(57)【要約】【課題】基板処理装置の装置規模を小さくすることができる技術を提供する。【解決手段】本開示の基板処理装置は、真空排気可能な処理容器と、下部電極と、上部電極と、電源ユニットとを有する。下部電極には被処理基板を載置可能である。上部電極は、処理容器内で下部電極に対向して配置される。電源ユニットは、直流パルス電圧を上部電極に印加する。一方で、本開示の基板処理装置は、交流電圧を上部電極に印加する電源ユニット、交流電圧を下部電極に印加する電源ユニット、及び、直流電圧を下部電極に印加する電源ユニットを有しない。【選択図】図１
2020095793.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空排気可能な処理容器と、
前記処理容器内で被処理基板を載置可能な下部電極と、
前記処理容器内で前記下部電極に対向して配置される上部電極と、
直流パルス電圧を前記上部電極に印加する電源ユニットと、を具備し、
交流電圧を前記上部電極に印加する電源ユニット、前記交流電圧を前記下部電極に印加する電源ユニット、及び、直流電圧を前記下部電極に印加する電源ユニットを具備しない、
基板処理装置。
【請求項２】
前記電源ユニットは、負の直流電圧を出力する第一電源と、正の直流電圧を出力する第二電源と、前記負の直流電圧と前記正の直流電圧とを用いて前記直流パルス電圧を発生するパルス発生器と、を具備する、
請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記電源ユニットは、負の直流電圧を出力する電源と、前記負の直流電圧を用いて前記直流パルス電圧を発生するパルス発生器と、を具備する、
請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記直流パルス電圧における正電圧の最大値を制限する電圧制限器、をさらに具備する、
請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記直流パルス電圧における正電圧の大きさを制御する電圧制御器、をさらに具備する、
請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記電圧制御器は、前記電源ユニットと前記上部電極との間に直列に接続されたコイルにより形成される、
請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記電圧制御器は、前記上部電極と接地との間に並列に接続されたコンデンサにより形成される、
請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記電圧制御器は、前記電源ユニットと前記上部電極との間に直列に接続された抵抗により形成される、
請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記直流パルス電圧の波形を成形する波形成型器、をさらに具備する、
請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記下部電極が接地されずにフローティングされている、
請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
真空排気可能な処理容器と、
前記処理容器内で被処理基板を載置可能な下部電極と、
前記処理容器内で前記下部電極に対向して配置される上部電極と、
直流パルス電圧を前記上部電極に印加する電源ユニットと、を具備する一方で、
交流電圧を前記上部電極に印加する電源ユニット、前記交流電圧を前記下部電極に印加する電源ユニット、及び、直流電圧を前記下部電極に印加する電源ユニットを具備しない基板処理装置における基板処理方法であって、
前記処理容器内に処理ガスを供給することと、
前記基板処理装置が具備する前記電源ユニットにより、前記上部電極に前記直流パルス電圧を印加することと、
を有する基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、基板処理装置及び基板処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路の製造では、基板処理装置によって、半導体ウエハ等の基板に対する処理（以下では「基板処理」と呼ぶことがある）が行われる。基板処理装置では、基板処理として、例えば、所定の真空度にされたチャンバ（処理容器）内に基板が配置され、チャンバ内に成膜原料ガスが供給されてプラズマが生成されることにより、基板に対して成膜が行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−２３９０１２号公報
【特許文献２】特開２０１０−００１５５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のようなプラズマを用いた成膜では、ラジカル密度及びイオンエネルギが膜質に影響を与える。これに対し、従来の基板処理装置では、チャンバの上部電極に比較的高周波の交流電源が接続されてプラズマの生成が行われる一方で、基板が存在する下部電極に比較的低周波の交流電源または直流電源が接続されてイオンの引き込み（つまり、上部電極から下部電極へのイオンの加速）が行われている。このため、従来の基板処理装置には、ラジカル密度及びイオンエネルギの各々を制御するために、比較的高周波の交流電源を有する電源ユニット、及び、比較的低周波の交流電源または直流電源を有する電源ユニットの２つの電源ユニットが備えられている。このように、従来の基板処理装置には少なくとも２つの電源ユニットが備えられているため、基板処理装置の装置規模が大きくなっていた。
【０００５】
本開示は、基板処理装置の装置規模を小さくすることができる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の一態様の基板処理装置は、真空排気可能な処理容器と、下部電極と、上部電極と、電源ユニットとを有する。下部電極には被処理基板を載置可能である。上部電極は、処理容器内で下部電極に対向して配置される。電源ユニットは、直流パルス電圧を上部電極に印加する。一方で、本開示の一態様の基板処理装置は、交流電圧を上部電極に印加する電源ユニット、交流電圧を下部電極に印加する電源ユニット、及び、直流電圧を下部電極に印加する電源ユニットを有しない。
【発明の効果】
【０００７】
本開示の技術によれば、基板処理装置の装置規模を小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、実施形態１に係る基板処理装置の構成例を示す図である。
【図２】図２は、実施形態１に係る電源ユニットの構成例を示す図である。
【図３】図３は、実施形態１に係る理想的な直流パルス電圧波形の一例を示す図である。
【図４】図４は、実施形態１に係る実際の直流パルス電圧波形の一例を示す図である。
【図５】図５は、実施形態２に係る電源ユニットの構成例を示す図である。
【図６】図６は、実施形態２に係る理想的な直流パルス電圧波形の一例を示す図である。
【図７】図７は、実施形態２に係る実際の直流パルス電圧波形の一例を示す図である。
【図８】図８は、実施形態３に係る基板処理装置の構成例を示す図である。
【図９】図９は、実施形態３に係る電圧制限の一例を示す図である。
【図１０】図１０は、実施形態３に係る電圧制限の一例を示す図である。
【図１１】図１１は、実施形態４に係る基板処理装置の構成例を示す図である。
【図１２】図１２は、実施形態４に係る電圧制御器の構成例を示す図である。
【図１３】図１３は、実施形態４に係る電圧制御器の構成例を示す図である。
【図１４】図１４は、実施形態４に係る電圧制御器の構成例を示す図である。
【図１５】図１５は、実施形態５に係る基板処理装置の構成例を示す図である。
【図１６】図１６は、実施形態５に係る波形成形の一例を示す図である。
【図１７】図１７は、実施形態５に係る波形成形の一例を示す図である。
【図１８】図１８は、実施形態５に係る波形成形の一例を示す図である。
【図１９】図１９は、実施形態５に係る波形成形の一例を示す図である。
【図２０】図２０は、実施形態５に係る波形成形の一例を示す図である。
【図２１】図２１は、実施形態６に係る基板処理装置の構成例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に、本開示の技術の実施形態を図面に基づいて説明する。各実施形態において同一の構成には同一の符号を付すことにより、実施形態間で重複する説明は省略する。
【００１０】
［実施形態１］
＜基板処理装置の構成＞
図１は、実施形態１に係る基板処理装置の構成例を示す図である。図１に示す基板処理装置１は、容量結合型の平行平板基板処理装置として構成されている。
【００１１】
図１において、基板処理装置１は、例えばアルミニウムまたはステンレス鋼等からなる金属製の処理容器であるチャンバ１０を有する。チャンバ１０は保安接地されている。
【００１２】
チャンバ１０内には、円盤状のサセプタ１２が水平に配置されている。サセプタ１２には、基板処理の被処理基板としての半導体ウエハＷを載置可能である。サセプタ１２は、下部電極としても機能する。チャンバ１０の側壁には、半導体ウエハＷの搬入出口を開閉するゲートバルブ２８が取り付けられている。サセプタ１２は、例えばＡｌＮセラミック等からなり、チャンバ１０の底から鉛直上方に延びる絶縁性の筒状支持部１４に支持されている。
【００１３】
筒状支持部１４の外周に沿ってチャンバ１０の底から鉛直上方に延びる導電性の筒状支持部（内壁部）１６とチャンバ１０の側壁との間に、環状の排気路１８が形成されている。排気路１８の底には排気口２２が設けられている。
【００１４】
排気口２２には排気管２４を介して排気装置２６が接続されている。排気装置２６は、例えばターボ分子ポンプ等の真空ポンプを有しており、チャンバ１０内の処理空間ＰＳを所望の真空度まで減圧する。チャンバ１０内は、例えば、１０ｍＴｏｒｒ〜３５００ｍＴｏｒｒの範囲の一定の圧力に保たれるのが好ましい。
【００１５】
下部電極として用いられるサセプタ１２は、接続棒３６を介して接地されている。
【００１６】
サセプタ１２の上には基板処理対象の半導体ウエハＷが載置され、半導体ウエハＷを囲むようにエッジリング３８が設けられている。エッジリング３８は、導電材（例えばＮｉ，Ａｌ等）からなり、サセプタ１２の上面に着脱可能に取り付けられる。
【００１７】
また、サセプタ１２の上面には、ウエハ吸着用の静電チャック４０が設けられている。静電チャック４０は、膜状または板状の誘電体の間にシート状またはメッシュ状の導電体を挟んで形成される。静電チャック４０内の導電体には、チャンバ１０の外に配置される直流電源４２がオン／オフ切替スイッチ４４及び給電線４６を介して電気的に接続されている。直流電源４２より静電チャック４０へ印加される直流電圧によって静電チャック４０に発生するクーロン力により、半導体ウエハＷが静電チャック４０上に吸着保持される。
【００１８】
サセプタ１２の内部には、円周方向に延びる環状の冷媒室４８が設けられている。冷媒室４８には、チラーユニット（図示せず）より配管５０，５２を介して、所定温度の冷媒（例えば冷却水）が循環供給される。冷媒の温度を制御することによって静電チャック４０上の半導体ウエハＷの温度が制御される。さらに、半導体ウエハＷの温度の精度を高めるために、伝熱ガス供給部（図示せず）からの伝熱ガス（例えばＨeガス）が、ガス供給管５１及びサセプタ１２内のガス通路５６を介して、静電チャック４０と半導体ウエハＷとの間に供給される。
【００１９】
チャンバ１０の天井には、サセプタ１２と平行に向かい合って（つまり、対向して）、円盤状の内側上部電極６０及びリング状の外側上部電極６２が同心状に設けられている。径方向の好適なサイズとして、内側上部電極６０は半導体ウエハＷと同程度の口径（直径）を有し、外側上部電極６２はエッジリング３８と同程度の口径（内径・外径）を有している。内側上部電極６０と外側上部電極６２とは互いに電気的に絶縁されている。両電極６０，６２の間には、例えばセラミックからなるリング状の絶縁体６３が挿入されている。
【００２０】
内側上部電極６０は、サセプタ１２と真正面に向かい合う電極板６４と、電極板６４をその背後（上）から着脱可能に支持する電極支持体６６とを有している。電極板６４の材質として、ＮｉまたはＡｌ等の導電材が好ましい。電極支持体６６は、例えばアルマイト処理されたアルミニウムで構成される。外側上部電極６２も、サセプタ１２と向かい合う電極板６８と、電極板６８をその背後（上）から着脱可能に支持する電極支持体７０とを有している。電極板６８及び電極支持体７０は、電極板６４及び電極支持体６６とそれぞれ同じ材質で構成されるのが好ましい。以下では、内側上部電極６０と外側上部電極６２とを「上部電極６０，６２」と総称することがある。このように、基板処理装置１では、円盤状のサセプタ１２（つまり、下部電極）と、円盤状の上部電極６０，６２とが互いに平行に対向して配置されている。
【００２１】
なお、本実施形態では、上部電極６０，６２が、内側上部電極６０と外側上部電極６２との２つの部材で構成される場合を一例として挙げた。しかし、上部電極は１つの部材で構成されても良い。
【００２２】
ガス供給部７６は、処理ガスとして、チャンバ１０に成膜原料ガスを供給する。上部電極６０，６２とサセプタ１２との間に設定される処理空間ＰＳに成膜原料ガスを供給するために、内側上部電極６０がシャワーヘッドとして兼用される。より詳細には、電極支持体６６の内部にガス拡散室７２が設けられ、ガス拡散室７２からサセプタ１２側に貫ける多数のガス吐出孔７４が電極支持体６６及び電極板６４に形成される。ガス拡散室７２の上部に設けられるガス導入口７２ａには、ガス供給部７６から延びるガス供給管７８が接続されている。なお、内側上部電極６０だけでなく外側上部電極６２にもシャワーヘッドを設ける構成としても良い。
【００２３】
チャンバ１０の外には、電源ユニット８が配置されている。電源ユニット８は、給電ライン８８を介して上部電極６０，６２に接続され、直流パルス電圧を上部電極６０，６２に印加する。
【００２４】
チャンバ１０内で処理空間ＰＳに面する適当な箇所（例えば、外側上部電極６２の半径方向外側）には、例えばＮｉ，Ａｌ等の導電性部材からなるリング状のグランドパーツ９６が取り付けられている。グランドパーツ９６は、例えばセラミックからなるリング状の絶縁体９８に取り付けられるとともに、チャンバ１０の天井壁に接続されており、チャンバ１０を介して接地されている。プラズマ処理中に上部電極６０，６２に電圧が印加されると、プラズマを介して上部電極６０，６２とグランドパーツ９６との間で電子電流が流れる。
【００２５】
基板処理装置１内の各構成の個々の動作、及び、基板処理装置１全体の動作（シーケンス）は、制御部（図示せず）によって制御される。例えば、排気装置２６、オン／オフ切替スイッチ４４、ガス供給部７６、チラーユニット（図示せず）、伝熱ガス供給部（図示せず）等の動作は、制御部（図示せず）によって制御される。制御部の一例として、マイクロコンピュータが挙げられる。
【００２６】
＜電源ユニットの構成＞
図２は、実施形態１に係る電源ユニットの構成例を示す図である。図２に示す電源ユニット８−１は、図１に示す電源ユニット８に該当する。図２において、電源ユニット８−１は、可変直流電源８１−１，８１−２と、パルス発生器８４−１とを有する。
【００２７】
可変直流電源８１−１の出力端子はパルス発生器８４−１に接続され、可変直流電源８１−１は、負の直流電圧（つまり負のＤＣ電圧）をパルス発生器８４−１に出力する。また、可変直流電源８１−２の出力端子はパルス発生器８４−１に接続され、可変直流電源８１−２は、正の直流電圧（つまり正のＤＣ電圧）をパルス発生器８４−１に出力する。パルス発生器８４−１は、可変直流電源８１−１から入力される負の直流電圧と、可変直流電源８１−２から入力される正の直流電圧とを用いて、直流パルス電圧（つまりＤＣパルス電圧）を発生し、発生した直流パルス電圧を給電ライン８８を介して上部電極６０，６２に供給する。パルス発生器８４−１が発生する直流パルス電圧の周波数は、例えば、１０ｋＨｚ〜１ＭＨｚであることが好ましい。また、パルス発生器８４−１が発生する直流パルス電圧のデューティ比は、５％〜９５％であることが好ましい。
【００２８】
図３は、実施形態１に係る理想的な直流パルス電圧波形の一例を示す図である。チャンバ１０での放電経路の電気的特性が理想的な状態にあるときは、パルス発生器８４−１からは、負電圧Ｖ１１と、正電圧Ｖ１２と、正の定常電圧ＶＣ１（ＶＣ１＝Ｖ１２）とを有する矩形波ＷＦＡ１の直流パルス電圧が出力される。
【００２９】
しかし、一般的に、チャンバ１０での放電経路の電気的特性は理想的な状態にないため、パルス発生器８４−１から出力される直流パルス電圧は、実際には、図４に示す波形ＷＦＡ２を有する電圧となる。図４は、実施形態１に係る実際の直流パルス電圧波形の一例を示す図である。すなわち、波形ＷＦＡ２を有する直流パルス電圧には、定常電圧ＶＣ１を超過したオーバーシュートＯＳ１１が生じる。特に、チャンバ１０での放電経路のインダクタンスが大きい場合に、オーバーシュートＯＳ１１が生じる。
【００３０】
このように、実際の直流パルス電圧は波形ＷＦＡ２を有するため、期間Ｉ１１，Ｉ１３，Ｉ１５では負電圧が上部電極６０，６２に印加され、期間Ｉ１２，Ｉ１４，Ｉ１６ではオーバーシュートＯＳ１１を有する正電圧が上部電極６０，６２に印加される。つまり、パルス発生器８４−１が、可変直流電源８１−１から入力される負の直流電圧と、可変直流電源８１−２から入力される正の直流電圧とを用いて波形ＷＦＡ２の直流パルス電圧を出力することにより、正負両電圧が上部電極６０，６２に印加される。
【００３１】
期間Ｉ１１，Ｉ１３，Ｉ１５では、負電圧が上部電極６０，６２に印加されるため、チャンバ１０内でプラズマが生成され、生成されたプラズマが維持される。負電圧の大きさの絶対値が大きいほど、プラズマの生成量は大きくなる。一方で、期間Ｉ１２，Ｉ１４，Ｉ１６では、正電圧が上部電極６０，６２に印加されるため、チャンバ１０内でイオンがＺ方向（図１）に加速される。正電圧の大きさが大きいほど、イオンの加速量は大きくなる。よって、パルス発生器８４−１が波形ＷＦＡ２の直流パルス電圧を出力することで、ラジカル密度の制御と、イオンエネルギの制御とを、時系列で交互に行うことができる。つまり、単一の電源ユニット８−１によって、ラジカル密度及びイオンエネルギの双方を制御することが可能になる。
【００３２】
以上、実施形態１について説明した。
【００３３】
［実施形態２］
実施形態２では、電源ユニット８の構成が実施形態１と異なる。
【００３４】
＜電源ユニットの構成＞
図５は、実施形態２に係る電源ユニットの構成例を示す図である。図５に示す電源ユニット８−２は、図１に示す電源ユニット８に該当する。図５において、電源ユニット８−２は、可変直流電源８０と、パルス発生器８４−２とを有する。
【００３５】
可変直流電源８０の出力端子はパルス発生器８４−２に接続され、可変直流電源８０は、負の直流電圧をパルス発生器８４−２に出力する。パルス発生器８４−２は、可変直流電源８０から入力される負の直流電圧を用いて、直流パルス電圧を発生し、発生した直流パルス電圧を給電ライン８８を介して上部電極６０，６２に供給する。パルス発生器８４−２が発生する直流パルス電圧の周波数は、例えば、１０ｋＨｚ〜１ＭＨｚであることが好ましい。また、パルス発生器８４−２が発生する直流パルス電圧のデューティ比は、５％〜９５％であることが好ましい。
【００３６】
図６は、実施形態２に係る理想的な直流パルス電圧波形の一例を示す図である。チャンバ１０での放電経路の電気的特性が理想的な状態にあるときは、パルス発生器８４−２からは、負電圧Ｖ２１と、定常電圧ＶＣ２（ＶＣ２＝０Ｖ）とを有する矩形波ＷＦＢ１の直流パルス電圧が出力される。
【００３７】
しかし、一般的に、チャンバ１０での放電経路の電気的特性は理想的な状態にないため、パルス発生器８４−２から出力される直流パルス電圧は、実際には、図７に示す波形ＷＦＢ２を有する電圧となる。図７は、実施形態２に係る実際の直流パルス電圧波形の一例を示す図である。すなわち、波形ＷＦＢ２を有する直流パルス電圧には、定常電圧ＶＣ２を超過したオーバーシュートＯＳ２１が生じる。特に、チャンバ１０での放電経路のインダクタンスが大きい場合に、オーバーシュートＯＳ２１が生じる。
【００３８】
このように、実際の直流パルス電圧は波形ＷＦＢ２を有するため、期間Ｉ２１，Ｉ２３，Ｉ２５では負電圧が上部電極６０，６２に印加され、期間Ｉ２２，Ｉ２４，Ｉ２６ではオーバーシュートＯＳ２１を有する正電圧が上部電極６０，６２に印加される。つまり、パルス発生器８４−２が、可変直流電源８０から入力される負の直流電圧を用いて波形ＷＦＢ２の直流パルス電圧を出力することにより、正負両電圧が上部電極６０，６２に印加される。
【００３９】
期間Ｉ２１，Ｉ２３，Ｉ２５では、負電圧が上部電極６０，６２に印加されるため、チャンバ１０内でプラズマが生成され、生成されたプラズマが維持される。負電圧の大きさの絶対値が大きいほど、プラズマの生成量は大きくなる。一方で、期間Ｉ２２，Ｉ２４，Ｉ２６では、正電圧が上部電極６０，６２に印加されるため、チャンバ１０内でイオンがＺ方向に加速される。オーバーシュートＯＳ２１の大きさ（つまり、正電圧の大きさ）が大きいほど、イオンの加速量は大きくなる。よって、パルス発生器８４−２が波形ＷＦＢ２の直流パルス電圧を出力することで、ラジカル密度の制御と、イオンエネルギの制御とを、時系列で交互に行うことができる。つまり、単一の電源ユニット８−２によって、ラジカル密度及びイオンエネルギの双方を制御することが可能になる。
【００４０】
以上、実施形態２について説明した。
【００４１】
以上のように、実施形態１，２では、基板処理装置１は、真空排気可能なチャンバ１０と、下部電極として用いられるサセプタ１２、上部電極６０，６２と、電源ユニット８とを有する。サセプタ１２には被処理基板が載置される。上部電極６０，６２は、チャンバ１０内でサセプタ１２に対向して配置される。電源ユニット８は、直流パルス電圧を上部電極６０，６２に印加する。一方で、基板処理装置１は、交流電圧を上部電極６０，６２に印加する電源ユニット、交流電圧をサセプタ１２に印加する電源ユニット、及び、直流電圧をサセプタ１２に印加する電源ユニットを有しない。
【００４２】
例えば、実施形態１では、電源ユニット８−１は、負の直流電圧を出力する可変直流電源８１−１と、正の直流電圧を出力する可変直流電源８１−２と、パルス発生器８４−１とを有する。パルス発生器８４−１は、可変直流電源８１−１から出力される負の直流電圧と、可変直流電源８１−２から出力される正の直流電圧とを用いて、直流パルス電圧を発生する。
【００４３】
また例えば、実施形態２では、電源ユニット８−２は、負の直流電圧を出力する可変直流電源８０と、パルス発生器８４−２とを有する。パルス発生器８４−２は、可変直流電源８０から出力される負の直流電圧を用いて、直流パルス電圧を発生する。
【００４４】
こうすることで、基板処理装置１は、電源ユニット８以外の電源ユニットを有さずに、単一の電源ユニット８だけで、正負両電圧を上部電極６０，６２に印加することができる。このため、電源ユニット８以外の電源ユニットを用いずに、ラジカル密度及びイオンエネルギの双方を制御することが可能になる。よって、基板処理装置１の装置規模を小さくすることができる。
【００４５】
［実施形態３］
図８は、実施形態３に係る基板処理装置の構成例を示す図である。実施形態３に係る基板処理装置２（図８）は、実施形態１に係る基板処理装置１（図１）と比べ、電圧制限器８２を有する点が異なる。
【００４６】
電圧制限器８２は、電源ユニット８から出力される直流パルス電圧における正電圧の最大値を制限する。電圧制限器８２は、例えばツェナーダイオードを用いて実現される。
【００４７】
例えば、電源ユニット８が実施形態１（図２）に記載の構成を採る場合には、電圧制限器８２は、図９に示すように、波形ＷＦＡ２を有する直流パルス電圧における正電圧の最大値を電圧値ＶＺに制限する。また例えば、電源ユニット８が実施形態２（図５）に記載の構成を採る場合には、電圧制限器８２は、図１０に示すように、波形ＷＦＢ２を有する直流パルス電圧における正電圧の最大値を電圧値ＶＺに制限する。図９及び図１０は、実施形態３に係る電圧制限の一例を示す図である。
【００４８】
このように、実施形態３では、直流パルス電圧における正電圧の最大値を所定の電圧値に制限することにより、実施形態１，２に比べ、上部電極６０，６２とサセプタ１２との間の電位差が一定になる期間を長くすることができる。上部電極６０，６２とサセプタ１２との間の電位差が一定になる期間を実施形態１よりも長くすることにより、イオンエネルギ分布の幅を実施形態１よりも狭くすることができる。
【００４９】
以上、実施形態３について説明した。
【００５０】
［実施形態４］
図１１は、実施形態４に係る基板処理装置の構成例を示す図である。実施形態４に係る基板処理装置３（図１１）は、実施形態１に係る基板処理装置１（図１）と比べ、電圧制御器８５を有する点が異なる。
【００５１】
電圧制御器８５は、電源ユニット８から出力される直流パルス電圧における正電圧の大きさを制御する。
【００５２】
図１２，１３，１４は、実施形態４に係る電圧制御器の構成例を示す図である。
【００５３】
例えば、電圧制御器８５は図１２に示す構成を採る。図１２に示す電圧制御器８５−１は、図１１に示す電圧制御器８５に該当する。電圧制御器８５−１は、電源ユニット８と上部電極６０，６２との間に直列に接続された可変コイルＬにより形成される。可変コイルＬのインダクタンスを大きくするほど直流パルス電圧における正電圧の大きさがより大きくなり、イオンエネルギを増加させることができる。
【００５４】
また例えば、電圧制御器８５は図１３に示す構成を採る。図１３に示す電圧制御器８５−２は、図１１に示す電圧制御器８５に該当する。電圧制御器８５−２は、上部電極６０，６２と接地との間に並列に接続された可変コンデンサＣにより形成される。可変コンデンサＣの静電容量を小さくするほど直流パルス電圧における正電圧の大きさがより大きくなり、イオンエネルギを増加させることができる。
【００５５】
また例えば、電圧制御器８５は図１４に示す構成を採る。図１４に示す電圧制御器８５−３は、図１１に示す電圧制御器８５に該当する。電圧制御器８５−３は、電源ユニット８と上部電極６０，６２との間に直列に接続された可変抵抗Ｒにより形成される。可変抵抗Ｒの抵抗値を小さくするほど直流パルス電圧における正電圧の大きさがより大きくなり、イオンエネルギを増加させることができる。
【００５６】
なお、図１２，１３，１４では、可変コイルＬ、可変コンデンサＣ、または、可変抵抗Ｒを用いて電圧制御器８５を形成したが、可変でないコイル、コンデンサ、または、抵抗を用いて電圧制御器８５を形成しても良い。
【００５７】
このように、実施形態４では、基板処理装置３は電圧制御器８５を有するため、直流パルス電圧における正電圧の大きさを制御することにより、イオンエネルギ量を制御することができる。
【００５８】
以上、実施形態４について説明した。
【００５９】
［実施形態５］
図１５は、実施形態５に係る基板処理装置の構成例を示す図である。実施形態５に係る基板処理装置４（図１５）は、実施形態１に係る基板処理装置１（図１）と比べ、波形成型器８３を有する点が異なる。
【００６０】
波形成型器８３は、電源ユニット８から出力される直流パルス電圧の波形を成形する。
【００６１】
図１６〜２０は、実施形態５に係る波形成形の一例を示す図である。
【００６２】
例えば、波形成型器８３は、電源ユニット８から出力される直流パルス電圧の波形を、図１６の左図に示すように、サイン波ＷＦ０１に成形する。直流パルス電圧の波形がサイン波ＷＦ０１に成形されることにより、直流パルス電圧の最大値及び最小値（つまり、サイン波ＷＦ０１の最大値及び最小値）が上部電極６０，６２に印加される時間を比較的長くすることができる。よって、直流パルス電圧の波形がサイン波ＷＦ０１に成形されることにより、図１６の右図に示すように、低エネルギ端及び高エネルギ端の両端にピークを持つイオンエネルギ分布ＥＤ０１を得ることができる。
【００６３】
また例えば、波形成型器８３は、電源ユニット８から出力される直流パルス電圧の波形を、図１７に示すように、三角波ＷＦ０２に成形する。直流パルス電圧の波形が三角波ＷＦ０２に成形されることにより、直流パルス電圧における各電圧が上部電極６０，６２に印加される時間を等しくすることができる。よって、直流パルス電圧の波形が三角波ＷＦ０２に成形されることにより、図１８に示すように、低エネルギから高エネルギの全体に渡って一定のイオン量となるイオンエネルギ分布ＥＤ０２を得ることができる。
【００６４】
また例えば、波形成型器８３は、電源ユニット８から出力される直流パルス電圧の波形を、図１９に示すように、矩形波ＷＦ０３に成形する。直流パルス電圧の波形が矩形波ＷＦ０３に成形されることにより、直流パルス電圧において、上部電極６０，６２に印加される電圧を特定の電圧に制限することができる。よって、直流パルス電圧の波形が矩形波ＷＦ０３に成形されることにより、図２０に示すように、イオンエネルギが特定の値に偏ったイオンエネルギ分布ＥＤ０３を得ることができる。
【００６５】
このように、実施形態５では、基板処理装置４は波形成型器８３を有するため、成形後の波形に応じたイオンエネルギ分布を得ることができる。
【００６６】
以上、実施形態５について説明した。
【００６７】
［実施形態６］
図２１は、実施形態６に係る基板処理装置の構成例を示す図である。実施形態６に係る基板処理装置５（図２１）は、実施形態１に係る基板処理装置１（図１）と比べ、サセプタ１２が、接地されずにフローティングされている点が異なる。
【００６８】
図２１において、コネクタ８６−１とコネクタ８６−２とが接続されることにより、サセプタ１２が接地される。一方で、コネクタ８６−１とコネクタ８６−２とが分離されることにより、サセプタ１２は、接地されずにフローティングされる。
【００６９】
このように、実施形態６では、サセプタ１２が接地されずにフローティングされるため、サセプタ１２の電位が上部電極６０，６２の電位に追従しやすくなる。このため、上部電極６０，６２とサセプタ１２との間の電位差が小さくなるので、イオンの加速電圧が小さくなる。よって、サセプタ１２が接地されずにフローティングされることにより、イオンエネルギを減少させることができる。
【００７０】
以上、実施形態６について説明した。
【００７１】
なお、本開示の実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。実に、上記の実施形態は多様な形態で具現され得る。また、上記の実施形態は、特許請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されても良い。例えば、上記説明では基板処理の一例として成膜を挙げて説明したが、本開示の技術が適用可能な基板処理は成膜に限定されない。例えば、処理空間ＰＳの真空度、及び、処理ガスをエッチングに適したものに変更することにより、本開示の技術を、基板処理の一つであるエッチングに適用することも可能である。
【符号の説明】
【００７２】
１，２，３，４，５  基板処理装置
８，８−１，８−２  電源ユニット
８０，８１−１，８１−２  可変直流電源
１０  チャンバ
１２  サセプタ
６０  内側上部電極
６２  外側上部電極
【図１】
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【図２】
2020095793.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2020095793.tif 000007
【図６】
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【図７】
2020095793.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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