(57)【要約】【課題】パッファ室内圧力を急増させるための昇華性物質に対するアークの放射光の照射を簡易で効率的に行え得るガス遮断器を提供する。【解決手段】ノズル２６の内側面における絞り部２６ａからパッファ室２４側に設けた案内面２６ｂ、すなわちアークＡの発生箇所の近くの部位に昇華性物質３０ａを設け、アークＡの放射光（熱放射）による昇華性物質３０ａの昇華作用にてパッファ室２４内の圧力上昇をより速やかにする。【選択図】図２
2020194754.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁ガス雰囲気中において、固定電極部に備えられる固定接点と可動電極部に備えられる可動接点とが接離動作し、電流遮断時に前記固定接点から前記可動接点が高速で離間動作するものであり、
前記固定接点から前記可動接点が離間する際に生じ得るアークに対し、パッファ室内の前記絶縁ガスを前記アークの消弧ガスとして噴出させる動作を行うパッファ部と、
前記パッファ部から噴出された前記絶縁ガスを前記アークの消弧のために適所に向けて案内するノズルとを備えたガス遮断器であって、
前記ノズルは、前記可動接点の接離方向に軸線を有する略円筒状をなしその内側面の軸方向中間部に絞り部を有するものであり、
少なくとも前記絞り部から前記パッファ室側のいずれかの部位において、前記アークの放射光による熱放射にて昇華が生じる昇華性物質を別途若しくは一体的に設けた、ガス遮断器。
【請求項２】
前記パッファ部は、前記可動接点の離間動作と連動するピストンの押込動作にて前記パッファ室内の絶縁ガスを前記アークの消弧ガスとして噴出させる機械パッファ動作を含み、
前記昇華性物質は、遮断動作初期よりも遮断動作後期において前記アークの熱放射による昇華作用が抑えられるように構成された、請求項１に記載のガス遮断器。
【請求項３】
前記可動接点は、前記昇華性物質に向けて前記アークの放射光を透過させるための透過部を備えるものであり、
前記透過部は、前記固定接点と接触する前記可動接点の先端部に設けられ、
前記昇華性物質は、前記ノズルの内側面における前記絞り部寄りの部位に設けられた、請求項１又は請求項２に記載のガス遮断器。
【請求項４】
前記可動接点は、前記昇華性物質に向けて前記アークの放射光を透過させるための透過部を備えるものであり、
前記透過部は、前記固定接点と接触する前記可動接点の先端部より内側に設けられ、
前記昇華性物質は、前記ノズルの内側面において前記絞り部とは反対側の前記パッファ室寄りの部位に設けられた、請求項１又は請求項２に記載のガス遮断器。
【請求項５】
前記昇華性物質は、昇華性材料を含んで構成された前記ノズル自身である、請求項１又は請求項２に記載のガス遮断器。
【請求項６】
前記ノズルに設けた前記昇華性物質を第１昇華性物質としたとき、前記アークの放射光による熱放射にて昇華が生じる第２昇華性物質が前記パッファ室を形成する面に設けられた、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のガス遮断器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス遮断器に関する。
【背景技術】
【０００２】
電力系統の電流遮断を行うガス遮断器においては、パッファ室内にある絶縁ガスを消弧ガスとしてアーク接点部、すなわち固定接点と可動接点との間に生じ得るアークに向けて強く吹き付けて消弧を図るパッファ形のガス遮断器がある。
【０００３】
熱パッファ式を用いるものでは、アークによる絶縁ガス自身の単なる熱膨張に加え、アークの放射光が当たる位置に昇華性物質を設け、アークの熱放射を受けて昇華性物質を昇華させることでパッファ室内の絶縁ガスの圧力をより速やかに上昇させる技術もある（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−２０３７０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１等のように、パッファ室を形成するピストンの表面に昇華性物質が設けられる態様では、アークの発生箇所から昇華性物質までの距離が遠い状況にある。距離が遠くなるとアークの光路途中に可動接点や操作軸部等の障害物が増え、障害物にアークの放射光を透過させるための透過部を設ける対応でも、昇華性物質に対するアークの放射光の効率的な照射は難しい。
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、パッファ室内圧力を急増させるための昇華性物質に対するアークの放射光の照射を簡易で効率的に行え得るガス遮断器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するガス遮断器は、絶縁ガス雰囲気中において、固定電極部に備えられる固定接点と可動電極部に備えられる可動接点とが接離動作し、電流遮断時に前記固定接点から前記可動接点が高速で離間動作するものであり、前記固定接点から前記可動接点が離間する際に生じ得るアークに対し、パッファ室内の前記絶縁ガスを前記アークの消弧ガスとして噴出させる動作を行うパッファ部と、前記パッファ部から噴出された前記絶縁ガスを前記アークの消弧のために適所に向けて案内するノズルとを備えたガス遮断器であって、前記ノズルは、前記可動接点の接離方向に軸線を有する略円筒状をなしその内側面の軸方向中間部に絞り部を有するものであり、少なくとも前記絞り部から前記パッファ室側のいずれかの部位において、前記アークの放射光による熱放射にて昇華が生じる昇華性物質を別途若しくは一体的に設けた。
【０００８】
上記態様によれば、ノズルの内側面に設けた少なくとも絞り部からパッファ室側のいずれかの部位に、すなわちアークの発生箇所の近くの部位に昇華性物質が別途若しくは一体的に設けられるため、昇華性物質に対するアークの放射光の照射を簡易で効率的に行うことが可能となる。
【０００９】
上記ガス遮断器において、前記パッファ部は、前記可動接点の離間動作と連動するピストンの押込動作にて前記パッファ室内の絶縁ガスを前記アークの消弧ガスとして噴出させる機械パッファ動作を含み、前記昇華性物質は、遮断動作初期よりも遮断動作後期において前記アークの熱放射による昇華作用が抑えられるように構成された。
【００１０】
上記態様によれば、遮断動作初期よりも遮断動作後期においてアークの熱放射による昇華性物質の昇華作用が抑えられるため、機械パッファ動作を含むパッファ部のピストンの押込動作にかかる力が遮断動作後期にて過大となることが抑制可能となる。
【００１１】
上記ガス遮断器において、前記可動接点は、前記昇華性物質に向けて前記アークの放射光を透過させるための透過部を備えるものであり、前記透過部は、前記固定接点と接触する前記可動接点の先端部に設けられ、前記昇華性物質は、前記ノズルの内側面における前記絞り部寄りの部位に設けられた。
【００１２】
上記態様によれば、アークの放射光を透過させる透過部が可動接点の先端部に設けられ、昇華性物質がノズルの内側面における絞り部寄りの部位に設けられることで、アークの発生箇所のより近くに昇華性物質を設けることができ、また透過部を設け易い可動接点の先端部に設定できる等の効果が期待できる。
【００１３】
上記ガス遮断器において、前記可動接点は、前記昇華性物質に向けて前記アークの放射光を透過させるための透過部を備えるものであり、前記透過部は、前記固定接点と接触する前記可動接点の先端部より内側に設けられ、前記昇華性物質は、前記ノズルの内側面において前記絞り部とは反対側の前記パッファ室寄りの部位に設けられた。
【００１４】
上記態様によれば、アークの放射光を透過させる透過部が可動接点の先端部より内側に設けられ、昇華性物質はノズルの内側面において絞り部とは反対側のパッファ室寄りの部位に設けられることで、パッファ室のより近くに昇華性物質を設けることができ、また可動接点の先端部を固定接点との接触態様を主に考慮した形状に形成できる等の効果が期待できる。
【００１５】
上記ガス遮断器において、前記昇華性物質は、昇華性材料を含んで構成された前記ノズル自身である。
上記態様によれば、アークの放射光による熱放射にて昇華が生じる昇華性物質は、昇華性材料を含んで構成されたノズル自身であるため、ノズルとは別に昇華性物質を別途用意する必要がない。
【００１６】
上記ガス遮断器において、前記ノズルに設けた前記昇華性物質を第１昇華性物質としたとき、前記アークの放射光による熱放射にて昇華が生じる第２昇華性物質が前記パッファ室を形成する面に設けられた。
【００１７】
上記態様によれば、ノズルに設けた第１昇華性物質に加え、パッファ室を形成する面に設けた第２昇華性物質を用いることで、パッファ室内の圧力上昇をより速やかに行うことが可能となる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明のガス遮断器によれば、パッファ室内圧力を急増させるための昇華性物質に対するアークの放射光の照射を簡易で効率的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】一実施形態のガス遮断器の閉路状態を示す断面図。
【図２】一実施形態のガス遮断器の開路動作中（遮断動作初期）を示す断面図。
【図３】一実施形態のガス遮断器の開路動作中（遮断動作後期）を示す断面図。
【図４】変形例におけるガス遮断器を示す断面図。
【図５】変形例におけるガス遮断器を示す断面図。
【図６】変形例におけるガス遮断器を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、ガス遮断器の一実施形態について説明する。
図１から図３に示す本実施形態のガス遮断器１０は、絶縁ガスＧにて満たされる図示略の収容タンク内に収容され、絶縁ガスＧの雰囲気中に配置されている。絶縁ガスＧには、ＳＦ６ガス（六フッ化硫黄ガス）やＣＯ２ガス（二酸化炭素ガス）等が用いられている。
【００２１】
ガス遮断器１０は、主接点部１１を構成する第１固定接点１１ａ及び第１可動接点１１ｂと、アーク接点部１２を構成する第２固定接点１２ａ及び第２可動接点１２ｂとを備える。第１固定接点１１ａ及び第２固定接点１２ａは、ガス遮断器１０の固定電極部１０ａとして一体に構成（同電位にて構成）され、第１可動接点１１ｂ及び第２可動接点１２ｂは、ガス遮断器１０の可動電極部１０ｂとして一体に構成（同電位にて構成）されている。可動電極部１０ｂ側の第１及び第２可動接点１１ｂ，１２ｂは、固定電極部１０ａ側の第１及び第２固定接点１１ａ，１２ａに対して進退するように接離動作する。
【００２２】
なお、図１は、主接点部１１及びアーク接点部１２の各固定接点１１ａ，１２ａと各可動接点１１ｂ，１２ｂとが接触するガス遮断器１０の閉路状態を示している。これに対し、図２及び図３は、主接点部１１及びアーク接点部１２の各固定接点１１ａ，１２ａと各可動接点１１ｂ，１２ｂとが離間するガス遮断器１０の開路動作中（遮断動作中）の状態を示し、そのうち図２は遮断動作初期、図３は遮断動作後期を示している。
【００２３】
固定電極部１０ａにおいて、不動に設置される略円筒状の筒状基部１３には、主接点部１１を構成する円筒状の第１固定接点１１ａが筒状基部１３の開口部に設けられ、アーク接点部１２を構成する円棒状の第２固定接点１２ａが筒状基部１３の開口部内に設けられている。円筒状の第１固定接点１１ａと円棒状の第２固定接点１２ａとは、各軸心がともに軸線Ｌ１上に同軸配置されつつ、互いが間隔を有して配置されている。
【００２４】
可動電極部１０ｂにおいて、不動に設置される図示略の電極基部に対し、細長略円筒状の操作軸部１５が挿通支持されている。操作軸部１５の先端部は、径方向外側に円環状に延出されて後述のシリンダ２１の端面部分を構成する端面部１６を有し、主接点部１１を構成する円筒状の第１可動接点１１ｂが端面部１６の外周縁部に設けられ、アーク接点部１２を構成する円筒状の第２可動接点１２ｂが端面部１６の内周縁部に設けられている。円筒状の第１可動接点１１ｂとそれより小径の円筒状の第２可動接点１２ｂとは、各軸心がともに軸線Ｌ１上に同軸配置されつつ、互いが間隔を有して配置されている。可動電極部１０ｂと固定電極部１０ａとが接触する閉路状態において、主接点部１１の第１可動接点１１ｂは第１固定接点１１ａに対して内嵌する態様にて接触し、アーク接点部１２の第２可動接点１２ｂは第２固定接点１２ａに対して外嵌する態様にて接触する。
【００２５】
ここで、主接点部１１の第１可動接点１１ｂが第１固定接点１１ａに対して接離するタイミングと、アーク接点部１２の第２可動接点１２ｂが第２固定接点１２ａに対して接離するタイミングとの関係について、各可動接点１１ｂ，１２ｂが各固定接点１１ａ，１２ａから軸線Ｌ１に沿った離間動作を行うと、主接点部１１の第１固定接点１１ａから第１可動接点１１ｂが離間するよりも後にアーク接点部１２の第２固定接点１２ａから第２可動接点１２ｂが離間するようになっている。つまり、このような離間タイミングの設定にて、アーク接点部１２の第２固定接点１２ａと第２可動接点１２ｂとの間でアークＡ（図２等参照）が生じ得るようになっている。
【００２６】
アークＡの生じ得る第２可動接点１２ｂ付近には、パッファ機構２０が並設されている。すなわち、本実施形態のガス遮断器１０は、パッファ形のガス遮断器である。ちなみに、本実施形態のガス遮断器１０は、機械パッファ式と熱パッファ式とを併用するものである。
【００２７】
パッファ機構２０は、シリンダ２１とピストン２２とを備える。シリンダ２１は、端面部１６の外周縁部から円筒状に延びる外周壁部１７とその端面部１６と操作軸部１５とを含み、基端側が開口する凹状空間を有する。つまり、シリンダ２１は、操作軸部１５周りに構成されることから、操作軸部１５とともに一体的に進退動作を行う。これに対し、ピストン２２は、上記図示略の電極基部に固定された支持ロッド２３の先端部に設けられ、不動に設置されている。ピストン２２は、シリンダ２１内に配置され、シリンダ２１内の空間を仕切ってパッファ室２４を形成する。さらに、第１及び第２可動接点１１ｂ，１２ｂの間の端面部１６には自身を貫通する開口２５が設けられ、開口２５はパッファ室２４と連通している。操作軸部１５と連動するシリンダ２１が軸方向に進退動作すると、シリンダ２１とピストン２２との相対動作によりパッファ室２４の容積が変化する。
【００２８】
ここで、開路動作時（電流遮断時）における操作軸部１５の退避動作により第２可動接点１２ｂが第２固定接点１２ａから離間する際、その接点１２ａ，１２ｂ間にアークＡが生じ得る。遮断動作初期においてアークＡが生じると、その熱で周囲の絶縁ガスＧが急激に膨張し、膨張した絶縁ガスＧは開口２５からパッファ室２４内に導入される。すると、パッファ室２４内に高い圧力の絶縁ガスＧが充填される。充填された絶縁ガスＧは、遮断動作後期において、開口２５から後述のノズル２６を通じてアークＡに向けて強く吹き付けられるようになっている。これは熱パッファ動作であり、アークＡによる発熱量が大きい大電流遮断時に主となる動作である。
【００２９】
また、上記と並行して、操作軸部１５の退避動作により第２可動接点１２ｂが第２固定接点１２ａから離間する際、ピストン２２がシリンダ２１内に相対的に押し込まれ、パッファ室２４の容積が小さくなる。このピストン２２の押込動作によっても、パッファ室２４内の絶縁ガスＧがアークＡに向けて強く吹き付けられるようになっている。これは機械パッファ動作であり、アークＡによる発熱量が小さい小電流遮断時に主となる動作である。
【００３０】
絶縁ガスＧが噴出される開口２５付近には、ノズル２６が設けられている。ノズル２６は、絶縁ガスＧの吹付方向を適所である第２固定接点１２ａと第２可動接点１２ｂとの間に生じ得るアークＡに向けて案内する機能等を有する部材である。ノズル２６は、絶縁部材にて略円筒状に形成されている。そして、ノズル２６は、基端部が第１可動接点１１ｂに内嵌するように固定され、先端部が第１固定接点１１ａの内側に挿入される態様となっている。
【００３１】
ノズル２６は、内側面の軸方向略中央部において、内径が小となるように絞られる絞り部２６ａが設けられている。絞り部２６ａよりもパッファ機構２０側、すなわちガス吹付方向の上流側部位は、軸方向基端部から絞り部２６ａに向けて縮径する形状をなし、パッファ機構２０の開口２５から噴出される絶縁ガスＧをノズル２６の中心部方向（アークＡの発生箇所）に向けて案内する案内面２６ｂとなっている。絞り部２６ａよりもパッファ機構２０の反対側、すなわちガス吹付方向の下流側部位は、絞り部２６ａから軸方向先端部に向けて拡径するような傾斜形状をなし、絞り部２６ａを経た絶縁ガスＧの流速を下げて拡散させる拡開面２６ｃとなっている。
【００３２】
また、本実施形態のノズル２６には、案内面２６ｂにおける絞り部２６ａ寄りの部位に第１昇華性物質３０ａが設けられている。第１昇華性物質３０ａは、アークＡの放射光（熱放射）にて適切に昇華が生じるような例えばヨウ素（Ｃ５Ｈ１６Ｏ）が用いられ、例えば塗布にて設けられている。またこれに対応して、図２に示す遮断動作初期において、アークＡの発生箇所と第１昇華性物質３０ａとを結ぶ第１光路α１上に位置する第２可動接点１２ｂの先端部に、アークＡの放射光を透過させる第１透過部３１ａが設けられている。換言すると、遮断動作初期では、アークＡの発生箇所から第１透過部３１ａを介する第１光路α１上に第１昇華性物質３０ａが設けられている。つまり、この遮断動作初期においては、アークＡの放射光が第１透過部３１ａを介して第１昇華性物質３０ａに十分に当たる構成をなしており、アークＡの熱放射に基づく第１昇華性物質３０ａの昇華による周囲圧力の急増、ひいてはパッファ室２４内の圧力を急増させるようになっている。なお、第１透過部３１ａは、自身が開口を構成するのではなく、光透過性を有する例えば非晶質ポリテトラフルオロエチレンにて構成されている。
【００３３】
また、ピストン２２の表面（パッファ室２４に臨む面）についても上記第１昇華性物質３０ａと同様な第２昇華性物質３０ｘが設けられている。またこれに対応して、図２に示す遮断動作初期において、アークＡの発生箇所と第２昇華性物質３０ｘとを結ぶ第２光路α２上に位置する操作軸部１５の周壁部に、アークＡの放射光を透過させる上記第１透過部３１ａと同様な第２透過部３１ｘが設けられ、換言すると、アークＡの発生箇所から第２透過部３１ｘを介する第２光路α２上に第２昇華性物質３０ｘが設けられている。つまり、この遮断動作初期においては、アークＡの放射光が第２透過部３１ｘを介してこの第２昇華性物質３０ｘにも十分に当たる構成となっており、アークＡの熱放射に基づく第２昇華性物質３０ｘの昇華による周囲圧力の急増、ひいてはパッファ室２４内の圧力を上記第１昇華性物質３０ａとともに急増させるものである。
【００３４】
なお、図３に示す遮断動作後期になると、アークＡの発生箇所から第１透過部３１ａを介する第１光路α１上から第１昇華性物質３０ａの相対位置にずれが生じてくる。つまり、この遮断動作後期においては、第１透過部３１ａを介するアークＡの放射光が第１昇華性物質３０ａに十分に当たらなくし、アークＡの熱放射による第１昇華性物質３０ａの昇華に基づくパッファ室２４内の圧力上昇が緩やかとなるように、若しくは停止に向かわせるようになっている。また、第２昇華性物質３０ｘについても同様に、アークＡの発生箇所から第２透過部３１ｘを介する第２光路α２上から第２昇華性物質３０ｘの相対位置にずれが生じてくる。つまり、この遮断動作後期においては、第２透過部３１ｘを介するアークＡの放射光が第２昇華性物質３０ｘに十分に当たらなくし、アークＡの熱放射による第２昇華性物質３０ｘの昇華に基づくパッファ室２４内の圧力上昇が緩やかとなるように、若しくは停止に向かわせるようになっている。つまり、遮断動作後期では、パッファ室２４内の圧力が過度に高くなることで、パッファ機構２０を機械パッファ動作させる操作軸部１５の退避動作の際の操作力が過大になることを抑制するものとなっている。
【００３５】
本実施形態のガス遮断器１０の動作（作用）について説明する。
ガス遮断器１０が図１に示す閉路状態においては、操作軸部１５が軸方向に突出した状態となっており、主接点部１１及びアーク接点部１２の第１及び第２固定接点１１ａ，１２ａと第１及び第２可動接点１１ｂ，１２ｂとが接触している。
【００３６】
そして、ガス遮断器１０の開路動作（遮断動作）に基づいて操作軸部１５が軸方向に高速で退避動作すると、主接点部１１及びアーク接点部１２の第１及び第２固定接点１１ａ，１２ａから第１及び第２可動接点１１ｂ，１２ｂが高速で離間する。その際、主接点部１１側の第１固定接点１１ａから第１可動接点１１ｂが離間した後、アーク接点部１２側の第２固定接点１２ａから第２可動接点１２ｂが離間する。この離間タイミングをずらす設定にて、アーク接点部１２側の第２固定接点１２ａと第２可動接点１２ｂとの間においてアークＡが生じ得る。
【００３７】
図２に示す遮断動作初期では、アーク接点部１２にて生じたアークＡの熱で周囲の絶縁ガスＧが膨張し、膨張した絶縁ガスＧはパッファ室２４内に導入される。すると、パッファ室２４内に高い圧力の絶縁ガスＧが充填される。またこの場合、ノズル２６の案内面２６ｂ及びピストン２２の表面（パッファ室２４に臨む面）に設けた各昇華性物質３０ａ，３０ｘにアークＡの放射光が各透過部３１ａ，３１ｘを介してそれぞれ十分に当たる状況である。つまり、アークＡの熱放射により各昇華性物質３０ａ，３０ｘが昇華し、周囲圧力がより速やかに高まり、パッファ室２４内の絶縁ガスＧの圧力上昇もより速やかになる。さらに、この熱パッファ動作に加え、上記操作軸部１５の退避動作に伴うピストン２２の押込動作、すなわち機械パッファ動作に基づき、パッファ室２４内の絶縁ガスＧの圧力は一層速やかに上昇する。
【００３８】
そして、図３に示す遮断動作後期になると、パッファ室２４内で高圧となった絶縁ガスＧはアークＡに向けて消弧ガスとして強く吹き付けられる。パッファ室２４内の圧力上昇に各昇華性物質３０ａ，３０ｘの昇華作用をも用いていることで、アークＡに吹き付ける消弧ガスは一層強く、アークＡの消弧性は高いものとなっている。このような熱パッファ動作及び機械パッファ動作の併用にて、アークＡの消弧によるより確実な電流遮断が行われる。
【００３９】
なお、この遮断動作後期においては、アークＡの発生箇所、各透過部３１ａ，３１ｘ及び各昇華性物質３０ａ，３０ｘの位置関係から、各昇華性物質３０ａ，３０ｘに当たるアークＡの放射光は抑えられ、若しくは当たらないようになるため、遮断動作後期での上記昇華による圧力上昇は抑えられる。つまり、ピストン２２の押込動作、すなわち操作軸部１５の退避動作にかかる操作力が遮断動作後期にて過大となることが抑制されている。
【００４０】
このように本実施形態のガス遮断器１０では、アークＡの消弧性能の向上、すなわち電流遮断性能の向上が十分に期待できるものとなっている。
本実施形態の効果について説明する。
【００４１】
（１）ノズル２６の内側面における絞り部２６ａからパッファ室２４側に設けた案内面２６ｂ、すなわちアークＡの発生箇所の近くの部位に第１昇華性物質３０ａが設けられている。そのため、昇華性物質３０ａに対するアークＡの放射光の照射を簡易で効率的に行うことができる。
【００４２】
（２）遮断動作初期（図２）よりも遮断動作後期（図３）においてアークＡの放射光が当たり難い構造をなし、アークＡの熱放射による昇華性物質３０ａの昇華作用が抑えられているため、機械パッファ動作を含むパッファ機構２０のピストン２２の押込動作にかかる力が遮断動作後期にて過大となることを抑制することができる。
【００４３】
（３）アークＡの放射光を透過させる第１透過部３１ａが第２可動接点１２ｂの先端部に設けられ、第１昇華性物質３０ａがノズル２６の内側面（案内面２６ｂ）における絞り部２６ａ寄りの部位に設けられている。そのため、アークＡの発生箇所のより近くに昇華性物質３０ａを設けることができ、また透過部３１ａを設け易い可動接点１２ｂの先端部に設定できる等の効果が期待できる。
【００４４】
（４）ノズル２６に設けた第１昇華性物質３０ａに加え、パッファ室２４を形成する面（ピストン２２の表面）に設けた第２昇華性物質３０ｘを用いることで、パッファ室２４内の圧力上昇をより速やかに行うことができる。
【００４５】
本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
・アークＡの発生箇所に近い第１昇華性物質３０ａ及びこれに関わる第１透過部３１ａの態様等について、例えば図４、図５及び図６等のように適宜変更してもよい。
【００４６】
図４に示す態様では、アークＡの放射光を透過させる第１透過部３１ｂが第２可動接点１２ｂの先端部より内側に設けられ、第１昇華性物質３０ｂはノズル２６の内側面（案内面２６ｂ）において絞り部２６ａとは反対側のパッファ室２４寄りの部位に設けられる。つまり、この態様では、パッファ室２４のより近くに昇華性物質３０ｂを設けることができ、また可動接点１２ｂの先端部を固定接点１２ａとの接触態様を主に考慮した形状に形成できる等の効果が期待できる。
【００４７】
なお、この第１昇華性物質３０ｂには、上記実施形態の第１昇華性物質３０ａや第２昇華性物質３０ｘと同様にヨウ素（Ｃ５Ｈ１６Ｏ）が用いられるが、アークＡの放射光（熱放射）にて適切に昇華が生じるような他の材料を用いてもよい。
【００４８】
図５に示す態様では、ノズル２６に対して別途塗布等にて設ける上記第１昇華性物質３０ａ，３０ｂを用いず、例えばヨウ素（Ｃ５Ｈ１６Ｏ）等の昇華性材料又はポリテトラフルオロエチレン等の低融点材料（昇華性材料）を含んで構成されたノズル２６ｘ自身を用いてもよい。アークＡの熱放射にてノズル２６ｘの内側面の一部が昇華（溶発）し、昇華による上記同様の効果を得ることができる。また、ノズル２６ｘとは別に昇華性物質を別途用意する必要がない。
【００４９】
なお、ノズル２６ｘに用いた上記材料は一例であり、アークＡの放射光（熱放射）にて適切に昇華が生じるような他の材料を用いて構成してもよい。
図６に示す態様では、アークＡを透過可能な光透過性を有する例えば非晶質ポリテトラフルオロエチレンにて構成される第１透過部３１ａ，３１ｂを用いず、自身が開口にて構成される第１透過部３１ｃとしてもよい。なお、この第１透過部３１ｃは、第２可動接点１２ｂの先端部に設定され、第１昇華性物質３０ａがノズル２６の内側面（案内面２６ｂ）における絞り部２６ａ寄りの部位に設けられる。
【００５０】
・ノズル２６に第１昇華性物質３０ａ，３０ｂと、パッファ室２４を形成する面（ピストン２２の表面）に第２昇華性物質３０ｘとを併用したが、ノズル２６に設ける昇華性物質３０ａ，３０ｂのみとし、パッファ室２４を形成する面に設ける昇華性物質３０ｘを省略してもよい。
【００５１】
・透過部３１ａ，３１ｂ，３１ｘを非晶質ポリテトラフルオロエチレンにて構成したが、アークＡの放射光（熱放射）を透過させる他の材料を用いて構成してもよい。
・パッファ室２４内の絶縁ガスＧの噴出動作を行うパッファ部として熱パッファ式と機械パッファ式とを併用するパッファ機構２０を用いたが、容積が可変でないパッファ室を用いる熱パッファ式のみ、すなわち機械パッファ式の構成部分であるピストン２２及びシリンダ２１等を省略したものであってもよい。
【００５２】
・主接点部１１及びアーク接点部１２、若しくは固定電極部１０ａ及び可動電極部１０ｂの構成は一例であり、適宜変更してもよい。
【符号の説明】
【００５３】
１０…ガス遮断器、１０ａ…固定電極部、１０ｂ…可動電極部、１２ａ…第２固定接点（固定接点）、１２ｂ…第２可動接点（可動接点）、２０…パッファ機構（パッファ部）、２４…パッファ室、２６，２６ｘ…ノズル、２６ａ…絞り部、２６ｂ…案内面（パッファ室側のいずれかの部位）、３０ａ，３０ｂ…第１昇華性物質（昇華性物質）、３０ｘ…第２昇華性物質、３１ａ，３１ｂ，３１ｃ…第１透過部（透過部）、Ａ…アーク、Ｇ…絶縁ガス、Ｌ１…軸線。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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