(57)【要約】  基板１１上に形成される陽極層１２と、陽極層１２上に形成される誘電体層１３と、少なくとも誘電体層１３を貫通して形成される複数の第１凹部１６と、誘電体層１３の上面に誘電体層１３を貫通せずに形成される複数の第２凹部１７と、少なくとも誘電体層１３の上面、第１凹部１６の内面および第２凹部１７の内面を覆って形成される発光層を含む有機化合物層１４と、有機化合物層１４上に形成される陰極層１５と、を含む有機発光素子１０により、光取り出し効率が高く、発光効率の高い有機発光素子を提供する。
2012147390.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成される第１電極と、
前記第１電極上に形成される誘電体層と、
少なくとも前記誘電体層を貫通して形成される複数の第１凹部と、
前記誘電体層の上面に当該誘電体層を貫通せずに形成される複数の第２凹部と、
少なくとも前記誘電体層の上面、前記第１凹部の内面および第２凹部の内面を覆って形成される発光層を含む有機化合物層と、
前記有機化合物層上に形成される第２電極と、
を含む有機発光素子。
【請求項２】
前記第１凹部は、前記第１電極にまで達するとともに、当該第１電極を貫通するか、または貫通せずに形成されている請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項３】
前記誘電体層の屈折率が、前記第１電極の屈折率および前記有機化合物層の屈折率のいずれよりも小さい請求項１または２に記載の有機発光素子。
【請求項４】
前記第１凹部および前記第２凹部が、前記誘電体層の面内において、最大幅が１０μｍ以下の円形形状または多角形形状を有するとともに、
前記誘電体層の任意の面内において、いずれも１ｍｍ２中に１０３〜１０８個形成されている請求項１〜３のいずれか１つに記載の有機発光素子。
【請求項５】
前記第１凹部および前記第２凹部が、前記誘電体層の任意の１ｍｍ四方の面内において、当該第２凹部の数が当該第１凹部の数の２倍以上となるよう形成されている請求項１〜４のいずれか１つに記載の有機発光素子。
【請求項６】
基板上に第１電極と誘電体層とを順に積層する積層工程と、
前記誘電体層を貫通する第１凹部を形成する第１凹部形成工程と、
前記誘電体層の上面に当該誘電体層を貫通せずに第２凹部を形成する第２凹部形成工程と、
少なくとも前記誘電体層の上面、前記第１凹部の内面および第２凹部の内面を覆う発光層を含む有機化合物層を形成する有機化合物層形成工程と、
前記有機化合物層上に第２電極を形成する第２電極形成工程と、
を含む有機発光素子の製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至５の何れか１項に記載の有機発光素子を備える表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至５の何れか１項に記載の有機発光素子を備える照明装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、表示装置や照明装置に用いられる有機発光素子等に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、有機化合物を発光体として用いる有機発光素子は、面光源の特性から近年照明用途としての応用が期待されており、更なる高効率化を目的として発光した光を外部へ取り出す、光取り出し技術の開発が盛んにおこなわれている。【０００３】
特許文献１には、電極と誘電体層の積層構造体中に、これらを貫通するキャビティを形成し、キャビティ内に発光層を形成した有機発光素子が開示されている。
特許文献２には、発光層の光取り出し面側に屈折率の異なる２種類の媒質からなる２次元回折格子を設置することで、光取り出し効率を向上できることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２０１０−５０９７２９号公報
【特許文献２】特開２００６−１１４４３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
透明基板上に電極および発光層が積層して形成された従来の有機発光素子では、発光層の光の一部が、屈折率の異なる層の界面で反射することによって発光層内部に閉じ込められることにより、この光を外部に取り出すことができないため、光取り出し効果が十分でない問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は上記の課題を解決するため、電極上に形成した誘電体層に、誘電体層を貫通する凹部と誘電体層を貫通しない凹部を形成することによって、電流が流れる凹部の数が少なくても有機発光素子の発光効率が向上することを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は、以下に要約される。【０００７】
本発明の有機発光素子は、基板上に形成される第１電極と、第１電極上に形成される誘電体層と、少なくとも誘電体層を貫通して形成される複数の第１凹部と、誘電体層の上面に誘電体層を貫通せずに形成される複数の第２凹部と、少なくとも誘電体層の上面、第１凹部の内面および第２凹部の内面を覆って形成される発光層を含む有機化合物層と、有機化合物層上に形成される第２電極と、を含む。【０００８】
ここで、第１凹部は、第１電極にまで達するとともに、第１電極を貫通するか、または貫通せずに形成されていることが好ましく、誘電体層の屈折率が、第１電極の屈折率および有機化合物層の屈折率のいずれよりも小さいことが好ましい。
また第１凹部および第２凹部が、誘電体層の面内において、最大幅が１０μｍ以下の円形形状または多角形形状を有するとともに、誘電体層の任意の面内において、いずれも１ｍｍ２中に１０３〜１０８個形成されていることが好ましく、第１凹部および第２凹部が、誘電体層の任意の１ｍｍ四方の面内において、第２凹部の数が第１凹部の数の２倍以上となるよう形成されていることが好ましい。【０００９】
また本発明の有機発光素子の製造方法は、基板上に第１電極と誘電体層とを順に積層する積層工程と、誘電体層を貫通する第１凹部を形成する第１凹部形成工程と、誘電体層の上面に誘電体層を貫通せずに第２凹部を形成する第２凹部形成工程と、少なくとも誘電体層の上面、第１凹部の内面および第２凹部の内面を覆う発光層を含む有機化合物層を形成する有機化合物層形成工程と、有機化合物層上に第２電極を形成する第２電極形成工程と、を含む。【００１０】
また本発明の表示装置は、上記の有機発光素子を備える。【００１１】
また本発明の照明装置は、上記の有機発光素子を備える。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、光取り出し効率が高く、発光効率の高い有機発光素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本実施の形態が適用される有機発光素子の第１の例を説明した部分断面図である。
【図２】本実施の形態が適用される有機発光素子の第２の例を説明した部分断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｅ）は、本実施の形態が適用される有機発光素子の製造方法について説明した図である。
【図４】本実施の形態における有機発光素子を用いた表示装置の一例を説明した図である。
【図５】実施の形態における有機発光素子を備える照明装置の一例を説明した図である。
【図６】（ａ）は、実施例１〜３の第１凹部および第２凹部の配置の一例である。（ｂ）は、実施例４の第１凹部および第２凹部の配置の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
ここで発光層から発した光の一部が、誘電体層の上面と発光層上の電極との間に入り込むことがある。この場合、この空間において光は、反射を繰り返し、内部に閉じ込められ、外部に出射しにくくなる。そのため光の利用効率が低下し、有機発光素子の発光効率が低下する。
そこで本実施の形態の有機発光素子では、以下の形態を採ることで、この問題の抑制を図っている。
【００１５】
（有機発光素子の第１の形態）
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図１は、本実施の形態が適用される有機発光素子の第１の例を説明した部分断面図である。
図１に示した有機発光素子１０は、基板１１と、基板１１側を下側とした場合に基板１１上に形成され正孔を注入するための第１電極としての陽極層１２と、電子を注入するための第２電極としての陰極層１５と、陽極層１２と陰極層１５の間に形成される誘電体層１３とが積層した構造を採る。誘電体層１３は、誘電体層１３を貫通して形成される複数の第１凹部１６、および誘電体層１３を貫通せずに形成される複数の第２凹部１７を有する。そして少なくとも誘電体層１３の上面、第１凹部１６の内面および第２凹部１７の内面を覆って形成され、電圧を印加することで発光する発光層を含む有機化合物層１４を有する。本実施の形態では、有機化合物層１４は、１層からなるため、有機化合物層１４が即ち発光層となっている。そして有機化合物層１４が発光を行なうことにより有機発光素子１０の発光面を形成する。本実施の形態では、陰極層１５は、有機化合物層１４上に形成され、有機化合物層１４および陰極層１５は、発光面の全面にわたって、連続的に形成されている。
【００１６】
基板１１は、陽極層１２、誘電体層１３、有機化合物層１４および陰極層１５を形成する支持体となるものである。基板１１には、有機発光素子１０に要求される機械的強度を満たす材料が用いられる。
【００１７】
基板１１の材料としては、有機発光素子１０の基板１１側から光を取り出したい場合は、発光層から出る光に対して透明であることが必要である。具体的には、サファイアガラス、ソーダガラス、石英ガラスなどのガラス類；アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ナイロン樹脂などの透明樹脂；シリコーン樹脂；窒化アルミ、アルミナなどの透明金属酸化物などが挙げられる。なお基板１１として、上記透明樹脂からなる樹脂フィルム等を使用する場合は、水、酸素などのガスに対するガス透過性が低いことが好ましい。ガス透過性が高い樹脂フィルム等を使用する場合は、光の透過性を損なわない範囲でガスの透過を抑制するバリア性薄膜を形成することが好ましい。
【００１８】
有機発光素子１０の基板１１側から光を取り出す必要がない場合は、基板１１の材料としては、可視光に対して透明であるものに限られず、不透明なものも使用できる。具体的には、上記材料に加えて、シリコン（Ｓｉ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、タングステン（Ｗ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、もしくはニオブ（Ｎｂ）の単体、またはこれらの合金、あるいはステンレスなども使用することができる。また、ＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３などの酸化物、ｎ−Ｓｉなどの半導体などからなる材料も使用することができる。
基板１１の厚さは、要求される機械的強度にもよるが、好ましくは、０．１ｍｍ〜１０ｍｍ、より好ましくは０．２５ｍｍ〜２ｍｍである。
【００１９】
陽極層１２は、陰極層１５との間で電圧を印加し、陽極層１２より有機化合物層１４に正孔を注入する。陽極層１２は、基板１１面に沿って面状に形成され、上面が微細な凹凸などを極力含まない平滑面であることが好ましい。陽極層１２に使用される材料としては、電気伝導性を有するものであることが必要である。具体的には仕事関数の高いものであり、仕事関数は、４．５ｅＶ以上であることが好ましい。加えて、アルカリ性水溶液に対し、電気抵抗が顕著に変化しないことが好ましい。
【００２０】
このような条件を満たす材料として、金属酸化物、金属、合金が使用できる。ここで、金属酸化物としては、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＩＺＯ（インジウム−亜鉛酸化物）が挙げられる。また金属としては、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、タングステン（Ｗ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、ニオブ（Ｎｂ）等が挙げられる。そしてこれらの金属を含むステンレス等の合金も使用できる。陽極層１２の厚さは、例えば、２ｎｍ〜２μｍで形成することができる。なお仕事関数は、例えば、紫外線光電子分光分析法により測定することができる。
【００２１】
誘電体層１３は、有機化合物層１４から発した光を屈折させることで基板１１に入射しやすくするためのものである。そのため誘電体層１３の屈折率が、陽極層１２の屈折率および有機化合物層１４の屈折率のいずれよりも小さい屈折率を有することが好ましい。本実施の形態では、誘電体層１３の屈折率は、有機化合物層１４の屈折率より小さい。そのため、有機化合物層１４から発した光は、誘電体層１３に入射する際に、より基板１１の法線方向に近い角度に屈折する。その結果、誘電体層１３を設けない場合に比較して、陽極層１２や基板１１に達した光は、誘電体層１３と陽極層１２の界面、および陽極層１２と基板１１の界面において全反射を生じにくくなる。よって、より陽極層１２や基板１１に入射しやすくなる。つまり、誘電体層１３を設けることにより、有機化合物層１４から発した光を基板１１側から、より多く取り出すことができ、光の取り出し効率が向上する。
【００２２】
本実施の形態では、誘電体層１３は絶縁性である。これにより、誘電体層１３は、陽極層１２と陰極層１５とを所定の間隔にて分離し絶縁すると共に、陽極層１２および陰極層１５の間に電圧を印加することで有機化合物層１４に含まれる発光材料を発光させることができる。このため誘電体層１３は高抵抗率材料であることが必要で、電気抵抗率としては、１０８Ωｃｍ以上、好ましくは１０１２Ωｃｍ以上有することが要求される。具体的な材料としては、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム等の金属窒化物；酸化ケイ素（二酸化ケイ素）、酸化アルミニウム等の金属酸化物、フッ化ナトリウム、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウムなどの金属フッ化物が挙げられるが、他にポリイミド、ポリフッ化ビニリデン、パリレン等の高分子化合物、ポリフェニルシルセスキオキサン（Poly(phenylsilsesquioxane)）等のスピンオングラス（ＳＯＧ）も使用可能である。誘電体層１３の屈折率が陽極層１２の屈折率および有機化合物層１４の屈折率のいずれよりも小さい場合には光の取り出し効率が特に向上する。このため誘電体層１３を形成する材料としては、陽極層１２および有機化合物層１４を形成する材料よりも小さい屈折率を有するものを選択することが好ましい。
【００２３】
ここで、短絡・電流リークを生じにくい有機発光素子１０を再現よく製造するためには、誘電体層１３の厚さは厚いほど好ましいが、一方で有機発光素子１０全体の厚さを抑えるために誘電体層１３の厚さは、１μｍを越えないことが好ましい。また、陽極層１２と陰極層１５との間隔が狭い方が、発光のために必要な電圧が低くて済むので、この観点からも誘電体層１３は薄い方がより好ましい。但し、薄すぎると有機発光素子１０を駆動するための電圧に対し、絶縁耐力が十分でなくなるおそれがある。ここで絶縁耐力は、有機化合物層１４が形成されていない状態で、陽極層１２と陰極層１５の間に流れる電流の電流密度が、０．１ｍＡ／ｃｍ２以下であることが好ましく、０．０１ｍＡ／ｃｍ２以下であることがより好ましい。また有機発光素子１０の駆動電圧に対し、２Ｖを超えた電圧に耐えることが好ましいため、例えば、駆動電圧が５Ｖである場合は、誘電体層１３の両面に接して形成した陽極と陰極の間に約７Ｖの電圧を印加した場合に上記の電流密度を満たすことが必要である。これを満たす誘電体層１３の厚さは、上限としては、７５０ｎｍ以下であることが好ましく、４００ｎｍ以下であることが更に好ましく、２００ｎｍ以下であることがまた更に好ましい。また下限としては１５ｎｍ以上であることが好ましく、３０ｎｍ以上であることが更に好ましく、５０ｎｍ以上であることがまた更に好ましい。
【００２４】
有機化合物層１４は、発光層を含む１層または積層された複数の有機化合物からなる層からなり、少なくとも誘電体層１３の上面、第１凹部１６の内面および第２凹部１７の内面を覆って形成される。すなわち、有機化合物層１４は、発光面の全面にわたって、連続的に形成されている。発光層は、陽極層１２と陰極層１５の間に電圧を印加することで発光する発光材料を含む。発光材料としては、低分子化合物及び高分子化合物のいずれも使用することができる。本実施の形態では、発光材料として、発光性有機材料であるリン光性有機化合物および金属錯体を使用することが好ましい。金属錯体の中にはリン光性を示すものもあり、かかる金属錯体も好ましく用いられる。本実施の形態においては、特にシクロメタル化錯体を用いることが発光効率向上の観点から非常に望ましい。シクロメタル化錯体としては、例えば、２−フェニルピリジン誘導体、７，８−ベンゾキノリン誘導体、２−（２−チエニル）ピリジン誘導体、２−（１−ナフチル）ピリジン誘導体、２−フェニルキノリン誘導体等の配位子を有するＩｒ、ＰｄおよびＰｔ等の錯体が挙げられるが、イリジウム（Ｉｒ）錯体が特に好ましい。シクロメタル化錯体は、シクロメタル化錯体を形成するのに必要な配位子以外に、他の配位子を有していてもよい。なお、シクロメタル化錯体には、三重項励起子から発光する化合物も含まれ、発光効率向上の観点から好ましい。
また、発光性高分子化合物としては、ＭＥＨ−ＰＰＶ（Ｐｏｌｙ［２−ｍｅｔｈｏｘｙ−５−（２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌｏｘｙ）−１，４−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｖｉｎｙｌｅｎｅ］）などのポリ−ｐ−フェニレンビニレン（ＰＰＶ）誘導体；ポリフルオレン誘導体、ポリチオフェン誘導体等のπ共役系の高分子化合物；低分子色素とテトラフェニルジアミンやトリフェニルアミンを主鎖や側鎖に導入したポリマー；等が挙げられる。発光性高分子化合物と発光性低分子化合物とを併用することもできる。
発光層は発光材料とともにホスト材料を含み、ホスト材料中に発光材料が分散されていることもある。このようなホスト材料は電荷輸送性を有していることが好ましく、正孔輸送性化合物や電子輸送性化合物であることが好ましい。
【００２５】
有機化合物層１４は、陽極層１２から正孔を受け取り発光層へ輸送するための正孔輸送層を含んでいてもよい。正孔輸送層は、陽極層１２と発光層の間に配される。
このような正孔輸送層を形成する正孔輸送材料としては、公知の材料を使用することができ、例えば、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ'−ジメチル−Ｎ，Ｎ'−（３−メチルフェニル）−１，１'−ビフェニル−４，４'ジアミン）；α−ＮＰＤ（４，４'−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル）；ｍ−ＭＴＤＡＴＡ（４、４'，４''−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）等の低分子トリフェニルアミン誘導体；ポリビニルカルバゾール；上記トリフェニルアミン誘導体に重合性置換基を導入して重合した高分子化合物などが挙げられる。上記正孔輸送材料は、１種単独でも、２種以上を混合して用いてもよく、異なる正孔輸送材料を積層して用いてもよい。正孔輸送層の厚さは、正孔輸送層の導電性などに依存するため、一概に限定できないが、好ましくは１ｎｍ〜５μｍ、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍ、特に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍであることが望ましい。
【００２６】
また、上記正孔輸送層と陽極層１２の間に、正孔注入障壁を緩和するために正孔注入層が設けられていてもよい。上記正孔注入層を形成する材料としては、銅フタロシアニン、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）の混合物（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）、フルオロカーボン、二酸化ケイ素などの公知の材料が用いられるほか、上記正孔輸送層に用いられる正孔輸送材料と２，３，５，６−テトラフルオロテトラシアノ−１，４−ベンゾキノンジメタン（Ｆ４ＴＣＮＱ）などの電子受容体との混合物を用いることもできる。
【００２７】
上記有機化合物層１４は、陰極層１５から電子を受け取り、発光層へ輸送するための電子輸送層を含んでいてもよい。
このような電子輸送層に用いることができる材料としては、キノリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体などが挙げられる。更に具体的には、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（略称：Ａｌｑ）、ビス［２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾオキサゾラト］亜鉛、ビス［２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾラト］亜鉛、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールなどである。
【００２８】
また、上記電子輸送層と発光層の間に、正孔が発光層を通過することを抑え、発光層内で正孔と電子とを効率よく再結合させる目的で、正孔ブロック層が設けられていてもよい。この正孔ブロック層も有機化合物層１４に含まれる層の１つとして捉えることができる。
上記正孔ブロック層を形成するために、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体などの公知の材料が用いられる。
【００２９】
陰極層１５は、陽極層１２との間で電圧を印加し、有機化合物層１４に電子を注入する。陰極層１５は、有機化合物層１４とともに、発光面の全面にわたって連続的に形成されている。
陰極層１５に使用される材料としては、陽極層１２と同様に電気伝導性を有するものであれば、特に限定されるものではないが、仕事関数が低く、かつ化学的に安定なものが好ましい。具体的には、Ａｌ、ＭｇＡｇ合金、ＡｌＬｉやＡｌＣａなどのＡｌとアルカリ金属の合金等の材料を例示することができる。陰極層１５の厚さは１０ｎｍ〜１μｍが好ましく、５０ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましい。本実施の形態の有機発光素子１０の場合は、有機化合物層１４から発した光を基板１１側から取り出す。そのため陰極層１５は、不透明材料により形成されていてもよい。なお基板１１側からのみならず陰極層１５側からも光を取り出したい場合は、陰極層１５は、ＩＴＯ等の透明材料により形成する必要がある。
【００３０】
また、陰極層１５から有機化合物層１４への電子の注入障壁を下げて電子の注入効率を上げる目的で、図示しない陰極バッファ層を、陰極層１５に隣接して設けてもよい。
陰極バッファ層は、陰極層１５より仕事関数の低い金属材料などが好適に用いられる。例えば、アルカリ金属（Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）、アルカリ土類金属（Ｓｒ、Ｂａ、Ｃａ、Ｍｇ）、希土類金属（Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｙｂ）、あるいはこれら金属のフッ化物、塩化物、酸化物から選ばれる単体あるいは２つ以上の混合物を使用することができる。陰極バッファ層の厚さは０.０５ｎｍ〜５０ｎｍが好ましく、０.１ｎｍ〜２０ｎｍがより好ましく、０.５ｎｍ〜１０ｎｍがより一層好ましい。
【００３１】
本実施の形態において、誘電体層１３は、誘電体層１３を貫通して形成される複数の第１凹部１６と、誘電体層１３の上面に誘電体層１３を貫通せずに形成される複数の第２凹部１７を有する。第１凹部１６および第２凹部１７の内面はそれぞれ有機化合物層１４によって覆われており、これにより有機化合物層１４で発光した光を基板１１側および／または陰極層１５側から効率良く外部へ取り出すことができる。第１凹部１６内部では、有機化合物層１４が陽極層１２に接しているため、発光に必要な正孔を陽極層１２から注入することができるが、第２凹部１７内部では有機化合物層１４と陽極層１２が接していないため、この部分の有機化合物層１４へは、正孔を直接注入しにくい。しかしながらこの場合でも上述した電気伝導度の高い層である正孔注入層を形成することにより、第２凹部１７内部にも正孔の注入が可能となる。
【００３２】
第１凹部１６の形状は、特に限定されることはないが、形状制御が行いやすいという観点から例えば円柱形状または四角柱などの多角柱形状とすることが好ましい。これらの形状では、誘電体層１３の面内における形状が、誘電体層１３の厚み方向で変化してもよく、あるいは形状の大きさが変化してもよい。即ち、例えば円錐形状、角錐形状、円錐台形状、角錐台形状などであってもよい。第１凹部１６の形状を適宜選択することにより、有機化合物層１４で発光した光を外部へ取り出す際の配光分布などを制御することができる。
【００３３】
図１の部分断面図において、第１凹部１６の側面は基板１１面に対して垂直に形成されており、この場合の第１凹部１６の側面の傾斜角は、９０度である。ただし傾斜角は、これに限られるものではなく、誘電体層に使用する材料等によって適宜変化させ、有機化合物層１４で発光した光を外部へ取り出す効率を高くすることができる。本実施の形態では、傾斜角が６０度〜９０度であることが好ましく、７５度〜９０度であることがより好ましく、８０度〜９０度であることがさらに好ましい。
【００３４】
また発光面内における導通部の面積を大きくとり、かつ高い光取り出し効率を得られるようにするためには、誘電体層１３上における第１凹部１６の大きさ（誘電体層１３面内における形状の最大幅、すなわち当該形状を内包する最小円の直径）が１０μｍ以下であることが好ましい。また、製造が容易な観点からこの大きさは、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましい。誘電体層１３上面における第１凹部１６の配置は、正方格子状や六方格子状など規則的な配置であってもよく、不規則な配置であってもよい。この配置については、有機化合物層１４で発光する光の波長や、有機発光素子１０から出射する光の配光分布、スペクトル制御などの観点から適宜選択される。
【００３５】
第２凹部１７の形状と形状の大きさ、および配置については第１凹部１６と同じである。第２凹部１７の深さは、誘電体層１３の厚さの１０％〜９０％であることが好ましく、２０％〜８０％であることがより好ましいが、第２凹部１７が形成された部分の誘電体層１３の厚さが、上述した駆動電圧の印加に対して絶縁性を保つ範囲になる深さであることが好ましい。
第１凹部１６および第２凹部１７は、誘電体層１３の任意の面内において、１ｍｍ２中に１０３〜１０８個形成されていることが好ましい。内部で陽極層１２と接している第１凹部１６は、第２凹部１７よりもショートなどの不良が起こりやすいため、上記の個数は１０７個以下であることがより好ましい。
第１凹部１６および第２凹部１７の数の比は、光取り出し効率がより高く、ショートの起こる確率が低下するという観点から、誘電体層１３の任意の１ｍｍ四方の面内において、（第２凹部１７の数）／（第１凹部１６の数）が３以上であることが好ましく、８以上であることがより好ましい。即ち、誘電体層１３の任意の１ｍｍ四方の面内において、第２凹部１７の数が第１凹部１６の数の３倍以上となるよう形成されていることがより好ましい。
【００３６】
（有機発光素子の第２の形態）
以上詳述した有機発光素子１０では、第１凹部１６は、陽極層１２にまで達していたが、陽極層１２を貫通せずに形成されていた。ただしこれに限られるものではなく、第１凹部１６は、陽極層１２にまで達するとともに、陽極層１２を貫通するように形成されていてもよい。
図２は、本実施の形態が適用される有機発光素子の第２の例を説明した部分断面図である。
図２に示した有機発光素子２０は、基板２１と、基板２１側を下側とした場合に基板２１上に形成され正孔を注入するための第１電極としての陽極層２２と、電子を注入するための第２電極としての陰極層２５と、陽極層２２と陰極層２５の間に形成される誘電体層２３とが積層した構造を採る。誘電体層２３は、誘電体層２３を貫通して形成される複数の第１凹部２６および、誘電体層２３を貫通せずに形成される複数の第２凹部２７を有する。そして少なくとも誘電体層２３の上面、第１凹部２６の内面および第２凹部２７の内面を覆って形成され、電圧を印加することで発光する発光層を含む有機化合物層２４を有する。そして有機化合物層２４および陰極層２５が、発光面の全面にわたって、連続的に形成されている。以上の構成において有機発光素子２０は、図１に示した有機発光素子１０と同じである。一方、有機発光素子２０では、第１凹部２６は誘電体層２３のみならず陽極層２２をも貫通して形成されている。そのため有機発光素子２０では、陽極層２２が不透明な材料で形成されている場合であっても、基板２１側から光を取り出すことができる。
【００３７】
なお、以上詳述した有機発光素子１０，２０では、基板１１，２１側を下側とした場合、陽極層１２，２２を下側に形成し、誘電体層１３，２３を挟み対向する形で陰極層１５，２５を上側に形成する場合を例示して説明を行ったが、これに限られるものではなく、陽極層１２，２２と陰極層１５，２５を入れ替えた構造でもよい。即ち、基板１１，２１側を下側とした場合、陰極層１５，２５を下側に形成し、誘電体層１３，２３を挟み対向する形で陽極層１２，２２を上側に形成する形態でもよい。
【００３８】
（有機発光素子の製造方法）
次に、本実施の形態が適用される有機発光素子の製造方法について、図１で説明を行った有機発光素子１０の場合を例に取り説明を行う。
図３（ａ）〜（ｅ）は、本実施の形態が適用される有機発光素子１０の製造方法について説明した図である。
まず基板１１上に、第１電極である陽極層１２と誘電体層１３とを順に積層して形成する（図３（ａ）：積層工程）。本実施の形態では、基板１１として、ガラス基板を使用した。また陽極層１２を形成する材料としてＩＴＯを使用し、また誘電体層１３を形成する材料として二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を使用した。
これらの層を基板１１上に形成するには、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などのドライ法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、インクジェット法、印刷法、スプレー法、ディスペンサー法などのウェット法を用いることができる。
なお基板１１に陽極層１２としてＩＴＯが既に形成されているいわゆる電極付き基板を用いることで、陽極層１２を形成する工程を省略することができる。
【００３９】
次に、図３（ａ）の工程で形成した誘電体層１３を貫通する第１凹部１６を形成する（図３（ｂ）：第１凹部形成工程）。
更に誘電体層１３の上面に誘電体層１３を貫通せずに第２凹部１７を形成する（図３（ｃ）：第２凹部形成工程）。
【００４０】
誘電体層１３に第１凹部１６および第２凹部１７を形成する方法としては、例えば、リソグラフィを用いた方法が使用できる。これを行うには、まず誘電体層１３の上にレジスト液を塗布し、スピンコート等により余分なレジスト液を除去して、レジスト層を形成する。次に第１凹部１６または第２凹部１７を形成するための所定のパターンが描画されたマスクをかぶせ、紫外線（ＵＶ：Ultra Violet）、電子線（ＥＢ：Electron Beam）等により露光を行うと、レジスト層に第１凹部１６または第２凹部１７に対応した所定のパターンが露光される。そして現像液を用いてレジスト層の露光部分を除去すると、露光されたパターンの部分のレジスト層が除去される。これにより露光されたパターンの部分に対応して、誘電体層１３の表面が露出する。
次に、残存したレジスト層をマスクとして、露出した誘電体層１３の部分をエッチング除去する。エッチングとしては、ドライエッチングとウェットエッチングの何れをも使用することができる。またこの際に等方性エッチングと異方性エッチングを組合せることで、第１凹部１６または第２凹部１７の形状の制御を行うことができる。ドライエッチングとしては、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ：Reactive Ion Etching）や誘導結合プラズマエッチングが利用でき、またウェットエッチングとしては、希塩酸や希硫酸への浸漬を行う方法などが利用できる。最後に残存したレジスト層をレジスト除去液等により除去することで、誘電体層１３に第１凹部１６または第２凹部１７が形成される。上記のパターニングを２回行うことで、誘電体層１３に第１凹部１６および第２凹部１７をそれぞれ形成することができる。なお第１凹部形成工程と第２凹部形成工程は、どちらを先に行なってもよい。
【００４１】
また第１凹部１６および第２凹部１７の形成は、ナノインプリント法によって行うことができる。具体的にはレジスト層を形成した後に、パターンを形成するための所定の凸パターンが描画されたマスクを、レジスト層表面に、圧力をかけて押し当てる。そしてこの状態で、熱および／または光をレジスト層に照射することにより、レジスト層を硬化させる。次にマスクを除去することにより、レジスト層表面に凸パターンに対応する第１凹部１６や第２凹部１７のパターンが形成される。続いて、前述したエッチングを行うことにより、第１凹部１６や第２凹部１７を形成することができる。
【００４２】
なお有機発光素子２０における第１凹部２６を形成する方法は、図１の有機発光素子１０における第１凹部１６の形成と同様な方法を用いることができる。例えば誘電体層２３のエッチングに引き続いてさらに陽極層２２のエッチングを行うことにより形成することができるが、第１凹部２６の形状を誘電体層２３の部分と陽極層２２の部分とで変えることにより、有機発光素子２０から外部へ取り出される光の配光分布などを制御することができる。
【００４３】
第１凹部形成工程および第２凹部形成工程を行なった後は、少なくとも誘電体層１３の上面、第１凹部１６の内面および第２凹部１７の内面を覆う発光層を含む有機化合物層１４を形成する（図３（ｄ）：有機化合物層形成工程）。
有機化合物層１４を形成するには、陽極層１２や誘電体層１３を形成したのと同様の手法を使用することができる。ただし有機化合物層１４に含まれる各層の成膜には、抵抗加熱蒸着法または塗布法がより好ましく、高分子有機化合物を含む層の成膜を行なうには特に塗布法が好ましい。塗布法により成膜を行なう場合は、成膜を行ないたい層を構成する材料を、有機溶媒や水等の所定の溶媒に分散させた塗布溶液を塗布する。塗布を行う際にはスピンコーティング、スプレーコーティング、ディップコーティング法、インクジェット法、スリットコーティング法、ディスペンサー法、印刷等の種々の方法を使用することができる。塗布を行った後は、加熱あるいは真空引きを行うことで塗布溶液を乾燥させることで成膜を行ないたい層が形成される。
【００４４】
次に有機化合物層１４上に第２電極である陰極層１５を形成する（図３（ｅ）：第２電極形成工程）。
陰極層１５を形成するには、陽極層１２や誘電体層１３を形成したのと同様の手法を使用することができる。
【００４５】
以上の工程により、有機発光素子１０を製造することができる。
なお有機発光素子１０を長期安定的に用い、有機発光素子１０を外部から保護するための保護層や保護カバー（図示せず）を装着することが好ましい。保護層としては、高分子化合物、金属酸化物、金属フッ化物、金属ホウ化物、窒化ケイ素、酸化ケイ素等のシリコン化合物などを用いることができる。そして、これらの積層体も用いることができる。また、保護カバーとしては、ガラス板、表面に低透水率処理を施したプラスチック板、金属などを用いることができる。この保護カバーは、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂で素子基板と貼り合わせて密閉する方法を採ることが好ましい。またこの際に、スペーサを用いることで所定の空間を維持することができ、有機発光素子１０が傷つくのを防止できるため好ましい。そして、この空間に窒素、アルゴン、ヘリウムのような不活性なガスを封入すれば、上側の陰極層１５の酸化を防止しやすくなる。特にヘリウムを用いた場合、熱伝導が高いため、電圧印加時に有機発光素子１０より発生する熱を効果的に保護カバーに伝えることができるため、好ましい。更に酸化バリウム等の乾燥剤をこの空間内に設置することにより上記一連の製造工程で吸着した水分が有機発光素子１０にダメージを与えるのを抑制しやすくなる。
【００４６】
本実施の形態の有機発光素子は、例えば、マトリックス方式またはセグメント方式による画素として表示装置に好適に用いられる。また、画素を形成せずに、面発光光源としても好適に用いられる。具体的には、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、標識、看板、ビデオカメラのビューファインダー等における表示装置、バックライト、電子写真、照明、レジスト露光、読み取り装置、インテリア照明、光通信システム等における面発光光源に好適に用いられる。
【００４７】
（表示装置）
次に、以上詳述した有機発光素子を備える表示装置について説明を行う。
図４は、本実施の形態における有機発光素子１０を用いた表示装置の一例を説明した図である。
図４に示した表示装置２００は、いわゆるパッシブマトリクス型の表示装置であり、表示装置基板２０２、陽極配線２０４、陽極補助配線２０６、陰極配線２０８、絶縁膜２１０、陰極隔壁２１２、有機発光素子１０、封止プレート２１６、シール材２１８とを備えている。
【００４８】
表示装置基板２０２としては、例えば、矩形状のガラス基板等の透明基板を用いることができる。表示装置基板２０２の厚みは、特に限定されないが、例えば０．１ｍｍ〜１ｍｍのものを用いることができる。
【００４９】
表示装置基板２０２上には、複数の陽極配線２０４が形成されている。陽極配線２０４は、一定の間隔を隔てて平行に配置される。陽極配線２０４は、透明導電膜により構成され、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を用いることができる。また陽極配線２０４の厚さは例えば、１００ｎｍ〜１５０ｎｍとすることができる。そして、それぞれの陽極配線２０４の端部の上には、陽極補助配線２０６が形成される。陽極補助配線２０６は陽極配線２０４と電気的に接続されている。このように構成することにより、陽極補助配線２０６は、表示装置基板２０２の端部側において外部配線と接続するための端子として機能し、外部に設けられた図示しない駆動回路から陽極補助配線２０６を介して陽極配線２０４に電流を供給することができる。陽極補助配線２０６は、例えば、厚さ５００ｎｍ〜６００ｎｍの金属膜によって構成される。
【００５０】
また、有機発光素子１０上には、複数の陰極配線２０８が設けられている。複数の陰極配線２０８は、それぞれが平行となるよう、かつ、陽極配線２０４と直交するように配設されている。陰極配線２０８には、Ａｌ又はＡｌ合金を使用することができる。陰極配線２０８の厚さは、例えば、１００ｎｍ〜１５０ｎｍである。また、陰極配線２０８の端部には、陽極配線２０４に対する陽極補助配線２０６と同様に、図示しない陰極補助配線が設けられ、陰極配線２０８と電気的に接続されている。よって、陰極配線２０８と陰極補助配線との間に電流を流すことができる。
【００５１】
表示装置基板２０２上には、陽極配線２０４を覆うように絶縁膜２１０が形成される。絶縁膜２１０には、陽極配線２０４の一部を露出するように矩形状の開口部２２０が設けられている。複数の開口部２２０は、陽極配線２０４の上にマトリクス状に配置されている。この開口部２２０において、後述するように陽極配線２０４と陰極配線２０８の間に有機発光素子１０が設けられる。すなわち、それぞれの開口部２２０が画素となる。従って、開口部２２０に対応して表示領域が形成される。ここで、絶縁膜２１０の膜厚は、例えば、２００ｎｍ〜３００ｎｍとすることができ、開口部２２０の大きさは、例えば、３００μｍ×３００μｍとすることができる。
【００５２】
陽極配線２０４上の開口部２２０の位置に対応した箇所に、有機発光素子１０が形成されている。有機発光素子１０は、開口部２２０において陽極配線２０４と陰極配線２０８とに挟持されている。すなわち、有機発光素子１０の陽極層１２が陽極配線２０４と接触し、陰極層１５が陰極配線２０８と接触する。有機発光素子１０の厚さは、例えば、１５０ｎｍ〜２００ｎｍとすることができる。
【００５３】
絶縁膜２１０の上には、複数の陰極隔壁２１２が陽極配線２０４と垂直な方向に沿って形成されている。陰極隔壁２１２は、陰極配線２０８の配線同士が導通しないように、複数の陰極配線２０８を空間的に分離するための役割を担っている。従って、隣接する陰極隔壁２１２の間にそれぞれ陰極配線２０８が配置される。陰極隔壁２１２の大きさとしては、例えば、高さが２μｍ〜３μｍ、幅が１０μｍのものを用いることができる。
【００５４】
表示装置基板２０２は、封止プレート２１６とシール材２１８を介して貼り合わせられている。これにより、有機発光素子１０が設けられた空間を封止することができ、有機発光素子１０が空気中の水分により劣化するのを防ぐことができる。封止プレート２１６としては、例えば、厚さが０．７ｍｍ〜１．１ｍｍのガラス基板を使用することができる。
【００５５】
このような構造の表示装置２００において、図示しない駆動装置により、陽極補助配線２０６、図示しない陰極補助配線を介して、有機発光素子１０に電流を供給し、発光層を発光させ、光を出射させることができる。そして、上述の画素に対応した有機発光素子１０の発光、非発光を制御装置により制御することにより、表示装置２００に画像を表示させることができる。
【００５６】
（照明装置）
次に、本実施の形態の有機発光素子を用いた照明装置について説明を行う。
図５は、本実施の形態における有機発光素子１０を備える照明装置の一例を説明した図である。
図５に示した照明装置３００は、上述した有機発光素子１０と、有機発光素子１０の基板１１（図１参照）に隣接して設置され陽極層１２（図１参照）に接続される端子３０２と、基板１１（図１参照）に隣接して設置され有機発光素子１０の陰極層１５（図１参照）に接続される端子３０３と、端子３０２と端子３０３とに接続し有機発光素子１０を駆動するための点灯回路３０１とから構成される。
【００５７】
点灯回路３０１は、図示しない直流電源と図示しない制御回路を内部に有し、端子３０２と端子３０３を通して、有機発光素子１０の陽極層１２と陰極層１５との間に電流を供給する。そして、有機発光素子１０を駆動し、発光層を発光させて、第１凹部１６から基板１１を通し、光を出射させ、照明光として利用する。発光層は白色光を出射する発光材料より構成されていてもよく、また緑色光（Ｇ）、青色光（Ｂ）、赤色光（Ｒ）を出射する発光材料を使用した有機発光素子１０をそれぞれ複数個設け、その合成光が白色となるようにしてもよい。なお、本実施の形態の照明装置３００では、第１凹部１６（図１参照）の径と間隔を小さくして発光させた場合、人間の目には面発光しているように見える。
【実施例】
【００５８】
［発光材料溶液の調製］
ＷＯ２０１０−１６５１２号公報に記載された方法に従って下記の燐光発光性高分子化合物（Ａ）を合成した。高分子化合物（Ａ）の重量平均分子量は５２，０００、各繰り返し単位のモル比はｋ：ｍ：ｎ＝６：４２：５２であった。【００５９】
【化１】
2012147390.tif 000003
【００６０】
この燐光発光性高分子化合物（Ａ）３重量部を９７重量部のトルエンに溶解させ、発光材料溶液（以下、「溶液Ａ」ともいう。）を調製した。【００６１】
［有機発光素子の作製］（実施例１）
有機発光素子として、図１に示した有機発光素子１０を、以下の方法により作製した。
まず基板１１として石英ガラスからなるガラス基板（２５ｍｍ角、厚さ１ｍｍ）上に、スパッタ装置（キヤノンアネルバ株式会社製Ｅ−４０１ｓ）を用いて、陽極層１２としてＩＴＯ膜を１５０ｎｍ、誘電体層１３として二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を５０ｎｍ、順に積層して成膜した。【００６２】
次に、フォトレジスト（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製ＡＺ１５００）をスピンコート法により約１μｍ成膜した。次に、石英（板厚３ｍｍ）を基材とし、円を六方格子状に配置したパターンに対応するマスクＡを作製し、ステッパー露光装置（株式会社ニコン製、型式ＮＳＲ−１５０５ｉ６）を用いて、１／５縮尺で露光を行った。次に、ＴＭＡＨ（Tetramethyl ammonium hydroxide：  （ＣＨ３）４ＮＯＨ）１．２％液により現像し、レジスト層をパターン化した。そして、この後に、１３０℃で１０分間熱を加えた（ポストベイク処理）。【００６３】
次に反応性イオンエッチング装置（サムコ株式会社製ＲＩＥ−２００ｉＰ）を用いて、反応ガスとしてＣＨＦ３を使用し、圧力０．３Ｐａ、出力Ｂｉａｓ／ＩＣＰ＝５０／１００（Ｗ）の条件で、５分間反応させ、ドライエッチング処理を行った。そしてレジスト除去液によりレジスト残渣を除去することによって、ＳｉＯ２層の表面に複数の第２凹部１７を形成した。この第２凹部１７は直径１μｍ、高さ２５ｎｍの円柱状であり、ＳｉＯ２層の全面に２μｍのピッチ（中心間距離）で六方格子状に配列して形成された。【００６４】
次に、第２凹部１７が形成されたＳｉＯ２層を有するＩＴＯ付き基板に、第１凹部１６のパターンに対応するマスクＢを用い、エッチング時間を８分間としたほかは上記の第２凹部１７の形成と同様な方法でパターニングを行い、ＳｉＯ２層を貫通する複数の第１凹部１６を形成した。この第１凹部１６は、直径１μｍ、高さ５０ｎｍの円柱状であり、陽極層１２まで貫通し、ＳｉＯ２層の全面に４μｍのピッチ（中心間距離）で六方格子状に配列して形成された。このとき、第１凹部１６の円の中心が第２凹部１７の円の中心と重なるようにマスクを配置した。以下の実施例および比較例についても同様である。【００６５】
次に、有機化合物層１４を構成する層の１つとして正孔注入層を形成した。ここで正孔注入層は、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）とポリスチレンスルホン酸塩（ＰＳＳ）との混合物（質量比でＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ＝１：６）の水懸濁液（含有量１．５質量％）をスピンコート法（回転数：３０００ｒｐｍ）により塗布し、窒素雰囲気下、１４０℃で１時間放置し乾燥することで形成することができる。【００６６】
次に、上記の正孔注入層上に、溶液Ａをスピンコート法（回転数：３０００ｒｐｍ）により塗布し、窒素雰囲気下、１４０℃で１時間放置し乾燥することで、有機化合物層１４を構成する層の１つである発光層を形成した。【００６７】
次に、上記の有機化合物層１４上に、陰極バッファ層としてフッ化ナトリウム（４ｎｍ）を成膜し、さらに陰極層１５としてアルミニウム（１３０ｎｍ）を順に蒸着法により成膜することで有機発光素子１０を作製した。【００６８】
（実施例２）
実施例１の第１凹部１６の形成工程におけるドライエッチング処理の後に、以下のドライエッチング処理工程を追加した以外は、実施例１と同様にして、図２に示した有機発光素子２０を作製した。
すなわち、実施例１におけるマスクＢを用いたドライエッチング処理の後、反応ガスをＣｌ２とＳｉＣｌ４の混合ガスに変更し、圧力１Ｐａ、出力Ｂｉａｓ／ＩＣＰ＝２００／１００（Ｗ）の条件で８分間反応させ、ＳｉＯ２層およびＩＴＯ膜を貫通する第１凹部２６を形成した。【００６９】
（実施例３）
正孔注入層を形成しなかったこと以外は、実施例２と同様にして図２に示した有機発光素子２０を作製した。【００７０】
（実施例４）
第２凹部１７を直径０．５μｍ、高さ２５ｎｍの円柱状とし、１μｍのピッチで形成したこと以外は実施例１と同様にして有機発光素子１０を作製した。【００７１】
（実施例５）
第１凹部１６を８μｍのピッチで形成したこと以外は実施例１と同様にして有機発光素子１０を作製した。【００７２】
（実施例６）
第１凹部２６を６μｍのピッチで形成したこと以外は実施例３と同様にして有機発光素子２０を作製した。【００７３】
なお図６（ａ）に実施例１〜３の第１凹部１６，２６および第２凹部１７，２７の配置の一例を示す。また図６（ｂ）に実施例４の第１凹部１６および第２凹部１７の配置の一例を示す。
図６（ａ）によれば、第１凹部１６（２６）のピッチ（Ｐ１）は、４μｍとなっており、第２凹部１７（２７）のピッチ（Ｐ２）は、２μｍである。また点線内で囲まれた部分を見るとわかるように、（第２凹部の数）／（第１凹部の数）は、３である。同様にして図６（ｂ）によれば、第１凹部１６のピッチ（Ｐ１）は、４μｍとなっており、第２凹部１７のピッチ（Ｐ２）は、１μｍである。また点線内で囲まれた部分を見るとわかるように、（第２凹部の数）／（第１凹部の数）は、１５である。【００７４】
（比較例１）
第２凹部１７を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして有機発光素子を作製した。【００７５】
（比較例２）
第２凹部２７を形成しなかったこと以外は、実施例２と同様にして有機発光素子を作製した。【００７６】
（比較例３）
正孔注入層を形成しなかったこと以外は、比較例２と同様にして有機発光素子を作製した。【００７７】
（比較例４）
第１凹部１６を２μｍのピッチで形成したこと以外は、比較例１と同様にして有機発光素子を作製した。【００７８】
（比較例５）
第１凹部１６を２μｍのピッチで形成したこと以外は、比較例３と同様にして有機発光素子を作製した。【００７９】
［評価方法］
実施例１〜５および比較例１〜３で作製した有機発光素子に、定電圧電源電流計（ケイスレーインスツルメンツ株式会社製ＳＭ２４００）を用いて段階的に電圧を印加し、有機発光素子の発光強度を輝度計（株式会社トプコン製ＢＭ−９）で計測した。そして、電流密度に対する発光強度の比から発光効率を決定した。また、実施例１〜５および比較例１〜３の有機発光素子をそれぞれ５０個ずつ作製し、ショートにより電圧を印加しても点灯しなかった有機発光素子の数（不良数）によりショートのしにくさを評価した。【００８０】
［評価結果］
結果を以下の表１に示す。発光効率については、示した数値が大きいほど発光効率が良好であることを意味し、不良数については、示した数値が小さいほどショートが生じにくく歩留まりが向上することを意味する。【００８１】
【表１】
2012147390.tif 000004
【００８２】
表１からわかるように、第２凹部１７，２７を設けた実施例１〜６は、第２凹部１７、２７を設けなかった比較例１〜３に比較して、何れも発光効率および不良数の双方について良好な結果となった。
また実施例１と実施例２を比較した場合、第１凹部１６が陽極層１２を貫通しない有機発光素子１０よりも第１凹部２６が陽極層１２を貫通する有機発光素子２０の方が発光効率は良好であった。さらに実施例２と実施例３を比較した場合、正孔注入層を設けなかった場合より正孔注入層を設けた場合の方が、発光効率および不良数の双方について良好であった。またさらに実施例１、４、５をそれぞれ比較した場合、（第２凹部の数）／（第１凹部の数）が大きいほど発光効率および不良数の双方について良好であった。これは実施例３と実施例６を比較した場合でも同様のことが言える。
光取り出しのための加工など、通常、工程数が増えると歩留まりは低下しやすい。しかし、原因は不明だが、比較例１〜５に比べ、第２凹部１７の形成工程が追加されている実施例１〜６では必ずしも歩留まりが低下していない。このように本実施の形態では、歩留まりを低下させずに発光効率の良好な有機発光素子を得ることもできる。
【符号の説明】
【００８３】
１０，２０…有機発光素子、１１，２１…基板、１２，２２…陽極層、１３，２３…誘電体層、１４，２４…有機化合物層、１５，２５…陰極層、１６，２６…第１凹部、１７，２７…第２凹部、２００…表示装置、３００…照明装置
【図１】
2012147390.tif 000005
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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2012147390.tif 000012
2012147390.tif 000013
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