(57)【要約】      （修正有）【課題】ブリードアウトを抑制できる紫外線吸収樹脂層を備える積層フィルムの提供。【解決手段】基材２と、前記基材２の厚み方向一方側に配置され、樹脂およびビリミジン環を有するヒンダードアミン化合物を含有する樹脂層３と、前記樹脂層３の厚み方向一方面に配置されるキャップ層４とを備える積層フィルム１。前記樹脂層３は、紫外線硬化樹脂層３であることが好ましい。前記キャップ層４は、最外層であることがより好ましく、前記基材２の厚み方向他方側に配置される透明導電層５を備えることがさらに好ましい。【選択図】図１
2020066153.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
前記基材の厚み方向一方側に配置され、樹脂および下記一般式（１）に示す化合物を含有する樹脂層と、
前記樹脂層の厚み方向一方面に配置されるキャップ層と
を備えることを特徴とする、積層フィルム。
【化１】
2020066153.tif 000028
（一般式（１）中、ｍは１〜６の整数を表し、Ｑ１は、ｍが１のとき水素原子を表し、ｍが２〜６のとき２〜６価の連結基を表し、Ｄ１は、下記一般式（２）で表される化合物から水素原子が１つ外れた基を表し、ｍが２〜６のとき、複数のＤ１は、全て同じであってもよく、異なっていてもよい。
【化２】
2020066153.tif 000029
（一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
Ｒ２は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７又は−ＳＯ２−Ｒ８を表す。Ｒ７は、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１を表し、Ｒ８は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１、−ＮＲ８２Ｒ８３又は−Ｒ８４を表す。Ｒ７１及びＲ８１〜Ｒ８４は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
Ｒ４０２及びＲ４０３は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、−ＮＲ４０６Ｒ４０７、−ＯＲ４０８、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１を表し、Ｒ４０４〜Ｒ４１１は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ４０４と、Ｒ４０５と、Ｒ４０４及びＲ４０５が結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。）
【請求項２】
前記樹脂層は、硬化樹脂層であることを特徴とする、請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項３】
前記樹脂層は、紫外線硬化樹脂層であることを特徴とする、請求項２に記載の積層フィルム。
【請求項４】
前記キャップ層は、最外層であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層フィルム。
【請求項５】
前記基材の厚み方向他方側に配置される透明導電層をさらに備えることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層フィルム、特に光学用途に用いられる積層フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイなどの画像表示装置は、タッチパネル用フィルムなどの光学フィルムとして、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）層などの透明導電層を透明基材上に配置した透明導電性フィルムを備えることが知られている。
【０００３】
一方、画像表示装置は、紫外光により画像表示装置内の構成部材が劣化する不具合がある。特に、有機ＥＬディスプレイでは、紫外光によって有機ＥＬ層が破損し易い。そのため、紫外線吸収剤を含有する粘着シートを光学フィルムに用いることが知られている（特許文献１参照。）。また、高い耐光性を示す紫外線吸収剤として、例えば、メロシアニン系化合物が知られている（特許文献２参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−７５９７８号公報
【特許文献２】特開２０１１−１８４４１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献２に記載のメロシアニン系化合物では、光学フィルム用途において、耐光性などの耐久性が不十分であり、さらなる改良が求められている。
【０００６】
そのため、本発明者らは、光学用途に用いる紫外線吸収剤として、耐久性が良好である化合物（後述する一般式（１）に示す化合物）を見出した。さらなる検討を重ねたところ、上記化合物を樹脂層に含有させると、特に高温高湿環境下において、樹脂層（紫外線吸収樹脂層）の表面に上記化合物が析出する現象（ブリードアウト）を生じることを見出した。ブリードアウトは、その化合物が備える特性（紫外線吸収性）を劣化させるだけでなく、光学フィルムの透明性を低下させるなどの不具合が生じる。
【０００７】
本発明は、ブリードアウトを抑制できる紫外線吸収樹脂層を備える積層フィルムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明［１］は、基材と、前記基材の厚み方向一方側に配置され、樹脂および下記一般式（１）に示す化合物を含有する樹脂層と、前記樹脂層の厚み方向一方面に配置されるキャップ層とを備える、積層フィルムを含む。
【０００９】
【化１】
2020066153.tif 000003
【００１０】
（一般式（１）中、ｍは１〜６の整数を表し、Ｑ１は、ｍが１のとき水素原子を表し、ｍが２〜６のとき２〜６価の連結基を表し、Ｄ１は、下記一般式（２）で表される化合物から水素原子が１つ外れた基を表し、ｍが２〜６のとき、複数のＤ１は、全て同じであってもよく、異なっていてもよい。）
【００１１】
【化２】
2020066153.tif 000004
【００１２】
（一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
Ｒ２は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７又は−ＳＯ２−Ｒ８を表す。Ｒ７は、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１を表し、Ｒ８は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１、−ＮＲ８２Ｒ８３又は−Ｒ８４を表す。Ｒ７１及びＲ８１〜Ｒ８４は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
Ｒ４０２及びＲ４０３は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、−ＮＲ４０６Ｒ４０７、−ＯＲ４０８、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１を表し、Ｒ４０４〜Ｒ４１１は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ４０４と、Ｒ４０５と、Ｒ４０４及びＲ４０５が結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。）
本発明［２］は、前記樹脂層は、硬化樹脂層である、［１］に記載の積層フィルムを含む。
【００１３】
本発明［３］は、前記樹脂層は、紫外線硬化樹脂層である、［２］に記載の積層フィルムを含む。
【００１４】
本発明［４］は、前記キャップ層は、最外層である、［１］〜［３］のいずれか一項に記載の積層フィルムを含む。
【００１５】
本発明［５］は、前記基材の厚み方向他方側に配置される透明導電層をさらに備える、［１］〜［４］のいずれか一項に記載の積層フィルムを含む。
【００１６】
本発明［６］は、前記一般式（１）におけるｍが１又は２である、［１］〜［５］に記載の積層フィルムを含む。
【００１７】
本発明［７］は、前記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（３）で表される化合物である、［１］〜［６］に記載の積層フィルムを含む。
【００１８】
【化３】
2020066153.tif 000005
【００１９】
（一般式（３）中、Ｒ１ａは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ２ａは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ａ又は−ＳＯ２−Ｒ８ａを表す。Ｒ７ａは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ａを表し、Ｒ８ａは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ａ、−ＮＲ８２ａＲ８３ａ又は−Ｒ８４ａを表す。Ｒ７１ａ及びＲ８１ａ〜Ｒ８４ａは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ３ａは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２
０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ａは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ａＲ４０７ａ、−ＯＲ４０８ａ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ａ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ａ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ａを表し、Ｒ４０４ａ〜Ｒ４１１ａは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ａと、Ｒ４０５ａと、Ｒ４０４ａ及びＲ４０５ａが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
Ｒ４１３は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基
を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表すか、又は、下記一般式（４）で表
される基を表す。
【００２０】
【化４】
2020066153.tif 000006
【００２１】
（一般式（４）中、Ｑ２は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を表し、＊は一般式（３）との結合部位を表す。
Ｒ１ｂは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ２ｂは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｂ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｂを表す。Ｒ７ｂは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｂを表し、Ｒ８ｂは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｂ、−ＮＲ８２ｂＲ８３ｂ又は−Ｒ８４ｂを表す。Ｒ７１ｂ及びＲ８１ｂ〜Ｒ８４ｂは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ３ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ｂは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｂＲ４０７ｂ、−ＯＲ４０８ｂ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｂ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｂ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｂを表し、Ｒ４０４ｂ〜Ｒ４１１ｂは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｂと、Ｒ４０５ｂと、Ｒ４０４ｂ及びＲ４０５ｂが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。）
本発明［８］は、前記Ｒ４１３が、前記一般式（４）で表される基である、［７］に記載の積層フィルムを含む。
【００２２】
本発明［９］は、前記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（５）で表される化合物である、［１］〜［６］に記載の積層フィルムを含む。
【００２３】
【化５】
2020066153.tif 000007
【００２４】
（一般式（５）中、Ｒ２ｃは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｃ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｃを表す。Ｒ７ｃは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｃを表し、Ｒ８ｃは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｃ、−ＮＲ８２ｃＲ８３ｃ又は−Ｒ８４ｃを表す。Ｒ７１ｃ及びＲ８１ｃ〜Ｒ８４ｃは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ３ｃは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ｃ及びＲ４０３ｃは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｃＲ４０７ｃ、−ＯＲ４０８ｃ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｃ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｃ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｃを表し、Ｒ４０４ｃ〜Ｒ４１１ｃは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｃと、Ｒ４０５ｃと、Ｒ４０４ｃ及びＲ４０５ｃが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
Ｒ５０１は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、又は、下記一般式（６）で表される基を表す。
【００２５】
【化６】
2020066153.tif 000008
【００２６】
（一般式（６）中、Ｑ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を表し、＊は一般式（５）との結合部位を表す。
Ｒ２ｄは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｄ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｄを表す。Ｒ７ｄは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｄを表し、Ｒ８ｄは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｄ、−ＮＲ８２ｄＲ８３ｄ又は−Ｒ８４ｄを表す。Ｒ７１ｄ及びＲ８１ｄ〜Ｒ８４ｄは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ３ｄは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ４０２ｄ及びＲ４０３ｄは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｄＲ４０７ｄ、−ＯＲ４０８ｄ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｄ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｄ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｄを表し、Ｒ４０４ｄ〜Ｒ４１１ｄは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｄと、Ｒ４０５ｄと、Ｒ４０４ｄ及びＲ４０５ｄが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。）
本発明［１０］は、前記Ｒ５０１が、前記一般式（６）で表される基である、［９］に記載の積層フィルムを含む。
【００２７】
本発明［１１］は、前記一般式（１）で表される化合物は、吸収スペクトルの吸収極大波長が３８０〜４３０ｎｍの波長領域に存在する色素化合物である、［１］〜［１０］に記載の積層フィルムを含む。
【発明の効果】
【００２８】
本発明の積層フィルムによれば、樹脂および一般式（１）に示す化合物を含有する樹脂層を備えるため、紫外線吸収性および耐久性が良好である。
【００２９】
また、本発明の積層フィルムによれば、樹脂層の厚み方向一方面に配置されるキャップ層を備えるため、樹脂層に含有される一般式（１）に示す化合物が厚み方向一方面に析出することを抑制することができる。すなわち、ブリードアウトを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】図１は、本発明の透明導電性フィルムの一実施形態の側断面図を示す。
【図２】図２は、本発明の透明導電性フィルムの一実施形態の変形例（ハードコート層を備える形態）を示す。
【図３】図３は、本発明の透明導電性フィルムの一実施形態の変形例（光学調整層を備える形態）を示す。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
本発明の実施の形態について、図を参照しながら以下に説明する。図１において、紙面上下方向は、上下方向（厚み方向）であって、紙面下側が、下側（厚み方向一方側）、紙面上側が、上側（厚み方向他方側）である。また、紙面左右方向および奥行き方向は、上下方向に直交する面方向である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。
【００３２】
＜一実施形態＞
１．透明導電性フィルム
本発明の積層フィルムの一実施形態である透明導電性フィルム１は、例えば、図１に示すように、面方向に延び、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）を有する。フィルム形状とは、平坦な上面（厚み方向一方面）および平坦な下面（厚み方向他方面）を有する薄板形状として定義される（以下、同様）。
【００３３】
透明導電性フィルム１は、例えば、画像表示装置に備えられるタッチパネル用基材などの一部品であり、つまり、画像表示装置ではない。すなわち、透明導電性フィルム１は、画像表示装置などを作製するための部品であり、ＬＣＤモジュール、有機ＥＬモジュールなどの画像表示素子を含まず、後述する透明基材２（基材の一例）と、紫外線吸収樹脂層３（樹脂層の一例）と、キャップ層４と、透明導電層５とからなり、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。
【００３４】
具体的には、図１に示すように、透明導電性フィルム１は、透明基材２と、透明基材２の下面（厚み方向一方面）に配置される紫外線吸収樹脂層３と、紫外線吸収樹脂層３の下面に配置されるキャップ層４と、透明基材２の上面（厚み方向他方面）に配置される透明導電層５とを備える。すなわち、透明導電性フィルム１は、キャップ層４と、紫外線吸収樹脂層３と、透明基材２と、透明導電層５とを厚み方向に順に備える。具体的には、以下、各層について詳述する。
【００３５】
２．透明基材
透明基材２は、透明導電性フィルム１の機械強度を確保する基材である。透明基材２は、透明導電層５を、紫外線吸収樹脂層３およびキャップ層４とともに、支持している。
【００３６】
透明基材２は、紫外線吸収樹脂層３の上面全面に、紫外線吸収樹脂層３の上面と接触するように配置されている。より具体的には、透明基材２は、紫外線吸収樹脂層３と透明導電層５との間に、紫外線吸収樹脂層３の上面および透明導電層５の下面と接触するように、配置されている。
【００３７】
透明基材２は、例えば、透明性を有する高分子フィルムである。高分子フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー（例えば、ノルボルネン類、シクロペンタジエン類、シクロヘキサジエン類などの重合体）などのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。高分子フィルムは、単独使用または２種以上併用することができる。
【００３８】
透明性、耐熱性、機械的強度などの観点から、好ましくは、オレフィン樹脂が挙げられより好ましくは、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が挙げられる。
【００３９】
透明基材２の全光線透過率（ＪＩＳ  Ｋ  ７３７５−２００８）は、例えば、８０％以上、好ましくは、８５％以上である。
【００４０】
透明基材２の厚みは、機械的強度、透明性、透明導電性フィルム１をタッチパネル用フィルムとした際の打点特性などの観点から、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下である。
【００４１】
透明基材２の厚みは、例えば、膜厚計（デジタルダイアルゲージ）を用いて測定することができる。
【００４２】
なお、透明基材２の上面および／または下面には、必要に応じて、易接着層、接着剤層、セパレータなどが設けられていてもよい。
【００４３】
３．紫外線吸収樹脂層
紫外線吸収樹脂層３は、画像表示装置の内部への紫外線の侵入を抑制するために、すなわち、透明導電性フィルム１における紫外線の透過を抑制するために、紫外線を吸収する層である。また、紫外線吸収樹脂層３は、画像表示装置の組み込み前に、複数の透明導電性フィルム１を積層した場合などに、透明導電性フィルム１の表面（すなわち、透明導電層５の上面）に擦り傷を生じにくくする擦傷保護層である。さらに、透明導電性フィルム１に耐ブロッキング性を付与するアンチブロッキング層とすることもできる。
【００４４】
紫外線吸収樹脂層３は、フィルム形状を有しており、透明基材２の下面全面に、透明基材２の下面と接触するように、配置されている。より具体的には、紫外線吸収樹脂層３は、透明基材２とキャップ層４との間に、透明基材２の下面およびキャップ層４の上面と接触するように、配置されている。
【００４５】
紫外線吸収樹脂層３は、紫外線吸収樹脂組成物から形成されている。紫外線吸収樹脂組成物は、樹脂と、上記一般式（１）に示す化合物とを含有する。
【００４６】
樹脂としては、例えば、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂（例えば、ポリオレフィン樹脂）などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂が挙げられる。これにより、紫外線吸収樹脂層３に耐擦傷性を付与することができる。
【００４７】
硬化性樹脂としては、例えば、活性エネルギー線（具体的には、紫外線、電子線など）の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、例えば、加熱により硬化する熱硬化性樹脂などが挙げられ、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられ、より好ましくは、紫外線硬化性樹脂が挙げられる。樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。
【００４８】
活性エネルギー線硬化性樹脂は、例えば、分子中に重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を有するポリマーが挙げられる。そのような官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基（メタクリロイル基および／またはアクリロイル基）などが挙げられる。
【００４９】
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、具体的には、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートなどの（メタ）アクリル系紫外線硬化性樹脂が挙げられる。
【００５０】
また、活性エネルギー線硬化性樹脂以外の硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、有機シラン縮合物などが挙げられる。
【００５１】
樹脂の含有割合は、紫外線吸収樹脂組成物全体に対して、例えば、６０質量％以上、好ましくは、７０質量％以上であり、また、例えば、９８質量％以下、好ましくは、９５質量％以下である。
【００５２】
紫外線吸収樹脂組成物は、樹脂とともに、上記一般式（１）に示す化合物を含有する。上記一般式（１）で表される化合物を、本明細書中、化合物（１）ともいう。他の式番号の化合物についても同様であり、例えば一般式（２）で表される化合物を、化合物（２）ともいう。
【００５３】
本発明の化合物（１）において幾何学異性が存在する場合、本発明はその幾何学異性体のいずれも包含する。また、本発明の化合物（１）において１つ以上の不斉炭素原子が存在する場合、本発明は各々の不斉炭素原子がＲ配置の化合物、Ｓ配置の化合物及びそれらの任意の組み合せの化合物のいずれも包含する。またそれらのラセミ化合物、ラセミ混合物、単一のエナンチオマー、ジアステレオマー混合物のいずれも本発明に包含される。
【００５４】
上記一般式（１）中、ｍは１〜６の整数を表す。ｍが２〜６であると、化合物（１）の耐熱性が向上するため好ましい。本発明の一態様においては、ｍは、好ましくは１又は２であり、より好ましくは２である。
【００５５】
Ｑ１は、ｍが１のとき水素原子を表し、ｍが２〜６のとき２〜６価の連結基を表す。
【００５６】
２〜６価の連結基として、例えば、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２〜６価の炭化水素基、−ＳＯ２−等が挙げられる。
【００５７】
置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２〜６価の炭化水素基として、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状の２〜６価のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の２〜６価のアリーレン基が挙げられる。Ｑ１は、好ましくは水素原子又は２価の連結基である。
【００５８】
２価の連結基として、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、−ＳＯ２−等が好ましく、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基がより好ましい。置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基は、好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状の２価のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の２価のアリーレン基である。
【００５９】
炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状の２価のアルキル基は、炭素−炭素間に酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよいアリーレン基が挿入された２価のアルキル基であってもよく、好ましくは、−（ＣＨ２）ｋ１−（ｋ１は、１〜２０の整数を表す）で表される炭素数１〜２０の直鎖状の２価のアルキル基であり、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、デシレン基等が挙げられる。また、１個以上のハロゲン原子で置換された２価のアルキル基であることも好ましく、例えば、ビストリフルオロメチルメチレン基等が挙げられる。直鎖状の２価のアルキル基の炭素数は２〜１０（上記式中のｋ１が２〜１０）がより好ましく、４〜８（上記式中のｋ１が４〜８）がさらに好ましい。
【００６０】
置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の２価のアリーレン基として、例えば、下記一般式（２０）で表される基が好ましい。
【００６１】
【化７】
2020066153.tif 000009
【００６２】
上記一般式（２０）中、Ｘは、互いに独立に、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、スルホ基、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜３のアルコキシ基を表し、ｓは０〜４の整数を表す。ベンゼン環の２カ所の結合手は、ｏ−、ｍ−、ｐ−配向のいずれでもよい。また、ベンゼン環が置換基を有していない（ｓ＝０である）ことが好ましい。
【００６３】
一般式（１）中、Ｄ１は、化合物（２）から水素原子が１つ外れた基を表す。化合物（２）から水素原子が１つ外れた基は、化合物（２）から水素原子を１つ除いた基ということもできる。化合物（２）は、含窒素芳香環及び電子求引性基を含み、色素となり得るメチン構造を含む。化合物（１）は、このようなメチン構造を含むことから、色素化合物として使用され得る。ｍが２〜６のとき、複数のＤ１は、全て同じであってもよく、異なっていてもよい。一態様においては、複数のＤ１は、全て同じであることが好ましい。
【００６４】
一般式（１）において、ｍが１である化合物（１）は、化合物（２）である。ｍが１である化合物（１）を単量体化合物ともいう。ｍが２〜６である化合物（１）は、連結基（Ｑ１）により、化合物（２）から水素原子が外れた基が２〜６連結した２〜６量体構造を有する化合物である。ｍが２〜６である化合物（１）を、２〜６量体化合物ということもできる。
【００６５】
Ｄ１は、化合物（２）の、Ｒ１、Ｒ４０３又はＲ４０４から水素原子が１つ外れた基（Ｒ１が水素原子の場合は、Ｒ１が外れた基）であることが好ましく、Ｒ１又はＲ４０３から水素原子が１つ外れた基であることがより好ましい。換言すると、一般式（１）において、Ｑ１は、一般式（２）中のＲ１、Ｒ４０３又はＲ４０４の部分に結合していることが好ましく、Ｒ１又はＲ４０３の部分に結合していることがより好ましい。
【００６６】
一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。置換基を有していてもよいアルキル基として、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられる。置換基を有していてもよいアリール基として、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基が挙げられる。一般式（２）中の−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ１は、電子求引性基である。Ｒ１は、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基であり、より好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０アルキル基である。
【００６７】
Ｒ２は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基（ＣＦ３基）、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７又は−ＳＯ２−Ｒ８を表す。Ｒ７は、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１を表し、Ｒ８は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１、−ＮＲ８２Ｒ８３又は−Ｒ８４を表す。Ｒ７１及びＲ８１〜Ｒ８４は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
【００６８】
Ｒ２における複素環含有基として、ピロール環、ピリジン環、キノリン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、トリアジン環、トリアゾール環、テトラゾール環等の含窒素複素環；フラン環、ベンゾフラン環等の含酸素複素環；チオフェン環、ベンゾチオフェン環等の含硫黄複素環；オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環等の酸素原子及び窒素原子を含む複素環；チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チアジアゾール環等の含硫黄複素環等が挙げられ、これらの環は更に他の炭素環（例えば、ベンゼン環）や複素環（例えば、ピリジン環）と縮合環を形成していてもよく、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環が好ましい。
【００６９】
本発明の一態様においては、Ｒ２における複素環含有基として、ベンゾオキサゾール環又はオキサゾール環の窒素と酸素の間の炭素（２位）から水素原子が外れた基（水素原子を除いた基ということもできる）が好ましく、より好ましくは、ベンゾオキサゾール環の窒素と酸素の間の炭素（２位）から水素原子が外れた基である。
【００７０】
また、例えば、一般式（１）において、ｍが２〜６であり、Ｒ２がベンゾオキサゾール環又はオキサゾール環から水素原子が外れた基であり、Ｑ１とＤ１とが、化合物（２）のＲ２の部位で結合している場合、Ｒ２は、ベンゾオキサゾール環又はオキサゾール環の窒素と酸素の間の炭素（２位）以外の炭素原子でＱ１と結合していることが好ましい。
【００７１】
Ｒ１、Ｒ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４における置換基を有していてもよいアルキル基として、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基として、後述する置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられる。本発明の一態様において、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基は、好ましくは炭素数４〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であり、炭素数が４以上の分岐又は環状の立体的に嵩高いアルキル基が好ましく、より好ましくは、炭素数６〜２０の環状のアルキル基であり、特に好ましくは、直鎖又は分岐アルキル基を置換基として有してもよい環状のアルキル基である。Ｒ１、Ｒ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４における炭素数１〜２０のアルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル等が好ましく、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等がより好ましく、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等がさらに好ましい。
【００７２】
Ｒ１、Ｒ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４における置換基を有していてもよいアリール基として、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基として、後述する置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基が挙げられ、例えば、アルキル基で置換されていてもよいフェニル基（例えば、フェニル基、３−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基等）等が好ましい。
【００７３】
Ｒ１は、好ましくは、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等であり、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等がより好ましい。
【００７４】
Ｒ２は、好ましくは、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７又は−ＳＯ２−Ｒ８であり、より好ましくはシアノ基、複素環含有基、又は、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７であり、さらに好ましくは、シアノ基又は−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ７１である。
【００７５】
Ｒ７１及びＲ８１は、同一又は異なって、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等が好ましく、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等がより好ましい。Ｒ８２は、好ましくは、水素原子である。Ｒ８３は、好ましくは、水素原子、フェニル基、３−メチルフェニル基又は２，６−ジメチルフェニル基である。Ｒ８４は、好ましくは、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等である。
【００７６】
一般式（２）中、Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
【００７７】
Ｒ４０２及びＲ４０３は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、−ＮＲ４０６Ｒ４０７、−ＯＲ４０８、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１を表す。
【００７８】
Ｒ４０４〜Ｒ４１１は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Ｒ４０４と、Ｒ４０５と、Ｒ４０４及びＲ４０５が結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
【００７９】
Ｒ３、Ｒ４０２及びＲ４０３におけるアルキル基としては、例えば、炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられる。
【００８０】
炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基として、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、１、２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、１−エチルブチル基、１，１，２−トリメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、シクロヘキシル基、ｎ−へプチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２，４−ジメチルペンチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、２，５−ジメチルヘキシル基、２，４−ジメチルヘキシル基、２，２，４−トリメチルペンチル基、ｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、４−エチルオクチル基、４−エチル−４，５−ジメチルヘキシル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、１，３，５，７−テトラメチルオクチル基、４−ブチルオクチル基、６，６−ジエチルオクチル基、ｎ−トリデシル基、６−メチル−４−ブチルオクチル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、３，５−ジメチルヘプタデシル基、２，６−ジメチルヘプタデシル基、２，４−ジメチルヘプタデシル基、２，２，５，５−テトラメチルヘキシル基、１−シクロペンチル−２，２−ジメチルプロピル基、１−シクロヘキシル−２，２−ジメチルプロピル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基、ｎ−オクタデシル基等が挙げられる。
【００８１】
置換基を有していてもよいアルキル基における置換基は特に限定されず、炭素数６〜１０の単環又は多環の芳香環基（フェニル基、ナフチル基等）、炭素数１〜８の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基（アルキルの炭素数は１〜８）、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、炭素数１〜８のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１０のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、ピバロイル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ベンゾイル基、トルオイル基、シンナモイル基、アニソイル基、ナフトイル基等）、炭素数２〜１０のアシルオキシ基等が挙げられる。
【００８２】
Ｒ３、Ｒ４０２及びＲ４０３におけるアリール基として、炭素数６〜２０の単環又は多環の芳香環基が挙げられる。
【００８３】
炭素数６〜２０の単環又は多環の芳香環基として、具体的には、フェニル基等の単環の芳香族炭化水素基；ナフチル基、アントラセニル基、ナフタセニル基、ペンタセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基等の多環の芳香族炭化水素基が挙げられる。
【００８４】
置換基を有していてもよいアリール基における置換基は特に限定されず、例えば、炭素数１〜８の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基（アルキルの炭素数は１〜８）、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、炭素数１〜８のハロゲン化炭化水素基、カルボキシ基、炭素数１〜８のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。好ましくは、炭素数１〜８の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。例えば、置換基を有するフェニル基及びナフチル基の一例を挙げると、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル基、フルオロナフチル基、クロロナフチル基、ブロモナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基等が挙げられる。
【００８５】
一般式（２）において、Ｒ４０４と、Ｒ４０５と、Ｒ４０４及びＲ４０５が結合している窒素原子とで形成される、４〜８員の含窒素複素環は、酸素原子を含む含窒素複素環であってもよい。含窒素複素環としては、非芳香族性含窒素複素環が挙げられる。４〜８員の含窒素複素環として、例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環等の非芳香族性含窒素複素環が挙げられる。
【００８６】
置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環における置換基は特に限定されず、例えば、炭素数１〜８の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基（アルキルの炭素数は１〜８）、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、炭素数１〜８のハロゲン化炭化水素基、カルボキシ基、炭素数１〜８のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。好ましくは、炭素数１〜８の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。
【００８７】
アルキル基、アリール基、含窒素複素環、複素環等の環が置換基を有する場合において、置換基が２以上ある場合には、それぞれの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【００８８】
一般式（２）中の各基の好ましい態様についてさらに説明する。
【００８９】
Ｒ３は、好ましくは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又はシアノ基であり、より好ましくは水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜５のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。
【００９０】
Ｒ４０２は、好ましくは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基又はアルコキシ基であり、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基がより好ましい。より好ましくは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜５のアルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基であり、特に好ましくはメチル基である。
【００９１】
Ｒ４０３は、好ましくは−ＯＲ４０８である。Ｒ４０８は、好ましくは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基であり、より好ましくは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜５のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、特に好ましくはエチル基である。
【００９２】
本発明の一態様において、Ｒ４０２及びＲ４０３は、少なくともどちらか一方が水素原子以外の置換基であることが好ましく、Ｒ４０２及びＲ４０３が、同一又は異なって、水素原子以外の置換基であることがより好ましい。
【００９３】
Ｒ４０４及びＲ４０５は、同一又は異なって、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基であり、より好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数６〜１０のアリール基であり、さらに好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基である。
【００９４】
Ｒ４０６、Ｒ４０７、Ｒ４０８、Ｒ４０９、Ｒ４１０及びＲ４１１は、同一又は異なって、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基である。
【００９５】
一般式（１）においてｍが１又は２である化合物として、上記一般式（３）で表される化合物（化合物（３））、一般式（５）で表される化合物（化合物（５））等が好ましい。
【００９６】
本発明の一態様においては、化合物（１）として化合物（３）が好ましい。化合物（３）は、耐光性に優れるため好ましい。
【００９７】
一般式（３）中、Ｒ１ａは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ２ａは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ａ又は−ＳＯ２−Ｒ８ａを表す。Ｒ７ａは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ａを表し、Ｒ８ａは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ａ、−ＮＲ８２ａＲ８３ａ又は−Ｒ８４ａを表す。Ｒ７１ａ及びＲ８１ａ〜Ｒ８４ａは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
【００９８】
Ｒ１ａの好ましい態様は、上述したＲ１の好ましい態様と同じである。
【００９９】
Ｒ２ａは、シアノ基、複素環含有基、又は、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ａが好ましく、シアノ基又は−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ７１ａがより好ましい。Ｒ７１ａ、Ｒ８１ａ、Ｒ８２ａ、Ｒ８３ａ及びＲ８４ａの好ましい態様は、上述したＲ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【０１００】
一般式（３）中、Ｒ３ａは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
【０１０１】
Ｒ４０２ａは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ａＲ４０７ａ、−ＯＲ４０８ａ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ａ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ａ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ａを表し、Ｒ４０４ａ〜Ｒ４１１ａは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ａと、Ｒ４０５ａと、Ｒ４０４ａ及びＲ４０５ａが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
【０１０２】
Ｒ３ａ、Ｒ４０２ａ、Ｒ４０４ａ、Ｒ４０５ａ、Ｒ４０６ａ、Ｒ４０７ａ、Ｒ４０８ａ、Ｒ４０９ａ、Ｒ４１０ａ及びＲ４１１ａの好ましい態様は、上述したＲ３、Ｒ４０２、Ｒ４０４、Ｒ４０５、Ｒ４０６、Ｒ４０７、Ｒ４０８、Ｒ４０９、Ｒ４１０及びＲ４１１の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【０１０３】
一般式（３）中、Ｒ４１３は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表すか、又は、上記一般式（４）で表される基を表す。Ｒ４１３は、好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数１〜５のアルキル基又は一般式（４）で表される基であり、より好ましくは炭素数１〜３のアルキル基又は一般式（４）で表される基であり、さらに好ましくはエチル基又は上記一般式（４）で表される基である。本発明の一態様においては、Ｒ４１３は、一般式（４）で表される基であることが好ましい。
【０１０４】
一般式（４）中、Ｑ２は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を表し、＊は一般式（３）との結合部位を表す。一般式（４）において、Ｑ２が一般式（３）に結合している。Ｑ２における置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基及びその好ましい態様は、上述したＱ１における置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基及びその好ましい態様と同じである。
【０１０５】
一般式（４）中、Ｒ１ｂは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ２ｂは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｂ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｂを表す。Ｒ７ｂは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｂを表し、Ｒ８ｂは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｂ、−ＮＲ８２ｂＲ８３ｂ又は−Ｒ８４ｂを表す。Ｒ７１ｂ及びＲ８１ｂ〜Ｒ８４ｂは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
【０１０６】
Ｒ１ｂの好ましい態様は、上述したＲ１の好ましい態様と同じである。
【０１０７】
Ｒ２ｂは、シアノ基、複素環含有基、又は、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｂが好ましく、シアノ基又は−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ７１ｂがより好ましい。Ｒ７１ｂ、Ｒ８１ｂ、Ｒ８２ｂ、Ｒ８３ｂ及びＲ８４ｂの好ましい態様は、上述したＲ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【０１０８】
一般式（４）中、Ｒ３ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
【０１０９】
Ｒ４０２ｂは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｂＲ４０７ｂ、−ＯＲ４０８ｂ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｂ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｂ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｂを表し、Ｒ４０４ｂ〜Ｒ４１１ｂは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｂと、Ｒ４０５ｂと、Ｒ４０４ｂ及びＲ４０５ｂが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
【０１１０】
Ｒ３ｂ、Ｒ４０２ｂ、Ｒ４０４ｂ、Ｒ４０５ａ、Ｒ４０６ｂ、Ｒ４０７ｂ、Ｒ４０８ｂ、Ｒ４０９ｂ、Ｒ４１０ｂ及びＲ４１１ｂの好ましい態様は、上述したＲ３、Ｒ４０２、Ｒ４０４、Ｒ４０５、Ｒ４０６、Ｒ４０７、Ｒ４０８、Ｒ４０９、Ｒ４１０及びＲ４１１の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【０１１１】
化合物（１）として、化合物（５）も好ましい。
【０１１２】
一般式（５）中、Ｒ２ｃは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｃ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｃを表す。Ｒ７ｃは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｃを表し、Ｒ８ｃは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｃ、−ＮＲ８２ｃＲ８３ｃ又は−Ｒ８４ｃを表す。Ｒ７１ｃ及びＲ８１ｃ〜Ｒ８４ｃは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ２ｃは、シアノ基、複素環含有基、又は−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｃが好ましく、シアノ基又は−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ７１ｃがより好ましい。
【０１１３】
Ｒ７１ｃ、Ｒ８１ｃ、Ｒ８２ｃ、Ｒ８３ｃ及びＲ８４ｃの好ましい態様は、上述したＲ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【０１１４】
一般式（５）中、Ｒ３ｃは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
【０１１５】
Ｒ４０２ｃ及びＲ４０３ｃは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｃＲ４０７ｃ、−ＯＲ４０８ｃ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｃ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｃ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｃを表し、Ｒ４０４ｃ〜Ｒ４１１ｃは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｃと、Ｒ４０５ｃと、Ｒ４０４ｃ及びＲ４０５ｃが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
【０１１６】
Ｒ３ｃ、Ｒ４０２ｃ、Ｒ４０３ｃ、Ｒ４０４ｃ、Ｒ４０５ｃ、Ｒ４０６ｃ、Ｒ４０７ｃ、Ｒ４０８ｃ、Ｒ４０９ｃ、Ｒ４１０ｃ及びＲ４１１ｃの好ましい態様は、上述したＲ３、Ｒ４０２、Ｒ４０３、Ｒ４０４、Ｒ４０５、Ｒ４０６、Ｒ４０７、Ｒ４０８、Ｒ４０９、Ｒ４１０及びＲ４１１の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【０１１７】
一般式（５）中、Ｒ５０１は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、又は、上記一般式（６）で表される基を表す。Ｒ５０１は、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基等）、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基（例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基等）、又は、上記一般式（６）で表される基である。本発明の一態様においては、Ｒ５０１は、上記一般式（６）で表される基であることが好ましい。
【０１１８】
一般式（６）中、Ｑ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を表し、＊は一般式（５）との結合部位を表す。一般式（６）において、Ｑ３が一般式（５）に結合している。Ｑ３における置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基及びその好ましい態様は、上述したＱ１における置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基及びその好ましい態様と同じである。一態様においては、Ｑ３は、より好ましくは、上記一般式（２０）で表され、ｓが０である２価のアリール基である。
【０１１９】
一般式（６）中、Ｒ２ｄは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｄ又は−ＳＯ２−Ｒ８ｄを表す。Ｒ７ｄは、ヒドロキシ基又は−ＯＲ７１ｄを表し、Ｒ８ｄは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＲ８１ｄ、−ＮＲ８２ｄＲ８３ｄ又は−Ｒ８４ｄを表す。Ｒ７１ｄ及びＲ８１ｄ〜Ｒ８４ｄは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
【０１２０】
Ｒ２ｄは、シアノ基、複素環含有基、又は、−Ｃ（Ｏ）−Ｒ７ｄが好ましく、シアノ基又は−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ７１ｄがより好ましい。Ｒ７１ｄ、Ｒ８１ｄ、Ｒ８２ｄ、Ｒ８３ｄ及びＲ８４ｄの好ましい態様は、上述したＲ７１、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３及びＲ８４の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【０１２１】
Ｒ３ｄは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
【０１２２】
Ｒ４０２ｄ及びＲ４０３ｄは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、−ＮＲ４０６ｄＲ４０７ｄ、−ＯＲ４０８ｄ、シアノ基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４０９ｄ、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１０ｄ又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１１ｄを表し、Ｒ４０４ｄ〜Ｒ４１１ｄは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ４０４ｄと、Ｒ４０５ｄと、Ｒ４０４ｄ及びＲ４０５ｄが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい４〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。
【０１２３】
Ｒ３ｄ、Ｒ４０２ｄ、Ｒ４０３ｄ、Ｒ４０４ｄ、Ｒ４０５ｄ、Ｒ４０６ｄ、Ｒ４０７ｄ、Ｒ４０８ｄ、Ｒ４０９ｄ、Ｒ４１０ｄ及びＲ４１１ｄの好ましい態様は、上述したＲ３、Ｒ４０２、Ｒ４０３、Ｒ４０４、Ｒ４０５、Ｒ４０６、Ｒ４０７、Ｒ４０８、Ｒ４０９、Ｒ４１０及びＲ４１１の好ましい態様とそれぞれ同じである。
【０１２４】
化合物（３）は、Ｒ４１３が一般式（４）で表される基である場合は、一般式（１）においてＱ１がＱ２（置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基）であり、該Ｑ２により、一般式（３）で表される基及び一般式（４）で表される基が両側に連結した２量体構造を有する化合物である。一般式（３）で表される基及び一般式（４）で表される基は、メチン構造を含み、いずれも色素となる構造である。このような色素となる構造が２量体構造となっていることにより分子量が増大するため、化合物が昇華しにくくなって、耐熱性に優れた色素化合物となる。Ｒ４１３が一般式（４）で表される基である化合物（３）は、下記一般式（３−１）で表される化合物である。
【０１２５】
【化８】
2020066153.tif 000010
【０１２６】
上記式（３−１）中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ４０２ａ、Ｒ４０４ａ及びＲ４０５ａ、並びに、Ｑ２、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４０２ｂ、Ｒ４０４ｂ及びＲ４０５ｂは、それぞれ上記と同義である。
【０１２７】
化合物（５）は、Ｒ５０１が一般式（６）で表される基である場合は、一般式（１）においてＱ１がＱ３（置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基）であり、該Ｑ３により、一般式（５）で表される基及び一般式（６）で表される基が両側に連結した２量体構造を有する化合物である。一般式（５）で表される基及び一般式（６）で表される構造は、メチン構造を含み、色素となる構造である。このような色素となる構造が２量体構造となっていることにより分子量が増大するため、化合物が昇華しにくくなって、耐熱性に優れた色素化合物となる。
【０１２８】
Ｒ５０１が一般式（６）で表される基である化合物（５）は、下記一般式（５−１）で表される化合物である。
【０１２９】
【化９】
2020066153.tif 000011
【０１３０】
上記一般式（５−１）中、Ｒ２ｃ、Ｒ３ｃ、Ｒ４０２ｃ、Ｒ４０３ｃ、Ｒ４０４ｃ及びＲ４０５ｃ、並びに、Ｑ３、Ｒ２ｄ、Ｒ３ｄ、Ｒ４０２ｄ、Ｒ４０３ｄ、Ｒ４０４ｄ及びＲ４０５ｄは、上記と同義である。
【０１３１】
本発明の化合物（１）の好ましい態様の一例として、例えば、実施例で製造した化合物Ｃ１〜Ｃ５等が挙げられる。中でも、耐光性が高いことから、化合物Ｃ１、Ｃ２及びＣ５が好ましい。耐熱性が高い点から、化合物Ｃ１〜Ｃ３が好ましい。有機溶媒への溶解度が高い点では、化合物Ｃ１〜Ｃ５が好ましい。化合物Ｃ１〜Ｃ５は、化合物（３）の一例である。
【０１３２】
本発明の化合物（１）の製造方法は特に限定されず、例えば、以下の方法により製造することができる。本発明の化合物の製造方法について、以下に合成方法の一例を挙げて説明するが、本発明の化合物（１）の製造方法は下記方法に限定されるものではない。また、後述の反応を行う際に、当該部位以外の官能基については、必要に応じてあらかじめ適当な保護基により保護しておき、適当な段階においてこれを脱保護してもよい。
【０１３３】
本発明の一態様として、一般式（１）で表される化合物が下記一般式（１１）で表される化合物（化合物（１１））である場合、例えば、次のような方法により合成することができる。化合物（１１）は、本発明の化合物（１）の一例であり、一般式（１）においてｍが２である化合物（二量体化合物）である。化合物（１１）は、化合物（３）において、Ｒ４１３が一般式（４）で表される基である化合物の一例ともいえる。下記では、化合物（Ｍ４）に化合物（Ｍ２１）を脱水縮合反応させることにより化合物（１１）が得られる。
【０１３４】
【化１０】
2020066153.tif 000012
【０１３５】
上記反応式中、Ｑｆは、２価の連結基を表す。Ｒ１ｆ、Ｒ２ｆ及びこれらの好ましい態様は、上述したＲ１、Ｒ２及びこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。Ｒ４０２ｆ、Ｒ４０４ｆ及びＲ４０５ｆ並びにこれらの好ましい態様は、上述したＲ４０２、Ｒ４０４及びＲ４０５並びにこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。Ｑｆにおける２価の連結基は、Ｑ１における２価の連結基と同じである。Ｑｆは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基である。
【０１３６】
【化１１】
2020066153.tif 000013
【０１３７】
で表される波線（上記の波線は化学式中の波線に同じ）は、単結合であって、それが結合している二重結合についての立体配置が、それぞれ独立して、Ｅ配置若しくはＺ配置又はそれらの混合であることを示す。以下も同様である。
【０１３８】
化合物（Ｍ４）は、例えば、下記一般式（Ｍ１）で表される化合物（Ｍ１）にジハロゲン化アルキル化合物を反応させて化合物（Ｍ１）のヒドロキシ基をアルコキシ化することにより得ることができる。化合物（Ｍ１）は、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９５７，４８４５に記載の方法に従って得ることができる。
【０１３９】
【化１２】
2020066153.tif 000014
【０１４０】
上記一般式（Ｍ１）中、Ｒ４０２ｆ、Ｒ４０４ｆ及びＲ４０５ｆは、上記と同義である。また、化合物（１１）は、化合物（Ｍ１）と化合物（Ｍ２１）とを脱水縮合させた後、アルコキシ化により二量化して得ることも可能である。
【０１４１】
一般式（１）で表される化合物が下記一般式（１２）で表される化合物（化合物（１２））である場合は、例えば、次のような方法により合成することができる。化合物（１２）は、本発明の化合物（１）の一例であり、二量体化合物である。化合物（１２）は、化合物（５）において、Ｒ５０１が一般式（６）で表される基である化合物の一例ともいえる。下記では、化合物（Ｍ２−１）に化合物（Ｍ２２）を脱水縮合反応させることにより化合物（１２）が得られる。
【０１４２】
【化１３】
2020066153.tif 000015
【０１４３】
上記反応式中、Ｒ２ｇ及びその好ましい態様は、上述したＲ２ｃ及びこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。Ｗｇは、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｑｇ−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−を表し、Ｑｇは、２価の連結基を表す。Ｑｇにおける２価の連結基は、Ｑ１における２価の連結基と同じである。Ｑｇは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の炭化水素基である。Ｒ４０２ｇ、Ｒ４０３ｇ、Ｒ４０４ｇ及びＲ４０５ｇ並びにこれらの好ましい態様は、上述したＲ４０２、Ｒ４０３、Ｒ４０４及びＲ４０５並びにこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。
【０１４４】
化合物（Ｍ２−１）及び後記の化合物（Ｍ２−２）は、例えば、上記化合物（Ｍ１）のヒドロキシ基をアルコキシ化することにより得ることができる。
【０１４５】
また、化合物（１２）は、上記の化合物（Ｍ２１）と化合物（Ｍ２−１）とを脱水縮合させた後、Ｒ１ｆで連結させてＷｇとして二量化して得ることも可能である。
【０１４６】
一般式（１）で表される化合物が下記一般式（１３）で表される化合物（化合物（１３））である場合は、例えば、次のような方法により合成することができる。化合物（１３）は、本発明の化合物（１）の一例であり、単量体化合物（一般式（１）中のｍが１）である。化合物（１３）は、化合物（３）において、Ｒ４１３が水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す化合物の一例でもある。下記では、化合物（Ｍ２−２）に化合物（Ｍ２３）を脱水縮合反応させることにより化合物（１３）が得られる。
【０１４７】
【化１４】
2020066153.tif 000016
【０１４８】
上記式中、Ｒ４０２ｈ、Ｒ４０３ｈ、Ｒ４０４ｈ及びＲ４０５ｈ並びにこれらの好ましい態様は、上述したＲ４０２、Ｒ４０３、Ｒ４０４及びＲ４０５並びにこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。Ｒ１ｈ、Ｒ２ｈ及びこれらの好ましい態様は、上述したＲ１、Ｒ２及びこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。
【０１４９】
上記の製造方法における各生成物の単離や精製は、通常の有機合成で用いられる方法、例えば濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、結晶化、各種クロマトグラフィー等を適宜組み合わせて行うことができる。また、中間体においては、特に精製せずに次の反応に供することも可能である。
【０１５０】
本発明の化合物（１）は、通常３６０〜４３０ｎｍに吸収極大波長を有するものである。３６０〜４３０ｎｍに吸収極大波長を有すると、紫外線、青色の光を選択的に吸収することができる。本発明の化合物（１）は、３７０〜４２０ｎｍに吸収極大波長を有することが好ましく、３８０〜４００ｎｍに吸収極大波長を有することがより好ましい。また、本発明の化合物（１）は、４００ｎｍのグラム吸光係数が３０以上であることも好ましい。吸収極大波長及びグラム吸光係数は、実施例に記載の方法で測定することができる。
【０１５１】
本発明の化合物（１）は、その熱分解温度が２００℃以上であることが好ましく、２１０℃以上がより好ましく、例えば、２５０〜４００℃であることが好ましい。熱分解温度は、熱重量測定装置により測定することができる。
【０１５２】
本発明の化合物（１）は、通常、３６０以上４３０ｎｍ以下（好ましくは、３８０ｎｍ以上、４２０ｎｍ以下）に吸収極大波長を持ち、この波長の光を効果的に吸収することができる。本発明の化合物（１）は４００ｎｍ付近の光を効果的に吸収することができる。一態様として、本発明の化合物（１）は、２〜６量体化合物（一般式（１）においてｍが２〜６）であると、耐熱性を向上させることができる。このため本発明の化合物（１）は、例えば、光学部材等に好適に使用される。
【０１５３】
本発明の化合物（１）の含有割合は、樹脂１００質量部に対して、例えば、１質量部以上、好ましくは、５質量部以上であり、また、例えば、５０質量部以下、好ましくは、３０質量部以下である。また、本発明の化合物（１）の含有割合は、紫外線吸収樹脂組成物全体に対して、例えば、１質量％以上、好ましくは、５質量％以上であり、また、例えば、４０質量％以下、好ましくは、３０質量％以下である。
【０１５４】
紫外線吸収樹脂組成物は、重合開始剤を含有していてもよい。
【０１５５】
重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、熱重合開始剤などのラジカル重合開始剤が挙げられ、好ましくは、光重合開始剤が挙げられる。重合開始剤は、単独使用または２種以上併用することができる。
【０１５６】
光重合開始剤としては、好ましくは、波長４００ｎｍ未満に吸収帯を有する光重合開始剤を挙げられる。具体的には、光重合開始剤として、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、α−ケトール系光重合開始剤、光活性オキシム系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンジル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤などが挙げられる。
【０１５７】
ベンゾインエーテル系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、アニソールメチルエーテルなどが挙げられる。
【０１５８】
アセトフェノン系光重合開始剤としては、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノンなどが挙げられる。
【０１５９】
α−ケトール系光重合開始剤としては、例えば、２−メチル−２−ヒドロキシプロピオフェノン、１−［４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンなどが挙げられる。
【０１６０】
光活性オキシム系光重合開始剤としては、例えば、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）−オキシムなどが挙げられる。
【０１６１】
ベンゾイン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインなどが挙げられる。
【０１６２】
ベンジル系光重合開始剤としては、例えば、ベンジルなどが挙げられる。
【０１６３】
ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ポリビニルベンゾフェノン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどが挙げられる。
【０１６４】
ケタール系光重合開始剤としては、例えば、ベンジルジメチルケタールなどが挙げられる。
【０１６５】
チオキサントン系光重合開始剤としては、例えば、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、ドデシルチオキサントンなどが挙げられる。
【０１６６】
アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤としては、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。
【０１６７】
重合開始剤の含有割合は、樹脂１００質量部に対して、例えば、０．１質量部以上、好ましくは、０．５質量部以上であり、また、例えば、１０質量部以下、好ましくは、５質量部以下である。
【０１６８】
紫外線吸収樹脂組成物は、好ましくは、粒子を含有する。これにより、紫外線吸収樹脂層３に、耐ブロッキング性を付与することができる。
【０１６９】
粒子としては、無機粒子、有機粒子などが挙げられる。無機粒子としては、例えば、シリカ（ＳｉＯ２）粒子、例えば、ジルコニア（ＺｒＯ２）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズなどからなる金属酸化物粒子、例えば、炭酸カルシウムなどの炭酸塩粒子などが挙げられる。有機粒子としては、例えば、架橋アクリル樹脂粒子などが挙げられる。粒子は、単独使用または２種以上併用することができる。
【０１７０】
粒子の平均粒子径は、例えば、０．１μｍ以上、好ましくは、０．５μｍ以上であり、また、例えば、１０μｍ以下、好ましくは、５μｍ以下である。粒子の平均粒子径は、体積基準による粒度分布の平均粒子径（Ｄ５０）を示し、例えば、粒子を水中に分散させた溶液を、光回折・散乱法により測定することができる。
【０１７１】
粒子の含有割合は、樹脂１００質量部に対して、例えば、０．０１質量部以上、好ましくは、０．１質量部以上であり、また、例えば、１０質量部以下、好ましくは、１質量部以下である。
【０１７２】
紫外線吸収樹脂組成物には、上記成分以外に、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤などの公知の添加剤をさらに含有することができる。また、紫外線吸収樹脂組成物は、化合物（１）以外の、その他の紫外線吸収剤を併用することもできる。
【０１７３】
紫外線吸収樹脂層３の厚みは、例えば、０．１μｍ以上、好ましくは、０．５μｍ以上であり、また、例えば、１０μｍ以下、好ましくは、５μｍ以下である。紫外線吸収樹脂層３の厚みは、例えば、膜厚計（デジタルダイアルゲージ）を用いて測定することができる。
【０１７４】
４．キャップ層
キャップ層４は、紫外線吸収樹脂層３における化合物（１）のブリードアウトを抑制するための層である。
【０１７５】
キャップ層４は、フィルム形状を有しており、例えば、紫外線吸収樹脂層３の下面全面に、紫外線吸収樹脂層３の下面と接触するように、配置されている。より具体的には、キャップ層４は、最外層であり、透明導電性フィルム１の下面を形成する。すなわち、キャップ層４の下面は、露出している。
【０１７６】
キャップ層４は、キャップ用樹脂組成物から形成されている。キャップ用樹脂組成物は、樹脂を含有している。
【０１７７】
このような樹脂としては、例えば、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。好ましくは、硬化性樹脂が挙げられ、より好ましくは、紫外線硬化樹脂が挙げられる。これにより、紫外線吸収樹脂層３のブリードアウトを確実に抑制することができる。
【０１７８】
硬化性樹脂としては、例えば、活性エネルギー線（具体的には、紫外線、電子線など）の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、例えば、加熱により硬化する熱硬化性樹脂などが挙げられ、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられ、より好ましくは、紫外線硬化性樹脂が挙げられる。
【０１７９】
活性エネルギー線硬化性樹脂などの硬化性樹脂は、紫外線吸収樹脂層３で上述したものと同様のものが挙げられる。
【０１８０】
樹脂が硬化性樹脂である場合、キャップ用樹脂組成物は、好ましくは、重合開始剤を含有する。この重合開始剤およびその割合は、紫外線吸収樹脂層３で上述した重合開始剤およびその割合と同様である。
【０１８１】
熱可塑性樹脂としては、好ましくは、粘着剤が挙げられ、より好ましくは、アクリル系粘着剤が挙げられる。
【０１８２】
アクリル系粘着剤は、例えば、 アルキル(メタ)アクリレートを含有するモノマー成分を重合して得られるアクリル系ポリマーを、ポリマー成分として含有する。
【０１８３】
アルキル(メタ)アクリレートは、アルキルアクリレートおよび／またはアルキルメタクリレートであり、具体的には、例えば、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ネオペンチル（メタ）アクリレート、イソペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレートなどの、直鎖状または分岐状の、炭素数４〜１４のアルキル部分を有するアルキル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートは、単独使用または２種以上併用することができる。
【０１８４】
アルキル（メタ）アクリレートとして、好ましくは、炭素数４〜１２のアルキル部分を有するアルキル（メタ）アクリレートが挙げられ、より好ましくは、好ましくは、炭素数６〜１０のアルキル部分を有するアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０１８５】
アルキル（メタ）アクリレートの含有割合は、モノマー成分の総量１００質量部に対して、例えば、９０質量部以上、好ましくは、９５質量部以上であり、また、例えば、９９質量部以下、好ましくは、９８質量部以下である。アルキル（メタ）アクリレートの含有割合を調整することにより、粘着力を調整することができる。
【０１８６】
モノマー成分は、アルキル(メタ)アクリルレートに加えて、官能基含有モノマーを含有することができる。
【０１８７】
官能基含有モノマーしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基含有モノマー、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレートなどのヒドロキシル基含有モノマーなどが挙げられる。官能基含有モノマーは、単独使用または２種以上併用することができる。
【０１８８】
官能基含有モノマーの含有割合は、モノマー成分の総量１００質量部において、例えば、０．１質量部以上、好ましくは、０．５質量部以上であり、また、例えば、１０質量部以下、好ましくは、５質量部以下である。
【０１８９】
アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、例えば、５０，０００以上、好ましくは、１００，０００以上であり、また、例えば、５，０００，０００以下、好ましくは、３，０００，０００以下である。重量平均分子量は、ＧＰＣ（標準ポリスチレン換算）によって算出される。
【０１９０】
アクリル系ポリマーは、例えば、公知のラジカル重合によって重合される。
【０１９１】
ラジカル重合に使用される重合開始剤は、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）二硫酸塩、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）ジヒドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジヒドロクロライド、２，２’−アゾビス（Ｎ，Ｎ’−ジメチレンイソブチルアミジン）、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−カルボキシエチル）−２−メチルプロピオンアミジン］ハイドレートなどのアゾ系開始剤、例えば、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸塩系開始剤、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、過酸化水素などの過酸化物系開始剤、例えば、フェニル置換エタンなどの置換エタン系開始剤、例えば、芳香族カルボニル化合物などのカルボニル系開始剤、例えば、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムとの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムとの組み合わせなどのレドックス系開始剤などが挙げられる。重合開始剤は、単独使用または２種以上併用することができる。
【０１９２】
重合開始剤の含有割合は、モノマー成分１００質量部に対して、例えば、０．０１質量部以上、好ましくは、０．１質量部以上であり、また、例えば、１０質量部以下、好ましくは、５質量部以下である。
【０１９３】
粘着剤は、アクリル系ポリマーなどのポリマー成分以外にも、架橋剤、シランカップリング剤などを含有していてもよい。
【０１９４】
架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、シリコーン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、シラン系架橋剤、アルキルエーテル化メラミン系架橋剤、金属キレート系架橋剤、過酸化物などが挙げられる。好ましくは、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。架橋剤は、単独使用または２種以上併用することができる。
【０１９５】
イソシアネート系架橋剤としては、例えば、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネートなどの芳香族イソシアネート、例えば、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネートなどの脂環族イソシアネート、例えば、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどの脂肪族イソシアネート、例えば、トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート３量体付加物、トリメチロールプロパン／ヘキサメチレンジイソシアネート３量体付加物、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体などのイソシアネート付加物、例えば、ポリエーテルポリイソシアネート、ポリエステルポリイソシアネートなどのポリオール付加物、例えば、イソシアヌレート体、ビューレット体、アロファネート体などが挙げられる。
【０１９６】
架橋剤の含有割合は、ポリマー成分１００質量部に対して、例えば、０．０１質量部以上、好ましくは、０．１質量部以上であり、また、例えば、１０質量部以下、好ましくは、５質量部以下である。
【０１９７】
シランカップリング剤としては、例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどのエポキシ基含有シランカップリング剤、例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシランなどのアミノ基含有シランカップリング剤、例えば、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどの（メタ）アクリル基含有シランカップリング剤、例えば、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどのイソシアネート基含有シランカップリング剤などが挙げられる。
【０１９８】
シランカップリング剤の含有割合は、ポリマー成分１００質量部に対して、例えば、０．０１質量部以上、好ましくは、０．１質量部以上であり、また、例えば、１０質量部以下、好ましくは、５質量部以下である。
【０１９９】
キャップ用樹脂組成物は、上記成分以外に、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤などの公知の添加剤をさらに含有することができる。
【０２００】
キャップ層４は、好ましくは、硬化樹脂層（すなわち、ハードコート層）であり、より好ましくは、紫外線硬化樹脂層である。すなわち、キャップ層４は、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂（より好ましくは、紫外線硬化性樹脂）が完全に硬化した層である。換言すると、キャップ層４は、好ましくは、粘着剤組成物から形成されておらず、粘着性を有しない。これにより、透明導電性フィルム１に耐擦傷性を付与するとともに、紫外線吸収樹脂層３のブリードアウトを確実に抑制することができる。
【０２０１】
また、キャップ層４を構成する樹脂と、紫外線吸収樹脂層３を構成する樹脂とは、好ましくは、共通する。すなわち、キャップ層４および紫外線吸収樹脂層３は、互いに同一の樹脂を含有し、好ましくは、互いに同一の樹脂からなる。これにより、キャップ層４および紫外線吸収樹脂層３との密着性が良好となり、層間剥離を抑制することができる。
【０２０２】
キャップ層４の厚みは、例えば、５０ｎｍ以上、好ましくは、８０ｎｍ以上であり、また、例えば、５μｍ以下、好ましくは、２μｍ以下である。キャップ層４の厚みは、例えば、例えば、透過型電子顕微鏡を用いて、透明導電性フィルム１の断面を観察することにより測定することができる。
【０２０３】
５．透明導電層
透明導電層５は、後工程で所望のパターンに形成して、例えば、タッチパネルのタッチ入力領域における配線・電極パターンを形成するための透明な導電層である。
【０２０４】
透明導電層５は、フィルム形状を有しており、例えば、透明基材２の上面全面に、透明基材２の上面と接触するように、配置されている。より具体的には、透明導電層５は、最外層であり、透明導電性フィルム１の上面を形成する。すなわち、透明導電層５の上面は、露出している。
【０２０５】
透明導電層５の材料としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含む金属酸化物が挙げられる。金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子をドープしていてもよい。
【０２０６】
透明導電層５の材料は、例えば、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）などのインジウム含有酸化物、例えば、アンチモンスズ複合酸化物（ＡＴＯ）などのアンチモン含有酸化物などが挙げられ、好ましくは、インジウム含有酸化物、より好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。
【０２０７】
透明導電層５の材料としてＩＴＯを用いる場合、酸化スズ（ＳｎＯ２）含有量は、酸化スズおよび酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）の合計量に対して、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上であり、また、例えば、１５質量％以下、好ましくは、１３質量％以下である。酸化スズの含有量が上記下限以上であれば、ＩＴＯ層の耐久性をより一層良好にすることができる。酸化スズの含有量が上記上限以下であれば、ＩＴＯ層の結晶転化を容易にし、透明性や比抵抗の安定性を向上させることができる。
【０２０８】
本明細書中における「ＩＴＯ」とは、少なくともインジウム（Ｉｎ）とスズ（Ｓｎ）とを含む複合酸化物であればよく、これら以外の追加成分を含んでもよい。追加成分としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ以外の金属元素が挙げられ、具体的には、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｆｅ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｇａなどが挙げられる。
【０２０９】
透明導電層５は、結晶質および非晶質のいずれであってもよく、また、結晶質および非晶質の混合体であってもよい。透明導電層５は、好ましくは、結晶質からなり、より具体的には、結晶質ＩＴＯ層である。これにより、透明導電層５の透明性を向上させることができ、また、透明導電層５の表面抵抗値をより一層低減させることができる。
【０２１０】
透明導電層５が結晶質であることは、例えば、透明導電層５がＩＴＯ層である場合は、２０℃の塩酸（濃度５質量％）に１５分間浸漬した後、水洗・乾燥し、１５ｍｍ程度の間の端子間抵抗を測定することで判断できる。本明細書においては、塩酸（２０℃、濃度：５質量％）への浸漬・水洗・乾燥後に、１５ｍｍ間の端子間抵抗が１０ｋΩ以下である場合、ＩＴＯ層が結晶質であるものとする。
【０２１１】
透明導電層５（特に、結晶質ＩＴＯ層）の表面抵抗値は、例えば、１００Ω／□未満、好ましくは、８０Ω／□以下であり、また、例えば、１０Ω／□以上である。表面抵抗値は、例えば、ＪＩＳ  Ｋ  ７１９４（１９９４年）に準拠して、４端子法により測定することができる。
【０２１２】
透明導電層５の厚みは、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上であり、また、例えば、５０ｎｍ以下、好ましくは、３０ｎｍ以下である。透明導電層５の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いて、透明導電性フィルム１の断面を観察することにより測定することができる。
【０２１３】
６．透明導電性フィルムの製造方法
透明導電性フィルム１を製造するには、例えば、透明基材２の下面に、紫外線吸収樹脂層３およびキャップ層４を順に設け、続いて、透明基材２の上面に透明導電層５を設ける。具体的には、透明基材２の下面に紫外線吸収樹脂層３を設け、続いて、紫外線吸収樹脂層３の下面にキャップ層４を設け、続いて、透明基材２の上面に透明導電層５を設ける。これらの工程は、好ましくは、ロールトゥロール方式にて実施される。以下、詳述する。
【０２１４】
まず、透明基材２を用意する。
【０２１５】
必要に応じて、透明基材２と紫外線吸収樹脂層３との密着性の観点から、透明基材２の表面に、例えば、スパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を実施することができる。また、溶剤洗浄、超音波洗浄などにより透明基材２を除塵、清浄化することができる。
【０２１６】
次いで、透明基材２の下面に紫外線吸収樹脂層３を設ける。例えば、透明基材２の下面に紫外線吸収樹脂組成物を湿式塗工することにより、透明基材２の下面に紫外線吸収樹脂層３を形成する。
【０２１７】
具体的には、例えば、紫外線吸収樹脂組成物を溶媒で希釈した紫外線吸収樹脂組成物溶液を調製し、続いて、その組成物溶液を透明基材２の下面に塗布し、乾燥する。
【０２１８】
溶媒としては、例えば、有機溶媒、水系溶媒（具体的には、水）などが挙げられ、好ましくは、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール化合物、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン化合物、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル化合物、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル化合物、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族化合物などが挙げられる。溶媒は、単独使用または２種以上併用することができる。
【０２１９】
組成物溶液における固形分濃度は、例えば、１質量％以上、好ましくは、１０質量％以上であり、また、例えば、３０質量％以下、好ましくは、２０質量％以下である。
【０２２０】
塗布方法としては、組成物溶液および透明基材２に応じて適宜選択することができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、インクジェット法などが挙げられる。
【０２２１】
乾燥温度は、例えば、４０℃以上、好ましくは、６０℃以上であり、例えば、２００℃以下、好ましくは、１００℃以下である。
【０２２２】
乾燥時間は、例えば、０．５分以上、好ましくは、１分以上であり、例えば、６０分以下、好ましくは、１０分以下である。
【０２２３】
その後、紫外線吸収樹脂組成物が活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、組成物溶液の乾燥後に、活性エネルギー線を照射することにより、活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させる。
【０２２４】
なお、紫外線吸収樹脂組成物が、熱硬化性樹脂を含有する場合は、この乾燥工程により、溶媒の乾燥とともに、熱硬化性樹脂を熱硬化することができる。
【０２２５】
次いで、紫外線吸収樹脂層３の下面にキャップ層４を設ける。例えば、紫外線吸収樹脂層３の下面にキャップ用樹脂組成物を湿式塗工することにより、紫外線吸収樹脂層３の下面にキャップ層４を形成する。
【０２２６】
具体的には、例えば、必要に応じてキャップ用樹脂組成物を溶媒で希釈したキャップ用樹脂組成物溶液を調製し、続いて、その組成物溶液を紫外線吸収樹脂層３の下面に塗布し、乾燥する。
【０２２７】
キャップ用樹脂組成物の調製、塗布、乾燥などの条件は、紫外線吸収樹脂組成物で例示した調製、塗布、乾燥などの条件と同一のものが挙げられる。
【０２２８】
その後、キャップ用樹脂組成物が活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、組成物溶液の乾燥後に、活性エネルギー線を照射することにより、活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させる。
【０２２９】
また、キャップ用樹脂組成物が、熱硬化性樹脂を含有する場合は、この乾燥工程により、溶媒の乾燥とともに、熱硬化性樹脂を熱硬化することができる。
【０２３０】
次いで、透明基材２の上面に透明導電層５を設ける。例えば、乾式方法により、透明基材２の上面に透明導電層５を形成する。
【０２３１】
乾式方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。この方法により、薄膜であり、かつ、厚みが均一である透明導電層５を形成することができる。
【０２３２】
スパッタリング法を採用する場合、ターゲット材料としては、透明導電層５を構成する上述の金属酸化物などが挙げられ、好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。ＩＴＯの酸化スズ濃度は、ＩＴＯ層の耐久性、結晶化などの観点から、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上であり、また、例えば、１５質量％以下、好ましくは、１３質量％以下である。
【０２３３】
ガスとしては、例えば、Ａｒなどの不活性ガスが挙げられる。また、必要に応じて、酸素ガスなどの反応性ガスを併用することができる。反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの流量比（ｓｃｃｍ）は特に限定しないが、スパッタガスおよび反応性ガスの合計流量比に対して、例えば、０．１流量％以上５流量％以下である。
【０２３４】
スパッタリング時の気圧は、スパッタリングレートの低下抑制、放電安定性などの観点から、例えば、１Ｐａ以下であり、好ましくは、０．１Ｐａ以上０．７Ｐａ以下である。
【０２３５】
電源は、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＭＦ電源およびＲＦ電源のいずれであってもよく、また、これらの組み合わせであってもよい。
【０２３６】
このようにして、図1に示すように、キャップ層４、紫外線吸収樹脂層３、透明基材２、および、透明導電層５を順に備える透明導電性フィルム１が得られる。
【０２３７】
透明導電性フィルム１の全光線透過率（ＪＩＳ  Ｋ  ７３７５−２００８）は、例えば、８０％以上、好ましくは、８５％以上である。
【０２３８】
透明導電性フィルム１の厚みは、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下である。
【０２３９】
なお、必要に応じて、透明導電性フィルム１の透明導電層５に対して、結晶化処理を実施することができる。
【０２４０】
具体的には、透明導電性フィルム１に大気下で加熱処理を実施する。
【０２４１】
加熱処理は、例えば、赤外線ヒーター、オーブンなどを用いて実施することができる。
【０２４２】
加熱温度は、例えば、１００℃以上、好ましくは、１２０℃以上であり、また、例えば、２００℃以下、好ましくは、１６０℃以下である。加熱温度が上記範囲内であれば、透明基材２の熱損傷および透明基材２から発生する不純物を抑制しつつ、結晶転化を確実にすることができる。
【０２４３】
加熱時間は、加熱温度に応じて適宜決定されるが、例えば、１０分以上、好ましくは、３０分以上であり、また、例えば、５時間以下、好ましくは、３時間以下である。
【０２４４】
なお、上記工程において、各層の形成ごとに巻取ロールに巻回してもよい。また、紫外線吸収樹脂層３、キャップ層４、および、透明導電層５の形成まで巻回せずに連続的に実施して、透明導電層５の形成後に巻取ロールに巻回してもよい。
【０２４５】
必要に応じて、結晶化処理の前または後において、公知のエッチング手法を用いて、透明導電層５をストライプ状などの配線パターンや電極パターンにパターニングしてもよい。
【０２４６】
７．用途
透明導電性フィルム１は、例えば、画像表示装置に備えられるタッチパネル用基材に用いられる。タッチパネルの形式としては、例えば、静電容量方式、抵抗膜方式などの各種方式が挙げられ、特に静電容量方式のタッチパネルに好適に用いられる。具体的には、例えば、パターニングした透明導電性フィルム１を保護ガラスなどの保護基材に配置することにより、タッチパネルとして用いる。
【０２４７】
また、透明導電性フィルム１は、例えば、電気泳動方式、ツイストボール方式、サーマル・リライタブル方式、光書き込み液晶方式、高分子分散型液晶方式、ゲスト・ホスト液晶方式、トナー表示方式、クロミズム方式、電界析出方式などのフレキシブル表示素子にも好適に利用できる。
【０２４８】
この透明導電性フィルム１は、樹脂および化合物（１）を含有する紫外線吸収樹脂層３を備える。このため、紫外線吸収性が良好であり、耐光性、耐熱性などの耐久性が良好である。
【０２４９】
また、この透明導電性フィルム１は、紫外線吸収樹脂層３の下面に配置されるキャップ層４を備える。このため、特に高温高湿環境下において、化合物（１）が紫外線吸収樹脂層３の表面（下面）から析出するブリードアウトを抑制することができる。
【０２５０】
したがって、所望の紫外線吸収性を長期間発揮することができる。
【０２５１】
８．変形例
図１に示す実施形態では、透明導電性フィルム１は、キャップ層４と、紫外線吸収樹脂層３と、透明基材２と、透明導電層５とからなるが、例えば、図２に示すように、透明導電性フィルム１は、キャップ層４と、紫外線吸収樹脂層３と、透明基材２と、ハードコート層６と、透明導電層５とからなっていてもよい。すなわち、透明導電性フィルム１は、透明基材２と、透明導電層５との間に配置されるハードコート層６をさらに備えていてもよい。ハードコート層６は、例えば、特開２０１７−２２４１１５号公報、特開２０１８−８５２９７号公報などに記載されている。
【０２５２】
また、例えば、図３に示すようにが、透明導電性フィルム１は、キャップ層４と、紫外線吸収樹脂層３と、透明基材２と、ハードコート層６と、光学調整層７と、透明導電層５とからなっていてもよい。すなわち、透明導電性フィルム１は、透明基材２と、透明導電層５との間に配置される光学調整層７をさらに備えていてもよい。光学調整層７は、例えば、特開２０１７−９１８５８号公報、特開２０１８−８５２９７号公報などに記載されている。
【０２５３】
＜その他の実施形態＞
上記した一実施形態では、積層フィルムとして、透明導電性フィルム１を例示したが、積層フィルムは、透明導電性フィルム１以外のフィルムであってもよい。具体的には、積層フィルムとして、例えば、偏光子用透明保護フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、集光フィルム、輝度向上フィルム、レンチキュラーフィルム、カバーウィンドウフィルム（前面板）、飛散防止フィルム、加飾印刷フィルムなどの光学フィルムが挙げられる。
【０２５４】
このような形態では、紫外線吸収樹脂層３およびキャップ層４を、光学フィルムの厚み方向一方面または他方面に新たに配置される形態であってもよい。または、光学フィルムを構成する層の一つに、樹脂および化合物（１）を含有させて紫外線吸収樹脂層３とし、その紫外線吸収樹脂層３に隣接する層をキャップ層４とすることもできる。
【０２５５】
具体的には、積層フィルムが、透明基材２、偏光子および保護フィルムを順に備える位相差フィルムである場合、積層フィルムは、キャップ層４、紫外線吸収樹脂層３、透明基材２、偏光子および保護層を順に備えてよい。または、偏光子が、樹脂および化合物（１）を含有する紫外線吸収性偏光子（偏光子、かつ、紫外線吸収樹脂層）とし、保護層を、キャップ層をとしてもよい。
【０２５６】
この実施形態においても、上記した一実施形態と同様の作用効果を奏する。
【実施例】
【０２５７】
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値(「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値(「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。
【０２５８】
＜製造例１＞
以下で、得られた化合物の物性を測定する際に使用した機器及び測定条件は次の通りである。
（ＧＣ−ＭＳ）  島津製作所製  ガスクロマトグラフ質量分析計ＧＣＭＳ−ＱＰ２０１０Ｐｌｕｓ（ＥＩ法）
（ＬＣ／ＭＳ）  島津製作所製  高速液体クロマトグラフ質量分析計ＬＣＭＳ−２０１０ＥＶ（ＥＳＩ法）
化合物ＩＭ３、化合物ＩＭ５及び化合物ＩＭ６の合成
化合物ＩＭ３は、以下の方法で合成した。反応式を以下に示す。
【０２５９】
【化１５】
2020066153.tif 000017
【０２６０】
（化合物ＩＭ２の合成）
冷却管及び温度計を付した１Ｌ四つ口フラスコに、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９５４，７６，１８７９に記載の２−ジメチルアミノ−４−ヒドロキシ−６−メチルピリミジンの合成において、Ｎ，Ｎ−ジメチルグアニジン硫酸塩を、ＢＥ６３９３８６に記載の方法と同様にして得た１，１−ジブチルグアニジン塩酸塩に代えた以外は同様にして、化合物ＩＭ１を得た。化合物ＩＭ１を用い、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９５７，４８４５ に記載の方法と同様の手順で、ライマー・チーマン（Ｒｅｉｍｅｒ−Ｔｉｅｍａｎｎ）反応によってホルミル化し、化合物ＩＭ２（１８．４ｇ，収率６９％）を得た。
【０２６１】
ＧＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝２６５（［Ｍ］＋）
（化合物ＩＭ３の合成）
冷却管及び温度計を付した１００ｍＬ四つ口フラスコ中で、化合物ＩＭ２（１５．８ｇ）、ヨウ化エチル（１４ｇ）（東京化成工業株式会社製）、炭酸カリウム（１４ｇ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（６０ｍＬ）の混合液を７０℃で３時間撹拌した後、室温まで放冷させた。反応液を水（３００ｍＬ）に排出し、トルエン（３００ｍＬ）で抽出した。有機層を減圧濃縮することで化合物ＩＭ３（１７．３ｇ，収率９９％）を得た。
ＧＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝２９３（［Ｍ］＋）
化合物ＩＭ５及び化合物ＩＭ６は、以下の方法で合成した。反応式を以下に示す。下記式中のｐが５の化合物が、化合物ＩＭ５であり、ｐが６の化合物が、化合物ＩＭ６である。
【０２６２】
【化１６】
2020066153.tif 000018
【０２６３】
（化合物ＩＭ５の合成）
冷却管及び温度計を付した５０ｍＬ四つ口フラスコ中に、化合物ＩＭ２（２．７ｇ）、１，５−ジブロモペンタン（１．１ｇ）（東京化成工業株式会社製）、炭酸カリウム（１．７ｇ）、ＤＭＦ（２０ｍＬ）を仕込み、８０℃で２．５時間撹拌した。反応液を水に排出し、析出した結晶を濾過して取り出した。この結晶をメタノールで洗浄し、化合物ＩＭ５を２．１ｇ得た（収率７１％）。
【０２６４】
（化合物ＩＭ６の合成）
化合物ＩＭ５の合成における１，５−ジブロモペンタンを１，６−ジブロモヘキサン（東京化成工業株式会社製）に代えた以外は同様の手順で、化合物ＩＭ６を得た（収率８２％）。
【０２６５】
＜製造例２＞
化合物Ｃ１〜Ｃ５を合成した。化合物Ｃ１は、下記式で表される化合物である。
【０２６６】
【化１７】
2020066153.tif 000019
【０２６７】
化合物Ｃ２〜Ｃ４は、下記式で表される化合物である。化合物Ｃ２は、下記式中のＲが２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシル基である。化合物Ｃ３は、下記式中のＲが４−ｔ−ブチルシクロヘキシル基である。化合物Ｃ４は、下記式中のＲがｔ−ブチル基である。
【０２６８】
【化１８】
2020066153.tif 000020
【０２６９】
化合物Ｃ５は、下記式で表される化合物である。
【０２７０】
【化１９】
2020066153.tif 000021
【０２７１】
化合物Ｃ１〜Ｃ４を得た反応式を以下に示す。式中のｐ及び対応する化合物を、表１に示す。合成に使用した化合物ＩＭ１２、化合物ＩＭ１３及び化合物ＩＭ１４の構造を以下に示す。
【０２７２】
【化２０】
2020066153.tif 000022
【０２７３】
【表１】
2020066153.tif 000023
【０２７４】
【化２１】
2020066153.tif 000024
【０２７５】
（化合物Ｃ１の合成）
冷却管及び温度計を付した５０ｍＬ四つ口フラスコ中に、化合物ＩＭ６（２．０ｇ）、特開２０００−３１０８４１号公報に記載の方法と同様にして合成した化合物ＩＭ１２（２．０ｇ）、ピペリジン（０．０６ｇ）、エタノール（１３ｍＬ）を混合し、７５℃で１８時間撹拌した。室温まで放冷し、析出した結晶を濾過して取り出し、エタノールで洗浄して、化合物Ｃ１（３．５ｇ，収率９３％）を得た。
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝１１６４（［Ｍ＋Ｈ］＋）
（化合物Ｃ２の合成）
化合物Ｃ１の合成における化合物ＩＭ６を化合物ＩＭ５に代えた以外は同様の手順で、化合物Ｃ２を得た（収率８１％）。
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ１１５０（［Ｍ＋Ｈ］＋）
（化合物Ｃ３の合成）
化合物Ｃ１の合成における化合物ＩＭ６を化合物ＩＭ５に代え、化合物ＩＭ１２を、化合物ＩＭ１２の合成と同様にして得た化合物ＩＭ１３に代えた以外は同様の手順で、化合物Ｃ３を得た（収率６１％）。
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝１０１０（［Ｍ＋Ｈ］＋）
（化合物Ｃ４の合成）
化合物Ｃ１の合成における化合物ＩＭ６を化合物ＩＭ５に代え、化合物ＩＭ１２を化合物ＩＭ１４（東京化成工業株式会社製）に代えた以外は同様の手順で、化合物Ｃ４を得た（収率８０％）。
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝８４６（［Ｍ＋Ｈ］＋）
（化合物Ｃ５の合成）
冷却管及び温度計を付した２５ｍＬ四つ口フラスコ中で、化合物ＩＭ３（１．２ｇ）、ＩＭ１２（１．５ｇ）、ピペリジン（０．０２ｇ）、エタノール（４ｍＬ）の混合液を７５℃で１時間撹拌した。室温まで放冷し、析出している結晶を濾過して取り出した。得られた結晶をエタノールで洗浄し、化合物Ｃ５を１．９ｇ得た（収率８０％）。以下に反応
式を示す。
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝５６９（［Ｍ＋Ｈ］＋）
【０２７６】
【化２２】
2020066153.tif 000025
【０２７７】
＜比較製造例（比較例化合物）＞
【０２７８】
【化２３】
2020066153.tif 000026
【０２７９】
（比較例化合物Ｚ１の合成）
特開２０１１−１８４４１４号公報に記載の方法と同様にして、比較例化合物Ｚ１を得
た。
【０２８０】
（比較例化合物Ｚ２の合成）
特開２０１４−１９４５０８号公報に記載の方法と同様にして、比較例化合物Ｚ２を得
た。
【０２８１】
（比較例化合物Ｚ３の合成）
特開２００９−０６７９７３号公報に記載の方法と同様にして、比較例化合物Ｚ３を得
た。
【０２８２】
（比較例化合物Ｚ４の合成）
ＵＳ２９８６５２８号公報に記載の方法と同様にして、比較例化合物Ｚ４を得た。
【０２８３】
各製造例で得られた化合物について、以下の評価を行った。結果を表２に示す。
【０２８４】
＜分光特性試験＞
各化合物のクロロホルム中での吸収スペクトルを測定し、吸収極大波長（λｍａｘ）及
び４００ｎｍにおけるグラム吸光係数を測定し下記基準により評価した。
測定機器：日本分光社製紫外可視分光光度計Ｖ−５６０
Ａ：グラム吸光係数が３０以上
Ｂ：グラム吸光係数が２０以上、３０未満
Ｃ：グラム吸光係数が１０以上、２０未満
Ｄ：グラム吸光係数が１０未満
＜耐光性試験＞
製造例及び比較製造例で得た一部の化合物について、耐光性試験を行った。各化合物１０ｍｇを、ポリメタクリレート８重量％トルエン溶液５ｍＬに溶融し、ガラス基板上にスピンコート法により塗布し、乾燥させることで膜厚１．５μｍの薄膜を作製した。作製した薄膜にキセノンランプ（１４２ｋｌｕｘ）の光を連続的に９６時間照射し、照射前（０時間）、照射後の薄膜の透過率を分光光度計で測定し、下記式（１）に従って色素残存率を測定した。
【０２８５】
色素残存率（％）＝{（１−Ｔ１）／（１−Ｔ０）}×１００      （１）
［ただし、Ｔ０はキセノンランプ照射前の透過率、Ｔ１はキセノンランプ照射後の透過率であり、Ｔ０及びＴ１は０〜１である。］
なお、「透過率」とは、各化合物の吸収極大波長における透過率を表しており、色素残存率が高い程、化合物が光によって分解されにくく、耐光性が高いことを示す。
耐光性は、下記基準により評価した。
Ａ：色素残存率が６５％以上
Ｂ：色素残存率が４０％以上、６５％未満
Ｃ：色素残存率が１０％以上、４０％未満
Ｄ：色素残存率が１０％未満
＜耐熱性＞
製造例及び比較製造例で得た一部の化合物について、島津製作所社製の熱重量測定装置「ＴＧＡ−５０」を使用して下記の測定条件で熱分解による重量減少を測定し、初期重量から１％減量した温度を分解開始温度として測定した。
【０２８６】
（測定条件）
試料量５ｍｇ、昇温速度１０℃／分（最高到達温度４００℃）、窒素雰囲気中、流量１０ｍＬ／分の条件で測定した。耐熱性は、分解開始温度から下記基準により評価した。
Ａ：２５０℃以上
Ｂ：２１０℃以上２５０℃未満
Ｃ：２１０℃未満
【０２８７】
【表２】
2020066153.tif 000027
【０２８８】
＜実施例１＞
透明基材として、ノルボルネン系樹脂フィルム（ＣＯＰフィルム、厚み４０μｍ、日本ゼオン社製、「ゼオノアフィルム」）を用意した。
【０２８９】
化合物Ｃ２；３．３質量部、紫外線硬化性を有する樹脂組成物溶液（ウレタンアクリレート系樹脂組成物溶液；ＤＩＣ社製「ユニディックＥＬＳ−８８８（固形分５０質量％）」８０質量％および「ユニディックＲＳ−６０５（固形分６０質量％）」２０質量％の混合）２４質量部、ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン（光重合開始剤、チバガイギー社製  商品名「イルガキュア１８４」）０．４９質量部、単分散アクリル粒子（平均粒子径１．８μｍ、綜研化学社製、「ＭＸ−１８０ＴＡＮ」）０．０４９質量部、および、酢酸エチル（溶媒）７５質量部を混合して、紫外線吸収樹脂組成物溶液を調製した。紫外線吸収樹脂組成物溶液を、透明基材の厚み方向一方面（下面）に塗布し、８０℃で、１分間乾燥し、オゾンタイプ高圧水銀灯で紫外線を照射した。これにより、厚み１．２μｍの紫外線吸収樹脂層（紫外線硬化樹脂層）を形成した。
【０２９０】
次いで、紫外線硬化性を有する樹脂組成物溶液（ウレタンアクリレート系樹脂組成物溶液；ＤＩＣ社製「ユニディックＥＬＳ−８８８（固形分５０質量％）」８０質量％および「ユニディックＲＳ−６０５（固形分６０質量％）」２０質量％の混合）２４質量部、ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン（光重合開始剤、チバガイギー社製  商品名「イルガキュア１８４」）０．４９質量部、および、酢酸エチル（溶媒）７５質量部を混合して、キャップ用脂組成物溶液を調製した。キャップ用脂組成物溶液を、紫外線吸収樹脂層の厚み方向一方面（下面）に塗布し、８０℃で、１分間乾燥し、オゾンタイプ高圧水銀灯で紫外線を照射した。これにより、厚み０．１μｍのキャップ層（紫外線硬化樹脂層）を形成した。
【０２９１】
これにより、キャップ層、紫外線吸収樹脂層および透明基材を順に備える積層フィルムを得た。
【０２９２】
＜実施例２＞
ブチルアクリレート９９質量部、４−ヒドロキシブチルアクリレート１質量部、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．１重量部、および、酢酸エチル（溶媒）１００質量部を混合し、続いて、攪拌しながら窒素置換した。その後、液温を約５５℃に保って８時間重合反応を実施した。これにより、重量平均分子量１５６万のアクリル系ポリマー溶液を調製した。
【０２９３】
アクリル系ポリマー溶液に、その固形分１００重量部に対して、イソシアネート架橋剤（商品名「タケネートＤ１６０Ｎ」、トリメチロールプロパンヘキサメチレンジイソシアネート、三井化学社製）０．１部、ベンゾイルパーオキサイド（重合開始剤、「ナイパーＢＭＴ  ４０ＳＶ」、日本油脂社製）０．３質量部、および、エポキシ基含有シランカップリン含有割合グ剤（商品名「Ｘ−４１−１０５９Ａ」、信越化学工業社製）０．３質量部を混合して、アクリル系粘着剤溶液を調製した。
【０２９４】
アクリル系粘着剤溶液をキャップ用脂組成物溶液として用いた以外は、実施例１と同様にして、積層フィルムを製造した。
【０２９５】
＜比較例１＞
キャップ層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして、積層フィルムを製造した。すなわち、紫外線吸収樹脂層および透明基材のみを備える積層フィルムを得た。
【０２９６】
＜ブリードアウトの評価＞
各実施例および比較例の積層フィルムを、８５℃８５ＲＨ％の条件で３６０時間放置した後、断面図を顕微鏡で観察した。
【０２９７】
実施例１では、紫外線吸収樹脂層とキャップ層との界面に、化合物Ｃ２の析出が観察されず、ブリードアウトが全く発生していなかった。
【０２９８】
実施例２では、紫外線吸収樹脂層とキャップ層との界面に、化合物Ｃ２の析出が少々観察されており、ブリードアウトが僅かに発生していた。
【０２９９】
比較例１では、紫外線吸収樹脂層の厚み方向一方面に、化合物Ｃ２が析出し、大きな塊となっていたことが観察された。すなわち、ブリードアウトが大きく発生していた。
【符号の説明】
【０３００】
１  透明導電性フィルム
２  透明基材
３  紫外線吸収樹脂層
４  キャップ層
５  透明導電層
【図１】
2020066153.tif 000030
【図２】
2020066153.tif 000031
【図３】
2020066153.tif 000032