(57)【要約】  タッチ入力機能を有する静電容量型タッチセンサ積層体において、電極のパターン見えを抑制でき、温度および湿度条件の変化による反り変形を防止できる構成を提供する。タッチ入力機能を有する表示パネル装置に使用される静電容量型タッチセンサ積層体が、透明樹脂材料により形成された平坦な面を両側に有する誘電性中央基体構造と、該平坦な面の各々の上に形成された少なくとも１層の透明材料のコート層と、該コート層の上に隣接して形成された透明導電性層と、を備える。少なくとも１層のコート層は、透明導電性層により形成される電極のパターン見えを抑制する屈折率調整層を少なくとも１層含むものであり、平坦な面のそれぞれに形成されたコート層の厚みは、誘電性中央基体構造の両側の層が、該誘電性中央基体構造を挟んで互いに対称となるように定められる。
2012073990.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチ入力機能を有する表示パネル装置に使用される静電容量型タッチセンサ積層体であって、
透明樹脂材料により形成された平坦な面を両側に有する誘電性中央基体構造と、
前記平坦な面の各々の上に形成された少なくとも１層の透明材料のコート層と、
前記コート層の上に隣接して形成された透明導電性層と、
からなり、
前記少なくとも１層のコート層は、前記透明導電性層により形成される電極のパターン見えを抑制する屈折率調整層を少なくとも１層含むものであり、
前記平坦な面のそれぞれに形成された前記コート層の厚みは、前記誘電性中央基体構造の両側の層が、該誘電性中央基体構造を挟んで互いに対称となるように定められた
ことを特徴とする静電容量型タッチセンサ積層体。
【請求項２】
請求項１に記載した静電容量型タッチセンサ積層体であって、前記屈折率調整層は、前記誘電性中央基体構造に近い側に配置された第１の屈折率調整用アンダーコート層と、前記第１の屈折率調整用アンダーコート層の上に形成された第２の屈折率調整用アンダーコート層とを含み、前記第１の屈折率調整用アンダーコート層は、前記第２の屈折率調整用アンダーコート層よりも高い屈折率を有することを特徴とする静電容量型タッチセンサ積層体。
【請求項３】
請求項１に記載した静電容量型タッチセンサ積層体であって、前記少なくとも１層のコート層は、前記誘電性中央基体構造に近い側に配置されたハードコート層と、前記ハードコート層の上に形成された少なくとも１層の屈折率調整用アンダーコート層とからなることを特徴とする静電容量型タッチセンサ積層体。
【請求項４】
請求項３に記載された静電容量型タッチセンサ積層体であって、前記少なくとも１層の屈折率調整用アンダーコート層は、前記ハードコート層に近い側に配置された第１の屈折率調整用アンダーコート層と、前記第１の屈折率調整用アンダーコート層の上に形成された第２の屈折率調整用アンダーコート層とを含み、前記第１の屈折率調整用アンダーコート層は、前記第２の屈折率調整用アンダーコート層よりも高い屈折率を有することを特徴とする静電容量型タッチセンサ積層体。
【請求項５】
請求項２又は請求項４に記載した静電容量型タッチセンサ積層体であって、前記第１のアンダーコート層は、厚みが３５ｎｍ以下であり、前記第２のアンダーコート層の厚みは前記第１のアンダーコート層の厚みより小さいことを特徴とする静電容量型タッチセンサ積層体。
【請求項６】
請求項５に記載した静電容量型タッチセンサ積層体であって、前記第２のアンダーコート層の厚みは前記第１のアンダーコート層の厚みの１／２以下であることを特徴とする静電容量型タッチセンサ積層体。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載した静電容量型タッチセンサ積層体であって、前記誘電性中央基体構造は、同じ厚みを有する同じ材料からなる第１及び第２の透明基材層が透明接着材料層を介して互いに接合されたものであることを特徴とする静電容量型タッチセンサ積層体。
【請求項８】
請求項７に記載した静電容量型タッチセンサ積層体であって、前記第１及び第２の透明基材層の各々は、第２のハードコート層を介して前記透明接着剤層に接合されたことを特徴とする静電容量型タッチセンサ積層体。
【請求項９】
請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載した静電容量型タッチセンサ積層体であって、前記誘電性中央基体構造は、単一の透明樹脂材料層により構成されたことを特徴とする静電容量型タッチセンサ積層体。
【請求項１０】
請求項９に記載した静電容量型タッチセンサ積層体であって、前記単一の透明樹脂材料層は、光学的等方性材料により構成されたことを特徴とする静電容量型タッチセンサ積層体。
【請求項１１】
請求項９に記載した静電容量型タッチセンサ積層体であって、前記単一の透明樹脂材料層は、１／４波長位相差層として構成されたことを特徴とする静電容量型タッチセンサ積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチ入力機能を有する表示パネル装置に使用されるタッチセンサ積層体に関する。特に、本発明は、表示装置用の静電容量方式のタッチセンサ積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチ入力のためのタッチパネルを備えた表示パネル装置は、多くの文献に開示されている。例えば、特開２００２−４０２４３号公報（特許文献１）、特開２００２−５５７８０号公報（特許文献２）、特開２００２−１５６９２０号公報（特許文献３）には、表示パネル板の上方にタッチ入力用のタッチパネルが配置された表示パネル装置が開示されている。これらの特許文献に記載されたタッチパネルは、いずれも抵抗膜方式のものであって、２つの透明電極が間隔をもって対向配置され、表示パネル装置の視認側に配置された一方の透明電極を押して他方の透明電極に接触させることにより、タッチ入力を感知する。これらの特許文献においては、２つの電極間に空気間隙が存在するため、電極面における反射光が表示パネル装置の視認側まで透過して表示品質を低下させるという問題がある。上記の特許文献では、この内部反射の問題に対処するため、タッチパネルより視認側に円偏光素子を配置することを教示している。詳細に述べると、これらの特許文献では、表示パネルの視認側から順に、直線偏光層と、１／４λ位相差層とを配置し、その下にタッチパネルを配置することを提唱している。特許文献１は、反射型液晶表示装置にタッチパネルを組み合わせた構成を示し、特許文献２は、液晶表示装置及び有機ＥＬ表示装置のいずれにも適用可能であることを示している。また、特許文献３は、有機ＥＬ表示装置の例を示す。【０００３】
特開２０１０−１９８１０３号公報（特許文献４）は、静電容量方式のタッチ入力装置を開示する。この特許文献４に記載されたタッチセンサは、単一体からなるフィルムとして構成される基材フィルムの両側にパターン化された導電体層からなる電極部を有する。特許文献４においては、この単一体フィルムは、フィルム本体の一方又は両方の面上にスパッタリング等により分離不可能に成膜された機能膜を含む構成も含む、としている。ここで、機能膜の例としては、インデックスマッチング膜が述べられており、図４（ａ）には、フィルム本体の面上に厚さ方向に交互に配置された複数の高屈折率膜と低屈折率膜とからなるフィルム構造が示されている。また、特許文献４には、図４（ｃ）に、基材フィルムの面上に形成された一層の低屈折率膜からなるフィルム構造も示されている。特許文献４に記載されたこれらのインデックスマッチング膜及び低屈折率膜は、電極部のある領域と電極部のない領域とで反射率が大きく変化することを防止する機能を有する、と説明されている。この単一体フィルムと両側の電極部とからなるタッチパネルセンサは、一方の面に入力面として機能する保護カバーが接着剤層により接着され、他方の面がフラットパネルディスプレイとして構成された表示装置に接着剤層により接着される。【０００４】
誘電体フィルム層の両側に電極が形成された構成のタッチセンサは、特開２００９−７６４３２号公報（特許文献５）の図５にも記載されている。さらに、特許文献５は、フィルム基材の一方の面にアンダーコート層を介して透明電極層を形成し、フィルム基材の他方の面を第２のフィルム基材に接着剤層を介して接合し、かつ、この第２のフィルム基材に第２のアンダーコート層を介して第２の透明電極層を形成した両面電極型タッチセンサを図７に記載している。この特許文献５では、アンダーコート層は、その屈折率と透明電極層の屈折率の差が０．１以上であることが好ましい、と述べられている。特許文献５には、アンダーコート層を２層以上形成することについて言及されているが、その厚みの関係は特に記載がなく、２層形成される場合のアンダーコート層間の屈折率の関係も、特に記載されていない。また、特開２００８−１４０１３０号公報（特許文献６）は、例えばＰＥＴのような透明な基材の両面に、パターン化された導電膜からなる電極部が形成され、該両電極部の外側において、一方の側には保護層が形成され、他方の側には感度調整層が形成されたタッチセンサが記載されている。この構造において、感度調整層は、その膜厚を所定の厚さにすることにより、タッチセンサのグラウンド用導通パターンの電位のふらつきを防止するためのものである。【０００５】
タッチセンサに使用される透明電極のパターン形成は、特許文献４の図３に図示されており、国際公開ＷＯ２００６／１２６６０４号公報（特許文献７）には、幾つかの例が詳細に記載されている。【０００６】
さらに、樹脂材料を液晶表示パネル用電極基板に使用する場合に、光学的に等方性で着色干渉縞が発生しないようにすることの必要性を認識して、適切な材料を選定することが特開平３−９３２３号公報（特許文献８）に教示されている。特許第３５４２８３８号公報（特許文献９）及び特許第３５６９５５７号公報（特許文献１０）には、タッチパネル用の導電性透明シートに光等方性の樹脂材料を使用することが記載されている。これら特許文献８、９においては、推奨される光等方性の樹脂材料として、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂が挙げられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−４０２４３号公報
【特許文献２】特開２００２−５５７８０号公報
【特許文献３】特開２００２−１５６９２０号公報
【特許文献４】特開２０１０−１９８１０３号公報
【特許文献５】特開２００９−７６４３２号公報
【特許文献６】特開２００８−１４０１３０号公報
【特許文献７】ＷＯ２００６／１２６６０４号公報
【特許文献８】特開平３−９３２３号公報
【特許文献９】特許第３５４２８３８号公報
【特許文献１０】特許第３５６９５５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記特許文献４及び５は、いずれも、基材と電極部との間の屈折率の差により、電極部のパターンが視認側から見えるようになるのを軽減するために、基材層と電極部との間に屈折率調整のための層を設けることを教示している。しかし、特許文献４と特許文献５とでは、推奨する手法が異なり、しかも、いずれの文献においても、教示する手法により十分に目的が達成されたことは何も示されていない。また、特許文献６では、透明電極は基材層の上に直接形成されており、電極パターンが視認側から見えることに対する対策は何もしめされていない。【０００９】
さらに、上記特許文献に記載されたような積層構成のタッチセンサでは、温度及び湿度条件の変化に伴う各層の伸縮の程度が層間で異なることにより、積層体に反り変形を生じる、という問題がある。上記特許文献のいずれにも記載されていないが、この種のタッチセンサに使用される基材には、基材表面に傷が生じるのを防止する目的で、基材表面にハードコート層が設けられることが多い。このハードコート層は、上述した屈折率調整用の層に比べて厚さが大きく、反り変形に与える影響は大きい。上述した特許文献のいずれにも、このような反り変形の問題を論じたものはなく、適切な対策を教示するものはない。【００１０】
本発明は、タッチ入力機能有する表示パネル装置に使用されるタッチセンサ積層体において、光の内部反射により表示品質が低下するのを極力防止することができ、かつ、温度及び湿度条件の変化のもとでも、反り変形を抑制することができるようにする構成を得ることを主要な課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明は、その一形態において、タッチ入力機能を有する表示パネル装置に使用される静電容量型タッチセンサ積層体を提供する。該タッチセンサ積層体は、透明樹脂材料により形成された平坦な面を両側に有する誘電性中央基体構造と、該平坦な面の各々の上に形成された少なくとも１層の透明材料のコート層と、該コート層の上に隣接して形成された透明導電性層と、からなる。そして、該少なくとも１層のコート層は、透明導電性層により形成される電極のパターン見えを抑制する屈折率調整層を少なくとも１層含むものであり、該平坦な面のそれぞれに形成されたコート層の厚みは、誘電性中央基体構造の両側の層が、該誘電性中央基体構造を挟んで互いに対称となるように定められる。【００１２】
上記の構成において、屈折率調整層は、誘電性中央基体構造に近い側に配置された第１の屈折率調整用アンダーコート層と、該第１の屈折率調整用アンダーコート層の上に形成された第２の屈折率調整用アンダーコート層とを含み、該第１の屈折率調整用アンダーコート層は、第２の屈折率調整用アンダーコート層よりも高い屈折率を有するものとすることが好ましい。【００１３】
さらに、上記した少なくとも１層のコート層は、誘電性中央基体構造に近い側に配置されたハードコート層と、該ハードコート層の上に形成された少なくとも１層の屈折率調整用アンダーコート層とから形成することができる。この場合、上記の少なくとも１層の屈折率調整用アンダーコート層は、ハードコート層に近い側に配置された第１の屈折率調整用アンダーコート層と、該第１の屈折率調整用アンダーコート層の上に形成された第２の屈折率調整用アンダーコート層とを含み、第１の屈折率調整用アンダーコート層は、第２の屈折率調整用アンダーコート層よりも高い屈折率を有するものとすることが好ましい。さらに、第１のアンダーコート層は、厚みが３５ｎｍ以下であり、第２のアンダーコート層の厚みは第１のアンダーコート層の厚みより小さいものとする。この場合、第２のアンダーコート層の厚みは前記第１のアンダーコート層の厚みの１／２以下とすることが好ましい。【００１４】
本発明の静電容量型タッチセンサ積層体においては、誘電性中央基体構造は、同じ厚みを有する同じ材料からなる第１及び第２の透明基材層が透明接着材料層を介して互いに接合されたものとすることができ、この構成では、第１及び第２の透明基材層の各々は、第２のハードコート層を介して前記透明接着剤層に接合されることが好ましい。【００１５】
本発明の静電容量型タッチセンサ積層体においては、誘電性中央基体構造は、単一の透明樹脂材料層により構成することができる。この構成においては、単一の透明樹脂材料層は、光学的等方性材料により構成することができ、或いは、１／４波長位相差層として構成することができる。【００１６】
本発明のタッチセンサ積層体において、透明接着剤層を形成する接着剤としては、例えば、アクリル系接着剤、シリコーン系接着剤、ポリエステル系接着剤、ゴム系接着剤、ポリウレタン系接着剤などの接着剤を使用することができる。接着剤は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。中でもアルキル基の炭素数が１〜１８である（メタ）アクリル酸アルキルエステル［（メタ）アクリル酸Ｃ1-18アルキルエステル］を主モノマー成分とするアクリル系ポリマーを主成分又はベースポリマーとして含有しているアクリル系接着剤が好ましい。（メタ）アクリル酸Ｃ1-18アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｓ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル等の（メタ）アクリル酸Ｃ1-18アルキルエステルなどが挙げられる。これらの（メタ）アクリル酸Ｃ1-18アルキルエステルは単独で又は２種以上を混合して使用することができる。【００１７】
また、アクリル系ポリマーにおいて、（メタ）アクリル酸Ｃ1-18アルキルエステルに対して共重合性を有している単量体成分（共重合性モノマー）が用いられていてもよい。特に、アクリル系ポリマーを架橋させる際には、共重合性モノマーとしては、アクリル系感圧性接着剤の改質用モノマーが用いられていることが好ましい。このような改質用モノマーとしては、例えば、アクリル系感圧性接着剤の改質用モノマーとして知られる各種モノマーのいずれも使用可能である。共重合性モノマーは単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。具体的には、共重合性モノマーとしては、例えば、酢酸ビニル等のビニルエステル類；（メタ）アクリロニトリル等のシアノ基含有共重合性モノマー；（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド等のアミド基含有共重合性モノマー；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基含有共重合性モノマー；グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基含有共重合性モノマー；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリル酸アルキルエステル等のアミノ基含有共重合性モノマー；（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸等のカルボキシル基含有共重合性モノマーなどの各種の官能基（特に極性基）を有している共重合性モノマー（官能基含有共重合性モノマー）の他、スチレン等のスチレン系モノマー；エチレン、プロピレンなどのα−オレフィン系モノマーなどが挙げられる。改質用モノマーとしては、前記官能基含有共重合性モノマーを用いることができ、これらのなかでもヒドロキシル基含有共重合性モノマー、カルボキシル基含有共重合性モノマーが好ましく、特にアクリル酸が好適である。なお、改質用モノマーに由来する官能基（特に極性基）を利用してアクリル系ポリマーを架橋することができる。アクリル系ポリマーを得るための重合方法としては、アゾ系化合物や過酸化物などの重合開始剤を用いて行う溶液重合方法、エマルジョン重合方法や塊状重合方法、光開始剤を用いて光や放射線を照射して行う重合方法などを採用することができる。【００１８】
架橋剤としては、特に、多官能性メラミン化合物、多官能性エポキシ化合物、多官能性イソシアネート化合物が好ましい。架橋剤は単独で又は２種以上混合して使用することができる。多官能性メラミン化合物としては、例えば、メチル化トリメチロールメラミン、ブチル化ヘキサメチロールメラミンなどが挙げられる。また、多官能性エポキシ化合物としては、例えば、ジグリシジルアニリン、グリセリンジグリシジルエーテルなどが挙げられる。多官能性メラミン化合物及び／又は多官能性エポキシ化合物の使用量は、前記ポリマー１００重量部に対して、例えば０．００１〜１０重量部、好適には０．０１〜５重量部の範囲である。また、多官能性イソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネートの二重体、トリメチロールプロパンとトリレンジイソシアネートとの反応生成物、トリメチロールプロパンとヘキサメチレンジイソシアネートとの反応生成物、ポリエーテルポリイソシアネート、ポリエステルポリイソシアネートなどが挙げられる。多官能性イソシアネート化合物の使用量は、前記ポリマー１００重量部に対して、例えば０．０１〜２０重量部、好適には０．０５〜１５重量部の範囲である。【００１９】
接着剤層は、高い透明性を有していることが好ましく、例えば、可視光波長領域における全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準じる）が８５％以上（好ましくは８７％以上、さらに好ましくは９０％以上）である透明性を有していることが望ましい。
また、両面粘着シート１のヘイズ（ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準じる）としては、例えば、２．０％以下（好ましくは１．０％以下、さらに好ましくは０．５％以下）の範囲から選択することができる。【００２０】
第１及び第２の基材層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム又は光等方性材料により形成することができる。アンダーコート層は、内部反射を防止することを目的とするもので、使用できる材料及び反射防止の機能は、特許文献５に詳述されている。本発明においても、特許文献５に記載された材料をアンダーコート層に使用することができる。
【発明の効果】
【００２１】
以上述べた通り、本発明の構成によれば、タッチ入力機能有する表示パネル装置に使用されるタッチセンサ積層体において、温度及び湿度条件の変化の影響で積層体に生じる反り変形を抑制することができる。さらに、光の内部反射によりタッチセンサ積層体の透明導電性層のパターンが視認側から見えるようになり、表示品質が低下する、という問題を大幅に防止することができる。更に、本発明によれば、層構成が薄型で取扱いが便利な静表示パネル装置用のタッチセンサ積層体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明によるタッチセンサ積層体の一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明によるタッチセンサ積層体の他の実施形態を示す断面図である。
【図３】表示パネルとして液晶表示パネルを使用する表示装置に本発明のタッチセンサ積層体を使用した実施形態を示す断面図である。
【図４】表示パネルとして液晶表示パネルを使用する表示装置に本発明のタッチセンサ積層体を使用した他の実施形態を示す断面図である。
【図５】表示パネルとして液晶表示パネルを使用する表示装置に本発明のタッチセンサ積層体を使用した、さらに他の実施形態を示す断面図である。
【図６】表示パネルとして有機ＥＬ表示パネルを使用する表示装置に本発明のタッチセンサ積層体を使用した実施形態を示す断面図である。
【図７】光学的に透明な接着剤層を含むシートを製造する工程を示す工程図である。
【図８】図７に示す工程のための塗工及び貼り合わせ装置を示すもので、（ａ）は装置全体の概略図、（ｂ）は貼り合わせ後の接着剤積層体の概略断面図である。
【図９】偏光子積層体製造のための工程を示すものであって、（ａ）は装置全体の概略図、（ｂ）は得られる偏光子積層体の概略断面図である。
【図１０】偏光機能積層体の製造工程を示すもので、（ａ）は工程全体のブロック図、（ｂ）は得られる積層体を示す概略断面図である。
【図１１】タッチセンサ積層体の構成材料となる基材にアンダーコート層を形成する工程を示すもので、（ａ）はその工程の概略ブロック図、（ｂ）はアンダーコート層が塗工された基材を示す断面図である。
【図１２】アンダーコート層を有する基材に導電性層を形成する工程を示すものであって、（ａ）は工程のブロック図、（ｂ）は得られる導電性積層体の断面図、（ｃ）は導電性積層体に接着剤層を積層して得られる接着剤層付導電性積層体の断面図である。
【図１３】（ａ）は導電性積層体を形成する工程の概略図、（ｂ）は導電性積層体に接着剤層付導電性積層体を積層する工程を示す概略図、（ｃ）は得られるタッチセンサ積層体の例を示す断面図である。
【図１４】基材層の両面に透明導電性層を形成するための連続装置の一例を示す断面図である。
【図１５】図１４に示す装置により製造された積層体の例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
図１を参照すると、本発明の一実施形態によるタッチセンサ積層体３は、光学的に透明な第１の導電性層３１と、光学的に透明な第２の導電性層３２を備える。第１の導電性層３１は、光学的に透明なアンダーコート層３３及びハードコート層３４を介して、光学的に透明な基材層３５上に配置されている。アンダーコート層３３は、導電体側に配置されており、ハードコート層３４は、基材層側に配置される。同様に、第２の導電性層３２は、光学的に透明なアンダーコート層３６及びハードコート層３７を介して、基材層３５上に配置されている。第１及び第２の透明導電性層３１、３２は、それぞれ導電体側のアンダーコート層３３、３６上に、例えばスパッタリングにより付着形成される。このタッチセンサ積層体３は、静電容量型タッチ入力センサユニットを構成する。この技術分野において周知のように、第１及び第２の導電性層３１、３２は、所望のパターンにパターン化される。
【００２４】
図１に示す本発明の実施形態では、基材層３５は、例えば光等方性樹脂材料の単一層として形成され、その両側の面には、ハードコート層３４、３７が、同一の材料により、同一の厚さに形成される。他の態様として、基材層３５は、１／４波長位相差層として構成することができる。この構成では、例えば偏光サングラスの着用者が、この実施形態のよるタッチセンサを備える表示装置を使用する場合に、内部反射光が視認側に出るのを遮断することが可能になる。
【００２５】
さらに、各ハードコート層３４、３７の外側の面には、同一の材料により、アンダーコート層３３、３６が同一の厚さに形成される。アンダーコート層３３、３６の各々は、電極パターンが視認側から見えるようになるのを抑制するための屈折率調整層として機能する。上述のように、基材層３５の両側のハードコート層３４、３７の各々は、同一の材料により、同一の厚さに形成されており、アンダーコート層３３、３６の各々も、同一の材料により、同一の厚さに形成され、その外側に透明導電性層３１、３２が形成される。すなわち、タッチセンサ積層体３は、基材層３５の厚さ方向中心を通る該基材層３５の中心面に関して、厚さ方向に対称の構成を有する。このように対称構成とすることにより、温度及び湿度条件の変化に伴って生じることがある反り変形を効果的に抑制することができる。
【００２６】
図２は、本発明によるタッチセンサ積層体の他の実施形態を示すもので、本実施形態においては、基材層３５は、ＰＥＴフィルムにより構成され、その両側の面にハードコート層３４、３７がそれぞれ形成される。ハードコート層３４、３７の外側に形成されるアンダーコート層３３、３６は、ハードコート層３４、３７側の第１の屈折率調整用アンダーコート層３３ａ、３６ａと、その外側に形成される第２の屈折率調整用アンダーコート層３３ｂ、３６ｂからなる。第２のアンダーコート層３３ｂ、３６ｂの外側には、導電性層３１、３２が、それぞれ形成される。第１の屈折率調整用アンダーコート層３３ａ、３６ａは、第２の屈折率調整用アンダーコート層３３ｂ、３６ｂよりも高い屈折率を有する。また、第１の屈折率調整用アンダーコート層３３ａ、３６ａは、厚みが３５ｎｍ以下とすることが好ましく、第２の屈折率調整用アンダーコート層３３ｂ、３６ｂは、第１の屈折率調整用アンダーコート層３３ａ、３６ａより厚みが小さい。好ましくは、第２の屈折率調整用アンダーコート層３３ｂ、３６ｂの厚みは、第１の屈折率調整用アンダーコート層３３ａ、３６ａの厚みの１／２以下とする。この構成は、電極パターンのパターン見えを抑制するのに、非常に効果的である。導電体側アンダーコート層３３、３６の各々は、対応する導電性層３１、３２と同様にパターン化される。導電体側アンダーコート層３３、３６は、それぞれが対応する基材側ハードコート層３４、３７よりも屈折率が小さい材料により構成される。また、導電体側アンダーコート層３３、３６は、それぞれが対応する基材側ハードコート３４、３７よりも厚さが薄い構成である。導電体側アンダーコート層３３と、基材側ハードコート層３４との間の屈折率及び厚さの上述した関係により、視認側に配置された第１の導電性層３１からの反射光により、該第１の導電性層のパターンがウインドウを通して見える、というパターン見えの問題が大幅に軽減される。
【００２７】
図３に、本発明の一実施形態によるタッチセンサ積層体を使用した表示装置の実施形態を示す。本実施形態においては、誘電性中央基体構造が、第１の透明基材層３５と第２の透明基材層３８を含む。第１の透明基材層３５の面には、ハードコート層３５ａが形成され、該ハードコート層３５ａの上にアンダーコート層３３が形成される。アンダーコート層３３の上に第１の透明導電性層３１が形成される。
【００２８】
第２の透明基材層３８の面には、ハードコート層３８ａが形成され、該ハードコート層３８ａの上にアンダーコート層３６が形成される。アンダーコート層３６の上に第２の透明導電性層３２が形成される。第１の透明導電性層３１と第２の透明導電性層３８とは、第１の透明導電性層３１の内側の面に形成されたハードコート層３５ｂ及び第２の透明導電性層３８の内側の面に形成されたハードコート層３８ｂを介して、光学的に透明な接着剤層３９により互いに接着されて、タッチセンサ積層体３が構成される。
【００２９】
タッチセンサ積層体３には、第１の透明導電性層３１の側において、偏光子フィルム５１が、接着剤層２１を介して接着される。偏光子フィルム５１とウインドウ７との間が光学的に透明な接着剤層９により充填される。すなわち、ウインドウ７は、その全面にわたり、接着剤層９によりタッチセンサ積層体３に接合される。図示するように、ウインドウ７には、その内面の縁に沿って、縁取り印刷１３が施されており、この縁取り印刷１３は、図から分かるように段部を形成する。しかし、図３の構成によれば、ウインドウ７は接着剤層９を介して全面がタッチセンサ積層体３に接合されるので、縁取り印刷１３による段部は接着剤層９の接着剤により埋められることになる。したがって、図に示す実施形態によれば、ウインドウ７とタッチセンサ積層体３との間に空気間隙を生じることがなく、空気間隙に起因する内部反射を抑制することが可能になる。したがって、この構成によれば、ウインドウ７とタッチセンサ積層体３との間に空気間隙が存在する場合に比べて、第１の透明導電性層３１からの反射光によるパターン見えの問題が、さらに軽減される。本実施形態においては、表示パネル５は、液晶表示パネルにより構成され、液晶表示パネル板に、偏光フィルム層５２が接合される。表示パネル５は、接着剤層１１を介して、第２の基材層３８に接合される。
【００３０】
図６は、表示パネル５として有機ＥＬ表示パネルが使用され、タッチセンサ積層体３の透明基材層３５、３８にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂が使用される実施形態を示す。タッチセンサ積層体３は、ＰＥＴからなる第１の透明基材層３５上に、アンダーコート層３４を介して配置された第１の透明導電性層３１と、ＰＥＴからなる第２の透明基材層３８上に、アンダーコート層３７を介して配置された第２の透明導電性層３２とを有し、第１の透明基材層３５上には、透明導電性層３１とは反対側の面に、オリゴマー防止層３５ｃが配置され、第２の透明基材層３８上には、透明導電性層３２とは反対側の面に、オリゴマー防止層３８ｃが配置される。また、タッチセンサ積層体３と表示パネル５との間には、円偏光機能積層体１１５が配置される。この円偏光機能積層体１１５は、偏光フィルム層１１５ａと、該偏光フィルム層１１５ａに接着されたλ／４位相差フィルム層１１５ｂとから構成されており、偏光フィルム層１１５ａが接着剤層１１によりタッチセンサ積層体３に、λ／４位相差フィルム層１１５ｃが接着剤層５３を介して表示パネル５に、それぞれ接合される。この実施形態においては、アンダーコート層３４、３７と導電性層３１、３２の間に、図１の実施形態におけると同様に、アンダーコート層を設け、これらのアンダーコート層を導電性層３１、３２と同様にパターン化して、パターン見えの問題を軽減することができる。
【００３１】
以下に、本発明の表示パネル装置の製造に使用される各層について実施例を詳細に説明する。
【００３２】
（光学的に透明な接着剤層の形成）
図７は、本発明に使用される光学的に透明な接着剤層を形成する方法の一例を示す工程図である。先ず接着剤の基本構成材料となるモノマーと重合開始剤とを、溶剤とともに混合攪拌した。モノマー成分としては、アクリル酸２−メトキシエチル７０重量部とアクリル酸２−エチルヘキシル２９重量部、アクリル酸４−ヒドロキシブチル１重量部からなる混合物を用いた。重合開始剤としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．２重量部を用い、重合溶媒として、酢酸エチル１００重量部を用いた。これらの材料をセパラブルフラスコに投入して、窒素ガスを導入しながら１時間攪拌した（Ｓ５−１）。このようにして、重合系内の酸素を除去した後、６３℃に昇温し、１０時間反応させて（Ｓ５−２）、トルエンを加え、固形分濃度２５重量％のアクリル系ポリマー溶液を得た（Ｓ５−３）。このアクリル系ポリマー溶液は、「アクリル系ポリマー溶液Ａ」と呼ばれることがある。また、このアクリル系ポリマー溶液Ａに含まれるアクリル系ポリマーは、アクリル系ポリマーＡと呼ばれることがあり、その重量平均分子量Ｍｗは、１５０万であった。重量平均分子量Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定することができる。具体的には、ＧＰＣ測定装置として、東ソー株式会社製造の商品名「ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ」を使用し、ポリスチレン換算値により、次のＧＰＣ測定条件で測定して重量平均分子量Ｍｗを求めることができる。
ＧＰＣ測定条件
サンプル濃度：０．２重量％（テトラヒドロフラン溶液）
サンプル注入量：１０μｌ
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
流量（流速）：０．６ｍｌ／分
カラム温度（測定温度）：４０℃
カラム：商品名「ＴＳＫgelＳｕｐｅｒＨＭ−Ｈ／Ｈ４０００／Ｈ３０００／Ｈ２０００（東ソー株式会社）
検出器：示差屈折計（ＲＩ）
重合後のアクリル系ポリマーに、架橋剤と添加剤を配合して接着剤組成物を得た（Ｓ５−４）。架橋剤として、多官能イソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業株式会社製の商品名「コロネートＬ」）を、アクリル系ポリマー溶液Ａ１００重量部（アクリル系ポリマーＡ１００重量部）に対して０．３重量部加えて溶液状の接着剤組成物を調整した。このようにして得られた接着剤組成物を、剥離ライナーに塗工した（Ｓ５−５）。図８（ａ）は、この塗工工程を示す概略図であり、剥離ライナー６０は、ロール形態６０ａで準備され、案内ロール６１を経て乾燥機６２に送られる。ロール６０ａから繰り出された剥離ライナー６０には、案内ロール６１に至る途中で塗工装置６３により、上述の工程で調整された接着剤溶液が層状に塗布される。
【００３３】
本実施例では、剥離ライナー６０として、表面を離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の厚さ３８μｍのフィルムを使用した。接着剤溶液は、剥離ライナー６０の離型処理表面に、乾燥後の厚さが２５μｍとなるように塗布した。接着剤溶液が塗布された剥離ライナー６０は乾燥機６２に通されて、接着剤溶液の溶剤が蒸発させられる。乾燥機６２を出た剥離ライナー６０は、対のニップロール６４ａ、６４ｂに通される。さらに、該ニップロール６４ａ、６４ｂには、第２のロール６６から繰り出された第２の剥離ライナー６５が、第１の剥離ライナー６０に形成された層状の接着剤に重なるように送られて、ニップロール６４ａ、６４ｂにより接着剤層に押し付けられ接合される。第２の剥離ライナー６５は、第１の剥離ライナー６０と同様のフィルムにより構成されるが、接着剤層に対する剥離力が、第１の剥離ライナー６０におけるものよりも軽くなるように、接着剤層に接着される面に、離型処理を行う。
【００３４】
第１のニップロール６４ａ、６４ｂを出た積層体は、図８（ｂ）に示すように接着剤層６７の両側に第１及び第２の剥離ライナー６０、６３が貼り合わされた構造を有しており、ロール６８として巻き取られる。図７には、乾燥工程がステップＳ５−６で示されており、第２の剥離ライナー６５の貼り合わせ工程がステップＳ５−７で示されている。製造された接着剤積層体６９は、製品検査（Ｓ５−８）を経て出荷される（Ｓ５−９）。
【００３５】
（偏光子フィルムの形成）
図９に偏光子フィルムの製造工程を概略図で示す。原材料となるフィルム７１は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂を主成分とする高分子材料からなり、ロール７２の形態で準備される。ロール７２から繰り出されたＰＶＡフィルム７１は、水槽７３において水に浸漬され、水により膨潤される。次いで、水により膨潤したＰＶＡフィルム７１は、ヨウ素を含む染色液を有する染色槽７４に通され、該槽７４でヨウ素が含浸させられる。ヨウ素が含浸されたＰＶＡフィルム７１は、次に、第１及び第２の架橋槽７５、７６に通される。架橋槽７５、７６にはヨウ化カリウム及びホウ酸を含む架橋浴が形成されており、ここで架橋処理が進行する。この架橋処理の過程で、ＰＶＡフィルム７１には延伸が施される。この延伸は、架橋槽７５、７６を通してＰＶＡフィルム７１を送るロールの駆動速度を、入口側より出口側が高くなるように定めることにより行われる。延伸工程を経たＰＶＡフィルム７１は、水洗槽７７で水洗され、両面に保護フィルム７８ａ、７８ｂが貼り合わされて、図９ｂに示すような積層体７９となる。
【００３６】
（位相差フィルムの形成）
位相差フィルムは、樹脂フィルムの延伸倍率と延伸温度を制御することにより、調整することができる。延伸倍率は、所望の位相差、位相差フィルムの光学補償に必要なフィルムの厚さ、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚さ、延伸温度等に応じて適宜定めることができる。このような位相差フィルムの製造は、周知である。本発明において使用される１／４λ位相差フィルムは、この周知の方法を用いて、１／４λ位相分の位相差が生じるように調整される。
【００３７】
（偏光機能積層体の形成）
上述のようにして形成される１／４λ位相差フィルムを、図９（ｂ）に示す偏光子積層体７９に貼り合せることにより、本発明において使用される偏光機能積層体が得られる。図１０（ａ）は、偏光子積層体７９と１／４λ位相差フィルムとの貼り合わせ工程を示すもので、先ず、偏光子フィルムの基材となるＰＶＡフィルムが、ヨウ素による染色を行う染色工程（Ｓ８−１）、延伸工程（Ｓ８−２）を経て図９に示す偏光子フィルム７１となり、保護フィルム７８ａ、７８ｂと貼り合せるための貼り合わせ工程（Ｓ８−３）に送られる。貼り合わせ工程（Ｓ８−３）では、偏光子フィルム７１の両面に保護フィルム７８ａ、７８ｂが貼り合わされる。次いで、偏光子フィルム７１の一方の面に接着剤が塗工される（Ｓ８−４）。接着剤が塗工された偏光子フィルム７１は、必要に応じて、該偏光子フィルムが使用される表示パネル装置の寸法に対応する寸法に、例えば打ち抜きにより裁断される（Ｓ８−５）。表示パネル装置が長尺のロール状の形態で、表示パネル板との連続的貼りあわせ工程に使用される場合には、この裁断工程は省略される。
【００３８】
１／４λ位相差フィルムは、接着剤塗工（Ｓ８−６）を施した後、表示パネル装置の寸法に対応する寸法に裁断される（Ｓ８−７）。偏光子フィルム積層体７９の場合と同様に、表示パネル装置が長尺のロール状の形態で使用される場合には、この裁断工程は省略される。必要に応じて裁断された位相差フィルムは、接着剤塗工されていない面が、偏光子フィルム積層体７９上の接着剤層により該積層体７９に接合される（Ｓ８−８）。得られた製品は、縁部の成形等、必要な仕上げ処理を施し（Ｓ８−９）、製品検査を経て（Ｓ８−１０）、次工程に送られる。図１６（ｂ）は、得られた偏光機能積層体８１を示すもので、偏光子フィルム積層体７９は接着剤層７９ａを介して１／４λ位相差フィルム８０に接合される。１／４λ位相差フィルム８０の外側面には接着剤層８０ａが存在する。必要に応じて、この１／４λ位相差フィルム８０の外側面の接着剤層８０ａには、剥離ライナー（図示せず）が貼り合わされる。この偏光機能積層体８１は、偏光子フィルム積層体７９と１／４λ位相差フィルム８０が視認側からみてこの順に組み合わされることにより、円偏光機能を有するものとなる。
【００３９】
（タッチセンサ積層体の形成）
タッチセンサ積層体３の基本的構成層は、透明基材層と、アンダーコート層、接着剤層、及び透明導電性層である。基材層を構成する材料としては、特に制限はなく、透明性を有する各種のプラスチックフィルムを用いることができ。基材層材料として、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中で特に好ましい材料は、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂である。基材層材料については、特許文献５に詳細な記載がり、ここに記載された材料のいずれも使用できるが、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが一般的に使用されている。市販のＰＥＴフィルムとしては、三菱ポリエステル株式会社製のフィルムがあり、１０８５ｍｍ幅で、厚さ２３μｍのものと５０μｍのものが入手できる。積層工程中に受ける熱により発生するオリゴマーを防止するためのオリゴマー防止層を付与したＰＥＴフィルムを入手可能である。視認側からみて偏光機能積層体より内側にタッチセンサ積層体が配置される構成では、基材層は、ＰＥＴではなく、光等方性を有するポリカーボネート系樹脂、ノルボルネン系樹脂材料により形成することが好ましい。
【００４０】
アンダーコート層は、特許文献５に記載された方法のいずれによっても形成することができる。図１１（ａ）にアンダーコート層の塗工工程を示す。アンダーコート層の材料としては、例えば、メラミン樹脂とアルキド樹脂及び有機シラン縮合物を、重量比２：２：１の割合で混合した混合物を使用する。この混合物は、固形分の重量比が３０％であり、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社から、商品名ＳＨＣ９００として入手できる。このアンダーコート原材料混合物に、希釈用液状混合溶剤を加えて、希釈攪拌する（Ｓ９−１）。この溶剤は、例えば、シクロペンタノンとトルエンとメチルエチルケトンを重量比４：３：３の割合で混合したものとすることができる。溶剤の混合割合は、アンダーコート原材料混合物の固形分が１．５重量％となるように定める。希釈されたアンダーコート原材料混合物は、片面にオリゴマー防止層が予め形成されたＰＥＴフィルムのオリゴマー防止層が形成されていない面に塗布される（Ｓ９−２）。この工程により、図１１（ｂ）に示すように、ＰＥＴフィルム９１の一方の面にオリゴマー防止層９２が、他方の面にアンダーコート層９３が形成されたアンダーコート積層体９０が形成される。必要に応じて、アンダーコート層９３の上に第２のアンダーコート層を形成することもできる。図１１（ｂ）には、２層に構成されるアンダーコート層を表すために、符号９３ａ、９３ｂを括弧内に示す。
【００４１】
このようにして形成されたアンダーコート積層体９０に対して、導電性層を形成するためのスパッタリング工程が行われる。図１２（ａ）は、このスパッタリング工程の一例を示すブロック図である。図１１（ａ）の工程により形成されたアンダーコート積層体９０の外側のアンダーコート層９３ｂの面に対して、真空雰囲気のもとで、酸化インジウム９０重量％、酸化スズ１０重量％からなるスパッタリングのターゲット材料が、アルゴン９８体積％及び酸素２体積％からなる導入ガスによってプラズマ化された状態でスパッタリングされる（Ｓ１０−１）。このようにして、図１２（ｂ）に示す導電性層１０１が外側のアンダーコート層９３ｂの上に形成された導電性積層体１００が得られる。この導電性積層体１００に対して、接着剤層により剥離ライナーが貼り合わされる（Ｓ１０−２）。図１２（ｃ）に、この工程により得られた接着剤層付導電性層積層体１０４を示す。図１２（ｃ）に示すように、接着剤層付導電性層積層体１０４は、基材層９１の一方の面に、第１のアンダーコート層９３ａと第２のアンダーコート層９３ｂがこの順で形成され、さらに第２のアンダーコート層９３ｂの上に導電性層１０１が形成され、基材層９１のアンダーコート層９３ａとは反対側の面に接着剤層１０２を介して剥離ライナー１０３が接合された積層構造である。
【００４２】
図１３（ａ）は、図１２における接着剤層１０２の貼り合せ工程を示す図である。図１３（ａ）において、導電性積層体１００と図８に示す工程で形成された接着剤積層体６９が、それぞれのロールから繰り出されて、対のニップロール１１０ａ、１１０ｂの間に通される。導電性積層体１００は、その上に形成されたオリゴマー防止層９２が接着剤積層体６９に面する状態となるように、ロールから供給される。接着剤積層体６９も同様にロール形態で準備され、一方の側に設けられた剥離ライナー６０を剥離ロール１１１により剥がしながら、露出された接着剤層が導電性積層体１００に面する状態になるように、ニップロール１１０ａ、１１０ｂ間に供給される。このようにして、図１２（ｃ）に示す接着剤層付導電性層積層体１０４が得られる。この接着剤層付導電性積層体１０４は、図１３（ａ）に示すようにロール状に巻かれる。この接着剤付積層体１０４に対して、図１２（ｂ）に示す導電性積層体１００を貼り合せて、タッチセンサ積層体３を形成する。図１３（ｂ）は、その貼り合せ工程を示す概略図である。図１３（ｂ）において、導電性積層体１００はロール形態で準備される。導電性積層体１００は、ロールから繰り出されて、基材層９１上のオリゴマー防止層９２が下側になる状態で、対のニップロール１１２ａ、１１２ｂ間に送られる。接着剤付導電性積層体１０４は、剥離ライナー１０３が上側になる状態で、ロールから繰り出され、剥離ロール１１３により剥離ライナー１０３を剥がされて、露出された接着剤層１０２が導電性積層体１００に面する状態で、ニップロール１１２ａ、１１２ｂの間に送られる。積層体１００、１０４はニップロール１１２ａ、１１２ｂにより互いに押し付けられて接合され、タッチセンサ積層体となる。タッチセンサ積層体の両面の導電性層１０１は、乾燥オーブンに通すことなどの方法により加熱されて結晶化された後、周知のエッチング工程により所望のパターンにパターン形成される。パターン形成の工程は周知であり、例えば、特許文献６に詳細に記載されているので、ここでは詳細な説明は省略する。導電性層にパターン形成することにより、図３〜図６に示す表示パネル装置に使用されるタッチセンサ積層体３が得られる。このタッチセンサ積層体の断面を図１３（ｃ）に示す。
【００４３】
図１４に、単一フィルムからなる基材層３５の両面に透明導電性層を形成することができる成膜装置２００の一例を示す。この成膜装置２００には、ロール状に巻かれた長尺の基体材料フィルム２１０を収容することができる第１ロール室Ｗ１、第２ロール室Ｗ２、及び第３ロール室Ｗ３と、第１ロール室Ｗ１と第３ロール室Ｗ３の間に設けた第１成膜室２４１、第３ロール室Ｗ３と第２ロール室Ｗ２の間に設けた第２成膜室２４２、第１ロール室Ｗ１と第１成膜室２４１の間に設けた加熱室２３１、加熱室２３１と第１成膜室２４１の間に設けたプラズマ処理装置２４０、２４０’、及び、基体２１０の経路変更を行うための切替ロール２８３、２８３’が含まれる。
【００４４】
図１４に示すように、第１ロール室Ｗ１から第２ロール室Ｗ２に向う第１の方向Ａに基体材料フィルム２１０が搬送される間に、基体材料フィルム２１０は、切替ロール２８３に達するまで同じ経路に沿って移動する。切替ロール２８３に達した後は、基体材料フィルム２１０は、第１の搬送経路を通る場合には、破線で示すように、切替ロール２８３’で反転させられることによって、第２成膜室２４２を第２ロール室Ｗ２から第１ロール室Ｗ１へ向う第２の方向Ｂに沿って通過し、一方、第２の搬送経路を通るときは、実線で示すように、第２成膜室２４２を第１の方向Ａに沿って通過する。
【００４５】
図１４の装置２００は、真空蒸着法、スパッタリング法、化学気相成長法（ＣＶＤ）等、いずれの方法にも使用できる。スパッタリング法によれば、大面積の均一スパッタリングが可能であり、また、連続生産性が高く、安定性が良好で、緻密な薄膜形成が可能である。また、スパッタリング法の中でも、特に、ＤＣマグネトロンスパッタ法によれば、ターゲット表面に磁場を形成し、電子を閉じ込めることで、基体の損傷を抑えることができる。これらの処理は、各室を真空にした状態で行う。
【００４６】
真空状態を効果的に保つため、装置１の各室の間には仕切り２１４が設けられる。また、これらの各仕切り２１４には、基体材料フィルム２１０を通過させる隙間２１３が設けられている。更に、作業空間以外の室の真空状態を効果的に保つため、所定の位置にロードロック機構２１３、２１３’を設けることができる。ロードロック機構についてはよく知られているため、ここでは説明を省略する。
【００４７】
本方法で使用される基体材料フィルム２１０は、例えば、ＰＥＴフィルム等の各種の樹脂フィルムであればよい。但し、基体材料フィルム２１０は、全体として長尺状であって、可撓性を有し、ロール状に巻回可能なものである。成膜の際、基体材料フィルム２１０は、複数配列された案内ロール２２９等を利用して、ロール室Ｗ１からＷ３までの間を、第１ロール室Ｗ１から第２ロール室Ｗ２へ向う第１の方向Ａ、又は第２ロール室Ｗ２から第１ロール室Ｗ１へ向う第２の方向Ｂに、搬送することができる。
【００４８】
ロール状の基体材料フィルム２１０を支持するため、第１ロール室Ｗ１には第１の繰出・巻取ロール２２１が、第２ロール室Ｗ２には第２の繰出・巻取ロール２２２が、それぞれ設けられている。基体材料フィルム２１０を第１の方向Ａに搬送させる場合には、第１繰出・巻取ロール２２１は繰り出しを、第２繰出・巻取ロール２２２は巻き取りを行う。一方、基体材料フィルム２１０を第２の方向Ｂに搬送させる場合には、第２繰出・巻取ロール２２２は繰り出しを、第１繰出・巻取ロール２２１は巻き取りを行う。
【００４９】
加熱室２３１では、基体材料フィルム２１０が加熱され、該基体材料フィルム２１０に脱ガス処理やアニール処理が施される。例えば、第１ロール室Ｗ１と第１成膜室２４１の間に設けた加熱室２３１においては、第１成膜室２４１における成膜前に基体材料フィルム２１０を加熱して、該基体材料フィルム２１０を脱ガスすることができる。真空処理時等には、基体材料フィルム２１０から水分が生ずることがあるが、この水分は成膜される膜の組成に大きな影響を与える。上記の位置に加熱室２３１を設けると、水分を除去して、影響を低減させることができる。
【００５０】
また、第２成膜室２４２と第２ロール室Ｗ２の間に加熱室（図示されていない）を設けることにより、例えば、第２成膜室２４２において成膜が行われた基体材料フィルム２１０を加熱することが可能となり、これによって、基体材料フィルム２１０に成膜した透明導電性膜材料にアニール処理を施し、膜の原子配列を規則的に並んだ結晶粒とすることができる。更に、必要に応じて、例えば、第１成膜室２４１と第２成膜室２４２の間等に加熱室を設けてもよい。但し、後述する成膜室の回転ドラムによる加熱機能等を利用して、加熱室を設けることなく同様の効果を得ることもできる。
【００５１】
プラズマ処理装置２４０、２４０’が、基体材料フィルム２１０をプラズマ処理するために使用される。プラズマ処理を施すことにより、基体材料フィルム２１０の表面を活性化し、クリーニングすることができ、これによって、その後の成膜をより効果的に行うことできる。加熱室同様、プラズマ処理装置を設ける位置は特に限定されない。例えば、加熱室２３１と第１成膜室２４１の間に設けられたプラズマ処理装置２４０、２４０’を利用すれば、第１の成膜室２４１における成膜前に基体材料フィルム２１０にプラズマ処理を行うことができる。更に、必要に応じて、例えば、第１成膜室２４１と第２成膜室２４２の間にプラズマ処理装置を設けることもできる。
【００５２】
成膜室は少なくとも２つあれば足りる。但し、追加の成膜室を設けてもよい。追加の成膜室を設ける位置は、第１ロール室Ｗ１と第２ロール室Ｗ２の間であれば、特に限定されず、例えば、加熱室２３１と第１成膜室２４１の間であってもよい。これらの成膜室で成膜される膜材料は、本実施形態の場合には、透明導電性層である。
【００５３】
第１成膜室２４１は、第１回転ドラム２５１と第１カソード電極２６１を備える。第１回転ドラム２５１は、基体材料フィルム２１０を第１の方向Ａ或いは第２の方向Ｂに搬送するように回転でき、基体材料フィルム２１０は、それらの周囲を経て、第１の方向Ａ又は第２の方向Ｂに搬送される。更に、第１回転ドラム２５１は、基体材料フィルム２１０を加熱する機能を有するものであってもよい。第１回転ドラム２１０の加熱機能によって得られる効果は、加熱室と同様と考えてよい。従って、第１回転ドラム２５１によって加熱室の加熱機能を代替することもできるし、逆に、加熱室の加熱機能によって第１回転ドラム２５１における加熱機能を代替することもできる。
【００５４】
第１カソード電極２６１は、第１回転ドラム２５１に対して複数設けられる。これら複数の第１カソード電極２６１は各々、所定の膜材料例えばＩＴＯを成膜するためのターゲットを支持した状態で、第１回転ドラム２５１に対向して可動状態で配置される。
【００５５】
（アンダーコート層によるパターン見え抑制効果の確認）
[検査方法]
＜屈折率＞
各層の屈折率は、アタゴ社製のアッべ屈折率計を用い、各種測定面に対して測定光（ナトリウムD線）を入射させるようにして、該屈折率に示される規定の測定方法により測定を行った。
【００５６】
＜各層の厚み＞
フィルム基材、透明基体、ハードコート層、接着剤層等の、１μｍ以上の厚みを有するものに関しては、ミツトヨ社製マイクロゲージ式厚み計にて測定を行った。ハードコート層、接着剤層等の直接厚みを計測することが困難な層については、各層を設けた基材の総厚みを測定して、基材の厚みを差し引くことで膜厚を計算した。
【００５７】
誘電体層およびＩＴＯ膜等の厚みは、大塚電子社製の瞬間マルチ測光システム「ＭＣＰＤ２０００」（商品名）を用い、干渉スペクトルの波形を基礎に算出した。
【００５８】
＜反射特性＞
日立ハイテク社製の分光光度計「Ｕ−４１００」（商品名）の積分球測定モードを用いて、ＩＴＯ膜への入射角を２度として、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの領域におけるパターン部とパターン開口部の直下の反射率を５ｎｍ間隔で測定した。次いで、パターン部とパターン開口部の直下の平均反射率を算出し、これらの平均反射率の値からパターン部とパターン開口部の直下との間の反射率差ΔＲを算出した。なお、前記測定は、タッチセンサ積層体（サンプル）の裏面側（ＰＥＴフィルム側）に黒色スプレーを用いて遮光層を形成し、サンプルの裏面からの反射や裏面側からの光の入射が殆ど無い状態で測定を行った。また、Ｄ６５光源を用いて、パターン部及びパターン開口部の直下のそれぞれの反射光のＬ*、ａ*、ｂ*を算出し、以下の式を用いてパターン部の反射光とパターン開口部の直下の反射光の色差ΔＥを算出した。
ΔＥ＝｛（ΔＬ*）2＋（Δａ*）2＋（Δｂ*）2｝0.5
【実施例】
【００５９】
［実施例１］
（アンダーコート層の形成）
厚み２５μのポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムという）からなる透明フィルム基材（屈折率ｎ1＝１．６５）の一方の面に、メラミン樹脂：アルキド樹脂：有機シラン縮合物の重量比２：２：１が熱硬化型樹脂組成物を塗布し、その後、乾燥、硬化させて、膜厚２０ｎｍの誘電体層から成る第１のアンダーコート層を形成した。この例において、第１のアンダーコート層の屈折率ｎ21は１．５４であった。【００６０】
次いで、シリカゾル（コルコート社製、コルコートＰ）を、固形分濃度が２重量％になるようにエタノールで希釈し、第１のアンダーコート層上に、シリカコート法により塗布し、その後に乾燥、硬化させて、膜厚１０ｎｍの誘電体層から成る第２のアンダーコート層を形成した。第２のアンダーコート層の屈折率ｎ22は１．４６であった。【００６１】
（ＩＴＯ膜の形成）
次に、第２のアンダーコート層上に、アルゴンガス９８％と酸素ガス２％とからなる０．４Ｐａの雰囲気中で、酸化インジウム９７重量％、酸化スズ３重量％の焼結体材料を用いた反応性スパッタリング法により、厚み２３ｎｍのＩＴＯ膜（屈折率ｎ３＝２．００）を形成して、タッチセンサ積層体を得た。【００６２】
（ＩＴＯ膜のパターン化）
透明導電性フィルムの透明導電層に、ストライプ状にパターン化されているフォトレジストを塗布し、乾燥、硬化した後、２５℃、５重量％の塩酸（塩化水素水溶液）に、１分間浸漬して、ＩＴＯ膜のエッチングを行った。その後、フォトレジストを除去した。【００６３】
（ＩＴＯ膜の結晶化）
ＩＴＯ膜のエッチングを行った後、１４０℃で９０分間の加熱処理を行って、ＩＴＯ膜を結晶化した。【００６４】
［実施例２］
実施例１と同様にして、ＰＥＴフィルムの一方の面に誘電体層から成る第１のアンダーコート層、誘電体層から成る第２のアンダーコート層およびＩＴＯ膜を形成して、タッチセンサ積層体を得た。【００６５】
（ＩＴＯ膜のパターン化）
タッチセンサ積層体の透明導電膜に、ストライプ状にパターン化されているフォトレジストを塗布し、乾燥、硬化した後、２５℃、５重量％の塩酸に、１分間浸漬して、ＩＴＯ膜のエッチングを行った。【００６６】
（第２のアンダーコート層のパターン化）
ＩＴＯ膜のエッチングを行った後、引き続きフォトレジストを積層したまま、４５℃、２重量％の水酸化ナトリウム水溶液に、３分間浸漬して、誘電体層から成る第２のアンダーコート層のエッチングを行い、その後、フォトレジストを除去した。【００６７】
（ＩＴＯ膜の結晶化）
ＩＴＯ膜および誘電体層から成る第２のアンダーコート層をパターン化した後、１４０℃で９０分間の加熱処理を行って、ＩＴＯ膜を結晶化した。【００６８】
［実施例３、４］
実施例３および４においては、それぞれ実施例１および実施例２と同様にして、パターン部とパターン開口部とを有するタッチセンサ積層体を作製した。ただし、実施例♯３および♯４においては、誘電体層から成る第１のアンダーコート層の厚みを３５ｎｍ、誘電体層から成る第２のアンダーコート層の厚みを５ｎｍとした点においては、実施例♯１および♯２とは異なっていた。【００６９】
［実施例５、６］
実施例５および６においては、それぞれ実施例１および実施例２と同様にしてパターン開口部とパターン開口部とを有するタッチセンサ積層体を作製した。ただし、実施例５及び６においては、誘電体層から成る第１のアンダーコート層の厚みを３０ｎｍ、誘電体層から成る第２のアンダーコート層の厚みを１５ｎｍとした点において、実施例１および２とは異なっていた。【００７０】
［比較例１］
比較例１においては、実施例１と同様にして、パターン部とパターン開口部とを有するタッチセンサ積層体を作製した。ただし、比較例１においては、誘電体層から成る第１のアンダーコート層の厚みを４５ｎｍ、誘電体層から成る第２のアンダーコート層の厚みを１０ｎｍとした点において、実施例１とは異なっていた。【００７１】
［比較例２］
比較例２においては、実施例１と同様にして、パターン部とパターン開口部とを有するタッチセンサ積層体を作製した。ただし、比較例２においては、誘電体層から成る第１のアンダーコート層の厚みを３０ｎｍ、誘電体層から成る第２のアンダーコート層の厚みを３０ｎｍとした点において、実施例１とは異なっていた。【００７２】
［比較例３］
比較例３においては、実施例１と同様にして、パターン部とパターン開口部とを有するタッチセンサ積層体を作製した。ただし、比較例３においては、誘電体層から成る第１のアンダーコート層の厚みを４０ｎｍ、誘電体層から成る第２のアンダーコート層の厚みを３０ｎｍとした点において、実施例１とは異なっていた。【００７３】
［比較例４］
比較例においては、実施例１と同様にして、パターン部とパターン開口部とを有するタッチセンサ積層体を作製した。ただし、比較例４においては、誘電体層から成る第１のアンダーコート層が下記のように形成された点、および誘電体層から成る第２のアンダーコート層の厚みを３５ｎｍとした点において、実施例１とは異なっていた。【００７４】
（第１のアンダーコート層の形成）
厚みを２５μｍのＰＥＴフィルム基材（屈折率ｎ１＝１．６５）の一方の面に、誘電体層から成る第１のアンダーコート層として、膜厚２０ｎｍのシリコン錫酸化物をスパッタリング法により形成した。この誘電体層から成る第１のアンダーコート層の屈折率は１．７０であった。【００７５】
各実施例および比較例のタッチセンサ積層体の評価結果を表１に示す。【００７６】
【表１】
2012073990.tif 000003
【００７７】
表１から、本発明のタッチセンサ積層体は、透明導電層がパターン化された場合においても、パターン部とパターン開口部との間の反射率差および色差が小さいため、パターンが視認され難いことがわかる。特に、実施例２、４、６に示すように、第２のアンダーコート層が透明導電層と同様にパターン化された場合は、パターンがより視認され難く見栄えが良好であるといえる。【００７８】
［実施例７］
（ハードコート層の形成）
基材として厚み２５μのポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムという）からなる透明フィルム基材（屈折率ｎ１＝１．６５）を使用した。また、ハードコート層形成材料として、イソシアヌル酸系アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、イソホロンジイソシアネートポリウレタンからなる紫外線硬化型樹脂（ＤＩＣ社製の「ユニディック１７−８０６」）に、樹脂固形分１００部当り、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の「イルガキュア９０７」）５部を加えたものを、酢酸ブチル／酢酸エチルが２／３の混合溶媒により、固形分濃度が５０％となるように希釈して調製したハードコート層形成材料を使用した。【００７９】
上記のＰＥＴフィルム基材の両面に、上記のハードコート層形成材料を、ダイコーターにて塗工し、１００℃で３分加熱して乾燥した。その後、高圧水銀ランプにより積算光量２００ｍＪ／cm2 の紫外線を照射して硬化処理し、厚さが２μｍのハードコート層（屈折率ｎ２＝１．５２）を形成した。【００８０】
（アンダーコート層の形成）
次いで両面にハードコート層が形成された透明フィルム基材の両方の面に、メラミン樹脂：アルキド樹脂：有機シラン縮合物の重量比２：２：１とした熱硬化型樹脂組成物を塗布し、その後、乾燥、硬化させて、膜厚２０ｎｍの誘電体層から成る第１のアンダーコート層を形成した。この例において、第１のアンダーコート層の屈折率ｎ３１は１．５４であった。【００８１】
次いで、両面に第１誘電体層が塗工された透明フィルム基材の両方の面に、シリカゾル（コルコート社製、コルコートＰ）を、固形分濃度が２重量％になるようにエタノールで希釈し、第１のアンダーコート層上に、シリカコート法により塗布し、その後に乾燥、硬化させて、膜厚１０ｎｍの誘電体層から成る第２のアンダーコートを形成した。第２のアンダーコート層の屈折率ｎ３２は１．４６であった。【００８２】
（ＩＴＯ膜の形成）
次に、第２のアンダーコート層上に、アルゴンガス９８％と酸素ガス２％とからなる０．４Ｐａの雰囲気中で、酸化インジウム９７重量％、酸化スズ３重量％の焼結体材料を用いた反応性スパッタリング法により、厚み２３ｎｍのＩＴＯ膜（屈折率ｎ４＝２．００）を形成して、タッチセンサ積層体を得た。
次いで、反対側の面にも同じ操作を繰り返してＩＴＯ膜を成膜し、両側にＩＴＯ膜を成膜したタッチセンサ積層体を得た。【００８３】
（ＩＴＯ膜のパターン化）
タッチセンサ積層体の一方の透明導電層にポリエステルフィルムによる保護層を貼りつけ、他方の透明導電層にストライプ状にパターン化されているフォトレジストを塗布し、乾燥、硬化した後、２５℃、５重量％の塩酸（塩化水素水溶液）に、１分間浸漬して、ＩＴＯ膜のエッチングを行った。その後、フォトレジストを除去し、第１透明電極パターンを形成した。次いで、第１透明電極パターンを保護層により保護し、前記と同様の操作を行い、第２透明電極パターンを形成した。【００８４】
（ＩＴＯ膜の結晶化）
上記ＩＴＯ膜のエッチングを行った後、１４０℃で９０分間の加熱処理を行って、ＩＴＯ膜を結晶化した。【００８５】
［比較例５］
実施例７において、片側のハードコート層を塗工せず、かつアンダーコート層を塗工しなかった事以外は、実施例７と同じ操作を行いタッチセンサ積層体を得た。
［比較例６］
実施例７において、片側のアンダーコート層を塗工しなかった事以外は、実施例７と同じ操作を行いタッチセンサ積層体を得た。【００８６】
（フィルムの反り評価）
フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍに切り出して、フィルムの反りを評価した。
○：反り変形が小さい（4隅の平均反り変形の高さが5mm未満）
×：反り変形が大きい（4隅の平均反り変形の高さが5mm以上）
（見映え評価）
第１透明電極パターンを視認側にして、目視で評価を行った。
○：両面のパターン見えが均一（ΔRが1%未満）
×：両面のパターン見えが不均一（ΔRが1%以上）
結果を表２に示す。【００８７】
【表２】
2012073990.tif 000004
以上から、本発明による反り防止の効果が確認できる。【００８８】
以上、本発明を特定の実施形態について図示し、詳細に説明したが、本発明の保護範囲は、図示した実施形態の細部に限定されるものではなく、特許請求の範囲の記載により定められる範囲によって定まるものである。
【符号の説明】
【００８９】
１：表示パネル装置
３：タッチセンサ積層体
５：表示パネル
７：ウインドウ
１１：接着剤層
１３：縁取り印刷
１１５：円偏光機能積層体
１１５ａ：偏光フィルム層
１１５ｂ：λ／４位相差フィルム
３１：第１の透明導電性層
３２：第２の透明導電性層
３３、３６：導電体側アンダーコート層
３４、３７：基材側アンダーコート層
３５：第１の透明基材層
３８：第２の透明基材層
３９：接着剤層
５１、５２：偏光子フィルム
【図１】
2012073990.tif 000005
【図２】
2012073990.tif 000006
【図３】
2012073990.tif 000007
【図４】
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【図５】
2012073990.tif 000009
【図６】
2012073990.tif 000010
【図７】
2012073990.tif 000011
【図８】
2012073990.tif 000012
【図９】
2012073990.tif 000013
【図１０】
2012073990.tif 000014
【図１１】
2012073990.tif 000015
【図１２】
2012073990.tif 000016
【図１３】
2012073990.tif 000017
【図１４】
2012073990.tif 000018
【図１５】
2012073990.tif 000019
【国際調査報告】
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