(57)【要約】【課題】複数のカルボニル基を有する新規な硫酸エステル又はその塩、及び、界面活性剤を提供すること。【解決手段】複数のカルボニル基を有する新規な硫酸エステル又はその塩、及び、界面活性剤を提供する。式：Ｒ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３−ＯＳＯ３Ｘ（式中、Ｒ１は、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、炭素数が合計で６以上である。Ｘは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４はＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示されることを特徴とする化合物である。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式：
【化３９】
2020164551.tif 000042
（式中、Ｒ１は、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、炭素数が合計で６以上である。Ｘは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４はＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）
で示されることを特徴とする化合物。
【請求項２】
前記式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよい請求項１記載の化合物。
【請求項３】
前記式中、Ｒ１は、カルボニル基を含まない炭素数１〜８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数３〜８の環状のアルキル基、１〜１０個のカルボニル基を含む炭素数２〜４５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数３〜４５の環状のアルキル基、又は、炭素数が３〜４５の１価若しくは２価の複素環を含むアルキル基である請求項１又は２記載の化合物。
【請求項４】
前記式中、Ｒ１は、下記式：
【化４０】
2020164551.tif 000043
（式中、ｎ１１は０〜１０の整数であり、Ｒ１１は炭素数１〜５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜５の環状のアルキル基であり、Ｒ１２は炭素数０〜３のアルキレン基である。ｎ１１が２〜１０の整数である場合、Ｒ１２は各々同じであっても異なっていてもよい。）で示される基である請求項１、２又は３記載の化合物。
【請求項５】
前記式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である請求項１、２、３又は４記載の化合物。
【請求項６】
前記式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１〜３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である請求項１、２、３、４又は５記載の化合物。
【請求項７】
請求項１、２、３、４、５又は６記載の化合物を含む界面活性剤。
【請求項８】
請求項１、２、３、４、５又は６記載の化合物を含む水系分散剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硫酸エステル又はその塩、及び、界面活性剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
非特許文献１には、次の化合物が記載されている。
【化１】
2020164551.tif 000002
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】Ｇｒｅｇｏｒｙ  Ｒ．  Ｓｃｈｕｌｚ、外３名、「Ｍｉｃｅｌｌｅｓ  ｆｏｒｍｅｄ  ｆｒｏｍ  ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｃａｌｌｙ  ａｃｔｉｖｅ  ａｍｐｈｉｐｈｉｌｅｓ：  ｓｔｒｕｃｔｕｒａｌ  ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ  ｂｙ  ｓｍａｌｌ−ａｎｇｌｅ  ｎｅｕｔｒｏｎ  ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ」、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ、３８３（１−３）、１９９６、ｐｐ．１９１−１９６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、複数のカルボニル基を有する新規な硫酸エステル又はその塩、及び、界面活性剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、下記式：
【化２】
2020164551.tif 000003
（式中、Ｒ１は、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、炭素数が合計で６以上である。Ｘは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４はＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示されることを特徴とする化合物である。
【０００６】
上記式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であることが好ましく、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよい。
【０００７】
上記式中、Ｒ１は、カルボニル基を含まない炭素数１〜８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数３〜８の環状のアルキル基、１〜１０個のカルボニル基を含む炭素数２〜４５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数３〜４５の環状のアルキル基、又は、炭素数が３〜４５の１価若しくは２価の複素環を含むアルキル基であることが好ましい。
【０００８】
上記式中、Ｒ１は、下記式：
【化３】
2020164551.tif 000004
（式中、ｎ１１は０〜１０の整数であり、Ｒ１１は炭素数１〜５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜５の環状のアルキル基であり、Ｒ１２は炭素数０〜３のアルキレン基である。ｎ１１が２〜１０の整数である場合、Ｒ１２は各々同じであっても異なっていてもよい。）で示される基であることが好ましい。
【０００９】
上記式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であることが好ましい。
【００１０】
上記式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１〜３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であることが好ましい。
【００１１】
本発明は、上述の化合物を含む界面活性剤でもある。
【００１２】
本発明は、上述の化合物を含む水系分散剤でもある。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の化合物は、界面活性作用を示す化合物であり、アニオン性界面活性剤や水系分散剤として好適に利用可能である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を具体的に説明する。
【００１５】
本明細書中、特に断りのない限り、「有機基」は、１個以上の炭素原子を含有する基、又は有機化合物から１個の水素原子を除去して形成される基を意味する。
当該「有機基」の例は、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基、
シアノ基、
ホルミル基、
ＲａＯ−、
ＲａＣＯ−、
ＲａＳＯ２−、
ＲａＣＯＯ−、
ＲａＮＲａＣＯ−、
ＲａＣＯＮＲａ−、
ＲａＳＯ２ＮＲａ−、
ＲａＮＲａＳＯ２−、
ＲａＯＣＯ−、及び、
ＲａＯＳＯ２−、
（これらの式中、Ｒａは、独立して、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基である）
を包含する。
上記有機基としては、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基が好ましい。
【００１６】
また、本明細書中、特に断りのない限り、「置換基」は、置換可能な基を意味する。当該「置換基」の例は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、ヘテロ環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、ヘテロ環スルホニル基、脂肪族スルホニルオキシ基、芳香族スルホニルオキシ基、ヘテロ環スルホニルオキシ基、スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基、アミノ基、脂肪族アミノ基、芳香族アミノ基、ヘテロ環アミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、芳香族オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルフィニル基、芳香族スルフィニル基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、脂肪族オキシアミノ基、芳香族オキシアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ハロゲン原子、スルファモイルカルバモイル基、カルバモイルスルファモイル基、ジ脂肪族オキシホスフィニル基、及び、ジ芳香族オキシホスフィニル基を包含する。
【００１７】
上記脂肪族基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族基としては、総炭素原子数１〜８、好ましくは１〜４のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ビニル基、シクロヘキシル基、カルバモイルメチル基等が挙げられる。
【００１８】
上記芳香族基は、例えば、ニトロ基、ハロゲン原子、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記芳香族基としては、炭素数６〜１２、好ましくは総炭素原子数６〜１０のアリール基、例えば、フェニル基、４−ニトロフェニル基、４−アセチルアミノフェニル基、４−メタンスルホニルフェニル基等が挙げられる。
【００１９】
上記ヘテロ環基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記ヘテロ環基としては、総炭素原子数２〜１２、好ましくは２〜１０の５〜６員へテロ環、例えば２−テトラヒドロフリル基、２−ピリミジル基等が挙げられる。
【００２０】
上記アシル基は、脂肪族カルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、芳香族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシル基としては、総炭素原子数２〜８、好ましくは２〜４のアシル基、例えばアセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基、３−ピリジンカルボニル基等が挙げられる。
【００２１】
上記アシルアミノ基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよく、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２−ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシルアミノ基としては、総炭素原子数２〜１２、好ましくは２〜８のアシルアミノ基、総炭素原子数２〜８のアルキルカルボニルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２−ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等が挙げられる。
【００２２】
上記脂肪族オキシカルボニル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族オキシカルボニル基としては、総炭素原子数２〜８、好ましくは２〜４のアルコキシカルボニル基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、（ｔ）−ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
【００２３】
上記カルバモイル基は、脂肪族基、芳香族基、へテロ環基等を有していてもよい。上記カルバモイル基としては、無置換のカルバモイル基、総炭素数２〜９のアルキルカルバモイル基、好ましくは無置換のカルバモイル基、総炭素原子数２〜５のアルキルカルバモイル基、例えばＮ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基等が挙げられる。
【００２４】
上記脂肪族スルホニル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、芳香族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族スルホニル基としては、総炭素原子数１〜６、好ましくは総炭素原子数１〜４のアルキルスルホニル基、例えばメタンスルホニル等が挙げられる。
【００２５】
上記芳香族スルホニル基は、ヒドロキシ基、脂肪族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記芳香族スルホニル基としては、総炭素原子数６〜１０のアリールスルホニル基、例えばベンゼンスルホニル等が挙げられる。
【００２６】
上記アミノ基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。
【００２７】
上記アシルアミノ基は、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２−ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシルアミノ基としては、総炭素原子数２〜１２、好ましくは総炭素原子数２〜８のアシルアミノ基、より好ましくは総炭素原子数２〜８のアルキルカルボニルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２−ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等が挙げられる。
【００２８】
上記脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基は、例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、２−ピリジンスルホンアミド基等であってもよい。
【００２９】
上記スルファモイル基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記スルファモイル基としては、スルファモイル基、総炭素原子数１〜９のアルキルスルファモイル基、総炭素原子数２〜１０のジアルキルスルファモイル基、総炭素原子数７〜１３のアリールスルファモイル基、総炭素原子数２〜１２のヘテロ環スルファモイル基、より好ましくはスルファモイル基、総炭素原子数１〜７のアルキルスルファモイル基、総炭素原子数３〜６のジアルキルスルファモイル基、総炭素原子数６〜１１のアリールスルファモイル基、総炭素原子数２〜１０のヘテロ環スルファモイル基、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基、４−ピリジンスルファモイル基等が挙げられる。
【００３０】
上記脂肪族オキシ基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、メトキシ基、エトキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メトキシエトキシ基等を有していてもよい。上記脂肪族オキシ基としては、総炭素原子数１〜８、好ましくは１〜６のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メトキシエトキシ基等が挙げられる。
【００３１】
上記芳香族アミノ基、へテロ環アミノ基は、脂肪族基、脂肪族オキシ基、ハロゲン原子、カルバモイル基、該アリール基と縮環したへテロ環基、脂肪族オキシカルボニル基、好ましくは総炭素原子数１〜４の脂肪族基、総炭素原子数１〜４の脂肪族オキシ基、ハロゲン原子、総炭素原子数１〜４のカルバモイル基、ニトロ基、総炭素原子数２〜４の脂肪族オキシカルボニル基を有していてもよい。
【００３２】
上記脂肪族チオ基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、総炭素原子数１〜８、より好ましくは総炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、カルバモイルメチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基等が挙げられる。
【００３３】
上記カルバモイルアミノ基は、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記カルバモイルアミノ基としては、カルバモイルアミノ基、総炭素原子数２〜９のアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３〜１０のジアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数７〜１３のアリールカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３〜１２のヘテロ環カルバモイルアミノ基、好ましくはカルバモイルアミノ基、総炭素原子数２〜７のアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３〜６のジアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数７〜１１のアリールカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３〜１０のヘテロ環カルバモイルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、メチルカルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルアミノ基、フェニルカルバモイルアミノ、４−ピリジンカルバモイルアミノ基等が挙げられる。
【００３４】
本発明は、下記式：
【化４】
2020164551.tif 000005
で示されることを特徴とする化合物である。
【００３５】
式中、Ｒ１は、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合、２つの炭素原子間にカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）−）を含んでもよい。また、上記アルキル基は、炭素数が２以上の場合、上記アルキル基の末端に上記カルボニル基を含むこともできる。すなわち、ＣＨ３−Ｃ（＝Ｏ）−で示されるアセチル基等のアシル基も、上記アルキル基に含まれる。
また、上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を巻くこともできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１において、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して−Ｃ（＝Ｏ）−と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
【００３６】
Ｒ１としての上記アルキル基は、置換基を有してもよい。Ｒ１としての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
【００３７】
上記アルキル基は、また、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１０１（式中、Ｒ１０１はアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【００３８】
式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は２価の連結基である。
Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２及びＲ３を構成する上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
【００３９】
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１０２（式中、Ｒ１０２はアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
【００４０】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、炭素数が合計で６以上である。合計の炭素数としては、８以上が好ましく、９以上がより好ましく、１０以上が更に好ましく、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１５以下が更に好ましい。
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
【００４１】
式中、Ｘは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４はＨ又は有機基である。４つのＲ４は、同一でも異なっていてもよい。Ｒ４としては、Ｈ又は炭素数１〜１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１〜４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
Ｘとしては、Ｈ、金属原子又はＮＲ４４が好ましく、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ４４がより好ましく、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更により好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、ＮＨ４が最も好ましい。
【００４２】
Ｒ１としては、カルボニル基を含まない炭素数１〜８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数３〜８の環状のアルキル基、１〜１０個のカルボニル基を含む炭素数２〜４５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数３〜４５の環状のアルキル基、又は、炭素数が３〜４５の１価若しくは２価の複素環を含むアルキル基が好ましい。
【００４３】
また、Ｒ１としては、下記式：
【化５】
2020164551.tif 000006
（式中、ｎ１１は０〜１０の整数であり、Ｒ１１は炭素数１〜５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜５の環状のアルキル基であり、Ｒ１２は炭素数０〜３のアルキレン基である。ｎ１１が２〜１０の整数である場合、Ｒ１２は各々同じであっても異なっていてもよい。）で示される基がより好ましい。
【００４４】
ｎ１１としては、０〜５の整数が好ましく、０〜３の整数がより好ましく、１〜３の整数が更に好ましい。
【００４５】
Ｒ１１としての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ１１としての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１０３（式中、Ｒ１０３はアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１１としての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
Ｒ１１のアルキル基の炭素数は、１〜２０であってよく、１〜１５が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜１０が更に好ましく、１〜８が更により好ましく、１〜６が殊更好ましく、１〜３が尚更に好ましく、１又は２が特に好ましく、１が最も好ましい。また、上記Ｒ１１のアルキル基は、１級炭素、２級炭素、３級炭素のみで構成されていることが好ましく、１級炭素、２級炭素のみで構成されるのが特に好ましい。すなわち、Ｒ１１としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基が好ましく、特にメチル基が最も好ましい。
【００４６】
Ｒ１１としては、置換基を有してもよい炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３〜１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３〜１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１〜３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（−ＣＨ３）又はエチル基（−Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（−ＣＨ３）が最も好ましい。
【００４７】
Ｒ１１としての上記アルキル基は、置換基を有してもよい。Ｒ１１としての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３〜１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
【００４８】
Ｒ１２は炭素数０〜３のアルキレン基である。上記炭素数は１〜３が好ましい。
Ｒ１２としての上記アルキレン基は、直鎖状又は分岐鎖状であってよい。
Ｒ１２としての上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。Ｒ１２としては、エチレン基（−Ｃ２Ｈ４−）又はプロピレン基（−Ｃ３Ｈ６−）がより好ましい。
Ｒ１２としての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（−ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１０４（式中、Ｒ１０４はアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１２としての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
【００４９】
Ｒ２及びＲ３としては、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１〜３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、エチレン基（−Ｃ２Ｈ４−）又はプロピレン基（−Ｃ３Ｈ６−）が更に好ましい。
【００５０】
上記化合物としては、次の化合物が例示できる。各式中、Ｘは上述のとおりである。
【００５１】
【化６】
2020164551.tif 000007
【００５２】
【化７】
2020164551.tif 000008
【００５３】
【化８】
2020164551.tif 000009
【００５４】
【化９】
2020164551.tif 000010
【００５５】
【化１０】
2020164551.tif 000011
【００５６】
【化１１】
2020164551.tif 000012
【００５７】
【化１２】
2020164551.tif 000013
【００５８】
【化１３】
2020164551.tif 000014
【００５９】
本発明の化合物は、式：
【化１４】
2020164551.tif 000015
（式中、Ｒ３は上述のとおり、Ｅは脱離基である。）で示される化合物（１０）と、リチウム、及び、式：Ｒ２０１３Ｓｉ−Ｃｌ（式中、Ｒ２０１は、独立に、アルキル基又はアリール基である。）で示されるクロロシラン化合物とを反応させて、式：
【化１５】
2020164551.tif 000016
（式中、Ｒ３、Ｒ２０１及びＥは上述のとおりである。）で示される化合物（１１）を得る工程（１１）、
化合物（１１）と、式：
【化１６】
2020164551.tif 000017
（式中、Ｒ１は上述のとおり、Ｒ２１は単結合又は２価の連結基である。）で示されるオレフィンとを反応させて、式：
【化１７】
2020164551.tif 000018
（式中、Ｒ１、Ｒ２１、Ｒ３及びＥは上述のとおりである。）で示される化合物（１２）を得る工程（１２）、
化合物（１２）が有する脱離基を脱離させて、式：
【化１８】
2020164551.tif 000019
（式中、Ｒ１、Ｒ２１及びＲ３は上述のとおりである。）で示される化合物（１３）を得る工程（１３）、及び、
化合物（１３）と、式：
【化１９】
2020164551.tif 000020
（式中、Ｘは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
【化２０】
2020164551.tif 000021
（式中、Ｒ１、Ｒ２１、Ｒ３及びＸは上述のとおりである。）で示される化合物（１４）を得る工程（１４）を含む製造方法により製造できる。
【００６０】
Ｒ１にフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ−トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
【００６１】
工程（１１）では、リチウム及び上記クロロシラン化合物を予め反応させて、シロキシリチウム化合物を得た後、上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０）とを反応させて、化合物（１１）を得ることが好ましい。
【００６２】
Ｅは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
【００６３】
Ｒ２１としては、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
【００６４】
上記クロロシラン化合物としては、例えば、
【化２１】
2020164551.tif 000022
が挙げられる。
【００６５】
工程（１１）におけるいずれの反応も、溶媒中で実施することができる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５−クラウン−５，１８−クラウン−６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
【００６６】
工程（１１）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の温度としては、−７８〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましく、１０〜４０℃が更に好ましく、２０〜３０℃が特に好ましい。
工程（１１）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０）との反応の温度としては、−１００〜０℃が好ましく、−８０〜−５０℃がより好ましい。また、−１００〜１００℃が好ましく、−８０〜５０℃がより好ましい。
【００６７】
工程（１１）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
工程（１１）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０）との反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
【００６８】
工程（１１）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜４８時間がより好ましく、６〜１０時間が更に好ましい。
工程（１１）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０）との反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜２時間がより好ましい。
【００６９】
工程（１２）において、化合物（１１）と上記オレフィンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１１）１モルに対して、上記オレフィンが０．５〜１０モルであることが好ましく、１〜２モルであることがより好ましく、０．６〜５．０モルであることが更に好ましく、１〜１．１モルであることが特に好ましい。
【００７０】
工程（１２）における反応は、チアゾリウム塩及び塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
【００７１】
上記チアゾリウム塩としては、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウムブロミド、３−ベンジル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウムクロリド等が挙げられる。
【００７２】
上記塩基としては、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、トリエチルアミン等が挙げられる。
【００７３】
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール、エーテルが更に好ましい。
【００７４】
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
【００７５】
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５−クラウン−５，１８−クラウン−６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
【００７６】
工程（１２）における反応の温度としては、−７８〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましく、４０〜６０℃が更に好ましく、５０〜５５℃が特に好ましい。
【００７７】
工程（１２）における反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
【００７８】
工程（１２）における反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜４８時間がより好ましく、６〜１０時間が更に好ましい。
【００７９】
工程（１３）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
【００８０】
工程（１３）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
【００８１】
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５−クラウン−５，１８−クラウン−６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
【００８２】
工程（１３）における反応の温度としては、−７８〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましく、０〜４０℃が更に好ましく、０〜２０℃が特に好ましい。
【００８３】
工程（１３）における反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
【００８４】
工程（１３）における反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜４８時間がより好ましく、３〜８時間が更に好ましい。
【００８５】
工程（１４）において、化合物（１３）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１３）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が０．５〜１０．０モルであることが好ましく、０．６〜５．０モルであることがより好ましく、１〜２モルであることが更に好ましく、１〜１．１モルであることが特に好ましい。
【００８６】
工程（１４）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
【００８７】
工程（１４）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，８−ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザ−ビシクロ［４．３．０］−５−ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
【００８８】
工程（１４）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１３）１モルに対して、０．５〜１０モルが好ましく、０．６〜５．０モルがより好ましく、１〜２モルが更に好ましく、１〜１．１モルが特に好ましい。
【００８９】
工程（１４）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
【００９０】
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５−クラウン−５，１８−クラウン−６）等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
【００９１】
工程（１４）における反応の温度としては、−７８〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましく、０〜４０℃が更に好ましく、０〜２０℃が特に好ましい。
【００９２】
工程（１４）における反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
【００９３】
工程（１４）における反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜４８時間がより好ましく、３〜１２時間が更に好ましい。
【００９４】
工程（１４）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（１４）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（１４）を回収してもよい。化合物（１４）が−ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、−ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。
【００９５】
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
【００９６】
本発明の化合物は、また、式：
【化２２】
2020164551.tif 000023
（式中、Ｒ３は上述のとおり、Ｒ２２は１価の有機基、Ｅは脱離基である。）で示されるケトンと、式：
【化２３】
2020164551.tif 000024
（式中、Ｒ１は上述のとおり、Ｒ２３は１価の有機基である。）で示されるカルボン酸エステルとを反応させて、式：
【化２４】
2020164551.tif 000025
（式中、Ｒ１、Ｒ３及びＥは上述のとおり、Ｒ２４は単結合又は２価の連結基である。）で示される化合物（２１）を得る工程（２１）、
化合物（２１）が有する脱離基を脱離させて、式：
【化２５】
2020164551.tif 000026
（式中、Ｒ１、Ｒ２４及びＲ３は上述のとおりである。）で示される化合物（２２）を得る工程（２２）、及び、
化合物（２２）と、式：
【化２６】
2020164551.tif 000027
（式中、Ｘは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
【化２７】
2020164551.tif 000028
（式中、Ｒ１、Ｒ２４、Ｒ３及びＸは上述のとおりである。）で示される化合物（２３）を得る工程（２３）を含む製造方法により製造できる。
【００９７】
Ｒ１にフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ−トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
【００９８】
Ｅは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
【００９９】
Ｒ２２としては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ２３としては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ２４としては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基（−ＣＨ２−）がより好ましい。
【０１００】
工程（２１）における反応は、塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
【０１０１】
上記塩基としては、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等が挙げられる。
【０１０２】
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール、エーテルが更に好ましい。
【０１０３】
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
【０１０４】
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５−クラウン−５，１８−クラウン−６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
【０１０５】
工程（２１）における反応の温度としては、−７８〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましく、０〜４０℃が更に好ましく、０〜２０℃が特に好ましい。
【０１０６】
工程（２１）における反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
【０１０７】
工程（２１）における反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜４８時間がより好ましく、３〜８時間が更に好ましい。
【０１０８】
工程（２２）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
【０１０９】
工程（２２）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
【０１１０】
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５−クラウン−５，１８−クラウン−６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
【０１１１】
工程（２２）における反応の温度としては、−７８〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましく、０〜４０℃が更に好ましく、０〜２０℃が特に好ましい。
【０１１２】
工程（２２）における反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
【０１１３】
工程（２２）における反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜４８時間がより好ましく、３〜８時間が更に好ましい。
【０１１４】
工程（２３）において、化合物（２２）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（２２）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が０．５〜１０モルであることが好ましく、０．６〜５．０モルであることがより好ましく、１〜２モルであることが更に好ましく、１〜１．１モルであることが特に好ましい。
【０１１５】
工程（２３）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
【０１１６】
工程（２３）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，８−ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザ−ビシクロ［４．３．０］−５−ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
【０１１７】
工程（２３）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（２２）１モルに対して、０．５〜１０モルが好ましく、０．６〜５．０モルがより好ましく、１〜２モルが更に好ましく、１〜１．１モルが特に好ましい。
【０１１８】
工程（２３）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
【０１１９】
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５−クラウン−５，１８−クラウン−６）等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
【０１２０】
工程（２３）における反応の温度としては、−７８〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましく、０〜４０℃が更に好ましく、０〜２０℃が特に好ましい。
【０１２１】
工程（２３）における反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
【０１２２】
工程（２３）における反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜４８時間がより好ましく、３〜１２時間が更に好ましい。
【０１２３】
工程（２３）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（２３）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（２３）を回収してもよい。化合物（２３）が−ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、−ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。
【０１２４】
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
【０１２５】
本発明の化合物は、また、式：Ｙ−Ｒ３−ＯＥ
（式中、Ｒ３は上述のとおり、Ｙはハロゲン原子、Ｅは脱離基である。）で示されるハロゲン化アルキルと、式：
【化２８】
2020164551.tif 000029
（式中、Ｒ１は上述のとおりである。）で示されるリチウムアセチリドとを反応させて、式：
【化２９】
2020164551.tif 000030
（式中、Ｒ１、Ｒ３及びＥは上述のとおりである。）で示される化合物（３１）を得る工程（３１）、
化合物（３１）を酸化して、式
【化３０】
2020164551.tif 000031
（式中、Ｒ１、Ｒ３及びＥは上述のとおりである。）で示される化合物（３２）を得る工程（３２）、
化合物（３２）が有する脱離基を脱離させて、式：
【化３１】
2020164551.tif 000032
（式中、Ｒ１及びＲ３は上述のとおりである。）で示される化合物（３３）を得る工程（３３）、及び、
化合物（３３）と、式：
【化３２】
2020164551.tif 000033
（式中、Ｘは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
【化３３】
2020164551.tif 000034
（式中、Ｒ１、Ｒ３及びＸは上述のとおりである。）で示される化合物（３４）を得る工程（３４）を含む製造方法により製造できる。
【０１２６】
Ｒ１にフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ−トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
【０１２７】
Ｅは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
【０１２８】
工程（３１）において、上記ハロゲン化アルキルと上記リチウムアセチリドとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記ハロゲン化アルキル１モルに対して、上記リチウムアセチリドが０．５〜１０モルが好ましく、０．６〜５．０モルがより好ましく、１〜２モルが更に好ましく、１〜１．２モルが特に好ましい。
【０１２９】
工程（３１）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、ヘキサンが好ましい。
【０１３０】
工程（３１）における反応の温度としては、−１００〜−４０℃が好ましく、−８０〜−５０℃がより好ましい。また、−１００〜１００℃が好ましく、−８０〜５０℃がより好ましい。
【０１３１】
工程（３１）における反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
【０１３２】
工程（３１）における反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜４８時間がより好ましく、６〜１０時間が更に好ましい。
【０１３３】
工程（３２）における酸化は、［（Ｃｎ＊）ＲｕＩＩＩ（ＣＦ３ＣＯ２）３］・Ｈ２Ｏ（式中、Ｃｎ＊は１，４，７−トリメチルー１，４，７−トリアザビシクロノナンを表す）を、（ＮＨ４）２Ｃｅ（ＮＯ３）６及びトリフルオロ酢酸で処理した後、過塩素酸ナトリウムを添加することにより生じる錯体を使用して、ニトリル系溶媒中で実施できる。
【０１３４】
酸化終了後に、アルカリにより中和し、エーテル等の有機溶媒を使用して化合物（３２）を抽出してもよい。
【０１３５】
工程（３２）における反応の温度としては、−７８〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましく、３０〜１００℃が更に好ましく、４０〜９０℃が特に好ましい。
【０１３６】
工程（３２）における反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
【０１３７】
工程（３２）における反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜４８時間がより好ましく、３〜８時間が更に好ましい。
【０１３８】
工程（３３）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
【０１３９】
工程（３３）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
【０１４０】
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５−クラウン−５，１８−クラウン−６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
【０１４１】
工程（３３）における反応の温度としては、−７８〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましく、０〜４０℃が更に好ましく、０〜２０℃が特に好ましい。
【０１４２】
工程（３３）における反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
【０１４３】
工程（３３）における反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜４８時間がより好ましく、３〜８時間が更に好ましい。
【０１４４】
工程（３４）において、化合物（３３）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３３）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が０．５〜１０モルが好ましく、０．６〜５．０モルがより好ましく、１〜２モルが更に好ましく、１〜１．１モルが特に好ましい。
【０１４５】
工程（３４）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
【０１４６】
工程（３４）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，８−ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザ−ビシクロ［４．３．０］−５−ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
【０１４７】
工程（３４）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３３）１モルに対して、０．５〜１０モルが好ましく、０．６〜５．０モルがより好ましく、１〜２モルが更に好ましく、１〜１．１モルが特に好ましい。
【０１４８】
工程（３４）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
【０１４９】
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５−クラウン−５，１８−クラウン−６）等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
【０１５０】
工程（３４）における反応の温度としては、−７８〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましく、０〜４０℃が更に好ましく、０〜２０℃が特に好ましい。
【０１５１】
工程（３４）における反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
【０１５２】
工程（３４）における反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜４８時間がより好ましく、３〜１２時間が更に好ましい。
【０１５３】
工程（３４）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（３４）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（３４）を回収してもよい。化合物（３４）が−ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、−ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。
【０１５４】
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
【０１５５】
本発明の化合物は、また、式：
【化３４】
2020164551.tif 000035
（式中、Ｒ１は上述のとおり、Ｒ２１は単結合又は２価の連結基である。）で示されるアルケンと、式：
【化３５】
2020164551.tif 000036
（式中、Ｙ５１はアルコキシル基である。）で示されるアルキンとを反応させて、式：
【化３６】
2020164551.tif 000037
（式中、Ｒ１及びＲ２１は上述のとおりである。）
で示される化合物（４１）を得る工程（４１）、及び、
化合物（４１）に、式：
【化３７】
2020164551.tif 000038
（式中、Ｘは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
【化３８】
2020164551.tif 000039
（式中、Ｒ１、Ｒ２１及びＸは上述のとおりである。）で示される化合物（４２）を得る工程（４２）を含む製造方法により製造できる。
【０１５６】
Ｒ１にフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ−トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
【０１５７】
Ｒ２１としては、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
【０１５８】
工程（４１）において、上記アルケンと上記アルキンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルキン１モルに対して、上記アルケンが０．５〜１０モルが好ましく、０．６〜５．０モルがより好ましく、０．５〜２モルが更に好ましく、０．６〜１．２モルが特に好ましい。
【０１５９】
工程（４１）における反応は、金属触媒存在下に実施することが好ましい。上記金属としては、ルテニウム等があげられる。
【０１６０】
工程（４１）における上記金属触媒の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルケン１モルに対して、０．００００１〜０．４モルが好ましく、０．００００５〜０．１モルがより好ましく、０．０１〜０．４モルが更に好ましく、０．０５〜０．１モルが特に好ましい。
【０１６１】
工程（４１）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドが好ましい。
【０１６２】
工程（４１）における反応の温度としては、２０〜１６０℃が好ましく、４０〜１４０℃がより好ましい。
【０１６３】
工程（４１）における反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
【０１６４】
工程（４１）における反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜４８時間がより好ましく、４〜８時間が更に好ましい。
【０１６５】
工程（４２）において、化合物（４１）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（４１）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が０．５〜１０モルが好ましく、０．６〜５．０モルがより好ましく、１〜２モルが更に好ましく、１〜１．１モルが特に好ましい。
【０１６６】
工程（４２）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
【０１６７】
工程（４２）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，８−ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザ−ビシクロ［４．３．０］−５−ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
【０１６８】
工程（４２）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（４１）１モルに対して、０．５〜１０モルが好ましく、０．６〜５．０モルがより好ましく、１〜２モルが更に好ましく、１〜１．１モルが特に好ましい。
【０１６９】
工程（４２）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
【０１７０】
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５−クラウン−５，１８−クラウン−６）等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
【０１７１】
工程（４２）における反応の温度としては、−７８〜１５０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましく、０〜４０℃が更に好ましく、０〜２０℃が特に好ましい。
【０１７２】
工程（４２）における反応の圧力としては、０．１〜５ＭＰａが好ましく、０．１〜１ＭＰａがより好ましい。
【０１７３】
工程（４２）における反応の時間としては、０．１〜７２時間が好ましく、１〜４８時間がより好ましく、３〜１２時間が更に好ましい。
【０１７４】
工程（４２）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（４２）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（４２）を回収してもよい。化合物（４２）が−ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、−ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。
【０１７５】
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
【実施例】
【０１７６】
つぎに本発明を実施例をあげて説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
【０１７７】
実施例の各数値は以下の方法により測定した。
【０１７８】
実施例１
リチウム（２．０ｇ）、ジメチルフェニルクロロシラン（８．４ｇ）、テトラヒドロフラン（１２０ｍＬ）混合物を室温下、６時間撹拌した。反応液に４−（ｔｅｒｔブチルジメチルシロキシ）−１−モルホリノブタン−１−オン（１０ｇ）を加え、−７８℃で２時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（３００ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシロキシ）−１−（ジメチル（フェニル）シリル）ブタン−１−オン（６．４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δｐｐｍ：−０．０１（ｓ，６Ｈ）、０．４９（ｓ，６Ｈ）、０．８５（ｓ，９Ｈ）、１．６１−１．７１（ｍ，２Ｈ）、２．６６（Ｊ＝７．０，ｔ，２Ｈ）、３．５１（Ｊ＝６．２，ｔ，２Ｈ）、７．３８−７．４０（ｍ，３Ｈ），７．５３−７．５７（ｍ，２Ｈ）
【０１７９】
４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシロキシ）−１−（ジメチル（フェニル）シリル）ブタン−１−オン（６．４ｇ）、１−オクテン−３−オン（２．４１ｇ）、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウムブロミド（１．４２ｇ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（０．８６ｇ）、イソプロパノール（３．１７ｇ）、テトラヒドロフラン（１１．５ｍＬ）混合物を７５℃下８時間撹拌した。反応液を減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシロキシドデカン−４，７−ジオン（４．０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δｐｐｍ：０．０２（ｓ，６Ｈ）、０．８８（ｓ，１２Ｈ）、１．２２−１．３１（ｍ，４Ｈ）、１．５１−１．５９（ｍ，２Ｈ）、１．７２−１．８３（ｍ，２Ｈ）、２．４３（Ｊ＝７．６，ｔ，２Ｈ）、２．５５（Ｊ＝７．６，ｔ，２Ｈ），２．６７（ｓ，４Ｈ）、３．５９（Ｊ＝５．９，ｔ，２Ｈ）
【０１８０】
１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシロキシドデカン−４，７−ジオン（１．９ｇ）、テトラブチルアンモニウムフルオリド  １Ｍテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ）、テトラヒドロフラン（１７．５ｍＬ）の混合物を０℃下２時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム溶液（１００ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、１−ヒドロキシドデカン−４，７−ジオン（２．０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δｐｐｍ：０．８９（ｓ，３Ｈ）、１．２４−１．３３（ｍ，４Ｈ）、１．５２−１．５８（ｍ，２Ｈ）、１．８１−１．９０（ｍ，２Ｈ）、２．４５（Ｊ＝７．６，ｔ，２Ｈ）、２．６３（Ｊ＝７．０，ｔ，２Ｈ），２．７６（ｓ，４Ｈ）、３．６５（Ｊ＝５．９，ｔ，２Ｈ）
【０１８１】
１−ヒドロキシドデカン−４，７−ジオン（１．９ｇ）、塩化スルホン酸（１．３ｇ）、トリエチルアミン（１．７９ｇ）、ジエチルエーテル（３０ｍＬ）の混合物を室温下２時間撹拌した。反応液に１０％炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍＬを加え、水相を酢酸エチルで洗い減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣を脱イオン水２０ｍＬに溶解後、アセトン１００ｍＬを加え沈殿物を除去した。濾液を減圧下で溶媒留去し、残渣をメタノールで抽出した。抽出溶液を減圧下で溶媒留去し、４，７−ジオキソドデシル硫酸ナトリウム（２．４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）  δｐｐｍ：０．６７（Ｊ＝６．８，ｔ，３Ｈ）、１．０４−１．１４（ｍ，４Ｈ）、１．３１−１．４２（ｍ，２Ｈ）、１．７２−１．７９（ｍ，２Ｈ）、２．３６（Ｊ＝７．３，ｔ，２Ｈ）、２．５４（Ｊ＝７．３，ｔ，２Ｈ），２．６２（ｓ，４Ｈ）、３．８６（Ｊ＝６．２，ｔ，２Ｈ）
【０１８２】
４，７−ジオキソドデシル硫酸ナトリウムを表１に記載の濃度になるように水に溶解させ、表面張力を測定した。上記表面張力は、２０℃で、ウィルヘルミー法により測定した。結果を表１に示す。
【０１８３】
【表１】
2020164551.tif 000040
【０１８４】
実施例２
ジビニルケトン（７．４ｇ）、２−メチルフラン（８．０ｇ）、酢酸（６ｍＬ）、水（６０  ｍＬ）を４０℃で４時間撹拌した。反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液に加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、１−（５−メチル−２−フラニル）−３−ブテン−２−オン（７．４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δｐｐｍ：５．８８（ｄｄ，Ｊ＝１７．４，１０．６，２Ｈ）、６．３２（ｄｄ，Ｊ＝１７．４，１．３，２Ｈ）、５．８８（ｄｄ，Ｊ＝１０．６，１．３，２Ｈ）
【０１８５】
１−（５−メチル−２−フラニル）−３−ブテン−２−オン（１．７ｇ）、４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシロキシ）−１−（ジメチル（フェニル）シリル）ブタン−１−オン（４．８ｇ）、３−エチル−５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウムブロミド（１．４２ｇ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（０．６６ｇ）、イソプロパノール（３．４ｇ）、テトラヒドロフラン（１１．５ｍＬ）混合物を７５℃下８時間撹拌した。反応液を減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、８−（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）−１−（５−メチルフラン−２−ニル）オクタン−２，５−ジオン（１．９ｇ）を得た。
【０１８６】
８−（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）−１−（５−メチルフラン−２−ニル）オクタン−２，５−ジオン（１．９ｇ）、テトラブチルアンモニウムフルオリド  １Ｍテトラヒドロフラン溶液（７ｍＬ）、テトラヒドロフラン（５ｍＬ）の混合物を０℃下２時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム溶液（１００ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、８−ヒドロキシ−１−（５−メチルフラン−２−ニル）オクタン２，５−ジオン（１．０ｇ）を得た。
【０１８７】
８−ヒドロキシ−１−（５−メチルフラン−２−ニル）オクタン２，５−ジオン（１．０ｇ）、塩化スルホン酸（０．５ｇ）、トリエチルアミン（０．８ｇ）、ジエチルエーテル（１０ｍＬ）の混合物を室温下２時間撹拌した。反応液に１０％炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍＬを加え、水相を酢酸エチルで洗い減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣を脱イオン水２０ｍＬに溶解後、アセトン１００ｍＬを加え沈殿物を除去した。濾液を減圧下で溶媒留去し、残渣をメタノールで抽出した。抽出溶液を減圧下で溶媒留去し、９−（５−メチルフラン−２−ニル）−４，７−ジオキソノニル硫酸ナトリウム（０．８ｇ）を得た。
【０１８８】
９−（５−メチルフラン−２−ニル）−４，７−ジオキソノニル硫酸ナトリウム（０．８ｇ）、１Ｍ塩酸（３ｍＬ）の混合物を１００℃の条件下で１時間撹拌した。反応液にＮａＯＨ水溶液（０．２Ｍ）を加えて中和し濃縮。アセトン／水により再沈殿法により精製し、４，７，１０，１３−テトラオキソテトラデシル硫酸ナトリウム（０．７５ｇ）を得た。
【０１８９】
４，７，１０，１３−テトラオキソテトラデシル硫酸ナトリウムを表２に記載の濃度になるように水に溶解させ、表面張力を測定した。上記表面張力は、２０℃で、ウィルヘルミー法により測定した。結果を表２に示す。
【０１９０】
【表２】
2020164551.tif 000041
【産業上の利用可能性】
【０１９１】
本発明の化合物は、好適に水の表面張力を低下させることができる。
本発明の化合物は、界面活性剤として好適に使用できる。
本発明の化合物は、界面促進剤（特に、塗料、ラッカー、又は接着剤等における界面促進剤）として好適に使用できる。
本発明の化合物は、また例えば、粘性低下剤として好適に使用できる。
本発明の化合物は、また例えば、分散剤、特に水系分散剤として好適に使用できる。
本発明の化合物は、また例えば、乳化剤として好適に使用できる。