(57)【要約】      （修正有）【課題】外光の反射を抑制しつつ、ディスプレイ等の発光素子の明るさの低下を抑制することができる、ディスプレイ用反射防止フィルム、及びそのようなディスプレイ用反射防止フィルムを含む、反射防止フィルム付きディスプレイを提供する。【解決手段】第１主面１１Ａ及び第２主面１１Ｂを有する基材１１と、第１主面１１Ａに設けられた反射層１２と、反射層１２を覆う黒色層１３と、を含み、反射層１２は第２主面１１Ｂ側から入射した光を反射する層である、ディスプレイ用反射防止フィルム１０。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１主面及び第２主面を有する基材と、前記第１主面に設けられた反射層と、前記反射層を覆う黒色層と、を含み、
前記反射層は前記第２主面側から入射した光を反射する層である、ディスプレイ用反射防止フィルム。
【請求項２】
前記黒色層の総面積に対する、前記黒色層の前記反射層を覆う部分の面積の割合が８０％以上である、請求項１に記載のディスプレイ用反射防止フィルム。
【請求項３】
前記反射層の全光線反射率が、８０％以上である、請求項１又は２に記載のディスプレイ用反射防止フィルム。
【請求項４】
前記反射層の形状が、規則的な形状である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用反射防止フィルム。
【請求項５】
前記第１主面の面積に対する、前記黒色層の総面積の割合が、５０％以上である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のディスプレイ用反射防止フィルム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のディスプレイ用反射防止フィルムの製造方法であって、
前記基材の前記第１主面に前記反射層を形成する工程１と、
前記反射層上に黒色レジストを形成する工程２と、
前記黒色レジストを露光及び現像してパターンを得る工程３と、
前記パターンをマスクとして前記反射層をエッチングする工程４と、を含む、ディスプレイ用反射防止フィルムの製造方法。
【請求項７】
表示面を含むディスプレイと、
前記表示面上に設けられた請求項１〜５のいずれか１項に記載のディスプレイ用反射防止フィルムと、を含み、
前記ディスプレイ用反射防止フィルムの前記第１主面側が視認側に配置されている、反射防止フィルム付きディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ用反射防止フィルム及び反射防止フィルム付きディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子を含む液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を含む有機ＥＬディスプレイなどのディスプレイは、外光の一部を表示面で反射する場合がある。また、外部から表示面に入射した外光の一部が、発光素子等の、装置内の構成要素において反射され、表示面から出光しうる。このような外光の反射はディスプレイの画質低下の一因となるため、ディスプレイに反射抑制のためのフィルムを設けることがある。
【０００３】
例えば特許文献１においては、有機ＥＬディスプレイのパネル前面の一部に、黒色物質が塗布されたフィルターを設ける技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２０９６５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の技術では、外光の反射を抑制するために設けたフィルターにより、発光素子から出射した光が遮られて、ディスプレイの明るさが低下することがある。
本発明は、前記の課題に鑑みて創案されたもので、外光の反射を抑制しつつ、ディスプレイの明るさの低下を抑制することができる、ディスプレイ用反射防止フィルム、及びそのようなディスプレイ用反射防止フィルムを含む、反射防止フィルム付きディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題を解決するべく、鋭意検討した結果、基材の第２主面側（視認側とは反対側）から入射した光を反射する反射層と、当該反射層を覆う黒色層と、を含むディスプレイ用反射防止フィルムにより前記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下を提供する。
【０００７】
［１］  第１主面及び第２主面を有する基材と、前記第１主面に設けられた反射層と、前記反射層を覆う黒色層と、を含み、
前記反射層は前記第２主面側から入射した光を反射する層である、ディスプレイ用反射防止フィルム。
［２］  前記黒色層の総面積に対する、前記黒色層の前記反射層を覆う部分の面積の割合が８０％以上である、［１］に記載のディスプレイ用反射防止フィルム。
［３］  前記反射層の全光線反射率が、８０％以上である、［１］又は［２］に記載のディスプレイ用反射防止フィルム。
［４］  前記反射層の形状が、規則的な形状である、［１］〜［３］のいずれか１項に記載のディスプレイ用反射防止フィルム。
［５］  前記第１主面の面積に対する、前記黒色層の総面積の割合が、５０％以上である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載のディスプレイ用反射防止フィルム。
［６］  ［１］〜［５］のいずれか一項に記載のディスプレイ用反射防止フィルムの製造方法であって、
前記基材の前記第１主面に前記反射層を形成する工程１と、
前記反射層上に黒色レジストを形成する工程２と、
前記黒色レジストを露光及び現像してパターンを得る工程３と、
前記パターンをマスクとして前記反射層をエッチングする工程４と、を含む、ディスプレイ用反射防止フィルムの製造方法。
［７］  表示面を含むディスプレイと、
前記表示面上に設けられた［１］〜［５］のいずれか１項に記載のディスプレイ用反射防止フィルムと、を含み、
前記ディスプレイ用反射防止フィルムの前記第１主面側が視認側に配置されている、反射防止フィルム付きディスプレイ。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、外光の反射を抑制しつつ、ディスプレイの明るさの低下を抑制することができる、ディスプレイ用反射防止フィルム、及びそのようなディスプレイ用反射防止フィルムを含む、反射防止フィルム付きディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、本発明の実施形態１に係るディスプレイ用反射防止フィルムを備える反射防止フィルム付きディスプレイを模式的に表した平面図である。
【図２】図２は、図１におけるＸ−Ｘ線における切断面を模式的に表した断面図である。
【図３】図３は、基材に反射層を形成した状態を模式的に表した断面図である。
【図４】図４は、反射層の上に黒色レジストを形成した状態を模式的に表した断面図である。
【図５】図５は、ディスプレイ用反射防止フィルムの製造方法において用いるマスクを模式的に表した平面図である。
【図６】図６は、ディスプレイ用反射防止フィルムに入射した光の経路を模式的に表す分解断面図である。
【図７】図７は、本発明の実施形態２に係るディスプレイ用反射フィルムを備えた反射防止フィルム付きディスプレイを模式的に表した平面図である。
【図８】図８は、図７におけるＹ１−Ｙ１線における切断面を模式的に表した断面図である。
【図９】図９は、図７におけるＹ２−Ｙ２線における切断面を模式的に表した断面図である。
【図１０】図１０は、基材に反射層を形成した状態を模式的に表した平面図である。
【図１１】図１１は、図１０におけるＹ３−Ｙ３線における切断面を模式的に表した断面図である。
【図１２】図１２は、反射層の上に黒色層を形成した状態を模式的に表した断面図である。
【図１３】図１３は、ディスプレイ用反射防止フィルムに入射した光の経路を模式的に表す分解断面図である。
【図１４】図１４は、他の実施形態で説明する反射層を形成した基材を模式的に表す平面図である。
【図１５】図１５は、他の実施形態で説明する反射層を形成した基材を模式的に表す平面図である。
【図１６】図１６は他の実施形態で説明する反射層を形成した基材を模式的に表す平面図である。
【図１７】図１７は他の実施形態で説明する反射層を形成した基材を模式的に表す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、実施形態及び例示物を示して本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものでは無く、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
【００１１】
以下の説明において、「ディスプレイ用反射防止フィルム」を、単に「反射防止フィルム」という場合がある。
【００１２】
以下の説明において、反射防止には、反射が全く生じないようにする場合の他、ディスプレイに反射防止フィルムを備え付けることにより、備え付けていないディスプレイと比較して、反射を抑制する場合も含まれる。
【００１３】
［実施形態１］
以下、本発明の実施形態１に係るディスプレイ用反射防止フィルムと、当該反射防止フィルムを備える反射防止フィルム付きディスプレイについて図１〜図６を参照しつつ、説明する。
【００１４】
図１は、本発明の実施形態１に係るディスプレイ用反射防止フィルムを備える反射防止フィルム付きディスプレイを、模式的に表した平面図であり、第１主面側から表した図である。図２は、図１におけるＸ−Ｘ線における切断面を模式的に表した断面図である。図３は、基材に反射層を形成した状態を模式的に表した断面図である。図４は、反射層の上に黒色レジストを形成した状態を模式的に表した断面図である。図５は、ディスプレイ用反射防止フィルムの製造方法において用いるマスクを模式的に表した平面図である。図６は、ディスプレイ用反射防止フィルムに入射した光の経路を模式的に表す分解断面図である。
【００１５】
本実施形態の反射防止フィルム付きディスプレイ１００は、図２に示すように、ディスプレイ１０１と、ディスプレイ１０１の上面（視認側の面）に設けられた反射防止フィルム１０とを備える。本実施形態において、反射防止フィルム付きディスプレイ１００は、図１に示すように、上面視形状（第１主面１１Ａ上から見た形状）が方形状の黒色層１３が、縦方向及び横方向に間隔を空けて並んだ態様の反射防止フィルム１０を備える。
【００１６】
［１．ディスプレイ用反射防止フィルム］
本実施形態の反射防止フィルム１０は、図２に示すように、第１主面１１Ａ及び第２主面１１Ｂを有する基材１１と、第１主面１１Ａに設けられた反射層１２と、反射層１２を覆う黒色層１３と、を含む。
【００１７】
（基材）
基材１１は、第１主面１１Ａと第２主面１１Ｂとを有するフィルム状の部材である。基材１１の第１主面１１Ａは視認側の面であり、第２主面１１Ｂはディスプレイ１０１側の面である。
【００１８】
基材１１を構成する材料としては、特に限定はないが、例えば、脂環式構造を含有し結晶性を有する重合体を含む樹脂が挙げられる。以下の説明において、結晶性を有する重合体を含む樹脂を「結晶性樹脂」ということがある。
【００１９】
脂環式構造を含有する重合体とは、分子内に脂環式構造を有する重合体であって、環状オレフィンを単量体として用いた重合反応によって得られうる重合体又はその水素化物をいう。また、脂環式構造を含有する重合体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００２０】
脂環式構造を含有する重合体において、全ての構造単位に対する脂環式構造を有する構造単位の割合は、好ましくは３０重量％以上、より好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは７０重量％以上である。脂環式構造を含有する重合体における脂環式構造を有する構造単位の割合を前記のように多くすることにより、耐熱性を高めることができる。全ての構造単位に対する脂環式構造を有する構造単位の割合は、１００重量％以下としうる。
また、脂環式構造を含有する重合体において、脂環式構造を有する構造単位以外の残部は、格別な限定はなく、使用目的に応じて適宜選択しうる。
【００２１】
結晶性樹脂に含まれる脂環式構造を含有する重合体は、結晶性を有する。ここで、「脂環式構造を含有し結晶性を有する重合体」とは、融点Ｔｍを有する〔すなわち、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で融点を観測することができる〕脂環式構造を含有する重合体をいう。脂環式構造を含有する重合体の融点Ｔｍは、好ましくは２００℃以上、より好ましくは２３０℃以上であり、好ましくは２９０℃以下である。このような融点Ｔｍを有する脂環式構造を含有する重合体を用いることによって、成形性と耐熱性とのバランスに更に優れた基材を得ることができる。
【００２２】
脂環式構造を含有する重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００以上、より好ましくは２，０００以上であり、好ましくは１，０００，０００以下、より好ましくは５００，０００以下である。このような重量平均分子量を有する脂環式構造を含有する重合体は、成形加工性と耐熱性とのバランスに優れる。
【００２３】
脂環式構造を含有する重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１．０以上、より好ましくは１．５以上であり、好ましくは４．０以下、より好ましくは３．５以下である。ここで、Ｍｎは数平均分子量を表す。このような分子量分布を有する脂環式構造を含有する重合体は、成形加工性に優れる。
脂環式構造を含有する重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、テトラヒドロフランを展開溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、ポリスチレン換算値として測定しうる。
【００２４】
脂環式構造を含有する重合体のガラス転移温度Ｔｇは、特に限定されないが、通常は８５℃以上、通常１７０℃以下である。
【００２５】
前記の脂環式構造を含有する重合体としては、例えば、下記の重合体（α）〜重合体（δ）が挙げられる。これらの中でも、耐熱性に優れる樹脂フィルムが得られ易いことから、脂環式構造を含有し結晶性を有する重合体としては、重合体（β）が好ましい。
重合体（α）：環状オレフィン単量体の開環重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体（β）：重合体（α）の水素化物であって、結晶性を有するもの。
重合体（γ）：環状オレフィン単量体の付加重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体（δ）：重合体（γ）の水素化物等であって、結晶性を有するもの。
【００２６】
具体的には、脂環式構造を含有する重合体としては、ジシクロペンタジエンの開環重合体であって結晶性を有するもの、及び、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物であって結晶性を有するものがより好ましい。脂環式構造を含有する重合体としては、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物であって結晶性を有するものが特に好ましい。ここで、ジシクロペンタジエンの開環重合体とは、全構造単位に対するジシクロペンタジエン由来の構造単位の割合が、通常５０重量％以上、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは９０重量％以上、さらに好ましくは１００重量％の重合体をいう。
【００２７】
上記重合体（α）〜重合体（δ）としては、ＷＯ２０１８／０６２０６７号公報に開示されている製造方法により得られる重合体を用いうる。
【００２８】
結晶性樹脂において、脂環式構造を含有し結晶性を有する重合体の割合は、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造を含有し結晶性を有する重合体の割合を前記範囲の下限値以上にすることにより、基材の耐熱性を高めることができる。脂環式構造を含有し結晶性を有する重合体の割合の上限は、１００重量％以下としうる。
【００２９】
結晶性樹脂は、脂環式構造を含有し結晶性を有する重合体に加えて、任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤；ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤；石油系ワックス、フィッシャートロプシュワックス、ポリアルキレンワックス等のワックス；ソルビトール系化合物、有機リン酸の金属塩、有機カルボン酸の金属塩、カオリン及びタルク等の核剤；ジアミノスチルベン誘導体、クマリン誘導体、アゾール系誘導体（例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、及びベンゾチアソール誘導体）、カルバゾール誘導体、ピリジン誘導体、ナフタル酸誘導体、及びイミダゾロン誘導体等の蛍光増白剤；ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤；タルク、シリカ、炭酸カルシウム、ガラス繊維等の無機充填材；着色剤；難燃剤；難燃助剤；帯電防止剤；可塑剤；近赤外線吸収剤；滑剤；フィラー、及び、軟質重合体等の、脂環式構造を含有し結晶性を有する重合体以外の任意の重合体；などが挙げられる。また、任意の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００３０】
結晶性樹脂に含まれる重合体の結晶化度は、好ましくは２０％以上、より好ましくは３５％以上である。結晶化度の上限は、特に限定されず、従って１００％以下としうるが、好ましくは８５％以下である。結晶性樹脂に含まれる重合体の結晶化度は、Ｘ線回折法によって測定しうる。
【００３１】
基材１１としては、透明性に優れたものを用い得る。基材１１の全光線透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である。基材１１の全光線透過率を下限値以上とすることにより、ディスプレイ１０１の明るさの低下を抑制することができる。全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で測定しうる。
【００３２】
基材１１の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択しうるが、好ましくは３μｍ以上、より好ましくは５μｍ以上、特に好ましくは１０μｍ以上であり、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下である。基材１１の厚みを前記範囲の下限値以上にすることにより、適度の強度を得ることができる。また、上限値以下にすることにより、基材を長尺状のフィルムとした場合に、巻取りを可能にしうる。
【００３３】
（反射層）
反射層１２は、基材１１の第１主面１１Ａに設けられた層である。本実施形態では、反射層１２は、基材１１の第１主面１１Ａ上に直接設けられている。反射層１２は、基材１１の第２主面１１Ｂ側から入射した光を反射する層である。
【００３４】
反射層１２の材料としては、光を反射する材料が挙げられ、具体的には、アルミニウム等の金属および誘電性材料等が挙げられる。反射層は単層構造であってもよいし、例えば誘電多層膜等のような多層構造であってもよい。
【００３５】
本発明において反射層１２の形状は特に限定はないが、第２主面１１Ｂから入射した光の反射を均等にして、ディスプレイの明るさを均一にするという観点から、規則的な形状が好ましい。規則的な形状としては、例えば、同じ形状が規則的に繰り返される形状等が挙げられる。その具体例としては、例えば、同じ形状が並ぶ形状、ストライプ状、格子状、ドットアレイ状等の形状が挙げられる。
本実施形態において、第１主面側から見た反射層１２の形状は、黒色層１３と同じ形状(方形状)である。本実施形態は、基材１１の上に、複数の反射層１２が一定の間隔をあけて縦方向及び横方向に並ぶ態様である。
【００３６】
反射層１２の、第２の主面側から測定した全光線反射率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。反射層１２の全光線反射率は、通常１００％以下であり、高いほど好ましい。反射層１２の全光線反射率は、分光光度計を用いて測定しうる。
【００３７】
反射層１２の厚みは、好ましくは３０ｎｍ以上、より好ましくは５０ｎｍ以上であり、好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。
【００３８】
（黒色層）
黒色層１３は、反射層１２を覆うように設けられている。黒色層１３は、外光の反射を抑制する機能を有する。黒色層１３は、黒色の材料で構成されている。黒色層としては具体的には低反射クロム層及び黒色レジストからなる層が挙げられる。黒色の材料としては、例えば低反射性クロム、黒色レジスト等が挙げられる。
【００３９】
本実施形態において、第１主面側から見た黒色層１３の形状は方形状である。本実施形態は、図１に示すように複数の黒色層１３が、一定の間隔をあけて縦方向及び横方向に並ぶ態様である。本実施形態において、黒色層１３と反射層１２とは、同形同大の形状であり、基材１１の第１主面１１Ａ上の全域において重なり合っており、黒色層１３は、反射層１２からはみ出した部分を含まない。したがって、本実施形態では、黒色層１３の総面積に対する黒色層の反射層を覆う部分１３Ｂ（被覆部１３Ｂ）の面積の割合は、１００％であり、黒色層１３の総面積に対する、第２主面側から視認可能な黒色層の面積の割合は０％である。本実施形態では、基材上において、黒色層が反射層からはみ出した部分を含まないので、第１主面から出射する光の強度の低下が抑制され、ディスプレイの明るさの低下を抑制する効果が高い。本実施形態では、黒色層１３の総面積に対する黒色層の反射層を覆う部分１３Ｂ（被覆部１３Ｂ）の面積の割合が１００％の例を示しているが、本発明は当該割合が１００％未満のものも含みうる。
【００４０】
本発明において、基材の第１主面の面積に対する、黒色層の総面積の割合は、５０％以上が好ましく、６０％以上がより好ましく、９０％以下が好ましく、８０％以下がより好ましい。第１主面の面積に対する黒色層の総面積の割合を、前記下限値以上とすることにより、充分な反射防止効果を得ることができ、前記上限値以下とすることにより、ディスプレイの明るさの低下を抑制する効果を高めることができる。本発明において、「黒色層の総面積」とは、基材の第１主面と重なる位置に設けられた黒色層の総面積をいう。
【００４１】
本発明において、黒色層の総面積に対する黒色層の反射層を覆う部分の面積の割合は、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上であり、好ましくは１００％以下である。前記割合を下限値以上とすることにより、ディスプレイの明るさの低下を抑制する効果を高めることができる。本発明において、「黒色層の反射層を覆う部分」とは、基材の第１主面と重なる位置に設けられた黒色層のうち、基材の第１主面上に設けられた反射層を覆っている部分をいう。図２の１３Ｂは、黒色層の反射層を覆う部分（「被覆部」ともいう）である。
【００４２】
黒色層の全光線透過率は、好ましくは５％以下、より好ましくは１％以下である。全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で測定しうる。黒色層の全光線透過率を上限値以下とすることで、反射抑制効果を良好なものとすることができる。
【００４３】
黒色層１３の厚みは、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．５μｍ以上であり、好ましくは２μｍ以下、より好ましくは１．５μｍ以下である。黒色層の厚みを下限値以上とすることで、反射抑制効果を良好なものとすることができ、厚みを上限値以下とすることで、反射防止フィルムの厚みを小さくすることができる。
【００４４】
［２．ディスプレイ用反射防止フィルムの製造方法］
本実施形態の反射防止フィルムの製造方法は、基材の第１主面に反射層を形成する工程１と、反射層上に黒色レジストを形成する工程２と、黒色レジストを露光及び現像してパターンを得る工程３と、パターンをマスクとして反射層をエッチングする工程４と、を含む。以下、各工程について説明する。
【００４５】
（工程１）
工程１は基材１１の第１主面１１Ａに反射層１２を形成する工程である。
本実施形態では、工程１において、基材１１の第１主面１１Ａに、反射層１２を形成するための材料を、蒸着等の方法により付着させることにより、図３に示すように、基材１１の第１主面１１Ａに反射層１２が形成される。
【００４６】
反射層１２を形成するための材料としては、上述した反射層１２の材料を用いうる。
【００４７】
（工程２）
工程２は、反射層１２上に黒色レジスト１３Ｒを形成する工程である。本実施形態では、工程２において、第１主面に形成された反射層１２の上に、例えば、スピンコート等の塗布方法により黒色レジスト１３Ｒを塗布することにより、図４に示すように、基材１１の第１主面１１Ａ上に、反射層１２および黒色レジスト１３Ｒが、この順で積層された積層体が得られる。黒色レジスト１３Ｒは、黒色層１３となる部分である。
【００４８】
（工程３）
工程３は、黒色レジスト１３Ｒを露光及び現像してパターンを得る工程である。本実施形態では、工程３において、工程２で得られた積層体の黒色レジスト１３Ｒの上に、図５に示すマスクを配置し、黒色レジスト１３Ｒを露光及び現像することによりマスク形状を反映したパターンが形成される。露光方法としては、例えば、ｉ線等の紫外線を用いて露光する方法等が挙げられる。現像は、例えば水酸化カリウム等の現像液を用いて行いうる。
【００４９】
本実施形態で用いるマスクＭ１は、図５に示すように全体として格子状をなす。図５において、方形状のＭ１Ａは、開口部である。本実施形態では、開口部Ｍ１Ａに対応する黒色レジスト１３Ｒが露光及び現像されて黒色層となり、マスクされている部分（格子状の部分）が現像により溶解する部分である。
【００５０】
（工程４)
工程４は、パターンをマスクとして反射層をエッチングする工程である。本実施形態では、工程４において、工程３で得られた黒色レジストのパターンをマスクとして、当該パターンの間で露出している反射層１２をエッチングする。これにより、反射層１２が黒色レジストのパターンに沿った形状となり、基材１１の第１主面１１Ａの上に、反射層１２と、黒色層１３とがこの順で積層された反射フィルム１０が得られる。
【００５１】
［３．反射防止フィルム付きディスプレイ］
本実施形態の反射防止フィルム１０は、外光反射を抑制する目的で、ディスプレイ１０１の表示面に取り付けて用いうる。反射防止フィルム１０のディスプレイ１０１への取付けは、基材の第２の主面１１Ｂ側をディスプレイ１０１の上面に配し、必要に応じ接着剤等を介して行いうる。
【００５２】
（ディスプレイ）
反射防止フィルム付きディスプレイ１００は、図２に示すように、表示面１０１Ａを含むディスプレイ１０１と、表示面上に設けられたディスプレイ用反射防止フィルム１０と、を含む。ディスプレイ用反射防止フィルム１０の第１主面側１１Ａは視認側に配置されている。
【００５３】
ディスプレイ１０１としては、特に限定されないが、例えば、有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイなどの直視型ディスプレイが挙げられる。ディスプレイ１０１としては、下部電極による外光反射を効果的に抑制できるという観点から、有機ＥＬディスプレイが好ましい。
【００５４】
ディスプレイ１０１は、図２に示すように、発光層１０２と、発光層１０２の下側（表示面とは反対側）に設けられた反射電極等の反射部材１０４とを含む。ディスプレイが、有機ＥＬディスプレイの場合、図２における１０３は透明電極、１０４は反射電極であり、反射電極１０４及び透明電極１０３から電圧を印加されることにより発光層１０２が光を生じうる。
【００５５】
［４．本実施形態の作用及び効果］
以下、本実施形態の作用及び効果について説明する。
反射防止フィルム１０の第１主面１１Ａ側から照射される外光の一部は、黒色層１３で吸収され、これにより反射が抑制される。
外光の一部Ａ１は、図６に示すように、基材１１を透過し発光層１０２の下の反射部材１０４で反射される。反射部材１０４で反射された反射光Ａ１Ｒは、第２主面１１Ｂ側から入射して基材１１の第１主面１１Ａに至り、その一部は基材１１の第１主面１１Ａのうち、反射層１２及び黒色層１３で覆われていない部分１１Ａ１から反射防止フィルム１０の外部に出射し、その一部は反射層１２で反射される。
反射層１２で反射された反射光Ａ２Ｒは、基材１１を透過して反射部材１０４で反射される。反射部材１０４で反射された反射光Ａ３Ｒは、第２主面１１Ｂ側から入射して基材１１の第１主面１１Ａに至り、その一部は、基材１１の第１主面１１Ａのうち、反射層１２及び黒色層１３で覆われていない部分１１Ａ１から反射防止フィルム１０の外部に出射する。反射光Ａ３Ｒの一部は反射層１２で反射された後、基材１１を透過して反射部材１０４においてさらに反射され、基材１１の第１主面１１Ａのうち、反射層１２及び黒色層１３で覆われていない部分１１Ａ１から、反射防止フィルム１０の外部に出射する。
【００５６】
発光層１０２から生じた光の一部は、第２主面側から入射して基材２１を透過し、基材１１の第１主面１１Ａのうち、反射層１２及び黒色層１３で覆われていない部分１１Ａ１から出射する。
発光層１０２から生じた光の一部は、第２主面側から入射して第１主面１１において反射層１２で反射され、当該反射された光は上記反射光Ａ２Ｒと同様に、基材１１を透過して反射部材１０４で反射される。反射部材１０４で反射された光は、反射光Ａ３Ｒと同様に、第２主面１１Ｂ側から入射して基材１１の第１主面１１Ａに至り、その一部は、基材１１の第１主面１１Ａのうち、反射層１２及び黒色層１３で覆われていない部分１１Ａ１から、反射防止フィルム１０の外部に出射し、その一部は反射層１２で反射される。反射層１２に反射された後は、基材１１を透過して反射部材１０４においてさらに反射され、第２主面１１Ｂ側から入射して基材１１の第１主面１１Ａに至り、基材１１の第１主面のうち、反射層１２及び黒色層１３で覆われていない部分１１Ａ１から、反射防止フィルム１０の外部に出射する。
【００５７】
黒色層のみを備える反射防止フィルムでは、ディスプレイの反射部材で反射された光の一部が、黒色層に吸収され、反射防止フィルムの外部に出射される光の強度が低下しうる。これに対し、本実施形態においては、基材１０の第１主面１１Ａに、第２主面１１Ｂ側から入射した光を反射する反射層１２を備えるので、反射部材１０４で反射された光は反射層１２で反射され、反射層１２で反射された反射光は、再度反射部材１０４により反射されて、反射防止フィルム１０の外部に出射しうる。その結果、本実施形態によれば、基材１１の表面から反射防止フィルム１０の外部に出射される光の強度の低下を抑制することができる。
従って、本実施形態によれば、外光の反射を抑制しつつ、ディスプレイの明るさの低下を抑制することができる、ディスプレイ用反射防止フィルム、及びそのようなディスプレイ用反射防止フィルムを含む、反射防止フィルム付きディスプレイを提供することができる。
【００５８】
また、本実施形態によれば、反射層１２の形状が規則的な形状であるので、第２主面１１Ｂから入射した光の反射を均等にすることができ、その結果、ディスプレイ１００の明るさを均一にすることができる。
【００５９】
また、本実施形態によれば、黒色層１３と反射層１２とが、同形同大の形状であり、基材１１の第１主面１１Ａ上の全域において重なり合っているので、反射部材１０４により反射された反射光が第１主面１１Ａに至ったときに、黒色層１３に反射光が吸収されることなく、当該第１主面１１Ａから光が出射する。その結果、本実施形態によれば、出射する光の強度の低下が抑制され、反射防止フィルムの明るさの低下を抑制する効果を高めることができる。
【００６０】
さらに、本実施形態の反射防止フィルムの製造方法は、基材の第１主面に反射層を形成する工程１と、反射層上に黒色レジストを形成する工程２と、黒色レジストを露光及び現像してパターンを得る工程３と、パターンをマスクとして反射層をエッチングする工程４と、を含む。つまり、本実施形態によれば、黒色レジストを露光及び現像して得られたパターンをマスクとして反射層を形成するので、同形同大の黒色層１３と反射層１２とが、基材１１の第１主面１１Ａ上の全域において重なり合う態様の反射防止フィルムの製造工程を簡素化することができる。
【００６１】
［実施形態２］
以下、本発明の実施形態２に係るディスプレイ用反射防止フィルムと、当該反射防止フィルムを備える反射防止フィルム付きディスプレイについて図７〜図１３を参照しつつ、説明する。
図７は、本発明の実施形態２に係るディスプレイ用反射防止フィルムを備える反射防止フィルム付きディスプレイを、模式的に表した平面図であり、第１主面側から表した図である。図８は、図７におけるＹ１−Ｙ１線における切断面を模式的に表した断面図である。図９は、図７におけるＹ２−Ｙ２線における切断面を模式的に表した断面図である。図１０は、基材に反射層を形成した状態を模式的に表した平面図である。図１１は、図１０におけるＹ３−Ｙ３線における切断面を模式的に表した断面図である。図１２は、反射層の上に黒色層を形成した状態を模式的に表した断面図である。図１３は、ディスプレイ用反射防止フィルムに入射した光の経路を模式的に表す分解断面図である。
【００６２】
本実施形態の反射防止フィルム付きディスプレイ２００は、図８および図９に示すように、ディスプレイ２０１と、ディスプレイ２０１の上面（視認側の面）に設けられた反射防止フィルム２０とを備える。本実施形態において、反射防止フィルム付きディスプレイ２００は、図７に示すように、上面視形状（第１主面２１Ａ上から見た形状）が方形状の黒色層２３が、縦方向及び横方向に間隔を空けて並んだ態様の反射防止フィルム２０を備える。
【００６３】
本実施形態の反射防止フィルム２０は、反射層２２の形状が実施形態１と相違する。以下の説明において、実施形態１と重複する説明は省略する。
【００６４】
［１．ディスプレイ用反射防止フィルム］
本実施形態の反射防止フィルム２０は、第１主面２１Ａ及び第２主面２１Ｂを有する基材２１と、第１主面２１Ａに設けられた反射層２２と、反射層２２を覆う黒色層２３と、を含む。図８において、２３Ｂは、黒色層の反射層を覆う部分（「被覆部」ともいう）である。
【００６５】
本実施形態において、反射層２２の形状は、図１０に示すように、第１主面２１Ａ側から見た形状がストライプ状である。一方、黒色層２３は、図７に示すように、方形状の黒色層２３が一定の間隔をあけて縦方向及び横方向に並んでいる態様である。基材２１の第１主面２１Ａ上において、反射層２２の面積は黒色層２３の面積よりも大きく、黒色層２３は反射層２２の全域を覆っている。
【００６６】
［２．ディスプレイ用反射防止フィルムの製造方法］
本実施形態の反射防止フィルム２０の製造方法は、基材２１の第１主面２１Ａに反射層の材料を含む反射膜を形成する工程１Ａと、反射膜上にレジストを形成して露光及び現像してレジストパターンを形成する工程５と、レジストパターンから露出している反射膜をエッチングし、レジストを除去して反射層２２を形成する工程６と、反射層２２の上に、黒色レジストを形成し、当該黒色レジストを露光及び現像して黒色層を形成する工程７と、を含む。以下、各工程について説明する。
【００６７】
（工程１Ａ）
工程１Ａは基材の第１主面に反射層の材料を含む反射膜を形成する工程である。工程１Ａは実施形態１の反射防止フィルムの製造方法の工程１と同様の方法で行うことができる。工程１Ａを行った後の基材２１の表面には反射膜が形成される。
【００６８】
（工程５）
工程５は、反射膜上にレジストを形成して露光及び現像してレジストパターンを形成する工程である。
本実施形態では、工程５において、工程１Ａで得られた反射膜にレジストを形成し、当該レジストを露光及び現像してレジストパターンを形成する。反射膜にレジストを形成する方法としては、反射膜に、例えば、スピンコート等の塗布方法によりレジスト（例えば、シプレイファーイースト社製「ＳＣ−１８１１」）を塗布する方法等が挙げられる。露光方法としては例えば、ｉ線等の紫外線を用いて露光する方法等が挙げられる。現像は、例えば水酸化カリウム等の現像液を用いて行いうる。
【００６９】
レジストを露光及び現像する際に、マスクを用いることにより、マスクの形状を反映したレジストパターンを形成しうる。図１０に示す態様（ストライプ状の態様）の反射層２２を形成する場合、帯状部分と開口部とが交互に形成されたストライプ形状のマスク(図示せず)を用いうる。
【００７０】
（工程６）
工程６は、レジストパターンから露出している反射膜をエッチングし、レジストを除去して反射層２２を形成する工程である。
本実施形態では、工程５で得られたレジストパターンから露出している反射膜をエッチングし、レジストを除去することにより反射層２２を形成する。本実施形態では、図１０に示すように、帯状の反射層２２が間隔をあけて横方向に並んで形成され、全体としてはストライプ状をなす態様である。
【００７１】
露出している反射膜のエッチングの方法としては、ドライエッチング及びウエットエッチングが挙げられる。レジストの除去は、レジストの種類に応じた剥離液を用いて行いうる。
【００７２】
（工程７）
工程７は、反射層２２の上に、黒色レジストを形成し、当該黒色レジストを露光及び現像して黒色層２３を形成する工程である。
本実施形態では、工程７において、工程６で形成した反射層２２の上に、黒色レジストを形成した後、図５に示すマスクを配置して、当該黒色レジストを露光及び現像することにより、帯状の反射層２２の上に方形状の黒色層２３が形成された反射防止フィルム２０が得られる（図７を参照）。
【００７３】
黒色レジストの露光方法及び現像方法としては、実施形態１の黒色レジストの露光方法及び現像方法で説明した方法と同様の方法が挙げられる。
【００７４】
［３．反射防止フィルム付きディスプレイ］
本実施形態の反射防止フィルム２０は、外光反射を抑制する目的で、ディスプレイ２０１の表示面に設けられて用いられる。ディスプレイ２０１としては、実施形態１で説明したディスプレイ１０１と同様のものが挙げられる。
【００７５】
ディスプレイ２０１は、図８に示すように、発光層２０２と、発光層２０２の下側（表示面とは反対側）に設けられた反射電極等の反射部材２０４とを含む。ディスプレイが、有機ＥＬディスプレイの場合、図８における２０３は透明電極、２０４は反射電極であり、反射電極２０４及び透明電極２０３から電圧を印加されることにより発光層２０２が光を生じうる。
【００７６】
［４．本実施形態の作用及び効果］
本実施形態の作用及び効果について説明する。
反射防止フィルム２０の第１主面２１Ａ側から照射される外光の一部は、黒色層２３で吸収されるので、反射が抑制される。
外光の一部Ａ１は、図１３に示すように、基材２１を透過し発光層２０２の下の反射部材２０４で反射される。反射部材２０４で反射された反射光Ａ１Ｒは、第２主面２１Ｂ側から入射して基材２１の第１主面２１Ａに至り、その一部は基材２１の第１主面２１Ａのうち、反射層２２及び黒色層２３で覆われていない部分２１Ａ１から反射防止フィルム２０の外部に出射し、その一部は、反射層２２で反射される。
反射層２２で反射された反射光Ａ２Ｒは、基材２１を透過して反射部材２０４で反射される。反射部材２０４で反射された反射光Ａ３Ｒは、第２主面２１Ｂ側から入射して基材２１の第１主面２１Ａに至り、その一部は、基材２１の第１主面２１Ａのうち、反射層２２及び黒色層２３で覆われていない部分２１Ａ１から反射防止フィルム２０の外部に出射する。反射光Ａ３Ｒの一部は反射層２２で反射された後、基材２１を透過して反射部材２０４においてさらに反射され、基材２１の第１主面２１Ａのうち、反射層２２及び黒色層２３で覆われていない部分２１Ａ１から、反射防止フィルム２０の外部に出射する。
【００７７】
発光層２０２から生じた光の一部は、第２主面側から入射して基材２１を通過し、基材２１の第１主面２１Ａのうち、反射層２２及び黒色層２３で覆われていない部分２１Ａ１から出射する。
発光層２０２から生じた光の一部は、第２主面側から入射して第１主面２１において反射層２２で反射され、当該反射された光は上記反射光Ａ２Ｒと同様に、基材２１を透過して反射部材１０４で反射される。反射部材２０４で反射された光は、反射光Ａ３Ｒと同様に、第２主面側から入射して基材２１を透過して第１主面２１Ａに至り、その一部は、基材２１の第１主面２１Ａのうち、反射層２２及び黒色層２３で覆われていない部分２１Ａ１から、反射防止フィルム２０の外部に出射し、その一部は反射層２２で反射される。反射層２２に反射された後は、基材２１を透過して反射部材２０４においてさらに反射され、第２主面側から入射して第１主面２１Ａに至り、基材２１の第１主面２１Ａのうち、反射層２２及び黒色層２３で覆われていない部分２１Ａ１から、反射防止フィルム２０の外部に出射する。
【００７８】
つまり、本実施形態においても、基材２０の第１主面２１Ａに、第２主面２１Ｂ側から入射した光を反射する反射層２２を備えるので、反射部材２０４で反射された光は反射層２２で反射され、反射層２２で反射された反射光は、再度反射部材２０４により反射されて、反射防止フィルム２０の外部に出射する。その結果、本実施形態によれば、基材表面から反射防止フィルムの外部に出射される光の強度の低下を抑制することができる。
従って、本実施形態によっても、実施形態１と同様に、外光の反射を抑制しつつ、ディスプレイの明るさの低下を抑制することができる、ディスプレイ用反射防止フィルム、及びそのようなディスプレイ用反射防止フィルムを含む、反射防止フィルム付きディスプレイを提供することができる。
【００７９】
また、本実施形態によっても、反射層２２の形状が規則的な形状であるので、第２主面２１Ｂから入射した光の反射を均等にすることができ、その結果、ディスプレイの明るさを均一にすることができる。
【００８０】
［他の実施形態］
本発明は上記実施形態に限定されない。例えば下記のような構成、態様としうる。
（１）上記実施形態では、方形状の反射層が縦方向及び横方向に並ぶ態様、及び帯状の反射層が間隔を空けて並ぶ態様を示したが、反射層は図１４〜図１６に示す態様であってもよい。図１４〜図１７は、それぞれ、反射層を形成した基材を模式的に表す平面図である。図１４〜図１７においては、反射層に黒色を付して示している。以下各図について説明する。
【００８１】
図１４に示す基材３１に形成された反射層は、長方形状の反射層３２が、隣り合う列間で上下方向にずれた位置（千鳥配置状）に並ぶ態様である。
図１５に示す基材４１に形成された反射層は、長方形状の反射層４２が、一定の間隔をあけて連続的に並ぶ態様である。
図１６に示す基材５１に形成された反射層は、円形の反射層５２が間隔をあけて連続的に並ぶ態様である。
図１７に示す基材６１に形成された反射層は、反射層６２が格子状になっている態様である。
【００８２】
（２）上記実施形態では、方形状の黒色層が多数並んだ態様の反射防止フィルムを示したが、黒色層の形状は、これに限定されない。例えば実施形態２の反射層と同様に帯状の反射層が間隔を空けて並ぶストライプ状の態様であってもよいし、図１７に示す反射層と同様の態様であってもよい。
【００８３】
（３）上記実施形態では、黒色層の総面積に対する黒色層の反射層を覆う部分（被覆部）の面積の割合が１００％の例を示したが、当該割合は１００％未満であってもよい。
【００８４】
（４）上記実施形態では、フォトレジストにより反射層及び黒色層を形成する方法を示したが、反射層及び黒色層は、印刷等の方法により形成してもよい。
【００８５】
［実施例］
（評価方法）
（１．明るさの測定）
陰極にアルミニウム（ＡＬ）、陽極にＩＴＯを用いた緑単色の発光素子に、各例（実施例１〜２、比較例１）で得られた反射防止フィルムを貼り付けて得られた反射防止フィルム付きディスプレイについて、全光束を測定した。全光束の測定には、ラディアント社製の高速配光測定システム「Ｉｍａｇｉｎｇ  Ｓｐｈｅｒｅ」を用いた。
【００８６】
汎用の偏光板（美舘イメージング社製、ＳＨＬＰ４１）を、上記の発光素子に貼り付けて得られた、参考例１の発光素子についても、上記と同じ方法により全光束を測定した。参考例１の発光素子の全光束の測定値を、明るさ１とし、各例の反射防止フィルム付き発光素子の明るさを算出した。明るさの数値が１よりも大きければ、汎用の偏光板を備える発光素子よりも明るく、当該数値が大きいとより明るい。
【００８７】
（２．反射防止フィルムの反射率の測定）
厚さ０．７ｍｍのガラス板の一方の面に、アルミニウム（Ａｌ）を膜厚２００ｎｍとなるように製膜し、Ａｌ層を有するガラス板を得た。Ａｌ層を有するガラス板の、Ａｌを製膜していない側の面に、各実施例で得られた反射防止フィルムを貼り付けたサンプルと、何も貼り付けられていないＡｌ層を有するガラス板について、Ａｌを製膜していない側の面から光を入射して反射率を測定した。反射率の測定は、日本分光社製Ｖ５７０型分光光度計を用い、入射角３０°での正反射成分を、５５０ｎｍの波長について測定した。
サンプルにおける反射率の測定値が、何も貼り付けられていないＡｌ層を有するガラス板の反射率（８４％）よりも小さければ、反射防止効果があると言える。
【００８８】
（３．反射層の全光線反射率の測定）
２．で測定した何も貼り付けられていないＡｌ層を有するガラス板の反射率（８４％）を、実施例１および２の反射層の全光線反射率とした。
【００８９】
［製造例１．基材の製造］
（１．ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物の製造）
基材を構成しうる重合体として、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物を以下のようにして製造した。
金属製の耐圧反応器を、充分に乾燥した後、窒素置換した。この金属製耐圧反応器に、シクロヘキサン１５４．５部、ジシクロペンタジエン（エンド体含有率９９％以上）の濃度７０％シクロヘキサン溶液４２．８部（ジシクロペンタジエンの量として３０部）、及び１−ヘキセン１．８部を加え、５３℃に加温した。
【００９０】
テトラクロロタングステンフェニルイミド（テトラヒドロフラン）錯体０．０１４部を０．７０部のトルエンに溶解した溶液に、濃度１９％のジエチルアルミニウムエトキシド／ｎ−ヘキサン溶液０．０６１部を加えて１０分間攪拌して、触媒溶液を調製した。
この触媒溶液を耐圧反応器に加えて、開環重合反応を開始した。その後、５３℃を保ちながら４時間反応させて、ジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液を得た。
得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）は、それぞれ、８，８３０および２９，８００であり、これらから求められる分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は３．３７であった。
【００９１】
得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液２００部に、停止剤として１，２−エタンジオール０．０３７部を加えて、６０℃に加温し、１時間攪拌して重合反応を停止させた。ここに、ハイドロタルサイト様化合物（協和化学工業社製「キョーワード（登録商標）２０００」）を１部加えて、６０℃に加温し、１時間攪拌した。その後、濾過助剤（昭和化学工業社製「ラヂオライト（登録商標）＃１５００」）を０．４部加え、ＰＰプリーツカートリッジフィルター（ＡＤＶＡＮＴＥＣ東洋社製「ＴＣＰ−ＨＸ」）を用いて吸着剤と溶液を濾別した。
【００９２】
濾過後のジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液２００部（重合体量３０部）に、シクロヘキサン１００部を加え、クロロヒドリドカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム０．００４３部を添加して、水素圧６ＭＰａ、１８０℃で４時間水素化反応を行った。これにより、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物を含む反応液が得られた。この反応液は、水素化物が析出してスラリー溶液となっていた。
【００９３】
前記の反応液に含まれる水素化物と溶液とを、遠心分離器を用いて分離し、６０℃で２４時間減圧乾燥して、結晶性を有するジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物２８．５部を得た。この水素化物の水素化率は９９％以上であることが確認され、ガラス転移温度Ｔｇは９７℃、融点Ｔｍは２６６℃、結晶化ピーク温度Ｔｐｃは１３６℃、ラセモ・ダイアッドの割合は８９％であった。
【００９４】
（２．長尺状のフィルムの製造）
１．で得たジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物１００部に、酸化防止剤（テトラキス〔メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン；ＢＡＳＦジャパン社製「イルガノックス（登録商標）１０１０」）１．１部を混合して、基材の材料となる結晶性樹脂を得た。
【００９５】
前記の結晶性樹脂を、内径３ｍｍΦのダイ穴を４つ備えた二軸押出機（東芝機械社製「ＴＥＭ−３７Ｂ」）に投入した。前記の二軸押出機によって、樹脂を熱溶融押出成形によりストランド状の成形体に成形した。この成形体をストランドカッターにて細断して、樹脂のペレットを得た。前記の二軸押出機の運転条件を、以下に示す。
・バレル設定温度：２７０℃〜２８０℃
・ダイ設定温度：２５０℃
・スクリュー回転数：１４５ｒｐｍ
・フィーダー回転数：５０ｒｐｍ
【００９６】
引き続き、得られた樹脂のペレットを、Ｔダイを備える熱溶融押出しフィルム成形機に供給した。フィルム成形機の運転条件として、バレル温度２８０℃〜２９０℃、ダイ温度２７０℃、及びスクリュー回転数３０ｒｐｍを設定した。そして、このフィルム成形機は、樹脂ペレットが溶融した溶融樹脂を、回転するキャストロール上に向けて、幅５００ｍｍのフィルム状に、押し出した（キャスト）。このときのキャストロールの回転速度は、６ｍ／分に設定した。その後、押し出された溶融樹脂は、ロール上で冷却されることにより、長尺のフィルム状に成形し長尺状のフィルムを得た。当該長尺状のフィルム（フィルムＡとする）の厚みは、５０μｍであった。
【００９７】
（３．基材の製造）
２．で得た長尺状のフィルム(フィルムＡ)を、任意の部位で３５０ｍｍ×３５０ｍｍの正方形に必要な枚数分だけ切り出した。この切り出しは、切り出されたフィルム（フィルムＢ）の正方形の一対の二辺が、長尺状のフィルムのＭＤ方向に平行になるように行った。そして、切り出されたフィルムＢを、小型延伸機（東洋精機製作所社製「ＥＸ１０―Ｂタイプ」）に設置した。この小型延伸機は、フィルムの四辺を把持しうる複数のクリップを備え、このクリップを移動させることによってフィルムを延伸できる構造を有している。この小型延伸機を用いて、フィルムＢを、四辺を保持した状態で、クリップ間の距離を変更することなく、オーブン（予熱ゾーン）を用いて、予熱温度を１２０℃、予熱時間８０秒間に設定し予熱した。
【００９８】
予熱後のフィルムＢは、引き続き、小型延伸機のオーブン（延伸ゾーン）内に載置された状態で、直ちに、クリップ間の距離を徐々に拡大させることにより（このとき、延伸倍率の値が１超の値をとる）、ＴＤ方向に延伸させた。クリップ間の距離の拡大は、フィルムの延伸倍率が設定した延伸倍率に到達した時点で停止させた。このときの延伸速度は、１０００ｍｍ／分に設定した。また、延伸倍率は、２．５倍に設定した。延伸温度は、１２０℃に設定した。延伸処理後のフィルムＢの厚みは２０μｍであった。
【００９９】
引き続き、延伸処理後のフィルムＢの四辺を小型延伸装置のクリップで保持した状態で、小型延伸装置に付属した一対の二次加熱板をフィルムＢの両面に接近させることにより、熱固定処理を行った。二次加熱板の大きさは３００ｍｍ×３００ｍｍで、一対の加熱板とフィルムＢとの接近距離は上下各々８ｍｍとなるように調整した。これにより、フィルムＢは、熱固定温度１８０℃で３０秒間、一対の加熱板で画成される熱固定ゾーン内で加熱される状態が保持された。このようにして、フィルムＢに含まれる重合体の結晶化を促進させる結晶化工程を熱固定温度１８０℃で熱固定時間３０秒にわたって行って、結晶化処理が施されたフィルムＢを得た。結晶化処理が施されたフィルムＢに含まれる重合体の結晶化度を測定したところ、７３％であった。
【０１００】
結晶化処理が施されたフィルムＢの四辺を保持した状態で、フィルムＢを、上記熱固定工程における熱固定温度と同じ設定温度（１８０℃）で、ＴＤ方向に３％、ＭＤ方向に１％、５秒間かけて同時にクリップ間距離を縮小させ、そのまま同じ温度で１０秒間保持した。これにより、厚みが５０μｍの基材を得た。
【０１０１】
［実施例１：実施形態２に対応］
（１−１．反射層の形成）
製造例１で製造した厚み５０μｍの基材（以下「フィルムＣ」ともいう）の一方の面に、厚さ２００ｎｍのアルミニウムを真空蒸着し、アルミニウムを製膜したフィルムを得た。当該アルミニウムを製膜したフィルムを、アルミニウム膜（反射膜）側が上になるように配して、１０ｃｍ角のガラスの上に両面テープで固定した。当該ガラス上に固定されたフィルム上にポジ型レジスト（シプレイファーイースト社製:ＳＣ−１８１１）を、１０００ｒｐｍの条件でスピンコートして１００℃のヒータプレート（以下「ＨＰ」ともいう）上で溶剤を乾燥させた。
このレジスト上に、幅寸法３５．５μｍの帯状部分が１４．５μｍ間隔で設けられたストライプ状のマスクを配置し、ｉ線でレジストを感光させた。その後０．０４％のＫＯＨ水溶液によりレジストを現像した。前記ストライプ状のマスクは、幅寸法３５．５μｍの帯状部分の間の部分（幅１４．５μｍの部分）が開口した形状である。
次に、レジストが現像されたフィルムＣを、関東化学社製の混酸Ａｌエッチング液に浸漬し、ストライプ状のレジストのパターンの間で露出しているアルミニウム部分をエッチングした。さらにフィルムＣを、トリエタノールアミンを含む剥離液に浸して剥離することにより、フィルムＣ上に、幅３５．５μｍの帯状のアルミニウム層（反射層）を１４．５μｍ間隔で形成した。これによりストライプ状の反射層が形成されたフィルムＣが得られた。
【０１０２】
（１−２．反射防止フィルムの製造）
ストライプ状の反射層が形成されたフィルムＣ上にネガ型黒色レジスト（東京応化工業製、ブラックレジストＢＫ４６１１）を、１０００ｒｐｍの条件でスピンコートして１００℃のＨＰ上で溶剤を乾燥させた。このとき得られた黒色レジストの膜厚は１．２μｍであった。
次に、黒色レジストを形成したフィルムＣ上に、格子状のマスクを、マスクの開口部が、アルミニウム層（反射層）と重なるように配置し、ｉ線で黒色レジストを感光させた。格子状のマスクとしては、１辺が３５．５μｍの方形状の開口部が１４．５μｍの間隔をあけて横方向及び縦方向に並んで形成されたものを用いた（図５参照）。
【０１０３】
その後０．０４％のＫＯＨ水溶液を用いて黒色レジストを現像し、ポストベークとして１５０℃、２０分の条件で加熱焼成した。これにより、ストライプ状のアルミパターン（反射層２２）の上に１辺が３５．５μｍの方形状の黒色レジストが縦方向及び横方向に並んだパターン（黒色層２３）が重なった反射防止フィルムを得た(図７を参照)。
得られた反射防止フィルムについて、明るさと反射率を測定した。本例の反射防止フィルムを貼り付けた発光素子の明るさは、汎用の偏光板を貼った参考例１の発光素子の明るさ１に対して、１．３８倍の明るさであった。また本例の反射防止フィルムの反射率は３１％であり、反射フィルムが貼り付けられていない発光素子の反射率（８４％）よりも小さかった。
本例の反射防止フィルムについては、黒色層は反射層と全域において重なるように形成されているので、黒色層の総面積に対する、黒色層の反射層を覆う部分の面積の割合は１００％である。本例の反射フィルムの第１主面の面積に対する、黒色層の総面積の割合は５０．４％であった。
【０１０４】
［実施例２：実施形態１の反射フィルムの作製］
（２−１．反射層の形成）
製造例１で製造した厚み５０μｍの基材（フィルムＣ）の一方の面上に、厚さ２００ｎｍのアルミニウムを真空蒸着し、アルミニウムを製膜したフィルムＣを得た。これにより反射層を形成した基材が得られた。
【０１０５】
（２−２．黒色レジストの形成）
（２−１）で得られたアルミニウムを製膜したフィルムＣを、当該アルミニウムを製膜したフィルムを、アルミニウム層側が上になるように配して、１０ｃｍ角のガラスの上に両面テープで固定した。
当該ガラス上に固定されたフィルムＣ上に、黒色レジスト（東京応化工業製のブラックレジストＢＫ４６１１）を、１０００ｒｐｍの条件でスピンコートして１００℃のＨＰ上で溶剤を乾燥させた。このとき得られた黒色レジストの膜厚は１．２μｍであった。
【０１０６】
（２−３．パターンの作製）
（２−２）で形成した黒色レジスト上に、実施例１で用いた格子状のマスクと同形状のマスクを配置し、ｉ線で黒色レジストを感光させた。その後０．０４％のＫＯＨ水溶液により黒色レジストを現像し、ポストベークとして１５０℃２０分の条件で加熱焼成した。これにより黒色レジストが現像されたフィルムＣを得た。
【０１０７】
（２−４．反射フィルムの製造）
（２−３）で作製した黒色レジストが現像されたフィルムＣを関東化学社製の混酸Ａｌエッチング液に浸漬し、黒色レジストのパターンの間で露出しているアルミニウム部分をエッチングした。これにより、方形状のアルミニウム層（反射層１２）と方形状の黒色レジスト（黒色層１３）が重なり合って、間隔を空けて、縦方向及び横方向に並んだ態様の反射防止フィルムを得た（図１参照）。反射層及び黒色層は、１辺が３５．５μｍの方形状の形状である。
得られた反射防止フィルムについて、明るさと反射率を測定した。本例の反射防止フィルムを貼り付けた発光素子の明るさは、汎用の偏光板を貼った参考例１の発光素子の明るさ１に対して、１．６倍の明るさであった。また本例の反射防止フィルムの反射率は２７％であり、反射フィルムが貼り付けられていない発光素子の反射率（８４％）よりも低かった。
本例の反射防止フィルムについては、黒色層を形成するためのマスクを用いて、黒色層と反射層とを形成しており、黒色層と反射層とは同形同大で、かつ、全域において重なっていることから、黒色層の総面積に対する、黒色層の反射層を覆う部分の面積の割合は１００％である。本例の反射フィルムの第１主面の面積に対する、黒色層の総面積の割合は５０．４％であった。
【０１０８】
［比較例１］
製造例１で製造した厚み５０μｍの基材（フィルムＣ）を、１０ｃｍ角のガラスの上に両面テープで固定した。
当該ガラス上に固定されたフィルム上に、黒色レジスト（東京応化工業製のブラックレジストＢＫ４６１１）を、１０００ｒｐｍの条件でスピンコートして１００℃のＨＰ上で溶剤を乾燥させた。このとき得られた黒色レジストの膜厚は１．２μｍであった。
この黒色レジスト上に、実施例１で用いた格子状のマスクと同形状のマスクを配置し、ｉ線で黒色レジストを感光させた。その後０．０４％のＫＯＨ水溶液により黒色レジストを現像し、ポストベークとして１５０℃２０分の条件で加熱焼成した。これにより、方形状の黒色レジストが、縦方向及び横方向に並ぶ態様の反射防止フィルムを作成した。
得られた反射防止フィルムについて、明るさを測定した。本例の反射防止フィルムを貼り付けた発光素子の明るさは、汎用の偏光板を貼った参考例１の発光素子の明るさ１に対して、１.０７倍の明るさであった。
【０１０９】
以上の結果から、本発明の要件を満たす実施例の反射防止フィルムを貼り付けた発光素子では、外光の反射を抑制しつつ、発光素子の明るさの低下を抑制することができるということがわかった。
【符号の説明】
【０１１０】
１０，２０，３０，４０，５０…反射防止フィルム
１１，２１，３１，４１，５１，６１…基材
１１Ａ，２１Ａ…第１主面
１１Ａ１，２１Ａ１…第１主面のうち、反射層及び黒色層で覆われていない部分
１１Ｂ，２１Ｂ…第２主面
１２，２２，３２，４２，５２，６２…反射層
１３，２３…黒色層
１３Ｂ，２３Ｂ…黒色層の反射層を覆う部分（被覆部）
１３Ｒ…黒色レジスト
１００，２００…反射防止フィルム付きディスプレイ
１０１，２０１…ディスプレイ（発光素子）
１０２，２０２…発光層
１０３，２０３…透明電極
１０４，２０４…反射電極（反射部材）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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