(57)【要約】      （修正有）【課題】低温環境下での使用によっても電気抵抗値の上昇が少ない電子写真部材の提供。【解決手段】該電子写真部材は、導電性の基体２と、該基体上の樹脂層３と、を有する電子写真部材であって、該樹脂層に、特定のカチオン構造を有する樹脂と、アニオンと、疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子とを含有する。【選択図】図１
2020024407.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性の基体と、該基体上の樹脂層と、を有する電子写真部材であって、
該樹脂層は、
構造式（１）〜（６）で示される構造からなる群より選択される少なくとも１つのカチオン構造を有する樹脂と、
アニオンと、
無機粒子と、を含み、
該樹脂層から抽出された該無機粒子から算出される疎水化度が、４０％以上８０％以下である、ことを特徴とする電子写真部材：
【化１】
2020024407.tif 000063
［構造式（１）中、
Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基を表す。
Ｚ１〜Ｚ３は、各々独立に、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、
Ｚ１〜Ｚ３の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造である。］
【化２】
2020024407.tif 000064
［構造式（２）中、
Ｒ２およびＲ３は、各々が結合する窒素原子と共に含窒素複素芳香族５員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、
Ｚ４およびＺ５は、各々独立に構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｚ６は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、
Ｚ４〜Ｚ６の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造であり、
ｄ１は０または１の整数を表す。］
【化３】
2020024407.tif 000065
［構造式（３）中、
Ｒ４およびＲ５は、各々が結合する窒素原子と共に含窒素複素芳香族６員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、
Ｚ７は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、
Ｚ８は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、
Ｚ７およびＺ８の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造であり、
ｄ２は０〜２の整数を表し、ｄ２が２であるとき、Ｚ８はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。］
【化４】
2020024407.tif 000066
［構造式（４）中、
Ｒ６およびＲ７は、各々が結合する窒素原子と共に含窒素複素脂環式基を形成するのに必要な炭化水素基を表し、
Ｚ９〜Ｚ１１は、各々独立に構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、
Ｚ１２は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、
Ｚ９〜Ｚ１２の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造であり、
ｄ３は０〜２の整数を表し、ｄ３が２であるとき、Ｚ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。］
【化５】
2020024407.tif 000067
［構造式（５）中、
Ｒ８は、結合する窒素原子と共に含窒素芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、
Ｚ１３は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、
Ｚ１４は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、
Ｚ１３およびＺ１４の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造であり、
ｄ４は０または１の整数を表す。］
【化６】
2020024407.tif 000068
［構造式（６）中、
Ｒ９は、結合する窒素原子と共に含窒素脂環式基を形成するのに必要な炭化水素基を表し、
Ｚ１５およびＺ１６は、各々独立に構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、
Ｚ１７は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、
Ｚ１５〜Ｚ１７の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造であり、
ｄ５は０または１の整数を表す。］
【化７】
2020024407.tif 000069
【化８】
2020024407.tif 000070
【化９】
2020024407.tif 000071
［構造式（Ｚ１０１）、（Ｚ１０２）、および（Ｚ１０３）中、
Ｒ１０、Ｒ１１、およびＲ１２は、各々独立に直鎖または分岐を有する２価の炭化水素基を表す。
記号「＊」は、構造式（１）中の窒素原子との結合部または構造式（２）〜（６）中の含窒素複素環中の窒素原子若しくは含窒素複素環中の炭素原子との結合部を表し、
記号「＊＊」は、前記カチオン構造を有する樹脂を構成するポリマー鎖中の炭素原子との結合部を表す。］。
【請求項２】
前記カチオン構造を有する樹脂は、さらに、構造式（７）〜（９）で示される構造からなる群より選択される少なくとも１つの構造を有する請求項１に記載の電子写真部材：
【化１０】
2020024407.tif 000072
［構造式（７）中、Ｒ１３は、炭素数４〜６の直鎖または分岐を有する２価の炭化水素基を表す。］
【化１１】
2020024407.tif 000073
［構造式（８）中、Ｒ１４は、炭素数４〜８の直鎖または分岐を有する２価の炭化水素基を表す。］
【化１２】
2020024407.tif 000074
［構造式（９）中、Ｒ１５は、炭素数５〜８の直鎖または分岐を有する２価の炭化水素基を表す。］。
【請求項３】
前記アニオンは、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン、フルオロスルホニルイミドアニオン、フルオロアルキルスルホネートアニオン、フルオロスルホネートアニオン、フルオロアルキルカルボン酸アニオン、フルオロアルキルメチドアニオン、フルオロホウ酸アニオン、フルオロリン酸アニオン、ジシアナミドアニオンおよびチオシアネートアニオンからなる群より選択される少なくとも１つである、請求項１または２に記載の電子写真部材。
【請求項４】
疎水化度が４０％以上８０％以下である前記無機粒子が、シリカ粒子である請求項１〜３のいずれか一項に記載の電子写真部材。
【請求項５】
前記構造式（２）で示される構造が、構造式（１０）で示される構造である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の電子写真部材：
【化１３】
2020024407.tif 000075
［構造式（１０）中、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ６、およびｄ１は、前記構造式（２）と同様である。］。
【請求項６】
前記構造式（４）で示される構造が、構造式（１１）で示される構造である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の電子写真部材。
【化１４】
2020024407.tif 000076
［構造式（１１）中、Ｚ９、Ｚ１０、Ｚ１１、Ｚ１２、およびｄ３は、前記構造式（４）と同様である。］。
【請求項７】
前記構造式（５）で示される構造が、構造式（１２）で示される構造である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の電子写真部材：
【化１５】
2020024407.tif 000077
［構造式（１２）中、Ｚ１３、Ｚ１４、およびｄ４は、前記構造式（５）と同様である。］。
【請求項８】
前記構造式（６）で示される構造が、構造式（１３）で示される構造である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の電子写真部材：
【化１６】
2020024407.tif 000078
［構造式（１３）中、Ｚ１５、Ｚ１６、Ｚ１７、およびｄ５は、前記構造式（６）と同様である。］。
【請求項９】
電子写真画像形成装置の本体に着脱可能に構成されているプロセスカートリッジであって、帯電手段、現像手段、クリーニング手段からなる群から選択される少なくとも１つの手段を有し、該手段のうち少なくとも１つが請求項１〜８のいずれか一項に記載の電子写真部材を有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項１０】
帯電手段、現像手段、クリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段を有し、該手段のうち少なくとも１つが請求項１〜８のいずれか一項に記載の電子写真部材を有することを特徴とする電子写真画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真画像形成装置に用いられる電子写真部材、プロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真画像形成装置において、現像ローラ、帯電部材、トナー供給ローラ、クリーニングブレードおよび現像ブレードの如き電子写真部材として、例えば、１×１０５Ω〜１×１０９Ωの如き電気抵抗値（以下、「抵抗値」と称す。）を有する導電層を備えた電子写真部材が用いられている。特許文献１には、特定のカチオン構造を有するイオン液体とポリオールとポリイソシアネートとを硬化してなる導電性ローラが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−１１８１１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
電子写真画像形成装置には、苛酷な環境下においても安定して優れた電子写真画像を形成できることが求められている。本発明者らの検討によれば、特許文献１に係る導電性ローラは、特に温度０℃の如き低温環境において抵抗値が上昇することがあった。
【０００５】
本発明の一態様は、温度０℃の如き低温環境下においても抵抗値の上昇が少ない電子写真部材の提供に向けたものである。また、本発明の他の態様は、高品位な電子写真画像を安定して出力できる電子写真画像形成装置およびそれに用いられるプロセスカートリッジの提供に向けたものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様によれば、導電性の基体と、該基体上の樹脂層と、を有する電子写真部材であって、該樹脂層は、構造式（１）〜（６）で示される構造からなる群より選択される少なくとも１つのカチオン構造を有する樹脂と、アニオンと、無機粒子と、を含み、該樹脂層から抽出された該無機粒子から算出される疎水化度が、４０％以上８０％以下である、電子写真部材が提供される。
【化１】
2020024407.tif 000003
構造式（１）中、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基を表す。Ｚ１〜Ｚ３は、各々独立に構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｚ１〜Ｚ３の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造である。
【化２】
2020024407.tif 000004
構造式（２）中、Ｒ２およびＲ３は、各々が結合する窒素原子と共に含窒素複素芳香族５員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｚ４およびＺ５は、各々独立に構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｚ６は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｚ４〜Ｚ６の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造であり、ｄ１は０または１の整数を表す。
【化３】
2020024407.tif 000005
構造式（３）中、Ｒ４およびＲ５は、各々が結合する窒素原子と共に含窒素複素芳香族６員環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｚ７は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｚ８は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｚ７およびＺ８の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造である。ｄ２は０〜２の整数を表し、ｄ２が２であるとき、Ｚ８はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【化４】
2020024407.tif 000006
構造式（４）中、Ｒ６およびＲ７は、各々が結合する窒素原子と共に含窒素複素脂環式基を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｚ９〜Ｚ１１は、各々独立に構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｚ１２は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｚ９〜Ｚ１２の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造であり、ｄ３は０〜２の整数を表し、ｄ３が２であるとき、Ｚ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【化５】
2020024407.tif 000007
構造式（５）中、Ｒ８は、結合する窒素原子と共に含窒素芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｚ１３は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｚ１４は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｚ１３およびＺ１４の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造であり、ｄ４は０または１の整数を表す。
【化６】
2020024407.tif 000008
構造式（６）中、Ｒ９は、結合する窒素原子と共に含窒素脂環式基を形成するのに必要な炭化水素基を表し、Ｚ１５およびＺ１６は、各々独立に構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｚ１７は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｚ１５〜Ｚ１７の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造であり、ｄ５は０または１の整数を表す。
【化７】
2020024407.tif 000009
【化８】
2020024407.tif 000010
【化９】
2020024407.tif 000011
構造式（Ｚ１０１）、（Ｚ１０２）、および（Ｚ１０３）中、Ｒ１０、Ｒ１１、およびＲ１２は、各々独立に直鎖または分岐を有する２価の炭化水素基を表す。記号「＊」は、構造式（１）中の窒素原子との結合部または構造式（２）〜（６）中の含窒素複素環中の窒素原子若しくは含窒素複素環中の炭素原子との結合部を表し、記号「＊＊」は、前記カチオン構造を有する樹脂を構成するポリマー鎖中の炭素原子との結合部を表す。
【０００７】
また本発明の他の態様によれば、電子写真画像形成装置の本体に着脱可能に構成されているプロセスカートリッジであって、上記の電子写真部材を有するプロセスカートリッジが提供される。
【０００８】
さらに本発明の他の態様によれば、上記の電子写真部材を有する電子写真画像形成装置が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の一態様によれば、特定のカチオン構造を含有する樹脂と、アニオンと、疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子との組合せを樹脂層に含むことにより、温度０℃の如き低温環境下での使用によっても抵抗値の上昇が少ない電子写真部材が得られる。また本発明の他の態様によれば、高品位な電子写真画像を安定して出力できるプロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態に係る電子写真ローラの概略断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る電子写真ブレードを示す概略断面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る電子写真画像形成装置の概略断面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係るプロセスカートリッジを示す概略構成図である。
【図５】現像ローラの抵抗値を評価するための冶具の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（１）電子写真部材
本発明の一実施形態に係る電子写真部材は、導電性の基体および該基体上の導電性の樹脂層を有する。
電子写真部材の一例として、ローラ形状を有する電子写真部材（以降、「電子写真ローラ」ともいう）を、図１（ａ）〜（ｃ）に示す。図１（ａ）に示す電子写真ローラ１Ａは、導電性の基体２と、その外周に設けられた導電性の樹脂層３とからなる。図１（ｂ）に示すように、基体２と樹脂層３との間に、さらに弾性層４が設けられていてもよい。
また、電子写真ローラ１Ａは、図１（ｃ）に示すように、弾性層４と樹脂層３の間に中間層５を配置した３層構造であってもよく、中間層５が複数配置された多層構成であってもよい。電子写真ローラ１Ａにおいて、本発明の電子写真部材がより効果的に奏するためには、図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、樹脂層３が電子写真ローラ１Ａの最表層として存在していることが好ましい。また、電子写真ローラ１Ａは、弾性層４を有することが好ましい。
【００１２】
なお、電子写真ローラ１Ａの層構成は、樹脂層３が電子写真ローラ１Ａの最表層に存在するものに限定されるものではない。電子写真ローラ１Ａとしては、基体２とその外周に設けられた導電性の樹脂層３の上にさらに表面層を有するものや、樹脂層３を中間層５として有するものも挙げられる。
【００１３】
また、電子写真部材の他の例として、ブレード形状を有する電子写真部材（以降、「電子写真ブレード」ともいう）が挙げられる。図２（ａ）および（ｂ）は、電子写真ブレード１Ｂの概略断面図である。図２（ａ）に示す電子写真ブレード１Ｂは、導電性の基体２と、その外周に設けられた導電性の樹脂層３とから構成されている。図２（ｂ）に示す電子写真ブレード１Ｂにおいては、基体２と樹脂層３との間にさらに弾性層４が設けられている。
【００１４】
電子写真部材は、現像ローラ、帯電ローラ、トナー供給ローラ、現像ブレード、およびクリーニングブレードに用いることが可能である。特に、現像ローラ、現像ブレード、帯電ローラおよびトナー供給ローラとして好適に用いることが可能である。以下、本発明の一実施形態に係る電子写真部材の構成を詳細に説明する。
【００１５】
＜基体＞
基体２は、電子写真部材の支持部材、および場合によっては電極として機能する。基体２は、アルミニウム、銅合金、ステンレス鋼の如き金属または合金；クロムまたはニッケルで鍍金処理を施した鉄；導電性を有する合成樹脂の如き導電性の材質で構成される。電子写真部材がローラ形状である場合、基体２は、中実円柱状または中空円筒状であり、電子写真部材がブレード形状である場合、基体２は、薄板形状である。
【００１６】
＜弾性層＞
弾性層４は、特に、電子写真部材が電子写真ローラ１Ａである場合、電子写真ローラ１Ａと感光体との当接部において、所定の幅のニップを形成するために必要な弾性を電子写真ローラ１Ａに与えるものである。弾性層４は、ゴム材料を含むことが好ましい。ゴム材料としては、以下のものが挙げられる。エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム、アクリルニトリル−ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、フッ素ゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、ウレタンゴム。これらは１種を単独で、または２種以上を混合して用いることができる。これらの中でも、圧縮永久歪みおよび柔軟性の観点から、シリコーンゴムが好ましい。シリコーンゴムとしては、付加硬化型のシリコーンゴムの硬化物が挙げられる。
【００１７】
弾性層４の成形方法としては、液状ゴム材料を型成形する方法や、混練ゴム材料を押出し成形する方法が挙げられる。弾性層の厚さは、０．３ｍｍ以上４．０ｍｍ以下であることが好ましい。
【００１８】
弾性層４には、導電性を付与するために、導電性付与剤が適宜配合される。導電性付与剤としては、カーボンブラック；アルミニウム、銅の如き導電性金属；酸化錫、酸化チタンの如き導電性金属酸化物の微粒子を用いることができる。これらの中でも、比較的容易に入手でき、良好な導電性が得られる点から、カーボンブラックが好ましい。導電性付与剤としてカーボンブラックを用いる場合は、ゴム材料１００質量部に対してカーボンブラックを２〜５０質量部配合することが好ましい。
【００１９】
弾性層４には、非導電性充填剤、架橋剤、触媒の如き各種添加剤が適宜配合されていてもよい。非導電性充填剤としては、シリカ、石英粉末、酸化チタン、または炭酸カルシウムが挙げられる。架橋剤としては、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサンまたはジクミルパーオキサイドが挙げられる。触媒としては、白金触媒が挙げられる。
【００２０】
＜樹脂層＞
樹脂層３は、構造式（１）〜（６）で示される構造からなる群より選択される少なくとも１つのカチオン構造を有する樹脂と、アニオンと、疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子とを含む。
該樹脂は、例えば、構造式（１）〜（６）で示される構造に対応する構造を有し、かつ、水酸基、アミノ基、およびグリシジル基からなる群から選ばれる基を少なくとも１個有するイオン化合物と、ポリオールおよびポリイソシアネートとの少なくとも一方と、を反応させることにより得られる。
該樹脂は、導電性を担うアニオンの担持体として機能する。なお、樹脂層３には、カチオン構造を有する樹脂とは別の樹脂が含まれていても良い。
【００２１】
本態様に係る電子写真部材が、０℃近辺の低温環境下においても、抵抗値の上昇が抑制されるという効果を奏する理由について、本発明者らは以下のように推測している。
【００２２】
電子写真部材に対して電圧を印加した場合、樹脂層中のアニオンは、樹脂層中を移動する。アニオンは、電圧を印加している間は、移動先に留まり、樹脂層中ではアニオンが偏在する。樹脂層中に存在するアニオンの総量は一定であるため、電圧の印加状態が継続するにつれて、樹脂層中を移動可能なアニオンの量が減少する。その結果、抵抗値が経時的に上昇する。
一方、電子写真部材に対する電圧の印加が終了すると、樹脂層中において、偏在していたアニオンは拡散していき、一旦上昇した抵抗値が低下していく。しかしながら、電圧印加中のアニオンの移動に比べ、電圧印加終了後のアニオンの拡散には時間を要するそのため、樹脂層中のアニオンの存在状態が、電圧印加前の状態に戻る前に再び電圧が印加されると、電子写真部材の抵抗値が上昇することとなる。
【００２３】
特に、温度０℃の如き低温環境下においては、分子の運動性が低下し、アニオンの担持体である樹脂に結晶性が発現する。そのため、電圧印加終了後のアニオンの拡散が阻害されることにより、抵抗値の低下も阻害されるものと考えられる。
【００２４】
一般に電子写真部材の樹脂層は、分散性の観点から未処理のまたは親水化処理を施した、シリカ、石英粉末、酸化チタン、酸化亜鉛および炭酸カルシウムの如き無機粒子を充填剤として含有している。これらの無機粒子は、樹脂層形成用塗料に添加することにより、樹脂層の形成工程において該塗料をコーティングする際に、成膜助剤や補強材としての機能を発揮する。一方で、本発明者らの検討の結果、こうした未処理のまたは親水化処理を施した無機粒子が、０℃の如き低温環境下で生じる樹脂層中でのアニオンの拡散の阻害による、電子写真部材の抵抗値の低下の阻害を助長していることを見出した。未処理のまたは親水化処理を施した無機粒子の表面には、比較的極性の高い官能基が存在しており、この比較的極性の高い官能基、すなわち電気的に偏りを持った官能基は、負電荷を帯びたアニオンと相互作用し、アニオンの移動性を阻害すると考えられる。その結果、アニオンの再拡散の阻害による電子写真部材の抵抗値の上昇が生じると考えられる。
【００２５】
本態様においては、前記検討の結果を鑑み、分散性に劣る疎水化度４０％以上の無機粒子を樹脂層に用いた。こうして、０℃の如き低温環境下での電子写真部材の抵抗値上昇抑制を達成した。充填剤を、疎水化度４０％以上の無機粒子、すなわち表面官能基の極性を低減した無機粒子とすることで、アニオンと相互作用の強い表面官能基を減らし、アニオンの再拡散の阻害を抑制する。結果として、特に０℃の如き低温環境下で、顕著な抵抗値の上昇の抑制に奏功していると推測している。一方で、無機粒子の疎水化度が８０％を超える場合は、電子写真部材の樹脂層３に含有されるカチオン構造を有する樹脂との極性差が大きくなり、無機粒子の凝集が発生する。無機粒子が凝集した部分には、イオンキャリアであるアニオンが存在しえないため、アニオンの粗密が生じると考えられる。その結果、無機粒子が凝集した部分で抵抗値の上昇が顕著となると推測される。
【００２６】
さらに、本態様に係る樹脂層３中の樹脂は、前記したカチオン構造と共に、下記の構造式（７）〜（９）で示される構造からなる群より選択される少なくとも１つの構造を有することが好ましい。
【化１０】
2020024407.tif 000012
［構造式（７）中、Ｒ１３は、炭素数４〜６の直鎖または分岐を有する２価の炭化水素基を表す。］
【化１１】
2020024407.tif 000013
［構造式（８）中、Ｒ１４は、炭素数４〜８の直鎖または分岐を有する２価の炭化水素基を表す。］
【化１２】
2020024407.tif 000014
［構造式（９）中、Ｒ１５は、炭素数５〜８の直鎖または分岐を有する２価の炭化水素基を表す。］。
【００２７】
これらの構造により、充填剤の分散性が良化し、樹脂層の表面のタック性が低減し、トナー固着が低減することが見出された。このような効果を奏する理由について、本発明者らは以下のように推測している。すなわち、樹脂中の、構造式（７）〜（９）で示される構造の部分は、樹脂中で相対的に極性が低いため、当該部分と疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子の親和性が高まると考えられる。その結果、該無機粒子が、樹脂のポリマー鎖中に入り込みやすく、該無機粒子が樹脂層中で凝集するのを抑制し得ると考えられる。該無機粒子の凝集が抑制されると、樹脂層中において、微視的に該無機粒子が存在しない領域が減り、樹脂層３の表面のタック性が低減すると考えられる。
【００２８】
［樹脂］
本樹脂層３に含有される樹脂は、水酸基、アミノ基、グリシジル基由来の基を少なくとも１個有するイオン化合物と、バインダー樹脂とを反応させることにより得られるカチオン構造を有する。バインダー樹脂としては、イオン化合物以外の化合物、好ましくはポリオールと、ポリイソシアネートと、を反応させることにより得られるウレタン樹脂を用いることが好ましい。また、ウレタン樹脂のポリマー鎖は、前記した構造式（７）〜（９）で示される構造のうちの少なくとも１つの構造を有することが好ましい。
【００２９】
（カチオン構造）
イオン化合物は、構造式（１）〜（６）で示される構造からなる群より選択される少なくとも１つのカチオン構造を有する。以下、構造式（１）〜（６）で示される各構造について説明する。
【００３０】
【化１３】
2020024407.tif 000015
構造式（１）中、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基を表す。炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。Ｚ１〜Ｚ３は、各々独立に構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造または炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｚ１〜Ｚ３の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造である。該炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。
【００３１】
構造式（１）で示される構造は、水酸基、アミノ基、またはグリシジル基由来の基を少なくとも１個有するアンモニウムカチオンである。構造式（１）で示される構造が、水酸基由来の基を少なくとも１個有するアンモニウムカチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物とイソシアネート基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０１）で示される構造を１個有する構造が得られる。構造式（１）で示される構造が、アミノ基由来の基を少なくとも１個有するアンモニウムカチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物とイソシアネート基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０２）で示される構造を１個有する構造が得られる。構造式（１）で示される構造が、グリシジル基由来の基を少なくとも１個有するアンモニウムカチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物と水酸基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０３）で示される構造を１個有する構造が得られる。
【００３２】
構造式（１）で示される構造の例として、水酸基を有するアンモニウムカチオンを以下に挙げる。
２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムカチオン、２−ヒドロキシエチルトリエチルアンモニウムカチオン、４−ヒドロキシブチルトリメチルアンモニウムカチオン、４−ヒドロキシブチル−トリ−ｎ−ブチルアンモニウムカチオン、８−ヒドロキシオクチルトリメチルアンモニウムカチオン、８−ヒドロキシオクチル−トリ−ｎ−ブチルアンモニウムカチオン；
ビス（ヒドロキシメチル）ジメチルアンモニウムカチオン、ビス（２−ヒドロキシエチル）ジメチルアンモニウムカチオン、ビス（３−ヒドロキシプロピル）ジメチルアンモニウムカチオン、ビス（４−ヒドロキシブチル）ジメチルアンモニウムカチオン、ビス（８−ヒドロキシオクチル）ジメチルアンモニウムカチオン、ビス（８−ヒドロキシオクチル）−ジ−ｎ−ブチルアンモニウムカチオン；
トリス（ヒドロキシメチル）メチルアンモニウムカチオン、トリス（２−ヒドロキシエチル）メチルアンモニウムカチオン、トリス（３−ヒドロキシプロピル）メチルアンモニウムカチオン、トリス（４−ヒドロキシブチル）メチルアンモニウムカチオン、トリス（８−ヒドロキシオクチル）メチルアンモニウムカチオン；およびこれらの誘導体。
【００３３】
アミノ基、グリシジル基を少なくとも１個有するアンモニウムカチオンは、これらの水酸基を、アミノ基、グリシジル基で置換した構造のカチオンが挙げられる。
【００３４】
【化１４】
2020024407.tif 000016
構造式（２）中、Ｒ２およびＲ３は、各々が結合する窒素原子と共に含窒素複素芳香族５員環を形成するのに必要な炭化水素基を表す。Ｚ４およびＺ５は、各々独立に構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表す。該炭化水素基としてはアルキル基が好ましい。Ｚ６は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、炭素数１〜４の炭化水素基を表す。該炭化水素基としてはアルキル基が好ましい。ｄ１は０または１の整数を表し、Ｚ４〜Ｚ６の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造である。
【００３５】
構造式（２）で示される構造は、水酸基、アミノ基、またはグリシジル基由来の基を少なくとも１個有する窒素原子を２個含む含窒素複素芳香族５員環カチオンである。構造式（２）で示される構造が、水酸基由来の基を少なくとも１個有する含窒素複素芳香族５員環カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物とイソシアネート基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０１）で示される構造を１個有する構造が得られる。構造式（２）で示される構造が、アミノ基由来の基を少なくとも１個有する含窒素複素芳香族５員環カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物とイソシアネート基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０２）で示される構造を１個有する構造が得られる。構造式（２）で示される構造が、グリシジル基由来の基を少なくとも１個有する含窒素複素芳香族５員環カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物をと水酸基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０３）で示される構造を１個有する構造が得られる。
【００３６】
構造式（２）における含窒素複素芳香族５員環としてはイミダゾリウムが好ましく、構造式（２）で示される構造として好ましい構造としては、構造式（１０）で示されるイミダゾリン環を有する構造が挙げられる。なお、構造式（１０）中、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ６、およびｄ１は、前記構造式（２）と同様である。
【化１５】
2020024407.tif 000017
【００３７】
構造式（２）で示される構造の例として、イミダゾリン環構造を有し、水酸基を有するカチオンを以下に挙げる。
１−メチル−３−ヒドロキシメチルイミダゾリウムカチオン、１−メチル−３−（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、１−メチル−３−（３−ヒドロキシプロピル）イミダゾリウムカチオン、１−メチル−３−（４−ヒドロキシブチル）イミダゾリウムカチオン、１−メチル−３−（６−ヒドロキシヘキシル）イミダゾリウムカチオン、１−メチル−３−（８−ヒドロキシオクチル）イミダゾリウムカチオン、１−エチル−３−（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、１−ｎ−ブチル−３−（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、１，３−ジメチル−２−（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、１，３−ジメチル−２−（４−ヒドロキシブチル）イミダゾリウムカチオン、１，３−ジメチル−４−（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン；
１，３−ビスヒドロキシメチルイミダゾリウムカチオン、１，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、２−メチル−１，３−ビスヒドロキシメチルイミダゾリウムカチオン、２−メチル−１，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、４−メチル−１，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、２−エチル−１，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、４−エチル−１，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、２−ｎ−ブチル−１，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、４−ｎ−ブチル−１，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、１，３−ビス（３−ヒドロキシプロピル）イミダゾリウムカチオン、１，３−ビス（４−ヒドロキシブチル）イミダゾリウムカチオン、１，３−ビス（６−ヒドロキシヘキシル）イミダゾリウムカチオン、１，３−ビス（８−ヒドロキシオクチル）イミダゾリウムカチオン、１−メチル−２，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、１−メチル−３，４−ビス（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、１−メチル−３，５−ビス（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン；
１，２，３−トリスヒドロキシメチルイミダゾリウムカチオン、１，２，３−トリス（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、１，２，３−トリス（３−ヒドロキシプロピル）イミダゾリウムカチオン、１，２，３−トリス（４−ヒドロキシブチル）イミダゾリウムカチオン、１，２，３−トリス（６−ヒドロキシヘキシル）イミダゾリウムカチオン、１，２，３−トリス（８−ヒドロキシオクチル）イミダゾリウムカチオン、１，３，４−トリス（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリウムカチオン、１，３，４−トリス（３−ヒドロキシプロピル）イミダゾリウムカチオン、１，３，４−トリス（４−ヒドロキシブチル）イミダゾリウムカチオン、１，３，４−トリス（６−ヒドロキシヘキシル）イミダゾリウムカチオン、１，３，４−トリス（８−ヒドロキシオクチル）イミダゾリウムカチオン；およびこれらの誘導体。
【００３８】
アミノ基、グリシジル基を少なくとも１個有するカチオンは、これらの水酸基を、アミノ基、グリシジル基で置換した構造のカチオンが挙げられる。
【００３９】
【化１６】
2020024407.tif 000018
構造式（３）中、Ｒ４およびＲ５は、各々が結合する窒素原子と共に含窒素複素芳香族６員環を形成するのに必要な炭化水素基を表す。Ｚ７は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。Ｚ８は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。ｄ２は０〜２の整数を表し、Ｚ７およびＺ８の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造である。ｄ２が２であるとき、Ｚ８はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００４０】
構造式（３）で示される構造は、水酸基、アミノ基、またはグリシジル基由来の基を少なくとも１個有する窒素原子を２個含む含窒素複素芳香族６員環カチオンを表す。構造式（３）で示される構造が、水酸基由来の基を少なくとも１個有する含窒素複素芳香族６員環カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物とイソシアネート基とを反応させることに、少なくとも構造式（Ｚ１０１）で示される構造を１個有する構造が得られる。構造式（３）で示される構造が、アミノ基由来の基を少なくとも１個有する含窒素複素芳香族６員環カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物とイソシアネート基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０２）で示される構造を１個有する構造が得られる。構造式（３）で示される構造が、グリシジル基由来の基を少なくとも１個有する含窒素複素芳香族６員環カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物と水酸基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０３）で示される構造を１個有する構造が得られる。
構造式（３）における含窒素複素芳香族６員環としては、ピリミジン環、ピラジン環が挙げられる。
【００４１】
構造式（３）で示される構造の例として、ピリミジン環構造を有し、水酸基を有するカチオンを以下に挙げる。
１，４−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピリミジニウムカチオン、１，５−ビス（３−ヒドロキシプロピル）ピリミジニウムカチオン、１−（４−ヒドロキシブチル）−４−（２−ヒドロキシエチル）ピリミジニウムカチオン、１，４−ビス（２−ヒドロキシエチル）−２−メチルピリミジニウムカチオン；およびこれらの誘導体。
【００４２】
アミノ基、グリシジル基を少なくとも１個有するカチオンは、これらの水酸基をアミノ基、グリシジル基で置換した構造のカチオンが挙げられる。
【００４３】
【化１７】
2020024407.tif 000019
構造式（４）中、Ｒ６およびＲ７は、各々が結合する窒素原子と共に含窒素複素脂環式基を形成するのに必要な炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキレン基が好ましい。Ｚ９〜Ｚ１１は、各々独立に構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。Ｚ１２は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。ｄ３は０〜２の整数を表し、Ｚ９〜Ｚ１２の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造である。ｄ３が２であるとき、Ｚ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００４４】
構造式（４）で示される構造は、水酸基、アミノ基、またはグリシジル基由来の基を少なくとも１個有する窒素原子を２個含む含窒素複素脂環式カチオンを表す。構造式（４）で示される構造が、水酸基由来の基を少なくとも１個有する含窒素複素脂環式カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物をとイソシアネート基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０１）で示される構造を１個有する構造が得られる。構造式（４）で示される構造が、アミノ基由来の基を少なくとも１個有する含窒素複素脂環式カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物とイソシアネート基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０２）で示される構造を１個有する構造が得られる。構造式（４）で示される構造が、グリシジル基由来の基を少なくとも１個有する含窒素複素脂環式カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物と水酸基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０３）を１個有する構造が得られる。
【００４５】
構造式（４）における含窒素複素脂環式基としては、ピペラジン基、イミダゾリン基、イミダゾリジン基、１，３−ジアゼパン基、１，４−ジアゼパン基が挙げられる。なかでも、ピペラジン基が好ましく、構造式（４）で示される構造は、好ましくは構造式（１１）で示される構造である。なお、構造式（１１）中、Ｚ９、Ｚ１０、Ｚ１１、Ｚ１２、およびｄ３は、前記構造式（４）と同様である。
【化１８】
2020024407.tif 000020
【００４６】
構造式（４）で示される構造の例として、ピペラジン基を有し、水酸基を有するカチオンを以下に挙げる。
１，１−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピペラジニウムカチオン、１，１，４−トリス（２−ヒドロキシエチル）ピペラジニウムカチオン、１，４−ビス（３−ヒドロキシプロピル）−１−エチルピペラジニウムカチオン、１，４−ビス（２−ヒドロキシエチル）−１，３−ジエチルピペラジニウムカチオン；およびこれらの誘導体。
【００４７】
アミノ基、グリシジル基を少なくとも１個有するカチオンとしては、これらの水酸基をアミノ基、グリシジル基で置換した構造のカチオンが挙げられる。
【００４８】
【化１９】
2020024407.tif 000021
構造式（５）中、Ｒ８は、結合する窒素原子と共に含窒素芳香族環を形成するのに必要な炭化水素基を表す。Ｚ１３は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。Ｚ１４は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。ｄ４は０または１の整数を表し、Ｚ１３およびＺ１４の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造である。
【００４９】
構造式（５）で示される構造は、水酸基、アミノ基、グリシジル基由来の基を少なくとも１個有する窒素原子を１個含む含窒素芳香族環カチオンを表す。構造式（５）で示される構造が、水酸基由来の基少なくとも１個有する含窒素芳香族環カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物とイソシアネート基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０１）で示される構造を１個有する構造が得られる。構造式（５）で示される構造が、アミノ基由来の基を少なくとも１個有する含窒素芳香族環カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物とイソシアネート基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０２）で示される構造を１個有する構造が得られる。構造式（５）で示される構造が、グリシジル基由来の基を少なくとも１個有する含窒素芳香族環カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物と水酸基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０３）で示される構造を１個有する構造が得られる。
【００５０】
構造式（５）における含窒素芳香族環としては、ピロール環、ピリジン環、アゼピン環が挙げられる。なかでも、ピリジン環が好ましく、構造式（５）で示される構造は、好ましくは構造式（１２）で示される構造である。なお、構造式（１２）中、Ｚ１３、Ｚ１４、およびｄ４は、前記構造式（５）と同様である。
【化２０】
2020024407.tif 000022
【００５１】
構造式（５）で示される構造の例として、ピリジン環構造を有し、水酸基を有するカチオンを以下に挙げる。
１−ヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、１−（３−ヒドロキシプロピル）ピリジニウムカチオン、１−（４−ヒドロキシブチル）ピリジニウムカチオン、１−（６−ヒドロキシヘキシル）ピリジニウムカチオン、１−（８−ヒドロキシオクチル）ピリジニウムカチオン、２−メチル−１−（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、３−メチル−１−（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、４−メチル−１−（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、３−エチル−１−（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、３−ｎ−ブチル−１−（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、１−メチル−２−ヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、１−メチル−３−ヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、１−メチル−４−ヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、１−メチル−２−（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、１−メチル−３−（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、１−メチル−４−（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、１−エチル−３−（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、１−ｎ−ブチル−３−（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、２−メチル−４−ｎ−ブチル−１−（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン；
１，２−ビスヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、１，３−ビスヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、１，４−ビスヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、１，２−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、１，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、１，４−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、１，２−ビス（３−ヒドロキシプロピル）ピリジニウムカチオン、１，３−ビス（３−ヒドロキシプロピル）ピリジニウムカチオン、１，４−ビス（３−ヒドロキシプロピル）ピリジニウムカチオン、１，２−ビス（４−ヒドロキシブチル）ピリジニウムカチオン、１，３−ビス（４−ヒドロキシブチル）ピリジニウムカチオン、１，４−ビス（４−ヒドロキシブチル）ピリジニウムカチオン、１，２−ビス（６−ヒドロキシヘキシル）ピリジニウムカチオン、１，３−ビス（６−ヒドロキシヘキシル）ピリジニウムカチオン、１，４−ビス（６−ヒドロキシヘキシル）ピリジニウムカチオン、１，２−ビス（８−ヒドロキシオクチル）ピリジニウムカチオン、１，３−ビス（８−ヒドロキシオクチル）ピリジニウムカチオン、１，４−ビス（８−ヒドロキシオクチル）ピリジニウムカチオン、２−メチル−１，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、２−エチル−１，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、５−メチル−１，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、５−エチル−１，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン；
１，２，４−トリスヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、１，２，４−トリス（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、１，２，４−トリス（３−ヒドロキシプロピル）ピリジニウムカチオン、１，２，４−トリス（４−ヒドロキシブチル）ピリジニウムカチオン、１，２，４−トリス（６−ヒドロキシヘキシル）ピリジニウムカチオン、１，２，４−トリス（８−ヒドロキシオクチル）ピリジニウムカチオン、１，３，５−トリスヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）ピリジニウムカチオン、１，３，５−トリス（３−ヒドロキシプロピル）ピリジニウムカチオン、１，３，５−トリス（４−ヒドロキシブチル）ピリジニウムカチオン、１，３，５−トリス（６−ヒドロキシヘキシル）ピリジニウムカチオン、１，３，５−トリス（８−ヒドロキシオクチル）ピリジニウムカチオン；およびこれらの誘導体。
【００５２】
アミノ基、グリシジル基を少なくとも１個有するカチオンとしては、これらの水酸基をアミノ基、グリシジル基で置換した構造のカチオンが挙げられる。
【００５３】
【化２１】
2020024407.tif 000023
構造式（６）中、Ｒ９は、結合する窒素原子と共に含窒素脂環式基を形成するのに必要な炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキレン基が好ましい。Ｚ１５およびＺ１６は、各々独立に構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。Ｚ１７は、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造、水素原子、または炭素数１〜４の炭化水素基を表す。該炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。ｄ５は０または１の整数を表し、Ｚ１５〜Ｚ１７の少なくとも１つは、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）で示される構造からなる群より選択されるいずれかの構造である。
【００５４】
構造式（６）で示される構造は、水酸基、アミノ基、グリシジル基由来の基を少なくとも１個有する含窒素脂環式カチオンを表す。構造式（６）で示される構造が、水酸基由来の基を少なくとも１個有する含窒素脂環式カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物とイソシアネート基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０１）で示される構造を１個有する構造が得られる。構造式（６）で示される構造が、アミノ基由来の基を少なくとも１個有する含窒素脂環式カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物とイソシアネート基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０２）で示される構造を１個有する構造が得られる。構造式（６）で示される構造が、グリシジル基由来の基を少なくとも１個有する含窒素脂環式カチオンの場合、該カチオンに対応するイオン化合物と水酸基とを反応させることにより、少なくとも構造式（Ｚ１０３）で示される構造を１個有する構造が得られる。
【００５５】
構造式（６）における含窒素脂環式基としては、ピロリジン基、ピロリン基、ピペリジン基、アゼパン基、アゾカン基が挙げられる。なかでも、ピロリジン基が好ましく、構造式（６）で示される構造は、好ましくは構造式（１３）で示される構造である。なお、構造式（１３）中、Ｚ１５、Ｚ１６、Ｚ１７、およびｄ５は、前記構造式（６）と同様である。
【化２２】
2020024407.tif 000024
【００５６】
構造式（６）で示される構造の例として、ピロリジン基を有し、水酸基を有するカチオンを以下に挙げる。
１−メチル−１，２−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピロリジニウムカチオン、１−エチル−１，２−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピロリジニウムカチオン、１−ブチル−１，２−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピロリジニウムカチオン、１−メチル−１，２−ビス（４−ヒドロキシブチル）ピロリジニウムカチオン；およびこれらの誘導体。
【００５７】
アミノ基、グリシジル基少なくとも１個を有するカチオンとしては、これらの水酸基をアミノ基、グリシジル基で置換した構造のカチオンが挙げられる。
【００５８】
【化２３】
2020024407.tif 000025
構造式（Ｚ１０１）中、Ｒ１０は、直鎖または分岐を有する２価の炭化水素基を表す。該炭化水素基は、直鎖または分岐を有する炭素数１〜８のアルキレン基であることが好ましい。
【化２４】
2020024407.tif 000026
構造式（Ｚ１０２）中、Ｒ１１は、直鎖または分岐を有する２価の炭化水素基を表す。該炭化水素基は、直鎖または分岐を有する炭素数１〜８のアルキレン基であることが好ましい。
【化２５】
2020024407.tif 000027
構造式（Ｚ１０３）中、Ｒ１２は、直鎖または分岐を有する２価の炭化水素基を表す。該炭化水素基は、直鎖または分岐を有する炭素数１〜８のアルキレン基であることが好ましい。なお、構造式（Ｚ１０１）〜（Ｚ１０３）中、記号「＊」は、構造式（１）中の窒素原子との結合部を表し、構造式（２）〜（６）中の含窒素複素環中の窒素原子または含窒素複素環中の炭素原子との結合部を表す。また、記号「＊＊」は、該樹脂を構成するポリマー鎖中の炭素原子との結合部を表す。
【００５９】
構造式（Ｚ１０１）で示される構造は、カチオンが有する水酸基と、イソシアネート基とが反応して形成される残基である。構造式（Ｚ１０２）で示される構造は、カチオンが有するアミノ基と、イソシアネート基とが反応して形成される残基である。水酸基、アミノ基と反応するイソシアネート基は、バインダー樹脂が有するイソシアネート基であることが好ましい。構造式（Ｚ１０３）で示される構造は、カチオンが有するグリシジル基と、水酸基とが反応して形成される残基である。グリシジル基と反応する水酸基は、バインダー樹脂が有する水酸基であることが好ましい。
【００６０】
前記構造式（１）〜（６）で示される構造の中でも、構造式（２）で示される構造を有する樹脂を含む場合、カチオンの化学構造に起因して、低温でもイオンキャリアの移動性に係るカチオンとアニオンに解離している割合（イオン化率）が高く、０℃近辺の低温環境下における抵抗値がより上昇しにくくなるため、好ましい。
【００６１】
（バインダー樹脂）
樹脂層３において、樹脂は、式（１）〜（６）で示される構造からなる群より選択される少なくとも１つで示される構造以外の構造をさらに有することが好ましい。そのような構造としては、バインダー樹脂由来の構造がより好ましい。
【００６２】
バインダー樹脂として含まれる樹脂としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、またはメラミンの如きアミノ樹脂が挙げられる。これらの中でも、皮膜の強度およびトナー帯電性の観点から、ポリウレタン樹脂、メラミン架橋樹脂が好ましい。中でも、熱硬化性ポリエーテルポリウレタン樹脂、熱硬化性ポリエステルポリウレタン樹脂等のポリウレタン樹脂は、柔軟性を併せ持つため好適に用いられる。
【００６３】
ポリウレタン樹脂は、公知のポリオールとイソシアネートとを反応させることにより得られる。ポリウレタン樹脂は、自己膜補強性およびイオン化合物との相溶性の観点から、ポリオールとイソシアネートとを反応させたウレタンプレポリマーポリオールが好ましい。ウレタンプレポリマーポリオールのポリオール成分としては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオールまたはポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール、アクリルポリオールが挙げられる。これらの中でも、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、およびポリカーボネートポリオールが好ましい。
すなわち、本発明の電子写真部材の樹脂層３において、樹脂がバインダー樹脂をさらに有する場合、バインダー樹脂中のポリマー鎖中のポリエーテルポリオール成分は、構造式（７）で示される構造に相当する。同様に、バインダー樹脂中のポリエステルポリオール成分またはポリカプロラクトンポリオール成分は、構造式（８）で示される構造に相当し、ポリカーボネートポリオール成分は、構造式（９）で示される構造に相当する。
【００６４】
ポリエーテルポリオールとしては、以下のものが挙げられる。ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ１，４−ブタンジオール、ポリ１，５−ペンタンジオール、ポリネオペンチルグリコール、ポリ３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ポリ１，６−ヘキサンジオール、ポリ１，８−オクタンジオール、ポリ１，９−ノナンジオール。これらの中でも、無機粒子凝集抑制の観点から、ポリプロピレングリコール、ポリ１，４−ブタンジオール、ポリ１，５−ペンタンジオール、ポリネオペンチルグリコール、ポリ３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ポリ１，６−ヘキサンジオールが好ましい。
【００６５】
また、ポリエステルポリオールとしては、以下のものが挙げられる。エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオールの如きジオール成分、またはトリメチロールプロパンの如きトリオール成分と、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、無水フタル酸、テレフタル酸、ヘキサヒドロキシフタル酸の如きジカルボン酸との縮合反応により得られるポリエステルポリオール。これらの中でも、無機粒子凝集抑制の観点から、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオールの如きジオール成分と、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸の如きジカルボン酸との縮合反応により得られるポリエステルポリオールが好ましい。
【００６６】
また、ポリカプロラクトンポリオールとしては、以下のものが挙げられる。ポリε−カプロラクトン、ポリγ−カプロラクトン。
【００６７】
また、ポリカーボネートポリオールとしては、以下のものが挙げられる。エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオールの如きジオール成分、ホスゲン、ジメチルカーボネートの如きジアルキルカーボネート、または、エチレンカーボネートの如き環状カーボネートとの縮合反応により得られるポリカーボネートポリオール。これらの中でも、無機粒子凝集抑制の観点から、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオールの如きジオール成分、ジメチルカーボネートの如きジアルキルカーボネートとの縮合反応により得られるポリカーボネートポリオールが好ましい。
【００６８】
これらのポリオール成分は、必要に応じて、あらかじめ２，４−トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）の如きイソシアネート化合物により鎖延長したプレポリマーとしてもよい。
【００６９】
イソシアネート化合物としては、特に限定されるものではないが、エチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）の如き脂肪族ポリイソシアネート；イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、シクロヘキサン−１，３−ジイソシアネート、シクロヘキサン−１，４−ジイソシアネートの如き脂環式ポリイソシアネート；２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートの如き芳香族イソシアネート；およびこれらの共重合物やイソシアヌレート体、ＴＭＰアダクト体、ビウレット体、そのブロック体を用いることができる。これらの中でも、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネートの如き芳香族イソシアネートが好ましい。
【００７０】
ポリオール成分とイソシアネート化合物とは、ポリオール成分中の水酸基１．０に対して、イソシアネート化合物中のイソシアネート基の比率（モル比）が１．０以上２．０以下の範囲となるように混合させることが好ましい。混合比が上記範囲内であれば、未反応成分の残存を抑制することが可能である。
【００７１】
［アニオン］
樹脂層３に含まれるアニオンは、本発明の電子写真部材に導電性を付与できるアニオンであればよい。中でも、特に、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン、フルオロスルホニルイミドアニオン、フルオロアルキルスルホネートアニオン、フルオロスルホネートアニオン、フルオロアルキルカルボン酸アニオン、フルオロアルキルメチドアニオン、フルオロホウ酸アニオン、フルオロリン酸アニオン、ジシアナミドアニオンおよびチオシアネートアニオンからなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましい。その理由は、上記アニオンは、その化学構造に起因して、ハロゲンのアニオンや硫酸アニオン、硝酸アニオンと比べて化学的に非常に安定であり、イオン化率が高いためである。具体的には、アニオンが分子内に強力な電子求引性基を有し、アニオンの負電荷を安定化させるため、広い温度域で高いイオン化率を示し、低温でも高い導電性の発現に寄与するためと考えられる。なお、アニオンとして、塩素のアニオンや過塩素酸アニオンを用いることもできる。
【００７２】
フルオロアルキルスルホニルイミドアニオンとしては、具体的には、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン、ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミドアニオン、ビス（ヘプタフルオロプロパンスルホニル）イミドアニオン、ビス（ノナフルオロブタンスルホニル）イミドアニオン、ビス（ドデカフルオロペンタンスルホニル）イミドアニオン、ビス（パーフルオロヘキサンスルホニル）イミドアニオンの如き、炭素数１以上６以下のフルオロアルキル基を有するフルオロアルキルスルホニルイミドアニオン、および、Ｎ，Ｎ−ヘキサフルオロプロパン−１，３−ジスルホニルイミドの如き環状のフルオロアルキルスルホニルイミドアニオンが挙げられる。
【００７３】
フルオロスルホニルイミドアニオンとしては、具体的には、ビス（フルオロスルホニル）イミドアニオンが挙げられる。
【００７４】
フルオロアルキルスルホネートアニオンとしては、具体的には、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、フルオロメタンスルホン酸アニオン、パーフルオロエタンスルホン酸アニオン、パーフルオロプロパンスルホン酸アニオン、パーフルオロブタンスルホン酸アニオン、パーフルオロペンタンスルホン酸アニオン、パーフルオロヘキサンスルホン酸アニオン、パーフルオロオクタンスルホン酸アニオンが挙げられる。
【００７５】
フルオロアルキルカルボン酸アニオンとしては、具体的には、トリフルオロ酢酸アニオン、パーフルオロプロピオン酸アニオン、パーフルオロ酪酸アニオン、パーフルオロ吉草酸アニオン、パーフルオロカプロン酸アニオンが挙げられる。
【００７６】
フルオロアルキルメチドアニオンとしては、具体的には、トリス（トリフルオロメタンスルホニル）メチドアニオン、トリス（パーフルオロエタンスルホニル）メチドアニオン、トリス（パーフルオロプロパンスルホニル）メチドアニオン、トリス（パーフルオロブタンスルホニル）メチドアニオン、トリス（パーフルオロペンタンスルホニル）メチドアニオン、トリス（パーフルオロヘキサンスルホニル）メチドアニオン、トリス（パーフルオロオクタンスルホニル）メチドアニオンが挙げられる。
【００７７】
フルオロホウ酸アニオンとしては、具体的には、テトラフルオロホウ酸アニオンが挙げられる。
【００７８】
フルオロリン酸アニオンしては、具体的には、ヘキサフルオロリン酸アニオンが挙げられる。
【００７９】
これらのアニオンの中でも、フルオロアルキルスルホニルイミドアニオン、フルオロスルホニルイミドアニオン、フルオロホウ酸アニオン、ジシアナミドアニオン、チオシアネートアニオンを用いた場合には、低温環境下における導電性の低下がより抑制されるため、特に好ましい。
【００８０】
［無機粒子］
樹脂層３においては、疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子を充填剤として用いる。該充填剤は、樹脂層形成用塗料に添加することにより、樹脂層の形成工程において該塗料をコーティングする際に、成膜助剤や補強材としての機能を発揮する。
【００８１】
無機粒子としては、以下のものが挙げられる。シリカ粒子、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、石英微粉末、ケイソウ土、塩基性炭酸マグネシウム、活性炭酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、タルク、雲母粉末、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ガラス繊維。これらの中でも、疎水化処理の容易性の観点から、シリカ粒子が好ましい。
【００８２】
シリカ粒子は大別して乾式シリカおよび湿式シリカの２種類があり、いずれも用いることができる。乾式シリカは、ケイ素ハロゲン化物の蒸気相酸化により生成され、ヒュームドシリカとも称される。湿式シリカは、水ガラスから生成される該シリカとしては、表面およびシリカの内部にあるシラノール基が少なく、また酸化ナトリウムや亜硫酸イオンの製造残滓の少ない乾式シリカが好ましい。また乾式シリカは、製造工程において例えば、塩化アルミニウム、塩化チタンの如き他の金属ハロゲン化合物をケイ素ハロゲン化合物と共に用いることによって、シリカと他の金属酸化物の複合微粉体として得ることも可能である。シリカ粒子としてはそれらの複合微粉体も含まれる。
【００８３】
無機粒子に対し、その表面を有機ケイ素化合物、有機チタン化合物などを処理剤として疎水化処理することができる。有機ケイ素化合物の処理剤としては、以下のものが挙げられる。未変性のシリコーンワニス、各種変性シリコーンワニス、未変性のシリコーンオイル、各種変性シリコーンオイル、シラン化合物、シランカップリング剤。これらの処理剤は、１種単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８４】
シリコーンオイルとしては、２５℃における粘度がおよそ３０〜１，０００ｍｍ２／ｓ（ｃＳｔ）の物が用いられ、例えばジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、α−メチルスチレン変性シリコーンオイル、クロルフェニルシリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイル等が好ましい。シリコーンオイル処理の方法は、無機粒子とシリコーンオイルとをヘンシェルミキサー等の混合機を用いて直接混合しても良いし、ベースとなる無機粒子へシリコーンオイルを噴射する方法によっても良い。或いは適当な溶剤にシリコーンオイルを溶解或いは分散させた後、ベースの無機粒子を混合し、溶剤を除去して作製しても良い。
【００８５】
シランカップリング剤としては、以下のものが挙げられる。ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン。上記シランカップリング剤を用いる場合、単独で処理する、または複数の種類を併用して処理することが可能である。複数の種類を併用する場合、それぞれのカップリング剤で個別に処理しても良いし、同時に処理しても良い。
【００８６】
シランカップリング剤による処理方法としては、乾式処理法と湿式処理法が挙げられる。乾式処理法は、まず、処理対象の無機粒子１００質量部に対し、例えば、約１質量部のシランカップリング剤と水またはアルコール水溶液とを混合し、シランカップリング剤水溶液を用意する。次に、該無機粒子をヘンシェルミキサーに仕込み、そこへ該シランカップリング剤水溶液を数十分かけて滴下または噴霧する。その後、処理した無機粒子を１００〜１５０℃で３０〜９０分かけ乾燥させたものをボールミル等で粉砕処理する。湿式処理法は、まず、処理対象の無機粒子に水またはアルコール水溶液を加え、スラリーにする。次に、乾式処理法と同様に用意したシランカップリング剤水溶液を該スラリーに添加、撹拌する。その後、ろ過を経て乾式処理法と同様に乾燥、粉砕処理を行う。
【００８７】
無機粒子の疎水化度については、４０％以上８０％以下が好ましく、６０％以上８０％以下がより好ましい。この疎水化度を確実に得るという観点から、前記処理方法としては、シリコーンオイル処理並びにシランカップリング剤による２段処理が好ましい。また、疎水化度は、処理剤種、処理剤使用量、撹拌時間、乾燥温度、乾燥時間により調整が可能である。
【００８８】
以下に、無機粒子の疎水化度の測定方法について説明する。粉体濡れ性試験機（商品名：ＷＥＴ−１００Ｐ、レスカ社製）を使用して、以下の方法で疎水化度は測定される。２５０ｍｌのトールビーカーに純水７０ｍｌを入れ、測定する粒子０．０３ｇを水面上に浮かべる。スターラーにより３００ｒｐｍで攪拌しながら、定量ポンプでメタノールを２．６ｍｌ／ｍｉｎで滴下し、この溶液の透過率を測定する。この溶液の透過率が変化し始めた時点のメタノール濃度と、透過率が最小となった時点のメタノール濃度との中間のメタノール濃度を「疎水化度」とする。
【００８９】
無機粒子の含有量については、樹脂層を形成する樹脂成分１００質量部に対して５質量部以上３０質量部以下であることが好ましい。
【００９０】
また、樹脂層の補強性能および導電性を考慮すると、無機粒子の一次粒子径は、個数平均一次粒径が１０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の範囲内にあることが好ましく、１５ｎｍ以上８０ｎｍ以下の範囲内にあることがより好ましく、１５ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲内にあることがさらに好ましい。なお、本発明では、走査電子顕微鏡で無機粒子を観察し、無機粒子の長径と短径の平均値を粒子径とし、視野中の１００個の粒子の粒子径を測定した相加平均値を個数平均一次粒径とする。
【００９１】
（樹脂層形成用塗料の作製）
バインダー樹脂としてウレタン樹脂を用いる場合、例えば以下の材料を混合し、反応させることにより、本発明の電子写真部材の樹脂層を形成するための樹脂層形成用塗料が得られる。
１．バインダー樹脂を形成する材料として、
・ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール等
・ポリイソシアネート
２．カチオン構造中に、水酸基、アミノ基、グリシジル基からなる群より選択される少なくとも１つを含むイオン化合物
３．フィラーとして、疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子
【００９２】
なお、これらの反応後の状態は、例えば、熱分解ＧＣ／ＭＳ、ＦＴ−ＩＲ、ＮＭＲ等による公知の手段で分析することにより確認することができる。
【００９３】
樹脂層形成用塗料中における、前記構造式（１）〜（６）で示される構造からなる群より選択される少なくとも１つで示される構造の含有量の総和は、導電性および通電による抵抗変動抑制の観点から、樹脂層において、バインダー樹脂１００質量部に対して、１質量部以上１０質量部以下となるように上記材料を混合させることが好ましい。
【００９４】
（樹脂層の形成方法）
樹脂層の形成方法としては、特に限定されるものではないが、スプレー塗工、浸漬塗工、またはロールコート法が挙げられる。これらの中でも、特開昭５７−５０４７号公報に記載されているような、浸漬槽の上端から塗料をオーバーフローさせる浸漬塗工方法は、樹脂層を形成する方法として簡便かつ生産安定性に優れているため、好ましく用いられる。
樹脂層の厚さは、１．０μｍ以上２０．０μｍ以下であることが好ましい。
【００９５】
（樹脂層中のその他の成分）
樹脂層は、必要に応じて、本発明の効果を妨げない範囲で、導電性充填剤を含有してもよい。導電性充填剤としては、カーボンブラック；アルミニウム、銅の如き導電性金属を用いることができる。これらの中でも、カーボンブラックは、比較的容易に入手でき、導電付与性と補強性が高いため、特に好ましく用いられる。
【００９６】
なお、該樹脂層の導電性は、該樹脂層中のキャリアとしてのアニオンの総量に依存する。従って、該樹脂層の導電性を高めるためには、該樹脂層中のアニオンの総量を増やすことが好ましい。ここで、アニオンは、カチオンと対で存在するため、アニオンの総量を増やすと、樹脂層中のカチオンの総量も増えることになる。そして、アニオンの対イオンとしてのカチオンを全て構造式（１）〜（６）で示される構造からなる群から選択される少なくとも１つのカチオン構造を有する樹脂とした場合、樹脂層中の樹脂成分の量が多くなり、樹脂層の硬度を上昇させる場合がある。
【００９７】
従って、樹脂層の硬度の上昇を抑えつつ、樹脂層中のアニオン量を増やすためには、ＫＣＦ３ＳＯ３、ＬｉＣＦ３ＳＯ３、ＬｉＮ（ＣＦ３ＳＯ２）２、ＮａＣｌＯ４、ＬｉＣｌＯ４、ＬｉＡｓＦ６、ＬｉＢＦ４、ＮａＳＣＮ、ＫＳＣＮ、ＮａＣｌ等の周期律表第１族金属の塩；ＮＨ４Ｃｌ、（ＮＨ４）２ＳＯ４、ＮＨ４ＮＯ３等のアンモニウム塩；Ｃａ（ＣｌＯ４）２、Ｂａ（ＣｌＯ４）２等の周期律表第２族金属の塩；これらの塩と１，４−ブタンジオール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコールの多価アルコールやそれらの誘導体との錯体；これらの塩とエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノエチルエーテルのモノオールとの錯体；脂肪族スルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルリン酸エステル塩；ベタイン塩の如きイオン導電剤を併用して、樹脂層中の樹脂成分の量が増えすぎることを抑えることが好ましい。また、該イオン導電剤の含有量の総和は、安定性の観点から、樹脂層を形成する樹脂１００質量部に対して、０．１質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。
【００９８】
樹脂層が最表層である場合において、電子写真部材としてある程度の表面粗度が求められる場合は、樹脂層に粗さ制御のための微粒子（粗さ制御用微粒子）を添加してもよい。粗さ制御用微粒子としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、またはフェノール樹脂の微粒子を用いることができる。粗さ制御用微粒子の体積平均粒径は、１μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましい。樹脂層中の粗さ制御用微粒子の含有量は、樹脂層を形成する樹脂１００質量部に対して、１質量部以上６０質量部以下であることが好ましい。ウレタン樹脂の粒子を用いる場合、樹脂粒子のガラス転移温度は、樹脂粒子脱落をより抑制できるため、−１０℃以下とすることが好ましく、さらに−３０℃以下の方が好ましい。樹脂粒子のガラス転移温度が−１０℃以下の場合、低温でも樹脂粒子表面の分子運動性が抑制されにくく、ウレタン樹脂バインダーのウレタン結合との相互作用が働きやすいものと推測される。
【００９９】
（２）電子写真画像形成装置
本態様に係る電子写真部材は、電子写真画像形成装置における現像ローラ、帯電ローラ、トナー供給ローラ、および現像ブレード、クリーニングブレードとして好適に用いることができる。電子写真部材は、磁性一成分トナー若しくは非磁性一成分トナーを用いた非接触型現像装置または接触型現像装置、および二成分トナーを用いた現像装置のいずれの現像装置にも適用することができる。
【０１００】
図３は、本態様に係る電子写真部材を、一成分トナーを用いた接触型現像装置の現像ローラとして搭載した電子写真画像形成装置の一例を示す概略断面図である。現像装置２２は、一成分トナーとしてトナー１５を収容したトナー容器２０と、現像ローラ１６と、現像ローラ１６へトナーを供給するトナー供給ローラ１９と、現像ローラ１６上のトナー層の厚さを規制する現像ブレード２１とを含む。現像ローラ１６は、トナー容器２０内の長手方向に延在する開口部に位置し、電子写真感光体１８に対して接触設置されている。なお、電子写真感光体１８、クリーニングブレード２６、廃トナー収容容器２５および帯電ローラ２４は、電子写真画像形成装置本体に配備されていてもよい。現像装置２２は、ブラック（Ｂｋ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の各色トナーに用意されており、カラー印刷を可能としている。
【０１０１】
以下、電子写真画像形成装置のプリント動作を説明する。電子写真感光体１８は矢印方向に回転し、電子写真感光体１８を帯電処理するための帯電ローラ２４によって一様に帯電される。次いで、露光手段であるレーザー光２３により、電子写真感光体１８の表面に静電潜像が形成される。該静電潜像は、現像装置２２によって、電子写真感光体１８に対して接触配置される現像ローラ１６からトナー１５が付与されることにより、トナー像として可視化される（現像）。現像は、露光部にトナー像を形成する、いわゆる反転現像である。電子写真感光体１８上に形成されたトナー像は、転写部材である転写ローラ２９によって記録媒体である紙３４に転写される。紙３４は、給紙ローラ３５および吸着ローラ３６を経て装置内に給紙され、エンドレスベルト状の転写搬送ベルト３２によって、電子写真感光体１８と転写ローラ２９の間に搬送される。転写搬送ベルト３２は、従動ローラ３３、駆動ローラ２８、テンションローラ３１により稼働している。現像ローラ１６、現像ブレード２１および吸着ローラ３６には、バイアス電源３０から電圧が印加されている。トナー像が転写された紙３４は、定着装置２７により定着処理された後、装置外に排紙されて、プリント動作が終了する。一方、転写されずに電子写真感光体１８上に残存した転写残トナーは、感光体表面をクリーニングするためのクリーニング部材であるクリーニングブレード２６により掻き取られ、廃トナー収容容器２５に収納される。クリーニングされた電子写真感光体１８は、以上のプリント動作を繰り返し行う。
【０１０２】
（３）プロセスカートリッジ
本態様に係る電子写真部材は、プロセスカートリッジ１７における現像ローラ１６、帯電ローラ２４、トナー供給ローラ１９、および現像ブレード２１、クリーニングブレード２６として好適に用いることができる。図４は、本発明の一態様に係るプロセスカートリッジ１７の一例を示す概略断面図である。図４において、前記電子写真部材は現像ローラ１６として搭載されている。プロセスカートリッジ１７は、電子写真画像形成装置の本体に着脱可能に構成されている。また、プロセスカートリッジ１７は、現像手段である現像ローラ１６と現像ブレード２１とを備える現像装置２２、電子写真感光体１８、クリーニング手段であるクリーニングブレード２６、廃トナー収容容器２５、および帯電手段である帯電ローラ２４が一体化されたものである。現像装置２２は、さらにトナー容器２０を含み、トナー容器２０内には、トナー１５が充填されている。トナー容器２０内のトナー１５は、トナー供給ローラ１９によって現像ローラ１６の表面に供給され、現像ブレード２１によって、現像ローラ１６の表面に所定の厚みのトナー１５の層が形成される。
【実施例】
【０１０３】
以下に、本態様に係る電子写真部材の具体的な実施例および比較例について示す。
まず、電子写真部材の樹脂層に含まれる樹脂の原料である、イオン化合物およびバインダー樹脂を作製するために必要な原料化合物を合成した。また、電子写真部材の樹脂層に含まれる無機粒子を調製した。
【０１０４】
＜イオン化合物の合成＞
（イオン化合物Ｉ−１）
ビス（２−ヒドロキシエチル）ジメチルアンモニウムクロライド（東京化成工業社製）１５．０ｇをイオン交換水４０．０ｇに溶解させた。次に、イオン交換水６０ｇに溶解させたアニオン交換試薬（以下、「アニオン原料」と称す。）としてリチウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド（キシダ化学社製）３７．７ｇを３０分かけて滴下した後、３０℃で２時間攪拌した。得られた反応溶液に対し、酢酸エチル１００．０ｇを用いて２回抽出操作を行った。続いて、分液した酢酸エチル層を、イオン交換水６０ｇを用いて３回洗浄した。続いて、減圧下で酢酸エチルを留去し、アニオンがビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミドアニオンであるイオン化合物Ｉ−１を得た。イオン化合物Ｉ−１は、下記式で表される化合物である。
【化２６】
2020024407.tif 000028
【０１０５】
（イオン化合物Ｉ−２〜Ｉ−６）
アニオン原料およびその配合量を表１に記載の通りに変更した以外は、イオン化合物Ｉ−１の合成と同様にして、イオン化合物Ｉ−２〜Ｉ−６を得た。
【０１０６】
【表１】
2020024407.tif 000029
【０１０７】
（イオン化合物Ｉ−７）
トリス（２−ヒドロキシエチル）メチルアンモニウムヒドロキシド５０％水溶液（東京化成工業社製）３０．０ｇをイオン交換水５０．０ｇに溶解させた。次に、イオン交換水３０ｇに溶解させたアニオン原料としてのノナフルオロブタンスルホン酸カリウム（商品名ＫＦＢＳ；三菱マテリアル電子化成社製）３０．８ｇを３０分かけて滴下した後、３０℃で６時間攪拌した。得られた反応溶液に対し、酢酸エチル１００．０ｇを用いて２回抽出操作を行った。続いて、分液した酢酸エチル層を、イオン交換水８０ｇを用いて３回洗浄した。続いて、減圧下で酢酸エチルを留去し、イオン化合物Ｉ−７を得た。イオン化合物Ｉ−７は、下記式で表される化合物である。
【化２７】
2020024407.tif 000030
【０１０８】
（イオン化合物Ｉ−８〜Ｉ−１１）
アニオン原料およびその配合量を表２に記載の通りに変更した以外は、イオン化合物Ｉ−７の合成と同様にして、イオン化合物Ｉ−８〜Ｉ−１１を得た。
【０１０９】
【表２】
2020024407.tif 000031
【０１１０】
（イオン化合物Ｉ−１２）
ジエチレントリアミン（東京化成工業社製）１５．０ｇを、テトラヒドロフラン３５．０ｇに溶解させた。次に、反応系を窒素雰囲気下とし、氷冷した。続いて、テトラヒドロフラン８０．０ｇに溶解させたヨウ化メチル（東京化成工業社製）４５．５ｇを３０分かけて滴下した。反応溶液を１２時間加熱還流した後、水１００ｍｌを加え、減圧下で溶媒を留去した。残渣にエタノール１００ｍｌを加え、室温で撹拌し、不溶物をセライトろ過により除いた後、再び減圧下で溶媒を留去した。得られた生成物を純水１６０ｍｌに溶解し、アニオン原料として、ヘプタフルオロ酪酸ナトリウム（和光純薬工業社製）３７．７ｇを加え、室温下で１時間撹拌した。得られた反応溶液に対し、酢酸エチル１００．０ｇを用いて２回抽出操作を行った。次に、分液した酢酸エチル層を、イオン交換水６０ｇを用いて３回洗浄した。続いて、減圧下で酢酸エチルを留去し、イオン化合物Ｉ−１２を得た。イオン化合物Ｉ−１２は、下記式で表される化合物である。
【化２８】
2020024407.tif 000032
【０１１１】
（イオン化合物Ｉ−１３）
アニオン原料およびその配合量を表３に記載の通りに変更した以外は、イオン化合物Ｉ１２の合成と同様にして、イオン化合物Ｉ−１３を得た。
【０１１２】
【表３】
2020024407.tif 000033
【０１１３】
（イオン化合物Ｉ−１４）
２−メチルイミダゾール−１−エタノール（シグマ・アルドリッチ社製）１５．０ｇ、水素化ナトリウム６０％流動パラフィン分散（東京化成工業社製）９．２ｇをテトラヒドロフラン８０．０ｇに溶解させた。そこへ、テトラヒドロフラン８０．０ｇに溶解させた臭化エチル（昭和化学社製）１４．５ｇを室温で３０分かけて滴下した後、８５℃で１２時間加熱還流した。次に、反応溶液に水１００ｍｌを加え、減圧下で溶媒を留去した。残渣にエタノール２００ｍｌを加え、室温で撹拌し、不溶物をセライトろ過により除いた後、再び減圧下で溶媒を留去した。得られた生成物を、純水１００ｍｌに溶解し、アニオン原料として、リチウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（商品名：ＥＦ−Ｎ１１５、三菱マテリアル電子化成社製）３８．２ｇを加え、室温下で１時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチル１００ｍｌを加え、有機層を、イオン交換水８０ｇを用いて３回洗浄した。次に、減圧下で酢酸エチルを留去して、イオン化合物Ｉ−１４を得た。イオン化合物Ｉ−１４は、下記式で表される化合物である。
【化２９】
2020024407.tif 000034
【０１１４】
（イオン化合物Ｉ−１５）
窒素雰囲気下、イミダゾール（日本合成化学社製）１５．０ｇ、水素化ナトリウム６０％流動パラフィン分散（東京化成工業社製）９．２ｇを、テトラヒドロフラン６０．０ｇに溶解させた。そこへ、テトラヒドロフラン８０．０ｇに溶解させた２−ブロモエタノール（東京化成工業社製）６０．７ｇを室温で３０分かけて滴下した後、８５℃で１２時間加熱還流した。次いで、反応溶液に水１００ｍｌを加え、減圧下で溶媒を留去した。残渣にエタノール２００ｍｌを加え、室温で撹拌し、不溶物をセライトろ過により除いた後、再び減圧下で溶媒を留去した。得られた生成物を純水２００ｍｌに溶解し、アニオン原料として、リチウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（商品名：ＥＦ−Ｎ１１５、三菱マテリアル電子化成社製）６９．６ｇを加え、室温下で１時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチル２００ｍｌを加え、有機層を、イオン交換水１２０ｇを用いて３回洗浄した。次に、減圧下で酢酸エチルを留去して、イオン化合物Ｉ−１５を得た。イオン化合物Ｉ−１５は、下記式で表される化合物である。
【化３０】
2020024407.tif 000035
【０１１５】
（イオン化合物Ｉ−１６〜Ｉ−１９）
アニオン原料およびその配合量を表４に記載の通りに変更した以外は、イオン化合物Ｉ−１５の合成と同様にして、イオン化合物Ｉ−１６〜Ｉ−１９を得た。
【０１１６】
【表４】
2020024407.tif 000036
【０１１７】
（イオン化合物Ｉ−２０）
窒素雰囲気下、イミダゾール−２−エタノール（シグマ・アルドリッチ社製）１５．０ｇ、水素化ナトリウム６０％流動パラフィン分散（東京化成工業社製）９．２ｇをテトラヒドロフラン６０．０ｇに溶解させた。そこへ、テトラヒドロフラン８０．０ｇに溶解させた２−ブロモエタノール（東京化成工業社製）４２．１ｇを室温で３０分かけて滴下した後、８５℃で１２時間加熱還流した。次いで、反応溶液に水１００ｍｌを加え、減圧下で溶媒を留去した。残渣にエタノール２００ｍｌを加え、室温で撹拌し、不溶物をセライトろ過により除いた後、再び減圧下で溶媒を留去した。得られた生成物を純水２００ｍｌに溶解し、アニオン原料として、リチウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（商品名：ＥＦ−Ｎ１１５、三菱マテリアル電子化成社製）４８．３ｇを加え、室温下で１時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチル２００ｍｌを加え、有機層を、イオン交換水１２０ｇを用いて３回洗浄した。次に、減圧下で酢酸エチルを留去して、イオン化合物Ｉ−２０を得た。イオン化合物Ｉ−２０は、下記式で表される化合物である。
【化３１】
2020024407.tif 000037
【０１１８】
（イオン化合物Ｉ−２１）
カチオン原料として、イミダゾール（東京化成工業社製）１５．０ｇをジクロロメタン５０．０ｇに溶解させ、ジクロロメタン５０．０ｇに溶解させたエピクロロヒドリン（東京化成工業社製）４４．９ｇを室温で３０分かけて滴下した後、６時間加熱還流した。次に、反応溶液を室温まで冷却し、炭酸ナトリウム５質量％水溶液２００ｍｌを加えて３０分撹拌した後、分液し、ジクロロメタン層を、イオン交換水１２０ｇを用いて２回洗浄した。次に、減圧下でジクロロメタンを留去して残留物を得た。
さらに、得られた残留物をアセトン５０．０ｇに溶解させた後、イオン交換水１５０．０ｇに溶解させたアニオン原料としてのリチウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（商品名：ＥＦ−Ｎ１１５、三菱マテリアル電子化成社製）６９．６ｇを３０分かけて滴下した後、３０℃で２時間攪拌した。得られた溶液を分液し、有機層を、イオン交換水５０．０ｇを用いて３回洗浄した。続いて、減圧下でアセトンを留去して、イオン化合物Ｉ−２１を得た。イオン化合物Ｉ−２１は、下記式で表される化合物である。
【化３２】
2020024407.tif 000038
【０１１９】
（イオン化合物Ｉ−２２）
５−メチルピラジン−２−メタノール（シグマ・アルドリッチ社製）１５．０ｇ、水素化ナトリウム６０％流動パラフィン分散（東京化成工業社製）９．２ｇをテトラヒドロフラン８０．０ｇに溶解させた。そこへ、テトラヒドロフラン８０．０ｇに溶解させたヨウ化メチル（東京化成工業社製）１８．９ｇを室温で３０分かけて滴下した後、８５℃で１２時間加熱還流した。次に、反応溶液に水１００ｍｌを加え、減圧下で溶媒を留去した。残渣にエタノール２００ｍｌを加え、室温で撹拌し、不溶物をセライトろ過により除いた後、再び減圧下で溶媒を留去した。得られた生成物を、純水１００ｍｌに溶解し、アニオン原料として、カリウムトリス（トリフルオロメタンスルホニル）メチド（商品名：Ｋ−ＴＦＳＭ；セントラル硝子社製）５９．８ｇを加え、室温下で１時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチル１００ｍｌを加え、有機層を、イオン交換水８０ｇを用いて３回洗浄した。次に、減圧下で酢酸エチルを留去して、イオン化合物Ｉ−２２を得た。イオン化合物Ｉ−２２は、下記式で表される化合物である。
【化３３】
2020024407.tif 000039
【０１２０】
（イオン化合物Ｉ−２３）
Ｎ，Ｎ’−ビス−（２−ヒドロキシエチル）−２，５−ジメチルピペラジン（シグマ・アルドリッチ社製）１５．０ｇ、水素化ナトリウム６０％流動パラフィン分散（東京化成工業社製）９．２ｇをテトラヒドロフラン８０．０ｇに溶解させた。そこへ、テトラヒドロフラン８０．０ｇに溶解させたヨウ化メチル（東京化成工業社製）１１．６ｇを室温で３０分かけて滴下した後、８５℃で１２時間加熱還流した。次に、反応溶液に水１００ｍｌを加え、減圧下で溶媒を留去した。残渣にエタノール２００ｍｌを加え、室温で撹拌し、不溶物をセライトろ過により除いた後、再び減圧下で溶媒を留去した。得られた生成物を、純水１００ｍｌに溶解し、アニオン原料として、リチウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（商品名：ＥＦ−Ｎ１１５、三菱マテリアル電子化成社製）２３．４ｇを加え、室温下で１時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチル１００ｍｌを加え、有機層を、イオン交換水８０ｇを用いて３回洗浄した。次に、減圧下で酢酸エチルを留去して、イオン化合物Ｉ−２３を得た。イオン化合物Ｉ−２３は、下記式で表される化合物である。
【化３４】
2020024407.tif 000040
【０１２１】
（イオン化合物Ｉ−２４）
４−ピリジンブタノール（シグマ・アルドリッチ社製）１５．０ｇをアセトニトリル４５．０ｇに溶解し、室温で４−ブロモ−１−ブタノール（東京化成工業社製）１６．７ｇを３０分かけて滴下した後、９０℃で１２時間加熱還流した。次に、反応溶液を室温まで冷却し、減圧下でアセトニトリルを留去した。得られた濃縮物をジエチルエーテル３０．０ｇにて洗浄し、上澄み液を分液により除去した。洗浄および分液操作を３回繰り返し、残留物を得た。さらに、得られた残留物をジクロロメタン１１０．０ｇに溶解させた後、イオン交換水４０．０ｇに溶解させたアニオン原料としてのリチウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（商品名：ＥＦ−Ｎ１１５、三菱マテリアル電子化成社製）３１．４ｇを３０分かけて滴下した後、３０℃で１２時間攪拌した。得られた溶液を分液し、有機層を、イオン交換水８０．０ｇを用いて３回洗浄した。続いて、減圧下でジクロロメタンを留去し、イオン化合物Ｉ−２４を得た。イオン化合物Ｉ−２４は、下記式で表される化合物である。
【化３５】
2020024407.tif 000041
【０１２２】
（イオン化合物Ｉ−２５）
２−（２−ヒドロキシエチル）−１−メチルピロリジン（東京化成工業社製）１５．０ｇ、水素化ナトリウム６０％流動パラフィン分散（東京化成工業社製）１３．５ｇを、テトラヒドロフラン６５．０ｇに溶解させた。次に、反応系を窒素雰囲気下とし、氷冷した。続いて、テトラヒドロフラン４０．０ｇに溶解させた２−ブロモエタノール（東京化成工業社製）１６．０ｇを３０分かけて滴下した。反応溶液を１２時間加熱還流した後、水１００ｍｌを加え、減圧下で溶媒を留去した。残渣にエタノール８０ｍｌを加え、室温で撹拌し、不溶物をセライトろ過により除いた後、再び減圧下で溶媒を留去した。得られた生成物を、純水１６０ｍｌに溶解し、アニオン原料として、リチウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（商品名：ＥＦ−Ｎ１１５、三菱マテリアル電子化成社製）３６．７ｇを加え、室温下で１時間撹拌した。反応溶液にクロロホルム７０ｍｌを加え、炭酸ナトリウム５質量％水溶液４０ｍｌを加えて３０分撹拌した後分液し、クロロホルム層に対して、イオン交換水５０ｇを用いて３回洗浄操作を行った。次に、減圧下でクロロホルムを留去して、イオン化合物Ｉ−２５を得た。イオン化合物Ｉ−２５は、下記式で表される化合物である。
【化３６】
2020024407.tif 000042
【０１２３】
（イオン化合物Ｉ−２６）
アニオン原料およびその配合量を表５に記載の通りに変更した以外は、イオン化合物Ｉ−２５の合成と同様にして、イオン化合物Ｉ−２６を得た。
【表５】
2020024407.tif 000043
【０１２４】
（比較例用イオン化合物Ｉ−２７）
比較例用イオン化合物Ｉ−２７として、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−Ｎ−プロピルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（関東化学社製）をそのまま用いた。
【０１２５】
表６に、実施例で用いた各イオン化合物について、該イオン化合物が有する構造および各構造式中のＲ１〜Ｒ９、Ｚ１〜Ｚ１７との関連を示す。
【表６】
2020024407.tif 000044
【０１２６】
＜ポリオール＞
（ポリオールＡ−１〜Ａ−１１）
ポリオールＡ−１〜Ａ−１１として、以下の材料を用いた。
ポリオールＡ−１：ポリエーテルポリオール（商品名：ＰＴＧ−Ｌ１０００、保土谷化学工業社製）
ポリオールＡ−２：ポリエステルポリオール（商品名：クラレポリオールＰ−２０１０、クラレ社製）
ポリオールＡ−３：ポリカプロラクトンポリオール（商品名：プラクセル２２０、ダイセル社製）
ポリオールＡ−４：ポリカーボネートポリオール（商品名：クラレポリオールＣ−２０９０、クラレ社製）
ポリオールＡ−５：ポリエーテルポリオール（商品名：サンニックスＰＰ−１０００、三洋化成工業社製）
ポリオールＡ−６：ポリカーボネートポリオール（商品名：クラレポリオールＣ−１０６５Ｎ、クラレ社製）
ポリオールＡ−７：ポリエステルポリオール（商品名：ニッポラン４０４０、東ソー社製）
ポリオールＡ−８：ポリエステルポリオール（商品名：クラレポリオールＮ−２０１０、クラレ社製）
ポリオールＡ−９：ポリカーボネートポリオール（商品名：クラレポリオールＣ−３０９０、クラレ社製）
ポリオールＡ−１０：ポリエステルポリオール（商品名：クラレポリオールＦ−２０１０、クラレ社製）
ポリオールＡ−１１：ポリカーボネートポリオール（商品名：クラレポリオールＣ−２０１５Ｎ、クラレ社製）
【０１２７】
表７に、実施例で用いた各ポリオールについて、該ポリオールが有する具体的な構造を示す。
【表７】
2020024407.tif 000045
【０１２８】
＜硬化剤＞
（イソシアネート基末端プレポリマーＢ−１）
窒素雰囲気下、反応容器中でポリメリックＭＤＩ（商品名：ミリオネートＭＲ−２００、日本ポリウレタン工業社製）８６．６質量部に対し、ポリオールＡ−１の１００．０質量部を、反応容器内の温度を６５℃に保持しつつ、徐々に滴下した。滴下終了後、温度６５℃で２．５時間反応させて、メチルエチルケトン８０．０質量部を加えた。得られた反応混合物を室温まで冷却し、イソシアネート基含有量５．４質量％のイソシアネート基末端プレポリマーＢ−１を得た。
【０１２９】
（イソシアネート基末端プレポリマーＢ−２〜Ｂ−８）
使用するポリオールの種類および、ポリオール１００．０質量部に対するポリメリックＭＤＩ配合量を表８に記載の通りに変更した以外は、イソシアネート基末端プレポリマーＢ−１の合成と同様にして、イソシアネート基末端プレポリマーＢ−２〜Ｂ−８を得た。
【０１３０】
【表８】
2020024407.tif 000046
【０１３１】
＜無機粒子＞
疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子としては、市販品をそのまま用いても良いし、何らかの処理を施した後に利用しても良い。また、該処理の方法としては、アルキルシランやシリコーンオイルといった処理剤を用いても良い。なお、処理剤の種類、処理方法は何ら限定するものでない。
【０１３２】
（無機粒子Ｐ−１〜Ｐ−４）
無機粒子Ｐ−１〜Ｐ−４として、以下の市販のものを用いた。
無機粒子Ｐ−１：シリカ粒子（商品名：ＭＳＰ−０１１、テイカ社製）
無機粒子Ｐ−２：シリカ粒子（商品名：ＭＳＰ−００９、テイカ社製）
無機粒子Ｐ−３：酸化チタン粒子（商品名：ＡＥＲＯＸＩＤＥ  ＴｉＯ２  Ｔ  ８０５、日本アエロジル社製）
無機粒子Ｐ−４：アルミナ粒子（商品名：ＡＥＲＯＸＩＤＥ  Ａｌｕ  Ｃ  ８０５、日本アエロジル社製）
【０１３３】
（無機粒子Ｐ−５）
フュームドシリカ（商品名：ＡＥＲＯＳＩＬ２００、日本アエロジル社製）１００質量部を反応槽に仕込み、窒素雰囲気下、水０．３質量部を添加し、撹拌しながらヘキサメチルジシラザン（商品名：ＳＺ−３１、信越シリコーン社製）２質量部を滴下投入した。２００℃で１時間加熱撹拌後、アンモニアを減圧除去し、無機粒子Ｐ−５を得た。
【０１３４】
（無機粒子Ｐ−６）
フュームドシリカ（商品名：ＡＥＲＯＳＩＬ２００、日本アエロジル社製）１００質量部を反応槽に仕込み、窒素雰囲気下、３−アミノプロピルトリエトキシシラン（東京化成工業社製）０．６質量部およびヘキサメチルジシラザン（商品名：ＳＺ−３１、信越シリコーン社製）０．７質量部を噴霧した。窒素雰囲気下のまま６０℃で１０時間保持後、さらに１５０℃で５時間保持した。揮発成分を除去後、無機粒子Ｐ−６を得た。
【０１３５】
（無機粒子Ｐ−７）
フュームドシリカ（商品名：ＡＥＲＯＳＩＬ２００、日本アエロジル社製）１００質量部を反応槽に仕込み、窒素雰囲気下、撹拌しながらオルガノポリシロキサン（商品名：ＫＦ−９６−５０ｃｓ、信越シリコーン社製）１０質量部とヘキサン１００００質量部の混合溶液を導入し、１００℃で１時間保持した。さらに３００℃で２時間加熱撹拌し、溶剤を除去後、ピン式解砕装置にて解砕処理した。窒素雰囲気下、粉砕したものに、９０％メタノール水溶液１０質量部とヘキサメチルジシラザン（商品名：ＳＺ−３１、信越シリコーン社製）２０質量部とヘキサン１００００質量部の混合溶液を導入し、２００℃で１時間加熱撹拌した。その後、アンモニアを減圧除去し、無機粒子Ｐ−７を得た。
【０１３６】
（比較例用無機粒子Ｐ−８〜Ｐ−１１）
無機粒子Ｐ−８〜Ｐ−１１として、以下の市販のものを用いた。
無機粒子Ｐ−８：シリカ粒子（商品名：ＡＣＥＭＡＴＴ  ＯＫ−６０、日本アエロジル社製）
無機粒子Ｐ−９：酸化チタン粒子（商品名：ＭＴ−５００Ｂ、テイカ社製）
無機粒子Ｐ−１０：アルミナ粒子（商品名：ＡＥＲＯＸＩＤＥ  Ａｌｕ  Ｃ、日本アエロジル社製）
無機粒子Ｐ−１１：シリカ粒子（商品名：ＯＸ５０、日本アエロジル社製）
【０１３７】
（比較例用無機粒子Ｐ−１２）
フュームドシリカ（商品名：ＡＥＲＯＳＩＬ２００、日本アエロジル社製）１００質量部を反応槽に仕込み、窒素雰囲気下、撹拌しながらオルガノポリシロキサン（商品名：ＫＦ−９６−５０ｃｓ、信越シリコーン社製）２０質量部とヘキサン１００質量部の混合溶液を導入し、１００℃で１時間保持した。さらに３００℃で２時間加熱撹拌し、溶剤を除去後、ピン式解砕装置にて解砕処理した。窒素雰囲気下、粉砕したものに、５０％メタノール水溶液２質量部とヘキサメチルジシラザン（商品名：ＳＺ−３１、信越シリコーン社製）１０質量部を滴下投入し、２００℃で１時間加熱撹拌した。その後、アンモニアを減圧除去し、無機粒子Ｐ−１２を得た。
【０１３８】
表９に無機粒子Ｐ−１〜Ｐ−１２の疎水化度、無機粒子の母体、一次粒子径、処理剤を示す。
【表９】
2020024407.tif 000047
【０１３９】
次に、電子写真部材を作製し、評価した。
＜現像ローラの作製＞
［実施例１］
（基体の用意）
基体として、ステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）製の直径６ｍｍの芯金にプライマー（商品名：ＤＹ３９−０１２、東レ・ダウコーニング社製）を塗布、焼付けしたものを用意した。
（弾性層の形成）
用意した基体を金型に配置し、以下の材料を混合した付加型シリコーンゴム組成物を、金型内に形成されたキャビティに注入した。
・液状シリコーンゴム材料（商品名：ＳＥ６９０５Ａ／Ｂ、東レ・ダウコーニング社製）：１００．０質量部
・カーボンブラック（商品名：トーカブラック＃４３００、東海カーボン社製）：１５．０質量部
・白金触媒：０．１質量部
続いて、金型を加熱し、シリコーンゴムを温度１５０℃で１５分間加硫して硬化させた。周面に硬化したシリコーンゴム層が形成された基体を金型から脱型した後、当該芯金を、さらに温度１８０℃で１時間加熱して、シリコーンゴム層の硬化反応を完了させた。こうして、基体の外周に直径１２ｍｍのシリコーンゴム弾性層を有する弾性ローラＤ−１を作製した。
【０１４０】
（樹脂層の形成）
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した。
・イオン化合物Ｉ−１５：８．２質量部
・無機粒子Ｐ−１：４３．３質量部
・ポリオールＡ−１：１００．０質量部
・イソシアネート基末端プレポリマーＢ−１：２５８．０質量部
・ウレタン樹脂微粒子（商品名：アートパールＣ−４００、根上工業社製）：２８．９質量部
次に、総固形分比が３５質量％となるようにメチルエチルケトンを加えた後、サンドミルにて混合した。次いで、さらにメチルエチルケトンで粘度１０〜１２ｃｐｓに調整して、樹脂層形成用塗料を調製した。
先に作製した弾性ローラＤ−１を、該樹脂層形成用塗料に浸漬して、弾性ローラＤ−１の弾性層の表面に当該塗料の塗膜を形成し、乾燥させた。さらに、温度１５０℃にて１時間加熱処理することにより、弾性層外周に膜厚約１５μｍの樹脂層を有する、実施例１に係る現像ローラを作製した。
【０１４１】
［樹脂層に含まれる無機粒子の採取］
ジムロートを取り付けたフラスコに、実施例１に係る現像ローラ１本から剥離した樹脂層を３２ｇ、分解剤としてジエタノールアミン（東京化成工業社製）を３２０ｍｌ、純水１．５ｍｌを加え、撹拌しながら１６０℃で２０時間加熱還流した。反応後の溶液にメチルエチルケトンを３００ｍｌ加え、遠心分離を行った。さらに、メチルエチルケトン２００ｍｌで２回洗浄、遠心分離後、減圧乾燥し剥離した樹脂層に含まれる無機粒子を３．２ｇ得た。
【０１４２】
［樹脂層に含まれる無機粒子の疎水化度の測定］
前記粉体濡れ性試験機により疎水化度を測定したところ、疎水化度は６０％だった。
【０１４３】
［実施例２〜１５、１７〜３０］
イオン化合物、無機粒子、ポリオール、イソシアネート基末端プレポリマーおよびウレタン樹脂微粒子の種類と配合量を、表１０に記載の通りに変更した以外は実施例１と同様にして、実施例２〜１５、１７〜３０に係る現像ローラを作製した。
【０１４４】
【表１０】
2020024407.tif 000048
【０１４５】
［実施例１６］
樹脂層の材料として、下記材料を用いた以外は実施例１と同様にして、実施例１６に係る現像ローラを作製した。
・イオン化合物Ｉ−１５：２．７質量部
・無機粒子Ｐ−１：１８．８質量部
・ポリオールＡ−４：１００．０質量部
・イソシアネート基末端プレポリマーＢ−１：１２２．１質量部
・ウレタン樹脂微粒子（商品名：アートパールＣ−４００、根上工業社製）：１８．８質量部
・カーボンブラック（商品名：ＳＵＮＢＬＡＣＫ  Ｘ５５、旭カーボン社製）：９．４質量部
・イオン導電剤（商品名：ＥＦ−Ｎ１１５、三菱マテリアル電子化成社製）：２．７質量部
【０１４６】
［比較例１〜１０］
イオン化合物、無機粒子、ポリオール、イソシアネート基末端プレポリマーおよびウレタン樹脂微粒子の種類と配合量を、表１１に記載の通りに変更した以外は実施例１と同様にして、比較例１〜１０に係る現像ローラを作製した。
【０１４７】
【表１１】
2020024407.tif 000049
【０１４８】
＜現像ローラの評価＞
得られた実施例１〜３０および比較例１〜１０に係る現像ローラについて、以下の評価を行った。評価結果を表１２および表１３にまとめて示す。
【０１４９】
［ローラの抵抗値の測定］
温度２３℃、相対湿度５０％の環境下（以下、「Ｎ／Ｎ環境下」とも称す。）および０℃の環境下に、６時間現像ローラを放置した後、各環境下で抵抗値を測定した。なお、０℃の如き低温環境下では、２３℃環境下に比べて著しく飽和水蒸気圧が低く、抵抗値・画質評価結果の大勢に影響を与えないと考えられるため、０℃の環境下における評価に際しては、相対湿度を特には問わないこととする。
【０１５０】
（抵抗値の測定）
図５に、本測定で用いる、現像ローラの抵抗値を評価するための冶具の概略構成図を示す。図５（ａ）に示すように、導電性の軸受け３８を介して導電性の基体２の両端を、各々４．９Ｎの荷重で押しながら直径３０ｍｍの円柱形金属３７を回転させ、現像ローラ１６を６０ｒｐｍの速度で従動回転させた。次に、図５（ｂ）に示すように、高圧電源３９によって電圧５０Ｖを印加し、円柱形金属３７とグランドとの間に配設した既知の抵抗値（現像ローラ１６の抵抗値に対して２桁以上抵抗値が低いもの）を有する抵抗器の両端の電位差を計測した。当該電位差の計測には、電圧計４０（商品名：１８９ＴＲＵＥ  ＲＭＳ  ＭＵＬＴＩＭＥＴＥＲ、ＦＬＵＫＥ社製）を用いた。測定した電位差と抵抗器の抵抗値とから、現像ローラ１６を介して円柱形金属３７に流れた電流を計算により求めた。そして、印加電圧５０Ｖを得られた電流で割ることによって、現像ローラ１６の抵抗値を求めた。ここで、前記電位差の計測は、電圧印加２秒後から３秒間サンプリングを行い、その平均値から計算される値をローラ抵抗値とした。
【０１５１】
［現像ローラとしての性能評価］
（温度０℃の環境下でのゴーストの評価）
温度０℃の環境中で抵抗値の測定を行った現像ローラを用いて、以下の評価を行った。図４に示す構成を有する、レーザープリンター（商品名：ＬＢＰ７７００Ｃ、キヤノン社製）用のプロセスカートリッジに、各実施例および比較例で得られた現像ローラを、現像ローラ１６として装填した。そして、該プロセスカートリッジを前記レーザープリンターに組み込み、０℃環境中に設置した後２時間放置した。
【０１５２】
次いで、ゴースト画像の評価を行った。すなわち、ブラックトナーを用いて、画像パターンとして１枚内で先端部に１５ｍｍ角のベタ黒、その後に全面ハーフトーンの画像を印字した。そして、ハーフトーン部分に現れるトナー担持体周期の濃度ムラ（ゴースト）を目視で確認した。ゴーストの評価の評価基準は以下のとおりである。
ランクＡ：ゴーストが全く認められない。
ランクＢ：極軽微なゴーストが認められる。
ランクＣ：顕著なゴーストが認められる。
【０１５３】
【表１２】
2020024407.tif 000050
【０１５４】
表１２に示すように、実施例１〜３０に係る現像ローラは、樹脂層に、特定のカチオン構造を含有する樹脂と、アニオンと、疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子とを含有しているため、温度０℃の如き低温環境下における抵抗値の上昇が少なく、画像品質も良好に保っていた。たとえば、無機粒子以外は同じ組成の樹脂層である実施例１と比較例２では、疎水化度６０％の無機粒子Ｐ−１を用いた実施例１の方が、疎水化度１０％の無機粒子Ｐ−８を用いた比較例２よりも低温での抵抗値の上昇が小さかった。また、特に、構造式（２）および（１０）で示される構造からなる群より選択される少なくとも１つの構造を含有する樹脂、および疎水化度が６０％、一次粒子径が３０ｎｍ、かつアルキルシランおよびシリコーンオイルで疎水化処理を行った無機粒子Ｐ−１を用いた実施例１〜４、８〜１１、１６においては、より高いレベルで抵抗値の上昇が抑制された。
一方で、特定のカチオン構造または疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子を樹脂層に含有していない比較例１〜１０に係る現像ローラは、低温環境下において、抵抗値の上昇およびゴースト画像の発生が認められた。
【０１５５】
［タック値の測定］
タック値の測定用サンプルとして、以下で示す手順で各実施例に対応する樹脂シートを作製した。前記樹脂層形成用塗料膜厚２００μｍになるように型にキャストし、流動性が無くなるまで乾燥させた。その後、水平台に載せて、気温２３℃で２４時間乾燥した。そして、温度１５０℃にて１時間加熱処理を実施し、室温まで冷却後、型からはがし、タック値測定用のテストピースとして、樹脂シートを得た。
【０１５６】
タック値の測定は、タッキング試験機（商品名：ＴＡＣ−ＩＩ、レスカ社製）を用いた。樹脂シートを温度４０℃、相対湿度９５％の環境下に２４時間静置した後、下記条件のもとで測定を行った。なお、測定は３回行い、平均値をタック値とした。こうして得られるタック値が低いほど、タック性が減少し、該表面へのトナー固着を抑制することができる。なお、トナー固着とは、例えば、現像剤担持体としての電子写真部材を高温高湿環境下に長時間放置しておくことにより、トナーが、当該現像剤担持体表面に固着する現象をいう。
・測定接触部：直径５ｍｍのステンレス鋼製のプローブ
・荷重センサー：ＬＴ２５Ａ−１００
・接触時進入速度：３０ｍｍ／ｍｉｎ
・試験時引き上げ速度：６００ｍｍ／ｍｉｎ
・接触時荷重：６０ｇｆ
・接触静止時間：５秒
・測定環境：温度４０℃、相対湿度９５％環境
【０１５７】
［トナーの初期固着濃度の評価］
トナーの初期固着濃度の評価として、抵抗値の測定を行った現像ローラを用いて、以下の評価を行った。図４に示す構成を有する、レーザープリンター（商品名：ＬＢＰ７７００Ｃ、キヤノン社製）用のイエロートナープロセスカートリッジに、各実施例および比較例で得られた現像ローラを、現像ローラ１６として装填した。そして、このレーザープリンターを用いて白ベタ画像の出力動作を行い、現像ローラの表面がイエロートナーでコートされた状態とした。単位面積当たりのトナー量を別途測定したところ、０．４５ｍｇ／ｃｍ２だった。ここで、現像ローラ上の単位面積当たりのトナー量は、現像ローラ上のトナーを内部にフィルタを有する吸引式ファラデーゲージで吸引捕集して、そのときのフィルタの質量増加をトナーの捕集面積で除して求めた。このような状態にある現像ローラをイエロートナーカートリッジから取り出した。取り出した現像ローラを、ポリテトラフルオロエチレン製の平板上に載せて、３００ｇｆ荷重（軸芯体両端に各１５０ｇｆ荷重）で平板に対して現像ローラを圧接し、温度４０℃、相対湿度９５％の環境下で、３ヵ月間放置した。次いで、現像ローラを、平板に対する圧接状態から解放し、温度２５℃、相対湿度４５％の環境に３時間静置し、その後、現像ローラの表面全体をエアブローした。ここで、エアブローの条件は、エアブローガンノズル口径３ｍｍ、高圧空気ないし窒素ガス０．６ＭＰａ、現像ローラ表面―ノズル間距離２０ｃｍ、ガン移動速度を現像ローラ長手方向往復移動速度３０ｃｍ／ｓ、現像ローラ回転速度３０ｒｐｍ、吹き付け時間３０ｓとした。
次いで、現像ローラ上にエアブローで除去できずに固着したトナーを、粘着テープ（商品名：メンディングテープ、住友スリーエム社製）を用いて剥離した。このイエロートナーが付着した粘着テープを普通紙上におき、反射濃度計（商品名：ＴＣ−６ＤＳ／Ａ、東京電色社製）を用いて反射濃度を測定した。また、対照として、トナーの付着していない粘着テープを同様に普通紙上におき、同様に反射濃度を測定した。そして、トナーの付着していない粘着テープの反射濃度を基準として、反射率の低下量（％）を算出した。
この測定は、現像ローラの中央部、および両端部の計３点で行い、その算術平均値を、評価対象の現像ローラのトナーの初期固着濃度とした。なお、初期固着濃度が低いほど、現像ローラの表面へのトナー固着を抑制できているといえる。
【０１５８】
【表１３】
2020024407.tif 000051
【０１５９】
表１３に示すように、実施例１〜２６に係る樹脂は、構造式（７）〜（９）で示される特定の構造を含有しているため、タック値が比較的低く抑えられた。また、対応する樹脂を樹脂層に含有する現像ローラを用いて評価した初期固着濃度の低下も、比較的低く抑えられた。
【０１６０】
＜帯電ローラの作製＞
［実施例３１］
（基体の用意）
基体として、ステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）製の直径６ｍｍの芯金にプライマー（商品名：ＤＹ３９−０１２、東レ・ダウコーニング社製）を塗布、焼付けしたものを用意した。
（弾性層の形成）
下記に示す各材料を加圧式ニーダーで混合して、Ａ練りゴム組成物を得た。
・ＮＢＲゴム（商品名：Ｎｉｐｏｌ  ＤＮ２１９、日本ゼオン社製）：１００．０質量部
・カーボンブラック（商品名：トーカブラック＃４３００、東海カーボン社製）：４０．０質量部
・炭酸カルシウム（商品名：ナノックス＃３０、丸尾カルシウム社製）：２０．０質量部
・ステアリン酸（商品名：ステアリン酸Ｓ、花王社製）：１．０質量部
さらに、得られたＡ練りゴム組成物１６６．０質量部と、下記に示す各材料をオープンロールにて混合して、未加硫ゴム組成物を調製した。
・硫黄（商品名：Ｓｕｌｆａｘ  ２００Ｓ、鶴見化学工業社製）：１．２質量部
・テトラベンジルチウラムジスルフィド（商品名：ＴＢＺＴＤ、三新化学工業社製）：４．５質量部
次に、導電性の軸芯体の供給機構、および未加硫ゴムローラの排出機構を有するクロスヘッド押出機を用意し、クロスヘッドには内径１６．５ｍｍのダイスを取付け、押出機とクロスヘッドを８０℃に、導電性の軸芯体の搬送速度を６０ｍｍ／ｓｅｃに調整した。この条件で、押出機より上記未加硫ゴム組成物を供給して、クロスヘッド内にて、導電性の軸芯体に未加硫ゴム組成物を弾性層として被覆し、未加硫ゴムローラを得た。次に、１７０℃の熱風加硫炉中に該未加硫ゴムローラを投入し、６０分間加熱することにより未研磨導電性ローラを得た。その後、弾性層の端部を切除して、弾性層の表面を回転砥石で研磨した。これにより、中央部から両端部側へ各９０ｍｍの位置における各直径が８．４ｍｍ、中央部直径が８．５ｍｍの弾性ローラＤ−２を作製した。
【０１６１】
（樹脂層の形成）
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した。
・イオン化合物Ｉ−１５：１４．７質量部
・無機粒子Ｐ−１：４７．７質量部
・ポリオールＡ−１：１００．０質量部
・イソシアネート基末端プレポリマーＢ−１：２９０．７質量部
・ウレタン樹脂微粒子（商品名：アートパールＣ−４００、根上工業社製）：３１．８質量部
次に、総固形分比が３０質量％となるようにメチルエチルケトンを加えた後、サンドミルにて混合した。次いで、さらに、メチルエチルケトンで粘度１０〜１２ｃｐｓに調整して樹脂層形成用塗料を調製した。
先に作製した弾性ローラＤ−２を、該樹脂層形成用塗料に浸漬して、弾性ローラＤ−２の弾性層の表面に当該塗料の塗膜を形成し、乾燥させた。さらに温度１５０℃にて１時間加熱処理することにより、弾性層外周に膜厚約１５μｍの樹脂層を有する、実施例３１に係る帯電ローラを作製した。
【０１６２】
［実施例３２、３３、３５、３６］
イオン化合物、無機粒子、ポリオール、イソシアネート基末端プレポリマーおよびウレタン樹脂微粒子の種類と配合量を、表１４に記載の通りに変更した以外は実施例３１と同様にして、実施例３２、３３、３５、３６に係る帯電ローラを作製した。
【０１６３】
【表１４】
2020024407.tif 000052
【０１６４】
［実施例３４］
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した以外は実施例３１と同様にして、実施例３４に係る帯電ローラを作製した。
・イオン化合物Ｉ−７：１２．１質量部
・無機粒子Ｐ−３：３７．２質量部
・ポリオールＡ−２：１００．０質量部
・イソシアネート基末端プレポリマーＢ−２：１９４．１質量部
・ウレタン樹脂微粒子（商品名：アートパールＣ−４００、根上工業社製）：２４．８質量部
・カーボンブラック（商品名：トーカブラック＃４３００、東海カーボン社製）：１２．４質量部
【０１６５】
［比較例１１〜２０］
イオン化合物、無機粒子、ポリオール、イソシアネート基末端プレポリマーおよびウレタン樹脂微粒子の種類と配合量を、表１５に記載の通りに変更した以外は実施例３１と同様にして、比較例１１〜２０に係る帯電ローラを作製した。
【０１６６】
【表１５】
2020024407.tif 000053
【０１６７】
＜帯電ローラの評価＞
得られた実施例３１〜３６および比較例１１〜２０に係る帯電ローラについて、以下の評価を行った。評価結果を表１６および表１７にまとめて示す。
【０１６８】
［ローラの抵抗値の測定］
現像ローラの評価と同様にして、Ｎ／Ｎ環境下および０℃の環境下に６時間帯電ローラを放置した後、各環境下で抵抗値を測定した。
【０１６９】
（抵抗値の測定）
帯電ローラの抵抗値の測定は、前述の現像ローラの抵抗値の測定と同様の装置を用いて行った。ただし、測定時におけるローラの回転数を３０ｒｐｍ、印加電圧を２００Ｖとした。それ以外は、現像ローラと同様に測定を行い、帯電ローラ抵抗値とした。
【０１７０】
［帯電ローラとしての性能評価］
（温度０℃の環境下での横スジ画像評価）
帯電ローラの抵抗値の上昇により、ハーフトーン画像に細かいスジ状の濃度ムラが発生することがある。これを横スジ画像と呼ぶ。この横スジ画像は、抵抗値が上昇するほど悪化する傾向にあり、長期利用に伴い目立つ傾向がある。電子写真部材を帯電ローラとして組込み、以下の評価を行った。
【０１７１】
電子写真式のレーザープリンター（商品名：ＨＰ  Ｃｏｌｏｒ  Ｌａｓｅｒｊｅｔ  Ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅ  ＣＰ４５１５ｄｎ、ＨＰ社製）に、帯電ローラとして、実施例３１〜３６および比較例１１〜２０で得られた帯電ローラを装填し、０℃環境中に設置した後２時間放置した。次いで、印字濃度４％画像（感光体の回転方向と垂直方向に幅２ドット、間隔５０ドットの横線を描く画像）を連続画像出力する耐久試験を行った。また、２４０００枚の画像出力後に、画像チェックのためにハーフトーン画像（感光体の回転方向と垂直方向に幅１ドット、間隔２ドットの横線を描く画像）を出力した。得られた画像を目視にて観察し、横スジの発生の有無を評価した。
ランクＡ：横スジが全く発生しないレベル。
ランクＢ：横スジが画像端部のみに軽微に発生するレベル。
ランクＣ：横スジが画像のほぼ半分の領域に発生し、目立つレベル。
【０１７２】
【表１６】
2020024407.tif 000054
【０１７３】
表１６に示すように、実施例３１〜３６に係る帯電ローラは、樹脂層に、特定のカチオン構造を含有する樹脂と、アニオンと、疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子とを含有しているため、温度０℃の如き低温環境下における抵抗値の上昇が少なく、画像品質も良好に保っていた。たとえば、無機粒子以外は同じ組成の樹脂層である実施例３１と比較例１２では、疎水化度６０％の無機粒子Ｐ−１を用いた実施例３１の方が、疎水化度１０％の無機粒子Ｐ−８を用いた比較例１２よりも低温での抵抗値の上昇が小さかった。また、特に、構造式（２）および（１０）で示される構造を含有する樹脂、および疎水化度が６０％、一次粒子径が３０ｎｍ、かつアルキルシランおよびシリコーンオイルで疎水化処理を行った無機粒子を用いた実施例３１においては、より高いレベルで抵抗値の上昇が抑制された。
【０１７４】
一方で、特定のカチオン構造または疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子を樹脂層に含有していない比較例１１〜２０に係る帯電ローラは、低温環境下において、抵抗値の上昇および横スジの発生が認められた。
【０１７５】
［タック値の測定］
現像ローラの評価と同様にして、タック値の測定を行った。
【０１７６】
［帯電ローラ表面の汚れの評価］
帯電ローラ表面のタック性に係る評価として、画像出力後の帯電ローラ表面の汚れの評価を行った。
電子写真式のレーザープリンター（商品名：ＨＰ  Ｃｏｌｏｒ  Ｌａｓｅｒｊｅｔ  Ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅ  ＣＰ４５１５ｄｎ、ＨＰ社製）に、帯電ローラとして、実施例３１〜３６および比較例１１〜２０で得られた帯電ローラを装填し、温度３０℃、相対湿度８０％環境中に設置した後２時間放置した。次いで、印字濃度４％画像（感光体の回転方向と垂直方向に幅２ドット、間隔５０ドットの横線を描く画像）を２４０００枚連続画像出力する耐久試験を行った。その後、当該プロセスカートリッジから帯電ローラを取り外して、以下の方法にて帯電ローラの汚れを評価した。帯電ローラ上に固着したトナーを、粘着テープ（商品名：メンディングテープ、住友スリーエム社製）を用いて剥離した。このトナーが付着した粘着テープを普通紙上におき、反射濃度計（商品名：ＴＣ−６ＤＳ／Ａ、東京電色社製）を用いて反射濃度を測定した。また、対照として、トナーの付着していない粘着テープを同様に普通紙上におき、同様に反射濃度を測定した。そして、トナーの付着していない粘着テープの反射濃度を基準として、反射率の差を着色濃度の値として採用した。着色濃度の値が小さいほど、帯電ローラの表面の汚れ量が少ない状態であることを意味する。
【０１７７】
【表１７】
2020024407.tif 000055
【０１７８】
表１７に示すように、実施例３１〜３５に係る樹脂は、構造式（７）または（８）で示される特定の構造を含有しているため、タック値が比較的低く抑えられた。また、対応する樹脂を樹脂層に含有する帯電ローラを用いて評価した着色濃度の差も、比較的低く抑えられた。
【０１７９】
＜現像ブレードの作製＞
［実施例３７］
（基体の用意）
基体として、厚さ０．０８ｍｍのステンレス鋼（ＳＵＳ３０４、日新製鋼社製）を、長さ２００ｍｍ、幅２３ｍｍの寸法にプレス切断して、ステンレス鋼製のシート（以下、「ＳＵＳシート」という）を用意した。
（樹脂層の形成）
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した。
・イオン化合物Ｉ−１５：１４．７質量部
・無機粒子Ｐ−１：６３．６質量部
・ポリオールＡ−１：１００．０質量部
・イソシアネート基末端プレポリマーＢ−１：２９０．７質量部
・ウレタン樹脂微粒子（商品名：アートパールＣ−４００、根上工業社製）：３１．８質量部
次に、総固形分比が３０質量％となるようにメチルエチルケトンを加えた後、サンドミルにて混合した。次いで、さらに、メチルエチルケトンで粘度１０〜１２ｃｐｓに調整して樹脂層形成用塗料を調製した。
図２に示すように、切断したＳＵＳシートの長手側端部からの長さＬが１．５ｍｍになるように、ＳＵＳシートを該樹脂層形成用塗料に浸漬して、当該塗料の塗膜を形成し、乾燥させた。さらに温度１４０℃にて１時間加熱処理することで、ＳＵＳシートの長手側端部表面に膜厚Ｔが１０μｍの樹脂層を有する、実施例３７に係る現像ブレードを作製した。
【０１８０】
［実施例３８、４０〜４２］
イオン化合物、無機粒子、ポリオール、イソシアネート基末端プレポリマーおよびウレタン樹脂微粒子の種類と配合量を、表１８に記載の通りに変更した以外は実施例３７と同様にして、実施例３８、４０〜４２に係る現像ブレードを作製した。
【０１８１】
【表１８】
2020024407.tif 000056
【０１８２】
［実施例３９］
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した以外は、実施例３７と同様にして、実施例３９に係る現像ブレードを作製した。
・イオン化合物Ｉ−１：１２．１質量部
・無機粒子Ｐ−６：３３．６質量部
・ポリオールＡ−３：１００．０質量部
・イソシアネート基末端プレポリマーＢ−３：１５９．９質量部
・ウレタン樹脂微粒子（商品名：アートパールＣ−４００、根上工業社製）：２２．４質量部
・カーボンブラック（商品名：トーカブラック＃４３００、東海カーボン社製）：１１．２質量部
【０１８３】
［比較例２１〜３０］
イオン化合物、無機粒子、ポリオール、イソシアネート基末端プレポリマーの種類およびウレタン樹脂微粒子と配合量を、表１９に記載の通りに変更した以外は実施例３７と同様にして、比較例２１〜３０に係る現像ブレードを作製した。
【０１８４】
【表１９】
2020024407.tif 000057
【０１８５】
＜現像ブレードの評価＞
得られた実施例３７〜４２、および比較例２１〜３０に係る現像ブレードについて、以下の評価を行った。評価結果を表２０および表２１にまとめて示す。
【０１８６】
［ブレードの抵抗値の測定］
Ｎ／Ｎ環境下および０℃の環境下に、６時間現像ブレードを放置した後、各環境下で抵抗値を測定した。
【０１８７】
（抵抗値の測定）
ブレードの抵抗値の測定は、図５に示す抵抗値変動評価冶具を用いて、次のように行った。なお、図５に示す冶具における現像ローラ１６に代えて、現像ブレードを用いた。図５（ａ）に示すように、導電性の軸受け３８を介して現像ブレード両端の、樹脂層を形成していない基体部分を各々４．９Ｎの荷重で押しながら、直径３０ｍｍの円柱形金属３７を回転させずに、現像ブレードを固定した。次に、図５（ｂ）に示すように、高圧電源３９によって電圧５０Ｖを印加し、円柱形金属３７とグランドとの間に配設した既知の抵抗値（現像ブレードの抵抗値に対して２桁以上抵抗値が低いもの）を有する抵抗器の両端の電位差を計測した。当該電位差の計測には、電圧計４０（商品名：１８９ＴＲＵＥ  ＲＭＳ  ＭＵＬＴＩＭＥＴＥＲ、ＦＬＵＫＥ社製）を用いた。測定した電位差と抵抗器の抵抗値から、現像ブレードを介して円柱形金属３７に流れた電流を計算により求めた。そして、印加電圧５０Ｖを得られた電流で割ることにより、現像ブレードの抵抗値を求めた。ここで、前記電位差の計測は、電圧印加２秒後から３秒間サンプリングを行い、その平均値から計算される値をブレード抵抗値とした。
【０１８８】
［現像ブレードとしての性能評価］
（現像ブレードの規制不良に起因するトナー凝集の有無の評価）
図４に示す構成を有する、レーザープリンター（商品名：ＬＢＰ７７００Ｃ、キヤノン社製）用のプロセスカートリッジに、各実施例および比較例の現像ブレードを現像ブレード２１として装填した。なお、現像ローラは変更しなかった。そして、該プロセスカートリッジを前記レーザープリンターに組み込み、０℃環境中に設置した後２時間放置した。次に、黒色で印字率１％の画像を１００枚連続して出力した。その後、新しいコピー用紙に白ベタ画像を出力した。これらの画像を出力した後、現像ブレード表面のトナーのコート状態を目視で観察し、トナーへの帯電異常に起因する静電的なトナー凝集の有無を下記の基準で評価した。なお、現像ブレードによるトナーの規制不良が生じると、例えば非印字部に斑点状のムラが発生したり、トナー塊などが画像上に発生したりする画像弊害が生じることがある。
ランクＡ：トナーコート上に規制不良が存在しない。
ランクＢ：トナーコート上には規制不良が存在するが、画像に現れていない。
ランクＣ：規制不良が画像に現れる。
【０１８９】
【表２０】
2020024407.tif 000058
【０１９０】
表２０に示すように、実施例３７〜４２に係る現像ブレードは、樹脂層に、特定のカチオン構造を含有する樹脂と、アニオンと、疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子とを含有しているため、温度０℃の如き低温環境下における抵抗値の上昇が少なく、規制不良評価も良好だった。たとえば、無機粒子以外は同じ組成の樹脂層である実施例３７と比較例２２では、疎水化度６０％の無機粒子Ｐ−１を用いた実施例３７の方が、疎水化度１０％の無機粒子Ｐ−８を用いた比較例２２よりも低温での抵抗値の上昇が小さかった。また、特に、構造式（５）および（１２）で示される構造を含有する樹脂、および疎水化度が６０％、一次粒子径が３０ｎｍ、かつアルキルシランおよびシリコーンオイルで疎水化処理を行った無機粒子Ｐ−１を用いた実施例３８においては、より高いレベルで抵抗値の上昇が抑制された。
【０１９１】
一方で、特定のカチオン構造または疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子を樹脂層に含有していない比較例２１〜３０に係る現像ブレードは、低温環境下において、抵抗値の上昇および規制不良の発生が認められた。
【０１９２】
［タック値の測定］
現像ローラの評価と同様にして、タック値の測定を行った。
【０１９３】
［トナーの初期固着濃度の評価］
トナーの初期固着濃度の評価として、抵抗値の測定を行った現像ブレードを用いて、以下の評価を行った。図４に示す構成を有する、レーザープリンター（商品名：ＬＢＰ７７００Ｃ、キヤノン社製）用のイエロートナープロセスカートリッジに、各実施例および比較例で得られた現像ブレードを、現像ブレード２１として装填した。そして、このレーザープリンターを用いて白ベタ画像の出力動作を行い、現像ブレードの表面がイエロートナーでコートされた状態とした。このような状態にある現像ブレードをイエロートナーカートリッジから取り出した。取り出した現像ブレードを、ポリテトラフルオロエチレン製の平板上に載せて、３００ｇｆ荷重（軸芯体両端に各１５０ｇｆ荷重）で平板に対して現像ブレードを圧接し、温度４０℃、相対湿度９５％の環境下で、３ヵ月間放置した。次いで、現像ブレードを、平板に対する圧接状態から解放し、温度２５℃、相対湿度４５％の環境に３時間静置し、その後、現像ブレードの圧接した面の表面をエアブローした。ここで、エアブローの条件は、エアブローガンノズル口径３ｍｍ、高圧空気ないし窒素ガス０．６ＭＰａ、現像ブレード表面―ノズル間距離２０ｃｍ、ガン移動速度を現像ブレード長手方向往復移動速度３０ｃｍ／ｓ、吹き付け時間２０ｓとした。次いで、現像ブレード上に固着したトナーを、粘着テープ（商品名：メンディングテープ、住友スリーエム社製）を用いて剥離した。このイエロートナーが付着した粘着テープを普通紙上におき、反射濃度計（商品名：ＴＣ−６ＤＳ／Ａ、東京電色社製）を用いて反射濃度を測定した。また、対照として、トナーの付着していない粘着テープを同様に普通紙上におき、同様に反射濃度を測定した。そして、トナーの付着していない粘着テープの反射濃度を基準として、反射率の低下量（％）を算出した。この測定は、現像ブレードの中央部、および両端部の計３点で行い、その算術平均値を、評価対象の現像ブレードのトナーの初期固着濃度とした。なお、初期固着濃度が低いほど、現像ブレードの表面へのトナー固着を抑制できているといえる。
【０１９４】
【表２１】
2020024407.tif 000059
【０１９５】
表２１に示すように、実施例３７〜４１に係る樹脂は、構造式（７）および（８）で示される特定の構造を含有しているため、タック値が比較的低く抑えられた。また、対応する樹脂を樹脂層に含有する現像ローラを用いて評価した初期固着濃度の低下も、比較的低く抑えられた。
【０１９６】
＜トナー供給ローラの作製＞
［実施例４３］
基体として、ステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）製の直径５ｍｍの芯金を金型に配置し、以下の材料を混合して得られるウレタンゴム組成物を、金型内に形成されたキャビティに注入した。
・イオン化合物Ｉ−１５：５．０質量部
・無機粒子Ｐ−１：１０．０質量部
・ポリオールＡ−９：８４．２質量部
・ポリオールＡ−１０：１８．６質量部
・イソシアネート（商品名：コスモネートＴＭ２０；三井化学工業社製）：２２．７質量部
・シリコーン整泡剤（商品名：ＳＲＸ２７４Ｃ、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）：１．０質量部
・アミン触媒（商品名：ＴＯＹＯＣＡＴ−ＥＴ、東ソー社製）：０．３質量部
・アミン触媒（商品名：ＴＯＹＯＣＡＴ−Ｌ３３、東ソー社製）：０．２質量部
・水：２．０質量部
続いて、金型を加熱して、ウレタンゴム組成物を温度５０℃で２０分間加硫し発泡硬化させ、周面にポリウレタンフォーム層が形成された基体を金型から脱型した。こうして、基体の外周に直径１６．１ｍｍのポリウレタンフォーム層を有する、実施例４３に係るトナー供給ローラを作製した。
【０１９７】
［実施例４４、４５、４７、４８］
イオン化合物と無機粒子の種類と配合量を、表２２に記載の通りに変更した以外は実施例４３と同様にして、実施例４４、４５、４７、４８に係るトナー供給ローラを作製した。
【０１９８】
【表２２】
2020024407.tif 000060
【０１９９】
［実施例４６］
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した以外は、実施例４３と同様にして、実施例４６に係るトナー供給ローラを作製した。
・イオン化合物Ｉ−７：５．３質量部
・無機粒子Ｐ−３：７．０質量部
・ポリオールＡ−９：８４．２質量部
・ポリオールＡ−１０：１８．６質量部
・イソシアネート（商品名：コスモネートＴＭ２０；三井化学工業社製）：２２．７質量部
・シリコーン整泡剤（商品名：ＳＲＸ２７４Ｃ、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）：１．０質量部
・アミン触媒（商品名：ＴＯＹＯＣＡＴ−ＥＴ、東ソー社製）：０．３質量部
・アミン触媒（商品名：ＴＯＹＯＣＡＴ−Ｌ３３、東ソー社製）：０．２質量部
・水：２．０質量部
・カーボンブラック（商品名：トーカブラック＃４３００、東海カーボン社製）：３．０質量部
【０２００】
［参考例１］
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した以外は、実施例４３と同様にして、参考例１に係るトナー供給ローラを作製した。
・イオン化合物Ｉ−１５：５．０質量部
・ポリオールＡ−９：８４．２質量部
・ポリオールＡ−１０：１８．６質量部
・イソシアネート（商品名：コスモネートＴＭ２０；三井化学工業社製）：２２．７質量部
・シリコーン整泡剤（商品名：ＳＲＸ２７４Ｃ、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）：１．０質量部
・アミン触媒（商品名：ＴＯＹＯＣＡＴ−ＥＴ、東ソー社製）：０．３質量部
・アミン触媒（商品名：ＴＯＹＯＣＡＴ−Ｌ３３、東ソー社製）：０．２質量部
・水：２．０質量部
【０２０１】
［参考例２］
樹脂層の材料として、下記材料を混合し、撹拌した以外は、実施例４３と同様にして、参考例２に係るトナー供給ローラを作製した。
・イオン化合物Ｉ−１５：５．０質量部
・ポリオール（商品名：ＥＰ−３０３３、三井化学株式会社製）：１００．０質量部
・イソシアネート（商品名：コスモネートＴＭ２０；三井化学工業社製）：２３．６質量部
・シリコーン整泡剤（商品名：ＳＲＸ２７４Ｃ、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）：１．０質量部
・アミン触媒（商品名：ＴＯＹＯＣＡＴ−ＥＴ、東ソー社製）：０．３質量部
・アミン触媒（商品名：ＴＯＹＯＣＡＴ−Ｌ３３、東ソー社製）：０．２質量部
・水：２．０質量部
【０２０２】
［比較例３１〜４０］
イオン化合物と無機粒子の種類と配合量を、表２３に記載の通りに変更した以外は実施例４３と同様にして、比較例３１〜４０に係るトナー供給ローラを作製した。
【０２０３】
【表２３】
2020024407.tif 000061
【０２０４】
＜トナー供給ローラの評価＞
得られた実施例４３〜４８、参考例１、２および比較例３１〜４０に係るトナー供給ローラについて、以下の評価を行った。評価結果を表２４にまとめて示す。
【０２０５】
［ローラの抵抗値の測定］
現像ローラの評価と同様にして、Ｎ／Ｎ環境下および０℃の環境下に６時間トナー供給ローラを放置した後、各環境下で抵抗値を測定した。
【０２０６】
（抵抗値の測定）
トナー供給ローラの抵抗値の測定は、前述の現像ローラの抵抗値の測定と同様の装置を用いて行った。ただし、基体の両端に加える荷重を２．５Ｎ、測定時におけるローラの回転数を３２ｒｐｍとした。それ以外は、現像ローラと同様に測定を行い、トナー供給ローラ抵抗値とした。
【０２０７】
［トナー供給ローラとしての性能評価］
（規制不良評価）
図４に示す構成を有する、レーザープリンター（商品名：ＬＢＰ７７００Ｃ、キヤノン社製）用のプロセスカートリッジに、各実施例および比較例のトナー供給ローラを装填した。そして、該プロセスカートリッジを前記レーザープリンターに組み込み、０℃環境中に設置した後２時間放置した。次に、黒色で印字率１％の画像を１００枚連続して出力した。その後、新しいコピー用紙に白ベタ画像を出力した。これらの画像を出力した後、現像ブレード表面のトナーコートの状態観察を行い、トナーへの帯電異常に起因する静電的トナー凝集（規制不良）の有無を目視で観察した。規制不良評価の評価基準は以下のとおりである。なお、規制不良が生じると、例えば非印字部に斑点状のムラが発生したり、トナー塊などが画像上に発生したりする画像弊害が生じることがある。
ランクＡ：トナーコート上に規制不良が存在しない。
ランクＢ：トナーコート上には規制不良が存在するが、画像に現れていない。
ランクＣ：規制不良が画像に現れる。
【０２０８】
【表２４】
2020024407.tif 000062
【０２０９】
表２４に示すように、実施例４３〜４８に係るトナー供給ローラは、樹脂層に、特定のカチオン構造を含有する樹脂と、アニオンと、疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子とを含有しているため、温度０℃の如き低温環境下における抵抗値の上昇が少なく、規制不良評価も良好だった。たとえば、無機粒子以外は同じ組成の樹脂層である実施例４３と比較例３２では、疎水化度６０％の無機粒子Ｐ−１を用いた実施例４３の方が、疎水化度１０％の無機粒子Ｐ−８を用いた比較例３２よりも低温での抵抗値の上昇が小さかった。また、特に、構造式（２）および（１０）で示される構造を含有する樹脂、および疎水化度が６０％以上、一次粒子径が３０ｎｍ、かつアルキルシランおよびシリコーンオイルで疎水化処理を行った無機粒子Ｐ−１を用いた実施例４３においては、より高いレベルで抵抗値の上昇が抑制された。
【０２１０】
一方で、特定のカチオン構造または疎水化度が４０％以上８０％以下の無機粒子を樹脂層に含有していない比較例３１〜４０に係るトナー供給ローラは、低温環境下において、抵抗値の上昇および規制不良の発生が認められた。
なお、無機粒子を含まない参考例１、２ではアニオン移動阻害が発生しないため、低温環境下における抵抗値の上昇および規制不良の発生はなかった。
【符号の説明】
【０２１１】
１Ａ  電子写真ローラ
１Ｂ  電子写真ブレード
２  基体
３  樹脂層
４  弾性層
５  中間層
１５  トナー
１６  現像ローラ
１７  プロセスカートリッジ
１８  感光体（電子写真感光体）
１９  トナー供給ローラ
２０  トナー容器
２１  現像ブレード
２２  現像装置
２３  レーザー光
２４  帯電ローラ
２５  廃トナー収容容器
２６  クリーニングブレード
２７  定着装置
２８  駆動ローラ
２９  転写ローラ
３０  バイアス電源
３１  テンションローラ
３２  転写搬送ベルト
３３  従動ローラ
３４  紙
３５  給紙ローラ
３６  吸着ローラ
３７  円柱形金属
３８  導電性の軸受け
３９  高圧電源
４０  電圧計
Ｌ  長手側端部からの長さ
Ｔ  膜厚
【図１】
2020024407.tif 000079
【図２】
2020024407.tif 000080
【図３】
2020024407.tif 000081
【図４】
2020024407.tif 000082
【図５】
2020024407.tif 000083