(57)【要約】【課題】良好な反射防止機能と水蒸気バリア性を有する、樹脂基材を用いた透明な反射防止機能を有するガスバリア性積層体を提供する。【解決手段】ガスバリア性積層体は、樹脂基材と、樹脂基材の少なくとも一方の面に積層された、２層以上の透明酸化物層で構成される透明酸化物層積層体とを含み、透明酸化物層積層体を構成する前記透明酸化物層のそれぞれは、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上２．４以下であり、かつ、互いに異なり光学膜厚が１４．３以上８４０以下であり、透明酸化物層積層体の少なくとも１層は、珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含み、前記透明酸化物層積層体を構成する前記透明酸化物層の表面での視感反射率が樹脂基材以下である、反射防止機能を有する反射防止機能を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材と、
前記樹脂基材の少なくとも一方の面に積層された、２層以上の透明酸化物層で構成される透明酸化物層積層体とを含み、
前記透明酸化物層積層体を構成する前記透明酸化物層のそれぞれは、
波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上２．４以下であり、かつ、互いに異なり、
光学膜厚が１４．３以上８４０以下であり、
前記透明酸化物層積層体の少なくとも１層は、珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含み、
前記透明酸化物層積層体を構成する前記透明酸化物層の表面での視感平均反射率が前記樹脂基材の視感平均反射率以下である、反射防止機能を有するガスバリア性積層体。
【請求項２】
前記透明酸化物層積層体は、前記樹脂基材から順に、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．６以上１．９未満の前記透明酸化物層と、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．９以上２．４以下の前記透明酸化物層と、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上１．６未満の前記透明酸化物層とで構成される、請求項１に記載の反射防止機能を有するガスバリア性積層体。
【請求項３】
前記透明酸化物層積層体は、前記樹脂基材から順に、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．７５以上２．４以下の前記透明酸化物層と、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上１．７５未満の前記透明酸化物層とで構成される、請求項１に記載の反射防止機能を有するガスバリア性積層体。
【請求項４】
測定条件４０℃、９０％Ｒ．Ｈ．における水蒸気透過度が０．０１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下である、請求項１から３のいずれかに記載の反射防止機能を有するガスバリア性積層体。
【請求項５】
視感平均反射率が２．０％以下である、請求項１から４のいずれかに記載の反射防止機能を有するガスバリア性積層体。
【請求項６】
珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含む前記透明酸化物層の珪素（Ｓｉ）の原子数と、珪素（Ｓｉ）および錫（Ｓｎ）の合計の原子数との比（Ｓｉ／（Ｓｉ＋Ｓｎ））が０．１以上０．９８以下であり、酸素（Ｏ）の原子数と、珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）の合計の原子数の比（Ｏ／（Ｓｉ＋Ｓｎ））が、０．８０以上２．００以下である、請求項１から５のいずれかに記載の反射防止機能を有するガスバリア性積層体。
【請求項７】
前記透明酸化物層積層体に含まれる波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上１．７５未満の前記透明酸化物層が酸化珪素（ＳｉＯｘ）を含み、且つ、
前記透明酸化物層積層体に含まれる他の前記透明酸化物層が珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含む、請求項１から６のいずれかに記載の反射防止機能を有するガスバリア性積層体。
【請求項８】
前記透明酸化物層積層体が珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含む前記透明酸化物層のみにより構成されている、請求項１から６のいずれかに記載の反射防止機能を有するガスバリア性積層体。
【請求項９】
前記透明酸化物層がＡｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｎ、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の元素をさらに含有する、請求項１から８のいずれかに記載のガスバリア性積層体。
【請求項１０】
前記透明酸化物層が窒素（Ｎ）を含む、請求項１から９のいずれかに記載のガスバリア性積層体。
【請求項１１】
前記樹脂基材と前記透明酸化物層積層体との間にアンダーコート層をさらに有し、前記アンダーコート層は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂の少なくとも１つ以上から形成される、請求項１から１０のいずれかに記載の反射防止機能を有するガスバリア性積層体。
【請求項１２】
前記アンダーコート層は、有機酸基を有するアクリル樹脂を含む組成物の硬化物からなる層であり、前記組成物がポリイソシアネートをさらに含み、前記アクリル樹脂がアクリルポリオール樹脂である、請求項１から１１のいずれかに記載のガスバリア性積層体。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれかに記載のガスバリア性積層体の製造方法であって、電極に電圧を周期的に印加可能であるマグネトロンスパッタリング装置を用いることにより透明酸化物層を成膜する工程を含む、ガスバリア性積層体の製造方法。
【請求項１４】
前記透明酸化物層を成膜する工程において、前記マグネトロンスパッタリング装置が、電圧印加のオフタイムに、電圧印加とは正負の異なるパルス電圧を印加する、請求項１３に記載のガスバリア性積層体の製造方法。
【請求項１５】
請求項１から１２のいずれかに記載のガスバリア性積層体の製造方法であって、二つの電極が並列に位置し、各前記電極に正負交互に電圧を印加可能であり、各々の前記電極が交互にカソード、アノードの役割を果たすマグネトロンスパッタリング装置を用いることにより透明酸化物層を成膜する工程を含む、ガスバリア性積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止機能を有するガスバリア性積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイは屋内外に問わず、外光が入射するような環境下で使用されると、この外光がディスプレイ内部において正反射され光源の虚像をディスプレイ表面に映し出す。このため、ディスプレイに蛍光灯が映りこみ、本来の表示画面が見えにくくなるなどの問題を生じさせる。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須である。
【０００３】
そこで、外光のディスプレイ内への入射を防止するため、透明基材表面に金属酸化物などからなる高屈折率層と低屈折率層を積層した、あるいは透明基材表面に無機化合物や有機フッ素化合物などの低屈折率層を単層で積層した反射防止機能を有するフィルム、即ち反射防止フィルムをディスプレイ表面上に貼り合せることなどがなされている。
【０００４】
また、食品や医療等の包装、精密電子部品の包装材料には内容物の変質を抑制し、それらの機能や性質を保持するために、包装材料を通過する各種ガスによる影響を防止する機能が必要であり、これらを遮断する性質（ガスバリア性）を備えることが求められている。
【０００５】
求められるガスバリア性は用途により様々だが、食品等の包装材料であれば数ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）が必要とされ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）や電子ペーパーなどディスプレイ用封止フィルムでは、０．０１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下の高い水蒸気バリア性が必要とされ、また、バリア性だけでなく光学性能（透明性や反射防止機能）を併せ持つことが求められている。
【０００６】
近年、フレキシブル化、破損防止、軽量化などの理由から、基材として、ガラスではなく樹脂が用いられる傾向にある。しかし、樹脂基材は、酸素ガスや水蒸気に対するガスバリア性が低いため、これらの阻止や電子部材等の劣化が問題となる。
【０００７】
そのため、樹脂基材を用いて高いガスバリア性と透明性を実現するために、種々のものが開発されているが、近年は酸化珪素、酸化アルミニウムのような金属酸化物膜、各種金属の酸窒化物膜をナノスケールで樹脂基材上に設けたガスバリア性積層体が数多く提案されている。
【０００８】
例えば、下記特許文献１では、透明性が高く、かつ、高い水蒸気バリア性能を持つ透明樹脂基板（ガスバリア性積層体）が記載されている。係るガスバリア性積層体では、酸化錫と、添加元素として珪素（Ｓｉ）を、ＳｉとＳｎの総和に対して４６原子％以上６３原子％以下の割合で含み、非晶質膜であり、かつ、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．７５以下である透明酸化物膜を、ガスバリア層として、樹脂基材の少なくとも一方の面に、直流（ＤＣ）パルススパッタ法により形成している。
【０００９】
しかしながら、係るガスバリア性積層体は、ＪＩＳ規格のＫ７１２９法に従って、モコン法により測定された水蒸気透過率が、０．０１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）未満であると記載されており、確かに高い水蒸気ガスバリア性ではあるが、近年要求されている、より高い水準の水蒸気バリア性に応えるためには、更なる改善が求められているのが実情である。
【００１０】
また、下記特許文献２では、反射防止層を有し、水蒸気バリア性が１０ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以上の反射防止性を有する偏光フィルムが提案されているが、前記と同様に水蒸気バリア性としては更なる改善が求められているのが実情である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特許第４７８８４６３号公報
【特許文献２】特開２０００−３２１４２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
そこで、本発明は、良好な反射防止機能と水蒸気バリア性を有する、樹脂基材を用いた透明な反射防止機能を有するガスバリア性積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記の課題を解決するための本発明の一局面は、樹脂基材と、樹脂基材の少なくとも一方の面に積層された、２層以上の透明酸化物層で構成される透明酸化物層積層体とを含み、透明酸化物層積層体を構成する前記透明酸化物層のそれぞれは、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上２．４以下であり、かつ、互いに異なり光学膜厚が１４．３以上８４０以下であり、透明酸化物層積層体の少なくとも１層は、珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含み、前記透明酸化物層積層体を構成する前記透明酸化物層の表面での視感反射率が樹脂基材以下である、反射防止機能を有するガスバリア性積層体である。
【００１４】
本発明に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体において、透明酸化物層積層体は、樹脂基材から順に、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．６以上１．９未満の透明酸化物層と、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．９以上２．４以下の透明酸化物層と、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上１．６未満の透明酸化物層とで構成されていても良い。
【００１５】
本発明に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体において、透明酸化物層積層体は、樹脂基材から順に、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．７５以上２．４以下の透明酸化物層と、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上１．７５未満の透明酸化物層とで構成されていても良い。
【００１６】
本発明に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体において、測定条件４０℃、９０％Ｒ．Ｈ．における水蒸気透過度が０．０１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であってもよい。
【００１７】
本発明に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体において、視感平均反射率が２．０％以下であってもよい。
【００１８】
また、本発明に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体において、珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含む透明酸化物層の珪素（Ｓｉ）の原子数と、珪素（Ｓｉ）および錫（Ｓｎ）の合計の原子数との比（Ｓｉ／（Ｓｉ＋Ｓｎ））が０．１以上０．９８以下であり、酸素（Ｏ）の原子数と、珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）の合計の原子数の比（Ｏ／（Ｓｉ＋Ｓｎ））が、０．８０以上２．００以下であってもよい。
【００１９】
また、本発明に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体において、透明酸化物層積層体に含まれる波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上１．７５未満の透明酸化物層が酸化珪素（ＳｉＯｘ）を含み、且つ、透明酸化物層積層体に含まれる他の前記透明酸化物層が珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含んでも良い。
【００２０】
また、本発明に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体は、透明酸化物層積層体が珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含む透明酸化物層のみにより形成されていても良い。
【００２１】
また、本発明に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体において、樹脂基材と透明酸化物層積層体との間にアンダーコート層をさらに有し、アンダーコート層は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂の少なくとも１つ以上から形成されても良い。
【００２２】
また、本発明に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体において、透明酸化物層がＡｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｎ、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の元素をさらに含有していても良い。
【００２３】
また、本発明に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体は、透明酸化物層が窒素（Ｎ）を含んでいても良い。
【００２４】
また、本発明に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体において、樹脂基材と透明酸化物層との間にアンダーコート層を有し、該アンダーコート層は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂の少なくとも１つ以上から形成されても良い。
【００２５】
また、本発明に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体において、アンダーコート層は、有機酸基を有するアクリル樹脂を含む組成物の硬化物からなる層であり、前記組成物がポリイソシアネートをさらに含み、前記アクリル樹脂がアクリルポリオール樹脂であってもよい。
【００２６】
また、本発明の他の局面は、上述のガスバリア性積層体の製造方法であって、電極に電圧を周期的に印加可能であるマグネトロンスパッタリング装置を用いることにより透明酸化物層を成膜する工程を含む、ガスバリア性積層体の製造方法である。
【００２７】
また、本発明に係るガスバリア性積層体の製造方法は、透明酸化物層を成膜する工程において、マグネトロンスパッタリング装置が、電圧が周期的に印加可能であり、電圧印加のオフタイムに、電圧印加とは正負の異なるパルスを印加してもよい。
【００２８】
また、本発明の他の局面は、上述のガスバリア性積層体の製造方法は、二つの電極が並列に位置し、各電極に正負交互に電圧を印加可能であり、各々の電極が交互にカソード、アノードの役割を果たすマグネトロンスパッタリング装置を用いることにより透明酸化物層を成膜する工程を含むことが好ましい。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、良好な反射防止機能と水蒸気バリア性を有する、樹脂基材を用いた透明なガスバリア性積層体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の第１実施形態に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体の断面図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体の断面図である。
【図３】本発明の第３実施形態に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体の断面図である。
【図４】本発明の第４実施形態に係る反射防止機能を有するガスバリア積層体の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
＜第１実施形態＞
以下に、本発明の第１実施形態ついて図面を参照して説明する。  図１に示すように、本実施形態に係る反射防止機能を有するバリア性積層体は、樹脂基材１１と、樹脂基材１１上に形成された屈折率の異なる透明酸化物層１３、１４で構成される透明酸化物層積層体２０とを含む。透明酸化物層積層体２０を構成する透明酸化物層１３、１４はそれぞれ、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上２．４以下であり、かつ、互いに異なり、光学膜厚（屈折率（ｎ）×膜厚（ｄ）で規定される値）が１４．３以上８４０以下である。また、透明酸化物層積層体２０を構成する透明酸化物層１３、１４の少なくとも１層は、珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含む。さらに、透明酸化物層積層体２０の表面での視感平均反射率が樹脂基材１１の視感平均反射率以下である。透明酸化物層１３、１４は、一例であって、透明酸化物層積層体２０に含まれる透明酸化物層は、２層以上であれば限定されない。
【００３２】
（樹脂基材）
樹脂基材１１の材料としては、特に限定されるものではなく、公知のものを使用することができる。例えばポリオレフィン系（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステル系（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリイミド系、ポリアミド系（ナイロン−６、ナイロン−６６等）、ポリスチレン、エチレンビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネイト、ポリエーテルスルホン、アクリル、セルロース系（トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等）などが挙げられるが特に限定されない。実際的には、用途や要求物性により適宜選定をすることが望ましく、電子部材、光学部材等の極端に水分を嫌う内容物を保護する包装には、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド類、ポリエーテルスルホンなどのそれ自体も高いガスバリア性を有する樹脂基材１１を用いることが望ましいが、これらの例に限定されない。樹脂基材１１の視感平均反射率は、使用する樹脂基材１１の種類やグレードにもよるが、６％から１０％程度であることが一般的である。
【００３３】
また、樹脂基材１１の厚みは限定するものではないが、用途に応じて、１２μｍから３００μｍ程度が使用しやすい。この範囲内の厚さの樹脂基材１１は、フレキシブルであるとともに、ロール状に巻き取ることもできるので好ましい。
【００３４】
また、樹脂基材１１の表面には、必要に応じて帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑り剤といった添加剤が含まれていてもよい。さらに、樹脂基材１１の表面に、密着性を高めるため、コロナ処理、フレーム処理、プラズマ処理、易接着処理等の物理的処理や、酸やアルカリによる薬液処理等の化学的処理改質処理を施してもよい。樹脂基材１１表面は真空成膜の初期成長段階における緻密性や密着性に寄与するものであり、平滑であることが望ましい。
【００３５】
（透明酸化物層）
第１実施形態に係るバリア性積層体に用いられる透明酸化物層積層体２０は、一例として、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．７５以上２．４以下の高屈折率である透明酸化物層１３と、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上１．７５未満の低屈折率層である透明酸化物層１４とを積層することで構成される。屈折率の異なる２以上の層により透明酸化物層積層体２０を構成することで、反射率が極めて低く、反射防止性機能が高いバリア性積層体を得ることができる。透明酸化物層１３，１４の膜厚は、それぞれ１０ｎｍ以上３５０ｎｍ以下であることが好ましい。１０ｎｍ未満では、透明酸化物層で樹脂基材１１表面を覆うことができず、十分なガスバリア性を得ることができない。また、３５０ｎｍを超えると積層する際にクラックが発生しやすくなり、ガスバリア性が低下することがある。つまり、光学膜厚が１４．３以上８４０以下であることが好ましい。
【００３６】
透明酸化物層１３，１４の材料としては、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、珪素（Ｓｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、マグネシウム（Ｍｇ）、ビスマス（Ｂｉ）、セリウム（Ｃｅ）、タンタル（Ｔａ）、アルミニウム（Ａｌ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、カリウム（Ｋ）、アンチモン（Ｓｂ）、ネオジウム（Ｎｄ）、ランタン（Ｌａ）、ハフニウム（Ｈｆ）、タングステン（Ｗ）等の金属、あるいは、これらの金属の２種類以上からなる合金、これらの酸化物、窒化物、酸窒化物から選ぶことができる。ガスバリア性の向上及び、樹脂基材１１との密着性向上、温湿度耐久性の向上、屈折率ｎの調整などが可能となる。
【００３７】
また、珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含む透明酸化物層１３，１４は、珪素（Ｓｉ）の原子数と、珪素（Ｓｉ）および錫（Ｓｎ）の原子数の合計との比（Ｓｉ／（Ｓｉ＋Ｓｎ））が０．１以上０．９８以下であり、酸素（Ｏ）の原子数と、珪素（Ｓｉ）および錫（Ｓｎ）の原子数の合計との比（Ｏ／Ｓｉ＋Ｓｎ））は０．８以上２．００以下となるようにすることができる。また、珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）との原子数の比を変えることにより屈折率を調整することができる。上記の膜組成であるか否かを求める方法としては、従来公知の方法を用いることができ、例えば、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分析装置）等の分析装置で得られた結果で評価できる。
【００３８】
また、透明酸化物層１３，１４は、珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）の金属元素に加え、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｎ、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の元素をさらに含有していてもよい。透明酸化物層１３，１４が、珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）のほかに、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｎ、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の元素を含有することで、ガスバリア性の向上および、樹脂基材１１との密着性向上、温湿度耐久性の向上、屈折率ｎの調整などが可能となる。
【００３９】
また、透明酸化物層積層体２０に含まれる波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上１．７５未満の透明酸化物層１３、１４が酸化珪素（ＳｉＯｘ）を含み、且つ、透明酸化物層積層体２０に含まれる他の前記透明酸化物層１３、１４が珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含んでもよい。
【００４０】
また、透明酸化物層積層体２０が珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含む透明酸化物層１３、１４のみにより構成されていてもよい。
【００４１】
また、珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含む透明酸化物層１３、１４が窒素（Ｎ）を含んでもよい。
【００４２】
透明酸化物層１３、１４は、従来公知の成膜方法によって形成される。例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法等の物理的気相析出法やＣＶＤ法等の化学的気相析出法によって形成される。特に、膜厚均一性が高く、ピンホール等の欠陥が少ないため、視認性に優れ、緻密であり、耐摩擦性などの機械特性に優れた薄膜の形成が可能であるスパッタリング法を用いることが好ましい。
【００４３】
スパッタリング法の中でも、電極に電圧を周期的に印加可能であるマグネトロンスパッタリング装置を用いたスパッタリング法を用いることができる。さらに、電極に電圧を周期的に印加可能であり、電圧印加のオフタイムに、電圧印加とは正負の異なるパルスがかかる（パルス電圧を印加する）マグネトロンスパッタリング装置を用いたスパッタリング法を用いてもよい。また、二つの電極が並列に位置し、各電極に正負交互に電圧を印加可能であり、その各々の電極が交互にカソード、アノードの役割を果たすマグネトロンスパッタリング装置を用いたスパッタリング法を用いてもよい。
【００４４】
好ましくは、二つの電極が並列に位置し、各電極に正負交互に電圧を印加可能であり、その各々の電極が交互にカソード、アノードの役割を果たすマグネトロンスパッタリング装置を用いたスパッタリング法を用いる。このスパッタリング法は、真空チャンバー内に設置された二つの電極に、材料のターゲットを設置し、高電圧をかけてイオン化した希ガス元素（通常はアルゴンを用いる）をターゲットに衝突させて、ターゲット表面の原子をはじき出し、樹脂基材１１上にターゲット元素を付着させ、透明酸化物層１３を成膜する方法である。このスパッタリング法では、二つのターゲット間でアノードとカソードが交互に入れ替わるため、片側のターゲットが放電し成膜している際に、もう片方のターゲットが弱い逆電荷を帯びて、ターゲット表面の帯電を解消する。そのため、アーキング起因による膜へのダメージを、ＤＣスパッタリング法やＤＣパルススパッタ法よりも抑えることができ、より安定的に高品質な膜を成膜することが可能である。このとき、電極に電圧を印加する電源は、特に指定は無く、交流（ＡＣ）でもＤＣでも良いが、ＤＣパルス電源であることが望ましい。これは、印加する電圧波形をパルス波にした方が、電圧印加のオフタイムの際、アノードでのチャージアップの緩和に効果的であるためである。ＤＣパルス電源の周波数は、特に限定されるものではなく適宜設定することができる。好ましくは、１ｋＨｚ以上１００ｋＨｚ以下が望ましく、より好ましくは１０ｋＨｚ以上５０ｋＨｚ以下が望ましい。
【００４５】
本実施形態に係るガスバリア性積層体は、樹脂基材１１上に上述した透明酸化物層１３，１４を積層して構成される。これにより、測定条件４０℃、９０％Ｒ．Ｈ．における水蒸気透過度を０．０１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下とすることができる。したがって、本実施形態によれば、良好なガスバリア性を有するガスバリア性積層体及びその製造方法を実現できる。
【００４６】
＜第２実施形態＞
以下に、本発明の第２実施形態について説明する。本実施形態に係るガスバリア性積層体は、図２に示すガスバリア性積層体のように、樹脂基材１１と、樹脂基材１１上に形成された屈折率の異なる透明酸化物層２３、２４、２５で構成される透明酸化物層積層体２１とを含む。透明酸化物層積層体２１も透明酸化物層積層体２０と同様に、透明酸化物層積層体２１を構成する透明酸化物層２３、２４、２５はそれぞれ、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上２．４以下であり、かつ、互いに異なり、光学膜厚（屈折率（ｎ）×膜厚（ｄ）で規定される値）が１４．３以上８４０以下である。また、透明酸化物層積層体２１を構成する透明酸化物層２３、２４、２５の少なくとも１層は、珪素（Ｓｉ）と錫（Ｓｎ）とを含む。さらに、透明酸化物層積層体２１の表面での視感反射率が樹脂基材１１の視感反射率以下である。
【００４７】
透明酸化物層積層体２１を構成する３層の屈折率としては、透明酸化物層２３は、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．６以上１．９未満である中屈折率層であり、透明酸化物層２４は、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．９以上２．４未満の高屈折率層であり、透明酸化物層２５は、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．４３以上１．６未満の低屈折率層である。透明酸化物層２３，２４，２５それぞれの膜厚は、１０ｎｍ以上３５０ｎｍ以下が好ましい。１０ｎｍ未満では、透明酸化物層で樹脂基材１１表面を覆うことができず、十分なガスバリア性を得ることができない。また、３５０ｎｍ以上になると積層する際にクラックが発生しやすくなり、ガスバリア性が低下することがある。つまり、光学膜厚が１４．３以上８４０以下であることが好ましい。
【００４８】
透明酸化物層２３，２４，２５は、透明酸化物層１３，１４と同様の材料種及び成膜方法を用いて形成することができる。
【００４９】
＜第３実施形態＞
以下に、本発明の第３実施形態について説明する。
本実施形態に係るガスバリア性積層体は、図３に示すガスバリア性積層体のように、図１に示すガスバリア性積層体の樹脂基材１１と透明酸化物層１３との間に、アンダーコート層１２を設けたものである。
【００５０】
アンダーコート層１２は、樹脂基材１１上に、樹脂基材１１と透明酸化物層１３との密着性を高め、透明酸化物層１３の剥離発生を防止し、さらに引っ掻き傷や擦り傷などの機械的外傷から保護するために設けられる。アンダーコート層１２の材料としては、特に限定されるものではないが、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などを用いることができる。
【００５１】
アンダーコート層１２を形成する熱硬化性樹脂としては、アクリルポリオールとイソシアネートプレポリマーとからなる熱硬化型ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。なかでも、ＯＨ基を含有するアクリルポリオールと、分子内にＮＣＯ基を少なくとも２個以上有するイソシアネート系化合物との複合物を用いて形成されることにより、樹脂基材１１と透明酸化物層１３との密着性を高めることができる。
【００５２】
アクリルポリオールとは、（メタ）アクリル酸誘導体モノマーを重合させて得られる高分子化合物、又は（メタ）アクリル酸誘導体モノマーとその他のモノマーとを共重合させて得られる高分子化合物等のうち、末端と側鎖とにＯＨ基を有するもので、イソシアネート系化合物のＮＣＯ基と反応するものである。（メタ）アクリル酸誘導体モノマーは、末端と側鎖とにＯＨ基を有する。（メタ）アクリル酸誘導体モノマーの例としては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等がある。
【００５３】
上記のその他のモノマーは、末端と側鎖とにＯＨ基を有する（メタ）アクリル酸誘導体モノマーと共重合可能である。上記のその他のモノマーの例として、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート等の側鎖にアルキル基を有する（メタ）アクリル酸誘導体モノマー、（メタ）アクリル酸等の側鎖にＣＯＯＨ基を有する（メタ）アクリル酸誘導体モノマー、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の側鎖に芳香環や環状構造を有する（メタ）アクリル酸誘導体モノマー等が考えられる。（メタ）アクリル酸誘導体モノマー以外では、スチレンモノマー、シクロヘキシルマレイミドモノマー、フェニルマレイミドモノマー等が考えられる。上記のその他のモノマーは、それ自身が末端と側鎖とに、ＯＨ基を有していても良い。
【００５４】
アクリルポリオールは、特に（メタ）アクリル酸等の側鎖にＣＯＯＨ基を有する（メタ）アクリル酸誘導体モノマーを重合させて得られる高分子化合物であることが好ましい。アンダーコート層１２を形成する際、ＣＯＯＨ基を有するモノマーを重合させて得られるアクリルポリオールとイソシアネート系化合物との複合物を用いて形成することにより、より高い水蒸気バリア性を有するガスバリア性積層フィルムを得ることができる。
【００５５】
アンダーコート層１２に使用可能な、ＯＨ基を含有するアクリルポリオールについて、特に限定しないが、ＯＨ基価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが望ましい。ここで、ＯＨ基価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）とは、アクリルポリオール中の、ＯＨ基量の指標であり、アクリルポリオール１ｇ中の、ＯＨ基をアセチル化するために必要な水酸化カリウムのｍｇ数を示す。また、アクリルポリオールの重量平均分子量は特に限定しないが、具体的には、３０００以上２０００００以下であると好ましい。特に、５０００以上１０００００以下であると好ましい。更に、５０００以上４００００以下であると、より好ましい。
【００５６】
イソシアネート系化合物とは、その分子中に２個以上のＮＣＯ基を有するものである。モノマー系イソシアネートの例として、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、キシレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）等の芳香族系イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、ビスイソシアネートメチルシクロヘキサン（Ｈ６ＸＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）等の脂肪族系イソシアネート等が考えられる。また、これらのモノマー系イソシアネートの重合体若しくは誘導体も使用可能である。例えば、３量体のヌレート型、１，１，１−トリメチロールプロパン等と反応させたアダクト型、ビウレットと反応させたビウレット型等がある。
【００５７】
イソシアネート系化合物は、上記のイソシアネート系化合物若しくはその重合体、誘導体から任意に選択して良く、１種類若しくは２種類以上組み合わせて用いることができる。
【００５８】
アンダーコート層１２の一例としては、上記のアクリルポリオールと上記のイソシアネート系化合物との複合物と溶媒とからなる溶液を樹脂基材１１上に塗工し、反応硬化させることにより形成される。アクリルポリオールのＯＨ基に対するイソシアネート化合物のＮＣＯ基の当量比（ＮＣＯ／ＯＨ）は、０．３以上、２．５以下であることが好ましい。ここで用いられる溶媒は、上記アクリルポリオール及びイソシアネート系化合物を溶解する溶媒であれば良い。溶媒の例として、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。なお、実際には、これらの溶媒を１種類若しくは２種類以上組み合わせて用いることができる。
【００５９】
アンダーコート層１２を形成する熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、エポキシポリオール、などの、ＯＨ基を２個以上有するポリオールや、ポリ酢酸ビニルやポリ塩化ビニルなどのポリビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリウレタン樹脂などから適宜選択される。さらに、これらを任意の比率で混合してもよい。ポリオールのＯＨ基価は、特に限定しないが、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが望ましい。
【００６０】
アンダーコート層１２を形成する紫外線硬化性樹脂もしくは電子線硬化性樹脂としては、有機高分子樹脂として、特に限定しないが、ＯＨ基価が１０以上１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の範囲にある樹脂を少なくとも含むことが望ましい。また、有機高分子樹脂として、特に限定しないが、酸価が１０以上１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の範囲にある樹脂を少なくとも含むことが望ましい。ここで、酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）とは、試料１ｇ中に含有する遊離脂肪酸、樹脂酸などを中和するのに必要とする水酸化カリウムのｍｇ数を示す。また、有機高分子樹脂として熱可塑性樹脂を少なくとも含むことが望ましい。ＯＨ基価又は酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であると、官能基と透明酸化物層１３の表面との化学的な結合力が弱くなり、透明酸化物層１３との密着性が低くなる傾向がある。ＯＨ基価又は酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、耐湿熱試験などの耐久性試験でアンダーコート層１２の分解により生じたＯＨ基を含む析出物がアンダーコート層１２と透明酸化物層１３との密着を阻害する傾向がある。
【００６１】
アンダーコート層１２を形成する紫外線硬化性樹脂もしくは電子線硬化性樹脂に利用できるモノマーとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルプロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレートなどが使用できる。この紫外線硬化性樹脂もしくは電子線硬化性樹脂に利用できるオリゴマーとしては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどがある。
【００６２】
アンダーコート層１２を形成する有機高分子樹脂として、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂から選択される２種以上を併用する場合、その配合比は特に限定されるものではない。
【００６３】
アンダーコート層１２は、有機高分子樹脂以外に必要に応じて添加物を更に含有していてもよい。添加物としては、例えば、酸化防止剤、耐候剤、熱安定剤、滑剤、結晶核剤、紫外線吸収剤、可塑剤、帯電防止剤、着色剤、フィラー、界面活性剤、シランカップリング剤等が挙げられる。
【００６４】
アンダーコート層１２の膜厚は、０．０５μｍ以上７．０μｍ以下が望ましい。特に、０．０５μｍ以上０．３μｍ以下であると好ましい。０．０５μｍよりも薄いと、樹脂基材１１と透明酸化物層１３との密着性が不十分となる。７．０μｍよりも厚いと内部応力の影響が大きくなり、透明酸化物層１３がきれいに積層されず、バリア性の発現が不十分となり、さらに、透明性、塗工精度も不十分となる。
【００６５】
アンダーコート層１２の形成方法としては、通常のコーティング方法を用いることができる。例えば、ディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法、有機蒸着法等の周知の方法を用いることができる。乾燥方法は、熱風乾燥、熱ロール乾燥、高周波照射、赤外線照射、ＵＶ照射、電子線照射等の熱を加える方法を１種類若しくは２種類以上組み合わせて用いることができる。また、上記形成方法で別の樹脂基材にあらかじめコーティングされた膜を、粘着材転写、熱転写、ＵＶ転写等の転写法を用いて樹脂基材１１に転写するのでもよい。
【００６６】
＜第４実施形態＞
以下に、本発明の第４実施形態について説明する。
本実施形態に係るガスバリア性積層体は、図４に示すガスバリア積層体のように、図２に示すガスバリア性積層体の樹脂基材１１と透明酸化物層２３の間にアンダーコート層１２を設けたものである。アンダーコート層１２の材料、形成方法、機能は、第３実施形態と同様である。
【実施例】
【００６７】
＜実施例１＞
［樹脂基材の配置工程］
樹脂基材１１として、厚さ５０μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルム（東レ株式会社製、品名「ルミラーＴ６０」）を使用した。
【００６８】
［透明酸化物層の積層工程］
樹脂基材１１の片面上に、透明酸化物層１３，１４を、二つの電極が並列に位置し、各電極に正負交互に電圧を印加可能であり、その各々の電極が交互にカソード、アノードの役割を果たすマグネトロンスパッタリング装置を用いたスパッタ法（方式Ａとする）により連続に積層し形成した。成膜条件としては、成膜圧力を０．３０Ｐａ、電力密度を３．３Ｗ／ｃｍ２とした。また、２つの電極への電力投入手段としては、ＭＦ電源を用いた。その際、周波数４０ｋＨｚの矩形電圧を、二つの並置した電極に加えた。ガスとしては、アルゴンガス、酸素ガスを用いた。このとき、ターゲット表面の状態が、金属モードから酸化物モードに遷移する途中の状態である遷移状態となるように、プラズマの発光強度および放電の電圧値を検知することで酸素ガスの流量を制御した。透明酸化物層１３の形成には、ターゲットはＳｉとＳｎの合金ターゲット（原子組成比Ｓｉ：Ｓｎ＝１０：９０）を用いた。透明酸化物層１４の形成には、Ｓｉのターゲットを用いた。膜厚１００ｎｍ屈折率２．０３の透明酸化物層１３、膜厚１００ｎｍ屈折率１．４６の透明酸化物層１４を順に積層することで、反射防止機能を有するガスバリア性積層体を得た。
【００６９】
＜実施例２＞
透明酸化物層１３の膜厚を１０ｎｍ、透明酸化物層１４の膜厚を１２０ｎｍとした以外は実施例１と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００７０】
＜実施例３＞
透明酸化物層１３の膜厚を４０１ｎｍ、透明酸化物層１４の膜厚を８７ｎｍとした以外は実施例１と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００７１】
＜実施例４＞
［樹脂基材の配置工程］
実施例１と同様に、樹脂基材１１として、厚さ５０μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルム（東レ株式会社製、品名「ルミラーＴ６０」）を使用した。
【００７２】
［透明酸化物層の積層工程］
実施例１と同様のスパッタ条件として、透明酸化物層２３の形成には、ターゲットはＳｉとＳｎの合金ターゲット（原子組成比Ｓｉ：Ｓｎ＝５０：５０）を用いた。透明酸化物層２４の形成には、ターゲットはＮｂターゲットを用いた。透明酸化物層２５は、Ｓｉのターゲットを用いた。膜厚５０ｎｍ屈折率１．８の透明酸化物層２３、膜厚１００ｎｍ屈折率２．３６の透明酸化物層２４、膜厚１００ｎｍ屈折率１．４６の透明酸化物層２５を順に積層することで、反射防止機能を有するガスバリア性積層体を得た。
【００７３】
＜実施例５＞
透明酸化物層２３の膜厚を５０ｎｍ、透明酸化物層２４の膜厚を１０ｎｍ、透明酸化物層２５の膜厚を１００ｎｍとした以外は実施例４と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００７４】
＜実施例６＞
透明酸化物層２３の膜厚を５０ｎｍ、透明酸化物層２４の膜厚を３５０ｎｍ、透明酸化物層２５の膜厚を１００ｎｍとした以外は実施例４と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００７５】
＜実施例７＞
透明酸化物層２３の膜厚を１０ｎｍ、透明酸化物層２４の膜厚を１０ｎｍ、透明酸化物層２５の膜厚を１００ｎｍとした以外は実施例４と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００７６】
＜実施例８＞
透明酸化物層２３の膜厚を３５０ｎｍ、透明酸化物層２４の膜厚を３５０ｎｍ、透明酸化物層２５の膜厚を１００ｎｍとした以外は実施例４と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００７７】
＜実施例９＞
透明酸化物層２３の膜厚を５０ｎｍ、透明酸化物層２４の膜厚を１００ｎｍ、透明酸化物層２５の膜厚を５５ｎｍとした以外は実施例４と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００７８】
＜実施例１０＞
透明酸化物層２３の膜厚を５０ｎｍ、透明酸化物層２４の膜厚を１００ｎｍ、透明酸化物層２５の膜厚を２９１ｎｍとした以外は実施例４と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００７９】
＜実施例１１＞
実施例２と同様のスパッタ条件として、透明酸化物層２４の形成に、ＳｉとＳｎの合金ターゲット（原子組成比Ｓｉ：Ｓｎ＝１０：９０）を用いたこと以外は、実施例４と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００８０】
＜実施例１２＞
［樹脂基材の配置工程］
実施例１と同様に、樹脂基材１１として、厚さ５０μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルム（東レ株式会社製、品名「ルミラーＴ６０」）を使用した。
【００８１】
［アンダーコート層用の溶液の調液・塗工工程］
アンダーコート層１２用の溶液として、ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）をモノマーとして共重合させて得られたアクリルポリオール（重量平均分子量１０×１０３）を主剤とし、ＨＤＩヌレート型のイソシアネート系硬化剤を主剤のＯＨ基量に対して１当量配合したメチルエチルケトン５％溶液を調製した。その後、樹脂基材１１上に上記調製した溶液を塗工し、乾燥後の膜厚が２００ｎｍのアンダーコート層１２を積層した。
【００８２】
［屈折率層の積層工程］
アンダーコート層１２上に、実施例１と同様に透明酸化物層１３、１４を積層し、ガスバリア性積層体を得た。
【００８３】
＜実施例１３＞
実施例１２と同様に樹脂基材１１上にアンダーコート層１２を積層し、実施例２と同様に透明酸化物層２３，２４，２５を積層することでガスバリア性積層体を得た。
【００８４】
＜実施例１４＞
透明酸化物層２３の形成にＳｉとＳｎの合金ターゲット（原子組成比Ｓｉ：Ｓｎ＝６２：３８）を用いたこと以外は、実施例１３と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００８５】
＜実施例１５＞
透明酸化物層１３の成膜方法として、電極に電圧を周期的に印加可能であり、電圧印加のオフタイムに、電圧印加とは正負の異なるパルスがかかるマグネトロンスパッタリング装置を用いたスパッタリング法（方式Ｂとする）を用いたこと以外は、実施例１と同様としてガスバリア性積層体を得た。このとき、電極への電力投入手段としては、ＤＣ電源を用いた。その際、周波数１０ｋＨｚ（オンタイム：９５％、オフタイム：５％、オンタイムには負の電圧がかかり、オフタイムには正の電圧がかかる）のパルス電圧を電極へ加えた。成膜条件としては、成膜圧力を０．３０Ｐａ、電力密度を３．３Ｗ／ｃｍ２とした。ガスとしては、アルゴンガス、酸素ガスを用い、酸化膜が得られるように酸素ガスの流量を調整した。
【００８６】
＜実施例１６＞
透明酸化物層１３の形成に、ＳｉとＳｎとＡｌから形成されるターゲットを用いたこと以外は、実施例１と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００８７】
＜実施例１７＞
透明酸化物層１３の形成に、スパッタ条件における導入ガスとして、アルゴンガスと酸素ガスと窒素ガスを用いたこと以外は、実施例１と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００８８】
＜比較例１＞
透明酸化物層１４を用いず、透明酸化物層１３のみの単層構成とした以外は実施例１と同様として、ガスバリア性積層体を得た。
【００８９】
＜比較例２＞
透明酸化物層１３の形成にＮｂターゲットを用いた以外は実施例１と同様として、ガスバリア性積層体を得た。
【００９０】
＜比較例３＞
透明酸化物層１３の形成に、ターゲットはＳｉとＳｎの合金ターゲット（原子組成比Ｓｉ：Ｓｎ＝１０：９０）を用い、膜厚を４１６ｎｍとした以外は実施例１と同様として、ガスバリア積層体を得た。
【００９１】
＜比較例４＞
透明酸化物層２４の形成にＮｂターゲットを用い、透明酸化物層２３にＡｌターゲットを用いた以外は実施例４と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００９２】
＜比較例５＞
透明酸化物層２４の形成に、ターゲットはＳｉとＳｎの合金ターゲット（原子組成比Ｓｉ：Ｓｎ＝１０：９０）を用い、膜厚を４１６ｎｍと以外は実施例４と同様として、ガスバリア性積層体を得た。
＜比較例６＞
透明酸化物層１３の形成にＮｂターゲットを用いた以外は実施例４と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００９３】
＜比較例７＞
透明酸化物層２３の形成にＮｂターゲットを用い、透明酸化物層２４にＡｌターゲットを用いた以外は実施例１３と同様としてガスバリア性積層体を得た。
【００９４】
＜評価及び方法＞
【００９５】
［ガスバリア性積層体の視感平均反射率の測定］
実施例１から実施例１７、及び比較例１から比較例７で作製したガスバリア性積層体について、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ―４０００）を用い、光源及び受光器の入出角度をガスバリア性積層体に対して垂直から５°に設定し、２°視野の条件下で正反射方向の分光反射率を測定し、視感平均反射率を測定した。
【００９６】
［ガスバリア性積層体のガスバリア性の測定］
実施例１から実施例１７、及び比較例１から比較例７で作製したガスバリア性積層体について、ＪＩＳ−Ｋ７１２９に準ずる方法を用いて、米国ＭＯＣＯＮ社製の水蒸気透過度計（ＡＱＵＡＴＲＡＮ−ＭｏｄｅｌＩＩ）により、４０℃９０％ＲＨ（温度４０℃、相対湿度９０％）環境下での水蒸気透過度（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）を測定した。
【００９７】
［測定結果］
測定結果を下記表１、表２に示す。
【表１】
2020203391.tif 000003
【表２】
2020203391.tif 000004
【００９８】
第１実施形態に対応する実施例１から実施例３と比較例1を比較すると、透明酸化物層１３、透明酸化物層１４を積層した実施例１のほうが、透明酸化物層１４のみの比較例１から比較例３に比べて、水蒸気透過率に良好な結果が得られた。
【００９９】
第１実施形態に対応する実施例１から実施例３、実施例１５と比較例２、比較例３を比較すると、透明酸化物層１３にＳｉとＳｎの合金ターゲットを用いた実施例１から実施例３のほうが、透明酸化物層１３にＮｂターゲットを用いた比較例２、比較例３に比べて、視感平均反射率、水蒸気透過率ともに良好な結果が得られた。
【０１００】
第２実施形態に対応する実施例４から実施例１１と比較例４と比較例５の比較においても、ＳｉとＳｎの合金ターゲットを用いた実施例４から実施例１１のほうが、比較例４と比較例５に比べ、水蒸気透過率が良好な結果が得られた。
【０１０１】
第３実施形態に対応する実施例１２と比較例６を比較すると、ＳｉとＳｎの合金ターゲットを用いた実施例１２のほうが、比較例６に比べ、視感平均反射率、水蒸気透過率ともに良好な結果が得られた。
【０１０２】
第４実施形態に対応する実施例１３、１４、と比較例７を比較すると、ＳｉとＳｎの合金ターゲットを用いた実施例１３，１４のほうが、比較例７に比べ、視感平均反射率、水蒸気透過率ともに良好な結果が得られた
【０１０３】
実施例１６では、ターゲットの金属元素としてＳｉおよびＳｎ以外の金属元素であるＡｌを含むターゲットを用いたが、ターゲットの金属元素としてＳｉおよびＳｎのみを含むターゲットを用いた実施例１と同様に、良好な視感平均反射率、水蒸気透過率の結果が得られた。
【０１０４】
実施例１７では、スパッタ工程における反応ガスに、酸素ガスと同時に窒素ガスを用いたが、スパッタ工程における反応ガスに、酸素ガスのみを用いた実施例１と同様に、良好な視感平均反射率、水蒸気透過率の結果が得られた。
【０１０５】
以上、本発明の実施形態を詳述してきたが、実際には、上記の実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の変更があっても本発明に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１０６】
本発明に係る反射防止機能を有するガスバリア性積層体は、電子機器関連部材等の分野において、高い反射防止機能及び高いガスバリア性が必要とされる場合に特に好適に利用が期待される。
【符号の説明】
【０１０７】
１１…樹脂基材
１２…アンダーコート層
１３…透明酸化物層
１４…透明酸化物層
２０…透明酸化物層積層体
２１…透明酸化物層積層体
２３…透明酸化物層
２４…透明酸化物層
２５…透明酸化物層
【図１】
2020203391.tif 000005
【図２】
2020203391.tif 000006
【図３】
2020203391.tif 000007
【図４】
2020203391.tif 000008