(57)【要約】【課題】輝度ムラが抑制されるとともに、発光効率が向上する照明素子を備える照明装置、及び表示装置、そのための配線板を提供する。【解決手段】透過性基板上に、光透過性電極と複数の積層型配線とが設けられた配線板であって、積層型配線は、光透過性電極上の複数の第１配線と、第１配線の少なくとも上部を覆うように積層された第２配線と、からなり、第１配線は導電性を有し、第２配線は電気絶縁性を有し、第２配線の光透過性電極に対する面積比Ａｐが（式１）の関係を満たす、ことを特徴とする配線板とする。            ０．０２≦面積比Ａｐ≦０．１５      ・・・（式１）ここで、面積比Ａｐは、平面視で、光透過性電極上に複数の第２配線が均等に存在する領域における、光透過性電極の面積に対する、第２配線の面積の和である。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基板上に、光透過性電極と複数の積層型配線とが設けられた配線板であって、前記積層型配線は、前記光透過性電極上の複数の第１配線と、前記第１配線の少なくとも上部を覆うように積層された第２配線と、からなり、
前記第１配線は導電性を有し、
前記第２配線は電気絶縁性を有し、
前記第２配線の前記光透過性電極に対する面積比Ａｐが（式１）の関係を満たす、ことを特徴とする配線板。
０．０２≦面積比Ａｐ≦０．１５      ・・・（式１）
ここで、前記面積比Ａｐは、平面視で、前記光透過性電極上に複数の前記第２配線が存在する領域における、前記光透過性電極の面積に対する、前記第２配線の面積の和であり、且つ、前記積層型配線の長さ方向に垂直な幅方向の断面視において、
前記第１配線の一方の端部と前記光透過性電極との接点と、前記端部と同じ側の前記第２配線の端部と前記光透過性電極との接点と、の間の距離をＤ１とし、前記第１配線の他方の端部と前記光透過性電極との接点と、前記他方の端部と同じ側の前記第２配線の端部と前記光透過性電極との接点と、の間の距離をＤ２とし、
前記第１配線の線幅をＷ１とするとき、
下記（式２ａ）、（式２ｂ）の関係を満たす、ことを特徴とする配線板。
Ｄ１／Ｗ１≦０．２      ・・・（式２ａ）
Ｄ２／Ｗ１≦０．２      ・・・（式２ｂ）
【請求項２】
前記複数の積層型配線は、
前記第１配線の線幅Ｗ１と、前記第２配線の線幅Ｗ２と、が下記（式３）の関係を満たすことを特徴とする請求項１に記載の配線板。
Ｗ１≦Ｗ２        ・・・（式３）
【請求項３】
前記第１配線の線幅Ｗ１と、前記第２配線の線幅Ｗ２と、がいずれも５μｍから５０μｍの範囲である、ことを特徴とする請求項１または２に記載の配線板。
【請求項４】
前記第１配線、及び前記第２配線が、いずれもグラビアオフセット印刷法により形成されたものである、ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の配線板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の配線板を含む、ことを特徴とする照明装置。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の配線板を含む、ことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配線板、及び該配線板を含む照明装置並びに表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、照明装置、表示装置などに用いられる次世代発光デバイスとして、有機ＥＬ現象を利用した発光素子（有機ＥＬ素子）が大きな注目を集めている。有機ＥＬ素子は、面発光が可能であること、低温動作が可能であること、低コスト化が可能であること、軽量化が可能であること、フレキシブルな素子の作製が可能であること、視野角依存性が少ないこと、消費電力が少ないこと、極めて薄い素子の作製が可能であることなどの利点を有する。
【０００３】
有機ＥＬ素子を用いた照明装置は、特に発光面の大面積化において、ＩＴＯ等の透明電極自体が有する抵抗により電極の面内において電圧降下が発生し、基板上の位置によって発光素子に供給される電位がばらついて発光素子の輝度が位置によってばらつくという問題がある。そこで、従来から、透明電極よりも低抵抗の材料で形成され透明電極と電気的に接続された補助電極を透明電極上に設け、電極の抵抗を下げることが行われている。
【０００４】
一般に、このような補助電極（特許文献１では補助配線）は、金属や合金、あるいはこれらの積層構造として形成される（特許文献１、２参照）。例えば、ＭＡＭ（モリブデン−アルミニウム−モリブデン）等の積層構造の電極パターンがフォトリソグラフィにより形成される。
【０００５】
しかしながら、作製した有機ＥＬ素子は、補助電極上、特にパターンのエッジ部分の発光層を含む有機層の被膜の形成が不十分であると、補助電極（陽極）と陰極電極の間 でショートが発生し、この部分に電流が集中し、発光が得られない場合があるという課題を有している。このため、問題となる部分を絶縁被膜で被覆することが試みられている。
【０００６】
しかしながら、補助電極等は、発光層からの光を遮光するため、透明電極基板面からの光は全面発光ではなくなり、補助電極パターンまたは絶縁パターンの形状に対応した非発光部の分だけ発光面積が減少する。
【０００７】
さらに、絶縁パターンをエッチング法により形成する場合は、補助電極パターンを形成した基板上に絶縁材料及びフォトレジストを塗布し、パターン露光と現像処理をしてレジストパターンを形成した後に、該レジストパターンが存在しない部分の絶縁材料を溶解除去し、最後にレジストパターンを除去して形成する。
【０００８】
しかしながら、エッチング法では、上記した通り多くの工程が必要であり、しかもその工程は非常に煩雑で、現像においては微調整が困難であるため、絶縁材料の溶解除去において、絶縁パターンが補助電極パターンの幅より広がってしまうという問題があった。
【０００９】
すなわち、図９に示すように、エッチング法で形成された配線板９００は、典型的には、本来の補助電極である第１配線９２０に対して、絶縁材料からなる第２配線９２４は幅の広い断面形状となり、非発光部の面積が大きくなる。
【００１０】
一方で、補助電極や絶縁パターン等を印刷法で形成することも試みられており、例えば、特許文献３には、透明電極上に補助電極をグラビアオフセット印刷により形成し、さらに絶縁パターンをスクリーン印刷により形成し、その上に有機ＥＬ発光層等の有機層を積層することが記載されている。
【００１１】
上述の特許文献３で開示されている方法では、絶縁膜箇所を光散乱構造にしているが、補助電極の幅が広く、発光面積が減少するために、輝度ムラの改善はあるものの、発光効率の向上までは考慮されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２０１３−４６４９号公報
【特許文献２】特許第５７０９４２２号公報
【特許文献３】特開２０１６−９１６６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、簡便な方法で製造ができ、有機ＥＬ素子等の照明素子の輝度ムラが抑制されるとともに、発光効率が向上する配線板、及び該配線板を含む照明装置並びに表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、光透過性基板上に、光透過性電極と複数の積層型配線とが設けられた配線板であって、
前記積層型配線は、前記光透過性電極上の複数の第１配線と、前記第１配線の少なくとも上部を覆うように積層された第２配線と、からなり、
前記第１配線は導電性を有し、
前記第２配線は電気絶縁性を有し、
前記第２配線の前記光透過性電極に対する面積比Ａｐが（式１）の関係を満たす、ことを特徴とする配線板。
０．０２≦面積比Ａｐ≦０．１５      ・・・（式１）
ここで、前記面積比Ａｐは、平面視で、前記光透過性電極上に複数の前記第２配線が存在する領域における、前記光透過性電極の面積に対する、前記第２配線の面積の和であり、且つ、前記積層型配線の長さ方向に垂直な幅方向の断面視において、
前記第１配線の一方の端部と前記光透過性電極との接点と、前記端部と同じ側の前記第２配線の端部と前記光透過性電極との接点と、の間の距離をＤ１とし、前記第１配線の他方の端部と前記光透過性電極との接点と、前記他方の端部と同じ側の前記第２配線の端部と前記光透過性電極との接点と、の間の距離をＤ２とし、
前記第１配線の線幅をＷ１とするとき、
下記（式２ａ）、（式２ｂ）の関係を満たす、ことを特徴とする配線板
としたものである。
Ｄ１／Ｗ１≦０．２      ・・・（式２ａ）
Ｄ２／Ｗ１≦０．２      ・・・（式２ｂ）
【００１５】
請求項２に記載の発明は、前記複数の積層型配線は、
前記第１配線の線幅Ｗ１と、前記第２配線の線幅Ｗ２と、が下記（式３）の関係を満たすことを特徴とする請求項１に記載の配線板としたものである。
Ｗ１≦Ｗ２        ・・・（式３）
【００１６】
請求項３に記載の発明は、前記第１配線の線幅Ｗ１と、前記第２配線の線幅Ｗ２と、がいずれも５μｍから５０μｍの範囲である、ことを特徴とする請求項１または２に記載の配線板としたものである。
【００１７】
請求項４に記載の発明は、前記第１配線、及び前記第２配線が、いずれもグラビアオフセット印刷法により形成されたものである、ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の配線板としたものである。
【００１８】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれか一項に記載の配線板を含む、ことを特徴とする照明装置としたものである。
【００１９】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜４のいずれか一項に記載の配線板を含む、ことを特徴とする表示装置としたものである。
【発明の効果】
【００２０】
上記の構成を採用することにより、安定した低抵抗の導電性を有し、有機ＥＬ素子等の照明素子の輝度ムラを改善する配線板を提供できる。さらに、この配線板を用いることで、優れた特性を有する照明装置及び表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る、配線板を示す図であり、(ａ)は断面図であり、（ｂ）は平面図である。
【図２】（ａ）は本発明の配線板を含む照明素子の第１例を示す図（図１（ｂ）の配線板の切断線ＩＩａ−ＩＩａに相当する部分の断面図）である。（ｂ）は照明素子の第２例を示す図であり、第１例にさらに光取出しレンズ層を備える例である。
【図３】（ａ）本発明の配線板を含む照明素子の第３例を示す図であり、第１例にさらに光散乱層を備える例である。（ｂ）は照明素子の第４例を示す図であり、第３例にさらにバリア層を備える例である。
【図４】本発明の第１実施形態に係る、配線板における積層型配線間の好適な距離を説明するための斜視断面図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係る、配線板における面積比を説明するための平面図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係る、配線板を示す図であり、（ａ）は斜視断面図、（ｂ）は（ａ）の切断線ＶＩＩＩ−ＶＩＩＩに沿った断面図であり、各部の長さ、高さを説明するための図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係る、照明装置の一例を示す概略断面図である。
【図８】本発明の第３実施形態に係る、表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図９】従来の、フォトリソグラフィ法によって形成された、配線板の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明を、図面を参照して説明する。本発明は、配線板、及び該配線板を含む照明装置及び表示装置を包含する。本発明の照明装置に適用できる照明素子は有機ＥＬ素子に限らず、自発光型のＬＥＤ素子等でもよいが、以下、有機ＥＬ素子を代表例として説明する。そのため、「照明素子」を適宜「有機ＥＬ素子」と記している。
【００２３】
また、本発明は、以下に記載する実施形態に限定されるものではない。本発明に対して、当業者の知識に基づいて種々の変更または修正を加えることが可能である。さらに、そのような変更または修正が加えられた実施形態も本発明の範囲に含まれる。
【００２４】
［配線板］
図１は、本発明の第１実施形態に係る、配線板を示す図であり、(ａ)は断面図であり、（ｂ）は平面図である。本発明の配線板１００は、図１（ａ）に示すように、光透過性基板１０２上に、光透過性電極１０３と、複数の積層型配線１３０からなる配線層１０４とが設けられており、積層型配線１３０は、光透過性電極１０３上の複数の第１配線１２０
と、第１配線１２０の少なくとも上部を覆うように積層して配置された第２配線１２４とからなる。
【００２５】
図１（ｂ）の平面図で示せば、光透過性電極１０３層の表面に、平面方向に配置された積層型配線１３０を有する。平面方向のパターンは、少なくとも一方の方向に複数本配置されれば良く、限定されるものではない。透過率低下の抑制、配線の面積の低下による導電性の悪化、配線間の距離の拡大による面内の導電性の不均一の抑制を考慮して、設計される。
【００２６】
図１（ｂ）の積層型配線１３０以外の部分（無地で表示）は、光透過性基板１０２上の光透過性電極１０３層の表層であり、光が透過する部分である。すなわち、図１（ａ）は、積層型配線１３０と光透過性電極１０３の表層を通る、図１（ｂ）の切断線ＩＩａ−ＩＩａに沿った断面図である。
【００２７】
本発明における配線板では、積層型配線１３０は、光透過性電極１０３の高抵抗率化を抑制する第１配線１２０の少なくとも上部を覆うように、絶縁性を有する第２配線１２４が形成される。絶縁性の第２配線１２４が第１配線１２０を覆うことで、第２電極１０８（後述の図２（ａ）参照）と第１配線１２０が部分的に接することによるショートやリークを抑制する。
【００２８】
本発明における配線板１００が備える光透過性電極１０３、及び積層型配線１３０を成す第２配線１２４、及び第１配線１２０、あるいはそれらの好ましい形状的な条件については、後述の［有機ＥＬ素子］の＜電極＞、及び＜積層型配線＞の項で有機ＥＬ素子の特性と関連して説明する。
【００２９】
本明細書において、「光透過性」とは、光に対して透明である性質（透光性）を意味する。本発明で用いる光透過性の材料は、好ましくは紫外領域から赤外領域の光を透過する。波長領域にすると３５０ｎｍから８００ｎｍにおいて平均透過率が５０％以上であることが好ましく、平均透過率が８０％以上であることがさらに好ましい。
【００３０】
光透過性基板１０３は、所定の光（好ましくは可視領域の光）を透過する板状部材である。その材料は、ガラス、プラスチックなどの従来から表示装置に利用されているものであればよく、特に限定されない。光透過性基板１０３は、ガラス板、ポリマーから構成される板またはフィルムなどであることが好ましい。
波長領域にすると３５０ｎｍから８００ｎｍにおいて平均透過率が５０％以上であることが好ましく、平均透過率が８０％以上であることがさらに好ましい。
【００３１】
用いることができるガラスの例は、たとえば、ソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどを含む。
【００３２】
用いることができるポリマーの例は、たとえば、以下の材料：ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン；セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースニトレートなどのセルロースエステル類またはそれらの誘導体；ポリ塩化ビニリデン；ポリビニルアルコール；ポリエチレンビニルアルコール；シンジオタクティックポリスチレン；ポリカーボネート；ポリエーテルケトン；ポリイミド；ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）；ポリフェニレンスルフィド；ポリスルホン類；ポリエーテルイミド；ポリエーテルケトンイミド；ポリアリレート；ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル樹脂；ノルボルネン樹脂などのシクロオレフィン系樹脂などを含む。
【００３３】
光透過性基板の厚みは、薄すぎると取り扱い性が難しく、一方厚すぎる場合では、重量の増加による作業性悪化や可視光の透過率が低下するおそれがある。従ってガラス板の場合は、３００μｍ〜２ｍｍの範囲が、フィルムの場合は５μｍ〜３００μｍの範囲が、取り扱いが良好で透過率に優れており好ましい。フィルムの場合、より好ましくは１０μｍ〜２５０μｍの範囲であり、２５μｍ〜２００μｍがさらに好ましい。
【００３４】
［本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子］
図２（ａ）は、本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子の第１例５００を示す図（図１（ｂ）の配線板の切断線ＩＩａ−ＩＩａに相当する部分の断面図）である。本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子の第１例５００は、光透過性基板１０２、光透過性電極１０３、複数の積層型配線１３０からなる配線層１０４、発光層（図示せず）を含む機能層１０６、及び第２電極１０８を、この順に積層した構造から成る。
【００３５】
本例において、光透過性電極１０３は、光透過性を有し、陽極となる電極である。機能層１０６は発光層を含む。第２電極１０８は、光透過性電極１０３の対極となる電極であり、陰極となるものである。
【００３６】
図２（ｂ）は、本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子の第２例６００を示す図である。図２（ｂ）に示すように、第２例６００は第１例５００の構成に加えて、光透過性基板１０２の配線層１０４とは反対側の表面に、集光レンズ層３０２と光透過性層３０４とを含む光取出しレンズ層３１０をさらに含む。
【００３７】
図３（ａ）は、本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子の第３例７００を示す図であり、第１例にさらに光散乱層４０２を備える例である。光散乱層４０２は、好ましくは、図３（ａ）のように、光透過性基板１０２と光透過性電極１０３との間に設けられる。
【００３８】
図３（ｂ）は、本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子の第４例８００を示す図である。第４例８００は第３例７００の構成に加えて、バリア層４０４をさらに含む。バリア層４０４は、光透過性電極１０３、発光層を含む機能層１０６及び第２電極１０８にとって有害な水分などの侵入を防止するための層である。バリア層４０４は、好ましくは、図３（ｂ）に示すように、光透過性基板１０２と光透過性電極１０３との間に設けられる。
【００３９】
以下、本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子５００〜８００を構成する各部分について詳細に説明する。
【００４０】
＜電極＞
光透過性電極（以下、適宜第１電極と記す）１０３及び第２電極１０８について、ここでは、第１電極１０３を陽極として用い、第２電極１０８を陰極として用いる場合を説明する。ただし、本発明は、この場合に限定されない。本発明において、第１電極１０３を陰極として用い、第２電極１０８を陽極として用いてもよい。この場合には、第１電極１０３を光透過性陰極として用い、第２電極１０８を反射性陽極として用いることが好ましい。
【００４１】
（光透過性電極：陽極）
第１電極１０３を陽極として用いる場合、第１電極１０３は、大きな仕事関数を有する材料から形成される。用いることができる材料は、金属、合金、金属酸化物、導電性化合物、及びこれらの混合物を含む。陽極として用いる第１電極１０３を形成するための材料
は：アンチモンをドープ（添加）した酸化スズ（ＡＴＯ）、フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）などの導電性金属酸化物；金、銀、クロム、ニッケルなどの金属；これらの金属と導電性金属酸化物との混合物；ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質；ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料などを含む。第１電極１０３は積層体であってもよい。
【００４２】
例えば、第１電極１０３は、上記材料からなる層の積層体であってもよい。本発明では、導電性金属酸化物を用いて第１電極１０３を形成すること好ましい。生産性、高導電性、透明性などの点から、ＩＴＯを用いて第１電極１０３を形成することが特に好ましい。
【００４３】
陽極として用いる第１電極１０３側から発光した光を取り出す場合には、第１電極１０３は、５０％より大きい光透過率を有することが望ましい。また、第１電極１０３は、数百Ω／□以下のシート抵抗を有することが好ましい。さらに、使用する材料にもよるが、第１電極１０３は、通常１０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下の範囲内、好ましくは１０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下の範囲内の膜厚を有する。
【００４４】
＜積層型配線＞
図４に、配線板１００の、光透過性基板１０２を省いた形状の構成例の斜視断面図を示す。光透過性電極１０３上に積層型配線１３０が畝状に配置され、光透過性電極１０３の外辺方向に平行な方向に複数の積層型配線１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ、・・・が配置されている。積層型配線１３０において、隣接する畝状の積層型配線１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ、・・・のピッチは、５μｍ以上、５００μｍ以下であることが望ましい。図４を参照して説明すると、平行に配置された積層型配線１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃの各稜線部間の距離が上述の範囲にあることが望ましい。
【００４５】
本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子では、第２配線１２４は、次の条件（式１）を満たすことが必要である。すなわち、第２配線１２４の光透過性電極１０３に対する面積比Ａｐが０．０２以上、０．１５以下であることが必要である。
０．０２≦面積比Ａｐ≦０．１５      ・・・（式１）
ここで、第２配線の面積比Ａｐは、光透過性電極１０３上に第２配線１２４が存在する領域における、平面視での、光透過性電極１０３の面積に対する、第２配線１２４の面積の和である。
第２配線１２４の光透過性電極１０３に対する面積比Ａｐが、上述の範囲を有すると、有機ＥＬ素子の発光量の減少よりも、光透過性電極の導電性の安定による基板内の均一な発光による発光量の向上の効果が得られる。
【００４６】
面積比Ａｐについてより詳細に説明する。まず、図５の平面図に示すように、配線板１００内に領域Ｘを設定する。領域Ｘは、光透過性電極１０３上に前記第２配線が平均的に存在する領域であることが望ましい。ここで、「平均的」とは、光透過性電極１０３上での位置依存性が小さいという意味で、例えば図５では領域Ｘを光透過性電極１０３の左上部としているが、その他の部分であっても、光透過性電極１０３の面積に対する、第２配線１２４の面積の和の比の変化が小さい、という意味である。その上で、面積比Ａｐを次式で定義する。
面積比Ａｐ＝領域Ｘ内の第２配線の面積の和／領域Ｘの面積  ・・・（式１ａ）
【００４７】
領域Ｘ内で、第２配線１２４が存在する領域は図５の交差斜線部１２４ｘであり、一方無地の部分は第２配線１２４が存在しない領域である。前記のように、光透過性電極１０３上に前記第２配線が平均的に存在するために、領域Ｘ内に存在する第２配線の数は複数が好ましく、１２４ｘ部分の数と、存在しない無地の部分の数が等しいことが好ましい。
図５の例では、どちらの部分の数も３としている。
【００４８】
第２配線１２４は、図５の例のように、長方形状に規則正しく整列し、積層型配線からなる配線層を成すことが特に好ましい。但し、図５のような規則正しく配列した第２配線１２４を有する配線層以外に、第２配線１２４の間隔が異なる配列となる配線層であってもよい。光透過性電極１０３との組み合わせで、抵抗率の不均一性を抑制する限り、規則的な配置でなくてもよい。
【００４９】
第２配線面積比Ａｐは、レーザー顕微鏡（例えば、株式会社キーエンス製ＶＫ−Ｘ２００／ＶＫ−Ｘ２１０）などにより配線基板１００内の領域Ｘを観察することによって得ることができる。
【００５０】
次に、図６（ａ）及び（ｂ）を参照して、積層型配線１３０の第１配線１２０及び第２配線１２４をさらに詳細に説明する。図６（ａ）は配線板１００の上面形状の構成例の斜視断面図であり、図６（ｂ）は図６（ａ）の切断線ＶＩＩＩ−ＶＩＩＩに沿った断面図である。切断線ＶＩＩＩ−ＶＩＩＩは、３つの積層型配線１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃを通る直線である。
【００５１】
第１配線１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃの断面形状は、図６（ｂ）に示すように、光透過性電極１０３と接する下面は直線状であり、光透過性電極１０３との接点と第１配線１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃ（以下適宜１２０で代表する）の上面部とを結ぶ線は緩い曲線の弧からなる凸形状である。第１配線１２０は、溝のような凹み形状は好ましくなく、上述のような形状を有することで、その上に積層して配置される第２配線１２４ａ、１２４ｂ、１２４ｃ（以下適宜１２４で代表する）をピンホールや空隙などがなく、第１配線１２０の少なくとも上部を覆うようにすることができ、また、第２電極１０８と十分な距離を保つことを可能となる。
【００５２】
第２配線１２４の断面形状は、図６（ｂ）に示すように凸形状で、第１配線１２０と接する下面部が緩い曲線の弧からなる形状で、第１配線１２０の下面の両側にそれぞれ光透過性電極１０３と接する平面部を有する。
【００５３】
積層型配線１３０が上述のような形状を有することで、光透過性電極１０３との十分な接着力と、光透過性電極１０３と第1配線との組み合わせによる、光透過性電極１０３と平行な面内における抵抗率の均一性と、第２配線１２４の被覆による第１配線１２０上の電気絶縁性を得ることができる。
【００５４】
ここで、光透過性電極１０３上の第１配線１２０の幅をＷ１、第１配線１２０の弧頂部の 光透過性電極１０３からの高さをＨ１、光透過性電極１０３上の第２配線１２４の幅をＷ２、第２配線１２４の弧頂部の光透過性電極１０３からの高さをＨＬ、高さＨＬから高さＨ１を差し引いた高さをＨ２とする。
【００５５】
第１配線の高さＨ１は抵抗率の不均一性を抑制するために、０．４μｍから３μｍの範囲内であることが好ましい。この範囲より小さいと、第１配線において均一に形成されない部分が発生する。さらに、第２配線の高さＨ２は、第１配線の少なくとも上部を被覆するために重要であり、０．５μｍから４．０μｍの範囲内であることが好ましい。この範囲より小さいと、均一に第２配線が形成されず、ピンホールなどの欠陥により、第２電極１０８（図２、図３参照）との距離が近くなり、ショートや部分的なリークの原因となる。一方でこの範囲内より大きいと、発光層を含む機能層１０６（図２、図３参照）と第２電極１０８の成膜の均一性が悪化する。
【００５６】
本発明の配線板における積層型配線１３０は、図６（ｂ）に示す、積層型配線１３０の長さ方向に垂直な幅方向の断面視において、第１配線１２０の一方の端部と光透過性電極１０３との接点と、前記端部と同じ側の第２配線１２４の端部と光透過性電極１０３との接点と、の間の距離をＤ１とし、第１配線１２０の他方の端部と光透過性電極１０３との接点と、前記他方の端部と同じ側の第２配線１２４の端部と光透過性電極１０３との接点と、の間の距離をＤ２とし、第１配線１２０の線幅をＷ１とするとき、
下記（式２ａ）、（式２ｂ）の関係を満たすことが好ましい。
Ｄ１／Ｗ１≦０．２      ・・・（式２ａ）
Ｄ２／Ｗ１≦０．２      ・・・（式２ｂ）
【００５７】
また、本発明の配線板における積層型配線１３０は、第１配線１２０の線幅Ｗ１と第２配線１２４の線幅Ｗ２が、以下の（式３）を満たすことが好ましい。
Ｗ１≦Ｗ２      ・・・（式３）
【００５８】
さらに第１配線の線幅Ｗ１と、第２配線の線幅Ｗ２とは、いずれも５μｍから５０μｍの範囲であることが好ましい。この範囲より小さいと、導電性の向上が得られず、この範囲より大きいと、配線と配線の間の発光部の距離も大きくなり、基板上の導電性の均一性が下がる 。
【００５９】
上述の（式２ａ）、（式２ｂ）、及び（式３）についてその技術的意義を説明する。本発明の配線板１００を有機ＥＬ素子に装着したとき、図５、図６において、第１配線１２０と第２配線１２４からなる積層型配線１３０が配置された箇所は、電気的に絶縁性となるため、有機ＥＬ素子の発光が得られず、発光面積の低下となる。このため、積層型配線１３０の占有面積が少ないほど、発光面積の低下が抑制できる。一方で、積層型配線１３０は、抵抗率が低いほど、光透過性電極１０３の抵抗率の不均一性を抑制することから、発光効率の向上を可能とする。
【００６０】
前記の効果を両立させるために、（式２ａ）、（式２ｂ）、及び（式３）を満たすことが重要となる。すなわち、（式２ａ）、（式２ｂ）を満たすように第１配線１２０を第２配線１２４で被覆しながら、第２配線１２４の線幅Ｗ２が第１配線の線幅Ｗ１に対して、式（３）の関係を有するときに発光面積の低下の抑制が可能となる。
【００６１】
本発明の配線板で、上記の形状を有する第１配線１２０及び第２配線１２４を含む積層型配線１３０は、印刷法によって形成されたものであることが好ましい。
【００６２】
本発明の配線板における積層型配線１３０では、所望の線幅の配線を形成するためには、所望の線幅と同等または、数μｍ程度狭い幅の溝を有する版を用いるとよい。また、厚みのある配線を形成するためには、所望の線の厚みから２倍より深い溝を有する版を用いるとよい。
【００６３】
印刷法として公知の方法を適用でき、なかでもグラビア印刷法に代表される凹版印刷が好ましく、グラビアオフセット印刷法が最も好ましく適用できる。本発明で用いる印刷装置も、公知のものでよく、例えば、グラビア印刷法に代表される凹版印刷であれば、金属製で表面に銀細線の型となる溝を有する凹版を備えたものを用いることができる。
オフセットロールとしては、金属製の筒体の表面がブランケット材で被覆されたものを用いることができ、ブランケット材の材質としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ウレタン樹脂、合成ゴム、天然ゴム等の弾性材が例示でき、これらの中でも、耐久性、耐油性が高く、さらに十分な弾性とともに適度にコシを有している点で、特にシリコーン樹脂が好ましく、硬質の基板に対してグラビアオフセット印刷を行うのに特に好適である。
【００６４】
グラビアオフセット印刷は、凹版オフセット印刷とも呼ばれる。
グラビアオフセット印刷では、導電性パターンに対応する凹部が形成されたグラビア版（凹版）と、印刷用組成物をグラビア版（凹版）の凹部に充填するドクターブレードと、表面が、例えばシリコーンゴムからなるブランケットとが用いられる。尚、グラビアオフセット印刷に用いられる凹版は、汎用のグラビア印刷に用いられる通常の凹版とは形態が異なっていてもよい。以下、グラビアオフセット印刷に用いられる「グラビア版または凹版」を、「グラビア版（凹版）」と略記する場合がある。
【００６５】
このグラビア版（凹版）の凹部から印刷用組成物がブランケットに一旦転写される。このブランケットに対向させる様に基板を供給して、両者を圧接させて、ブランケット上のパターンを基板に再度転写することで、印刷パターンが形成される。
この印刷パターンは、加熱して焼成することで導電性を有する導電性パターンとなる。
【００６６】
この印刷法によれば、凹部の形状によって印刷パターンの形状を自在に設定でき、また、ブランケットから基板への印刷用組成物の皮膜の転写率も、本発明の配線板の印刷用組成物を用いれば、ほぼ１００％にできるため、微細配線パターンに対応する印刷パターンから、大面積のパターンまでを精度良く形成することが可能である。
【００６７】
グラビア版（凹版）としては、公知のものが使用できる。グラビア版（凹版）、ブランケット及び基板は、それぞれ平板状（枚葉）のものでもよいし円筒状のものでもよい。ブランケットを基板に圧接して、連続的にブランケット上のパターンを基板に転写するようにしてもよい。
【００６８】
また、１つのブランケットを使って、多数の基板への印刷を行う場合には、印刷後に、溶剤を吸収したブランケットを乾燥させる工程を含ませることも好ましい。この乾燥工程は、１回の印刷サイクル毎に行ってもよいし、間隔を開けて、５〜２０回の印刷サイクル毎に行ってもよい。
【００６９】
ブランケットとしては、シリコーンゴムを材質とするものが好ましい。シリコーンゴム層を表面に有するシートが好ましいものとして挙げられる。ブランケット胴と称される剛性のある円筒に巻きつけた状態で使用されることが好ましい。
例えば、シリコーンゴム層をポリエステルフィルム等のプラスチックフィルム上に形成したシリコーンブランケットを、ブランケット胴に巻きつけた状態で使用することができる。
【００７０】
（印刷用組成物）
本発明に係る配線板の形成に用いられる印刷用組成物は導電性粉末を含有する。この印刷用組成物に含有される導電性粉末としては、特に限定はないが、具体的には、例えば、ニッケル、銅、金、銀、アルミニウム、亜鉛、スズ、鉛、クロム、白金、パラジウム、タングステン、モリブデン、インジウム、クロム、ケイ素、ゲルマニウム等の金属の粉末；これらの合金の粉末；これらの混合体の粉末；これらの金属の化合物で良好な導電性を有する粉末；酸化銀、酸化銅、酸化アルミニウム、酸化ニッケル、酸化スズ等の金属酸化物の粉末；無機物または有機物の粒子を金属の被膜で覆った粉末；カーボンブラック、チオフェン、アニリン等の有機導電性の粉末；等が挙げられる。中でも、ニッケル、銅、金、銀、アルミニウム、白金、パラジウム等の金属の粉末；これらの合金の粉末；等が好ましく、銀粉末が、安定した高い導電性を有し、酸化され難く、熱伝導特性も良好で、安価で特に好ましい。
【００７１】
導電性粉末の粒子径は、印刷されるパターンの幅に比べて十分に小さければ、特に限定はないが、平均粒子径として、メジアン径（Ｄ５０）が０．０１〜６μｍであることが好
ましく、０．０３〜５μｍであることがより好ましく、０．１〜４μｍであることが特に好ましい。また、フレーク状の粉末と球状の粉末を併用して用いることもできる。フレーク状の粉末は、粒子間の接触面積を大きくすることができること等から、高い導電性を期待することができる。
【００７２】
平均粒子径が小さ過ぎると、導電性粉末の調製が難しくなる、導電性が低下する、分散が難しくなる、構造粘性の調節が難しくなる、等の場合があり、一方、平均粒子径が大き過ぎると、分散が難しくなる、分散安定性が悪化する、パターンの形状が悪化する、等の場合がある。
【００７３】
本発明の配線板の印刷用組成物はバインダー樹脂を含有してもよい。バインダー樹脂は、印刷後に基板上で樹脂皮膜を形成し、基板上に粉末を固着させる。硬化して樹脂になる硬化性化合物（硬化性樹脂）のような、エポキシ樹脂、多官能アクリルモノマー（オリゴマー）等の比較的低分子量の硬化性化合物（硬化性樹脂）も含まれる。また、それらの混合物も含まれる。また、絶縁性樹脂もバインダー樹脂と同様のものを用いることができる。前記配線板の印刷用組成物から導電性粉末を除いたものでもよい。第１配線との接着性から、第1配線のバインダー樹脂と同様のものであることがより好ましい。 
【００７４】
バインダー樹脂としては、特に限定はされないが、硬化性の官能基を含まないものとしては、具体的には、例えば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと他の不飽和二重結合含有モノマーとの共重合体、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体、（メタ）アクリル酸エステルと他の不飽和二重結合含有モノマーとの共重合体、ポリスチレン、スチレンと他の不飽和二重結合含有モノマーとの共重合体、ケトン−ホルムアルデヒド縮合体若しくはその水素添加物、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール若しくはその共重合体、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド等が挙げられる。これらは単独または２種以上を併用することができる。更に、上記の樹脂（重合体）の側鎖若しくは末端に硬化性の官能基を有している樹脂（重合体）等も挙げられる。これらは、官能基のあるものもないものも含めた上で、単独または２種以上を併用することができる。
【００７５】
また、バインダー樹脂の中に含まれる硬化性化合物（硬化性樹脂）としては、官能基を有するものが好ましい。官能基として水酸基を有する多価アルコール、エポキシ基（グリシジル基）を有するエポキシ樹脂（グリシジル化合物）、カルボキシル基を有する多価カルボン酸、（メタ）アクリル基を有する（メタ）アクリレートモノマー若しくはオリゴマー等が特に好ましい。尚、（メタ）アクリル基とは、メタクリル基、アクリル基の両方を示す言葉である。
【００７６】
本発明の配線板の印刷用組成物で用いることができる溶剤は、特に限定はされないが、例えば、常圧での沸点が２００℃以上である、有機溶媒、例えば、２，４−ジエチル−１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、トリプロピレングリコール、トリエチレングリコール、１，２−ヘキサンジオール、１．３ブチレングリコール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、２−ブテン−１，４−ジオール等のジオール溶媒が挙げられる。また、グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−ブタンジオール、プロピレングリコール、２−メチルペンタン−２，４−ジオール、等の多価アルコールや、ブチルトリグリコール、イソブチルジグリコール、２−ブトキシエタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノール、２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ヘキシルオキシエトキシ）エタノール、等の１価のアルコール、トリプロピレングリコール−ｎ−ブチルエーテル、ブチルカルビトール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、１，４−ブタンジオールジビニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート等、グリコールエーテル、グリコールエステル、テルペン系溶媒、炭化水素溶媒、アルコール溶媒等が挙げられる。また、例えば、テトラデカン、オクタデカン、ヘプタメチルノナン、テトラメチルペンタデカン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、トリデカン、メチルペンタン、ノルマルパラフィン、イソパラフィン等の飽和または不飽和脂肪族炭化水素化合物、トルエン、キシレン等環状炭化水素化合物、リモネン、ジペンテン、テルピネン、ターピネン（テルピネンともいう。）、ネソール、シネン、オレンジフレーバー、テルピノレン、ターピノレン（テルピノレンともいう。）、フェランドレン、メンタジエン、テレベン、ジヒドロサイメン、モスレン、イソテルピネン、イソターピネン（イソテルピネンともいう。）、クリトメン、カウツシン、カジェプテン、オイリメン、ピネン、テレビン、メンタン、ピナン、テルペン、シクロヘキサン等脂環式炭化水素化合物、ヘプタノール、オクタノール（１−オクタノール、２−オクタノール、３−オクタノール等）、デカノール（１−デカノール等）、ラウリルアルコール、テトラデシルアルコール、セチルアルコール、２−エチル−１−ヘキサノール、オクタデシルアルコール、ヘキサデセノール、オレイルアルコール等の飽和または不飽和の炭素数６〜３０の脂肪族アルコール等脂肪族アルコール、クレゾール、オイゲノール等環状アルコール、シクロヘキサノール等のシクロアルカノール、ターピネオール（テルピネオール、α、β、γ異性体、またはこれらの任意の混合物を含む。）、ジヒドロテルピネオール等のテルペンアルコール（モノテルペンアルコール等）、ジヒドロターピネオール、ミルテノール、ソブレロール、メントール、カルベオール、ペリリルアルコール、ピノカルベオール、ソブレロール、ベルベノール等環状アルコール、が挙げられる。
【００７７】
＜機能層＞
機能層１０６は、本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子５００〜８００のすべてが備える。光透過性電極１０３と第２電極１０８との間に設けられる機能層１０６は、発光層を少なくとも含む。機能層は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、及び／または電子注入層をさらに含んでもよい。
【００７８】
第１電極１０３、機能層１０６及び第２電極１０８は、様々な積層構造をとることができる。採用できる積層構造の具体例は、例えば、以下の層構造（ａ）〜（ｐ）を含むが、それらに限定されるものではない。以下の層構造において、「陽極」は第１電極１０３であり、「陰極」は第２電極１０８であってもよい。また、記号「／」は、２つの層が隣接して積層されていることを示す。
（ａ）陽極／発光層／陰極
（ｂ）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
（ｃ）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
（ｄ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／陰極
（ｅ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ｆ）陽極／正孔輸送層／発光層／陰極
（ｇ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
（ｈ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
（ｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ｊ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
（ｋ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
（ｌ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
（ｍ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ｎ）陽極／発光層／電子注入層／陰極
（ｏ）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
（ｐ）陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
【００７９】
以下、機能層１０６の各層について説明する。
【００８０】
（発光層）
発光層は、電極から注入される電子と正孔（ホール）とが再結合して発光する層である。発光する部分は、発光層の層内であってもよく、発光層と発光層に隣接する層との界面であってもよい。
【００８１】
発光層は、発光ホスト化合物と、リン光ドーパント、蛍光ドーパントなどの発光性ドーパント化合物とを含有してもよい。発光ホスト化合物は、例えば、カルバゾール誘導体、トリアリールアミン誘導体、芳香族誘導体、含窒素複素環化合物、チオフェン誘導体、フラン誘導体、オリゴアリーレン化合物などの基本骨格を有するもの、または、カルボリン誘導体、ジアザカルバゾール誘導体などを含む。発光性ドーパント化合物は、例えば、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、希土類錯体などを含む。
【００８２】
発光層は、単一層であってもよいし、複数層の積層体であってもよい。単一層である発光層は、青色発光層、緑色発光層及び赤色発光層の少なくとも１層であってもよい。本明細書において、「青色発光層」は４３０ｎｍ以上、４８０ｎｍ以下の発光極大波長を有する単色発光層を意味し、「緑色発光層」は５１０ｎｍ以上、５５０ｎｍ以下の発光極大波長を有する単色発光層を意味し、「赤色発光層」は６００ｎｍ以上、６４０ｎｍ以下の発光極大波長を有する単色発光層を意味する。上記以外の発光極大波長を有する発光層を用いてもよい。
【００８３】
複数層を含む積層体である発光層の１つの例は、３色（青色発光性副層、緑色発光性副層、及び赤色発光性副層）を含む白色発光層である。発光性副層に係る「青色」、「緑色」及び「赤色」は、上記の発光極大波長を有することを意味する。複数層を含む積層体である発光層では、２つの発光性副層の間に非発光性の中間層を設けてもよい。
【００８４】
本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子５００の発光層は、白色発光層であることが好ましい。すなわち、本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子５００は、有機ＥＬ素子の発光層が白色発光層である場合が特に有効である。また、本発明の照明装置、及び表示装置は、白色発光層を含むことが好ましい。したがって、本発明の照明装置、及び表示装置は、白色発光層を含む有機ＥＬ素子を少なくとも一部に有することが好ましい。
【００８５】
発光層の総膜厚は特に制限されない。発光層は、好ましくは２ｎｍ以上、５μｍ以下の範囲内、より好ましくは２ｎｍ以上、２００ｎｍ以下の範囲内、特に好ましくは１０ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の範囲内の膜厚を有する。上記の範囲内の膜厚は、膜の均質性の向上、発光層への高電圧の印加を不要にすること、及び駆動電流に対する発光色の安定性の向上に寄与する。
【００８６】
（注入層：正孔注入層、電子注入層）
注入層は、駆動電圧の低下、発光輝度の向上などのために、必要に応じて電極と発光層
との間に設けられる層である。
【００８７】
（正孔注入層）
正孔注入層は、陽極と発光層との間（例えば、上記の層構造（ｂ）〜（ｅ））に設けられてもよいし、陽極と正孔輸送層との間（例えば、上記の層構造（ｊ）〜（ｍ））に設けられてもよい。正孔注入層を形成するための材料は：銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニン類；酸化バナジウムに代表される酸化物；アモルファスカーボン；ポリアニリン（エメラルディン）、ポリチオフェンなどの導電性高分子などを含む。
【００８８】
（電子注入層）
電子注入層は、陰極と発光層との間（例えば、上記の層構造（ｃ）、（ｇ）、（ｋ）、及び（ｎ））に設けられてもよいし、陰極と電子輸送層との間（例えば、上記の層構造（ｅ）、（ｉ）、（ｍ）、及び（ｐ））に設けられてもよい。電子注入層を形成するための材料は：ストロンチウム及びアルミニウムに代表される金属；フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物；フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物；酸化アルミニウムに代表される酸化物などを含む。
【００８９】
用いる材料に依存するが、正孔注入層及び電子注入層は、０．１ｎｍ以上、５μｍ以下の範囲内の膜厚を有することが好ましい。
【００９０】
（輸送層：正孔輸送層、電子輸送層）
輸送層は、正孔または電子の輸送のために、必要に応じて電極と発光層との間に設けられる層である。
【００９１】
（正孔輸送層）
正孔輸送層は、陽極と発光層との間（例えば、上記の層構造（ｆ）〜（ｉ））に設けられてもよいし、正孔注入層と発光層との間（例えば、上記の層構造（ｊ）〜（ｍ））に設けられてもよい。正孔輸送層を形成するための正孔輸送材料は、高い正孔の移動速度を有することが望ましい。加えて、正孔輸送材料は、正孔注入の促進または電子移動の障壁となる特性を有してもよい。
【００９２】
正孔輸送材料は、有機物であっても、無機物であってもよい。正孔輸送材料の非限定的な例は、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、並びに、アニリン系共重合体及びチオフェンオリゴマーなどの導電性高分子オリゴマーを含む。正孔輸送層は、１種または複数種の正孔輸送材料を含んでもよい。
【００９３】
正孔輸送層は、１種または複数種の正孔輸送材料を含んでもよい。あるいはまた、正孔輸送層は、単一層であってもよいし、複数の副層からなる積層構造を有してもよい。正孔輸送層は、真空蒸着法などの当該技術においてよく知られている技術を用いて形成することができる。正孔輸送層は、通常５ｎｍ以上、５μｍ以下の範囲内、好ましくは５ｎｍ以上、２００ｎｍ以下の範囲内の膜厚を有する。
【００９４】
（電子輸送層）
電子輸送層は、陰極と発光層との間（例えば、上記の層構造（ｄ）、（ｈ）、（ｌ）、及び（ｏ））に設けられてもよいし、電子注入層と発光層との間（例えば、上記の層構造（ｅ）、（ｉ）、（ｍ）、及び（ｐ））に設けられてもよい。電子輸送層を形成するための電子輸送材料は、高い電子の移動速度を有することが好ましい。加えて、電子輸送材料
は、電子注入の促進または正孔移動の障壁となる特性を有してもよい。
【００９５】
電子輸送材料の非制限的の例は、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体を含む。ここで、オキサジアゾール誘導体は、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有してもよい。あるいはまた、ニトロ置換フルオレン、ジフェニルキノン、チオピランジオキシド、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン、アントラキノジメタン、アントロン、オキサジアゾール、及びチアジアゾールからなる群から選択される部分構造を有する高分子材料を、電子輸送材料として用いてもよい。
【００９６】
電子輸送材料の非制限的な例は、８−キノリノール誘導体の金属錯体を含む。用いることができる８−キノリノール誘導体の非制限的な例は、８−キノリノール、５，７−ジクロロ−８−キノリノール、５，７−ジブロモ−８−キノリノール、２−メチル−８−キノリノール、５−メチル−８−キノリノール）アルミニウムを含む。用いることができる中心金属は、Ａｌ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、Ｇａ、及びＰｂを含む。８−キノリノール誘導体の金属錯体は、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、及びビス（８−キノリノール）亜鉛（Ｚｎｑ）を含むが、これらに限定されるものではない。
【００９７】
電子輸送材料の非制限的な例は、フタロシアニン誘導体及びその金属錯体を含む。フタロシアニン誘導体は、アルキル基、スルホン酸基などの置換基を有してもよい。層構造に依存するが、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体を、電子輸送材料として用いることができる。
【００９８】
電子輸送層は、１種または複数種の電子輸送材料を含んでもよい。あるいは、電子輸送層は、単一層であってもよいし、複数の副層からなる積層構造を有してもよい。電子輸送層は、真空蒸着法などの当該技術においてよく知られている技術を用いて形成することができる。電子輸送層は、通常５ｎｍ以上、５μｍ以下の範囲内、好ましくは５ｎｍ以上、２００ｎｍ以下の範囲内の膜厚を有する。
【００９９】
第２電極１０８を陰極として用いる場合、第２電極１０８は、小さい仕事関数を有する材料から形成される。陰極として用いることができる材料は、望ましくは４．５ｅＶ以下の仕事関数を有する金属（以下、「電子注入性金属」と称する）を含む。電子注入性金属の例は、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、アルミニウム、インジウム、希土類金属などを含む。陰極として用いることができる材料は、２つ以上の電子注入性金属の合金または混合物であってもよい。そのような材料の例は、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、リチウム／アルミニウム混合物などを含む。あるいはまた、電子注入性と酸化などに対する耐久性とを両立させるために、電子注入性金属と、より大きな仕事関数を有する金属または金属酸化物との混合物を用いて、陰極である第２電極１０８を形成してもよい。そのような材料の例は、マグネシウム／銅（４．６５ｅＶ）混合物、マグネシウム／銀（４．６４ｅＶ）混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム混合物などを含む。
【０１００】
第２電極１０８は、数百Ω／□以下のシート抵抗を有することが好ましい。第２電極１０８は、通常１０ｎｍ以上、５μｍ以下の範囲内、好ましくは４０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下の範囲内の膜厚を有する。
【０１０１】
＜光取出しレンズ層＞
光取出しレンズ層３１０は、本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子６００が備える。
任意選択的に、光透過性基板１０２の配線層１０４を設ける面とは反対側の面に、光散乱あるいは集光機能を有する光取出しレンズ層３１０を設けてもよい。図２（ｂ）に示すように、光取出しレンズ層３１０は、光透過性を有する光透過性層３０４と、光透過性層３０４の表面に設けられた集光レンズ層３０２とを備えてもよい。ここで、いわゆる集光シートを集光レンズ層３０２として用いてもよい。あるいはまた、光取出しレンズ層３１０は、表面にマイクロレンズアレイを形成した光透過性層であってもよい（不図示）。光取出しレンズ層３１０を設けることによって、特定方向、例えば、有機ＥＬ素子の光取出し方向に集光して、特定方向の輝度を高めることができる。
【０１０２】
光取出しレンズ層３１０（具体的には光透過性層３０４及び集光レンズ層３０２）は、前述の光透過性樹脂を用いて形成することができる。
【０１０３】
あるいはまた、光透過性樹脂に微粒子を添加して、光取り出しレンズ層３４０の光散乱効果を向上させることができる。添加できる微粒子は、１種または複数種の無機微粒子、１種または複数種の有機微粒子、及びこれらの組み合わせからなる群から選択することができる。用いることができる有機微粒子は、アクリル系ポリマー、スチレンポリマー、スチレン−アクリルポリマー及びその架橋体、メラミン−ホルマリン縮合物、ポリウレタン系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、フッ素系ポリマー、これらの共重合体のような高分子材料を含む。無機微粒子を形成するための材料の非制限的な例は：スメクタイト、カオリナイト、タルクなどの粘土化合物；シリカ、酸化チタン、アルミナ、シリカアルミナ、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化バリウム、酸化ストロンチウムなどの無機酸化物；炭酸カルシウム、炭酸バリウム、塩化バリウム、硫酸バリウム、硝酸バリウム、水酸化バリウム、水酸化アルミニウム、炭酸ストロンチウム、塩化ストロンチウム、硫酸ストロンチウム、硝酸ストロンチウム、水酸化ストロンチウムなどの無機化合物；及び２種以上の無機酸化物を焼結して得られるガラス材料を含む。
【０１０４】
＜光散乱層＞
光散乱層４０２は、本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子７００、８００が備える。
光散乱層４０２は、本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子の任意選択的な要素である。光散乱層４０２は、有機ＥＬ素子の発光のうち、発光層を含む機能層１０６と光透過性基板１０２との間に存在する各層の屈折率の差に起因する、各層の界面における全反射による光のロスを低減し、光の取出効率を向上させる機能を有する。光散乱層４０２の膜厚は、０．５μｍ〜５μｍであることが好ましい。
【０１０５】
光散乱層４０２は、光透過性であることが要求される。光散乱層４０２は、光透過性樹脂に微粒子を添加することによって調製することができる。光透過性樹脂は：低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、エチレン−ノルボルネン共重合体、エチレン−ジメタノオクタヒドロナフタレン共重合体［エチレン−ドモン（ＤＭＯＮ）共重合体］、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メチルメタクリレート共重合体などのポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂；ナイロン−６、ナイロン−６，６、メタキシレンジアミン−アジピン酸縮重合体などのアミド系樹脂；ポリメチルメタクリルイミドなどのイミド系アクリル樹脂；ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂；スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体などのスチレン−アクリロニトリル系樹脂；ポリスチレン；ポリアクリロニトリル；トリ酢酸セルロース、ジ酢酸セルロースなどのセルロース系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンなどのハロゲン含有樹脂；ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体などの水素結合性樹脂；アイオノマー樹脂；ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリメチレンオキシド樹脂、ポリアリレート樹脂、液晶樹脂などのエンジニアリングプラスチック系樹脂などを含む。また、微粒子は、無機微粒子、有機微粒子またはこれらの組み合わせであってよい。有機微粒子は、アクリル系ポリマー、スチレンポリマー、スチレン−アクリルポリマー及びその架橋体、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、ポリウレタン、ポリエステル、シリコーン、フッ素系ポリマー、これらの共重合体からなる微粒子を含む。無機微粒子は：スメクタイト、カオリナイト、タルクなどの粘土化合物粒子；シリカ、酸化チタン、アルミナ、シリカアルミナ、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化バリウム、酸化ストロンチウムなどの無機酸化物からなる微粒子；炭酸カルシウム、炭酸バリウム、塩化バリウム、硫酸バリウム、硝酸バリウム、水酸化バリウム、水酸化アルミニウム、炭酸ストロンチウム、塩化ストロンチウム、硫酸ストロンチウム、硝酸ストロンチウム、水酸化ストロンチウムなどの無機化合物からなる微粒子；及び２種以上の無機酸化物を焼結して得られるガラス材料からなる微粒子を含む。２種以上の有機微粒子及び／または無機微粒子の組み合わせを用いてもよい。
【０１０６】
光散乱層４０２と光透過性電極１０３の間に、光散乱層４０２の表面の凹凸を埋包し、平滑性を向上させる緩衝層（図示せず）を設けてもよい。また、緩衝層に屈折率を調整する微粒子を含んでもよい。緩衝層は光透過性であることが要求され、光散乱層と同様の光透過性樹脂を用いることができる。屈折率を調整する微粒子は、酸化チタン、ジルコニアなどの無機酸化物からなる微粒子を含む。
【０１０７】
また、光散乱層４０２は光透過性で表面に凹凸形状を有する層と、その上に凹凸形状を緩衝し、さらに屈折率を調整する層を積層してもよい。これらは、上述した光透過性樹脂及び微粒子で説明した材料を用いることができる。
【０１０８】
＜バリア層＞
バリア層４０４は、本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子８００が備える。
バリア層４０４は、本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子の任意選択的な要素である。バリア層４０４は、本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子５００（特に、機能層１０６）の劣化をもたらす水分、酸素などの侵入を抑制する機能を有する。バリア層４０４は、無機物の被膜、または無機物の被膜及び有機物の被膜の両者を含むハイブリッド被膜であってよい。バリア層４０４の膜厚は、５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましい。
【０１０９】
バリア層４０４を形成するための無機物は、酸化ケイ素、二酸化ケイ素、窒化ケイ素などを含む。ハイブリッド被膜は、無機物の被膜の機械的脆弱性を解消する点で有用である。ハイブリッド被膜は、好ましくは、無機物の被膜と有機物の被膜とが積層された構造を有する。ハイブリッド被膜において用いられる有機物は、ポリビニルアルコール系樹脂、アクリル系樹脂などを含む。ハイブリッド被膜中の無機物の被膜及び有機物の被膜の数並びに積層順序は特に制限されない。より好ましくは、バイブリッド被膜は、無機物の被膜と有機物の被膜とが交互に積層された構造を有する。
【０１１０】
バリア層４０４は、１．０×１０−２ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下の、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定される水蒸気透過度（２５±０．５℃、９０±２％ＲＨ）を有することが好ましい。より好ましくは、バリア層４０４は、１．０×１０−５ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下の水蒸気透過度を有する。さらに、バリア層４０４は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定される、１．０×１０−３ｃｍ３／（ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ）以下の酸素透過度を有することが好ましい。最も好ましくは、バリア層４０４は、１．０×１０−３ｃｍ３／（ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ）以下の酸素透過度、及び１．０×１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下の水蒸気透過度の両方を有する。
【０１１１】
バリア層４０４は、当技術分野において慣用的に利用されている任意の手段を用いて形成することができる。これらの手段は、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、反応性スパッタ法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法などを含む。
【０１１２】
本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子において、光透過性基板１０２としてポリマー板またはポリマーフィルムを用いる場合、このポリマー板またはポリマーフィルムの表面は、バリアコーティングを有していてもよい。このバリアコーティングは、バリア層４０４として機能しうる。
【０１１３】
＜封止部材＞
本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子５００〜８００は、封止部材によって覆われることが好ましい。封止部材は、有機ＥＬ素子の機能層を含む側を覆うことができる限りにおいて、凹板状でも平板状でもよい。例えば、封止部材と電極及び／または支持基板とを接着剤で接着して、有機ＥＬ素子の機能層を含む側の封止を実施してもよい。封止部材は、有機ＥＬ素子の各層（特に機能層）に有害な水分、酸素などの有機ＥＬ素子への侵入を防止する機能を有する。
【０１１４】
封止部材に対する光透過性及び電気絶縁性の要件は存在しない。しかしながら、封止部材は、バリア層４０２と同様に、低い水蒸気透過度及び低い酸素透過度を有することが好ましい。封止部材は、１．０×１０−２ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下の、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定される水蒸気透過度（２５±０．５℃、９０±２％ＲＨ）、及び／または、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定される、１．０×１０−３ｃｍ３／（ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ）以下の酸素透過度を有することが望ましい。
【０１１５】
封止部材の非制限的な例は、ガラス板、ポリマーの板及びフィルム、並びに、金属板及びフィルムなどを含む。用いることができるガラスは、特に、ソーダ石灰ガラス、バリウム−ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどを含む。また、用いることができるポリマーは、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフィド、ポリスルホンなどを含む。用いることができる金属は、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム、タンタル、及びそれらを含む合金を含む。
【０１１６】
封止に用いられる接着剤の非制限的な例は：アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーなどの反応性ビニル基を有する光硬化型または熱硬化型接着剤；２−シアノアクリル酸エステルなどの湿気硬化型接着剤；二液型エポキシ接着剤のような化学硬化型接着剤；ポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンなどのホットメルト型接着剤；カチオン硬化性エポキシ樹脂などを含む紫外線硬化型接着剤を含む。
【０１１７】
ここで、加熱による有機ＥＬ素子５００の劣化を防止するために、室温から８０℃までの温度範囲で接着硬化できる接着剤を用いて封止を行うことが望ましい。封止工程において、市販のディスペンサー、あるいはスクリーン印刷のような印刷技術を用いて、接着剤を塗布してもよい。
【０１１８】
封止部材と有機ＥＬ素子５００の機能層を含む側との間隙には、気相または液相の不活性物質を注入することが好ましい。不活性物質の非制限的な例は、窒素、アルゴンなどの不活性気体、及び、フッ化炭化水素、シリコーンオイルなどの不活性液体を含む。また、封止部材と有機ＥＬ素子５００の機能層を含む側との間隙を真空とすることも可能である。
【０１１９】
任意選択的に、封止部材と有機ＥＬ素子５００の機能層を含む側との間隙に、吸湿性化合物を含む吸湿部材を配置することもできる。また、あるいはまた、吸湿性化合物を含む接着剤を用いて封止を行ってもよい。吸湿性化合物の非制限的な例は：酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウムなどの金属酸化物；硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルトなどの硫酸塩；塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、ヨウ化バリウム、ヨウ化マグネシウムなどの金属ハロゲン化物；過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウムなどの過塩素酸類を含む。これらのうち、硫酸塩、金属ハロゲン化物、及び過塩素酸類においては、無水塩が好適に用いられる。
【０１２０】
［本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子の製造方法］
本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子の製造方法は、少なくとも以下の製造工程を含む。（Ａ）光透過性基板を準備する工程
（Ｂ）前記光透過性基板上に第１電極を形成する工程
（Ｃ）前記第１電極上に積層型配線からなる配線層を形成する工程
（Ｄ）前記配線層上に機能層を形成する工程
（Ｅ）前記機能層上に第２電極を形成する工程
【０１２１】
工程（Ａ）は、適切な材料で形成された光透過性基板１０２を選択し、必要に応じて、光透過性基板１０２に対して洗浄及び／または必要な前処理を施す工程である。洗浄及び／または必要な前処理は、有機ＥＬ素子の基板で通常行われるものであり、特に制限はない。
【０１２２】
工程（Ｂ）は、陽極として用いる第１電極１０３を形成する工程である。工程（Ｂ）は、光透過性基板１０２上に、例えば、（１）真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などの物理的方式、（２）ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ法などの化学的方式などの公知の方法の中から適宜選択される方法によって実施することができる。例えば、ＩＴＯを用いて第１電極１０３を形成する場合には、工程（Ｂ）は、直流スパッタ法、高周波スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などによって実施することができる。
尚、工程（Ｂ）において、フォトリソグラフィ法などによる化学的エッチング、あるいはレーザーなどによる物理的エッチングを使用して、第１電極１０３をパターニングしてもよい。あるいは、マスクを通した真空蒸着法、マスクを通したスパッタ法、または、リフトオフ法などによって、パターン状の第１電極１０３を形成してもよい。
【０１２３】
工程（Ｃ）は、第１配線及び第２配線を形成する工程である。本工程は、グラビアオフセット印刷法の技術を用いて実施することができる。グラビアオフセット印刷法は、金属製でその表面に細線の型となる溝の線幅と深さを所定の大きさに調整した凹版上にインキを供給し、余分のインキをドクターブレードによって除去し、溝に充填されたインキを、金属製の筒体の表面がシリコーン樹脂製のブランケット材で被覆されたオフセットロールのブランケット材の表面に転写した後、運搬されてきた基板の表面に対して、このインキを転写することで印刷を行う。所望の形状が転写された基板を熱風か赤外線によって加熱して硬化させるか、光照射によって硬化させて、所望の形状を有する第１配線を形成する。適宜、第１配線の上に第２配線を形成する。所望の形状が積層された基板を、同様に硬化させ、所望の形状を有する第２配線を形成する。
【０１２４】
工程（Ｄ）は、発光層を含む機能層１０６を形成する工程である。当該技術において知られている任意の方法を用いて実施することができる。例えば、工程（Ｄ）は、真空蒸着法などを用いて実施してもよい。
【０１２５】
工程（Ｅ）は、陰極として用いる第２電極１０８を形成する工程である。第２電極１０８は、真空蒸着法、スパッタ法などの当該技術において知られている任意の技術を用いて形成することができる。
【０１２６】
［照明装置］
図７は、本発明の第２実施形態に係る、照明装置の一例を示す概略断面図である。本発明は、前述の本発明の配線板を含む照明素子を含む照明装置を包含する。例えば、光の出射側から、光透過性基板、陽極、機能層、陰極、吸湿部材及び封止部材を含む照明装置であれば、光透過性基板から陰極までの部分に、本発明の配線板を含む照明素子を使用できる。図７の例では、光の出射側から、光透過性基板１０２、第１電極（陽極）１０３、積層型配線１０４、機能層１０６、第２電極（陰極）１０８、外部接続端子１１２、吸湿部材（デシカント）１２０２、及び封止部材１２０４を含む。この例において、光透過性基板１０２から第２電極（陰極）１０８までの構造が、前述の本発明の配線板を含む照明素子５００に対応する。ここで、外部接続端子１１２は、第２電極１０８と電源とを接続するための部材である。外部接続端子１１２は、透明導電性酸化物のような、低い水蒸気透過度及び低い酸素透過度を有する導電性材料を用いて形成することができる。また、本発明の照明装置の製造は、前述の有機ＥＬ素子の製造方法に、公知の適切な工程を付加して実施することができる。本発明の照明装置は、輝度ムラが抑制され、発光効率が向上するため、面状光源としての使用に適している。
【０１２７】
［表示装置］
図８は、本発明の第３実施形態に係る、表示装置の一例を示す概略断面図である。本発明は、前述の本発明の配線板を含む照明素子を含む表示装置を包含する。本発明の表示装置は、装置の表示側から、カラーフィルタガラス基板（ガラス基板及びカラーフィルタ層を含む）、保護層、陽極、白色有機ＥＬ発光層を含む有機層及び陰極を含むことができる。本発明の表示装置では、陽極部は、シリコン駆動基板などの駆動部分を含んでいてもよい。図８の表示装置は、装置の表示側から、光透過性基板１０２、カラーフィルタ層（例えば、ＲＧＢカラーフィルタ層など）１３０２、バリア層４０４、第１電極（陽極）１０３、積層型配線からなる配線層１０４、機能層１０６、第２電極（陰極）１０８を含む。図８の例において、カラーフィルタ層１３０２以外の部分が、前述の照明素子５００に対応する。本発明の表示装置の製造は、前述の照明素子の製造方法に適切な工程を付加して実施することができる。例えば、光透過性基板１０２を準備し［工程（Ａ）］、次いで、カラーフィルタ層１３０２とバリア層４０４を形成し、さらに上記工程（Ｂ）から工程（Ｅ）を実施すればよい。カラーフィルタ層１３０２は、スピンコート法、蒸着法などの当該技術おいて知られている任意の方法を用いて形成することができる。
【実施例】
【０１２８】
本発明の配線板を含む有機ＥＬ素子の第２例６００（図２（ｂ））を具体化した実施例を、比較対象としての比較例とともに説明する。以下の実施例では、集束イオンビーム加工（ＦＩＢ）及び走査透過電子顕微鏡観察を行い、積層型配線１３０の幅及び高さを測定した。具体的には、ランダムに選択した１０箇所において、選択した各配線部の画像を得た後に、図６（ｂ）に示す幅Ｗ１、Ｗ２及び高さＨ１、ＨＬ、長さＤ１、Ｄ２、高さＨ２を求めた。加えて、レーザー顕微鏡観察を行い、配線１０本を含む領域Ｘの面積と、領域Ｘ内の第２配線の面積を求め、面積比Ａｐを求めた。１０箇所の測定値の算術平均値を
、配線層１０４を成す積層型配線１３０の特性値とした。
【０１２９】
＜実施例１＞
１２０ｍｍ×１２０ｍｍの寸法及び０．７ｍｍの厚さを有する無アルカリガラス板を洗浄して、光透過性基板１０２を準備した。スパッタ法を用いて光透過性基板１０２の表面に膜厚１５０ｎｍのＩＴＯ膜を堆積させ、続いてＩＴＯ膜をパターニングすることにより、光透過性を有する第１電極１０３（陽極）を形成した。
次に、グラビアオフセット印刷法により、第１電極１０３上に、銀ペースト（藤倉化成株式会社  ドータイトＸＡ−３６０９）の印刷を行い、第１配線１２０の配線パターンを形成した。
【０１３０】
前記の光透過性基板を乾燥し、続いて、この配線パターンの表面に、アライメントマークを合わせて、絶縁ペースト（藤倉化成株式会社  ドータイトＸＢ−３２５３）の印刷を行い、図６（ａ）及び（ｂ）に示すような配線パターンを形成して、第１配線１２０の上に第２配線１２４を積層した積層型配線１３０を得て、補助電極とした。
【０１３１】
積層型配線１３０は、図６（ｂ）に示すように、第１配線１２０の底面が光透過性電極１０３と接して平らで、上面が山状であり、第２配線１２４の山状になった部分の底面が第一配線１２０の上面と接し、第２配線１２４の山状になった部分の上面は、底面より全てある距離を持って第１配線部の上部に位置し、第２配線１２４の上面の端部と下面の端部は山に対して同じ側にそれぞれ、平面部を有して光透過性電極１０３と接していた。
【０１３２】
積層型配線は、第１配線の幅Ｗ１が１５．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ１が１．０μｍであった。第２配線の幅Ｗ２は２１．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ２は０．５μｍであった。第１配線と第２配線の距離Ｄ１、Ｄ２はいずれも３．０μｍであったので、第１配線の幅に対する比（Ｄ１／Ｗ１、Ｄ２／Ｗ１）は、いずれも０．２０であった。積層型配線１３０の面積比Ａｐは０．１０であった。
【０１３３】
次に、積層型配線からなる配線層１０４の表面に、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、及び電子注入層をそれぞれ蒸着法で堆積させて、機能層１０６を形成した。
【０１３４】
本実施例で使用した機能層１０６内の各層の材料は以下のとおりである。
（１）  正孔輸送層：
４，４’，４’’−トリス（９−カルバゾール）トリフェニルアミン（膜厚３５ｎｍ）；
（２）  発光層：
トリス（２−フェニルピリジナト）イリジウム（ＩＩＩ）錯体をドープした４，４’，４’’−トリス（９−カルバゾール）トリフェニルアミン（膜厚１５ｎｍ）、及び
トリス［１−フェニルイソキノリン−Ｃ２，Ｎ］イリジウム（ＩＩＩ）錯体をドープした１，３，５−トリス（Ｎ−フェニルベンズイミダゾール−２−イル）ベンゼン（膜厚１５ｎｍ）の積層構造；
（３）  電子輸送層：
１，３，５−トリス（Ｎ−フェニルベンズイミダゾール−２−イル）ベンゼン（膜厚６５ｎｍ）；並びに
（４）  電子注入層：
フッ化リチウム（膜厚１．５ｎｍ）。
【０１３５】
続いて、機能層１０６の表面に蒸着法によりアルミニウムを堆積して、膜厚５０ｎｍの第２電極１０８を形成した。
【０１３６】
別途、光透過性シートからなる光透過性層３０４（図２（ｂ）参照）として、ＰＥＴフィルムを準備した。光透過性層３０４の一方の表面に、直径５μｍの半球形状のマイクロレンズと５μｍピッチの頂角８９度のクロスプリズム構造とからなる集光レンズ層３０２を形成し、光取出しレンズ層３１０を得た。続いて、光透過性層３０４の他方の表面を、粘着剤を介して光透過性基板１０２に貼り合わせて、光取出しレンズ層３１０を有する有機ＥＬ素子６００を得た。このとき、集光レンズ層３０２が光取り出し側の最表面である。
【０１３７】
実施例２〜実施例５の有機ＥＬ素子は以下のように作製した。
すなわち、第１配線及び第２配線の形成の際に用いた凹板を変更したことを除いて、実施例１の手順を繰り返して、有機ＥＬ素子６００を得た。
【０１３８】
実施例２は、第１配線の幅Ｗ１が２０．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ１が０．８μｍであった。第２配線の幅Ｗ２が２７．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ２が１．１μｍであった。第１配線と第２配線の距離Ｄ１、Ｄ２はそれぞれ３．０μｍ及び４．０μｍであり、第１配線の幅に対する比（Ｄ１／Ｗ１、Ｄ２／Ｗ１）は、０．１５と０．２０であった。積層型配線１３０の面積比Ａｐは０．１５であった。
【０１３９】
実施例３ は、第１配線の幅Ｗ１が２５.０μｍで、高さ（厚み）Ｈ１が２．０μｍであった。第２配線の幅Ｗ２が２５．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ２が０．１μｍであった。第１配線と第２配線の距離Ｄ１、Ｄ２はいずれも０．０μｍであり、第１配線の幅に対する比（Ｄ１／Ｗ１、Ｄ２／Ｗ１）は、いずれも０．００であった。積層型配線１３０の面積比Ａｐは０．１３であった。
【０１４０】
実施例４は、第１配線の幅Ｗ１が２０．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ１が０．３μｍであった。第２配線の幅Ｗ２が２４．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ２が１．５μｍであった。第１配線と第２配線の距離Ｄ１、Ｄ２はそれぞれ４．０μｍ及び０．０μｍであり、第１配線の幅に対する比（Ｄ１／Ｗ１、Ｄ２／Ｗ１）は、０．２０と０．０であった。積層型配線１３０の面積比Ａｐは０．１１であった。
【０１４１】
実施例５は、第１配線の幅Ｗ１が５．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ１が１．０μｍであった。第２配線の幅Ｗ２が７．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ２が０．５μｍであった。第１配線と第２配線の距離Ｄ１、Ｄ２はそれぞれ１．０μｍ及び１．０μｍであり、第１配線の幅に対する比（Ｄ１／Ｗ１、Ｄ２／Ｗ１）は、いずれも０．２０であった。積層型配線１３０の面積比Ａｐは０．０５であった。
【０１４２】
実施例６、実施例７の有機ＥＬ素子は以下のように作製した。
スパッタ法を用いて光透過性基板１０２の表面に膜厚２００ｎｍのＩＴＯ膜を堆積させたことと、第１配線及び第２配線を形成の際に用いた凹板を変更したことを除いて、実施例１の手順を繰り返して、有機ＥＬ素子６００を得た。
【０１４３】
実施例６は、第１配線の幅Ｗ１が１０．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ１が１．１μｍであった。第２配線の幅Ｗ２が１４．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ２が０．３μｍであった。第１配線と第２配線の距離Ｄ１、Ｄ２はそれぞれ２．０μｍ及び２．０μｍであり、第１配線の幅に対する比（Ｄ１／Ｗ１、Ｄ２／Ｗ１）は、０．２０と０．２０であった。積層型配線１３０の面積比Ａｐは０．０２であった。
【０１４４】
実施例７は、第１配線の幅Ｗ１が５０．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ１が２．０μｍであった。第２配線の幅Ｗ２が６０．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ２が１．５μｍであった。第１配線と第２配線の距離Ｄ１、Ｄ２はそれぞれ８．０μｍ及び２．０μｍであり、第１配線の幅に対する比（Ｄ１／Ｗ１、Ｄ２／Ｗ１）は、０．１６と０．０４であった。積層型配線１３０の面積比Ａｐは０．１５であった。
【０１４５】
実施例８の有機ＥＬ素子は以下のように作製した。
スパッタ法を用いて光透過性基板１０２の表面に膜厚１００ｎｍのＩＴＯ膜を堆積させたことと、第１配線及び第２配線を形成の際に用いた凹板を変更したことを除いて、実施例１の手順を繰り返して、有機ＥＬ素子６００を得た。
【０１４６】
実施例８は、第１配線の幅Ｗ１が１０．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ１が１．３μｍであった。第２配線の幅Ｗ２が１２．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ２が０．４μｍであった。第１配線と第２配線の距離Ｄ１、Ｄ２はそれぞれ０．０μｍ及び２．０μｍであり、第１配線の幅に対する比（Ｄ１／Ｗ１、Ｄ２／Ｗ１）は、０．０と０．２０であった。積層型配線１３０の面積比Ａｐは０．０９であった。
【０１４７】
＜比較例１＞
スパッタ法を用いて光透過性基板１０２の表面に膜厚３００ｎｍのＩＴＯ膜を堆積させたことと、光透過性電極１０３上に積層型配線を形成しなかったことを除いて、実施例１の手順を繰り返して、有機ＥＬ素子を得た。
【０１４８】
＜比較例２＞
光透過性電極１０３上に積層型配線を形成しなかったことを除いて、実施例１の手順を繰り返して、有機ＥＬ素子６００を得た。
【０１４９】
比較例３、比較例４の有機ＥＬ素子は以下のように作製した。
第１配線及び第２配線を形成の際に用いた凹板を変更したことを除いて、実施例１の手順を繰り返して、有機ＥＬ素子を得た。
【０１５０】
比較例３は、第１配線の幅Ｗ１が１５．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ１が０．１μｍであった。第２配線の幅Ｗ２が２９．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ２が０．０８μｍであった。第１配線と第２配線の距離Ｄ１、Ｄ２はそれぞれ７．０μｍ及び７．０μｍであり、第１配線の幅に対する比（Ｄ１／Ｗ１、Ｄ２／Ｗ１）は、いずれも０．４７であった。積層型配線１３０の面積比Ａｐは０．１７であった。
【０１５１】
比較例４は、第１配線の幅Ｗ１が１００．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ１が１．０μｍであった。第２配線の幅Ｗ２が１１０．０μｍで、高さ（厚み）Ｈ２が１．１μｍであった。第１配線と第２配線の距離Ｄ１、Ｄ２はそれぞれ４．０μｍ及び６．０μｍであり、第１配線の幅に対する比（Ｄ１／Ｗ１、Ｄ２／Ｗ１）は、０．０４と０．０６であった。積層型配線１３０の面積比Ａｐは０．２３であった。
【０１５２】
＜評価＞
実施例１〜８及び比較例１〜４の有機ＥＬ素子に、直流（ＤＣ）電源から０．２７Ａの定格電流を流して、面内１００箇所の正面輝度を２次元測定器（トプコンテクノハウス社製  ＵＡ−１０００Ａ）により計測し、輝度の変動係数（ＣＶ）を次式から算出した。
ＣＶ＝標準偏差／平均輝度値
【０１５３】
また、実施例１〜８及び比較例１〜４の有機ＥＬ素子に、直流電源から０．２７Ａの定格電流を流して電圧を計測し、また、出射される全放射光を積分球により計測し、発光効率(ｌｍ／Ｗ)を計算した。ＩＴＯ膜厚が１５０ｎｍで、積層型配線による補助電極のない比較例２の発光効率を基準として、実施例１〜８及び比較例１、３、４の発光効率比を計算して求めた。
【０１５４】
変動係数（ＣＶ）が１０以下で発光効率比が１．００以上を良（○）と評価した。変動係数（ＣＶ）が１０より大きい場合を不良（×）とした。また、発光効率比が１．００未満を不良（×）とした。
【０１５５】
実施例１〜８及び比較例１〜４のＩＴＯ膜厚、積層型配線の条件、特性値及び評価結果を表１にまとめた。
【０１５６】
【表１】
2020181865.tif 000003
【０１５７】
表１に示したように、（式１）、及び（式２ａ）（式２ｂ）、並びに（式３）を満たす適切な形状を有する積層型配線を有する実施例１〜８の有機ＥＬ素子は、変動係数（ＣＶ）が３．１から９．９の優れた発光均一性と、発光効率比１．０１から１．０４の良好な発光効率を有することが確認された。これは、低い非発光面積である積層型配線と、良好な幅と高さを有する積層型配線が形成されたためと推定される。尚、実施例３では、Ｄ１＝Ｄ２＝０、実施例４ではＤ２＝０、実施例８ではＤ１＝０であるが、評価結果は良好であり、第２配線は第１配線の少なくとも上部、若しくは、加えて少なくとも片側の側面を覆えばよいことが分かる。
【０１５８】
一方、比較例１の有機ＥＬ素子は、面内の輝度のバラつきは少なく良好であったが、発光効率が低く、不良であった。これは、ＩＴＯ膜の厚みが厚いために、導電性は良好で、面内の輝度のバラつきは少なかったものの、透過率が低く、発光効率が低下したためと推定される。
【０１５９】
比較例２の有機ＥＬ素子は、面内の輝度のバラつきによる輝度ムラがあり、不良であった。これは、ＩＴＯ膜の厚みが薄いために、導電性が面内の特に中心で悪化したために、面内の輝度のバラつきが悪化したと推定される。
【０１６０】
比較例３の有機ＥＬ素子は、発光効率が低く、不良であった。これは、面積比が大きく、距離Ｄ１及び２も大きいため、第２配線の絶縁性で、導電性が十分でないことに加え、非発光部が広く発光効率が低下したと推定される。
【０１６１】
比較例４の有機ＥＬ素子は、面内の輝度のバラつきによる輝度ムラがあり、発光効率が低く、不良であった。これは、第１配線の幅が広く、配線の形成された箇所と形成されない箇所で、導電性の差が大きく出たために、輝度の差があったことと、第２配線の幅が広いため面積比が大きく、非発光面積が大きくなったために、発光効率が低下したと推定される。
【産業上の利用可能性】
【０１６２】
本発明の配線板は、有機ＥＬ素子等の照明素子に限らず、透明電極自体が有する抵抗により電極の面内における電圧降下の発生が問題となる光学素子等に応用することができる。
【符号の説明】
【０１６３】
１００、９００    配線板
１０２、９０２    光透過性基板
１０３、９０３    光透過性電極（第１電極）
１０４、９０４    配線層
１０６    機能層
１０８    第２電極
１１２    外部接続端子
１２０、９２０    第１配線
１２４、９２４    第２配線
１２４ｘ        面積比測定領域Ｘ内の第２配線
１３０、９３０    積層型配線
２００    配線板
３００、３１０  表示範囲
３０２    集光レンズ層
３０４    光透過性層
３１０    光取出しレンズ層
４０２    光散乱層
４０４    バリア層
５００、６００、７００、８００    本発明の配線板を含む照明素子（有機ＥＬ素子）
Ｘ        面積比測定領域
１０００    照明装置
１２０２    吸湿部材
１２０４    封止部材
１３０２    カラーフィルタ層
２０００    表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2020181865.tif 000008
【図６】
2020181865.tif 000009
【図７】
2020181865.tif 000010
【図８】
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【図９】
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