(57)【要約】  本発明に係るマイクロ波加熱装置は、導波管（１０６）内に所定の定在波（ＳＷ）を発生させるように、導波管（１０６）におけるマイクロ波伝送方向（ＭＴ）の終端（１０７）が閉塞されており、導波管（１０６）内に発生した定在波（ＳＷ）の節と腹の位置が加熱室（１０３）の中心に対して略対称に配置されているため、回転機構を用いることなく、被加熱物（１０２）に対して略均一にマイクロ波加熱することができる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物が配置される加熱室と、
前記加熱室に供給されるマイクロ波を生成するマイクロ波供給部と、
前記マイクロ波供給部で生成されたマイクロ波を前記加熱室へ伝送するための導波管と、
前記導波管内を伝送したマイクロ波を前記加熱室へ放射するための複数のマイクロ波放射部と、を備え、
前記導波管内に所定の波長を有する定在波を発生させるように、前記導波管におけるマイクロ波伝送方向の終端が閉塞されて前記導波管が所定の形状を有しており、
前記導波管内に発生した定在波の分布が前記加熱室における加熱領域の中心に対して略対称に配置されているマイクロ波加熱装置。
【請求項２】
前記複数のマイクロ波放射部が前記加熱領域の中心に対して略対称に配置された請求項１に記載のマイクロ波加熱装置。
【請求項３】
前記複数のマイクロ波放射部の中心間距離が導波管内に発生した定在波の間隔と略同じとなるよう、前記マイクロ波放射部が前記導波管に設けられた請求項２に記載のマイクロ波加熱装置。
【請求項４】
前記導波管内に発生した定在波の節の位置が前記加熱室の加熱領域の中心に対応するよう構成された請求項３に記載のマイクロ波加熱装置。
【請求項５】
前記マイクロ波放射部は、前記導波管内に発生した定在波の節の位置に対応して配置された請求項４に記載のマイクロ波加熱装置。
【請求項６】
前記加熱室における加熱領域に対向する前記導波管内の領域に偶数の腹を有する定在波が形成された請求項５に記載のマイクロ波加熱装置。
【請求項７】
前記マイクロ波放射部がマイクロ波を放射する開口で構成され、当該開口が前記導波管におけるマイクロ波伝送方向に延びる管軸に対して対称に配置された請求項６に記載のマイクロ波加熱装置。
【請求項８】
前記マイクロ波放射部がマイクロ波を放射する開口で構成され、当該開口が前記導波管におけるマイクロ波伝送方向の管軸に対して非対称に配置された請求項６に記載のマイクロ波加熱装置。
【請求項９】
前記マイクロ波放射部から放射されるマイクロ波量が、略同一となるよう構成された請求項１乃至８のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱装置。
【請求項１０】
前記導波管内に発生する定在波の定在波波長が、前記マイクロ波供給部から供給され前記導波管内を伝送するマイクロ波の伝送波長と略等しくなるよう、前記導波管を構成した請求項１乃至８のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱装置。
【請求項１１】
前記マイクロ波放射部が、円偏波を放射するよう構成された請求項１乃至８のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱装置。
【請求項１２】
前記マイクロ波供給部の出力端から前記導波管の終端までのマイクロ波伝送距離は、前記マイクロ波供給部から供給され前記導波管内を伝送するマイクロ波の伝送波長の４分の１の整数倍である請求項１乃至８のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱装置。
【請求項１３】
前記導波管は、方形導波管であり、前記マイクロ波供給部から供給された供給波長をλとし、前記マイクロ波放射部が設けられた前記導波管の壁面における前記導波管のマイクロ波伝送方向に直交する長さをａとすると、前記導波管内に発生する定在波の定在波波長λｎが、下記式（１）で示される前記導波管内を伝送するマイクロ波の伝送波長λｇと略等しくなるよう構成された請求項１乃至８のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱装置。
【数１】
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【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子レンジ等のマイクロ波加熱装置に関し、特に、加熱室の内部にマイクロ波を放射するための構成に特徴を有するマイクロ波加熱装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のマイクロ波により被加熱物を加熱処理するマイクロ波加熱装置の代表的な装置としては、電子レンジがある。電子レンジにおいては、マイクロ波供給手段において発生したマイクロ波が金属製の加熱室の内部に放射され、加熱室内部の被加熱物が放射されたマイクロ波により加熱処理される。【０００３】
従来の電子レンジにおけるマイクロ波供給手段としては、マグネトロンが用いられている。マグネトロンにより生成されたマイクロ波は、導波管を介してマイクロ波放射部から加熱室内部に放射される。加熱室内部におけるマイクロ波の電磁界分布が不均一であると、被加熱物を均一にマイクロ波加熱することができないという問題を有する。【０００４】
加熱室内部の被加熱物を均一に加熱する手段としては、被加熱物を載置するテーブルを回転させて被加熱物を加熱室内部において回動させる構造、被加熱物を固定してマイクロ波を放射するアンテナを回転させる構造、または位相器を用いてマイクロ波供給手段から伝搬されたマイクロ波の位相を変化させる構造があり、このような構造を備えたマイクロ波加熱装置が一般的に用いられている。【０００５】
例えば、従来のマイクロ波加熱装置では、導波管内部に回転アンテナ、アンテナシャフトなどが配置されており、アンテナモータによって該回転アンテナを回転させながらマグネトロンを駆動することにより、加熱室内のマイクロ波分布の不均一を低減する構造を有するものがあった。【０００６】
また、日本の特開昭６２−６４０９３号公報（特許文献１）には別の構成のマイクロ波加熱装置が記載されている。この特許文献１には、マグネトロンの上部に回転可能なアンテナを設け、該回転アンテナの羽根に送風ファンからの風をあてることにより、該送風ファンの風力でアンテナが回転して、加熱室内のマイクロ波分布を変化させるマイクロ波加熱装置が提案されている。【０００７】
一方、マイクロ波加熱による被加熱物に対する不均一な加熱の低減を図ると共に、コスト削減およびマイクロ波給電部の省スペース化を図ったマイクロ波加熱装置が米国特許第４３０１３４７号明細書（特許文献２）に記載されている。この特許文献２には、円偏波を加熱室内部に放射する単一のマイクロ波放射部を有したマイクロ波加熱装置が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開昭６２−６４０９３号公報
【特許文献２】米国特許第４３０１３４７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
前述の従来の構成を有する電子レンジのようなマイクロ波加熱装置においては、出来るだけ簡易的な構造を有し、被加熱物を効率高く、ムラ無く加熱することが求められている。しかし、これまで提案されていた従来の構成においては、満足出来るものではなく、構造上、効率化および均一化などの点で種々の問題を有していた。【００１０】
また、マイクロ波加熱装置、特に、電子レンジにおいては、高出力化の技術開発が進み、国内では定格高周波出力１０００Ｗの製品が商品化されている。電子レンジは、熱伝導によって食品を加熱するのではなく、誘電加熱を用いて直接食品を加熱できる利便性がこの商品の大きな特徴である。しかし、電子レンジにおいて、不均一加熱が未解決な状態においての高出力化は不均一加熱の問題をより顕在化させることになる。【００１１】
従来のマイクロ波加熱装置が抱える構造上の問題としては、下記の２点が挙げられる。１点目は、不均一加熱を低減するためにテーブルまたはアンテナを回転させる機構を必要としており、このため回転スペース、およびテーブルまたはアンテナを回転させるためのモータなどの駆動源の設置スペースを確保しなければならず、電子レンジの小型化を阻害している点である。２点目は、テーブルまたはアンテナを安定的に回転させるために、該アンテナを加熱室の上部又は下部に設ける必要があり、構造上において制限されている点である。【００１２】
また、マイクロ波加熱装置における加熱室に通じる、マイクロ波が照射される空間内にテーブルまたはアンテナの回転機構や、位相器などの各種機構が設置されており、このような設置は、装置の信頼性を低下させるという課題を有している。したがって、これら機構を不要とするマイクロ波加熱装置が求められている。【００１３】
さらに、マイクロ波加熱による被加熱物の不均一加熱の低減を図ると共に、コストの低減およびマイクロ波給電部の省スペース化を図った特許文献２に記載されたマイクロ波加熱装置においても次のような問題を有する。特許文献２に開示された、円偏波を加熱室内部に放射する単一のマイクロ波放射部を有するマイクロ波加熱装置は、回転機構を有していないという利点を有するが、マイクロ波加熱により十分な均一加熱が実現できないという課題を有している。【００１４】
本発明は、前記の従来の技術における課題を解決するものであり、回転機構を用いることなく、被加熱物を均一にマイクロ波加熱することができるマイクロ波加熱装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明に係るマイクロ波加熱装置は、
被加熱物が配置される加熱室と、
前記加熱室に供給されるマイクロ波を生成するマイクロ波供給部と、
前記マイクロ波供給部で生成されたマイクロ波を前記加熱室へ伝送するための導波管と、
前記導波管内を伝送したマイクロ波を前記加熱室へ放射するための複数のマイクロ波放射部と、を備え、
前記導波管内に所定の定在波を発生させるように、前記導波管におけるマイクロ波伝送方向の終端が閉塞されており、
前記導波管内に発生した定在波の分布が前記加熱室の中心に対して略対称に配置されている。【００１６】
上記のように構成された本発明に係るマイクロ波加熱装置においては、加熱室に配置された被加熱物に対して放射するエネルギーの基となるマイクロ波放射部からのマイクロ波が、導波管内に発生した定在波として加熱室に対して均等配置されているため、被加熱物の加熱分布を均一にすることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のマイクロ波加熱装置は、加熱室に配置された被加熱物に対して放射するマイクロ波放射部からのマイクロ波が、導波管内に発生した定在波として加熱室に対して均等配置されているため、被加熱物に対して均一にマイクロ波加熱することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明に係る実施の形態１のマイクロ波加熱装置の概略構成を示す断面図
【図２】本発明に係る実施の形態１のマイクロ波加熱装置を示す斜視図
【図３】（ａ）本発明に係る実施の形態１のマイクロ波加熱装置における導波管の概略外観構成を示す斜視図、（ｂ）実施の形態１のマイクロ波加熱装置における導波管の側面断面図、および（ｃ）実施の形態１のマイクロ波加熱装置における加熱室に対する導波管の配置状態を示す平面図
【図４】本発明に係る実施の形態２のマイクロ波加熱装置における加熱室に対する導波管の配置状態を示す平面図
【図５】本発明に係る実施の形態３のマイクロ波加熱装置における加熱室に対する導波管の配置状態を示す平面図
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明に係る第１の態様のマイクロ波加熱装置は、
被加熱物が配置される加熱室と、
前記加熱室に供給されるマイクロ波を生成するマイクロ波供給部と、
前記マイクロ波供給部で生成されたマイクロ波を前記加熱室へ伝送するための導波管と、
前記導波管内を伝送したマイクロ波を前記加熱室へ放射するための複数のマイクロ波放射部と、を備え、
前記導波管内に所定の波長を有する定在波を発生させるように、前記導波管におけるマイクロ波伝送方向の終端が閉塞されて前記導波管が所定の形状を有しており、
前記導波管内に発生した定在波の分布が前記加熱室における加熱領域の中心に対して略対称に配置されている。
このように構成された本発明に係る第１の態様のマイクロ波加熱装置は、加熱室に配置された被加熱物に対して放射するマイクロ波放射部からのマイクロ波が、導波管内に発生した定在波として加熱室に対して略均等配置されているため、被加熱物に対して均一にマイクロ波加熱することができる。
【００２０】
本発明に係る第２の態様のマイクロ波加熱装置は、前記の第１の態様において、前記複数のマイクロ波放射部が前記加熱領域の中心に対して略対称に配置されている。このように構成された本発明に係る第２の態様のマイクロ波加熱装置は、マイクロ波放射部が領域の中心に対して略対称に配置されているため、被加熱物に対して均一に、且つ効率高くマイクロ波加熱することができる。
【００２１】
本発明に係る第３の態様のマイクロ波加熱装置は、前記の第２の態様において、前記複数のマイクロ波放射部の中心間距離が導波管内に発生した定在波の間隔と略同じとなるよう、前記マイクロ波放射部が前記導波管に設けられている。このように構成された本発明に係る第３の態様のマイクロ波加熱装置は、加熱室に配置された被加熱物に対して放射するマイクロ波放射部からのマイクロ波が、導波管内に発生した定在波の分布に対応してマイクロ波放射部が配置されているため、被加熱物に対して均一にマイクロ波加熱することができる。
【００２２】
本発明に係る第４の態様のマイクロ波加熱装置は、前記の第３の態様において、前記導波管内に発生した定在波の節の位置が前記加熱室の加熱領域の中心に対応するよう構成されている。このように構成された本発明に係る第４の態様のマイクロ波加熱装置は、マイクロ波放射部から加熱室に対してマイクロ波放射の均一化を図ることができる。
【００２３】
本発明に係る第５の態様のマイクロ波加熱装置は、前記の第４の態様において、前記マイクロ波放射部が、前記導波管内に発生した定在波の節の位置に対応して配置されている。このように構成された本発明に係る第５の態様のマイクロ波加熱装置は、マイクロ波放射部からの過剰な出力を防ぎ、加熱室に対してマイクロ波放射のより均一化を図ることができる。特に、このように構成することにより、加熱室の中心に配置される被加熱物に対してマイクロ波が効率高く放射されて均一な加熱処理を行うことができる。
【００２４】
本発明に係る第６の態様のマイクロ波加熱装置は、前記の第５の態様において、前記加熱室における加熱領域に対向する前記導波管内の領域に偶数の腹を有する定在波が形成されている。このように構成された本発明に係る第６の態様のマイクロ波加熱装置は、前記導波管におけるマイクロ波伝送方向における加熱室に対してマイクロ波放射のさらなる均一化を図ることができる。
【００２５】
本発明に係る第７の態様のマイクロ波加熱装置は、前記の第６の態様において、前記マイクロ波放射部がマイクロ波を放射する開口で構成され、当該開口が前記導波管におけるマイクロ波伝送方向に延びる管軸に対して対称に配置されている。このように構成された本発明に係る第７の態様のマイクロ波加熱装置は、導波管におけるマイクロ波伝送方向に直交する方向の加熱領域に対してもマイクロ波放射の均一化を図ることができる。
【００２６】
本発明に係る第８の態様のマイクロ波加熱装置は、前記の第６の態様において、前記マイクロ波放射部がマイクロ波を放射する開口で構成され、当該開口が前記導波管におけるマイクロ波伝送方向の管軸に対して非対称に配置されている。このように構成された本発明に係る第８の態様のマイクロ波加熱装置は、加熱室に対してマイクロ波放射の均一化を図ることができる。
【００２７】
本発明に係る第９の態様のマイクロ波加熱装置は、前記の第１乃至第８の態様のいずれかの態様において、前記マイクロ波放射部から放射されるマイクロ波量が、略同一となるよう構成されている。このように構成された本発明に係る第９の態様のマイクロ波加熱装置は、複数のマイクロ波放射部から被加熱物に対するマイクロ波放射を均一化することができる。
【００２８】
本発明に係る第１０の態様のマイクロ波加熱装置は、前記の第１乃至第８の態様のいずれかの態様において、前記導波管内に発生する定在波の定在波波長が、前記マイクロ波供給部から供給され前記導波管内を伝送するマイクロ波の伝送波長と略等しくなるよう、前記導波管が構成されている。このように構成された本発明に係る第１０の態様のマイクロ波加熱装置は、導波管内において所望の定在波を安定して発生させることができる。
【００２９】
本発明に係る第１１の態様のマイクロ波加熱装置は、前記の第１乃至第８の態様のいずれかの態様において、前記マイクロ波放射部が、円偏波を放射するよう構成されている。このように構成された本発明に係る第１１の態様のマイクロ波加熱装置は、マイクロ波放射部から拡がりを有するマイクロ波が放射され、被加熱物に対してマイクロ波放射をより広い範囲で均一化することができる。
【００３０】
本発明に係る第１２の態様のマイクロ波加熱装置は、前記の第１乃至第８の態様のいずれかの態様において、前記マイクロ波供給部の出力端から前記導波管の終端までのマイクロ波伝送距離が、前記マイクロ波供給部から供給され前記導波管内を伝送するマイクロ波の伝送波長の４分の１の整数倍である。このように構成された本発明に係る第１２の態様のマイクロ波加熱装置は、導波管内において安定してマイクロ波伝送される伝送波長と同一波長を有する定在波を発生させることができるため、マイクロ波放射部から加熱室へマイクロ波放射が行われても、導波管内において定在波を安定して維持することができる。
【００３１】
本発明に係る第１３の態様のマイクロ波加熱装置は、前記の第１乃至第８の態様のいずれかの態様において、前記導波管が、方形導波管であり、前記マイクロ波供給部から供給された供給波長をλとし、前記マイクロ波放射部が設けられた前記導波管の壁面における前記導波管のマイクロ波伝送方向に直交する長さをａとすると、前記導波管内に発生する定在波の定在波波長が、下記式（１）で示される前記導波管内を伝送するマイクロ波の伝送波長λｇと略等しくなるよう構成されている。このように構成された本発明に係る第１３の態様のマイクロ波加熱装置は、導波管内において安定してマイクロ波伝送される伝送波長と同一波長を有する定在波を確実に発生させることができる。
【００３２】
【数１】
2012137447.tif 000003
【００３３】
以下、本発明に係るマイクロ波加熱装置の好適な実施の形態について、添付の図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施の形態のマイクロ波加熱装置においては電子レンジについて説明するが、電子レンジは例示であり、本発明のマイクロ波加熱装置は電子レンジに限定されるものではなく、誘電加熱を利用した加熱装置、生ゴミ処理機、あるいは半導体製造装置などのマイクロ波加熱装置を含むものである。
【００３４】
また、本発明は、以下の実施の形態の具体的な構成に限定されるものではなく、同様の技術的思想に基づく構成が本発明に含まれる。
【００３５】
（実施の形態１）
図１は、本発明に係る実施の形態１のマイクロ波加熱装置の概略構成を示す断面図である。図１に示すように、実施の形態１のマイクロ波加熱装置は、装置の外観を構成する筐体１０１、被加熱物１０２をマイクロ波加熱するための加熱室１０３、加熱室１０３内部において被加熱物１０２を載置するための載置部１０４、マイクロ波を形成するマイクロ波供給部１０５、およびマイクロ波供給部１０５からのマイクロ波を加熱室１０３へ伝送するための導波管１０６、が備えられている。また、マイクロ波加熱装置において、導波管１０６には、マイクロ波の伝送終端となる閉塞された終端部１０７と、加熱室１０３へマイクロ波を放射するマイクロ波放射部１０８が形成されている。マイクロ波放射部１０８から放射されたマイクロ波が加熱領域である載置部１０４上の被加熱物１０２をマイクロ波加熱する構成である。
【００３６】
なお、実施の形態１のマイクロ波加熱装置において、載置部１０４としてはガラス板が用いられ、マイクロ波供給部１０５としてはマグネトロンが用いられ、そして導波管１０６としてはマイクロ波伝送方向に直交する断面が四角形である方形導波管が用いられている。また、マイクロ波放射部１０８は、加熱室１０３に対向する導波管１０６の壁面に形成した開口である放射口１０８ａを有して構成されている。上記のように構成することにより、実施の形態１のマイクロ波加熱装置を簡単な構成で実現することが可能となる。
【００３７】
図２は、本発明に係る実施の形態１のマイクロ波加熱装置を示す斜視図である。図２に示すように、実施の形態１のマイクロ波加熱装置には被加熱物１０２を加熱室１０３に対して出し入れするための扉２０１が備えられている。図２は、マイクロ波加熱装置の扉２０１が開放した状態を示している。
【００３８】
図３における（ａ）は実施の形態１のマイクロ波加熱装置における導波管１０６の概略外観構成を示す斜視図である。図３において、（ｂ）は実施の形態１のマイクロ波加熱装置における導波管１０６の側面断面図であり、（ｃ）は実施の形態１のマイクロ波加熱装置における加熱室１０３に対する導波管１０６の配置状態を示す平面図である。図３の（ｃ）に示す導波管１０６および加熱室１０３は、導波管１０６などを上方から見た図である。
【００３９】
なお、図３の（ｃ）において、加熱室１０３を一点鎖線で示し、マイクロ波放射部１０８を二点鎖線で示している。図３の（ｃ）において、二点鎖線で示すマイクロ波放射部１０８を矩形領域で示しているが、この矩形領域はマイクロ波放射部１０８の形状を特定するものではなく、単にマイクロ波放射部１０８の開口が形成されるべき領域を示すものである。マイクロ波放射部１０８の具体的な開口形状としては、導波管１０６からのマイクロ波が加熱室１０３内に均一に放射される形状であればよく、矩形形状に特定されるものではない。
【００４０】
実施の形態１のマイクロ波加熱装置においては、導波管１０６を加熱室１０３の底面である加熱領域（載置部１０４）の下方に配置しており、導波管１０６のマイクロ波伝送方向ＭＴが加熱室１０３の左右方向と一致している。また、導波管１０６におけるマイクロ波伝送方向ＭＴに延びる中心線（管軸）が、加熱室１０３の底面（加熱領域）における左右方向の中心線と、その上下において重なるよう構成されている。
【００４１】
上記のように構成された実施の形態１のマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａが、加熱室（加熱領域）に対向する導波管１０６の上部壁面部分に形成された開口であり、この開口から導波管１０６内に存在するマイクロ波を加熱室１０３へ放射して、被加熱物をマイクロ波加熱する構成である。
【００４２】
次に、実施の形態１のマイクロ波加熱装置における動作について説明する。先ず始めに、マイクロ波加熱装置における概略動作について説明する。
【００４３】
使用者が被加熱物１０２を加熱室１０３内の載置部１０４上に配置して、加熱条件を設定して加熱開始指示を行う。使用者により加熱開始指示が行われると、該マイクロ波加熱装置は、マイクロ波供給部１０５であるマグネトロンが励起されて、導波管１０６内にマイクロ波を供給する。マイクロ波が供給された導波管１０６内においては、供給されてきたマイクロ波が導波管１０６の終端部１０７で反射され、図３の（ｂ）に示すように、導波管１０６内に定在波ＳＷが発生する。
【００４４】
実施の形態１のマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波供給源として形成された定在波ＳＷの節近傍にマイクロ波放射部１０８の開口である放射口１０８ａが設けられている。即ち、導波管１０６内に生じる定在波ＳＷの節位置ＮＰの鉛直線上にマイクロ波放射部１０８の開口が形成されている。このように形成されたマイクロ波放射部１０８により、導波管１０６から加熱室１０３内にマイクロ波を放射することで、実施の形態１のマイクロ波加熱装置は、加熱室１０３内の被加熱物１０２に対するマイクロ波加熱が行われる。
【００４５】
次に、導波管１０６内に形成される定在波ＳＷの節位置ＮＰについて説明する。図３の（ｂ）に示すように、閉塞された終端である終端部１０７を備えた導波管１０６に対して、マイクロ波供給部１０５からのマイクロ波が供給されると、所定形状の導波管１０６内を伝送して、導波管１０６の終端部１０７で反射することにより、導波管１０６内には定在波ＳＷが発生する。
【００４６】
導波管１０６は終端部１０７において閉じられているため、終端部１０７における振幅は零に固定される。一方、図１に示すようなマイクロ波供給部１０５の供給側は、図３の（ｂ）に示すように最大振幅値を示す自由端となると考えられる。このため、導波管１０６内に発生する定在波ＳＷの波長は、図３の（ａ）に示すマイクロ波伝送方向ＭＴの長さであるｃと、定在波モードを示す自然数ｓを用いて、下記の式（２）により簡易的に演算することができる。なお、長さｃは、マイクロ波供給部１０５の出力端から導波管１０６の終端部１０７までのマイクロ波伝送距離を示すものとする。
【００４７】
【数２】
2012137447.tif 000004
【００４８】
例えば、導波管１０６におけるマイクロ波伝送方向ＭＴの長さｃを３４６ｍｍとして上記の式（２）を適用してλをλｎすると、導波管１０６に形成される定在波ＳＷの波長λｎ、および定在波ＳＷの間隔（λｎ／２）はそれぞれ下記の（表１）に示すようになる。ここで定在波ＳＷの間隔とは、定在波ＳＷにおける節から節までの長さとする。
【００４９】
【表１】
2012137447.tif 000005
【００５０】
なお、導波管１０６内に形成される定在波ＳＷは、マイクロ波供給部１０５から供給された発振周波数のマイクロ波が基になっており、その発振周波数のマイクロ波が方形導波管１０６内を伝送することにより伝送周波数のマイクロ波となり、その伝送周波数のマイクロ波が反射して定在波ＳＷが発生している。したがって、導波管１０６内に形成される定在波ＳＷの波形は、マイクロ波供給部１０５から導波管１０６内を伝送する伝送波形と同様の波形となることが自然であり、このような波形が導波管１０６内において最も安定して存在し易い状態となる。マイクロ波供給部１０５から出力される波長をλ（λ＝（光速）／（発振周波数））とし、導波管１０６において伝送可能な最大波長（最低周波数）である遮断波長をλｃとすると、導波管１０６内を伝送する波の伝送波長λｇは、下記の式（３）のように表される。なお、遮断波長λｃは、λｃ＝２×ａ（ａは導波管１０６の幅）で決定される。ここで、導波管１０６の幅ａとは、マイクロ波放射部１０８が設けられた導波管１０６の壁面における導波管１０６のマイクロ波伝送方向ＭＴに直交する長さのことをいう。
【００５１】
【数３】
2012137447.tif 000006
【００５２】
例えば、マイクロ波供給部１０５の発振周波数が２．４６［ＧＨｚ］、導波管１０６の幅ａが１００［ｍｍ］である場合、これらの数値を式（３）に代入すると、伝送波長は、λｇ＝１５３．８６［ｍｍ］となる。このため、前述の（表１）より、定在波モードがｓ＝５で、定在波ＳＷの間隔（λｎ／２）が７６．９［ｍｍ］となる定在波ＳＷが導波管１０６に形成される。その結果、図３の（ｂ）に示すような節と腹を有する定在波ＳＷが導波管１０６内に存在することになる。
【００５３】
ただし、現実の導波管１０６においては、マイクロ波供給部１０５の出力端と導波管１０６との接合状態や、導波管１０６における終端部１０７の状態が理想状態とならない場合には、演算値の前後の値の定在モードの状態も取り得る。例えば、このような場合には、定在波モードがｓ＝４、またはｓ＝６の状態を取り得る。したがって、導波管１０６内において実際に存在する定在波ＳＷの波長としては、導波管１０６内の定在波ＳＷの振幅を実測して確認することが好ましい。
【００５４】
発明者の実験によれば、マイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａから加熱室１０３内へマイクロ波が放射された後も導波管１０６内に発生する定在波ＳＷを安定して存在させるためには、定在波ＳＷの波長λｎが、導波管１０６内を伝送するマイクロ波の状態と同じ状態、即ち伝送波長λｇと同一の値となるように、導波管１０６を構成することが好ましいことを確認した。このように導波管１０６を構成することにより、導波管１０６内を伝送する伝送波長λｇと同じ波長の定在波ＳＷが発生するため、導波管１０６内において不調和な状態が生じることがなく、最も安定した波形状態となる。したがって、導波管１０６において、マイクロ波伝送方向ＭＴの長さであるｃ（マイクロ波供給部１０５の出力端から導波管１０６の終端部１０７までのマイクロ波伝送距離）を決定する際は、前述の式（２）を変形して得られる下記式（４）において、波長λには伝送波長λｇ（≒λｎ：実施の形態１の場合には、１５３．８６［ｍｍ］）、定在波モードｓには導波管１０６内に存在して欲しい定在波状態（実施の形態１の場合には、ｓ＝５）を代入することにより、マイクロ波放射部１０８からマイクロ波放射を行われても導波管１０６内には安定した定在波ＳＷを維持することができる条件を作り出すことが可能となる。
【００５５】
【数４】
2012137447.tif 000007
【００５６】
以上のように、実施の形態１のマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａから加熱室１０３内の載置部１０４（加熱領域）に載置された被加熱物１０２に対して放射するエネルギーの基となるマイクロ波を、加熱室１０３の下方にある導波管１０６内に存在するマイクロ波の定在波ＳＷとしている。導波管１０６内に生じる定在波ＳＷの分布（定在波ＳＷの腹と節の配置状態）は導波管１０６内に均等に形成されており、その定在波分布に対応して複数のマイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａが導波管１０６に配設されている。これらのマイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａからマイクロ波が加熱室１０３内に放射されることにより、加熱室１０３内の被加熱物１０２に対する加熱分布を均一にすることができる。
【００５７】
実施の形態１のマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａの中心位置が導波管１０６内の定在波ＳＷの節、即ち振幅が実質的に零となる位置に対応させている。なお、マイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａの中心位置とは、放射口１０８ａの形状を同じ厚みの板材で構成したと仮定した場合において、その板材の重心位置を示すものとする。
【００５８】
上記のように、マイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａの中心位置を定在波ＳＷの振幅が実質的に零となる節に対応する位置とすることにより、マイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａから加熱室１０６への過剰なマイクロ波の出力を防止して、被加熱物１０２に対するマイクロ波をより均一に放射することができる。
【００５９】
実施の形態１のマイクロ波加熱装置においては、図３の（ｃ）に示すように、導波管１０６のマイクロ波伝送方向ＭＴが加熱室１０３の底面における左右方向となるよう導波管１０６が加熱室１０３の直下に設けられている。また、導波管１０６の伝送方向に延びる中心軸が、加熱室１０３の底面の左右方向に延びる中心軸に対して、その上下方向において重なるように導波管１０６が配置されている。
【００６０】
また、実施の形態１のマイクロ波加熱装置では、加熱室１０３が占める領域と、導波管１０６が占める領域とにおいて、その上下で重なる領域に定在波ＳＷの腹の数が偶数個存在しており、定在波ＳＷの節ＮＰの位置が加熱室１０３の底面（載置部１０４）の略中心に対応する位置となるよう構成されている。図３の（ｂ）に示した例示においては、加熱室１０３が占める領域と、導波管１０６が占める領域との上下で重なる領域に定在波ＳＷの腹が４個存在している。そして、加熱室１０３が占める領域と、導波管１０６が占める領域との上下で重なる領域に存在する４個の腹の定在波ＳＷの中心にある節ＮＰの位置に、加熱室１０６の底面（載置部１０４）における略中心に存在するマイクロ波放射部１０８の中心位置が略対応するよう配置されている。
【００６１】
上記のように、マイクロ波放射部１０８を定在波ＳＷの節近傍に配置することにより、加熱室１０３において被加熱物１０２が載置されることが多い中央領域にマイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａが設けられて、効率の高いマイクロ波加熱を実現することができる。
【００６２】
なお、加熱室１０３において、壁面に近い領域に配置されたマイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａと、中央領域に配置されたマイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａでは、加熱室１０３への反射の影響などにより、同一形状、同一寸法でも放射量が異なる場合がある。
【００６３】
この場合には、それぞれのマイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａの開口面積を、定在波ＳＷの節の位置毎に増減して変化させることにより、それぞれのマイクロ波放射部１０８から放射されるマイクロ波量が略同一となる形状として対応してもよい。このように構成することにより、導波管１０６内の定在波ＳＷの節近傍に形成された各マイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａから加熱室１０６に対して、均一マイクロ波量によるマイクロ波放射を行うことができる。
【００６４】
なお、実施の形態１のマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波放射部１０８の開口部形状を図３の（ｃ）に示した矩形形状で説明したが、本発明におけるマイクロ波放射部１０８としてはこのような開口形状に特定されるものではなく、導波管１０６からマイクロ波を効率的に放射できる形状であればよい。
【００６５】
また、実施の形態１のマイクロ波加熱装置においては、導波管１０６におけるマイクロ波供給部１０５の出力端から終端部１０７までのマイクロ波伝送距離ｃを管内波長である伝送波長λｇの４分の１（λｇ／４）の整数倍とすることが好ましい。このようにマイクロ波伝送距離ｃを伝送波長λｇの４分の１（λｇ／４）の整数倍、特に奇数倍とすることにより、導波管１０６と調和が取れ、導波管１０６内に安定して存在する、伝送波長λｇと同一波長の定在波ＳＷを発生させることができる。この結果、マイクロ波放射部１０８から加熱室１０３に対してマイクロ波放射が行われても、導波管１０６内において定在波を安定して維持することができる。
【００６６】
以上のように、実施の形態１のマイクロ波加熱装置においては、導波管１０６内に所定の波長を有する定在波を発生させるように、導波管１０６におけるマイクロ波伝送方向ＭＴの終端が閉塞されて、導波管１０６が所定の形状を有している。また、導波管１０６内に発生した定在波ＳＷが加熱室１０３における加熱領域（１０４）の中心に対して略対称に配置されており、複数のマイクロ波放射部１０８の中心間距離が導波管１０６内に発生した定在波ＳＷの間隔（節ＮＰと節ＮＰとの間隔）と略同じとなるよう構成されている。このように構成された実施の形態１のマイクロ波加熱装置は、加熱室１０３に配置された被加熱物１０２に対して放射するマイクロ波放射部１０８からのマイクロ波が、導波管１０６内に発生した定在波ＳＷとして加熱室１０３に対して略均等配置され、その定在波分布に対応してマイクロ波放射部１０８が所定位置に配置されているため、被加熱物１０２に対して均一にマイクロ波加熱することができる。
【００６７】
また、実施の形態１のマイクロ波加熱装置は、導波管１０６内に発生した定在波ＳＷの節の位置が加熱室１０３の加熱領域の中心に対応するよう構成されているため、マイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａから加熱室１０３に対して均一なマイクロ波放射を行うことができる。
【００６８】
実施の形態１のマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波放射部１０８が、導波管１０６内に発生した定在波ＳＷの節ＮＰの位置に対応して配置されているため、マイクロ波放射部１０８からの過剰な出力を防ぎ、加熱室１０３に対してより均一にマイクロ波放射を行うことができる。
【００６９】
実施の形態１のマイクロ波加熱装置においては、それぞれのマイクロ波放射部１０８の放射口１０８ａの開口面積を増減させて、それぞれの放射口１０８ａから放射されるマイクロ波量が、略同一となるように構成してもよい。このように構成されたマイクロ波加熱装置においては、複数のマイクロ波放射部のそれぞれから被加熱物に対して放射されるマイクロ波量を均一化することができる。
【００７０】
さらに、実施の形態１のマイクロ波加熱装置においては、加熱室１０３における加熱領域（１０４）に対向する導波管１０６内の領域に偶数の腹を有する定在波ＳＷが形成されており、この定在波ＳＷの節ＮＰに対応してマイクロ波放射部１０８が配置されているため、導波管１０６におけるマイクロ波伝送方向ＭＴにおける加熱室１０３に対しても、マイクロ波が均一に放射される。特に、このように構成することにより、加熱室１０３の中心に配置される被加熱物１０２に対してマイクロ波が効率高く放射されて、加熱処理を均一に行うことができる。
【００７１】
（実施の形態２）
以下、本発明に係る実施の形態２のマイクロ波加熱装置について説明する。実施の形態２のマイクロ波加熱装置において、前述の実施の形態１のマイクロ波加熱装置と異なる点は、マイクロ波放射部が円偏波を放射する構成に特定する点であり、その他の点は同じである。
【００７２】
以下の実施の形態２のマイクロ波加熱装置の説明においては、実施の形態１のマイクロ波加熱装置における構成要素と同じ機能、構成を有するものには同じ符号を付し、その詳細な説明は実施の形態１の説明を適用する。
【００７３】
図４は、実施の形態２のマイクロ波加熱装置における加熱室１０３に対する導波管１０６の配置状態を示す平面図であり、導波管１０６を上方から見た図である。図４において、加熱室１０３を一点鎖線で示し、マイクロ波放射部１０８を二点鎖線で示している。図４において、二点鎖線で示すマイクロ波放射部１０８を矩形領域で示しているが、この矩形領域はマイクロ波放射部１０８の形状を特定するものではなく、単にマイクロ波放射部１０８の開口が形成されるべき形成領域を示すものである。
【００７４】
以下、実施の形態２のマイクロ波加熱装置における動作、作用について説明する。ただし、実施の形態２のマイクロ波加熱装置における基本的な動作は実施の形態１と同様であるので、ここでは省略する。
【００７５】
実施の形態２のマイクロ波加熱装置において、導波管１０６内に存在する定在波ＳＷの節近傍に配置されたマイクロ波放射部１０８は、図４に示すような円偏波を放射する構成を有している。円偏波とは、移動通信および衛星通信の分野で広く用いられている技術であり、身近な使用例としては、ＥＴＣ（Electronic Toll Collection System）「ノンストップ自動料金収受システム」などが挙げられる。
【００７６】
円偏波は、電界の偏波面が電波の進行方向に対して時間に応じて回転するマイクロ波であり、円偏波を形成すると電界の方向が時間に応じて変化し続けるため、加熱室１０３内に放射されるマイクロ波の放射角度も変化し続け、時間的に電界強度の大きさが変化しないという特徴を有している。
【００７７】
実施の形態２のマイクロ波加熱装置においては、それぞれのマイクロ波放射部１０８から円偏波のマイクロ波が加熱室１０３の内部に放射されるよう構成されている。このように構成された実施の形態２のマイクロ波加熱装置は、マイクロ波加熱装置に用いられている直線偏波によるマイクロ波加熱と比較して、加熱室１０３の内部において広範囲にわたってマイクロ波が分散放射されるため、加熱室１０３内に載置された被加熱物１０２を均一にマイクロ波加熱することができる。
【００７８】
特に、円偏波のマイクロ波が放射された場合には、円偏波の周方向に対して均一加熱の傾向が強い。なお、円偏波は回転方向から右旋偏波（ＣＷ：clockwise）と左旋偏波（ＣＣＷ：counter clockwise）の２種類に分類される。加熱室１０２の内部に放射される円偏波のマイクロ波が、右旋偏波（ＣＷ）または左旋偏波（ＣＣＷ）のいずれであっても、加熱性能に違いはない。
【００７９】
実施の形態２のマイクロ波加熱装置においては、前述の実施の形態１のマイクロ波加熱装置と同様に、マイクロ波放射部１０８の開口である放射口１０８ｂの中心位置が導波管１０６内の定在波ＳＷの節、即ち振幅が実質的に零となる位置に対応する位置の近傍に配置されている。このように、マイクロ波放射部１０８の放射口１０８ｂの中心位置が、定在波ＳＷの振幅が実質的に零となる節に対応する位置の近傍であるため、マイクロ波放射部１０８から加熱室１０６への過剰なマイクロ波の出力を防止して、被加熱物１０２に対するマイクロ波をより均一に放射することができる。
【００８０】
上記のように、実施の形態２のマイクロ波加熱装置において、マイクロ波放射部１０８から加熱室１０３内に放射するエネルギーの基となるマイクロ波を、加熱室１０３の下方にある導波管１０６内の定在波ＳＷとしている。この定在波ＳＷの分布（定在波ＳＷの腹と節の配置状態）は、導波管１０６内に均等に形成されており、その定在波分布に対応して複数のマイクロ波放射部１０８が導波管１０６に配設されている。これらのマイクロ波放射部１０８から円偏波のマイクロ波が加熱室１０３内に放射されることにより、加熱室１０３内の被加熱物１０２に対する加熱分布を均一にすることができる。
【００８１】
実施の形態２のマイクロ波加熱装置において、マイクロ波放射部１０８の構成としては、円偏波を放射する構成を有するものであれば良く、特に形状を限定されるものではないが、具体的な形状の例示として、図４を参照して説明する。図４は、実施の形態２のマイクロ波加熱装置において用いられるマイクロ波放射部１０８の領域に形成された具体的な開口形状を示している。図４に示したマイクロ波放射部１０８は、導波管１０６における加熱室１０３に対向する面に形成されており、このマイクロ波放射部１０８の領域に円偏波のマイクロ波を放射する開口である放射口１０８ｂが形成されている。放射口１０８ｂは、幅を有する２本のスリット（細長い開口部分）を中央で交差させて構成されており、各スリットは、導波管１０６のマイクロ波伝送方向ＭＴに対して４５度傾斜している。また、放射口１０８ｂは、マイクロ波放射部１０８において、導波管１０６のマイクロ波伝送方向ＭＴに延びる管軸Ｐから所定距離ずれた位置に形成されており、管軸Ｐの直上を通らない位置に配置する必要がある。実施の形態２のマイクロ波加熱装置においては、各マイクロ波放射部１０８における放射口１０８ｂが管軸Ｐの前後位置に互い違いに配置（非対称に配置）されており、それぞれのマイクロ波放射部１０８が右旋偏波ＣＷまたは左旋偏波ＣＣＷを放射するよう構成されている。
【００８２】
以上のように、実施の形態２のマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波放射部１０８における放射口１０８ｂを、円偏波（楕円偏波を含む）を放射する形状とすることにより、マイクロ波放射部１０８から拡がりを有するマイクロ波が放射される。この結果、実施の形態２のマイクロ波加熱装置は、被加熱物１０２に対するマイクロ波放射をより広い範囲で均一化することが可能な構成となる。
【００８３】
なお、実施の形態２のマイクロ波加熱装置においては、円偏波を放射するマイクロ波放射部１０８として２本のスリットを交差させた放射口１０８ｂの構成で説明したが、本発明はこのような構成に限定されるものではなく、円偏波（楕円偏波を含む）を放射する形状であればよい。
【００８４】
以上のように、実施の形態２のマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波放射部１０８がマイクロ波を放射する開口である放射口１０８ｂで構成され、この放射口１０８ｂが導波管１０６におけるマイクロ波伝送方向ＭＴの管軸Ｐに対して非対称に配置されている。このように構成された実施の形態２のマイクロ波加熱装置は、加熱室１０３に対してより広い範囲において均一なマイクロ波放射を行うことができる。
【００８５】
（実施の形態３）
以下、本発明に係る実施の形態３のマイクロ波加熱装置について説明する。実施の形態３のマイクロ波加熱装置において、前述の実施の形態１のマイクロ波加熱装置と異なる点は、マイクロ波放射部が円偏波を放射する構成に特定する点であり、その他の点は同じである。また、実施の形態３のマイクロ波加熱装置における基本的な動作は実施の形態１のマイクロ波加熱装置と同様である。
【００８６】
以下の実施の形態３のマイクロ波加熱装置の説明においては、実施の形態１のマイクロ波加熱装置における構成要素と同じ機能、構成を有するものには同じ符号を付し、その詳細な説明は実施の形態１の説明を適用する。
【００８７】
図５は、実施の形態３のマイクロ波加熱装置における加熱室１０３に対する導波管１０６の配置状態を示す平面図であり、導波管１０６を上方から見た図である。図５において、加熱室１０３を一点鎖線で示し、マイクロ波放射部１０８を二点鎖線で示している。図５において、二点鎖線で示すマイクロ波放射部１０８を矩形領域で示しているが、この矩形領域はマイクロ波放射部１０８の形状を特定するものではなく、単にマイクロ波放射部１０８の開口が形成されるべき形成領域を示すものである。
【００８８】
実施の形態３のマイクロ波加熱装置は、前述の実施の形態２のマイクロ波加熱装置のように円偏波を放射するマイクロ波放射部１０８の放射口１０８ｃが導波管１０３に設けられている。ただし、実施の形態３のマイクロ波加熱装置では、各マイクロ波放射部１０８において管軸Ｐに対して対称な位置に放射口１０８ｃが設けられている。このように放射口１０８ｃを対称に配置することにより、各マイクロ波放射部１０８の領域から右旋偏波ＣＷおよび左旋偏波ＣＣＷのマイクロ波を加熱室１０３内に放射する構成となる。このように、実施の形態３のマイクロ波加熱装置では、それぞれのマイクロ波放射部１０８において管軸Ｐに対称な位置に２つの放射口１０８ｃ，１０８ｃを設けた構成であるため、導波管１０６のマイクロ波伝送方向ＭＴに対して直交する加熱室１０３の前後方向（加熱室１０３の前面側から背面側の方向）にマイクロ波放射をさらに広げることが可能な構成となる。また、実施の形態３のマイクロ波加熱装置においては、それぞれのマイクロ波放射部１０８の領域から右旋偏波ＣＷおよび左旋偏波ＣＣＷのマイクロ波を放射する構成であるため、加熱室１０３の内部においてマイクロ波の拡張効果をさらに高めることができる。
【００８９】
以上のように、実施の形態３のマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波放射部１０８の放射口１０８ｃとなる開口を、導波管１０６のマイクロ波伝送方向ＭＴの管軸Ｐに対して対称な配置に形成することにより、導波管１０６のマイクロ波伝送方向ＭＴに対して直交する装置の前後方向にもマイクロ波放射をより拡げることができ、加熱室１０３に対するマイクロ波放射をさらに均一化し、被加熱物１０２に対して均一照射して、効率の高いマイクロ波加熱を実行することができる。
【００９０】
以上のように、実施の形態３のマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波放射部１０８がマイクロ波を放射する開口である放射口１０８ｃで構成され、放射口１０８ｃが導波管１０６におけるマイクロ波伝送方向ＭＴに延びる管軸Ｐに対して対称に配置されている。このように構成された実施の形態３のマイクロ波加熱装置は、導波管１０６におけるマイクロ波伝送方向ＭＴに直交する方向の加熱領域（１０４）に対してもより均一にマイクロ波放射を行うことができる。
【００９１】
また、実施の形態３のマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波放射部１０８の放射口１０８ｂが、円偏波を放射するよう構成されているため、マイクロ波放射部１０８から拡がりを有するマイクロ波が放射され、被加熱物１０２に対してマイクロ波放射をより広い範囲で均一化することができる。
【００９２】
上記のように、本発明のマイクロ波加熱装置においては、導波管内に発生する定在波の定在波波長が、マイクロ波供給部から供給され導波管内を伝送するマイクロ波の伝送波長と略等しくなるよう、導波管が構成されている。このように構成された本発明のマイクロ波加熱装置は、導波管内において所望の定在波を確実に安定して発生させることができる。
【００９３】
また、本発明のマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波供給部の出力端から前記導波管の終端までのマイクロ波伝送距離（ｃ）が、マイクロ波供給部から供給され導波管内を伝送するマイクロ波の伝送波長（λｇ）の４分の１の整数倍である。このように構成された本発明のマイクロ波加熱装置は、導波管内において安定して伝送されるマイクロ波の伝送波長（λｇ）と同一波長を有する定在波（ＳＷ）を発生させることができるため、マイクロ波放射部からマイクロ波放射が行われても、導波管内における定在波を安定して維持することができる。
【００９４】
上記のように、本発明のマイクロ波加熱装置は、加熱室に配置された被加熱物に対して放射するマイクロ波放射部からのマイクロ波が、導波管内に発生した定在波として加熱室に対して均等配置され、その定在波分布に対応してマイクロ波放射部が配置されているため、被加熱物に対して均一にマイクロ波加熱することができる。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明のマイクロ波加熱装置は、被加熱物に対してマイクロ波を均一照射することができるため、加熱加工や殺菌などを行う装置などに有効に利用することができると共に、誘電加熱を利用した加熱装置、生ゴミ処理機、半導体製造装置などの各種機器におけるマイクロ波加熱装置に適用できる。
【符号の説明】
【００９６】
１０１  筐体
１０２  被加熱物
１０３  加熱室
１０４  載置部
１０５  マイクロ波供給部
１０６  導波管
１０７  終端部
１０８  マイクロ波放射部
【図１】
2012137447.tif 000009
【図２】
2012137447.tif 000010
【図３】
2012137447.tif 000011
【図４】
2012137447.tif 000012
【図５】
2012137447.tif 000013
【国際調査報告】
2012137447.tif 000014
2012137447.tif 000015
2012137447.tif 000016
2012137447.tif 000017