(57)【要約】      （修正有）【課題】高屈折率、低アッベ数など光学特性に優れた樹脂の提供。【解決手段】ジヒドロキシ化合物として２，２´−ビス（ヒドロキシアルコキシ）−１，１´−ビナフタレンおよび、フェニル基部分に置換基を有してもよい９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシアルコキシ）フェニル）フルオレンまたは９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンから選ばれるフルオレン誘導体を含み、ジカルボン酸としてナフタレンジカルボン酸またはテレフタル酸から選ばれる一種以上の酸を含むポリエステル樹脂またはポリエステルカーボネート樹脂。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジヒドロキシ成分として下記一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位６３〜８１モル％および下記一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位９〜２７モル％と、ジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸、テレフタル酸、またはこれらのエステルに由来する構成単位とを含むポリエステル樹脂：
【化１】
2020045492.tif 000061
［式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である］
【化２】
2020045492.tif 000062
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
【請求項２】
前記一般式（２）で表される化合物は、下記一般式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物である請求項１に記載のポリエステル樹脂：
【化３】
2020045492.tif 000063
［式（２ａ）において、Ｒ１およびＲ２は請求項１で定義した通りである］
【化４】
2020045492.tif 000064
［式（２ｂ）において、Ｒ１およびＲ２は請求項１で定義した通りである］。
【請求項３】
ジヒドロキシ成分として、さらにグリコールに由来する構成単位を含む、請求項１または２に記載のポリエステル樹脂。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のポリエステル樹脂を含む光学部材。
【請求項５】
前記光学部材が、一眼レフカメラ、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ、カメラ付携帯電話、レンズ付フィルム、望遠鏡、双眼鏡、顕微鏡、またはプロジェクターの光学レンズである請求項４に記載の光学部材。
【請求項６】
下記一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位と、下記一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位と、テレフタル酸またはそのエステルに由来する構成単位と、炭酸ジエステルに由来する構成単位とを含むポリエステルカーボネート樹脂：
【化５】
2020045492.tif 000065
［式（１）において、Ｘは炭素数２のアルキレン基である］
【化６】
2020045492.tif 000066
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
【請求項７】
前記一般式（２）で表される化合物は、下記一般式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物である請求項６に記載のポリエステルカーボネート樹脂：
【化７】
2020045492.tif 000067
［式（２ａ）において、Ｒ１およびＲ２は請求項６で定義した通りである］
【化８】
2020045492.tif 000068
［式（２ｂ）において、Ｒ１およびＲ２は請求項６で定義した通りである］。
【請求項８】
前記ポリエステルカーボネート樹脂において、ジヒドロキシ化合物に由来する構成単位のうち前記一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位の割合は５〜９５モル％であり、前記一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位の割合は２．５〜４７．５モル％である、請求項６または７に記載のポリエステルカーボネート樹脂。
【請求項９】
屈折率が１．６４５〜１．６６０である、請求項６〜８のいずれか１項に記載のポリエステルカーボネート樹脂。
【請求項１０】
ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が１４，０００〜１００，０００である、請求項６〜９のいずれか１項に記載のポリエステルカーボネート樹脂。
【請求項１１】
請求項６〜１０のいずれか１項に記載のポリエステルカーボネート樹脂を含む光学部材。
【請求項１２】
前記光学部材が、一眼レフカメラ、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ、カメラ付携帯電話、レンズ付フィルム、望遠鏡、双眼鏡、顕微鏡、またはプロジェクターの光学レンズである請求項１１に記載の光学部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定のビナフチル骨格を有する構成単位と特定のフルオレン構造を有する構成単位を含み、重縮合で製造された樹脂および樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
カメラ、フィルム一体型カメラ、ビデオカメラ等の各種カメラの光学系に使用される光学素子の材料として、光学ガラスあるいは光学用透明樹脂が使用されている。光学ガラスは、耐熱性、透明性、寸法安定性、耐薬品性等に優れ、様々な屈折率やアッベ数を有する多種類の光学ガラスが存在しているが、材料コストが高い上、成形加工性が悪く、また生産性が低いという問題点を有している。とりわけ、収差補正に使用される非球面レンズに加工するには、極めて高度な技術と高いコストがかかるため実用上大きな障害となっている。
【０００３】
上記の光学ガラスに対し、光学用透明樹脂、中でも熱可塑性透明樹脂からなる光学レンズは、射出成形により大量生産が可能で、しかも非球面レンズの製造も容易であるという利点を有しており、現在カメラ用レンズとして使用されている。光学用透明樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡからなるポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートあるいは非晶性ポリオレフィンなどが例示される。
【０００４】
一般に、カメラの光学系では、複数枚の凹レンズと凸レンズを組み合わせる事で収差補正を行っている。即ち、凸レンズで出来た色収差に対し、凸レンズと反対の符号の色収差を有する凹レンズを組み合わせることにより、合成的に色収差を打ち消している。この時、凹レンズには高分散（すなわち、低アッベ数）である事が要求される。
【０００５】
高分散（低アッベ数）の観点から上記した光学用透明樹脂を見てみると、ビスフェノールＡからなるポリカーボネートは屈折率＝１．５９程度、アッベ数＝３２程度、ポリメチルメタクリレートは屈折率＝１．４９程度、アッベ数＝５８程度、非晶性ポリオレフィンは屈折率＝１．５４程度、アッベ数＝５６程度である。この中で、収差補正用の凹レンズとして使用し得るのはポリカーボネートのみであるが、アッベ数＝３２というのは十分に高分散であるとは言い難く、収差補正用の凹レンズとして使用し得る新規材料が求められている。
【０００６】
特許文献１には、収差補正用の凹レンズに使用する樹脂として、屈折率＝１．６６程度、アッベ数２０程度のフルオレン系ジヒドロキシ化合物を共重合したポリエステル樹脂組成物が開示されている。
【０００７】
次に複屈折について述べる。ビスフェノールＡからなるポリカーボネート樹脂は、光学レンズ用途に幅広く使用されているが、複屈折が大きいという弱点を有するため用途に制約がある。特に近年の携帯電話用カメラやデジタルカメラ用途においては、画素数の向上による解像度のアップに伴い、結像性能が高く、複屈折が低い樹脂材料が求められている。
【０００８】
樹脂材料の低複屈折化を実現する方法として、符号の異なる正負の複屈折を持つ組成同士で互いの複屈折を打ち消しあう手法が挙げられる（特許文献５）。複屈折の正負は、高分子主鎖方向の分極率と高分子側鎖方向の分極率との差で決定される。例えば、高分子主鎖方向の分極率の方が高分子側鎖方向の分極率より大きいビスフェノールＡからなるポリカーボネート樹脂は正の複屈折となり、高分子側鎖方向の分極率の方が大きいフルオレン構造を有するビスフェノールからなるポリカーボネート樹脂は負の複屈折となる。そのため、これら異符号の複屈折を持つ材料の構成比率は非常に重要となる。複屈折の小さい樹脂を使用することにより、光学歪みが低減される。
【０００９】
特許文献６には、ポリエステル樹脂においてフルオレン構造を有するジカルボン酸を原料に使用すると、複屈折の低減に効果があることが記載されている。なお、カルボン酸はヒドロキシル基を有する化合物の一種である（非特許文献１）。
【００１０】
なお、１，１´−ビナフタレン構造を有するポリマーは、特許文献２、３および４に記載されている。しかしながら、特許文献２および特許文献３は、一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位を有する樹脂を開示していない。特許文献４には、一般式（Ａ）で表される構成単位を含むポリマーが記載されているが、フルオレン構造を有する構成単位を含むポリマーではない。また、一般式（Ａ）で表される構成単位を含むポリマーの複屈折の符号が正負いずれであるかは開示されていない。
【００１１】
【化１】
2020045492.tif 000002
（Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である。）
【００１２】
【化２】
2020045492.tif 000003
（式中、Ａは炭素数２〜４のアルキレン基を表す。ナフタレン環は置換基により置換されても良く、また置換された置換基同士が縮環しても良い。ｍ、ｌはそれぞれ０≦ｍ≦５０、０≦ｌ≦５０の整数を表す。）
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００６−３３５９７４号公報
【特許文献２】特開２０００−３０２８５７号公報
【特許文献３】特開２００１−７２８７２号公報
【特許文献４】特開２００２−３３２３４５号公報
【特許文献５】国際公開第２００７／１４２１４９号
【特許文献６】特開２０１３−６４１１９号公報
【非特許文献】
【００１４】
【非特許文献１】岡崎廉治著、「岩波講座  現代化学への入門〈９〉有機化合物の性質と分子変換」、岩波書店、２００４年、ｐ．９６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明は上記問題に鑑み、高屈折率、低アッベ数など光学特性に優れた樹脂を提供する事を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者らは鋭意研究した結果、特定のモノマーを使用した樹脂が、特に高屈折率、低アッベ数など光学的に優れた性能を発揮することを見出した。すなわち、本発明は、例えば以下のとおりである。
【００１７】
［１］  下記一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位と、下記一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位と、ジカルボン酸またはその誘導体に由来する構成単位とを含むポリエステル樹脂：
【化３】
2020045492.tif 000004
［式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である］
【化４】
2020045492.tif 000005
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
［２］  前記一般式（２）で表される化合物は、下記一般式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物である［１］に記載のポリエステル樹脂：
【化５】
2020045492.tif 000006
［式（２ａ）において、Ｒ１およびＲ２は［１］で定義した通りである］
【化６】
2020045492.tif 000007
［式（２ｂ）において、Ｒ１およびＲ２は［１］で定義した通りである］。
［３］  前記ジカルボン酸またはその誘導体は、ナフタレンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フルオレン基を有するジカルボン酸、またはこれらのエステルである［１］または［２］に記載のポリエステル樹脂。
［３−１］  前記フルオレン基を有するジカルボン酸は、以下の一般式（３）で表されるジカルボン酸である［３］に記載のポリエステル樹脂：
【化７】
2020045492.tif 000008
（式（３）において、Ｙは、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基を示す）。
［４］  前記ポリエステル樹脂において、ジヒドロキシ化合物に由来する構成単位のうち前記一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位の割合は５〜９５モル％であり、前記一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位の割合は２．５〜４７．５モル％である、［１］〜［３−１］のいずれかに記載のポリエステル樹脂。
［５］  さらにグリコールに由来する構成単位を含み、前記ポリエステル樹脂におけるジヒドロキシ化合物に由来する構成単位のうちグリコールに由来する構成単位の割合は、５〜７０モル％である［１］〜［４］のいずれかに記載のポリエステル樹脂。
［５−１］  下記一般式（１）で表される化合物と、下記一般式（２）で表される化合物と、ジカルボン酸またはその誘導体とを共重合させて得られるポリエステル樹脂：
【化８】
2020045492.tif 000009
（式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である）
【化９】
2020045492.tif 000010
（式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である）。
［６］  ［１］〜［５−１］のいずれかに記載のポリエステル樹脂を含む光学部材。
［７］  前記光学部材が、一眼レフカメラ、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ、カメラ付携帯電話、レンズ付フィルム、望遠鏡、双眼鏡、顕微鏡、またはプロジェクターの光学レンズである［６］に記載の光学部材。
【００１８】
［８］  下記一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位と、下記一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位と、ジカルボン酸またはその誘導体に由来する構成単位と、炭酸ジエステルに由来する構成単位とを含むポリエステルカーボネート樹脂：
【化１０】
2020045492.tif 000011
［式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である］
【化１１】
2020045492.tif 000012
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
［９］  前記一般式（２）で表される化合物は、下記一般式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物である［８］に記載のポリエステルカーボネート樹脂：
【化１２】
2020045492.tif 000013
［式（２ａ）において、Ｒ１およびＲ２は［８］で定義した通りである］
【化１３】
2020045492.tif 000014
［式（２ｂ）において、Ｒ１およびＲ２は［８］で定義した通りである］。
［１０］  前記ジカルボン酸またはその誘導体は、ナフタレンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フルオレン基を有するジカルボン酸、またはこれらのエステルである［８］または［９］に記載のポリエステルカーボネート樹脂。
［１０−１］  前記フルオレン基を有するジカルボン酸は、以下の一般式（３）で表されるジカルボン酸である［１０］に記載のポリエステルカーボネート樹脂：
【化１４】
2020045492.tif 000015
（式（３）において、Ｙは、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基を示す）。
［１０−２］  前記炭酸ジエステルは、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネートおよびジシクロヘキシルカーボネートからなる群より選択される［８］〜［１０−１］のいずれかに記載のポリエステルカーボネート樹脂。
［１１］  前記ポリエステルカーボネート樹脂において、ジヒドロキシ化合物に由来する構成単位のうち前記一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位の割合は５〜９５モル％であり、前記一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位の割合は２．５〜４７．５モル％である、［８］〜［１０−２］のいずれかに記載のポリエステルカーボネート樹脂。
［１１−１］  下記一般式（１）で表される化合物と、下記一般式（２）で表される化合物と、炭酸ジエステルと、ジカルボン酸またはその誘導体とを共重合させて得られるポリエステルカーボネート樹脂：
【化１５】
2020045492.tif 000016
（式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である）
【化１６】
2020045492.tif 000017
（式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である）。
［１２］  屈折率が１．６４５〜１．６６０である、［８］〜［１１−１］のいずれかに記載のポリエステルカーボネート樹脂。
［１３］  ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が１４，０００〜１００，０００である、［８］〜［１２］のいずれかに記載のポリエステルカーボネート樹脂。
［１４］  ［８］〜［１３］のいずれかに記載のポリエステルカーボネート樹脂を含む光学部材。
［１５］  前記光学部材が、一眼レフカメラ、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ、カメラ付携帯電話、レンズ付フィルム、望遠鏡、双眼鏡、顕微鏡、またはプロジェクターの光学レンズである［１４］に記載の光学部材。
【００１９】
［１６］  下記一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位と、下記一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位とを含み、フェノール含有量が０．１〜３０００ｐｐｍである。
ポリカーボネート樹脂：
【化１７】
2020045492.tif 000018
［式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である］
【化１８】
2020045492.tif 000019
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
［１７］  下記一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位と、下記一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位とを含み、炭酸ジエステル含有量が０．１〜１０００ｐｐｍであるポリカーボネート樹脂：
【化１９】
2020045492.tif 000020
［式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である］
【化２０】
2020045492.tif 000021
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
［１８］  下記一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位と、下記一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位とを含むポリカーボネート樹脂、ならびに酸化防止剤および／または離型剤を含む樹脂組成物：
【化２１】
2020045492.tif 000022
［式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である］
【化２２】
2020045492.tif 000023
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
［１９］  前記酸化防止剤が、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］である［１８］に記載の樹脂組成物。
［２０］  前記離型剤が、アルコールと脂肪酸とのエステルである［１８］または［１９］に記載の樹脂組成物。
［２０−１］  前記アルコールと脂肪酸とのエステルが、ステアリン酸モノグリセリドまたはラウリン酸モノグリセリドである［２０］に記載の樹脂組成物。
【００２０】
［２１］  下記一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位を含むポリカーボネート樹脂と、下記一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位を含むポリカーボネート樹脂とを含み、フェノール含有量が０．１〜３０００ｐｐｍであるポリカーボネート樹脂組成物：
【化２３】
2020045492.tif 000024
［式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である］。
【化２４】
2020045492.tif 000025
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
［２２］  下記一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位を含むポリカーボネート樹脂と、下記一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位を含むポリカーボネート樹脂とを含み、炭酸ジエステル含有量が０．１〜１０００ｐｐｍであるポリカーボネート樹脂組成物：
【化２５】
2020045492.tif 000026
［式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である］。
【化２６】
2020045492.tif 000027
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
［２３］  さらに、酸化防止剤および／または離型剤を含む、［２０］または［２１］に記載の樹脂組成物。
［２４］  前記酸化防止剤が、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］である［２３］に記載の樹脂組成物。
［２５］  前記離型剤が、アルコールと脂肪酸とのエステルである［２２］または［２３］に記載の樹脂組成物。
［２５−１］  前記アルコールと脂肪酸とのエステルが、ステアリン酸モノグリセリドまたはラウリン酸モノグリセリドである［２５］に記載の樹脂組成物。
【００２１】
＜１＞
一般式（１）に示すビナフチル骨格を有する化合物、および、一般式（４）に示すフルオレン骨格を有する化合物を、
（ａ）ヒドロキシル基、ヒドロキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシカルボニル基、または、ハロゲン化カルボニル基から選ばれる１種以上の官能基を、２個以上有する化合物を併用してあるいは併用せず、かつ、
（ｂ）炭酸ジエステルを使用してあるいは使用せずに、
重縮合して製造した樹脂。
【化２７】
2020045492.tif 000028
（Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である。）
【化２８】
2020045492.tif 000029
（Ｙは、ヒドロキシル基、ヒドロキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシカルボニル基、もしくはハロゲン化カルボニル基から選ばれる１種以上の官能基を有する、炭素数１〜４０かつ酸素数１〜４の有機基である。）
＜２＞
（ａ）一般式（１）に示すビナフチル骨格を有する化合物を、
ヒドロキシル基、ヒドロキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシカルボニル基、またはハロゲン化カルボニル基から選ばれる１種以上の官能基を、２個以上有する化合物を併用してあるいは併用せず、かつ、
炭酸ジエステルを使用してあるいは使用せずに、
重縮合して製造した樹脂、
および、
（ｂ）一般式（４）に示すフルオレン骨格を有する化合物を、
ヒドロキシル基、ヒドロキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシカルボニル基、または、ハロゲン化カルボニル基から選ばれる１種以上の官能基を、２個以上有する化合物を併用してあるいは併用せず、かつ、
炭酸ジエステルを使用してあるいは使用せずに、
重縮合して製造した樹脂を、混合した樹脂組成物。
＜３＞
一般式（４）で表される化合物が、一般式（２ａ）で表される化合物である＜１＞記載の樹脂または＜２＞記載の樹脂組成物。
【化２９】
2020045492.tif 000030
（式（２ａ）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
＜４＞
一般式（４）で表される化合物が、一般式（２ｂ）で表される化合物である＜１＞記載の樹脂または＜２＞記載の樹脂組成物。
【化３０】
2020045492.tif 000031
（式（２ｂ）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
＜５＞
一般式（４）で表される化合物が、一般式（３）で表される化合物である＜１＞記載の樹脂または＜２＞記載の樹脂組成物。
【化３１】
2020045492.tif 000032
（式中、Ｙはそれぞれ独立に、単結合、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基を示す。）
【発明の効果】
【００２２】
本発明により、高屈折率、低アッベ数など光学特性に優れた樹脂が得られる。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の実施形態に係る樹脂は、少なくとも一般式（１）で表される化合物と、一般式（２）で表される化合物を原料として、重縮合して製造された樹脂である。
重縮合して製造される樹脂は、ポリエステル、ポリエステルカーボネート、ポリカーボネートが好ましい。
【００２４】
一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位は高屈折率に寄与するとともに、一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位よりもアッベ数の低減に寄与する。一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位は高屈折率と低アッベ数に寄与することに加え、一般式（１）で表される化合物に由来する複屈折値を低減し、光学成形体の光学歪みを低減する効果がある。
屈折率、アッベ数、複屈折値などの光学特性は、構成単位の化学構造による影響が大きく、構成単位間の化学結合がエステル結合であるか、カーボネート結合であるかによる影響は比較的小さい。
【００２５】
一般式（１）で表される化合物において、重縮合に寄与する官能基は、アルコール性のヒドロキシル基である。
一般式（２）で表される化合物において、重縮合に寄与する官能基の代表例はヒドロキシル基であり、アルコール性のヒドロキシル基、フェノール性のヒドロキシル基、カルボン酸のヒドロキシル基が例示される。
【００２６】
実施形態に係る樹脂は、ジヒドロキシ化合物（ただしジカルボン酸を除く）に由来する構成単位や、ジカルボン酸に由来する構成単位を有するが、この樹脂の原料がジヒドロキシ化合物やジカルボン酸に限定されることは意味しない。例えば、ジカルボン酸だけでなく、ジカルボン酸のエステル、酸無水物、酸ハロゲン化物も原料として使用できる。
【００２７】
本明細書では、樹脂中のジヒドロキシ化合物に由来する成分をジヒドロキシ成分あるいはジヒドロキシ構成単位、ジカルボン酸に由来する成分をジカルボン酸成分あるいはジカルボン酸構成単位と記載することがある。また、本明細書では、特に示さない場合、カルボン酸はヒドロキシ化合物の一種であり、ジカルボン酸はジヒドロキシ化合物の一種である。
【００２８】
他の実施形態において、少なくとも一般式（１）で表される化合物を重縮合した樹脂と、少なくとも一般式（２）で表される化合物を重縮合した樹脂を、混合した樹脂組成物も提供される。よって、樹脂組成物は、一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位と、一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位を含む。
屈折率、アッベ数、複屈折値などの光学特性は、これら構成単位の構造によって大きく影響され、共重合体のように構成単位が一つの分子中に存在するか、混合物のように構成単位が複数の分子にまたがって存在するかの影響は比較的小さい。
【００２９】
＜一般式（１）で表される化合物＞
【化３２】
2020045492.tif 000033
（Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である。）
一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物の例としては、２，２´−ビス（ヒドロキシメトキシ）−１，１´−ビナフタレン、２，２´−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１´−ビナフタレン、２，２´−ビス（３−ヒドロキシプロピルオキシ）−１，１´−ビナフタレン、２，２´−ビス（４−ヒドロキシブトキシ）−１，１´−ビナフタレン等が例示される。中でも、２，２´−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１´−ビナフタレンが好適に使用される。
【００３０】
＜一般式（２）で表される化合物＞
【化３３】
2020045492.tif 000034
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
【００３１】
一般式（２）で表される化合物の内、一般式（２ａ）または（２ｂ）で表されるフルオレン構造を有する化合物が好適に使用される。これらは、少なくとも一種使用すればよく、２種類以上を併用しても良い。
【００３２】
【化３４】
2020045492.tif 000035
（式（２ａ）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
【００３３】
Ｒ１およびＲ２としては、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘプタ基、シクロプロピル基、またはフェニル基がより好ましく、水素原子、メチル基、またはフェニル基が特に好ましい。
【００３４】
式（２ａ）で表されるジヒドロキシ化合物の例としては、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレンが例示される。中でも９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンが好適に使用される。
【００３５】
【化３５】
2020045492.tif 000036
（式（２ｂ）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
【００３６】
Ｒ１およびＲ２としては、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、または炭素数６〜１２のアリール基が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘプタ基、シクロプロピル基、またはフェニル基がより好ましく、水素原子、またはメチル基が特に好ましい。
【００３７】
式（２ｂ）で表されるジヒドロキシ化合物として、例えば９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｓｅｃ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−２−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス〔４−ヒドロキシ−３−（３−メチルフェニル）フェニル〕フルオレン等が挙げられる。なかでも９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンが好ましい。これらは単独で使用してもよく、または二種以上組み合わせて用いてもよい。
【００３８】
上述したように、本発明の樹脂は、ポリエステル、ポリエステルカーボネート、ポリカーボネートであることが好ましい。以下、これら好ましい樹脂について、それぞれ詳細に説明する。
【００３９】
１．ポリカーボネート樹脂
実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位（以下、構成単位（Ａ）と記載することがある）と、一般式（２）で表される化合物（ただしカルボン酸を除く）に由来する構成単位（以下構成単位（Ｂ）と記載することがある）を有するポリカーボネート樹脂である。ポリカーボネート樹脂において、各構成単位は、カーボネート結合を介して結合される。
【化３６】
2020045492.tif 000037
［式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である］
【化３７】
2020045492.tif 000038
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
【００４０】
一般式（２）で表される化合物（ただしカルボン酸を除く）として、一般式（２ａ）で表される化合物や一般式（２ｂ）で表される化合物が好適に使用できる。
【化３８】
2020045492.tif 000039
（式（２ａ）中、Ｒ１およびＲ２は、上記式（２）において定義した通りである）。
【化３９】
2020045492.tif 000040
（式（２ｂ）中、Ｒ１およびＲ２は、上記式（２）において定義した通りである）。
なお、一般式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物の詳細は、上述した通りである。
【００４１】
ジヒドロキシ成分としては、一般式（１）や一般式（２）の化合物（ただしカルボン酸を除く）に加えて、芳香族ジヒドロキシ化合物や脂肪族ジヒドロキシ化合物を併用することができる。
【００４２】
芳香族ジヒドロキシ化合物や脂肪族ジヒドロキシ化合物として、例えば、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［＝ビスフェノールＡ］、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン［＝ビスフェノールＡＰ］、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン［＝ビスフェノールＡＦ］、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン［＝ビスフェノールＢ］、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン［＝ビスフェノールＢＰ］、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン［＝ビスフェノールＣ］、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル)エタン［＝ビスフェノールＥ］、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン［＝ビスフェノールＦ］、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロパン［＝ビスフェノールＧ］、１，３−ビス（２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル）ベンゼン［＝ビスフェノールＭ］、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン［＝ビスフェノールＳ］、１，４−ビス（２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル）ベンゼン［＝ビスフェノールＰ］、ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル］プロパン［＝ビスフェノールＰＨ］、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン［＝ビスフェノールＴＭＣ］、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン［＝ビスフェノールＺ］、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル)シクロヘキサン（ビスフェノールＯＣＺ）、４，４−ビスフェノール等が例示される。
【００４３】
（１）一般式（２ａ）で表される化合物に由来する構成単位を含むポリカーボネート樹脂
好ましい実施形態において、ポリカーボネート樹脂は、一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位（Ａ）と、一般式（２ａ）で表される化合物に由来する構成単位（以下、構成単位（Ｃ）と記載することがある）とを含む。
【００４４】
上記構成単位（Ａ）から誘導されるカーボネート単位および構成単位（Ｃ）から誘導されるカーボネート単位の合計割合は、ポリカーボネート樹脂を構成する全カーボネート単位に対して５０ｍｏｌ％以上が好ましく、さらには８０ｍｏｌ％以上が好ましく、９０ｍｏｌ％以上が特に好ましく、１００ｍｏｌ％が最も好ましい。このポリカーボネート樹脂は、上記構成単位（Ａ）および（Ｃ）以外の構成単位を含んでいてもよい。
構成単位（Ａ）と構成単位（Ｃ）のモル比（Ａ／Ｃ）は、２０／８０〜９９／１が好ましく、３０／７０〜９５／５がより好ましく、４０／６０〜９０／１０が特に好ましい。
【００４５】
上記構成単位（Ａ）から誘導されるカーボネート単位の割合は、ポリカーボネート樹脂を構成する全カーボネート単位に対して１〜９９ｍｏｌ％が好ましい。
より好ましくは、上記構成単位（Ａ）から誘導されるカーボネート単位の割合は、ポリカーボネート樹脂を構成する全カーボネート単位に対して３０〜９０ｍｏｌ％であり、さらに好ましくは４０〜８０ｍｏｌ％である。
【００４６】
このポリカーボネート樹脂の好ましいポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ
）は、２００００〜２０００００である。より好ましくは、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は２５０００〜１２００００であり、さらに好ましくは２５０００〜６００００、特に好ましくは４００００〜６００００である。
Ｍｗが２００００より小さいと、成形体が脆くなるため好ましくない。Ｍｗが２０００００より大きいと、溶融粘度が高くなるため成形時に金型からの樹脂の取り出しが困難になり、更には流動性が悪くなり溶融状態で射出成形しにくくなるため好ましくない。
【００４７】
このポリカーボネート樹脂は、ランダム、ブロックおよび交互共重合体のいずれの構造であってもよい。
【００４８】
このポリカーボネート樹脂の２３℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率（ｎＤ）は、好ましくは１．６４０〜１．６８０、より好ましくは１．６４５〜１．６７５、さらに好ましくは１．６５０〜１．６７０である。上記ポリカーボネート樹脂は、屈折率（ｎＤ）が高く、光学レンズ材料に適している。屈折率は、厚さ０．１ｍｍフィルムについて、アッベ屈折計を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２の方法で測定することができる。
【００４９】
このポリカーボネート樹脂のアッベ数（ν）は、好ましくは２４以下、より好ましくは２３以下、さらに好ましくは２２以下である。アッベ数は、２３℃下での波長４８６ｎｍ、５８９ｎｍおよび６５６ｎｍの屈折率から、下記式を用いて算出することができる。
ν＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
ｎＤ：波長５８９ｎｍでの屈折率
ｎＣ：波長６５６ｎｍでの屈折率    
ｎＦ：波長４８６ｎｍでの屈折率
【００５０】
この樹脂を射出成形に使用する場合、好ましいガラス転移温度（Ｔｇ）は９５〜１８０℃であり、より好ましくは１１０〜１７０℃であり、さらに好ましくは１１５〜１６０℃であり、特に好ましくは１２５〜１４５℃である。Ｔｇが９５℃より低いと、使用温度範囲が狭くなるため好ましくない。また１８０℃を越えると、樹脂の溶融温度が高くなり、樹脂の分解や着色が発生しやすくなるため好ましくない。また、樹脂のガラス転移温度が高すぎる場合、汎用の金型温調機では、金型温度と樹脂ガラス転移温度の差が大きくなってしまう。そのため、製品に厳密な面精度が求められる用途においては、ガラス転移温度が高すぎる樹脂の使用は難しく、好ましくない。
【００５１】
このポリカーボネート樹脂は、射出成形時の加熱に耐えるための熱安定性の指標として、昇温速度１０℃／ｍｉｎにて測定した５％重量減少温度（Ｔｄ）が３５０℃以上であることが好ましい。５％重量減少温度が３５０℃より低い場合は、成形の際の熱分解が激しく、良好な成形体を得ることが困難となるため好ましくない。
【００５２】
このポリカーボネート樹脂は、複屈折量の尺度である配向複屈折（Δｎ）が、好ましくは１．０×１０−３以下、より好ましくは０．８×１０−３以下、さらに好ましくは０．３×１０−３以下、特に好ましくは０．２×１０−３以下である。
Δｎは、厚さ０．１ｍｍのキャストフィルムを５．０ｃｍ角の正方形に切出した後、フィルムの両端をチャックに挟み（チャック間３．０ｃｍ）、ポリカーボネート樹脂のＴｇ＋５℃で１．５倍に延伸し、日本分光（株）製エリプソメーターＭ−２２０を用いて５８９ｎｍにおける位相差（Ｒｅ）を測定した後、下記式より求めることができる。
Δｎ＝Ｒｅ／ｄ
Δｎ：配向複屈折
Ｒｅ：位相差
ｄ：厚さ
【００５３】
複屈折（Δｎ）の符号は、フィルム延伸方向における屈折率（ｎ／／）と延伸方向に垂直な方向における屈折率（ｎ⊥）を用いて下記式で表され、Δｎが正になる場合を正の複屈折、負になる場合を負の複屈折と呼ぶ。
【００５４】
【数１】
2020045492.tif 000041
【００５５】
ポリカーボネート樹脂には、製造時に生成するフェノールや、反応せずに残存した炭酸ジエステルが不純物として存在する。ポリカーボネート樹脂中のフェノール含量は、０．１〜３０００ｐｐｍであることが好ましく、０．１〜２０００ｐｐｍであることがより好ましく、１〜１０００ｐｐｍ、１〜８００ｐｐｍ、１〜５００ｐｐｍ、または１〜３００ｐｐｍであることが特に好ましい。また、ポリカーボネート樹脂中の炭酸ジエステル含量は、０．１〜１０００ｐｐｍであることが好ましく、０．１〜５００ｐｐｍであることがより好ましく、１〜１００ｐｐｍであることが特に好ましい。ポリカーボネート樹脂中に含まれるフェノールおよび炭酸ジエステルの量を調節することにより、目的に応じた物性を有する樹脂を得ることができる。フェノールおよび炭酸ジエステルの含量の調節は、重縮合の条件や装置を変更することにより適宜行うことができる。また、重縮合後の押出工程の条件によっても調節可能である。
【００５６】
フェノールまたは炭酸ジエステルの含量が上記範囲を上回ると、得られる樹脂成形体の強度が落ちたり、臭気が発生する等の問題が生じ得る。一方、フェノールまたは炭酸ジエステルの含量が上記範囲を下回ると、樹脂溶融時の可塑性が低下する虞がある。
【００５７】
このポリカーボネート樹脂を用いて得られる光学成形体は、全光線透過率が好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上であり、ビスフェノールＡ型ポリカーボネート樹脂などと比べても遜色ない。
【００５８】
さらにこのポリカーボネート樹脂には、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、流動性改質剤、結晶核剤、強化剤、染料、帯電防止剤あるいは抗菌剤等を添加してもよい。
【００５９】
（２）一般式（２ａ）で表される化合物に由来する構成単位を含むポリカーボネート樹脂の製造方法
一般式（２ａ）で表される化合物に由来する構成単位を有するポリカーボネート樹脂は、一般式（１）で表される化合物、一般式（２ａ）で表される化合物、および炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質を、塩基性化合物触媒もしくはエステル交換触媒またはその双方からなる混合触媒の存在下、あるいは無触媒下において、溶融重縮合法により製造することができる。
【００６０】
この反応に用いられる炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等が挙げられる。これらの中でも特に、ジフェニルカーボネートが好ましい。炭酸ジエステルは、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して０．９７〜１．２０ モルの比率で用いられることが好ましく、更に好ましくは０ ．９８〜１．１０モルの比率である。炭酸ジエステルの量がこれら範囲を外れた場合、樹脂が所望の分子量に到達しない、未反応の原料が樹脂中に残存して光学特性が低下する等の問題が生じ得る。
【００６１】
塩基性化合物触媒としては、特にアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、および含窒素化合物等が挙げられる。
【００６２】
アルカリ金属化合物としては、例えばアルカリ金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二リチウム、フェニルリン酸二ナトリウム、ビスフェノールＡの二ナトリウム塩、二カリウム塩、二セシウム塩もしくは二リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩もしくはリチウム塩等が用いられる。これらのうち、触媒活性が高く、純度の高いものが安価で流通している炭酸水素ナトリウムが好ましい。
【００６３】
アルカリ土類金属化合物としては、例えばアルカリ土類金属化合物の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。
【００６４】
含窒素化合物としては、例えば４級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が挙げられる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル基、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類；トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類；ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類；プロピルアミン、ブチルアミン等の１級アミン類；２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類；あるいは、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基もしくは塩基性塩等が用いられる。
【００６５】
エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛等の塩が好ましく用いられ、これらは単独もしくは組み合わせて用いることができる。
【００６６】
エステル交換触媒としては、具体的には、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、２−エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＶ）、酢酸スズ（ＩＩ）、酢酸スズ（ＩＶ）、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛（ＩＩ）、酢酸鉛（ＩＶ）等が用いられる。
【００６７】
これらの触媒は、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して、１×１０−９〜１×１０−３モルの比率で、好ましくは１×１０−７〜１×１０−４モルの比率で用いられる。
触媒は、２種類以上を併用してもよい。また、触媒自体をそのまま添加してもよく、あるいは、水やフェノール等の溶媒に溶解してから添加してもよい。
【００６８】
溶融重縮合法は、前記の原料および触媒を用いて、加熱下で、さらに常圧または減圧下で、エステル交換反応により副生成物を除去しながら溶融重縮合を行うものである。触媒は、原料と共に反応の最初から存在させてもよく、あるいは、反応の途中で添加してもよい。
【００６９】
本組成系での溶融重縮合は、一般式（１）および一般式（２ａ）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルを反応容器中で溶融後、副生するモノヒドロキシ化合物の留去をせずに滞留させた状態で、反応を行ってもよい。副生するモノヒドロキシ化合物の留去をせずに滞留させた状態で反応させる場合、反応時間は２０分以上２４０分以下であり、好ましくは４０分以上１８０分以下、特に好ましく６０分以上１５０分以下である。この際、副生するモノヒドロキシ化合物を生成後すぐに留去すると、最終的に得られるポリカーボネート樹脂は高分子量体の含有量が少なくなる。好ましい反応時間は、反応スケールによって変動し得る。
【００７０】
溶融重縮合反応は、連続式で行っても良く、またバッチ式で行ってもよい。反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であっても、スクリューを装備した押出機型であってもよい。また、重合物の粘度を勘案してこれらの反応装置を適宜組み合わせて使用することが好適に実施される。
【００７１】
このポリカーボネート樹脂の製造方法では、重合反応終了後、熱安定性および加水分解安定性を保持するために、触媒を除去もしくは失活させてもよいが、必ずしも失活させる必要はない。失活させる場合、公知の酸性物質の添加による触媒の失活のための方法を好適に実施できる。酸性物質としては、具体的には、安息香酸ブチル等のエステル類；ｐ−トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類；ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類；亜リン酸、リン酸、ホスホン酸等のリン酸類；亜リン酸トリフェニル、亜リン酸モノフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジｎ−プロピル、亜リン酸ジｎ−ブチル、亜リン酸ジｎ−ヘキシル、亜リン酸ジオクチル、亜リン酸モノオクチル等の亜リン酸エステル類；リン酸トリフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノフェニル、リン酸ジブチル、リン酸ジオクチル、リン酸モノオクチル等のリン酸エステル類；ジフェニルホスホン酸、ジオクチルホスホン酸、ジブチルホスホン酸等のホスホン酸類；フェニルホスホン酸ジエチル等のホスホン酸エステル類；トリフェニルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン等のホスフィン類；ホウ酸、フェニルホウ酸等のホウ酸類；ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類；ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ｐ−トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物；ジメチル硫酸等のアルキル硫酸；塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物等が好適に用いられる。失活剤の効果、樹脂に対する安定性等の観点から、ｐ−トルエンまたはスルホン酸ブチルが特に好ましい。これらの失活剤は、触媒量に対して０．０１〜５０倍モル、好ましくは０．３〜２０倍モル使用される。触媒量に対して０．０１倍モルより少ないと、失活効果が不充分となり好ましくない。また、触媒量に対して５０倍モルより多いと、樹脂の耐熱性が低下し、成形体が着色しやすくなるため好ましくない。
【００７２】
上記失活剤の添加は、混練により行うことができ、連続式、バッチ式のどちらでもよい。混練時の温度は、２００〜３５０℃が好ましく、２３０〜３００℃がより好ましく、２５０〜２７０℃が特に好ましい。混練機は、連続式ならば押出し機が好適であり、バッチ式ならばラボプラストミル、ニーダーが好適に使用される。押出機としては、例えば、単軸押出機、二軸押出機、多軸押出機等が挙げられる。押出機には、適宜、樹脂吐出量を安定定量化する為のギアポンプなどを設けることができる。樹脂組成物の溶融混練の雰囲気圧力は特に制限されず、常圧または減圧、例えば、常圧（７６０ｍｍＨｇ）〜０．１ｍｍＨｇの圧力が、酸化防止、分解物、フェノールなどの低沸点成分の除去の観点で好ましい。押出機はベント式であってもノーベント式であってもよいが、押出製品の品質向上の点から、好ましくはベント式押出機である。ベント口の圧力（ベント圧力）は、常圧であっても減圧であってもよいが、例えば、常圧（７６０ｍｍＨｇ）〜０．１ｍｍＨｇの圧力であってよく、好ましくは、１００〜０．１ｍｍＨｇ程度の圧力、より好ましくは酸化防止、分解物、フェノールなどの低沸点成分の除去の観点で５０〜０．１ｍｍＨｇ程度の圧力とする。また、フェノールなどの低沸点成分をより効率的に減少する目的で、水添脱揮してもよい。
【００７３】
失活剤の混練は、重合反応終了後すぐに行ってもよく、あるいは、重合後の樹脂をペレット化してから行ってもよい。また、失活剤の他、その他の添加剤（酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、流動性改質剤、結晶核剤、強化剤、染料、帯電防止剤あるいは抗菌剤等）も、同様の方法で添加することができる。
【００７４】
触媒失活後（失活剤を添加しない場合には、重合反応終了後）、ポリマー中の低沸点化合物を、０．１〜１ｍｍＨｇの圧力、２００〜３５０℃の温度で脱揮除去する工程を設けても良い。脱揮除去の際の温度は、好ましくは２３０〜３００℃、より好ましくは２５０〜２７０℃である。この工程には、パドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新能の優れた攪拌翼を備えた横型装置、あるいは薄膜蒸発器が好適に用いられる。
【００７５】
このポリカーボネート樹脂は、異物含有量が極力少ないことが望まれ、溶融原料の濾過、触媒液の濾過等が好適に実施される。フィルターのメッシュは、５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以下である。さらに、生成する樹脂のポリマーフィルターによる濾過が好適に実施される。ポリマーフィルターのメッシュは、１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ以下である。また、樹脂ペレットを採取する工程は当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。
【００７６】
（３）ポリカーボネート樹脂を使用した光学成形体
上記ポリカーボネート樹脂を用いて光学成形体を製造できる。例えば射出成形法、圧縮成形法、押出成形法、溶液キャスティング法など任意の方法により成形される。実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、成形性および耐熱性に優れているので、射出成形が必要となる光学レンズにおいて特に有利に使用することができる。成形の際には、実施形態に係るポリカーボネート樹脂を他のポリカーボネート樹脂やポリエステル樹脂などの他の樹脂と混合して使用することが出来る。また、酸化防止剤、加工安定剤、光安定剤、重合金属不活性化剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、抗菌剤、離型剤、紫外線吸収剤、可塑剤、相溶化剤等の添加剤を混合しても構わない。
【００７７】
酸化防止剤としては、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマイド）、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートおよび３，９−ビス｛１，１−ジメチル−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカンなどが挙げられる。ポリカーボネート樹脂中の酸化防止剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．３重量部であることが好ましい。
【００７８】
加工安定剤としては、リン系加工熱安定剤、硫黄系加工熱安定剤等が挙げられる。リン系加工熱安定剤としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸およびこれらのエステル等が挙げられる。具体的には、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリブチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェート、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイトおよびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト等が挙げられる。ポリカーボネート樹脂中のリン系加工熱安定剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．２重量部が好ましい。
【００７９】
硫黄系加工熱安定剤としては、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ミリスチルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ステアリルチオプロピオネート）、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート等が挙げられる。ポリカーボネート樹脂中の硫黄系加工熱安定剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．２重量部が好ましい。
【００８０】
離型剤としては、その９０重量％以上がアルコールと脂肪酸とのエステルからなるものが好ましい。アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、具体的には一価アルコールと脂肪酸とのエステルや、多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルが挙げられる。上記一価アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、炭素原子数１〜２０の一価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸とのエステルが好ましい。また、多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルとしては、炭素原子数１〜２５の多価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルが好ましい。
【００８１】
具体的に、一価アルコールと飽和脂肪酸とのエステルとしては、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート等が挙げられる。多価アルコールと飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルとしては、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド、ステアリン酸トリグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、カプリン酸モノグリセリド、ラウリン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトラペラルゴネート、プロピレングリコールモノステアレート、ビフェニルビフェネ−ト、ソルビタンモノステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、ジペンタエリスリトールヘキサステアレート等のジペンタエリスルトールの全エステルまたは部分エステル等が挙げられる。これらのうち、ステアリン酸モノグリセリドおよびラウリン酸モノグリセリドが特に好ましい。これら離型剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００５〜２．０重量部の範囲が好ましく、０．０１〜０．６重量部の範囲がより好ましく、０．０２〜０．５重量部の範囲がさらに好ましい。
【００８２】
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、環状イミノエステル系紫外線吸収剤およびシアノアクリレート系紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤が好ましい。すなわち、以下に挙げる紫外線吸収剤は、いずれかを単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００８３】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｎ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２，２’−メチレンビス（４−クミル−６−ベンゾトリアゾールフェニル）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾ−ル等が挙げられる。
【００８４】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシトリハイドライドレイトベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００８５】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２−（４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（オクチル）オキシ］−フェノール、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−３−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【００８６】
環状イミノエステル系紫外線吸収剤としては、２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，５−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２−クロロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）などが挙げられる。
【００８７】
シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、１，３−ビス−［（２’−シアノ−３’，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ］−２，２−ビス［（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイル）オキシ］メチル）プロパン、および１，３−ビス−［（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイル）オキシ］ベンゼンなどが挙げられる。
【００８８】
紫外線吸収剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜３．０重量部であり、より好ましくは０．０２〜１．０重量部であり、さらに好ましくは０．０５〜０．８重量部である。かかる配合量の範囲であれば、用途に応じ、ポリカーボネート樹脂に十分な耐候性を付与することが可能である。
【００８９】
実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、高屈折率と優れた耐熱性を示し、しかも成形に適した流動性を有する。さらに、低複屈折で光学歪みが起こりづらいため、光学レンズの他に、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、太陽電池等に使用される透明導電性基板、光学ディスク、液晶パネル、光カード、シート、フィルム、光ファイバー、コネクター、蒸着プラスチック反射鏡、ディスプレイなどの光学部品の構造材料または機能材料用途に適した光学成形体として有利に使用することができる。
【００９０】
光学成形体の表面には、必要に応じ、反射防止層あるいはハードコート層といったコート層が設けられていても良い。反射防止層は、単層であっても多層であっても良く、有機物であっても無機物であっても構わないが、無機物であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム等の酸化物あるいはフッ化物が例示される。
【００９１】
（光学レンズ）
実施形態に係るポリカーボネート樹脂を用いて製造される光学レンズは、高屈折率であり、耐熱性に優れるため、望遠鏡、双眼鏡、テレビプロジェクター等、従来、高価な高屈折率ガラスレンズが用いられていた分野に用いることができ、極めて有用である。必要に応じて、非球面レンズの形で用いることが好ましい。非球面レンズは、１枚のレンズで球面収差を実質的にゼロとすることが可能であるため、複数の球面レンズの組み合わせによって球面収差を取り除く必要がなく、軽量化および生産コストの低減化が可能になる。従って、非球面レンズは、光学レンズの中でも特にカメラレンズとして有用である。
光学レンズは、例えば射出成形法、圧縮成形法、射出圧縮成形法など任意の方法により成形される。実施形態に係るポリカーボネート樹脂を使用することにより、ガラスレンズでは技術的に加工の困難な高屈折率低複屈折非球面レンズをより簡便に得ることができる。
【００９２】
光学レンズへの異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。
【００９３】
（光学フィルム）
実施形態に係るポリカーボネート樹脂を用いて製造される光学フィルムは、透明性および耐熱性に優れるため、液晶基板用フィルム、光メモリーカード等に好適に使用される。
【００９４】
光学フィルムへの異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。
【００９５】
（４）ポリカーボネート樹脂組成物
上記ポリカーボネート樹脂は、複数種の樹脂を含む樹脂組成物の形態であってもよい。すなわち、ポリカーボネート樹脂組成物は、一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位（Ａ）を有するポリカーボネート樹脂（Ｅ）、および一般式（２）で表される化合物（ただしジカルボン酸を除く）に由来する構成単位（Ｂ）を有するポリカーボネート樹脂（Ｆ）を含む。
【００９６】
上述した通り、ポリカーボネート樹脂組成物は、一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位（Ａ）を有するポリカーボネート樹脂（Ｅ）と、一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位（Ｂ）を有するポリカーボネート樹脂（Ｆ）とを少なくとも含有する。一般式（２）で表される化合物の中でも、一般式（２ａ）または一般式（２ｂ）で表される化合物に由来する構成単位を含むものが好ましく、一般式（２ａ）で表される化合物に由来する構成単位を含むものがさらに好ましい。
【００９７】
ポリカーボネート樹脂組成物は、ポリカーボネート樹脂（Ｅ）とポリカーボネート樹脂（Ｆ）に加えて、本発明の特性を損なわない範囲において他の樹脂を含んでも良い。
ポリカーボネート樹脂組成物に含まれても良い他の樹脂として、以下のものが例示される：
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、（メタ）クリル樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート（ただしポリカーボネート樹脂（Ｅ）及びポリカーボネート樹脂（Ｆ）でないもの）、ポリフェニレンエーテル、ポリエステル、ポリフェニレンサルファイド、ポリイミド、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、シクロオレフィンポリマー、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン。
【００９８】
ポリカーボネート樹脂組成物に含まれても良い他の樹脂の含量は、ポリカーボネート樹脂（Ｅ）とポリカーボネート樹脂（Ｆ）の合計質量に対して、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がさらに好ましい。
他の樹脂の含量が多すぎると、相溶性が悪くなり、樹脂組成物の透明性が低下する場合がある。
【００９９】
ただし、光学歪みを低く保つためには、ポリカーボネート樹脂（Ｅ）は構成単位（Ａ）から誘導されるカーボネート単位からなることが好ましく、ポリカーボネート樹脂（Ｆ）は構成単位（Ｂ）から誘導されるカーボネート単位からなることが好ましい。また、ポリカーボネート樹脂（Ｅ）とポリカーボネート樹脂（Ｆ）のみからなる樹脂組成物が特に好ましい。
【０１００】
ポリカーボネート樹脂組成物には、組成物を構成する各樹脂を製造する際に生成するフェノールや、反応せずに残存した炭酸ジエステルが不純物として存在する。ポリカーボネート樹脂組成物中のフェノール含量は、０．１〜３０００ｐｐｍであることが好ましく、０．１〜２０００ｐｐｍであることがより好ましく、１〜１０００ｐｐｍ、１〜８００ｐｐｍ、１〜５００ｐｐｍ、または１〜３００ｐｐｍであることが特に好ましい。また、ポリカーボネート樹脂組成物中の炭酸ジエステル含量は、０．１〜１０００ｐｐｍであることが好ましく、０．１〜５００ｐｐｍであることがより好ましく、１〜１００ｐｐｍであることが特に好ましい。ポリカーボネート樹脂組成物中に含まれるフェノールおよび炭酸ジエステルの量を調節することにより、目的に応じた物性を有する樹脂組成物を得ることができる。フェノールおよび炭酸ジエステルの含量の調節は、重縮合の条件や装置を変更することにより適宜行うことができる。また、重縮合後の押出工程の条件を変更することによっても調節可能である。
【０１０１】
フェノールまたは炭酸ジエステルの含量が上記範囲を上回ると、得られる樹脂成形体の強度が落ちたり、臭気が発生する等の問題が生じ得る。一方、フェノールまたは炭酸ジエステルの含量が上記範囲を下回ると、樹脂溶融時の可塑性が低下する虞がある。
【０１０２】
以下、ポリカーボネート樹脂組成物を構成する各樹脂について説明する。
＜ポリカーボネート樹脂（Ｅ）＞
ポリカーボネート樹脂（Ｅ）は一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位を含む。
ポリカーボネート樹脂（Ｅ）の繰り返し構成単位として、一般式（１）以外の化合物に由来する構成単位が含まれても良いが、その量は、構成単位（Ａ）１００モル％に対して２０モル％以下が望ましく、１０モル％以下がさらに望ましい。この範囲内であれば、高屈折率が保持される。
ポリカーボネート樹脂（Ｅ）のポリスチレン換算平均分子量Ｍｗは、２００００〜２０００００が好ましく、２５０００〜１２００００がさらに好ましく、２５０００〜５００００が特に好ましい。
Ｍｗが２００００より小さいと、樹脂が脆くなるため好ましくない。Ｍｗが２０００００より大きいと、溶融粘度が高くなるため、成形時に金型からの樹脂の抜き取りが困難になり、更には流動性が悪くなり溶融状態で扱い難くなるため好ましくない。
【０１０３】
＜ポリカーボネート樹脂（Ｅ）の製造方法＞
ポリカーボネート樹脂（Ｅ）の製造方法について記載する。
ポリカーボネート樹脂（Ｅ）の製造方法は特に限定されない。例えば、一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物を、炭酸ジエステル及び触媒の存在下、溶融重縮合法により製造することができる。触媒としては、塩基性化合物触媒、エステル交換触媒またはその双方からなる混合触媒を用いることができる。
【０１０４】
ポリカーボネート樹脂（Ｅ）は、一般式（１）のジヒドロキシ化合物以外のその他のジヒドロキシ化合物に由来する構成単位を含んでいてもよい。その他のジヒドロキシ化合物としては、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，２−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−ブタンジオール、１，５−ヘプタンジオール、１，６−ヘキサンジオールのなどの脂肪族ジヒドロキシ化合物；１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール、２，６−デカリンジメタノール、１，５−デカリンジメタノール、２，３−デカリンジメタノール、２，３−ノルボルナンジメタノール、２，５−ノルボルナンジメタノール、１，３−アダマンタンジメタノール等の脂環式ジヒドロキシ化合物；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［＝ビスフェノールＡ］、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジエチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−（３，５−ジフェニル）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，４’−ジヒドロキシ−ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジクロロジフェニルエーテル、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）フルオレン 
等の芳香族ビスフェノール類が挙げられる。
【０１０５】
ここで、その他のジヒドロキシ化合物は、一般式（１）のジヒドロキシ化合物に由来する構成単位１００モル％に対して２０モル％以下の量で添加されることが望ましく、１０モル％以下がさらに望ましい。この範囲内であれば、高屈折率が保持される。
【０１０６】
具体的な製造方法、使用する化合物等は、一般式（２ａ）で表される化合物を使用しないことを除き、上記「（２）一般式（２ａ）で表される化合物に由来する構成単位を含むポリカーボネート樹脂の製造方法」において記載したのと同様である。
【０１０７】
＜ポリカーボネート樹脂（Ｆ）の製造方法＞
ポリカーボネート樹脂（Ｆ）の製造方法は、一般式（１）で表される化合物を一般式（２）で表される化合物に変更することを除き、上記ポリカーボネート樹脂（Ｅ）の製造方法と同様である。
【０１０８】
（５）ポリカーボネート樹脂組成物の製造方法
ポリカーボネート樹脂組成物の製造方法は、特に制限はなく、例えば、
〔１〕ポリカーボネート樹脂（Ｅ）とポリカーボネート樹脂（Ｆ）のそれぞれの固体を混合し、混練機により混練する方法、
〔２〕溶融状態のポリカーボネート樹脂（Ｅ）に、固体のポリカーボネート樹脂（Ｆ）を添加して混練する方法、
〔３〕溶融状態のポリカーボネート樹脂（Ｆ）に、固体のポリカーボネート樹脂（Ｅ）を添加して混練する方法、
〔４〕溶融状態のポリカーボネート樹脂（Ｅ）とポリカーボネート樹脂（Ｆ）の樹脂を混合して混練する方法、
のいずれの方法によっても製造することができる。混練は、連続式、バッチ式のどちらでもよい。混練機は、連続式ならば押出し機が好適であり、バッチ式ならばラボプラストミル、ニーダーが好適に使用される。
【０１０９】
ポリカーボネート樹脂（Ｅ）とポリカーボネート樹脂（Ｆ）は、（１００×（Ｅ））／（（Ｅ）＋（Ｆ））＝１〜９９％の重量比率でブレンドするのが好ましく、より好ましくは１０〜９０％、更に好ましくは２５〜６０％であり、特に好ましくは４０〜７０％である。
なお、ポリカーボネート樹脂組成物は、ポリカーボネート樹脂（Ｅ）及びポリカーボネート樹脂（Ｆ）をそれぞれ２種類以上含有していてもよい。その場合は、式（１００×（Ｅ））／（（Ｅ）＋（Ｆ））中の（Ｅ）及び（Ｆ）はそれぞれ、２種類以上のポリカーボネート樹脂（Ｅ）及び（Ｆ）のそれぞれの合計の重量を意味する。
【０１１０】
ポリカーボネート樹脂（Ｅ）とポリカーボネート樹脂（Ｆ）とのポリスチレン換算重量平均分子量差（ΔＭｗ）は、０〜１２０，０００であることが好ましく、より好ましくは０〜８０，０００であり、特に好ましくは０〜２０，０００である。この範囲であればポリカーボネート樹脂（Ｅ）とポリカーボネート樹脂（Ｆ）の粘度差が大きすぎることなく相溶性が良く、ブレンド樹脂組成物の透明性が高くなるため好ましい。
【０１１１】
さらに、ポリカーボネート樹脂組成物には、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、流動性改質剤、強化剤、結晶核剤、染料、帯電防止剤あるいは抗菌剤等を必要に応じて添加してもよい。これらの添加剤は、混練を行う前にポリカーボネート樹脂（Ｅ）及びポリカーボネート樹脂（Ｆ）の各々、もしくはどちらか一方に事前に添加しておいてもよいし、混練時に同時に添加して練りこんでも、混合後に練りこんでもよい。
また、ポリカーボネート樹脂組成物は、ポリカーボネート樹脂（Ｅ）及びポリカーボネート樹脂（Ｆ）以外のポリカーボネート樹脂を含有してもよいが、実質的に含有しないのがさらに好ましい。
【０１１２】
樹脂組成物に含まれる酸化防止剤、加工安定剤、離型剤、および紫外線吸収剤としては、上記「（５）ポリカーボネート樹脂を使用した光学成形体」に記載したものと同様のものを使用することができ、添加量についても同様である。
【０１１３】
（６）ポリカーボネート樹脂組成物を使用した光学成形体
上記ポリカーボネート樹脂組成物を使用して、上記「（５）ポリカーボネート樹脂を使用した光学成形体」に記載したのと同様の方法により、光学レンズや光学フィルム等の光学成形体を製造することができる。実施形態に係るポリカーボネート樹脂組成物は、成形性および耐熱性に優れているので、射出成形が必要となる光学レンズにおいて特に有利に使用することができる。
【０１１４】
ポリカーボネート樹脂組成物および成形体の好ましい物性は、以下の通りである：
実施形態に係るポリカーボネート樹脂組成物（混合後）の分子量（ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ））は、２００００〜２０００００が好ましく、２５０００〜１２００００がさらに好ましく、２５０００〜５００００が特に好ましい。
実施形態に係るポリカーボネート樹脂組成物のガラス転移温度は、９５℃〜１８０℃が好ましく、１１５℃〜１６０℃がさらに好ましい。
実施形態に係るポリカーボネート樹脂組成物から作製された成形体の屈折率（２３℃、波長５８９ｎｍ）は、１．６４０〜１．６８０が好ましく、１．６５０〜１．６７０がさらに好ましい。
実施形態に係るポリカーボネート樹脂組成物から作製された成形体のアッベ数は、２４以下が好ましく、２３以下がさらに好ましい。
実施形態に係るポリカーボネート樹脂組成物の光学歪みについては、ポリカーボネート樹脂組成物の成形片を二枚の偏光板の間に挟み、直交ニコル法で後ろからの光漏れを目視したときに、光漏れが顕著であることはなく、僅かであることが好ましい。
【０１１５】
実施形態に係るポリカーボネート樹脂組成物から作製された成形体は、低複屈折性であるので、レンズ、光学フィルム、および光学シート等の光学部品の構造材料として適する。特にレンズ等の光学部品には、低複屈折性であることともに、高い透明性を有するために好適である。
【０１１６】
光学成形体の表面には、必要に応じ、反射防止層あるいはハードコート層といったコート層が設けられていても良い。反射防止層は、単層であっても多層であっても良く、有機物であっても無機物であっても構わないが、無機物であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム等の酸化物あるいはフッ化物が例示される。
【０１１７】
２．ポリエステル樹脂
実施形態に係るポリエステル樹脂は、一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構成単位（以下、構成単位（Ｇ）と記載することがある）と、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構成単位（以下、構成単位（Ｈ）と記載することがある）を有する。ポリエステル樹脂において、各構成単位は、エステル結合を介して結合される。このエステル結合は、「ジカルボン酸またはその誘導体に由来する構成単位」または「ジカルボン酸構成単位」とも称する。
【化４０】
2020045492.tif 000042
［式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である］
【化４１】
2020045492.tif 000043
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
【０１１８】
一般式（２）で表される化合物（ただしカルボン酸を除く）として、一般式（２ａ）で表される化合物や一般式（２ｂ）で表される化合物が好適に使用できる。
【化４２】
2020045492.tif 000044
（式（２ａ）中、Ｒ１およびＲ２は、上記式（２）において定義した通りである）。
【化４３】
2020045492.tif 000045
（式（２ｂ）中、Ｒ１およびＲ２は、上記式（２）において定義した通りである）。
なお、一般式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物の詳細は、上述した通りである。
【０１１９】
以下、一般式（２ａ）で表される化合物に由来する構成単位を「構成単位（Ｉ）」と記載することがある。
【０１２０】
ポリエステル樹脂の全構成単位中のジヒドロキシ構成単位とジカルボン酸構成単位との合計割合は、好ましくは８０モル％以上であり、より好ましくは９０モル％以上、特に好ましくは１００モル％である。
【０１２１】
実施形態に係るポリエステル樹脂には、構成単位（Ｇ）〜（Ｉ）以外にもジヒドロキシ化合物に由来する構成単位が含まれて良く、ジヒドロキシ化合物（ただしジカルボン酸およびその誘導体を除く）として、アルキレングリコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，３−ブタンジオール、テトラメチレングリコール（１，４−ブタンジオール） 、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、オクタンジオール、デカンジオールなどの直鎖状又は分岐鎖状のＣ２−１２のアルキレングリコール、（ポリ）オキシアルキレングリコール（例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール）が例示される。
これらのジヒドロキシ化合物に由来する構成単位は、１種が単独で又は２種以上が組み合わされて含まれてもよい。
【０１２２】
さらに、諸物性の観点から、全ジヒドロキシ構成単位（ただしジカルボン酸に由来する構成単位を除く）中のエチレングリコールに由来する構成単位の割合は、好ましくは５〜７０モル％、より好ましくは５〜４０モル％である。
【０１２３】
全ジヒドロキシ構成単位（ただしジカルボン酸に由来する構成単位を除く）中の構成単位（Ｇ）の割合は５〜９５モル％が好ましく、６０〜９５％がより好ましい。
【０１２４】
構成単位（Ｈ）の含有量は、全ジヒドロキシ構成単位（ただしジカルボン酸に由来する構成単位を除く）に対して、９５〜５モル％が好ましく、４０〜５モル％がさらに好ましい。構成単位（Ｈ）が、構成単位（Ｉ）である場合も同様である。
【０１２５】
構成単位（Ｇ）と構成単位（Ｈ）のモル比（Ｇ／Ｈ）は、４０／６０〜９９／１が好ましく、６０／４０〜９５／５がより好ましく、７０／３０〜９０／１０が特に好ましい。構成単位（Ｈ）が、構成単位（Ｉ）である場合も同様である。
【０１２６】
実施形態に係るポリエステル樹脂に含まれるジカルボン酸構成単位は、特に限定されないが、ナフタレンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２−メチルテレフタル酸、ビフェニルジカルボン酸、テトラリンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸、ノルボルナンジカルボン酸、トリシクロデカンジカルボン酸、ペンタシクロドデカンジカルボン酸、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−カルボキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、５−カルボキシ−５−エチル−２−（１，１−ジメチル−２−カルボキシエチル）−１，３−ジオキサン、ダイマー酸等の脂肪族ジカルボン酸およびそれらの誘導体に由来する構成単位が好ましい。これらジカルボン酸の誘導体としては、エステル、酸無水物、酸ハロゲン化物が例示される。また、一般式（３）で示されるジカルボン酸およびその誘導体に由来する構成単位も好ましい。
【化４４】
2020045492.tif 000046
（式中、Ｙはそれぞれ独立に、単結合、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基を示す。）
【０１２７】
実施形態に係るポリエステル樹脂を構成するジカルボン酸構成単位は、例示した構成単位の１種類から構成されても、２種類以上から構成されても良い。
【０１２８】
このポリエステル樹脂は、ランダム、ブロックおよび交互共重合体のいずれの構造であってもよい。
【０１２９】
＜ポリエステル樹脂の製造方法＞
上記ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸構成単位を生成する化合物（ジカルボン酸の他、そのエステル、酸無水物および酸ハロゲン化物が例示される）と、ジヒドロキシ構成単位を生成する化合物（ただしジカルボン酸に由来する構成単位を除き、ジヒドロキシ化合物が例示される）とを反応させて製造することができる。具体的には、一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物（好ましくは、一般式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物）、およびジカルボン酸またはその誘導体を反応させる。反応方法としては、エステル交換法、直接重合法などの溶融重合法、溶液重合法、界面重合法等の種々の方法が挙げられるが、中でも、反応溶媒を用いない溶融重合法が好ましい。
【０１３０】
ジカルボン酸またはその誘導体は、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して０．９０〜１．０１モルの比率で用いられることが好ましい。
【０１３１】
溶融重合法の一つであるエステル交換法は、触媒存在下、ジカルボン酸エステルとジヒドロキシ化合物（ただしジカルボン酸を除く）とを反応させ、生成するアルコールを留去しながらエステル交換を行うことによりポリエステルを得る方法であり、一般にポリエステル樹脂の合成に用いられている。
【０１３２】
また、直接重合法は、ジカルボン酸とジヒドロキシ化合物（ただしジカルボン酸を除く）との脱水反応を行い、エステル化合物を形成したのち、減圧下にて過剰のジヒドロキシ化合物を留去しながらエステル交換反応を行うことによりポリエステル樹脂を得る方法である。直接重合法は、エステル交換法のようにアルコールの留出がなく、原料に安価なジカルボン酸を用いることができることが利点である。これら溶融重合法を実施する際の重合触媒種、触媒量、温度等の重合条件、及び熱安定剤、エーテル化防止剤、触媒失活剤等の添加剤については、公知の方法を参照することができる。
【０１３３】
反応は、触媒の存在下で行ってもよい。触媒としては、ポリエステル樹脂の製造に利用される種々の触媒、例えば、金属触媒などが使用できる。金属触媒としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、周期表第１３族金属、周期表第１４族金属、周期表第１５族金属などを含む金属化合物が用いられる。金属化合物としては、アルコキシド、有機酸塩（酢酸塩、プロピオン酸塩など）、無機酸塩（ホウ酸塩、炭酸塩など）、金属酸化物などが例示できる。これらの触媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。触媒の使用量は、例えば、ジカルボン酸１モルに対して０．０１×１０−４〜１００×１０−４モル、好ましくは０．１×１０−４〜４０×１０−４モル程度であってもよい。
【０１３４】
アルカリ金属化合物としては、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二リチウム、フェニルリン酸二ナトリウム、ビスフェノールＡの二ナトリウム塩、二カリウム塩、二セシウム塩、二リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が用いられる。
【０１３５】
アルカリ土類金属化合物としては、具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。
【０１３６】
エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛の塩が好ましく用いられ、これらは単独もしくは組み合わせて用いることができる。
【０１３７】
これらの触媒は、ジヒドロキシ化合物（ただしジカルボン酸を除く）の合計１モルに対して、一般的には、１×１０−９〜１×１０−３モル程度の比率で用いられる、好ましくは１×１０−７〜１×１０−４モル程度の比率で用いられる。
【０１３８】
ポリエステル樹脂には、その他の樹脂、酸化防止剤、離型剤、光安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、増量剤、艶消し剤、乾燥調節剤、帯電防止剤、沈降防止剤、界面活性剤、流動性改質剤、乾燥油、ワックス類、フィラー、着色剤、補強剤、表面平滑剤、レベリング剤、硬化反応促進剤、増粘剤などの各種添加剤、成形助剤を添加する事もできる。これら添加剤の具体例、添加量等は、上記「１．ポリカーボネート樹脂」に記載した通りである。流動性改質剤または離型剤として、多官能アルコールと脂肪酸のエステル、特にはグリセリンのステアリン酸エステルを、ポリエステル樹脂１００重量部に対して０．００５〜２．０重量部、好ましくは０．０１〜０．６重量部、より好ましくは０．０２〜０．５重量部の範囲で添加する事により、離型不良によるトラブルを低減する事ができ好ましい。
【０１３９】
また、重合反応終了後、得られたポリエステル樹脂の熱安定性及び加水分解安定性を損なわないために、触媒を除去又は失活させるのが好ましい。一般的には、公知の酸性物質の添加によって、触媒を失活させることができる。触媒の失活に用いる酸性物質としては、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類；ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類；ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類；ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ｐ−トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物；ジメチル硫酸等のアルキル硫酸；塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物等が好適に用いられる。
【０１４０】
実施形態に係るポリエステル樹脂は、異物含有量が極力少ないことが望まれ、溶融原料の濾過、触媒液の濾過、溶融オリゴマーのろ過を行う事が好ましい。フィルターのメッシュは７μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５μｍ以下である。さらに、生成する樹脂のポリマーフィルターによる濾過を行う事も好ましい。ポリマーフィルターのメッシュは１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ以下である。また、樹脂ペレットを採取する工程は当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。
【０１４１】
＜ポリエステル樹脂の物性＞
屈折率およびアッベ数は、以下の方法により測定できる。
ポリエステル樹脂を塩化メチレンに溶解してキャストフィルムを作成し、屈折率計により屈折率を測定する。屈折率は、２５℃、５８９ｎｍ（ｄ線）で測定した値であり、アッベ数は、６５６ｎｍ（Ｃ線）、４８６ｎｍ（Ｆ線）、及びｄ線で測定した屈折率から算出した値である。
実施形態に係るポリエステル樹脂においては、このように測定した屈折率が１．６０以上であることが好ましく、１．６４５〜１．７０であることがより好ましい。また、アッベ数は、２１以下であることが好ましく、２０以下であることがより好ましく、例えば１７〜２１である。
【０１４２】
ガラス転移温度は、示差走査熱量計で測定され、特に限定されるものではないが、通常１１０℃以上、好ましくは１１５℃以上、更に好ましくは１２０℃以上である。ポリエステル樹脂のガラス転移温度が上記範囲にある場合、その樹脂を用いて製造された光学レンズは、ハードコートなどの表面加工に十分耐えることができる。なお、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂のガラス転移温度は、環状アセタール骨格あるいは芳香族炭化水素基を有するジオール、ナフタレン骨格を有するジカルボン酸など従来公知のジオール、ジカルボン酸を適宜選択する事で容易に１１０℃以上とする事ができる。一方、ガラス転移温度が高すぎると、樹脂を成形する際の温度を高温にする必要があり、樹脂自体が予期せず熱分解を起こす場合がある。よって、ガラス転移温度は、１５０℃未満であることが好ましい。
【０１４３】
＜ポリエステル樹脂の成形体＞
上記ポリエステル樹脂は、種々の用途に用いることができる。例えば、射出成形体、シート、フィルム、パイプ等の押し出し成形体、ボトル、発泡体、粘着材、接着剤、塗料等に用いることができる。更に詳しく述べるとすれば、シートは単層でも多層でもよく、フィルムも単層でも多層でもよく、また未延伸のものでも、一方向、又は二方向に延伸されたものでもよく、鋼板などに積層してもよい。ボトルは、ダイレクトブローボトルでもインジェクションブローボトルでもよく、射出成形されたものでもよい。発泡体は、ビーズ発泡体でも押し出し発泡体でもよい。特に自動車内で使用する製品、輸出入用の包装材、太陽電池のバックシートなどの電子材料、レトルト処理や電子レンジ加熱を行う食品包装材等、高い耐熱性や水蒸気バリヤ性が要求される用途に好適に用いることができる。
【０１４４】
実施形態に係るポリエステル樹脂を、特に、射出成形機あるいは射出圧縮成形機によってレンズ形状に射出成形することによって、優れた光学レンズが得られる。光学レンズを得る際には、異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。
【０１４５】
ポリエステル樹脂を成形することによって得られる光学レンズは、必要に応じて非球面レンズの形で用いることが好ましい。非球面レンズは、１枚のレンズで球面収差を実質的にゼロとすることが可能であるため、複数の球面レンズの組み合わせによって球面収差を取り除く必要がなく、軽量化および生産コストの低減化が可能になる。従って、非球面レンズは、光学レンズの中でも特にカメラレンズとして有用である。非球面レンズの非点収差は０〜１５ｍλであることが好ましく、より好ましくは０〜１０ｍλである。
【０１４６】
ポリエステル樹脂を成形することによって得られる光学レンズの表面には、必要に応じ、反射防止層あるいはハードコート層といったコート層が設けられていても良い。反射防止層は、単層であっても多層であっても良く、有機物であっても無機物であっても構わないが、無機物であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム等の酸化物あるいはフッ化物が例示される。
【０１４７】
ポリエステル樹脂を成形することによって得られる光学レンズは、ピックアップレンズ、ｆ−θレンズ、メガネレンズ等の各種レンズに使用する事が出来るが、高屈折率、低アッベ数である事から、色収差補正用レンズとして特に好適に使用できる。具体的には、一眼レフカメラ、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ、カメラ付携帯電話、レンズ付フィルム、望遠鏡、双眼鏡、顕微鏡、プロジェクター等のレンズとして好適に使用される。実施形態に係るポリエステル樹脂を使用した光学レンズが凹レンズである場合には、他の高アッベ数の凸レンズと組み合わせて色収差の少ない光学レンズ系として使用できる。組み合わせる凸レンズのアッベ数は、４０〜６０が好ましく、５０〜６０であることがより好ましい。
【０１４８】
３．ポリエステルカーボネート樹脂
実施形態に係るポリエステルカーボネート樹脂は、一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構成単位（Ｌ）と、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構成単位（Ｍ）とを有する。ポリエステルカーボネート樹脂において、各構成単位は、カーボネート結合およびエステル結合を介して結合される。このカーボネート結合は、「炭酸ジエステルに由来する構成単位」とも称し、エステル結合は、「ジカルボン酸またはその誘導体に由来する構成単位」または「ジカルボン酸構成単位」とも称する。
【化４５】
2020045492.tif 000047
［式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である］
【化４６】
2020045492.tif 000048
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
【０１４９】
一般式（２）で表される化合物（ただしカルボン酸を除く）として、一般式（２ａ）で表される化合物や一般式（２ｂ）で表される化合物が好適に使用できる。
【化４７】
2020045492.tif 000049
（式（２ａ）中、Ｒ１およびＲ２は、上記式（２）において定義した通りである）。
【化４８】
2020045492.tif 000050
（式（２ｂ）中、Ｒ１およびＲ２は、上記式（２）において定義した通りである）。
なお、一般式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物の詳細は、上述した通りである。
【０１５０】
以下、一般式（２ａ）で表される化合物に由来する構成単位を構成単位（Ｎ）と記載することがある。
【０１５１】
ポリエステルカーボネート樹脂の全構成単位中のジヒドロキシ構成単位（ただしジカルボン酸に由来する構成単位を除く）、炭酸ジエステル構成単位およびジカルボン酸構成単位の合計割合は、好ましくは８０モル％以上であり、より好ましくは９０モル％以上、特に好ましくは１００モル％である。
【０１５２】
全ジヒドロキシ構成単位（ただしジカルボン酸構成単位を除く）中の構成単位（Ｌ）の割合は５〜９５モル％が好ましい。
【０１５３】
構成単位（Ｍ）の含有量は、全ジヒドロキシ構成単位（ただしジカルボン酸構成単位を含む）に対して、２．５〜４７．５モル％が好ましく、５〜４５モル％がさらに好ましい。構成単位（Ｍ）が、構成単位（Ｎ）である場合も同様である。
【０１５４】
構成単位（Ｌ）と構成単位（Ｍ）のモル比（Ｌ／Ｍ）は、１／９９〜９９／１が好ましく、２０／８０〜９５／５がより好ましく、４０／６０〜９０／１０が特に好ましい。構成単位（Ｍ）が、構成単位（Ｎ）である場合も同様である。
【０１５５】
このポリエステルカーボネート樹脂は、ランダム、ブロックおよび交互共重合体のいずれの構造であってもよい。
【０１５６】
＜ジヒドロキシ化合物に由来する構成単位＞
実施形態に係るポリエステルカーボネート樹脂には、構成単位（Ｌ）〜（Ｎ）以外にもその他のジヒドロキシ化合物に由来する構成単位が含まれて良く、ジヒドロキシ化合物（ジカルボン酸およびその誘導体以外のもの）として、アルキレングリコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，３−ブタンジオール、テトラメチレングリコール（１，４−ブタンジオール） 、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、オクタンジオール、デカンジオールなどの直鎖状又は分岐鎖状のＣ２−１２のアルキレングリコール、（ポリ）オキシアルキレングリコール（例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール）が例示される。
これらのジヒドロキシ化合物に由来する構成単位は、１種が単独で又は２種以上が組み合わされて含まれても良い。
【０１５７】
＜炭酸ジエステルに由来する構成単位＞
カーボネート結合の前駆体である炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等が挙げられる。これらの中でも特に、ジフェニルカーボネートが好ましい。ジフェニルカーボネートは、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して０．９７〜１．１０モルの比率で用いられることが好ましく、更に好ましくは０．９８〜１．０５モルの比率である。
【０１５８】
＜ジカルボン酸に由来する構成単位＞
実施形態に係るポリエステルカーボネート樹脂に含まれるジカルボン酸に由来する構成単位は、特に限定されないが、ナフタレンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２−メチルテレフタル酸、ビフェニルジカルボン酸、テトラリンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸、ノルボルナンジカルボン酸、トリシクロデカンジカルボン酸、ペンタシクロドデカンジカルボン酸、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−カルボキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、５−カルボキシ−５−エチル−２−（１，１−ジメチル−２−カルボキシエチル）−１，３−ジオキサン、ダイマー酸等の脂肪族ジカルボン酸およびそれらの誘導体に由来する構成単位が好ましい。ジカルボン酸の誘導体としては、エステル、酸無水物、酸ハロゲン化物が例示される。また、一般式（３）で表されるジカルボン酸およびその誘導体に由来する構成単位も好ましい。
【化４９】
2020045492.tif 000051
（式中、Ｙはそれぞれ独立に、単結合、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基を示す。）
ジカルボン酸構成単位は、例示した構成単位の１種類から構成されても、２種類以上から構成されてもよい。
【０１５９】
＜ポリエステルカーボネート樹脂の製造方法＞
上記ポリエステルカーボネート樹脂は、炭酸ジエステル構成単位を生成する化合物と、ジカルボン酸構成単位を生成する化合物と、ジヒドロキシ構成単位を生成する化合物とを、触媒の存在下、溶融状態でエステル交換反応させることによって製造される。具体的には、一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物（好ましくは、一般式（２ａ）または（２ｂ）で表される化合物）、ジカルボン酸またはその誘導体、および炭酸ジエステルを反応させる。反応方法としては、エステル交換法、直接重合法などの溶融重合法、溶液重合法、界面重合法等の種々の方法が挙げられるが、中でも、反応溶媒を用いない溶融重合法が好ましい。
【０１６０】
炭酸ジエステルは、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して０．９７〜１．１０モルの比率で用いられることが好ましく、更に好ましくは０．９８〜１．０５モルの比率である。また、ジカルボン酸またはその誘導体は、ジヒドロキシ化合物（ただしジカルボン酸は除く）の合計１モルに対して０．０１〜０．２０モルの比率で用いられることが好ましく、更に好ましくは０．０５〜０．１５モルの比率である。
【０１６１】
溶融重合法の一つであるエステル交換法は、触媒存在下、ジカルボン酸エステルとジヒドロキシ化合物（ただしジカルボン酸を除く）とを反応させ、生成するアルコールを留去しながらエステル交換を行うことによりポリエステルを得る方法であり、一般にポリエステル樹脂の合成に用いられている。
【０１６２】
また、直接重合法は、ジカルボン酸とジヒドロキシ化合物（ただしジカルボン酸を除く）との脱水反応を行い、エステル化合物を形成したのち、減圧下にて過剰のジヒドロキシ化合物を留去しながらエステル交換反応を行うことによりポリエステル樹脂を得る方法である。直接重合法はエステル交換法のようにアルコールの留出がなく、原料に安価なジカルボン酸を用いることができることが利点である。これら溶融重合法を実施する際の重合触媒種、触媒量、温度等の重合条件、及び熱安定剤、エーテル化防止剤、触媒失活剤等の添加剤については、公知の方法を参照することができる。
【０１６３】
反応は、触媒の存在下で行ってもよい。触媒としては、ポリエステルカーボネート樹脂の製造に利用される種々の触媒、例えば、金属触媒などが使用できる。金属触媒としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、周期表第１３族金属、周期表第１４族金属、周期表第１５族金属などを含む金属化合物が用いられる。金属化合物としては、アルコキシド、有機酸塩（酢酸塩、プロピオン酸塩など）、無機酸塩（ホウ酸塩、炭酸塩など）、金属酸化物などが例示できる。これらの触媒は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。触媒の使用量は、例えば、ジカルボン酸成分１モルに対して０．０１×１０−４〜１００×１０−４モル、好ましくは０．１×１０−４〜４０×１０−４モル程度であってもよい。
【０１６４】
アルカリ金属化合物としては、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二リチウム、フェニルリン酸二ナトリウム、ビスフェノールＡの二ナトリウム塩、二カリウム塩、二セシウム塩、二リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が用いられる。
アルカリ土類金属化合物としては、具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。
【０１６５】
エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛の塩が好ましく用いられ、これらは単独もしくは組み合わせて用いることができる。
【０１６６】
これらの触媒は、ジヒドロキシ化合物（ただしジカルボン酸を除く）の合計１モルに対して、一般的には、１×１０−９〜１×１０−３モルの比率で用いられる、好ましくは１０−７〜１０−４モルの比率で用いられる。
【０１６７】
ポリエステルカーボネート樹脂には、その他の樹脂、酸化防止剤、離型剤、光安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、増量剤、艶消し剤、乾燥調節剤、帯電防止剤、沈降防止剤、界面活性剤、流動性改質剤、乾燥油、ワックス類、フィラー、着色剤、補強剤、表面平滑剤、レベリング剤、硬化反応促進剤、増粘剤などの各種添加剤、成形助剤を添加する事もできる。これら添加剤の具体例、添加量等は、上記「１．ポリカーボネート樹脂」におけるものと同様である。流動性改質剤または離型剤として多官能アルコールと脂肪酸のエステル、特にはグリセリンのステアリン酸エステルを、ポリエステルカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００５〜２．０重量部、好ましくは０．０１〜０．６重量部、より好ましくは０．０２〜０．５重量部の範囲で添加する事により、離型不良によるトラブルを低減する事ができ好ましい。
【０１６８】
また、重合反応終了後、得られたポリエステルカーボネート樹脂の熱安定性及び加水分解安定性を損なわないために、触媒を除去又は失活させるのが好ましい。一般的には、公知の酸性物質の添加によって、触媒を失活させることができる。触媒の失活に用いる酸性物質としては、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類；ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類；ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類；ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ｐ−トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物；ジメチル硫酸等のアルキル硫酸；塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物等が好適に用いられる。
【０１６９】
実施形態に係るポリエステルカーボネート樹脂は、異物含有量が極力少ないことが望まれ、溶融原料の濾過、触媒液の濾過、溶融オリゴマーのろ過を行う事が好ましい。フィルターのメッシュは７μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５μｍ以下である。さらに、生成する樹脂のポリマーフィルターによる濾過を行う事も好ましい。ポリマーフィルターのメッシュは１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ以下である。また、樹脂ペレットを採取する工程は当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。
【０１７０】
＜ポリエステルカーボネート樹脂の物性＞
屈折率およびアッベ数は、以下の測定方法により測定できる。
ポリエステルカーボネート樹脂を塩化メチレンに溶解して、キャストフィルムを作成し、屈折率計により屈折率を測定する。屈折率は、２５℃、５８９ｎｍ（ｄ線）で測定した値であり、アッベ数は６５６ｎｍ（Ｃ線）、４８６ｎｍ（Ｆ線）、及びｄ線で測定した屈折率から算出した値である。
実施形態に係るポリエステルカーボネート樹脂においては、このように測定した屈折率が１．６０以上であることが好ましく、１．６４５〜１．６６５であることがより好ましい。また、アッベ数は、２４以下であることが好ましく、２１以下であることがより好ましく、例えば１８〜２４である。
【０１７１】
ガラス転移温度は、示差走査熱量計で測定され、特に限定されるものではないが、通常１１０℃以上、好ましくは１１５℃以上、更に好ましくは１２０℃以上である。ポリエステルカーボネート樹脂のガラス転移温度が上記範囲にある場合、その樹脂を用いて製造された光学レンズは、ハードコートなどの表面加工に十分耐えることができる。なお、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂のガラス転移温度は環状アセタール骨格あるいは芳香族炭化水素基を有するジオール、ナフタレン骨格を有するジカルボン酸など従来公知のジオール、ジカルボン酸を適宜選択する事で容易に１１０℃以上とする事ができる。一方、ガラス転移温度が高すぎると、樹脂を成形する際の温度を高温にする必要があり、樹脂自体が予期せず熱分解を起こす場合がある。よって、ガラス転移温度は、１５０℃未満であることが好ましい。
【０１７２】
ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００〜１０００００であることが好ましく、２００００〜５００００であることがより好ましい。
Ｍｗが１００００より小さいと、得られる樹脂成形体が脆くなる傾向があるため好ましくない。Ｍｗが１０００００より大きいと、溶融粘度が高くなるため成形時に金型からの樹脂の取り出しが困難になり、更には流動性が悪くなり溶融状態で射出成形しにくくなるため好ましくない。
【０１７３】
溶液色相（明度；Ｌ値）は、実施例に示す方法で測定されるが、８８以上であることが好ましく、９５〜９９であることがより好ましい。Ｌ値が８８未満であると、樹脂の着色が強くなり、光学材料として使用しづらくなるため好ましくない。
【０１７４】
実施形態に係るポリエステルカーボネート樹脂の極限粘度および半結晶時間については、上記「２．ポリエステル樹脂」において述べたのと同様である。
【０１７５】
また、実施形態に係る樹脂は、以下の（１）及び（２）の物性を同時に満たすと好ましい。
（１）ＪＩＳ規格Ｋ７１２１にあるプラスチックの転移温度測定方法において、中間点ガラス転移温度の測定値が１２０℃以上を示す。
（２）フェノールと１，１，２，２−テトラクロロエタンとの質量比６：４の混合溶媒を用いた２５℃での極限粘度の測定値が、０．２〜１．０ｄｌ／ｇを示す。
【０１７６】
＜ポリエステルカーボネート樹脂の成形体＞
上記ポリエステルカーボネート樹脂は、種々の用途に用いることができる。例えば、射出成形体、シート、フィルム、パイプ等の押し出し成形体、ボトル、発泡体、粘着材、接着剤、塗料等に用いることができる。更に詳しく述べるとすれば、シートは単層でも多層でもよく、フィルムも単層でも多層でもよく、また未延伸のものでも、一方向、又は二方向に延伸されたものでもよく、鋼板などに積層してもよい。ボトルは、ダイレクトブローボトルでもインジェクションブローボトルでもよく、射出成形されたものでもよい。発泡体は、ビーズ発泡体でも押し出し発泡体でもよい。特に自動車内で使用する製品、輸出入用の包装材、太陽電池のバックシートなどの電子材料、レトルト処理や電子レンジ加熱を行う食品包装材等、高い耐熱性や水蒸気バリヤ性が要求される用途に好適に用いることができる。
【０１７７】
実施形態に係るポリエステルカーボネート樹脂を、特に、射出成形機あるいは射出圧縮成形機によってレンズ形状に射出成形することによって、優れた光学レンズが得られる。光学レンズを得る際には、異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。
【０１７８】
ポリエステルカーボネート樹脂を成形することによって得られる光学レンズは、必要に応じて非球面レンズの形で用いることが好ましい。非球面レンズは、１枚のレンズで球面収差を実質的にゼロとすることが可能であるため、複数の球面レンズの組み合わせによって球面収差を取り除く必要がなく、軽量化および生産コストの低減化が可能になる。従って、非球面レンズは、光学レンズの中でも特にカメラレンズとして有用である。非球面レンズの非点収差は０〜１５ｍλであることが好ましく、より好ましくは０〜１０ｍλである。
【０１７９】
ポリエステルカーボネート樹脂を成形することによって得られる光学レンズの表面には、必要に応じ、反射防止層あるいはハードコート層といったコート層が設けられていても良い。反射防止層は、単層であっても多層であっても良く、有機物であっても無機物であっても構わないが、無機物であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム等の酸化物あるいはフッ化物が例示される。
【０１８０】
ポリエステルカーボネート樹脂を成形することによって得られる光学レンズはピックアップレンズ、ｆ−θレンズ、メガネレンズ等の各種レンズに使用する事が出来るが、高屈折率、低アッベ数である事から、色収差補正用レンズとして特に好適に使用できる。具体的には、一眼レフカメラ、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ、カメラ付携帯電話、レンズ付フィルム、望遠鏡、双眼鏡、顕微鏡、プロジェクター等のレンズとして好適に使用される。実施形態に係るポリエステルカーボネート樹脂を使用した光学レンズが凹レンズである場合には、他の高アッベ数の凸レンズと組み合わせて色収差の少ない光学レンズ系として使用できる。組み合わせる凸レンズのアッベ数は、４０〜６０が好ましく、５０〜６０であることがより好ましい。
【実施例】
【０１８１】
以下に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何らの制限を受けるものではない。
【０１８２】
１．ポリカーボネート樹脂
（Ａ）ポリカーボネート樹脂の実施例
ポリカーボネート樹脂の実施例中の測定値は、以下の方法あるいは装置を用いて測定した。
１）ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）：ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）を用い、テトラヒドロフランを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。この検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムからＭｗを算出した。
［測定条件］
装置；東ソー株式会社製、ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ
カラム；ガードカラム：TSKguardcolumn SuperMPHZ-M×１本
分析カラム：TSKgel SuperMultiporeHZ-M×３本
溶媒；テトラヒドロフラン
注入量；１０μＬ
試料濃度；０．２ｗ／ｖ％  テトラヒドロフラン溶液
溶媒流速；０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
測定温度；４０℃
検出器；ＲＩ
【０１８３】
２）屈折率（ｎＤ）：実施例で製造したポリカーボネート樹脂からなる厚さ０．１ｍｍフィルムについて、アッベ屈折計を用い、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２の方法で測定した（２３℃、波長５８９ｎｍ）。
３）アッベ数（ν）：実施例で製造したポリカーボネート樹脂からなる厚さ０．１ｍｍフィルムについて、アッベ屈折計を用い、２３℃下での波長４８６ｎｍ、５８９ｎｍおよび６５６ｎｍの屈折率を測定し、さらに下記式を用いてアッベ数を算出した。
ν＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
ｎＤ：波長５８９ｎｍでの屈折率
ｎＣ：波長６５６ｎｍでの屈折率  
ｎＦ：波長４８６ｎｍでの屈折率
【０１８４】
４）ガラス転移温度（Ｔｇ）：示差熱走査熱量分析計（ＤＳＣ）により測定した（測定機器：株式会社日立ハイテクサイエンスＤＳＣ７０００Ｘ）。
５）熱分解開始温度（Ｔｄ）：示差熱天秤（ＴＧ−ＤＴＡ）を使用し、空気気流下、重量が５％減少した温度を測定した。昇温速度は１０℃／ｍｉｎである（測定機器：日立ハイテクサイエンス示差熱熱重量同時測定装置ＳＴＡ７０００）。
【０１８５】
６）配向複屈折（Δｎ）：厚さ０．１ｍｍのキャストフィルムを５．０ｃｍ角の正方形に切出した後、フィルムの両端をチャックに挟み（チャック間３．０ｃｍ）、ポリカーボネート樹脂のＴｇ＋５℃で１．５倍に延伸した。日本分光（株）製エリプソメーターＭ−２２０を用いて５８９ｎｍにおける位相差（Ｒｅ）を測定し、下記式より配向複屈折（Δｎ）を求めた。
Δｎ＝Ｒｅ／ｄ
Δｎ：配向複屈折
Ｒｅ：位相差
ｄ：厚さ
また複屈折符号は、日本分光（株）製エリプソメーターＭ−２２０を用い、上記延伸フィルムの面内で屈折率が最大となる方向を求め、延伸方向との関係から判断した。
複屈折符号が正の場合：延伸方向は、フィルム面内で屈折率が最大となる方向。
複屈折符号が負の場合：延伸方向は、フィルム面内で屈折率が最大となる方向と直交する方向。
【０１８６】
７）全光線透過率：実施例で製造したポリカーボネート樹脂からなる厚さ０．１ｍｍフィルムについて、日本電色工業（株）製濁度計ＮＤＨ２０００を用い、ＪＩＳ−Ｋ−７３６１−１の方法で測定した。
【０１８７】
８）残存フェノール及び残存ジフェニルカーボネート量：秤量したポリカーボネート樹脂１．０ｇを精秤し、ジクロロメタン１０ｍｌに溶解し、攪拌しながら１００ｍｌのメタノールに徐々に添加して樹脂を再沈殿させた。十分に攪拌を行った後、沈殿物を濾別し、濾液をエバポレータにより濃縮して得られた固体へ標準物質溶液１．０ｇを精秤して加えた。さらに１ｇのクロロホルムを加えて希釈した溶液をＧＣ−ＭＳにより定量した。
標準物質溶液：２００ｐｐｍトリメチロールフェノールのクロロホルム溶液
測定装置（ＧＣ−ＭＳ）：Agilent HP6890/5973MSD
カラム：キャピラリーカラム DB-5MS,  30m×0.25mm I.D.,膜厚0.5μm
昇温条件：50℃(5min hold)〜300℃(15min hold),10℃/min
注入口温度：300℃、打ち込み量：1.0μl（スプリット比25）
イオン化法：EI法
キャリアーガス：He,1.0ml/min 
Aux温度：300℃
質量スキャン範囲：33-700
【０１８８】
＜ポリカーボネート樹脂の製造例（１）＞
（実施例１）
２，２´−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１´−ビナフタレン（以下“ＢＨＥＢＮ”と省略することがある）１３．４ｇ（０．０３５モル）、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン（以下“ＢＰＥＦ”と省略することがある）３５．６ｇ（０．０８１モル）、ジフェニルカーボネート（以下“ＤＰＣ”と省略することがある）２５．０ｇ（０．１１７モル）、および炭酸水素ナトリウム８．８×１０−５ｇ（１．０×１０−６モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れ、窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下、１８０℃に加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で１１０分間攪拌を行った。その後、減圧度を２００ｍｍＨｇに調整すると同時に、６０℃／ｈｒの速度で２００℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。その後、２０分間その温度に保持して反応を行った。さらに、７５℃／ｈｒの速度で２３０℃まで昇温し、昇温終了１０分後、その温度で保持しながら、１時間かけて減圧度を１ｍｍＨｇ以下とした。その後、６０℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、さらに３０分間攪拌下で反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。ポリカーボネート樹脂における残存フェノール量は１５０ｐｐｍ、残存ＤＰＣ量は１２０ｐｐｍであった。
【０１８９】
（実施例２）
ＢＨＥＢＮ、ＢＰＥＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ１７．１ｇ（０．０４６モル）、ＢＰＥＦ３０．１ｇ（０．０６９モル）、ＤＰＣ２５．０ｇ（０．１１７モル）および炭酸水素ナトリウム８．７×１０−５ｇ（１．０×１０−６モル）に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。ポリカーボネート樹脂における残存フェノール量は６０ｐｐｍ、残存ＤＰＣ量は２５０ｐｐｍであった。
【０１９０】
（実施例３）
ＢＨＥＢＮ、ＢＰＥＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ３０．０ｇ（０．０８０モル）、ＢＰＥＦ１５．１ｇ（０．０３４モル）、ＤＰＣ２５．０ｇ（０．１１７モル）、および炭酸水素ナトリウム８．７×１０−５ｇ（１．０×１０−６モル）に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。ポリカーボネート樹脂における残存フェノール量は１２０ｐｐｍであった。
【０１９１】
（実施例４）
ＢＨＥＢＮ、ＢＰＥＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ３８．９ｇ（０．１０４モル）、ＢＰＥＦ５．０７ｇ（０．０１２モル）、ＤＰＣ２５．０ｇ（０．１１７モル）、および炭酸水素ナトリウム１．１×１０−４ｇ（１．３×１０−６モル）に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。ポリカーボネート樹脂における残存フェノール量は１００ｐｐｍであった。
【０１９２】
（参考例１）
窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下で１８０℃に加熱し、原料の完全溶解を確認後、同条件で１１０分間攪拌を行う操作を、３０分間に短縮し、最終減圧度を５０ｍｍＨｇにした以外は実施例１と同様に行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。ポリカーボネート樹脂における残存フェノール量は３５００ｐｐｍ、残存ＤＰＣ量は１２００ｐｐｍであった。
【０１９３】
（比較例１）
ビスフェノールＡ（以下“ＢＰＡ”と省略することがある）からなるポリカーボネート樹脂として、商品名「ユーピロンＨ−４０００」（三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製；Ｍｗ＝３３，０００、Ｔｇ＝１４８℃）を用いた。
【０１９４】
＜光学フィルムの製造例（１）＞
実施例１〜４、参考例１および比較例１で得られたポリカーボネート樹脂を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度５．３重量％の樹脂溶液を調製した。この樹脂溶液をキャストフィルム作成型に流し込み、塩化メチレン揮発後に剥離、乾燥して、厚み０．１ｍｍのキャストフィルムを作製した。そのキャストフィルムについて、屈折率（ｎＤ）、アッベ数（ν）および全光線透過率を評価した。また、得られたキャストフィルムをＴｇ＋５℃で１．５倍に延伸し、配向複屈折（Δｎ）を評価した。
なお、参考例１で得られたポリカーボネート樹脂は、分子量が低いため脆くキャストフィルム化できなかった。
【０１９５】
さらに、上述した実施例、参考例および比較例で得られた樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）、ガラス転移温度（Ｔｇ）、および熱分解開始温度（Ｔｄ）を測定した。これらの値を表１に示す。また、表２には複屈折について示し、表２における配向複屈折（Δｎ）の評価基準を表３に示した。
【表１】
2020045492.tif 000052
【表２】
2020045492.tif 000053
【表３】
2020045492.tif 000054
【０１９６】
＜ポリカーボネート樹脂の製造例（２）＞
（実施例７）
２，２´−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１´−ビナフタレン（以下“ＢＨＥＢＮ”と省略することがある）３．４４ｇ（０．００９モル）、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレン（以下“ＢＥＰＦ”と省略することがある）４８．９ｇ（０．０８３モル）、ジフェニルカーボネート（以下“ＤＰＣ”と省略することがある）２０．３ｇ（０．０９５モル）、および炭酸水素ナトリウム１．５×１０−４ｇ（１．８×１０−６モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れ、窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下、１８０℃に加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で１１０分間攪拌を行った。その後、減圧度を２００ｍｍＨｇに調整すると同時に、６０℃／ｈｒの速度で２００℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。その後、２０分間その温度に保持して反応を行った。さらに、７５℃／ｈｒの速度で２３０℃まで昇温し、昇温終了１０分後、その温度で保持しながら、１時間かけて減圧度を１ｍｍＨｇ以下とした。その後、６０℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、さらに３０分間攪拌下で反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。
【０１９７】
（実施例８）
ＢＨＥＢＮ、ＢＥＰＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ５．１７ｇ（０．０１４モル）、ＢＥＰＦ１９．０ｇ（０．０３２モル）、ＤＰＣ１０．０ｇ（０．０４７モル）、炭酸水素ナトリウム９．７×１０−５ｇ（１．２×１０−６モル）に変更した以外は実施例７と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。
【０１９８】
（実施例９）
ＢＨＥＢＮ、ＢＥＰＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ１３．８ｇ（０．０３７モル）、ＢＥＰＦ３２．６ｇ（０．０５５モル）、ＤＰＣ２０．０ｇ（０．０９３モル）、炭酸水素ナトリウム１．５×１０−４ｇ（１．８×１０−６モル）に変更した以外は実施例７と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。
【０１９９】
（実施例１０）
ＢＨＥＢＮ、ＢＥＰＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ２４．４ｇ（０．０６５モル）、ＢＥＰＦ１６．５ｇ（０．０２８モル）、ＤＰＣ２０．２ｇ（０．０９４モル）、炭酸水素ナトリウム１．６×１０−４ｇ（１．９×１０−６モル）に変更した以外は実施例７と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。
【０２００】
（実施例１１）
ＢＨＥＢＮ、ＢＥＰＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ３１．０ｇ（０．０８３モル）、ＢＥＰＦ５．４ｇ（０．００９モル）、ＤＰＣ２０．０ｇ（０．０９３モル）、炭酸水素ナトリウム１．５×１０−４ｇ（１．８×１０−６モル）に変更した以外は実施例７と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。
【０２０１】
（比較例２）
ビスフェノールＡ（以下“ＢＰＡ”と省略することがある）からなるポリカーボネート樹脂として、商品名「ユーピロンＨ−４０００」（三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製；Ｍｗ＝３３，０００、Ｔｇ＝１４８℃）を用いた。
【０２０２】
（参考例２）
ＢＨＥＢＮ２４．４ｇ（０．０６５モル）、ＢＰＥＦ１６．５ｇ（０．０２８モル）、ＤＰＣ２０．２ｇ（０．０９４モル）、および炭酸水素ナトリウム１．６×１０−４ｇ（１．９×１０−６モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れ、窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下、１８０℃に加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で２０分間攪拌を行った。その後、減圧度を２００ｍｍＨｇに調整すると同時に、６０℃／ｈｒの速度で２００℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。その後、２０分間その温度に保持して反応を行った。さらに、７５℃ ／ｈｒの速度で２３０℃まで昇温し、昇温終了１０分後、その温度で保持しながら、１時間かけて減圧度を１ｍｍＨｇ以下とした。その後、６０℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、さらに３０分間攪拌下で反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。
【０２０３】
＜光学フィルムの製造（２）＞
実施例７〜１１、比較例２および参考例２で得られたポリカーボネート樹脂を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度５．３重量％の樹脂溶液を調製した。この樹脂溶液をキャストフィルム作成型に流し込み、塩化メチレン揮発後に剥離、乾燥して、厚み０．１ｍｍのキャストフィルムを作製した。そのキャストフィルムについて、屈折率（ｎＤ）、アッベ数（ν）および全光線透過率を評価した。また、得られたキャストフィルムをＴｇ＋５℃で１．５倍に延伸し、配向複屈折（Δｎ）を評価した。
なお、参考例２で得られたポリカーボネート樹脂は、分子量が低いため脆くキャストフィルム化できなかった。
【０２０４】
また、上述した実施例、比較例および参考例で得られた樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）、ガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解開始温度（Ｔｄ）を測定した。これらの値を表４に示す。また、表５には複屈折について示し、表５における配向複屈折（Δｎ）の評価基準を表６に示した。
【表４】
2020045492.tif 000055
【表５】
2020045492.tif 000056
【表６】
2020045492.tif 000057
【０２０５】
（Ｂ）ポリカーボネート樹脂組成物の実施例
ポリカーボネート樹脂組成物の実施例中の測定値は、以下の方法あるいは装置を用いて測定した。
１）ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）：ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）を用い、テトラヒドロフランを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。この検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムから算出した。
［測定条件］
装置；東ソー株式会社製、ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ
カラム；ガードカラム：TSKguardcolumn SuperMPHZ-M×１本
分析カラム：TSKgel SuperMultiporeHZ-M×３本
溶媒；テトラヒドロフラン
注入量；１０μＬ
試料濃度；０．２ｗ／ｖ％  テトラヒドロフラン溶液
溶媒流速；０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
測定温度；４０℃
検出器；ＲＩ
２）ガラス転移温度（Ｔｇ）：示差熱走査熱量分析計（ＤＳＣ）により測定した（測定機器：株式会社日立ハイテクサイエンスＤＳＣ７０００Ｘ）。
【０２０６】
３）屈折率（ｎＤ）：ポリカーボネート樹脂組成物を３ｍｍ厚×８ｍｍ×８ｍｍの直方体にプレス成形した成形体について、株式会社島津製作所製屈折率計（ＫＰＲ−２００）により測定した（２３℃、波長５８９ｎｍ）。
４）アッベ数（ν）：ポリカーボネート樹脂組成物を３ｍｍ厚×８ｍｍ×８ｍｍの直方体にプレス成形した成形体について、株式会社島津製作所製屈折率計（ＫＰＲ−２００）により波長４８６ｎｍ、５８９ｎｍ、６５６ｎｍの屈折率を測定し、さらに下記式を用いてアッベ数を算出した。
ν＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
ｎＤ：波長５８９ｎｍでの屈折率
ｎＣ：波長６５６ｎｍでの屈折率  
ｎＦ：波長４８６ｎｍでの屈折率
【０２０７】
５）光学歪み：ポリカーボネート樹脂組成物からなる厚さ３ｍｍの成形片を二枚の偏光板の間に挟み、直交ニコル法で後ろからの光漏れを目視することにより評価した。より具体的には、実施例１３〜１７および比較例３〜５で得られたポリカーボネート樹脂組成物を使用し、ファナック（株）製ＲＯＢＯＳＨＯＴ  Ｓ−２０００ｉ３０Ａ射出成形機を用いて直径５０ｍｍ及び厚さ３ｍｍの成形片を射出成形した。この成形片を二枚の偏光板の間に挟み、直交ニコル法で後ろからの光漏れを目視することにより評価した。評価は、Ａ：僅かに光漏れが認められる、Ｂ：光漏れがある、Ｃ：光漏れが顕著であるとした。
【０２０８】
（合成例１：ポリカーボネート樹脂（Ａ１）の製造）
２，２´−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１´−ビナフタレン２０．０ｋｇ（５３．４モル）、ジフェニルカーボネート１１．７ｋｇ（５４．５モル）、および炭酸水素ナトリウム６．７×１０−２ｇ（８．０×１０−４モル）を攪拌機および留出装置付きの５０リットル反応器に入れ、窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下で、１時間かけて２００℃に加熱して撹拌した。その後、同条件で１１０分間攪拌を行った。その後、２０分かけて減圧度を２００ｍｍＨｇに調整し、２００℃、２００ｍｍＨｇの条件下で４０分間保持してエステル交換反応を行った。さらに、４５℃／ｈｒの速度で２３０℃まで昇温し、２３０℃、２００ｍｍＨｇで１０分間保持した。その後、２０分かけて減圧度を１５０ｍｍＨｇに調整し、２３０℃、１５０ｍｍＨｇで１０分間保持した。その後、１０分かけて１２０ｍｍＨｇに調整し、２３０℃、１２０ｍｍＨｇで７０分間保持した。その後、１０分かけて１００ｍｍＨｇに調整し、２３０℃、１００ｍｍＨｇで１０分間保持した。更に４０分かけて１ｍｍＨｇ以下とし、２３０℃、１ｍｍＨｇ以下の条件下で３０分間撹拌しながら重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで加圧し、生成したポリカーボネート樹脂をペレタイズしながら抜き出した。得られたポリカーボネート樹脂（Ａ１）のＭｗは３３０００、Ｔｇは１１５℃、残存フェノールは３００ｐｐｍ、残存ＤＰＣは２５０ｐｐｍであった。
【０２０９】
（合成例２：ポリカーボネート樹脂（Ｂ１）の製造）
９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン１９．５ｋｇ（４４．５モル）、ジフェニルカーボネート９．９３ｋｇ（４６．３モル）、および炭酸水素ナトリウム２．２×１０−２ｇ（２．７×１０−４モル）を攪拌機および留出装置付きの５０リットル反応器に入れ、窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下で、１時間かけて２１５℃に加熱して撹拌した。その後、１５分かけて減圧度を１５０ｍｍＨｇに調整し、２１５℃、１５ｍｍＨｇの条件下で２０分間保持し、エステル交換反応を行った。さらに３７．５℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、２４０℃、１５０ｍｍＨｇで１０分間保持した。その後、１０分かけて１２０ｍｍＨｇに調整し、２４０℃、１２０ｍｍＨｇで７０分間保持した。その後、１０分かけて１００ｍｍＨｇに調整し、２４０℃、１００ｍｍＨｇで１０分間保持した。更に４０分かけて１ｍｍＨｇ以下とし、２４０℃、１ｍｍＨｇ以下の条件下で１０分間撹拌しながら重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで加圧し、生成したポリカーボネート樹脂をペレタイズしながら抜き出した。得られたポリカーボネート樹脂（Ｂ１）のＭｗは２５０００、Ｔｇは１４６℃、残存フェノールは２５０ｐｐｍ、残存ＤＰＣは２３０ｐｐｍであった。
【０２１０】
（実施例１３）
合成例１で製造したポリカーボネート樹脂（Ａ１）ペレット０．４４ｋｇ、合成例２で製造したポリカーボネート樹脂（Ｂ１）ペレット４．５７ｋｇ、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］７．５ｇ、およびステアリン酸モノグリセリド７．５ｇをよく振り混ぜ、押出し機により２６０℃で混練してペレタイズし、ブレンドペレット３．３ｋｇを得た。該ペレットのＴｇは１４２℃であり、変曲点は発見されなかった。ペレット中のフェノール含有量は４５０ｐｐｍであった。また、該ペレットのＭｗは２５，０００であった。該ペレットを射出成形して、直径５０ｍｍ及び厚さ３ｍｍの円板を得た。円板は透明であった。評価結果を表７に示す。
【０２１１】
（実施例１４）
合成例１で製造したポリカーボネート樹脂（Ａ１）ペレット１．３４ｋｇ、合成例２で製造したポリカーボネート樹脂（Ｂ１）ペレット３．６６ｋｇ、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］７．５ｇ、およびステアリン酸モノグリセリド７．５ｇをよく振り混ぜ、押出し機により２６０℃で混練してペレタイズし、ブレンドペレット３．２ｋｇを得た。該ペレットのＴｇは１３６℃であり、変曲点は発見されなかった。また、該ペレットのＭｗは２６，０００であった。ペレット中のフェノール含有量は３５０ｐｐｍであった。該ペレットを射出成形して、直径５０ｍｍ及び厚さ３ｍｍの円板を得た。円板は透明であった。評価結果を表７に示す。
【０２１２】
（実施例１５）
合成例１で製造したポリカーボネート樹脂（Ａ１）ペレット２．３０ｋｇ、合成例２で製造したポリカーボネート樹脂（Ｂ１）ペレット２．７０ｋｇ、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］７．５ｇ、およびステアリン酸モノグリセリド７．５ｇをよく振り混ぜ、押出し機により２６０℃で混練してペレタイズし、ブレンドペレット３．２ｋｇを得た。該ペレットのＴｇは１２８℃であり、変曲点は発見されなかった。また、該ペレットのＭｗは２７，０００であった。ペレット中のフェノール含有量は、３７０ｐｐｍであった。該ペレットを射出成形して、直径５０ｍｍ及び厚さ３ｍｍの円板を得た。円板は透明であった。評価結果を表７に示す。
【０２１３】
（実施例１６）
合成例１で製造したポリカーボネート樹脂（Ａ１）ペレット３．３３ｋｇ、合成例２で製造したポリカーボネート樹脂（Ｂ１）ペレット１．６７ｋｇ、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］７．５ｇ、およびステアリン酸モノグリセリド７．５ｇをよく振り混ぜ、押出し機により２６０℃で混練してペレタイズし、ブレンドペレット３．３ｋｇを得た。該ペレットのＴｇは１２３℃であり、変曲点は発見されなかった。また、該ペレットのＭｗは２９，０００であった。ペレット中のフェノール含有量は４５０ｐｐｍであった。該ペレットを射出成形して、直径５０ｍｍ及び厚さ３ｍｍの円板を得た。円板は透明であった。評価結果を表７に示す。
【０２１４】
（実施例１７）
合成例１で製造したポリカーボネート樹脂（Ａ１）ペレット４．４３ｋｇ、合成例２で製造したポリカーボネート樹脂（Ｂ１）ペレット０．５８ｋｇ、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］７．５ｇ、およびラウリン酸モノグリセリド７．５ｇをよく振り混ぜ、押出し機により２６０℃で混練してペレタイズし、ブレンドペレット３．３ｋｇを得た。該ペレットのＴｇは１１７℃であり、変曲点は発見されなかった。また、該ペレットのＭｗは３１，０００であった。ペレット中のフェノール含有量は３８０ｐｐｍであった。該ペレットを射出成形して、直径５０ｍｍ及び厚さ３ｍｍの円板を得た。円板は透明であった。評価結果を表７に示す。
【０２１５】
（比較例４）
ビスフェノールＡ型ポリカーボネート樹脂からなるポリカーボネート樹脂“ユーピロンＨ−４０００”（商品名：三菱エンジニアリングプラスチックス社製、ＭＷ：３３０００）のペレットを射出成形して、直径５０ｍｍ厚さ３ｍｍの円板を得た。円板は透明であった。評価結果を表７に示す。
【０２１６】
（比較例５）
合成例１で製造したペレットを射出成形して、直径５０ｍｍ厚さ３ｍｍの円板を得た。円板は透明であった。評価結果を表７に示す。
【０２１７】
（比較例６）
合成例２で製造したペレットを射出成形して、直径５０ｍｍ厚さ３ｍｍの円板を得た。円板は透明であった。評価結果を表７に示す。
【表７】
2020045492.tif 000058
【０２１８】
２．ポリエステル樹脂
＜ポリエステル樹脂の評価方法＞
本実施例で使用したポリエステル樹脂の評価方法は以下の通りである。
（１）ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）：ゲル濾過クロマトグラフ（ＧＰＣ）を用い、クロロホルムを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。この検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムからＭｗを算出した。
［測定条件］
装置；東ソー株式会社製、ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ
カラム；ガードカラム：TSKguardcolumn SuperMPHZ-M×１本
分析カラム：TSKgel SuperMultiporeHZ-M×３本
溶媒；テトラヒドロフラン
注入量；１０μＬ
試料濃度；０．２ｗ／ｖ％  テトラヒドロフラン溶液
溶媒流速；０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
測定温度；４０℃
検出器；ＲＩ
【０２１９】
（２)屈折率、アッベ数
ポリエステル樹脂を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度５．３重量％の樹脂溶液を調製した。この樹脂溶液をキャストフィルム作成型に流し込み、塩化メチレン揮発後に剥離、乾燥して、厚み０．１ｍｍのキャストフィルムを作製した。そのキャストフィルムについて、屈折率（ｎＤ）およびアッベ数（ν）を評価した。
屈折率については、ＡＴＡＧＯ（株）製屈折率計を用い、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２の方法で測定した（２５℃、波長５８９ｎｍ）。  アッベ数については、ＡＴＡＧＯ（株）製屈折率計を用い、２５℃下での波長４８６ｎｍ、５８９ｎｍおよび６５６ｎｍの屈折率を測定し、さらに下記式を用いてアッベ数を算出した。
ν＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
ｎＤ：波長５８９ｎｍでの屈折率
ｎＣ：波長６５６ｎｍでの屈折率  
ｎＦ：波長４８６ｎｍでの屈折率
（３）ガラス転移温度（Ｔｇ）：示差熱走査熱量分析計（ＤＳＣ）により測定した（測定機器：株式会社日立ハイテクサイエンスＤＳＣ７０００Ｘ）。
【０２２０】
（実施例１８）
加熱装置、撹拌翼、分縮器、トラップ、温度計及び窒素ガス導入管を備えたガラス製フラスコに、テレフタル酸ジメチル（以下、ＤＭＴという）１．００モル、エチレングリコール２.２０モル、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（以下、ＢＰＥＦという）０.１０モル、２，２´−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１´−ビナフタレン（以下、ＢＨＥＢＮという）０.８１モルを加えた。ジカルボン酸成分に対して酢酸亜鉛二水和物０．０２３モル％の存在下、窒素雰囲気下で攪拌しながら徐々に加熱溶融し、エステル化反応を行った。ジカルボン酸成分の反応転化率が９０％以上になった後、ジカルボン酸成分１００モル％に対して、酸化ゲルマニウム０.１４モル％及びリン酸トリエチル０.１２モル％を加えた。昇温と減圧を徐々に行い、減圧しながらエチレングリコールを除去し、最終的に２５０〜２８０℃、０．１ｋＰａ以下で重縮合を行った。この後、内容物を反応器から取り出し、フルオレン骨格を有する共重合ポリエステル樹脂を得た。
得られたポリエステル樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量は４２，０００であった。物性評価については表８に示す。
【０２２１】
（実施例１９）
ＢＰＥＦを０．２７モル、ＢＨＥＢＮを０．６３モル、ＤＭＴを２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル（以下、ＮＤＣＭと略）に変更した以外は、実施例１と同様の操作を行った。その結果、重量平均分子量４０，５００のポリエステル共重合体が得られた。物性評価については表８に示す。
【０２２２】
（比較例７〜１０）
表８に記載の原料及び仕込み量に変更した以外は、上記実施例１８と同一の装置及び反応条件でエステル交換反応及び重縮合反応を実施し、共重合ポリエステル樹脂を得た。得られた樹脂の物性評価結果は表８に示す。
【表８】
2020045492.tif 000059
【０２２３】
３．ポリエステルカーボネート樹脂
＜ポリエステルカーボネート樹脂の評価方法＞
ポリエステルカーボネート樹脂の実施例中の測定値は、以下の方法あるいは装置を用いて測定した。
１）平均分子量：昭和電工（株）製ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ−１０１を用い、テトラヒドロフランを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。この検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムから数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）を算出した。
［測定条件］
装置；東ソー株式会社製、ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ
カラム；ガードカラム：TSKguardcolumn SuperMPHZ-M×１本
分析カラム：TSKgel SuperMultiporeHZ-M×３本
溶媒；テトラヒドロフラン
注入量；１０μＬ
試料濃度；０．２ｗ／ｖ％  テトラヒドロフラン溶液
溶媒流速；０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
測定温度；４０℃
検出器；ＲＩ
【０２２４】
２）ガラス転移温度（Ｔｇ）：製造した樹脂を０．００８ｇ秤量し、セイコーインスツル（株）製示差熱熱重量同時測定装置ＤＳＣ２２０を用い、昇温速度１０℃／ｍｉｎにて測定した。
３）屈折率（ｎＤ）：ポリエステルカーボネート樹脂を直径４０ｍｍ、３ｍｍ厚の円盤にプレス成形し、株式会社島津デバイス製造製屈折率計（ＫＰＲ−２００）により、２５℃における屈折率（波長：５８９ｎｍ）を測定した。
【０２２５】
４）アッベ数（ν）：ポリエステルカーボネート樹脂を直径４０ｍｍ、３ｍｍ厚の円盤にプレス成形し、株式会社島津デバイス製造製屈折率計（ＫＰＲ−２００）により波長４８６ｎｍ、５８９ｎｍ、６５６ｎｍでの屈折率を測定し、さらに下記式を用いてアッベ数を算出した。
ν＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
ｎＤ：波長５８９ｎｍでの屈折率
ｎＣ：波長６５６ｎｍでの屈折率  
ｎＦ：波長４８６ｎｍでの屈折率
【０２２６】
５）溶液色相：製造した樹脂６ｇを６０ｍｌのジメチルクロロメタンに溶解し、光路長５．０ｃｍ石英ガラスセルを用いて、Ｌ値（明度）を測定した。式差計は日本電色工業株式会社製  Ｓｐｅｃｔｒｏ Ｃｏｌｏｒ Ｍｅｔｅｒ ＳＥ２０００を使用した。
【０２２７】
（実施例２０）
２，２´−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１´−ビナフタレン（以下“ＢＨＥＢＮ”と省略することがある）１７．３ｇ（０．０４６モル）、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン（以下“ＢＰＥＦ”と省略することがある）２５．２７ｇ（０．０５８モル）、ジフェニルカーボネート（以下“ＤＰＣ”と省略することがある）１９．９４ｇ（０．０９３モル）、およびテレフタル酸ジメチル（以下”ＤＭＴ”と省略することがある）２．２３９ｇ（０．０１２モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れた。減圧と窒素封入を５回繰り返した後、７６０ｍｍＨｇの窒素雰囲気下、１８０℃にて加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で１０分間攪拌を行った。その後、回転速度を２００ｒｐｍ迄上昇させ、２８ｍｍＨｇ/ｍｉｎの速度で２００ｍｍＨｇまで減圧し、さらに、６０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。圧力２００ｍｍＨｇ、温度２６０℃に到達後、１０ｍｍＨｇ/ｍｉｎで減圧し、圧力が０ｍｍＨｇに到達した後２０分間で反応終了とした。最後に反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリエステルカーボネート樹脂を取り出した。
【０２２８】
（実施例２１）
ＢＨＥＢＮ１７．３ｇ（０．０４６モル）、ＢＰＥＦ２５．２７ｇ（０．０５８モル）、ＤＰＣ１９．９４ｇ（０．０９３モル）、およびＤＭＴ２．２３９ｇ（０．０１２モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れた。減圧と窒素封入を５回繰り返した後、７６０ｍｍＨｇの窒素雰囲気下、１８０℃にて加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で１０分間攪拌を行った。その後、回転速度を２００ｒｐｍ迄上昇させ、２８ｍｍＨｇ/ｍｉｎの速度で２００ｍｍＨｇまで減圧し、さらに、６０℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。圧力２００ｍｍＨｇ、温度２４０℃に到達後、１０ｍｍＨｇ/ｍｉｎで減圧し、圧力が０．８ｍｍＨｇに到達した後４０分間で反応終了とした。最後に反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリエステルカーボネート樹脂を取り出した。
【０２２９】
（実施例２２）
ＢＨＥＢＮ３５．６４ｇ（０．０９５モル）、ＢＰＥＦ４．６１５ｇ（０．０１１モル）、ＤＰＣ２０．００ｇ（０．０９３モル）、およびＤＭＴ２．５５７ｇ（０．０１３モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れた。減圧と窒素封入を５回繰り返した後、７６０ｍｍＨｇの窒素雰囲気下、１８０℃にて加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で１０分間攪拌を行った。その後、２８ｍｍＨｇ/ｍｉｎで２００ｍｍＨｇまで減圧し、６０℃／ｈｒの速度で２５０℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。最後に反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリエステルカーボネート樹脂を取り出した。
【０２３０】
（実施例２３）
ＢＨＥＢＮ３．９２８ｇ（０．０１１モル）、ＢＰＥＦ４１．９５ｇ（０．０９６モル）、ＤＰＣ２０．３４ｇ（０．０９５モル）、およびＤＭＴ２．２８７ｇ（０．０１２モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れた。減圧と窒素封入を５回繰り返した後、７６０ｍｍＨｇの窒素雰囲気下、１８０℃にて加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で１０分間攪拌を行った。その後、回転速度を２００ｒｐｍ迄上昇させ、２８ｍｍＨｇ/ｍｉｎの速度で２００ｍｍＨｇまで減圧し、さらに、６０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。圧力２００ｍｍＨｇ、温度２６０℃に到達後、１．６ｍｍＨｇ/ｍｉｎで減圧した。最後に圧力が０．８ｍｍＨｇに到達した後２０分間で反応終了とした。反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリエステルカーボネート樹脂を取り出した。
【０２３１】
（実施例２４）
ＢＨＥＢＮ１０．９２ｇ（０．０２９モル）、ＢＰＥＦ３３．４１ｇ（０．０７６モル）、ＤＰＣ２０．１０ｇ（０．０９３モル）、およびＤＭＴ２．２８９ｇ（０．０１１８モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れた。減圧と窒素封入を５回繰り返した後、７６０ｍｍＨｇの窒素雰囲気下、１８０℃にて加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で１０分間攪拌を行った。その後、回転速度を２００ｒｐｍ迄上昇させ、４．６ｍｍＨｇ/ｍｉｎの速度で２００ｍｍＨｇまで減圧し、さらに、６０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。圧力２００ｍｍＨｇ、温度２６０℃に到達後、３．３ｍｍＨｇ/ｍｉｎで減圧し、圧力が０．８ｍｍＨｇに到達した後６０分間で反応終了とした。最後に反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリエステルカーボネート樹脂を取り出した。
【０２３２】
（実施例２５）
ＢＨＥＢＮ２３．９６ｇ（０．０６４モル）、ＢＰＥＦ１７．６１ｇ（０．０４０モル）、ＤＰＣ１９．８４ｇ（０．０９３モル）、およびＤＭＴ２．２８９ｇ（０．０１２モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れた。減圧と窒素封入を５回繰り返した後、７６０ｍｍＨｇの窒素雰囲気下、１８０℃にて加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で１０分間攪拌を行った。その後、回転速度を２００ｒｐｍ迄上昇させ、２８ｍｍＨｇ/ｍｉｎの速度で２００ｍｍＨｇまで減圧し、さらに、６０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。圧力２００ｍｍＨｇ、温度２６０℃に到達後、３．３ｍｍＨｇ/ｍｉｎで減圧し、圧力が０．８ｍｍＨｇに到達した後３０分間で反応終了とした。最後に反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリエステルカーボネート樹脂を取り出した。
【０２３３】
（比較例１１）
ＢＨＢＮ１２．９４ｇ（０．０３５モル）、ＢＰＥＦ２４．７７ｇ（０．０５７モル）、ＤＰＣ２０．０９ｇ（０．０９４モル）、およびＤＭＴ２．１８７ｇ（０．０１１３モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れた。減圧と窒素封入を５回繰り返した後、７６０ｍｍＨｇの窒素雰囲気下、１８０℃にて加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で１０分間攪拌を行った。その後、回転速度を２００ｒｐｍ迄上昇させ、２８ｍｍＨｇ/ｍｉｎの速度で２００ｍｍＨｇまで減圧し、さらに、６０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。圧力２００ｍｍＨｇ、温度２６０℃に到達後、１０ｍｍＨｇ/ｍｉｎで減圧し、圧力が０．８ｍｍＨｇに到達した後反応を終了した。反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリエステルカーボネート樹脂を取り出した。
【０２３４】
（比較例１２）
ＢＨＢＮ２６．８０ｇ（０．０７２モル）、ＢＰＥＦ４．５４４ｇ（０．０１０４モル）、ＤＰＣ１９．９８ｇ（０．０９３モル）、およびＤＭＴ２．２３６ｇ（０．０１１５モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れた。減圧と窒素封入を５回繰り返した後、７６０ｍｍＨｇの窒素雰囲気下、１８０℃にて加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で１０分間攪拌を行った。回転速度を２００ｒｐｍ迄上昇させ、２８ｍｍＨｇ/ｍｉｎの速度で２００ｍｍＨｇまで減圧し、さらに、６０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。圧力２００ｍｍＨｇ、温度２６０℃に到達後、１０ｍｍＨｇ/ｍｉｎで減圧し、圧力が０．８ｍｍＨｇに到達した後反応を終了した。反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリエステルカーボネート樹脂を取り出した。
【０２３５】
なお、比較例１１および１２の樹脂については、プレス成形することができなかったため、屈折率およびアッベ数は測定していない。
【表９】
2020045492.tif 000060
【手続補正書】
【提出日】令和1年12月16日(2019.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される化合物に由来する構成単位と、下記一般式（２）で表される化合物に由来する構成単位とを含み、フェノール含有量が０．１〜３０００ｐｐｍであり、炭酸ジエステル含有量が０．１〜１０００ｐｐｍであるポリカーボネート樹脂：
【化１】
2020045492.tif 000069
［式（１）において、Ｘは炭素数１〜１０のアルキレン基である］
【化２】
2020045492.tif 000070
［式（２）において、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、
Ｒは、水素原子または炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基である］。
【請求項２】
前記一般式（２）で表される化合物が、９，９-ビス（４-（２-ヒドロキシエトキシ）-３-フェニルフェニル）フルオレン（ＢＥＰＦ）である、請求項１に記載のポリカーボネート樹脂。
【請求項３】
前記フェノール含有量が１〜３００ｐｐｍであり、前記炭酸ジエステル含有量が０．１〜５００ｐｐｍである、請求項１又は２に記載のポリカーボネート樹脂。