(57)【要約】  距離検出の精度を高めると共に、距離検出のための処理量を軽減することができる情報取得装置および物体検出装置を提供する。情報取得装置は、所定のドットパターンで投射されたレーザ光を投射し、ＣＭＯＳイメージセンサにより反射光を受光する。基準パターン領域に基づいて、受光面に設定された複数のセグメント領域に含まれる探索用のドットパターンが設定される。実測時には、受光面上のドットパターンから、各セグメント領域に含まれる探索用のドットパターンと一致する領域が探索される。このとき、基準パターン領域の中央部の上下方向に延びた領域において、各セグメント領域のサイズが大きくなるよう設定される。これにより、目標領域の中央の上下方向に対して距離検出の精度が高められ、その他の領域に対しては処理量が低く抑えられる。
2012147495.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を用いて目標領域の情報を取得する情報取得装置において、
前記目標領域に所定のドットパターンでレーザ光を投射する投射光学系と、
前記投射光学系に対して所定の距離だけ離れて並ぶように配置され、前記目標領域を撮像する受光光学系と、
前記受光光学系により撮像された前記ドットパターンに基づいて目標領域に存在する物体の各部までの距離を取得する距離取得部と、を備え、
前記距離取得部は、基準面により反射され前記受光光学系により撮像された基準ドットパターンにセグメント領域を設定し、距離測定時に目標領域を撮像して取得された撮像ドットパターンと前記各セグメント領域内のドットとを照合することにより、前記各セグメント領域についての距離を取得し、
前記セグメント領域のサイズは、前記基準ドットパターンの領域に応じて異なるよう設定される、
ことを特徴とする情報取得装置。
【請求項２】
請求項１に記載の情報取得装置において、
前記セグメント領域のサイズは、前記基準ドットパターンの中央部の上下方向に延びた領域において、前記基準ドットパターンの他の領域よりも大きくなるよう設定される、
ことを特徴とする情報取得装置。
【請求項３】
請求項１に記載の情報取得装置において、
前記セグメント領域のサイズは、前記基準ドットパターンの中心部が周辺部よりも大きくなるよう設定される、
ことを特徴とする情報取得装置。
【請求項４】
請求項１に記載の情報取得装置において、
前記距離取得部は、実測時に各測定位置について距離の変化度合を取得し、前記距離の変化度合が閾値以上の測定位置に対応する前記セグメント領域のサイズを、前記距離の変化度合が前記閾値未満の測定位置に対応する前記セグメント領域のサイズよりも、大きくなるよう設定する、
ことを特徴とする情報取得装置。
【請求項５】
請求項１ないし４の何れか一項に記載の情報取得装置において、
前記投射光学系は、
レーザ光源と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光が入射するコリメータレンズと、
前記コリメータレンズを透過した前記レーザ光を回折によりドットパターンの光に変換する回折光学素子と、を備え、
前記受光光学系は、
撮像素子と、
目標領域からの前記レーザ光を前記撮像素子に集光する集光レンズと、
前記レーザ光の波長帯域の光を抽出して前記撮像素子に導くためのフィルタと、を備える、
ことを特徴とする情報取得装置。
【請求項６】
請求項１ないし５の何れか一項に記載の情報取得装置を有する物体検出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、目標領域に光を投射したときの反射光の状態に基づいて目標領域内の物体を検出する物体検出装置、および、当該物体検出装置に用いて好適な情報取得装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光を用いた物体検出装置が種々の分野で開発されている。いわゆる距離画像センサを用いた物体検出装置では、２次元平面上の平面的な画像のみならず、検出対象物体の奥行き方向の形状や動きを検出することができる。かかる物体検出装置では、レーザ光源やＬＥＤ（Light Emitting Diode）から、予め決められた波長帯域の光が目標領域に投射され、その反射光がＣＭＯＳイメージセンサ等の光検出器により受光（撮像）される。距離画像センサとして、種々のタイプのものが知られている。【０００３】
所定のドットパターンを持つレーザ光を目標領域に照射するタイプの距離画像センサでは、ドットパターンを持つレーザ光の目標領域からの反射光が光検出器によって受光される。そして、ドットの光検出器上の受光位置に基づいて、三角測量法を用いて、検出対象物体の各部（検出対象物体上の各ドットの照射位置）までの距離が検出される（たとえば、非特許文献１）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】第１９回日本ロボット学会学術講演会（２００１年９月１８−２０日）予稿集、Ｐ１２７９−１２８０
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記物体検出装置では、所定距離だけ離れた位置に基準面を配したときに光検出器により受光されるドットパターンと、実測時に光検出器により受光されるドットパターンとが比較されて、距離の検出が行われる。たとえば、基準面に対するドットパターンに所定のサイズの複数の領域が設定される。物体検出装置は、各領域に含まれるドットが実測時に受光したドットパターン上のどの位置に移動したかに基づいて、領域毎に、対象物体までの距離を検出する。【０００６】
この場合、ドットパターンに設定される領域のサイズが大きい程、距離検出の精度が高められる。しかしながら、領域のサイズが大きくなると、各領域内のドットと実測時のドットパターンとの間の比較・照合のための処理量が増えるという問題が生じる。【０００７】
本発明は、この点に鑑みてなされたものであり、距離検出の精度を高めると共に、距離検出のための処理量を軽減することができる情報取得装置および物体検出装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の態様は、光を用いて目標領域の情報を取得する情報取得装置に関する。この態様に係る情報取得装置は、前記目標領域に所定のドットパターンでレーザ光を投射する投射光学系と、前記投射光学系に対して所定の距離だけ離れて並ぶように配置され、前記目標領域を撮像する受光光学系と、前記受光光学系により撮像された前記ドットパターンに基づいて目標領域に存在する物体の各部までの距離を取得する距離取得部と、を備える。ここで、前記距離取得部は、基準面により反射され前記受光光学系により撮像された基準ドットパターンにセグメント領域を設定し、距離測定時に目標領域を撮像して取得された撮像ドットパターンと前記各セグメント領域内のドットとを照合することにより、前記各セグメント領域についての距離を取得する。前記セグメント領域のサイズは、前記基準ドットパターンの領域に応じて異なるよう設定される。【０００９】
本発明の第２の態様は、物体検出装置に関する。この態様に係る物体検出装置は、上記第１の態様に係る情報取得装置を有する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、距離検出の精度を高めると共に、距離検出のための処理量を軽減することができる情報取得装置および物体検出装置を提供することができる。【００１１】
本発明の特徴は、以下に示す実施の形態の説明により更に明らかとなろう。ただし、以下の実施の形態は、あくまでも、本発明の一つの実施形態であって、本発明ないし各構成要件の用語の意義は、以下の実施の形態に記載されたものに制限されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】実施の形態に係る物体検出装置の概略構成を示す図である。
【図２】実施の形態に係る情報取得装置と情報処理装置の構成を示す図である。
【図３】実施の形態に係る投射光学系と受光光学系の設置状態を示す斜視図である。
【図４】実施の形態に係る投射光学系と受光光学系の構成を模式的に示す図である。
【図５】実施の形態に係る目標領域に対するレーザ光の照射状態を模式的に示す図およびＣＭＯＳイメージセンサにおけるレーザ光の受光状態を模式的に示す図である。
【図６】実施の形態に係る基準テンプレートの生成方法を説明する図である。
【図７】実施の形態に係る基準テンプレートのセグメント領域が実測時においてどの位置に変位したかを検出する手法を説明する図である。
【図８】全てのセグメント領域を同じサイズに設定する場合の距離検出の精度についての検証の結果を示す図である。
【図９】実施の形態に係る基準パターン領域に対して設定されるセグメント領域のサイズを示す模式図およびセグメント領域の設定を説明する図である。
【図１０】実施の形態に係るセグメント領域に対するドットパターンの設定処理および実測時における距離検出の処理を示すフローチャートである。
【図１１】実施の形態に係る基準パターン領域に対して設定されるセグメント領域のサイズの変更例を示す模式図および検出距離情報を模式的に示す図である。
【図１２】実施の形態の変更例に係るセグメント領域の再設定の処理を示すフローチャートである。
【図１３】実施の形態に係る基準パターン領域に対して設定されるセグメント領域のサイズの変更例を示す模式図である。
【図１４】実施の形態に係る基準パターン領域に対して設定されるセグメント領域のサイズの変更例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態につき図面を参照して説明する。本実施の形態には、所定のドットパターンを持つレーザ光を目標領域に照射するタイプの情報取得装置が例示されている。
【００１４】
まず、図１に本実施の形態に係る物体検出装置の概略構成を示す。図示の如く、物体検出装置は、情報取得装置１と、情報処理装置２とを備えている。テレビ３は、情報処理装置２からの信号によって制御される。なお、情報取得装置１と情報処理装置２とからなる装置が、本発明の物体検出装置に相当する。
【００１５】
情報取得装置１は、目標領域全体に赤外光を投射し、その反射光をＣＭＯＳイメージセンサにて受光することにより、目標領域にある物体各部の距離（以下、「３次元距離情報」という）を取得する。取得された３次元距離情報は、ケーブル４を介して情報処理装置２に送られる。
【００１６】
情報処理装置２は、たとえば、テレビ制御用のコントローラやゲーム機、パーソナルコンピュータ等である。情報処理装置２は、情報取得装置１から受信した３次元距離情報に基づき、目標領域における物体を検出し、検出結果に基づきテレビ３を制御する。
【００１７】
たとえば、情報処理装置２は、受信した３次元距離情報に基づき人を検出するとともに、３次元距離情報の変化から、その人の動きを検出する。たとえば、情報処理装置２がテレビ制御用のコントローラである場合、情報処理装置２には、受信した３次元距離情報からその人のジェスチャを検出するとともに、ジェスチャに応じてテレビ３に制御信号を出力するアプリケーションプログラムがインストールされている。この場合、ユーザは、テレビ３を見ながら所定のジェスチャをすることにより、チャンネル切り替えやボリュームのＵｐ／Ｄｏｗｎ等、所定の機能をテレビ３に実行させることができる。
【００１８】
また、たとえば、情報処理装置２がゲーム機である場合、情報処理装置２には、受信した３次元距離情報からその人の動きを検出するとともに、検出した動きに応じてテレビ画面上のキャラクタを動作させ、ゲームの対戦状況を変化させるアプリケーションプログラムがインストールされている。この場合、ユーザは、テレビ３を見ながら所定の動きをすることにより、自身がテレビ画面上のキャラクタとしてゲームの対戦を行う臨場感を味わうことができる。
【００１９】
図２は、情報取得装置１と情報処理装置２の構成を示す図である。
【００２０】
情報取得装置１は、光学部の構成として、投射光学系１１と受光光学系１２とを備えている。この他、情報取得装置１は、回路部の構成として、ＣＰＵ（Central Processing Unit）２１と、レーザ駆動回路２２と、撮像信号処理回路２３と、入出力回路２４と、メモリ２５を備えている。
【００２１】
投射光学系１１は、所定のドットパターンのレーザ光を、目標領域に照射する。受光光学系１２は、目標領域から反射されたレーザ光を受光する。投射光学系１１と受光光学系１２の構成は、追って、図３、４を参照して説明する。
【００２２】
ＣＰＵ２１は、メモリ２５に格納された制御プログラムに従って各部を制御する。かかる制御プログラムによって、ＣＰＵ２１には、投射光学系１１内のレーザ光源１１１（後述）を制御するためのレーザ制御部２１ａと、３次元距離情報を生成するための３次元距離演算部２１ｂの機能が付与される。
【００２３】
レーザ駆動回路２２は、ＣＰＵ２１からの制御信号に応じてレーザ光源１１１（後述）を駆動する。撮像信号処理回路２３は、受光光学系１２内のＣＭＯＳイメージセンサ１２３（後述）を制御して、ＣＭＯＳイメージセンサ１２３で生成された各画素の信号（電荷）をライン毎に順次取り込む。そして、取り込んだ信号を順次ＣＰＵ２１に出力する。
【００２４】
ＣＰＵ２１は、撮像信号処理回路２３から供給される信号（撮像信号）をもとに、情報取得装置１から検出対象物の各部までの距離を、３次元距離演算部２１ｂによる処理によって算出する。入出力回路２４は、情報処理装置２とのデータ通信を制御する。
【００２５】
情報処理装置２は、ＣＰＵ３１と、入出力回路３２と、メモリ３３を備えている。なお、情報処理装置２には、同図に示す構成の他、テレビ３との通信を行うための構成や、ＣＤ−ＲＯＭ等の外部メモリに格納された情報を読み取ってメモリ３３にインストールするためのドライブ装置等が配されるが、便宜上、これら周辺回路の構成は図示省略されている。
【００２６】
ＣＰＵ３１は、メモリ３３に格納された制御プログラム（アプリケーションプログラム）に従って各部を制御する。かかる制御プログラムによって、ＣＰＵ３１には、画像中の物体を検出するための物体検出部３１ａの機能が付与される。かかる制御プログラムは、たとえば、図示しないドライブ装置によってＣＤ−ＲＯＭから読み取られ、メモリ３３にインストールされる。
【００２７】
たとえば、制御プログラムがゲームプログラムである場合、物体検出部３１ａは、情報取得装置１から供給される３次元距離情報から画像中の人およびその動きを検出する。そして、検出された動きに応じてテレビ画面上のキャラクタを動作させるための処理が制御プログラムにより実行される。
【００２８】
また、制御プログラムがテレビ３の機能を制御するためのプログラムである場合、物体検出部３１ａは、情報取得装置１から供給される３次元距離情報から画像中の人およびその動き（ジェスチャ）を検出する。そして、検出された動き（ジェスチャ）に応じて、テレビ３の機能（チャンネル切り替えやボリューム調整、等）を制御するための処理が制御プログラムにより実行される。
【００２９】
入出力回路３２は、情報取得装置１とのデータ通信を制御する。
【００３０】
図３は、投射光学系１１と受光光学系１２の設置状態を示す斜視図である。
【００３１】
投射光学系１１と受光光学系１２は、熱伝導性の高いベースプレート３００上に設置される。投射光学系１１を構成する光学部材は、シャーシ１１ａに設置され、このシャーシ１１ａがベースプレート３００上に設置される。これにより、投射光学系１１がベースプレート３００上に設置される。
【００３２】
受光光学系１２は、ベースプレート３００上の２つの台座３００ａの上面と、２つの台座３００ａの間のベースプレート３００の上面に設置される。２つの台座３００ａの間のベースプレート３００の上面には、後述するＣＭＯＳイメージセンサ１２３が設置され、台座３００ａの上面には保持板１２ａが設置され、この保持板１２ａに、後述するフィルタ１２１および撮像レンズ１２２を保持するレンズホルダ１２ｂが設置される。
【００３３】
投射光学系１１と受光光学系１２は、投射光学系１１の投射中心と受光光学系１２の撮像中心がＸ軸に平行な直線上に並ぶように、Ｘ軸方向に所定の距離をもって並んで設置されている。ベースプレート３００の裏面に、情報取得装置１の回路部（図２参照）を保持する回路基板２００（図４参照）が設置される。
【００３４】
ベースプレート３００の中央下部には、レーザ光源１１１の配線をベースプレート３００の背部に取り出すための孔３００ｂが形成されている。また、ベースプレート３００の受光光学系１２の設置位置の下部には、ＣＭＯＳイメージセンサ１２３のコネクタ１２ｃをベースプレート３００の背部に露出させるための開口３００ｃが形成されている。
【００３５】
図４は、本実施の形態に係る投射光学系１１と受光光学系１２の構成を模式的に示す図である。
【００３６】
投射光学系１１は、レーザ光源１１１と、コリメータレンズ１１２と、立ち上げミラー１１３と、回折光学素子（ＤＯＥ：Diffractive Optical Element）１１４を備えている。また、受光光学系１２は、フィルタ１２１と、撮像レンズ１２２と、ＣＭＯＳイメージセンサ１２３とを備えている。
【００３７】
レーザ光源１１１は、波長８３０ｎｍ程度の狭波長帯域のレーザ光を出力する。レーザ光源１１１は、レーザ光の光軸がＸ軸に平行となるように設置される。コリメータレンズ１１２は、レーザ光源１１１から出射されたレーザ光を略平行光に変換する。コリメータレンズ１１２は、自身の光軸がレーザ光源１１１から出射されたレーザ光の光軸に整合するように設置される。立ち上げミラー１１３は、コリメータレンズ１１２側から入射されたレーザ光を反射する。レーザ光の光軸は、立ち上げミラー１１３によって９０°折り曲げられてＺ軸に平行となる。
【００３８】
ＤＯＥ１１４は、入射面に回折パターンを有する。回折パターンは、たとえば、ステップ型のホログラムにより構成される。この回折パターンによる回折作用により、立ち上げミラー１１３により反射されＤＯＥ１１４に入射したレーザ光は、ドットパターンのレーザ光に変換されて、目標領域に照射される。回折パターンは、目標領域において所定のドットパターンとなるように設計されている。
【００３９】
なお、レーザ光源１１１とコリメータレンズ１１２との間には、レーザ光の輪郭を円形にするためのアパーチャ（図示せず）が配される。なお、このアパーチャは、レーザ光源１１１の出射開口によって構成されても良い。
【００４０】
目標領域から反射されたレーザ光は、フィルタ１２１を透過して撮像レンズ１２２に入射する。
【００４１】
フィルタ１２１は、レーザ光源１１１の出射波長（８３０ｎｍ程度）を含む波長帯域の光を透過し、その他の波長帯域をカットする。撮像レンズ１２２は、フィルタ１２１を介して入射された光をＣＭＯＳイメージセンサ１２３上に集光する。撮像レンズ１２２は複数のレンズから構成され、所定のレンズとレンズとの間にアパーチャとスペーサが介挿されている。かかるアパーチャは、撮像レンズ１２２のＦナンバーに合うように、外部からの光に絞りを掛ける。
【００４２】
ＣＭＯＳイメージセンサ１２３は、撮像レンズ１２２にて集光された光を受光して、画素毎に、受光光量に応じた信号（電荷）を撮像信号処理回路２３に出力する。ここで、ＣＭＯＳイメージセンサ１２３は、各画素における受光から高レスポンスでその画素の信号（電荷）を撮像信号処理回路２３に出力できるよう、信号の出力速度が高速化されている。
【００４３】
フィルタ１２１は、受光面がＺ軸に垂直になるように配置される。撮像レンズ１２２は、光軸がＺ軸に平行となるように設置される。ＣＭＯＳイメージセンサ１２３は、受光面がＺ軸に垂直になるように設置される。また、フィルタ１２１の中心とＣＭＯＳイメージセンサ１２３の受光領域の中心が撮像レンズ１２２の光軸上に並ぶように、フィルタ１２１、撮像レンズ１２２およびＣＭＯＳイメージセンサ１２３が配置される。
【００４４】
投射光学系１１と受光光学系１２は、図３を参照して説明したように、ベースプレート３００に設置されている。ベースプレート３００の下面には、さらに、回路基板２００が設置され、この回路基板２００から、レーザ光源１１１およびＣＭＯＳイメージセンサ１２３に配線（フレキシブル基板）２０１、２０２が接続されている。回路基板２００には、図２に示すＣＰＵ２１やレーザ駆動回路２２等の情報取得装置１の回路部が実装されている。
【００４５】
図５（ａ）は、目標領域に対するレーザ光の照射状態を模式的に示す図であり、図５（ｂ）は、ＣＭＯＳイメージセンサ１２３におけるレーザ光の受光状態を模式的に示す図である。なお、同図（ｂ）には、便宜上、目標領域に平坦な面（スクリーン）が存在するときの受光状態が示されている。
【００４６】
同図（ａ）に示すように、投射光学系１１からは、ドットパターンを持ったレーザ光（以下、このパターンを持つレーザ光の全体を「ＤＰ光」という）が、目標領域に向けて照射される。同図（ａ）には、ＤＰ光の投射領域が実線の枠によって示されている。ＤＰ光の光束中には、回折光学素子による回折作用によってレーザ光の強度が高められたドット領域（以下、単に「ドット」という）が、回折光学素子の回折作用によるドットパターンに従って点在している。目標領域に平坦な面（スクリーン）が存在すると、これにより反射されたＤＰ光は、同図（ｂ）のように、ＣＭＯＳイメージセンサ１２３上に分布する。
【００４７】
ここで、図６（ａ）、（ｂ）を参照して、距離検出に用いられる基準パターンについて説明する。
【００４８】
図６（ａ）を参照して、基準パターンの生成時には、投射光学系１１から所定の距離Ｌｓの位置に、Ｚ軸方向に垂直な平坦な反射平面ＲＳが配置される。レーザ光源１１１の温度は、所定の温度（基準温度）に維持される。この状態で、投射光学系１１からＤＰ光が所定時間Ｔｅだけ出射される。出射されたＤＰ光は、反射平面ＲＳによって反射され、受光光学系１２のＣＭＯＳイメージセンサ１２３に入射する。これにより、ＣＭＯＳイメージセンサ１２３から、画素毎の電気信号が出力される。出力された画素毎の電気信号の値（画素値）が、図２のメモリ２５上に展開される。
【００４９】
こうしてメモリ２５上に展開された画素値に基づいて、図６（ｂ）に示すように、ＣＭＯＳイメージセンサ１２３上におけるＤＰ光の照射領域を規定する基準パターン領域が設定される。
【００５０】
次に、図６（ｂ）、（ｃ）を参照して、基準パターン領域に設定されるセグメント領域（比較例）について説明する。
【００５１】
比較例では、上述したように設定された基準パターン領域に対して、複数のセグメント領域が設定される。各セグメント領域は、他の全てのセグメント領域と同じサイズであり、上下左右に隣り合う２つのセグメント領域は、図６（ｃ）に示す如く、互いに１画素ずれた状態で重なり合うよう設定される。このとき、各セグメント領域には、固有のパターンでドットが点在するため、セグメント領域の画素値のパターンは、セグメント領域毎に異なっている。こうして、各セグメント領域に対して、当該セグメント領域に含まれる各画素の画素値が割り当てられる。
【００５２】
こうして、ＣＭＯＳイメージセンサ１２３上における基準パターン領域の位置に関する情報と、基準パターン領域に含まれる全画素の画素値（基準パターン）と、セグメント領域のサイズ（縦横の幅）に関する情報と、各セグメント領域の基準パターン領域上の位置に関する情報が、基準テンプレートとなる。なお、基準パターン領域に含まれる全画素の画素値（基準パターン）は、基準パターン領域に含まれるＤＰ光のドットパターンに相応するものになる。また、基準パターン領域に含まれる全画素の画素値（基準パターン）のマッピング領域に、セグメント領域のサイズに関する情報と、各セグメント領域の基準パターン領域上の位置に関する情報とで規定されるセグメント領域を設定することにより、各セグメント領域に含まれる画素の画素値が取得される。
【００５３】
なお、この場合の基準テンプレートは、さらに、各セグメント領域に含まれる画素の画素値を、予めセグメント領域毎に保持していても良い。
【００５４】
構成された基準テンプレートは、図２のメモリ２５に、消去不可能な状態で保持される。こうしてメモリ２５に保持された基準テンプレートは、投射光学系１１から検出対象物体の各部までの距離を算出する際にＣＰＵ２１により参照される。
【００５５】
たとえば、図６（ａ）に示すように、距離Ｌｓよりも近い位置に物体がある場合、基準パターン上の所定のセグメント領域Ｓｎに対応するＤＰ光（ＤＰｎ）は、物体によって反射され、セグメント領域Ｓｎとは異なる領域Ｓｎ’に入射する。投射光学系１１と受光光学系１２はＸ軸方向に隣り合っているため、セグメント領域Ｓｎに対する領域Ｓｎ’の変位方向はＸ軸に平行となる。図６（ａ）の場合、物体が距離Ｌｓよりも近い位置にあるため、領域Ｓｎ’は、セグメント領域Ｓｎに対してＸ軸正方向に変位する。物体が距離Ｌｓよりも遠い位置にあれば、領域Ｓｎ’は、セグメント領域Ｓｎに対してＸ軸負方向に変位する。
【００５６】
セグメント領域Ｓｎに対する領域Ｓｎ’の変位方向と変位量をもとに、投射光学系１１からＤＰ光（ＤＰｎ）が照射された物体の部分までの距離Ｌｒが、距離Ｌｓを用いて、三角測量法に基づき算出される。同様にして、他のセグメント領域に対応する物体の部分について、投射光学系１１からの距離が算出される。かかる算出手法の詳細は、たとえば、上記非特許文献１（第１９回日本ロボット学会学術講演会（２００１年９月１８−２０日）予稿集、Ｐ１２７９−１２８０）に示されている。
【００５７】
かかる距離算出では、基準テンプレートのセグメント領域Ｓｎが、実測時においてどの位置に変位したかを検出する必要がある。この検出は、実測時にＣＭＯＳイメージセンサ１２３上に照射されたＤＰ光のドットパターンと、セグメント領域Ｓｎに含まれるドットパターンとを照合することによって行われる。
【００５８】
図７は、図６（ｂ）、（ｃ）に示すセグメント領域（比較例）を用いて、かかる検出の手法を説明する図である。同図（ａ）は、ＣＭＯＳイメージセンサ１２３上における基準パターン領域とセグメント領域の設定状態を示す図、同図（ｂ）は、実測時におけるセグメント領域の探索方法を示す図、同図（ｃ）は、実測されたＤＰ光のドットパターンと、基準テンプレートのセグメント領域に含まれるドットパターンとの照合方法を示す図である。
【００５９】
たとえば、同図（ａ）のセグメント領域Ｓ１の実測時における変位位置を探索する場合、同図（ｂ）に示すように、セグメント領域Ｓ１が、範囲Ｐ１〜Ｐ２において、Ｘ軸方向に１画素ずつ送られ、各送り位置において、セグメント領域Ｓ１のドットパターンと、実測されたＤＰ光のドットパターンのマッチング度合いが求められる。この場合、セグメント領域Ｓ１は、基準パターン領域の最上段のセグメント領域群を通るラインＬ１上のみをＸ軸方向に送られる。これは、上記のように、通常、各セグメント領域は、実測時において、基準テンプレートにより設定された位置からＸ軸方向にのみ変位するためである。すなわち、セグメント領域Ｓ１は、最上段のラインＬ１上にあると考えられるためである。このように、Ｘ軸方向にのみ探索を行うことで、探索のための処理負担が軽減される。
【００６０】
なお、実測時には、検出対象物体の位置によっては、セグメント領域が基準パターン領域の範囲からＸ軸方向にはみ出すことが起こり得る。このため、範囲Ｐ１〜Ｐ２は、基準パターン領域のＸ軸方向の幅よりも広く設定される。
【００６１】
上記マッチング度合いの検出時には、ラインＬ１上に、セグメント領域Ｓ１と同じサイズの領域（比較領域）が設定され、この比較領域とセグメント領域Ｓ１との間の類似度が求められる。すなわち、セグメント領域Ｓ１の各画素の画素値と、比較領域の対応する画素の画素値との差分が求められる。そして、求めた差分を比較領域の全ての画素について加算した値Ｒｓａｄが、類似度を示す値として取得される。
【００６２】
たとえば、図７（ｃ）のように、一つのセグメント領域中に、ｍ列×ｎ行の画素が含まれている場合、セグメント領域のｉ列、ｊ行の画素の画素値Ｔ（ｉ，ｊ）と、比較領域のｉ列、ｊ行の画素の画素値Ｉ（ｉ，ｊ）との差分が求められる。そして、セグメント領域の全ての画素について差分が求められ、その差分の総和により、値Ｒｓａｄが求められる。すなわち、値Ｒｓａｄは、次式により算出される。
【００６３】
【数１】
2012147495.tif 000003
【００６４】
値Ｒｓａｄが小さい程、セグメント領域と比較領域との間の類似度が高い。
【００６５】
探索時には、比較領域が、ラインＬ１上を１画素ずつずらされつつ順次設定される。そして、ラインＬ１上の全ての比較領域について、値Ｒｓａｄが求められる。求めた値Ｒｓａｄの中から、閾値より小さいものが抽出される。閾値より小さい値Ｒｓａｄが無ければ、セグメント領域Ｓ１の探索はエラーとされる。そして、抽出されたＲｓａｄの中で最も値が小さいものに対応する比較領域が、セグメント領域Ｓ１の移動領域であると判定される。ラインＬ１上のセグメント領域Ｓ１以外のセグメント領域も、上記と同様の探索が行われる。また、他のライン上のセグメント領域も、上記と同様、そのライン上に比較領域が設定されて、探索が行われる。
【００６６】
こうして、実測時に取得されたＤＰ光のドットパターンから、各セグメント領域の変位位置が探索されると、上記のように、その変位位置に基づいて、三角測量法により、各セグメント領域に対応する検出対象物体の部位までの距離が求められる。
【００６７】
ここで、本件出願の発明者は、上記のように全てのセグメント領域を同じサイズに設定する場合に、設定するセグメント領域のサイズを変化させて距離検出の精度についての検証を行った。
【００６８】
図８（ａ）は、本検証で用いた目標領域に位置付けられたマネキンの手を示す図である。図８（ａ）には、便宜上、台と棒の領域が白の破線で示されている。図８（ｂ）〜（ｄ）は、セグメント領域のサイズを、それぞれ、１５×１５画素、１１×１１画素、７×７画素に変化させたときの距離の測定結果である。図８（ｂ）〜（ｄ）において、測定された距離が遠いほど白に近づき、距離の測定がエラーとなったセグメント領域の位置、すなわち、セグメント領域の探索がエラーとなった位置は、黒となっている。
【００６９】
図８（ｂ）〜（ｄ）に示す如く、セグメント領域のサイズが小さくなるに従って、距離の測定がエラーとなったセグメント領域の位置が増えている。図８（ｂ）〜（ｄ）において、距離を適正に検出することができなかった領域が全体に占める割合（エラー率）は、それぞれ、８％、１２％、２４％となっている。すなわち、セグメント領域のサイズが１５×１５画素または１１×１１画素に設定されると、エラー率が低く抑えられ、マネキンの指の形状も略適正に検出される。他方、セグメント領域のサイズが７×７画素に設定されると、エラー率が上昇し、マネキンの指の形状を適正に検出することが困難となる。
【００７０】
このように、セグメント領域のサイズが大きくなると、目標領域における対象物体の距離検出の精度が変化する。たとえば、セグメント領域の面積が２倍になると、セグメント領域に含まれるドット数も略２倍になる。これにより、セグメント領域に含まれるドットパターンのユニーク性が高められ、セグメント領域の変位位置が適正に探索され易くなる。よって、距離検出の精度を高めたい場合には、セグメント領域のサイズを大きく設定することが望ましい。
【００７１】
しかしながら、セグメント領域のサイズが大きくなると、各セグメント領域の変位位置の探索時に値Ｒｓａｄの計算量が増え、ＣＰＵ２１の処理量が増大する。たとえば、セグメント領域の面積が２倍になると、値Ｒｓａｄの計算量が２倍になってしまう。
【００７２】
そこで、本実施の形態では、距離検出の精度を高めながら計算量を軽減するよう、所定の位置におけるセグメント領域のサイズを大きく設定する。
【００７３】
図９（ａ）は、本実施の形態において、基準パターン領域に対して設定されるセグメント領域のサイズを示す模式図である。
【００７４】
図示の如く、基準パターン領域の中央部の上下方向に延びた領域において、セグメント領域のサイズが大きくなるよう設定され、基準パターン領域の他の領域において、セグメント領域のサイズが小さくなるよう設定される。こうすると、目標領域の中央の上下方向に対して距離検出の精度が高められ、その他の領域に対しては処理量が少なく抑えられる。
【００７５】
このように、セグメント領域のサイズが設定されると、物体検出装置が用いられる場面として、たとえば目標領域の中央に立っている人を検出することが多い場合に、目標領域の中央に立っている人を適正に検出することが可能となる。また、目標領域の左右の端では、検出精度がやや低くなるものの、セグメント領域のサイズが小さく設定されるため、ＣＰＵ２１の処理量が少なく抑えられる。
【００７６】
従って、セグメント領域のサイズを大きくする領域が、距離検出の精度を高めたい領域に応じて設定されると、または、セグメント領域のサイズを小さくする領域が、距離検出の精度が要求されない領域に応じて設定されると、本発明の効果が顕著に発揮され得る。なお、セグメント領域のサイズは、これらの効果を発揮できるように設定されれば良い。たとえば、図９（ａ）において、中央の上下方向に延びた領域のセグメント領域のサイズが１５×１５画素に設定され、それ以外の領域のセグメント領域のサイズが７×７画素に設定される。
【００７７】
また、距離検出の精度を高めたい領域が目標領域の中央部である場合、たとえば、図９（ｂ）に示すように、基準パターンの中央の円形状領域において、セグメント領域のサイズが大きくなるよう設定される。この場合、図示の如く、基準パターン領域の中央部からの距離に応じて、段階的にセグメント領域のサイズを変更するようにしても良い。
【００７８】
なお、本実施の形態では、基準パターン領域上における各セグメント領域の位置は、各セグメント領域の中心の位置をもって規定される。各セグメント領域の中心は、基準パターン領域に含まれる何れかの一つの画素の位置に一致する。上下または左右に隣り合うセグメント領域は、その中心位置が上下または左右に１画素だけ互いにずれている。
【００７９】
セグメント領域のサイズが異なる領域の境界においては、たとえば、図９（ｃ）に示すように、隣り合うセグメント領域の中心位置（図中、×で示されている）が、この境界を超えると、セグメント領域のサイズが変わる。図９（ｃ）の例では、境界が上下方向に延びている。図示のように、たとえば、３×３画素のサイズを有するセグメント領域Ｓａと、５×５画素のサイズを有するセグメント領域Ｓｂが隣り合う場合、セグメント領域の中心が左右方向に境界を超えると、セグメント領域のサイズが、３×３画素から５×５画素へと変わる。図９（ｄ）のように、境界が左右に延びる場合、セグメント領域の中心が上下方向に境界を超えると、セグメント領域のサイズが変わる。図９（ｄ）の例では、セグメント領域Ｓｍのサイズは３×３画素であり、セグメント領域Ｓｎのサイズは５×５画素である。
【００８０】
なお、図９（ｂ）の例において、セグメント領域のサイズが異なる領域の境界は、画素レベルでは、円弧ではなく、上下方向と左右方向の線分を繋いだ階段状になっている。この場合も、図９（ｃ）、（ｄ）の場合と同様、セグメント領域の中心が、上下方向または左右方向に境界を超えると、セグメント領域のサイズが変わる。
【００８１】
本実施の形態では、セグメント領域の位置（セグメント領域の中心の位置）とサイズを規定する情報が、セグメント領域毎に設定され、基準テンプレートに保持されている。このうち、サイズを規定する情報は、上記のように、境界を挟んで隣り合うセグメント領域において、セグメント領域のサイズが変わるように、規定されている。
【００８２】
図１０（ａ）は、セグメント領域に対するドットパターンの設定処理を示すフローチャートである。かかる処理は、情報取得装置１の起動時または距離検出が開始されたときに行われる。なお、基準パターン領域には、Ｎ個のセグメント領域が割り当てられ、これらセグメント領域には１〜Ｎまでの通し番号が付けられているものとする。上記のように、各セグメント領域には、基準パターン領域上の位置（セグメント領域の中心の位置）とサイズが規定されている。
【００８３】
情報取得装置１のＣＰＵ２１は、まず、メモリ２５に保持されている基準テンプレートから、ＣＭＯＳイメージセンサ１２３上における基準パターン領域の位置に関する情報と、基準パターン領域に含まれる全画素の画素値を読み出す（Ｓ１１）。続いて、ＣＰＵ２１は、変数ｋに１をセットする（Ｓ１２）。
【００８４】
次に、ＣＰＵ２１は、メモリ２５に保持されている基準テンプレートから、ｋ番目のセグメント領域Ｓｋのサイズ（縦横の幅）に関する情報と、セグメント領域Ｓｋの位置に関する情報を取得する（Ｓ１３）。続いて、ＣＰＵ２１は、基準パターン領域に含まれる全画素の画素値と、Ｓ１３で取得したセグメント領域Ｓｋの情報から、探索に用いるドットパターンＤｋを設定する（Ｓ１４）。具体的には、ＣＰＵ２１は、基準パターン領域にセグメント領域Ｓｋを設定し、基準パターンの全画素の画素値のうち、セグメント領域Ｓｋに含まれるドットパターンの画素値を取得し、これを探索用のドットパターンＤｋとする。
【００８５】
次に、ＣＰＵ２１は、ｋの値がＮに等しいかを判定する（Ｓ１５）。全てのセグメント領域について探索に用いるドットパターンが設定されて、ｋの値がＮになると（Ｓ１５：ＹＥＳ）、処理が終了する。他方、ｋの値がＮに到達していないと（Ｓ１５：ＮＯ）、ＣＰＵ２１は、ｋの値を１増やして（Ｓ１６）、処理をＳ１３に戻す。こうして、探索に用いるＮ個のドットパターンが順次設定される。
【００８６】
図１０（ｂ）は、実測時における距離検出の処理を示すフローチャートである。かかる処理は、図１０（ａ）の処理により設定された探索用のドットパターンを用いて行われ、図１０（ａ）の処理と並行して行われる。
【００８７】
情報取得装置１のＣＰＵ２１は、まず、変数ｃに１をセットする（Ｓ２１）。次に、ＣＰＵ２１は、実測時に受光したＣＭＯＳイメージセンサ１２３上のドットパターンから、図１０（ａ）のＳ１４で設定したｃ番目の探索用のドットパターンＤｃと一致する領域を探索する（Ｓ２２）。かかる探索は、セグメント領域Ｓｃに対応する位置に対して左右方向に所定の幅を有する領域に対して行われる。探索用のドットパターンＤｃと一致する領域があれば、ＣＰＵ２１は、一致した領域がセグメント領域Ｓｃの位置から左右どちらの方向にどれだけの距離を移動したかを検出し、検出した移動方向と移動距離を用いて、三角測量法に基づきセグメント領域Ｓｃに位置する物体の距離を算出する（Ｓ２３）。
【００８８】
次に、ＣＰＵ２１は、ｃの値がＮに等しいかを判定する（Ｓ２４）。全てのセグメント領域について距離の算出が行われ、ｃの値がＮになると（Ｓ２４：ＹＥＳ）、処理が終了する。他方、ｃの値がＮに到達していないと（Ｓ２４：ＮＯ）、ＣＰＵ２１は、ｃの値を１増やして（Ｓ２５）、処理をＳ２２に戻す。こうして、セグメント領域に対応する検出対象物体までの距離が求められる。
【００８９】
以上、本実施の形態によれば、図９（ａ）、（ｂ）に示すように、距離検出の精度を高めたい領域において、セグメント領域のサイズが大きく設定され、その他の領域において、セグメント領域のサイズが小さく設定される。これにより、対象物体の距離検出の精度が高められると共に、ＣＰＵ２１の処理量が少なく抑えられる。
【００９０】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は、上記実施の形態に何ら制限されるものではなく、また、本発明の実施の形態も上記の他に種々の変更が可能である。
【００９１】
たとえば、上記実施の形態では、光検出器として、ＣＭＯＳイメージセンサ１２３を用いたが、これに替えて、ＣＣＤイメージセンサを用いることもできる。
【００９２】
また、上記実施の形態では、レーザ光源１１１とコリメータレンズ１１２をＸ軸方向に並べ、立ち上げミラー１１３でレーザ光の光軸をＺ軸方向に折り曲げるようにしたが、レーザ光をＺ軸方向に出射するようレーザ光源１１１を配置し、レーザ光源１１１と、コリメータレンズ１１２と、ＤＯＥ１１４をＺ軸方向に並べて配置するようにしても良い。この場合、立ち上げミラー１１３を省略できるが、投射光学系１１の寸法がＺ軸方向に大きくなる。
【００９３】
また、上記実施の形態では、図９（ａ）、（ｂ）に示すように、予め基準パターン領域に対して、セグメント領域のサイズが設定されたが、これに限らず、目標領域における対象物体の検出距離に基づいて、適宜、セグメント領域のサイズを設定するようにしても良い。
【００９４】
図１１（ａ）は、検出距離の変化が大きい領域に対してセグメント領域のサイズが大きく設定される場合の、セグメント領域のサイズを示す模式図である。図示の如く、基準パターン領域の左側付近において、距離検出の結果、対象物体の移動量が大きい（検出距離の変化が大きい）と判断された場合、この領域のセグメント領域のサイズが大きく設定される。
【００９５】
なお、基準テンプレートには、セグメント領域のサイズ（縦横の幅）として、大きいサイズと小さいサイズの２つのサイズが保持されている。測定開始時には、全てのセグメント領域が、小さいサイズに設定される。その後、対象物体の移動量が大きい部分が検出されると、この部分に対応するセグメント領域のサイズが、大きいサイズに変更される。この部分の移動量が小さくなると、この部分に対応するセグメント領域のサイズが小さいサイズに戻される。
【００９６】
図１１（ｂ）は、対象物体の移動量を判定する際に用いられる検出距離情報を模式的に示す図である。検出距離情報は、メモリ２５に記憶される。
【００９７】
メモリ２５には、検出距離情報として、１／６０秒ごとにＣＭＯＳイメージセンサ１２３によって撮像される画像（フレーム）ごとに、図１０（ｂ）の処理によって取得される距離が６０回分記憶される。すなわち、セグメント領域Ｓｃについて、１秒間に距離Ｆｃ（１）〜Ｆｃ（６０）が記憶される。また、検出距離情報には、前回のフレーム６０の距離Ｆｃ（０）が含められる。なお、装置が起動された直後は、前回のフレーム６０の距離の値は、たとえば０に設定される。
【００９８】
フレーム１〜６０までの距離が取得されると、前回のフレーム６０の距離と、フレーム１〜６０の距離に基づいて、変化量の平均値が取得される。すなわち、セグメント領域Ｓｃについて、まず、変化量の和が、｛Ｆｃ（１）−Ｆｃ（０）｝＋｛Ｆｃ（２）−Ｆｃ（１）｝＋｛Ｆｃ（３）−Ｆｃ（２）｝＋… ＋｛Ｆ（６０）−Ｆ（５９）｝により求められる。かかる変化量の和を６０で除算することにより、変化量の平均値Ｖｃが取得される。こうして得られた各セグメント領域の変化量の平均値のうち、所定値以上となるセグメント領域が、検出距離に変化が大きい領域であると判定される。
【００９９】
図１２は、この場合のセグメント領域の再設定の処理を示すフローチャートである。ここでは、図１１（ｂ）の場合と同様、距離の測定が１／６０秒ごとに行われる。
【０１００】
情報取得装置１のＣＰＵ２１は、まず、変数ｆに１をセットする（Ｓ３１）。続いて、ＣＰＵ２１は、図１０（ｂ）に示す処理に従って、各セグメント領域に対応する対象物体までの距離を算出する（Ｓ３２）。ＣＰＵ２１は、Ｓ３２で得られた各セグメント領域に対応する対象物体までの距離を、ｆの値に合わせてメモリ２５内の検出距離情報に記憶する（Ｓ３３）。たとえば、ｆの値が１であるとき、図１１（ｂ）に示す検出距離情報にＦ１（１）〜ＦＮ（１）が記憶される。距離が得られなかった（エラーとなった）セグメント領域に対しては、１回前（ｆの値が一つ小さい）に当該セグメント領域について記憶された距離が記憶される。
【０１０１】
次に、ＣＰＵ２１は、ｆの値が６０に等しいかを判定する（Ｓ３４）。ｆの値が６０に到達していないと（Ｓ３４：ＮＯ）、ＣＰＵ２１は、ｆの値を１増やして（Ｓ３５）、処理をＳ３２に戻す。他方、繰り返し距離の算出が行われ、ｆの値が６０になると（Ｓ３４：ＹＥＳ）、処理がＳ３６に進められる。
【０１０２】
Ｓ３４でＹＥＳと判定されると、ＣＰＵ２１は、図１１（ｂ）を参照して説明したように、各セグメント領域の変化量の平均値Ｖ１〜ＶＮを算出する（Ｓ３６）。続いて、ＣＰＵ２１は、変化量の平均値Ｖ１〜ＶＮのうち、所定値以上となったセグメント領域のサイズが大きくなるよう設定し、所定値未満となったセグメント領域のサイズが小さくなるよう設定する（Ｓ３７）。かかる設定は、基準テンプレートに保持されたセグメント領域の２つのサイズ（縦横の幅）の何れかを適用することにより行われる。たとえば、変化量の平均値が所定値以上となったセグメント領域のサイズが１５×１５画素に設定され、変化量の平均値が所定量未満となったセグメント領域のサイズが７×７画素に設定される。
【０１０３】
このように、セグメント領域の再設定の処理（Ｓ３１〜Ｓ３７）が繰り返し行われることにより、移動量が大きい対象物体に対する距離検出の精度が高められ、且つ、ＣＰＵ２１の処理量が少なく抑えられる。
【０１０４】
なお、図１２の処理では、セグメント領域のサイズを２段階に切り替えたが、セグメント領域のサイズを、変化量の平均値の大きさに応じて３段階以上に切り替えても良い。また、変化量の平均値の他、所定期間の変化量の合計値等、変化量を示す他の値を用いても良い。
【０１０５】
また、図１１（ｃ）に示すように、距離検出の結果から目標領域に人がいると判定される場合に、この領域に対応するセグメント領域のサイズが大きく設定され、他の領域に対応するセグメント領域のサイズが小さく設定されても良い。
【０１０６】
また、上記実施の形態および変更例では、セグメント領域のサイズが段階的に変化するように設定されたが、これに限らず、リニアに変化するように設定されても良い。
【０１０７】
たとえば、図９（ａ）に替えて、図１３（ａ）に示すように、基準パターン領域の左右方向の中央部においてセグメント領域のサイズが最も大きくなるように設定し、基準パターン領域の左右の端部に向かうに従ってセグメント領域のサイズが小さくなるように設定しても良い。また、図９（ｂ）に替えて、図１３（ｂ）に示すように、基準パターン領域の中心においてセグメント領域のサイズが最も大きくなるように設定し、同心円状に中心から離れるに従ってセグメント領域のサイズが小さくなるように設定しても良い。
【０１０８】
また、図１１（ａ）に替えて、図１３（ｃ）に示すように、変化量の平均値の大小に合わせて、セグメント領域のサイズがリニアに設定されるようにしても良い。また、図１１（ｃ）に替えて、図１３（ｄ）に示すように、目標領域に人がいると判定される場合に、この領域の近傍範囲において、中心から端部に向かうに従ってセグメント領域のサイズが小さく設定されるようにしても良い。
【０１０９】
また、上記実施の形態では、目標領域の左右方向の中央部に対して距離検出の精度を高めたい場合に、図９（ａ）に示すように、基準パターン領域の中央部の上下方向に延びた領域において、セグメント領域のサイズが大きくなるよう設定された。しかしながら、これに限らず、目標領域の上下方向の中央部または対角方向に延びる領域に対して距離検出の精度を高めたい場合には、図１４（ａ）または（ｂ）に示すように、基準パターン領域の上下方向の中央部または対角方向に延びる領域において、セグメント領域のサイズが大きくなるよう設定されても良い。
【０１１０】
また、目標領域の中央部に対して距離検出の精度を高めたい場合に、図９（ｂ）の例では、基準パターン領域の中央の円形状領域において、セグメント領域のサイズが大きくなるよう設定された。しかしながら、これに限らず、目標領域の中央部に位置付けられる対象物体が所定の形状を有することが多い場合、かかる対象物体の形状に応じてセグメント領域のサイズの大きい領域が設定されても良い。たとえば、対象物体の形状が上下方向に長い楕円形状である場合、セグメント領域のサイズが、図１４（ｃ）に示すように、楕円形状に中心から離れるに従って段階的に小さくなるよう設定されても良い。また、対象物体の形状が上下方向に延びた方形状である場合、セグメント領域のサイズが、図１４（ｄ）に示すように、上下方向に延びた方形状に中心から離れるに従って段階的に小さくなるよう設定されても良い。
【０１１１】
また、上記実施の形態では、図６（ｃ）に示すように、各セグメント領域は互いに１画素ずれた状態で重なり合うよう設定されたが、これに限らず、たとえば、複数画素ずれた状態で重なり合うよう設定されても良い。また、各セグメント領域は、左右方向と上下方向のうち一方の方向のみ重なり合うよう設定されても良く、隣り合うセグメント領域が全く重なり合わないよう設定されても良い。
【０１１２】
この他、本発明の実施の形態は、特許請求の範囲に示された技術的思想の範囲内において、適宜、種々の変更が可能である。
【符号の説明】
【０１１３】
１  情報取得装置
１１  投射光学系
１２  受光光学系
２１  ＣＰＵ（距離取得部）
２１ｂ  ３次元距離演算部（距離取得部）
２３  撮像信号処理回路（距離取得部）
１１１  レーザ光源
１１２  コリメータレンズ
１１４  ＤＯＥ（回折光学素子）
１２１  フィルタ
１２２  撮像レンズ（集光レンズ）
１２３  ＣＭＯＳイメージセンサ（撮像素子）
【図１】
2012147495.tif 000004
【図２】
2012147495.tif 000005
【図３】
2012147495.tif 000006
【図４】
2012147495.tif 000007
【図５】
2012147495.tif 000008
【図６】
2012147495.tif 000009
【図７】
2012147495.tif 000010
【図９】
2012147495.tif 000011
【図１０】
2012147495.tif 000012
【図１１】
2012147495.tif 000013
【図１２】
2012147495.tif 000014
【図１３】
2012147495.tif 000015
【図１４】
2012147495.tif 000016
【図８】
2012147495.tif 000017
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月16日(2012.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を用いて目標領域の情報を取得する情報取得装置において、
前記目標領域に所定のドットパターンでレーザ光を投射する投射光学系と、
前記投射光学系に対して所定の距離だけ離れて並ぶように配置され、前記目標領域を撮像する受光光学系と、
基準面により反射され前記受光光学系により撮像された基準ドットパターンにセグメント領域を設定し、距離測定時に目標領域を撮像して取得された撮像ドットパターンと前記各セグメント領域内のドットとを照合することにより、前記目標領域に存在する物体までの距離を取得する距離取得部とを備え、
前記距離取得部は、実測時に各測定位置について距離の変化度合を取得し、前記距離の変化度合が閾値以上の測定位置に対応する前記セグメント領域のサイズを、前記距離の変化度合が前記閾値未満の測定位置に対応する前記セグメント領域のサイズよりも、大きくなるよう設定する、
ことを特徴とする情報取得装置。
【請求項２】
請求項１に記載の情報取得装置において、
前記投射光学系は、
レーザ光源と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光が入射するコリメータレンズと、
前記コリメータレンズを透過した前記レーザ光を回折によりドットパターンの光に変換する回折光学素子と、を備え、
前記受光光学系は、
撮像素子と、
目標領域からの前記レーザ光を前記撮像素子に集光する集光レンズと、
前記レーザ光の波長帯域の光を抽出して前記撮像素子に導くためのフィルタと、を備える、
ことを特徴とする情報取得装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の情報取得装置を有する物体検出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の第１の態様は、光を用いて目標領域の情報を取得する情報取得装置において、前記目標領域に所定のドットパターンでレーザ光を投射する投射光学系と、前記投射光学系に対して所定の距離だけ離れて並ぶように配置され、前記目標領域を撮像する受光光学系と、基準面により反射され前記受光光学系により撮像された基準ドットパターンにセグメント領域を設定し、距離測定時に目標領域を撮像して取得された撮像ドットパターンと前記各セグメント領域内のドットとを照合することにより、前記目標領域に存在する物体までの距離を取得する距離取得部とを備え、前記距離取得部は、実測時に各測定位置について距離の変化度合を取得し、前記距離の変化度合が閾値以上の測定位置に対応する前記セグメント領域のサイズを、前記距離の変化度合が前記閾値未満の測定位置に対応する前記セグメント領域のサイズよりも、大きくなるよう設定することを特徴とする。
【国際調査報告】
2012147495.tif 000018
2012147495.tif 000019
2012147495.tif 000020
2012147495.tif 000021