(57)【要約】【課題】  冷却液の流れによどみがなく、少量の冷却液で効率的にターゲットを冷却することのできるロータリカソードを提供する。【解決手段】  表面にターゲットが接着された円筒型のバッキングチューブが設置される、円筒型のマグネットケースを有するロータリカソードであって、円筒型のバッキングチューブが前記円筒型のマグネットケースに設置されることによって、前記バッキングチューブと前記円筒型のマグネットケースとの間に冷却液を流す流路が形成される構造を有しており、前記流路は、ロータリカソードの回転軸に沿って伸び、互いに並列する複数の流路が、それぞれの流路の両端において互いに連結された形状を有することを特徴とする。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面にターゲットが接着された円筒型のバッキングチューブ内面に冷却液を流す流路を形成したロータリカソードであって、
前記流路は、前記ロータリカソードの回転軸の方向に沿って形成され、前記回転軸方向の端部において複数回折り返す主流路と、前記端部において隣接する主流路間を連通する補助流路とを有することを特徴とするロータリカソード。
【請求項２】
前記補助流路のコンダクタンスは、主流路のコンダクタンスより小さい、
ことを特徴とする請求項１に記載のロータリカソード。
【請求項３】
前記バッキングチューブの表面に、前記流路を構成するための溝が設けられている、
ことを特徴とする請求項１または２に記載のロータリカソード。
【請求項４】
前記流路は前記円筒型のマグネットケースの回転軸方向のいずれか一方の端部に、冷却液の流入口および排出口を有している、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のロータリカソード。
【請求項５】
前記流路は、さらに、前記ロータリカソードの回転軸の方向に沿って、前記主流路よりもコンダクタンスの小さい流路を含む、
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のロータリカソード。
【請求項６】
カソードと、前記カソードに対向して基材を保持する基材保持機構と、を備える成膜装置であって、
前記カソードが請求項１から５のいずれか１項に記載のロータリカソードである、
ことを特徴とする成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はスパッタリング法を用いた成膜装置のロータリカソードに関するものであり、特に冷却機構に関わる。
【背景技術】
【０００２】
近年、スパッタプロセスの安定性や材料の利用効率を高めるため、ロータリカソードと呼ばれる円筒型のカソードを備えるスパッタリング装置の活用が進んでいる。
【０００３】
アルゴンなどのスパッタガスの雰囲気下で、ターゲットが設置されたカソードに電圧が印加されると、アルゴンが放電してプラスイオンとなってターゲット表面に衝突し、カソード表面からターゲットの粒子がはじき出される。はじき出されたターゲットの粒子が基材に付着することによって、基材の上に膜が形成される。
【０００４】
成膜の間、アルゴンの放電によって生じるプラズマがターゲットの表面に集中するため、ターゲットの温度が上昇する。円筒型のターゲットは、インジウムでバッキングチューブに接着されており、インジウムの融点は約１３０℃と低いため、成膜中の温度上昇によって接着部分が剥がれないよう、ターゲットを冷却する必要がある。
【０００５】
特許文献１には、ロータリカソードの内部を冷却液で充満させて、冷却する構成が開示されている。特許文献２には、平板ターゲットにおける冷却流路として、バッキングプレートの裏側に蛇行する流路を設ける構成が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１６−１１３６４６号公報
【特許文献２】特開平１１−３５０１２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の構成では、円筒型カソードの内部を冷却液で満たすため、大量の冷却液を供給するチラーが必要となったり、空気だまりや冷却液のよどみが発生して部分的に温度が上昇し、インジウムの融点を超えたりする恐れがある。また、特許文献２の冷却流路をロータリカソードに適用した場合、冷却液の供給量を低減することができるが、流路の折り返し部によどみが発生し、温度が上昇してインジウムの融点を超える恐れがある。さらに、よどみによって圧力損失が大きくなり、大型のチラーが必要となってしまう。
【０００８】
本発明は上記課題を解決するものであり、冷却液の流れによどみがなく、少量の冷却液で効率的にターゲットを冷却することのできるロータリカソードを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明にかかるロータリカソードは、表面にターゲットが接着された円筒型のバッキングチューブが設置される、円筒型のマグネットケースを有するロータリカソードであって、
円筒型のバッキングチューブが前記円筒型のマグネットケースに設置されることによって、前記バッキングチューブと前記円筒型のマグネットケースとの間に冷却液を流す流路が形成される構造を有しており、前記流路は、ロータリカソードの回転軸に沿って伸び、互いに並列する複数の流路が、それぞれの流路の両端において互いに連結された形状を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のロータリカソードによれば、冷却液の流れによどみを発生することなく、少量の冷却液でターゲットを効率的に冷却することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】スパッタ成膜装置の構成例を示す図である。
【図２】一実施形態であるロータリカソードの回転軸方向の断面の概略構造を示す図である。
【図３】本発明の実施形態にかかるマグネットケースの表面を示す斜視図である。
【図４】（ａ）は本発明にかかるロータリカソードの冷却流路の一例を示す展開図、（ｂ）は冷却液の流れを示すイメージ図である。
【図５】本発明の一実施例にかかる冷却流路を示す展開図である。
【図６】比較例の冷却流路を示す展開図である。
【図７】図５の冷却流路を用いてシミュレーションした冷却液の流れを表す図である。
【図８】図６の比較例の冷却流路を用いてシミュレーションした冷却液の流れを表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明にかかるロータリカソードの実施形態を、図面を参照して具体的に説明する。本実施形態として、スパッタリング装置の例で説明を行う。ただし、本図および本文に示す構成や、寸法および寸法比は、本発明が取りうる実施形態の一例であり、これらに限定されるものではない。
【００１３】
図１は、実施形態にかかるスパッタリング装置の概略構造を示す図である。スパッタリング装置１００は、チャンバ５０の内部に、電圧が印加されるカソード５１と、カソード５１に対向して、成膜対象となる基材５２を保持するための基材保持機構５３を備えている。カソード５１にスパッタ材料となるターゲット２が設置される。
【００１４】
チャンバ５０は、密閉可能であり、排気口に排気系（不図示）を接続して内部の気体を排気することにより、チャンバ内部を負圧状態に維持することが可能である。チャンバ５０には、ゲートバルブが設けられた搬送口（不図示）が設けられており、チャンバ５０と外部との間で、基材５２の搬入及び搬出が可能となっている。
【００１５】
スパッタリングに必要なイオンの供給材料であるスパッタガスは、ガス導入口３９から導入される。化学反応を利用する、いわゆるリアクティブスパッタリングを行う場合は、化学反応に用いる反応ガスを供給するガス導入口が別途設けられる。
【００１６】
チャンバ５０の壁面にはカソード挿入口が設けられており、この挿入口を介してカソード支持部１によって支持された状態でカソード５１の出し入れが可能となっている。チャンバ５０の壁面とターゲット支持部１との間にはシール部材が配置され、カソード挿入口はターゲット支持部１によって塞がれる。このような構造によって、カソード５１をチャンバ内から取り出すことができ、ターゲットの設置や交換が容易になる。
【００１７】
カソード５１に設置するターゲット２の設置や交換が可能となっている。
【００１８】
カソード５１には、円筒型のターゲット２が設置される。カソード５１は回転機構を有しており、駆動機構６から伝達される駆動力によってカソード５１を回転させると、カソードに設置されたターゲット２が共に回転する。円筒型のターゲット２を回転させながらスパッタリングを行うことで、ターゲット全体を均一に消費させ、ターゲット材料の利用効率を高めることができる。
【００１９】
カソード５１の内部の、基板保持機構５３に保持された基材５２と対向する位置には、マグネット８が搭載されている。マグネット８が生成する磁場によって、プラズマがターゲット２表面に引き付けられることにより、ターゲット表面から効率よくターゲット粒子を叩き出し、高い成膜速度を得ることができる。
【００２０】
さらに、スパッタリング装置１００は、マグネット８を搖動させる揺動機構（不図示）を有している。搖動機構によってマグネット８を揺動させると、マグネット８の位置に応じてターゲット表面におけるプラズマの位置が変化するため、ターゲットから飛び出すスパッタ粒子の飛翔方向を変化させることができる。このような搖動機構を用いれば、基材５２に形成される膜の均一性を高めることが可能となる。
【００２１】
次に、本発明の実施形態にかかる円筒状のカソード５１の構成を詳細に説明する。図２は、カソード５１の回転軸方向の断面構造を示す図である。
【００２２】
カソード５１は、チャンバ５０の壁面に設けられたカソード挿入口から、カソード支持部１によって支持された状態で、チャンバ内へと挿入されている。紙面に向かって、ターゲット支持部１の右側がチャンバ内部、左側が大気環境である。ターゲット支持部１は、カソード５１を回転させるための機構やで冷却液を供給するための機構を通すための開口を有しており、開口は磁気シール３０およびＯリング３１、３２、３３によって密閉されている。
【００２３】
カソード５１は、内部にマグネット８が配置された円筒型のマグネットケース４を有している。マグネットケース４には、外周面にターゲット２がインジウムで接着された円筒型のバッキングチューブ３が、その内面をマグネットケース４の外周面に合わせるようにして当接してはめ込まれる。バッキングチューブ３とマグネットケース４とのはめあい面には、Ｏリング３６、３７が配置されており、ばね３８でバッキングチューブ側へ押さえつけられることにより、互いが固定されている。
【００２４】
マグネットケース４は、スペーサー１８およびカラー１９を介して回転シャフト５に連結され、大気環境に設置された回転モータ６に接続される。スペーサー１８およびカラー１９をアルミナセラミックスなどの絶縁材で形成することにより、カソードへの電力供給に必要な、マグネットケース４と回転シャフト５との間の絶縁性を維持することができる。
【００２５】
回転シャフト５は磁気シール３０によって回転可能に支持されている。回転モータ３の動力が歯車１０、１１を介して回転シャフト５へ伝達されると、マグネットケース４は、固定されたバッキングチューブ３およびターゲット２と共に、一転鎖線で示した円筒型の軸（回転軸）の周りを所定の回転数で回転させることができる。
【００２６】
マグネットケース４の内部に配置されたマグネット８は揺動シャフト７に固定されており、搖動シャフト７は大気環境に設置された揺動モータ９に接続されている。搖動シャフト７は、搖動軸がマグネットケース４の回転軸と一致するように、スリップリング１５、マグネットケース４の内部で、アンギュラ玉軸受１３、深溝玉軸受１４、すべり軸受け６０などの回転部支持手段により、回転可能に支持されている。揺動モータ９の動力が、カップリング１２を介して揺動シャフト７へ伝達されると、マグネット８が所定の角度範囲内で搖動する。ターゲットへの電力導入はスリップリング１５を介して外部より行われる。
【００２７】
回転モータ６および揺動モータ９のカソードへの動力伝達は歯車やカップリングに限らず、タイミングベルトなどの他の手段を用いても構わない。
【００２８】
ターゲット２を冷却するための冷却液は、大気環境に設置されている不図示のチラーにより、ロータリジョイント１６に供給され、ロータリジョイントから回転シャフト５の内部を貫通する供給用の冷却液配管１７へと導入される。冷却液配管１７に導入された冷却液は、流入口からマグネットケース４とバッキングチューブ３との間、即ちバッキングチューブ内面に形成される流路へと供給される。マグネットケース４とバッキングチューブ３との間に形成される流路を通過した冷却液は、排出口から排出用の冷却液配管１７へと流れこみ、ロータリジョイント１６を介して排出される。冷却液の流路は、Ｏリング３４、３５、３６、３７によってシールされ、真空環境および大気環境とは切り離された空間となっている。
【００２９】
冷却液の回転導入に用いるロータリジョイント１６の回転部分の一部が中空構成になっており、この中空部に配線を通すことにより省スペースな配線を実現している。
【００３０】
続いて、本実施形態のロータリカソードが備える冷却液の流路について説明する。図３はマグネットケース４の斜視図を示す。
【００３１】
図３のように表面に溝が設けられた円筒型のマグネットケース４の上に、ターゲット２を備えた円筒型のバッキングチューブ３が取り付けられると、マグネットケース４とバッキングチューブ３との間に冷却液を流すための流路（冷却流路）が形成される。冷却液は、マグネットケース４の回転シャフト５に近い側の端部に設けられた流入口２０より流入し、マグネットケース４とバッキングチューブ３との間に形成された流路を流れる。流路を通過した冷却液は、マグネットケース４の円周方向において流入口２０と対向する位置に設けられた排出口２１より排出される。マグネットケース４の表面に形成する溝は、マグネットケースの表面を切削して形成してもよいし、仕切りを溶接や鋳造、３Ｄプリンタなどによる後付けで形成してもかまわない。
【００３２】
このように、冷却液の流路をマグネットケース４とバッキングチューブ３との間に設けることで、ターゲット表面付近のみを効率よく冷却することが可能である。さらに、マグネット８が配置されているマグネットケース４の内部に冷却液が流れこむことがないため、冷却液によるマグネット８等の構成部品の腐食を防ぐことが可能である。また、流入口２０および排出口２１をマグネットケース４の一方の端部（ロータリジョイント１６側の端部）に配置することにより、冷却液のチャンバ内への導入を１方向から行うことができ、装置構成を簡素なものにすることができる。
【００３３】
次に、マグネットケース４の表面に設けられた溝、即ち、マグネットケース４とバッキングチューブ３との間に形成される冷却液の流路の例について説明する。図４（ａ）は、マグネットケース４とバッキングチューブ３との間に形成される流路の一例を表す展開図である。展開図は、流入口２０を通り、ロータリカソードの回転軸に平行な直線Ｘを中心にして、円周方向に展開したものである。斜線部分が、マグネットケース４の表面に設けられた、溝の仕切り７０に相当している。
【００３４】
冷却流路は、ロータリカソードの回転軸に沿って並列して設けられ複数の流路２２ａ〜２３ｉと、回転軸に沿って並列して設けられた複数の流路の両端を互いに連結するように、周方向に設けられた流路２３ａ〜２３ｉ、２４ａ〜２４ｉと、を含んでいる。言い換えると、冷却流路は、前記流路は、ロータリカソードの回転軸に沿って伸び、互いに並列する複数の流路が、それぞれの流路の両端において互いに連結された形状を有している。図４では、説明上、軸方向の流路と周方向の流路とを区別するための補助線（点線）を記載しているが、これらは一連の流路である。
【００３５】
図４（ｂ）は、図４（ａ）に示す流路における冷却液の流れを示すイメージ図である。流路の中に示した矢印は、冷却液の流れの向きを表し、矢印が太いほど冷却液の流量が多いことを表している。なお、矢印３０は、ロータリカソードの回転方向である。
【００３６】
図４（ｂ）から、流路には、相対的に冷却液の流量の多い主流路と流量の少ない補助流路が形成されるのがわかる。図４（ｂ）の場合、２２ａ、２３ｂ、２３ｃ、２２ｃ、２４ｄ、２２ｄ、２３ｅ、２２ｅを流れる流路と、２２ｆ、２３ｆ、２３ｇ、２２ｈ、２４ｈ、２２ｉ、２３ｉ、２２ｅを流れる流路と、が主流路である。冷却液による冷却効果は、主にこれらの主流路によって得られる。そして、これらの主流路の折り返し点同士をつなぐ補助流路である２３ａ、２４ｂ、２２ｂ、２３ｄ、２４ｅ、２４ｆ、２２ｇ、２３ｈ、２４ｉが、冷却液が主流路を折り返す際に生じるよどみの発生を抑制する役割を担う。
【００３７】
主流路か補助流路かは、その流路を流れる流体の相対的な運動量、即ち、流路のコンダクタンスの相対的な大小によって決まり、相対的にコンダクタンスの大きい流路が主流路となる。主流路、補助流路は、見込まれる上昇温度やターゲットの径など、種々の条件に応じて設計すればよい。どのように主流路、補助流路を設けるかに応じて、軸方向の流路の幅や高さや本数、周方向の流路の幅を決めると良い。なお、流路にコンダクタンスの大小を形成する方法として、流路の幅に差をつけてよどみをなくしているが、流路に障害物を設けるなどして流れる量を規制してもかまわない。
【００３８】
図４（ｂ）において、マグネットケース４の一端に設けられた流入口２０から流入した冷却液は、紙面向かって右側に初速度を持って流入するため、主に流路２２ａと２２ｆに分岐して流れ込む。一部の冷却液が円周方向両側にも流れ、流路２４ｂ、２４ｆに流れ込む。流路２２ａを流れる冷却液はマグネットケース４の他端に到達すると、一部がマグネットケース４の回転慣性によって流路２３ａへと分岐するが、その多くが相対的にコンダクタンスの大きな流路２３ｂへと流れる。このとき、もし流路２３ａが設けられていないと、流路２３ｂへと流れ込まない分岐流が流路の仕切り７０にあたって跳ね返り、跳ね返りによって生じた流れと、流路２２ａの流れとが干渉する。そして、流路の隅部に冷却液のよどみが発生し、冷却液が隅部に滞留したまま渦軌道を描き続け、冷却液の循環が行われなくなる。その結果、スパッタリングプロセスにより発生した熱が隅部では排出されず、局所的な温度上昇や圧力損失が生じてしまう。圧力損失は、流入口２０から排出口２１までの冷却流路全体のコンダクタンスに比例する。
【００３９】
流路２４ｂへ流れ込んだ冷却液は、大部分は相対的にコンダクタンスが大きな流路２２ｂへと流れるが、一部は相対的にコンダクタンスが小さな流路２４ｃへと流れ込む。ここでも、流路２４ｃが設けられているために流路の端部によどみの発生が抑制される。
【００４０】
流路２２ａ、２３ｂを通過した冷却液は、流路２３ｃで流路２２ｂを通過した冷却液と合流し、大部分は相対的にコンダクタンスが小さな流路２２ｃへと流れ、一部は相対的にコンダクタンスが大きな流路２３ｄへと流れる。そして、流路２２ｃを通過した冷却液は、流路２４ｄで流路２４ｃを通過した冷却液と合流し、大部分は相対的にコンダクタンスが小さな流路２２ｄへと流れ、一部は相対的にコンダクタンスが大きな流路２４ｅへと流れる。そして、流路２２ｄを通過した冷却液は、流路２３ｄを通過した冷却液と合流して流路２３ｅを流れ、さらに流路２３ｉを通過した冷却水と合流して流路２２ｅを流れる。そして最後に、流路２４ｅ、流路２４ｉを通過した冷却液と合流し、排水口２１から排出される。なお、説明を省略したが、相対的にコンダクタンスが大きな流路と相対的にコンダクタンスが小さな流路とが連結される部分においては、前述した流路２２ａ、２３ａ、２３ｂが連結する箇所と同様の理由で、よどみの発生が抑制される。
【００４１】
図４（ｂ）では、直線Ｘを対称軸とする流路が設けられ、冷却液もほぼ対象に流れるため、流路２２ｆおよび２４ｆに流れ込んだ冷却液が排水口２１から排出されるまでの説明は省略する。
【００４２】
以上説明した様に、本発明にかかる冷却流路はマグネットケース４表面に、回転軸方向に平行で、且つ端部で交互に複数回折り返す複数の溝からなる主流路と、各溝の端部の折り返し部分で隣接する主流路間を連通する補助（バイパス）流路とを有する冷却用流路が形成されている。本発明にかかる流路を設けることにより、冷却液のよどみの発生を抑制することにより、局所的な温度上昇を防ぎ、インジウムの溶融によるターゲット剥がれを防ぐことが可能である。さらに、圧力損失が解消され、冷却液の供給流量、圧力を低下させることができるため、冷却液を供給するチラーの小型化、省電力化を図ることができる。その結果、より簡素なスパッタ成膜装置を構成できるようになる。
【実施例】
【００４３】
具体的な冷却流路の構成例と、それについてのシミュレーション結果について説明する。
【００４４】
図５は、シミュレーションを行った、本発明の一実施例である冷却流路のレイアウトを示す展開図で、流入口２０を通り、ロータリカソードの回転軸に平行な直線Ｘを対象軸とする対象形状に形成されている。図５が本発明の一実施例の冷却流路のレイアウト、図６は比較例の冷却流路のレイアウトである。
【００４５】
図５、図６のいずれの例も、円筒型マグネットケース４の外径を８０ｍｍ、軸方向の長さｗを２４０ｍｍ、溝の深さ（流路の高さ）を４ｍｍ、流路を仕切る仕切り７０の幅を２０ｍｍとした。
【００４６】
図５において、流路２２ａの幅ａは２８ｍｍ、流路２２ｂの幅ｂは２４ｍｍとし、流路２２ｂのコンダクタンスを流路２２ａよりも小さくした。さらに、流路２３ａの幅ｆは５ｍｍ、流路２３ｂの幅ｅは２０ｍｍ、流路２３ｄの幅ｄは３５ｍｍ、流路２４ａの幅ｉは３５ｍｍ、流路２４ｂの幅ｈは２０ｍｍ、流路２４ｃの幅ｇは５ｍｍとした。流路２３ｄを通過した冷却液と流路２３ｆを通過した冷却液は、合流して流路２２ｃに流れ込むため、流路２２ｃの幅は、幅ｃ２１ｍｍの２倍の４２ｍｍと、最も幅の大きな流路となっている。
【００４７】
図５に示した冷却流路の場合、２２ａ、２３ｂ、２３ｄ、２２ｃをつなぐ流路と、２２ｄ、２３ｅ、２３ｆ、２２ｃをつなぐ流路が、冷却水が大量に流れる主流路となる。
【００４８】
比較例である図６の冷却流路は、軸方向の流路の両端が、隣接する軸方向の流路の両端と、周方向の流路で互いに連結されておらず、一筆書き状につながるように、隣接する軸方向の流路とは一端だけが連結されている。流路２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、２２ｅの流路の幅は、いずれも１１．５ｍｍとし、流路２２ｃを通過した冷却液と流路２２ｅを通過した冷却液が合流する流路２２ｄの幅は、１９ｍｍとした。また、軸方向の流路を連結する周方向の流路、２４ａ〜２４ｃ、２３ａ〜２３ｄの幅は、いずれも２０ｍｍとした。
【００４９】
図７および図８に、各冷却流路の構成例を用いてシミュレーションした冷却液の流れを示す。図７が本発明の一実施例の冷却流路である図５についてのシミュレーション結果、図８が比較例の冷却流路である図６についてのシミュレーション結果である。
【００５０】
図７の本発明の一実施例の冷却流路の場合、流路の折り返し箇所で、冷却液によどみが発生していないことがわかる。従って、冷却液のよどみによって局所的に温度が上昇することがなく、圧力損失も低くなることがわかる。
【００５１】
それに対して、図８が比較例の冷却流路では、点線で囲った領域Ｓで、流路の折り返し箇所に冷却液のよどみが発生していることがわかる。従って、冷却液のよどみが発生した箇所で冷却液が循環されず、局所的の温度が上昇してしまう。さらに、よどみによって圧力損失も大きくなってしまう。
【００５２】
以上、説明した様に、本発明にかかるロータリカソードは、流路の折り返し箇所によどみを発生することなく、小流量低圧力でインジウム近傍を効率的に冷却することが可能である。
【００５３】
実施形態として、スパッタ装置のロータリカソードにおける冷却流路について説明しているが、本発明はそれに限定されるものではない。例えばモータにおけるハウジングの発熱に対する冷却機構やランプヒーター等の円筒型ヒーターのリフレクタの冷却機構等にも適用することも可能である。円筒型の構造に限らず、平面型の構造の冷却機構に適用しても構わない。
【００５４】
また、本発明における局所的なよどみがない流路構造は、冷却機構における流路構造にとどまらず、ラジエータなどの発熱機構などへの適用も可能である。
【００５５】
また、本発明におけるスパッタ装置のロータリカソード冷却機構は、流路形成に当たり、軸方向に延伸する折り返しを主流路としているが、他の流路構成に補助流路を形成することにより適用しても構わない。例えば、周方向への折り返しを主流路として補助流路を形成する構成や、螺旋流路の折り返し点にバイパス副流路を形成する構成などが考えられる。
【符号の説明】
【００５６】
１  ターゲット支持部
２  ターゲット
３  バッキングチューブ
４  マグネットケース
２０  流入口
２１  排出口
２２ａ〜２２ｉ  軸方向の流路
２３ａ〜２３ｈ、２４ａ〜２４ｉ  周方向の流路
５１  カソード
７０  仕切り
【図１】
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【図２】
2020015961.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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