(57)【要約】      （修正有）【課題】高周波領域においての損失が低減されうる磁性部材に適した粉末の提供。【解決手段】磁性部材用粉末は、多数の粒子２からなる。それぞれの粒子２の材質は、Ｓｉ：２．０質量％以上１２．０質量％以下、Ａｌ：１０．０質量％以下、並びに残部：Ｆｅ及び不可避的不純物、を含む合金である。その円形度が０．８０以上である粒子２の数の、粒子２の総数に対する比率Ｐｃは、５０％以上である。粒子２のＸ線回折分析における、（２２０）面の回折ピークＰαと（４００）面の回折ピークＰβとの比（Ｐα／Ｐβ）が１０回計測されたときの標準偏差σは、３以上２０未満である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の粒子からなる磁性部材用粉末であって、
それぞれの粒子の材質が、
Ｓｉ：２．０質量％以上１２．０質量％以下、
Ａｌ：１０．０質量％以下、並びに
残部：Ｆｅ及び不可避的不純物
を含む合金であり、
その円形度が０．８０以上である粒子の数の、粒子の総数に対する比率が５０％以上である磁性部材用粉末。
【請求項２】
上記粒子のＸ線回折分析における、（２２０）面の回折ピークＰαと（４００）面の回折ピークＰβとの比（Ｐα／Ｐβ）が１０回計測されたときの標準偏差σが、３以上２０未満である請求項１に記載の磁性部材用粉末。
【請求項３】
多数の粒子からなる磁性部材用粉末であって、
それぞれの粒子が、母粒子と、この母粒子を覆う絶縁性被膜とを有しており、
上記母粒子の材質が、
Ｓｉ：２．０質量％以上１２．０質量％以下、
Ａｌ：１０．０質量％以下、並びに
残部：Ｆｅ及び不可避的不純物
を含む合金であり、
その円形度が０．８０以上である母粒子の数の、母粒子の総数に対する比率が５０％以上である磁性部材用粉末。
【請求項４】
上記母粒子のＸ線回折分析における、（２２０）面の回折ピークＰαと（４００）面の回折ピークＰβとの比（Ｐα／Ｐβ）が１０回計測されたときの標準偏差σが、３以上２０未満である請求項３に記載の磁性部材用粉末。
【請求項５】
多数の粒子からなり、それぞれの粒子の材質が、
Ｓｉ：２．０質量％以上１２．０質量％以下、
Ａｌ：１０．０質量％以下、並びに
残部：Ｆｅ及び不可避的不純物
を含む合金であり、その円形度が０．８０以上である粒子の数の、粒子の総数に対する比率が５０％以上である原料粉末に、扁平加工が施されて得られる磁性部材用粉末。
【請求項６】
上記原料粉末の粒子のＸ線回折分析における、（２２０）面の回折ピークＰαと（４００）面の回折ピークＰβとの比（Ｐα／Ｐβ）が１０回計測されたときの標準偏差σが、３以上２０未満である請求項５に記載の磁性部材用粉末。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁性部材用粉末に関する。詳細には、本発明は、磁性シート、磁性リング等の部材中に分散される粉末に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話機、ノート型パーソナルコンピュータ、タブレット型パーソナルコンピュータ等の携帯用電子機器が、近年普及している。最近では、これらの機器の小型化及び高性能化が進んでいる。機器の小型化に伴い、機器内の回路部品にも、小型化及び高性能化の要求が高まっている。小型化及び高性能化された機器では、回路に装着される電子部品の密度が高い。従って、この電子部品から放射される電波ノイズに起因して、電子部品同士間の電波干渉、及び電子回路同士間の電波干渉が生じやすい。電波干渉は、電子機器の誤動作を招来する。
【０００３】
電波干渉の抑制の目的で、電子機器にノイズ抑制シートが挿入されることがある。このノイズ抑制シートは、放出された放射電波（ノイズ）を磁力に変換し、電子回路外への電波放出を防ぐ。ノイズ抑制シートの加工は容易であり、かつこのシートの形状自由度は高い。
【０００４】
典型的な従来のノイズ抑制シートには、フェライトと呼ばれる酸化物が、磁性材料として用いられている。このフェライトでは、高周波域において、透磁率が小さい。具体的には、周波数が１００ｋＨｚから２０ＭＨｚである領域において、透磁率が小さい。従って、この周波数域における電波から磁力への変換効率は、不十分である。
【０００５】
フェライトを含まず、透磁率の高い軟磁性金属粉末を含む磁性シート及び磁性リングが、提案されている。特開２０１７−２０８４１６公報には、ＦｅＭｎ合金粉末が用いられたノイズ抑制シートが開示されている。この粉末では、反磁界係数低減の目的で、粒子が扁平化されている。特開２００１−３３９１９３公報には、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ系の扁平粉末が用いられたノイズ抑制シートが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１７−２０８４１６公報
【特許文献２】特開２００１−３３９１９３公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
近年の電子機器に用いられる磁性部材には、さらなるノイズ抑制の要請がある。本発明の目的は、高周波領域においての損失が低減されうる磁性部材に適した粉末の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る磁性部材用粉末は、多数の粒子からなる。それぞれの粒子の材質は、
Ｓｉ：２．０質量％以上１２．０質量％以下、
Ａｌ：１０．０質量％以下、並びに
残部：Ｆｅ及び不可避的不純物
を含む合金である。その円形度が０．８０以上である粒子の数の、粒子の総数に対する比率は、５０％以上である。
【０００９】
好ましくは、粒子のＸ線回折分析における、（２２０）面の回折ピークＰαと（４００）面の回折ピークＰβとの比（Ｐα／Ｐβ）が１０回計測されたときの標準偏差σは、３以上２０未満である。
【００１０】
他の観点によれば、本発明に係る磁性部材用粉末は、多数の粒子からなる。それぞれの粒子は、母粒子と、この母粒子を覆う絶縁性被膜とを有する。母粒子の材質が、
Ｓｉ：２．０質量％以上１２．０質量％以下、
Ａｌ：１０．０質量％以下、並びに
残部：Ｆｅ及び不可避的不純物
を含む合金である。その円形度が０．８０以上である母粒子の数の、母粒子の総数に対する比率は、５０％以上である。
【００１１】
さらに他の観点によれば、本発明に係る磁性部材用粉末は、原料粉末に扁平加工が施されて得られる。この原料粉末は、多数の粒子からなる。それぞれの粒子の材質は、
Ｓｉ：２．０質量％以上１２．０質量％以下、
Ａｌ：１０．０質量％以下、並びに
残部：Ｆｅ及び不可避的不純物
を含む合金である。その円形度が０．８０以上である粒子の数の、粒子の総数に対する比率は、５０％以上である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に係る粉末が用いられた磁性部材では、周波数が１００ｋＨｚから２０ＭＨｚの領域にて、ノイズが抑制されうる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る磁性部材用粉末の粒子が示された断面図である。
【図２】図２は、図１の粉末が分散した磁性シートの一部が示された断面図である。
【図３】図３は、本発明の他の実施形態に係る磁性部材用粉末の粒子が示された断面図である。
【図４】図４は、本発明のさらに他の実施形態に係る磁性部材用粉末の粒子が示された断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、適宜図面が参照されつつ、好ましい実施形態に基づいて本発明が詳細に説明される。
【００１５】
［第一実施形態］
本発明に係る磁性部材用粉末は、多数の粒子の集合体である。それぞれの粒子は、概ね球形状を有する。図１は、この粒子２の断面図である。図２は、この粉末が用いられた磁性部材（磁性シート４）が示された断面図である。この磁性シート４では、マトリクス６中に粒子２が分散している。マトリクス６の材質は、ポリマー組成物である。
【００１６】
この磁性シート４が得られるには、まず粉末が、樹脂及びゴムのような基材ポリマーに、各種薬品と共に混練されて、ポリマー組成物が得られる。混練には、既知の方法が採用されうる。例えば、密閉式混練機、オープンロール等により、混練がなされうる。薬品として、潤滑材及びバインダーのような加工助剤が例示される。
【００１７】
次に、このポリマー組成物から、磁性シート４が成形される。成形には、既知の方法が採用されうる。圧縮成形法、射出成形法、押出成形法、圧延法等により、成形がなされうる。
【００１８】
磁性部材の形状は、シート状には限られない。リング状、立方体状、直方体状、円筒状等の形状が、採用されうる。さらに複雑な形状を有する磁性部材にも、この粉末は適している。
【００１９】
磁性部材の性能を表す指標として、透磁率μ、実部透磁率μ’及び虚部透磁率μ”がある。実部透磁率μ’は、電磁波遮蔽特性の優劣を表す。虚部透磁率μ”は、電磁波吸収特性の優劣を表す。透磁率μは、下記数式によって算出されうる。この数式において、「ｊ」は虚数単位を表す。換言すれば、「ｊ」の二乗は−１である。
μ＝μ’＋ｊμ”
なお、本願において、透磁率μ、実部透磁率μ’及び虚部透磁率μ”のそれぞれは、真空透磁率との比である比透磁率で表される。高周波での磁気損失ｔａｎδは、この虚部透磁率μ”と実部透磁率μ’との比で表される。換言すれば、磁気損失ｔａｎδは下記数式によって算出される。
ｔａｎδ ＝  μ”  ／  μ’
この数式から明らかな通り、渦電流損失、磁気共鳴等に起因して実部透磁率μ’が低下し虚部透磁率μ”が上昇すると、損失ｔａｎδが上昇する。
【００２０】
金属からなる磁性粉末の飽和磁束密度は、フェライトのそれよりも高い。これは、金属粉末の長所である。一方、従来の金属粉末では、フェライトに比べ、磁気共鳴による損失が低周波域で発生する。従ってこの金属粉末は、高周波域（周波数が１００ｋＨｚから２０ＭＨｚの範囲）での損失低減には、適していない。
【００２１】
発明者らは検討を進めた結果、所定の組成を有しかつＸ線回折分析における（２２０）面の回折ピークＰαと（４００）面の回折ピークＰβとの比（Ｐα／Ｐβ）のばらつきが大きい金属粉末が、磁性部材に適していることを見出した。本発明に係る粉末は、高周波域における損失抑制に寄与する。
【００２２】
この粒子２の材質は、合金である。この合金は、
Ｓｉ：２．０質量％以上１２．０質量％以下、
Ａｌ：１０．０質量％以下、並びに
残部：Ｆｅ及び不可避的不純物
を含む。
【００２３】
［ケイ素（Ｓｉ）］
Ｓｉは、比抵抗を高めて渦電流損失を低減し、さらに透磁率を高める。この観点から、Ｓｉの含有率は２．０質量％以上が好ましく、３．０質量％以上が特に好ましい。Ｓｉが過剰であると、飽和磁束密度が低下して透磁率が低下する。高い透磁率の観点から、Ｓｉの含有率は１２．０質量％以下が好ましく、１０．０質量％以上が特に好ましい。
【００２４】
［アルミニウム（Ａｌ）］
Ａｌは、比抵抗を高めて渦電流損失を低減し、さらに透磁率を高める。この観点から、Ａｌの含有率は１．０質量％以上が好ましく、２．０質量％以上が特に好ましい。Ａｌが過剰であると、飽和磁束密度が低下して透磁率が低下する。高い透磁率の観点から、Ａｌの含有率は１０．０質量％以下が好ましく、８．０質量％以上が特に好ましい。
【００２５】
［鉄（Ｆｅ）］
Ｆｅは、合金の基材である。Ｆｅは、粉末の磁気特性を高める。
【００２６】
［円形度］
図１から明らかなように、粒子２の断面形状は、実質的に円である。換言すれば、粒子２の形状は、実質的に球である。球状粒子２を含む粉末は、磁気特性に優れる。磁気特性の観点から、粒子２の円形度は０．８０以上が好ましく、０．８５以上が特に好ましい。理想的な円形度は、１．０である。円形度は、形状の複雑さを表す指数である。円形度Ｃは、下記の数式によって算出される。
Ｃ ＝ ４πＡ ／ Ｌ２
この数式において、Ａは粒子の断面積であり、Ｌは粒子の周囲長である。真円の円形度Ｃは、１．０である。
【００２７】
粉末における、円形度Ｃが０．８０以上である粒子２の数Ｎｃの、粒子２の総数Ｎに対する比率Ｐｃは、５０％以上が好ましい。この比率Ｐｃが５０％以上である粉末は、磁気特性に優れる。磁気特性の観点から、この比率Ｐｃは７０％以上がより好ましく、８０％以上が特に好ましい。理想的には、比率Ｐｃは１００％である。
【００２８】
面積Ａ及び周囲長Ｌは、粒子２の断面画像の解析によって計測されうる。１０００個以上の粒子２の断面写真が撮影され、市販の画像解析装置で各粒子２の面積Ａ及び周囲長Ｌが測定される。測定は、株式会社セイシン企業の装置（商品名「ＰＩＴＡ−４」）でなされうる。この装置による測定では、セル内にキャリア液とともに粒子２が流しこまれる。この粒子２の画像が、ＣＣＤカメラで撮影される。それぞれの粒子２において、面積Ａ及び周囲長Ｌが計測され、比率Ｐｃが算出される。
【００２９】
［Ｘ線回折分析］
この合金には、Ｄ０３型の結晶格子を持つ規則相が存在する。この合金がＸ線回折で分析されると、（２２０）面の回折ピークＰαと（４００）面の回折ピークＰβとが検出される。本発明者は、鋭意開発の結果、両ピークの比（Ｐα／Ｐβ）が１０回計測されたときの標準偏差σが３以上２０未満である粉末が、良好な磁気特性を有していることを見出した。好ましくは、標準偏差σは、１０以上２０未満である。Ｘ線回折装置の代表例として、株式会社リガクの全自動多目的Ｘ線回折装置（商品名「ＳｍａｒｔＬａｂ  ＳＥ」）が挙げられる。
【００３０】
粉末の熱処理に工夫が施されることにより、標準偏差σが調整されうる。例えば、加熱後の冷却速度の調整により、標準偏差σが調整されうる。複数回の熱処理が繰り返されて、標準偏差σが調整されてもよい。２種以上の熱処理が粉末に施されて、標準偏差σが調整されてもよい。
【００３１】
粉末の形成方法に工夫が施されることにより、標準偏差σが調整されうる。例えば、１×１０４℃／秒以上の冷却速度で溶融金属が冷却される方法によって粉末が形成されることで、標準偏差σが調整されうる。具体的な形成方法として、後に詳説されるアトマイズ法が挙げられる。
【００３２】
［平均粒径］
この粉末の平均粒径Ｄ５０は、２０μｍ以上１５０μｍ以下が好ましい。平均粒径Ｄ５０が２０μｍ以上である粉末は、流動性に優れており、従ってマトリクス６と容易に混合されうる。この観点から、平均粒径Ｄ５０は２５μｍ以上がより好ましく、３０μｍ以上が特に好ましい。平均粒径Ｄ５０が１５０μｍ以下である粉末から、厚さが小さな磁性シート４が得られうる。この磁性シート４は、小型の電子機器に適用されうる。この観点から、平均粒径Ｄ５０は１２０μｍ以下がより好ましく、１００μｍ以下が特に好ましい。
【００３３】
平均粒径Ｄ５０は、粉末の全体積を１００％として累積カーブが求められたとき、その累積カーブが５０％となる点の粒子直径である。平均粒径Ｄ５０は、日機装社のレーザー回折・散乱式粒子径分布測定装置「マイクロトラックＭＴ３０００」により測定される。この装置のセル内に、粉末が純水と共に流し込まれ、粒子２の光散乱情報に基づいて、平均粒径が検出される。
【００３４】
［製造方法］
円形度が高い粒子２を含む粉末の製造には、アトマイズが適している。典型的なアトマイズは、ガスアトマイズ法及びディスクアトマイズ法である。パルス圧力付加オリフィス噴射法により、粉末が得られてもよい。
【００３５】
ガスアトマイズ法では、原料金属が加熱されて溶解し、溶湯が得られる。この溶湯が、ノズルから流れ出る。この溶湯に、ガス（アルゴンガス、窒素ガス等）が吹き付けられる。このガスのエネルギーにより、溶湯は粉化して液滴となり、落下されつつ冷却される。この液滴が凝固し、粒子２が形成される。このガスアトマイズ法では、溶湯が瞬間的に液滴化し、これと同時に冷却されるので、均一な微細組織が得られる。しかも、連続的に液滴が形成されるので、粒子２間の組成差がきわめて小さい。
【００３６】
ディスクアトマイズ法では、原料金属が加熱されて溶解し、溶湯が得られる。この溶湯が、ノズルから流れ出る。この溶湯が、高速で回転するディスクの上に落とされる。溶湯は急冷されて凝固し、粉末が得られる。
【００３７】
パルス圧力付加オリフィス噴射法では、原料金属が加熱されて溶解し、溶湯が得られる。オリフィス穴に向かってアクチュエーターでパルス圧が加えられつつ、溶湯から液滴が形成される。この液滴は、落下しつつ冷却される。この液滴が凝固し、粒子２が形成される。
【００３８】
［第二実施形態］
図３は、本発明の他の実施形態に係る磁性部材用粉末の粒子８が示された断面図である。この粒子８は、主部１０と絶縁性皮膜１２とを有している。主部１０の材質、性状、サイズ等は、図１に示された粒子８のそれらと同じである。
【００３９】
この磁性部材用粉末の製造方法は、
（１）多数の粒子からなる原料粉末を得る工程、
並びに
（２）上記粒子の表面を絶縁皮膜で覆う工程
を含む。原料粉末として、第一実施形態に係る磁性部材用粉末（図１参照）が用いられうる。従ってこの原料粉末の材質は、
Ｓｉ：２．０質量％以上１２．０質量％以下、
Ａｌ：１０．０質量％以下、並びに
残部：Ｆｅ及び不可避的不純物
を含む合金である。
【００４０】
原料粉末として、第一実施形態に係る磁性部材用粉末が用いられるので、この原料粉末における、円形度Ｃが０．８０以上である粒子の数Ｎｃの、粒子の総数Ｎに対する比率Ｐｃは、５０％以上である。この比率Ｐｃは７０％以上がより好ましく、８０％以上が特に好ましい。
【００４１】
原料粉末として、第一実施形態に係る磁性部材用粉末が用いられるので、この原料粉末においてピークの比（Ｐα／Ｐβ）が１０回計測されたときの標準偏差σは、３以上２０未満である。好ましくは、標準偏差σは、１０以上２０未満である。
【００４２】
この磁性部材用粉末では、粒子８の主部１０と、この粒子８に隣接する他の粒子８の主部１０との直接の接触が、絶縁性皮膜１２によって防止される。これにより、渦電流損失が抑制される。この観点から、皮膜１２の厚みは２０ｎｍ以上が好ましく、３０ｎｍ以上が特に好ましい。主部１０が有する磁気特性が阻害されにくいとの観点から、皮膜１２の厚みは５００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下が特に好ましい。
【００４３】
図３に示されるように、皮膜１２は主部１０の全体を覆っている。皮膜１２が、主部１０を部分的に覆ってもよい。
【００４４】
粒子８が、主部１０と皮膜１２との間に他の皮膜を有してもよい。粒子８が、皮膜１２の外側に他の皮膜を有してもよい。
【００４５】
皮膜１２の好ましい材質は、チタンアルコキシド類及びケイ素アルコキシド類を含む重合体である。この重合体はチタンアルコキシド類とケイ素アルコキシド類との混合物の重合反応によって得られうる。チタンアルコキシド類は、１つの分子中にあるチタン原子に少なくとも１つのアルコキシド基が結合している化合物である。ケイ素アルコキシド類は、１つの分子中にあるケイ素原子に少なくとも１つのアルコキシド基が結合している化合物である。アルコキシド基は、有機基が負の電荷を持つ酸素と結合した化合物である。有機基は、有機化合物からなる基である。
【００４６】
チタンアルコキシド類には、チタンアルコキシドのモノマー、このモノマーが複数重合されて形成されたオリゴマー、及びチタンアルコキシドが生成する前の段階の化合物（前駆体とも称される。）が含まれる。ケイ素アルコキシド類には、ケイ素アルコキシドのモノマー、このモノマーが複数重合されて形成されたオリゴマー、及びケイ素アルコキシドが生成する前の段階の化合物（前駆体とも称される。）が含まれる。
【００４７】
チタンアルコキシドの具体例として、チタンテトラメトキシド、チタンテトラエトキシド、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラブトキシド、チタンテトラ−２−エチルヘキソキシド及びイソプロピルトリドデシルベンゼンスフォニルチタネートが挙げられる。
【００４８】
ケイ素アルコキシドの具体例として、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン及びＮ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシランが挙げられる。
【００４９】
主部１０への皮膜１２の付着には、種々のコーティング方法が採用されうる。コーティング方法の具体例として、混合法、ゾル・ゲル法、スプレードライヤー法及び転動流動層法が挙げられる。
【００５０】
チタンアルコキシド類及びケイ素アルコキシド類を含む重合体が溶剤で希釈されて、コーティングに供されてもよい。好ましい溶剤として、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、クロロホルム、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、酢酸エチル、プロピオン酸エチル及びテトラヒドロフランが例示される。
【００５１】
皮膜１２が、チタンアルコキシド類及びケイ素アルコキシド類を含む重合体と共に、他の化合物を含んでもよい。皮膜１２が、チタンアルコキシド類及びケイ素アルコキシド類を含む重合体以外の化合物から形成されてもよい。
【００５２】
［第三実施形態］
図４は、本発明のさらに他の実施形態に係る磁性部材用粉末の粒子１４が示された断面図である。図４において、符号Ｌで示されているのは粒子１４の長軸の長さであり、ｔで示されているのは粒子１４の厚さである。長さＬは、厚さｔよりも大きい。換言すれば、この粒子１４は扁平である。この粒子１４の材質は、図１に示された粒子１４の材質と同じである。
【００５３】
この磁性部材用粉末の製造方法は、
（１）多数の粒子からなる原料粉末を得る工程、
並びに
（２）上記粒子に扁平加工を施す工程
を含む。原料粉末として、第一実施形態に係る磁性部材用粉末（図１参照）が用いられる。従ってこの原料粉末の材質は、
Ｓｉ：２．０質量％以上１２．０質量％以下、
Ａｌ：１０．０質量％以下、並びに
残部：Ｆｅ及び不可避的不純物
を含む合金である。
【００５４】
原料粉末として、第一実施形態に係る磁性部材用粉末が用いられるので、この原料粉末における、円形度Ｃが０．８０以上である粒子の数Ｎｃの、粒子の総数Ｎに対する比率Ｐｃは、５０％以上である。この比率Ｐｃは７０％以上がより好ましく、８０％以上が特に好ましい。比率Ｐｃが大きい原料粉末に扁平加工が施されて得られる粉末の磁気特性は、比率Ｐｃが小さい原料粉末に扁平加工が施されて得られる粉末の磁気特性に比べ、優れている。
【００５５】
原料粉末として、第一実施形態に係る磁性部材用粉末が用いられるので、この原料粉末においてピークの比（Ｐα／Ｐβ）が１０回計測されたときの標準偏差σは、３以上２０未満である。好ましくは、標準偏差σは、１０以上２０未満である。
【００５６】
この磁性部材用粉末のアスペクト比は、１０以上３００以下が好ましい。アスペクト比が１０以上である粉末が用いられた磁性部材では、高周波領域での実部透磁率μ’が十分大きく、従って損失が抑制される。この観点から、アスペクト比は５０以上が特に好ましい。アスペクト比が３００以下である粉末が用いられた磁性部材では、粉末同士が接触する箇所が抑制され、渦電流による損失が抑制される。この観点から、アスペクト比は２００以下が特に好ましい。
【００５７】
アスペクト比の測定では、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって粒子１４が観察される。平面視においてその長さが最大となる位置が特定される。この長さが、長軸の長さＬである。１０個の粒子１４の長さＬが測定され、相加平均値Ｌａｖが算出される。この粒子１４が、樹脂に埋め込まれて研磨される。この研磨面が光学顕微鏡で観察され、この粒子１４の厚さ方向が特定される。さらに、最大厚みｔｍ及び最小厚みｔｎが測定され、最大厚みｔｍ及び最小厚みｔｎの平均値（（ｔｍ＋ｔｎ）／２）が算出される。５０個の粒子１４の平均値（（ｔｍ＋ｔｎ）／２）の相加平均値ｔａｖが、算出される。この粉末のアスペクト比Ｒは、下記の数式によって算出される。
Ｒ ＝ Ｌａｖ ／ ｔａｖ
【００５８】
この粉末のＸ線回折分析において、角度２θが４３°以上４４°未満にある極大値ＰＡと、角度２θが４４°以上４５°未満にある極大値ＰＢとが測定されうる。極大値ＰＡは、保磁力向上に寄与する相のピークである。極大値ＰＢは、透磁率向上に寄与する相のピークである。発明者は、鋭意開発の結果、両者の比ＰＡ／ＰＢが０．００１００以上２．００以下である粉末において、良好な磁気特性が得られることを見出した。比ＰＡ／ＰＢは、０．０１０以上が特に好ましい。比ＰＡ／ＰＢは、１．００以下が特に好ましい。Ｘ線回折装置の代表例として、株式会社リガクの全自動多目的Ｘ線回折装置「ＳｍａｒｔＬａｂ  ＳＥ」が挙げられる。
【００５９】
［平均粒径］
この粉末の平均粒径Ｄ５０は、２０μｍ以上１５０μｍ以下が好ましい。平均粒径Ｄ５０が２０μｍ以上である粉末は、流動性に優れており、従ってマトリクス樹脂と容易に混合されうる。この観点から、平均粒径Ｄ５０は２５μｍ以上がより好ましく、３０μｍ以上が特に好ましい。平均粒径Ｄ５０が１５０μｍ以下である粉末から、厚さが小さな磁性シートが得られうる。この磁性シートは、小型の電子機器に適用されうる。この観点から、平均粒径Ｄ５０は１２０μｍ以下がより好ましく、１００μｍ以下が特に好ましい。
【００６０】
典型的な扁平加工は、メディア攪拌型ミル（アトライタ）によってなされる。機械的粉砕により、扁平化がなされてもよい。扁平加工後の粉末に、歪取り焼鈍が施されてもよい。
【００６１】
粒子１４が、図３に示された粒子８の皮膜１２と同様の皮膜を有してもよい。
【実施例】
【００６２】
以下、実施例によって本発明の効果が明らかにされるが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるべきではない。
【００６３】
［実験１］
［実施例１］
表１に示された成分５の原料を準備した。この原料から、アトマイズによって粉末を製作した。この粉末における各粒子の形状は、概ね球であった。この粉末における、円形度Ｃが０．８０以上である粒子の数Ｎｃの粒子の総数Ｎに対する比率Ｐｃは、６０％であった。この粉末における、ピークの比（Ｐα／Ｐβ）が１０回計測されたときの標準偏差σは、１．３９であった。
【００６４】
［実施例２−３０及び比較例１−１０］
比率Ｐｃを下記の表２及び３に示される通りとした他は実施例１と同様にして、実施例２−３０及び比較例１−１０の粉末を製作した。
【００６５】
［透磁率の評価］
粉体を、小型ミキサーを用いて１００℃の温度下でエポキシ樹脂と混練し、粉末が樹脂マトリクス中に均一に分散した樹脂組成物を得た。エポキシ樹脂と粉末との体積比は、５対２とされた。この樹脂組成物を、圧力が４ＭＰａであり、温度が２００℃であるの条件で５分間熱プレス処理し、樹脂成型物を得た。この成形物のサイズは、縦１０ｍｍ×横１０ｍｍ×高さ１０ｍｍであった。この成形物の、温度が２５℃であり周波数が２０ＭＨｚである条件下での透磁率μ’を、測定した。この結果が、下記の表１及び２に示されている。透磁率μ’は、アジレント・テクノロジー（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ）社製の商品名「ベクトル・ネットワーク・アナライザーＮ５２４５Ａ」によって測定された。この透磁率μ’に基づき、下記の基準に従って、各粉末をランク付けした。
Ａ：６０以上
Ｂ：５０以上６０未満
Ｃ：４０以上５０未満
Ｆ：４０未満
ランク付けの結果が、下記の表２及び３に示されている。
【００６６】
【表１】
2020015936.tif 000003
【００６７】
【表２】
2020015936.tif 000004
【００６８】
【表３】
2020015936.tif 000005
【００６９】
［実験２］
［実施例３１］
表１に示された成分１６の原料を準備した。この原料から、アトマイズによって粉末を製作した。この粉末における各粒子の形状は、概ね球であった。この粉末における、円形度Ｃが０．８０以上である粒子の数Ｎｃの粒子の総数Ｎに対する比率Ｐｃは、６１％であった。この粉末における、ピークの比（Ｐα／Ｐβ）が１０回計測されたときの標準偏差σは、１．４０であった。
【００７０】
［実施例３２−６０及び比較例１１−２０］
比率Ｐｃを下記の表４及び５に示される通りとした他は実施例３１と同様にして、実施例３２−６０及び比較例１１−２０の粉末を製作した。
【００７１】
［透磁率の評価］
実験１と同様の方法で、透磁率μ’を測定した。この結果が、下記の表３及び４に示されている。この透磁率μ’に基づき、下記の基準に従って、各粉末をランク付けした。
Ａ：８０以上
Ｂ：７０以上８０未満
Ｃ：６０以上７０未満
Ｆ：６０未満
ランク付けの結果が、下記の表４及び５に示されている。
【００７２】
【表４】
2020015936.tif 000006
【００７３】
【表５】
2020015936.tif 000007
【００７４】
［実験３］
［実施例６１］
表１に示された成分３の原料を準備した。この原料から、アトマイズによって原料粉末を製作した。この原料粉末における各粒子の形状は、概ね球であった。この原料粉末における、円形度Ｃが０．８０以上である粒子の数Ｎｃの粒子の総数Ｎに対する比率Ｐｃは、６４％であった。この原料粉末における、ピークの比（Ｐα／Ｐβ）が１０回計測されたときの標準偏差σは、１．４５であった。この原料粉体を、メディア撹拌型ミル（アトライタ）に投入して粉砕し、扁平粉末を得た。
【００７５】
［実施例６２−９０及び比較例２１−３０］
原料粉末の比率Ｐｃを下記の表６及び７に示される通りとした他は実施例６１と同様にして、実施例６２−９０及び比較例２１−３０の粉末を製作した。
【００７６】
［透磁率の評価］
粉体を、小型ミキサーを用いて１００℃の温度下でエポキシ樹脂と混練し、粉末が樹脂マトリクス中に均一に分散した樹脂組成物を得た。エポキシ樹脂と粉末との体積比は、５対２とされた。この樹脂組成物を、圧力が４ＭＰａであり、温度が２００℃であるの条件で５分間熱プレス処理し、樹脂シートを得た。このシートのサイズは、縦５０ｍｍ×横２０ｍｍ×厚さ０．１ｍｍであった。このシートの、温度が２５℃であり周波数が２０ＭＨｚである条件下での透磁率μ’を、測定した。この結果が、下記の表５及び６に示されている。透磁率μ’は、アジレント・テクノロジー（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ）社製の商品名「ベクトル・ネットワーク・アナライザーＮ５２４５Ａ」によって測定された。この透磁率μ’に基づき、下記の基準に従って、各粉末をランク付けした。
Ａ：１５０以上
Ｂ：１４０以上１５０未満
Ｃ：１３０以上１４０未満
Ｆ：１３０未満
ランク付けの結果が、下記の表６及び７に示されている。
【００７７】
【表６】
2020015936.tif 000008
【００７８】
【表７】
2020015936.tif 000009
【００７９】
［実験４］
［実施例９１］
表１に示された成分１８の原料を準備した。この原料から、アトマイズによって原料粉末を製作した。この原料粉末における各粒子の形状は、概ね球であった。この原料粉末における、円形度Ｃが０．８０以上である粒子の数Ｎｃの粒子の総数Ｎに対する比率Ｐｃは、６９％であった。この原料粉末における、ピークの比（Ｐα／Ｐβ）が１０回計測されたときの標準偏差σは、１．７３であった。この原料粉体を、メディア撹拌型ミル（アトライタ）に投入して粉砕し、扁平粉末を得た。
【００８０】
［実施例９２−１２０及び比較例３１−４０］
原料粉末の比率Ｐｃを下記の表８及び９に示される通りとした他は実施例９１と同様にして、実施例９２−１２０及び比較例３１−４０の粉末を製作した。
【００８１】
［透磁率の評価］
実験３と同様の方法で、透磁率μ’を測定した。この結果が、下記の表７及び８に示されている。この透磁率μ’に基づき、下記の基準に従って、各粉末をランク付けした。
Ａ：１８０以上
Ｂ：１７０以上１８０未満
Ｃ：１６０以上１７０未満
Ｆ：１６０未満
ランク付けの結果が、下記の表８及び９に示されている。
【００８２】
【表８】
2020015936.tif 000010
【００８３】
【表９】
2020015936.tif 000011
【００８４】
表２−９に示された評価結果から、本発明の優位性は明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００８５】
本発明に係る粉末は、種々の磁性部材に適している。
【符号の説明】
【００８６】
２、８、１４・・・粒子
４・・・磁性シート
６・・・マトリクス
１０・・・主部
１２・・・皮膜
【図１】
2020015936.tif 000012
【図２】
2020015936.tif 000013
【図３】
2020015936.tif 000014
【図４】
2020015936.tif 000015