇ５からの投影位置の検出について説明する。また、図１７においては、説明のため投影画像Ｇ１〜Ｇ５が異なる平面に存在するように示しているが、実際には同一平面に存在することとなる。また、図１７においては、投影画像Ｇ１〜Ｇ５のそれぞれにおいて、対応点Ｐ３１〜Ｐ３５が特定されているものとする。
【００９２】
第４の実施形態においては、構造位置特定部３３は、投影画像Ｇ１の対応点Ｐ３１と線源位置Ｓ１とを結ぶ直線Ｌ１、投影画像Ｇ２の対応点Ｐ３２と線源位置Ｓ２とを結ぶ直線Ｌ２、投影画像Ｇ３の対応点Ｐ３３と線源位置Ｓ３とを結ぶ直線Ｌ３、投影画像Ｇ４の対応点Ｐ３４と線源位置Ｓ４とを結ぶ直線Ｌ４、および投影画像Ｇ５の対応点Ｐ３５と線源位置Ｓ５とを結ぶ直線Ｌ５を設定する。そして、図１７に示すようにＸ線源１６の移動方向に直交する方向から見た場合における複数の直線Ｌ１〜Ｌ５についての交点の座標位置を算出する。算出した交点を第１の交点とする。なお、第１の交点の座標位置はｘ座標およびｚ座標の位置となる。ここで、線源位置Ｓ１〜Ｓ５、投影画像Ｇ１〜Ｇ５が生成される放射線検出器１５の検出面の位置、および対応点Ｐ３１〜Ｐ３５の位置は既知である。このため、構造位置特定部３３は、線源位置Ｓ１〜Ｓ５、投影画像Ｇ１〜Ｇ５が生成される放射線検出器１５の検出面の位置、および対応点Ｐ３１〜Ｐ３５の位置に基づいて、直線Ｌ１〜Ｌ５および第１の交点の座標位置を算出する。そして、構造位置特定部３３は、複数の第１の交点から基準点Ｂ０を算出する。
【００９３】
ここで、トモシンセシス撮影を行う場合、上述したように算出した線源位置と対応点とを結ぶ直線は互いに平行とはならない。このため、線源位置の数がＮの場合、第１の交点の数はＮ×（Ｎ−１）／２となる。第１の交点におけるｘ座標をｘｋ、ｚ座標をｚｋ（ｋは交点の数）とすると、構造位置特定部３３は、基準点Ｂ０のｘ座標ｘｃおよびｚ座標ｚｃを以下の式（１）により算出する。なお、基準点Ｂ０は、構造位置のｘ座標およびｚ座標を表すものとなる。
【００９４】
ｘｃ＝Σｘｋ／（Ｎ×（Ｎ−１）／２）
【００９５】
ｚｃ＝Σｚｋ／（Ｎ×（Ｎ−１）／２）      （１）
【００９６】
一方、Ｘ線源１６は、予め定められた経路と完全に一致して移動するものではなく、多少ブレながら３次元的に移動する。このため、第４の実施形態においては、構造位置特定部３３は、図１８に示すように、式（１）により算出した基準点Ｂ０を含み、放射線検出器１５の検出面に平行な面５０を設定する。面５０のｚ座標はｚｃである。そして、構造位置特定部３３は、Ｘ線源１６の移動方向に平行な方向から見た場合における複数の直線の面５０との交点の座標位置を、第２の交点の座標位置として算出する。面５０と直線Ｌ１〜Ｌ５との交点のｙ座標をｙｋとすると、構造位置特定部３３は、構造位置のｙ座標ｙｃを下記の式（２）により算出する。
【００９７】
ｙｃ＝Σｙｋ／Ｎ      （２）
【００９８】
第４の実施形態においては、構造位置特定部３３は以上のようにして構造位置Ｔ３を特定する。したがって、構造位置Ｔ３の座標位置は（ｘｃ，ｙｃ，ｚｃ）となる。このようにして構造位置Ｔ３を特定すると、構造位置特定部３３は、上記第２の実施形態と同様にして、構造位置Ｔ３の投影画像Ｇｉにおける投影位置を特定する。表示制御部３４は、投影画像Ｇｉを切り替え表示する際、投影画像Ｇ１〜Ｇ３における構造位置Ｔ３の投影位置を、表示部３の中心位置（すなわち、画面の対角線の交点）と一致させて表示する。
【００９９】
なお、第４実施形態においては、乳房Ｍにおける複数の構造位置候補を検出し、複数の構造位置候補から１つの構造位置を特定してもよい。この場合、構造位置特定部３３は、複数の投影画像Ｇｉ間において同一の構造を表す複数の対応点を特定し、複数の対応点のそれぞれに関して、上記と同様にして構造位置を構造位置候補として特定する。そして、構造位置特定部３３は、複数の構造位置候補のそれぞれについて、構造位置候補を算出した第１の交点および第２の交点についての構造位置候補からのばらつきを算出する。ばらつきとしては、構造位置候補から第１の交点および第２の交点までの距離の統計値を用いる。統計値としては、距離の平均値、中央値または最大値等を用いることができる。なお、トモシンセシス撮影中に体動が発生した場合、距離の統計値は大きい値となる。このため、構造位置特定部３３は、算出したばらつきが最も大きい構造位置候補を、構造位置として特定する。これにより、投影画像Ｇｉを表示部３に切り替え表示した際に、体動が発生しているか否かをより容易に確認することができる。
【０１００】
また、上記第３の実施形態において、投影画像Ｇｉにおける対応点を用いて断層画像において構造位置を特定する際に、第４の実施形態と同様にして構造位置を特定してもよい。また、第３の実施形態において断層画像に対して複数の構造位置を特定する場合においても、投影画像Ｇｉにおける対応点を用いて断層画像において構造位置を特定する際に、第４の実施形態において複数の対応点を特定する場合と同様にして構造位置候補を算出して、１つの構造位置を特定するようにしてもよい。
【０１０１】
また、上記各実施形態においては、複数の投影画像Ｇｉを表示部３に切り替え表示しているが、複数の投影画像Ｇｉにおける構造位置Ｔ１の投影位置を含む特定の大きさの領域のみを表示部３に切り替え表示してもよい。例えば、図１９に示すように、構造位置Ｔ１の投影位置Ｐ１〜Ｐ３を含む特定の大きさの領域Ａ１〜Ａ３のみを表示部３に切り替え表示してもよい。
【０１０２】
また、上記各実施形態においては、複数の投影画像Ｇｉを表示部３に切り替え表示しているが、複数の投影画像Ｇｉにおける構造位置Ｔ１の投影位置を強調して表示してもよい。具体的には、図２０に示すように、複数の投影画像Ｇｉにおける構造位置Ｔ１の投影位置を囲む枠Ｗ１〜Ｗ３を表示してもよく、図２１に示すように、複数の投影画像Ｇｉにおける構造位置Ｔ１の投影位置を示す矢印Ｙ１〜Ｙ３を付与してもよい。また、図２２に示すように、複数の投影画像Ｇｉのそれぞれにおける構造位置Ｔ１の投影値の座標Ｃ１〜Ｃ３を表示してもよい。さらに，図２３に示すように、構造位置Ｔ１を特定した断層画像Ｄ１０を表示してもよい。
また、上記各実施形態においては、トモシンセシス撮影時に、乳房Ｍの体動が発生しているか否かを検出し、体動が発生している場合にのみ、上記各実施形態による処理を行って投影画像を切り替え表示するようにしてもよい。この場合、体動が発生していることを、表示部３に表示したり、音声出力したりすることにより、報知するようにしてもよい。
なお、体動を検出するためには、放射線画像撮影装置１に体動を検出するためのセンサを設けるようにしてもよく、図２４に示すように、本実施形態による画像表示装置に体動検出部３５を設け、体動検出部３５において投影画像Ｇｉを用いて体動を検出するようにしてもよい。体動を検出するための手法としては、例えば、特開２０１２−０５５４７４号公報に記載されたように、投影画像Ｇｉ間における局所的領域の体動によって表れる画像の局所的な移動量、すなわち局所移動ベクトルを算出し、局所移動ベクトルに基づいて移動を検出する手法等、公知の任意の手法を用いることができる。
また、体動が発生していた場合に、投影画像Ｇｉに対して体動補正を行い、体動補正を行った後の投影画像Ｇｉを用いて、上記各実施形態による処理を行うようにしてもよい。この場合、図２５に示すように、本実施形態による画像表示装置に体動検出部３５に加えて体動補正部３６を設け、体動補正部３６において体動補正を行うようにすればよい。体動補正の手法としては、例えば特開２０１７−０６３９０７号公報に記載されたように、投影画像Ｇｉ間において、局所領域毎に基準となる投影画像に対する投影画像間の移動量および移動方向を表す局所移動ベクトルを算出し、局所領域毎に投影画像Ｇｉを平行移動、回転移動および拡大縮小する処理等、公知の任意の手法を用いることができる。
このように、体動補正を行い、体動補正を行った後の投影画像Ｇｉを用いて上記各実施形態による処理を行うことにより、体動補正が適切になされたか否かを容易に確認することができる。
【０１０３】
また、上記各実施形態においては、Ｘ線源１６を移動してトモシンセシス撮影を行っているが、放射線検出器１５を移動してトモシンセシス撮影を行うようにしてもよい。また、Ｘ線源１６および放射線検出器１５の双方を移動してトモシンセシス撮影を行うようにしてもよい。
【０１０４】
また、上記各実施形態においては、被写体を乳房Ｍとしているが、これに限定されるものではなく、人体の胸部、または腹部等、任意の部位を被写体としてもよいことはもちろんである。
【符号の説明】
【０１０５】
１    放射線画像撮影装置
２    コンピュータ
３    表示部
４    入力部
１０    撮影部
１５    放射線検出器
１６    Ｘ線源
１７    圧迫板
２１    ＣＰＵ
２２    メモリ
２３    ストレージ
３１    画像取得部
３２    再構成部
３３    構造位置特定部
３４    表示制御部
３５    体動検出部
３６    体動補正部
４０，１００    構造物
５０    平面
１０１    基準点
Ａ１〜Ａ３    領域
Ｂ０    基準点
Ｃ１〜Ｃ３    座標
Ｄ０，Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ１０    断層画像
Ｄｓ１〜Ｄｓ９    断層画像
Ｇｉ（ｉ＝１〜ｎ）    投影画像
Ｈ０    構造物
Ｌ１〜Ｌ５    直線
Ｍ    乳房
Ｐ１〜Ｐ３，Ｐ２２〜Ｐ２３    投影位置
Ｐ１１〜Ｐ１３，Ｐ３１〜Ｐ３５    対応点
Ｐ２１〜Ｐ２３    構造の投影位置
Ｒ１〜Ｒ３    関心領域
Ｓｉ（ｉ＝１〜ｎ）    線源位置
Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３    構造位置
Ｔ１１    特徴点
Ｗ１〜Ｗ３    枠
Ｙ１〜Ｙ３    矢印
【図１】
2020005706.tif 000003
【図２】
2020005706.tif 000004
【図３】
2020005706.tif 000005
【図４】
2020005706.tif 000006
【図５】
2020005706.tif 000007
【図６】
2020005706.tif 000008
【図７】
2020005706.tif 000009
【図８】
2020005706.tif 000010
【図９】
2020005706.tif 000011
【図１０】
2020005706.tif 000012
【図１１】
2020005706.tif 000013
【図１２】
2020005706.tif 000014
【図１３】
2020005706.tif 000015
【図１４】
2020005706.tif 000016
【図１５】
2020005706.tif 000017
【図１６】
2020005706.tif 000018
【図１７】
2020005706.tif 000019
【図１８】
2020005706.tif 000020
【図１９】
2020005706.tif 000021
【図２０】
2020005706.tif 000022
【図２１】
2020005706.tif 000023
【図２２】
2020005706.tif 000024
【図２３】
2020005706.tif 000025
【図２４】
2020005706.tif 000026
【図２５】
2020005706.tif 000027
【図２６】
2020005706.tif 000028