(57)【要約】【課題】バックライトの点灯時に光量の分布に基づく意匠を加飾層に効果的に表示できる入力装置を提供する。【解決手段】支持基材１００上に複数の電極部１１，１２が設けられたセンサ部１０と、センサ部１０と重ねられた加飾層２０と、を備えた入力装置１であって、支持基材１００には、センサ部１０側から加飾層２０側に向かう第１方向Ｄ１に照射される光の透過を調整する透過調整部１１０が設けられている。また、透過調整部１１０は、光を透過する透過パターン１１１と、光を遮断する遮光パターン１１２とを有し、単位面積当たりの透過パターン１１１と遮光パターン１１２との比率によって光の透過量が調整される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基材上に複数の電極部が設けられたセンサ部と、
前記センサ部と重ねられた加飾層と、
を備えた入力装置であって、
前記支持基材には、前記センサ部側から前記加飾層側に向かう第１方向に照射される光の透過を調整する透過調整部が、前記加飾層から第１方向に離間した状態で設けられていることを特徴とする入力装置。
【請求項２】
前記透過調整部は、前記光を透過する透過パターンと、前記光を遮断する遮光パターンとを有し、単位面積当たりの前記透過パターンと前記遮光パターンとの比率によって前記光の透過量が調整される、請求項１に記載の入力装置。
【請求項３】
前記支持基材には、導電材料からなる部分を有し前記複数の電極部に接続される引出配線部が設けられ、前記引出配線部の導電材料の少なくとも一部と前記遮光パターンの構成材料の少なくとも一部とが共通する、請求項２に記載の入力装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は入力装置に関し、特に指などが接近した位置を検知するタッチセンサを備えた入力装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
入力装置として多く利用されるタッチパネルは、検出領域に指などが接近（以下、接近には接触を含むものとする。）した位置を検出するタッチセンサを備えている。例えば、相互容量方式のタッチパネルにおいては、駆動側の電極と出力側の電極とが設けられており、駆動側の電極にドライブパルスを与え、指などの接近による容量変化を出力側の電極で検知している。
【０００３】
タッチパネルの最表面には、画像をクリアに表示するとともに、指などの接触から保護するための表面パネル（ガラス、プラスチック）が設けられている。表面パネルはタッチパネルのデザインに関わる部分でもある。例えば、表面パネルの裏面側などには加飾層が設けられており、加飾層の印刷によってパネル面の外観デザインが設定される。
【０００４】
このようなタッチパネルの加飾として、特許文献１には、カバーガラスの裏面周囲に着色層／発色層の積層加飾層を形成した後、裏面中央部から加飾層に亘って透明電極層を形成したカバー一体型静電センサが開示される。このカバー一体型静電センサでは、着色層をグラデーション構造とすることにより、意匠性を向上させている。
【０００５】
特許文献２には、カバーガラスの裏面に第１遮光層／センサ電極＋引出配線層／第２遮光層の順に形成したカバーガラス一体型静電タッチパネルが開示される。このカバーガラス一体型静電タッチパネルでは、第２遮光層中に第１遮光層をグラデーション配置して、第１遮光層と第２遮光層との境界を見え難くすることが開示されている。
【０００６】
特許文献３には、携帯電話の釦スイッチのキートップ裏面に、拡散層／ハーフトーン印刷層／下地層の加飾層を形成してハーフトーン印刷層のグラデーションのパターンをぼかし滑らかなグラデーションとすることが開示されている。また、照光部をキートップ内部に設けることも開示されている。
【０００７】
特許文献４には、カバーパネルのロゴ表示を擬似３Ｄ表現にするために、カバーパネルの加飾層に抜きロゴ部を設け、背部に配置したセンサ基材上に配線と同じ材料で形成した金属層を抜きロゴ部に重なる位置に配置した静電タッチパネルが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１５−０２６２９４号公報
【特許文献２】特開２０１４−０３８５３１号公報
【特許文献３】特開２００６−１５９７９４号公報
【特許文献４】特開２０１３−０５４４２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
近年、タッチパネルには高い演出効果を有する意匠が求められる場合があり、その具体例として、バックライトの点灯時に光量分布に基づく表示が加飾層に顕在化する意匠が挙げられる。このような要求は、加飾層または加飾層よりも観察者側に位置する部材、例えば表面パネルに、光量の分布をもたらす構成、具体的には光の透過量を部分的に調整する構成を付与することによって応えることができる。しかしながら、このような対応では、バックライトの消灯時にも光量の分布をもたらす機構が加飾層の意匠の一部として視認されるため、消灯時の意匠性が低下し、結果的に十分な演出効果が得られなくなるおそれがあった。
【００１０】
本発明は、バックライトの点灯時に光量の分布に基づく意匠を加飾層に効果的に表示できる入力装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明の一態様は、支持基材上に複数の電極部が設けられたセンサ部と、センサ部と重ねられた加飾層と、を備えた入力装置であって、支持基材には、センサ部側から加飾層側に向かう第１方向に照射される光の透過を調整する透過調整部が、加飾層から第１方向に離間した状態で設けられている、ことを特徴とする。
【００１２】
このような構成によれば、センサ部に対して第１方向に光が照射されると、すなわち、バックライトの点灯時には、センサ部を透過して加飾層に照射される光には、センサ部の支持基材に設けられた透過調整部によって光量の分布が与えられる。その一方で、透過調整部は加飾層に覆われ、加飾層から第１方向に離間しているため、バックライトの消灯時に透過調整部が視認されることはない。したがって、バックライトの消灯時には加飾層に基づく意匠が視認され、バックライトの点灯時には、透過調整部によって付与された光量の分布に基づく意匠を加飾層に表示することができる。すなわち、バックライトの消灯時には全く視認されない意匠が、バックライトを点灯することにより顕在化するという優れた演出効果を奏することができる。
【００１３】
上記入力装置において、透過調整部は、光を透過する透過パターンと、光を遮断する遮光パターンとを有し、単位面積当たりの透過パターンと遮光パターンとの比率によって光の透過量が調整されるようになっていてもよい。これにより、単位面積当たりの透過パターンと遮光パターンとの比率によって加飾層に顕在化する光による意匠について階調表現を行うことができる。ここで、透過調整部は、加飾層と透過調整部とは第１方向（光の進行方向）に離間しているため、透過調整部の透過パターンを透過した光はある程度拡散して加飾層に到達する。したがって、透過パターンおよび遮光パターンを過度に精細にしなくても、グラデーションのような連続的な光量変化を有する意匠を加飾層に容易に表示することできる。
【００１４】
上記入力装置において、支持基材には、導電材料からなる部分を有し複数の電極部に接続される引出配線部が設けられ、引出配線部の導電材料の少なくとも一部と遮光パターンの構成材料の少なくとも一部とが共通であってもよい。このように支持基材上に形成される部材の構成材料を共通化することにより、引出配線部を作製する過程で遮光パターンも作製することができ、透過調整部を効率的に設けることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、バックライトの消灯時には加飾層に基づく意匠が視認され、バックライトの点灯時には、消灯時には視認されない透過調整部により与えられた光量の分布に基づく意匠を加飾層に顕在化させることができる。すなわち、加飾層に視認される意匠をバックライトの消灯時と点灯時とで明確に相違させることができる。したがって、本発明により、優れた演出効果を有する意匠を加飾層に有した入力装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】（ａ）は本実施形態に係る入力装置の斜視図、（ｂ）および（ｃ）は透過調整部の拡大平面図である。
【図２】図１（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】（ａ）および（ｂ）は、像の表示状態を例示する平面図である。
【図４】比較例に係る入力装置を例示する断面図である。
【図５】（ａ）および（ｂ）は、比較例における入力装置の像の表示状態を例示する平面図である。
【図６】第２実施形態に係る入力装置を例示する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の説明では、同一の部材には同一の符号を付し、一度説明した部材については適宜その説明を省略する。
【００１８】
（入力装置の構成）
図１（ａ）〜（ｃ）は、本実施形態に係る入力装置を例示する図で、（ａ）は斜視図、（ｂ）および（ｃ）は透過調整部の拡大平面図である。
図２は、図１（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【００１９】
図１（ａ）に示すように、本実施形態に係る入力装置１は、例えば静電容量式のタッチセンサであるセンサ部１０と、センサ部１０と重ねられた加飾層２０とを備える。入力装置１は、例えばタッチパネルである。入力装置１は、液晶などの表示装置５０の上に取り付けられる。ここで、実施形態では、センサ部１０と加飾層２０との積層方向において、センサ部１０から加飾層２０へ向かう方向を第１方向Ｄ１と言うことにする。表示装置５０の側部にはバックライト５１が設けられ、センサ部１０の一部がバックライト５１の上に位置する。
【００２０】
センサ部１０は、検出領域Ｓに指などが接近した場合の静電容量の変化によって位置検出を行う。センサ部１０は、基材１００の検出領域Ｓに設けられた第１電極１１および第２電極１２を備える。すなわち、基材１００は、複数の電極（第１電極１１および第２電極１２）を支持する支持基材である。基材１００は、ＰＥＴ（Polyethylene Terephthalate）、ＣＯＰ（cycloolefin polymer）などの透光性を有する可撓性フィルム、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂などの硬質の透光性板材、ガラス板などで形成されている。
【００２１】
第１電極１１は基材１００の表面に沿った一方向（例えば、Ｘ方向）に延在し、第２電極１２は基材１００の表面に沿いＸ方向と直交する方向（例えば、Ｙ方向）に延在する。第１電極１１および第２電極１２は互い絶縁される。本実施形態では、Ｙ方向に所定のピッチで複数の第１電極１１が配置され、Ｘ方向に所定のピッチで複数の第２電極１２が配置される。
【００２２】
第１電極１１および第２電極１２を構成する電極のパターンは各種あるが、本実施形態では、第１電極１１および第２電極１２のそれぞれは複数の島状電極部を有する。各島状電極部は例えば菱形に近い形状を有している。
【００２３】
センサ部１０の検出領域Ｓは位置検出機能を備えるとともに、表示装置５０によって表示される画像を透過できるように透光性を有している。このため、第１電極１１および第２電極１２には透光性導電材料（ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、導電性ナノ材料、網目状に形成された金属材料など）が用いられる。
【００２４】
センサ部１０は、基材１００における、第１方向Ｄ１に沿った方向からみて加飾層２０に重なる領域に、引出配線部１１３を備える。引出配線部１１３は、第１電極１１および第２電極１２に電気的に接続され、これらの電極に電圧を印加したり、これらの電極から出力される検出信号を伝達したりする。引出配線部１１３は、金属材料など高い導電性を有する導電材料からなる部分を有する。引出配線部１１３は第１方向Ｄ１に沿った方向からみて加飾層２０に重なる領域に位置するため、表面カバー３０側から視認されることはない。したがって、引出配線部１１３は透光性を有していなくてもよい。
【００２５】
センサ部１０の上には、センサ部１０を保護するための表面カバー３０が設けられる。表面カバー３０はガラスやプラスチックによる透光性を備えた薄板状の部材である。加飾層２０は、この表面カバー３０の裏面（センサ部１０側）に取り付けられている。なお、加飾層２０は表面カバー３０の表面に設けられていてもよいし、表面カバー３０の内部に埋め込まれていてもよい。
【００２６】
加飾層２０は、第１方向Ｄ１に沿った方向からみて、表示装置５０の周縁部分に位置するとともに、バックライト５１の全域に重なるように設けられる。加飾層２０によって機器の色や柄などの意匠性が高められる。また、加飾層２０の下方には上記の引出配線部１１３など視認されるべきでない部材が位置し、加飾層２０はこうした部材を表面カバー３０側から視たときに隠蔽する機能も有する。さらに、表示装置５０から第１方向Ｄ１に放出される光（液晶バックライトの光、有機ＥＬ等の自発光型から放出される光、その他の発光部から放出される光を含む）が所定の光量以下である場合にはその光の透過を抑制する透過抑制機能も有する。その一方で、後述するように、バックライト５１から第１方向Ｄ１に放出される光の一部は加飾層２０を透過して表面カバー３０側から視認可能とされる。
【００２７】
このような入力装置１において、センサ部１０の基材１００における、第１方向Ｄ１に沿った方向から見てバックライト５１に重なる領域には透過調整部１１０が設けられる。透過調整部１１０は、バックライト５１から照射される光の透過量を調整する部分である。
【００２８】
透過調整部１１０は、光を透過する透過パターン１１１と、光を遮断する遮光パターン１１２とを有する。透過パターン１１１の光の透過率は、遮光パターン１１２の光の透過率よりも相対的に高い。
【００２９】
遮光パターン１１２は、例えば金属材料によって構成される。遮光パターン１１２の構成材料の少なくとも一部は、引出配線部１１３の導電材料の少なくとも一部と共通であってもよい。この場合には、センサ部１０に引出配線部１１３を作製する過程で遮光パターン１１２を作製することが可能であり、遮光パターン１１２を効率的に得ることができる。なお、本実施形態では、引出配線部１１３は、第１電極１１や第２電極１２を構成する透明導電材料と共通の透明導電材料からなる層１１３１に金属材料の層１１３２が積層してなる積層体が樹脂系材料の層１１３３により覆われた構造を有する。一方、遮光パターン１１２は、透明導電材料からなる層１１３１と共通の材料からなる層１１２１に金属材料の層１１３２と共通の材料からなる層１１２２が積層してなる構造を有する。
【００３０】
透過パターン１１１は、透過調整部１１０のうち遮光パターン１１２が設けられていない部分であり、例えば遮光パターン１１２を構成する金属材料の一部をエッチング等によって除去した部分である。なお、透過パターン１１１は、遮光パターン１１２の金属材料の一部を除去した部分のほか、遮光パターン１１２の金属材料よりも光の透過率が高い材料によって構成されていてもよい。
【００３１】
透過パターン１１１は円形などの所定形状のドットパターンでもよいし、ラインパターンであってもよい。透過パターン１１１の面積が大きいほど、光の透過量が多くなる。図１（ｂ）に示すように、本実施形態では、単位面積当たりの透過パターン１１１と遮光パターン１１２との比率によって光の透過量を調整している。これにより、擬似的な階調を表現することができる。この場合における透過パターン１１１の形状と遮光パターン１１２の形状との関係は任意である。例えば、図１（ｂ）に示すように、遮光パターン１１２の中に異なる大きさの透過パターン１１１が島状に存在してもよいし、図１（ｃ）に示すように、透過パターン１１１の中に異なる大きさの遮光パターン１１２が島状に存在してもよい。あるいは、透過パターン１１１および遮光パターン１１２の個々の大きさは等しく、これらの疎密の程度を変化させることにより光の透過量を調整してもよい。
【００３２】
図２に示すように、表示装置５０の上に設けられた入力装置１は、第１方向Ｄ１にセンサ部１０、加飾層２０および表面カバー３０がこの順に重ねられている。センサ部１０と表面カバー３０との間にはＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）などの透光性樹脂６０が介在している。本実施形態では、この透光性樹脂６０によって、透過調整部１１０と加飾層２０とを第１方向Ｄ１に離間させることが実現されている。なお、本実施形態では、加飾層２０は表面カバー３０のセンサ部１０側の面に形成された印刷層からなるため、加飾層２０は表面カバー３０に接するように位置している。
【００３３】
このような構造により、センサ部１０に対してバックライト５１により第１方向Ｄ１に光が照射された場合、透過パターン１１１が位置する領域での光の透過量は、遮光パターン１１２が位置する領域の光の透過量よりも多くなる。すなわち、遮光パターン１１２が位置する領域では表面カバー３０側に光がほとんど透過しない。一方、透過パターン１１１が位置する領域では、透過パターン１１１を通過した光が表面カバー３０側に透過することになる。
【００３４】
この際、透過調整部１１０が加飾層２０よりも表面カバー３０から離れた位置に設けられているため、換言すれば、透過調整部１１０は加飾層２０から第１方向Ｄ１に離間しているため、透過パターン１１１を透過した光は透光性樹脂６０を通過する際に拡散する。これにより、透過パターン１１１を透過した光の像はある程度ぼかされた状態で加飾層２０に到達する。それゆえ、上記のように、単位面積当たりの透過パターン１１１と遮光パターン１１２との比率を変化させることにより、加飾層２０に到達する光に、光量が連続的に変化する分布を生じさせることができる。
【００３５】
図３（ａ）および（ｂ）は、像の表示状態を例示する平面図である。
図３（ａ）には光が照射された状態の表示例が示され、図３（ｂ）には光が照射されていない状態の表示例が示される。いずれの表示例も、表面カバー３０の上からみた状態となっている。
【００３６】
図３（ａ）に示すように、入力装置１のセンサ部１０側から光（バックライト）が照射された状態では、透過パターン１１１を透過した光が表面カバー３０側まで達する。この際、透過パターン１１１の像Ｐ１は透光性樹脂６０を通過する際に拡散して、輪郭がぼけた状態となる。それゆえ、透過パターン１１１をある程度小さく、密にすることで擬似階調を表すことができ、グラデーションなどを表現することが可能となる。
【００３７】
一方、図３（ｂ）に示すように、入力装置１のセンサ部１０側から光（バックライト）が照射されていない状態では、透過パターン１１１からの光の透過はなく、加飾層２０の表面カバー３０側の意匠がそのまま観察される。本実施形態では、表面カバー３０側から加飾層２０を透過して内部に入り込む光があっても、その光量は十分に低下しているため、透過調整部１１０で反射した光が加飾層２０を透過して表面カバー３０側に到達することはない。したがって、表面カバー３０側から観察したときに、透過パターン１１１が見えてしまうことはない。また、センサ部１０における加飾層２０が重ねられていない領域から加飾層２０が重ねられている領域に光が入り込んでも、その程度の光量の光であれば、加飾層２０を透過して表面カバー３０側に到達することはない。
【００３８】
図４は、比較例に係る入力装置を例示する断面図である。
比較例に係る入力装置２は、加飾層２０の一部に透過パターン２２０が設けられている。すなわち、入力装置２は、加飾層２０の遮光パターン２３０の一部を除去することにより、バックライト５１から第１方向Ｄ１に照射される光を表面カバー３０側に透過できる透過パターン２２０を設けた構成である。
【００３９】
図５（ａ）および（ｂ）は、比較例における入力装置の像の表示状態を例示する平面図である。
図５（ａ）には光が照射された状態の表示例が示され、図５（ｂ）には光が照射されていない状態の表示例が示される。いずれの表示例も、表面カバー３０の上からみた状態となっている。
【００４０】
図５（ａ）に示すように、光が照射された状態では、加飾層２０に設けられた透過パターン２２０を透過した光が表面カバー３０側まで達する。しかし、加飾層２０に透過パターン２２０が設けられているため、透過パターン２２０を透過した光は表面カバー３０にほぼ拡散することなくまっすぐに進む。これにより、透過パターン２２０の像Ｐ２はぼけることなく、表面カバー３０側から明瞭に見えることになる。
【００４１】
図５（ｂ）に示すように、光が照射されていない状態では、透過パターン１１１からの光の透過はない。しかし、表面カバー３０の直ぐ下に設けられた加飾層２０に透過パターン２２０が設けられているため、表面カバー３０側から内部に入り込む光の反射強度の差として透過パターン２２０がうっすらと見えてしまうことになる。
【００４２】
このように、比較例に係る入力装置２では、光が照射された状態では透過パターン２２０の像Ｐ２が明瞭に現れ（図５（ａ）参照）、適度なぼかしを得ることは難しい。このため、階調表現やグラデーションを得るためには、透過パターン２２０を高精細に形成して高精度に配置することが必要となり、技術的困難性が高まる。また、光が照射されていない状態でも外部から入る光によって透過パターン２２０が僅かに見えてしまう（図５（ｂ）参照）。すなわち、バックライト５１から第１方向Ｄ１に光が照射されたときに初めて視認されるべき意匠が照射されていない状態においても視認されてしまう。このような見え方は意匠性を損なうことになる。
【００４３】
これに対して本実施形態に係る入力装置１では、光が照射された状態では透過パターン１１１の像Ｐ１の輪郭が適度にぼけて表示される（図３（ａ）参照）。これにより、階調表現やグラデーションを表現し易くなる。また、光が照射されていない状態では加飾層２０によってしっかりと遮光され、加飾層２０から離間して配置される透過パターン１１１が見えることはない。したがって、加飾層２０に視認される意匠は、バックライト５１から光が照射された状態と、照射されていない状態とで明確に相違するため、演出効果の高い優れた意匠となる。
【００４４】
（第２実施形態）
図６は、第２実施形態に係る入力装置を例示する断面図である。
図６に示すように、本実施形態に係る入力装置１Ｂは、第１電極１１が設けられた第１透明電極フィルム１５０と、第２電極１２が設けられた第２透明電極フィルム１６０とを備えている。第１透明電極フィルム１５０は、透光性を有するフィルム状の基材１５１に複数の第１電極１１が所定の間隔で配置されたものである。第２透明電極フィルム１６０は、透光性を有するフィルム状の基材１６１に複数の第２電極１２が所定の間隔で配置されたものである。
【００４５】
この第１透明電極フィルム１５０と第２透明電極フィルム１６０とを、ＯＣＡなどの透光性樹脂を介して重ねて貼り合わせることで、複数の第１電極１１と複数の第２電極１２とが互いに交差する方向に配置され、センサ部１０が構成される。
【００４６】
入力装置１Ｂにおいては、このような透明電極フィルムのうち、加飾層２０からより近位にある第２透明電極フィルム１６０のフィルム状の基材１６１の上に透過調整部１１０が設けられている。これにより、透過調整部１１０と加飾層２０との離間距離を、第１実施形態に係る入力装置１の場合と同様に設定することができ、透過調整部１１０の構成を入力装置１と共通化することができる。なお、入力装置１Ｂにおいて、透過調整部１１０を加飾層２０からより遠位にある第１透明電極フィルム１５０のフィルム状の基材１５１の上に設けてもよい。この場合には、透過調整部１１０と加飾層２０との離間距離を第１実施形態に係る入力装置１の場合よりも長めに確保することができる。それゆえ、透過調整部１１０を透過したバックライト５１の光の拡散の程度が相対的に大きくなり、加飾層２０に光量変化の連続性がより高い意匠を表示させることができる。
【００４７】
以上説明したように、本実施形態によれば、バックライト５１の点灯時の表示と消灯時の表示とが明確に相違して演出効果に優れる意匠を加飾層に有する入力装置１、１Ｂを提供することが可能になる。
【００４８】
なお、上記に本実施形態を説明したが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例えば、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、設計変更を行ったものや、各実施形態の特徴を適宜組み合わせたものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に包含される。例えば、バックライト５１は、表示装置５０の一部であってもよい。この場合には、バックライト５１は、表示装置５０における相対的に高輝度の光を照射可能な部分からなる。また、透過調整部１１０が位置する領域に、引出配線部１１３が形成されていてもよいし、第１電極１１や第２電極１２が形成されていてもよい。
【符号の説明】
【００４９】
１，１Ｂ，２…入力装置
１０…センサ部
１１…第１電極
１２…第２電極
２０…加飾層
３０…表面カバー
５０…表示装置
５１…バックライト
６０…透光性樹脂
１００…基材
１１０…透過調整部
１１１…透過パターン
１１２…遮光パターン
１１２１…透明導電材料からなる層と共通の材料からなる層
１１２２…金属材料からなる層と共通の材料からなる層
１１３…引出配線部
１１３１…透明導電材料からなる層
１１３２…金属材料の層
１１３３…樹脂系材料の層
１５０…第１透明電極フィルム
１５１…基材
１６０…第２透明電極フィルム
１６１…基材
２２０…透過パターン
２３０…遮光パターン
Ｄ１…第１方向
Ｐ１，Ｐ２…像
Ｓ…検出領域
【図１】
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【図２】
2020181227.tif 000004
【図３】
2020181227.tif 000005
【図４】
2020181227.tif 000006
【図５】
2020181227.tif 000007
【図６】
2020181227.tif 000008