(57)【要約】【課題】画素シフトによって表示画像を高解像度化する際に、液晶の応答速度の遅れによる表示不良を抑制すること。【解決手段】光学モジュール２は、光源部３と、光変調素子４と、画素シフト機構５を備える。光変調素子４の各画素１０は、Ｒ光が入射する第１のサブ画素１１と、Ｂ光が入射する第２のサブ画素１２と、Ｇ光が入射する第３のサブ画素１３および第４のサブ画素１４を備える。第３のサブ画素１３と第４のサブ画素１４は、光変調素子４の走査方向である第１方向Ｆ１に並んでおり、画素シフト機構５は、走査方向（第１方向Ｆ１）と交差する第２方向Ｆ２に映像光Ｌの光路をシフトさせる。光変調素子４は、インターレース方式により駆動されるため、画素シフトとサブ画素の書き込みデータとの同期不整合の発生個所を画面上で分散させることができる。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射する光を画素毎に変調する光変調素子と、画素シフト機構と、を有する光学モジュールであって、
前記光変調素子は、インターレース方式により駆動され、
前記光変調素子の各画素は、第１の色光または第２の色光が入射する第１のサブ画素と、前記第１の色光または前記第２の色光のうち、前記第１のサブ画素に入射する色光と異なる色光が入射する第２のサブ画素と、第３の色光が入射する第３のサブ画素および第４のサブ画素と、を備え、
前記第３のサブ画素と前記第４のサブ画素は、前記光変調素子の走査方向に並んでおり、
前記画素シフト機構は、前記光変調素子において変調された映像光が入射する位置を前記走査方向と交差する方向にシフトさせることを特徴とする光学モジュール。
【請求項２】
前記第３の色光は緑色光であることを特徴とする請求項１に記載の光学モジュール。
【請求項３】
前記画素シフト機構は、
前記第３のサブ画素において変調された光が第１の位置に入射し、且つ、前記第４のサブ画素において変調された光が第２の位置に入射する第１の状態と、
前記第３のサブ画素において変調された光が第３の位置に入射し、且つ、前記第４のサブ画素において変調された光が第４の位置に入射する第２の状態と、に遷移し、
前記画素シフト機構が前記第１の状態である間に、前記第１のサブ画素には、前記第１の色光が入射した後に前記第２の色光が入射し、前記第２のサブ画素には、前記第２の色光が入射した後に前記第１の色光が入射し、
前記画素シフト機構が前記第２の状態である間に、前記第１のサブ画素には、前記第２の色光が入射した後に前記第１の色光が入射し、前記第２のサブ画素には、前記第１の色光が入射した後に前記第２の色光が入射することを特徴とする請求項１または２に記載の光学モジュール。
【請求項４】
前記光変調素子の走査方向を第１方向とした場合に、
前記第１のサブ画素と前記第２のサブ画素は、前記第３のサブ画素と前記第４のサブ画素に対して、前記第１方向と交差する第２方向に異なる位置で、前記第１方向に並んでいることを特徴とする請求項１または２に記載の光学モジュール。
【請求項５】
前記第１方向と前記第２方向の一方を行方向とし、他方を列方向とする場合に、
前記第１のサブ画素、前記第２のサブ画素、前記第３のサブ画素、および、前記第４のサブ画素は、２行２列に配列されることを特徴とする請求項４に記載の光学モジュール。
【請求項６】
請求項１から５の何れか一項に記載の光学モジュールと、
前記光学モジュールから入射する映像光を拡大投射する投射光学系と、を有することを特徴とする投射型表示装置。
【請求項７】
入射する光を画素毎に変調する光変調素子と、画素シフト機構と、を有する光学モジュールの制御方法であって、
前記光変調素子の各画素は、第１の色光または第２の色光が入射する第１のサブ画素と、前記第１の色光または前記第２の色光のうち、前記第１のサブ画素に入射する色光と異なる色光が入射する第２のサブ画素と、第３の色光が入射する第３のサブ画素および第４のサブ画素と、を備え、
前記第３のサブ画素と前記第４のサブ画素が並ぶ方向を走査方向として、インターレース方式により前記光変調素子を駆動し、
前記光変調素子において変調された映像光が入射する位置を前記走査方向と交差する方向にシフトさせることを特徴とする光学モジュールの制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学モジュールおよびその制御方法、ならびに投射型表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、光変調素子として１枚の液晶パネルを用いた単板式のプロジェクターが開示される。このプロジェクターは、液晶パネルを透過した映像光の光路をシフトさせてスクリーン上に投影される画素位置をシフトさせる画素シフト機構として機能する偏光方向制御用液晶パネルを備える。偏光方向制御用液晶パネルは、印加電圧のオンオフを切り換えることにより、所定の方向へ光路をシフトさせる。これにより、スクリーン上に投影される各画素の画素位置が移動する画素シフトが行われる。
【０００３】
特許文献１では、液晶パネルの画素数より多い画素数の画像信号を複数の画像信号に分解して、シフト動作に同期して時分割表示する。例えば、１方向（水平方向、斜め４５度方向など）に画素ピッチの１／２ずらした画素シフトを行う場合には、１フレームで表示する画像を２画像に分解し、シフト動作と同期して画像を切り換える。あるいは、２方向（水平方向および垂直方向）にそれぞれ画素ピッチの１／２ずらした画素シフトを行う場合には、シフト方向の組合せによって４つのシフト位置が存在するため、１フレームで表示する画像を４画像とし、シフト動作と同期して表示画像を切り換える。これにより、スクリーン上では、画素ピッチより小さいピッチでの画素シフトに同期して表示画像が切り換わるので、見かけの画素数を増加させることができ、スクリーンに投影される画像を高解像度化することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平４−６３３３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
画素シフトによって高解像度化を図る場合に、光変調素子として使用される液晶パネルの各画素の書き換えのタイミングとシフト動作のタイミングとがずれると、スクリーン上に表示されるサブ画素の表示内容と本来表示すべき表示内容とがずれて、シフト位置と表示内容との同期不整合となるため、表示品位が低下する。例えば、光変調素子である液晶パネルの駆動をノンインターレース方式（プログレッシブ方式）で行う場合には、１フレームの全画素を画面の上から下へ順次書き換えるが、１フレームの書き換えの序盤から終盤までの間にシフト位置と表示内容とのずれが生じる。例えば、１フレームの書き換えの序盤においてシフト位置と表示内容との同期がとれている場合には、１フレームの書き換えの終盤に近づくほど、シフト位置と表示内容とのずれが生じやすい。従って、終盤に書き換えられる表示領域に、表示内容とシフト位置との同期不整合が発生しやすくなるので、面内ムラとして知覚されやすく、表示品位が低下しやすい。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る光学モジュールは、入射する光を画素毎に変調する光変調素子と、画素シフト機構と、を有する光学モジュールであって、前記光変調素子は、インターレース方式により駆動され、前記光変調素子の各画素は、第１の色光または第２の色光が入射する第１のサブ画素と、前記第１の色光または前記第２の色光のうち、前記第１のサブ画素に入射する色光と異なる色光が入射する第２のサブ画素と、第３の色光が入射する第３のサブ画素および第４のサブ画素と、を備え、前記第３のサブ画素と前記第４のサブ画素は、前記光変調素子の走査方向に並んでおり、前記画素シフト機構は、前記光変調素子において変調された映像光が入射する位置を前記走査方向と交差する方向にシフトさせることを特徴とする。
【０００７】
本発明に係る投射型表示装置は、上記の光学モジュールと、前記光学モジュールから入射する映像光を拡大投射する投射光学系と、を有することを特徴とする。
【０００８】
本発明に係る光学モジュールの制御方法は、入射する光を画素毎に変調する光変調素子と、画素シフト機構と、を有する光学モジュールの制御方法であって、前記光変調素子の各画素は、第１の色光または第２の色光が入射する第１のサブ画素と、前記第１の色光または前記第２の色光のうち、前記第１のサブ画素に入射する色光と異なる色光が入射する第２のサブ画素と、第３の色光が入射する第３のサブ画素および第４のサブ画素と、を備え、前記第３のサブ画素と前記第４のサブ画素が並ぶ方向を走査方向として、インターレース方式により前記光変調素子を駆動し、前記光変調素子において変調された映像光が入射する位置を前記走査方向と交差する方向にシフトさせることを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施形態１に係る光学モジュールを備えた投射型表示装置の一例であるプロジェクターの光学的な構成を示す説明図である。
【図２】実施形態１の液晶パネルおよび各画素の平面構成を模式的に示す説明図である。
【図３】実施形態１の画素シフトを示す状態遷移図である。
【図４】各画素の１フレーム分の書き換えデータである。
【図５】実施形態１における同期不整合の発生個所の分布を示す説明図である。
【図６】比較例１における同期不整合の発生個所の分布を示す説明図である。
【図７】実施形態２の画素シフトを示す状態遷移図である。
【図８】実施形態２における同期不整合の発生個所の分布を示す説明図である。
【図９】比較例２における同期不整合の発生個所の分布を示す説明図である。
【図１０】実施形態３の液晶パネルおよび各画素の平面構成を模式的に示す説明図である。
【図１１】実施形態３の光学モジュールにおける光源の一部および入射位置入替機構を模式的に示す説明図である。
【図１２】実施形態３の画素シフトおよび色光の入れ替えを示す状態遷移図である。
【図１３】実施形態３における同期不整合の発生個所の分布を示す説明図である。
【図１４】比較例３における同期不整合の発生個所の分布を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（実施形態１）
以下、本発明の例示的な実施形態について、図面を参照して説明する。図１は、実施形態１に係る光学モジュール２を備えた投射型表示装置の一例であるプロジェクター１の光学的な構成を示す説明図である。プロジェクター１は、外部から入力される映像信号に基づき、スクリーン１００に映像を表示する装置である。プロジェクター１は、光学モジュール２および投射光学系６を備える。光学モジュール２は、光源部３と、光変調素子４と、画素シフト機構５を備える。図１に示すプロジェクター１は、１つの光変調素子４によってＲ光（赤色光）、Ｇ光（緑色光）、Ｂ光（青色光）の３つの色光を変調する、いわゆる単板式のプロジェクターである。本明細書において、Ｒ光（赤色光）は第１の色光であり、Ｂ光（青色光）は第２の色光であり、Ｇ光（緑色光）は第３の色光である。
【００１１】
光源部３は、Ｒ光、Ｇ光、Ｂ光を射出する光源３０と、光源３０から射出されるＲ光、Ｇ光、Ｂ光を光変調素子４の各画素に入射させる光学系３１を備える。光源３０としては、例えば、半導体レーザーなどのレーザー光源を使用する。なお、光源３０は、レーザー光源とは異なる構成であってもよい。例えば、Ｒ光、Ｇ光、Ｂ光を選択的に反射するダイクロイックミラーやＲ光、Ｇ光、Ｂ光を選択的に透過するカラーフィルターなどの光学素子と白色光源を使用してＲ光、Ｇ光、Ｂ光を射出する構成であってもよい。
【００１２】
光変調素子４は、光源部３から射出されるＲ光、Ｇ光、Ｂ光を、画像情報に応じて、各画素１０において変調してフルカラーの映像光Ｌを生成する。実施形態１では、光変調素子４は、透過型の液晶パネル４０である。光変調素子４から射出される映像光Ｌは、画素シフト機構５を経由して投射光学系６へ入射し、投射光学系６によって拡大されてスクリーン１００に投射される。
【００１３】
図２は、実施形態１の液晶パネル４０および各画素１０の平面構成を模式的に示す説明図である。液晶パネル４０の表示領域４１には、マトリクス状に画素１０が配列される。なお、図２では、画素１０を実際より拡大して表示している。各画素１０は、液晶パネル４０の走査方向である第１方向Ｆ１、および、第１方向Ｆ１と直交する第２方向Ｆ２のそれぞれの方向にサブ画素が２個ずつ並んでいる。図２に示すように、各画素１０は、第１のサブ画素１１、第２のサブ画素１２、第３のサブ画素１３、および第４のサブ画素１４を備える。
【００１４】
各画素１０を構成する４つのサブ画素には、Ｒ光、Ｇ光、Ｂ光が以下のように分配される。第１のサブ画素１１には、Ｒ光とＢ光のいずれか一方が入射する。第２のサブ画素１２には、Ｒ光とＢ光のうち、第１のサブ画素１１に入射している色光と異なる色光が入射する。実施形態１では、第１のサブ画素１１にＲ光が入射し、第２のサブ画素１２にＢ光が入射する構成を例にとって説明するが、第１のサブ画素１１にＢ光が入射し、第２のサブ画素１２にＲ光が入射する構成を採用してもよい。
【００１５】
第３のサブ画素１３および第４のサブ画素１４には、Ｇ光が入射する。Ｇ光が入射する第３のサブ画素１３および第４のサブ画素１４は、液晶パネル４０の走査方向である第１方向Ｆ１に並んでいる。
【００１６】
液晶パネル４０は、液晶パネル４０の画素ピッチλと同一ピッチで配列されたマイクロレンズアレイを備える。マイクロレンズアレイに対して互いに異なる角度で入射したＲ光、Ｇ光、Ｂ光は、それぞれ、光変調素子４の各画素１０内のサブ画素へ集光される。
【００１７】
画素シフト機構５は、光変調素子４と投射光学系６との間に配置される。画素シフト機構５は、光変調素子４から射出される映像光Ｌのスクリーン１００上の投射位置をシフトさせること（いわゆる、画素シフト）を行う。画素シフト機構５としては、例えば、アクチュエーターを用いて映像光Ｌを透過させるガラス等の透光性基板の姿勢を変更することで、屈折を利用して映像光Ｌの光路をシフトさせる機構が用いられる。
【００１８】
本実施形態では、画素シフト機構５は、サブ画素の配列方向である第１方向Ｆ１、および、第１方向Ｆ１と直交する第２方向Ｆ２に映像光Ｌの光路をシフトさせる。従って、画素シフトにより、スクリーン１００上に表示される各画素１０は、第１方向Ｆ１および第２方向Ｆ２にずらして表示される。液晶パネル４０の画素ピッチλに投射倍率Ａを掛けたスクリーン１００上の画素ピッチＡλより小さい量の画素シフトにより、スクリーン１００上に表示されるフルカラーの表示画像を高解像度化する。
【００１９】
画素シフト機構５は、第１方向Ｆ１および第２方向Ｆ２に光路をシフトさせる機構として、映像光Ｌを透過させる透光性基板を所定の軸線周りに揺動させる機構を備える。例えば、第１方向Ｆ１に光路をシフトさせる場合には、第１方向Ｆ１と直交する第１軸線周りに透光性基板を揺動させる。また、第２方向Ｆ２に光路をシフトさせる場合には、第２方向Ｆ２と直交する第２軸線周りに透光性基板を揺動させる。
【００２０】
なお、画素シフト機構５は、このような構成に限定されるものではない。例えば、映像光Ｌを透過させる光学素子の屈折状態を電気的に変化させる構成であってもよい。あるいは、ピエゾアクチュエーター、ステッピングモーターなどのアクチュエーターによって液晶パネル４０そのものを画素シフト方向へ移動させるパネルシフト動作を行うことにより、映像光Ｌのスクリーン１００上の投射位置をシフトさせるパネルシフト機構を用いることもできる。
【００２１】
図３は、実施形態１の画素シフトを示す状態遷移図である。図３に示す第１シフト位置Ｐ１、第２シフト位置Ｐ２、および第３シフト位置Ｐ３は、映像光Ｌが投射される投射面上の位置であり、本形態では、画素１０で変調された映像光Ｌのスクリーン１００上における投射位置である。図２に示すように、液晶パネル４０の画素ピッチがλである場合に、スクリーン１００上に投射する際の投射倍率をＡとすると、スクリーン１００上の画素ピッチはＡλとなる。図３に示すように、液晶パネル４０の各画素１０における各サブ画素でそれぞれ変調された光は、第１方向Ｆ１および第２方向Ｆ２の画素シフトにより、スクリーン１００上の４つのシフト位置に順に投射される。４つのシフト位置は、第１シフト位置Ｐ１と、第１シフト位置Ｐ１に対して第１方向Ｆ１に１／２Ａλずれた第２シフト位置Ｐ２と、第２シフト位置Ｐ２に対して第２方向Ｆ２に１／２Ａλずれた第３シフト位置Ｐ３と、第３シフト位置Ｐ３に対して第１方向Ｆ１に１／２Ａλずれた第４シフト位置Ｐ４である。第４シフト位置Ｐ４は、第１シフト位置Ｐ１に対して第２方向Ｆ２に１／２Ａλずれている。
【００２２】
光学モジュール２は、液晶パネル４０の表示画面が１回書き換えられる１フレームの表示期間内に、第１シフト位置Ｐ１、第２シフト位置Ｐ２、および第３シフト位置Ｐ３、第４シフト位置Ｐ４への画素シフトをこの順で１回行う。従って、シフト位置の移動は、１フレームの書き換え周期の１／４の周期で行われる。例えば、１秒あたり６０フレームの画像を表示する場合、シフト位置の移動は、１秒当たり２４０回行われる。
【００２３】
実施形態１では、シフト方向が２方向であり、シフト位置の数が４である画素シフト（以下、２軸シフト４値の画素シフトという）を行う。これにより、スクリーン１００上では、液晶パネル４０の画素ピッチλに投射倍率Ａを掛けた画素ピッチＡλの１／２の画素ピッチの領域ごとに、１フレームの表示期間内に、Ｒ光、Ｇ光、Ｂ光の全ての色光が時分割で投射される。従って、見かけ上、第１方向Ｆ１の解像度を２倍とし、且つ、第２方向Ｆ２の解像度を２倍にすることができる。
【００２４】
（液晶パネルの駆動方式）
実施形態１の光学モジュール２は、液晶パネル４０をインターレース方式で駆動する。すなわち、表示領域４１に並ぶ画素１０を書き換える際、上から下へ１列ずつ順に書き換えるのでなく、１列おきに書き換える。実施形態１では、各画素１０が、走査方向（第１方向Ｆ１）に並ぶサブ画素を上下に２列備えており、サブ画素の列を１列おきに書き換えることによって１フレームの書き換えを行う。例えば、全ての画素の奇数列目のサブ画素の列を最初に書き換え、その後に全ての画素の偶数列目のサブ画素の列を書き換える。
【００２５】
図４は、各画素１０の１フレーム分の書き換えデータである。図４において、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４は、Ｇ光を変調するためのデータである。また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、Ｒ光を変調するためのデータであり、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４は、Ｂ光を変調するためのデータである。図４に示すように、第１のサブ画素１１は、４つのシフト位置を１周する画素シフトに同期して、Ｒ３→Ｒ４→Ｒ１→Ｒ２のように書き換えられる。また、第２のサブ画素１２は、Ｂ４→Ｂ３→Ｂ２→Ｂ１のように書き換えられる。また、第３のサブ画素１３は、Ｇ１→Ｇ２→Ｇ３→Ｇ４のように書き換えられ、第４のサブ画素１４は、Ｇ２→Ｇ１→Ｇ４→Ｇ３のように書き換えられる。
【００２６】
図５は、実施形態１における同期不整合の発生箇所の分布を示す説明図である。図５に示すデータの配列は、シフト動作に同期して、図４に示す１フレーム分のデータ書き換えを行った場合に、スクリーン１００上の３箇所の画素位置１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃにおいて、それぞれ、サブ画素ごとに表示内容が書き換えられてゆく状況を示している。ここで、画素位置１０Ａはスクリーン上端の画素位置であり、画素位置１０Ｂはスクリーン中央の画素位置であり、画素位置１０Ｃはスクリーン下端の画素位置である。ｔ＝０、１／４Ｔ、２／４Ｔ、３／４Ｔ、Ｔの各タイミングは、シフト動作のタイミングである。また、Ｔは、１フレームの書き換え周期である。
【００２７】
図５において、データを見やすくするため、Ｇ光を変調するデータを実線で囲んでいる。また、Ｂ光を変調するデータを破線で囲んでおり、Ｒ光を変調するデータを一点鎖線で囲んでいる。図５において、データに−を付しているのは、極性が反転していることを示す。実際のデータ書き換えにおいては、極性のバランスをとるために、極性を反転したデータを続けて書き込むためである。例えば、Ｇ１のデータを書き込む際、極性が反転したデータ（Ｇ１−）を連続して書き込む。
【００２８】
図５において、スクリーン上端の画素位置１０Ａにおける４つのサブ画素位置を、それぞれ、符号１１Ａ、１２Ａ、１３Ａ、１４Ａで示す。サブ画素位置１１Ａ、１２Ａ、１３Ａ、１４Ａは、画素位置１０Ａが図３に示す第１シフト位置Ｐ１であるとき、第１のサブ画素１１、第２のサブ画素１２、第３のサブ画素１３、第４のサブ画素１４で変調された光が投射される位置である。同様に、スクリーン中央の画素位置１０Ｂにおける４つのサブ画素位置を、それぞれ、符号１１Ｂ、１２Ｂ、１３Ｂ、１４Ｂで示し、スクリーン下端の画素位置１０Ｃにおける４つのサブ画素位置を、それぞれ、符号１１Ｃ、１２Ｃ、１３Ｃ、１４Ｃで示す。
【００２９】
実施形態１では、液晶パネル４０をインターレース方式で駆動するため、各画素１０は、第１方向Ｆ１に並ぶ２列のサブ画素のうち、上側の列のサブ画素である第３のサブ画素１３、第４のサブ画素１４が先に書き換えられる。１フレームの書き換えを行う際には、全ての画素１０の第３のサブ画素１３、第４のサブ画素１４が書き換えられ、その後に、全ての画素１０の第１のサブ画素１１、第２のサブ画素１２が書き換えられる。第３のサブ画素１３、第４のサブ画素１４はＧ光が入射するサブ画素であるため、インターレース駆動の前半では、Ｇ光が入射するサブ画素の列が書き換えられ、後半では、Ｒ光とＢ光が入射するサブ画素の列が書き換えられる。
【００３０】
図５において、反転表示のデータは、シフト位置と表示内容との同期不整合の発生箇所である。シフト位置と表示内容との同期不整合は、シフト位置と表示内容とを同期させたタイミングから時間がずれるにしたがって増加している。実施形態１では、スクリーン中央の画素位置１０Ｂの書き換えのタイミングで、シフト動作と表示内容とを同期させる。
【００３１】
インターレース方式では、全画面を１列おきに書き換えたのち、残りの列を書き換えるので、同期不整合のサブ画素位置がスクリーン１００上で分散している。例えば、１フレームの書き換え処理の前半で表示内容が書き換えられるＧ色のサブ画素位置については、上端の画素位置１０Ａに不整合の発生箇所が集中するのでなく、上端の画素位置１０Ａと中央の画素位置１０ＢにおけるＧ色のサブ画素位置に、不整合の発生箇所が分散している。また、１フレームの書き換え処理の後半で表示内容が書き換えられるＲ色、Ｂ色のサブ画素位置については、下端の画素位置１０Ｃに不整合の発生箇所が集中するのでなく、下端の画素位置１０Ｃと中央の画素位置１０ＢにおけるＲ色、Ｂ色のサブ画素位置に、不整合の発生箇所が分散している。
【００３２】
図６は、比較例１における同期不整合の発生箇所の分布を示す説明図である。比較例１は、インターレース方式でなくノンインターレース方式（プログレッシブ方式）で液晶パネル４０を駆動する点のみが実施形態１と異なる。その結果、図６に示すように、中央の画素位置１０Ｂには同期不整合が発生せず、上端の画素位置１０Ａと下端の画素位置１０Ｃに、同期不整合の発生箇所が集中している。
【００３３】
また、同期不整合の分布だけでなく、発生量についても、実施形態１のほうが比較例１より少ない。例えば、図６に示す比較例１の分布では、同期不整合の発生箇所数が６４であるのに対して、図５に示す実施形態１の分布では、同期不整合の発生箇所数が４８に減少している。
【００３４】
（実施形態１の主な作用効果）
以上のように、実施形態１の光学モジュール２は、入射する光を画素毎に変調する光変調素子４と、画素シフト機構５と、を有し、光変調素子４は、インターレース方式により駆動される。光変調素子４の各画素１０は、第１の色光（Ｒ光）または第２の色光（Ｂ光）が入射する第１のサブ画素１１と、第１の色光（Ｒ光）または第２の色光（Ｂ光）のうち、第１のサブ画素１１に入射する色光と異なる色光が入射する第２のサブ画素１２を備える。また、各画素１０は、第３の色光（Ｇ光）が入射する第３のサブ画素１３および第４のサブ画素１４と、を備え、第３のサブ画素１３と第４のサブ画素１４は、光変調素子４の画素書き換え時の走査方向である第１方向Ｆ１に並んでいる。そして、画素シフト機構５は、光変調素子４において変調された映像光Ｌが入射する位置を、走査方向である第１方向Ｆ１と交差する第２方向Ｆ２にシフトさせる。
【００３５】
また、実施形態１の光学モジュール２の制御方法は、光変調素子４の各画素１０が、第１の色光（Ｒ光）または第２の色光（Ｂ光）が入射する第１のサブ画素１１と、第１の色光（Ｒ光）または第２の色光（Ｂ光）のうち、第１のサブ画素１１に入射する色光と異なる色光が入射する第２のサブ画素１２と、第３の色光（Ｇ光）が入射する第３のサブ画素１３および第４のサブ画素１４と、を備える場合に、第３のサブ画素１３と第４のサブ画素１４が並ぶ第１方向Ｆ１を走査方向として、インターレース方式により光変調素子４を駆動し、光変調素子４において変調された映像光Ｌが入射する位置を、走査方向である第１方向Ｆ１と交差する第２方向Ｆ２にシフトさせる。
【００３６】
このように、実施形態１では、Ｇ光が入射するサブ画素が並ぶ方向である第１方向Ｆ１と交差する方向（第２方向Ｆ２）の画素シフトを含む２方向の画素シフトを行う。従って、シフト動作と同期してサブ画素の表示内容を切り換えることにより、スクリーン１００上では、液晶パネル４０の画素ピッチλに投射倍率Ａを掛けた画素ピッチＡλの１／２の画素ピッチの領域ごとに、１フレームの表示期間内に、Ｒ光、Ｇ光、Ｂ光の全ての色光が時分割で投射される。従って、見かけ上、第１方向Ｆ１の解像度を２倍とし、且つ、第２方向Ｆ２の解像度を２倍にすることができる。よって、高解像度化した画像を表示することができる。
【００３７】
また、実施形態１では、インターレース方式で液晶パネル４０を駆動することによって、画素シフトとサブ画素の書き込みデータとの同期不整合の発生箇所を画面上で分散させる。これにより、面内ムラの発生が抑制されるので、解像感を向上させることができ、表示品位を向上させることができる。
【００３８】
また、実施形態１では、第３の色光はＧ光（緑色光）であり、Ｇ光が入射するサブ画素（第３のサブ画素１３、第４のサブ画素１４）を液晶パネル４０の走査方向と一致する第１方向Ｆ１に並べている。従って、液晶パネル４０の表示領域には、Ｇ光が入射するサブ画素（第１のサブ画素１１、第２のサブ画素１２）の列と、Ｒ光およびＢ光が入射するサブ画素（第３のサブ画素１３、第４のサブ画素１４）の列が交互に並ぶので、インターレース方式で駆動することにより、Ｇ光が入射するサブ画素の書き込みが、１フレームの書き換え処理の前半で終了する。よって、Ｇ光が入射するサブ画素における同期不整合が発生しにくい。ここで、Ｇ光（緑色光）は、Ｒ光（赤色光）およびＢ光（青色光）に対して、人間の目の視感度が大きく、画像の明るさ、解像感への寄与度が大きい色光である。波長５５５ｎｍの光が最も明るい色光であり、これは黄緑がかった緑の色光である。実施形態１では、Ｇ光（緑色光）として、最も明るい波長（５５５ｎｍ）を含む光、例えば、５００〜６００ｎｍの範囲内の波長の色光を用いる。また、Ｒ光（赤色光）として、例えば、６１０〜７５０ｎｍの範囲内の波長帯域の色光を用いることができ、Ｂ光（青色光）として、例えば、４３０〜４６０ｎｍの範囲内の波長帯域の色光を用いることができる。Ｇ光（緑色光）が入射するサブ画素の同期不整合を少なくすることにより、Ｇ光の表示を安定させることができる。これにより、同期不整合による明るさの低下を抑制できる。従って、解像感を増すことができ、表示品位を向上させることができる。
【００３９】
実施形態１では、光変調素子４の走査方向を第１方向Ｆ１とした場合に、上記のように、第３のサブ画素１３と第４のサブ画素１４が第１方向Ｆ１に並んでいる。そして、第１のサブ画素１１と第２のサブ画素１２は、第３のサブ画素１３と第４のサブ画素に対して、第１方向Ｆ１と交差する第２方向Ｆ２に異なる位置で、第１方向Ｆ１に並んでいる。すなわち、第１方向Ｆ１と第２方向Ｆ２の一方を行方向とし、他方を列方向とする場合に、第１のサブ画素１１、第２のサブ画素１２、第３のサブ画素１３、および、第４のサブ画素１４は、２行２列に配列されている。従って、第１方向Ｆ１および第２方向Ｆ２の画素シフトを行うことにより、投射面上において格子状に配列された４つの領域に、それぞれ、Ｒ光、Ｂ光、Ｇ光を時分割で投射して、見かけ上、独立した画素のように表示させ、第１方向Ｆ１の解像度および第２方向Ｆ２の解像度をそれぞれ２倍にすることができる。
【００４０】
（実施形態２）
実施形態１は、シフト方向が２方向であり、シフト位置の数が４の画素シフトを行う形態であったが、画素シフトの方式は、実施形態１の方式に限定されない。実施形態２の光学モジュール２は、シフト方向が１方向であり、シフト位置の数が２である画素シフト（以下、１軸シフト２値の画素シフトという）を行う。以下、実施形態１と異なる部分を説明し、共通の部分は説明を省略する。
【００４１】
図７は、実施形態２における画素シフトを示す状態遷移図である。実施形態２では、画素シフト機構５は、画素１０の対角方向である第３方向Ｆ３に映像光Ｌの光路をシフトさせる。画素１０により変調された色光は、第３方向Ｆ３の画素シフトにより、スクリーン１００上の第１シフト位置Ｐ１および第２シフト位置Ｐ２に順に投射される。第２シフト位置Ｐ２は、第１シフト位置Ｐ１に対して第１方向Ｆ１および第２方向Ｆ２にそれぞれ１／２Ａλずれた位置である。このような画素シフトに同期して、第１のサブ画素１１、第２のサブ画素１２、第３のサブ画素１３、第４のサブ画素１４のデータを書き換えることにより、見かけ上、スクリーン１００に表示される画像を高解像度化する。
【００４２】
図８は、実施形態２における同期不整合の発生箇所の分布を示す説明図である。実施形態２では、実施形態１と同様に、インターレース方式によって液晶パネル４０を駆動している。その結果、実施形態１と同様に、１フレームの書き換え処理の前半で表示内容が書き換えられるＧ色のサブ画素位置については、上端の画素位置１０Ａと中央の画素位置１０ＢにおけるＧ色のサブ画素位置に不整合の発生箇所が分散している。また、１フレームの書き換え処理の後半で書き換えられるＲ色、Ｂ色のサブ画素位置については、下端の画素位置１０Ｃと中央の画素位置１０ＢにおけるＲ色、Ｂ色のサブ画素位置に、不整合の発生箇所が分散している。
【００４３】
図９は、比較例２における同期不整合の発生箇所の分布を示す説明図である。比較例２は、インターレース方式でなくノンインターレース方式（プログレッシブ方式）で液晶パネル４０を駆動する点のみが実施形態２と異なる。その結果、図９に示すように、中央の画素位置１０Ｂには同期不整合が発生せず、上端の画素位置１０Ａと下端の画素位置１０Ｃに、同期不整合の発生箇所が集中している。
【００４４】
また、同期不整合の分布だけでなく、発生量についても、実施形態２のほうが比較例２より少ない。例えば、図９に示す比較例２の分布では、同期不整合の発生箇所数が３２であるのに対して、図８に示す実施形態２の分布では、同期不整合の発生箇所数が２４に減少している。
【００４５】
（実施形態２の主な作用効果）
実施形態２は、１軸シフト２値の画素シフトを行うので、シフト動作と同期してサブ画素の表示内容を切り換えることにより、見かけ上、液晶パネル４０の画素ピッチλに投射倍率Ａを掛けたスクリーン１００上の画素ピッチＡλよりも小さい画素ピッチに高解像度化した画像を表示することができる。
【００４６】
また、実施形態２においても、実施形態１と同様に、インターレース方式で液晶パネル４０を駆動することによって、画素シフトとサブ画素の書き込みデータとの同期不整合の発生個所を画面上で分散させることができる。これにより、面内ムラの発生が抑制されるので、解像感を向上させることができ、表示品位を向上させることができる。
【００４７】
（実施形態３）
実施形態３の光学モジュール２は、１方向の画素シフトと、サブ画素に入射するＲ光とＢ光の入れ替えを組み合わせることにより、４種類の状態に遷移する画素シフト（以下、１軸シフト４値＋ＲＢ入替という）を行うことにより、表示画像を高解像度化する。
【００４８】
図１０は、実施形態３の液晶パネル４０および各画素１０の平面構成を模式的に示す説明図である。実施形態３では、第１のサブ画素１１には、Ｒ光とＢ光のいずれか一方が入射する。第２のサブ画素１２には、Ｒ光とＢ光のうち、第１のサブ画素１１に入射している色光と異なる色光が入射する。例えば、第１のサブ画素１１にＲ光が入射し、第２のサブ画素１２にＢ光が入射する。あるいは、第１のサブ画素１１にＢ光が入射し、第２のサブ画素１２にＲ光が入射する。第３のサブ画素１３および第４のサブ画素１４には、Ｇ光が入射する。図２に示すように、第３のサブ画素１３に入射するＧ光をＧａ光とし、第４のサブ画素１４に入射するＧ光をＧｂ光とする。
【００４９】
図１１は、実施形態３の光学モジュール２における光源３０の一部および入射位置入替機構３３を模式的に示す説明図である。実施形態３では、光学系３１は、Ｒ光とＢ光の入射位置を入れ替える入射位置入替機構３３を備える。実施形態３の光源部３は、入射位置入替機構３３により、各画素１０に含まれる第１のサブ画素１１および第２のサブ画素１２に対して、Ｒ光とＢ光を交互に入れ替えて入射させる。
【００５０】
図１１に示すように、実施形態３の光源３０は、第１光源３０Ａおよび第２光源３０Ｂを備える。図１１では、Ｇ光を射出する光源については図示を省略する。第１光源３０Ａおよび第２光源３０Ｂは、それぞれ、Ｒ光用レーザー光源ＬＲおよびＢ光用レーザー光源ＬＢを１つずつ備える。第１光源３０Ａおよび第２光源３０Ｂは、それぞれ、Ｒ光用レーザー光源ＬＲとＢ光用レーザー光源ＬＢのいずれか一方のみを点灯させるようにオンオフが制御される。また、第１光源３０Ａおよび第２光源３０Ｂは、互いに異なる色光のレーザー光源が点灯するように同期して制御される。
【００５１】
入射位置入替機構３３は、第１光学素子３４Ａ、第２光学素子３４Ｂ、および第３光学素子３５を備える。第１光学素子３４Ａには、第１光源３０Ａから射出されるＲ光とＢ光が入射する。第２光学素子３４Ｂには、第２光源３０Ｂから射出されるＲ光とＢ光が入射する。また、第３光学素子３５には、第１光学素子３４Ａおよび第２光学素子３４Ｂから射出される光が入射する。第１光学素子３４Ａは、入射するＲ光とＢ光を同一の光路で射出する。また、第２光学素子３４Ｂも、入射するＲ光とＢ光を同一の光路で射出する。
【００５２】
第１光学素子３４Ａおよび第２光学素子３４Ｂから、第３光学素子３５へ入射する色光は、第３光学素子３５からマイクロレンズアレイへ入射する。第１光学素子３４Ａからの色光は、マイクロレンズアレイから第１のサブ画素１１へ入射する。また、第２光学素子３４Ｂからの色光は、マイクロレンズアレイから第２のサブ画素１２へ入射する。従って、第１光源３０Ａと第２光源３０ＢにおけるＲ光用レーザー光源ＬＲとＢ光用レーザー光源ＬＢのオンオフの制御により、第１のサブ画素１１と第２のサブ画素１２に対して、Ｒ光とＢ光を交互に入れ替えて入射させることができる。
【００５３】
実施形態３の画素シフト機構５は、Ｇ光が入射する第３のサブ画素１３、第４のサブ画素１４の配列方向と交差する方向である第２方向Ｆ２に映像光Ｌの光路をシフトさせる。すなわち、画素シフト機構５は、液晶パネル４０の走査方向である第１方向Ｆ１と交差する第２方向Ｆ２に映像光Ｌの光路をシフトさせる。
【００５４】
図１２は、実施形態３の画素シフトおよび色光の入れ替えを示す状態遷移図である。図１２に示す第１シフト位置Ｐ１および第２シフト位置Ｐ２は、映像光Ｌが投射される投射面上の位置であり、本形態では、画素１０で変調された光が投射されるスクリーン１００上の投射位置である。図１０に示すように、液晶パネル４０の画素ピッチがλである場合に、スクリーン１００上に投射する際の投射倍率をＡとすると、スクリーン１００上の画素ピッチはＡλとなる。図１２に示すように、液晶パネル４０の各画素１０における各サブ画素でそれぞれ変調された光は、第１シフト位置Ｐ１と、第１シフト位置Ｐ１に対して第１方向Ｆ１にスクリーン１００上の画素ピッチＡλの２分の１ずれた第２シフト位置Ｐ２に交互に一定時間ずつ投射される。第１シフト位置Ｐ１は、サブ画素で変調された光が入射する第１の位置Ｐ１１、第２の位置Ｐ１２、第３の位置Ｐ１３、第４の位置Ｐ１４を備える。第１の位置Ｐ１１〜第４の位置Ｐ１４は、それぞれ、第１シフト位置Ｐ１を４分割した領域のうちの１つである。
【００５５】
画素シフト機構は、第３のサブ画素１３において変調された光が第１の位置Ｐ１１に入射し、且つ、第４のサブ画素１４において変調された光が第２の位置Ｐ１２に入射する第１の光路に映像光Ｌが位置する第１の状態と、第３のサブ画素１３において変調された光が第３の位置Ｐ１３に入射し、且つ、第４のサブ画素１４において変調された光が第４の位置Ｐ１４に入射する第２の光路に映像光Ｌが位置する第２の状態と、に遷移する。
【００５６】
光源部３は、第３のサブ画素１３および第４のサブ画素１４に対しては、第１の状態と第２の状態のいずれの状態でも、Ｇ光（Ｇａ光またはＧｂ光）を入射させる。つまり、第３のサブ画素１３および第４のサブ画素１４に入射する光は１フレームの間に変化しない。一方、第１のサブ画素１１と第２のサブ画素１２に対しては、第１の状態である間に、Ｒ光とＢ光を入れ換えて照射する。また、第２の状態である間にも、同様に、Ｒ光とＢ光を入れ換えて照射する。
【００５７】
すなわち、光源部３は、画素シフト機構５が第１の状態である間に、第１のサブ画素１１には、Ｒ光が入射した後にＢ光を入射させ、第２のサブ画素１２には、Ｂ光が入射した後にＲ光を入射させる。また、画素シフト機構５が第２の状態である間に、第１のサブ画素１１には、Ｂ光が入射した後にＲ光を入射させ、第２のサブ画素１２には、Ｒ光が入射した後にＢ光を入射させる。
【００５８】
実施形態３では、第１方向Ｆ１の画素シフトと、第２方向Ｆ２に並ぶサブ画素に入射するＲ光とＢ光の入れ替えは、同一の周期で、且つ、所定の期間（例えば、画素シフトの周期の１／２の期間）ずらして行われる。その結果、第１の位置Ｐ１１、第２の位置Ｐ１２、第３の位置Ｐ１３、第４の位置Ｐ１４には、それぞれ、Ｒ光、Ｂ光、Ｇａ光、Ｇｂ光の全ての色光が時分割で投射される。すなわち、第１の位置Ｐ１１には、Ｇｂ光→Ｇｂ光→Ｂ光→Ｒ光の順に３色の色光が時分割で投射され、第２の位置Ｐ１２には、Ｇａ光→Ｇａ光→Ｒ光→Ｂ光の順に３色の色光が時分割で投射される。また、第３の位置Ｐ１３には、Ｒ光→Ｂ光→Ｇｂ光→Ｇｂ光の順に３色の色光が時分割で投射され、第４の位置Ｐ１４には、Ｂ光→Ｒ光→Ｇａ光→Ｇａ光の順に３色の色光が時分割で投射される。
【００５９】
従って、実施形態３では、第１の位置Ｐ１１、第２の位置Ｐ１２、第３の位置Ｐ１３、および第４の位置Ｐ１４の全ての位置において、変調されたＲ光、Ｂ光、Ｇ光（Ｇａ光またはＧｂ光）を１フレームの表示期間内において時分割で投射できる。従って、４つの領域をＲ光、Ｂ光、Ｇ光の重ね合わせによって独立した画素のように表示させることができるので、見かけ上、第１方向Ｆ１の解像度を２倍とし、且つ、第２方向Ｆ２の解像度を２倍にすることができる。従って、高解像度化した画像を表示することができる。
【００６０】
図１３は、実施形態３における同期不整合の発生箇所の分布を示す説明図である。実施形態３では、実施形態１、２と同様に、インターレース方式によって液晶パネル４０を駆動している。その結果、実施形態１、２と同様に、１フレームの書き換え処理の前半で表示内容が書き換えられるＧ色のサブ画素位置については、上端の画素位置１０Ａと中央の画素位置１０ＢにおけるＧ色のサブ画素位置に不整合の発生箇所が分散している。また、１フレームの書き換え処理の後半で表示内容が書き換えられるＲ色、Ｂ色のサブ画素位置については、下端の画素位置１０Ｃと中央の画素位置１０ＢにおけるＲ色、Ｂ色のサブ画素位置に、不整合の発生箇所が分散している。
【００６１】
図１４は、比較例３における同期不整合の発生箇所の分布を示す説明図である。比較例３は、インターレース方式でなくノンインターレース方式（プログレッシブ方式）で液晶パネル４０を駆動する点のみが実施形態３と異なる。その結果、図１４に示すように、中央の画素位置１０Ｂには同期不整合が発生せず、上端の画素位置１０Ａと下端の画素位置１０Ｃに、同期不整合の発生箇所が集中している。
【００６２】
また、同期不整合の分布だけでなく、発生量についても、実施形態３のほうが比較例３より少ない。例えば、図１４に示す比較例３の分布では、同期不整合の発生箇所数が４８であるのに対して、図１３に示す実施形態３の分布では、同期不整合の発生箇所数が３６に減少している。
【００６３】
（実施形態３の主な作用効果）
以上のように、実施形態３の光学モジュール２は、実施形態１の構成に加えて、以下の構成を備える。すなわち、実施形態３の光学モジュール２において、画素シフト機構５は、第３のサブ画素１３において変調された光が第１の位置Ｐ１１に入射し、且つ、第４のサブ画素１４において変調された光が第２の位置Ｐ１２に入射する第１の状態と、第３のサブ画素１３において変調された光が第３の位置Ｐ１３に入射し、且つ、第４のサブ画素１４において変調された光が第４の位置Ｐ１４に入射する第２の状態と、に遷移する。また、画素シフト機構５が第１の状態である間に、第１のサブ画素１１には、第１の色光（Ｒ光）が入射した後に第２の色光（Ｂ光）が入射し、第２のサブ画素１２には、第２の色光（Ｂ光）が入射した後に第１の色光（Ｒ光）が入射し、画素シフト機構５が第２の状態である間に、第１のサブ画素１１には、第２の色光（Ｂ光）が入射した後に第１の色光（Ｒ光）を入射させ、第２のサブ画素１２には、第１の色光（Ｒ光）が入射した後に第２の色光（Ｂ光）が入射する。
【００６４】
このように、実施形態３では、光変調素子４の画素書き換え時の走査方向である第１方向Ｆ１と交差する第２方向Ｆ２の画素シフトと、第１のサブ画素１１と第２のサブ画素１２に対するＲ光とＢ光の入れ替えとを、同一の周期で、且つ、各周期より短い期間分（例えば、各周期の１／２の期間分）タイミングをずらして行う。これにより、１フレーム内において、変調されたＲ光、Ｂ光、Ｇ光（Ｇａ光またはＧｂ光）をスクリーン１００上の第１の位置Ｐ１１、第２の位置Ｐ１２、第３の位置Ｐ１３、および第４の位置Ｐ１４の４つの領域のそれぞれに時分割で投射できる。従って、４つの領域をＲ光、Ｂ光、Ｇ光（Ｇａ光またはＧｂ光）の重ね合わせによって独立した画素のように表示させることができるので、見かけ上、第１方向Ｆ１の解像度を２倍とし、且つ、第２方向Ｆ２の解像度を２倍にすることができる。従って、高解像度化した画像を表示することができる。
【００６５】
また、実施形態３では、インターレース方式で液晶パネル４０を駆動することによって、実施形態１、２と同様に、画素シフトとサブ画素の書き込みデータとの同期不整合の発生箇所を画面上で分散させることができる。これにより、面内ムラの発生が抑制されるので、解像感を向上させることができ、表示品位を向上させることができる。
【００６６】
実施形態３では、画素シフトは１方向であり、シフト位置の数は２である。従って、２方向の画素シフトによって４つのシフト位置を移動させて高解像度化する場合よりもシフト位置の数が少なく、画素シフトの頻度が少ない。そのため、画素シフトに同期してサブ画素の表示内容を切り換える頻度が少ないので、液晶の応答時間の遅れに起因して、サブ画素の表示内容とシフト位置との同期不整合となる期間の割合が少ない。よって、高解像度化によって表示品位を向上させることができる。
【００６７】
表示領域４１に配列された画素１０を順次駆動する液晶パネル４０の場合、表示領域４１の端から端まで駆動するのにおよそフレーム周波数分の１の時間だけかかるため、面内時間差が生じ、時分割表示を行う各サブ画素の表示内容とシフト位置との同期不整合が発生するおそれがあるが、実施形態３では、上記のように、画素シフトに同期してサブ画素の表示内容を切り換える頻度が少ない。従って、液晶の順次書き込み駆動に伴う面内時間差に起因して、サブ画素の表示内容とシフト位置との同期不整合となる期間の割合が少ない。よって、応答速度の遅い液晶を用いた場合でも、高解像度化によって表示品位を向上させることができる。
【００６８】
また、実施形態３では、色光の入れ替えは、画素シフト機構５とは独立した機構によって行われているので、色光の入れ替えのタイミングを調整しやすい。よって、第１のサブ画素１１および第２のサブ画素１２の表示内容とシフト位置との同期を合わせやすいので、同期不整合による表示品位の低下が発生しにくい。
【００６９】
また、実施形態３では、３色の色光の中で、最も液晶の劣化が生じやすい短波長光であるＢ光（青色光）の光路の入れ替えを行うので、Ｂ光（青色光）が特定のサブ画素に連続して照射され続けることを抑制できる。従って、液晶の劣化を抑制できる。
【００７０】
実施形態３では、実施形態１と同様に、光変調素子４の走査方向を第１方向Ｆ１とした場合に、上記のように、第３のサブ画素１３と第４のサブ画素１４が第１方向Ｆ１に並んでいる。そして、第１のサブ画素１１と第２のサブ画素１２は、第３のサブ画素１３と第４のサブ画素に対して、第１方向Ｆ１と交差する第２方向Ｆ２に異なる位置で、第１方向Ｆ１に並んでいる。また、第１方向Ｆ１と第２方向Ｆ２の一方を行方向とし、他方を列方向とする場合に、第１のサブ画素１１、第２のサブ画素１２、第３のサブ画素１３、および、第４のサブ画素１４は、２行２列に配列されている。従って、第１方向Ｆ１および第２方向Ｆ２の画素シフトを行うことにより、投射面上において格子状に配列された４つの領域に、それぞれ、Ｒ光、Ｂ光、Ｇ光を時分割で投射して、見かけ上、独立した画素のように表示させることができる。従って、第１方向Ｆ１の解像度および第２方向Ｆ２の解像度をそれぞれ２倍にすることができる。
【００７１】
実施形態１〜３の光学モジュール２は、いずれも、光学モジュール２から入射する映像光Ｌを拡大投射する投射光学系６を備えたプロジェクター１などの投射型表示装置に用いることができる、これにより、スクリーン１００に投射される画像の高解像度化を図ることができる。また、画素シフトとサブ画素の書き込みデータとの同期不整合の発生箇所を画面上で分散させることができる。これにより、面内ムラの発生が抑制されるので、スクリーン１００に投射される画像の解像感を向上させることができ、表示品位を向上させることができる。
【００７２】
（変形例）
（１）画素シフトのシフト方向は、上記各形態の方向に限定されない。実施形態２、３では、１方向の画素シフトを行うが、シフト方向は、Ｇ光が入射するサブ画素の配列方向（第１方向Ｆ１）と交差する方向であればよい。例えば、第２方向Ｆ２、および画素１０の対角方向である第３方向Ｆ３のいずれの方向であってもよい。
【００７３】
（２）Ｒ光とＢ光の入れ替えを行う機構は、実施形態３の構成に限定されない。例えば、位相差板を回転させてＲ光とＢ光のどちらか一方を選択的に入射させ、反射偏光板を用いて位相差板を通過した側の色光の光路を変え、Ｒ光とＢ光の光路を入れ換える構成であってもよい。
【符号の説明】
【００７４】
１…プロジェクター、２…光学モジュール、３…光源部、４…光変調素子、５…画素シフト機構、６…投射光学系、１０…画素、１０Ａ…スクリーン上端の画素位置、１０Ｂ…スクリーン中央の画素位置、１０Ｃ…スクリーン下端の画素位置、１１…第１のサブ画素、１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄ…サブ画素位置、１２…第１のサブ画素、１３…第３のサブ画素、１４…第４のサブ画素、３０…光源、３０Ａ…第１光源、３０Ｂ…第２光源、３１…光学系、３３…入射位置入替機構、３４Ａ…第１光学素子、３４Ｂ…第２光学素子、３５…第３光学素子、４０…液晶パネル、４１…表示領域、１００…スクリーン、Ｆ１…第１方向、Ｆ２…第２方向、Ｆ３…第３方向、Ｌ…映像光、ＬＢ…Ｂ光用レーザー光源、ＬＲ…Ｒ光用レーザー光源、Ｐ１…第１シフト位置、Ｐ１１…第１の位置、Ｐ１２…第２の位置、Ｐ１３…第３の位置、Ｐ１４…第４の位置、Ｐ２…第２シフト位置、Ｐ３…第３シフト位置、Ｐ４…第４シフト位置、λ…液晶パネルの画素ピッチ、Ａλ…スクリーン上の画素ピッチ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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