(57)【要約】  硬質基板積層体を効率よく良好に加工することのできる方法を提供する。２枚以上の硬質基板同士が接着剤で貼り合わせられた硬質基板積層体１４を準備する工程と、硬質基板間の各接着剤層に対応する位置にそれぞれ設けられた切削部１８を備える切削用工具１６で、積層体１４の側面から、隣り合う硬質基板１１’の互いに対向する面の縁部を一度に切削する工程とを含む硬質基板積層体の加工方法。
2012077645.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚以上の硬質基板同士が接着剤で貼り合わせられた硬質基板積層体を準備する工程と、
前記硬質基板間の各接着剤層に対応する位置にそれぞれ設けられた切削部を備える切削用工具で、前記積層体の側面から、隣り合う前記硬質基板の互いに対向する面の縁部を一度に切削する工程と、
を含む硬質基板積層体の加工方法。
【請求項２】
前記切削用工具による切削は、前記硬質基板積層体の断面において、隣り合う前記硬質基板の互いに対向する面の縁部から前記硬質基板間の接着剤層にかけて、前記接着剤層に稜線を有するＶ字溝を形成するように行う請求項１に記載の硬質基板積層体の加工方法。
【請求項３】
前記切削用工具は、スピンドルに取り付けられて回転駆動される請求項１又は２に記載の硬質基板積層体の加工方法。
【請求項４】
前記スピンドルが超音波スピンドルである請求項３に記載の硬質基板積層体の加工方法。
【請求項５】
前記切削工程の間、複数の前記硬質基板の間隔を一定に制御する請求項１〜４のいずれかに記載の硬質基板積層体の加工方法。
【請求項６】
前記硬質基板の間隔は、接着剤に、接着剤の成分に溶解しない粒状物質を含ませることで一定に制御する請求項５に記載の硬質基板積層体の加工方法。
【請求項７】
前記切削用工具の切削部の少なくとも前記硬質基板に接触する部分が超鋼、高速度鋼、又は、ダイヤモンドで形成されている請求項１〜６のいずれかに記載の硬質基板積層体の加工方法。
【請求項８】
前記切削用工具の切削部が、表面にダイヤモンドが電着された超鋼又は高速度鋼で形成されている請求項７に記載の硬質基板積層体の加工方法。
【請求項９】
前記切削用工具で切削された前記硬質基板積層体の側面を、さらに研磨する工程を含む請求項１〜８のいずれかに記載の硬質基板積層体の加工方法。
【請求項１０】
前記硬質基板積層体は、２枚以上の大判の硬質基板同士が接着剤で貼り合わせられた大判の硬質基板積層体を、その厚み方向に切断して分割形成されたものである請求項１〜９のいずれかに記載の硬質基板積層体の加工方法。
【請求項１１】
透光性硬質基板が板ガラスである請求項１〜１０のいずれかに記載の硬質基板積層体の加工方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の硬質基板積層体の加工方法が施された透光性硬質基板積層体を用いて複数の板状製品を形成する工程を含む板状製品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は硬質基板積層体の加工方法に関する。また、本発明は表示素子の保護ガラスなどの板状製品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
テレビ、ノートパソコン、カーナビゲーション、電卓、携帯電話、電子手帳、及びＰＤＡ（Personal Digital Assistant）といった各種電子機器の表示装置には、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ）、電界発光ディスプレイ（ＥＬＤ）、電界放出ディスプレイ(ＦＥＤ)、及びプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）等の表示素子が使用されている。そして、表示素子を保護するため、表示素子と対向させて保護用の板ガラス製品を設置するのが一般である。【０００３】
この板ガラス製品は板ガラスを各表示装置に適した大きさ及び形状に加工したものであるが、市場で要求される価格レベルに対応するために、大量の板ガラス製品を高い生産効率で加工することが求められる。【０００４】
そこで、特開２００９−２５６１２５号公報（特許文献１）では、板ガラス製品の生産効率を高める方法が提案されている。具体的には「多数の素材板ガラス（１）を積み重ねるとともに、各素材板ガラス（１）を、各素材板ガラス（１）間に介在させた剥離可能な固着材（２）により一体的に固着してなる素材ガラスブロック（Ａ）を形成し、該素材ガラスブロック（Ａ）を面方向に分割して小面積の分割ガラスブロック（Ｂ）を形成し、該分割ガラスブロック（Ｂ）の少なくとも外周を加工して平面視製品形状となる製品ガラスブロック（Ｃ）を形成し、該製品ガラスブロック（Ｃ）を端面加工した後、該製品ガラスブロック（Ｃ）を個別に分離したことを特徴とする板ガラスの加工方法」を提案している（請求項１）。これにより、「多数の素材板ガラスを積み重ねた状態で、分割、外形加工、及び端面加工を行うようにしたので、少ない工程で多数の板ガラス製品を得ることができ、生産性に富む」ことが記載されている（段落０００７）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２５６１２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の加工方法では、複数枚のガラス基板が積層された積層体に対して一度に端面加工を行うと、各基板間の間隔が一定でない場合に、ガラス基板を切削する切削用工具の切削部を、目的とする位置である各基板間に精度良く接触させることができず、各ガラス基板の上下縁に生じたチッピング、ヒビ、又は、欠け等を良好に除去することが困難となる。【０００７】
そこで、本発明は特許文献１に記載されているガラスブロックなどの硬質基板積層体を効率よく良好に加工することのできる方法を提供することを課題とする。また、本発明は当該加工方法を利用した板状製品の製造方法を提供することを別の課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討したところ、硬質基板積層体を構成する複数の対向し合う基板間の接着剤層に対応する位置にそれぞれの切削部を設けて一度に切削加工することで、複数の切削部それぞれを目的とする位置である各基板間に精度良く接触させて、各基板間の互いに対向する面の縁部に生じたチッピング、ヒビ、又は、欠け等を良好に且つ効率よく除去することが可能となることを見出した。【０００９】
以上の知見を基礎として完成した本発明は一側面において、
２枚以上の硬質基板同士が接着剤で貼り合わせられた硬質基板積層体を準備する工程と、
前記硬質基板間の各接着剤層に対応する位置にそれぞれ設けられた切削部を備える切削用工具で、前記積層体の側面から、隣り合う前記硬質基板の互いに対向する面の縁部を一度に切削する工程と、
を含む硬質基板積層体の加工方法である。【００１０】
本発明に係る硬質基板積層体の加工方法は一実施形態において、前記切削用工具による切削は、前記硬質基板積層体の断面において、隣り合う前記硬質基板の互いに対向する面の縁部から前記硬質基板間の接着剤層にかけて、前記接着剤層に稜線を有するV字溝を形成するように行う。【００１１】
本発明に係る硬質基板積層体の加工方法は別の一実施形態において、前記切削用工具は、スピンドルに取り付けられて回転駆動される。【００１２】
本発明に係る硬質基板積層体の加工方法は更に別の一実施形態において、前記スピンドルが超音波スピンドルである。【００１３】
本発明に係る硬質基板積層体の加工方法は更に別の一実施形態において、前記切削工程の間、複数の前記硬質基板の間隔を一定に制御する。【００１４】
本発明に係る硬質基板積層体の加工方法は更に別の一実施形態において、前記硬質基板の間隔を、接着剤に、接着剤の成分に溶解しない粒状物質を含ませることで一定に制御する。【００１５】
本発明に係る硬質基板積層体の加工方法は更に別の一実施形態において、前記切削用工具の切削部の少なくとも前記硬質基板に接触する部分が超鋼、高速度鋼、又は、ダイヤモンドで形成されている。【００１６】
本発明に係る硬質基板積層体の加工方法は更に別の一実施形態において、前記切削用工具の切削部が、表面にダイヤモンドが電着された超鋼又は高速度鋼で形成されている。【００１７】
本発明に係る硬質基板積層体の加工方法は更に別の一実施形態において、前記切削用工具で切削された前記硬質基板積層体の側面を、さらに研磨する工程を含む。【００１８】
本発明に係る硬質基板積層体の加工方法は更に別の一実施形態において、前記硬質基板積層体は、２枚以上の大判の硬質基板同士が接着剤で貼り合わせられた大判の硬質基板積層体を、その厚み方向に切断して分割形成されたものである。【００１９】
本発明に係る硬質基板積層体の加工方法は更に別の一実施形態において、透光性硬質基板が板ガラスである。【００２０】
本発明は別の一側面において、本発明に係る硬質基板積層体の加工方法が施された硬質基板積層体を用いて複数の板状製品を形成する工程を含む板状製品の製造方法である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、硬質基板積層体を効率よく良好に加工することができ、加工精度の向上した板状製品を工業的に生産することが可能となる。本発明は例えば表示素子の保護ガラスを量産する際に好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】切断加工を行う前の大判の透光性硬質基板積層体の模式図である。
【図２】切断加工により切り出された透光性硬質基板積層体の模式図である。
【図３】外径加工線が示された透光性硬質基板積層体の模式図である。
【図４】先端部分が拡大された、切削部を有する切削用工具、及び、切削対象の透光性硬質基板積層体の断面模式図である。
【図５】端面切削後の透光性硬質基板積層体の断面模式図である。
【図６】端面加工後の透光性硬質基板積層体の断面模式図である。
【図７】端面加工後の透光性硬質基板積層体の平面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２４】
＜１．透光性硬質基板積層体１０の準備＞
本実施形態では、限定的ではないが、硬質基板として、透光性硬質基板を用いる。図１は、切断加工や外形加工を行う前の大判の透光性硬質基板積層体１０の模式図である。大判の透光性硬質基板積層体１０を構成する大判の透光性硬質基板１１としては、特に制限はないが、板ガラス（強化板ガラス、素材板ガラス、透明導電膜付きガラス基板、電極や回路が形成されたガラス基板等）、サファイア基板、石英基板、プラスチック基板、フッ化マグネシウム基板などが挙げられる。一枚の大判の透光性硬質基板１１の大きさに特に制限はないが、典型的には１００００〜２５００００ｍｍ2程度の面積を有し、０．１〜２ｍｍ程度の厚みを有する。積層される一枚ごとの大判の透光性硬質基板１１は同じサイズであるのが一般的である。大判の透光性硬質基板積層体１０は２枚以上の透光性硬質基板１１が積層されている。大判の透光性硬質基板積層体１０の全体の厚みが薄すぎると機械的強度が弱くなり、加工のために受け台に接着剤により固定した透光性硬質基板積層体１０を剥離する際に割れやすくなることから、透光性硬質基板１１の材質にもよるが、好ましくは５枚以上（基板１１の合計の厚みとしては０．５２ｍｍ以上）、より好ましくは１０〜３０枚程度（基板１１の合計の厚みとしては１．５〜６６ｍｍ程度）の透光性硬質基板１１が光硬化性接着剤を介して積層される。
【００２５】
限定的ではないが、各透光性硬質基板１１の表面には板状製品の機能の一つを奏するための所定の印刷パターンやめっきパターンを付すことができる。印刷パターンの例としては携帯電話の表示画面のデザイン、めっきパターンの例としてはＡｌやＡｌＮｄなどの金属配線パターン、クロムめっきパターンが施されているロータリーエンコーダーが挙げられる。
【００２６】
透光性硬質基板１１の積層は例えば、一方又は両方の貼り合わせ面に光硬化性接着剤が塗布された各透光性硬質基板１１同士を貼り合わせた後に、両透光性硬質基板１１に挟まれて広がっている接着剤を硬化するための光を照射することによって実施することができる。これを所望の回数だけ繰り返すことにより、所望の枚数の透光性硬質基板１１が積層された透光性硬質基板積層体１０を作製することができる。光照射は、透光性硬質基板１１を１枚積層する度に実施してもよく、接着剤へ光が到達する限りにおいて、複数枚を積層した後にまとめて実施してもよい。このとき光照射量が強すぎると透光性硬質基板積層体の剥離性や外観が経時劣化しやすくなる一方で、光照射量が弱すぎると接着剤の硬化が不十分となることから、透光性硬質基板を貼り合わせる毎に接着剤を硬化するために照射する光の照射量を１０００〜１００００ｍＪ／ｃｍ2とすることが好ましく、１２００〜６０００ｍＪ／ｃｍ2とすることがより好ましく、１５００〜３０００ｍＪ／ｃｍ2とすることが更により好ましい。照射時間は１０〜２００秒が好ましく、２０〜１００秒がより好ましい。
【００２７】
光硬化性接着剤としては、公知の任意のものが使用でき特に制限はないが、例えばＷＯ２００８／０１８２５２に記載のような（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）単官能（メタ）アクリレート、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する接着性組成物が好適である。
（Ａ）多官能（メタ）アクリレートとしては、オリゴマー／ポリマー末端又は側鎖に２個以上（メタ）アクロイル化された多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマーや、２個以上の（メタ）アクロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーを使用することができる。例えば、多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマーとしては、１，２−ポリブタジエン末端ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、日本曹達社製「ＴＥ−２０００」、「ＴＥＡ−１０００」）、その水素添加物（例えば、日本曹達社製「ＴＥＡＩ−１０００」）、１，４−ポリブタジエン末端ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、大阪有機化学社製「ＢＡＣ−４５」）、ポリイソプレン末端（メタ）アクリレート、ポリエステル系ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、日本合成化学社製「ＵＶ−２０００Ｂ」、「ＵＶ−３０００Ｂ」、「ＵＶ−７０００Ｂ」、根上工業社製「ＫＨＰ−１１」、「ＫＨＰ−１７」）、ポリエーテル系ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、日本合成化学社製「ＵＶ−３７００Ｂ」、「ＵＶ−６１００Ｂ」）、又はビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、などが挙げられる。
ここで、ウレタン（メタ）アクリレートとは、ポリオール化合物（以後、Ｘで表す）と有機ポリイソシアネート化合物（以後、Ｙで表す）とヒドロキシ（メタ）アクリレート（以後、Ｚで表す）とを反応させることにより得られる、ウレタン（メタ）アクリレートをいう。
ポリオール化合物（Ｘ）としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ポリブチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，４−ジエチル−１，５−ペンタンジオール、２，２−ブチルエチル−１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノール、水素化ビスフェノールＡ、ポリカプロラクトン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ポリトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ポリペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、グリセリン、ポリグリセリン、ポリテトラメチレングリコール等の多価アルコールや、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイドのブロック又はランダム共重合の少なくとも１種の構造を有するポリエーテルポリオール、該多価アルコール又はポリエーテルポリオールと無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸、無水イタコン酸、イタコン酸、アジピン酸、イソフタル酸等の多塩基酸との縮合物であるポリエステルポリオール、カプロラクトン変性ポリテトラメチレンポリオール等のカプロラクトン変性ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール、ポリカーボネート系ポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール、水素化ポリブタジエンポリオール、水素化ポリイソプレンポリオール等のポリジエン系ポリオール、ポリジメチルシロキサンポリオール等のシリコーンポリオール等が挙げられる。これらの中では、ポリエーテルポリオール及び／又はポリエステルポリオールがより好ましく、ポリエステルポリオールが最も好ましい。
有機ポリイソシアネート化合物（Ｙ）としては、格別に限定される必要はないが、例えば芳香族系、脂肪族系、環式脂肪族系、脂環式系等のポリイソシアネートが使用でき、中でもトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート（Ｈ−ＭＤＩ）、ポリフェニルメタンポリイソシアネート（クルードＭＤＩ）、変性ジフェニルメタンジイソシアネート（変性ＭＤＩ）、水添化キシリレンジイソシアネート（Ｈ−ＸＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ｍ−ＴＭＸＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ノルボルネンジイソシアネート（ＮＢＤＩ）、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（Ｈ６ＸＤＩ）等のポリイソシアネート或いはこれらポリイソシアネートの三量体化合物、これらポリイソシアネートとポリオールの反応生成物等が好適に用いられる。これらの中では、水添化キシリレンジイソシアネート（Ｈ−ＸＤＩ）及び／又はイソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）が好ましい。
ヒドロキシ（メタ）アクリレート（Ｚ）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、４−ブチルヒドロキシ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中では、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートからなる群のうちの１種以上が好ましい。
これらの中では、効果が大きい点で、ポリエステル系ウレタン（メタ）アクリート及び／又はポリエーテル系ウレタン（メタ）アクリレートが好ましく、ポリエステル系ウレタン（メタ）アクリートがより好ましい。
多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマーの重量平均分子量は、７０００〜６００００が好ましく、１３０００〜４００００がより好ましい。重量平均分子量は、下記の条件にて、溶剤としてテトラヒドロフランを用い、ＧＰＣシステム（東ソ−社製  ＳＣ−８０１０）を使用し、市販の標準ポリスチレンで検量線を作成して求めることができる。
流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
設定温度：４０℃
カラム構成：東ソー社製「ＴＳＫ  ｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  ＭＰ（×Ｌ）」６．０ｍｍＩＤ×４．０ｃｍ１本、および東ソー社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＭＵＬＴＩＰＯＲＥＨＸＬ−Ｍ」  ７．８ｍｍＩＤ×３０．０ｃｍ（理論段数１６，０００段）２本、計３本（全体として理論段数３２，０００段）
サンプル注入量：１００μｌ（試料液濃度１ｍｇ／ｍｌ）
送液圧力：３９ｋｇ／ｃｍ2
検出器：ＲＩ検出器
２官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリストールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシプロポキシフェニル）プロパン、又は２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシテトラエトキシフェニル）プロパン等が挙げられる。これらの中では、効果が大きい点で、１，６−ヘキサジオールジ（メタ）アクリレート及び／又はジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレートが好ましく、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレートがより好ましい。
３官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロイキシエチル］イソシアヌレート等が挙げられる。
４官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、ジメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
（Ａ）多官能（メタ）アクリレートは、疎水性のものが好ましい。疎水性の多官能（メタ）アクリレートとは、水酸基を有さない（メタ）アクリレートをいう。水溶性の場合には、切削加工時に組成物の硬化体が膨潤することにより位置ずれを起こし、加工精度が劣る懼れがあるため好ましくない。親水性であっても、その組成物の硬化体が水により大きく膨潤又は一部溶解することがなければ、使用してもよい。
多官能（メタ）アクリレートの中では、効果が大きい点で、多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマー及び／又は２官能（メタ）アクリレートモノマーを含有することが好ましく、多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマーと２官能（メタ）アクリレートモノマーを併用することがより好ましい。
多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマーと２官能（メタ）アクリレートモノマーを併用する場合の含有割合は、多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマーと２官能（メタ）アクリレートモノマーの合計１００質量部中、質量比で、多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマー：２官能（メタ）アクリレートモノマー＝１０〜９０：９０〜１０が好ましく、２５〜７５：７５〜２５がより好ましく、３０〜７０：７０〜３０が最も好ましい。
（Ｂ）単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロデカトリエン（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリレート、エトキシカルボニルメチル（メタ）アクリレート、フェノールエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、フェノール（エチレンオキサイド２モル変性）（メタ）アクリレート、フェノール（エチレンオキサイド４モル変性）（メタ）アクリレート、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（エチレンオキサイド４モル変性）（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（エチレンオキサイド８モル変性）（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（プロピレンオキサイド２．５モル変性）（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルカルビトール（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性フタル酸（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性コハク酸（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸ダイマー、β−（メタ）アクロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、ｎ−（メタ）アクリロイルオキシアルキルヘキサヒドロフタルイミド、２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチル（メタ）アクリレート、エトキシエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、マレイン酸、フマル酸も使用できる。（Ｂ）単官能（メタ）アクリレートは、（Ａ）同様に疎水性のものがより好ましい。疎水性の多官能（メタ）アクリレートとは、水酸基を有さない（メタ）アクリレートをいう。水溶性の場合には、切削加工時に組成物の硬化体が膨潤することにより位置ずれを起こし、加工精度が劣る懼れがあるため好ましくない。親水性であ��ても、その組成物の硬化体が水によって膨潤又は一部溶解することがなければ、使用してもよい。
単官能（メタ）アクリレートの中では、効果が大きい点で、フェノールエチレンオキサイド２モル変性（メタ）アクリレート、２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチル（メタ）アクリレート及び２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートからなる群のうちの１種以上が好ましい。フェノールエチレンオキサイド２モル変性（メタ）アクリレートと、２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチル（メタ）アクリレート及び／又は２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートとを併用することがより好ましい。
フェノールエチレンオキサイド２モル変性（メタ）アクリレートと、２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチル（メタ）アクリレート及び／又は２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートとを併用する場合の含有割合は、フェノールエチレンオキサイド２モル変性（メタ）アクリレート、２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチル（メタ）アクリレート及び２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートの合計１００質量部中、質量比で、フェノールエチレンオキサイド２モル変性（メタ）アクリレート：２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチル（メタ）アクリレート及び／又は２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート＝５〜８０：９５〜２０が好ましく、１５〜６０：８５〜４０がより好ましく、２０〜４５：８０〜５５が最も好ましい。
（Ａ）多官能（メタ）アクリレートの使用量は、（Ａ）及び（Ｂ）の合計量１００質量部に対して、５〜９５質量部が好ましく、１５〜６０質量部がより好ましく、２０〜５０質量部が好ましい。５質量部以上であれば、組成物の硬化体を温水に浸漬した時に被着物より当該硬化体が剥離する性質（以下、単に「剥離性」という）が充分に助長されるし、組成物の硬化体がフィルム状に剥離できる。９５質量部以下であれば、初期の接着性が低下する懼れもない。
（Ｃ）光重合開始剤は、可視光線や紫外線の活性光線により増感させて樹脂組成物の光硬化を促進するために配合するものであり、公知の各種光重合開始剤が使用可能である。具体的にはベンゾフェノン又はその誘導体；ベンジル又はその誘導体；アントラキノン又はその誘導体；ベンゾイン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン誘導体；ジエトキシアセトフェノン、４−ｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン等のアセトフェノン誘導体；２−ジメチルアミノエチルベンゾエート；ｐ−ジメチルアミノエチルベンゾエート；ジフェニルジスルフィド；チオキサントン又はその誘導体；カンファーキノン；７，７−ジメチル−２，３−ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−カルボン酸、７，７−ジメチル−２，３−ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−カルボキシ−２−ブロモエチルエステル、７，７−ジメチル−２，３−ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−カルボキシ−２−メチルエステル、７，７−ジメチル−２，３−ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−カルボン酸クロライド等のカンファーキノン誘導体；２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１等のα−アミノアルキルフェノン誘導体；ベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシポスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジメトキシフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジエトキシフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド誘導体、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ］−エチルエステル及び／又はオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステル等が挙げられる。光重合開始剤は１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では、効果が大きい点で、ベンジルジメチルケタール、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ］−エチルエステル及びオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステルからなる群のうちの１種又は２種以上が好ましい。
（Ｃ）光重合開始剤の含有量は、（Ａ）及び（Ｂ）の合計１００質量部に対して、０．１〜２０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましい。０．１質量部以上であれば、硬化促進の効果が確実に得られるし、２０質量部以下で充分な硬化速度を得ることができる。（Ｃ）成分を１質量部以上添加することは、光照射量に依存することなく硬化可能となり、さらに組成物の硬化体の架橋度が高くなり、切削加工時に位置ずれ等を起こさなくなる点や剥離性が向上する点で、さらに好ましい。
【００２８】
光硬化性接着剤は、接着剤の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）に溶解しない粒状物質（Ｄ）を含有するのが好ましい。これにより、硬化後の組成物が一定の厚みを保持できるため、後述のように加工精度が向上する。
【００２９】
粒状物質（Ｄ）の材質としては、一般的に使用される有機粒子、又は無機粒子いずれでもかまわない。具体的には、有機粒子としては、ポリエチレン粒子、ポリプロピレン粒子、架橋ポリメタクリル酸メチル粒子、架橋ポリスチレン粒子などが挙げられる。無機粒子としてはガラス、シリカ、アルミナ、チタンなどセラミック粒子が挙げられる。
【００３０】
粒状物質は、加工精度の向上、つまり接着剤層１２の膜厚制御の観点から球状であることが好ましい。粒状物質のレーザー法による平均粒径は５０〜２００μｍの範囲にあることが好ましい。前記粒状物質の平均粒径が５０μｍ以上であると、切削用工具において強度に劣る切削部先端を使用しても切削用工具の寿命を低下することがなく、さらに、切削加工効率が向上し、２００μｍ以下であると接着剤の使用量が少なくなりコスト安になるため生産性に優れる。より好ましい平均粒径（Ｄ５０）は７０〜１５０μｍであり、更に好ましくは８０〜１２０μｍである。粒径分布は、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定される。
粒状物質（Ｄ）の使用量は、接着性、加工精度、剥離性の観点から、（Ａ）及び（Ｂ）の合計量１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部が好ましく、０．０５〜１０質量部がより好ましく、０．１〜６質量部が最も好ましい。
光硬化性接着剤には、貯蔵安定性向上のため重合禁止剤（Ｅ）を添加することができる。重合禁止剤としては、メチルハイドロキノン、ハイドロキノン、２，２−メチレン−ビス（４−メチル−６−ターシャリーブチルフェノール）、カテコール、ハイドロキノンモノメチルエーテル、モノターシャリーブチルハイドロキノン、２，５−ジターシャリーブチルハイドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジフェニル−ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジターシャリーブチル−ｐ−ベンゾキノン、ピクリン酸、クエン酸、フェノチアジン、ターシャリーブチルカテコール、２−ブチル−４−ヒドロキシアニソール及び２，６−ジターシャリーブチル−ｐ−クレゾール等が挙げられる。
重合禁止剤（Ｅ）の使用量は、（Ａ）及び（Ｂ）の合計量１００質量部に対して、０．００１〜３質量部が好ましく、０．０１〜２質量部がより好ましい。０．００１質量部以上であれば、貯蔵安定性が確保されるし、３質量部以下であれば、良好な接着性が得られ、未硬化になることもない。
【００３１】
＜２．透光性硬質基板積層体１０の切断加工＞
続いて、大判の透光性硬質基板積層体１０を受け台に固定した後、図１に示した切断線１３に沿って厚み方向に切断し、所望の数の分割された透光性硬質基板積層体１４を形成する。図２に、この切断加工により切り出された透光性硬質基板積層体１４の模式図を示す。分割方法は特に制限はないが、円板カッター（ダイヤモンドディスク、超硬合金ディスク）、固定砥粒式又は遊離砥粒式ワイヤソー、レーザービーム、エッチング（例：フッ酸や硫酸等を用いた化学エッチングや電解エッチング）、ウオータージェット、及び赤熱帯(ニクロム線)などの切断手段をそれぞれ単独で又は組み合わせて使用して、同サイズの直方体形状に分割する方法が挙げられる。エッチングは分割後の切断面の表面処理に用いることもできる。このように、透光性硬質基板積層体１４は大判の透光性硬質基板積層体１０を準備した後にそれを分割することで作製しているため、製造効率が良好となる。
【００３２】
＜３．透光性硬質基板積層体１４の外形加工＞
次に、受け台に分割された透光性硬質基板積層体１４を固定し、受け台上の透光性硬質基板積層体１４に所望の外形加工を行う。図３に、外径加工線１５が示された透光性硬質基板積層体１４の模式図を示す。この工程では、分割された透光性硬質基板積層体１４毎に目的とする板状製品の形状に一体的に加工を行うことができるため、板状製品の生産速度を格段に高められるという利点がある。外形加工は公知の任意の手段によって行えばよいが、例えば回転砥石による研削、超音波振動ドリルによる孔開け、回転ブラシによる加工等が挙げられる。
【００３３】
＜４．透光性硬質基板積層体１４の端面加工＞
次に、所望の外径加工が施された透光性硬質基板積層体１４に端面加工を行う。外径加工後の透光性硬質基板積層体１４は、その端面にチッピング、ヒビ、又は、欠け等が発生している場合があるが、この端面加工は、それらを除去する目的も備えている。端面加工には、切削部１８を有する切削用工具１６を用いる。ここで、図４に、先端部分が拡大された、切削部１８を有する切削用工具１６、及び、切削対象の透光性硬質基板積層体１４の断面模式図を示す。切削用工具１６は、後述のスピンドルに取り付けられて回転駆動される軸部１７と、軸部１７の先端に設けられた切削部１８とで構成されている。切削部１８は、軸部１７から垂直に起立するように且つ軸部１７の全周にわたって形成された、断面が二等辺三角形状の突部１９が、所定の間隔を空けて複数配置されて構成されている。ここで、軸部１７の周方向は、「透光性硬質基板１１’に対向して設けられたときに、透光性硬質基板１１’間の接着剤層１２’に平行な方向」とする。切削部１８の形態としては、上述の形態のものに限らず、例えば、軸部１７と、軸部１７から垂直に伸びるように形成された、先端が球面状の接触部とで構成されていても良い。また、軸部１７と、軸部１７から垂直に伸びるように形成された、先端が突状の接触部とで構成されていても良い。切削用工具１６のサイズは特に限定されないが、例えば、図４に示すように、軸部１７を好ましくは０．７〜３．０ｍｍ径（＝ｃ）、より好ましくは１．０〜２．０ｍｍ径（＝ｃ）、最も好ましくは１．６ｍｍ径（＝ｃ）に形成することができる。また、突部１９の角度１９ａについても特に限定されず、例えば、透光性硬質基板１１’の約９０°の縁部に対して好ましくは３０〜６０°、より好ましくは４０〜５０°、最も好ましくは４５°で面を取り、縁部の鋭さを取り除くように、断面が直角二等辺三角形状に形成してもよい。この場合、透光性硬質基板１１’側面を切削した突部１９の高さ（ａ）と底面の直径（ｂ）との関係は好ましくはｂ＝１ａ〜３ａ、より好ましくはｂ＝１．５ａ〜２．０ａ、最も好ましくはｂ＝２ａとなっている。また、このとき、突部１９を稜線部分において、高さ（ａ）を引いた残りの径が好ましくは１．０〜３．０ｍｍ（＝ｄ）、より好ましくは１．５〜２．５ｍｍ（＝ｄ）、最も好ましくは２．０ｍｍ（＝ｄ）に形成することができる。このような形態により、切削部１８を透光性硬質基板積層体１４の各基板間に精度良く対応させて基板縁部を良好に切削することが可能となる。切削部１８の形成材料としては、切削対象となる透光性硬質基板積層体１４を構成する透光性硬質基板１１’を良好に削り取ることができるものであれば特に限定されないが、少なくとも透光性硬質基板１１’に接触する部分が超鋼、高速度鋼、又は、ダイヤモンドで形成されているのが好ましい。接触部がこのような材料で形成されていれば、切削対象となる透光性硬質基板積層体１４を構成するものが板ガラス等の場合に特に容易且つ精度良く切削することが可能となる。また、切削部１８全体がこのような材料で形成されていてもよく、金属材料で形成された本体上に電着等により形成されていてもよい。具体的には、例えば、切削部１８本体が超鋼又は高速度鋼���形成されており、本体上にダイヤモンドが電着により形成されたものであってもよい。
【００３４】
本実施形態では、切削用工具１６の駆動装置として超音波スピンドルを用いる。超音波スピンドルは、スピンドル内に形成された中空の本体スリーブと、本体スリーブの中に設けられた超音波振動子と、超音波振動子に同軸上に連接され且つ本体スリーブの内壁に固定された支持ホーンとを備えている。支持ホーンは、超音波振動子により励起された超音波振動を取り付けられる切削用工具１６へ伝達する。一般に、透光性硬質基板積層体１４の切削においては、切削用工具１６の切削部１８に、切削屑が入り込んで目詰まりが発生する。切削屑による目詰まりは、切削用工具１６の寿命を低下させ、さらに、切削加工効率の低下を引き起こす。このため、切削加工では、切削用工具１６の切削部１８に切削屑が入り込んで目詰まりを起こさせないことが重要となる。これに対し、超音波スピンドルを駆動装置として用いれば、回転運動に超音波振動を複合させて加工表面を微細に粉砕除去しながら加工を進めることができる。このため、通常の回転駆動型の切削加工で用いられる３００００ｒｐｍ程度の回転数まで必要とならず、２５００ｒｐｍ程度の回転数での加工が可能となる。従って、切削用工具１６の寿命が良好となり、さらに、加工における騒音が減少するという利点がある。また、切削部１８の先端では、加工時に冷却液を使用しているが、この冷却液にキャビテーション現象が発生し、切削屑がはじき飛ばされる。さらに、透光性硬質基板積層体１４と切削部１８との間には振動によるポンプ作用で冷却液に流れが発生し、切削屑の排出性が向上する。このため、切削部１８の目詰まりを良好に抑制することができる。また、冷却液の使用量も抑制することができるため、通常の回転駆動型の切削加工に比べて製造コストが良好となる。
【００３５】
次に、所望の外径加工が施された透光性硬質基板積層体１４に端面加工として、まず、図４に示すように、透光性硬質基板積層体１４に対して、超音波スピンドル（不図示）に取り付けられた切削用工具１６を位置合わせして設ける。このとき、切削用工具１６は、その複数の切削部１８が透光性硬質基板積層体１４の接着剤層１２’に平行な方向に並ぶように設ける。また、隣り合う透光性硬質基板積層体１４の間隔は、それぞれ一定に制御されている。この制御方法としては、接着剤に接着剤の成分に溶解しない粒状物質を含ませることで一定に制御している。また、外部の固定装置を用いて各基板間隔を一定に制御しても良い。次に、透光性硬質基板積層体１４の側面から、超音波スピンドルを作動させて切削用工具１６の切削部１８を回転させながら接触させて、隣り合う透光性硬質基板１１’の互いに対向する面の縁部を一度に切削する。このとき、透光性硬質基板積層体１４の各基板間隔が一定に制御されているため、切削用工具の並列する複数の切削部１８が各基板間に常時精度良く接触することができる。従って、隣り合う透光性硬質基板１１’の互いに対向する面の縁部を所望の幅及び深さで一度に切削することができる。また、このとき、切削部１８が、軸部１７から垂直に起立するように且つ軸部１７の全周にわたって形成された、断面が二等辺三角形状の突部１９が、所定の間隔を空けて複数配置されて構成されているため、図５に示すように、硬質基板積層体１４は、その断面において、隣り合う硬質基板１１’の互いに対向する面の縁部から硬質基板１１’間の接着剤層１２’にかけて、接着剤層１２’に稜線を有するＶ字溝２１が形成される。これにより、透光性硬質基板積層体１４の端面の縁部に生じたチッピング、ヒビ、又は、欠け等が良好に除去される。
【００３６】
なお、本実施形態では、透光性硬質基板積層体１４の各基板間隔を互いに一定に制御した状態で、切削用工具１６の切削部１８をその基板間に接触させていく形態としているが、これに限られない。すなわち、透光性硬質基板積層体１４の各基板間隔が一定でないときは、当該基板間にそれぞれ対応するように切削用工具１６の並列した切削部１８を位置合わせして設けることでも、隣り合う透光性硬質基板１１’の互いに対向する面の縁部を一度に切削することができる。
【００３７】
次に、切削用工具１６で切削された硬質基板積層体１４の側面を研磨する。研磨手段は、研磨対象となる硬質基板１１’を良好に研磨することができるものであれば、公知のものを用いることができる。このとき、例えば、酸化セリウム等の研磨剤を含有したスラリーを用いて、ブラシによって研磨してもよい。ブラシとしては、特に限定されないが、例えば、ナイロン、ＰＶＣ、ＰＰ、豚毛、羊毛、馬毛、真鍮、酸化セリウム、酸化アルミニウム、シリコンカーバイド、アルミニウムシリケイト等が、ナイロン、ＰＶＣ、ＰＰ等に練り込まれた素材で形成することができる。このように、切削後に硬質基板１１’の側面をさらに研磨することにより、基板側面をより滑らかな表面に仕上げることができる。
【００３８】
図６に端面加工後の透光性硬質基板積層体２０の断面模式図を、図７に端面加工後の透光性硬質基板積層体２０の平面模式図をそれぞれ示す。このように、本発明によれば透光性硬質基板積層体の端面の縁部に生じたチッピング、ヒビ、又は、欠け等が良好に除去されるため、端面加工精度の良好な積層体が得られる。
【００３９】
＜５．板状製品の形成＞
続いて、透光性硬質基板積層体１４から、貼り合わせられていた透光性硬質基板１１’同士を剥離し、これを用いて複数の板状製品を形成する。
【００４０】
以上、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明してきたが、本発明はこれらの実施形態に限られるものではなく、種々のバリエーションが可能である。
【実施例】
【００４１】
本発明及びその利点をより良く理解するために以下の実験例を提供する。【００４２】
＜実施例１＞
１．光硬化性接着剤（Ｉ）の作製
以下の（Ａ）〜（Ｅ）の成分を混合して光硬化性接着剤（Ｉ）を作製した。
（Ａ）多官能（メタ）アクリレートとして、日本合成社製「ＵＶ−３０００Ｂ」（ウレタンアクリレート以下「ＵＶ−３０００Ｂ」と略す、重量平均分子量１８０００、ポリオール化合物はポリエステルポリオール、有機ポリイソシアネート化合物はイソホロンジイソシアネート、ヒドロキシ（メタ）アクリレートは２−ヒドロキシエチルアクリレート）２０質量部、ジシクロペンタニルジアクリレート（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６８４」、以下「Ｒ−６８４」と略す）１５質量部、
（Ｂ）単官能（メタ）アクリレートとして、２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチルアクリレート（東亜合成社製「アロニックスＭ−１４０」、以下「Ｍ−１４０」と略す）５０質量部、フェノールエチレンオキサイド２モル変性アクリレート（東亜合成社製「アロニックスＭ−１０１Ａ」）１５質量部、
（Ｃ）光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール（ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１」、以下「ＢＤＫ」と略す）１０質量部、
（Ｄ）粒状物質として平均粒径１００μｍの球状架橋ポリスチレン粒子（ガンツ化成社製「ＧＳ−１００Ｓ」）１質量部、
（Ｅ）重合禁止剤として２，２−メチレン−ビス（４−メチル−６−ターシャリーブチルフェノール）（住友化学社製「スミライザーＭＤＰ−Ｓ」、以下「ＭＤＰ」と略す）０．１質量部
２．板ガラス積層体の作製
透光性硬質基板として板ガラス（横５３０ｍｍ×縦４２０ｍｍ×厚み０．７ｍｍ）を１２枚用意し、架橋ポリスチレン粒子を含有した上記光硬化性接着剤を介して貼り合わせ、板ガラスの積層体を作製した。具体的には、１枚目の板ガラス上に上記光硬化性接着剤を４０ｇ塗布した後、１枚目の板ガラスの上に２枚目の板ガラスを貼り合わせて２枚目の板ガラスの表面側からＵＶ照射し、上記光硬化性接着剤を硬化させた。ＵＶ照射量は３０００ｍＪ／ｃｍ2（３６５ｎｍの受光器による積算照度計による測定）とし、ＵＶ照射時間は４０秒とした。この手順を繰り返すことで、１２枚の板ガラスからなる厚み８ｍｍ（この厚みは１２枚の板ガラスを合計した積層体の厚みである）の板ガラス積層体を作製した。【００４３】
３．板ガラス積層体の切断加工
次に、板ガラスの積層体を受け台に固定した後、円板カッターによって所定の切断線に沿って厚み方向に切断し、分割された板ガラスの積層体を作製した。このとき、各板ガラスは、横１００ｍｍ×縦５０ｍｍ×厚み０．７ｍｍ（この厚みは板ガラス１枚の厚みである）に分割された。【００４４】
４．板ガラス積層体の外形加工
次に、受け台に分割された板ガラス積層体を固定し、受け台上の板ガラス積層体に回転砥石を用いて研削することで外形を加工した。このとき、板ガラスの縁部にはチッピング、ヒビ、及び/又は、欠けが発生したものもあった。【００４５】
５．板ガラス積層体の端面加工
次に、図４に示すような切削用工具を準備した。切削用工具の切削部は、図４に示す軸部の径（ｃ）が１．６ｍｍφで、突部が断面において直角二等辺三角形状（ｂ＝２ａ）であり、突部１９の稜線部分において、高さ（ａ）を引いた残りの径が２．０ｍｍ（＝ｄ）であった。切削用工具は、軸部及び突部本体が超鋼で形成されており、突部本体表面には、ダイヤモンドが電着されていた。
次に、切削用工具を岳将社製４０ｋＨＺ超音波スピンドルユニット  ＵＲＴ４０−Ｆ４１に取り付けた。
次に、超音波スピンドルに取り付けた切削用工具を、その複数の突部が板ガラス積層体の各接着剤層に対応するような位置に設置し、図４に示すように、板ガラス積層体の側面から突部をその稜線が各接着剤層へ接触するように進め、板ガラス積層体の断面において、隣り合う板ガラスの互いに対向する面の縁部から板ガラス間の接着剤層にかけて、接着剤層に稜線を有するＶ字溝を形成するように切削加工を行った。このとき、超音波スピンドルは４０ｋＨｚで回転数２５００ｒｐｍであった。切削は、板ガラス積層体の側面の４５°に傾斜するＶ字溝が深さ０．２ｍｍとなるまで行った。【００４６】
このようにして端面加工が行われた板ガラス積層体の縁部からは、チッピング、ヒビ、及び/又は、欠けが良好に除去されていた。【００４７】
＜実施例２＞
実施例２として、超音波スピンドルではない通常の（超音波振動を付与しない）スピンドルを取り付けた切削用工具を切削工程で用いた以外は、実施例１と同様の工程を行った。
このようにして端面加工が行われた板ガラス積層体の縁部からは、実施例１と同様に、チッピング、ヒビ、及び/又は、欠けが良好に除去されていた。
しかしながら、切削工程において、超音波スピンドルを用いた実施例１と比べると、騒音が増大し、さらに切削屑による切削部への目詰まりが目立った。【００４８】
＜実施例３＞
実施例３として、光硬化性接着剤（Ｉ）の代わりに、光硬化性接着剤（ＩＩ）を用いた以外は、実施例１と同様の工程を行った。
１．光硬化性接着剤（ＩＩ）の作製
以下の（Ａ）〜（Ｅ）の成分を混合して光硬化性接着剤（ＩＩ）を作製した。
（Ａ）多官能（メタ）アクリレートとして、日本合成社製「ＵＶ−３０００Ｂ」（ウレタンアクリレート、以下「ＵＶ−３０００Ｂ」と略す）２０質量部、ジシクロペンタニルジアクリレート（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤＲ−６８４」、以下「Ｒ−６８４」と略す）２５質量部、
（Ｂ）単官能（メタ）アクリレートとして、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート（東亜合成社製「アロニックスＭ−５７００」、以下「Ｍ−５７００」と略す）３５質量部、フェノールエチレンオキサイド２モル変性アクリレート（東亜合成社製「アロニックスＭ−１０１Ａ」）２０質量部、
（Ｃ）光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール（ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１」、以下「ＢＤＫ」と略す）１０質量部、
（Ｄ）粒状物質として平均粒径１００μｍの球状架橋ポリスチレン粒子（ガンツ化成社製「ＧＳ−１００Ｓ」）１質量部、
（Ｅ）重合禁止剤として２，２−メチレン−ビス（４−メチル−６−ターシャリーブチルフェノール）（住友化学社製「スミライザーＭＤＰ−Ｓ」、以下「ＭＤＰ」と略す）０．１質量部
このようにして端面加工が行われた板ガラス積層体の縁部からは、チッピング、ヒビ、及び/又は、欠けが良好に除去されていた。【００４９】
＜実施例４＞
実施例４として、超音波スピンドルではない通常の（超音波振動を付与しない）スピンドルを取り付けた切削用工具を切削工程で用いた以外は、実施例３と同様の工程を行った。
このようにして端面加工が行われた板ガラス積層体の縁部からは、実施例１と同様に、チッピング、ヒビ、及び/又は、欠けが良好に除去されていた。
しかしながら、切削工程において、超音波スピンドルを用いた実施例３と比べると、騒音が増大し、さらに切削屑による切削部への目詰まりが目立った。【００５０】
＜比較例１＞
比較例１として、ポリスチレン粒子を含有しない光硬化性接着剤（Ｉ）（ポリスチレン粒子を含有しないこと以外は、上記光硬化性接着剤（Ｉ）と同じ組成である）を用いて板ガラスを張り合わせることで、板ガラス積層体における各板ガラス間の厚さ制御を行わず、さらに切削工程において、本発明に係る切削用工具の代わりに、ナイロンで形成されたブラシを用いた以外は、実施例１と同様の工程を行った。
このようにして端面加工が行われた板ガラス積層体の縁部からは、チッピング、ヒビ、及び/又は、欠けが多く残っており、良好に除去されていなかった。これは、各板ガラス間の厚さが一定に制御されておらず、また、ナイロンで形成されたブラシで切削したため、複数の切削部がそれぞれ板ガラスの縁部に対して適切な位置で切削できておらず、積層した板ガラスの縁部を均一に切削できなかったためであると考えられる。【００５１】
以下に、上記実施例及び比較例で用いた光硬化性接着剤（Ｉ）と光硬化性接着剤（ＩＩ）の物性を表１に示した。評価方法は下記の通りである。
引張せん断接着強さ（接着強さ）：ＪＩＳ Ｋ ６８５０に従い測定した。具体的には被着材として耐熱パイレックス（登録商標）ガラス（２５ｍｍ×２５ｍｍ×２．０ｍｍ）を用いた。接着部位を直径８ｍｍとして、作製した光硬化性接着剤にて、２枚の耐熱パイレックス（登録商標）ガラスを貼り合わせ、無電極放電ランプを使用したフュージョン社製硬化装置により、３６５ｎｍの波長の積算光量２０００ｍＪ／ｃｍ2の条件にて硬化させ、引張せん断接着強さ試験片を作製した。作製した試験片は、万能試験機を使用して、温度２３℃、湿度５０％の環境下、引張速度１０ｍｍ／ｍｉｎで引張せん断接着強さを測定した。
剥離試験：上記耐熱パイレックス（登録商標）ガラスに光硬化性接着剤を塗布し、支持体として青板ガラス（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×厚さ１．７ｍｍ）に貼り合わせた以外は上記と同様な条件で作製した光硬化性接着剤を硬化させ、剥離試験体を作製した。得られた試験体を、温水（８０℃）に浸漬し、耐熱パイレックス（登録商標）ガラスが剥離する時間を測定し、また剥離状態も観察した。
切断試験片１０個の裏面片の欠けの最大幅、切断試験片１０個の裏面片の欠けの最大幅の標準偏差：接着剤（Ｉ）と接着剤（ＩＩ）を用いて、縦８０ｍｍ×横８０ｍｍ×厚さ１ｍｍの青板ガラス（Ａ）と、剥離試験で用いた青板ガラス（Ｂ）（支持体として使用）とを、上記と同様に接着硬化させた。この接着試験体の青板ガラス（Ａ）部分をダイシング装置を使用して１０ｍｍ角に切断した。切断中に青板ガラス（Ａ）の脱落は発生せず、良好な加工性を示した。青板ガラス（Ａ）部分のみを切断した接着試験体を８０℃の温水に浸漬したところ、１０分ですべて剥離した。また、その剥離した切断試験片を無作為に１０個取り出し、その切断試験片の裏面（接着剤で仮固定した面）の各片を、光学顕微鏡を用いて観察し、ガラスが欠けている箇所の最大幅を測定し、その平均値と標準偏差を求めた。【００５２】
【表１】
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【符号の説明】
【００５３】
１０  大判の透光性硬質基板積層体
１１  大判の透光性硬質基板
１１’  透光性硬質基板
１２  大判の接着剤層
１２’  接着剤層
１３  切断線
１４  透光性硬質基板積層体
１５  外径加工線
１６  切削用工具
１７  軸部
１８  切削部
１９  突部
１９ａ  突部１９の角度
２０  端面加工後の透光性硬質基板積層体
２１  Ｖ字溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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