(57)【要約】【課題】本発明の課題は、赤外線に対する高い反射率を有し、密着性及び耐久性が向上し、かつ反射光均一性に優れた光反射成型体を提供することである。【解決手段】本発明の光反射成型体は、光反射フィルムと基板より構成され、前記光反射フィルムが、少なくとも保護層、無機微粒子を含有する低屈折率層及び高屈折率層が交互の積層されている光反射層ユニット、及び接着層をこの順で構成され、かつ前記光反射層ユニットと前記基板とが、前記接着層を介して接着していることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも光反射フィルムと基板より構成される光反射成型体であって、
前記光反射フィルムが、少なくとも保護層、無機微粒子を含有する低屈折率層及び高屈折率層が交互の積層されている光反射層ユニット、及び接着層をこの順で構成され、かつ前記光反射層ユニットと前記基板とが、前記接着層を介して接着していることを特徴とする光反射成型体。
【請求項２】
前記光反射フィルムを構成する前記光反射層ユニットが、２層の前記保護層により挟持されていることを特徴とする請求項１に記載の光反射成型体。
【請求項３】
前記光反射層ユニットを構成する低屈折率層及び高屈折率層の総数が４０層以上であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光反射成型体。
【請求項４】
前記接着層が樹脂成分を含有し、前記樹脂成分のヒドロキシ価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、又は酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光反射成型体。
【請求項５】
前記接着層が含有する樹脂成分が、エポキシ樹脂であることを特徴とする請求項４に記載の光反射成型体。
【請求項６】
赤外線を反射することを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の光反射成型体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光反射フィルム及び基板より構成されている光反射成型体に関し、より詳しくは、赤外線に対する高い反射率を有し、密着性及び耐久性が向上した光反射成型体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、建築用窓ガラスや車両用窓ガラスにおいて、室内又は車内に入る太陽輻射エネルギーを遮蔽又は反射して、室内や車内の温度上昇、冷房負荷を低減する目的で、屈折率の異なる層を積層して形成した光反射フィルムを窓ガラスに貼付し、太陽光中の熱線の透過を遮断する、又は反射させる方法が、例えば、特許文献１及び特許文献２に開示されている。
【０００３】
近年、特定波長の光を反射する光反射フィルムを樹脂フィルム上に形成して、特徴ある反射色を有する光反射体を作製する試みがなされている。
【０００４】
従来知られている、高屈折率層と低屈折率層とを、それぞれ光学的厚さに調整して積層した光反射層ユニットをポリエチレンテレフタレート等の透明樹脂フィルム上に積層させた光反射フィルムは、例えば、水系重層多層塗布方式で光反射層ユニットを形成する場合、各屈折率層は、主に、ポリビニルアルコール等の親水性樹脂と無機微粒子により構成され、各層の厚さや層数、又は屈折率を調整することにより、可視光線を透過し、特定の波長の光、例えば、近赤外線を選択的に反射することができるものである。
【０００５】
このような構成の光反射層ユニットを有する光反射フィルムを、保持基板とともに成型して光反射成型体を形成しようとする場合、光反射フィルムとしては耐熱性が高く、成型時の熱で構成層が乱れることはないが、基板として疎水性樹脂を使用した場合、光反射層ユニットとの密着性が低下し、かつ十分な光反射性能を得ることができなかった。
【０００６】
一方、異種のポリマー、例えば、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレートと、シクロヘキサンジメタノールを共重合したポリエステルとを、光の波長レベルの層厚で交互に数百〜数千層積層した積層フィルムであり、光の干渉現象を利用して、光の反射／透過の波長選択性を有する積層フィルムが開示されている（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、このような積層フィルムは、成型時の熱により積層されている層が乱れ、その結果、反射波形が変動してしまうため、厚膜の基板と一緒に成型するなどの制約が大きい。また、このような積層フィルムは、多層数の界面での光干渉を利用しているため、フィルム表面での干渉縞が発生しやすく、均一の光反射性能を得難いという問題を抱えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１２−２１５７３３号公報
【特許文献２】特開２０１６−１３９１５８号公報
【特許文献３】特開２０１２−１１６０４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、赤外線に対する高い反射率を有し、密着性及び耐久性が向上し、かつ反射光均一性に優れた光反射成型体に関する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題を解決すべく上記問題の原因等について検討した結果、少なくとも光反射フィルムと基板より構成され、前記光反射フィルムが、少なくとも保護層、複数の層が積層された光反射層ユニット、及び接着層で構成され、かつ前記光反射層ユニットと前記基板とが、前記接着層を介して接着していることを特徴とする光反射成型体により、赤外線に対する高い反射率を有し、密着性及び耐久性が向上し、かつ反射光均一性に優れた光反射成型体を実現することができることを見いだし、本発明に至った。
【００１０】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１１】
１．少なくとも光反射フィルムと基板より構成される光反射成型体であって、
前記光反射フィルムが、少なくとも保護層、無機微粒子を含有する低屈折率層及び高屈折率層が交互の積層されている光反射層ユニット、及び接着層をこの順で構成され、かつ前記光反射層ユニットと前記基板とが、前記接着層を介して接着していることを特徴とする光反射成型体。
【００１２】
２．前記光反射フィルムを構成する前記光反射層ユニットが、２層の前記保護層により挟持されていることを特徴とする第１項に記載の光反射成型体。
【００１３】
３．前記光反射層ユニットを構成する低屈折率層及び高屈折率層の総数が４０層以上であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の光反射成型体。
【００１４】
４．前記接着層が樹脂成分を含有し、前記樹脂成分のヒドロキシ価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、又は酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光反射成型体。
【００１５】
５．前記接着層が含有する樹脂成分が、エポキシ樹脂であることを特徴とする第４項に記載の光反射成型体。
【００１６】
６．赤外線を反射することを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の光反射成型体。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の上記手段により、特定の波長に対する高い反射率を有し、密着性及び耐久性が向上し、かつ反射光均一性に優れた光反射成型体を提供することができる。
【００１８】
本発明の効果の発現機構・作用機構については明確になっていないが、以下のように推察している。
【００１９】
光反射層ユニットはポリビニルアルコール及び無機微粒子が主体で構成されており、一般的な成型体で使用される疎水性樹脂との密着性が悪い。基板と光反射層ユニット間に接着層を設けることにより、相性の悪い２層を接着させることができる。また、光反射層ユニット上に接着層を設けることで、光学干渉を増強させることができるピーク反射率を１０％近く上昇させることができることを見いだした。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の光反射成型体の構成の第１例を示す概略断面図
【図２】本発明の光反射成型体の構成の第２例を示す概略断面図
【図３】本発明の光反射成型体の第２例の製造方法の一例を示す概略工程図
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の光反射成型体は、少なくとも光反射フィルムと基板より構成され、前記光反射フィルムが、少なくとも保護層、無機微粒子を含有する低屈折率層及び高屈折率層が交互の積層されている光反射層ユニット、及び接着層をこの順で構成され、かつ前記光反射層ユニットと前記基板とが、前記接着層を介して接着していることを特徴とする。この特徴は、下記各実施形態に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００２２】
本発明の光反射成型体においては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、光反射フィルムを構成する前記光反射層ユニットが、２層の前記保護層により挟持されている構成とすることが、製造時の構成層の変形(例えば、折れジワ等)をより抑制することができ、より均一な層から構成される光反射成型体を得ることができる。
【００２３】
また、光反射層ユニットを構成する低屈折率層及び高屈折率層の総数を４０層以上とすることが、より優れた反射特性を得ることができる点で好ましい。
【００２４】
また、前記接着層が樹脂成分を含有し、樹脂成分として、ヒドロキシ価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、又は酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である樹脂成分を選択すること、更には樹脂成分としてエポキシ樹脂を選択するにより、より密着性に優れた光反射成型体を得ることができる点で好ましい。
【００２５】
また、本発明の光反射成型体は、赤外線を反射する特性を備えていることが好ましい。
【００２６】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、数値範囲を表す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００２７】
《光反射フィルムの基本構成》
本発明の光反射成型体は、少なくとも保護層、無機微粒子を含有する低屈折率層及び高屈折率層が交互の積層されている光反射層ユニット、接着層及び基板をこの順で構成されていることを特徴とする。
【００２８】
以下、本発明の光反射成型体の代表的な構成例について、図を参照して説明する。ただし、本発明はここで例示する構成にのみ限定されるものではない。なお、各図の説明において、構成要素の末尾の括弧内に記載した数字等は、各図における符号を表す。
【００２９】
（光反射成型体の第１の構成例）
図１は、本発明の光反射成型体の構成の第１例を示す概略断面図である。
【００３０】
図１において、第１例目の本発明の光反射成型体（１）は、基板（２）上に、接着層（３）を介して、屈折率の異なる２層以上の層を積層して構成されている、具体的には、無機微粒子を含有する低屈折率層と高屈折率層とが交互の積層された光反射層ユニット（４）が形成され、最表層に、保護層（５）を有する構成である。
【００３１】
本発明では、少なくとも接着層（３）、光反射層ユニット（４）及び保護層（５）で構成されている積層体を、光反射フィルム（Ｆ）と称す。
【００３２】
〈光反射層ユニット〉
本発明に係る光反射層ユニット（４）は、無機微粒子を含有する低屈折率層と高屈折率層とが交互の積層された積層体であるが、「低屈折率層」及び「高屈折率層」なる用語は、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が低い方の屈折率層を低屈折率層とし、高い方の屈折率層を高屈折率層と定義する。したがって、「低屈折率層」及び「高屈折率層」なる用語は、光反射フィルムを構成する各屈折率層において、隣接する二つの屈折率層に着目した場合に、各屈折率層が同じ屈折率を有する形態以外のあらゆる形態を含むものである。
【００３３】
（光反射成型体の第２の構成例）
図２は、本発明の光反射成型体の構成の第２例を示す概略断面図である。
【００３４】
図２に示す第２例の構成は、第１例（図１）で示す構成に対し、光反射フィルムを構成する光反射層ユニット（４Ａ及び４Ｂ）を、２層の保護層（５Ａ及び５Ｂ）挟持する構成であることを特徴とする。
【００３５】
具体的には、図２で示すように、基板（２）上に接着層（３）を介して、第２保護層（５Ｂ）、無機微粒子を含有する低屈折率層と高屈折率層とが交互の積層された２つの光反射層ユニット（４Ａ及び４Ｂ）が形成され、最表層に第１保護層（５Ａ）が配置されている構成である。
【００３６】
《光反射成型体の基本的な作製方法》
〔第１例の光反射成型体の作製方法〕
図１で示す構成の第１例の光反射成型体においては、最表層である保護層（５）側から順次積層して作製する方法が好ましい。すなわち、第１ステップで光反射フィルム（Ｆ）を作製し、最後に、接着層（３）を介して基板（２）と貼合する方法である。
【００３７】
具体的には、保護層（５）として、例えば、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）上に、主に無機微粒子とバインダー樹脂より構成される低屈折率層及び高屈折率層が交互に積層されている光反射層ユニット（４）を、例えば、各屈折率層形成用塗布液を用いて湿式塗布方式により多層同時重層塗布して形成する。次いで、光反射層ユニット（４）上に、接着層形成用塗布液を塗設して、接着層（３）を形成して、光反射フィルム（Ｆ）を作製する。
【００３８】
最後に、光反射フィルム（Ｆ）を構成する接着層（３）上に、基板（２）、例えば、ポリカーボネート板を付与し、積層体全体に圧力及び熱を付与して熱貼合して、光反射成型体（１）を形成する。
【００３９】
〔第２例の光反射成型体の作製方法〕
次いで、図２で示す第２例の光反射成型体の作製工程について、図３を用いて説明する。
【００４０】
図３は、本発明の光反射成型体の第２例の製造方法の一例を示す概略工程図である。
【００４１】
図２の説明では、光反射層ユニット（４）は１ユニットとして説明したが、具体的な製造方法としては、光反射層ユニットは４Ａ及び４Ｂの二つに分割して形成する方法が好ましい。例えば、低屈折率層及び高屈折率層を交互に積層して、４２層の光反射層ユニットを形成する場合、保護層上に２２層の光反射層ユニットを形成したセットと、保護層上に２１層の光反射層ユニットを形成したセットと準備し、それぞれの最表層の屈折率層が対向する位置で貼合して、保護層／光反射層ユニット（４３層）／保護層の積層体を作製する。
【００４２】
具体的な第２例の製造フローについて説明する。
【００４３】
図３に示すように、下記に説明するステップ１〜ステップ５を経て製造する方法が好ましい。
【００４４】
ステップ１：一方のブロックとして、保護層（５Ａ）上に、低屈折率層／高屈折率層／・・・／低屈折率層／高屈折率層の構成で計２２層の第１光反射層ユニット（４Ａ）を形成して、ブロックＡを作製する。同様に、他方のブロックとして、保護層（５Ｂ）上に、低屈折率層／高屈折率層／・・・／低屈折率層の構成で計２１層の第２光反射層ユニット（４Ｂ）を形成して、ブロックＢを作製する。
【００４５】
ステップ２：上記作製したブロックＡとブロックＢのそれぞれの最表層の屈折率層面同士が接するような配置で貼合して、保護層（５Ａ）／第１光反射層ユニット（４Ａ）／第２光反射層ユニット（４Ｂ）／保護層（５Ｂ）から構成される積層体を形成する。
【００４６】
ステップ３：次いで、ステップ２で作製した積層体の保護層（５Ｂ）上に、接着層形成用塗布液を塗設して、接着層（３）を形成して、光反射フィルム（Ｆ）を作製する。
【００４７】
ステップ４：光反射フィルム（Ｆ）を構成する接着層（３）上に、基板（２）を付与して光反射成型体（１）を作製する。
【００４８】
ステップ５：上記作製した光反射成型体（１）の構成層間の接着性を向上させるため、所定の温度範囲で加熱処理を施して、貼合する。
【００４９】
《光反射フィルムの構成材料》
〔保護層〕
本発明の光反射成型体に適用する保護層の構成としては、特に制限はないが、透明樹脂フィルム、又はハードコート層を適用することが好ましい。
【００５０】
（透明樹脂フィルム）
本発明の光反射成型体の保護層に用いられる透明樹脂フィルムとしては、透明な有機材料で形成された樹脂フィルムであれば、特に限定されるものではない。
【００５１】
本発明に係る保護層に適用可能な透明樹脂フィルムとしては、例えば、ポリオレフィンフィルム（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリ塩化ビニル、３酢酸セルロース等のセルロース系フィルム、シクロオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム（以降ポリエステルと称す）としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや１，４−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と２，６−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、及びこれらのポリエステルの２種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などが好ましく用いられる。
【００５２】
透明樹脂フィルムの厚さは、３００μｍ未満であることが好ましく、５〜２００μｍの範囲内であることがより好ましく、さらに好ましくは１５〜１５０μｍの範囲内である。樹脂フィルムは、２枚以上を重ねたものであってもよく、この際、樹脂フィルムの種類は同じでもよいし異なっていてもよい。
【００５３】
また、透明樹脂フィルムは、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６：１９９８で示される可視光領域の透過率としては８５％以上であることが好ましく、特に９０％以上であることが好ましい。透明樹脂フィルムが上記透過率以上であることにより、光反射フィルムとしたときのＪＩＳ  Ｒ  ３１０６：１９９８で示される可視光領域の透過率を５０％以上にするという点で有利であり、好ましい。
【００５４】
また、上記透明樹脂フィルムは、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。強度向上、熱膨張抑制の点から延伸フィルムが好ましい。
【００５５】
透明樹脂フィルムは、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押出機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の基材を製造することができる。また、未延伸の基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、基材の流れ（縦軸）方向、又は基材の流れ方向と直角（横軸）方向に延伸することにより延伸基材を製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ２〜１０倍が好ましい。
【００５６】
また、透明樹脂フィルムは、寸法安定性の点で弛緩処理、オフライン熱処理を行ってもよい。弛緩処理は前記ポリエステルフィルムの延伸製膜工程中の熱固定した後、横延伸のテンター内、又はテンターを出た後の巻き取りまでの工程で行われるのが好ましい。弛緩処理は処理温度が８０〜２００℃で行われることが好ましく、より好ましくは処理温度が１００〜１８０℃である。また長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が０．１〜１０％の範囲で行われることが好ましく、より好ましくは弛緩率が２〜６％で処理されることである。弛緩処理された基材は、下記のオフライン熱処理を施すことにより耐熱性が向上し、さらに、寸法安定性が良好になる。
【００５７】
（ハードコート層）
保護層としてハードコート層を適用することにより、光反射成型体の傷を防止する機能を有する。ハードコート層は、ハードコート剤を含み、更に必要に応じてその他の添加剤をさらに含んでもよい。
【００５８】
ハードコート剤としては、活性エネルギー線硬化樹脂が用いられる。その他、必要に応じて前記活性エネルギー線硬化樹脂とともに熱硬化樹脂等を用いてもよい。なお、本明細書において、「活性エネルギー線」とは、紫外線や電子線等の活性線を表し、好ましくは紫外線を意味する。
【００５９】
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、特に制限されないが、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含むものであることが好ましく、紫外線硬化性樹脂であることがより好ましい。当該紫外線硬化樹脂としては、特に制限されないが、紫外線硬化型ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、紫外線硬化型エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリオール（メタ）アクリレート樹脂等が挙げられる。これらのうち、紫外線硬化型（メタ）アクリレート系樹脂を用いることが好ましい。
【００６０】
紫外線硬化型ウレタン（メタ）アクリレート樹脂は、ポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー又はプレポリマーを反応させて得られた生成物に、さらに２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載のユニディック１７−８０６（ＤＩＣ株式会社製）１００部とコロネートＬ（東ソー社製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【００６１】
紫外線硬化型ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂は、ポリエステル末端のヒドロキシ基やカルボキシ基に、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸等のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報）。
【００６２】
紫外線硬化型エポキシ（メタ）アクリレート樹脂は、エポキシ樹脂の末端のヒドロキシ基に、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸クロライド、グリシジル（メタ）アクリレート等のモノマーを反応させることによって得ることができる。例えばユニディックＶ−５５００（ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。
【００６３】
紫外線硬化型ポリオール（メタ）アクリレート樹脂としては、特に制限されないが、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６４】
熱硬化性樹脂としては、特に制限されないが、ポリシロキサン等の無機系材料が挙げられる。
【００６５】
上述の樹脂は、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
【００６６】
ハードコート剤は、上記樹脂を硬化させて得ることができる。硬化方法としては、熱、活性エネルギー線照射等が挙げられるが、硬化温度、硬化時間、コスト等の観点から活性エネルギー線照射であることが好ましい。
【００６７】
活性エネルギー線硬化性樹脂に、活性エネルギー線を照射することで、架橋反応等を経て活性エネルギー線硬化性樹脂が硬化し、ハードコート剤となる。
【００６８】
ハードコート層には、必要に応じて公知の添加剤を使用することができる。好ましい添加剤としては、赤外線を吸収若しくは反射できる色素又は顔料が挙げられる。
【００６９】
ハードコート層の厚さは、１〜１０μｍの範囲内が好ましく、さらに好ましくは２〜５μｍの範囲内である。
【００７０】
〔光反射層ユニットの主要構成材料〕
本発明に係る光反射層ユニットは、屈折率の異なる２層以上の層を積層して構成され、具体的には、無機微粒子を含有する低屈折率層及び高屈折率層が交互の積層されている積層体である。
【００７１】
光反射層ユニットを構成する低屈折率層は、主には第１の金属酸化物粒子と第１のバインダー樹脂で構成され、高屈折率層は、主には第２の金属酸化物粒子と第２のバインダー樹脂で構成されている。
【００７２】
（各屈折率層を構成するバインダー樹脂）
本発明においては、低屈折率層及び高屈折率層は、それぞれバインダー樹脂を含有することが好ましい。各屈折率層を形成する材料としてバインダー樹脂、好ましくは水溶性バインダー樹脂、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂を塗膜形成材料として用いることにより、各屈折率層の形成方法として、湿式塗布方式、例えば、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、インクジェット法等を用いて、積層させることができる。
【００７３】
これらの湿式塗布方式は、使用する塗布装置が簡便であり、保護層等の耐熱性を問わないので選択肢が広く、特に、保護層として透明樹脂フィルムを用いる場合に、有効な成膜方法である。例えば、湿式塗布方式を適用することにより、ロールｔｏロール法などの連続搬送する大量生産方式が採用でき、コスト面でもプロセス時間面でも有利になる。また、バインダー樹脂を含む各屈折率層はフレキシブル性が高いため、生産時や運搬時に、ロール状に巻き取りを行っても、これらの欠陥が発生しづらく、取扱い性に優れているという長所がある。
【００７４】
〈低屈折率層のバインダー樹脂〉
本発明に係る低屈折率層には、従来公知のバインダー樹脂を用いることができる。
【００７５】
本発明に係る低屈折率層においては、特に、ポリビニルアルコール系樹脂をバインダー樹脂として併用することが好ましい。
【００７６】
酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が１０００以上であることが好ましく、平均重合度が１５００〜５０００であることが特に好ましい。また、ケン化度は、７０〜１００％であることが好ましく、８０〜９９．９％であることが特に好ましい。
【００７７】
本発明で用いられるポリビニルアルコールは、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。ポリビニルアルコールとして用いられる市販品の例としては、例えば、ＰＶＡ−１０２、ＰＶＡ−１０３、ＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２３５（以上、株式会社クラレ製）、ＪＣ−２５、ＪＣ−３３、ＪＦ−０３、ＪＦ−０４、ＪＦ−０５、ＪＰ−０３、ＪＰ−０４、ＪＰ−０５、ＪＰ−４５（以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製）等が挙げられる。
【００７８】
本発明に適用するバインダー樹脂は、本発明の効果を損なわない限りでは、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、一部が変性された変性ポリビニルアルコールを含んでもよい。このような変性ポリビニルアルコールを含むと、膜の密着性や耐水性、柔軟性が改良される場合がある。
【００７９】
変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマーが挙げられる。また、酢酸ビニル系樹脂（例えば、株式会社クラレ製「エクセバール」）、ポリビニルアルコールにアルデヒドを反応させて得られるポリビニルアセタール樹脂（例えば、積水化学工業株式会社製「エスレック」）、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール（例えば、株式会社クラレ製「Ｒ−１１３０」）、分子内にアセトアセチル基を有する変性ポリビニルアルコール系樹脂（例えば、日本合成化学工業株式会社製「ゴーセファイマー（登録商標）Ｚ／ＷＲシリーズ」）等もポリビニルアルコール系樹脂に含まれる。
【００８０】
アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平１−２０６０８８号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号公報及び同６３−３０７９７９号公報に記載されているようなビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体、及び特開平７−２８５２６５号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
【００８１】
また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平７−９７５８号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載されているような疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシ基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。
【００８２】
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号公報に記載されているような、第１級〜第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖又は側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。
【００８３】
ビニルアルコール系ポリマーとしては、エクセバール（前出）やニチゴーＧポリマー（商品名：日本合成化学工業株式会社製）などが挙げられる。
【００８４】
低屈折率層においては、上記説明した水溶性ポリエステル樹脂及びポリビニルアルコール系樹脂以外に、本発明の目的効果を損なわない範囲でその他のバインダー樹脂を適用することができる。
【００８５】
〈高屈折率層のバインダー樹脂〉
高屈折率層に適用可能なバインダー樹脂としては、成膜性が良好である観点から、低屈折率層で説明したのと同様のポリビニルアルコール系樹脂を適用すること特に好ましいが、その他には、ポリ（メタ）アクリレート等を適用することができる。
【００８６】
高屈折率層を構成するバインダー樹脂は１種であってもよいし、２種以上であってもよい。
【００８７】
ポリ（メタ）アクリレートとしては、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの重合体であり、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレートが挙げられる。
【００８８】
高屈折率層に含まれるポリ（メタ）アクリレートの重量平均分子量は、１００００〜１００００００程度であり、５００００〜８０００００であることが好ましい。なお、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した値を採用する。
【００８９】
〈その他の水溶性バインダー樹脂〉
更に、本発明に係る低屈折率層や高屈折率層に適用可能なその他の水溶性バインダー樹脂としては、例えば、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、反応性官能基を有するポリマー等を挙げることができ、その詳細については、例えば、特開２０１２−２７２８８号公報、特開２０１２−１３９９３８号公報、特開２０１２−１８５３４２号公報、特開２０１２−２１５７３３号公報、特開２０１２−２２０７０８号公報、特開２０１２−２４２６４４号公報、特開２０１２−２５２１３７号公報、特開２０１３−４９１６号公報、特開２０１３−９７２４８号公報、特開２０１３−１４８８４９号公報、特開２０１４−８９３４７号公報、特開２０１４−２０１４５０号公報、特開２０１４−２１５５１３号公報等の記載を参照することができる。
【００９０】
（無機微粒子）
本発明において、低屈折率層及び高屈折率層は、無機微粒子として金属酸化物粒子を含有することが好ましい。
【００９１】
〈低屈折率層に適用可能な無機微粒子（金属酸化物粒子）〉
本発明に係る光反射フィルムにおいて、低屈折率層には、金属酸化物粒子として酸化ケイ素（二酸化ケイ素）を用いる。具体的な例としては、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ等が挙げられる。これらのうち、コロイダルシリカゾル、特に酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカを用いることが特に好ましい。また、屈折率をより低減させるために、低屈折率層の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いてもよく、特に酸化ケイ素（二酸化ケイ素）の中空微粒子が好ましい。また、酸化ケイ素以外の公知の金属酸化物粒子（無機酸化物粒子）も使用することができる。屈折率を調整するために、低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子としては、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９２】
低屈折率層に含まれる酸化ケイ素粒子は、その平均粒径（個数平均；直径）が３〜１００ｎｍであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜５０ｎｍであることがより好ましく、３〜４０ｎｍであることがさらに好ましく、３〜２０ｎｍであることが特に好ましく、４〜１０ｎｍであることが最も好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
【００９３】
また、低屈折率層に含まれる酸化ケイ素粒子の粒径は、一次平均粒径の他に、体積平均粒径により求めることもできる。
【００９４】
本発明に適用可能なコロイダルシリカは、ケイ酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、例えば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、及び国際公開第９４／２６５３０号などに記載されているものである。
【００９５】
このようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業株式会社から販売されているスノーテックスシリーズ（スノーテックスＯＳ、ＯＸＳ、Ｓ、ＯＳ、２０、３０、４０、Ｏ、Ｎ、Ｃ等）が挙げられる。
【００９６】
コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ又はＢａ等で処理されたものであってもよい。
【００９７】
また、低屈折率層の酸化ケイ素粒子としては、上述のように、中空粒子を用いることもできる。中空微粒子を用いる場合には、平均粒子空孔径が、３〜７０ｎｍであると好ましく、５〜５０ｎｍであるとより好ましく、５〜４５ｎｍであるとさらに好ましい。なお、中空微粒子の平均粒子空孔径とは、中空微粒子の内径の平均値である。中空微粒子の平均粒子空孔径は、上記範囲であれば、十分に低屈折率層の屈折率が低屈折率化される。平均粒子空孔径は、電子顕微鏡観察で、円形、楕円形又は実質的に円形は楕円形として観察できる空孔径を、ランダムに５０個以上観察し、各粒子の空孔径を求め、その数平均値を求めることにより得られる。なお、平均粒子空孔径は、円形、楕円形又は実質的に円形若しくは楕円形として観察できる空孔径の外縁を、２本の平行線で挟んだ距離のうち、最小の距離を意味する。
【００９８】
低屈折率層における酸化ケイ素粒子の含有量は、低屈折率層の全固形分に対して、２０〜９０質量％であることが好ましく、３０〜８５質量％であることがより好ましく、４０〜８０質量％であることがさらに好ましい。２０質量％以上であると、所望の屈折率が得られ９０質量％以下であると塗布性が良好となり好ましい。
【００９９】
上記低屈折率層の酸化ケイ素粒子及び２種以上のカチオンポリマーは、複数存在する低屈折率層の少なくとも１層に含まれていればよい。
【０１００】
〈高屈折率層に適用可能な無機微粒子（金属酸化物粒子）〉
本発明に係る高屈折率層においては、第２の金属酸化物粒子を含有することが好ましい。高屈折率層に適用する第２の金属酸化物粒子としては、上記説明した低屈折率層に適用する第１の金属酸化物粒子とは異なることが好ましい。
【０１０１】
本発明に係る高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子としては、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化亜鉛粒子、アルミナ粒子、コロイダルアルミナ、酸化ニオブ粒子、酸化ユウロピウム粒子、ジルコン粒子等を挙げることができる。上記金属酸化物粒子は、それぞれ１種単独で用いても、又は２種以上混合して用いてもよい。上記金属酸化物粒子の中でも、酸化ジルコニウム粒子を含有することが好ましい。酸化ジルコニウム粒子を含む高屈折率層は、透明でより高い屈折率を発現することができる。また、光触媒活性が低いことから、高屈折率層や隣接した低屈折率層の耐光性、耐候性が高くなる。なお、本発明において、酸化ジルコニウムとは二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）を意味する。
【０１０２】
上記酸化ジルコニウム粒子は、立方晶でも正方晶であってもよく、また、それらの混合物であってもよい。
【０１０３】
高屈折率層に含まれる酸化ジルコニウム粒子の大きさは、特に制限されるものではないが、体積平均粒径又は一次平均粒径により求めることができる。高屈折率層で用いられる酸化ジルコニウム粒子の体積平均粒径は、１００ｎｍ以下であると好ましく、１〜１００ｎｍであるとより好ましく、２〜５０ｎｍであるとさらに好ましい。また、高屈折率層で用いられる酸化ジルコニウム粒子の一次平均粒径は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、１〜１００ｎｍであることがより好ましく、２〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。体積平均粒径又は一次平均粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
【０１０４】
なお、本明細書でいう体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、又は電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、１０００個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ２・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する粒子の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、体積平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。
【０１０５】
また、本明細書において、一次平均粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。
【０１０６】
透過型電子顕微鏡から求める場合、粒子の一次平均粒径は、粒子そのもの、又は屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。
【０１０７】
また、酸化ジルコニウム粒子としては、水系の酸化ジルコニウムゾルの表面を変性して有機溶剤等に分散可能な状態にしたものを用いてもよい。
【０１０８】
酸化ジルコニウム粒子又はその分散液の調製方法としては、従来公知のいずれの方法も用いることができる。例えば、特開２０１４−８０３６１号公報に記載されるように、ジルコニウム塩を水中にてアルカリと反応させて、酸化ジルコニウム粒子のスラリーを調製し、有機酸を加えて水熱処理する方法が用いられうる。
【０１０９】
酸化ジルコニウム粒子は、市販のものを使用してもよく、例えば、ＳＺＲ−Ｗ、ＳＺＲ−ＣＷ、ＳＺＲ−Ｍ、及びＳＺＲ−Ｋ等（以上、堺化学工業株式会社製）を好適に使用することができる。
【０１１０】
さらに、本発明で用いられる酸化ジルコニウム粒子は、単分散であることが好ましい。
【０１１１】
高屈折率層における酸化ジルコニウム粒子の含有量としては、特に制限されないが、高屈折率層の全固形分に対して、１５〜９５質量％であると好ましく、２０〜９０質量％であるとより好ましく、３０〜９０質量％であるとさらにより好ましい。上記範囲とすることで、光学反射特性の良好なものとできる。
【０１１２】
本発明に係る光反射層ユニットにおいて、高屈折率層には、酸化ジルコニウム粒子以外にも、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、酸化ニオブ、酸化ユウロピウム等の金属酸化物粒子（高屈折率金属酸化物微粒子）を用いることができる。なお、上記高屈折率金属酸化物微粒子は、屈折率を調整するために、１種であっても２種以上を併用してもよい。なお、上記酸化ジルコニウム以外の高屈折率金属酸化物微粒子の大きさは、特に制限されないが、体積平均粒径が１〜１００ｎｍ以下であると好ましく、３〜５０ｎｍであるとより好ましい。一次平均粒径が１〜１００ｎｍ以下であると好ましく、３〜５０ｎｍであるとより好ましい。また、高屈折率層における上記高屈折率金属酸化物微粒子の含有量としては、特に制限されないが、酸化ジルコニウムと組み合わせる場合においては、酸化ジルコニウム粒子の含有量と高屈折率金属酸化物微粒子の含有量との和が、高屈折率層の全固形分に対して、１５〜９５質量％となるように調整されると好ましく、２０〜８０質量％であるとより好ましく、３０〜８０質量％であるとさらにより好ましい。
【０１１３】
なお、酸化ジルコニウムと他の金属酸化物微粒子を組み合わせる場合、高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子の総量（酸化ジルコニウム粒子と上記酸化ジルコニウム以外の高屈折率金属酸化物微粒子との合計量）に対して、酸化ジルコニウム粒子の含有量は８０〜１００質量％であることが好ましく、９０〜１００質量％であることが好ましく、１００質量％であることがさらに好ましい。
【０１１４】
上記高屈折率層の酸化ジルコニウム粒子は、複数存在する高屈折率層の少なくとも１層に含まれていればよい。
【０１１５】
（各屈折率層に適用可能なその他の添加剤）
本発明に係る高屈折率層及び低屈折率層に適用可能な各種の添加剤を、以下に列挙する。例えば、特開昭５７−７４１９３号公報、特開昭５７−８７９８８号公報、及び特開昭６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号、特開昭５７−８７９８９号公報、特開昭６０−７２７８５号公報、特開昭６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報、及び特開平３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオン又はノニオンの各種界面活性剤、特開昭５９−４２９９３号公報、特開昭５９−５２６８９号公報、特開昭６２−２８００６９号公報、特開昭６１−２４２８７１号公報、及び特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、防黴剤、帯電防止剤、マット剤、熱安定剤、酸化防止剤、難燃剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、ポリエステル樹脂、減粘剤、滑剤、赤外線吸収剤、色素、顔料等の公知の各種添加剤などが挙げられる。
【０１１６】
〔光反射層ユニットの積層構造〕
本発明に係る光反射層ユニットは、保護層上に無機微粒子を含有する高屈折率層と低屈折率層が交互に積層して形成された多層の光学干渉膜を有する。生産性の観点から、好ましい高屈折率層及び低屈折率層の総層数の範囲は、１００層以下、より好ましくは４５層以下である。好ましい高屈折率層及び低屈折率層の総層数の範囲の下限は特に限定されるものではないが、５層以上であることが好ましい。
【０１１７】
一般に、光反射層ユニットにおいては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で所望の光、例えば、赤外線に対する反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本発明においては、少なくとも隣接した２層（高屈折率層及び低屈折率層）の屈折率差が０．１５以上であることが好ましく、より好ましくは０．２以上であり、特に好ましくは０．２１以上である。また、上限には特に制限はないが通常０．５以下である。
【０１１８】
この屈折率差と、必要な層数とについては、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、近赤外線反射率９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと２００層以上の積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下し、故障なく製造することも非常に困難になる場合がある。
【０１１９】
光反射層ユニットにおいて、高屈折率層及び低屈折率層を交互に積層する場合には、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が、上記好適な屈折率差の範囲内にあることが好ましい。
【０１２０】
本発明に係る光反射フィルムは反射率をアップさせる特定波長領域を変えることにより、可視光反射フィルムや近赤外線反射フィルムとすることができる。即ち、反射率をアップさせる特定波長領域を可視光領域に設定すれば可視光線反射フィルムとなり、近赤外領域に設定すれば近赤外線反射フィルムとなる。また、反射率をアップさせる特定波長領域を紫外光領域に設定すれば、紫外線反射フィルムとなる。本発明の光反射フィルムを遮熱フィルムに用いる場合は、（近）赤外反射（遮蔽）フィルムとすればよい。赤外反射フィルムの場合、高分子フィルムに互いに屈折率が異なる膜を積層させた多層膜を形成し、ＪＩＳ  Ｒ３１０６（１９９８）で示される可視光領域の５５０ｎｍでの透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、７５％以上であることがさらに好ましい。また、１２００ｎｍでの透過率が３５％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、２０％以下であることがさらに好ましい。また、波長９００〜１４００ｎｍの領域に反射率５０％を超える領域を有することが好ましい。
【０１２１】
太陽光の入射スペクトルのうち赤外域が室内温度上昇に関係し、これを遮蔽することで室内温度の上昇を抑えることができる。日本工業規格ＪＩＳ  Ｒ３１０６（１９９８）に記載された重価係数を基に赤外の最短波長（７６０ｎｍ）から最長波長３２００ｎｍまでの累積エネルギー比率をみてみると、波長７６０ｎｍから最長波長３２００ｎｍまでの赤外全域の総エネルギーを１００としたときの、７６０ｎｍから各波長までの累積エネルギーを算出すると、７６０から１３００ｎｍのエネルギー合計が赤外域全体の約７５％を占めている。したがって、１３００ｎｍまでの波長領域を遮蔽することが熱線遮蔽による省エネルギー効果の効率がよい。
【０１２２】
この近赤外光域（７６０〜１３００ｎｍ）の反射率を最大ピーク値で約８０％以上にすると体感温度の低下が官能評価により得られる。例えば、８月の午前中の南東方法を向く窓際での体感温度が近赤外光域の反射率を最大ピーク値で約８０％にまで遮蔽したとき明確な差がでた。
【０１２３】
このような機能を発現するのに必要となる多層膜構造を光学シミュレーション（ＦＴＧ  Ｓｏｆｔｗａｒｅ  Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ  Ｆｉｌｍ  ＤＥＳＩＧＮ  Ｖｅｒｓｉｏｎ  ２．２３．３７００）で求めた結果、１．７以上、望ましくは１．７３以上の高屈折率層を利用し、２２層以上積層した場合に優れた特性が得られることが分かっている。例えば、高屈折率層と低屈折率層（屈折率＝１．４５）を交互に２２層積層したモデルのシミュレーション結果を見ると、高屈折率層の屈折率が１．６では反射率が３０％にも達しないが、１．７になると約６０％の反射率が得られる。
【０１２４】
低屈折率層は、屈折率が１．１０〜１．６０であることが好ましく、より好ましくは１．３０〜１．５０である。高屈折率層は、屈折率が１．６５〜１．８０であることが好ましく、より好ましくは１．７０〜１．７５である。
【０１２５】
屈折率層の１層（最下層、最表層を除く）あたりの厚さ（乾燥後の層厚）は、２０〜１０００ｎｍであることが好ましく、５０〜５００ｎｍであることがより好ましく、５０〜３５０ｎｍであることがより好ましい。
【０１２６】
本発明において、光反射フィルムの全体の厚さは、好ましくは１２〜３１５μｍ、より好ましくは１５〜２００μｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍである。
【０１２７】
さらに、光学特性をより良好なものとするために、光反射フィルムのヘイズは小さい方が好ましく、０〜１．５％であるとより好ましい。また、耐久性の観点から、露光後のクラックが抑制されることが好ましい。なお、ヘイズは、実施例の方法により測定された値を指すものとする。
【０１２８】
〔光反射層ユニットの形成方法〕
次いで、本発明に係る光反射層ユニットの形成方法について説明する。
【０１２９】
光反射層ユニットの形成方法としては、前述のように、保護層上に、高屈折率層と低屈折率層とから構成されるユニットを積層して形成することができる方法であれば、いかなる方法でも用いられ得る。
【０１３０】
具体的には、保護層上に、高屈折率層と低屈折率層とを交互に塗布、乾燥して積層体を形成することが好ましい。具体的には以下の形態が挙げられる。
【０１３１】
（１）保護層、例えば、ＰＥＴフィルム上に、高屈折率層塗布液を塗布・乾燥して高屈折率層を形成した後、低屈折率層塗布液を塗布・乾燥して低屈折率層を形成し、これを順次繰り返して行い反射層ユニットを形成する方法、
（２）保護層上に、低屈折率層塗布液を塗布・乾燥して低屈折率層を形成した後、高屈折率層塗布液を塗布・乾燥して高屈折率層を形成し、これを順次繰り返して行い反射層ユニットを形成する方法、
（３）保護層上に、高屈折率層塗布液と、低屈折率層塗布液とを逐次重層塗布した後乾燥して、所定の層数の高屈折率層及び低屈折率層で構成されている反射層ユニットを形成する方法、
（４）保護層上に、高屈折率層塗布液と、低屈折率層塗布液とをウェット状態で複数層積層し、所定の層数を同時重層塗布・乾燥して、高屈折率層及び低屈折率層を含む光反射層ユニットを形成する方法、
などが挙げられる。
【０１３２】
なかでも、より簡便な製造プロセスとなる上記（４）の方法が好ましい。すなわち、本発明の光反射成型体における光反射層ユニットの形成方法としては、水系同時重層塗布法により、高屈折率層及び低屈折率層とを複数層積層することを含むことが好ましい。
【０１３３】
塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、又は米国特許第２７６１４１９号明細書、同第２７６１７９１号明細書に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。
【０１３４】
高屈折率層塗布液及び低屈折率層塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、又はその混合溶媒が好ましい。本発明においては、各屈折率層の構成バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを主として用いることが好ましいが、このように、ポリビニルアルコールを用いることにより、水系溶媒による塗布が可能となる。さらに、本発明では、ヘイズの低減やクラックの抑制のため、２種以上のカチオンポリマーを低屈折率層塗布液に添加することが好ましい。水系溶媒は、有機溶媒を用いる場合と比較して、大規模な生産設備を必要とすることがないため、生産性の点で好ましく、また環境保全の点でも好ましい。
【０１３５】
前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でも又は２種以上混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、水系溶媒が好ましく、水、又は水とメタノール、エタノール、若しくは酢酸エチルとの混合溶媒がより好ましく、水が特に好ましい。
【０１３６】
水と少量の有機溶媒との混合溶媒を用いる際、当該混合溶媒中の水の含有量は、混合溶媒全体を１００質量％として、８０〜９９．９質量％であることが好ましく、８５〜９９．５質量％であることがより好ましい。ここで、８０質量％以上にすることで、溶媒の揮発による体積変動が低減でき、ハンドリングが向上し、また、９９．９質量％以下にすることで、液添加時の均質性が増し、安定した液物性を得ることができるからである。
【０１３７】
高屈折率層塗布液中の樹脂の濃度（複数種類の樹脂を用いる場合は、その合計濃度）は、０．５〜１０質量％であることが好ましい。また、高屈折率層塗布液中の酸化ジルコニウムを含む金属酸化物粒子の合計濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。
【０１３８】
低屈折率層塗布液中の樹脂の濃度は、０．５〜１０質量％であることが好ましい。また、低屈折率層塗布液中の酸化ケイ素粒子を含む金属酸化物粒子の合計濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。また、低屈折率層塗布液中の２種以上のカチオンポリマーの含有量は、各カチオンポリマーが、酸化ケイ素粒子を含む金属酸化物粒子の合計質量に対して、例えば０．５〜２０質量％であり、２〜２０質量％であることが好ましく、３〜１０質量％であることがより好ましく、３〜５質量％であることがさらにより好ましい。
【０１３９】
高屈折率層塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、金属酸化物粒子、樹脂バインダー、例えば、ポリビニルアルコール、さらに必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、撹拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。
【０１４０】
低屈折率層塗布液の調製方法も、特に制限されず、例えば、金属酸化物粒子、樹バインダー、例えば、ポリビニルアルコール、さらに必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、撹拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。
【０１４１】
また、本発明において、同時重層塗布を行う場合は高屈折率層塗布液及び低屈折率層塗布液に用いるポリビニルアルコールのケン化度が異なることが好ましい。ケン化度が異なることによって塗布、乾燥工程の各工程において層の混合を抑制することができる。
【０１４２】
同時重層塗布を行う際の高屈折率層塗布液及び低屈折率層塗布液の温度は、スライドホッパー塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。
【０１４３】
同時重層塗布を行う際の高屈折率層塗布液と低屈折率層塗布液の粘度は、特に制限されない。しかしながら、スライドビード塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、５〜１６０ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、さらに好ましくは６０〜１４０ｍＰａ・ｓの範囲である。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、５〜１２００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、さらに好ましくは２５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲である。このような粘度の範囲であれば、効率よく同時重層塗布を行うことができる。
【０１４４】
塗布及び乾燥方法の条件は、特に制限されないが、例えば、逐次塗布法の場合は、まず、３０〜６０℃に加温した高屈折率層塗布液及び低屈折率層塗布液のいずれか一方を保護層上に塗布、乾燥して層を形成した後、もう一方の塗布液をこの層上に塗布、乾燥して積層膜前駆体（ユニット）を形成する。次に、所望の遮蔽性能を発現するために必要なユニット数を、前記方法にて逐次塗布、乾燥して積層させて積層膜前駆体を得る。乾燥する際は、形成した塗膜を、３０℃以上で乾燥することが好ましい。例えば、湿球温度５〜５０℃、膜面温度５〜１００℃（好ましくは１０〜５０℃）の範囲で乾燥するのが好ましく、例えば、４０〜６０℃の温風を１〜５秒吹き付けて乾燥する。
【０１４５】
また、同時重層塗布を行う場合の塗布及び乾燥方法の条件は、高屈折率層塗布液及び低屈折率層塗布液を３０〜６０℃に加温して、保護層上に高屈折率層塗布液及び低屈折率層塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは１〜１５℃に一旦冷却し（セット）、その後１０℃以上で乾燥することが好ましい。より好ましい乾燥条件は、湿球温度５〜５０℃、膜面温度１０〜５０℃の範囲の条件である。例えば、４０〜８０℃の温風を１〜５秒吹き付けて乾燥する。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。
【０１４６】
〔接着層〕
本発明に係る接着層は、通常、光反射層ユニット又は保護層と、基板との間に設けられる。
【０１４７】
本発明に適用可能な接着層を構成する接着剤としては、ポリエステル系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ニトリルゴム等が用いられ、また光硬化性又は熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。
【０１４８】
使用されるアクリル系接着剤は、溶剤系及びエマルジョン系どちらでもよいが、接着力等を高めやすいことから、溶剤系接着剤が好ましく、その中でも溶液重合で得られたものが好ましい。このような溶剤系アクリル系接着剤を溶液重合で製造する場合の原料としては、例えば、骨格となる主モノマーとして、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクリルアクリレート等のアクリル酸エステル、凝集力を向上させるためのコモノマーとして、酢酸ビニル、アクリルニトリル、スチレン、メチルメタクリレート等、さらに架橋を促進し、安定した接着力を付与させ、また水の存在下でもある程度の接着力を保持するために官能基含有モノマーとして、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等が挙げられる。接着層には、主ポリマーとして、特に高タック性を要するため、ブチルアクリレート等のような低いガラス転移温度（Ｔｇ）を有するものが特に有用である。
【０１４９】
上記アクリル系接着剤の市販品としては、例えば、コーポニールシリーズ（日本合成化学社製）等が挙げられる。
【０１５０】
また、硬化型接着層の形成には、接着剤組成物として、例えば、ラジカル硬化型接着剤が好適に用いられる。ラジカル硬化型接着剤としては、電子線硬化型、紫外線硬化型などの活性エネルギー線硬化型の接着剤を例示できる。特に短時間で硬化可能な、活性エネルギー線硬化型が好ましく、さらには低エネルギーで硬化可能な紫外線硬化型接着剤が好ましい。
【０１５１】
紫外線硬化型接着剤としては、大きくラジカル重合硬化型接着剤とカチオン重合型接着剤に区分できる。その他、ラジカル重合硬化型接着剤は熱硬化型接着剤として用いることができる。
【０１５２】
上記硬化に用いる紫外線としては、ガリウム封入メタルハライドランプ、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源が好ましい。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、白熱電球、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー又は太陽光を光源とし、バンドパスフィルターを用いて３８０ｎｍより短波長の光を遮断して用いることもできる。
【０１５３】
ラジカル重合硬化型接着剤の硬化性成分としては、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。これら硬化性成分は、単官能又は二官能以上のいずれも用いることができる。またこれら硬化性成分は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。これら硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好適である。
【０１５４】
カチオン重合硬化型接着剤の硬化性成分としては、エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物が挙げられる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物等が例として挙げられる。
【０１５５】
前記水系接着剤としては、ビニルポリマーを含有する接着剤などを用いることが好ましく、ビニルポリマーとしては、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。またポリビニルアルコール系樹脂としては、アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂を含む接着剤が耐久性を向上させる点からより好ましい。また、ポリビニルアルコール系樹脂に配合できる架橋剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂と反応性を有する官能基を少なくとも二つ有する化合物が好ましく使用できる。例えば、ホウ酸やホウ砂、カルボン酸化合物、アルキルジアミン類；イソシアネート類；エポキシ類；モノアルデヒド類；ジアルデヒド類；アミノ−ホルムアルデヒド樹脂；さらに二価金属、又は三価金属の塩及びその酸化物が挙げられる。
【０１５６】
本発明に係る接着層においては、上記説明した各種接着剤の中でも、接着層を構成する樹脂成分が、ヒドロキシ価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、又は酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である樹脂成分を含む接着剤を選択することが好ましく、更には樹脂成分としてエポキシ樹脂を選択することが、光反射層ユニットと下記に説明する基板との接着性を高めることができる点で好ましい。
【０１５７】
ここで、樹脂のヒドロキシ価（水酸基価ともいう。）とは、ヒドロキシ基を含有する樹脂１ｇをアセチル化させたとき、ヒドロキシ基と結合した酢酸を中和するのに必要とする水酸化カリウムのｍｇ数で表される。ヒドロキシ基の測定方法は滴定、例えば、ＪＩＳ  Ｋ１５５７−１：２００７などで定められている方法を用いることができる。
【０１５８】
また、樹脂の酸価とは、カルボキシ基を含有する樹脂１ｇに含まれる全酸性成分（例えば、カルボキシ基、スルホ基等）の量を表すものであり、全酸性成分を中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ数で表される。酸価の測定方法は滴定、例えば、ＪＩＳ  Ｋ１５５７−１：２００７などで定められている方法を用いることができる。
【０１５９】
前記硬化型接着剤層を形成する接着剤は、必要であれば適宜添加剤を含むものであっても良い。添加剤の例としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等のカップリング剤、エチレンオキシドで代表される接着促進剤、透明フィルムとの濡れ性を向上させる添加剤、アクリロキシ基化合物や炭化水素系（天然、合成樹脂）などに代表され、機械的強度や加工性などを向上させる添加剤、紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、粘着付与剤、充填剤（金属酸化物粒子）、可塑剤、レベリング剤、発泡抑制剤、帯電防止割、耐熱安定剤、耐加水分解安定剤等の安定剤等が挙げられる。
【０１６０】
接着層の層厚としては、所望の接着性が得られる範囲内であれば特に制限はないが、光反射性フィルム全体の厚さや柔軟性を考慮すると、０．５〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、更に好ましくは０．５〜１０μｍの範囲内である。
【０１６１】
〔基板〕
本発明の光反射成型体においては、上記説明した光反射フィルムを、接着層を介して基板と貼合する。
【０１６２】
本発明において、基板を構成する材料として、特に制限はないが、基板を構成しうる好ましい樹脂材料を以下に示す。
【０１６３】
樹脂材料としては、例えば、
１）メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、等の１種以上の重合体であるアクリル系樹脂；
２）スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−，ｍ−，及びｐ−メチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン等の１種以上の重合体であるスチレン系樹脂；
３）ポリ塩化ビニル、又は塩化ビニルと塩化ビニルと共重合可能なコモノマー（例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート等のアクリル酸エステル類、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類、ジブチルマレエート、ジエチルマレエート等のマレイン酸エステル類、ビニルブチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、エチレン、プロピレン、スチレン等のα−オレフィン類、塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニリデン、又はハロゲン化ビニル類等）との共重合体を含む塩化ビニル系樹脂；
４）ポリ塩化ビニリデン、又は塩化ビニリデンと共重合可能なコモノマー（例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート等のアクリル酸エステル類、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類、ジブチルマレエート、ジエチルマレエート等の、マレイン酸エステル類、ビニルブチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、エチレン、プロピレン、スチレン等のα−オレフィン類、塩化ビニル等）との共重合体を含む塩化ビニリデン系樹脂；
５）ホルムアルデヒドの単独重合体又はホルムアルデヒドとその他の成分との共重合体を含むポリアセタール系樹脂；
６）２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，３−ビス｛２−（４−ヒドロキシフェニル）プロピル｝ベンゼン、１，４−ビス｛２−（４−ヒドロキシフェニル）プロピル｝ベンゼン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１−３，３，３−ヘキサフルオロプロパン等の芳香族ビスフェノール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、スピログリコール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等の脂肪族ジオール等のジヒドロキシ化合物と、ホスゲン又はジフェニルカーボネート等の重縮合体であるポリカーボネート系樹脂；
７）ポリエステル、若しくは１分子中にポリエステル由来の成分だけでなく、その他のポリマー成分との共重合体を含むポリエステル系樹脂；
８）ポリフェニレンスルフィド、若しくは１分子中にポリフェニレンスルフィド由来の成分だけでなく、その他のポリマー成分との共重合体を含むポリフェニレンスルフィド系樹脂；主鎖に芳香環基とその結合基としてスルホン基を有するポリスルホンホモポリマー又は１分子中にポリスルホンホモポリマー由来の成分だけでなくその他のポリマー成分との共重合体を含むポリスルホン系樹脂；
９）ポリエーテルケトンポリマー又はその他のポリマー成分との共重合体を含むポリエーテルケトン系樹脂；
１０）ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、１，４−ジアミノナフタレン、１，５−ジアミノナフタレン等の芳香族ジアミンとピロメリット酸二無水物、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５，６−ピリジンテトラカルボン酸二無水物、２，３，４，５−チオフェンテトラカルボン酸二無水物等の酸無水物との反応において生成するポリイミド系樹脂、等を挙げることができる。
【０１６４】
更には、フッ素系樹脂、疎水性シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂等を挙げることができる。
【０１６５】
これらの中でも、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、エポキシ系樹脂が好ましく、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂がより好ましい。
【０１６６】
本発明の光反射成型体において、基板の厚さとしては、光反射フィルムを安定して保持する観点から、３００μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは４００〜２０００μｍの範囲内であることが好ましく、更に好ましくは５００〜１０００μｍの範囲内である。なお、同様の樹脂フィルムで構成されている保護層の厚さは、前述のとおり、３００μｍ未満であることが好ましい態様である。
【０１６７】
本発明に係る基板は、従来公知のプラスチックフィルムの製膜方法を適宜選択して、製造することができる。
【０１６８】
〔光反射フィルムのその他の構成層〕
光反射フィルムは、保護層の下又は保護層と反対側の最表面層の上に、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリアー層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、上記高屈折率層及び低屈折率層以外の赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）、合わせガラスに利用される中間膜などの機能層の一つ以上を有していてもよい。上記構成層の中でも、赤外線吸収層を設けることが、不要な赤外線吸収し、赤外線反射能と反射精度をより高めることができる観点で好ましい。
【０１６９】
（赤外線吸収層）
以下、一例である赤外線吸収層について、その詳細を説明する。
【０１７０】
本発明の光反射成型体においては、赤外線吸収層を有していることが好ましい。すなわち、赤外線吸収層を有することが、赤外線遮蔽効果の観点から好ましい。
【０１７１】
赤外線吸収層の層厚は、厚いと虹彩や色ムラの劣化が起こることと、近赤外線を吸収することで熱を帯びるため、５０μｍ未満であることが好ましく、１０〜３０μｍの範囲であることがより好ましい。
【０１７２】
本発明において、赤外線吸収層を構成する材料としては、特に制限されないが、例えば、バインダー成分である紫外線硬化樹脂、光重合開始剤、赤外線吸収剤などが挙げられる。赤外線吸収層は、含まれるバインダー成分が硬化していることが好ましい。ここで、硬化とは、紫外線などの活性エネルギー線や熱などにより反応が進み硬化することを指し、鉛筆硬度がＨ以上であるハードコート性を有する層を形成することが好ましい。
【０１７３】
赤外線吸収層に適用可能な赤外線吸収剤としては、無機赤外線吸収剤、有機赤外線吸収剤を挙げることができる。
【０１７４】
無機赤外線吸収剤としては、可視光線透過率、赤外線吸収性、樹脂中への分散適性等の観点から、金属酸化物粒子であることが好ましく、例えば、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化タングステン及び酸化インジウム等が挙げられる。熱線吸収粒子の具体例としては、アルミニウムドープ酸化スズ粒子、インジウムドープ酸化スズ粒子、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）粒子、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）粒子、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）粒子、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）粒子、ニオブドープ酸化チタン粒子、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、スズドープ酸化亜鉛粒子、ケイ素ドープ酸化亜鉛粒子、一般式ＭｘＷｙＯｚ（ただし、Ｍは、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉの内から選択される１種以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．００１≦ｘ／ｙ≦１、２．２＜ｚ／ｙ≦３．０）で表される複合タングステン酸化物の微粒子、及び一般式ＸＢ６（ただし、元素Ｘは、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｙ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓｒ又はＣａから選択される少なくとも１種以上である）で表される６ホウ化物の微粒子（Ａ２）を含有することが好ましい。
【０１７５】
中でも、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びセシウム含有酸化タングステン（Ｃｓ０．３３ＷＯ３）から選択される化合物を用いることが好ましい。これらは単独でも又は２種以上組み合わせても用いることができる。赤外線吸収剤の平均粒径は、５〜１００ｎｍが好ましく、１０〜５０ｎｍがより好ましい。５ｎｍ以上であれば樹脂中の分散性や、赤外線吸収性が向上する。一方、１００ｎｍ以下であれば、可視光線透過率が低下することがない。
【０１７６】
前記赤外線吸収剤の赤外線吸収層における含有量は、赤外線吸収層の全質量に対して１〜８０質量％であることが好ましく、５〜５０質量％であることがより好ましい。含有量が１％以上であれば、十分な近赤外線吸収効果が現れ、８０％以下であれば、十分な量の可視光線を透過できる。
【０１７７】
また、有機物の赤外線吸収材料としては、ポリメチン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、イモニウム系、ジイモニウム系、アンスラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリアリルメタン系の化合物などが挙げられる。金属錯体系化合物、アミニウム系化合物（アミニウム誘導体）、フタロシアニン系化合物（フタロシアニン誘導体）、ナフタロシアニン系化合物（ナフタロシアニン誘導体）、ジイモニウム系化合物（ジイモニウム誘導体）、スクワリウム系化合物（スクワリウム誘導体）等が特に好ましく用いられる。
【０１７８】
バインダー成分として用いられる紫外線硬化樹脂は、ほかの樹脂よりも硬度や平滑性に優れ、更にはスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、セシウム含有酸化タングステン（Ｃｓ０．３３ＷＯ３）や熱伝導性の金属酸化物の分散性の観点からも有利である。紫外線硬化樹脂としては、硬化によって透明な層を形成する物であれば特に制限なく使用でき、例えば、紫外線硬化型ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、紫外線硬化型エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリオール（メタ）アクリレート樹脂等が挙げられる。これらのうち、紫外線硬化型（メタ）アクリレート系樹脂を用いることが好ましい。
【０１７９】
赤外線吸収層の厚さは０．１μｍ以上、５０μｍ未満の範囲が好ましく、１〜３０μｍの範囲がより好ましい。０．１μｍ以上であれば赤外線吸収能力が向上する傾向にあり、一方、５０μｍ未満であれば塗膜の耐クラック性が向上する。
【実施例】
【０１８０】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。また、特記しない限り、各操作は、室温（２５℃）で行った。
【０１８１】
《光反射成型体の作製》
〔光反射成型体１の作製〕
下記の記載の方法に従って、図１に記載の第１例の構成（保護層（５）／光反射層ユニット（４）／接着層（３）／基板（２））からなる光反射成型体１を作製した。
【０１８２】
（１）保護層の準備
保護層として、東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４３００（長さ１０００ｍ、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム(略称：ＰＥＴ)）を準備した。 
（２）光反射層ユニットの形成
（低屈折率層形成用塗布液１の調製）
下記の方法に従って、低屈折率層形成用塗布液１を調製した。
【０１８３】
撹拌容器にカチオンポリマーとしてメチルジアリルアミン塩酸塩重合体（３級アミン塩を含む）（ＰＡＳ  Ｍ−１、重量平均分子量２００００、５０質量％水溶液、ニットーボーメディカル株式会社製）４．０ｇ、及びジアリルジメチルアンモニウムクロライド重合体（４級アンモニウム基を含む）（ＰＡＳ  Ｈ−５、重量平均分子量３００００、２８質量％水溶液、ニットーボーメディカル株式会社製）５．０ｇと、ゆすぎ水３１ｇと、ホウ酸（３質量％水溶液）３１．９ｇとを混合した。ここに１０質量％の酸性コロイダルシリカの水溶液（ＳＴ−ＯＸＳ、濃度１０％、平均一次粒径：４〜６ｎｍ、日産化学工業株式会社製）を４８９．９ｇ加えた。これを撹拌しながら４０℃まで加温した。ここに、ポリビニルアルコールの８質量％水溶液（ＪＰ−４５、重合度４５００、ケン
化度８８モル％、日本酢ビ・ポバール株式会社製）３８６．３ｇ、エマルジョン樹脂（スーパーフレックス６５０、第一工業製薬株式会社）３０．５ｇ、及び５質量％の界面活性剤の溶液（ソフタゾリンＬＭＥＢ−Ｒ、川研ファインケミカル株式会社）６．３ｇ、及び純水１５ｇの混合液を加え、４０℃で撹拌、混合し、低屈折率層形成用塗布液１を得た。低屈折率層形成用塗布液１を用いて作製した単層の屈折率は１．４８であった。なお、屈折率の測定方法は下記のとおりである（以下同様）。
【０１８４】
〈各層の単膜屈折率の測定〉
屈折率を測定するため、透明フィルム基材上に上記高屈折率層塗布液１を単層で塗布したサンプルを作製し、このサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍに裁断した後、下記の方法に従って屈折率を求めた。日立製の分光光度計  Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面（裏面）を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５°正反射の条件にて４００〜２５００ｎｍの反射率の測定を行い、結果より屈折率を求めた。下記の屈折率は屈折率の波長依存性を考え１０００ｎｍの屈折率とした。
【０１８５】
（高屈折率層形成用塗布液１の調製）
３０質量％の酸化ジルコニウム粒子の分散液（ＳＺＲ−Ｗ、ジルコニアゾル、粒度分布：Ｄ５０  ３〜５ｎｍ、堺化学工業株式会社製）３８４．８ｇに対してクエン酸水溶液（１．９質量％）を１７５．４ｇ加えた。これに界面活性剤（ソフタゾリンＬＭＥＢ−Ｒ、川研ファインケミカル株式会社製）の５質量％水溶液を１．９４ｇ添加し、これを４０℃まで加温した。次いで、さらにエチレン変性ポリビニルアルコールの８質量％水溶液（株式会社クラレ製、エクセバールＲＳ２１１７、ケン化度：９７．５〜９９モル％）を１２０．４ｇ加え、さらに純水９．９ｇを加えた。これを１０分撹拌後、ポリビニルアルコールの６質量％水溶液（ＪＣ−４０、ケン化度：９９モル％以上  日本酢ビ・ポバール株式会社製）２４０．８ｇ及び純水６６．７ｇを加えた。この後、４０℃で１８０分間撹拌し、高屈折率層塗布液１を得た。
【０１８６】
高屈折率層塗布液１を用いて作製した単層の屈折率は１．７３であった。
【０１８７】
（光反射層ユニットの形成）
３２層同時塗布が可能なスライドホッパー方式の塗布装置を用い、上記調製した低屈折率層用塗布液１及び高屈折率層用塗布液１を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した保護層（５）である長尺のフィルム１（長さ１０００ｍ、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム；東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４３００、図１には５で記載。）上に、２１層同時重層塗布（低屈折率層及び高屈折率層を交互に２１層積層）を行った。この際、最下層及び最上層は低屈折率層（１０８ｎｍ）とし、それ以外は低屈折率層（１０８ｎｍ）及び高屈折率層（９６ｎｍ）がそれぞれ交互に積層されるようにして、２１層から構成される光反射層ユニット（４）を形成した。
【０１８８】
（３）接着層の形成
上記形成した光反射層ユニット（４）上へ、下記の接着剤ＬＲ９１４を含む接着層形成用塗布液を、グラビアコーターを用いて、乾燥後の層厚が１．０μｍとなる条件で塗布乾燥して、接着層（３）を形成した。
【０１８９】
ＬＲ９１４：三菱ケミカル社製、アクリル樹脂、重量平均分子量：３７０００、酸価：５．０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、ヒドロキシ価：４５．０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（４）基板の付与と加熱貼合
次いで、基板として、ポリカーボネートフィルム（ＡＧＣ社製、カーボグラス、厚さ：５００ｎｍ）を、粘着層上に貼付した後、加圧しながら、１３０℃で加熱貼合を行って、光反射成型体１を作製した。
【０１９０】
〔光反射成型体２の作製〕
上記光反射成型体１の作製において、光反射層ユニットの形成方法を下記に記載の方法に変更した以外は同様にして、光反射成型体２を作製した。
【０１９１】
（光反射層ユニットの形成）
３２層同時塗布が可能なスライドホッパー方式の塗布装置を用い、上記光反射成型体１の作製に用いたのと同様の低屈折率層用塗布液１及び高屈折率層用塗布液１を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した保護層（５）であるＰＥＴフィルム上に、２２層同時重層塗布（低屈折率層及び高屈折率層を交互に２２層積層）を行った。この際、最下層は低屈折率層（１０８ｎｍ）、最上層は高屈折率層（９６ｎｍ）として、２２層から構成される第１の光反射層ユニットを形成した。次いで、同様にして、第１の光反射層ユニット上に、２１層同時重層塗布（低屈折率層及び高屈折率層を交互に２１層積層）を行った。この際、最下層及び最上層は低屈折率層（１０８ｎｍ）として、２１層から構成される第２の光反射層ユニットを製膜し、総層数が４３層の光反射層ユニットを形成した。
【０１９２】
〔光反射成型体３の作製〕
上記光反射成型体１の作製における光反射層ユニットの形成条件として、低屈折率層の層厚を１０８ｎｍから８１ｎｍ、高屈折率層の層厚を９６ｎｍから７２ｎｍに、それぞれ変更した以外は同様にして、光反射成型体３を作製した。
【０１９３】
〔光反射成型体４の作製〕
上記光反射成型体１の作製における接着層の形成において、接着剤ＬＲ９１４に代えて、下記に示す５５−４６７を用いた以外は同様にして、光反射成型体４を作製した。
【０１９４】
接着剤５５−４６７：商品名：アクリディック５５−４６７、ＤＩＣ社製、アクリル樹脂、重量平均分子量：７００００、酸価：３．８（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、ヒドロキシ価：１８．２（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
〔光反射成型体５の作製〕
上記光反射成型体１の作製における接着層の形成において、接着剤ＬＲ９１４に代えて、下記に示すＡ−６４７ＧＥＸを用いた以外は同様にして、光反射成型体５を作製した。
【０１９５】
接着剤Ａ−６４７ＧＥＸ：商品名：ペスレジンＡ−６４７ＧＥＸ、高松油脂社製、ポリエステル樹脂、酸価：１０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、ヒドロキシ価：０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
〔光反射成型体６の作製〕
上記光反射成型体１の作製における接着層の形成において、接着剤ＬＲ９１４に代えて、下記に示すＧＰ−３０１を用いた以外は同様にして、光反射成型体６を作製した。
【０１９６】
接着剤ＧＰ−３０１：商品名：レゼダＧＰ−３０１、東亜合成社製、エポキシ樹脂、酸価：０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、ヒドロキシ価：０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
光反射成型体６の作製においては、接着層の形成時にカチオン重合開始剤を併用し、成型後に紫外線を照射して硬化させた。紫外線照射によりヒドロキシ基が発生し、光反射層ユニットを構成しているポリビニルアルコールと反応する。
【０１９７】
〔光反射成型体７の作製〕
下記の記載の方法に従って、図２に記載の第２例の構成（第１保護層（５Ａ）／第１光反射層ユニット（４Ａ）／第２光反射層ユニット（４Ｂ）／第２保護層（５Ｂ）／接着層（３）／基板（２））からなる光反射成型体７を、図３で示した工程フローに従って作製した。
【０１９８】
（１）保護層の準備
第１保護層及び第２保護層として、東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４３００（長さ１０００ｍ、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム(略称：ＰＥＴ)）を準備した。 
（２）光反射層ユニットの形成
（低屈折率層形成用塗布液及び高屈折率層形成用塗布液の調製）
上記光反射成型体１の作製に用いたのと同様の低屈折率層用塗布液１及び高屈折率層用塗布液１を用いた。
【０１９９】
（ブロックＡの作製）
図３のステップ１に記載したように、３２層同時塗布が可能なスライドホッパー方式の塗布装置を用い、低屈折率層用塗布液１及び高屈折率層用塗布液１を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した第１保護層（５Ａ、ＰＥＴ）上に、１０層同時重層塗布（低屈折率層及び高屈折率層を交互に１０層積層）を行った。この際、最下層は低屈折率層（１０８ｎｍ）とし、それ以外は低屈折率層（１０８ｎｍ）及び高屈折率層（９６ｎｍ）がそれぞれ交互に積層されるようにして、１０層から構成される第１光反射層ユニット（４Ａ）を形成した。
【０２００】
（ブロックＢの作製）
図３のステップ１に記載したように、３２層同時塗布が可能なスライドホッパー方式の塗布装置を用い、低屈折率層用塗布液１及び高屈折率層用塗布液１を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した第２保護層（５Ｂ、ＰＥＴ）上に、１１層同時重層塗布（低屈折率層及び高屈折率層を交互に１１層積層）を行った。この際、最下層及び最上層は低屈折率層（１０８ｎｍ）とし、それ以外は低屈折率層（１０８ｎｍ）及び高屈折率層（９６ｎｍ）がそれぞれ交互に積層されるようにして、１１層から構成される第２光反射層ユニット（４Ｂ）を形成した。
【０２０１】
（３）ブロックＡとブロックＢの貼合
次いで、図３のステップ２で示すように、ブロックＡの第１光反射層ユニット（４Ａ）と、ブロックＢの第２光反射層ユニット（４Ｂ）が対向するようにして貼合した。
【０２０２】
（４）接着層の形成
上記貼合した光反射層ユニットの第２保護層（５Ｂ）上へ、接着剤ＬＲ９１４（前出）を含む接着層形成用塗布液を、グラビアコーターを用いて、乾燥後の層厚が１．０μｍとなる条件で塗布乾燥して、接着層（３）を形成した。
【０２０３】
（５）基板の付与と加熱貼合
次いで、基板として、ポリカーボネートフィルム（ＡＧＣ社製、カーボグラス、厚さ：５００ｎｍ）を、接着層上に貼付した後、加圧しながら、１３０℃で加熱貼合を行って、第２例で示す光反射成型体７を作製した。
【０２０４】
〔光反射成型体８の作製〕
上記光反射成型体７の作製において、第１光反射層ユニットの層数を２２層、第２光反射層ユニットの層数を２１層に、それぞれ変更した以外は同様にして、光反射成型体８を作製した。
【０２０５】
〔光反射成型体９の作製〕
上記光反射成型体８の作製において、基板の構成材料をポリカーボネートフィルム（厚さ：５００ｎｍ）に代えて、アクリル樹脂（ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、厚さ：５００ｎｍ）に変更した以外は同様にして、光反射成型体９を作製した。
【０２０６】
〔光反射成型体１０の作製〕
上記光反射成型体８の作製において、接着層を形成する接着剤を、ＬＲ９１４に代えて、Ａ−６４７ＧＥＸ（前出）を用いた以外は同様にして、光反射成型体１０を作製した。
【０２０７】
〔光反射成型体１１の作製〕
上記光反射成型体１０の作製における第１光反射層ユニット及び第２光反射層ユニットの形成条件として、低屈折率層の層厚を１０８ｎｍから８１ｎｍ、高屈折率層の層厚を９６ｎｍから７２ｎｍに、それぞれ変更した以外は同様にして、光反射成型体１１を作製した。
【０２０８】
〔光反射成型体１２の作製〕
上記光反射成型体１の作製において、接着層の形成を行わなかった以外は同様にして、光反射成型体１２を作製した。
【０２０９】
〔光反射成型体１３の作製〕
上記光反射成型体１２の作製において、光反射層ユニットと保護層の配置を逆にし、光反射層ユニット／保護層／基板とした以外は同様にして、光反射成型体１３を作製した。
【０２１０】
〔光反射成型体１４の作製〕
上記光反射成型体１の作製において、光反射層ユニットと保護層の配置を逆にし、光反射層ユニット／保護層／接着層／基板とした以外は同様にして、光反射成型体１４を作製した。
【０２１１】
〔光反射成型体１５の作製〕
特開２０１２−１１６０４５号公報の実施例（実施例２）に記載の方法に従って、ポリエステルＡとしてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用い、ポリエステルＢとしてシクロヘキサンジメタノールが３３モル％共重合された共重合ポリエステル（ＰＥＴＧ）を用い、ポリエステルＡを４０１層、ポリエステルＢを４００層、交互に積層して、８０１層から構成される光反射成型体１５を作製した。
【０２１２】
上記作製した各光反射成型体の主要構成を、表Ｉに示す。
【０２１３】
【表１】
2020154003.tif 000003
【０２１４】
《光反射成型体の評価》
上記作製した各光反射成型体について、下記の各特性値の測定及び評価を行った。
【０２１５】
〔最大反射ピーク波長の測定〕
日立製の分光光度計  Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を用いて、５°正反射の条件にて３８０〜９００ｎｍの波長域における反射率を測定し、分光反射率ヒストグラムを作製した。
【０２１６】
次いで、ヒストグラムにおける反射率が最大値となる時の最大反射ピーク波長（ｎｍ）を求めた。
【０２１７】
〔最大ピーク反射率の測定〕
（成型直後の最大ピーク反射率１）
日立製の分光光度計  Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を用いて、作製直後の各光反射成型体について、５°正反射の条件にて３８０〜９００ｎｍの波長域における反射率を測定し、分光反射率ヒストグラムを作製した。次いで、各ヒストグラムにおける最大反射率を求め、これを成型直後の最大ピーク反射率１とした。
【０２１８】
（耐久性の評価１：強制劣化処理後の最大ピーク反射率２）
上記作製した各光反射成型体を、８５℃、８５％ＲＨの環境下で１０００時間の強制劣化を施したのち、上記と同様にして最大反射率を測定し、これを強制劣化後の最大ピーク反射率２とした。
【０２１９】
〔密着性の評価〕
（成型直後の密着性評価）
密着性の測定は、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００に準拠し、成型直後の試料にカッターでクロス状に傷をつけ、１００マスの切り目を入れる。セロハンテープを切れ目部分に貼り付けた後、４５°方向に引っ張り、剥離されているマス数を計測し、これを密着性評価の尺度とした。
【０２２０】
（耐久性の評価２：強制劣化処理後の密着性評価）
上記作製した各光反射成型体を、８５℃、８５％ＲＨの環境下で１０００時間の強制劣化を施したのち、上記と同様にして密着性を評価した。
【０２２１】
〔成型後の表面均一性の評価〕
上記作製した各光反射積層体について、保護層面側より表面状態を目視観察した。
【０２２２】
光の干渉縞、ぎらつき感、膜面の不均一等が観察される場合には「×」、このような光学的なバラツキがなく、均一性の高い膜面であれば「○」と判定した。
【０２２３】
以上により得られた結果を、表IIに示す。
【０２２４】
【表２】
2020154003.tif 000004
【０２２５】
表IIに記載の結果より明らかなように、本発明で規定する構成からなる光反射成型体は、比較例に対し、赤外線及び可視光線に対する高い反射率を有し、密着性及び耐久性が向上し、かつ反射光均一性に優れていることが分かる。
【符号の説明】
【０２２６】
１  光反射成型体
２  基板
３  接着層
４  光反射層ユニット
４Ａ  第１光反射層ユニット
４Ｂ  第２光反射層ユニット
５  保護層
５Ａ  第１保護層
５Ｂ  第２保護層
Ｆ  光反射フィルム
【図１】
2020154003.tif 000005
【図２】
2020154003.tif 000006
【図３】
2020154003.tif 000007