(57)【要約】一般式（１）：2012121370.tif 000032（式中、ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）で表されるシクロポリアリーレン化合物。
2012121370.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）：
【化１】
2012121370.tif 000024
（式中、ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）
で表されるシクロポリアリーレン化合物。
【請求項２】
一般式（１）において、全てのｋが同一であり、且つ、全てのｍが同一である、請求項１に記載のシクロポリアリーレン化合物。
【請求項３】
一般式（１）において、全てのｋが０又は１であり、全てのｍが１又は２であり、ｎが３又は４である請求項１又は２に記載のシクロポリアリーレン化合物。
【請求項４】
一般式（２）：
【化２】
2012121370.tif 000025
（式中、Ｒは同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基；ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）
で表される化合物。
【請求項５】
一般式（２）において、全てのＲが同一であり、全てのｋが同一であり、且つ、全てのｍが同一である、請求項４に記載の化合物。
【請求項６】
一般式（１）：
【化３】
2012121370.tif 000026
（式中、ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）
で表されるシクロポリアリーレン化合物の製造方法であって、
一般式（２）：
【化４】
2012121370.tif 000027
（式中、Ｒは同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基；ｋ、ｍ及びｎは前記に同じである。）
で表される化合物を芳香族化させる工程
を備える、製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の製造方法であって、
遷移金属化合物の存在下に、一般式（３）：
【化５】
2012121370.tif 000028
（式中、Ｘは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子を示す；Ｒ、ｋ及びｍは前記に同じである。）
で表される化合物を反応させて、一般式（２）で表される化合物を製造する工程
を備える、製造方法。
【請求項８】
一般式（２）：
【化６】
2012121370.tif 000029
（式中、Ｒは同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基；ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）
で表される化合物の製造方法であって、
遷移金属化合物の存在下に、一般式（３）：
【化７】
2012121370.tif 000030
（式中、Ｘは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子；Ｒ、ｋ及びｍは前記に同じである。）
で表される化合物を反応させる工程
を備える、製造方法。
【請求項９】
一般式（３）：
【化８】
2012121370.tif 000031
（式中、Ｘは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子；Ｒは同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基；ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３を示す。）
で表される化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シクロポリアリーレン化合物及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、炭素原子を含むナノ構造体としては、２次元のグラフェンシートを筒状に巻いた構造を有するカーボンナノチューブが知られている。【０００３】
カーボンナノチューブは、高い導電性、高い機械的強度、優れた弾性、耐熱性、軽さ等の性質を有していることから、化学分野、電子工学分野、生命科学分野等の様々な分野への応用が期待されている。【０００４】
カーボンナノチューブの製造方法としては、例えば、アーク放電法、レーザー・ファネス法及び化学気相成長法等が知られている。しかし、これらの製造方法では、チューブの径や長さの制御が困難であり、様々な径と長さを有するカーボンナノチューブの混合物でしか得られないという問題がある。【０００５】
近年、カーボンナノチューブの最小の構成単位である、シクロパラフェニレン化合物の研究が報告されている。その構造を例えば、図１に示す。【０００６】
例えば、非特許文献１には、１，４−ジヨードベンゼン及びベンゾキノンを原料に用いて、９、１２又は１８個のベンゼン環が連なった輪状構造を有するシクロパラフェニレン化合物を混合物として製造する方法が記載されている。【０００７】
非特許文献２及び３には、１，４−シクロヘキサンジオンと１，４−ジヨードベンゼンとを用いて、規則的にベンゼン環が１２個連なった輪状構造を有するシクロパラフェニレン化合物を製造する方法が記載されている。【０００８】
非特許文献４には、正方形のビフェニレン白金錯体を臭素で還元的脱離して規則的にベンゼン環が８個連なった輪状構造を有するシクロパラフェニレン化合物を製造する方法が記載されている。【０００９】
上記非特許文献に開示されているシクロパラフェニレン化合物は、複数のフェニレン基が単結合で連結した輪状の化学構造を有し、アームチェア型の単層カーボンナノチューブの最小の構成単位として興味深い物性を有している。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【００１０】
【非特許文献１】Jasti, R. et al., J. Am. Chem. Soc., 2008, 130, 17646
【非特許文献２】Itami, K. et al., Angew. Chem. Int. Ed., 2009, 48, 6112
【非特許文献３】Itami, K. et al., Angew. Chem. Int. Ed., 2010, 49, 10202
【非特許文献４】Yamago, S. et al., Angew. Chem. Int. Ed., 2009, 49, 757
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明者らは、上記のシクロパラフェニレン化合物の輪の構成単位であるフェニレン基を縮合多環式芳香族炭化水素の２価基に変換した化合物（以下、「シクロポリアリーレン化合物」と表記する場合もある）が、上記シクロパラフェニレン化合物と同様に、その特異な構造に由来して興味深い特性を有すると考えた。【００１２】
そこで、本発明は、シクロポリアリーレン化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、上記の課題を解決するため鋭意研究を行った結果、入手容易な特定の材料を原料にして、数工程で目的化合物を簡便に合成できることを見出した。かかる知見に基づき、さらに研究を行った結果、本発明を完成するに至った。【００１４】
即ち、本発明は、以下に示すシクロポリアリーレン化合物若しくはその前駆体、並びにこれらの製造方法を包含する。
項１．一般式（１）：【００１５】
【化１】
2012121370.tif 000003
【００１６】
（式中、ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）
で表されるシクロポリアリーレン化合物。
項２．一般式（１）において、全てのｋが同一であり、且つ、全てのｍが同一である、項１に記載のシクロポリアリーレン化合物。
項３．一般式（１）において、全てのｋが０又は１であり、全てのｍが１又は２であり、ｎが３又は４である項１又は２に記載のシクロポリアリーレン化合物。
項４．一般式（２）：【００１７】
【化２】
2012121370.tif 000004
【００１８】
（式中、Ｒは同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基；ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）
で表される化合物。
項５．一般式（２）において、全てのＲが同一であり、全てのｋが同一であり、且つ、全てのｍが同一である、項４に記載の化合物。
項６．一般式（１）：【００１９】
【化３】
2012121370.tif 000005
【００２０】
（式中、ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）
で表されるシクロポリアリーレン化合物の製造方法であって、
一般式（２）：【００２１】
【化４】
2012121370.tif 000006
【００２２】
（式中、Ｒは同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基；ｋ、ｍ及びｎは前記に同じである。）
で表される化合物を芳香族化させる工程
を備える、製造方法。
項７．項６に記載の製造方法であって、
遷移金属化合物の存在下に、一般式（３）：【００２３】
【化５】
2012121370.tif 000007
【００２４】
（式中、Ｘは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子を示す；Ｒ、ｋ及びｍは前記に同じである。）
で表される化合物を反応させて、一般式（２）で表される化合物を製造する工程
を備える、製造方法。
項８．一般式（２）：【００２５】
【化６】
2012121370.tif 000008
【００２６】
（式中、Ｒは同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基；ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）
で表される化合物の製造方法であって、
遷移金属化合物の存在下に、一般式（３）：【００２７】
【化７】
2012121370.tif 000009
【００２８】
（式中、Ｘは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子；Ｒ、ｋ及びｍは前記に同じである。）
で表される化合物を反応させる工程
を備える、製造方法。
項９．一般式（３）：【００２９】
【化８】
2012121370.tif 000010
【００３０】
（式中、Ｘは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子；Ｒは同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基；ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３を示す。）
で表される化合物。
【発明の効果】
【００３１】
本発明の製造方法によれば、一般式（１）で表されるシクロポリアリーレン化合物を、入手容易な化合物を出発原料として短工程かつ好収率で製造することができる。【００３２】
まず、入手容易な一般式（４）で表される化合物と一般式（５）で表される化合物とから一般式（３ａ）で表される化合物が得られる。この一般式（３ａ）で表される化合物は選択的にシス配置のものが得られるため、当該化合物は屈曲したＬ字型の形状を有する。【００３３】
次いで、一般式（３ａ）で表される化合物の水酸基を必要に応じアルキル化又は保護して一般式（３ｂ）で表される化合物に変換し、これを遷移金属化合物の存在下に反応（ホモカップリング反応）させて環化し、当該化合物の３、４、５又は６量体に相当する一般式（２）で表される輪状化合物を得る。ここで、原料である一般式（３ｂ）で表される化合物がＬ字型形状を有しているため、上記環化反応が効率的に進行する。【００３４】
最後に、一般式（２）で表される化合物を還元的芳香族化反応に供して、一般式（１）で表されるシクロポリアリーレン化合物を得る。【００３５】
得られた一般式（１）で表されるシクロポリアリーレン化合物は新規な化合物であり、非特許文献１〜４に記載されるシクロパラフェニレン化合物と比較して有機溶媒への高い溶解度、狭いＨＯＭＯ−ＬＯＭＯギャップ等を有している。そのため、電子材料、発光材料等に好適に用いることができる。【００３６】
また、一般式（１）で表されるシクロポリアリーレン化合物は、均一な径を有するカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を選択的に合成するための、安定な鋳型（template）又は足場（scaffold）として有用と考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】［ｎ］シクロパラフェニレン化合物の一例を示す。ｎはフェニレン基の個数を示す。
【図２】実施例２で得られた化合物のＸ線結晶構造解析（ORTEP）の図である。
【発明を実施するための形態】
【００３８】
本発明の一般式（１）：
【００３９】
【化９】
2012121370.tif 000011
【００４０】
（式中、ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）
で表されるシクロポリアリーレン化合物は、一般式（６）：
【００４１】
【化１０】
2012121370.tif 000012
【００４２】
（式中、ｋ及びｍは前記に同じ。）
で表される繰り返し単位が連なった輪状構造を有する化合物を意味する。なお、一般式（１）で示される本発明の化合物は、前記一般式（６）を満たす単独の繰り返し単位のみから構成される化合物であってもよいし、前記一般式（６）を満たす複数の繰り返し単位から構成される化合物であってもよい。
【００４３】
一般式（１）において、ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２である。ｋはそれぞれ同一でも異なっていてもよいが、好ましくは同一である。また、ｋは０又は１が好ましい。一方、一般式（１）において、ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３である。ｍはそれぞれ同一でも異なっていてもよいが、好ましくは同一である。また、ｍは１又は２が好ましく、１がより好ましい。つまり、一般式（６）における縮合多環式芳香族炭化水素部位が、ナフタレン、アントラセン、ナフタセン、ペンタセン等であるものが好ましく、ナフタレン又はアントラセンであるものが好ましい。
【００４４】
一般式（１）において、ｎは３、４、５又は６であり、３、４又は５が好ましく、３又は４がより好ましく、３が特に好ましい。つまり、一般式（６）で表される繰り返し単位が９、１２又は１５個有するものが好ましく、９又は１２個有するものがより好ましく、９個有するものが特に好ましい。
【００４５】
より好ましい具体例としては、全てのｋが０、全てのｍが１、ｎが３である以下の化合物（１ａ）が挙げられる。
【００４６】
【化１１】
2012121370.tif 000013
【００４７】
他のより好ましい具体例としては、全てのｋが１、全てのｍが１、ｎが３である以下の化合物（１ｂ）、全てのｋが０、全てのｍが２、ｎが３である化合物（１ｃ）が挙げられる。
【００４８】
【化１２】
2012121370.tif 000014
【００４９】
【化１３】
2012121370.tif 000015
【００５０】
本発明の一般式（１）で表されるシクロポリアリーレン化合物は、例えば、反応式１で示す製造方法により製造することができる。
【００５１】
＜反応式１＞
【００５２】
【化１４】
2012121370.tif 000016
【００５３】
（式中、Ｘは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子；Ｒ１は同じか又は異なり、それぞれアルキル基又は水酸基の保護基；Ｒは同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基；ｋ、ｍ及びｎは前記に同じである。）
【００５４】
Ｘで示されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、好ましくは臭素原子又はヨウ素原子である。Ｘは同一又は異なっていてもよいが、好ましくは同一である。
【００５５】
Ｒ１で示されるアルキル基としては、例えば、Ｃ１〜６のアルキル基、好ましくはＣ１〜３のアルキル基、より好ましくはメチル基又はエチル基、特に好ましくはメチル基である。Ｃ３以上のアルキル基は直鎖状又は分岐状のいずれでもよい。
【００５６】
Ｒ１で示される水酸基の保護基としては、例えば、アルカノイル基（例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル等のＣ１〜４のアルカノイル基）、置換されていてもよいアラルキル基（例えば、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基等）、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等）、アルコキシアルキル基（例えば、メトキシメチル基等）、テトラヒドロピラニル（ＴＨＰ）基等が挙げられる。
【００５７】
上記Ｒ１のうち好ましくはアルキル基、特に好ましくはメチル基である。
【００５８】
なお、Ｒ１及び水素原子（Ｈ）を併せてＲと表記する場合もある。このＲについても、Ｒ１と同様に、好ましくはアルキル基、特に好ましくはメチル基である。
【００５９】
化合物（３ａ）の合成：
一般式（３ａ）で表される化合物は、一般式（４）で表される化合物のハロゲン原子（Ｘ）の１つを金属試薬により金属に変換し（第１工程；ハロゲン−金属交換反応）、これにより得られた化合物と一般式（５）で表される化合物とを反応させる（第２工程）ことにより製造することができる。
【００６０】
一般式（４）で表される化合物としては、例えば、１，４−ジハロナフタレン、１，４−ジハロアントラセン、９，１０−ジハロアントラセン、１，４−ジハロナフタセン、５，１２−ジハロナフタセン等が挙げられ、具体的には、１，４−ジブロモナフタレン、１，４−ジヨードナフタレン、１−ブロモ−４−ヨードナフタレン、１，４−ジブロモアントラセン、１，４−ジヨードアントラセン、１−ブロモ−４−ヨードアントラセン、９，１０−ジブロモアントラセン、９，１０−ジヨードアントラセン、９−ブロモ−１０−ヨードアントラセン等が挙げられる。
【００６１】
一般式（５）で表される化合物としては、例えば、１，４−ナフトキノン、１，４−アントラセンジオン、９，１０−アントラセンジオン、１，４−ナフタセンジオン、５，１２−ナフタセンジオン等が挙げられる。
【００６２】
反応は通常溶媒の存在下で実施することができ、第１工程及び第２工程ともに、用い得る溶媒として、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグライム、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、ｔ−ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ）等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。好ましくはエーテル類、特に好ましくはジエチルエーテルである。反応は無水の条件で実施することが好ましい。また、第１工程及び第２工程で使用する溶媒は同一でも異なっていてもよい。
【００６３】
一般式（４）で表される化合物のハロゲン原子（Ｘ）の１つを金属に変換する金属試薬としては、例えば、リチウム試薬、マグネシウム試薬等が挙げられる。
【００６４】
リチウム試薬としては、例えば、金属リチウム、アルキルリチウム（例えば、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等）、フェニルリチウム等が挙げられる。かかるリチウム試薬を用いてハロゲン原子がリチオ化される。好ましくは、ｎ−ブチルリチウムである。
【００６５】
マグネシウム試薬としては、例えば、マグネシウム金属、アルキルマグネシウムハライド（例えば、イソプロピルマグネシウムクロリド、イソプロピルマグネシウムブロミド等）等が挙げられる。かかるリチウム試薬を用いてハロゲン原子がマグネシオ化される。好ましくは、イソプロピルマグネシウムクロリドである。
【００６６】
上記の金属試薬は市販されているか、或いは当業者が公知技術に基づき容易に調製することができる。
【００６７】
金属試薬の使用量は、一般式（４）で表される化合物１モルに対し、通常１〜１．５モル、好ましくは１〜１．２モル、より好ましくは１〜１．１５モルである。
【００６８】
一般式（５）で表される化合物の使用量は、一般式（４）で表される化合物１モルに対し、通常０．１〜０．６モル、好ましくは０．３〜０．５モル、より好ましくは０．３５〜０．５モル、特に好ましくは０．４〜０．５モルである。
【００６９】
上記の金属試薬と共に、塩化セリウム、塩化リチウム、臭化マグネシウム、塩化銅等の金属塩を使用することができる。これにより、副反応を抑制したり、試薬の有機溶媒への溶解性を向上させたりして、反応を促進することができる。特に、上記金属試薬のうちリチウム試薬と共に金属塩を用いた場合にその効果が高い。
【００７０】
金属塩を用いる場合の使用量は、一般式（４）で表される化合物１モルに対し、通常０．１〜１００モル、好ましくは０．５〜２０モルである。
【００７１】
反応温度は、第１工程及び第２工程ともに、通常、−１００℃〜溶媒の沸点（溶媒がジエチルエーテルの場合は３５℃）までの範囲から適宜選択できる。好ましくは、第１工程においてアルキルリチウムを用いた場合には、−１００℃〜０℃、好ましくは−８０℃〜−４０℃程度である。また、第１工程及び第２工程の反応温度は同一でも異なっていてもよい。
【００７２】
反応は、第１工程及び第２工程ともに、通常、不活性ガス（例えば、窒素、アルゴン等）雰囲気下で実施することが好ましい。
【００７３】
反応時間は特に限定はなく、第１工程及び第２工程ともに、例えば、１分〜２４時間が例示される。
【００７４】
反応終了後は、反応混合物を通常の濾過、濃縮、抽出等の単離手段に供し、必要に応じカラムクロマトグラフィ、再結晶化等の通常の精製手段に供することにより、反応生成物を単離及び精製することができる。
【００７５】
上記反応で得られる一般式（３ａ）で表される化合物は、通常、下記のシス体（３ａ−ｃｉｓ）及びトランス体（３ａ−ｔｒａｎｓ）の立体配置の異なる異性体を与えるが、シス体が選択的に得られる。シス体は上記の単離及び精製手段で容易に得ることができる。シス体（３ａ−ｃｉｓ）は、分子が屈曲しておりＬ字型の構造を有しているため、後述するカップリング反応において効率的に輪状生成物を与える。例えば、一般式（３ａ−ｃｉｓ）において、全てのｋが０であり、全てのｍが１である化合物の場合、１，４−ジヒドロナフタレン環の１位及び４位の２つの縮合芳香族基のなす角度は約７０°となる。
【００７６】
得られた一般式（３ａ）で表される化合物は、混合物のまま次の反応に供することができ、必要に応じシス体を単離及び精製して次の反応に供することもできる。
【００７７】
【化１５】
2012121370.tif 000017
【００７８】
（式中、Ｘ、ｋ及びｍは前記に同じ；太線は紙面手前側に、点線は紙面奥側に配置していることを示す。但し、いずれも相対配置である。）
【００７９】
化合物（３ｂ）の合成：
一般式（３ｂ）で表される化合物は、一般式（３ａ）で表される化合物（特に、一般式（３ａ−ｃｉｓ）で表される化合物）の水酸基をアルキル化又は水酸基の保護基で保護することにより製造することができる。
【００８０】
アルキル化反応は、通常、溶媒の存在下又は非存在下、塩基の存在下、アルキル化剤を反応させて実施することができる。
【００８１】
用い得る溶媒として、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグライム、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、ｔ−ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ）等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）等のアミド類；ジメチルスルホキシド等が挙げられる。好ましくはエーテル類、特に好ましくはテトラヒドロフランである。反応は無水の条件で実施することが好ましい。
【００８２】
塩基としては、例えば、水素化ナトリウム、水素化カルシウム、水素化リチウム等のアルカリ金属ハイドライド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、等のアルカリ金属水酸化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシド；トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン−５（ＤＢＮ）、ピリジン等の含窒素有機化合物等が挙げられる。好ましくはアルカリ金属ハイドライド、特に好ましくは水素化ナトリウムである。
【００８３】
アルキル化剤としては、通常Ｃ１〜６のアルキル化剤が好ましく、例えば、アルキルハライド（例えば、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル等）、ジアルキル硫酸（例えば、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等）、アルキルトリフラート、アルキルトシラート等が挙げられる。好ましくはアルキルハライド、特に好ましくはヨウ化メチルである。
【００８４】
塩基の使用量は、一般式（３ａ）で表される化合物１モルに対し、通常２〜５０モル程度、好ましくは２〜３０モル程度、より好ましくは２〜１５モル程度である。
【００８５】
アルキル化剤の使用量は、一般式（３ａ）で表される化合物１モルに対し、通常２〜５０モル程度、好ましくは２〜３０モル程度、より好ましくは２〜１５モル程度である。
【００８６】
反応温度は、通常、−５０℃〜溶媒の沸点までの範囲から適宜選択できる。好ましくは、−１０℃〜溶媒の沸点である。
【００８７】
反応は、通常、不活性ガス（例えば、窒素、アルゴン等）雰囲気下で実施することが好ましい。
【００８８】
反応時間は特に限定はなく、例えば、１分〜１００時間が例示される。
【００８９】
或いは、水酸基の保護基で保護する反応は、水酸基の保護基（例えば、アルカノイル基、置換されていてもよいアラルキル基、シリル基、アルコキシアルキル基、テトラヒドロピラニル基等）を導入し得る公知の保護反応を用いて実施することができる。
【００９０】
反応終了後は、反応混合物を通常の濾過、濃縮、抽出等の単離手段に供し、必要に応じカラムクロマトグラフィ、再結晶化等の通常の精製手段に供することにより、反応生成物を単離及び精製することができる。
【００９１】
上記反応で得られる一般式（３ｂ）で表される化合物は、一般式（３ａ）で表される化合物がシス体及びトランス体の混合物の場合は、シス体（３ｂ−ｃｉｓ）及びトランス体（３ｂ−ｔｒａｎｓ）の立体配置の異なる異性体を与えるが、上記の単離手段でシス体のみを得ることができる。
【００９２】
本反応で得られるシス体（３ｂ−ｃｉｓ）のうち、例えば、実施例２で得られる化合物のＸ線結晶構造解析の結果を表１及び図２に示す。
【００９３】
ここで、一般式（３ａ）で表される化合物と一般式（３ｂ）で表される化合物を併せて、一般式（３）で表される化合物として表すことができる。一般式（３）で表される化合物は、共につぎの反応に供することができる。
【００９４】
【化１６】
2012121370.tif 000018
【００９５】
（式中、Ｒ、Ｘ、ｋ及びｍは前記に同じである。）
【００９６】
化合物（２）の合成：
一般式（２）で表される化合物は、通常、溶媒の存在下、遷移金属化合物の存在下、一般式（３）で表される化合物（好ましくは一般式（３ｂ−ｃｉｓ）で表される化合物）を反応（ホモカップリング反応）させて製造することができる。
【００９７】
遷移金属化合物としては、例えば、１０族の遷移金属（Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ）を含む化合物が挙げられ、好ましくはニッケル（Ｎｉ）を含む化合物である。このＮｉを含む化合物としては、０価のＮｉ（０）又は２価のＮｉ（ＩＩ）の化合物（塩又は錯体）が好ましい。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００９８】
上記Ｎｉ（０）の化合物としては、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）（Ｎｉ（ｃｏｄ）２）、ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケルジカルボニル、ニッケルカルボニル等が挙げられる。
【００９９】
また、上記Ｎｉ（ＩＩ）の化合物としては、酢酸ニッケル（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸ニッケル（ＩＩ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）、塩化ニッケル（ＩＩ）、臭化ニッケル（ＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）アセチルアセトナート、過塩素酸ニッケル（ＩＩ）、クエン酸ニッケル（ＩＩ）、シュウ酸ニッケル（ＩＩ）、シクロヘキサン酪酸ニッケル（ＩＩ）、安息香酸ニッケル（ＩＩ）、ステアリン酸ニッケル（ＩＩ）、ステアリン酸ニッケル（ＩＩ）、スルファミンニッケル（ＩＩ）、炭酸ニッケル（ＩＩ）、チオシアン酸ニッケル（ＩＩ）、トリフルオロメタンスルホン酸ニッケル（ＩＩ）、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（ＩＩ）、ビス（４−ジエチルアミノジチオベンジル）ニッケル（ＩＩ）、シアン化ニッケル（ＩＩ）、フッ化ニッケル（ＩＩ）、ホウ化ニッケル（ＩＩ）、ホウ酸ニッケル（ＩＩ）、次亜リン酸ニッケル（ＩＩ）、硫酸アンモニウムニッケル（ＩＩ）、水酸化ニッケル（ＩＩ）、シクロペンタジエニルニッケル（ＩＩ）、及びこれらの水和物、並びにこれらの混合物等が挙げられる。
【０１００】
０価のＮｉ（０）、２価のＮｉ（ＩＩ）の化合物としては、好ましくは０価のＮｉ（０）の化合物、特に好ましくはビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）である。
【０１０１】
０価のＮｉ（０）、２価のＮｉ（ＩＩ）の化合物としては、配位子を事前に配位させた化合物を使用してもよい。
【０１０２】
遷移金属化合物の使用量は、原料の一般式（３）で表される化合物１モルに対して、通常、０．０１〜５０モル、好ましくは０．１〜１０モル、より好ましくは０．５〜５モルであり、特に好ましくは１〜３モルである。
【０１０３】
本反応において、遷移金属化合物とともに、遷移金属化合物を構成する繊維金属（ニッケル（ニッケル原子）等）に配位し得る配位子を用いることができる。この配位子としては、カルボン酸系、アミド系、ホスフィン系、オキシム系、スルホン酸系、１，３−ジケトン系、シッフ塩基系、オキサゾリン系、ジアミン系、一酸化炭素、カルベン系等の配位子等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。上記配位子における配位原子は窒素原子、リン原子、酸素原子、硫黄原子等であり、これらの配位子には配位原子を１箇所のみ有する単座配位子と２箇所以上を有する多座配位子がある。また、一酸化炭素、カルベン系に関しては、炭素原子を配位原子とする配位子である。
【０１０４】
上記単座の配位子としては、トリフェニルホスフィン、トリメトキシホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ（ｉ−プロピル）ホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリ（ｎ−ブチル）ホスフィン、トリ（イソプロポキシ）ホスフィン、トリ（シクロペンチル）ホスフィン、トリ（シクロヘキシル）ホスフィン、トリ（オルト−トルイル）ホスフィン、トリ（メシチル）ホスフィン、トリ（フェノキシ）ホスフィン、トリ−（２−フリル）ホスフィン、ビス（ｐ−スルホナートフェニル）フェニルホスフィンカリウム、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）メチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、トリエチルアミン、ピリジン等が挙げられる。
【０１０５】
上記二座の配位子としては、２，２’−ビピリジル、４，４’−（ｔｅｒｔ−ブチル）ビピリジル、フェナントロリン、２，２’−ビピリミジル、１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、２−（ジメチルアミノ）エタノール、テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン、２−アミノメチルピリジン、又は（ＮＥ）−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチリデン）アニリン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、１，１’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチル）フェロセン、ジフェニルホスフィノメタン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、１，２−ビス（ジペンタフルオロフェニルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）エタン、１，３−（ジシクロヘキシルホスフィノ）プロパン、１，２−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）プロパン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）ベンゼン、１，５−シクロオクタジエン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、２，２’−ジメチル−６，６’−ビス（ジフェニルホスフィノ）ビフェニル（ＢＩＰＨＥＭＰ）、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン（ＰＲＯＰＨＯＳ）、２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン（ＤＩＯＰ）、３，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１−ベンジルピロリジン（ＤＥＧＵＰＨＯＳ）、１，２−ビス［（２−メトキシフェニル）フェニルホスフィノ］エタン（ＤＩＰＡＭＰ）、置換−１，２−ビスホスホラノベンゼン（ＤｕＰＨＯＳ）、５，６−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−２−ノルボルネン（ＮＯＲＰＨＯＳ）、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−Ｎ，Ｎ’−ビス（１−フェニルエチル）エチレンジアミン（ＰＮＮＰ）、２，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン（ＳＫＥＷＰＨＯＳ）、１−［１’，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチレンジアミン（ＢＰＰＦＡ）、２，２’−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）−５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビナフチル、（（４，４’−ビ−１，３−ベンゾジオキソール）−５、５’−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィン）（ＳＥＧＰＨＯＳ）、２，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン（ＣＨＩＲＡＰＨＯＳ）、１−［２−（２置換ホスフィノ）フェロセニル］エチル−２置換ホスフィン（ＪＯＳＩＰＨＯＳ）等、及びこれらの混合物が挙げられる。
【０１０６】
また、上記ＢＩＮＡＰとしては、ＢＩＮＡＰ（２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル）の誘導体も含まれ、具体例としては、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−第３級ブチルフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｍ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−３，５−ジメチルフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−メトキシフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジシクロペンチルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２−ジ（β−ナフチル）ホスフィノ−２’−ジフェニルホスフィノ−１，１’−ビナフチル、及び２−ジフェニルホスフィノ−２’−ジ（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ホスフィノ−１，１’−ビナフチル等が挙げられる。
【０１０７】
また、上記ＢＩＰＨＥＭＰとしては、ＢＩＰＨＥＭＰ（２，２’−ジメチル−６，６’−ビス（ジフェニルホスフィノ）ビフェニル）の誘導体も含まれ、具体例としては、２，２’−ジメチル−６，６’−ビス（ジフェニルホスフィノ−１，１’−ビフェニル、２，２’−ジメチル−６，６’−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ジメチル−４，４’−ビス（ジメチルアミノ）−６，６’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、２，２’，４，４’−テトラメチル−６，６‘−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ジメトキシ−６，６’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、２，２’，３，３’−テトラメトキシ−６，６’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、２，２’，４，４’−テトラメチル−３，３’ジメトキシ−６，６’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ジメチル−６，６’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ジメチル−６，６’−ビス（ジ−ｐ−第３級ブチルフェニルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、及び２，２’，４，４’−テトラメチル−３，３’−ジメトキシ−６，６’−ビス（ジ−ｐ−メトキシフェニルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル等が挙げられる。
【０１０８】
上記配位子のうち、好ましくは２，２’−ビピリジルである。
【０１０９】
配位子を使用する場合、その使用量は、原料の一般式（３）で表される化合物１モルに対して、通常、０．０１〜５０モル、好ましくは０．１〜１０モル、より好ましくは０．５〜５モルであり、特に好ましくは１〜３モルである。
【０１１０】
用いる反応溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等のエーテル類；酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル類；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）等のアミド類；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。好ましくはエーテル類又はアミド類、特に好ましくはテトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミドである。反応は無水の条件で実施することが好ましい。
【０１１１】
溶媒の使用量は、一般式（３）で表される化合物１００質量部に対して、通常、１〜１０００質量部、好ましくは５〜２００質量部、より好ましくは１０〜１００質量部である。
【０１１２】
反応温度は、通常、０℃以上であり且つ上記反応溶媒の沸点以下である範囲から選択される。
【０１１３】
また、反応雰囲気は、特に限定されないが、好ましくは不活性ガス雰囲気であり、アルゴンガス雰囲気、窒素ガス雰囲気等とすることができる。尚、空気雰囲気とすることもできる。
【０１１４】
反応終了後は、反応混合物を通常の濾過、濃縮、抽出等の単離手段に供し、必要に応じカラムクロマトグラフィ、再結晶化等の通常の精製手段に供することにより、反応生成物を単離及び精製することができる。
【０１１５】
本反応では、一般式（３）で表される化合物がＬ字型を有しているため、反応点であるハロゲン原子（Ｘ）が分子間で近接し易くなり、ホモカップリング反応が効率よく進行して、容易に輪状化合物を得ることができる。その結果、一般式（３）で表される化合物の３量体、４量体、５量体等の輪状化合物を与える。それぞれ、一般式（２）で表される化合物におけるｎ＝３、４、５の輪状化合物に相当する。
【０１１６】
化合物（１）の合成：
一般式（１）で表される化合物（シクロポリアリーレン化合物）は、通常、溶媒の存在下、還元剤の存在下、一般式（２）で表される化合物を還元（具体的には、還元的芳香族化）して製造することができる。
【０１１７】
用い得る溶媒として、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグライム、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、ｔ−ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ）等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。好ましくはエーテル類、特にテトラヒドロフランである。反応は無水の条件で実施することが好ましい。
【０１１８】
還元剤としては、例えば、金属リチウム、金属ナトリウム、金属カリウム、金属マグネシウム、塩化スズ（II）等が挙げられる。好ましくは、金属リチウムである。
【０１１９】
還元剤の使用量は、一般式（２）で表される化合物１モルに対し、通常１〜５００モル、好ましくは５〜３００モルである。
【０１２０】
反応温度は、通常、０℃以上であり且つ上記反応溶媒の沸点以下である範囲から選択される。
【０１２１】
また、反応雰囲気は、特に限定されないが、好ましくは不活性ガス雰囲気であり、アルゴンガス雰囲気、窒素ガス雰囲気等とすることができる。尚、空気雰囲気とすることもできる。
【０１２２】
反応終了後は、反応混合物を通常の濾過、濃縮、抽出等の単離手段に供し、必要に応じカラムクロマトグラフィ、再結晶化等の通常の精製手段に供することにより、反応生成物を単離及び精製することができる。
【０１２３】
一般式（１）で表される化合物は、ｎが３，４、５及び６のリング状となるが、ｎが奇数の場合には軸不斉（軸性キラリティー）を有する。
【０１２４】
本発明の製造方法を用いることにより、一般式（１）で表されるシクロポリアリーレン化合物（ｎが３、４、５及び６）を簡便に製造することができる。
【実施例】
【０１２５】
以下、本発明について、実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。また、実施例におけるＮＭＲの測定は、ＪＥＯＬ社製、核磁気共鳴装置「Ａ−４００」（型式名）により行った。【０１２６】
実施例１
化合物１の合成【０１２７】
【化１７】
2012121370.tif 000019
【０１２８】
撹拌子を入れた500mLの三つ口丸底フラスコを、減圧下に加熱乾燥し、室温まで冷却した後アルゴンを充填した。1.4M n-ブチルリチウムのヘキサン溶液(21.0 mL, 29.4 mmol)を、−78℃で、1,4−ジブロモナフタレン(7.51 g, 26.3 mmol)の乾燥ジエチルエーテル(345 mL) 溶液にゆっくり加えた。反応混合物を−78℃で１時間撹拌した。その後、1,4−ナフトキノン(1.66 g, 10.5 mmol)の乾燥ジエチルエーテル(100 mL)溶液を加え、混合物を−78℃で１時間、室温で15時間撹拌した。反応混合物を水でクエンチし、EtOAc(100 mL × 3)で抽出し、Na2SO4で乾燥した後、減圧下で濃縮した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(CHCl3/EtOAc = 20/1)及び再沈殿(THF/hexane)にて精製した。化合物１を白色固体として得た(1.28 g, 21%)。溶媒の量と反応時間を調整することにより、収率を36％まで向上させることが可能であった。【０１２９】
化合物１：
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 3.52 (br, 2H), 6.58 (s, 2H), 6.84 (br, 2H), 7.05 (s, 2H), 7.42 (dd, J = 7 Hz, 2H), 7.58 (dd, J = 8 Hz, 2H), 7.68 (br, 2H), 7.98 (d, J = 8 Hz, 2H), 8.09 (br, 2H), 8.39 (d, J = 8 Hz, 2H).【０１３０】
実施例２
化合物２の合成（メチル化反応）【０１３１】
【化１８】
2012121370.tif 000020
【０１３２】
撹拌子を入れた200mLの二口丸底フラスコを、減圧下に加熱乾燥し、室温まで冷却した後アルゴンを充填した。化合物１(200 mg, 350 μmol)の乾燥ＴＨＦ(3.5 mL)溶液を、水素化ナトリウム(60% 油状懸濁物, 108 mg, 2.45 mmol)と乾燥ＴＨＦ(6 mL)の混合物に、０℃にてゆっくり加えた。この反応混合物に、ヨウ化メチル(170 μL, 2.73 mmol)を０℃にて滴下し、反応混合物を54℃で2.5日撹拌した。反応混合物を水でクエンチし、EtOAc(30 mL × 3)で抽出し、併せた有機層をNa2SO4で乾燥し、減圧下で濃縮した。粗生成物を再沈殿(THF/hexane)にて精製した。化合物２を白色固体として得た(200 mg, 96%)。【０１３３】
化合物２：
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 3.35 (s, 6H), 6.73 (s, 2H), 6.93 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.46 (dd, J = 3 Hz, J = 6 Hz, 2H), 7.56 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.62 (dd, J = 3 Hz, J = 6 Hz, 2H) 8.28 (dd, J = 1 Hz, J = 8 Hz, 2H), 8.85 (d, J = 9 Hz, 2H).
化合物２のＸ線結晶構造解析の結果を表１に示し、ORTEPを図２に示す。【０１３４】
【表１】
2012121370.tif 000021
【０１３５】
実施例３
化合物３の合成（ホモカップリング反応）【０１３６】
【化１９】
2012121370.tif 000022
【０１３７】
撹拌子を入れたシュレンク管を、減圧下に加熱乾燥し、室温まで冷却した後アルゴンを充填した。グローブボックス内で、化合物２(50.0 mg, 83.3 μmol)、Ni(cod)2 (50.8 mg, 183 μmol)、2,2’−ビピリジル(29.2 mg, 194 μmol)及び乾燥THF (3 mL)をシュレンク管に加えた。混合物を加圧下に還流下で2時間撹拌した。反応混合物に水を加えて、CH2Cl2(10 mL × 3)で抽出した。有機層を併せて、分取リサイクルゲルパーミエーションクロマトグラフィー(CHCl3)に供し、その後、PTLC (CH2Cl2/hexane = 4/1)で精製して、化合物３を白色固体として得た(4.8 mg, 3.3%)。なお、化合物２（100 mg, 166μmol）、Ni(cod)2（101 mg, 367μmol）、2,2'-ビピリジル（57.2 mg, 366μmol）及び乾燥ＤＭＦ（20 mL）を用いて、加圧下、還流下に2時間ではなく、85℃で39時間同様の反応を行ったところ、同様に化合物３が得られた（3.8 mg, 2%）。【０１３８】
化合物３：
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 3.35 (s, 4H) 3.38 (s, 4H), 3.39 (s, 4H), 3.43 (s, 4H), 3.44 (s, 4H), 3.47 (s, 4H), 6.58 (d, J = 10 Hz, 1H), 6.75 (d, J = 7 Hz, 1H), 6.82 (d, J = 7 Hz, 1H), 6.85 (d, J = 11 Hz, 1H), 6.95-7.83 (m, < 60 H), 8.08 (d, J = 8 Hz, 1H), 8.63 (d, J = 8 Hz, 1H), 9.06 (d, J = 9 Hz, 1H), 9.10 (d, J = 9 Hz, 1H), 9.16 (t, J = 8 Hz, 2H), 9.68 (d, J = 9 Hz, 1H); LRMS (FAB-MS) m/z calcd. for C96H72O6 [M]+: 1320.53, found: 1320.【０１３９】
実施例４
化合物［９］シクロナフチレン（［９］ＣＮ）の合成（還元的芳香族化反応）【０１４０】
【化２０】
2012121370.tif 000023
【０１４１】
ガラスで被覆された撹拌子を入れた30mlバイアルを、減圧下に加熱乾燥し、室温まで冷却した後アルゴンを充填した。グローブボックス内で、化合物３(4.8 mg, 3.7 μmol)、粒状リチウム(7.2 mg, 1.0 mmol)及び乾燥THF(2 mL)を加えた。混合物を室温で40時間撹拌した。反応混合物をヘキサンで希釈し、メタノールでクエンチした。溶媒を留去した後、反応混合物をショートシリカゲルパッド(CHCl3) に通した。濾液を濃縮した後、PTLC (CH2Cl2/hexane = 1/1)で精製した。化合物[9]シクロナフチレン([9]CN) (0.6 mg, 15%)を黄色固体として得た(0.6 mg, 15%)。実施例４を行う前に、化合物（３）の単離を繰り返し行い、粒状リチウムの量を調整することで、収率を59％まで向上させることが可能であった。【０１４２】
化合物[9]CN：
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 6.33 (s, 2H), 7.01 (d, J = 5 Hz, 8H), 7.16 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.20 (d, J = 7 Hz, 2H), 7.24 (s, 1H), 7.34 (t, J = 8 Hz, 2H), 7.42 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.48 (t, J = 8 Hz, 2H), 7.59 (d, J = 10 Hz, 5H), 7.75 (d, J = 10 Hz, 2H), 8.33 (dd, J = 4 Hz, J = 6 Hz, 2H) 8.45 (d, J = 4 Hz, 2H), 8.50 (dd, J = 4 Hz, J = 6 Hz, 2H), 8.54 (dd, J = 4 Hz, J = 6 Hz, 2H), 8.58 (d, J = 10 Hz, 3H), 8.61 (d, J = 7 Hz, 3H) 8.78 (d, J = 8 Hz, 2H); HRMS (MALDI TOF-MS) m/z calcd. for C90H54 [M]+: 1134.42, found: 1134.27.
【図１】
2012121370.tif 000033
【図２】
2012121370.tif 000034
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月8日(2013.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）：
【化１】
2012121370.tif 000035
（式中、ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）
で表されるシクロポリアリーレン化合物。
【請求項２】
一般式（１）において、全てのｋが同一であり、且つ、全てのｍが同一である、請求項１に記載のシクロポリアリーレン化合物。
【請求項３】
一般式（１）において、全てのｋが０又は１であり、全てのｍが１又は２であり、ｎが３又は４である請求項１又は２に記載のシクロポリアリーレン化合物。
【請求項４】
一般式（２）：
【化２】
2012121370.tif 000036
（式中、Ｒは同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基；ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）
で表される化合物。
【請求項５】
一般式（２）において、全てのＲが同一であり、全てのｋが同一であり、且つ、全てのｍが同一である、請求項４に記載の化合物。
【請求項６】
一般式（１）：
【化３】
2012121370.tif 000037
（式中、ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）
で表されるシクロポリアリーレン化合物の製造方法であって、
一般式（２）：
【化４】
2012121370.tif 000038
（式中、Ｒは同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基；ｋ、ｍ及びｎは前記に同じである。）
で表される化合物を芳香族化させる工程
を備える、製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の製造方法であって、
遷移金属化合物の存在下に、一般式（３）：
【化５】
2012121370.tif 000039
（式中、Ｘは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子を示す；Ｒ、ｋ及びｍは前記に同じである。）
で表される化合物を反応させて、一般式（２）で表される化合物を製造する工程
を備える、製造方法。
【請求項８】
一般式（２）：
【化６】
2012121370.tif 000040
（式中、Ｒは同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基；ｋは同じか又は異なり、それぞれ０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３；ｎは３、４、５又は６を示す。）
で表される化合物の製造方法であって、
遷移金属化合物の存在下に、一般式（３）：
【化７】
2012121370.tif 000041
（式中、Ｘは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子；Ｒ、ｋ及びｍは前記に同じである。）
で表される化合物を反応させる工程
を備える、製造方法。
【請求項９】
一般式（３）：
【化８】
2012121370.tif 000042
（式中、Ｘは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子；Ｒは同じか又は異なり、それぞれ水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基；ｋは同一でいずれも０、１又は２；ｍは同じか又は異なり、それぞれ１、２又は３を示す。）
で表される化合物。
【国際調査報告】
2012121370.tif 000043
2012121370.tif 000044