(57)【要約】【課題】高い導電性と高い可視光透過率を持つだけでなく、発光デバイスに適用した場合に発光デバイス全体を均一に且つ高輝度で発光させることができる透明電極シートを提供する。【解決手段】絶縁性の透明基材１と、透明基材表面に形成される金属配線２と、この金属配線が形成された透明基材表面を覆う導電性高分子膜３とを備える本発明の透明電極シートＳｔは、導電性高分子膜の単体のシート抵抗が１×１０４〜１×１０７Ω／□の範囲である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性の透明基材と、透明基材表面に形成される金属配線と、この金属配線が形成された透明基材表面を覆う導電性高分子膜とを備える透明電極シートにおいて、
前記導電性高分子膜の単体のシート抵抗が１×１０４〜１×１０７Ω／□の範囲であることを特徴とする透明電極シート。
【請求項２】
前記金属配線は、２μｍ〜１０μｍの範囲内の線幅を持つＡｇ配線を格子状に形成してなることを特徴とする請求項１記載の透明電極シート。
【請求項３】
前記導電性高分子膜は、主成分としてポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）：ポリスチレンスルホン酸を含有することを特徴とする請求項１または請求項２記載の透明電極シート。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項記載の透明電極シートを備えることを特徴とする発光デバイス。
【請求項５】
前記発光デバイスが、前記導電性高分子膜の表面に蛍光体層、誘電体層及び背面電極を積層してなる分散型無機ＥＬ素子であることを特徴とする請求項４記載の発光デバイス。
【請求項６】
請求項５記載の発光デバイスであって、前記導電性高分子膜と前記背面電極との間に交流電圧が印加されるものにおいて、前記透明電極シートの表面内の少なくとも一方向の長さが２ｃｍ以上であることを特徴とする発光デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、絶縁性の透明基材と、透明基材表面に形成される金属配線と、この金属配線が形成された透明基材表面を覆う導電性高分子膜とを備える透明電極シート及びこの透明電極シートを適用した発光デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
上記種の透明電極シートは例えば特許文献１で知られている。このものは、プラスチックフィルム等の透明基材を有し、その表面には、例えば金属ナノインクを用いた印刷法により２μｍ〜１０μｍの範囲内の線幅を持つＡｇ配線が格子状に形成されている。そして、この金属配線が形成された透明基材の表面が導電性高分子膜で覆われている。このような透明電極シートはフレキシブル性に優れているため、有機ＥＬ素子や分散型無機ＥＬ素子などの発光デバイス用の透明電極としての利用が進められている。
【０００３】
ここで、発光デバイス用の透明電極として利用するには、透明電極シートが高い導電性と高い可視光透過率を持つだけでなく、このような透明電極シートを適用した発光デバイス全体が均一に発光し、そのときに高い輝度も持つことも要求される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−４３３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、以上の点に鑑み、高い導電性と高い可視光透過率を持つだけでなく、発光デバイスに適用した場合に発光デバイス全体を均一に且つ高輝度で発光させることができる透明電極シート及び発光デバイスを提供することをその課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、絶縁性の透明基材と、透明基材表面に形成される金属配線と、この金属配線が形成された透明基材表面を覆う導電性高分子膜とを備える本発明の透明電極シートは、前記導電性高分子膜の単体のシート抵抗が１×１０４〜１×１０７Ω／□の範囲であることを特徴とする。
【０００７】
本発明においては、前記金属配線が、２μｍ〜１０μｍの範囲内の線幅を持つＡｇ配線を格子状に形成してなることが好ましい。また、前記導電性高分子膜が、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）：ポリスチレンスルホン酸を含有することが好ましい。
【０００８】
また、上記課題を解決するために、本発明の発光デバイスは、上記透明電極シートを備えることを特徴とする。本発明においては、当該発光デバイスが、前記透明電極シートの前記導電性高分子膜側の表面に蛍光体層、誘電体層及び背面電極を積層してなる分散型無機ＥＬ素子であることが好ましい。この分散型無機ＥＬ素子の前記導電性高分子膜と前記背面電極との間に交流電圧が印加され、前記透明電極シートの表面内の少なくとも一方向の前記透明電極シートの長さが２ｃｍ以上である場合に、本発明を特に好適に適用することができる。
【０００９】
本発明によれば、透明電極シートの導電性高分子膜単体のシート抵抗を１×１０４〜１×１０７Ω／□の範囲とすることで、透明電極シートが高い導電性と高い可視光透過率を持つだけでなく、この透明電極シートを適用した発光デバイス全体を均一に且つ高輝度で発光させることができる。導電性高分子膜単体のシート抵抗が１×１０４Ω／□より小さいと、導電性高分子膜が着色し、透明電極シートの可視光透過率が低下する。一方、導電性高分子膜単体のシート抵抗が１×１０７Ω／□より大きいと、透明電極シートの導電性が低くなり、発光デバイス全体を均一に且つ高輝度で発光させることができない。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態の透明電極シートを適用した分散型無機ＥＬ素子示す模式的断面図。
【図２】本発明の実施例１で得た分散型無機ＥＬ素子の駆動周波数−輝度特性を示すグラフ。
【図３】本発明の実施例１で得た分散型無機ＥＬ素子の折り曲げ試験前後の電圧−輝度特性を示すグラフ。
【図４】（ａ）は、本発明の実施例３で得た分散型無機ＥＬ素子の発光状態を示す写真であり、（ｂ）は、比較例５で得た分散型無機ＥＬ素子の発光状態を示す写真。
【図５】比較例４で得た分散型無機ＥＬ素子の一部のみが発光した状態を示す写真。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、本発明の透明電極シートを分散型無機ＥＬ素子に適用する場合を例に、本発明の透明電極シート及び発光デバイスの実施形態について説明する。
【００１２】
図１を参照して、Ｌｄは、本実施形態の透明電極シートＳｔを適用した分散型無機ＥＬ素子である。透明電極シートＳｔは、絶縁性を有する透明基材１と、透明基材１表面に形成される金属配線２と、この金属配線２が形成された透明基材１表面を覆う導電性高分子膜３とを備える。以下において、透明基材１から金属配線２に向かう方向を上として説明する。
【００１３】
透明基材１としては、可撓性を有するシート状のものが好ましく、例えば、プラスチックシートを用いることができる。プラスチックシートの材料としては、例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー及びポリイミドから選ばれる少なくとも１種を用いることができる。
【００１４】
金属配線２は、２μｍ〜１０μｍの範囲内の線幅２ｗを持ち、格子状に形成されるＡｇ配線である。この場合、金属配線２の配線間隔２ｓは例えば５０〜２００μｍの範囲内に、厚み２ｄは例えば０．１〜１．０μｍの範囲内に設定することができる。このような金属配線２は、例えばＡｇナノインクを用いたグラビアオフセット印刷法により形成することができる。Ａｇナノインクとしては、例えば、平均粒子径が１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であるＡｇナノ粒子と、Ａｇナノ粒子の表面を覆う炭素数６〜１８の脂肪酸及び炭素数６〜１２の脂肪族アミンの少なくとも一方で構成される分散剤（界面活性剤）と、分散剤で表面が覆われたＡｇナノ粒子を分散させる低極性溶媒とを含むものが好適に用いられる。このようなＡｇナノインクの市販の製品の商品名としては、例えば、Ａｇナノメタルインク（株式会社アルバック製）を挙げることができる。
【００１５】
導電性高分子膜３は、金属配線２が形成されていない領域に補助的に導電性を持たせるものであり、導電性高分子膜３としては、例えば、主成分としてポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）：ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）を含有するものを用いることができる。ここで、金属配線２自体は可視光を透過しないものの、金属配線２間に存する導電性高分子膜３や透明基材１を可視光が透過することで、透明電極シートＳｔが所望の可視光透過率を得られるようにしている。
本実施形態では、後述の如く分散型無機ＥＬ素子Ｌｄ全体を均一に且つ高輝度で発光させるために、導電性高分子膜３単体のシート抵抗が１×１０４〜１×１０７Ω／□の範囲に設定される。導電性高分子膜３単体のシート抵抗が１×１０４Ω／□より小さいと、導電性高分子膜３が着色し、透明電極シートＳｔの可視光透過率が低下する。一方、導電性高分子膜３単体のシート抵抗が１×１０７Ω／□より大きいと、透明電極シートＳｔの導電性が低くなり、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄ全体を均一に且つ高輝度で発光させることができない。
【００１６】
分散型無機ＥＬ素子Ｌｄは、上記透明電極シートＳｔの導電性高分子膜３上に積層される、蛍光体層４、誘電体層５及び背面電極６を備える。導電性高分子膜３上及び背面電極６上には引出電極７ａ，７ｂが夫々形成され、これら引出電極７ａ，７ｂに交流電源８からの出力が接続されている。交流電源８から導電性高分子膜３と背面電極６との間に所定周波数の交流電圧が印加されることで、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄが発光する。以下、上記透明電極シートＳｔ及び上記分散型無機ＥＬ素子Ｌｄの製造方法について説明する。
【００１７】
先ず、透明基材１の表面にグラビアオフセット印刷法により金属配線２を形成する。金属配線２としてＡｇ配線を形成する場合、Ａｇナノインクを用いて格子状のＡｇ配線パターンを印刷し、印刷されたＡｇナノインクを所定温度で焼成することにより、Ａｇナノ粒子から分散剤が脱離し、Ａｇナノ粒子同士が焼結してＡｇ配線が格子状に形成される。この場合、焼成温度は、例えば１２０〜２５０℃の範囲で設定することができる。
【００１８】
次に、導電性高分子膜３形成用の塗工液を調製し、調製した塗工液を金属配線２が形成された透明基材１の表面に塗布し、所定温度（例えば１００〜１５０℃）で硬化処理を行うことにより、導電性高分子膜３が形成される。ここで、塗工液は、主剤としてポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）：ポリスチレンスルホン酸を含有するほか、硬化剤や添加剤を含有する。これらの硬化剤や添加剤としては、市販の樹脂系のものを用いることができる。この場合、溶媒としては、例えば、水とＩＰＡとの混合溶媒を用いることができる。そして、主剤、硬化剤及び添加剤の配合比率を調整することで、所定膜厚で形成された導電性高分子膜３単体のシート抵抗を上記範囲（１×１０４〜１×１０７Ω／□）に調整することができる。
【００１９】
以上のようにして得られた透明電極シートＳｔの導電性高分子膜３上に、蛍光体粒子を含有する蛍光体ペーストを所定厚さ（例えば２０〜８０μｍ）で塗工し、所定温度（例えば１１０〜１５０℃）で硬化処理を行うことで、蛍光体層４を形成する。蛍光体ペーストとしては、硫化亜鉛（ＺｎＳ）からなる蛍光体粒子（蛍光体粉末）を、高誘電率の樹脂中に分散させたものを用いることができる。蛍光体粒子としては、硫化亜鉛（Ｃｕ，Ａｇ，Ｍｎ，Ｃｌが添加されたものを含む）に限らず、バリウムチオアルミネート（ＢａＡｌ２Ｓ４）、ストロンチウムチオガレイト（ＳｒＧａ２Ｓ４）や硫化カルシウム（ＣａＳ）からなるものを用いることができる。
【００２０】
次に、蛍光体層４上に、誘電体粒子を含有する誘電体ペーストを所定厚さ（例えば２０〜８０μｍ）で塗工し、所定温度（例えば１１０〜１５０℃）で硬化処理を行うことで、誘電体層５を形成する。誘電体ペーストとしては、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）からなる誘電体粒子（誘電体粉末）を、高誘電率の樹脂中に分散させたものを用いることができる。誘電体粒子としては、チタン酸バリウムに限定されず、酸化チタン（ＴｉＯ２）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）や酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）からなるものを用いることができる。
【００２１】
次に、誘電体層５上に、金属粒子や炭素粒子を含有する導電ペーストを所定厚さ（例えば０．２〜５０μｍ）で塗工し、所定温度（例えば１１０〜１５０℃）で硬化処理を行うことで、背面電極６を形成する。導電ペーストとしては、Ａｇ粒子や炭素粒子を樹脂中に分散させたものを用いることができる。以上の工程を経ることにより、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄが得られる。尚、蛍光体層４、誘電体層５及び背面電極６形成用の各種ペーストとしては公知のものを用いることができるため、その製造方法や各層の形成方法を含めてこれ以上の詳細な説明は省略する。そして、導電性高分子膜３上と背面電極６上とに引出電極７ａ，７ｂを夫々形成し、両引出電極７ａ，７ｂに交流電源８の出力が夫々接続される。
【００２２】
次に、上記実施形態をより具体化した実施例について説明する。
【００２３】
（実施例１）
本実施例１では、透明基材１を４５ｍｍ×８０ｍｍ、厚み５０μｍのポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルムとし、この透明基材１の表面に、前述のＡｇナノメタルインク（株式会社アルバック製）を用いたグラビアオフセット印刷法により、線幅２ｗが５μｍ、配線間隔２ｓが１５０μｍ、厚み２ｄが０．６μｍであるＡｇ配線パターンを印刷し、１８０℃、６０分間の焼成処理を行うことにより、金属配線としてのＡｇ配線２を格子状に形成した。次に、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳを含有する主剤（荒川化学工業製、商品名「アラコートＡＳ６０１Ｄ」）１０重量部と、硬化剤（荒川化学工業製、商品名「アラコートＣＬ９１０」）１重量部とを混合して塗工液を調製した（後述の添加剤は０重量部）。この塗工液をＡｇ配線２が形成された透明基材１表面にアプリケータにより塗布し、１００℃で３分間加熱する硬化処理を行うことで導電性高分子膜３を膜厚０．４μｍで形成し、これにより透明電極シートＳｔを得た。上記配合比率で調整された塗工液を用いることで、導電性高分子膜３単体のシート抵抗を１．９×１０４Ω／□に調整した。また、透明電極シートＳｔ全体でのシート抵抗は４．２×１００Ω／□であり、透明基材１を除く透明電極シートＳｔの可視光透過率は９０．３％であった。このようにして得た透明電極シートＳｔの導電性高分子膜３上に、蛍光体ペースト（イメージテック製、商品名「ＩＺＴＡ０１」）をアプリケータにより５０μｍの厚みで塗工し、１２０℃で１５分間加熱する硬化処理を行うことで蛍光体層４を形成した。次に、蛍光体層４上に、誘電体ペースト（イメージテック製、商品名「ＩＢＴＡ０１」）をアプリケータにより１００μｍの厚みで塗工し、１２０℃で１５分間加熱する硬化処理を行うことで誘電体層５を形成した。次に、誘電体層５の上に、導電ペースト（東洋紡製、商品名「ＤＸ−１１６Ｌ−１」）をアプリケータにより５０μｍの厚みで塗工し、１２０℃で１５分間加熱する硬化処理を行うことで、背面電極６を形成して、蛍光体により発光する領域が３５ｍｍ×５５ｍｍとなる分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを得た。最後に、導電性高分子膜３上及び背面電極６上に引出電極７ａ，７ｂとしての導電性テープ（Ｃｕテープ）を夫々貼り付け、両引出電極７ａ，７ｂ間にインバータの出力を接続し、駆動周波数２ｋＨｚ、駆動電圧１５０Ｖ，２００Ｖ（ゼロ・ピーク値，Ｖ０−ｐ）で分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを発光させ、夫々の輝度を測定したところ、２９２，４２７ｃｄ／ｍ２と高輝度であることが確認された（表１参照）。また、駆動電圧を１５０Ｖに固定し、駆動周波数を５００〜２０００Ｈｚで変化させたときの駆動周波数−輝度特性を求めた結果を図２に示す。これによれば、５００〜２０００Ｈｚの駆動周波数帯で高輝度を発現することが確認された。本実施例１によれば、導電性高分子膜３単体のシート抵抗を１×１０４〜１×１０７Ω／□の範囲とすることで、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄ全体が均一に且つ高輝度で発光することが判った。また、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを透明基材１が外側となるように折り曲げ半径１．５ｍｍにて２万回の繰り返し折り曲げ試験を行った。折り曲げ試験前後の電圧−輝度特性を求めた結果を図３に示す。これによれば、折り曲げ試��前後で特性に変化は見られず、優れた折り曲げ耐久性を有することが判った。
【００２４】
（実施例２）
本実施例２では、Ａｇ配線２の配線間隔２ｓを２００μｍとした点以外は上記実施例１と同様の方法で透明電極シートＳｔを得た。透明電極シートＳｔ全体でのシート抵抗は、４．９×１００Ω／□と上記実施例１よりも大きい値となった。得られた透明電極シートＳｔを用いて上記実施例１と同様の方法で分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを作製した。作製した分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを駆動周波数２ｋＨｚ、駆動電圧１５０Ｖ，２００Ｖで発光させ、夫々の輝度を測定したところ、２９７，４３１ｃｄ／ｍ２と高輝度であることが確認された（表１参照）。
【００２５】
（実施例３）
本実施例３では、Ａｇ配線２の配線間隔２ｓを３００μｍとした点以外は上記実施例１と同様の方法で透明電極シートＳｔを得た。透明電極シートＳｔ全体でのシート抵抗は、８．９×１００Ω／□と上記実施例２よりも更に大きい値となった。得られた透明電極シートＳｔを用いて上記実施例１と同様の方法で分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを作製した。作製した分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを駆動周波数２ｋＨｚ、駆動電圧１５０Ｖ，２００Ｖで発光させ、夫々の輝度を測定したところ、２９１，４２４ｃｄ／ｍ２と高輝度であることが確認された（表１参照）。また、図４（ａ）に示すように、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄ全体が均一に発光することが確認された。本実施例３及び上記実施例２によれば、Ａｇ配線２の配線間隔２ｓを上記実施例１の１．３倍、２倍に広げることで透明電極シートＳｔ全体でのシート抵抗は大きくなるものの、導電性高分子膜３単体のシート抵抗を１×１０４〜１×１０７Ω／□の範囲とすることで、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄ全体が均一に且つ高輝度で発光することが判った。
【００２６】
（実施例４）
本実施例４では、導電性高分子膜３形成用の塗工液として、主剤１０重量部と、硬化剤１．５重量部と、添加剤（荒川化学工業製、商品名「アラコートＡＢ２１０」）１．５重量部とを混合したものを用い、これにより導電性高分子膜３単体のシート抵抗を５．７×１０５Ω／□とした点以外は上記実施例３と同様の方法で透明電極シートＳｔを得た。透明電極シートＳｔ全体のシート抵抗は９．４×１００Ω／□であり、透明基材１を除く透明電極シートＳｔの可視光透過率は９３．８％であった。得られた透明電極シートＳｔを用いて上記実施例１と同様の方法で分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを作製し、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを駆動周波数２ｋＨｚ、駆動電圧１５０Ｖ，２００Ｖで発光させ、夫々の輝度を測定したところ、２９４，４３０ｃｄ／ｍ２と高輝度であることが確認された（表１参照）。本実施例４によれば、導電性高分子膜３単体のシート抵抗を１×１０４〜１×１０７Ω／□の範囲とすることで、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄ全体が均一に且つ高輝度で発光することが判った。
【００２７】
（実施例５）
本実施例５では、導電性高分子膜形成用の塗工液の配合割合を、主剤１０重量部：硬化剤４重量部とし、これにより導電性高分子膜３単体のシート抵抗を１．３×１０６Ω／□とした点以外は上記実施例３と同様の方法で透明電極シートＳｔを得た。透明電極シートＳｔ全体でのシート抵抗は９．６×１００Ω／□であり、透明基材１を除く透明電極シートＳｔの可視光透過率は９４．２％であった。得られた透明電極シートＳｔを用いて上記実施例１と同様の方法で分散型無機ＥＬ素子を作製し、分散型無機ＥＬ素子を駆動周波数２ｋＨｚ、駆動電圧１５０Ｖ，２００Ｖで発光させ、夫々の輝度を測定したところ、２９２，４２６ｃｄ／ｍ２と高輝度であることが確認された（表１参照）。本実施例５によれば、導電性高分子膜３単体のシート抵抗を１×１０４〜１×１０７Ω／□の範囲とすることで、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄ全体が均一に且つ高輝度で発光することが判った。
【００２８】
【表１】
2020194653.tif 000003
【００２９】
次に、上記実施例に対する比較例について説明する。
【００３０】
（比較例１）
本比較例１では、導電性高分子膜３形成用の塗工液の配合割合を、主剤１０重量部：硬化剤２．５重量部：添加剤２．５重量部とし、これにより導電性高分子膜３単体のシート抵抗を１．７×１０７Ω／□とした点以外は上記実施例３と同様の方法で透明電極シートＳｔを得た。透明電極シートＳｔ全体でのシート抵抗は５．１×１０３Ω／□と上記実施例１〜５よりも２桁大きく導電性が低いものの、透明基材１を除く透明電極シートＳｔの可視光透過率は９４．５％と高かった。得られた透明電極シートＳｔを用いて上記実施例１と同様の方法で分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを作製し、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを駆動周波数２ｋＨｚ、駆動電圧１５０Ｖ，２００Ｖで発光させようとしたが、素子全体が均一に発光しないことが確認された（表１参照）。本比較例１によれば、導電性高分子膜３単体のシート抵抗が１．０×１０７Ω／□よりも大きいと、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄ全体が均一に且つ高輝度で発光しないことが判った。
【００３１】
（比較例２）
本比較例２では、導電性高分子膜形成用の塗工液として、市販のスクリーン印刷用のＰＥＤＯＴ：ＰＳＳペースト（シグマアルドリッチ製）を用い、これにより、導電性高分子膜３単体のシート抵抗を１．０×１０２Ω／□とした点以外は上記実施例３と同様の方法で透明電極シートＳｔを得た。透明電極シートＳｔ全体でのシート抵抗は８．１×１００Ω／□であり、高い導電性が得られるものの、透明基材１を除く透明電極シートＳｔ全体での可視光透過率は７８．１％と低いことが確認された。得られた透明電極シートＳｔを用いて上記実施例１と同様の方法で分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを作製し、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを駆動周波数２ｋＨｚ、駆動電圧１５０Ｖ，２００Ｖで発光させ、夫々の輝度を測定したところ、２３９，３７１ｃｄ／ｍ２と上記実施例１〜５と比べて低いことが確認された（表１参照）。本比較例２によれば、導電性高分子膜３単体のシート抵抗が４．０×１０４Ω／□よりも小さいと、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄ全体が均一に且つ高輝度で発光しないことが判った。
【００３２】
（比較例３）
本比較例３では、透明基材１をポリエチレンナフタレート（ＰＥＴ）フィルムとし、透明基材１表面にＡｇ配線を形成せずに導電性高分子膜３を直接形成した点以外は、上記比較例２と同様の方法で透明電極シートＳｔを得た。導電性高分子膜３単体のシート抵抗は、上記比較例２と同様の１．０×１０２Ω／□とした。また、透明電極シートＳｔ全体でのシート抵抗は３．０×１０２Ω／□であり、高い導電性が得られず、透明基材１を除く透明電極シートＳｔの可視光透過率も８４．７％と低いことが確認された。得られた透明電極シートＳｔを用いて上記実施例１と同様の方法で分散型無機ＥＬ素子を作製し、作製した分散型無機ＥＬ素子を駆動周波数２ｋＨｚ、駆動電圧１５０Ｖ，２００Ｖで発光させ、夫々の輝度を測定したところ、２６５，４０７ｃｄ／ｍ２と比較例２よりは高いものの実施例１〜５と比べて低いことが確認された（表１参照）。また、図２に併せて示すように、５００〜２０００Ｈｚの駆動周波数帯で上記実施例１よりも輝度が低いことが確認された。本比較例３によれば、Ａｇ配線を形成せず、しかも導電性高分子膜３単体のシート抵抗が４．０×１０４Ω／□よりも小さいと、分散型無機ＥＬ素子全体が均一に且つ高輝度で発光しないことが判った。
【００３３】
（比較例４）
本比較例４では、透明基材１表面にＡｇ配線を形成せずに導電性高分子膜３を直接形成した点以外は、上記実施例１と同様の方法で透明電極シートＳｔを得た。導電性高分子膜３単体のシート抵抗は、上記実施例１と同様の１．９×１０４Ω／□とした。また、透明電極シートＳｔ全体でのシート抵抗は１．９×１０４Ω／□であり、高い導電性が得られないものの、透明基材１を除く透明電極シートＳｔの可視光透過率は９８．１％と高いことが確認された。得られた透明電極シートＳｔを用いて上記実施例１と同様の方法で分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを作製し、作製した分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを駆動周波数２ｋＨｚ、駆動電圧１５０Ｖ，２００Ｖで発光させようと試みたが、図５に示すように、引出電極７ａの周辺のみ（図中、一転鎖線で囲う左側のみ）が発光するだけであり、素子全体が均一に発光しないことが確認された。本比較例４によれば、Ａｇ配線を形成しなければ、分散型無機ＥＬ素子全体が均一に且つ高輝度で発光しないことが判った。
【００３４】
（比較例５）
本比較例５では、Ａｇ配線２が形成された透明基材１表面に導電性高分子膜３を形成しない点以外は、上記実施例３と同様の方法で透明電極シートＳｔを得た。透明電極シートＳｔ全体でのシート抵抗は９．０×１００Ω／□であり、高い導電性が得られ、透明基材１を除く透明電極シートＳｔの可視光透過率も９６．２％と高いことが確認された。得られた透明電極シートＳｔを用いて上記実施例１と同様の方法で分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを作製し、作製した分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを駆動周波数２ｋＨｚ、駆動電圧１５０Ｖ，２００Ｖで発光させ、夫々の輝度を測定したところ、４７，８８ｃｄ／ｍ２と著しく低いことが確認された（表１参照）。これは、図４（ｂ）に示すように、Ａｇ配線２に沿った領域しか発光しないためである。
【００３５】
以上によれば、透明電極シートＳｔの導電性高分子膜３単体のシート抵抗を１×１０４〜１×１０７Ω／□の範囲とすることで、透明電極シートＳｔが高い導電性と高い可視光透過率を持つだけでなく、透明電極シートＳｔを分散型無機ＥＬ素子Ｌｄに適用して交流電圧を印加した場合、分散型無機ＥＬ素子Ｌｄをその全面に亘って均一に且つ高輝度で発光させることができる。
【００３６】
以上、本発明の実施形態及び実施例について説明したが、本発明は上記実施形態のものに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない限り、種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では、透明電極シートＳｔを適用した発光デバイスとして分散型無機ＥＬ素子Ｌｄを例に説明したが、有機ＥＬ素子などの他の発光デバイスにも本発明の透明電極シートＳｔを適用することができる。
【００３７】
上記実施例では、導電性高分子膜３形成用の塗工液に含まれる主剤と硬化剤と添加剤の配合比率を調整することで、導電性高分子膜３単体のシート抵抗を調整しているが、これに限定されず、例えば塗工液に添加される他の添加剤の配合比率を調整してもよい。
【００３８】
上記実施形態では、金属配線２としてＡｇ配線を例に説明したが、配線用の金属材料はＡｇに限定されず、Ａｕ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｉｎ及びＳｎから選択された少なくとも１種の金属又はこれらの金属の少なくとも２種からなる合金を選択して用いることができる。また、金属配線２は、必ずしも格子状に形成されていなくてもよい。
【００３９】
上記実施形態では、金属配線２の印刷方法としてグラビアオフセット印刷法を用いる場合を例に説明したが、金属配線２を所望の線幅２ｗ及び配線間隔２ｓで印刷できるものであれば、他の印刷方法を用いることができる。
【符号の説明】
【００４０】
Ｌｄ…分散型無機ＥＬ素子（発光デバイス）、Ｓｔ…透明電極シート、１…透明基材、２…金属配線（Ａｇ配線）、２ｗ…金属配線２の線幅、３…導電性高分子膜、４…蛍光体層、５…誘電体層、６…背面電極。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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