(57)【要約】  透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムが提供される。第１層は、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有する。リコート層は、４級アンモニウム塩材料を含まない。ハードコート層は、４級アンモニウム塩材料を含み、ハードコート層において、４級アンモニウム塩材料の濃度は、中間層側からリコート層側に向かうにつれ高くなっている。
2012133341.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、
前記第１層は、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、
前記リコート層は、４級アンモニウム塩材料を含まず、
前記ハードコート層は、前記４級アンモニウム塩材料を含み、前記ハードコート層において、前記４級アンモニウム塩材料の濃度は、前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ高くなっている反射防止フィルム。
【請求項２】
前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択される請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記４級アンモニウム塩材料は、分子量が２，０００乃至８０，０００の範囲内であり、
前記レベリング材料は、分子量が１，０００乃至８０，０００の範囲内である請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記第１層は、膜厚が少なくとも３μｍ乃至１５μｍの範囲内である請求項１乃至３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
平行光線透過率が９３％以上であり、
ヘイズが０．５％以下であり、
前記第２層の表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２乃至１×１０１２Ω／ｃｍ２の範囲内であり、
前記第２層の表面の純水接触角が８０°乃至１４０°の範囲内である請求項１乃至４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムの製造方法であって、
前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、
前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、
前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、
前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程と
を含んだ反射防止フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記塗液は、前記塗液１００質量部中、前記溶媒を２５質量部乃至８５質量部含み、
前記溶媒は、前記溶媒１００質量部中、前記基材を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んだ請求項６に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記一次乾燥は、１５℃乃至３０℃の範囲内で行われ、
前記二次乾燥は、４０℃乃至１５０℃の範囲内で行われる請求項６又は７に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】
透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、
前記第１層は、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、
前記リコート層は、金属酸化物微粒子を含まず、
前記ハードコート層は、前記金属酸化物微粒子を含み、前記ハードコート層において、前記金属酸化物微粒子は偏在している反射防止フィルム。
【請求項１０】
前記ハードコート層において、前記金属酸化物微粒子の金属酸化物微粒子の体積がハードコート層の単位体積に占める割合は、前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ高くなっている請求項９に記載の反射防止フィルム。
【請求項１１】
前記金属酸化物微粒子は導電性を有する請求項９又は１０に記載の反射防止フィルム。
【請求項１２】
前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択される請求項９に記載の反射防止フィルム。
【請求項１３】
前記金属酸化物微粒子は、粒径が２μｍ以下であり、
前記レベリング材料は、分子量が５００乃至８０，０００の範囲内である請求項９乃至１２のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１４】
前記第２層は、膜厚が３μｍ乃至１５μｍの範囲内である請求項９乃至１３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１５】
平行光線透過率が９３％以上であり、
ヘイズが０．５％以下の範囲内であり、
前記第２層の表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２乃至１×１０１２Ω／ｃｍ２の範囲内であり、
前記第２層の表面の純水接触角が８０°乃至１４０°の範囲内である請求項９乃至１４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１６】
透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムの製造方法であって、
前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、
前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、
前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、
前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程と
を含んだ反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１７】
前記塗液は、前記塗液１００質量部中、前記溶媒を２５質量部乃至８５質量部の範囲内で含み、
前記溶媒は、前記溶媒１００質量部中、前記基材を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んだ請求項１６に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１８】
前記一次乾燥は、１５℃乃至３０℃の範囲内で行われ、
前記二次乾燥は、４０℃乃至１５０℃の範囲内で行われる請求項１６又は１７に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１９】
前記第１乾燥工程において、前記第１塗膜を塗布してから、前記第１塗膜中に含まれる溶媒が１０質量部以下となるまでの時間が２秒乃至６０秒の範囲内である請求項１６乃至１８のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窓やディスプレイなどの表面に外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルムに関する。本発明は、特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、陰極線管（ＣＲＴ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＯＬＥＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）及びフィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などのディスプレイの表面に設けられる反射防止フィルムに関する。さらには、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面、特には、透過型液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内であろうと室外であろうと、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、この反射防止機能には、さらなる高性能化及び他の機能との複合化が求められている。【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材上に多層構造、具体的には、金属酸化物等の透明材料から各々がなる高屈折率層と低屈折率層との繰り返し構造を有している反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。【０００４】
乾式成膜法には、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある。その反面で、乾式成膜法は、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。それ故、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いた湿式成膜法が注目されている。【０００５】
また、これらの反射防止層が透明基材上に設けられている反射防止フィルムは、その表面が比較的柔軟である。そのため、その製造においては、表面硬度を付与するために、一般に電離放射線硬化型材料、例えばアクリル系材料を硬化して得られるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている。アクリル系材料からなるハードコート層は、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有する。このようなハードコート層上に少なくとも低屈折率層を塗布して製造される反射防止フィルムは、比較的安価に製造できるメリットがあり、市場に広く出まわっている。【０００６】
上述の技術に関連する技術は、例えば、特開２００５−２０２３８９号公報、特開２００５−１９９７０７号公報、特開平１１−９２７５０号公報、特開２００７−１２１９９３号公報、特開２００５−１４４８４９号公報、特開２００６−１５９４１５号公報及び特開２０１０−２１７９８７３号公報に記載されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
反射防止フィルムをディスプレイ表面に設けることにより、その反射防止機能によって、外光の反射を抑制することができ、明所でのコントラストを向上させることができる。また、同時に透過率を向上させることができることから画像をより明るく表示可能にすることができる。また、バックライトの出力などを抑える省エネルギー効果も期待できる。【０００８】
また、反射防止フィルムには、絶縁性が高いため帯電しやすく、ハードコート層を設けた製品表面への埃等の付着による汚れや、ディスプレイ製造工程において帯電することにより障害が発生するといった問題がある。そのため、反射防止フィルムには、帯電防止性能が付与されることがある。反射防止フィルムに帯電防止性能を付与する方法としては、導電性材料を含む帯電防止層を形成する方法や、ハードコート層に導電性材料を含有させる方法が提案されている。【０００９】
反射防止フィルムには、反射防止性能を有していることに加え、干渉ムラがなく、光学特性に優れていることが求められている。さらに、反射防止フィルムは、ディスプレイの一番外側の表面に設けられるため高い耐擦傷性が求められている。【００１０】
また、反射防止フィルムは、上述のような優れた反射防止性能、光学特性、帯電防止性能、及び耐擦傷性に加え、低いコストで製造できることが求められている。【００１１】
したがって、本発明の目的は、優れた光学特性、帯電防止性能、高い耐擦傷性と低い製造コストを両立した反射防止フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の第１側面は、透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなり、前記第１層は、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、前記リコート層は、４級アンモニウム塩材料を含まず、前記ハードコート層は、前記４級アンモニウム塩材料を含み、前記ハードコート層において、前記４級アンモニウム塩材料の濃度は、前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ高くなっている反射防止フィルムに関する。【００１３】
前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択されてもよい。【００１４】
前記４級アンモニウム塩材料は、分子量が２，０００乃至８０，０００の範囲内であり、前記レベリング材料は、分子量が１，０００乃至８０，０００の範囲内であってもよい。【００１５】
前記第１層は、膜厚が少なくとも３μｍ乃至１５μｍの範囲内であってもよい。【００１６】
前記反射防止フィルムは、平行光線透過率が９３％以上であり、ヘイズが０．５％以下であり、前記第２層の表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２乃至１×１０１２Ω／ｃｍ２の範囲内であり、前記第２層の表面の純水接触角が８０°乃至１４０°の範囲内であってもよい。【００１７】
また、本発明の第２側面は、透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムの製造方法であって、前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程とを含んだ反射防止フィルムの製造方法に関する。【００１８】
前記塗液は、前記塗液１００質量部中、前記溶媒を２５質量部乃至８５質量部含み、前記溶媒は、前記溶媒１００質量部中、前記基材を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んでいてもよい。【００１９】
前記一次乾燥は、１５℃乃至３０℃の範囲内で行われ、前記二次乾燥は、４０℃乃至１５０℃の範囲内で行われてもよい。【００２０】
本発明の第３側面は、透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなり、前記第１層は、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、前記リコート層は、金属酸化物微粒子を含まず、前記ハードコート層は、前記金属酸化物微粒子を含み、前記ハードコート層において、前記金属酸化物微粒子は偏在している反射防止フィルムに関する。【００２１】
前記ハードコート層において、前記金属酸化物微粒子の金属酸化物微粒子の体積がハードコート層の単位体積に占める割合は、前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ高くなっていてもよい。【００２２】
前記金属酸化物微粒子は導電性を有していてもよい。【００２３】
前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択されてもよい。【００２４】
前記金属酸化物微粒子は、粒径が２μｍ以下であり、前記レベリング材料は、分子量が５００乃至８０，０００の範囲内であってもよい。【００２５】
前記第２層は、膜厚が少なくとも３μｍ乃至１５μｍの範囲内であってもよい。【００２６】
前記反射防止フィルムは、平行光線透過率が９３％以上であり、ヘイズが０．５％以下の範囲内であり、前記第２層の表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２乃至１×１０１２Ω／ｃｍ２の範囲内であり、前記第２層の表面の純水接触角が８０°乃至１４０°の範囲内であってもよい。【００２７】
本発明の第４側面は、透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムの製造方法であって、前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程とを含んだ反射防止フィルムの製造方法に関する。【００２８】
前記塗液は、前記塗液１００質量部中、前記溶媒を２５質量部乃至８５質量部の範囲内で含み、前記溶媒は、前記溶媒１００質量部中、前記基材を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んでいてもよい。【００２９】
前記一次乾燥は、１５℃乃至３０℃の範囲内で行われ、前記二次乾燥は、４０℃乃至１５０℃の範囲内で行われてもよい。【００３０】
前記第１乾燥工程において、前記第１塗膜を塗布してから、前記第１塗膜中に含まれる溶媒が１０質量部以下となるまでの時間が２秒乃至６０秒の範囲内であってもよい。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、優れた光学特性、帯電防止性能及び耐擦傷性を有し、低いコストで製造できる反射防止フィルム及びその製造方法を提供することができる。特に、優れた光学特性を有する反射防止フィルム及びその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】図１は、一態様に係る反射防止フィルムの断面を示す模式図である。
【図２】図２は、一態様に係る反射防止フィルムの断面におけるＥＰＭＡ分析の測定箇所を示す図である。
【図３】図３は、一態様に係る反射防止フィルムの製造装置の概略図である。
【図４】図４は、例Ｄ１の偏在層表面の分光反射率を示す図である。
【図５】図５は、例Ｄ１６の偏在層表面の分光反射率を示す図である。
【図６】図６は、例Ｄ１の低屈折率層表面の分光反射率を示す図である。
【図７】図７は、例Ｄ１６の低屈折率層表面の分光反射率を示す図である。
【図８】図８は、例Ｅ１の偏在層表面の分光反射率を示す図である。
【図９】図９は、例Ｅ１７の偏在層表面の分光反射率を示す図である。
【図１０】図１０は、例Ｅ１の低屈折率層表面の分光反射率を示す図である。
【図１１】図１１は、例Ｅ１７の低屈折率層表面の分光反射率を示す図である。
【図１２】図１２は、例Ｆ１の偏在層表面の分光反射率を示す図である。
【図１３】図１３は、例Ｆ１６の偏在層表面の分光反射率を示す図である。
【図１４】図１４は、例Ｆ１の低屈折率層表面の分光反射率を示す図である。
【図１５】図１５は、例Ｆ１６の低屈折率層表面の分光反射率を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、図面を参照しながら本発明の態様を詳細に説明する。  
なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。
【００３４】
また、「分子量」とは、分子量１，０００以下の場合は構造式から求められる分子量を指し、分子量が１，０００を超える場合には重量平均分子量を指す。また、金属酸化物粒子の平均粒子径及び金属酸化物微粒子の平均粒子径は、光散乱法によって求めた粒度分布における積算値５０％での粒径を意味する。
【００３５】
○第１態様
まず、本発明の第１態様について説明する。
【００３６】
＜＜反射防止フィルム＞＞
図１は、一態様に係る反射防止フィルム１の断面の模式図を示す。
【００３７】
反射防止フィルム１は、透明基材１１と偏在層１２と低屈折率層１３とを含んでいる。
【００３８】
偏在層１２及び低屈折率層１３は、透明基材１１の少なくとも一方の面に設置されている。図１に示すように、偏在層１２及び低屈折率層１３は、透明基材側からこの順で積層されている。低屈折率層１３の屈折率は、偏在層１２の屈折率と比較して低い。具体的には、低屈折率層１３の屈折率は、偏在層１２の後述するハードコート層１２ｂの屈折率と比較して低い。ここで、屈折率は、例えば、波長５５０ｎｍで測定された屈折率である。
【００３９】
以下、偏在層１２及び低屈折率層１３の各層について順に説明する。
【００４０】
＜偏在層＞
偏在層１２は、電離放射線硬化型材料と、４級アンモニウム塩材料と、レベリング材料と、溶媒とから得られる。
【００４１】
偏在層１２は、例えば、これらの材料を含んだ偏在層形成用塗液に電離放射線を照射することによって硬化して得られる。電離放射線硬化型材料は、電離放射線照射によって硬化し、バインダマトリックスを形成する。このようにして形成されたバインダマトリックスは、反射防止フィルムに高い表面硬度を付与することができる。
【００４２】
偏在層の膜厚は、好ましくは、３μｍ乃至１５μｍの範囲内にある。膜厚をこのような所定の範囲内とすることにより、目的とする偏在層を得ることが可能となる。偏在層の膜厚が３μｍ未満の場合、ハードコート層が十分な表面硬度を有さず、得られる反射防止フィルムも十分なハードコート性を有さない可能性がある。また、偏在層の膜厚が１５μｍ以上の場合、所望の４級アンモニウム塩材料の濃度分布が得られず、所定の帯電防止機能が得られなくなる可能性がある。偏在層の膜厚は、より好ましくは、４μｍ乃至１０μｍの範囲内にある。
【００４３】
偏在層は、中間層１２ａとハードコート層１２ｂとリコート層１２ｃとを含んでいる。中間層１２ａとハードコート層１２ｂとリコート層１２ｃとは、透明基材側からこの順に積層されている。
【００４４】
偏在層は、例えば、上述のように、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ偏在層形成用塗液から形成される。この塗液を塗布して塗膜を形成し、その後、乾燥し、乾燥後の塗膜を硬化して形成する。
【００４５】
偏在層をこのようにして形成する場合、前記塗液に含まれる溶媒が、塗膜を形成した後、乾燥するまでの間、透明基材１１を溶解し又は膨潤させ、透明基材１１に浸透する。これに伴いバインダマトリックス形成材料成分が透明基材１１へと浸透し、基材を構成する成分と混合する。このようにして、中間層１２ａが形成される。一方、４級アンモニウム塩材料は透明基材１１には浸透しがたいため、透明基材側とは反対側へと偏析し、ハードコート層１２ｂを形成する。このとき、４級アンモニウム塩材料は表面張力によって、ハードコート中の低屈折率層側が高濃度、透明基材側が低濃度となるように不均質に存在する。レベリング材料は、表面張力により最表面（低屈折率層を形成する側）へと移動し、リコート層１２ｃを形成する。このようにして、層構成が互いに異なる中間層１２ａ、ハードコート層１２ｂ及びリコート層１２ｃを形成することができる。
【００４６】
上記の通り、偏在層１２において、４級アンモニウム塩材料の濃度は、中間層１２ａから偏在層表面（低屈折率層１３側）に向けて漸次変化する。具体的には、４級アンモニウム塩材料の濃度は、中間層１２ａから偏在層表面（低屈折率層１３側）に向かって次第に高くなる。このような４級アンモニウム塩材料の濃度の変化は、偏在層１３の断面についてエレクトロンプローブマイクロアナリシス（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｐｒｏｂｅ Ｍｉｃｒｏ Ａｎａｌｙｓｉｓ（ＥＰＭＡ））を行い、偏在層中に含まれる４級アンモニウム塩材料のアニオンの濃度を測定することにより確認することができる。一般的に、４級アンモニウム塩材料のアニオンには塩素イオンを用いることが多い。そのため、塩素の濃度を測定することにより、４級アンモニウム塩材料が不均質に存在することを確認することが可能である。
【００４７】
ＥＰＭＡは、エネルギー分散型蛍光Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）又は波長分散型蛍光Ｘ線分析装置（ＷＤＸ）のいずれを使用して行われてもよい。
【００４８】
以下に４級アンモニウム塩材料のアニオンが塩素イオンである場合の４級アンモニウム塩材料の分布の確認方法について説明する。
【００４９】
図２は、ＥＰＭＡ分析の測定箇所を示す図である。
【００５０】
ＥＰＭＡ分析では、断面加工を行った反射防止フィルムの偏在層断面について、図２に示す深さ方向の３箇所Ｙ１、Ｙ２及びＹ３において塩素イオン濃度の測定を行う。
【００５１】
ここで、偏在層１２の膜厚をｙとする。ｙは、塗布液の塗布量から求められる。Ｙ１は、偏在層１２と低屈折率層１３の界面から１μｍの深さの箇所である。Ｙ２は、偏在層１２と低屈折率層１３の界面から１μｍ＋ｙ／３μｍの深さの箇所である。Ｙ３は、偏在層１２と偏在層１２と低屈折率層１３の界面から１μｍ＋２ｙ／３μｍの深さの箇所である。
【００５２】
ＥＰＭＡ分析によって、Ｙ１、Ｙ２及びＹ３のすべての箇所で塩素が検出され、かつ、各々の箇所における塩素の検出濃度（ａｔｏｍｉｃ％）が（Ｙ１でのＣｌ検出量）＞（Ｙ２でのＣｌ検出量）＞（Ｙ３でのＣｌ検出量）の関係を満たす場合、ハードコート層中で４級アンモニウム塩材料が偏在していると判断される。即ち、ハードコート層中で、４級アンモニウム塩材料の濃度は、中間層側からリコート層側に向けて漸次濃度が高くなっていると判断される。
【００５３】
なお、ＥＰＭＡ分析において塩素の検出量が０．１ａｔｏｍｉｃ％以下のときは塩素不検出とする。また、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３における塩素の検出量の差が０．１ａｔｏｍｉｃ％以上のときを有意差とする。
【００５４】
このように４級アンモニウム塩材料の濃度が漸次高くなっている場合には、例えば、（Ｙ１の塩素検出量）と（Ｙ２の塩素検出量）と（Ｙ３の塩素検出量）とが等しく、濃度に差がない場合と比較して、４級アンモニウム塩材料の使用量を減らすことができる。
【００５５】
また、例えば、４級アンモニウム塩材料が低屈折率層側のみに存在する場合、具体的には、Ｙ１のみでＣｌが検出される場合と比較して、ハードコート層の密着力および耐スチールウール性（耐擦傷性）が向上する。偏在層中で樹脂の組成が急激に変化すると、界面が生じ、密着力および耐スチールウール性（耐擦傷性）が低下する。しかしながら、上述のように４級アンモニウム塩材料の濃度が漸次変化することによって、界面の発生を防ぐことができる。
【００５６】
以下に、偏在層１２が含む各々の層、即ち、中間層１２ａ、ハードコート層１２ｂ及びリコート層１２ｃについて説明する。
【００５７】
（中間層）
中間層１２ａは、透明基材１１と偏在層１２との界面に存在する。中間層１２ａにおいては、透明基材の成分と偏在層の電離放射硬化型材料成分が混在している。
【００５８】
中間層１２ａは、厚さ方向において、屈折率が透明基材１１側から低屈折率層１３側に向かって変化する。具体的には、屈折率は、透明基材１１の屈折率からハードコート層１２ｂの屈折率まで漸次変化する。より具体的には、屈折率は、透明基材１１の屈折率からハードコート層１２ｂの屈折率まで漸次増加する。
【００５９】
このような中間層１２ａを設けることにより、偏在層と透明基材の界面で発生する干渉縞の発生を防ぐことができる。また、中間層１２ａは透明基材１１と偏在層１２間の密着性を向上させることができる。中間層１２ａは、偏在層形成用塗液から形成することができる。
【００６０】
中間層１２ａの存在は、低屈折率側から５°の入射角で、反射防止フィルムの分光反射率を求めることにより確認することができる。分光反射率において低屈折率層の層厚に対応した干渉ピークが確認される（分光スペクトルの波形に多数のリップルが見られる）場合、中間層１２ａが形成されていないと判断される。このとき、裏面を黒塗り処理した外観検査において、干渉縞ムラが観察される。一方、分光反射率において低屈折率層の層厚に対応した干渉ピークが確認されない場合、中間層１２ａが形成されていると判断される。この場合、裏面黒塗り処理による外観検査において、干渉ムラは全く見られない。
【００６１】
なお、干渉縞及び干渉ムラとは、光学干渉による色ムラの一種であるが、主に透明基材とハードコート層の屈折率差に起因するもので、膜厚が厚い場合に複数の光学干渉が同時に発生し虹色状に色ムラが観察される現象である。色ムラとは、低屈折率層の膜厚ムラに起因する反射色ムラのことで、面内の色バラツキが大きくなる現象である。
【００６２】
（ハードコート層）
図１に示す通り、ハードコート層１２ｂは、中間層１２ａの上に形成されている。  
ハードコート層１２ｂは、バインダマトリックス成分である電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とを含んでいる。このようなハードコート層１２ｂは、反射防止フィルムの表面硬度を向上させ、耐擦傷性を付与する。また、４級アンモニウム塩材料を配合することにより反射防止フィルムに帯電防止性を付与している。ハードコート層１２ｂは、レベリング材を更に含んでいる。ハードコート層１２ｂは、偏在層形成用塗液から形成することができる。
【００６３】
ハードコート層１２ｂ中では、上述の通り、４級アンモニウム塩材料が濃度の差を持って偏在している。４級アンモニウム塩材料の濃度は、中間層１２ａから偏在層表面（低屈折率側）に向かうにつれ、高くなっている。
【００６４】
反射防止フィルム中のいずれかの場所に４級アンモニウム塩材料が存在していれば、反射防止フィルムは帯電防止機能を発現する。また、帯電防止性は、４級アンモニウム塩材料の濃度が最も高い場所で発現する。そのため、４級アンモニウム塩材料をハードコート層１２ｂのリコート層側に高濃度となるように塗膜を設計することにより、反射防止フィルムに帯電防止機能を発現させることができ、ハードコート層１２ｂ中に全体に分散させるよりも、高価な４級アンモニウム塩材料の使用量を減少させることができる。また、４級アンモニウム塩材料の使用量を減らすことができ、表面への４級アンモニウム塩材料のブリードが押さえられ、リコート性を向上することができる。また、ブラッシングも起きにくくすることができる。
【００６５】
（リコート層）
図１に示す通り、リコート層１２ｃは、ハードコート層１２ｂの上に形成されている。リコート層１２ｃは、偏在層形成用塗液から形成することができる。
【００６６】
リコート層１２ｃは、レベリング材料を含んでいる。また、リコート層１２ｃは、典型的には、電離放射線硬化型材料とレベリング材料とを含んでいる。
【００６７】
リコート層１２ｃは４級アンモニウム塩材料を含まない。  
リコート層１２ｃを形成しない場合には、低屈折率層１３が剥離し、耐擦傷性が低下する。これは、偏在層の最表面（低屈折率層側）に偏在する４級アンモニウム塩材料が、低屈折率層を形成する材料と電気的に反発し、偏在層と低屈折率層の密着力が低下するためであると考えられる。
【００６８】
低屈折率層を形成する材料と４級アンモニウム塩材料との電気的反発がより強い場合は、低屈折率層形成用塗液を塗布する際にハジキなどが生じるといった不具合が発生する場合がある。また、低屈折率層を形成する材料が撥水材料を含む場合、４級アンモニウム塩材料とこの撥水材料とが電気的に反発することによって所望の防汚性能が得られないことがある。
【００６９】
４級アンモニウム塩材料はイオン性であるため、空気中の水分が吸着しやすい性質を有する。そのため、リコート層を設けない場合、偏在層の最表面に偏在している４級アンモニウム塩材料による水の吸着等により、塗布後の乾燥条件によっては、乾燥速度が部分的に変化し、表面荒れが生じ、ブラッシングを起こし、偏在層表面に凹凸が発生し、ヘイズを生じることもある。
【００７０】
上述の通り、ハードコート層１２ｂ上にリコート層１２ｃを設け、更に、リコート層１２ｃの上に低屈折率層１３を形成することで密着力を向上させ、耐擦傷性の低下を防ぐことができる。また、リコート層１２ｃを形成することで、表面荒れを抑制し、ブラッシングを回避することができる。なお、ブラッシングの有無は、反射防止フィルムのヘイズ値を測定することにより確認することができる。具体的には、反射防止フィルムのヘイズ値が０．５％以上である場合には、ブラッシングが発生しているとすることができる。ヘイズ発生に対しては、リコート層を形成する材料は、レベリング性も有しているため、表面凹凸が形成されることを抑制し、ヘイズの発生を防止することができる。なお、表面凹凸の有無は、反射防止フィルムのヘイズ値またはＡＦＭにて表面を測定することにより確認することができる。
【００７１】
偏在層１２の最表層にリコート層１２ｃが形成されているか否かについては、偏在層表面の純水の接触角を測定することにより確認できる。具体的には、偏在層表面の純水接触角が６０°以上の場合には偏在層表面にリコート層が形成されていると判断できる。リコート層が形成されていない場合、即ち、偏在層１２の表面に４級アンモニウム塩材料が存在する場合、４級アンモニウム塩材料の高い親水性のため、接触角は小さくなる。一方、リコート層が形成されている場合、偏在層表面の純水の接触角は大きくなる。リコート層が形成されている場合、リコート層が形成されていない場合と比較して偏在層１２の表面の純水の接触角が上昇する。
【００７２】
また、偏在層１２中の最表層にリコート層１２ｃが形成されていることは、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）による表面分析によっても確認することができる。具体的には、偏在層表面についてＸＰＳ分析を行い、４級アンモニウム塩材料に由来する元素が検出されなければ、リコート層が形成されていると判断することができる。４級アンモニウム塩材料に由来する元素は、例えば、アニオンである塩素である。
【００７３】
ＸＰＳは、試料表面の化学状態を分析する装置である。試料にＸ線（エネルギー：ｈν）を照射すると、光電効果により元素内の内殻電子がたたき出され、この時の光電子の運動エネルギー（Ｅｋ）は、下記一般式（Ａ）で表される。
【００７４】
一般式（Ａ）：
Ｅｋ＝ｈν−Ｅｂ−φ
ここで、Ｅｂは内殻電子のエネルギーレベル（束縛エネルギー）、φは装置や試料の仕事関数である。Ｅｂは、元素固有の値であり、その元素の化学状態によって変化する。一方、固体内で電子がエネルギーを保持したまま通過できる距離はせいぜい数十Åである。ＸＰＳは、試料表面から放出された光電子のＥｋとその数を測定することによって、試料表面から数十Åの深さまでに存在する元素の種類、量、および化学状態の分析ができる装置である。
【００７５】
＜低屈折率層＞
図１に示す通り、低屈折率層１３は、偏在層１２の上に設けられている。  
低屈折率層１３は、バインダマトリクス形成材料である電離放射線硬化型材料と、低屈折率粒子とから得られる。例えば、低屈折率層１３は、これらの材料を含んだ低屈折率層形成用塗液に電離放射線を照射して硬化することにより得られる。電離放射線硬化型材料が低い屈折率を有する場合、低屈折率層形成用塗液は低屈折率粒子を含んでいなくてもよい。
【００７６】
低屈折率層１３の膜厚（ｄ）は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）を乗じて得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計される。このような膜厚とすることにより、低屈折率層１３は、反射防止フィルムに反射防止機能を発揮する。
【００７７】
低屈折率層の光学膜厚は、好ましくは、８０ｎｍ乃至２００ｎｍの範囲内にある。低屈折率層の光学膜厚がこの範囲内にある場合、反射防止フィルムの表面側、即ち、図１及び２に示す矢印Ａの側から求められる分光反射率曲線は、５００ｎｍ近傍に極小値を有する。
【００７８】
分光反射率曲線は極小値を基準として短波長方向への上昇カーブが長波長方向への上昇カーブと比較して急峻な傾向を示す。このとき、分光反射率曲線の極小値を基準としたときの短波長方向への急峻な上昇カーブは、形成される反射防止フィルムの反射光の色味の原因となり、また、偏在層の膜厚ムラが発生したときの色ムラの発生原因となる。分光反射率曲線の極小値が５００ｎｍ近傍に存在することにより、反射色相を小さくすることができ、短波長方向への急峻な上昇カーブによる色ムラの発生を抑制することができる。
【００７９】
反射防止フィルムの低屈折率層形成面（表面（Ａ））での視感平均反射率が２．５％を超える場合、反射防止フィルムの反射防止性能は十分なものではない。一方、反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．２％の反射防止フィルムを偏在層の光学干渉により実現することは困難である。低屈折率層表面での視感平均反射率は０．２％以上２．０％以下の範囲内であることが好ましい。
【００８０】
本態様の反射防止フィルムは、例えば、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠して測定された平行光線透過率が９３％以上であり、ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準拠して測定されたヘイズが０．５％以下であり、低屈折率層表面における表面抵抗値が１×１０５ Ω／ｃｍ２乃至１×１０１２ Ω／ｃｍ２の範囲内にあり、反射防止フィルムの低屈折率層表面における純水接触角が８０°乃至１４０°以下の範囲内にある。
【００８１】
以下、反射防止フィルムのそれぞれの特性について、より詳細に説明する。
【００８２】
反射防止フィルムにおいて、平行光線透過率は高ければ高いほど好ましい。平行光線透過率は９３％乃至９８％の範囲内であることがより好ましい。現在考えられる使用材料を考慮すると平行光線透過率が９８％を超える反射防止フィルムを作製することは困難である。反射防止フィルムの平行光線透過率が９３％を下回る場合、透明感が無くなり、白濁（白らっ茶け）を生じ、ディスプレイのコントラストを低下させることがある。
【００８３】
反射防止フィルムにおいて、ヘイズは低ければ低いほど好ましい。ヘイズは、０．５％以下であることがより好ましい。また、ヘイズは、０．０５％以上０．５％以下の範囲内にあることが特に好ましい。現在考えられる使用材料を考慮すると、ヘイズが０．０５％を下回る反射防止フィルムを作製することは困難である。ヘイズが１．０％を超える場合には、透明感が無くなり、白濁（白らっ茶け）を生じ、ディスプレイのコントラストを低下させることがある。
【００８４】
また、表面抵抗値は、１×１０５ Ω／ｃｍ２乃至１×１０１２ Ω／ｃｍ２の範囲内であることが好ましい。表面抵抗値が１×１０５ Ω／ｃｍ２未満の反射防止フィルム作成するためには、多量の４級アンモニウム塩材料が必要となり、偏在層を形成することができなくなる可能性がある。反射防止フィルム表面の表面抵抗値が１×１０１０ Ω／ｃｍ２ 乃至１×１０１２ Ω／ｃｍ２ の範囲内にある場合は、一般的に動的な状態で埃が付着しない領域といわれており、ディスプレイの最表面に用いられる場合は、この条件が必要となる。このような理由から、１×１０１２ Ω／ｃｍ２ 以下が好ましいこととした。表面抵抗値は、ＪＩＳ−Ｋ６９１１（１９９５）に準拠して測定することができる。
【００８５】
低屈折率層表面の純水接触角が、８０°以上の場合、低屈折率層は優れた防汚性を有し、１４０°以下の場合、低屈折率層を形成する際に偏在層と低屈折率層の密着が向上し、高い表面硬度を付与することができる。この場合、得られる反射防止フィルムは、更に優れた耐擦傷性と防汚とを有する。これに対して、純水接触角が１４０°を超える場合、低屈折率層形成用塗液を塗布する際にハジキが発生し、低屈折率層を形成することができないことがある。また、純水接触角が８０°未満の場合、十分な防汚性を得ることができない場合がある。純水接触角は、ＪＩＳ Ｒ３２５７（１９９９）に準拠して測定することができる。具体的には、接触角計を用いて、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）で液滴を針先に作り、これを試料（固体）の表面に接触させて、試料表面に液滴を形成し、この接触角を測定することで求めることができる。ここで、「接触角」とは、固体と液体とが接触する点における液体表面に対する接線と固体表面とがなす角であり、液体を含む側の角度で定義される。液体としては、蒸留水が使用される。
【００８６】
＜＜反射防止フィルムの製造方法＞＞
続いて、本態様の反射防止フィルムの製造方法について説明する。
【００８７】
本態様の反射防止フィルムは、例えば、図３に概略的に示された反射防止フィルムの製造装置３を使用して製造することができる。
【００８８】
製造装置３は、第１ユニット２１、第２ユニット２２及び第３ユニット２３を含んでいる。各ユニットはこの順に直列に接続されている。
【００８９】
製造装置３は、搬送装置を更に含んでいる。搬送装置は、基材１１が第１ユニット２１、第２ユニット２２及び第３ユニット２３をこの順に通過するように基板１１を搬送する。
【００９０】
第１ユニット２１は、塗布装置を含んでいる。塗布装置は、第１ユニット２１において、基材１１上に塗膜を形成する。具体的には、塗布装置は、湿式成膜法によって、塗膜を形成する。
【００９１】
第２ユニット２２は、第１乾燥ユニット２２ａと第２乾燥ユニット２２ｂとを含んでいる。これら乾燥ユニット２２ａ及び２２ｂは、基材１１の流れ方向を基準として、乾燥ユニット２２ａが乾燥ユニット２２ｂの上流に位置するように配置されている。乾燥ユニット２２ａ及び２２ｂの少なくとも一方は、ヒータ及びブロワなどのドライヤを含んでいる。乾燥ユニット２２ａは、基材１１上に形成された塗膜を一次乾燥させる。他方、乾燥ユニット２２ｂは、この塗膜を二次乾燥させる。一次及び二次乾燥の詳細については、後で説明する。
【００９２】
第３ユニットは、電離放射線照射装置を含んでいる。電離放射線照射装置は、二次乾燥後の塗膜に電離放射線を照射する。
【００９３】
搬送装置は、リール３１ａ及び３１ｂと、モータ（図示せず）とを含んでいる。
【００９４】
リール３１ａは、図示しない回転軸、例えばモータの回転軸に着脱可能に取り付けられている。リール３１ａは、基材１１を繰り出す。
【００９５】
リール３１ｂは、図示しない回転軸、例えばモータの回転軸に着脱可能に取り付けられている。リール３１ｂは、処理後の基材１１を巻き取る。
【００９６】
搬送装置は、更に、搬送中の基材１１の撓みを防ぐガイドローラ３３ａ及び３３ｂを備えている。
【００９７】
製造装置３は、コントローラ（図示せず）を含んでいてもよい。コントローラは搬送装置、塗膜装置、ドライヤ及び電離放射線照射装置に接続されている。コントローラは、これら装置の動作を制御する。
【００９８】
この製造装置３を用いた反射防止フィルムの製造は、まず、偏在層を形成し、続いて低屈折率層を形成することにより行う。具体的な製造方法を、以下に示す。
【００９９】
＜偏在層の形成＞
まず、リール３１ａにロール状に巻かれた透明基材１１を用意する。  
透明基材１１は、有機高分子を含んだフィルム又はシートである。透明基材１１は、例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材である。使用される透明基材１１は、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子を含むものである。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。中でも、トリアセチルセルロースにあっては、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから液晶ディスプレイに対し好適に用いることができる。
【０１００】
透明基材１１としては、上述の有機高分子に、公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤及び難燃剤を添加して機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材１１は上述の有機高分子から選ばれる１種を単独で使用してもよく、または２種以上を混合して使用してもよい。また、透明基材１１は、複数の層を積層させたものであってもよい。
【０１０１】
透明基材１１の厚さは、好ましくは、２５μｍ乃至２００μｍの範囲内、より好ましくは、４０μｍ乃至８０μｍの範囲内にある。
【０１０２】
次に、リール３１ａを、回転軸に取り付け、リール３１ａから基材１１を繰り出す。そして、繰り出した基材１１の一端を、リール３１ｂに固定する。続いて、搬送装置を作動させて、リール３１ａから基材１１を繰り出すとともに、基板１１をリール３１ｂに巻き取る。
【０１０３】
［塗膜工程］
リール３１ａから繰り出された基材１１は、まず、第１ユニット２１へと搬送される。次に、塗膜装置を作動させ、基材１１に偏在層形成用塗液を供給する。例えば、塗膜装置は、コントローラによる制御のもと、基材１１に偏在層形成用塗液を供給して第１塗膜を形成する。第１塗膜は、例えば、１μｍ乃至２０μｍ、好ましくは、３μｍ乃至１５μｍ、典型的には、４μｍ乃至１０μｍの膜厚の偏在層が得られるように形成する。
【０１０４】
偏在層形成用塗液を透明基材上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。なお、偏在層１２は薄い塗膜であり、均一な膜厚であることが必要であることから、マイクログラビアコーター法、ダイコーター法を用いることが好ましい。
【０１０５】
偏在層形成用塗液は、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒を含む。
【０１０６】
（電離放射線硬化型材料）
電離放射線硬化型材料は、例えば、アクリル系材料である。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【０１０７】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１０８】
前記２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１０９】
前記３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【０１１０】
アクリル系材料として多官能ウレタンアクリレートを用いることもできる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６ｌ等、日本合成化学社製、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６４０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂ等、新中村化学社製、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、ＵＡ−１００Ｈ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ等、ダイセルユーシービー社製、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９等、根上工業社製、ＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＢ、ＵＮ−３２２０ＨＣ、ＵＮ−３２２０ＨＳ等を挙げることができるがこの限りではない。
【０１１１】
また、これらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【０１１２】
（４級アンモニウム塩材料）
４級アンモニウム塩材料としては、４級アンモニウム塩材料を官能基として分子内に含むアクリル系材料を好適に用いることができる。ただし、４級アンモニウム塩材料の分子内に官能基としてアクリル基を持たないものも用いることができる。４級アンモニウム塩材料は−Ｎ＋Ｘ−の構造を示し、４級アンモニウムカチオン（−Ｎ＋）とアニオン（Ｘ−）とを備えることによりハードコート層に導電性を発現させる。このとき、Ｘ−としては、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、Ｆ−、ＨＳＯ４−、ＳＯ４２−、ＮＯ３−、ＰＯ４３−、ＨＰＯ４２−、Ｈ２ＰＯ４−、ＳＯ３−、ＯＨ−等を挙げることができる。
【０１１３】
また、４級アンモニウム塩材料として４級アンモニウム塩を官能基として分子内に含むアクリル系材料を用いることもできる。４級アンモニウム塩を官能基として分子内に含むアクリル系材料としては、４級アンモニウム塩（−Ｎ＋ Ｘ−）を官能基として分子内に含む多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【０１１４】
４級アンモニウム塩材料の分子量は、２，０００乃至８０，０００の範囲内であることが好ましい。４級アンモニウム塩材料の重量平均分子量がこのような範囲内とすることにより透明基材側から中間層、ハードコート層、リコート層の順に偏在して積層された偏在層を形成することができる。４級アンモニウム塩材料の分子量が２，０００未満の場合、４級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ４級アンモニウム塩材料が存在し、リコート層が形成されない。そのため、低屈折率層形成材料と４級アンモニウム塩材料との電気的反発により偏在層と低屈折率層の密着性が低下して耐擦傷性が低下する場合がある。一方、４級アンモニウム塩材料の重量平均分子量が８０，０００を超える場合、ハードコート層１２ｂ中に４級アンモニウム塩材料が分散し、漸次濃度が増加するように偏在させることができず、表面抵抗値が悪くなる場合がある。
【０１１５】
偏在層中の４級アンモニウム塩材料の含有量は０．５質量部乃至２０質量部であることが好ましい。偏在層中の導電性材料である４級アンモニウム塩材料の含有量が０．５質量部未満の場合にあっては、十分な帯電防止性能を得られなくなってしまうことがある。一方、導電性材料である４級アンモニウム塩材料の含有量が２０質量部を超える場合にあってはリコート層が上手く形成されない場合がある。また、４級アンモニウム塩材料の含有量が２０質量部を超える場合にあっては、偏在層中で４級アンモニウム塩材料を、偏在させることができなくなる。なお、偏在層中の４級アンモニウム塩材料の含有量と偏在層形成用塗液中の固形分に対する４級アンモニウム塩材料の含有量は同義である。
【０１１６】
（レベリング材料）
レベリング材料は、好ましくは、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択される。これらのレベリング材料は、最表面に偏析しやすく、容易にリコート層を形成することができる。
【０１１７】
アクリル基を有する化合物とは、アクリル基を分子内に含むアクリル系レベリング材料である。アクリル基を有する化合物は（化１）に示す構造を有しており、活性度が低くリコート性がよい。このとき、Ｒ１としては、Ｈ、ＣＨ３、ＣｎＨ２ｎ−１（ｎ＝自然数）などを挙げることができる。また、Ｒ２としてはアルキル基、ポリエステル基、ポリエーテル基、塩や反応性基等を導入することができる。
【化１】
2012133341.tif 000003
【０１１８】
アクリル基を有する化合物としては、具体的にはＢＹＫ０−３５０、ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５、ＢＹＫ−３５６、ＢＹＫ−３５８Ｎ、ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＢＹＫ−３８０、ＢＹＫ−３９２、ＢＹＫ−３９４等が挙げられる。
【０１１９】
フッ素基を有する化合物としては、パーフルオロアルキル基またはフッ素化アルケニル基を有する化合物を好適に用いることができる。パーフルオロアルキル基は−ＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝自然数）の構造を有し、疎水・疎油基として機能する。そのため、剛直で曲がりにくく、表面に整然と配列する特徴を持つため、少量で表面を覆うレベリング材料として機能することができる。このとき、親油基と組み合わせることで、さらにレベリング材料としての効果を増加させることが可能となる。また、パーフルオロアルケニル基は分子内にＣ＝Ｃ結合を有しているため、表面に配列する際に嵩高いためパーフルオロアルキル基に比べ密度が低下する。そのため、パーフルオロ基が持つリコート性阻害を抑えることができる。
【０１２０】
フッ素基を有する化合物としては、具体的には、フッ素化アルケニル基を有するフタージェント２２２Ｆ（ネオス社製）やパーフルオロアルキル基を有するＦ４７０（ＤＩＣ社製）、Ｆ４８９（ＤＩＣ社製）が挙げられる。またこの他にもＶ−８ＦＭ（大阪有機化学工業社製）等を用いることができる。なお、本発明のレベリング材料であるフッ素を有する化合物は、これらに限定されるものではない。
【０１２１】
シロキサン結合を有する化合物としては、シロキサン結合と有機変性部を分子内に含むシリコン系レベリング剤を好適に用いることができる。シロキサン結合を有する化合物は（化２）に示す構造を有しており、シロキサン結合部分の（化２）中のｎの数や有機変性部を変化させることで表面張力を任意にコントロールすることができる。
【化２】
2012133341.tif 000004
【０１２２】
シロキサン結合を有する化合物である（化２）中のｎの数や有機変性部を変化させる一例として、（化３）のような構造を備えるシロキサン結合を有する化合物を用いることもできる。側鎖を付与することによりシロキサン結合を変性させることができる。なお、（化３）の構造におけるＲ１ の一例としては、ＣＨ３ 、ＣＨ２−ＣＨ３、（ＣＨ２）９ＣＨ３などがある。また、Ｒ２ の一例としては、ポリエーテル基、ポリエステル基、アラルキル基などがある。また、（化４）のような構造を備えるシロキサン結合を有する化合物を用いることもできる。シロキサン結合はＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合からなり、Ｒ３の一例としては平均１個のポリエーテル鎖などを用いることができる。（化３）及び（化４）いずれにおいても、表面張力のコントロールや、相溶性の調整を任意におこなうことができる。
【化３】
2012133341.tif 000005
【化４】
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【０１２３】
シロキサン結合を有する化合物としては、具体的には、ビックケミー・ジャパン社製ＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３１５、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４７、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３４９、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ＢＹＫ−ＵＶ３５１０、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０、ＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００、ＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７２０を用いることができる。また、モメンティブ社製ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４１１、ＴＳＦ４７００、ＴＳＦ４７０１、ＸＦ４２−Ｂ０９７０、ＴＳＦ４７３０、ＹＦ３９６５、ＴＳＦ４４２１、ＸＦ４２−３３４、ＸＦ４２−Ｂ３６２９、ＸＦ４２−Ａ３１６１、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４１、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０を用いることができる。また、共栄社化学社製ポリフローＫＬ４００Ｘ、ポリフローＫＬ４００ＨＬ、ポリフローＫＬ４０１、ポリフローＫＬ４０２、ポリフローＫＬ４０３、ポリフローＫＬ４０４を用いることができる。なお、レベリング材料として用いられるシロキサン結合を有する化合物はこれらに限定されるものではない。
【０１２４】
また、偏在層中のレベリング材料の含有量は、０．００１質量部乃至５．００質量部の範囲内であることが好ましい。偏在層中のレベリング材料の含有量が０．００１質量部未満の場合には、リコート層の形成ができず、４級アンモニウム塩材料が偏在層の最表面に存在することになるため、耐擦傷性が低下し、さらには低屈折率層の形成を阻害する場合がある。一方、レベリング材料の含有量が５．００質量部を超える場合には、リコート層の膜厚が厚くなり、光学薄膜として振舞う。そのため、反射防止フィルムの光学特性が低下することがある。
【０１２５】
レベリング材料の分子量は、好ましくは、１，０００乃至８０，０００の範囲内である。レベリング材料の分子量が１，０００未満の場合、レベリング材料がブリードし、リコート性が低下する。そのため、低屈折率層と偏在層との密着力が低下する。一方、レベリング材料の分子量が８０，０００を超える場合には、レベリング材料が表面を覆うことができず、レベリング機能が低下する。そのため、４級アンモニウム塩材料が表面へ偏在する。
【０１２６】
（溶媒）
偏在層形成用塗液は、更に溶媒を含んでいる。  
偏在層形成塗液は、溶媒を２５質量部乃至８５質量部の範囲内の割合で含んでいる。偏在層形成塗液中の溶媒量を上記範囲内とすることにより、塗膜中の４級アンモニウム塩材料が偏在して、偏在層中にハードコート層を形成するまでの時間を十分確保することができ、偏在層を容易に製造することができる。溶媒量が２５質量部未満の場合、塗膜が急激に乾燥し、偏在層中の中間層を形成することが困難となることがある。また、４級アンモニウム塩材料を偏在層中で不均一に分布させることができなくなり、所望の帯電防止性能を得ることが困難になる。一方、溶媒量が８５質量部を越える場合、乾燥時間を長くする必要があり大量生産に不向きとなる。また、この場合、所望の表面硬度を有する偏在層を形成することが困難になる。
【０１２７】
また、偏在層形成用塗液に含まれる溶媒は、透明基材１１を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んでいる。上述の通り、透明基材を溶解又は膨潤させる溶媒は、透明基材上に偏在層形成用塗液を塗布し塗膜を形成した後乾燥するまでの工程において、透明基材へと浸透する。それに伴いバインダマトリックス形成材料成分も透明基材へと浸透し基材と混合され中間層１２ａが形成される。偏在層の塗液中の溶媒量をこの範囲内とすることにより、透明基材と偏在層との間に透明基材成分とバインダマトリックス成分からなる中間層を形成することができ、さらには、効率的に偏在層を形成することができる。全溶媒に対して、透明基材を溶解又は膨潤させる溶媒が３０質量部未満の場合、偏在層を形成することができない場合がある。このようにすることにより、中間層と、４級アンモニウム塩材料を偏在させたハードコート層と、リコート層とを備える偏在層を形成することができる。
【０１２８】
透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いた場合、透明基材を溶解又は膨潤させる溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等の一部のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、その他としてＮ−メチル−２−ピロリドン、炭酸ジメチルが挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１２９】
トリアセチルセルロースフィルムを溶解又は膨潤させない溶媒としては、例えば、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、ジアセトンアルコールなどの一部のケトン類などが挙げられる。  
偏在層形成用塗液を紫外線により硬化させる場合、偏在層形成用塗液に光重合開始剤を添加することができる。また、偏在層形成用塗液に、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等の添加剤を加えることもできる。
【０１３０】
光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料に対して０．１質量部乃至１０質量部の範囲内であることが好ましく、さらには１質量部乃至８．５質量部であることが好ましい。なお、偏在層中のレベリング材料の含有量と偏在層形成用塗液中の固形分に対するレベリング材料の含有量は同義である。
【０１３１】
このような偏在層形成用塗液を、湿式成膜法により透明基材上に塗布し、塗膜を形成する。
【０１３２】
［乾燥工程］
第１塗膜が形成された後、基材１１は、搬送装置によって第２ユニット２２へと搬送される。ここでは、ドライヤは、第１ドライヤ及び第２ドライヤを含んでいるものとして説明する。
【０１３３】
第１乾燥ユニット２２ａでは、塗膜における４級アンモニウム材料を偏在させる。  
搬送装置によって第２ユニット２２に搬送された基材１１は、第１乾燥ユニット２２ａにおいて第１ドライヤによって乾燥される。第１塗膜を乾燥することにより、塗膜中の溶媒を除去する。乾燥手段としては、例えば、加熱、送風、熱風等を用いることができる。
【０１３４】
第１乾燥ユニット２２ａにおける第１乾燥は、塗布の直後に行うことが特に好ましい。乾燥温度は、１５℃乃至３０℃の範囲内にあることが好ましい。一次乾燥温度を１５℃以上３０℃以下の範囲内とすることにより、第１塗膜において、４級アンモニウム塩材料およびレベリング材料が偏在する時間を十分に確保することができる。第１乾燥ユニット２２ａにおける乾燥は、乾燥温度が３０℃を超える場合、偏在層の塗膜が急激に乾燥し、上述のような偏在層の層構成を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、乾燥温度が１５℃未満の場合、乾燥時間を長くする必要があり連続生産に不向きである。
【０１３５】
溶媒濃度０．２ｖｏｌ％乃至１０ｖｏｌ％の範囲内の溶媒雰囲気下で行うことが好ましい。０．２ｖｏｌ％乃至１０ｖｏｌ％の範囲内の溶媒雰囲気下で行うことにより、塗膜中の４級アンモニウム塩材料が偏在して、偏在層中にハードコート層を形成するまでの時間を十分とすることができ、偏在層を容易に製造することができる。
【０１３６】
なお、このとき乾燥雰囲気に用いられる溶媒としては、偏在層形成用塗液に含まれる溶媒のうち少なくとも１種類が用いられることが好ましい。溶媒濃度が０．２ｖｏｌ％未満の場合、塗膜が急激に乾燥し、偏在層の層構成を形成することができなくなることがある。一方、溶媒濃度が１０ｖｏｌ％を超える場合、乾燥時間を長くする必要があり大量生産には不向きである。
【０１３７】
続いて、基材１１は、搬送装置によって第２乾燥ユニット２２ｂへと搬送される。搬送装置によって第２乾燥ユニット２２ｂに搬送された基材１１は、第２乾燥ユニット２２ｂにおいて第２ドライヤによって乾燥される。
【０１３８】
第２乾燥ユニット２２ｂにおける乾燥は、乾燥温度４０℃乃至１５０℃の範囲内で行われることが好ましい。二次乾燥温度を４０℃乃至１５０℃の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、リコート層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。二次乾燥温度が１５０℃を超える場合にあっては、溶剤の蒸発速度が早すぎるために偏在層の表面が荒れ、ヘイズが発生する恐れがある。一方、乾燥温度が４０℃未満の場合、溶剤が偏在層に残留し、ハードコート性を持たない偏在層が形成される可能性がある。
【０１３９】
このように二段階の連続する乾燥を上記範囲の温度で行うことにより、偏在層１２を容易に製造することができる。一次乾燥のみでは乾燥が不十分である場合があり、一次乾燥の後、二次乾燥として乾燥温度５０℃乃至１５０℃の範囲内の加熱温度で更なる乾燥を行い、適度な加熱乾燥としている。また、一次乾燥では、偏在層の各層の分離を行い、二次乾燥では加熱乾燥を行って溶剤を除去している。
【０１４０】
この乾燥工程において、塗膜中に含まれる溶媒の量が１０質量部以下となるまでの時間が２秒乃至６０秒の範囲内であることが好ましい。塗膜中に含まれる溶媒が１０質量部以下となるまでの時間がこのような範囲内にある場合、塗膜中の４級アンモニウム塩材料とレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分確保することができ、偏在層１２を容易に形成することができる。塗膜中に含まれる溶媒の量が１０質量部以下となるまでの時間が２秒未満の場合、塗膜が急激に乾燥し、高屈折率材料が偏在したハードコート層を形成することができないことがある。塗膜中に含まれる溶媒が１０質量部以下となるまでの時間が６０秒を超える場合、時間がかかりすぎ、現実的でない。例えば、枚葉方式で偏在層を形成する場合においても、タクトタイムが長くなり生産性が低下する。
【０１４１】
上記のような乾燥方法を用いることにより、表面張力によりリコート層を形成する材料、主に、レベリング材料が、偏在層の表面（低屈折率側）へ移動し、リコート層が形成される。
【０１４２】
［放射線照射工程］
乾燥された基材１１は、搬送装置によって、第３ユニット２３へと搬送される。
【０１４３】
第３ユニット２３では、電離放射線を照射することにより、塗膜を硬化させ、偏在層を得る。
【０１４４】
電離放射線としては、例えば、紫外線又は電子線を用いることができる。電離放射線として紫外線を使用する場合、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源を利用することができる。また、電子線を使用する場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線を利用することができる。使用される電子線は、好ましくは、５０〜１０００ＫｅＶのエネルギー、より好ましくは、１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する。
【０１４５】
＜低屈折率層の形成＞
次に、低屈折率層の形成方法について述べる。
【０１４６】
低屈折率層は、偏在層形成後に形成される。低屈折率層は、第２乾燥ユニット２２ｂを含まないこと以外は、図３に示したのと同様の装置を用いて偏在層上に形成することができる。また、第４ユニット、第５ユニット及び第６ユニットを更に備えた図３の装置３を使用して形成することもできる。第４ユニット、第５ユニット及び第６ユニットは、それぞれ、第１ユニット、第２ユニット及び第３ユニットに対応する。この場合、装置は、第５ユニットが第２乾燥ユニット２２ｂを含まないこと以外は、装置３で説明したのと同様の構成を有する。この装置において、搬送装置は、偏在層の形成後、基材１１が、第４ユニット、第５ユニット及び第６ユニットをこの順に通過するように基材１１を搬送する。
【０１４７】
低屈折率層の形成方法の次のようになる。ここでは、低屈折率層は、第２乾燥ユニット２２ｂを含まないこと以外は図３に示したのと同様の装置を使用して形成されるものとして説明する。装置の各構成部材には、図３において使用する符号と同様のものを使用する。
【０１４８】
［塗膜工程］
搬送装置によって、偏在層が形成された基材１１を、第１ユニット２１に搬送する。次に、塗膜装置を作動させ、基材１１に低屈折率層形成用塗液を供給する。例えば、塗膜装置は、コントローラの制御のもと、基材１１に低屈折率層形成用塗液を供給して第２塗膜を形成する。第２塗膜は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）を乗じて得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように塗布される。第２塗膜は、例えば、得られる低屈折率層が５０ｎｍ乃至２５０ｎｍ、典型的には、８０ｎｍ乃至２００ｎｍの膜厚を有するように形成する。
【０１４９】
低屈折率層形成用塗液を、偏在層上に塗布するための塗工方法は、例えば、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターである。低屈折率層１３は薄く塗布し、均一な膜厚を有するように形成することが必要であるため、塗工方法としては、マイクログラビアコーター法を用いることが好ましい。
【０１５０】
低屈折率層形成用塗液は、低屈折率粒子及びバインダマトリックス形成材料を含んでいる。バインダマトリックス形成材料が低い屈折率を有する場合には低屈折率層形成用塗液は、低屈折率粒子を含まなくてもよい。バインダマトリックス形成材料としては、電離放射線硬化型材料及び／又は熱硬化型材料を用いることができる。
【０１５１】
電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【０１５２】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、上記偏在層形成用塗液の電離放射線硬化型材料について説明したのと同様のものを使用することができる。２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、上記偏在層形成用塗液の電離放射線硬化型材料について説明したのと同様のものを使用することができる。また、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、上記偏在層形成用塗液の電離放射線硬化型材料について説明したのと同様のものを使用することができる。
【０１５３】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【０１５４】
低屈折率粒子は、低屈折率材料を含んでいる。低屈折率粒子としては、例えば、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦ若しくはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４０）又はＮａ３ ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）等を用いることができる。低屈折粒子としては、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子としては、多孔質シリカ粒子やシェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。
【０１５５】
内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子としては、例えば、球状の形状を保持したまま、硝子の屈折率１．４５よりも低い屈折率１．３５を有し、半径２０ｎｍ以上２５ｎｍ以下、密度（ρ１）の球状の構造が中心部分にあり、その周囲を厚さ１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下の異なる密度（ρ２）の層が覆っており、（ρ１／ρ２）の値が０．５、０．１、０．０を示し、低屈折率シリカ粒子の中心部分は外部のシリカの１／１０程度の密度となるような構造を有するものを用いることができる。
【０１５６】
また、低屈折率粒子は、粒径が１ｎｍ乃至１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。
【０１５７】
また、バインダマトリックス形成材料は、熱可塑性樹脂を更に含んでいてもよい。熱可塑性樹脂としては、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、線状ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等を使用できる。熱可塑性樹脂を加えることにより製造されるフィルムのカールを抑制することができる。
【０１５８】
また、バインダマトリックス形成材料としては、熱硬化型材料であるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることもできる。具体的には、以下の一般式（Ｂ）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
【０１５９】
一般式（Ｂ）：
ＲｘＳｉ（ＯＲ）４−ｘ
（式中、Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）
一般式（Ｂ）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式（Ｂ）で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
【０１６０】
バインダマトリックス形成材料として熱硬化型材料であるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いる場合には、撥水材料としてフッ素化合物である下記一般式（Ｃ）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有させることができる。
【０１６１】
一般式（Ｃ）：
Ｒ´ｚＳｉ（ＯＲ）４−ｚ
（式中、Ｒ´はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、ｚは１≦ｚ≦３を満たす整数である）
一般式（Ｃ）で表されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることにより、反射防止フィルムの低屈折率層表面に防汚性を付与することができる。また、低屈折率層の屈折率をさらに低下することができる。ケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【０１６２】
低屈折率層を紫外線照射により硬化させて形成する場合、バインダマトリックス形成材料は光重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料に対して０．１質量部乃至１０質量部の範囲内であることが好ましく、１質量部乃至８．５質量部の範囲内であることがさらに好ましい。
【０１６３】
低屈折率層形成塗液は、撥水材料を更に含んでいてもよい。撥水材料は、反射防止フィルム表面に指紋等の汚れが付着しにくくし、付着した汚れをふき取りやすくする。撥水材料としては、シリコーン系材料、有機珪素化合物、ＵＶ硬化型撥水剤を用いることができる。シリコーン系材料としては、アルキルアラルキル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルキルポリエーテル変性シリコーンオイルを用いることもできる。さらには、フッ素を含有せず、（メタ）アクリル基を持たない有機ケイ素化合物を用いることもできる。具体的には、アルキルアルコキシシラン化合物、シランシロキサン化合物、ポリエステル基を含有するシラン化合物、ポリエーテル基を有するシラン化合物又はシロキサン化合物を用いることもできる。また、撥水剤として、ＢＹＫ−３５０やＢＹＫ−３５００（ビックケミー・ジャパン株式会社製）、Ｆ４７０（ＤＩＣ株式会社製）などを用いることができる。
【０１６４】
また、低屈折率層形成塗液は、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を更に含んでいてもよい。
【０１６５】
低屈折率層形成用塗液は、溶媒を含んでいる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。
【０１６６】
以上の材料を調製して得られる低屈折率層形成用塗液を湿式成膜法により偏在層１２上に塗布し、低屈折率層の塗膜を形成し、低屈折率層１３を形成することができる。
【０１６７】
［乾燥工程］
第２塗膜が形成された後、基材１１は、搬送装置によって第２ユニット２２へと搬送される。
【０１６８】
搬送装置によって第２ユニット２２に搬送された基材１１は、第２ユニット２２においてドライヤによって乾燥される。
【０１６９】
第２塗膜を乾燥することにより、塗膜中の溶媒が除去される。乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。なお、乾燥温度は、５０℃乃至１５０℃の範囲内であることが好ましい。
【０１７０】
［放射線照射工程］
乾燥された基材１１は、搬送装置によって、第３ユニット２３へと搬送される。
【０１７１】
第３ユニット２３では、塗膜に電離放射線を照射することにより、硬化し、低屈折率層１３を形成する。ここでは、低屈折率層形成材料として電離放射線硬化型材料を用いる場合について説明するが、低屈折率層形成材料として熱硬化型材料を用いる場合には加熱することによって硬化することができる。
【０１７２】
電離放射線としては、例えば、紫外線又は電子線を用いることができる。電離放射線として紫外線を使用する場合、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線を使用する場合、コックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、好ましくは、５０〜１０００ＫｅＶのエネルギーを有し、より好ましくは、１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する。
【０１７３】
本態様の反射防止フィルムはロール・ツー・ロール方式により連続形成される。偏在層の場合と同様に、図３に示したように、巻き取られているウェブ状の透明基材を、リール３１ａからリール３１ｂまで連続走行させ、第１ユニット２１、第２ユニット２２、第３ユニット２３を通過させることにより、偏在層上に低屈折率層が形成され、反射防止フィルムを製造することができる。  
このようにして反射防止フィルムを得る。
【０１７４】
本態様の反射防止フィルムには、４級アンモニウム塩材料を配合することにより反射防止フィルムに帯電防止性が付与される。また、４級アンモニウム塩材料は、バインダマトリックス形成材料である電離放射線硬化型材料と比較して表面へ偏析しやすい。また、レベリング材料は、４級アンモニウム塩材料や電離放射線硬化型材料と比較して表面へ偏析しやすい。したがって、偏在層を形成する際に乾燥温度、乾燥時間の条件等を制御することにより、４級アンモニウム塩を偏在させることができ、各々分離した中間層、ハードコート層及びリコート層を含んだ偏在層を形成することができる。偏在層をこのような構成とすることによって、例えば、濃度の差がない場合や４級アンモニウム塩材料が低屈折率層側のみに存在する場合と比較して、ハードコート層の密着力および耐スチールウール性（耐擦傷性）が向上する。また、偏在層中で樹脂の組成が急激に変化すると、界面が生じ、密着力および耐スチールウール性（耐擦傷性）が低下するが、４級アンモニウム塩材料の濃度が漸次変化することによって、界面の発生を防ぐことができる。
【０１７５】
また、偏在層形成用塗液を塗布することにより、中間層１２ａ、ハードコート層１２ｂ及びリコート層１２ｃを同時に形成することができる。したがって、透明基材１１上にハードコート層及び帯電防止層を順次塗布して形成する場合と比較して、製造コストを抑えることができる。
【０１７６】
さらに、ハードコート層１２ｂ上にリコート層１２ｃを設け、更に、リコート層１２ｃの上に低屈折率層１３を形成することで密着力を向上させ、耐擦傷性の低下を防ぐことができる。また、リコート層１２ｃを形成することで、表面荒れを抑制し、ブラッシングを回避することができる。このような反射防止フィルムは、光学特性にも優れている。
【０１７７】
○第２態様
次に、本発明の第２態様について説明する。
【０１７８】
＜＜反射防止フィルム＞＞
第２態様に係る反射防止フィルムは、図１を参照して説明した第１態様の反射防止フィルムと同様の構成を有する。以下では第１態様で使用したのと同じ参照符号を使用して説明する。
【０１７９】
偏在層１２の屈折率は、低屈折率層１３の屈折率と比較して低い。具体的には、低屈折率層１３の屈折率は、偏在層１２の後述するハードコート層１２ｂの屈折率と比較して低い。ここで、屈折率は、例えば、波長５５０ｎｍで測定した屈折率である。
【０１８０】
＜偏在層＞
偏在層１２としては、４級アンモニウム塩材料の代わりに、金属酸化物粒子を使用すること以外は、第１態様において説明したのと同様の材料が使用される。即ち、偏在層１２は、電離放射線硬化型材料と、金属酸化物微粒子と、レベリング材と、溶媒とから得られる。
【０１８１】
偏在層１２は、例えば、これらの材料を含んだ偏在層形成用塗液に電離放射線を照射して硬化することにより得られる。電離放射線硬化型材料は、電離放射線照射によって硬化し、バインダマトリックスを形成する。このように形成されたバインダマトリックスは、反射防止フィルムに高い表面硬度を付与することができる。
【０１８２】
偏在層の膜厚は、例えば、第１態様において記載した範囲内とすることができる。
【０１８３】
偏在層は、第１態様で説明したのと同様の構成を有する。即ち、中間層１２ａとハードコート層１２ｂとリコート層１２ｃとを含んでいる。中間層１２ａとハードコート層１２ｂとリコート層１２ｃとは、透明基材１１側からこの順に積層されている。
【０１８４】
偏在層は、例えば、上述のように、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子とレベリング材料と溶媒とを含んだ偏在層形成用塗液から形成される。この塗液を塗布して塗膜を形成し、その後、乾燥し、乾燥後の塗膜を硬化して形成する。
【０１８５】
偏在層をこのようにして形成する場合、前記塗液に含まれる溶媒が、塗膜を形成した後、乾燥するまでの間、透明基材１１を溶解し又は膨潤させ、透明基材１１に浸透する。これに伴いバインダマトリックス形成材料成分も透明基材１１へと浸透し、基材を構成する成分と混合する。このようにして、中間層１２ａが形成される。一方、金属酸化物微粒子は透明基材１１には浸透しがたいため、透明基材側とは反対側へと偏析し、ハードコート層１２ｂを形成する。このとき、金属酸化物微粒子は、ハードコート層１２ｂ中で偏在している。例えば、金属酸化物微粒子は、表面張力によって、ハードコート層１２ｂの低屈折率層側でその体積がハードコート層の単位体積に占める割合が高く、かつ、透明基材側でその体積がハードコート層の単位体積に占める割合が低くなるように偏在する。この場合、金属酸化物微粒子は、ハードコート層１２ｂ中のリコート層側に偏在し、中間層１２ａの屈折率とハードコート層１２ｂの中間層１２ａ側の屈折率には差がなくてもよい。好ましくは、金属酸化物微粒子は、その体積がハードコート層の単位体積に占める割合が、中間層側からリコート層側に向かうにつれ高くなるように偏在している。レベリング材料は、表面張力により、最表面（低屈折率層を形成する側）へと移動し、リコート層１２ｃを形成する。このようにして、層構成が互いに異なる中間層１２ａ、ハードコート層１２ｂ及びリコート層１２ｃを形成することができる。これらの層の層構成は互いに分離している。
【０１８６】
偏在層１２において、金属酸化物微粒子が存在していることは、偏在層の断面についてＥＰＭＡを行うことにより確認することができる。
【０１８７】
ＥＰＭＡは、エネルギー分散型蛍光Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）、波長分散型蛍光Ｘ線分析装置（ＷＤＸ）のいずれを使用して行われてもよい。
【０１８８】
断面のＥＰＭＡ分析では、偏在層中に含まれる金属酸化物微粒子の特有元素の濃度を測定する。例えば、金属酸化物微粒子としてアンチモンドープ酸化スズ（以下、ＡＴＯ）を用いた場合には、金属酸化物微粒子の特有元素としてＳｂ（アンチモン）又はＳｎ（スズ）の濃度を測定する。また、例えば、金属酸化物微粒子としてＰＴＯを用いた場合には、金属酸化物微粒子の特有元素としてリンドープ酸化スズ（以下、ＰＴＯ）を用いた場合には、Ｐ（リン）又はＳｎ（スズ）の濃度を測定する。
【０１８９】
以下に金属酸化物微粒子としてＡＴＯを用いた場合の金属酸化物微粒子の分布の確認方法について説明する。
【０１９０】
図２は、ＥＰＭＡ分析の測定箇所を示す図である。
【０１９１】
金属酸化物微粒子の分布は、断面加工を行った反射防止フィルムの偏在層断面において、図２に示す深さ方向の３箇所Ｙ１、Ｙ２及びＹ３についてＥＤＸ分析を行うことにより確認することができる。Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ、第１態様において説明したのと同様である。なお、ＥＰＭＡ分析において目的の元素の検出量が０．１ａｔｏｍｉｃ％以下のときは不検出とした。
【０１９２】
以下に、偏在層１２が含む各々の層、即ち、中間層、ハードコート層及びリコート層について説明する。
【０１９３】
（中間層）
中間層１２ａは、透明基材１１と偏在層１２との界面に存在する。中間層１２ａにおいては、透明基材の成分と偏在層の電離放射線硬化型材料成分とが混在している。
【０１９４】
中間層１２ａは、偏在層形成用塗液から形成することができる。  
中間層の屈折率については、第１態様において説明したのと同様である。また、中間層１２ａの存在は、第１態様において説明したのと同様の方法によって確認することができる。
【０１９５】
（ハードコート層）
図１に示す通り、ハードコート層１２ｂは、中間層１２ａの上に形成されている。
【０１９６】
ハードコート層１２ｂは、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子とを含んでいる。このようなハードコート層１２ｂは、反射防止フィルムの表面硬度を向上させ、耐擦傷性を付与する。また、金属酸化物微粒子を配合することにより帯電防止性を付与している。ハードコート層１２ｂは、レベリング材料を更に含んでいる。ハードコート層１２ｂは、偏在層形成用塗液から形成することができる。
【０１９７】
金属酸化物は電離放射線硬化型材料と比較して、高い屈折率を有している。ハードコート層１２ｂにおいてこのような金属酸化物微粒子を偏在させることにより、金属酸化物微粒子を添加しない場合と比較して屈折率が上昇する。そのため、ハードコート層１２ｂの上に低屈折率層を設け、反射防止フィルムを作製すると、表面反射率を低下させることができる。
【０１９８】
ハードコート層１２ｂ中では、好ましくは、前記金属酸化物微粒子の体積がハードコート層の単位体積に占める割合が、中間層１２ａから偏在層表面（低屈折率側）に向かうにつれ、高くなっている。
【０１９９】
また、金属酸化物微粒子を偏在させることにより、反射防止フィルムに帯電防止性能を付与することもできる。金属酸化物微粒子を偏在させることにより反射防止フィルムを作成した際に、表面反射率を低下することができ、かつ、ディスプレイの最表面フィルムとして用いられた場合に、ほこりの付着を防止することができる。帯電防止性能が付与されていることは、反射防止フィルムの表面抵抗値から判断することができる。
【０２００】
図４、８及び１２は、本態様の反射防止フィルムの偏在層の表面反射率を示す。
【０２０１】
図において、反射率の波形が測定波長全域においてリップルを有さず、基材、中間層、ハードコート層と連続して屈折率が変化していることを示している。また、金属酸化物微粒子を添加することで、偏在層表面での屈折率が上昇していることを示している。
【０２０２】
ハードコート層１２ｂの膜厚は１μｍ以上が好ましい。ハードコート層が１μｍ未満の場合、ハードコート性を有さないことがある。
【０２０３】
（リコート層）
図１に示す通り、リコート層１２ｃは、ハードコート層１２ｂ上に形成されている。リコート層は、例えば、レベリング材料を含んでいる。リコート層は、典型的には、電離放射線硬化型樹脂とレベリング材料とを含んでいる。リコート層１２ｃは、金属酸化物微粒子を含まない。
【０２０４】
リコート層１２ｃは、偏在層形成用塗液から形成することができる。
【０２０５】
反射防止フィルムがリコート層を含まない場合、低屈折率層の薄離が生じ、耐擦傷性が低下する。これは、偏在層の最表面（低屈折率層側）に偏在する金属酸化物微粒子が、低屈折率層を形成する材料と電気的に反発し、偏在層と低屈折率層の密着力が低下するためであると考えられる。
【０２０６】
低屈折率層を形成する材料と金属酸化物微粒子との電気的反発がより強い場合は、低屈折率層形成塗液を塗布する際にハジキなどが生じるといった不具合が発生する場合がある。また、低屈折率層を形成する材料が撥水材料を含む場合、金属酸化物微粒子とこの撥水材料とが電気的に反発することによって所望の防汚性能が得られないことがある。
【０２０７】
上述の通り、ハードコート層１２ｂ上にリコート層１２ｃを設け、更に、リコート層１２ｃの上に低屈折率層１３を形成することで密着力を向上させ、耐擦傷性の低下を防ぐことができる。また、リコート層１２ｃを形成することで、乾燥速度を均一にし、表面荒れを抑制し、ブラッシングを回避することができる。なお、ブラッシングの有無は、反射防止フィルムのヘイズ値を測定することにより確認することができる。具体的には、反射防止フィルムのヘイズ値が０．５％以上である場合には、ブラッシングが発生していると判断することができる。また、リコート層を形成する材料は、レベリング性も有しているため、表面凹凸が形成されることを抑制し、ヘイズの発生を防止することができる。なお、表面凹凸の有無は、反射防止フィルムのヘイズ値またはＡＦＭにて表面を測定することにより確認することができる。
【０２０８】
偏在層１２の最表層にリコート層１２ｃが形成されているか否かについては、第１態様において説明したのと同様の方法により確認することができる。即ち、偏在層表面の純水接触角の測定によって確認することができる。
【０２０９】
また、偏在層１２中で最表層にリコート層１２ｃが形成されていることは、第１態様において説明したＸ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）による表面分析によっても確認することができる。具体的には、偏在層表面についてＸＰＳ分析を行い、金属酸化物微粒子に由来する元素が検出されなければ、リコート層が形成されていると判断できる。金属酸化物微粒子に由来する元素は、例えば、金属酸化物微粒子としてＡＴＯを用いた場合、スズやアンチモン、金属酸化物微粒子としてＰＴＯを用いた場合、リンやスズである。
【０２１０】
偏在層における層構成、即ち、基材、中間層、ハードコート層、リコート層と分離させた構成は、偏在層の断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）や透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて観察することによっても確認することができる。中間層中には金属酸化物微粒子は観察されず、ハードコート層は金属酸化物微粒子を含むため、境界の存在を観察することができる。また、このとき、金属酸化物微粒子の偏在状態も同時に観察することができる。
【０２１１】
＜低屈折率層＞
図１に示す通り、低屈折率層１３は、偏在層１２の上に設けられている。  
低屈折率層１３は、バインダマトリクス形成材料である電離放射線硬化型材料と、低屈折率粒子とから得られる。例えば、低屈折率層１３は、これらの材料を含んだ低屈折率層形成用塗液に電離放射線を照射して硬化することにより得られる。電離放射線硬化型材料が低い屈折率を有する場合、低屈折率層形成用塗液は低屈折率粒子を含んでいなくてもよい。
【０２１２】
低屈折率層１３の膜厚は、第１態様において説明したのと同様とすることができる。低屈折率層の光学膜厚は、好ましくは、８０ｎｍ乃至２００ｎｍの範囲内にある。低屈折率層の光学膜厚がこの範囲内にある場合、反射防止フィルムの表面側、即ち、図１及び２に示す矢印Ａの側から求められる分光反射率曲線は、５００ｎｍ近傍に極小値を有する。
【０２１３】
分光反射率曲線は極小値を基準として短波長方向への上昇カーブが長波長方向への上昇カーブと比較して急峻な傾向を示す。このとき、分光反射率曲線の極小値を基準としたときの短波長方向への急峻な上昇カーブは、形成される反射防止フィルムの反射光の色味の原因となり、また、偏在層の膜厚ムラが発生したときの色ムラの発生原因となる。分光反射率曲線の極小値が５００ｎｍ近傍に存在することにより、反射色相を小さくすることができ、短波長方向への急峻な上昇カーブによる色ムラの発生を抑制することができる。
【０２１４】
反射防止フィルムの低屈折率層形成面（表面（Ａ））での視感平均反射率が２．５％を超える場合、反射防止フィルムの反射防止性能は十分なものではない。一方、反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．２％の反射防止フィルムを偏在層の光学干渉により実現することは困難である。低屈折率層表面での視感平均反射率は０．２％乃至２．０％の範囲内であることが好ましい。  本態様の反射防止フィルムは、例えば、平行光線透過率が９３％以上であり、ヘイズが０．５％以下であり、低屈折率層表面における表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２乃至１×１０１２Ω／ｃｍ２の範囲内にあり、反射防止フィルムの低屈折率層表面における純水接触角が８０°乃至１４０°の範囲内にある。
【０２１５】
反射防止フィルムのそれぞれの特性、即ち、平行光線透過率、ヘイズ、表面抵抗値、純水接触角については、第１態様において説明したのと同様である。
【０２１６】
また、これらの各特性の測定方法としては、例えば、第１態様において説明したのと同様の方法を使用することができる。
【０２１７】
＜＜反射防止フィルムの製造方法＞＞
続いて、本態様の反射防止フィルムの製造方法について説明する。
【０２１８】
本態様の反射防止フィルムは、４級アンモニウム塩材料を含む代わりに金属酸化物微粒子を含んだ偏在層形成塗液を使用すること以外は、第１態様において説明したのと同様の方法によって製造することができる。
【０２１９】
反射防止フィルムは、例えば、図３に示す装置によって製造することができる。
【０２２０】
本態様の反射防止フィルムの製造方法について、以下に詳細に説明する。
【０２２１】
＜偏在層の形成＞
まず、リール３１ａにロール状に巻かれた透明基材１１を用意する。透明基材１１は、第１態様において説明したのと同様のものを使用することができる。透明基材１１の膜厚は、第１態様において説明したのと同様の範囲とすることができる。
【０２２２】
次に、リール３１ａを、回転軸に取り付け、リール３１ａから基材１１を繰り出す。そして、繰り出した基材１１の一端を、リール３１ｂに固定する。続いて、搬送装置を作動させて、リール３１ａから基材１１を繰り出すとともに、基板１１をリール３１ｂに巻き取る。
【０２２３】
［塗膜工程］
この工程では、４級アンモニウム塩の代わりに金属酸化物微粒子を含んだ偏在層形成用塗液を使用すること以外は、第１態様において説明した方法と同様にして形成される。
【０２２４】
（電離放射線硬化型材料）
電離放射線硬化型材料としては、例えば、第１態様で説明したのと同様のものを使用することができる。
【０２２５】
（金属酸化物微粒子）
金属酸化物微粒子としては、酸化ジルコニウム、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、スズ含有酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、アルミニウム含有酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモン含有酸化亜鉛及びインジウム含有酸化亜鉛から選択される１種又は２種以上の金属酸化物を主成とする導電性を有する金属酸化物粒子を用いることができる。この中で、導電性および屈折率の点からＡＴＯを用いることが好ましい。
【０２２６】
金属酸化物微粒子の平均粒子径は、例えば、２０００ｎｍ以下である。金属酸化物微粒子の平均粒子径が２０００ｎｍを上回る場合には金属酸化物微粒子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、リコート層が形成されず偏在層の表面に金属酸化物微粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と金属酸化物微粒子が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下する。金属酸化物微粒子の平均粒子径は５００ｎｍ以下であることが好ましい。しかし、塗布工程を考慮に入れると、金属酸化物微粒子の平均粒子径は、より好ましくは、１ｎｍ乃至１００ｎｍである。このような範囲の平均粒子径を有する金属酸化物微粒子を使用することにより、塗布液の使用時間を延長することができる。
【０２２７】
また、偏在層中の金属酸化物微粒子の含有量は０．５質量部乃至４０質量部であることが好ましい。さらに好ましくは、金属酸化物微粒子の含有量は０．５質量部乃至２０質量部であることが好ましい。偏在層中の金属酸化物微粒子の含有量が０．５質量部未満の場合にあっては、十分な帯電防止性能を得られなくなってしまうことがある。一方、金属酸化物微粒子の含有量が４０質量部を超える場合にあってはリコート層が上手く形成されない場合がある。また、金属酸化物微粒子の含有量が４０質量部を超える場合にあっては、偏在層中で金属酸化物微粒子の凝集が発生するため、ヘイズが発生してしまい好ましくない。また、金属酸化物微粒子の含有量を２０質量部以下とすることで塗布液の安定性を増すことができ、塗布液の状態を安定することもできる。なお、偏在層中の導電性高分子の含有量と偏在層形成用塗液中の固形分に対する導電性高分子の含有量は同義である。
【０２２８】
（レベリング材料）
レベリング材料としては、例えば、第１態様で説明したのと同様のものを使用することができる。また、偏在層中のレベリング材料の含有量は、第１態様で説明した範囲内とすることができる。更に、レベリング材料の分子量も、第１態様で説明した範囲内とすることができる。
【０２２９】
偏在層の膜厚は、第１態様で説明したのと同様の範囲内とすることができる。即ち、偏在層の膜厚は３μｍ乃至１５μｍの範囲内が好ましい。膜厚を所定の範囲内にすることにより、目的とする偏在層を得ることが可能となる。偏在層の膜厚を３μｍ未満とした場合、ハードコート層が表面硬度を有さない層となり、十分なハードコート性を有さない反射防止フィルムとなることがある。また、偏在層の膜厚を１５μｍ以上とすると、導電性高分子の濃度分布が上手くおこなわれないために、所定の帯電防止機能が得られなくなることがある。より好ましくは、４μｍ乃至１０μｍの範囲内である。
【０２３０】
（溶媒）
溶媒は、例えば、第１態様において説明したのと同様のものを使用することができる。
【０２３１】
即ち、バインダマトリックス形成材料と金属酸化物微粒子とレベリング材料とを含む偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち３０質量部以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を用い、かつ、前記偏在層形成用塗液中に溶媒を２５質量部以上８５質量部以下の割合で含ませることにより、中間層、金属酸化物微粒子が含まれたハードコート層、リコート層を備える偏在層を形成することができる。
【０２３２】
偏在層形成塗液中の溶媒量を上記範囲内とすることにより、塗膜中の４級アンモニウム塩材料が偏在して、偏在層中にハードコート層を形成するまでの時間を十分確保することができ、偏在層を容易に製造することができる。溶媒量が２５質量部未満の場合、塗膜が急激に乾燥し、偏在層中の中間層を形成することが困難となることがある。また、４級アンモニウム塩材料を偏在層中で不均一に分布させることができなくなり、所望の帯電防止性能を得ることが困難になる。一方、溶媒量が８５質量部を越える場合、乾燥時間を長くする必要があり大量生産に不向きとなる。また、この場合、所望の表面硬度を有する偏在層を形成することが困難になる。
【０２３３】
透明基材を溶解又は膨潤させる溶媒は、透明基材上に偏在層形成用塗液を塗布し塗膜を形成した後乾燥するまでの工程において、透明基材へと浸透する。それに伴いバインダマトリックス形成材料成分も透明基材へと浸透し基材と混合され中間層１２ａが形成される。このとき、金属酸化物微粒子はハードコート中、中間層とハードコート層の屈折率差がないように偏在する。より好ましくは、金属酸化物微粒子は、ハードコート層において、低屈折率層側から透明基材側に向かうにつれ、濃度が次第に高くなるように偏在する。また、リコート層形成材料は、表面張力により、最表面（低屈折率層を形成する側）へ移動し、リコート層を形成する。偏在層形成用塗液に含まれる溶媒は、透明基材１１を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んでいる。偏在層の塗液中の溶媒量をこの範囲内とすることにより、透明基材と偏在層間に透明基材成分とバインダマトリックス成分からなる中間層を形成することができ、さらには、効率的に偏在層を形成することができる。全溶媒に対して、透明基材を溶解又は膨潤させる溶媒が３０質量部未満の場合、偏在層を形成することができない場合がある。
【０２３４】
透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いた場合、透明基材を溶解又は膨潤させる溶媒としては、第１態様において説明したのと同様のものを使用することができる。また、トリアセチルセルロースフィルムを溶解又は膨潤させない溶媒としては、第１態様において説明したのと同様のものが挙げられる。  
偏在層形成用塗液を紫外線により硬化させる場合、偏在層形成用塗液に光重合開始剤を添加することができる。また、偏在層形成用塗液に、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等の添加剤を加えることもできる。光重合開始剤としては、第１態様において説明したのと同様のものを使用することができる。また、光重合開始剤の添加量は、第１態様において説明したのと同様とすることができる。
【０２３５】
このような偏在層形成用塗液を、湿式成膜法により透明基材上に塗布し、塗膜を形成する。
【０２３６】
［乾燥工程］
第１塗膜が形成された後、基材１１は、搬送装置によって第２ユニット２２へと搬送される。
【０２３７】
基材１１は、第１態様において説明したのと同様の方法によって乾燥される。具体的には、基板１１は、２段階の乾燥に供される。一次乾燥では、金属酸化物微粒子を偏在させる。二次乾燥では、塗膜を乾燥する。
【０２３８】
この乾燥工程は、第１態様において説明したのと同様の濃度範囲内の溶媒雰囲気下で行うことができる。このとき乾燥雰囲気に用いられる溶媒としては、第１態様において説明したのと同様のものを使用することができる。
【０２３９】
また、塗膜中に含まれる溶媒の量が１０質量部以下となるまでの時間は、第１態様において記載したのと同様の範囲内であることが好ましい。
【０２４０】
［放射線照射工程］
乾燥された基材１１は、搬送装置によって、第３ユニット２３へと搬送される。
【０２４１】
第３ユニット２３では、電離放射線を照射することにより、塗膜を硬化させ、偏在層を得る。電離放射線としては、第１態様において説明したのと同様のものを使用することができる。
【０２４２】
＜低屈折率層の形成＞
次に、低屈折率層の形成方法について述べる。
【０２４３】
低屈折率層は、第１態様において説明したのと同様の方法によって形成することができる。具体的には、第１態様において説明したのと同様の塗布工程と、乾燥工程と、電離放射線照射工程とにこの順で供することによって形成される。
【０２４４】
また、使用する低屈折率層形成塗液の組成は、第１態様において説明したのと同様の組成とすることができる。  
このようにして、反射防止フィルムを得る。
【０２４５】
本態様において、金属酸化物微粒子を配合することにより反射防止フィルムに帯電防止性を付与する。また、金属酸化物微粒子は、バインダマトリックス形成材料である電離放射線硬化型材料と比較して表面へ偏析しやすい。また、レベリング材料は、金属酸化物微粒子や電離放射線硬化型材料と比較して表面へ偏析しやすい。したがって、偏在層を形成する際に乾燥温度、乾燥時間の条件等を制御することにより、金属酸化物微粒子を偏在させることができ、各々分離した中間層、ハードコート層及びリコート層を含んだ偏在層を形成することができる。
【０２４６】
また、偏在層形成用塗液を塗布することにより、中間層１２ａ、ハードコート層１２ｂ及びリコート層１２ｃを同時に形成することができる。したがって、透明基材１１上にハードコート層及び帯電防止層を順次塗布して形成する場合と比較して、製造コストを抑えることができる。
【０２４７】
さらに、ハードコート層１２ｂ上にリコート層１２ｃを設け、更に、リコート層１２ｃの上に低屈折率層１３を形成することで密着力を向上させ、耐擦傷性の低下を防ぐことができる。また、リコート層１２ｃを形成することで、表面荒れを抑制し、ブラッシングを回避することができる。このような反射防止フィルムは、光学特性にも優れている。
【実施例】
【０２４８】
まず、反射防止フィルムの評価方法について示す。【０２４９】
［視感平均反射率］
得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い測定した低屈折率層形成面についてＣ光源、２度視野の条件下での入射角５°における分光反射率を測定した。得られる分光反射率から平均視感反射率（Ｙ％）を算出した。また、比視感度は明所視標準比視感度を用いた。【０２５０】
［ヘイズ（Ｈ）及び平行光線透過率］
得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器（日本電色工業社製、ＮＤＨ−２０００）を使用してヘイズ（Ｈ）及び平行光線透過率を測定した。ヘイズ及び平行光線透過率は、それぞれ、ＪＩＳ  Ｋ７１３６及びＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠して測定した。【０２５１】
［表面抵抗値］
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面についてＪＩＳ−Ｋ６９１１（１９９５）に準拠して高抵抗抵抗率計（ダイアインスツルメンツ社製、ハイレスターＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて測定を行った。【０２５２】
［接触角］
得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成前の偏在層表面及び低屈折率層表面について、接触角計（協和界面科学社製 ＣＡ−Ｘ型）を用いて、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）で直径１．８ｍｍの液滴を針先に作り、これらを試料（固体）の表面に接触させて液滴を作った。接触角とは、固体と液体とが接触する点における液体表面に対する接線と固体表面とがなす角であり、液体を含む側の角度で定義した。液体としては、蒸留水を使用した。また、前記純水接触角の測定方法としては、ＪＩＳ−Ｒ３２５７に準拠して測定した。【０２５３】
［鉛筆硬度］
ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に準拠し、５００ｇ荷重で各反射防止フィルムの低屈折率層表面の鉛筆硬度を測定した。【０２５４】
［色ムラ及び干渉縞］
得られた反射防止フィルムについて、低屈折率層表面に蛍光灯を映りこませて、反射光を確認することにより色ムラの確認、干渉ムラの確認を行った。目視にて確認した評価は、以下の基準に基づき行った。【０２５５】
○：色ムラ及び干渉縞が良好
×：色ムラ及び干渉縞が良好でなかった
［耐擦傷性（スチールウール（ＳＷ））］
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、学振型摩擦堅牢度試験機（テスター産業株式会社製、ＡＢ−３０１）を用いて、光学積層体の低屈折率層表面に５００ｇ／ｃｍ２ の荷重をかけたスチールウール（日本スチールウール社製、ボンスター＃００００）を用い、１０往復擦り、擦り跡やキズなどによる外観の変化を目視で評価した。目視にて確認した評価は、以下の規準で行った。【０２５６】
○：傷を確認することが出来なかった
×：傷が確認できた
［鉛筆硬度］
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に準拠した鉛筆硬度試験をおこない、鉛筆硬度を求めた。【０２５７】
以下の判断基準により偏在層における中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の判定を行った。【０２５８】
［偏在層における中間層の有無の確認］
上記［視感平均反射率］の項で求めた分光反射率から、中間層の有無の確認を行った。具体的には、得られる分光反射率曲線において偏在層の膜厚に対応した干渉ピークが確認されなかった場合、中間層有りと判断し、偏在層の膜厚に対応した干渉ピークが確認された場合、中間層なしと判断した。【０２５９】
○：中間層有り（干渉ピーク無し）
×：中間層無し（干渉ピーク有り）
［偏在層におけるハードコート層の有無の確認］
上述の［表面抵抗値］及び［鉛筆硬度］の項で求めた低屈折率層表面の表面抵抗値および偏在層表面の鉛筆硬度から、ハードコート層の形成の有無を判断した。【０２６０】
○：ハードコート層有り（低屈折率層表面の表面抵抗値が１×１０１２ Ω／ｃｍ２以下であり且つ偏在層表面の鉛筆硬度がＨ以上であった）
×：ハードコート層無し（上記以外（低屈折率層表面の表面抵抗値が１×１０１２Ω／ｃｍ２ 以下を超えるか又は鉛筆硬度がＨ未満であった））
［ハードコート層における４級アンモニウム塩材料の分布状態］
ハードコート層における４級アンモニウム塩材料の分布状態については、断面ＥＤＸを行うことにより確認した。得られた反射防止フィルムを包埋樹脂にて固定した後、ミクロトームを用いた切削加工により断面出しをおこない分析試料の作成を行った。得られた分析試料をエネルギー分散型Ｘ線分析装置が付属された走査電子顕微鏡に導入し、低屈折率層と偏在層界面から深さ１μｍの箇所（Ｙ１）、３μｍの箇所（Ｙ２）、５μｍ（Ｙ３）の箇所についてＥＤＸ分析を行った。分析結果を以下の基準に基づき評価した。【０２６１】
○：濃度勾配を有する（Ｃｌが深さ１μｍの箇所（Ｙ１）、３μｍの箇所（Ｙ２）、５μｍ（Ｙ３）の箇所でＣｌが検出され、且つ、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３と深くなるにつれＣｌ濃度が減少した）
×：濃度勾配を有さない（上記以外（塩素が深さ５μｍの箇所（Ｙ３）で検出されない、または、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３と深くなるにつれＣｌ濃度が減少しない））
［金属酸化物微粒子のハードコート層における分布状態］
ハードコート層における金属酸化物微粒子の分布状態を、断面ＥＤＸをおこなうことにより確認した。得られた反射防止フィルムを包埋樹脂にて固定した後、ミクロトームを用いた切削加工により断面出しをおこない分析試料の作成を行った。得られた分析試料をエネルギー分散型Ｘ線分析装置が付属された走査電子顕微鏡に導入し、低屈折率層と偏在層界面から深さ１μｍの箇所（Ｙ１）、３μｍの箇所（Ｙ２）、５μｍ（Ｙ３）の箇所についてＥＤＸ分析を行った。分析結果を以下の基準に基づき評価した。【０２６２】
○：いずれかの箇所でＳｎ（スズ）を検出
×：全ての箇所でＳｎ（スズ）を検出しなかった
［偏在層におけるリコート層の有無の確認］
レベリング層の存在は、偏在層表面の接触角により確認した。偏在層表面の純水の接触角は上記［接触角］の項で求めたとおりである。【０２６３】
○：リコート層有り（偏在層表面の純水の接触角６０°以上）
×：リコート層無し（偏在層表面の純水の接触角が６０°未満）
なお、偏在層形成用塗液に４級アンモニウム塩材料及び金属酸化物微粒子のいずれも加えなかった反射防止フィルムについては、［偏在層におけるリコート層の有無の確認］をおこなっていない。【０２６４】
＜＜試験Ａ乃至試験Ｃ＞＞
試験Ａ、試験Ｂ及び試験Ｃは、第１態様に関する。【０２６５】
＜＜反射防止フィルムの作製方法＞＞
＜試験Ａ＞
以下、偏在層においてレベリング材料として、アクリル基を有する化合物を使用した場合（Ａ）について説明する。【０２６６】
まず、偏在層形成用塗液Ａ１〜Ａ１０の調製について以下に示す。【０２６７】
（４級アンモニウム塩材料の合成例１）
攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、
・オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
（商品名：「ブレンマー５０ＰＯＥＰ−８００Ｂ」日本油脂社製）
：  １８．０ｇ
・メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド
：  ３５．０ｇ
・シクロヘキシルメタクリレート                        ：  １４．０ｇ
・アゾビスイソブチロニトリル                          ：    ０．３ｇ
・イソプロピルアルコール                              ：１００．０ｇ
・メチルエチルケトン                                  ：  ４０．０ｇ
を仕込み、窒素雰囲気下、６５℃で３時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた４級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は１８５００であった。【０２６８】
（偏在層形成用塗液Ａ１）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ａ１を得た。【０２６９】
（偏在層形成用塗液Ａ２）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・ＮＲ−１２１Ｘ−９ＩＰＡ（コルコート社製／イソプロピロアルコール分散液）
（固形分）                                          ：    ２０質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ａ２を得た。【０２７０】
（偏在層形成用塗液Ａ３）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・ＢＹＫ−３５２（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ａ３を得た。【０２７１】
（偏在層形成用塗液Ａ４）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・４級アンモニウム塩を含有するライトエステルＤＱ１００
（共栄社化学社製、重量平均分子量２０８）            ：    １０質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ａ４を得た。【０２７２】
（偏在層形成用塗液Ａ５）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・ｐ−スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー（分子量１２万）
：    １０質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ａ５得た。【０２７３】
（偏在層形成用塗液Ａ６）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）１００質量部に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：０．０１質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ａ６を得た。【０２７４】
（偏在層形成用塗液Ａ７）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：  １００質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ａ７を得た。【０２７５】
（偏在層形成用塗液Ａ８）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）１００質量部に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらをエタノール用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ａ８を得た。【０２７６】
（偏在層形成用塗液Ａ９）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）１００質量部に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）    ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート          ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート          ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が２０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ａ９を得た。【０２７７】
（偏在層形成用塗液Ａ１０）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）１００質量部に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が９０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ａ１０を得た。【０２７８】
（偏在層形成用塗液Ａ１１）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）１００質量部に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ａ１１を得た。【０２７９】
次に、低屈折率層形成用塗液Ａの調製について以下に示す。【０２８０】
（低屈折率層形成用塗液Ａ）
・多孔質シリカ微粒子の分散液
（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０質量部／メチルイソブチルケトン分散液）
：（固形分）２．５質量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製ＤＰＥＡ−１２）                      ：  ２．５質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：  ０．１質量部
を用意し、これらを、イソプロピルアルコールを用いて固形分が５質量部となるように調液し、低屈折率層形成用塗液Ａを得た。【０２８１】
＜例Ａ１＞
（ハードコート層の形成）
透明基材として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（以下、「ＴＡＣ」という。）（富士フィルム社製、膜厚８０μｍ、屈折率１．４９）を用意し、片面に偏在層形成用塗液Ａ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒乾燥し、その後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０２８２】
（低屈折率層の形成）
続いて、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層形成用塗液Ａを、乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用い、照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０２８３】
＜例Ａ２＞〜＜例Ａ１０＞
偏在層形成用塗液Ａ１の代わりに、偏在層形成用塗液Ａ２〜Ａ１０を用いて、その他の製造条件は＜例Ａ１＞と同様にして、＜例Ａ２＞〜＜例Ａ１０＞の反射防止フィルムを作製した。【０２８４】
＜例Ａ１１＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ａ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥し、その後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚０．５μｍの透明なハードコート層を形成した。【０２８５】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ａを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０２８６】
＜例Ａ１２＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ａ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒乾燥し、そのた後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚２０μｍの透明なハードコート層を形成した。【０２８７】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ａを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０２８８】
＜例Ａ１３＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ａ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で５秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供することにより乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０２８９】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ａを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０２９０】
＜例Ａ１４＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ａ１を塗布し、２５℃で７０秒間乾燥した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０２９１】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ａを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後８０℃で６０秒間乾燥した。その後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０２９２】
＜例Ａ１５＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ａ１を塗布し、８０℃で７０秒間乾燥した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成させた。【０２９３】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ａを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。その後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０２９４】
＜例Ａ１６＞
偏在層形成用塗液Ａ１のかわりに偏在層形成用塗液Ａ１１を用いたこと以外は＜例Ａ１＞と同様にして、＜例Ａ１６＞の反射防止フィルムを作製した。【０２９５】
表１は、＜例Ａ１＞〜＜例Ａ１６＞において使用した成分及び製造条件を示す。
【表１】
2012133341.tif 000007
【０２９６】
得られた＜例Ａ１＞〜＜例Ａ１６＞の反射防止フィルムについて、先述の各評価を行った。評価結果を、表２に示す。
【表２】
2012133341.tif 000008
【０２９７】
＜試験Ｂ＞
以下、偏在層においてレベリング材料として、フッ素基を有する化合物を使用した場合（Ｂ）について説明する。【０２９８】
まず、偏在層形成用塗液Ｂ１〜Ｂ１１の調製について示す。【０２９９】
（４級アンモニウム塩材料の合成例１）
攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、
・オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
（商品名：「ブレンマー５０ＰＯＥＰ−８００Ｂ」日本油脂社製）
：  １８．０ｇ
・メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド
：  ３５．０ｇ
・シクロヘキシルメタクリレート                          ：  １４．０ｇ
・アゾビスイソブチロニトリル                            ：    ０．３ｇ
・イソプロピルアルコール                                ：１００．０ｇ
・メチルエチルケトン                                    ：  ４０．０ｇ
を仕込み、窒素雰囲気下、６５℃で３時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた４級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は１８５００であった。【０３００】
（偏在層形成用塗液Ｂ１）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｂ１を得た。【０３０１】
（偏在層形成用塗液Ｂ２）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・ＮＲ−１２１Ｘ−９ＩＰＡ（コルコート社製／イソプロピロアルコール分散液）                                          ：（固形分）２０質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｂ２を得た。【０３０２】
（偏在層形成用塗液Ｂ３）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・Ｆ４８９（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｂ３を得た。【０３０３】
（偏在層形成用塗液Ｂ４）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・フタージェント２２２Ｆ（ネオス社製）              ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｂ４を得た。【０３０４】
（偏在層形成用塗液Ｂ５）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・４級アンモニウム塩を含有するライトエステルＤＱ１００
（共栄社化学社製、重量平均分子量２０８）            ：    １０質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｂ５を得た。【０３０５】
（偏在層形成用塗液Ｂ６）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・ｐ−スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー（分子量１２万）
：    １０質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｂ６を得た。【０３０６】
（偏在層形成用塗液Ｂ７）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：０．０１質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｂ７を得た。【０３０７】
（偏在層形成用塗液Ｂ８）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：  １００質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｂ８を得た。【０３０８】
（偏在層形成用塗液Ｂ９）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらをエタノール用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｂ９を得た。【０３０９】
（偏在層形成用塗液Ｂ１０）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が２０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｂ１０を得た。【０３１０】
（偏在層形成用塗液Ｂ１１）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）        
：      ５質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が９０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｂ１１を得た。【０３１１】
（偏在層形成用塗液Ｂ１２）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｂ１２を得た。【０３１２】
次に、低屈折率層形成用塗液Ｂの調製について以下に示す。【０３１３】
（低屈折率層形成用塗液Ｂ）
・多孔質シリカ微粒子の分散液
（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０質量部／メチルイソブチルケトン分散液）
（固形分）                                          ：  ２．５質量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製ＤＰＥＡ−１２）                      ：  ２．５質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：  ０．１質量部
を用意し、これらを、イソプロピルアルコールを用いて固形分が５質量部となるように調液し、低屈折率層形成用塗液Ｂを得た。【０３１４】
＜例Ｂ１＞
（ハードコート層の形成）
透明基材として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（以下、「ＴＡＣ」という。）（富士フィルム社製、膜厚８０μｍ、屈折率１．４９）を用意し、この片面に偏在層形成用塗液Ｂ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３１５】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｂを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３１６】
＜例Ｂ２＞〜＜例Ｂ１１＞
偏在層形成用塗液Ｂ１のかわりに偏在層形成用塗液Ｂ２〜Ｂ１１を用いたこと以外は＜例Ｂ１＞と同様にして、＜例Ｂ２＞〜＜例Ｂ１１＞の反射防止フィルムを作製した。【０３１７】
＜例Ｂ１２＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｂ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚０．５μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３１８】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｂを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３１９】
＜例Ｂ１３＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｂ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚２０μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３２０】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｂを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３２１】
＜例Ｂ１４＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ａ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で５秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３２２】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｂを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３２３】
＜例Ｂ１５＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｂ１を塗布し、２５℃で７０秒間乾燥した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３２４】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｂを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３２５】
＜例Ｂ１６＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｂ１を塗布し、８０℃で７０秒乾燥し後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３２６】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｂを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３２７】
＜例Ｂ１７＞
偏在層形成用塗液Ｂ１のかわりに偏在層形成用塗液Ｂ１２を用いたこと以外は＜例Ｂ１＞と同様にして、＜例Ｂ１７＞の反射防止フィルムを作製した。【０３２８】
表３に、＜例Ｂ１＞〜＜例Ｂ１７＞において使用した成分と製造条件を示す。
【表３】
2012133341.tif 000009
【０３２９】
得られた＜例Ｂ１＞〜＜例Ｂ１７＞の反射防止フィルムについて、先述した方法に従って各評価を行った。評価結果を表４に示す。
【表４】
2012133341.tif 000010
【０３３０】
＜試験Ｃ＞
以下、偏在層においてレベリング材料として、フッ素基を有する化合物を使用した場合（Ｃ）について説明する。【０３３１】
まず、偏在層形成用塗液Ｃ１〜Ｃ１０の調製について示す。【０３３２】
（４級アンモニウム塩材料の合成例１）
攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、
・オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
（商品名：「ブレンマー５０ＰＯＥＰ−８００Ｂ」日本油脂社製）
：  １８．０ｇ
・メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド
：  ３５．０ｇ
・シクロヘキシルメタクリレート                        ：  １４．０ｇ
・アゾビスイソブチロニトリル                          ：    ０．３ｇ
・イソプロピルアルコール                              ：  １００．０ｇ
・メチルエチルケトン                                  ：  ４０．０ｇ
を仕込み、窒素雰囲気下、６５℃で３時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた４級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は１８５００であった。【０３３３】
（偏在層形成用塗液Ｃ１）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｃ１とした。【０３３４】
（偏在層形成用塗液Ｃ２）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・ＮＲ−１２１Ｘ−９ＩＰＡ（コルコート社製／イソプロピロアルコール分散液）                                          ：（固形分）２０質量部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｃ２とした。【０３３５】
（偏在層形成用塗液Ｃ３）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・ポリフローＫＬ４０１（共栄社化学社製）            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｃ３とした。【０３３６】
（偏在層形成用塗液Ｃ４）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・４級アンモニウム塩を含有するライトエステルＤＱ１００
（共栄社化学社製、重量平均分子量２０８）            ：    １０質量部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｃ４とした。【０３３７】
（偏在層形成用塗液Ｃ５）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・ｐ−スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー（分子量１２万）
：    １０質量部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｃ５とした。【０３３８】
（偏在層形成用塗液Ｃ６）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：  ０．０１質量部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｃ６とした。【０３３９】
（偏在層形成用塗液Ｃ７）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：  １００質量部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｃ７とした。【０３４０】
（偏在層形成用塗液Ｃ８）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、エタノール用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｃ８とした。【０３４１】
（偏在層形成用塗液Ｃ９）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が２０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｃ９とした。【０３４２】
（偏在層形成用塗液Ｃ１０）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が９０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｃ１０とした。【０３４３】
（偏在層形成用塗液Ｃ１１）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・合成例１で作製した４級アンモニウム塩材料（分子量１８５００）
：      ５質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成用塗液Ｃ１１とした。【０３４４】
次に、低屈折率層形成用塗液Ｃの調製について以下に示す。【０３４５】
（低屈折率層形成用塗液Ｃ）
・多孔質シリカ微粒子の分散液
（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０質量部／メチルイソブチルケトン分散液）
（固形分）                                          ：  ２．５質量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製ＤＰＥＡ−１２）                      ：  ２．５質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：  ０．１質量部
を用意し、これらを、イソプロピルアルコールを用いて固形分が５質量部となるように調液し、低屈折率層形成用塗液Ｃを得た。【０３４６】
＜例Ｃ１＞
（ハードコート層の形成）
透明基材として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（以下、「ＴＡＣ」という。）（富士フィルム社製、膜厚８０μｍ、屈折率１．４９）を用意し、この片面に偏在層形成用塗液Ｃ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３４７】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｃを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３４８】
＜例Ｃ２〜Ｃ１０＞
偏在層形成用塗液Ｃ１のかわりに偏在層形成用塗液Ｃ２〜Ｃ１０を用いたこと以外は、＜例Ｃ１＞と同様にして＜例Ｃ２＞〜＜例Ｃ１０＞の反射防止フィルムを作製した。【０３４９】
＜例Ｃ１１＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｃ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚０．５μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３５０】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｃを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３５１】
＜例Ｃ１２＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｃ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚２０μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３５２】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｃを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３５３】
＜例Ｃ１３＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｃ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で５秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３５４】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｃを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３５５】
＜例Ｃ１４＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｃ１を塗布し、２５℃で７０秒間乾燥した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３５６】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｃを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射をおこなって硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３５７】
＜例Ｃ１５＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｃ１を塗布し、８０℃で７０秒乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２ で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成させた。【０３５８】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｃを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射をおこなって硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３５９】
＜例Ｃ１６＞
偏在層形成用塗液Ｃ１のかわりに偏在層形成用塗液Ｃ１１を用いたこと以外は＜例Ｃ１＞と同様にして、＜例Ｃ１６＞の反射防止フィルムを作製した。【０３６０】
表５に、＜例Ｃ１＞〜＜例Ｃ１６＞において使用した成分及び製造条件を示す。
【表５】
2012133341.tif 000011
【０３６１】
得られた＜例Ｃ１＞〜＜例Ｃ１６＞の反射防止フィルムについて、先述の各評価を行った。評価結果を表６に示す。
【表６】
2012133341.tif 000012
【０３６２】
さらに、以下の評価を行った。【０３６３】
［ＸＰＳによる、リコート層の有無の確認］
＜例Ａ１＞で得られた反射防止フィルム及び＜例Ａ１６＞で得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成前の偏在層表面について、Ｘ線光電子分光分析装置（ＪＰＳ−９０ＭＸＶ ｍｉｃｒｏ（日本電子製））を用い、偏在層表面の表面分析を行った。なお、測定の際のＸ線強度は１００Ｗ（１０ｋＶ、１０ｍＡ）とした。【０３６４】
分析の結果、＜例Ａ１＞の反射防止フィルムの偏在層表面からはＣ，Ｏが検出され、Ｃｌは検出されなかった。一方、＜例Ａ１６＞の反射防止フィルムの偏在層表面からはＣ，Ｎ，Ｏ，Ｃｌが検出された。これは、＜例Ａ１＞の反射防止フィルムにあっては偏在層の最表層に４級アンモニウム塩材料を含まないリコート層が形成されていることを示している。【０３６５】
また、＜例Ｂ１＞で得られた反射防止フィルム及び＜例Ｂ１７＞で得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成前の偏在層表面について、Ｘ線光電子分光分析装置（ＪＰＳ−９０ＭＸＶ ｍｉｃｒｏ（日本電子製））を用い、偏在層表面の表面分析を行った。なお、測定の際のＸ線強度は１００Ｗ（１０ｋＶ、１０ｍＡ）とした。分析の結果、＜例Ｂ１＞の反射防止フィルムの偏在層表面からはＣ，Ｏ，Ｆが検出され、Ｃｌは検出されなかった。一方、＜例Ｂ１７＞の反射防止フィルムの偏在層表面からはＣ，Ｎ，Ｏ，Ｃｌが検出された。これは、＜例Ｂ１＞の反射防止フィルムにあっては偏在層の最表層に４級アンモニウム塩材料を含まないリコート層が形成されていることを示している。【０３６６】
また、＜例Ｃ１＞で得られた反射防止フィルム及び＜例Ｃ１６＞で得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成前の偏在層表面について、Ｘ線光電子分光分析装置（ＪＰＳ−９０ＭＸＶ ｍｉｃｒｏ（日本電子製））を用い、偏在層表面の表面分析を行った。なお、測定の際のＸ線強度は１００Ｗ（１０ｋＶ、１０ｍＡ）とした。分析の結果、＜例Ｃ１＞の反射防止フィルムの偏在層表面からはＣ，Ｏ，Ｓｉが検出され、Ｃｌは検出されなかった。一方、＜例Ｃ１６＞の反射防止フィルムの偏在層表面からはＣ，Ｎ，Ｏ，Ｃｌが検出された。これは、＜例Ｃ１＞の反射防止フィルムにあっては偏在層の最表層に４級アンモニウム塩材料を含まないリコート層が形成されていることを示している。【０３６７】
＜＜試験Ｄ乃至試験Ｆ＞＞
試験Ｄ、試験Ｅ及び試験Ｆは、第２態様に関する。【０３６８】
＜＜反射防止フィルムの作製方法＞＞
＜試験Ｄ＞
以下、リコート層においてレベリング材料として、アクリル基を有する化合物を使用した場合（Ｄ）について説明する。【０３６９】
まず、偏在層形成用塗液Ｄ１〜Ｄ１０の調製について以下に示す。【０３７０】
（偏在層形成塗液Ｄ１）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ１とした。【０３７１】
（偏在層形成塗液Ｄ２）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・リン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）                                          ：      ５質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ２とした。【０３７２】
（偏在層形成塗液Ｄ３）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）                                          ：      ５質量部
・ＢＹＫ−３５２（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ３とした。【０３７３】
（偏在層形成塗液Ｄ４）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                  ：（固形分）０．０１質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ４とした。【０３７４】
（偏在層形成塗液Ｄ５）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                  ：（固形分）３００質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ５とした。【０３７５】
（偏在層形成塗液Ｄ６）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                      ：（固形分）５質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ６とした。【０３７６】
（偏在層形成塗液Ｄ７）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、エタノールを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ７とした。【０３７７】
（偏在層形成塗液Ｄ８）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が２０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ８とした。【０３７８】
（偏在層形成塗液Ｄ９）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が９０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ９とした。【０３７９】
（偏在層形成塗液Ｄ１０）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ１０とした。【０３８０】
（偏在層形成塗液Ｄ１１）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製）      ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ１１とした。【０３８１】
以下に、低屈折率層形成塗液Ｄの調製について示す。【０３８２】
（低屈折率層形成用塗液）
メチルイソブチルケトン １００質量部 に対して、
・多孔質シリカ微粒子の分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）                            ：１８．０質量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（商品名：ＤＰＥＡ−１２、日本化薬社製）            ：  ２．５質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製 商品名：イルガキュア１８４）
：  ０．１質量部
を用い、低屈折率層形成用塗液Ｄを調製した。【０３８３】
＜例Ｄ１＞
（偏在層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｄ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間、乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明な偏在層を形成した。【０３８４】
（低屈折率層の形成）
形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ａを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。２５℃で２５秒間乾燥し後、８０℃で５０秒間乾燥した。その後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、＜例Ｄ１＞の反射防止フィルムを作製した。【０３８５】
＜例Ｄ２＞〜＜例Ｄ９＞
偏在層形成用塗液Ｄ１の代わりに偏在層形成塗液Ｄ２〜Ｄ９を用いて、その他の製造条件は＜例Ｄ１＞と同様にして、＜例Ｄ２＞〜＜例Ｄ９＞の反射防止フィルムを作製した。【０３８６】
＜例Ｄ１０＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｄ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚０．５μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３８７】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｄを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３８８】
＜例Ｄ１１＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｄ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚２０μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３８９】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｄを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３９０】
＜例Ｄ１２＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｄ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で５秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３９１】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｄを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３９２】
＜例Ｄ１３＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｄ１を塗布し、２５℃で７０秒乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３９３】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｄを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３９４】
＜例Ｄ１４＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｄ１を塗布し、８０℃で７０秒間乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２ の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０３９５】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｄを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０３９６】
＜例Ｄ１５＞
偏在層形成用塗液Ｄ１のかわりに偏在層形成用塗液Ｄ１０を用いたこと以外は＜例Ｄ１＞と同様にして、＜例Ｄ１５＞の反射防止フィルムを作製した。【０３９７】
＜例Ｄ１６＞
偏在層形成用塗液Ｄ１のかわりに偏在層形成用塗液Ｄ１１を用いたこと以外は＜例Ｄ１＞と同様にして、＜例Ｄ１６＞の反射防止フィルムを作製した。【０３９８】
表１に、＜例Ｄ１＞〜＜例Ｄ１６＞において使用した成分と製造条件を示す。
【表７】
2012133341.tif 000013
【０３９９】
得られた＜例Ｄ１＞〜＜例Ｄ１６＞の反射防止フィルムについて、先述の各評価を行った。評価結果を表８に示す。
【表８】
2012133341.tif 000014
【０４００】
＜試験Ｅ＞
以下、リコート層においてレベリング材料として、フッ素基を有する化合物を使用した場合（Ｅ）について説明する。【０４０１】
まず、偏在層形成用塗液Ｅ１〜Ｅ１０の調製について以下に示す。【０４０２】
（偏在層形成塗液Ｂ１）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ１とした。【０４０３】
（偏在層形成塗液Ｂ２）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・リン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
：（固形分）５質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ２とした。【０４０４】
（偏在層形成塗液Ｂ３）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・Ｆ４８９（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ３とした。【０４０５】
（偏在層形成塗液Ｂ４）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・フタージェント２２２Ｆ（ネオス社製）              ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ４とした。【０４０６】
（偏在層形成塗液Ｂ５）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                  ：（固形分）０．０１質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ５とした。【０４０７】
（偏在層形成塗液Ｂ６）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                    ：（固形分）３００質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ６とした。【０４０８】
（偏在層形成塗液Ｂ７）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                      ：（固形分）５質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ７とした。【０４０９】
（偏在層形成塗液Ｂ８）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、エタノールを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ８とした。【０４１０】
（偏在層形成塗液Ｅ９）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が２０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ９とした。【０４１１】
（偏在層形成塗液Ｅ１０）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
：（固形分）５質量部
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が９０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ１０とした。【０４１２】
（偏在層形成塗液Ｅ１１）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ１１とした。【０４１３】
（偏在層形成塗液Ｅ１２）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ１２とした。【０４１４】
以下に低屈折率層形成塗液Ｅの調製例を示す。【０４１５】
（低屈折率層形成用塗液Ｅ）
メチルイソブチルケトン １００質量部 に対して、
・多孔質シリカ微粒子の分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）                          ：  １８．０質量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（商品名：ＤＰＥＡ−１２、日本化薬社製）          ：    ２．５質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製 商品名：イルガキュア１８４）
：    ０．１質量部
を用い、低屈折率層形成用塗液Ｅを調製した。【０４１６】
＜例Ｅ１＞
（偏在層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｂ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で７．５秒間、乾燥炉内で乾燥し、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２ の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明な偏在層を形成した。【０４１７】
（低屈折率層の形成）
形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｅを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。一次乾燥として２５℃で２５秒間乾燥した後、二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥した。その後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、＜例Ｅ１＞の反射防止フィルムを作製した。【０４１８】
＜例Ｅ２＞〜＜例Ｅ１０＞
偏在層形成用塗液Ｅ１の代わりに偏在層形成塗液Ｅ２〜Ｅ１０を用いたこと以外は＜例Ｅ１＞と同様にして、＜例Ｅ２＞〜＜例Ｅ１０＞の反射防止フィルムを作製した。【０４１９】
＜例Ｅ１１＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｅ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚０．５μｍの透明なハードコート層を形成した。【０４２０】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｅを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥し。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０４２１】
＜例Ｅ１２＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｅ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥させた後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚２０μｍの透明なハードコート層を形成した。【０４２２】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｅを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０４２３】
＜例Ｅ１３＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｅ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で５秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０４２４】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｅを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０４２５】
＜例Ｅ１４＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｅ１を塗布し、２５℃で７０秒間乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０４２６】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｅを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０４２７】
＜例Ｅ１４＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｅ１を塗布し、８０℃で７０秒間乾燥した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０４２８】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｅを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０４２９】
＜例Ｅ１６＞
偏在層形成用塗液Ｅ１のかわりに偏在層形成用塗液Ｅ１１を用いたこと以外は＜例Ｅ１＞と同様にして、＜例Ｅ１６＞の反射防止フィルムを作製した。【０４３０】
＜例Ｅ１７＞
偏在層形成用塗液Ｅ１のかわりに偏在層形成用塗液Ｅ１２を用いたこと以外は＜例Ｅ１＞と同様にして、＜例Ｅ１７＞の反射防止フィルムを作製した。【０４３１】
表９に、＜例Ｅ１＞〜＜例Ｅ１７＞において使用した成分及び製造条件を示す。
【表９】
2012133341.tif 000015
【０４３２】
得られた＜例Ｅ１＞〜＜例Ｅ１７＞の反射防止フィルムについて、先述の各評価を行った。評価結果を表１０に示す。
【表１０】
2012133341.tif 000016
【０４３３】
＜試験Ｆ＞
以下、リコート層においてレベリング材料として、シロキサン結合を有する化合物を使用した場合（Ｆ）について説明する。【０４３４】
まず、偏在層形成用塗液Ｅ１〜Ｅ１０の調製について以下に示す。【０４３５】
（偏在層形成塗液Ｆ１）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ１とした。【０４３６】
（偏在層形成塗液Ｆ２）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・リン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
：（固形分）５質量部
・ＢＹＫ−３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）    ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ２とした。【０４３７】
（偏在層形成塗液Ｆ３）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
：（固形分）５質量部
・ポリフローＫＬ−４０１（共栄社化学社製）          ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ３とした。【０４３８】
（偏在層形成塗液Ｆ４）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
：（固形分）０．０１質量部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ４とした。【０４３９】
（偏在層形成塗液Ｆ５）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                    ：（固形分）３００質量部
・ＢＹＫ−３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）    ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ５とした。【０４４０】
（偏在層形成塗液Ｆ６）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                      ：（固形分）５質量部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ６とした。【０４４１】
（偏在層形成塗液Ｆ７）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、エタノールを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ７とした。【０４４２】
（偏在層形成塗液Ｃ８）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
：（固形分）５質量部
・ＢＹＫ−３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）    ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が２０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ８とした。【０４４３】
（偏在層形成塗液Ｆ９）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
：（固形分）５質量部
・ＢＹＫ−３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）    ：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が９０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ９とした。【０４４４】
（偏在層形成塗液Ｆ１０）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                        ：（固形分）５質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ１０とした。【０４４５】
（偏在層形成塗液Ｆ１１）
ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３） １００質量部 に対して、
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）：  ０．１質量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部
を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ１１とした。【０４４６】
以下に低屈折率層形成塗液Ｆの調製について示す
（低屈折率層形成用塗液Ｆ）
メチルイソブチルケトン １００質量部 に対して、
・多孔質シリカ微粒子の分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）                          ：  １８．０質量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（商品名：ＤＰＥＡ−１２、日本化薬社製）          ：    ２．５質量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製 商品名：イルガキュア１８４）
：  ０．１質量部
を用い、低屈折率層形成用塗液Ｆを調製した。【０４４７】
＜例Ｆ１＞
（偏在層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｆ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で７．５秒間、乾燥炉内で乾燥し、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明な偏在層を形成した。【０４４８】
（低屈折率層の形成）
形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｆを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。一次乾燥として２５℃で２５秒間乾燥した後に、二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥した。その後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、＜例Ｆ１＞の反射防止フィルムを作製した。【０４４９】
＜例Ｆ２＞〜＜例Ｆ９＞
偏在層形成用塗液Ｆ１の代わりに偏在層形成塗液Ｆ２〜Ｆ９を使用したこと以外は＜例Ｆ１＞と同様にして、＜例Ｆ２＞〜＜例Ｆ９＞の反射防止フィルムを作製した。【０４５０】
＜例Ｆ１０＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｆ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥させた後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚０．５μｍの透明なハードコート層を形成した。【０４５１】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｆを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２ で紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０４５２】
＜例Ｆ１１＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｆ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚２０μｍの透明なハードコート層を形成した。【０４５３】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｆを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０４５４】
＜例Ｆ１２＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｆ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥した後、連続して二次乾燥として８０℃で５秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０４５５】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｆを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０４５６】
＜例Ｆ１３＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｆ１を塗布し、２５℃で７０秒乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０４５７】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｆを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０４５８】
＜例Ｆ１４＞
（ハードコート層の形成）
ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｆ１を塗布し、８０℃で７０秒間乾燥した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。【０４５９】
（低屈折率層の形成）
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成した。前記低屈折率層形成用塗液Ｆを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。塗布後、８０℃で６０秒間乾燥した。さらに、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。【０４６０】
＜例Ｆ１５＞
偏在層形成用塗液Ｆ１のかわりに偏在層形成用塗液Ｆ１０を用いたこと以外は＜例Ｆ１＞と同様にして、＜例Ｆ１５＞の反射防止フィルムを作製した。【０４６１】
＜例Ｆ１６＞
偏在層形成用塗液Ｆ１のかわりに偏在層形成用塗液Ｆ１１を用いたこと以外は＜例Ｆ１＞と同様にして、＜例Ｆ１６＞の反射防止フィルムを作製した。【０４６２】
表１１に、＜例Ｆ１＞〜＜例Ｆ１６＞において使用した成分及び製造条件を示す。
【表１１】
2012133341.tif 000017
【０４６３】
得られた＜例Ｆ１＞〜＜例Ｆ１６＞の反射防止フィルムについて、先述の各評価を行った。【０４６４】
さらに、以下の評価を行った。【０４６５】
［ハードコート層の屈折率の確認］
上記［視感平均反射率］の項で求めた分光反射率が、金属酸化物微粒子を含有しない以下の例の反射防止フィルムと比較して、０．０５％以上低下している場合、ハードコート層の屈折率が上昇していると判断した。【０４６６】
アクリル基を有する化合物：例Ｄ１６
フッ素基を有する化合物 ：例Ｅ１７
シロキサン結合を有する化合物：例Ｆ１６
［ＸＰＳによる、リコート層の有無の確認］
＜例Ｄ１＞、＜例Ｄ１６＞、＜例Ｅ１＞、＜例Ｅ１７＞、＜例Ｆ１＞及び＜例Ｆ１６＞で得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成前の偏在層表面について、Ｘ線光電子分光分析装置（ＪＰＳ−９０ＭＸＶ ｍｉｃｒｏ（日本電子製））を用い、偏在層表面の表面分析を行った。なお、測定の際のＸ線強度は１００Ｗ（１０ｋＶ、１０ｍＡ）とした。【０４６７】
分析の結果、＜例Ｄ１＞の反射防止フィルムの偏在層表面からはＣ，Ｏが検出され、Ｓｎは検出されなかった。一方、＜例Ｄ１６＞の反射防止フィルムの偏在層表面からはＣ，Ｏ，Ｓｎ，が検出された。これは、＜例Ｄ１＞の反射防止フィルムにあっては偏在層の最表層に金属酸化物微粒子を含まないリコート層が形成されていることを示している。【０４６８】
また、＜例Ｅ１＞の反射防止フィルムの偏在層表面からはＣ，Ｏ，Ｆが検出され、Ｓｎは検出されなかったが、一方、＜例Ｅ１７＞の反射防止フィルムの偏在層表面からはＣ，Ｏ，Ｓｎが検出された。Ｓｎは金属酸化物微粒子（ＡＴＯ）特有の元素であり、＜例Ｅ１＞の反射防止フィルムにあっては偏在層の最表層に金属酸化物微粒子を含まないリコート層が形成されていることを示している。【０４６９】
さらに、＜例Ｆ１＞の反射防止フィルムの偏在層表面からはＣ，Ｏ，Ｓｉが検出され、Ｓｎは検出されなかったが、一方、＜例Ｆ１６＞の反射防止フィルムの偏在層表面からはＣ，Ｏ，Ｓｎが検出された。Ｓｎは金属酸化物微粒子（ＡＴＯ）特有の元素であり、＜例Ｆ１＞の反射防止フィルムにあっては偏在層の最表層に金属酸化物微粒子を含まないリコート層が形成されていることを示している。【０４７０】
［分光反射率の測定による屈折率の確認］
＜例Ｄ１＞、＜例Ｄ１６＞、＜例Ｅ１＞、＜例Ｅ１６＞、＜例Ｆ１＞及び＜例Ｆ１６＞で得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成前の偏在層表面および低屈折率層形成後の低屈折率層表面について、反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い測定した低屈折率層形成面についてＣ光源、２度視野の条件下での入射角５°における分光反射率を測定した。で得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成前の偏在層表面および低屈折率層形成後の低屈折率層表面について、反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い測定した低屈折率層形成面についてＣ光源、２度視野の条件下での入射角５°における分光反射率を測定した。結果を図４、５、８、９及び１２及び１３に示す。【０４７１】
測定の結果、＜例Ｄ１＞と＜例Ｄ１６＞の反射防止フィルムの偏在層表面の分光反射率は、＜例Ｄ１＞の方が＜例Ｄ１６＞と比較して、可視領域において上昇していた。これは、偏在層表面において＜例Ｄ１＞の方が＜例Ｄ１６＞よりも、屈折率が高いことを示している。また、＜例Ｄ１＞と＜例Ｄ１６＞の反射防止フィルムの低屈折率層表面の分光反射率は、＜例Ｄ１＞の方が＜例Ｄ１６＞と比較して、可視領域において低下していた。これは、低屈折率形成材料は同一なため、ハードコート層の高屈折率化により、低屈折率層表面での反射率が低下したことを示している。【０４７２】
＜例Ｅ１＞と＜例Ｅ１７＞の反射防止フィルムの偏在層表面の分光反射率は、＜例Ｅ１＞の方が＜例Ｅ１７＞と比較して、可視領域において上昇していた。これは、偏在層表面において＜例Ｅ１＞の方が＜例Ｅ１７＞よりも、屈折率が高いことを示している。また、＜例Ｅ１＞と＜例Ｅ１７＞の反射防止フィルムの低屈折率層表面の分光反射率は、＜例Ｅ１＞の方が＜例Ｅ１７＞と比較して、可視領域において低下していた。これは、低屈折率形成材料は同一なため、ハードコート層の高屈折率化により、低屈折率層表面での反射率が低下したことを示している。【０４７３】
＜例Ｆ１＞と＜例Ｆ１６＞の反射防止フィルムの偏在層表面の分光反射率は、＜例Ｆ１＞の方が＜例Ｆ１６＞と比較して、可視領域において上昇していた。これは、偏在層表面において＜例Ｆ１＞の方が＜例Ｆ１６＞よりも、屈折率が高いことを示している。また、＜例Ｆ１＞と＜例Ｆ１６＞の反射防止フィルムの低屈折率層表面の分光反射率は、＜例Ｆ１＞の方が＜例Ｆ１６＞と比較して、可視領域において低下していた。これは、低屈折率形成材料は同一なため、ハードコート層の高屈折率化により、低屈折率層表面での反射率が低下したことを示している。【０４７４】
評価結果を表１２に示す。
【表１２】
2012133341.tif 000018
【符号の説明】
【０４７５】
１…反射防止フィルム、３…製造装置、１１…透明基材、１２…偏在層、１２ａ…中間層、１２ｂ…ハードコート層、１２ｃ…リコート層、１３…低屈折率層、２１…塗布ユニット、２２…乾燥ユニット、２２ａ…第１乾燥ユニット、２２ｂ…第２乾燥ユニット、２３…電離放射線照射ユニット、３１ａ，３１ｂ…リール、３３ａ，３３ｂ…ガイドローラ
【図１】
2012133341.tif 000019
【図２】
2012133341.tif 000020
【図３】
2012133341.tif 000021
【図４】
2012133341.tif 000022
【図５】
2012133341.tif 000023
【図６】
2012133341.tif 000024
【図７】
2012133341.tif 000025
【図８】
2012133341.tif 000026
【図９】
2012133341.tif 000027
【図１０】
2012133341.tif 000028
【図１１】
2012133341.tif 000029
【図１２】
2012133341.tif 000030
【図１３】
2012133341.tif 000031
【図１４】
2012133341.tif 000032
【図１５】
2012133341.tif 000033
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月21日(2013.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、
前記第１層は、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、
前記リコート層は、４級アンモニウム塩材料を含まず、
前記ハードコート層は、前記４級アンモニウム塩材料を含み、前記ハードコート層において、前記４級アンモニウム塩材料の濃度は、前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ高くなっている反射防止フィルム。
【請求項２】
前記第１層中の前記レベリング材料の含有量は０．００１質量部乃至５．００質量部の範囲内である請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記レベリング材料は、分子量が１，０００乃至８０，０００の範囲内である請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択される請求項１乃至３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記４級アンモニウム塩材料は、分子量が２，０００乃至８０，０００の範囲内であ
る請求項１乃至４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記第１層は、膜厚が少なくとも３μｍ乃至１５μｍの範囲内である請求項１乃至５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
平行光線透過率が９３％以上であり、
ヘイズが０．５％以下であり、
前記第２層の表面抵抗値が１×１０5Ω／ｃｍ2乃至１×１０12Ω／ｃｍ2の範囲内であり、
前記第２層の表面の純水接触角が８０°乃至１４０°の範囲内である請求項１乃至６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法であって、
前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、
前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、
前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、
前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程と
を含んだ反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記塗液は、前記塗液１００質量部中、前記溶媒を２５質量部乃至８５質量部含み、
前記溶媒は、前記溶媒１００質量部中、前記基材を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んだ請求項８に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記一次乾燥は、１５℃乃至３０℃の範囲内で行われ、
前記二次乾燥は、４０℃乃至１５０℃の範囲内で行われる請求項８又は９に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１１】
透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、
前記第１層は、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、
前記リコート層は、前記金属酸化物微粒子を含まず、
前記ハードコート層は、前記金属酸化物微粒子を含み、前記ハードコート層において、前記金属酸化物微粒子は偏在しており、
前記第１層中の前記レベリング材料の含有量は０．００１質量部乃至５．００質量部の範囲内である反射防止フィルム。
【請求項１２】
前記レベリング材料は、分子量が１０００乃至８０，０００の範囲内である請求項１１に記載の反射防止フィルム。
【請求項１３】
前記第１層中の前記金属酸化物微粒子の含有量は０．５質量部乃至４０質量部の範囲内である請求項１１又は１２に記載の反射防止フィルム。
【請求項１４】
前記金属酸化物微粒子は、粒径が２μｍ以下である請求項１１乃至１３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１５】
前記ハードコート層において、前記金属酸化物微粒子の金属酸化物微粒子の体積がハードコート層の単位体積に占める割合は、前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ高くなっている請求項１１乃至１４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１６】
前記金属酸化物微粒子は導電性を有する請求項１１乃至１５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１７】
前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択される請求項１１乃至１６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１８】
前記第２層は、膜厚が３μｍ乃至１５μｍの範囲内である請求項１１乃至１７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１９】
平行光線透過率が９３％以上であり、
ヘイズが０．５％以下の範囲内であり、
前記第２層の表面抵抗値が１×１０5Ω／ｃｍ2乃至１×１０12Ω／ｃｍ2の範囲内であり、
前記第２層の表面の純水接触角が８０°乃至１４０°の範囲内である請求項１１乃至１８のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項２０】
請求項１１乃至１９の何れか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法であって、
前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、
前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、
前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、
前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程と
を含んだ反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２１】
前記金属酸化物微粒子は、粒径が２μｍ以下である請求項２０に記載の反射防止フィルム。
【請求項２２】
前記塗液は、前記塗液１００質量部中、前記溶媒を２５質量部乃至８５質量部の範囲内で含み、
前記溶媒は、前記溶媒１００質量部中、前記基材を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んだ請求項２０又は２１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２３】
前記一次乾燥は、１５℃乃至３０℃の範囲内で行われ、
前記二次乾燥は、４０℃乃至１５０℃の範囲内で行われる請求項２０乃至２２のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２４】
前記第１乾燥工程において、前記第１塗膜を塗布してから、前記第１塗膜中に含まれる溶媒が１０質量部以下となるまでの時間が２秒乃至６０秒の範囲内である請求項２０乃至２３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記第１層中の前記レベリング材料の含有量は０．００１質量部乃至５．００質量部の範囲内であってもよい。
前記レベリング材料は、分子量が１，０００乃至８０，０００の範囲内であってもよい。
前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択されてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記４級アンモニウム塩材料は、分子量が２，０００乃至８０，０００の範囲内であってもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明の第２側面は、本発明の第１側面に係る反射防止フィルムの製造方法であって、前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程とを含んだ反射防止フィルムの製造方法に関する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明の第３側面は、透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、前記第１層は、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、前記リコート層は、前記金属酸化物微粒子を含まず、前記ハードコート層は、前記金属酸化物微粒子を含み、前記ハードコート層において、前記金属酸化物微粒子は偏在しており、前記第１層中の前記レベリング材料の含有量は０．００１質量部乃至５．００質量部の範囲内である反射防止フィルムに関する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
前記レベリング材料は、分子量が１０００乃至８０，０００の範囲内であってもよい。
前記第１層中の前記金属酸化物微粒子の含有量は０．５質量部乃至４０質量部の範囲内であってもよい。
前記金属酸化物微粒子は、粒径が２μｍ以下であってもよい。
前記ハードコート層において、前記金属酸化物微粒子の金属酸化物微粒子の体積がハードコート層の単位体積に占める割合は、前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ高くなっていてもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択されてもよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明の第４側面は、本発明の第３側面に係る反射防止フィルムの製造方法であって、前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程とを含んだ反射防止フィルムの製造方法に関する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４７４】
評価結果を表１２に示す。
【表１２】
2012133341.tif 000034
以下に、当初の特許請求の範囲に記載していた発明を付記する。
[１]透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、前記第１層は、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、前記リコート層は、４級アンモニウム塩材料を含まず、前記ハードコート層は、前記４級アンモニウム塩材料を含み、前記ハードコート層において、前記４級アンモニウム塩材料の濃度は、前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ高くなっている反射防止フィルム。
[２]前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択される項１に記載の反射防止フィルム。
[３]前記４級アンモニウム塩材料は、分子量が２，０００乃至８０，０００の範囲内であり、前記レベリング材料は、分子量が１，０００乃至８０，０００の範囲内である項１又は２に記載の反射防止フィルム。
[４]前記第１層は、膜厚が少なくとも３μｍ乃至１５μｍの範囲内である項１乃至３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
[５]平行光線透過率が９３％以上であり、ヘイズが０．５％以下であり、前記第２層の表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２乃至１×１０１２Ω／ｃｍ２の範囲内であり、前記第２層の表面の純水接触角が８０°乃至１４０°の範囲内である項１乃至４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
[６]透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムの製造方法であって、前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程とを含んだ反射防止フィルムの製造方法。
[７]前記塗液は、前記塗液１００質量部中、前記溶媒を２５質量部乃至８５質量部含み、前記溶媒は、前記溶媒１００質量部中、前記基材を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んだ項６に記載の反射防止フィルムの製造方法。
[８]前記一次乾燥は、１５℃乃至３０℃の範囲内で行われ、前記二次乾燥は、４０℃乃至１５０℃の範囲内で行われる項６又は７に記載の反射防止フィルムの製造方法。
[９]透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、前記第１層は、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、前記リコート層は、金属酸化物微粒子を含まず、前記ハードコート層は、前記金属酸化物微粒子を含み、前記ハードコート層において、前記金属酸化物微粒子は偏在している反射防止フィルム。
[１０]前記ハードコート層において、前記金属酸化物微粒子の金属酸化物微粒子の体積がハードコート層の単位体積に占める割合は、前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ高くなっている項９に記載の反射防止フィルム。
[１１]前記金属酸化物微粒子は導電性を有する項９又は１０に記載の反射防止フィルム。
[１２]前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択される項９に記載の反射防止フィルム。
[１３]前記金属酸化物微粒子は、粒径が２μｍ以下であり、前記レベリング材料は、分子量が５００乃至８０，０００の範囲内である項９乃至１２のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
[１４]前記第２層は、膜厚が３μｍ乃至１５μｍの範囲内である項９乃至１３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
[１５]平行光線透過率が９３％以上であり、ヘイズが０．５％以下の範囲内であり、前記第２層の表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２乃至１×１０１２Ω／ｃｍ２の範囲内であり、前記第２層の表面の純水接触角が８０°乃至１４０°の範囲内である項９乃至１４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
[１６]透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムの製造方法であって、前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程とを含んだ反射防止フィルムの製造方法。
[１７]前記塗液は、前記塗液１００質量部中、前記溶媒を２５質量部乃至８５質量部の範囲内で含み、前記溶媒は、前記溶媒１００質量部中、前記基材を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んだ項１６に記載の反射防止フィルムの製造方法。
[１８]前記一次乾燥は、１５℃乃至３０℃の範囲内で行われ、前記二次乾燥は、４０℃乃至１５０℃の範囲内で行われる項１６又は１７に記載の反射防止フィルムの製造方法。
[１９]前記第１乾燥工程において、前記第１塗膜を塗布してから、前記第１塗膜中に含まれる溶媒が１０質量部以下となるまでの時間が２秒乃至６０秒の範囲内である項１６乃至１８のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月31日(2013.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】  上述の技術に関連する技術は、例えば、特開２００５−２０２３８９号公報、特開２００５−１９９７０７号公報、特開平１１−９２７５０号公報、特開２００７−１２１９９３号公報、特開２００５−１４４８４９号公報、特開２００６−１５９４１５号公報及び特開２０１０−２１７８７３号公報に記載されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】  本願発明の第１側面は、透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、前記第１層は、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、前記リコート層は、４級アンモニウム塩材料を含まず、前記ハードコート層は、前記４級アンモニウム塩材料を含み、前記ハードコート層中において、前記４級アンモニウム塩材料は、前記リコート層側が高濃度、前記中間層側が低濃度となっている反射防止フィルムに関する。  前記ハードコート層中において、前記４級アンモニウム塩材料は、前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ漸次濃度が高くなっていてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】  本願発明の第３側面は、透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、前記第１層は、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、前記リコート層は、前記金属酸化物微粒子を含まず、前記ハードコート層は、前記金属酸化物微粒子を含み、前記ハードコート層中において、前記金属酸化物微粒子は、その体積が前記ハードコート層の単位体積に占める割合が前記リコート層側が高く、前記中間層側が低くなっており、前記第１層中の前記レベリング材料の含有量は０．００１質量部乃至５．００質量部の範囲内である反射防止フィルムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】  前記レベリング材料は、分子量が１０００乃至８０，０００の範囲内であってもよい。  前記第１層中の前記金属酸化物微粒子の含有量は０．５質量部乃至４０質量部の範囲内であってもよい。  前記金属酸化物微粒子は、粒径が２μｍ以下であってもよい。  前記ハードコート層中において、前記金属酸化物微粒子は、その体積が前記ハードコート層の単位体積に占める割合が前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ漸次高くなっていてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】  上記の通り、偏在層１２において、４級アンモニウム塩材料の濃度は、中間層１２ａから偏在層表面（低屈折率層１３側）に向けて漸次変化する。具体的には、４級アンモニウム塩材料の濃度は、中間層１２ａから偏在層表面（低屈折率層１３側）に向かって次第に高くなる。このような４級アンモニウム塩材料の濃度の変化は、偏在層１２の断面についてエレクトロンプローブマイクロアナリシス（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｐｒｏｂｅ  Ｍｉｃｒｏ  Ａｎａｌｙｓｉｓ（ＥＰＭＡ））を行い、偏在層中に含まれる４級アンモニウム塩材料のアニオンの濃度を測定することにより確認することができる。一般的に、４級アンモニウム塩材料のアニオンには塩素イオンを用いることが多い。そのため、塩素の濃度を測定することにより、４級アンモニウム塩材料が不均質に存在することを確認することが可能である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】  ここで、偏在層１２の膜厚をｙとする。ｙは、塗布液の塗布量から求められる。Ｙ１は、偏在層１２と低屈折率層１３の界面から１μｍの深さの箇所である。Ｙ２は、偏在層１２と低屈折率層１３の界面から１μｍ＋ｙ／３μｍの深さの箇所である。Ｙ３は、偏在層１２と低屈折率層１３の界面から１μｍ＋２ｙ／３μｍの深さの箇所である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】  また、４級アンモニウム塩材料として４級アンモニウム塩を官能基として分子内に含むアクリル系材料を用いることもできる。４級アンモニウム塩を官能基として分子内に含むアクリル系材料としては、４級アンモニウム塩（−Ｎ＋Ｘ−）を官能基として分子内に含む多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３２】  偏在層形成塗液中の溶媒量を上記範囲内とすることにより、塗膜中の金属酸化物微粒子が偏在して、偏在層中にハードコート層を形成するまでの時間を十分確保することができ、偏在層を容易に製造することができる。溶媒量が２５質量部未満の場合、塗膜が急激に乾燥し、偏在層中の中間層を形成することが困難となることがある。また、金属酸化物微粒子を偏在層中で不均一に分布させることができなくなり、所望の帯電防止性能を得ることが困難になる。一方、溶媒量が８５質量部を越える場合、乾燥時間を長くする必要があり大量生産に不向きとなる。また、この場合、所望の表面硬度を有する偏在層を形成することが困難になる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２６０】  ○：ハードコート層有り（低屈折率層表面の表面抵抗値が１×１０１２Ω／ｃｍ２以下であり且つ偏在層表面の鉛筆硬度がＨ以上であった）  ×：ハードコート層無し（上記以外（低屈折率層表面の表面抵抗値が１×１０１２Ω／ｃｍ２を超えるか又は鉛筆硬度がＨ未満であった））  ［ハードコート層における４級アンモニウム塩材料の分布状態］  ハードコート層における４級アンモニウム塩材料の分布状態については、断面ＥＤＸを行うことにより確認した。得られた反射防止フィルムを包埋樹脂にて固定した後、ミクロトームを用いた切削加工により断面出しをおこない分析試料の作成を行った。得られた分析試料をエネルギー分散型Ｘ線分析装置が付属された走査電子顕微鏡に導入し、低屈折率層と偏在層界面から深さ１μｍの箇所（Ｙ１）、３μｍの箇所（Ｙ２）、５μｍ（Ｙ３）の箇所についてＥＤＸ分析を行った。分析結果を以下の基準に基づき評価した。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３９８】 表７に、＜例Ｄ１＞〜＜例Ｄ１６＞において使用した成分と製造条件を示す。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４０２】  （偏在層形成塗液Ｅ１）  ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）１００質量部に対して、・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                                    ：（固形分）５質量部・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ１とした。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４０３】  （偏在層形成塗液Ｅ２）  ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）１００質量部に対して、・リン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                                    ：（固形分）５質量部・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ２とした。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４０４】  （偏在層形成塗液Ｅ３）  ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）  １００質量部に対して、・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                                    ：（固形分）５質量部・Ｆ４８９（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ３とした。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４０５】  （偏在層形成塗液Ｅ４）  ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）１００質量部に対して、・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                                    ：（固形分）５質量部・フタージェント２２２Ｆ（ネオス社製）              ：  ０．１質量部・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ４とした。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４０６】  （偏在層形成塗液Ｅ５）  ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）１００質量部に対して、・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                                    ：（固形分）０．０１質量部・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ５とした。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４０７】  （偏在層形成塗液Ｅ６）  ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）１００質量部に対して、・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                                    ：（固形分）３００質量部・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ６とした。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４０８】（偏在層形成塗液Ｅ７）  ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）１００質量部に対して、・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                                    ：（固形分）５質量部・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ７とした。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４０９】  （偏在層形成塗液Ｅ８）  ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）１００質量部に対して、・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                                    ：（固形分）５質量部・Ｆ４７０（ＤＩＣ社製）                            ：  ０．１質量部・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部を用意し、これらを、エタノールを用いて固形分が５０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ８とした。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４１６】  ＜例Ｅ１＞  （偏在層の形成）  トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｂ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間、乾燥炉内で乾燥し、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明な偏在層を形成した。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４２７】  ＜例Ｅ１５＞  （ハードコート層の形成）  ＴＡＣフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成用塗液Ｅ１を塗布し、８０℃で７０秒間乾燥した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明なハードコート層を形成した。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４３４】  まず、偏在層形成用塗液Ｆ１〜Ｆ１０の調製について以下に示す。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４４２】  （偏在層形成塗液Ｆ８）  ウレタンアクリレート（新中村化学工業社製ＵＡ−５３）  １００質量部に対して、・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）                                                    ：（固形分）５質量部・ＢＹＫ−３５７０（ビックケミー・ジャパン社製）    ：  ０．１質量部・ジペンタエリスリトールトリアクリレート            ：    ５０質量部・ペンタエリスリトールテトラアクリレート            ：    ５０質量部・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４）：    １０質量部を用意し、これらを、酢酸メチルを用いて固形分が２０質量部となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ８とした。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４４７】  ＜例Ｆ１＞  （偏在層の形成）  トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｆ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間、乾燥炉内で乾燥し、連続して二次乾燥として８０℃で６０秒間、乾燥炉内で乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２の紫外線照射に供し、乾燥膜厚６μｍの透明な偏在層を形成した。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４７０】［分光反射率の測定による屈折率の確認］  ＜例Ｄ１＞、＜例Ｄ１６＞、＜例Ｅ１＞、＜例Ｅ１６＞、＜例Ｆ１＞及び＜例Ｆ１６＞で得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成前の偏在層表面および低屈折率層形成後の低屈折率層表面について、反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い測定した低屈折率層形成面についてＣ光源、２度視野の条件下での入射角５°における分光反射率を測定した。結果を図４、５、８、９及び１２及び１３に示す。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、  前記第１層は、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、  前記リコート層は、４級アンモニウム塩材料を含まず、  前記ハードコート層は、前記４級アンモニウム塩材料を含み、前記ハードコート層中において、前記４級アンモニウム塩材料は、前記リコート層側が高濃度、前記中間層側が低濃度となっている反射防止フィルム。
【請求項２】
前記ハードコート層中において、前記４級アンモニウム塩材料は、前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ漸次濃度が高くなっている請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記第１層中の前記レベリング材料の含有量は０．００１質量部乃至５．００質量部の範囲内である請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記レベリング材料は、分子量が１，０００乃至８０，０００の範囲内である請求項１乃至３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択される請求項１乃至４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記４級アンモニウム塩材料は、分子量が２，０００乃至８０，０００の範囲内である請求項１乃至５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記第１層は、膜厚が少なくとも３μｍ乃至１５μｍの範囲内である請求項１乃至６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
平行光線透過率が９３％以上であり、  ヘイズが０．５％以下であり、  前記第２層の表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２乃至１×１０１２Ω／ｃｍ２の範囲内であり、  前記第２層の表面の純水接触角が８０°乃至１４０°の範囲内である請求項１乃至７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法であって、前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、  前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、  前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、  前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程とを含んだ反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記塗液は、前記塗液１００質量部中、前記溶媒を２５質量部乃至８５質量部含み、  前記溶媒は、前記溶媒１００質量部中、前記基材を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んだ請求項９に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記一次乾燥は、１５℃乃至３０℃の範囲内で行われ、  前記二次乾燥は、４０℃乃至１５０℃の範囲内で行われる請求項９又は１０に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１２】
透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、  前記第１層は、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、  前記リコート層は、前記金属酸化物微粒子を含まず、  前記ハードコート層は、前記金属酸化物微粒子を含み、前記ハードコート層中において、前記金属酸化物微粒子は、その体積が前記ハードコート層の単位体積に占める割合が前記リコート層側で高く、前記中間層側で低くなっており、  前記第１層中の前記レベリング材料の含有量は０．００１質量部乃至５．００質量部の範囲内である反射防止フィルム。
【請求項１３】
前記レベリング材料は、分子量が１０００乃至８０，０００の範囲内である請求項１２に記載の反射防止フィルム。
【請求項１４】
前記第１層中の前記金属酸化物微粒子の含有量は０．５質量部乃至４０質量部の範囲内である請求項１２又は１３に記載の反射防止フィルム。
【請求項１５】
前記金属酸化物微粒子は、粒径が２μｍ以下である請求項１２乃至１４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１６】
前記ハードコート層中において、前記金属酸化物微粒子は、その体積が前記ハードコート層の単位体積に占める割合が前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ漸次高くなっている請求項１２乃至１５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１７】
前記金属酸化物微粒子は導電性を有する請求項１２乃至１６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１８】
前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択される請求項１２乃至１７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１９】
前記第２層は、膜厚が３μｍ乃至１５μｍの範囲内である請求項１２乃至１８のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項２０】
平行光線透過率が９３％以上であり、   ヘイズが０．５％以下の範囲内であり、  前記第２層の表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２乃至１×１０１２Ω／ｃｍ２の範囲内であり、  前記第２層の表面の純水接触角が８０°乃至１４０°の範囲内である請求項１２乃至１９のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項２１】
請求項１２乃至２０の何れか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法であって、前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子と  レベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、  前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、  前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、  前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程とを含んだ反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２２】
前記金属酸化物微粒子は、粒径が２μｍ以下である請求項２１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２３】
前記塗液は、前記塗液１００質量部中、前記溶媒を２５質量部乃至８５質量部の範囲内で含み、   前記溶媒は、前記溶媒１００質量部中、前記基材を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んだ請求項２１又は２２に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２４】
前記一次乾燥は、１５℃乃至３０℃の範囲内で行われ、  前記二次乾燥は、４０℃乃至１５０℃の範囲内で行われる請求項２１乃至２３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２５】
前記第１乾燥工程において、前記第１塗膜を塗布してから、前記第１塗膜中に含まれる溶媒が１０質量部以下となるまでの時間が２秒乃至６０秒の範囲内である請求項２１乃至２４のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月25日(2014.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本願発明の第１側面は、透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、前記第１層は、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、前記リコート層は、４級アンモニウム塩材料を含まず、前記ハードコート層は、前記４級アンモニウム塩材料を含み、前記ハードコート層中において、前記４級アンモニウム塩材料は、前記リコート層側が高濃度、前記中間層側が低濃度となっており、前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択される反射防止フィルムに関する。
前記ハードコート層中において、前記４級アンモニウム塩材料は、前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ漸次濃度が高くなっていてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記第１層中の前記レベリング材料の含有量は０．００１質量部乃至５．００質量部の
範囲内であってもよい。
前記レベリング材料は、分子量が１，０００乃至８０，０００の範囲内であってもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本願発明の第３側面は、透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、前記第１層は、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、前記リコート層は、前記金属酸化物微粒子を含まず、前記ハードコート層は、前記金属酸化物微粒子を含み、前記ハードコート層中において、前記金属酸化物微粒子は、その体積が前記ハードコート層の単位体積に占める割合が前記リコート層側が高く、前記中間層側が低くなっており、前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択され、前記第１層中の前記レベリング材料の含有量は０．００１質量部乃至５．００質量部の範囲内である反射防止フィルムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３３０】
＜試験Ｃ＞
以下、偏在層においてレベリング材料として、シロキサン結合を有する化合物を使用した場合（Ｃ）について説明する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、
前記第１層は、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、
前記リコート層は、４級アンモニウム塩材料を含まず、
前記ハードコート層は、前記４級アンモニウム塩材料を含み、前記ハードコード層中において、前記４級アンモニウム塩材料は、前記リコート層側が高濃度、前記中間層側が低濃度となっており、
前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択される反射防止フィルム。
【請求項２】
前記ハードコート層中において、前記４級アンモニウム塩材料は、前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ漸次濃度が高くなっている請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記第１層中の前記レベリング材料の含有量は０．００１質量部乃至５．００質量部の範囲内である請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記レベリング材料は、分子量が１，０００乃至８０，０００の範囲内である請求項１乃至３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記４級アンモニウム塩材料は、分子量が２，０００乃至８０，０００の範囲内である請求項１乃至４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記第１層は、膜厚が少なくとも３μｍ乃至１５μｍの範囲内である請求項１乃至５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
平行光線透過率が９３％以上であり、
ヘイズが０．５％以下であり、
前記第２層の表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２乃至１×１０１２Ω／ｃｍ２の範囲内であり、
前記第２層の表面の純水接触角が８０°乃至１４０°の範囲内である請求項１乃至６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法であって、
前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、
前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、
前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、
前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程と
を含んだ反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記塗液は、前記塗液１００質量部中、前記溶媒を２５質量部乃至８５質量部含み、
前記溶媒は、前記溶媒１００質量部中、前記基材を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んだ請求項８に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記一次乾燥は、１５℃乃至３０℃の範囲内で行われ、
前記二次乾燥は、４０℃乃至１５０℃の範囲内で行われる請求項８又は９に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１１】
透明基材と、第１層と、屈折率が前記第１層の屈折率と比較して低い第２層とをこの順で積層してなる反射防止フィルムであって、
前記第１層は、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子とレベリング材料と溶媒とを含んだ塗膜を硬化させてなり、中間層、ハードコート層及びリコート層が前記透明基材側からこの順に積層された構造を有し、
前記リコート層は、前記金属酸化物微粒子を含まず、
前記ハードコート層は、前記金属酸化物微粒子を含み、前記ハードコート層中において、前記金属酸化物微粒子は、その体積が前記ハードコート層の単位体積に占める割合が前記リコート層側で高く、前記中間層側で低くなっており、
前記レベリング材料は、アクリル基を有する化合物、フッ素基を有する化合物及びシロキサン結合を有する化合物からなる群より選択され、前記第１層中の前記レベリング材料の含有量は０．００１質量部乃至５．００質量部の範囲内である反射防止フィルム。
【請求項１２】
前記レベリング材料は、分子量が１０００乃至８０，０００の範囲内である請求項１１に記載の反射防止フィルム。
【請求項１３】
前記第１層中の前記金属酸化物微粒子の含有量は０．５質量部乃至４０質量部の範囲内である請求項１１又は１２に記載の反射防止フィルム。
【請求項１４】
前記金属酸化物微粒子は、粒径が２μｍ以下である請求項１１乃至１３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１５】
前記ハードコート層中において、前記金属酸化物微粒子は、その体積が前記ハードコート層の単位体積に占める割合が前記中間層側から前記リコート層側に向かうにつれ漸次高くなっている請求項１１乃至１４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１６】
前記金属酸化物微粒子は導電性を有する請求項１１乃至１５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１７】
前記第２層は、膜厚が３μｍ乃至１５μｍの範囲内である請求項１１乃至１６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１８】
平行光線透過率が９３％以上であり、 
ヘイズが０．５％以下の範囲内であり、
前記第２層の表面抵抗値が１×１０５Ω／ｃｍ２乃至１×１０１２Ω／ｃｍ２の範囲内であり、
前記第２層の表面の純水接触角が８０°乃至１４０°の範囲内である請求項１１乃至１７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１９】
請求項１１乃至１８の何れか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法であって、
前記透明基材の少なくとも一方の主面に、電離放射線硬化型材料と金属酸化物微粒子と
レベリング材料と溶媒とを含んだ塗液を塗布して第１塗膜を形成する塗布工程と、
前記第１塗膜を一次乾燥に供する第１乾燥工程と、
前記一次乾燥に供した第１塗膜を二次乾燥に供する第２乾燥工程と、
前記二次乾燥に供した第１塗膜に電離放射線を照射して、前記第１層を前記第１塗膜の硬化物として得る工程と
を含んだ反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２０】
前記金属酸化物微粒子は、粒径が２μｍ以下である請求項１９に記載の反射防止フィルム。
【請求項２１】
前記塗液は、前記塗液１００質量部中、前記溶媒を２５質量部乃至８５質量部の範囲内で含み、 
前記溶媒は、前記溶媒１００質量部中、前記基材を溶解又は膨潤させる溶媒を３０質量部以上含んだ請求項１９又は２０に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２２】
前記一次乾燥は、１５℃乃至３０℃の範囲内で行われ、
前記二次乾燥は、４０℃乃至１５０℃の範囲内で行われる請求項１９乃至２１のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２３】
前記第１乾燥工程において、前記第１塗膜を塗布してから、前記第１塗膜中に含まれる溶媒が１０質量部以下となるまでの時間が２秒乃至６０秒の範囲内である請求項１９乃至２２のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【国際調査報告】
2012133341.tif 000035
2012133341.tif 000036