(57)【要約】【課題】対象物を載置するためなどに使用される可動のステージについて、その摺動のために用いられるエアスライダの隙間を維持するように効率的に制御する。【解決手段】装置は、対象物が載置されるステージと、複数のレールと、複数のレールの各々に設けられた１つ又は複数のスライダとを備える。各々のスライダは、レールに向けて高圧の流体を噴出することによってレールから浮上してステージを支持する。装置は、さらに、スライダに供給される流体の圧力を調整する複数の調整弁と、レールとスライダとの隙間の距離を検出する複数の距離センサとを備える。装置は、さらに、制御回路を備え、この制御回路は、スライダ毎に、隙間の距離と第１の閾値との比較を含む判定を行い、隙間の距離が第１の閾値よりも小さいとき異常があると決定し、異常が検出されたスライダに圧力が上昇された流体が供給されるように調整弁を調整する。【選択図】図１
2020045982.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物が載置されるステージと、
複数のレールと、
前記複数のレールの各々に１つ又は複数設けられ、高圧の流体が供給され、前記レールに向けて高圧の流体を噴出することによって前記レールから浮上して前記ステージを支持する、複数のスライダと、
前記複数のレールの各々について１つ又は複数設けられ、同一の前記レールに設けられた１つ又は複数の前記スライダに供給される流体の圧力を調整する、複数の調整弁と、
前記複数のレールの各々について、１つ又は複数の前記スライダに設けられ、前記レールと前記スライダとの隙間の距離を検出する、複数の距離センサと、
前記距離センサが設けられた前記スライダ毎に、前記レールと前記スライダとの隙間の距離と第１の閾値との比較を含む判定を行い、前記隙間の距離が前記第１の閾値よりも小さいとき異常があると決定し、
前記異常があるとの決定に基づき生成される上昇信号によって、異常が検出された前記スライダに圧力が上昇された前記流体が供給されるように前記調整弁を調整する、
制御回路と
を備える装置。
【請求項２】
前記複数のレールの各々に設けられ、前記１つ又は複数のスライダに当該レールに対して移動するための駆動力を与える、複数の駆動機構をさらに備え、
前記制御回路は、
前記駆動機構に掛かる負荷を取得し、
前記判定は、前記負荷と第２の閾値との比較を含み、
前記隙間の距離が前記第１の閾値より小さく、かつ、前記負荷が前記第２の閾値より大きいときに、前記異常があると決定する、
請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記制御回路は、前記異常があると決定したとき、前記隙間の距離が前記第１の閾値より小さいスライダについて前記調整弁を調整するように前記上昇信号を生成する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記制御回路は、
前記異常があると決定したとき、前記隙間の距離が第１の閾値より小さいスライダに関する情報をユーザに提示し、
提示された情報に基づくユーザの入力に基づいて前記上昇信号を生成し、ユーザに提示した前記スライダについて、選択的に、前記流体の圧力を上昇させるように前記調整弁を調整する、
請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記複数のレールの各々について、前記駆動機構は、前記１つ又は複数のスライダに設けられたリニアモータを含み、
前記制御回路は、前記リニアモータに与えられた駆動力と前記１つ又は複数のスライダの移動状態とに基づいて、前記負荷を取得する、
請求項２乃至４のうち何れか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記複数のレールは、
第１の方向に伸びる第１のレールと、
前記第１の方向に伸び、前記第１のレールよりも短い第２のレールと
を含み、
前記複数のスライダは、
前記第１のレールに設けられた第１のスライダ及び第２のスライダと、
前記第２のレールに設けられた第３のスライダと
を含み、
前記ステージは、前記第２のレールの延長線上に凹部又は孔を有する、
請求項１乃至５のうち何れか１項に記載の装置。
【請求項７】
対象物が載置されるステージと、
複数のレールと、
前記複数のレールの各々に１つ又は複数設けられ、高圧の流体が供給され、前記レールに向けて高圧の流体を噴出することによって前記レールから浮上して前記ステージを支持する、複数のスライダと、
前記複数のレールの各々について１つ又は複数設けられ、同一の前記レールに設けられた１つ又は複数の前記スライダに供給される流体の圧力を調整する、複数の調整弁と、
前記複数のレールの各々について、１つ又は複数の前記スライダに設けられ、前記レールと前記スライダとの隙間の距離を検出する、複数の距離センサと
を備える装置の制御方法であって、
前記複数のレールの各々について、前記距離センサが設けられた前記スライダ毎に、前記レールと前記スライダとの隙間の距離と第１の閾値との比較を含む判定を行い、前記隙間の距離が前記第１の閾値よりも小さいとき異常があると決定することと、
前記異常があるとの決定に基づき上昇信号を生成し、前記異常があると決定された前記スライダに供給される前記流体の圧力を上昇させるように前記調整弁を調整することと
を含む装置の制御方法。
【請求項８】
対象物が載置されるステージと、
複数のレールと、
前記複数のレールの各々に１つ又は複数設けられ、高圧の流体が供給され、前記レールに向けて高圧の流体を噴出することによって前記レールから浮上して前記ステージを支持する、複数のスライダと、
前記複数のレールの各々について１つ又は複数設けられ、同一の前記レールに設けられた１つ又は複数の前記スライダに供給される流体の圧力を調整する、複数の調整弁と、
前記複数のレールの各々について、１つ又は複数の前記スライダに設けられ、前記レールと前記スライダとの隙間の距離を検出する、複数の距離センサと
を備える装置の制御装置に、
前記複数のレールの各々について、前記距離センサが設けられた前記スライダ毎に、前記レールと前記スライダとの隙間の距離と第１の閾値との比較を含む判定を行い、前記隙間の距離が前記第１の閾値よりも小さいとき異常があると決定することと、
前記異常があるとの決定に基づき上昇信号を生成し、前記異常があると決定された前記スライダに供給される前記流体の圧力を上昇させるように前記調整弁を調整することと
を実行させる制御プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、装置、装置の制御方法、及び装置の制御プログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子の製造では、回路パターンが形成されたマスクと称される原画パターンを用いて、いわゆるステッパと呼ばれる縮小投影露光装置でウェハ上にパターンを露光転写して回路形成がなされることがある。このような半導体素子の製造に用いられるマスクに形成されたパターンの欠陥を高精度に検査する検査装置が知られている。このような検査装置の一例では、検査対象のマスクが水平面内で可動であるステージ上に載置され、当該ステージが動くことによって、マスクの全域にわたってパターンの検査が行われる。上述のような検査においては、ステージの移動も高精度に制御される必要がある。そのため、ステージは、例えばＸ軸・Ｙ軸方向に固定されたレールをガイド軸とし、ガイド軸に沿って移動するように構成される。この場合、ステージが移動する際のレールとの摩擦があるとステージを移動するためのモータの負荷が変動するので移動精度（移動速度、移動先への位置決め）に影響する。そこで、ステージにスライダを設け、レールとスライダとの間の潤滑に、高圧流体を用いた滑り軸受け機構（静圧流体軸受、エアスライダ）が用いられ得る。スライダに設けられた吐出口から供給される高圧流体によりレールとスライダとの隙間に潤滑膜が生成され、スライダがレールから浮上して非接触となることで、摩擦による移動精度への影響が防止される。したがって、エアスライダでは、圧縮流体による潤滑膜が維持されることが必要であり、レールとスライダとの隙間がなくなってモータの負荷が変動することがないように、高い精度で圧縮流体の制御を行うことが必要である。
【０００３】
例えば特許文献１には、静圧流体軸受けを用いて移動可能となっているステージ装置が開示される。
【０００４】
上述のようなエアスライダを用いた装置において、レールとスライダとの隙間を高精度に維持するために、レールは非常に厚い定盤上に設置されるのが一般的である。また、レール及びスライダを載せる台座は、変形防止のために、十分な厚み、幅、面積を持たせるのが一般的である。そのため、装置の重量及び設置面積は大きくなりがちである。また、装置の製造期間は長くなり、製造費用も高くなりがちである。
【０００５】
一方で、単に定盤又は台座を小型・薄型化すると、例えば以下の理由でエアスライダのレールが変形する可能性がある。エアスライダが設置される台座等において、制作時に生じた熱応力が時間経過とともに解放されることがある。その結果、台座等が数年かけてゆっくりと変形し、これによりその上に設置されたエアスライダのレールが変形することがある。また、装置の稼働時には、台座及びエアスライダ周辺に様々な熱源があり、台座及びエアスライダ等は熱の影響を受ける。また、発熱の状況や台座及びエアスライダ等が熱を受ける状況は変化し得る。このような熱の影響を受けて、台座又はエアスライダのレールが変形することがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３１６７５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
エアスライダレールが変形すると、局所的にスライダとレールと間のギャップが変化し、ステージの走行トルクが変化して走行の制御性が劣化し、ステージの走行精度が損なわれる可能性がある。
【０００８】
本発明は、対象物を載置するためなどに使用される可動のステージについて、その摺動のために用いられるエアスライダの隙間を維持するように効率的に制御することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の実施形態に従った装置は、対象物が載置されるステージと、複数のレールと、複数のレールの各々に１つ又は複数設けられたスライダとを備える。各々のレールに設けられた１つ又は複数のスライダは、高圧の流体が供給され、レールに向けて高圧の流体を噴出することによってレールから浮上してステージを支持する。装置は、さらに、複数のレールの各々について１つ又は複数設けられ、同一のレールに設けられた１つ又は複数のスライダに供給される流体の圧力を調整する、複数の調整弁と、複数のレールの各々について、１つ又は複数のスライダに設けられ、レールとスライダとの隙間の距離を検出する、複数の距離センサとを備える。装置は、さらに、制御回路を備え、この制御回路は、距離センサが設けられたスライダ毎に、レールとスライダとの隙間の距離と第１の閾値との比較を含む判定を行い、隙間の距離が第１の閾値よりも小さいとき異常があると決定し、異常があるとの決定に基づき生成される上昇信号によって、異常が検出されたスライダに圧力が上昇された流体が供給されるように調整弁を調整する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、エアスライダの隙間を維持するための圧縮流体の制御を効率よく行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る検査装置の構成例の概略を示す図である。
【図２Ａ】図２Ａは、第１の実施形態に係るステージユニットの構成例の概略を示す平面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、第１の実施形態に係るステージユニットの構成例の概略を示す正面図である。
【図３】図３は、ステージの移動について説明するための模式図である。
【図４】図４は、スライダユニットの構成例の概略を示す断面図である。
【図５】図５は、検査装置の構成例の概略を示すブロック図である。
【図６】図６は、検査装置の動作例の概略を示すフローチャートである。
【図７】図７は、点検動作の一例の概略を示すフローチャートである。
【図８】図８は、第２の実施形態に係るステージユニットとその周辺の構成例の概略を示す斜視図である。
【図９】図９は、第２の実施形態に係るステージユニットとその周辺の構成例の概略を示す斜視図である。
【図１０】図１０は、第２の実施形態に係るステージユニットとその周辺の構成例の概略を示す正面図である。
【図１１】図１１は、第２の実施形態に係るステージユニットとその周辺の構成例の概略を示す側面図である。
【図１２】図１２は、第３の実施形態に係るステージユニットの構成例の概略を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態について図面を参照して説明する。本実施形態は、マスク基板に形成されたパターンの欠陥を検査する検査装置に関する。この検査装置では、検査対象となるマスク基板を載置したステージの移動のためにエアスライダが用いられる。本実施形態では、エアスライダのレールとスライダとの距離、及びスライダを動かすリニアモータへの負荷に基づいて、エアスライダに供給される高圧空気の圧力が調整される。
【００１３】
〈装置の構成〉
図１は、本実施形態に係る検査装置１の構成例の概略を示す図である。検査装置１は、マスク上のパターンの画像を取得するための画像取得装置１００と制御装置４００とを備える。画像取得装置１００は、検査対象であるマスク５００を載置するマスクフォルダを有したステージユニット１０２を備える。
【００１４】
マスク５００には、照明光が当てられ、マスク５００を透過した透過光によるパターンの画像が撮影される。このため、検査装置１は、照明系３１０と撮影系３４０とを備える。照明系３１０は、光源３１２と、照明光学系３１４と、照明レンズ３２０とを備える。撮影系３４０は、マスク５００を挟んで照明レンズ３２０と対向して設けられた対物レンズ３３０と、撮影光学系３４２と、画像センサ３４４とを備える。なお、本実施形態の検査装置は、透過光による画像を取得する構成としたが、マスク５００により反射した反射光を用いてパターンの画像を取得するものであってもよい。また、検査装置は、透過光と反射光との両方を用いてパターンの画像を取得するものであってもよい。透過光が用いられる場合には、マスクフォルダ部分には、ステージに孔が設けられる。反射光のみを用いる場合には、マスクフォルダ部分には、ステージに凹部が設けられてもよい。
【００１５】
光源３１２から放射された照明光は、照明光学系３１４によって導かれ、照明レンズ３２０を介してマスク５００の一部の領域に照射される。この光は、マスク５００を透過して、照明レンズ３２０と対向して設けられた対物レンズ３３０に入射する。この光は、撮影光学系３４２を介して、画像センサ３４４へと導かれる。画像センサ３４４の撮像面にマスク５００の一部の領域のパターンの像が結像する。画像センサ３４４は、この像に基づく画像信号を生成する。照明レンズ３２０及び対物レンズ３３０の光軸方向は、鉛直方向となっており、この方向にＺ軸を定義する。Ｚ軸のプラス方向は、対物レンズ３３０から照明レンズ３２０への向き、すなわち鉛直上向きとする。Ｚ軸と垂直な水平面にＸ軸及びＹ軸を定義する。
【００１６】
本実施形態では、撮影系３４０及び照明系３１０は固定されており、マスク５００の全域にわたってパターンの欠陥検出を行うために、ステージユニット１０２のマスクフォルダがＸ軸方向及びＹ軸方向に移動するように構成されている。検査装置１は、ステージユニット１０２のマスクフォルダが移動することで、マスク５００の全域を撮影することができる。本実施形態では、ステージユニット１０２のマスクフォルダをＸ軸方向及びＹ軸方向に移動させるために、ステージユニット１０２は、高圧流体を用いた滑り軸受け機構（静圧流体軸受、エアスライダ）を使用する。エアスライダは、レールとレール上を摺動するスライダから構成される。エアスライダには、高圧空気源１９０から高圧空気が供給され、レールとスライダとの隙間に気体潤滑膜が形成され、スライダは浮上する。高圧空気は、例えば工場配管によって供給される。空気に限らず、他の流体が用いられてもよい。エアスライダへの高圧空気の供給は、調整弁として働くサーボバルブ１８０によって調整される。
【００１７】
図２Ａは、ステージユニット１０２の後述するＸステージ１２２から下の部分を上から見た平面図であり、実際には、Ｘステージ１２２は、二点鎖線の想像線で描かれた場所に設けられる。図２Ｂは、ステージユニット１０２をＹ軸方向に見た正面図である。これら図を参照してステージユニット１０２について説明する。
【００１８】
ステージユニット１０２は、石定盤１０４を備える。石定盤１０４は、ステージユニット１０２が搭載される基準面を形成するものである。石定盤１０４の上面は、ステージユニット１０２のマスク載置用のマスクフォルダが移動可能なＸ−Ｙ平面（水平面）と平行になっている。石定盤１０４の水平面の中央部分には、対物レンズ３３０が配置される貫通孔１０５が鉛直方向に設けられている。
【００１９】
石定盤１０４の上面には、Ｙステージユニット１４０が配置されている。Ｙステージユニット１４０は、Ｙステージ１４２がＹ軸方向に移動可能なように、２つのスライダユニットの上にＹステージ１４２が配置された構成を有する。これらのスライダユニットは、エアスライダである。これらスライダのうちの一方を第１のＹスライダユニット１４６と称し、他方を第２のＹスライダユニット１４８と称する。石定盤１０４の上において、第１のＹスライダユニット１４６は、Ｘ軸方向について中央よりもマイナス側に配置され、第２のＹスライダユニット１４８は、Ｘ軸方向について中央よりもプラス側に配置されている。
【００２０】
第１のＹスライダユニット１４６及び第２のＹスライダユニット１４８のそれぞれは、Ｙ軸方向に伸びる１本のレール２１０を備える。第１のＹスライダユニット１４６及び第２のＹスライダユニット１４８は、それぞれ、レール２１０上をＹ軸方向に移動する２つのスライダ２２０を備える。２つのスライダのうち一方は、Ｙ軸方向について中央よりもプラス側に配置され、２つのスライダのうち他方は、Ｙ軸方向に中央よりもマイナス側に配置されている。Ｙステージ１４２は、合計４つのスライダ２２０によって支持されている。Ｙステージ１４２は、第１のＹスライダユニット１４６及び第２のＹスライダユニット１４８によって、Ｙ軸方向に移動し得る。Ｙステージ１４２には、Ｙ軸方向の移動量と石定盤１０４の貫通孔１０５とに対応させて、対物レンズ３３０が接触しないように、孔１４３が設けられている。
【００２１】
Ｙステージ１４２の上面には、Ｘステージユニット１２０が配置されている。Ｘステージユニット１２０は、Ｘステージ１２２がＸ軸方向に移動可能なように、２つのスライダユニットの上にＸステージ１２２が配置された構成を有する。これらのスライダユニットは、エアスライダである。これらスライダのうちの一方を第１のＸスライダユニット１２６と称し、他方を第２のＸスライダユニット１２８と称する。Ｙステージ１４２の上において、第１のＸスライダユニット１２６は、Ｙ軸方向について中央よりもマイナス側に配置され、第２のＸスライダユニット１２８は、Ｙ軸方向について中央よりもプラス側に配置されている。
【００２２】
第１のＸスライダユニット１２６及び第２のＸスライダユニット１２８のそれぞれは、Ｘ軸方向に伸びる１本のレール２１０を備える。第１のＸスライダユニット１２６及び第２のＸスライダユニット１２８は、それぞれ、レール２１０上をＸ軸方向に移動する２つのスライダ２２０を備える。２つのスライダのうち一方は、Ｘ軸方向について中央よりもプラス側に配置され、２つのスライダのうち他方は、Ｘ軸方向に中央よりもマイナス側に配置されている。Ｘステージ１２２は、合計４つのスライダ２２０によって支持されている。Ｘステージ１２２は、第１のＸスライダユニット１２６及び第２のＸスライダユニット１２８によって、Ｘ軸方向に移動し得る。Ｘステージ１２２には、石定盤１０４の貫通孔１０５に対応するように、孔を有するマスクフォルダ１２３が設けられている。
【００２３】
検査対象であるマスク５００は、マスクフォルダ１２３に固定される。載置されたマスク５００は、Ｘステージ１２２及びＹステージ１４２の動きによって、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に移動し得る。図３は、検査時のマスクの移動パターンを模式的に示す。対物レンズ３３０及び撮影光学系３４２を介して画像センサ３４４が撮影できる範囲の幅は、図３に示す幅Ｗ１であるとする。検査時には、Ｘステージ１２２をＸ軸方向に移動しながら幅Ｗ１の範囲のパターンが連続的に撮影される。このＸ軸方向の幅Ｗ１の仮想的な領域は、フレームと称される。続いて、Ｙステージ１４２をＹ軸方向に移動させて、撮影済みのフレームに隣接する次のフレーム（Ｘ軸方向の幅Ｗ１の次の領域）を、Ｘステージ１２２を前のフレームでの移動方向とは反対にＸ軸方向に移動しながら連続的に撮影する。このような移動を繰り返して、マスク５００の全面など所定の範囲を撮影する。
【００２４】
上述した各スライダユニットの構成の例を、図４に示したスライダユニット２０１によってさらに説明する。図４は、レール２１０の長手方向に対して垂直な断面を示す図である。レール２１０は、石定盤１０４又はＹステージ１４２である台２０９の上に固定されている。レール２１０を覆うようにスライダ２２０が配置されている。
【００２５】
スライダ２２０には空気主路２３２が設けられており、空気主路２３２には、高圧空気が供給される。空気主路２３２からは複数の空気路２３４が枝分かれしている。空気路２３４の端部は、レール２１０と対向するようにスライダ２２０に設けられた吐出口２３６に接続されている。すなわち、供給された高圧空気は、吐出口２３６からレール２１０に向かって噴出される。この高圧空気の噴出によって、レール２１０とスライダ２２０との隙間には、所定の厚さの空気の層が潤滑膜として形成される。この結果、スライダ２２０はレール２１０から浮上し、スライダ２２０とレール２１０との間の摩擦は極めて小さくなり、スライダ２２０はレール２１０に対して低抵抗で滑らかに移動し得る。
【００２６】
スライダ２２０には、１つ又は複数の距離センサが設けられている。距離センサは、レール２１０とスライダ２２０との間の距離を検出するように構成される。図４に示す例では、スライダ２２０は、レール２１０とスライダ２２０と間の鉛直方向の距離を測定するための第１の距離センサ２６２と、レール２１０とスライダ２２０と間の水平方向の距離を測定するための第２の距離センサ２６４とを備える。距離センサは、どのような距離センサでもよいが、非接触方式の距離センサであることが好ましい。距離センサは、例えばレーザ光源又はＬＥＤ光源を備え、反射光により測距する光センサであり得る。また、例えば、超音波変位センサであってもよい。距離センサは、例えばサブミクロン単位で距離を測定できる。
【００２７】
スライダユニット２０１は、レール２１０に対してスライダ２２０を移動させるために、駆動機構として例えば磁気を用いたリニアモータ２４０を備える。すなわち、台２０９には、推進コイル２４２が設けられ、スライダ２２０には可動コイル２４４が設けられている。推進コイル２４２が発生する磁場と、可動コイル２４４が発生する磁場とが制御されることで、推進コイル２４２と可動コイル２４４との間に力が作用する。このようにして、スライダ２２０には、レール２１０に対して推進力が供給され得る。この例では推進コイル２４２と可動コイル２４４と説明したが、一方が固定磁石で、他方が磁極が変化する電磁石とする構成であってもよい。
【００２８】
スライダユニット２０１には、リニアエンコーダ２５０が設けられている。すなわち、台２０９には、細かい一定の間隔で符号（格子目盛など）が付されたスケール２５２が設けられ、スライダ２２０には検出器２５４（例えば、発光素子と受光デバイスを備え、光量変化を検出して変位量を出力する）が設けられている。検出器２５４がスケール２５２の符号を検出することで、リニアエンコーダ２５０を用いてレール２１０に対するスライダ２２０の位置、速度、加速度が検出され得る。スライダ２２０の移動制御は、リニアエンコーダ２５０を用いた位置、速度、又は、加速度の検出を利用して行われ得る。リニアエンコーダ２５０には、様々な方式のエンコーダを用いることができる。
【００２９】
上述のような構成は、本実施形態の第１のＸスライダユニット１２６、第２のＸスライダユニット１２８、第１のＹスライダユニット１４６及び第２のＹスライダユニット１４８に共通の構成である。
【００３０】
スライダユニットの動作の制御に関係する構成を、図５を参照してさらに説明する。制御装置４００は、ステージコントローラ４５２としての機能と、空圧コントローラ４５４としての機能とを備える。
【００３１】
８つのスライダのうちの１つのスライダである第１のスライダ２２０ａは、リニアモータ２４０ａと、リニアエンコーダ２５０ａと、１つ又は複数の距離センサ２６６ａと、１つ又は複数の吐出口２３６ａとを備える。リニアモータ２４０ａには、リニアモータ２４０ａを駆動する駆動回路１６２ａが接続されている。リニアモータ２４０ａは、ステージコントローラ４５２の制御下で、駆動回路１６２ａによって駆動される。リニアエンコーダ２５０ａには、エンコーダ信号処理回路４６２ａが接続されている。リニアエンコーダ２５０ａで取得される信号は、エンコーダ信号処理回路４６２ａで信号処理されてステージコントローラ４５２へと伝達される。ステージコントローラ４５２は、エンコーダ信号処理回路４６２ａから取得した情報を利用して、リニアモータ２４０ａの動作を制御する。また、ステージコントローラ４５２は、リニアモータ２４０ａに供給する電力と、リニアエンコーダ２５０ａで計測される移動距離、速度、又は、加速度とに基づいて、リニアモータ２４０ａに掛かる負荷を算出する。ステージコントローラ４５２は、算出した負荷の情報を空圧コントローラ４５４へと伝達する。なお、第１のスライダ２２０ａは、１つのスライダだけではなく、同じレールに載っている複数のスライダであってもよい。
【００３２】
距離センサ２６６ａには、センサ信号処理回路４６４ａが接続されている。距離センサ２６６ａで取得される信号は、センサ信号処理回路４６４ａで信号処理されて空圧コントローラ４５４へと伝達される。空圧コントローラ４５４は、センサ信号処理回路４６４ａから取得したレール２１０とスライダ２２０との間の距離の情報と、ステージコントローラ４５２から取得したリニアモータ２４０ａに掛かる負荷に関する情報とを利用して、第１のスライダ２２０ａに異常が発生しているか否かを決定する。例えば、第１のスライダ２２０ａとレールとの隙間が部分的にゼロになる（接触する）状態が生じると、距離センサ２６６ａはゼロを検出するとともに、摩擦力の増大によってリニアモータ２４０ａに掛かる負荷が増大する。空圧コントローラ４５４は、異常があると決定したときには、供給する高圧空気の圧力を上昇させる決定する。空圧コントローラ４５４は、決定した圧力に応じて、高圧空気源１９０と吐出口２３６ａとの間に設けられたサーボバルブ１８０ａの開放率を調整する。
【００３３】
第１のスライダ２２０ａの場合と同様に、８つのスライダのうちの他の１つのスライダである第２のスライダ２２０ｂも、リニアモータ２４０ｂと、リニアエンコーダ２５０ｂと、距離センサ２６６ｂと、吐出口２３６ｂとを備える。リニアモータ２４０ｂは、ステージコントローラ４５２の制御下で、駆動回路１６２ｂによって駆動される。リニアエンコーダ２５０ｂで取得される信号は、エンコーダ信号処理回路４６２ｂで信号処理されてステージコントローラ４５２へと伝達される。ステージコントローラ４５２は、エンコーダ信号処理回路４６２ｂから取得した情報を利用して、リニアモータ２４０ｂの動作を制御する。また、ステージコントローラ４５２は、リニアモータ２４０ｂで発生する負荷を算出し、負荷の情報を空圧コントローラ４５４へと伝達する。
【００３４】
距離センサ２６６ｂで取得される信号は、センサ信号処理回路４６４ｂで信号処理されて空圧コントローラ４５４へと伝達される。空圧コントローラ４５４は、センサ信号処理回路４６４ｂから取得したレール２１０とスライダ２２０との間の距離の情報と、ステージコントローラ４５２から取得したリニアモータ２４０ｂに掛かる負荷に関する情報とを利用して、第２のスライダ２２０ｂに供給する高圧空気の圧力を決定する。空圧コントローラ４５４は、決定した圧力に応じて、高圧空気源１９０と吐出口２３６ｂとの間に設けられたサーボバルブ１８０ｂの開放率を調整する。なお、第２のスライダ２２０ｂも、１つのスライダだけではなく、同じレールに載っている複数のスライダであってもよい。
【００３５】
他のスライダも同様に構成され得る。
【００３６】
以上のようにして、本実施形態に係る複数のスライダ２２０の各々は、個別に制御され、個別に動作する。また、各々のスライダ２２０に供給される高圧空気の圧力も、個別に制御されている。なお、同じレールに載っている複数のスライダ２２０を単位として、個別に制御され、個別に動作してもよい。
【００３７】
図１に戻って、制御装置４００の構成例について説明する。制御装置４００は、バスライン４２２を介して互いに接続された、制御回路４１２と、メモリ４１４と、ストレージ４１６と、検査処理回路４１８と、入出力回路４２０とを備えるコンピュータである。
【００３８】
制御回路４１２は、検査装置１の各部の動作を制御するプロセッサである。制御回路４１２は、例えばCentral Processing Unit（ＣＰＵ）といった集積回路である。制御回路４１２は、Application Specific Integrated Circuit（ＡＳＩＣ）、Field Programmable Gate Array（ＦＰＧＡ）等の集積回路で構成されていてもよい。メモリ４１４は、Read Only Memory（ＲＯＭ）、Random Access Memory（ＲＡＭ）などを含む。ＲＯＭは、例えば起動プログラム等を記録している。ＲＡＭには、例えば、Dynamic ＲＡＭ（ＤＲＡＭ）、Static ＲＡＭ（ＳＲＡＭ）等が用いられ得る。ＲＡＭは、例えばＣＰＵの主記憶装置として機能する。ストレージには、例えば、Hard Disk Drive（ＨＤＤ）、Solid State Drive（ＳＳＤ）等が用いられる。ストレージには、ＣＰＵで用いられるプログラム、パラメータ等各種情報が記録されている。
【００３９】
検査処理回路４１８は、画像取得装置１００で取得された画像データを取得する。検査処理回路４１８は、取得した画像データに対して各種画像処理を実行し、検査対象であるマスク５００が正常であるか否かをといった検査結果を算出する。検査処理回路４１８は、ＣＰＵ、ＡＳＩＣ、ＦＰＧＡ、又はGraphics Processing Unit（ＧＰＵ）等の集積回路を含み得る。
【００４０】
入出力回路４２０は、制御装置４００の外部にある外部装置４３０との間でデータの送受信を行う。外部装置４３０には、キーボード、タッチパネル等の入力装置、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の表示装置、スピーカ等の音声出力装置、ネットワークに接続するための通信装置等が含まれ得る。
【００４１】
制御回路４１２及び検査処理回路４１８は、各々１つの集積回路等で構成されてもよいし、複数の集積回路等が組み合わされて構成されてもよい。また、制御回路４１２及び検査処理回路４１８が１つの集積回路で構成されていてもよい。制御回路４１２及び検査処理回路４１８の動作は、例えば記録部や制御部内の記録領域に記録されたプログラムに従って行われる。
【００４２】
〈装置の動作〉
図６は、本実施形態に係る検査装置１の動作の概略を示すフローチャートである。
【００４３】
ステップＳ１０１において、制御装置４００は、点検動作を実行する。点検動作では、画像取得装置１００の状態を点検し、各種設定を最適化する。点検動作は、例えば検査装置１を始動するとき、あるいは、１日に所定回などの頻度で行われる。点検動作については、後に詳述する。点検動作の後、処理はステップＳ１０２に進む。
【００４４】
ステップＳ１０２において、制御装置４００は、検査動作を実行する。検査動作は、例えば、検査対象であるマスク５００について、パターンの欠陥検査を実行する動作である。検査動作においては、検査対象であるマスク５００は、Ｘステージ１２２のマスクフォルダ１２３に載置される。このマスクに、照明系３１０を用いて照明光が当てられ、撮影系３４０を用いて、照明光があてられた領域のマスク上のパターンの画像が取得される。この際、マスクフォルダ１２３は、ステージユニット１０２によって、図３に示したように移動して、マスク５００の全面のパターンの撮影が行われる。得られた画像は、検査処理回路４１８で解析される。例えば、得られたパターンの画像データを、当該パターンの設計データから生成された画像データと比較することにより、マスク５００に欠陥がないかといった検査が行われる。画像取得装置１００に設置される検査対象であるマスクは順次取り換えられ、複数のマスクが検査される。予定していたマスクの検査が終わったら、一連の動作は終了する。
【００４５】
ステップＳ１０１で行われる点検動作について、図７に示すフローチャートを参照して説明する。画像取得装置１００の様々な箇所の点検が行われるが、ここでは、そのうちスライダユニットの点検と調整について説明する。画像取得装置１００では、検査対象となるマスクを順次交換してマスクフォルダに載置しながらパターンの欠陥検査が行われる。ここで、マスクをマスクフォルダに載置するとき、ステージユニット１０２は、ロードポートと呼ばれる位置に移動される。ロードポートの位置は、照明光があたらず、照明系３１０や撮影系３４０から離れているため温度が低い。マスクがマスクフォルダに載置された後、ステージユニット１０２は、温度が高い照明系３１０の位置に移動する。このように、画像取得装置１００内では温度の不均衡が生じており、ステージユニット１０２はその不均衡な温度の位置を行き来することになる。したがって、温度差の影響により、セラミックなどでできたレール２１０には、長い時間をかけて不均一な変形が生じ得る。また、ステージユニット１０２自体の変形も生じる可能性がある。このため、ステップＳ１０１に示したスライダユニットの点検と調整が必要になる。
【００４６】
ステップＳ２０１において、制御装置４００は、画像取得装置１００の各部の初期設定を行う。初期設定には、各スライダユニット２０１に供給される高圧空気の圧力、ステージユニット１０２の初期位置などが含まれ得る。スライダユニット２０１に供給される高圧空気の圧力は、毎回同じ初期値に設定されてもよいし、直前の設定値を初期値にしてもよい。
【００４７】
ステップＳ２０２において、制御装置４００は、ステージユニット１０２のＸステージ１２２とＹステージ１４２とを、所定の点検パターンでＸ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに移動させる。すなわち制御装置４００は、各スライダユニット２０１のリニアモータ２４０の動作を制御して、Ｘステージ１２２とＹステージ１４２とを可動範囲内全域で移動させる。
【００４８】
このとき、制御装置４００は、各スライダ２２０に設けられた第１の距離センサ２６２及び第２の距離センサ２６４の出力を取得する。例えば図２Ａ及び図２Ｂに示す例では、スライダ２２０は、全部で８個あるので、８個のスライダ２２０の各々について、距離センサの出力を取得する。また、制御装置４００は、８個のスライダ２２０の各々のリニアエンコーダ２５０の出力と、リニアモータ２４０に与えた駆動力（駆動電力）とを取得する。
【００４９】
ステップＳ２０３において、制御装置４００は、取得した距離センサの出力に基づいて、各スライダ２２０のレール２１０上の各位置におけるレール２１０とスライダ２２０との間の距離を算出する。
【００５０】
ステップＳ２０４において、制御装置４００は、各リニアモータ２４０の駆動電力等の情報と、各リニアエンコーダの出力に基づく各スライダ２２０の位置、速度、又は、加速度の情報とに基づいて、各スライダ２２０のレール２１０上の各位置において各リニアモータ２４０に掛かった負荷を算出する。
【００５１】
ステップＳ２０５において、制御装置４００は、ステップＳ２０３で算出された各々の位置におけるスライダ２２０とレール２１０との隙間の距離が、所定の第１の閾値よりも小さいか否かを判定する。全てのスライダ２２０について、距離が第１の閾値より小さくないとき、すなわち、距離が所定の第１の閾値以上であるとき、点検動作を終了する。一方、距離が第１の閾値よりも小さいスライダ２２０があるとき、処理はステップＳ２０６に進む。
【００５２】
ステップＳ２０６において、制御装置４００は、距離が第１の閾値よりも小さいスライダ２２０について、ステップＳ２０４で算出されたモータへの負荷が所定の第２の閾値よりも大きいか否かを判定する。対象とする全てのスライダ２２０について、負荷が第２の閾値よりも大きくないとき、すなわち、負荷が第２の閾値以下であるとき、点検動作は終了する。一方、負荷が第２の閾値よりも大きいスライダ２２０があるとき、処理はステップＳ２０７に進む。
【００５３】
なお、ステップＳ２０５の距離に関する判定と、ステップＳ２０６の負荷に関する判定との順は、逆順であってもよい。また、全てのスライダについて、距離に関する判定と負荷に関する判定との両方を行い、距離が第１の閾値より小さく、負荷が第２の閾値よりも大きいスライダを選択してもよい。
【００５４】
距離が第１の閾値よりも小さく、負荷が第２の閾値よりも大きいことが検出されたスライダ２２０は、次のような事象が生じていると考えられる。例えば、経年的な歪み、装置製造時に生じた残留応力の解放、検査装置１における温度むら等の理由により、レール２１０の全長のうち例えば一部の位置でレール２１０に歪みが生じる。レール２１０の当該部分的な歪みにより、レール２１０のある箇所でレール２１０とスライダ２２０との隙間の距離が短くなり、その結果として、スライダ２２０がレール２１０に接触することが起こり得る。この場合、スライダ２２０がレール２１０に接触した位置で、リニアモータ２４０に掛かる負荷が上昇する。このような歪みが大きいときには抜本的な修理等が必要になるが、歪がある程度小さいうちは、スライダ２２０から吐出される空気圧を上昇させることで、レール２１０とスライダ２２０との間の距離を増加させ、スライダ２２０とレール２１０との接触を回避することができる。なお、本実施形態の検査装置１においては、１ｍあたり数μｍといったレール２１０の歪みに起因して、ステージの動きが制御値から外れ、結果的にマスク５００の検査結果に疑似欠陥が含まれ問題となることがあり得る。
【００５５】
ステップＳ２０７において、制御装置４００は、距離が第１の閾値よりも小さく、負荷が第２の閾値よりも大きいスライダ２２０について、サーボバルブ１８０を調整して、当該スライダ２２０から吐出される空気の圧力を上昇させる。その後、処理はステップＳ２０２に戻る。上述のように、サーボバルブ１８０の調整は、同じレール２１０に載った複数のスライダ２２０に対して共通に行ってもよい。
【００５６】
スライダ２２０へ供給する高圧空気の圧力を上昇させることで、レール２１０とスライダ２２０との隙間の距離が増加し、スライダ２２０とレール２１０との接触を回避することが期待できる。空気圧が上昇した状態で、再びステップＳ２０２乃至ステップＳ２０６の処理が行われることで、レール２１０とスライダ２２０との間の距離が増加し、スライダ２２０とレール２１０との接触が回避されたことが確認され得る。
【００５７】
以上のようにして、レール２１０とスライダ２２０との間の距離が縮まる異常が検出されたスライダ２２０には、より高い圧力の空気が提供される。その結果、当該スライダ２２０は、本来の機能を取り戻し滑らかに動作し得る。
【００５８】
本実施形態のように滑らかなステージの動作を維持することは、特に検査中のパターン撮像に伴って動く第１のＸスライダユニット１２６及び第２のＸスライダユニット１２８で効果が大きい。検査中にＸステージ１２２の移動速度が変化する等が生じた場合、検査結果の誤差に直結するためである。一方、Ｙ軸方向のステージ移動にはパターンの撮像が伴わず、次のフレームに照明系３１０の視野を移動すればよいだけなので、第１のＹスライダユニット１４６及び第２のＹスライダユニット１４８については、上述した空気圧の調整を省略することもできる。
【００５９】
一般に、ここで問題としているようなスライダユニットのレールの変形が生じないように、定盤やステージを非常に厚くし、十分な幅及び面積を持たせることが行われている。そのため、一般に、装置の重量及び設置面積は大きくなりがちである。また、装置の製造期間は長くなり、製造費用も高くなりがちである。本実施形態によれば、装置の小型化によって生じ得るスライダユニットのレールの変形による問題を低減することができる。
【００６０】
本実施形態では、複数あるスライダのうち、異常が発生して空気圧を上昇させる必要があるスライダ２２０、又は、スライダユニット１２６、１２８、１４６、１４８を選択して、限定的に空気圧の調整を行い得る。検査装置１のいずれかのスライダユニットに異常が生じた場合、全てのスライダ２２０について一斉に空気圧を上昇させる制御方法も考えられる。しかし、この場合には、全体を高圧にすることによって空気の使用量が増加し、多くの空気を高圧にする（圧縮する）ための空気供給側（空気供給施設）の負荷も増大する。空気供給側（空気供給施設）が供給可能な圧縮空気の量にも限りがある。したがって、本実施形態のように個別に空気圧を上昇してスライダ２２０とレール２１０との接触を回避することで、空気の使用量を抑制し、高圧空気を送り出す施設への負荷も低減できる。
【００６１】
なお、上述の実施形態では、異常があるスライダ２２０を選択するために、距離センサで計測したレール２１０とスライダ２２０との距離と、リニアモータ２４０に掛かる負荷との２つのパラメータが用いられている。すなわち、本実施形態では、距離センサによって異常の原因となるレール２１０の歪みを検出し、歪みの結果として生じるレール２１０とスライダ２２０との接触をリニアモータ２４０に掛かる負荷によって検出することで、より適切な判断が可能となっている。スライダユニット２０１の機能は摩擦を軽減することであるので、リニアモータ２４０の負荷が大きくなることがスライダユニット２０１の異常を表す。一方で、リニアモータ２４０の負荷が大きくなる原因は、レール２１０とスライダ２２０との隙間の距離が狭まっていることに限らず、供給する空気圧の上昇では解決し得ない可能性がある。レール２１０とスライダ２２０との隙間の距離を併せて判断することで、空気圧の上昇という解決手段の有効性が担保される。また、リニアモータ２４０の負荷の上昇は、同じステージ上、又は、同じレール上に複数あるスライダのうち何れのスライダの不具合により生じているか、負荷を検出するだけでは明らかにできないことがある。隙間の距離を併せて検出することで、何れのスライダに不具合があるかが明らかになる。また、レール２１０とスライダ２２０との間の隙間の距離を判断するだけ（レール２１０に所定の歪みが生じていると判断するだけ）では、実際にレール２１０とスライダ２２０との接触が生じ、空気圧の上昇が必要となるのかが明らかでない。リニアモータ２４０の負荷を判断することで、空気圧の上昇を行う必要があることが的確に判断され得る。
【００６２】
なお、上述のとおりレール２１０とスライダ２２０との隙間の距離とリニアモータ２４０への負荷との両方に基づいて、対象となるスライダ２２０に供給する空気圧の上昇を判断することが好ましいが、どちらか一方に基づく判断が行われてもよい。例えば、隙間の距離が所定値未満となったときには、優先して、当該スライダに供給する空気圧を上昇させる制御が行われてもよい。
【００６３】
本実施形態では、スライダ毎に距離及び負荷を計測し、スライダ毎に空気圧を変更する例として、レール２１０上のスライダ２２０毎に個別に制御される例を示したが、これに限らない。上述したように、スライダユニット２０１毎など、複数のスライダを含むグループ毎に距離及び負荷を計測して空気圧を変更することも、「スライダ毎の制御」が意図することに含まれる。
【００６４】
本実施形態では、制御装置４００が、スライダユニット２０１に歪などの異常があるか否かを判断し、異常があると判断した場合には、スライダユニット２０１に供給する空気圧を上昇させる制御を行う例を示した。すなわち、制御装置４００が、あるスライダ２２０に異常があると決定したとき、そのスライダに供給される空気の圧力を上昇させるための上昇信号を生成し、制御装置４００は、この上昇信号に基づいてサーボバルブ１８０の調整を行う。しかしながらこれに限らない。制御装置４００は、異常があるか否かを判断し、異常があると判断した場合には、ディスプレイなどの外部装置４３０にその旨を表示させるための提示信号を生成し、ディスプレイなどにその旨を表示させてもよい。この表示を確認したユーザが、空気圧を上昇させるために、操作装置等の外部装置４３０を操作してバルブの調整を指示する。制御装置４００はその操作に応じて生成された上昇信号を取得して、この信号に基づいて、スライダユニット２０１に供給する空気圧を上昇させてもよい。
【００６５】
本実施形態では、マスク検査装置を例に挙げて説明したが、本技術はマスク検査装置に適用されるに限らない。検査対象又は検査装置をＸ方向及びＹ方向に移動させて行う検査を実行する検査装置において、Ｘ方向及びＹ方向に滑らかに移動させるためにエアスライダが用いられている場合には、上述の技術が同様に用いられ得る。また、検査装置に限らず、半導体露光装置などの製造装置にも本技術は適用され得る。
【００６６】
［第２の実施形態］
第２の実施形態について説明する。ここでは、第１の実施形態との相違点について説明し、同一の部分については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、第１の実施形態とステージユニットの構成が異なる。
【００６７】
本実施形態に係るステージユニット１０２ｂとその周辺の構成例を図８乃至図１１に示す。図８は、ステージユニット１０２ｂを正面側から見た斜視図である。図９は、ステージユニット１０２ｂを背面側から見た斜視図である。図１０は、ステージユニット１０２ｂの正面図である。図１１は、ステージユニット１０２ｂの側面図である。
【００６８】
本実施形態に係るステージユニット１０２ｂは、第１の実施形態に係るステージユニット１０２と比較して、石定盤１０４、Ｘステージ１２２及びＹステージ１４２の正面側が、マスク５００が配置される位置まで削られている。このため、石定盤１０４の貫通孔１０５ｂは、正面側に開いている。同様に、Ｙステージ１４２の孔１４３ｂ及びＸステージ１２２の孔１２４ｂも正面側に開いている。
【００６９】
これに伴って、第１の実施形態ではＸステージ１２２をＸ軸方向に横断するように正面側に設けられていた第１のＸスライダユニット１２６が、孔１２４ｂを挟んで２つに分割されて配置されている。すなわち、Ｘステージ１２２の正面左側に左側第１のＸスライダユニット１２６ａが設けられ、Ｘステージ１２２の正面右側に右側第１のＸスライダユニット１２６ｂが設けられている。左側第１のＸスライダユニット１２６ａと右側第１のＸスライダユニット１２６ｂとは、それぞれ１本の比較的短いレール２１０と１つのスライダ２２０とを備える。背面側の第２のＸスライダユニット１２８は、第１の実施形態と同様に、Ｘ軸方向に横断するように配置され、１本のレール２１０と２つのスライダ２２０とを備える。
【００７０】
このように、左側第１のＸスライダユニット１２６ａ及び右側第１のＸスライダユニット１２６ｂのレール２１０は、第２のＸスライダユニット１２８のレール２１０より短い。そして、マスク５００は、左側第１のＸスライダユニット１２６ａ及び右側第１のＸスライダユニット１２６ｂのレール２１０の延長線上に配置されている。
【００７１】
その他の構成は、第１の実施形態の場合と同様である。
【００７２】
本実施形態によると、第１の実施形態に係るステージユニット１０２と比較して、正面側の構成が削減され、レール２１０の延長線上にマスク５００が配置されているため、ステージユニット１０２ｂが小型化され得る。検査装置１の省スペース化及び軽量化が求められている施設において、本実施形態に係る構成は有効である。また、本実施形態では、照明レンズ３２０及び対物レンズ３３０を含む光学系が、ステージユニット１０２の正面側に偏って配置されている。このため、光学系へのアクセスが容易となり、光学系のメンテナンスが容易となる。
【００７３】
一方で、石定盤１０４、Ｘステージ１２２及びＹステージ１４２が小さくなり、また、正面側が開いた形状となっているため、これらの剛性は、第１の実施形態の場合と比較すると低い。また、第１の実施形態では１本の長いレール２１０が採用されていた第１のＸスライダユニット１２６が、本実施形態では、左側第１のＸスライダユニット１２６ａと右側第１のＸスライダユニット１２６ｂとの２つのスライダユニット２０１に分割されている。このため、左側第１のＸスライダユニット１２６ａ及び右側第１のＸスライダユニット１２６ｂのレール２１０の長さは、第１の実施形態の第１のＸスライダユニット１２６のレール２１０よりも短い。これらのため、本実施形態に係る左側第１のＸスライダユニット１２６ａ及び右側第１のＸスライダユニット１２６ｂのレール２１０は、第１の実施形態の場合よりも歪みやすい。
【００７４】
本実施形態では、レール２１０の歪みに由来して摩擦抵抗が大きくなったスライダユニットに供給する空気圧を上昇させる。このような空気圧の調整によるエアスライダの機能維持の効果は、本実施形態のように歪みが生じやすい短いスライダユニットを採用する場合に特に効果を奏する。
【００７５】
［第３の実施形態］
第３の実施形態について説明する。ここでは、第１の実施形態及び第２の実施形態との相違点について説明し、同一の部分については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、第１の実施形態とステージユニットの構成が異なる。
【００７６】
図１２は、本実施形態に係るＸステージユニット１２０ｃの構成例の概略を示す模式図である。この図に示すように、本実施形態では、マスクフォルダ１２３がＸステージ１２２の正面右側に偏った位置に配置されている。正面左側には、短い第１のＸスライダユニット１２６ｃが配置されている。背面側には、第２のＸスライダユニット１２８が配置されている。Ｘステージ１２２のＸ軸方向の長さが、第１の実施形態及び第２の実施形態の場合よりも短いので、第２のＸスライダユニット１２８のレール２１０も、第１の実施形態及び第２の実施形態の場合よりも短い。
【００７７】
このような構成によって、第２の実施形態の場合よりもさらにステージユニットが小型化され得る。本実施形態においても、スライダユニットのレール２１０が短くなるので、空気圧の調整によるエアスライダのメンテナンスの効果は大きい。
【００７８】
以上のように、ステージユニットの構成は適宜に変更可能である。すなわち、エアスライダの配置、数などは適宜に変更可能である。
【符号の説明】
【００７９】
１…検査装置、１００…画像取得装置、１０２，１０２ｂ…ステージユニット、１０４…石定盤、１０５…貫通孔、１０５ｂ…貫通孔、１２０，１２０ｃ…Ｘステージユニット、１２２…Ｘステージ、１２３…マスクフォルダ、１２４ｂ…孔、１２６…第１のＸスライダユニット、１２６ａ…左側第１のＸスライダユニット、１２６ｂ…右側第１のＸスライダユニット、１２６ｃ…第１のＸスライダユニット、１２８…第２のＸスライダユニット、１４０…Ｙステージユニット、１４２…Ｙステージ、１４３，１４３ｂ…孔、１４６…第１のＹスライダユニット、１４８…第２のＹスライダユニット、１６２ａ，１６２ｂ…駆動回路、１８０，１８０ａ，１８０ｂ…サーボバルブ、１９０…高圧空気源、２０１…スライダユニット、２０９…台、２１０…レール、２２０…スライダ、２２０ａ…第１のスライダ、２２０ｂ…第２のスライダ、２３２…空気主路、２３４…空気路、２３６，２３６ａ，２３６ｂ…吐出口、２４０，２４０ａ，２４０ｂ…リニアモータ、２４２…推進コイル、２４４…可動コイル、２５０，２５０ａ，２５０ｂ…リニアエンコーダ、２５２…スケール、２５４…検出器、２６２…第１の距離センサ、２６４…第２の距離センサ、２６６ａ，２６６ｂ…距離センサ、３１０…照明系、３１２…光源、３１４…照明光学系、３２０…照明レンズ、３３０…対物レンズ、３４０…撮影系、３４２…撮影光学系、３４４…画像センサ、４００…制御装置、４１２…制御回路、４１４…メモリ、４１６…ストレージ、４１８…検査処理回路、４２０…入出力回路、４２２…バスライン、４３０…外部装置、４５２…ステージコントローラ、４５４…空圧コントローラ、４６２ａ…エンコーダ信号処理回路、４６２ｂ…エンコーダ信号処理回路、４６４ａ…センサ信号処理回路、４６４ｂ…センサ信号処理回路、５００…マスク。
【図１】
2020045982.tif 000003
【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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