(57)【要約】【課題】さらなる薄型化の液晶表示装置に対応できる複合偏光子及びその製造方法を提供する。【解決手段】複合偏光子は、一実施態様において、反射型偏光子及び吸収型偏光子を含み、反射型偏光子及び吸収型偏光子の少なくとも一方が、製造工程用フィルム以外の自立性フィルムを含まない。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射型偏光子及び吸収型偏光子を含む複合偏光子であって、反射型偏光子及び吸収型偏光子の少なくとも一方が、製造工程用フィルム以外の自立性フィルムを含まない複合偏光子。
【請求項２】
吸収型偏光子がポリビニルアルコールに二色性色素を吸着させたものである、請求項１に記載の複合偏光子。
【請求項３】
吸収型偏光子が液晶化合物を配向させたものである、請求項１に記載の複合偏光子。
【請求項４】
吸収型偏光子の一方の面に反射型偏光子が積層され、吸収型偏光子の他方の面に位相差層が積層されている、請求項１〜３のいずれかに記載の複合偏光子。
【請求項５】
位相差層が液晶化合物を配向させた層である、請求項４に記載の複合偏光子。
【請求項６】
反射型偏光子及び吸収型偏光子を含む複合偏光子の製造方法であって、
（ａ）反射型偏光子に吸収型偏光子を積層する工程を含み、工程（ａ）が、
（ａ１）反射型偏光子に吸収型偏光子用塗料を塗工する工程；又は
（ａ２）反射型偏光子に、離型性基材上に吸収型偏光子が積層された積層体の吸収型偏光子が反射型偏光子側に配置されるように、前記積層体を積層する工程
を含む製造方法。
【請求項７】
工程（ａ２）の積層体の製造方法が、
（ａ２１）離型性基材にポリビニルアルコールを含有する塗料を塗工して得られた塗膜に二色性色素を吸着させる工程；又は
（ａ２２）離型性基材に液晶偏光子用塗料を塗工する工程
を含む、請求項６に記載の製造方法。
【請求項８】
工程（ａ）が、工程（ａ１）を含み、前記製造方法が、（ｂ）吸収型偏光子に位相差層を積層する工程を更に含み、工程（ｂ）が、
（ｂ１）吸収型偏光子に位相差層用塗料を塗工する工程；又は
（ｂ２）吸収型偏光子に、離型性基材上に位相差層が積層された積層体の位相差層が吸収型偏光子側に配置されるように、前記積層体を積層する工程
を含む、請求項６に記載の製造方法。
【請求項９】
工程（ａ）が、工程（ａ２）に加えて、（ａ３）離型性基材を剥離する工程を更に含み、前記製造方法が、（ｃ）離型性基材の剥離面に位相差層を積層する工程を更に含み、工程（ｃ）が、
（ｃ１）離型性基材の剥離面に位相差層用塗料を塗工する工程；又は
（ｃ２）離型性基材の剥離面に、別の離型性基材上に位相差層が積層された積層体の位相差層が前記剥離面側に配置されるように、前記積層体を積層する工程
を含む、請求項６又は７に記載の製造方法。
【請求項１０】
反射型偏光子、吸収型偏光子、及び位相差層を含む複合偏光子の製造方法であって、
（ｄ）第１の離型性基材に位相差層を積層する工程、
（ｅ）位相差層に吸収型偏光子を積層する工程、及び
（ｆ）吸収型偏光子に反射型偏光子を積層する工程
を含む製造方法。
【請求項１１】
工程（ａ１）の吸収型偏光子用塗料が液晶化合物を含み、工程（ｂ）が、工程（ｂ１）を含み、工程（ｂ１）の位相差層用塗料が液晶化合物を含む、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１２】
工程（ａ１）の吸収型偏光子用塗料が液晶化合物を含み、工程（ｂ）が、工程（ｂ２）を含む、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１３】
工程（ａ２）の積層体の製造方法が、工程（ａ２２）を含み、工程（ｃ）が、工程（ｃ１）を含み、工程（ｃ１）の位相差層用塗料が液晶化合物を含む、請求項９に記載の製造方法。
【請求項１４】
工程（ａ２）の積層体の製造方法が、工程（ａ２２）を含み、工程（ｃ）が、工程（ｃ２）を含む、請求項９に記載の製造方法。
【請求項１５】
反射型偏光子、吸収型偏光子、及び位相差層を含む複合偏光子の製造方法であって、
（ｈ）離型性基材に位相差層用塗料を塗工して位相差層を得る工程、
（ｉ）位相差層に吸収型偏光子用塗料を塗工して吸収型偏光子を得る工程、及び
（ｊ）吸収型偏光子に反射型偏光子を積層する工程
を含む製造方法。
【請求項１６】
液晶セルの光源側に、請求項１〜４のいずれかに記載の複合偏光子の反射型偏光子が光源側に配置されるように、前記複合偏光子が積層された画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複合偏光子及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、通常、液晶セルの視認側及び光源側の両面に偏光板が貼り合わせてあり、偏光板は偏光子と偏光子保護フィルムとの積層体で構成される。偏光子保護フィルムとしては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル樹脂、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの４０〜１００μｍの剛直なフィルムが用いられている。一方、偏光子としては、ポリビニルアルコールに二色性色素が吸着されたもの、二色性色素を含む液晶化合物配向層からなるもの等の吸収型偏光子が知られている。
【０００３】
吸収型偏光子は、一方向に振動する光の成分のみを吸収し、それと直交する光の成分は透過する。そのため、自然光（非偏光光）を偏光子に通過させると、通過した光量は半減するという問題がある。液晶表示装置の輝度を上げるため、光源と光源側偏光板との間に反射型偏光板を設ける方法が用いられている。反射型偏光板は、一般には、ポリエステル系の異なる樹脂の多層積層体が一方向に配向されたものであり、数十μｍの厚みを有するものである。
【０００４】
近年、液晶画像表示装置は薄型化が要求されており、片面のみに偏光子保護フィルムを有する偏光板の偏光子面に粘着層を設け、偏光子と液晶表示セルを直接貼り合わせる方法（例えば、特許文献１）、偏光子と液晶表示セルとの間に存在する偏光子保護フィルムの代わりに位相差フィルムをそのまま偏光子に積層する方法等が提案されている。また、反射型の偏光子保護フィルムに直接偏光子を貼り合わせた複合偏光板も提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−２７７０１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、かかる従来技術の課題を背景になされたものである。すなわち、本発明の１つの目的は、さらなる薄型化の液晶表示装置に対応できる複合偏光子及びその製造方法を提案するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、かかる目的を達成するために鋭意検討した結果、本発明の完成に至った。すなわち、本発明は、以下の態様を包含する。
項１．
反射型偏光子及び吸収型偏光子を含む複合偏光子であって、反射型偏光子及び吸収型偏光子の少なくとも一方が、製造工程用フィルム以外の自立性フィルムを含まない複合偏光子。
項２．
吸収型偏光子がポリビニルアルコールに二色性色素を吸着させたものである、項１に記載の複合偏光子。
項３．
吸収型偏光子が液晶化合物を配向させたものである、項１に記載の複合偏光子。
項４．
吸収型偏光子の一方の面に反射型偏光子が積層され、吸収型偏光子の他方の面に位相差層が積層されている、項１〜３のいずれかに記載の複合偏光子。
項５．
位相差層が液晶化合物を配向させた層である、項４に記載の複合偏光子。
項６．
反射型偏光子及び吸収型偏光子を含む複合偏光子の製造方法であって、
（ａ）反射型偏光子に吸収型偏光子を積層する工程を含み、工程（ａ）が、
（ａ１）反射型偏光子に吸収型偏光子用塗料を塗工する工程；又は
（ａ２）反射型偏光子に、離型性基材上に吸収型偏光子が積層された積層体の吸収型偏光子が反射型偏光子側に配置されるように、前記積層体を積層する工程
を含む製造方法。
項７．
工程（ａ２）の積層体の製造方法が、
（ａ２１）離型性基材にポリビニルアルコールを含有する塗料を塗工して得られた塗膜に二色性色素を吸着させる工程；又は
（ａ２２）離型性基材に液晶偏光子用塗料を塗工する工程
を含む、項６に記載の製造方法。
項８．
工程（ａ）が、工程（ａ１）を含み、前記製造方法が、（ｂ）吸収型偏光子に位相差層を積層する工程を更に含み、工程（ｂ）が、
（ｂ１）吸収型偏光子に位相差層用塗料を塗工する工程；又は
（ｂ２）吸収型偏光子に、離型性基材上に位相差層が積層された積層体の位相差層が吸収型偏光子側に配置されるように、前記積層体を積層する工程
を含む、項６に記載の製造方法。
項９．
工程（ａ）が、工程（ａ２）に加えて、（ａ３）離型性基材を剥離する工程を更に含み、前記製造方法が、（ｃ）離型性基材の剥離面に位相差層を積層する工程を更に含み、工程（ｃ）が、
（ｃ１）離型性基材の剥離面に位相差層用塗料を塗工する工程；又は
（ｃ２）離型性基材の剥離面に、別の離型性基材上に位相差層が積層された積層体の位相差層が前記剥離面側に配置されるように、前記積層体を積層する工程
を含む、項６又は７に記載の製造方法。
項１０．
反射型偏光子、吸収型偏光子、及び位相差層を含む複合偏光子の製造方法であって、
（ｄ）第１の離型性基材に位相差層を積層する工程、
（ｅ）位相差層に吸収型偏光子を積層する工程、及び
（ｆ）吸収型偏光子に反射型偏光子を積層する工程
を含む製造方法。
項１１．
工程（ａ１）の吸収型偏光子用塗料が液晶化合物を含み、工程（ｂ）が、工程（ｂ１）を含み、工程（ｂ１）の位相差層用塗料が液晶化合物を含む、項８に記載の製造方法。
項１２．
工程（ａ１）の吸収型偏光子用塗料が液晶化合物を含み、工程（ｂ）が、工程（ｂ２）を含む、項８に記載の製造方法。
項１３．
工程（ａ２）の積層体の製造方法が、工程（ａ２２）を含み、工程（ｃ）が、工程（ｃ１）を含み、工程（ｃ１）の位相差層用塗料が液晶化合物を含む、項９に記載の製造方法。
項１４．
工程（ａ２）の積層体の製造方法が、工程（ａ２２）を含み、工程（ｃ）が、工程（ｃ２）を含む、項９に記載の製造方法。
項１５．
反射型偏光子、吸収型偏光子、及び位相差層を含む複合偏光子の製造方法であって、
（ｈ）離型性基材に位相差層用塗料を塗工して位相差層を得る工程、
（ｉ）位相差層に吸収型偏光子用塗料を塗工して吸収型偏光子を得る工程、及び
（ｊ）吸収型偏光子に反射型偏光子を積層する工程
を含む製造方法。
項１６．
液晶セルの光源側に、項１〜４のいずれかに記載の複合偏光子の反射型偏光子が光源側に配置されるように、前記複合偏光子が積層された画像表示装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、薄型化の液晶表示装置に対応できる複合偏光子及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の一実施態様において、複合偏光子は、反射型偏光子及び吸収型偏光子を含み、反射型偏光子及び吸収型偏光子の少なくとも一方が、製造工程用フィルム以外の自立性フィルムを含まないことが好ましい。ここで自立性フィルムは、フィルムとして独立して製造されたものである。自立性フィルムとしては、例えば、偏光子保護フィルムが挙げられる。製造工程用フィルムとは、例えば転写用積層体の製造のために用いられるが最終形態では除去される部材であり、例えば、離型性フィルム、離型性基材、マスキングフィルム、セパレータ等が挙げられる。複合偏光子を構成する反射型偏光子及び吸収型偏光子は、それぞれ、塗工（又は塗布）により設けられているか、転写により設けられていることが好ましい。これにより画像表示装置の薄型化及び軽量化を図ることができる。なお、本明細書において、塗工は、塗料を塗工固化させるウエットプロセスだけでなく、蒸着、スパッタ、ＣＶＤなどのドライプロセスも含むものとする。
【００１０】
本発明の一実施態様において、複合偏光子は、反射型偏光子及び吸収型偏光子の一方のみが自立性フィルムであり、他方が塗工又は転写によって設けられたものであることが好ましい。
【００１１】
本発明の一実施態様において、複合偏光子は、反射型偏光子のみが自立性フィルムであることが好ましい。この場合、吸収型偏光子は、反射型偏光子に塗工したものであるか、離型性基材上の吸収型偏光子を反射型偏光子に転写したものであることが好ましい。
【００１２】
本発明の一実施態様において、複合偏光子は、製造工程用フィルム以外の自立性フィルムを含まないことが好ましい。
【００１３】
（反射型偏光子）
反射型偏光子（反射型偏光層、反射型偏光膜、反射型偏光板等とも称する）は、自然光（非偏光光）のうち一方向に振動する成分のみを透過させ、これと直交する振動方向の成分は反射する機能を有することが好ましい。
【００１４】
反射型偏光子としては、例えば、
（ＲＰ１）一方向に延伸された、お互い組成の異なる樹脂からなる層の異方性交互積層フィルム、
（ＲＰ２）一方向に延伸された、お互い組成の異なる樹脂からなる異方性海島構造フィルム、
（ＲＰ３）コレステリック液晶化合物層とλ／４位相差層の積層体
などが挙げられる。
【００１５】
異方性交互積層フィルムとしては、お互い組成の異なるポリエステルからなるものが好ましく、ポリエステルとしては、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、これらの共重合ポリエステルが好ましい。共重合成分として、酸成分は、テレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、イソフタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸等が好ましい例として挙げられる。グリコール成分は、ネオペンチルグリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール等が好ましい例として挙げられる。
【００１６】
異方性交互積層フィルムとしては、例えば、ＷＯ９６／０１９３４７、ＷＯ９９／０３６２６２などに記載されたものが使用できる。また、例えば、３Ｍ社からＤＢＥＦ又はＡＰＦとして市販されており、これらを異方性交互積層フィルムとして好適に用いることができる。
【００１７】
異方性海島構造フィルムとしては、お互い組成の異なるポリエステルからなるものが好ましく、異方性交互積層フィルムで挙げたポリエステルが好ましい例として挙げられる。異方性海島構造フィルムとしては、例えば、ＷＯ９７／３２２２４などに記載されたものが使用できる。
【００１８】
コレステリック液晶化合物層とλ／４位相差層の積層体は、コレステリック液晶化合物層を透過した一方向に旋回する円偏光をλ／４位相差層により直線偏光に変換するものであることが好ましい。λ／４位相差層は、ＣＯＰ、ポリカーボネート、ＴＡＣなどの延伸フィルムであってもよく、棒状液晶化合物を配向させた層であってもよい。棒状液晶化合物を配向させた層は、ＴＡＣ、アクリルなどの複屈折のないフィルムに設けられたものであってもよい。コレステリック液晶化合物層とλ／４位相差層の積層体としては、例えば、ＷＯ２００４／０６３７７９などに記載されたものを使用できる。なお、コレステリック液晶化合物層とλ／４位相差層の積層体のλ／４位相差層側に吸収型偏光子を積層することが好ましい。
【００１９】
反射型偏光子の厚みは、例えば、１０〜１００μｍ程度であることができ、複合偏光子及び画像表示装置の薄膜化の観点から、好ましくは１０〜５０μｍである。
【００２０】
反射型偏光子は、吸収型偏光子を貼り合わせるための接着剤又は粘着剤との密着性を確保するために、コロナ処理又はプラズマ処理などの表面改質が施されていてもよく、反射型偏光子と吸収型偏光子との間に易接着層を設けてもよい。
【００２１】
（吸収型偏光子）
吸収型偏光子（吸収型偏光層、吸収型偏光膜、吸収型偏光板等とも称する）としては、例えば、一軸延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素又は有機系の二色性色素を吸着させたもの（ＰＶＡ偏光子）、液晶化合物と二色性色素からなる組成物（塗料）を塗工し配向させたもの（液晶偏光子）などを用いることができる。
【００２２】
反射型偏光子の上に吸収型偏光子を設ける方法の例として、ＰＶＡ偏光子の場合は（ａ）及び（ｂ）の方法が挙げられる。
（ａ）ＰＶＡ偏光子単体を貼り合わせる方法。
（ｂ）離型性基材上のＰＶＡ偏光子を転写する方法。
【００２３】
（ａ）の方法としては、接着剤又は粘着剤を用いてＰＶＡ偏光子単体を貼り合わせる方法が挙げられ、反射型偏光子に接着剤又は粘着剤を用いてＰＶＡ偏光子を貼り合わせる方法が好ましい。このタイプの偏光子の厚みとしては、５〜５０μｍが好ましく、さらには１０〜３０μｍが好ましく、特には１２〜２５μｍが好ましい。接着剤又は粘着剤の厚みは、１〜１０μｍが好ましく、さらに好ましくは２〜５μｍである。
【００２４】
（ｂ）の方法において、離型性基材としては、後述のものを使用できるが、特にＰＥＴ又はポリプロピレンなどの未延伸又は一軸延伸のフィルムが好ましい。離型性基材上にＰＶＡ偏光子を積層する方法としては、離型性基材にＰＶＡを塗工し、離型性基材と共に延伸してＰＶＡにヨウ素又は有機系の二色性色素を吸着させた後、ホウ素化合物で配向を固定化する方法が挙げられる。なお、本明細書において、離型性基材とＰＶＡ偏光子との積層体を「ＰＶＡ偏光子転写用積層体」と呼ぶことがある。
【００２５】
さらに、転写方法としては、ＰＶＡ偏光子転写用積層体の偏光子面（離型性基材が積層されていない面）と反射型偏光子とを接着剤又は粘着剤で貼り合わせ、必要により離型性基材を剥離する方法が挙げられる。このタイプの偏光子の厚みとしては、１〜１０μｍが好ましく、さらには２〜８μｍが好ましく、特には３〜６μｍが好ましい。接着剤又は粘着剤の厚みは、１〜１０μｍが好ましく、さらに好ましくは２〜５μｍである。
【００２６】
貼り合わせる際の接着剤としては、ポリビニルアルコール系接着剤、アクリルやエポキシなどの紫外線硬化型接着剤、エポキシ、イソシアネート（ウレタン）などの熱硬化型接着剤が好ましく用いられる。また、接着剤はホットメルト接着剤でもよい。粘着剤は、アクリル系、ウレタン系、ゴム系などが挙げられる。また、粘着剤としては、アクリル系の基材レスの光学用透明粘着剤シートを用いることも好ましい。
【００２７】
反射型偏光子の上に吸収型偏光子を設ける方法の例として、液晶偏光子の場合は（ｃ）及び（ｄ）の方法が挙げられる。
（ｃ）吸収型偏光子用塗料として液晶偏光子用塗料を塗工する方法。
（ｄ）離型性基材上の液晶偏光子を転写する方法。
【００２８】
（ｃ）の方法としては、反射型偏光子上に、液晶化合物を含有する液晶偏光子用塗料を塗工し、液晶化合物を配向及び固定させる方法が挙げられる。液晶化合物を配向及び固定させる方法としては、反射型偏光子をラビング処理し、この上に液晶偏光子用塗料を塗工し加熱して配向させた後、紫外線で硬化して固定させる方法；液晶偏光子用塗料の塗工後に偏光の紫外線を照射して液晶化合物を配向させながら固定させる方法等が挙げられる。また、液晶偏光子用塗料を塗工する前に、反射型偏光子の上に配向制御層を設ける、すなわち、反射型偏光子の上に配向制御層を介して液晶偏光子を積層することも好ましい方法である。
【００２９】
（ｄ）の方法としては、上記の方法（ｃ）に準じて離型性基材上に液晶偏光子を積層し、この液晶偏光子面に接着剤又は粘着剤を用いて反射型偏光子を貼り合わせ、必要により離型性基材を剥離する方法が挙げられる。貼り合わせる際の接着剤及び粘着剤は前述のものが挙げられる。離型性基材は、後述のものを用いることができる。なお、本明細書において、離型性基材と液晶偏光子の積層体を「液晶偏光子転写用積層体」と呼ぶことがある。
【００３０】
液晶偏光子の厚みとしては、０．１〜７μｍが好ましく、さらには０．３〜５μｍが好ましく、特には０．５〜３μｍが好ましい。接着剤又は粘着剤の厚みは、１〜１０μｍが好ましく、さらに好ましくは２〜５μｍである。
【００３１】
（離型性基材）
転写に用いられる離型性基材としては、離型性フィルム、金属ベルトなどが好ましく用いられる。
【００３２】
離型性フィルムとしては広く離型性フィルムとして用いられているものを適宜用いることができる。離型性フィルムは、単層又は多層からなり、少なくとも基材フィルムを含む。基材フィルムは樹脂フィルムであることが好ましい。樹脂フィルムの樹脂としては特に限定はなく、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリプロピレン、環状ポリオレフィンなど、樹脂フィルムとなるものであれば制限なく使用できる。これらの中でも、機械的強度、耐熱性、供給安定性などの面からポリエステルが好ましく、さらにはポリエチレンテレフタレートが好ましい。また、基材フィルムは未延伸フィルムであっても延伸フィルムであってもよい。延伸フィルムである場合は一軸延伸フィルムであっても二軸延伸フィルムであってもよい。中でも二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
【００３３】
基材フィルム自体が離型性を有する場合は、基材フィルムをそのまま離型性フィルムとして用いることができる。また、基材フィルムの離型性を調節するためにコロナ処理、プラズマ処理、火炎処理などの表面処理を行ってもよい。
【００３４】
離型性フィルムは、基材フィルム上に離型層を有していてもよい。離型層としては、シリコーン系、アミノ樹脂系、アルキッド樹脂系、長鎖アクリル樹脂系等が挙げられ、必要な剥離力に合わせてその組成及び種類を適宜選択できる。
【００３５】
離型性フィルムは、基材フィルムと離型層の間に易接着層を有していてもよい。易接着層としては、ポリエステル系、アクリル系、ポリウレタン系など各基材フィルムで従来から用いられているものを使用することができ、使用する基材フィルム及び／又は離型層に合わせて選択できる。
【００３６】
金属ベルトとしては、アルミニウム、鉄、ニッケル、チタン、銅、これらの合金類が好ましく用いられる。金属ベルトの表面には、クロム系、ニッケル系などのメッキが施されたものであってもよく、樹脂コートされたものであってもよい。金属ベルトの表面は鏡面加工されたものであることが好ましいが、後述するラビング処理に相当するような表面微細加工が施されていてもよい。
【００３７】
さらに、配向制御層と液晶偏光子に関して詳しく説明する。
（配向制御層）
液晶偏光子用塗料は離型性基材又は位相差層に直接塗工してもよいが、予め配向制御層を設け、この配向制御層上に塗工する方法も好ましい。なお、本明細書において、配向制御層と液晶偏光子とをあわせて１つの部材とみなし、その部材を液晶偏光子と呼ぶことがある。配向制御層と組み合わせる液晶偏光子は、総称としての液晶偏光子と明確に区別するため、液晶偏光層と呼ぶことがある。
【００３８】
配向制御層としては、液晶化合物を所望の配向状態にすることができるものであれば、どのような配向制御層でもよい。表面をラビング処理したラビング処理配向制御層、及び偏光の光照射により分子を配向させて配向機能を生じさせる光配向制御層が、配向制御層の好適な例として挙げられる。
【００３９】
（ラビング処理配向制御層）
ラビング処理配向制御層の材料には、通常、ポリマーが用いられる。ポリマーとしては、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリイミド及びその誘導体、アクリル樹脂、ポリシロキサン誘導体などが好ましく用いられる。ポリマーは１種類のみを用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４０】
ラビング処理配向制御層の形成方法は、上記のポリマー及び溶剤を含むラビング処理配向制御層用塗料を反射型偏光子又は離型性基材の離型面に塗布することにより得られる塗膜の表面をラビング処理する工程を含むことが好ましい。ラビング処理配向制御層用塗料は架橋剤を含んでいてもよい。
【００４１】
ラビング処理配向制御層用塗料の溶剤としては、ポリマー材料を溶解するものであれば制限なく用いることができる。具体例としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、セロソルブなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、ガンマーブチロラクトンなどのエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤；トルエン又はキシレンなどの芳香族炭化水素溶剤；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタンなどのエーテル系溶剤などが挙げられる。溶剤は、１種類のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４２】
ラビング処理配向制御層用塗料中のポリマーの濃度は、ポリマーの種類や製造しようとする配向制御層の厚みによって適宜調節できるが、固形分濃度で表して、０．２〜２０質量％とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲が特に好ましい。
【００４３】
塗布する方法としては、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法を採用することができる。
【００４４】
塗布後は乾燥（例えば加熱乾燥）を行うことが好ましい。乾燥温度は、反射型偏光子又は離型性基材の素材にもよるが、ＰＥＴの場合３０℃〜１７０℃が好ましく、より好ましくは５０〜１５０℃、さらに好ましくは７０〜１３０℃である。乾燥温度がこのような範囲にあれば、乾燥時間を長く取る必要がなく生産性に優れ、反射型偏光子又は離型性基材の熱伸長及び熱収縮がなく設計通りの光学機能が達成でき、平面性にも優れる。乾燥時間は、例えば０．５〜３０分であり、１〜２０分がより好ましく、さらには２〜１０分がより好ましい。
【００４５】
ラビング処理配向制御層の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、さらには０．０５〜５μｍ、特には０．１μｍ〜１μｍであることが好ましい。
【００４６】
ラビング処理は、一般には、表面を紙又は布で一定方向に擦ることにより実施することができる。ラビング処理は、ナイロン、ポリエステル、アクリルなどの繊維の起毛布のラビングローラーを用いる方法であることが好ましい。反射型偏光子又は離型性基材が長尺状のフィルムであり、フィルムの長手方向に対して斜めの所定方向に配向する配向制御層を設ける場合、ラビング方向は、当該方向に合った角度にすることが好ましい。角度の調整は、ラビングローラーとフィルムとの角度調整、フィルムの搬送速度とローラーの回転数の調整等で合わせることができる。
【００４７】
（光配向制御層）
光配向制御層は、光反応性基を有するポリマー及び／又はモノマーと溶剤とを含む塗料（光配向制御層用塗料）を反射型偏光子又は離型性基材に塗布し、偏光、好ましくは偏光紫外線を照射することによって配向規制力を付与した配向膜であることが好ましい。光反応性基は、光照射により液晶配向能を生じる基であることが好ましく、具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じる基であることが好ましい。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れ、スメクチック液晶状態を保持する点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合であると好ましく、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｎ結合、Ｎ＝Ｎ結合、Ｃ＝Ｏ結合からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。
【００４８】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基、シンナモイル基などが挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、アゾキシベンゼンを基本構造とするものなどが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基、マレイミド基などが挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。置換基の数は、特に制限されないが、例えば、１、２、３、又は４個である。
【００４９】
中でも、光二量化反応を起こしうる光反応性基が好ましく、シンナモイル基及びカルコン基が、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性及び経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましい。さらに、光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。主鎖の構造としては、ポリイミド、ポリアミド、（メタ）アクリル、ポリエステル等が挙げられる。
【００５０】
具体的な配向制御層としては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特開２００２−２２９０３９号公報、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特開２０１３−３３２４８号公報、特開２０１５−７７０２号公報、特開２０１５−１２９２１０号公報に記載の配向制御層が挙げられる。
【００５１】
光配向制御層用塗料の溶剤としては、光反応性基を有するポリマー及びモノマーを溶解するものであれば制限なく用いることができる。具体例としてはラビング処理配向制御層の形成方法で挙げたものが例示できる。光配向制御層用塗料には、光重合開始剤、重合禁止剤、各種安定剤を添加することも好ましい。また、光配向制御層用塗料には、光反応性基を有するポリマー及びモノマー以外のポリマー、光反応性基を有するモノマーと共重合可能な光反応性基を有しないモノマーを加えてもよい。
【００５２】
光配向制御層用塗料のポリマー又はモノマーの濃度、塗布方法、乾燥条件もラビング処理配向制御層の形成方法で挙げたものが例示できる。厚みもラビング処理配向制御層の好ましい厚みと同様である。
【００５３】
偏光は、配向前の光配向制御層面の方向から照射することが好ましい。
【００５４】
偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収できる波長領域のものが好ましい。具体的には、波長２５０〜４００ｎｍの範囲の紫外線が好ましい。偏光の光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レ−ザ−などが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプが好ましい。
【００５５】
偏光は、例えば、前記光源からの光を偏光子に通すことにより得られる。偏光子の偏光角を調整することにより、偏光の方向を調整することができる。偏光子は、偏光フィルター、グラントムソン、グランテ−ラ−等の偏光プリズム、ワイヤーグリッドタイプの偏光子が挙げられる。偏光は、実質的に平行光であることが好ましい。
【００５６】
照射する偏光の角度を調整することにより、光配向制御層の配向規制力の方向を任意に調整することができる。
【００５７】
照射強度は重合開始剤や樹脂（モノマー）の種類や量で異なるが、例えば３６５ｎｍ基準で１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、さらには２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【００５８】
（液晶偏光子）
液晶偏光子は一方向のみの光を通過させる偏光子としての機能を有し、二色性色素を含むことが好ましい。
【００５９】
<二色性色素>
二色性色素は、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する有機色素であることが好ましい。
【００６０】
二色性色素は、３００〜７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものが好ましい。このような二色性色素は、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素、アントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素は、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、スチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましくはビスアゾ色素及び／又はトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、２種類以上を組み合わせてもよいが、色調を調整（無彩色）にするため、２種以上を組み合わせることが好ましい。特には３種類以上を組み合わせるのが好ましい。特に、３種類以上のアゾ化合物を組み合わせるのが好ましい。
【００６１】
好ましいアゾ化合物としては、特開２００７−１２６６２８号公報、特開２０１０−１６８５７０号公報、特開２０１３−１０１３２８号公報、特開２０１３−２１０６２４号公報に記載の色素が挙げられる。
【００６２】
二色性色素はアクリルなどのポリマーの側鎖に導入された二色性色素ポリマーであることも好ましい形態である。二色性色素ポリマーとしては、特開２０１６−４０５５号公報で挙げられるポリマー、特開２０１４−２０６６８２号公報の［化６］〜［化１２］の化合物が重合されたポリマーが例示できる。
【００６３】
液晶偏光子中の二色性色素の含有量は、二色性色素の配向を良好にする観点から、液晶偏光子中、０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１．０〜１５質量％がさらに好ましく、２．０〜１０質量％が特に好ましい。   
【００６４】
液晶偏光子には、膜強度、偏光度、膜均質性の向上のため、さらに重合性液晶化合物が含まれていることが好ましい。なお、重合性液晶化合物は膜として重合後の物も含まれる。
【００６５】
<重合性液晶化合物>
重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を示す化合物であることが好ましい。重合性基は、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカル、酸などによって重合反応し得る基をいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性を示す化合物は、サーモトロピック液晶でもリオトロピック液晶でもよい。また、サーモトロピック液晶は、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。
【００６６】
重合性液晶化合物は、より高い偏光特性が得られるという点でスメクチック液晶化合物が好ましく、高次スメクチック液晶化合物がより好ましい。重合性液晶化合物が形成する液晶相が高次スメクチック相であると、配向秩序度のより高い液晶偏光子を製造することができる。
【００６７】
具体的な好ましい重合性液晶化合物としては、例えば、特開２００２−３０８８３２号公報、特開２００７−１６２０７号公報、特開２０１５−１６３５９６号公報、特表２００７−５１０９４６号公報、特開２０１３−１１４１３１号公報、ＷＯ２００５／０４５４８５号公報、Lub et al. Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115, 321-328(1996)などに記載のものが挙げられる。
【００６８】
液晶偏光子中の重合性液晶化合物の含有割合は、重合性液晶化合物の配向性を高くするという観点から、液晶偏光子中７０〜９９．５質量％が好ましく、より好ましくは７５〜９９質量％、さらに好ましくは８０〜９７質量％であり、特に好ましくは８３〜９５質量％である。
【００６９】
液晶偏光子は液晶偏光子用塗料を塗工して設けることができる。液晶偏光子用塗料は、添加剤、例えば、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び、重合性非液晶化合物、架橋剤等を含んでもよい。添加剤は１種類のみを用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７０】
溶剤としては、配向制御層用塗料の溶剤として挙げたものが好ましく用いられる。
【００７１】
重合開始剤は、重合性液晶化合物を重合させるものであれば限定はされないが、光により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。重合開始剤としては、例えばベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩などが挙げられる。
【００７２】
増感剤としては光増感剤が好ましく、例えば、キサントン化合物、アントラセン化合物、フェノチアジン、ルブレン等が挙げられる。
【００７３】
重合禁止剤としては、ハイドロキノン類、カテコール類、チオフェノール類が挙げられる。
【００７４】
重合性非液晶化合物としては、重合性液晶化合物と共重合するものが好ましく、例えば、重合性液晶化合物が（メタ）アクリロイルオキシ基を有する場合は（メタ）アクリレート類が挙げられる。（メタ）アクリレート類は単官能であっても多官能であってもよい。多官能の（メタ）アクリレート類を用いることで、偏光子の強度を向上させることができる。重合性非液晶化合物を用いる場合、その含有量は、偏光度の低下を抑制するため、液晶偏光子中に１〜１５質量％とすることが好ましく、さらには２〜１０質量％、特には３〜７質量％にすることが好ましい。
【００７５】
架橋剤としては、重合性液晶化合物、重合性非液晶化合物の官能基と反応しうる化合物が挙げられ、イソシアネート化合物、メラミン、エポキシ樹脂、オキサゾリン化合物などが挙げられる。
【００７６】
液晶偏光子用塗料を反射型偏光子上、離型性基材上、又は配向制御層上に塗工後、必要により乾燥、加熱、硬化することにより、液晶偏光子を作製することができる。
【００７７】
塗工方法としては、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法を採用することができる。
【００７８】
乾燥は、乾燥機（温風乾燥機、赤外線乾燥機など）で３０〜１７０℃の温度で行われることが好ましい。乾燥温度は、より好ましくは５０〜１５０℃、さらに好ましくは７０〜１３０℃であり、乾燥時間は０．５〜３０分が好ましく、１〜２０分がより好ましく、さらには２〜１０分がより好ましい。
【００７９】
液晶偏光子中の二色性色素及び重合性液晶化合物をより強固に配向させるために、加熱を行うことができる。加熱温度は、重合性液晶化合物が液晶相を形成する温度範囲にすることが好ましい。
【００８０】
液晶偏光子用塗料に重合性液晶化合物が含まれる場合、硬化するのが好ましい。硬化方法としては、加熱及び光照射が挙げられ、光照射が好ましい。硬化により二色性色素を配向した状態で固定することができる。硬化は、重合性液晶化合物に液晶相を形成させた状態で行うのが好ましく、液晶相を示す温度で光照射して硬化してもよい。光照射における光は、可視光、紫外光及びレーザー光が挙げられる。取り扱いやすい点で、紫外光が好ましい。
【００８１】
照射強度は重合開始剤や樹脂（モノマー）の種類や量で異なるが、例えば３６５ｎｍ基準で１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、さらには２００〜５０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【００８２】
液晶偏光子は、液晶偏光子用塗料を配向制御層上に塗布することで、色素が配向層の配向方向に沿って配向し、所定方向の偏光透過軸を有することになるが、配向制御層を設けない場合は、偏光を照射して液晶偏光子用塗料を硬化させることで、液晶偏光子を配向させることもできる。
【００８３】
吸収型偏光子を設ける方法としてはいずれであってもよいが、特には（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）の方法が好ましい。
【００８４】
反射型偏光子の反射軸と吸収型偏光子の吸収軸とがなす角度は１０度以下が好ましく、より好ましくは７度以下、より好ましくは５度以下、さらに好ましくは３度以下、特に好ましくは２度以下である。上記角度をこのような範囲にすることで高い輝度向上効果を確保することができる。
【００８５】
本発明の一実施態様において、反射型偏光子に吸収型偏光子が直接積層されていることが好ましい。ここで言う直接積層されているとは、反射型偏光子と吸収型偏光子とが、それらの間に偏光子保護フィルムなどの自立性フィルムが存在することなく直接接触して積層されているか、接着剤層又は粘着剤層などを介して積層されている状態を意味する。なお、吸収型偏光子と接着剤層又は粘着剤層との間に層間保護層を設けてもよい。層間保護層は、接着剤又は粘着剤の成分及び使用溶剤が吸収型偏光子内に移行したり、吸収型偏光子の二色性色素が接着剤又は粘着剤層中に移行したりして偏光度の低下が起こることを防ぐことができる。層間保護層は、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル樹脂などの塗工層、アクリル系化合物の硬化層など適宜使用することができる。反射型偏光子と吸収型偏光子との間に、層間保護層、易接着層などの接着に付随する層が含まれているとしても、反射型偏光子と吸収型偏光子は直接積層されているとする。
【００８６】
（位相差層）
複合偏光子は、吸収型偏光子上に位相差層を有することが好ましい。位相差層は、液晶表示画面を法線方向から斜めにして観察した場合に生じる色調の変化及び光漏れを防ぐ光学補償のために設けることができる。
【００８７】
位相差層は、位相差層用塗料を塗工したコート層であることが好ましく、液晶化合物又は高分子化合物を含有する塗料を塗工したコート層であることがより好ましい。位相差層は、目的に合わせて、正又は負のＡプレート、正又は負のＣプレート、Ｏプレートなどを適宜選択できる。Ｃプレートとしてはディスコティック液晶化合物を水平配向させたもの（特開２００８−４０３０９号公報）、棒状液晶化合物にカイラル剤を添加してねじれらせん構造配向としたもの、高分子化合物層が好ましく、Ａプレートとしては、棒状液晶化合物を水平配向させたものが挙げられる。
【００８８】
高分子化合物としては、繰り返し単位に少なくとも１種の芳香族環を有するポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアリールエーテルケトン、ポリエステルイミドなどのポリマーが挙げられる。
【００８９】
液晶化合物としては、棒状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物などを使用することができる。また、液晶化合物としては、配向状態を固定できるという面で、二重結合などの重合性基を持つ重合性液晶化合物であることが好ましい。
【００９０】
棒状液晶化合物の例としては、特開２００２−０３００４２号公報、特開２００４−２０４１９０号公報、特開２００５−２６３７８９号公報、特開２００７−１１９４１５号公報、特開２００７−１８６４３０号公報、及び特開平１１−５１３３６０号公報に記載された重合性基を有する棒状液晶化合物が挙げられる。
【００９１】
具体的な棒状液晶化合物としては、
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２）ｍ−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−Ｐｈ２−ＯＣＯ−Ｐｈ１−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２）ｍ−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−ＮＰｈ−ＯＣＯ−Ｐｈ１−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２）ｍ−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−Ｐｈ２−ＯＣＨ３
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２）ｍ−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−Ｐｈ１−Ｐｈ１−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｃ２Ｈ５
（式中、
ｍ及びｎは２〜６の整数であり、
Ｐｈ１及びＰｈ２は１，４−フェニレン基（Ｐｈ２は２位にメチル基が置換されていてもよい）であり、
ＮＰｈは２，６−ナフチレン基である）
が挙げられる。
【００９２】
これらの棒状液晶化合物は、ＢＡＳＦ社製からＬＣ２４２等として市販されており、それらを利用することができる。
【００９３】
これらの棒状液晶化合物は複数種を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００９４】
ディスコティック液晶化合物としては、ベンゼン誘導体、トルキセン誘導体、シクロヘキサン誘導体、アザクラウン系、フェニルアセチレン系マクロサイクル等が挙げられる。ディスコティック液晶化合物は、特開２００１−１５５８６６号公報にも様々なものが記載されており、これらが好適に用いられる。
【００９５】
中でもディスコティック液晶化合物としては、下記一般式（１）で表されるトリフェニレン環を有する化合物が好ましく用いられる。
【化１】
2020194091.tif 000002
式中、Ｒ１〜Ｒ６はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、アルキル基、又は−Ｏ−Ｘで示される基（ここで、Ｘは、アルキル基、アシル基、アルコキシベンジル基、エポキシ変性アルコキシベンジル基、アクリロイルオキシ変性アルコキシベンジル基、アクリロイルオキシ変性アルキル基である）である。Ｒ１〜Ｒ６は、下記一般式（２）で表されるアクリロイルオキシ変性アルコキシベンジル基（ｍは４〜１０の整数）であることが好ましい。
【００９６】
【化２】
2020194091.tif 000003
【００９７】
位相差の程度は、液晶セルのタイプ、液晶セルに用いられる液晶化合物の性質により適宜設定される。例えば、ＴＮタイプの場合はディスコティック液晶を用いたＯプレート、傾斜配向が好ましく用いられる。ＶＡタイプ又はＩＰＳタイプの場合、棒状液晶化合物又はディスコティック液晶化合物を用いたＣプレート又はＡプレートが好ましく用いられる。これらの位相差層は単層で用いてもよく、複数の位相差層を組み合わせて用いてもよい。
【００９８】
位相差層を形成する方法は、位相差層用塗料を吸収型偏光子上に塗工する方法であってもよく、離型性基材上の位相差層（位相差層転写用積層体）を吸収型偏光子に転写する方法であってもよく、離型性基材上の吸収型偏光子及び位相差層（偏光子及び位相差層転写用積層体）を吸収型偏光子に転写する方法であってもよい。
【００９９】
位相差層用塗料は、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤、重合性非液晶化合物、架橋剤等を含んでもよい。これらは、配向制御層又は液晶偏光子で説明したものを用いることができる。
【０１００】
位相差層の液晶化合物を配向させる方法としては、上述の液晶偏光子の配向と同様の方法を採ることができる。すなわち、位相差層用塗料を吸収型偏光子又は離型性基材に直接塗工して偏光紫外線を照射する方法、吸収型偏光子又は離型性基材をラビング処理する方法、吸収型偏光子と位相差層との間に配向制御層を設ける方法などが挙げられる。これらの条件も配向制御層又は液晶偏光子で説明した条件が好ましい条件として用いられる。
【０１０１】
位相差層は複数設けてもよい。この場合、１つの離型性基材上に複数の位相差層を有する積層体を用いて、複数の位相差層を吸収型偏光子に転写してもよい。また、１つの離型性基材上に１つの位相差層を有する積層体を複数用いて、位相差層を１つずつ吸収型偏光子に転写してもよい。塗工方法と転写方法を組み合わせてもよい。
【０１０２】
位相差層は画像表示セルのタイプにより適宜選択できる。以下、代表的な液晶セルに用いる位相差層について説明する。
【０１０３】
（ＴＮタイプ液晶セル用の位相差層）
ＴＮタイプ液晶セルにおいて、位相差層としては、ディスコティック液晶化合物で形成された層が好ましく、ディスコティック液晶化合物のディスコティック構造単位の円盤面が位相差層の厚み方向で徐々に傾斜角を変えながら配向（傾斜配向）された層であることが特に好ましい。
【０１０４】
ディスコティック液晶化合物のディスコティック構造単位の円盤面と位相差層の平面とがなす角度の下限は好ましくは５度であり、より好ましくは１０度である。この角度の上限は好ましくは８５度であり、より好ましくは８０度である。
【０１０５】
ディスコティック液晶化合物のディスコティック構造単位の円盤面と位相差層の平面とがなす角度の最小値と最大値の差の下限は好ましくは１０度であり、より好ましくは１５度である。この差の上限は好ましくは６０度であり、より好ましくは５５度である。
【０１０６】
位相差層の平面方向でのディスコティック液晶化合物の配向方向は、ディスコティック液晶化合物のディスコティック構造の円盤面が立った状態で偏光子の吸収軸と平行になるように調整することが好ましい。
【０１０７】
位相差層の厚み方向のレタデーションＲｔｈ（((nx+ny)/2-nz)×d）の下限は好ましくは２０ｎｍであり、より好ましくは５０ｎｍであり、さらに好ましくは１００ｎｍである。Ｒｔｈの上限は好ましくは４００ｎｍであり、より好ましくは３８０ｎｍであり、さらに好ましくは３５０ｎｍである。
【０１０８】
位相差層は特定の光軸を持たず、法線方向から傾いた方向にレタデーションの絶対値の最小値を有することが好ましい。レタデーションの絶対値が最小となる方向と法線方向との角度の下限は好ましくは５度であり、より好ましくは１０度である。この角度の上限は好ましくは５０度であり、より好ましくは４０度である。
【０１０９】
位相差層の特性を上記のようにすることにより、画像表示装置を斜めから見た場合の光漏れ及び色調の変化を効果的に防止し、視野角を広げることができる。
【０１１０】
位相差層の厚みの下限は、補償効果の点から、好ましくは０．１μｍであり、より好ましくは０．５μｍであり、さらに好ましくは１μｍである。位相差層の厚みの上限は、補償効果の点から、好ましくは１０μｍであり、より好ましくは７μｍであり、さらに好ましくは５μｍである。
【０１１１】
一般的に、偏光子は吸収軸が液晶セルの辺に対して４５度となるようにすることが好ましい。複合偏光子（例えばフィルムロール）の場合、液晶セルへの貼り合わせの利便性の点では、反射型偏光子の吸収軸及び吸収型偏光子の吸収軸の両方を、長手方向（例えばフィルム流れ方向又はロールの巻き取り方向）に対して４５度となるようにすることが好ましい。この場合、位相差層は、吸収型偏光子の吸収軸方向に合わせて複合偏光子に積層されていることが好ましい。
【０１１２】
このような吸収軸が斜めになった複合偏光子において、製造の容易さから、反射型偏光子はコレステリック液晶化合物層とλ／４位相差層の積層体であることが好ましく、吸収型偏光子は液晶偏光子であることが好ましい。また、反射型偏光子として斜め４５度の方向に延伸されたお互い組成の異なる樹脂からなる異方性交互積層フィルム又は異方性海島構造フィルムを用い、この上に吸収型偏光子として液晶偏光子を積層した複合偏光子も好ましい。
【０１１３】
反射型偏光子の吸収軸及び吸収型偏光子の吸収軸の両方が長手方向に対して平行又は垂直であってもよい。このような複合偏光子は、液晶セルに貼り合わせる前に長手方向に対して斜め方向に切り出してもよい。この場合も、位相差層は、吸収型偏光子の吸収軸方向に合わせて複合偏光子に積層されていることが好ましい。
【０１１４】
複合偏光子は、長手方向に対して平行又は垂直の方向に吸収軸を持つ反射型偏光子を長手方向に対して斜めに切り出し、この上に吸収型偏光子及び位相差層を設けたものであってもよい。
【０１１５】
（ＶＡタイプ液晶セル用の位相差層）
ＶＡタイプ液晶セルにおいて、位相差層の屈折率楕円体は、厚みを持った円盤状（例えばアンパン状）〜楕円板状（例えばハンバーグ状）であることが好ましい。
【０１１６】
位相差層の面内レタデーション（Ｒｅ）は０〜２００ｎｍ、厚み方向のレタデーション（Ｒｔｈ）は７０〜４００ｎｍであることが好ましく、Ｒｅ＜Ｒｔｈを満たすことが好ましい。
【０１１７】
Ｒｅの下限はより好ましくは１０ｎｍであり、さらに好ましくは２０ｎｍである。Ｒｅの上限はより好ましくは１００ｎｍであり、さらに好ましくは７０ｎｍである。
【０１１８】
Ｒｔｈの下限はより好ましくは１００ｎｍであり、さらに好ましくは１２０ｎｍである。Ｒｔｈの上限はより好ましくは３５０ｎｍであり、さらに好ましくは３００ｎｍであり、特に好ましくは２５０ｎｍである。
【０１１９】
Ｒｔｈ−Ｒｅの下限は好ましくは２０ｎｍであり、より好ましくは４０ｎｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍである。上限は好ましくは３００ｎｍであり、より好ましくは２５０ｎｍであり、さらに好ましくは２００ｎｍである。
【０１２０】
Ｒｅ、Ｒｔ、及び差（Ｒｔｈ−Ｒｅ）を上記の範囲にすることにより、角度により光漏れが生じたり、階調性の低下、色調のズレを効果的に低減することができる。
【０１２１】
位相差層は、ディスコティック液晶化合物又は棒状液晶化合物で形成された位相差層が好ましい。また、位相差層の好適な例としては、具体的には、Ｃプレート層（例えば負のＣプレート層）のみ、Ａプレート層（例えば正のＡプレート層）のみ、Ｃプレート層とＡプレート層の組み合わせ、Ａプレート層の直交組み合わせなどが挙げられる。
【０１２２】
吸収型偏光子の吸収軸は液晶セルの辺に対して平行又は垂直であることが好ましい。従って、偏光子転写用積層体がロールフィルムの場合、偏光子の吸収軸が偏光子転写用積層体の製造の流れ方向に対して平行又は垂直となるように配向されていることが好ましい。
【０１２３】
（ＩＰＳタイプ液晶セル用の位相差層）
ＩＰＳタイプ液晶セルの場合、位相差層を設けない形態も好ましい態様であるが、位相差層を設けることも好ましい態様である。位相差層は、複数の屈折率楕円体の長軸を垂直方向として水平方向に並べた正のＣプレート、複数の屈折率楕円体の短軸を垂直方向として水平方向に並べた正のＣプレートと正のＡプレートとの組合せが好ましい。
【０１２４】
位相差層が正のＣプレートの場合、Ｒｅは０〜２０ｎｍであることが好ましく、Ｒｅの上限はより好ましくは１５ｎｍ、さらに好ましくは１０ｎｍ、特に好ましくは５ｎｍである。Ｒｔｈは０ｎｍを越え、２５０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈの下限はより好ましくは３０ｎｍ、さらに好ましくは５０ｎｍ、特に好ましくは７０ｎｍである。Ｒｔｈの上限はより好ましくは２２０ｎｍ、さらに好ましくは２００ｎｍ、特に好ましくは１８０ｎｍである。位相差層が正のＣプレートと正のＡプレートとの組合せの場合、Ｒｅは２０ｎｍを越え、１５０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｅの下限はより好ましくは２５ｎｍ、さらに好ましくは３０ｎｍである。Ｒｅの上限はより好ましくは１２０ｎｍ、さらに好ましくは１００ｎｍである。Ｒｔｈは上記と同じである。Ｒｅ及びＲｔｈを上記の範囲にすることにより、角度により光漏れが生じたり、階調性の低下、色調のズレを効果的に低減することができる。
【０１２５】
位相差層が正のＣプレートの場合、位相差層は棒状液晶化合物を垂直配向させたもの（特開２００９−２８２３７４号公報）が好ましく、正のＣプレートと正のＡプレートとの組合せの場合、位相差層は正のＣプレート層と正のＡプレート層の多層であることが好ましい。この場合、正のＡプレート層は棒状液晶化合物を水平配向させたものが好ましい。
【０１２６】
ＩＰＳタイプ液晶セル用の場合も、ＶＡタイプ液晶セル用と同様に、複合偏光子の吸収軸は、偏光子転写用積層体の製造の流れ方向に対して平行又は垂直となるように配向されていることが好ましい。
【０１２７】
なお、上記各タイプの液晶セルの位相差の説明において、角度（４５度、平行、垂直）は好ましくは５度、より好ましくは３度、さらに好ましくは２度の誤差を許容するものとする。
【０１２８】
吸収型偏光子と位相差層との間に層間保護層を設けたり、位相差層上、又は複数の位相差層の間にも層間保護層を設けてもよい。これらの層間保護層は、位相差層又は偏光子と共に離型性基材上に設けて対象に転写してもよい。また、層間保護層を設けた後、層間保護層をラビング処理し、その上に配向制御層を設けることなく位相差層を設けてもよい。
【０１２９】
（複合偏光子の製造方法）
本発明の一実施態様において、反射型偏光子及び吸収型偏光子を含む複合偏光子の製造方法は、（ａ）反射型偏光子に吸収型偏光子を積層する工程を含むことが好ましく、工程（ａ）は、
（ａ１）反射型偏光子に液晶偏光子用塗料（吸収型偏光子用塗料）を塗工する工程；又は
（ａ２）反射型偏光子に、離型性基材上に吸収型偏光子が積層された積層体の吸収型偏光子が反射型偏光子側に配置されるように、前記積層体を積層する工程
を含むことが好ましい。
【０１３０】
工程（ａ２）の積層体の製造方法は、
（ａ２１）離型性基材にポリビニルアルコールを含有する塗料を塗工して得られた塗膜に二色性色素を吸着させる工程；又は
（ａ２２）離型性基材に液晶偏光子用塗料を塗工する工程
を含むことが好ましい。
【０１３１】
工程（ａ）は、工程（ａ２）に加えて、さらに
（ａ３）離型性基材を剥離する工程
を含むことが好ましい。
【０１３２】
（位相差層を有する複合偏光子の製造方法）
本発明の一実施態様において、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、工程（ａ）に加えて、さらに、
（ｂ）吸収型偏光子（反射型偏光子とは反対側）に位相差層を積層する工程
を含むことが好ましい。工程（ｂ）は、
（ｂ１）吸収型偏光子に位相差層用塗料を塗工する工程；又は
（ｂ２）吸収型偏光子に、離型性基材上に位相差層が積層された積層体の位相差層が吸収型偏光子側に配置されるように、前記積層体を積層する工程
を含むことが好ましい。
【０１３３】
工程（ｂ２）の積層体の製造方法は、
（ｂ２１）離型性基材に位相差層用塗料を塗工する工程
を含むことが好ましい。
【０１３４】
工程（ｂ）は、工程（ｂ２）に加えて、さらに
（ｂ３）離型性基材を剥離する工程
を含むことが好ましい。
【０１３５】
本発明の一実施態様において、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、工程（ａ１）及び工程（ｂ１）を含むことが好ましい。例えば、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、（Ａ）反射型偏光子に吸収型偏光子として液晶偏光子を塗工により設け、液晶偏光子上に位相差層を塗工により設ける方法であることが好ましい。方法（Ａ）は、以下の工程を含むことが好ましい。
（Ａ１）反射型偏光子に液晶偏光子用塗料（吸収型偏光子用塗料）を塗工して吸収型偏光子を設ける工程、及び
（Ａ２）吸収型偏光子に位相差層用塗料を塗工して位相差層を設ける工程。
【０１３６】
本発明の一実施態様において、位相差を有する複合偏光子の製造方法は、工程（ａ１）及び工程（ｂ２）を含むことが好ましい。例えば、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、（Ｂ）反射型偏光子に吸収型偏光子として液晶偏光子を塗工により設け、液晶偏光子上に位相差層を転写により設ける方法であることが好ましい。方法（Ｂ）は、以下の工程を含むことが好ましい。
（Ｂ１）反射型偏光子に液晶偏光子用塗料（吸収型偏光子用塗料）を塗工して吸収型偏光子を設ける工程、
（Ｂ２）離型性基材の離型面に位相差層用塗料を塗工して位相差層を設けた位相差層転写用積層体を準備する工程、及び
（Ｂ３）吸収型偏光子に位相差層転写用積層体の位相差層面を貼り合わせる工程。
【０１３７】
本発明の一実施態様において、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、工程（ａ２）及び（ａ３）に加えて、さらに、
（ｃ）離型性基材の剥離面に位相差層を積層する工程
を含むことが好ましい。工程（ｃ）は、
（ｃ１）離型性基材の剥離面に位相差層用塗料を塗工する工程；又は
（ｃ２）離型性基材の剥離面に、別の離型性基材上に位相差層が積層された積層体の位相差層が前記剥離面側に配置されるように、前記積層体を積層する工程
を含むことが好ましい。
【０１３８】
本発明の一実施態様において、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、工程（ａ２）、（ａ３）、及び（ｃ１）を含むことが好ましい。例えば、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、（Ｃ）反射型偏光子に吸収型偏光子としてＰＶＡ偏光子を転写し、ＰＶＡ偏光子上に位相差層を塗工により設ける方法であることが好ましい。方法（Ｃ）は、以下の工程を含むことが好ましい。
（Ｃ１）離型性基材の離型面にポリビニルアルコールを含有する塗料を塗工して得られた塗膜に二色性色素を吸着させた吸収型偏光子（ＰＶＡ偏光子転写用積層体）を準備する工程、
（Ｃ２）反射型偏光子にＰＶＡ偏光子転写用積層体の偏光子面を貼り合わせる工程、
（Ｃ３）ＰＶＡ偏光子転写用積層体の離型性基材を剥離する工程、及び
（Ｃ４）離型性基材の剥離面（ＰＶＡ偏光子面）に位相差層用塗料を塗工して位相差層を設ける工程。
また、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、（Ｄ）反射型偏光子に吸収型偏光子として液晶偏光子を転写により設け、液晶偏光子上に位相差層を塗工により設ける方法であることも好ましい。方法（Ｄ）は、以下の工程を含むことが好ましい。
（Ｄ１）離型性基材の離型面に液晶偏光子用塗料（吸収型偏光子用塗料）を塗工して吸収型偏光子を設けた液晶偏光子転写用積層体を準備する工程、
（Ｄ２）反射型偏光子に液晶偏光子転写用積層体の偏光子面を貼り合わせる工程、
（Ｄ３）液晶偏光子転写用積層体の離型性基材を剥離する工程、及び
（Ｄ４）離型性基材の剥離面（液晶偏光子面）に位相差層用塗料を塗工して位相差層を設ける工程。
【０１３９】
本発明の一実施態様において、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、工程（ａ２）、（ａ３）、及び（ｃ２）を含むことが好ましい。例えば、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、（Ｅ）反射型偏光子に吸収型偏光子としてＰＶＡ偏光子を転写し、ＰＶＡ偏光子上に位相差層を転写により設ける方法であることが好ましい。方法（Ｅ）は、以下の工程を含むことが好ましい。
（Ｅ１）第１の離型性基材の離型面にポリビニルアルコールを含有する塗料を塗工して得られた塗膜に二色性色素を吸着させた吸収型偏光子（ＰＶＡ偏光子転写用積層体）を準備する工程、
（Ｅ２）反射型偏光子にＰＶＡ偏光子転写用積層体のＰＶＡ偏光子面を貼り合わせる工程、
（Ｅ３）第１の離型性基材を剥離する工程、
（Ｅ４）第２の離型性基材の離型面に位相差層用塗料を塗工して位相差層を設けた位相差層転写用積層体を準備する工程、及び
（Ｅ５）第１の離型性基材の剥離面に位相差層転写用積層体の位相差層面を貼り合わせる工程。
また、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、（Ｆ）反射型偏光子に吸収型偏光子として液晶偏光子を転写により設け、液晶偏光子上に位相差層を転写により設ける方法であることも好ましい。方法（Ｆ）は、以下の工程を含むことが好ましい。
（Ｆ１）第１の離型性基材の離型面に液晶偏光子用（吸収型偏光子用塗料）塗料を塗工して吸収型偏光子を設けた液晶偏光子転写用積層体を準備する工程、
（Ｆ２）反射型偏光子に液晶偏光子転写用積層体の偏光子面を貼り合わせる工程、
（Ｆ３）第１の離型性基材を剥離する工程、
（Ｆ４）第２の離型性基材の離型面に位相差層用塗料を塗工して位相差層が設けられた位相差層転写用積層体を準備する工程、及び
（Ｆ５）第１の離型性基材の剥離面に位相差層転写用積層体の位相差層面を貼り合わせる工程。
【０１４０】
本発明の一実施態様において、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、
（ｄ）離型性基材に位相差層を積層する工程、
（ｅ）位相差層に吸収型偏光子を積層する工程、及び
（ｆ）吸収型偏光子に反射型偏光子を積層する工程
を含むことが好ましい。
【０１４１】
工程（ｅ）は、
（ｅ１）位相差層に液晶偏光子用塗料（吸収型偏光子用塗料）を塗工する工程；又は
（ｅ２）位相差層に、離型性基材上にＰＶＡ偏光子が積層されたＰＶＡ偏光子転写用積層体のＰＶＡ偏光子が位相差層側に配置されるように、前記積層体を積層する工程
を含むことが好ましい。
【０１４２】
本発明の一実施態様において、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、工程（ｄ）、（ｅ１）、及び（ｆ）を含むことが好ましい。例えば、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、（Ｇ）離型性基材上に位相差層及び液晶偏光子（吸収型偏光子）をこの順で塗工により設け、液晶偏光子が反射型偏光子側に配置されるように、反射型偏光子に液晶偏光子及び位相差層を転写する方法であることが好ましい。方法（Ｇ）は、以下の工程を含むことが好ましい。
（Ｇ１）離型性基材の離型面に位相差層用塗料を塗工して位相差層を設ける工程、
（Ｇ２）位相差層に液晶偏光子用（吸収型偏光子用塗料）塗料を塗工して吸収型偏光子を設けた積層体を得る工程、及び
（Ｇ３）反射型偏光子に前記積層体の吸収型偏光子面を貼り合わせる工程。
【０１４３】
本発明の一実施態様において、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、工程（ｄ）、（ｅ２）、及び（ｆ）を含むことが好ましい。例えば、位相差層を有する複合偏光子の製造方法は、（Ｈ）離型性基材上に位相差層を塗工により設け、位相差層上にＰＶＡ偏光子（吸収型偏光子）を転写により設け、ＰＶＡ偏光子が反射型偏光子側に配置されるように、反射型偏光子にＰＶＡ偏光子及び位相差層を転写する方法であることが好ましい。方法（Ｈ）は、以下の工程を含むことが好ましい。
（Ｈ１）第１の離型性基材の離型面に位相差層用塗料を塗工して位相差層を設けた位相差層転写用積層体を準備する工程、
（Ｈ２）第２の離型性基材の離型面にポリビニルアルコールを含有する塗料を塗工して得られた塗膜に二色性色素を吸着させた吸収型偏光子（ＰＶＡ偏光子転写用積層体）を準備する工程、
（Ｈ３）位相差層転写用積層体の位相差層面にＰＶＡ偏光子転写用積層体の偏光子面を貼り合わせる工程、
（Ｈ４）第２の離型性基材を剥離する工程、及び
（Ｈ５）第２の離型性基材の剥離面に反射型偏光子を貼り合わせる工程。
【０１４４】
本発明の複合偏光子はその表面の保護のために、少なくとも片面にマスキングフィルムが貼り合わされているものであってもよい。マスキングフィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステルなどの基材に、アクリル系、ゴム系、ポリオレフィン系などの粘着層を設けたものが好ましく用いられる。マスキングフィルの代わりに、吸収型偏光子又は位相差層等を転写する際に用いられた離型性基材が残存したものであってもよい。
離型性基材及びマスキングフィルムは、対象に貼り合わせる直前、又は、接着剤層又は粘着剤層を設ける直前に剥離されることが好ましい。また、反射型偏光子面のマスキングフィルムは画像表示装置に組み込まれる直前に剥離されることが好ましい。
【０１４５】
（画像表示セル及び画像表示装置）
一般的に、液晶表示装置などで電極を有するガラス板などに液晶化合物を封止した状態ものが液晶セル、有機ＥＬ表示装置などで電極を有するガラス板などに有機発光体を封止した状態ものが有機ＥＬセルと呼ばれている。本明細書では、このように偏光板を設ける前の状態のものを画像表示セルとする。
【０１４６】
また、一般的に、画像表示セルに偏光板を設け、信号を入力すれば画像が表示できる状態のもの、これにタッチパネルなどの部材を積層した状態のものを画像表示パネルと呼び、さらに、画像を表示するための信号のコントローラーと共に、画像表示パネルを筐体などに組み込んだものを画像表示装置と呼ぶことがある。本発明の画像表示装置は、画像表示パネル、すなわち、信号を入力すれば画像が表示できる状態のものを含むことが好ましい。
【０１４７】
（液晶表示装置の製造方法）
液晶表示装置は液晶セルの両側に偏光子が設けられることが好ましく、本発明の複合偏光子は光源側偏光子として用いられることが好ましい。液晶表示セルとの貼り合わせにおいては、複合偏光子の反射型偏光子を外側にして（吸収型偏光子を液晶セル側にして）、粘着剤又は接着剤を用いて貼り合わされることが好ましい。粘着剤又は接着剤は前述したものが用いられる。
【０１４８】
液晶表示セルに貼り合わせるための接着剤層又は粘着剤層は、予め複合偏光子に設けられていてもよい。この場合、接着剤層又は粘着剤層の上にさらにセパレータが積層されていてもよい。セパレータは、離型性基材で挙げたもの等を用いることができる。
【０１４９】
視認側偏光子は特に限定されるものではなく、従来知られた偏光子を用いることができる。また、視認側に用いられる光学補償のための位相差フィルム又は位相差層も、液晶セルのタイプ及び光源側に用いられる複合偏光子の位相差層の特性に合わせて、適宜選択すればよい。視認側に用いられる位相差フィルム又は位相差層の特性は、本発明の複合偏光子の位相差層の特性とほぼ同様であることが好ましい。
【０１５０】
液晶表示装置の薄型化のためには、視認側偏光子も薄型であることが好ましく、視認側偏光子は、ＰＶＡ偏光子転写用積層体を用いたもの、又は液晶偏光子が好ましい。また、複合偏光子で説明した位相差層を視認側偏光子に積層することも好ましい。
【０１５１】
視認側偏光子の少なくとも一方の面には、偏光子保護フィルムが積層されていてもよい。視認側偏光子保護フィルムは、水分透過率及び吸水性が低く、寸法安定性に優れるポリエステルフィルムであることが好ましく、特には面内レタデーション（Ｒｅ）が３０００〜９０００ｎｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好ましい。ＰＥＴフィルムのＲｅはさらには４５００〜８０００ｎｍであることが好ましい。
【０１５２】
さらに液晶表示装置の薄型化のためには、視認側偏光子に偏光子保護フィルムが積層されていないことが好ましい。視認側偏光子としては、具体的には、
・ＰＶＡ偏光子単体を液晶セルに貼り合わせたもの
・ＰＶＡ偏光子転写用積層体を用いて液晶セルにＰＶＡ偏光子を転写したもの
・離型性基材の離型面に設けられた液晶偏光子を液晶セルに転写したもの
等が挙げられる。
【０１５３】
液晶セルと視認側偏光子との間には位相差層が設けられていてもよい。位相差層を設ける方法としては、
・位相差層転写用積層体を用いて液晶セルに位相差層を転写する方法
・ＰＶＡ偏光子単体に、位相差層用塗料を用いて塗工するか、又は位相差層転写用積層体を用いて転写することにより位相差層を設け、位相差面を液晶セルに貼り合わせる方法
・ＰＶＡ偏光子転写用積層体のＰＶＡ偏光子面に、位相差層用塗料を用いて塗工するか、又は位相差層転写用積層体を用いて転写することにより位相差層を設け、位相差面を液晶セルに貼り合わせる方法
等が挙げられる。
【０１５４】
さらに視認側偏光子の視認側には、コート層が設けられていることが好ましい。コート層としては、ハードコート層、防眩層、反射防止層、低反射層などが挙げられる。これらのコート層はアクリル系化合物の硬化物であることが好ましい。コート層は、表面保護機能を有することが好ましい。
【０１５５】
離型性基材上にコート層を設けた後、コート層上に吸収型偏光子を設け、吸収型偏光子が液晶セル側に配置されるように、吸収型偏光子を液晶セルに積層することが好ましい。前記吸収型偏光子上にさらに位相差層を設けて、位相差層が液晶セル側に配置されるように、位相差層を液晶セルに積層することも好ましい。
【０１５６】
コート層上に吸収型偏光子を設ける方法としては、例えば、
・ＰＶＡ偏光子単体を貼り合わせる方法
・ＰＶＡ偏光子転写用積層体を用いて転写する方法
・液晶偏光子用塗料を塗工する方法
・離型性基材上の液晶偏光子を転写する方法
等が挙げられる。
【０１５７】
位相差層を設ける方法としては、例えば、位相差層用塗料を塗工する方法、位相差層転写用積層体を用いて転写する方法が挙げられる。
【０１５８】
視認側偏光子、位相差層、コート層の積層、液晶セルとの貼り合わせには、複合偏光子で説明した接着剤又は粘着剤と同様のものを用いることができる。さらに、任意の２つの層の間に層間保護層を設けてもよい。層間保護層は、複合偏光子で説明した層間保護層と同様の層であってもよい。
【実施例】
【０１５９】
以下、実施例を参照して本発明をより具体的に説明する。本発明は、下記実施例に限定されず、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜変更を加えて実施することも可能である。それらは、いずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
【０１６０】
（位相差層のレタデーション測定）
厚さ５０μｍのポリエステルフィルム（東洋紡株式会社製コスモシャイン（ＴＭ）Ａ４１００）の非易接着層面に、後述の実施例と同じ条件で、配向制御層及び位相差層を設け、これをガラス板（３５ｍｍ×３５ｍｍ）に転写して測定用サンプルとした。転写には、紫外線硬化型接着剤を用いた。
サンプルを自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ―ＷＲ、王子計測（株））を用い、使用波長を５９０ｎｍとした場合に垂直方向から測定したレタデーション値（Ｒｅ）を測定し、さらに、位相差層用塗料Ｃを用いた位相差層の場合はフィルム面を面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として、位相差層用塗料Ａを用いた位相差層の場合はフィルム面内の任意の方向を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して法線方向から０度から１０度おきに５０度まで傾けて同様にレタデーション値を測定しこの値、膜厚、平均屈折率からＲｔｈを求めた。
厚みは、フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面切片を切り出し、偏光顕微鏡で観察して厚みを求めた。
平均屈折率は、位相差層用塗料Ｃを用いた位相差層の場合は１．６０、位相差層用塗料Ａを用いた位相差層の場合は、１．６６を用いた。
【０１６１】
（離型性基材）
離型性基材は厚さ５０μｍのポリエステルフィルム（東洋紡製コスモシャイン（ＴＭ）Ａ４１００、厚み３８μｍ）を用い、非易接着層面を離型面とした。なお、非離型面には予めコロナ処理を行い、剥離力を調整した。
【０１６２】
2020194091.tif 000004
【０１６３】
（位相差層転写用積層体Ａの作製）
幅５０ｃｍの離型性基材の非易接着層面にコロナ処理を行い、このコロナ処理面に配向制御層用塗料を塗布し、１００℃で乾燥させ、厚さ０．５μｍの配向制御層を設けた。さらに配向制御層をナイロン製の起毛布が巻かれたラビングロールで処理した。ラビングはフィルムをラビングロールに掛け、ラビング方向がフィルムの流れ方向になるように行った。引き続き、ラビング処理を施した面に位相差層用塗料Ａを塗布後、１２５℃で３分間加熱して溶剤を蒸発させると共に、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。引き続き、８０℃の環境下で紫外線を３０秒間照射し、長さ２００ｍの位相差層転写用積層体Ａを得た。なお、位相差層のＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは１９０ｎｍであった。
【０１６４】
（位相差層転写用積層体Ｂの作製）
位相差層転写用積層体Ａの作製と同様にして配向制御層を設けた。ラビングはフィルムをラビングロールに斜めに掛け、ラビングロールの方向とフィルムの走行速度、ラビングロールの回転数を調整して、ラビング方向がフィルムの流れ方向に対して４５度となるように行った。引き続き、ラビング処理を施した面に位相差層用塗料Ｂを塗布後、１１０℃で３分間加熱して溶剤を蒸発させると共に、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。引き続き、８０℃の環境下で紫外線を３０秒間照射し、長さ２００ｍの位相差層転写用積層体Ｂを得た。
【０１６５】
（偏光子）
（１）ＰＶＡ偏光子転写用積層体
熱可塑性樹脂基材として、極限粘度０．６２ｄｌ／ｄのポリエチレンテレフタレートを押出機で溶融・混練後、冷却ロール上にシート状に押出、厚さ１００μｍの未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムの片面に、重合度２４００、ケン化度９９．９モル％のポリビニルアルコールの水溶液を塗布し乾燥して、ＰＶＡ層を形成した。
得られた積層体を、１２０℃で周速の異なるロール間で長手方向に２倍に延伸して巻き取った。次に、得られた積層体を４％のホウ酸水溶液で３０秒間処理した後、ヨウ素（０．２％）とヨウ化カリウム（１％）の混合水溶液で６０秒間浸漬し染色し、引き続き、ヨウ化カリウム（３％）とホウ酸（３％）の混合水溶液で３０秒間処理した。
さらに、この積層体を７２℃のホウ酸（４％）とヨウ化カリウム（５％）混合水溶液中で長手方向に一軸延伸し、引き続き、４％ヨウ化カリウム水溶液で洗浄し、エアナイフで水溶液を除去した後に８０℃のオーブンで乾燥し、両端部をスリットして巻き取り、幅５０ｃｍ、長さ１０００ｍのＰＶＡ偏光子転写用積層体を得た。合計の延伸倍率は６．５倍で、ＰＶＡ偏光子の厚みは５μｍであった。なお、厚みはＰＶＡ偏光子転写用積層体をエポキシ樹脂に包埋して切片を切り出し、光学顕微鏡で観察して読み取った。表１及び２ではＰＶＡ偏光子転写用積層体を用いて設けた偏光子をＰＶＡ転写と標記する。
【０１６６】
（２）液晶偏光子
特表２００７−５１０９４６号公報の［０１３４］段落の記載及びLub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)に準じて下記化合物（ｄ）及び（ｅ）を合成した。
【化３】
2020194091.tif 000005
【化４】
2020194091.tif 000006
特開昭６３−３０１８５０号公報の実施例１に準じて下記色素（ｆ）を合成した。
【化５】
2020194091.tif 000007
特公平５−４９７１０号公報の実施例２に準じて下記色素（ｇ）を合成した。
【化６】
2020194091.tif 000008
特公昭６３−１３５７号公報の一般式（１）の化合物の製造方法に準じて下記色素（ｈ）を合成した。
【化７】
2020194091.tif 000009
【０１６７】
（塗料の作製）
（ｄ）７５質量部、（ｅ）２５質量部、（ｆ）２．５質量部、（ｇ）２．５質量部、（ｈ）２．５質量部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ(商標)３６９Ｅ（ＢＡＳＦ社製）６質量部、及びオルトキシレン２５０質量部を混合、溶解し、液晶偏光子用塗料を作製した。この塗料を反射型偏光子に塗工して設けたものを表１及び２では液晶塗工と標記する。
【０１６８】
（液晶偏光子転写用積層体）
幅５０ｃｍの離型性基材の非易接着層面にコロナ処理を行い、このコロナ処理面に配向制御層用塗料を塗布し、１００℃で乾燥させ、厚さ０．５μｍの配向制御層を設けた。さらに配向制御層をナイロン製の起毛布が巻かれたラビングロールで処理した。ラビングはフィルムをラビングロールに掛け、ラビング方向がフィルムの流れ方向になるように行った。引き続き、このラビング処理面に液晶偏光子用塗料を塗布後、１１０℃で３分間乾燥し、厚み２μｍの膜を形成した。引き続き、紫外線を照射し、液晶偏光子転写用積層体を得た。この液晶偏光子転写用積層体を用いて設けた偏光子を表１及び２では液晶転写と標記する。
【０１６９】
2020194091.tif 000010
【０１７０】
上記をそれぞれ押出機で溶融し、溶融樹脂を８層のマニホールドに３回通過させてダイに導き、多層シートとして冷却ロール上に押し出した。得られた未延伸シートを加熱ロール間で６倍に延伸し、端部をカットして厚み８０μｍ、幅７０ｃｍ、長さ２００ｍの長尺シートを得た。得られたシートは、フィルム流れ方向に反射軸、幅方向に透過軸を持つ反射型偏光子として機能した。
【０１７１】
2020194091.tif 000011
【０１７２】
共重合ポリエステルＣとポリエステルＤを別々の供給口から１：１の質量比で押出機に投入し、溶融後、ダイに導き、共重合ポリエステルＣを海成分、ポリエステルＤを島成分としたシートとして冷却ロール上に押し出した。得られた未延伸シートを加熱ロール間で６倍に延伸し、端部をカットして厚み８０μｍ、幅７０ｃｍ、長さ２００ｍの長尺シートを得た。得られたシートは、フィルム流れ方向に反射軸、幅方向に透過軸を持つ反射型偏光子として機能した。
【０１７３】
（実施例１）
反射型偏光板１の片面にコロナ処理を行い、このコロナ処理面に紫外線硬化型の接着剤を用いてＰＶＡ偏光子転写用積層体の偏光子面（ＰＶＡ面）を貼り合わせた後、ＰＶＡ偏光子転写用積層体のＰＥＴ基材を剥離し、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１Ｐ−０）を得た。
【０１７４】
（実施例２）
複合偏光子１Ｐ−０の吸収型偏光子面に配向制御層用塗料を塗布し、１００℃で乾燥させ、厚さ０．５μｍの配向制御層を設けた。さらに配向制御層をナイロン製の起毛布が巻かれたラビングロールで処理した。ラビング方向はフィルム流れ方向に行った。引き続き、ラビング処理を施した面に位相差層用塗料Ａを塗布後、１０５℃で５分間加熱して溶剤を蒸発させると共に、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。引き続き、８０℃の環境下で紫外線を３０秒間照射し、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１Ｐ−１）を得た。
【０１７５】
（実施例３）
複合偏光子１Ｐ−０の吸収型偏光子面に光学用粘着剤シートを用いて位相差層転写用積層体Ａの位相差層面を貼り合わせた後、離型性基材を剥離し、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１Ｐ−２）を得た。
【０１７６】
（実施例４）
位相差層転写用積層体Ａの位相差層面にＵＶ硬化型接着剤を用いてＰＶＡ偏光子転写用積層体の偏光子面を貼り合わせ、その後、ＰＶＡ偏光子転写用積層体のＰＥＴ基材を剥離し、位相差層と吸収型偏光子の積層体を得た。引き続き、この積層体の吸収型偏光子面に、光学用粘着剤シートを用いて反射型偏光子１の片面を貼り合わせた後、離型性基材を剥離し、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１Ｐ−３）を得た。
【０１７７】
（実施例５）
反射型偏光子１の片面にコロナ処理を行い、このコロナ処理面に配向制御層用塗料を塗布し、１００℃で乾燥させ、厚さ０．５μｍの配向制御層を設けた。さらに配向制御層をナイロン製の起毛布が巻かれたラビングロールで処理した。ラビング方向はフィルム流れ方向に行った。このラビング処理面に液晶偏光子用塗料を塗布後、１１０℃で３分間乾燥し、厚み２μｍの膜を形成した。引き続き紫外線を照射して、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１ＬＣ−０）を得た。引き続き、複合偏光子１ＬＣ−０の吸収型偏光子面に実施例２と同様にして、配向制御層及び位相差層を設け、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１ＬＣ−１）を得た。
【０１７８】
（実施例６）
複合偏光子１ＬＣ−０の吸収型偏光子面に実施例３と同様にして位相差層及び配向制御層を設け、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１ＬＣ−２）を得た。
【０１７９】
（実施例７）
反射型偏光子１の片面にコロナ処理を行い、このコロナ処理面に紫外線硬化型の接着剤を用いて液晶偏光子転写用積層体の偏光子面を貼り合わせた後、液晶偏光子転写用積層体の離型性基材を剥離し、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１ＬＴ−０）を得た。複合偏光子１ＬＴ−０の吸収型偏光子面に実施例２と同様にして配向制御層及び位相差層を設け、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１ＬＴ−１）を得た。
【０１８０】
（実施例８）
複合偏光子１ＬＴ−０の吸収型偏光子面に実施例３と同様にして位相差層及び配向制御層を設け、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１ＬＴ−２）を得た。
【０１８１】
（実施例９）
位相差層転写用積層体Ａの位相差層面に配向制御層用塗料を塗布し、１００℃で乾燥させ、厚さ０．５μｍの配向制御層を設けた。さらに配向制御層をナイロン製の起毛布が巻かれたラビングロールで処理した。ラビング方向はフィルム流れ方向に行った。このラビング処理面に液晶偏光子用塗料を塗布後、１１０℃で３分間乾燥し、厚み２μｍの膜を形成した。引き続き紫外線を照射し、その後、位相差層と吸収型偏光子との積層体を得た。反射型偏光子１の片面にコロナ処理を行い、このコロナ処理面に紫外線硬化型の接着剤を用いて、上記で得られた積層体の吸収型偏光子面を貼り合わせた。引き続き、位相差層転写用積層体Ａの離型性基材を剥離し、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１ＬＣ−３）を得た。
【０１８２】
（実施例１０）
位相差層転写用積層体Ａの位相差層面に、ＵＶ硬化型接着剤を用いて液晶偏光子転写用積層体の偏光子面を貼り合わせた後、液晶偏光子転写用積層体の離型性基材を剥離し位相差層と吸収型偏光子の積層体を得た。反射型偏光子１の片面にコロナ処理を行い、このコロナ処理面に紫外線硬化型の接着剤を用いて、上記で得られた積層体の吸収型偏光子面を貼り合わせた。引き続き、位相差層転写用積層体Ａの離型性基材を剥離し、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１ＬＴ−３）を得た。
【０１８３】
（実施例１１）
反射型偏光子２を用いた以外は実施例１と同様にして、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子２Ｐ−０）を得た。
【０１８４】
（実施例１２）
複合偏光子２Ｐ−０を用いた以外は実施例２と同様にして反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子２Ｐ−１）を得た。
【０１８５】
【表１】
2020194091.tif 000012
【０１８６】
（実施例１３）
複合偏光子１Ｐ−０の吸収型偏光子面に配向制御層用塗料を塗布し、１００℃で乾燥させ、厚さ０．５μｍの配向制御層を設けた。さらに配向制御層をナイロン製の起毛布が巻かれたラビングロールで処理した。ラビングはフィルムをラビングロールに斜めに掛け、ラビングロールの方向、フィルムの走行速度、及びラビングロールの回転数を調整して、ラビング方向がフィルム流れ方向に対して４５度となるように行った。引き続き、ラビング処理を施した面に位相差層用塗料Ｂを塗布後、１０５℃で５分間加熱して溶剤を蒸発させると共に、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。引き続き、８０℃の環境下で紫外線を３０秒間照射し、反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１Ｐ−４）を得た。
【０１８７】
（実施例１４）
位相差層転写用積層体Ｂを用いた以外は実施例３と同様にして反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１Ｐ−５）を得た。
【０１８８】
（実施例１５）
位相差層転写用積層体Ｂを用いた以外は実施例９と同様にして反射型偏光子と吸収型偏光子との積層体（複合偏光子１ＬＣ−５）を得た。
【０１８９】
【表２】
2020194091.tif 000013
【０１９０】
（複合偏光子の評価）
（視認側の偏光子Ａ転写用積層体の作製）
幅５０ｃｍの離型性基材の非易接着層面にコロナ処理を行い、このコロナ処理面に下記低屈折率層用塗料を塗布し、オーブン中で９０℃で乾燥させて溶剤を蒸発させた後に紫外線を照射し、厚さ０．５μｍの低屈折率層を形成した。さらに低屈折率層上に下記ハードコート層用塗料を塗布し、オーブン中で９０℃で乾燥させて溶剤を蒸発させた後に紫外線を照射し、厚み３μｍのハードコート層を形成した。引き続き、ハードコート層面にアクリル系の紫外線硬化型接着剤を塗布し、ＰＶＡ偏光子転写用積層体の偏光子面と重ね合わせ、離型性フィルム面から紫外線を照射して接着剤を硬化させて、偏光子転写用積層体（ＬＰ０）を得た。長さ１０００ｍのロールフィルムとして巻き取った。
【０１９１】
2020194091.tif 000014
【０１９２】
さらに、偏光子転写用積層体（ＬＰ０）からＰＶＡ偏光子転写用積層体のＰＥＴ基材を剥離し、露出した偏光子面に配向制御層用塗料を塗布し、１００℃で乾燥させ、厚さ０．５μｍの配向制御層を設けた。得られた配向制御層を有する偏光子転写用積層体（ＬＰ０）を長さ７０ｃｍにカットし、このカットした配向制御層を有する偏光子転写用積層体（ＬＰ０）の配向制御層をナイロン製の起毛布が巻かれたラビングロールで処理した。ラビング方向はフィルム流れ方向（長辺）に対して直交方向に行った。引き続き、ラビング処理した面に位相差層用塗料Ｃを塗布後、１１０℃で３分間加熱して溶剤を蒸発させると共に、棒状液晶性化合物を配向させた。さらに、１１０℃の環境下で紫外線を３０秒間照射し、偏光子Ａ転写用積層体（ＬＰ−Ａ）を得た。なお、位相差層のＲｅは１４０ｎｍ、Ｒｔｈは７０ｎｍであった。
【０１９３】
（視認側の偏光子Ｂ転写用積層体の作製）
偏光子Ａ転写用積層体の作製で用いた、配向制御層を有する偏光子転写用積層体（ＬＰ０）を長さ７０ｃｍにカットし、このカットした配向制御層を有する偏光子転写用積層体（ＬＰ０）の配向制御層をナイロン製の起毛布が巻かれたラビングロールで処理した。ラビング方向はフィルム流れ方向（長辺）に対して４５度方向に行った。引き続き、ラビング処理した面に位相差層用塗料Ｂを塗布後、１０５℃で５分間加熱して溶剤を蒸発させると共に、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。引き続き、８０℃の環境下で紫外線を３０秒間照射し、偏光子Ｂ転写用積層体（ＬＰ−Ｂ）を得た。
【０１９４】
（評価１）
市販のＶＡタイプの液晶表示装置から、液晶パネルを取り出し、液晶パネルから視認側及び光源側の偏光板を剥がし、液晶セルの状態にした。液晶セルの視認側に、液晶セルの大きさに合わせて切り出したＬＰ０又はＬＰ−Ａを光学用粘着剤シートを用いて貼り合わせ、離型性基材を剥離した。一方、液晶セルの光源側には、液晶セルの大きさに合わせて切り出した複合偏光子を、反射型偏光子面を外側にして光学用粘着剤シートを用いて貼り合わせ、液晶パネルを作製した。なお、偏光子の光学軸は、もとの偏光板と同じ向きにした。
【０１９５】
表３に視認側の偏光子と光源側の複合偏光子の組合せを示した。また、表３において、得られた液晶表示パネルを元の液晶表示装置に組み込み、風景の画像を表示し、問題なく画像が表示されたものを○とした。さらに、表３において、斜め方向から画像を観察し、ＬＰ０と１Ｐ−０又は２Ｐ−０の組合せよりも視野角が広くなっているものを○とした。
【０１９６】
【表３】
2020194091.tif 000015
【０１９７】
（評価２）
市販のＴＮタイプの液晶表示装置を用い、視認側の偏光子と光源側の複合偏光子の組合せを表４に示した通りにした以外は評価１と同様にして評価した。
【０１９８】
【表４】
2020194091.tif 000016