(57)【要約】基板保管装置（ＳＴＲ）は、樹脂フィルム等の可撓性基板（Ｓ）を収容する収容室（ＲＭ）を有する容器（ＣＴ）と、容器（ＣＴ）に設けられる窓部（Ｗ）と、基板（Ｓ）の一部が窓部（Ｗ）に対向するように基板を搬送する基板搬送部（ＣＶ）とを備える。容器（ＣＴ）は、処理装置（ＰＡ）に接続される接続部（Ｊ）を有する。無端状の基板（Ｓ）は、ローラー（１１−６６）に掛けられて折り返されることで、収容室（ＲＭ）内に収容される。一部のローラー（２９，３３，６５）はＺ方向に移動でき、それらの移動により、基板（Ｓ）のテンションが調製される。基板（Ｓ）の一部分（Ｓｃ）は窓部（Ｗ）から外に引き出され、その部分（Ｓｃ）が装置（ＰＡ）の処理部（９５）で処理される。窓部（Ｗ）は、スライド部材（ＳＬ）で塞ぐことができる。基板（Ｓ）への異物の付着が抑えられる。
2012081605.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有する基板を収容する収容室を有する容器と、
前記容器に設けられる窓部と、
前記収容室に収容された前記基板の一部が前記窓部に対向するように前記基板を搬送する基板搬送部と
を備える基板保管装置。
【請求項２】
前記窓部は、前記容器に複数箇所に配置されている
請求項１に記載の基板保管装置。
【請求項３】
前記容器は、外部装置に接続される接続部を有する
請求項１又は請求項２に記載の基板保管装置。
【請求項４】
前記容器と前記外部装置との間の接続状態に応じて前記窓部を開閉させる窓部駆動部を更に備える
請求項３に記載の基板保管装置。
【請求項５】
前記接続部は、前記窓部の周囲に配置されている
請求項４に記載の基板保管装置。
【請求項６】
前記容器は、複数の壁面を有し、
前記窓部及び前記接続部は、同一の壁面に設けられている
請求項３から請求項５のうちいずれか一項に記載の基板保管装置。
【請求項７】
前記基板搬送部は、前記窓部に対向する前記基板の一部を支持する支持部を有する
請求項１から請求項６のうちいずれか一項に記載の基板保管装置。
【請求項８】
前記基板搬送部は、前記窓部から前記基板の一部を前記収容部の外側に引き出す引出部を有する
請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の基板保管装置。
【請求項９】
前記基板搬送部は、前記引出部による前記基板の引き出し状態に応じて前記収容室での前記基板の搬送経路を調整する調整部を有する
請求項８に記載の基板保管装置。
【請求項１０】
前記基板搬送部は、前記基板を折り返す折り返し部を有する
請求項１から請求項９のうちいずれか一項に記載の基板保管装置。
【請求項１１】
前記折り返し部は、前記基板が多重に折り返されるように配置されている
請求項１０に記載の基板保管装置。
【請求項１２】
前記折り返し部は、前記基板の両面のうち第一面に接触し、かつ、前記第一面とは反対側の第二面には接触しないように配置されている
請求項１０又は請求項１１に記載の基板保管装置。
【請求項１３】
前記収容室に設けられ、前記基板の前記第二面に対して処理を行う処理部
を更に備える請求項１２に記載の基板保管装置。
【請求項１４】
前記基板は、無端状に形成される
請求項１から請求項１３のうちいずれか一項に記載の基板保管装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板保管装置に関する。
本願は、２０１０年１２月１５日に出願された米国特許仮出願６１／４２３，１９８号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置などの表示装置を構成する表示素子として、例えば液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子が知られている。現在、これらの表示素子では、各画素に対応して基板表面に薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を形成する能動的素子（アクティブデバイス）が主流となってきている。【０００３】
近年では、シート状の基板（例えばフィルム部材など）上に表示素子を形成する技術が提案されている。このような技術として、例えばロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）と呼ばれる手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。ロール方式は、基板供給側の供給用ローラーに巻かれた１枚のシート状の基板（例えば、帯状のフィルム部材）を送り出すと共に送り出された基板を基板回収側の回収用ローラーで巻き取りながら、供給用ローラーと回収用ローラーとの間に設置された処理装置により基板に所望の加工を施していくものである。【０００４】
基板が送り出されてから巻き取られるまでの間に、例えば複数の搬送ローラー等を用いて基板が搬送され、複数の処理装置(ユニット)を用いてＴＦＴを構成するゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体膜、ソース・ドレイン電極等を形成し、基板の被処理面上に表示素子の構成要素を順次形成する。例えば、有機ＥＬの素子を形成する場合には、発光層、陽極、陰極、電気回路等を基板上に順次形成する。処理が施された基板は、例えば巻かれた状態で基板保管装置に保管される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２００６／１００８６８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ロール・トゥ・ロール方式では、基板を送り出してから、基板を回収するまでの間、基板の表面は、大半が基板保管装置の外部に露出されることになるため、基板に対して埃などの異物が付着するおそれがある。【０００７】
本発明の態様は、基板に対する異物の付着を抑えることができる基板保管装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の態様に従えば、可撓性を有する基板を収容する収容室を有する容器と、容器に設けられる窓部と、収容室に収容された基板の一部が窓部に対向するように基板を搬送する基板搬送部とを備える基板保管装置が提供される。【０００９】
本発明の態様によれば、基板に対する異物の付着を抑えることができる基板保管装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の第一実施形態に係る基板保管装置の内部構成を示す断面図である。
【図２】本発明の第一実施形態に係る基板保管装置の動作の一例を示す断面図である。
【図３】本発明の第二実施形態に係る基板保管装置の構成を示す断面図である。
【図４】本発明の第二実施形態に係る基板保管装置の動作の一例を示す断面図である。
【図５】本発明に係る基板保管装置の他の例を示す図である。
【図６】本発明に係る基板保管装置の他の例を示す図である。
【図７】本発明に係る基板保管装置の他の例を示す図である。
【図８】本発明に係る基板保管装置の他の例を示す図である。
【図９】本発明に係る基板保管装置の他の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。  
［第一実施形態］  
図１は、本発明の第一実施形態に係る基板保管装置の内部構成を示す図である。  
図１に示すように、基板保管装置ＳＴＲは、帯状に形成され可撓性を有する基板Ｓを収容する容器ＣＴと、基板Ｓが掛けられる基板搬送部ＣＶとを有する。基板保管装置ＳＴＲは、例えば床面に載置された容器ＣＴに基板Ｓを収容すると共に基板搬送部ＣＶに掛けた状態で保管する。基板Ｓは、長尺方向が無端状に形成されている。  
【００１２】
基板Ｓとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔（フォイル）を用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、などの材料を用いることができる。
【００１３】
基板Ｓの短尺方向の寸法は例えば５０ｃｍ〜２ｍ程度に形成されており、長尺方向の寸法（１周の寸法）は例えば１０ｍ以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えば基板ＳのＹ方向の寸法が５０ｃｍ以下であっても構わないし、２ｍ以上であっても構わない。本実施形態においては、Ｙ方向の寸法が２ｍを超える基板Ｓであっても好適に用いられる。また、基板ＳのＸ方向の寸法（長尺方向の寸法、１周の寸法）が１０ｍ以下であっても構わない。
【００１４】
基板Ｓは、例えば、１ｍｍ以下の厚みを有し、可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、例えば基板に少なくとも自重程度の所定の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、この基板を撓めることが可能な性質をいう。また、例えば上記所定の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、前記基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度などの環境、等に応じて変わる。なお、基板Ｓとしては、１枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。
基板Ｓは、例えば２００℃程度の熱を受けても寸法が変わらないように熱膨張係数が小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。
【００１５】
以下、基板保管装置ＳＴＲの説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。以下の図においては、ＸＹＺ直交座標系のうち床面をＸＹ平面としている。ＸＹ平面のうち基板Ｓの短手方向をＹ軸方向とし、Ｙ軸方向に直交する方向をＸ方向としている。また、床面（ＸＹ平面）に垂直な方向をＺ軸方向としている。
【００１６】
容器ＣＴは、例えば外形がほぼ直方体に形成されている。なお、容器ＣＴの−Ｘ側の壁部ＣＴａは、＋Ｚ側端部が例えば＋Ｘ側に傾斜した形状になっている。また、容器ＣＴの＋Ｘ側端部ＣＴｂは、＋Ｚ側端部が例えば＋Ｘ側に突出した形状になっている。容器ＣＴの内部には、容器ＣＴを構成する壁部（壁部ＣＴａ及びＣＴｂを含む）で囲まれた収容室ＲＭが形成されている。
【００１７】
容器ＣＴは、壁部ＣＴａに窓部Ｗを有している。窓部Ｗは、容器ＣＴの外部と収容室ＲＭとを連通するように壁部ＣＴａを貫通して形成された開口部である。窓部Ｗは、壁部ＣＴａのＺ方向のほぼ中央に配置されている。壁部ＣＴａには、接続部Ｊが設けられている。接続部Ｊは、例えば処理装置ＰＡなどの外部装置に設けられる装置側接続部９０及び９１に接続させる部分である。
なお、窓部Ｗには、後述する扉部材が設けられており、この扉部材は、処理装置ＰＡが接続されることによって開き、処理装置ＰＡの接続が解除されることによって閉じる。すなわち、処理装置ＰＡが接続されていない状態において、この扉部材は、容器ＣＴ内に対する塵や埃等の異物の侵入を防ぐことができる。
【００１８】
接続部Ｊは、処理装置ＰＡと容器ＣＴとの相対位置がずれるのを抑制するように処理装置ＰＡと容器ＣＴとを接続可能である。装置側接続部９０及び９１は、容器ＣＴの壁部ＣＴａのうち窓部Ｗの縁部に接続されるようになっている。この場合、接続部Ｊは、装置側接続部９０及び９１の接続位置に対応するように、窓部Ｗの縁部に設けられている。このように、接続部Ｊは、窓部Ｗが設けられた壁部ＣＴａと同一の壁部ＣＴａに設けられており、窓部Ｗの周囲に配置されている。
【００１９】
前記処理装置ＰＡには装置側接続部９０及び９１の他、ニップローラー９２及び９３や、処理部９５などが設けられている。ニップローラー９２及び９３は、Ｚ方向において処理部９５を挟む位置に配置されている。ニップローラー９２の＋Ｘ側端点及びニップローラー９３の＋Ｘ側端点は、ともにＹＺ平面に平行な平面に接している。
【００２０】
処理部９５は、図１に破線で示す処理面９５ａに対して所定の処理を行うように形成されている。処理面９５ａは、ＹＺ平面に平行に設定されており、例えばニップローラー９２及び９３の＋Ｘ側の端点を含む平面上に設定されている。前記所定の処理としては、例えば、塗布処理、膜形成処理、露光処理、現像処理、加熱処理、冷却処理などが挙げられる。勿論、他の処理を行う構成であっても構わない。
【００２１】
基板搬送部ＣＶは、収容室ＲＭにおいて基板Ｓを折り返す複数個のローラーＲを有している。以下、複数のローラーＲを区別する場合には、ローラー１１〜ローラー６６と表記する。各ローラーＲは、それぞれＹ方向に平行な軸部Ｒａを有している。各ローラーＲは、この軸部Ｒａが例えば容器ＣＴの＋Ｙ側及び−Ｙ側の壁部に回転可能に支持されている。各ローラーＲの軸部Ｒａの周りには、収容された基板Ｓが掛けられる円筒状の外周部Ｒｂが設けられている。
【００２２】
複数のローラーＲは、収容室ＲＭのうち基板Ｓの搬送経路に順に配置されている。複数のローラーＲは、収容室ＲＭの中央部に対して上下に分かれて配置されている。本実施形態では、複数のローラーＲは、収容室ＲＭのうちＺ方向の中央部に対して、−Ｚ側の第一部分ＲＭ１と、収容室ＲＭのうちＺ方向の中央部に対して＋Ｚ側の第二部分ＲＭ２とに分かれて配置されている。
【００２３】
収容室ＲＭのうち第一部分ＲＭ１には、Ｘ方向に８個配置された状態のローラーＲの列がＺ方向に３列設けられている。一つの列を構成するローラーＲの径は、同一となっている。また、−Ｚ側から＋Ｚ側へ収容室ＲＭのＺ方向の中央部に近づくにつれて、ローラーＲの径が小さくなっている。また、上記のローラーＲの列の他、基板Ｓの方向を転換するローラー１２及びローラー１３が設けられている。以下、第一部分ＲＭ１のローラーＲの列を区別する場合、収容室ＲＭの−Ｚ側から＋Ｚ側に向けて順に第一列Ｌ１〜第三列Ｌ３と表記する。
【００２４】
第一部分ＲＭにおいて、第一列Ｌ１、第二列Ｌ２及び第三列Ｌ３のローラーＲのうちそれぞれ最も−Ｘ側に配置されたローラー２９、３３、６５は、ローラー支持部材６７によって固定されている。ローラー支持部材６７は、ガイド部６８に沿ってＺ方向に移動可能に設けられている。ローラー支持部材６７は、例えば駆動機構６９に接続されている。この駆動機構６９は、ローラー支持部材６７をＺ方向にスライド移動させることができるように構成されている。この駆動機構６９によるローラー支持部材６７の移動量及び移動のタイミングは、例えば制御装置ＣＯＮＴによって制御されるようになっている。
【００２５】
収容室ＲＭのうち第二部分ＲＭ２には、Ｘ方向に９個配置された状態のローラーＲの列がＺ方向に３列設けられている。一つの列を構成するローラーＲの径は、同一となっている。また、＋Ｚ側から−Ｚ側へ収容室ＲＭのＺ方向の中央部に近づくにつれて、ローラーＲの径が小さくなっている。第二部分ＲＭ２には、上記のローラーＲの列の他、基板Ｓの方向を転換するローラー１１、ローラー３１及びローラー４９が設けられている。
【００２６】
また、第二部分ＲＭ２に配置されるローラー１１及び第一部分ＲＭ１に配置されるローラー１２は、窓部ＷをＺ方向に挟む位置に配置されている。以下、第二部分ＲＭ２のローラーＲの列を区別する場合、収容室ＲＭの−Ｚ側から＋Ｚ側に向けて順に第四列Ｌ４〜第六列Ｌ６と表記する。
【００２７】
基板Ｓは、ローラー１１〜ローラー６６に順に掛けられていくことにより、収容室ＲＭの搬送経路を案内されるようになっている。本実施形態では、基板Ｓが無端状に形成されているため、搬送経路は収容室ＲＭを循環する経路となる。以下、基板Ｓの搬送経路については、ローラー１１を起点とし、時計回りの方向を順方向として説明する。
【００２８】
ローラー１１に掛けられた基板Ｓは、このローラー１１の−Ｚ側に配置されるローラー１２に掛けられて＋Ｘ側へ折り返される。基板Ｓのうちローラー１２の下流側は、収容室ＲＭの−Ｚ側かつ＋Ｘ側の角部近傍に配置されたローラー１３によって＋Ｚ側へ折り返される。基板Ｓのうちローラー１３の下流側は、ローラーＲの第四列Ｌ４のうち、最も＋Ｘ側に配置されるローラー１４に掛けられて−Ｚ側へ折り返される。
【００２９】
基板Ｓのうちローラー１４の下流側は、ローラーＲの第一列Ｌ１のうち、最も＋Ｘ側に配置されるローラー１５に掛けられて＋Ｚ側へ折り返される。基板Ｓのうちローラー１５の下流側は、第四列Ｌ４のうちローラー１４の−Ｘ側に隣接して配置されたローラー１６に掛けられて−Ｚ側へ折り返される。基板Ｓのうちローラー１６の下流側は、第一列Ｌ１のうちローラー１５の−Ｘ側に隣接して配置されたローラー１７に掛けられて＋Ｚ側へ折り返される。
【００３０】
以下、第四列Ｌ４のローラーＲ（ローラー１８、２０、２２、２４、２６、２８及び３０）と第一列Ｌ１のローラーＲ（ローラー１９、２１、２３、２５、２７及び２９）とに交互に−Ｘ方向に掛けられていく。第四列Ｌ４の最も−Ｘ側のローラー３０に掛けられた基板Ｓの下流側は−Ｘ側へ折り返され、方向転換用のローラー３１に掛けられる。
【００３１】
基板Ｓのうちローラー３１の下流側は、ローラー３０の＋Ｚ側に隣接して配置されるローラー３２に掛けられて−Ｚ側へ折り返される。以下、基板Ｓは、第二列Ｌ２のローラーＲ（ローラー３３、３５、３７、３９、４１、４３、４５及び４７）と第五列Ｒ５のローラーＲ（ローラー３４、３６、３８、４０、４２、４４、４６及び４８）との間を＋Ｘ方向に交互に掛けられていく。第五列Ｌ５の最も＋Ｘ側のローラー４８に掛けられた基板Ｓの下流側は＋Ｘ側へ折り返され、方向転換用のローラー４９に掛けられる。
【００３２】
基板Ｓのうちローラー４９の下流側は、ローラー４８の＋Ｚ側に隣接して配置されるローラー５０に掛けられて−Ｚ側へ折り返される。以下、基板Ｓは、第三列Ｌ３のローラーＲ（ローラー５１、５３、５５、５７、５９、６１、６３及び６５）と第五列Ｒ５のローラーＲ（ローラー５２、５４、５６、５８、６０、６２、６４及び６６）との間を−Ｘ方向に交互に掛けられていく。第六列Ｌ６の最も−Ｘ側のローラー６６に掛けられた基板Ｓの下流側は−Ｚ側へ折り返され、上記のローラー１１に掛けられる。
【００３３】
上記構成においては、ローラー１１及びローラー１２が窓部ＷをＺ方向に挟む位置に配置されているため、ローラー１１及びローラー１２に掛けられた基板Ｓのうちローラー１１とローラー１２との間の部分は、−Ｘ側の面（基板Ｓの第二面Ｓｂ）が窓部Ｗに露出する位置に配置される。
【００３４】
また、基板搬送部ＣＶは、基板支持部ＳＰを有している。基板支持部ＳＰは、容器ＣＴの窓部Ｗとの間で基板Ｓを挟む位置に設けられている。基板支持部ＳＰは、Ｚ方向においてはローラー１１とローラー１２との間に設けられている。基板支持部ＳＰは、基板Ｓの第一面Ｓａを支持する支持板７１と、一対の支持ローラー７２及び７３と、これら支持板７１、支持ローラー７２及び７３を支持する支持部材７４と、を有している。
【００３５】
支持板７１は、−Ｘ側に形成された支持面７１ａを有している。支持面７１ａは、平坦に形成されている。支持板７１は、支持面７１ａがＹＺ平面に平行になるように配置されている。この状態において、支持面７１ａは、基板Ｓの第一面Ｓａに対向して配置される。
【００３６】
支持ローラー７２及び７３は、Ｚ方向に支持板７１を挟む位置に設けられている。支持ローラー７２及び７３は、円筒状あるいは円柱状に形成されている。支持ローラー７２及び７３は、中心軸がＹ方向に平行になるように配置されている。支持ローラー７２及び７３のＹ方向の寸法は、基板ＳのＹ方向の寸法よりも大きくなっている。支持ローラー７２及び７３は、支持部材７４によって周方向に回転可能に支持されている。
【００３７】
支持部材７４は、支持板７１、支持ローラー７２及び７３が独立してＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向に移動しないように一体的に固定する。支持部材７４によって支持された状態においては、支持ローラー７２及び７３のそれぞれの−Ｘ側の端部（基板Ｓを支持する点）と支持面７１ａとが同一平面上に配置されている。したがって、基板Ｓは支持面７１ａ及びこの支持面７１ａと同一平面状に配置された２つの支持ローラー７２、７３によって支持されることになる。
【００３８】
支持部材７４は、Ｘ方向に移動可能に設けられている。基板搬送部ＣＶは、支持部材７４をＸ方向に移動させる駆動機構７５を有している。制御装置ＣＯＮＴは、この駆動機構７５を制御することにより、支持部材７４のＸ方向への移動量及び移動のタイミングなどを調整可能である。また、図１中の支持ローラー７２の＋Z側、及び支持ローラー７３の−Z側には、容器ＣＴのＸＺ面と平行な側壁に、回転可能に軸支された案内ローラー８１、８２が設けられている。この案内ローラー８１、８２は、支持部材７４（支持ローラー７２、７３と支持板７１）が−Ｘ方向に移動したときに、基板Ｓが窓部Ｗの縁に接触することを防止する。
【００３９】
次に、上記のように構成された基板保管装置ＳＴＲの動作を説明する。ここでは、例として基板保管装置ＳＴＲに保管された基板Ｓに対して処理を行う場合を例に挙げて説明する。
【００４０】
図２は、基板保管装置ＳＴＲの動作の一例を示す図である。  
図２に示すように、基板保管装置ＳＴＲに保管された基板Ｓに対して処理を行う場合、まず、外部の処理装置ＰＡの装置側接続部９０及び９１を、基板保管装置ＳＴＲの接続部Ｊに接続させる。
【００４１】
処理装置ＰＡの接続が完了した後、制御装置ＣＯＮＴは、駆動機構７５を制御して支持部材７４を−Ｘ方向へ移動させる。この動作により、支持ローラー７２及び７３が基板Ｓの第一面Ｓａに接触し、この第一面Ｓａが−Ｘ側へ引き出される。制御装置ＣＯＮＴは、支持ローラー７２、７３とニップローラー９２、９３との間で基板Ｓを挟持する位置まで、支持部材７４を移動させる。
【００４２】
支持部材７４の移動により、基板Ｓのうち支持ローラー７２とニップローラー９２とで挟まれる部分と支持ローラー７３とニップローラー９３とで挟まれる部分の間の部分Ｓｃが窓部Ｗから収容室ＲＭの外部へ引き出され、処理装置ＰＡの処理部９５に対して露出された状態となる。
【００４３】
この露出部分Ｓｃは、支持板７１の支持面７１ａに支持され、この支持面７１ａに倣ってＹＺ平面に平行に配置される。また、露出部分Ｓｃは、支持面７１ａに倣って配置されることにより、処理装置ＰＡの処理部９５による処理面９５ａ上に配置されることになる。
【００４４】
一方、上記動作を行うことにより、基板Ｓの搬送経路が図１の状態から変化する。具体的には、露出部分Ｓｃが窓部Ｗから基板保管装置ＳＴＲの外部に引き出される分、基板保管装置ＳＴＲの−Ｘ側の壁部ＣＴａに沿った搬送経路が長くなる。これに対して、基板保管装置ＳＴＲに保管された基板Ｓは無端状に形成されており、長さが一定である。このため、基板Ｓに対して過度のテンションが加えられることが無いように、基板Ｓのテンションを調整する必要がある。
【００４５】
そこで、制御装置ＣＯＮＴは、駆動機構６９を制御してローラー支持部材６７を＋Ｚ側に移動させる。この動作により、ローラー支持部材６７と共にローラー２９、３３、６５がガイド部６８に沿って＋Ｚ側へ移動する。このため、基板Ｓのうちこのローラー２９、３３、６５に掛けられる部分の搬送経路が短くなる。
【００４６】
この場合、制御装置ＣＯＮＴは、支持部材７４の移動によって変化する基板Ｓの搬送経路の変化量と、ローラー支持部材６７の移動によって変化する搬送経路の変化量と、が等しくなるように、支持部材７４の移動量及びローラー支持部材６７の移動量のうち少なくとも一方を調整する。この動作により、基板Ｓの搬送経路の経路長が一定となるように維持されるため、基板Ｓに対して過度のテンションが加えられずに済むことになる。
【００４７】
上記のように基板Ｓの搬送経路の経路長を一定としつつ基板Ｓを処理部９５の処理面９５ａ上に配置した後、処理部９５によって基板Ｓの第二面Ｓｂに対する処理が行われる。この処理が完了した後、制御装置ＣＯＮＴは駆動機構６９及び駆動機構７５を制御し、基板Ｓの搬送経路の経路長を一定に保持しつつローラー支持部材６７及び支持部材７４を元の位置に戻す。その後、装置側接続部９０及び９１を接続部Ｊから外し、処理装置ＰＡを基板保管装置ＳＴＲから退避させる。このようにして、基板Ｓに対する処理が行われる。
【００４８】
以上のように、本実施形態によれば、可撓性を有し無端状に形成された基板Ｓを収容する収容室ＲＭを有する容器ＣＴと、この容器ＣＴに設けられる窓部Ｗと、収容室ＲＭに収容された基板Ｓの一部Ｓｃが窓部Ｗに対向するように基板Ｓを搬送する基板搬送部ＣＶとを備えるため、窓部Ｗにおいて基板Ｓを収容室ＲＭの外部に露出させると共に、基板Ｓの残りの部分を露出させないようにすることができる。これにより、基板Ｓの露出範囲を抑えることができるため、基板Ｓに埃などの異物が付着するのを抑えることができる。
また、基板Ｓの表面に対して加工処理を行わない時は、扉部材によって窓部Ｗを閉じておくことによって、防塵性を維持できる。
【００４９】
また、本実施形態によれば、基板Ｓが収容室ＲＭに収容された状態で基板保管装置ＳＴＲに対して処理装置ＰＡを接続させ、基板Ｓに処理を行う構成としたので、基板Ｓに異物が付着しにくい環境で処理を行うことができる。これにより、基板Ｓに異物が付着するのを防ぐことができる。
【００５０】
［第二実施形態］  
次に、本発明の第二実施形態を説明する。  
図３は、本実施形態に係る基板保管装置ＳＴＲ２の構成を示す図である。本実施形態では、窓部Ｗ近傍における容器ＣＴの構成が第一実施形態とは異なっているため、この相違点を中心に説明する。
【００５１】
図３に示すように、基板保管装置ＳＴＲ２は、基板Ｓを窓部Ｗから外部に引き出すための引き出し部１７０及び１７１を有している。この引き出し部１７０及び１７１は、窓部Ｗの内周部に取り付けられたアーム部１７４及び１７５を有している。アーム部１７４は、窓部Ｗの＋Ｚ側の内周面に取り付けられている。アーム部１７５は、窓部Ｗの−Ｚ側の面に取り付けられている。
【００５２】
アーム部１７４及び１７５は、取り付け位置を中心としてθＹ方向に回転可能に設けられている。アーム部１７４及び１７５は、それぞれアーム駆動部１７６及び１７７に接続されている。アーム駆動部１７６及び１７７は、例えば不図示のモータ機構などを有している。制御装置ＣＯＮＴは、アーム駆動部１７６及び１７７による駆動量や駆動のタイミングを制御可能である。
【００５３】
アーム部１７４及び１７５の先端部分には、案内ローラー１７２及び１７３が取り付けられている。案内ローラー１７２及び１７３は、円筒状に形成されており、中心軸がＹ軸に平行となるように配置されている。案内ローラー１７２及び１７３は、周方向（θＹ方向）に回転可能に設けられている。また、容器ＣＴには、外部の処理装置ＰＡを装着する装着部１７８が形成されている。なお、装着部１７８の代わりに、外部の処理装置ＰＡを配置するための開口部を形成してもよい。
【００５４】
この状態から、基板Ｓを窓部Ｗの外部に引き出す場合、制御装置ＣＯＮＴは、アーム駆動部１７６及び１７７を制御し、アーム部１７４を図中反時計回りに、アーム部１７５を図中時計回りに、それぞれ回転させる。アーム部１７４及びアーム部１７５の回転移動に伴ってアーム部１７４及びアーム部１７５の各先端部に取り付けられた案内ローラー１７２及び１７３が基板Ｓに掛けられ、基板Ｓが窓部Ｗの外側に引き出される。
【００５５】
図４は、引き出し部１７０及び１７１によって基板Ｓが窓部Ｗから収容室ＲＭの外部に引き出された状態を示す図である。  
図４に示すように、基板Ｓが引き出された状態においては、アーム部１７４及び１７５の先端が−Ｘ側に向くように配置される。
【００５６】
基板Ｓは、案内ローラー１７２及び１７３に掛けられた状態で窓部Ｗの外側に露出される。基板Ｓのうち案内ローラー１７２及び１７３の間の露出部分Ｓｃの第二面Ｓｂには、基板支持部材１７９の支持面１７９ａが押し当てられている。支持面１７９ａは、例えば＋Ｘ側に凸となるように形成された湾曲面である。支持面１７９ａが押し当てられることにより、露出部分Ｓｃは支持面１７９ａに倣って＋Ｘ側に湾曲して配置された状態となる。なお、基板支持部材１７９は、例えば回転ドラムである。
【００５７】
また、上記のアーム部１７４及び１７５の動作により、壁部ＣＴａに沿った部分の基板Ｓの搬送経路の経路長が長くなる。このため、制御装置ＣＯＮＴは、駆動機構６９を制御してローラー支持部材６７をガイド部６８に沿って＋Ｚ側へ移動させ、基板Ｓの搬送経路の経路長を調整する。なお、本実施形態においては、上記の第一実施形態に比べて、ローラー支持部材６７をＺ方向に広い範囲で移動可能な構成であっても構わない。これにより、基板Ｓの搬送経路の経路長の調整量が大きくなる。
【００５８】
基板Ｓを収容室ＲＭの外部に引き出した後、容器ＣＴの装着部１７８に処理装置ＰＡが配置される。処理装置ＰＡが装着部１７８に装着された状態においては、処理部１９５が窓部Ｗの−Ｘ側に向けられている。このため、露出部分ＳｃはＸ方向に見て処理部１９５の対向位置に配置される。この状態で、処理部１９５は基板Ｓの第一面Ｓａに対して処理を行う。
【００５９】
処理部１９５による処理が行われた後、処理装置ＰＡを装着部１７８から取り外す。処理装置ＰＡが取り外された後、制御装置ＣＯＮＴは、アーム部１７４及び１７５を容器ＣＴの収容室ＲＭに収容させると同時に、ローラー支持部材６７を−Ｚ側に移動させる。この動作により、基板Ｓの搬送経路の経路長を一定に保ちつつ、アーム部１７４及び１７５と共に基板Ｓが収容室ＲＭに収容される。
【００６０】
このように、本実施形態では、アーム部１７４及び１７５を用いて基板Ｓを窓部Ｗから外部に大きく引き出すと共に、基板Ｓの露出部分Ｓｃと容器ＣＴとの間に処理装置ＰＡなどの外部装置を装着させる構成となっているので、基板Ｓの第一面Ｓａに対して処理を行わせることができる。
また、本実施形態では、円柱状の支持面１７９ａが形成された基板支持部材（例えば、回転ドラム）１７９を用いて基板Ｓを支持させる構成としたので、支持面１７９ａの形状に応じた形状で基板Ｓを処理部１９５の対向位置に配置させることができる。例えば、支持面１７９ａが平坦面であれば、基板Ｓは平坦な状態で処理部１９５の対向位置に配置されることになる。
【００６１】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、上記実施形態においては、窓部Ｗが壁部ＣＴａに配置された構成としたが、これに限られることはなく、例えば図５に示すように、窓部Ｗが壁部ＣＴｂや他の壁部に配置された構成であっても構わない。
【００６２】
また、上記実施形態では、窓部Ｗが容器ＣＴの一箇所に設けられた構成としたが、これに限られることは無く、図５に示すように、容器ＣＴの複数個所に窓部Ｗが設けられた構成であっても構わない。この場合、一の壁部に複数窓部Ｗが配置された構成であっても構わないし、複数の壁部に一つずつあるいは複数ずつ窓部Ｗが設けられた構成であっても構わない。
【００６３】
また、上記実施形態の構成に加えて、例えば図６に示すように、前述した窓部Ｗに扉部材を設けてもよい。この扉部材として、図６には、窓部Ｗを開閉させるスライド部材ＳＬであっても構わない。スライド部材ＳＬは、スライド駆動部２００に接続されている。スライド駆動部２００は、制御装置ＣＯＮＴの制御によって駆動量及び駆動のタイミングが制御されるようになっている。
【００６４】
この構成において、制御装置ＣＯＮＴは、外部の処理装置との接続状態に応じて窓部Ｗを開閉させるようにしても構わない。この場合、制御装置ＣＯＮＴは、外部の処理装置が接続部Ｊに接続された場合には、窓部Ｗが開いた状態となるように、スライド部材ＳＬを−Ｚ側に移動させる。また、制御装置ＣＯＮＴは、外部の処理装置と接続部Ｊとの接続が解除された場合には、窓部Ｗが閉じた状態となるようにスライド部材ＳＬを＋Ｚ側に移動させる。これにより、収容室ＲＭに埃などの異物が侵入するのを防ぐことができる。
【００６５】
また、上記実施形態においては、基板Ｓの第一面Ｓａ及び第二面Ｓｂの両方に接触するようにローラーＲが配置された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、基板Ｓの第一面Ｓａに接触し、かつ、第二面Ｓｂには接触しないように配置された構成であっても構わない。
【００６６】
このような例としては、例えば図７に示すように、直角二等辺三角形状に形成されたガイド部材２０１及び２０２を用いて基板Ｓを折り返す構成などが挙げられる。図７に示すように、基板搬送部ＣＶは、２つの搬送部ＣＶ１及びＣＶ２を有している。図中＋Ｘ側の搬送部ＣＶ１では、基板Ｓは第一面Ｓａにのみ接触するように複数のローラーＲによって渦巻状（図中＋Ｘ側）に内側へ向けて折り返された後、ローラーＲ１によってガイド部材２０１へ向けて折り返されている。
【００６７】
搬送部ＣＶ１において、基板ＳのうちローラーＲ１の下流側は、ガイド部材２０１の一辺２０１ａで折り返されている。この基板Ｓのうち一辺２０１ａの下流側は、ガイド部材２０１の斜辺２０１ｂで４５°の角度で折り返されている。また、基板Ｓのうちこの斜辺２０１ｂの下流側は、ガイド部材２０１の他辺２０１ｃにおいて折り返された後、ガイド部材２０２に向けられている。このように、基板Ｓの第一面Ｓａがガイド部材２０１に巻きつけられている。
【００６８】
一方、基板Ｓのうちガイド部材２０２に向けられた部分は、ガイド部材２０２の一辺２０２ａで折り返され、ガイド部材２０１の場合と同様、斜辺２０２ｂ及び他辺２０２ｃに沿って順に折り返されている。基板Ｓのうち他辺２０２ｃの下流側は、ローラーＲ２に向けられている。このように、基板Ｓの第一面Ｓａがガイド部材２０２に巻きつけられている。
【００６９】
基板ＳのうちローラーＲ２の下流側は、複数のローラーＲによって渦巻状に外側へ向けて折り返された後、図中−Ｘ側の搬送部ＣＶ２に向けられている。搬送部ＣＶ２においては、上記搬送部ＣＶ１と同様の構成となっている。つまり、基板Ｓの第一面Ｓａにのみ接触しつつこの基板Ｓを渦巻状に折り返す構成となっており、中央部にはローラーＲ１、ガイド部材２０１、２０２及びローラーＲ２が設けられている。
【００７０】
図７に示すように、第一面ＳａがローラーＲ、Ｒ１、Ｒ２及びガイド部材２０１、２０２に接触するように、かつ、第二面Ｓｂがこれらのローラー及びガイド部材に接触しないように、基板Ｓが折り返されている。この構成においては、基板搬送部ＣＶは、基板Ｓの第二面Ｓｂの表面に接触せずに基板Ｓを搬送することができるため、第二面Ｓｂの状態を保護することができる。
【００７１】
なお、ガイド部材２０１及び２０２の構成については、上記のような直角二等辺三角形状に形成された構成に限られず、例えば円筒状のローラーを直角二等辺三角形の各辺に配置させた構成であっても構わない。
【００７２】
また、例えば図８に示すように、図７に示す構成をＹ方向に重ねた構成であっても構わない。この場合、搬送部ＣＶ１及びＣＶ２の＋Ｙ側に、搬送部ＣＶ３及びＣＶ４が設けられている。搬送部ＣＶ１と搬送部ＣＶ３とは同一構成であり、搬送部ＣＶ２と搬送部ＣＶ４とは同一構成である。搬送部ＣＶ１及びＣＶ２と、搬送部ＣＶ３及びＣＶ４との間は、方向転換用ローラー３０１〜３０４が配置されている。
【００７３】
基板Ｓは、搬送部ＣＶ１及びＣＶ２に掛けられた後、方向転換用ローラー３０１及び３０２によって方向転換され、搬送部ＣＶ３及びＣＶ４に掛けられる。また、この基板Ｓは、搬送部ＣＶ３及びＣＶ４に掛けられた後、方向転換用ローラー３０３及び３０４によって方向転換され、搬送部ＣＶ１及び搬送部ＣＶ２に再度掛けられる。なお、方向転換用ローラー３０１〜３０４に掛けられるのは常に基板Ｓの第一面Ｓａである。このように、基板Ｓは搬送部ＣＶ１〜搬送部ＣＶ４の間で循環するように掛けられている。
【００７４】
図８に示す構成においては、基板ＳがＹ方向に二重に収容されることになる。この場合、Ｙ方向に並んで窓部Ｗ１及びＷ２が設けられた構成であっても構わない。Ｙ方向に二重に配置された基板Ｓのそれぞれについて処理を行うことができるため、処理効率を高めることができる。
【００７５】
また、例えば図９に示すように、図７に示す構成をＸ方向及びＺ方向に複数配置しても構わない。この場合、搬送部ＣＶ１及びＣＶ２の−Ｚ側に、搬送部ＣＶ３及びＣＶ４が設けられている。なお、搬送部ＣＶ１と搬送部ＣＶ３とは同一構成であり、搬送部ＣＶ２と搬送部ＣＶ４とは同一構成である。図９に示す構成においては、例えば各搬送部ＣＶ１〜ＣＶ４について、それぞれ窓部Ｗ１〜Ｗ４が設けられた構成であっても構わない。これにより、複数個所で処理を行うことができるため、処理効率を高めることができる。
【００７６】
また、上記実施形態の構成に加えて、例えば基板保管装置ＳＴＲの収容室ＲＭに処理部が設けられた構成としても構わない。この場合、例えば基板に対してめっき処理、洗浄処理、乾燥処理、熱処理などの各処理を行う処理部を配置させることができる。図７に示すように、基板Ｓの第二面Ｓｂが基板搬送部ＣＶに接触していない構成の場合、この第二面Ｓｂに対して処理を行う処理部ＰＡ２が収容室ＲＭに設けられていても構わない。
【００７７】
なお、上記実施形態においては、長尺方向が無端状の基板を保管する保管装置について説明したが、この構成に限られるものではない。例えば、容器ＣＴ 内に、供給用ローラーと、回収用ローラーと、供給ローラーに巻かれた基板を上記窓部Ｗ１に搬送するための複数のローラーと、窓部Ｗ１を介した基板を回収用ローラーで巻き取るために、基板を回収ローラーに送る複数のローラーとを配置し、ロール・トゥ・ロール方式で搬送される基板を保管してもよい。
また、上記実施形態においては、中心軸がＹ方向に平行となるようにローラーＲが配置された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、中心軸がＸ方向あるいはＺ方向に平行となるようにローラーＲが配置された構成であっても、本発明の適用は可能である。
また、例えば図７、図８及び図９で示した実施形態においても、第一実施形態及び第二実施形態で採用しているような、搬送経路を短く調整する機構を採用してもよい。すなわち、基板に処理装置を用いて処理を施すために、基板を引き出して露出させる場合に、ローラーを移動させて搬送経路を短くして、基板の搬送経路の経路長が一定となるように調整する機構を採用してもよい。 
【符号の説明】
【００７８】
ＳＴＲ、ＳＴＲ２…基板保管装置  Ｓ…基板  Ｓａ…基板Ｓの第一面  Ｓｂ…基板Ｓの第二面  ＳＰ…基板支持部  ＣＴ…容器  ＣＶ…基板搬送部  ＣＴａ、ＣＴｂ…壁部  ＲＭ…収容室  Ｗ、Ｗ１、Ｗ２…窓部  Ｊ…接続部  ＰＡ…処理装置  Ｒ…ローラー  ６７…ローラー支持部材  ６８…ガイド部  ６９、７５…駆動機構  ７１ａ…支持面  ９０、９１…装置側接続部  ９２、９３…ニップローラー  ９５…処理部  ９５ａ…処理面  １７２、１７３…案内ローラー  １７４、１７５…アーム部  １７６、１７７…アーム駆動部  １７８…装着部  １７９…基板支持部材  １７９ａ…支持面  １９５…処理部  ２００…スライド駆動部  ２０１、２０２…ガイド部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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