(57)【要約】      （修正有）【課題】信頼性の高い表示装置を提供する。【解決手段】陽極と、陰極と、陽極と陰極との間に挟まれた有機化合物を含む層と、を有し、有機化合物を含む層は、高分子材料を含む層と、高分子材料を含む層上の低分子材料を含む層と、を有し、高分子材料を含む層は、正孔輸送性を有し高分子材料を含む層と、高分子のホスト材料を含む発光層と、を有し、発光層はイリジウムを含み、低分子材料を含む層は、電子輸送性を有する表示装置。【選択図】図１
2020194781.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極との間に挟まれた有機化合物を含む層と、を有し、
前記有機化合物を含む層は、高分子材料を含む層と、前記高分子材料を含む層上の低分子材料を含む層と、を有し、
前記高分子材料を含む層は、正孔輸送性を有し高分子材料を含む層と、高分子のホスト材料を含む発光層と、を有し、
前記発光層はイリジウムを含み、
前記低分子材料を含む層は、電子輸送性を有する表示装置。
【請求項２】
陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極との間に挟まれた有機化合物を含む層と、前記陰極上の層と、を有し、
前記有機化合物を含む層は、高分子材料を含む層と、前記高分子材料を含む層上の低分子材料を含む層と、を有し、
前記高分子材料を含む層は、正孔輸送性を有し高分子材料を含む層と、高分子のホスト材料を含む発光層と、を有し、
前記発光層はイリジウムを含み、
前記低分子材料を含む層は、電子輸送性を有し、
前記陰極上の層は、前記有機化合物を含む層と同じ成分を含む表示装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記陰極上の層は、前記正孔輸送性を有し高分子材料を含む層と同じ成分を含む表示装置。
【請求項４】
請求項２または請求項３において、
第１の基板と第２の基板とを有し、
前記第１の基板と前記第２の基板とは、シール材を用いず、前記陰極上の層を用いて封止されている表示装置。
【請求項５】
請求項２乃至請求項４のいずれか一において、
前記陽極の端部を覆うように設けられた絶縁層を有し、
前記陰極上の層は、前記絶縁層と重なる領域の方が前記絶縁層と重ならない領域より薄い表示装置。
【請求項６】
請求項５において、
複数の画素を有し、
前記複数の画素は、第１の方向および第２の方向に沿って設けられており、
前記発光層は、前記第１の方向においては連続して設けられ、前記第２の方向においては前記絶縁層にて隔てられている表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、
前記高分子材料を含む層は、湿式法を用いて形成された層であり、
前記低分子材料を含む層は、乾式法を用いて形成された層である表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記高分子材料を含む層は、塗布法を用いて形成された層であり、
前記低分子材料を含む層は、蒸着法を用いて形成された層である表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記正孔輸送性を有し高分子材料を含む層は、アクセプター性を有する表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、
前記正孔輸送性を有し高分子材料を含む層は、導電性ポリマーを有し、
前記導電性ポリマーはスルホン酸骨格を含む表示装置、
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一において、
前記低分子材料を含む層はアルカリ金属またはアルカリ土類金属を含む表示装置。
【請求項１２】
陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極との間に挟まれた有機化合物を含む層と、を有し、
前記有機化合物を含む層は、高分子材料を含む層と、前記高分子材料を含む層上の低分子材料を含む層と、を有し、
前記高分子材料を含む層は、高分子のホスト材料を含む発光層を有し、
前記発光層はイリジウムを含み、
前記低分子材料を含む層は、電子輸送性を有し、
前記陽極と前記発光層との間には、スルホン酸骨格を含み、アクセプター性を有する層を有する表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光素子を有する発光モジュール、発光モジュールを有する発光装置および発
光モジュールの作製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、電子ブックなどの普及が進み、生
活の中で表示装置を使用する時間が長くなっている。これらの電子機器が身辺に置かれる
ようになった結果、従来は紙と文具が用いられてきたような単純な用途にも、これらの電
子機器が用いられるようになってきた。具体的には、従来は手帳を用いて行っていたスケ
ジュール管理、住所録、メモ等が、スマートフォンに代表される多機能な電子機器を用い
て行われるようになってきた。
【０００３】
これらの電子機器の多くには、表示素子がマトリクス状に配置された表示パネルが用いら
れる。表示素子としては、光の透過を制御する素子（例えば、液晶表示素子）や、光の反
射を制御する素子（例えば、電気泳動方式を用いる素子）や、自ら発光する発光素子等が
用いられている。
【０００４】
また、一対の電極の間に膜状に広がる発光性の有機化合物を含む層（ＥＬ層ともいう）を
備える発光素子が知られている。このような発光素子は例えば有機ＥＬ素子と呼ばれ、一
対の電極の間に電圧を印加すると、発光性の有機化合物を含む層から発光が得られる。そ
して、有機ＥＬ素子を用いた照明装置や、表示に用いる発光装置が知られている。有機Ｅ
Ｌ素子を用いた表示装置の一例が、特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３２４６７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一対の電極の間に発光性の有機化合物を含む層を有する発光素子は、大気中の不純物（代
表的には水および／または酸素）が存在する環境において、信頼性が損なわれ易い。
【０００７】
本発明の一態様は、このような技術的背景のもとでなされたものである。したがって本発
明の一態様は、信頼性の高い発光モジュールを提供することを課題の一とする。または、
信頼性の高い発光装置を提供することを課題の一とする。または、信頼性の高い発光モジ
ュールの作製方法を提供することを課題の一とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の一態様は、液状の材料から形成される犠牲層に着眼
した。そして、第１の基板に設けられた第１の電極と、当該第１の電極との間に発光性の
有機化合物を含む層を挟持する第２の電極と、当該第２の電極上に液状の材料から形成さ
れた犠牲層と、を第１の基板と第２の基板の間に有する構成に想到し、上記課題の解決に
至った。
【０００９】
すなわち、本発明の一態様は、第１の基板と、第１の基板と対向する第２の基板と、第１
の基板と第２の基板の間に発光素子と、を有する発光モジュールであって、発光素子は、
第１の基板上に設けられた第１の電極と、第１の電極と重なる第２の電極と、第１の電極
と第２の電極の間に発光性の有機化合物を含む層と、を備え、第２の電極は塗布法を用い
て形成された犠牲層と接し、犠牲層は、不純物と反応、或いは不純物を吸着する材料を含
む、発光モジュールである。
【００１０】
上記本発明の一態様の発光モジュールは、不純物（代表的には水および／または酸素）と
反応、或いは不純物を吸着する材料を含み、塗布法（湿式法ともいう）を用いて形成され
た犠牲層を、第２の電極に接して備える構成を有する。これにより、発光素子の信頼性を
損なう不純物は、犠牲層に含まれる材料と優先的に反応、或いは犠牲層に含まれる材料に
吸着され、その活性を失う。その結果、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【００１１】
また、本発明の一態様は、第２の電極および第２の基板が、発光性の有機化合物を含む層
が発する光を透過し、犠牲層が、第２の電極と第２の基板を光学的に接続する上記の発光
モジュールである。
【００１２】
上記本発明の一態様の発光モジュールは、犠牲層が第２の電極と第２の基板を光学的に接
続する構成を有する。これにより、発光素子の光が第２の電極から第２の基板に至る光路
において、屈折率の急激な変化（屈折率の段差ともいう）が抑制され、第２の電極側から
第２の基板に、発光素子の発光を効率よく取り出すことができる。その結果、発光モジュ
ールの発光効率が向上し、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【００１３】
また、本発明の一態様は、第１の電極の端部を覆い且つ第１の電極と重なる開口部が設け
られた隔壁を備え、隔壁と重なる領域の犠牲層の厚さが、開口部と重なる領域における犠
牲層の厚さより薄い上記の発光モジュールである。
【００１４】
上記本発明の一態様の発光モジュールは、隔壁上の薄い犠牲層により迷光が抑制される。
その結果、発光モジュールの発光効率が向上し、信頼性の高い発光モジュールを提供でき
る。
【００１５】
また、本発明の一態様は、犠牲層が、発光素子に用いられる材料を含む上記のいずれか一
に記載の発光モジュールである。
【００１６】
上記本発明の一態様の発光モジュールにおいて、発光素子の信頼性を損なう不純物（代表
的には水および／または酸素）は犠牲層に含まれる発光素子に用いられる材料と優先的に
反応、或いは不純物を吸着する。その結果、不純物は発光素子に到達することなくその活
性を失う。その結果、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【００１７】
また、本発明の一態様は、発光素子を囲うシール材が、第１の基板と第２の基板を貼り合
わせる上記のいずれか一に記載の発光モジュールである。
【００１８】
上記本発明の一態様の発光モジュールは、シール材に囲まれ、且つ犠牲層と重なる発光素
子を有する。シール材は発光モジュールの内部へ発光素子の信頼性を損なう不純物（代表
的には水および／または酸素）が侵入する現象を阻み、犠牲層に含まれる材料は不純物と
優先的に反応、或いは不純物を吸着し、その活性を失わせる。その結果、信頼性の高い発
光モジュールを提供できる。
【００１９】
また、本発明の一態様は、シール材が犠牲層を囲み、且つ第１の基板と第２の基板を貼り
合わせる上記の発光モジュールである。
【００２０】
上記本発明の一態様の発光モジュールは、犠牲層と重なることなく、シール材が発光素子
と犠牲層を囲んで、第１の基板と第２の基板を貼り合わせる構成を有する。シール材が犠
牲層と重なる部分がないため、犠牲層を介して大気が発光モジュールに侵入することがな
い。その結果、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【００２１】
また、本発明の一態様は、犠牲層が液状である上記の発光モジュールである。
【００２２】
上記本発明の一態様の発光モジュールは、第１の基板と第２の基板とシール材に囲まれた
空間に液状の犠牲層を有する。犠牲層を液状とすることで、犠牲層を均一に保つことがで
きる。また、犠牲層がシール材で囲まれているため、液状の犠牲層が漏れ出すことがない
。その結果、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【００２３】
また、本発明の一態様は、犠牲層が固体状である上記のいずれか一に記載の発光モジュー
ルである。
【００２４】
上記本発明の一態様の発光モジュールは、犠牲層が固体であるため不純物（代表的には水
および／または酸素）の拡散が遅い。その結果、信頼性の高い発光モジュールを提供でき
る。
【００２５】
また、本発明の一態様は、犠牲層が第１の基板と第２の基板を貼り合わせる上記の発光モ
ジュールである。
【００２６】
上記本発明の一態様の発光モジュールは、犠牲層が第１の基板と第２の基板を貼り合わせ
るため、別途シール材を設ける必要がない。その結果、簡便に信頼性の高い発光モジュー
ルを提供できる。
【００２７】
また、本発明の一態様は、第２の基板が可撓性を有する上記のいずれか一に記載の発光モ
ジュールである。
【００２８】
上記本発明の一態様の発光モジュールは、可撓性を有する第２の基板は犠牲層に沿って変
形可能であるため、犠牲層と第２の基板の間に空間を生じ難い。その結果、発光モジュー
ルの発光効率が向上し、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【００２９】
また、本発明の一態様は、第１の基板に第１の電極を形成し、第１の電極の端部を覆い且
つ第１の電極と重なる開口部を備える隔壁を形成し、隔壁の開口部において、第１の電極
と一方の面を接する発光性の有機化合物を含む層を形成し、発光性の有機化合物を含む層
の他方の面と接する第２の電極を、隔壁の開口部に重ねて形成して、発光素子を作製する
第１のステップと、発光素子の第２の電極上に不純物と反応、或いは不純物を吸着する材
料を含む塗布液層を形成し、発光素子を囲うシール材を第２の基板に形成する第２のステ
ップと、シール材を用いて、発光素子を挟むように第１の基板と第２の基板を貼り合わせ
る第３のステップと、をこの順で有する発光モジュールの作製方法である。
【００３０】
上記本発明の一態様の発光モジュールの作製方法によれば、塗布法（湿式法ともいう）を
用いて第２の電極に接して犠牲層を形成できる。また、隔壁と重なる領域の犠牲層の厚さ
を、開口部と重なる領域における犠牲層の厚さより薄くできる。その結果、発光モジュー
ルの発光効率が向上し、信頼性の高い発光モジュールの作製方法を提供できる。
【００３１】
また、本発明の一態様は、第２のステップにおいて、犠牲層を塗布した後に、犠牲層にエ
ネルギーを付与して犠牲層を硬化する上記の発光モジュールの作製方法である。
【００３２】
上記本発明の一態様の発光モジュールの作製方法によれば、塗布法（湿式法ともいう）を
用いて第２の電極に接して犠牲層を形成できる。また、不純物（代表的には水および／ま
たは酸素）の拡散が抑制された固体状の犠牲層を形成できる。その結果、信頼性の高い発
光モジュールの作製方法を提供できる。
【００３３】
また、本発明の一態様は、第３のステップにおいて、第１の基板と第２の基板を貼り合わ
せた後に、犠牲層にエネルギーを付与して、犠牲層を硬化する上記の発光モジュールの作
製方法である。
【００３４】
上記本発明の一態様の発光モジュールの作製方法によれば、塗布法（湿式法ともいう）を
用いて第２の電極に接して犠牲層を形成できる。また、不純物の拡散が抑制された固体状
の犠牲層を形成できる。その結果、信頼性の高い発光モジュールの作製方法を提供できる
。
【００３５】
また、本発明の一態様は、第１の基板に第１の電極を形成し、第１の電極の端部を覆い且
つ第１の電極と重なる開口部を備える隔壁を形成し、隔壁の開口部において、第１の電極
と一方の面を接する発光性の有機化合物を含む層を形成し、発光性の有機化合物を含む層
の他方の面と接する第２の電極を、隔壁の開口部に重ねて形成して、発光素子を作製する
第１のステップと、開口部を設けて、発光素子を囲う第１のシール材を第２の基板に形成
し、第１のシール材を用いて、発光素子を挟むように第１の基板と第２の基板を貼り合わ
せる第２のステップと、第１の基板と第２の基板の間に、開口部から不純物と反応、或い
は不純物を吸着する材料を含む塗布液層を注入する第３のステップと、開口部を第２のシ
ール材を用いて塞ぐ第４のステップと、をこの順で有する発光モジュールの作製方法であ
る。
【００３６】
上記本発明の一態様の発光モジュールの作製方法によれば、塗布法（湿式法ともいう）を
用いて第２の電極に接して犠牲層を形成できる。その結果、信頼性の高い発光モジュール
の作製方法を提供できる。
【００３７】
なお、本明細書において、ＥＬ層とは発光素子の一対の電極間に設けられた層を示すもの
とする。従って、電極間に挟まれた発光物質である有機化合物を含む発光層はＥＬ層の一
態様である。
【００３８】
また、本明細書において、物質Ａを他の物質Ｂからなるマトリクス中に分散する場合、マ
トリクスを構成する物質Ｂをホスト材料と呼び、マトリクス中に分散される物質Ａをゲス
ト材料と呼ぶものとする。なお、物質Ａ並びに物質Ｂは、それぞれ単一の物質であっても
良いし、２種類以上の物質の混合物であっても良いものとする。
【００３９】
なお、本明細書中において、発光装置とは画像表示デバイス、発光デバイス、もしくは光
源（照明装置含む）を指す。また、発光装置にコネクター、例えばＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂ
ｌｅ  ｐｒｉｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ）もしくはＴＡＢ（Ｔａｐｅ  Ａｕｔｏｍａｔｅ
ｄ  Ｂｏｎｄｉｎｇ）テープもしくはＴＣＰ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇ
ｅ）が取り付けられたモジュール、ＴＡＢテープやＴＣＰの先にプリント配線板が設けら
れたモジュール、または発光素子が形成された基板にＣＯＧ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｇｌａｓ
ｓ）方式によりＩＣ（集積回路）が直接実装されたモジュールも全て発光装置に含むもの
とする。
【発明の効果】
【００４０】
本発明の一態様によれば、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。または、信頼性の
高い発光装置を提供できる。または、信頼性の高い発光モジュールの作製方法を提供でき
る。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】実施の形態に係る発光モジュールおよび発光パネルの構成を説明する図。
【図２】実施の形態に係る発光モジュールおよび発光パネルの構成を説明する図。
【図３】実施の形態に係る発光モジュールおよび発光パネルの構成を説明する図。
【図４】実施の形態に係る発光モジュールおよび発光パネルの構成を説明する図。
【図５】実施の形態に係る発光モジュールおよび発光パネルの作製方法を説明する図。
【図６】実施の形態に係る発光モジュールおよび発光パネルの作製方法を説明する図。
【図７】実施の形態に係る発光素子構成を説明する図。
【図８】実施の形態に係る発光装置の構成を説明する図。
【図９】実施の形態に係る電子機器の一例を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【００４２】
実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定さ
れず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し
得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の
記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する発明の構成において
、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、
その繰り返しの説明は省略する。
【００４３】
（実施の形態１）
本実施の形態では、本発明の一態様の発光モジュールの構成について図１及び図２を参照
して説明する。本発明の一態様の発光モジュールは、第１の基板に設けられた第１の電極
と、当該第１の電極との間に発光性の有機化合物を含む層を挟持する第２の電極と、当該
第２の電極上に液状の材料から形成された犠牲層と、を第１の基板と第２の基板の間に有
して構成される。具体的には、複数の発光モジュールが隣接して設けられた発光パネルを
例示して説明する。
【００４４】
本発明の一態様の発光モジュールは、不純物（代表的には水および／または酸素）と反応
、或いは不純物を吸着する材料を含み、塗布法（湿式法ともいう）を用いて形成された犠
牲層を、第２の電極に接して備える構成を有する。これにより、発光素子の信頼性を損な
う不純物は、犠牲層に含まれる材料と優先的に反応、或いは犠牲層に含まれる材料に吸着
され、その活性を失う。その結果、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【００４５】
また、当該犠牲層が透光性を有する第２の電極と透光性を有する第２の基板を光学的に接
続する構成を有する。これにより、発光素子の光が第２の電極から第２の基板に至る光路
において、屈折率の急激な変化（屈折率の段差ともいう）が抑制され、第２の電極側から
第２の基板に、発光素子の発光を効率よく取り出すことができる。その結果、発光モジュ
ールの発光効率が向上し、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【００４６】
また、本発明の一態様の発光モジュールは、隔壁上の犠牲層の厚さが薄い。これにより迷
光が抑制される。その結果、発光モジュールの発光効率が向上し、信頼性の高い発光モジ
ュールを提供できる。
【００４７】
＜発光モジュールを複数備える発光パネルの構成＞
本発明の一態様の発光モジュールが設けられた発光パネルの構成を、図１を参照して説明
する。図１（Ａ）は本発明の一態様の発光モジュールが設けられた発光パネルの上面図で
あり、図１（Ｂ）は図１（Ａ）の切断線Ｊ−Ｋにおける断面図である。図１（Ｂ）に例示
する発光パネル１００は図中に示す矢印の方向に光を射出する。
【００４８】
発光パネル１００は第１の発光モジュール１５０ａと第２の発光モジュール１５０ｂを有
する。また、第１の発光モジュール１５０ａは、第１の基板１１０と第２の基板１２０の
間に第１の発光素子１５４ａを備え、第２の発光モジュール１５０ｂは、第１の基板１１
０と第２の基板１２０の間に第２の発光素子１５４ｂを備える。
【００４９】
第１の基板１１０には、導電層１０６ａおよび導電層１０６ｂを含む導電層と、その上に
絶縁層１０７が設けられている。絶縁層１０７には、導電層１０６ａに達する開口部と導
電層１０６ｂに達する開口部が形成されている。
【００５０】
絶縁層１０７上には、第１の電極１５１ａと第１の電極１５１ｂが隣接して設けられてい
る。第１の電極１５１ａは導電層１０６ａと開口部を介して電気的に接続し、第１の電極
１５１ｂは導電層１０６ｂと開口部を介して電気的に接続している。また、隔壁１４０は
第１の電極１５１ａと第１の電極１５１ｂに重なる開口部を備える。また、隔壁１４０は
第１の電極１５１ａと第１の電極１５１ｂの端部を覆っている。
【００５１】
第２の電極１５２ａは第１の電極１５１ａと重なる位置に設けられ、第１の電極１５１ａ
と、第２の電極１５２ａと、その間に挟持された発光性の有機化合物を含む層１５３ａが
第１の発光素子１５４ａを構成している。第２の電極１５２ｂは第１の電極１５１ｂと重
なる位置に設けられ、第１の電極１５１ｂと、第２の電極１５２ｂと、その間に挟持され
た発光性の有機化合物を含む層１５３ｂが第２の発光素子１５４ｂを構成している。なお
、第２の電極１５２ａは発光性の有機化合物を含む層１５３ａが発する光を透過し、第２
の電極１５２ｂは発光性の有機化合物を含む層１５３ｂが発する光を透過する。
【００５２】
例示する第２の基板１２０には、第１の電極１５１ａと重なる位置に第１の光学フィルタ
１２１ａが設けられ、また第１の電極１５１ｂと重なる位置に第２の光学フィルタ１２１
ｂが設けられている。なお、隣接する第１の電極を隔てる隔壁１４０に重ねて遮光層１２
３を設けても良い。さらに、第１の光学フィルタ１２１ａと第２の光学フィルタ１２１ｂ
と遮光層１２３に重ねてオーバーコート層１２５を設けてもよい。
【００５３】
第１の発光モジュール１５０ａは、第１の基板１１０と第２の基板１２０の間に第１の発
光素子１５４ａと第１の光学フィルタ１２１ａを重ねて備える。第２の発光モジュール１
５０ｂは、第１の基板１１０と第２の基板１２０の間に第２の発光素子１５４ｂと第２の
光学フィルタ１２１ｂを重ねて備える。
【００５４】
本発明の一態様の発光モジュールは第１の基板１１０と第２の基板１２０の間に犠牲層１
３０を有する。具体的には、第１の発光モジュール１５０ａは、第２の電極１５２ａと第
１の光学フィルタ１２１ａの間に犠牲層１３０を有し、第２の発光モジュール１５０ｂは
、第２の電極１５２ｂと第２の光学フィルタ１２１ｂの間に犠牲層１３０を有する。また
、隔壁１４０と遮光層１２３の間に犠牲層１３０を有する。
【００５５】
なお、本実施の形態では、発光パネル１００が備える第１の発光モジュール１５０ａは、
発光性の有機化合物を含む層１５３ａが発する光を反射する第１の電極１５１ａと、該光
を透過する第２の電極１５２ａと、該光の一部を透過する第１の光学フィルタ１２１ａと
、を備え、第２の発光モジュール１５０ｂは、発光性の有機化合物を含む層１５３ｂが発
する光を反射する第１の電極１５１ｂと、該光を透過する第２の電極１５２ｂと、該光の
一部を透過する第２の光学フィルタ１２１ｂと、を備える構成について説明する。
【００５６】
＜犠牲層＞
犠牲層１３０は発光素子の信頼性を損なう不純物（代表的には水および／または酸素）と
反応、或いは不純物を吸着する材料を含み、第２の電極に接する。これにより、不純物は
、発光素子の信頼性を損なう前に、犠牲層に含まれる材料と優先的に反応、或いは犠牲層
に含まれる材料に吸着され、その活性を失う。その結果、信頼性の高い発光モジュールを
提供できる。
【００５７】
犠牲層１３０に用いることができる材料は、液状にすることが可能であって、第２の電極
に塗布して犠牲層１３０を形成することが可能であって、且つ発光素子の信頼性を損なう
不純物と反応、或いは不純物を吸着する材料を含んでいればよく、その材料は特に限定さ
れない。
【００５８】
犠牲層１３０には、ＥＬ層に用いることができる材料（例えば、正孔輸送性の高い物質、
発光物質、ホスト材料、電子輸送性の高い物質、電子注入性の高い物質または／およびア
クセプター性物質等）が適用可能である。発光素子の信頼性を損なう不純物は、犠牲層に
添加されたＥＬ層に用いることができる材料と反応、或いは吸着され、発光素子の信頼性
を損なう前にその活性を失う。その結果、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【００５９】
犠牲層１３０に適用可能な材料の具体例としては、導電性高分子、ポリ（３，４−エチレ
ンジオキシチオフェン）／ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、乾燥剤
、発光性の有機化合物に適用可能な材料、４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−
フェニルアミノ］ビフェニル（略称：ＮＰＢまたはα−ＮＰＤ）、トリス（８−キノリノ
ラト）アルミニウム（ＩＩＩ）（略称：Ａｌｑ）などが挙げられる。なお、発光性の有機
化合物に適用可能な材料は、実施の形態４において詳細に説明する。
【００６０】
また、犠牲層１３０が第２の電極と第２の基板に接して形成された構成において、犠牲層
１３０は、第２の電極と第２の基板を光学的に接続できる。これにより、発光素子の光が
第２の電極から第２の基板に至る光路において、屈折率の急激な変化（屈折率の段差とも
いう）が抑制され、第２の電極側から第２の基板に、発光素子の発光を効率よく取り出す
ことができる。その結果、発光モジュールの発光効率が向上し、同一の発光輝度を実現す
るのに要する電流を低減でき、その結果、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【００６１】
また、犠牲層１３０の厚さは、隔壁１４０の開口部と重なる領域（発光素子の発光領域と
重なる領域とも言える）で厚く、隔壁１４０と重なる領域で薄い。これにより迷光が抑制
される。その結果、発光モジュールの発光効率が向上し、信頼性の高い発光モジュールを
提供できる。
【００６２】
また、第２の基板１２０に接する側の犠牲層１３０は、緩やかな凹凸を有する。具体的に
は、隔壁１４０の開口部と重なる領域（発光素子の発光領域と重なる領域とも言える）で
凹み、隔壁１４０と重なる領域でつばくむ（脹らむともいう）。犠牲層１３０の凹凸に沿
うように第２の基板が変形するため、発光パネルの第２の基板には凹凸が形成される場合
がある。
【００６３】
第２の基板に可撓性を有する基板を適用すると、第２の基板は犠牲層に沿って変形可能で
あるため、犠牲層と第２の基板の間に空間を生じ難い。その結果、発光モジュールの発光
効率が向上し、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【００６４】
犠牲層１３０に用いることができる材料は、液状にすることが可能であって、且つ第２の
電極に塗布して形成することが可能であるため、このような形態を実現できる。なお、犠
牲層１３０の作製方法は、実施の形態３において詳細に説明する。
【００６５】
＜第１の基板＞
第１の基板１１０は作製工程に耐えられる程度の耐熱性を備える。また、単層構造であっ
ても、２層以上の積層構造であってもよい。また、その厚さおよび大きさは製造装置に適
用可能であれば特に限定されない。
【００６６】
第１の基板１１０の発光素子を形成する側の面は、絶縁性であれば好ましい。また、絶縁
性の膜を積層して用いてもよい。
【００６７】
第１の基板１１０の発光素子を形成する側の面は、平坦であれば好ましい。また、平坦化
のための膜を積層して用いても良い。
【００６８】
第１の基板１１０はガスバリア性を有すると好ましい。また、ガスバリア性を有する膜を
積層して用いても良い。具体的には、ガスバリア性が水蒸気透過率として１０−５ｇ／ｍ
２・ｄａｙ以下、好ましくは１０−６ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であると、発光モジュールの
信頼性を高められるため好ましい。
【００６９】
例えば、第１の基板１１０に適用可能な基板としては、無アルカリガラス基板、バリウム
ホウケイ酸ガラス基板、アルミノホウケイ酸ガラス基板、セラミック基板、石英基板、サ
ファイア基板、金属基板、ステンレス基板、プラスチック基板、ポリエチレンテレフタレ
ート基板、ポリイミド基板等が挙げられる。
【００７０】
本実施の形態では、第１の基板１１０に無アルカリガラス基板を用いる構成について説明
する。
【００７１】
＜導電層＞
導電層１０６ａ、導電層１０６ｂは導電性を有する。また、導電材料を含む層の単層構造
であっても、２層以上の積層構造であってもよい。また、その厚さは特に限定されない。
【００７２】
導電材料は導電性を有し、作製工程に耐えられる材料であればよく、例えばモリブデン、
チタン、タンタル、タングステン、アルミニウム、銅、クロム、ネオジム、スカンジウム
等から選ばれた一の金属、またはこれらから選ばれた一を含む合金を用いることができる
。
【００７３】
導電材料は金属窒化物を用いることができる。具体的には、窒化チタン、窒化モリブデン
、窒化タングステン等をその例に挙げることができる。
【００７４】
導電材料は導電性の金属酸化物を用いることができる。具体的には、酸化インジウム、酸
化スズ、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯともいう）、インジウム−亜鉛酸化物、酸化亜
鉛、ガリウムまたはアルミニウムが添加された酸化亜鉛、またはこれらの金属酸化物材料
に酸化シリコンを含ませたものを用いることができる。
【００７５】
また、導電材料はグラフェンなどを用いることができる。
【００７６】
本実施の形態では、導電層１０６ａ、導電層１０６ｂにアルミニウム合金上にチタンが積
層された積層体を用いる構成について説明する。
【００７７】
＜絶縁膜＞
絶縁層１０７は絶縁性を有する。また、単層構造であっても、２層以上の積層構造であっ
てもよい。また、その厚さは特に限定されない。
【００７８】
絶縁層１０７は表面が平坦であると好ましい。絶縁層１０７の表面の凹凸があると、その
凹凸が第１の電極の表面に反映され、第１の電極と第２の電極が短絡する原因となるため
である。
【００７９】
絶縁層１０７に用いることができる材料は絶縁性を有し、作製工程に耐えられる材料であ
ればよく、例えば、酸化シリコン層、酸化窒化シリコン層、酸化アルミニウム層、アクリ
ル樹脂層、ポリイミド樹脂層、ベンゾシクロブテン樹脂層、ポリアミド樹脂層、エポキシ
樹脂層、シロキサン系樹脂層、ＳＯＧ層、ポリシラザン系ＳＯＧ層等から選ばれた一の絶
縁層、またはこれらから選ばれた一を含む層を用いることができる。
【００８０】
本実施の形態では、絶縁層１０７にポリイミド層を用いる構成について説明する。
【００８１】
＜第１の電極＞
第１の電極１５１ａ、第１の電極１５１ｂは導電材料を含む。また、単層構造であっても
、２層以上の積層構造であってもよい。また、その厚さは特に限定されない。
【００８２】
導電材料は導電性を有し、作製工程に耐えられる材料であればよく、例えばモリブデン、
チタン、タンタル、タングステン、アルミニウム、銀、銅、クロム、ネオジム、スカンジ
ウム等から選ばれた一の金属、またはこれらから選ばれた一を含む合金を用いることがで
きる。
【００８３】
アルミニウムを含む合金としては、アルミニウム−ニッケル−ランタン合金、アルミニウ
ム−チタン合金、アルミニウム−ネオジム合金等を挙げることができる。また、銀を含む
合金としては、銀−ネオジム合金、マグネシウム−銀合金等を挙げることができる。また
、金、銅を含む合金を用いることができる。
【００８４】
導電材料は金属窒化物を用いることができる。具体的には、窒化チタン、窒化モリブデン
、窒化タングステン等をその例に挙げることができる。
【００８５】
導電材料は導電性の金属酸化物を用いることができる。具体的には、酸化インジウム、酸
化スズ、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯともいう）、インジウム−亜鉛酸化物、酸化亜
鉛、ガリウムまたはアルミニウムが添加された酸化亜鉛、またはこれらの金属酸化物材料
に酸化シリコンを含ませたものを用いることができる。
【００８６】
本実施の形態では、第１の電極１５１ａ、第１の電極１５１ｂにアルミニウム−ニッケル
−ランタン合金を含む層にチタンを含む層を積層した積層構造を用いる構成について説明
する。アルミニウム−ニッケル−ランタン合金は反射率が高く、チタンを含む層により第
１の電極の表面に高抵抗の酸化皮膜が形成される現象を抑制できる。その結果、発光素子
が発する光の強度の損失と電気抵抗に起因する電力の損失が低減できる。
【００８７】
なお、第１の基板１１０上にトランジスタを形成し、そのソース電極またはドレイン電極
を、導電層１０６ａを介して第１の電極１５１ａに電気的に接続する構成、または導電層
１０６ｂを介して第１の電極１５１ｂに電気的に接続する構成としてもよい。このような
構成とすることで、それぞれの発光モジュールを独立して点灯可能な発光装置を提供でき
、例えば表示装置に用いることができる。
【００８８】
＜隔壁＞
隔壁１４０は絶縁性の材料を含む。また、単層構成であっても、２層以上の積層構造であ
ってもよい。また、その厚さは特に限定されない。また、隔壁の上端部または下端部に、
曲率を有する曲面を形成すると好ましい。
【００８９】
隔壁１４０は絶縁性を備え、作製工程に耐えられる材料であればよく、例えばフォトポリ
マー、感光性アクリル、感光性ポリイミド等から選ばれた一の絶縁層、またはこれらから
選ばれた一を含む絶縁層を用いることができる。
【００９０】
本実施の形態では、隔壁１４０にポジ型の感光性ポリイミドを用い、上端部に、０．２μ
ｍ以上３μｍ以下の曲率半径を有する曲面を形成して用いる構成について説明する。
【００９１】
＜発光性の有機化合物を含む層＞
第１の発光性の有機化合物を含む層１５３ａおよび第２の発光性の有機化合物を含む層１
５３ｂは、発光性の有機化合物を少なくとも含む。また、単層構造であっても、２層以上
の積層構造であってもよい。なお、発光性の有機化合物を含む層の構成は実施の形態４に
おいて詳細に説明する。
【００９２】
本実施の形態では、第１の発光性の有機化合物を含む層１５３ａおよび第２の発光性の有
機化合物を含む層１５３ｂに白色を呈する光を発する層を用いる構成について説明する。
【００９３】
＜第２の電極＞
第２の電極１５２ａ、第２の電極１５２ｂは導電材料を含む。また、単層構造であっても
、２層以上の積層構造であってもよい。
【００９４】
導電材料は導電性を有し、作製工程に耐えられる材料であればよく、例えばアルミニウム
、銀等から選ばれた一の金属、またはこれらから選ばれた一を含む合金を用いることがで
きる。
【００９５】
アルミニウムを含む合金としては、アルミニウム−ニッケル−ランタン合金、アルミニウ
ム−チタン合金、アルミニウム−ネオジム合金等を挙げることができる。また、銀を含む
合金としては、銀−ネオジム合金、マグネシウム−銀合金等を挙げることができる。また
、金、銅を含む合金を用いることができる。
【００９６】
導電材料は金属窒化物を用いることができる。具体的には、窒化チタン、窒化モリブデン
、窒化タングステン等をその例に挙げることができる。
【００９７】
導電材料は導電性の金属酸化物を用いることができる。具体的には、酸化インジウム、酸
化スズ、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯともいう）、インジウム−亜鉛酸化物、酸化亜
鉛、ガリウムまたはアルミニウムが添加された酸化亜鉛、またはこれらの金属酸化物材料
に酸化シリコンを含ませたものを用いることができる。
【００９８】
本実施の形態では、第２の電極１５２ａおよび第２の電極１５２ｂに、マグネシウム−銀
合金層上に酸化珪素を含むインジウム−錫酸化物層が積層された積層構造について説明す
る。マグネシウム−銀合金層は仕事関数が低いため電子注入性に優れ且つ導電性に優れ、
酸化珪素を含むインジウム−錫酸化物層は結晶化が抑制され、発光性の有機化合物を含む
層が発する光に対する透過率が高い。その結果、発光素子が発する光の強度の損失と電気
抵抗に起因する電力の損失が低減できる。
【００９９】
＜光学フィルタ＞
第１の光学フィルタ１２１ａ、第２の光学フィルタ１２１ｂは、発光性の有機化合物を含
む層が発する光の少なくとも一部を透過する層を含む。また、単層構造であっても、２層
以上の積層構造であってもよい。また、その厚さは特に限定されない。
【０１００】
発光性の有機化合物を含む層が発する光の少なくとも一部を透過する層に用いることがで
きる材料は、作製工程に耐えられる材料であればよく、例えば着色材料を含む有機材料層
や多層膜フィルタを用いることができる。
【０１０１】
着色材料を含む有機材料層としては、赤色を呈する光を透過する層、緑色を呈する光を透
過する層または青色を呈する光を透過する層を挙げることができる。
【０１０２】
本実施の形態では、赤色を呈する光を透過する層、緑色を呈する光を透過する層または青
色を呈する光を透過する層から選ばれたいずれか一つを第１の光学フィルタ１２１ａに用
い、他の層を第２の光学フィルタ１２１ｂに用いる構成について説明する。
【０１０３】
＜遮光層＞
遮光層１２３は、第２の基板１２０を透過する光を遮光する層を含む。また、単層構造で
あっても、２層以上の積層構造であってもよい。
【０１０４】
第２の基板１２０を透過する光を遮光する層は、第２の基板１２０を透過して発光モジュ
ールの内部に侵入する光を遮光し、作製工程に耐えられる材料であればよく、例えばクロ
ム層、チタン層、ニッケル層乃至カーボンブラックを分散した高分子層等から選ばれた一
の遮光層を用いることができる。
【０１０５】
本実施の形態では、遮光層１２３にカーボンブラックを分散した高分子層を用いる場合に
ついて説明する。
【０１０６】
＜オーバーコート層＞
オーバーコート層１２５は、表面の平坦化と不純物（代表的には水および／または酸素）
の拡散を防ぐ層を含む。また、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい
。また、その厚さは特に限定されない。
【０１０７】
表面の平坦化と不純物の拡散を防ぐ層は、光学フィルタの表面に形成される凹凸を平坦化
する。または、光学フィルタまたは／および遮光層に含まれる不純物が発光素子の形成さ
れた側に拡散する現象を抑制する。または、光学フィルタまたは／および遮光層を透過し
て不純物が発光素子の形成された側に拡散する現象を抑制する。表面の平坦化と不純物の
拡散を防ぐ層は、作製工程に耐えられる材料であればよく、例えばポリイミド層、エポキ
シ層、アクリル層等から選ばれた一のオーバーコート層、またはこれらから選ばれた一を
含むオーバーコート層を用いることができる。また、熱硬化型であっても、紫外線硬化型
であってもよい。
【０１０８】
本実施の形態では、オーバーコート層にポリイミドを用いる場合について説明する。
【０１０９】
＜第２の基板＞
第２の基板１２０は作製工程に耐えられる程度の耐熱性を備えれば、単層構造であっても
、２層以上の積層構造であってもよい。また、その厚さおよび大きさは製造装置に適用可
能であれば特に限定されない。
【０１１０】
第２の基板１２０はガスバリア性を有すると好ましい。また、ガスバリア性を有する膜を
積層して用いても良い。具体的には、ガスバリア性が水蒸気透過率として１０−５ｇ／ｍ
２・ｄａｙ以下、好ましくは１０−６ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であると、発光モジュールの
信頼性を高められるため好ましい。
【０１１１】
第２の基板１２０は可撓性を有すると好ましい。可撓性を有する基板としては、代表的に
はプラスチック基板をその例に挙げる事ができる他、厚さが５０μｍ以上５００μｍ以下
の薄いガラスや、発光を第２の基板１２０側に取り出さない場合は、金属箔を用いること
もできる。
【０１１２】
例えば、第２の基板１２０に適用可能な基板としては、無アルカリガラス基板、バリウム
ホウケイ酸ガラス基板、アルミノホウケイ酸ガラス基板、セラミック基板、石英基板、サ
ファイア基板、金属基板、ステンレス基板、プラスチック基板、ポリエチレンテレフタレ
ート基板、ポリイミド基板等が挙げられる。
【０１１３】
本実施の形態では、第２の基板１２０に無アルカリガラス基板を用いる構成について説明
する。
【０１１４】
＜多色の発光パネルの構成＞
次に、上述の構成の発光パネルを用いた多色の発光パネルについて説明する。例えば、互
いに異なる色を呈する光を発する２つの発光素子の一方を第１の発光モジュール１５０ａ
に適用し、他方を第２の発光モジュール１５０ｂに適用すればよい。具体的には、青色、
赤色、緑色から選ばれた一の色を呈する光を発する発光素子を第１の発光素子１５４ａに
適用し、他の色を呈する光を発する発光素子を第２の発光素子１５４ｂに適用すればよい
。
【０１１５】
互いに異なる色を呈する光を発する２つの発光素子は、異なる色を呈する光を発する発光
性の有機化合物を含む層を第１の発光素子１５４ａと第２の発光素子１５４ｂに設けて構
成すればよい。発光性の有機化合物を含む層の構成については、実施の形態４において説
明する。
【０１１６】
なお、第１の電極と第２の電極の一方を反射性の電極、他方を半透過・半反射性の電極と
し、第１の電極と第２の電極の間隔（光学距離）を調整することにより微小共振器（マイ
クロキャビティともいう）を構成し、半透過・半反射性の電極から特定の波長の光を効率
よく取り出す構成としてもよい。
【０１１７】
または、互いに異なる色を呈する光を透過する２つの光学フィルタを選択し、一方を第１
の光学フィルタ１２１ａに適用し、他方を第２の光学フィルタ１２１ｂに適用すればよい
。具体的には、青色、赤色、緑色から選ばれた一の色を呈する光を透過する光学フィルタ
を第１の光学フィルタ１２１ａに適用し、他の色を呈する光を透過する光学フィルタを第
２の光学フィルタ１２１ｂに適用すればよい。
【０１１８】
なお、互いに異なる色を呈する光を透過する２つの光学フィルタを選択して用いる場合は
、第１の発光素子１５４ａと第２の発光素子１５４ｂに白色を呈する光を発する発光素子
を適用してもよい。
【０１１９】
＜変形例＞
図１を用いて説明した発光パネルとは異なる本発明の一態様の発光モジュールが設けられ
た発光パネルの構成を、図２に示す断面図を用いて説明する。図２に例示する発光パネル
１００は、発光を取り出す方向が図１に例示する発光パネル１００と異なる。具体的には
、図２に例示する発光パネル１００は、第１の基板１１０側に発光を取り出す構成を有す
る。
【０１２０】
図２に例示する発光パネル１００は第１の発光モジュール１５０ａと第２の発光モジュー
ル１５０ｂが設けられている。第１の発光モジュール１５０ａは、第１の基板１１０と第
２の基板１２０の間に第１の発光素子１５４ａを備え、第２の発光モジュール１５０ｂは
、第１の基板１１０と第２の基板１２０の間に第２の発光素子１５４ｂを備える。
【０１２１】
第１の発光素子１５４ａは第１の電極１５１ａと第２の電極１５２ａの間に発光性の有機
化合物を含む層１５３ａを備える。第２の発光素子１５４ｂは第１の電極１５１ｂと第２
の電極１５２ｂの間に発光性の有機化合物を含む層１５３ｂを備える。
【０１２２】
図２に例示する本発明の一態様の発光モジュールは第１の基板１１０と第２の基板１２０
の間に犠牲層１３０を有する。具体的には、第１の発光モジュール１５０ａは、第２の電
極１５２ａと第２の基板１２０の間に犠牲層１３０を有し、第２の発光モジュール１５０
ｂは、第２の電極１５２ｂと第２の基板１２０の間に犠牲層１３０を有する。また、隔壁
１４０と第２の基板１２０の間に犠牲層１３０を有する。
【０１２３】
なお、本変形例で例示する発光パネル１００が備える第１の発光モジュール１５０ａは、
発光性の有機化合物を含む層１５３ａが発する光を反射する第２の電極１５２ａと、該光
を透過する第１の電極１５１ａと、該光の一部を透過する第１の光学フィルタ１２１ａと
、を備え、第２の発光モジュール１５０ｂは、発光性の有機化合物を含む層１５３ｂが発
する光を反射する第２の電極１５２ｂと、該光を透過する第１の電極１５１ｂと、該光の
一部を透過する第２の光学フィルタ１２１ｂと、を備える。
【０１２４】
本実施の形態で例示した本発明の一態様の発光モジュールは、不純物（代表的には水およ
び／または酸素）と反応、或いは不純物を吸着する材料を含み、塗布法（湿式法ともいう
）を用いて形成された犠牲層を、第２の電極に接して備える構成を有する。これにより、
発光素子の信頼性を損なう不純物は、犠牲層に含まれる材料と優先的に反応、或いは犠牲
層に含まれる材料に吸着され、その活性を失う。その結果、信頼性の高い発光モジュール
を提供できる。
【０１２５】
また、本発明の一態様の発光モジュールは、隔壁上の犠牲層の厚さが薄い。これにより迷
光が抑制される。その結果、発光モジュールの発光効率が向上し、信頼性の高い発光モジ
ュールを提供できる。
【０１２６】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
【０１２７】
（実施の形態２）
本実施の形態では、第１の基板に設けられた第１の電極と、当該第１の電極との間に発光
性の有機化合物を含む層を挟持する第２の電極と、当該第２の電極上に液状の材料から形
成された犠牲層と、を第１の基板と第２の基板の間に有する構成を備える発光モジュール
について図３、及び図４を参照して説明する。具体的には複数の発光モジュールが隣接し
て設けられた発光パネルが適用された発光装置の構成を説明する。
【０１２８】
本実施の形態で例示する発光モジュールは、発光素子を囲うシール材が、第１の基板と第
２の基板を貼り合わせる構成を備える（図３（Ａ）、図３（Ｂ）乃至図３（Ｃ）参照）。
シール材は、発光素子の信頼性を損なう不純物（代表的には水および／または酸素）が発
光モジュールの内部へ侵入する現象を阻み、且つ犠牲層に含まれる材料は、侵入した不純
物と優先的に反応、或いは不純物を吸着し、該不純物の活性を失わせる。その結果、信頼
性の高い発光モジュールを提供できる。
【０１２９】
本実施の形態で例示する発光モジュールは、第１の基板と第２の基板を貼り合わせるシー
ル材が犠牲層を囲む構成を有する（図３（Ｃ）参照）。本発明の一態様の発光モジュール
は、犠牲層と重なることなく、シール材が発光素子と犠牲層を囲んで、第１の基板と第２
の基板を貼り合わせる構成を有する。シール材が犠牲層と重なる部分がないため、犠牲層
を介して大気が発光モジュールに侵入することがない。その結果、信頼性の高い発光モジ
ュールを提供できる。
【０１３０】
本実施の形態で例示する発光モジュールが備える犠牲層は、液状であってもよい（図３（
Ｃ）参照）。犠牲層を液状とすることで犠牲層が流動し、均質に保つことができる。また
、犠牲層がシール材で囲まれているため、液状の犠牲層が漏れ出すことがない。その結果
、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【０１３１】
なお、液状の犠牲層は発光素子を溶解しない液体、例えば液晶材料、フッ素系不活性液体
（パーフルオロカーボン等）を適用できる。これらの材料から、発光素子の信頼性を損な
う不純物を除去して用いればよい。また、これらの材料に不純物と反応、或いは不純物を
吸着する材料を分散して用いても良い。
【０１３２】
また、本実施の形態で例示する発光モジュールが備える犠牲層は、固体状であってもよい
。犠牲層が固体であると不純物の拡散が遅い。その結果、信頼性の高い発光モジュールを
提供できる。
【０１３３】
本実施の形態で例示する発光モジュールは、第１の基板と第２の基板を犠牲層が貼り合わ
せる構成を備える。（図４参照）。犠牲層が第１の基板と第２の基板を貼り合わせるため
、別途シール材を設ける必要がない。その結果、簡便に信頼性の高い発光モジュールを提
供できる。
【０１３４】
本実施の形態では、本発明の一態様の発光モジュールをトランジスタに接続して用いるア
クティブ型の発光装置を例示して説明するが、本発明の一態様はアクティブ型の発光装置
に限定されるものではなく、パッシブ型の発光装置にも、表示装置にも、照明装置にも適
用可能である。
【０１３５】
＜アクティブマトリクス型の発光装置＞
アクティブマトリクス型の発光装置に適用した場合の構成を図３に示す。なお、図３（Ａ
）は、発光装置の上面図、図３（Ｂ）は図３（Ａ）をＡ−ＢおよびＣ−Ｄで切断した断面
図である。図３（Ｂ）に例示する発光装置１４００は図中に示す矢印の方向に光を射出す
る。
【０１３６】
アクティブマトリクス型の発光装置１４００は、駆動回路部（ソース側駆動回路）１４０
１、画素部１４０２、駆動回路部（ゲート側駆動回路）１４０３、第２の基板１４０４、
シール材１４０５を備える（図３（Ａ）参照）。なお、シール材１４０５で囲まれた内側
は、空間になっている。
【０１３７】
発光装置１４００は外部入力端子となるＦＰＣ（フレキシブルプリントサーキット）１４
０９を介して、ビデオ信号、クロック信号、スタート信号、リセット信号等を受け取る。
なお、ここではＦＰＣしか図示されていないが、ＦＰＣにはプリント配線基板（ＰＷＢ）
が取り付けられていても良い。本明細書における発光装置には、発光装置本体だけでなく
、それにＦＰＣまたはＰＷＢが取り付けられた状態をも含むものとする。
【０１３８】
次に、発光装置１４００の構成について図３（Ｂ）に示す断面図を用いて説明する。発光
装置１４００は、第１の基板１４１０上に図示されたソース側駆動回路１４０１を含む駆
動回路部および、図示された画素を含む画素部１４０２を備える。また、ソース側駆動回
路１４０１およびゲート側駆動回路１４０３に入力される信号を伝送するための引き回し
配線１４０８を備える。
【０１３９】
なお、本実施の形態ではソース側駆動回路１４０１がｎチャネル型トランジスタ１４２３
とｐチャネル型トランジスタ１４２４とを組み合わせたＣＭＯＳ回路を含む構成について
例示するが、駆動回路はこの構成に限定されず、種々のＣＭＯＳ回路、ＰＭＯＳ回路また
はＮＭＯＳ回路で構成しても良い。また、本実施の形態では、基板上に駆動回路を形成し
たドライバ一体型を示すが、必ずしもその必要はなく、駆動回路を基板上ではなく外部に
形成することもできる。
【０１４０】
＜トランジスタの構成＞
なお、トランジスタのチャネルが形成される領域には、さまざまな半導体を用いることが
できる。具体的には、アモルファスシリコン、ポリシリコン、単結晶シリコンの他、酸化
物半導体などを用いることができる。
【０１４１】
トランジスタのチャネルが形成される領域に単結晶半導体を用いると、トランジスタサイ
ズを微細化することが可能となるため、表示部において画素をさらに高精細化することが
できる。
【０１４２】
半導体層を構成する単結晶半導体としては、代表的には、単結晶シリコン基板、単結晶ゲ
ルマニウム基板、単結晶シリコンゲルマニウム基板など、第１４族元素でなる単結晶半導
体基板、化合物半導体基板（ＳｉＣ基板、サファイア基板、ＧａＮ基板等）などの半導体
基板を用いることができる。好適には、絶縁表面上に単結晶半導体層が設けられたＳＯＩ
（Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｏｎ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）基板を用いることができる。
【０１４３】
ＳＯＩ基板の作製方法としては、鏡面研磨ウェハーに酸素イオンを注入した後、高温加熱
することにより、表面から一定の深さに酸化層を形成させるとともに、表面層に生じた欠
陥を消滅させて作る方法、水素イオン照射により形成された微小ボイドの熱処理による成
長を利用して半導体基板を劈開する方法や、絶縁表面上に結晶成長により単結晶半導体層
を形成する方法等を用いることができる。
【０１４４】
本実施の形態では、単結晶半導体基板の一つの面からイオンを添加して、単結晶半導体基
板の一つの面から一定の深さに脆弱化層を形成し、単結晶半導体基板の一つの面上、また
は第１の基板１４１０上のどちらか一方に絶縁層を形成する。単結晶半導体基板と第１の
基板１４１０を、絶縁層を挟んで重ね合わせた状態で、脆弱化層に亀裂を生じさせ、単結
晶半導体基板を脆弱化層で分離する熱処理を行い、単結晶半導体基板より半導体層として
単結晶半導体層を第１の基板１４１０上に形成する。なお、第１の基板１４１０としては
、ガラス基板を用いることができる。
【０１４５】
また、半導体基板に絶縁分離領域を形成し、絶縁分離された半導体領域を用いてトランジ
スタ１４１１、１４１２を形成してもよい。
【０１４６】
単結晶半導体をチャネル形成領域として用いることで、結晶粒界における結合の欠陥に起
因する、トランジスタのしきい値電圧等の電気的特性のばらつきを軽減できるため、本発
明の一態様の発光装置は、各画素にしきい値電圧補償用の回路を配置しなくても正常に発
光素子を動作させることができる。したがって、一画素における回路要素を削減すること
が可能となるため、レイアウトの自由度が向上する。よって、発光装置の高精細化を図る
ことができる。例えば、マトリクス状に配置された複数の画素を一インチあたり３５０以
上含む（水平解像度が３５０ｐｐｉ（ｐｉｘｅｌｓ  ｐｅｒ  ｉｎｃｈ）以上である）、
さらに好ましくは４００以上含む（水平解像度が４００ｐｐｉ以上である）構成とするこ
とが可能となる。
【０１４７】
さらに、単結晶半導体をチャネル形成領域として用いたトランジスタは、高い電流駆動能
力を維持したまま、微細化が可能である。該微細なトランジスタを用いることで表示に寄
与しない回路部の面積を縮小することができるため、表示部においては表示面積が拡大し
、かつ発光装置の狭額縁化が達成できる。
【０１４８】
＜画素部の構成＞
また、画素部１４０２は複数の画素を備える。画素は発光素子１４１８と、発光素子１４
１８の第１の電極１４１３にドレイン電極が接続された電流制御用トランジスタ１４１２
と、スイッチング用トランジスタ１４１１と、を有する。
【０１４９】
発光パネルに設けられた発光素子１４１８は、第１の電極１４１３と、第２の電極１４１
７と、発光性の有機化合物を含む層１４１６と、を有する。なお、隔壁１４１４が第１の
電極１４１３の端部を覆って形成されている。
【０１５０】
隔壁１４１４の上端部または下端部には、曲率を有する曲面が形成されるようにする。隔
壁１４１４は、光の照射によってエッチャントに不溶解性となるネガ型の感光性樹脂、或
いは光の照射によってエッチャントに溶解性となるポジ型の感光性樹脂のいずれも使用す
ることができる。例えば、隔壁１４１４の材料としてポジ型の感光性アクリルを用いた場
合、隔壁１４１４の上端部のみに曲率半径（０．２μｍ〜３μｍ）を有する曲面を持たせ
ることが好ましい。ここでは、ポジ型の感光性ポリイミド膜を用いることにより形成する
。
【０１５１】
なお、隔壁を遮光性とすると、発光パネルに設けられた反射性の膜による外光の反射を抑
制できる。発光素子１４１８の外側に延在する反射膜が、外光を反射すると発光装置のコ
ントラストが低下してしまうため、鮮やかな発光を得られない。隔壁を遮光性とする場合
は、黒色に着色した樹脂層を用いて形成できる。
【０１５２】
発光素子１４１８の構成としては、例えば実施の形態４で例示する発光素子の構成を適用
できる。
【０１５３】
具体的には、発光性の有機化合物を含む層１４１６に白色を呈する光を発する構成を適用
できる。
【０１５４】
また、カラーフィルタ１４３４を発光素子１４１８と重なる位置に設けることができる。
また、遮光性の膜（ブラックマトリクスともいう）を隣接する発光素子の間の隔壁に重ね
て設けることができる。なお、カラーフィルタ１４３４および遮光性の膜は、いずれも第
２の基板１４０４に設けることができる。
【０１５５】
また、発光素子１４１８の第１の電極１４１３と第２の電極１４１７を用いて、微小共振
器（マイクロキャビティともいう）を構成できる。例えば、第１の電極１４１３に発光性
の有機化合物を含む層１４１６が発する光を反射する導電膜を用い、第２の電極１４１７
に、当該光の一部を反射し、一部を透過する半透過・半反射膜性の導電膜を用いて構成で
きる。
【０１５６】
また、光学調整層を第１の電極と第２の電極の間に設けることができる。光学調整層は反
射性の第１の電極１４１３と半透過・半反射性の第２の電極１４１７の間の光学距離を調
整する層であり、光学調整層の厚さを調整することにより、第２の電極１４１７から優先
的に取り出す光の波長を調整できる。
【０１５７】
光学調整層に用いることができる材料としては、発光性の有機化合物を含む層を適用でき
る。例えば、電荷発生領域を用いて、その厚さを調整してもよい。特に正孔輸送性の高い
物質とアクセプター性物質を含む領域を光学調整層に用いると、光学調整層が厚い構成で
あっても駆動電圧の上昇を抑制できるため好ましい。
【０１５８】
また、光学調整層に用いることができる他の材料としては、発光性の有機化合物を含む層
１４１６が発する光を透過する透光性の導電膜を適用できる。例えば、反射性の導電膜の
表面に該透光性を有する導電膜を積層して、第１の電極１４１３を構成できる。この構成
によれば、隣接する第１の電極の光学調整層の厚さを変えることが容易であるため好まし
い。
【０１５９】
＜封止構造１．＞
本実施の形態で例示する発光装置１４００は、第１の基板１４１０、第２の基板１４０４
、およびシール材１４０５で囲まれた空間に、発光素子１４１８を封止する構造を備える
。
【０１６０】
空間には犠牲層１４０７が充填されている。空間は隙間無く犠牲層１４０７によって満た
されていても、一部に空間がのこっていても良く、残った空間には不活性気体（窒素やア
ルゴン等）が充填される場合の他、シール材１４０５で充填される場合もある。また、乾
燥剤など不純物（代表的には水および／または酸素）の吸着材を設けても良い。
【０１６１】
シール材１４０５および第２の基板１４０４は、大気中の不純物（代表的には水および／
または酸素）をできるだけ透過しない材料であることが望ましい。シール材１４０５には
エポキシ系樹脂や、ガラスフリット等を用いることができる。
【０１６２】
第２の基板１４０４に用いることができる材料としては、ガラス基板や石英基板の他、Ｐ
ＶＦ（ポリビニルフロライド）、ポリエステルまたはアクリル等からなるプラスチック基
板や、ＦＲＰ（Ｆｉｂｅｒｇｌａｓｓ−Ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｄ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ）等を
その例に挙げることができる。
【０１６３】
図３（Ｂ）に例示する発光装置は、犠牲層１４０７が発光素子１４１８を覆い、発光素子
１４１８を囲うシール材１４０５が、第１の基板と第２の基板を貼り合わせる構成を備え
る。シール材１４０５は、発光素子１４１８の信頼性を損なう不純物が発光モジュールの
内部へ侵入する現象を阻み、且つ犠牲層１４０７に含まれる材料は、侵入した不純物と優
先的に反応、或いは不純物を吸着し、該不純物の活性を失わせる。その結果、信頼性の高
い発光モジュールを提供できる。
【０１６４】
＜封止構造２．＞
図３（Ｂ）に例示する発光装置とは異なる構成を備える発光装置の構成を、図３（Ｃ）を
用いて説明する。図３（Ｃ）に例示する発光装置が備える発光モジュールは、第１の基板
と第２の基板を貼り合わせるシール材が犠牲層を囲む構成を有する。シール材と犠牲層が
重なる構成がないため、犠牲層を介して大気が発光モジュールに侵入することがない。そ
の結果、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【０１６５】
なお、本実施の形態で例示する発光モジュールが備える犠牲層は、液状であってもよい。
犠牲層を液状とすることで犠牲層が流動し、均質に保つことができる。また、犠牲層がシ
ール材で囲まれているため、液状の犠牲層が漏れ出すことがない。その結果、信頼性の高
い発光モジュールを提供できる。
【０１６６】
本実施の形態で例示する発光モジュールが備える犠牲層は、固体状であってもよい。犠牲
層が固体であると不純物の拡散が遅い。その結果、信頼性の高い発光モジュールを提供で
きる。
【０１６７】
また、隔壁１４１４上にスペーサ１４３３を設けることができる。スペーサ１４３３は球
状であっても、柱状であってもよい。スペーサ１４３３を隔壁１４１４上に設けると、外
力が加わり撓んだ第２の基板１４０４が発光素子１４１８を傷つける現象を防止できる。
【０１６８】
＜封止構造３．＞
図３（Ｂ）または図３（Ｃ）に例示する発光装置とは異なる構成を備える発光装置の構成
を、図４を用いて説明する。図４に例示する発光装置が備える発光モジュールは、第１の
基板と第２の基板を犠牲層が貼り合わせる発光モジュールである。犠牲層が第１の基板と
第２の基板を貼り合わせるため、別途シール材を設ける必要がない。その結果、簡便に信
頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【０１６９】
上記本発明の一態様の発光モジュールは、第１の基板に設けられた第１の電極と、当該第
１の電極との間に発光性の有機化合物を含む層を挟持する第２の電極と、当該第２の電極
上に液状の材料から形成された犠牲層と、を第１の基板と第２の基板の間に有する構成を
備える。
【０１７０】
本実施の形態で例示する発光モジュールは、第１の基板と第２の基板を犠牲層が貼り合わ
せる構成を備える。犠牲層が第１の基板と第２の基板を貼り合わせるため、別途シール材
を設ける必要がない。その結果、簡便に信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【０１７１】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
【０１７２】
（実施の形態３）
本実施の形態では、本発明の一態様の発光モジュールを作製する方法について、複数の発
光モジュールが隣接して設けられた発光パネルが適用された発光装置を作製する場合を例
に、説明する。具体的には、第１の基板に設けられた第１の電極と、当該第１の電極との
間に発光性の有機化合物を含む層を挟持する第２の電極と、当該第２の電極上に液状の材
料から形成された犠牲層と、を第１の基板と第２の基板の間に有する構成を備える発光モ
ジュールの作製方法について図５、及び図６を参照して説明する。
【０１７３】
＜第１のステップ＞
第１の基板１４１０上に単結晶半導体層を形成する。単結晶半導体基板の一方の面からイ
オンを添加して、一定の深さに脆弱化層を形成する。また、第１の基板１４１０の一方の
面に絶縁膜を形成する。該絶縁層を挟んで単結晶半導体基板と第１の基板１４１０を重ね
合わせ、熱処理を行い、該脆弱化層に亀裂を生じさせる。単結晶半導体基板を脆弱化層で
分離して、第１の基板１４１０上に単結晶半導体層を形成する。
【０１７４】
該単結晶半導体層をチャネル形成領域とするトランジスタ、具体的にはｎチャネル型トラ
ンジスタ１４２３とｐチャネル型トランジスタ１４２４とを、ソース側駆動回路１４０１
に形成する。また、電流制御用トランジスタ１４１２とスイッチング用トランジスタ１４
１１と、を画素部１４０２に形成する。
【０１７５】
トランジスタを覆う絶縁層を形成し、該絶縁層上に配線層を形成し、トランジスタのソー
ス電極またはドレイン電極と該配線層を該絶縁層に設けた開口部を介して接続する。
【０１７６】
次いで、第１の電極１４１３になる導電膜をトランジスタ１４１２のソース電極またはド
レイン電極と電気的に接続するように形成し、該導電膜を島状に加工して第１の電極１４
１３を形成する。
【０１７７】
次いで、絶縁性の隔壁１４１４を第１の電極１４１３の端部を覆い、第１の電極１４１３
と重なる開口部を有するように形成する。
【０１７８】
次いで、隔壁１４１４の開口部において第１の電極１４１３と接する発光性の有機化合物
を含む層１４１６を形成し、該発光性の有機化合物を含む層１４１６の他方の面と接する
第２の電極１４１７を、該隔壁１４１４の開口部に重ねて形成して発光素子１４１８を作
製する（図５（Ａ）参照）。
【０１７９】
なお、本実施の形態では発光素子１４１８に、白色を呈する光を発する発光素子を適用す
る場合について説明する。また、白色を呈する光を発する発光素子の構成およびその作製
方法は実施の形態４において説明する。
【０１８０】
＜第２のステップ＞
次いで、第２の電極１４１７上に犠牲層１４０７を形成する。犠牲層１４０７は塗布法（
湿式法ともいう）を用いて形成する。
【０１８１】
塗布法は、材料を溶解または分散した液体を塗布して犠牲層１４０７を形成する方法をい
う。具体的には、スピンコート法、印刷法、コーティング法、ディップ法、ディスペンサ
法、インクジェット法など、流動性を有する液体状の材料を基材の表面に接して設ける方
法全般をいう。第２のステップでは、不純物（代表的には水または／および酸素）と反応
、或いは不純物を吸着する材料を分散した液体を塗布して第２の電極１４１７に接して設
ける。
【０１８２】
塗布液は、不純物（代表的には水または／および酸素）と反応、或いは不純物を吸着する
材料を、不純物が除去された溶媒に溶解、または分散媒に分散して調整する。溶媒または
分散媒は揮発性であっても、反応性であってもよい。揮発性の溶媒（例えば有機溶媒）を
用いた塗布液は、加熱または減圧により固体状の犠牲層１４０７を形成できる。反応性の
溶媒（例えばモノマー）を用いた塗布液は、エネルギー（例えば加熱または紫外線照射）
により固体状の犠牲層１４０７を形成できる。
【０１８３】
本実施の形態では、ディスペンサを用いて犠牲層１４０７を形成する。塗布液を定量可能
な容器（例えばシリンジ）に充填する。次いで、該定量可能な容器（例えばシリンジ）を
ディスペンサに接続する。
【０１８４】
不純物が除去された環境下（具体的には露点−７０℃以下）で、ディスペンサを用いて定
量した塗布液を第２の電極上に滴下して、所望の厚さの塗布液層を形成する。
【０１８５】
また、第２の基板１４０４のカラーフィルタ１４３４と遮光性の膜が形成された面に、発
光素子１４１８を囲うシール材１４０５を形成する（図５（Ｂ）参照）。
【０１８６】
＜第３のステップ＞
シール材１４０５を用いて、発光素子１４１８を挟むように第１の基板１４１０と、第２
の基板１４０４を貼り合わせる。なお、シール材１４０５に反応性の材料を用いる場合は
、硬化するためのエネルギー（例えば、熱または紫外線）を、発光素子に損傷を与えない
ように付与すればよい（図５（Ｃ）参照）。
【０１８７】
＜作製方法の変形例１．＞
犠牲層１４０７を固体状とする方法は、上述の第２のステップにおいて、塗布液層にエネ
ルギー（例えば、熱または紫外線）を付与して、固体状とすることができる。
【０１８８】
具体的には、塗布液層が揮発性の溶媒（例えば有機溶媒）を含む場合、塗布液層が形成さ
れた第１の基板を加熱または減圧して、該溶媒を揮発させ、塗布液層を固体状にすること
ができる。また、揮発させる溶媒の量を調整して、塗布液層の流動性を調整してもよい。
【０１８９】
また、塗布液層が反応性の溶媒（例えばモノマー）を含む場合、塗布液層が形成された第
１の基板を加熱または減圧して、該溶媒を硬化させ、塗布液層を固体状にすることができ
る。また、塗布液層を硬化させる反応を調整して、その流動性を調整してもよい。
【０１９０】
上記の方法により、塗布液層を固体化またはその流動性を調整することにより、不純物（
代表的には水および／または酸素）の拡散が抑制された固体状の犠牲層を形成できる。ま
た、犠牲層に残留する溶媒の量を調整できる。その結果、信頼性の高い発光モジュールの
作製方法を提供できる。
【０１９１】
＜作製方法の変形例２．＞
犠牲層１４０７を固体状とする他の方法は、上述の第３のステップにおいて、塗布液層に
エネルギー（例えば、熱または紫外線）を付与して、固体状とすることができる。
【０１９２】
具体的には、塗布液層が揮発性の溶媒（例えば有機溶媒）を含む場合、塗布液層が形成さ
れた第１の基板を加熱または減圧して、該溶媒を揮発させ、塗布液層を固体状にすること
ができる。また、揮発させる溶媒の量を調整して、塗布液層の流動性を調整してもよい。
【０１９３】
なお、上記の方法用いる場合、塗布液層から揮発性の溶媒が放出されるため、シール材１
４０５に開口部を設けてもよい。シール材１４０５に開口部を設ける場合は、上記の第３
のステップを終えた後に、当該開口部を塞ぐ第２のシール材を形成する工程を追加すると
好ましい。
【０１９４】
また、塗布液層が反応性の溶媒（例えばモノマー）を含む場合、塗布液層が形成された第
１の基板を加熱または減圧して、該溶媒を硬化させ、塗布液層を固体状にすることができ
る。また、硬化させる反応を調整して、塗布液層の流動性を調整してもよい。
【０１９５】
上記の方法により、塗布液層を固体化またはその流動性を調整することにより、不純物（
代表的には水および／または酸素）の拡散が抑制された固体状の犠牲層を形成できる。ま
た、犠牲層に残留する溶媒の量を調整できる。その結果、信頼性の高い発光モジュールの
作製方法を提供できる。
【０１９６】
＜作製方法の変形例３．＞
本発明の一態様の発光モジュールの別の作製方法は、上述の第１のステップに続く第２の
ステップにおいて、第２の電極１４１７上に犠牲層１４０７を形成することなく、第２の
基板１４０４のカラーフィルタ１４３４と遮光性の膜が形成された面に、発光素子１４１
８を囲う第１のシール材１４０５ｂを、開口部を設けて形成する。その後、第１のシール
材１４０５ｂを用いて、発光素子１４１８を挟むように第１の基板１４１０と第２の基板
１４０４を貼り合わせる（図６（Ａ）、図６（Ｂ）参照）。
【０１９７】
続く第３のステップにおいて、第１の基板１４１０と第２の基板１４０４の間に、シール
材１４０５ｂに設けた開口部から不純物と反応、或いは不純物を吸着する材料を含む塗布
液層を注入する。
【０１９８】
塗布液の注入方法としては、第１の基板１４１０と第２の基板１４０４を貼り合わせたも
のを減圧された環境下に配置して、該開口部から塗布液を該環境よりも高い圧力で導入す
ればよい。具体的には、減圧された環境下で開口部を塗布液に浸漬した後、環境の圧力を
次第に上昇させる方法や、開口部にノズルを挿入して塗布液を注入する方法などを用いる
ことができる。
【０１９９】
続く第４のステップにおいては、第２のシール材１４１５ｃを形成して、該開口部を塞ぐ
、発光モジュールの作製方法である（図６（Ｃ）参照）。
【０２００】
上記本発明の一態様の発光モジュールの作製方法によれば、塗布法（湿式法ともいう）を
用いて第２の電極に接して犠牲層を形成できる。その結果、信頼性の高い発光モジュール
の作製方法を提供できる。
【０２０１】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
【０２０２】
（実施の形態４）
本実施の形態では、本発明の一態様の発光モジュールに用いることができる発光素子の構
成について説明する。具体的には、第１の基板に設けられた第１の電極と、当該第１の電
極との間に発光性の有機化合物を含む層を挟持する第２の電極と、当該第２の電極上に液
状の材料から形成された犠牲層と、を第１の基板と第２の基板の間に有する発光モジュー
ルに用いることができる、一対の電極に発光性の有機化合物を含む層が挟持された発光素
子の構成の一例について、図７を参照して説明する。
【０２０３】
本実施の形態で例示する発光素子は、第１の電極、第２の電極及び第１の電極と第２の電
極の間に発光性の有機化合物を含む層（以下ＥＬ層という）を備える。第１の電極または
第２の電極のいずれか一方は陽極、他方は陰極として機能する。ＥＬ層は第１の電極と第
２の電極の間に設けられ、該ＥＬ層の構成は第１の電極と第２の電極の材質に合わせて適
宜選択すればよい。以下に発光素子の構成の一例を例示するが、発光素子の構成がこれに
限定されないことはいうまでもない。
【０２０４】
なお、本実施の形態で例示するＥＬ層に用いることができる材料（正孔輸送性の高い物質
、発光物質、ホスト材料、電子輸送性の高い物質、電子注入性の高い物質または／および
アクセプター性物質等）は、本発明の一態様の発光モジュールが備える犠牲層に用いるこ
とができる。発光素子の信頼性を損なう不純物は、発光素子の信頼性を損なう前に犠牲層
に添加されたＥＬ層に用いることができる材料と反応、或いは吸着され、該不純物はその
活性を失う。その結果、信頼性の高い発光モジュールを提供できる。
【０２０５】
犠牲層に適用可能な材料の具体例としては、導電性高分子、ポリ（３，４−エチレンジオ
キシチオフェン）／ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、４，４’−ビ
ス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（略称：ＮＰＢまたはα−
ＮＰＤ）、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（略称：Ａｌｑ）などが挙げられる
。
【０２０６】
＜発光素子の構成例１．＞
発光素子の構成の一例を図７（Ａ）に示す。図７（Ａ）に示す発光素子は、陽極１１０１
と陰極１１０２の間にＥＬ層が挟まれている。
【０２０７】
陽極１１０１と陰極１１０２の間に、発光素子の閾値電圧より高い電圧を印加すると、Ｅ
Ｌ層に陽極１１０１の側から正孔が注入され、陰極１１０２の側から電子が注入される。
注入された電子と正孔はＥＬ層において再結合し、ＥＬ層に含まれる発光物質が発光する
。
【０２０８】
本明細書においては、両端から注入された電子と正孔が再結合する領域を１つ有する層ま
たは積層体を発光ユニットという。よって、当該発光素子の構成例１は発光ユニットを１
つ備えるということができる。
【０２０９】
発光ユニット１１０３は、少なくとも発光物質を含む発光層を１つ以上備えていればよく
、発光層以外の層と積層された構造であっても良い。発光層以外の層としては、例えば正
孔注入性の高い物質、正孔輸送性の高い物質、正孔輸送性に乏しい（ブロッキングする）
物質、電子輸送性の高い物質、電子注入性の高い物質、並びにバイポーラ性（電子及び正
孔の輸送性の高い）の物質等を含む層が挙げられる。
【０２１０】
発光ユニット１１０３の具体的な構成の一例を図７（Ｂ）に示す。図７（Ｂ）に示す発光
ユニット１１０３は、正孔注入層１１１３、正孔輸送層１１１４、発光層１１１５、電子
輸送層１１１６、並びに電子注入層１１１７が陽極１１０１側からこの順に積層されてい
る。
【０２１１】
＜発光素子の構成例２．＞
発光素子の構成の他の一例を図７（Ｃ）に示す。図７（Ｃ）に例示する発光素子は、陽極
１１０１と陰極１１０２の間に発光ユニット１１０３を含むＥＬ層が挟まれている。さら
に、陰極１１０２と発光ユニット１１０３との間には中間層１１０４が設けられている。
なお、当該発光素子の構成例２の発光ユニット１１０３には、上述の発光素子の構成例１
が備える発光ユニットと同様の構成が適用可能であり、詳細については、発光素子の構成
例１の記載を参酌できる。
【０２１２】
中間層１１０４は少なくとも電荷発生領域を含んで形成されていればよく、電荷発生領域
以外の層と積層された構成であってもよい。例えば、第１の電荷発生領域１１０４ｃ、電
子リレー層１１０４ｂ、及び電子注入バッファー１１０４ａが陰極１１０２側から順次積
層された構造を適用することができる。
【０２１３】
中間層１１０４における電子と正孔の挙動について説明する。陽極１１０１と陰極１１０
２の間に、発光素子の閾値電圧より高い電圧を印加すると、第１の電荷発生領域１１０４
ｃにおいて、正孔と電子が発生し、正孔は陰極１１０２へ移動し、電子は電子リレー層１
１０４ｂへ移動する。電子リレー層１１０４ｂは電子輸送性が高く、第１の電荷発生領域
１１０４ｃで生じた電子を電子注入バッファー１１０４ａに速やかに受け渡す。電子注入
バッファー１１０４ａは発光ユニット１１０３に電子を注入する障壁を緩和し、発光ユニ
ット１１０３への電子注入効率を高める。従って、第１の電荷発生領域１１０４ｃで発生
した電子は、電子リレー層１１０４ｂと電子注入バッファー１１０４ａを経て、発光ユニ
ット１１０３のＬＵＭＯ準位に注入される。
【０２１４】
また、電子リレー層１１０４ｂは、第１の電荷発生領域１１０４ｃを構成する物質と電子
注入バッファー１１０４ａを構成する物質が界面で反応し、互いの機能が損なわれてしま
う等の相互作用を防ぐことができる。
【０２１５】
発光素子の構成例２の陰極に用いることができる材料の選択の幅は、構成例１の陰極に用
いることができる材料の選択の幅に比べて、広い。なぜなら、構成例２の陰極は中間層が
発生する正孔を受け取ればよく、仕事関数が比較的大きな材料を適用できるからである。
【０２１６】
＜発光素子の構成例３．＞
発光素子の構成の他の一例を図７（Ｄ）に示す。図７（Ｄ）に例示する発光素子は、陽極
１１０１と陰極１１０２の間に２つの発光ユニットが設けられたＥＬ層を備えている。さ
らに、第１の発光ユニット１１０３ａと、第２の発光ユニット１１０３ｂとの間には中間
層１１０４が設けられている。
【０２１７】
なお、陽極１１０１と陰極１１０２の間に設ける発光ユニットの数は２つに限定されない
。図７（Ｅ）に例示する発光素子は、発光ユニット１１０３が複数積層された構造、所謂
、タンデム型の発光素子の構成を備える。但し、例えば陽極と陰極の間にｎ（ｎは２以上
の自然数）層の発光ユニット１１０３を設ける場合には、ｍ（ｍは自然数、１以上（ｎ−
１）以下）番目の発光ユニットと、（ｍ＋１）番目の発光ユニットとの間に、それぞれ中
間層１１０４を設ける構成とする。
【０２１８】
また、当該発光素子の構成例３の発光ユニット１１０３には、上述の発光素子の構成例１
と同様の構成を適用することが可能であり、また当該発光素子の構成例３の中間層１１０
４には、上述の発光素子の構成例２と同様の構成が適用可能である。よって、詳細につい
ては、発光素子の構成例１、または発光素子の構成例２の記載を参酌できる。
【０２１９】
発光ユニットの間に設けられた中間層１１０４における電子と正孔の挙動について説明す
る。陽極１１０１と陰極１１０２の間に、発光素子の閾値電圧より高い電圧を印加すると
、中間層１１０４において正孔と電子が発生し、正孔は陰極１１０２側に設けられた発光
ユニットへ移動し、電子は陽極側に設けられた発光ユニットへ移動する。陰極側に設けら
れた発光ユニットに注入された正孔は、陰極側から注入された電子と再結合し、当該発光
ユニットに含まれる発光物質が発光する。また、陽極側に設けられた発光ユニットに注入
された電子は、陽極側から注入された正孔と再結合し、当該発光ユニットに含まれる発光
物質が発光する。よって、中間層１１０４において発生した正孔と電子は、それぞれ異な
る発光ユニットにおいて発光に至る。
【０２２０】
なお、発光ユニット同士を接して設けることで、両者の間に中間層と同じ構成が形成され
る場合は、発光ユニット同士を接して設けることができる。具体的には、発光ユニットの
一方の面に電荷発生領域が形成されていると、当該電荷発生領域は中間層の第１の電荷発
生領域として機能するため、発光ユニット同士を接して設けることができる。
【０２２１】
発光素子の構成例１乃至構成例３は、互いに組み合わせて用いることができる。例えば、
発光素子の構成例３の陰極とｎ番目の発光ユニットの間に中間層を設けることもできる。
【０２２２】
＜発光素子に用いることができる材料＞
次に、上述した構成を備える発光素子に用いることができる具体的な材料について、陽極
、陰極、ＥＬ層、電荷発生領域、電子リレー層並びに電子注入バッファーの順に説明する
。
【０２２３】
＜陽極に用いることができる材料＞
陽極１１０１は、仕事関数の大きい（具体的には４．０ｅＶ以上が好ましい）金属、合金
、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などを用いることが好ましい。具体的には、
例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、珪素若し
くは酸化珪素を含有したインジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚ
ｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、酸化タングステン及び酸化亜鉛を含有した酸化インジウム等が挙
げられる。
【０２２４】
これらの導電性金属酸化物膜は、通常スパッタリング法により成膜されるが、ゾル−ゲル
法などを応用して作製しても構わない。例えば、インジウム−亜鉛酸化物膜は、酸化イン
ジウムに対し１ｗｔ％以上２０ｗｔ％以下の酸化亜鉛を加えたターゲットを用いてスパッ
タリング法により形成することができる。また、酸化タングステン及び酸化亜鉛を含有し
た酸化インジウム膜は、酸化インジウムに対し酸化タングステンを０．５ｗｔ％以上５ｗ
ｔ％以下、酸化亜鉛を０．１ｗｔ％以上１ｗｔ％以下含有したターゲットを用いてスパッ
タリング法により形成することができる。
【０２２５】
この他、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）、タングステン（Ｗ）、クロム（
Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム
（Ｐｄ）、チタン（Ｔｉ）、または金属材料の窒化物（例えば、窒化チタン等）、モリブ
デン酸化物、バナジウム酸化物、ルテニウム酸化物、タングステン酸化物、マンガン酸化
物、チタン酸化物等が挙げられる。また、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）
／ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリアニリン／ポリ（スチレン
スルホン酸）（ＰＡｎｉ／ＰＳＳ）等の導電性ポリマーを用いても良い。
【０２２６】
但し、陽極１１０１と接して第２の電荷発生領域を設ける場合には、仕事関数を考慮せず
に様々な導電性材料を陽極１１０１に用いることができる。具体的には、仕事関数の大き
い材料だけでなく、仕事関数の小さい材料を用いることもできる。第２の電荷発生領域を
構成する材料については、第１の電荷発生領域と共に後述する。
【０２２７】
＜陰極に用いることができる材料＞
陰極１１０２に接して第１の電荷発生領域１１０４ｃを、発光ユニット１１０３との間に
設ける場合、陰極１１０２は仕事関数の大小に関わらず様々な導電性材料を用いることが
できる。
【０２２８】
なお、陰極１１０２および陽極１１０１のうち少なくとも一方を、可視光を透過する導電
膜を用いて形成する。可視光を透過する導電膜としては、例えば酸化タングステンを含む
インジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むイ
ンジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物、インジウ
ム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物などを挙げることができる。ま
た、光を透過する程度（好ましくは、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下程度）の金属薄膜を用いる
こともできる。
【０２２９】
＜ＥＬ層に用いることができる材料＞
上述した発光ユニット１１０３を構成する各層に用いることができる材料について、以下
に具体例を示す。
【０２３０】
正孔注入層は、正孔注入性の高い物質を含む層である。正孔注入性の高い物質としては、
例えば、モリブデン酸化物やバナジウム酸化物、ルテニウム酸化物、タングステン酸化物
、マンガン酸化物等を用いることができる。この他、フタロシアニン（略称：Ｈ２Ｐｃ）
や銅フタロシアニン（略称：ＣｕＰｃ）等のフタロシアニン系の化合物、或いはポリ（３
，４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳ
Ｓ）等の高分子等によっても正孔注入層を形成することができる。
【０２３１】
なお、正孔注入層の代わりに第２の電荷発生領域を用いてもよい。第２の電荷発生領域を
用いると、仕事関数を考慮せずに様々な導電性材料を陽極１１０１に用いることができる
のは前述の通りである。第２の電荷発生領域を構成する材料については第１の電荷発生領
域と共に後述する。
【０２３２】
＜正孔輸送層＞
正孔輸送層は、正孔輸送性の高い物質を含む層である。正孔輸送層は、単層に限られず正
孔輸送性の高い物質を含む層を二層以上積層したものでもよい。電子よりも正孔の輸送性
の高い物質であればよく、特に１０−６ｃｍ２／Ｖｓ以上の正孔移動度を有する物質が、
発光素子の駆動電圧を低減できるため好ましい。
【０２３３】
正孔輸送性の高い物質としては、例えば４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フ
ェニルアミノ］ビフェニル（略称：ＮＰＢまたはα−ＮＰＤ）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メ
チルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミ
ン（略称：ＴＰＤ）、４−フェニル−４’−（９−フェニルフルオレン−９−イル）トリ
フェニルアミン（略称：ＢＰＡＦＬＰ）、４，４’，４’’−トリス（カルバゾール−９
−イル）トリフェニルアミン（略称：ＴＣＴＡ）、４，４’，４’’−トリス（Ｎ，Ｎ−
ジフェニルアミノ）トリフェニルアミン（略称：ＴＤＡＴＡ）、４，４’，４’’−トリ
ス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン（略称：Ｍ
ＴＤＡＴＡ）、４，４’−ビス［Ｎ−（スピロ−９，９’−ビフルオレン−２−イル）−
Ｎ―フェニルアミノ］ビフェニル（略称：ＢＳＰＢ）などの芳香族アミン化合物が挙げら
れる。または、３−［Ｎ−（９−フェニルカルバゾール−３−イル）−Ｎ−フェニルアミ
ノ］−９−フェニルカルバゾール（略称：ＰＣｚＰＣＡ１）、３，６−ビス［Ｎ−（９−
フェニルカルバゾール−３−イル）−Ｎ−フェニルアミノ］−９−フェニルカルバゾール
（略称：ＰＣｚＰＣＡ２）、３−［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−（９−フェニルカルバゾ
ール−３−イル）アミノ］−９−フェニルカルバゾール（略称：ＰＣｚＰＣＮ１）などが
挙げられる。または、４，４’−ジ（Ｎ−カルバゾリル）ビフェニル（略称：ＣＢＰ）、
１，３，５−トリス［４−（Ｎ−カルバゾリル）フェニル］ベンゼン（略称：ＴＣＰＢ）
、９−［４−（１０−フェニル−９−アントラセニル）フェニル］−９Ｈ−カルバゾール
（略称：ＣｚＰＡ）、などのカルバゾール誘導体が挙げられる。
【０２３４】
これ以外にも、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）（略称：ＰＶＫ）、ポリ（４−ビニルト
リフェニルアミン）（略称：ＰＶＴＰＡ）、ポリ［Ｎ−（４−｛Ｎ’−［４−（４−ジフ
ェニルアミノ）フェニル］フェニル−Ｎ’−フェニルアミノ｝フェニル）メタクリルアミ
ド］（略称：ＰＴＰＤＭＡ）、ポリ［Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’
−ビス（フェニル）ベンジジン］（略称：Ｐｏｌｙ−ＴＰＤ）などの高分子化合物を正孔
輸送層に用いることができる。
【０２３５】
＜発光層＞
発光層は、発光物質を含む層である。発光層は、単層に限られず発光物質を含む層を二層
以上積層したものでもよい。発光物質は蛍光性化合物や、燐光性化合物を用いることがで
きる。発光物質に燐光性化合物を用いると、発光素子の発光効率を高められるため好まし
い。
【０２３６】
発光物質として用いることができる蛍光性化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス［４
−（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）フェニル］−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルスチルベン−４
，４’−ジアミン（略称：ＹＧＡ２Ｓ）、４−（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）−４’
−（１０−フェニル−９−アントリル）トリフェニルアミン（略称：ＹＧＡＰＡ）、４−
（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）−４’−（９，１０−ジフェニル−２−アントリル）
トリフェニルアミン（略称：２ＹＧＡＰＰＡ）、Ｎ，９−ジフェニル−Ｎ−［４−（１０
−フェニル−９−アントリル）フェニル］−９Ｈ−カルバゾール−３−アミン（略称：Ｐ
ＣＡＰＡ）、ペリレン、２，５，８，１１−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルペリレン（略称：
ＴＢＰ）、４−（１０−フェニル−９−アントリル）−４’−（９−フェニル−９Ｈ−カ
ルバゾール−３−イル）トリフェニルアミン（略称：ＰＣＢＡＰＡ）、Ｎ，Ｎ’’−（２
−ｔｅｒｔ−ブチルアントラセン−９，１０−ジイルジ−４，１−フェニレン）ビス［Ｎ
，Ｎ’，Ｎ’−トリフェニル−１，４−フェニレンジアミン］（略称：ＤＰＡＢＰＡ）、
Ｎ，９−ジフェニル−Ｎ−［４−（９，１０−ジフェニル−２−アントリル）フェニル］
−９Ｈ−カルバゾール−３−アミン（略称：２ＰＣＡＰＰＡ）、Ｎ−［４−（９，１０−
ジフェニル−２−アントリル）フェニル］−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリフェニル−１，４−フ
ェニレンジアミン（略称：２ＤＰＡＰＰＡ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’，Ｎ
’’’，Ｎ’’’−オクタフェニルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン−２，７，１０，１５−
テトラアミン（略称：ＤＢＣ１）、クマリン３０、Ｎ−（９，１０−ジフェニル−２−ア
ントリル）−Ｎ，９−ジフェニル−９Ｈ−カルバゾール−３−アミン（略称：２ＰＣＡＰ
Ａ）、Ｎ−［９，１０−ビス（１，１’−ビフェニル−２−イル）−２−アントリル］−
Ｎ，９−ジフェニル−９Ｈ−カルバゾール−３−アミン（略称：２ＰＣＡＢＰｈＡ）、Ｎ
−（９，１０−ジフェニル−２−アントリル）−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリフェニル−１，４
−フェニレンジアミン（略称：２ＤＰＡＰＡ）、Ｎ−［９，１０−ビス（１，１’−ビフ
ェニル−２−イル）−２−アントリル］−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリフェニル−１，４−フェ
ニレンジアミン（略称：２ＤＰＡＢＰｈＡ）、９，１０−ビス（１，１’−ビフェニル−
２−イル）−Ｎ−［４−（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）フェニル］−Ｎ−フェニルア
ントラセン−２−アミン（略称：２ＹＧＡＢＰｈＡ）、Ｎ，Ｎ，９−トリフェニルアント
ラセン−９−アミン（略称：ＤＰｈＡＰｈＡ）、クマリン５４５Ｔ、Ｎ，Ｎ’−ジフェニ
ルキナクリドン（略称：ＤＰＱｄ）、ルブレン、５，１２−ビス（１，１’−ビフェニル
−４−イル）−６，１１−ジフェニルテトラセン（略称：ＢＰＴ）、２−（２−｛２−［
４−（ジメチルアミノ）フェニル］エテニル｝−６−メチル−４Ｈ−ピラン−４−イリデ
ン）プロパンジニトリル（略称：ＤＣＭ１）、２−｛２−メチル−６−［２−（２，３，
６，７−テトラヒドロ−１Ｈ，５Ｈ−ベンゾ［ｉｊ］キノリジン−９−イル）エテニル］
−４Ｈ−ピラン−４−イリデン｝プロパンジニトリル（略称：ＤＣＭ２）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’
，Ｎ’−テトラキス（４−メチルフェニル）テトラセン−５，１１−ジアミン（略称：ｐ
−ｍＰｈＴＤ）、７，１４−ジフェニル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−メチル
フェニル）アセナフト［１，２−ａ］フルオランテン−３，１０−ジアミン（略称：ｐ−
ｍＰｈＡＦＤ）、２−｛２−イソプロピル−６−［２−（１，１，７，７−テトラメチル
−２，３，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ，５Ｈ−ベンゾ［ｉｊ］キノリジン−９−イル）
エテニル］−４Ｈ−ピラン−４−イリデン｝プロパンジニトリル（略称：ＤＣＪＴＩ）、
２−｛２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−［２−（１，１，７，７−テトラメチル−２，３，６
，７−テトラヒドロ−１Ｈ，５Ｈ−ベンゾ［ｉｊ］キノリジン−９−イル）エテニル］−
４Ｈ−ピラン−４−イリデン｝プロパンジニトリル（略称：ＤＣＪＴＢ）、２−（２，６
−ビス｛２−［４−（ジメチルアミノ）フェニル］エテニル｝−４Ｈ−ピラン−４−イリ
デン）プロパンジニトリル（略称：ＢｉｓＤＣＭ）、２−｛２，６−ビス［２−（８−メ
トキシ−１，１，７，７−テトラメチル−２，３，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ，５Ｈ−
ベンゾ［ｉｊ］キノリジン−９−イル）エテニル］−４Ｈ−ピラン−４−イリデン｝プロ
パンジニトリル（略称：ＢｉｓＤＣＪＴＭ）、ＳＤ１（商品名；ＳＦＣ  Ｃｏ．，  Ｌｔ
ｄ製）などが挙げられる。
【０２３７】
発光物質として用いることができる燐光性化合物としては、例えば、ビス［２−（４’，
６’−ジフルオロフェニル）ピリジナト−Ｎ，Ｃ２’］イリジウム（ＩＩＩ）テトラキス
（１−ピラゾリル）ボラート（略称：ＦＩｒ６）、ビス［２−（４’，６’−ジフルオロ
フェニル）ピリジナト−Ｎ，Ｃ２’］イリジウム（ＩＩＩ）ピコリナート（略称：ＦＩｒ
ｐｉｃ）、ビス［２−（３’，５’−ビストリフルオロメチルフェニル）ピリジナト−Ｎ
，Ｃ２’］イリジウム（ＩＩＩ）ピコリナート（略称：［Ｉｒ（ＣＦ３ｐｐｙ）２（ｐｉ
ｃ）］）、ビス［２−（４’，６’−ジフルオロフェニル）ピリジナト−Ｎ，Ｃ２’］イ
リジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート（略称：ＦＩｒａｃａｃ）、トリス（２−フェ
ニルピリジナト）イリジウム（ＩＩＩ）（略称：［Ｉｒ（ｐｐｙ）３］）、ビス（２−フ
ェニルピリジナト）イリジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート（略称：［Ｉｒ（ｐｐｙ
）２（ａｃａｃ）］）、ビス（ベンゾ［ｈ］キノリナト）イリジウム（ＩＩＩ）アセチル
アセトナート（略称：［Ｉｒ（ｂｚｑ）２（ａｃａｃ）］）、ビス（２，４−ジフェニル
−１，３−オキサゾラト−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート（略
称：［Ｉｒ（ｄｐｏ）２（ａｃａｃ）］）、ビス｛２−［４’−（パーフルオロフェニル
）フェニル］ピリジナト−Ｎ，Ｃ２’｝イリジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート（略
称：［Ｉｒ（ｐ−ＰＦ−ｐｈ）２（ａｃａｃ）］）、ビス（２−フェニルベンゾチアゾラ
ト−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート（略称：［Ｉｒ（ｂｔ）２
（ａｃａｃ）］）、ビス［２−（２’−ベンゾ［４，５−α］チエニル）ピリジナト−Ｎ
，Ｃ３’］イリジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート（略称：［Ｉｒ（ｂｔｐ）２（ａ
ｃａｃ）］）、ビス（１−フェニルイソキノリナト−Ｎ，Ｃ２’）イリジウム（ＩＩＩ）
アセチルアセトナート（略称：［Ｉｒ（ｐｉｑ）２（ａｃａｃ）］）、（アセチルアセト
ナト）ビス［２，３−ビス（４−フルオロフェニル）キノキサリナト］イリジウム（ＩＩ
Ｉ）（略称：［Ｉｒ（Ｆｄｐｑ）２（ａｃａｃ）］）、（アセチルアセトナト）ビス（２
，３，５−トリフェニルピラジナト）イリジウム（ＩＩＩ）（略称：［Ｉｒ（ｔｐｐｒ）
２（ａｃａｃ）］）、２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−２１Ｈ
，２３Ｈ−ポルフィリン白金（ＩＩ）（略称：ＰｔＯＥＰ）、トリス（アセチルアセトナ
ト）（モノフェナントロリン）テルビウム（ＩＩＩ）（略称：Ｔｂ（ａｃａｃ）３（Ｐｈ
ｅｎ））、トリス（１，３−ジフェニル−１，３−プロパンジオナト）（モノフェナント
ロリン）ユーロピウム（ＩＩＩ）（略称：Ｅｕ（ＤＢＭ）３（Ｐｈｅｎ））、トリス［１
−（２−テノイル）−３，３，３−トリフルオロアセトナト］（モノフェナントロリン）
ユーロピウム（ＩＩＩ）（略称：Ｅｕ（ＴＴＡ）３（Ｐｈｅｎ））、ビス（２，３，５−
トリフェニルピラジナト）イリジウム（ＩＩＩ）（略称：［Ｉｒ（ｔｐｐｒ）２（ｄｐｍ
）］）などが挙げられる。
【０２３８】
発光物質は、ホスト材料に分散させて用いるのが好ましい。ホスト材料としては、その励
起エネルギーが、発光物質の励起エネルギーよりも大きなものが好ましい。
【０２３９】
ホスト材料として用いることができる材料としては、ＮＰＢ（略称）、ＴＰＤ（略称）、
ＴＣＴＡ（略称）、ＴＤＡＴＡ（略称）、ＭＴＤＡＴＡ（略称）、ＢＳＰＢ（略称）、な
どの芳香族アミン化合物、ＰＣｚＰＣＡ１（略称）、ＰＣｚＰＣＡ２（略称）、ＰＣｚＰ
ＣＮ１（略称）、ＣＢＰ（略称）、ＴＣＰＢ（略称）、ＣｚＰＡ（略称）、９−フェニル
−３−［４−（１０−フェニル−９−アントリル）フェニル］−９Ｈ−カルバゾール（略
称：ＰＣｚＰＡ）、４−フェニル−４’−（９−フェニル−９Ｈ−カルバゾール−３−イ
ル）トリフェニルアミン（略称：ＰＣＢＡ１ＢＰ）などのカルバゾール誘導体を用いるこ
とができる。または、ＰＶＫ（略称）、ＰＶＴＰＡ（略称）、ＰＴＰＤＭＡ（略称）、Ｐ
ｏｌｙ−ＴＰＤ（略称）などの高分子化合物を含む正孔輸送性の高い物質を用いることが
できる。または、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（略称：Ａｌｑ）、トリス（
４−メチル−８−キノリノラト）アルミニウム（略称：Ａｌｍｑ３）、ビス（１０−ヒド
ロキシベンゾ［ｈ］キノリナト）ベリリウム（略称：ＢｅＢｑ２）、ビス（２−メチル−
８−キノリノラト）（４−フェニルフェノラト）アルミニウム（略称：ＢＡｌｑ）など、
キノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体を用いることができる。または
、ビス［２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンズオキサゾラト］亜鉛（略称：Ｚｎ（ＢＯ
Ｘ）２）、ビス［２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾラト］亜鉛（略称：Ｚｎ
（ＢＴＺ）２）、などのオキサゾール系やチアゾール系配位子を有する金属錯体を用いる
ことができる。または、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）−１，３，４−オキサジアゾール（略称：ＰＢＤ）、１，３−ビス［５−（ｐ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール−２−イル］ベンゼン（略称：
ＯＸＤ−７）、９−［４−（５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール−２−イル）
フェニル］カルバゾール（略称：ＣＯ１１）、３−（４−ビフェニリル）−４−フェニル
−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（略称：ＴＡＺ）
、バソフェナントロリン（略称：ＢＰｈｅｎ）、バソキュプロイン（略称：ＢＣＰ）など
の電子輸送性の高い物質を用いることができる。
【０２４０】
＜電子輸送層＞
電子輸送層は、電子輸送性の高い物質を含む層である。電子輸送層は、単層に限られず電
子輸送性の高い物質を含む層を二層以上積層したものでもよい。正孔よりも電子の輸送性
の高い物質であればよく、特に１０−６ｃｍ２／Ｖｓ以上の電子移動度を有する物質が、
発光素子の駆動電圧を低減できるため好ましい。
【０２４１】
電子輸送性の高い物質としては、例えばＡｌｑ（略称）、Ａｌｍｑ３（略称）、ＢｅＢｑ
２（略称）、ＢＡｌｑ（略称）などのキノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金
属錯体等を用いることができる。または、Ｚｎ（ＢＯＸ）２（略称）、Ｚｎ（ＢＴＺ）２
（略称）などのオキサゾール系や、チアゾール系配位子を有する金属錯体なども用いるこ
とができる。または、ＰＢＤ（略称）、ＯＸＤ−７（略称）、ＣＯ１１（略称）、ＴＡＺ
（略称）、ＢＰｈｅｎ（略称）、ＢＣＰ（略称）、２−［４−（ジベンゾチオフェン−４
−イル）フェニル］−１−フェニル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール（略称：ＤＢＴＢＩｍ−
ＩＩ）などが挙げられる。
【０２４２】
これ以外にも、ポリ［（９，９−ジヘキシルフルオレン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（ピ
リジン−３，５−ジイル）］（略称：ＰＦ−Ｐｙ）、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオ
レン−２，７−ジイル）−ｃｏ−（２，２’−ビピリジン−６，６’−ジイル）］（略称
：ＰＦ−ＢＰｙ）、などの高分子化合物を電子輸送層に用いることができる。
【０２４３】
＜電子注入層＞
電子注入層は、電子注入性の高い物質を含む層である。電子注入層は、単層に限られず電
子注入性の高い物質を含む層を二層以上積層したものでもよい。電子注入層を設ける構成
とすることで陰極１１０２からの電子の注入効率が高まり、発光素子の駆動電圧を低減で
きるため好ましい。
【０２４４】
電子注入性の高い物質としては、例えばリチウム（Ｌｉ）、セシウム（Ｃｓ）、カルシウ
ム（Ｃａ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化セシウム（ＣｓＦ）、フッ化カルシウム
（ＣａＦ２）等のアルカリ金属、アルカリ土類金属またはこれらの化合物が挙げられる。
また電子輸送性を有する物質中にアルカリ金属又はアルカリ土類金属、マグネシウム（Ｍ
ｇ）又はそれらの化合物を含有させたもの、例えばＡｌｑ中にマグネシウム（Ｍｇ）を含
有させたもの等を用いることもできる。
【０２４５】
＜電荷発生領域に用いることができる材料＞
第１の電荷発生領域１１０４ｃ、及び第２の電荷発生領域は、正孔輸送性の高い物質とア
クセプター性物質を含む領域である。なお、電荷発生領域は、同一膜中に正孔輸送性の高
い物質とアクセプター性物質を含有する場合だけでなく、正孔輸送性の高い物質を含む層
とアクセプター性物質を含む層とが積層されていても良い。但し、陰極に接して設けられ
る第１の電荷発生領域が積層構造の場合には、電子輸送性の高い物質を含む層が陰極１１
０２と接する構造となる。陽極に接して設けられる第２の電荷発生領域が積層構造の場合
には、アクセプター性物質を含む層が陽極１１０１と接する構造となる。
【０２４６】
なお、電荷発生領域において、正孔輸送性の高い物質に対して質量比で、０．１以上４．
０以下の比率でアクセプター性物質を添加することが好ましい。
【０２４７】
電荷発生領域に用いるアクセプター性物質としては、遷移金属酸化物、特に元素周期表に
おける第４族乃至第８族に属する金属の酸化物が好ましい。具体的には、酸化モリブデン
が特に好ましい。なお、酸化モリブデンは、吸湿性が低いという特徴を有している。
【０２４８】
また、電荷発生領域に用いる正孔輸送性の高い物質としては、芳香族アミン化合物、カル
バゾール誘導体、芳香族炭化水素、高分子化合物（オリゴマー、デンドリマー、ポリマー
を含む）など、種々の有機化合物を用いることができる。具体的には、１０−６ｃｍ２／
Ｖｓ以上の正孔移動度を有する物質であることが好ましい。但し、電子よりも正孔の輸送
性の高い物質であれば、これら以外のものを用いてもよい。
【０２４９】
＜電子リレー層に用いることができる材料＞
電子リレー層１１０４ｂは、第１の電荷発生領域１１０４ｃにおいてアクセプター性物質
がひき抜いた電子を速やかに受け取ることができる層である。従って、電子リレー層１１
０４ｂは、電子輸送性の高い物質を含む層であり、またそのＬＵＭＯ準位は、第１の電荷
発生領域１１０４ｃにおけるアクセプター性物質のアクセプター準位と、発光ユニット１
１０３のＬＵＭＯ準位との間に位置する。具体的には、およそ−５．０ｅＶ以上−３．０
ｅＶ以下とするのが好ましい。
【０２５０】
電子リレー層１１０４ｂに用いる物質としては、例えば、ペリレン誘導体や、含窒素縮合
芳香族化合物が挙げられる。なお、含窒素縮合芳香族化合物は、安定な化合物であるため
電子リレー層１１０４ｂに用いる物質として好ましい。さらに、含窒素縮合芳香族化合物
のうち、シアノ基やフッ素などの電子吸引基を有する化合物を用いることにより、電子リ
レー層１１０４ｂにおける電子の受け取りがさらに容易になるため、好ましい。
【０２５１】
ペリレン誘導体の具体例としては、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸二無水
物（略称：ＰＴＣＤＡ）、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボキシリックビスベン
ゾイミダゾール（略称：ＰＴＣＢＩ）、Ｎ，Ｎ’−ジオクチルー３，４，９，１０−ペリ
レンテトラカルボン酸ジイミド（略称：ＰＴＣＤＩ−Ｃ８Ｈ）、Ｎ，Ｎ’−ジヘキシルー
３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸ジイミド（略称：Ｈｅｘ  ＰＴＣ）等が挙
げられる。
【０２５２】
また、含窒素縮合芳香族化合物の具体例としては、ピラジノ［２，３−ｆ］［１，１０］
フェナントロリン−２，３−ジカルボニトリル（略称：ＰＰＤＮ）、２，３，６，７，１
０，１１−ヘキサシアノ−１，４，５，８，９，１２−ヘキサアザトリフェニレン（略称
：ＨＡＴ（ＣＮ）６）、２，３−ジフェニルピリド［２，３−ｂ］ピラジン（略称：２Ｐ
ＹＰＲ）、２，３−ビス（４−フルオロフェニル）ピリド［２，３−ｂ］ピラジン（略称
：Ｆ２ＰＹＰＲ）等が挙げられる。
【０２５３】
その他にも、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（略称：ＴＣＮＱ）、１，４，
５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物（略称：ＮＴＣＤＡ）、パーフルオロペン
タセン、銅ヘキサデカフルオロフタロシアニン（略称：Ｆ１６ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオ
ロオクチル−１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド（略称：ＮＴＣＤＩ
−Ｃ８Ｆ）、３’，４’−ジブチル−５，５’’−ビス（ジシアノメチレン）−５，５’
’−ジヒドロ−２，２’：５’，２’’−テルチオフェン（略称：ＤＣＭＴ）、メタノフ
ラーレン（例えば［６，６］−フェニルＣ６１酪酸メチルエステル）等を電子リレー層１
１０４ｂに用いることができる。
【０２５４】
＜電子注入バッファーに用いることができる材料＞
電子注入バッファー１１０４ａは、第１の電荷発生領域１１０４ｃから発光ユニット１１
０３への電子の注入を容易にする層である。電子注入バッファー１１０４ａを第１の電荷
発生領域１１０４ｃと発光ユニット１１０３の間に設けることにより、両者の注入障壁を
緩和することができる。
【０２５５】
電子注入バッファー１１０４ａには、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、お
よびこれらの化合物（アルカリ金属化合物（酸化リチウム等の酸化物、ハロゲン化物、炭
酸リチウムや炭酸セシウム等の炭酸塩を含む）、アルカリ土類金属化合物（酸化物、ハロ
ゲン化物、炭酸塩を含む）、または希土類金属の化合物（酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩
を含む））等の電子注入性の高い物質を用いることが可能である。
【０２５６】
また、電子注入バッファー１１０４ａが、電子輸送性の高い物質とドナー性物質を含んで
形成される場合には、電子輸送性の高い物質に対して質量比で、０．００１以上０．１以
下の比率でドナー性物質を添加することが好ましい。なお、ドナー性物質としては、アル
カリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、およびこれらの化合物（アルカリ金属化合物
（酸化リチウム等の酸化物、ハロゲン化物、炭酸リチウムや炭酸セシウム等の炭酸塩を含
む）、アルカリ土類金属化合物（酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む）、または希土類
金属の化合物（酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む））の他、テトラチアナフタセン（
略称：ＴＴＮ）、ニッケロセン、デカメチルニッケロセン等の有機化合物を用いることも
できる。なお、電子輸送性の高い物質としては、先に説明した発光ユニット１１０３の一
部に形成することができる電子輸送層の材料と同様の材料を用いて形成することができる
。
【０２５７】
＜発光素子の作製方法＞
発光素子の作製方法の一態様について説明する。第１の電極上にこれらの層を適宜組み合
わせてＥＬを形成する。ＥＬ層は、それに用いる材料に応じて種々の方法（例えば、乾式
法や湿式法等）を用いることができる。例えば、真空蒸着法、インクジェット法またはス
ピンコート法などを選んで用いればよい。また、各層で異なる方法を用いて形成してもよ
い。ＥＬ層上に第２の電極を形成し、発光素子を作製する。
【０２５８】
以上のような材料を組み合わせることにより、本実施の形態に示す発光素子を作製するこ
とができる。この発光素子からは、上述した発光物質からの発光が得られ、その発光色は
発光物質の種類を変えることにより選択できる。
【０２５９】
また、発光色の異なる複数の発光物質を用いることにより、発光スペクトルの幅を拡げて
、例えば白色発光を得ることもできる。白色発光を得る場合には、例えば、発光物質を含
む層を少なくとも２つ備える構成とし、それぞれの層を互いに補色の関係にある色を呈す
る光を発するように構成すればよい。具体的な補色の関係としては、例えば青色と黄色、
あるいは青緑色と赤色等が挙げられる。
【０２６０】
さらに、演色性の良い白色発光を得る場合には、発光スペクトルが可視光全域に拡がるも
のが好ましく、例えば、一つの発光素子が青色を呈する光を発する層、緑色を呈する光を
発する層、赤色を呈する光を発する層を備える構成とすればよい。
【０２６１】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
【０２６２】
（実施の形態５）
本実施の形態では、本発明の一態様のパッシブマトリクス型の発光装置について説明する
。具体的には、第１の基板に設けられた第１の電極と、当該第１の電極との間に発光性の
有機化合物を含む層を挟持する第２の電極と、当該第２の電極上に液状の材料から形成さ
れた犠牲層と、を第１の基板と第２の基板の間に有する発光モジュールが複数設けられた
発光パネルを用いたパッシブマトリクス型の発光装置について図８を参照して説明する。
【０２６３】
本発明の一態様のパッシブマトリクス型の発光装置に設けられた発光モジュールは、不純
物（代表的には水および／または酸素）と反応、或いは不純物を吸着する材料を含み、塗
布法（湿式法ともいう）を用いて形成された犠牲層を、第２の電極に接して備える構成を
有する。これにより、発光素子の信頼性を損なう不純物は、犠牲層に含まれる材料と優先
的に反応、或いは犠牲層に含まれる材料に吸着され、その活性を失う。その結果、発光モ
ジュールの信頼性が向上し、信頼性の高いパッシブ型の発光装置を提供できる。
【０２６４】
また、当該犠牲層が透光性を有する第２の電極と透光性を有する第２の基板を光学的に接
続する構成を有する。これにより、発光素子の光が第２の電極から第２の基板に至る光路
において、屈折率の急激な変化（屈折率の段差ともいう）が抑制され、第２の電極側から
第２の基板に、発光素子の発光を効率よく取り出すことができる。その結果、発光モジュ
ールの発光効率が向上し、信頼性の高いパッシブ型の発光装置を提供できる。
【０２６５】
また、本発明の一態様のパッシブマトリクス型の発光装置に設けられた発光モジュールは
、隔壁上の犠牲層の厚さが薄い。これにより迷光が抑制される。その結果、発光モジュー
ルの発光効率が向上し、信頼性の高い発光装置を提供できる。
【０２６６】
＜パッシブマトリクス型の発光装置＞
次に、パッシブマトリクス型の発光装置に適用した場合の構成を図８に示す。なお、図８
（Ａ）は、発光装置を示す斜視図、図８（Ｂ）は図８（Ａ）をＸ−Ｙで切断した断面図で
ある。
【０２６７】
パッシブマトリクス型の発光装置２５００は、基板２５０１上に第１の電極２５０２を備
える。また、絶縁層２５０５が第１の電極２５０２の端部を覆って設けられており、隔壁
層２５０６が絶縁層２５０５上に設けられている。
【０２６８】
また、赤色を呈する光を透過するカラーフィルタ２１４０Ｒと、緑色を呈する光を透過す
るカラーフィルタ２１４０Ｇと、青色を呈する光を透過するカラーフィルタ２１４０Ｂと
、がそれぞれ発光素子の上に設けられている。
【０２６９】
発光装置２５００は、第１の電極２５０２上に第２の電極２５０３を有し、第１の電極２
５０２と第２の電極２５０３の間に発光性の有機化合物を含む層２５０４が設けられ、発
光素子を構成している。発光素子の構成としては、例えば実施の形態４で例示した発光素
子の構成を適用できる。また、犠牲層２５０７が第２の電極２５０３上に設けられている
。
【０２７０】
また、本実施の形態で例示する発光装置が備える発光モジュールは、一対の電極の間に白
色を呈する光を発する発光性の有機化合物を含む層を有する発光素子と、それに重なるカ
ラーフィルタを有している。
【０２７１】
隔壁層２５０６の側壁は、基板面に近くなるに伴って、一方の側壁と他方の側壁との間隔
が狭くなるような傾斜を有する。つまり、隔壁層２５０６の短辺方向の断面は、台形状で
あり、底辺（絶縁層２５０５の面方向と同様の方向を向き、絶縁層２５０５と接する辺）
の方が上辺（絶縁層２５０５の面方向と同様の方向を向き、絶縁層２５０５と接しない辺
）よりも短い。このように、隔壁層２５０６を設けることで、クロストーク等に起因した
発光素子の不良を防ぐことができる。
【０２７２】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
【０２７３】
（実施の形態６）
本実施の形態では、本発明の一態様の電子機器について説明する。具体的には、第１の基
板に設けられた第１の電極と、当該第１の電極との間に発光性の有機化合物を含む層を挟
持する第２の電極と、当該第２の電極上に液状の材料から形成された犠牲層と、を第１の
基板と第２の基板の間に有する発光モジュールが複数設けられた発光パネルを搭載した電
子機器について図９を用いて説明する。
【０２７４】
本発明の一態様の電子機器に設けられた発光モジュールは、不純物（代表的には水および
／または酸素）と反応、或いは不純物を吸着する材料を含み、塗布法（湿式法ともいう）
を用いて形成された犠牲層を、第２の電極に接して備える構成を有する。これにより、発
光素子の信頼性を損なう不純物は、犠牲層に含まれる材料と優先的に反応、或いは犠牲層
に含まれる材料に吸着され、その活性を失う。その結果、発光モジュールの信頼性が向上
し、信頼性の高い電子機器を提供できる。
【０２７５】
また、当該犠牲層が透光性を有する第２の電極と透光性を有する第２の基板を光学的に接
続する構成を有する。これにより、発光素子の光が第２の電極から第２の基板に至る光路
において、屈折率の急激な変化（屈折率の段差ともいう）が抑制され、第２の電極側から
第２の基板に、発光素子の発光を効率よく取り出すことができる。その結果、発光モジュ
ールの発光効率が向上し、信頼性の高い電子機器を提供できる。
【０２７６】
また、本発明の一態様の電子機器に設けられた発光モジュールは、隔壁上の犠牲層の厚さ
が薄い。これにより迷光が抑制される。その結果、発光モジュールの発光効率が向上し、
信頼性の高い電子機器を提供できる。
【０２７７】
発光装置を適用した電子機器として、例えば、テレビジョン装置（テレビ、またはテレビ
ジョン受信機ともいう）、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデ
オカメラ等のカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機（携帯電話、携帯電話装置と
もいう）、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム
機などが挙げられる。これらの電子機器の具体例を図９に示す。
【０２７８】
図９（Ａ）は、テレビジョン装置の一例を示している。テレビジョン装置７１００は、筐
体７１０１に表示部７１０３が組み込まれている。表示部７１０３により、映像を表示す
ることが可能であり、発光装置を表示部７１０３に用いることができる。また、ここでは
、スタンド７１０５により筐体７１０１を支持した構成を示している。
【０２７９】
テレビジョン装置７１００の操作は、筐体７１０１が備える操作スイッチや、別体のリモ
コン操作機７１１０により行うことができる。リモコン操作機７１１０が備える操作キー
７１０９により、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部７１０３に表示され
る映像を操作することができる。また、リモコン操作機７１１０に、当該リモコン操作機
７１１０から出力する情報を表示する表示部７１０７を設ける構成としてもよい。
【０２８０】
なお、テレビジョン装置７１００は、受信機やモデムなどを備えた構成とする。受信機に
より一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線または無線に
よる通信ネットワークに接続することにより、一方向（送信者から受信者）または双方向
（送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など）の情報通信を行うことも可能である。
【０２８１】
図９（Ｂ）はコンピュータであり、本体７２０１、筐体７２０２、表示部７２０３、キー
ボード７２０４、外部接続ポート７２０５、ポインティングデバイス７２０６等を含む。
なお、コンピュータは、発光装置をその表示部７２０３に用いることにより作製される。
【０２８２】
図９（Ｃ）は携帯型遊技機であり、筐体７３０１と筐体７３０２の２つの筐体で構成され
ており、連結部７３０３により、開閉可能に連結されている。筐体７３０１には表示部７
３０４が組み込まれ、筐体７３０２には表示部７３０５が組み込まれている。また、図９
（Ｃ）に示す携帯型遊技機は、その他、スピーカ部７３０６、記録媒体挿入部７３０７、
ＬＥＤランプ７３０８、入力手段（操作キー７３０９、接続端子７３１０、センサ７３１
１（力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学
物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、
においまたは赤外線を測定する機能を含むもの）、マイクロフォン７３１２）等を備えて
いる。もちろん、携帯型遊技機の構成は上述のものに限定されず、少なくとも表示部７３
０４および表示部７３０５の両方、または一方に発光装置を用いていればよく、その他付
属設備が適宜設けられた構成とすることができる。図９（Ｃ）に示す携帯型遊技機は、記
録媒体に記録されているプログラムまたはデータを読み出して表示部に表示する機能や、
他の携帯型遊技機と無線通信を行って情報を共有する機能を有する。なお、図９（Ｃ）に
示す携帯型遊技機が有する機能はこれに限定されず、様々な機能を有することができる。
【０２８３】
図９（Ｄ）は、携帯電話機の一例を示している。携帯電話機７４００は、筐体７４０１に
組み込まれた表示部７４０２の他、操作ボタン７４０３、外部接続ポート７４０４、スピ
ーカ７４０５、マイク７４０６などを備えている。なお、携帯電話機７４００は、発光装
置を表示部７４０２に用いることにより作製される。
【０２８４】
図９（Ｄ）に示す携帯電話機７４００は、表示部７４０２を指などで触れることで、情報
を入力することができる。また、電話を掛ける、或いはメールを作成するなどの操作は、
表示部７４０２を指などで触れることにより行うことができる。
【０２８５】
表示部７４０２の画面は主として３つのモードがある。第１は、画像の表示を主とする表
示モードであり、第２は、文字等の情報の入力を主とする入力モードである。第３は表示
モードと入力モードの２つのモードが混合した表示＋入力モードである。
【０２８６】
例えば、電話を掛ける、或いはメールを作成する場合は、表示部７４０２を文字の入力を
主とする文字入力モードとし、画面に表示させた文字の入力操作を行えばよい。この場合
、表示部７４０２の画面のほとんどにキーボードまたは番号ボタンを表示させることが好
ましい。
【０２８７】
また、携帯電話機７４００内部に、ジャイロ、加速度センサ等の傾きを検出するセンサを
有する検出装置を設けることで、携帯電話機７４００の向き（縦か横か）を判断して、表
示部７４０２の画面表示を自動的に切り替えるようにすることができる。
【０２８８】
また、画面モードの切り替えは、表示部７４０２を触れること、または筐体７４０１の操
作ボタン７４０３の操作により行われる。また、表示部７４０２に表示される画像の種類
によって切り替えるようにすることもできる。例えば、表示部に表示する画像信号が動画
のデータであれば表示モード、テキストデータであれば入力モードに切り替える。
【０２８９】
また、入力モードにおいて、表示部７４０２の光センサで検出される信号を検知し、表示
部７４０２のタッチ操作による入力が一定期間ない場合には、画面のモードを入力モード
から表示モードに切り替えるように制御してもよい。
【０２９０】
表示部７４０２は、イメージセンサとして機能させることもできる。例えば、表示部７４
０２に掌や指で触れ、掌紋、指紋等を撮像することで、本人認証を行うことができる。ま
た、表示部に近赤外光を発光するバックライトまたは近赤外光を発光するセンシング用光
源を用いれば、指静脈、掌静脈などを撮像することもできる。
【０２９１】
図９（Ｅ）は、照明装置の一例を示している。照明装置７５００は、筐体７５０１に光源
として本発明の一態様の発光装置７５０３ａ〜７５０３ｄが組み込まれている。照明装置
７５００は、天井や壁等に取り付けることが可能である。
【０２９２】
また、本発明の一態様の発光装置は、発光パネルが薄膜状であるため、曲面を有する基体
に貼り付けることで、曲面を有する発光装置とすることができる。また、その発光装置を
、曲面を有する筐体に配置することで、曲面を有する電子機器または照明装置を実現する
ことができる。
【０２９３】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
【符号の説明】
【０２９４】
１００    発光パネル
１０６ａ    導電層
１０６ｂ    導電層
１０７    絶縁層
１１０    基板
１２０    基板
１２１ａ    光学フィルタ
１２１ｂ    光学フィルタ
１２３    遮光層
１２５    オーバーコート層
１３０    犠牲層
１４０    隔壁
１５０ａ    発光モジュール
１５０ｂ    発光モジュール
１５１ａ    電極
１５１ｂ    電極
１５２ａ    電極
１５２ｂ    電極
１５３ａ    発光性の有機化合物を含む層
１５３ｂ    発光性の有機化合物を含む層
１５４ａ    発光素子
１５４ｂ    発光素子
１１０１    陽極
１１０２    陰極
１１０３    発光ユニット
１１０３ａ    発光ユニット
１１０３ｂ    発光ユニット
１１０４    中間層
１１０４ａ    電子注入バッファー
１１０４ｂ    電子リレー層
１１０４ｃ    電荷発生領域
１１１３    正孔注入層
１１１４    正孔輸送層
１１１５    発光層
１１１６    電子輸送層
１１１７    電子注入層
１４００    発光装置
１４０１    ソース側駆動回路
１４０２    画素部
１４０３    ゲート側駆動回路
１４０４    基板
１４０５    シール材
１４０５ｂ    シール材
１４０７    犠牲層
１４０８    配線
１４１０    基板
１４１１    トランジスタ
１４１２    トランジスタ
１４１３    電極
１４１４    隔壁
１４１５ｃ    シール材
１４１６    発光性の有機化合物を含む層
１４１７    電極
１４１８    発光素子
１４２３    ｎチャネル型トランジスタ
１４２４    ｐチャネル型トランジスタ
１４３３    スペーサ
１４３４    カラーフィルタ
２１４０Ｂ    カラーフィルタ
２１４０Ｇ    カラーフィルタ
２１４０Ｒ    カラーフィルタ
２５００    発光装置
２５０１    基板
２５０２    電極
２５０３    電極
２５０５    絶縁層
２５０６    隔壁層
２５０７    犠牲層
７１００    テレビジョン装置
７１０１    筐体
７１０３    表示部
７１０５    スタンド
７１０７    表示部
７１０９    操作キー
７１１０    リモコン操作機
７２０１    本体
７２０２    筐体
７２０３    表示部
７２０４    キーボード
７２０５    外部接続ポート
７２０６    ポインティングデバイス
７３０１    筐体
７３０２    筐体
７３０３    連結部
７３０４    表示部
７３０５    表示部
７３０６    スピーカ部
７３０７    記録媒体挿入部
７３０８    ＬＥＤランプ
７３０９    操作キー
７３１０    接続端子
７３１１    センサ
７３１２    マイクロフォン
７４００    携帯電話機
７４０１    筐体
７４０２    表示部
７４０３    操作ボタン
７４０４    外部接続ポート
７４０５    スピーカ
７４０６    マイク
７５００    照明装置
７５０１    筐体
７５０３ａ〜７５０３ｄ    発光装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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