(57)【要約】【課題】電解水の濃度を制御する濃度制御方法及び当該方法を実行可能な給湯設備を提供することを目的とする。【解決手段】給水路１０から延び、給水路１０から供給された水を含む流体が通流する流路と、流路を通流する水を加熱して湯水を生成する加熱部と、流路内の一部に、流体の流れ方向に沿って互いに対向して配置された一対の電極４１ａ、４１ｂを有し、一対の電極４１ａ、４１ｂに電圧を印加することで流体を電気分解し電解水を生成する電解水生成装置４０と、給水路１０から供給された水、湯水及び電解水の少なくともいずれかの流体を排出する排出口と、を備える給湯設備において、電解水生成装置４０により生成された電解水が所定の濃度となるように、一対の電極４１ａ、４１ｂにおける電圧及び／又は電流を制御し、上流側の流体のｐＨであるｐＨｆと、下流側の流体のｐＨであるｐＨａとを所定のｐＨ関係となるように調整する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水の供給を受ける給水口と、
前記給水口から延び、前記給水口から供給された水を含む流体が通流する流路と、
前記流路を通流する水を加熱して湯水を生成する加熱部と、
前記流路内の一部に、前記流体の流れ方向に沿って互いに対向して配置された一対の電極を有し、前記一対の電極に電圧を印加することで前記流体を電気分解し電解水を生成する電解水生成装置と、
前記給水口から供給された水、前記湯水及び前記電解水の少なくともいずれかの前記流体を排出する排出口と、を備える給湯設備において、
前記電解水生成装置により生成された電解水が所定の濃度となるように、前記一対の電極における上流側の流体のｐＨであるｐＨｆと、下流側の流体のｐＨであるｐＨａとの所定のｐＨ関係が予め定められており、
前記ｐＨｆに対して前記ｐＨａが前記所定のｐＨ関係となるように、前記一対の電極に印加される電圧及び／又は前記一対の電極間に流れる電流を制御する、電解水の濃度制御方法。
【請求項２】
前記電解水の次亜塩素酸の濃度、前記電解水の次亜塩素酸イオンの濃度、及び前記電解水の塩素ガス分子の濃度の少なくともいずれかが所定の濃度となるように、前記所定のｐＨ関係が予め定められている、請求項１に記載の電解水の濃度制御方法。
【請求項３】
前記所定のｐＨ関係では、前記下流側のｐＨａは前記上流側のｐＨｆよりも高い、請求項１又は２に記載の電解水の濃度制御方法。
【請求項４】
前記所定のｐＨ関係では、前記上流側のｐＨｆに応じて、前記下流側のｐＨａが異なる、請求項３に記載の電解水の濃度制御方法。
【請求項５】
前記所定のｐＨ関係では、前記上流側のｐＨｆが低いほど、前記下流側のｐＨａが高くなる、請求項４に記載の電解水の濃度制御方法。
【請求項６】
水の供給を受ける給水口と、
前記給水口から延び、前記給水口から供給された水を含む流体が通流する流路と、
前記流路を通流する水を加熱して湯水を生成する加熱部と、
前記流路内の一部に、前記流体の流れ方向に沿って配置された一対の電極を有し、前記一対の電極に電圧を印加することで前記流体を電気分解し電解水を生成する電解水生成装置と、
前記給水口から供給された水、前記湯水及び前記電解水の少なくともいずれかの前記流体を排出する排出口と、を備える給湯設備において、
前記一対の電極における上流側のｐＨであるｐＨｆ及び下流側の流体のｐＨであるｐＨａの少なくともいずれかに基づいて、前記流体の濃度を検出する、電解水の濃度検出方法。
【請求項７】
水の供給を受ける給水口と、
前記給水口から延び、前記給水口から供給された水を含む流体が通流する流路と、
前記流路を通流する水を加熱して湯水を生成する加熱部と、
前記流路内の一部に、前記流体の流れ方向に沿って互いに対向して配置された一対の電極を有し、前記一対の電極に電圧を印加することで前記流体を電気分解し電解水を生成する電解水生成装置と、
前記給水口から供給された水、前記湯水及び前記電解水の少なくともいずれかの前記流体を排出する排出口と、を備える給湯設備において、
前記電解水生成装置により生成された電解水が所定の濃度となるように、前記一対の電極における上流側の流体のｐＨであるｐＨｆと、下流側の流体のｐＨであるｐＨａとの所定のｐＨ関係が予め定められた所定のｐＨ関係を記憶する記憶部と、
前記ｐＨｆに対して前記ｐＨａが前記所定のｐＨ関係となるように、前記一対の電極に印加される電圧及び／又は前記一対の電極間に流れる電流を制御する濃度制御部と、
を備える給湯設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電解水の濃度制御方法、濃度検出方法及び濃度制御方法を実行可能な給湯設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、浴室内に噴霧するミスト用水を加熱するミスト用熱交換器と、電解水を生成する電解水生成装置とを備えた浴室洗浄装置が開示されている。ミスト用熱交換器は、水道水をミスト用水として加熱し、ミスト用温水を生成する。また、電解水生成装置は、水道水に浸した電極間に電流を流すことによって次亜塩素酸を含む電解水を生成する。加熱されたミスト用水と次亜塩素酸を含む電解水とが混合されて洗浄液として噴霧用ノズルから浴室内に噴霧される。よって、温度が高く、洗浄効率の高い洗浄液を噴霧して浴室を洗浄することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１８−８２７９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１の浴室洗浄装置は浴室内に電解水を供給することはできるものの、電解水生成装置が生成する電解水の濃度の経時的な変動については考慮されていない。
本発明の発明者らは、電解水生成装置が生成した電解水中の洗浄効果の高い成分の濃度が時系列的に異なる場合には、殺菌、分解及び脱臭等の性能にも違いが生じる可能性があるという課題に新たに着目した。
【０００５】
そこで、本発明は上述の課題に鑑みてなされたものであり、電解水の濃度を制御する濃度制御方法、濃度検出方法及び濃度制御方法を実行可能な給湯設備を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る電解水の濃度制御方法の特徴構成は、
水の供給を受ける給水口と、
前記給水口から延び、前記給水口から供給された水を含む流体が通流する流路と、
前記流路を通流する水を加熱して湯水を生成する加熱部と、
前記流路内の一部に、前記流体の流れ方向に沿って互いに対向して配置された一対の電極を有し、前記一対の電極に電圧を印加することで前記流体を電気分解し電解水を生成する電解水生成装置と、
前記給水口から供給された水、前記湯水及び前記電解水の少なくともいずれかの前記流体を排出する排出口と、を備える給湯設備において、
前記電解水生成装置により生成された電解水が所定の濃度となるように、前記一対の電極における上流側の流体のｐＨであるｐＨｆと、下流側の流体のｐＨであるｐＨａとの所定のｐＨ関係が予め定められており、
前記ｐＨｆに対して前記ｐＨａが前記所定のｐＨ関係となるように、前記一対の電極に印加される電圧及び／又は前記一対の電極間に流れる電流を制御する点にある。
【０００７】
電解水生成装置において電解水を生成する場合には、例えば一対の電極間に電圧が印加される。これにより、一対の電極間を通流する流体に電圧が印加され、水を含む流体が電気分解され、次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等を含む電解水が生成される。より具体的には、一対の電極の陰極及び陽極では主に次の反応が生じる。
（陰極）  ２Ｈ＋  ＋  ２ｅ−  →Ｈ２  ・・・反応式（１）
（陽極）  ４ＯＨ−  →  Ｏ２  ＋  ２Ｈ２Ｏ  ＋  ４ｅ−  ・・・反応式（２）
Ｃｌ−  ＋  Ｈ２Ｏ  →  ＨＯＣｌ  ＋  Ｈ＋  ＋  ２ｅ−・・・反応式（３）
【０００８】
陽極では、水酸化物イオン（ＯＨ−）から酸素（Ｏ２）と水（Ｈ２Ｏ）が生成される反応式（２）と、塩化物イオン（Ｃｌ−）と水（Ｈ２Ｏ）との反応により次亜塩素酸イオン（ＣｌＯ−）、ひいては次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）が生成される反応式（３）とが競合している。よって、陽極では、反応式（３）において次亜塩素酸イオン及び次亜塩素酸が発生する反応が進むと、反応式（２）において水酸化物イオンを消費する反応が減少し、水酸化物イオンの残存量が多くなる。結果として、電解水のｐＨが高くなる。
【０００９】
上記特徴構成によれば、前述のような反応の関係を考慮し、一対の電極に印加される電圧及び／又は一対の電極間に流れる電流を制御することで、一対の電極に対して上流側の流体のｐＨｆと下流側の流体のｐＨａとが予め定められた所定のｐＨ関係となる。これにより、電解水が所定の濃度となるように制御される。つまり、電解水中に含まれる次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等の残留塩素濃度が概ね一定程度に調整され、結果として、殺菌、分解及び脱臭等の洗浄能力を概ね一定に調整可能である。これにより、水（水道水等）の成分（塩化物イオンやその他のイオン成分）によって除菌成分（次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等）の発生特性にばらつきが存在するが、上記特徴構成によれば残留塩素濃度を所定範囲内に調整できる。
【００１０】
本発明に係る電解水の濃度制御方法の更なる特徴構成は、
前記電解水の次亜塩素酸の濃度、前記電解水の次亜塩素酸イオンの濃度、及び前記電解水の塩素ガス分子の濃度の少なくともいずれかが所定の濃度となるように、前記所定のｐＨ関係が予め定められている点にある。
【００１１】
上記特徴構成によれば、所定のｐＨ関係は、電解水の次亜塩素酸の濃度、電解水の次亜塩素酸イオンの濃度、及び電解水の塩素ガス分子の濃度の少なくともいずれかと、上流側のｐＨｆ及び下流側のｐＨａとに基づいて予め定められている。この所定のｐＨ関係に基づいて一対の電極に印加される電圧及び／又は一対の電極間に流れる電流を制御することで、電解水の次亜塩素酸の濃度及び次亜塩素酸イオンの濃度等の残留塩素濃度を所定の濃度に調整できる。
【００１２】
本発明に係る電解水の濃度制御方法の更なる特徴構成は、前記所定のｐＨ関係では、前記下流側のｐＨａは前記上流側のｐＨｆよりも高い点にある。
【００１３】
上述の通り、電解水生成装置において、陽極では、反応式（３）において次亜塩素酸イオン及び次亜塩素酸が発生する反応が進むと、反応式（２）において水酸化物イオンを消費する反応が減少し、水酸化物イオンの残存量が多くなる。結果として、電解水のｐＨが高くなる。つまり、下流側の流体では、前述の反応が進んでいるため、下流側のｐＨａは上流側のｐＨｆよりも高くなる。
【００１４】
上記特徴構成では、前述の関係に基づいてｐＨａ＞ｐＨｆとなるように所定のｐＨ関係を定めている。よって、この所定のｐＨ関係に基づいて一対の電極に印加される電圧及び／又は一対の電極間に流れる電流を制御することで、次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等を含む電解水の生成が制御される。これにより、電解水中の次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等の残留塩素濃度を概ね所望の濃度に維持できる。
【００１５】
本発明に係る電解水の濃度制御方法の更なる特徴構成は、前記所定のｐＨ関係では、前記上流側のｐＨｆに応じて、前記下流側のｐＨａが異なる点にある。
【００１６】
上述の通り、電解水生成装置において、陽極では、反応式（３）において次亜塩素酸イオン及び次亜塩素酸が発生する反応が進むと、反応式（２）において水酸化物イオンを消費する反応が減少する。よって、水酸化物イオンの残存量が多くなり、電解水のｐＨが高くなる。
【００１７】
ここで、上流側のｐＨｆが低い場合、上流側の電解水のｐＨはより酸性側を示している。この場合に、前述のように水酸化物イオンの残存量が多くなると下流側のｐＨａがよりアルカリ側を示す。一方、上流側のｐＨｆが高い場合、上流側の電解水のｐＨはより中性側又はアルカリ側を示している。この場合に、水酸化物イオンの残存量が多くなっても、下流側のｐＨａがよりアルカリ側に傾く程度が小さい。つまり、上流側のｐＨｆが低い場合、上流側のｐＨｆに対して下流側のｐＨａがアルカリ側に傾く程度が大きいが、上流側のｐＨｆが高い場合、上流側のｐＨｆに対して下流側のｐＨａがアルカリ側に傾く程度が小さい。
【００１８】
上記特徴構成によれば、所定のｐＨ関係において、このような関係を定義することで、電解水を所望の濃度にするように一対の電極に対する電圧及び／又は電流の制御を行わせることができる。
【００１９】
本発明に係る電解水の濃度制御方法の更なる特徴構成は、前記所定のｐＨ関係では、前記上流側のｐＨｆが低いほど、前記下流側のｐＨａが高くなる点にある。
【００２０】
上流側のｐＨｆが低い場合、上流側の電解水のｐＨはより酸性側を示している。この場合、水のイオン積Ｋｗ＝[Ｈ＋]×[ＯＨ−]＝１０−１４の関係等により、陽極においては、ｐＯＨがより高くなるように反応式（３）の反応が促進される。反応式（３）の反応は、一対の電極間に電圧が印加されることも相まって促進される。よって、陽極においては、反応式（２）において水酸化物イオンの消費がより少なくなる。結果として、下流側のｐＨａはよりアルカリ側を示すようになる。よって、上流側のｐＨｆが低い場合、上流側のｐＨｆに対して下流側のｐＨａがアルカリ側を示す程度が大きい。つまり、上流側のｐＨｆと下流側のｐＨａとの差分はより大きい。
【００２１】
一方、上流側のｐＨｆが高い場合、上流側の電解水のｐＨはよりアルカリ側を示している。この場合、水のイオン積Ｋｗの関係等により、陽極においては、ｐＯＨがより低くなるように反応式（３）の反応が進み、反応式（２）において水酸化物イオンの消費が多くなる。結果として、下流側のｐＨａはより酸性側を示すようになる。よって、上流側のｐＨｆが高い場合、上流側のｐＨｆに対して下流側のｐＨａがアルカリ側を示す程度が小さい。つまり、上流側のｐＨｆと下流側のｐＨａとの差分はより小さい。
【００２２】
以上の関係があることに基づいて、上記特徴構成では、上流側のｐＨｆが低いほど、下流側のｐＨａが高くなるように所定のｐＨ関係が定められる。これにより、電解水生成装置が流体に電圧を印加することによって生じる反応式（１）〜（３）に沿った、所定のｐＨ関係を定義できる。
【００２３】
本発明に係る電解水の濃度検出方法の特徴構成は、
水の供給を受ける給水口と、
前記給水口から延び、前記給水口から供給された水を含む流体が通流する流路と、
前記流路を通流する水を加熱して湯水を生成する加熱部と、
前記流路内の一部に、前記流体の流れ方向に沿って配置された一対の電極を有し、前記一対の電極に電圧を印加することで前記流体を電気分解し電解水を生成する電解水生成装置と、
前記給水口から供給された水、前記湯水及び前記電解水の少なくともいずれかの前記流体を排出する排出口と、を備える給湯設備において、
前記一対の電極における上流側のｐＨであるｐＨｆ及び下流側の流体のｐＨであるｐＨａの少なくともいずれかに基づいて、前記流体の濃度を検出する点にある。
【００２４】
上述の通り、電解水生成装置において、陰極では、反応式（３）において次亜塩素酸イオン及び次亜塩素酸が発生する反応が進むと、反応式（２）において水酸化物イオンを消費する反応が減少する。よって、水酸化物イオンの残存量が多くなり、電解水のｐＨが高くなる。つまり、電解水のｐＨと、次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等の残留塩素濃度とは相関関係がある。よって、上記特徴構成の通り、上流側のｐＨｆ及び下流側のｐＨａの少なくともいずれかに基づいて流体の濃度、つまり次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等の残留塩素濃度を検出できる。
【００２５】
本発明に係る電解水の給湯設備の特徴構成は、
水の供給を受ける給水口と、
前記給水口から延び、前記給水口から供給された水を含む流体が通流する流路と、
前記流路を通流する水を加熱して湯水を生成する加熱部と、
前記流路内の一部に、前記流体の流れ方向に沿って互いに対向して配置された一対の電極を有し、前記一対の電極に電圧を印加することで前記流体を電気分解し電解水を生成する電解水生成装置と、
前記給水口から供給された水、前記湯水及び前記電解水の少なくともいずれかの前記流体を排出する排出口と、を備える給湯設備において、
前記電解水生成装置により生成された電解水が所定の濃度となるように、前記一対の電極における上流側の流体のｐＨであるｐＨｆと、下流側の流体のｐＨであるｐＨａとの所定のｐＨ関係が予め定められた所定のｐＨ関係を記憶する記憶部と、
前記ｐＨｆに対して前記ｐＨａが前記所定のｐＨ関係となるように、前記一対の電極に印加される電圧及び／又は前記一対の電極間に流れる電流を制御する濃度制御部と、
を備える点にある。
【００２６】
上記特徴構成によれば、上述した反応式（１）〜（３）の関係を考慮し、一対の電極に印加される電圧及び／又は一対の電極間に流れる電流を制御することで、一対の電極に対して上流側の流体のｐＨｆと下流側の流体のｐＨａとが予め定められた所定のｐＨ関係となる。これにより、電解水が所定の濃度となるように制御される。つまり、電解水中に含まれる次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等の残留塩素濃度が概ね一定程度に調整され、結果として、殺菌、分解及び脱臭等の洗浄能力を概ね一定に調整可能である。これにより、水（水道水等）の成分（塩化物イオンやその他のイオン成分）によって除菌成分（次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等）の発生特性にばらつきが存在するが、上記特徴構成によれば残留塩素濃度を所定範囲内に調整できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】ミストサウナ装置の全体構成を示す側面図である。
【図２】給水路に設けられた電解水生成装置の構成を示す側面図である。
【図３】所定のｐＨ関係を示すテーブルである。
【図４】電解水の濃度制御処理の流れを示すフローチャートである。
【図５】ｐＨと濃度の対応関係を示すテーブルである。
【図６】濃度検出処理の流れを示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
〔実施形態〕
以下に、本発明の実施形態に係るミストサウナ装置（給湯設備の一例）１の構成について図１を用いて説明する。以下の実施形態では、「天井設置型」であり、また給水した水道水（水）を装置内のミスト用熱交換器で加熱してミストノズルから噴霧する「温水循環方式」のミストサウナ装置１を例に挙げて説明する。なお、本実施形態のミストサウナ装置１は、後述の電解水生成装置４０を備えており、水道水（水）を電気分解して次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等を発生させる。よって、ミストサウナ装置１に供給される水は、少なくとも塩素等の電解質が含まれている。
【００２９】
（１）ミストサウナ装置の構成
図１に示すように、ミストサウナ装置１は、筐体として本体ケーシング１２及びミスト用ケーシング２７を備えており、浴室４の天井部の天井板６に取り付けられている。具体的には、本体ケーシング１２を浴室４の天井板６の裏側に入り込ませた状態で、本体ケーシング１２の下方のグリル板１３が浴室４の天井板６の表側に位置するように設置されている。
【００３０】
ミストサウナ装置１は、浴室４内を暖房する暖房運転、浴室４内の空気を換気する換気運転、浴室４内を乾燥させる乾燥運転、浴室４内の風を送風する涼風運転、加熱したミスト用水を浴室４に噴霧するミストサウナ運転、後述の電解水生成装置４０が生成した電解水を浴室４に噴霧する洗浄運転等を行う。このような運転を行うために、ミストサウナ装置１は、温風を浴室４に供給する内気循環機構Ａと、水道水、加温したミスト用水及び電解水をミストとして浴室４内に噴霧するミスト噴霧機構Ｍと、浴室４内の空気を外部に排出する排出機構Ｄとを備えている。内気循環機構Ａ及び排出機構Ｄは本体ケーシング１２内に配置されており、ミスト噴霧機構Ｍの一部はミスト用ケーシング２７に配置されている。
【００３１】
また、ミストサウナ装置１は、各種の制御指令を入力可能なコントローラとしてのリモコン装置Ｒと、ミストサウナ装置１の制御を行う制御部３とを備えている。制御部３は、運転部３ａと、記憶部３ｂとを有している。記憶部３ｂには、暖房運転等を制御するための各種プログラム、濃度制御処理及び濃度検出処理に必要な各種テーブル等が記憶されている。運転部３ａは、記憶部３ｂの各種プログラム及びテーブルを読み出し、リモコン装置Ｒに入力される運転指令に基づいて暖房運転等を実行可能にミストサウナ装置１を制御する。
【００３２】
以下に、ミストサウナ装置１の各部の構成についてさらに説明する。
ミストサウナ装置１は、浴室４内の空気を循環通風するための循環ファン７、その循環ファン７にて通風される空気を加熱する空調用熱交換器８、浴室４を換気するための換気ファン９、ミスト用水を加熱してミスト用の温水を生成する温水生成ユニット２６と、水道水、電解水及び温められたミスト用水を浴室４内にミスト状に噴霧する２個のミストノズル（排出口）１１等を本体ケーシング１２内に備えて構成されている。
【００３３】
本体ケーシング１２の下部はグリル板１３により覆われており、グリル板１３には、浴室４内の空気が取り込まれる吸気口１４と、取り込まれた空気が吹き出される吹出口１５とが並設されている。本体ケーシング１２内において、吸気口１４から取り込まれた浴室４内の空気が吹出口１５に向かって送風される経路は循環通風路１６として構成されている。循環ファン７は、この循環通風路１６内に設けられている。循環ファン７が駆動することで、吸気口１４から浴室４内の空気が取り込まれ、取り込まれた空気が循環通風路１６に沿って送風され、吹出口１５から浴室４内に吹出される。
【００３４】
空調用熱交換器８は、循環通風路１６内における循環ファン７よりも通風方向上流側に設けられている。空調用熱交換器８は、後述の温水供給機器２から循環供給される温水との熱交換により、循環通風路１６内を通風する空気を加熱する。
循環ファン７及び空調用熱交換器８等は、浴室４内の空気（内気）を取り込み、吹出口１５から浴室４内に吹出して循環させる内気循環機構Ａとして機能する。
【００３５】
ミストサウナ装置１には、浴室４の外部に設置された温水供給機器２との間で温水を循環させる熱媒循環路１７が接続されている。熱媒循環路１７は、温水供給機器２から供給される温水が通流する往路１８と、往路１８を介してミストサウナ装置１内を通流した温水が温水供給機器２に向かって通流する復路２１とを有する。往路１８は、２つの熱媒分岐路１９、２０に分岐している。
【００３６】
熱媒分岐路１９、２０のうちの熱媒分岐路２０は空調用熱交換器８内を通過している。さらに、空調用熱交換器８を通過した熱媒分岐路２０の下流側が熱媒循環路１７の復路２１に接続されている。これにより、温水供給機器２によって加熱された温水が、熱媒循環路１７を介して空調用熱交換器８に循環供給される。
熱媒分岐路２０の途中には、その熱媒分岐路２０の流路を開閉することにより空調用熱交換器８への温水の供給を断続自在な熱動弁２２が設けられている。
【００３７】
熱媒分岐路１９、２０のうちの熱媒分岐路１９は、ミスト用熱交換器（加熱部）２９内を通過している。さらに、ミスト用熱交換器２９を通過した熱媒分岐路１９の下流側が復路２１に接続されている。これにより、温水供給機器２によって加熱された温水が、熱媒循環路１７を介してミスト用熱交換器２９に循環供給される。
熱媒分岐路１９の途中には、その熱媒分岐路１９の流路を開閉することによりミスト用熱交換器２９への温水の供給を断続自在で且つミスト用熱交換器２９への温水の通流量を変更調整自在な熱媒流量調整弁３９が設けられている。
【００３８】
また、往路１８には、温水供給機器２からミストサウナ装置１に向かう温水の往き温度を検出する往き温水サーミスタ５が設けられている。また、ミスト用熱交換器２９よりも下流側の熱媒分岐路１９には、温水供給機器２に戻る温水の戻り温度を検出する戻り温水サーミスタ５６が設けられている。戻り温水サーミスタ５６では、温水供給機器２から供給された温水の熱が、ミスト用熱交換器２９においてミスト用水の昇温に利用されることで下降した際の戻り温度を検出する。
【００３９】
循環通風路１６内における空調用熱交換器８よりも上流側には、浴室温度サーミスタ２３が設けられている。浴室温度サーミスタ２３は、循環ファン７よりも吸気口１４側に設けられており、循環通風路１６を通流する空気の温度を浴室４内の温度として検出する。
吹出口１５には、図示しない電動モータにより揺動駆動される可動ルーバ２４が設けられている。可動ルーバ２４の揺動角度を調整することで、吹出口１５から浴室４内に吹出される空気の吹出し方向を変更することができる。
【００４０】
本体ケーシング１２の上部には、ミスト用の温水を発生してミストノズル１１に供給するための温水生成ユニット２６が設けられている。この温水生成ユニット２６は、ミスト用ケーシング２７内に、水道等からの水道水（水）をミスト用水及び電解水用として供給される給水路（給水口、流路）１０、その給水路１０を開閉する給水弁２８、給水路１０から供給されるミスト用水を温水供給機器２から循環供給される温水との熱交換により加熱するミスト用熱交換器２９、ミスト用熱交換器２９にて加熱されたミスト用水が通流する下手側通流路（流路）３０、その下手側通流路３０から分岐された排水路（流路）３１及びミスト供給路（流路）３４、ミスト供給路３４から分岐され各ミストノズル１１に夫々接続される分岐路（流路）３５、３６、２つの分岐路３５、３６を開閉することにより各ミストノズル１１への温水の供給を断続自在なミスト開閉弁３７、３８、排水路３１の流路を開閉する排水弁３２、下手側通流路３０を通流する温水の温度を検出するミスト用温水サーミスタ３３、給水路１０に設けられ、水道等からの水道水を電気分解して電解水を生成する電解水生成装置４０等を備える。
【００４１】
給水路１０の端部から水道等からの水道水が導入されて給水路１０を通流する。また、電解水生成装置４０が駆動された状態で水道水が給水路１０を通流することで電解水が生成され、電解水が給水路１０を通流する。また、給水路１０を通流する水道水がミスト用熱交換器２９との熱交換で温められて温水が生成され、温水が給水路１０を通流する。給水路１０を通流した水道水、温水及び電解水の少なくともいずれかは、給水路１０の下流の下手側通流路３０及びミスト供給路３４等に導入され、ミストノズル１１からミスト状に噴霧される。
【００４２】
ミストノズル１１は、グリル板１３における吸気口１４と吹出口１５との間に、ミストの噴霧方向が下向きとなるように取り付けられている。なお、ミストノズル１１の数は２個に限定されず、１個でもよいし、３個以上であってもよい。また、ミストノズル１１は、グリル板１３に不動状態で取り付けられていてもよいし、可動可能に取り付けられていてもよい。
本実施形態では、温水生成ユニット２６及びミストノズル１１等はミスト噴霧機構Ｍとして機能する。
【００４３】
排水路３１は、前回にミストサウナ運転を実行してから長時間にわたりミストサウナ運転が行われていない場合に、給水路１０の内部やミスト用熱交換器２９の内部流路等に滞留していた汚れたミスト用水を外部に排出する。排水路３１を用いた排水処理は、ミスト開閉弁３７、３８を閉弁状態に維持したまま、給水弁２８及び排水弁３２を開弁状態に切り換えることで実施される。
【００４４】
換気ファン９は、本体ケーシング１２内に設けられている。換気ファン９が駆動することにより、吸気口１４から取り込まれた浴室４内の空気が排気ダクト２５を通して外部に排気される。これにより浴室４は風が通って換気される。
換気ファン９及び排気ダクト２５は排出機構Ｄとして機能する。
【００４５】
温水供給機器２は、図示しない熱源機に接続されている。熱源機は、温水を加熱する装置であり、特にその構成は限定されない。例えば、熱源機は、燃料及び空気の供給を受けて燃料を燃焼し、燃焼により生じる排ガスの熱により水道水を加熱する装置である。また、例えば、熱源機は、通電により水道水を加熱するヒーター等であってもよい。
【００４６】
上記のミストサウナ装置１は、各種の制御指令を入力可能なコントローラとしてのリモコン装置Ｒに入力される運転指令に基づいて運転部３ａが各種動作を行う。
以下、ミストサウナ装置１の暖房運転、換気運転、乾燥運転、涼風運転、ミストサウナ運転及び洗浄運転の各運転について簡単に説明する。
【００４７】
〔暖房運転〕
暖房運転では、運転部３ａは、浴室４内の空気を吸気口１４を介して取り込み、この空気を加熱した上で、浴室４内に吹き出す。具体的には、運転部３ａは、換気ファン９を停止させ且つ循環ファン７を作動させるとともに、温水供給機器２からミストサウナ装置１の空調用熱交換器８に温水を供給する。循環ファン７の作動により吸気口１４を介して浴室４内の空気がミストサウナ装置１内に取り込まれる。取り込まれた空気は、空調用熱交換器８に供給された温水との間で熱交換されることで加熱される。加熱された空気が吹出口１５を介して浴室４内に吹き出されることで、浴室４内が暖房される。
【００４８】
なお、運転部３ａは、吹出口１５での温風温度が設定温度範囲に維持されるように、熱動弁２２の開閉と温水供給機器２の温水供給動作を制御して空調用熱交換器８に温水を循環供給する。また、運転部３ａは、浴室４内に通風される空気の通風量を暖房用の通風量となるように循環ファン７の動作状態を調整するとともに、可動ルーバ２４を揺動させる。
【００４９】
〔換気運転〕
換気運転では、運転部３ａは、浴室４内の空気を吸気口１４を介して取り込み、この空気を排気ダクト２５から排気する。具体的には、運転部３ａは、循環ファン７の作動を停止し且つ熱動弁２２を閉状態に維持した状態で、換気ファン９を作動させる。また、運転部３ａは、可動ルーバ２４が吹出口１５を閉状態とするように作動状態を調整する。換気ファン９の駆動により吸気口１４を介して浴室４内の空気がミストサウナ装置１内に取り込まれ、取り込まれた空気は排気ダクト２５を介して排気される。これにより、浴室４内の空気が排気されることで浴室４内が換気される。
【００５０】
〔乾燥運転〕
乾燥運転は、例えば、入浴後、或いは、水分を含んだ衣類などの被乾燥物が配置される場合に実行される。乾燥運転では、運転部３ａは、循環ファン７を作動させ且つ温水供給機器２からミストサウナ装置１へと温水を供給させる。また、運転部３ａは、吹出口１５での温風温度が設定温度範囲に維持されるように、熱動弁２２の開閉と温水供給機器２の温水供給動作を制御する。さらに、運転部３ａは、空調用熱交換器８に温水を循環供給するとともに、換気ファン９を作動させる。
これにより、吸気口１４を介して浴室４から取り込まれた空気の一部は、排気ダクト２５を介して屋外に排出される。これとともに、吸気口１４を介して取り込まれた空気の残りは、空調用熱交換器８により加熱された上で吹出口１５から浴室４内に吹き出される。
【００５１】
〔涼風運転〕
涼風運転では、運転部３ａは、浴室４内の空気を吸気口１４を介して取り込み、加熱することなく循環通風路１６を経由して吹出口１５から浴室４内に吹き出す。具体的には、運転部３ａは、熱動弁２２を閉状態に維持した状態で循環ファン７を作動させるとともに、換気ファン９を作動させる。また、運転部３ａは、吸気口１４を介して浴室４から取り込まれた空気の一部を排気ダクト２５を通して屋外に排出させる。さらに運転部３ａは、残りの空気を加熱することなく循環通風路１６を経由して吹出口１５から浴室４内に吹き出す。
なお、運転部３ａは、浴室４内への空気の吹き出し方向が、涼風運転用の設定吹出方向となるように、可動ルーバ２４の向きを調整する。
【００５２】
〔ミストサウナ運転〕
ミストサウナ運転では、運転部３ａは、浴室４内の暖房運転を行いながら、浴室４内にミストを噴霧する。具体的には、運転部３ａは、換気ファン９を停止させ且つ循環ファン７を作動させる。また、運転部３ａは、温水供給機器２からミストサウナ装置１の空調用熱交換器８に温水を循環供給する。このとき、運転部３ａは、吹出口１５での温風温度が設定温度範囲に維持されるように、熱動弁２２の開閉と温水供給機器２の空調用熱交換器８への温水供給動作を制御する。
【００５３】
これにより、上述したのと同様の暖房運転が行われる。更に、運転部３ａは、給水弁２８の開閉制御、並びに、熱媒流量調整弁３９の開閉制御を行う。給水弁２８の開閉制御によって、ミストノズル１１に供給される水量が調整される。熱媒流量調整弁３９の開閉制御によって、ミスト用熱交換器２９への温水の通流量が調整される。これらの制御により、ミストノズル１１に供給される水道水の昇温の調整が行われ、加熱された水がミストノズル１１から浴室４内に噴霧されることでミストサウナ運転が行われる。
【００５４】
〔洗浄運転〕
洗浄運転では、運転部３ａは、電解水生成装置４０を運転して水道水を電気分解し、次亜塩素酸等を含む電解水を生成し、ミストノズル１１に供給する。また、運転部３ａは、換気ファン９を停止させ且つ循環ファン７を作動させることで、吸気口１４を介して浴室４内の空気をミストサウナ装置１内に取り込む。更に、運転部３ａは、給水弁２８の開閉制御を行い、ミストノズル１１に供給される電解水の量を調整する。また、運転部３ａは、浴室４内に通風される空気の通風量を洗浄運転用の通風量となるように循環ファン７の動作状態を調整するとともに、可動ルーバ２４を揺動させる。これにより、所定量の電解水が所定の風量でミストノズル１１から浴室４内に噴霧される。
【００５５】
電解水に含まれる次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等は、雑菌、有機物及び臭い等を殺菌、分解及び脱臭等する。よって、浴室４内に次亜塩素酸等を含む電解水を噴霧することで、浴室内のカビの発生の抑制、殺菌、臭いの除去等を行うことができる。
【００５６】
なお、洗浄運転において、運転部３ａは、温水供給機器２からミストサウナ装置１の空調用熱交換器８に温水を供給してもよい。これにより、吸気口１４を介して浴室４内に取り込まれた空気は、空調用熱交換器８に供給された温水との間で熱交換されることで加熱される。加熱された空気は吹出口１５を介して浴室４内に吹き出される。加熱された空気とともに電解水を浴室４内に噴霧することで、殺菌、分解及び脱臭等の効果を高めることができる。
【００５７】
（２）電解水生成装置
（２−１）電解水生成装置の構成
以下に、上記のミストサウナ装置１に設けられた電解水生成装置４０の構成について説明する。
電解水生成装置４０は、図１に示すように給水路１０において、ミスト用熱交換器２９よりも上流側に設けられている。このような電解水生成装置４０は、図２に示すように、給水路１０内に配置された一対の電極４１ａ，４１ｂと、一対の電極４１ａ，４１ｂに電圧を印加する電圧印加部４２とを備えている。一対の電極４１ａ，４１ｂは、図２に示すように給水路１０が延びる方向に沿って配置されるとともに、流れ方向と交差する方向に対向するように配置されている。例えば、電極４１ａ，４１ｂが白金等からなる板状部材で構成されている場合、電極４１ａ，４１ｂは、板状面が給水路１０が延びる方向に沿うように、また給水路１０の流路壁に沿うように、かつ給水路１０の径方向において対向するように配置されている。これにより、電極４１ａ，４１ｂは、給水路１０を通流する水道水の流れに沿い、かつ互いに対向して配置されている。このような電極４１ａ，４１ｂ間の距離は、例えば１ｍｍ〜１ｃｍであり、より好ましくは２ｍｍ〜６ｍｍである。
【００５８】
なお、電極４１ａ，４１ｂは、板状部材に限定されず、円筒状の給水路１０の流路壁に沿うように半円筒状に形成されていてもよい。また、電極４１ａ，４１ｂは、水道水に電圧を印加でき、耐腐食性等を備えている材料で構成されていればよく、白金に限定されない。
【００５９】
電解水生成装置４０には、図２に示すように、一対の電極４１ａ，４１ｂに対して、水道水の流れに沿った上流側にｐＨセンサＳｐＨｆが配置されており、下流側にｐＨセンサＳｐＨａが配置されている。
上流側のｐＨセンサＳｐＨｆは、一対の電極４１ａ，４１ｂの上流側端部の近傍に設けられており、一対の電極４１ａ，４１ｂ間を通流する前の水道水のｐＨを測定する。下流側のｐＨセンサＳｐＨａは、一対の電極４１ａ，４１ｂの下流側端部の近傍に設けられており、一対の電極４１ａ，４１ｂ間を通流した後の水道水のｐＨを測定する。
【００６０】
より好ましくは、上流側のｐＨセンサＳｐＨｆは、一対の電極４１ａ，４１ｂの上流側端部よりも上流側に設けられ、下流側のｐＨセンサＳｐＨａは、一対の電極４１ａ，４１ｂの下流側端部よりも下流側に設けられている。これにより、一対の電極４１ａ，４１ｂ間を通流する前の水道水のｐＨに対して、通流後の水道水のｐＨの変化をより正確に検出できるからである。
【００６１】
更に好ましくは、上流側のｐＨセンサＳｐＨｆは、一対の電極４１ａ，４１ｂの上流側端部の直近かつ上流側に設けられ、下流側のｐＨセンサＳｐＨａは、一対の電極４１ａ，４１ｂの下流側端部の直近かつ下流側に設けられている。これにより、上流側のｐＨセンサＳｐＨｆによって、一対の電極４１ａ，４１ｂ間を通流する直前の水道水のｐＨを測定できる。また、下流側のｐＨセンサＳｐＨａによって、一対の電極４１ａ，４１ｂ間を通流した直後の水道水のｐＨを測定できる。よって、一対の電極４１ａ，４１ｂ間を通流する前の水道水のｐＨに対して、通流後の水道水のｐＨの変化をより容易に測定できる。そして、後述の電解水の濃度制御をより容易に行うことができる。
【００６２】
図１に示す運転部３ａは、リモコン装置Ｒから洗浄運転の指令が入力されると、電圧印加部４２の電圧を制御する。これにより、一対の電極４１ａ，４１ｂ間に制御された電圧が印加される。一対の電極４１ａ，４１ｂ間に電圧が印加されることで、一対の電極４１ａ，４１ｂ間を通流する流体、ここでは給水路１０を通流している水道水が電気分解される。よって、次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等を含む電解水が生成される。生成された電解水は、ミスト供給路（流路）３４及び分岐路（流路）３５、３６を介して各ミストノズル１１から浴室４内に噴霧される。電解水は、ミスト用熱交換器２９において熱媒との間で熱交換され、加熱されてもよい。
【００６３】
なお、電圧印加部４２での電圧の制御としては、一定の電圧及び一定電流による制御する場合、一定電流となるように電圧を制御する場合、一定電圧となるように電流を制御する場合等が挙げられる。また、電圧印加部４２の代わりに、電流を一対の電極４１ａ，４１ｂ間に印加する電流印加部（図示せず）を設けてもよい。
【００６４】
（２−２）電解水生成装置での濃度制御処理
運転部３ａは、リモコン装置Ｒから洗浄処理の制御指令を受け付けると、電解水生成装置４０において電解水を生成するとともに、濃度制御処理を実行する。つまり、運転部３ａは暖房運転等の各種処理を行うが、電解水の濃度制御処理を行う濃度制御部としても機能する。濃度制御処理によって、電解水生成装置４０の一対の電極４１ａ，４１ｂ間だけでなく、連通している流路（給水路（給水口、流路）１０、下手側通流路（流路）３０、排水路（流路）３１及びミスト供給路（流路）３４、分岐路（流路）３５、３６等）における濃度制御が可能である。
【００６５】
以下では、運転部３ａの電解水生成装置４０の制御によって行われる濃度制御処理を説明する。
【００６６】
（２−２−１）濃度制御処理
電解水生成装置４０を用いた濃度制御処理について図３、図４に基づいて説明する。
まず、濃度制御処理を行うための所定のｐＨ関係について、図３を用いて説明する。所定のｐＨ関係は、記憶部３ｂに予め記憶されている。
図３には、電解水生成装置４０により生成された電解水が所定の濃度となるように、一対の電極４１ａ，４１ｂにおける上流側のｐＨｆと、下流側のｐＨａとの所定のｐＨ関係のテーブルが示されている。
【００６７】
図３のテーブルでは、電解水生成装置４０の下流側の出口で排出される電解水の残留塩素濃度が０．５〜５ｐｐｍとなるように、上流側のｐＨｆと、下流側のｐＨａとの関係が定義されている。図３のテーブルの詳細については、以下で随時説明する。
なお、本実施形態の残留塩素とは、次亜塩素酸、次亜塩素酸イオン及び塩素ガス分子等の遊離残留塩素をいうものとする。また、残留塩素とは、次亜塩素酸、次亜塩素酸イオン及び塩素ガス分子等の少なくともいずれかであってもよい。
【００６８】
次に、濃度制御処理について図４を用いて説明する。
ステップＳ１：運転部３ａは、ｐＨセンサＳｐＨｆから、一対の電極４１ａ，４１ｂに対して上流側の水道水のｐＨｆを取得する。
ステップＳ２：運転部３ａは、図３の所定のｐＨ関係を参照する。
【００６９】
ステップＳ３：運転部３ａは、上流側のｐＨｆに基づいて図３を参照し、下流側のｐＨａが図３の所定のｐＨ関係となるように、電圧印加部４２の電圧を制御する。
例えば、上流側のｐＨｆが７．０である場合、図３において６．５≦ｐＨｆ＜７．５の範囲であるため、下流側のｐＨａと上流側のｐＨｆとの差が０．１〜０．３となるように電圧印加部４２の電圧が制御される。下流側のｐＨａと上流側のｐＨｆとの差は、上流側のｐＨｆに対する下流側のｐＨａの上昇幅を示している。下流側のｐＨａも参照する必要があるため、運転部３ａは、下流側のｐＨセンサＳｐＨａから下流側のｐＨａを取得している。
この電圧制御により、電解水生成装置４０の下流側から排出される電解水の残留塩素濃度が０．５〜５ｐｐｍに調整される。
なお、電圧印加部４２での電圧の制御に代えて、あるいは電圧の制御とともに、一対の電極４１ａ，４１ｂ間に印加する電流を制御してもよい。
【００７０】
ステップＳ４：運転部３ａは、上流側のｐＨｆに対して、下流側のｐＨａが図３の所定のｐＨ関係となったか否かを判定し、所定のｐＨ関係となった場合（ステップＳ４においてＹｅｓ）には処理を終了する。そうでない場合（ステップＳ４においてＮｏ）はステップＳ１に戻り、Ｓ１〜Ｓ４の処理を行う。
なお、所定のｐＨ関係となった場合でも、随時ステップＳ１に戻り、Ｓ１〜Ｓ４の処理を行い、ｐＨａを調整してもよい。
【００７１】
なお、電解水生成装置４０において電解水を生成する場合には、例えば一対の電極４１ａ，４１ｂ間に電圧が印加される。これにより、一対の電極４１ａ，４１ｂ間を通流する水道水に電圧が印加され、水道水が電気分解され、次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等を含む電解水が生成される。より具体的には、一対の電極の陰極及び陽極では主に次の反応が生じる。
（陰極）  ２Ｈ＋  ＋  ２ｅ−  →Ｈ２  ・・・反応式（１）
（陽極）  ４ＯＨ−  →  Ｏ２  ＋  ２Ｈ２Ｏ  ＋  ４ｅ−  ・・・反応式（２）
Ｃｌ−  ＋  Ｈ２Ｏ  →  ＨＯＣｌ  ＋  Ｈ＋  ＋  ２ｅ−  ・・・反応式（３）
【００７２】
陽極では、水酸化物イオン（ＯＨ−）から酸素（Ｏ２）と水（Ｈ２Ｏ）が生成される反応式（２）と、塩化物イオン（Ｃｌ−）と水（Ｈ２Ｏ）との反応により次亜塩素酸イオン（ＣｌＯ−）、ひいては次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）が生成される反応式（３）とが競合している。よって、陽極では、反応式（３）において次亜塩素酸イオン及び次亜塩素酸が発生する反応が進むと、反応式（２）において水酸化物イオンを消費する反応が減少し、水酸化物イオンの残存量が多くなる。結果として、電解水のｐＨが高くなる。
【００７３】
このような反応の関係を考慮し、上記の通り、一対の電極４１ａ，４１ｂに印加される電圧及び／又は一対の電極４１ａ，４１ｂ間に流れる電流を制御することで、一対の電極４１ａ，４１ｂに対して上流側の水道水のｐＨｆと下流側の水道水のｐＨａとが予め定められた所定のｐＨ関係となる。これにより、電解水が所定の濃度となるように制御される。つまり、電解水中に含まれる次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等の濃度が概ね一定程度に調整され、結果として、殺菌、分解及び脱臭等の洗浄能力を概ね一定に調整可能である。これにより、水道水の成分（塩化物イオンやその他のイオン成分）によって除菌成分（次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等）の発生特性にばらつきが存在するが、上記構成によれば次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン及び塩素ガス分子等の残留塩素濃度を所定範囲内に調整できる。
【００７４】
より詳細には、上記の反応式（３）において次亜塩素酸イオン及び次亜塩素酸が発生する。次亜塩素酸イオンは、次亜塩素酸がイオン化したものである。よって、電解水には、次亜塩素酸イオン、次亜塩素酸及び塩素ガス分子等の残留塩素が存在している。一対の電極４１ａ，４１ｂ間の電圧及び電流等を調整することで、反応式（１）〜（３）の進行の程度を調整でき、次亜塩素酸、次亜塩素酸イオン及び塩素ガス分子等の残留塩素の濃度が概ね一定程度に調整される。
【００７５】
なお、上記の反応式（１）〜（３）での反応を生じさせるためには、一対の電極４１ａ，４１ｂ間に電圧を印加し、一対の電極４１ａ，４１ｂ間を通流する水道水に所定のエネルギーを投入する必要がある。この水道水に投入するエネルギーを、一対の電極４１ａ，４１ｂ間に印加する電圧の制御により調整する。これにより、上記の反応式（１）〜（３）での反応が進む程度が調整され、結果として、電解水中の次亜塩素酸の濃度、次亜塩素酸イオンの濃度及び塩素ガス分子の濃度等の少なくともいずれかの残留塩素濃度が調整される。
【００７６】
そして、ｐＨｆ及びｐＨａが図３に示す関係となるように電圧を制御することで、電解水生成装置４０により生成された電解水中の次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等の残留塩素濃度が概ね一定程度に調整される。よって、電解水に含まれる次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等を用いた、ミストサウナ装置１を含む給湯設備及びその周囲等の雑菌、有機物及び臭いの殺菌、分解及び脱臭等の効果を概ね一定に調整可能である。
【００７７】
次に、図３に示す所定のｐＨ関係についてさらに補足する。
所定のｐＨ関係では、ｐＨａ＞ｐＨｆとなるように定義されている。上述の通り、電解水生成装置４０において、陽極では、反応式（３）において次亜塩素酸イオン及び次亜塩素酸が発生する反応が進むと、反応式（２）において水酸化物イオンを消費する反応が減少し、水酸化物イオンの残存量が多くなる。結果として、電解水のｐＨが高くなる。つまり、下流側の水道水では、前述の反応が進んでいるため、下流側のｐＨａは上流側のｐＨｆよりも高い。そのため図３の所定のｐＨ関係では、ｐＨａ＞ｐＨｆとなるように定義されている。
【００７８】
さらに図３の所定の関係について説明する。
上流側のｐＨｆが低い場合、上流側の電解水のｐＨはより酸性側を示している。この場合、水のイオン積Ｋｗ＝[Ｈ＋]×[ＯＨ−]＝１０−１４の関係等により、陽極においては、ｐＯＨがより高くなるように反応式（３）の反応が促進される。反応式（３）の反応は、一対の電極間に電圧が印加されることも相まって促進される。よって、陽極においては、反応式（２）において水酸化物イオンの消費がより少なくなる。結果として、下流側のｐＨａはよりアルカリ側を示すようになる。よって、上流側のｐＨｆが低い場合、上流側のｐＨｆに対して下流側のｐＨａがアルカリ側を示す程度が大きい。つまり、上流側のｐＨｆと下流側のｐＨａとの差分はより大きい。
【００７９】
一方、上流側のｐＨｆが高い場合、上流側の電解水のｐＨはよりアルカリ側を示している。この場合、水のイオン積Ｋｗの関係等により、陽極においては、ｐＯＨがより低くなるように反応式（３）の反応が進み、反応式（２）において水酸化物イオンの消費が多くなる。結果として、下流側のｐＨａはより酸性側を示すようになる。よって、上流側のｐＨｆが高い場合、上流側のｐＨｆに対して下流側のｐＨａがアルカリ側を示す程度が小さい。つまり、上流側のｐＨｆと下流側のｐＨａとの差分はより小さい。
【００８０】
以上の関係があることに基づいて、図３に示すように、上流側のｐＨｆが低いほど、下流側のｐＨａが高くなるように、つまりｐＨａ−ｐＨｆが大きくなるように所定のｐＨ関係が定められる。これにより、電解水生成装置４０が水道水に電圧を印加することによって生じる反応式（１）〜（３）に沿った、所定のｐＨ関係を定義できる。
そして、運転部３ａは、この図３の所定のｐＨ関係に基づいて一対の電極４１ａ，４１ｂに印加される電圧及び／又は一対の電極間に流れる電流を制御する。これにより、次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等を含む電解水の生成が制御され、電解水中の次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオン等の残留塩素濃度を概ね所望の濃度に維持できる。
【００８１】
なお、陽極及び陰極では上記の反応式（１）〜（３）が競合しているため、水のイオン積Ｋｗ＝[Ｈ＋]×[ＯＨ−]＝１０−１４の関係のみから単純にｐＨｆとｐＨａとの関係は定まらない。しかし、各反応式（１）〜（３）の反応は、水のイオン積Ｋｗの支配も受けており、上述のような傾向を示すことが分かる。
【００８２】
なお、図３の所定のｐＨ関係は、残留塩素濃度を所定の範囲とするように、上流側のｐＨｆとｐＨａ−ｐＨｆとの関係が定義されている。しかし、所定のｐＨ関係は、電解水の次亜塩素酸の濃度、電解水の次亜塩素酸イオンの濃度、及び残留塩素濃度の少なくともいずれかについて、上流側のｐＨｆとｐＨａ−ｐＨｆとの関係が定められていてもよい。
【００８３】
次に、運転部３ａの電解水生成装置４０の制御によって行われる濃度検出処理を説明する。
【００８４】
（２−２−２）濃度検出処理
電解水生成装置４０を用いた濃度制御処理について図５、図６に基づいて説明する。
まず、濃度検出処理を行うために、記憶部３ｂに予め記憶されているｐＨと濃度との対応関係について、図５を用いて説明する。
図５には、水道水及び電解水のいずれか又はその混合について、ｐＨと濃度とが対応づけられたテーブルが示されている。
図５のテーブルでは、濃度として次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）の濃度及び残留塩素濃度が、ｐＨと対応づけられている。なお、ｐＨは、上流側のｐＨｆ及び下流側のｐＨａのいずれであってもよい。
【００８５】
次に、濃度検出処理について図６を用いて説明する。
ステップＳ１１：運転部３ａは、ｐＨセンサＳｐＨｆから上流側の水道水のｐＨｆを取得し、ｐＨセンサＳｐＨａから下流側の水道水のｐＨａを取得する。
なお、運転部３ａは、上流側のｐＨｆ及び下流側のｐＨａのいずれかを取得してもよい。
ステップＳ２、Ｓ３：運転部３ａは、図５のｐＨと濃度との対応付けを参照し（ステップＳ２）、上流側のｐＨｆに基づいて上流側の流体の濃度を検出し、下流側のｐＨａに基づいて下流側の流体の濃度を検出する。
【００８６】
上記濃度検出処理により、上流側のｐＨｆ及び下流側のｐＨａの少なくともいずれかに基づいて流体の濃度、つまり次亜塩素酸の濃度、次亜塩素酸イオンの濃度及び残留塩素濃度の少なくともいずれかを検出できる。
【００８７】
〔他の実施形態〕
なお上述の実施形態（他の実施形態を含む、以下同じ）で開示される構成は、矛盾が生じない限り、他の実施形態で開示される構成と組み合わせて適用することが可能であり、また、本明細書において開示された実施形態は例示であって、本発明の実施形態はこれに限定されず、本発明の目的を逸脱しない範囲内で適宜改変することが可能である。
【００８８】
（１）上記実施形態では、電解水生成装置４０は、給水路１０においてミスト用熱交換器２９の上流側に設けられている。しかし、電解水生成装置４０は、給水路１０、下手側通流路３０、ミスト供給路３４、分岐路３５、３６のいずれかの位置に設けられていればよい。
例えば、電解水生成装置４０は、給水路１０においてミスト用熱交換器２９の下流側に設けられていてもよい。この場合、ミスト用熱交換器２９内に加熱された熱媒が通流している場合には、当該熱媒との熱交換により加熱された温水が電解水生成装置４０に導入される。
【００８９】
また、例えば、ミスト開閉弁３７、３８の下流側の分岐路３５、３６に電解水生成装置４０を配置し、ミスト開閉弁３７、３８により絞った流量を電解水生成装置４０に導入してもよい。電解水生成装置４０は、絞られた流量の水又は温水を電気分解して電解水を生成する。
【００９０】
（２）上記実施形態では、運転部３ａは、リモコン装置Ｒから洗浄処理の制御指令を受け付けると、電解水生成装置４０において電解水を生成するとともに、濃度制御処理及び濃度検出処理を実行する。しかし、洗浄運転とは異なり、濃度制御運転及び濃度検出運転が別途に設けられていてもよい。この場合、リモコン装置Ｒから濃度制御運転及び濃度検出運転の指令が入力されると、運転部３ａは電解水生成装置４０を制御し、電解水を生成するとともに濃度制御処理及び濃度検出処理を行う。
【００９１】
（３）上記実施形態では、ミストを噴霧可能なミストサウナ装置１に電解水生成装置４０が設けられている構成について説明した。しかし、電解水生成装置４０は、ミストサウナ装置１に設けられている場合に限られず、例えば給湯器、床暖房端末等の給湯設備において流体が通流する流路に設けられていてもよい。
例えば給湯器に電解水生成装置４０が設けられている場合には、洗浄運転において電解水生成装置４０を駆動して排出口から電解水を排出することで、給湯器が設けられている洗い場の殺菌、給湯器内の流路の殺菌等を行うことができる。
また、例えば床暖房端末の場合には、洗浄運転において電解水生成装置４０を駆動して電解水を流路内に循環させることで、流路内の雑菌、有機物及び臭い等を電解水により殺菌、分解及び脱臭等できる。
【００９２】
（４）上記実施形態では、電解水生成装置４０は、給水した水道水をミスト用熱交換器２９で加熱してミストノズル１１から噴霧する「温水循環方式」のミストサウナ装置１に設けられている。しかし、電解水生成装置は、熱源機で加熱した湯をそのままミストノズル１１から噴霧する「給湯直結方式」のミストサウナ装置に設けられてもよい。
【００９３】
（５）上記実施形態では、ミストサウナ装置１は天井部に設けられているが、ミストサウナ装置１の配置位置はこれに限定されない。例えば、ミストサウナ装置１は壁掛けタイプであってもよい。
【符号の説明】
【００９４】
１        ：ミストサウナ装置
３ａ      ：運転部（濃度制御部）
３ｂ      ：記憶部
１０      ：給水路（給水口、流路）
１１      ：ミストノズル（排出口）
２９      ：ミスト用熱交換器（加熱部）
３０      ：下手側通流路（流路）
３１      ：排水路（流路）
３４      ：ミスト供給路（流路）
３５      ：分岐路（流路）
３６      ：分岐路（流路）
４０      ：電解水生成装置
４１ａ    ：電極
４１ｂ    ：電極
ＳｐＨａ  ：ｐＨセンサ
ＳｐＨｆ  ：ｐＨセンサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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