(57)【要約】【課題】水分等の侵入に起因する効率や寿命の低下を更に抑制することの可能な発光パネルおよびその製造方法を提供する。【解決手段】本開示の一実施形態に係る発光パネルは、水分含有量が１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり３１ｎｇ以下の樹脂基板と、樹脂基板の第１主面側に形成された、水分の侵入を抑制する第１バリア層と、バリア層上に形成されたＴＦＴ層および有機ＥＬ層と、樹脂基板の第２主面側に形成された、水分の侵入を抑制する第２バリア層とを備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水分含有量が１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり３１ｎｇ以下の樹脂基板と、
前記樹脂基板の第１主面側に形成された、水分の侵入を抑制する第１バリア層と、
前記バリア層上に形成されたＴＦＴ層および有機ＥＬ層と、
前記樹脂基板の第２主面側に形成された、水分の侵入を抑制する第２バリア層と
を備えた
発光パネル。
【請求項２】
前記樹脂基板の水分含有量は、１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり１４ｎｇ以下となっている
請求項１に記載の発光パネル。
【請求項３】
前記外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板の裏面側にガラス基板を形成するとともに、前記樹脂基板の表面側に、水分の侵入を抑制する第１バリア層、ＴＦＴ層および有機ＥＬ層を前記樹脂基板の表面側からこの順に形成するステップと、
前記外部環境よりもドライな環境下で、前記ガラス基板側からＵＶレーザ光を照射して前記ガラス基板を前記樹脂基板から剥離するステップと、
外部環境よりもドライな環境下で、前記樹脂基板の裏面側に、水分の侵入を抑制する第２バリア層を形成するステップと
を含み、
これらのステップを経ることにより、前記樹脂基板の水分含有量を１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり３１ｎｇ以下に維持する
発光パネルの製造方法。
【請求項４】
前記外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板の裏面側にガラス基板を形成するとともに、前記樹脂基板の表面側に、水分の侵入を抑制する第１バリア層、ＴＦＴ層および有機ＥＬ層を前記樹脂基板の表面側からこの順に形成するステップと、
前記ガラス基板側からＵＶレーザ光を部分的に照射して、前記ガラス基板のうち前記ＵＶレーザ光の照射部分を、前記樹脂基板から剥離可能な状態にするステップと、
前記樹脂基板の表面側に形成された層のうち前記照射部分と対向する箇所の外縁を切断して前記ガラス基板を前記樹脂基板から剥離するステップと、
外部環境よりもドライな環境下で、前記樹脂基板の裏面側に、水分の侵入を抑制する第２バリア層を形成するステップと
を含み、
これらのステップを経ることにより、前記樹脂基板の水分含有量を１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり３１ｎｇ以下に維持する
発光パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、発光パネルおよびその製造方法に係り、特に基板上にバリア層を備える発光パネルおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
発光パネルの代表例として、有機ＥＬ（Electroluminescence）発光パネルが挙げられる。この発光パネルでは、一対の電極間に挟まれたＥＬ層に含まれる有機化合物に電流が流れるため、発光パネルの駆動中、有機化合物は酸化あるいは還元され、電荷を有する状態をとりうる。また、これらの活性種が再結合することによって励起状態が生じる。このような活性種や励起状態にある分子は電気的に中性の状態、あるいは基底状態にある分子と比べて反応性が高いため、他の有機化合物と反応したり、ＥＬ層に浸入した水や酸素などの不純物と容易に反応する。こうした反応は発光パネルの特性に悪影響を与え、発光パネルの効率の低下や寿命の低減の原因となる。そのため、発光パネルへの、水分等の侵入を抑制する発光パネルが考案されている（例えば、下記の特許文献１〜３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−１２３６９０号公報
【特許文献２】再公表２０１５−００５１６５号公報
【特許文献３】再公表２０１６−００９７７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、発光パネルでは、水分等の侵入に起因する効率や寿命の低下を更に抑制することが望まれている。従って、水分等の侵入に起因する効率や寿命の低下を更に抑制することの可能な発光パネルおよびその製造方法を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一実施形態に係る発光パネルは、水分含有量が１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり３１ｎｇ以下の樹脂基板と、樹脂基板の第１主面側に形成された、水分の侵入を抑制する第１バリア層と、バリア層上に形成されたＴＦＴ層および有機ＥＬ層と、樹脂基板の第２主面側に形成された、水分の侵入を抑制する第２バリア層とを備えている。
【０００６】
本開示の一実施形態に係る発光パネルでは、樹脂基板の第１主面側に第１バリア層、ＴＦＴ層および有機ＥＬ層が形成され、樹脂基板の第２主面側に第２バリア層が形成されており、樹脂基板の水分含有量が１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり３１ｎｇ以下となっている。このように、樹脂基板の水分含有量が十分に少なくなっていることから、樹脂基板の水分が有機ＥＬ層に悪影響を及ぼす可能性を十分に小さくすることができる。また、樹脂基板への水分の侵入も十分に低く抑えることができる。
【０００７】
本開示の一実施形態に係る第１の発光パネルの製造方法は、以下の３つのステップを含み、これらのステップを経ることにより、樹脂基板の水分含有量を１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり３１ｎｇ以下に維持する。
（Ａ１）外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板の裏面側にガラス基板を形成するとともに、樹脂基板の表面側に、水分の侵入を抑制する第１バリア層、ＴＦＴ層および有機ＥＬ層を樹脂基板の表面側からこの順に形成するステップ
（Ａ２）外部環境よりもドライな環境下で、ガラス基板側からＵＶレーザ光を照射してガラス基板を樹脂基板から剥離するステップ
（Ａ３）外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板の裏面側に、水分の侵入を抑制する第２バリア層を形成するステップ
【０００８】
本開示の一実施形態に係る第１の発光パネルの製造方法では、外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板の裏面側へのガラス基板の形成と、樹脂基板の表面側への第１バリア層、ＴＦＴ層および有機ＥＬ層の形成と、ガラス基板の樹脂基板からの剥離と、ガラス基板剥離後の樹脂基板の裏面側への第２バリア層の形成とがなされる。これにより、樹脂基板の水分含有量を１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり３１ｎｇ以下に維持することができる。その結果、樹脂基板の水分が有機ＥＬ層に悪影響を及ぼす可能性を十分に小さくすることができ、樹脂基板への水分の侵入も十分に低く抑えることができる。
【０００９】
本開示の一実施形態に係る第２の発光パネルの製造方法は、以下の４つのステップを含み、これらのステップを経ることにより、樹脂基板の水分含有量を１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり３１ｎｇ以下に維持する。
（Ｂ１）外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板の裏面側にガラス基板を形成するとともに、樹脂基板の表面側に、水分の侵入を抑制する第１バリア層、ＴＦＴ層および有機ＥＬ層を樹脂基板の表面側からこの順に形成するステップ
（Ｂ２）ガラス基板側からＵＶレーザ光を部分的に照射して、ガラス基板のうちＵＶレーザ光の照射部分を、樹脂基板から剥離可能な状態にするステップ
（Ｂ３）外部環境よりもドライな環境下で、ガラス基板側からＵＶレーザ光を照射してガラス基板を樹脂基板から剥離するステップ
（Ｂ４）外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板の裏面側に、水分の侵入を抑制する第２バリア層を形成するステップ
【００１０】
本開示の一実施形態に係る第２の発光パネルの製造方法では、外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板の裏面側へのガラス基板の形成と、樹脂基板の表面側への第１バリア層、ＴＦＴ層および有機ＥＬ層の形成とがなされる。その後、ガラス基板のうちＵＶレーザ光の照射部分が樹脂基板から剥離可能な状態にされた後、外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板の表面側に形成された層の切断によるガラス基板の樹脂基板からの剥離と、ガラス基板剥離後の樹脂基板の裏面側への第２バリア層の形成とがなされる。これにより、樹脂基板の水分含有量を１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり３１ｎｇ以下に維持することができる。その結果、樹脂基板の水分が有機ＥＬ層に悪影響を及ぼす可能性を十分に小さくすることができ、樹脂基板への水分の侵入も十分に低く抑えることができる。
【発明の効果】
【００１１】
本開示の一実施形態に係る発光パネル、ならびに第１および第２の発光パネルの製造方法によれば、樹脂基板の水分が有機ＥＬ層に悪影響を及ぼす可能性を十分に小さくするとともに、樹脂基板への水分の侵入も十分に低く抑えるようにしたので、水分等の侵入に起因する効率や寿命の低下を更に抑制することができる。なお、上記内容は本開示の一例である。本開示の効果は、上述したものに限らず、他の異なる効果であってもよいし、更に他の効果を含んでいてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本開示の一実施の形態に係る有機電界発光パネルの断面構成の一例を表す図である。
【図２】図１の有機電界発光パネルの製造過程の一例を表す流れ図である。
【図３Ａ】図１の有機電界発光パネルの製造過程の一例を表す断面図である。
【図３Ｂ】図３Ａに続く製造過程の一例を表す断面図である。
【図４】樹脂基板の水分量の一例を表す図である。
【図５】図１の有機電界発光パネルの製造過程の一変形例を表す流れ図である。
【図６Ａ】図１の有機電界発光パネルの製造方法の一変形例を表す断面図である。
【図６Ｂ】図６Ａに続く製造過程の変形一例を表す断面図である。
【図６Ｃ】図６Ｂに続く製造過程の変形一例を表す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本開示を実施するための形態について、図面を参照して詳細に説明する。以下に説明する実施の形態は、いずれも本開示の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態などは、一例であって本開示を限定する主旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本開示の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。なお、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態（有機電界発光パネル）
２．変形例（有機電界発光パネル）
【００１４】
＜１．実施の形態＞
[構成]
図１は、本開示の一実施の形態に係る有機電界発光パネル１０の断面構成の一例を表したものである。有機電界発光パネル１０は、水分の影響を受け易い（つまり、水分の浸入により特性が劣化し易い）有機材料を含むパネルである。有機電界発光パネル１０は、例えば、製造過程における不具合によって、後述のＵＣ（undercoat）バリア層１２にＵＣバリア層１２を貫通するクラック１９が形成される虞があるために、クラック１９によってＵＣバリア層１２のバリア性が損なわれる虞がある状態となっている。なお、有機電界発光パネル１０は、ＵＣバリア層１２にクラック１９が形成されたものに限定されるものではない。
【００１５】
有機電界発光パネル１０は、樹脂基板１１を備えている。有機電界発光パネル１０は、さらに、樹脂基板１１の表面上に、ＵＣバリア層１２、ＴＦＴ(thin-film-transistor)層１３、ＰＶ（passivation）層１４、有機ＥＬ層１５および封止層１６を樹脂基板１１の表面側からこの順に備えている。有機電界発光パネル１０は、さらに、樹脂基板１１の裏面上に、バリア層１７および封止層１８を樹脂基板１１の裏面側からこの順に備えている。
【００１６】
樹脂基板１１は、可撓性を有する樹脂基板である。樹脂基板１１に用いられる樹脂としては、例えば、ポリイミド（ＰＩ），ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ），ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ），ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）もしくはポリカーボネート（ＰＣ）などのプラスチックが挙げられる。樹脂基板１１に用いられる樹脂は、樹脂基板１１上に各層を形成する際のプロセス温度に耐え得る性質（高温耐熱性）を有していることが好ましい。樹脂基板１１は、例えば、支持基板（図示せず）上に樹脂を塗布し、硬化させることにより形成される。樹脂基板１１の厚さは、例えば、２０μｍである。樹脂基板１１の水分含有量は、１２インチパネルあたり３１ｎｇ以下となっており、好ましくは、１２インチパネルあたり１４ｎｇ以下となっている。樹脂基板１１の水分含有量は、例えば、電子化学社の昇温脱離ガス分析装置（ＴＤＳ）で計測することにより得られる。
【００１７】
ＵＣバリア層１２およびバリア層１７は、樹脂基板１１や、樹脂基板１１の表面上に形成される各層への水分の侵入を抑制するための膜である。ＵＣバリア層１２およびバリア層１７は、無機材料によって形成されており、例えば、ＳｉＯ2、ＳｉＮ、ＳｉＯＮもしくはＳｉＯなどによって形成されている。ＵＣバリア層１２の材料と、バリア層１７の材料とは、互いに異なっていてもよいし、互いに同じであってもよい。ＵＣバリア層１２およびバリア層１７は、例えば、ＰＥＣＶＤ（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition）法、ＡＬＤ（Atomic Layer Deposition：原子層堆積）法またはスパッタ法等を用いて形成される。ＵＣバリア層１２およびバリア層１７は、例えば、１００ｎｍ以上１０００ｎｍ未満となっている。ＵＣバリア層１２およびバリア層１７は、単層で構成されていてもよいし、多層膜で構成されていてもよい。
【００１８】
有機ＥＬ層１５は、例えば、複数の有機ＥＬ素子を含んでいる。各有機ＥＬ素子は、例えば、電極層、有機層および電極層をＴＦＴ層１３側からこの順に積層して構成されている。各有機ＥＬ素子において、有機層は、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および電子注入層をＴＦＴ層１３側からこの順に積層して構成されている。正孔注入層は、正孔注入効率を高めるための層である。正孔輸送層は、電極層から注入された正孔を発光層へ輸送するための層である。発光層は、電子と正孔との再結合により、所定の色の光を発する層である。電子輸送層は、電極層から注入された電子を発光層へ輸送するための層である。電子注入層は、電子注入効率を高めるための層である。
【００１９】
ＴＦＴ層１３は、有機ＥＬ層１５に含まれる有機ＥＬ素子を駆動するための回路を含んでいる。ＴＦＴ層１３内の回路には、複数のＴＦＴが含まれている。ＰＶ１４は、例えば、水素の透過を抑制する無機絶縁層と、有機ＥＬ層１５の形成面である平坦面を構成する有機絶縁層とを含んで構成されている。
【００２０】
ＰＶ１４内の無機絶縁層は、例えば、水素抑制層、中間無機層および上部無機層によって構成されている。ＰＶ１４内の無機絶縁層は、樹脂基板１１などに含まれる水素が有機ＥＬ層１５側に供給されるのを抑制するように構成されており、例えば、酸化アルミニウムによって形成されている。ＰＶ１４内の中間無機層は、例えば、無機物を主成分とする材料によって形成されるＰＶ１４内の中間無機層は、例えば、シリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）、シリコン酸窒化膜（ＳｉＯＮｘ）又は酸化アルミニウム膜（ＡｌＯｘ）などの単層膜、又は、積層膜で構成されている。ＰＶ１４内の上部無機層は、ＰＶ１４内の有機絶縁層に含まれる水素が樹脂基板１１側に供給されるのを抑制するように構成されており、例えば、酸化アルミニウムによって形成されている。ＰＶ１４内の有機絶縁層は、例えば、ポリイミドなどの有機材料によって形成されている。ＰＶ１４内の有機絶縁層は、単層膜でもよく、積層膜でもよい。
【００２１】
封止層１６，１８は、有機ＥＬ層１５などの各層を保護および封止する。封止層１６，１８は、例えば、エポキシ樹脂や、ビニル系樹脂などの樹脂材料によって形成されている。
【００２２】
[製造方法]
次に、有機電界発光パネル１０の製造方法について説明する。図２は、有機電界発光パネル１０の製造過程の一例を表す流れ図であす。図３Ａ、図３Ｂは、有機電界発光パネル１０の製造過程の一例を表す断面図である。
【００２３】
まず、ガラス基板２０上にポリイミドを塗布し、加熱反応により脱水・環化（イミド化）反応をさせて、樹脂基板１１を形成する。次に、樹脂基板１１の表面側に、ＵＣバリア層１２、ＴＦＴ層１３、ＰＶ層１４、有機ＥＬ層１５および封止層１６を樹脂基板１１の表面側からこの順に形成する（ステップＳ１０１、図３Ａ参照）。
【００２４】
次に、ガラス基板２０側からＵＶレーザ光Ｌをガラス基板２０の裏面全体に照射する（ステップＳ１０２、図３Ａ参照）。ＵＶレーザ光は、ガラス基板２０に接合した樹脂基板１１の表層に吸収されて、その表層だけが蒸散する。このようにして、ガラス基板２０を樹脂基板１１から剥離する（図３Ｂ参照）。
【００２５】
このとき、例えば、ガラス基板２０と、樹脂基板１１との間に、異物が混入していたり、ガラス基板２０に傷が形成されていたりすることがある。そのときには、ＵＶレーザ光Ｌがガラス基板２０と樹脂基板１１との界面全体に十分に照射されないので、ガラス基板２０を樹脂基板１１から剥離したときに、照射不十分な箇所に起因して、ＵＣバリア層１２にクラック１９が生じてしまうことがある。また、そのような異物や傷がない場合であっても、ＵＶレーザ光Ｌの照射による衝撃により、ＵＣバリア層１２にクラック１９が生じてしまうことがある。その場合、この後の工程において、樹脂基板１１中の水分がクラック１９を介してＴＦＴ層１３や有機ＥＬ層１５に侵入してしまうおそれがある。そこで、本実施の形態では、ガラス基板２０を樹脂基板１１から剥離する際の環境を、外部環境よりもドライな環境、例えば、不活性気体（例えば窒素）雰囲気で、水分濃度が３０ｐｐｍ以下にし、樹脂基板１１に所定量を超える水分が取り込まれることを防止する。
【００２６】
次に、引き続き、外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板１１の裏面側に、バリア層１７および封止層１８を樹脂基板１１の裏面側からこの順に形成する（ステップＳ１０３）。このようにして、厚さ２０μｍの樹脂基板１１の水分含有量を、１２インチパネルあたり３１ｎｇ以下とすることができる。また、樹脂基板１１の水分含有量を、１２インチパネルあたり１４ｎｇ以下とすることもできる。以上のようにして、本実施の形態に係る有機電界発光パネル１０が製造される。
【００２７】
なお、例えば、ドライではない環境（典型的には外部環境）下で、ガラス基板２０を樹脂基板１１から剥離するなどした場合には、図４に示したように、厚さ２０μｍの樹脂基板１１の水分含有量が、３１ｎｇよりも大きくなってしまい、例えば、露点−３０℃の環境下でガラス基板２０を剥離し、バリア層１７および封止層１８の貼り合わせを行った場合には、樹脂基板１１の水分含有量は２７５ｎｇとなってしまった。このように、樹脂基板１１の水分含有量が２７５ｎｇとなってしまった場合、樹脂基板１１内の水分がクラック１９を介してＴＦＴ層１３や有機ＥＬ層１５に侵入し、表示不良を引き起こす可能性が高い。本実施形態において、樹脂基板１１が単層の場合について説明したが、樹脂基板１１が多層であって、間にＵＣバリア層が挿入された構造である場合には、樹脂基板１１の全層厚２０μｍ、１２インチパネルあたり３１ｎｇ以下であることにより本開示の効果を奏することができる。
【００２８】
[効果]
次に、本実施の形態に係る有機電界発光パネル１０およびその製造方法の効果について説明する。
【００２９】
本実施の形態に係る有機電界発光パネル１０では、樹脂基板１１の表面側にＵＣバリア層１２、ＴＦＴ層１３、ＰＶ層１４、有機ＥＬ層１５および封止層１６が形成され、樹脂基板１１の裏面側にバリア層１７および封止層１８が形成されており、厚さ２０μｍの樹脂基板１１の水分含有量が１２インチパネルあたり３１ｎｇ以下（場合によっては１４ｎｇ以下）となっている。このように、樹脂基板１１の水分含有量が十分に少なくなっていることから、樹脂基板１１の水分が有機ＥＬ層１５に悪影響を及ぼす可能性を十分に小さくすることができる。また、樹脂基板１１への水分の侵入も十分に低く抑えることができる。その結果、従来と比べて、水分等の侵入に起因する効率や寿命の低下を更に抑制することができる。
【００３０】
また、  本実施の形態に係る有機電界発光パネル１０の製造方法では、外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板１１の裏面側へのガラス基板２０の形成と、樹脂基板１１の表面側へのＵＣバリア層１２、ＴＦＴ層１３、ＰＶ層１４、有機ＥＬ層１５および封止層１６の形成と、ガラス基板２０の樹脂基板１１からの剥離と、ガラス基板２０剥離後の樹脂基板１１の裏面側へのバリア層１７および封止層１８の形成とがなされる。これにより、厚さ２０μｍの樹脂基板１１の水分含有量を１２インチパネルあたり３１ｎｇ以下（場合によっては１４ｎｇ以下）に維持することができる。その結果、樹脂基板１１の水分が有機ＥＬ層１５に悪影響を及ぼす可能性を十分に小さくすることができ、樹脂基板１１への水分の侵入も十分に低く抑えることができる。その結果、従来と比べて、水分等の侵入に起因する効率や寿命の低下を更に抑制することができる。
【００３１】
＜２．変形例＞
[変形例Ａ]
【００３２】
有機電界発光パネル１０の製造方法の一変形例について説明する。図５は、有機電界発光パネル１０の製造過程の一変形例を表す流れ図であす。図６Ａ、図６Ｂ、図６Ｃは、有機電界発光パネル１０の製造過程の一変形例を表す断面図である。
【００３３】
まず、ガラス基板２０上にポリイミドを塗布し、加熱反応により脱水・環化（イミド化）反応をさせて、樹脂基板１１を形成する。次に、樹脂基板１１の表面側に、ＵＣバリア層１２、ＴＦＴ層１３、ＰＶ層１４、有機ＥＬ層１５および封止層１６を樹脂基板１１の表面側からこの順に形成する（ステップＳ１０１、図６Ａ参照）。
【００３４】
次に、ガラス基板２０側からＵＶレーザ光Ｌをガラス基板２０に部分的に照射する（ステップＳ２０２、図６Ａ参照）。このようにして、ガラス基板２０のうちＵＶレーザ光Ｌの照射部分を、樹脂基板１１から剥離可能な状態にする。なお、以下では、ガラス基板２０のうちＵＶレーザ光Ｌを照射した部分を、剥離可能領域１１Ａと称し、ガラス基板２０のうちＵＶレーザ光Ｌを照射していない部分を、未照射領域２０Ｂと称する。
【００３５】
この有機電界発光パネル１０の状態では、剥離可能領域１１Ａは、未照射領域２０Ｂによって覆われているため外部から隔離されている。このため、有機電界発光パネル１０の製品となる領域である剥離可能領域１１Ａに面する樹脂基板１１に外部からの水分が侵入することはない。したがってこの工程は、雰囲気の水分量を厳しく管理する必要はなく、簡易な製造設備で行うことができる。
【００３６】
次に、外部環境よりもドライな環境下、例えば、不活性気体（例えば窒素）雰囲気で、水分濃度が３０ｐｐｍ以下で、樹脂基板１１の表面側に形成された層（ＵＣバリア層１２、ＴＦＴ層１３、ＰＶ層１４、有機ＥＬ層１５および封止層１６）のうち、剥離可能領域１１Ａと対向する箇所の外縁（図６Ｂ中の切断箇所１００Ａ）を切断する（ステップＳ２０３、図６Ｂ参照）。このようにして、ガラス基板２０を樹脂基板１１から剥離する（ステップＳ２０３、図６Ｃ参照）。このとき、ガラス基板２０を樹脂基板１１から剥離する際の環境を、外部環境よりもドライな環境にしているので、樹脂基板１１に所定量を超える水分が取り込まれることを防止することができる。
【００３７】
次に、外部環境よりもドライな環境下で、バリア層１７および封止層１８を樹脂基板１１の裏面側からこの順に形成する（ステップＳ２０４）。このようにして、厚さ２０μｍの樹脂基板１１の水分含有量を、１２インチパネルあたり３１ｎｇ以下とすることができる。また、厚さ２０μｍの樹脂基板１１の水分含有量を、１２インチパネルあたり１４ｎｇ以下とすることもできる。以上のようにして、本変形例に係る有機電界発光パネル１０が製造される。
【００３８】
なお、例えば、ドライではない環境（典型的には外部環境）下で、ガラス基板２０を樹脂基板１１から剥離するなどした場合には、図４に示したように、厚さ２０μｍの樹脂基板１１の水分含有量が、３１ｎｇよりも大きくなってしまい、例えば、２７５ｎｇとなってしまう。このように、厚さ２０μｍの樹脂基板１１の水分含有量が２７５ｎｇとなってしまった場合、樹脂基板１１内の水分がクラック１９を介してＴＦＴ層１３や有機ＥＬ層１５に侵入し、表示不良を引き起こす可能性が高い。
【００３９】
本変形例では、外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板１１の裏面側へのガラス基板２０の形成と、樹脂基板１１の表面側へのＵＣバリア層１２、ＴＦＴ層１３、ＰＶ層１４、有機ＥＬ層１５および封止層１６とがなされる。その後、ガラス基板２０のうちＵＶレーザ光Ｌの照射部分が樹脂基板１１から剥離可能な状態にされた後、外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板１１の表面側に形成された層（ＵＣバリア層１２、ＴＦＴ層１３、ＰＶ層１４、有機ＥＬ層１５および封止層１６）の切断によるガラス基板２０の樹脂基板１１からの剥離と、ガラス基板２０剥離後の樹脂基板１１の裏面側へのバリア層１７および封止層１８の形成とがなされる。これにより、厚さ２０μｍの樹脂基板１１の水分含有量を１２インチパネルあたり３１ｎｇ以下（場合によっては１４ｎｇ以下）に維持することができる。その結果、樹脂基板１１の水分が有機ＥＬ層１５に悪影響を及ぼす可能性を十分に小さくすることができ、樹脂基板１１への水分の侵入も十分に低く抑えることができる。その結果、従来と比べて、水分等の侵入に起因する効率や寿命の低下を更に抑制することができる。
【００４０】
以上、実施の形態およびその変形例を挙げて本開示を説明したが、本開示は実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。なお、本明細書中に記載された効果は、あくまで例示である。本開示の効果は、本明細書中に記載された効果に限定されるものではない。本開示が、本明細書中に記載された効果以外の効果を持っていてもよい。
【００４１】
また、例えば、本開示は以下のような構成を取ることができる。
（１）
水分含有量が１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり３１ｎｇ以下の樹脂基板と、
前記樹脂基板の第１主面側に形成された、水分の侵入を抑制する第１バリア層と、
前記バリア層上に形成されたＴＦＴ層および有機ＥＬ層と、
前記樹脂基板の第２主面側に形成された、水分の侵入を抑制する第２バリア層と
を備えた
発光パネル。
（２）
前記樹脂基板の水分含有量は、１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり１４ｎｇ以下となっている
（１）に記載の発光パネル。
（３）
前記外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板の裏面側にガラス基板を形成するとともに、前記樹脂基板の表面側に、水分の侵入を抑制する第１バリア層、ＴＦＴ層および有機ＥＬ層を前記樹脂基板の表面側からこの順に形成するステップと、
前記外部環境よりもドライな環境下で、前記ガラス基板側からＵＶレーザ光を照射して前記ガラス基板を前記樹脂基板から剥離するステップと、
外部環境よりもドライな環境下で、前記樹脂基板の裏面側に、水分の侵入を抑制する第２バリア層を形成するステップと
を含み、
これらのステップを経ることにより、前記樹脂基板の水分含有量を１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり３１ｎｇ以下に維持する
発光パネルの製造方法。
（４）
前記外部環境よりもドライな環境下で、樹脂基板の裏面側にガラス基板を形成するとともに、前記樹脂基板の表面側に、水分の侵入を抑制する第１バリア層、ＴＦＴ層および有機ＥＬ層を前記樹脂基板の表面側からこの順に形成するステップと、
前記ガラス基板側からＵＶレーザ光を部分的に照射して、前記ガラス基板のうち前記ＵＶレーザ光の照射部分を、前記樹脂基板から剥離可能な状態にするステップと、
前記樹脂基板の表面側に形成された層のうち前記照射部分と対向する箇所の外縁を切断して前記ガラス基板を前記樹脂基板から剥離するステップと、
外部環境よりもドライな環境下で、前記樹脂基板の裏面側に、水分の侵入を抑制する第２バリア層を形成するステップと
を含み、
これらのステップを経ることにより、前記樹脂基板の水分含有量を１２インチパネル、厚さ２０μｍあたり３１ｎｇ以下に維持する
発光パネルの製造方法。
【符号の説明】
【００４２】
１０…有機電界発光パネル、１１…樹脂基板、１１Ａ…剥離可能領域、１２…ＵＣバリア層、１３…ＴＦＴ層、１４…ＰＶ層、１５…有機ＥＬ層、１６…封止層、１７…バリア層、１８…封止層、１９…クラック、２０…ガラス基板、２０Ａ…照射領域、２０Ｂ…未照射領域、１００Ａ…切断箇所、Ｌ…ＵＶレーザ光。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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