(57)【要約】      （修正有）【課題】有機樹脂接着剤を用いることなく、高い接合強度を有し、生産性が高く、光学特性を保持した光学部品の製造方法を提供する。【解決手段】第１の接合面を有する第１の光学部材と、第２の接合面を有する第２の光学部材と、を準備する準備工程Ｓ１、第１の接合面に光学的機能膜を形成する成膜工程Ｓ２、光学的機能膜及び第２の接合面の少なくとも一方に対して表面活性化処理を行う表面活性化工程Ｓ３、光学的機能膜及び第２の接合面のうち、表面活性化処理を行った面に水を塗布した後、光学的機能膜と第２の接合面を密着させて密着体を得る密着工程Ｓ４、密着体に圧力を印加しながら加熱することで、第１の光学部材と第２の光学部材とを一体化する接合工程Ｓ５、を備える。【選択図】図２
2020030299.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の接合面を有する第１の光学部材と、第２の接合面を有する第２の光学部材と、を準備する準備工程、
前記第１の接合面に光学的機能膜を形成する成膜工程、
前記光学的機能膜及び前記第２の接合面の少なくとも一方に対して表面活性化処理を行う表面活性化工程、
前記光学的機能膜及び前記第２の接合面のうち、前記表面活性化処理を行った面に水を塗布した後、前記光学的機能膜と前記第２の接合面を密着させて密着体を得る密着工程、
前記密着体に圧力を印加しながら加熱することで、前記第１の光学部材と前記第２の光学部材とを一体化する接合工程、
を備えることを特徴とする、光学部品の製造方法。
【請求項２】
前記表面活性化処理は、ＵＶオゾン処理及びプラズマ処理から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする、請求項１に記載の光学部品の製造方法。
【請求項３】
前記接合工程で、減圧することを特徴とする、請求項１又は２に記載の光学部品の製造方法。
【請求項４】
前記接合工程で、水の沸点以上の温度で加熱が行われることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項５】
前記第１の光学部材及び前記第２の光学部材の少なくとも一方が、ガラスからなることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項６】
前記ガラスが、ホウケイ酸ガラスからなることを特徴とする、請求項５に記載の光学部品の製造方法。
【請求項７】
前記光学的機能膜が、偏光ビームスプリッタ膜であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学部品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスク装置、レーザープリンター、レーザー加工機および測定装置などのレーザー応用機器において、レーザー光の分離等のために、偏光ビームスプリッタ等の光学部品が多数使用されている。偏光ビームスプリッタは、誘電体多層膜を蒸着したプリズム等の光学部材を貼り合わせることで製造される光学部品であり、光アイソレータなどの光学素子に用いられる。
【０００３】
このような光学部材の貼り合わせは、従来、有機樹脂接着剤を用いて行われてきた。ところが、近年のレーザー応用機器は、使用波長域の短波長化やレーザー光の出力増大の傾向があり、有機樹脂接着剤を用いた光学部品では、接着界面の有機樹脂接着剤が紫外線や熱によって劣化しやすく、損傷が生じる。一旦、接着界面に損傷が生じると、その損傷個所で光が散乱され、光学部品として機能しなくなったり、損傷個所にエネルギーが集中することによって、光学部品が破損したりする可能性がある。
【０００４】
そのため、近年では有機樹脂接着剤を用いずに光学部材を貼り合わせる手段として、オプティカルコンタクトがしばしば用いられる。オプティカルコンタクトとは、精密に研磨加工された面同士を密着させることにより光学部材を接合する方法であり、石英ガラスを用いた光学部材の貼り合わせに用いられることが多い。
【０００５】
しかし、オプティカルコンタクトにおいて実用的な接合強度を得るためには、原子スケールのきわめて精密な表面平滑さが必要であることや、６００℃以上（石英ガラスであれば、１２００℃以上）といった高温での熱処理が必要であること、材質の違う部材同士では接合強度が不十分になりやすいなどの問題をクリアする必要がある。接合強度が不十分になると、光学部品の光学特性が低下する可能性がある。そのため、これまで接合強度を高めるために、様々な工夫が検討されてきた。
【０００６】
例えば、特許文献１には、フッ化物と酸化物の接合力が極めて弱いことが記載されており、接合強度を向上させるために、フッ化物の表面に酸化物層を設け、水酸基（−ＯＨ）の存在密度を向上させる方法が開示されている。
【０００７】
また、特許文献２では、複数の誘電体薄膜を積層して構成された半透膜の上に、ガラス成分と類似の被膜を形成し、接合面における水酸基（−ＯＨ）の量を増加させることで、ガラス基材を一体化させる方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−２７９４９５号公報
【特許文献２】特開２０１０−２７６９４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
このように、従来のオプティカルコンタクトでは、材質の違う部材同士を貼り合わせる際には、接合面に接合材料の組成と近しい薄膜を別途設けるなどの対策が必要とされていた。このような薄膜の形成は、光学部品の構成を複雑にするだけでなく、薄膜を形成する際に、ピンホールと呼ばれる微小穴を生じさせてしまうことがあった。このような微小穴に水が吸着すると、接合面の水酸基（−ＯＨ）の存在密度にばらつきが生じ、接合強度が不十分になることによって、光学特性が低下する可能性がある。そのため、実際には微小穴を埋めるためにガラス薄膜を重ねて成膜するなどの工程が追加で必要になり、光学部品の生産性を低下させていた。
【００１０】
以上に鑑み、本発明は、有機樹脂接着剤を用いることなく、高い接合強度を有し、生産性が高く、光学特性を保持した光学部品の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の光学部品の製造方法は、第１の接合面を有する第１の光学部材と、第２の接合面を有する第２の光学部材と、を準備する準備工程、第１の接合面に光学的機能膜を形成する成膜工程、光学的機能膜及び第２の接合面の少なくとも一方に対して表面活性化処理を行う表面活性化工程、光学的機能膜及び第２の接合面のうち、表面活性化処理を行った面に水を塗布した後、光学的機能膜と第２の接合面を密着させて密着体を得る密着工程、密着体に圧力を印加しながら加熱することで、第１の光学部材と第２の光学部材とを一体化する接合工程を備えることを特徴とする。
【００１２】
上記製造方法によれば、光学的機能膜とガラス部材との直接的な貼り合わせであっても、十分な接合強度を得やすくなり、水分等の浸入を抑制しやすくなる。そのため、光学特性を保持しやすい。また、接合工程を簡略化できるため、光学部品を効率よく製造しやすい。
【００１３】
本発明の光学部品の製造方法において、表面活性化処理は、ＵＶオゾン処理及びプラズマ処理から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。
【００１４】
本発明の光学部品の製造方法において、接合工程で、減圧することが好ましい。
【００１５】
本発明の光学部品の製造方法において、接合工程で、水の沸点以上の温度で加熱が行われることが好ましい。このようにすれば、より短時間で接合することができ、生産性を高めることができる。
【００１６】
本発明の光学部品の製造方法において、第１の光学部材及び第２の光学部材の少なくとも一方が、ガラスからなることが好ましい。
【００１７】
本発明の光学部品の製造方法において、ガラスが、ホウケイ酸ガラスであることが好ましい。
【００１８】
本発明の光学部品の製造方法において、光学的機能膜が、偏光ビームスプリッタ膜であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、有機樹脂接着剤を用いることなく、高い接合強度を有し、生産性が高く、光学特性を保持した光学部品の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】（ａ）は本発明における光学部品を示す斜視図であり、（ｂ）はその側面図である。
【図２】本発明の製造方法を説明するフローチャートである。
【図３】（ａ）は本発明における第１の光学部材を示す斜視図であり、（ｂ）は第２の光学部材を示す斜視図である。
【図４】本発明における光学部品を示す側面図である。
【図５】本発明における光学部材の密着工程を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００２２】
図１は、本発明における光学部品の斜視図及び側面図である。光学部品１０は、図１（ａ）（ｂ）に示すように、第１の接合面１ａを有する第１の光学部材１と、第２の接合面２ａを有する第２の光学部材２と、第１の接合面１ａ上に形成された光学的機能膜３からなる。光学部品１０は、第１の光学部材１上に形成された光学的機能膜３と第２の光学部材２の第２の接合面２ａを接合することにより形成される。
【００２３】
図２は、本発明の製造方法を説明するフローチャートである。光学部品１０は、図２に示す手順で製造され、第１の接合面１ａを有する第１の光学部材１と、第２の接合面２ａを有する第２の光学部材２と、を準備する準備工程Ｓ１、第１の接合面１ａに光学的機能膜３を形成する成膜工程Ｓ２、光学的機能膜３及び第２の接合面２ａの少なくとも一方に対して表面活性化処理を行う表面活性化工程Ｓ３、光学的機能膜３及び第２の接合面２ａの間に水４を塗布した後、光学的機能膜３と第２の接合面２ａを密着させて密着体５を得る密着工程Ｓ４、密着体５に圧力を印加しながら加熱することで、第１の光学部材１と第２の光学部材２とを一体化する接合工程Ｓ５を備えている。以下、工程ごとに詳細に説明する。
【００２４】
（準備工程Ｓ１）
準備工程Ｓ１では、第１の接合面１ａを有する第１の光学部材１と、第２の接合面２ａを有する第２の光学部材２を準備する。図３は、本発明における第１の光学部材及び第２の光学部材を示す斜視図である。図３（ａ）（ｂ）に示すように、第１の光学部材１と第２の光学部材２は、少なくともひとつの接合面１ａ、２ａと、接合に直接関与しない面１ｂ、２ｂ（接合面１ａ、２ａ以外の全ての面を含む。以下、まとめて外周面と呼ぶ）を有する。このように、第１の光学部材１と第２の光学部材２は、第１の接合面１ａと第２の接合面２ａを有する形状であればよく、プリズム状、略円盤状、矩形板状などの任意の形状を取ることができる。特に、プリズム状であることが好ましい。また、第１の光学部材１と第２の光学部材２は、互いに異なる形状や大きさであってもよい。
【００２５】
第１の光学部材１及び第２の光学部材２において、第１の接合面１ａ及び第２の接合面２ａの算術平均高さＳａは、１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、１ｎｍ以下が特に好ましい。算術平均高さＳａが大きすぎると、第１の光学部材１と第２の光学部材２の接合強度が低下しやすくなる。下限値は特に限定されないが、現実的には０．１ｎｍ以上である。なお、接合に直接関与しない外周面１ｂ、２ｂの算術平均高さは、所定の光学特性に影響を与えない範囲で適宜選択される。
【００２６】
第１の光学部材１及び第２の光学部材２は、所定の光学特性を満たす透光性無機材料からなることが好ましい。例えばガラスや石英を用いることができる。ガラスとしては、サファイアガラス、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダガラスなどを用いることができる。特に、入手しやすさの観点から、ホウケイ酸ガラスを用いることが好ましい。
【００２７】
第１の光学部材１及び第２の光学部材２は、同一の材料からなることが好ましい。このようにすれば、得られる光学部品１０の接合強度を高めやすくなる。もっとも、所定の光学的機能を得ることを目的として、第１の光学部材１と第２の光学部材２が異なる材料からなっていてもよい。
【００２８】
（成膜工程Ｓ２）
成膜工程Ｓ２では、第１の接合面１ａに光学的機能膜３を形成する。成膜方法は特に限定されず、望ましい光学的機能を有する光学的機能膜３が得られるよう適宜選択することができる。
【００２９】
光学的機能膜３は、誘電体膜が複数積層されたものであり、所定の光学的機能を有する。例えば、光学的機能膜３はビームスプリッタ膜である。図４は本発明における光学部品を示す側面図である。図４に示すように、偏光ビームスプリッタ膜はＳ偏光６とＰ偏光７を分離する。なお、光学的機能膜３は偏光ビームスプリッタ膜に限定されず、反射防止膜や、ダイクロイック膜など、所定の光学的機能を有するものを用いることができる。なお、これらの光学的機能膜３は、外周面１ｂ及び外周面２ｂの任意の部分に形成されていてもよい。
【００３０】
光学的機能膜３を形成する誘電体膜材料は特に限定されないが、例えば、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＨｆＯ２などから適宜選択することができる。光学的機能膜３の厚みは所定の特性が得られるよう適宜選択すればよく、例えば０．０１〜２０μｍが好ましく、０．１〜１５μｍがより好ましく、０．１〜１０μｍが特に好ましい。
【００３１】
（表面活性化工程Ｓ３）
表面活性化工程Ｓ３では、光学的機能膜３又は第２の接合面２ａの少なくとも一方に対して、紫外線照射（ＵＶオゾン処理）又はプラズマ照射（プラズマ処理）を行う。このようにすることで、光学的機能膜３又は第２の接合面２ａの濡れ特性を大幅に向上させることができる。その結果、後の密着工程Ｓ４において強く密着した密着体５を得ることができる。結果的に、より接合強度の高い光学部品１０を得ることができる。
【００３２】
ＵＶオゾン処理では、大気中で被処理面に対して紫外線を照射する。紫外線は大気中の酸素に照射され、オゾンを発生させる。発生したオゾンは分解して活性酸素となり、被処理面に付着した有機物汚れと反応する。有機物汚れが二酸化炭素や水などに分解されて除去されることにより、被処理面の濡れ特性が向上する。また、紫外線を照射すると、被処理面における化学結合が切断され、親水性の官能基（例えば、水酸基など）が生成する。これにより、濡れ特性がさらに向上する。
【００３３】
紫外光源は、波長が３００ｎｍ以下の紫外線を発するものが好ましい。例えば、Ｘｅエキシマ光源（波長１７２ｎｍ）、低圧水銀ランプ（１８５ｎｍ、２５４ｎｍ）を用いることができる。紫外線光源の発光強度は５〜２００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、１０〜１００ｍＷ／ｃｍ２がより好ましく、１０〜５０ｍＷ／ｃｍ２が特に好ましい。
【００３４】
処理時間は１５秒〜１０分が好ましく、３０秒〜５分がより好ましく、１分〜５分が特に好ましい。処理時間が短すぎると、十分な表面活性化効果が得にくくなる。また、処理時間が長すぎると、さらなる表面活性化効果が得にくくなる。
【００３５】
プラズマ処理では、大気中での放電により発生したプラズマを、被処理面に対して照射する。発生したプラズマ中の分子（ラジカルなど）が、被処理面に付着した有機物汚れと反応する。有機物汚れが二酸化炭素や水などに分解されて除去されることにより、被処理面の濡れ特性が向上する。また、プラズマを照射すると、上記分子が被処理面に衝突し、被処理面における化学結合が切断され、親水性の官能基（例えば、水酸基など）が生成する。これにより、濡れ特性がさらに向上する。
【００３６】
処理時間は１５秒〜１０分が好ましく、３０秒〜５分がより好ましく、１分〜５分が特に好ましい。処理時間が短すぎると、十分な処理効果が得にくくなる。また、処理時間が長すぎると、被処理面がエッチングされ過ぎてしまい、強固な接合が得にくくなる可能性がある。
【００３７】
また、ＵＶオゾン処理及びプラズマ処理はドライ洗浄の一種であり、処理面の有機物汚れを効果的に除去することができる一方で、無機微粒子を取り除く効果は得にくい。そのため、無機汚れを取り除くために、上記処理後にウェット洗浄を組み合わせてもよい。ウェット洗浄としては、純水による洗浄、酸アルカリ溶液による洗浄、有機溶剤による洗浄を行うことができる。特に純水による洗浄が好ましい。
【００３８】
なお、接合強度を高めるという観点からは、光学的機能膜３及び第２の接合面２ａの両方に対して、ＵＶオゾン処理やプラズマ処理を行うことがより好ましい。このようにすれば、光学的機能膜３と第２の接合面２ａの両方の濡れ特性を向上させることができ、後の密着工程Ｓ４においてより強く密着した密着体５を得ることができる。結果的に、より接合強度の高い光学部品１０を得ることができる。
【００３９】
濡れ特性は接触角を測定することにより確認できる。表面活性化後の接触角は、１５°以下が好ましく、１０°以下がより好ましく、８°以下がさらに好ましい。なお、現実的には、接触角の下限値は２°以上である。
【００４０】
（密着工程Ｓ４）
図５は、本発明における光学部品の密着工程を示す説明図である。密着工程Ｓ４では、図５（ａ）に示すように、光学的機能膜３及び第２の接合面２ａの少なくとも一方に、水４を塗布した状態で、光学的機能膜３と第２の接合面２ａを密着させて、図５（ｂ）に示す密着体５を作製する。水４は、光学的機能膜３又は第２の接合面２ａのうち、表面活性化された面に塗布することができる。また、光学的機能膜３と第２の接合面２ａの両方の面が表面活性化された場合は、その両方に水４を塗布することができる。
【００４１】
水４の塗布方法は特に限定されないが、水蒸気による塗布、スプレーによる塗布、液滴の滴下などが挙げられる。あるいは、表面活性化された面を有する光学部材全体を水４に浸してもよい。
【００４２】
水４としては、例えば純水が挙げられるがそれに限定されず、陽イオンや陰イオンなどが含有されていてもよい。また、揮発性を高めるため、アルコール等の親水性の高い有機溶媒を混合してもよい。ただし、有機物が光学的機能膜３及び第２の接合面２ａの間に残留することを抑制するため、有機溶媒の混合量は体積％で全体の１％以下であることが好ましい。
【００４３】
（接合工程Ｓ５）
接合工程Ｓ５では、密着体５に圧力を印加し加熱することで、図１に示す光学部品１０を得る。光学的機能膜３及び第２の接合面２ａに対して垂直方向に印加する圧力は、１〜７０ＭＰａが好ましく、１０〜５０ＭＰａがより好ましく、２０〜４０ＭＰａが特に好ましい。このようにすれば、光学部品１０の接合強度を高めることができる。印加する圧力が大きすぎると、光学部品１０が破損するおそれがある。また、印加する圧力が小さすぎると、光学部品１０の接合強度を高める効果が得にくくなる。
【００４４】
加熱は水の沸点以上の温度で行うことが好ましい。具体的には、２００℃〜５００℃が好ましく、２３０℃〜３８０℃がより好ましく、２５０℃〜３５０℃が特に好ましい。このようにすれば、光学的機能膜３及び第２の接合面２ａに塗布した水分を十分に除去しつつ接合することができる。加熱温度が低すぎると、水酸基同士の十分な結合強度を得ることが難しくなり、接合強度が高めにくくなる。また、接合工程Ｓ５が長くなる。加熱温度が高すぎると、光学的機能膜３の性能が低下する可能性がある。
【００４５】
また、接合工程Ｓ５は減圧雰囲気で行うことが好ましい。このようにすれば、光学部品１０の接合強度をより高めることができる。例えば、減圧条件は１０１Ｐａ以下が好ましく、１００Ｐａ以下がより好ましく、１０−２Ｐａ以下が特に好ましい。
【００４６】
このように、本発明では表面活性化された光学的機能膜３及び／又は第２の接合面２ａのうち、表面活性化処理を行った面に水４を塗布して作製した密着体５に、圧力を印加しながら水の沸点以上に加熱することにより、一度の加熱圧着で十分な接合強度を有する光学部品１０を得ることができる。その結果、光学部品１０の製造にかかる時間を短縮しやすくなる。また、十分な接合強度を有しているため、光学特性を保持しやすくなる。
【実施例】
【００４７】
以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００４８】
表１は本発明の実施例（試料１〜４）及び比較例（試料５〜２１）を示している。
【００４９】
【表１】
2020030299.tif 000003
【００５０】
各試料は次のようにして作製した。はじめに、第１の光学部材と第２の光学部材として、５ｍｍ角の４５°直角プリズム（ＢＫ−７、ショット社製）を作製した。４５°直角プリズムは、入射面、出射面、斜面及び側面を有する。原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による観察より、第１の接合面及び第２の接合面となる斜面の算術平均高さＳａは０．４ｎｍであった。
【００５１】
次に、第１の光学部材の第１の接合面に、偏光ビームスプリッタ膜（計３０層のＳｉＯ２とＴａ２Ｏ５から成る誘電体多層膜）を形成した。また、第１の光学部材と第２の光学部材である直角プリズムの各入射面及び出射面（斜面と対向する面）に、反射防止膜（計３層のＳｉＯ２とＴａ２Ｏ５から成る誘電体多層膜）を形成した。
【００５２】
試料１〜１０、試料２０、２１については、第１の光学部材の第１の接合面に形成された偏光ビームスプリッタ膜と、第２の光学部材の第２の接合面に対してＵＶオゾン処理を２分間行った。試料１０〜１８についてはＵＶオゾン処理を行わなかった。
【００５３】
次に、試料１〜９、試料１１〜１８、試料２０、２１については、第１の光学部材の第１の接合面に形成された偏光ビームスプリッタ膜に対して純水の水蒸気を塗布し、第２の光学部材の第２の接合面と密着させることで密着体を得た。なお、試料１０、試料１９については、水蒸気を塗布せずに第１の光学部材の第１の接合面に形成された偏光ビームスプリッタ膜と第２の光学部材の第２の接合面と密着させ、密着体を得た。
【００５４】
密着体について、プレス機を用いて表１に記載の条件（加圧の有無、雰囲気、加熱温度）で接合することにより、偏光ビームスプリッタキューブを作製した。４２ＭＰａで加圧したものは○、１００ＭＰａで加圧したものは△、加圧しなかったものは×とした。減圧雰囲気（５×１００Ｐａ）で接合を行ったものは○、大気圧で行ったものは×とした。接合時間は、加熱温度が所定温度に達したのち、押圧を開始してから１２０秒とした。なお、表１において、ＲＴは室温を表している。
【００５５】
また、試料２０、２１については、接合後に電気炉に挿入し、３３０℃で追加の熱処理を行った。追加の熱処理を行ったものは○、行っていないものは×とした。表１に熱処理時間を示す。
【００５６】
得られた偏光ビームスプリッタキューブの接合強度は、プレス機から取り出した後、ピンセットで第１の光学部材の側面を挟み、光学的機能膜と第２の接合面に対して垂直方向に持ち上げた際に、光学的機能膜と第２の接合面が離れるかどうかで評価した。剥がれが生じなかった試料を○、剥がれが生じた試料を×と評価した。
【００５７】
剥がれが発生しなかった試料については、挿入損失を測定した。測定結果を表１に示す。なお、挿入損失は波長１０６４ｎｍの１０ｍＷのコヒーレント光をＰ偏光させたのち、試料に対して垂直に入射させ、パワーメーターで光強度を測定することで算出した。元の光強度をＩ０（ｍＷ）として、試料から出射された光の光強度をＩ１（ｍＷ）とすると、挿入損失は、次式で表される。
挿入損失＝−１０ｌｏｇ（Ｉ１／Ｉ０）
【００５８】
表１から明らかなように、実施例の偏光ビームスプリッタキューブは、いずれの試料でも剥がれることなく、十分な接合強度を有していた。一方、比較例の偏光ビームスプリッタキューブでは、多くの試料で全く接合できないか、接合できても容易に剥がれが生じた。
【００５９】
また、実施例の偏光ビームスプリッタキューブは、挿入損失が０．０６ｄＢ以下と小さくなった。一方、比較例の偏光ビームスプリッタキューブは挿入損失が０．１２ｄＢ以上と大きくなった。特に試料５では偏光ビームスプリッタ膜が変質し、偏光子の挿入損失が大きくなった。
【００６０】
実施例の偏光ビームスプリッタキューブは、短時間（１２０秒）の接合で、良好な接合状態及び光学特性が得られた。一方、比較例（試料２１）の偏光ビームスプリッタキューブは、良好な接合状態及び光学特性が得られたが、接合時間が４時間と長くなった。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明は、偏光ビームスプリッタ、ダイクロイックプリズム等の光学部品の製造方法として好適である。
【符号の説明】
【００６２】
１    第１の光学部材
１ａ  第１の接合面
１ｂ  外周面
２    第２の光学部材
２ａ  第２の接合面
２ｂ  外周面
３    光学的機能膜
４    水
５    密着体
６    Ｓ偏光
７    Ｐ偏光
１０  光学部品
Ｓ１  準備工程
Ｓ２  成膜工程
Ｓ３  表面活性化工程
Ｓ４  密着工程
Ｓ５  接合工程
【図１】
2020030299.tif 000004
【図２】
2020030299.tif 000005
【図３】
2020030299.tif 000006
【図４】
2020030299.tif 000007
【図５】
2020030299.tif 000008