(57)【要約】処理装置（１００）は、上面視において、処理対象部材（ＧＢ）がまたがるようにして配置されるとともに、処理対象部材（ＧＢ）を下方側から支持する第一の線材部（１１２）および第二の線材部（１２２）と、第一の線材部（１１２）を第二の線材部（１２２）に対し、上下方向に、相対的に移動させる駆動部（上下機構）（１１３）と、第一の線材部（１１２）を、第二の線材部（１２２）に対し、水平方向に、相対的に移動させる変位機構（変位機構部（１３２）、（１３４））とを備える。
2012035722.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板状の部材を処理位置に配置して処理を実行する処理装置であって、
上面視において、前記平板状の部材がまたがって配置されるとともに、前記平板状の部材を下方側から支持するための第一の線材部および第二の線材部と、
前記第一の線材部を前記第二の線材部に対し、上下方向に相対的に移動させて、上下方向における前記第一の線材部と前記第二の線材部との位置関係を逆転させる駆動部と、
前記第一の線材部を、前記第二の線材部に対し、水平方向に、相対的に移動させる変位機構と、
前記第一の線材部または前記第二の線材部に支持された前記平板状の部材に処理を施す処理部とを備える処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の処理装置において、
前記変位機構は、前記第一の線材部および前記第二の線材部のうち、前記平板状の部材を支持している一方の線材部を水平方向に移動させず、前記支持してない他方の線材部を水平方向に移動させるように構成されている処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の処理装置において、
前記第一の線材部により、前記平板状の部材を支持した後、前記駆動部により、前記第二の線材部を前記第一の線材部よりも相対的に上方に移動させて、前記第二の線材部により、前記平板状の部材を支持させ、
前記変位機構により、前記第一の線材部を水平方向に移動した後、前記駆動部により、前記第一の線材部を前記第二の線材部よりも相対的に上方に移動させて、前記第一の線材部により、前記平板状の部材を支持するように構成された処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の処理装置において、
前記第一の線材部は、平面視で平行配置される複数本の第一線材を有し、
前記駆動部は、複数の第一線材のうち、一部の第一線材を、他の一部の第一線材に比べて、相対的に下方および上方に駆動するように構成されている処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の処理装置において、
複数本の第一線材を有する第一の線材部と、前記第一線材がそれぞれ架け渡される複数対の第一シャフトを有する第一ユニットを複数備え、
異なる前記第一ユニットにおける第一線材同士が互いに平行となるように、複数の第一ユニットが離間配置され、
前記駆動部は、前記各第一ユニットにおける複数対の前記第一シャフトのうち、少なくとも一対の第一シャフトを他の一対の第一シャフトに比べて相対的に下方および上方に駆動するように構成されている処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の処理装置において、
前記複数の第一ユニットの複数の第一線材の一方の端部をそれぞれ支持する複数の第一シャフトは、それぞれ偏心カムを介して同一の駆動軸に固定され、
前記複数の第一ユニットの複数の第一線材の他方の端部をそれぞれ支持する複数の第一シャフトは、それぞれ偏心カムを介して他の同一の駆動軸に固定され、
前記駆動部は、前記偏心カムと、前記駆動軸とを備えて構成される処理装置。
【請求項７】
請求項５または６に記載の処理装置において、
少なくとも１本の第二線材を有する第二線材部と、前記第二線材が架け渡される少なくとも一対の第二シャフトとを有する第二ユニットを備え、
前記第一ユニットと前記第二ユニットとが交互に配置され、
上面視において、前記第一線材と前記第二線材とが平行に配置されている処理装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の処理装置において、
前記変位機構は、
前記第一の線材部が搭載されたベースと、
前記第二の線材部が搭載されたベースと、
これらのベースを相対的に水平方向に移動させる移動手段とを備える処理装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の処理装置において、
前記平板状の部材は、基板である処理装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の処理装置において、
前記処理部は、前記平板状の部材を加熱する加熱部である処理装置。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれかに記載の処理装置において、
前記処理部は、減圧乾燥を行なう減圧乾燥機である処理装置。
【請求項１２】
平板状の処理対象部材を処理位置に配置して所定処理を実行する処理装置であって、
前後方向に一対ずつ左右方向に複数が配列されている複数の第一ユニット部と、
複数の前記第一ユニット部の各々に上下方向に変位自在に支持されている第一シャフトと、
前後方向の一対ずつの前記第一シャフトの上端で個々に張架されている複数の第一線材と、
前記第一シャフトを相対的に上昇させて前記第一線材で前記処理対象部材を前記処理位置に支持させる上下機構と、
複数の前記第一ユニット部が搭載されていて左右方向にスライド自在な一個のベースと、
前記ベースを左右方向に変位させる処理変位機構と、
を有する処理装置。
【請求項１３】
前記処理対象部材は少なくとも左右方向で複数の処理対象領域に区分されており、
複数の前記第一線材は複数の前記処理対象領域を支持する位置に配置されている請求項１２に記載の処理装置。
【請求項１４】
複数の前記第一ユニット部には、各々に複数の前記第一シャフトが左右方向に配列されており、
複数の前記第一ユニット部の左右方向で共通位置の前記第一シャフトを選択的に相対的に上昇させて前記第一線材で前記処理対象部材を前記処理位置に支持させる上下機構を、さらに有する請求項１２または１３に記載の処理装置。
【請求項１５】
複数の前記第一ユニット部が個々に左右方向に移動自在に支持されている請求項１２ないし１４の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項１６】
前記処理対象部材は、左右方向で複数の前記処理対象領域に区分され、
前記処理対象領域間の領域に対応した位置で前後方向に一対ずつ左右方向に複数が配列されている複数の第二ユニット部と、
複数の前記第二ユニット部の各々に上下方向に変位自在に支持されている第二シャフトと、
前後方向の一対ずつの前記第二シャフトの上端で個々に張架されている複数の第二線材と、
前記第二シャフトを相対的に上昇させて搬入される前記処理対象部材を前記第二線材で前記処理位置に支持させる第二上下機構とを、
さらに有する請求項１２ないし１５の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項１７】
複数の前記第二ユニット部が搭載されていて左右方向にスライド自在な一個の第二ベースと、
前記第二ベースを左右方向に変位させる変位機構とを、
さらに有する請求項１６に記載の部材処理装置。
【請求項１８】
複数の前記第二ユニット部が個々に左右方向に移動自在に支持されている請求項１６または１７に記載の処理装置。
【請求項１９】
張架されている複数の前記第二線材の間隙を通過する形状の少なくとも一対のクローで前記処理対象部材を略水平に支持するフォークと、
前記フォークを待機位置と前記処理位置とに前後移動させる前後移動機構とを、さらに有し、
前記第二上下機構は、前記フォークを少なくとも前記処理位置で複数の前記第二線材より上方と下方とに相対移動させる請求項１６ないし１８の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項２０】
複数の前記第一線材で前記処理位置に支持された前記処理対象部材に前記所定処理を実行する部材処理機構を、さらに有する請求項１２ないし１９の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項２１】
前記部材処理機構は、複数の前記第一線材で前記処理位置に支持された前記処理対象部材を加熱処理する請求項２０に記載の処理装置。
【請求項２２】
前記部材処理機構は、複数の前記第一線材で前記処理位置に支持された前記処理対象部材を減圧乾燥する請求項２０に記載の処理装置。
【請求項２３】
平板状の処理対象部材を処理位置に配置して所定処理を実行する処理装置であって、
前後方向に一対ずつ左右方向に複数が配列されている複数の第二ユニット部と、
複数の前記第二ユニット部の各々に上下方向に変位自在に支持されている第二シャフトと、
前後方向の一対ずつの前記第二シャフトの上端で個々に張架されている複数の第二線材と、
前記第二シャフトを相対的に上昇させて搬入される前記処理対象部材を前記第二線材に支持させる第二上下機構と、
を有する処理装置。
【請求項２４】
前記処理対象部材は左右方向で複数の処理対象領域に区分されており、
複数の前記第二ユニット部は、前記処理対象領域間の領域に対応した位置で前後方向に一対ずつ左右方向に複数が配列されており、
第二上下機構は、前記処理対象部材を前記処理対象領域間の領域で前記第二線材に支持させる請求項２３に記載の処理装置。
【請求項２５】
張架されている複数の前記第二線材の間隙を通過する形状の少なくとも一対のクローで前記処理対象部材を略水平に支持するフォークと、
前記フォークを待機位置と前記処理位置とに前後移動させる前後移動機構とを、さらに有し、
前記第二上下機構は、前記フォークを少なくとも前記処理位置で複数の前記第二線材より上方と下方とに相対移動させる請求項２３または２４に記載の処理装置。
【請求項２６】
複数の前記第二ユニット部が搭載されていて左右方向にスライド自在な一個の第二ベースと、
前記第二ベースを左右方向に変位させる第二変位機構とを、
さらに有する請求項２３ないし２５の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項２７】
複数の前記第二ユニット部が個々に左右方向に移動自在に支持されている請求項２３ないし２６の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項２８】
前後方向に一対ずつ左右方向に複数が配列されている複数の第一ユニット部と、
複数の前記第一ユニット部の各々に左右方向に配列されていて各々が上下方向に変位自在に支持されている複数の第一シャフトと、
前後方向の一対ずつの前記第一シャフトの上端で個々に張架されている複数の第一線材と、
複数の前記第一ユニット部の左右方向で共通位置の前記第一シャフトを選択的に相対的に上昇させて前記第一線材で前記処理対象部材を前記対象処理位置に支持させる第一上下機構と、
を有する請求項２３ないし２７の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項２９】
前記処理対象部材は左右方向で複数の処理対象領域に区分されており、
複数の前記第一線材は複数の前記処理対象領域を支持する位置に配置されている請求項２８に記載の処理装置。
【請求項３０】
複数の前記第一ユニット部が搭載されていて左右方向にスライド自在な一個の第一ベースと、
前記第一ベースを左右方向に変位させる第一変位機構とを、
さらに有する請求項２８または２９に記載の処理装置。
【請求項３１】
複数の前記第一ユニット部が個々に左右方向に移動自在に支持されている請求項２８ないし３０の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項３２】
複数の前記第一線材で前記処理位置に支持された前記処理対象部材に前記所定処理を実行する部材処理機構を、さらに有する請求項２３ないし３１の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項３３】
前記部材処理機構は、複数の前記第一線材で前記処理位置に支持された前記処理対象部材を加熱処理する請求項３２に記載の処理装置。
【請求項３４】
前記部処理機構は、複数の前記第一線材で前記処理位置に支持された前記処理対象部材を減圧乾燥する請求項３２に記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平板状の部材に対し、所定の処理を実行する処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、処理装置である加熱処理装置でガラス基板などの処理対象部材を加熱処理するとき、処理対象部材をリフトピン機構の不動ピン（固定ピン）と可動ピンとで支持している(例えば、特許文献１，２参照)。特許文献１に開示されたリフトピン機構では、可動ピンと固定ピンとで交互に基板を支持している。【０００３】
一方、特許文献２に開示されたリフトピン機構では、可動ピンが上下方向と水平方向とに移動する。上昇した可動ピンで処理対象部材を支持して水平方向に移動させ、可動ピンを下降させて不動ピンで支持させる。この動作を繰り返すことにより、可動ピンと不動ピンとが処理対象部材に接触する位置を常時変化させ、ピン接触に起因した処理対象部材の温度ムラを抑制する。
その他、リフトピン機構を開示した文献としては、特許文献３、４がある。【０００４】
また、本出願人は加熱処理などを処理対象部材に均一に実行できる部材処理装置を提案している。その技術では、フォークで処理対象部材を待機位置から処理位置まで前進させ、フォークを複数の支持線材より下方まで相対移動させることで、並列に配置されている複数の支持線材で処理対象部材を処理位置に支持させる。【０００５】
この状態で、フォーク移動機構により複数の支持線材より下方に位置させたフォークを処理位置から待機位置まで後退させる。このような状態で、複数の支持線材で処理位置に支持された対象部材にパネルヒータで加熱処理を実行する(特許文献５)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−７６２１１号公報
【特許文献２】特開２００６−０６１７５５号公報
【特許文献３】特開２００９−９４１８２号公報
【特許文献４】国際公開ＷＯ２００８／０２９９４３のパンフレット
【特許文献５】特開２０１０−１４９９５３号公報
【発明の概要】
【０００７】
しかし、特許文献１〜４の処理装置では、リフトピン機構の可動ピンと不動ピンにより平板状の処理対象部材を水平に複数箇所で点状に支持する。
【０００８】
このため、可動ピンと不動ピンによる処理対象部材の支持位置に応力および伝熱が点状に集中することになり、加熱処理や減圧乾燥などの所定処理を処理対象部材に均一に実行することが困難である。
【０００９】
また、特許文献５の部材処理装置では、複数の支持線材で処理対象部材を処理位置に支持するので、特許文献１〜４のようにピンで支持する場合よりも、加熱処理や減圧乾燥などの所定処理を処理対象部材に均一に実行することができる。しかし、それでも支持線材で支持されている部分と支持されていない部分とで加熱処理や減圧乾燥などの所定処理に不均一が発生する。
【００１０】
本発明は上述のような課題に鑑みてなされたものであり、加熱処理や減圧乾燥などの所定処理を処理対象部材に均一に実行することができる処理装置を提供するものである。
【００１１】
本発明によれば、平板状の部材を処理位置に配置して処理を実行する処理装置であって、上面視において、前記平板状の部材がまたがって配置されるとともに、前記平板状の部材を下方側から支持する第一の線材部および第二の線材部と、前記第一の線材部を前記第二の線材部に対し、上下方向に相対的に移動させて、上下方向における第一の線材部と第二の線材部との位置関係を逆転させるための駆動部と、前記第一の線材部を、前記第二の線材部に対し、水平方向に、相対的に移動させる変位機構と、前記第一の線材部または前記第二の線材部に支持された前記平板状の部材に処理を施す処理部と、を備える処理装置が提供される。
【００１２】
以上のような、本発明の処理装置は、第一の線材部を第二の線材部に対し、上下方向に、相対的に移動させる駆動部と、第一の線材部を、第二の線材部に対し、水平方向に、相対的に移動させる変位機構とを備えている。
そのため、たとえば、第一の線材部に処理対象となる平板状の部材を支持させた後、第一の線材部を、第二の線材部よりも相対的に下方に移動させ、第二の線材部に平板状の部材を支持させることができる。これにより、平板状の部材の同一箇所を線材部で支持することが防止される。さらに、第二の線材部により、平板状の部材を支持している間に、第一の線材部を第二の線材部に対し、相対的に水平方向に移動させることができる。その後、第一の線材部を第二の線材部に対し相対的に上方に移動させれば、第一の線材部により、平板状の部材を支持することができる。第二の線材部により前記部材を支持する工程の前後で第一の線材部により前記部材が支持されることとなるが、第二の線材部により前記部材を支持する工程の前後で第一の線材部が支持する箇所が異なることとなる。これによっても、平板状の部材を同一箇所で線材部により支持することが防止される。
なお、以上の説明では、第二の線材部により、平板状の部材を支持している間に、第一の線材部を第二の線材部に対し、相対的に水平方向に移動させるとしたが、これに限られるものではなく、第一の線材部により、平板状の部材を支持している間に、第二の線材部を相対的に水平方向に移動させてもよい。
なお、本発明において、第一の線材部が複数本の線材で構成されている場合、少なくとも一部の線材が第二の線材部を構成する線材に対し、相対的に上下方向に駆動し、第一の線材部の構成する線材の位置と第二の線材部を構成する線材の位置との上下方向における位置関係が入れ替わればよい。
また、前記第一の線材部を前記第二の線材部に対し、上下方向に相対的に移動させるとは、第一の線材部を上下方向に移動させてもよく、第二の線材部を上下方向に移動させてもよく、さらには、第一の線材部および第二の線材部の双方を上下方向に移動させてもよい。
【００１３】
なお、本発明の各種の構成要素は、必ずしも個々に独立した存在である必要はなく、複数の構成要素が一個の部材として形成されていること、一つの構成要素が複数の部材で形成されていること、ある構成要素が他の構成要素の一部であること、ある構成要素の一部と他の構成要素の一部とが重複していること、等でもよい。
【００１４】
さらに、以下の実施形態では、前後左右上下の方向を規定しているが、これは本発明の構成要素の相対関係を簡単に説明するために便宜的に規定したものであり、本発明を実施する場合の製造時や使用時の方向を限定するものではない。
【００１５】
また、前後左右上下の方向とは、完全に幾何学的に直交している必要はなく、相対的に前後左右上下となる方向となっていればよく、例えば、各方向が任意の方向に傾斜していてもよい。
【００１６】
例えば、本発明で云う上下方向に相対的に移動するとは、変位の結果として上下方向に相違する位置に移動することを意味しており、変位の方向そのものが表面に厳密に上下方向である必要はない。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の処理装置によれば、加熱処理や減圧乾燥などの所定処理を処理対象となる部材に均一に実行することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。【００１９】
【図１】本発明の実施の形態の処理装置の内部構造を示す模式的な斜視図である。
【図２】処理装置の内部構造を示す模式的な斜視図である。
【図３】処理装置の内部構造を示す模式的な平面図である。
【図４】駆動部の構造を示す側面図である。
【図５】処理装置の動作を示す模式的な工程図である。
【図６】処理装置の動作を示す模式的な工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の実施の第一の形態を図面を参照して以下に説明する。なお、本実施の形態では図示するように上下方向以外に前後左右の方向も規定して説明する。しかし、これは構成要素の相対関係を簡単に説明するために便宜的に規定するものである。従って、本発明を実施する製品の製造時や使用時の方向を限定するものではない。
なお、前後左右方向は、水平方向に沿った方向であり、前後方向と、左右方向とは直交する。
【００２１】
はじめに、本実施形態の処理装置１００の概要について説明する。
処理装置１００は、いわゆるプリベーク装置である。処理装置１００では、液晶パネルに使用するガラス基板やプリント配線基板などの基板である平板状の処理対象部材ＧＢを処理位置ＢＰに配置して所定処理である加熱処理を実行する。
【００２２】
この処理装置１００は、平板状の部材（処理対象部材ＧＢ）を処理位置ＢＰ（図５参照）に配置して処理を実行するものである。この処理装置１００は、図１および図２に示すように、上面視において、処理対象部材ＧＢがまたがるようにして配置されるとともに、処理対象部材ＧＢを下方側から支持する第一の線材部１１２および第二の線材部１２２と、第一の線材部１１２を第二の線材部１２２に対し、上下方向に、相対的に移動させる駆動部（上下機構）１１３と、前記第一の線材部１１２を、前記第二の線材部１２２に対し、水平方向に、相対的に移動させる変位機構（変位機構部１３２、１３４）と、第一の線材部１１２または第二の線材部１２２に支持された処理対象部材ＧＢに処理を施す処理部１３０と、を備える。
【００２３】
次に、本実施形態の処理装置１００について詳細に説明する。
第一の線材部１１２は、複数本（本実施形態では４本）の第一線材１１２Ａを有する。複数本の第一線材１１２Ａは、図１，２にも示すように、互いに平行に配置され、前後方向に延在している。
各第一線材１１２Ａは、一対の対向配置された第一シャフト（処理上下シャフト）１１１の上端に張架されている。対向配置された一対の第一シャフト１１１は、それぞれ対向配置された一対の支持台１１７（第一ユニット部）に設けられている。各支持台１１７には、各支持台１１７から突出するように、複数本のシャフト１１１が設けられている
換言すると、複数本の第一線材１１２Ａと、第一線材１１２Ａがそれぞれ架け渡される複数対の第一シャフト１１１と、一対の支持台１１７とで第一ユニット１１０が構成されている。
各支持台１１７に設けられた複数本のシャフト１１１は、左右方向に並んで、平行に配置されている。
【００２４】
本実施形態では、第一ユニット１１０は、複数個、左右方向に離間配置されている。処理装置１００において各第一線材１１２Ａは互いに平行に配置されている。
第一線材１１２Ａは、例えば、２００℃以上の耐熱性がある、メタ系アラミド繊維やポリイミド繊維などの人工繊維や金属芯線をフッ素系樹脂チューブに通したワイヤや、前述した人工繊維や金属芯線を、フッ素系樹脂でコーティングを施したワイヤなどからなる。このため、第一線材１１２Ａは、長手方向と直交する断面の面積が充分に小さい線材からなり、物性的にも処理対象部材ＧＢより充分に熱容量が小さい。
なお、後述する第二の線材部１２２を構成する第二線材も第一線材１１２Ａと同様の材料のワイヤで構成されていてもよく、また、第二線材は、第一線材１１２Ａとは異なる材料、たとえば、第一線材１１２Ａよりも熱容量が大きな材料のワイヤで構成されていてもよい。
【００２５】
図４に示す駆動部１１３は、第一線材部１１２を上下方向に駆動するためのものである。図４に示すように、駆動部１１３は、各第一シャフト１１１に接続された偏心カム１１５と、この偏心カム１１５を駆動するための駆動軸１１４と、駆動軸１１４を駆動するための駆動モータ１１６（図１，２参照）とを有する。左右方向に沿って配列されている複数の支持台１１７には、１本の駆動軸１１４が連通されており、一個の駆動モータ１１６に連結されている。また、支持台１１７の内部には、複数、たとえば、４つの偏心カム１１５が収納され、偏心カム１１５それぞれには、第一シャフト１１１が固定されている。従って、第一シャフト１１１は、上下方向に変位自在に支持台１１７に設けられることとなる。
換言すると、複数の第一ユニット１１０の複数の第一線材１１２Ａの一方の端部をそれぞれ支持する複数の第一シャフト１１１は、それぞれ偏心カム１１５を介して同一の駆動軸１１４に固定される。また、複数の第一ユニット１１０の複数の第一線材１１２Ａの他方の端部をそれぞれ支持する複数の第一シャフト１１１は、それぞれ偏心カム１１５を介して他の同一の前記駆動軸１１４に固定される。
駆動部１１３は、各第一ユニット１１０において、複数対の第一シャフト１１１を一対ずつ選択的に上昇または下降させる。
【００２６】
さらに、本実施の形態では、図３に示すように、処理対象部材ＧＢは、複数の領域ＨＳと、領域ＤＳとに区画されている。領域ＨＳは、熱処理後、利用される部分（処理対象領域）であり、領域ＤＳは、熱処理後、利用されない部分である。領域ＨＳは、水平方向、具体的には、前後方向および左右方向に所定の間隔をあけて配置され、領域ＨＳ間が領域ＤＳとなっている。複数の第一線材１１２Ａは複数の領域ＨＳを支持する位置に配置される。第二の線材部１２２を構成する第二線材は、主に領域ＤＳを支持する位置にあるが、領域ＨＳを支持する位置に配置されることもある。
【００２７】
さらに、本実施形態の処理装置１００は、第二の線材部１２２を有する。第二の線材部１２２は、本実施形態では、１本の第二線材で構成される。
そして、第二線材は、その端部が一対の第二シャフト１２１に固定され、一対の第二シャフト１２１間に架け渡されている。一対の第二シャフト１２１は、それぞれ対向配置された支持台１２７に設けられている。各支持台１２７には、支持台１２７から突出するように、１本の第二シャフト１２１が設けられている。第二シャフト１２１は、上下方向に変位自在に支持台（第二ユニット部）１２７に支持されている。
換言すると、第二線材と、第二線材が架け渡される一対の第二シャフト１２１と、一対の支持台１２７とで第二ユニット１２０が構成されている。
本実施形態では、第二ユニット１２０は、領域ＤＳに対応した位置で複数個、左右方向に離間配置されている。複数の第二ユニット１２０の第二線材は互いに平行に配置されている。
【００２８】
また、本実施形態では、第二ユニット１２０と、第一ユニット１１０とは左右方向に沿って交互に配置されている。そして、第一線材１１２Ａと、第二線材とは互いに平行になっている。
さらに、処理装置１００は、第二線材を上下方向に駆動するための駆動部(図示せず)を有している。具体的には、対向配置され、１本の第二線材が架け渡される一対の第二シャフト１２１を上下に駆動するソレノイド等の駆動機構を有している。このソレノイド等の駆動機構と、駆動部１１３とで、第一の線材部１１２と第二の線材部１１２とを相対的に上下方向に移動させる駆動部が構成されることとなる。
【００２９】
さらに、本実施形態の処理装置１００は、図１および図２に示すように、複数の第一ユニット１１０が搭載されていて左右方向にスライド自在な一個の第一ベース１３１と、第一ベース１３１を左右方向に変位させるモータ（移動手段）１３２Ａと、を有する変位機構部１３２を有する。
変位機構部１３２は、第一の線材部１１２を第二の線材部１２２に対し、相対的に水平方向（本実施形態では、左右方向）に移動させるためのものである。たとえば、変位機構部１３２は、パルスモータ１３２Ａと、パルスモータ１３２Ａにより、回転される送りネジ１３２Ｂと、送りネジ１３２Ｂの回転により、左右方向に直線移動する第一ベース１３１とを備える。
第一ベース１３１は、平面矩形形状の平板状の部材であり、この第一ベース１３１上に複数の第一ユニット１１０が搭載されている。第一ベース１３１の対向する一対の辺にそって支持台１１７が離間配置される。なお、第一ベース１３１は図示しないレール上を移動する。たとえば、第一ベース１３１に転動体であるタイヤやローラを設け、レール上を転がり移動するものとしてもよい。また、第一ベース１３１はエアにより、レール上に浮上させた状態で、レール上を移動してもよい。このようにすることで、第一ベース１３１を移動させることによるパーティクルの発生を抑制できる。
変位機構部１３２は、第一の線材部１１２を水平方向に移動させるが、第一の線材部１１２は、処理対象部材ＧＢの下方の領域内で主に移動することとなる。ただし、熱処理中において、第一の線材部１１２が処理対象部材ＧＢからはみ出すように、水平方向に移動してもよい。
【００３０】
また、本実施の形態の処理装置１００は、変位機構部１３４を有し、変位機構部１３４は、第二ユニット１２０が搭載されていて左右方向にスライド自在な一個の第二ベース１３３と、第二ベース１３３を左右方向に変位させるモータ１３４Ａとを有する。
変位機構部１３４は、第二の線材部１２２を第一の線材部１１２に対し、相対的に水平方向（本実施形態では、左右方向）に移動させるためのものである。たとえば、変位機構部１３４は、パルスモータ１３４Ａと、パルスモータ１３４Ａにより、回転される送りネジ１３４Ｂと、送りネジ１３４Ｂの回転により、左右方向に直線移動する第二ベース１３３とを備える。
第二ベース１３３は、平面矩形形状の平板状の部材であり、この第二ベース１３３上に複数の第二ユニット１２０が搭載されている。第二ベース１３３の対向する一対の辺にそって支持台１２７が離間配置される。なお、第二ベース１３３は図示しないレール上を移動する。たとえば、第二ベース１３３に転動体であるタイヤやローラを設け、レール上を転がり移動するものとしてもよい。また、第二ベース１３３はエアにより、レール上に浮上させた状態で、レール上を移動してもよい。このようにすることで、第二ベース１３３を移動させることによるパーティクルの発生を抑制できる。
変位機構部１３４は、第二の線材部１２２を水平方向に移動させるが、第二の線材部１２２は、処理対象部材ＧＢの下方の領域内で移動することとなる。すなわち、熱処理中において、第二の線材部１２２が処理対象部材ＧＢからはみ出すように、水平方向に移動することはない。
【００３１】
さらに、本実施の形態の処理装置１００は、図３および図５に示すように、張架されている複数の第一の線材部１１２の間隙を通過する形状の少なくとも一対のクロー１４１で処理対象部材ＧＢを略水平に支持するフォーク１４０と、フォーク１４０を待機位置ＷＰと処理位置ＢＰとに前後移動させる前後移動機構(図示せず)と、も有する。
【００３２】
フォーク１４０を少なくとも処理位置ＢＰで複数の第二の線材部１２２の第二線材より上方と下方とに相対移動させる。より具体的には、図５(ｃ)に示すように、駆動部はフォーク１４０より下方の初期位置に配置している第二の線材部１２２の第二線材を上昇させ、処理位置ＢＰの処理対象部材ＧＢをフォーク１４０から受け取る。
【００３３】
ただし、第二の線材部１２２の第二線材を上昇させておき、それより上方に搬入させたフォーク１４０を下降させ、処理対象部材ＧＢを第二の線材部１２２の第二線材に支持させてもよい(図示せず)。
【００３４】
また、本実施の形態の処理装置１００は、複数の第一線材１１２Ａで処理位置ＢＰに支持された処理対象部材ＧＢに所定処理として加熱処理を実行するパネルヒータ１３０を、さらに有する。
【００３５】
このパネルヒータ（部材処理機構）１３０は、処理対象部材ＧＢと同等な平板状（平面矩形形状）に形成されており、図３に示すように、その前後方向の縁部に、五対の第二ユニット１２０と四対の第一ユニット１１０とが左右方向に配列されている。上述のパネルヒータ１３０は、複数の第一線材１１２Ａで処理位置ＢＰに支持された処理対象部材ＧＢを、例えば、８０〜１５０℃に下方から加熱処理する。
なお、パネルヒータ１３０は、ベース１３１の上部に設けられているが、ベース１３１からは離間している。パネルヒータ１３０はベース１３１等の移動に伴い移動することはなく、固定されたものである。
【００３６】
上述のような構成において、本実施の形態の処理装置１００は、前述のように平板状の処理対象部材ＧＢを処理位置ＢＰに後方の待機位置ＷＰから搬入して加熱処理を実行する。
図５および図６を参照して説明する。図５は、図１の処理装置１００を左右方向と直交して見た図であり、図６は、図１の処理装置１００を前後方向と直交して見た図である。
【００３７】
より詳細には、本実施の形態の処理装置１００は、図５(ａ)に示すように、初期状態では、第一の線材部１１２を構成する全ての第一線材１１２Ａおよび第二の線材部１２２は下降している。そして、これらの線材よりも上方の待機位置ＷＰに位置するフォーク１４０により、処理対象部材ＧＢは略水平に支持されている。
【００３８】
つぎに、図５(ｂ)に示すように、このフォーク１４０がフォーク移動機構により、待機位置ＷＰから処理位置ＢＰまで前進される。このとき、フォーク１４０は、第一の線材部１１２を構成する全ての第一線材１１２Ａおよび第二の線材部１２２よりも上方に位置している。
【００３９】
つぎに、図５(ｃ)、図６（ａ）に示すように、すべての第二シャフト１２１が上昇し、左右方向に沿って配列されている複数の第二の線材部１２２が上方に一様に移動する。これにより、図３に示すように、処理対象部材ＧＢが領域ＤＳの位置で、第二の線材部１２２の第二線材により支持される（処理Ｓ１）。
【００４０】
このような状態で、図５(ｃ)に示すように、フォーク１４０は処理位置ＢＰから待機位置ＷＰまで退避する。次に、図５（ｄ）および図６（ｂ）に示すように、第二シャフト１２１が下降し、これに伴い、処理対象部材ＧＢを支持している第二の線材部１２２が下降する。一方で、第一シャフト１１１が上昇し、第一線材１１２Ａが上昇することにより、処理対象部材ＧＢが、第一線材１１２Ａにより領域ＨＳの位置で支持される。
ここでは、各第一ユニット１１０において、対向する一対のシャフト１１１が上昇し、一本の第一線材１１２Ａが上昇する。各第一ユニット１１０において、他の第一線材１１２Ａは上昇しない。また、各第一ユニット１１０において、共通の位置にある、たとえば、右から１番目に配置されている第一線材１１２Ａが上昇する。
また、第二の線材部１２２に支持された処理対象部材ＧＢを、第一線材１１２Ａに引き渡す際、処理対象部材ＧＢの高さ位置は変動しないことが好ましい。すなわち、処理対象部材ＧＢを支持する第二の線材部１１２の高さまで第一線材部１１２Ａを上昇させた後、第二の線材部１２２を下降させることが好ましい。なお、後段の工程においても、同様であり、第二の線材部１２２および第一線材１１２Ａ間で処理対象部材ＧＢを引き渡す際には、処理対象部材ＧＢの高さ位置は変動しないことが好ましい。
【００４１】
このような状態でパネルヒータ１３０により処理対象部材ＧＢが加熱処理される。ただし、各第一ユニット１１０において、領域ＨＳで処理対象部材ＧＢを支持する第一線材１１２Ａは、四本のうち、一本ずつ順番に上昇して三本は下降した状態となる。一本の第一線材１１２Ａで処理対象部材ＧＢが継続的に支持されることがない。
より詳細に説明すると、図６（ｂ）、（ｃ）に示すように、各第一ユニット１１０において、複数本の第一線材１１２Ａのうち、１本目の第一線材１１２Ａにより処理対象部材ＧＢを支持する。次に、処理対象部材ＧＢを支持していない２本目の第一線材１１２Ａが架け渡された一対の第一シャフト１１１が上昇し、上昇した第一線材１１２Ａにより、処理対象部材ＧＢを支持する。一方で、処理対象部材ＧＢを支持していた１本目の第一線材１１２Ａは、下降し、処理対象部材ＧＢを支持しない状態となる。
次に、処理対象部材ＧＢを支持していない３本目の第一線材１１２Ａが架け渡された一対の第一シャフト１１１が上昇し、上昇した第一線材１１２Ａにより、処理対象部材ＧＢを支持する。一方で、処理対象部材ＧＢを支持していた２本目の第一線材１１２Ａは、下降し、処理対象部材ＧＢを支持しない状態となる。
次に、処理対象部材ＧＢを支持していない４本目の第一線材１１２Ａが架け渡された一対の第一シャフト１１１が上昇し、上昇した第一線材１１２Ａにより、処理対象部材ＧＢを支持する。一方で、処理対象部材ＧＢを支持していた３本目の第一線材１１２Ａは、下降し、処理対象部材ＧＢを支持しない状態となる（処理Ｓ２）。
このように、複数本の第一線材１１２Ａを順番に、１本ずつ上昇させるとともに、１本ずつ下降させる。
なお、各第一ユニット１１０において、共通の位置にある第一線材１１２Ａを同期させて、上昇、下降させる。
また、一の第一線材１１２Ａ支持された処理対象部材ＧＢを、他の第一線材１１２Ａに引き渡す際、処理対象部材ＧＢの高さ位置は変動しないことが好ましい。すなわち、処理対象部材ＧＢを支持する一の第一線材１１２Ａの高さまで他の第一線材１１２Ａを上昇させた後、一の第一線材１１２Ａを下降させることが好ましい。
【００４２】
ここで、第一の線材部１１２により、処理対象部材ＧＢを支持している間、第二の線材部１２２は下降した状態となる。そして、第二の線材部１２２が処理対象部材ＧＢを支持しない状態で、図６（ｃ）に示すように、変位機構部１３４により全部の第二の線材部１２２を左右方向にスライド移動させる。本実施の形態の処理装置１００では、定期的に第二の線材部１２２が上昇して処理対象部材ＧＢを支持するが、第二の線材部１２２が上昇して処理対象部材ＧＢを支持するときには、前回（スライドする前）と違った位置で処理対象部材ＧＢを支持することになる（図６（ｄ）参照）。
次に、各第一ユニット１１０において、１本目の第一線材１１２Ａから４本目の第一線材１１２Ａまでが順番に処理対象部材ＧＢを支持した後、第二の線材部１２２が上昇する（処理Ｓ３）。その後、４本目の第一線材１１２Ａを下降させる。これにより、第二の線材部１２２により処理対象部材ＧＢが支持されることとなる。その後、図６（ｄ）に示すように、変位機構部１３２により全部の第一の線材部１１２を左右方向にスライド移動させる。次に、図６（ｅ）に示すように、１本目の第一線材１１２Ａを上昇させるとともに、第二の線材部１２２を下降させて、１本目の第一線材１１２Ａにより、スライドする前とは違った位置で処理対象部材ＧＢを支持する。ただし、第一線材１１２Ａは、処理対象部材ＧＢの領域ＨＳ内で処理対象部材ＧＢを支持する。そして、処理Ｓ２と同様に、複数本の第一線材１１２Ａを順番に、１本ずつ上昇させるとともに、１本ずつ下降させて、第一線材１１２Ａ間で処理対象部材ＧＢの引渡しを行なう（処理Ｓ４）。
【００４３】
第二の線材部１２２が下降し、第二の線材部１２２が処理対象部材ＧＢを支持しない状態となったら、図６（ｆ）に示すように、変位機構部１３４により全部の第二の線材部１２２を左右方向にスライド移動させる（処理Ｓ５）。次に、第二の線材部１２２が上昇して処理対象部材ＧＢを支持するときには、前回（スライドする前）と違った位置で処理対象部材ＧＢを支持することになる。以下、処理Ｓ１〜処理Ｓ５の工程を繰り返す。ただし、第二の線材部１２２は、スライドすることにより、処理対象部材ＧＢの領域ＨＳ内で処理対象部材ＧＢを支持することとなる場合もある。
【００４４】
上述のような処理対象部材ＧＢの加熱処理が完了すると、前述の図５(ａ)〜(ｄ)の動作を反対に実行することにより、加熱処理された処理対象部材ＧＢが待機位置ＷＰに搬出される。
【００４５】
次に、本実施形態の効果について説明する。
本実施形態では、第一線材１１２Ａで処理対象部材ＧＢを支持した後、第一線材１１２Ａを下降させ、第二の線材部１２２を上昇させている。その後、ベース１３１をスライドさせている。次に、第二の線材部１２２を下降させ、第一線材１１２Ａを上昇させることで、第二の線材部１１２が処理対象部材ＧＢを支持する工程の前後における第一線材１１２Ａの位置をずらすことができる。これにより、第一線材１１２Ａで処理対象部材ＧＢの同じ位置を支持することが防止され、加熱処理を処理対象部材ＧＢに均一に実行することができる。
さらに、第一線材１１２Ａで処理対象部材ＧＢを支持している間に、ベース１３３をスライドさせて、第二の線材部１２２の左右方向における位置を変位させることができ、これによっても、加熱処理を処理対象部材ＧＢに均一に実行することができる。
【００４６】
本実施の形態の処理装置１００では、上述のように、複数の第一線材１１２Ａを１本ずつ順番に上昇させるとともに、順番に下降させている。これにより、一つの第一線材１１２Ａで継続的に処理対象部材ＧＢを支持することが防止されている。このため、加熱処理を処理対象部材ＧＢに均一に実行することができる。
【００４７】
さらに、第一線材１１２Ａ間で処理対象部材ＧＢを引き渡しているので、処理対象部材ＧＢを支持する際の応力が局所的に集中することもない。このため、処理対象部材ＧＢは応力集中による変形なども発生することなく加熱処理される。
各第一ユニットに第一線材が１本しかない場合、処理対象部材ＧＢへの応力の負担等を考慮すると、第一の線材部および第二の線材部間での処理対象部材ＧＢの引渡しを頻繁に行なう必要がある。
これに対し、本実施形態では、各第一ユニット１１０に複数本の第一線材１１２Ａを設けており、第一線材１１２Ａ間で処理対象部材ＧＢの引き渡しを行なうことができるので、第一の線材部１１２および第二の線材部１２２間での処理対象部材ＧＢの引渡しを頻繁に行なわなくてすむ。
また、各第一ユニットに第一線材が１本しかない場合、処理対象部材ＧＢを同じ場所で支持してしまうことを防止するためには、第一の線材部および第二の線材部を頻繁にスライドさせる必要があり、処理装置の取り扱い性が悪くなることが懸念される。
これに対し、本実施形態では、各第一ユニット１１０に複数本の第一線材１１２Ａを設けており、第一線材１１２Ａ間で処理対象部材ＧＢの引き渡しを行なっている間に、余裕をもって第二の線材部１２２を左右方向にスライドさせることができ、第一の線材部１１２および第二の線材部１２２を頻繁にスライドさせずにすむので、取り扱い性に優れた装置とすることができる。
【００４８】
さらに、処理位置ＢＰに搬入される処理対象部材ＧＢを、熱処理後において利用されない領域ＤＳで第二の線材部１２２により支持することができるので、熱処理後において利用される領域ＨＳへの第二の線材部１２２の支持の影響を最小限にとどめることができる。
【００４９】
しかも、第一線材１１２Ａは、前述のように断面積と熱容量とが充分に小さいので、熱伝導も低減されている。このため、パネルヒータ１３０により加熱処理される処理対象部材ＧＢの温度分布の偏差を抑制することができ、処理対象部材ＧＢを均一に加熱処理することができる。
【００５０】
さらに、本実施の形態の処理装置１００では、一個の駆動モータ１１６により複数の第一ユニット１１０で四本の第一シャフト１１１を同様に上下させるので、その構造が簡単であるとともに第一線材１１２Ａの上下移動の同期が確実である。
【００５１】
また、本実施形態では、第一の線材部１１２、第二の線材部１２２のうち、処理対象部材ＧＢを支持していない方の線材部を水平方向に移動させている。そのため、線材部の水平方向の移動に伴い、処理対象部材ＧＢが移動してしまうことが防止され、処理対象部材ＧＢは、加熱処理中、同じ位置にとどまることができる。
これに加え、第一の線材部１１２および第二の線材部１２２間での処理対象部材ＧＢの引渡しの際、および、第一線材１１２Ａ間での処理対象部材ＧＢの引渡しの際、処理対象部材ＧＢの高さ位置が変動しない。
そのため、処理対象部材ＧＢを動かすことで周囲に対流が生じ、処理対象部材ＧＢの温度分布が変化してしまうことを防止でき、効率よく、処理対象部材ＧＢを加熱処理することができる。
【００５２】
さらに、本実施形態では、第一ユニット１１０と第二ユニット１２０とを、左右方向に沿って交互に配置している。これにより、処理対象部材ＧＢを安定的に支持することができる。
【００５３】
また、本実施形態では、第一ユニット１１０を第一ベース１３１に搭載し、第二ユニット１２０を第二ベース１３３に搭載している。そして、第一ベース１３１と第二ベース１３３を直線移動させることで、第一の線材部１１２、第二の線材部１２２の水平方向における位置を調整している。ベース１３１，１３３をスライドさせるだけで、第一の線材部１１２、第二の線材部１２２の水平方向における位置を調整できるので、第一の線材部１１２および第二の線材部１２２の位置調整が容易である。また、ベース１３１，１３３を水平方向に沿って移動させるだけで、第一の線材部１１２、第二の線材部１２２の水平方向における位置を調整でき、そのスライド量も適宜簡単に設定することができる。
【００５４】
なお、本発明は本実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で各種の変形を許容する。上記形態では、熱処理中、処理対象部材ＧＢが水平方向にスライド移動しないことを例示したが、これがスライド移動してもよい。たとえば、第一の線材１１２Ａが処理対象部材ＧＢを支持した状態で、ベース１３１を水平方向に移動してもよい。
【００５５】
また、上記形態では、図３に示すように、処理対象領域ＨＳが２×４に区分された処理対象部材ＧＢを加熱処理するため、５つの第二ユニット１２０と４つの第一ユニット１１０とが配列されていることを例示した。
【００５６】
しかし、当然ながら、これらのユニットは処理対象部材ＧＢの区分に対応させて各種のレイアウトが可能である。さらに、複数種類の処理対象部材ＧＢの区分に対応するように、複数の第二ユニット１２０と複数の第一ユニット１１０とを配列しておき、その複数の第二ユニット１２０と複数の第一ユニット１１０とを選択的に作動させることで複数種類の処理対象部材ＧＢに対応することもできる(図示せず)。
【００５７】
さらに、複数の第二ユニット１２０と複数の第一ユニット１１０とを左右方向に移動自在に配列しておき、その複数の第二ユニット１２０と複数の第一ユニット１１０との位置を変更することで複数種類の処理対象部材ＧＢに対応することもできる(図示せず)。
【００５８】
なお、上記形態では第一線材１１２Ａの断面積と熱容量とが充分に小さいことで熱伝導を低減し、パネルヒータ１３０により加熱処理される処理対象部材ＧＢの温度分布の偏差を抑制することを例示した。
【００５９】
当然ながら、第一線材１１２Ａの断面積や熱容量は、許容される処理対象部材ＧＢの温度分布の偏差、処理対象部材ＧＢを支持するための強度や耐久性、等を条件として適正に決定される。
【００６０】
さらに、上記形態では、図４に示すように、駆動部１１３が共通する駆動軸１１４で支持された偏心カム１１５からなることを例示したが、これをクランク機構で形成することもできる。
【００６１】
また、上記形態では処理装置１００がパネルヒータ１３０により処理対象部材ＧＢを下方から加熱処理することを例示した。しかし、パネルヒータ１３０により処理対象部材ＧＢを上方から加熱処理する処理装置や、一対のパネルヒータ１３０により処理対象部材ＧＢを上方と下方との両方から加熱処理する処理装置なども可能である(ともに図示せず)。
【００６２】
さらに、上記形態ではパネルヒータ１３０により処理対象部材ＧＢを加熱処理するプリベーク装置を処理装置１００として例示した。しかし、処理対象部材ＧＢを減圧乾燥する減圧乾燥装置を処理装置とすることもできる(図示せず)。たとえば、前記実施形態の処理装置１００を、真空ポンプ等の減圧手段に接続されたチャンバ内に配置し、減圧乾燥装置を構成してもよい。
さらに、前記実施形態では、ベース１３１，１３３を水平方向に沿って移動させることで、第一の線材部１１２、第二の線材部１２２を水平方向に移動させたが、これに限られるものではない。たとえば、ベース１３３を設けずに、ベース１３１を使用して、第一の線材部１１２を第二の線材部１２２に対して、水平方向に移動させてもよい。
また、前記実施形態では、第一の線材部１１２は複数本の第一線材１１２Ａで構成されているとしたが、これに限られるものではなく、１本の第一線材１１２Ａで構成されていてもよい。このようにすることで、装置の簡素化をはかることができる。さらに、第一線材１１２Ａは４本であったが、これに限れられるものではない。第一線材１１２Ａが複数本の場合には、たとえば、５本でもよく、また、３本あってもよい。
【００６３】
さらに、前記実施形態では、第一の線材部１１２を構成する複数本の第一線材１１２Ａを順番に上昇および下降させていたが、これに限らず、一部の第一線材１１２Ａが固定され、他の一部の第一線材１１２Ａが上下方向に駆動するものとしてもよい。たとえば、一部の第一線材１１２Ａで処理対象部材ＧＢを支持した後、他の一部の第一線材１１２Ａを一部の第一線材１１２Ａよりも上方に位置するように、駆動し、他の一部の第一線材１１２Ａにより処理対象部材ＧＢを支持する。その後、他の一部の第一線材１１２Ａを下方に駆動し、一部の第一線材１１２Ａに処理対象部材ＧＢを引き渡す。
【００６４】
さらに、前記実施形態では、第一の線材部１１２および第二の線材部１２２の双方が上下方向に駆動するとしたが、これに限らず、いずれか一方の線材部のみが上下方向に駆動するものとしてもよい。
【００６５】
なお、当然ながら、上述した実施の形態および複数の変形例は、その内容が相反しない範囲で組み合わせることができる。また、上述した実施の形態および変形例では、各部の構造などを具体的に説明したが、その構造などは本願発明を満足する範囲で各種に変更することができる。
この出願は、２０１０年９月１４日に出願された日本特許出願特願２０１０−２０５５２７、日本特許出願特願２０１０−２０５５２８を基礎とする優先権を主張し、その開示をすべてここに取り込む。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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