(57)【要約】  有機材料を付着させた後、成膜対象物を静止させたまま、有機材料を硬化して、有機膜を成膜できる有機膜形成装置及び有機膜形成方法を提供する。  真空槽１１内に配置された基板ステージ１４上に成膜対象物５を配置し、成膜対象物５の表面にマスク３１を接触して配置し、成膜対象物５を冷却し、真空槽１１内を真空排気しながら、マスク３１上から光が照射されると硬化する光反応性材料を放出して、マスク３１の開口３４底面に露出する成膜対象物５の表面に付着させ、付着した部分に光反応性材料の液状膜を形成し、真空槽１１内の真空排気を停止した状態で、光を放射する光照射装置２４に、光を放射しながらマスク３１上を移動させ、液状膜を硬化させて光反応性材料の有機膜を形成する。
2012053532.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光が照射されると硬化する光反応性材料の有機膜を形成する有機膜形成装置であって、
真空槽と、
前記真空槽内に配置された複数の放出口から光反応性材料を放出するシャワープレートと、
少なくとも前記シャワープレートと対面する面が前記真空槽内に配置された基板ステージと、
前記基板ステージ上に配置された成膜対象物を冷却する冷却装置と、
前記基板ステージ上の前記成膜対象物に配置されるマスクを保持するマスク保持装置と、
前記シャワープレートと前記基板ステージの間を移動しながら前記マスクに向けて光を放射する光照射装置と、
前記シャワープレートを昇温させる加熱装置とを有する有機膜形成装置。
【請求項２】
前記シャワープレートと前記基板ステージとの間の空間のうち、前記基板ステージに近い部分の取り囲むシールド板と、
前記シールド板を加熱するシールド板用加熱装置とを有し、
前記シールド板で取り囲まれた空間である成膜空間に向けて、前記シャワープレートから前記光反応性材料が放出されるように構成され、
前記真空槽内を真空排気する排気口は、前記成膜空間の外部に設けられた請求項１記載の有機膜形成装置。
【請求項３】
前記光照射装置は、前記成膜空間の外側から、前記シールド板と前記シャワープレートの間を通って、前記基板ステージと前記シャワープレートとの間を通過するように構成された請求項１又は請求項２のいずれか１項記載の有機膜形成装置。
【請求項４】
光が照射されると硬化する光反応性材料の有機膜を成膜対象物の表面に形成する有機膜形成方法であって、
真空槽内に配置された基板ステージ上に前記成膜対象物を配置し、
前記成膜対象物の表面にマスクを接触して配置し、
前記成膜対象物を冷却し、前記真空槽内を真空排気しながら、前記マスク上から前記光反応性材料を放出して、前記マスクの開口底面に露出する前記成膜対象物の表面に付着させ、付着した部分に前記光反応性材料の液状膜を形成し、
前記真空槽内の真空排気を停止した状態で、
光を放射する光照射装置に、前記マスク上を移動させながら前記光を放射させ、
前記開口底面に露出する前記成膜対象物表面上に位置する前記液状膜に入射させ、前記液状膜を硬化させて前記光反応性材料の有機膜を形成する有機膜形成方法。
【請求項５】
前記基板ステージ上の空間をシールド板で囲っておき、
前記真空槽内の前記シールド板で囲まれた成膜空間の外側を真空排気し、
前記シールド板を加熱しながら前記光反応性材料を前記成膜空間に充満させる請求項４記載の有機膜形成方法。
【請求項６】
前記光照射装置から光を放射させて前記液状膜に照射する際、前記真空槽内の真空排気を停止する請求項４又は請求項５のいずれか１項記載の有機膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機膜形成装置及び有機膜形成方法に係り、特に有機材料を成膜対象物上に付着させた後、硬化して有機膜を形成する技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬ素子の製造工程では、基板上に下部電極層と有機発光層と上部電極層とを順に形成した後、表面を保護し、水分の侵入を防ぐために、保護膜である封止層を形成している。
特許文献１では、有機ＥＬ素子の封止層が少なくともバリア層、有機層、バリア層を順次形成した積層膜とすることが提案されている。【０００３】
また、特許文献２では、有機膜の有機材料を堆積させるチャンバーと、有機材料を硬化するチャンバーと、無機膜を成膜するチャンバーとを有し、有機膜と無機膜を連続で成膜できる成膜装置が提案されている。有機膜の成膜は、成膜対象物を有機材料堆積機構の下を通過させて有機材料を堆積した後、硬化機構の下を通過させて、有機材料を硬化する方法が提案されている。【０００４】
しかしながら、有機材料の堆積と硬化を成膜対象物を移動しながら行うと、移動中に成膜対象物の温度が変動し、堆積させた有機材料が再蒸発するという問題があった。また、成膜対象物を移動させるため、マスクを用いたパターン成膜が困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−３０７８７３号公報
【特許文献２】特開２００５−５２２８９１号公報
【特許文献３】特許第４１１２７０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記従来技術の不都合を解決するために創作されたものであり、その目的は、有機材料を付着させた後、成膜対象物を静止させたまま、有機材料を硬化して、有機膜を成膜できる有機膜形成装置及び有機膜形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために本発明は、光が照射されると硬化する光反応性材料の有機膜を形成する有機膜形成装置であって、真空槽と、前記真空槽内に配置された複数の放出口から光反応性材料を放出するシャワープレートと、少なくとも前記シャワープレートと対面する面が前記真空槽内に配置された基板ステージと、  前記基板ステージ上に配置された成膜対象物を冷却する冷却装置と、前記基板ステージ上の前記成膜対象物に配置されるマスクを保持するマスク保持装置と、
前記シャワープレートと前記基板ステージの間を移動しながら前記マスクに向けて光を放射する光照射装置と、前記シャワープレートを昇温させる加熱装置とを有する有機膜形成装置である。
本発明は、前記シャワープレートと前記基板ステージとの間の空間のうち、前記基板ステージに近い部分の取り囲むシールド板と、前記シールド板を加熱するシールド板用加熱装置とを有し、前記シールド板で取り囲まれた空間である成膜空間に向けて、前記シャワープレートから前記光反応性材料が放出されるように構成され、前記真空槽内を真空排気する排気口は、前記成膜空間の外部に設けられた有機膜形成装置である。
また、本発明は、前記光照射装置は、前記成膜空間の外側から、前記シールド板と前記シャワープレートの間を通って、前記基板ステージと前記シャワープレートとの間を通過するように構成された有機膜形成装置である。
本発明は、光が照射されると硬化する光反応性材料の有機膜を成膜対象物の表面に形成する有機膜形成方法であって、真空槽内に配置された基板ステージ上に前記成膜対象物を配置し、前記成膜対象物の表面にマスクを接触して配置し、前記成膜対象物を冷却し、前記真空槽内を真空排気しながら、前記マスク上から前記光反応性材料を放出して、前記マスクの開口底面に露出する前記成膜対象物の表面に付着させ、付着した部分に前記光反応性材料の液状膜を形成し、前記真空槽内の真空排気を停止した状態で、光を放射する光照射装置に、前記マスク上を移動させながら前記光を放射させ、前記開口底面に露出する前記成膜対象物表面上に位置する前記液状膜に入射させ、前記液状膜を硬化させて前記光反応性材料の有機膜を形成する有機膜形成方法である。
本発明は、前記基板ステージ上の空間をシールド板で囲っておき、前記真空槽内の前記シールド板で囲まれた成膜空間の外側を真空排気し、前記シールド板を加熱しながら前記光反応性材料を前記成膜空間に充満させる有機膜形成方法である。
本発明は、前記光照射装置から光を放射させて前記液状膜に照射する際、前記真空槽内の真空排気を停止する有機膜形成方法である。
【発明の効果】
【０００８】
有機材料を付着させた後、成膜対象物を静止させたまま、有機材料を硬化させるＵＶ光を照射できるため、成膜対象物の温度の変化による有機材料の再蒸発を防ぎ、また、マスクを用いたパターン成膜が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の有機膜形成装置の内部構成図
【図２】マスクと成膜対象物とが接触した状態を説明するための図
【図３】光照射装置の移動途中の状態を説明するための図
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１を参照し、符号１０は、本発明の有機膜形成装置であり、符号５は、有機膜形成装置１０によって表面に有機膜を形成する成膜対象物を示している。
【００１１】
この有機膜形成装置１０は、真空ポンプ１２が接続された真空槽１１と、成膜対象物５を配置する基板ステージ１４と、気体状又は微小液滴状のいずれか一方又は両方の状態の光反応性材料を、キャリアガスと共にシャワープレート１５に供給する原料供給装置１８とを有している。
シャワープレート１５は、内部が中空であり、原料供給装置１８からキャリアガスと共に供給される光反応性材料は、中空部分の中に導入される。シャワープレート１５は、一面に中空の部分に接続された複数の放出口１６が設けられており、光反応性材料は、放出口１６から放出される。
【００１２】
放出口１６が設けられたシャワープレート１５の面と、基板ステージ１４の成膜対象物５が配置される面とは、真空槽１１の内部に位置し、互いに対面するように配置されている。
【００１３】
原料供給装置１８から、光反応性材料がキャリアガスと共にシャワープレート１５に供給されると、シャワープレート１５の放出口１６から前記基板ステージ１４の成膜対象物５を配置する面に向けて、光反応性材料の気体又は微小液滴が放出されるように構成されている。
【００１４】
真空槽１１の内部には、シールド板２１が設けられており、基板ステージ１４とシャワープレート１５との間の空間のうち、シャワープレート１５よりも基板ステージ１４に近い部分はシールド板２１によって取り囲まれている。
【００１５】
シールド板２１によって取り囲まれた空間を成膜空間２２と呼ぶと、成膜空間２２の外部である真空槽１１の壁面には、排気口１３が設けられ、真空槽１１の外部に配置された真空ポンプ１２はこの排気口１３に接続されており、この真空ポンプ１２を動作させると、成膜空間２２の外部が真空ポンプ１２によって真空排気される。成膜空間２２は、真空槽１１内の成膜空間２２の外部の空間と接続されているから、成膜空間２２も真空排気される。
【００１６】
シールド板２１とシャワープレート１５との間には隙間が設けられている。
真空槽１１の内部には、光を放射する光照射装置２４が配置されている。光照射装置２４は移動装置２５に取り付けられており、真空槽１１の内部において、成膜空間２２の外部と内部との間を、シールド板２１とシャワープレート１５との間の隙間を通って出入りでき、成膜空間２２の内部を通過できるように構成されている。そのとき、光照射装置２４は、シャワープレート１５と基板ステージ１４との間を通過する。
光照射装置２４が放射する光は、紫外線(Ultra violet rays)であり、アクリル樹脂を硬化させる際には、アクリル樹脂の原料に、アクリル樹脂を硬化させる波長の光を照射する。ここでは、２００ｎｍ〜４５０ｎｍの光を照射する。
【００１７】
成膜空間２２には、マスク３１が配置されている。このマスク３１は、マスク保持装置３２によって、基板ステージ１４上に配置される成膜対象物５の表面と平行に保持されている。本実施例ではマスク保持装置３２に硬化用移動装置３３が設けられている。硬化用移動装置３３は、マスク保持装置３２をマスク３１と一緒に移動させ、基板ステージ１４上の成膜対象物５とマスク３１との間の距離を変更し、成膜対象物５とマスク３１とを密着させることと、成膜対象物５とマスク３１とを離間させることとができるようにされている。
【００１８】
硬化用移動装置３３は、上述したように、基板ステージ１４上の成膜対象物５とマスク３１との間の距離を変更し、成膜対象物５とマスク３１とを密着させ、成膜対象物５とマスク３１とを離間させることができるのであればよい。つまり、上記構成に限定されず、硬化用移動装置３３は、基板ステージ１４に設けられ、基板ステージ１４を成膜対象物５と一緒に移動させるように構成されてもよいし、基板ステージ１４とマスク保持装置３２の両方に設けられて、基板ステージ１４とマスク保持装置３２の両方をそれぞれ移動させるように構成されてもよい。
【００１９】
マスク３１は、薄い金属製の板であり、所定の開口３４が一乃至複数個形成され、マスク３１と成膜対象物５とが密着されてときには、開口３４底面に成膜対象物５の表面が部分的に露出する。
【００２０】
図１は、基板ステージ１４とマスク３１とが離間した状態で、成膜対象物５が、有機膜形成装置１０に接続された不図示の処理装置から搬入されて基板ステージ１４上に配置された状態である。
【００２１】
基板ステージ１４の内部には、冷却装置３５が設けられている。真空槽１１の外部には、循環装置３０が設けられており、循環装置３０によって、冷却された冷却媒体が冷却装置３５に供給され、基板ステージ１４は所定温度に冷却される。
冷却媒体は基板ステージ１４内を流れて昇温されると、循環装置３０に戻って冷却され、基板ステージ１４に供給される。
基板ステージ１４上に成膜対象物を配置して処理する際に冷却装置３５の動作が維持されると、基板ステージ１４上の成膜対象物５は、冷却装置３５によって、基板ステージ１４を介して所定温度に冷却される。
【００２２】
成膜対象物５が基板ステージ１４に配置される際には、位置決め装置によって成膜対象物５が予め設定された位置で静止し、マスク３１と成膜対象物５との間が、予め設定された相対的な位置関係にされることで位置合わせがされる。
【００２３】
あるいは、位置合わせ装置２９を設けておき、成膜対象物５が基板ステージ１４に配置された後、位置合わせ装置２９によって、成膜対象物５とマスク３１とを撮影し、成膜対象物５とマスク３１とにそれぞれ設けられたアラインメントマークを一致させるように、基板ステージ１４又はマスク保持装置３２のいずれか一方又は両方を移動させるようにしてもよい。その場合は、成膜対象物５とマスク３１との間の距離を維持しながら移動させ、マスク３１と成膜対象物５との間を、予め設定された相対的な位置関係にする。
【００２４】
位置合わせがされた状態で、硬化用移動装置３３により、基板ステージ１４又はマスク保持装置３２のいずれか一方又は両方が移動され基板ステージ１３とマスク３１との間の距離が小さくされると、図２に示すように、マスク３１と成膜対象物５とが接触する。
【００２５】
原料供給装置１８には、アクリル樹脂の原料と光反応開始剤とが含有された液状の光反応性材料１９が配置されている。光反応性材料１９には、１分子中に少なくとも１個の重合性官能基（例えば、ビニル基）を持つＵＶ硬化型モノマー（例えば、ネオペンチルグリコールジアクリレート）やＵＶ硬化型オリゴマー（例えば、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート）が用いられる。
【００２６】
原料供給装置１８では、光反応性材料１９が微小な液滴にされ、または、光反応性材料１９の気体が生成されて、微小液滴又は気体のいずれか一方又は両方の状態の光反応性材料がシャワープレート１５に供給される。
【００２７】
真空槽１１の内部は真空ポンプ１２によって排気口１３から真空排気され、真空雰囲気にされており、真空槽１１の内部を排気口１３から真空排気しながらシャワープレート１５に設けられたバルブ１７が開くと、シャワープレート１５の放出口１６から、光反応性材料がキャリアガスと共に成膜空間２２に向けて放出される。
基板ステージ１４は、冷却装置３５によって、冷却されており、従って、成膜対象物５は、基板ステージ１４を介して、冷却装置３５によって冷却されている。成膜対象物５は、光反応性材料の蒸発温度よりも低い温度に冷却されており、例えば、３０℃以下の温度に冷却されている。冷却装置３５は、成膜対象物５を０℃以下の温度に冷却するように構成されていれば、好ましい。
【００２８】
シャワープレート１５から光反応性材料とキャリアガスとが放出されている間は、真空槽１１内は成膜空間２２の外部に位置する排気口１３から真空排気されており、成膜空間２２に放出された光反応性材料の気体とキャリアガスとがマスク３１の開口３４底面下に位置する成膜対象物５表面に接触すると、接触した場所に付着し、成膜対象物５表面のうち、開口３４の底面下に位置する部分に液体状の光反応性材料の薄膜（液状膜）を形成する。
【００２９】
マスク３１の表面は、光反応性材料が付着しにくい性質を有しており、マスク３１と成膜対象物５に付着しなかった光反応性材料は、成膜空間２２中に充満し、シールド板２１とシャワープレート１５との間の隙間を通って流出し、排気口１３に到達して真空排気される。
【００３０】
シャワープレート１５はシャワープレート用加熱装置３７によって加熱されており、特に、放出口１６が形成された面は、光反応性材料の真空雰囲気中での蒸発温度以上の温度に昇温されている。また、シールド板２１と、真空槽１１の内壁面も、シールド板用加熱装置３８と真空槽用加熱装置３９とによって光反応性材料の真空雰囲気中での蒸発温度以上の温度に昇温されており、成膜空間２２から成膜空間２２の外部へ光反応性材料が流出する際に、光反応性材料の温度が低下して、シャワープレート１５、シールド板２１、又は真空槽１１内壁面に液体となって付着しないようにされている。
【００３１】
成膜対象物５は冷却されており、成膜対象物５の表面には、液体状の光反応性材料の薄膜（液状膜）が形成され、所定膜厚になったところで、シャワープレート１５からの光反応性材料とキャリアガスとの放出を停止し、排気口１３からの真空槽１１内部の真空排気も停止する。
【００３２】
この状態では、真空槽１１の内部は、１０Ｐａ以上であって数１００Ｐａ以下の圧力にされており、成膜対象物５は冷却されているので、液体状の光反応性材料の薄膜（液状膜）は蒸発しない。従って、液体状の光反応性材料の薄膜（液状膜）の膜厚値は減少しない状態である。
【００３３】
シャワープレート１５が光反応性材料とキャリアガスとを放出する際には、光照射装置２４は、シールド板２１の外側であって、基板ステージ１４とシャワープレート１５との間よりも外側に位置しており、放出口１６から放出された光反応性材料が当たらない場所に位置している。
【００３４】
シャワープレート１５からの光反応性材料とキャリアガスとの放出が停止された後、光照射装置２４は光(ここでは、光反応性材料を反応させる波長の紫外線)の放射を開始し、光照射装置２４と対面する場所の成膜対象物５表面とマスク３１表面に光を照射する。
【００３５】
光放射の開始と共に、光照射装置２４は移動を開始し、マスク３１とシャワープレート１５との間を移動してマスク３１表面及び開口３４底面に露出する成膜対象物表面５と対面し、成膜対象物５表面の液状の光反応性材料の薄膜（液状膜）を反応させて硬化させ、光反応性材料から得られた有機膜を成膜対象物５表面のマスク３１の開口３４が位置した場所に形成する。ここでは、アクリル樹脂膜が形成される。マスク３１の開口３４の深さが１ｍｍ程度であるのに対し、形成される有機膜の膜厚は１μｍ〜２μｍ程度であり、アクリル樹脂膜の場合は、成膜対象物５の表面を保護し、水分の侵入を防止する保護膜として用いている。
【００３６】
図３は、光照射装置２４の移動途中の状態を示している。
有機膜が開口底面に位置する成膜対象物５表面に形成された後、マスク３１と成膜対象物５とを離間させ、有機膜が形成された成膜対象物５を真空槽１１の外部に搬出し、未成膜の成膜対象物５を基板ステージ１４上に配置して上記と同じ手順で有機膜を形成する。
【００３７】
なお、シャワープレート１５の放出口１６が設けられた面と、基板ステージ１４の成膜対象物５が配置される面とは、真空槽１１の内部に位置し、互いに対面するように配置されているのであれば、図１乃至図３に示すように、シャワープレート１５が基板ステージ１４の上方に配置されている場合に限定されず、シャワープレート１５が基板ステージ１４の下方に配置されていてもよいし、シャワープレート１５と基板ステージ１４が互いに同じ高さに配置されていてもよい。
【００３８】
また、光反応性材料１９は、上述したアクリル樹脂の原料と光反応開始剤とが含有された有機材料に限定されず、光が照射されると硬化する他の有機材料を用いることもできる。
【符号の説明】
【００３９】
５……成膜対象物
１０……有機膜形成装置
１１……真空槽
１３……排気口
１４……基板ステージ
１５……シャワープレート
１６……放出口
２１……シールド板
２２……成膜空間
２４……光照射装置
３１……マスク
３２……マスク保持部
３４……開口
３５……冷却装置
３７……（シャワープレート用）加熱装置
【図１】
2012053532.tif 000003
【図２】
2012053532.tif 000004
【図３】
2012053532.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月11日(2013.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために本発明は、光が照射されると硬化する光反応性材料の有機膜を形成する有機膜形成装置であって、真空槽と、前記真空槽内に配置された複数の放出口から前記光反応性材料を放出するシャワープレートと、少なくとも前記シャワープレートと対面する面が前記真空槽内に配置された基板ステージと、前記基板ステージ上に配置された成膜対象物を冷却する冷却装置と、前記基板ステージ上の前記成膜対象物に配置されるマスクを保持するマスク保持装置と、前記シャワープレートと前記基板ステージとの間を移動しながら前記マスクに向けて光を放射する光照射装置と、前記シャワープレートを昇温させる加熱装置と、を有する有機膜形成装置である。
本発明は、前記シャワープレートと前記基板ステージとの間の空間のうち、前記基板ステージに近い部分を取り囲むシールド板と、前記シールド板を加熱するシールド板用加熱装置とを有し、前記シールド板で取り囲まれた空間である成膜空間に向けて、前記シャワープレートから前記光反応性材料が放出されるように構成され、前記真空槽内を真空排気する排気口は、前記成膜空間の外部に設けられた有機膜形成装置である。
また、本発明は、前記光照射装置は、前記成膜空間の外側から、前記シールド板と前記シャワープレートとの間を通って、前記基板ステージと前記シャワープレートとの間を通過するように構成された有機膜形成装置である。
本発明は、光が照射されると硬化する光反応性材料の有機膜を成膜対象物の表面に形成する有機膜形成方法であって、真空槽内に配置された基板ステージ上に前記成膜対象物を配置し、前記成膜対象物の表面にマスクを接触させて配置し、前記成膜対象物を冷却し、前記真空槽内を真空排気しながら、前記マスクの上方から前記マスク上に前記光反応性材料を放出して、前記光反応性材料を前記マスクの開口底面に露出する前記成膜対象物の表面に付着させ、付着した部分に前記光反応性材料の液状膜を形成し、前記真空槽内の真空排気を停止させた状態で、光を放射する光照射装置に、前記マスク上を移動させながら前記光を放射させ、前記開口底面に露出する前記成膜対象物表面上に位置する前記液状膜に前記光を入射させ、前記液状膜を硬化させて前記光反応性材料の有機膜を形成する有機膜形成方法である。
本発明は、前記基板ステージ上の空間をシールド板で囲っておき、前記真空槽内の前記シールド板で囲まれた成膜空間の外側を真空排気し、前記シールド板を加熱しながら前記光反応性材料を前記成膜空間に充満させる有機膜形成方法である。
本発明は、前記光照射装置から前記光を放射させて前記液状膜に照射する際、前記真空槽内の真空排気を停止する有機膜形成方法である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
あるいは、位置合わせ装置２９を設けておき、成膜対象物５が基板ステージ１４に配置された後、位置合わせ装置２９によって、成膜対象物５とマスク３１とを撮影し、成膜対象物５とマスク３１とにそれぞれ設けられたアラインメントマークを一致させるように、基板ステージ１４又はマスク保持装置３２のいずれか一方又は両方を移動させるようにしてもよい。その場合は、成膜対象物５が位置する平面とマスク３１が位置する平面との間の距離を維持しながら移動させ、マスク３１と成膜対象物５との間を、予め設定された相対的な位置関係にする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光が照射されると硬化する光反応性材料の有機膜を形成する有機膜形成装置であって、
真空槽と、
前記真空槽内に配置された複数の放出口から前記光反応性材料を放出するシャワープレートと、
少なくとも前記シャワープレートと対面する面が前記真空槽内に配置された基板ステージと、
前記基板ステージ上に配置された成膜対象物を冷却する冷却装置と、
前記基板ステージ上の前記成膜対象物に配置されるマスクを保持するマスク保持装置と、
前記シャワープレートと前記基板ステージとの間を移動しながら前記マスクに向けて光を放射する光照射装置と、
前記シャワープレートを昇温させる加熱装置と、を有する有機膜形成装置。
【請求項２】
前記シャワープレートと前記基板ステージとの間の空間のうち、前記基板ステージに近い部分を取り囲むシールド板と、
前記シールド板を加熱するシールド板用加熱装置とを有し、
前記シールド板で取り囲まれた空間である成膜空間に向けて、前記シャワープレートから前記光反応性材料が放出されるように構成され、
前記真空槽内を真空排気する排気口は、前記成膜空間の外部に設けられた請求項１記載の有機膜形成装置。
【請求項３】
前記光照射装置は、前記成膜空間の外側から、前記シールド板と前記シャワープレートとの間を通って、前記基板ステージと前記シャワープレートとの間を通過するように構成された請求項１又は請求項２のいずれか１項記載の有機膜形成装置。
【請求項４】
光が照射されると硬化する光反応性材料の有機膜を成膜対象物の表面に形成する有機膜形成方法であって、
真空槽内に配置された基板ステージ上に前記成膜対象物を配置し、
前記成膜対象物の表面にマスクを接触させて配置し、
前記成膜対象物を冷却し、前記真空槽内を真空排気しながら、前記マスクの上方から前記マスク上に前記光反応性材料を放出して、前記光反応性材料を前記マスクの開口底面に露出する前記成膜対象物の表面に付着させ、付着した部分に前記光反応性材料の液状膜を形成し、
前記真空槽内の真空排気を停止させた状態で、
光を放射する光照射装置に、前記マスク上を移動させながら前記光を放射させ、
前記開口底面に露出する前記成膜対象物表面上に位置する前記液状膜に前記光を入射させ、前記液状膜を硬化させて前記光反応性材料の有機膜を形成する有機膜形成方法。
【請求項５】
前記基板ステージ上の空間をシールド板で囲っておき、
前記真空槽内の前記シールド板で囲まれた成膜空間の外側を真空排気し、
前記シールド板を加熱しながら前記光反応性材料を前記成膜空間に充満させる請求項４記載の有機膜形成方法。
【請求項６】
前記光照射装置から前記光を放射させて前記液状膜に照射する際、前記真空槽内の真空排気を停止する請求項４又は請求項５のいずれか１項記載の有機膜形成方法。
【国際調査報告】
2012053532.tif 000006
2012053532.tif 000007
2012053532.tif 000008
2012053532.tif 000009