(57)【要約】  装置の小型化が図れて生産性のよい低コストの真空処理装置を提供する。  長尺のシート状基材Ｓを、真空処理室１を通して搬送し、この真空処理室でシート状基材に所定の処理を施す。真空処理室１に単一の処理ユニット３が設けられ、繰出しローラ６と巻取りローラ７が設けられる真空補助室２が連設される。真空処理室で処理ユニットを跨ぐ両側に一対の第１ローラユニット４が備えられ、第１ローラユニットの夫々が等間隔に配置された複数のローラ４２を有し、各ローラを軸方向に互い違いにずらして配置して、シート状基材が両ローラユニットの各ローラに螺旋状に巻き掛けられる。処理ユニットに対向するシート状基材の片面を表面とし、シート状基材の裏面が処理ユニットに対向するときに当該シート状基材の一部を所定幅で処理ユニット側にシフトするシフト手段５を更に備える。
2012046384.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺のシート状基材を、真空処理室を通して搬送し、この真空処理室でシート状基材に所定の処理を施す真空処理装置であって、真空処理室に、単一の処理ユニットが設けられると共に、繰出しローラと巻取りローラとの少なくとも一方が設けられる真空補助室が連設されたものにおいて、真空処理室で処理ユニットを跨ぐ両側に一対の第１ローラユニットが備えられ、第１ローラユニットの夫々が等間隔に配置された複数のローラを有し、各ローラを軸方向に互い違いにずらして配置して、シート状基材が各ローラに螺旋状に巻き掛けられるように構成し、第１ローラユニットの一側の各ローラから他側の各ローラに向かう、処理ユニットに対向するシート状基材の片面を表面とし、シート状基材の裏面が処理ユニットに対向するときに当該シート状基材の一部を所定幅で処理ユニット側にシフトするシフト手段を更に備えることを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】
前記シフト手段は、前記一対の第１ローラユニットの内方で処理ユニットの両側に配置された他の一対の第２ローラユニットであり、第２ローラユニットは、前記処理ユニット側にシフトされたシート状基材の一部と、前記第１ローラユニット一側の各ローラから他側の各ローラに向かうシート状基材の部分との処理ユニットからの距離が同等となるように配置されることを特徴とする請求項１記載の真空処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載の真空処理装置であって、処理ユニットがスパッタリング成膜用のカソードユニットであるものにおいて、前記カソードユニットを、真空処理室を画成する壁面に設けると共に、この壁面に対向する他の壁面に単一の真空補助室を連設し、この真空補助室に繰出しローラと巻取りローラとを配置して構成したことを特徴する真空処理装置。
【請求項４】
前記巻取りローラの上流側でシート状基材に対向させて冷却パネルを設けたことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、長尺のシート状基材を、真空処理室を通して搬送し、この真空処理室でシート状基材に所定の処理を施す真空処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
長尺で樹脂製のシート状基材は可撓性を有し、加工性も良いことから、その表面に所定の金属膜や酸化物膜等の所定の薄膜を成膜したり、熱処理やプラズマ処理を施したりして電子部品や光学部品とすることが一般に知られ、用途によっては、シート状基材の表裏両面に同一の所定処理を施す場合がある。【０００３】
このようなシート状基材の表裏両面に所定処理を施す装置として、繰出しローラと、巻取りローラと、シート状基材を巻き出して搬送する搬送手段とを備えた搬送室内に、シート状基材の片面（表面）に所定処理を行う一方の処理手段を有する第１の処理室と、片面に処理が施されたシート状基材の他面（裏面）に、前記と同一の処理を施す他の処理手段を備えた第２の処理室とを夫々連設したものが知られている（例えば、特許文献１参照）。【０００４】
然しながら、上記従来例のものでは、シート状基材の表裏両面への処理を別個の処理室で施すため、装置自体が大型化するだけでなく、部品点数も増えてコスト高を招来する。しかも、繰出しローラから繰り出したシート状基材を、両真空処理室を通して、巻取りローラに巻き取るまでの経路が長く、生産性も悪い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−１３４７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、以上の点に鑑み、装置の小型化が図れて生産性のよい低コストの真空処理装置を提供することをその課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、長尺のシート状基材を、真空処理室を通して搬送し、この真空処理室でシート状基材に所定の処理を施す真空処理装置であって、真空処理室に、単一の処理ユニットが設けられると共に、繰出しローラと巻取りローラとの少なくとも一方が設けられる真空補助室が連設されたものにおいて、真空処理室で処理ユニットを跨ぐ両側に一対の第１ローラユニットが備えられ、第１ローラユニットの夫々が等間隔に配置された複数のローラを有し、第１ローラユニットの各ローラを軸方向に互い違いにずらして配置して、シート状基材が各ローラに螺旋状に巻き掛けられるように構成し、第１ローラユニットの一側の各ローラから他側の各ローラに向かう、処理ユニットに対向するシート状基材の片面を表面とし、シート状基材の裏面が処理ユニットに対向するときに当該シート状基材の一部を所定幅で処理ユニット側にシフトするシフト手段を更に備えることを特徴とする。【０００８】
本発明によれば、一対のローラユニットにより、処理ユニットの前方で、当該処理ユニットに対してシート状基材の表面及び裏面が交互に対向するようにシート状基材を周回搬送されると共に、シフト手段により、シート状基材の一部を、例えば、処理ユニットからシート状基材の表面または裏面までの距離を略同一になるようにシフトさせるようにしたため、単一の処理ユニットにて効率よくシート状基材の表裏に同一処理を施すことができる。このため、上記従来例の如く、複数の処理室を必要とせず、装置の小型化が図れると共に、部品点数を少なくして低コスト化を図ることできる。しかも、シート状基材の表裏両面が複数回処理ユニットに対向するようにすれば、シートの搬送速度を向上でき、生産性もよい。【０００９】
本発明においては、前記シフト手段は、前記一対の第１ローラユニットの内方で処理ユニットの両側に配置された他の一対の第２ローラユニットであり、第２ローラユニットは、前記処理ユニット側にシフトされたシート状基材の一部と、前記第１ローラユニット一側の各ローラから他側の各ローラに向かうシート状基材の部分との処理ユニットからの距離が同等となるように配置されることが望ましい。これによれば、簡単な構成で、処理ユニットからシート状基材の表面または裏面までの距離を略同一に揃えることが実現できる。なお、本発明において、同等には、処理ユニットからシート状基材の表面または裏面までの距離が厳密に一致している場合だけでなく、例えば、処理ユニットをスパッタリング成膜用のカソードユニットとし、シート状基材の表面または裏面に同時に成膜処理するような場合に、同じ膜厚で成膜できるようにカソードユニットに対して第２ローラユニットが近接または離間しているような場合を含む。【００１０】
また、本発明においては  請求項１または請求項２記載の真空処理装置であって、処理ユニットがスパッタリング成膜用のカソードユニットであるものにおいて、前記カソードユニットを、真空処理室を画成する壁面に設けると共に、この壁面に対向する他の壁面に単一の真空補助室を連設し、この真空補助室に繰出しローラと巻取りローラとを配置して構成しておけば、真空処理装置を更に小型化できてよい。【００１１】
ところで、例えば、シート状基材を所定温度に加熱した状態で成膜処理を行った後、処理直後のシート状基材を巻取りローラで巻き取ると、シート状基材の処理面が変質する等の不具合が生じる虞がある。このため、例えば、処理後のシート状基材を所定温度以下まで冷却して巻取りローラに巻き取ることになる。この場合、ガイドローラや巻取りローラの回転軸を冷却してシート状基材を熱交換で冷却することが考えられるが、これでは装置構成が複雑になる。【００１２】
そこで、前記巻取りローラの上流側でシート状基材に対向させて冷却パネルを設けておけば、当該冷却パネルのシート状基材との対向面が吸熱面としての役割を果たし、シート状基材を効率よく冷却できる。しかも、冷却パネルが、例えば極低温（数十Ｋ）に保持されたクライオパネルであるような場合、当該パネルに真空補助室内の水分等が吸着されることで、真空補助室の高真空度保持に寄与し、例えば、真空補助室に設けるポンプを排気能力の低い、低コストのものを用いることができる等、有利である。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の第１実施形態の真空処理装置を示す模式的断面図。
【図２】真空処理室内でのシート状基材の搬送を説明する部分拡大斜視図。
【図３】第２実施形態の真空処理装置を示す模式的断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面を参照して、処理ユニットを、スパッタリング成膜用のカソードユニットとし、シート状基材の表裏両面に成膜する場合を例に、本発明の実施形態の真空処理装置について説明する。
【００１５】
図１及び図２を参照して、ＳＭは、本実施形態の真空処理装置である。この真空処理装置ＳＭは、図外の真空ポンプで真空引きされる直方体形状の真空処理室１と、この真空処理室１の一側面に連設された真空補助室２とを備え、シート状基材Ｓを、真空補助室２から真空処理室１を通して搬送し、この真空処理室１でシート状基材Ｓに成膜できる。真空処理室１には、真空補助室２に対向する他側面に単一のカソードユニット３が装着されている。
【００１６】
カソードユニット３は、シート状基材Ｓの表裏両面に形成しようとする薄膜の組成に応じて形成されたターゲット３１を備える。ターゲット３１は例えば矩形で、後述のようにターゲット３１の前方を周回搬送されるシート状基材Ｓの全幅より大きな幅を有するように作製され（図２参照）、バッキングプレート３２に接合された状態で真空処理室１内に設けられる。なお、カソードユニット３自体は、公知の構造を有するものを利用できるため、ここでは詳細な説明を省略する。また、図１中、３３ａ、３３ｂは防着板、３４はカードユニットのカバー、３５はアノードリングである。
【００１７】
真空処理室１には、ターゲット３１をその長さ方向（図１中、上下方向）で跨ぐ両側に、一対のローラユニット４ｕ、４ｄが設けられている。これらのローラユニットを第１ローラユニット４ｕ、４ｄとし、第１ローラユニット４ｕ、４ｄの各々は、同一の構成を有し、第１軸体４１とこの第１軸体４１に等間隔で回転可能に外装された４個の第１ローラ４２とから構成される。第１軸体４１の各々は、未使用時のターゲット３１のスパッタ面３１ａに夫々平行で、かつ、ターゲット３１のスパッタ面３１ａから所定間隔を存して配置されている（スパッタ面３１ａと両軸体４１との間隔は同等である）。また、第１軸体４１の一方と他方とは、第１ローラ４２の各々が軸方向に互い違いにずれるように配置される。なお、第１ローラユニット４ｕ、４ｄの構成は上記のものに限定されるものではなく、また、第１ローラ４２の数もシート状基材Ｓの幅や成膜速度を考慮して適宜設定される。
【００１８】
また、真空処理室１には、第１ローラユニット４ｕ、４ｄの内方でターゲット３１をその長さ方向（図１中、上下方向）で跨ぐ両側に、他の一対のローラユニット５ｕ、５ｄが設けられ、これら一対のローラユニット５ｕ、５ｄが、シート状基材Ｓの一部を所定幅で処理ユニット側にシフトする本実施形態のシフト手段を構成する。シフト手段たるローラユニットを第２ローラユニット５ｕ、５ｄとし、第２ローラユニット５ｕ、５ｄの各々は、同一の構成を有し、第２軸体５１とこの第２軸体５１に等間隔で回転可能に外装した４個の第２ローラ５２とから構成される。第２ローラ５２の径は、第１ローラ４２の径より小さく設定されている。第２軸体５１の一方と他方とは、第１軸体４１に夫々平行で、第２ローラ５２が第１ローラ４２の相互の間に位置すると共に第２ローラ５２の各々が軸方向に互い違いにずれ、かつ、第１軸体４１よりカソードユニット３側に偏心して配置されている。この場合、スパッタ面３１ａと両第２軸体５１との間隔も同等である。なお、第２ローラユニット５ｕ、５ｄの構成は上記のものに限定されるものではなく、例えば、２ローラ５２の径を、第１ローラ４２の径と同じに設定し、第１軸体４１及び第２軸体５１をターゲット３１のスパッタ面３１ａに平行な同一平面内に配置してもよく、また、第２ローラ５２の数等も第１ローラ４２に応じて適宜設定される。
【００１９】
真空補助室２は、真空処理室１と同様、図外の真空ポンプで真空引きされ、その内部には、図示省略の駆動源を備えた繰出しローラ６と、図示省略の駆動源を備えた巻取りローラ７とが設けられている。巻取りローラ７の上流側には、シート状基材Ｓのテンションを測定する測定器８が設けられ、この測定器８の測定結果に応じて、繰出しローラ６や巻取りローラ７の回転速度が適宜制御されるようになっている。なお、図１中、ＧＲはガイドローラである。以下に、真空補助室２内の繰出しローラ６から繰り出し、真空処理室１を通した後、巻取りローラ７に巻き取るまでのシート状基材Ｓの搬送を説明する。
【００２０】
繰出しローラ６から繰り出したシート状基材Ｓは、真空処理室１と真空補助室２との当接面に形成した透孔１１ａを通って真空処理室１に送られる。真空処理室１において、シート状基材Ｓは、図１中、下側の第１ローラユニット４ｄの軸方向一側（図２中、手前側）に位置する第１ローラ４２ａに先ずカソードユニット３側（時計回り）へと巻き掛けられ、上側の第１ローラユニット４ｕの軸方向一側（図２中、手前側）に位置する第１ローラ４２ｂにカソードユニット３側から巻き掛けられる。このとき、カソードユニット３のターゲット３１に対向するシート状基材Ｓの片面が表面となり、スパッタ面３１ａと平行に当該スパッタ面３１ａを横切るようになる。
【００２１】
第１ローラ４２ｂを経たシート状基材Ｓは、ガイド手段たる第２ローラユニット５ｕ、５ｄの軸方向一側（図２中、手前側）に位置する第２ローラ５２ａ、５２ｂのカソードユニット３側を夫々経由して、下側の第１ローラユニット４ｄの軸方向一側（図２中、手前側）のローラ４２ａに隣り合う次のローラ４２ｃへと案内され、カソードユニット３とは反対側から巻き掛けられる（つまり、第１ローラユニット４ｕ、４ｄのみにシート状基材Ｓを巻き掛ける場合、螺旋状をなすように巻き掛けられる）。このとき、両第２ローラ５２ａ、５２ｂ間をシート状基材Ｓが搬送される間、シート状基材Ｓの一部の裏面がターゲット３１のスパッタ面３１ａに対向するようになる（つまり、シート状基材Ｓの裏面が、スパッタ面３１ａと平行に当該スパッタ面３１ａを横切るようになる）。そして、両第２軸体５１の位置を適宜設定すれば、第１ローラ４２ａ、４２ｂ間を搬送されるシート状基材Ｓの表面と第２ローラ５２ａ、５２ｂ間を搬送されるシート状基材Ｓの裏面と、ターゲット３１のスパッタ面３１ａとの間の距離を略同一に揃えることができる。
【００２２】
上記のように各ローラ４２、５２へのシート状基材Ｓの巻き掛けを、軸方向他側まで行う。そして、下側の第２ローラユニット５ｄの軸方向他側（図２中、後側）に位置するローラ５２ｅを経たシート状基材Ｓが、真空処理室１と真空補助室２との当接面に形成した他の透孔１１ｂを通して真空補助室２に戻され、巻取りローラ７に巻き取る。
【００２３】
これにより、シート状基材Ｓが、カソードユニット３の前方で、その表面及び裏面が交互にカソードユニット３に対向するように周回搬送される。そして、ターゲット３１の前方空間に希ガスを導入した状態でターゲット３に図外の電源から負の電位を持った所定電力を投入すると、ターゲット３１のスパッタ面３１ａ前方空間にプラズマが形成され、ターゲット３１がスパッタリングされ、ターゲットから飛散したスパッタ粒子がシート状基材Ｓの表裏両面に夫々付着、堆積し、シート状基材Ｓの表裏両面に略同一の厚さで所定の薄膜が成膜される。
【００２４】
以上説明したように、上記実施形態によれば、第１ローラユニット４ｕ、４ｄにより、カソードユニット３の前方で、当該カソードユニット３に対してシート状基材Ｓの表面及び裏面が交互に対向するようにシート状基材Ｓを周回搬送されると共に、シフト手段たる第２ローラユニット５ｕ、５ｄにより、カソードユニット３から、成膜され得るシート状基材Ｓの表面または裏面までの距離を略同一にできるため、単一のカソードユニット３にて効率よくシート状基材Ｓの表裏両面に略同等の膜厚で成膜することができる。このため、上記従来例の如く、複数の処理室を必要とせず、装置の小型化が図れると共に、部品点数を少なくして低コスト化を図ることができる。しかも、シート状基材Ｓの表裏両面が複数回処理ユニットに対向したため、シート状基材Ｓの搬送速度を向上でき、生産性もよい。また、カソードユニット３と真空補助室２とを、真空処理室１を画成する壁面のうち、対向面に夫々設けると共に、真空補助室２に繰出しローラ６と巻取りローラ７とを配置したため、真空処理装置ＳＭを一層小型化できる。
【００２５】
ところで、例えば、シート状基材Ｓを成膜処理する場合、用途によっては、繰出しローラ６の下流側に加熱手段（図示せず）を設け、成膜処理前にシート状基材Ｓを所定温度に加熱し、この状態で成膜処理を行う場合がある。このような場合に、処理直後のシート状基材Ｓを巻取りローラ７で巻き取ると、シート状基材Ｓに成膜した膜が変質する等の不具合が生じる虞がある。
【００２６】
そこで、本実施形態では、巻取りローラ７の上流側でシート状基材に対向させてクライオパネル（冷却パネル）９を設けている（図１参照）。クライオパネル９は、例えば、閉サイクルのヘリウム冷凍機等、公知の構図の冷凍ユニット９ａを備え、冷凍ユニット９ａからの冷媒で極低温（例えば、数十Ｋ）に保持されるようになっている。この場合、クライオパネル９のシート状基材Ｓとの対向面は、シート状基材Ｓより幅広に形成されている。これにより、クライオパネル９のシート状基材Ｓとの対向面が吸熱面としての役割を果たし、シート状基材Ｓを効率よく冷却することができる。しかも、クライオパネル９に真空補助室２内の水分等が吸着されることで、真空補助室２の高真空度保持に寄与し、例えば、真空補助室２に設けるポンプを排気能力の低い、低コストのものを用いることができる等、有利である。また、クライオパネル９をガイドロールに対向させて設置し、ガイドロール自体を冷却してシート状基材Ｓを冷却するようにしてもよい。
【００２７】
なお、本実施形態では、冷却パネルとしてクライオパネル９を用いるものを例に説明しているが、シート状基材Ｓから吸熱して冷却し得るものであれば、これに限定されるものではない。また、冷却パネルを用いた本発明のシート状基材Ｓの冷却方法は、上記実施形態の真空処理装置だけでなく、上記従来例のような構造のものを含む他の巻取り式の真空処理装置全般に広く適用可能である。
【００２８】
上記実施形態では、処理ユニットとしてカソードユニット３を用いるものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、カソードユニットは、抵抗加熱式蒸発源やＣＶＤ法によるものでもよく、また、成膜源以外でプラズマガス等を設けて表面処理するような処理ユニットでも本発明は適用できる。
【００２９】
更に、上記実施形態では、シフト手段を、一対の第２ローラユニット５ｕ、５ｄから構成したものを例に説明したが、シート状基材Ｓの一部を所定幅で処理ユニット３側にシフトできるものであれば特に制限されるものではない。例えば、処理ユニット３に対して進退自在な駆動軸と、この駆動軸の先端に回転自在に取り付けたローラとからガイド手段を構成し、このシフト手段を、処理ユニットを跨ぐ両側に配置しておき、各ガイド手段を同期して処理ユニット側に移動し、シート状基材Ｓを一定の幅で処理ユニット側に変位させるようにしてもよい。これによれば、処理ユニットとシート状基材Ｓまでの距離を表面と裏面とで任意に変更できる。
【００３０】
また、上記実施形態では、真空処理装置の最も小型化できるように、１つの真空補助室２に繰出しローラと巻取りローラとを設けたものを例に説明したが、装置のレイアウトはこれに限定されるものではない。例えば、図３に示すように、真空処理室１の相互に対向する側面に夫々真空補助室２ａ、２ｂを連設し、上流側の真空補助室に設けた繰出しローラ６から、真空処理室１を通して、下流側の真空補助室２ｂに設けた巻取りローラ７に巻き取るようにシート状基材を搬送してもよい。
【符号の説明】
【００３１】
ＳＭ…真空処理装置、１…真空処理室、２…真空補助室、３…カソードユニット（処理ユニット）、４ｕ、４ｄ…第１ローラユニット、４１…第１軸体、４２…第１ローラ、５ｕ、５ｄ…第２ローラユニット（シフト手段）、５１…第２軸体、５２…第２ローラ、６…繰出しローラ、７…巻取りローラ、９…クライオパネル（冷却パネル）。
【図１】
2012046384.tif 000003
【図２】
2012046384.tif 000004
【図３】
2012046384.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月8日(2013.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、一対のローラユニットにより、処理ユニットの前方で、当該処理ユニットに対してシート状基材の表面及び裏面が交互に対向するようにシート状基材を周回搬送されると共に、シフト手段により、シート状基材の一部を、例えば、処理ユニットからシート状基材の表面及び裏面までの距離を略同一になるようにシフトさせるようにしたため、単一の処理ユニットにて効率よくシート状基材の表裏に同一処理を施すことができる。このため、上記従来例の如く、複数の処理室を必要とせず、装置の小型化が図れると共に、部品点数を少なくして低コスト化を図ることできる。しかも、シート状基材の表裏両面が複数回処理ユニットに対向するようにすれば、シートの搬送速度を向上でき、生産性もよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明においては、前記シフト手段は、前記一対の第１ローラユニットの内方で処理ユニットの両側に配置された他の一対の第２ローラユニットであり、第２ローラユニットは、前記処理ユニット側にシフトされたシート状基材の一部と、前記第１ローラユニット一側の各ローラから他側の各ローラに向かうシート状基材の部分との処理ユニットからの距離が同等となるように配置されることが望ましい。これによれば、簡単な構成で、処理ユニットからシート状基材の表面及び裏面までの距離を略同一に揃えることが実現できる。なお、本発明において、同等には、処理ユニットからシート状基材の表面及び裏面までの距離が厳密に一致している場合だけでなく、例えば、処理ユニットをスパッタリング成膜用のカソードユニットとし、シート状基材の表面及び裏面に同時に成膜処理するような場合に、同じ膜厚で成膜できるようにカソードユニットに対して第２ローラユニットが近接または離間しているような場合を含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
カソードユニット３は、シート状基材Ｓの表裏両面に形成しようとする薄膜の組成に応じて形成されたターゲット３１を備える。ターゲット３１は例えば矩形で、後述のようにターゲット３１の前方を周回搬送されるシート状基材Ｓの全幅より大きな幅を有するように作製され（図２参照）、バッキングプレート３２に接合された状態で真空処理室１内に設けられる。なお、カソードユニット３自体は、公知の構造を有するものを利用できるため、ここでは詳細な説明を省略する。また、図１中、３３ａ、３３ｂは防着板、３４はカソードユニットのカバー、３５はアノードリングである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、真空処理室１には、第１ローラユニット４ｕ、４ｄの内方でターゲット３１をその長さ方向（図１中、上下方向）で跨ぐ両側に、他の一対のローラユニット５ｕ、５ｄが設けられ、これら一対のローラユニット５ｕ、５ｄが、シート状基材Ｓの一部を所定幅で処理ユニット側にシフトする本実施形態のシフト手段を構成する。シフト手段たるローラユニットを第２ローラユニット５ｕ、５ｄとし、第２ローラユニット５ｕ、５ｄの各々は、同一の構成を有し、第２軸体５１とこの第２軸体５１に等間隔で回転可能に外装した４個の第２ローラ５２とから構成される。第２ローラ５２の径は、第１ローラ４２の径より小さく設定されている。第２軸体５１の一方と他方とは、第１軸体４１に夫々平行で、第２ローラ５２が第１ローラ４２の相互の間に位置すると共に第２ローラ５２の各々が軸方向に互い違いにずれ、かつ、第１軸体４１よりカソードユニット３側に偏心して配置されている。この場合、スパッタ面３１ａと両第２軸体５１との間隔も同等である。なお、第２ローラユニット５ｕ、５ｄの構成は上記のものに限定されるものではなく、例えば、第２ローラ５２の径を、第１ローラ４２の径と同じに設定し、第１軸体４１及び第２軸体５１をターゲット３１のスパッタ面３１ａに平行な同一平面内に配置してもよく、また、第２ローラ５２の数等も第１ローラ４２に応じて適宜設定される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
第１ローラ４２ｂを経たシート状基材Ｓは、シフト手段たる第２ローラユニット５ｕ、５ｄの軸方向一側（図２中、手前側）に位置する第２ローラ５２ａ、５２ｂのカソードユニット３側を夫々経由して、下側の第１ローラユニット４ｄの軸方向一側（図２中、手前側）のローラ４２ａに隣り合う次のローラ４２ｃへと案内され、カソードユニット３とは反対側から巻き掛けられる（つまり、第１ローラユニット４ｕ、４ｄのみにシート状基材Ｓを巻き掛ける場合、螺旋状をなすように巻き掛けられる）。このとき、両第２ローラ５２ａ、５２ｂ間をシート状基材Ｓが搬送される間、シート状基材Ｓの一部の裏面がターゲット３１のスパッタ面３１ａに対向するようになる（つまり、シート状基材Ｓの裏面が、スパッタ面３１ａと平行に当該スパッタ面３１ａを横切るようになる）。そして、両第２軸体５１の位置を適宜設定すれば、第１ローラ４２ａ、４２ｂ間を搬送されるシート状基材Ｓの表面と第２ローラ５２ａ、５２ｂ間を搬送されるシート状基材Ｓの裏面と、ターゲット３１のスパッタ面３１ａとの間の距離を略同一に揃えることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
以上説明したように、説明したように、上記実施形態によれば、第１ローラユニット４ｕ、４ｄにより、カソードユニット３の前方で、当該カソードユニット３に対してシート状基材Ｓの表面及び裏面が交互に対向するようにシート状基材Ｓを周回搬送されると共に、シフト手段たる第２ローラユニット５ｕ、５ｄにより、カソードユニット３から、成膜され得るシート状基材Ｓの表面及び裏面までの距離を略同一にできるため、単一のカソードユニット３にて効率よくシート状基材Ｓの表裏両面に略同等の膜厚で成膜することができる。このため、上記従来例の如く、複数の処理室を必要とせず、装置の小型化が図れると共に、部品点数を少なくして低コスト化を図ることができる。しかも、シート状基材Ｓの表裏両面が複数回処理ユニットに対向したため、シート状基材Ｓの搬送速度を向上でき、生産性もよい。また、カソードユニット３と真空補助室２とを、真空処理室１を画成する壁面のうち、対向面に夫々設けると共に、真空補助室２に繰出しローラ６と巻取りローラ７とを配置したため、真空処理装置ＳＭを一層小型化できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
更に、上記実施形態では、シフト手段を、一対の第２ローラユニット５ｕ、５ｄから構成したものを例に説明したが、シート状基材Ｓの一部を所定幅で処理ユニット３側にシフトできるものであれば特に制限されるものではない。例えば、処理ユニット３に対して進退自在な駆動軸と、この駆動軸の先端に回転自在に取り付けたローラとからシフト手段を構成し、このシフト手段を、処理ユニットを跨ぐ両側に配置しておき、各シフト手段を同期して処理ユニット側に移動し、シート状基材Ｓを一定の幅で処理ユニット側に変位させるようにしてもよい。これによれば、処理ユニットとシート状基材Ｓまでの距離を表面と裏面とで任意に変更できる。
【国際調査報告】
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