(57)【要約】  支持体上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該支持体がフィルム状支持体であり、かつ当該銀反射層が、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより形成されたものであり、当該銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物を含有することを特徴とするフィルムミラー。【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該支持体がフィルム状支持体であり、かつ当該銀反射層が、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより形成されたものであり、当該銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物を含有することを特徴とするフィルムミラー。
【請求項２】
前記銀錯体化合物が、アンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物を銀化合物と反応させることにより得られた銀錯体化合物であることを特徴とする請求項１に記載のフィルムミラー。
【請求項３】
前記フィルム状支持体が、ダウンドロー法によって成形されたガラスロールより得られるガラスフィルムであることを特徴とする請求項１又は２に記載のフィルムミラー。
【請求項４】
前記ガラスフィルムが、前記銀反射層に対し光の入射面側に位置し、当該銀反射層に対し光の入射面と反対側にガスバリアー層を有することを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載のフィルムミラー。
【請求項５】
前記ガラスフィルムが、前記銀反射層に対し光の入射面側に位置し、当該ガラスフィルムの最表面に汚れの付着を防止する層を有することを特徴とする請求項３又は４に記載のフィルムミラー。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項に記載のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法であって、支持体上に、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を形成した後に、当該塗布膜を８０〜１５０℃の範囲内の温度において加熱焼成することにより銀反射層を形成することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。
【請求項７】
自己支持性の基材に、請求項１〜５の何れか一項に記載のフィルムミラーが具備されてなることを特徴とする太陽光反射用ミラー。
【請求項８】
前記自己支持性の基材が、下記のＡ及びＢのいずれかの構成を有することを特徴とする請求項７に記載の太陽光反射用ミラー。
Ａ：一対の金属平板と、前記金属平板の間に設けられた中間層とを有し、当該中間層は中空構造を有する層又は樹脂材料から構成される層である。
Ｂ：中空構造を有する樹脂材料層からなる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な反射率を有するフィルムミラーとその製造方法及びフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとして、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、並びに風力エネルギー及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。【０００３】
しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが、問題となると考えられる。【０００４】
これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。【０００５】
反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、従来、板状のガラス製ミラーが用いられてきた。板状のガラス製ミラーは紫外線や温度、湿度に対する耐久性が高い反面、輸送時や設置後の外圧によって破損したり、質量が重いため、ミラーを設置する架台の強度を持たせるために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。【０００６】
一方、樹脂製反射シートは液晶ディスプレイのバックライトユニットの反射シートとして実用化されており（例えば特許文献１参照）、太陽光反射用ミラーに適用すれば、板状ガラス製ミラーの欠点である外圧による破損や質量の重さといった問題が解消できる。しかしながら、屋外、特に太陽エネルギーの照射に長年照射し続けると、徐々に反射率が低下するなどの問題が生じることが知られていた。【０００７】
この問題に対して、紫外線に対する耐性を高めて、太陽光を反射することを目的とした樹脂製ミラーが提案されている（例えば特許文献２参照）。【０００８】
このような樹脂製ミラーは、板状のガラスミラーに対して連続生産適性が高く、生産性を高めることができる。光反射層には銀蒸着層を用いるのが一般的だが、銀は水分の存在下で、周辺環境から塩分や硫黄分が供給されると、容易に塩化銀や硫化銀を生成し、反射率が低下するという問題があった。このような銀の腐食防止のために、隣接層に樹脂コートによる腐食防止層を設ける方法が知られている（例えば特許文献３参照）。また、銀の腐食防止にはチオン基やメルカプト基を有する化合物を、腐食防止剤として銀層表面に吸着する方法も一般的に良く知られている方法である。【０００９】
しかしながら、これらの方法においても太陽光反射用ミラーのように、激烈な屋外環境下で使用される場合においては、銀反射層の反射率低下を十分防止することは困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００５−２８０１３１号公報
【特許文献２】特表２００９−５２０１７４号公報
【特許文献３】特開２００２−１２２７１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記問題・状況にかんがみてなされたものであり、その解決課題は、銀反射層の正反射率が高い上に、耐光性及び耐候性に優れ、銀反射層の腐食による正反射率の低下が殆ど無く、かつ軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできるフィルムミラーとその製造方法を提供することである。また、それを用いた太陽光反射用ミラーを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、上記課題を解決すべく銀反射層の腐食防止、生産性向上等の観点から、鋭意検討の結果、以下の手段により、高い正反射率、耐候性、及び生産性を有し、なおかつフィルムミラーの特徴である軽量、柔軟性を満足するフィルムミラーを提供することができることを見出し、本発明を完成させることに至った。【００１３】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。【００１４】
１．支持体上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該支持体がフィルム状支持体であり、かつ当該銀反射層が、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより形成されたものであり、当該銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物を含有することを特徴とするフィルムミラー。【００１５】
２．前記銀錯体化合物が、アンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物を銀化合物と反応させることにより得られた銀錯体化合物であることを特徴とする前記第１項に記載のフィルムミラー。【００１６】
３．前記フィルム状支持体が、ダウンドロー法によって成形されたガラスロールより得られるガラスフィルムであることを特徴とする前記第１項又は第２項に記載のフィルムミラー。【００１７】
４．前記ガラスフィルムが、前記銀反射層に対し光の入射面側に位置し、当該銀反射層に対し光の入射面と反対側にガスバリアー層を有することを特徴とする前記第１項から第３項の何れか一項に記載のフィルムミラー。【００１８】
５．前記ガラスフィルムが、前記銀反射層に対し光の入射面側に位置し、当該ガラスフィルムの最表面に汚れの付着を防止する層を有することを特徴とする前記第３項又は第４項に記載のフィルムミラー。【００１９】
６．前記第１項から第５項の何れか一項に記載のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法であって、支持体上に、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を形成した後に、当該塗布膜を８０〜１５０℃の範囲内の温度において加熱焼成することにより銀反射層を形成することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。【００２０】
７．自己支持性の基材に、前記第１項から第５項の何れか一項に記載のフィルムミラーが具備されてなることを特徴とする太陽光反射用ミラー。【００２１】
８．前記自己支持性の基材が、下記のＡ及びＢのいずれかの構成を有することを特徴とする前記第７項に記載の太陽光反射用ミラー。
Ａ：一対の金属平板と、前記金属平板の間に設けられた中間層とを有し、当該中間層は中空構造を有する層又は樹脂材料から構成される層である。
Ｂ：中空構造を有する樹脂材料層からなる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の上記手段により、銀反射層の正反射率が高い上に、耐光性及び耐候性に優れ、銀反射層の腐食による正反射率の低下が殆ど無く、かつ軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできるフィルムミラーとその製造方法を提供することができる。また、それを用いた太陽光反射用ミラーを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明のフィルムミラーは、支持体上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該支持体がフィルム状支持体であり、かつ当該銀反射層が、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより形成されたものであり、当該銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物を含有することを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項８までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００２４】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記銀錯体化合物が、アンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物を銀化合物と反応させることにより得られた銀錯体化合物であることが好ましい。さらに、前記フィルム状支持体が、ダウンドロー法によって成形されたガラスロールより得られるガラスフィルムであることが好ましい。この場合、当該ガラスフィルムが、前記銀反射層に対し光の入射面側に位置し、当該銀反射層に対し光の入射面と反対側にガスバリアー層を有することが好ましい。また、当該ガラスフィルムが、前記銀反射層に対し光の入射面側に位置し、当該ガラスフィルムの最表面に汚れの付着を防止する層を有することが好ましい。
【００２５】
本発明のフィルムミラーの製造方法としては、支持体上に、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を形成した後に、当該塗布膜を８０〜１５０℃の範囲内の温度において加熱焼成することにより銀反射層を形成する態様の製造方法であることが好ましい。
【００２６】
本発明のフィルムミラーは、太陽光反射用ミラーに好適に用いることができるが、自己支持性の基材に、本発明のフィルムミラーが具備されてなる太陽光反射用ミラーとすることが好ましい。この場合、当該自己支持性の基材が、下記のＡ及びＢのいずれかの構成を有することが好ましい。
Ａ：一対の金属平板と、前記金属平板の間に設けられた中間層とを有し、当該中間層は中空構造を有する層又は樹脂材料から構成される層である。
Ｂ：中空構造を有する樹脂材料層からなる。
【００２７】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００２８】
（フィルム状支持体）
本発明に係るフィルム状支持体としては、従来公知の種々の樹脂フィルムであっても、ガラスフィルムであっても、フィルム状であれば、本発明の支持体として用いることができる。
【００２９】
例えば樹脂フィルムであれば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
【００３０】
特にポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【００３１】
本発明に係るフィルム状支持体の厚さは、ロール状に巻くことのできるフィルム状支持体であるという観点から、１．０〜２００μｍの範囲内であることを要する。好ましくは２０〜１５０μｍ、更に好ましくは３０〜１３０μｍである。
【００３２】
（ガラスフィルム）
本発明のフィルムミラーは、支持体上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該支持体が、厚さが１．０〜２００μｍの範囲内であるガラスフィルムも好ましく用いられる。
【００３３】
当該ガラスフィルムとしては、ダウンドロー法によって成形されたガラスロールより得られるガラスフィルムであることが好ましい。すなわち、特開２０１０−１３２３４７号公報に開示されているような、ダウンドロー法によって成形された表裏面が露出したガラスフィルムを、保護シートに重ねてロール状に巻き取ったガラスロールより得られるガラスフィルムであることが好ましい。
【００３４】
このような構成によれば、ダウンドロー法によって形成された表裏面が露出したガラスフィルムがそのままの状態で、保護シートとともにロール状に巻き取られてガラスロールが形成される。そのため、梱包前の工程で、ガラスフィルムの表裏面のいずれにもポリマー層等の保護膜を形成する成膜工程を行う必要がなく、開梱後の工程でも、ガラスフィルムの表面からポリマー層等の保護膜を除去する除去工程を行う必要もない。
【００３５】
従って、保護膜を形成する工程が不要な分だけ梱包前の工程を短縮化できるので、ガラスフィルムの表裏面に異物が付着する割合を可及的に低減できると共に、開梱後に保護膜に由来する異物が残存するという事態も生じ得ない。その結果、ダウンドロー法に由来したガラスフィルムの表裏面の清浄性を良好に維持することができる。更に、ダウンドロー法により成形した表裏面であれば、フロート法により成形した場合のように事後的にガラスフィルムの表面研磨を行わなくても、未研磨面の状態で清浄性を確保できるという利点もある。
【００３６】
また、ガラスフィルムの露出した表裏面は、ガラスロールの状態で保護シートにより保護される。しかも、ガラスフィルムの表裏面は、ポリマー層等の保護膜が形成されていないガラス面であるため、巻き取った段階で、ガラスフィルムと保護シートとが固着するという事態も生じ難い。従って、ガラスロールの状態でのガラスフィルムの破損を確実に低減でき、しかも、ガラスフィルムと保護シートとの分離性も良好に維持できるので、開梱時のガラスフィルムの破損も可及的に低減することができる。
【００３７】
なお、ガラスフィルムは、長時間巻き取った状態が保持されたとしても、反りが発生することはなく容易に次工程へと送り込むことができる。さらに、巻き取ることによって長尺物のガラスフィルムとすることができることから、その後自由な長さで切断することができ、様々な大きさの基板に対応することが可能となり、ガラスフィルムの無駄を防止することができる。
【００３８】
本発明においては、前記ガラスフィルムの厚さが、１．０〜２００μｍの範囲内であるであることを要する。なお、ガラスフィルムの厚さは、好ましくは３０μｍ以上１５０μｍ以下であるが、更に好ましくは５０〜１２０μｍの範囲内である。厚さが１μｍ未満では、ロール状に巻き取る際のテンションに耐えることができずに破断してしまい、また、２００μｍよりも厚いとロールとしての巻き取ることが困難となる。
【００３９】
上記のような厚さにすれば、ガラスフィルムに適切な可撓性が付与される。そのため、ガラスフィルムを巻き取った際にガラスフィルムにかかる不当な応力を軽減することができ、破損を防止することができる。
【００４０】
上記の構成において、前記ガラスフィルムの幅方向の両端面の算術平均粗さＲａが、０．１μｍ以下であることが好ましい。ここで、「算術平均粗さＲａ」は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１に準拠して測定された値とする。
【００４１】
このようにすれば、ガラスフィルムの幅方向の両端面に適切な平滑性が付与される。そのため、ガラスフィルムをロール状に巻き取る際に、ガラスフィルムの両端面に微細な傷が生じ難くなり、ガラスフィルム両端面からの破損を防止することができる。従って、ガラスフィルムの端面の微細な傷に起因する欠けにより発生するガラス粉（カレット）を低減できることから、ガラスフィルムの表裏面の清浄性を確保する上でも非常に有利となる。また、ガラスフィルムの端面と保護シートが接触した場合でも、ガラスフィルムの端面が保護シートに噛み込んで引っかかることがなく、ガラスフィルムと保護シートとの分離性を良好なものとすることができる。
【００４２】
上記の構成において、前記ガラスフィルムの幅方向の両端面が、レーザー切断により切断された切断面で構成されていることが好ましい。なお、ここでいうレーザー切断には、レーザー溶断以外にも、レーザー割断も含まれる。
【００４３】
（気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物）
本発明のフィルムミラーは、支持体上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該銀反射層が、配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより形成されたものであることを特徴とする。
【００４４】
本願において、「気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物」とは、溶液中では銀が安定に溶解するための配位子を有するが、溶媒を除去し、加熱焼成することによって、配位子が熱分解し、ＣＯ２や低分子量のアミン化合物となり、気化・脱離し、金属銀のみが残存することのできる銀錯体化合物のことをいう。
【００４５】
このような錯体の例は、公知である特表２００９−５３５６６１号、特表２０１０−５００４７５号各公報等に記載されており、下記一般式（１）で表される銀化合物と、一般式（２）〜（４）で表されるアンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物とを反応して得られる銀錯体化合物であることが好ましい。
【００４６】
また、本発明に係る銀錯体化合物は銀コーティング液組成物に含有され、これを塗布することにより支持体上に本発明に係る錯体を含有する塗布膜が形成される。すなわち、銀錯体化合物を用いてガラスフィルム上に塗布膜を形成した後に、塗布膜を８０〜２５０℃の範囲内の温度において加熱焼成することにより銀反射層を形成することが好ましい。更に好ましくは１００〜２２０の範囲内、特に好ましくは１２０〜２００℃の範囲内である。加熱焼成手段としては、特に制限は無く、一般的に用いられる加熱手段はどんなものでも適用できる。
【００４７】
以下、下記一般式（１）で表される銀化合物と、一般式（２）〜（４）で表されるアンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物等について説明をする。
【００４８】
一般式（１）：  ＡｇｎＸ
【００４９】
【化１】
2012056952.tif 000002
【００５０】
（一般式（１）〜（４）において、Ｘは、酸素、硫黄、ハロゲン、シアノ、シアネート、カーボネート、ニトレート、ニトライト、サルフェート、ホスフェート、チオシアネート、クロレート、パークロレート、テトラフルオロボレート、アセチルアセトネート、カルボキシレート、及びこれらの誘導体から選択される置換基であり、ｎは、１〜４の整数であって、Ｒ１〜Ｒ６は、互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ３０の脂肪族や脂環族アルキル基、アリール基又はアラルキル（ａｒａｌｋｙｌ）基、官能基が置換されたアルキル及びアリール基、ヘテロ環化合物基と高分子化合物及びその誘導体から選択される置換基である。）
一般式（１）の具体例としては、例えば、酸化銀、チオシアネート化銀、硫化銀、塩化銀、シアン化銀、シアネート化銀、炭酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、硫酸銀、燐酸銀、過塩素酸銀、四フッ素ボレート化銀、アセチルアセトネート化銀、酢酸銀、乳酸銀、シュウ酸銀及びその誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００５１】
また、一般式（２）〜（４）において、Ｒ１〜Ｒ６は、具体的に例えば、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシル、エチルヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アリール、ヒドロキシ、メトキシ、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、メトキシプロピル、シアノエチル、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、カルボキシメチル、トリメトキシシリルプロピル、トリエトキシシリルプロピル、フェニル、メトキシフェニル、シアノフェニル、フェノキシ、トリル、ベンジル及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンアミンのような高分子化合物及びこれらの誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００５２】
一般式（２）〜（４）の化合物例としては、例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム  エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウムイソプロピルカルバメート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカルバメート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカルバメート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカルバメート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカルバメート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウムジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム  モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム  エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  バイカーボネート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  バイカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  バイカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  バイカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム  モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム  バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム  バイカーボネート、及びその誘導体から選択される一種又は二種以上の混合物などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００５３】
一方、上記のアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート系化合物の種類及び製造方法は、特に制限する必要はない。例えば、米国特許第４，５４２，２１４号では、第１アミン、第２アミン、第３アミン、又は少なくとも１つ以上のこれらの混合物と二酸化炭素からアンモニウムカルバメート系化合物が製造できると記述しており、前記アミン１モル当り水０．５モルをさらに添加すると、アンモニウムカーボネート系化合物が得られて、水１モル以上を添加する場合は、アンモニウムバイカーボネート系化合物を得ることができる。この際、常圧又は加圧状態で特別な溶媒を使用せずに直接製造するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒又はこれらの混合溶媒などが挙げられて、二酸化炭素は、気相状態でバブリング（ｂｕｂｂｌｉｎｇ）するか、固体相ドライアイスを使用することができて、超臨界（ｓｕｐｅｒｃｒｉｔｉｃａｌ）状態でも反応することができる。本発明で使用されるアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート誘導体の製造には、上記の方法の他にも、最終物質の構造が同一であれば、公知のいかなる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度又は触媒などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。
【００５４】
このように製造されたアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート系化合物と銀化合物とを反応して、有機銀錯体化合物を製造することができる。例えば、一般式（１）に示したような少なくとも一つ以上の銀化合物と、一般式（２）〜（４）に示したような少なくとも一つ以上のアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート誘導体及びこれらの混合物を、窒素雰囲気の常圧又は加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒又はこれらの混合溶媒などを使用することができる。
【００５５】
本発明で使用される銀錯体化合物の製造には、上記の方法の他に、一般式（１）の銀化合物と一つ以上のアミン化合物とが混合された溶液を製造した後、二酸化炭素を反応して、銀錯体化合物を製造することもできる。上記のように、窒素雰囲気の常圧又は加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用して反応することができる。しかしながら、最終物質の構造が同一であれば、公知の如何なる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度又は触媒の使用有無などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。
【００５６】
本発明で使用される銀錯体化合物は、特表２００８−５３０００１号公報にその製造方法が記載されており、下記一般式（５）の構造で認識される。
【００５７】
一般式（５）：  Ａｇ［Ａ］ｍ
（一般式（５）において、Ａは、一般式（２）〜（４）の化合物であり、ｍは、０．５〜１．５である。）
本発明の高反射、高光沢の反射面の形成のために使用される銀コーティング液組成物は、前記の銀錯体化合物を含有し、必要に応じて、溶媒、安定剤、レベリング剤（Ｌｅｖｅｌｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）、薄膜補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、本発明の銀コーティング組成物に含有することができる。
【００５８】
補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、本発明の銀コーティング組成物に含有することができる。
【００５９】
一方、前記安定剤としては例えば、第１アミン、第２アミン又は第３アミンのようなアミン化合物や、前記アンモニウムカルバメート、アンモニウムカーボネート、アンモニウムバイカーボネート系化合物、又はホスフィン（ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）、ホスファイ（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスフェート（ｐｈｏｓｐｈａｔｅ）のようなリン化合物、チオール（ｔｈｉｏｌ）やスルフィド（ｓｕｌｆｉｄｅ）のような硫黄化合物と、少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられ、アミン化合物としては、具体的に例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、イソオクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、ドコデシルアミン、シクロプロピルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アリールアミン、ヒドロキシアミン、アンモニウムヒドロキシド、メトキシアミン、２−エタノールアミン、メトキシエチルアミン、２−ヒドロキシプロピルアミン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルアミン、メトキシプロピルアミン、シアノエチルアミン、エトキシアミン、ｎ−ブトキシアミン、２−ヘキシルオキシアミン、メトキシエトキシエチルアミン、メトキシエトキシエトキシエチルアミン、ジメチルアミン、ジプロピルアミン、ジエタノールアミン、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、２，２−（エチレンジオキシ）ビスエチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、アミノアセトアルデヒドジメチルアセタル、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、アニリン、アニシジン、アミノベンゾニトリル、ベンジルアミン及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンイミンのような高分子化合物及びその誘導体などのようなアミン化合物が挙げられる。
【００６０】
アンモニウムカルバメート、カーボネート、バイカーボネート系化合物として具体的に例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム  エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカルバメート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカルバメート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカルバメート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカルバメート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカルバメート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム  モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム  エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  バイカーボネート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  バイカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  バイカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  バイカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム  モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム  バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム  バイカーボネート、及びその誘導体などが挙げられる。
【００６１】
また、リン化合物としては、一般式Ｒ３Ｐ、（ＲＯ）３Ｐ又は（ＲＯ）３ＰＯで表されるリン化合物で挙げられる。ここでＲは、炭素数１〜２０のアルキル又はアリール基を示し、具体的に例えば、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ジベンジルホスフェート、トリエチルホスフェートなどが挙げられる。
【００６２】
そして、硫黄化合物として、具体的に例えば、ブタンチオール、ｎ−ヘキサンチオール、ジエチルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、アリールジスルフィド、２−メルカプトベンゾアゾール、テトラヒドロチオフェン、オクチルチオグリコレートなどが挙げられる。
【００６３】
このような安定剤の使用量は、本発明のインク特性に符合する限り、特に制限する必要はない。しかしながら、その含量は、銀化合物に対し、モル比で０．１％〜９０％が好ましい。
【００６４】
また、薄膜補助剤としては、有機酸及び有機酸誘導体、又は少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられる。具体的に例えば、酢酸、酪酸（Ｂｕｔｙｒｉｃ  ａｃｉｄ）、吉草酸（Ｖａｌｅｒｉｃ  ａｃｉｄ）、ピバル酸（Ｐｉｖａｌｉｃ  ａｃｉｄ）、ヘキサン酸、オクタン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ネオデカン酸（Ｎｅｏｄｅｃａｎｏｉｃ  ａｃｉｄ）、ラウリン酸（Ｌａｕｒｉｃ  ａｃｉｄ）、ステアリン酸、ナフタル酸などの有機酸が挙げられ、有機酸誘導体としては、具体的に例えば、酢酸アンモニウム塩、クエン酸アンモニウム塩、ラウリン酸アンモニウム塩、乳酸アンモニウム塩、マレイン酸アンモニウム塩、シュウ酸アンモニウム塩、モリブデン酸アンモニウム塩などの有機酸アンモニウム塩と、Ａｕ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｃｄ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ａｃ、Ｔｈなどのような金属を含有するシュウ酸マンガン、酢酸金、シュウ酸パラジウム、２−エチルヘキサン酸銀、オクタン酸銀、ネオデカン酸銀、ステアリン酸コバルト、ナフタル酸ニッケル、ナフタル酸コバルトなどの有機酸金属塩が挙げられる。前記薄膜補助剤の使用量は、特に限定されないが、銀錯体化合物に対して、モル比で０．１〜２５％が好ましい。
【００６５】
前記還元剤としては、ルイス酸又は弱いブレンステッド酸（ｂｒｏｎｓｔｅｄ  ａｃｉｄ）が挙げられ、具体的に例えば、ヒドラジン、ヒドラジンモノハイドレート、アセトヒドラジド、水酸化ホウ素ナトリウム又は水酸化ホウ素カリウム、ジメチルアミンボラン、ブチルアミンボランのようなアミン化合物、第１塩化鉄、乳酸鉄のような金属塩、水素、ヨウ化水素、一酸化炭素、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、グリオキサールのようなアルデヒド化合物、ギ酸メチル、ギ酸ブチル、トリエチル−ｏ−ギ酸のようなギ酸化合物、グルコース、アスコルビン酸、ヒドロキノンのような還元性有機化合物を少なくとも一つ以上含有するこれらの混合物を挙げることができる。
【００６６】
前記熱分解反応促進剤としては、具体的に例えば、エタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、ヘキサノールアミン、ジメチルエタノールアミンのようなヒドロキシアルキルアミン類、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、ピペラジン、Ｎ，Ｎ′−ジメチルピペラジン、１−アミノ−４メチルピペラジン、ピロリジン、Ｎ−メチルピロリジン、モルホリンのようなアミン化合物、アセトンオキシム、ジメチルグリオキシム、２−ブタノンオキシム、２，３−ブタジオンモノオキシムのようなアルキルオキシム類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールのようなグリコール類、メトキシエチルアミン、エトキシエチルアミン、メトキシプロピルアミンのようなアルコキシアルキルアミン類、メトキシエタノール、メトキシプロパノール、エトキシエタノールのようなアルコキシアルカノール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類、アセトール、ジアセトンアルコールのようなケトンアルコール類、多価フェノール化合物、フェノール樹脂、アルキド樹脂、ピロール、エチレンジオキシチオフェン（ＥＤＯＴ）のような酸化重合性樹脂などが挙げられる。
【００６７】
なお、銀コーティング液組成物の粘度調節や円滑な薄膜形成のために溶媒が必要な場合があるが、この際使用できる溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−メトキシプロパノール、ブタノール、エチルヘキシルアルコール、テルピネオールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテートのようなアセテート類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、１−メチル−２−ピロリドンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタン、ドデカン、パラフィンオイル、ミネラルスピリットのような炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、又はこれらの混合溶媒などを使用することができる。
【００６８】
（銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物）
本発明では、銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物を含有することを特徴とする。当該含窒素環状化合物としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。
【００６９】
本発明においては、前記銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤において、含窒素環状化合物を用いることで、所望の腐食防止効果を得ることができる。例えば、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【００７０】
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−２，５ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７１】
トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ３’５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７２】
ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７３】
イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７４】
インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００７５】
〈酸化防止剤〉
本発明のフィルムミラーに用いられる銀反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤を用いることもできる。
【００７６】
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤及びホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。
【００７７】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー〕、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
【００７８】
チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等を挙げられる。
【００７９】
ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
【００８０】
なお、本発明においては、上記酸化防止剤と下記の光安定剤を併用することもできる。
【００８１】
ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、１−メチル−８−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２、６，６−テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン等が挙げられる。
【００８２】
その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２’−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）〕−２−エチルヘキシルアミンニッケル（II）、ニッケルコンプレックス−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル−ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
【００８３】
特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
【００８４】
（ガスバリアー層）
本発明のフィルムミラーは、ガスバリアー層を有することが好ましい。
【００８５】
本発明に係るガスバリアー層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び樹脂基材で保護される各種機能素子等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであっても良く、上記特徴を維持する限りにおいて、種々の態様のガスバリアー層を設けることができる。本発明においては、前記銀反射層の上側に、ガスバリアー層を設けることが好ましい。
【００８６】
ガスバリアー層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、好ましくは５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、さらに好ましくは２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下となるように当該ガスバリアー層の防湿性を調整することが好ましい。また。酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
【００８７】
本発明に係るガスバリアー層に関しては、その形成方法において特に制約はないが、無機酸化物膜のセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜を加熱及び／又は紫外線照射により、無機酸化物膜を形成する方法が好ましく用いられる。
【００８８】
〈セラミック前駆体〉
本発明に係るガスバリアー層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、一般的な加熱方法が適用して形成することできるが、局所的加熱により形成することが好ましい。当該セラミック前駆体は、ゾル状の有機金属化合物又はポリシラザンが好ましい。
【００８９】
〈有機金属化合物〉
本発明に係る有機金属化合物は、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ランタン（Ｌａ）、イットリウム（Ｙ）、及びニオブ（Ｎｂ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。特に、当該有機金属化合物が、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、及びバリウム（Ｂａ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。さらに、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、及びリチウム（Ｌｉ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。
【００９０】
有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、金属アルコキシドが挙げられる。
【００９１】
前記金属アルコキシドは、下記一般式（Ｉ）で表される。
【００９２】
一般式（Ｉ）：ＭＲ２ｍ（ＯＲ１）ｎ−ｍ
前記一般式（Ｉ）において、Ｍは、酸化数ｎの金属を表す。Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、アルキル基を表す。ｍは、０〜（ｎ−１）の整数を表す。Ｒ１及びＲ２は、同一でもよく、異なっていてもよい。Ｒ１及びＲ２としては、炭素原子４個以下のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基ＣＨ３（以下、Ｍｅで表す。）、エチル基Ｃ２Ｈ５（以下、Ｅｔで表す）、プロピル基Ｃ３Ｈ７（以下、Ｐｒで表す。）、イソプロピル基ｉ−Ｃ３Ｈ７（以下、ｉ−Ｐｒで表す。）、ブチル基Ｃ４Ｈ９（以下、Ｂｕで表す）、イソブチル基ｉ−Ｃ４Ｈ９（以下、ｉ−Ｂｕで表す）等の低級アルキル基がより好ましい。
【００９３】
前記一般式（Ｉ）で表される金属アルコキシドとしては、例えば、リチウムエトキシドＬｉＯＥｔ、ニオブエトキシドＮｂ（ＯＥｔ）５、マグネシウムイソプロポキシドＭｇ（ＯＰｒ−ｉ）２、アルミニウムイソプロポキシドＡｌ（ＯＰｒ−ｉ）３、亜鉛プロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）２、テトラエトキシシランＳｉ（ＯＥｔ）４、チタンイソプロポキシドＴｉ（ＯＰｒ−ｉ）４、バリウムエトキシドＢａ（ＯＥｔ）２、バリウムイソプロポキシドＢａ（ＯＰｒ−ｉ）２、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３、ジルコニウムプロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）４、ランタンプロポキシドＬａ（ＯＰｒ）３、イットリウムプロポキシドＹ（ＯＰｒ）３、鉛イソプロポキシドＰｂ（ＯＰｒ−ｉ）２等が好適に挙げられる。これらの金属アルコキシドは何れも市販品があり、容易に入手することができる。また、金属アルコキシドは、部分的に加水分解して得られる低縮合物も市販されており、これを原料として使用することも可能である。
【００９４】
〈無機酸化物〉
本発明に係る無機酸化物は、上記有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものであることを特徴とする。従って、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であることを特徴とする。
【００９５】
例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等である。これらのうち、好ましくは、酸化ケイ素である。
【００９６】
本発明において、有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル−ゲル法及びポリシラザンを塗布する方法を用いることが好ましい。
【００９７】
〈ゾル−ゲル法〉
ここで、「ゾル−ゲル法」とは、有機金属化合物を加水分解すること等により、水酸化物のゾルを得て、脱水処理してゲルとし、さらにこのゲルを加熱処理することで、ある一定の形状（フィルム状、粒子状、繊維状等）の金属酸化物ガラスを調製する方法をいう。異なる複数のゾル溶液を混合する方法、他の金属イオンを添加する方法等により、多成分系の金属酸化物ガラスを得ることも可能である。
【００９８】
具体的には、下記工程を有するゾル−ゲル法で、無機酸化物を製造することが好ましい。
【００９９】
すなわち、少なくとも水及び有機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在下にてハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５〜５．０に調整しながら、有機金属化合物を加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程、及び当該反応生成物を２００℃以下の温度で加熱してガラス化する工程、を有するゾル−ゲル法により製造されてなることが、高温熱処理による微細孔の発生や膜の劣化等が発生しないという観点から、特に好ましい。
【０１００】
前記ゾル−ゲル法において、原料として用いられる有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、前記金属アルコキシドが挙げられる。
【０１０１】
上記ゾル−ゲル法において、前記有機金属化合物は、そのまま反応に用いてもよいが、反応の制御を容易にするため溶媒で希釈して用いることが好ましい。希釈用溶媒は、前記有機金属化合物を溶解することができ、かつ水と均一に混合することができるものであればよい。そのような希釈用溶媒としては、脂肪族の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びそれらの混合物が好適に挙げられる。また、ブタノールとセロソルブとブチルセロソルブの混合溶媒、あるいはキシロールとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンとシクロヘキサンの混合溶媒等を使用することもできる。
【０１０２】
前記有機金属化合物において、金属がＣａ、Ｍｇ、Ａｌ等である場合には、反応液中の水と反応して水酸化物を生成したり、炭酸イオンＣＯ３２−が存在すると炭酸塩を生成して沈殿を生ずるため、反応液に隠蔽剤としてトリエタノールアミンのアルコール溶液を添加することが好ましい。溶媒に混合溶解するときの前記有機金属化合物の濃度としては、７０質量％以下が好ましく、５〜７０質量％の範囲に希釈して使用することがより好ましい。
【０１０３】
前記ゾル−ゲル法において用いられる反応液は、少なくとも水及び有機溶媒を含有する。前記有機溶媒としては、水及び酸、アルカリと均一な溶液をつくるものであればよく、通常、前記有機金属化合物の希釈に用いる脂肪族の低級アルコール類と同様のものが好適に挙げられる。前記脂肪族の低級アルコール類の中でも、メタノール、エタノールより、炭素数の多いプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、及びイソブタノールが好ましい。これは、生成する金属酸化物ガラスの膜の成長が安定であるためである。前記反応液において、水の割合としては、水の濃度として０．２〜５０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
【０１０４】
前記ゾル−ゲル法においては、前記反応液中において、ホウ素イオンの存在下にて、ハロゲンイオンを触媒として、有機金属化合物を加水分解する。前記ホウ素イオンＢ３＋を与える化合物としては、トリアルコキシボランＢ（ＯＲ）３が好適に挙げられる。その中でも、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３がより好ましい。また、前記反応液中のＢ３＋イオン濃度としては、１．０〜１０．０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
【０１０５】
前記ハロゲンイオンとしては、フッ素イオン及び／又は塩素イオンが好適に挙げられる。即ち、フッ素イオン単独、塩素イオン単独でもよく、これらの混合物でもよい。用いる化合物としては、上記反応液中でフッ素イオン及び／又は塩素イオンを生ずるものであればよく、例えば、フッ素イオン源として、フッ化水素アンモニウムＮＨ４ＨＦ・ＨＦ、フッ化ナトリウムＮａＦ等が好適に挙げられ、塩素イオン源として、塩化アンモニウムＮＨ４Ｃｌ等が好適に挙げられる。
【０１０６】
前記反応液中の前記ハロゲンイオンの濃度としては、製造しようとする無機マトリックスを有する無機組成物からなるフィルムの膜厚や、その他の条件によって異なるが、一般的には、触媒を含有する前記反応液の合計質量に対して、０．００１〜２ｍｏｌ／ｋｇ、特に０．００２〜０．３ｍｏｌ／ｋｇの範囲が好ましい。ハロゲンイオンの濃度が０．００１ｍｏｌ／ｋｇより低いと、有機金属化合物の加水分解が十分に進行し難くなり、膜の形成が困難となる。又ハロゲンイオンの濃度が２ｍｏｌ／ｋｇを超えると、生成する無機マトリックス（金属酸化物ガラス）が不均一になり易いため、いずれも好ましくない。
【０１０７】
なお、反応時に使用したホウ素に関しては、得られる無機マトリックスの設計組成中にＢ２Ｏ３成分として含有させる場合は、その含有量に応じた有機ホウ素化合物の計算量を添加したまま生成物とすればよく、またホウ素を除去したいときは、成膜後、溶媒としてのメタノールの存在下、又はメタノールに浸漬して加熱すればホウ素はホウ素メチルエステルとして蒸発させて除去することができる。
【０１０８】
前記有機金属化合物を、加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程においては、通常所定量の前記有機金属化合物を所定量の水及び有機溶媒を含有する混合溶媒に混合溶解した主剤溶液、ならびに所定量の前記ハロゲンイオンを含有する所定量の反応液を、所定の比で混合し十分に攪拌して均一な反応溶液とした後、酸又はアルカリで反応溶液のｐＨを希望の値に調整し、数時間熟成することにより進行させて反応生成物を得る。前記ホウ素化合物は、主剤溶液又は反応液に予め所定量を混合溶解しておく。また、アルコキシボランを用いる場合は、他の有機金属化合物と共に主剤溶液に溶解するのが有利である。
【０１０９】
前記反応溶液のｐＨは、目的によって選択され、無機マトリックス（金属酸化物ガラス）を有する無機組成物からなる膜（フィルム）の形成を目的とするときは、例えば、塩酸等の酸を用いてｐＨを４．５〜５の範囲に調整して熟成するのが好ましい。この場合は、例えば、指示薬としてメチルレッドとブロモクレゾールグリーンとを混合したもの等を用いると便利である。
【０１１０】
なお、前記ゾル−ゲル法においては、同一成分の同一濃度の主剤溶液、及び反応液（Ｂ３＋及びハロゲンイオンを含有する。）を所定のｐＨに調整しながら、逐次同一割合で追加添加することにより簡単に継続して、反応生成物を製造することもできる。なお、前記反応溶液の濃度は±５０質量％の範囲で、水（酸又はアルカリを含有する。）の濃度は、±３０質量％の範囲で、及びハロゲンイオンの濃度は±３０質量％の範囲で変化させることができる。
【０１１１】
次に、前工程で得られた反応生成物（熟成後の反応溶液）を、２００℃以下の温度に加熱して乾燥しガラス化させる。加熱にあたって、特に５０〜７０℃の温度区間を注意して徐々に昇温して、予備乾燥（溶媒揮散）工程を経た後さらに昇温することが好ましい。この乾燥は、膜形成の場合、無孔化膜とするために重要である。予備乾燥工程後、加熱し乾燥する温度としては、７０〜１５０℃が好ましく、８０〜１３０℃がより好ましい。
【０１１２】
〈ポリシラザンを塗布する方法〉
本発明に係るガスバリアー層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜の局所的加熱により形成された無機酸化物を含有することも好ましい。
【０１１３】
セラミック前駆体が、ポリシラザンを含有する場合は、下記式（Ｉ）で表されるポリシラザン及び有機溶剤中に必要に応じて触媒を含有する溶液で樹脂基材を被覆し、そして、この溶剤を蒸発させて除去し、それによって樹脂基材上に０．０５〜３．０μｍの層厚を有するポリシラザン層を残し、そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては、及び窒素の存在下に、上記のポリシラザン層を、局所的加熱することによって、当該樹脂基材上にガラス様の透明な被膜を形成する方法を採用することが好ましい。
【０１１４】
式（Ｉ）：  −（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−
式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一又は異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ビニル又は３−（トリエトキシシリル）プロピル、３−（トリメトキシシリルプロピル）からなる群から選択される基を表し、この際、ｎは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【０１１５】
触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミン又はＮ−複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１〜１０モル％、好ましくは０．５〜７モル％の範囲である。
【０１１６】
好ましい態様の一つでは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含有する溶液が使用される。
【０１１７】
さらに、別の好ましい態様の一つでは、本発明によるコーティングは、次式（II）の少なくとも一種のポリシラザンを含有する。
【０１１８】
式（II）：−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−（ＳｉＲ４Ｒ５−ＮＲ６）ｐ−
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ及びｐは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【０１１９】
特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４及びＲ５がメチルを表す化合物、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４がメチルを表し、そしてＲ５がビニルを表す化合物、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２及びＲ５がメチルを表す化合物である。
【０１２０】
また、次式（III）の少なくとも一種のポリシラザンを含有する溶液も同様に好ましい。
【０１２１】
式（III）：−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−（ＳｉＲ４Ｒ５−ＮＲ６）ｐ−（ＳｉＲ７Ｒ８−ＮＲ９）ｑ−
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ、ｐ及びｑは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【０１２２】
特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ８がメチルを表し、Ｒ９が（トリエトキシシリル）プロピルを表し、そしてＲ７がアルキル又は水素を表す化合物である。
【０１２３】
溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン１〜８０質量％、好ましくは５〜５０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％である。
【０１２４】
溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えばヒドロキシル基又はアミン基）を含まずそしてポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族又は芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチル又は酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトン又はメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフラン又はジブチルエーテル、並びにモノ−及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）又はこれらの溶剤からなる混合物である。
【０１２５】
上記ポリシラザン溶液の追加の成分は、塗料の製造に慣用されているもののようなさらに別のバインダーであることができる。これは、例えば、セルロースエーテル及びセルロースエステル、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート又はセルロースアセトブチレート、天然樹脂、例えばゴムもしくはロジン樹脂、又は合成樹脂、例えば重合樹脂もしくは縮合樹脂、例えばアミノプラスト、特に尿素樹脂及びメラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、又はポリシロキサンである。
【０１２６】
ポリシラザン調合物のさらに別の成分は、例えば、調合物の粘度、下地の濡れ、成膜性、潤滑作用又は排気性に影響を与える添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２又はＡｌ２Ｏ３であることができる。
【０１２７】
本発明の方法を用いることによって、亀裂及び孔が無いためにガスに対する高いバリアー作用に優れる緻密なガラス様の層を製造することができる。
【０１２８】
形成される被膜の厚さは、１００ｎｍ〜２μｍの範囲内にすることが好ましい。
【０１２９】
（汚れの付着を防止する層）
本発明のフィルムミラーは、光の入射面側の最表層に汚れの付着を防止する層を有しているのが好ましい。本発明の汚れの付着を防止する層は、親水性でも撥水性でも良い。例えば、光触媒を用いて表面を親水性にする場合には、光触媒活性層が自己浄化作用を有しているので、降雨又は散水により、自己浄化できるので、メンテナンスフリーでフィルムを美麗な状態に保つことができる。また、表面にフッ素系樹脂などを塗布することにより、表面を撥水性とし、雨などによる水滴をはじき、汚れの原因となる砂や有機分の付着を防止するといった方法も好ましく適用できる。
【０１３０】
（フィルムミラー全体の厚さ）
本発明に係るフィルムミラー全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、７５〜２５０μｍが好ましく、更に好ましくは９０〜２３０μｍ、更に好ましくは１００〜２２０μｍである。
【０１３１】
（太陽光反射用ミラー）
本発明のフィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽光反射用ミラーとして用いることもできるが、より好ましくは、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて太陽熱発電用反射装置として用いることである。
【０１３２】
太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められるため、本発明のフィルムミラーが特に好適に用いられる。
【０１３３】
〈粘着層〉
粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。
【０１３４】
例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどが用いられる。
【０１３５】
ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
【０１３６】
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１３７】
本発明に適宜採用される本発明のフィルムミラーと貼り合せられる他基材としては、銀反射層層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたり金属蒸着などの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。
【０１３８】
貼り合わせフィルム又はシートの厚さは、特に制限はないが通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１３９】
また、これらの他基材は本発明のフィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよいものである。
【０１４０】
（自己支持性の基材）
本発明のフィルムミラーを太陽光反射用ミラーに用いる場合、当該フィルムミラーを支持する基材として種々の態様の基材を用いることができるが、自己支持性の基材を用いることが好ましい。すなわち、自己支持性の基材に、本発明のフィルムミラーが具備されてなる太陽光反射用ミラーとすることが好ましい。
【０１４１】
本発明に係る太陽光反射用ミラーに用いられる自己支持性の基材は、以下のＡ及びＢの何れかの構成を有することが好ましい。
【０１４２】
Ａ：一対の金属平板と、当該金属平板の間に設けられた中間層とを有し、当該中間層は中空構造を有する層又は樹脂材料から構成される層である。
【０１４３】
Ｂ：中空構造を有する樹脂材料層からなる。
【０１４４】
本発明で「自己支持性の基材」という場合の、「自己支持性」とは、反射板の基材として用いられる大きさに断裁された場合において、その対向する端縁部分を支持することで、基材を担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。反射板の基材が自己支持性を有することで、反射板を設置する際に取り扱い性に優れるとともに、反射板を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、反射装置を軽量化することが可能となり、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。
【０１４５】
構成Ａのように、自己支持性の基材を、一対の金属平板と、当該金属平板の間に設けられた中間層からなる構成とし、中間層は中空構造を有する層か樹脂材料から構成される層とすることにより、金属平板による高い平面性を有するとともに、中間層が中空構造を有する層か、樹脂材料から構成される層とされていることにより、金属平板のみで基材を構成する場合に比べて、基材を大幅に軽量化することが可能となるとともに、比較的軽量な中間層により剛性を上げることができるため、軽量且つ自己支持性を有する支持体とすることが可能となる。中間層として樹脂材料から構成される層を用いる場合においても、中空構造を有する樹脂材料の層とすることで更に軽量化が可能である。
【０１４６】
また、中間層を中空構造とした場合には、中間層が断熱材としての機能を果たすため、裏面の金属平板の温度変化がフィルムミラーへ伝わることを抑制し、結露の防止や、熱による劣化を抑制することが可能となる。
【０１４７】
構成Ａの表面層を形成する、金属平板としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料が好ましく用いることができる。本発明においては、特に、耐腐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。
【０１４８】
構成Ａの中間層を中空構造とする場合、金属、無機材料（ガラス等）、樹脂等の素材を用いることができる。中空構造としては、発泡樹脂からなる気泡構造、金属、無機材料又は樹脂材料からなる壁面を有する立体構造（ハニカム構造等）や、中空微粒子を添加した樹脂材料等を用いることができる。発泡樹脂の気泡構造は、樹脂材料中にガスを細かく分散させ、発泡状又は多孔質形状に形成されたものを指し、材料としては、公知の発泡樹脂材料を使用可能であるが、ポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリスチレン等が好ましく用いられる。ハニカム構造とは、空間が側壁で囲まれた複数の小空間で構成される立体構造全般を表すものとする。中空構造を樹脂材料からなる壁面を有する立体構造とする場合、壁面を構成する樹脂材料としては、エチレン、プロピレン、ブテン、イソプレンペンテン、メチルペンテン等のオレフィン類の単独重合体あるいは共重合体であるポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン、高密度ポリエチレン）、ポリアミド、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、エチレン−エチルアクリレート共重合体等のアクリル誘導体、ポリカーボネート、エチレン−酢酸ビニル共重合体等の酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、エチレン−プロピレン−ジエン類等のターポリマー、ＡＢＳ樹脂、ポリオレフィンオキサイド、ポリアセタール等の熱可塑性樹脂が好ましく用いられる。なお、これらは一種類を単独で用いても、二種類以上を混合して用いてもよい。特に、熱可塑性樹脂のなかでもオレフィン系樹脂又はオレフィン系樹脂を主体にした樹脂、ポリプロピレン系樹脂又はポリプロピレン系樹脂を主体にした樹脂が、機械的強度及び成形性のバランスに優れている点で好ましい。樹脂材料には、添加剤が含まれていてもよく、その添加剤としては、シリカ、マイカ、タルク、炭酸カルシウム、ガラス繊維、カーボン繊維等の無機フィラー、可塑剤、安定剤、着色剤、帯電防止剤、難燃剤、発泡剤等が挙げられる。
【０１４９】
また、中間層を樹脂プレートからなる層とすることも可能であり、この場合に中間層を構成する樹脂材料としては、前述のフィルムミラーの支持体を構成する材料と同様のものを好ましく用いることができる。
【０１５０】
中間層は、基材の全ての領域に設けられる必要はなく、金属平板の平面性及び基材としての自己支持性を担保できる範囲であれば、一部の領域に設けられていてもよい。中間層を上述の立体構造とする場合、金属平板の面積に対して、９０〜９５％程度の領域に立体構造を設けることが好ましく、発泡樹脂を用いる場合は、３０〜４０％程度の領域に設けることが好ましい。
【０１５１】
上記の構成Ｂのように、自己支持性の基材を、中空構造を有する樹脂材料からなる層とすることも可能である。基材を樹脂のみからなる層とした場合、自己支持性を持たせる程度の剛性を得るために必要な厚さが大きくなり、結果として基材の質量が重くなるが、樹脂基材に中空構造を持たせることにより、自己支持性を持たせながら軽量化が可能となる。中空構造を有する樹脂材料からなる層とする場合、表面層として平滑な面を有する樹脂シートを設け、中空構造を有する樹脂材料を中間層として用いることが、フィルムミラーの正反射率を高める観点で好ましい。この樹脂シートの材料としては、前述のフィルムミラーの支持体を構成する材料と同様のものを好ましく用いることができ、中空構造を構成する樹脂材料としては、上述の発泡材料や、立体構造に用いられるものと同様の樹脂材料を好ましく用いることができる。
【０１５２】
（保持部材）
本発明に係る太陽熱発電用反射装置においては、更に、上述の反射板を太陽を追尾可能な状態で保持する保持部材が設けられる。保持部材の形態としては、特に制限はなく、反射板が所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態で反射板を保持する構成を有するが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよいが、本願発明の太陽熱発電用反射装置によれば、反射板が軽量化されているため、太陽追尾時の消費電力を抑制することが可能であるため、駆動装置を設けて自動追尾する構成が好ましい。
【実施例】
【０１５３】
以下、本発明について実施例及び比較例を用いて具体的に説明する。【０１５４】
（銀錯体化合物含有塗布液Ａの調製）
攪拌器付き５００ｍｌのシュレンク（Ｓｃｈｌｅｎｋ）フラスコに、２−エチルヘキシルアンモニウム２−エチルカルバメート６５．０ｇ（２１５ミリモル）を１５０．０ｇのイソプロパノールに溶解させた後、酸化銀２０．０ｇ（８６．２ミリモル）を添加して、常温で反応した。前記反応溶液は、最初は黒色懸濁液（Ｓｌｕｒｒｙ）で反応が進行され、錯化合物が生成されるにつれて段々色が薄くなり、透明に変わることが観察されて、２時間反応した結果、無色透明な溶液が得られた。この溶液に、安定剤として２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルアミン２．５ｇに、溶媒としてｎ−ブタノール８５．０ｇとアミルアルコール５０．０ｇを添加して攪拌した後、０．４５ミクロンのメンブレンフィルタ（ｍｅｍｂｒａｎｅ  ｆｉｌｔｅｒ）を使用してフィルタし、熱分析（ＴＧＡ）した結果、銀含量４．８７質量％の銀錯体化合物含有塗布液Ａを製造した。【０１５５】
（銀錯体化合物含有塗布液Ｂの調製）
攪拌器付き５００ｍｌのシュレンク（Ｓｃｈｌｅｎｋ）フラスコに、２−エチルヘキシルアンモニウム２−エチルカルバメート３３．８ｇ（１１１．７ミリモル）とイソブチルアンモニウムイソブチルカーボネート３０．４ｇ（１４６ミリモル）を、１６．０ｇのイソプロパノールに溶解させた後、酸化銀２０．０ｇ（８６．２ミリモル）を添加して、常温で反応した。前記反応溶液は、最初は黒色懸濁液（Ｓｌｕｒｒｙ）で反応が進行され、錯化合物が生成されるにつれて段々色が薄くなり、透明に変わることが観察されて、２時間反応した結果、無色透明な溶液が得られた。この溶液に、安定剤として２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルアミン２．５ｇを添加して攪拌した後、０．４５ミクロンのメンブレンフィルタ（ｍｅｍｂｒａｎｅ  ｆｉｌｔｅｒ）を使用してフィルタし、熱分析（ＴＧＡ）した結果、銀含量２０．５６質量％の銀錯体化合物含有塗布液Ｂを製造した。【０１５６】
（銀錯体化合物含有塗布液Ｃの調製）
攪拌器付き５００ｍｌのシュレンク（Ｓｃｈｌｅｎｋ）フラスコに、粘性のある液体の２−エチルヘキシルアンモニウム２−エチルヘキシルカーボネート３４．６ｇ（１４４ミリモル）を１００ｍｌのメタノールに溶解させた後、炭酸銀１０ｇ（３６ミリモル）を添加した。前記反応溶液は、黄色懸濁液（Ｓｌｕｒｒｙ）で反応が進行されるにつれて、だんだん透明な色に変わることが観察されて、６時間が経った後には、完全に黄色の透明な溶液に変わって、錯化合物が生成されたことが分かった。この溶液を０．４５ミクロンのメンブランフィルタ（ｍｅｍｂｒａｎｅ  ｆｉｌｔｅｒ）を使用してフィルタし、銀錯体化合物含有塗布液Ｃを製造した。【０１５７】
［比較例１］
（比較例１のフィルムミラーの作製）
基材として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１  日本合成化学製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ−８２０  ＤＩＣ製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２に、固形分濃度１０％となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成し、接着層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、グリコールジメルカプトアセテート（表１において「メルカプト化合物」と略記する。）を樹脂に対して１０質量％となるよう添加して、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ３．０μｍの上部隣接層を形成した。【０１５８】
次に、上部隣接層の上からドライラミネーションプロセスにより、透明アクリルフィルム（三菱レイヨン製アクリプレンＨＢＳ０１０Ｐ  厚さ７５μｍ）を貼合した。更に上記ポリエステル樹脂の下部に、重量平均分子量５０万の付加反応型シリコーン系粘着剤１００部に白金系触媒１部を加えて３５質量％トルエン溶液とし、これを厚さ２５μｍのポリエステルフィルムの片面に塗布し、１３０℃で５分間加熱して厚さ３５μｍのシリコーン系粘着層（Ｓｉ系）を形成し比較例１のフィルムミラーを得た。【０１５９】
（太陽光反射用ミラーの作製）
厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのアルミ板と上記比較例１の反射フィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム面側とを、粘着層を介して貼り合せて、太陽光反射用ミラー（Ａ−１）を得た。同様にして、下記比較例２、３及び実施例のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラーをそれぞれ作製した。【０１６０】
［比較例２］
（比較例２のフィルムミラーの作製）
比較例１の上部隣接層に、グリコールジメルカプトアセテートをＢＡＳＦ製ＴＩＮＵＶＩＮ−２３４（表１において「含窒素環状化合物Ａ」と略記する。）に替えて添加する以外は、比較例１と同様の方法により、比較例２のフィルムミラーを得た。【０１６１】
また、太陽光反射用ミラー（Ａ−１）と同様の方法により、比較例２のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｂ−１）を作製した。【０１６２】
［比較例３］
（比較例３のフィルムミラーの作製）
基材として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１  日本合成化学製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ−８２０  ＤＩＣ製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２に、固形分濃度１０％となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成した。上記フィルムを初めに３５℃に調整した０．０２％塩化パラジウム−０．０１％塩酸水溶液（ｐＨ３）が入った容積２０Ｌの塩化ビニール製の槽、次に、３５℃に調整した無電解銅めっき浴ＡＴＳアドカッパーＩＷ浴（奥野製薬工業（株）社製）が入った容積２０Ｌの塩化ビニール製の槽を１ｍ／分の速度で通過させ、この際、槽内のロール数を変えて、初めの槽の通過時間が１分となるように調整し、次の槽の通過時間が１０分となるように調整し、各槽通過後には水洗を行った。更に３５℃に調整した無電解銀めっき浴を１０分かけて通過した後、水洗を行った。結果として、膜厚０．３μｍの銅めっきの上に、
膜厚０．３μｍの銀めっき層が得られた。【０１６３】
更に銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、グリコールジメルカプトアセテート（表１において「メルカプト化合物」と略記する。）を樹脂に対して１０質量％となるよう添加して、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ３．０μｍの上部隣接層を形成した。【０１６４】
次に、上部隣接層の上からドライラミネーションプロセスにより、透明アクリルフィルム（三菱レイヨン製アクリプレンＨＢＳ０１０Ｐ  厚さ７５μｍ）を貼合した。更に上記ポリエステル樹脂の下部に、重量平均分子量５０万の付加反応型シリコーン系粘着剤１００部に白金系触媒１部を加えて３５質量％トルエン溶液とし、これを厚さ２５μｍのポリエステルフィルムの片面に塗布し、１３０℃で５分間加熱して厚さ３５μｍのシリコーン系粘着層（Ｓｉ系）を形成し比較例３のフィルムミラーを得た。【０１６５】
また、太陽光反射用ミラー（Ａ−１）と同様の方法により、比較例３のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｃ−１）を作製した。【０１６６】
［比較例４］
（比較例４のフィルムミラーの作製）
基材として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１  日本合成化学製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ−８２０  ＤＩＣ製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２に、固形分濃度１０％となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成し、接着層上に銀錯体化合物含有塗布液Ａを、加熱乾燥後の銀の膜厚が８０ｎｍとなるように塗布した。ドライオーブンにて１５０℃、２分間加熱乾燥し、銀反射層を形成した。銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、アセティックヒドラジド（表１において「ヒドラジン化合物」と記載する。）を樹脂に対して１０質量％となるよう添加して、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ３．０μｍの上部隣接層を形成した。【０１６７】
次に、上部隣接層の上からドライラミネーションプロセスにより、透明アクリルフィルム（三菱レイヨン製アクリプレンＨＢＳ０１０Ｐ  厚さ７５μｍ）を貼合した。更に上記ポリエステル樹脂の下部に、重量平均分子量５０万の付加反応型シリコーン系粘着剤１００部に白金系触媒１部を加えて３５質量％トルエン溶液とし、これを厚さ２５μｍのポリエステルフィルムの片面に塗布し、１３０℃で５分間加熱して厚さ３５μｍのシリコーン系粘着層（Ｓｉ系）を形成し比較例４のフィルムミラーを得た。【０１６８】
また、太陽光反射用ミラー（Ａ−１）と同様の方法により、比較例４のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｄ−１）を作製した。【０１６９】
［実施例１］
（実施例１のフィルムミラーの作製）
比較例４の上部隣接層において、アセティックヒドラジドをＢＡＳＦ製ＴＩＮＵＶＩＮ−２３４（表１において「含窒素環状化合物Ａ」と略記する。）に替える以外は、比較例４と同様の方法により、実施例１のフィルムミラーを得た。【０１７０】
また、太陽光反射用ミラー（Ａ−１）と同様の方法により、実施例１のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｅ−１）を作製した。【０１７１】
［実施例２］
（実施例２のフィルムミラーの作製）
実施例１の上部隣接層において、ＢＡＳＦ製ＴＩＮＵＶＩＮ−２３４を２−エチル−４−メチルイミダゾール（表１において「含窒素環状化合物Ｂ」と略記する。）に替える以外は、実施例１と同様の方法により、実施例２のフィルムミラーを得た。【０１７２】
また、太陽光反射用ミラー（Ａ−１）と同様の方法により、実施例２のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｆ−１）を作製した。【０１７３】
［実施例３］
（実施例３のフィルムミラーの作製）
実施例２の上部隣接層上に、α−アルミナを蒸着源として、蒸着法によりアルミナバリアー層を施し、実施例３のフィルムミラーを得た。【０１７４】
また、太陽光反射用ミラー（Ａ−１）と同様の方法により、実施例３のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｇ−１）を作製した。【０１７５】
［実施例４］
（実施例４のフィルムミラーの作製）
実施例３のアルミナバリアー層の上からドライラミネーションプロセスにより、透明アクリルフィルム（三菱レイヨン製アクリプレンＨＢＳ０１０Ｐ  厚さ７５μｍ）を貼合した。上記アクリルフィルムの上に、防汚コート剤（ＤＩＣ製ディフェンサ  ＴＲ−３３０）を塗布し、８０℃で１分乾燥した。更に上記ポリエステル樹脂の下部に、重量平均分子量５０万の付加反応型シリコーン系粘着剤１００部に白金系触媒１部を加えて３５質量％トルエン溶液とし、これを厚さ２５μｍのポリエステルフィルムの片面に塗布し、１３０℃で５分間加熱して厚さ３５μｍのシリコーン系粘着層（Ｓｉ系）を形成し、実施例４のフィルムミラーを得た。【０１７６】
また、太陽光反射用ミラー（Ａ−１）と同様の方法により、実施例４のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｈ−１）を作製した。【０１７７】
［実施例５］
（薄膜ガラスロールＡの製造方法）
液晶表示装置搭載用の薄板ガラスを成形するための装置を用い、無アルカリガラスを熱熔融させたのち、オーバーフローダウンドロー法により、幅１，２００ｍｍ、厚さ１００μｍ、長さ３００ｍの薄膜ガラスロールＡを作製した。【０１７８】
（実施例５のフィルムミラーの作製）
実施例２の上部隣接層の上に、ドライラミネーションプロセスにより、薄膜ガラスロールＡから得られるガラスフィルムを貼合した。当該ガラスフィルムの上に、防汚コート剤（スケッチ製スーパーグラスバリアー）を塗布し、１２０℃で３分乾燥した。更に上記ポリエステル樹脂の下部に、重量平均分子量５０万の付加反応型シリコーン系粘着剤１００部に白金系触媒１部を加えて３５質量％トルエン溶液とし、これを厚さ２５μｍのポリエステルフィルムの片面に塗布し、１３０℃で５分間加熱して厚さ３５μｍのシリコーン系粘着層（Ｓｉ系）を形成し、実施例５のフィルムミラーを得た。【０１７９】
また、太陽光反射用ミラー（Ａ−１）と同様の方法により、実施例５のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｉ−１）を作製した。【０１８０】
［実施例６］
（実施例６のフィルムミラーの作製）
実施例５の銀コーティング液組成物Ａを銀錯体化合物含有塗布液Ｂに替える以外は、実施例５と同様の方法により、実施例６のフィルムミラーを得た。【０１８１】
また、太陽光反射用ミラー（Ａ−１）と同様の方法により、実施例６のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｊ−１）を作製した。【０１８２】
［実施例７］
（実施例７のフィルムミラーの作製）
実施例６の銀コーティング液組成物Ｂを銀錯体化合物含有塗布液Ｃに替える以外は、実施例６と同様の方法により、実施例７のフィルムミラーを得た。【０１８３】
また、太陽光反射用ミラー（Ａ−１）と同様の方法により、実施例７のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｋ−１）を作製した。【０１８４】
［実施例８］
（実施例８のフィルムミラーの作製）
実施例７の上部隣接層の２−エチル−４−メチルイミダゾールを３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール（表１において「含窒素環状化合物Ｃ」と略記する。）に替える以外は、実施例７と同様の方法により、実施例８のフィルムミラーを得た。【０１８５】
また、太陽光反射用ミラー（Ａ−１）と同様の方法により、実施例８のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｌ−１）を作製した。【０１８６】
また、上記太陽光反射用ミラー（Ｄ−１）〜（Ｌ−１）を作製する際に、厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのアルミ板に替えて、各フィルムミラーの粘着層と自己支持性の基材を対面して貼り付けて太陽光反射用ミラーを作製した（（Ｄ−２）〜（Ｌ−２））。自己支持性の基材の厚さは２ｍｍのものを使用した。両面材質とは、中空構造を有する層をサンドイッチする材料を言う。金属平板の厚さは片面０．１２ｍｍのアルミニウム、中間層の樹脂層は、厚さ１．７６ｍｍの発泡ポリエチレン樹脂を充填したものを使用した。重さ及び駆動電力消費率を測定した結果、従来の太陽光反射用ミラーに対して大幅に軽量化でき、その結果、搬送効率がアップし、作業の短縮化が図れ、コスト低減にも寄与した。【０１８７】
［評価］
上記で得た太陽光反射用ミラーについて、下記の方法により正反射率及び耐候性、耐光性の測定をそれぞれ行った。【０１８８】
＜正反射率の測定＞
島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。【０１８９】
＜正反射率の耐候性試験＞
温度８５℃、湿度８５％ＲＨの条件で３０日間放置後のフィルムミラーの正反射率を、上記光線反射率測定と同様の方法により測定し、強制劣化前のフィルムミラーの正反射率と強制劣化後のフィルムミラーの正反射率から、正反射率の低下率を算出した。以下に耐候性試験の評価基準を記す。
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
＜防汚性試験＞
太陽光反射用ミラーを幅１０ｃｍ×長さ１０ｃｍの試験片に切り抜き、アルミ製の枠に固定し、４５°に傾けて屋外に暴露した（平成２２年１〜６月、場所：東京都八王子市）。屋外暴露６ヵ月後の汚れの程度を目視観察し３段階（○：埃の付着無し、△：埃の付着少々、×：埃の付着多い）で評価した。
（評価方法）
＜質量＞
得られた太陽光反射用ミラーＬ−１及びＬ−２の１．０ｍ２サイズの質量を測定した結果を表３に示す。【０１９０】
＜駆動電力消費率＞
太陽光反射用ミラーを太陽追尾型の太陽熱発電用反射装置に組み込んだ際、太陽光反射用ミラーＬ−１を組み込んだ１基の追尾にかかる駆動電力を１００とした時の比率を表３に示す。【０１９１】
得られた各種フィルムミラーの内容を下記表１−１、表１−２に、特性を評価した結果を下記表２及び３に示す。【０１９２】
【表１−１】
2012056952.tif 000003
【表１−２】
2012056952.tif 000004
【０１９３】
【表２】
2012056952.tif 000005
【０１９４】
【表３】
2012056952.tif 000006
【０１９５】
表２及び３に示した評価結果から明らかなように、本発明に係る実施例の各種特性は、比較例に対して優れていることが分かる。すなわち、本発明の上記手段により、銀反射層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性、耐候性及び防汚性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽光反射用ミラーを提供することができることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【０１９６】
本発明は、以上のように構成されていることから、フィルムミラーとその製造方法及びフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーとして利用できる。
【国際調査報告】
2012056952.tif 000007
2012056952.tif 000008
2012056952.tif 000009
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