(57)【要約】【課題】本発明の課題は、低い位相差を実現し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、液晶表示装置の耐熱性の向上、表示画像の視認性及びヘッドアップディスプレイシステム全体の耐久性を向上させることができるヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーを提供することである。【解決手段】本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーは、樹脂基材上に、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層が設けられ、前記樹脂基材の面内リターデーション値ＲＯが、入射角度０°、波長５５０ｎｍの光線を入射させたときに、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であり、３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率が８０％以上であり、かつ、７５０〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率が１５％以上であることを特徴とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材上に、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層が設けられたヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーであって、
前記樹脂基材の面内リターデーション値ＲＯが、入射角度０°、波長５５０ｎｍの光線を入射させたときに、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であり、
３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率が８０％以上であり、かつ、
７５０〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率が１５％以上である
ことを特徴とするヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【請求項２】
前記赤外線吸収層が、下記（１）及び（２）で分類される赤外線吸収剤のいずれか一方を含有することを特徴とする請求項１に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
（１）７５０〜１２００ｎｍの近赤外波長域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物
（２）金属酸化物系赤外線吸収剤
【請求項３】
前記近赤外線吸収性有機化合物が、近赤外線吸収性染料であることを特徴とする請求項２に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【請求項４】
前記金属酸化物系赤外線吸収剤が、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、セシウムドープ酸化タングステン（ＣＷＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）及びアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）から選ばれることを特徴とする請求項２に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【請求項５】
前記赤外線反射層が、誘電体多層膜であることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【請求項６】
前記赤外線反射層が、無機微粒子を含有していることを特徴とする請求項５に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【請求項７】
前記樹脂基材上に、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層が、この順で配置されていることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【請求項８】
自動車、電車、航空機又は船舶に搭載されるヘッドアップディスプレイに具備されることを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーに関し、更に詳しくは、低い位相差値を有し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、ヘッドアップディスプレイが内蔵する液晶表示装置の耐熱性の向上と、表示画像の視認性及びヘッドアップディスプレイシステム全体の耐久性を向上させることができるヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、車両のインストルメントパネルに設置するヘッドアップディスプレイ（以下、単に「ＨＵＤ」ともいう。）が普及しつつある。ＨＵＤは、液晶表示装置（以下、「ＬＣＤ」（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）ともいう。）等から出射した画像を、ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー（以下、単に「ゲートカバー」ともいう。）を通してフロントガラスに向けて投影して、運転手の視界内に様々な情報を表示する装置であり、専用のディスプレイに表示するタイプのものや、フロントウィンドウに走行情報を映すタイプのものなどが開発されている。ＨＵＤにより車の安全性が向上するためこれまでは一部の高級車に適用されてきたが、徐々に搭載車種も増え始めている。
【０００３】
現在、ＨＵＤとしては、種々の機構に基づく様々な形態のものが開発されている。例えば、表示ユニットがフロントガラス表面ではなく、コントロールユニットから送信される走行情報等をインストルメントパネルの表示ユニットからフロントガラスに反射させることにより表示し、運転者が視線を下げることなく、運転者の通常の視野内（すなわち、フロントガラスと同じ視野内）で視認させる形態のものがある。このような形態のものでは、ＬＣＤなどの画像表示装置からフロントガラスへ画像光が出射される一方で、画像表示装置にはフロントガラスからの太陽光が集光されるため、ＬＣＤ素子などの画像表示装置の構成材料が高温になり、過熱による劣化を起こしやすいといった問題がある。そのため、ＨＵＤにおいては、画像表示装置に対する遮熱手段の付与が求められている。
【０００４】
特に、近年では、ＨＵＤの表示情報量を多くするために投影表示画像部を大型化すること、及び表示画像の鮮明化による更なる車の安全性向上の検討がなされている。しかしながら、投影画像を大型化すると、ＨＵＤユニットのゲートカバー面積も大型化するため、太陽光が従来よりも多く入光することにより、液晶表示装置であるＴＦＴ−ＬＣＤの熱による劣化を抑制のため、ゲートカバーに対し高い遮熱性能が要望されてきている。
【０００５】
ところで、遮熱対象となる太陽光のエネルギーの波長分布は、可視光波長領域（３８０〜７４０ｎｍ）と赤外領域（８００〜２５００ｎｍ）に分けられる。可視光エネルギーは偏光板で遮蔽し、赤外領域はコールドミラー（紫外光を反射し、赤外光を透過）とホットミラー（赤外光を反射）を用い、ＴＦＴ−ＬＣＤの発熱を抑制している。しかしながら、コールドミラーは価格が高いことや曲率をつけにくいため、投影画像大型化が難しいといわれている。また、コールドミラーを用いる場合、赤外光はＴＦＴ−ＬＣＤに集光しなくても、ユニット内部に入るため、ユニット内の温度が上昇し、結果的にＴＦＴ−ＬＣＤが劣化するといわれている。
【０００６】
上記問題に対し、赤外線吸収性能を有する赤外線吸収層と偏光フィルムを積層して構成する光学積層体を具備したヘッドアップディスプレイが開示されている（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１に記載の方法によれば、開示されている光学積層体は、太陽光などの自然光の偏光成分を偏光フィルムで遮蔽し、赤外線吸収性能を有する赤外線吸収層で赤外光を遮蔽できるため、可視光から赤外領域までの広い波長範囲で遮蔽性に優れた効果を発揮するとされている。
【０００７】
しかしながら、特許文献１で提案されている方法では、以下の問題を抱えている。
【０００８】
第１の問題は、ゲートカバーで赤外線を吸収するため、それによりゲートカバーに発熱を生じ、粘着層等の剥離や偏光板の性能低下を引き起こす。第２の問題は、赤外線吸収層を構成する赤外線吸収剤の添加量に比例して、可視光波長領域の光透過率が低下する。第３の問題は、上記第２の問題に対し、可視光透過率を確保するために赤外線吸収剤の添加量を低減させた場合、８００ｎｍ〜１５００ｎｍの領域の透過率を抑え込むことができず、コールドミラーと比較して、赤外線のカット能が不足する。
【０００９】
一方、赤外線反射層は赤外線吸収層と異なり、ゲートカバーで熱籠りしないため、ゲートカバー全体の発熱が抑制され、上記のような粘着層の剥離や偏光板の機能低下を抑えることができる。
【００１０】
例えば、赤外線反射フィルムの波長７００〜１４００ｎｍの領域において、連続して反射率が７０％以上となる反射帯域を２００ｎｍ以上備えていることを特徴とするヘッドアップディスプレイが開示されている(例えば、特許文献２参照。)。この方法によれば、連続的に太陽光に照射され続ける環境下においても、動作不良を起こすことがなく使用可能なヘッドアップディスプレイを提供することができるとされている。
【００１１】
しかしながら、特許文献２で開示されている方法では、ヘッドアップディスプレイに適用する積層フィルムの作製には、熱可塑性樹脂としてポリエステル樹脂を使用しているため、リターデーション値の調整が難しいという問題を抱えている。また、特許文献２においては。赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収層と、赤外線反射層とを組み合わせるという技術思想についての開示はなされていない。
【００１２】
また、特許文献３においては、異なる光学的性質を有する２種以上の熱可塑性樹脂が交互に５０層以上積層されて構成される多層積層フィルムを有し、リターデーション値が１００〜２１０ｎｍの範囲内である赤外線反射フィルムが開示されているが、この方法では、波長９００〜１２００ｎｍの波長域における平均反射率が７０％以上であり、太陽光エネルギーの７５０〜１５００ｎｍの赤外線を遮断することが達成されていない。
【００１３】
また、特許文献４においては、赤外線吸収剤及び樹脂を含有する赤外線吸収層と、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層した誘電体多層膜を有する遮熱性の積層体フィルムが開示されている。しかしながら、特許文献４で開示されている方法でも、樹脂基材としてはポリエステル樹脂を使用しており、リターデーション値の調整ができないため、ヘッドアップディスプレイ用途には不適である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】国際公開第２０１６／１５２８４３号
【特許文献２】特開２０１７−１２９８６１号公報
【特許文献３】特許第６２９１８３０号公報
【特許文献４】国際公開第２０１６／０１００４９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、低い位相差を実現し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、液晶表示装置の耐熱性の向上、表示画像の視認性及びヘッドアップディスプレイシステム全体の耐久性を向上させることができるヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を進めた結果、位相差の低い樹脂基材を適用し、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層を設け、可視光波長領域における偏光光の平均透過率、及び近赤外波長領域における平均反射率を特定の条件に設定したヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーにより、低い位相差を実現し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、液晶表示装置の耐熱性を向上することができるヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーを提供することができることを見いだし、本発明に至った。
【００１７】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１８】
１．樹脂基材上に、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層が設けられたヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーであって、
前記樹脂基材の面内リターデーション値ＲＯが、入射角度０°、波長５５０ｎｍの光線を入射させたときに、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であり、
３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率が８０％以上であり、かつ、
７５０〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率が１５％以上である
ことを特徴とするヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【００１９】
２．前記赤外線吸収層が、下記（１）及び（２）で分類される赤外線吸収剤のいずれか一方を含有することを特徴とする第１項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【００２０】
（１）７５０〜１２００ｎｍの近赤外波長域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物
（２）金属酸化物系赤外線吸収剤。
【００２１】
３．前記近赤外線吸収性有機化合物が、近赤外線吸収性染料であることを特徴とする第２項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【００２２】
４．前記金属酸化物系赤外線吸収剤が、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、セシウムドープ酸化タングステン（ＣＷＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）及びアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）から選ばれることを特徴とする第２項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【００２３】
５．前記赤外線反射層が、誘電体多層膜であることを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【００２４】
６．前記赤外線反射層が、無機微粒子を含有していることを特徴とする第５項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【００２５】
７．前記樹脂基材上に、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層が、この順で配置されていることを特徴とする第１項から第６項までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【００２６】
８．自動車、電車、航空機又は船舶に搭載されるヘッドアップディスプレイに具備されることを特徴とする第１項から第７項までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の上記手段により、低い位相差を実現し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、液晶表示装置の耐熱性の向上、及びヘッドアップディスプレイシステム全体の耐久性を向上させることができるヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーを提供することができる。
【００２８】
本発明の効果の発現機構・作用機構については明確になっていないが、以下のように推察している。
【００２９】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を進めた結果、位相差の低い樹脂基材を選択し、赤外線反射層及び赤外線吸収層を同時に設け、近赤外領域の光の一部を反射させる機能を備えたヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーにより、低い位相差を実現し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、液晶表示装置（ＴＦＴ−ＬＣＤ）の耐熱性向上が達成でき、最終的には、デッドアップディスプレイシステムの表示画像の視認性及び耐久性を向上させることができた。ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーとして、本発明で規定する構成とすることにより、課題を達成することができた理由としては、以下の４項目であると推測している。
【００３０】
第１の効果は、面内リターデーション値が０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満という位相差の低い樹脂基材を採用することにより、投影画像の虹ムラを抑制することができた。
【００３１】
第２の効果は、赤外線反射層自身は、赤外線吸収層とは異なり、光反射により熱を発しない特性を有しており、赤外線吸収層とともに赤外線反射層を設けることにより、ゲートカバー全体の発熱が抑制され、粘着層の剥がれや偏光板の機能低下を抑えることができた。加えて、適用している赤外線吸収層を構成している赤外線吸収剤の耐久性を向上させることができた。
【００３２】
第３の効果は、赤外線の中でも７５０〜１５００ｎｍの波長領域の光が特に熱籠りに悪影響を及ぼすため、この波長領域の赤外線を効率的に反射させることにより、ＴＦＴ−ＬＣＤに対する熱の影響を低減でき、耐久性を向上させることができた。
【００３３】
第４の効果は、赤外線反射層及び赤外線吸収層を併用して設けることにより、赤外線吸収剤の使用量を低減させることができ、その結果、可視光波長領域における光透過率を向上させることができたと推測している。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】ヘッドアップディスプレイの基本構造と太陽光の入射経路を示す模式図
【図２】ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの基本構成の一例を示す概略断面図
【図３】本発明のケートカバーに適用可能な偏光板の構成の一例を示す概略断面図
【図４】実施例で作製したヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの構成例１を示す概略断面図(実施形態１)
【図５】実施例で作製したヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの構成例２を示す概略断面図（実施形態２）
【図６】液晶表示装置（ＬＣＤ）の基本的な構成の一例を示す模式図
【発明を実施するための形態】
【００３５】
本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーは、面内リターデーション値ＲＯが０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満である樹脂基材上に、赤外線吸収層（以下、赤外光吸収層ともいう。）、赤外線反射層（以下、赤外光反射層ともいう。）及び偏光層を有し、可視光波長領域における偏光光の平均透過率が８０％以上で、近赤外波長領域における平均反射率が１５％以下であることを特徴とする。この特徴は、下記各実施形態に係る発明に共通又は対応する技術的特徴である。
【００３６】
本発明の実施形態としては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、前記赤外線吸収層が、（１）７５０〜１２００ｎｍの近赤外波長域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物及び（２）金属酸化物系赤外線吸収剤のいずれか一方を含有することにより、より優れた赤外線吸収特性を得ることができる点で好ましい。
【００３７】
また、前記赤外線吸収性化合物が近赤外線吸収性染料であること、また、前記金属酸化物系赤外線吸収剤が、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、セシウムドープ酸化タングステン（ＣＷＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）及びアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）から選ばれる少なくとも１種であることが、より優れた赤外線吸収特性を発現させることができる点で好ましい。
【００３８】
また、前記赤外線反射層が誘電体多層膜により構成されていること、更に無機微粒子を含有していることが、誘電体多層膜間での屈折率差を容易に得ることができ、少ない層数で所望の赤外線反射性能を発現でき、かつ、赤外線反射層を薄膜化できる点で好ましい。
【００３９】
また、樹脂基材を有する面側、すなわち、ヘッドアップディスプレイが具備する光源側から、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層の順に配置することが、ヘッドアップディスプレイ内の温度上昇を抑制でき、液晶表示装置への熱ダメージを抑制させることができる点で好ましい。
【００４０】
また、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーは、省スペース、省エネルギーの観点から、自動車、電車、航空機又は船舶に搭載されるヘッドアップディスプレイに具備されることが好ましい。
【００４１】
以下、本発明とその構成成分、及び本発明を実施するための形態・態様について、図を交えて、詳細な説明をする。なお、以下の説明において示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。また、以下の説明において、各構成成分のあとに記載の数字は、各図に記載した各構成成分の符号を表す。
【００４２】
《ヘッドアップディスプレイの概要》
はじめに、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーを装着するヘッドアップディスプレイの全体概要について説明する。
【００４３】
図１は、ヘッドアップディスプレイの基本構造と太陽光の入射経路を示す模式図である。
【００４４】
図１で示すように、自動車等の運転席前方に設置されたヘッドアップディスプレイ１は、フロントガラス２より入射した太陽光Ｌが、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー３を通過し、凹面である拡大鏡４により集光され、コールドミラー５及びホットミラー６により近赤外又は赤外線が一部カットされ、液晶表示装置７（ＬＣＤ）に入射される。なお、以下の説明において、液晶表示装置７を、単に「光源」と称する場合もある。
【００４５】
従来のヘッドアップディスプレイでは、前記コールドミラー５及びホットミラー６により熱線カットを行ってきたが、投影情報の増加に伴うゲートカバーの開口面積の大型化等に伴い、熱線の入射量増加に対する対応としては不足する状況にあった。
【００４６】
上記表示画面の大型化等に伴う問題に対し、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー３は、高い可視光透過率を実現するとともに、近赤外波長領域において優れた平均反射率を得ることができ、その結果、ＨＵＤ内での熱籠り等を抑制でき、液晶表示装置（７）の耐久性(耐熱性)を向上させることができる。
【００４７】
《ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの基本構成》
本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーは、少なくとも、樹脂基材上に、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層を有する構成であり、好ましくは、樹脂基材側、すなわち、ヘッドアップディスプレイが内蔵するＬＣＤ（光源ともういう）側から、赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層を、この順で配置されている構成であることが好ましい形態である。
【００４８】
本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーにおいては、樹脂基材の面内リターデーション値ＲＯが、入射角度０°、波長５５０ｎｍの光線を入射させたときに、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることを一つの特徴とする。また、３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率が８０％以上であることを特徴とし、好ましくは８０〜９５％の範囲内である。また、７５０〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率は１５％以上であることを特徴とし、好ましくは、１５〜５０％の範囲内であり、更に好ましくは、２０〜４５％の範囲内である。
【００４９】
図２は、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの基本構成の一例を示す概略断面図である。図２に示す構成は、図１におけるＨＵＤ７（光源）とＨＵＤ用ゲートカバー３の相対関係を模式的に示す模式図である。
【００５０】
図２においては、紙面の上面側が太陽光の入射側であり、下面側にはヘッドアップディスプレイの光源７（ＬＣＤ）が配置され、その光源側より、樹脂基材１１、赤外線吸収層１２、赤外線反射層１３及び偏光層１４がこの順に配置されてヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー３を構成している。
【００５１】
本発明でいうゲートカバーとは、ヘッドアップディスプレイに含まれ、当該装置から画像情報を出射する出口部分をいい、通常透明樹脂成形体である。当該透明樹脂成形体は、外部からの埃や塵の装置内への侵入を防止する機能を併せて有する。
【００５２】
本発明でいう「樹脂基材」とは、本発明に係る赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層を支持できる程度に剛性を有する樹脂部材をいう。
【００５３】
また、「赤外線反射層」とは、誘電体多層膜で構成される近赤外から赤外領域の波長光（例えば、少なくとも光波長７５０〜１５００ｎｍの範囲）を反射する機能を有し、７５０〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率が１５％以上となる層をいう。
【００５４】
また、「赤外線吸収層」とは、具体的には、近赤外線吸収性有機化合物及び金属酸化物系赤外線吸収剤のいずれか一方で構成され、近赤外から赤外領域の波長光（例えば、少なくとも光波長７５０〜１５００ｎｍの範囲）を吸収する機能を有する層をいう。
【００５５】
《ゲートカバーの構成要素》
次いで、本発明のゲートカバーを構成する、樹脂基材、赤外線吸収層、赤外線反射層、偏光層及びその他の構成要素の詳細について説明する。
【００５６】
［１：樹脂基材］
本発明のゲートカバーに適用する樹脂基材は、面内リターデーション値ＲＯが、入射角度０°、波長５５０ｎｍの光線を入射させたときに、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることを特徴とし、特にその他の制限はないが、透明樹脂基材であることが好ましい。
【００５７】
本発明に適用可能な樹脂基材を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（略称：ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（略称：ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（略称：ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂及びポリアリレート樹脂、アートン（商品名、ＪＳＲ社製）及びアペル（商品名、三井化学社製）等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。
【００５８】
これらの樹脂基材の中でも、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、アクリル樹脂及びポリアリレート類を樹脂成分として有する樹脂基材が、所望の面内リターデーション値ＲＯを得ることができる点で好ましい。
【００５９】
本発明に適用する樹脂基材に含まれる樹脂は、１種類であってもよいし、２種類以上を組み合わせたものであってもよく、また、ゲートカバーを形成する際の樹脂基材は、１種類の樹脂基材を複数用いても、あるいは異なる種類の樹脂基材を複数積層した構成であってもよい。
【００６０】
（樹脂基材の面内リターデーション値ＲＯ）
本発明に用いられる樹脂基材では、位相差フィルムとしての機能を持たせるため、入射角度０°、波長５５０ｎｍの光線を入射させたときの面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満の範囲内であることを特徴の一つとする。
【００６１】
本発明に係る樹脂基材の面内リターデーション値Ｒｏは、下記式（１）で定義される。
【００６２】
式（１）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
上記式（１）において、ｎｘはフィルムの面内方向において屈折率が最大となる方向ｘ（面内遅相軸方向）における屈折率であり、ｎｙはフィルムの面内方向において前記方向ｘ（面内遅相軸方向）と直交する方向ｙにおける屈折率であり、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）である。
【００６３】
本発明に係る樹脂基材の面内リターデーション値Ｒｏの測定は、以下の方法で行うことができる。
【００６４】
１）樹脂基材を、２３℃、５５％ＲＨの環境下で２４時間調湿する。
【００６５】
２）調湿後の樹脂基材の、入射角度０°、測定波長５５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒｏを、Ａｘｏｍｅｔｏｒｉｃｓ社製の自動複屈折率計「Ａｘｏｓｃａｎ」を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で測定する。
【００６６】
樹脂基材の面内リターデーション値Ｒｏは、主として樹脂基材を構成する熱可塑性樹脂の種類の選択、添加剤として用いられる糖のアルキレンオキサイド付加物の種類及び含有量の選択、並びにフィルム製膜時の延伸倍率の設定等によって、所望の面内リターデーション値Ｒｏに調整することができる。樹脂基材の面内リターデーション値Ｒｏを、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満という低い条件に設定するための具体例としては、例えば、熱可塑性樹脂としてセルロースアシレートとアクリル系樹脂の混合物を選択したり、糖のアルキレンオキサイド付加物におけるアルキレンオキサイドの付加モル数を少なくしたり、アルキレンオキサイドの種類を炭素数の少ないアルキレンオキサイドとしたり、アルキレンオキサイドのヒドロキシ基末端を未封止としたり、延伸倍率を低くしたりする手段を適宜選択、又は組み合わせることにより、所望の面内リターデーション値Ｒｏとすることができる。
【００６７】
次いで、樹脂基材を構成する熱可塑性樹脂の代表例として、セルロースアシレート、アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂について、その詳細を説明する。
【００６８】
〈セルロースアシレート〉
セルロースアシレートは、セルロースのヒドロキシ基の一部又は全部が、カルボン酸とのエステル化反応により得られる樹脂である。セルロースアシレートに含まれるアシル基は、１種類であってもよいし、２種類以上を組み合わせたものであってもよい。
【００６９】
セルロースアシレートに含まれるアシル基は、脂肪族アシル基であってもよいし、芳香族アシル基であってもよい。中でも、位相差の調整が容易である点から、セルロースアシレートに含まれるアシル基は、脂肪族アシル基であることが好ましい。
【００７０】
脂肪族アシル基の炭素原子数は、２〜７の範囲内であることが好ましく、２〜４の範囲内であることがより好ましい。脂肪族アシル基の例としては、アセチル基、プロピオニル基及びブタノイル基等が挙げられる。
【００７１】
中でも、セルロースアシレートのアシル基としては、耐熱性を高めやすい点から、アセチル基を含むことが好ましく、必要に応じて炭素原子数３以上のアシル基をさらに含んでもよい。炭素原子数３以上のアシル基は、セルロースアシレートに疎水性を付与することができる。
【００７２】
セルロースアシレートの例には、セルロースアセテート（セルロースジアセテート(略称：ＤＡＣ)、セルローストリアセテート（略称：ＴＡＣ）等）、セルロースアセテートプロピオネート（略称：ＣＡＰ）及びセルロースアセテートブチレート等が挙げられ、位相差を発現しにくく、良好な耐熱性を有することから、セルロースアセテート及びセルロースアセテートプロピオネートが好ましい。
【００７３】
セルロースアシレートのアシル基の総置換度は、２．０〜３．０の範囲内であることが好ましく、２．６〜３．０の範囲内であることがより好ましい。アシル基の総置換度を高めることにより、延伸による位相差発現性を低くすることができる。アシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。
【００７４】
具体的には、以下の式（１）〜（３）を満たすセルローストリアセテート又はセルロースアセテートプロピオネートが好ましい。式中、Ｘはアセチル基の置換度、Ｙはプロピオニル基の置換度を表す。
【００７５】
式（１）１．０≦Ｘ≦３．０
式（２）    ０≦Ｙ≦１．５
式（３）２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
セルロースアシレートの数平均分子量Ｍｎは、３００００〜１５００００の範囲内であることが好ましい。セルロースアシレートの数平均分子量Ｍｎが３００００以上であると、樹脂基材の機械的強度が得られやすく、１５００００以下であると、成形性が損なわれにくい。セルロースアシレートの重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎとの比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．４〜３．０程度であり得る。
【００７６】
〈アクリル系樹脂〉
アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体；又は（メタ）アクリル酸エステルとそれと共重合可能な他のモノマーとの共重合体であり得る。なお、（メタ）アクリル酸エステルには、アクリル酸エステルと、メタクリル酸エステルの両方が含まれる。
【００７７】
（メタ）アクリル酸エステルは、（メタ）アクリル酸アルキルエステルであることが好ましく、メタクリル酸メチルであることがより好ましい。
【００７８】
（メタ）クリル酸メチルと共重合可能な他のモノマーの例には、アルキル部分の炭素原子数が２〜１８のメタクリル酸アルキルエステル；アルキル部分の炭素原子数が１〜１８のアクリル酸アルキルエステル；アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸；スチレン、α−メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル；無水マレイン酸、グルタル酸無水物等の酸無水物；マレイミド、Ｎ−置換マレイミド等が含まれる。これらの他のモノマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７９】
（メタ）アクリル酸エステルとそれと共重合可能な他のモノマーとの共重合体におけるメタクリル酸メチル由来の構造単位の含有割合は、該共重合体を構成する全構成単位の合計に対して３０モル％以上であることが好ましく、５０モル％以上であることがより好ましい。
【００８０】
アクリル系樹脂の例には、ポリメチルメタクリレート等が含まれる。
【００８１】
アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、８００００〜１００００００の範囲内であることが好ましい。アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗが８００００以上であると、樹脂基材の機械的強度が得られやすく、１００００００以下であると、成形性が損なわれにくい。アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、前述と同様の方法で測定できる。
【００８２】
〈シクロオレフィン系樹脂〉
シクロオレフィン系樹脂は、シクロオレフィン単量体の重合体、又はシクロオレフィン単量体とそれ以外の共重合性単量体との共重合体である。
【００８３】
シクロオレフィン単量体は、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体である。位相差値ＲｏやＲｔ（厚さ方向の位相差値）が低い樹脂基材を得る観点から、非対称な構造を有するシクロオレフィン単量体を含むことが好ましい。非対称な構造を有するシクロオレフィン単量体の例には、下記一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体が含まれる。
【００８４】
【化１】
2020095191.tif 000003
一般式（Ａ−１）におけるＲ１は、水素原子、炭素数１〜５の炭化水素基、又は炭素数１〜５のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。中でも、炭素数１〜５の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜３の炭化水素基がより好ましい。
【００８５】
一般式（Ａ−１）におけるＲ２は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子若しくはヨウ素原子）を表す。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基がより好ましい。
【００８６】
一般式（Ａ−１）におけるｐは０〜２の整数を表し、１又は２であることが好ましい。
【００８７】
一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体は、非対称な構造を有する。即ち、一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体の置換基Ｒ１及びＲ２が、それぞれ分子の対称軸に対して片側の環構成炭素原子のみに置換されているので、分子の対称性が低い。そのような非対称構造を有するシクロオレフィン単量体は、主鎖がｘ方向に並んでも、側鎖がｘｙ面内だけでなく、それ以外の種々の方向を向くため、Ｒｏのみが発現しやすく、Ｒｔが大きくなりにくいと考えられる。
【００８８】
一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン系重合体を構成する全シクロオレフィン単量体の合計に対して、例えば、５０モル％以上、好ましくは６０モル％以上、より好ましくは８０モル％以上とし得る。一般式（Ａ−１）で表される単量体を一定以上含むシクロオレフィン系重合体は、樹脂基材のＲｔを低くしやすい。
【００８９】
シクロオレフィン単量体は、必要に応じて一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体以外の他のシクロオレフィン単量体をさらに含んでもよい。他のシクロオレフィン単量体の例には、下記一般式（Ａ−２）で表されるシクロオレフィン単量体が含まれる。
【００９０】
【化２】
2020095191.tif 000004
一般式（Ａ−２）におけるＲ３〜Ｒ６は、独立して水素原子、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は極性基を表す。ただし、Ｒ３〜Ｒ６の全てが同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ３とＲ４が同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ５とＲ６が同時に水素原子を表すことはないものとする。
【００９１】
炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、炭素原子数１〜１０の炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数１〜５の炭化水素基であることがより好ましい。炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はケイ素原子を含む連結基をさらに有していてもよい。そのような連結基の例には、カルボニル基、イミノ基、エーテル結合、シリルエーテル結合、チオエーテル結合等の２価の極性基が含まれる。炭素原子数１〜３０の炭化水素基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が含まれる。
【００９２】
極性基の例には、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基及びシアノ基が含まれる。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましい。
【００９３】
一般式（Ａ−２）におけるｐは、０〜２の整数を表し、１又は２であることが好ましい。
【００９４】
一般式（Ａ−１）及び一般式（Ａ−２）で表されるシクロオレフィン単量体の具体例としては、例えば、特開２０１８−０７２５０３号公報の段落（００２８）、特開２０１８−０８０２１１号公報の段落（００６３）に記載されている例示化合物１〜３４を挙げることができる。
【００９５】
他のシクロオレフィン単量体の例には、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエン等も含まれる。
【００９６】
シクロオレフィン単量体と共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロオレフィン単量体と開環共重合可能な共重合性単量体、シクロオレフィン単量体と付加共重合可能な共重合性単量体が含まれる。
【００９７】
開環共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン及びシクロオクタジエン等のシクロオレフィンが含まれる。
【００９８】
付加共重合可能な共重合性単量体の例には、不飽和二重結合含有化合物、ビニル系環状炭化水素単量体、（メタ）アクリレートが含まれる。不飽和二重結合含有化合物の例には、炭素原子数２〜１２（好ましくは２〜８）のオレフィン系化合物であり、その例には、エチレン、プロピレン、ブテンが含まれる。ビニル系環状炭化水素単量体の例には、４−ビニルシクロペンテン、２−メチル−４−イソプロペニルシクロペンテン等のビニルシクロペンテン系単量体が含まれる。（メタ）アクリレートの例には、メチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の炭素原子数１〜２０のアルキル（メタ）アクリレートが含まれる。
【００９９】
シクロオレフィン系樹脂におけるシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン系樹脂を構成する全単量体の合計に対して、例えば、５０〜１００モル％の範囲内、好ましくは６０〜１００モル％の範囲内とすることができる。
【０１００】
シクロオレフィン系重合体の数平均分子量Ｍｎは、８０００〜１０００００の範囲内であることが好ましく、１００００〜８００００の範囲内であることがより好ましく、１２０００〜５００００の範囲内であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系重合体の重量平均分子量Ｍｗは、２００００〜３０００００の範囲内であることが好ましく、３００００〜２５００００の範囲内であることがより好ましく、４００００〜２０００００の範囲内であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系重合体の数平均分子量Ｍｎ、重量平均分子量Ｍｗは、前述と同様の方法で測定できる。
【０１０１】
〈ポリカーボネート系樹脂〉
本発明に係る樹脂基材として、種々の公知のポリカーボネート系樹脂も使用することができる。本発明においては、特に芳香族ポリカーボネートを用いることが好ましい。当該芳香族ポリカーボネートについて特に制約はなく、所望する樹脂基材の諸特性が得られる芳香族ポリカーボネートであれば特に制約はない。
【０１０２】
一般に、ポリカーボネートと総称される高分子材料は、公知の重縮合反応を用い、主鎖が炭酸結合で結ばれているものを総称するが、これらの内でも、一般に、フェノール誘導体と、ホスゲン、ジフェニルカーボネートらから重縮合で得られるものを意味する。通常、ビスフェノール−Ａと呼称されている２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンをビスフェノール成分とする繰り返し単位で表される芳香族ポリカーボネートが好ましく選ばれるが、適宜各種ビスフェノール誘導体を選択することで、芳香族ポリカーボネート共重合体を構成することができる。
【０１０３】
かかる共重合成分としてこのビスフェノール−Ａ以外に、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフロロプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）サルファイド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等を挙げることができる。
【０１０４】
また、一部にテレフタル酸又はイソフタル酸成分を含む芳香族ポリエステルカーボネートを使用することも可能である。このような構成単位を、ビスフェノール−Ａからなる芳香族ポリカーボネートの構成成分の一部に使用することにより、芳香族ポリカーボネートの性質、例えば、耐熱性、溶解性を改良することができるが、このような共重合体についても本発明は有効である。
【０１０５】
ここで用いられる芳香族ポリカーボネートの粘度平均分子量は、１００００〜２０００００の範囲内であることが好ましく、２００００〜１２００００の範囲内であることが特に好ましい。粘度平均分子量が１００００未満の樹脂を使用すると、得られる樹脂基材の機械的強度が不足する場合があり、また２０００００を超える高分子量になると、製膜時のドープの粘度が高くなり過ぎ、取扱い上問題を生じるので好ましくない。粘度平均分子量は市販の高速液体クロマトグラフィ等で測定することができる。
【０１０６】
本発明に用いられる芳香族ポリカーボネートのガラス転移温度は２００℃以上であることが高耐熱性のフィルムを得る上で好ましく、より好ましくは２３０℃以上である。これらは、上記共重合成分を適宜選択して得ることができる。ガラス転移温度は、ＤＳＣ装置（示差走査熱量分析装置）にて測定することができ、例えば、セイコーインスツル株式会社製：ＲＤＣ２２０にて、１０℃／分の昇温条件によって求められる、ベースラインが低温側から変化し始める温度である。
【０１０７】
樹脂基材の作製に適用する熱可塑性樹脂は、偏光板に加工する際の適性から、セルロースアシレートが好ましい。位相差を低減しやすく、耐湿性や耐熱性をバランスさせやすい点では、セルロースアシレートとアクリル系樹脂の併用も好ましい。耐湿性を高めやすい点では、アクリル系樹脂やシクロオレフィン系樹脂が好ましい。さらに透明度や強度の観点からは、ポリカーボネート系樹脂が好ましい。
【０１０８】
樹脂基材における熱可塑性樹脂の含有量は、樹脂基材の全質量に対して５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上とし得る。
【０１０９】
(樹脂基材に用いるその他の添加剤）
本発明に係る樹脂基材には、必要に応じて、上記以外の他の成分をさらに含んでもよい。他の成分の例には、紫外線吸収剤、可塑剤、酸化防止剤及びマット剤等が挙げられる。
【０１１０】
〈紫外線吸収剤〉
紫外線吸収剤は、樹脂基材の耐候性を向上させる目的で添加され得る。そのような紫外線吸収剤の例には、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、及びトリアジン系紫外線吸収剤が含まれる。
【０１１１】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例には、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノールが含まれる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の市販品の例には、ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、ＴＩＮＵＶＩＮ２３４、ＴＩＮＵＶＩＮ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ３２７、ＴＩＮＵＶＩＮ３２８、ＴＩＮＵＶＩＮ９２８（以上、ＢＡＳＦ社製）等のＴＩＮＵＶＩＮシリーズがあり、これらはいずれもＢＡＳＦ社製の市販品である。
【０１１２】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例には、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等が含まれる。
【０１１３】
サリチル酸エステル系紫外線吸収剤の例には、フェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルサリシレート等が含まれる。
【０１１４】
シアノアクリレート系紫外線吸収剤の例には、２′−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３−（３′，４′−メチレンジオキシフェニル）−アクリレート等が含まれる。
【０１１５】
トリアジン系紫外線吸収剤の例には、２−（２′−ヒドロキシ−４′−ヘキシルオキシフェニル）−４，６−ジフェニルトリアジン等が含まれる。トリアジン系紫外線吸収剤の市販品の例には、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７（ＢＡＳＦ社製）が含まれる。
【０１１６】
これらの中でも、良好な紫外線吸収能を有する点では、トリアジン系の紫外線吸収剤が好ましいが、延伸によって位相差を発現しやすい傾向がある。したがって、延伸により位相差を発現しにくく、かつ良好な紫外線吸収性能を有する点では、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤がより好ましい。
【０１１７】
紫外線吸収剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して０．１〜１０質量％の範囲内であることが好ましい。紫外線吸収剤の含有量が熱可塑性樹脂の全質量に対して０．１質量％以上であれば、樹脂基材の耐候性を十分に高めうる。紫外線吸収剤の含有量が熱可塑性樹脂の全質量に対して１０質量％以下であれば、得られる樹脂基材の透明性が損なわれ難い。紫外線吸収剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して０．５〜１０質量％であることがより好ましく、１．５〜５質量％であることがさらに好ましい。
【０１１８】
（可塑剤）
可塑剤の例には、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤（フタル酸エステル系可塑剤を含む）、グリコレート系可塑剤、エステル系可塑剤（脂肪酸エステル系可塑剤を含む）、及びアクリル系可塑剤等が含まれる。保護フィルムに含まれる可塑剤は、１種類であってもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。中でも、熱可塑性樹脂と相溶しやすく、良好な可塑性が得られやすい点から、ポリエステル系可塑剤が好ましい。
【０１１９】
ポリエステル系可塑剤は、下記式（Ｉ）で表されるであることが好ましい。下記式（Ｉ）のｎは、１以上の整数を表す。
【０１２０】
式（Ｉ）：Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
式（Ｉ）におけるＡは、炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸から誘導される基、アルケニレンジカルボン酸から誘導される基、又は炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸から誘導される基を表す。
【０１２１】
アルキレンジカルボン酸から誘導される基の例には、１，２−エタンジカルボン酸（コハク酸）、１，３−プロパンジカルボン酸（グルタル酸）、１，４−ブタンジカルボン酸（アジピン酸）、１，５−ペンタンジカルボン酸（ピメリン酸）、１，８−オクタンジカルボン酸（セバシン酸）等が含まれる。アルケニレンジカルボン酸から誘導される基の例には、マレイン酸、フマル酸等から誘導される基が含まれる。アリールジカルボン酸から誘導される基の例には、１，２−ベンゼンジカルボン酸（フタル酸）、１，３−ベンゼンジカルボン酸、１，４−ベンゼンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸等から誘導される基が含まれる。
【０１２２】
Ａは、１種類であっても、２種類以上が組み合わされてもよい。中でも、Ａは、炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸から誘導される基と炭素数８〜１２のアリールジカルボン酸から誘導される基との組み合わせが好ましい。
【０１２３】
式（Ｉ）におけるＧは、炭素数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される基、炭素数６〜１２のアリールグリコールから誘導される基、又は炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコールから誘導される基を表す。
【０１２４】
炭素数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される基の例には、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、及び１，１２−オクタデカンジオール等から誘導される基が含まれる。
【０１２５】
炭素数６〜１２のアリールグリコールから誘導される基の例には、１，２−ジヒドロキシベンゼン（カテコール）、１，３−ジヒドロキシベンゼン（レゾルシノール）、１，４−ジヒドロキシベンゼン（ヒドロキノン）などから誘導される基が含まれる。炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコールから誘導される基の例には、ジエチレングルコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等から誘導される基が含まれる。
【０１２６】
Ｇは、１種類であっても、２種類以上が組み合わされてもよい。中でも、Ｇは、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される基であることが好ましい。
【０１２７】
式（Ｉ）におけるＢは、芳香環含有モノカルボン酸又は脂肪族モノカルボン酸から誘導される基である。
【０１２８】
芳香環含有モノカルボン酸は、分子内に芳香環を含有するカルボン酸であり、芳香環がカルボキシ基と直接結合したものだけでなく、芳香環がアルキレン基等を介してカルボキシ基と結合したものも含む。芳香環含有モノカルボン酸から誘導される基の例には、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、フェニル酢酸、３−フェニルプロピオン酸等から誘導される基が含まれる。
【０１２９】
脂肪族モノカルボン酸から誘導される基の例には、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸などから誘導される基が含まれる。中でも、アルキル部分の炭素数が１〜３であるアルキルモノカルボン酸から誘導される基が好ましく、アセチル基がより好ましい。
【０１３０】
式（Ｉ）で表されるポリエステル系可塑剤の具体例としては、例えば、特開２０１７−２１９７６７号公報の段落（００９０）に記載の例示化合物Ｉ−１〜Ｉ−１９を挙げることができる。
【０１３１】
ポリエステル系可塑剤の重量平均分子量は、５００〜３０００の範囲内であることが好ましい。ポリエステル系可塑剤の重量平均分子量が５００以上であると、製膜時に揮発しにくく、３０００以下であると成形性や熱可塑性樹脂との相溶性が損なわれにくい。ポリエステル系可塑剤の重量平均分子量は、６００〜２０００の範囲内であることがより好ましい。重量平均分子量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって測定することができる。
【０１３２】
可塑剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して１〜４０質量％の範囲内であることが好ましい。可塑剤の含有量が熱可塑性樹脂の全質量に対して１質量％以上であると、樹脂基材を膜状物としたとき、十分に可塑化しやすく、４０質量％以下であると、樹脂基材の延伸時や保存時のブリードアウトを十分に抑制しやすい。可塑剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して１〜２０質量％の範囲内であることがより好ましく、１〜３質量％の範囲内であることがさらに好ましい。
【０１３３】
（酸化防止剤）
酸化防止剤は、高湿高温下に置かれた樹脂基材の劣化を抑制する目的、具体的には、樹脂基材中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等による樹脂成分の分解を遅らせたり、抑制したりする目的で添加され得る。
【０１３４】
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、その例には、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等が含まれる。中でも、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。
【０１３５】
酸化防止剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して１質量ｐｐｍ〜１．０質量％の範囲内であることが好ましく、１０〜１０００質量ｐｐｍの範囲内であることがより好ましい。
【０１３６】
（マット剤）
マット剤（以下、微粒子ともいう。）は、樹脂基材の表面の滑り性を高める目的で添加され得る。微粒子は、無機微粒子又は有機微粒子である。無機微粒子の例には、二酸化ケイ素（シリカ）、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等の微粒子が含まれる。有機微粒子の例には、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、（メタ）アクリル系樹脂等の微粒子が含まれる。中でも、ヘイズを生じ難く、着色も少ないことから、二酸化ケイ素（シリカ）粒子が好ましい。
【０１３７】
二酸化ケイ素の微粒子の例には、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＮＡＸ５０（以上、日本アエロジル（株）製）、シーホスターＫＥ−Ｐ１０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ５０、ＫＥ−Ｐ１００（以上、日本触媒（株）製）等が含まれる。中でも、得られるフィルムの濁度（ヘイズともいう。）を低く保ちつつ、摩擦係数を低減させやすいことから、アエロジルＲ９７２Ｖ、ＮＡＸ５０及びシーホスターＫＥ−Ｐ３０が好ましい。
【０１３８】
微粒子の一次粒子径は、５〜５０ｎｍの範囲内であることが好ましく、７〜２０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。一次粒子径が大きいほうが、得られるフィルムの滑り性を高める効果は大きいが、透明性が低下しやすい。そのため、微粒子は、粒子径０．０５〜０．３μｍの二次凝集体として含有されていてもよい。微粒子の一次粒子又はその二次凝集体の大きさは、透過型電子顕微鏡にて倍率５０〜２００万倍で一次粒子又は二次凝集体を観察し、一次粒子又は二次凝集体１００個の粒子径の平均値として求めることができる。
【０１３９】
微粒子の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して０．０５〜１．０質量％の範囲内であることが好ましく、０．１〜０．８質量％の範囲内であることがより好ましい。
【０１４０】
（樹脂基材の製造方法）
本発明に用いられる樹脂基材は、任意の方法で製造することができ、その製造工程は、例えば、（１）少なくとも前記説明した熱可塑性樹脂と溶媒とを含むドープを得る工程と、（２）得られたドープを金属支持体上に流延し、乾燥及び剥離して、フィルム状物を得る工程と、（３）得られたフィルム状物を延伸する工程等により構成されている。
【０１４１】
本発明に用いられる樹脂基材の製造に適用可能な製造方法としては、従来公知のフィルム製膜方法を適用することができ、例えば、特開２０１３−１２０２７８号公報、特開２０１５−０４９３３１号公報、特開２０１５−１３２６６１号公報、特開２０１７−１１１２６４号公報、特開２０１７−１２２９３６号公報、国際公開第２０１５／１４１３４０号、国際公開第２０１７／１１０４００号等に具体的に記載されている方法を適用することができる。
【０１４２】
［２：赤外線吸収層］
本発明のゲートカバーでは、赤外線吸収層を有することを特徴とする。
【０１４３】
さらに、本発明においては、前記赤外線吸収層が、（１）７５０〜１２００ｎｍの近赤外波長域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物及び（２）金属酸化物系赤外線吸収剤で表される赤外線吸収剤のいずれか一方を含有することが好ましい形態である。
【０１４４】
本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーは、赤外線吸収層を有することにより、赤外遮蔽能が付与され、赤外遮蔽効果の向上が可能となる。赤外線吸収層とは、波長８００〜２５００ｎｍの近赤外領域の光に対する吸収能を有する層である。また、赤外線吸収層は、他の機能を付与するため、あるいは各種特性を向上させるために、その他の添加剤を含んでいてもよい。
【０１４５】
（光波長７５０〜１２００ｎｍの範囲内に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物）
本発明に係る光波長７５０〜１２００ｎｍの範囲内に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物としては、以下の化合物を挙げることができる。
【０１４６】
本発明に適用可能な近赤外線吸収性有機化合物としては、例えば、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、ポリメチン系色素（シアニン系、オキソノール系、クロコニウム系、スクアリリウム系、ピリリウム系、アズレヌウム系）、ジチオール錯塩系化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン系色素、インモニウム系色素、ジインモニウム系色素、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、などが挙げられる。
【０１４７】
この中でも、インモニウム系色素、ジインモニウム系色素、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、ポリメチン系色素、又はトリアリルメタン系色素が好ましく、より好ましくはインモニウム系色素、ジインモニウム系色素、アミニウム塩系化合物、ポリメチン系色素、又はトリアリルメタン系色素であり、さらに好ましくはインモニウム系色素、ジインモニウム系色素、又はポリメチン系色素であり、特に、ジインモニウム系色素又はポリメチン系色素が好ましい。ポリメチン系色素の中ではクロコニウム系、スクアリリウム系、ピリリウム系のポリメチン色素が好ましい。
【０１４８】
ジインモニウム塩系化合物は、市販品を用いることができる。例えば、Ｋａｙａｓｏｒｂ  ＩＲＧ−０２２、ＩＲＧ−０２３、ＩＲＧ−０２４（以上、日本化薬社製）、ＣＩＲ−１０８０、ＣＩＲ−１０８１、ＣＩＲ−１０８３、ＣＩＲ−１０８５（以上、日本カーリット社製）などが好適である。
【０１４９】
好適に使用できる近赤外線吸収色素の具体例としては、例えば、特開２００４−９３７６７号、特開２００４−６９７５９号、特開２００２−２８６９３１号、特開２００２−１２２７２９号、特開２００１−１１５０５０号、特開２００１−１１５０５０号、特開２０００−１６２４３１号、特開平１１−１０９１２６号、特開２００６−１３９３１１号の各公報に記載のものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されることは無い。
【０１５０】
〈極大吸収ピークの測定〉
本発明に係る近赤外線吸収性有機化合物の極大吸収ピークは、例えば、分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）等の赤外分光吸収の測定が可能な機器を用いて測定することができる。測定溶媒は、例えば、メタノール、ジメチルスルホオキシド、ジアセトンアルコール、１，２−ジクロロエタン、トルエン、メチルエチルケトン等を用いることができる。
【０１５１】
（金属酸化物系赤外線吸収剤）
本発明に適用可能な金属酸化物系赤外線吸収剤としては、酸化スズ、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、セシウムドープ酸化タングステン（ＣＷＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）及びアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、六ホウ素化ランタン（ＬａＢ６）、酸化亜鉛、インジウムドープト酸化亜鉛（ＩＺＯ）、ニッケル錯体系化合物等が挙げられるが、特に、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、セシウムドープ酸化タングステン（ＣＷＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）及びアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
【０１５２】
また、これらの金属酸化物系赤外線吸収剤は、市販品として入手することもでき、例えば、酸化亜鉛系としては、セルナックスシリーズ（日産化学工業社製）、パゼットシリーズ（ハクスイテック社製）；酸化錫系としては、ＡＴＯ分散液（ＳＲ３５Ｍ  Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｎａｎｏ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ社製）、ＩＴＯ分散液（三菱マテリアル電子化成社製）、ＫＨシリーズ（住友金属鉱山社製）；セシウムドープト酸化タングステン系としてはＣＷＯ分散液（ＹＭＦ−０２Ａ  住友金属鉱山社製）；六ホウ素化ランタン系としては、ＬａＢ６分散液（ＫＨＦ−７ＡＨ  住友金属鉱山社製）等が挙げられる。なお、金属酸化物系赤外線吸収剤としては、赤外線吸収層中の鉄、銅及びクロムの濃度（含有量）を容易に制御するため、これらの特定の金属を含まないものが好ましい。
【０１５３】
さらに、金属酸化物系赤外線吸収剤として、Ｃｄ／Ｓｅ、ＧａＮ、Ｙ２Ｏ３、Ａｕ、Ａｇなどからなるものも用いることができる。
【０１５４】
金属酸化物系赤外線吸収剤の平均粒径としては、５〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましく、１０〜１２０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。平均粒径が５ｎｍ以上であれば、赤外線吸収層を形成するのに用いるバインダー樹脂中での分散性や、赤外線吸収性を良好に保持することができ、１５０ｎｍ以下とすることにより、可視光線透過率の低下を抑制することができる。なお、平均粒径の測定は、透過型電子顕微鏡により撮像し、無作為に、例えば５０個の粒子を抽出して該粒子径を測定し、これを平均したものである。また、粒子の形状が球形でない場合には、同一面積の円相当に換算した際の直径を測定して算出するものと定義する。
【０１５５】
（赤外線吸収層形成用バインダー樹脂）
本発明において、赤外線吸収層は、上記説明した赤外線吸収剤と共に、バインダー樹脂を含有することが好ましい。本発明に係る赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収層は、ゲートカバーを構成する場合、隣接層間における粘着層としての機能も付与させる観点から、当該バインダー樹脂としては、粘着性のバインダー樹脂も用いることが好ましい。
【０１５６】
バインダー樹脂としては、環境負荷・工程負荷を低減するという観点からは、水溶性の粘着性樹脂であることが好ましい。水溶性の粘着性樹脂としては、特に制限されないが、ポリビニルアルコール系樹脂、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、及び反応性官能基を有するポリマーが挙げられる。なお、本発明でいう「水溶性」とは、物質が最も溶解する温度で、０．５質量％の濃度となるように水に溶解させた際、Ｇ２グラスフィルタ（最大細孔４０〜５０μｍ）で濾過した場合に、濾別される不溶物の質量が、加えた高分子の５０質量％以内であることを意味する。
【０１５７】
更に、ゲートカバーの湿度変動の影響が小さくなるという観点からは、有機溶媒溶解性の粘着性樹脂を含有することが好ましい。有機溶媒溶解性の粘着性樹脂としては、特に制限されないが、アクリル樹脂、ウレタン変性アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリ酢酸ビニル、酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリブチラール、ポリアミド（ナイロン）樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ＡＢＳ樹脂、ニトリルゴム、ポリフッ化ビニリデン等が挙げられる。
【０１５８】
（赤外線吸収層形成用塗布液の溶媒）
本発明おいて、赤外線吸収層の形成において、赤外線吸収層形成用塗布液の調製に用いる溶媒としては、バインダー樹脂成分や赤外線吸収剤を十分に分散や溶解することができるものであれば、特に限定されず、種々の有機溶媒や水系溶媒を用いることができる。
【０１５９】
本発明に適用可能な有機溶媒としては、特に制限されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でも又は２種以上混合して用いてもよい。上記有機溶媒の中でも、樹脂や赤外線吸収剤の分散性を考慮すると、エステル類、エーテル類、ケトン類を用いると好ましく、ケトン類を用いるとさらに好ましい。
【０１６０】
（赤外線吸収剤のその他の添加剤）
本発明に係る赤外線吸収層には、上記説明した以外の添加剤としては、アミノ酸、エマルジョン樹脂、リチウム化合物等が挙げられる。また、特開昭５７−７４１９３号公報、特開昭５７−８７９８８号公報、特開昭６２−２６１４７６号公報等に記載の紫外線吸収剤；特開昭５７−７４１９２号、特開昭５７−８７９８９号公報、特開昭６０−７２７８５号公報、特開昭６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報、特開平３−１３３７６号公報等に記載の退色防止剤；特開昭５９−４２９９３号公報、特開昭５９−５２６８９号公報、特開昭６２−２８００６９号公報、特開昭６１−２４２８７１号公報、特開平４−２１９２６６号公報等に記載の蛍光増白剤；硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤；消泡剤；ジエチレングリコール等の潤滑剤；防腐剤；防黴剤；帯電防止剤；マット剤；熱安定剤；酸化防止剤；難燃剤；結晶核剤；無機粒子；有機粒子；減粘剤；滑剤等の公知の各種添加剤等が、本発明の目的効果を損なわない範囲で使用されてもよい。
【０１６１】
（赤外線吸収層の形成）
本発明に係る赤外線吸収層の形成方法としては、特に制限はないが、湿式塗布法により形成することが好ましく、例えば、ロールコート法、フローコート法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、バーコート法、流延成膜法、インクジェット・プリント法、グラビア印刷法等が挙げられる。
【０１６２】
［３：赤外線反射層］
本発明のゲートカバーにおいて、上記説明した赤外線吸収層とともに、赤外線反射層を有することを特徴とする。
【０１６３】
また、赤外線反射層が、誘電体多層膜であること、さらには、誘電体多層膜が無機微粒子を含有していることが好ましい形態である。
【０１６４】
以下、本発明に係る赤外線反射層の好ましい態様である誘電体多層膜の詳細について説明する。
【０１６５】
〔誘電体多層膜〕
本発明のゲートカバーにおいては、赤外線反射層として、特定の波長を有する赤外光が入射した場合に、少なくともこの赤外光の一部を反射して、遮熱効果を発揮するため、低屈折率層と高屈折率層とが交互に多層積層されて構成の誘電体多層膜を有することが好ましい。
【０１６６】
本発明に係る誘電体多層膜において、誘電体多層膜を構成する屈折率層が、低屈折率層であるか高屈折率層であるかは、隣接する屈折率層間での屈折率の対比によって判断される。具体的には、ある屈折率層を基準層としたとき、当該基準層に隣接する屈折率層が基準層より屈折率が低ければ、基準層は高屈折率層であり、隣接層は低屈折率層となる。一方、基準層より隣接層の屈折率が高ければ、基準層は低屈折率層であり、隣接層が高屈折率層となる。したがって、屈折率層が高屈折率層であるか低屈折率層であるかは、隣接層が有する屈折率との関係で定まる相対的なものであり、ある屈折率層は、隣接層との関係によって高屈折率層にも低屈折率層にもなりうる。
【０１６７】
屈折率層としては、特に制限はないが、好ましくは当該技術分野において用いられる公知の屈折率層を用いることが好ましい。公知の屈折率層としては、例えば、乾式製膜法を用いて形成する屈折率層と、樹脂の押出成形によって形成される屈折率層と、湿式製膜法を用いて形成する屈折率層とが挙げられる。なかでも、製造効率の観点から、屈折率層の形成方法としては、湿式製膜法を適用することが好ましい。
【０１６８】
以下、湿式製膜法で形成することができる屈折率層のうち、代表的な高屈折率層及び低屈折率層の構成について説明する。
【０１６９】
（湿式製膜法を用いた屈折率層積層体の形成）
湿式成膜法では、屈折率層形成用塗布液を単層ずつ順次塗布・乾燥して、積層体を形成する方法、又は、複数種の屈折率層形成用塗布液を用い、同時重層塗布・乾燥により、積層体を形成する方法等により、複数の屈折率層が積層された屈折率積層体を形成することができる。本発明に係る誘電体多層膜は、この湿式製膜法によって、低屈折率層及び高屈折率層を積層して形成する方法が好ましい。
【０１７０】
（高屈折率層）
高屈折率層は、屈折率の制御が容易になるという観点から、好ましくは金属酸化物粒子を含み、その他必要に応じて、水溶性樹脂、硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤を含んでもよい。なお、高屈折率層に含まれる金属酸化物粒子及び水溶性樹脂を、便宜上、以下では「第１の金属酸化物粒子」及び「第１の水溶性樹脂」とそれぞれ称する。
【０１７１】
（１）第１の金属酸化物粒子
第１の金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、屈折率が２．０〜３．０の範囲内にある金属酸化物粒子であることが好ましい。具体的には、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。これらのうち、第１の金属酸化物粒子としては、透明で屈折率の高い高屈折率層を形成することができる観点から、酸化チタン、酸化ジルコニウムであることが好ましく、また、耐候性向上の観点からルチル型（正方晶形）酸化チタンであることがより好ましい。
【０１７２】
また、酸化チタンは、含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコア・シェル粒子の形態であってもよい。当該コア・シェル粒子は、酸化チタン粒子の表面を、コアとなる酸化チタンに含ケイ素の水和酸化物からなるシェルが被覆してなる構造を有する。
【０１７３】
上述の第１の金属酸化物粒子は、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１７４】
第１の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層との屈折率差が大きくなる観点から、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、１５〜８５質量％の範囲内であることが好ましく、２０〜８０質量％の範囲内であることがより好ましく、３０〜７７質量％の範囲内であることが特に好ましい。
【０１７５】
また、第１の金属酸化物粒子は、体積平均粒径が１〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましく、３〜５０ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。体積平均粒径が１ｎｍ以上であれば安定して微粒子を形成することができ、１００ｎｍ以下であると、ヘイズが少なく可視光透過性に優れることから好ましい。なお、本発明において、「体積平均粒径」の値は、以下の方法によって測定した値を採用するものとする。具体的には、屈折率層の断面や表面に現れた任意の１０００個の金属酸化物粒子を電子顕微鏡で観察して粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する金属酸化物粒子の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、体積平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。
【０１７６】
（２）第１の水溶性樹脂
第１の水溶性樹脂としては、特に制限されないが、ポリビニルアルコール系樹脂、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、及び反応性官能基を有するポリマーが用いることができる。これらのうち、ポリビニルアルコール系樹脂を用いることが好ましい。
【０１７７】
〈ポリビニルアルコール系樹脂〉
前記ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコール（未変性ポリビニルアルコール）、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマー等の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。なお、変性ポリビニルアルコールにより、膜の密着性、耐水性、柔軟性が改良される場合がある。
【０１７８】
〈ゼラチン〉
ゼラチンとしては、従来、ハロゲン化銀写真感光材料分野で広く用いられてきた各種ゼラチンを適用することができる。例えば、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチン、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチン、分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基を有し、それと反応し得る基を持った試薬で処理し改質したゼラチン誘導体等が挙げられる。
【０１７９】
なお、ゼラチンを用いる場合、必要に応じてゼラチン用硬化剤を添加することもできる。
【０１８０】
〈セルロース類〉
セルロース類としては、水溶性のセルロース誘導体を好ましく用いることができる。例えば、カルボキシメチルセルロース（セルロースカルボキシメチルエーテル）、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性セルロース誘導体；カルボキシメチルセルロース（セルロースカルボキシメチルエーテル）、カルボキシエチルセルロース等のカルボン酸基含有セルロース類；ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース、セルロース硫酸エステル等のセルロース誘導体が挙げられる。
【０１８１】
〈増粘多糖類〉
増粘多糖類は、糖類の重合体であり、分子内に水素結合基を多数有するものである。当該増粘多糖類は、温度による分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度差が大きいという特性を有する。また、増粘多糖類に金属酸化物微粒子を添加すると、低温時にその金属酸化物微粒子との水素結合によると思われる粘度上昇を起こす。その粘度上昇幅は、１５℃における粘度が、通常、１．０ｍＰａ・ｓ以上であり、好ましくは５．０ｍＰａ・ｓ以上であり、よりに好ましくは１０．０ｍＰａ・ｓ以上である。
【０１８２】
適用可能な増粘多糖類としては、特に制限はなく、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類、合成複合多糖類が挙げられる。これら多糖類の詳細については、「生化学事典（第２版）、東京化学同人出版」、「食品工業」第３１巻（１９８８）２１頁等を参照することができる。
【０１８３】
〈反応性官能基を有するポリマー〉
反応性官能基を有するポリマーとしては、例えば、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリロニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル系樹脂；スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂；スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体；及びこれらの塩が挙げられる。これらのうち、ポリビニルピロリドン類及びこれを含有する共重合体を用いることが好ましい。
【０１８４】
上述の水溶性樹脂は、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１８５】
第１の水溶性樹脂の重量平均分子量は、１０００〜２０００００の範囲内であることが好ましく、３０００〜４００００の範囲内であることがより好ましい。なお、本明細書において、「重量平均分子量」の値は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって測定した値を採用するものとする。
【０１８６】
第１の水溶性樹脂の含有量は、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、５〜５０質量％の範囲内であることが好ましく、１０〜４０質量％の範囲内であることがより好ましい。
【０１８７】
（３）硬化剤
硬化剤は、高屈折率層に含有される第１の水溶性樹脂（好ましくは、ポリビニルアルコール系樹脂）と反応して、水素結合のネットワークを形成する機能を有する。
【０１８８】
硬化剤としては、第１の水溶性樹脂と硬化反応を起こすものであれば特に制限はないが、一般的には、水溶性樹脂と反応しうる基を有する化合物又は水溶性樹脂が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物が挙げられる。
【０１８９】
具体例として、第１の水溶性樹脂としてポリビニルアルコールを用いる場合には、硬化剤としてホウ酸及びその塩を用いることが好ましい。また、ホウ酸及びその塩以外の公知の硬化剤を使用してもよい。
【０１９０】
なお、ホウ酸及びその塩とは、硼素原子を中心原子とする酸素酸及びその塩のことを意味する。具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸、八ホウ酸、及びこれらの塩が挙げられる。
【０１９１】
硬化剤の含有量は、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、１〜１０質量％であることが好ましく、２〜６質量％であることがより好ましい。
【０１９２】
特に、第１の水溶性バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを使用する場合の硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール１ｇ当たり１〜６００ｍｇであることが好ましく、ポリビニルアルコール１ｇ当たり１００〜６００ｍｇであることがより好ましい。
【０１９３】
（４）界面活性剤
高屈折率層に適用可能な界面活性剤としては、特に制限されることはなく、従来公知の各種界面活性剤を適宜選択して用いることができる。
【０１９４】
（５）その他の添加剤
高屈折率層に適用が可能なその他の添加剤としては、例えば、アミノ酸、エマルジョン樹脂、リチウム化合物等や、特開昭５７−７４１９３号公報、特開昭５７−８７９８８号公報、特開昭６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤；特開昭５７−７４１９２号、特開昭５７−８７９８９号公報、特開昭６０−７２７８５号公報、特開昭６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報、特開平３−１３３７６号公報等に記載の退色防止剤；特開昭５９−４２９９３号公報、特開昭５９−５２６８９号公報、特開昭６２−２８００６９号公報、特開昭６１−２４２８７１号公報、特開平４−２１９２６６号公報等に記載の蛍光増白剤；硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤；消泡剤；ジエチレングリコール等の潤滑剤；防腐剤；防黴剤；帯電防止剤；マット剤；熱安定剤；酸化防止剤；難燃剤；結晶核剤；無機粒子；有機粒子；減粘剤；滑剤；赤外線吸収剤；色素；顔料等の公知の各種添加剤等がその他の添加剤として使用されてもよい。
【０１９５】
（低屈折率層）
低屈折率層もまた、屈折率の制御が容易になるという観点から、好ましくは金属酸化物粒子を含む。その他必要に応じて、水溶性樹脂、硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤を含んでいてもよい。なお、低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子及び水溶性樹脂を、便宜上、以下では「第２の金属酸化物粒子」及び「第２の水溶性樹脂」とそれぞれ称する。
【０１９６】
（１）第２の水溶性樹脂
第２の水溶性樹脂としては、第１の水溶性樹脂と同様のものが用いることができる。
【０１９７】
この際、高屈折率層及び低屈折率層が、第１の水溶性樹脂及び第２の水溶性樹脂として、ともにポリビニルアルコール系樹脂を使用する場合には、それぞれケン化度の異なるポリビニルアルコール系樹脂を用いることが好ましい。これにより、界面の混合が抑制され、赤外反射率（赤外遮蔽率）がより良好となり、ヘイズが低くなる。なお、本発明でいう「ケン化度」とは、ポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基（原料の酢酸ビニル由来のもの）とヒドロキシ基との合計数に対するヒドロキシ基の割合を意味する。
【０１９８】
（２）第２の金属酸化物粒子
第２の金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等のシリカ（二酸化ケイ素）を用いることが好ましく、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましい。また、屈折率をより低減させる観点から、第２の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いることができ、特にシリカ（二酸化ケイ素）の中空微粒子を用いることが好ましい。
【０１９９】
コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ又はＢａ等で処理されたものであってもよい。
【０２００】
また、第２の金属酸化物粒子は、表面被覆成分により表面コーティングされていてもよい。
【０２０１】
本発明の低屈折率層に含まれる第２の金属酸化物粒子（好ましくは、二酸化ケイ素）は、その平均粒径（個数平均；直径）が３〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましく、３〜５０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。なお、本発明でいう金属酸化物微粒子の「平均粒径（個数平均；直径）」は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径とは、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。
【０２０２】
低屈折率層における第２の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層の全固形分１００質量％に対して、０．１〜８５質量％の範囲内であることが好ましく、３０〜８０質量％の範囲内であることがより好ましく、４５〜７５質量％の範囲内であることがさらに好ましい。
【０２０３】
上述の第２の金属酸化物は、屈折率を調整する等の観点から、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０２０４】
（３）硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤
硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤としては、高屈折率層と同様のものが用いることができ、ここでの説明は省略する。
【０２０５】
以上のような構成を有する高屈折率層及び低屈折率層が交互に積層されてなる誘電体多層膜においては、高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも一方が、湿式製膜法を用いて形成された屈折率層であることが好ましく、高屈折率層及び低屈折率層の両方が、湿式製膜法を用いて形成された屈折率層であることがより好ましい。さらに、高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも一方が、金属酸化物粒子を含むことが好ましい。すなわち、本発明に係る赤外線反射層では、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜をさらに含み、低屈折率層又は高屈折率層が、金属酸化物粒子を含んでいる構成が好ましい。さらには、高屈折率層及び低屈折率層の両方が金属酸化物粒子を含むことがより好ましい。
【０２０６】
本発明に係る誘電体多層膜は、低屈折率層と高屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で赤外反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本形態では、低屈折率層及び高屈折率層から構成される誘電体多層膜の少なくとも１つにおいて、隣接する低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が０．１以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の積層体を複数有する場合には、全ての積層体における高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、この場合でも誘電多層膜の最上層や最下層を構成する屈折率層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。
【０２０７】
本発明のケートカバーの光学特性として、ＪＩＳ  Ｒ３１０６−１９９８で示される３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における偏光光の平均透過率が８０％以上であることを特徴とし、また、波長８００ｎｍ〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率が１５％以上であることを特徴とする。
【０２０８】
誘電体多層膜の屈折率層の層数（高屈折率層及び低屈折率層の総層数）としては、上記の光学特性を満たす観点からは、６〜５０層であることが好ましく、８〜４０層であることがより好ましく、１１〜３１層であることがさらに好ましく、９〜３０層であることが特に好ましい。誘電体多層膜の屈折率層の層数が上記範囲にあると、優れた遮熱性能及び透明性、膜剥がれやひび割れの抑制等が実現させることができる点で好ましい。なお、誘電体多層膜が、複数の高屈折率層及び低屈折率層を有する場合には、各高屈折率層及び各低屈折率層はそれぞれ同じものであっても、異なるものであってもよい。
【０２０９】
高屈折率層の１層当たりの厚さは、２０〜８００ｎｍの範囲内であることが好ましく、５０〜５００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。また、低屈折率層の１層当たりの厚さは、２０〜８００ｎｍの範囲内であることが好ましく、５０〜５００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。
【０２１０】
ここで、１層あたりの厚さを測定する場合、高屈折率層及び低屈折率層の境界において明確な界面を持たず、連続的に組成が変化する場合がある。このような組成が連続的に変化するような界面領域においては、最大屈折率−最小屈折率＝Δｎとした場合、２層間の最小屈折率＋Δｎ／２の地点を層界面とみなすものとする。
【０２１１】
なお、高屈折率層及び低屈折率層が金属酸化物粒子を含む場合には、当該金属酸化物粒子の濃度プロファイルにより上記組成を観察することができる。当該金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、ＸＰＳ表面分析装置を用いて、最表面を０ｎｍとして、０．５ｎｍ／ｍｉｎの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで見ることができる。また、積層膜を切断して、切断面をＸＰＳ表面分析装置で原子組成比を測定することで確認してもよい。
【０２１２】
ＸＰＳ表面分析装置は、特に制限されず、いかなる機種も使用することができる。当該ＸＰＳ表面分析装置としては、例えば、ＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いることができる。Ｘ線アノードにはＭｇを用い、出力６００Ｗ（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流４０ｍＡ）で測定する。
【０２１３】
［４：偏光層及び偏光板］
本発明のゲートカバーにおいては、偏光層（以下、偏光子ともいう。）を有することを一つの特徴とする。
【０２１４】
本発明においては、偏光子の少なくとも一方の面側に偏光板用フィルムを設けて偏光板を構成することが好ましく、より好ましくは、偏光子を本発明に係る赤外線反射層に隣接して設ける構成であり、さらに好ましくは、偏光子のもう一方の面側にも、別の偏光板用フィルムを設ける構成である。
【０２１５】
図３は、本発明のケートカバーに適用可能な偏光板の構成の一例を示す概略断面図である。
【０２１６】
図３に示す偏光板２１においては、一方の１７で示される偏光板用フィルムＡ（例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム）上に偏光層である偏光子１４を有し、偏光子１４に隣接して、１６で示される偏光板用フィルムＢ（例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム）上に、本発明に係る赤外線反射層１３が設けされている。１６で示される偏光板用フィルムＢは、赤外線反射層１３、例えば、誘電体多層膜を形成する際の樹脂基材（支持体ともいう。）として機能する。前記偏光板に適用する偏光板用フィルムの少なくとも一つは位相差フィルムとしての機能も有する。
【０２１７】
本発明のゲートカバーに具備する偏光板２０は薄膜であることが好ましく、厚さとしては４０〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、４９〜９９μｍの範囲内であることがより好ましい。
【０２１８】
以下、偏光板を構成する偏光子及び偏光板用フィルムの順に説明をする。
【０２１９】
（偏光子）
偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムに、ヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。
【０２２０】
ポリビニルアルコール系偏光フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素又は二色性染料で染色したフィルム（好ましくはさらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよいし；ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素又は二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくは、さらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよい。偏光子の吸収軸は、通常、最大延伸方向と平行である。
【０２２１】
例えば、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％の範囲、重合度２０００〜４０００の範囲、ケン化度９９．０〜９９．９９モル％の範囲のエチレン変性ポリビニルアルコールが用いられる。中でも、熱水切断温度が６６〜７３℃の範囲であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。
【０２２２】
偏光子の厚さは、５〜３０μｍの範囲であることが好ましく、偏光板を薄型化するため等から、５〜２５μｍの範囲であることがより好ましい。
【０２２３】
（偏光板用フィルム）
偏光板の作製に適用する偏光板用フィルムは、前記「１：樹脂基材」にて説明したのと同様の樹脂基材を適宜選択して適用することができる。
【０２２４】
本発明のゲートカバーにおいては、偏光板を構成する偏光板用フィルムに関しても、前述した樹脂基材１１と同様に、優れた視認性を得る観点から、面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることが、最も好ましい形態である。
【０２２５】
本発明に係る偏光板に適用可能な偏光板用フィルムを構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（略称：ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（略称：ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（略称：ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル及びポリアリレート類、アートン（商品名、ＪＳＲ社製）及びアペル（商品名、三井化学社製）等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂基材の中でも、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、アクリル樹脂及びポリアリレート類を樹脂成分と有する樹脂基材が好ましく用いられる。
【０２２６】
偏光板用フィルムの厚さは、特に限定はないが、１０〜１００μｍの範囲であることが好ましく、１０〜６０μｍの範囲であることがより好ましく、２０〜６０μｍの範囲であることが特に好ましい。
【０２２７】
(偏光板の作製方法)
本発明に係る偏光板の作製方法としては、例えば、図３に示した偏光板２１の場合、基本的には、上記のように、１７で示される偏光板用フィルムＡを偏光子１４の片面に貼合すればよい。ただし、当該１７で示される偏光板用フィルムＡの偏光子１４側の面に対し、易接着処理（表面活性化処理）を施すことが好ましい。
【０２２８】
下記のような工程（１〜５）を含む方法で偏光板２１を作製することができる。
【０２２９】
工程１：ポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸する。これをヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に浸漬し、次いでヨウ化カリウム及びホウ酸を含有する水溶液に浸漬する。その後、これを水洗・乾燥して偏光子を得る。
【０２３０】
工程２：あらかじめ表面に易接着処理を施した１で示される偏光板用フィルムＡ（例えば、ＴＡＣ）の当該表面上に上記工程１で得た偏光子１４を載せる。
【０２３１】
工程３：前記１７で示される偏光板用フィルムＡ上に載せられた偏光子１４の反対側の面上にポリビニルアルコール接着剤（完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液）を塗布する。
【０２３２】
工程４：別途、１６で示される偏光板用保護フィルムＢ（例えば、ＴＡＣ）上に、常法に従って、低屈折率層及び高屈折率層を交互に積層し、誘電体多層膜を形成して、赤外線反射層１３を形成する。
【０２３３】
工程５：工程３で得たポリビニルアルコール接着剤が塗布された偏光子の面上に、工程４で作製した赤外線反射層１３を、当該偏光子１４に対向するように載せて積層体を形成する。
【０２３４】
工程６：工程５で得た積層体に圧力を加え貼合する。
【０２３５】
工程７：工程６で得た積層体を乾燥し、偏光板２１を作製する。
【０２３６】
上記工程２において、偏光子１４に、１７で示される偏光板用フィルムＡを貼合する場合、例えば、市販のセルロースアシレート系保護フィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタ株式会社製）も好ましく用いられる。このような保護フィルムを偏光板用フィルムとして適用する場合は、あらかじめケン化処理等の表面活性化処理を行う必要がある。
【０２３７】
易接着処理としては、コロナ（放電）処理、プラズマ処理、フレーム処理、イトロ処理、グロー処理、オゾン処理、プライマー塗布処理等があるが、このうち少なくとも１種が実施されれば良い。これらの易接着処理のうち、生産性の観点からは、コロナ処理、プラズマ処理が易接着処理として好ましい。
【０２３８】
なお、接着剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂やウレタン樹脂を主成分として含む水系接着剤や、エポキシ系樹脂等の光硬化性樹脂を主成分として含む活性エネルギー線硬化型接着剤を用いることができる。例えば、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン及びポリエーテル等をベースポリマーとして含む接着剤等を用いることもできる。
【０２３９】
［５：その他の構成層］
本発明のゲートカバーにおいては、上記説明した、赤外線吸収層、赤外線反射層、偏光層の他に、各種機能層を適宜選択して設けることができる。以下に、代表的な機能層として、粘着層及びハードコート層について説明する。
【０２４０】
〔粘着層〕
本発明のゲートカバーでは、さらに粘着層を有していてもよい。この粘着層は保護フィルムを介して、偏光板２１を挟んで、赤外線吸収層を形成した面とは反対側の面に設けられ、さらに公知の剥離紙（セパレータ）がさらに設けられていてもよい。
【０２４１】
粘着層の構成としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。粘着剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。また、上記説明した赤外線吸収層から、近赤外線吸収性有機化合物や金属酸化物系赤外線吸収剤を除いた粘着性を有する層であってもよい。
【０２４２】
粘着層の層厚は、１〜１００μｍの範囲内が好ましく、３〜５０μｍの範囲内がより好ましい。層厚が１μｍ以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。逆に１００μｍ以下であればゲートカバーとしての透明性が向上する点で好ましい。
【０２４３】
粘着層の他の形成方法としては、例えば、保護フィルム上に、剥離紙（セパレータ）上に粘着層用塗布液を塗布し乾燥させて粘着層を貼合した後、剥離紙をはがし、偏光板２１を貼り合わせる方法も挙げることができる。
【０２４４】
〔保護フィルム〕
ゲートカバーの表面側に設けられる保護フィルムとしては、前記「１：樹脂基材」にて説明したのと同様の樹脂基材を適宜選択して適用することができる。
【０２４５】
すなわち、本発明のゲートカバーにおいては、保護フィルムに関しても、前述した樹脂基材１１と同様に、優れた視認性を得る観点から、面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることが、最も好ましい形態である。
【０２４６】
本発明のゲートカバーを構成する保護フィルムの樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（略称：ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（略称：ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（略称：ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル及びポリアリレート類、アートン（商品名、ＪＳＲ社製）及びアペル（商品名、三井化学社製）等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂基材の中でも、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、アクリル樹脂及びポリアリレート類を樹脂成分と有する樹脂基材が好ましく用いられる。
【０２４７】
〔ハードコート層〕
本発明のゲートカバーでは、耐擦過性を高めるための表面保護層として、樹脂基材を有する面とは反対側の最上層に、熱や紫外線などで硬化する樹脂を含むハードコート層を積層してもよい。
【０２４８】
ハードコート層で使用される硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂が挙げられるが、塗膜形成が容易な点から、紫外線硬化型樹脂が好ましく、その中でも鉛筆硬度が少なくとも２Ｈのものがより好ましい。硬化型樹脂は、単独でも又は２種以上組み合わせて用いてもよい。
【０２４９】
なお、このような紫外線硬化型樹脂としては、（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂が挙げられ、これらは無溶剤型の樹脂組成物としても使用できる。
【０２５０】
上記紫外線硬化型樹脂を用いる場合、硬化促進のために、光重合開始剤を添加することが好ましい。
【０２５１】
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物などが用いられる。
【０２５２】
ハードコート層の厚さは、ハードコート性の向上と、ゲートカバーの透明性の向上という観点から、０．１〜５０μｍが好ましく、１〜２０μｍがより好ましい。
【０２５３】
ハードコート層の形成方法は、特に制限されず、例えば、上記各成分を含むハードコート層用塗布液を調製した後、塗布液を湿式塗布方式、例えば、ワイヤーバー等により塗布し、熱エネルギー又は活性エネルギー線の照射により、形成したハードコート層塗膜を硬化させ、ハードコート層を形成する方法などが挙げられる。
【０２５４】
〔その他の機能層〕
本発明のゲートカバーは、上述した層以外に、その他の機能層を有していてもよい。例えば、その他の機能層として、中間層を設けることができる。ここで「中間層」とは、樹脂基材と赤外線吸収層との間の層や、赤外線反射層と赤外線吸収層との間の層を意味する。
【０２５５】
中間層の構成材料としては、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられ、添加剤の相溶性、Ｔｇが低い物質ものが好ましく用いられる。
【０２５６】
〔ゲートカバーの分光特性〕
本発明のゲートカバーにおいては、３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率が８０％以上であることを特徴とし、好ましくは８０％以上、９５％以下である。また、７５０〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率は１５％以上であることを特徴とし、好ましくは、１５〜５０％の範囲内であり、更に好ましくは、２０〜４５％の範囲内である。
【０２５７】
３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率は、ゲートカバーに対し、直線偏光光を偏光面がゲートカバーの偏光子の透過軸と平行となるように入射させ、分光光度計Ｖ−５７０（日本分光社製）を用いて、波長３８０ｎｍ〜７４０ｎｍの範囲を２ｎｍおきに測定して平均透過率を求める。
【０２５８】
また、７５０〜１５００ｎｍの近赤外線波長領域における平均反射率は、分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製  Ｕ−４０００）を用いて、作製したゲートカバーの反射率（ＤＳ）を、ＪＩＳ  Ｋ  ５６０２：２００８（塗膜の日射反射率の求め方）に準拠して、波長７５０〜１５００ｎｍの範囲を２ｎｍおきに測定して平均反射率を求める。
【０２５９】
《ゲートカバーの代表的な構成と製造例》
上記説明した各要素より構成されるゲートカバーの具体的な構成例を、図を交えて説明する。
【０２６０】
(実施形態１：構成例１)
図４は、ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの構成例１を示す概略断面図（実施形態１)であり、紙面の上面は太陽光の入射側であり、下面側には液晶表示装置の光源が配置されている。
【０２６１】
図４で示すゲートカバー３は、下面側から、樹脂基材１１（例えば、ポリカーボネートフィルム（ＰＣ））／赤外線吸収層１２／１６で示される偏光板用フィルムＢ（例えば、ＴＡＣ）／赤外線反射層１３／偏光層１４／１７で示される偏光板用フィルムＡ（ＴＡＣ）／粘着層１８／保護フィルム１９（例えば、ＰＣ）／ハードコート層２０により構成されている。
【０２６２】
図４に示す構成の本発明のゲートカバー３においては、樹脂基材１１の面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることを特徴とするが、更には、１６で示される偏光板用フィルムＢ、１７で示される偏光板用フィルムＡ及び保護フィルム１９の全てが、樹脂基材１１で規定する面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることが、最も好ましい形態である。
【０２６３】
図４に示す構成のゲートカバー３の製造方法は、以下の通りである。
【０２６４】
〈ステップ１：偏光板ユニットＵ１の作製〉
上記偏光板の作製方法に記載した工程１〜工程７に従って、偏光板ユニットＵ１を作製する。
【０２６５】
〈ステップ２：赤外線吸収層ユニットＵ２の作製〉
樹脂基板１１上に、粘着性樹脂を含む赤外線吸収層１２を形成して、赤外線吸収層ユニットＵ２を作製する。
【０２６６】
〈ステップ３：保護フィルムユニットＵ３の作製〉
保護フィルム１９上に、粘着層１８を形成する。
【０２６７】
〈ステップ４：偏光板ユニットＵ１と保護フィルムユニットＵ３との貼合〉
はじめに、偏光板ユニットＵ１の１７で示される偏光板用フィルムＡ面と、保護フィルムユニットＵ３の粘着層１８面を対向する位置に配置し、貼合ローラーで貼り合せる。
【０２６８】
〈ステップ５：偏光板ユニットＵ１と赤外線吸収層ユニットＵ２との貼合〉
次いで、赤外線吸収層ユニットＵ２の赤外線吸収層１２面と、偏光板ユニットＵ１の１６で示される偏光板用フィルムＢ面とを対向する位置に配置し、貼合ローラーで貼り合せる。
【０２６９】
〈ステップ６：ハードコート層の形成〉
最後に、保護フィルム１９上に、ハードコート層２０を形成して、ゲートカバー３を作製する。
【０２７０】
(実施形態２：構成例２)
図５は、ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの構成例２を示す概略断面図(実施形態２)であり、紙面における下面側に液晶表示装置の光源が配置されている。
【０２７１】
図５で示すゲートカバー３は、下面側から、樹脂基材１１（例えば、ポリカーボネートフィルム（ＰＣ））／赤外線吸収層１２／赤外線反射層１３／１６で示される偏光板用フィルムＢ（例えば、ＴＡＣ）／偏光層１４／１７で示される偏光板用フィルムＡ（ＴＡＣ）／粘着層１８／保護フィルム１９（例えば、ＰＣ）／ハードコート層２０の順に構成されている。
【０２７２】
図５に示す構成の本発明のゲートカバー３においても、樹脂基材１１の面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることを特徴とするが、更には、１６で示される偏光板用フィルムＢ、１７で示される偏光板用フィルムＡ及び保護フィルム１９の全てが、樹脂基材１１で規定する面内リターデーション値ＲＯが、０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満であることが、最も好ましい形態である。
【０２７３】
図５に示す構成のゲートカバー３の製造方法は、上記説明した図４で示す構成例１と、一部構成層の配置順は異なるが、同様の方法で作製することができる。
【０２７４】
《液晶表示装置》
本発明に係るヘッドアップディスプレイに用いられる好ましい表示装置として、液晶表示装置を例にして説明する。
【０２７５】
図６は、液晶表示装置３０の基本的な構成の一例を示す模式図である。図６に示されているように、液晶表示装置３０は、基本的には、液晶セル３２と、それを挟持する第１の偏光板３１及び第２の偏光板３３と、バックライト３４とで構成される。
【０２７６】
液晶セル３２の表示モードは、特に制限されず、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｉｓｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）等のいずれであってよい。モバイル機器向けの液晶セルは、例えばＩＰＳモードのものが好ましく、中・大型用途の液晶セルは、例えばＶＡモードのものが好ましい。
【０２７７】
第１の偏光板３１は、液晶セル３２の視認側の面に配置されており、第１の偏光子３１ａと、第１の偏光子３１ａの液晶セル３２とは反対側の面に配置された第１の保護フィルム３１ｂと、第１の偏光子３１ａの液晶セル３２側の面に配置された第２の保護フィルム３１ｃとを含む。
【０２７８】
また、第２の偏光板３３は、液晶セル３２のバックライト３４側の面に配置されており、第２の偏光子３３ａと、第２の偏光子３３ａの液晶セル側の面に配置された保護フィルム３３ｂと、第２の偏光子３３ａの液晶セルとは反対側の面に配置された保護フィルム３３ｃを含む。第２の偏光子３３ａの吸収軸は、第１の偏光子３１ａの吸収軸と直交していることが好ましい。
【実施例】
【０２７９】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。また、以下の各構成成分の記載において、各図に記載されている数字を括弧内に示した。
【０２８０】
《ゲートカバーの作製》
〔ゲートカバー１の作製〕
下記の方法に従って、図４で示す構成のゲートカバー１を作製した。
【０２８１】
（赤外線反射層Ｒ１の作製）
（１）低屈折率層形成用塗布液１の調製
撹拌容器にカチオンポリマーとしてメチルジアリルアミン塩酸塩重合体（３級アミン塩を含む。）（ＰＡＳ−Ｍ−１、重量平均分子量２００００、５０質量％水溶液、ニットーボーメディカル株式会社製）４．０ｇ、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド重合体（４級アンモニウム基を含む。）（ＰＡＳ−Ｈ−５Ｌ、重量平均分子量３００００、２８質量％水溶液、ニットーボーメディカル株式会社製）５．０ｇ、ゆすぎ水３１ｇ、及びホウ酸（３質量％水溶液）３１．９ｇを混合した。ここに、１０質量％の酸性コロイダルシリカの水溶液（ＳＴ−ＯＸＳ、濃度１０％、平均一次粒径：４〜６ｎｍ、日産化学工業株式会社製）を４８９．９ｇ加えた。これを撹拌しながら４０℃まで加温した。ここに、親水性ポリマー（バインダー）としてポリビニルアルコールの８質量％水溶液（ＪＰ−４５、重合度４５００、ケン化度８８ｍｏｌ％、日本酢ビ・ポバール株式会社製）を反射層内のバインダー比率として７０質量％になるように添加し、さらにエマルジョン樹脂（スーパーフレックス６５０、第一工業製薬株式会社）３０．５ｇ、及び５質量％の界面活性剤の溶液（ソフタゾリンＬＭＥＢ−Ｒ、川研ファインケミカル株式会社）６．３ｇ、及び純水１５ｇの混合液を加え、４０℃で撹拌、混合し、低屈折率層形成用塗布液１を得た。
【０２８２】
低屈折率層形成用塗布液１を用いて作製した単層の光波長５８９．３ｎｍにおける屈折率を常法に従って測定した結果、１．５０であった。
【０２８３】
（２）高屈折率層形成用塗布液１の調製
３０質量％の酸化ジルコニウム粒子の分散液（ＳＺＲ−Ｗ、ジルコニアゾル、粒度分布：Ｄ５０  ３〜５ｎｍ、堺化学工業株式会社製）３８４．８ｇに対してクエン酸水溶液（１．９質量％）を１７５．４ｇ加えた。これに界面活性剤（ソフタゾリンＬＭＥＢ−Ｒ、川研ファインケミカル株式会社製）の５質量％水溶液を１．９４ｇ添加し、これを４０℃まで加温した。次いで、エチレン変性ポリビニルアルコールの８質量％水溶液（株式会社クラレ製、エクセバールＲＳ２１１７、ケン化度：９７．５〜９９ｍｏｌ％）を１２０．４ｇ加え、更に純水９．９ｇを加えた。これを１０分撹拌後、親水性ポリマーとしてポリビニルアルコールの６質量％水溶液（ＪＣ−４０、ケン化度：９９ｍｏｌ％以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製）を反射層内のバインダー比率として７０質量％になるように添加し、さらに純水６６．７ｇを加えた。この後、４０℃で１８０分間撹拌し、高屈折率層形成用塗布液１を得た。
【０２８４】
高屈折率層形成用塗布液１を用いて作製した単層の屈折率は、１．７３であった。
【０２８５】
（３）赤外線反射層の形成
２２層同時塗布が可能なスライドホッパー方式の塗布装置を用い、上記調製した低屈折率層形成用塗布液１及び高屈折率層形成用塗布液１を４５℃に保温しながら、偏光板用フィルムＢ（１６）として、１モル／ＬのＮａＯＨ水溶液に１分間浸漬してケン化処理を施したトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ社製ＴＡＣフィルム、ＫＣ６ＵＡ）上に、２１層同時重層塗布（低屈折率層及び高屈折率層を交互に合計２１層積層）を行った。この際、最下層（樹脂基材側）及び最上層は低屈折率層（乾燥後の厚さ：１０８ｎｍ）とし、それ以外は低屈折率層（乾燥後の厚さ：１１７ｎｍ）及び高屈折率層（乾燥後の厚さ：１０１ｎｍ）がそれぞれ交互に積層されるようにして、偏光板用フィルムＢ（１６）上に、２１層から構成される赤外線反射層１（１３）を形成した赤外線反射層Ｒ１を作製した。
【０２８６】
上記作製した赤外線反射層Ｒ１の７５０〜１５００ｎｍにおける平均反射率（％）を下記の方法測定した結果、２３％であった。
【０２８７】
〈７５０〜１５００ｎｍにおける平均反射率（％）の測定〉
分光光度計として、日立ハイテクノロジーズ社製  Ｕ−４１００を用いて測定した。赤外線反射層について、反射率（ＤＳ）を、ＪＩＳ  Ｋ  ５６０２：２００８（塗膜の日射反射率の求め方）に準拠して、波長８００ｎｍ〜１５００ｎｍの範囲を２ｎｍおきに測定して、その平均反射率を求めた。
【０２８８】
（偏光板ユニット（Ｕ１）の作製）
以下の工程により偏光子及び偏光板ユニット（Ｕ１）を作製した
工程１：ポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗・乾燥して、最終的に５μｍ厚の偏光子（１４）を得た。
【０２８９】
工程２：偏光板用フィルムＡ（１７）として、あらかじめ表面にコロナ放電処理を施したトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタ社製ＴＡＣフィルム、ＫＣ６ＵＡ）の表面上に、上記工程１で得た偏光子（１４）を載せた。なお、コロナ放電処理の条件は、コロナ出力強度２．０ｋＷ、ライン速度１８ｍ／分とした。
【０２９０】
工程３：前記偏光板用フィルムＡ（１７）上に載せられた偏光子（１４）の反対側の面上に固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤（完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液）を厚さ２μｍで塗布した。
【０２９１】
工程４：工程３で得たポリビニルアルコール接着剤が塗布された偏光子の面上に、上記作製した赤外線反射層Ｒ１の、赤外線反射層（１３）面と偏光子（１４）の接着層面とを貼合して、偏光板ユニット（Ｕ１）である図３及び図４に記載の構成からなる偏光板（２１）を作製した。
【０２９２】
（赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）の作製）
アクリル系粘着剤としてＳＫダイン２０９４（綜研化学社製）に対し、ＩＴＯ分散液（三菱マテリアル電子化成社製  Ｔ−１  分散媒：メチルイソブチルケトン）を、ＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対し、ＩＴＯ分散液の固形分量が７５質量％になるように添加して、赤外線吸収層形成用塗布液１を調製した。
【０２９３】
次いで、樹脂基材（１１）として、ポリカーボネートフィルムＦ１（帝人社製、ＰＵＲＥ−ＡＣＥ  Ｃ１１０、厚さ１００μｍ）を用い、湿式塗布法により乾燥膜厚１０μｍになるように上記調製した赤外線吸収層形成用塗布液１を塗布した後、８０℃で１分間乾燥して、樹脂基材（１１）上に、赤外線吸収層（１２）を有する赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）を作製した。
【０２９４】
（偏光板ユニット（Ｕ１）と赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）の貼合）
次いで、上記作製した偏光板ユニット（Ｕ１、偏光板（２１））を構成する偏光板用フィルムＢ（１６）面と、上記作製した赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）の赤外線吸収層（１２）面とを対向させ、貼合ローラーで加圧して貼合した。
【０２９５】
（保護フィルムユニット（Ｕ３）の作製）
アクリル系粘着剤としてＳＫダイン２０９４（綜研化学社製）を単独で用い、粘着層形成用塗布液１を調製した。
【０２９６】
次いで、保護フィルム（１９）として、ポリカーボネートフィルムＦ１（帝人社製、ＰＵＲＥ−ＡＣＥ  Ｃ１１０、厚さ１００μｍ）を用い、湿式塗布法により乾燥膜厚１０μｍになるように上記調製した粘着層形成用塗布液１を塗布した後、８０℃で１分間乾燥して、保護フィルム（１９）上に、粘着層（１８）を有する保護フィルムユニット（Ｕ３）を作製した。
【０２９７】
（偏光板ユニット（Ｕ１）／赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）と、保護フィルムユニット（Ｕ３）との貼合）
次いで、上記作製した偏光板ユニット（Ｕ１）と赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）とを貼合した積層体の偏光板用フィルムＡ（１７）面と、上記作製した保護フィルムユニット（Ｕ３）の粘着層（１８）面とを対向させ、貼合ローラーで加圧して貼合した。
【０２９８】
（ハードコート層（２０）の形成）
最後に、上記作製した積層体の保護フィルム（１９）上に、オプスターＫＺ６４４５Ａ（荒川化学社製、シリカハイブリッド紫外線硬化性材料）を乾燥膜厚が３μｍになるように塗布し、ＵＶ硬化装置（ＦＵＳＩＯＮ社製）にて、出力７０％、搬送速度２０ｍの条件で硬化し、ＨＣ層を形成し、図４に記載の構成からなるゲートカバー１を作製した。
【０２９９】
〔ゲートカバー２の作製〕
上記ゲートカバー１の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤であるＩＴＯ分散液（三菱マテリアル電子化成社製  Ｔ−１）のＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対する添加量を、ＩＴＯ分散液の固形分量として６０質量％に変更して調製した赤外線吸収層形成用塗布液２を用いた以外は同様にして、ゲートカバー２を作製した。
【０３００】
〔ゲートカバー３の作製〕
上記ゲートカバー１の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤であるＩＴＯ分散液（三菱マテリアル電子化成社製  Ｔ−１）のＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対する添加量を、ＩＴＯ分散液の固形分量として４０質量％に変更して調製した赤外線吸収層形成用塗布液３を用いた以外は同様にして、ゲートカバー３を作製した。
【０３０１】
〔ゲートカバー４の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤として、ＩＴＯに代えて、同量のＣＷＯ分散液（住友金属鉱山社製  ＹＭＦ−０２Ａ）を用いて調製した赤外線吸収層形成用塗布液４を用いた以外は同様にして、ゲートカバー４を作製した。
【０３０２】
〔ゲートカバー５の作製〕
上記ゲートカバー４の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤であるＣＷＯ分散液（住友金属鉱山社製  ＹＭＦ−０２Ａ）のＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対する添加量を、ＣＷＯ分散液の固形分量として５０質量％に変更して調製した赤外線吸収層形成用塗布液５を用いた以外は同様にして、ゲートカバー６を作製した。
【０３０３】
〔ゲートカバー６の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤として、ＩＴＯに代えて、同量のＡＴＯ分散液（Ｋｅｅｌｉｎｇ＆Ｗａｌｋｅｒ社製  ＣＰ５Ｃ）を用いて調製した赤外線吸収層形成用塗布液６を用いた以外は同様にして、ゲートカバー６を作製した。
【０３０４】
〔ゲートカバー７の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤として、ＩＴＯに代えて、同量のＡＺＯ分散液（三井金属社製）を用いて調製した赤外線吸収層形成用塗布液７を用いた以外は同様にして、ゲートカバー７を作製した。
【０３０５】
〔ゲートカバー８の作製〕
上記ゲートカバー１の作製において、赤外線吸収層ユニット（Ｕ２）を形成する赤外線吸収層形成用塗布液として、赤外線吸収層形成用塗布液１に代えて、下記の方法で調製した赤外線吸収層形成用塗布液８を用いた以外は同様にして、ゲートカバー８を作製した。
【０３０６】
（赤外線吸収層形成用塗布液８の調製）
アクリル系粘着剤としてＳＫダイン２０９４（綜研化学社製）に対し、７５０〜１２００ｎｍの近赤外波長域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物として、山本化成社製のＹＫＲ−２０９０（λｍａｘ：８３０ｎｍ  染料１と称す。）をメチルイソブチルケトンに溶解して染料液を調製し、ＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対し、染料１の固形分量が１６質量％になるように添加して、赤外線吸収層形成用塗布液８を調製した。
【０３０７】
〔ゲートカバー９の作製〕
上記ゲートカバー８の作製において、赤外線吸収層を構成する近赤外線吸収性有機化合物であるＹＫＲ−２０９０のＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対する添加量を、ＹＫＲ−２０９０の固形分量として２０質量％に変更して調製した赤外線吸収層形成用塗布液９を用いた以外は同様にして、ゲートカバー９を作製した。
【０３０８】
〔ゲートカバー１０の作製〕
上記ゲートカバー８の作製において、赤外線吸収層を構成する近赤外線吸収性有機化合物であるＹＫＲ−２０９０のＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対する添加量を、ＹＫＲ−２０９０の固形分量として２８質量％に変更して調製した赤外線吸収層形成用塗布液１０を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１０を作製した。
【０３０９】
〔ゲートカバー１１の作製〕
上記ゲートカバー９の作製において、赤外線吸収層を構成する近赤外線吸収性有機化合物として、ＹＫＲ−２０９０に代えて、同量の下記赤外線吸収染料２（スペクトラムインフォ社製近赤外線染料  λｍａｘ：９９５ｎｍ  染料２と称す。）を用いて調製した赤外線吸収層形成用塗布液１１を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１１を作製した。
【０３１０】
【化３】
2020095191.tif 000005
〔ゲートカバー１２の作製〕
上記ゲートカバー１１の作製において、赤外線吸収層を構成する近赤外線吸収性有機化合物である赤外線吸収染料２のＳＫダイン２０９４の全樹脂量に対する添加量を、赤外線吸収染料の固形分量として１０質量％に変更して調製した赤外線吸収層形成用塗布液１２を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１２を作製した。
【０３１１】
〔ゲートカバー１３の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、赤外線吸収層を構成する近赤外線吸収性有機化合物として、染料１に代えて、同量の山本化成社製のＹＫＲ−２９００（λｍａｘ：８９７ｎｍ  染料３と称す。）を用いて調製した赤外線吸収層形成用塗布液１３を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１３を作製した。
【０３１２】
〔ゲートカバー１４の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、赤外線吸収層を構成する近赤外線吸収性有機化合物として、染料１に代えて、同量の山本化成社製のＹＫＲ−２２００（λｍａｘ：１００７ｎｍ  染料４と称す。）を用いて調製した赤外線吸収層形成用塗布液１４を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１４を作製した。
【０３１３】
〔ゲートカバー１５の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、赤外線反射層ユニット１の作製に用いた赤外線反射層Ｒ１に代えて、下記の方法で形成した赤外線反射層Ｒ２を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１５を作製した。
【０３１４】
（赤外線反射層Ｒ２の形成）
前記赤外線反射層ユニット１の作製において、ゲートカバー２の作製に用いたのと同様の低屈折率層形成用塗布液１及び高屈折率層形成用塗布液１を用い、下記に示す乾燥後の厚さとなるように塗布条件を変更し、２１層同時重層塗布を行い、赤外線反射層Ｒ２を形成した。
【０３１５】
この際、最下層（樹脂基材側）及び最上層は低屈折率層の乾燥後の厚さは８５ｎｍ、それ以外の低屈折率層の乾燥後の厚さは９２ｎｍ及び高屈折率層の乾燥後の厚さは７９ｎｍとし、それぞれ交互に積層されるようにして、偏光板用フィルムＢ（１６）上に、２１層から構成される赤外線反射層Ｒ２を形成した。
【０３１６】
〔ゲートカバー１６の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、赤外線反射層ユニット１の作製に用いた赤外線反射層Ｒ１に代えて、上記赤外線反射層Ｒ２を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１６を作製した。
【０３１７】
〔ゲートカバー１７の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、赤外線反射層ユニット１の作製に用いた赤外線反射層Ｒ１に代えて、下記の方法で形成した赤外線反射層Ｒ３を用いた以外は同様にして、ゲートカバー１７を作製した。
【０３１８】
（赤外線反射層Ｒ３の形成）
偏光板用フィルムＢ（１６）であるＴＡＣフィルム上に、特開２０１７−１２２０２５号公報の実施例に記載の遮熱フィルムＪＱ２の形成方法に従って、スパッタリング法を用いて、下層部からＩＴＯ（膜厚：３７ｎｍ）／Ａｇ(膜厚：４ｎｍ)／ＩＴＯ（膜厚：６０ｎｍ）／Ａｇ(膜厚：４ｎｍ)／ＩＴＯ（膜厚：６８ｎｍ）／Ａｇ(膜厚：４ｎｍ)／ＩＴＯ（膜厚：３４ｎｍ）の構成からなる金属膜を順次積層して、赤外線反射層Ｒ３を形成した。
【０３１９】
〔ゲートカバー１８の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、赤外線反射層ユニット１の作製に用いた赤外線反射層Ｒ１を、上記赤外線反射層Ｒ３に変更した以外は同様にして、ゲートカバー１８を作製した。
【０３２０】
〔ゲートカバー１９の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、ゲートカバーの層構成を、図４に示す構成から、図５に示す赤外線吸収層（１２）と赤外線反射層（１３）が隣接する構成に変更した以外は同様にして、ゲートカバー１９を作製した。
【０３２１】
〔ゲートカバー２０の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、ゲートカバーの層構成を、図４に示す構成から、図５に示す赤外線吸収層（１２）と赤外線反射層（１３）が隣接する構成に変更した以外は同様にして、ゲートカバー２０を作製した。
【０３２２】
〔ゲートカバー２１の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、樹脂基材（１１）を、ポリカーボネートフィルムＦ１（面内リターデーション値Ｒｏ：３２ｎｍ）から、ポリカーボネートフィルムＦ２（帝人社製、ＰＵＲＥ−ＡＣＥ  ＲＭ、厚さ７０μｍ、面内リターデーション値Ｒｏ：１２５ｎｍ）に変更した以外は同様にして、ゲートカバー２１を作製した。
【０３２３】
〔ゲートカバー２２の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、樹脂基材（１１）を、ポリカーボネートフィルムＦ１（面内リターデーション値Ｒｏ：３２ｎｍ）から、ポリカーボネートフィルムＦ２（帝人社製、ＰＵＲＥ−ＡＣＥ  ＲＭ、厚さ７０μｍ、面内リターデーション値Ｒｏ：１２５ｎｍ）に変更した以外は同様にして、ゲートカバー２２を作製した。
【０３２４】
〔ゲートカバー２３の作製〕
上記ゲートカバー１の作製において、赤外線吸収層を構成する金属酸化物系赤外線吸収剤を除き、アクリル系粘着剤であるＳＫダイン２０９４（綜研化学社製）のみで調製した赤外線吸収層形成用塗布液１５を用いた以外は同様にして、ゲートカバー２３を作製した。
【０３２５】
〔ゲートカバー２４の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、赤外線反射層Ｒ１を除いた以外は同様にして、ゲートカバー２４を作製した。
【０３２６】
〔ゲートカバー２５の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、赤外線反射層Ｒ１を除いた以外は同様にして、ゲートカバー２５を作製した。
【０３２７】
〔ゲートカバー２６の作製〕
上記ゲートカバー２の作製において、偏光板ユニットの構成から偏光子を除いた構成（図４改と称す。）に変更した以外は同様にして、ゲートカバー２４を作製した。
【０３２８】
〔ゲートカバー２７の作製〕
上記ゲートカバー１０の作製において、偏光板ユニットの構成から偏光子を除いた構成（図４改と称す。）以外は同様にして、ゲートカバー２７を作製した。
【０３２９】
〔ゲートカバー２８の作製〕
上記ゲートカバー１９の作製において、樹脂基材（１１）を、ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム社製  厚さ：１００μｍ、Ｒｏ値：３３００）に変更した以外は同様にして、ゲートカバー２８を作製した。
【０３３０】
〔ゲートカバー２９の作製〕
上記ゲートカバー２０の作製において、樹脂基材（１１）を、ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム社製  厚さ：１００μｍ、Ｒｏ値：３３００）に変更した以外は同様にして、ゲートカバー２９を作製した。
【０３３１】
〔ゲートカバー３０の作製〕
上記ゲートカバー２８の作製において、赤外線反射層Ｒ１に代えて、下記の構成からなるＰＥＴ／ＰＥＴ積層体に変更し、偏光板用フィルムＢ（１６）の偏光子を形成するのとは反対側の面に、上記と同様の粘着層を形成した後、偏光板用フィルムＢ（１６）とＰＥＴ／ＰＥＴ積層体とを貼合した以外は同様にして、ゲートカバー３０を作製した。
【０３３２】
（ＰＥＴ／ＰＥＴ積層体）
住友３Ｍ社製のＰＥＴ積層遮熱フィルムである「ＮＡＮＯ９０Ｓ」を用いた。ＮＡＮＯ９０Ｓは、ＰＥＴフィルムの積層体で、膜厚が５０μｍ、ＰＥＴ積層数が２００層である。
【０３３３】
〔ゲートカバー３１の作製〕
上記ゲートカバー２９の作製において、赤外線反射層Ｒ１に代えて、上記構成からなるＰＥＴ／ＰＥＴ積層体に変更し、偏光板用フィルムＢ（１６）の偏光子を形成するのとは反対側の面に、上記と同様の粘着層を形成した後、偏光板用フィルムＢ（１６）とＰＥＴ／ＰＥＴ積層体とを貼合した以外は同様にして、ゲートカバー３１を作製した。
【０３３４】
上記作製した各ゲートカバーの構成を、表Ｉに示す。
【０３３５】
【表１】
2020095191.tif 000006
《ゲートカバーの特性値の測定》
〔面内リターデーションＲｏ値の測定〕
各ゲートカバーの作製に用いた樹脂基材について、入射角度０°、測定波長５５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒｏを、自動複屈折率計 Ａｘｏｍｅｔｏｒｉｃｓ社製Ａｘｏｓｃａｎを用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で測定した。
【０３３６】
〔３８０〜７４０ｎｍにおける直線偏光光の平均透過率の測定〕
上記作製した各ヘッドカバーについて、偏光透過率分光光度計（Ｖ−５７０、日本分光社製）を用い、ガラス偏光板（Ｅｄｍｏｎｄ社製、厚さ５０ｍｍ）を光路に設置し、３８０〜７４０ｎｍの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率を測定した。
【０３３７】
〔１２００〜１５００ｎｍにおける平均反射率の測定〕
分光光度計として、日立ハイテクノロジーズ社製  Ｕ−４１００を用いて測定した。赤外線反射層ユニットについて、日射反射率（ＤＳ）を、ＪＩＳ  Ｋ  ５６０２：２００８（塗膜の日射反射率の求め方）に準拠して、波長１２００ｎｍ〜１５００ｎｍの範囲を２ｎｍおきに測定して、その平均反射率を求めた。
【０３３８】
《ヘッドアップディスプレイの評価》
〔遮熱性の評価〕
（評価用のＨＵＤの作製）
トヨタ自動車製のレクサスＬＳに搭載されているヘッドアップディスプレイ（２４インチ）に対し、具備している既存のゲートカバーを外し、上記作製した各ゲートカバー（図１の３の位置）を張り付け、上記作製した各ゲートカバーを具備した評価用のＨＵＤ１〜３１を作製した。
【０３３９】
（評価１：太陽光線照射時の液晶表示装置表面温度の測定）
模擬太陽光としてパナソニック社製の「ＲＦ１００Ｖ２００Ｗ−Ｗ／Ｄ」レフ電球を用い、評価用のＨＵＤのゲートカバー面から１０ｃｍの上部に配置した。
【０３４０】
次いで、２５℃、６０％ＲＨの環境下で、１００時間照射した後の液晶表示装置の表面温度を、表面温度計（株式会社キーエンス製、超小型・小スポット赤外放射温度計ＩＴ２−５０）を用いて測定した。
【０３４１】
（評価２：太陽光線照射後のゲートカバーの外観観察）
フロントガラスの上面側より、模擬太陽光としてパナソニック社製の「ＲＦ１００Ｖ２００Ｗ−Ｗ／Ｄ」レフ電球を用い、評価用のＨＵＤのゲートカバー面から１０ｃｍの上部に配置した。
【０３４２】
次いで、２５℃、６０％ＲＨの環境下で、２００時間照射した後のゲートカバーの外観形状を目視観察し、下記の基準に従って耐久性の評価を行った。
【０３４３】
◎：ゲートカバーに、変形や膨れの発生が全く認められない
○：ゲートカバーに、ほぼ変形や膨れの発生が認められない
△：ゲートカバーの一部で弱い変形が認められるが、実用上許容される品質である
×：ゲートカバーに明らかな変形や膨れが認められ、実用上問題となる品質である
〔投影画像の品質評価〕
各ＨＵＤの投影画面上に、速度情報及び文字情報を投影し、投影された画像の虹ムラの発生の有無及び画像鮮鋭度を目視観察し、下記の基準に従って、投影画像の評価を行った。
【０３４４】
○：投影画像に、虹ムラの発生がなく、高鮮鋭な表示画像である
△：投影画像に、弱い虹ムラの発生が認められるが、表示画像の鮮鋭性は良好である
×：投影画像に、明らかな虹ムラが発生し、表示画像の鮮鋭性もやや低い
××：投影画像に、強い虹ムラが発生し、表示画像の鮮鋭性も低い
以上により得られた結果を、表IIに示す。
【０３４５】
【表２】
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表IIに記載の結果より明らかなように、本発明で規定する構成からなるゲートカバーは、可視光波長領域での透過率、赤外線領域での反射率に優れた特性を備え、ＨＵＤに組み入れた際に、太陽光の照射を受けた際の液晶表示装置（ＬＣＤ）の高温化を防止し、ゲートカバーへの熱エネルギーによるダメージを防止し、表示画像の虹ムラ耐性、視認性、画像鮮鋭度に優れた効果を発揮していることが分かる。
【符号の説明】
【０３４６】
１  ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）
２  フロントガラス
３  ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー（ゲートカバー）
４  拡大鏡
５  コールドミラー
６  ホットミラー
７  液晶表示装置（ＬＣＤ）
１１  樹脂基材
１２  赤外線吸収層
１３  赤外線反射層
１４  偏光層（偏光子）
１６  偏光板用フィルムＢ
１７  偏光板用フィルムＡ
１８  粘着層
１９  保護フィルム
２０  ハードコート層
２１  偏光板
３０  液晶表示装置
３１  第１の偏光板
３１ａ  第１の偏光子
３２  液晶セル
３３  第２の偏光板
３３ａ  第２の偏光子
Ｌ  太陽光
Ｕ１  偏光板ユニット
Ｕ２  赤外線吸収層ユニット
Ｕ３  保護フィルムユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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