(57)【要約】      （修正有）【課題】外観の良好な処理パターンが形成された眼鏡レンズの製造方法を提供する。【解決手段】眼鏡レンズの製造方法は、レンズ基材１１上にレジストパターン３を形成するレジストパターン形成工程と、当該レジストパターン３が形成されたレンズ基材１１の全面に非水溶性層を形成する非水溶性層形成工程と、当該レジストパターン及びその上に形成された非水溶性層を剥離して処理パターンを形成する剥離工程とを備える。レジストパターン形成工程では、インクジェット記録法により、ノズル２１からのインク吐出を複数回に分けて目標の吐出量を吐出させレジストパターン３を形成する。【選択図】図３
2020052323.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理パターンが形成された眼鏡レンズの製造方法であって、
レンズ基材上に、レジストパターンを形成する、レジストパターン形成工程と、
前記レジストパターンが形成された前記レンズ基材の全面に非水溶性層を形成する、非水溶性層形成工程と、
前記レジストパターン及びその上に形成された前記非水溶性層を剥離して、前記処理パターンを形成する、剥離工程と、
を備え、
前記レジストパターン形成工程では、インクジェット記録法により、ノズルからのインク吐出を複数回に分けて目標の吐出量を吐出させ、前記レジストパターンを形成することを特徴とする眼鏡レンズの製造方法。
【請求項２】
前記レジストパターンが、等方的に均一に配置された複数のドット部を有し、各ドット部の周縁形状は円形状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の眼鏡レンズの製造方法。
【請求項３】
前記ドット部のサイズは、３００μｍ〜５００μｍであることを特徴とする請求項２に記載の眼鏡レンズの製造方法。
【請求項４】
前記インクは、水溶性ポリマーと、（メタ）アクリルモノマーとを含有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
【請求項５】
前記インクのレジストパターン形成表面に対する接触角が、２５°以上６５°以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
【請求項６】
前記ノズルからのインク吐出を２回に分けて目標の吐出量を吐出させることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
【請求項７】
前記レンズ基材の表面は凸面状であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
【請求項８】
前記ノズルと前記レンズ基材との離間距離は１０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
【請求項９】
前記レジストパターンを形成する前記レンズ基材の最表面にハードコート層を有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
【請求項１０】
前記非水溶性層は、金属層であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理パターンが形成された眼鏡レンズの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
眼鏡レンズは、レンズ基材の表面を覆う様々な層を備えている。例えば、レンズ基材に対して傷が入ることを防止するためのハードコート層、レンズ表面での光反射を防止するための反射防止層、さらにはレンズの水ヤケを防止するための撥水層や、レンズの曇りを防止するための防曇層等である。
【０００３】
また、たとえばピント調節補助機能などを持たせるため、レンズ基材表面に所定の処理パターンが形成された眼鏡レンズが知られている。
また、特許文献１には、眼鏡用のレンズなどの光学部材表面に所定の模様を形成するためのコーティング方法が開示されている。また、特許文献２には、眼鏡レンズの表面へのマーキング方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−５５２５３号公報
【特許文献２】特開２０１２−１６８３１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の処理パターンとしては、例えば、図２に示すような、等方的に均一に配置された多数の円形状の開口部を有するＣｒなどの金属層からなる処理パターンが知られている。
【０００６】
このような処理パターンは、例えば、レンズ基材上に所定のレジストパターンを形成する工程と、当該レジストパターンが形成されたレンズ基材の全面にＣｒなどの金属層を形成する工程と、前記レジストパターン及びその上に形成された前記金属層を剥離して前記処理パターンを形成する工程とによって形成することができる。この場合のレジストパターンは、上記処理パターンの開口部を形成するための複数の円形状のドット部を有している。通常、上記処理パターンは、特にその開口部の外観が良好であることを求められることが多く、そのためには、上記レジストパターンにおいても、その外観が良好に形成される必要がある。
【０００７】
上記特許文献１には、インクをのせたシリコンゴム等のパットをスタンプのように対象物に押し付けて印刷するパット印刷により、光学部材表面に所定の模様を形成するためのコーティング方法が開示されているが、この方法を適用して、レンズ基材表面に上記のレジストパターンを形成すると、印刷された各ドットの周縁部がたとえばギザギザに形成されてしまい、各ドットの周縁部が乱れてきれいに形成されないという問題がある。
【０００８】
また、上記特許文献２には、インクジェット方式による、眼鏡レンズの表面へのマーキング方法が開示されているが、この方法を適用して、レンズ基材表面に上記のレジストパターンを形成すると、例えば、ドット繋がり（複数のドットが繋がり、大きなドットを形成）、ドット偏り（ドットの位置がずれる）、ドット抜け（ドットが印刷されていない）、サテライト（インクが細かく吐出し、不要な小さなドットを形成）等の外観不良が発生しやすいという問題がある。特に、レジストパターンを形成するレンズ基材表面が凸面である場合、この凸面の外周側での外観不良の発生が多い。
【０００９】
このような従来の方法では、外観不良の少ないレジストパターンを形成することが難しく、最終的に形成される処理パターンにおいてもその外観が良好なものは得られない。
【００１０】
そこで、本発明は、このような従来の問題に鑑みなされたものであり、その目的とするところは、外観の良好な処理パターンが形成された眼鏡レンズの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記課題を解決するため、レジストパターンの形成にインクジェット記録法を適用するも、その印刷条件に着目して鋭意検討した結果、一定の知見を得た。
本発明は得られた知見に基づきなされたものである。すなわち、上記課題を解決するため、本発明は以下の構成を有する。
【００１２】
（構成１）
処理パターンが形成された眼鏡レンズの製造方法であって、レンズ基材上に、レジストパターンを形成する、レジストパターン形成工程と、前記レジストパターンが形成された前記レンズ基材の全面に非水溶性層を形成する、非水溶性層形成工程と、前記レジストパターン及びその上に形成された前記非水溶性層を剥離して、前記処理パターンを形成する、剥離工程と、を備え、前記レジストパターン形成工程では、インクジェット記録法により、ノズルからのインク吐出を複数回に分けて目標の吐出量を吐出させ、前記レジストパターンを形成することを特徴とする眼鏡レンズの製造方法。
【００１３】
（構成２）
前記レジストパターンが、等方的に均一に配置された複数のドット部を有し、各ドット部の周縁形状は円形状に形成されていることを特徴とする構成１に記載の眼鏡レンズの製造方法。
（構成３）
前記ドット部のサイズは、３００μｍ〜５００μｍであることを特徴とする構成２に記載の眼鏡レンズの製造方法。
【００１４】
（構成４）
前記インクは、水溶性ポリマーと、（メタ）アクリルモノマーとを含有することを特徴とする構成１乃至３のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
（構成５）
前記インクのレジストパターン形成表面に対する接触角が、２５°以上６５°以下であることを特徴とする構成１乃至４のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
【００１５】
（構成６）
前記ノズルからのインク吐出を２回に分けて目標の吐出量を吐出させることを特徴とする構成１乃至５のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
（構成７）
前記レンズ基材の表面は凸面状であることを特徴とする構成１乃至６のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
【００１６】
（構成８）
前記ノズルと前記レンズ基材との離間距離は１０ｍｍ以下であることを特徴とする構成１乃至７のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
（構成９）
前記レジストパターンを形成する前記レンズ基材の最表面にハードコート層を有することを特徴とする構成１乃至８のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
【００１７】
（構成１０）
前記非水溶性層は、金属層であることを特徴とする構成１乃至９のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の眼鏡レンズの製造方法によれば、外観の良好な処理パターンが形成された眼鏡レンズを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施の形態に係る眼鏡レンズの断面図である。
【図２】本実施の形態における処理パターンの一部拡大平面図である。
【図３】本発明におけるレジストパターン形成工程を説明するための工程図である。
【図４】（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ｂ−１）及び（Ｂ−２）はインクジェット記録法におけるドットパターンの例を示す図である。
【図５】非水溶性層形成工程を説明するための模式図である。
【図６】剥離工程後の眼鏡レンズの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照しながら詳述する。
【００２１】
［眼鏡レンズの構成］
図1は、本発明の一実施の形態に係る眼鏡レンズの厚み方向の断面図である。眼鏡レンズの構成について、図1を参照して説明する。また、処理パターンを構成する非水溶性層として、金属層を用いる場合を例にとり説明する。
【００２２】
図１に示すように、本実施形態の眼鏡レンズ１は、レンズ基材１１を有し、レンズ基材１１の第一主面１１ａ上に、ハードコート層１２と、処理パターン１５ａと、反射防止層１３、撥水層１４とをこの順に有する。図示していないが、さらに防曇層を有していてもよい。
【００２３】
なお、本実施形態の眼鏡レンズ１では、ハードコート層１２の表面に上記処理パターン１５ａが形成されているが、レンズ基材１１の第一主面１１ａの表面に上記処理パターン１５ａが形成され、その上に上記ハードコート層１２を有する実施態様であってもよい。
【００２４】
＜レンズ基材＞
レンズ基材１１は、第一主面１１ａ、第二主面１１ｂ、及びコバ面（図示せず）を有する。
レンズ基材１１の材質としては、プラスチックであっても、無機ガラスであってもよい。レンズ基材の材質は、例えば、ポリチオウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂等のポリウレタン系材料、ポリスルフィド樹脂等のエピチオ系材料、ポリカーボネート系材料、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート系材料等が挙げられる。
【００２５】
レンズ基材１１としては、通常無色のものが使用されるが、透明性を損なわない範囲で着色したものを使用することができる。
レンズ基材１１の屈折率は、例えば、１．５０以上１．７４以下である。
レンズ基材１１として、フィニッシュレンズ、セミフィニッシュレンズのいずれであってもよい。
【００２６】
レンズ基材１１の表面形状は特に限定されず、平面、凸面、凹面等のいずれであってもよいが、レンズ基材１１の表面形状が凸面である場合、本発明は特に好適である。本発明によれば、レジストパターンを形成するレンズ基材の片主面が凸面である場合、この凸面の外周側でも外観不良の発生は少なく、凸面側の全面において、外観の良好なレジストパターンが形成される。
【００２７】
本実施形態の眼鏡レンズ１は、単焦点レンズ、多焦点レンズ、累進屈折力レンズ等のいずれであってもよい。累進屈折力レンズについては、通常、近用部領域（近用部）及び累進部領域（中間領域）が下方領域に含まれ、遠用部領域（遠用部）が上方領域に含まれる。
【００２８】
＜ハードコート層＞
ハードコート層１２は、例えば、無機酸化物粒子とケイ素化合物とを含む硬化性組成物を硬化して得られる。ハードコート層１２は、レンズ基材１１の材質に応じて組成が選択される。なお、ハードコート層１２の屈折率（ｎＤ）は、例えば、１．５０以上１．７４以下である。
【００２９】
＜処理パターン＞
図２は、本実施の形態における処理パターン１５ａの一部拡大平面図である。図２に示されるように、本実施形態では、等方的に均一に配置された多数の円形状の開口部１５ｂを有するＣｒなどの金属層からなる処理パターン１５ａが形成されている。
【００３０】
処理パターン１５ａの材質である金属としては、例えば、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｕ、Ａｇ、及びＡｌの中から選ばれる少なくとも一種の金属を含み、好ましくはＣｒである。なお、処理パターン１５ａの材質を金属とすることで帯電防止の効果も発揮される。
【００３１】
＜反射防止層＞
反射防止層１３は、屈折率の異なる膜を積層させた多層構造を有し、干渉作用によって光の反射を防止する膜である。このような反射防止層１３は、一例として低屈折率層Ｌと高屈折率層Ｈとを多層積層してなる多層構造が挙げられる。低屈折率層Ｌの屈折率は、波長５００〜５５０ｎｍで例えば、１．３５〜１．８０である。高屈折率層Ｈの屈折率は、波長５００〜５５０ｎｍで例えば、１．９０〜２．６０である。
【００３２】
低屈折率層Ｌは、例えば、屈折率１．４３〜１．４７程度の二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなる。また、高屈折率層Ｈは、低屈折率層Ｌよりも高い屈折率を有する材料からなり、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化タンタル（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等の金属酸化物を、適宜の割合で用いて構成される。
【００３３】
＜撥水層＞
撥水層１４は、例えば、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含有する。この撥水層１４は、反射防止層１３と合わせて反射防止機能を奏するように設定された膜厚を有している。
【００３４】
＜防曇層＞
上記したように、図示していないが、例えば、上記撥水層１４上に、さらに防曇層を有していてもよい。
【００３５】
［眼鏡レンズの製造方法］
次に、本実施の形態に係る眼鏡レンズ１の製造方法について説明する。図３〜図６は、上述の構成を有する実施の形態に係る眼鏡レンズ１の製造方法を示す図である。
【００３６】
まず、レンズ基材１１上にハードコート層１２を形成する。ハードコート層１２の形成は、例えば無機酸化物粒子とケイ素化合物とを含む硬化性組成物を溶解させた溶液を用いた浸漬法（ディップ法）によって成膜し、硬化させることで形成する。
【００３７】
次に、レンズ基材１１上のハードコート層１２上に、水溶性ポリマーを含むレジストパターン３を形成する。本発明では、インクジェット装置を用いてインクジェット記録法によりレジストパターン３を形成する。
【００３８】
レジストパターン３は、ハードコート層（ハードコート層を形成しない場合はレンズ基材）上の非水溶性層を形成する領域を露出させる。レジストパターン３の形成後には、レジストパターン３に対して例えば紫外線（ＵＶ）照射を行うことにより、レジストパターン３を形成するインクを硬化させる。
【００３９】
レジストパターン３は、眼鏡レンズ表面に形成する処理パターン１５ａの開口部１５ｂに対応するドット部３ａを有している。本実施の形態では、レジストパターン３は、等方的に均一に配置された複数のドット部３ａを有し、各ドット部３ａの周縁形状は円形状である。このような周縁形状が円形状である複数のドット部３ａを有するレジストパターン３をレンズ基材表面上に形成する場合に本発明は好適である。複数のドット部３ａは、例えば格子状に配置される。本実施形態では、複数のドット部３ａは、レンズ基材１１またはハードコート層１２を有するレンズ基材の一方の主面上全体に形成されている。本発明は、このようにレンズ基材の一方の主面上全体にレジストパターン３が形成される場合に好適である。
【００４０】
ここで、「等方的に均一に配置された」とは、一方向に一定間隔で配置されていることを意味する。また、「一定間隔」とは、各ドット部を構成する、ドット部中心から隣接するドット部中心までの距離が、例えば、平均値±４０％以内に含まれる配列であることを意味する。また、「円形状」とは、周囲がまるい形を意味するが、いわゆる真円や楕円も含むものとする。
【００４１】
図３は、上記したレジストパターン形成工程の工程図である。図３の（Ａ）に示されるように、レジストパターン形成工程では、インクジェット装置２のインクジェットノズル２１から複数の液滴２２を吐出する。続いて、同図（Ｂ）に示されるように、吐出された液滴２２は、眼鏡レンズの表面で他の液滴と結合し、１つのドット部３ａを形成する。このように複数の液滴２２が集合したドット部３ａが配列し、レジストパターン３を形成する。続いて、同図（Ｃ）に示されるように、レジストパターン形成後には、レジストパターン３に対して例えば紫外線照射装置４を用いて紫外線（ＵＶ）等の光照射により、レジストパターン３を硬化させる。
【００４２】
眼鏡レンズ上に、円状のドットを形成する観点から、形成面は疎水性が高い方が好ましく、例えば、プラズマ処理、イオン照射処理、コロナ放電処理、アルカリ処理等の親水化処理が行われていない表面にレジストパターンを形成することが好ましい。
【００４３】
＜インク＞
インクジェット記録法に用いられるインクは、後述の剥離工程において水系溶媒を使用する場合には優れた剥離性を得る観点から、及び、インクの吐出安定性の観点から、好ましくは水溶性ポリマーを含み、水系溶媒による優れた剥離性と、硬化性とを得る観点から、より好ましくは水溶性ポリマーと（メタ）アクリルモノマーとを含む。
【００４４】
水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの中でも、水系溶媒による優れた剥離性を得る観点から、ポリビニルピロリドンが好ましい。
【００４５】
水溶性ポリマーの重量平均分子量は、水系溶媒による優れた剥離性を得る観点から、好ましくは１００以上、より好ましくは３００以上、更に好ましくは４００以上、更に好ましくは１，０００以上、更に好ましくは５，０００以上であり、そして、好ましくは１００，０００以下、インクジェット記録法におけるインクの吐出安定性の観点から、より好ましくは３０，０００以下、更に好ましくは１５，０００以下である。
【００４６】
水溶性ポリマーの含有量は、インク中、水系溶媒による優れた剥離性を得る観点から、好ましくは１質量％以上、より好ましくは２質量％以上、更に好ましくは３質量％以上であり、そして、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下、更に好ましくは８質量％以下、優れた硬化性を得る観点から、更に好ましくは５質量％以下、更に好ましくは４質量％以下である。
【００４７】
（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中でも、レジストパターン形成後の硬化性の観点から、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートの組み合わせが好ましい。なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタアクリレートから選ばれる少なくとも一種を意味する。
【００４８】
単官能（メタ）アクリリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。
アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートのアルコキシ基の炭素数は、好ましくは１〜４であり、より好ましくは１〜３であり、更に好ましくは１又は２である。
【００４９】
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、メトキシジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。エトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、エトキシジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００５０】
これらの中でも、インクジェット記録法におけるインクの吐出安定性の観点から、アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが好ましく、メトキシポリエチレングリコールモノアクリレートがより好ましく、メトキシトリエチレングリコールモノアクリレートが更に好ましい。
【００５１】
多官能（メタ）アクリレートは、好ましくは二官能（メタ）アクリレートである。二官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中でも、レジストパターン形成後の硬化性の観点から、及び、インクジェット記録法におけるインクの吐出安定性の観点から、ポリエチレングリコールジアクリレートが好ましい。ポリエチレングリコールジアクリレートのポリエチレングリコール部位の平均付加モル数は、好ましくは３以上、より好ましくは６以上、更に好ましくは９以上であり、そして、このましくは３０以下、より好ましくは２５以下、更に好ましくは１８以下である。
【００５２】
（メタ）アクリレートの含有量は、インク中、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上であり、そして、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下である。
【００５３】
単官能（メタ）アクリレートの含有量は、インク中、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上であり、そして、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下である。
多官能（メタ）アクリレートの含有量は、インク中、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、更に好ましくは５質量％以上であり、そして、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下である。
【００５４】
多官能（メタ）アクリレート／単官能（メタ）アクリレートの質量比は、硬化性の観点から、好ましくは５／９５以上、より好ましくは８／９２以上、更に好ましくは１０／９０以上であり、そして、好ましくは４０／６０以下、より好ましくは３０／７０以下、更に好ましくは２０／８０％以下である。
【００５５】
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができるが、水酸基を２以上有する光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシー２−メチル−１−プロパンー１−オンが挙げられる。
【００５６】
光重合開始剤の含有量は、インク中、硬化性を高める観点から、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、更に好ましくは５質量％以上であり、そして、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下である。
【００５７】
光重合開始剤の含有量は、（メタ）アクリレートの合計の含有量の１００質量部に対して、硬化性の観点から、好ましくは５質量部以上、より好ましくは８質量部以上、更に好ましくは１０質量部以上であり、そして、好ましくは４０質量部以下、より好ましくは３０質量部以下、更に好ましくは２０質量部以下である。
【００５８】
インクは、レジストパターンの形成性を向上させる観点から、高沸点溶媒を含むことが好ましい。
高沸点溶媒の沸点は、好ましくは１５０℃以上、より好ましくは１６０℃以上、更に好ましくは１７０℃以上、更に好ましくは１８０℃以上であり、そして、好ましくは３５０℃以下、より好ましくは３３０℃以下、更に好ましくは３００℃以下である。
【００５９】
高沸点溶媒としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコール等のオキシエチレン又はオキシプロピレン付加重合体；プロピレングリコール等のジオール類；グリセリン等のトリオール類；チオジグリコール；トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等の低級アルキルグリコールエーテル類；トリエチレングリコールジエチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジエチルエーテル等の低級ジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられる。これらは単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、プロピレングリコールが好ましい。
【００６０】
高沸点溶媒の含有量は、インク中、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上、更に好ましくは１５質量％以上であり、そして、好ましくは４０質量％以下、より好ましくは３０質量％以下、更に好ましくは２０質量％以下である。
【００６１】
インクは、粘度調整の観点から、水を含むことが好ましい。水としては、例えば、水道水、純水、イオン交換水等が挙げられる。
水の含有量は、インク中、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上であり、そして、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７０質量％以下、更に好ましくは６０質量％以下である。
【００６２】
インクの粘度は、インクジェット記録法によってインクを配置する観点から、好ましくは１ｍＰａ・ｓ以上、より好ましくは５ｍＰａ・ｓ以上、更に好ましくは８ｍＰａ・ｓ以上であり、そして、好ましくは４０ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは３０ｍＰａ・ｓ以下、更に好ましくは２０ｍＰａ・ｓ以下、更に好ましくは１５ｍＰａ・ｓ以下である。
【００６３】
インクのｐＨは、好ましくは３．０以上、より好ましくは３．５以上、更に好ましくは４．０以上であり、そして、好ましくは１２以下、より好ましくは１１以下、更に好ましくは１０以下である。
【００６４】
インクのレジストパターン形成表面に対する接触角が、レジストパターンのドット形状を例えばより真円に近づける観点から、好ましくは２５°以上、より好ましくは３０°以上、更に好ましくは４５°以上であり、そして、好ましくは６５°以下、より好ましくは６０°以下、更に好ましくは５５°以下、更に好ましくは５３°以下である。なお、接触角は、ＪＩＳ  Ｒ  ３２５７：１９９０の静滴法により測定される値である。
【００６５】
本発明で適用されるインクジェット記録法は、型式や方式が限定されることはなく、連続型であってもオンデマンド型であってもよい。オンデマンド型であればピエゾ方式であってもサーマル方式であってもよい。
印刷条件としては、印刷ヘッドに対するレンズ基材の移動速度、移動方向の解像度、移動方向に垂直な幅方向の解像度、インク液滴のサイズ、インク液滴のドロップ周波数、同一着弾点に滴下するインク液滴数などである。これらの印刷条件は、相互に関連性を有しているため、適宜調整することによって、レジストパターンの形成を行う。
【００６６】
本発明は、上記のレジストパターン形成工程では、インクジェット記録法により、ノズルからのインク吐出を複数回に分けて目標の吐出量を吐出させ、上記レジストパターンを形成することを特徴とする。
本発明のようにノズルからのインク吐出を例えば２回に分けて目標の吐出量を吐出させた場合と、従来技術のように目標の吐出量を１回で吐出させた場合とでは、形成されるレジストパターンのドット部のサイズはほぼ同じである。しかし、従来技術のように目標の吐出量を１回で吐出させた場合には、前述のドット繋がり（複数のドットが繋がり、大きなドットを形成）、ドット偏り（ドットの位置がずれる）、ドット抜け（ドットが印刷されていない）、サテライト（インクが細かく吐出し、不要な小さなドットを形成）等の外観不良が発生しやすい。これに対し、本発明のようにノズルからのインク吐出を例えば２回に分けて目標の吐出量を吐出させた場合には、外観不良の少ないレジストパターンを形成することができる。
【００６７】
特に、レジストパターンを形成するレンズ基材の片主面側が凸面である場合、本発明によれば、後述の実施例においても検証されているように、この凸面の周縁領域においても形成されたレジストパターンの外観不良の発生は少なく、この凸面側の全面において外観の良好なレジストパターンが形成される。他方、従来技術では、この凸面の周縁領域での外観不良の発生が多い。
【００６８】
図４の（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ｂ−１）及び（Ｂ−２）はインクジェット記録法におけるドットパターンの例を示す図である。
本発明における具体例を説明すると、例えば、図４の（Ａ−１）に示したドットパターン（２８ピクセル／ドット）にて、ノズルからのインク吐出を２回に分けて目標の吐出量（図４の（Ａ−２）に示すドットパターン（５６ピクセル／ドット）による１回吐出相当量）を吐出させる。また、例えば、図４の（Ｂ−１）に示したドットパターン（１８ピクセル／ドット）にて、ノズルからのインク吐出を２回に分けて目標の吐出量（図４の（Ｂ−２）に示すドットパターン（３６ピクセル／ドット）による１回吐出相当量）を吐出させる。
【００６９】
本発明により形成されるレジストパターン３のドット部３ａのサイズは、例えば、３００μｍ〜５００μｍ程度である。ドット部３ａのサイズは、ノズルからの吐出量を調整することによって、所望のドットサイズに変更することが可能である。
【００７０】
本発明では、ノズルからのインク吐出を例えば２回に分けて目標の吐出量を吐出させるようにしているが、目標の吐出量を３回以上に分けて吐出させるようにしてもよい。ただし、吐出回数を３回以上とすると、工程上の負担が増えるため、実際には吐出回数は少ない方が好ましく、２回とすることが最も好ましい。本発明では、インク吐出回数を複数回としているが、各回のインク吐出量は同一でも異なってもよい。例えば、吐出回数を２回とする場合、１回目と２回目のインク吐出量は同一でも異なってもよいが、同一もしくはほぼ同一であることが好適である。
【００７１】
また、本発明では、インクジェット装置のノズル（図３の符号２１参照）とレンズ基材主面（主面が凸面の場合はその頂部）との離間距離は１０ｍｍ以下とすることが好適であり、特に８ｍｍ以下とすることが好適である。この離間距離が１０ｍｍを超えると、レジストパターンを形成するレンズ基材の片主面側が凸面である場合、この凸面の周縁領域でのレジストパターンの外観不良が発生しやすい。
【００７２】
インクジェット記録法におけるドット密度は、レジストパターン形成性を向上させる観点から、好ましくは３００ｄｐｉ（dots per inch）以上、より好ましくは４００ｄｐｉ以上、更に好ましくは５００ｄｐｉ以上であり、そして、好ましくは１０００ｄｐｉ以下、より好ましくは９００ｄｐｉ以下、更に好ましくは８００ｄｐｉ以下である。
【００７３】
上述のレジストパターン形成工程後の、非水溶性層形成工程において、レジストパターン３が形成されたハードコート層１２上に非水溶性層を形成する。
図５は、上記工程の模式図である。図５に示されるように、例えば、蒸着装置５により、非水溶性層として金属層１５を蒸着する。金属層１５の材質は前述したとおりである。金属層１５の膜厚は、例えば１〜１００ｎｍであり、好ましくは１〜５０ｎｍである。
【００７４】
上述の非水溶性層形成工程後の、剥離工程では、レジストパターン３を水系溶媒により除去することで、レジストパターン３上に形成された非水溶性層（金属層１５）を剥離する。図６は、剥離工程後の眼鏡レンズ１の断面図である。
【００７５】
水系溶媒により、水溶性ポリマーを含むレジストパターン３が除去されることで、レジストパターン３上に形成された金属層１５が剥離され、開口部１５ｂと処理パターン１５ａが形成された眼鏡レンズ１が得られる。レジストパターン３のドット部３ａ上の金属層１５が剥離され、ドット部３ａと同一の位置に形成された同一形状の開口部１５ｂが金属層１５に形成されることによって、開口部１５ｂを有する処理パターン１５ａが形成される。
剥離工程で、水系溶媒を使用することで、レンズ表面の浸食を抑制しつつ、処理パターンが形成された眼鏡レンズを得ることができる。
【００７６】
ここで、水系溶媒とは、水を６０質量％以上含有する溶媒を意味する。水系溶媒としては水が好ましい。水系溶媒に、水以外に含まれ得る溶媒としては、エタノール、メタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒が挙げられる。
水系溶媒中、水の含有量は、好ましくは８０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、更に好ましくは９５質量％以上、更に好ましくは１００質量％である。
【００７７】
当該剥離工程は、例えば、上記非水溶性層が全面に形成された眼鏡レンズを水系溶媒に浸漬して行う。水系溶媒の温度は、好ましくは１５℃以上、より好ましくは２０℃以上、そして、好ましくは７０℃以下、より好ましくは６０℃以下、更に好ましくは５５℃以下である。
浸漬時に、超音波照射を行ってもよい。超音波の周波数は、例えば、２９ｋＨｚ以上５０ｋＨｚ以下である。
【００７８】
また、上記剥離工程は、上記のような水系溶媒を用いた湿潤（ウエット）条件下で行ってもよいが、乾燥（ドライ）条件下で行うこともできる。具体的には、例えば、発泡体（メラミン樹脂フォーム、ウレタン樹脂フォームなど）、エラストマー（ゴム、ウレタンエラストマーなど）、布、研磨パッド、又はブラシなどの固体摺洗材を接触させて、レンズ基材の表面を擦る（スクラブ）ことで、レジストパターン及びその上に形成された金属層（非水溶性層）を除去する。例えば、スピンコータのステージにレンズ基材を保持し、レンズ基材を回転させて、乾燥条件下で、上記固体摺洗材を接触させる。この場合、剥離屑が乾燥した状態で発生するため、当該屑を粘着テープ又はエアブロー等の簡単な手段で除去することが可能となる。
【００７９】
本実施形態の眼鏡レンズ１では、上記処理パターン１５ａがハードコート層１２上に形成された眼鏡レンズの表面上に、さらに機能層として、例えば、前記の反射防止層１３、撥水層１４や、防曇層などを形成する。これらの機能層の材質等に関しては前述したとおりである。これらの機能層の成膜は、例えば、イオンアシスト蒸着等を適用することができる。
なお、上記機能層としては、反射防止層１３、撥水層１４や、防曇層を挙げたが、これらに限られるものではなく、他の機能層を有する実施態様も本発明に含まれるものとする。
【００８０】
以上説明したように、本発明の眼鏡レンズの製造方法によれば、外観不良の少ないレジストパターンを形成することができ、そのため、最終的に形成される処理パターンにおいてもその外観が良好なものが得られる。特に、レジストパターンを形成するレンズ基材の片主面側が凸面である場合、この凸面の周縁領域においても形成されたレジストパターンの外観不良の発生は少なく、この凸面側の全面において外観の良好なレジストパターンが形成される。したがって、本発明によれば、外観の良好な処理パターンが形成された眼鏡レンズを得ることができる。
【実施例】
【００８１】
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。
（実施例１）
＜インクの調製＞
サンプル瓶に、ポリエチレングリコールジアクリレート（平均付加モル数１４、ＣＡＳ  Ｎｏ．２６５７０−４８−９）、メトキシトリエチレングリコールアクリレート（ＣＡＳ  Ｎｏ．４８０６７−７２−７）及び水を加え、撹拌した。その後、プロピレングリコールを加え、更に撹拌した。さらに、１質量％ＮａＯＨ水溶液を添加し、ｐＨを調整した。その後さらに、光重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシー２−メチル−１−プロパンー１−オン（ＣＡＳ  Ｎｏ．１０６７９７−５３−９）を添加して撹拌し、２０質量％のポリビニルピロリドン水溶液（重量平均分子量１０，０００、ＣＡＳ  Ｎｏ．９００３−３９−８）を添加し撹拌して、フィルタリングを行って不溶分を取り除き、ｐＨ７のインクを得た。得られたインクは、粘度１４．５ｍＰａ・ｓ、レジストパターン形成表面（後述のハードコート層表面）に対する接触角５０°であった。
【００８２】
＜レジストパターン形成＞
眼鏡レンズ用モノマー（三井化学株式会社製、商品名「ＭＲ８」）により製造した眼鏡用レンズ基材の凸面に、ハードコート液（ＨＯＹＡ株式会社製、商品名「ＨＣ６０Ｓ」）にて形成したハードコート層を設けたレンズ基材上に、上記の得られたインクを用いて、ノズル（京セラ株式会社製、商品名「ＫＪ４Ａ」）を装着したインクジェット装置により、９６００×６００ｄｐｉのドット密度で、印字幅１０８ｍｍで、ドットサイズ（直径）４３０μｍの格子状のドット部からなるレジストパターンを形成した。本実施例では、図４の（Ａ−１）に示したドットパターン（２８ピクセル／ドット）にて、ノズルからのインク吐出を２回に分けて目標の吐出量（図４（Ａ−２）に示すドットパターン（５６ピクセル／ドット）による１回吐出相当量）を吐出させた。なお、ノズルとレンズ基材の凸面頂部との離間距離は１０ｍｍとし、当該レジストパターンは、レンズ基材の片主面（凸面）側のハードコート層上の全面に形成した。
【００８３】
［レジストパターンの外観評価］
同様な条件でレジストパターンを作製した１００枚のレンズ基材に対し、顕微鏡を用いた目視観察により、形成されたレジストパターンの外観不良の有無を評価した。具体的には以下の欠陥の有無を観察した。
・ドット繋がり（複数のドットが繋がり、大きなドットを形成）
・ドット偏り（ドットの位置がずれる）
・ドット抜け（ドットが印刷されていない）
・サテライト（インクが細かく吐出し、不要な小さなドットを形成）
・ドット形状（ドット形状がきれいな円形状となっているかどうか、ドットの周縁部が乱れていないかどうか、など）
【００８４】
本実施例においては、上記レジストパターンは、レンズ基材の片主面（凸面）側のハードコート層上の全面において、外観はきれいに形成されており、上記の外観不良の発生は認められなかった。
【００８５】
上記のレジストパターンを形成後、紫外線装置（ウシオ電機製、水銀ランプタイプ、型式ＵＶＸ−０１２１２Ｓ１ＣＳ０１）により波長３６５ｎｍで照射量３００ｍＪ／ｃｍ２で照射し、眼鏡用レンズ基材上のレジストパターンを硬化した。
【００８６】
次に、上記レジストパターン上の基材全面に、蒸着により、両面に夫々ＳｉＯ２層を有するクロム層（以下、単に「クロム層」と呼ぶ。）を形成した。
次いで、上記のクロム層を形成したレンズ基材をスピンコータのステージに保持し、レンズ基材を回転させて、乾燥条件下で、固体摺洗材（メラミン樹脂フォーム）を接触させて、レンズ基材の表面を擦る（スクラブ）ことで、レジストパターン及びその上に形成されたクロム層を除去した。こうして、前述の図２に示すような開口部を有するクロム層による処理パターンが形成された眼鏡レンズを得た。本実施例では、上記のようにレジストパターンが外観不良なくきれいに形成されていたため、上記の処理パターンについても外観が良好であった。
【００８７】
（比較例１）
実施例１におけるレジストパターン形成において、図４の（Ａ−２）に示したドットパターン（５６ピクセル／ドット）にて、ノズルからのインク吐出を１回で目標の吐出量を吐出させてレジストパターンを形成したこと以外は、実施例１と同様にして、レンズ基材の片主面（凸面）側のハードコート層上の全面にレジストパターンを形成した。
【００８８】
実施例１と同様に、形成されたレジストパターンの外観不良の有無を評価した結果、上記の外観不良の発生率（レンズ基材１００枚に対する）は高く、特に凸面の外周側での外観不良の発生が多く見られた。
【符号の説明】
【００８９】
１  眼鏡レンズ
２  インクジェット装置
３  レジストパターン
３ａ  ドット部
４  紫外線照射装置
５  蒸着装置
１１  レンズ基材
１２  ハードコート層
１３  反射防止層
１４  撥水層
１５  金属層（非水溶性層）
１５ａ  処理パターン
１５ｂ  開口部
２１  インクジェットノズル
２２  液滴
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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