(57)【要約】（Ａ）及び（Ｂ）の成分、及び必要により（Ｃ）及び／又は（Ｄ）の成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物及び研磨スラリー。（Ａ）環状オリゴ糖（Ｂ）水（Ｃ）アルカノールアミン（Ｄ）炭素数６〜２４の脂肪族カルボン酸【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）及び（Ｂ）の成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物。
（Ａ）環状オリゴ糖
（Ｂ）水
【請求項２】
（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物。
（Ａ）環状オリゴ糖
（Ｂ）水
（Ｃ）アルカノールアミン
【請求項３】
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物。
（Ａ）環状オリゴ糖
（Ｂ）水
（Ｃ）アルカノールアミン
（Ｄ）炭素数６〜２４の脂肪族カルボン酸
【請求項４】
環状オリゴ糖が、αシクロデキストリンである請求項１〜３のいずれかに記載の潤滑組成物。
【請求項５】
アルカノールアミンが、一般式
（Ｒ２）ｍＮ（−Ｒ１−ＯＨ）ｎ
（Ｒ１は炭素数２〜５の直鎖又は分岐のアルキレン基であり、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｎ、ｍは１以上の整数であり、ｎ＋ｍ＝３である。）で表わされるアミンである請求項２〜３のいずれかに記載の潤滑組成物。
【請求項６】
（Ａ）を０．１〜４０重量％、（Ｃ）を１〜９０重量％、（Ｄ）を０．１〜３０重量％、（Ｂ）を残部、からなる請求項１〜５のいずれかに記載の潤滑組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の研磨用潤滑組成物及び研磨砥粒を含む研磨スラリー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板研磨用潤滑組成物（以下、研磨用潤滑組成物）及びそれを用いた研磨スラリーに関する。更に詳しくは、ガラス基板の研磨加工において、加工レートの向上及び仕上げ面粗さの改善に優れた研磨用潤滑組成物並びに研磨スラリーに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器、光学機器、エネルギーデバイスなどの開発が積極的に行われている。それらを開発する上で重要な素材の一つにガラスがある。例えば、電子材料では、ハードディスクドライブのハードディスクガラス基板、液晶ディスプレーや有機ＥＬディスプレーのフラットパネルガラス、光学機器では、光転写装置のフォトマスク用ガラス、カメラのレンズ、ＬＥＤ照明のガラス、エネルギーデバイスでは太陽光発電用ガラスパネルなどがある。このように最先端の様々な機器にガラス基板が用いられている。
これらガラス基板は種々の工程を経て作り上げられている、製造工程で重要なのが研磨工程である。目的の形状、精度に仕上げるためにはガラス表面を精密に研磨する必要がある。精密に研磨されたガラス基板によって最先端の技術が支えられている。
具体的な例としては、昨今、ハードディスクドライブの記録密度を向上させるために、磁気ヘッドと磁気ディスクの間隙より狭くする必要がある。ハードディスクドライブの記録密度の向上を達成するために、ハードディスクガラス基板の加工において、研磨速度の向上、仕上げ面粗さの改善及び表面残渣の低減が課題となっている。更には、フラットパネルガラス、フォトマスクガラスや光学レンズなども、光透過性など様々な要求に合わせて表面は研磨されている。
一般にガラスの主成分はケイ酸（ＳｉＯ２）であるが、求められる品質によって種々の元素を加えて目的の機能となるように調整されている。具体的にはホウ酸、アルミナ、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム等が添加されている。
この高記録密度化の流れは年々加速しており、ディスク基板加工用研磨スラリーへの要求は、より複雑化し高性能なものとなっている。その要求項目は研磨速度に始まり、低面粗度化、微小ピット、微小突起、微小スクラッチ等の表面欠陥が無いことなど、多岐にわたっている。
上記研磨用潤滑組成物としては、研磨速度を向上させ、しかも、高品質の表面を得るための研磨用組成物が、種々提案されている。
「研磨痕」や「研磨スクラッチ」の除去、及び仕上げ面粗さをより小さく仕上げる研磨用潤滑組成物として、例えば特許文献１には、炭素数１０〜２２の脂肪酸と各種アルコールからなる研磨用潤滑組成物が提案されている。しかし特許文献１で用いられる炭素数１０〜２２の脂肪酸は飽和、不飽和の脂肪酸であり、水酸基を含有する脂肪酸は全く記載されていない。更に上述の高能率で且つ高い研磨速度を与える組成物として、例えば特許文献２にはフェニル基を含有しないリン系界面活性剤、グリコール系溶剤、炭素数１６〜４０のカルボン酸、又は、ジカルボン酸、及び、アルカノールアミンからなる研磨用潤滑組成物が提案されている。
しかし、従来技術を用いた研磨液組成物では十分な研磨速度が得られない他、高記録密度化に適合する、仕上げ面粗さの低い高品質なハードディスクガラス基板を得ることが出来ない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特表２００４−５１５６０９号公報
【特許文献２】特開２００４−３０６２４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、ガラス基板の加工において、特に研磨速度の向上、仕上げ面粗さの改善に有効で、更には表面残渣を低減できる研磨スラリー並びに該研磨スラリーを調製するための研磨用潤滑組成物を提供することにある。
本発明者は、特定の研磨用潤滑組成物及び研磨砥粒を含む研磨スラリーが上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、  本発明は、下記の発明に係る。
１．（Ａ）及び（Ｂ）の成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物。
（Ａ）環状オリゴ糖
（Ｂ）水
２．（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物。
（Ａ）環状オリゴ糖
（Ｂ）水
（Ｃ）アルカノールアミン
３．（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物。
（Ａ）環状オリゴ糖
（Ｂ）水
（Ｃ）アルカノールアミン
（Ｄ）炭素数６〜２４の脂肪族カルボン酸
４．環状オリゴ糖が、αシクロデキストリンである上記のいずれかに記載の潤滑組成物。
５．（Ａ）を０．１〜４０重量％、（Ｃ）を１〜９０重量％、（Ｄ）を０．１〜３０重量％、（Ｂ）を残部、からなる上記のいずれかに記載の潤滑組成物。
６．上記のいずれかに記載の研磨用潤滑組成物及び研磨砥粒を含む研磨スラリー。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の研磨スラリーは、ガラス基板の加工において、特に研磨速度の向上、仕上げ面粗さの改善に有効な加工特性を示す。更には表面残渣の低減が出来る。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
本発明のガラス基板研磨用潤滑組成物の各成分について以下に詳しく説明する。
（Ａ）環状オリゴ糖として、例えば、α−シクロデキストリン（α−ＣＤ，６個のグルコース環状結合）、β−シクロデキストリン（β−ＣＤ，７個のグルコース環状結合）、γ−シクロデキストリン（γ−ＣＤ，８個のグルコース環状結合）等があげられる。これら環状オリゴ糖の中でも、αシクロデキストリンが好ましい。ただし、環状オリゴ糖の構成単位は特に限定せず、更には結合の仕方に関しても特に限定しない。また構造異性体、立体異性体も含む。
（Ｂ）水としては、イオン交換水もしくは純水等の精製水が好ましい。
（Ｃ）アルカノールアミンとしては、特に限定されないが、例えば、一般式
（Ｒ２）ｍＮ（−Ｒ１−ＯＨ）ｎ
（Ｒ１は炭素数２〜５の直鎖又は分岐のアルキレン基であり、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｎ、ｍは１以上の整数であり、ｎ＋ｍ＝３である。）で表わされるアミンを挙げることができる。具体的にはモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ−メチルモノエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、ｎ−ブタノールアミン、イソブタノールアミン、ｔｅｒｔ−ブタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、ジエチルエタノールアミン、エチルジエタノールアミン等が挙げられる。
（Ｄ）脂肪族カルボン酸としては、炭素数６〜２４の脂肪族カルボン酸が好ましく、炭化水素鎖が直鎖でも分岐でも環状でも良く、不飽和結合や水酸基を有していても良い、更にはそれらの重縮合物や二塩基酸であってもよい。例えば、カプロン酸、ヘプチリック酸、カプリル酸、ペラゴニン酸、カプリン酸、ウンデシリン酸、ヘンデカン酸、ラウリン酸、トリデシリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシリン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ノナデシリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸等の飽和脂肪酸、ソルビン酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エルカ酸等の不飽和脂肪酸、イソヘプタン酸、イソノナン酸、イソミリスチン酸、イソパルミチン酸、イソステアリン酸、イソアラキン酸等の分岐鎖脂肪酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸等の二塩基脂肪酸、１２ヒドロキシステアリン酸ダイマー、１２ヒドロキシステアリン酸トライマー、１２ヒドロキシステアリン酸テトラマー等の重縮合脂肪酸、リシノレイン酸、ラクトビオン酸、パントイン酸、メバロン酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）酪酸、デオキシコール酸、アロイリット酸、ガラクツロン酸、グルコン酸、キナ酸、シキミ酸、コール酸、ラクトン酸等のヒドロキシ脂肪酸などが挙げられる。ここで炭素数はカルボニル炭素を含む炭素数である。これら脂肪族カルボン酸のなかでも炭素数８〜２２、更には炭素数１２〜１８の脂肪族カルボン酸が好ましい。
更に、これら組成物に加え、多価アルコール類を適宜用いても良い。多価アルコール類としては多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテルを例示でき、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ブチルカルビトール、ヘキシレングリコール、ブタンジオール、ブチルジグリコール、グリセリン、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ソルビトール、スクロース等が挙げられる。
潤滑組成物における成分（Ａ）〜（Ｄ）の含有量は特に限定されないが、環状オリゴ糖（Ａ）の含有量としては０．１〜４０重量％が好ましく、０．５〜３０重量％がより好ましく、１〜１５重量％が最も好ましい。成分（Ａ）の含有量が上記範囲であれば、加工時に十分な研磨速度の向上と仕上げ面粗さの改善効果が得られる。更には、表面残渣も低減する。
アルカノールアミン（Ｃ）の含有量としては１〜９０重量％が好ましく、５〜８５重量％がより好ましく、１０〜８０重量％が最も好ましい。
脂肪族カルボン酸（Ｄ）の含有量としては０．１〜３０重量％が好ましく、１〜１５重量％がより好ましい。成分（Ｄ）の含有量を上記範囲とすれば、ハードディスクガラス基板表面に十分に吸着する量であり、加工時に十分な潤滑性が得られる。また潤滑組成物の安定性も良好となる。
水（Ｂ）の含有量は、残部である。
本発明の潤滑組成物に研磨砥粒を分散させることにより本発明の研磨スラリーを得ることができる。研磨砥粒としては、例えば、ダイヤモンド、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ゲルマニウム、酸化ケイ素、酸化セリウム、酸化タンタルなどの種々公知の研磨砥粒に適用できる。研磨砥粒の大きさとしては、一般に平均粒子径０．００１〜３０μｍ、好ましくは０．００３〜２０μｍ、より好ましくは０．００５〜１０μｍ程度が良い。なかでも研磨砥粒としてはダイヤモンド砥粒が好ましく、その大きさとしては、平均粒子径０．０１〜１μｍ程度が好ましい。研磨スラリー中のダイヤモンド砥粒の含有量は特に限定されないが、通常１重量％以下、好ましくは０．００１〜０．５重量％が良い。
本発明のガラス基板研磨用潤滑組成物及び研磨スラリーによって研磨されるガラス基板はとくに限定しないが、例えば珪酸、アルミナ、酸化ナトリウム、酸化カリウム等を主な組成物としたガラス基板が挙げられる。例えば、ハードディスクガラス基板、光学レンズ用ガラス基板、光学レンズ、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型ＬＣＤなどの液晶用ガラス基板、液晶ＴＶ用カラーフィルター、ＬＳＩフォトマスク用ガラス基板などを例示することができる。
本発明の研磨スラリーは、ガラス基板加工用の研磨スラリーであって、ＮｉＰ合金基板加工用の研磨スラリーや、通常の鉄やアルミ材料の水溶性切削加工、水溶性研削加工、水溶性研磨加工液とは、区別されるものである。上記通常の加工においては、循環使用が一般的であり、防腐、消泡、防錆などの二次性能等において要求性能が大きく異なる。
【実施例】
【０００８】
以下に示す実施例、及び、比較例においては、以下に示す研磨評価を行った。ただし、本発明は実施例に限定されるものではない。
研磨特性評価
ウレタンパッド（ニッタ・ハース製ＩＣ１０００）を研磨装置（ナノファクター製ＮＦ−３００）に設置し、プラテン回転数２３０回転／分、ヘッド回転数１７０回転／分、研磨圧力７．２ＰＳＩの条件で研磨スラリーを２０ｍｌ／分の速度で供給しつつ、直径２．５インチのハードディスクガラス基板（ケイ酸、アルミナ、酸化ナトリウム、酸化カリウム等含むガラス）を研磨時間１５分（研磨速度評価）、及び、１分（表面粗さ評価）で研磨評価を行った。研磨時の研磨速度、及び、研磨後の表面粗さを評価することによって研磨評価を行った。なお、研磨速度、及び、表面粗さの測定方法は以下の方法で測定した。
研磨速度
研磨前後のガラス基板の重量変化を電子天秤（ザルトリウス社製ＬＥ２２５Ｄ）により測定して研磨量を求め研磨速度を求めた。
表面粗さ
研磨後の表面粗さは走査プローブ顕微鏡（エスアイアイ・ナノテクノロジー製ＳＰＡ−４００）を用いて、ＡＦＭモードにより測定した。
表面残渣
研磨後の表面残渣は光学表面分析装置（Ｃａｎｄｅｌａ製ＯＳＡ−５１００）により測定した。
実施例１〜８及び比較例１〜８
下記表１〜４に示す成分（数値は重量％）を配合してハードディスクガラス基板用潤滑液を調製した。水は精製水を用いた。比較例２のリシノレイン酸は特開２００４−３０６２４８号公報（特許文献２）で用いられる炭素数１６〜４０のカルボン酸、比較例５のオレイン酸は特表２００４−５１５６０９号公報（特許文献１）で用いられる炭素数１０〜２２の脂肪酸である。なお、シクロデキストリン以外の糖として、比較例１でグルコース１，１グリコシド結合二糖を使用した。
ハードディスクガラス基板用研磨スラリーは、潤滑組成物１７．５ｇを純水３２１．５ｇで希釈後、ダイヤモンド濃度：１．５重量％及び平均粒子径：３０ｎｍ〔動的光散乱法（大塚電子株式会社製ＤＬＳ−６０００ＨＬ）で測定〕のダイヤモンドスラリーを１０．９ｇ添加することによりダイヤモンド砥粒の含有量が０．０５重量％の研磨スラリーを調製した。この研磨スラリーを使用し、ハードディスクガラス基板の研磨評価を行った。結果を表１〜３に示す。表４に研磨後のガラス基板上に残る表面残渣を示す。
【表１】
2012053660.tif 000002
【表２】
2012053660.tif 000003
【表３】
2012053660.tif 000004
【表４】
2012053660.tif 000005
表１の実施例１は研磨速度は低いが、優れた表面粗さの改善を示し、最終段階での研磨工程に使用することができる。実施例２〜３及び比較例１〜２より環状オリゴ糖は十分な研磨速度と表面粗さの改善の両立が可能である事が確認できる。更には、実施例１〜２のαシクロデキストリンが最も好適である。
表２より比較例３〜５は研磨速度と表面粗さの両立が困難であるのに対し、実施例４は十分な研磨速度と表面粗さの改善の両立が可能である事が確認できる。
表３の、比較例６〜７の従来技術であるプロピレングリコールでは、研磨速度と表面粗さの両立が困難であるのに対し、実施例４〜７では十分な研磨速度と表面粗さの改善の両立が可能である。更に脂肪族カルボン酸を変えても、その効果は発揮され、十分な研磨速度と表面粗さの両立が可能である事が確認できる。
表４より、本発明を用いる事によって研磨後のガラス基板上に残る物理残渣及び有機残渣の低減が可能である事が確認できる。
実施例９〜１２及び比較例９〜１６
下記表５〜６に示す成分（数値は重量％）を配合してガラス基板用潤滑液を調製した以外は実施例１と同様にして研磨スラリーを調製した。この研磨スラリーを用いて、含有成分の違う各種ガラス基板を用いた研磨評価を行い、その結果を表５〜６に示す。
【表５】
2012053660.tif 000006
【表６】
2012053660.tif 000007
ガラス基板Ａ：ケイ酸（ＳｉＯ２）を主成分とし、酸化ナトリウム、アルミナ、酸化カリウムを副成分として含有するガラス基板。
ガラス基板Ｂ：ケイ酸（ＳｉＯ２）を主成分とし、酸化ナトリウム、アルミナ、酸化カリウム、Ｐ２Ｏ５を副成分として含有するガラス基板。
ガラス基板Ｃ：ケイ酸（ＳｉＯ２）を主成分とし、アルミナ、酸化カリウムを副成分として含有するガラス基板。
ガラス基板Ｄ：ケイ酸（ＳｉＯ２）を主成分とし、アルミナを副成分として含有するガラス基板。
【産業上の利用可能性】
【０００９】
本発明によれば、研磨時の研磨速度に優れ、研磨後のガラス基板の仕上げ表面粗さの改善に有効な加工特性に優れた研磨スラリーが提供される。更に本発明の付帯効果として研磨後のガラス基板表面残渣の低減が出来る。
また、本発明のガラス基板研磨用潤滑組成物及び研磨スラリーは、光学レンズ用ガラス基板や光学レンズ、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型ＬＣＤなどの液晶用ガラス基板、液晶ＴＶ用カラーフィルター、ＬＳＩフォトマスク用ガラス基板の研磨、研削及び切断等にも適用できる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月22日(2013.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）及び（Ｂ）の成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物（ただしポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、及びそれらの塩からなる群より選ばれる水溶性高分子を含まない）。
（Ａ）環状オリゴ糖
（Ｂ）水
【請求項２】
（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物（ただしポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、及びそれらの塩からなる群より選ばれる水溶性高分子を含まない）。
（Ａ）環状オリゴ糖
（Ｂ）水
（Ｃ）アルカノールアミン
【請求項３】
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物（ただしポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、及びそれらの塩からなる群より選ばれる水溶性高分子を含まない）。
（Ａ）環状オリゴ糖
（Ｂ）水
（Ｃ）アルカノールアミン
（Ｄ）炭素数６〜２４の脂肪族カルボン酸
【請求項４】
環状オリゴ糖が、αシクロデキストリンである請求項１〜３のいずれかに記載の潤滑組成物。
【請求項５】
アルカノールアミンが、一般式
（Ｒ２）ｍＮ（−Ｒ１−ＯＨ）ｎ
（Ｒ１は炭素数２〜５の直鎖又は分岐のアルキレン基であり、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｎ、ｍは１以上の整数であり、ｎ＋ｍ＝３である。）で表わされるアミンである請求項２〜３のいずれかに記載の潤滑組成物。
【請求項６】
（Ａ）を０.１〜４０重量％、（Ｂ）を残部、からなる請求項１、４〜５のいずれかに記載の潤滑組成物。
【請求項７】
（Ａ）を０.１〜４０重量％、（Ｃ）を１〜９０重量％、（Ｂ）を残部、からなる請求項２、４〜５のいずれかに記載の潤滑組成物。
【請求項８】
（Ａ）を０.１〜４０重量％、（Ｃ）を１〜９０重量％、（Ｄ）を０.１〜３０重量％、（Ｂ）を残部、からなる請求項３〜５のいずれかに記載の潤滑組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の研磨用潤滑組成物及び研磨砥粒を含む研磨スラリー。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月22日(2013.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物（ただしポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、及びそれらの塩からなる群より選ばれる水溶性高分子を含まない）。
（Ａ）環状オリゴ糖
（Ｂ）水
（Ｃ）アルカノールアミン
【請求項２】
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の成分を含むガラス基板研磨用潤滑組成物（ただしポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、及びそれらの塩からなる群より選ばれる水溶性高分子を含まない）。
（Ａ）環状オリゴ糖
（Ｂ）水
（Ｃ）アルカノールアミン
（Ｄ）炭素数６〜２４の脂肪族カルボン酸
【請求項３】
環状オリゴ糖が、αシクロデキストリンである請求項１〜２のいずれか１項に記載の潤滑組成物。
【請求項４】
アルカノールアミンが、一般式
（Ｒ２）ｍＮ（−Ｒ１−ＯＨ）ｎ
（Ｒ１は炭素数２〜５の直鎖又は分岐のアルキレン基であり、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｎ、ｍは１以上の整数であり、ｎ＋ｍ＝３である。）で表わされるアミンである請求項１〜２のいずれか１項に記載の潤滑組成物。
【請求項５】
（Ａ）を０.１〜４０重量％、（Ｃ）を１〜９０重量％、（Ｂ）を残部、からなる請求項１に記載の潤滑組成物。
【請求項６】
（Ａ）を０.１〜４０重量％、（Ｃ）を１〜９０重量％、（Ｄ）を０.１〜３０重量％、（Ｂ）を残部、からなる請求項２に記載の潤滑組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の研磨用潤滑組成物及び研磨砥粒を含む研磨スラリー。
【国際調査報告】
2012053660.tif 000008
2012053660.tif 000009
2012053660.tif 000010
2012053660.tif 000011