(57)【要約】【課題】ストーカ式焼却炉内に存在する水銀の濃度を正確に検出して、水銀除去剤の供給量を精度よく制御することができる焼却システムを提供する。【解決手段】焼却システムは、ごみ２を乾燥させる乾燥帯５、ごみ２を燃焼させる燃焼帯６、および燃え残ったごみ２を燃焼させる後燃焼帯７を有するストーカ式焼却炉１と、ストーカ式焼却炉１内の水銀の濃度を検出する少なくとも１つの紫外線センサ１００と、ストーカ式焼却炉１から排出された排ガス中に水銀除去剤を供給する供給装置５５と、紫外線センサ１００の出力信号に基づいて、供給装置５５に指令を発して水銀除去剤の供給量を制御する動作制御部８０を備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ごみを乾燥させる乾燥帯、前記ごみを燃焼させる燃焼帯、および燃え残った前記ごみを燃焼させる後燃焼帯を有するストーカ式焼却炉と、
前記ストーカ式焼却炉内の水銀の濃度を検出する少なくとも１つの紫外線センサと、
前記ストーカ式焼却炉から排出された排ガス中に水銀除去剤を供給する供給装置と、
前記紫外線センサの出力信号に基づいて、前記供給装置に指令を発して前記水銀除去剤の供給量を制御する動作制御部を備えている、焼却システム。
【請求項２】
前記紫外線センサは、前記乾燥帯の上方に配置されている、請求項１に記載の焼却システム。
【請求項３】
前記少なくとも１つの紫外線センサは、前記ストーカ式焼却炉内の前記ごみの移動方向に沿って配列された複数の紫外線センサである、請求項１に記載の焼却システム。
【請求項４】
前記複数の紫外線センサは、前記ストーカ式焼却炉の側壁に固定されている、請求項３に記載の焼却システム。
【請求項５】
前記複数の紫外線センサは、前記乾燥帯の上方に配置された少なくとも１つの上流側紫外線センサと、前記燃焼帯の上方に配置された少なくとも１つの下流側紫外線センサを含む、請求項４に記載の焼却システム。
【請求項６】
前記動作制御部は、前記紫外線センサの出力信号の数値がしきい値を超えたときに、前記供給装置に指令を発して前記水銀除去剤の供給量を増加させるように構成されている、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の焼却システム。
【請求項７】
前記動作制御部は、前記紫外線センサの出力信号の数値が前記しきい値以下のときは、前記供給装置に指令を発して前記水銀除去剤を第１の供給量で前記排ガス中に供給し、前記紫外線センサの出力信号の数値が前記しきい値を超えたときは、前記供給装置に指令を発して前記水銀除去剤を、前記第１の供給量よりも多い第２の供給量で前記排ガス中に供給するように構成されている、請求項６に記載の焼却システム。
【請求項８】
前記焼却システムは、前記ストーカ式焼却炉の下流側に配置されたろ過式集じん器と、前記ろ過式集じん器の下流側に配置された水銀濃度計をさらに備えており、
前記供給装置は、前記水銀濃度計の指示する水銀濃度値が設定値以下になるまで、前記水銀除去剤を前記第２の供給量で供給し続ける、請求項７に記載の焼却システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ごみを焼却するための焼却炉を備えた焼却システムに関し、特に、ストーカ式焼却炉から排出された排ガスに含まれる水銀を除去するための水銀吸着剤の供給量を制御する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
ストーカ式焼却炉は、ごみをストーカの上で移動させながら、ストーカ上でごみを燃焼させる焼却炉である。ごみには水銀が含まれることがあり、ごみの焼却に伴って水銀は気化し、一部は酸化し、排ガスとともにストーカ式焼却炉から排出される。そこで、ストーカ式焼却炉の下流側において、水銀除去剤（例えば活性炭）を排ガス中に注入することで水銀を除去している。
【０００３】
水銀濃度を検知せずに水銀除去剤を一定量供給する方法では、水銀が大量に排出される際に備え、必要以上に水銀除去剤を大量に使用するため非効率である。そこで、水銀除去剤の使用量を低減するために、ろ過式集じん器の前段（ストーカ式焼却炉の出口または内部）、またはろ過式集じん器の出口で水銀濃度を測定して、その濃度に応じた水銀除去剤を供給している（例えば、特許文献１，２，３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１７−２０５７６１号公報
【特許文献２】特許第６０１６２０５号公報
【特許文献３】特許第６０７０９７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、一般的なろ過式集じん器の前段や焼却炉内で水銀濃度を測定する方法では、高温の試料ガスをサンプリングし、試料ガス中の水銀濃度を測定するため、試料ガスに含まれるダストや水分によりサンプリング管が閉塞し、水銀濃度の測定が困難となることがある。また、この方法では、排ガスの一部分を採取しているため、炉内のガス流れが均一となっていない状態においては、得られた測定値は炉内全体の水銀濃度の平均を反映しているとは言い難く、水銀除去剤を適正量で供給できないことがある。また、サンプリング式はタイムラグがあるので、水銀濃度の検出速度が遅く制御遅れが生じる。
【０００６】
そこで、本発明は、ストーカ式焼却炉内に存在する水銀の濃度を正確かつ瞬時に検出して、水銀除去剤の供給量を適切に制御することができる焼却システムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
一態様では、ごみを乾燥させる乾燥帯、前記ごみを燃焼させる燃焼帯、および燃え残った前記ごみを燃焼させる後燃焼帯を有するストーカ式焼却炉と、前記ストーカ式焼却炉内の水銀の濃度を検出する少なくとも１つの紫外線センサと、前記ストーカ式焼却炉から排出された排ガス中に水銀除去剤を供給する供給装置と、前記紫外線センサの出力信号に基づいて、前記供給装置に指令を発して前記水銀除去剤の供給量を制御する動作制御部を備えている、焼却システムが提供される。
【０００８】
一態様では、前記紫外線センサは、前記乾燥帯の上方に配置されている。
一態様では、前記少なくとも１つの紫外線センサは、前記ストーカ式焼却炉内の前記ごみの移動方向に沿って配列された複数の紫外線センサである。
一態様では、前記複数の紫外線センサは、前記ストーカ式焼却炉の側壁に固定されている。
一態様では、前記複数の紫外線センサは、前記乾燥帯の上方に配置された少なくとも１つの上流側紫外線センサと、前記燃焼帯の上方に配置された少なくとも１つの下流側紫外線センサを含む。
【０００９】
一態様では、前記動作制御部は、前記紫外線センサの出力信号の数値がしきい値を超えたときに、前記供給装置に指令を発して前記水銀除去剤の供給量を増加させるように構成されている。
一態様では、前記動作制御部は、前記紫外線センサの出力信号の数値が前記しきい値以下のときは、前記供給装置に指令を発して前記水銀除去剤を第１の供給量で前記排ガス中に供給し、前記紫外線センサの出力信号の数値が前記しきい値を超えたときは、前記供給装置に指令を発して前記水銀除去剤を、前記第１の供給量よりも多い第２の供給量で前記排ガス中に供給するように構成されている。
一態様では、前記焼却システムは、前記ストーカ式焼却炉の下流側に配置されたろ過式集じん器と、前記ろ過式集じん器の下流側に配置された水銀濃度計をさらに備えており、前記供給装置は、前記水銀濃度計の指示する水銀濃度値が設定値以下になるまで、前記水銀除去剤を前記第２の供給量で供給し続ける。
【発明の効果】
【００１０】
紫外線センサは、水銀が気化し一部酸化する際に発生する紫外線を検出することにより、火炎中に存在する水銀の濃度を瞬時に検出することができる。動作制御部は、ストーカ式焼却炉内の水銀の濃度に応じて、供給装置を速やかに操作して、最適な量の水銀除去剤を排ガス中に供給することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】ストーカ式焼却炉を備えた焼却システムの一実施形態を示す図である。
【図２】焼却システムの他の実施形態を示す図である。
【図３】焼却システムの他の実施形態を示す図である。
【図４】焼却システムのさらに他の実施形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図１は、焼却システムの一実施形態を示す図である。焼却システムは、ごみ２を焼却するためのストーカ式焼却炉１を備えている。このストーカ式焼却炉１は、ごみ２を乾燥させる乾燥帯５、乾燥したごみ２を燃焼させる燃焼帯６、および燃え残ったごみ２を燃焼させる後燃焼帯７の３つの帯を備えている。ごみ２は、乾燥帯５、燃焼帯６、および後燃焼帯７に順番に送られる。
【００１３】
ストーカ式焼却炉１は、乾燥帯５に配置された乾燥ストーカ１１と、燃焼帯６に配置された燃焼ストーカ１２と、後燃焼帯７に配置された後燃焼ストーカ１３を備えている。乾燥ストーカ１１、燃焼ストーカ１２、および後燃焼ストーカ１３は、ストーカ式焼却炉１のごみ２の移動方向に沿って、乾燥ストーカ１１、燃焼ストーカ１２、後燃焼ストーカ１３の順に配列されている。本実施形態では、燃焼帯６は、ごみ２の移動方向において上流側に位置する第１燃焼帯６Ａと、下流側に位置する第２燃焼帯６Ｂに分かれている。
【００１４】
ストーカ式焼却炉１は、ごみ２が投入されるホッパ１７と、ホッパ１７に投入されたごみ２を乾燥帯５に送るごみ送り装置２０を備えている。ごみ送り装置２０は、ホッパ１７の下方に配置されている。乾燥帯５へのごみ２の送り量は、ごみ送り装置２０によって調節することができる。乾燥帯５に送られたごみ２は、乾燥ストーカ１１、燃焼ストーカ１２、および後燃焼ストーカ１３のそれぞれの可動火格子（図示せず）の動作によって灰シュート２２に向かって送られる。
【００１５】
乾燥ストーカ１１の下方には、乾燥ストーカ１１を駆動するための乾燥ストーカ駆動装置２５が配置されている。この乾燥ストーカ駆動装置２５は、乾燥ストーカ１１を構成する可動火格子（図示せず）に連結されており、この可動火格子を固定火格子（図示せず）に対して相対的に移動させることで、乾燥ストーカ１１上のごみ２を下流側に送る。
【００１６】
燃焼ストーカ１２の下方には、燃焼ストーカ１２を駆動するための燃焼ストーカ駆動装置２６が配置されている。燃焼ストーカ駆動装置２６は、燃焼ストーカ１２を構成する可動火格子（図示せず）に連結されており、この可動火格子を固定火格子（図示せず）に対して相対的に移動させることで、燃焼ストーカ１２上のごみ２を下流側に送る。
【００１７】
後燃焼ストーカ１３の下方には、後燃焼ストーカ１３を駆動するための後燃焼ストーカ駆動装置２７が配置されている。この後燃焼ストーカ駆動装置２７は、後燃焼ストーカ１３を構成する可動火格子（図示せず）に連結されており、この可動火格子を固定火格子（図示せず）に対して相対的に移動させることで、後燃焼ストーカ１３上のごみ２を下流側に送る。
【００１８】
３つの帯５，６，７のストーカ１１，１２，１３上のごみ２の移動速度は、上述したそれぞれのストーカ駆動装置２５，２６，２７によって調節することができる。
【００１９】
乾燥ストーカ１１の下方には、乾燥用空気ボックス４１が配置されている。燃焼ストーカ１２の下方には、第１燃焼用空気ボックス４２Ａおよび第２燃焼用空気ボックス４２Ｂが配置されている。後燃焼ストーカ１３の下方には、後燃焼用空気ボックス４３が配置されている。第１燃焼用空気ボックス４２Ａおよび第２燃焼用空気ボックス４２Ｂの配列は、第１燃焼帯６Ａおよび第２燃焼帯６Ｂの配列に対応する。
【００２０】
燃焼用空気である一次空気は、乾燥用空気ボックス４１、第１燃焼用空気ボックス４２Ａ、第２燃焼用空気ボックス４２Ｂ、後燃焼用空気ボックス４３に送られる。さらに、一次空気は、乾燥ストーカ１１、燃焼ストーカ１２、および後燃焼ストーカ１３に下から供給され、これらストーカ１１，１２，１３上に存在するごみ２の燃焼に供される。
【００２１】
図１に示す実施形態では、燃焼帯６に２つの燃焼用空気ボックス４２Ａ，４２Ｂが設けられているが、一実施形態では、単一の燃焼用空気ボックスが設けられてもよい。この場合は、燃焼帯６は、第１燃焼帯６Ａと第２燃焼帯６Ｂには分けられない。
【００２２】
焼却システムは、ストーカ式焼却炉１の下流側に連結されたボイラ５１と、ボイラ５１の下流側に連結されたろ過式集じん器５３と、水銀除去剤を排ガス中に供給する供給装置５５と、ろ過式集じん器５３の下流側に連結された煙突５６を備えている。また、焼却システムは、ろ過式集じん器５３の下流側に設置された水銀濃度計５７を備えている。この水銀濃度計５７は一般的な乾式還元方式自動計測器等で構成される。ストーカ式焼却炉１から排出された排ガス（燃焼排ガス）は、ボイラ５１、ろ過式集じん器５３を通過して、煙突５６から大気に放出される。
【００２３】
ボイラ５１は、排ガスの廃熱を利用して水を蒸発させて水蒸気を生成する装置である。排ガスの温度は、水との熱交換により低下される。ろ過式集じん器５３は、排ガス中の塵芥（飛灰）を捕捉する装置であり、バグフィルタとも呼ばれる。
【００２４】
ボイラ５１は、連通路７０を通じてろ過式集じん器５３に連通しており、供給装置５５は、連通路７０に連結されている。排ガスは、連通路７０を通ってボイラ５１からろ過式集じん器５３に流れる。供給装置５５は、連通路７０を通る排ガス中に水銀除去剤を供給するように構成されている。本実施形態で使用される水銀除去剤は、排ガス中の水銀を吸着することができる活性炭を含む水銀吸着除去剤である。排ガス中の水銀は、水銀除去剤によって吸着除去され、既定値以下にまで削減される。
【００２５】
焼却システムは、ストーカ式焼却炉１内の水銀の濃度を測定する紫外線センサ１００と、紫外線センサ１００の出力信号に基づいて供給装置５５の動作を制御する動作制御部８０をさらに備えている。動作制御部８０は、プログラムが格納された記憶装置８０ａと、プログラムに含まれる命令に従って演算を行う演算装置８０ｂを備えている。演算装置８０ｂは、プログラムに含まれる命令に従って演算を行うＣＰＵ（中央処理装置）またはＧＰＵ（グラフィックプロセッシングユニット）などを含む。記憶装置８０ａは、演算装置８０ｂがアクセス可能な主記憶装置（例えばランダムアクセスメモリ）と、データおよびプログラムを格納する補助記憶装置（例えば、ハードディスクドライブまたはソリッドステートドライブ）を備えている。
【００２６】
紫外線センサ１００は、火炎中に存在する水銀の濃度を火炎の前方から検出する前方紫外線センサである。本実施形態では、紫外線センサ１００は、ストーカ式焼却炉１の乾燥ストーカ１１の上方（乾燥帯５の上方）に位置しており、ストーカ式焼却炉１の天井壁１Ａに固定されている。天井壁１Ａには、石英ガラスなどで構成された窓（図示せず）が設けられており、紫外線センサ１００は窓を通じてストーカ式焼却炉１内の火炎中に存在する水銀の濃度を瞬時に検出することができる。紫外線センサ１００は、乾燥帯５の上方位置から後燃焼帯７の方向を向いて配置されている。より具体的には、紫外線センサ１００は、ストーカ式焼却炉１内のごみ２を移動させる方向を向いている。ストーカ式焼却炉１内では、ごみ２は、乾燥帯５、燃焼帯６、および後燃焼帯７の順に移動される。
【００２７】
紫外線センサ１００は、ストーカ式焼却炉１内のごみに含まれる水銀が気化し、一部酸化する際に発生する紫外線を検出し、紫外線の強さ（紫外線の量）を示す出力信号を生成する。紫外線センサ１００は、ごみに含まれる水銀由来の紫外線を検出するために、１８５ｎｍ〜４００ｎｍ（好ましくは１８５ｎｍ〜２６０ｎｍ）の波長範囲の紫外線を検出するように構成されている。紫外線センサ１００の出力信号が示す数値は、ストーカ式焼却炉１内の火炎中に存在する水銀の濃度に従って変化する。水銀の濃度は、ごみの燃焼に伴って気化し、一部酸化した水銀の量に相当する。紫外線センサ１００は、動作制御部８０に電気的に接続されており、紫外線センサ１００の出力信号は、動作制御部８０に送られる。動作制御部８０は、紫外線センサ１００の出力信号に基づいて、供給装置５５に指令を発して水銀除去剤の供給量を制御する。
【００２８】
紫外線センサ１００は、火炎中に存在する水銀の濃度を直接検出することができる。これに対して、従来のサンプリング式の水銀濃度測定システムは、排ガスの一部を焼却炉から抽出し、排ガス中に含まれる水銀の濃度を測定するので、タイムラグがある。本実施形態によれば、動作制御部８０は、ストーカ式焼却炉１内の水銀の濃度に応じて、供給装置５５を速やかに操作して、最適な量の水銀除去剤を排ガス中に供給することができる。また、発光部と受光部を有するレーザー式の分析計を水銀検出に用いることが考えられるが、焼却炉内に一直線上に発光部と受光部を設置する必要があるため、配置上の制約を受けるのに対し、紫外線センサは任意の配置で焼却炉内の水銀の濃度を検出可能である。
【００２９】
ごみ２に含まれる水銀の多くは、乾燥帯５で気化すると想定される。したがって、乾燥帯５の上方に配置された紫外線センサ１００は、乾燥帯５に存在するごみ２に含まれた水銀から発せられた紫外線を速やかに検出することができる。動作制御部８０は、紫外線センサ１００の出力信号（すなわち、乾燥帯５での紫外線量を含む数値）に基づいて、ストーカ式焼却炉１の下流での水銀除去剤の供給量を調節するフィードフォワード制御を実行する。
【００３０】
本実施形態では、動作制御部８０は、紫外線センサ１００の出力信号の数値（すなわち、ストーカ式焼却炉１内の水銀の濃度）がしきい値を超えたときに、供給装置５５に指令を発して前記水銀除去剤の供給量を増加させるように構成されている。より具体的には、動作制御部８０は、紫外線センサの出力信号の数値がしきい値以下のときは、供給装置５５に指令を発して水銀除去剤を第１の供給量で排ガス中に供給し、紫外線センサの出力信号の数値がしきい値を超えたときは、供給装置５５に指令を発して水銀除去剤を、第１の供給量よりも多い第２の供給量で排ガス中に供給するように構成されている。供給装置５５は、ろ過式集じん器５３の下流側に設置された水銀濃度計５７の指示する水銀濃度値が設定値以下になるまで、水銀除去剤を第２の供給量で供給し続ける。このような動作により、必要最小限の量の水銀除去剤を排ガスに供給して、水銀を排ガスから除去することができる。一実施形態では、動作制御部８０は、紫外線センサの出力信号の数値に従って、供給装置５５に指令を発して水銀除去剤の供給量を連続的に変化させてもよい。
【００３１】
図２は、ストーカ式焼却炉１を備えた焼却システムの他の実施形態を示す図である。特に説明しない本実施形態の構成および動作は、図１を参照して説明した実施形態と同じであるので、その重複する説明を省略する。
【００３２】
本実施形態では、複数の紫外線センサ１０５，１０６，１０７，１０８が設けられている。これらの紫外線センサ１０５，１０６，１０７，１０８は、ストーカ式焼却炉１の側壁（図示せず）に固定され、火炎中に存在する水銀の濃度を火炎の側方から検出する側方紫外線センサである。図１に示す実施形態と同様に、ストーカ式焼却炉１の側壁には、石英ガラスなどから構成された複数の窓（図示せず）が設けられており、紫外線センサ１０５，１０６，１０７，１０８は、窓を通じてストーカ式焼却炉１内の火炎中に存在する水銀の濃度を検出するように配置されている。
【００３３】
図２に示すように、紫外線センサ１０５，１０６，１０７，１０８は、ストーカ式焼却炉１内のごみ２の移動方向に沿って配列されている。これら紫外線センサ１０５，１０６，１０７，１０８は、ストーカ式焼却炉１内のごみ２の移動方向に対して垂直方向を向いている。紫外線センサ１０５，１０６，１０７，１０８は、乾燥帯５および燃焼帯６の上方（乾燥ストーカ１１および燃焼ストーカ１２の上方）に位置している。紫外線センサ１０５，１０６，１０７，１０８は、ごみ２の移動方向において上流側に配置された上流側紫外線センサ１０５，１０６と、下流側に配置された下流側紫外線センサ１０７，１０８を含む。
【００３４】
第１上流側紫外線センサ１０５は、乾燥帯５の上方に配置され、第２上流側紫外線センサ１０６は、第１燃焼帯６Ａの上方に配置されている。２つの下流側紫外線センサ１０７，１０８は、燃焼帯６の上方に配置されている。より具体的には、第１下流側紫外線センサ１０７は、第１燃焼帯６Ａの上方に配置され、第２下流側紫外線センサ１０８は、第２燃焼帯６Ｂの上方に配置されている。
【００３５】
図２に示す実施形態によれば、複数の紫外線センサ１０５，１０６，１０７，１０８は、乾燥帯５のみならず、燃焼帯６で気化した水銀から発せられた紫外線を検出することができる。動作制御部８０は、紫外線センサ１０５，１０６，１０７，１０８のうちの少なくとも１つの出力信号の数値がしきい値を超えたときに、定常運転時の第１の供給量よりも多い第２の供給量で水銀除去剤を排ガス中に供給するように構成されている。
【００３６】
本実施形態では、４つの紫外線センサ１０５，１０６，１０７，１０８が設けられているが、一実施形態では、５つ以上の紫外線センサが設けられてもよい。さらに、ストーカ式焼却炉１の両側壁に複数の紫外線センサを配置してもよい。
【００３７】
図３に示すように、図１に示す紫外線センサ１００と、図２に示す紫外線センサ１０５，１０６，１０７，１０８を組み合わせてもよい。図３に示す実施形態によれば、紫外線センサ１００は、乾燥帯５および燃焼帯６での紫外線の全体の量を検出し、紫外線センサ１０５，１０６，１０７，１０８は、ごみ２の移動方向に沿った紫外線の量（すなわち水銀の濃度）を検出することができる。
【００３８】
図４は、焼却システムのさらに他の実施形態を示す図である。特に説明しない本実施形態の構成および動作は、図１に示す実施形態と同じであるので、その重複する説明を省略する。本実施形態では、焼却システムは、燃焼帯６の上方に配置された紫外線センサ１１１と、後燃焼帯７の下流側に配置された紫外線センサ１１２を備えている。紫外線センサ１１１および紫外線センサ１１２は、火炎中に存在する水銀の濃度を後方から検出する後方紫外線センサである。
【００３９】
紫外線センサ１１１は、ストーカ式焼却炉１の燃焼ストーカ１２の上方（燃焼帯６の上方）に位置しており、ストーカ式焼却炉１の天井壁１Ｂに固定されている。天井壁１Ｂには、石英ガラスなどで構成された窓（図示せず）が設けられており、紫外線センサ１１１は窓を通じてストーカ式焼却炉１内の火炎中に存在する水銀の濃度を検出することができる。紫外線センサ１１２は、灰シュート２２の上方に位置するストーカ式焼却炉１の鉛直壁１Ｃに固定されている。鉛直壁１Ｃには、石英ガラスなどで構成された窓（図示せず）が設けられており、紫外線センサ１１２は窓を通じてストーカ式焼却炉１内の火炎中に存在する水銀の濃度を検出することができる。
【００４０】
紫外線センサ１１１および紫外線センサ１１２は、ストーカ式焼却炉１内のごみ２の移動方向とは反対の方向を向いている。紫外線センサ１１１は、燃焼帯６の上方位置から乾燥帯５の方向を向いて配置されており、紫外線センサ１１２は、後燃焼帯７の後方位置から燃焼帯６の方向を向いて配置されている。紫外線センサ１１１は、主として乾燥帯５および燃焼帯６での火炎中に存在する水銀の濃度を検出するために設けられ、紫外線センサ１１２は、主として燃焼帯６中に存在する水銀の濃度での火炎を検出するために設けられている。
【００４１】
動作制御部８０は、紫外線センサ１１１および紫外線センサ１１２のうちの少なくとも１つの出力信号の数値がしきい値を超えたときに、定常運転時の第１の供給量よりも多い第２の供給量で水銀除去剤を排ガス中に供給するように構成されている。
【００４２】
図４に示す実施形態は、図１に示す実施形態、図２に示す実施形態、または図３に示す実施形態に組み合わせてもよい。
【００４３】
上述した実施形態は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を実施できることを目的として記載されたものである。上記実施形態の種々の変形例は、当業者であれば当然になしうることであり、本発明の技術的思想は他の実施形態にも適用しうる。したがって、本発明は、記載された実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲によって定義される技術的思想に従った最も広い範囲に解釈されるものである。
【符号の説明】
【００４４】
１      ストーカ式焼却炉
５      乾燥帯
６      燃焼帯
６Ａ    第１燃焼帯
６Ｂ    第２燃焼帯
７      後燃焼帯
１１      乾燥ストーカ
１２      燃焼ストーカ
１３      後燃焼ストーカ
１７      ホッパ
２０      ごみ送り装置
２２      灰シュート
２５      乾燥ストーカ駆動装置
２６      燃焼ストーカ駆動装置
２７      後燃焼ストーカ駆動装置
４１      乾燥用空気ボックス
４２Ａ    第１燃焼用空気ボックス
４２Ｂ    第２燃焼用空気ボックス
４３      後燃焼用空気ボックス
５１      ボイラ
５３      ろ過式集じん器
５５      供給装置
５６      煙突
５７      水銀濃度計
７０      連通路
８０      動作制御部
８０ａ    記憶装置
８０ｂ    演算装置
１００      紫外線センサ
１０５，１０６，１０７，１０８      紫外線センサ
１１１      紫外線センサ
１１２      紫外線センサ
【図１】
2020176742.tif 000003
【図２】
2020176742.tif 000004
【図３】
2020176742.tif 000005
【図４】
2020176742.tif 000006