(57)【要約】【課題】発色性および汚れ除去性に優れたインクジェット記録材料を提供する。【解決手段】支持体上に無機微粒子を主体として含有するインク受容層と、該インク受容層より支持体から遠い側に、トリメチルシリル基を有する疎水性シリカと、ジメチルシリル基を有する疎水性シリカを、２５：７５〜７５：２５の質量比で含有する表面層を有するインクジェット記録材料。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に無機微粒子を主体として含有するインク受容層と、該インク受容層より支持体から遠い側に、トリメチルシリル基を有する疎水性シリカと、ジメチルシリル基を有する疎水性シリカを、２５：７５〜７５：２５の質量比で含有する表面層を有するインクジェット記録材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は発色性および汚れ除去性に優れたインクジェット記録材料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録方式に使用される記録材料として、支持体上に非晶質シリカ等の顔料とポリビニルアルコール等の水溶性バインダーからなる多孔質のインク受容層を有するインクジェット記録材料が知られている。近年では、顔料として気相法シリカのような超微粒子、あるいは数百ｎｍ程度まで粉砕した湿式法シリカを使用した、フォトライクな光沢を有する記録材料も知られるようになった。
【０００３】
しかしながら、これらの多孔質インク受容層は素早く水性インクを吸収することができる一方で、意図しない着色液体が付着した場合においてもその浸み込みの速さが故に、該液体を拭き取っても着色痕が残ってしまう問題があった。このため、水性インクで印字した際の高い発色性、画像鮮鋭性を有しながら着色痕を容易に拭き取ることが可能な、汚れ除去性に優れた疎水性表面を有するインクジェット記録材料が求められていた。
【０００４】
インクジェット記録材料の表面を疎水化する検討としては、例えば特許文献１には、水性カチオン樹脂と疎水性シリカを含有するインクジェット記録用受理組成物が開示され、特許文献２には、顔料とバインダーとを含有するインク受容層上に疎水性シリカ微粒子を含有する撥水層を設ける方法が開示されている。しかし、これら従来技術では、表面の疎水性に起因してインク着弾径が小さくなり、発色性が低下するという問題があった。特に、高速印刷が必要とされる業務用プリンターの場合には、ヘッド内へのインク充填を素早く行うためにインクの表面張力が高く設定されていることから上記課題はより顕著であり、改善が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−１９１６０２号公報
【特許文献２】特開２０１２−１９６９２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、発色性および汚れ除去性に優れたインクジェット記録材料を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記課題は、以下の発明によって基本的に達成される。
支持体上に無機微粒子を主体として含有するインク受容層と、該インク受容層より支持体から遠い側に、トリメチルシリル基を有する疎水性シリカと、ジメチルシリル基を有する疎水性シリカを、２５：７５〜７５：２５の質量比で含有する表面層を有するインクジェット記録材料。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、発色性および汚れ除去性に優れたインクジェット記録材料を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明のインクジェット記録材料は、支持体上に無機微粒子を主体として含有するインク受容層と、該インク受容層より支持体から遠い側に、トリメチルシリル基を有する疎水性シリカと、ジメチルシリル基を有する疎水性シリカを含む表面層を有し、該表面層におけるトリメチルシリル基を有する疎水性シリカと、ジメチルシリル基を有する疎水性シリカの質量比を２５：７５〜７５：２５とする。疎水性シリカを用いたインクジェット記録材料は、表面の疎水性により着色痕の除去性（汚れ除去性）に優れる一方で、インク着弾径が小さく発色性に劣る問題があった。特に、ラベル出力等の高速印刷を主目的とした業務用プリンターは高い吐出頻度を実現するため表面張力の高いインクを使用することから、発色性低下の問題はより顕著であった。本発明では鋭意検討を行った結果、表面張力の高いインクを使用する業務用プリンターを用いた場合であっても、表面層に表面処理の異なる疎水性シリカを併用することにより、汚れ除去性と発色性の両方を満足できるインクジェット記録材料が得られることを見出した。以下、本発明のインクジェット記録材料について詳細に説明する。
【００１０】
本発明において、インク受容層は無機微粒子を主体として含有する。ここで主体として含有するとは、インク受容層の全固形分に対して無機微粒子を５０質量％以上含有することを意味し、好ましくは６０〜９６質量％である。インク受容層が含有する無機微粒子としては、親水性の無機微粒子が好ましく、例えば、非晶質合成シリカ、アルミナ、アルミナ水和物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、二酸化チタン等公知の各種微粒子が挙げられるが、高い印字濃度、および優れた画像鮮鋭性が得られる点で非晶質合成シリカ、アルミナまたはアルミナ水和物が好ましい。
【００１１】
非晶質合成シリカは、製造法によって湿式法シリカ、気相法シリカ、及びその他に大別することができる。湿式法シリカは、更に製造方法によって沈降法シリカ、ゲル法シリカ、ゾル法シリカに分類される。沈降法シリカはケイ酸ソーダと硫酸をアルカリ条件で反応させて製造され、粒子成長したシリカ粒子が凝集・沈降し、その後濾過、水洗、乾燥、粉砕・分級の工程を経て製品化される。沈降法シリカとしては、例えば東ソー・シリカ（株）からニップシール（登録商標）として市販されている。ゲル法シリカはケイ酸ソーダと硫酸を酸性条件下で反応させて製造する。熟成中に微小粒子は溶解し、他の一次粒子同士を結合するように再析出するため、明確な一次粒子は消失し、内部空隙構造を有する比較的硬い凝集粒子を形成する。例えば、東ソー・シリカ（株）からニップゲル（登録商標）として市販されている。ゾル法シリカは、コロイダルシリカとも呼ばれ、ケイ酸ソーダの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通して得られるシリカゾルを加熱熟成して得られ、例えば日産化学（株）からスノーテックス（登録商標）として市販されている。
【００１２】
気相法シリカは、湿式法に対して乾式法とも呼ばれ、一般的には火炎加水分解法によって作られる。具体的には四塩化ケイ素を水素及び酸素と共に燃焼して作る方法が一般的に知られているが、四塩化ケイ素の代わりにメチルトリクロロシランやトリクロロシラン等のシラン類も、単独または四塩化ケイ素と混合した状態で使用することができる。気相法シリカは日本アエロジル（株）からＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）、（株）トクヤマからレオロシール（登録商標）として市販されている。
【００１３】
本発明のインクジェット記録材料が有するインク受容層には、気相法シリカが好ましく使用できる。インク受容層が含有する気相法シリカの平均一次粒子径は３０ｎｍ以下が好ましく、平均一次粒子径が３〜１５ｎｍでかつＢＥＴ法による比表面積が２００ｍ２／ｇ以上のものがより好ましく、平均一次粒子径が３〜１０ｎｍでかつＢＥＴ法による比表面積が２５０〜５００ｍ２／ｇのものが特に好ましい。なお、本発明でいう平均一次粒子径とは、微粒子の電子顕微鏡観察により一定面積内に存在する１００個の一次粒子各々の投影面積に等しい円の直径を粒子径としてその平均値を求めたものである。また本発明でいうＢＥＴ法とは、気相吸着法による粉体の表面積測定法の一つであり、吸着等温線から１ｇの試料の持つ総表面積、すなわち比表面積を求める方法である。通常吸着気体としては、窒素ガスが多く用いられ吸着量を被吸着気体の圧、または容積の変化から測定する方法が最も多く用いられている。多分子吸着の等温線を表すのに最も著名なものは、Ｂｒｕｎａｕｅｒ、Ｅｍｍｅｔｔ、Ｔｅｌｌｅｒの式であってＢＥＴ式と呼ばれ表面積決定に広く用いられている。ＢＥＴ式に基づいて吸着量を求め、吸着分子１個が表面で占める面積を掛けて表面積が得られる。
【００１４】
気相法シリカは、カチオン性化合物の存在下で分散したものが好ましく使用できる。気相法シリカの平均二次粒子径は好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは１０〜３００ｎｍである。分散方法としては、通常のプロペラ撹拌、タービン型撹拌、ホモミキサー型撹拌等で気相法シリカと分散媒を予備混合し、次にボールミル、ビーズミル、サンドグラインダー等のメディアミル、高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー等の圧力式分散機、超音波分散機、及び薄膜旋回型分散機等を使用して分散を行うことが好ましい。なお、本発明でいう平均二次粒子径とは、レーザー散乱式の粒度分布計（例えば（株）堀場製作所製ＬＡ９２０）を用いて、個数メジアン径として測定したものを指す。
【００１５】
本発明では、湿式法シリカも好ましく使用できる。インク受容層が含有する湿式法シリカとしては沈降法シリカあるいはゲル法シリカが好ましく、特に沈降法シリカが好ましい。本発明に用いられる湿式法シリカとしては、平均一次粒子径が５０ｎｍ以下、好ましくは３〜４０ｎｍであり、かつ平均二次粒子径が５００ｎｍ以下である湿式法シリカが好ましく、平均二次粒子径が２０〜３００ｎｍである湿式法シリカがより好ましい。
【００１６】
湿式法シリカは、カチオン性化合物の存在下で分散・粉砕したものが好ましく使用できる。粉砕方法としては、水性媒体中に分散したシリカを機械的に粉砕する湿式分散法が好ましく使用できる。本発明に用いられる湿式法シリカを粉砕する好ましい方法について説明する。まず、水を主体とする分散媒中にシリカ粒子とカチオン性化合物を混合し、のこぎり歯状ブレード型分散機、プロペラ羽根型分散機、またはローターステーター型分散機等の分散装置の少なくとも一つを用いてシリカ予備分散液を得る。必要であれば水分散媒中に適度の低沸点溶剤等を添加してもよい。シリカ予備分散液の固形分濃度は高い方が好ましいが、あまり高濃度になると分散不可能となるため、好ましい範囲としては１５〜４０質量％、より好ましくは２０〜３５質量％である。次に、シリカ予備分散液をより強い剪断力を持つ機械的手段にかけてシリカ粒子を粉砕することが好ましい。機械的手段としては公知の方法が採用でき、例えば、ボールミル、ビーズミル、サンドグラインダー等のメディアミル、高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー等の圧力式分散機、超音波分散機及び薄膜旋回型分散機等を使用することができる。
【００１７】
上記気相法シリカ及び湿式法シリカの分散あるいは粉砕に使用するカチオン性化合物としては、カチオン性ポリマーを好ましく使用できる。カチオン性ポリマーとしては、ポリエチレンイミン、ポリジアリルアミン、ポリアリルアミン、アルキルアミン重合物、特開昭５９−２０６９６号公報、特開昭５９−３３１７６号公報、特開昭５９−３３１７７号公報、特開昭５９−１５５０８８号公報、特開昭６０−１１３８９号公報、特開昭６０−４９９９０号公報、特開昭６０−８３８８２号公報、特開昭６０−１０９８９４号公報、特開昭６２−１９８４９３号公報、特開昭６３−４９４７８号公報、特開昭６３−１１５７８０号公報、特開昭６３−２８０６８１号公報、特開平１−４０３７１号公報、特開平６−２３４２６８号公報、特開平７−１２５４１１号公報、特開平１０−１９３７７６号公報等に記載された１〜３級アミノ基、４級アンモニウム塩基を有するポリマーが好ましく用いられる。特に、カチオン性ポリマーとしてジアリルアミン誘導体が好ましく用いられる。分散性及び分散液粘度の面で、これらのカチオン性ポリマーの質量平均分子量は２０００〜１０万程度が好ましく、特に２０００〜３万程度が好ましい。
【００１８】
インク受容層が含有するアルミナとしては、酸化アルミニウムのγ型結晶であるγ−アルミナが好ましく、中でもδグループ結晶が好ましい。γ−アルミナは一次粒子を１０ｎｍ程度まで小さくすることが可能であるが、通常は数千から数万ｎｍの二次粒子結晶を超音波や高圧ホモジナイザー、対向衝突型ジェット粉砕機等で粉砕したものが使用できる。アルミナの平均二次粒子径は５００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２０〜３００ｎｍである。
【００１９】
インク受容層が含有するアルミナ水和物はＡｌ２Ｏ３・ｎＨ２Ｏ（ｎ＝１〜３）の構成式で表される。本発明に使用されるアルミナ水和物はアルミニウムイソプロポキシド等のアルミニウムアルコキシドの加水分解、アルミニウム塩のアルカリによる中和、アルミン酸塩の加水分解等の公知の製造方法により得られる。本発明に使用されるアルミナ水和物の平均二次粒子径は好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは２０〜３００ｎｍである。
【００２０】
本発明に用いられる上記のアルミナ、及びアルミナ水和物は、酢酸、乳酸、ぎ酸、硝酸等の公知の分散剤によって分散されたものが好ましく用いられる。
【００２１】
上記した無機微粒子の中から２種以上の無機微粒子を併用することもできる。例えば、微粉砕した湿式法シリカと気相法シリカとの併用、微粉砕した湿式法シリカとアルミナあるいはアルミナ水和物との併用、気相法シリカとアルミナあるいはアルミナ水和物との併用が挙げられる。
【００２２】
本発明のインク受容層は水溶性バインダーを含有することが好ましい。水溶性バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、澱粉、デキストリン、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸エステル系やそれらの誘導体が使用されるが、中でも完全ケン化または部分ケン化のポリビニルアルコールが好ましく、特にケン化度が８０％以上のものが特に好ましい。また、ポリビニルアルコールの平均重合度は５００〜６０００が好ましく、１０００〜５０００がより好ましい。
【００２３】
前記ポリビニルアルコールとしては、一般的なポリビニルアルコールに加え、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル変性ポリビニルアルコール及びその他ポリビニルアルコールの誘導体も含まれる。ポリビニルアルコールは１種単独でもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２４】
インク受容層中における水溶性バインダーの含有量は、無機微粒子の総量に対して３〜４０質量％が好ましく、５〜３０質量％がより好ましい。
【００２５】
インク受容層は、上記した水溶性バインダーに加えて架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤としては、水溶性バインダーの架橋剤として公知のものが使用できるが、水溶性バインダーとしてポリビニルアルコールを使用する場合には、ほう酸またはほう酸塩が特に好ましい。また、ポリビニルアルコールが活性の高い変性基を含有する場合には、変性基に応じて公知の架橋剤を使用してもよい。架橋剤の添加量は水溶性バインダーに対して０．１〜４０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜３０質量％である。
【００２６】
本発明においてインク受容層は、前述の非晶質合成シリカのカチオン化に使用されるものと同様のカチオン性ポリマーを、更に添加剤として含有してもよい。また、インク受容層は、耐水性向上等のため水溶性多価金属化合物を含有してもよい。水溶性多価金属化合物としては水溶性アルミニウム化合物が好ましく利用できる。
【００２７】
水溶性アルミニウム化合物としては例えば、無機塩としては塩化アルミニウムまたはその水和物、硫酸アルミニウムまたはその水和物、アンモニウムミョウバン等が知られている。更に、無機系の含アルミニウムカチオンポリマーである塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物が知られている。
【００２８】
これらの水溶性アルミニウム化合物の中でも、インク受容層を形成する塗布液に安定に添加できるものが好ましく、塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物が好ましく用いられる。この化合物は、主成分が下記の式１、２または３で示され、例えば［Ａｌ６（ＯＨ）１５］３＋、［Ａｌ８（ＯＨ）２０］４＋、［Ａｌ１３（ＯＨ）３４］５＋、［Ａｌ２１（ＯＨ）６０］３＋等のような塩基性で高分子の多核縮合イオンを安定に含んでいる水溶性のポリ水酸化アルミニウムである。
【００２９】
［Ａｌ２（ＯＨ）ｎＣｌ６−ｎ］ｍ                        ・・式１
［Ａｌ（ＯＨ）３］ｎＡｌＣｌ３                          ・・式２
Ａｌｎ（ＯＨ）ｍＣｌ（３ｎ−ｍ）    ０＜ｍ＜３ｎ        ・・式３
【００３０】
これらのものは、多木化学（株）よりポリ塩化アルミニウム（ＰＡＣ）の名で水処理剤として、浅田化学工業（株）よりポリ水酸化アルミニウム（Ｐａｈｏ）の名で、また、（株）理研グリーンよりピュラケムＷＴの名で、また他のメーカーからも同様の目的を持って市販されており、各種グレードのものが容易に入手できる。
【００３１】
上記した水溶性多価金属化合物の含有量は、インク受容層が含有する無機微粒子に対して０．１〜１０質量％の範囲が好ましい。
【００３２】
インク受容層は、更に着色染料、着色顔料、紫外線吸収剤、酸化防止剤、顔料の分散剤、消泡剤、レベリング剤、防腐剤、蛍光増白剤、粘度安定剤、ｐＨ調節剤などの公知の各種添加剤を添加することもできる。
【００３３】
また、インク受容層には、チオエーテル化合物、カルボヒドラジド及びその誘導体を含有させることによって印字後の保存性を改良することができる。
【００３４】
本発明で用いられるカルボヒドラジド誘導体は、同一分子中にカルボヒドラジド構造を一つまたは二つ以上有する化合物であっても、あるいはカルボヒドラジド構造を分子主鎖または側鎖に有するポリマーであってもよい。
【００３５】
本発明に用いられるチオエーテル化合物には、硫黄原子の両側に芳香族基が結合した芳香族チオエーテル化合物、硫黄原子を挟んだ両端にアルキル基を有する脂肪族チオエーテル化合物等がある。これらの中でも特に親水性基を有する脂肪族チオエーテル化合物が好ましい。
【００３６】
本発明において、インク受容層の乾燥塗布量は１０〜６０ｇ／ｍ２であることが好ましく、支持体が樹脂被覆紙のような非吸収性支持体である場合には、乾燥塗布量は２０〜６０ｇ／ｍ２であることが好ましい。
【００３７】
本発明において、インク受容層の塗布方法は、特に限定されず、公知の塗布方法を用いることができる。例えば、スライドビード方式、カーテン方式、エクストルージョン方式、エアナイフ方式、ロールコーティング方式、ロッドバーコーティング方式等がある。
【００３８】
次に、表面層について説明する。本発明において表面層はトリメチルシリル基を有する疎水性シリカとジメチルシリル基を有する疎水性シリカの両方を含有する。これらの疎水性シリカは、非晶質シリカ表面の−ＯＨ基の水素原子をそれぞれトリメチルシリル基、ジメチルシリル基で置換したものであり、高い疎水性を示す。本発明ではトリメチルシリル基を有する疎水性シリカと、ジメチルシリル基を有する疎水性シリカを質量比で２５：７５〜７５：２５の範囲で併用する。一般にトリメチルシリル基を有する疎水性シリカの疎水性はジメチルシリル基を有する疎水性シリカの疎水性より高く、トリメチルシリル基を有する疎水性シリカの含有比率が上記範囲より高いと得られるインクジェット記録材料の疎水性が高すぎるため、表面張力の高いインクで出力した際に着弾径が小さくなり発色性が低下する。また、トリメチルシリル基を有する疎水性シリカの含有比率が上記範囲より低いと十分な疎水性が得られず、汚れ除去性が劣る。前記したトリメチルシリル基を有する疎水性シリカとジメチルシリル基を有する疎水性シリカの好ましい質量比は２５：７５〜６０：４０の範囲である。これにより発色性にとりわけ優れたインクジェット記録材料を得ることができる。
【００３９】
上記のトリメチルシリル基を有する疎水性シリカとしては、例えば、日本アエロジル（株）よりＡＥＲＯＳＩＬ  ＲＸ２００、同ＲＸ３００などが、また、ジメチルシリル基を有するものとしては日本アエロジル（株）より同Ｒ９７２、同Ｒ９７４、同Ｒ９７６などが、また、旭化成ワッカーシリコーン（株）よりＨＤＫ（登録商標）Ｈ１５、同Ｈ１８、同Ｈ２０、同Ｈ３０などが市販されており、これらを入手し使用することができる。
【００４０】
疎水性シリカは分散処理を施してもよい。分散処理のための機械的手段としては公知の方法が利用可能であるが、上記インク受容層中の気相法シリカ、湿式法シリカの分散に用いた方法、例えばプロペラ撹拌により予備分散した後に圧力式分散機や超音波分散機で分散する方法が好ましく使用できる。表面層における疎水性シリカの含有量は０．０１〜２ｇ／ｍ２の範囲が好ましく、０．１〜１ｇ／ｍ２の範囲がより好ましい。
【００４１】
本発明において表面層は、疎水性シリカのバインダー樹脂としてポリビニルアセタール樹脂を含有することが好ましい。ポリビニルアセタール樹脂は、非水溶性樹脂の中では無機顔料のバインダー能力が高く、得られる表面層は優れた塗層強度と適度な柔軟性を有する。また、乾燥後の皮膜は透明で耐水性に優れ、水性インクによって印字した際、画像鮮鋭性に優れた画像が得られる。ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールにアルデヒドを反応させてアセタール化することにより得ることができる。このアセタール化は、沈殿法、溶解法、均一法、不均一法等、公知の方法を用いることができる。また、原材料としてポリ酢酸ビニルを用い、ケン化とアセタール化とを並行に行ってポリビニルアセタール樹脂を得ることもできる。
【００４２】
上記アセタール化に用いるポリビニルアルコールとしては、ケン化度が７５〜９９％、平均重合度が５００〜３５００のものが好適であるが、この範囲に限られるものではない。また、ケン化度あるいは平均重合度が異なるものを混合して用いてもよい。更には、それらに各種官能基を好適に導入して得られた誘導体を用いることもできる。
【００４３】
上記アセタール化に用いるアルデヒドとしては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソプロピルアルデヒド、イソブチルアルデヒド等の脂肪族飽和アルデヒド：ベンズアルデヒド、ベンジルアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド：フルフラール等の複素環アルデヒド：アクロレイン、クロトンアルデヒド、プロピオールアルデヒド、ヘキセナール、ヘプテナール等の脂肪族不飽和アルデヒド：グリオキザール、スクシンジアルデヒド、グルタルアルデヒド、アジポジアルデヒド、ピペリンジアルデヒド、スベリンジアルデヒド、セバシンジアルデヒド等の脂肪族ジアルデヒドが挙げられる。これらアルデヒドとして、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、イソプロピルアルデヒドが好ましく、ブチルアルデヒドが特に好ましい。
【００４４】
ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度としては、３０ｍｏｌ％以上が好ましく、５０ｍｏｌ％以上がより好ましい。アセタール化度を３０ｍｏｌ％以上とすることにより、疎水性が向上し汚れ除去性が高まる。また、平均分子量としては３万以上が好ましく、６万以上がより好ましい。上記したポリビニルアセタール樹脂は、例えば、積水化学工業（株）からエスレック（登録商標）、（株）クラレからモビタール（登録商標）などが市販されており、容易に入手可能である。
【００４５】
表面層におけるポリビニルアセタール樹脂の含有量は疎水性シリカの含有量に対して１５〜５００質量％が好ましく、５０〜３００質量％が更に好ましい。上記範囲よりも少ない場合には疎水性シリカ粒子の結着性能が十分に得られず脱落が生じやすく、多い場合には疎水性シリカの寄与が小さくなり、飲料等の着色液体の付着に伴う着色汚れの除去性能が低減する場合がある。
【００４６】
表面層は、疎水性シリカ及びポリビニルアセタール樹脂に加え、更にインク受容層の項で述べた公知の各種添加剤を含有することができる。
【００４７】
表面層の塗設に用いる塗布方法としては、スライドビード方式、カーテン方式、エクストルージョン方式、スロットダイ方式、グラビアロール方式、エアナイフ方式、ブレードコーティング方式、ロッドバーコーティング方式等が好適である。
【００４８】
本発明のインクジェット記録材料が含有する支持体としてはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、セロファン、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のフィルム、ポリオレフィン樹脂被覆紙等の非吸収性支持体、上質紙、アート紙、コート紙等の吸収性支持体等が例示される。中でも、非吸収性支持体は高い光沢が得られる点で好ましいが、その反面、インキ中の溶媒成分を吸収しない。このような非吸収性支持体上にはインク吸収性に優れる多孔質なインク受容層が好ましく設けられるが、本発明はこのような構成のインクジェット記録材料に特に有用である。これらの支持体の厚みは、約５０〜３００μｍ程度のものが好ましく使用される。
【００４９】
非吸収性支持体であるフィルムやポリオレフィン樹脂被覆紙を使用する場合に、インク受容層を設ける面上には、コロナ放電処理、火炎処理などの活性化処理を施すことができる。
【００５０】
支持体としてフィルムやポリオレフィン樹脂被覆紙を使用する場合、支持体はインク受容層を設ける面上に天然高分子化合物や合成樹脂を主体とする下引き層を有する支持体であることが好ましく、特にゼラチンを主体とする下引き層を有する支持体が好ましい。
【００５１】
下引き層の塗布量としては特に制限はないが、固形分塗布量で０．００５〜２．０ｇ／ｍ２の範囲が好ましく、０．０１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲がより好ましく、０．０２〜０．５ｇ／ｍ２の範囲が特に好ましい。
【００５２】
本発明における支持体には、インク受容層を設ける面とは反対側の面に、帯電防止、搬送性改善、カール防止などのために各種のバックコート層を塗設することができる。バックコート層には無機及び有機の帯電防止剤、親水性バインダー、ラテックス、硬化剤、顔料、界面活性剤等を適宜組み合わせて含有せしめることができる。
【実施例】
【００５３】
以下、実施例により本発明を詳しく説明するが、本発明の内容は実施例に限られるものではない。なお部及び％は、特記しない場合は質量基準である。
【００５４】
（実施例１）
＜ポリオレフィン樹脂被覆紙の作製＞
広葉樹晒クラフトパルプ（ＬＢＫＰ）と広葉樹晒サルファイトパルプ（ＬＢＳＰ）の１：１混合物をカナディアン  スタンダード  フリーネスで３００ｍｌになるまで叩解し、パルプスラリーを調製した。これにサイズ剤としてアルキルケテンダイマーを対パルプ０．５％、強度剤としてポリアクリルアミドを対パルプ１．０％、カチオン化澱粉を対パルプ２．０％、ポリアミドエピクロロヒドリン樹脂を対パルプ０．５％添加し、水で希釈して０．２％スラリーとした。このスラリーを長網抄紙機で坪量１７０ｇ／ｍ２になるように抄造し、乾燥調湿してポリオレフィン樹脂被覆紙の基紙とした。抄造した基紙に、密度０．９１８ｇ／ｃｍ３の低密度ポリエチレンの樹脂に対して、１０％のアナターゼ型チタンを均一に分散したポリエチレン樹脂組成物を３２０℃で溶融し、厚さ３５μｍになるように押出被覆し、微粗面加工されたクーリングロールを用いて押出被覆し表面とした。もう一方の面には密度０．９６２ｇ／ｃｍ３の高密度ポリエチレン樹脂７０部と密度０．９１８ｇ／ｃｍ３の低密度ポリエチレン樹脂３０部のブレンド樹脂組成物を同様に３２０℃で溶融し、厚さ３０μｍになるように押出被覆し、粗面加工されたクーリングロールを用いて押出被覆し裏面とした。
【００５５】
上記ポリオレフィン樹脂被覆紙の表面に高周波コロナ放電処理を施した後、下記組成の下引き層をゼラチンが５０ｍｇ／ｍ２となるように塗布乾燥して支持体を作製した。
【００５６】
＜下引き層＞
石灰処理ゼラチン                                                  １００部
スルフォコハク酸２−エチルヘキシルエステル塩                          ２部
クロム明ばん                                                        １０部
【００５７】
上記のようにして作製したポリオレフィン樹脂被覆紙（厚み２３５μｍ）の下引き層を設けた面に、下記組成のインク受容層塗布液１を乾燥塗布量が２５ｇ／ｍ２となるようにスライドビードコーターで塗布した。その後１０℃で２０秒間冷却後、３０〜５５℃の加熱空気を吹き付けて乾燥した。更に下記組成の表面層塗布液１を、斜線グラビアロールを用いた塗布装置にて塗布を行い、４５℃の温風を吹き付けて乾燥し、実施例１のインクジェット記録材料を得た。表面層塗布液の湿潤塗布量は、斜線グラビアロールの回転数を調整し２０ｍｌ／ｍ２（固形分塗布量として０．３ｇ／ｍ２）とした。
【００５８】
＜気相法シリカ分散液の作製＞
水にジメチルジアリルアンモニウムクロライドホモポリマー（分子量９０００）４部と親水性気相法シリカ（平均一次粒径７ｎｍ、ＢＥＴ法による比表面積３００ｍ２／ｇ）１００部を添加し予備分散液を作製した後、高圧ホモジナイザー処理して、固形分濃度２０％の気相法シリカ分散液を作製した。気相法シリカの平均二次粒子径は１３５ｎｍであった。
【００５９】
＜インク受容層塗布液１＞
気相法シリカ分散液                  （気相法シリカの固形分として）１００部
ほう酸                                                                ４部
ポリビニルアルコール（ケン化度８８％、平均重合度３５００）          ２３部
塗布液の固形分濃度が１３％になるように水で調整した。
【００６０】
＜疎水性シリカ分散液１の作製＞
エタノールにトリメチルシリル基を有する疎水性シリカ（ＡＥＲＯＳＩＬ  ＲＸ２００、日本アエロジル（株）製）を固形分濃度１％となるよう添加し予備分散液を作製した後、超音波分散処理して疎水性シリカ分散液１を作製した。
【００６１】
＜疎水性シリカ分散液２の作製＞
エタノールにジメチルシリル基を有する疎水性シリカ（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７４、日本アエロジル（株）製）を固形分濃度１％となるよう添加し予備分散液を作製した後、超音波分散処理して疎水性シリカ分散液２を作製した。
【００６２】
＜表面層塗布液１＞
疎水性シリカ分散液１                （疎水性シリカの固形分として）  ５０部
疎水性シリカ分散液２                （疎水性シリカの固形分として）  ５０部
ポリビニルアセタール樹脂
（エスレック  ＢＨ−３、積水化学工業（株）製）（樹脂固形分として）２００部
塗布液の固形分濃度が２％となるようエタノールを加えた。
【００６３】
（実施例２）
実施例１の表面層塗布液１を下記の表面層塗布液２に変えた以外は実施例１と同様にして実施例２のインクジェット記録材料を得た。
【００６４】
＜表面層塗布液２＞
疎水性シリカ分散液１                （疎水性シリカの固形分として）  ７０部
疎水性シリカ分散液２                （疎水性シリカの固形分として）  ３０部
ポリビニルアセタール樹脂
（エスレック  ＢＨ−３、積水化学工業（株）製）（樹脂固形分として）２００部
塗布液の固形分濃度が２％となるようエタノールを加えた。
【００６５】
（実施例３）
実施例１の表面層塗布液１を下記の表面層塗布液３に変えた以外は実施例１と同様にして実施例３のインクジェット記録材料を得た。
【００６６】
＜表面層塗布液３＞
疎水性シリカ分散液１                （疎水性シリカの固形分として）  ３０部
疎水性シリカ分散液２                （疎水性シリカの固形分として）  ７０部
ポリビニルアセタール樹脂
（エスレック  ＢＨ−３、積水化学工業（株）製）（樹脂固形分として）２００部
塗布液の固形分濃度が２％となるようエタノールを加えた。
【００６７】
（比較例１）
実施例１の表面層塗布液１を下記の表面層塗布液４に変えた以外は実施例１と同様にして比較例１のインクジェット記録材料を得た。
【００６８】
＜表面層塗布液４＞
疎水性シリカ分散液１                （疎水性シリカの固形分として）１００部
ポリビニルアセタール樹脂
（エスレック  ＢＨ−３、積水化学工業（株）製）（樹脂固形分として）２００部
塗布液の固形分濃度が２％となるようエタノールを加えた。
【００６９】
（比較例２）
実施例１の表面層塗布液１を下記の表面層塗布液５に変えた以外は実施例１と同様にして比較例２のインクジェット記録材料を得た。
【００７０】
＜表面層塗布液５＞
疎水性シリカ分散液２                （疎水性シリカの固形分として）１００部
ポリビニルアセタール樹脂
（エスレック  ＢＨ−３、積水化学工業（株）製）（樹脂固形分として）２００部
塗布液の固形分濃度が２％となるようエタノールを加えた。
【００７１】
（比較例３）
実施例１の表面層塗布液１を下記の表面層塗布液６に変えた以外は実施例１と同様にして比較例３のインクジェット記録材料を得た。
【００７２】
＜表面層塗布液６＞
疎水性シリカ分散液１                （疎水性シリカの固形分として）  ８０部
疎水性シリカ分散液２                （疎水性シリカの固形分として）  ２０部
ポリビニルアセタール樹脂
（エスレック  ＢＨ−３、積水化学工業（株）製）（樹脂固形分として）２００部
塗布液の固形分濃度が２％となるようエタノールを加えた。
【００７３】
（比較例４）
実施例１の表面層塗布液１を下記の表面層塗布液７に変えた以外は実施例１と同様にして比較例４のインクジェット記録材料を得た。
【００７４】
＜表面層塗布液７＞
疎水性シリカ分散液１                （疎水性シリカの固形分として）  ２０部
疎水性シリカ分散液２                （疎水性シリカの固形分として）  ８０部
ポリビニルアセタール樹脂
（エスレック  ＢＨ−３、積水化学工業（株）製）（樹脂固形分として）２００部
塗布液の固形分濃度が２％となるようエタノールを加えた。
【００７５】
（比較例５）
実施例１の表面層塗布液１を下記の表面層塗布液８に変えた以外は実施例１と同様にして比較例５のインクジェット記録材料を得た。
【００７６】
＜親水性シリカ分散液１の作製＞
エタノールに親水性シリカ（ＡＥＲＯＳＩＬ  ２００、日本アエロジル（株）製）を固形分濃度１％となるよう添加し予備分散液を作製した後、超音波分散処理して親水性シリカ分散液１を作製した。
【００７７】
＜表面層塗布液８＞
親水性シリカ分散液１                （親水性シリカの固形分として）  ５０部
疎水性シリカ分散液１                （疎水性シリカの固形分として）  ５０部
ポリビニルアセタール樹脂
（エスレック  ＢＨ−３、積水化学工業（株）製）（樹脂固形分として）２００部
塗布液の固形分濃度が２％となるようエタノールを加えた。
【００７８】
上記のようにして作製したインクジェット記録材料について下記の評価を行った。その結果を表１に示す。
【００７９】
＜発色性＞
水性インクジェットラベルプリンター（ＬＸ−Ｐ５５００、キヤノンファインテック（株）製）を用い、ブラック・シアン・マゼンタ・イエローの各色ベタ画像を印刷した。各色の光学濃度をポータブル分光測色計（ＳｐｅｃｔｒｏＥｙｅ、エックスライト（株）製）で測定し、各色の光学濃度合計値により、下記の基準で評価を行った。なお、光学濃度の数値は大きい方が発色性に優れる。本発明において、◎または○の評価であれば発色性が良好であるものとする。
◎：光学濃度の合計値が３．０以上。
○：光学濃度の合計値が２．５以上３．０未満。
△：光学濃度の合計値が２．０以上２．５未満。
×：光学濃度の合計値が２．０未満。
【００８０】
＜汚れ除去性＞
着色汚れのモデル物質として、１％青色１号染料水溶液を記録材料表面に１ｍｌ滴下した後、５秒後に拭き取り、記録材料に残った着色痕の度合いを目視で観察し、下記の基準で評価した。
○：全く着色痕が残らない。
△：僅かに着色痕が残る。
×：明確に着色痕が残る。
【００８１】
【表１】
2020121513.tif 000002
【００８２】
表１の結果から、本発明のインクジェット記録材料は、発色性に優れ、高い汚れ除去性を有していることがわかる。