(57)【要約】      （修正有）【課題】高密度配線に供される加工基板の支持に好適であり、且つ端面強度が高いガラス板及びその製造方法及び半導体パッケージの高密度化方法を提供する。【解決手段】ガラス板１１は、全体板厚偏差が２．０μｍ未満であり、且つ端面の全部又は一部が溶融固化面である。また、全体板厚偏差が１．０μｍ未満であり、溶融固化面がレーザー照射により形成されてなり、反り量が６０μｍ以下である。表面の全部または一部が研磨面であり、オーバーフローダウンドロー法により成形されてなる。また、ヤング率が６５ＧＰａ以上であり、外形がウエハ形状であるガラス板。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
全体板厚偏差が２．０μｍ未満であり、且つ端面の全部又は一部が溶融固化面であることを特徴とすることを特徴とするガラス板。
【請求項２】
全体板厚偏差が１．０μｍ未満であることを特徴とする請求項１に記載のガラス板。
【請求項３】
溶融固化面がレーザー照射により形成されてなることを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス板。
【請求項４】
反り量が６０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のガラス板。
【請求項５】
表面の全部または一部が研磨面であることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のガラス板。
【請求項６】
オーバーフローダウンドロー法により成形されてなることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載のガラス板。
【請求項７】
ヤング率が６５ＧＰａ以上であることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載のガラス板。
【請求項８】
外形がウエハ形状であることを特徴とする請求項１〜７の何れかに記載のガラス板。
【請求項９】
半導体パッケージの製造工程で加工基板の支持に用いることを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載のガラス板。
【請求項１０】
少なくとも加工基板と加工基板を支持するためのガラス板とを備える積層体であって、ガラス板が請求項１〜９の何れかに記載のガラス板であることを特徴とする積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス板及びその製造方法に関し、具体的には、半導体パッケージの製造工程で加工基板の支持に用いるガラス板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話、ノート型パーソナルコンピュータ、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄａｔａ  Ａｓｓｉｓｔａｎｃｅ）等の携帯型電子機器には、小型化及び軽量化が要求されている。これに伴い、これらの電子機器に用いられる半導体チップの実装スペースも厳しく制限されており、半導体チップの高密度な実装が課題になっている。そこで、近年では、三次元実装技術、すなわち半導体チップ同士を積層し、各半導体チップ間を配線接続することに
より、半導体パッケージの高密度実装を図っている。
【０００３】
また、従来のウエハレベルパッケージ（ＷＬＰ）は、バンプをウエハの状態で形成した後、ダイシングで個片化することにより作製されている。しかし、従来のＷＬＰは、ピン数を増加させ難いことに加えて、半導体チップの裏面が露出した状態で実装されるため、半導体チップの欠け等が発生し易いという問題があった。
【０００４】
そこで、新たなＷＬＰとして、ｆａｎ  ｏｕｔ型のＷＬＰが提案されている。ｆａｎ  ｏｕｔ型のＷＬＰは、ピン数を増加させることが可能であり、また半導体チップの端部を保護することにより、半導体チップの欠け等を防止することができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ｆａｎ  ｏｕｔ型のＷＬＰでは、複数の半導体チップを樹脂の封止材でモールドして、加工基板を形成した後に、加工基板の一方の表面に配線する工程、半田バンプを形成する工程等を有する。
【０００６】
これらの工程は、約２００〜３００℃の熱処理を伴うため、封止材が変形して、加工基板が寸法変化する虞がある。加工基板が寸法変化すると、加工基板の一方の表面に対して、高密度に配線することが困難になり、また半田バンプを正確に形成することも困難になる。
【０００７】
加工基板の寸法変化を抑制するために、支持板としてガラス板を用いることが有効である。ガラス板は、表面を平滑化し易く、且つ剛性を有する。よって、ガラス板を用いると、加工基板を強固、且つ正確に支持することが可能になる。またガラス板は、紫外光等の光を透過し易い。よって、ガラス板を用いると、接着層等を設けることにより加工基板とガラス板を容易に固定することができる。また剥離層等を設けることにより加工基板とガラス板を容易に分離することもできる。
【０００８】
しかし、ガラス板を用いた場合であっても、加工基板の一方の表面に対して、高密度に配線することが困難になる場合があった。
【０００９】
また、加工基板を支持するためのガラス板には、投入／搬出時、搬送時又は加工時に破損し難いことが要求される。ガラス板の機械的強度は、端面のチッピング、マイクロクラック等の割合に依存し、この割合によっては、ガラス板の機械的強度が大幅に低下する。研磨によりガラス板の端面に面取り部を形成すると、チッピング等を低減することができるが、マイクロクラックを完全に取り除くことは困難である。結果として、ガラス板の端面強度を十分に高めることができず、ガラス板が投入／搬出時、搬送時又は加工時に破損し易くなる。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、その技術的課題は、高密度配線に供される加工基板の支持に好適であり、且つ端面強度が高いガラス板及びその製造方法を創案することにより、半導体パッケージの高密度化に寄与することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者等は、種々の実験を繰り返した結果、全体板厚偏差を低減し、更にガラス板の端面を溶融固化面とすることにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、本発明として、提案するものである。すなわち、本発明のガラス板は、全体板厚偏差が２．０μｍ未満であり、且つ端面の全部又は一部が溶融固化面であることを特徴とする。ここで、「全体板厚偏差」は、ガラス板全体の最大板厚と最小板厚の差であり、例えばコベルコ科
研社製のＳＢＷ−３３１ＭＬ／ｄにより測定可能である。
【００１２】
本発明のガラス板は、全体板厚偏差が２．０μｍ未満である。全体板厚偏差を２．０μｍ未満まで小さくすると、加工処理の精度を高め易くなる。特に配線精度を高めることができるため、高密度の配線が可能になる。またガラス板の面内強度が向上して、ガラス板及び積層体が破損し難くなる。更にガラス板の再利用回数（耐用数）を増やすことができる。
【００１３】
本発明のガラス板は、端面の全部又は一部が溶融固化面である。これにより、端面に存在するマイクロクラックが溶けて消失し、滑らかな状態になるため、ガラス板の端面強度を大幅に高めることができる。
【００１４】
図１は、ガラス板の端面をレーザー照射により溶融固化した状態を示す断面写真である。図１から分かるように、ガラス板の端面は、滑らかな鏡面になっており、また球状の液溜りの状態、つまり球状に膨出した状態になっている。図２は、図１に示すガラス板の膨出部を研磨により除去し、全体板厚偏差を２．０μｍ未満まで低下させた状態を示す断面写真である。
【００１５】
第二に、本発明のガラス板は、全体板厚偏差が１．０μｍ未満であることが好ましい。
【００１６】
第三に、本発明のガラス板は、溶融固化面がレーザー照射により形成されてなることが好ましい。こにより、端面の溶融固化の領域を調節し易くなる。また溶融固化面の膨出状態を調節し易くなる。
【００１７】
第四に、本発明のガラス板は、反り量が６０μｍ以下であることが好ましい。ここで、「反り量」は、ガラス板全体における最高位点と最小二乗焦点面との間の最大距離の絶対値と最低位点と最小二乗焦点面との絶対値との合計を指し、例えばコベルコ科研社製のＳＢＷ−３３１ＭＬ／ｄにより測定可能である。
【００１８】
第五に、本発明のガラス板は、表面の全部又は一部が研磨面であることが好ましい。
【００１９】
第六に、本発明のガラス板は、オーバーフローダウンドロー法により成形されてなることが好ましい。
【００２０】
第七に、本発明のガラス板は、ヤング率が６５ＧＰａ以上であることが好ましい。ここで、「ヤング率」は、曲げ共振法により測定した値を指す。なお、１ＧＰａは、約１０１．９Ｋｇｆ／ｍｍ２に相当する。
【００２１】
第八に、本発明のガラス板は、外形がウエハ形状であることが好ましい。
【００２２】
第九に、本発明のガラス板は、半導体パッケージの製造工程で加工基板の支持に用いることが好ましい。
【００２３】
第十に、本発明の積層体は、少なくとも加工基板と加工基板を支持するためのガラス板とを備える積層体であって、ガラス板が上記のガラス板であることが好ましい。
【００２４】
第十一に、本発明のガラス板の製造方法は、（１）ガラス原板を切断して、ガラス板を得る工程と、（２）レーザー照射により、ガラス板の端面の一部又は全部を溶融した後、固化する工程と、（３）ガラス板の全体板厚偏差が２．０μｍ未満になるように、ガラス板の表面を研磨する工程と、を有することを特徴とする。
【００２５】
第十二に、本発明のガラス板の製造方法は、オーバーフローダウンドロー法によりガラス原板を成形することが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】ガラス板の端面をレーザー照射により溶融固化した状態を示す断面写真である。
【図２】図１に示すガラス板の膨出部を研磨により除去し、全体板厚偏差を２．０μｍ未満まで低下させた状態を示す断面写真である。
【図３】本発明の積層体の一例を示す概念斜視図である。
【図４】ｆａｎ  ｏｕｔ型のＷＬＰの製造工程を示す概念断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本発明のガラス板において、全体板厚偏差は、好ましくは２μｍ未満、１．５μｍ以下、１μｍ以下、１μｍ未満、０．８μｍ以下、０．１〜０．９μｍ、特に０．２〜０．７μｍである。全体板厚偏差が小さい程、加工処理の精度を高め易くなる。特に配線精度を高めることができるため、高密度の配線が可能になる。またガラス板の強度が向上して、ガラス板及び積層体が破損し難くなる。更にガラス板の再利用回数（耐用数）を増やすことができる。
【００２８】
本発明のガラス板は、端面の全部又は一部が溶融固化面であり、面積比で端面の７０％以上が溶融固化面であることが好ましく、端面の９０％以上が溶融固化面であることがより好ましく、端面の全部が溶融固化面であることが更に好ましい。端面において溶融固化面の割合が高い程、ガラス板の端面強度を高めることができる。
【００２９】
端面に溶融固化面を形成する方法として、種々の方法を採択することができる。例えば、バーナーで直接加熱する方法、レーザー照射により局所加熱する方法等が挙げられるが、後者の方法は、照射条件の調節により、溶融固化する領域を調節し易く、溶融固化面の膨出状態を調節し易いため好ましい。またガラス板をレーザー照射により溶断すれば、ガラス板の端面に溶融固化面を形成することもできる。レーザーとして種々のレーザーが使用可能である。例えば、ＣＯ２レーザー、ＹＡＧレーザー等が使用可能であり、特に１０．６μｍの波長を有するＣＯ２レーザーを使用することが好ましい。このようにすれば、レーザーの光をガラス板に的確に吸収させることが可能になる。
【００３０】
端面は、端面強度を高める観点から、Ｒ状（半球状）であることが好ましい。なお、このような端面形状は、例えば、レーザー照射により、端面に球状の膨出部を形成した後に、表面から盛り上がった膨出部を研磨処理により除去することで形成することができる。
【００３１】
反り量は、好ましくは６０μｍ以下、５５μｍ以下、５０μｍ以下、１〜４５μｍ、特に５〜４０μｍである。反り量が小さい程、加工処理の精度を高め易くなる。特に配線精度を高めることができるため、高密度の配線が可能になる。更にガラス板の再利用回数（耐用数）を増やすことができる。
【００３２】
表面の算術平均粗さＲａは、好ましくは１０ｎｍ以下、５ｎｍ以下、２ｎｍ以下、１ｎｍ以下、特に０．５ｎｍ以下である。表面の算術平均粗さＲａが小さい程、加工処理の精度を高め易くなる。特に配線精度を高めることができるため、高密度の配線が可能になる。またガラス板の強度が向上して、ガラス板及び積層体が破損し難くなる。更にガラス板の再利用回数（支持回数）を増やすことができる。なお、「算術平均粗さＲａ」は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定可能である。
【００３３】
本発明のガラス板は、表面の全部又は一部が研磨面であることが好ましく、面積比で表
面の５０％以上が研磨面であることがより好ましく、表面の７０％以上が研磨面であることが更に好ましく、表面の９０％以上が研磨面であることが特に好ましい。このようにすれば、全体板厚偏差を低減し易くなり、また反り量も低減し易くなる。
【００３４】
研磨処理の方法としては、種々の方法を採用することができるが、ガラス板の両面を一対の研磨パッドで挟み込み、ガラス板と一対の研磨パッドを共に回転させながら、ガラス板を研磨処理する方法が好ましい。更に一対の研磨パッドは外径が異なることが好ましく、研磨の際に間欠的にガラス板の一部が研磨パッドから食み出すように研磨処理することが好ましい。これにより、全体板厚偏差を低減し易くなり、また反り量も低減し易くなる。なお、研磨処理において、研磨深さは特に限定されないが、研磨深さは、好ましくは５０μｍ以下、３０μｍ以下、２０μｍ以下、特に１０μｍ以下である。研磨深さが小さい程、ガラス板の生産性が向上する。
【００３５】
本発明のガラス板は、ウエハ状（略真円状）が好ましく、その直径は１００ｍｍ以上５００ｍｍ以下、特に１５０ｍｍ以上４５０ｍｍ以下が好ましい。このようにすれば、半導体パッケージの製造工程に適用し易くなる。必要に応じて、それ以外の形状、例えば矩形等の形状に加工してもよい。
【００３６】
本発明のガラス板において、板厚は、好ましくは２．０ｍｍ未満、１．５ｍｍ以下、１．２ｍｍ以下、１．１ｍｍ以下、１．０ｍｍ以下、特に０．９ｍｍ以下である。板厚が薄くなる程、積層体の質量が軽くなるため、ハンドリング性が向上する。一方、板厚が薄過ぎると、ガラス板自体の強度が低下して、支持板としての機能を果たし難くなる。よって、板厚は、好ましくは０．１ｍｍ以上、０．２ｍｍ以上、０．３ｍｍ以上、０．４ｍｍ以上、０．５ｍｍ以上、０．６ｍｍ以上、特に０．７ｍｍ超である。
【００３７】
本発明のガラス板は、以下の特性を有することが好ましい。
【００３８】
本発明のガラス板において、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数は０×１０−７／℃以上、且つ１６５×１０−７／℃以下が好ましい。これにより、加工基板とガラス板の熱膨張係数を整合させ易くなる。そして、両者の熱膨張係数が整合すると、加工処理時に加工基板の寸法変化（特に、反り変形）を抑制し易くなる。結果として、加工基板の一方の表面に対して、高密度に配線することが可能になり、また半田バンプを正確に形成することも可能になる。なお、「３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数」は、ディラトメーターで測定可能である。
【００３９】
３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数は、加工基板内で半導体チップの割合が少なく、封止材の割合が多い場合は、上昇させることが好ましく、逆に、加工基板内で半導体チップの割合が多く、封止材の割合が少ない場合は、低下させることが好ましい。
【００４０】
３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数を０×１０−７／℃以上、且つ５０×１０−７／℃未満とする場合、ガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２  ５５〜７５％、Ａｌ２Ｏ３  １５〜３０％、Ｌｉ２Ｏ  ０．１〜６％、Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ  ０〜８％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ０〜１０％を含有することが好ましく、或いはＳｉＯ２  ５５〜７５％、Ａｌ２Ｏ３  １０〜３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ  ０〜０．３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ５〜２０％を含有することも好ましい。３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数を５０×１０−７／℃以上、且つ７５×１０−７／℃未満とする場合、ガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２  ５５〜７０％、Ａｌ２Ｏ３  ３〜１５％、Ｂ２Ｏ３  ５〜２０％、ＭｇＯ  ０〜５％、ＣａＯ  ０〜１０％、ＳｒＯ  ０〜５％、ＢａＯ  ０〜５％、ＺｎＯ  ０〜５％、Ｎａ２Ｏ  ５〜１５％、Ｋ２Ｏ  ０〜１０％を含有することが好ましい。３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数を７５×１０−７／℃以上、且つ８５×１０−７／℃以下とする場合、ガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２  ６０〜７５％、Ａｌ２Ｏ３  ５〜１５％、Ｂ２Ｏ３  ５〜２０％、ＭｇＯ  ０〜５％、ＣａＯ  ０〜１０％、ＳｒＯ  ０〜５％、ＢａＯ  ０〜５％、ＺｎＯ  ０〜５％、Ｎａ２Ｏ  ７〜１６％、Ｋ２Ｏ  ０〜８％を含有することが好ましい。３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数を８５×１０−７／℃超、且つ１２０×１０−７／℃以下とする場合、ガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２  ５５〜７０％、Ａｌ２Ｏ３  ３〜１３％、Ｂ２Ｏ３  ２〜８％、ＭｇＯ  ０〜５％、ＣａＯ  ０〜１０％、ＳｒＯ  ０〜５％、ＢａＯ  ０〜５％、ＺｎＯ  ０〜５％、Ｎａ２Ｏ  １０〜２１％、Ｋ２Ｏ  ０〜５％を含有することが好ましい。３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数を１２０×１０−７／℃超、且つ１６５×１０−７／℃以下とする場合、ガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２  ５３〜６５％、Ａｌ２Ｏ３  ３〜１３％、Ｂ２Ｏ３  ０〜５％、ＭｇＯ  ０．１〜６％、ＣａＯ  ０〜１０％、ＳｒＯ  ０〜５％、ＢａＯ  ０〜５％、ＺｎＯ  ０〜５％、Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ  ２０〜４０％、Ｎａ２Ｏ  １２〜２１％、Ｋ２Ｏ  ７〜２１％を含有することが好ましい。このようにすれば、熱膨張係数を所望の範囲に規制し易くなると共に、耐失透性が向上するため、全体板厚偏差が小さいガラス板を成形し易くなる。
【００４１】
ヤング率は、好ましくは６５ＧＰａ以上、６７ＧＰａ以上、６８ＧＰａ以上、６９ＧＰａ以上、７０ＧＰａ以上、７１ＧＰａ以上、７２ＧＰａ以上、特に７３ＧＰａ以上である。ヤング率が低過ぎると、積層体の剛性を維持し難くなり、加工基板の変形、反り、破損が発生し易くなる。
【００４２】
液相温度は、好ましくは１１５０℃未満、１１２０℃以下、１１００℃以下、１０８０℃以下、１０５０℃以下、１０１０℃以下、９８０℃以下、９６０℃以下、９５０℃以下、特に９４０℃以下である。このようにすれば、ダウンドロー法、特にオーバーフローダウンドロー法でガラス板を成形し易くなるため、板厚が小さいガラス板を作製し易くなると共に、成形後の板厚偏差を低減することができる。更に、ガラス板の製造工程時に、失透結晶が発生して、ガラス板の生産性が低下する事態を防止し易くなる。ここで、「液相温度」は、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れた後、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶が析出する温度を測定することにより算出可能である。
【００４３】
液相温度における粘度は、好ましくは１０４．６ｄＰａ・ｓ以上、１０５．０ｄＰａ・ｓ以上、１０５．２ｄＰａ・ｓ以上、１０５．４ｄＰａ・ｓ以上、１０５．６ｄＰａ・ｓ以上、特に１０５．８ｄＰａ・ｓ以上である。このようにすれば、ダウンドロー法、特にオーバーフローダウンドロー法でガラス板を成形し易くなるため、板厚が小さいガラス板を作製し易くなると共に、成形後の板厚偏差を低減することができる。更に、ガラス板の製造工程時に、失透結晶が発生して、ガラス板の生産性が低下する事態を防止し易くなる。ここで、「液相温度における粘度」は、白金球引き上げ法で測定可能である。なお、液相温度における粘度は、成形性の指標であり、液相温度における粘度が高い程、成形性が向上する。
【００４４】
１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、好ましくは１５８０℃以下、１５００℃以下、１４５０℃以下、１４００℃以下、１３５０℃以下、特に１２００〜１３００℃である。１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度が高くなると、溶融性が低下して、ガラス板の製造コストが高騰する。ここで、「１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度」は、白金球引き上げ法で測定可能である。なお、１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、溶融温度に相当し、この温度が低い程、溶融性が向上する。
【００４５】
本発明のガラス板において、板厚方向、波長３００ｎｍにおける紫外線透過率は、好ましくは４０％以上、５０％以上、６０％以上、７０％以上、特に８０％以上である。紫外線透過率が低過ぎると、紫外光の照射により、接着層により加工基板とガラス板を接着し難くなることに加えて、剥離層により加工基板からガラス板を剥離し難くなる。なお、「板厚方向、波長３００ｎｍにおける紫外線透過率」は、例えば、ダブルビーム型分光光度計を用いて、波長３００ｎｍの分光透過率を測定することで評価可能である。
【００４６】
本発明のガラス板は、ダウンドロー法、特にオーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。オーバーフローダウンドロー法は、耐熱性の樋状構造物の両側から溶融ガラスを溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下頂端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス原板を成形する方法である。オーバーフローダウンドロー法では、ガラス板の表面となるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形される。このため、板厚が小さいガラス板を作製し易くなると共に、全体板厚偏差を低減することができ、結果として、ガラス板の製造コストを低廉化することができる。
【００４７】
ガラス原板の成形方法として、オーバーフローダウンドロー法以外にも、例えば、スロットダウン法、リドロー法、フロート法、ロールアウト法等を採択することもできる。
【００４８】
本発明のガラス板は、表面に研磨面を有し、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。このようにすれば、研磨処理前の全体板厚偏差が小さくなるため、研磨処理により全体板厚偏差を可及的に低減することが可能になる。例えば、全体板厚偏差を１．０μｍ以下に低減することが可能になる。
【００４９】
本発明のガラス板は、反り量を低減する観点から、化学強化処理がなされていないことが好ましい。一方、機械的強度の観点から、化学強化処理がなされていることが好ましい。つまり反り量を低減する観点から、表面に圧縮応力層を有しないことが好ましく、機械的強度の観点から、表面に圧縮応力層を有することが好ましい。
【００５０】
本発明のガラス板の製造方法は、（１）ガラス原板を切断して、ガラス板を得る工程と、（２）レーザー照射により、ガラス板の端面の一部又は全部を溶融した後、固化する工程と、（３）ガラス板の全体板厚偏差が２．０μｍ未満になるように、ガラス板の表面を研磨する工程と、を有することを特徴とする。ここで、本発明のガラス板の製造方法の技術的特徴（好適な構成、効果）は、本発明のガラス板の技術的特徴と重複する。よって、本明細書では、その重複部分について、詳細な記載を省略する。
【００５１】
本発明のガラス板の製造方法は、ガラス原板を切断して、ガラス板を得る工程を有する。ガラス原板を切断する方法として、種々の方法を採択することができる。例えば、レーザー照射時のサーマルショックにより切断する方法、スクライブした後に折り割りを行う方法が利用可能である。
【００５２】
本発明のガラス板の製造方法は、レーザー照射により、ガラス板の端面の一部又は全部を溶融した後、固化する工程を有するが、この工程の好適な態様は上記の通りである。
【００５３】
本発明のガラス板の製造方法は、ガラス板の端面に溶融固化面を形成した後に、ガラス板をアニールする工程を有することが好ましい。端面の残留応力とガラス板の反り量を低減する観点から、アニール温度は、ガラス板の軟化点以上とすることが好ましく、アニール温度における保持時間は、３０分間以上とすることが好ましい。なお、アニールは、電気炉等の熱処理炉で行うことができる。
【００５４】
本発明のガラス板の製造方法は、本発明のガラス板の製造方法は、ガラス板の全体板厚偏差が２．０μｍ未満になるように、ガラス板の表面を研磨する工程を有するが、この工程の好適な態様は上記の通りである。
【００５５】
本発明の積層体は、少なくとも加工基板と加工基板を支持するためのガラス板とを備える積層体であって、ガラス板が上記のガラス板であることを特徴とする。ここで、本発明の積層体の技術的特徴（好適な構成、効果）は、本発明のガラス板の技術的特徴と重複する。よって、本明細書では、その重複部分について、詳細な記載を省略する。
【００５６】
本発明の積層体は、加工基板とガラス板の間に、接着層を有することが好ましい。接着層は、樹脂であることが好ましく、例えば、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂（特に紫外線硬化樹脂）等が好ましい。また半導体パッケージの製造工程における熱処理に耐える耐熱性を有するものが好ましい。これにより、半導体パッケージの製造工程で接着層が融解し難くなり、加工処理の精度を高めることができる。
【００５７】
本発明の積層体は、更に加工基板とガラス板の間に、より具体的には加工基板と接着層の間に、剥離層を有すること、或いはガラス板と接着層の間に、剥離層を有することが好ましい。このようにすれば、加工基板に対して、所定の加工処理を行った後に、加工基板をガラス板から剥離し易くなる。加工基板の剥離は、生産性の観点から、レーザー照射等により行うことが好ましい。
【００５８】
剥離層は、レーザー照射等により「層内剥離」又は「界面剥離」が生じる材料で構成される。つまり一定の強度の光を照射すると、原子又は分子における原子間又は分子間の結合力が消失又は減少して、アブレーション（ａｂｌａｔｉｏｎ）等を生じ、剥離を生じさせる材料で構成される。なお、照射光の照射により、剥離層に含まれる成分が気体となって放出されて分離に至る場合と、剥離層が光を吸収して気体になり、その蒸気が放出されて分離に至る場合とがある。
【００５９】
本発明の積層体において、ガラス板は、加工基板よりも大きいことが好ましい。これにより、加工基板とガラス板を支持する際に、両者の中心位置が僅かに離間した場合でも、ガラス板から加工基板の縁部が食み出し難くなる。
【００６０】
本発明に係る半導体パッケージの製造方法は、少なくとも加工基板と加工基板を支持するためのガラス板とを備える積層体を用意する工程と、加工基板に対して、加工処理を行う工程と、を有すると共に、ガラス板が上記のガラス板であることを特徴とする。ここで、本発明に係る半導体パッケージの製造方法の技術的特徴（好適な構成、効果）は、本発明のガラス板及び積層体の技術的特徴と重複する。よって、本明細書では、その重複部分について、詳細な記載を省略する。
【００６１】
本発明に係る半導体パッケージの製造方法は、少なくとも加工基板と加工基板を支持するためのガラス板とを備える積層体を用意する工程を有する。少なくとも加工基板と加工基板を支持するためのガラス板とを備える積層体は、上記の材料構成を有している。
【００６２】
本発明に係る半導体パッケージの製造方法は、更に積層体を搬送する工程を有することが好ましい。これにより、加工処理の処理効率を高めることができる。なお、「積層体を搬送する工程」と「加工基板に対して、加工処理を行う工程」とは、別途に行う必要はなく、同時であってもよい。
【００６３】
本発明に係る半導体パッケージの製造方法において、加工処理は、加工基板の一方の表面に配線する処理、或いは加工基板の一方の表面に半田バンプを形成する処理が好ましい。本発明に係る半導体パッケージの製造方法では、これらの処理時に加工基板が寸法変化し難いため、これらの工程を適正に行うことができる。
【００６４】
加工処理として、上記以外にも、加工基板の一方の表面（通常、ガラス板とは反対側の表面）を機械的に研磨する処理、加工基板の一方の表面（通常、ガラス板とは反対側の表面）をドライエッチングする処理、加工基板の一方の表面（通常、ガラス板とは反対側の表面）をウェットエッチングする処理の何れかであってもよい。なお、本発明の半導体パッケージの製造方法では、加工基板に反りが発生し難いと共に、積層体の剛性を維持することができる。結果として、上記加工処理を適正に行うことができる。
【００６５】
本発明に係る半導体パッケージは、上記の半導体パッケージの製造方法により作製されたことを特徴とする。ここで、本発明の半導体パッケージの技術的特徴（好適な構成、効果）は、本発明のガラス板、積層体及び半導体パッケージの製造方法の技術的特徴と重複する。よって、本明細書では、その重複部分について、詳細な記載を省略する。
【００６６】
本発明に係る電子機器は、半導体パッケージを備える電子機器であって、半導体パッケージが、上記の半導体パッケージであることを特徴とする。ここで、本発明の電子機器の技術的特徴（好適な構成、効果）は、本発明のガラス板、積層体、半導体パッケージの製造方法、半導体パッケージの技術的特徴と重複する。よって、本明細書では、その重複部分について、詳細な記載を省略する。
【００６７】
図面を参酌しながら、本発明を更に説明する。
【００６８】
図３は、本発明の積層体１の一例を示す概念斜視図である。図３では、積層体１は、ガラス板１０と加工基板１１とを備えている。ガラス板１０は、加工基板１１の寸法変化を防止するために、加工基板１１に貼着されている。ガラス板１０と加工基板１１との間には、剥離層１２と接着層１３が配置されている。剥離層１２は、ガラス板１０と接触しており、接着層１３は、加工基板１１と接触している。
【００６９】
図３から分かるように、積層体１は、ガラス板１０、剥離層１２、接着層１３、加工基板１１の順に積層配置されている。ガラス板１０の形状は、加工基板１１に応じて決定されるが、図３では、ガラス板１０及び加工基板１１の形状は、何れも略円板形状である。剥離層１２は、非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）以外にも、酸化ケイ素、ケイ酸化合物、窒化ケイ素、窒化アルミ、窒化チタン等が用いられる。剥離層１２は、プラズマＣＶＤ、ゾル−ゲル法によるスピンコート等により形成される。接着層１３は、樹脂で構成されており、例えば、各種印刷法、インクジェット法、スピンコート法、ロールコート法等により塗布形成される。接着層１３は、剥離層１２により加工基板１１からガラス板１０が剥離された後、溶剤等により溶解除去される。
【００７０】
図４は、ｆａｎ  ｏｕｔ型のＷＬＰの製造工程を示す概念断面図である。図４（ａ）は、支持部材２０の一方の表面上に接着層２１を形成した状態を示している。必要に応じて、支持部材２０と接着層２１の間に剥離層を形成してもよい。次に、図４（ｂ）に示すように、接着層２１の上に複数の半導体チップ２２を貼付する。その際、半導体チップ２２のアクティブ側の面を接着層２１に接触させる。次に、図４（ｃ）に示すように、半導体チップ２２を樹脂の封止材２３でモールドする。封止材２３は、圧縮成形後の寸法変化、配線を成形する際の寸法変化が少ない材料が使用される。続いて、図４（ｄ）、（ｅ）に示すように、支持部材２０から半導体チップ２２がモールドされた加工基板２４を分離した後、接着層２５を介して、ガラス板２６と接着固定させる。その際、加工基板２４の表面の内、半導体チップ２２が埋め込まれた側の表面とは反対側の表面がガラス板２６側に配置される。このようにして、積層体２７を得ることができる。なお、必要に応じて、接着層２５とガラス板２６の間に剥離層を形成してもよい。更に、得られた積層体２７を搬送した後に、図４（ｆ）に示すように、加工基板２４の半導体チップ２２が埋め込まれた側の表面に配線２８を形成した後、複数の半田バンプ２９を形成する。最後に、ガラス板２６から加工基板２４を分離した後に、加工基板２４を半導体チップ２２毎に切断し、後のパッケージング工程に供される。
【実施例１】
【００７１】
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。なお、以下の実施例は単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。
【００７２】
ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２  ６５．２％、Ａｌ２Ｏ３  ８％、Ｂ２Ｏ３  １０．５％、Ｎａ２Ｏ  １１．５％、ＣａＯ  ３．４％、ＺｎＯ  １％、ＳｎＯ２  ０．３％、Ｓｂ２Ｏ３  ０．１％になるように、ガラス原料を調合した後、ガラス溶融炉に投入して１５００〜１６００℃で溶融し、次いで溶融ガラスをオーバーフローダウンドロー成形装置に供給し、板厚が０．７ｍｍになるように成形した。
【００７３】
次に、得られたガラス原板をウエハ形状にくり抜いて、ガラス板を得ると共に、このガラス板の端面の全部に対して、ＣＯ２レーザーを連続して照射することにより、ガラス板の端面全体を溶融し、球状の膨出部を形成した後、冷却固化した。更に（ガラス板の軟化点＋５０℃）の温度で９０分間の条件で、ガラス板をアニールすることにより、膨出部の残留応力を除去した。なお、ＣＯ２レーザーの波長は１０．６μｍであり、レーザー出力を９〜１８Ｗに調整した。
【００７４】
続いて、ガラス板の表面を研磨装置で研磨処理することにより、ガラス板の膨出部を除去すると共に、ガラス板の全体板厚偏差を低減した。具体的には、ガラス板の両表面を外径が相違する一対の研磨パットで挟み込み、ガラス板と一対の研磨パッドを共に回転させながらガラス板の両表面を研磨処理した。研磨処理の際、時折、ガラス板の一部が研磨パッドから食み出すように制御した。なお、研磨パッドはウレタン製、研磨処理の際に使用した研磨スラリーの平均粒径は２．５μｍ、研磨速度は１５ｍ／分であった。得られた研磨処理前後のガラス板（各５サンプル）について、コベルコ科研社製のＳＢＷ−３３１ＭＬ／ｄにより最大板厚（Ｍａｘｉｍｕｍ  Ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ）、最小板厚（Ｍｉｎｉｍｕｍ  Ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ）、平均板厚（Ａｖｅｒａｇｅ  Ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ）及び全体板厚偏差（ＴＴＶ）を測定した。研磨処理前のガラス板の測定結果（但し、膨出部を除く領域で測定）を表１に示し、研磨処理後のガラス板の測定結果を表２に示す。
【００７５】
【表１】
2020045281.tif 000003
【００７６】
【表２】
2020045281.tif 000004
【００７７】
表１、２から分かるように、ガラス板の全体板厚偏差は０．８μｍ以下まで低減されていた。
【００７８】
更に、上記研磨処理済みガラス板（１０サンプル）と上記ＣＯ２レーザー照射前のガラス板（１０サンプル）について、島津製作所社製精密万能試験機オートグラフＡＧ−ＩＳを用いて、四点曲げ試験を行った。その結果を表３に示す。なお、四点曲げ試験の条件は、加圧冶具幅２５ｍｍ、支持冶具幅５０ｍｍ、クロスヘッド下降速度５ｍｍ／ｍｉｎとした。
【００７９】
【表３】
2020045281.tif 000005
【００８０】
表３から明らかなように、ガラス板の端面を溶融固化面とすることにより、端面強度を大幅に高めることができた。
【実施例２】
【００８１】
まず、表４に記載の試料Ｎｏ．１〜７のガラス組成になるように、ガラス原料を調合した後、ガラス溶融炉に投入して１５００〜１６００℃で溶融し、次いで溶融ガラスをオーバーフローダウンドロー成形装置に供給し、板厚が０．８ｍｍになるようにそれぞれ成形した。その後、［実施例１］と同様の条件にて、ガラス原板をウエハ形状にくり抜いて、得られたガラス板の端面全体を溶融固化面とし、更にアニール処理を行った。得られた各ガラス板について、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数α３０〜３８０、密度ρ、歪点Ｐｓ、アニール点Ｔａ、軟化点Ｔｓ、高温粘度１０４．０ｄＰａ・ｓにおける温度、高温粘度１０３．０ｄＰａ・ｓにおける温度、高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度、高温粘度１０２．０ｄＰａ・ｓにおける温度、液相温度ＴＬ及びヤング率Ｅを評価した。なお、切断後、溶融固化前の各ガラス板について、コベルコ科研社製のＳＢＷ−３３１ＭＬ／ｄにより全体板厚偏差と反り量を測定したところ、全体板厚偏差がそれぞれ３μｍであり、反り量がそれぞれ７０μｍであった。
【００８２】
【表４】
2020045281.tif 000006
【００８３】
３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数α３０〜３８０は、ディラトメーターで測定した値である。
【００８４】
密度ρは、周知のアルキメデス法によって測定した値である。
【００８５】
歪点Ｐｓ、アニール点Ｔａ、軟化点Ｔｓは、ＡＳＴＭ  Ｃ３３６の方法に基づいて測定した値である。
【００８６】
高温粘度１０４．０ｄＰａ・ｓ、１０３．０ｄＰａ・ｓ、１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。
【００８７】
液相温度ＴＬは、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れて、温度勾配炉中に２４時間保持した後、結晶が析出する温度を顕微鏡観察にて測定した値である。
【００８８】
ヤング率Ｅは、共振法により測定した値を指す。
【００８９】
続いて、ガラス板の表面を研磨装置により研磨処理した。具体的には、ガラス板の両表面を外径が相違する一対の研磨パットで挟み込み、ガラス板と一対の研磨パッドを共に回転させながらガラス板の両表面を研磨処理した。研磨処理の際、時折、ガラス板の一部が研磨パッドから食み出すように制御した。なお、研磨パッドはウレタン製、研磨処理の際に使用した研磨スラリーの平均粒径は２．５μｍ、研磨速度は１５ｍ／分であった。得られた各研磨処理済みガラス板について、コベルコ科研社製のＳＢＷ−３３１ＭＬ／ｄにより全体板厚偏差と反り量を測定した。その結果、全体板厚偏差がそれぞれ０．４５μｍであり、反り量がそれぞれ３５μｍであった。
【符号の説明】
【００９０】
１０、２７  積層体
１１、２６  ガラス板
１２、２４  加工基板
１３  剥離層
１４、２１、２５  接着層
２０  支持部材
２２  半導体チップ
２３  封止材
２８  配線
２９  半田バンプ
【図１】
2020045281.tif 000007
【図２】
2020045281.tif 000008
【図３】
2020045281.tif 000009
【図４】
2020045281.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月26日(2019.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面の全部または一部が研磨面であり、全体板厚偏差が０．４ｍｍ以上、２．０μｍ未満であり、且つ端面の全部又は一部が溶融固化面であることを特徴とすることを特徴とするガラス板。
【請求項２】
全体板厚偏差が１．０μｍ未満であることを特徴とする請求項１に記載のガラス板。
【請求項３】
溶融固化面がレーザー照射により形成されてなることを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス板。
【請求項４】
反り量が６０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のガラス板。
【請求項５】
表面の９０％以上が研磨面であることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のガラス板。
【請求項６】
ガラス内部に成形合流面を有することを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載のガラス板。
【請求項７】
ヤング率が６５ＧＰａ以上であることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載のガラス板。
【請求項８】
外形がウエハ形状であることを特徴とする請求項１〜７の何れかに記載のガラス板。
【請求項９】
半導体パッケージの製造工程で加工基板の支持に用いることを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載のガラス板。
【請求項１０】
少なくとも加工基板と加工基板を支持するためのガラス板とを備える積層体であって、ガラス板が請求項１〜９の何れかに記載のガラス板であることを特徴とする積層体。