(57)【要約】【課題】フィルムを真空吸着した際に、吸着ステージの変形を抑制し、その結果、フィルムが反ることを抑制したフィルム加工装置を提供する。【解決手段】フィルム加工装置は、天板１１および天板１１と離間して対向する底板１２を有し、天板１１にフィルム１００を真空吸着する吸着ステージ１０を備え、天板１１を厚さ方向に貫通する吸引孔１５を有し、吸着ステージ１０は、天板１１の吸着面１１ａと反対側の面における、吸引孔１５と重ならない領域に補強部材１４を有する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
天板および前記天板と離間して対向する底板を有し、前記天板にフィルムを真空吸着する吸着ステージを備え、
前記天板を厚さ方向に貫通する吸引孔を有し、
前記吸着ステージは、前記天板の吸着面と反対側の面における、前記吸引孔と重ならない領域に補強部材を有するフィルム加工装置。
【請求項２】
前記補強部材は、前記底板と離間している請求項１に記載のフィルム加工装置。
【請求項３】
前記補強部材は、前記底板と連結している請求項１に記載のフィルム加工装置。
【請求項４】
前記吸着ステージの吸着面と対向して配置され、前記フィルムの表面にレーザー光を照射し、前記フィルムの表面を加工するレーザー照射手段を備える請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルム加工装置。
【請求項５】
前記フィルムは長尺であり、前記フィルムを長手方向に搬送する搬送手段を備え、
前記搬送手段は、ロール・ツー・ロール（ｒｏｌｌ−ｔｏ−ｒｏｌｌ）方式である請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルム加工装置。
【請求項６】
フィルムデバイスに用いられるフィルム用である請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルム加工装置。
【請求項７】
モノシリック構造のフィルムデバイスに用いられるフィルム用である請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルム加工装置。
【請求項８】
太陽電池に用いられるフィルム用である請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルム加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム加工装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、種々の電子機器において、薄型でかつ可撓性を有する部品が求められている。そのような部品を実現するためには、基材としてフィルムが用いられている。フィルムの表面には、目的とする機能を付与するために、種々の加工が施される。フィルムの表面を加工する場合には、例えば、フィルムがステージ（加工台）上に固定される。フィルムをステージ上に固定する方法としては、例えば、真空吸着が挙げられる（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平５−８４６８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ステージ上に大面積のフィルムを配置し、フィルムを真空吸着してステージ上に吸着（固定）すると、ステージ内部の隙間が減圧される。そのため、ステージは大気圧による大きな荷重を受ける。すると、その荷重に耐えられずに、ステージの吸着面（ステージにおけるフィルムを吸着する面）が変形し、それに伴って、ステージ上に吸着したフィルムが反ってしまい、フィルムが平坦でなくなるという課題があった。
【０００５】
ステージ上に吸着したフィルムが平坦でなくなると、フィルムの表面に対して、所定の加工や、均一な加工を施すことができなかった。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、フィルムを真空吸着した際に、吸着ステージの変形を抑制し、その結果、フィルムが反ることを抑制したフィルム加工装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、以下の態様を有する。
［１］天板および前記天板と離間して対向する底板を有し、前記天板にフィルムを真空吸着する吸着ステージを備え、前記天板を厚さ方向に貫通する吸引孔を有し、前記吸着ステージは、前記天板の吸着面と反対側の面における、前記吸引孔と重ならない領域に補強部材を有するフィルム加工装置。
［２］前記補強部材は、前記底板と離間している［１］に記載のフィルム加工装置。
［３］前記補強部材は、前記底板と連結している［１］に記載のフィルム加工装置。
［４］前記吸着ステージの吸着面と対向して配置され、前記フィルムの表面にレーザー光を照射し、前記フィルムの表面を加工するレーザー照射手段を備える［１］〜［３］のいずれかに記載のフィルム加工装置。
［５］前記フィルムは長尺であり、前記フィルムを長手方向に搬送する搬送手段を備え、前記搬送手段は、ロール・ツー・ロール（ｒｏｌｌ−ｔｏ−ｒｏｌｌ）方式である［１］〜［４］のいずれかに記載のフィルム加工装置。
［６］フィルムデバイスに用いられるフィルム用である［１］〜［５］のいずれかに記載のフィルム加工装置。
［７］モノシリック構造のフィルムデバイスに用いられるフィルム用である［１］〜［５］のいずれかに記載のフィルム加工装置。
［８］太陽電池に用いられるフィルム用である［１］〜［５］のいずれかに記載のフィルム加工装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、フィルムを真空吸着した際に、吸着ステージの変形を抑制し、その結果、フィルムが反ることを抑制したフィルム加工装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明を適用した一実施形態であるフィルム加工装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】本発明を適用した一実施形態であるフィルム加工装置を構成する吸着ステージを示し、図１におけるＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図３】本発明を適用した一実施形態であるフィルム加工装置を構成する補強部材を示す斜視図である。
【図４】本発明を適用した一実施形態であるフィルム加工装置を構成する吸着ステージを示し、図１におけるＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図５】本発明を適用した一実施形態であるフィルム加工装置を構成する吸着ステージを示し、図１におけるＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図６】本発明を適用した一実施形態であるフィルム加工装置を構成する吸着ステージを示し、図１におけるＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図７】本発明を適用した一実施形態であるフィルム加工装置を構成する吸着ステージを示し、図１におけるＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図８】本発明を適用した一実施形態であるフィルム加工装置を構成する吸着ステージを示す平面図である。
【図９】本発明を適用した一実施形態であるフィルム加工装置を構成する吸着ステージを示し、図８におけるＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明のフィルム加工装置の実施形態について説明する。
なお、本実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００１１】
（１）第１実施形態
［フィルム加工装置］
本実施形態のフィルム加工装置は、天板および天板と離間して対向する底板を有し、天板にフィルムを真空吸着する吸着ステージを備え、吸着ステージの吸着面にフィルムを吸着（固定）する装置である。
以下、図１および図２を参照して、本実施形態のフィルム加工装置を説明する。
【００１２】
図１は、本実施形態のフィルム加工装置の概略構成を示す斜視図である。図２は、図１におけるＡ−Ａ線に沿う断面図である。
本実施形態のフィルム加工装置１は、吸着ステージ１０と、レーザー照射手段２０と、リニアガイド３０と、搬送手段４０とを備える。
【００１３】
吸着ステージ１０は、長尺のフィルム１００の一部、すなわち、吸着ステージ１０の吸着面１０ａ上に配置されたフィルム１００を真空吸着する。
図２に示すように、吸着ステージ１０は、天板１１と、底板１２と、外枠１３と、補強部材１４と、吸引孔１５とを有する。天板１１と底板１２は、外枠１３を介して、所定の間隔で離間して対向して配置されている。
吸着ステージ１０の大きさ、すなわち、吸着ステージ１０の吸着面１０ａの面積は、フィルム１００の幅に応じて適宜調整されるが、例えば、縦４００ｍｍ×横４００ｍｍであることが好ましい。
【００１４】
天板１１は、フィルム１００が吸着される部材である。天板１１の上面（底板１２とは反対側の面、吸着面）１１ａは、吸着ステージ１０の吸着面１０ａをなしている。天板１１は、天板１１を厚さ方向に貫通する吸引孔１５を有する。天板１１と底板１２の間には、柱状の補強部材１４が設けられている。詳細には、補強部材１４は、天板１１と底板１２の間に介在し、天板１１および底板１２と連結している。補強部材１４は、天板１１の吸着面１１ａと反対側の面（裏面）１１ｂにおける、吸引孔１５と重ならない領域に設けられている。
【００１５】
天板１１の厚さは、特に限定されないが、１０ｍｍ以上であることが好ましい。
【００１６】
底板１２の厚さは、特に限定されないが、１０ｍｍ以上であることが好ましい。
【００１７】
補強部材１４は、円柱状であってもよく、三角柱状や四角柱状の角柱状であってもよい。
【００１８】
天板１１の裏面１１ｂにおいて、補強部材１４を設ける間隔は、特に限定されないが、２００ｍｍ以下であることが好ましく、１５０ｍｍ以下であることがより好ましい。
例えば、フィルム１００が反っていない基材（吸着ステージ１０の吸着面１０ａに置いたときにフラットになるような基材）である場合、補強部材１４を設ける間隔は２００ｍｍ以下であることが好ましい。この場合、内空間１７を、真空ポンプ等で真空引きする際の圧力を７０ｋＰａ以下とする。また、フィルム１００が反っている基材（吸着ステージ１０の吸着面１０ａに置いたときにフラットにならず、端が浮き上がるような基材）である場合、補強部材１４を設ける間隔は１５０ｍｍ以下であることが好ましい。この場合、内空間１７を、真空ポンプ等で真空引きする際の圧力を５０ｋＰａ以下とする。
【００１９】
吸引孔１５の幅（天板１１の厚さ方向と垂直な方向の幅、吸引孔１５を吸着ステージ１０の吸着面１０ａ側から平面視した形状が円形の場合には直径）は、特に限定されないが、例えば、０．２ｍｍ〜２ｍｍであることが好ましい。吸引孔１５は、天板１１と底板１２の間の内空間１７を、真空ポンプ等で真空引きすることにより、内空間１７内を負圧にして、吸着ステージ１０の吸着面１０ａにフィルム１００を吸着するためのものである。
また、吸引孔１５の間隔（吸引孔１５における、その長さ方向と平行な中心線間の距離）は、５ｍｍ〜１５０ｍｍであることが好ましい。
【００２０】
レーザー照射手段２０は、吸着ステージ１０の吸着面１０ａと対向して配置され、フィルム１００の表面１００ａにレーザー光を照射し、フィルム１００の表面１００ａを加工する。
図１に示すように、レーザー照射手段２０は、本体部２１と、レーザー照射部２２と、アライメントカメラ２３とを有する。
本体部２１は、レーザー発振器やレーザー光学系を備える。
レーザー照射部２２は、レーザー発振器から発振されたレーザーを走査するガルバノスキャナ、レーザーの光路を曲げるミラー、レーザーを集光して照射するレンズ等を備える。
アライメントカメラ２３は、フィルム１００の表面（加工面）１００ａを撮影し、画像中から特定部位や印を見付けて、位置を検出し、レーザーを照射する位置を決める。
【００２１】
リニアガイド３０は、レーザー照射手段２０を、図１に示すＸ方向またはＹ方向に直線的に移動させて、レーザー照射手段２０を所定の位置に配置する。
リニアガイド３０は、吸着ステージ１０を、その吸着面１０ａ側から跨ぐように配置されている。リニアガイド３０は、門型の形状をなしている。リニアガイド３０は、図１に示すＸ方向に移動可能となっている。これにより、レーザー照射手段２０を、吸着ステージ１０の吸着面１０ａに吸着されたフィルム１００の表面１００ａのＸ方向における所定の位置に配置できる。
【００２２】
レーザー照射手段２０は、門型のリニアガイド３０における吸着ステージ１０の吸着面１０ａを跨ぐ部分の側面３０ａに設けられている。レーザー照射手段２０は、側面３０ａ上において、図１に示すＹ方向に移動可能となっている。これにより、レーザー照射手段２０を、吸着ステージ１０の吸着面１０ａに吸着されたフィルム１００の表面１００ａのＹ方向における所定の位置に配置できる。
【００２３】
搬送手段４０は、フィルム１００を巻き取る巻き取り用のロール４１と、フィルム１００を送り出す送り出し用のロール４２とを有する。すなわち、搬送手段４０は、ロール・ツー・ロール（ｒｏｌｌ−ｔｏ−ｒｏｌｌ）方式により、フィルム１００を長手方向に搬送するフィルム搬送手段である。
【００２４】
フィルム１００は、搬送手段４０によってステップ搬送される。詳細には、フィルム１００は、搬送手段４０によって、１度に、吸着ステージ１０の吸着面１０ａのＸ方向の長さに相当する長さ分だけ搬送される。
【００２５】
本実施形態のフィルム加工装置１は、吸着ステージ１０が、天板１１と底板１２の間に介在し、天板１１および底板１２と連結する補強部材１４を有し、補強部材１４が天板１１の裏面１１ｂにおける、吸引孔１５と重ならない領域に設けられている。そのため、本実施形態のフィルム加工装置１によれば、フィルム１００を吸着ステージ１０の吸着面１０ａに真空吸着した場合、吸着ステージ１０の吸着面１０ａが変形することを抑制できる。その結果、吸着ステージ１０の吸着面１０ａに吸着したフィルム１００が反ることを抑制できる。また、補強部材１４が吸引孔１５と重ならないように設けられているため、真空ポンプによる真空吸着を適正に制御することができる。従って、フィルム１００の表面１００ａに対して、所定の加工や、均一な加工を施すことができる。
【００２６】
なお、本実施形態では、補強部材１４が１本の独立した柱状のものである場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。本発明のフィルム加工装置では、図３に示すように、補強部材１４が複数の六角柱状部材５０から構成されていてもよい。複数の六角柱状部材５０は互いに側面で隙間なく隣接して、補強部材１４の高さ方向の平面視にて、補強部材１４はハニカム構造をなしていてもよい。また、六角柱状部材５０は、高さ方向に貫通する貫通孔５０ａを有する。図３では、貫通孔５０ａの形状が補強部材１４の高さ方向の平面視にて、六角形状である場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。貫通孔５０ａの形状は、前記の平面視にて円形状であってもよく、四角形状であってもよい。また、貫通孔５０ａは、吸引孔１５と連通していることが好ましい。
【００２７】
また、本実施形態では、フィルム加工装置１がレーザー照射部２２を有し、そのレーザー照射部２２によりレーザー加工を施す場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。本発明のフィルム加工装置では、吸着ステージの吸着面に吸着されたフィルムにフォトリソグラフィによる加工を施してもよい。
【００２８】
［フィルムの加工方法］
本実施形態のフィルム加工装置１を用いたフィルムの加工方法を説明する。
搬送手段４０により、フィルム１００を所定の長さ搬送して、吸着ステージ１０の吸着面１０ａ上に、フィルム１００の加工対象領域を配置する。
次いで、図示しない真空ポンプにより、天板１１と底板１２の間の内空間１７を真空引きすることにより、内空間１７内を負圧にして、吸着ステージ１０の吸着面１０ａにフィルム１００を吸着する。
次いで、リニアガイド３０により、吸着ステージ１０の吸着面１０ａに吸着したフィルム１００の所定の位置にレーザー照射手段２０のレーザー照射部２２を配置するとともに、レーザー照射部２２からフィルム１００の表面１００ａにレーザーを照射して、レーザー加工を施す。
加工が終了した後、搬送手段４０により、フィルム１００を所定の長さ搬送して、吸着ステージ１０の吸着面１０ａ上に、未加工のフィルム１００の加工対象領域を配置する。
以上の操作を繰り返すことにより、フィルム１００の表面１００ａにレーザー加工を施す。
【００２９】
なお、本実施形態のフィルムの加工方法では、吸着ステージ１０の吸着面１０ａにフィルム１００を吸着する際の内空間１７内の気圧を検知して、その気圧が設定値（吸着ステージ１０の吸着面１０ａにフィルム１００が十分に吸着している（密着している）ことを示す値）になった場合には、真空ポンプによる真空引きを停止することが好ましい。これにより、内空間１７内の気圧が下がり過ぎて、吸着ステージ１０の吸着面１０ａが変形することを抑制できる。
【００３０】
また、本実施形態のフィルムの加工方法では、吸着ステージ１０の吸着面１０ａにフィルム１００を吸着する際の内空間１７内の気圧を検知して、その気圧が上記の設定値になった場合には、真空ポンプによる真空引きの強さを緩めて、内空間１７内の気圧を上げることが好ましい。これにより、内空間１７内の気圧が下がり過ぎて、吸着ステージ１０の吸着面１０ａが変形することを抑制できる。
【００３１】
さらに、本実施形態のフィルムの加工方法では、吸着ステージ１０の吸着面１０ａにフィルム１００を吸着する際の内空間１７内の気圧を検知して、その気圧が上記の設定値よりも下がった場合には、油圧シリンダー等により、天板１１をその裏面１１ｂ側から押し上げて、天板１１と底板１２の間隔を一定に保つことが好ましい。天板１１を押し上げる量（距離）は、天板１１と底板１２の間に設けた変位センサーによって検知する。
【００３２】
このようにして加工されたフィルム１００は、フィルム型のデバイスとして太陽電池、ディスプレイ、センサーなどに用いられる。モノシリック構造の太陽電池の場合、積層フィルムを搬送し、吸着ステージ１０の吸着面１０ａ上でパターニングを行う。積層フィルムとしては、金属箔、樹脂フィルム上に、電極層、半導体層、発電層などの薄膜からなる積層体が挙げられる。
【００３３】
（２）第２実施形態
［フィルム加工装置］
図１、図４および図５を参照して、本実施形態のフィルム加工装置を説明する。
図４は、図１におけるＡ−Ａ線に沿う断面図である。図５は、図１におけるＡ−Ａ線に沿う断面図である。本実施形態において、第１実施形態と同一の構成については同一の符号を付しその説明を省略する。
本実施形態の加工装置は、吸着ステージ２００を構成する補強部材２１０の配置が第１実施形態と異なっている。
【００３４】
吸着ステージ２００は、長尺のフィルム１００の一部、すなわち、吸着ステージ２００の吸着面２００ａ上に配置されたフィルム１００を真空吸着する。
図４および図５に示すように、吸着ステージ２００は、天板１１と、底板１２と、外枠１３と、補強部材２１０と、吸引孔１５とを有する。天板１１と底板１２は、外枠１３を介して、所定の間隔で離間して対向して配置されている。
吸着ステージ２００の大きさ、すなわち、吸着ステージ２００の吸着面２００ａの面積は、フィルム１００の幅に応じて適宜調整されるが、例えば、縦４００ｍｍ×横４００ｍｍであることが好ましい。
【００３５】
天板１１と底板１２の間には、フィルム１００の長さ方向を長手方向とする板状の補強部材２１０が複数設けられている。詳細には、補強部材２１０は、天板１１と底板１２の間に介在し、天板１１のみに連結している。すなわち、補強部材２１０は、天板１１の裏面１１ａに垂下するように設けられている。補強部材２１０は、天板１１の裏面１１ｂにおける、吸引孔１５と重ならない領域に設けられている。
【００３６】
天板１１の裏面１１ａにおいて、補強部材２１０の短手方向における間隔は、特に限定されないが、２００ｍｍ以下であることが好ましく、１５０ｍｍ以下であることがより好ましい。
例えば、フィルム１００が反っていない基材（吸着ステージ１０の吸着面１０ａに置いたときにフラットになるような基材）である場合、補強部材２１０を設ける間隔は２００ｍｍ以下であることが好ましい。この場合、内空間１７を、真空ポンプ等で真空引きする際の圧力を７０ｋＰａ以下とする。また、フィルム１００が反っている基材（吸着ステージ１０の吸着面１０ａに置いたときにフラットにならず、端が浮き上がるような基材）である場合、補強部材２１０を設ける間隔は１５０ｍｍ以下であることが好ましい。この場合、内空間１７を、真空ポンプ等で真空引きする際の圧力を５０ｋＰａ以下とする。
【００３７】
吸引孔１５の間隔（吸引孔１５における、その長さ方向と平行な中心線間の距離）は、５ｍｍ〜１５０ｍｍであることが好ましい。
【００３８】
補強部材２１０における天板１１から底板１２へ向かう長さは、特に限定されないが、例えば、天板１１の厚さの１／２〜２／１であることが好ましい。
【００３９】
本実施形態のフィルム加工装置は、吸着ステージ２００が、天板１１と底板１２の間に介在し、天板１１のみに連結する補強部材２１０を有し、補強部材２１０が天板１１の裏面１１ｂにおける、吸引孔１５と重ならない領域に設けられている。そのため、本実施形態のフィルム加工装置によれば、補強部材２１０によって吸着ステージ２００の天板１１の剛性が向上し、フィルム１００を吸着ステージ２００の吸着面２００ａに真空吸着した場合、吸着ステージ２００の吸着面２００ａが変形することを抑制できる。その結果、吸着ステージ２００の吸着面２００ａに吸着したフィルム１００が反ることを抑制できる。また、補強部材２１０が吸引孔１５と重ならないように設けられているため、真空ポンプによる真空吸着を適正に制御することができる。従って、フィルム１００の表面１００ａに対して、所定の加工や、均一な加工を施すことができる。
【００４０】
（３）第３実施形態
［フィルム加工装置］
図１、図６を参照して、本実施形態のフィルム加工装置を説明する。
図６は、図１におけるＡ−Ａ線に沿う断面図である。本実施形態において、第１実施形態と同一の構成については同一の符号を付しその説明を省略する。
本実施形態の加工装置は、吸着ステージ３００を構成する補強部材３１０の配置が第１実施形態と異なっている。
【００４１】
吸着ステージ３００は、長尺のフィルム１００の一部、すなわち、吸着ステージ３００の吸着面３００ａ上に配置されたフィルム１００を真空吸着する。
図６に示すように、吸着ステージ３００は、天板１１と、底板１２と、外枠１３と、補強部材３１０と、吸引孔１５とを有する。天板１１と底板１２は、補強部材３１０と外枠１３を介して、所定の間隔で離間して対向して配置されている。
吸着ステージ３００の大きさ、すなわち、吸着ステージ３００の吸着面３００ａの面積は、フィルム１００の幅に応じて適宜調整されるが、例えば、縦４００ｍｍ×横４００ｍｍであることが好ましい。
【００４２】
天板１１の裏面１１ｂには、板状の補強部材３１０が設けられている。詳細には、補強部材３１０は、天板１１と外枠１３の間に介在して、天板１１のみに連結している。すなわち、補強部材３１０は、天板１１の裏面１１ａに積層されている。補強部材３１０は、補強部材３１０を厚さ方向に貫通する吸引孔３１１を有する。図６に示すように、吸引孔１５と吸引孔３１１は連通している。
【００４３】
天板１１と底板１２の間には、柱状の補強部材１４が設けられている。詳細には、補強部材１４は、天板１１と底板１２の間に介在し、天板１１および底板１２と連結している。補強部材１４は、天板１１の吸着面１１ａと反対側の面（裏面）１１ｂにおける、吸引孔１５と重ならない領域に設けられている。
【００４４】
吸引孔１５の間隔（吸引孔１５における、その長さ方向と平行な中心線間の距離）は、５ｍｍ〜１５０ｍｍであることが好ましい。
【００４５】
本実施形態のフィルム加工装置は、吸着ステージ３００が、天板１１と外枠１３の間に介在する補強部材３１０を有し、吸引孔１５と補強部材３１０の吸引孔３１１は連通している。そのため、本実施形態のフィルム加工装置によれば、補強部材３１０によって吸着ステージ３００の天板１１の剛性が向上し、フィルム１００を吸着ステージ３００の吸着面３００ａに真空吸着した場合、吸着ステージ３００の吸着面３００ａが変形することを抑制できる。その結果、吸着ステージ３００の吸着面３００ａに吸着したフィルム１００が反ることを抑制できる。また、補強部材３１０の吸引孔３１１および吸引孔１５が補強部材１４と重ならないように設けられているため、真空ポンプによる真空吸着を適正に制御することができる。従って、フィルム１００の表面１００ａに対して、所定の加工や、均一な加工を施すことができる。
【００４６】
（４）第４実施形態
［フィルム加工装置］
図１および図７を参照して、本実施形態のフィルム加工装置を説明する。
図７は、図１におけるＡ−Ａ線に沿う断面図である。本実施形態において、第１実施形態と同一の構成については同一の符号を付しその説明を省略する。
本実施形態の加工装置は、吸着ステージ４００を構成する補強部材４１０の配置が第１実施形態と異なっている。
【００４７】
吸着ステージ４００は、長尺のフィルム１００の一部、すなわち、吸着ステージ４００の吸着面４００ａ上に配置されたフィルム１００を真空吸着する。
図７に示すように、吸着ステージ４００は、天板１１と、底板１２と、外枠１３と、補強部材４１０と、吸引孔１５とを有する。天板１１と底板１２は、外枠１３を介して、所定の間隔で離間して対向して配置されている。
吸着ステージ４００の大きさ、すなわち、吸着ステージ４００の吸着面４００ａの面積は、フィルム１００の幅に応じて適宜調整されるが、例えば、縦４００ｍｍ×横４００ｍｍであることが好ましい。
【００４８】
天板１１と底板１２の間には、柱状の補強部材４１０が設けられている。詳細には、補強部材４１０は、天板１１と底板１２の間に介在し、天板１１および底板１２と連結している。補強部材４１０は、天板１１と底板１２の間で、吸着ステージ４１０の厚さ方向に対して斜め方向（天板１１の幅方向の中心から両端に向かう方向）に設けられている。２つの補強部材４１０が、吸引孔１５を挟んで交差するように設けられている。また、補強部材４１０は、吸着ステージ４００の幅方向（フィルム１００の幅方向）の両端部において、天板１１と外枠１３に渡って斜めに設けられていてもよい。
【００４９】
天板１１の裏面１１ｂにおいて、補強部材４１０を設ける間隔、すなわち、天板１１の裏面１１ｂと補強部材４１０の接点の間隔は、特に限定されないが、２００ｍｍ以下であることが好ましく、１５０ｍｍ以下であることがより好ましい。
例えば、フィルム１００が反っていない基材（吸着ステージ１０の吸着面１０ａに置いたときにフラットになるような基材）である場合、補強部材４１０を設ける間隔は２００ｍｍ以下であることが好ましい。この場合、内空間１７を、真空ポンプ等で真空引きする際の圧力を７０ｋＰａ以下とする。また、フィルム１００が反っている基材（吸着ステージ１０の吸着面１０ａに置いたときにフラットにならず、端が浮き上がるような基材）である場合、補強部材４１０を設ける間隔は１５０ｍｍ以下であることが好ましい。この場合、内空間１７を、真空ポンプ等で真空引きする際の圧力を５０ｋＰａ以下とする。
【００５０】
吸引孔１５の間隔（吸引孔１５における、その長さ方向と平行な中心線間の距離）は、５ｍｍ〜１５０ｍｍであることが好ましい。
【００５１】
本実施形態のフィルム加工装置は、吸着ステージ４００が、天板１１と底板１２の間に介在し、天板１１および底板１２と連結し、天板１１と底板１２の間で、吸着ステージ４１０の厚さ方向に対して斜めに設けられている補強部材４１０を有し、補強部材４１０が天板１１の裏面１１ｂにおける、吸引孔１５と重ならない領域に設けられている。そのため、本実施形態のフィルム加工装置によれば、フィルム１００を吸着ステージ４００の吸着面４００ａに真空吸着した場合、吸着ステージ４００の吸着面４００ａが変形することを抑制できる。その結果、吸着ステージ４００の吸着面４００ａに吸着したフィルム１００が反ることを抑制できる。また、補強部材４１０が吸引孔１５と重ならないように設けられているため、真空ポンプによる真空吸着を適正に制御することができる。従って、フィルム１００の表面１００ａに対して、所定の加工や、均一な加工を施すことができる。
【００５２】
（５）第５実施形態
［フィルム加工装置］
図１、図８および図９を参照して、本実施形態のフィルム加工装置を説明する。
図８は、本実施形態のフィルム加工装置を構成する吸着ステージを示す平面図である。図９は、図８におけるＢ−Ｂ線に沿う断面図である。本実施形態において、第１実施形態と同一の構成については同一の符号を付しその説明を省略する。
本実施形態の加工装置は、吸着ステージ５００を構成する補強部材５１０の配置が第１実施形態と異なっている。
【００５３】
吸着ステージ５００は、長尺のフィルム１００の一部、すなわち、吸着ステージ５００の吸着面５００ａ上に配置されたフィルム１００を真空吸着する。
図９に示すように、吸着ステージ５００は、天板１１と、底板１２と、外枠１３と、補強部材５１０と、吸引孔１５とを有する。天板１１と底板１２は、外枠１３を介して、所定の間隔で離間して対向して配置されている。
吸着ステージ５００の大きさ、すなわち、吸着ステージ５００の吸着面５００ａの面積は、フィルム１００の幅に応じて適宜調整されるが、例えば、縦４００ｍｍ×横４００ｍｍであることが好ましい。
【００５４】
天板１１と底板１２の間には、板状の補強部材５１０が設けられている。補強部材５１０は、フィルム１００の幅方向と平行方向に延在する第１板状部位５１０Ａと、第１板状部位５１０Ａと直交し、かつフィルム１００の幅方向と垂直方向に延在する第２板状部位５１０Ｂとからなる。すなわち、補強部材５１０は、補強部材１４の高さ方向の平面視にて、第１板状部位５１０Ａと第２板状部位５１０Ｂによって形成される格子状の構造をなしている。補強部材５１０は、天板１１と底板１２の間に介在し、天板１１および底板１２と連結している。補強部材５１０は、天板１１の吸着面１１ａと反対側の面（裏面）１１ｂにおける、吸引孔１５と重ならない領域に設けられている。
【００５５】
また、補強部材５１０によって仕切られる内空間１７同士を連通するために、補強部材５１０には、例えば、その高さ方向と垂直方向に貫通する孔が設けられている。
【００５６】
天板１１の裏面１１ｂにおいて、第１板状部位５１０Ａを設ける間隔は、特に限定されないが、２００ｍｍ以下であることが好ましく、１５０ｍｍ以下であることがより好ましい。
天板１１の裏面１１ｂにおいて、第２板状部位５１０Ｂを設ける間隔は、特に限定されないが、２００ｍｍ以下であることが好ましく、１５０ｍｍ以下であることがより好ましい。
例えば、フィルム１００が反っていない基材（吸着ステージ１０の吸着面１０ａに置いたときにフラットになるような基材）である場合、第１板状部位５１０Ａと第２板状部位５１０Ｂを設ける間隔は２００ｍｍ以下であることが好ましい。この場合、内空間１７を、真空ポンプ等で真空引きする際の圧力を７０ｋＰａ以下とする。また、フィルム１００が反っている基材（吸着ステージ１０の吸着面１０ａに置いたときにフラットにならず、端が浮き上がるような基材）である場合、第１板状部位５１０Ａと第２板状部位５１０Ｂを設ける間隔は１５０ｍｍ以下であることが好ましい。この場合、内空間１７を、真空ポンプ等で真空引きする際の圧力を５０ｋＰａ以下とする。
【００５７】
吸引孔１５の間隔（吸引孔１５における、その長さ方向と平行な中心線間の距離）は、５ｍｍ〜１５０ｍｍであることが好ましい。
【００５８】
本実施形態のフィルム加工装置は、吸着ステージ５００が、天板１１と底板１２の間に介在し、天板１１および底板１２と連結し、天板１１と底板１２の間で、補強部材１４の高さ方向の平面視にて、第１板状部位５１０Ａと第２板状部位５１０Ｂによって形成される格子状の構造をなしている。そのため、本実施形態のフィルム加工装置によれば、フィルム１００を吸着ステージ５００の吸着面５００ａに真空吸着した場合、吸着ステージ５００の吸着面５００ａが変形することを抑制できる。その結果、吸着ステージ５００の吸着面５００ａに吸着したフィルム１００が反ることを抑制できる。また、補強部材５００が吸引孔１５と重ならないように設けられているため、真空ポンプによる真空吸着を適正に制御することができる。従って、フィルム１００の表面１００ａに対して、所定の加工や、均一な加工を施すことができる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明のフィルム加工装置は、フィルムを真空吸着した際に、吸着ステージの変形を抑制し、その結果、フィルムが反ることを抑制することができる。そのため、本発明のフィルム加工装置で加工されたフィルムを電子機器に適用した場合に、設計通りに機能する電子機器が得られる。
【符号の説明】
【００６０】
１  フィルム加工装置
１０，２００，３００，４００，５００  吸着ステージ
１１  天板
１２  底板
１３  外枠
１４，２１０，３１０，４１０，５１０  補強部材
１５  吸引孔
１７  内空間
２０  レーザー照射手段
２１  本体部
２２  レーザー照射部
２３  アライメントカメラ
３０  リニアガイド
４０  搬送手段
４１  巻き取り用のロール
４２  送り出し用のロール
５０  六角柱状部材
１００  フィルム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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