(57)【要約】【課題】タイヤの転がり抵抗を低減しつつタイヤの生産性の低下を抑制しうる、タイヤの製造方法の提供。【解決手段】タイヤの製造方法は、（Ａ）トレッド部４ｔと一対のサイドウォール部４ｓとを備えるローカバー４を準備する工程、（Ｂ）それぞれのサイドウォール部４ｓを第一加硫温度Ｈ１で加熱する工程及び（Ｃ）工程（Ｂ）の後にサイドウォール部４ｓを、トレッド部４ｔを加硫するトレッド加硫温度Ｈｔより低く、かつ前記第一加硫温度Ｈ１より低い、第二加硫温度Ｈ２で加熱する工程を含む。【選択図】図１
2020138503.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）トレッド部と一対のサイドウォール部とを備えるローカバーを準備する工程、
（Ｂ）それぞれのサイドウォール部を第一加硫温度で加熱する工程
及び
（Ｃ）前記工程（Ｂ）の後に前記サイドウォール部を、前記トレッド部を加硫するトレッド加硫温度より低く、かつ前記第一加硫温度より低い、第二加硫温度で加熱する工程
を含む、タイヤの製造方法。
【請求項２】
前記工程（Ｂ）において、前記第一加硫温度で前記サイドウォール部を加熱する加熱時間がキュラストテストにおける加硫時間Ｔ９０以下である、請求項１に記載のタイヤの製造方法。
【請求項３】
前記工程（Ｂ）において、前記第一加硫温度で前記サイドウォール部を加熱する加熱時間がキュラストテストにおける加硫時間Ｔ１０以上である、請求項１又は２に記載のタイヤの製造方法。
【請求項４】
前記第一加硫温度が前記トレッド加硫温度より高い請求項１から３のいずれかに記載のタイヤの製造方法。
【請求項５】
（Ｄ）前記工程（Ｃ）の後に、前記サイドウォール部を前記トレッド加硫温度と別に設定されており前記第二加硫温度より高い第三加硫温度で加熱する工程
を更に含む、請求項１から４のいずれかに記載のタイヤの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タイヤの製造方法に関する。詳細には、本発明は、ローカバー（生タイヤ）を加硫してローカバーからタイヤを得る方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
このローカバーの加硫方法では、ローカバーが加硫装置のモールドに投入される。このモールド内で、ローカバーが加熱及び加圧され、ローカバーが加硫される。この加硫によって、ローカバーからタイヤが得られる。特許文献１（特開２０１１−２０２７３号公報）には、モールドが開かれるときの温度の低下を抑制して、生産性の低下を抑制するローカバーの加硫方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−２０２７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このローカバーの加硫方法において、発明者らは、加硫温度を低く設定することで得られるタイヤの転がり抵抗を低減しうることを、見いだした。しかしながら、この加硫温度を低く設定することは、加硫時間を増大させる。加硫時間の増大は、タイヤの生産性を低下させる。タイヤの転がり抵抗を低減しつつ、タイヤの生産性の低下を抑制することは、容易でない。
【０００５】
本発明の目的は、転がり抵抗を低減しつつ生産性の低下を抑制しうるタイヤの製造方法の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係るタイヤの製造方法は、
（Ａ）トレッド部と一対のサイドウォール部とを備えるローカバーを準備する工程、
（Ｂ）それぞれのサイドウォール部を第一加硫温度で加熱する工程
及び
（Ｃ）前記工程（Ｂ）の後に前記サイドウォール部を、前記トレッド部を加硫するトレッド加硫温度より低く、かつ前記第一加硫温度より低い、第二加硫温度で加熱する工程
を含む。
【０００７】
好ましくは、前記工程（Ｂ）において、前記第一加硫温度で前記サイドウォール部を加熱する加熱時間は、キュラストテストにおける加硫時間Ｔ９０以下である。
【０００８】
好ましくは、前記工程（Ｂ）において、前記第一加硫温度で前記サイドウォール部を加熱する加熱時間は、キュラストテストにおける加硫時間Ｔ１０以上である。
【０００９】
好ましくは、前記第一加硫温度は、前記トレッド加硫温度より高い。
【００１０】
好ましくは、このタイヤの製造方法は、
（Ｄ）前記工程（Ｃ）の後に、前記サイドウォール部を前記トレッド加硫温度と別に設定されており前記第二加硫温度より高い第三加硫温度で加熱する工程
を更に含む。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係るタイヤの製造方法は、工程（Ｂ）においてローカバーのサイドウォール部を低い第二加硫温度で加硫する。この工程（Ｂ）を含むことで、タイヤの転がり抵抗を低減しうる。この加硫方法は、工程（Ａ）において高い第一加硫温度で加硫する。この工程（Ａ）を含むことで、工程（Ｂ）によって加硫時間が長くなることが抑制されている。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係るタイヤ加硫装置の一部が示された断面図である。
【図２】図２は、キュラストテストにおける加硫時間とトルクとの関係が示されたグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、適宜図面が参照されつつ、好ましい実施形態に基づいて本発明が詳細に説明される。
【００１４】
図１には、タイヤ加硫装置２と共に、ローカバー４（生タイヤ）が示されている。この加硫装置２は、モールド６、ブラダー８、上プレート１０、下プレート１２、多数のセクター１４、アクチュエータ１６、上プラテン盤１８及び下プラテン盤２０を備えている。図示されないが、この加硫装置２は、更に、昇降台、プレス台及び制御装置を備えている。
【００１５】
図１の加硫装置２は、軸方向を上下方向にして配置されている。この加硫装置２では、図１の左右方向右向きが半径方向内向きであり、紙面に垂直な方向が周方向である。
【００１６】
この加硫装置２の加硫によって、ローカバー４からタイヤが得られる。図１では、ローカバー４は、加硫装置２の上下方向を軸方向にして配置されている。ローカバー４は、トレッド部４ｔと、このトレッド部４ｔの軸方向端部から半径方向内向きに延びる一対のサイドウォール部４ｓを備えている。このトレッド部４ｔからタイヤのトレッドが形成される。このトレッドは、タイヤが転がるときに路面に接地するトレッド面を含む。それぞれのサイドウォール部４ｓからタイヤのサイドウォールが形成される。このサイドウォールは、タイヤが転がるときに路面から受ける衝撃を吸収する。
【００１７】
モールド６は、多数のセグメント２４、上サイドプレート２６、下サイドプレート２８、上ビードリング３０及び下ビードリング３２を備えている。このモールド６は、開姿勢と閉姿勢とに姿勢変化可能である。開姿勢のモールド６にローカバー４を投入され、開姿勢のモールド６からタイヤが取り出される。閉姿勢のモールド６でローカバー４を加硫される。図１では、閉姿勢のモールド６が表されている。
【００１８】
図１では、多数のセグメント２４が、周方向に並べられて、リング形状にされている。通常、３枚以上２０枚以下のセグメント２４によってリング形状が形成される。セグメント２４は、主にタイヤのトレッド面を成形する。セグメント２４は、半径方向内向きの内周面２４ａと、半径方向外向きの外周面２４ｂとを備えている。この外周面２４ｂがセクター１４に当接して、セグメント２４がセクター１４に取り付けられている。
【００１９】
上サイドプレート２６は、セグメント２４の半径方向内側に位置している。上サイドプレート２６は、セグメント２４の上端部（軸方向一方の端部）に当接している。下サイドプレート２８は、セグメント２４の半径方向内側に位置している。下サイドプレート２８は、セグメント２４の下端部（軸方向他方の端部）に当接している。上サイドプレート２６及び下サイドプレート２８の形状は、それぞれリング形状である。上サイドプレート２６及び下サイドプレート２８は、主にタイヤの軸方向外面を成形する。
【００２０】
上ビードリング３０は、上サイドプレート２６の半径方向内側に位置している。上ビードリング３０は、上サイドプレート２６の半径方向内側部に当接している。下ビードリング３２は、下サイドプレート２８の半径方向内側に位置している。下ビードリング３２は、下サイドプレート２８の半径方向内側部に当接している。上ビードリング３０及び下ビードリング３２の形状は、それぞれリング形状である。上ビードリング３０及び下ビードリング３２は、主にタイヤのビード周りの外面を成形する。
【００２１】
図示されないが、モールド６の開姿勢では、図１の閉姿勢に対して、それぞれのセグメント２４は上方且つ半径方向外側に位置する。セグメント２４は、周方向に互いに間隔を開けて配置される。上サイドプレート２６は、図１の閉姿勢に対して、下サイドプレート２８から上方に離れて位置する。
【００２２】
ブラダー８は、モールド６の内側に配置されている。ブラダー８は、その内部に、加熱媒体としての蒸気が充填され排出される。ブラダー８は、この蒸気の充填及び排出によって、膨張及び収縮可能である。図１には、膨張したブラダー８が示されている。このブラダー８は、セグメント２４、上サイドプレート２６、下サイドプレート２８、上ビードリング３０及び下ビードリング３２に沿って延在している。このブラダー８は、上ビードリング３０及び下ビードリング３２に当接して、モールド６とブラダー８とがキャビティ３４を形成している。
【００２３】
上プレート１０は、上サイドプレート２６の上に位置している。上プレート１０に、上サイドプレート２６が固定されている。上プレート１０は、図示されない上プレート駆動部によって、上下方向に移動可能にされている。下プレート１２は、下サイドプレート２８の下に位置している。下プレート１２に、下サイドプレート２８が固定されている。上プレート１０は上下方向に移動可能である。上プレート１０の上下方向の移動によって、上サイドプレート２６と下サイドプレート２８との間の距離は変更可能である。
【００２４】
それぞれのセクター１４は、内周面１４ａ、外周面１４ｂ、下面１４ｃ及び上面１４ｄを備えている。セクター１４の内周面１４ａにセグメント２４が取り付けられている。セグメント２４は、セクター１４に固定されている。外周面１４ｂは、上方から下方に向かって半径方向内から外向きに傾斜している。外周面１４ｂはアクチュエータ１６に当接している。セクター１４は、アクチュエータ１６に取り付けられている。図示されないが、セクター１４には、外周面１４ｂから凹んだ係合溝が形成されている。この係合溝は、上方から下方に向かって半径方向内から外向きに延びている。
【００２５】
アクチュエータ１６は、アクチュエータ本体３６と、加熱部としてのスチームジャケット３８を備えている。アクチュエータ本体３６に、スチームジャケット３８が内蔵されている。スチームジャケット３８は、加熱媒体としての蒸気が通される流路を備えている。この流路に蒸気が通されることで、スチームジャケット３８は、モールド６を加熱する機能を備えている。スチームジャケット３８は、主にセグメント２４を加熱する機能を備えている。
【００２６】
アクチュエータ本体３６の形状は、リング形状である。アクチュエータ本体３６の内周には、テーパ面３６ａが形成されている。テーパ面３６ａは、上方から下方に向かって半径方向内から外向きに傾斜している。図示されないが、アクチュエータ本体３６に、テーパ面３６ａから半径方向内向きに突出する係合部が形成されている。この係合部とセクター１４の係合溝との係合によって、セクター１４はアクチュエータ１６に取り付けられている。この係合部と係合溝との係合によって、セクター１４の外周面１４ｂは、アクチュエータ１６のテーパ面３６ａに摺動可能である。
【００２７】
上プラテン盤１８は、アクチュエータ１６の上に位置している。上プラテン盤１８に、アクチュエータ１６が取り付けられている。上プラテン盤１８は、図示されない昇降台に取り付けられている。この昇降台によって、上プラテン盤１８は、上下方向に移動可能である。
【００２８】
上プラテン盤１８は、上プラテン盤本体４０と、加熱部としてのスチームジャケット４２とを備えている。上プラテン盤本体４０に、スチームジャケット４２が内蔵されている。スチームジャケット４２は、加熱媒体としての蒸気が通される流路を備えている。この流路に蒸気が通されることで、スチームジャケット４２は、モールド６を加熱する機能を備えている。スチームジャケット４２は、主に上サイドプレート２６を加熱する機能を備えている。
【００２９】
下プラテン盤２０は、下プレート１２の下に位置している。下プラテン盤２０に、下プレート１２が取り付けられている。この下プラテン盤２０は、図示されないプレス台に固定されている。
【００３０】
下プラテン盤２０は、下プラテン盤本体４４と、加熱部としてのスチームジャケット４６とを備えている。下プラテン盤本体４４に、スチームジャケット４６が内蔵されている。スチームジャケット４６は、加熱媒体としての蒸気が通される流路を備えている。この流路に蒸気が通されることで、スチームジャケット４６は、モールド６を加熱する機能を備えている。スチームジャケット４６は、主に下サイドプレート２８を加熱する機能を備えている。
【００３１】
このスチームジャケット３８、スチームジャケット４２及びスチームジャケット４６には、それぞれ個別に、蒸気を供給する配管がされている。これにより、セグメント２４、上サイドプレート２６及び下サイドプレート２８は、それぞれ個別の温度で加熱されうる。この加硫装置２では、セグメント２４と、上サイドプレート２６及び下サイドプレート２８とが別々の温度で加熱可能であればよく、スチームジャケット４２及びスチームジャケット４６は、同じ配管で蒸気が供給され排出されてもよい。
【００３２】
制御装置は、昇降台と上プレート駆動部とを制御する機能を備えている。制御装置は、スチームジャケット３８、スチームジャケット４２及びスチームジャケット４６に充填する蒸気の量及び加熱時間を制御する機能を備えている。
【００３３】
図２のグラフは、キュラストテストにおける加硫時間Ｔｍ（ｍｉｎ）とトルクＴｒ（Ｎ．ｍ）との関係を表している。このグラフは、サイドウォール部４ｓのゴム試験片を、後述する第一加硫温度Ｈ１で加硫して得られている。この加硫時間Ｔｍ（ｍｉｎ）とトルクＴｒ（Ｎ．ｍ）との関係は、ＪＩＳ Ｋ ６３００−１「未加硫ゴム−物理特性−第１部：ムーニー粘度計による粘度及びスコーチタイムの求め方」に準じて、キュラストメータで測定されて得られる。このテストの条件は、振幅角３°、１００サイクル／ｍｉｎである。
【００３４】
図２のＭＬはトルクＴｒの最小値を表し、ＭＨはトルクＴｒの最大値を表している。この最大値ＭＨと最小値ＭＬとの差は、（ＭＨ−ＭＬ）で表される。ここでは、ゴム試験片のトルクＴｒが、最小値ＭＬから最大値ＭＨに増大する過程において、最小値ＭＬに差（ＭＨ−ＭＬ）の（ｎ／１００）倍を加えた値に到達する時間が、加硫時間Ｔｎと表される。例えば、図２の加硫時間Ｔ１０は、ゴム試験片のトルクＴｒが最小値ＭＬに差（ＭＨ−ＭＬ）の０．１０倍を加えた値に到達する時間を、表している。加硫時間Ｔ９０は、このトルクＴｒが最小値ＭＬに差（ＭＨ−ＭＬ）の０．９０倍を加えた値に到達する時間を表している。加硫時間Ｔ９５は、このトルクＴｒが最小値ＭＬに差（ＭＨ−ＭＬ）の０．９５倍を加えた値に到達する時間を表している。
【００３５】
このタイヤの製造方法では、サイドウォール部４ｓを第一加硫温度Ｈ１で加熱し、その後に第一加硫温度Ｈ１より低い第二加硫温度Ｈ２で加熱する。この製造方法では、この第一加硫温度Ｈ１での加熱時間Ｔ１が予め設定されている。この加熱時間Ｔ１が、制御装置に入力されている。
【００３６】
この加熱時間Ｔ１は、サイドウォール部４ｓのゴム試験片をキュラストテストすることで、予め求められている。具体的には、図２に示される様に、このゴム試験片をキャラストテストすることで、第一加硫温度Ｈ１での加硫時間Ｔｍ（ｍｉｎ）とトルクＴｒ（Ｎ．ｍ）との関係が求められている。このゴム試験片のトルクＴｒが所定の値（ＭＬ＋ｎ・（ＭＨ−ＭＬ））に到達する加硫時間Ｔｎが、第一加硫温度Ｈ１での加熱時間Ｔ１とされる。例えば、ゴム試験片のトルクＴｒが最小値ＭＬに差（ＭＨ−ＭＬ）の０．１０倍を加えた値に到達する加硫時間Ｔ１０が、第一加硫温度Ｈ１での加熱時間Ｔ１とされる。
【００３７】
この加硫装置２を用いて、このタイヤの製造方法が説明される。この製造方法の加硫工程では、ローカバー４が準備される（ＳＴＥＰ１）。モールド６にローカバー４が投入される（ＳＴＥＰ２）。ＳＴＥＰ２では、開姿勢にあるモールド６にローカバー４が配置され、その後にモールド６が閉姿勢にされる。
【００３８】
このローカバー４がモールド６内で加硫される（ＳＴＥＰ３）。このＳＴＥＰ３では、セグメント２４がローカバー４のトレッド部４ｔをトレッド加硫温度Ｈｔ及び加熱時間Ｔｔで加熱する。
【００３９】
上サイドプレート２６及び下サイドプレート２８がローカバー４のサイドウォール部４ｓを加熱する。この上サイドプレート２６及び下サイドプレート２８は、サイドウォール部４ｓを、第一加硫温度Ｈ１及び加熱時間Ｔ１で加熱する（ＳＴＥＰ３−１）。このＳＴＥＰ３−１の後に第一加硫温度Ｈ１より低い第二加硫温度Ｈ２及び加熱時間Ｔ２で加熱する（ＳＴＥＰ３−２）。この第一加硫温度Ｈ１及び第二加硫温度Ｈ２とは、トレッド加硫温度Ｈｔと別に設定される。
【００４０】
得られたタイヤがモールド６から取り出される（ＳＴＥＰ４）。このＳＴＥＰ４では、閉姿勢にあるモールド６が開姿勢にされ、モールド６からタイヤが取り出される。
【００４１】
この製造方法では、ＳＴＥＰ３において、トレッド部４ｔをトレッド加硫温度Ｈｔで加熱しつつサイドウォール部４ｓを第一加硫温度Ｈ１で加熱する（ＳＴＥＰ３−１）。その後に、トレッド部４ｔをトレッド加硫温度Ｈｔで加熱しつつサイドウォール部４ｓを第二加硫温度Ｈ２で加熱する（ＳＴＥＰ３−２）。
【００４２】
この第二加硫温度Ｈ２は、トレッド加硫温度Ｈｔより低く、且つ第一加硫温度Ｈ１より低い。この第二加硫温度Ｈ２で加熱することで、サイドウォール部４ｓが急速に加硫されることが抑制される。低い第二加硫温度Ｈ２で加熱することで、ローカバー４から得られるタイヤの転がり抵抗ＲＲＣが低減されうる。
【００４３】
また、架橋反応が十分に進んでいない加硫初期の状態では、高い第一加硫温度Ｈ１で加熱しても、架橋ゴムの物性への影響が小さい。このため、この製造方法では、第一加硫温度Ｈ１で加熱しても、転がり抵抗ＲＲＣの増大が抑制されうる。
【００４４】
更に、第二加硫温度Ｈ２で加熱することで、サイドウォール部４ｓに過加硫が発生することが抑制される。この過加硫の発生は、タイヤの転がり抵抗ＲＲＣを増大させる。過加硫の発生は、タイヤの性能を低下させる。この過加硫の発生を抑制する観点から、第一加硫温度Ｈ１の加熱時間Ｔ１は、好ましくは、加硫時間Ｔ９０以下である。
【００４５】
この製造方法では、第二加硫温度Ｈ２での加熱に先立って、第二加硫温度Ｈ２より高い第一加硫温度Ｈ１での加熱がされる。この第一加硫温度Ｈ１で加熱した後に第二加硫温度Ｈ２で加熱することによって、サイドウォール部４ｓの合計の加熱時間Ｔｓが長くなることが抑制されている。
【００４６】
第一加硫温度Ｈ１の加熱時間Ｔ１を長くすることで、サイドウォール部４ｓの加熱時間Ｔｓを短縮しうる。図２に示されるように、加熱開始から加硫時間Ｔ１０までに要する時間は、比較的に長い。サイドウォール部４ｓの加熱時間Ｔｓを短縮する観点から、第一加硫温度Ｈ１の加熱時間Ｔ１は、好ましくは、加硫時間Ｔ１０以上である。
【００４７】
この製造方法では、更に、トレッド加硫温度Ｈｔと別に、トレッド加硫温度Ｈｔから独立に、第一加硫温度Ｈ１が設定されている。この製造方法では、トレッド部４ｔを従来と同様のトレッド加硫温度Ｈｔで加熱しつつ、サイドウォール部４ｓが第一加硫温度Ｈ１で加熱されうる。トレッド部４ｔの加熱時間Ｔｔの増減を抑制しつつ、サイドウォール部４ｓの第一加硫温度Ｈ１及び第二加硫温度Ｈ２が設定されうる。
【００４８】
ローカバー４のトレッド部４ｔは、サイドウォール部４ｓより厚い。トレッド部４ｔの加硫に必要な熱量は、サイドウォール部４ｓのそれより大きい。トレッド部４ｔとサイドウォール部４ｓを同じ温度で加熱した場合、サイドウォール部４ｓはトレッド部４ｔより短時間で加硫されうる。この加硫方法では、サイドウォール部４ｓを低い第二加硫温度Ｈ２で加熱しても、トレッド部４ｔは従来のトレッド加硫温度Ｈｔ及び加熱時間Ｔｔで加硫されうる。この加硫方法では、ローカバー４の加硫時間の増大を抑制しつつ、サイドウォール部４ｓの第二加硫温度Ｈ２が低く設定されうる。
【００４９】
この製造方法では、第二加硫温度Ｈ２がトレッド加硫温度Ｈｔより低く設定されて、ローカバー４の加硫時間の増大が抑制される。また、サイドウォール部４ｓは、第一加硫温度Ｈ１を高く設定することで、サイドウォール部４ｓの加熱時間Ｔｓが短縮されうる。第一加硫温度Ｈ１がトレッド加硫温度Ｈｔより高く設定されることで、第二加硫温度Ｈ２を低く設定しつつ、ローカバー４の加硫時間の増大が抑制される。
【００５０】
この製造方法では、ＳＴＥＰ３−２の後に、更に、トレッド部４ｔがトレッド加硫温度Ｈｔで加熱されつつ、サイドウォール部４ｓが第三加硫温度Ｈ３で加熱されてもよい（ＳＴＥＰ３−３）。
【００５１】
図２に示されるように、加硫時間Ｔ１０から加硫時間Ｔ９０で、加硫時間Ｔｍに対するトルクＴｒが増大する傾きは、大きい。一方で、加硫時間Ｔ９０から加硫時間１００で、この傾きは小さい。従って、加硫時間Ｔ９０から加硫時間１００までの時間は、比較的に長い。この加硫方法において、加硫時間を短縮する観点から、このＳＴＥＰ３−３において、第三加硫温度Ｈ３は、第二加硫温度Ｈ２より高く設定されてもよい。
【００５２】
加硫時間を短縮する観点から、このＳＴＥＰ３−３は、好ましくはキュラストテストにおける加硫時間Ｔ９０以上で実行され、更に好ましくは加硫時間Ｔ９５以上で実行され、特に好ましくは加硫時間Ｔ１００以上で実行される。ここでの加硫時間Ｔ９０、Ｔ９５及びＴ１００は、キュラストテストにおいて、ゴム試験片をＳＴＥＰ３−１の加熱時間Ｔ１及び第一加硫温度Ｈ１で加熱し、その後にＳＴＥＰ３−２の第二加硫温度Ｈ２で加熱して、得られる。例えば、ゴム試験片を第一加硫温度Ｈ１及び加熱時間Ｔ１で加熱する。これに続けて、ゴム試験片を第二加硫温度Ｈ２で加熱してトルクＴｒが、ＭＬに差（ＭＨ−ＭＬ）の０．９０倍を加えた値に到達した、第二加硫温度Ｈ２での加熱時間をＴ２とする。このとき、ここでの加硫時間Ｔ９０は、加熱時間Ｔ１と加熱時間Ｔ２と合わせた加熱時間で表される。
【００５３】
この加硫装置２では、アクチュエータ１６がスチームジャケット３８を備えていたが、スチームジャケット３８はセグメント２４を加熱できればよく、セクター１４がスチームジャケット３８を備えていてもよい。また、スチームジャケット３８に限らず、他の流体ジャケットが用いられてもよいし、更には、他の加熱装置が用いられてもよい。同様に、上プラテン盤１８及び下プラテン盤２０に代えて、上プレート１０及び下プレート１２等他の部分がスチームジャケット４２及び４４を備えていてもよい。また、スチームジャケット４２及び４４に限らず、他の流体ジャケットが用いられてもよいし、他の加熱装置が用いられてもよい。
【実施例】
【００５４】
以下、実施例によって本発明の効果が明らかにされるが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるべきではない。
【００５５】
［実施例１］
図１に示された加硫装置が準備された。第一加硫温度Ｈ１を１８０℃とし、第二加硫温度Ｈ２を１４０℃とし、加熱時間Ｔ１を加硫時間Ｔ１０とし、トレッド加硫温度Ｈｔを１５０℃として、タイヤが得られた。
【００５６】
［実施例２−６］
実施例２では、加熱時間Ｔ１を加硫時間Ｔ２０とした他は、実施例１と同様にして、タイヤが得られた。実施例３では加熱時間Ｔ１を加硫時間Ｔ５０とし、実施例４では加熱時間Ｔ１を加硫時間Ｔ８０とし、実施例５では加熱時間Ｔ１を加硫時間Ｔ９０とし、実施例５では加熱時間Ｔ１を加硫時間Ｔ１００とした他は、実施例１と同様にして、タイヤが得られた。
【００５７】
［比較例１−３］
第一加硫温度Ｈ１、第二加硫温度Ｈ２及びトレッド加硫温度Ｈｔに対応する加硫温度が表１に示される様にされた他は、実施例１と同様にして、タイヤが得られた。
【００５８】
［転がり抵抗の評価］
それぞれのタイヤの転がり抵抗ＲＲＣが評価された。その結果が、表１に示されている。この転がり抵抗ＲＲＣは、比較例１を１００とする指数で表されている。この指数は小さいほど、転がり抵抗ＲＲＣが小さく、好ましい。
【００５９】
【表１】
2020138503.tif 000003
【００６０】
表１に示される様に、加硫初期における第一加硫温度Ｈ１を高く設定しても、比較的に良好な転がり抵抗ＲＲＣのタイヤが得られる。これは、加硫初期において架橋反応が十分に進んでいない状態では、第一加硫温度Ｈ１での加熱による、架橋ゴムの物性への影響が小さいためと考えられる。
【００６１】
更に、実施例１から６に示されるように、第一加硫温度Ｈ１での加熱時間Ｔ１を短くすることで、タイヤの転がり抵抗ＲＲＣを低減しうる。この転がり抵抗ＲＲＣを低減する観点から、加熱時間Ｔ１は、好ましくは加硫時間Ｔ９０以下であり、更に好ましくは加硫時間Ｔ８０以下であり、特に好ましくは加硫時間Ｔ１０以下である。
【００６２】
［実施例７］
第一加硫温度Ｈ１、第二加硫温度Ｈ２、第三加硫温度Ｈ３及びトレッド加硫温度Ｈｔが表２に示される様にされた。加熱時間Ｔ１を加硫時間Ｔ２０とし、加熱時間（Ｔ１＋Ｔ２）を加硫時間Ｔ１００とし、この加硫時間Ｔ１００以降が加熱時間Ｔ３とされた。その他は、実施例１と同様にして、タイヤが得られた。
【００６３】
［比較例４］
第一加硫温度Ｈ１、第二加硫温度Ｈ２、第三加硫温度Ｈ３及びトレッド加硫温度Ｈｔに対応する加硫温度が表２に示される様にされた他は、実施例１と同様にして、タイヤが得られた。
【００６４】
［転がり抵抗及び加硫時間の評価］
それぞれのタイヤの転がり抵抗ＲＲＣと加硫時間が評価された。その結果が、表２に示されている。この転がり抵抗ＲＲＣは、実施例１を６７とする指数で表されている。この指数は、小さいほど、転がり抵抗ＲＲＣが小さく、好ましい。また、加硫時間は、比較例４を１００とする指数で表されている。この指数は小さいほど、加硫時間が短く、好ましい。
【００６５】
【表２】
2020138503.tif 000004
【００６６】
実施例１は、比較例４より短い加硫時間で比較例４と同等の転がり抵抗ＲＲＣを達成している。実施例７では、比較例４より短い加硫時間でタイヤが得られており、このタイヤの転がり抵抗ＲＲＣは、表１の比較例１のタイヤのそれより優れている。
【００６７】
表１及び表２に示されるように、実施例では、比較例に比べて評価が高い。この評価結果から、本発明の優位性は明らかである。
【符号の説明】
【００６８】
２・・・加硫装置
４・・・ローカバー
６・・・モールド
１０・・・上プレート
１２・・・下プレート
１４・・・セクター
１６・・・アクチュエータ
１８・・・上プラテン盤
２０・・・下プラテン盤
２４・・・セグメント
２６・・・上サイドプレート
２８・・・下サイドプレート
３６・・・アクチュエータ本体
３８・・・スチームジャケット
４０・・・上プラテン盤本体
４２・・・スチームジャケット
４４・・・下プラテン盤本体
４６・・・スチームジャケット
【図１】
2020138503.tif 000005
【図２】
2020138503.tif 000006