(57)【要約】  太陽光が入射する側から順に、樹脂板保護層、樹脂板、金属反射層、及び金属腐食防止層が具備された構成の太陽光反射用ミラーであって、前記樹脂板保護層が、無機酸化膜層又は紫外線吸収剤を含有する硬化性樹脂膜層のうちの少なくとも一方であることを特徴とする太陽光反射用ミラー。
2012056953.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽光が入射する側から順に、樹脂板保護層、樹脂板、金属反射層、及び金属腐食防止層が具備された構成の太陽光反射用ミラーであって、前記樹脂板保護層が、無機酸化膜層又は紫外線吸収剤を含有する硬化性樹脂膜層のうちの少なくとも一方であることを特徴とする太陽光反射用ミラー。
【請求項２】
前記樹脂板が、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂からなる樹脂群から選ばれる樹脂を含有することを特徴とする請求項１に記載の太陽光反射用ミラー。
【請求項３】
前記金属反射層が、湿式法により形成され、かつ銀又は銀合金を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の太陽光反射用ミラー。
【請求項４】
前記樹脂板保護層が、ガスバリア性を持つことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の太陽光反射用ミラー。
【請求項５】
前記樹脂板保護層は前記硬化性樹脂膜層であり、前記硬化性樹脂膜層が、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂を含有することを特徴とする請求項１に記載の太陽光反射用ミラー。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項に記載の太陽光反射用ミラーが具備されていることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属反射層を備えた太陽光反射用ミラーとそれを用いた太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の地球温暖化は一層深刻な事態に発展し、将来の人類の生存すら脅かされる可能性がでてきている。その主原因は、２０世紀に入りエネルギー源として多量に使用されてきた化石燃料から放出された大気中の二酸化炭素（ＣＯ２）であると考えられている。従って近い将来、化石燃料をこのまま使い続けることは許されなくなると考えられる。また、他方で、中国、インド、ブラジル等のいわゆる発展途上国の急激な経済成長に伴うエネルギー需用の増大により、かつては無尽蔵と考えられていた石油、天然ガスの枯渇が現実味を帯びてきている。【０００３】
石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとしては、現在、バイオマスエネルギー、風力エネルギー及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。【０００４】
しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、及び（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが問題となると考えられる。【０００５】
これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。【０００６】
反射装置は、太陽熱による紫外線や熱、また風雨や砂嵐等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損してしまうことや、大型のガラス製ミラーになるとかなりの質量となるため、ミラーを設置する架台の強度を持たせる必要があるので、プラントの建設費がかさむといった問題を抱えていた。【０００７】
さらに、ガラス製ミラーは破損しやすく、交換時には破損部でけがをしない様な配慮が必要となり、また、多くの場合、屋外に設置されている場合が多く、作業環境（風雨、砂、埃等）による影響もあり、交換時には交換作業に熟練が要求されている。【０００８】
上記問題を解決するために、ガラス製ミラーを樹脂製の反射シートに置き換える方法が、例えば、特許文献１に開示されている。【０００９】
ガラス製ミラーを樹脂製の薄いフィルムに置き換えた場合はロール状に巻くことができるため連続製膜が可能になり、生産効率を高めることができる。しかし、樹脂性のフィルムはガラスに比べて耐環境性が劣るという欠点がある。耐環境性を克服するために最表面に紫外線吸収剤入りアクリル樹脂を感圧接着剤にて貼り合せしている。しかし、この方式では、二種類のフィルムを貼り合せする際の気泡巻き込みやゴミの巻き込みによる性能不良が頻繁に発生する。さらに薄いフィルムの場合は使用する際に形状を固定するために剛性のある板に貼り付けることになるが、この時も気泡やゴミの混入問題は発生する。このため歩留まりを低く抑えることができず全体としてコストアップとなってしまう。【００１０】
一方で、例えば特許文献２に開示されているように金属板の表面に反射率の高い銀反射層をめっきで形成する手法が開発されているが、剛性を持たせるために厚くすると質量がガラスと同等になり、設置作業や交換作業が困難となる。また、金属板の表面に銀反射層を形成しているが、金属板の表面加工精度やバインダの塗布精度に銀反射層の出来が依存する。【００１１】
前記特許文献１及び特許文献２に挙げられる課題を解決する手段として、特許文献３に開示されているような樹脂の板の裏面に反射層を形成し、反射層表面に保護層を塗布する手法がある。樹脂板は軽くガラスのようには割れないため、輸送性、作業性が良い。【００１２】
しかし、我々の鋭意検討の結果、特許文献３の手法は屋外にて長期に使用できないことがわかった。なお、ここでの長期とは、１年以上の期間である。絶えず屋外の過酷な環境の下にさらされると樹脂板起因の劣化が発生する。例えばアクリル板の吸水性は３％と大きく、砂漠などの屋外環境は昼夜の温度差があるため、空気中の水分の吸放出を繰り返しアクリル樹脂板が変形する。ポリカーボネートは太陽光に含まれる紫外線Ｂ波（ＵＶ−Ｂ：波長２８０〜３１５ｎｍ）を吸収して光化学反応が起きポリマー鎖が切断されるため、黄変、クラックが発生する。したがって、特許文献３のように樹脂（プラスチック）板に反射層を形成しただけでは性能を維持することができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特表２００９−５２０１７４号公報
【特許文献２】国際公開第２００８／１４９７１７号
【特許文献３】特開２０１０−１０７８５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、簡易な生産設備で製造でき、高い正反射率を有し、安価で軽量で優れた耐候性を備えた太陽光反射用ミラーを提供することである。また、当該太陽光反射用ミラーが具備された太陽熱発電用反射装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。【００１６】
１．太陽光が入射する側から順に、樹脂板保護層、樹脂板、金属反射層、及び金属腐食防止層が具備された構成の太陽光反射用ミラーであって、前記樹脂板保護層が、無機酸化膜層又は紫外線吸収剤を含有する硬化性樹脂膜層のうちの少なくとも一方であることを特徴とする太陽光反射用ミラー。【００１７】
２．前記樹脂板が、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂からなる樹脂群から選ばれる樹脂を含有することを特徴とする前記第１項に記載の太陽光反射用ミラー。【００１８】
３．前記金属反射層が、湿式法により形成され、かつ銀又は銀合金を含有することを特徴とする前記第１項又は第２項に記載の太陽光反射用ミラー。【００１９】
４．前記樹脂板保護層が、ガスバリア性を持つことを特徴とする前記第１項から第３項の何れか一項に記載の太陽光反射用ミラー。【００２０】
５．前記樹脂板保護層は前記硬化性樹脂膜層であり、前記硬化性樹脂膜層が、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂を含有することを特徴とする前記第１項に記載の太陽光反射用ミラー。【００２１】
６．前記第１項から第５項の何れか一項に記載の太陽光反射用ミラーが具備されていることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の効果】
【００２２】
本発明は上記手段により、簡易な生産設備で製造でき、高い正反射率を有し、安価で軽量で優れた耐候性を備えた太陽光反射用ミラーを提供することができる。また、当該太陽光反射用ミラーが具備された太陽熱発電用反射装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の太陽光反射用ミラーの代表的な層構成の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明の太陽光反射用ミラーは、太陽光が入射する側から順に、樹脂板保護層、樹脂板、金属反射層、及び金属腐食防止層が具備された構成の太陽光反射用ミラーであって、前記樹脂板保護層が、無機酸化膜層又は紫外線吸収剤を含有する硬化性樹脂膜層のうちの少なくとも一方であることを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項６までの各請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００２５】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記樹脂板が、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂からなる樹脂群から選ばれる樹脂を含有することが好ましい。さらに、前記金属反射層が、湿式法により形成され、かつ銀又は銀合金を含有することが好ましい。
【００２６】
本発明においては、前記樹脂板保護層が、ガスバリア性を持つ態様であることが好ましい。また、前記樹脂板保護層である前記硬化性樹脂膜層が、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂を含有することが好ましい。
【００２７】
本発明の太陽光反射用ミラーは、太陽熱発電用反射装置に好適に用いることができる。
【００２８】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００２９】
《太陽光反射用ミラー、太陽熱発電用反射装置の構成》
本発明の太陽光反射用ミラーは、太陽光が入射する側から順に、樹脂板保護層、樹脂板、金属反射層、及び金属腐食防止層が具備された構成の太陽光反射用ミラーであって、樹脂板保護層が、無機酸化膜層又は紫外線吸収剤を含有する硬化性樹脂膜層のうちの少なくとも一方であることを特徴とする。
【００３０】
図１は、本発明の太陽光反射用ミラーの代表的な層構成の一例を示す概略断面図である。図１には、本発明の太陽光反射用ミラーの好ましい構成の一例を示してある。すなわち、本発明の太陽光反射用ミラー１は、太陽光が入射する側から順に、樹脂板保護層２、樹脂板３、アンカー層４、金属反射層５、及び金属腐食防止層６が具備された構成の太陽光反射用ミラーである。この構成において、アンカー層は必須ではないが、アンカー層を具備する態様が好ましい。
【００３１】
本発明で規定する構成のように、太陽光反射用ミラーにおける太陽光の入射側に樹脂板保護層を配置することによって、屋外環境下での水分暴露、紫外線暴露に対して耐久性が上がり、１年以上の長期にわたって高い反射率を維持することができる。太陽光反射用ミラーにおいて、吸水による変形、紫外線による黄変、クラックが発生しないことで、より多くの光を太陽光の反射面である金属反射層に到達させ単位面積あたりの発電効率を高めることができる。
【００３２】
以下において、本発明の太陽光反射用ミラーの各構成要素について説明する。
【００３３】
〔樹脂板〕
樹脂板の材料としては、軽量化の点で、例えば、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィン（特に、シクロオレフィン樹脂）、セルロース、ポリアミドのいずれかを含む板が好ましい。これらの中でも、耐候性に優れ、特に、少なくとも二種以上のアクリル系モノマーを共重合したアクリル系共重合体、又はシクロオレフィン樹脂が好適である。
【００３４】
好適なアクリル系共重合体としては、具体的には例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキル（メタ）アクリレートのような側鎖中に官能性基を有しないモノマー（以下、非官能性モノマーという）から選ばれる一種又は二種以上のモノマーを主成分とし、これに２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、等のモノマーから選ばれる一種又は二種以上のモノマーの側鎖中にＯＨやＣＯＯＨなどの官能性基を有するモノマー（以下、官能性モノマーという）の一種又は二種以上を組合せて、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法等の重合法により共重合させることにより得られる重量平均分子量が４万ないし１００万、好ましくは１０万ないし４０万のアクリル系共重合体が挙げられ、中でも、エチルアクリレート、メチルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等の比較的Ｔｇの低いポリマーを与える非官能性モノマーを５０〜９０質量％、メチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート等の比較的Ｔｇの高いポリマーを与える非官能性モノマーを１０〜５０質量％、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリル酸、イタコン酸等の官能性モノマーを０〜１０質量％含有するようなアクリル系重合体が最も好適である。
【００３５】
また、本発明に係る樹脂板に好適に用いることのできるシクロオレフィン樹脂は、脂環式構造を含有する重合体樹脂からなるものである。好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィンを重合又は共重合した樹脂である。環状オレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕トリデカ−２，４，６，１１−テトラエンなどの多環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの単環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体等が挙げられる。
【００３６】
好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィン以外の単量体を付加共重合したものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテンなどのエチレン又はα−オレフィン；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンなどのジエン等が挙げられる。
【００３７】
シクロオレフィン樹脂として、下記のノルボルネン系樹脂も挙げられる。ノルボルネン系樹脂は、ノルボルネン骨格を繰り返し単位として有していることが好ましく、その具体例としては、例えば、特開２００３−１３９９５０号公報、特開２００３−１４９０１号公報、特開２００３−１６１８３２号公報、特開２００３−１９５２６８号公報、特開２００３−２１１５８８号公報、特開２００３−２１１５８９号公報、特開２００３−２６８１８７号公報、特開２００４−１３３２０９号公報、特開２００４−３０９９７９号公報、特開２００５−１２１８１３号公報、特開２００５−１６４６３２号公報、特開２００６−７２３０９号公報、特開２００６−１７８１９１号公報、特開２００６−２１５３３３号公報、特開２００６−２６８０６５号公報、特開２００６−２９９１９９号公報等に記載されたものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらは、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。具体的には、日本ゼオン（株）製ゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製アートン、三井化学（株）製アペル（ＡＰＬ８００８Ｔ、ＡＰＬ６５０９Ｔ、ＡＰＬ６０１３Ｔ、ＡＰＬ５０１４ＤＰ、ＡＰＬ６０１５Ｔ）などが好ましく用いられる。
【００３８】
樹脂板の厚さは、０．５〜５ｍｍであることが好ましく、より好ましくは１〜３ｍｍである。
【００３９】
厚さが０．５ｍｍ以上であれば、太陽光反射用ミラー加工時のしわの発生や破損を防止することができ均一性の高い基材を形成することができる。また、５ｍｍ以下であれば表面にゴミが付着した場合の反射率低下の影響を軽度にとどめることができ、かつ軽量化できる。樹脂板表面は、少なくとも片面に樹脂板保護層が形成されている。
【００４０】
〔樹脂板保護層〕
本発明に係る樹脂板保護層は、樹脂板や樹脂を含有する層等を保護することを目的とするものであり、当該樹脂板保護層が、無機酸化膜層又は紫外線吸収剤を含有する硬化性樹脂膜層のうちの少なくとも一方であることを特徴とする。
【００４１】
なお、本発明においては、当該樹脂板保護層が、無機酸化膜層及び紫外線吸収剤を含有する硬化性樹脂膜層の両方を兼ねるものであっても良い。この場合、当該樹脂板保護層は一層構成であっても、二層以上の複数構成であっても良い。
【００４２】
本発明において、当該樹脂板保護層は、ガスバリア性を持つことが好ましい。特に、無機酸化膜層は、下記のようなガスバリア層とすることが好ましい。
【００４３】
（無機酸化膜層：ガスバリア層）
本発明に係るガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び樹脂基材で保護される各種機能素子等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであっても良く、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。
【００４４】
ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、好ましくは５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、さらに好ましくは２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下となるように当該ガスバリア層の防湿性を調整することが好ましい。また。酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましい。
【００４５】
本発明に係るガスバリア層に関しては、その形成方法において特に制約はないが、無機酸化物膜のセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜を加熱及び／又は紫外線照射により、無機酸化物膜を形成する方法が好ましく用いられる。
【００４６】
当該ガスバリア層は、酸化珪素、酸化アルミニウム、又は酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化クロム等が挙げられ、特に水蒸気バリア性の観点から酸化珪素、酸化アルミニウム、又は珪素、アルミニウムを出発材料とした複合金属酸化物が好ましい。そのほか波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３５から１．８の低屈折率膜と、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．８５から２．８である高屈折率膜を交互に積層した多層膜であっても良い。低屈折率膜材料としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウムなどが挙げられる。高屈折率膜材料としては、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウムなどが挙げられる。低屈折率膜と高屈折率膜を交互に積層することで、ガスバリア層の機能と紫外線反射機能を同時に持たせることができる。紫外線反射機能は紫外線吸収機能と同様に下層の樹脂板を保護する。
【００４７】
これらは真空蒸着法、スパッター法、イオンブレーティングなどのＰＶＤ法（物理蒸着法）、あるいは、ＣＶＤ法（化学蒸着法）などの真空プロセスにより形成される。金属酸化物からなるガスバリア層の厚さは５〜８００ｎｍの範囲が好ましく、更に好ましくは１０〜３００ｎｍの範囲である。
【００４８】
上記に挙げた乾式の層形成とともに湿式の層形成、具体的には塗布方式も可能である。
【００４９】
塗布でのガスバリア層形成としてポリシラザン液の塗布硬化が挙げられる。例えば特表２００９−５０３１５７号に挙げられるようなポリシラザンが溶媒中に分散した塗布液を塗布する。このポリシラザン塗膜を光照射で硬化することによって、短時間で緻密なガスバリア層とすることができる。また触媒を入れて加熱硬化することでも緻密なガスバリア膜は得られる。溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的にはポリシラザン１〜８０質量％、好ましくは５〜５０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％である。
【００５０】
溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えばヒドロキシル基又はアミン基）を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族又は芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチル又は酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトン又はメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフラン又はジブチルエーテル、並びにモノ−及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）又はこれらの溶剤からなる混合物である。
【００５１】
上記ポリシラザン溶液の追加の成分としては、塗料の製造に慣用されているもののようなバインダである。これは、例えば、セルロースエーテル及びセルロースエステル、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート又はセルロースアセトブチレート、天然樹脂、例えばゴムもしくはロジン樹脂、又は合成樹脂、例えば重合樹脂もしくは縮合樹脂、例えばアミノプラスト、特に尿素樹脂及びメラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、又はポリシロキサンである。
【００５２】
ポリシラザン調合物の更に別の成分としては、例えば、調合物の粘度、下地の濡れ、成膜性、潤滑作用又は排気性に影響を与える添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２又はＡｌ２Ｏ３であることができる。このような方法を用いることによって、亀裂及び孔が無いためにガスに対する高いバリア作用に優れる緻密なガラス様の層を製造することができる。
【００５３】
本発明の方法は、樹脂板でガスバリア層を作製することによって、このようにして得られる酸化珪素層又は酸化アルミニウム層、又は酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物層は酸素、二酸化炭素、空気などのガス又は水蒸気に対する高いバリア作用に優れる。
【００５４】
また、ガスバリア層を形成した樹脂板の光線透過率の平均値は９０％以上であることが好ましい。これによって、光損失がなく、太陽光を効率よく反射することができる。
【００５５】
（紫外線吸収剤を含有する硬化性樹脂膜層）
本発明においては、当該樹脂板保護層が、無機酸化膜層又は紫外線吸収剤を含有する硬化性樹脂膜層であることを特徴とする。なお、当該硬化性樹脂膜層は、熱、紫外線等により硬化する樹脂を含有する層である。
【００５６】
本発明に係る樹脂板保護層においては、耐候性並びに耐光性向上の観点から紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
【００５７】
本発明に係る樹脂板保護層に使用される紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ太陽光利用の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【００５８】
本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号、同８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号、特開２００３−１１３３１７号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
【００５９】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（１−メチル−１−フェニルエチル）−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【００６０】
また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９００、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（いずれもＢＡＳＦジャパン社製）、ＬＡ３１（ＡＤＥＫＡ社製）、ＲＵＶＡ−１００（大塚化学製）が挙げられる。
【００６１】
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００６２】
本発明においては、前記樹脂板保護層である前記硬化性樹脂膜層が、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂を含有することが好ましい。
【００６３】
本発明において、熱硬化性樹脂としては、各種エポキシ樹脂やエポキシ基含有（メタ）アクリレート、ウレタン変性（メタ）アクリレート等のアクリレート系樹脂を使用することができる。ここで、エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ（ＢＰＡ）型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ（ＢＰＦ）エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂等を挙げることができる。これらの熱硬化性樹脂の中でも、ビスフェノールＡ（ＢＰＡ）型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ（ＢＰＦ）エポキシ樹脂が好適である。
【００６４】
紫外線硬化性樹脂としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、イソブチルアクリレート、エポキシアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、テトラメチレングリコールテトラアクリレート、２−ヒドロキシ−１，３−ジアクリロキシプロパン、２，２−ビス［４−（アクロキシメトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（アクロキシエトキシ）フェニル］プロパン、ジシクロペンテニルアクリレート、トリシクロデカニルアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等の各種アクリレート系樹脂や、前述の熱硬化性樹脂としても使用可能なエポキシ基含有（メタ）アクリレート、ウレタン変性（メタ）アクリレート等のアクリレート系樹脂が挙げられる。また、これらは、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。また、このようなアクリレートの代わりにメタクリレートを使用してもよい。
【００６５】
紫外線硬化性樹脂を使用する場合には、光重合開始剤を添加する必要がある。例えば、ベンゾインエチルエーテル、イソプロピルベンゾインエーテル等のベンゾインエーテル；ベンジルヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のベンジルケタール；ベンゾフェノン、アセトフェノン等のケトン類及びその誘導体；チオキサントン類；ビスイミダゾール類等が挙げられる。これらは単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。また、これら光重合開始剤に、必要に応じてアミン類、イオウ化合物、リン化合物等の増感剤を任意の比で添加してもよい。
【００６６】
（酸化防止剤、安定剤）
本発明に係る樹脂板保護層においては、酸化防止剤又は安定剤を含有することが好ましい。本発明に係る樹脂板保護層に好ましく適用することのできる酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤及びホスファイト系酸化防止剤を挙げることができる。
【００６７】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
【００６８】
チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−３，３′−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等を挙げられる。
【００６９】
ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレン−ジホスホナイト、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
【００７０】
また、本発明に係る樹脂板保護層においては、上記酸化防止剤と共に、下記の光安定剤を用いることもできる。
【００７１】
ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、１−メチル−８−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２、６，６−テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン等が挙げられる。
【００７２】
その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２′−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）〕−２−エチルヘキシルアミンニッケル（II）、ニッケルコンプレックス−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル−ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
【００７３】
特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
【００７４】
〔アンカー層〕
本発明の太陽光反射用ミラーにおいては、樹脂板と金属反射層との密着性を向上させる観点から、樹脂板と金属反射層間にアンカー層を設けることが好ましい。
【００７５】
本発明に係るアンカー層に使用する樹脂では、上記密着性の他、耐熱性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化性樹脂とすればより好ましい。
【００７６】
本発明において、アンカー層の厚さは、密着性、平滑性、金属反射層の反射率等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【００７７】
アンカー層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知の湿式コーティング方法が使用できる。
【００７８】
〔金属反射層〕
金属反射層としては、例えば、銀又は銀合金、その他、金、銅、アルミニウム、これらの合金も用いることができる。特に、銀を使用することが好ましい。このような金属反射層は、光を反射させる反射膜としての役割を果たす。金属反射層を銀又は銀合金からなる膜とすることにより、ミラーの可視光領域での反射率を高め、入射角による反射率の依存性を低減できる。可視光領域とは、４００〜７００ｎｍの波長領域を意味する。入射角とは、膜面に対して垂直な線に対する角度を意味する。
【００７９】
銀合金としては、金属反射層の耐久性が向上する点から、銀と、金、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、銅、チタン及びビスマスからなる群から選ばれる一種以上の他の金属とからなる合金が好ましい。他の金属としては、高温耐湿性、反射率の点から、金が特に好ましい。
【００８０】
金属反射層が銀合金からなる膜である場合、銀は、金属反射層における銀と他の金属との合計（１００原子％）中、９０〜９９．８原子％が好ましい。また、他の金属は、耐久性の点から０．２〜１０原子％が好ましい。
【００８１】
また、金属反射層の層厚は、６０〜３００ｎｍが好ましく、８０〜２００ｎｍが特に好ましい。金属反射層の層厚が６０ｎｍ未満では、層厚が薄く、光を透過してしまうため、ミラーの可視光領域での反射率が低下する恐れがある。金属反射層の層厚が３００ｎｍを超えると、金属反射層の表面に凹凸が発生しやすくなり、これにより光の散乱が生じてしまい、可視光領域での反射率が低下するおそれがある。
【００８２】
金属からなる金属反射層は、湿式、乾式のどちらでも形成することができる。湿式はコーティング銀、めっき、乾式は蒸着で形成することが好ましい。
【００８３】
〔湿式法による金属反射層の形成〕
本発明の太陽光反射用ミラーにおいては、金属反射層が、銀錯体化合物を含有する塗布液を、塗布、焼成して形成されたものであることが好ましい。
【００８４】
本発明の太陽光反射用ミラーにおいては、前述のように、太陽光の入射側に樹脂板保護層付きの樹脂板を配置し、その上に湿式塗布方式により銀錯体化合物を含有する塗布液を塗布、焼成して反射層を形成することにより、極めて平滑性に優れ、高い正反射を備えた反射面を形成することができるものである。
【００８５】
本発明に係る金属反射層では、銀錯体化合物を含有する塗布液を用いて形成されたものであれば、特に制限はないが、用いる銀錯体化合物として、例えば特表２００９−５３５６６１号に示されているような下記一般式（１）で表される銀化合物と、下記一般式（２）〜（４）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種とを反応させて得られる銀錯体化合物を用いることが好ましい。
【００８６】
（一般式（１）〜（４）で表される化合物）
以下、下記一般式（１）で表される銀化合物と、一般式（２）〜（４）で表されるアンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物等について説明をする。
【００８７】
一般式（１）：  ＡｇｎＸ
【００８８】
【化１】
2012056953.tif 000003
【００８９】
（一般式（１）〜（４）において、Ｘは、酸素、硫黄、ハロゲン、シアノ、シアネート、カーボネート、ニトレート、ニトライト、サルフェート、ホスフェート、チオシアネート、クロレート、パークロレート、テトラフルオロボレート、アセチルアセトネート、カルボキシレート、及びこれらの誘導体から選択される置換基であり、ｎは、１〜４の整数であって、Ｒ１〜Ｒ６は、互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ３０の脂肪族や脂環族アルキル基、アリール基又はアラルキル（ａｒａｌｋｙｌ）基、官能基が置換されたアルキル及びアリール基、ヘテロ環化合物基と高分子化合物及びその誘導体から選択される置換基である。）
一般式（１）の具体例としては、例えば、酸化銀、チオシアネート化銀、硫化銀、塩化銀、シアン化銀、シアネート化銀、炭酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、硫酸銀、燐酸銀、過塩素酸銀、四フッ素ボレート化銀、アセチルアセトネート化銀、酢酸銀、乳酸銀、シュウ酸銀及びその誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００９０】
また、一般式（２）〜（４）において、Ｒ１〜Ｒ６は、具体的に例えば、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシル、エチルヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アリール、ヒドロキシ、メトキシ、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、メトキシプロピル、シアノエチル、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、カルボキシメチル、トリメトキシシリルプロピル、トリエトキシシリルプロピル、フェニル、メトキシフェニル、シアノフェニル、フェノキシ、トリル、ベンジル及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンアミンのような高分子化合物及びこれらの誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００９１】
一般式（２）〜（４）の化合物例としては、例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム  エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウムイソプロピルカルバメート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカルバメート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカルバメート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカルバメート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカルバメート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウムジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム  モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム  エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  バイカーボネート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  バイカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  バイカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  バイカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム  モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム  バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム  バイカーボネート、及びその誘導体から選択される一種又は二種以上の混合物などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００９２】
一方、上記のアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート系化合物の種類及び製造方法は、特に制限する必要はない。例えば、米国特許第４，５４２，２１４号では、第１アミン、第２アミン、第３アミン、又は少なくとも１つ以上のこれらの混合物と二酸化炭素からアンモニウムカルバメート系化合物が製造できると記述しており、前記アミン１モル当り水０．５モルをさらに添加すると、アンモニウムカーボネート系化合物が得られて、水１モル以上を添加する場合は、アンモニウムバイカーボネート系化合物を得ることができる。この際、常圧又は加圧状態で特別な溶媒を使用せずに直接製造するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒又はこれらの混合溶媒などが挙げられて、二酸化炭素は、気相状態でバブリング（ｂｕｂｂｌｉｎｇ）するか、固体相ドライアイスを使用することができて、超臨界（ｓｕｐｅｒｃｒｉｔｉｃａｌ）状態でも反応することができる。本発明で使用されるアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート誘導体の製造には、上記の方法の他にも、最終物質の構造が同一であれば、公知のいかなる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度又は触媒などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。
【００９３】
このように製造されたアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート系化合物と銀化合物とを反応して、有機銀錯体化合物を製造することができる。例えば、一般式（１）に示したような少なくとも一つ以上の銀化合物と、一般式（２）〜（４）に示したような少なくとも一つ以上のアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート誘導体及びこれらの混合物を、窒素雰囲気の常圧又は加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒又はこれらの混合溶媒などを使用することができる。
【００９４】
本発明で使用される銀錯体化合物の製造には、上記の方法の他に、一般式（１）の銀化合物と一つ以上のアミン化合物とが混合された溶液を製造した後、二酸化炭素を反応して、銀錯体化合物を製造することもできる。上記のように、窒素雰囲気の常圧又は加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用して反応することができる。しかしながら、最終物質の構造が同一であれば、公知の如何なる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度又は触媒の使用有無などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。
【００９５】
本発明で使用される銀錯体化合物は、特表２００８−５３０００１号公報にその製造方法が記載されており、下記一般式（５）の構造で認識される。
【００９６】
一般式（５）：  Ａｇ［Ａ］ｍ
（一般式（５）において、Ａは、一般式（２）〜（４）の化合物であり、ｍは、０．５〜１．５である。）
本発明に係る高反射で、かつ高光沢の銀反射層を形成のために使用される銀反射層形成用塗布液は、本発明に係る銀錯体化合物を含有し、必要に応じて、溶媒、安定剤、レベリング剤（Ｌｅｖｅｌｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）、薄膜補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、本発明に係る銀反射層形成用塗布液に含有することができる。
【００９７】
補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、本発明に係る銀コーティング組成物に含有することができる。
【００９８】
金属反射層形成用塗布液に用いることのできる安定剤としては、例えば、第１アミン、第２アミン又は第３アミンのようなアミン化合物や、前記アンモニウムカルバメート、アンモニウムカーボネート、アンモニウムバイカーボネート系化合物、又はホスフィン（ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）、ホスファイ（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスフェート（ｐｈｏｓｐｈａｔｅ）のようなリン化合物、チオール（ｔｈｉｏｌ）やスルフィド（ｓｕｌｆｉｄｅ）のような硫黄化合物と、少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられ、アミン化合物としては、具体的に例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、イソオクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、ドコデシルアミン、シクロプロピルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アリールアミン、ヒドロキシアミン、アンモニウムヒドロキシド、メトキシアミン、２−エタノールアミン、メトキシエチルアミン、２−ヒドロキシプロピルアミン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルアミン、メトキシプロピルアミン、シアノエチルアミン、エトキシアミン、ｎ−ブトキシアミン、２−ヘキシルオキシアミン、メトキシエトキシエチルアミン、メトキシエトキシエトキシエチルアミン、ジメチルアミン、ジプロピルアミン、ジエタノールアミン、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、２，２−（エチレンジオキシ）ビスエチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、アミノアセトアルデヒドジメチルアセタル、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、アニリン、アニシジン、アミノベンゾニトリル、ベンジルアミン及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンイミンのような高分子化合物及びその誘導体などのようなアミン化合物が挙げられる。
【００９９】
アンモニウムカルバメート、カーボネート、バイカーボネート系化合物として具体的に例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ  ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム  エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカルバメート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカルバメート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカルバメート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカルバメート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカルバメート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム  モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム  エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム  バイカーボネート、ｎ−ブチルアンモニウム  ｎ−ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム  イソブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  ｔ−ブチルカーボネート、ｔ−ブチルアンモニウム  バイカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  ２−エチルヘキシルカーボネート、２−エチルヘキシルアンモニウム  バイカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  ２−メトキシエチルカーボネート、２−メトキシエチルアンモニウム  バイカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  ２−シアノエチルカーボネート、２−シアノエチルアンモニウム  バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム  オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム  ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム  バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム  メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム  ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム  モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム  ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム  トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム  バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム  イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム  バイカーボネート、及びその誘導体などが挙げられる。
【０１００】
また、リン化合物としては、一般式として、Ｒ３Ｐ、（ＲＯ）３Ｐ又は（ＲＯ）３ＰＯで表されるリン化合物で挙げられる。ここでＲは、炭素数１〜２０のアルキル又はアリール基を示し、具体的に例えば、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ジベンジルホスフェート、トリエチルホスフェートなどが挙げられる。
【０１０１】
そして、硫黄化合物として、具体的に例えば、ブタンチオール、ｎ−ヘキサンチオール、ジエチルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、アリールジスルフィド、２−メルカプトベンゾアゾール、テトラヒドロチオフェン、オクチルチオグリコレートなどが挙げられる。
【０１０２】
このような安定剤の使用量は、特に制限する必要はない。しかしながら、その含量は、銀化合物に対し、モル比で０．１％〜９０％が好ましい。
【０１０３】
また、金属反射層形成用塗布液に用いることのできる薄膜補助剤としては、有機酸及び有機酸誘導体、又は少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられる。具体的に例えば、酢酸、酪酸（Ｂｕｔｙｒｉｃ  ａｃｉｄ）、吉草酸（Ｖａｌｅｒｉｃ  ａｃｉｄ）、ピバル酸（Ｐｉｖａｌｉｃ  ａｃｉｄ）、ヘキサン酸、オクタン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ネオデカン酸（Ｎｅｏｄｅｃａｎｏｉｃ  ａｃｉｄ）、ラウリン酸（Ｌａｕｒｉｃ  ａｃｉｄ）、ステアリン酸、ナフタル酸などの有機酸が挙げられ、有機酸誘導体としては、具体的に例えば、酢酸アンモニウム塩、クエン酸アンモニウム塩、ラウリン酸アンモニウム塩、乳酸アンモニウム塩、マレイン酸アンモニウム塩、シュウ酸アンモニウム塩、モリブデン酸アンモニウム塩などの有機酸アンモニウム塩と、Ａｕ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｃｄ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ａｃ、Ｔｈなどのような金属を含むシュウ酸マンガン、酢酸金、シュウ酸パラジウム、２−エチルヘキサン酸銀、オクタン酸銀、ネオデカン酸銀、ステアリン酸コバルト、ナフタル酸ニッケル、ナフタル酸コバルトなどの有機酸金属塩が挙げられる。前記薄膜補助剤の使用量は、特に限定されないが、銀錯体化合物に対して、モル比で０．１〜２５％が好ましい。
【０１０４】
金属反射層形成用塗布液に用いることのできる還元剤としては、ルイス酸又は弱いブレンステッド酸（ｂｒｏｎｓｔｅｄ  ａｃｉｄ）が挙げられ、具体的に例えば、ヒドラジン、ヒドラジンモノハイドレート、アセトヒドラジド、水酸化ホウ素ナトリウム又は水酸化ホウ素カリウム、ジメチルアミンボラン、ブチルアミンボランのようなアミン化合物、第１塩化鉄、乳酸鉄のような金属塩、水素、ヨウ化水素、一酸化炭素、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、グリオキサールのようなアルデヒド化合物、ギ酸メチル、ギ酸ブチル、トリエチル−ｏ−ギ酸のようなギ酸化合物、グルコース、アスコルビン酸、ヒドロキノンのような還元性有機化合物を少なくとも一つ以上含むこれらの混合物を挙げることができる。
【０１０５】
金属反射層形成用塗布液に用いることのできる熱分解反応促進剤としては、具体的に例えば、エタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、ヘキサノールアミン、ジメチルエタノールアミンのようなヒドロキシアルキルアミン類、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、ピペラジン、Ｎ，Ｎ′−ジメチルピペラジン、１−アミノ−４メチルピペラジン、ピロリジン、Ｎ−メチルピロリジン、モルホリンのようなアミン化合物、アセトンオキシム、ジメチルグリオキシム、２−ブタノンオキシム、２，３−ブタジオンモノオキシムのようなアルキルオキシム類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールのようなグリコール類、メトキシエチルアミン、エトキシエチルアミン、メトキシプロピルアミンのようなアルコキシアルキルアミン類、メトキシエタノール、メトキシプロパノール、エトキシエタノールのようなアルコキシアルカノール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類、アセトール、ジアセトンアルコールのようなケトンアルコール類、多価フェノール化合物、フェノール樹脂、アルキド樹脂、ピロール、エチレンジオキシチオフェン（ＥＤＯＴ）のような酸化重合性樹脂などが挙げられる。
【０１０６】
なお、金属反射層形成用塗布液の粘度調節や円滑な薄膜形成のために溶媒が必要な場合があるが、この際使用できる溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−メトキシプロパノール、ブタノール、エチルヘキシルアルコール、テルピネオールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテートのようなアセテート類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、１−メチル−２−ピロリドンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタン、ドデカン、パラフィンオイル、ミネラルスピリットのような炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、又はこれらの混合溶媒などを使用することができる。
【０１０７】
次いで、金属反射層形成用塗布液を用いた本発明に係る金属反射層の形成方法について説明する。
【０１０８】
本発明において、樹脂板上に、本発明に係る銀錯体化合物を含有する金属反射層塗布液を塗布して金属反射層を形成するのに適用する塗布方式としては、湿式塗布方式であれば特に制限はなく、例えば、スピンコート塗布、ディップ塗布、エクストルージョン塗布、ロールコート塗布、スプレー塗布、グラビア塗布、ワイヤーバー塗布、エアナイフ塗布、スライドポッパー塗布、カーテン塗布、スクリーン印刷法、インクジェット印字法等の公知の溶液を用いた塗布方法を適宜選択して用いることができる。
【０１０９】
上記方法に従って、樹脂板上に、金属反射層を形成した後、焼成処理を施して反射鏡面を形成する。
【０１１０】
焼成処理は、通常の不活性雰囲気下で熱処理をすることにより行うこともできるが、必要に応じて、空気、窒素、一酸化炭素中で、あるいは水素ガスと空気又は他の不活性ガスとの混合ガスでも処理が可能である。熱処理は、適用する樹脂板の構成材料にもよるが、通常は８０〜２００℃の範囲であり、好ましくは９０〜１７０℃、更には１００〜１５０℃の温度範囲で熱処理することが好ましい。付加的に上記温度範囲内で、低温と高温の２段階以上で加熱処理する方法が、反射膜の均一性の観点からは好ましい。例えば、８０〜１５０℃で１〜３０分間の処理を行った後、１５０〜２００℃で１〜３０分間の処理することができる。
【０１１１】
〔金属腐食防止層〕
本発明の太陽光反射用ミラーにおいては、上記金属反射層表面に金属腐食防止層を有することを特徴とする。
【０１１２】
金属腐食防止層は、腐食防止剤を含み、金属反射層を形成する金属、例えば、銀の腐食劣化を防ぐものである。
【０１１３】
金属腐食防止層の形成に用いることのできる樹脂としては、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化性樹脂とすればより好ましい。
【０１１４】
イソシアネートは、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系、ＸＤＩ（キシレンジイソシアネート）系、ＭＤＩ（メチレンジイソシアネート）系、ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）系等の従来から使用されてきた各種イソシアネートが使用可能であるが、耐候性の点から、ＸＤＩ系、ＭＤＩ系、ＨＭＤＩ系のイソシアネートを使用するのが好ましい。
【０１１５】
金属腐食防止層の厚さは、密着性、耐候性等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【０１１６】
金属腐食防止層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【０１１７】
本発明に係る金属腐食防止層が含有する金属反射層の腐食防止剤としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的又は電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
【０１１８】
また、本発明に係るミラーにおいては、下塗り層が酸化防止剤を含有し、かつ金属腐食防止層が銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤を含有している態様も好ましい。
【０１１９】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【０１２０】
〈銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤〉
本発明に適用可能な銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【０１２１】
アミン類及びその誘導体としては、例えば、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２２】
ピロール環を有する物としては、例えば、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２３】
トリアゾール環を有する化合物としては、例えば、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２４】
ピラゾール環を有する化合物としては、例えば、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２５】
チアゾール環を有する化合物としては、例えば、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２６】
イミダゾール環を有する化合物としては、例えば、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２７】
インダゾール環を有する化合物としては、例えば、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２８】
銅キレート化合物類としては、例えば、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２９】
チオ尿素類としては、例えば、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１３０】
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２−エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１３１】
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【０１３２】
本発明に係る金属腐食防止層に用いられる金属反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤、安定剤を用いることもできる。酸化防止剤、安定剤としては、先に説明した高分子に適用可能な酸化防止剤及び安定剤と同様のものを挙げることができる。
【０１３３】
〔その他の構成要素〕
本発明の太陽光反射用ミラーにおいては、必要に応じ、下記の示す各機能層を形成してもよい。
【０１３４】
（耐傷性易滑層）
本発明の太陽光反射用ミラーにおいては、ミラーの最外層として、耐傷性易滑層を設けることができる。この耐傷性易滑層は、傷防止のために設けられる。
【０１３５】
耐傷性易滑層層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性及び生産性の点で、活性エネルギー線硬化性のアクリル系樹脂、又は熱硬化性のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。
【０１３６】
活性エネルギー線硬化性のアクリル系樹脂又は熱硬化性のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
【０１３７】
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いられ得る。
【０１３８】
また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
【０１３９】
市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、ＤＩＣ（株）；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ”シリーズなど）、東亞合成株式会社；（商品名“アロニックス”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど）などの製品を利用することができる。
【０１４０】
本発明において、耐傷性易滑層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤及び帯電防止剤などを用いることができる。
【０１４１】
レベリング剤は、特に、耐傷性易滑層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば、東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
【０１４２】
（犠牲防食層）
本発明の太陽光反射用ミラーには、犠牲防食層を設けることができる。本発明でいう犠牲防食層とは、金属から構成される金属反射層を犠牲防食により保護する層のことであり、犠牲防食層を金属反射層の裏面に配置することにより、金属からなる金属反射層の耐食性を向上させることができる。本発明において、犠牲防食層としては、銀よりもイオン化傾向の高い銅が好ましく、銅の犠牲防食層は、銀から構成される金属反射層の下に設けることによって、銀の劣化を抑制することができる。
【０１４３】
《太陽熱発電用反射装置》
次いで、本発明の太陽光反射用ミラーを適用した太陽熱発電用反射装置について、説明する。
【０１４４】
本発明の太陽熱発電用反射装置は、太陽光反射用ミラーを、保持部材、例えば、アルミニウム枠等の金属製部材に固定することにより形成されている。
【０１４５】
（保持部材）
本発明の太陽熱発電用反射装置において、保持部材としては金属枠を用いることが好ましく、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。本発明においては、特に、耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。
【０１４６】
（太陽熱発電用反射装置）
本発明の太陽熱発電用反射装置は、太陽光を集光する目的の太陽熱発電用ミラーとして適用することができる。太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められる為、本発明の太陽熱発電用反射装置が特に好適に用いられる。
【実施例】
【０１４７】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。【０１４８】
実施例１
《太陽光反射用のミラーの作製》
（ミラー１の作製）
反射面を形成する基板としてガラス板（厚さ３ｍｍ）を用いた。このガラス板表面を洗浄し、油脂分等を取り除いた後にスプレー式銀鏡反応によって銀反射層を形成した。銀反射層の上にベンゾトリアゾール系腐食防止剤を含んだメチルアクリレート：ブチルアクリレート共重合体（比率６４：３６、熱硬化樹脂）の酢酸エチル溶液をグラビアコート法によりコーティングし、８０℃で４分間乾燥して比較例のミラー１の作製を作製した。【０１４９】
（ミラー２の作製）
樹脂基材として、二軸延伸ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、厚さ２５μｍ）を用いた。この片面に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。樹脂基材の銀反射層側にアクリル系の粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業製）を１５μｍ厚に塗布して粘着層を形成してポリエステル剥離フィルムをラミネートした。接着剤としてアクリル系の粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業製）を１０μｍ厚に塗布して接着層を形成したのち、紫外線吸収剤を入れたアクリルフィルム７５μｍ（三菱レイヨンＨＢＡ００６）を接着層にニップロール温度８０℃、ニップロール圧力２ＭＰａの条件によって貼り付け、フィルムミラーを作製した。薄膜のミラー２のみでは形状を維持できないため、別途３ｍｍのアルミニウム板に貼り付け、比較例のミラー２を作製した。【０１５０】
（ミラー３の作製）
板厚０．５ｍｍの電気亜鉛めっき鋼板（両面めっき、片面のＺｎめっき量：２０ｇ／ｍ２）の表面にアクリルウレタン樹脂を乾燥後の膜厚が１μｍとなるように塗布し乾燥した。銀鏡反応によって厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。銀反射層の表面に乾燥膜厚６μｍとなるようにアクリル樹脂を塗布し、その後シリカゾル水溶液を塗布して０．０５μｍのシリカ膜を形成し比較例のミラー３を作製した。【０１５１】
（ミラー４の作製）
樹脂基板として、１ｍ角、３ｍｍの透明なアクリル樹脂基板（メタクリル樹脂  ＰＭＭＡ）を準備した。【０１５２】
アクリル変性シリコーン商品名：Ｘ−２２−２４２６（信越化学工業（株）製）１０ｇを、有機溶剤（キシレン５質量％、２−ブタノール２５質量％、酢酸エチル２５質量％、エタノール４５質量％）１Ｌにとかし、良く攪拌して均一なアクリル変性シリコーン含有溶液を製造した。【０１５３】
アクリル樹脂基板を、アクリル変性シリコーン含有溶液に浸せきした後、塗布面を均一にするため、シンクロナスモーターを用いた引き上げ装置を用いて１分間に７ｃｍの速さで引き上げた。当該引き上げたアクリル樹脂基板を、定温乾燥器にて６０℃、１時間熱処理し、アクリル樹脂基板上にアクリル変性シリコーンを被覆した。【０１５４】
（銀めっき）
アンモニア過剰のアンモニア性硝酸銀水溶液であって、ＡｇＮＯ３  ３４ｇ／Ｌの溶液を調製した（以下、Ａ液と記載）。【０１５５】
水酸化ナトリウム水溶液であって、ＮａＯＨ  ２０ｇ／Ｌの溶液を調製した（以下、Ｂ液と記載）。【０１５６】
ブドウ糖水溶液であって、Ｃ６Ｈ１２Ｏ６  １５ｇ／Ｌの溶液を調製した（以下、Ｃ液と記載）。【０１５７】
ここで、Ａ液の調製方法について説明する。【０１５８】
３４ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液へ、濃アンモニア水（２８％）を徐々に２８ｍｌ／Ｌ加えると、一旦沈殿が生成した後、再び沈殿が消える。次に、当該溶液へ、さらに濃アンモニア水（２８％）を２８ｍｌ／Ｌ加える。結局、当初の硝酸銀水溶液へ、全量で５６ｍｌ／Ｌの濃アンモニア水（２８％）を加えＡ液とする。【０１５９】
Ａ液、Ｂ液及びＣ液を１５℃以上の室温とし、各々１：１：１の割合で混合して混合液とする。当該混合した直後の混合液（銀めっき液）を、上述したアクリル変性シリコーンが被覆されたアクリル樹脂基板の上面にのせ、放置する。当該混合液（銀めっき液）は、アクリル変性シリコーン層の作用によりアクリル樹脂基板上面ではじかれることなく均一に広がり、アクリル樹脂基板表面に銀鏡反応による均一な銀鏡（銀薄膜層）ができる。【０１６０】
アクリル樹脂基板表面に形成された銀薄膜層を保護するために、その上に硫酸銅（II）水溶液と還元剤溶液（亜鉛粉末懸濁液）により銅保護被膜を形成し、さらに裏打ち塗料を塗布してシールし、比較例のミラー４を作製した。【０１６１】
（ミラー５の作製）
樹脂板として、１ｍ角のＰＭＭＡ板（三菱レイヨン製、厚さ３ｍｍ）を用いた。この樹脂板表面を洗浄し、油脂分等を取り除いた後に片面に、溶媒に分散したポリシラザンを塗布し６０℃３時間の環境下で硬化させることで塗布型バリア層を形成した。塗布型バリアが無い面にイソシアネートからなるアンカー層をブレードコーターによって塗布し、８０℃１分かけて乾燥させた。アンカー層の上に銀反射層として真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。銀反射層の上にベンゾトリアゾール系腐食防止剤を含んだメチルアクリレート：ブチルアクリレート共重合体（比率６４：３６、熱硬化樹脂）の酢酸エチル溶液をグラビアコート法によりコーティングし、８０℃で４分間乾燥して金属腐食防止層を形成し本発明のミラー５を作製した。【０１６２】
（ミラー６の作製）
樹脂板として１ｍ角のポリカーボネート板（三菱ガス化学製、厚さ３ｍｍ）を用いた。この樹脂板表面を洗浄し、油脂分等を取り除いた後に片面に、イソシアネートからなるアンカー層をブレードコーターによって塗布し、８０℃１分かけて乾燥させた。アンカー層の上に銀反射層として真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。銀反射層の上にベンゾトリアゾール系腐食防止剤を含んだメチルアクリレート：ブチルアクリレート共重合体（比率６４：３６、熱硬化樹脂）の酢酸エチル溶液をグラビアコート法によりコーティングし、８０℃で４分間乾燥して金属腐食防止層を形成した。銀反射層形成面とは逆の面に、メチルアクリレート：ブチルアクリレート共重合体（比率６４：３６、熱硬化樹脂）にトリアジン系紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ製  ＴＩＮＵＶＩＮ  １５７７）を３質量％混合したトルエン溶液をグラビアコート法によりコーティングし、８０℃で３０秒間乾燥して紫外線吸収剤を含む樹脂板保護層を形成し本発明のミラー６を作製した。【０１６３】
（ミラー７の作製）
樹脂板として１ｍ角のポリエチレンテレフタレート板（三菱樹脂製、厚さ３ｍｍ）を用いた。この樹脂板表面を洗浄し、油脂分等を取り除いた後に片面に、酸化ケイ素を６４ｎｍの膜厚、酸化チタン層を３５ｎｍの膜厚で交互に真空蒸着し、４層構成のガスバリア層兼紫外線反射層を成膜した。その他はミラー６と同じ作製方法で本発明のミラー７を作製した。【０１６４】
（ガスバリア測定試料の作製）
ガスバリア性の測定装置として、水蒸気透過度は、ＭＯＣＯＮ社製の水蒸気透過度測定装置ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３−３３を使用した。酸素透過性は、ＭＯＣＯＮ社製の酸素透過度測定装置ＯＸＴＲＡＮ−２−２１にて測定した。厚さを測定装置に合わせるため、ミラー１からミラー７の太陽光側に表層に配置されている層を構成する材料の厚さを０．５ｍｍに統一した。水蒸気透過度と酸素透過度を測定したところ、表２に示す結果が得られた。【０１６５】
《ミラーの評価》
〔初期のスポット径の測定〕
上記作製したミラーについて、ニコンエンジニアリング社製の小型ワーキングオートコリメーターＷＶ−６０を用いて、反射スポットのスポット径を計測した。スポットは、有効観測領域が直径２８ｍｍの円形とし、ミラー表面が平面性を持ち反射効率が高い場合は、ミラーに入射した光束径と同じスポット径がＣＣＤセンサを通してモニター上に得られる。従って、初期スポット径が２８ｍｍに近いほど、反射効率に優れていることを表す。【０１６６】
〔初期の５度正反射率の測定〕
上記作製したミラーの太陽光入射面側における５度正反射率を測定した。日立社製の分光光度計  Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を使って、入射角５度の基準サンプルに対する相対反射率測定を行った。波長範囲は２５０〜２５００ｎｍで測定し、部分的に反射率が落ちる波長範囲が無いかどうかを確認した。可視光領域（４００〜８００ｎｍ）における反射率を平均し、これを５度正反射率とした。【０１６７】
〔耐候性の評価〕
上記作製したミラーを、温度８５℃、相対湿度８５％の環境下で３０日間放置後したのち、ミラーの太陽光入射面側に対しキセノンランプ照射（スガ試験機  ＳＸ７５を用いて、放射強度１８０Ｗ／ｍ２  ５００時間）を行った。次いで、キセノンランプ照射後に上記と同様の方法で５度正反射率を測定した。上記の初期のスポット径、初期の５度正反射率に対し、変動幅が少ないほど、耐候性に優れていることを表す。【０１６８】
〔質量評価〕
ステンレス台はかり（最大秤量３０ｋｇ）に、１ｍ２のミラーを置き、質量を測定した。【０１６９】
〔面内異物、平坦度評価〕
作製したミラーを測定装置に入るように１５０ｍｍ角に切断した。フィゾー式垂直入射干渉計（トロペル社製、ＭＳＰ１５０）に配置し、１５０ｍｍ角範囲内の高低差が１０μｍ未満であれば○、１０μｍ以上１００μｍ未満は△、１００μｍ以上の高低差がある場合には×と判定した。【０１７０】
【表１】
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【０１７１】
表１に記載の結果より明らかな様に、本発明のミラーは、比較例に対し、優れた正反射性を有すると共に、軽量で平面性を持ち耐候性に優れていることが分かる。【０１７２】
【表２】
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【０１７３】
表２に記載の結果より明らかな様に、本発明のミラーは、比較例に対し、ガスバリア性を持ち耐候性に優れていることが分かる。【０１７４】
実施例２
《太陽熱発電用反射装置の作製》
上記作製した各ミラーを保持部材としてアルミニウムフレームに設置し太陽熱発電用反射装置を作製した。０．５ｍｍ厚鋼板をつかったミラー３は風速１５ｍ／ｓの際にたわみが生じた。その他のミラーはたわみ等の変形は発生しなかった。【０１７５】
《太陽熱発電用反射装置の評価》
上記作製した太陽熱発電用反射装置について、実施例１に記載の方法と同様にして、正反射性、耐擦過性、耐候性と、様々な温湿度環境下で耐久性を確認した結果、本発明のミラーを用いた太陽熱発電用反射装置は、比較例に対し良好な結果を得ることができることを確認することができた。
【産業上の利用可能性】
【０１７６】
本発明は、以上のように構成されていることから、太陽光反射用ミラー及び太陽光反射用ミラーを用いた太陽熱発電用反射装置として利用できる。
【符号の説明】
【０１７７】
１  太陽光反射用ミラー
２  樹脂板保護層
３  樹脂板
４  アンカー層
５  金属反射層
６  金属腐食防止層
【図１】
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【国際調査報告】
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