(57)【要約】  樹脂の支持体の最表面にＵＶ吸収剤を含み加熱工程を含む方法により硬化させた樹脂を含有するハードコート層を有し、かつ、金属の反射層を有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置。
2012057003.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性樹脂層の最表面にＵＶ吸収剤を含み加熱工程を含む方法により硬化させた樹脂を含有するハードコート層を有し、かつ、金属の反射層を有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項２】
前記金属の反射層が銀からなることを特徴とする請求項１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項３】
前記ハードコート層がポリシロキサン系化合物からなる熱硬化性樹脂で形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項４】
前記ＵＶ吸収剤が、低分子トリアジン系ＵＶ吸収剤、高分子ベンズトリアゾール系ＵＶ吸収剤、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、及び、酸化鉄から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項５】
前記ハードコート層に酸化防止剤を含有することを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを支持体上に粘着層を介して貼り合せて作製されたことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽熱発電用フィルムミラー及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わるエネルギーとしては現在、バイオマスエネルギー、風力エネルギー、太陽エネルギー等の自然エネルギーの検討がなされているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、且つ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられている。しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であること等が問題となると考えられる。【０００３】
太陽エネルギーの上記課題に対し、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決する方法が提案されている。反射装置は、太陽光による紫外線や熱、また風雨や砂嵐等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは、環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損すること、あるいは重いためにミラーを設置する架台の強度を持たせる必要があり、その結果、プラントの建設費がかさむといった問題があった。【０００４】
その一方で、軽量で柔軟性が高く、かつ生産コストおよび輸送コストが低い太陽熱発電用のミラーとして、フィルムミラーがある。太陽熱発電用のフィルムミラーは、常時屋外にさらされた状態で使用されるため、砂嵐などによる傷つきや、フィルムミラー洗浄時の傷つきによる反射率の低下を防ぐ必要がある。同時に、ＵＶ光の露光による表層の樹脂層の硬度低下および黄変等の変色を防ぐ必要がある。これら反射率の低下や変色の問題は、発電効率の低下につながる問題である。【０００５】
上記の様に太陽熱発電用フィルムミラーにおいては、長期に亘り屋外環境で使用する場合でも、高硬度で傷つきおよび変色が少ないハードコート層を最表面に設ける技術の実現が課題となっていた。【０００６】
既に報告されている太陽熱発電用フィルムミラーとして、フィルムの最表面層に６１μｍのアクリル層を設けているものがあるが（例えば、特許文献１参照）、太陽光の照射量が多い砂漠にミラーを設置した場合、特許文献１のアクリルでは十分な硬度がないため、砂嵐などによりフィルム表面が傷ついてしまい、反射率の低下を防止することはできない。また、フィルムに砂や埃が付着して、経時によるフィルム表面の汚れが顕著になり、高反射率を長期間保つことができない。現状では、ミラー表面に水をかけブラシで洗浄することで高反射率を保っているが、この場合、洗浄に使用する物品費用のみならず人件費がかかる。また、太陽熱発電の場合、砂漠のように汚れが付着しやすいような環境にミラーを設置するため、頻繁に洗浄する必要があるが、洗浄回数が増えるとミラー自体が傷み、反射率が低下していた。【０００７】
また、ＵＶ硬化により硬化させるアクリル系ハードコート層に樹脂固形分の１５質量％以上のベンズトリアゾール系ＵＶ吸収剤を含有させてハードコート層の耐候性向上を試みている（例えば、特許文献２参照）。しかしながら、特許文献２のハードコートではＵＶ露光後にハードコート層の変色は抑制できたが、硬度の低下が顕著であった。このため、砂漠のような屋外環境で長期間使用した際、砂嵐と洗浄作業によりハードコート層に激しく傷がつき、ミラーの反射率が低下していた。【０００８】
そのため、太陽熱発電に用いることができ、長期間屋外で使用しても変色が少なく傷がつきにくい最表面層を有するフィルムミラーは未だ提案されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特表２００９−５２０１７４号公報
【特許文献２】米国特許第７５０７７７６明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、長期間屋外で使用しても変色が少なく傷がつきにくい最表面層を有し、軽量で柔軟性があり、耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用フィルムミラー及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。【００１２】
１．透光性樹脂層の最表面にＵＶ吸収剤を含み加熱工程を含む方法により硬化させた樹脂を含有するハードコート層を有し、かつ、金属の反射層を有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。【００１３】
２．前記金属の反射層が銀からなることを特徴とする前記１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。【００１４】
３．前記ハードコート層がポリシロキサン系化合物からなる熱硬化性化合物で形成されることを特徴とする前記１又は２に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。【００１５】
４．前記ＵＶ吸収剤が、低分子トリアジン系ＵＶ吸収剤、高分子ベンズトリアゾール系ＵＶ吸収剤、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、及び、酸化鉄から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする前記１〜３の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。【００１６】
５．前記ハードコート層に酸化防止剤を含有することを特徴とする前記１〜４の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。【００１７】
６．前記１〜５の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを支持体上に粘着層を介して貼り合せて作製されたことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の効果】
【００１８】
本発明により、長期間屋外で使用しても変色が少なく傷がつきにくい最表面層を有し、軽量で柔軟性がある太陽熱発電用フィルムミラーと、それを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の別の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２１】
筆者らの鋭意検討の結果、屋外使用時におけるハードコート層の傷つき耐性低下は、一般に使われているＵＶ硬化工程のみにより形成されるハードコートに特徴的な現象であり、未反応モノマーが太陽光のＵＶ領域の光で再重合した際に形成するクラスターがハードコート層のひずみとなり、ハードコート層にマイクロクラックが入ることが原因であることがわかった。特に、ＵＶ硬化工程のみにより形成されるハードコート層にＵＶ吸収剤が含有している場合、上記のマイクロクラックの発生は顕著となることもわかった。また、ハードコート層を、加熱工程を含む方法により形成させることで、耐候性付与に十分な量のＵＶ吸収剤を添加してもマイクロクラックは発生しにくく、そのため傷つきおよび汚れ付着も抑制されることがわかった。
【００２２】
以下、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの各構成要素の詳細について説明する。
【００２３】
（太陽熱発電用フィルムミラーの構成）
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成概要を図１、図２を用いて説明する。
【００２４】
太陽熱発電用フィルムミラー１０、１１は、図１、図２に示すように、樹脂基材１上に構成層として、少なくとも反射層３と表面側の最表面層であるハードコート層７とを有するフィルムミラーであることを特徴とする。他の構成層として、アンカー層２、腐食防止層４、接着層５および透光性樹脂層としてのアクリル樹脂層６を設けることも好ましい態様である。尚、接着層５を有さない態様であってもよい。
【００２５】
〔ハードコート層〕
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーにおいては、最表面層として、ハードコート層を設ける。本発明に係るハードコート層は、傷防止及び汚れ防止のために設けられる。
【００２６】
本発明に係るハードコート層は、バインダーとして、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂、ポリシロキサン系化合物等を用い、加熱工程を含む方法により硬化させて作製する。本発明のバインダー樹脂の硬化は、熱硬化方法であるが、ＵＶ硬化性のバインダー樹脂を初期ＵＶ硬化後に追加熱硬化を行う方法も好ましい。特に、本発明では硬度と耐久性等の点で熱硬化性のバインダーであるシリコーン系樹脂又はポリシロキサン系化合物を熱硬化のみによって硬化させるのが好ましい。特に好ましくはポリシロキサン系化合物である。また、ＵＶ硬化後に追加熱硬化を行う方法によりバインダーを硬化させる場合、硬度と耐久性等の点でアクリル系樹脂を用いるのが好ましい。また、必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有させてもよい。
【００２７】
バインダーの加熱工程とは、塗布後のバインダーを４０℃以上の雰囲気下で１分以上処理して硬化させることを言う。硬化性樹脂層の架橋密度を十分なものとするために、４０〜１５０℃の雰囲気下で、１分〜数日処理を必要とする。十分な硬度を発現させるために、６０℃〜１００℃の雰囲気下で３０分から２日間静置することが好ましい。
【００２８】
熱硬化性樹脂としては、ポリシロキサン系化合物、シリコーン系樹脂またはシリコーン変性系樹脂、アクリル系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂を用いることができるが、本発明においては、シリコーン系樹脂、シリコーン変性系樹脂又はシロキサン系化合物を用いるのが好ましく、特に好ましくはポリシロキサン系化合物を用いることである。
【００２９】
シリコーン系樹脂又はポリシロキサン系化合物を構成する前駆体化合物は、一般式ＲｍＳｉ（ＯＲ’）ｎで示されるものであり、ＲおよびＲ’は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍおよびｎは、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数である。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ポロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テロラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−アミノベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等のシランカップリング剤や、電離放射線硬化性シロキサン化合物を用いることもできる。電離放射線硬化性シロキサン化合物としては、具体的には、電離放射線の照射により反応し架橋する複数の官能基、例えば重合性二重結合基を有する分子量５０００以下の有機ケイ素化合物が挙げられ、より具体的には、片末端ビニル官能性ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、またはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。この組成物は、シラノール基の脱水縮合により３次元架橋がなされ、高硬度の被膜が得られる。
【００３０】
ポリシロキサン系化合物とは、下記一般式（０）で表されるシラン化合物から選択される少なくとも１ 種を加水分解反応させて得られる反応生成物であり、シロキサン結合が３次元的に形成されている重合体である。好ましくは、質量平均分子量が１０００〜３０００の重合体である。
一般式（０）；  Ｒ４−ｎＳｉ（ＯＲ’）ｎ 
（式中、Ｒは水素原子、アルキル基またはフェニル基を表し、Ｒ’はアルキル基またはフェニル基を表し、ｎは２〜４の整数を表す。）
また、シリコーン変性系樹脂とはシリコーンを側鎖にもつグラフト共重合体である。好ましくはシリコーンを側鎖にもつアクリル系グラフト共重合体である。アクリル変性シリコーン高分子モノマーとラジカル重合性単量体をラジカル重合させて成るシリコーン系グラフト共重合体としては、前記アクリル変性シリコーンが、下記一般式（１）で示されるシリコーンと下記一般式（２）で示されるアクリル化合物とを縮合させて成る生成物をあげることができる。
【００３１】
【化１】
2012057003.tif 000003
【００３２】
式中Ｒ６およびＲ７は炭素数１〜１０の一価の脂肪族炭化水素基、フェニル基または一価のハロゲン化炭化水素基を表し、ｑは１以上の正数である。
【００３３】
【化２】
2012057003.tif 000004
【００３４】
式中Ｒ８は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ９はメチル基、エチルまたはフェニル基を表し、２個のＲ９は互いに同一もしくは異なっていてもよく、Ｚは塩素原子、メトキシ基またはエトキシ基を表す。
【００３５】
前記一般式（１）で示されるシリコーンまたはポリシロキサン系化合物は市販品として入手でき、目的にあったものを使用することができる。前記式一般式（１）におけるＲ６およびＲ７は炭素数１〜１０の一価の脂肪族炭化水素基、フェニル基または一価のハロゲン化炭化水素であり、炭素数１〜１０の一価の脂肪族炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、アシル基等が挙げられ、一価のハロゲン化炭化水素としては、例えば３，３，３−トリフルオロプロピル基、４，４，４−トリフルオロ−３，３−ジフルオロブチル基、２−クロロエチル基等が挙げられる。Ｒ６およびＲ７として特に好ましいのはメチル基である。
【００３６】
前記一般式（１）でｑは１以上の正数であるが、一般にｑの数が１００以上という高分子量のシリコーンから誘導されるアクリル変性シリコーンとラジカル重合性単量体との共合からはオイル状のものが得られやすい傾向にあり、ｑの数が１００以下という低分子量シリコーンから誘導されるアクリル変性シリコーンとラジカル重合性単量体との共重合からは用いるモノマーの種類によりオイル状、ゼリー状、固体状等各種のものを得ることができる。
【００３７】
次に前記一般式（２）で示されるアクリルシラン化合物としては、例えばγ−メタクリルオキシプロピルジメチルクロロシラン、γ−メタクリルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルジフェニルクロロシラン、γ−アクリルオキシプロピルジメチルクロロシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリクロロシラン等が挙げられる。これらのアクリルシラン化合物は、特公昭３３−９９６９号の方法等に従い、ケイ素化合物と脂肪族性多重結合を有する化合物とを塩化白金酸の存在下で反応させることにより容易に得られる。
【００３８】
また、ポリシロキサン系化合物としては、従来公知の方法を使用でき、加熱重合法等で重合させることができる。このとき、ポリシロキサンのシラノール基等の反応性基を架橋点として３次元的にシロキサン結合が形成された重合体となる。
【００３９】
また、アクリル変性シリコーンとラジカル重合性単量体とのラジカル共重合は、従来公知の方法を使用でき、放射線照射法、ラジカル重合開始剤を用いる方法を使用できる。さらに紫外線照射法により共重合させる場合は、ラジカル重合開始剤として公知の増感剤を使用し、電子線照射により共重合させる場合はラジカル重合開始剤を使用する必要はない。このようにして得られたシリコーン共重合体は、ラジカル重合性単量体を幹とし、シリコーンを枝とする櫛形グラフト共重合体である。
【００４０】
ポリシロキサン系化合物としては、サーコートＮＰ７３０、サーコートＮＰ７２０（以上動研社製）、OCD T7、OCD T11、OCD T12（以上東京応化工業社製）を挙げることができる。
シリコーン共重合体の市販品としては、サイマックＵＳ−１５０、ＵＳ−２７０、ＵＳ−３５０、ＵＳ−４５０、レゼダＧＰ−７００（以上、東亞合成（株）製）等を挙げることができる。
【００４１】
ＵＶ硬化性樹脂としては、たとえば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリス（ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、多官能ウレタン化（メタ）アクリレート等を主成分とする（メタ）アクリレート系樹脂などが例示される。ここで、多官能ウレタン化（メタ）アクリレートとは、たとえば、イソホロンジイソシアネートやヘキサメチレンジイソシアネートのような、分子内に少なくとも２個のイソシアナト基（−ＮＣＯ）を有するポリイソシアネートに、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレートやペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートのような、分子内に１個の水酸基および少なくとも１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を付加反応させて得られる、ウレタン結合と少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。これらの紫外線硬化性樹脂は単独または２種以上混合して使用することができる。また、多官能ウレタン化（メタ）アクリレートに、上述したようなウレタン結合を有しない多官能（メタ）アクリレートを組み合わせて用いることも可能である。
【００４２】
ＵＶ硬化性樹脂としては市販されているものを好適に用いることができる。ＵＶ硬化性樹脂の市販品としては、具体的には、カヤラッド  ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＤＰＣＡ−２０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＤＰＣＡ−３０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＤＰＣＡ−６０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＤＰＣＡ−１２０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  Ｄ−３１０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  Ｄ−３３０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＰＥＴ−３０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＧＰＯ−３０３（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＴＭＰＴＡ（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＴＨＥ−３３０（日本化薬（株）製）、カヤラッド  ＴＰＡ−３３０（日本化薬（株）製）、アロニックスＭ−３１５（東亞合成（株）製）、アロニックスＭ−３２５（東亞合成（株）製）などが挙げられる。
【００４３】
上述したようなＵＶ硬化性樹脂は、通常、光重合開始剤と混合して使用される。光重合開始剤としては、たとえば、イルガキュアー  ９０７（チバ・ジャパン社製）、イルガキュアー  １８４（チバ・ジャパン社製）、ルシリン  ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）などの市販品を好適に用いることができる。
【００４４】
また、充分な高硬度を有し、硬化収縮によるカールを充分に抑制し得るハードコート層を得る観点から、ＵＶ硬化樹脂中にシリカ微粒子を添加するようにしてもよい。この場合、シリカ微粒子としては、粉体状シリカまたはコロイダルシリカが挙げられ、平均粒子径が０．０１〜２０μｍの範囲内のものが好適に用いられる。また、シリカ微粒子は、ハードコートフィルムの光透過性に影響を与えないものであることが好ましく、そのためには、一次粒子径が１０〜３５０ｎｍの範囲内にあることが好ましく、１０〜５０ｎｍの範囲内にあることがより好ましい。なお、上述したシリカ微粒子の平均粒子径は、たとえば透過型電子顕微鏡で観察することにより測定することができ、また、シリカ微粒子の一次粒子径は、たとえばイソプロピルアルコールなどの溶媒に微粒子を分散させ、その分散液から、コールター粒度分布測定法、レーザー回折散乱法、動的光散乱法などにより測定することができ、これらの中でもコールター粒度分布測定法が一般的である。
【００４５】
シリカ微粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、もしくは不定形状であってよいが、紫外線硬化性樹脂中で凝集することなく粒子を好適に分散させるためには、好ましくは球状である。また、ハードコート層の硬度や平面性を維持する観点から、シリカ微粒子の比表面積は０．１〜３０００ｍ２／ｇの範囲内であることが好ましく、さらには１ｍ２／ｇ以上、とりわけ１０ｍ２／ｇ以上、また１５００ｍ２／ｇ以下であることがより好ましい。
【００４６】
このようなシリカ微粒子も市販されているものを好適に用いることができる。シリカ微粒子の市販品を例示すると、コロイダルシリカとしては、メタノールシリカゾル（日産化学工業（株）製）、ＩＰＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＭＥＫ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＮＢＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＸＢＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＤＭＡＣ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＵＰ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＯＵＰ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−２０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−４０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｃ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｎ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｏ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−５０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＯＬ（日産化学工業（株）製）などを挙げることができる。また粉体状シリカとしては、アエロジル１３０（日本アエロジル（株）製）、アエロジル３００（日本アエロジル（株）製）、アエロジル３８０（日本アエロジル（株）製）、アエロジルＴＴ６００（日本アエロジル（株）製）、アエロジルＯＸ５０（日本アエロジル（株）製）、シルデックスＨ３１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ３２（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ５１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ５２（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ１２１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ１２２（旭硝子（株）製）、Ｅ２２０Ａ（日本シリカ工業（株）製）、Ｅ２２０（日本シリカ工業（株）製）、サイリシア４７０（富士シリシア（株）製）、ＳＧフレーク（日本板硝子（株）製）などを挙げることができる。
【００４７】
＜レベリング剤＞
本発明において、ハードコート層の形成に用いられる硬化性組成物には、得られるハードコート層の表面平滑性を確保するために、レベリング剤が添加することができる。レベリング剤とは、塗料に添加することでその塗料の表面張力を低下させ、塗膜の表面平滑性を向上させる効果のある薬剤である。
【００４８】
レベリング剤として一般的に使用される物質としては、ポリアルキルアクリレートなどのポリアクリレート系ポリマー；ポリアルキルビニルエーテルなどのポリビニルエーテル系ポリマー；ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、さらにはポリエーテル、ポリエステル、アラルキルなどが導入された有機変性ポリシロキサンなどのシリコーン系ポリマーなどが例示されるが、本発明で使用できるレベリング剤はこれらのポリマーにフッ素原子を含有するものである。フッ素原子を有するレベリング剤は、例えばフッ素含有基を有するモノマーを共重合させることにより得ることができる。
【００４９】
具体的商品としては、例えばサーフロン「Ｓ−３８１」、「Ｓ−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０２」、「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（何れも旭硝子株式会社製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「ＦＣ−４３１」、「ＦＣ−１７３」（何れもフロロケミカル−住友スリーエム製）、エフトップ「ＥＦ３５２」、「ＥＦ３０１」、「ＥＦ３０３」（何れも新秋田化成株式会社製）、シュベゴーフルアー「８０３５」、「８０３６」（何れもシュベグマン社製）、「ＢＭ１０００」、「ＢＭ１１００」（いずれもビーエム・ヒミー社製）、メガファック「Ｆ−１７１」、「Ｆ−４７０」、「ＲＳ−７５」、「ＲＳ−７２−Ｋ」（いずれも大日本インキ化学工業株式会社製）、ＢＹＫ３４０（ビックケミー・ジャパン社製）、「ＺＸ−０４９」、「ＺＸ−００１」、「ＺＸ−０１７」（何れも富士化成工業社製）等を挙げることができる。
【００５０】
本発明においては、フッ素原子を有するレベリング剤が、最表面のハードコート層中に含まれていることが好ましい。レベリング剤が硬化性組成物において組成物固形分の０．１質量％未満である場合、ハードコート層の撥水性は十分でなく防汚性が不十分となるため不適である。また、レベリング剤が硬化性樹脂組成物において硬化性組成物固形分の１０質量％を超える場合、十分な硬度を得ることができず、不適である。レベリング剤が、最表面のハードコート層中の組成物固形分の０．５質量％以上５質量％以下の割合で最表面のハードコート層に含まれていることが好ましい。この場合、耐擦傷性、防汚性はさらに良好となる。
【００５１】
本発明のハードコート層は、上述したようなＵＶ硬化性組成物およびレベリング剤、さらにＵＶ吸収剤および酸化防止剤を含有する硬化性組成物を含む塗液を樹脂基材上に塗布し、ＵＶ光を照射して硬化性組成物を硬化させ、樹脂支持体上に当該硬化性組成物の硬化物であるハードコート層を形成する方法により、製造することができる。
【００５２】
本発明において、ハードコート層の形成に用いられる塗布液は、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのいずれか１種以上を溶剤として電離放射線硬化性樹脂の固形分が３０〜７０質量％となるように希釈して得ることができる。ここで、塗布液中の電離放射線硬化性樹脂の固形分が３０質量％未満である場合には、塗布液を樹脂基材上に塗布した際に溶剤濃度が高すぎて１０〜３０μｍの厚みの塗膜を得ることが難しく、また、塗布液中の電離放射線硬化性樹脂の固形分が７０質量％を超える場合には、塗布液の粘度が高すぎて塗膜にムラが発生し、平面性を損なうためである。
【００５３】
＜ＵＶ吸収剤＞
本発明において、ハードコート層の形成に用いられる硬化性組成物には、得られるハードコート層および下層の樹脂層の耐候性を向上させるために、ハードコート層に有機化合物からなるＵＶ吸収剤または無機化合物からなるＵＶ吸収剤、もしくは両者を含んでいることが好ましい。有機系の場合はトリアジン系ＵＶ吸収剤を用いるのが好ましい。
【００５４】
＜無機ＵＶ吸収剤＞
本発明に係る無機ＵＶ吸収剤とは、主には金属酸化物顔料であり、透光性樹脂層に２０質量％以上の濃度で分散させて、６μｍ厚のフィルムを形成し、ＵＶ−Ｂ域（２９０−３２０ｎｍ）域における光線透過率を１０％以下にする機能を備えた化合物である。本発明に適用可能な無機ＵＶ吸収剤としては、特に、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化セリウムまたはこれらの混合物から選択されることが好ましい。
【００５５】
また、無機ＵＶ吸収剤含有層の透明性を向上させる点から、平均粒径が５ｎｍと５００ｎｍとの間の平均基本粒子径であるものが好ましく、特に好ましくは１０ｎｍと１００ｎｍとの間の平均基本粒子径であって、粒径分布の最大粒径が１５０ｎｍ以下の金属酸化物粒子である。この種の被覆または非被覆金属酸化物顔料は、より詳細に、特許出願ＥＰ−Ａ−０  ５１８  ７７３に記載されている。
【００５６】
また、本発明においては、無機酸化物の光触媒能による隣接樹脂の酸化劣化作用を抑える観点から、無機ＵＶ吸収剤が、表面被覆した平均粒径が、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の無機ＵＶ吸収剤微粒子であってもよい。また、表面被覆には無機ＵＶ吸収剤粒子の分散性を向上させる効果もあるため、なお好ましい。ここでいう表面被覆された無機ＵＶ吸収剤とは、アミノ酸、蜜蝋、脂肪酸、脂肪アルコール、陰イオン界面活性剤、レシチン、脂肪酸のナトリウム塩、カリウム塩、亜鉛塩、鉄塩またはアルミニウム塩、金属アルコキシド（チタンまたはアルミニウムの）、ポリエチレン、シリコーン、タンパク質（コラーゲン、エラスチン）、アルカノールアミン、酸化ケイ素、金属酸化物あるいはヘキサメタリン酸ナトリウムのような化合物により、化学的、電子工学的、メカノケミストリー的または機械的な特質の１つまたは複数の手段により表面処理を受けた無機ＵＶ吸収剤である。
【００５７】
無機ＵＶ吸収剤を単独で用いる場合の使用量は、ＵＶ吸収層の全質量に対し１〜３０質量％、好ましくは５〜２５質量％、さらに好ましくは１５〜２０質量％である。３０質量％よりも多いと密着性が悪くなり、１質量％より少ないと耐候性改良効果が小さい。
【００５８】
また、無機ＵＶ吸収剤を後述する有機ＵＶ吸収剤と併用して用いる場合、ＵＶ吸収層の全質量に対し、無機ＵＶ吸収剤の使用量は３〜２０質量％、好ましくは５〜１０質量％であり、有機ＵＶ吸収剤の使用量は０．１〜１０質量％、好ましくは０．５〜５質量％である。前記の使用量の範囲で無機ＵＶ吸収剤と有機ＵＶ吸収剤とを併用すると、ＵＶ吸収層の透明度は高く、耐侯性も良好となる。
【００５９】
＜低分子トリアジン系ＵＶ吸収剤＞
本発明において好ましく用いられる低分子トリアジン系ＵＶ吸収剤は下記一般式（Ｉ）で表される。
【００６０】
一般式（Ｉ）      Ｑ１−Ｑ２−ＯＨ
式中、Ｑ１は１，３，５−トリアジン環を表し、Ｑ２は芳香族環を表す。
【００６１】
一般式（Ｉ）としてさらに好ましくは下記一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物である。
【００６２】
【化３】
2012057003.tif 000005
【００６３】
式中、Ｒ１は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；フェニル基、ヒドロキシ基、炭素原子数１〜１８のアルコキシ基、炭素原子数５〜１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数３〜１８のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ４、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ５、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ６、−ＣＯ−ＮＨ２、−ＣＯ−ＮＨＲ７、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ７）（Ｒ８）、ＣＮ、ＮＨ２、ＮＨＲ７、−Ｎ（Ｒ７）（Ｒ８）、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ５、フェノキシ基、炭素原子数１〜１８のアルキル基で置換されたフェノキシ基、フェニル−炭素原子数１〜４のアルコキシ基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルコキシ基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルキルアルコキシ基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニルアルコキシ基、または炭素原子数６〜１５のトリシクロアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１８のアルキル基；ヒドロキシ基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数２〜６のアルケニル基または−Ｏ−ＣＯ−Ｒ５で置換された炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；グリシジル基；−ＣＯ−Ｒ９または−ＳＯ２−Ｒ１０を表すか；あるいはＲ１は１以上の酸素原子で中断された及び／またはヒドロキシ基、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換された炭素原子数３〜５０のアルキル基を表すか；あるいはＲ１は−Ａ；−ＣＨ２−ＣＨ（ＸＡ）−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１２；−ＣＲ１３Ｒ′１３−（ＣＨ２）ｍ−Ｘ−Ａ；−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＡ）−Ｒ１４；−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＸＡ；
【００６４】
【化４】
2012057003.tif 000006
【００６５】
−ＣＲ１５Ｒ′１５−Ｃ（＝ＣＨ２）−Ｒ″１５；−ＣＲ１３Ｒ′１３−（ＣＨ２）ｍ−ＣＯ−Ｘ−Ａ；−ＣＲ１３Ｒ′１３−（ＣＨ２）ｍ−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１５Ｒ′１５−Ｃ（＝ＣＨ２）−Ｒ″１５または−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ１５Ｒ′１５−Ｃ（＝ＣＨ２）−Ｒ″１５（式中、Ａは−ＣＯ−ＣＲ１６＝ＣＨ−Ｒ１７を表す。）で表される定義の一つを表す。
【００６６】
Ｒ２は、互いに独立して、炭素原子数６〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜６のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；ＣＯＯＲ４；ＣＮ；−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ５；ハロゲン原子；トリフルオロメチル基；−Ｏ−Ｒ３を表す。
【００６７】
Ｒ３はＲ１に対して与えられた定義を表し；Ｒ４は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表すか；あるいはＲ４は１以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ７−、−Ｓ−で中断された及びＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数３〜５０のアルキル基を表し；Ｒ５はＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜１８のアルケニル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニル基；炭素原子数６〜１５のトリシクロアルキル基を表し；Ｒ６はＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表し；Ｒ７及びＲ８は互いに独立して炭素原子数１〜１２のアルキル基；炭素原子数３〜１２のアルコキシアルキル基；炭素原子数４〜１６のジアルキルアミノアルキル基を表すか；または炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表し；あるいはＲ７及びＲ８は一緒になって炭素原子数３〜９のアルキレン基、炭素原子数３〜９のオキサアルキレン基または炭素原子数３〜９のアザアルキレン基を表し；Ｒ９は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニル基；または炭素原子数６〜１５のトリシクロアルキル基を表し；Ｒ１０は炭素原子数１〜１２のアルキル基；フェニル基；ナフチル基；または炭素原子数７〜１４のアルキルフェニル基を表し；Ｒ１１は互いに独立してＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜６のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；ハロゲン原子；炭素原子数１〜１８のアルコキシ基を表し；Ｒ１２は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数３〜８のアルケノキシ基、ハロゲン原子またはトリフルオロメチル基で１〜３回置換されたフェニル基を表すか；または炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のトリシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキルアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニルアルキル基；−ＣＯ−Ｒ５を表し；またはＲ１２は１以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ７−、−Ｓ−で中断された及びＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数３〜５０のアルキル基を表し；Ｒ１３及びＲ′１３は互いに独立してＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；フェニル基を表し；Ｒ１４は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１２のアルコキシアルキル基；フェニル基；フェニル−炭素原子数１〜４のアルキル基を表し；Ｒ１５、Ｒ′１５及びＲ″１５は互いに独立してＨまたはＣＨ３を表し；Ｒ１６はＨ；−ＣＨ２−ＣＯＯ−Ｒ４；炭素原子数１〜４のアルキル基；またはＣＮを表し；Ｒ１７はＨ；−ＣＯＯＲ４；炭素原子数１〜１７のアルキル基；またはフェニル基を表し；Ｘは−ＮＨ−；−ＮＲ７−；−Ｏ−；−ＮＨ−（ＣＨ２）ｐ−ＮＨ−；または−Ｏ−（ＣＨ２）ｑ−ＮＨ−を表し；及び指数ｍは数０〜１９を表し；ｎは数１〜８を表し；ｐは数０〜４を表し；ｑは数２〜４を表す；ただし一般式一般式（Ｉ−Ａ）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ１１の少なくとも１つが２個以上の炭素原子を含む、である。
【００６８】
＜低分子ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤＞
ベンゾフェノン系紫外線は下記一般式（II）で表される。
【００６９】
【化５】
2012057003.tif 000007
【００７０】
式中、Ｑ１及びＱ２はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘは置換基を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子または窒素原子を表す。ＸＹは水素原子であってもよい。
【００７１】
ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤としては、例えば、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００７２】
＜低分子ベンズトリアゾール系ＵＶ吸収剤＞
ベンズトリアゾール系紫外線は下記一般式（III）で表される。
【００７３】
【化６】
2012057003.tif 000008
【００７４】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に一価の有機基を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも１つは総炭素数１０〜２０の無置換の分岐または直鎖のアルキル基を表す。
【００７５】
ベンズトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンズトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンズトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンズトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンズトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンズトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンズトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンズトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンズトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンズトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンズトリアゾール、２（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンズトリアゾール、（２（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロロベンズトリアゾール、２（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンズトリアゾール、（２（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロロベンズトリアゾール等が挙げられる。
【００７６】
＜高分子型ＵＶ吸収剤＞
本発明に用いられる高分子型ＵＶ吸収剤とは、重量平均分子量が５００以上の化合物をいう。重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置で測定することができる。
【００７７】
本発明に用いられる高分子型ＵＶ吸収剤としては、下記一般式（３）で表される化合物が好ましく、中でもベンズトリアゾール基を有するベンズトリアゾール系高分子ＵＶ吸収剤がより好ましい。
【００７８】
【化７】
2012057003.tif 000009
【００７９】
式中、Ｒ１１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ１２及びＲ１３は水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ３はベンゾフェノン基またはベンズトリアゾール基を表す。ｌ、ｍ及びｎは１以上の整数を表す。
【００８０】
Ｒ１２及びＲ１３で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等の直鎖状、分枝鎖状もしくは環状のアルキル基等が挙げられる。
【００８１】
Ｒ１及びＲ２で表されるアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ベンジル基、フェネチル基等を挙げることができる。
【００８２】
その他の高分子型ＵＶ吸収剤としては、例えば特開２００４−４２６１４号公報に記載の化合物が挙げられる。具体的には［２−ヒドロキシ−４−（メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２−ヒドロキシ−４−（メタクリロイルオキシメトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２−ヒドロキシ−４−（メタクリロイルオキシオクトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２−ヒドロキシ−４−（メタクリロイルオキシドデシロキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２−ヒドロキシ−４−（メタクリロイルオキシベンジロキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’−ジヒドロキシ−４−（メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’−ジヒドロキシ−４−（メタクリロイルオキシメトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’−ジヒドロキシ−４−（メタクリロイルオキシオクトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’−ジヒドロキシ−４−（メタクリロイルオキシベンジロキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２，２−ジヒドロキシ−４−（メタクリロイルオキシドデシロキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’，４−トリヒドロキシ−４’−（メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’，４−トリヒドロキシ−４’−（メタクリロイルオキシメトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’，４−トリヒドロキシ−４’−（メタクリロイルオキシオクトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’，４−トリヒドロキシ−４’−（メタクリロイルオキシドデシロキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’，４−トリヒドロキシ−４’−（メタクリロイルオキシベンジロキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［４−ヒドロキシ−４’−（メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［４−ヒドロキシ−４’−（メタクリロイルオキシメトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［４−ヒドロキシ−４’−（メタクリロイルオキシオクトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［４−ヒドロキシ−４’−（メタクリロイルオキシドデシロキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［４−ヒドロキシ−４’−（メタクリロイルオキシベンジロキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２−ヒドロキシ−４’−メチル−４−（メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２−ヒドロキシ−４’−メチル−４−（メタクリロイルオキシメトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２−ヒドロキシ−４’−メチル−４−（メタクリロイルオキシオクトキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２−ヒドロキシ−４’−メチル−４−（メタクリロイルオキシドデシロキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２−ヒドロキシ−４’−メチル−４−（メタクリロイルオキシベンジロキシ）ベンゾフェノン］−メタクリル酸メチル共重合体、［２−（２’−ヒドロキシ−４’−メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾトリアゾール］−メタクリル酸メチル共重合体、［２−（２’−ヒドロキシ−４’−メタクリロイルオキシエトキシ）−５−クロロベンゾトリアゾール］−メタクリル酸メチル共重合体等が挙げられる。さらには２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］等の分子量５００以上の高分子型ＵＶ吸収剤も好適である。
【００８３】
＜酸化防止剤＞
ハードコート層に酸化防止剤を好ましく用いる事ができる。酸化防止剤を用いることで耐候性を向上することができる。酸化防止剤は最表面層に用いることが効果的である。
【００８４】
本発明に適用可能なものとしては、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物の酸化防止剤群の中から選ぶことができる。
【００８５】
ヒンダードフェノール系化合物の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９−ビス−｛２−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウン���カン、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトールテトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から、“ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６”及び“ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０”という商品名で市販されている。
【００８６】
ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
【００８７】
また、高分子タイプの化合物でもよく、具体例としては、Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′−テトラキス−［４，６−ビス−〔ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ〕−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００８８】
これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。
【００８９】
上記タイプのヒンダードアミン化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から、“ＴＵＮＵＶＩＮ１４４”及び“ＴＵＮＵＶＩＮ７７０”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ−５２”という商品名で市販されている。
【００９０】
リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物；トリフェニルホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系化合物；トリフェニルホスフィナイト、２，６−ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系化合物；トリフェニルホスフィン、トリス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィン等のホスフィン系化合物；等が挙げられる。
【００９１】
上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−２４Ｇ”、“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−３６”及び“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ３０１０”、チバ・ジャパン株式会社から“ＩＲＧＡＦＯＳ  Ｐ−ＥＰＱ”、堺化学工業株式会社から“ＧＳＹ−Ｐ１０１”という商品名で市販されている。
【００９２】
〔アンカー層〕
本発明の反射フィルムに形成されるアンカー層は、樹脂からなり、プラスチックフィルムと後で述べる反射層とを密着するものである。従って、アンカー層はプラスチックフィルムと反射層とを密着する密着性、反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【００９３】
アンカー層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００９４】
アンカー層の厚さは、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【００９５】
厚さが、上記の範囲であると、密着性が良好になりアンカー層を形成した効果が大きく、またプラスチックフィルム表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性が良好になり、結果的には反射フィルムの反射率が高くなる。厚さが、３μｍより厚くても、密着性の向上は望めず、塗りムラの発生により平滑性が悪くなる場合がある。
【００９６】
アンカー層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００９７】
〔透光性樹脂層〕
透光性樹脂層は、光透過性を有する樹脂材料からなる。紫外線吸収剤を含有している樹脂層であることが好ましい。
透光性樹脂層に用いる樹脂材料には特に制限はないが、薄膜を形成した際に透明性を維持しうる、従来公知の種々の合成樹脂を用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスルホン類、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル或いはポリアリレート類、アートン（商品名ＪＳＲ社製）或いはアペル（商品名三井化学社製）といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。
【００９８】
この透光性樹脂層の形成方法としては、例えば溶融流涎, 押し出し成形による成膜方法や、塗布による方法を挙げることができる。
溶融流涎や押し出し成形といった方法により製造される透光性樹脂層は、従来公知の樹脂フィルムとして市販されるものを使用することができる。
塗布方式で透光性樹脂層となる塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができる。そして、銀反射層の光入射側の面上、または銀反射層よりも光入射側に設けられた構成層（例えば、腐食防止層）の面上に、透光性樹脂層となる材料を直接塗布することによって、透光性樹脂層を形成することができる。
こうした塗布方式で透光性樹脂層を形成することによって、透光性樹脂層の平滑性を高めることができる。具体的には、塗布方式で形成した透光性樹脂層の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下にすることができる。換言すれば、中心線平均粗さがこの値を満たせば、溶融製膜によって製造された透光性樹脂フィルムを接着剤層で貼り合わせて設けられた透光性樹脂層ではなく、その透光性樹脂層が塗布によって設けられたものとみなすことができる。
この透光性樹脂層の厚さは、１０〜１５０μｍであることが好ましい。より好ましくは、２０〜１００μｍであり、更に好ましくは、４０〜１００μｍである。
なお、透光性樹脂層の平滑性の指標となる中心線平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９８２に基づく測定方法により求めることができる。
【００９９】
透光性樹脂層を形成する材料として、上記例示した樹脂材料の中では、アクリルを好適に用いることができる。
透光性樹脂層をアクリルで形成する場合、アクリル樹脂は固いので、柔らかくて破損しにくいアクリル製の透光性樹脂層を得るため、可塑剤の微粒子を含有させてもよい。可塑剤の好ましい一例としては、例えば、ブチルゴムやブチルアクリレートなどが挙げられる。
【０１００】
アクリル製の透光性樹脂層は、メタクリル樹脂を主成分としていることが好ましい。メタクリル樹脂は、メタクリル酸エステルを主体とする重合体であり、メタクリル酸エステルの単独重合体であってもよいし、メタクリル酸エステル５０重量％以上とこれ以外の単量体５０重量％以下との共重合体であってもよい。ここで、メタクリル酸エステルとしては、通常、メタクリル酸のアルキルエステルが用いられる。特に好ましく用いられるメタクリル樹脂は、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）である。
【０１０１】
メタクリル樹脂の好ましい単量体組成は、全単量体を基準として、メタクリル酸エステルが５０〜１００重量％、アクリル酸エステルが０〜５０重量％、これら以外の単量体が０〜４９重量％であり、より好ましくは、メタクリル酸エステルが５０〜９９．９重量％、アクリル酸エステルが０．１〜５０重量％、これら以外の単量体が０〜４９重量％である。
【０１０２】
ここで、メタクリル酸アルキルの例としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−エチルヘキシルなどが挙げられ、そのアルキル基の炭素数は通常１〜８、好ましくは１〜４である。中でもメタクリル酸メチルが好ましく用いられる。
【０１０３】
また、アクリル酸アルキルの例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシルなどが挙げられ、そのアルキル基の炭素数は通常１〜８、好ましくは１〜４である。
【０１０４】
また、メタクリル酸アルキル及びアクリル酸アルキル以外の単量体は、単官能単量体、すなわち分子内に重合性の炭素−炭素二重結合を１個有する化合物であってもよいし、多官能単量体、すなわち分子内に重合性の炭素−炭素二重結合を少なくとも２個有する化合物であってもよいが、単官能単量体が好ましく用いられる。そして、この単官能単量体の例としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの如き芳香族アルケニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリルの如きアルケニルシアン化合物などが挙げられる。また、多官能単量体の例としては、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートの如き多価アルコールのポリ不飽和カルボン酸エステル、アクリル酸アリル、メタクリル酸アリル、ケイ皮酸アリルの如き不飽和カルボン酸のアルケニルエステル、フタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートの如き多塩基酸のポリアルケニルエステル、ジビニルベンゼンの如き芳香族ポリアルケニル化合物などが挙げられる。
【０１０５】
なお、上記のメタクリル酸アルキル、アクリル酸アルキル、及びこれら以外の単量体は、それぞれ、必要に応じてそれらの２種以上を用いてもよい。
【０１０６】
メタクリル樹脂は、フィルムの耐熱性の点から、そのガラス転移温度が４０℃以上であることが好ましく、６０℃以上であることがより好ましい。このガラス転移温度は、単量体の種類やその割合を調整することにより、適宜設定することができる。
【０１０７】
メタクリル樹脂は、その単量体成分を、懸濁重合、乳化重合、塊状重合などの方法により重合させることにより調製することができる。その際、好適なガラス転移温度を得るため、又は好適なフィルムへの成形性を示す粘度を得るため、重合時に連鎖移動剤を使用することが好ましい。連鎖移動剤の量は、単量体の種類やその割合などに応じて、適宜決定すればよい。
また、紫外線吸収剤の具体例としては前記〔ハードコート層〕の一般記載に例示したものなどをなどが挙げられる。
【０１０８】
また、紫外線吸収剤としては上記した以外に、紫外線の保有するエネルギーを分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物を用いることもできる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用により効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。通常の紫外線吸収剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
【０１０９】
なお、上記紫外線吸収剤はそれぞれ、必要に応じてそれらの２種以上を用いることもできる。また、必要により、上記紫外線吸収剤以外の紫外線吸収剤、例えば、サリチル酸誘導体、置換アクリロニトリル、ニッケル錯体などを含有させることもできる。
【０１１０】
透光性樹脂層への紫外線吸収剤の含有量は、０．１〜２０質量％であることが好ましく、より好ましくは１〜１５質量％、さらに好ましくは３〜１０質量％である。また、紫外線吸収剤の透光性樹脂層への含有量は、フィルム単位面積当たりの含有量が０．１７〜２．２８ｇ／ｍ２で、より好ましくは単位面積当たりの含有量が０．４〜２．２８ｇ／ｍ２以上である。含有量を上記の範囲にすることによって、耐候性能を十分発揮しつつ、紫外線吸収剤のブリードアウトによるロールやフィルムの汚れを起こすことを防止できる。
また、紫外線吸収剤入り透光性樹脂層の劣化を防止するために、透光性樹脂層に酸化防止剤を含有させてもよい。酸化防止剤の具体例としては前記〔ハードコート層〕の一般記載に例示したものなどをなどが挙げられる。
【０１１１】
また、透光性樹脂層に帯電防止剤を加えて、帯電防止性能を付与することも可能である。
また、透光性樹脂層にリン系難燃剤を加えてもよい。ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる１種、あるいは２種以上の混合物を挙げることができる。
具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。
【０１１２】
〔接着層〕
前記接着層は、前記反射層と前記樹脂基材との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。従って、該接着層は、樹脂基材と反射層とを密着する密着性、反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【０１１３】
該接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【０１１４】
該接着層が樹脂である場合、前記樹脂として、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。該接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【０１１５】
該接着層が金属酸化物である場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等、各種真空製膜法により製膜することができる。例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。
【０１１６】
〔反射層〕
本発明に係る反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。反射層の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。反射層は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率、耐食性の観点からＡｌまたはＡｇを主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を二層以上形成するようにしてもよい。本発明においては、特に銀を主成分とする銀反射層とすることが好ましい。
【０１１７】
また、反射層上にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物からなる層をこの順に設けてさらに反射率を向上させてもよい。
【０１１８】
例えば、本発明に係る反射層（例えば銀反射層）の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
【０１１９】
湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると銀鏡反応等がある。
【０１２０】
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーの製造方法としては、反射層を銀の蒸着により形成することが好ましい。
【０１２１】
反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【０１２２】
〔腐食防止層〕
前記腐食防止層は前記反射層に隣接して設けられることが好ましく、銀に対する腐食防止剤を含有する。該腐食防止剤としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止能を有する腐食防止剤（酸化防止剤とも言う）が好ましく用いられる。
【０１２３】
ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
【０１２４】
前記太陽熱発電用フィルムミラーは、前記腐食防止層が銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤または酸化防止剤を含有している態様であることが好ましい。
【０１２５】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１〜１．０／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【０１２６】
＜銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤＞
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【０１２７】
＜酸化防止剤＞
前記腐食防止層に含有される腐食防止剤としては、酸化防止剤を用いることもできる。
【０１２８】
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤およびホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。
【０１２９】
なお、本発明においては、前記酸化防止剤と光安定剤を併用することもできる。
【０１３０】
〔基材〕
本発明に係る基材としては樹脂フィルムまたはガラスフィルムを用いることができる。
＜樹脂フィルム＞
樹脂フィルムとしては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。
【０１３１】
中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。特に、ポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０１３２】
樹脂フィルムの厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。
【０１３３】
＜ガラスフィルム＞
本発明のフィルムミラーは、支持体上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該支持体が、厚さが１．０〜２００μｍの範囲内であるガラスフィルムであることを特徴とする。
【０１３４】
当該ガラスフィルムとしては、ダウンドロー法によって成形されたガラスロールより得られるガラスフィルムであることが好ましい。すなわち、特開２０１０−１３２３４７号公報に開示されているような、ダウンドロー法によって成形された表裏面が露出したガラスフィルムを、保護シートに重ねてロール状に巻き取ったガラスロールより得られるガラスフィルムであることが好ましい。
【０１３５】
このような構成によれば、ダウンドロー法によって形成された表裏面が露出したガラスフィルムがそのままの状態で、保護シートとともにロール状に巻き取られてガラスロールが形成される。そのため、梱包前の工程で、ガラスフィルムの表裏面のいずれにもポリマー層等の保護膜を形成する成膜工程を行う必要がなく、開梱後の工程でも、ガラスフィルムの表面からポリマー層等の保護膜を除去する除去工程を行う必要もない。
【０１３６】
従って、保護膜を形成する工程が不要な分だけ梱包前の工程を短縮化できるので、ガラスフィルムの表裏面に異物が付着する割合を可及的に低減できると共に、開梱後に保護膜に由来する異物が残存するという事態も生じ得ない。その結果、ダウンドロー法に由来したガラスフィルムの表裏面の清浄性を良好に維持することができる。更に、ダウンドロー法により成形した表裏面であれば、フロート法により成形した場合のように事後的にガラスフィルムの表面研磨を行わなくても、未研磨面の状態で清浄性を確保できるという利点もある。
【０１３７】
また、ガラスフィルムの露出した表裏面は、ガラスロールの状態で保護シートにより保護される。しかも、ガラスフィルムの表裏面は、ポリマー層等の保護膜が形成されていないガラス面であるため、巻き取った段階で、ガラスフィルムと保護シートとが固着するという事態も生じ難い。従って、ガラスロールの状態でのガラスフィルムの破損を確実に低減でき、しかも、ガラスフィルムと保護シートとの分離性も良好に維持できるので、開梱時のガラスフィルムの破損も可及的に低減することができる。
【０１３８】
なお、ガラスフィルムは、長時間巻き取った状態が保持されたとしても、反りが発生することはなく容易に次工程へと送り込むことができる。さらに、巻き取ることによって長尺物のガラスフィルムとすることができることから、その後自由な長さで切断することができ、様々な大きさの基板に対応することが可能となり、ガラスフィルムの無駄を防止することができる。
【０１３９】
本発明においては、前記ガラスフィルムの厚さが、１．０〜２００μｍの範囲内であるであることを要する。なお、ガラスフィルムの厚さは、好ましくは３０μｍ以上１５０μｍ以下であるが、更に好ましくは５０〜１２０μｍの範囲内である。厚さが１μｍ未満では、ロール状に巻き取る際のテンションに耐えることができずに破断してしまい、また、２００μｍよりも厚いとロールとしての巻き取ることが困難となる。
【０１４０】
上記のような厚さにすれば、ガラスフィルムに適切な可撓性が付与される。そのため、ガラスフィルムを巻き取った際にガラスフィルムにかかる不当な応力を軽減することができ、破損を防止することができる。
【０１４１】
上記の構成において、前記ガラスフィルムの幅方向の両端面の算術平均粗さＲａが、０．１μｍ以下であることが好ましい。ここで、「算術平均粗さＲａ」は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１に準拠して測定された値とする。
【０１４２】
このようにすれば、ガラスフィルムの幅方向の両端面に適切な平滑性が付与される。そのため、ガラスフィルムをロール状に巻き取る際に、ガラスフィルムの両端面に微細な傷が生じ難くなり、ガラスフィルム両端面からの破損を防止することができる。従って、ガラスフィルムの端面の微細な傷に起因する欠けにより発生するガラス粉（カレット）を低減できることから、ガラスフィルムの表裏面の清浄性を確保する上でも非常に有利となる。また、ガラスフィルムの端面と保護シートが接触した場合でも、ガラスフィルムの端面が保護シートに噛み込んで引っかかることがなく、ガラスフィルムと保護シートとの分離性を良好なものとすることができる。
【０１４３】
上記の構成において、前記ガラスフィルムの幅方向の両端面が、レーザー切断により切断された切断面で構成されていることが好ましい。なお、ここでいうレーザー切断には、レーザー溶断以外にも、レーザー割断も含まれる。
【０１４４】
（太陽熱発電用反射装置）
太陽熱発電用反射装置は少なくとも前記太陽熱発電用フィルムミラーと支持体から構成される。太陽熱発電用反射装置はフィルムミラーと支持体とを接着するための粘着層を有することが好ましい。
【０１４５】
［支持体］
本発明の太陽熱発電用反射装置に用いられる支持体としては、金属板、樹脂板または金属と樹脂の複合板を用いることができる。金属板としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。また、樹脂板としては、アクリル系樹脂板、ウレタン系樹脂板、ポリスチレン系樹脂板、ポリイミド系樹脂板、フェノール系樹脂板、ポリカーボネート系樹脂板、脂環式炭化水素系樹脂板、ポリプロピレン系樹脂板、ポリオレフィン系樹脂板、メラミン樹脂系樹脂板、ＡＢＳ系樹脂板を用いることができる。また、金属と樹脂の複合板としては、前記金属板および樹脂板を積層したものや、前記金属板と発泡性樹脂とを積層したもの等を用いることができる。ここで発泡性樹脂とは多孔質の樹脂を意味し、例えばポリスチレン系、ポリオレフィン系、ポリウレタン系、メラミン樹脂系、ポリイミド系の組成からなるものを挙げることができる。
【０１４６】
これらの支持体の厚みは、取扱性、熱伝導性、熱容量等の観点から、０．０５ｍｍ〜３ｍｍ程度が好ましい。
【０１４７】
［粘着層］
太陽熱発電用反射装置の支持体と太陽熱発電用フィルムミラーを接着するための粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。
【０１４８】
例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどが用いられる。
【０１４９】
ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
【０１５０】
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１５１】
具体的な粘着層としては、綜研化学社製「ＳＫダインシリーズ」、東洋インキ社製Ｏｒｉｂａｉｎ  ＢＰＷシリーズ、ＢＰＳシリーズ」、荒川化学社製「アルコン」「スーパーエステル」「ハイペール」等の粘着剤が好適に用いられる。
【実施例１】
【０１５２】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。【０１５３】
実施例１
《太陽熱発電用反射装置の作製》
〔太陽熱発電用フィルムミラー１の作製〕
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂、ＴＤＩ系イソシアネート，ＨＭＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で２０：１：１：２：に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのアンカー層を形成し、銀反射層として真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。この銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とトルエンジイソシアナート系樹脂とを、樹脂固形分比率（質量比）で１０：２に混合した樹脂中に、腐食防止剤としてＴｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）を樹脂固形分に対して１０質量％となる量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの腐食防止層を形成した。【０１５４】
続いて、この腐食防止層の上にハードコート層として、ポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０（動研社製）にフッ素系レベリング剤としてＺＸ−０４９（富士化成工業社製）を樹脂固形分に対して０．１質量％，トリアジン系ＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ４７７（チバ・ジャパン社製）を樹脂固形分に対して１．０質量％，酸化防止剤としてＩｒｇａｎｏｘ１０７６（チバ・ジャパン社製）を樹脂固形分に対して０．１質量％、同じく酸化防止剤としてＰＥＰ３６（アデカ社製）を樹脂固形分に対して０．３質量％としてとなる量を添加し、グラビアコートによりウエット膜厚４０μｍで塗布し、８０℃で２時間加熱処理を行い、ハードコート層を設けることで太陽熱発電用フィルムミラー１を作製した。【０１５５】
〔太陽熱発電用フィルムミラー２の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１の作製において、ハードコート層に酸化防止剤を添加しないことにより太陽熱発電用フィルムミラー２を作製した。【０１５６】
〔太陽熱発電用フィルムミラー３の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１の作製において、ハードコート層にポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０の代わりにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）を用いることにより太陽熱発電用フィルムミラー３を作製した。【０１５７】
〔太陽熱発電用フィルムミラー４の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー３の作製において、ハードコート層に酸化防止剤を添加しないことにより太陽熱発電用フィルムミラー４を作製した。【０１５８】
〔太陽熱発電用フィルムミラー５の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１の作製において、ハードコート層にＴｉｎｕｖｉｎ４７７の代わりに低分子トリアジン系ＵＶ吸収剤のＴｉｎｕｖｉｎ１５７７（チバ・ジャパン社製）を樹脂固形分に対して０．５質量％添加することにより太陽熱発電用フィルムミラー５を作製した。【０１５９】
〔太陽熱発電用フィルムミラー６の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー５の作製において、ハードコート層に酸化防止剤を添加しないことにより太陽熱発電用フィルムミラー６を作製した。【０１６０】
〔太陽熱発電用フィルムミラー７の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー５の作製において、ハードコート層にポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０の代わりにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）を用いることにより太陽熱発電用フィルムミラー７を作製した。【０１６１】
〔太陽熱発電用フィルムミラー８の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー６の作製において、ハードコート層にポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０の代わりにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）を用いることにより太陽熱発電用フィルムミラー８を作製した。【０１６２】
〔太陽熱発電用フィルムミラー９の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１の作製において、ハードコート層にＴｉｎｕｖｉｎ４７７の代わりに高分子ベンズトリアゾール系ＵＶ吸収剤のＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学社製）を樹脂固形分に対して０．５質量％添加することにより太陽熱発電用フィルムミラー９を作製した。【０１６３】
〔太陽熱発電用フィルムミラー１０の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー９の作製において、ハードコート層に酸化防止剤を添加しないことにより太陽熱発電用フィルムミラー１０を作製した。【０１６４】
〔太陽熱発電用フィルムミラー１１の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー９の作製において、ハードコート層にポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０の代わりにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）を用いることにより太陽熱発電用フィルムミラー１１を作製した。【０１６５】
〔太陽熱発電用フィルムミラー１２の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１０の作製において、ハードコート層にポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０の代わりにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）を用いることにより太陽熱発電用フィルムミラー１２を作製した。【０１６６】
〔太陽熱発電用フィルムミラー１３の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１の作製において、ハードコート層にＴｉｎｕｖｉｎ４７７の代わりに無機系ＵＶ吸収剤として粒径２０ｎｍの酸化チタンナノ粒子としてＳＴＲ−１００Ａ−ＬＰ（堺化学工業社製）を樹脂固形分に対して２０．０質量％添加することにより太陽熱発電用フィルムミラー１３を作製した。【０１６７】
〔太陽熱発電用フィルムミラー１４の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１３の作製において、ハードコート層に酸化防止剤を添加しないことにより太陽熱発電用フィルムミラー１４を作製した。【０１６８】
〔太陽熱発電用フィルムミラー１５の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１３の作製において、ハードコート層にポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０の代わりにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）を用いることにより太陽熱発電用フィルムミラー１５を作製した。【０１６９】
〔太陽熱発電用フィルムミラー１６の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１４の作製において、ハードコート層にポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０の代わりにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）を用いることにより太陽熱発電用フィルムミラー１６を作製した。【０１７０】
〔太陽熱発電用フィルムミラー１７の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１の作製において、ハードコート層にＴｉｎｕｖｉｎ４７７の代わりに無機系ＵＶ吸収剤として粒径２０ｎｍの酸化亜鉛ナノ粒子としてＦＩＮＥＸ−５０Ｗ−ＬＰ２（堺化学工業社製）を樹脂固形分に対して２０．０質量％添加することにより太陽熱発電用フィルムミラー１７を作製した。【０１７１】
〔太陽熱発電用フィルムミラー１８の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１７の作製において、ハードコート層に酸化防止剤を添加しないことにより太陽熱発電用フィルムミラー１８を作製した。【０１７２】
〔太陽熱発電用フィルムミラー１９の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１７の作製において、ハードコート層にポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０の代わりにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）を用いることにより太陽熱発電用フィルムミラー１９を作製した。【０１７３】
〔太陽熱発電用フィルムミラー２０の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１８の作製において、ハードコート層にポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０の代わりにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）を用いることにより太陽熱発電用フィルムミラー２０を作製した。【０１７４】
〔太陽熱発電用フィルムミラー２１の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１の作製において、ハードコート層にＴｉｎｕｖｉｎ４７７の代わりに無機系ＵＶ吸収剤として粒径２０ｎｍの酸化セリウムナノ粒子であるＣＥＲＩＧＵＡＲＤＳＣ−６８３２（大東化成工業株式会社製）を樹脂固形分に対して２０．０質量％添加することにより太陽熱発電用フィルムミラー２１を作製した。【０１７５】
〔太陽熱発電用フィルムミラー２２の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー２１の作製において、ハードコート層に酸化防止剤を添加しないことにより太陽熱発電用フィルムミラー２２を作製した。【０１７６】
〔太陽熱発電用フィルムミラー２３の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー２１の作製において、ハードコート層にポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０の代わりにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）を用いることにより太陽熱発電用フィルムミラー２３を作製した。【０１７７】
〔太陽熱発電用フィルムミラー２４の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー２２の作製において、ハードコート層にポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０の代わりにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）を用いることにより太陽熱発電用フィルムミラー２４を作製した。【０１７８】
〔太陽熱発電用フィルムミラー２５の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１の作製において、ハードコート層にＴｉｎｕｖｉｎ４７７の代わりに無機系ＵＶ吸収剤として粒径２０ｎｍの酸化鉄ナノ粒子であるＣｏｎｃｅｌｉｇｈｔ  ＢＰ−１０Ｓ（日揮触媒化成株式会社製）を樹脂固形分に対して２０．０質量％添加することにより太陽熱発電用フィルムミラー２５を作製した。【０１７９】
〔太陽熱発電用フィルムミラー２６の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー２５の作製において、ハードコート層に酸化防止剤を添加しないことにより太陽熱発電用フィルムミラー２６を作製した。【０１８０】
〔太陽熱発電用フィルムミラー２７の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー２５の作製において、ハードコート層にポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０の代わりにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）を用いることにより太陽熱発電用フィルムミラー２７を作製した。【０１８１】
〔太陽熱発電用フィルムミラー２８の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー２６の作製において、ハードコート層にポリシロキサン系化合物のサーコートＮＰ７２０の代わりにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）を用いることにより太陽熱発電用フィルムミラー２８を作製した。【０１８２】
〔太陽熱発電用フィルムミラー２９〜５６の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１〜２８の作製において、ハードコートの硬化条件を８０℃２時間加熱処理の代わりに、ＵＶコンベア（光源；高圧水銀ランプ、照度；１００ｍＷ／ｃｍ２）を用いてＵＶ照射した後に８０℃２時間の追加加熱処理を行い硬化させることで太陽熱発電用フィルムミラー２９〜５６を作製した。【０１８３】
〔太陽熱発電用フィルムミラー５７〜７０の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１〜２８の内奇数番号（１、３、５・・・の酸化剤有り）の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、表３に示すＵＶ吸収剤、ハードコート樹脂組成、及び、酸化防止剤を添加し、ハードコートの硬化条件をＵＶコンベア（光源；高圧水銀ランプ、照度；１００ｍＷ／ｃｍ２）を用いてＵＶ照射のみとすることで太陽熱発電用フィルムミラー５７〜７０を作製した。【０１８４】
〔太陽熱発電用フィルムミラー７１〜７６の作製〕
太陽熱発電用フィルムミラー１及び３の作製において、それぞれ、ＵＶ吸収剤は添加せず表３に示す、ハードコート樹脂組成、及び、酸化防止剤を添加し、以下の硬化条件で、太陽熱発電用フィルムミラー７１〜７６を作製した。【０１８５】
太陽熱発電用フィルムミラー７１及び７２は、太陽熱発電用フィルムミラー５７〜７０の作製と同様にＵＶ照射のみによる硬化を行った。【０１８６】
太陽熱発電用フィルムミラー７３及び７４は、太陽熱発電用フィルムミラー１〜２８の作製と同様の熱硬化を行った。【０１８７】
太陽熱発電用フィルムミラー７５及び７６は、太陽熱発電用フィルムミラー２９〜５６の作製と同様にＵＶ照射による硬化の後熱硬化を行った。【０１８８】
《太陽熱発電用反射装置の評価》
上記作製した太陽熱発電用反射装置について、下記の方法に従って、湿熱処理後の耐擦傷性およびＵＶ劣化処理後の耐擦傷性の評価および防汚性評価を行い、耐候性を評価した。【０１８９】
〔ＵＶ劣化処理後の耐擦傷性〕
各試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６３℃の環境下で９６時間紫外線照射を行った後、フィルムミラーの最表面層を＃００００のスチールウールに１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけて、ストローク１００ｍｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで１０回往復摩擦した後に下記の基準に従って、ＵＶ劣化処理後の耐擦傷性を評価した。【０１９０】
◎：傷本数が０本
○：傷本数が１本〜５本
△：傷本数が６本〜１０本
×：傷本数が１０本より多い【０１９１】
＜正反射率測定＞
島津製作所社製の分光光度計ＵＶ２６５を、積分球反射付属装置を取り付けたものに改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、各試料の反射角５°での正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。【０１９２】
〔ＵＶ劣化処理後の反射率〕
各試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行った後、上記方法により正反射率を測定し、紫外線照射前を１００％としたときの紫外線照射後の正反射率の平均値を算出し、下記の基準に従って、ＵＶ劣化処理後の反射率射率を評価した。【０１９３】
◎：正反射率の平均値が、９０％以上である
○：正反射率の平均値が、８５％以上、９０％未満である
△：正反射率の平均値が、８０％以上、８５％未満である
×：正反射率の平均値が、８０％未満である【０１９４】
〔防汚性〕
各試料を、アルミ基材に貼り付けて太陽熱発電用反射装置を作製し、日中、平均気温４０℃露点温度２０℃、夜間：平均気温１５℃、露点温度１０℃となる砂漠地帯において、地表から１ｍの位置に地面との角度が４５度となるように設置し、１ヶ月放置した。上記条件で反射率を測定し、下記の基準に従って、防汚性を評価した。【０１９５】
◎：正反射率の平均値が、９０％以上である
○：正反射率の平均値が、８５％以上、９０％未満である
△：正反射率の平均値が、８０％以上、８５％未満である
×：正反射率の平均値が、８０％未満である【０１９６】
評価の結果を表１〜表３に示す。【０１９７】
【表１−１】
2012057003.tif 000010
【表１−２】
2012057003.tif 000011
【０１９８】
【表２−１】
2012057003.tif 000012
【表２−２】
2012057003.tif 000013
【０１９９】
【表３−１】
2012057003.tif 000014
【表３−２】
2012057003.tif 000015
【０２００】
表１〜表３から明らかなように、ＵＶ吸収剤を含み加熱工程を含む方法により硬化させてなる樹脂からなるハードコート層を有している、本発明の太陽熱発電用フィルムミラー１〜５６はＵＶ劣化処理後のスチールウール耐性が高いのがわかる。また、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは、ハードコート層の組成がポリシロキサン系の場合、組成自体の耐候性の高さからアクリル系のものよりもＵＶ劣化処理後のスチールウール耐性がより高くなっている。さらに、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは、酸化防止剤を添加した場合、ＵＶ劣化処理によるハードコート層の黄変色が抑えられるためＵＶ劣化処理後の反射率低下は抑制され、樹脂の酸化劣化に由来する傷つき耐性が向上することで傷を介した汚れ付着も抑制されることがわかる。【０２０１】
一方で、ＵＶ硬化のみでハードコート層の硬化を行っている比較の太陽熱発電用フィルムミラー５７〜７６はＵＶ劣化処理後のスチールウール耐性が極めて低い。このとき、加熱工程を含む方法により硬化させた本発明の太陽熱発電用フィルムミラー１〜５６のハードコート層はほぼモノマーの重合反応が完了した状態でＵＶ劣化処理しているために高硬度を保つことができていると考えられる。一方で、ＵＶ硬化のみで硬化させたハードコート層には未反応の残留モノマーが存在しており、この状態でＵＶ劣化処理が行われると未反応であった残留モノマーの重合が再開してクラスターが形成され、ハードコート層を形成する周りの樹脂との間に応力が発生したためスチールウール耐性が著しく低下したものと考えられる。【０２０２】
また、比較の太陽熱発電用フィルムミラー７３〜７６のように加熱工程を含む方法により硬化させた樹脂からなるハードコート層であってもＵＶ吸収剤を添加していない場合、ＵＶ劣化処理後の傷つきを十分に抑制することはできないことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０２０３】
本発明は、以上のように構成されていることから、太陽熱発電用フィルムミラー及び太陽熱発電用フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置として利用できる。
【符号の説明】
【０２０４】
１  基材
２  アンカー層
３  反射層
４  腐食防止層
５  接着層
６  透光性樹脂層
７  ハードコート層
１０  太陽熱発電用フィルムミラー
１１  太陽熱発電用フィルムミラー
【図１】
2012057003.tif 000016
【図２】
2012057003.tif 000017
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月30日(2013.4.30)
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、太陽熱発電用フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、長期間屋外で使用しても変色が少なく傷がつきにくい最表面層を有し、軽量で柔軟性があり、耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用フィルムミラー、そのような太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法、及びそのような太陽熱発電用フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
１．樹脂の支持体と、最表面に設けられ、ＵＶ吸収剤を含み加熱工程を含む方法により硬化された樹脂を含有するハードコート層と、を有し、前記支持体と前記ハードコート層の間に金属の反射層を有する太陽熱発電用フィルムミラー。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
２．前記金属の反射層が銀を主成分とする前記１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
３．前記ハードコート層がポリシロキサン系化合物からなる熱硬化性樹脂で形成される前記１又は２に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
４．前記ＵＶ吸収剤が、低分子トリアジン系ＵＶ吸収剤、高分子ベンズトリアゾール系ＵＶ吸収剤、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、及び、酸化鉄から選ばれる少なくとも１種である前記１〜３の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
５．前記ハードコート層に酸化防止剤を含有する前記１〜４の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
６．前記ＵＶ吸収剤が、少なくともトリアジン系ＵＶ吸収剤及びベンズトリアゾール系ＵＶ吸収剤の何れかを含む前記１〜５の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
７．前記ハードコート層は、フッ素原子を含むレベリング剤を含有する前記１〜６の何れか一向に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
８．前記レベリング剤は、前記ハードコート層の硬化性組成物において硬化性組成物固形分の０．１〜１０質量％含有されている前記７に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
９．樹脂の支持体の上に反射層を設ける工程と、
前記反射層より上に、ＵＶ吸収剤を含むハードコート層用組成物を、最表面となるように設ける工程と、
前記ハードコート層用組成物を加熱して硬化させる工程と、を有する太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。
１０．前記ハードコート層用組成物を加熱して硬化させる工程において、前記ハードコート層用組成物を、４０〜１５０℃の雰囲気下で１分以上加熱する前記９に記載の太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。
１１．前記１〜８の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーが、前記ハードコート層が太陽光入射側に配置されるようにして、支持体上に粘着層を介して貼り合された太陽熱発電用反射装置。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明により、長期間屋外で使用しても変色が少なく傷がつきにくい最表面層を有し、軽量で柔軟性がある太陽熱発電用フィルムミラーと、そのような太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法と、そのような太陽熱発電用フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができた。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０３】
本発明は、以上のように構成されていることから、太陽熱発電用フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置として利用できる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂の支持体と、最表面に設けられ、ＵＶ吸収剤を含み加熱工程を含む方法により硬化された樹脂を含有するハードコート層と、を有し、前記支持体と前記ハードコート層の間に金属の反射層を有する太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項２】
前記金属の反射層が銀を主成分とする請求項１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項３】
前記ハードコート層がポリシロキサン系化合物からなる熱硬化性樹脂で形成される請求項１又は２に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項４】
前記ＵＶ吸収剤が、低分子トリアジン系ＵＶ吸収剤、高分子ベンズトリアゾール系ＵＶ吸収剤、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、及び、酸化鉄から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜３の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項５】
前記ハードコート層に酸化防止剤を含有する請求項１〜４の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項６】
前記ＵＶ吸収剤が、少なくともトリアジン系ＵＶ吸収剤及びベンズトリアゾール系ＵＶ吸収剤の何れかを含む請求項１〜５の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項７】
前記ハードコート層は、フッ素原子を含むレベリング剤を含有する請求項１〜６の何れか一向に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項８】
前記レベリング剤は、前記ハードコート層の硬化性組成物において硬化性組成物固形分の０．１〜１０質量％含有されている請求項７に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
【請求項９】
樹脂の支持体の上に反射層を設ける工程と、
前記反射層より上に、ＵＶ吸収剤を含むハードコート層用組成物を、最表面となるように設ける工程と、
前記ハードコート層用組成物を加熱して硬化させる工程と、を有する太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。
【請求項１０】
前記ハードコート層用組成物を加熱して硬化させる工程において、前記ハードコート層用組成物を、４０〜１５０℃の雰囲気下で１分以上加熱する請求項９に記載の太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜８の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーが、前記ハードコート層が太陽光入射側に配置されるようにして、支持体上に粘着層を介して貼り合された太陽熱発電用反射装置。
【国際調査報告】
2012057003.tif 000018
2012057003.tif 000019
2012057003.tif 000020
2012057003.tif 000021