(57)【要約】【課題】複数の基板を同時に搬入して順次露光する際にスループットを低下させずに露光精度を向上させることができる露光装置を提供する。【解決手段】本発明に係る露光装置は、基板搬送装置から搬送される複数の基板を受け取る基板受け取り部と、複数の基板を保持し基板の面と平行な面内において回転可能とされている基板保持部と、を有する基板ステージと、基板ステージの駆動を制御する制御部と、を備え、基板受け取り部は、複数の基板が載置され、載置される基板の面に垂直な方向に変位可能な基板載置面を備え、制御部は、基板搬送装置から基板受け取り部への複数の基板の受け渡しが互いに異なるタイミングで行われるように制御すると共に、複数の基板が基板保持部に整列して配置されるように、基板搬送装置から基板受け取り部への基板の受け渡し前に、基板保持部を回転駆動することを特徴とする。【選択図】  図２
2020194007.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクに描画されたパターンを基板に転写するように前記基板を露光する露光装置であって、
基板搬送装置から搬送される複数の前記基板を受け取る基板受け取り部と、前記複数の基板を保持し該基板の面と平行な面内において回転可能とされている基板保持部と、を有する基板ステージと、
該基板ステージの駆動を制御する制御部と、を備え、
該基板受け取り部は、前記複数の基板が載置され、該載置される基板の面に垂直な方向に変位可能な基板載置面を備え、
前記制御部は、前記基板搬送装置から前記基板受け取り部への前記複数の基板の受け渡しが互いに異なるタイミングで行われるように制御すると共に、前記複数の基板が前記基板保持部に整列して配置されるように、前記基板搬送装置から前記基板受け取り部への前記基板の受け渡し前に、前記基板保持部を回転駆動することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記基板受け取り部は、前記基板受け取り部の前記基板載置面に垂直な方向において前記基板搬送装置の基板受け渡し部に対する距離が互いに異なる複数の載置領域を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記基板保持部の回転駆動量は、前記基板の配向位置に関する計測結果に基づいて定められることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記基板の端面の角度を計測する第１の計測部を備え、
前記制御部は、該第１の計測部によって計測された角度から前記基板保持部の回転駆動量を算出することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記パターンの位置を計測する第２の計測部を備え、
前記制御部は、該第２の計測部による計測結果から前記基板保持部の回転駆動量を算出することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
マスクに描画されたパターンを基板に転写するように前記基板を露光する露光装置であって、
基板搬送装置から搬送される複数の前記基板を受け取る基板受け取り部と、前記複数の基板を保持する基板保持部と、を有する基板ステージと、
該基板ステージの駆動を制御する制御部と、を備え、
該基板受け取り部は、前記複数の基板が載置され、該載置される基板の面に平行な面内において駆動可能な基板載置部を備え、
前記制御部は、前記基板が回転し、前記複数の基板が前記基板保持部に整列して配置されるように前記基板載置部の駆動を制御することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
前記基板載置部は、それぞれ独立して駆動可能な複数の可動要素を含むことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記基板の回転量は、前記基板の配向位置に関する計測結果に基づいて定められることを特徴とする請求項６または７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記基板の端面の角度を計測する第１の計測部を備え、
前記制御部は、該第１の計測部によって計測された角度から前記基板の回転量を算出することを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記パターンの位置を計測する第２の計測部を備え、
前記制御部は、該第２の計測部による計測結果から前記基板の回転量を算出することを特徴とする請求項６乃至９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の露光装置と、
前記複数の基板を搬送する基板搬送装置と、
を備えた露光システム。
【請求項１２】
基板受け取り部を有する露光装置においてマスクに描画されたパターンを基板に転写するように前記基板を露光する露光方法であって、
前記基板受け取り部において複数の前記基板を互いに異なるタイミングで受け取るステップと、
所定の基板を受け取る前に前記基板受け取り部を回転するステップと、
を含むことを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、複数の基板を同時に搬入して順次露光することによって高スループット化を図った露光装置が知られている。
また、基板搬入時に基板の位置ズレを補正することによって露光精度を向上させる露光装置が知られている。
特許文献１は、基板を搬入する前に基板の位置ズレを計測し、計測された位置ズレ量に基づいて基板が搬入される位置決めステージの受け取り位置を補正する露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平０６−０２０９２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に開示されている露光装置において複数の基板を同時に搬送して順次露光しようとすると、各々の基板の位置ズレが互いに異なる場合に、全ての基板の位置ズレに同時に対応するように位置決めステージの受け取り位置を補正することは非常に困難である。
その場合、複数の基板が搬入された後に各基板の露光処理の間に位置決めステージ上において露光される基板の位置ズレを補正することが考えられる。
しかしながら、このとき位置決めステージにおいて基板を保持する基板保持部のロックを解除する必要が生じるため、スループットが低下してしまう。
そこで本発明は、複数の基板を同時に搬入して順次露光する際にスループットを低下させずに露光精度を向上させることができる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係る露光装置は、マスクに描画されたパターンを基板に転写するように基板を露光する露光装置であって、基板搬送装置から搬送される複数の基板を受け取る基板受け取り部と、複数の基板を保持し基板の面と平行な面内において回転可能とされている基板保持部と、を有する基板ステージと、基板ステージの駆動を制御する制御部と、を備え、基板受け取り部は、複数の基板が載置され、載置される基板の面に垂直な方向に変位可能な基板載置面を備え、制御部は、基板搬送装置から基板受け取り部への複数の基板の受け渡しが互いに異なるタイミングで行われるように制御すると共に、複数の基板が基板保持部に整列して配置されるように、基板搬送装置から基板受け取り部への基板の受け渡し前に、基板保持部を回転駆動することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、複数の基板を同時に搬入して順次露光する際にスループットを低下させずに露光精度を向上させることができる露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】第一乃至第三実施形態のいずれかに係る露光装置の模式図。
【図２】第一実施形態に係る露光装置における基板の受け取り動作の様子を示す模式図。
【図３】第一実施形態に係る露光装置における基板の受け取り動作の様子を示す模式図。
【図４】第一実施形態に係る露光装置のプレートステージに基板が搬送されて露光処理する際のフローチャート。
【図５】第一実施形態に係る露光装置の基板保持機構に基板が受け渡された状態を示す模式的上面図。
【図６】第二実施形態に係る露光装置における基板の受け取り動作の様子を示す模式図。
【図７】第二実施形態に係る露光装置のプレートステージに基板が搬送されて露光処理する際のフローチャート。
【図８】第三実施形態に係る露光装置における基板の受け取り動作の様子を示す模式図。
【図９】第三実施形態に係る露光装置のプレートステージに基板が搬送されて露光処理する際のフローチャート。
【図１０】従来の露光装置のプレートステージ近傍における模式的断面図。
【図１１】従来の露光装置における基板の受け取り動作の様子を示す模式的断面図。
【図１２】従来の露光装置のプレートステージに基板が搬送される際のフローチャート。
【図１３】従来の露光装置の基板保持機構に基板が受け渡された状態を示す模式的上面図。
【図１４】従来の露光装置において基板を露光処理する際のフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、本実施形態に係る露光装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている。
【０００９】
図１は、本実施形態に係る露光装置１０の模式図を示している。
図１に示されているように、露光装置１０は、露光光源１１、照明光学系１２、マスクステージ１４、投影光学系１５、プレートステージ１７（基板ステージ）、計測用カメラ１８及び制御装置３０（制御部）を備えている。
【００１０】
そして、マスクステージ１４にはマスク１３が搭載され、プレートステージ１７には基板１６が搭載される。また、制御装置３０は、例えばＣＰＵやメモリを含み、照明光学系１２、マスクステージ１４及びプレートステージ１７を制御する。
露光光源１１は、例えば紫外線ランプなどが用いられ、基板１６を露光するための光（露光光）を射出する。
【００１１】
マスクステージ１４は、マスク１３の位置決めを行うため、マスク１３を保持して移動可能に構成されている。マスク１３には、半導体回路パターン等のパターンが形成されており、露光光源１１が射出する露光光によって照明される。
投影光学系１５は、所定の倍率を有しており、マスク１３に形成されたパターンを基板１６に投影する。
プレートステージ１７は、フォトレジスト（感光剤）が塗布された基板１６の位置決めを行うため、基板１６を移動可能に保持している。
【００１２】
プレートステージ１７は、不図示の本体ベース上に配置したＹ方向に駆動するＹステージ及びＸ方向に駆動するＸステージを有する。このＸステージ及びＹステージを統合して、Ｘ方向とＹ方向の二方向に駆動可能な二軸のステージを採用し、ＸＹステージとしている。
さらに、このＸＹステージ上にθＺステージが搭載され、この上にプレートチャック（基板保持部）を配置することによって露光されるべき基板１６が支持される。
従って、基板１６は、プレートステージ１７によってＸ、Ｙ及びＺ方向に移動可能であると共にＸＹ面内でも回転可能に支持されることになる。
【００１３】
このように、露光光源１１から出射し照明光学系１２を通過した露光光を用いて、投影光学系１５によってマスク１３に描画されたパターンが基板１６に投影（転写）され、基板１６に塗布されているレジスト（感光材）に潜像パターンが形成される。そして、潜像パターンは、不図示の現像装置によって現像され、これによりレジストパターンが基板１６上に形成される。
【００１４】
この際、制御装置３０は、基板１６上に既に形成されているパターンと基板１６にこれから形成するためのマスク１３上のパターンとを高精度に位置合わせするために、計測用カメラ１８で互いのパターンの間の位置ズレを計測する。そして、計測された位置ズレに基づいてマスクステージ１４またはプレートステージ１７を二次元平面内のＸ方向、Ｙ方向及び該平面内の角度であるθ方向で制御しながら露光処理を実施する。
従って、パターンの位置ズレ量は、マスク１３上のパターンと基板１６上のパターンとの相対位置によって決定され、プレートステージ１７に基板１６が搭載される際の置き誤差によって生じる成分も含まれる。
【００１５】
次に、露光システムにおいて複数の基板１６をプレートステージ１７上に共に載置して露光処理する際の処理を説明する。
【００１６】
図１０は、従来の露光装置のプレートステージ１７近傍における模式的断面図を示している。
図１０に示されているように、プレートステージ１７は、二次元ＸＹ平面内において駆動可能なステージ５００と該平面内のθ方向において駆動可能（回転可能）な基板保持機構５０１とを備えている。
【００１７】
また、プレートステージ１７は、基板保持機構５０１上に設けられたＺ方向において駆動可能（変位可能）であり、基板１６の受け渡しを行う基板載置機構５０２を備えている。
また、従来の露光装置を備える露光システムは、基板載置機構５０２に対して露光装置１０の外部から基板１６を搬送する基板搬入機構５０３を備えている。
【００１８】
図１０に示されているように、基板保持機構５０１と接すると共にＸ方向に平行な軸に対して基板載置機構５０２の支持部材５０２ａが回転することによって、基板１６との接触部材５０２ｂがＹ方向にシフトしながらＺ方向に駆動することができる。
そして、基板載置機構５０２の接触部材５０２ｂがＺ方向に駆動した時の所定の位置を受け取り位置とし、基板１６を基板搬入機構５０３が受け渡しする際には基板載置機構５０２の接触部材５０２ｂがこの受け取り位置に移動する。そして、接触部材５０２ｂは、基板１６を保持した状態でのＺ方向駆動時には基板１６を吸着制御する。
また、基板１６の受け取りを行わない時には、基板載置機構５０２の支持部材５０２ａ及び接触部材５０２ｂは共に、基板保持機構５０１の内部に格納される（図１１（ｃ））。すなわち、基板載置機構５０２は基板保持機構５０１に格納自在に結合されている。
【００１９】
図１１（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は、従来の露光装置を備える露光システムにおける基板１６の受け渡し動作の様子を示す模式的断面図である。
また、図１２は、従来の露光装置を備える露光システムにおける基板１６の受け渡し動作のフローチャートを示している。
【００２０】
まず、露光装置に基板１６を搬入する際に、制御装置は、基板載置機構５０２を受け取り位置に駆動させる（ステップＳ５０）。
そして、基板搬入機構５０３は、基板載置機構５０２が受け取り位置に移動したことを確認した後、図１１（ａ）に示されているように、基板１６ａ及び１６ｂを同時に基板載置機構５０２の接触部材５０２ｂ上に搬送する。
そして、図１１（ｂ）に示されているように、基板搬入機構５０３から基板１６ａ及び１６ｂが基板載置機構５０２に受け渡される（ステップＳ５１）。
その後、制御装置は、基板載置機構５０２をＺ方向に駆動させ、図１１（ｃ）に示されているように基板１６ａ及び１６ｂが基板保持機構５０１に受け渡される（ステップＳ５２）。
【００２１】
図１３は、従来の露光装置において基板保持機構５０１に基板１６ａ及び１６ｂが受け渡された状態を示す模式的上面図である。
図１３に示されているように、従来の露光装置に搬送された基板１６ａ及び１６ｂは、基板保持機構５０１に対して互いに異なるθ成分を有して保持される。
【００２２】
図１４は、従来の露光装置において搬送された基板１６ａ及び１６ｂに対して露光処理を行う際のフローチャートを示している。
【００２３】
まず、上で示したように基板搬入機構５０３から露光装置に基板１６ａ及び１６ｂが搬入される（ステップＳ６０）。
次に、一方の基板１６ａを露光処理するために、制御装置がθ方向の最適な位置に基板保持機構５０１を駆動する（ステップＳ６１）。
この際、制御装置は、基板保持機構５０１をθ方向に駆動するために、基板保持機構５０１のθ駆動機構のロックを解除し（ステップＳ７０）、θ駆動機構を駆動させ（ステップＳ７１）、θ駆動機構のロックを行う（ステップＳ７２）。
このように、基板保持機構５０１をθ方向に駆動させ、基板保持機構５０１のθ駆動機構をロックした後、制御装置がそのロックした状態を保ったまま、基板１６ａに露光処理が行われる（ステップＳ６２）。
【００２４】
ステップＳ６２において基板１６ａの露光処理が完了した後、もう一方の基板１６ｂの露光処理を行うために、制御装置がθ方向の最適な位置に基板保持機構５０１を駆動する（ステップＳ６３）。
その際、制御装置は、ステップＳ６１と同様に、基板保持機構５０１のθ駆動機構のロック解除（ステップＳ７０）、駆動（ステップＳ７１）及びロック（ステップＳ７２）の動作を行う。
そして、制御装置が基板保持機構５０１をロックした状態を保ったまま、基板１６ｂの露光処理を行った後（ステップＳ６４）、基板１６ａ及び１６ｂを搬出する（ステップＳ６５）。
【００２５】
上記のように、従来の露光装置におけるこのような処理においては、基板１６ａの露光処理を完了した後、基板１６ｂに対して基板保持機構５０１のθ駆動機構による補正を行ってから基板１６ｂの露光処理を行う必要がある。
そのため、基板保持機構５０１のθ駆動機構による補正処理が露光処理時間に直接影響するため、スループットが悪化してしまう。
【００２６】
［第一実施形態］
図２（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は、第一実施形態に係る露光装置１０における基板１６の受け取り動作の様子を示す模式的断面図、模式的上面図及び模式的斜視図である。
また、図３は、第一実施形態に係る露光装置１０における基板１６の受け取り動作の様子を示す模式的斜視図である。
【００２７】
図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び図３に示されているように、本実施形態に係る露光装置１０が備えるプレートステージ１７は、二次元ＸＹ平面内において駆動可能なステージ１００と該平面内のθ方向において駆動可能な基板保持機構１０１とを備えている。
基板保持機構１０１は、ステージ１００上に構成されており、下面に配置された磁石とステージ１００の上面に配置された金属部材との間に発生する磁力によりθ方向への駆動を制限する不図示のロック機構を有する。そして基板保持機構１０１は、上記の磁力を上回るように基板保持機構１０１とステージ１００との間に高圧の空気を通すことで基板保持機構１０１を浮上させることによってθ方向への駆動を可能とする不図示のロック解除機構を有する。また基板保持機構１０１は、不図示のθ駆動モーターによってθ方向に駆動可能な構造を有する。
【００２８】
また、プレートステージ１７は、基板保持機構１０１（基板保持部）に結合して設けられた、Ｚ方向に駆動可能であると共に基板１６の受け取りを行うことが可能である基板載置機構１０２及び１０２´（基板受け取り部、載置領域）を備えている。
また、本実施形態に係る露光装置１０を備える露光システムは、基板載置機構１０２及び１０２´に対して露光装置１０の外部から基板１６を搬送する基板搬入機構１０３（基板搬送装置）を備えている。
【００２９】
図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び図３に示されているように、基板載置機構１０２及び１０２´は、Ｚ方向（基板載置機構１０２及び１０２´の基板載置面に垂直な方向）において、基板搬入機構１０３に対する距離が互いに異なるように駆動される。
そのため、以下に示すように本実施形態に係る露光装置１０では、複数の基板１６の各々を互いに異なるタイミングで基板搬入機構１０３から順次受け取ることが可能である。
【００３０】
基板載置機構１０２では、基板保持機構１０１と接すると共にＸ方向に平行な軸に対して支持部材１０２ａが回転することによって、基板１６との接触部材１０２ｂがＹ方向にシフトしながらＺ方向に駆動することができる。
同様に、基板載置機構１０２´では、基板保持機構１０１と接すると共にＸ方向に平行な軸に対して基板載置機構１０２´の支持部材１０２´ａが回転することによって、基板１６との接触部材１０２´ｂがＹ方向にシフトしながらＺ方向に駆動することができる。
【００３１】
そして、基板載置機構１０２及び１０２´の接触部材１０２ｂ及び１０２´ｂがＺ方向に駆動した時の所定の位置を受け取り位置とする。そして、基板１６を基板搬入機構１０３が受け渡しする際には基板載置機構１０２及び１０２´の接触部材１０２ｂ及び１０２´ｂがこの受け取り位置に移動する。そして、接触部材１０２ｂ及び１０２´ｂは、基板１６を保持した状態でのＺ方向駆動時には基板１６を吸着制御する。
また、基板１６の受け取りを行わない時には、基板載置機構１０２及び１０２´の支持部材１０２ａ及び１０２´ａ及び接触部材１０２ｂ及び１０２´ｂは共に、基板保持機構１０１の内部に格納される。
【００３２】
なお、本実施形態に係る露光装置１０では、基板載置機構１０２及び１０２´の接触部材１０２ｂ及び１０２´ｂを各々複数の長板形状の部材で記載している。しかしながら、これに限らず、基板載置機構１０２及び１０２´各々において基板１６の受け取りが可能であれば、どのような形状でも構わない。
【００３３】
図４は、基板搬入機構１０３から本実施形態に係る露光装置１０のプレートステージ１７に基板１６ａ及び１６ｂが搬送される際のフローチャートを示している。
【００３４】
まず、基板搬入機構１０３から露光装置１０に基板１６ａ及び１６ｂが搬入される。その際、図２（ａ）に示されているように、制御装置３０は、基板載置機構１０２及び１０２´をそれぞれ、Ｚ方向の位置が互いに異なるように駆動させる（ステップＳ１０、Ｓ１１）。
そして、図２（ｂ）に示されているように、制御装置３０は、基板載置機構１０２を受け取り位置まで駆動した後、基板搬入機構１０３が基板載置機構１０２上に基板１６ａを搬送する（ステップＳ１２）。
なおこの際、基板保持機構１０１は、基板１６ａのθ成分の置き誤差に基づいた角度位置に配置されるように回転駆動されている。
【００３５】
そして、基板１６ａが基板載置機構１０２上に受け渡された後、制御装置３０は、基板保持機構１０１を後に示す方法であらかじめ算出しておいた基板１６ｂのθ成分の置き誤差に基づいてθ方向に駆動を行う（ステップＳ１３）。
このような駆動を行うことで、基板１６ａのみが基板載置機構１０２上に保持された状態でθ方向に駆動を行うことによって、基板１６ｂに対してθ方向の補正を行うことができる。
また、この時、基板保持機構１０１は、ロックが解除されている状態であるため、制御装置３０は、基板保持機構１０１をθ方向に駆動するために、θ駆動機構のロック解除、及びその後のロックを行う必要がない。
【００３６】
次に、図２（ｃ）に示されているように、基板搬入機構１０３が基板載置機構１０２´上に基板１６ｂを搬送する（ステップＳ１４）。
上述のように基板１６ａ及び１６ｂを受け渡しのタイミングをずらしながら基板載置機構１０２及び１０２´上に搬送することで、基板１６ａ及び１６ｂのθ方向の補正を独立に行うことができる。
【００３７】
そして、制御装置３０が基板載置機構１０２及び１０２´をそれぞれＺ方向に駆動させることによって、基板１６ａ及び１６ｂが基板保持機構１０１に受け渡される（ステップＳ１５、Ｓ１６）。
このように基板１６ａ及び１６ｂの受け渡しを行うことで、基板保持機構１０１に対しても基板１６ａ及び１６ｂそれぞれに対して独立にθ成分の補正を行うことが可能となる。
【００３８】
図５は、本実施形態に係る露光装置１０の基板保持機構１０１に基板１６ａ及び１６ｂが受け渡された状態を示す模式的上面図である。
図５に示されているように、従来の露光装置と異なり、本実施形態に係る露光装置１０では、搬送された基板１６ａ及び１６ｂを、基板保持機構１０１に対して互いに同一のθ成分を有して、すなわち互いに整列して保持することができる。
【００３９】
その後、図１４に示した従来の露光装置におけるフローチャートと同様に、制御装置３０がθ駆動機構のロックを行い（ステップＳ１７）、そのロックした状態を保ったまま、基板１６ａに露光処理を行う（ステップＳ１８）。
そして、従来の露光装置とは異なり、制御装置３０は、θ駆動機構のロック解除を行うことなく基板保持機構１０１のロックした状態を保ったまま、基板１６ｂの露光処理を行う（ステップＳ１９）。その後、基板１６ａ及び１６ｂが搬出される（ステップＳ２０）。
【００４０】
このように、本実施形態に係る露光装置１０では、基板搬入機構１０３から露光装置１０のプレートステージ１７への基板１６ａ及び１６ｂの搬入時に、それぞれの基板に対して独立にθ成分の補正を行うため、その分搬入に要する駆動時間は増加してしまう。
しかしながら、一方で、露光装置１０において基板１６ａ及び１６ｂそれぞれの露光処理の間において、基板保持機構１０１のロック解除やロックを含むθ方向における駆動を行う必要が無くなる。
そのため、全体として露光システムにおける制御時間を削減することができ、スループットを向上させることができる。
【００４１】
なお、基板搬入機構１０３によって搬送される複数の基板においてθ成分について一定の位置ズレ量が生じるならば、それぞれの基板の配向位置（オリエンテーション）に関する計測値（所定量、回転量）を次のように求めればよい。すなわち、上記のように基板１６ａ及び１６ｂがステージ１００上に搭載された際に、不図示の位置計測センサ（第１の計測部）が基板１６ａ及び１６ｂのＸ方向及びＹ方向における端面の位置計測を行う。そして、計測結果からステージ１００に対する基板１６ａ及び１６ｂの置き位置ズレ量、すなわち基板１６ａ及び１６ｂ各々に対応する角度を算出して求めることができる。これにより、上述の基板保持機構１０１のθ方向における補正のための駆動量（回転駆動量）を決定することができる。
【００４２】
また、計測用カメラ１８（第２の計測部）を用いて基板１６ａ及び１６ｂそれぞれに既に形成されているパターンと基板１６ａ及び１６ｂそれぞれにこれから形成するためのマスク１３上のパターンとの間の相対位置を計測する。そして得られた２つの計測値を以降の基板搬入時においてθ成分についての位置ズレ量としてフィードバックすることで算出することも可能である。
【００４３】
また、上記では、ステージ１００に対する基板１６ａ及び１６ｂの置き位置ズレ量を基板１６ａ及び１６ｂがステージ１００上に搭載された後に算出する方法を示したが、これに限られない。
例えば、基板搬入機構１０３上に基板１６ａ及び１６ｂのＸ方向及びＹ方向における端面を検出する不図示の計測センサを設けて端面の位置を検出する。そして、基板搬入機構１０３上において基板１６ａ及び１６ｂの位置ズレを計測し、θ成分についての位置ズレ量を算出することも可能である。
【００４４】
また、本実施形態に係る露光装置１０では、基板載置機構１０２及び１０２´を上記で示したような構成で駆動しているが、これに限らず、基板保持機構１０１に対してＺ方向に駆動可能な構成であれば別の構成でも構わない。
【００４５】
［第二実施形態］
図６（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は、第二実施形態に係る露光装置１０における基板１６の受け取り動作の様子を示す模式的断面図、模式的上面図及び模式的斜視図である。
【００４６】
図６（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）に示されているように、本実施形態に係る露光装置１０が備えるプレートステージ１７は、二次元ＸＹ平面内において駆動可能なステージ２００と該平面内のθ方向において駆動可能な基板保持機構２０１とを備えている。
【００４７】
また、プレートステージ１７は、基板保持機構２０１に結合して設けられた、Ｚ方向に駆動可能であると共に基板１６の受け取りを行うことができる基板載置機構２０２を備えている。
なお、基板載置機構２０２は、上記で示した従来の露光装置と同様な支持部材２０２ａ及び接触部材２０２ｂを有している。
【００４８】
また、本実施形態に係る露光装置１０を備える露光システムは、Ｚ方向の位置が互いに異なる基板１６の複数の載置領域２０３ａ及び２０３ｂを有する基板搬入機構２０３を備えている。そして基板搬入機構２０３は、露光装置１０の外部から基板載置機構２０２に対して互いに異なる高さを有した状態で複数の基板１６を搬送することができる。
そのため、本実施形態に係る露光装置１０を備える露光システムの一つの特徴として、複数の基板１６の受け渡しの際に基板搬入機構２０３上において複数の基板１６のＺ方向の位置を互いに異ならせることが可能となる。
【００４９】
図７は、基板搬入機構２０３から本実施形態に係る露光装置１０のプレートステージ１７に基板１６ａ及び１６ｂを搬送する際のフローチャートを示している。
【００５０】
まず、基板搬入機構２０３から露光装置１０に基板１６ａ及び１６ｂが搬入される。そして、図６（ａ）に示されているように、制御装置３０は、基板載置機構２０２を基板１６ａ及び１６ｂの受け取り位置に駆動させる（ステップＳ３０）。
そして、図６（ｂ）に示されているように、基板搬入機構２０３は、基板１６ａのみが基板載置機構２０２上に搬送されるように駆動される（ステップＳ３１）。
なおこの際、基板保持機構２０１は、基板１６ａのθ成分の置き誤差に基づいた角度位置に配置されている。
【００５１】
そして、基板１６ａが基板載置機構２０２上に受け渡された後、制御装置３０は、基板保持機構２０１をあらかじめ算出しておいた基板１６ｂのθ成分の置き誤差に基づいてθ方向に駆動を行う（ステップＳ３２）。
このような駆動を行うことで、基板１６ａのみが基板載置機構２０２上に保持された状態でθ方向に駆動を行うことによって、基板１６ｂに対してθ方向の補正を行うことができる。
また、この時、基板保持機構２０１は、ロックが解除されている状態であるため、制御装置３０は、基板保持機構２０１をθ方向に駆動するために、θ駆動機構のロック解除、及びその後のロックを行う必要がない。
【００５２】
次に、図６（ｃ）に示されているように、基板搬入機構２０３は、基板１６ｂが基板載置機構２０２上に搬送されるように駆動される（ステップＳ３３）。
上述のように、基板１６ａ及び１６ｂを受け渡しのタイミングをずらしながら基板載置機構２０２上に搬送することで、基板１６ａ及び１６ｂのθ方向の補正を独立に行うことができる。
【００５３】
そして、制御装置３０が基板載置機構２０２をＺ方向に駆動させることによって、基板１６ａ及び１６ｂが基板保持機構２０１に受け渡される（ステップＳ３４）。
このように基板１６ａ及び１６ｂの受け渡しを行うことで、基板保持機構２０１に対しても基板１６ａ及び１６ｂそれぞれに対して独立にθ成分の補正を行うことが可能となる。
【００５４】
その後、従来の露光装置と同様に、制御装置３０がθ駆動機構のロックを行い（ステップＳ３５）、そのロックした状態を保ったまま、基板１６ａに露光処理を行う（ステップＳ３６）。
そして、従来の露光装置とは異なり、制御装置３０は、θ駆動機構のロック解除を行うことなく基板保持機構２０１のロックした状態を保ったまま、基板１６ｂの露光処理を行う（ステップＳ３７）。その後、基板１６ａ及び１６ｂが搬出される（ステップＳ３８）。
【００５５】
このように、基板搬入機構２０３から本実施形態に係る露光装置１０のプレートステージ１７への基板１６ａ及び１６ｂの搬入時に、それぞれの基板に対して独立にθ成分の補正を行うため、その分搬入に要する駆動時間は増加してしまう。
しかしながら、一方で、露光装置１０において基板１６ａ及び１６ｂそれぞれの露光処理の間で、基板保持機構２０１のロック解除やロックを含むθ方向における駆動を行う必要が無くなる。
そのため、全体として露光システムにおける制御時間を削減することができ、スループットを向上させることができる。
【００５６】
なお、本実施形態に係る露光装置１０を備える露光システムにおいて、第一実施形態と同様に、基板載置機構２０２が互いに高さが異なる複数の載置領域を備えることも可能である。
従って、換言すると、本実施形態に係る露光装置１０を備える露光システムでは、基板載置機構及び基板搬入機構の少なくとも一方は、基板載置機構の基板載置面に垂直な方向において他方に対する距離が互いに異なる複数の載置領域を含んでいる。
【００５７】
［第三実施形態］
図８（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は、第三実施形態に係る露光装置１０における基板１６の受け取り動作の様子を示す模式的断面図及び模式的上面図である。
【００５８】
図８（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）に示されているように、本実施形態に係る露光装置１０が備えるプレートステージ１７は、二次元ＸＹ平面内において駆動可能なステージ３００と該平面内のθ方向において駆動可能な基板保持機構３０１とを備えている。
また、プレートステージ１７は、基板保持機構３０１に結合して設けられた、Ｚ方向に駆動可能であると共に基板１６の受け取りを行うことができる基板載置機構３０２ａ及び３０２ｂ（基板載置部）を備えている。
【００５９】
ここで、図８（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）に示されているように、基板載置機構３０２ａは、Ｘ方向に沿って配列されており、互いに独立してＹ方向及びＺ方向に駆動可能な可動部３０２ａ１、３０２ａ２及び３０２ａ３（可動要素）を備えている。そして、可動部３０２ａ１、３０２ａ２及び３０２ａ３がＹ方向に駆動することによって、載置される基板１６ａをθ方向に回転させることができる。
【００６０】
同様に、基板載置機構３０２ｂは、Ｘ方向に沿って配列されており、互いに独立してＹ方向及びＺ方向に駆動可能な可動部３０２ｂ１、３０２ｂ２及び３０２ｂ３を備えている。そして、可動部３０２ｂ１、３０２ｂ２及び３０２ｂ３がＹ方向に駆動することによって、載置される基板１６ｂをθ方向に回転させることができる。
そのため、本実施形態に係る露光装置１０の一つの特徴として、複数の基板１６の受け渡しの際に、基板載置機構３０２ａ及び３０２ｂ上において複数の基板１６のθ方向の位置を互いに独立に補正することが可能となる。
【００６１】
また、プレートステージ１７は、露光装置１０の外部から基板載置機構３０２ａ及び３０２ｂに対して複数の基板１６を搬送する基板搬入機構３０３を備えている。
【００６２】
なお、本実施形態に係る露光装置１０では、基板載置機構３０２ａ及び３０２ｂの可動部３０２ａ１乃至３０２ａ３及び３０２ｂ１乃至３０２ｂ３は、個別にＹ方向及びＺ方向に駆動可能である。すなわち、基板保持機構３０１に基板１６ａ及び１６ｂを受け渡す際には、Ｚ方向に駆動すると同時に支持部材に対して基板１６ａ及び１６ｂに接触する接触部材がＹ方向にシフト可能な機構を前提として記載する。
しかしながらこれに限らず、基板載置機構３０２上において、載置される基板１６ａ及び１６ｂを基板載置機構３０２の基板載置面に平行な第１の面内において、すなわちθ方向に回転させる補正駆動が可能な機構であれば、異なる形態でも構わない。
【００６３】
図９は、基板搬入機構３０３から本実施形態に係る露光装置１０のプレートステージ１７に基板１６ａ及び１６ｂを搬送する際のフローチャートを示している。
【００６４】
まず、基板搬入機構３０３から露光装置１０に基板１６ａ及び１６ｂが搬入される。そして、図８（ａ）に示されているように、制御装置３０は、基板載置機構３０２ａ及び３０２ｂの可動部３０２ａ１乃至３０２ａ３及び３０２ｂ１乃至３０２ｂ３を互いにＺ方向において同一の受け取り位置に駆動させる。
そして、上記の駆動と共に、制御装置３０は、可動部３０２ａ１乃至３０２ａ３及び３０２ｂ１乃至３０２ｂ３を、あらかじめ算出した基板１６ａ及び１６ｂのθ成分の置き位置差に基づいてそれぞれＹ方向に駆動させる（ステップＳ４０及びＳ４１）。
【００６５】
具体的には、基板載置機構３０２ａにおいては中央部に配置された可動部３０２ａ２はＹ方向に駆動させずに可動部３０２ａ２を挟んで両端部に配置された可動部３０２ａ１及び３０２ａ３をＹ方向において互いに異なる向きに同じ距離だけ駆動する。同様に、基板載置機構３０２ｂにおいては中央部に配置された可動部３０２ｂ２はＹ方向に駆動させずに可動部３０２ｂ２を挟んで両端部に配置された可動部３０２ｂ１及び３０２ｂ３をＹ方向において互いに異なる向きに同じ距離だけ駆動する。
【００６６】
そして、図８（ｂ）に示されているように、基板搬入機構３０３は、基板１６ａ及び１６ｂがそれぞれ基板載置機構３０２ａ及び３０２ｂ上に搬送されるように駆動される（ステップＳ４２）。
【００６７】
そして、基板１６ａ及び１６ｂが基板載置機構３０２ａ及び３０２ｂ上に受け渡された後、制御装置３０は、基板載置機構３０２ａ及び３０２ｂを共にＺ方向に下降駆動させる。それと共に、図８（ｃ）に示されているように、制御装置３０は、ステップＳ４０及びＳ４１におけるＹ方向の位置差をキャンセルするように可動部３０２ａ１乃至３０２ａ３及び３０２ｂ１乃至３０２ｂ３をそれぞれ同期駆動させる（ステップＳ４３及びＳ４４）。
【００６８】
具体的には、基板載置機構３０２ａにおいては中央部に配置された可動部３０２ａ２はＹ方向に駆動させずに可動部３０２ａ２を挟んで両端部に配置された可動部３０２ａ１及び３０２ａ３をＹ方向においてステップＳ４０の向きとは逆向きに同じ距離だけ駆動する。同様に、基板載置機構３０２ｂにおいては中央部に配置された可動部３０２ｂ２はＹ方向に駆動させずに可動部３０２ｂ２を挟んで両端部に配置された可動部３０２ｂ１及び３０２ｂ３をＹ方向においてステップＳ４１の向きとは逆向きに同じ距離だけ駆動する。
換言すると、基板載置機構３０２ａにおいては可動部３０２ａ１乃至３０２ａ３が互いにＸ方向に沿って整列するように可動部３０２ａ１及び３０２ａ３を駆動する。同様に、基板載置機構３０２ｂにおいては可動部３０２ｂ１乃至３０２ｂ３が互いにＸ方向に沿って整列するように可動部３０２ｂ１及び３０２ｂ３を駆動する。
【００６９】
このように駆動させることによって、基板載置機構３０２ａ及び３０２ｂから基板１６ａ及び１６ｂをθ方向に駆動補正した状態で基板保持機構３０１に受け渡すことができる。
【００７０】
その後、従来の露光装置と同様に、制御装置３０がθ駆動機構のロックを行い（ステップＳ４５）、そのロックした状態を保ったまま、基板１６ａに露光処理を行う（ステップＳ４６）。
そして、従来の露光装置とは異なり、制御装置３０は、θ駆動機構のロック解除を行うことなく基板保持機構３０１のロックした状態を保ったまま、基板１６ｂの露光処理を行う（ステップＳ４７）。その後、基板１６ａ及び１６ｂが搬出される（ステップＳ４８）。
【００７１】
以上のように基板１６ａ及び１６ｂの受け渡しを行うことで、基板保持機構３０１に対しても基板１６ａ及び１６ｂそれぞれに対して独立にθ成分の補正を行うことが可能となる。
【００７２】
以上、好ましい実施形態について説明したが、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【符号の説明】
【００７３】
１０  露光装置
１３  マスク
１６  基板
１７  プレートステージ（基板ステージ）
３０  制御装置（制御部）
１０１  基板保持機構（基板保持部）
１０２、１０２´  基板載置機構（基板受け取り部）
１０３  基板搬入機構（基板搬送装置）
【図１】
2020194007.tif 000003
【図２】
2020194007.tif 000004
【図３】
2020194007.tif 000005
【図４】
2020194007.tif 000006
【図５】
2020194007.tif 000007
【図６】
2020194007.tif 000008
【図７】
2020194007.tif 000009
【図８】
2020194007.tif 000010
【図９】
2020194007.tif 000011
【図１０】
2020194007.tif 000012
【図１１】
2020194007.tif 000013
【図１２】
2020194007.tif 000014
【図１３】
2020194007.tif 000015
【図１４】
2020194007.tif 000016