(57)【要約】  バインダーポリマーと、エチレン性不飽和結合及びオキシブチレン基を有する重合性化合物と、光重合開始剤と、増感色素と、を含み、下記（１）及び（２）に示す少なくとも一方の条件を満たす感光性樹脂組成物である。  （１）前記増感色素が、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物及びトリアリールアミン化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含む。  （２）前記バインダーポリマーが、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル及び（メタ）アクリル酸ベンジルエステル誘導体からなる群より選択される少なくとも１種に由来する構成単位を含む。【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）成分：バインダーポリマーと、
（Ｂ）成分：エチレン性不飽和結合及びオキシブチレン基を有する重合性化合物と、
（Ｃ）成分：光重合開始剤と、
（Ｄ）成分：増感色素と、を含み、
下記（１）及び（２）に示す少なくとも一方の条件を満たす感光性樹脂組成物。
（１）前記増感色素が、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物及びトリアリールアミン化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含む。
（２）前記バインダーポリマーが、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル及び（メタ）アクリル酸ベンジルエステル誘導体からなる群より選択される少なくとも１種に由来する構成単位を含む。
【請求項２】
前記（Ｃ）成分：光重合開始剤は、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含む請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
支持体と、
前記支持体上に形成され、請求項１又は請求項２に記載の感光性樹脂組成物の塗膜である感光性樹脂組成物層と、
を有する感光性エレメント。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載の感光性樹脂組成物の塗膜である感光性樹脂組成物層を基板上に形成する工程と、
前記感光性樹脂組成物層の少なくとも一部の領域に活性光線を照射して前記一部の領域に硬化部を形成する工程と、
前記感光性樹脂組成物層の前記硬化部以外の領域を前記基板上から除去して、前記基板上に前記感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成する工程と、
を有するレジストパターンの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載のレジストパターンの製造方法によりレジストパターンが形成された基板をエッチング処理又はめっき処理して導体パターンを形成する工程を含むプリント配線板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線板の製造分野においては、エッチング処理やめっき処理等に用いられるレジスト材料として、感光性樹脂組成物や、支持フィルムと感光性樹脂組成物層を有する感光性エレメント（積層体）が広く用いられている。【０００３】
プリント配線板は、例えば以下のようにして製造される。まず、感光性エレメントの感光性樹脂組成物層を回路形成用基板上に積層（ラミネート）する。次に、支持フィルムを剥離除去した後、感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射して露光部を硬化させる。その後、未露光部を基板上から除去（現像）することにより、基板上に、感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンが形成される。得られたレジストパターンに対しエッチング処理又はめっき処理を施して基板上に回路を形成した後、最終的にレジストパターンを剥離除去してプリント配線板が製造される。【０００４】
ここでエッチング処理によるプリント配線板の製造方法とは、レジストパターンによって被覆されていない回路形成用基板の導体層をエッチング除去して回路を形成した後、レジストを剥離する方法である。一方、めっき処理によるプリント配線板の製造方法とは、レジストパターンによって被覆されていない回路形成用基板の導体層に銅及び半田などのめっき処理を行った後、レジストパターンを除去しこのレジストパターンによって被覆されていた金属面をソフトエッチングする方法である。【０００５】
上記露光の方法としては、従来、水銀灯を光源としてフォトマスクを介して露光する方法が用いられていたが、近年、ＤＬＰ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｌｉｇｈｔ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ）やＬＤＩ（Ｌａｓｅｒ  Ｄｉｒｅｃｔ  Ｉｍａｇｉｎｇ）と呼ばれる、パターンのデジタルデータを直接感光性樹脂組成物層に描画する直接描画露光法が用いられることが多くなっている。この直接描画露光法はフォトマスクを介した露光法よりも位置合わせ精度が良好であり、かつ高精細なパターンが得られることから、高密度パッケージ基板作製のために導入されている。【０００６】
露光工程では、生産効率の向上のためになるべく露光時間を短縮する必要がある。しかし上述の直接描画露光法では、光源にレーザ等の単色光を用いるほか、基板を走査しながら光線を照射するため、従来のフォトマスクを介した露光方法と比べて多くの露光時間を要する傾向がある。そのため、従来よりも感光性樹脂組成物の感度をさらに向上させることが求められている。【０００７】
一方、現像工程では生産効率向上のためなるべく短い現像時間が求められるが、現像装置の基板搬送速度に上限がある。そのためレジストの現像時間が短い場合、特に薄膜レジストの場合は過現像条件となる。従ってレジスト組成面で適度な現像時間となるように調整することが望ましい。【０００８】
近年のプリント配線板の高密度化に伴い、感光性樹脂組成物に対しては高解像性及び高密着性への要求も高まっている。特にパッケージ基板作製において、Ｌ／Ｓ（ライン幅／スペース幅）が１０／１０（単位：μｍ）以下のレジストパターンを形成可能な感光性樹脂組成物が求められている。【０００９】
高密度パッケージ基板では、回路間の幅が狭いため、レジスト形状が優れていることも重要である。レジストの断面形状が台形又は逆台形であったり、レジストの裾引きがあったりすると、その後のエッチング処理又はめっき処理により形成された回路に短絡や断線を生じる可能性があるため望ましくなく、レジスト形状は矩形で裾引きがないことが望ましい。【００１０】
さらに感光性樹脂組成物には、硬化後の剥離特性に優れることが要求される。すなわち、レジストの剥離時間が短縮されることにより、剥離工程の生産効率が向上し、また、レジストの剥離片サイズを小さくすることにより、回路基板上への剥離片の再付着を防ぎ、生産歩留まりが向上する。【００１１】
上記に関連して、Ｌ／Ｓ（ライン幅／スペース幅）が１０／１０（単位：μｍ）以下のレジストパターンを形成するために、種々の感光性樹脂組成物が検討されている。例えば、特開２００７−２７９３８１号公報には、直接描画露光法にも対応し得る良好な感度を有する感光性樹脂組成物として、特定の増感色素を用いる感光性樹脂組成物が開示されている。また例えば、国際公開第２００７/００４６１９号パンフレットには、特定の増感色素を用いることで、感度、解像度、及びレジスト形状に優れた感光性樹脂組成物が開示されている。さらに例えば、特開２００９−００３１７７号公報には、特定の増感色素を用いることで、感度、解像度に優れた感光性樹脂組成物が開示されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、特開２００７−２７９３８１号公報に記載の感光性樹脂組成物を用いた場合、Ｌ／Ｓ（ライン幅／スペース幅）が１０／１０（単位：μｍ）以下のレジストパターンを形成するには至らず、さらに、レジスト形状にすそ引きが生じる点においても改善の余地があった。また、国際公開第０７/００４６１９号パンフレットに記載の感光性樹脂組成物を用いた場合、Ｌ／Ｓ（ライン幅／スペース幅）が１０／１０（単位：μｍ）以下のレジストパターンを形成することが困難な場合があった。さらに、特開２００９−００３１７７号公報に記載の感光性樹脂組成物を用いた場合、Ｌ／Ｓ（ライン幅／スペース幅）が１０／１０（単位：μｍ）以下のレジストパターンを形成し、かつレジストのすそ引きを抑えることが困難な場合があった。【００１３】
上述したように、従来の感光性樹脂組成物は、特に解像度、密着性及びレジスト形状の点で、更なる改良が求められている。特に、解像度、密着性を１μｍ単位で改良することが課題となっている。そこで本発明は、感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性のいずれにも優れる感光性樹脂組成物、並びに、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、及びプリント配線板の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は以下の態様を包含する。
本発明の第一の態様は、（Ａ）成分：バインダーポリマーと、（Ｂ）成分：エチレン性不飽和結合及びオキシブチレン基を有する重合性化合物と、（Ｃ）成分：光重合開始剤と、（Ｄ）成分：増感色素と、を含み、下記（１）及び（２）に示す少なくとも一方の条件を満たす感光性樹脂組成物である。
（１）前記増感色素が、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物及びトリアリールアミン化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含む。
（２）前記バインダーポリマーが、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル及び（メタ）アクリル酸ベンジルエステル誘導体からなる群より選択される少なくとも１種に由来する構成単位を含む。【００１５】
上記構成を有することにより、感度、解像度、密着性、適度な現像時間、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好となり、特に解像度及び密着性に優れた感光性樹脂組成物が提供される。【００１６】
上記（Ｃ）成分：光重合開始剤は、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含むことが好ましい。これにより、感度、解像度、及び密着性を向上させることができる。【００１７】
本発明の第二の態様は、支持体と、上記支持体上に形成され、上記感光性樹脂組成物の塗膜である感光性樹脂組成物層と、を有する感光性エレメントである。このような感光性エレメントを用いることにより、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好なレジストパターンを、感度良く効率的に形成することができる。【００１８】
本発明の第三の態様は、上記感光性樹脂組成物の塗膜である感光性樹脂組成物層を基板上に形成する工程と、上記感光性樹脂組成物層の少なくとも一部の領域に活性光線を照射して上記一部の領域を露光させて、硬化部を形成する工程と、上記感光性樹脂組成物層の上記硬化部以外の領域を上記基板上から除去して、上記基板上に上記感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成する工程と、を有するレジストパターンの製造方法である。これにより、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好なレジストパターンを、感度良く効率的に形成することができる。【００１９】
上記レジストパターンの製造方法において、照射する活性光線の波長は、３４０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内とすることが好ましい。これにより、解像度、密着性及びレジスト形状がより良好なレジストパターンを、さらに感度良く効率的に形成することができる。【００２０】
本発明の第四の態様は、上記レジストパターンの製造方法によりレジストパターンが形成された基板をエッチング処理又はめっき処理して導体パターンを形成する工程を含むプリント配線板の製造方法である。これにより、歩留まり良くプリント配線板を製造することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性のいずれにも優れる感光性樹脂組成物、並びに、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、及びプリント配線板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の感光性エレメントの好適な一実施形態を示す模式断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味し、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。また、（ポリ）オキシエチレン鎖とは、オキシエチレン基又はポリオキシエチレン鎖を意味し、（ポリ）オキシプロピレン鎖とは、オキシプロピレン基又はポリオキシプロピレン鎖を意味する。さらに「ＥＯ変性」とは、（ポリ）オキシエチレン鎖を有する化合物であることを意味し、「ＰＯ変性」とは、（ポリ）オキシプロピレン鎖を有する化合物であることを意味し、「ＥＯ・ＰＯ変性」とは、（ポリ）オキシエチレン鎖及び（ポリ）オキシプロピレン鎖の双方を有する化合物であることを意味する。「ＢＯ変性」とは、（ポリ）オキシブチレン鎖を有する化合物であることを意味し、「ＥＯ・ＢＯ変性」とは、（ポリ）オキシエチレン鎖及び（ポリ）オキシブチレン鎖の双方を有する化合物であることを意味する。【００２４】
また本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。さらに本明細書において組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。【００２５】
＜感光性樹脂組成物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）成分：バインダーポリマーと、（Ｂ）成分：エチレン性不飽和結合及びオキシブチレン基を有する重合性化合物と、（Ｃ）成分：光重合開始剤と、（Ｄ）成分：増感色素と、を含み、下記（１）及び（２）に示す少なくとも一方の条件を満たすことを特徴とする。
（１）前記増感色素が、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物及びトリアリールアミン化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含む。
（２）前記バインダーポリマーが、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル及び（メタ）アクリル酸ベンジルエステル誘導体からなる群より選択される少なくとも１種に由来する構成単位を含む。【００２６】
すなわち本発明の実施形態の一例は、（Ａ）成分：バインダーポリマーと、（Ｂ）成分：エチレン性不飽和結合及びオキシブチレン基を有する重合性化合物と、（Ｃ）成分：光重合開始剤と、（Ｄ）成分：ピラゾリン化合物、アントラセン化合物及びトリアリールアミン化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含む増感色素（以下、「特定増感色素」ともいう）と、を含む感光性樹脂組成物である。
また本発明の別の実施形態は、（Ａ）成分：（メタ）アクリル酸ベンジルエステル及び（メタ）アクリル酸ベンジルエステル誘導体からなる群より選択される少なくとも１種に由来する構成単位を含むバインダーポリマー（以下、「特定バインダーポリマー」ともいう）と、（Ｂ）成分：エチレン性不飽和結合及びオキシブチレン基を有する重合性化合物と、（Ｃ）成分：光重合開始剤と、（Ｄ）成分：増感色素と、を含む感光性樹脂組成物である。【００２７】
上記構成のように感光性樹脂組成物が、エチレン性不飽和結合及びオキシブチレン基を有する重合性化合物と、特定増感色素及び特定バインダーポリマーの少なくとも一方とを組み合わせて含むことで感度、解像度、密着性、適度な現像時間、レジスト形状及び硬化後の剥離特性のいずれにも優れ、特に解像度及び密着性に優れるという本願特有の効果を奏するものである。さらに前記感光性樹脂組成物は、エチレン性不飽和結合及びオキシブチレン基を有する重合性化合物と、特定増感色素と、特定バインダーポリマーとを組み合わせて含むことが好ましい。これにより、さらに優れた解像度及び密着性を示す。【００２８】
具体的には、エチレン性不飽和結合及びオキシブチレン基を有する重合性化合物と、増感色素としてピラゾリン化合物、アントラセン化合物及びトリアリールアミン化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物とを組み合わせることで、増感色素として一般的なジアルキルアミノベンゾフェノン化合物を用いた場合に比較して、感度、解像度、密着性、適度な現像時間、レジスト形状及び硬化後の剥離特性のいずれにも優れ、特に解像度及び密着性に優れる。また、エチレン性不飽和結合及びオキシブチレン基を有する重合性化合物と、バインダーポリマーとして（メタ）アクリル酸ベンジルエステル及び（メタ）アクリル酸ベンジルエステル誘導体からなる群より選択される少なくとも１種に由来する構成単位を含むバインダーポリマーを組み合わせることで、バインダーポリマーとして（メタ）アクリル酸ベンジルエステル及び（メタ）アクリル酸ベンジルエステル誘導体に由来する構成単位を含まないスチレン−アクリル共重合体を用いた場合に比較して、感度、解像度、密着性、適度な現像時間、レジスト形状及び硬化後の剥離特性のいずれにも優れ、特に解像度及び密着性に優れる。【００２９】
さらに前記感光性樹脂組成物においては、光重合開始剤として、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含むことで、感度、解像性、及び密着性をより向上させることができる。
これは例えば、増感色素により露光光の吸収量が高まり、光重合開始剤との相互作用によって重合効率がより向上するためと考えることができる。【００３０】
（Ｂ）成分：重合性化合物
前記感光性樹脂組成物は、（Ｂ）成分としてエチレン性不飽和結合及びオキシブチレン基を有する重合性化合物（以下、「特定重合性化合物」ともいう）の少なくとも１種を含む。上記オキシブチレン基としては、具体的には下記一般式（１）で表わされる基であることが好ましい。式（１）中、ｎは１〜３０の整数を示す。【００３１】
【化１】
2012101908.tif 000002
【００３２】
前記特定重合性化合物は、少なくとも１つのエチレン性不飽和結合と、少なくとも１つのオキシブチレン基を有する化合物であれば特に制限されない。解像度と密着性、現像性の観点から、２つのエチレン性不飽和結合と少なくとも１つの一般式（１）で表される部分構造とを有する化合物であることが好ましく、２つのエチレン性不飽和結合と少なくとも１つの上記一般式（１）で表される部分構造とオキシエチレン基及びオキシプロピレン基の少なくとも一方とを有する化合物であることがより好ましく、上記２つのエチレン性不飽和結合を両末端に有する化合物であることがさらに好ましい。
具体的には例えば、以下の一般式（２）〜一般式（５）のいずれかで表される化合物を挙げることができる。【００３３】
【化２】
2012101908.tif 000003
【００３４】
一般式（２）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。ＸＯはそれぞれ独立に、オキシエチレン基又はオキシプロピレン基を示す。ＢＯは一般式（１）で表されるオキシブチレン基を示す。ａ、ｂはオキシエチレン基又はオキシプロピレン基からなる構成単位の含有数を示し、それぞれ０〜２０の整数であって、ａ＋ｂが０〜４０となる整数を示す。ｐ及びｑはオキシブチレン基からなる構成単位の含有数を示し、それぞれ独立に１〜３０の整数を示す。なお、ＸＯ、ＢＯの結合位置は上記の構造に限られるものではなく、ベンゼン環側にオキシエチレン基又はオキシプロピレン基が結合し、（メタ）アクリル酸残基側にオキシブチレン基が結合する構造であってもよい。【００３５】
一般式（２）で表される化合物の中でも、解像度、密着性及び現像性の観点から、ａ＋ｂが１〜１２であって、ｐ＋ｑが１〜８である化合物が好ましく、ａ＋ｂが１〜１０であって、ｐ＋ｑが１〜６である化合物がより好ましく、ａ＋ｂが１〜１０であって、ｐ＋ｑが１〜６であって、ＸＯがオキシエチレン基であるジメタクリレート化合物がさらに好ましく、ａ＋ｂが２〜８であって、ｐ＋ｑが２〜４であって、ＸＯがオキシエチレン基であるジメタクリレート化合物が特に好ましい。【００３６】
【化３】
2012101908.tif 000004
【００３７】
一般式（３）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。ＸＯはオキシエチレン基又はオキシプロピレン基を示す。ＢＯは一般式（１）で表されるオキシブチレン基を示す。ｃ、ｄはオキシエチレン基又はオキシプロピレン基からなる構成単位の含有数を示し、それぞれ０〜２０であって、ｃ＋ｄが０〜４０となる整数を示す。ｒはオキシブチレン基からなる構成単位の含有数を示し、１〜３０の整数を示す。【００３８】
一般式（３）で表される化合物の中でも、解像度、密着性及び現像性の観点から、ｃ＋ｄが４〜２０であって、ｒが２〜１２である化合物が好ましく、ｃ＋ｄが８〜１６であって、ｒが４〜１０である化合物がより好ましく、ｃ＋ｄが８〜１６であって、ｒが４〜１０であって、ＸＯがオキシエチレン基であるジメタクリレート化合物がさらに好ましく、ｃ＋ｄが１０〜１４であって、ｒが４〜８であって、ＸＯがオキシエチレン基であるジメタクリレート化合物が特に好ましい。【００３９】
【化４】
2012101908.tif 000005
【００４０】
一般式（４）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。ＸＯはオキシエチレン基又はオキシプロピレン基を示す。ＢＯは一般式（１）で表されるオキシブチレン基を示す。ｅはオキシエチレン又はオキシプロピレン基からなる構成単位の含有数を示し、１〜２０の整数を示す。ｓ及びｔはオキシブチレン基からなる構成単位の含有数を示し、それぞれ独立に１〜３０の整数を示す。【００４１】
一般式（４）で表される化合物の中でも、解像度、密着性及び現像性の観点から、ｅが４〜２０であって、ｓ＋ｔが２〜１２である化合物が好ましく、ｅが８〜１６であって、ｓ＋ｔが４〜１０である化合物がより好ましく、ｅが８〜１６であって、ｓ＋ｔが４〜１０であって、ＸＯがオキシエチレン基であるジメタクリレート化合物がさらに好ましく、ｅが１０〜１４であって、ｓ＋ｔが４〜８であって、ＸＯがオキシエチレン基であるジメタクリレート化合物が特に好ましい。【００４２】
【化５】
2012101908.tif 000006
【００４３】
一般式（５）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。ＸＯはオキシエチレン基又はオキシプロピレン基を示す。ＢＯは一般式（１）で表されるオキシブチレン基を示す。ｆ及びｇはオキシエチレン又はオキシプロピレン基からなる構成単位の含有数を示し、それぞれ独立に０〜２０の整数を示す。ｐ及びｑはオキシブチレン基からなる構成単位の含有数を示し、それぞれ独立に１〜３０の整数を示す。
Ｚは２価の連結基を示す。Ｚで示される２価の連結基としては、例えば、炭素数４〜１０のアルキレン基、トリレンジイソシアネートに由来する残基、４、４’−ジフェニルメタンジイソシアネートに由来する残基、イソホロンジイソシアネートに由来する残基、水添４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートに由来する残基等を挙げることができる。ここで例えばトリレンジイソシアネートに由来する残基とは、トリレンジイソシアネートから生成するジウレタン化合物から２つのウレタン残基を取り除いた２価の基を意味し、具体的にはトルエンの芳香環から水素原子を２つ取り除いて形成されるトリレン基である。他の残基についても同様の意味である。
Ｚで表される２価の連結基は、解像度と密着性の観点から、炭素数４〜８のアルキレン基であることが好ましい。【００４４】
一般式（５）で表される化合物の中でも、解像度、密着性及び現像性の観点から、ｆ＋ｇが４〜２０であって、ｐ＋ｑが２〜１２である化合物が好ましく、ｆ＋ｇが８〜１６であって、ｐ＋ｑが４〜１０である化合物がより好ましく、ｆ＋ｇが８〜１６であって、ｐ＋ｑが４〜１０であって、ＸＯがオキシエチレン基であるジメタクリレート化合物がさらに好ましく、ｆ＋ｇが１０〜１４であって、ｐ＋ｑが４〜８であって、ＸＯがオキシエチレン基であるジメタクリレート化合物が特に好ましい。【００４５】
一般式（２）〜一般式（５）のいずれかで表される化合物における一般式（１）で表されるオキシブチレン基からなる構成単位の総含有数は、解像度と密着性の観点から、それぞれ独立に１〜３０の整数であることが好ましく、１〜２５の整数であることがより好ましく、１〜２０の整数であることがさらに好ましく、１〜８であることが特に好ましい。【００４６】
一般式（２）、一般式（３）及び一般式（５）のいずれかで表される化合物において、オキシエチレン基及びオキシプロピレン基の繰り返し総数はそれぞれ独立に、０〜４０の整数であるが、好ましくは１〜３０の整数であり、より好ましくは４〜２０の整数であり、特に好ましくは５〜１５の整数である。この含有数の総数が４０以下であることで、より優れた解像度、密着性及びレジスト形状が得られる傾向がある。
また一般式（４）で表される化合物において、オキシエチレン基及びオキシプロピレン基の繰り返し総数は、１〜２０であるが、好ましくは５〜１５である。【００４７】
前記特定重合性化合物としては、解像度と密着性の観点から、前記一般式（２）〜一般式（５）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種であることが好ましく、一般式（２）、一般式（３）及び一般式（５）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種であることがより好ましく、一般式（２）及び一般式（５）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種であることがさらに好ましい。【００４８】
（Ｂ）成分中における特定重合性化合物の含有量は特に制限されないが、現像時間、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性をバランスよく向上させる観点から、（Ｂ）成分の総質量中に５質量％〜５０質量％であることが好ましく、１０質量％〜４０質量％であることがより好ましく、２５質量％〜４０質量％であることがさらに好ましい。【００４９】
前記（Ｂ）成分は、上記特定重合性化合物に加えて、一般式（１）で表される部分構造を有さないその他の重合性化合物の少なくとも１種をさらに含んでいてもよい。
その他の重合性化合物としては、分子内に一般式（１）で表される部分構造を有さず、少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有するものであれば特に制限はない。例えば、分子内にエチレン性不飽和結合を１つ有する化合物、分子内にエチレン性不飽和結合を２つ有する化合物、分子内にエチレン性不飽和結合を３つ以上有する化合物のいずれであってもよい。【００５０】
分子内にエチレン性不飽和結合を２つ有する化合物としては、ビスフェノールＡ系ジ（メタ）アクリレート化合物、水添ビスフェノールＡ系ジ（メタ）アクリレート化合物、分子内にウレタン結合を有するジ（メタ）アクリレート化合物、分子内に（ポリ）オキシエチレン鎖及び（ポリ）オキシプロピレン鎖の双方を有するポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。【００５１】
上記の中でも、その他の重合性化合物は、解像度及び硬化後の剥離特性を向上させる観点から、ビスフェノールＡ系ジ（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種を含むことが好ましい。ビスフェノールＡ系ジ（メタ）アクリレート化合物としては、下記一般式（６）で表される化合物を挙げることができる。【００５２】
【化６】
2012101908.tif 000007
【００５３】
一般式（６）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を示す。また、ＥＯはオキシエチレン基を示し、ＰＯはオキシプロピレン基を示す。ｍ１、ｍ２、ｎ１及びｎ２はそれぞれ含有数である整数を示し、ｍ１＋ｍ２は１〜４０であり、ｎ１＋ｎ２は０〜２０である。
またオキシエチレン基及びオキシプロピレン基の結合順は、一般式（６）に限定されずオキシエチレン基とオキシプロピレン基が入れ替わっていてもよい。【００５４】
（Ｂ）成分がその他の重合性化合物として、上記一般式（６）で表される化合物を１種のみ単独で含む場合、ｍ１＋ｍ２は４〜３０であることが好ましい。また、ｎ１＋ｎ２は０〜１６であることが好ましい。【００５５】
（Ｂ）成分がその他の重合性化合物として、上記一般式（６）で表される化合物を２種類組み合わせて含む場合、ｍ１＋ｍ２が２〜１０であってｎ１＋ｎ２が０である化合物と、ｍ１＋ｍ２が２０〜４０であってｎ１＋ｎ２が０〜６である化合物と、を併用して用いることが好ましい。【００５６】
また、（Ｂ）成分がその他の重合性化合物として、上記一般式（６）で表される化合物を３種類組み合わせて含む場合、ｍ１＋ｍ２が２〜８であってｎ１＋ｎ２が０〜６である化合物と、ｍ１＋ｍ２が９〜２０であってｎ１＋ｎ２が０〜６である化合物と、ｍ１＋ｍ２が２０〜４０であってｎ１＋ｎ２が０〜６である化合物とを併用して用いることが好ましい。【００５７】
（Ｂ）成分中におけるビスフェノールＡ系ジ（メタ）アクリレート化合物の含有量は特に制限されないが、（Ｂ）成分の総質量中に１０質量％〜８０質量％であることが好ましく、３０質量％〜７０質量％であることがより好ましい。【００５８】
さらに（Ｂ）成分は、感光性樹脂組成物の硬化物（硬化膜）の可とう性を向上させる観点から、分子内に（ポリ）オキシエチレン鎖及び（ポリ）オキシプロピレン鎖の双方を有するポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートの少なくとも１種を含むことが好ましい。【００５９】
上記ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、分子内の（ポリ）オキシアルキレン鎖として、（ポリ）オキシエチレン鎖及び（ポリ）オキシプロピレン鎖（（ポリ）オキシ−ｎ−プロピレン鎖又は（ポリ）オキシイソプロピレン鎖）の双方を有するものが好ましい。また、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートは、さらに、（ポリ）オキシ−ｎ−ペンチレン鎖、（ポリ）オキシヘキシレン鎖や、これらの構造異性体等であって、一般式（１）で表される部分構造以外の炭素原子数４〜６程度の（ポリ）オキシアルキレン鎖を有していてもよい。【００６０】
ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートの分子内において、（ポリ）オキシエチレン鎖及び（ポリ）オキシプロピレン鎖は、それぞれ連続してブロック的に存在しても、ランダムに存在してもよい。また、（ポリ）オキシイソプロピレン鎖において、プロピレン基の２級炭素が酸素原子に結合していてもよく、１級炭素が酸素原子に結合していてもよい。【００６１】
ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、特に下記一般式（７）で表される化合物、一般式（８）で表される化合物又は一般式（９）で表される化合物が好ましい。これらは単独で、又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。【００６２】
【化７】
2012101908.tif 000008
【００６３】
上記一般式（７）、一般式（８）及び一般式（９）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、ＥＯはオキシエチレン基を示し、ＰＯはオキシプロピレン基を示す。ｍ３、ｍ４、ｍ５及びｍ６はオキシエチレン基からなる構成単位の含有数を示し、ｎ３、ｎ４、ｎ５及びｎ６はオキシプロピレン基からなる構成単位の含有数を示し、オキシエチレン基の繰り返し総数ｍ３＋ｍ４、ｍ５及びｍ６はそれぞれ独立に１〜３０の整数であり、オキシプロピレン基の繰り返し総数ｎ３、ｎ４＋ｎ５及びｎ６はそれぞれ独立に１〜３０の整数である。【００６４】
上記一般式（７）、一般式（８）及び一般式（９）で表される化合物において、オキシエチレン基の繰り返し総数ｍ３＋ｍ４、ｍ５及びｍ６は１〜３０の整数であるが、好ましくは１〜１０の整数であり、より好ましくは４〜９の整数であり、特に好ましくは５〜８の整数である。この含有数の総数が３０以下であると、より良好な解像度、密着性及びレジスト形状が得られる傾向がある。【００６５】
また、オキシプロピレン基の繰り返し総数ｎ３、ｎ４＋ｎ５及びｎ６は１〜３０の整数であるが、好ましくは５〜２０の整数であり、より好ましくは８〜１６の整数であり、特に好ましくは１０〜１４の整数である。この含有数の総数が３０以下であると、より良好な解像度が得られ、スラッジの発生を抑制できる傾向がある。【００６６】
（Ｂ）成分中におけるポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートの含有量は特に制限されないが、（Ｂ）成分の総質量中に５質量％〜５０質量％であることが好ましく、１０質量％〜４０質量％であることがより好ましい。【００６７】
さらに（Ｂ）成分は、分子内にエチレン性不飽和結合を１つ有する化合物の少なくとも１種を含んでいてもよい。分子内にエチレン性不飽和結合を１つ有する化合物としては、ノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレート、フタル酸系化合物、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。【００６８】
上記の中でも、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性をバランスよく向上させる観点から、ノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレート及びフタル酸系化合物から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。【００６９】
上記ノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレートとしては、例えば、ノニルフェノキシトリエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシテトラエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシペンタエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシヘキサエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシヘプタエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシオクタエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシノナエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシデカエチレンオキシアクリレート、ノニルフェノキシウンデカエチレンオキシアクリレート等が挙げられる。これらは単独で、又は２種類以上を任意に組み合わせて用いることができる。【００７０】
上記フタル酸系化合物としては、例えば、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、及びβ−ヒドロキシプロピル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート等が挙げられ、なかでも、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレートが好ましい。γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β’−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレートはＦＡ−ＭＥＣＨ（日立化成工業株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。これらは単独で、又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。【００７１】
（Ｂ）成分が分子内にエチレン性不飽和結合を１つ有する光重合性化合物を含む場合、その含有率は特に制限されないが、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性をバランスよく向上させる観点から、（Ｂ）成分全体の総質量中に１質量％〜３０質量％であることが好ましく、３質量％〜２５質量％であることがより好ましく、５質量％〜２０質量％であることがさらに好ましい。【００７２】
さらに（Ｂ）成分は、分子内にエチレン性不飽和結合を３つ以上有する化合物の少なくとも１種を含むことができる。分子内にエチレン性不飽和結合を３つ以上有する化合物としては、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（オキシエチレン基の繰り返し総数が１〜２１のもの）、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ・ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは単独で、又は２種類以上を組み合わせて使用用いることができる。
これらのうち、市販品として入手可能なものとしては、Ａ−ＴＭＭ−３（新中村化学工業株式会社製、商品名、テトラメチロールメタントリアクリレート）、ＴＭＰＴ２１Ｅ、ＴＭＰＴ３０Ｅ（日立化成工業株式会社製、サンプル名、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリメタクリレート）等が挙げられる。【００７３】
上記（Ｂ）成分は、解像度と密着性の観点から、（Ｂ）成分中の含有率が５質量％〜５０質量％である一般式（２）〜一般式（５）のいずれかで表される特定重合性化合物と、（Ｂ）成分中の含有率が５質量％〜５０質量％である一般式（６）〜一般式（９）のいずれかで表されるポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートと、（Ｂ）成分中の含有率が１質量％〜３０質量％であるノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレートとを含み、（Ｂ）成分の含有量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部中に３０質量部〜７０質量部であることが好ましく、（Ｂ）成分中の含有率が１０質量％〜４０質量％である一般式（２）、一般式（３）又は一般式（５）で表される特定重合性化合物と、（Ｂ）成分中の含有率が１０質量％〜４０質量％である一般式（６）又は一般式（７）で表されるポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートと、（Ｂ）成分中の含有率が３質量％〜２５質量％であるノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレートとを含み、（Ｂ）成分の含有量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部中に３５質量部〜６５質量部であることがより好ましい。【００７４】
（Ａ）成分：バインダーポリマー
前記感光性樹脂組成物はバインダーポリマーの少なくとも１種を含む。上記バインダーポリマーとしては通常用いられるバインダーポリマーを特に制限はなく用いることができる。中でも、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル及び（メタ）アクリル酸ベンジルエステル誘導体の少なくとも一方に由来する構成単位を有するバインダーポリマーが好ましく、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位と、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル及び（メタ）アクリル酸ベンジルエステル誘導体の少なくとも一方に由来する構成単位とを有するバインダーポリマーがより好ましく、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位と、スチレン又はスチレン誘導体に由来する構成単位と、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル又は（メタ）アクリル酸ベンジルエステル誘導体に由来する構成単位と、（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位とを有するバインダーポリマーがさらに好ましい。かかるバインダーポリマーは、（メタ）アクリル酸と、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル又は（メタ）アクリル酸ベンジルエステル誘導体と、その他の重合性単量体をラジカル重合させることにより製造することができる。【００７５】
バインダーポリマーを構成し得る（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル又は（メタ）アクリル酸ベンジルエステル誘導体以外のその他の重合性単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等のα−位若しくは芳香族環上に置換基を有する重合可能なスチレン誘導体；ジアセトンアクリルアミド等のアクリルアミド；アクリロニトリル、ビニル−ｎ−ブチルエーテル等のビニルアルコールのエステル類；（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル、（メタ）アクリル酸フルフリルエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸イソボルニルエステル、（メタ）アクリル酸アダマンチルエステル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート等のアクリル酸エステル類；α−ブロモアクリル酸、α−クロルアクリル酸、β−フリル（メタ）アクリル酸、β−スチリル（メタ）アクリル酸等のアクリル酸類；マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル；マレイン酸、マレイン酸無水物、フマール酸、ケイ皮酸、α−シアノケイ皮酸、イタコン酸、クロトン酸、プロピオール酸などが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を任意に組み合わせて使用してもよい。【００７６】
（Ａ）成分：バインダーポリマーは、アルカリ現像性及び剥離特性を向上させる観点から、（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を含んでもよい。【００７７】
（Ａ）バインダーポリマーが（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を含む場合、その含有率は、分子全質量を基準として１質量％〜５０質量％であることが好ましく、２質量％〜３０質量％であることがより好ましく、３質量％〜２０質量％であることがさらに好ましい。
この含有率が１質量％以上であると剥離片が大きくなることが抑制でき、剥離時間が長くなる傾向がある。またこの含有量が５０質量％以下であると、十分な解像度及び密着性が得られる傾向がある。【００７８】
（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、下記一般式（１０）で表される化合物が挙げられる。【００７９】
【化８】
2012101908.tif 000009
【００８０】
式中、Ｒ１０は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１１は炭素数１〜１２のアルキル基を示す。上記一般式（１０）中のＲ１１で示される炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基及びこれらの構造異性体が挙げられる。剥離特性をより向上させる観点から、上記アルキル基は、炭素数６以下のものであることが好ましく、炭素数４以下のものであることがより好ましい。【００８１】
上記一般式（１０）で表される単量体としては、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸プロピルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸ペンチルエステル、（メタ）アクリル酸ヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヘプチルエステル、（メタ）アクリル酸オクチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ノニルエステル、（メタ）アクリル酸デシルエステル、（メタ）アクリル酸ウンデシルエステル、（メタ）アクリル酸ドデシルエステル等が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を任意に組み合わせて用いることができる。【００８２】
バインダーポリマーは、解像度及び密着性を良好にする観点から、スチレン又はその誘導体に由来する構成単位、及び、（メタ）アクリル酸ベンジル又は（メタ）アクリル酸ベンジル誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種を含むことが好ましい。【００８３】
バインダーポリマーが、分子内にスチレン又はその誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種を有する場合、その含有率は特に制限されないが、バインダーポリマー分子の全質量を基準として５質量％〜８０質量％であることが好ましく、１５質量％〜７０質量％であることがより好ましく、２０質量％〜６０質量％であることがさらに好ましく、３０質量％〜５５質量％であることが特に好ましく、３５質量％〜５０質量％であることが極めて好ましい。
この含有率が１０質量％以上であると、より良好な密着性が得られる傾向があり、この含有率が８０質量％以下であると、剥離片が大きくなることを抑制でき、剥離時間が長くなることを抑制できる傾向がある。【００８４】
バインダーポリマーにおける（メタ）アクリル酸ベンジル又はその誘導体に由来する構成単位の含有率は特に制限されないが、バインダーポリマー分子の全質量を基準として５質量％〜８０質量％であることが好ましく、１０質量％〜７５質量％であることがより好ましく、２０質量％〜７０質量％であることがより好ましく、２０質量％〜６５質量％であることがさらに好ましく、２０質量％〜４０質量％であることが特に好ましい。
この含有率が５質量％以上であると、より良好な解像度が得られる傾向がある。またこの含有率が８０質量％以下であると、剥離片が大きくなることを抑制でき、剥離時間が長くなることを抑制できる傾向がある。【００８５】
バインダーポリマーの酸価は特に制限されないが、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２３０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２１０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
この酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であると現像時間が長くなることを抑制できる傾向がある。また２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、感光性樹脂組成物の硬化物の耐現像液性（密着性）がより良好になる傾向がある。
なお、溶剤現像を行う場合は、（メタ）アクリル酸等のカルボキシ基を有する重合性単量体（モノマー）に由来する構成単位の含有率を少なくすることが好ましい。【００８６】
前記バインダーポリマーは、（メタ）アクリル酸ベンジル又はその誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種と、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の少なくとも１種と、スチレン又はその誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種と、炭素数１〜６のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の少なくとも１種とを有することが好ましい。
バインダーポリマーのより好ましい態様は、（メタ）アクリル酸ベンジル又はその誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種と、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の少なくとも１種と、スチレン又はその誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種と、炭素数１〜６のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の少なくとも１種とを有し、バインダーポリマー分子中における（メタ）アクリル酸ベンジル又はその誘導体に由来する構成単位の含有率が２０質量％〜７０質量％である。
バインダーポリマーのさらに好ましい態様は、（メタ）アクリル酸ベンジル又はその誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種と、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の少なくとも１種と、スチレン又はその誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種と、炭素数１〜６のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の少なくとも１種とを有し、バインダーポリマー分子中における（メタ）アクリル酸ベンジル又はその誘導体に由来する構成単位の含有率が２０質量％〜６５質量％であり、スチレン又はその誘導体に由来する構成単位の含有率が３０質量％〜５５質量％であり、炭素数１〜６のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の含有率が２質量％〜３０質量％であり、酸価が１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２２０ｍｇＫＯＨ／ｇである。【００８７】
バインダーポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は特に制限されない。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定（標準ポリスチレンを用いた検量線により換算）した場合、重量平均分子量（Ｍｗ）が１００００〜１０００００であることが好ましく、２００００〜８００００であることがより好ましく、２５０００〜７００００であることがさらに好ましい。
重量平均分子量（Ｍｗ）が１００００以上であると、感光性樹脂組成物の硬化物の耐現像液性（密着性）がより良好になる傾向がある。また１０００００以下であると現像時間が長くなることを抑制できる傾向がある。【００８８】
バインダーポリマーの分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は特に制限されないが、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．５であることがより好ましい。分散度が３．０以下であると密着性及び解像度がより良好になる傾向がある。【００８９】
また、バインダーポリマーは、必要に応じて３５０ｎｍ〜４４０ｎｍの範囲内の波長を有する光に対して感光性を有する特性基をその分子内に有していてもよい。【００９０】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーは、１種類のバインダーポリマーを単独で使用してもよく、２種類以上のバインダーポリマーを任意に組み合わせて使用してもよい。
２種類以上を組み合わせて使用する場合のバインダーポリマーとしては、例えば、異なる共重合成分からなる２種類以上の（異なるモノマー単位を共重合成分として含む）バインダーポリマー、異なる重量平均分子量の２種類以上のバインダーポリマー、異なる分散度の２種類以上のバインダーポリマーなどが挙げられる。また、特開平１１−３２７１３７号公報に記載のマルチモード分子量分布を有するポリマーを使用することもできる。【００９１】
（Ａ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して３０質量部〜７０質量部とすることが好ましく、３５質量部〜６５質量部とすることがより好ましく、４０質量部〜６０質量部とすることが特に好ましい。
この含有量が３０質量部以上であるとフィルムの形成性がより良好になる傾向がある。
また、７０質量部以下であると、感度及び解像度がより良好になる傾向がある。【００９２】
感光性樹脂組成物は、解像度と密着性の観点から、（Ｂ）成分として一般式（２）〜一般式（５）のいずれかで表される特定重合性化合物の少なくとも１種と、（Ａ）成分として（メタ）アクリル酸ベンジル又はその誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の少なくとも１種、スチレン又はその誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種、及び炭素数１〜６のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の少なくとも１種を有するバインダーポリマーとを含み、（Ａ）成分の含有量が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して３０質量部〜７０質量部であることが好ましい。【００９３】
感光性樹脂組成物のより好ましい態様は、解像度と密着性の観点から、（Ｂ）成分として一般式（２）、一般式（３）及び一般式（５）のいずれかで表される特定重合性化合物の少なくとも１種と、（Ａ）成分として（メタ）アクリル酸ベンジル又はその誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の少なくとも１種、スチレン又はその誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種、及び炭素数１〜６のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の少なくとも１種を有し、分子中における（メタ）アクリル酸ベンジル又はその誘導体に由来する構成単位の含有率が２０質量％〜７０質量％であるバインダーポリマーと、を含み、（Ａ）成分の含有量が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して３５質量部〜６５質量部である。【００９４】
感光性樹脂組成物のさらに好ましい態様は、解像度と密着性の観点から、（Ｂ）成分として（Ｂ）成分中の含有率が５質量％〜５０質量％である一般式（２）、一般式（３）及び一般式（５）のいずれかで表される特定重合性化合物の少なくとも１種と、（Ａ）成分として（メタ）アクリル酸ベンジル又はその誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位の少なくとも１種、スチレン又はその誘導体に由来する構成単位の少なくとも１種、及び炭素数１〜６のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の少なくとも１種を有し、分子中における（メタ）アクリル酸ベンジル又はその誘導体に由来する構成単位の含有率が２０質量％〜６５質量％であり、スチレン又はその誘導体に由来する構成単位の含有率が３０質量％〜５５質量％であり、炭素数１〜６のアルキル基を含む（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の含有率が２質量％〜３０質量％であり、酸価が１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーポリマーと、を含み、（Ａ）成分の含有量が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して４０質量部〜６０質量部である。【００９５】
（Ｃ）成分：光重合開始剤
前記感光性樹脂組成物は、光重合開始剤の少なくとも１種を含む。光重合開始剤としては例えば、ベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン等の芳香族ケトン化合物、アルキルアントラキノン等のキノン化合物、ベンゾインアルキルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン、アルキルベンゾイン等のベンゾイン化合物、ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体化合物、９−フェニルアクリジン、１，７−（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体などが挙げられる。
これらは１種単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。【００９６】
（Ｃ）成分である光重合開始剤は、感度及び密着性を向上させる観点から、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体の少なくとも１種を含むことが好ましく、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体を含むことがより好ましい。
尚、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体はその構造が対称であっても非対称であってもよい。【００９７】
（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して０．１質量部〜１０質量部であることが好ましく、１質量部〜７質量部であることがより好ましく、２質量部〜６質量部であることがさらに好ましく、３質量部〜５質量部であることが特に好ましい。
この含有量が０．１質量部以上であるとより良好な感度、解像度又は密着性が得られる傾向がある。また１０質量部以下であるとより良好なレジスト形状が得られる傾向がある。【００９８】
本発明における（Ｃ）成分は、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体の少なくとも１種を、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して０．１質量部〜１０質量部含有することが好ましく、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体を（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して１質量部〜７質量部含むことがより好ましい。【００９９】
（Ｄ）成分：増感色素
上記感光性樹脂組成物は、少なくとも１種の増感色素を含む。増感色素としては例えば、ジアルキルアミノベンゾフェノン化合物、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物、クマリン化合物、キサントン化合物、チオキサントン化合物、オキサゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、トリアゾール化合物、スチルベン化合物、トリアジン化合物、チオフェン化合物、ナフタルイミド化合物、トリアリールアミン化合物及びアミノアクリジン化合物などが挙げられる。これらは１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。【０１００】
これらの中でも感度及び密着性の観点から、（Ｄ）成分である増感色素は、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物、クマリン化合物、トリアリールアミン化合物、チオキサントン化合物及びアミノアクリジン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物及びトリアリールアミン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことがより好ましい。【０１０１】
上記ピラゾリン類としては、下記一般式（１１）及び一般式（１２）のいずれかで表されるピラゾリン化合物であることが好ましい。【０１０２】
【化９】
2012101908.tif 000010
【０１０３】
一般式（１１）中、Ｒ３〜Ｒ５はそれぞれ独立に炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基又はハロゲン原子を示す。ｘ１、ｙ１及びｚ１はそれぞれ独立に０〜５の整数を示し、かつ、ｘ１、ｙ１及びｚ１の総和は１〜６である。ｘ１、ｙ１及びｚ１の少なくとも１つが２以上のとき、複数存在するＲ３〜Ｒ５は互いに同一でも異なっていてもよい。【０１０４】
一般式（１１）中、Ｒ３〜Ｒ５のうち少なくとも１つは、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数１〜３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基であることがより好ましく、イソプロピル基、メトキシ基又はエトキシ基であることが更に好ましい。【０１０５】
一般式（１１）で表されるピラゾリン化合物として具体的には、１−フェニル−３−（４−イソプロピルスチリル）−５−（４−イソプロピルフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−スチリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−メトキシスチリル）−５−（４−メトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（３，５−ジメトキシスチリル）−５−（３，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（３，４−ジメトキシスチリル）−５−（３，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，６−ジメトキシスチリル）−５−（２，６−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，５−ジメトキシスチリル）−５−（２，５−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，３−ジメトキシスチリル）−５−（２，３−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（２，４−ジメトキシスチリル）−５−（２，４−ジメトキシフェニル）−ピラゾリン等の上記一般式（１１）におけるｘ１＝０に相当するピラゾリン化合物を好ましく挙げることができるが、本発明はこれらに限定されない。【０１０６】
【化１０】
2012101908.tif 000011
【０１０７】
一般式（１２）中、Ｒ６〜Ｒ８はそれぞれ独立に炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基、ハロゲン原子又はフェニル基を示す。ｘ２、ｙ２及びｚ２はそれぞれ独立に０〜５の整数を示し、かつ、ｘ２、ｙ２及びｚ２の総和は１〜６である。ｘ２、ｙ２及びｚ２の少なくとも１つが２以上のとき、複数存在するＲ６〜Ｒ８は互いに同一でも異なっていてもよい。【０１０８】
一般式（１２）中、Ｒ６〜Ｒ８のうち少なくとも１つは、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基又はフェニル基であることが好ましく、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基又はフェニル基であることがより好ましく、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基又はフェニル基であることが更に好ましい。【０１０９】
一般式（１２）で表されるピラゾリン化合物としては例えば、１−フェニル−３，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３，５−ビス（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−メトキシ−フェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−５−（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−イソプロピル−フェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−５−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−メトキシ−フェニル）−５−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−イソプロピル−フェニル）−５−（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（４−イソプロピル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１，３−ジフェニル−５−（４−メトキシ−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１，５−ジフェニル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン等の上記一般式（１２）においてｘ２＝０に相当するピラゾリン化合物；１−フェニル−３−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−ピラゾリン、１−フェニル−３−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）−ピラゾリン等の上記一般式（１２）においてｙ２＝１、Ｒ７＝フェニル基であるピラゾリン化合物などが好ましく挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。【０１１０】
上記アントラセン化合物としては、下記一般式（１３）で表されるアントラセン化合物であることが好ましい。【０１１１】
【化１１】
2012101908.tif 000012
【０１１２】
一般式（１３）中、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、炭素数２〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシアルキル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数５〜１２のシクロアルコキシアルキル基、フェニル基、ベンジル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基又はベンゾイル基を表す。Ｒ１１〜Ｒ１８はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、炭素数２から１２のアルケニル基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、フェニル基、フェノキシ基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基又はベンゾイル基を示す。【０１１３】
上記炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数２〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシアルキル基は、水酸基で置換されてもよい。また上記炭素数５〜１２のシクロアルキル基又は炭素数５〜１２のシクロアルキルエーテル基は、水酸基で置換されてもよい。【０１１４】
上記Ｒ９及びＲ１０におけるフェニル基、ベンジル基、ベンゾイル基及びアルカノイル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、フェニル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェノキシ基、及び炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基からなる群より選ばれる少なくとも１種を挙げることができる。【０１１５】
一般式（１３）で表される化合物は、解像度と密着性の観点から、Ｒ９及びＲ１０がそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜８のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることがさらに好ましい。
炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
またＲ９及びＲ１０は同一でも異なっていてもよいが、解像度と密着性の観点から、同一であることが好ましい。具体的には例えば、エチル基同士の組合せ、プロピル基同士の組合せ、ブチル基同士の組合せ等が挙げられる。【０１１６】
一般式（１３）で表される化合物は、解像度と密着性の観点から、Ｒ１１〜Ｒ１８はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２から１２のアルケニル基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基又はフェノキシ基であることが好ましい。具体的には例えば、Ｒ１１〜Ｒ１８はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、へキセニル基、ヘプテニル基、エトキシカルボニル基、ヒドロキシエトキシカルボニル基、又はフェノキシ基であることが好ましい。【０１１７】
一般式（１３）におけるＲ１１〜Ｒ１８の組み合わせとしては、解像度と密着性の観点から、それら全てが水素原子である場合；それらのいずれか１つがメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、へキセニル基、ヘプテニル基、エトキシカルボニル基、ヒドロキシエトキシカルボニル基、又はフェノキシ基であって、それ以外の全てが水素原子である場合；それらのいずれか２つがそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、へキセニル基、ヘプテニル基、エトキシカルボニル基、ヒドロキシエトキシカルボニル基、又はフェノキシ基であって、それ以外の全てが水素原子である場合等の組み合わせを好ましく挙げることができる。【０１１８】
一般式（１３）で表される化合物は、解像度と密着性の観点から、Ｒ９及びＲ１０が炭素数１〜４のアルキル基であって、Ｒ１１〜Ｒ１８は水素原子であることが特に好ましい。
上記一般式（１３）で示される化合物として具体的には、９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、９，１０−ジブトキシアントラセン等が好ましく挙げられる。【０１１９】
上記トリアリールアミン化合物としては、下記一般式（１４）で表されるトリアリールアミン化合物であることが好ましい。【０１２０】
【化１２】
2012101908.tif 000013
【０１２１】
上記一般式（１４）中、Ｒ１９、Ｒ２０及びＲ２１はそれぞれ独立に、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数１〜４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基を示す。ｈ、ｉ及びｊは、ｈ＋ｉ＋ｊの値が１以上となるように選ばれる０〜５の整数を示す。
なお、ｈが２以上の場合、複数存在するＲ１９は同一でも異なっていてもよく、ｉが２以上の場合、複数存在するＲ２０は同一でも異なっていてもよく、ｊが２以上の場合、複数存在するＲ２１は同一でも異なっていてもよい。【０１２２】
一般式（１４）で表される化合物は、解像度と密着性の観点から、Ｒ１９が炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基であって、ｉ及びｊが０であり、ｈが１であることが好ましく、Ｒ１９が炭素数１〜４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基であって、ｉ及びｊが０であり、ｈが１であることが好ましい。【０１２３】
（Ｄ）成分の含有量は特に制限されないが、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して０．０１質量部〜１０質量部であることが好ましく、０．０５質量部〜５質量部であることがより好ましく、０．１質量部〜３質量部であることがさらに好ましい。
この含有量が０．０１質量部以上であると、より良好な感度及び解像度が得られる傾向がある。また１０質量部以下であると、より良好なレジスト形状が得られる傾向がある。【０１２４】
（Ｄ）成分である増感色素は、解像度と密着性の観点から、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物及びトリアリールアミン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して０．０１質量部〜１０質量部含むことが好ましく、一般式（１１）又は一般式（１２）で表されるピラゾリン化合物、一般式（１３）で表されるアントラセン化合物及び一般式（１４）で表されるトリアリールアミン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して０．０５質量部〜５質量部含むことがより好ましい。【０１２５】
感光性樹脂組成物は、解像度と密着性の観点から、（Ｂ）成分として一般式（２）〜一般式（５）のいずれかで表される特定重合性化合物の少なくとも１種と、（Ｄ）成分としてピラゾリン化合物、アントラセン化合物及びトリアリールアミン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して０．０１質量部〜１０質量部含むことが好ましい。【０１２６】
感光性樹脂組成物のより好ましい態様は、解像度と密着性の観点から、（Ｂ）成分として一般式（２）、一般式（３）及び一般式（５）のいずれかで表される特定重合性化合物の少なくとも１種と、（Ｄ）成分として一般式（１１）又は一般式（１２）で表されるピラゾリン化合物、一般式（１３）で表されるアントラセン化合物及び一般式（１４）で表されるトリアリールアミン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して０．０５質量部〜５質量部含むことである。【０１２７】
上記感光性樹脂組成物は、（Ｅ）成分：アミン系化合物の少なくとも１種を更に含むことが好ましい。
アミン系化合物としては、ビス［４−（ジメチルアミノ）フェニル］メタン、ビス［４−（ジエチルアミノ）フェニル］メタン、ロイコクリスタルバイオレットなどが挙げられる。これらは１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用できる。【０１２８】
感光性樹脂組成物が（Ｅ）成分であるアミン系化合物を含む場合、その含有量は特に制限されないが、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して０．０１質量部〜１０質量部とすることが好ましく、０．０５質量部〜５質量部とすることがより好ましく、０．１質量部〜２質量部とすることが特に好ましい。
この含有量が０．０１質量部以上であると、より良好な感度が得られる傾向があり、１０質量部以下であると、フィルム形成後に過剰な（Ｅ）成分が異物として析出することを抑制できる。【０１２９】
上記感光性樹脂組成物は、必要に応じて、上記以外のその他の成分を含むことができる。その他の成分としては、分子内に少なくとも１つのカチオン重合可能な環状エーテル基を有する光重合性化合物（オキセタン化合物等）、カチオン重合開始剤、マラカイトグリーン等の染料、トリブロモフェニルスルホン等の光発色剤、熱発色防止剤、ｐ−トルエンスルホンアミド等の可塑剤、顔料、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、密着性付与剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋剤などを挙げることができる。これらは、１種単独で又は２種化合物以上を組み合わせて使用される。
またこれらの含有量は特に制限されないが、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、それぞれ０．０１質量部〜２０質量部程度とすることが好ましい。【０１３０】
上記感光性樹脂組成物は、必要に応じて溶剤を含むことができる。溶剤としては特に制限されず、通常用いられる溶剤から適宜選択することができる。具体的には例えば、メタノール、エタノール等のアルコール化合物、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン化合物、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のグリコールアセテート化合物、トルエン等の炭化水素化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル化合物などを挙げることができる。
これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせた混合溶剤として使用される。
溶剤の含有量は目的に応じて適宜選択される。例えば感光性樹脂組成物を固形分として３０質量％〜６０質量％程度の溶液とすることができる。尚、固形分は感光性樹脂組成物中の不揮発性成分の総量である。【０１３１】
上記感光性樹脂組成物は、例えば以下のようにして感光性樹脂組成物層の形成に用いることができる。上記塗布液を後述する支持フィルム、金属板などの支持体の表面上に塗布し、乾燥させることにより、上記感光性樹脂組成物の塗膜である感光性樹脂組成物層を支持体上に形成することができる。
金属板としては、例えば、銅、銅系合金、ニッケル、クロム、鉄、ステンレス等の鉄系合金、好ましくは銅、銅系合金、鉄系合金などが挙げられる。【０１３２】
形成される感光性樹脂組成物層の厚みは、その用途により異なるが、乾燥後の厚みで１μｍ〜１００μｍ程度であることが好ましい。感光性樹脂組成物層の支持体に対向する面とは反対側の面（表面）は保護フィルムで被覆されていてもよい。保護フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン等の重合体フィルムなどが挙げられる。【０１３３】
＜感光性エレメント＞
図１に示すように、本発明の感光性エレメント１０は、支持体２と、上記支持体上に形成された上記感光性樹脂組成物の塗膜である感光性樹脂組成物層４とを有し、必要に応じて設けられる保護フィルム６等のその他の層を有して構成される。【０１３４】
［支持体］
上記支持体２としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、及びポリエステル等の耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体フィルムを用いることができる。
上記支持体（以下、「重合体フィルム」ともいう）の厚みは、１μｍ〜１００μｍであることが好ましく、５μｍ〜５０μｍであることがより好ましく、５μｍ〜３０μｍであることが更に好ましい。重合体フィルムの厚みが１μｍ以上であることで、感光性樹脂組成物の塗布時に重合体フィルムが破れることを抑制できる。また１００μｍ以下であることで解像度の低下が抑制される。【０１３５】
［保護フィルム］
上記感光性エレメント１０は、必要に応じて、感光性樹脂組成物層４の支持体２に対向する面とは反対側の面（表面）を被覆する保護フィルム６をさらに備えてもよい。
上記保護フィルム６としては、感光性樹脂組成物層に対する接着力が、支持体の感光性樹脂組成物層に対する接着力よりも小さいものが好ましく、また、低フィッシュアイのフィルムが好ましい。
ここで、「フィッシュアイ」とは、保護フィルムを構成する材料を熱溶融し、混練、押し出し、２軸延伸、キャスティング法等によりフィルムを製造する際に、材料の異物、未溶解物、酸化劣化物等がフィルム中に取り込まれたものを意味する。すなわち、「低フィッシュアイ」とは、フィルム中の上記異物等が少ないことを意味する。【０１３６】
具体的に、保護フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステル等の耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体フィルムを用いることができる。市販のものとしては、王子製紙社製アルファンＭＡ‐４１０、Ｅ−２００Ｃ、信越フィルム社製等のポリプロピレンフィルム、帝人社製ＰＳ−２５のようなＰＳシリーズ等のポリエチレンテレフタレートフィルムなどが挙げられる。なお、保護フィルムは上記支持体と同一のものでもよい。【０１３７】
保護フィルムの厚みは、１μｍ〜１００μｍであることが好ましく、５μｍ〜５０μｍであることがより好ましく、５μｍ〜３０μｍであることが更に好ましく、１５μｍ〜３０μｍであることが特に好ましい。保護フィルムの厚みが１μｍ以上であることで、保護フィルムを剥がしながら、感光性樹脂組成物層及び支持フィルムを基板上にラミネートする際、保護フィルムが破れることを抑制できる。また１００μｍ以下であることで生産性が向上する。【０１３８】
［感光性エレメントの製造方法］
本発明の感光性エレメントは、例えば以下のようにして製造することができる。溶剤を含む感光性樹脂組成物（以下、「塗布液」ともいう）を支持体上に塗布して塗布層を形成する工程と、上記塗布層を乾燥して感光性樹脂組成物層を形成する工程と、必要に応じてその他の工程とを含む製造方法で製造することができる。【０１３９】
上記塗布液の支持体上への塗布は、ロールコータ、コンマコータ、グラビアコータ、エアーナイフコータ、ダイコータ、バーコータ、スプレーコータ等の公知の方法で行うことができる。【０１４０】
また、上記塗布層の乾燥は、塗布層から有機溶剤の少なくとも一部を除去することができれば特に制限はない。例えば、７０℃〜１５０℃、５分〜３０分程度で行うことができる。乾燥後、感光性樹脂組成物層中の残存有機溶剤量は、後の工程での有機溶剤の拡散を防止する点から、２質量％以下とすることが好ましい。【０１４１】
感光性エレメントにおける感光性樹脂組成物層の厚みは、用途により適宜選択することができるが、乾燥後の厚みで１μｍ〜２００μｍであることが好ましく、５μｍ〜１００μｍであることがより好ましく、１０μｍ〜５０μｍであることが特に好ましい。この厚みが１μｍ以上であることで、工業的な塗工が容易になり、生産性が向上する。２００μｍ以下の場合には、本発明の効果が充分に得られて、光感度が高く、レジスト底部の光硬化性に優れる傾向がある。【０１４２】
また、本発明の感光性エレメントをセミアディティブ工法（ＳＡＰ）へ使用する際、感光性樹脂組成物層中の厚みは、１μｍ〜４０μｍであることが好ましく、５μｍ〜３５μｍであることがより好ましい。【０１４３】
本発明の感光性エレメントは、必要に応じて、更にクッション層、接着層、光吸収層、及びガスバリア層等の中間層などを有していてもよい。
これらの中間層は例えば、特開２００６−０９８９８２号公報等に記載の中間層を本発明においても適用することができる。【０１４４】
本発明の感光性エレメントの形態は特に制限されない。例えば、シート状であってもよく、又は巻芯にロール状に巻き取った形状であってもよい。
ロール状に巻き取る場合、支持フィルムが外側になるように巻き取ることが好ましい。
巻芯としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）等のプラスチックなどが挙げられる。【０１４５】
このようにして得られたロール状の感光性エレメントロールの端面には、端面保護の見地から端面セパレータを設置することが好ましく、耐エッジフュージョンの見地から防湿端面セパレータを設置することが好ましい。また、梱包方法としては、透湿性の小さいブラックシートに包んで包装することが好ましい。【０１４６】
本発明の感光性エレメントは、例えば、後述するレジストパターンの製造方法に好適に用いることができる。【０１４７】
＜レジストパターンの製造方法＞
本発明のレジストパターンの製造方法は、（ｉ）上記感光性樹脂組成物の塗膜である感光性樹脂組成物層を回路形成用基板（以下「基板」と略称する場合がある）上に形成する感光性樹脂組成物層形成工程と、（ｉｉ）上記感光性樹脂組成物層の少なくとも一部の領域に活性光線を照射して、前記一部の領域に硬化部を形成する露光工程と、（iii）上記感光性樹脂組成物層の前記硬化部以外の領域を前記基板上から除去して、基板上に感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターンを形成する現像工程と、を有し、必要に応じてその他の工程を含んで構成される。【０１４８】
（ｉ）感光性樹脂組成物層形成工程
感光性樹脂組成物層形成工程においては、基板上に上記感光性樹脂組成物に由来する感光性樹脂組成物層が形成される。基板は、通常、絶縁層と絶縁層上に形成された導体層とを備える。感光性樹脂組成物層が接する基板の表面は、通常導体層となる。導体層の材質については特に制限はない。【０１４９】
基板上に感光性樹脂組成物層を形成する方法としては、例えば、上記感光性エレメントが保護フィルムを有している場合には、保護フィルムを除去した後、感光性エレメントの感光性樹脂組成物層を加熱しながら基板に圧着することにより行うことができる。これにより、基板と感光性樹脂組成物層と支持体とをこの順に備える積層体が得られる。【０１５０】
この感光性樹脂組成物層形成工程は、密着性及び追従性の見地から、減圧下で行うことが好ましい。圧着の際の加熱は、７０℃〜１３０℃の温度で行うことが好ましい。また圧着は、０．１ＭＰａ〜１．０ＭＰａ程度（１ｋｇｆ／ｃｍ２〜１０ｋｇｆ／ｃｍ２程度）の圧力で行うことが好ましいが、これらの条件には必要に応じて適宜選択される。なお、感光性樹脂組成物層を７０℃〜１３０℃に加熱すれば、予め基板を予熱処理することは必要ではないが、密着性及び追従性をさらに向上させるために、基板の予熱処理を行うこともできる。【０１５１】
（ｉｉ）露光工程
露光工程においては、基板上に形成された感光性樹脂組成物層の少なくとも一部に活性光線を照射し、活性光線が照射された露光部が光硬化して、潜像が形成される。
この際、感光性樹脂組成物層上に存在する支持体が活性光線に対して透過性である場合には、支持体を通して活性光線を照射することができるが、支持体が遮光性である場合には、支持体を除去した後に感光性樹脂組成物層に活性光線を照射する。【０１５２】
露光方法としては、アートワークと呼ばれるネガ又はポジマスクパターンを介して活性光線を画像状に照射する方法（マスク露光法）が挙げられる。また、ＬＤＩ（Ｌａｓｅｒ  Ｄｉｒｅｃｔ  Ｉｍａｇｉｎｇ）露光法や、ＤＬＰ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｌｉｇｈｔ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ）露光法などの直接描画露光法により活性光線を画像状に照射する方法を採用してもよい。【０１５３】
活性光線の光源としては、公知の光源、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、アルゴンレーザ等のガスレーザ、ＹＡＧレーザ等の固体レーザ、半導体レーザ及び窒化ガリウム系青紫色レーザ等の紫外線を有効に放射するものが用いられる。また、写真用フラッド電球、太陽ランプ等の可視光を有効に放射するものを用いてもよい。【０１５４】
活性光線の波長（露光波長）は特に制限されないが、本発明の効果をより確実に得る観点から、３４０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内とすることが好ましく、３９０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内とすることがより好ましい。【０１５５】
（iii）現像工程
現像工程においては、上記感光性樹脂組成物層の未硬化部分が基板上から現像により除去されることで、上記感光性樹脂組成物層が光硬化した硬化物からなるレジストパターン（光硬化部）が基板上に形成される。
感光性樹脂組成物層上に支持フィルムが存在している場合には、支持フィルムを除去してから、上記露光部分以外の未露光部分の除去（現像）を行う。現像方法には、ウエット現像とドライ現像とがある。【０１５６】
ウエット現像の場合は、感光性樹脂組成物に対応した現像液を用いて、公知の現像方法により現像する。現像方法としては、ディップ方式、バトル方式、スプレー方式、ブラッシング、スラッピング、スクラッピング、揺動浸漬等を用いた方法が挙げられ、解像度向上の観点からは、高圧スプレー方式が最も適している。これら２種以上の方法を組み合わせて現像を行ってもよい。【０１５７】
現像液の構成は上記感光性樹脂組成物の構成に応じて適宜選択される。具体的には、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤系現像液等が挙げられる。【０１５８】
アルカリ性水溶液は、現像液として用いられる場合、安全且つ安定であり、操作性が良好である。アルカリ性水溶液の塩基としては、例えば、リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等の水酸化アルカリ、リチウム、ナトリウム、カリウム若しくはアンモニウムの炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリ、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸塩などが用いられる。【０１５９】
現像に用いるアルカリ性水溶液としては、０．１質量％〜５質量％炭酸ナトリウムの希薄溶液、０．１質量％〜５質量％炭酸カリウムの希薄溶液、０．１質量％〜５質量％水酸化ナトリウムの希薄溶液、０．１質量％〜５質量％四ホウ酸ナトリウムの希薄溶液等が好ましい。また、現像に用いるアルカリ性水溶液のｐＨは９〜１１の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光性樹脂組成物層の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。【０１６０】
上記水系現像液は、例えば、水又はアルカリ性水溶液と一種以上の有機溶剤とからなる現像液である。ここで、アルカリ性水溶液の塩基としては、先に述べた物質以外に、ホウ砂やメタケイ酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、エタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２ーアミノ−２−ヒドロキシメチル−１、３−プロパンジオール、１、３−ジアミノプロパノール−２、モルホリン等が挙げられる。水系現像液のｐＨは、現像が充分に行われる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、ｐＨ８〜１２とすることが好ましく、ｐＨ９〜１０とすることがより好ましい。【０１６１】
水系現像液に用いる有機溶剤としては、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアルコキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。水系現像液における有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０質量％とすることが好ましく、その温度は、現像性にあわせて調整することができる。水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入することもできる。【０１６２】
有機溶剤系現像液としては、１，１，１−トリクロロエタン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止のため、１質量％〜２０質量％の範囲で水を添加することが好ましい。【０１６３】
本発明のレジストパターンの製造方法では、現像工程において未露光部分を除去した後、必要に応じて６０℃〜２５０℃程度の加熱又は０．２ｍＪ／ｃｍ２〜１０ｍＪ／ｃｍ２程度の露光を行うことによりレジストパターンをさらに硬化して用いてもよい。【０１６４】
＜プリント配線板の製造方法＞
本発明のプリント配線板の製造方法は、上記レジストパターンの製造方法により光硬化部（レジストパターン）が形成された回路形成用基板をエッチング処理又はめっき処理して導体パターンを形成する工程を含み、必要に応じて光硬化部除去工程等のその他の工程を含みうる。前記感光性エレメントは、特にめっき工程を含む方法によるプリント配線板の製造に適しており、なかでもセミアディティブ工法（ＳＡＰ）への使用に適している。ＳＡＰへの使用に適している理由として、本発明者らは以下のように考えている。ＳＡＰで生産されるプリント配線板のライン幅は、サブトラクティブ工法で生産されるプリント配線板に比較し、かなり細い傾向がある。またＳＡＰの場合、レジスト形状が、そのままめっきライン形状へ転写される。さらに、ＳＡＰで生産される極細線ラインパターンを有するプリント配線板の場合、微小なレジスト欠けの発生により、生産歩留を低下させる傾向がある。これらの要求から、本実施形態に係る感光性エレメントは、特にＳＡＰへの使用に適している。【０１６５】
エッチング処理では、基板上に形成されたレジストパターンをマスクとして、レジストパターンによって被覆されていない回路形成用基板の導体層をエッチング除去し、導体パターンを形成する。【０１６６】
エッチング処理の方法は、除去すべき導体層に応じて適宜選択される。例えば、エッチング液としては、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液、過酸化水素系エッチング液が挙げられ、エッチファクターが良好な点から塩化第二鉄溶液を用いることが望ましい。【０１６７】
一方、めっき処理では、基板上に形成されたレジストパターンをマスクとして、レジストパターンによって被覆されていない回路形成用基板の導体層上に銅及び半田などをめっきする。めっき処理の後、レジストパターンを除去し、更にレジストパターンによって被覆されていた導体層をエッチングして、導体パターンを形成する。【０１６８】
めっき処理の方法としては、電解めっき処理であっても、無電解めっき処理であってもよい。めっき処理としては、硫酸銅めっき、ピロリン酸銅めっき等の銅めっき、ハイスローはんだめっき等のはんだめっき、ワット浴（硫酸ニッケル−塩化ニッケル）めっき、スルファミン酸ニッケルめっき等のニッケルめっき、ハード金めっき、ソフト金めっき等の金めっきが挙げられる。【０１６９】
上記エッチング処理及びめっき処理の後、基板上のレジストパターンは除去される。レジストパターンの除去は、例えば、上記現像工程に用いたアルカリ性水溶液よりも更に強アルカリ性の水溶液により剥離することができる。この強アルカリ性の水溶液としては、例えば、１質量％〜１０質量％水酸化ナトリウム水溶液、１質量％〜１０質量％水酸化カリウム水溶液等が用いられる。なかでも、１質量％〜１０質量％水酸化ナトリウム水溶液又は水酸化カリウム水溶液を用いることが好ましく、１質量％〜５質量％水酸化ナトリウム水溶液又は水酸化カリウム水溶液を用いることがより好ましい。【０１７０】
レジストパターンの剥離方式としては、例えば、浸漬方式及びスプレー方式等が挙げられ、これらを単独で使用してもよいし、併用してもよい。【０１７１】
めっき処理を施してからレジストパターンを除去した場合、さらにエッチング処理によってレジストで被覆されていた導体層をエッチングし、導体パターンを形成することで所望のプリント配線板を製造することができる。エッチング処理の方法は、除去すべき導体層に応じて適宜選択される。例えば、上述のエッチング液を適用することができる。【０１７２】
本発明のプリント配線板の製造方法によって製造されるプリント配線板は、単層プリント配線板のみならず多層プリント配線板の製造にも適用可能であり、また小径スルーホールを有するプリント配線板等の製造にも適用可能である。
【実施例】
【０１７３】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。【０１７４】
＜（Ａ）成分：バインダーポリマー＞
［バインダーポリマー（Ａ−１）の合成］
重合性単量体（モノマー）であるメタクリル酸１５０ｇ、メタクリル酸ベンジル１２５ｇ、メタクリル酸メチル２５ｇ及びスチレン２００ｇ（質量比３０／２５／５／４０）と、アゾビスイソブチロニトリル９．０ｇとを混合して得た溶液を「溶液ａ」とした。【０１７５】
メチルセロソルブ６０ｇ及びトルエン４０ｇの混合液（質量比３：２）１００ｇに、アゾビスイソブチロニトリル１．２ｇを溶解して得た溶液を「溶液ｂ」とした。【０１７６】
撹拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロート及び窒素ガス導入管を備えたフラスコに、メチルセロソルブ２７０ｇ及びトルエン１８０ｇの混合液（質量比３：２）４５０ｇを投入し、フラスコ内に窒素ガスを吹き込みながら撹拌し、８０℃まで加熱昇温させた。【０１７７】
フラスコ内の上記混合液に、上記溶液ａを４時間かけて滴下した後、撹拌しながら８０℃にて２時間保温した。次いで、フラスコ内の溶液に、上記溶液ｂを１０分間かけて滴下した後、フラスコ内の溶液を撹拌しながら８０℃にて３時間保温した。さらに、フラスコ内の溶液を３０分間かけて９０℃まで昇温させ、９０℃にて２時間保温した後、冷却してバインダーポリマー（Ａ−１）の溶液を得た。【０１７８】
バインダーポリマー（Ａ−１）の不揮発分（固形分）は４７．８質量％であり、重量平均分子量は３０，０００であり、酸価は１９６ｍｇＫＯＨ／ｇであった。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
ＧＰＣ条件
ポンプ：日立  Ｌ−６０００型（（株）日立製作所製）
カラム：以下の計３本
Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４２０
Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４３０
Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成工業（株）製、商品名）    溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立  Ｌ−３３００型ＲＩ（（株）日立製作所製）【０１７９】
［バインダーポリマー（Ａ−２）〜（Ａ−３）の合成］
重合性単量体（モノマー）として、表１に示す材料を同表に示す質量比で用いたほかは、バインダーポリマー（Ａ−１）の溶液を得るのと同様にしてバインダーポリマー（Ａ−２）〜（Ａ−３）の溶液を得た。
得られたバインダーポリマーの酸価及び重量平均分子量を表１に示す。【０１８０】
【表１】
2012101908.tif 000014
【０１８１】
＜（Ｂ）成分：重合性化合物＞
エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物として、以下に示す重合性化合物を準備した。
・重合性化合物（Ｂ−１）：
一般式（２）で表されるＥＯＢＯ変性ビスフェノールＡ系メタクリレート（オキシエチレン基の繰り返し総数（ａ＋ｂの平均値）が２モル、一般式（１）で表されるオキシブチレン基の繰り返し総数（ｐ＋ｑの平均値）が２モル、Ｒ１、Ｒ２＝メチル基）
・重合性化合物（Ｂ−２）：
一般式（２）で表されるＥＯＢＯ変性ビスフェノールＡ系メタクリレート（オキシエチレン基の繰り返し総数（ａ＋ｂの平均値）が８モル、一般式（１）で表されるオキシブチレン基の繰り返し総数（ｐ＋ｑの平均値）が２モル、Ｒ１、Ｒ２＝メチル基）
・重合性化合物（Ｂ−３）：
一般式（２）で表されるＥＯＢＯ変性ビスフェノールＡ系メタクリレート（オキシエチレン基の繰り返し総数が（ａ＋ｂの平均値）６モル、一般式（１）で表されるオキシブチレン基の繰り返し総数（ｐ＋ｑの平均値）が４モル、Ｒ１、Ｒ２＝メチル基）【０１８２】
・重合性化合物（Ｂ−４）：
上記一般式（５）において、Ｚ＝ヘキサメチレン基、Ｒ１、Ｒ２＝メチル基、ｆ＋ｇ＝２（平均値）、ｐ＋ｑ＝２（平均値）である化合物
・重合性化合物（Ｂ−５）：
上記一般式（５）において、Ｚ＝ヘキサメチレン基、Ｒ１、Ｒ２＝メチル基、ｆ＋ｇ＝８（平均値）、ｐ＋ｑ＝２（平均値）である化合物
・重合性化合物（Ｂ−６）：
上記一般式（５）において、Ｚ＝ヘキサメチレン基、Ｒ１、Ｒ２＝メチル基、ｆ＋ｇ＝６（平均値）、ｐ＋ｑ＝４（平均値）である化合物【０１８３】
・重合性化合物（Ｂ−７）：
上記一般式（３）において、ＸＯ＝オキシエチレン基、Ｒ１、Ｒ２＝メチル基、ｃ＋ｄ＝１２（平均値）、ｒ＝６（平均値）である化合物【０１８４】
・ＴＭＰＴ２１（日立化成工業株式会社製、商品名）：
ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（（ＥＯ）鎖の総数が２１）
・ＦＡ−３２１Ｍ（日立化成工業株式会社製、商品名）：
２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン
・ＦＡ−０２４Ｍ（日立化成工業株式会社製、商品名）：
上記一般式（７）において、Ｒ１、Ｒ２＝メチル基、ｎ３＝６（平均値）、ｍ３＋ｍ４＝１２（平均値）である化合物
・Ｍ−１１４（東亞合成株式会社製、商品名）：
４−ノルマルノニルフェノキシオクタエチレングリコールアクリレート
・ＢＰＥ−１００（新中村化学工業株式会社製、商品名）：
ＥＯ変性ビスフェノールＡ系ジメタクリレート（オキシエチレン基の繰り返し総数が２．６）
・Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ（新中村化学工業株式会社製、商品名）：
ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート（オキシエチレン基の繰り返し総数が３）【０１８５】
＜（Ｃ）光重合開始剤＞
光重合開始剤として、以下に示す化合物を準備した。
・Ｂ−ＣＩＭ（Ｈａｍｐｆｏｒｄ社製、商品名）：
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビスイミダゾール【０１８６】
＜（Ｄ）増感色素＞
増感色素として、以下に示す化合物を準備した。
・ＤＢＡ（川崎化成工業（株）製、商品名）：
９，１０−ジブトキシアントラセン
・ＰＹＲ−１（日本化学工業所社製）：
１−フェニル−３−（４−メトキシスチリル）−５−（４−メトキシフェニル）ピラゾリン
・Ｊ２０５（日本蒸溜工業社製、商品名）：
下記式（１５）で表されるトリフェニルアミン誘導体【０１８７】
【化１３】
2012101908.tif 000015
【０１８８】
・ＥＡＢ（保土ヶ谷化学社製、商品名）：４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン【０１８９】
さらに以下に示す化合物を準備した。
＜（Ｅ）アミン系化合物＞
・ＬＣＶ（山田化学社製、商品名）：ロイコクリスタルバイオレット
＜染料＞
・ＭＫＧ（大阪有機化学工業社製、商品名）：マラカイトグリーン【０１９０】
＜実施例１〜１２、比較例１〜５＞
上記で準備した化合物を用い、下記表２に示す組成となるように各成分を混合して、実施例１〜１２及び比較例１〜５にかかる溶液状の感光性樹脂組成物をそれぞれ調製した。なお、表２中の数値の単位は、質量部であり、「−」は無配合であることを示す。【０１９１】
【表２】
2012101908.tif 000016
【０１９２】
（感光性エレメント）
上記で得られた感光性樹脂組成物をそれぞれ、厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人（株）製、製品名「ＨＴＦ−０１」）上に均一に塗布し、７０℃及び１１０℃の熱風対流式乾燥器で乾燥して、乾燥後の膜厚が２５μｍである感光性樹脂組成物層を形成した。この感光性樹脂組成物層上に保護フィルム（タマポリ（株）製、製品名「ＮＦ−１５」）を貼り合わせ、ポリエチレンテレフタレートフィルム（支持フィルム）と、感光性樹脂組成物層と、保護フィルムとが順に積層された感光性エレメントをそれぞれ得た。【０１９３】
（積層基板）
ガラスエポキシ材と、その両面に形成された銅箔（厚さ１６μｍ）とからなる銅張積層板（日立化成工業（株）製、製品名ＭＣＬ−Ｅ−６７９Ｆ）の銅表面を、ＣＺ処理液（メック(株)社製）で粗化した。
この粗化銅基板（以下、単に「基板」ともいう）を加熱して８０℃に昇温させた後、実施例１〜１２及び比較例１〜５にかかる感光性エレメントを、基板の銅表面にラミネート（積層）した。ラミネートは、保護フィルムを除去しながら、各感光性エレメントの感光性樹脂組成物層が基板の銅表面に密着するようにして、温度１２０℃、ラミネート圧力４ｋｇｆ／ｃｍ２の条件下で行った。このようにして、基板の銅表面上に感光性樹脂組成物層及びポリエチレンテレフタレートフィルムが積層された積層基板を得た。【０１９４】
＜評価＞
（感度）
得られた積層基板を放冷し、２３℃になった時点で、積層基板のポリエチレンテレフタレートフィルム上に、濃度領域０．００〜２．００、濃度ステップ０．０５、タブレットの大きさ２０ｍｍ×１８７ｍｍ、各ステップの大きさが３ｍｍ×１２ｍｍである４１段ステップタブレットを有するフォトツールを密着させた。
波長４０５ｎｍの青紫色レーザダイオードを光源とする日立ビアメカニクス社製直描機「ＤＥ−１ＵＨ」（商品名）を使用して、７０ｍＪ／ｃｍ２のエネルギー量（露光量）でフォトツール及びポリエチレンテレフタレートフィルムを介して感光性樹脂組成物層に対して露光を行った。なお、照度の測定は、４０５ｎｍ対応プローブを適用した紫外線照度計（ウシオ電機（株）製、商品名「ＵＩＴ−１５０」）を用いて行った。【０１９５】
露光後、積層基板からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、感光性樹脂組成物層を露出させ、１質量％炭酸ナトリウム水溶液を３０℃にて２４秒間スプレーすることにより、未露光部分を除去した。このようにして、基板の銅表面上に感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターン（硬化膜）を形成した。
硬化膜として得られたステップタブレットの残存段数を測定することにより、感光性樹脂組成物の感度を評価した。感度は、ステップタブレットの段数で示され、この段数が高いほど感度が良好であることを意味する。結果を表４に示す。【０１９６】
（解像度・密着性）
ライン幅（Ｌ）／スペース幅（Ｓ）（以下、「Ｌ／Ｓ」と記す）が３／３〜３０／３０（単位：μｍ）である描画パターンを用いて、４１段ステップタブレットの残存段数が１６段となるエネルギー量で上記積層基板の感光性樹脂組成物層に対して露光処理を行った。露光後、上記感度の評価と同様の現像処理を行った。【０１９７】
現像処理後、スペース部分（未露光部分）がきれいに除去され、且つライン部分（露光部分）が蛇行や欠けを生じることなく形成されたレジストパターンのうち、最も小さいライン幅／スペース幅の値により、解像度及び密着性を評価した。この数値が小さいほど解像度及び密着性が共に良好であることを意味する。結果を表４に示す。【０１９８】
（レジスト形状の評価）
上記解像度・密着性の評価において、得られたレジスト形状（レジストパターンの断面形状）を日立走査型電子顕微鏡Ｓ−５００Ａを用いて観察し、その形状を評価した。結果を表４に示す。
レジスト形状が台形又は逆台形である場合や、レジストの裾引き又はクラックがある場合には、その後のエッチング処理又はめっき処理により形成された回路に短絡や断線が生じやすくなる傾向がある。従って、レジスト形状は矩形（長方形）で、且つレジストの裾引き又はクラックがないことが望ましい。
なお、「クラック」とは、レジストパターンのライン部分（露光部分）に、ひびや亀裂が生じ、あるいはそれに伴いライン部分に欠けや断裂が生じたことを意味する。【０１９９】
（剥離特性）
上記で得られた各感光性エレメントを上記銅張積層板（基板）上に積層し、表３に示す条件で露光及び現像を行うことにより、基板上に硬化膜が形成された試験片（４０ｍｍ×５０ｍｍ）を作製した。
この試験片を室温で一昼夜放置した後、表３に示す条件で剥離処理を行った。撹拌開始から、硬化膜が基板から完全に剥離除去されるまでの時間を剥離時間とした。また、剥離後の剥離片のサイズを目視にて観察し、以下の評価基準で評価した。剥離時間が短く、剥離片サイズが小さいほど剥離特性が良好であることを意味する。結果を表４に示す。
〜評価基準〜
Ｌ：剥離片がシート状であった。
Ｍ：剥離片が３０ｍｍ〜４０ｍｍ角であった。
Ｓ：剥離片が３０ｍｍ角より小さかった。【０２００】
【表３】
2012101908.tif 000017
【０２０１】
【表４】
2012101908.tif 000018
【０２０２】
表４から明らかなように、実施例１〜１２の感光性樹脂組成物は、感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好なものであった。それに対し、比較例１〜５の感光性樹脂組成物は、解像度、密着性又はレジスト形状のいずれかが、実施例のものと比べて劣っていた。【０２０３】
日本国特許出願２０１１−０１３４８２号の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。
【図１】
2012101908.tif 000019
【国際調査報告】
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2012101908.tif 000021
2012101908.tif 000022
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