(57)【要約】【課題】サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を連続測定できるようにする。【解決手段】サンプルガスが流れる第１流路Ｌ１と、第１流路Ｌ１に設けられ、サンプルガス中の全炭化水素濃度を計測する第１分析計２と、サンプルガスが流れる第２流路Ｌ２と、第２流路Ｌ２に設けられ、サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタ３と、第２流路Ｌ２においてノンメタン・ノンエタンカッタ３の下流に設けられ、サンプルガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を計測する第２分析計４と、第１分析計２の全炭化水素濃度と第２分析計４のメタン・エタン合計濃度とを用いて、サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出する算出部１１とを備える。【選択図】図１
2020030207.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルガスが流れる第１流路と、
前記第１流路に設けられ、前記サンプルガス中の全炭化水素濃度を計測する第１分析計と、
前記サンプルガスが流れる第２流路と、
前記第２流路に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタと、
前記第２流路において前記ノンメタン・ノンエタンカッタの下流に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を計測する第２分析計と、
前記第１分析計の全炭化水素濃度と前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度とを用いて、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出する算出部とを備える、ガス分析装置。
【請求項２】
前記第２分析計は、エタンを用いて前記ノンメタン・ノンエタンカッタを通過させて校正される、請求項１記載のガス分析装置。
【請求項３】
前記算出部は、前記第１分析計の全炭化水素濃度と、第２分析計のメタン・エタン合計濃度と、炭素数３以上の特定有機物が前記ノンメタン・ノンエタンカッタを通過する割合である特定有機物透過率とを用いて、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出する、請求項１又は２記載のガス分析装置。
【請求項４】
前記算出部は、以下の式により、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出する、請求項１乃至３の何れか一項に記載のガス分析装置。
【数４】
2020030207.tif 000006
ｘＮＭＮＥＨＣ：前記サンプルガス中のメタン・エタン以外の炭化水素成分の濃度
ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］：前記第１分析計の全炭化水素濃度
ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度
ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：炭素数３以上の特定有機物（ここではプロパンＣ３Ｈ８）が前記ノンメタン・ノンエタンカッタを通過する割合である特定有機物透過率
【請求項５】
前記第２流路には、前記ノンメタン・ノンエタンカッタの温度を２００〜２５０℃に加熱する加熱部が設けられている、請求項１乃至４の何れか一項に記載のガス分析装置。
【請求項６】
前記第１流路に設けられた第１流量調整機構と、
前記第２流路に設けられた第２流量調整機構とを更に備え、
前記第１流量調整機構及び前記第２流量調整機構により、前記第１分析計と前記第２分析計との応答タイミングを一致させている、請求項１乃至５の何れか一項に記載のガス分析装置。
【請求項７】
前記サンプルガスが流れる第３流路と、
前記第３流路に設けられ、前記サンプルガス中のメタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタンカッタと、
前記第３流路において前記ノンメタンカッタの下流に設けられ、前記サンプルガス中のメタン濃度を計測する第３分析計とを更に備えている、請求項１乃至６の何れか一項に記載のガス分析装置。
【請求項８】
前記算出部は、前記第１分析計の全炭化水素濃度と前記第３分析計のメタン濃度とを用いて、前記サンプルガス中のメタン以外の炭化水素成分の濃度を算出する、請求項７記載のガス分析装置。
【請求項９】
前記算出部は、前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度と前記第３分析計のメタン濃度とを用いて、前記サンプルガス中のエタン濃度を算出する、請求項７又は８記載のガス分析装置。
【請求項１０】
前記第３流路には、前記ノンメタンカッタの温度を３００℃以上に加熱する加熱部が設けられている、請求項７乃至９の何れか一項に記載のガス分析装置。
【請求項１１】
前記第３流路に設けられた第３流量調整機構を更に備え、
前記第１流量調整機構、前記第２流量調整機構及び前記第３流量調整機構により、前記第１分析計と前記第２分析計と前記第３分析計との応答タイミングを一致させている、請求項１０記載のガス分析装置。
【請求項１２】
サンプルガスが流れる流路と、
前記流路に設けられ、前記サンプルガス中の所定の炭化水素成分を除去する炭化水素選択触媒と、
前記流路において前記炭化水素選択触媒の下流に設けられ、前記サンプルガス中の炭化水素成分の濃度を計測する分析計と、
前記炭化水素選択触媒の温度を切り替える温度切替機構とを備え、
前記温度切替機構によって、前記炭化水素選択触媒を２００〜２５０℃に加熱して、前記炭化水素選択触媒を前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタとし、前記炭化水素選択触媒を３００℃以上に加熱して、前記サンプルガス中のメタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタンカッタとする、ガス分析装置。
【請求項１３】
サンプルガスが流れる第１流路に、前記サンプルガス中の全炭化水素濃度を計測する第１分析計を設け、
前記サンプルガスが流れる第２流路に、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタを設け、
前記第２流路において前記ノンメタン・ノンエタンカッタの下流に、前記サンプルガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を計測する第２分析計を設け、
前記第１分析計の全炭化水素濃度と前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度とを用いて、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出する、ガス分析方法。
【請求項１４】
サンプルガスが流れる第１流路と、前記第１流路に設けられ、前記サンプルガス中の全炭化水素濃度を計測する第１分析計と、前記サンプルガスが流れる第２流路と、前記第２流路に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタと、前記第２流路において前記ノンメタン・ノンエタンカッタの下流に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を計測する第２分析計と、前記第１分析計の全炭化水素濃度と前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度とを用いて、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出する算出部とを備える、ガス分析装置の校正方法であって、
前記第２分析計を、エタンを用いて前記ノンメタン・ノンエタンカッタを通過させて校正する、ガス分析装置の校正方法。
【請求項１５】
前記第１分析計は、プロパンを用いて校正する、請求項１４記載のガス分析装置の校正方法。
【請求項１６】
サンプルガスが流れる第１流路と、前記第１流路に設けられ、前記サンプルガス中の全炭化水素濃度を計測する第１分析計と、前記サンプルガスが流れる第２流路と、前記第２流路に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタと、前記第２流路において前記ノンメタン・ノンエタンカッタの下流に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を計測する第２分析計とを備えるガス分析装置を用いたガス分析方法であって、
前記第１分析計をプロパンを用いて校正した場合の以下の式（Ａ）と、
式（Ａ）：ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６×ＲＦＣ２Ｈ６［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＋ｘＮＭＮＥＨＣ
ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］：前記第１分析計の全炭化水素濃度
ｘＣＨ４：サンプルガス中のメタン濃度
ＲＦＣＨ４［ＴＨＣ−ＦＩＤ］：前記第１分析計におけるメタンの応答係数
ｘＣ２Ｈ６：サンプルガス中のエタン濃度
ＲＦＣ２Ｈ６［ＴＨＣ−ＦＩＤ］：前記第１分析計におけるエタンの応答係数
ｘＮＭＮＥＨＣ：サンプルガス中のメタン・エタン以外の炭化水素成分の濃度
前記第２分析計をエタンを用いて前記ノンメタン・ノンエタンカッタを通過させて校正した場合の以下の式（Ｂ）と、
式（Ｂ）：ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６＋ｘＮＭＮＥＨＣ×ＲＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］
ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度
ＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のメタンの応答係数
ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のメタンの透過率
ＲＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のプロパンの応答係数
ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のプロパンの透過率
を用いて、以下の式（１）を導出し、
【数５】
2020030207.tif 000007
ｘＮＭＮＥＨＣ：前記サンプルガス中のメタン・エタン以外の炭化水素成分の濃度
ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］：前記第１分析計の全炭化水素濃度
ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度
ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：炭素数３以上の特定有機物（ここではプロパンＣ３Ｈ８）が前記ノンメタン・ノンエタンカッタを通過する割合である特定有機物透過率
上記式（１）を用いて、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出する、ガス分析方法。
【請求項１７】
前記式（Ａ）において、エタンの応答係数ＲＦＣ２Ｈ６［ＴＨＣ−ＦＩＤ］を１．０とみなして、以下の式（Ａ’）を導出し、
式（Ａ’）：ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６＋ｘＮＭＮＥＨＣ
前記式（Ｂ）において、ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］を１．０とみなすとともに、エタン校正している前記第２分析計のプロパンの応答係数を１．０とみなして、以下の式（Ｂ’）を導出し、
式（Ｂ’）：ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６＋ｘＮＭＮＥＨＣ×ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］
前記第１分析計及び前記第２分析計の構成が同じ場合に、ＲＦＣＨ４［ＴＨＣ−ＦＩＤ］とＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］とが同じであることから、以下の式（Ｃ）を導出し、
式（Ｃ）：ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＝ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］−ｘＮＭＮＥＨＣ×ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＮＭＮＥＨＣ
この式（Ｃ）から、前記式（１）を導出する、請求項１６記載のガス分析方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス分析装置及びガス分析方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、排ガスに含まれるＴＨＣ（Total Hydro- Carbon ）からメタン（ＣＨ４）を除いた非メタン炭化水素（ＮＭＨＣ：Non-Methane Hydro-Carbon）の濃度を求めるものが考えられている。
【０００３】
このガス分析装置では、水素炎イオン化法（ＦＩＤ：Flame Ionization Detector）を用いた検出器を用いて構成されており、排ガス中のＴＨＣ濃度を検出器により計測するとともに、排ガス中のメタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタンカッタ（ＮＭＣ：Non-Methane Cutter）を通過した排ガスに含まれるＣＨ４濃度を検出器により計測する。そして、ガス分析装置は、それら検出器により得られた濃度の差分からメタン以外の炭化水素成分（ＮＭＨＣ）の濃度を算出する。
【０００４】
ここで、ＮＭＣの役割は、メタン以外の炭化水素成分を触媒効果により酸化させ除去することであり、その性能は、メタンを透過させる比率、及び、メタンの次に酸化しにくいエタンを透過させる比率で評価される。前者はメタン透過効率と呼ばれ、高ければ高いほど良く、後者はエタン透過効率と呼ばれ、低ければ低いほど良いとされる。メタン透過効率は８５％以上、エタン透過効率は２％以下が要求されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３５０３０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一方、近年では、天然ガス可採量の増加に伴い、天然ガス車両の市場が大きくなっている。そのため天然ガス車両の計測要求も高まっている。天然ガスの成分は主にメタン、エタンであり、天然ガス車両の排ガス中にもこれらの成分が多く含まれている。しかし、メタン、エタンは光化学スモッグなどの大気汚染への寄与度は低く、規制対象から除くべく、メタン、エタン以外の炭化水素（ＮＭＮＥＨＣ：Non-Methane Non-Ethane Hydro-Carbon）濃度を測定することが求められている。そして、ＮＭＮＥＨＣの濃度を計測する手法としてＧＣ−ＦＩＤを用いることが考えられている。
【０００７】
しかしながら、ＧＣ−ＦＩＤを用いてＮＭＮＥＨＣの濃度を計測する場合には、充填剤を詰めたカラムにサンプルガスを流して、通過時間の違いにより各成分を分離する必要があり、バッチ測定であることから連続測定することができない。
【０００８】
そこで本発明は上記問題点を解決すべくなされたものであり、サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分（ＮＭＮＥＨＣ）の濃度を連続測定できるようにすることをその主たる課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
すなわち本発明に係るガス分析装置は、サンプルガスが流れる第１流路と、前記第１流路に設けられ、前記サンプルガス中の全炭化水素濃度を計測する第１分析計と、前記サンプルガスが流れる第２流路と、前記第２流路に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタと、前記第２流路において前記ノンメタン・ノンエタンカッタの下流に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を計測する第２分析計と、前記第１分析計の全炭化水素濃度と前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度とを用いて、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出する算出部とを備えることを特徴とする。
【００１０】
このようなものであれば、メタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタを用いて第２分析計によりサンプルガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を連続計測することができるので、第１分析計により連続計測されるＴＨＣ濃度と併せて、サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出することができる。その結果、サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分（ＮＭＮＥＨＣ）の濃度を連続測定できるようになる。
【００１１】
具体的に算出部は、前記第１分析計の全炭化水素濃度と、第２分析計のメタン・エタン合計濃度と、炭素数３以上の特定有機物が前記ノンメタン・ノンエタンカッタを通過する割合である特定有機物透過率とを用いて、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出することが考えられる。
【００１２】
詳細に算出部は、以下の式により、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出することが考えられる。
【００１３】
【数１】
2020030207.tif 000003
ｘＮＭＮＥＨＣ：前記サンプルガス中のメタン・エタン以外の炭化水素成分の濃度
ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］：前記第１分析計の全炭化水素濃度
ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度
ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：炭素数３以上の特定有機物（ここではプロパンＣ３Ｈ８）が前記ノンメタン・ノンエタンカッタを通過する割合である特定有機物透過率
【００１４】
上記の式は、前記第２分析計がエタンを用いて前記ノンメタン・ノンエタンカッタを通過させて校正されることを前提としている。
【００１５】
本発明のガス分析装置は、前記サンプルガスが流れる第３流路と、前記第３流路に設けられ、前記サンプルガス中のメタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタンカッタと、前記第３流路において前記ノンメタンカッタの下流に設けられ、前記サンプルガス中のメタン濃度を計測する第３分析計とを更に備えていることが望ましい。
【００１６】
この構成において、前記算出部は、前記第１分析計の全炭化水素濃度と前記第３分析計のメタン濃度とを用いて、前記サンプルガス中のメタン以外の炭化水素成分（ＮＭＨＣ）の濃度を算出することが望ましい。
【００１７】
また、前記算出部は、前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度と前記第３分析計のメタン濃度とを用いて、前記サンプルガス中のエタン濃度を算出することが望ましい。
【００１８】
ノンメタン・ノンエタンカッタにより、メタン及びエタン以外の炭化水素成分を効率良く除去するとともに、メタン及びエタンを選択的に通過させるためには、前記第２流路には、前記ノンメタン・ノンエタンカッタの温度を２００〜２５０℃に加熱する加熱部が設けられていることが望ましい。
【００１９】
ノンメタンカッタにより、メタン以外の炭化水素成分を効率良く除去するとともに、メタンを選択的に通過させるためには、前記第３流路には、前記メタンカッタの温度を３００℃以上に加熱する加熱部が設けられていることが望ましい。
【００２０】
第２流路にノンメタン・ノンエタンカッタを設けることによって、第１分析計と第２分析計との応答タイミングが異なってしまい、サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を精度良く分析することが難しくなってしまう。
この問題を好適に解決するためには、本発明のガス分析装置は、前記第１流路に設けられた第１流量調整機構と、前記第２流路に設けられた第２流量調整機構とを更に備えており、前記第１流量調整機構及び前記第２流量調整機構により、前記第１分析計と前記第２分析計との応答タイミングを一致させていることが望ましい。
【００２１】
同様に、第３流路にノンメタンカッタを設けることによって、第１分析計と第２分析計と第３分析計との応答タイミングが異なってしまい、各成分の濃度を精度良く分析することが難しくなってしまう。
本発明のガス分析装置は、前記第３流路に設けられた第３流量調整機構を更に備えており、前記第１流量調整機構、前記第２流量調整機構及び前記第３流量調整機構により、前記第１分析計と前記第２分析計と前記第３分析計との応答タイミングを一致させていることが望ましい。
【００２２】
また、本発明に係るガス分析装置は、サンプルガスが流れる流路と、前記流路に設けられ、前記サンプルガス中の所定の炭化水素成分を除去する炭化水素選択触媒と、前記流路において前記炭化水素選択触媒の下流に設けられ、前記サンプルガス中の炭化水素成分の濃度を計測する分析計と、前記炭化水素選択触媒の温度を切り替える温度切替機構とを備え、前記温度切替機構によって、前記炭化水素選択触媒を２００〜２５０℃に加熱して、前記炭化水素選択触媒を前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタとし、前記炭化水素選択触媒を３００℃以上に加熱して、前記サンプルガス中のメタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタンカッタとすることを特徴とする。
このガス分析装置であれば、サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分（ＮＭＮＥＨＣ）の濃度を測定できるだけでなく、サンプルガス中のメタン以外の炭化水素成分（ＮＭＨＣ）の濃度を測定できるようになる。また、ノンメタン・ノンエタンカッタとノンメタンカッタとを共通の炭化水素選択触媒を用いて構成することができ、流路構成を簡単にすることができる。
【００２３】
また、本発明に係るガス分析方法は、サンプルガスが流れる第１流路に、前記サンプルガス中の全炭化水素濃度を計測する第１分析計を設け、前記サンプルガスが流れる第２流路に、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタを設け、前記第２流路において前記ノンメタン・ノンエタンカッタの下流に、前記サンプルガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を計測する第２分析計を設け、前記第１分析計の全炭化水素濃度と前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度とを用いて、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出することを特徴とする。
【００２４】
さらに、本発明に係るガス分析装置の校正方法は、サンプルガスが流れる第１流路と、前記第１流路に設けられ、前記サンプルガス中の全炭化水素濃度を計測する第１分析計と、前記サンプルガスが流れる第２流路と、前記第２流路に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタと、前記第２流路において前記ノンメタン・ノンエタンカッタの下流に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を計測する第２分析計と、前記第１分析計の全炭化水素濃度と前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度とを用いて、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出する算出部とを備える、ガス分析装置の校正方法であって、前記第２分析計を、エタンを用いて前記ノンメタン・ノンエタンカッタを通過させて校正することを特徴とする。また、第１分析計は、プロパンを用いて校正することが望ましい。
【００２５】
その上、本発明に係るガス分析方法は、サンプルガスが流れる第１流路と、前記第１流路に設けられ、前記サンプルガス中の全炭化水素濃度を計測する第１分析計と、前記サンプルガスが流れる第２流路と、前記第２流路に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタと、前記第２流路において前記ノンメタン・ノンエタンカッタの下流に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を計測する第２分析計とを備えるガス分析装置を用いたガス分析方法であって、
前記第１分析計をプロパンを用いて校正した場合の以下の式（Ａ）と、
式（Ａ）：ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６×ＲＦＣ２Ｈ６［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＋ｘＮＭＮＥＨＣ
ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］：前記第１分析計の全炭化水素濃度
ｘＣＨ４：サンプルガス中のメタン濃度
ＲＦＣＨ４［ＴＨＣ−ＦＩＤ］：前記第１分析計におけるメタンの応答係数
ｘＣ２Ｈ６：サンプルガス中のエタン濃度
ＲＦＣ２Ｈ６［ＴＨＣ−ＦＩＤ］：前記第１分析計におけるエタンの応答係数
ｘＮＭＮＥＨＣ：サンプルガス中のメタン・エタン以外の炭化水素成分の濃度
前記第２分析計をエタンを用いて前記ノンメタン・ノンエタンカッタを通過させて校正した場合の以下の式（Ｂ）と、
式（Ｂ）：ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６＋ｘＮＭＮＥＨＣ×ＲＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］
ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度
ＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のメタンの応答係数
ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のメタンの透過率
ＲＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のプロパンの応答係数
ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のプロパンの透過率
を用いて、以下の式（１）を導出し、
【００２６】
【数２】
2020030207.tif 000004
ｘＮＭＮＥＨＣ：前記サンプルガス中のメタン・エタン以外の炭化水素成分の濃度
ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］：前記第１分析計の全炭化水素濃度
ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度
ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：炭素数３以上の特定有機物（ここではプロパンＣ３Ｈ８）が前記ノンメタン・ノンエタンカッタを通過する割合である特定有機物透過率
上記式（１）を用いて、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出することを特徴とする。
また、前記式（Ａ）において、エタンの応答係数ＲＦＣ２Ｈ６［ＴＨＣ−ＦＩＤ］を１．０とみなして、以下の式（Ａ’）を導出し、
式（Ａ’）：ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６＋ｘＮＭＮＥＨＣ
前記式（Ｂ）において、ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］を１．０とみなすとともに、エタン校正している前記第２分析計のプロパンの応答係数を１．０とみなして、以下の式（Ｂ’）を導出し、
式（Ｂ’）：ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６＋ｘＮＭＮＥＨＣ×ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］
前記第１分析計及び前記第２分析計の構成が同じ場合に、ＲＦＣＨ４［ＴＨＣ−ＦＩＤ］とＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］とが同じであることから、以下の式（Ｃ）を導出し、
式（Ｃ）：ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＝ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］−ｘＮＭＮＥＨＣ×ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＮＭＮＥＨＣ
この式（Ｃ）から、前記式（１）を導出することが望ましい。
【発明の効果】
【００２７】
以上に述べた本発明によれば、サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を連続測定できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本実施形態のガス分析装置の構成を模式的に示す図である。
【図２】同実施形態のＮＭＮＥＣの温度と炭化水素の透過率との関係を示すグラフである。
【図３】変形実施形態のガス分析装置の構成を模式的に示す図である。
【図４】変形実施形態のガス分析装置の構成を模式的に示す図である。
【図５】変形実施形態のガス分析装置の構成を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明の一実施形態に係るガス分析装置について、図面を参照しながら説明する。
【００３０】
＜装置構成＞
本実施形態のガス分析装置１００は、例えば内燃機関から排出される排ガスに含まれる炭化水素を分析するものである。
【００３１】
具体的にこのガス分析装置１００は、図１に示すように、サンプルガスである排ガスが流れる第１流路Ｌ１と、当該第１流路Ｌ１に設けられ、排ガス中の全炭化水素濃度（ＴＨＣ濃度）を計測する第１分析計２と、第１流路Ｌ１とは別に設けられ、排ガスが流れる第２流路Ｌ２と、当該第２流路Ｌ２に設けられ、排ガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分（ＮＭＮＥＨＣ）を除去するノンメタン・ノンエタンカッタ（ＮＭＮＥＣ）３と、第２流路Ｌ２においてＮＭＮＥＣ３の下流に設けられ、排ガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を計測する第２分析計４とを備えている。
【００３２】
本実施形態の第１流路Ｌ１及び第２流路Ｌ２は、排ガスが導入される導入ポートＰ１を有するメイン流路ＭＬの所定の分岐点ＢＰから分岐している。
【００３３】
第１流路Ｌ１及び第２流路Ｌ２にはそれぞれ、第１分析計２と第２分析計４との応答タイミングを一致させるために、第１流量調整機構５及び第２流量調整機構６が設けられている。
【００３４】
第１流量調整機構５は、第１流路Ｌ１において第１分析計２の上流側に設けられた例えばキャピラリにより構成されており、第２流量調整機構６は、第２流路Ｌ２において第２分析計４の上流側に設けられた例えばキャピラリにより構成されている。
【００３５】
第２流路Ｌ２に設けられたＮＭＮＥＣ３は、酸化触媒であって、二酸化マンガンを用いることもできるし、酸化触媒となるその他の金属であっても良い。また、ＮＭＮＥＣ３は、２００〜２５０℃に加熱されている。具体的には、第２流路Ｌ２にＮＭＮＥＣ３を前記温度に加熱するための加熱部７が設けられている。この温度に加熱することによって、図２に示すように、ＮＭＮＥＣ３によりメタン及びエタン以外の炭化水素成分（図２ではプロパンＣ３Ｈ８）を効率良く燃焼させて除去し、メタン及びエタンを効率良く（例えば８０％以上）通過させることができる。
【００３６】
第１分析計２及び第２分析計４は、水素炎イオン化（ＦＩＤ）法により排ガス中の炭化水素を検出するＦＩＤ検出器である。このＦＩＤ検出器には、燃料ガス（例えばＨ２、又は、Ｈ２／Ｈｅの混合ガス）と助燃用空気とが供給される。図１において、符号８は、第１分析計２及び第２分析計４に燃料ガスを供給する燃料ガス供給ラインであり、符号９は、第１分析計２及び第２分析計４に助燃用空気を供給する助燃用空気供給ラインである。その他、符号１０は、第１分析計２及び第２分析計４を校正するための校正ガスを供給する校正ガス供給ラインである。また、ガス分析装置１００は、加熱ブロックＢ１〜Ｂ３により各分析計２、４及び各流路が所定温度に加熱されている。
【００３７】
そして、ガス分析装置１００は、第１分析計２及び第２分析計４により得られた各濃度から、排ガス中のＮＭＮＥＨＣの濃度を算出する算出部１１を備えている。
【００３８】
算出部１１は、第１分析計２の全炭化水素濃度と第２分析計４のメタン・エタン合計濃度とを用いて、サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出するものである。
【００３９】
具体的に算出部１１は、第１分析計２のＴＨＣ濃度ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］と、第２分析計４のメタン・エタン合計濃度ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］と、炭素数３以上の特定有機物（ここではプロパンＣ３Ｈ８）がＮＭＮＥＣ３を通過する割合である特定有機物透過率ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］とを用いて、以下の式により、ＮＭＮＥＨＣ濃度を算出する。
【００４０】
【数３】
2020030207.tif 000005
【００４１】
以下に、上記数１の導出について説明する。
【００４２】
第１分析計２により得られるＴＨＣ濃度ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］は、第１分析計２におけるメタンの応答係数ＲＦＣＨ４［ＴＨＣ−ＦＩＤ］、第１分析計２におけるエタンの応答係数ＲＦＣ２Ｈ６［ＴＨＣ−ＦＩＤ］、サンプルガス中のメタン濃度ｘＣＨ４、サンプルガス中のエタン濃度ｘＣ２Ｈ６、サンプルガス中のメタン・エタン以外の炭化水素成分の濃度ｘＮＭＮＥＨＣを用いて、以下の式となる。
【００４３】
ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６×ＲＦＣ２Ｈ６［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＋ｘＮＭＮＥＨＣ      （２）
【００４４】
上記の式（２）は、第１分析計２（ＴＨＣ−ＦＩＤ）がプロパンＣ３Ｈ８の標準ガスを用いて校正されることを前提としている。したがって、ＲＦＣＨ４［ＴＨＣ−ＦＩＤ］及びＲＦＣ２Ｈ６［ＴＨＣ−ＦＩＤ］は、プロパン校正している第１分析計２のメタン及びエタンの応答係数である。なお、応答係数は、校正ガスに対する、対象成分の感度差（比率）である。さらに、エタンの応答係数は１．０とみなすことができることから、式（２）は、以下の式とみなすことができる。
【００４５】
ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６＋ｘＮＭＮＥＨＣ      （３）
【００４６】
第２分析計４（ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ）により得られる濃度は、校正方法に応じて、その濃度演算式が異なる。
【００４７】
（Ａ）プロパンを用いてＮＭＮＥＣをバイパスして校正した場合
ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６×ＲＦＣ２Ｈ６［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣ２Ｈ６［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＮＭＮＥＨＣ×ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］      （４）
【００４８】
（Ｂ）メタンを用いてＮＭＮＥＣを通過させて校正した場合
ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４＋ｘＣ２Ｈ６×ＲＦＣ２Ｈ６［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣ２Ｈ６［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＮＭＮＥＨＣ×ＲＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］      （５）
【００４９】
（Ｃ）メタンを用いてＮＭＮＥＣをバイパスして校正した場合
ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６×ＲＦＣ２Ｈ６［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣ２Ｈ６［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＮＭＮＥＨＣ×ＲＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］      （６）
【００５０】
（Ｄ）エタンを用いてＮＭＮＥＣを通過させて校正した場合
ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６＋ｘＮＭＮＥＨＣ×ＲＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］      （７）
【００５１】
（Ｅ）エタンを用いてＮＭＮＥＣをバイパスして校正した場合
ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６×ＰＦＣ２Ｈ６［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＮＭＮＥＨＣ×ＲＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］×ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］      （８）
【００５２】
ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤの計測値
ＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤのメタンの応答係数
ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤのメタンの透過率
ＲＦＣ２Ｈ６［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤのエタンの応答係数
ＰＦＣ２Ｈ６［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤのエタンの透過率
ＲＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤのプロパンの応答係数
ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］：ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤのプロパンの透過率
【００５３】
上記の式（２）〜（８）において、メタン濃度及びエタン濃度は測定することができないので、濃度演算式を簡略化するためにそれらを消去する必要がある。そこで、式（３）及び式（７）に着目して、ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］及びＲＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］が除去できれば、これら２つの式を組み合わせることができる。なお、式（４）、式（５）、式（６）、式（８）を用いた場合には、メタン濃度及びエタン濃度を消去することができないので、ＮＭＮＥＨＣの濃度を算出することができない。
【００５４】
ここで、ＮＭＮＥＣ３は２００〜２５０℃に加熱されていることから、ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］は１．０程度であると想定でき、ＰＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］を式（７）から除くことができる。
【００５５】
また、エタン校正している第２分析計４のプロパンの応答係数は１．０とみなすことができるため、式（７）から除くことができる。
【００５６】
その結果、以下の式を得ることができる。
ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＝ｘＣＨ４×ＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＣ２Ｈ６＋ｘＮＭＮＥＨＣ×ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］      （９）
【００５７】
また、第１分析計２及び第２分析計４の構成が同じであるので、ＲＦＣＨ４［ＴＨＣ−ＦＩＤ］とＲＦＣＨ４［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］とは同じとみなすことができる。
【００５８】
従って、式（３）及び式（９）から以下の式を得ることができる。
ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］＝ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］−ｘＮＭＮＥＨＣ×ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］＋ｘＮＭＮＥＨＣ      （１０）
【００５９】
この式（１０）をｘＮＭＮＥＨＣについてまとめると、上記の式（１）を導出することができる。上記の通り、式（１）を導出する上で、各炭化水素成分の透過率ＰＦ及び応答係数ＲＦを考慮している。
この式（１）から、ＰＦＣ３Ｈ８［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］のみを調べることによって、第１分析計２（ＴＨＣ−ＦＩＤ）により得られた濃度ｘＴＨＣ［ＴＨＣ−ＦＩＤ］と、第２分析計４（ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ）により得られた濃度ｘＴＨＣ［ＮＭＮＥＣ−ＦＩＤ］とからＮＭＮＥＨＣの濃度を求めることができることが分かる。
【００６０】
＜本実施形態の効果＞
本実施形態のガス分析装置１００によれば、メタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するＮＭＮＥＣ３を用いて第２分析計４によりサンプルガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を連続計測することができるので、第１分析計２により連続計測されるＴＨＣ濃度と併せて、サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出することができる。その結果、サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分（ＮＭＮＥＨＣ）の濃度を連続測定できるようになる。
【００６１】
＜その他の変形実施形態＞
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
【００６２】
図３に示すように、ガス分析装置１００が、サンプルガスが流れるとともに、サンプルガス中のメタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタンカッタ（ＮＭＣ）１２が設けられた第３流路Ｌ３と、第３流路Ｌ３に設けられ、サンプルガス中のメタン濃度を計測する第３分析計１３とを更に備えていても良い。このとき、第３流路Ｌ３には、ＮＭＣ１２の温度を３００℃以上に加熱する加熱部１４が設けられている。
【００６３】
そして、算出部１１は、第１分析計２の全炭化水素濃度と第３分析計１３のメタン濃度とを用いて、サンプルガス中のメタン以外の炭化水素成分の濃度を算出することができる。また、算出部１１は、第２分析計４のメタン・エタン合計濃度と第３分析計１３のメタン濃度とを用いて、サンプルガス中のエタン濃度を算出することもできる。
【００６４】
さらに、第３流路Ｌ３には、第１分析計２及び第２分析計４と第３分析計１３との応答タイミングを一致させるために、第３流量調整機構１５が設けられている。第３流量調整機構１５は、第３流路Ｌ３において第３分析計１３の上流側に設けられた例えばキャピラリにより構成されている。
【００６５】
加えて、ガス分析装置１００は、図４に示すように、第３流路Ｌ３におけるＮＭＣ１２の下流側及び第２流路Ｌ２におけるＮＭＮＥＣ３の下流側を合流させて共通の分析計４にサンプルガスを導入するようにしても良い。この場合、サンプルガスが流れる流路を第２流路Ｌ２と第３流路Ｌ３とを切り替える例えば開閉弁Ｖ１、Ｖ２からなる流路切替機構１６を設ける。第２流路Ｌ２に切り替えることによって、分析計４がメタン・エタン合計濃度を測定することになり、第３流路Ｌ３に切り替えることによって、分析計４がメタン濃度を測定することになる。この構成であれば、分析計の台数を削減することができ、ガス分析装置のコスト低減等を可能にすることができる。
【００６６】
前記実施形態のガス分析装置の構成に限られず、本発明のガス分析装置は、サンプルガスが流れる第１流路と、前記第１流路に設けられ、前記サンプルガス中の全炭化水素濃度を計測する第１分析計と、前記サンプルガスが流れる第２流路と、前記第２流路に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタと、前記第２流路において前記ノンメタン・ノンエタンカッタの下流に設けられ、前記サンプルガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を計測する第２分析計と、前記第１分析計の全炭化水素濃度と前記第２分析計のメタン・エタン合計濃度とを用いて、前記サンプルガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出する算出部とを備えていれば良い。
【００６７】
その上、ガス分析装置１００は、図５に示すように、サンプルガスである排ガスが流れる第１流路Ｌ１と、当該第１流路Ｌ１に設けられ、排ガス中の全炭化水素濃度（ＴＨＣ濃度）を計測する第１分析計２と、第１流路Ｌ１とは別に設けられ、排ガスが流れる第２流路Ｌ２と、当該第２流路Ｌ２に設けられ、排ガス中の所定の炭化水素成分を除去する炭化水素選択触媒１７と、第２流路Ｌ２において炭化水素選択触媒１７の下流に設けられ、排ガス中の炭化水素成分の濃度を計測する分析計１８と炭化水素選択触媒１７の温度を切り替える温度切替機構１９とを備えてもよい。分析計１８は、水素炎イオン化（ＦＩＤ）法により排ガス中の炭化水素を検出するＦＩＤ検出器である。炭化水素選択触媒１７は、温度に応じて除去する炭化水素成分を選択できる触媒であり、温度に応じて例えばノンメタンカッタ又はノンメタン・ノンエタンカッタとなる。なお、炭化水素選択触媒１７は、メタン又はメタン及びエタンを選択的に除去するだけでなく、その他の炭化水素を選択的に除去できるものであってもよい。温度切替機構１９は、前記実施形態と同様に、設定温度が変更可能な加熱部により構成されている。
【００６８】
そして、温度切替機構１９によって、炭化水素選択触媒１７を２００〜２５０℃に加熱して、炭化水素選択触媒１７を排ガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタン・ノンエタンカッタとする。これにより、分析計１８は、排ガス中のメタン及びエタンのメタン・エタン合計濃度を計測する。ここで、ガス分析装置１００の算出部は、第１分析計２のＴＨＣ濃度と分析計１８のメタン・エタン合計濃度とから、排ガス中のメタン及びエタン以外の炭化水素成分の濃度を算出する。
【００６９】
また、温度切替機構１９によって、炭化水素選択触媒１７を３００℃以上に加熱して、排ガス中のメタン以外の炭化水素成分を除去するノンメタンカッタとする。これにより、分析計１８は、排ガス中のメタンの濃度を計測する。ここで、ガス分析装置１００の算出部は、第１分析計２のＴＨＣ濃度と分析計１８のメタン濃度とから、排ガス中のメタン以外の炭化水素成分の濃度を算出する。
【００７０】
なお、温度切替機構１９による温度の切替は、ユーザにより手動で設定できるように構成してもよいし、例えば所定の測定シーケンス等によって自動で設定できるように構成しても良い。また、上述した説明では、分析計２，４，１８をＦＩＤ検出器であるとしたが、炭化水素成分を測定できるものであれば如何なる分析器を用いてもよい。
【００７１】
その他、本発明の趣旨に反しない限りにおいて様々な実施形態の変形や組み合わせを行っても構わない。
【符号の説明】
【００７２】
１００・・・ガス分析装置
Ｌ１  ・・・第１流路
２    ・・・第１分析計
Ｌ２  ・・・第２流路
３    ・・・ノンメタン・ノンエタンカッタ（ＮＭＮＥＣ）
４    ・・・第２分析計
５    ・・・第１流量調整機構
６    ・・・第２流量調整機構
７    ・・・加熱部
１１  ・・・算出部
Ｌ３  ・・・第３流路
１２  ・・・ノンメタンカッタ（ＮＭＣ）
１３  ・・・第３分析計
１４  ・・・加熱部
１５  ・・・第３流量調整機構
１７  ・・・炭化水素選択触媒
１８  ・・・分析計
１９  ・・・温度切替機構
【図１】
2020030207.tif 000008
【図２】
2020030207.tif 000009
【図３】
2020030207.tif 000010
【図４】
2020030207.tif 000011
【図５】
2020030207.tif 000012