(57)【要約】【課題】本発明は、低減した青味を有する近赤外線吸収性粒子、該近赤外線吸収性粒子で構成される粉体、該粉体を含む分散液、該粉体を含む樹脂組成物、該粉体を含む近赤外線吸収性層、及び、該粉体を含む近赤外線吸収性部材を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、下記式（Ｉ）：  ＣｓｐＭｑＷ１−ｑＯｒ  ・・・（Ｉ）［式中、  Ｍは、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｌ及びＳｃからなる群から選択される１種又は２種以上の元素を表し、  ｐは、０．０１≦ｐ＜０．３を満たし、  ｑは、０．０１≦ｑ＜０．５を満たし、  ｑ及びｒは、３＜ｒ／（１−ｑ）を満たす。］で表される組成を有する、近赤外線吸収性粒子を提供する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）：
ＣｓｐＭｑＷ１−ｑＯｒ  ・・・（Ｉ）
［式中、
Ｍは、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｌ及びＳｃからなる群から選択される１種又は２種以上の元素を表し、
ｐは、０．０１≦ｐ＜０．３を満たし、
ｑは、０．０１≦ｑ＜０．５を満たし、
ｑ及びｒは、３＜ｒ／（１−ｑ）を満たす。］
で表される組成を有する、近赤外線吸収性粒子。
【請求項２】
六方晶の結晶構造を有する、請求項１に記載の近赤外線吸収性粒子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の近赤外線吸収性粒子で構成される粉体。
【請求項４】
動的光散乱法で測定された平均粒径が１５０ｎｍ以下である、請求項３に記載の粉体。
【請求項５】
Ｘ線小角散乱法で測定された平均粒径が２００ｎｍ以下である、請求項３又は４に記載の粉体。
【請求項６】
ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ以上である、請求項３〜５のいずれか一項に記載の粉体。
【請求項７】
分散媒と、前記分散媒に分散した請求項３〜６のいずれか一項に記載の粉体とを含む、分散液。
【請求項８】
樹脂と、請求項３〜６のいずれか一項に記載の粉体とを含む、樹脂組成物。
【請求項９】
マトリックス樹脂と、前記マトリックス樹脂に分散した請求項３〜６のいずれか一項に記載の粉体とを含む、近赤外線吸収性層。
【請求項１０】
支持体と、前記支持体の表面上に形成された請求項９に記載の近赤外線吸収性層とを備える、近赤外線吸収性部材。
【請求項１１】
樹脂成形体と、前記樹脂成形体中に含まれる請求項３〜６のいずれか一項に記載の粉体とを含む、近赤外線吸収性部材。
【請求項１２】
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値及びｂ＊値が、それぞれ、８５以上９７以下及び−２以上７以下である、請求項１０又は１１に記載の近赤外線吸収性部材。
【請求項１３】
ヘーズ値が１０％以下である、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の近赤外線吸収性部材。
【請求項１４】
全光線透過率が６０％以上９２％未満である、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の近赤外線吸収性部材。
【請求項１５】
波長７００ｎｍの光の透過率が４０％以上である、請求項１０〜１４のいずれか一項に記載の近赤外線吸収性部材。
【請求項１６】
波長７００ｎｍの光の透過率（Ｔλ７００）に対する、波長１４００ｎｍの光の透過率（Ｔλ１４００）の比（Ｔλ１４００／Ｔλ７００）が、０．５０以下である、請求項１０〜１５のいずれか一項に記載の近赤外線吸収性部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線吸収性材料（近赤外線吸収性粒子、該近赤外線吸収性粒子で構成される粉体、該粉体を含む分散液、該粉体を含む樹脂組成物等）並びに該近赤外線吸収性材料を使用して得られた近赤外線吸収性層及び近赤外線吸収性部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近赤外線吸収性材料としてタングステン系、ＬａＢ６、ＡＴＯ、ＩＴＯ等が一般的に知られているが、タングステン系として、次の技術が知られている。即ち、一般式：ＭＸＡＹＷ（１−Ｙ）Ｏ３［式中、Ｍは、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属等から選択される１種類以上の元素を表し、Ａは、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ等から選択される１種類以上の元素を表し、Ｗはタングステンを表し、Ｏは酸素を表し、Ｘは、０＜Ｘ≦１．２を満たす数を表し、Ｙは、０＜Ｙ≦１を満たす数を表す。］で表される複合酸化物微粒子（特許文献１）、一般式：ＭｘＷｙＯｚ［式中、Ｍは、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属等から選択される１種類以上の元素を表し、Ｗはタングステンを表し、Ｏは酸素を表し、ｘ、ｙ及びｚは、０．００１≦ｘ／ｙ≦１、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０を満たす数を表す。］で表される複合タングステン酸化物微粒子（特許文献２）等が知られている。
【０００３】
当該特許文献１及び２に記載の近赤外線吸収性粒子は、近赤外線領域、特に波長１０００ｎｍ付近の光を大きく吸収するため、その透過色調は青色系となる旨が記載されている。ここで、青味は視認性に影響を及ぼすため、極力低減させたい要望がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２９９０８６号公報
【特許文献２】ＷＯ２００５／０３７９３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、青味が低減した近赤外線吸収性粒子、該近赤外線吸収性粒子で構成される粉体、該粉体を含む分散液、該粉体を含む樹脂組成物、該粉体を含む近赤外線吸収性層、及び、該粉体を含む近赤外線吸収性部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、下記式（Ｉ）：
ＣｓｐＭｑＷ１−ｑＯｒ  ・・・（Ｉ）
［式中、
Ｍは、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｌ及びＳｃからなる群から選択される１種又は２種以上の元素を表し、
ｐは、０．０１≦ｐ＜０．３を満たし、
ｑは、０．０１≦ｑ＜０．５を満たし、
ｑ及びｒは、３＜ｒ／（１−ｑ）を満たす。］
で表される組成を有する、近赤外線吸収性粒子を提供する。
【０００７】
また、本発明は、本発明の近赤外線吸収性粒子で構成される粉体、該粉体を含む分散液、該粉体を含む樹脂組成物、該粉体を含む近赤外線吸収性層、及び、該粉体を含む近赤外線吸収性部材を提供する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、青味が低減した近赤外線吸収性粒子、該近赤外線吸収性粒子で構成される粉体、該粉体を含む分散液、該粉体を含む樹脂組成物、該粉体を含む近赤外線吸収性層、及び、該粉体を含む近赤外線吸収性部材が提供される。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００１０】
＜粒子及び粉体＞
本発明の粒子及び粉体は、近赤外線吸収性を有する。本発明の粒子及び粉体が吸収し得る近赤外線の波長は、通常７８０ｎｍ以上２５００ｎｍ以下である。
【００１１】
本発明の粉体は、本発明の粒子で構成される。本発明の粉体を構成する本発明の粒子は、１種であってもよいし、２種以上であってもよい。本発明の粉体は、本発明の粒子以外の粒子（例えば、本発明の粒子以外の近赤外線吸収性粒子）を含んでもよいが、好ましくは、本発明の粒子からなる。
【００１２】
本発明の粒子及び粉体は、下記式（Ｉ）：
ＣｓｐＭｑＷ１−ｑＯｒ  ・・・（Ｉ）
で表される組成を有する。
【００１３】
式（Ｉ）において、Ｃｓは、セシウムを表し、Ｗは、タングステンを表し、Ｏは、酸素を表す。
【００１４】
式（Ｉ）において、Ｍは、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｌ及びＳｃからなる群から選択される１種又は２種以上の元素を表す。Ｎｂは、ニオブを表し、Ｔａは、タンタルを表し、Ａｌは、アルミニウムを表し、Ｓｃは、スカンジウムを表す。Ｍが１種の元素を表す場合、Ｍで表される１種の元素は、好ましくは、Ｎｂ、Ａｌ又はＳｃ、さらに好ましくは、Ｎｂ又はＡｌである。Ｍが２種以上の元素を表す場合、Ｍで表される２種以上の元素は、好ましくはＮｂ、Ａｌ及びＳｃから選択される２種以上、さらに好ましくは、Ｎｂ及びＡｌを含む。
【００１５】
式（Ｉ）において、ｐは、０．０１≦ｐ＜０．３を満たす数を表す。ｐで表される数は、好ましくは０．１≦ｐ＜０．３、さらに好ましくは０．１５≦ｐ＜０．３、さらに一層好ましくは０．２≦ｐ＜０．３を満たす。
【００１６】
式（Ｉ）において、ｑは、０．０１≦ｑ＜０．５を満たす数を表す。ｑで表される数は、好ましくは０．０５≦ｑ＜０．５、さらに好ましくは０．１≦ｑ＜０．５、さらに一層好ましくは０．１≦ｑ≦０．３を満たす。
【００１７】
式（Ｉ）において、ｑ及びｒは、３＜ｒ／（１−ｑ）を満たす数を表す。ｑ及びｒで表される数は、好ましくは３．０５≦ｒ／（１−ｑ）、さらに好ましくは３．１≦ｒ／（１−ｑ）、さらに一層好ましくは３．３≦ｒ／（１−ｑ）を満たす。
【００１８】
式（Ｉ）において、ｒで表される数は、好ましくは２．７≦ｒ≦３．０、さらに好ましくは２．８≦ｒ≦３．０を満たす。
【００１９】
本発明の粒子及び粉体は、式（Ｉ）で表される組成を有することにより、低減した青味を有する。青味の指標として、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値及びｂ＊値を使用することができる。Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値及びｂ＊値については後述する。
【００２０】
以下、本発明の粒子及び粉体の特性（Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値及びｂ＊値、結晶構造、平均粒径、ＢＥＴ比表面積等）について説明する。本発明の粒子及び粉体は、本明細書に記載された２種以上の特性を有することができる。
【００２１】
樹脂と、該樹脂に分散した本発明の粉体とを含む樹脂層を形成し、該樹脂層のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値及びｂ＊値を測定したとき、Ｌ＊値は、好ましくは８５以上９７以下、さらに好ましくは８５以上９５以下、さらに一層好ましくは８５以上９３以下であり、ｂ＊値は、好ましくは−２以上７以下、さらに好ましくは−１以上５以下、さらに一層好ましくは−０．５以上４．５以下である。本発明の粒子及び粉体は、低減した青味を有するため、このようなＬ＊値及びｂ＊値を実現することができる。
【００２２】
なお、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系は、ＣＩＥ（国際照明委員会）で規格化され、ＪＩＳ  Ｚ  ８７８１−４：２０１３で採用されている表色系を意味する。
【００２３】
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値及びｂ＊値の測定方法の好ましい実施形態は、次の通りである。本発明の粉体を２０重量％、２−ブタノンを７５重量％、分散剤を５重量％含有する混合物を調製する。この混合物に対してペイントシェイカーを使用したメディア分散処理を行って分散液を調製する。この分散液を１０重量％、熱硬化性樹脂を１０重量％、２−ブタノンを８０重量％含有する塗料を調製する。この塗料をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上にバーコーターで塗布して塗膜（厚み３μｍ）を形成し、８０℃で１０分間乾燥して溶剤を蒸発させ、ＰＥＴフィルム上に樹脂層を形成する。次に、色差計（例えば、コニカミノルタ製ＣＭ−２６００ｄ）を使用して、樹脂層表面側から入射角０度（樹脂層表面の法線方向を０度とする）でパルスキセノンランプを照射し、ＳＣＩ方式に基づいて、Ｌ＊値及びｂ＊値を測定する。任意の１０箇所に関してＬ＊値及びｂ＊値を測定し、１０箇所のＬ＊値の平均値及び１０箇所のｂ＊値の平均値を、それぞれ、粉体のＬ＊値及びｂ＊値とする。
【００２４】
本発明の粒子は、好ましくは結晶構造を有する。結晶構造としては、例えば、六方晶、正方晶、立方晶等が挙げられる。本発明の粒子が六方晶の結晶構造を有しない場合、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値が顕著に減少する傾向がある。したがって、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値を所望の範囲に調整し、低減した青味を実現する点から、本発明の粒子は六方晶の結晶構造を有することが好ましい。
【００２５】
結晶構造は、Ｘ線回折装置（リガク社製ＲＩＮＴ−ＴＴＲＩＩＩ）を使用し、試料を専用のガラスホルダーに充填し、５０ｋＶ−３００ｍＡの電圧−電流を印加して発生させたＣｕ  Ｋα線によって、サンプリング角０．０２°、走査速度４．０°／ｍｉｎの条件で測定し、測定結果を使用してＸＲＤ解析ソフトウエアＪＡＤＥによる解析を行い、結晶構造を同定することにより確認することができる。
【００２６】
本発明の粉体の平均粒径は、例えば、動的光散乱法によって測定することができる。動的光散乱法で測定された本発明の粉体の平均粒径は、動的光散乱法によって得られた体積基準の粒度分布において、累積体積が５０％となる粒径を意味する。
【００２７】
動的光散乱法による平均粒径の測定方法の好ましい実施形態は、次の通りである。本発明の粉体を２０重量％、２−ブタノンを７５重量％、分散剤を５重量％含有する混合物を調製する。この混合物に対してペイントシェイカーを使用したメディア分散処理を行って分散液を調製する。当該分散液を１／１０濃度に希釈し、測定装置として例えばＭａｌｖｅｒｎ  Ｐａｎａｌｙｔｉｃａｌ製「ゼータサイザーナノＺＳ」を使用して、上記希釈液中に含まれる粉体の平均粒径を測定する。
【００２８】
上記実施形態において、動的光散乱法で測定された本発明の粉体の平均粒径は、近赤外線吸収性部材とした際の透明性を維持する観点から、好ましくは１５０ｎｍ以下、さらに好ましくは１２５ｎｍ以下、さらに一層好ましくは１００ｎｍ以下である。下限値は特に限定されないが、好ましくは１０ｎｍ、さらに好ましくは２０ｎｍ、さらに一層好ましくは３０ｎｍである。
【００２９】
本発明の粉体の平均粒径は、例えば、Ｘ線小角散乱法で測定することができる。Ｘ線小角散乱法で測定される本発明の粉体の平均粒径は、Ｘ線小角散乱法によって得られた体積基準の粒度分布において、累積体積が５０％となる粒径を意味する。
【００３０】
Ｘ線小角散乱法による平均粒径の測定方法の好ましい実施形態は、次の通りである。上述した動的光散乱法による平均粒径の測定のために調製した分散液と同様のものを用意する。この分散液を１０重量％、アクリル樹脂を１０重量％、２−ブタノンを８０重量％含有する塗料を調製する。この塗料をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上にバーコーターで塗布して塗膜（厚み３μｍ）を形成し、８０℃で１０分間乾燥して溶剤を蒸発させ、樹脂層を形成する。当該樹脂層中に含まれる粉体の平均粒径を、以下の装置で測定する。
【００３１】
Ｘ線小角散乱プロファイルを得るために、株式会社リガク製全自動多目的Ｘ線回折装置ＳｍａｒｔＬａｂに、光学系としてＸ線小角散乱仕様を適用し、透過法にて試料のＸ線小角散乱プロファイルを測定する。Ｘ線源としてＣｕターゲットを使用し、検出器としてシンチレーションカウンターを使用する。次いで、試料のＸ線小角散乱プロファイルを、粒子形状を球形とし、粒子サイズのバラつきがガンマ分布関数で与えられると仮定して、株式会社リガク製解析ソフト  ＮＡＮＯ−Ｓｏｌｖｅｒを使用してプロファイル解析を実施する。なお、プロファイル解析の対象角度範囲は、２θ＝４ｄｅｇまでとする。
【００３２】
上記実施形態において、Ｘ線小角散乱法で測定された本発明の粉体の平均粒径は、近赤外線吸収性部材とした際の透明性を維持する観点から、好ましくは２００ｎｍ以下、さらに好ましくは１００ｎｍ以下、さらに一層好ましくは４０ｎｍ以下である。下限値は特に限定されないが、好ましくは５ｎｍ、さらに好ましくは１０ｎｍ、さらに一層好ましくは１５ｎｍである。
【００３３】
本発明の粉体のＢＥＴ比表面積は特に限定されず、用途等に応じて適宜調整することができる。平均粒径を小さくし、透明性を向上させる点からは、本発明の粉体のＢＥＴ比表面積は大きい方が好ましい。
【００３４】
本発明の粉体のＢＥＴ比表面積は、好ましくは１０ｍ２／ｇ以上、さらに好ましくは１２ｍ２／ｇ以上、さらに一層好ましくは１４ｍ２／ｇ以上である。上限値は特に限定されないが、好ましくは１００ｍ２／ｇ、さらに好ましくは７０ｍ２／ｇ、さらに一層好ましくは５０ｍ２／ｇ、さらにより一層好ましくは３０ｍ２／ｇである
【００３５】
本発明の粉体のＢＥＴ比表面積は、ＪＩＳ  Ｒ１６２６「ファインセラミック粉体の気体吸着ＢＥＴ法による比表面積測定方法」の「６．２流動法」における「（３．５）一点法」に従って測定される。気体としては、吸着ガスである窒素を３０容量％、キャリアガスであるヘリウムを７０容量％含有する窒素−ヘリウム混合ガスが使用される。測定装置としては、マイクロトラック・ベル製の「ＢＥＬＳＯＲＰ−ＭＲ６」が使用される。
【００３６】
本発明の粉体は、原料を不活性ガス及び／又は還元性ガスを含む雰囲気中で熱処理することにより製造することができる。
【００３７】
原料は、セシウム、タングステン及びＭ元素を含む限り特に限定されない。原料は、例えば、セシウムを含む化合物と、タングステンを含む化合物と、Ｍ元素を含む化合物との混合物である。原料として使用される化合物は、セシウム、タングステン及びＭ元素のうちの２種以上を含む化合物であってもよい。原料として使用される化合物としては、例えば、セシウム、タングステン及びＭ元素のうちの１種又は２種以上を含む酸化物、酸化物の水和物、塩化物、アンモニウム塩、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、シュウ酸塩、水酸化物、過酸化物等が挙げられる。これらのうち酸化物、炭酸塩、水和物等は、加熱還元時に除去が困難な不純物を生成しないため、工業的製造方法に適している。セシウムを含む化合物は、好ましくは、セシウムの炭酸塩である。タングステンを含む化合物は、好ましくは、タングステンの酸化物である。Ｍ元素を含む化合物は、好ましくは、Ｍ元素の酸化物である。また、原料には焼結抑制剤、還元助剤等の添加剤を含めても良い。
【００３８】
原料は、式（Ｉ）で表される組成で配合された後、不活性ガス及び／又は還元性ガスを含む雰囲気中で熱処理される。不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、窒素ガス等が挙げられ、還元性ガスとしては、例えば、水素ガス、アンモニアガス等が挙げられる。還元性ガスとして水素ガスを使用する場合、雰囲気中の水素ガスの量は、好ましくは０．１〜１００体積％、さらに好ましくは１〜１０体積％である。熱処理の温度は、好ましくは４００〜１０００℃、さらに好ましくは４５０〜９００℃、さらに一層好ましくは５００〜８００℃であり、熱処理の時間は、好ましくは１〜２０時間である。
【００３９】
一実施形態において、原料を、不活性ガス及び還元性ガスの雰囲気中で４００〜６００℃で１〜２０時間焼成した後、不活性ガスの雰囲気中で６００〜９００℃で１〜２０時間焼成する。熱処理によって得られる焼成物は、必要に応じて、粉砕処理される。
【００４０】
＜分散液＞
本発明の分散液は、分散媒と、該分散媒に分散した本発明の粉体とを含む。
【００４１】
本発明の分散液に含まれる本発明の粉体の量は特に限定されず、本発明の分散液の用途等に応じて適宜調整することができる。本発明の分散液は、本発明の粉体の含有量に応じて種々の粘度を有し、粘度に応じて、インク、スラリー、ペースト等の種々の形態をとる。本発明の分散液に含まれる本発明の粉体の量は、本発明の分散液の総質量を基準として、好ましくは０．１〜９５質量％、さらに好ましくは１〜８０質量％、さらに一層好ましくは１〜５０質量％である。
【００４２】
本発明の分散液に含まれる分散媒は、本発明の粉体を分散させることができる液体である限り特に限定されない。分散媒としては、例えば、水、有機溶媒等が挙げられる。分散媒は、１種の溶媒であってもよいし、２種以上の溶媒の混合物であってもよい。２種以上の溶媒の混合物としては、例えば、水と１種又は２種以上の有機溶媒との混合物、２種以上の有機溶媒の混合物等が挙げられる。分散媒は、好ましくは、有機溶媒を含む。有機溶媒としては、以下の具体例が挙げられる。
【００４３】
アルコール：例えば、１−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノール、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１−ヘプタノール、１−オクタノール、１−ノナノール、１−デカノール、グリシドール、ベンジルアルコール、メチルシクロヘキサノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−プロパノール、２−エチルブタノール、２−エチルヘキサノール、２−オクタノール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ｎ−ブトキシエタノール、２−フェノキシエタノール等。
【００４４】
多価アルコール：例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等。
【００４５】
多価アルコールアルキルエーテル：例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等。
【００４６】
多価アルコールアリールエーテル：例えば、エチレングリコールモノフェニルエーテル等。
【００４７】
エステル類：例えば、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、γ−ブチロラクトン等。
【００４８】
含窒素複素環化合物：例えば、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等。
【００４９】
アミド類：例えば、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等。
【００５０】
アミン類：例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等。
【００５１】
飽和炭化水素：例えば、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン等。
【００５２】
ケトン類：例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン。
【００５３】
芳香族炭化水素：例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等。
【００５４】
本発明の分散液は、必要に応じて、分散剤を含んでいてもよい。分散剤としては、例えば、非イオン性界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤、Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ａｌ等の各種カップリング剤及びキレート剤等が挙げられる。
【００５５】
非イオン性界面活性剤としては、例えば、多価アルコール脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ひまし油、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシアルキレンアルキルアミン、アルキルアルカノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等が挙げられる。
【００５６】
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００５７】
本発明の分散液は、例えば後述する樹脂と混合して樹脂組成物として使用することができる。また、本発明の樹脂成形体を成形する過程にて、樹脂に当該分散液をスプレー塗布して使用することもできる。
【００５８】
＜樹脂組成物＞
本発明の樹脂組成物は、樹脂と、本発明の粉体とを含む。
【００５９】
本発明の樹脂組成物に含まれる本発明の粉体の量は、本発明の樹脂組成物の用途等に応じて適宜調整することができる。本発明の樹脂組成物に含まれる本発明の粉体の量は、本発明の樹脂組成物の総質量を基準として、好ましくは０．１〜９５質量％、さらに好ましくは０．１〜７０質量％、さらに一層好ましくは１〜５０質量％である。
【００６０】
本発明の樹脂組成物に含まれる樹脂としては、例えば、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等が挙げられる。本発明の樹脂組成物に含まれる樹脂は、１種であってもよいし、２種以上であってもよい。本発明の樹脂組成物に含まれる樹脂は、好ましくは、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等の硬化性樹脂である。硬化性樹脂は、例えば、電離放射線硬化性樹脂と熱硬化性樹脂とを併用する、あるいは、硬化性樹脂と熱可塑性樹脂とを併用する、いわゆるハイブリッドタイプであってもよい。樹脂は、後述する所望のＬ＊値及びｂ＊値を得る観点から無色透明であることが好ましいが、これに限定されない。
【００６１】
熱硬化性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。
【００６２】
電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が使用されるが、その他、Ｘ線、γ線等の電磁波、α線、イオン線等の荷電粒子線も使用可能である。電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、電離放射線の照射により架橋可能な重合性不飽和結合、カチオン重合性官能基等を分子中に有するモノマー、オリゴマー、プレポリマー等の１種以上を使用することができ、単官能、２官能、多官能のいずれでも良く、アクリレートやメタクリレートで良い。例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等のアクリレート樹脂が挙げられる。
【００６３】
熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂等が挙げられる。
【００６４】
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、硬化性樹脂の硬化反応に関与する成分、例えば、光重合開始剤（増感剤）を含んでいてもよい。
【００６５】
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、溶剤又は分散媒を含んでいてもよい。溶剤又は分散媒としては、上記で列挙した有機溶媒や水等が使用される。溶剤又は分散媒は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００６６】
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、ガラスフリットを含んでいてもよい。ガラスフリットとしては、例えば、ホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸バリウムガラス、ホウケイ酸亜鉛ガラス等が挙げられる。
【００６７】
本発明の樹脂組成物は、近赤外線吸収性組成物として使用することができる。例えば、所望の部材（例えば、樹脂成形体）の表面に本発明の樹脂組成物を塗布して乾燥させ、必要に応じて、樹脂を硬化させることにより、所望の部材の表面に近赤外線吸収性層を形成することができる。塗布方法としては、例えば、インクジェット法、ディスペンサ法、マイクロディスペンサ法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプレー塗布法、バーコーティング法、ロールコーティング法、カレンダー法等が挙げられる。また、本発明の樹脂組成物は、近赤外線吸収性部材を製造するための材料として使用することができる。例えば、本発明の樹脂組成物を常法に従って成形することにより近赤外線吸収性部材を製造することができる。
【００６８】
＜近赤外線吸収性層＞
本発明の近赤外線吸収性層は、マトリックス樹脂と、該マトリックス樹脂に分散した本発明の粉体とを含む。
【００６９】
本発明の近赤外線吸収性層は、支持体の表面上に形成された層の形態であってもよいし、支持体から独立した層の形態（例えば、フィルム、シート等）であってもよい。
【００７０】
本発明の近赤外線吸収性層の厚みは特に限定されず、求められる近赤外線吸収性等に応じて適宜調整することができる。本発明の近赤外線吸収性層の厚みは、通常１〜１０００μｍ、好ましくは１〜１００μｍ、さらに好ましくは２〜１００μｍである。なお、近赤外線吸収性層の厚みが均一でない場合、任意の５箇所における厚みを測定し、５箇所の厚みの平均値が上記範囲内にあることが好ましい。
【００７１】
一実施形態において、本発明の近赤外線吸収性層は、本発明の樹脂組成物の乾燥物又は硬化物である。この実施形態において、マトリックス樹脂は、例えば、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等の樹脂の乾燥物又は硬化物であり、好ましくは、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等の硬化性樹脂の硬化物である。樹脂の乾燥物又は硬化物は、後述する所望のＬ＊値及びｂ＊値を得る観点から無色透明であることが好ましいが、これに限られない。
【００７２】
＜近赤外線吸収性部材＞
本発明の近赤外線吸収性部材の形態は、本発明の粉体を含む限り特に限定されない。
【００７３】
一実施形態において、本発明の近赤外線吸収性部材は、支持体と、該支持体の表面上に形成された本発明の近赤外線吸収性層とを備える。支持体の形状が板状である場合、本発明の近赤外線吸収性層は、支持体の一方又は両方の面に設けることができる。なお、板状には、平板状に加え、湾曲部、折曲部等を有する三次元形状が包含される。この実施形態に係る近赤外線吸収性部材は、支持体の表面上に本発明の分散液又は樹脂組成物を塗布して乾燥させ、必要に応じて樹脂を硬化させることにより製造することができる。なお、近赤外線吸収性層は、近赤外線吸収性部材の表面の少なくとも一部を形成している。
【００７４】
別の実施形態において、本発明の近赤外線吸収性部材は、樹脂成形体と、該樹脂成形体中に含まれる本発明の粉体とを含む。この実施形態に係る近赤外線吸収性部材において、本発明の粉体は、例えば、樹脂成形体中に練り込まれている。この実施形態に係る近赤外線吸収性部材は、本発明の樹脂組成物を、例えばインフレーション法、Ｔダイ法、カレンダー法等によって樹脂成形体とすることにより製造することができる。
【００７５】
支持体又は樹脂成形体を構成する樹脂は、近赤外線吸収性部材の用途等に応じて適宜選択することができる。樹脂は、後述する所望のＬ＊値及びｂ＊値を得る観点から無色透明であることが好ましいが、これに限られない。樹脂としては、例えば、上述で列挙した熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等と同様の樹脂が挙げられる。樹脂は、１種であってもよいし、２種以上であってもよい。樹脂を成形する際、成形用樹脂が熱可塑性樹脂である場合には、加熱溶融によって流動状態とした樹脂が使用され、成形用樹脂が熱硬化性樹脂である場合には、未硬化の液状組成物が室温又は適宜加熱されて使用される。成形用樹脂の加熱温度は、樹脂の種類によるが、一般に１８０〜３２０℃程度である。
【００７６】
近赤外線吸収性部材の形状が板状である場合、近赤外線吸収性部材の厚みは、ハンドリング性や耐久性の観点から、２０μｍ以上とすることが好ましく、５０μｍ以上とすることがさらに好ましい。一方、重量等を考慮すると、１０ｍｍ以下とすることが現実的である。なお、板状には、平板状に加え、湾曲部、折曲部等を有する三次元形状が包含される。
【００７７】
以下、本発明の近赤外線吸収性部材の特性（Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値及びｂ＊値、ヘーズ値、全光線透過率、波長７００ｎｍの光の透過率（Ｔλ７００）、波長１４００ｎｍの光の透過率（Ｔλ１４００）、比（Ｔλ１４００／Ｔλ７００）等）について説明する。本発明の近赤外線吸収性部材は、本明細書に記載された２種以上の特性を有することができる。
【００７８】
近赤外線吸収性部材のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値及びｂ＊値を測定したとき、Ｌ＊値は、好ましくは８５以上９７以下、さらに好ましくは８５以上９５以下、さらに一層好ましくは８５以上９３以下であり、ｂ＊値は、好ましくは−２以上７以下、さらに好ましくは−１以上５以下、さらに一層好ましくは−０．５以上４．５以下である。本発明の粒子及び粉体は、低減した青味を有するため、このようなＬ＊値及びｂ＊値を実現することができる。
【００７９】
近赤外線吸収性部材のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値及びｂ＊値は、支持体又は樹脂成形体を構成する樹脂の種類、含有量等、近赤外線吸収性層におけるマトリックス樹脂の種類、含有量等、本発明の粉体の含有量、結晶構造、平均粒径、ＢＥＴ比表面積等を調整することにより、所望の範囲に調整することができる。
【００８０】
近赤外線吸収性部材のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値及びｂ＊値の測定方法の好ましい実施形態は、次の通りである。近赤外線吸収性部材が、支持体と、該支持体の表面上に形成された近赤外線吸収性層とを備える実施形態においては、色差計（例えば、コニカミノルタ製ＣＭ−２６００ｄ）を使用して、近赤外線吸収性部材における近赤外線吸収性層の表面へ入射角０度（近赤外線吸収性層の表面の法線方向を０度とする）でパルスキセノンランプを照射し、ＳＣＩ方式に基づいて、Ｌ＊値及びｂ＊値を測定する。一方、近赤外線吸収性部材が、樹脂成形体と、該樹脂成形体中に含まれる本発明の粉体とを含む実施形態においては、上記と同様にして、樹脂成形体の表面へ入射角０度（樹脂成形体の表面の法線方向を０度とする）でパルスキセノンランプを照射し、Ｌ＊値及びｂ＊値を測定する。いずれの実施形態においても、任意の１０箇所に関してＬ＊値及びｂ＊値を測定し、１０箇所のＬ＊値の平均値及び１０箇所のｂ＊値の平均値を、それぞれ、近赤外線吸収性部材のＬ＊値及びｂ＊値とする。
【００８１】
本発明の近赤外線吸収性部材のヘーズ値は、特に、本発明の近赤外線吸収性層又は樹脂成形体に含まれる本発明の粉体の平均粒径と関連する。本発明の近赤外線吸収性部材に透明性が求められる場合、ヘーズ値は好ましくは１０％以下、さらに好ましくは８％以下、さらに一層好ましくは５％以下である。
【００８２】
本発明の近赤外線吸収性部材のヘーズ値は、マトリックス樹脂の種類、含有量等、本発明の粉体の含有量、結晶構造、平均粒径、ＢＥＴ比表面積等を調整することにより、所望の範囲に調整することができる。
【００８３】
本発明の近赤外線吸収性部材の全光線透過率は、特に、本発明の近赤外線吸収性層又は樹脂成形体に含まれる本発明の粉体の平均粒径と関連する。本発明の近赤外線吸収性部材に透明性が求められる場合、全光線透過率は好ましくは６０％以上９２％未満、さらに好ましくは６０％以上８５％以下、さらに一層好ましくは６０％以上７５％以下である。
【００８４】
本発明の近赤外線吸収性部材における波長７００ｎｍの光の透過率（Ｔλ７００）は、赤色の可視光の透過性の指標である。可視光の透過性の向上は、青味の低減に寄与する。したがって、波長７００ｎｍの光の透過率は、大きい方が好ましく具体的には４０％以上、さらに好ましくは４５％以上、さらに一層好ましくは５０％以上である。波長７００ｎｍの光の透過率の上限値は特に限定されないが、好ましくは８０％、さらに好ましくは７０％である。
【００８５】
一方、波長１４００ｎｍの光の透過率（Ｔλ１４００）は、近赤外線の吸収性（遮断性）の指標である。したがって、波長１４００ｎｍの光の透過率は小さい方が好ましく、具体的には５０％以下、さらに好ましくは３５％以下、さらに一層好ましくは２５％以下である。
【００８６】
本発明の近赤外線吸収性部材における比（Ｔλ１４００／Ｔλ７００）は、赤色の可視光の透過性と、近赤外線の吸収性（遮断性）とのバランスの指標である。赤色の可視光の透過性を維持しつつ、近赤外線の吸収性（遮断性）が実現されることにより、青味を低減することができる。即ち、比（Ｔλ１４００／Ｔλ７００）の減少は、青味の低減の指標となる。つまり、比（Ｔλ１４００／Ｔλ７００）は、好ましくは０．５０以下、さらに好ましくは０．４以下、さらに一層好ましくは０．２５以下である。比（Ｔλ１４００／Ｔλ７００）の下限値は特に限定されないが、好ましくは０．０１、さらに好ましくは０．０３である。
【００８７】
上述した本発明の近赤外線吸収性部材の全光線透過率、波長７００ｎｍの光の透過率及び波長１４００ｎｍの光の透過率は、マトリックス樹脂の種類、含有量等、本発明の粉体の含有量、結晶構造、平均粒径、ＢＥＴ比表面積等を調整することにより、所望の範囲に調整することができる。
【００８８】
ヘーズの測定は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６：２０００に準拠して実施される。全光線透過率の測定は、ＪＩＳ  Ｋ  ７３７５：２００８に準拠して実施される。ヘーズ及び全光線透過率の測定には、例えば、ヘーズメーター（日本電色工業株式会社製「ＮＤＨ２０００」）が使用される。
【００８９】
以上のように、本発明の近赤外線吸収性材料（近赤外線吸収性粒子、該近赤外線吸収性粒子で構成される粉体、該粉体を含む分散液、該粉体を含む樹脂組成物等）並びに該近赤外線吸収性材料を使用して得られた近赤外線吸収性層及び近赤外線吸収性部材によれば、近赤外線吸収性が求められる窓材、電子機器等として好適に用いることができる。
【実施例】
【００９０】
〔実施例１〕
（１）近赤外線吸収性粒子の作製
モル比がＣｓ：Ｎｂ：Ｗ＝０．２５：０．１：０．９、合計量が４ｇとなるように、タングステン酸（富士フイルム和光純薬社製）、炭酸セシウム（富士フイルム和光純薬社製）及び五酸化ニオブ（三井金属鉱業社製）を配合し、乳鉢により混合した後、２ｖｏｌ．％Ｈ２−Ａｒガス雰囲気の管状炉を使用して、５５０℃で３時間焼成した。その後、カーボン粉末を得られた粉末量に対して０．１ｗｔ％添加し、乳鉢により混合した後、Ａｒガス雰囲気の管状炉を使用して、８００℃で３時間焼成した。それにより、Ｃｓ０．２５Ｎｂ０．１Ｗ０．９Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。
【００９１】
（２）分散液の調製
上記（１）で得られた粉体を２７重量％、２−ブタノンを６５重量％、分散剤を８重量％含有する混合物を調製し、この混合物に対してペイントシェイカーを使用して２０時間分散処理を行って分散液を調製した。
【００９２】
（３）近赤外線吸収性層及び近赤外線吸収性部材の形成
上記（２）で得られた分散液を８重量％、熱硬化性樹脂（ＤＩＣ製アクリディックＡ−１６５）を１２重量％、２−ブタノンを８０重量％含有する塗料を調製し、この塗料をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み１００μｍ）上にバーコーターで塗布して塗膜（厚み３μｍ）を形成し、８０℃で１０分間乾燥して溶剤を蒸発させ、ＰＥＴフィルム上に樹脂層（近赤外線吸収性層）を形成し、近赤外線吸収性部材とした。
【００９３】
（４）粉体物性の分析及び測定
上記（１）で得られた粉体の物性を明らかにするために、上記と同様にして、ＢＥＴ比表面積、動的光散乱法（ＤＬＳ）による平均粒径、Ｘ線小角散乱法（ＳＡＸＳ）による平均粒径及び結晶構造の分析又は測定を実施した。また、上記と同様にして、当該粉体を用いた近赤外線吸収性部材のＬ＊値、ｂ＊値、ヘーズ値（Ｈｚ）、全光線透過率（ＴＴ）、波長７００ｎｍの光の透過率（Ｔλ７００）及び波長１４００ｎｍの光の透過率（Ｔλ１４００）の分析又は測定を実施した。
結果を表１に示す。
【００９４】
〔実施例２〕
モル比をＣｓ：Ｎｂ：Ｗ＝０．２５：０．２：０．８に変更した点を除き、実施例１と同様にして、Ｃｓ０．２５Ｎｂ０．２Ｗ０．８Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【００９５】
〔実施例３〕
モル比をＣｓ：Ｎｂ：Ｗ＝０．２５：０．３：０．７に変更した点を除き、実施例１と同様にして、Ｃｓ０．２５Ｎｂ０．３Ｗ０．７Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【００９６】
〔実施例４〕
モル比をＣｓ：Ｎｂ：Ｗ＝０．２５：０．４：０．６に変更した点を除き、実施例１と同様にして、Ｃｓ０．２５Ｎｂ０．４Ｗ０．６Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【００９７】
〔実施例５〕
用いる原料を五酸化ニオブから酸化アルミニウム（富士フイルム和光純薬社製）に変更し、モル比をＣｓ：Ａｌ：Ｗ＝０．２５：０．１：０．９に変更した点を除き、実施例１と同様にして、Ｃｓ０．２５Ａｌ０．１Ｗ０．９Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【００９８】
〔実施例６〕
モル比をＣｓ：Ａｌ：Ｗ＝０．２５：０．２：０．８に変更した点を除き、実施例５と同様にして、Ｃｓ０．２５Ａｌ０．２Ｗ０．８Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【００９９】
〔実施例７〕
モル比をＣｓ：Ａｌ：Ｗ＝０．２５：０．３：０．７に変更した点を除き、実施例５と同様にして、Ｃｓ０．２５Ａｌ０．３Ｗ０．７Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【０１００】
〔実施例８〕
モル比をＣｓ：Ａｌ：Ｗ＝０．２５：０．４：０．６に変更した点を除き、実施例５と同様にして、Ｃｓ０．２５Ａｌ０．４Ｗ０．６Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【０１０１】
〔実施例９〕
モル比をＣｓ：Ａｌ：Ｗ＝０．２５：０．１：０．９に変更した点、及び、湿式粉砕の条件を変更した点（粉砕時間を５時間に変更した点）を除き、実施例５と同様にして、Ｃｓ０．２５Ａｌ０．１Ｗ０．９Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【０１０２】
〔実施例１０〕
用いる原料を五酸化ニオブから酸化スカンジウム（富士フイルム和光純薬社製）に変更し、モル比をＣｓ：Ｓｃ：Ｗ＝０．２５：０．１：０．９に変更した点を除き、実施例１と同様にして、Ｃｓ０．２５Ｓｃ０．１Ｗ０．９Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【０１０３】
〔比較例１〕
モル比がＲｂ：Ｎｂ：Ｗ＝０．２５：０．１：０．９、合計量が４ｇとなるように、タングステン酸（富士フイルム和光純薬社製）、炭酸ルビジウム（富士フイルム和光純薬社製）及び五酸化ニオブ（三井金属鉱業社製）を配合した点を除き、実施例１と同様にして、Ｒｂ０．２５Ｎｂ０．１Ｗ０．９Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【０１０４】
〔比較例２〕
モル比がＮａ：Ｎｂ：Ｗ＝０．２５：０．１：０．９、合計量が４ｇとなるように、タングステン酸（富士フイルム和光純薬社製）、炭酸ナトリウム（富士フイルム和光純薬社製）及び五酸化ニオブ（三井金属鉱業社製）を配合した点を除き、実施例１と同様にして、Ｎａ０．２５Ｎｂ０．１Ｗ０．９Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【０１０５】
〔比較例３〕
モル比がＫ：Ｎｂ：Ｗ＝０．２５：０．１：０．９、合計量が４ｇとなるように、タングステン酸（富士フイルム和光純薬社製）、炭酸カリウム（富士フイルム和光純薬社製）及び五酸化ニオブ（三井金属鉱業社製）を配合した点を除き、実施例１と同様にして、Ｋ０．２５Ｎｂ０．１Ｗ０．９Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【０１０６】
〔比較例４〕
モル比をＣｓ：Ｎｂ：Ｗ＝０．２５：０．５：０．５に変更した点を除き、実施例１と同様にして、Ｃｓ０．２５Ｎｂ０．５Ｗ０．５Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【０１０７】
〔比較例５〕
モル比をＣｓ：Ａｌ：Ｗ＝０．２５：０．５：０．５に変更した点を除き、実施例５と同様にして、Ｃｓ０．２５Ａｌ０．５Ｗ０．５Ｏ３で表される組成式を有する粉体を得た。得られた粉体に関する分析及び測定を実施例１と同様にして実施した。
【０１０８】
実施例１〜１０及び比較例１〜５の結果を表１に示す。
【０１０９】
【表１】
2020158367.tif 000002
【０１１０】
表１に示すように、実施例１〜１０の粉末は本発明の式（Ｉ）で示される組成を有するため、そのような組成を有さない比較例１〜５の粉末と比較して透明性を維持しつつ青味が低減していることが分かる。
【０１１１】
なお、実施例９の粉末は、動的光散乱法で測定された平均粒径が１５０ｎｍ超、ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ未満であり、粒径が大きいため、均一な樹脂層を形成できなかった。このため、実施例９の粉末については、ヘーズ値及び全光線透過率の測定を実施しなかった。
【手続補正書】
【提出日】令和2年3月2日(2020.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）：
ＣｓｐＭｑＷ１−ｑＯｒ  ・・・（Ｉ）
［式中、
Ｍは、Ｔａ、Ａｌ及びＳｃからなる群から選択される１種又は２種以上の元素を表し、
ｐは、０．０１≦ｐ＜０．３を満たし、
ｑは、０．０１≦ｑ＜０．５を満たし、
ｑ及びｒは、３＜ｒ／（１−ｑ）を満たす。］
で表される組成を有する、近赤外線吸収性粒子。
【請求項２】
六方晶の結晶構造を有する、請求項１に記載の近赤外線吸収性粒子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の近赤外線吸収性粒子で構成される粉体。
【請求項４】
動的光散乱法で測定された平均粒径が１５０ｎｍ以下である、請求項３に記載の粉体。
【請求項５】
Ｘ線小角散乱法で測定された平均粒径が２００ｎｍ以下である、請求項３又は４に記載の粉体。
【請求項６】
ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ以上である、請求項３〜５のいずれか一項に記載の粉体。
【請求項７】
分散媒と、前記分散媒に分散した請求項３〜６のいずれか一項に記載の粉体とを含む、分散液。
【請求項８】
樹脂と、請求項３〜６のいずれか一項に記載の粉体とを含む、樹脂組成物。
【請求項９】
マトリックス樹脂と、前記マトリックス樹脂に分散した請求項３〜６のいずれか一項に記載の粉体とを含む、近赤外線吸収性層。
【請求項１０】
支持体と、前記支持体の表面上に形成された請求項９に記載の近赤外線吸収性層とを備える、近赤外線吸収性部材。
【請求項１１】
樹脂成形体と、前記樹脂成形体中に含まれる請求項３〜６のいずれか一項に記載の粉体とを含む、近赤外線吸収性部材。
【請求項１２】
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値及びｂ＊値が、それぞれ、８５以上９７以下及び−２以上７以下である、請求項１０又は１１に記載の近赤外線吸収性部材。
【請求項１３】
ヘーズ値が１０％以下である、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の近赤外線吸収性部材。
【請求項１４】
全光線透過率が６０％以上９２％未満である、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の近赤外線吸収性部材。
【請求項１５】
波長７００ｎｍの光の透過率が４０％以上である、請求項１０〜１４のいずれか一項に記載の近赤外線吸収性部材。
【請求項１６】
波長７００ｎｍの光の透過率（Ｔλ７００）に対する、波長１４００ｎｍの光の透過率（Ｔλ１４００）の比（Ｔλ１４００／Ｔλ７００）が、０．５０以下である、請求項１０〜１５のいずれか一項に記載の近赤外線吸収性部材。
【手続補正書】
【提出日】令和2年4月28日(2020.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）：
ＣｓｐＭｑＷ１−ｑＯｒ  ・・・（Ｉ）
［式中、
Ｍは、Ａｌ及びＳｃからなる群から選択される１種又は２種の元素を表し、
ｐは、０．０１≦ｐ＜０．３を満たし、
ｑは、０．０１≦ｑ＜０．５を満たし、
ｑ及びｒは、３＜ｒ／（１−ｑ）を満たす。］
で表される組成を有する、近赤外線吸収性粒子。
【請求項２】
六方晶の結晶構造を有する、請求項１に記載の近赤外線吸収性粒子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の近赤外線吸収性粒子で構成される粉体。
【請求項４】
動的光散乱法で測定された平均粒径が１５０ｎｍ以下である、請求項３に記載の粉体。
【請求項５】
Ｘ線小角散乱法で測定された平均粒径が２００ｎｍ以下である、請求項３又は４に記載の粉体。
【請求項６】
ＢＥＴ比表面積が１０ｍ２／ｇ以上である、請求項３〜５のいずれか一項に記載の粉体。
【請求項７】
分散媒と、前記分散媒に分散した請求項３〜６のいずれか一項に記載の粉体とを含む、分散液。
【請求項８】
樹脂と、請求項３〜６のいずれか一項に記載の粉体とを含む、樹脂組成物。
【請求項９】
マトリックス樹脂と、前記マトリックス樹脂に分散した請求項３〜６のいずれか一項に記載の粉体とを含む、近赤外線吸収性層。
【請求項１０】
支持体と、前記支持体の表面上に形成された請求項９に記載の近赤外線吸収性層とを備える、近赤外線吸収性部材。
【請求項１１】
樹脂成形体と、前記樹脂成形体中に含まれる請求項３〜６のいずれか一項に記載の粉体とを含む、近赤外線吸収性部材。
【請求項１２】
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値及びｂ＊値が、それぞれ、８５以上９７以下及び−２以上７以下である、請求項１０又は１１に記載の近赤外線吸収性部材。
【請求項１３】
ヘーズ値が１０％以下である、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の近赤外線吸収性部材。
【請求項１４】
全光線透過率が６０％以上９２％未満である、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の近赤外線吸収性部材。
【請求項１５】
波長７００ｎｍの光の透過率が４０％以上である、請求項１０〜１４のいずれか一項に記載の近赤外線吸収性部材。
【請求項１６】
波長７００ｎｍの光の透過率（Ｔλ７００）に対する、波長１４００ｎｍの光の透過率（Ｔλ１４００）の比（Ｔλ１４００／Ｔλ７００）が、０．５０以下である、請求項１０〜１５のいずれか一項に記載の近赤外線吸収性部材。