(57)【要約】【課題】良好な摩擦耐久性を有する硬化層の形成に適した、フルオロアルキル基含有化合物の提供。【解決手段】下記式（１）または（２）で表される、フルオロポリエーテル基含有化合物［式中、ＲＳｉは式（Ｓ１）で表され、各記号は明細書の記載の通りである］。2020164850.tif 0000342020164850.tif 000035【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）または（２）：
【化１】
2020164850.tif 000032
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表される基であり；
ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上であり、添字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり、ｆに対するｅの比が、０．９未満であり；
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、独立して０または１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
【化２】
2020164850.tif 000033
で表され；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１’−ＳｉＲａ１’ｐ１’Ｒｂ１’ｑ１’Ｒｃ１’ｒ１’であり； 
Ｚ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒａ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１”−ＳｉＲａ１”ｐ１”Ｒｂ１”ｑ１”Ｒｃ１”ｒ１”であり； 
Ｚ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒａ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１”’−ＳｉＲｂ１”’ｑ１”’Ｒｃ１”’ｒ１”’であり； 
Ｚ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｑ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、ＲＳｉで表される基毎に、少なくとも１つのＲｂ１、Ｒｂ１’、Ｒｂ１”またはＲｂ１”’が存在する。］
で表される、フルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項２】
ＲＦが、
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
［式中：
ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である］
で表される、請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項３】
ｆに対するｅの比が、０．４以上０．９未満の範囲にある、請求項１または２に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項４】
Ｘ１が、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項５】
Ｘ１が、各出現においてそれぞれ独立して、
−（Ｚ２１）ｚ１１−（Ｘ２）ｚ１２−（Ｚ２２）ｚ１３−
（式中、Ｚ２１、およびＺ２２は、２価の有機基であり；
Ｘ２は、酸素原子であり；
ｚ１１は０または１であり；
ｚ１２は０または１であり；
ｚ１３は０または１であり；
ただし、ｚ１１およびｚ１３の少なくとも一方は１である）
である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項６】
ＲＦａが、フッ素原子である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項７】
ｐ１が０、ｑ１が２または３である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤。
【請求項９】
フルオロポリエーテル基含有化合物が、式（１）および（２）で表される化合物である、請求項８に記載の表面処理剤。
【請求項１０】
式（１）および（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対して、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物が、モル比で、０．００１〜０．７０含まれる、請求項８または９に記載の表面処理剤。
【請求項１１】
含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１２】
含フッ素オイルをさらに含有する、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１３】
式（１）および（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物、ならびに含フッ素オイルの合計に対して、式（２）で表される化合物が、０．００１〜７０モル％、および、含フッ素オイルが、０．００１〜５０モル％含まれる、請求項１２に記載の表面処理剤。
【請求項１４】
さらに溶媒を含む、請求項８〜１３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１５】
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項８〜１４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１６】
真空蒸着用である、請求項８〜１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１７】
請求項８〜１６のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
【請求項１８】
基材と、該基材の表面に、請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物または請求項８〜１６のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
【請求項１９】
光学部材である、請求項１８に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、フルオロポリエーテル基含有化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。
【０００３】
そのような含フッ素化合物として、フルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−３２７７７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１の実施例では、（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）で表される繰り返し単位を有するフルオロエーテル基を含む化合物が用いられている。しかしながら、このような化合物を用いて得られた硬化層では、良好な摩擦耐久性が得られないことがあることが分かった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示は、以下の［１］〜［１９］を提供するものである。
［１］  下記式（１）または（２）：
【化１】
2020164850.tif 000002
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表される基であり；
ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上であり、添字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり、ｆに対するｅの比が、０．９未満であり；
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、独立して０または１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
【化２】
2020164850.tif 000003
で表され；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１’−ＳｉＲａ１’ｐ１’Ｒｂ１’ｑ１’Ｒｃ１’ｒ１’であり； 
Ｚ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒａ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１”−ＳｉＲａ１”ｐ１”Ｒｂ１”ｑ１”Ｒｃ１”ｒ１”であり； 
Ｚ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒａ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１”’−ＳｉＲｂ１”’ｑ１”’Ｒｃ１”’ｒ１”’であり； 
Ｚ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｑ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、ＲＳｉで表される基毎に、少なくとも１つのＲｂ１、Ｒｂ１’、Ｒｂ１”またはＲｂ１”’が存在する。］
で表される、フルオロポリエーテル基含有化合物。
［２］  ＲＦが、
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
［式中：
ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である］
で表される、［１］に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［３］  ｆに対するｅの比が、０．４以上０．９未満の範囲にある、［１］または［２］に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［４］  Ｘ１が、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基である、［１］〜［３］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［５］  Ｘ１が、各出現においてそれぞれ独立して、
−（Ｚ２１）ｚ１１−（Ｘ２）ｚ１２−（Ｚ２２）ｚ１３−
（式中、Ｚ２１、およびＺ２２は、２価の有機基であり；
Ｘ２は、酸素原子であり；
ｚ１１は０または１であり；
ｚ１２は０または１であり；
ｚ１３は０または１であり；
ただし、ｚ１１およびｚ１３の少なくとも一方は１である）
である、［１］〜［４］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［６］  ＲＦａが、フッ素原子である、［１］〜［５］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［７］  ｐ１が０、ｑ１が２または３である、［１］〜［６］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［８］  ［１］〜［７］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤。
［９］  フルオロポリエーテル基含有化合物が、式（１）および（２）で表される化合物である、［８］に記載の表面処理剤。
［１０］  式（１）および（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対して、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物が、モル比で、０．００１〜０．７０含まれる、［８］または［９］に記載の表面処理剤。
［１１］  含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、［８］〜［１０］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１２］  含フッ素オイルをさらに含有する、［８］〜［１０］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１３］  式（１）および（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物、ならびに含フッ素オイルの合計に対して、式（２）で表される化合物が、０．００１〜７０モル％、および、含フッ素オイルが、０．００１〜５０モル％含まれる、［１２］に記載の表面処理剤。
［１４］  さらに溶媒を含む、［８］〜［１３］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１５］  防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、［８］〜［１４］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１６］  真空蒸着用である、［８］〜［１５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１７］  ［８］〜［１６］のいずれか１つに記載の表面処理剤を含有するペレット。
［１８］  基材と、該基材の表面に、［１］〜［７］のいずれか１つに記載の化合物または［８］〜［１６］のいずれか１つに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［１９］  光学部材である、［１８］に記載の物品。
【発明の効果】
【０００７】
本開示によれば、良好な摩擦耐久性を有する硬化層の形成に適した、フルオロアルキル基含有化合物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。
本明細書において用いられる場合、「２価の有機基」としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【０００９】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、分子から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
【００１０】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−１０シクロアルキル基、Ｃ３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【００１１】
本明細書において、アルキル基およびフェニル基は、特記しない限り、非置換であっても、置換されていてもよい。かかる基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【００１２】
本明細書において、「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲｈ、−ＯＣＯＲｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲｈ２、−ＮＲｈ２、−ＮＨＲｈ、ハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１−４アルキル基を示す）などが挙げられる。
【００１３】
本開示のフルオロポリエーテル基含有化合物は、下記式（１）または（２）で表される化合物である。
【００１４】
【化３】
2020164850.tif 000004
【００１５】
式（１）において、ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−である。
【００１６】
上記式（２）において、ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−である。
【００１７】
上記式において、Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基である。
【００１８】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基における「Ｃ１−１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−６アルキル基、特にＣ１−３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−６アルキル基、特にＣ１−３アルキル基である。
【００１９】
上記Ｒｆ１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１−１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ−Ｃ１−１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１−１６パーフルオロアルキル基である。
【００２０】
上記Ｃ１−１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−６パーフルオロアルキル基、特にＣ１−３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−６パーフルオロアルキル基、特にＣ１−３パーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【００２１】
上記式において、Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基である。
【００２２】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基における「Ｃ１−６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−３アルキレン基である。
【００２３】
上記Ｒｆ２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１−６アルキレン基であり、より好ましくはＣ１−６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１−３パーフルオロアルキレン基である。
【００２４】
上記Ｃ１−６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１−３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１−３パーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−である。
【００２５】
上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。
【００２６】
上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。
【００２７】
上記式（１）および（２）において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式で表されるフルオロポリエーテル基である。なお、ＲＦとして記載される構造は、式（１）においては左側がＲｆ１で表される構造に結合し、式（２）においては左側がＲｆ２ｐで表される構造に結合する。
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
［式中：
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、
ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上であり、
添字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり、
ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」と称することがある）が、０．９未満である。
【００２８】
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
【００２９】
これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ６Ｆ１２）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ５Ｆ１０）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−（即ち、上記式中、ＲＦａはフッ素原子である）は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。また、−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【００３０】
上記ａおよびｂは、０であってもよい。
【００３１】
一の態様において、上記ａ、ｂ、ｃ、およびｄは、それぞれ独立して、好ましくは２０以下の整数であり、より好ましくは１０以下の整数であり、特に好ましくは５以下の整数であり、０であってもよい。
【００３２】
一の態様において、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、好ましくは３０以下、より好ましくは２０以下、さらに好ましくは１０以下、特に好ましくは５以下である。
【００３３】
一の態様において、ＲＦにおける、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和に対する、ｅおよびｆの和の比は、０．８０以上であることが好ましく、０．９０以上であることがより好ましく、０．９８以上であることがさらに好ましく、０．９９以上であることが特に好ましい。
【００３４】
好ましい態様において、ＲＦは、−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、ＲＦは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−である。一の態様において、ＲＦは、−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。
【００３５】
より好ましくは、ＲＦは、−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。
【００３６】
一の態様において、ｅは、１０以上１００以下の整数、かつ、ｆは、１１以上１００以下の整数であってもよく、ｅは、１５以上７０以下の整数、かつ、ｆは、２１以上９５以下の整数であってもよい。
【００３７】
一の態様において、ｅおよびｆの和は、好ましくは２０以上、より好ましくは３０以上、特に好ましくは４０以上である。
【００３８】
別の態様において、ｅおよびｆの和は、好ましくは１００以上、より好ましくは１２０以上、さらに好ましくは１３０以上、特に好ましくは１４０以上である。
【００３９】
一の態様において、ｅおよびｆの和は、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１８０以下、さらに好ましくは１６０以下、特に好ましくは１５０以下である。
【００４０】
上記ＲＦにおいて、ｅ／ｆ比は、０．９未満、例えば０．８以下、０．７以下であってもよい。ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２以上、より好ましくは０．３以上、さらに好ましくは０．４以上、特に好ましくは０．５以上である。ｅ／ｆ比は、例えば、０．２以上０．９未満、具体的には０．４以上０．８以下、より具体的には０．５以上０．７以下を挙げることができる。
ｅ／ｆ比が低くなり過ぎると、本開示の化合物を用いて形成される硬化層（例えば表面処理層）の加水分解性が高くなり、該硬化層の耐久性が低くなることがある。ｅ／ｆ比が高くなりすぎると、本開示の化合物を用いて形成される硬化層の動摩擦係数が高くなり、十分な摩擦耐久性を有する硬化層が得られないことがある。さらに、上記のようなｅ／ｆ比を有することにより、本開示の化合物を用いて形成される硬化層の摩擦耐久性が良好になり、硬化層の表面における滑り性が良好になる。また、ｅ／ｆ比が上記の範囲にあることにより、ＲＦ部分の二次構造がらせん構造をとりやすくなると考えられる。その結果、単位面積当たりのポリマー密度やシランカップリング剤の架橋密度が大きくなり（ｅ／ｆ比が大きな場合よりも、高くなる）、硬化層の強度が高くなると考えられる。
【００４１】
本開示においては、上記のようなＲＦを有する化合物を用いることにより、該化合物を用いて形成される硬化層（あるいは、硬化膜）の化学的な耐久性（耐ケミカル性）、摩擦耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、または表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）等が良好になる。これは、上記のようなＲＦを有する化合物を用いることによって、該化合物から形成される硬化層の表面の動摩擦係数が小さくなるためと考えられる。
【００４２】
ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。本明細書において、ＲＦ１およびＲＦ２の数平均分子量は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
【００４３】
別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜８，０００であり得る。別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、２，０００〜８，０００であってもよい。
【００４４】
別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、３，０００〜３０，０００、好ましくは３，０００〜１５，０００、より好ましくは３，５００〜１５，０００であり得る。
【００４５】
別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、５，０００〜３０，０００、好ましくは８，０００〜１５，０００、より好ましくは１０，０００〜１５，０００であり得る。
【００４６】
一の態様において、本開示のフルオロポリエーテル基含有化合物は、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量が２，０００〜１５，０００の範囲にあり、かつ、ｅ／ｆ比が０．４以上０．９未満の範囲にあり、別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量が３，５００〜１５，０００の範囲にあり、かつ、ｅ／ｆ比が０．４以上０．９未満の範囲にあり、さらに別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量が３，５００〜１５，０００の範囲にあり、かつ、ｅ／ｆ比が０．５以上０．７以下の範囲にある。このようなフルオロポリエーテル基含有化合物は、極めて低い動摩擦係数を有し、良好な潤滑特性を示す硬化層の形成に寄与し得る。
【００４７】
別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、５，０００〜３０，０００、かつ、ｅ／ｆ比が０．５以上０．７以下、好ましくは８，０００〜１５，０００、かつ、ｅ／ｆ比が０．５以上０．７以下、より好ましくは１０，０００〜１５，０００、かつ、ｅ／ｆ比が０．５以上０．７以下の範囲であり得る。
【００４８】
本開示において、式（１）および（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物は、ＲＦ１またはＲＦ２で表される基と、ＲＳｉで表される基とが、Ｃ（＝Ｏ）−Ｎで結合される。ここで、式（１）および（２）で表される化合物において、ＲＦ１またはＲＦ２で表される基は、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル基を含有する基であり、ＲＳｉで表される基は、基材との結合能を提供するシラン部である。上記のように、Ｃ（＝Ｏ）−Ｎで表される構造を含むことにより、式（１）および（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を用いて形成される硬化層の耐ケミカル性（例えば、強アルカリ水溶液や強酸水溶液に対する耐性、活性酸素種による酸化に対する耐性）が良好になり得る。
さらに、本開示の式（１）および（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物は、ＲＦ１またはＲＦ２に含まれるＲＦで表される基において、ｅ／ｆ比が特定の範囲にある。このような構造を有することにより、式（１）および／または（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を用いて形成される硬化層は、極めて高い耐ケミカル性、摩擦耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）を示し得る。
【００４９】
上記式（１）および（２）において、ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解可能な基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。
【００５０】
式（１）および（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物は、Ｃ（＝Ｏ）−ＮのＮ原子に、ＲＳｉで表される基が２つ結合する。このような構造を有することにより、本開示の化合物を用いて形成される硬化層の基材への結合力が良好になり得、その結果、耐ケミカル性（例えば、溶剤に対する耐久性、人工汗に対する耐久性、強アルカリ水溶液や強酸水溶液に対する耐性、活性酸素種による酸化に対する耐性）、摩擦耐久性、耐候性、紫外線暴露下での耐久性等が良好になり得る。
【００５１】
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）で表される。
【化４】
2020164850.tif 000005
【００５２】
式（Ｓ１）において、Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基である。
【００５３】
一の態様において、Ｘ１は単結合である。
【００５４】
一の態様において、Ｘ１は酸素原子である。
【００５５】
Ｘ１は、好ましくは２価の有機基である。
【００５６】
２価の有機基であるＸ１の例としては、特に限定するものではないが、例えば、
−（Ｚ２１）ｚ１１−（Ｘ２）ｚ１２−（Ｚ２２）ｚ１３−
で表される基を挙げることができる。
式中、Ｚ２１、およびＺ２２は、２価の有機基である。
Ｘ２は、酸素原子である。
ｚ１１は０または１であり；ｚ１２は０または１であり；ｚ１３は０または１である。ただし、ｚ１１およびｚ１３の少なくとも一方は１である。
【００５７】
Ｘ１は、好ましくはＣ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｚ５−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ６−（式中、ｚ５は、０〜６の整数であり、例えば、１〜６の整数であり、ｚ６は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ５とｚ６との合計は１以上である。）または、−（ＣＨ２）ｚ７−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８−（式中、ｚ７は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、好ましくは、ｚ７とｚ８との合計が１以上である。）である。かかるＣ１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【００５８】
好ましい態様において、Ｘ１は、Ｃ１−６アルキレン基または−（ＣＨ２）ｚ７−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８−である。Ｘ１がかかる基である場合、形成される硬化層の光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。好ましくは、ｚ７は、０〜６の整数であり、ｚ８は１〜６の整数である。
【００５９】
別の好ましい態様において、上記Ｘ１は、Ｃ１−６アルキレン基であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。このような構造を有することにより、形成される硬化層の光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【００６０】
一の態様において、Ｘ１は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。
【００６１】
Ｒａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１’−ＳｉＲａ１’ｐ１’Ｒｂ１’ｑ１’Ｒｃ１’ｒ１’である。
【００６２】
上記Ｚ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基である。
【００６３】
一の態様において、Ｚ１’は単結合である。
【００６４】
一の態様において、Ｚ１’は酸素原子である。
【００６５】
Ｚ１’は、好ましくは２価の有機基である。
【００６６】
好ましい態様において、Ｚ１’は、Ｚ１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ１）において、（Ｓｉ−Ｚ１’−Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。
【００６７】
２価の有機基であるＺ１’の例としては、特に限定するものではないが、例えば、
−（Ｚ２１’）ｚ１１’−（Ｘ２’）ｚ１２’−（Ｚ２２’）ｚ１３’−
で表される基を挙げることができる。
式中、Ｚ２１’、およびＺ２２’は、２価の有機基である。
Ｘ２’は、酸素原子である。
ｚ１１’は０または１であり；ｚ１２’は０または１であり；ｚ１３’は０または１である。ただし、ｚ１１’およびｚ１３’の少なくとも一方は１である。
【００６８】
Ｚ１’は、好ましくはＣ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｚ５’−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ６’−（式中、ｚ５’は、０〜６の整数であり、例えば、１〜６の整数であり、ｚ６’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ５’とｚ６’との合計は１以上である。）または、−（ＣＨ２）ｚ７’−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８’−（式中、ｚ７’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、好ましくは、ｚ７’とｚ８’との合計が１以上である。）である。かかるＣ１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【００６９】
好ましい態様において、Ｚ１’は、Ｃ１−６アルキレン基または−（ＣＨ２）ｚ７’−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８’−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８’−である。Ｚ１’がかかる基である場合、形成される硬化層の光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。好ましくは、ｚ７’は、０〜６の整数であり、ｚ８’は１〜６の整数である。
【００７０】
別の好ましい態様において、上記Ｚ１’は、Ｃ１−６アルキレン基であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。このような構造を有することにより、形成される硬化層の光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【００７１】
一の態様において、Ｚ１’は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。別の態様において、Ｚ１’は、−ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。
【００７２】
Ｒａ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１”−ＳｉＲａ１”ｐ１”Ｒｂ１”ｑ１”Ｒｃ１”ｒ１”である。
【００７３】
上記Ｚ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基である。
【００７４】
一の態様において、Ｚ１”は単結合である。
【００７５】
一の態様において、Ｚ１”は酸素原子である。
【００７６】
Ｚ１”は、好ましくは２価の有機基である。
【００７７】
好ましい態様において、Ｚ１”は、Ｚ１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ１）において、（Ｓｉ−Ｚ１”−Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。
【００７８】
２価の有機基であるＺ１”の例としては、特に限定するものではないが、例えば、
−（Ｚ２１”）ｚ１１”−（Ｘ２”）ｚ１２”−（Ｚ２２”）ｚ１３”−
で表される基を挙げることができる。
式中、Ｚ２１”、およびＺ２２”は、２価の有機基である。
Ｘ２”は、酸素原子である。
ｚ１１”は０または１であり；ｚ１２”は０または１であり；ｚ１３”は０または１である。ただし、ｚ１１”およびｚ１３”の少なくとも一方は１である。
【００７９】
Ｚ１”は、好ましくはＣ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｚ５”−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ６”−（式中、ｚ５”は、０〜６の整数であり、例えば、１〜６の整数であり、ｚ６”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ５”とｚ６”との合計は１以上である。）または、−（ＣＨ２）ｚ７”−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８”−（式中、ｚ７”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、好ましくは、ｚ７”とｚ８”との合計が１以上である。）である。かかるＣ１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【００８０】
好ましい態様において、Ｚ１”は、Ｃ１−６アルキレン基または−（ＣＨ２）ｚ７”−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８”−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８”−である。Ｚ１”がかかる基である場合、形成される硬化層の光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。好ましくは、ｚ７”は、０〜６の整数であり、ｚ８”は１〜６の整数である。
【００８１】
別の好ましい態様において、上記Ｚ１”は、Ｃ１−６アルキレン基であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。このような構造を有することにより、形成される硬化層の光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【００８２】
一の態様において、Ｚ１”は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。別の態様において、Ｚ１”は、−ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。
【００８３】
上記Ｒａ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１”’−ＳｉＲｂ１”’ｑ１”’Ｒｃ１”’ｒ１”’である。
【００８４】
上記Ｚ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基である。
【００８５】
一の態様において、Ｚ１”’は単結合である。
【００８６】
一の態様において、Ｚ１”’は酸素原子である。
【００８７】
Ｚ１”’は、好ましくは２価の有機基である。
【００８８】
好ましい態様において、Ｚ１”’は、Ｚ１”’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ１）において、（Ｓｉ−Ｚ１”’−Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。
【００８９】
２価の有機基であるＺ１”’の例としては、特に限定するものではないが、例えば、
−（Ｚ２１”’）ｚ１１”’−（Ｘ２”’）ｚ１２”’−（Ｚ２２”’）ｚ１３”’−
で表される基を挙げることができる。
式中、Ｚ２１”’、およびＺ２２”’は、２価の有機基である。
Ｘ２”’は、酸素原子である。
ｚ１１”’は０または１であり；ｚ１２”’は０または１であり；ｚ１３”’は０または１である。ただし、ｚ１１”’およびｚ１３”’の少なくとも一方は１である。
【００９０】
Ｚ１”’は、好ましくはＣ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｚ５”’−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ６”’−（式中、ｚ５”’は、０〜６の整数であり、例えば、１〜６の整数であり、ｚ６”’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ５”’とｚ６”’との合計は１以上である。）または、−（ＣＨ２）ｚ７”’−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８”’−（式中、ｚ７”’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８”’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、好ましくは、ｚ７”’とｚ８”’との合計が１以上である。）である。かかるＣ１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【００９１】
好ましい態様において、Ｚ１”’は、Ｃ１−６アルキレン基または−（ＣＨ２）ｚ７”’−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８”’−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８”’−である。Ｚ１”がかかる基である場合、形成される硬化層の光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。好ましくは、ｚ７”’は、０〜６の整数であり、ｚ８”’は１〜６の整数である。
【００９２】
別の好ましい態様において、上記Ｚ１”’は、Ｃ１−６アルキレン基であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。このような構造を有することにより、形成される硬化層の光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【００９３】
一の態様において、Ｚ１”’は、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。別の態様において、Ｚ１”’は、−ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。
【００９４】
上記Ｒｂ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。Ｒｂ１”’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基である。
【００９５】
Ｒｂ１”’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲｈ、−ＯＣＯＲｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲｈ２、−ＮＲｈ２、−ＮＨＲｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
【００９６】
上記Ｒｃ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。
【００９７】
Ｒｃ１”’において、１価の有機基は、好ましくはＣ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【００９８】
上記ｑ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｒ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｑ１”’とｒ１”’の合計は、（ＳｉＲｂ１”’ｑ１”’Ｒｃ１”’ｒ１”’）単位において、３である。
【００９９】
好ましくはｑ１”’は１〜３の整数、かつ、ｒ１”’は０〜２の整数、より好ましくは、ｑ１”’は２または３、かつ、ｒ１”’は０または１、特に好ましくはｑ１”’は３である。
【０１００】
上記Ｒｂ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。Ｒｂ１”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基である。
【０１０１】
Ｒｂ１”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲｈ、−ＯＣＯＲｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲｈ２、−ＮＲｈ２、−ＮＨＲｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
【０１０２】
上記Ｒｃ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。
【０１０３】
Ｒｃ１”において、１価の有機基は、好ましくはＣ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１０４】
上記ｐ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｐ１”、ｑ１”およびｒ１”の合計は、（ＳｉＲａ１”ｐ１”Ｒｂ１”ｑ１”Ｒｃ１”ｒ１”）単位において、３である。
【０１０５】
一の態様において、ｐ１”は０である。
【０１０６】
一の態様において、ｐ１”は、（ＳｉＲａ１”ｐ１”Ｒｂ１”ｑ１”Ｒｃ１”ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、２〜３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１”は、３である。
【０１０７】
一の態様において、ｑ１”は、（ＳｉＲａ１”ｐ１”Ｒｂ１”ｑ１”Ｒｃ１”ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、より好ましくは３である。
【０１０８】
一の態様において、ｐ１”は０であり、ｑ１”は、（ＳｉＲａ１”ｐ１”Ｒｂ１”ｑ１”Ｒｃ１”ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、さらに好ましくは３である。
【０１０９】
上記Ｒｂ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。Ｒｂ１’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基である。
【０１１０】
Ｒｂ１’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲｈ、−ＯＣＯＲｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲｈ２、−ＮＲｈ２、−ＮＨＲｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
【０１１１】
上記Ｒｃ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。
【０１１２】
Ｒｃ１’において、１価の有機基は、好ましくはＣ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１１３】
上記ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｐ１’、ｑ１’およびｒ１’の合計は、（ＳｉＲａ１’ｐ１’Ｒｂ１’ｑ１’Ｒｃ１’ｒ１’）単位において、３である。
【０１１４】
一の態様において、ｐ１’は０である。
【０１１５】
一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲａ１’ｐ１’Ｒｂ１’ｑ１’Ｒｃ１’ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、２〜３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。
【０１１６】
一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲａ１’ｐ１’Ｒｂ１’ｑ１’Ｒｃ１’ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、より好ましくは３である。
【０１１７】
一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲａ１’ｐ１’Ｒｂ１’ｑ１’Ｒｃ１’ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、さらに好ましくは３である。
【０１１８】
上記Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。Ｒｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基である。
【０１１９】
上記Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。
【０１２０】
Ｒｃ１において、１価の有機基は、好ましくは、Ｃ１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１２１】
上記ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１およびｒ１の合計は、（ＳｉＲａ１ｐ１Ｒｂ１ｑ１Ｒｃ１ｒ１）単位において、３である。
【０１２２】
一の態様において、ｐ１は０である。
【０１２３】
一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲａ１ｐ１Ｒｂ１ｑ１Ｒｃ１ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、２〜３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。
【０１２４】
一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲａ１ｐ１Ｒｂ１ｑ１Ｒｃ１ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、より好ましくは３である。
【０１２５】
一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲａ１ｐ１’Ｒｂ１ｑ１’Ｒｃ１ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、さらに好ましくは３である。
【０１２６】
上記ＲＳｉで表される基毎に、少なくとも１つのＲｂ１、Ｒｂ１’、Ｒｂ１”、またはＲｂ１”’が存在する。即ち、式（１）または（２）において、Ｎ原子に結合したＲＳｉで表される基は、それぞれ、少なくとも１の水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子を有する。
言い換えると、ＲＳｉで表される基は、
−Ｘ１−ＳｉＲａ１ｐ１Ｒｂ１ｑ１Ｒｃ１ｒ１で表される基（式中、ｑ１が１〜３の整数であり、好ましくはｑ１が２または３、より好ましくはｑ１が３。ただし、ｐ１、ｑ１およびｒ１の合計は３である。）、
−Ｚ１’−ＳｉＲａ１’ｐ１’Ｒｂ１’ｑ１’Ｒｃ１’ｒ１’で表される基（式中、ｑ１’が１〜３の整数であり、好ましくはｑ１’が２または３、より好ましくはｑ１’が３。ただし、ｐ１’、ｑ１’およびｒ１’の合計は３である。）、または
−Ｚ１”−ＳｉＲａ１”ｐ１”Ｒｂ１”ｑ１”Ｒｃ１”ｒ１”で表される基（式中、ｑ１”が１〜３の整数であり、好ましくはｑ１”が２または３、より好ましくはｑ１”が３。ただし、ｐ１”、ｑ１”およびｒ１”の合計は３である。）、および
−Ｚ１”’−ＳｉＲｂ１”’ｑ１”’Ｒｃ１”’ｒ１”’で表される基（式中、ｑ１”’が１〜３の整数であり、好ましくはｑ１”’が２または３、より好ましくはｑ１”’が３。ただし、ｑ１”’およびｒ１”’の合計は３である。）
の少なくとも１つを有する。
【０１２７】
水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子は、ＲＳｉで表される基の末端部分に存在することが好ましい。言い換えると、好ましくは、式（１）および式（２）の末端部分において、水酸基または加水分解可能な基が結合したＳｉ原子が存在する。
【０１２８】
上記ＲＳｉで表される基は、好ましくは、
−Ｘ１−ＳｉＲｂ１ｑ１Ｒｃ１ｒ１で表される基（式中、ｑ１が１〜３の整数であり、好ましくはｑ１が２または３、より好ましくはｑ１が３。ただし、ｑ１およびｒ１の合計は３である。）、
−Ｚ１’−ＳｉＲｂ１’ｑ１’Ｒｃ１’ｒ１’で表される基（式中、ｑ１’が１〜３の整数であり、好ましくはｑ１’が２または３、より好ましくはｑ１’が３。ただし、ｑ１’およびｒ１’の合計は３である。）、
−Ｚ１”−ＳｉＲｂ１”ｑ１”Ｒｃ１”ｒ１”で表される基（式中、ｑ１”が１〜３の整数であり、好ましくはｑ１”が２または３、より好ましくはｑ１”が３。ただし、ｑ１”およびｒ１”の合計は３である。）、および
−Ｚ１”’−ＳｉＲｂ１”’ｑ１”’Ｒｃ１”’ｒ１”’で表される基（式中、ｑ１”’が１〜３の整数であり、好ましくはｑ１”’が２または３、より好ましくはｑ１”’が３。ただし、ｑ１”’およびｒ１”’の合計は３である。）
の少なくとも１つを有する。
【０１２９】
上記ＲＳｉは、好ましくは−Ｘ１−ＳｉＲｂ１２Ｒｃ１または−Ｘ１−ＳｉＲｂ１３であり、より好ましくは−Ｘ１−ＳｉＲｂ１３である。
【０１３０】
一の態様において、ＲＳｉにおいてｐ１が１〜３の整数である場合、Ｒａ１は、好ましくは−Ｚ１’−ＳｉＲｂ１’２Ｒｃ１’または−Ｚ１’−ＳｉＲｂ１’３であり、より好ましくは−Ｚ１’−ＳｉＲｂ１’３である。本態様において、好ましくはｐ１は２または３、より好ましくは３である。
【０１３１】
一の態様において、ＲＳｉにおいてｐ１’が１〜３の整数である場合、Ｒａ１’は、好ましくは−Ｚ１”−ＳｉＲｂ１”２Ｒｃ１”または−Ｚ１”−ＳｉＲｂ１”３であり、より好ましくは−Ｚ１”−ＳｉＲｂ１”３である。本態様において、好ましくはｐ１’は２または３、より好ましくは３である。
【０１３２】
一の態様において、ＲＳｉにおいてｐ１”が１〜３の整数である場合、Ｒａ１”は、好ましくは−Ｚ１”’−ＳｉＲｂ１”’２Ｒｃ１”’または−Ｚ１”’−ＳｉＲｂ１”’３であり、より好ましくは−Ｚ１”’−ＳｉＲｂ１”’３である。本態様において、好ましくはｐ１”は２または３、より好ましくは３である。
【０１３３】
一の態様において、本開示のフルオロポリエーテル基含有化合物は、式（１）で表される基である。
【０１３４】
一の態様において、本開示のフルオロポリエーテル基含有化合物は、式（２）で表される基である。
【０１３５】
一の態様において、本開示のフルオロポリエーテル基含有化合物は、以下の式（１）または（２）で表される。
【化５】
2020164850.tif 000006
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−、具体的には、式：−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり、ｆに対するｅの比が、０．９未満であり、好ましくは０．２以上０．９未満、より好ましくは０．４以上０．８以下、さらに好ましくは０．５以上０．７以下であり）；
ｐおよびｑは、それぞれ独立して、０または１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
【化６】
2020164850.tif 000007
で表され；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキレン基または−（ＣＨ２）ｚ７−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８−であり、好ましくはＣ１−６アルキレン基、より好ましくはＣ１−３アルキレン基であり；
ｚ７は、０〜６の整数であり、ｚ８は１〜６の整数であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
ｐ１およびｒ１が０、かつ、ｑ１が３である。］
【０１３６】
一の態様において、本開示のフルオロポリエーテル基含有化合物は、以下の式（１）または（２）で表される。
【化７】
2020164850.tif 000008
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ１または、ＲＦ２で表される基の数平均分子量は、２，０００〜１５，０００の範囲にあり、好ましくは３，０００〜１５，０００の範囲にあり、より好ましくは３，５００〜１５，０００の範囲にあり、８，０００〜１５，０００の範囲にあってもよく、１０，０００〜１５，０００の範囲にあってもよく；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−、具体的には、式：−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり、ｆに対するｅの比が、０．９未満であり、好ましくは０．２以上０．９未満、より好ましくは０．４以上０．８以下、さらに好ましくは０．５以上０．７以下であり）；
ｐおよびｑは、それぞれ独立して、０または１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
【化８】
2020164850.tif 000009
で表され；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキレン基または−（ＣＨ２）ｚ７−フェニレン−（ＣＨ２）ｚ８−であり、好ましくはＣ１−６アルキレン基、より好ましくはＣ１−３アルキレン基であり；
ｚ７は、０〜６の整数であり、ｚ８は１〜６の整数であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
ｐ１およびｒ１が０、かつ、ｑ１が３である。］
【０１３７】
式（１）または式（２）で表される化合物は、公知の方法を組み合わせることにより製造することができる。
【０１３８】
一態様として、以下に、本開示のフルオロポリエーテル基含有化合物の製造に適した方法を記載する。
【０１３９】
本開示のフルオロポリエーテル基含有化合物は、例えば、式（１ｂ）または（２ｂ）で表される化合物と、ＨＳｉＭ３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子（即ち、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ）、またはＣ１−６のアルコキシ基であり、好ましくはハロゲン原子、より好ましくはＣｌ）とを反応させて末端に−ＳｉＭ３を有する化合物を得（工程（Ｉ））、所望により、Ｒａ１Ｌ’（Ｒａ１は上記と同意義であり、Ｌ’はＲａ１と結合可能な基を表す）で表される化合物、および／または、Ｒｂ１Ｌ”（Ｒｂ１は上記と同意義であり、Ｌ”はＲｂ１と結合可能な基を表す）で表される化合物とを反応させる工程（工程（ＩＩ））を含む方法により製造し得る。
【０１４０】
【化９】
2020164850.tif 000010
【０１４１】
式（１ｂ）および（２ｂ）において、ＲＦ１、およびＲＦ２は上記式（１）および（２）におけるＲＦ１、およびＲＦ２と同意義である。Ｘ１’は、式（１）および（２）よりも炭素原子数が２つ少ない構造を表す。即ち、−Ｘ１’−ＣＨ＝ＣＨ２で表される構造に由来する−Ｘ１’−ＣＨ２ＣＨ２−が、式（１）および（２）におけるＸ１に相当する。
【０１４２】
上記工程は、適切な触媒の存在下、適切な溶媒中で行われることが好ましい。
【０１４３】
適当な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が挙げられる。かかる触媒は任意の形態、例えば錯体の形態であってもよい。
【０１４４】
適当な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン、ヘキサフルオロベンゼン等が挙げられる。
【０１４５】
かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、０〜１００℃、好ましくは５０〜８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜６００分、好ましくは１２０〜３００分であり、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
【０１４６】
別の態様において、上記工程（Ｉ）において得られる末端に−ＳｉＭ３を有する化合物と、Ｈａｌ−Ｊ−ＣＨ＝ＣＨ２（式中、Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し、Ｈａｌはハロゲン原子を表す。）、所望により、Ｒａ１Ｌ’（Ｒａ１は上記と同意義であり、Ｌ’はＲａ１と結合可能な基を表す）で表される化合物、および／または、Ｒｂ１Ｌ”（Ｒｂ１は上記と同意義であり、Ｌ”はＲｂ１と結合可能な基を表す）で表される化合物とを反応させ（工程（ＩＩ’））、
工程（ＩＩ’）で得られる化合物を、ＨＳｉＭ３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ１−６アルコキシ基である）、および、所望により
式：Ｒｂ１’ｉ’Ｌ’（式中、Ｒｂ１’は上記と同意義であり、Ｌ’は、Ｒｂ１’と結合可能な基を表し、ｉ’は１〜３の整数である。）
で表される化合物、および、所望により
式：Ｒｃ１’ｊ’Ｌ”（式中、Ｒｃ１’は上記と同意義であり、Ｌ”は、Ｒｃ１’と結合可能な基を表し、ｊ’は１〜３の整数である。）
で表される化合物と反応させる工程、
を含む方法により製造することができる。
【０１４７】
上記工程は、適切な触媒の存在下、適切な溶媒中で行われることが好ましい。
【０１４８】
適当な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が挙げられる。かかる触媒は任意の形態、例えば錯体の形態であってもよい。
【０１４９】
適当な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン、ヘキサフルオロベンゼン等が挙げられる。
【０１５０】
かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、０〜１００℃、好ましくは５０〜８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜６００分、好ましくは１２０〜３００分であり、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
【０１５１】
上記式（１ｂ）および（２ｂ）で表される化合物は、例えば、式（１ａ）または（２ａ）で表される化合物の末端部分に、二重結合を有する基を導入することによって製造され得る。具体的には、以下の式（１ａ）または（２ａ）で表される化合物の末端のＲｘ部分と、アミン化合物（例えば、ジアリルアミン等）とを反応させることによって得ることができる。
【０１５２】
【化１０】
2020164850.tif 000011
【０１５３】
式（１ａ）および（２ａ）において、ＲＦ１、およびＲＦ２は、それぞれ式（１）および（２）におけるＲＦ１、およびＲＦ２と同意義である。ＲＸは、例えば、水素原子、水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、フェノール基、スルホニル基、ハロゲン等であり、具体的には水酸基である。
【０１５４】
上記工程は、適切な塩基の存在下、適切な溶媒中で行われることが好ましい。
【０１５５】
適当な塩基としては、特に限定されるものではないが、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、３級アミン（トリエチルアミン、ピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ルチジン）等が挙げられる。かかる触媒は任意の形態、例えば錯体の形態であってもよい。
【０１５６】
適当な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン、ヘキサフルオロベンゼン等が挙げられる。
【０１５７】
かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、０〜１００℃、好ましくは４０〜８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜６００分、好ましくは１２０〜２４０分であり、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
【０１５８】
本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を製造する際の反応条件は、当業者であれば適宜好ましい範囲に調整することが可能である。
【０１５９】
以下、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）について説明する。
【０１６０】
本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（１）または式（２）で表される少なくとも１つのフルオロポリエーテル基含有化合物を含有する。
【０１６１】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（１）および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を含み得る。本態様の組成物（例えば、表面処理剤）は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。本態様の組成物を用いて形成される硬化層の摩擦耐久性が良好になり、硬化層の表面における滑り性が良好になる。また、本態様の組成物では、ＲＦ部分の二次構造がらせん構造をとりやすく、単位面積当たりのポリマー密度やシランカップリング剤の架橋密度が大きくなるため、硬化層の強度が高くなると考えられる。
【０１６２】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（１）および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（１）および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは０．３５、より好ましくは０．３０、さらに好ましくは０．２０、さらにより好ましくは０．１５または０．１０であり得る。式（１）および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）は、好ましくは０．００１以上０．３０以下、より好ましくは０．００１以上０．２０以下、さらに好ましくは０．００２以上０．２０以下、さらにより好ましくは０．００５以上０．２０以下、特に好ましくは０．０１以上０．２０以下、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）または０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。上記範囲で含むことにより、本態様の組成物（例えば、表面処理剤）は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。
【０１６３】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（１）および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（１）および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは、０．７０、より好ましくは０．６０、より好ましくは０．５０、さらに好ましくは０．４０、さらにより好ましくは０．３０、例えば０．２０、具体的には０．１０であり得る。式（１）および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）は、０．００１以上０．７０以下であってもよく、０．００１以上０．６０以下であってもよく、０．００１以上０．５０以下であってもよく、０．００２以上０．４０以下であってもよく、０．００５以上０．３０以下であってもよく、０．０１以上０．２０以下であってもよく、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）または０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。
【０１６４】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（１）および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（１）および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは、０．７０、より好ましくは０．６０、より好ましくは０．５０、さらに好ましくは０．４０、さらにより好ましくは０．３０、例えば、０．２０、具体的には０．１０であり得る。式（１）および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）は、０．００１以上０．７０以下であってもよく、０．００１以上０．６０以下であってもよく、０．００１以上０．５０以下であってもよく、０．００２以上０．４０以下であってもよく、０．００５以上０．３０以下であってもよく、０．０１以上０．２０以下であってもよく、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）または０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。
【０１６５】
本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、撥水性、撥油性、防汚性、表面滑り性、摩擦耐久性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。
【０１６６】
本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、溶媒、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等をさらに含み得る。
【０１６７】
上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、３−ペンタノール、オクチルアルコール、３−メチル−３−メトキシブタノール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，２−ジクロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。
【０１６８】
含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ５−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒｆ６      ・・・（３）
式中、Ｒｆ５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒｆ５及びＲｆ６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−及び（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−及び（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−及び（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【０１６９】
上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）及び（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ５−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”−Ｒｆ６              ・・・（３ａ）
Ｒｆ５−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ”−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ”−（ＯＣＦ２）ｄ”−Ｒｆ６              ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ５及びＲｆ６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”及びｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”及びｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【０１７０】
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ３−Ｆ（式中、Ｒｆ３はＣ５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。
【０１７１】
上記含フッ素オイルは、５００〜１００００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定し得る。
【０１７２】
含フッ素オイルは、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に対して、例えば０〜５０質量％、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の組成物は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、または極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。
【０１７３】
含フッ素オイルは、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【０１７４】
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【０１７５】
本開示の組成物（例えば、表面処理剤）中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは５０〜２００質量部で含まれ得る。
【０１７６】
シリコーンオイルは、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【０１７７】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
【０１７８】
触媒は、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）により形成される層の形成を促進する。
【０１７９】
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
【０１８０】
一の態様において、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（２）で表される化合物は、例えば、７０モル％以下含まれていてもよく、６０モル％以下含まれていてもよく、５０モル％以下含まれていてもよく、０．００１モル％以上含まれていてもよく、０．０１モル％以上含まれていてもよく、０．１モル%以上含まれていてもよい。式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（２）で表される化合物は、例えば、１〜７０モル％含まれていてもよく、５〜５０モル％含まれていてもよい。
【０１８１】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
本態様において、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、含フッ素オイルは、例えば、０．００１モル％以上含まれていてもよく、０．０１モル％以上含まれていてもよく、１．０モル％以上含まれていてもよく、５０モル％以下含まれていてもよく、４０モル％以下含まれていてもよく、３０モル％以下含まれていてもよく、１０モル％以下含まれていてもよい。式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、含フッ素オイルは、例えば、０．００１〜５０モル％含まれていてもよく、０．０１〜４０モル％含まれていてもよい。
本態様において、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（２）で表される化合物が０．００１〜７０モル％、および含フッ素オイルが０．００１〜５０モル％含まれることが好ましく、式（２）で表される化合物が０．０１〜６０モル％、および含フッ素オイルが０．０１〜４０モル％含まれることがより好ましく、式（２）で表される化合物が０．１〜５０モル％、および含フッ素オイルが０．１〜３０モル％含まれることがさらに好ましい。
本態様の組成物（例えば、表面処理剤）は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。さらに、本態様の組成物を用いて形成される硬化層の摩擦耐久性が良好になり、硬化層の表面における滑り性が良好になる。また、本態様の組成物では、ＲＦ部分の二次構造がらせん構造をとりやすく、単位面積当たりのポリマー密度やシランカップリング剤の架橋密度が大きくなるため、硬化層の強度が高くなると考えられる。
【０１８２】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
本態様において、式（１）で表される化合物、および式（２）で表される化合物の合計に対して、式（２）で表される化合物が、０．００１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、０．１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、例えば、１０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよい。
【０１８３】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
本態様において、式（１）で表される化合物、および式（２）で表される化合物の合計に対して、式（１）で表される化合物が、０．００１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、０．１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、１０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、例えば、２０モル％以上５０モル％未満、３０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよい。
【０１８４】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
本態様において、式（１）で表される化合物、および式（２）で表される化合物の合計に対して、式（２）で表される化合物が、３５モル％以上６５モル％未満含まれていてもよく、４０モル％以上６０モル％未満含まれていてもよい。
【０１８５】
本開示の組成物は、基材の表面処理を行う表面処理剤として用いることができる。
【０１８６】
本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
【０１８７】
以下、本開示の物品について説明する。
【０１８８】
本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物またはフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤（以下、これらを代表して単に「本開示の表面処理剤」という）より形成された層（表面処理層）とを含む。
【０１８９】
本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。
【０１９０】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【０１９１】
基材の形状は特に限定されない。また、本開示の表面処理剤によって形成された層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【０１９２】
かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【０１９３】
またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
【０１９４】
次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。
【０１９５】
本開示の表面処理剤の層形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
【０１９６】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
【０１９７】
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。
【０１９８】
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
【０１９９】
湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）が特に好ましい。
【０２００】
乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
【０２０１】
表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
【０２０２】
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
【０２０３】
上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【０２０４】
すなわち本開示はさらに、本開示の表面処理剤に由来する層を最外層に有する光学材料にも関する。
【０２０５】
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
【０２０６】
本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。
【０２０７】
また、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車内外装部材であってもよい。外装材の例には、次のものが挙げられる：ウィンドウ、ライトカバー、社外カメラカバー。内装材の例には、次のものが挙げられる：インパネカバー、ナビゲーションシステムタッチパネル、加飾内装材。
【０２０８】
また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
【０２０９】
上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１〜５０ｎｍ、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
【０２１０】
以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。
【実施例】
【０２１１】
以下、実施例を通じてより具体的に説明するが、本開示はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示し、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（（ＯＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２）等）の存在順序は任意である。
【０２１２】
（合成例１）
ＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＯＯＨ（ｍ≒１６、ｎ≒２８）とＨＯＣＯＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＯＯＨ（ｍ≒１６、ｎ≒２８）との混合物６．０ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＯＯＨの含有量は１４ｍｏｌ％）を１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン６．０ｇに溶解し氷冷した。該溶液にチオニルクロライド０．３ｇを滴下した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．０１ｍｇをさらに加え室温で一昼夜撹拌した。この反応液からチオニルクロライドを留去した後、ジアリルアミン０．１８ｇおよびトリエチルアミン０．２ｇを加え、５０℃に加熱し、３時間撹拌した。反応の終点は１９Ｆ−ＮＭＲによってＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＯＯＨのカルボニル基α位の−ＣＦ２−のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および１Ｈ−ＮＭＲによって、ジアリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液に１Ｎ−塩酸を加え分液した下相を水洗し硫酸マグネシウムを用いて乾燥、濃縮した。得られた濃縮物をパーフルオロヘキサンに溶解しアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ａ）およびポリエーテル基含有化合物（Ａ’）を含む混合物を得た。
ポリエーテル基含有化合物（Ａ）：
2020164850.tif 000012
（ｍ≒１６、ｎ≒２８）
ポリエーテル基含有化合物（Ａ’）：
2020164850.tif 000013
（ｍ≒１６、ｎ≒２８）
【０２１３】
（合成例２）
合成例１で得られた混合物５．０ｇを、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｍｌに溶解し、トリアセトキシメチルシラン０．０２ｇ、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体２％を含むキシレン溶液０．０６ｍｌを加えた後、トリクロロシラン１．０ｇを仕込み、１０℃で３０分間撹拌した。続いて、該溶液を６０℃に加熱し４時間撹拌した。その後、得られた溶液から減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、６０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のポリエーテル基含有化合物（Ｂ）およびポリエーテル基含有化合物（Ｂ’）を含む混合物４．７ｇを得た（ｅ／ｆ比は０．５７）。
ポリエーテル基含有化合物（Ｂ）：
2020164850.tif 000014
（ｍ≒１６、ｎ≒２８）
ポリエーテル基含有化合物（Ｂ’）：
2020164850.tif 000015
（ｍ≒１６、ｎ≒２８）
【０２１４】
（合成例３）
ＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＯＯＨ（ｍ≒５４、ｎ≒９０）およびＨＯＣＯＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＯＯＨ（ｍ≒５４、ｎ≒９０）を含む混合物６．０ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＯＯＨの含有量は７ｍｏｌ％）を用いた以外は合成例１と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｃ）およびポリエーテル基含有化合物（Ｃ’）を含む混合物６．０ｇを得た。
ポリエーテル基含有化合物（Ｃ）：
2020164850.tif 000016
（ｍ≒５４、ｎ≒９０）
ポリエーテル基含有化合物（Ｃ’）：
2020164850.tif 000017
（ｍ≒５４、ｎ≒９０）
【０２１５】
（合成例４）
合成例３で得られた混合物を５．８ｇ用いた以外は合成例２と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｄ）およびポリエーテル基含有化合物（Ｄ’）を含む混合物５．８ｇを得た（ｅ／ｆ比は０．６０）。
ポリエーテル基含有化合物（Ｄ）：
2020164850.tif 000018
（ｍ≒５４、ｎ≒９０）
ポリエーテル基含有化合物（Ｄ’）：
2020164850.tif 000019
（ｍ≒５４、ｎ≒９０）
【０２１６】
（合成例５）
ＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＯＯＨ（ｍ≒２０、ｎ≒３５）、ＨＯＣＯＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＯＯＨ（ｍ≒２０、ｎ≒３５）およびＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＯＣＦ３（ｍ≒２０、ｎ≒３５）を含む混合物６．０ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＯＯＨの含有量は３４ｍｏｌ％、ＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＯＣＦ３の含有量は２１ｍｏｌ％）を用いた以外は合成例１と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｅ）、ポリエーテル基含有化合物（Ｅ’）ポリエーテル基含有化合物（Ｅ”）を含む混合物５．９ｇを得た。
ポリエーテル基含有化合物（Ｅ）：
2020164850.tif 000020
（ｍ≒２０、ｎ≒３５）
ポリエーテル基含有化合物（Ｅ’）：
2020164850.tif 000021
（ｍ≒２０、ｎ≒３５）
ポリエーテル基含有化合物（Ｅ”）：
ＣＦ３（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２）ｎＯＣＦ３      （ｍ≒２０、ｎ≒３５）
【０２１７】
（合成例６）
合成例５で得られた混合物５．９ｇを用いた以外は合成例２と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｆ）、ポリエーテル基含有化合物（Ｆ’）、およびポリエーテル基含有化合物（Ｆ”）を含む混合物５．８ｇを得た（ｅ／ｆ比は０．５７）。
ポリエーテル基含有化合物（Ｆ）：
2020164850.tif 000022
（ｍ≒２０、ｎ≒３５）
ポリエーテル基含有化合物（Ｆ’）：
2020164850.tif 000023
（ｍ≒２０、ｎ≒３５）
ポリエーテル基含有化合物（Ｆ”）：
ＣＦ３（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２）ｎＯＣＦ３      （ｍ≒２０、ｎ≒３５）
【０２１８】
（合成例７）
ＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＯＯＨ（ｍ≒２０、ｎ≒３５）、ＨＯＣＯＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＯＯＨ（ｍ≒２０、ｎ≒３５）およびＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＯＣＦ３（ｍ≒２０、ｎ≒３５）を含む混合物６．０ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＣＯＯＨの含有量は４８ｍｏｌ％、ＣＦ３−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ−（ＯＣＦ２）ｎ−ＯＣＦ３の含有量は１７ｍｏｌ％）を用いた以外は合成例１と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｇ）、ポリエーテル基含有化合物（Ｇ’）ポリエーテル基含有化合物（Ｇ”）を含む混合物６．０ｇを得た。
ポリエーテル基含有化合物（Ｇ）：
2020164850.tif 000024
（ｍ≒２０、ｎ≒３５）
ポリエーテル基含有化合物（Ｇ’）：
2020164850.tif 000025
（ｍ≒２０、ｎ≒３５）
ポリエーテル基含有化合物（Ｇ”）：
ＣＦ３（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２）ｎＯＣＦ３      （ｍ≒２０、ｎ≒３５）
【０２１９】
（合成例８）
合成例７で得られた混合物６．０ｇを用いた以外は合成例２と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）、ポリエーテル基含有化合物（Ｈ’）、およびポリエーテル基含有化合物（Ｈ”）を含む混合物５．９ｇを得た（ｅ／ｆ比は０．５７）。
ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）：
2020164850.tif 000026
（ｍ≒２０、ｎ≒３５）
ポリエーテル基含有化合物（Ｈ’）：
2020164850.tif 000027
（ｍ≒２０、ｎ≒３５）
ポリエーテル基含有化合物（Ｈ”）：
ＣＦ３（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２）ｎＯＣＦ３      （ｍ≒２０、ｎ≒３５）
【０２２０】
（実施例１）
上記合成例２で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｂ）およびポリエーテル基含有化合物（Ｂ’）を含む混合物を、濃度０．１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（１）を調製した。
【０２２１】
（実施例２）
上記合成例４で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｄ）およびポリエーテル基含有化合物（Ｄ’）を含む混合物を、濃度０．１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（２）を調製した。
【０２２２】
（実施例３）
上記合成例６で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｆ）、ポリエーテル基含有化合物（Ｆ’）およびポリエーテル基含有化合物（Ｆ”）を含む混合物を、濃度０．１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、表面処理剤（３）を調製した。
【０２２３】
（実施例４）
上記合成例８で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｈ）、ポリエーテル基含有化合物（Ｈ’）およびポリエーテル基含有化合物（Ｈ”）を含む混合物を、濃度０．１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７２００）に溶解させて、表面処理剤（４）を調製した。
【０２２４】
（比較例１、２）
ポリエーテル基含有化合物（Ｄ）およびポリエーテル基含有化合物（Ｄ’）を含む混合物の代わりに、下記対照化合物（１）または（２）を用いた以外は実施例２と同様に行い、比較表面処理剤（１）および（２）をそれぞれ調製した。
対照化合物（１）
2020164850.tif 000028
対照化合物（２）
2020164850.tif 000029
【０２２５】
（静的接触角）
静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いて次の方法で測定した。
＜静的接触角の測定方法＞
静的接触角は、水平に置いた基板にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。
【０２２６】
（硬化膜の形成）
表面処理剤（１）〜（４）、および比較表面処理剤（１）〜（２）をそれぞれ用いて、以下のように硬化膜を形成した。
【０２２７】
表面処理剤または比較表面処理剤を、スピンコーターを用いて、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に塗布した。
スピンコートの条件は、３００回転／分で３秒間、２０００回転／分で３０秒であった。
塗布後のガラスを、大気下、恒温槽内で１５０℃３０分間加熱し、硬化膜を形成した。
【０２２８】
［硬化膜の特性評価］
得られた硬化膜の特性を以下のように評価した。
【０２２９】
＜静的接触角＞
（初期評価）
まず、初期評価として、硬化膜形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した。
（エタノール拭き後の評価）
次に、上記硬化膜を、エタノールを十分に染み込ませたキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）を用いて５往復拭いた後、乾燥させた。乾燥後の硬化膜の水の静的接触角を測定した。
【０２３０】
＜指紋付着性および拭き取り性＞
（指紋付着性）
表面処理剤または比較表面処理剤を用いて形成された硬化膜に指を押し付け、指紋の付きやすさを目視で判定した。評価は、次の基準に基づいて判断した。
Ａ：指紋が付きにくいか、付いても指紋が目立たなかった。
Ｂ：指紋の付着が少ないが、その指紋を充分に確認できた。
Ｃ：未処理のガラス基板と同程度に明確に指紋が付着した。
（指紋拭き取り性）
上記の指紋付着性試験後、付着した指紋をキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）で５往復拭き取り、付着した指紋の拭き取りやすさを目視で判定した。評価は次の基準に基づいて判断した。
Ａ：指紋を完全に拭き取ることができた。
Ｂ：指紋の拭取り跡が残った。
Ｃ：指紋の拭取り跡が拡がり、除去することが困難であった。
【０２３１】
上記の一連の評価結果を以下の表１にまとめた。
【０２３２】
【表１】
2020164850.tif 000030
【０２３３】
表面処理剤（１）〜（４）を用いて形成された硬化膜の接触角は、エタノールを用いて拭いた場合であっても低下しなかった。一方で、比較表面処理剤（１）および（２）を用いて形成された硬化膜の接触角は、エタノールを用いて拭くことによって低下した。これは、比較表面処理剤（１）または（２）で形成された硬化膜では、耐ケミカル性（溶剤に対する耐久性）が悪いためと考えられる。
【０２３４】
［硬化膜の耐摩擦性評価］
得られた硬化膜の耐摩擦性を以下のように評価した。
＜耐消しゴム摩擦性試験＞
ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で２５００回擦る毎に耐水接触角を測定し、１００００回もしくは１００度未満となるまで試験を続けた。試験環境条件は２５℃、湿度４０％ＲＨであった。
消しゴム：Ｒａｂｅｒ  Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
接地面積：６ｍｍφ
移動距離（片道）：３０ｍｍ
移動速度：３，６００ｍｍ／分
荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ
【０２３５】
上記の評価結果を以下の表２にまとめた。表中「−」は測定していないことを意味する。
【０２３６】
【表２】
2020164850.tif 000031
【産業上の利用可能性】
【０２３７】
本開示のフルオロポリエーテル基含有化合物は、種々多様な基材、特に摩擦耐久性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。
【手続補正書】
【提出日】令和2年7月21日(2020.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）または（２）：
【化１】
2020164850.tif 000036
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表される基であり；
ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上であり、添字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり、ｆに対するｅの比が、０．９未満であり；
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、独立して０または１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
【化２】
2020164850.tif 000037
で表され；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１’−ＳｉＲａ１’ｐ１’Ｒｂ１’ｑ１’Ｒｃ１’ｒ１’であり； 
Ｚ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒａ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１”−ＳｉＲａ１”ｐ１”Ｒｂ１”ｑ１”Ｒｃ１”ｒ１”であり； 
Ｚ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒａ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１”’−ＳｉＲｂ１”’ｑ１”’Ｒｃ１”’ｒ１”’であり； 
Ｚ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｑ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、ＲＳｉで表される基毎に、少なくとも１つのＲｂ１、Ｒｂ１’、Ｒｂ１”またはＲｂ１”’が存在する。］
で表される、フルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項２】
ＲＦが、
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
［式中：
ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である］
で表される、請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項３】
ｆに対するｅの比が、０．４以上０．９未満の範囲にある、請求項１または２に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項４】
Ｘ１が、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項５】
Ｘ１が、各出現においてそれぞれ独立して、
−（Ｚ２１）ｚ１１−（Ｘ２）ｚ１２−（Ｚ２２）ｚ１３−
（式中、Ｚ２１、およびＺ２２は、２価の有機基であり；
Ｘ２は、酸素原子であり；
ｚ１１は０または１であり；
ｚ１２は０または１であり；
ｚ１３は０または１であり；
ただし、ｚ１１およびｚ１３の少なくとも一方は１である）
である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項６】
ＲＦａが、フッ素原子である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項７】
ｐ１が０、ｑ１が２または３である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤。
【請求項９】
フルオロポリエーテル基含有化合物として、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を含む、請求項８に記載の表面処理剤。
【請求項１０】
式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対して、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物が、モル比で、０．００１〜０．７０含まれる、請求項８または９に記載の表面処理剤。
【請求項１１】
含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１２】
含フッ素オイルをさらに含有する、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１３】
式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物が、０．００１〜７０モル％、および、含フッ素オイルが、０．００１〜５０モル％含まれる、請求項１２に記載の表面処理剤。
【請求項１４】
さらに溶媒を含む、請求項８〜１３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１５】
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項８〜１４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１６】
真空蒸着用である、請求項８〜１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１７】
請求項８〜１６のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
【請求項１８】
基材と、該基材の表面に、請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物または請求項８〜１６のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
【請求項１９】
光学部材である、請求項１８に記載の物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本開示は、以下の［１］〜［１９］を提供するものである。
［１］  下記式（１）または（２）：
【化１】
2020164850.tif 000038
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
ＲＦ２は、−Ｒｆ２ｐ−ＲＦ−Ｏｑ−であり；
Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３ＲＦａ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表される基であり；
ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上であり、添字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり、ｆに対するｅの比が、０．９未満であり；
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、独立して０または１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
【化２】
2020164850.tif 000039
で表され；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１’−ＳｉＲａ１’ｐ１’Ｒｂ１’ｑ１’Ｒｃ１’ｒ１’であり； 
Ｚ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒａ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１”−ＳｉＲａ１”ｐ１”Ｒｂ１”ｑ１”Ｒｃ１”ｒ１”であり； 
Ｚ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒａ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ１”’−ＳｉＲｂ１”’ｑ１”’Ｒｃ１”’ｒ１”’であり； 
Ｚ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
Ｒｂ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｑ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１”’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、ＲＳｉで表される基毎に、少なくとも１つのＲｂ１、Ｒｂ１’、Ｒｂ１”またはＲｂ１”’が存在する。］
で表される、フルオロポリエーテル基含有化合物。
［２］  ＲＦが、
−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
［式中：
ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である］
で表される、［１］に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［３］  ｆに対するｅの比が、０．４以上０．９未満の範囲にある、［１］または［２］に記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［４］  Ｘ１が、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基である、［１］〜［３］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［５］  Ｘ１が、各出現においてそれぞれ独立して、
−（Ｚ２１）ｚ１１−（Ｘ２）ｚ１２−（Ｚ２２）ｚ１３−
（式中、Ｚ２１、およびＺ２２は、２価の有機基であり；
Ｘ２は、酸素原子であり；
ｚ１１は０または１であり；
ｚ１２は０または１であり；
ｚ１３は０または１であり；
ただし、ｚ１１およびｚ１３の少なくとも一方は１である）
である、［１］〜［４］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［６］  ＲＦａが、フッ素原子である、［１］〜［５］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［７］  ｐ１が０、ｑ１が２または３である、［１］〜［６］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物。
［８］  ［１］〜［７］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤。
［９］  フルオロポリエーテル基含有化合物として、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を含む、［８］に記載の表面処理剤。
［１０］  式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対して、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物が、モル比で、０．００１〜０．７０含まれる、［８］または［９］に記載の表面処理剤。
［１１］  含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、［８］〜［１０］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１２］  含フッ素オイルをさらに含有する、［８］〜［１０］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１３］  式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物が、０．００１〜７０モル％、および、含フッ素オイルが、０．００１〜５０モル％含まれる、［１２］に記載の表面処理剤。
［１４］  さらに溶媒を含む、［８］〜［１３］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１５］  防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、［８］〜［１４］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１６］  真空蒸着用である、［８］〜［１５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１７］  ［８］〜［１６］のいずれか１つに記載の表面処理剤を含有するペレット。
［１８］  基材と、該基材の表面に、［１］〜［７］のいずれか１つに記載の化合物または［８］〜［１６］のいずれか１つに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［１９］  光学部材である、［１８］に記載の物品。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
本開示において、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物は、ＲＦ１またはＲＦ２で表される基と、ＲＳｉで表される基とが、Ｃ（＝Ｏ）−Ｎで結合される。ここで、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物において、ＲＦ１またはＲＦ２で表される基は、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル基を含有する基であり、ＲＳｉで表される基は、基材との結合能を提供するシラン部である。上記のように、Ｃ（＝Ｏ）−Ｎで表される構造を含むことにより、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を用いて形成される硬化層の耐ケミカル性（例えば、強アルカリ水溶液や強酸水溶液に対する耐性、活性酸素種による酸化に対する耐性）が良好になり得る。
さらに、本開示の式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物は、ＲＦ１またはＲＦ２に含まれるＲＦで表される基において、ｅ／ｆ比が特定の範囲にある。このような構造を有することにより、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および／または式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を用いて形成される硬化層は、極めて高い耐ケミカル性、摩擦耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）を示し得る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物は、Ｃ（＝Ｏ）−ＮのＮ原子に、ＲＳｉで表される基が２つ結合する。このような構造を有することにより、本開示の化合物を用いて形成される硬化層の基材への結合力が良好になり得、その結果、耐ケミカル性（例えば、溶剤に対する耐久性、人工汗に対する耐久性、強アルカリ水溶液や強酸水溶液に対する耐性、活性酸素種による酸化に対する耐性）、摩擦耐久性、耐候性、紫外線暴露下での耐久性等が良好になり得る。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６１】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物を含み得る。本態様の組成物（例えば、表面処理剤）は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。本態様の組成物を用いて形成される硬化層の摩擦耐久性が良好になり、硬化層の表面における滑り性が良好になる。また、本態様の組成物では、ＲＦ部分の二次構造がらせん構造をとりやすく、単位面積当たりのポリマー密度やシランカップリング剤の架橋密度が大きくなるため、硬化層の強度が高くなると考えられる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６２】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは０．３５、より好ましくは０．３０、さらに好ましくは０．２０、さらにより好ましくは０．１５または０．１０であり得る。式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）は、好ましくは０．００１以上０．３０以下、より好ましくは０．００１以上０．２０以下、さらに好ましくは０．００２以上０．２０以下、さらにより好ましくは０．００５以上０．２０以下、特に好ましくは０．０１以上０．２０以下、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）または０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。上記範囲で含むことにより、本態様の組成物（例えば、表面処理剤）は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６３】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは、０．７０、より好ましくは０．６０、より好ましくは０．５０、さらに好ましくは０．４０、さらにより好ましくは０．３０、例えば０．２０、具体的には０．１０であり得る。式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）は、０．００１以上０．７０以下であってもよく、０．００１以上０．６０以下であってもよく、０．００１以上０．５０以下であってもよく、０．００２以上０．４０以下であってもよく、０．００５以上０．３０以下であってもよく、０．０１以上０．２０以下であってもよく、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）または０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６４】
一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは、０．７０、より好ましくは０．６０、より好ましくは０．５０、さらに好ましくは０．４０、さらにより好ましくは０．３０、例えば、０．２０、具体的には０．１０であり得る。式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物および式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の合計に対する、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物の比（モル比）は、０．００１以上０．７０以下であってもよく、０．００１以上０．６０以下であってもよく、０．００１以上０．５０以下であってもよく、０．００２以上０．４０以下であってもよく、０．００５以上０．３０以下であってもよく、０．０１以上０．２０以下であってもよく、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）または０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。