(57)【要約】  本発明は、封止層が十分に硬化でき、ハードコート層と基材フィルム間でのしわやゆがみ、ハードコート層の剥がれがない前面板付き液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。本発明の前面板付き液晶表示装置の製造方法は、紫外線硬化型粘着剤を有する封止層、ガラス又はアクリル樹脂である前面板、接着層、フィルム表面に密着改良剤含有樹脂層、ハードコート層をこの順に設けた基材フィルムを重ね、該ハードコート層側から紫外線を照射して該封止層を硬化する際に、該密着改良剤含有樹脂層が密着改良剤として波長２６０〜４００ｎｍに吸収極大ピークを有する化合物を、該密着改良剤含有樹脂層のバインダー樹脂１００質量部に対して０．００５〜０．５質量部含有していることを特徴とする。
2012060324.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光板を液晶セルの両面に有する液晶パネルの視認側表面に、少なくとも紫外線硬化型粘着剤を有する封止層、ガラス又はアクリル樹脂である前面板、接着層、フィルム表面に密着改良剤含有樹脂層、ハードコート層をこの順に設けた基材フィルムを、ハードコート層が最表面になるように重ねた後、該ハードコート層側から紫外線を照射して該封止層を硬化する前面板付き液晶表示装置の製造方法であって、該密着改良剤含有樹脂層が密着改良剤として波長２６０〜４００ｎｍに吸収極大ピーク（λｍａｘ）を有する化合物を、該密着改良剤含有樹脂層のバインダー樹脂１００質量部に対して０．００５〜０．５質量部含有していることを特徴とする前面板付き液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記密着改良剤含有樹脂層を設けた基材フィルムが、波長３８０ｎｍの光線透過率が５１％以上であることを特徴とする請求項１に記載の前面板付き液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記波長２６０〜４００ｎｍに吸収極大ピーク（λｍａｘ）を有する化合物がベンゾトリアゾール系化合物、又はベンゾフェノン系化合物であることを特徴とする請求項１又は２に記載の前面板付き液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記基材フィルムの下記式で表される面内方向のレターデーションＲｏ、及び厚さ方向のレターデーションＲｔｈが、それぞれ、Ｒｏ：０〜５ｎｍ、Ｒｔｈ：−１０〜１０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の前面板付き液晶表示装置の製造方法。
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘ、ｎｙ、及びｎｚは、２３℃・５５％ＲＨ、測定光波長５９０ｎｍにおける屈折率である。ｎｘは、フィルムの面内の最大の屈折率であり、遅相軸方向の屈折率ともいう。ｎｙは、フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率である。ｎｚは、厚さ方向におけるフィルムの屈折率である。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）である。）
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の前面板付き液晶表示装置の製造方法によって製造されたことを特徴とする前面板付き液晶表示装置。
【請求項６】
立体画像表示用液晶表示装置であることを特徴とする請求項５に記載の前面板付き液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、前面板付き液晶表示装置の製造方法及び前面板付き液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置の更なるコントラスト向上のため、従来の液晶パネルの視認側にガラス又はアクリル樹脂製の前面板の導入が検討されている。前面板を設けることにより、従来の偏光板保護フィルム表面の凹凸による乱反射が低減されることで、コントラストが高くめりはりのある色彩の再現が可能である。また、液晶表示装置の表面を指で押した時に発生する変色もなく好ましい。【０００３】
該前面板は液晶パネルに貼合する場合、空隙があるとその界面で外部光が多重反射してコントラストが低下するため、空隙を封止して前面板と液晶パネルを密着する封止層を設けることが好ましい。この封止層を硬化するのに、熱硬化、粘着など様々な方法があるなかで、封止層に紫外線硬化樹脂を用いて紫外線硬化する方法が最も適している。【０００４】
例えば、特許文献１では、液晶パネルと前面板とを光硬化性樹脂を介して密着させる際に３４０ｎｍ以上の波長光のみ照射し、液晶分子や接着剤等に悪影響を及ぼす３４０ｎｍ未満の波長光を遮蔽し、液晶パネルにダメージを与えることがなく、表示品質の低下を防止する技術が開示されている。【０００５】
一方、ガラス又はアクリル樹脂製の前面板は通常そのままでは使用せず、耐傷防止や反射防止のためのハードコート層を有する樹脂フィルム等を設ける。従って、生産性を考慮すると偏光板を液晶セルの両面に有する液晶パネルの視認側表面に、紫外線硬化型粘着剤を有する封止層、ガラス又はアクリル樹脂である前面板、接着層、ハードコート層を有する樹脂フィルムをこの順に重ねた後、ハードコート層側から紫外線を照射して該封止層を硬化する方法が好ましい。【０００６】
上記樹脂フィルムにはいろいろな種類があり、ポリカーボネートフィルム（ＰＣフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）、セルロースアシレートフィルム等が実用に供されるが、従来、前面板に使用されてきた、ポリカーボネートフィルム（ＰＣフィルム）やポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）は位相差が大きく、前面板の表面に用いるとモアレを起こすことがあり表示品位に劣っていた。【０００７】
一方、従来偏光板、液晶表示装置に用いられてきたハードコート層を有するトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）は位相差が小さいことからモアレの発生はみられず、高い透明性、加工のし易さ等、前面板に貼合するハードコートフィルムとしては有利である。しかしながら、上記ハードコート層側から紫外線を照射して該封止層を硬化する場合、ＴＡＣフィルムに含有される紫外線吸収剤が、封止層を硬化させるために照射される紫外線を吸収することによって紫外線が封止層に到達する前に光量が下がり、十分な封止層の硬化ができないことから、液晶パネルと前面板の間にはがれや歪みによるコントラスト低下が見られた。【０００８】
また、硬化に必要十分な光量を封止層に届けるために紫外線の光量を増やすと、上記ハードコート層を有するＴＡＣフィルムに熱や紫外線そのものの負荷がかかり、ハードコート層と基材フィルム間でのしわやゆがみ、ハードコート層の剥がれが生じ新たな課題になった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００３−１０７４３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
従って、本発明の解決課題は、フィルム表面に密着改良剤含有樹脂層、ハードコート層をこの順に設けた基材フィルムを貼合した前面板を液晶パネルに紫外線硬化型粘着剤を有する封止層を介して密着させる前面板付き液晶表示装置の製造方法であって、紫外線によって該封止層を十分に硬化でき、その際ハードコート層と基材フィルム間でのしわやゆがみ、ハードコート層の剥がれがないセルロースアシレートフィルムを有する、高コントラストで視認性の高い前面板付き液晶表示装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記課題は以下の手段により解決される。【００１２】
１．偏光板を液晶セルの両面に有する液晶パネルの視認側表面に、少なくとも紫外線硬化型粘着剤を有する封止層、ガラス又はアクリル樹脂である前面板、接着層、フィルム表面に密着改良剤含有樹脂層、ハードコート層をこの順に設けた基材フィルムを、ハードコート層が最表面になるように重ねた後、該ハードコート層側から紫外線を照射して該封止層を硬化する前面板付き液晶表示装置の製造方法であって、該密着改良剤含有樹脂層が密着改良剤として波長２６０〜４００ｎｍに吸収極大ピーク（λｍａｘ）を有する化合物を、該密着改良剤含有樹脂層のバインダー樹脂１００質量部に対して０．００５〜０．５質量部含有していることを特徴とする前面板付き液晶表示装置の製造方法。【００１３】
２．前記密着改良剤含有樹脂層を設けた基材フィルムが、波長３８０ｎｍの光線透過率が５１％以上であることを特徴とする第１項に記載の前面板付き液晶表示装置の製造方法。【００１４】
３．前記波長２６０〜４００ｎｍに吸収極大ピーク（λｍａｘ）を有する化合物がベンゾトリアゾール系化合物、又はベンゾフェノン系化合物であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の前面板付き液晶表示装置の製造方法。【００１５】
４．前記基材フィルムの下記式で表される面内方向のレターデーションＲｏ、及び厚さ方向のレターデーションＲｔｈが、それぞれ、Ｒｏ：０〜５ｎｍ、Ｒｔｈ：−１０〜１０ｎｍであることを特徴とする第１項〜第３項のいずれか一項に記載の前面板付き液晶表示装置の製造方法。
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘ、ｎｙ、及びｎｚは、２３℃・５５％ＲＨ、測定光波長５９０ｎｍにおける屈折率である。ｎｘは、フィルムの面内の最大の屈折率であり、遅相軸方向の屈折率ともいう。ｎｙは、フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率である。ｎｚは、厚さ方向におけるフィルムの屈折率である。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）である。）【００１６】
５．第１項〜第４項のいずれか一項に記載の前面板付き液晶表示装置の製造方法によって製造されたことを特徴とする前面板付き液晶表示装置。【００１７】
６．立体画像表示用液晶表示装置であることを特徴とする第５項に記載の前面板付き液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、フィルム表面に密着改良剤含有樹脂層、ハードコート層をこの順に設けた基材フィルムを貼合した前面板を液晶パネルに紫外線硬化型粘着剤を有する封止層を介して密着させる前面板付き液晶表示装置の製造方法であって、紫外線によって該封止層を十分に硬化でき、その際ハードコート層と基材フィルム間でのしわやゆがみ、ハードコート層の剥がれがない基材フィルムを有する、高コントラストで視認性の高い前面板付き液晶表示装置の製造方法を提供することができる。【００１９】
また、立体画像表示用液晶表示装置として優れた視認性を有する前面板付き液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の前面板付き液晶表示装置の製造方法の概略図である。
【図２】共流延ダイ及び流延して多層構造ウェブを形成したところを表した模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２２】
本発明の前面板付き液晶表示装置の製造方法は、偏光板を液晶セルの両面に有する液晶パネルの視認側表面に、少なくとも紫外線硬化型粘着剤を有する封止層、ガラス又はアクリル樹脂である前面板、接着層、フィルム表面に密着改良剤含有樹脂層、ハードコート層をこの順に設けた基材フィルムを、ハードコート層が最表面になるように重ねた後、該ハードコート層側から紫外線を照射して該封止層を硬化する前面板付き液晶表示装置の製造方法であって、該密着改良剤含有樹脂層が密着改良剤として波長２６０〜４００ｎｍに吸収極大ピーク（λｍａｘ）を有する化合物を、該密着改良剤含有樹脂層のバインダー樹脂１００質量部に対して０．００５〜０．５質量部含有していることを特徴とする。
【００２３】
図１は、本発明の前面板付き液晶表示装置の製造方法の概略図である。図１は本発明の前面板付き液晶表示装置の製造方法の最少構成を示しており、これに限定されるものではない。
【００２４】
偏光板１、１′によって液晶セル２を挟持している液晶パネルの視認側表面に、紫外線硬化型粘着剤を有する封止層３、ガラス又はアクリル樹脂である前面板４、接着層５、密着改良剤含有樹脂層７、ハードコート層８を有する基材フィルム６がハードコート層が最表面になるようにこの順に重ねられ、ハードコート層側から紫外線を照射して封止層３を硬化して液晶パネルと前面板を密着させる。
【００２５】
本発明者らは、紫外線硬化型粘着剤を有する封止層の紫外線による光硬化を阻害しないように、従来のハードコート層を有する基材フィルムから単純に紫外線吸収剤を除いたハードコートフィルムを試作し、紫外線照射を行って封止層を硬化して前面板付き液晶表示装置を作製したところ、封止層の硬化に問題のない光量範囲に調整した紫外線を照射した場合、該ハードコートフィルムのハードコート層と基材フィルム間でのしわやゆがみ、ハードコート層の剥がれが生じ、更に液晶画像表示においてコントラストムラが発生するなど実用上問題があることを見出した。
【００２６】
本発明者らは、かかる問題について鋭意検討を重ねたところ、前記密着改良剤含有樹脂層７に、密着改良剤として波長２６０〜４００ｎｍに吸収極大ピーク（λｍａｘ）を有する化合物を、該密着改良剤含有樹脂層のバインダー樹脂１００質量部に対して０．００５〜０．５質量部含有させることで、ハードコート層と基材フィルム間でのしわやゆがみ、ハードコート層の剥がれが大幅に改善できるという驚くべき事実を見出し本発明を成すに至った次第である。
【００２７】
本発明に係る密着改良剤含有樹脂層を設けた基材フィルムは、波長３８０ｎｍの光線透過率が５１％以上であることが好ましく、かかる構成により封止層の硬化と、ハードコート層と基材フィルム間でのしわやゆがみ、ハードコート層の剥がれのないハードコートフィルムの提供とを両立することができる。
【００２８】
本発明に係る波長２６０〜４００ｎｍに吸収極大ピーク（λｍａｘ）を有する化合物は、ベンゾトリアゾール系化合物又はベンゾフェノン系化合物であることが好ましい。
【００２９】
これは、いまだ推定の域をでないが、密着改良剤として該化合物を特定の範囲の量に調整した密着改良剤含有樹脂層を設けることで、封止層に照射される紫外線を適量吸収して発熱し、その熱が伝播してハードコートフィルムの基材フィルム表面とハードコート層を構成する樹脂間の密着性を強固にするものと推定される。
【００３０】
該化合物の含有量が０．００５質量部未満である場合は、単に基材フィルムから紫外線吸収剤を除去したものと同様に、照射する紫外線によってハードコート層と基材フィルム間でのしわやゆがみ、ハードコート層の剥がれが生じる。また、該化合物の含有量が０．５質量部を越えると、発熱量が大きすぎてハードコート層と基材フィルム間のゆがみが大きくなったり、ブリードアウトして密着性を劣化させたりする。
【００３１】
前記化合物を密着改良剤含有樹脂層に含有させることで、フィルムやハードコート層に前記化合物を含有させる場合と比べて密着改良剤の紫外線照射時の発熱による影響を抑えることができ、また含有されている他の添加剤との相互作用による劣化やブリードアウトによる影響を防ぐことができる。
【００３２】
以下、本発明の構成を図１の１〜８の順に詳細に説明する。
【００３３】
＜液晶パネル＞
本発明に係る液晶パネルは、偏光板１、１′を液晶セル２の両面に有することを特徴とする。偏光板は、同一のものでも異なっているものでよい。
【００３４】
（液晶セル）
液晶セル２は、反射型、透過型、半透過型ＬＣＤのいずれでもよく、またＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤが好ましく用いられる。
【００３５】
（偏光板）
本発明に係る偏光板１、１′は、偏光子としてヨウ素、又は二色性染料をドープしたポリビニルアルコールを延伸したものを使用し、偏光板保護フィルムによって偏光子の少なくとも一方の面が挟持されている。偏光子の膜厚は５〜４０μｍ、好ましくは５〜３０μｍであり、特に好ましくは５〜２０μｍである。
【００３６】
上記偏光板保護フィルムは、特に限定されるものではないが、ポリマーフィルムであることが好ましく、製造が容易であること、光学的に均一性であること、光学的に透明性であることが好ましい。これらの性質を有していればいずれでもよく、例えば、セルロースアシレート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルムが挙げられ、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム，ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリビニルアセタール系樹脂フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。これらのフィルムは溶液流延法あるいは溶融法で製膜されたフィルムが好ましく用いられる。これらのうちセルロースアシレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）、シクロオレフィンポリマーフィルムが好ましく、本発明においては、特にセルロースアシレートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルムが、製造上、コスト面、透明性、均一性、接着性等の面から好ましい。例えば、市販のセルロースアシレートフィルムとしては、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ１６ＵＲ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２（以上コニカミノルタオプト（株）製）などが好ましく用いられ、市販のシクロオレフィンポリマーフィルムとしては、ゼオノア（日本ゼオン（株）製）が好ましい。
【００３７】
偏光板は一般的な方法で作製することができる。アルカリ鹸化処理した保護フィルムは、偏光子の両面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。
【００３８】
（立体画像表示パネル）
本発明に係る液晶パネルは、立体画像表示装置としてもよい。
【００３９】
例えば、液晶パネルと液晶シャッタメガネとからなる立体画像表示装置であって、当該液晶シャッタメガネが、（１）保護フィルム、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている、又は（２）保護フィルム、偏光子、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている液晶シャッタメガネを用いることができる。
【００４０】
液晶パネルは対象物体である立体の視差画像である右眼用画像、左眼用画像が交互に表示され、上記液晶シャッタメガネによって右眼、左眼に結像され立体的に可視できる。
【００４１】
立体画像表示パネルの場合、精密な視差を必要とするために、前面板に貼合するハードコート層付き基材フィルムは位相差がないことが好ましく、下記式で表される面内方向のレターデーションＲｏ、厚さ方向のレターデーションＲｔｈが、Ｒｏ：０〜５ｎｍ、Ｒｔｈ：−１０〜１０ｎｍであることが好ましい。
【００４２】
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚは、２３℃・５５％ＲＨ、５９０ｎｍにおける屈折率ｎｘ（フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう。）、ｎｙ（フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、ｎｚ（厚さ方向におけるフィルムの屈折率））であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）である。）
上記レターデーションは、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で波長５９０ｎｍで測定を行うことにより求めることができる。
【００４３】
上記のような位相差の殆どない基材フィルムは後述するポリマーを添加することにより実現することができる。
【００４４】
＜封止層＞
本発明に係る封止層３は紫外線硬化型粘着剤を有する封止層であり、紫外線照射によって硬化して、液晶パネルと前面板を密着するものである。
【００４５】
紫外線硬化型粘着剤としては、紫外線硬化成分、及び光重合開始剤と、必要に応じて架橋剤、粘着付与剤、充填剤、老化防止剤、着色剤などの慣用の添加剤を加えたものが用いられる。
【００４６】
前記紫外線硬化成分としては、分子中に炭素−炭素二重結合を有し、ラジカル重合により硬化可能なモノマー、ダイマー、オリゴマー、ポリマーであればよく、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸と多価アルコールとのエステル；エステルアクリレートオリゴマー、２−プロペニルジ−３−ブテニルシアヌレート、２−ヒドロキシエチルビス（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロキシエチル）イソシアヌレート等のイソシアヌレート又はイソシアヌレート化合物などが挙げられる。なお、アクリル系ポリマーとして、ポリマー側鎖に炭素−炭素二重結合を有する紫外線硬化型ポリマーを使用する場合においては、特に上記の紫外線硬化成分を加える必要はない。
【００４７】
また、市販の紫外線硬化成分としては、例えばアクリル系紫外線硬化型樹脂を主成分とするソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社製の光学弾性樹脂「ＳＶＲ」などが適する。
【００４８】
しかしながら、本発明は、特定の紫外線硬化成分に限定されるものではなく、本発明の技術的思想から外れない物質であり、かつ工程の容易性のための紫外線硬化が可能であれば、様々な硬化成分を使用できる。
【００４９】
光重合開始剤としては、その重合反応のきっかけとなり得る波長の紫外線を照射することにより開裂し、ラジカルを生成する物質であればよく、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾインアルキルエーテル類；ベンジル、ベンゾイル、ベンゾフェン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどの芳香族ケトン類、ベンジルジメチルケタールなどの芳香族ケタール類；ポリビニルベンゾフェノン；クロロチオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン類などを挙げることができる。なお、前記架橋剤には、例えば、ポリイソシアネート化合物、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリアミン、カルボキシ基含有ポリマーなどが含まれる。
【００５０】
以上の粘着剤の形態としては、溶剤型、エマルジョン型、ホットメルト型等が使用され、一般的には溶剤型、エマルジョン型のものが利用される。また、必要に応じて他の助剤を添加混合し、塗工液として作製することができる。他の助剤としては、減粘剤、増粘剤、ｐＨ調整剤、消泡剤、防腐防黴、顔料、無機充填剤、安定剤、濡れ剤、湿潤剤等を挙げることができる。
【００５１】
封止層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、封止層を形成する塗布組成物を塗布し、塗布後、加熱乾燥し、紫外線硬化処理することで形成できる。
【００５２】
封止層のドライ膜厚としては平均膜厚０．１〜５０μｍ、好ましくは１〜４０μｍ、特に好ましくは１０〜３０μｍである。
【００５３】
紫外線硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
【００５４】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、紫外線の照射量は、通常積算光量１０００〜６０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは２０００〜５０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００５５】
＜前面板＞
前面板４としては、透明であること、平滑であること、物理的強度が高いことが求められ、ガラス板、又はアクリル樹脂板等が用いられる。
【００５６】
＜接着層＞
本発明に係る接着層５は前面板と本発明に係るハードコート層を有する基材フィルムとを接着する粘着剤（接着剤を含む）を含有する層である。
【００５７】
粘着剤としてはゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤等の各種の感圧粘着剤を使用できるが、無色透明で、液晶セルとの接着性の良好なアクリル系粘着剤が一般的には用いられる。アクリル系粘着剤としては、そのベースポリマーの重量平均分子量が、３０万〜２５０万程度であるのが好ましい。
【００５８】
アクリル系粘着剤のベースポリマーであるアクリル系重合体に使用されるモノマーとしては、各種（メタ）アクリル酸アルキル｛（メタ）アクリル酸アルキルとはアクリル酸アルキル及び／又はメタクリル酸アルキルをいい、以下（メタ）とは同様の意味である。｝を使用できる。かかる（メタ）アクリル酸アルキルの具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等を例示でき、これらを単独若しくは組み合わせて使用できる。また、得られるアクリル系重合体に極性を付与するために前記（メタ）アクリル酸アルキルの一部に代えて（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド等も併用しうる。更に所望により、アクリル系重合体の粘着特性を損なわない程度において他の共重合可能な単量体、例えば酢酸ビニル、スチレン等を併用しうる。
【００５９】
前記アクリル系重合体の製造は、各種公知の方法により製造でき、例えば、バルク重合法、溶液重合法、懸濁重合法等のラジカル重合法を適宜選択できる。ラジカル重合開始剤としては、アゾ系、過酸化物系の各種公知のものを使用できる。前記製造法のなかでも溶液重合法が好ましく、アクリル系重合体の溶媒としては一般に酢酸エチル、トルエン等の極性溶剤が用いられる。
【００６０】
ゴム系粘着剤のベースポリマーとしては、例えば、天然ゴム、イソプレン系ゴム、スチレン−ブタジエン系ゴム、再生ゴム、ポリイソブチレン系ゴム、さらにはスチレン−イソプレン−スチレン系ゴム、スチレン−ブタジエン−スチレン系ゴム等が挙げられる。シリコーン系粘着剤のベースポリマーとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン等が挙げられる。
【００６１】
また、前記粘着剤は、架橋剤を含有するのが好ましい。架橋剤としては、ポリイソシアネート化合物、ポリアミン化合物、メラミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、金属キレート等が挙げられる。さらに、前記粘着剤には、必要に応じて、粘着付与剤、可塑剤、充填剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤等を本発明の目的を逸脱しない範囲で各適宜に使用することもできる。
【００６２】
粘着剤層（乾燥膜厚）の厚さは、粘着剤層自身のレターデーションを考慮すること及び寸法安定の観点から薄い方が好ましいが、具体的には５〜３０μｍ程度とするのが好ましい。
【００６３】
＜密着改良剤樹脂層＞
本発明に係る密着改良剤樹脂層は、基材フィルムとハードコート層の間に設けられる。
【００６４】
〈波長２６０〜４００ｎｍに吸収極大ピーク（λｍａｘ）を有する化合物〉
本発明に係る密着改良剤含有樹脂層は、密着改良剤として波長２６０〜４００ｎｍに吸収極大ピーク（λｍａｘ）を有する化合物（以降、密着改良剤と呼称する。）を、該密着改良剤含有樹脂層のバインダー樹脂１００質量部に対して０．００５〜０．５質量部含有していることが特徴である。
【００６５】
該密着改良剤の含有量は、封止層への紫外線照射光量に影響せず、かつハードコートフィルムのハードコート層と基材フィルム間でのしわやゆがみ、ハードコート層の剥がれを防止できる量を含有させることが好ましく、含有量はバインダー樹脂１００質量部に対して０．００５〜０．１質量部であることがより好ましい。
【００６６】
また、前記密着改良剤含有樹脂層を設けた基材フィルムは、波長３８０ｎｍの光線透過率が３０％以上であることが好ましく、より好ましくは５１％以上、特に好ましくは７０％以上である。
【００６７】
密着改良剤が、波長２６０〜４００ｎｍに吸収極大ピーク（λｍａｘ）を有する化合物であることは、該化合物を適宜溶媒（例えばジクロロメタン、トルエンなど）等に溶解し常法により分光光度計により測定できる。例えば、島津製作所社製の分光光度計ＵＶＩＤＦＣ−６１０、日立製作所社製の３３０型自記分光光度計、Ｕ−３２１０型自記分光光度計、Ｕ−３４１０型自記分光光度計、Ｕ−４０００型自記分光光度計等を用いて測定することにより求めることができる。
【００６８】
本発明に係る密着改良剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。
【００６９】
密着改良剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【００７０】
また、本発明では後述のように封止層を硬化するため紫外線を照射する。そのため、紫外線照射量に対する密着改良効果が高い密着改良剤としては波長２６０ｎｍ〜３５５ｎｍ以下の吸収極大を持つものがより好ましい。
【００７１】
（ベンゾトリアゾール系化合物）
本発明に係るベンゾトリアゾール系化合物としては下記一般式（Ａ）で示される化合物が好ましく用いられる。
【００７２】
【化１】
2012060324.tif 000003
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基又は５〜６員の複素環基を表し、Ｒ４とＲ５は閉環して５〜６員の炭素環を形成してもよい。
【００７３】
また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していて良い。
【００７４】
以下に一般式（Ａ）で示される化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されない。
【００７５】
本発明に有用なベンゾトリアゾール系化合物は、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８（いずれもＢＡＳＦジャパン社製）を好ましく使用できる。
【００７６】
（ベンゾフェノン系化合物）
本発明に係るベンゾフェノン系化合物としては下記一般式（Ｂ）で示される化合物が好ましく用いられる。
【００７７】
【化２】
2012060324.tif 000004
式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基又は−ＣＯ（ＮＨ）ｎ−１−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。ｍ及びｎは１又は２を表す。
【００７８】
上記において、アルキル基としては例えば、炭素数２４までの直鎖又は分岐の脂肪族基を表し、アルコキシ基としては例えば、炭素数１８までのアルコキシ基で、アルケニル基としては例えば、炭素数１６までのアルケニル基で例えばアリル基、２−ブテニル基などを表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換分としてはハロゲン原子、例えばクロール、ブロム、フッ素原子など、ヒドロキシ基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基又はハロゲン原子などを置換していてもよい）などが挙げられる。
【００７９】
以下に一般式（Ｂ）で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【００８０】
例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等が挙げられる。
【００８１】
市販品として、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ８１（ＢＡＳＦジャパン社製）を好ましく使用できる。
【００８２】
（バインダー樹脂）
本発明に係る密着改良剤含有樹脂層に使用するバインダー樹脂は、熱可塑性樹脂又は紫外線等の活性線硬化樹脂であることが好ましく、適当な溶剤に溶解した状態で塗設される。
【００８３】
熱可塑性樹脂は、例えばセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネート、又はセルロースナイトレート等のセルロースアシレート、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、又はコポリブチレンテレ／イソフタレート等のポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール、又はポリビニルベンザール等のポリビニルアルコール誘導体、ノルボルネン化合物を含有するノルボルネン系ポリマー、ポリメチルメタアクリレート等、（メタ）アクリル酸メチルを含む共重合体等のアクリル樹脂を用いることができるが特にこれらに限定されるものではない。
【００８４】
活性線硬化樹脂は、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応などを経て硬化する樹脂をいう。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化する樹脂でもよい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【００８５】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、若しくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等のヒドロキシ基（水酸基）を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば特開昭５９−１５１１１０号）。
【００８６】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。
【００８７】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させたものを挙げることができる（例えば、特開平１−１０５７３８号）。この光反応開始剤としては、ベンゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、１種若しくは２種以上を選択して使用することができる。
【００８８】
また、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に使用される。また上記光反応開始剤も光増感剤としても使用できる。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、テトラメチルウラムモノサルファイド、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系の光反応剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。紫外線硬化性樹脂組成物に用いられる光反応開始剤又光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜１０質量部である。
【００８９】
また、他の添加剤としてマット剤、界面活性剤、帯電防止剤等必要に応じて添加することができる。
【００９０】
本発明に係る密着改良剤、及びバインダー樹脂、その他添加剤を含有する塗布組成物は適当な有機溶媒を使用して塗布することが好ましい。使用できる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル、乳酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酪酸エチルなどのエステル類、グリコールエーテル類（プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテル（具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等）、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステル（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート））、その他の溶媒などが挙げられる。特にこれらに限定されるものではないが、これらを適宜混合した溶媒が好ましく用いられる。
【００９１】
上記塗布組成物を塗布する方法は、ドクターコート、エクストルージョンコート、スライドコート、ロールコート、グラビアコート、ワイヤーバーコート、リバースコート、カーテンコート、押し出しコートあるいは米国特許２，６８１，２９４号明細書に記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート方法等により通常０．１〜１０μｍの乾燥膜厚となるように塗布することができる。更に好ましくは０．１〜５μｍの乾燥膜厚であり、特に好ましくは０．１〜３μｍの乾燥膜厚である。
【００９２】
熱硬化させる場合は、加熱温度は５０〜３００℃が好ましく、好ましくは６０〜２５０℃、さらに好ましくは８０〜１５０℃である。加熱時間は加熱温度により変化するが、３〜３００分の範囲が適当である。
【００９３】
紫外線硬化樹脂を含む塗布組成物は塗布乾燥された後、紫外線を光源より照射するが、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２程度あればよく、好ましくは、５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。近紫外線領域から可視光線領域にかけてはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることもできる。
【００９４】
＜基材フィルム＞
本発明に係る密着改良剤含有樹脂層を設けた基材フィルムは、特に限定されるものではないが、ポリマーフィルムであることが好ましく、製造が容易であること、光学的に均一性であること、光学的に透明性であることが好ましい。これらの性質を有していればいずれでもよく、例えば、セルロースアシレート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルムが挙げられ、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム，ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム、ポリビニルアセタール系樹脂フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。これらのフィルムは溶液流延法あるいは溶融法で製膜されたフィルムが好ましく用いられる。これらのうちセルロースアシレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）、シクロオレフィン樹脂フィルムが好ましく、本発明においては、特にセルロースアシレートフィルム、シクロオレフィン樹脂フィルムが、製造上、コスト面、透明性、均一性、接着性等の面から好ましい。
【００９５】
以下に、本発明に好ましいセルロースアシレートフィルム、シクロオレフィン樹脂フィルムを構成するセルロースアシレート、シクロオレフィン樹脂について説明する。
【００９６】
＜セルロースアシレート＞
本発明に係る密着改良剤含有樹脂層を設けた基材フィルムは、光学フィルム用途のセルロースアシレートを含有することが好ましい。
【００９７】
該セルロースアシレートは、炭素数２以上の脂肪族アシル基を有するセルロースアシレートであることが好ましく、更に好ましくは、セルロースアシレートのアシル基総置換度が１．０〜２．９５、かつアシル基総炭素数が２．０〜９．５であるセルロースアシレートである。
【００９８】
セルロースアシレートのアシル基総炭素数は、好ましくは、４．０〜９．０であり、さらに好ましくは５．０〜８．５である。但し、アシル基総炭素数は、セルロースアシレートのグルコース単位に置換されている各アシル基の置換度と炭素数の積の総和である。
【００９９】
さらに、脂肪族アシル基の炭素数は、セルロース合成の生産性、コストの観点から、２以上６以下が好ましく、２以上４以下がさらに好ましい。なお、アシル基で置換されていない部分は通常ヒドロキシ基（水酸基）として存在している。
【０１００】
β−１，４−グリコシド結合でセルロースを構成しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離のヒドロキシ基（水酸基）を有している。本発明に係るセルロースアシレートは、これらのヒドロキシ基（水酸基）の一部又は全部をアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル基置換度とは、繰り返し単位の２位、３位及び６位について、セルロースがエステル化している割合の合計を表す。具体的には、セルロースの２位、３位及び６位のそれぞれのヒドロキシ基（水酸基）が１００％エステル化した場合をそれぞれ置換度１とする。したがって、セルロースの２位、３位及び６位の全てが１００％エステル化した場合、置換度は最大の３となる。
【０１０１】
アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタネート基、ヘキサネート基等が挙げられ、セルロースアシレートとしては、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースペンタネート等が挙げられる。また、上述の側鎖炭素数を満たせば、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートペンタネート等のように混合脂肪酸エステルでもよい。この中でも、特にトリアセチルセルロースやジアセチルセルロースなどのセルロースアセテートが光学フィルム用途として好ましい。
【０１０２】
セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースアシレートは炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすセルロースアシレートであることが好ましい。
【０１０３】
式（Ｉ）  １．５≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
式（II）  １．５≦Ｘ≦２．９５
アシル基で置換されていない部分は通常ヒドロキシ基（水酸基）として存在しているものである。アシル基置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。
【０１０４】
本発明に係るセルロースアシレートは、重量平均分子量Ｍｗが５００００〜５０００００のものが好ましく、より好ましくは１０００００〜３０００００であり、更に好ましくは１５００００〜２５００００である。
【０１０５】
セルロースアシレートの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できるので、これを用いて重量平均分子量（Ｍｗ）、分子量分布を算出する。
【０１０６】
測定条件は以下のとおりである。
【０１０７】
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）
Ｍｗ＝１００００００〜５００までの１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【０１０８】
本発明で用いられるセルロースアシレートの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが。針葉樹パルプが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースアシレートは適宜混合して、あるいは単独で使用することができる。
【０１０９】
例えば、綿花リンター由来セルロースアシレート：木材パルプ（針葉樹）由来セルロースアシレート：木材パルプ（広葉樹）由来セルロースアシレートの比率が１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０で用いることができる。
【０１１０】
本発明では重合度の高いセルロースが好ましく、例えば、リンターパルプが好ましく、セルロースは、少なくともリンターパルプで構成されたセルロースを使用することが好ましい。セルロースの結晶化度の指標となるα−セルロース含有量は、９０％以上（例えば、９２〜１００％、好ましくは９５〜１００％、さらに好ましくは９９．５〜１００％程度）である。
【０１１１】
本発明に係るセルロースアシレートは、公知の方法により製造することができる。一般的には、原料のセルロースと所定の有機酸（酢酸、プロピオン酸など）と酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸など）、触媒（硫酸など）と混合して、セルロースをエステル化し、セルロースのトリエステルができるまで反応を進める。トリエステルにおいてはグルコース単位の三個のヒドロキシ基（水酸基）は、有機酸のアシル酸で置換されている。同時に二種類の有機酸を使用すると、混合エステル型のセルロースアシレート、例えばセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートを作製することができる。次いで、セルロースのトリエステルを加水分解することで、所望のアシル基置換度を有するセルロースアシレートを合成する。その後、濾過、沈殿、水洗、脱水、乾燥などの工程を経て、セルロースアシレートが出来あがる。
【０１１２】
具体的には特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法を参考にして合成することができる。
【０１１３】
＜シクロオレフィン樹脂＞
本発明に係る基材フィルムの構成材料として好適なシクロオレフィン樹脂は、主鎖及び／又は側鎖に脂環構造を有する非晶性の樹脂である。シクロオレフィン樹脂中の脂環構造としては、飽和脂環炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和脂環炭化水素（シクロアルケン）構造などが挙げられるが、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造が好ましい。脂環構造を構成する炭素原子数には、格別な制限はないが、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ましくは５〜１５個であるときに、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性の特性が高度にバランスされ、好適である。
【０１１４】
シクロオレフィン樹脂を構成する脂環構造を有する繰り返し単位の割合は、好ましくは５５質量％以上、さらに好ましくは７０質量％以上、特に好ましくは９０質量％以上である。シクロオレフィン樹脂中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこの範囲にあると透明性及び耐熱性の観点から好ましい。
【０１１５】
シクロオレフィン樹脂としては、ノルボルネン系樹脂、単環の環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂、及び、これらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系樹脂は、透明性と成形性が良好なため、好適に用いることができる。
【０１１６】
ノルボルネン系樹脂としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体、又はそれらの水素化物；ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体、又はそれらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環（共）重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適に用いることができる。
【０１１７】
ノルボルネン構造を有する単量体としては、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、７，８−ベンゾトリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３−エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、及びこれらの化合物の誘導体（例えば、環に置換基を有するもの）などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン構造を有する単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１１８】
極性基の種類としては、ヘテロ原子、又はヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシ基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシ基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、スルホン基などが挙げられる。飽和吸水率の小さいフィルムを得るためには。極性基の量が少ない方が好ましく、極性基を持たない方がより好ましい。
【０１１９】
ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体としては、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類及びその誘導体；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエン及びその誘導体；などが挙げられる。
【０１２０】
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体及びノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との開環共重合体は、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に（共）重合することにより得ることができる。
【０１２１】
ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィン及びこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィン樹脂及びこれらの誘導体；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエンなどの非共役ジエンなどが挙げられる。これらの単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。
【０１２２】
ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体及びノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。
【０１２３】
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の水素化物、ノルボルネン構造を有する単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体の水素化物、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体の水素化物、及びノルボルネン構造を有する単量体とこれと付加共重合可能なその他の単量体との付加共重合体の水素化物は、これら開環（共）重合体又は付加（共）重合体の溶液に、ニッケル、パラジウムなどの遷移金属を含む公知の水素化触媒を添加し、水素を接触させて、炭素−炭素不飽和結合を好ましくは９０％以上水素化することによって得ることができる。
【０１２４】
ノルボルネン系樹脂の中でも、繰り返し単位として、Ｘ：ビシクロ［３．３．０］オクタン−２，４−ジイル−エチレン構造と、Ｙ：トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカン−７，９−ジイル−エチレン構造とを有し、これらの繰り返し単位の含有量が、ノルボルネン系樹脂の繰り返し単位全体に対して９０質量％以上であり、かつ、Ｘの含有割合とＹの含有割合との比が、Ｘ：Ｙの質量比で１００：０〜４０：６０であるものが好ましい。このような樹脂を用いることにより、長期的に寸法変化がなく、光学特性の安定性に優れる基材フィルムを得ることができる。
【０１２５】
本発明に好適に用いられるシクロオレフィン樹脂の分子量は使用目的に応じて適宜選定されるが、溶媒としてシクロヘキサン（樹脂が溶解しない場合はトルエン）を用いるゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレン（溶媒がトルエンのときは、ポリスチレン換算）の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常１５０００〜５００００、好ましくは１８０００〜４５０００、より好ましくは２００００〜４００００である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度及び成形性とが高度にバランスされ好適である。
【０１２６】
本発明に好適に用いられるシクロオレフィン樹脂の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は特に制限されないが、通常１．０〜１０．０、好ましくは１．１〜４．０、より好ましくは１．２〜３．５の範囲である。
【０１２７】
本発明に用いられるシクロオレフィン樹脂のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００〜２５０℃の範囲である。ガラス転移温度がこのような範囲にある熱可塑性樹脂からなるフィルムは、高温下で変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。
【０１２８】
＜他の添加剤＞
本発明に係る基材フィルムは、可塑剤、レターデーション調整剤、劣化（酸化）防止剤、剥離助剤、界面活性剤、染料、微粒子等を含有することが好ましい。
【０１２９】
＜可塑剤＞
基材フィルムには可塑剤として知られる多くの化合物も有用に使用することができる。可塑剤としては、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、エステル系可塑剤、及びアクリル系可塑剤等から選択される。
【０１３０】
そのうち、可塑剤を２種以上用いる場合は、少なくとも１種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。
【０１３１】
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。
【０１３２】
本発明に好ましく用いられる多価アルコールは次の一般式（ａ）で表される。
【０１３３】
一般式（ａ）  Ｒ１１−（ＯＨ）ｎ
但し、Ｒ１１はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性、及び／又はフェノール性ヒドロキシ基（水酸基）を表す。
【０１３４】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１３５】
アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。
【０１３６】
特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【０１３７】
多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
【０１３８】
好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１３９】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースアシレートとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【０１４０】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【０１４１】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１４２】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基あるいはエトキシ基などのアルコキシ基を１〜３個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。
【０１４３】
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースアシレートとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１４４】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０１４５】
以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。
【０１４６】
【化３】
2012060324.tif 000005
【化４】
2012060324.tif 000006
【化５】
2012060324.tif 000007
【化６】
2012060324.tif 000008
グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。
【０１４７】
アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。
【０１４８】
フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。
【０１４９】
クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
【０１５０】
脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。
【０１５１】
リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。
【０１５２】
多価カルボン酸エステル化合物としては、２価以上、好ましくは２価〜２０価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる。また、脂肪族多価カルボン酸は２〜２０価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は３価〜２０価であることが好ましい。
【０１５３】
多価カルボン酸は次の一般式（ｂ）で表される。
【０１５４】
一般式（ｂ）  Ｒ１２（ＣＯＯＨ）ｍ１（ＯＨ）ｎ１
式中、Ｒ１２は（ｍ１＋ｎ１）価の有機基、ｍ１は２以上の正の整数、ｎ１は０以上の整数、ＣＯＯＨ基はカルボキシ基、ＯＨ基はアルコール性又はフェノール性ヒドロキシ基（水酸基）を表す。
【０１５５】
好ましい多価カルボン酸の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５６】
トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸又はその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることができる。特にオキシ多価カルボン酸を用いることが、保留性向上などの点で好ましい。
【０１５７】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては特に制限はなく公知のアルコール、フェノール類を用いることができる。
【０１５８】
例えば炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を持った脂肪族飽和アルコール又は脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。
【０１５９】
また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコール又はその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコール又はその誘導体なども好ましく用いることができる。
【０１６０】
特に好ましい多価カルボン酸エステル化合物は例えば、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が挙げられる。
【０１６１】
本発明では、必要に応じ、位相差低減剤、劣化防止剤、剥離促進剤、マット剤、滑剤等を適宜用いることができる。
【０１６２】
＜位相差低減剤＞
（高分子量添加剤）
本発明に係る基材フィルムは位相差がない方が好ましいため、位相差を低減できるポリマーを用いることが好ましい。用いられるポリマーは、その化合物中に繰り返し単位を有するものであり、数平均分子量が７００〜１００００のものが好ましい。より好ましくは数平均分子量７００〜８０００であり、さらに好ましくは数平均分子量７００〜５０００であり、特に好ましくは数平均分子量１０００〜５０００である。
【０１６３】
ポリマーとしては、ポリエステル系ポリマー、スチレン系ポリマー及びアクリル系ポリマー及びこれら等の共重合体から選択され、脂肪族ポリエステル、アクリル系ポリマー及びスチレン系ポリマーが好ましい。また、スチレン系ポリマー、アクリル系ポリマーといった、負の固有複屈折を有するポリマーを少なくとも一種含まれることが好ましい。
【０１６４】
前記ポリエステル系ポリマーとしては、炭素数２〜２０の脂肪族ジカルボン酸と、炭素数２〜１２の脂肪族ジオール、炭素数４〜２０のアルキルエーテルジオールから選ばれる少なくとも１種類以上のジオールとの反応によって得られるものであり、かつ反応物の両末端は反応物のままでもよいが、さらにモノカルボン酸類やモノアルコール類又はフェノール類を反応させて、所謂末端の封止を実施してもよい。この末端封止は、特にフリーなカルボン酸類を含有させないために実施されることが、保存性などの点で有効である。本発明に用いられるポリエステル系ポリマーに使用されるジカルボン酸は、炭素数４〜２０の脂肪族ジカルボン酸残基又は炭素数８〜２０の芳香族ジカルボン酸残基であることが好ましい。
【０１６５】
本発明で好ましく用いられる炭素数２〜２０の脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸及び１，４−シクロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。
【０１６６】
これらの中でも好ましい脂肪族ジカルボン酸としては、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸である。特に好ましくは、脂肪族ジカルボン酸成分としてはコハク酸、グルタル酸、アジピン酸である。
【０１６７】
ポリマーに利用されるジオールは、例えば、炭素数２〜２０の脂肪族ジオール、炭素数４〜２０のアルキルエーテルジオールから選ばれるものである。
【０１６８】
炭素原子２〜２０の脂肪族ジオールとしては、アルキルジオール及び脂環式ジオール類を挙げることができ、例えば、エタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種又は２種以上の混合物として使用される。
【０１６９】
好ましい脂肪族ジオールとしては、エタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールであり、特に好ましくはエタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールである。
【０１７０】
炭素数４〜２０のアルキルエーテルジオールとしては、好ましくは、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリエチレンエーテルグリコール及びポリプロピレンエーテルグリコール並びにこれらの組み合わせが挙げられる。その平均重合度は、特に限定されないが好ましくは２〜２０であり、より好ましくは２〜１０であり、さらには２〜５であり、特に好ましくは２〜４である。これらの例としては、典型的に有用な市販のポリエーテルグリコール類としては、カーボワックス（Ｃａｒｂｏｗａｘ）レジン、プルロニックス（Ｐｌｕｒｏｎｉｃｓ）レジン及びニアックス（Ｎｉａｘ）レジンが挙げられる。
【０１７１】
本発明においては、特に末端がアルキル基あるいは芳香族基で封止されたポリマーであることが好ましい。これは、末端を疎水性官能基で保護することにより、高温高湿での経時劣化に対して有効であり、エステル基の加水分解を遅延させる役割を示すことが要因となっている。
【０１７２】
本発明に用いられるポリエステル添加剤の両末端がカルボン酸やＯＨ基とならないように、モノアルコール残基やモノカルボン酸残基で保護することが好ましい。
【０１７３】
この場合、モノアルコールとしては炭素数１〜３０の置換、無置換のモノアルコールが好ましく、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ペンタノール、イソペンタノール、ヘキサノール、イソヘキサノール、シクロヘキシルアルコール、オクタノール、イソオクタノール、２−エチルヘキシルアルコール、ノニルアルコール、イソノニルアルコール、ｔｅｒｔ−ノニルアルコール、デカノール、ドデカノール、ドデカヘキサノール、ドデカオクタノール、アリルアルコール、オレイルアルコールなどの脂肪族アルコール、ベンジルアルコール、３−フェニルプロパノールなどの置換アルコールなどが挙げられる。
【０１７４】
好ましく使用され得る末端封止用アルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、イソペンタノール、ヘキサノール、イソヘキサノール、シクロヘキシルアルコール、イソオクタノール、２−エチルヘキシルアルコール、イソノニルアルコール、オレイルアルコール、ベンジルアルコールであり、特にはメタノール、エタノール、プロパノール、イソブタノール、シクロヘキシルアルコール、２−エチルヘキシルアルコール、イソノニルアルコール、ベンジルアルコールである。
【０１７５】
また、モノカルボン酸残基で封止する場合は、モノカルボン酸残基として使用されるモノカルボン酸は、炭素数１〜３０の置換、無置換のモノカルボン酸が好ましい。これらは、脂肪族モノカルボン酸でも芳香族環含有カルボン酸でもよい。好ましい脂肪族モノカルボン酸について記述すると、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸が挙げられ、芳香族環含有モノカルボン酸としては、例えば安息香酸、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、ｐ−ｔｅｒｔ−アミル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種又は２種以上を使用することができる。
【０１７６】
本発明に用いられるポリマーの合成は、常法により上記ジカルボン酸とジオール及び／又は末端封止用のモノカルボン酸又はモノアルコール、とのポリエステル化反応又はエステル交換反応による熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法によっても容易に合成し得るものである。これらのポリエステル系添加剤については、村井孝一編者「添加剤  その理論と応用」（株式会社幸書房、昭和４８年３月１日初版第１版発行）に詳細な記載がある。また、特開平５−１５５８０９号、特開平５−１５５８１０号、特開平５−１９７０７３号、特開２００６−２５９４９４号、特開平７−３３０６７０号、特開２００６−３４２２２７号、特開２００７−００３６７９号各公報などに記載されている素材を利用することもできる。
【０１７７】
前記スチレン系ポリマーは、好ましくは、一般式（１）で表される、芳香族ビニル系単量体から得られる構造単位である。
【０１７８】
【化７】
2012060324.tif 000009
式中、Ｒ１０１〜Ｒ１０４は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子又はケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は極性基を表し、Ｒ１０４は全て同一の原子又は基であっても、個々異なる原子又は基であっても、互いに結合して、炭素環又は複素環（これらの炭素環、複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成してもよい）を形成してもよい。
【０１７９】
芳香族ビニル系単量体の具体例としては、スチレン；α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレンなどのアルキル置換スチレン類；４−クロロスチレン、４−ブロモスチレンなどのハロゲン置換スチレン類；ｐ−ヒドロキシスチレン、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン、２−メチル−４−ヒドロキシスチレン、３，４−ジヒドロキシスチレンなどのヒドロキシスチレン類；ビニルベンジルアルコール類；ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン、ｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレンなどのアルコキシ置換スチレン類；３−ビニル安息香酸、４−ビニル安息香酸などのビニル安息香酸類；メチル−４−ビニルベンゾエート、エチル−４−ビニルベンゾエートなどのビニル安息香酸エステル類；４−ビニルベンジルアセテート；４−アセトキシスチレン；２−ブチルアミドスチレン、４−メチルアミドスチレン、ｐ−スルホンアミドスチレンなどのアミドスチレン類；３−アミノスチレン、４−アミノスチレン、２−イソプロペニルアニリン、ビニルベンジルジメチルアミンなどのアミノスチレン類；３−ニトロスチレン、４−ニトロスチレンなどのニトロスチレン類；３−シアノスチレン、４−シアノスチレンなどのシアノスチレン類；ビニルフェニルアセトニトリル；フェニルスチレンなどのアリールスチレン類、インデン類などが挙げられるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。これらの単量体は、二種以上を共重合成分として用いてもよい。これらのうち、工業的に入手が容易で、かつ安価な点で、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
【０１８０】
前記アクリル系ポリマーは、好ましくは、一般式（２）で表される、アクリル酸エステル系単量体から得られる構造単位である。
【０１８１】
【化８】
2012060324.tif 000010
式中、Ｒ１０５〜Ｒ１０８は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子若しくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は極性基を表す。
【０１８２】
当該アクリル酸エステル系単量体の例としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔｅｒｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−メトキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸（２又は４−クロロフェニル）、メタクリル酸（２又は４−クロロフェニル）、アクリル酸（２又は３又は４−エトキシカルボニルフェニル）、メタクリル酸（２又は３又は４−エトキシカルボニルフェニル）、アクリル酸（ｏ又はｍ又はｐ−トリル）、メタクリル酸（ｏ又はｍ又はｐ−トリル）、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、メタクリル酸フェネチル、アクリル酸（２−ナフチル）、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（４−メチルシクロヘキシル）、メタクリル酸（４−メチルシクロヘキシル）、アクリル酸（４−エチルシクロヘキシル）、メタクリル酸（４−エチルシクロヘキシル）等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。これらの単量体は、２種以上を共重合成分として用いてもよい。これらのうち、工業的に入手が容易で、かつ安価な点で、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔｅｒｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものが好ましい。
【０１８３】
前記共重合体は、一般式（１）で表される芳香族ビニル系単量体及び一般式（２）で表されるアクリル酸エステル系単量体から得られる構造単位を少なくとも１種含むものが好ましい。
【０１８４】
【化９】
2012060324.tif 000011
式中、Ｒ１０１〜Ｒ１０４は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子又はケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は極性基を表し、Ｒ１０４は全て同一の原子又は基であっても、個々異なる原子又は基であっても、互いに結合して、炭素環又は複素環（これらの炭素環、複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成してもよい）を形成してもよい。
【０１８５】
【化１０】
2012060324.tif 000012
式中Ｒ１０５〜Ｒ１０８は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子若しくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は極性基を表す。また、共重合組成を構成する上記以外の構造として、前記単量体と共重合性に優れたものであることが好ましく、例として、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、シス−１−シクロヘキセン−１，２−無水ジカルボン酸、３−メチル−シス−１−シクロヘキセン−１，２−無水ジカルボン酸、４−メチル−シス−１−シクロヘキセン−１，２−無水ジカルボン酸等の酸無水物、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのニトリル基含有ラジカル重合性単量体；アクリルアミド、メタクリルアミド、トリフルオロメタンスルホニルアミノエチル（メタ）アクリレートなどのアミド結合含有ラジカル重合性単量体；酢酸ビニルなどの脂肪酸ビニル類；塩化ビニル、塩化ビニリデンなどの塩素含有ラジカル重合性単量体；１，３−ブタジエン、イソプレン、１，４−ジメチルブタジエン等の共役ジオレフィン類を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。この中で特に、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体が特に好ましい。
【０１８６】
（低分子量添加剤）
低分子量添加剤としては、以下を挙げることができる。これらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に劣化防止剤の混合などである。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。またその添加する時期はセルロースアシレート溶液（ドープ）作製工程においていずれで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。さらにまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。
【０１８７】
低分子量添加剤としては、特に限定されないが、以下に述べる一般式（３）〜（７）で表される化合物が挙げられる。
【０１８８】
【化１１】
2012060324.tif 000013
（式中、Ｒ１はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の炭素原子数の総和は１０以上である。）
【化１２】
2012060324.tif 000014
（式中、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ４及びＲ５の炭素原子数の総和は１０以上である。）
一般式（３）において、Ｒ１はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の炭素数の総和が１０以上であることが特に好ましい。また、一般式（４）中、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ４及びＲ５の炭素数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよい。置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビシクロオクチル基、ノニル基、アダマンチル基、デシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、ジデシル基）が特に好ましい。アリール基としては炭素数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、トリフェニルフェニル基）が特に好ましい。一般式（３）又は一般式（４）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０１８９】
【化１３】
2012060324.tif 000015
【化１４】
2012060324.tif 000016
【化１５】
2012060324.tif 000017
【化１６】
2012060324.tif 000018
【化１７】
2012060324.tif 000019
一般式（３）又は一般式（４）で表される化合物は、以下の方法にて作製することができる。
【０１９０】
一般式（３）の化合物は、スルホニルクロリド誘導体とアミン誘導体との縮合反応により得ることができる。また、一般式（４）の化合物は、スルフィドの酸化反応若しくは芳香族化合物とスルホン酸クロリドのＦｒｉｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ反応により得ることができる。
【０１９１】
次に、一般式（５）で表される化合物に関して詳細に説明する。
【０１９２】
【化１８】
2012060324.tif 000020
上記一般式（５）において、Ｒ１１はアリール基を表す。Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、少なくとも一方はアリール基である。Ｒ１２がアリール基であるとき、Ｒ１３はアルキル基でもアリール基でもよいが、アルキル基であることがより好ましい。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。アリール基は炭素数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。
【０１９３】
次に、一般式（６）で表される化合物に関して詳細に説明する。
【０１９４】
【化１９】
2012060324.tif 000021
上記一般式（６）において、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、それぞれ独立にアルキル基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよい。Ｒ２１は環状のアルキル基であることが好ましく、Ｒ２２及びＲ２３の少なくとも一方が環状のアルキル基であることがより好ましい。アルキル基は炭素数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。
【０１９５】
上記一般式（５）及び（６）におけるアルキル基及びアリール基は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素及びヨウ素）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基及びアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基である。
【０１９６】
次に、一般式（５）及び（６）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０１９７】
【化２０】
2012060324.tif 000022
【化２１】
2012060324.tif 000023
【化２２】
2012060324.tif 000024
【化２３】
2012060324.tif 000025
次に、前記一般式（７）で表される化合物について説明する。
【０１９８】
【化２４】
2012060324.tif 000026
上記一般式（７）において、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３及びＲ３４は、それぞれ、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基、又は置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基及び芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。
【０１９９】
Ｘ３１、Ｘ３２、Ｘ３３及びＸ３４は、それぞれ、単結合、−ＣＯ−及びＮＲ３５−（Ｒ３５は置換若しくは無置換の脂肪族基、又は置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のもの及び／又は脂肪族基がより好ましい）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｘ３１、Ｘ３２、Ｘ３３及びＸ３４の組み合わせは、特に限定されないが、−ＣＯ−、−ＮＲ３５−から選ばれるのがより好ましい。ａ、ｂ、ｃ及びｄは０以上の整数であり、０又は１であることが好ましく、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上であり、２〜８であることが好ましく、より好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４である。Ｚ３１は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基（環状のものを除く）を表す。Ｚ３１の価数は２〜８が好ましく、２〜６がより好ましく、２〜４がさらに好ましく、２又は３が最も好ましい。有機基とは、有機化合物からなる基をいう。
【０２００】
また、上記一般式（７）としては、好ましくは下記一般式（７−１）で表される化合物である。
【０２０１】
一般式（７−１）
Ｒ３１１−Ｘ３１１−Ｚ３１１−Ｘ３１２−Ｒ３１２
上記一般式（７−１）において、Ｒ３１１及びＲ３１２は、それぞれ、置換若しくは無置換の脂肪族基、又は置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基及び芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｘ３１１及びＸ３１２は、それぞれ独立に、−ＣＯＮＲ３１３−又はＮＲ３１４ＣＯ−を表し、Ｒ３１３及びＲ３１４は、置換若しくは無置換の脂肪族基、又は置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のもの及び／又は脂肪族基がより好ましい。Ｚ３１１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−ＮＲ３１５−（Ｒ３１５は置換若しくは無置換の脂肪族基、又は置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のもの及び／又は脂肪族基がより好ましい。）、アルキレン基及びアリーレン基から選ばれる、１種以上の基から形成される２価の有機基（環状のものを除く）を表す。Ｚ３１１の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ３１５−、及びアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−及びアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−及びアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。
【０２０２】
上記一般式（７−１）としては、好ましくは下記一般式（７−２）〜（７−４）で表される化合物である。
【０２０３】
【化２５】
2012060324.tif 000027
【化２６】
2012060324.tif 000028
【化２７】
2012060324.tif 000029
上記一般式（７−２）〜（７−４）において、Ｒ３２１、Ｒ３２２、Ｒ３２３及びＲ３２４は、それぞれ置換若しくは無置換の脂肪族基、又は置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基及び芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｚ３２１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−ＮＲ３２５−（Ｒ３２５は置換若しくは無置換の脂肪族基、又は置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のもの及び／又は脂肪族基がより好ましい。）、アルキレン基、アリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｚ３２１の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ３２５−、及びアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−及びアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−及びアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。
【０２０４】
以下に、上記の置換若しくは無置換の脂肪族基について説明する。脂肪族基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のものが特に好ましい。脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ビシクロオクチル基、アダマンチル基、ｎ−デシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ジデシル基などが挙げられる。
【０２０５】
以下に、上記の芳香族基について説明する。
【０２０６】
芳香族基は芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがさらに好ましい。芳香族炭化水素基の具体例な環としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル、ターフェニルなどが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニルが特に好ましい。芳香族ヘテロ環基としては、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては、ピリジン、トリアジン、キノリンが特に好ましい。
【０２０７】
また、以下に前記の置換基Ｔに関して詳細に説明する。
【０２０８】
置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基など）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基など）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基など）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基など）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基など）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基など）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基など）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基など）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基など）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基など）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基など）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基など）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基など）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基など）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基など）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基など）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基など）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなど）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には、例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基など）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基など）などが挙げられる。これらの置換基はさらに置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【０２０９】
一般式（７）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０２１０】
【化２８】
2012060324.tif 000030
【化２９】
2012060324.tif 000031
【化３０】
2012060324.tif 000032
一般式（５）及び一般式（６）、一般式（７）の化合物は、縮合剤（例えばジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）など）を用いた、カルボン酸類とアミン類との脱水縮合反応、又はカルボン酸クロリド誘導体とアミン誘導体との置換反応などにより得ることができる。
【０２１１】
本発明に用いられるレターデーション低減剤としては、セルロースアシレートの可塑剤として知られるおおくの化合物も有用に使用することができる。可塑剤としては、リン酸エステル又はカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）及びトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）及びジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）及びＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰ及びＤＰＰが特に好ましい。
【０２１２】
本発明に用いられるレターデーション低減剤は、厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）低減剤であることが好適なＮｚファクターを実現する観点からより好ましい。前記レターデーション低減剤のうち、Ｒｔ低減剤としては、例えば、脂肪族ポリエステル、アクリル系ポリマー及びスチレン系ポリマー、一般式（３）〜（７）の低分子化合物などを挙げることができ、その中でも脂肪族ポリエステル、アクリル系ポリマー及びスチレン系ポリマーが好ましく、脂肪族ポリエステル、アクリル系ポリマーがより好ましい。
【０２１３】
位相差低減剤は、基材フィルムに対し、０．０１〜３０質量％の割合で添加することが好ましく、０．１〜２０質量％の割合で添加することがより好ましく、０．１〜１０質量％の割合で添加することが特に好ましい。
【０２１４】
（劣化防止剤）
本発明においては基材フィルム溶液に公知の劣化（酸化）防止剤、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、４，４′−チオビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，１′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］などのフェノール系あるいはヒドロキノン系酸化防止剤を添加することができる。さらに、トリス（４−メトキシ−３，５−ジフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトなどのリン系酸化防止剤をすることが好ましい。劣化防止剤の添加量は、基材樹脂１００質量部に対して、０．０５〜５．０質量部を添加する。
【０２１５】
（剥離促進剤）
本発明に係る基材フィルムには、剥離促進剤を含むことが、より剥離性と高める観点から好ましい。剥離促進剤は、例えば、０．００１〜１質量％の割合で含めることができ、０．５質量％以下の添加であれば剥離剤のフィルムからの分離等が発生し難いため好ましく、０．００５質量％以上であれば所望の剥離低減効果を得ることができるため好ましいため、０．００５〜０．５質量％の割合で含めることが好ましく、０．０１〜０．３質量％の割合で含めることがより好ましい。剥離促進剤としては、公知のものが採用でき、有機、無機の酸性化合物、界面活性剤、キレート剤等を使用することができる。中でも、多価カルボン酸及びそのエステルが効果的であり、特に、クエン酸のエチルエステル類が効果的に使用することができる。
【０２１６】
（マット剤）
特に本発明に係る基材フィルムには、ハンドリングされる際に、傷が付いたり搬送性が悪化することを防止するために、微粒子を添加することが一般に行われる。それらは、マット剤、ブロッキング防止剤あるいはキシミ防止剤と称されて、従来から利用されている。それらは、前述の機能を呈する素材であれば特に限定されず、無機化合物のマット剤であっても、有機化合物のマット剤であってもよい。
【０２１７】
前記無機化合物のマット剤の好ましい具体例としては、ケイ素を含む無機化合物（例えば、二酸化ケイ素、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムなど）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ストロングチウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化スズ・アンチモン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくはケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セルロースアシレートフィルムの濁度を低減できるので、二酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。前記二酸化ケイ素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。前記酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名で市販されているものが使用できる。
【０２１８】
前記有機化合物のマット剤の好ましい具体例としては、例えば、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。シリコーン樹脂の中でも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、トスパール１０５、トスパール１０８、トスパール１２０、トスパール１４５、トスパール３１２０及びトスパール２４０（以上東芝シリコーン（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。
【０２１９】
これらのマット剤を基材樹脂溶液へ添加する場合は、特にその方法に限定されずいずれの方法でも所望の基材樹脂溶液を得ることができれば問題ない。例えば、基材樹脂と溶媒を混合する段階で添加物を含有させてもよいし、基材樹脂と溶媒で混合溶液を作製した後に、添加物を添加してもよい。更にはドープを流延する直前に添加混合してもよく、所謂直前添加方法でありその混合はスクリュー式混練をオンラインで設置して用いられる。具体的には、インラインミキサーのような静的混合機が好ましく、また、インラインミキサーとしては、例えば、スタチックミキサーＳＷＪ（東レ静止型管内混合器Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）（東レエンジニアリング製）のようなものが好ましい。なお、インライン添加に関しては、濃度ムラ、粒子の凝集等をなくすために、特開２００３−０５３７５２号公報は、基材フィルムの製造方法において、主原料ドープに異なる組成の添加液を混合する添加ノズル先端とインラインミキサーの始端部の距離Ｌが、主原料配管内径ｄの５倍以下とすることで、濃度ムラ、マット粒子等の凝集をなくす発明が記載されている。さらに好ましい態様として、主原料ドープと異なる組成の添加液供給ノズルの先端開口部とインラインミキサーの始端部との間の距離（Ｌ）が、供給ノズル先端開口部の内径（ｄ）の１０倍以下とし、インラインミキサーが、静的無攪拌型管内混合器又は動的攪拌型管内混合器であることが記載されている。さらに具体的には、基材樹脂フィルム主原料ドープ／インライン添加液の流量比は、１０／１〜５００／１、好ましくは５０／１〜２００／１であることが開示されている。さらに、添加剤のブリードアウトが少なく、かつ層間の剥離現象もなく、しかも滑り性が良好で透明性に優れた位相差フィルムを目的とした発明の特開２００３−０１４９３３号にも、添加剤を添加する方法として、溶解釜中に添加してもよいし、溶解釜〜共流延ダイまでの間で添加剤や添加剤を溶解又は分散した溶液を、送液中のドープに添加してもよいが、後者の場合は混合性を高めるため、スタチックミキサー等の混合手段を設けることが好ましいことが記載されている。
【０２２０】
本発明に係る基材フィルムにおいて、前記マット剤は、多量に添加しなければフィルムのヘイズが大きくならず、実際にＬＣＤに使用した場合、コントラストの低下、輝点の発生等の不都合が生じにくい。また、少なすぎなければキシミ、耐擦傷性を実現することができる。これらの観点から０．０１〜５．０質量％の割合で含めることが好ましく、０．０３〜３．０質量％の割合で含めることがより好ましく、０．０５〜１．０質量％の割合で含めることが特に好ましい。
【０２２１】
＜基材フィルムの製造＞
本発明に係る基材フィルムの製造方法について、セルロースアシレートフィルムを例にとって説明する。
【０２２２】
本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムは、溶液流延法、溶融流延法のいずれの方法で製造されてもよいが、溶液流延法により製造することが好ましい。
【０２２３】
本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムの製造は、セルロースアシレート、及び前記添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸する工程、更に乾燥する工程、必要であれば得られたフィルムを更に熱処理する工程、冷却後巻き取る工程により行われる。本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムは固形分中に好ましくはセルロースアシレートを６０〜９５質量％含有するものである。
【０２２４】
（ドープ調製）
ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースアシレートの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減出来て好ましいが、セルロースアシレートの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。
【０２２５】
ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても二種以上を併用してもよいが、セルロースアシレートの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースアシレートの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースアシレートを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するか又は溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースアシレートのアセチル基置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースの酢酸エステル（アセチル基置換度２．４）では良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル（アセチル基置換度２．８）では貧溶剤となる。
【０２２６】
本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライド又は酢酸メチルが挙げられる。
【０２２７】
また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水を０．０１〜２質量％含有していることが好ましい。
【０２２８】
上記記載のドープを調製する時の、セルロースアシレートの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースアシレートを貧溶剤と混合して湿潤あるいは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。
【０２２９】
加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。
【０２３０】
溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースアシレートの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は４５〜１２０℃であり、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。
【０２３１】
若しくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースアシレートを溶解させることができる。
【０２３２】
次に、このセルロースアシレート溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾材が更に好ましい。
【０２３３】
濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースアシレートに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。
【０２３４】
輝点異物とは、二枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースアシレートフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点数が２００個／ｃｍ２以下であることが好ましい。より好ましくは１００個／ｃｍ２以下であり、更に好ましくは５０個／ｍ２以下であり、更に好ましくは０〜１０個／ｃｍ２以下である。また、０．０１ｍｍ以下の輝点も少ない方が好ましい。
【０２３５】
ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることが更に好ましい。
【０２３６】
濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。
【０２３７】
ここで、ドープの流延について説明する。
【０２３８】
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。
【０２３９】
キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤の沸点未満の温度で、温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。
【０２４０】
好ましい支持体温度は０〜５５℃であり、２５〜５０℃が更に好ましい。あるいは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。
【０２４１】
金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。
【０２４２】
セルロースアシレートフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％又は６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％又は７０〜１２０質量％である。
【０２４３】
本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。
【０２４４】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
なお、Ｍはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
【０２４５】
また、セルロースアシレートフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０２４６】
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０２４７】
本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムを作製するためには、ウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向（横方向）に延伸を行うことが特に好ましい。
【０２４８】
延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、あるいは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。すなわち、製膜方向に対して横方向に延伸しても、縦方向に延伸しても、両方向に延伸してもよく、さらに両方向に延伸する場合は同時延伸であっても、逐次延伸であってもよい。なお、いわゆるテンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸が行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。
【０２４９】
延伸工程における延伸倍率は、好ましくは１．３〜３．０倍、より好ましくは１．５〜２．８倍である。延伸倍率がこの範囲にあると幅方向厚さムラが小さくなるので好ましい。テンター延伸機の延伸ゾーンにおいて、幅方向で延伸温度に差を付けると幅方向厚さムラをさらに良好なレベルにすることが可能になる。
【０２５０】
ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。
【０２５１】
ウェブの乾燥工程における乾燥温度は好ましくはフィルムのガラス転移点−５℃以下、１００℃以上で１０分以上６０分以下の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は１００〜２００℃、更に好ましくは１１０〜１６０℃で乾燥が行われる。
【０２５２】
所定の熱処理の後、巻き取り前にスリッターを設けて端部を切り落とすことが良好な巻姿を得るため好ましい。更に、幅手両端部にはナーリング加工をすることが好ましい。
【０２５３】
ナーリング加工は、加熱されたエンボスロールを押し当てることにより形成することができる。エンボスロールには細かな凹凸が形成されており、これを押し当てることでフィルムに凹凸を形成し、端部を嵩高くすることができる。
【０２５４】
本発明に係る基材フィルムの幅手両端部のナーリングの高さは４〜２０μｍ、幅５〜２０ｍｍが好ましい。
【０２５５】
また、本発明においては、上記のナーリング加工は、フィルムの製膜工程において乾燥終了後、巻き取りの前に設けることが好ましい。
【０２５６】
（ヘイズ）
本発明に係る基材フィルムは、ヘイズが１％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましい。ヘイズを１％未満とすることにより、フィルムの透明性がより高くなり、光学フィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。
【０２５７】
（平均含水率）
本発明に係る基材フィルムは、２５℃、相対湿度６０％における平衡含水率が４％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましい。平均含水率を４％以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性や寸法がより変化しにくく好ましい。
【０２５８】
（膜厚）
本発明に係る基材フィルムは、３０〜１００μｍであることが好ましい。３０μｍ以上とすることにより、ウェブ状のフィルムを作製する際のハンドリング性が向上し、好ましい。
【０２５９】
（フィルム長、幅）
本発明に係る基材フィルムは、長尺であることが好ましく、具体的には、１００〜１００００ｍ程度の長さであることが好ましく、ロール状に巻き取られる。また、本発明に係る基材フィルムの幅は１ｍ以上であることが好ましく、更に好ましくは１．４ｍ以上であり、特に１．４〜４ｍであることが好ましい。
【０２６０】
＜ハードコート層＞
本発明に係る基材フィルム上には、密着改良剤含有樹脂層に接してハードコート層が設けられており、当該ハードコート層はクリアハードコート層又は防眩性ハードコート層のいずれかであることが好ましい。
【０２６１】
本発明においては、前記ハードコート層上に、少なくとも低屈折率層を含む反射防止層が視認性を向上させるために設けられることがより好ましい。
【０２６２】
本発明に係るハードコート層がクリアハードコート層の場合は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．００１〜０．１μｍのクリアハードコート層であり、Ｒａが０．００２〜０．０５μｍであることが好ましい。中心線平均粗さ（Ｒａ）は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばＷＹＫＯ社製非接触表面微細形状計測装置ＷＹＫＯ  ＮＴ−２０００を用いて測定することができる。
【０２６３】
本発明に係るハードコート層が防眩性である場合は、表面に微細な凹凸形状を有するが、該微細凹凸形状は、ハードコート層に微粒子を含有させることで形成し、下記のような平均粒径０．０１μｍ〜４μｍの微粒子をハードコート層中に含有させることで形成できる。また、後述するように、該防眩性ハードコート層上に設けられた反射防止層の最表面の表面粗さとして、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０８μｍ〜０．５μｍの範囲に調整されることが好ましい。
【０２６４】
本発明に係るハードコート層中に含有される粒子としては、例えば、無機又は有機の微粒子が用いられる。
【０２６５】
無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができる。
【０２６６】
また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコーン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、又はポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることができる。
【０２６７】
本発明では特に、酸化ケイ素微粒子又はポリスチレン系樹脂微粒子であることが好ましい。
【０２６８】
上記記載の無機又は有機の微粒子は、防眩性ハードコート層の作製に用いられる樹脂等を含む塗布組成物に加えて用いることが好ましい。
【０２６９】
本発明に係るハードコート層に防眩性を付与するためには、無機又は有機微粒子の含有量は、防眩性ハードコート層作製用の樹脂１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、更に好ましくは、０．１〜２０質量部となるように配合することである。より好ましい防眩効果を付与するには、平均粒径０．１〜１μｍの微粒子を防眩性ハードコート層作製用の樹脂１００質量部に対して１〜１５質量部を用いるのが好ましい。また、異なる平均粒径の微粒子を二種以上用いることも好ましい。
【０２７０】
また、本発明に係るハードコート層には帯電防止剤を含有させることも好ましく、帯電防止剤としては、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ及びＶからなる群から選択される少なくとも一つの元素を主成分として含有し、かつ、体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ以下であるような導電性材料が好ましい。
【０２７１】
前記帯電防止剤としては、上記の元素を有する金属酸化物、複合酸化物等が挙げられる。
【０２７２】
金属酸化物の例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ２、Ｖ２Ｏ５等、あるいはこれらの複合酸化物が好ましく、特にＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＴｉＯ２及びＳｎＯ２が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ２に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加、またＳｎＯ２に対しては、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は０．０１〜２５ｍｏｌ％の範囲が好ましいが、０．１〜１５ｍｏｌ％の範囲が特に好ましい。
【０２７３】
また、これらの導電性を有する金属酸化物粉体の体積抵抗率は１０７Ω・ｃｍ以下、特に１０５Ω・ｃｍ以下である。
【０２７４】
十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、クリアハードコート層又は防眩性ハードコート層の膜厚は０．５〜１５μｍの範囲が好ましく、更に好ましくは、１．０〜７μｍである。
【０２７５】
（活性エネルギー線硬化樹脂）
本発明に係るハードコート層は、紫外線等活性エネルギー線照射により硬化する活性エネルギー線硬化樹脂を含有することが好ましい。
【０２７６】
活性エネルギー線硬化樹脂とは紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性エネルギー線照射によって硬化する樹脂でもよい。
【０２７７】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【０２７８】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、又はプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する。）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等のヒドロキシ基（水酸基）を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載の、ユニディック１７−８０６（ＤＩＣ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【０２７９】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端のヒドロキシ基（水酸基）やカルボキシ基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報参照）。
【０２８０】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端のヒドロキシ基（水酸基）にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。
【０２８１】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
【０２８２】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用いられるエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物を示す。
【０２８３】
（ａ）ビスフェノールＡのグリシジルエーテル（この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールＡとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる。）
（ｂ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び／又はプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
（ｃ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
（ｄ）ノボラック樹脂又はレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
（ｅ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
（ｆ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
（ｇ）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
（ｈ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
（ｉ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
（ｊ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
（ｋ）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。
【０２８４】
上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として２０００以下で、好ましくは１０００以下である。
【０２８５】
上記のエポキシ化合物を活性エネルギー線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、（ｈ）又は（ｉ）の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。
【０２８６】
エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤又は光増感剤は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。
【０２８７】
活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造又は網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性エネルギー線反応性樹脂である。
【０２８８】
本発明に有用な活性エネルギー線反応性エポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤又は光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。
【０２８９】
かかる代表的なものは下記一般式（ｃ）で表される化合物である。
【０２９０】
一般式（ｃ）：〔（Ｒ１）ａ（Ｒ２）ｂ（Ｒ３）ｃ（Ｒ４）ｄＺ〕ｗ＋〔ＭｅＸｖ〕ｗ−
式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、Ｂｒ、Ｃｌ）、又はＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅはハロゲン化物錯体の中心原子である金属又は半金属（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであり、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
【０２９１】
上記一般式（ｃ）の陰イオン〔ＭｅＸｖ〕ｗ−の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ４−）、テトラフルオロホスフェート（ＰＦ４−）、テトラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ４−）、テトラフルオロアルセネート（ＡｓＦ４−）、テトラクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ４−）等を挙げることができる。
【０２９２】
また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン（ＣｌＯ４−）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ３ＳＯ３−）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ３−）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。
【０２９３】
このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同５０−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記載のVIＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭４９−１７０４０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４，１３９，６５５号等に記載のチオピリリューム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。
【０２９４】
また、エポキシアクリレート基を有する活性エネルギー線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることができる。この活性エネルギー線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物１００質量部に対して０．１〜１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは１〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。
【０２９５】
本発明に有用な活性エネルギー線硬化樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性エネルギー線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質量部に対して０．１〜１５質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、１〜１０質量部の範囲の添加が好ましい。
【０２９６】
また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することもでき、この場合、活性エネルギー線ラジカル重合開始剤と活性エネルギー線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。
【０２９７】
また、本発明に係るハードコート層には、オキセタン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸素又は硫黄を含む３員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、３，３−ビス（クロルメチル）オキセタン、３，３−ビス（ヨードメチル）オキセタン、３，３−ビス（メトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フェノキシメチル）オキセタン、３−メチル−３クロルメチルオキセタン、３，３−ビス（アセトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フルオロメチル）オキセタン、３，３−ビス（ブロモメチル）オキセタン、３，３−ジメチルオキセタン等が挙げられる。なお、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。
【０２９８】
本発明に係るハードコート層には、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又はゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを上記記載の活性エネルギー線硬化樹脂に混合して使用することができる。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ２、−ＮＲ３Ｘ、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ２、−ＯＰＯ３Ｍ（ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金属又はアンモニウム基を、Ｘはアミン塩を形成する酸を、Ｒは水素原子、アルキル基を表す。）等を挙げることができる。
【０２９９】
本発明に係るハードコート層が活性エネルギー線硬化型樹脂を含む場合、活性エネルギー線の照射方法としては、支持体上に、ハードコート層、反射防止層（中〜高屈折率層及び低屈折率層）等の塗設後に活性エネルギー線を照射してもよいが、ハードコート層塗設時に活性エネルギー線を照射することが好ましい。
【０３００】
本発明に使用する活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性化させるエネルギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であればいずれも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。波長２５０ｎｍ〜４２０ｎｍの紫外領域に発光スペクトルを持つ光源を使用するのが好ましい。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは、５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２であり、特に好ましくは、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【０３０１】
紫外線照射は、ハードコート層と後述する反射防止層を構成する複数の層（中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層）それぞれに対して１層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。あるいはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。
【０３０２】
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
【０３０３】
本発明に使用する上記活性エネルギー線反応性化合物を光重合又は光架橋反応を開始させるには、上記活性エネルギー線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることができる。
【０３０４】
本発明に係るハードコート層が活性エネルギー線硬化樹脂を含有する場合、活性エネルギー線の照射時においては、光反応開始剤、光増感剤を用いることができる。
【０３０５】
具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤及び／又は光増感剤の使用量は、組成物の１〜１０質量％が好ましく、特に好ましくは２．５〜６質量％である。
【０３０６】
また、活性エネルギー線硬化樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、後述する紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。
【０３０７】
ハードコート層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−３−メチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、ジ−オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。
【０３０８】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、アデカオプトマーＫＲ、ＢＹシリーズのＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、コーエイハードのＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業（株）製）、セイカビームのＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業（株）製）、ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上、ダイセル・ユーシービー（株））、ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上、ＤＩＣ（株）製）、オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）、サンラッド  Ｈ−６０１（三洋化成工業（株）製）、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（以上、昭和高分子（株）製）、ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、又はその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。
【０３０９】
活性エネルギー線硬化樹脂を含む塗布組成物は、固形分濃度は１０質量％〜９５質量％であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。
【０３１０】
本発明に係るハードコート層は界面活性剤を含有することも好ましく、界面活性剤としては、シリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。
【０３１１】
シリコーン系界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。
【０３１２】
非イオン面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない系面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類のヒドロキシ基（水酸基）、また、ポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン）等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性ヒドロキシ基（水酸基）の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン鎖）が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。
【０３１３】
疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、防眩性ハードコート層や低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。
【０３１４】
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤  ＳＩＬＷＥＴ  Ｌ−７７、Ｌ−７２０、Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｌ−７６０４、Ｙ−７００６、ＦＺ−２１０１、ＦＺ−２１０４、ＦＺ−２１０５、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１１８、ＦＺ−２１２０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２１２３、ＦＺ−２１３０、ＦＺ−２１５４、ＦＺ−２１６１、ＦＺ−２１６２、ＦＺ−２１６３、ＦＺ−２１６４、ＦＺ−２１６６、ＦＺ−２１９１等が挙げられる。
【０３１５】
また、ＳＵＰＥＲＳＩＬＷＥＴ  ＳＳ−２８０１、ＳＳ−２８０２、ＳＳ−２８０３、ＳＳ−２８０４、ＳＳ−２８０５等が挙げられる。
【０３１６】
また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を１つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。
【０３１７】
これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤  ＡＢＮ  ＳＩＬＷＥＴ  ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０７、ＦＺ−２２０８等が挙げられる。
【０３１８】
フッ素系界面活性剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインをもつ界面活性剤を用いることができる。種類としては、フルオロアルキルカルボン酸、Ｎ−パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、３−（フルオロアルキルオキシ）−１−アルキルスルホン酸ナトリウム、３−（ω−フルオロアルカノイル−Ｎ−エチルアミノ）−１−プロパンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−（３−パーフルオロオクタンスルホンアミド）プロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、Ｎ−プロピル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−Ｎ−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス（Ｎ−パーフルオロオクチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノエチル）等が挙げられる。本発明では非イオン界面活性剤が好ましい。
【０３１９】
これらのフッ素系界面活性剤はメガファック、エフトップ、サーフロン、フタージェント、ユニダイン、フローラード、ゾニール等の商品名で市販されている。
【０３２０】
好ましい添加量はハードコート層の塗布液に含まれる固形分当たり０．０１〜３．０％であり、より好ましくは０．０２〜１．０％である。
【０３２１】
他の界面活性剤を併用して用いることもでき、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。
【０３２２】
本発明にハードコート層を塗設する際の溶媒は、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、又は混合して使用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテル又はプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、更に好ましくは５〜８０質量％以上含有する溶媒が用いられる。
【０３２３】
ハードコート層組成物塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター、スプレーコート、インクジェット法等公知の方法を用いることができる。塗布量はウエット膜厚で５〜３０μｍが適当で、好ましくは１０〜２０μｍである。塗布速度は１０〜２００ｍ／分が好ましい。
【０３２４】
ハードコート層組成物は塗布乾燥された後、紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射され硬化処理されることが好ましいが、前記活性エネルギー線の照射時間は０．５秒〜５分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、３秒〜２分である。
【０３２５】
（反射防止層）
本発明のハードコート層付き基材フィルムのハードコート層上には反射防止層を設けることも好ましい。
【０３２６】
用いられる反射防止層は低屈折率層のみの単層構成でもよいが、多層の屈折率層を設けることも好ましい。基材フィルム上に、密着改良剤含有樹脂層及びハードコート層を有し、その表面上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層できる。反射防止層は、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成したり、特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体又は防眩性ハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましい。
【０３２７】
又は、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。
【０３２８】
本発明に係る反射防止層の好ましい層構成の例を下記に示す。ここで／は積層配置されていることを示している。
【０３２９】
基材フィルム／密着改良剤含有樹脂層／クリアハードコート層／低屈折率層
基材フィルム／密着改良剤含有樹脂層／クリアハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／密着改良剤含有樹脂層／クリアハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／密着改良剤含有樹脂層／防眩性ハードコート層／低屈折率層
基材フィルム／密着改良剤含有樹脂層／防眩性ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／密着改良剤含有樹脂層／防眩性ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
汚れや指紋のふき取りが容易となるように、最表面の低屈折率層の上に、更に防汚層を設けることもできる。防汚層としては、含フッ素有機化合物が好ましく用いられる。
【０３３０】
光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。また、上記層構成では、適宜中間層を設けてもよく、例えば導電性ポリマー微粒子（例えば架橋カチオン微粒子）又は金属酸化物微粒子（例えば、ＳｎＯ２、ＩＴＯ等）を含む帯電防止層等は好ましい。
【０３３１】
低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層は公知の構成で形成することができるが、特に低屈折率層は中空球状シリカ系微粒子が好適に用いられることが好ましく、（Ｉ）多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、又は（II）内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体又は多孔質物質で充填された空洞粒子が用いられる。
【０３３２】
上記、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層に関しては、特開２００５−２６６０５１号公報に詳述されている。
【０３３３】
反射防止層を構成する各屈折率層の膜厚としては、各々１〜２００ｎｍの範囲が好ましく、更に好ましくは、５〜１５０ｎｍであるが、各層の屈折率に応じて、各々適切な膜厚を選択することが好ましい。
【０３３４】
本発明に用いられる反射防止層は、４５０〜６５０ｎｍにおける平均反射率が１％以下であることが好ましく、特に好ましくは０．５％以下である。また、この範囲における最低反射率は０．００〜０．３％にあることが特に好ましい。
【０３３５】
反射防止層の屈折率と膜厚は、分光反射率の測定より計算して算出することができる。また、作製した低反射フィルムの反射光学特性は、分光光度計を用い、５度正反射の条件にて反射率を測定することができる。
【実施例】
【０３３６】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０３３７】
実施例１
（セルロースアシレートの合成）
特開平１０−４５８０４号公報、同０８−２３１７６１号公報に記載の方法で、表１記載のアセチル基置換度を有するセルロースアシレートを合成し、その置換度を測定した。具体的には、触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、アシル置換基の原料となるカルボンを添加し４０℃でアシル化反応を行った。この時、カルボン酸の種類、量を調整することで置換度を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行った。さらにこのセルロースアシレートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。【０３３８】
置換度の測定は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により求めた。【０３３９】
なお、表１中ＣＡＰと記載されているセルロースアシレートは、セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．９０、プロピオニル基置換度０．５４）である。【０３４０】
（密着改良剤）
実施例で用いるベンゾトリアゾール系化合物（Ｍ−１〜Ｍ−３）、ベンゾフェノン系化合物（Ｍ−６）は下記化合物である。【０３４１】
Ｍ−１：チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８（λｍａｘ３４８ｎｍ：ＢＡＳＦジャパン社製）
Ｍ−２：チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６（λｍａｘ３５３ｎｍ：ＢＡＳＦジャパン社製）
Ｍ−３：チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）５７１（λｍａｘ３４４ｎｍ：ＢＡＳＦジャパン社製）
Ｍ−４：ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ８１（λｍａｘ３２７ｎｍ：ＢＡＳＦジャパン社製）
吸収極大ピーク（λｍａｘ）は、上記化合物を溶媒（ジクロロメタン又はトルエン）に溶解した液を用いて、島津製作所社製の分光光度計ＵＶＩＤＦＣ−６１０で測定した結果、いずれも、２６０〜４００ｎｍの範囲に吸収極大ピーク（λｍａｘ）があることが確認された。【０３４２】
＜セルロースアシレートフィルム１０１の作製＞
〈微粒子分散液１〉
微粒子（アエロジル  Ｒ８１２  日本アエロジル（株）製）  １１質量部
エタノール                                              ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。【０３４３】
〈微粒子添加液１〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液１をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液１を調製した。【０３４４】
メチレンクロライド                                      ９９質量部
微粒子分散液１                                            ５質量部
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにアセチル基置換度２．８８のセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。【０３４５】
〈主ドープ液の組成〉
メチレンクロライド                                    ３４０質量部
エタノール                                              ６４質量部
セルロースアセテート（アセチル基置換度２．８８、重量平均分子量１４
００００）                                              １００質量部
トリフェニレンホスフェート                              １２質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート                          ６質量部
トリベンジルアミン                                        ２質量部
微粒子添加液１                                            １質量部
以上を密閉されている主溶解釜１に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。【０３４６】
ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力１３０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。剥離したセルロースアシレートフィルムを、１７０℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に２０％延伸した。延伸開始時の残留溶媒は１５％であった。【０３４７】
次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は１３０℃で、搬送張力は１００Ｎ／ｍとした。以上のようにして、乾燥膜厚４０μｍのセルロースアシレートフィルム１０１を得た。【０３４８】
次いで表１に記載のアセチル基置換度２．４３のセルロースアシレート、ＣＡＰを用いた以外は同様にして、セルロースアシレートフィルム１０２、１０３を作製した。【０３４９】
＜３層構成セルロースアシレートフィルム１０４の作製＞
下記３種のドープを作製し、共流延によってコア、スキン部分を有する積層セルロースアシレートフィルム１０４を作製した。【０３５０】
（コア層用セルロースアシレートドープの調製）
メチレンクロライド                                    ３４０質量部
エタノール                                              ６４質量部
セルロースアセテート（アセチル基置換度２．４３、重量平均分子量２１
００００）                                              １００質量部
トリフェニレンホスフェート                              ２０質量部
（ハードコート層側スキン層用セルロースアシレートドープの調製）
メチレンクロライド                                    ３４０質量部
エタノール                                              ６４質量部
セルロースアセテート（アセチル基置換度２．８８、重量平均分子量１４
００００）                                              １００質量部
トリフェニレンホスフェート                              １２質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート                          ６質量部
トリベンジルアミン                                        ２質量部
微粒子添加液１                                            １質量部
（スキン層用セルロースアシレートドープの調製）
メチレンクロライド                                    ３４０質量部
エタノール                                              ６４質量部
セルロースアセテート（アセチル置基換度２．８８、重量平均分子量１４
００００）                                              １００質量部
トリフェニレンホスフェート                              ２０質量部
微粒子添加液１                                            １質量部
上記の組成物を各々ミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した後、平均孔径３４μｍのろ紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過し、各セルロースアシレートドープを調製した。ドープを図２で示すダイスを用い、バンド流延機にてハードコート層側スキン層／コア層／スキン層の３層構成になるように共流延した。ここで、各ドープの流延量を調整することによりコア層を最も厚くし、結果的に延伸後のフィルムの膜厚が各々２μｍ／４５μｍ／２μｍとなるように同時多層流延を行った。残留溶剤量が約３０質量％でバンドから剥ぎ取ったフィルムをテンターにより１４０℃の熱風を当てて、延伸率３２％まで拡幅した後、延伸率が３０％となるように１４０℃で６０秒間緩和させた。その後テンター搬送からロール搬送に移行し、更に１２０℃から１５０℃で乾燥し巻き取った。【０３５１】
＜シクロオレフィン樹脂フィルム１０５の作製＞
窒素雰囲気下、脱水したシクロヘキサン５００部に、１−ヘキセン１．２部、ジブチルエーテル０．１５部、トリイソブチルアルミニウム０．３０部を室温で反応器に入れ混合した後、４５℃に保ちながら、トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３，７−ジエン（ジシクロペンタジエン、以下、ＤＣＰと略記）２０部、１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレン（以下、ＭＴＦと略記）１４０部、及び８−メチル−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−ドデカ−３−エン（以下、ＭＴＤと略記）４０部からなるノルボルネン系モノマー混合物と、六塩化タングステン（０．７％トルエン溶液）４０部とを、２時間かけて連続的に添加し重合した。重合溶液にブチルグリシジルエーテル１．０６部とイソプロピルアルコール０．５２部を加えて重合触媒を不活性化し重合反応を停止させた。【０３５２】
次いで、得られた開環重合体を含有する反応溶液１００部に対して、シクロヘキサン２７０部を加え、更に水素化触媒としてニッケル−アルミナ触媒（日揮化学社製）５部を加え、水素により５ＭＰａに加圧して撹拌しながら温度２００℃まで加温した後、４時間反応させ、ＤＣＰ／ＭＴＦ／ＭＴＤ開環重合体水素化ポリマーを２０％含有する反応溶液を得た。濾過により水素化触媒を除去した後、軟質重合体（クラレ社製；セプトン２００２）、及び酸化防止剤（ＢＡＳＦジャパン社製；イルガノックス１０１０）を、得られた溶液にそれぞれ添加して溶解させた（いずれも重合体１００部あたり０．１部）。次いで、溶液から、溶媒であるシクロヘキサン及びその他の揮発成分を、円筒型濃縮乾燥器（日立製作所製）を用いて除去し、水素化ポリマーを溶融状態で押出機からストランド状に押出し、冷却後ペレット化して回収した。重合体中の各ノルボルネン系モノマーの共重合比率を、重合後の溶液中の残留ノルボルネン類組成（ガスクロマトグラフィー法による）から計算したところ、ＤＣＰ／ＭＴＦ／ＭＴＤ＝１０／７０／２０でほぼ仕込組成に等しかった。この開環重合体水素添加物の、重量平均分子量（Ｍｗ）は３１，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．５、水素添加率は９９．９％、Ｔｇは１３４℃であった。【０３５３】
得られた開環重合体水素添加物のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて７０℃で２時間乾燥して水分を除去した。次いで、前記ペレットを、リップ幅１．６ｍのコートハンガータイプのＴダイを有する短軸押出機（三菱重工業株式会社製：スクリュー径９０ｍｍ、Ｔダイリップ部材質は炭化タングステン、溶融樹脂との剥離強度４４Ｎ）を用いて溶融押出成形して厚さ８０μｍのシクロオレフィン樹脂フィルム１０５を製造した。押出成形は、クラス１００００以下のクリーンルーム内で、溶融樹脂温度２４０℃、Ｔダイ温度２４０℃の成形条件にて行った。得られたシクロオレフィン樹脂フィルム１０５は両耳をスリットし、幅１．５ｍに加工した。また、巻き取る際にプロテクトフィルムとしてポリエステルフィルムを一緒に巻き取った。【０３５４】
＜ハードコートフィルム２０１の作製＞
＜密着改良剤含有樹脂層の塗設＞
セルロースアシレートフィルム１０１の表面に下記密着改良剤含有樹脂層用塗布液１を用いて密着改良剤含有樹脂層を、乾燥膜厚約０．２μｍとなるように塗布し、８０℃に設定された乾燥部で乾燥した。【０３５５】
（密着改良剤含有樹脂層用塗布液１）
ポリメチルメタクリレート（重量平均分子量３万）        ０．５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                  ７０質量部
メチルエチルケトン                                      ３０質量部
密着改良剤：Ｍ−１                                    ０．１質量部
次いで、下記ハードコート層用塗布液１をダイコートし、８０℃で乾燥した後、１２０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を高圧水銀灯で照射して硬化後の膜厚が６μｍになるようにクリアハードコート層を設け、ハードコートフィルム１０１を作製した。【０３５６】
（ハードコート層用塗布液１）
アセトン                                                ４５質量部
酢酸エチル                                              ４５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                  １０質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート                    ３０質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート                  ４５質量部
ウレタンアクリレート（商品名Ｕ−４ＨＡ  新中村化学工業社製）
２５質量部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）            ５質量部
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モノフォリノ−１−オン
（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦジャパン社製）            ３質量部
ＢＹＫ−３３１（シリコーン界面活性剤、ビックケミー・ジャパン（株）
製）                                                    ０．５質量部
＜ハードコートフィルム２０２〜２２５の作製＞
表１記載の基材フィルム上に、密着改良剤の種類、含有量を変えた以外は密着改良剤含有樹脂層用塗布液１と同様に調製した塗布液を乾燥膜厚約０．２μｍとなるように塗布し、８０℃に設定された乾燥部で乾燥した。【０３５７】
次いで、上記ハードコート層用塗布液１を用いてハードコート層を同様に設け、ハードコートフィルム２０２〜２２５を作製した。【０３５８】
なお、ハードコートフィルム２２３〜２２５は密着改良剤含有樹脂層を設けず、基材フィルム上に直接ハードコート層を設けた。【０３５９】
＜前面板付き液晶表示装置の作製＞
ＳＯＮＹ製６０型ディスプレイＢＲＡＶＩＡ  ＬＸ９００のあらかじめ貼合されていた前面板を剥がして、パネル前面の偏光板と前面板の間にあった充填剤を除去し、新たに封止層として紫外線硬化樹脂を含有するソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社製ＳＶＲ１１００を厚さ１００μｍで塗布し、その上にアクリル樹脂系粘着剤を介して上記作製したハードコートフィルム１０１を貼合したガラス板を乗せ、最表面にあるハードコート層側から紫外線を５０００ｍＪ／ｃｍ２の光量で照射して封止層を硬化し、図１の構成の前面板付き液晶表示装置２０１を作製した。【０３６０】
同様にしてハードコートフィルム２０２〜２２５を用いて、図１の構成の前面板付き液晶表示装置２０２〜２２５を作製した。【０３６１】
《評価》
＜光線透過率＞
上記作製した密着改良剤含有樹脂層を設けた基材フィルムの波長３８０ｎｍの光線透過率は、島津製作所社製の分光光度計ＵＶＩＤＦＣ−６１０で測定した。【０３６２】
◎：波長３８０ｎｍの光線透過率が７０％以上
○：波長３８０ｎｍの光線透過率が５１％以上、７０％未満
△：波長３８０ｎｍの光線透過率が３０％以上、５１％未満
×：波長３８０ｎｍの光線透過率が３０％未満
＜ハードコート層と基材フィルム間の密着性＞
作製した前面板付き液晶表示装置を、温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２４時間調湿後、碁盤目試験によりハードコートフィルムのハードコート層の密着性を評価した。具体的には、評価面積は１ｃｍ四方で、深さは透明なプラスチックフィルムの表面に僅か達する程度に、硬化皮膜層の表面に１ｍｍ角の碁盤目を片刃のカミソリの刃を用いて切り込みを入れ、市販の２５ｍｍ幅のセロファンテープを切れ込み部分をまたいでテープの一端を残して貼り、擦ってよく接着させ、貼られてないテープのその一端を手で持ってなるべく垂直に力強く引っ張って剥がし、切り込み線からの貼られたテープ面積に対する硬化皮膜層が剥がされた面積の割合を下記の如く評価した。剥がれの面積が、評価面積に対して１５％以上あると、実用性の低いレベルである。【０３６３】
◎：全く剥離しなかった
○：剥がれの面積が、評価面積に対して１５％未満であった。
△：剥がれの面積が、評価面積に対して１５％以上〜３０％未満であった。
×：剥がれの面積が、評価面積に対して３０％以上であった。
＜コントラストムラ＞
２３℃５５％ＲＨの環境で、各々の液晶表示装置のバックライトを１時間連続点灯した後、測定を行った。測定にはＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄを用いて、液晶表示装置で白表示と黒表示の表示画面の法線方向からの輝度を測定し、その比を正面コントラストとした。【０３６４】
正面コントラスト＝（表示装置の法線方向から測定した白表示の輝度）／（表示装置の法線方向から測定した黒表示の輝度）
液晶表示装置の任意の１０点の正面コントラストを測定し、以下の基準にて評価した。【０３６５】
コントラストムラはハードコートフィルムに発生するしわやゆがみによって発生する場合と、封止層の硬化不良によって発生する場合がある。【０３６６】
◎：正面コントラストのばらつきがなく、ムラもない。
○：正面コントラストのばらつきが１〜５％未満のばらつきであり、ムラが小さい。
△：正面コントラストが５〜１０％未満のばらつきであり、ムラがややある。
×：正面コントラストが１０％以上のばらつきであり、ムラが大きい。
ハードコートフィルムの構成並びに、以上の評価結果を表１に示した。【０３６７】
【表１】
2012060324.tif 000033
上表から、本発明に係る密着改良剤樹脂層を有するハードコート層付き基材フィルムを前面板に貼合した前面板付き液晶表示装置は、比較例の前面板付き液晶表示装置に対して、ヘイズが低く、ハードコート層と基材フィルム間の密着性、コントラストムラに優れることが分かる。【０３６８】
実施例２
＜セルロースアシレートフィルム３０１〜３０５の作製＞
下記ドープを作製し、実施例１と同様にセルロースアシレートフィルム３０１を作製した。【０３６９】
〈主ドープ液の組成〉
メチレンクロライド                                    ３４０質量部
エタノール                                              ６４質量部
セルロースアセテート（アセチル基置換度２．８８、重量平均分子量１４
００００）                                              １００質量部
トリフェニレンホスフェート                              １２質量部
下記ポリエステル（Ｐ）                                    ５質量部
微粒子添加液１                                            １質量部
以上を密閉されている主溶解釜１に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。【０３７０】
ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力１３０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。剥離したセルロースアシレートフィルムを、１７０℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に１０％延伸した。延伸開始時の残留溶媒は１５％であった。【０３７１】
また、周速差を有するロールによって長手方向にも１０％延伸した。【０３７２】
次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は１３０℃で、搬送張力は１００Ｎ／ｍとした。以上のようにして、乾燥膜厚４０μｍのセルロースアシレートフィルム３０１を得た。【０３７３】
次いで、膜厚を表２記載のように変化させた以外は同様にしてセルロースアシレートフィルム３０２〜３０５を作製した。【０３７４】
（ポリエステル（Ｐ）の合成）
窒素雰囲気下、テレフタル酸ジメチル４．８５ｇ、１，２−プロピレングリコール４．４ｇ、ｐ−トルイル酸６．８ｇ、テトライソプロピルチタネート１０ｍｇを混合し、１４０℃で２時間攪拌を行った後、更に２１０℃で１６時間攪拌を行った。次に、１７０℃まで降温し、未反応物の１，２−プロピレングリコールを減圧留去することにより、ポリエステル（Ｐ）を得た。【０３７５】
酸価        ：０．１
数平均分子量：４９０
分散度      ：１．４
分子量３００〜１８００の成分含有率：９０％
ヒドロキシ（水酸基）価：０．１
ヒドロキシ基（水酸基）含有量：０．０４％
＜ハードコートフィルム４０１〜４０５の作製＞
上記作製した積層セルロースアシレートフィルム３０１〜３０５に、密着改良剤含有樹脂層用塗布液１及びハードコート層用塗布液１を実施例１と同様に塗布して、ハードコートフィルム４０１〜４０５を作製した。【０３７６】
更に、特開２００９−１６９３９３号公報に記載を参考にポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）を作製した。【０３７７】
ハードコートフィルム４０１〜４０５、実施例１作製のハードコートフィルム２０１、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）を用いて、実施例１と同様にして前面板付き液晶表示装置４０１〜４０７を各々作製した。【０３７８】
《評価》
作製したセルロースアシレートフィルム１０１、３０１〜３０５、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）のレターデーション値Ｒｏ、Ｒｔｈを下記方法により測定した。【０３７９】
＜レターデーション値Ｒｏ、Ｒｔｈの測定＞
アッベ屈折率計と分光光源を用いてフィルム試料の平均屈折率を測定した。また市販のマイクロメーターを用いてフィルムの厚さを測定した。【０３８０】
自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下２４時間放置したフィルムにおいて、同環境下、波長５９０ｎｍにおいてフィルムのレターデーション測定を行った。上述の平均屈折率と膜厚を下記式に入力し、面内レターデーション値Ｒｏ、厚さ方向のレターデーション値Ｒｔｈを求めた。【０３８１】
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚは、２３℃・５５％ＲＨ、５９０ｎｍにおける屈折率ｎｘ（フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう。）、ｎｙ（フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率）、ｎｚ（厚さ方向におけるフィルムの屈折率）であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）である。）
＜ハードコート層とセルロースアシレートフィルム間の密着性＞
ハードコートフィルム４０１〜４０５、２０１のハードコート層とセルロースアシレートフィルム間の密着性について実施例１と同様に評価した。【０３８２】
＜３Ｄ映像視聴時の首を傾けた際のクロストークの評価＞
作製した液晶表示装置について３Ｄ映像視聴時の首を傾けた際のクロストークについて評価した。【０３８３】
２３℃・５５％ＲＨの環境で、各々の液晶表示装置のバックライトを点灯させた直後、下記３Ｄメガネをかけて、メガネが２５°傾いた状態になるよう首を傾けた状態で３Ｄ映像を視聴し、クロストークを下記基準で評価した。【０３８４】
◎：クロストークが全くない。
○：非常に弱いクロストークが見える。
△：弱いクロストークが見える。
×：クロストークがはっきり見える。
（３Ｄメガネ）
ＳＯＮＹ製３ＤメガネＴＤＧ−ＢＲ１００を用いた。【０３８５】
ハードコートフィルムの構成並びに、上記評価結果を表２に示す。【０３８６】
【表２】
2012060324.tif 000034
上表から、本発明の密着改良剤含有樹脂層を設けたハードコートフィルム４０１〜４０５、２０１は、ハードコート層とセルロースアシレートフィルム間の密着性に優れ、更にハードコートフィルム４０１〜４０５は、レターデーションＲｏ及びＲｔｈ値が小さいことから、該ハードコートフィルムを用いた前面板付き液晶表示装置は、３Ｄ画像のクロストークが小さく、優れた立体画像表示用液晶表示装置を提供できることが分かった。【０３８７】
ＰＥＴフィルムを前面板に用いた液晶表示装置４０７は、モアレを生じ表示品位が劣っていた。また、３Ｄ画像のクロストークも大きく実用に適しないことが分かった。
【符号の説明】
【０３８８】
１、１′  偏光板
２  液晶セル
３  封止層
４  前面板
５  接着層
６  セルロースアシレートフィルム
７  密着改良剤含有樹脂層
８  ハードコート層
１０  共流延ダイ
１１  口金部分
１３、１５  スキン層用スリット
１４  コア層用スリット
１６  金属支持体
１７、１９  スキン層用ドープ
１８  コア層用ドープ
２０  多層構造ウェブ
２１  スキン層
２２  コア層
２３  スキン層
【図１】
2012060324.tif 000035
【図２】
2012060324.tif 000036
【国際調査報告】
2012060324.tif 000037
2012060324.tif 000038
2012060324.tif 000039