(57)【要約】【課題】基板挿入型リードタイプの半導体装置において、基板実装時に安定したはんだフィレットを形成することが可能な技術を提供することを目的とする。【解決手段】半導体装置１００は、基板４の複数のスルーホール５に複数のリード端子２をそれぞれ差し込むことで実装される基板挿入型リードタイプの半導体装置である。半導体装置１００は、半導体素子および配線を含む通電制御部と、通電制御部を覆う封止樹脂１と、一端側が通電制御部と接続され、かつ、他端側が封止樹脂１から突出する複数のリード端子２とを備え、各リード端子２は、封止樹脂１から突出する他端側の一部に形成される突起部３を有している。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の複数のスルーホールに複数のリード端子をそれぞれ差し込むことで実装される基板挿入型リードタイプの半導体装置であって、
半導体素子および配線を含む通電制御部と、
前記通電制御部を覆う封止樹脂と、
一端側が前記通電制御部と接続され、かつ、他端側が前記封止樹脂から突出する複数の前記リード端子と、を備え、
各前記リード端子は、前記封止樹脂から突出する前記他端側の一部に形成される突起部を有する、半導体装置。
【請求項２】
前記リード端子および前記突起部における、前記基板の前記スルーホールの内部およびその周辺に位置する部分に、複数の切り込み、前記リード端子の長手方向に延びる複数の溝、または複数の凹凸が形成される、請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記突起部の正面視形状は、前記通電制御部から離れる方向に向かって細くなるテーパー形状であり、
前記リード端子の側面に対する前記テーパー形状の傾斜角度は４５度未満である、請求項１または請求項２に記載の半導体装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の半導体装置を製造する製造方法であって、
（ａ）複数のリードと、複数の前記リードの前記他端側を接続するフレーム枠と、複数の前記リードおよび前記フレーム枠を囲む外枠とを有するリードフレームを配置する工程と、
（ｂ）複数の前記リードの前記一端側に前記通電制御部を形成する工程と、
（ｃ）前記通電制御部を前記封止樹脂で封止する工程と、
（ｄ）プレス加工により前記フレーム枠を加工して前記突起部を形成する工程と、
（ｅ）プレス加工により前記外枠を切断して複数の前記リード端子を形成する工程と、
を備える、半導体装置の製造方法。
【請求項５】
（ｆ）前記リード端子および前記突起部における、前記基板の前記スルーホールの内部およびその周辺に位置する部分に、プレス加工により複数の前記溝、または、ビーズブラストまたはサンドブラストにより複数の前記凹凸を形成する工程をさらに備える、請求項４に記載の半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板挿入型リードタイプの半導体装置およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の面実装型リードタイプの半導体装置では、リード端子の表面等に加工を施して、リード端子と封止樹脂との結合力向上、およびリード端子とはんだとの結合力向上を図っている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、半導体素子を実装する基板とリード端子との接合力を向上させるために、リード端子と基板との接合部分にはんだフィレットを形成する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２８７７６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、基板挿入型リードタイプの半導体装置では、リード端子の途中部において基板と接合することから、重力により、はんだが下方に流れるように応力がかかるため、面実装型リードタイプの半導体装置と比較して、正常なはんだフィレットの形状を形成することは難しい。はんだフィレットの形状は、はんだの量、リード端子およびその周辺の温度等により変わることから、安定したはんだフィレットを形成できない可能性があった。
【０００６】
そこで、本発明は、基板挿入型リードタイプの半導体装置において、基板実装時に安定したはんだフィレットを形成することが可能な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る半導体装置は、基板の複数のスルーホールに複数のリード端子をそれぞれ差し込むことで実装される基板挿入型リードタイプの半導体装置であって、半導体素子および配線を含む通電制御部と、前記通電制御部を覆う封止樹脂と、一端側が前記通電制御部と接続され、かつ、他端側が前記封止樹脂から突出する複数の前記リード端子とを備え、各前記リード端子は、前記封止樹脂から突出する前記他端側の一部に形成される突起部を有するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、各リード端子は、封止樹脂から突出する他端側の一部に形成される突起部を有するため、基板挿入型リードタイプの半導体装置において、基板実装時に安定したはんだフィレットを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施の形態１に係る半導体装置の側面図である。
【図２】半導体装置の正面図である。
【図３】半導体装置の基板挿入時における突起部およびその周辺の拡大図である。
【図４】半導体装置の基板実装時における突起部およびその周辺の拡大図である。
【図５】実施の形態１に係る半導体装置の製造方法を説明するための説明図である。
【図６】実施の形態１の変形例１に係る半導体装置の基板挿入時における突起部およびその周辺の拡大図である。
【図７】実施の形態１の変形例２に係る半導体装置の基板挿入時における突起部およびその周辺の拡大図である。
【図８】実施の形態１の変形例３に係る半導体装置の基板挿入時における突起部およびその周辺の拡大図である。
【図９】実施の形態２に係る半導体装置の基板挿入時における突起部およびその周辺の拡大図である。
【図１０】実施の形態２の変形例１に係る半導体装置の基板挿入時における突起部およびその周辺の拡大図である。
【図１１】表面加工領域に形成された複数の溝の一例を示す断面図である。
【図１２】表面加工領域に形成された複数の溝の他の例を示す断面図である。
【図１３】表面加工領域に形成された複数の溝の他の例を示す断面図である。
【図１４】表面加工領域に形成された複数の溝の他の例を示す断面図である。
【図１５】表面加工領域に形成された複数の溝の他の例を示す断面図である。
【図１６】実施の形態２の変形例２に係る半導体装置の基板挿入時における突起部およびその周辺の拡大図である。
【図１７】表面加工領域に形成された複数の凹凸の一例を示す断面図である。
【図１８】表面加工領域に形成された複数の凹凸の他の例を示す断面図である。
【図１９】複数の溝の形成方法を説明するための説明図である。
【図２０】複数の凹凸の形成方法を説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
＜実施の形態１＞
本発明の実施の形態１について、図面を用いて以下に説明する。図１は、実施の形態１に係る半導体装置１００の側面図である。図２は、半導体装置１００の正面図である。
【００１１】
図１と図２に示すように、半導体装置１００は、基板４（図３参照）の複数のスルーホール５（図３参照）に複数のリード端子２をそれぞれ差し込むことで実装される基板挿入型リードタイプの半導体装置であり、通電制御部（図示省略）、封止樹脂１、および複数のリード端子２を備えている。封止樹脂１は、平面視にて矩形形状に形成され、通電制御部と複数のリード端子２の一端側とを封止している。複数（例えば１０本）のリード端子２は、封止樹脂１の前後から５本ずつ突出している。通電制御部は半導体素子および配線を含み、複数のリード端子２の一端側に接続されている。
【００１２】
複数のリード端子２の他端側は封止樹脂１から突出しており、基板４と接続されるためオープンとなっている。複数のリード端子２の他端側は、封止樹脂１の前面と背面から水平方向に延び、途中部で屈曲し下方に延びる形状である。複数のリード端子２における下方に延びる部分には、局所的に幅が広くなっている突起部３が形成されている。
【００１３】
次に、突起部３について詳細に説明する。図３は、半導体装置１００の基板挿入時における突起部３およびその周辺の拡大図である。
【００１４】
図２と図３に示すように、突起部３の正面視形状は、通電制御部から離れる方向に向かって細くなるテーパー形状、すなわち、逆三角形形状である。突起部３の下端部よりも上側の部分の幅は、基板４のスルーホール５の幅よりも広くなっており、リード端子２が基板４のスルーホール５に差し込まれた状態で、突起部３の下端部がスルーホール５の上端に位置する。
【００１５】
次に、図３と図４を用いて、リード端子２に突起部３を設けた場合の効果について、リード端子２に突起部３を設けない場合と比較して説明する。図４は、半導体装置１００の基板実装時における突起部３およびその周辺の拡大図である。なお、基板実装時とは、はんだ６により複数のリード端子２が基板４に固定された状態である。
【００１６】
はんだ６は基板４の下側からはんだごてまたは噴流はんだにより供給されるため、基板４の下面にははんだフィレットが安定して形成されやすい。しかし、リード端子２に突起部３を設けない場合、重力により、はんだ６が下方に流れるように応力がかかるため、基板４の上面にはんだフィレットが安定して形成されない可能性がある。
【００１７】
リード端子２に突起部３を設けた場合、突起部３においてリード端子２の体積を局所的に大きくすることにより熱容量を向上させている。そのため、突起部３を高温状態で保つことが容易であることから、突起部３におけるはんだ６の濡れ上がり性を向上させることができる。また、突起部３は、はんだ６の表面張力を利用したはんだ６の濡れ上がり性も向上させることができる。
【００１８】
図３と図４を用いて、表面張力を利用したはんだ６の濡れ上がり性について説明する。突起部３の下端部に到達したはんだ６は突起部３の下端部において表面張力により上側に濡れ上がる。濡れ上げられたはんだ６は、表面張力により突起部３を伝って基板４の上面にフィレットを形成する。
【００１９】
突起部３の下端部よりも上側の部分の幅はスルーホール５の幅よりも広くなっており、基板４の上面での基板４と突起部３との間の距離は、基板４の下面での基板４とリード端子２との間の距離よりも小さい。そのため、基板４の上面では基板４の下面よりも少ないはんだ６ではんだフィレットを形成することができる。また、基板４の上面と下面に供給されるはんだ６が同量であった場合には、図４に示すように、大きく安定したはんだフィレットを形成することができる。
【００２０】
また、リード端子２がスルーホール５に挿入された状態で、突起部３の一部が基板４の上面と同じ高さ位置に位置するスルーホール５の上端に位置すれば、はんだフィレットが形成された箇所にて半導体装置１００が固定される。
【００２１】
また、突起部３は複数のリード端子２を形成する際にプレス金型を用いた作製が可能である。次に、半導体装置１００の製造方法について説明する。図５は、実施の形態１に係る半導体装置１００の製造方法を説明するための説明図である。具体的には、図５（ａ）は、通電制御部を封止樹脂１で封止する工程が行われた状態を示す平面図である。図５（ｂ）は、フレーム枠８を加工して突起部３を形成する工程が行われた状態を示す平面図である。図５（ｃ）は、外枠９を切断して複数のリード端子２を形成する工程が行われた状態を示す平面図である。
【００２２】
最初に、複数のリード７と、複数のリード７の他端側を接続するフレーム枠８と、複数のリード７およびフレーム枠８を囲む外枠９とを有するリードフレーム１０を配置する工程が行われる。
【００２３】
次に、図５（ａ）に示すように、複数のリード７の一端側に通電制御部を形成する工程と、通電制御部を封止樹脂１で封止する工程が行われる。次に、図５（ｂ）に示すように、プレス加工によりフレーム枠８を加工して突起部３を形成する工程が行われる。なお、この工程では、図５（ａ），（ｂ）において破線で囲まれた領域が加工される。
【００２４】
次に、図５（ｃ）に示すように、プレス加工により外枠９を切断して、各々が突起部３を有する複数のリード端子２を形成する工程が行われる。以上のような工程を経て半導体装置１００が製造される。
【００２５】
以上のように、実施の形態１に係る半導体装置１００は、半導体素子および配線を含む通電制御部と、通電制御部を覆う封止樹脂１と、一端側が通電制御部と接続され、かつ、他端側が封止樹脂１から突出する複数のリード端子２とを備え、各リード端子２は、封止樹脂１から突出する他端側の一部に形成される突起部３を有している。
【００２６】
したがって、各リード端子２は、封止樹脂１から突出する他端側の一部に形成される突起部３を有するため、基板挿入型リードタイプの半導体装置１００において、基板実装時に安定したはんだフィレットを形成することができる。
【００２７】
半導体装置１００の製造方法は、複数のリード７と、複数のリード７の他端側を接続するフレーム枠８と、複数のリード７およびフレーム枠８を囲む外枠９とを有するリードフレーム１０を配置する工程（ａ）と、複数のリード７の一端側に通電制御部を形成する工程（ｂ）と、通電制御部を封止樹脂１で封止する工程（ｃ）と、プレス加工によりフレーム枠８を加工して突起部３を形成する工程（ｄ）と、プレス加工により外枠９を切断して複数のリード端子２を形成する工程（ｅ）とを備えている。
【００２８】
したがって、複数のリード端子２を形成する際にプレス金型を用いて突起部３を形成することができるため、半導体装置１００の製造コストの上昇を抑えつつ、安定したはんだフィレットの形成が可能な突起部３を形成することができる。
【００２９】
＜実施の形態１の変形例＞
以上の説明では、突起部３の正面視形状は、通電制御部から離れる方向に向かって細くなるテーパー形状、すなわち、逆三角形形状に形成されていた。しかしこれに限ったものではなく、他の形状であってもよい。
【００３０】
図６は、実施の形態１の変形例１に係る半導体装置１００の基板挿入時における突起部１３およびその周辺の拡大図である。図７は、実施の形態１の変形例２に係る半導体装置１００の基板挿入時における突起部２３およびその周辺の拡大図である。図８は、実施の形態１の変形例３に係る半導体装置１００の基板挿入時における突起部３３およびその周辺の拡大図である。
【００３１】
図６と図７では、基板４の上面において、突起部３を用いた場合よりも少ないはんだ６でフィレットを形成することができる突起部１３，２３の形状の例を示している。図６に示すように、突起部１３の正面視形状は矩形形状であってもよいし、図７に示すように、突起部２３の正面視形状は楕円形状であってもよい。
【００３２】
図６と図７の場合にも、突起部１３，２３においてリード端子２の体積を局所的に大きくすることにより熱容量を向上させている。そのため、突起部１３，２３を高温状態で保つことが容易であることから、突起部１３，２３におけるはんだ６の濡れ上がり性を向上させることができる。また、突起部１３，２３は、はんだ６の表面張力を利用したはんだ６の濡れ上がり性も向上させることができる。さらに、突起部１３，２３は、図３に示す突起部３と比較して基板４の上面の高さ位置に位置する面積が大きいため、突起部３の場合よりも少ないはんだ６で左右に濡れ上がることから、基板実装時に少ないはんだ６で安定したはんだフィレットを形成することができる。
【００３３】
図８では、はんだ６の濡れ上がり性をさらに向上させることができる突起部３３の形状の例を示している。図８に示すように、突起部３３の下端部がスルーホール５内に配置されることが望ましい。そのため、リード端子２の側面に対するテーパー形状の傾斜角度θは４５度未満であることが望ましい。図３に示した突起部３のテーパー部３ａは直線状であったが、図８に示す突起部３３のテーパー部３３ａは上方に凹む曲線状であるため、突起部３の場合よりもはんだ６が濡れ上がりやすくなる。
【００３４】
突起部３３の正面視形状は、通電制御部から離れる方向に向かって細くなるテーパー形状であり、リード端子２の側面に対するテーパー形状の傾斜角度θは４５度未満であるため、突起部３の場合よりもはんだ６が濡れ上がりやすくなり、基板実装時に安定したはんだフィレットを容易に形成することができる。
【００３５】
＜実施の形態２＞
次に、実施の形態２に係る半導体装置１００について説明する。図９は、実施の形態２に係る半導体装置１００の基板挿入時における突起部３およびその周辺の拡大図である。なお、実施の形態２において、実施の形態１で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
【００３６】
実施の形態２では、はんだ濡れ性を向上させて、基板４の実装性を向上させることを目的として、リード端子２および突起部３における、基板４のスルーホール５の内部およびその周辺に位置する部分（以下「表面加工領域」という）に複数の小さな切り込み１４が形成されている。より具体的には、表面加工領域は、リード端子２および突起部３における、基板４のスルーホール５の内部およびその上側と下側に位置する部分である。
【００３７】
リード端子２および突起部３の表面加工領域に複数の切り込み１４が形成されることで、毛細管現象を利用したはんだ６の濡れ上がり性を向上させることができる。なお、表面加工領域は、リード端子２および突起部３の表面のみにあってもよいし、リード端子２および突起部３の表面と裏面にあってもよい。
【００３８】
複数の切り込み１４に代えて、複数の溝１５または複数の凹凸１６が表面加工領域に形成されていてもよい。図１０は、実施の形態２の変形例１に係る半導体装置１００の基板挿入時における突起部３およびその周辺の拡大図である。図１１は、表面加工領域に形成された複数の溝１５の一例を示す断面図である。図１２〜図１５は、表面加工領域に形成された複数の溝１５の他の例を示す断面図である。
【００３９】
図１０に示すように、リード端子２の長手方向に延びる複数の細い溝１５が表面加工領域に形成されている。なお、溝１５は、図１１に示すようにリード端子２および突起部３の表面のみに形成された矩形形状の溝であってもよいし、図１２に示すようにリード端子２および突起部３の表面と裏面に形成された矩形形状の溝であってもよい。溝１５がリード端子２および突起部３の表面と裏面に形成されることで、はんだ６の濡れ上がり性をさらに向上させることができる。
【００４０】
または、溝１５は、図１３に示すようにリード端子２および突起部３の表面のみに形成された鋸状の溝であってもよいし、図１４に示すように、リード端子２および突起部３の表面と裏面に形成された鋸状の溝であってもよい。複数の鋸状の溝１５、すなわち、溝１５がリード端子２の中心から離れる方向に向かって細くなるテーパー形状に形成されることで、はんだ６の濡れ上がり時の空気の巻き込みを減らすことができるため、さらにはんだ濡れ性の向上を見込める。
【００４１】
または、溝１５は、図１５に示すようにリード端子２および突起部３の表面と裏面に形成された複数の台形形状の溝であってもよい。図１４に示したようにリード端子２および突起部３の表面と裏面に形成された溝１５をテーパー形状にすることでリード端子２が変形する可能性が生じる場合は、図１５に示すように溝１５の傾斜を緩やかにすることで、リード端子２について必要な強度を保持することができる。
【００４２】
図１６は、実施の形態２の変形例２に係る半導体装置１００の基板挿入時における突起部３およびその周辺の拡大図である。図１７は、表面加工領域に形成された複数の凹凸１６の一例を示す断面図である。図１８は、表面加工領域に形成された複数の凹凸１６の他の例を示す断面図である。
【００４３】
図１６に示すように、複数の凹凸１６が表面加工領域に形成されている。なお、凹凸１６は、図１７に示すようにリード端子２および突起部３の表面のみに形成された凹凸であってもよいし、図１８に示すようにリード端子２および突起部３の表面と裏面に形成された凹凸であってもよい。
【００４４】
次に、リード端子２および突起部３の表面加工領域に複数の溝１５を形成する方法について説明する。図１９は、複数の溝１５の形成方法を説明するための説明図である。具体的には、図１９（ａ）は、複数の溝１５が形成される前のリード端子２の概略図であり、図１９（ｂ）は、プレス金型２０にリード端子２をセットした状態を示す概略図である。図１９（ｃ）は、複数の溝１５が形成された後のリード端子２の概略図である。
【００４５】
図１９（ａ）〜図１９（ｃ）に示すように、プレス金型２０にセットされたリード端子２はプレス金型２０によりプレス加工されることで、リード端子２および突起部３の表面加工領域に複数の溝１５が形成される。
【００４６】
次に、リード端子２および突起部３の表面加工領域に複数の凹凸１６を形成する方法について説明する。図２０は、複数の凹凸１６の形成方法を説明するための説明図である。具体的には、図２０（ａ）は、複数の凹凸１６が形成される前のリード端子２の概略図であり、図２０（ｂ）は、リード端子２に対してビーズブラストを行っている状態を示す概略図である。図２０（ｃ）は、複数の凹凸１６が形成された後のリード端子２の概略図である。
【００４７】
図２０（ａ）〜図２０（ｃ）に示すように、ウェットまたはドライでのビーズブラストを行い、リード端子２および突起部３の表面加工領域に微細粒状物質であるビーズ２１を当てることで、リード端子２および突起部３の表面加工領域に複数の凹凸１６が形成される。めっき後にビーズブラストを行った場合、リード端子２の金属表面の露出等が懸念されることから、めっき前にビーズブラストを行うことが好ましい。また、ビーズ２１の粒径およびブラスト時間を調整することで、凹凸１６の深さおよび粗さの調整が可能である。なお、ビーズ２１を当てるビーズブラストに代えて、微細粒状物質である砂を当てるサンドブラストが行われてもよい。
【００４８】
以上のように、実施の形態２に係る半導体装置１００では、リード端子２および突起部３における、基板４のスルーホール５の内部およびその周辺に位置する部分に、複数の切り込み１４、リード端子２の長手方向に延びる複数の溝１５、または複数の凹凸１６が形成されている。したがって、毛細管現象を利用したはんだ６の濡れ上がり性を向上させることができる。
【００４９】
リード端子２および突起部３における、基板４のスルーホール５の内部およびその周辺に位置する部分に、プレス加工により複数の溝１５、または、ビーズブラストまたはサンドブラストにより複数の凹凸１６を形成する工程をさらに備えるため、はんだ６の濡れ上がり性を向上させる構造を容易に形成することができる。
【００５０】
以上の説明では、リード端子２および突起部３における、基板４のスルーホール５の内部およびその周辺に位置する部分に複数の切り込み１４、複数の溝１５、または複数の凹凸１６が形成されていた。しかしこれに限ったものではなく、複数の切り込み１４、複数の溝１５、または複数の凹凸１６が形成される対象は、突起部３に代えて突起部１３、２３，３３であってもよい。この場合にも同様の効果が得られる。
【００５１】
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
【符号の説明】
【００５２】
１  封止樹脂、２  リード端子、３  突起部、４  基板、５  スルーホール、７  リード、８  フレーム枠、９  外枠、１０  リードフレーム、１３  突起部、１４  切り込み、１５  溝、１６  凹凸、２３  突起部、３３  突起部、１００  半導体装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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