(57)【要約】【課題】走査線の副走査方向における湾曲量を低減することによって、更なる小型化を達成した光走査装置を提供する。【解決手段】本発明に係る光走査装置は、副走査断面内において主走査断面に対して互いに異なる角度で第１の偏向面に入射する第１及び第２の光束を偏向して、第１及び第２の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された第１及び第２の光束を第１及び第２の被走査面に導光する第１及び第２の光学部を含む第１の光学素子とを有し、第１の光学部の出射面及び第２の光学部の出射面の少なくとも一方は、子線チルト面であり、軸上光線の通過位置を含む副走査断面内における第１の光学部の出射面の面頂点と第２の光学部の出射面の面頂点との間の距離は、最軸外光線の通過位置を含む副走査断面内における該距離よりも大きいことを特徴とする。【選択図】  図１
2020030235.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
副走査断面内において主走査断面に対して互いに異なる角度で第１の偏向面に入射する第１及び第２の光束を偏向して、第１及び第２の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、
前記偏向器によって偏向された前記第１及び第２の光束を前記第１及び第２の被走査面に導光する第１及び第２の光学部を含む第１の光学素子とを有し、
前記第１の光学部の出射面及び前記第２の光学部の出射面の少なくとも一方は、子線チルト面であり、
軸上光線の通過位置を含む副走査断面内における前記第１の光学部の前記出射面の面頂点と前記第２の光学部の前記出射面の面頂点との間の距離は、最軸外光線の通過位置を含む副走査断面内における該距離よりも大きいことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記第１の光学素子の入射面は、該入射面の面頂点を含む副走査断面内において、該面頂点の位置で前記偏向器側に最も突出していることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記第１の光学部の入射面及び前記第２の光学部の入射面の少なくとも一方は、子線チルト面であることを特徴とする請求項１または２に記載の光走査装置。
【請求項４】
副走査断面内における前記第１の光学部の前記出射面の前記面頂点は、前記第１の光学素子の入射面の面頂点を含む主走査断面に対して前記第１の光学部の反対側にあることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記偏向器によって偏向された第３及び第４の光束を第３及び第４の被走査面に導光する第３及び第４の光学部を含む第２の光学素子を有し、
前記偏向器は、副走査断面内において主走査断面に対して互いに異なる角度で第２の偏向面に入射する前記第３及び第４の光束を偏向して前記第３及び第４の被走査面を主走査方向に走査し、
前記第３の光学部の出射面及び前記第４の光学部の出射面の少なくとも一方は、子線チルト面であり、
前記第１及び第２の光学素子の形状は、互いに異なることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記第２の光学素子の入射面は、該入射面の面頂点を含む副走査断面内において、該面頂点の位置で前記偏向器側に最も突出していることを特徴とする請求項５に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記第１の偏向面上の軸上偏向点と前記第１の光学素子の入射面との間の距離は、前記第２の偏向面上の軸上偏向点と前記第２の光学素子の入射面との間の距離に等しいことを特徴とする請求項５または６に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記第１の光学部の副走査断面内における屈折力及び出射面の子線チルト量をそれぞれＰｓ１及びＴｓ１、前記第３の光学部の副走査断面内における屈折力及び出射面の子線チルト量をそれぞれＰｓ３及びＴｓ３とするとき、
｜Ｐｓ１｜≦｜Ｐｓ３｜
｜Ｔｓ１｜≦｜Ｔｓ３｜
なる条件を満たすことを特徴とする請求項５乃至７のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記第１の光学素子の入射面は、正の屈折力を有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項１０】
前記第１の光学素子の出射面は、負の屈折力を有することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項１１】
前記第１の光学素子は、正の屈折力を有することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の光走査装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の光走査装置と、該光走査装置により被走査面に形成される静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像された前記トナー像を被転写材に転写する転写器と、転写された前記トナー像を前記被転写材に定着させる定着器とを備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の光走査装置と、外部機器から出力された信号を画像データに変換して前記光走査装置に入力するプリンタコントローラとを備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光走査装置に関し、特にレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）やデジタル複写機、マルチファンクションプリンタ（ＭＦＰ）等の画像形成装置に好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、カラー画像形成装置の小型化を図るために、小型の光走査装置が開発されている。
しかしながら、光走査装置を小型化させようとすると、光走査装置内部の空間が狭くなり、光学素子同士を干渉しないように配置することが難しくなる。
特許文献１は、副走査断面内において複数の光束を互いに異なる角度で偏向器に斜入射させ、偏向器によって偏向された複数の光束を互いの間隔が広がるように屈折させる子線チルト面を含むｆθレンズを有する光走査装置を開示している。この装置によれば、複数の光束を共通の偏向器で偏向する構成を採ることで装置全体を小型化しつつ、ｆθレンズの後に配置される光学素子を互いに干渉しないように配置するための十分な領域を確保することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−１０２０５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に開示されている光走査装置では、偏向器に光束を斜入射させており、偏向器によって偏向された光束の各光学素子上での軌跡（走査線）が副走査方向に湾曲してしまう。そのため、この装置では光学素子の副走査方向における小型化が困難である。
そこで本発明は、走査線の副走査方向における湾曲量を低減することによって、更なる小型化を達成した光走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係る光走査装置は、副走査断面内において主走査断面に対して互いに異なる角度で第１の偏向面に入射する第１及び第２の光束を偏向して、第１及び第２の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された第１及び第２の光束を第１及び第２の被走査面に導光する第１及び第２の光学部を含む第１の光学素子とを有し、第１の光学部の出射面及び第２の光学部の出射面の少なくとも一方は、子線チルト面であり、軸上光線の通過位置を含む副走査断面内における第１の光学部の出射面の面頂点と第２の光学部の出射面の面頂点との間の距離は、最軸外光線の通過位置を含む副走査断面内における該距離よりも大きいことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、走査線の副走査方向における湾曲量を低減することによって、更なる小型化を達成した光走査装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】第一実施形態に係る光走査装置の主走査断面展開図、及び入射光学系及び走査光学系の副走査断面展開図。
【図２】第一実施形態に係る光走査装置が備える走査光学系の副走査断面図。
【図３】ｆθレンズの形状に応じた複数の出射光の間の分離に対する効果を示した図。
【図４】ｆθレンズの入射面の形状のゴースト光に対する影響を示した図。
【図５】第一実施形態の第１のｆθレンズの第１及び第２の光学部の出射面それぞれにおける子線チルトの変化を示した図。
【図６】第一実施形態の第１及び第２の光学部の出射面の子線チルトの走査線湾曲に対する効果を示した図。
【図７】第１のｆθレンズの代替的な形状を示した図。
【図８】第二実施形態に係る光走査装置の主走査断面展開図、及び入射光学系及び走査光学系の副走査断面展開図。
【図９】第二実施形態に係る光走査装置が備える走査光学系の副走査断面図。
【図１０】第二実施形態に係る光走査装置が備える第１のｆθレンズの副走査断面図。
【図１１】実施形態に係るカラー画像形成装置の要部副走査断面図。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、本実施形態に係る光走査装置を、添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。
【０００９】
なお、以下の説明において、主走査方向とは、偏向器の回転軸及び光学系の光軸に垂直な方向である。副走査方向とは、偏向器の回転軸に平行な方向である。主走査断面とは、副走査方向に垂直な断面である。副走査断面とは、主走査方向に垂直な断面である。
従って、以下の説明において、主走査方向及び副走査断面は、入射光学系と結像光学系とで異なることに注意されたい。
【００１０】
［第一実施形態］
図１（ａ）は、第一実施形態に係る光走査装置１の主走査断面内における展開図を示している。図１（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ、第一実施形態に係る光走査装置１が備える入射光学系及び走査光学系の副走査断面内における展開図を示している。図２は、第一実施形態に係る光走査装置１が備える走査光学系の副走査断面図を示している。
【００１１】
本実施形態に係る光走査装置１は、第１及び第２の光源１０１及び２０１、第１及び第２のコリメータレンズ１０２及び２０２、第１及び第２のシリンドリカルレンズ１０３及び２０３、第１及び第２の開口絞り１０４及び２０４を備えている。
また、本実施形態に係る光走査装置１は、偏向器１０、第１のｆθレンズ１０６（第１の光学素子）、第２のｆθレンズ１０７及び２０７、反射部材１０９、２０９及び２１０を備えている。
【００１２】
第１及び第２の光源１０１及び２０１としては、半導体レーザー等が用いられる。
第１及び第２のコリメータレンズ１０２及び２０２は、第１及び第２の光源１０１及び２０１から出射した光束ＬＡ及びＬＢ（第１及び第２の光束）を平行光束に変換する。なおここで、平行光束とは、厳密な平行光束だけでなく、弱発散光束や弱収束光束等の略平行光束を含むものとする。
第１及び第２のシリンドリカルレンズ１０３及び２０３は、副走査断面内において有限のパワー（屈折力）を有しており、第１及び第２のコリメータレンズ１０２及び２０２を通過した光束ＬＡ及びＬＢを副走査方向に集光する。
第１及び第２の開口絞り１０４及び２０４は、第１及び第２のシリンドリカルレンズ１０３及び２０３を通過した光束ＬＡ及びＬＢの光束径を制限する。
このようにして、第１及び第２の光源１０１及び２０１から出射した光束ＬＡ及びＬＢは、偏向器１０の偏向面１０５の近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。
【００１３】
偏向器１０は、不図示のモーター等の駆動手段により図中矢印Ａ方向に回転することにより、偏向器１０に入射した光束ＬＡ及びＬＢを偏向する。なお、偏向器１０は、例えばポリゴンミラー等で構成される。
第１のｆθレンズ１０６、第２のｆθレンズ１０７及び２０７は、主走査断面内と副走査断面内とで異なるパワーを有するアナモフィック結像レンズである。そして第１のｆθレンズ１０６、第２のｆθレンズ１０７及び２０７は、偏向器１０の偏向面１０５によって偏向された光束ＬＡ及びＬＢを第１及び第２の被走査面１０８及び２０８上に集光（導光）する。
【００１４】
ここで、第１のｆθレンズ１０６は、第１の光学部１０６ａと第２の光学部１０６ｂとが副走査方向に並んで設けられている多段レンズである。すなわち、第１のｆθレンズ１０６の入射面は、第１の光学部１０６ａの入射面及び第２の光学部１０６ｂの入射面から構成されており、第１のｆθレンズ１０６の出射面は、第１の光学部１０６ａの出射面及び第２の光学部１０６ｂの出射面から構成されている。そして、第１の光学部１０６ａ及び第２の光学部１０６ｂの出射面は、互いに子線チルト量が異なる形状をしており、且つそれぞれ子線チルト量が主走査方向に応じて変化する子線チルト変化面である。
反射部材１０９、２０９及び２１０は、光束を反射する手段であり、蒸着ミラー等が用いられる。
【００１５】
本実施形態に係る光走査装置１では、第１のコリメータレンズ１０２、第１のシリンドリカルレンズ１０３及び第１の開口絞り１０４によって第１の入射光学系７５ａが構成される。そして、第２のコリメータレンズ２０２、第２のシリンドリカルレンズ２０３及び第２の開口絞り２０４によって第２の入射光学系７５ｂが構成される。
また、本実施形態に係る光走査装置１では、第１のｆθレンズ１０６の第１の光学部１０６ａ及び第２のｆθレンズ１０７によって第１の走査光学系８５ａが構成される。そして、第１のｆθレンズ１０６の第２の光学部１０６ｂ及び第２のｆθレンズ２０７によって第２の走査光学系８５ｂが構成される。
また、本実施形態に係る光走査装置１では、反射部材１０９によって第１の反射光学系９５ａが構成され、反射部材２０９及び２１０によって第２の反射光学系９５ｂが構成される。
【００１６】
なお、本実施形態に係る光走査装置１では、第１及び第２の入射光学系７５ａ及び７５ｂの光軸はそれぞれ、副走査断面内において主走査断面に対して＋３．０度及び−３．０度の角度をなしている。
なお、本実施形態における「互いに異なる角度」とは、互いに絶対値は等しいが符号が異なる二つの角度も含んでいる。
【００１７】
第１の光源１０１の発光点から出射した光束ＬＡは、第１のコリメータレンズ１０２によって平行光束に変換される。
そして、変換された光束ＬＡは、第１のシリンドリカルレンズ１０３によって副走査方向に集光され、第１の開口絞り１０４を通過し、副走査方向下側から偏向器１０の偏向面１０５に入射する。
そして、第１の光源１０１から出射し、偏向器１０の偏向面１０５に入射した光束ＬＡは、偏向器１０により偏向された後、第１の走査光学系８５ａによって第１の被走査面１０８上に集光され、第１の被走査面１０８を等速度で走査する。
【００１８】
第２の光源２０１の発光点から出射した光束ＬＢは、第２のコリメータレンズ２０２によって平行光束に変換される。
そして、変換された光束ＬＢは、第２のシリンドリカルレンズ２０３によって副走査方向に集光され、第２の開口絞り２０４を通過し、副走査方向上側から偏向器１０の偏向面１０５に入射する。
第２の光源２０１から出射し、偏向器１０の偏向面１０５に入射した光束ＬＢは、偏向器１０により偏向された後、第２の走査光学系８５ｂによって第２の被走査面２０８上に集光され、第２の被走査面２０８を等速度で走査する。
【００１９】
なお、偏向器１０は図中Ａ方向に回転しているため、偏向された光束ＬＡ及びＬＢはそれぞれ、第１及び第２の被走査面１０８及び２０８を図中Ｂ方向に走査する。
また、Ｃ０は軸上光束の主光線に対する偏向器１０の偏向面１０５上の偏向点（軸上偏向点）であり、副走査方向においては、第１及び第２の光源１０１及び２０１から出射した光束ＬＡ及びＬＢは偏向点Ｃ０において互いに交差する。また、偏向点Ｃ０は第１及び第２の走査光学系８５ａ及び８５ｂの基準点となっている。
【００２０】
なお、本実施形態では、第１及び第２の被走査面１０８及び２０８として、第１及び第２の感光ドラム１０８及び２０８を用いている。
また、第１及び第２の感光ドラム１０８及び２０８上における副走査方向の露光分布の作成は、主走査露光毎に、第１及び第２の感光ドラム１０８及び２０８を副走査方向に回転させることによって達成している。
【００２１】
次に、本実施形態に係る光走査装置１の第１及び第２の入射光学系７５ａ及び７５ｂと第１及び第２の走査光学系８５ａ及び８５ｂの諸特性を以下の表１乃至表３に示す。
【００２２】
【表１】
2020030235.tif 000003
【００２３】
【表２】
2020030235.tif 000004
【００２４】
【表３】
2020030235.tif 000005
【００２５】
なお、表１乃至表３においては、各レンズ面と光軸との交点を原点としたときの、光軸方向、主走査断面内において光軸と直交する軸、及び副走査断面内において光軸と直交する軸をそれぞれ、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸としている。また、表２及び表３において、「Ｅ−ｘ」は、「×１０−ｘ」を意味している。
【００２６】
本実施形態に係る光走査装置１の第１のｆθレンズ１０６の第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂ、第２のｆθレンズ１０７及び２０７の各レンズ面の主走査断面内における非球面形状（母線形状）は、以下の式（１）で表される。
【数１】
2020030235.tif 000006
ここで、Ｒは曲率半径、ｋは離心率、Ｂｉ（ｉ＝４、６、８、１０、１２）は非球面係数である。なお、ｙに関してプラス側とマイナス側とで係数Ｂｉが異なる場合は、表２及び表３にあるように、プラス側の係数には添字ｕを付し（すなわち、Ｂｉｕ）、マイナス側の係数には添字ｌを付している（すなわち、Ｂｉｌ）。
【００２７】
また、第１のｆθレンズ１０６の第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂ、第２のｆθレンズ１０７及び２０７の各レンズ面の副走査断面内における非球面形状（子線形状）は、以下の式（２）で表される。
【数２】
2020030235.tif 000007
ここで、Ｍｊｋ（ｊ＝０〜１２、及びｋ＝１）は非球面係数である。
【００２８】
なお、本実施形態における子線チルト量とは、Ｍ０１を指す。従って、子線チルト面とはＭ０１が０ではない面を指し、子線チルト変化面とはＭｊ１（ｊ＝１〜１２）の少なくとも一つが０ではない面を指す。
【００２９】
また、副走査断面内における曲率半径ｒ’は、レンズ面のｙ座標に従って、以下の式（３）のように連続的に変化する。
【数３】
2020030235.tif 000008
ここで、ｒは光軸上における曲率半径、Ｅｊ（ｊ＝１〜１０）は変化係数である。
【００３０】
次に、本実施形態に係る光走査装置１における効果について説明する。
図３（ａ）乃至（ｄ）は、ｆθレンズの形状に応じた複数の出射光の間の分離に対する効果を示した図である。
具体的には、図３（ａ）は入射面が凸面、出射面が凹面のｆθレンズ５０１の場合であり、図３（ｂ）は入射面が凹面、出射面が凸面のｆθレンズ５０２の場合である。また、図３（ｃ）は入射面が凹面、出射面が凹面のｆθレンズ５０３の場合であり、図３（ｄ）は本実施形態に係る光走査装置１が備える第１のｆθレンズ１０６の場合である。
【００３１】
図３（ａ）に示されているｆθレンズ５０１では、入射面５０１０に入射した複数の光束は、凸のパワーによって互いの間隔が狭くなるように屈折する。そして、出射面５０１１から出射した複数の光束は、凹のパワーによって互いの間隔が広くなるように屈折する。
図３（ｂ）に示されているｆθレンズ５０２では、入射面５０２０に入射した複数の光束は、凹のパワーによって互いの間隔が広くなるように屈折する。そして、出射面５０２１から出射した複数の光束は、凸のパワーによって互いの間隔が狭くなるように屈折する。
図３（ｃ）に示されているｆθレンズ５０３では、入射面５０３０に入射した複数の光束は、凹のパワーによって互いの間隔が広くなるように屈折する。そして、出射面５０３１から出射した複数の光束は、凹のパワーによって互いの間隔がさらに広くなるように屈折する。
【００３２】
図３（ｄ）に示されている第１のｆθレンズ１０６では、入射面１０６０に入射した複数の光束は、凸のパワーによって互いの間隔が狭くなるように屈折する。そして、第１の光学部１０６ａの出射面１０６１及び第２の光学部１０６ｂの出射面１０６２から出射した複数の光束は、凹のパワーによって互いの間隔が広くなるように屈折する。
換言すると、第１の光学部１０６ａの入射面に入射した光束と第２の光学部１０６ｂの入射面に入射した光束とは、互いの間隔が狭くなるように屈折する。そして、第１の光学部１０６ａの出射面１０６１から出射した光束と第２の光学部１０６ｂの出射面１０６２から出射した光束とは、互いの間隔が広くなるように屈折する。
加えて、第１のｆθレンズ１０６では出射面１０６１及び出射面１０６２に子線チルトを用いることによって、互いの間隔が広がるように屈折させることができる。
【００３３】
図４は、ｆθレンズの入射面の形状のゴースト光に対する影響を示した図である。
具体的には、図４（ａ）は入射面６０１が凹面であるｆθレンズの場合であり、図４（ｂ）は入射面１０６０が凸面である本実施形態の第１のｆθレンズ１０６の場合である。
なお、図４（ａ）及び（ｂ）において、破線がｆθレンズの入射面によって発生するゴースト光の一部を示している。
また、図４（ａ）及び（ｂ）においては、偏向器１０を構成するモーター等の部材９も示されている。
【００３４】
ｆθレンズの入射面６０１が凹面で形成されている場合、図４（ａ）に示されているように、入射面６０１で反射した光束が偏向器１０の偏向面で反射したり、部材９で反射したりすることで被走査面に到達するゴースト光が発生しやすい。
それに対して、本実施形態の第１のｆθレンズ１０６のように入射面１０６０が凸面で形成されると、図４（ｂ）に示されているように、入射面１０６０で反射した光束は拡散する。そのため、反射した光束は偏向器１０に到達しにくくなり、仮にゴースト光が発生したとしても、入射面が凹面で形成されている場合に比べて影響は小さくなる。
【００３５】
以上のように、図３（ｃ）に示されているような入射面及び出射面が共に凹面のｆθレンズを用いると、入射する複数の光線の互いの間隔を最も広げるように出射させることができる。
しかしながら、そのようなｆθレンズを用いると、図４（ａ）に示したように、被走査面に到達するゴースト光が発生し易くなってしまう。
加えて、そのようなｆθレンズは副走査断面内において大きい負の屈折力を有するため、光学系の敏感度が上がる。そのため、結像性能等の光学性能に対して好ましくない。
【００３６】
また、図３（ｂ）に示されているような入射面が凹面、出射面が凸面のｆθレンズを用いると、図３（ｃ）のｆθレンズに比べて副走査断面内における負の屈折力を低減することはできる。
しかしながら、図３（ｃ）のｆθレンズと同様に被走査面に到達するゴースト光が発生し易くなり、また、図３（ｃ）のｆθレンズに比べて出射する複数の光線の互いの間隔を狭めてしまう。
【００３７】
また、図３（ａ）に示されているような入射面が凸面、出射面が凹面のｆθレンズを用いると、出射する複数の光線の互いの間隔を広げることができないため好ましくない。
【００３８】
そこで、本実施形態に係る光走査装置１では、それぞれの出射面が子線チルト変化面である第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂから構成された第１のｆθレンズ１０６を用いて、上記の問題を解消している。
具体的には、第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂそれぞれの出射面１０６１及び１０６２の子線チルト量を調整することによって、光線分離量、すなわち出射する複数の光線の互いの間隔を調整することができる。
また、第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂそれぞれの出射面１０６１及び１０６２の子線の曲率を調整することで、副走査倍率、すなわち副走査断面内における屈折力を調整することができる。
さらに、第１のｆθレンズ１０６の入射面１０６０は、凸面となっており（第１のｆθレンズ１０６の入射面の面頂点を含む副走査断面内において、該面頂点の位置で偏向器１０側に最も突出しており）、被走査面に到達するゴースト光の発生を抑制することができるため好ましい。
【００３９】
これにより、図２に示されているように本実施形態に係る光走査装置１では、第１のｆθレンズ１０６の第１の光学部１０６ａから出射した光束ＬＡと反射部材２０９との干渉を回避することができ、第２のｆθレンズ１０７及び２０７を適切に配置することができる。
【００４０】
次に、本実施形態の第１のｆθレンズ１０６における子線チルトの変化による効果について説明する。
【００４１】
上記のように、本実施形態の第１のｆθレンズ１０６の各レンズ面は、副走査断面内において屈折力を有しており、入射面１０６０は正の屈折力、第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂの出射面１０６１及び１０６２はそれぞれ、負の屈折力を有している。そして、第１のｆθレンズ１０６としては正の屈折力を有している。
そのため、各レンズ面は、副走査断面内において曲面を形成しているため、面頂点を有している。
【００４２】
図５（ａ）乃至（ｅ）は、本実施形態の第１のｆθレンズ１０６の第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂの出射面１０６１及び１０６２それぞれにおける子線チルトの変化を示した図である。
具体的には、図５（ａ）は、第１のｆθレンズ１０６の入射面１０６０の面頂点位置の主走査方向における変化を示している。そして、図５（ｂ）は、第１のｆθレンズ１０６の第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂの出射面１０６１及び１０６２それぞれの面頂点位置の主走査方向における変化を示している。
また、図５（ｃ）は走査開始端、すなわち反光源側の最軸外像高へ向かう光束が第１のｆθレンズ１０６を通過する主走査方向位置（最軸外光線の通過位置）での第１のｆθレンズ１０６の副走査断面図を示している。そして、図５（ｄ）は中央部、すなわち軸上像高へ向かう光束が第１のｆθレンズ１０６を通過する主走査方向位置（軸上光線の通過位置）での第１のｆθレンズ１０６の副走査断面図を示している。
また、図５（ｅ）は走査終了端、すなわち光源側の最軸外像高へ向かう光束が第１のｆθレンズ１０６を通過する主走査方向位置（最軸外光線の通過位置）での第１のｆθレンズ１０６の副走査断面図を示している。
【００４３】
図５（ａ）に示されているように、第１のｆθレンズ１０６の入射面１０６０には子線チルトを用いていないため、入射面１０６０の面頂点位置は、主走査方向の位置によらず副走査方向の中央部に位置しており、すなわち破線７００のように一定である。
【００４４】
一方、図５（ｂ）に示されているように、第１のｆθレンズ１０６の第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂの出射面１０６１及び１０６２にはそれぞれ子線チルトを用いており、且つ子線チルトが主走査方向位置に応じて変化する子線チルト変化面となっている。
そのため、出射面１０６１及び１０６２それぞれの面頂点位置は、破線７０１及び７０２のように主走査方向の位置に応じて変化する。
【００４５】
また、図５（ｃ）乃至（ｅ）にも示されているように、出射面１０６１及び１０６２それぞれの面頂点位置の間隔は中央部が最も広く、主走査方向の端部に行くに従って狭くなっている。
さらに、出射面１０６１の面頂点は、主走査方向全域にわたって副走査方向において出射面１０６２側（第１のｆθレンズ１０６の副走査方向中央を挟んで第１の光学部１０６ａの反対側、第１のｆθレンズ１０６の入射面の面頂点を含む主走査断面に対して第１の光学部１０６ａの反対側）にある。また、出射面１０６２の面頂点は、主走査方向全域にわたって副走査方向において出射面１０６１側（第１のｆθレンズ１０６の副走査方向中央を挟んで第２の光学部１０６ｂの反対側、第１のｆθレンズ１０６の入射面の面頂点を含む主走査断面に対して第２の光学部１０６ｂの反対側）にある。
上記のように、ここでいう面頂点とは、出射面１０６１及び１０６２をそれぞれ延長した仮想的な曲面における面頂点を指す。
【００４６】
図６（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態に係る光走査装置１における第１のｆθレンズ１０６の第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂの出射面１０６１及び１０６２の子線チルトによる走査線湾曲に対する効果を示した図である。
具体的には、図６（ａ）は、図２に示されているような反射部材２０９の軸上光束の反射点を含み、主走査断面及び副走査断面に垂直な断面１上における出射面１０６１及び１０６２それぞれから出射した光束ＬＡ及びＬＢによる走査線８０２及び８０３を示している。
一方、図６（ｂ）は、第１のｆθレンズ１０６及び反射部材２０９の代わりに子線チルトを用いていない従来のｆθレンズ及び反射部材１２０９を配置した際の断面１上における出射面から出射した光束ＬＡ及びＬＢによる走査線８０４及び８０５を示している。
【００４７】
上記のように、出射面１０６１及び１０６２それぞれの面頂点位置の間隔は中央部が最も広く、主走査方向の端部に行くに従って狭くなっている（すなわち、第１のｆθレンズ１０６の副走査方向の中央部に近づいている）。
換言すると、出射面１０６１及び１０６２それぞれの子線チルト量が主走査方向の端部に行くに従って小さくなっていることとなる。
【００４８】
上述の議論から、主走査方向の端部に行くに従って出射面１０６１及び１０６２それぞれの子線チルト量が小さくなるにつれて、出射面１０６１及び１０６２それぞれから出射する光束ＬＡ及びＬＢの間隔が小さくなる。
従って、主走査方向の端部に行くに従って光束ＬＡ及びＬＢによる走査線８０２及び８０３の間隔が狭くなり、走査線８０２及び８０３それぞれの湾曲量を低減することができる。
【００４９】
このように、本実施形態に係る光走査装置１では、第１のｆθレンズ１０６の第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂの出射面１０６１及び１０６２をそれぞれ子線チルト変化面にすることによって、走査線の湾曲量を低減することができる。
そのため、第１のｆθレンズ１０６から出射した光束を反射する反射部材の反射面の面積を小さくするように反射部材のサイズを低減することができる。
【００５０】
本実施形態に係る光走査装置１では、上記で示したような第１のｆθレンズ１０６を用いることによって、走査線湾曲量を低減することができ、更なる小型化を達成した光走査装置を提供することができる。
それに加えて、副走査倍率やゴースト光の発生等に関する光学性能を維持しつつ、光線分離量を調節することによって光学部材同士の干渉を抑制することができる。
【００５１】
なお、本実施形態に係る光走査装置１では、第１のｆθレンズ１０６の入射面を凸面としているが、これに限られない。例えば、図７に示されるように第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂの入射面をチルト面に形成して、第１のｆθレンズ１０６の中央部が入射側に突出する形状にしたｆθレンズ９０１を用いても同様の効果を期待することができる。
【００５２】
［第二実施形態］
図８（ａ）は、第二実施形態に係る光走査装置２の主走査断面内における展開図を示している。図８（ｂ）及び（ｃ）は、第二実施形態に係る光走査装置２が備える入射光学系の副走査断面内における展開図を示している。図８（ｄ）は、第二実施形態に係る光走査装置２が備える走査光学系の副走査断面内における展開図を示している。図９は、第二実施形態に係る光走査装置２が備える走査光学系の副走査断面図を示している。
【００５３】
本実施形態に係る光走査装置２は、第１、第２、第３及び第４の光源１０１、２０１、３０１、４０１、第１、第２、第３及び第４のコリメータレンズ１０２、２０２、３０２、４０２を備えている。また、本実施形態に係る光走査装置２は、第１、第２、第３及び第４のシリンドリカルレンズ１０３、２０３、３０３、４０３、第１、第２、第３及び第４の開口絞り１０４、２０４、３０４、４０４を備えている。
また、本実施形態に係る光走査装置２は、偏向器１０、第１のｆθレンズ１０６、２０６（第１及び第２の光学素子）、第２のｆθレンズ１０７、２０７、３０７、４０７、反射部材１０９、２０９、２１０、３０９、３１０、４０９を備えている。
【００５４】
第１、第２、第３及び第４の光源１０１、２０１、３０１及び４０１としては、半導体レーザー等が用いられる。
第１、第２、第３及び第４のコリメータレンズ１０２、２０２、３０２及び４０２は、第１乃至第４の光源１０１乃至４０１から出射した光束ＬＡ、ＬＢ、ＬＣ及びＬＤ（第１、第２、第３及び第４の光束）を平行光束に変換する。なおここで、平行光束とは、厳密な平行光束だけでなく、弱発散光束や弱収束光束等の略平行光束を含むものとする。
第１、第２、第３及び第４のシリンドリカルレンズ１０３、２０３、３０３及び４０３は、副走査断面内において有限のパワー（屈折力）を有しており、第１乃至第４のコリメータレンズ１０２乃至４０２を通過した光束ＬＡ乃至ＬＤを副走査方向に集光する。
第１、第２、第３及び第４の開口絞り１０４、２０４、３０４及び４０４は、第１乃至第４のシリンドリカルレンズ１０３乃至４０３を通過した光束ＬＡ乃至ＬＤの光束径を制限する。
【００５５】
このようにして、第１及び第２の光源１０１及び２０１から出射した光束ＬＡ及びＬＢは、偏向器１０の第１の偏向面１０５の近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。
また、第３及び第４の光源３０１及び４０１から出射した光束ＬＣ及びＬＤは、偏向器１０の第２の偏向面２０５の近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。
【００５６】
偏向器１０は、不図示のモーター等の駆動手段により図中矢印Ａ方向に回転することにより、偏向器１０に入射した光束ＬＡ乃至ＬＤを偏向する。なお、偏向器１０は、例えばポリゴンミラー等で構成される。
第１のｆθレンズ１０６、第２のｆθレンズ１０７及び２０７は、主走査断面内と副走査断面内とで異なるパワーを有するアナモフィック結像レンズである。そして、第１のｆθレンズ１０６、第２のｆθレンズ１０７及び２０７は、偏向器１０の第１の偏向面１０５によって偏向された光束ＬＡ及びＬＢを第１及び第２の被走査面１０８及び２０８上に集光（導光）する。
【００５７】
また、第１のｆθレンズ２０６、第２のｆθレンズ３０７及び４０７は、主走査断面内と副走査断面内とで異なるパワーを有するアナモフィック結像レンズである。そして、第１のｆθレンズ２０６、第２のｆθレンズ３０７及び４０７は、偏向器１０の第２の偏向面２０５によって偏向された光束ＬＣ及びＬＤを第３及び第４の被走査面３０８及び４０８上に集光（導光）する。
ここで、第１のｆθレンズ１０６は、第１の光学部１０６ａと第２の光学部１０６ｂとが副走査方向に並んで設けられている多段レンズである。すなわち、第１のｆθレンズ１０６の入射面は、第１の光学部１０６ａの入射面及び第２の光学部１０６ｂの入射面から構成されており、第１のｆθレンズ１０６の出射面は、第１の光学部１０６ａの出射面及び第２の光学部１０６ｂの出射面から構成されている。そして、第１の光学部１０６ａ及び第２の光学部１０６ｂの出射面は、互いに子線チルト量が異なる形状をしており、且つそれぞれ子線チルト量が主走査方向に応じて変化する子線チルト変化面である。
【００５８】
また、第１のｆθレンズ２０６は、第１の光学部２０６ａ（第３の光学部）と第２の光学部２０６ｂ（第４の光学部）とが副走査方向に並んで設けられている多段レンズである。すなわち、第１のｆθレンズ２０６の入射面は、第１の光学部２０６ａの入射面及び第２の光学部２０６ｂの入射面から構成されており、第１のｆθレンズ２０６の出射面は、第１の光学部２０６ａの出射面及び第２の光学部２０６ｂの出射面から構成されている。そして、第１の光学部２０６ａ及び第２の光学部２０６ｂの出射面は、互いに子線チルト量が異なる形状をしており、且つそれぞれ子線チルト量が主走査方向に応じて変化する子線チルト変化面である。
反射部材１０９、２０９、２１０、３０９、３１０及び４０９は、光束を反射する手段であり、蒸着ミラー等が用いられる。
【００５９】
本実施形態に係る光走査装置２では、第１のコリメータレンズ１０２、第１のシリンドリカルレンズ１０３及び第１の開口絞り１０４によって第１の入射光学系７５ａが構成される。そして、第２のコリメータレンズ２０２、第２のシリンドリカルレンズ２０３及び第２の開口絞り２０４によって第２の入射光学系７５ｂが構成される。
また、第３のコリメータレンズ３０２、第３のシリンドリカルレンズ３０３及び第３の開口絞り３０４によって第３の入射光学系７５ｃが構成される。そして、第４のコリメータレンズ４０２、第４のシリンドリカルレンズ４０３及び第４の開口絞り４０４によって第４の入射光学系７５ｄが構成される。
【００６０】
また、本実施形態に係る光走査装置２では、第１のｆθレンズ１０６の第１の光学部１０６ａ及び第２のｆθレンズ１０７によって第１の走査光学系８５ａが構成される。そして、第１のｆθレンズ１０６の第２の光学部１０６ｂ及び第２のｆθレンズ２０７によって第２の走査光学系８５ｂが構成される。
また、第１のｆθレンズ２０６の第１の光学部２０６ａ及び第２のｆθレンズ３０７によって第３の走査光学系８５ｃが構成され、第１のｆθレンズ２０６の第２の光学部２０６ｂ及び第２のｆθレンズ４０７によって第４の走査光学系８５ｄが構成される。
【００６１】
また、本実施形態に係る光走査装置２では、反射部材１０９によって第１の反射光学系９５ａが構成され、反射部材２０９及び２１０によって第２の反射光学系９５ｂが構成される。
また、反射部材３０９及び３１０によって第３の反射光学系９５ｃが構成され、反射部材４０９によって第４の反射光学系９５ｄが構成される。
【００６２】
なお、本実施形態に係る光走査装置２では、第１及び第２の入射光学系７５ａ及び７５ｂの光軸はそれぞれ、副走査断面内において主走査断面に対して＋３．０度及び−３．０度の角度をなしている。
また、第３及び第４の入射光学系７５ｃ及び７５ｄの光軸はそれぞれ、副走査断面内において主走査断面に対して＋３．０度及び−３．０度の角度をなしている。
【００６３】
第１の光源１０１の発光点から出射した光束ＬＡは、第１のコリメータレンズ１０２によって平行光束に変換される。
そして、変換された光束ＬＡは、第１のシリンドリカルレンズ１０３によって副走査方向に集光され、第１の開口絞り１０４を通過し、副走査方向下側から偏向器１０の第１の偏向面１０５に入射する。
そして、第１の光源１０１から出射し、偏向器１０の第１の偏向面１０５に入射した光束ＬＡは、偏向器１０により偏向された後、第１の走査光学系８５ａによって第１の被走査面１０８上に集光され、第１の被走査面１０８を等速度で走査する。
【００６４】
第２の光源２０１の発光点から出射した光束ＬＢは、第２のコリメータレンズ２０２によって平行光束に変換される。
そして、変換された光束ＬＢは、第２のシリンドリカルレンズ２０３によって副走査方向に集光され、第２の開口絞り２０４を通過し、副走査方向上側から偏向器１０の第１の偏向面１０５に入射する。
第２の光源２０１から出射し、偏向器１０の第１の偏向面１０５に入射した光束ＬＢは、偏向器１０により偏向された後、第２の走査光学系８５ｂによって第２の被走査面２０８上に集光され、第２の被走査面２０８を等速度で走査する。
【００６５】
第３の光源３０１の発光点から出射した光束ＬＣは、第３のコリメータレンズ３０２によって平行光束に変換される。
そして、変換された光束ＬＣは、第３のシリンドリカルレンズ３０３によって副走査方向に集光され、第３の開口絞り３０４を通過し、副走査方向下側から偏向器１０の第２の偏向面２０５に入射する。
そして、第３の光源３０１から出射し、偏向器１０の第２の偏向面３０５に入射した光束ＬＣは、偏向器１０により偏向された後、第３の走査光学系８５ｃによって第３の被走査面３０８上に集光され、第３の被走査面３０８を等速度で走査する。
【００６６】
第４の光源４０１の発光点から出射した光束ＬＤは、第４のコリメータレンズ４０２によって平行光束に変換される。
そして、変換された光束ＬＤは、第４のシリンドリカルレンズ４０３によって副走査方向に集光され、第４の開口絞り４０４を通過し、副走査方向上側から偏向器１０の第２の偏向面２０５に入射する。
第４の光源４０１から出射し、偏向器１０の第２の偏向面２０５に入射した光束ＬＤは、偏向器１０により偏向された後、第４の走査光学系８５ｄによって第４の被走査面４０８上に集光され、第４の被走査面４０８を等速度で走査する。
【００６７】
なお、偏向器１０は図中Ａ方向に回転しているため、偏向された光束ＬＡ及びＬＢはそれぞれ、第１及び第２の被走査面１０８及び２０８を図中Ｂ方向に走査する。そして、偏向された光束ＬＣ及びＬＤはそれぞれ、第３及び第４の被走査面３０８及び４０８を図中Ｄ方向に走査する。
【００６８】
また、Ｃ０は軸上光束の主光線に対する偏向器１０の第１の偏向面１０５上の偏向点（軸上偏向点）であり、副走査方向においては、第１及び第２の光源１０１及び２０１から出射した光束ＬＡ及びＬＢは偏向点Ｃ０において互いに交差する。そして、偏向点Ｃ０は第１及び第２の走査光学系８５ａ及び８５ｂの基準点となっている。
また、Ｅ０は軸上光束の主光線に対する偏向器１０の第２の偏向面２０５上の偏向点（軸上偏向点）であり、副走査方向においては、第３及び第４の光源３０１及び４０１から出射した光束ＬＣ及びＬＤは偏向点Ｅ０において互いに交差する。そして、偏向点Ｅ０は第３及び第４の走査光学系８５ｃ及び８５ｄの基準点となっている。
【００６９】
なお、本実施形態では、第１、第２、第３及び第４の被走査面１０８、２０８、３０８及び４０８として、第１、第２、第３及び第４の感光ドラム１０８、２０８、３０８及び４０８を用いている。
また、第１乃至第４の感光ドラム１０８乃至４０８上における副走査方向の露光分布の作成は、主走査露光毎に、第１乃至第４の感光ドラム１０８乃至４０８を副走査方向に回転させることによって達成している。
【００７０】
次に、本実施形態に係る光走査装置２の第３及び第４の入射光学系７５ｃ及び７５ｄと第３及び第４の走査光学系８５ｃ及び８５ｄの諸特性を以下の表４乃至表６に示す。
なお、第１及び第２の入射光学系７５ａ及び７５ｂと第１及び第２の走査光学系８５ａ及び８５ｂの諸特性については、表１乃至表３に示されている第一実施形態に係る光走査装置１と同一であるため省略する。
【００７１】
【表４】
2020030235.tif 000009
【００７２】
【表５】
2020030235.tif 000010
【００７３】
【表６】
2020030235.tif 000011
【００７４】
なお、表４乃至表６において、各レンズ面と光軸との交点を原点としたときの、光軸方向、主走査断面内において光軸と直交する軸、及び副走査断面内において光軸と直交する軸をそれぞれ、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸としている。また、表５及び表６において、「Ｅ−ｘ」は、「×１０−ｘ」を意味している。
【００７５】
本実施形態に係る光走査装置２の第１のｆθレンズ２０６の第１及び第２の光学部２０６ａ及び２０６ｂ、第２のｆθレンズ３０７及び４０７の各レンズ面の主走査断面内における非球面形状（母線形状）は、上記の式（１）で表される。
また、第１のｆθレンズ２０６の第１及び第２の光学部２０６ａ及び２０６ｂ、第２のｆθレンズ３０７及び４０７の各レンズ面の副走査断面内における非球面形状（子線形状）は、上記の式（２）で表される。
また、副走査断面内における曲率半径ｒ’は、レンズ面のｙ座標に従って、上記の式（３）のように連続的に変化する。
【００７６】
次に、本実施形態に係る光走査装置２における効果について説明する。なお、第一実施形態に係る光走査装置１と同一の効果については説明を省略する。
【００７７】
本実施形態に係る光走査装置２では、一つの偏向器１０で４つの被走査面１０８、２０８、３０８及び４０８を走査することができる。
また、偏向点Ｃ０から第２のｆθレンズ１０７及び２０７の入射面までの光路上の距離と偏向点Ｅ０から第２のｆθレンズ３０７及び４０７の入射面までの光路上の距離とが互いに異なっている。
その結果、図９に示されるように、ｆθレンズと反射部材との干渉を回避することができ、小型の光走査装置を得ることができる。
【００７８】
図１０は、本実施形態に係る光走査装置２が備える第１のｆθレンズ１０６及び２０６の副走査断面図を示している。
【００７９】
上記のように、偏向点からの光路上の距離が第２のｆθレンズ１０７及び２０７と第２のｆθレンズ３０７及び４０７とで互いに異なっている。
そのため、図１０に示されているように、本実施形態に係る光走査装置２では、第１のｆθレンズ１０６と第１のｆθレンズ２０６とが互いに異なった形状を有している。
換言すると、第１のｆθレンズ１０６及び２０６それぞれの入射面１０６０及び２０６０が互いに異なった形状を有している。そして、第１のｆθレンズ１０６の第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂそれぞれの出射面１０６１及び１０６２と第１のｆθレンズ２０６の第１及び第２の光学部２０６ａ及び２０６ｂそれぞれの出射面２０６１及び２０６２とが互いに異なった形状を有している。
【００８０】
具体的には、第１のｆθレンズ１０６及び２０６それぞれの諸特性は、以下の表７に示されるように構成されている。
【００８１】
【表７】
2020030235.tif 000012
【００８２】
第１のｆθレンズ１０６及び２０６それぞれの副走査断面内における屈折力をそれぞれＰｓ１とＰｓ２とすると、表７に示されているように、本実施形態に係る光走査装置２では、｜Ｐｓ１｜＝０．００２０、｜Ｐｓ２｜＝０．０２０９となっている。
また、表７に示されているように、本実施形態に係る光走査装置２が備える第１のｆθレンズ１０６及び２０６では、入射面が共に副走査断面内において正の屈折力を有しており、出射面が共に副走査断面内において負の屈折力を有している。そして、第１のｆθレンズ１０６及び２０６において、全系としては共に副走査断面内で正の屈折力を有している。
【００８３】
上記のように、第１のｆθレンズ２０６の副走査断面内における正の屈折力Ｐｓ２は、第１のｆθレンズ１０６の副走査断面内における正の屈折力Ｐｓ１よりも大きい。
従って、第１のｆθレンズ１０６から出射する複数の光束の分離量（すなわち、互いの間隔）と第１のｆθレンズ２０６から出射する複数の光束の分離量とを同程度にするためには、第１のｆθレンズ２０６の第１及び第２の光学部２０６ａ及び２０６ｂそれぞれの出射面２０６１及び２０６２の子線チルト量Ｔｓ２（出射面２０６１及び２０６２のＭ０１）を第１のｆθレンズ１０６の第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂそれぞれの出射面１０６１及び１０６２の子線チルト量Ｔｓ１（出射面１０６１及び１０６２のＭ０１）よりも大きくすればよい。
【００８４】
具体的には、本実施形態に係る光走査装置２では、第１のｆθレンズ１０６の第１及び第２の光学部１０６ａ及び１０６ｂそれぞれの出射面１０６１及び１０６２の子線チルト量の絶対値｜Ｍ０１｜を０．０３８４としている。そして、第１のｆθレンズ２０６の第１及び第２の光学部２０６ａ及び２０６ｂそれぞれの出射面２０６１及び２０６２の子線チルト量の絶対値｜Ｍ０１｜を０．０８１０としている。
【００８５】
このように、本実施形態に係る光走査装置２は、｜Ｐｓ１｜≦｜Ｐｓ２｜且つ｜Ｔｓ１｜≦｜Ｔｓ２｜なる条件が満たされるように構成されている。
【００８６】
以上のように、本実施形態に係る光走査装置２では、上記で示したような第１のｆθレンズ１０６及び２０６を用いることによって、走査線湾曲量を低減することができ、更なる小型化を達成した光走査装置を提供することができる。
それに加えて、副走査倍率やゴースト光の発生等に関する光学性能を維持しつつ、光線分離量を調節することによって光学部材同士の干渉を抑制することができる。
【００８７】
以上、好ましい実施形態について説明したが、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【００８８】
［画像形成装置］
図１１は、第二実施形態に係る光走査装置１１が搭載されたカラー画像形成装置９０の要部副走査断面図を示している。
【００８９】
画像形成装置９０は、第二実施形態に係る光走査装置１１を備え、像担持体である各感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。
画像形成装置９０は、第二実施形態に係る光走査装置１１、像担持体としての感光ドラム（感光体）２３、２４、２５、２６及び現像器１５、１６、１７、１８を備えている。また、画像形成装置９０は、搬送ベルト９１、プリンタコントローラ９３及び定着器９４を備えている。
【００９０】
画像形成装置９０には、パーソナルコンピュータ等の外部機器９２から出力されたＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）の各色信号（コードデータ）が入力される。入力された色信号は、画像形成装置９０内のプリンタコントローラ９３によって、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）の各画像データ（ドットデータ）に変換される。
【００９１】
変換された各画像データはそれぞれ、光走査装置１１に入力される。そして、光走査装置１１からはそれぞれ、各画像データに応じて変調された光ビーム１９、２０、２１、２２が射出され、これらの光ビームによって感光ドラム２３、２４、２５、２６の感光面が露光される。
【００９２】
感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ（不図示）が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラによって帯電された感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面に、光走査装置１１によって光ビーム１９、２０、２１、２２が照射されるようになっている。
【００９３】
上で述べたように、光ビーム１９、２０、２１、２２は各色の画像データに基づいて変調されており、光ビーム１９、２０、２１、２２を照射することによって感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面に静電潜像が形成される。形成された静電潜像は、感光ドラム２３、２４、２５、２６に当接するように配設された現像器１５、１６、１７、１８によってトナー像として現像される。
【００９４】
現像器１５乃至１８によって現像されたトナー像は、感光ドラム２３乃至２６に対向するように配設された不図示の転写ローラ（転写器）によって、搬送ベルト９１上を搬送される不図示の用紙（被転写材）上に多重転写され、１枚のフルカラー画像が形成される。
【００９５】
以上のようにして、未定着トナー像が転写された用紙は、さらに感光ドラム２３、２４、２５、２６後方（図１１において左側）の定着器９４へと搬送される。定着器９４は、内部に定着ヒータ（不図示）を有する定着ローラとこの定着ローラに圧接するように配設された加圧ローラとで構成されている。転写部から搬送されてきた用紙は、定着ローラと加圧ローラの圧接部にて加圧しながら加熱されることにより、用紙上の未定着トナー像が定着される。さらに定着ローラの後方には不図示の排紙ローラが配設されており、排紙ローラは定着された用紙を画像形成装置９０の外に排出せしめる。
【００９６】
カラー画像形成装置９０は、光走査装置１１によって、Ｃ、Ｍ、Ｙ、Ｋの各色に対応し、並行して感光ドラム２３、２４、２５、２６の感光面上に画像信号（画像情報）を記録し、カラー画像を高速に印字するものである。
【００９７】
なお、外部機器９２としては、例えばＣＣＤセンサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置９０とで、カラーデジタル複写機が構成される。
また、第二実施形態に係る光走査装置１１の代わりに、二つの第一実施形態に係る光走査装置が用いられても良い。
【符号の説明】
【００９８】
１  光走査装置
１０  偏向器
１０５  偏向面（第１の偏向面）
１０６  第１のｆθレンズ（第１の光学素子）
１０６ａ、１０６ｂ  第１及び第２の光学部
１０８、２０８  第１及び第２の被走査面
１０６１、１０６２  出射面
ＬＡ、ＬＢ  第１及び第２の光束
【図１】
2020030235.tif 000013
【図２】
2020030235.tif 000014
【図３】
2020030235.tif 000015
【図４】
2020030235.tif 000016
【図５】
2020030235.tif 000017
【図６】
2020030235.tif 000018
【図７】
2020030235.tif 000019
【図８】
2020030235.tif 000020
【図９】
2020030235.tif 000021
【図１０】
2020030235.tif 000022
【図１１】
2020030235.tif 000023