(57)【要約】  タッチ領域（T1）内部の導電パターン（17）と引出配線（30）とを電気的に接続する接続導電部（33）を、層間絶縁膜（23）よりも下層で引出配線（30）の引き出し基端部（30s）と重ねて接続された第１接続層（34A）と、第１接続層（34A）に接続され層間絶縁膜（23）を介して周辺配線（32）を跨ぐ第２接続層（34B）とで構成する。
2012090446.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接触体により接触されたタッチ位置を検出するための領域であるタッチ領域と、
上記タッチ領域の外側に設けられ、外部回路と接続するための領域である端子領域と、
上記タッチ領域に配置されたタッチ位置検出用の第１導電パターンと、
上記第１導電パターンの少なくとも一部を覆うように設けられた層間絶縁膜と、
上記層間絶縁膜を介して上記第１導電パターンと交差するように設けられた第２導電パターンと、
上記タッチ領域側から上記端子領域側に引き出され、上記層間絶縁膜に覆われた引出配線と、
上記第１導電パターン及び第２導電パターンの少なくとも一方と上記引出配線の引き出し基端部との間を横切るように上記タッチ領域の周辺に延び、上記層間絶縁膜に覆われた周辺配線と、
上記周辺配線を上記層間絶縁膜を介して跨ぐように設けられて、上記第１導電パターン及び第２導電パターンの少なくとも一方に接続されていると共に上記引出配線の引き出し基端部に接続され、これらタッチ領域内部の導電パターンと引出配線とを電気的に接続する接続導電部とを備えたタッチパネルであって、
上記接続導電部は、上記層間絶縁膜よりも下層で上記引出配線の引き出し基端部と重ねて接続された第１接続層と、該第１接続層に接続されて上記周辺配線を跨ぐ第２接続層とを有している
ことを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
請求項１に記載のタッチパネルにおいて、
上記第１接続層は、上記第１導電パターンと同一膜から形成され、
上記第２接続層は、上記第２導電パターンと同一膜から形成されている
ことを特徴とするタッチパネル。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のタッチパネルにおいて、
上記引出配線の引き出し基端部は、当該引出配線の両端部間の中間部よりも幅広に形成され、互いの間に隙間を有するように一体に形成された複数の細線部により構成されている
ことを特徴とするタッチパネル。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のタッチパネルにおいて、
上記第１接続層は、上記引出配線の引き出し基端部と重なる領域からその外側領域に延出しており、
上記第２接続層は、上記第１接続層の延出部分に一部を重ねて接続され、
上記引出配線の全体が層間絶縁膜によって覆われている
ことを特徴とするタッチパネル。
【請求項５】
請求項３に記載のタッチパネルにおいて、
上記層間絶縁膜には、上記細線部間の隙間の一部に対応するように上記第１接続層に達するコンタクトホールが形成され、
上記第２接続層は、上記コンタクトホールを介して上記第１接続層に接続されている
ことを特徴とするタッチパネル。
【請求項６】
請求項５に記載のタッチパネルにおいて、
上記複数の細線部は、上記第１接続層を部分的に囲む枠状部を構成するように組み合わせられており、
上記コンタクトホールは、上記枠状部の内側に収まるように形成され、
上記引出配線の全体が上記層間絶縁膜によって覆われている
ことを特徴とするタッチパネル。
【請求項７】
請求項５に記載のタッチパネルにおいて、
上記コンタクトホールは、一部の上記細線部の端面を含むように形成され、
上記第２接続層は、上記コンタクトホールを介して上記第１接続層及び細線部に接続されている
ことを特徴とするタッチパネル。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のタッチパネルにおいて、
上記第１接続層及び第２接続層は、透明導電酸化物により形成され、
上記引出配線は、高融点金属層、アルミニウム層及び高融点金属層が順に積層されてなる
ことを特徴とするタッチパネル。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のタッチパネルにおいて、
上記第１導電パターン及び第２導電パターンの一方は、各々一方向に整列した複数の第１電極で構成され互いに平行に並ぶ複数の第１電極群と、各々該各第１電極群と交差する方向に整列した複数の第２電極で構成され互いに平行に並ぶ複数の第２電極群と、上記各第１電極群の隣り合う第１電極同士を連結する第１連結部とを有し、
上記第１導電パターン及び第２導電パターンの他方は、上記第２電極群の隣り合う第２電極同士を連結する第２連結部を有している
ことを特徴とするタッチパネル。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載のタッチパネルを備える
ことを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の表示装置において、
入力される画像データに応じて表示画像を生成する表示パネルと、
上記表示パネルによって生成された表示画像における第１の表示領域と第２の表示領域とにそれぞれ異なる特定の視野角を与える視差バリア手段と、
上記視差バリア手段の効果の有効と無効とを切り替えることにより第１の表示状態と第２の表示状態とを切り替えるスイッチング液晶パネルとを備え、
上記タッチパネルは、上記スイッチング液晶パネルを構成する基板表面に直接形成されている
ことを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
請求項１に記載のタッチパネルを製造する方法であって、
ベース基板上に透明導電性酸化物からなる透明導電膜を成膜し、該透明導電膜を第１のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、上記第１導電パターン及び第１接続層を形成する第１パターニング工程と、
上記第１導電パターン及び第１接続層を覆うように金属膜を成膜し、該金属膜を第２のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、上記第１接続層に引き出し基端部を重ねて接続するように上記引出配線を形成する第２パターニング工程と、
上記第１導電パターン、第１接続層及び引出配線を覆うように絶縁膜を成膜し、該絶縁膜の第３のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、上記第１導電パターン及び第１接続層の少なくとも一部を露出させるように層間絶縁膜を形成する第３パターニング工程と、
上記層間絶縁膜上に透明導電性酸化物からなる透明導電膜を成膜し、該透明導電膜を第４のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、第２導電パターンを形成すると共に第１導電パターン及び第１接続層に接続するように上記第２接続層を形成する第４パターニング工程と、
上記第２導電パターン及び第２接続層を覆うように絶縁膜を成膜し、該絶縁膜を第５のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、上記保護絶縁膜を形成する第５パターニング工程とを含む
ことを特徴とするタッチパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル及びそれを備えた表示装置並びにタッチパネルの製造方法に関し、特に、タッチ位置の検出不良対策に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルは、液晶表示パネルやプラズマ表示パネルなどの表示パネル上に設けられて表示装置を構成し、該表示パネルの表示画面上で指又はペンなどを用いて各種操作を行うことにより、表示装置本体に情報を入力するための入力装置である。【０００３】
タッチパネルは、その動作原理によって、抵抗膜方式、静電容量方式、赤外線方式、超音波方式、電磁誘導方式などに分類される。その中でも、静電容量方式のタッチパネルは、表示装置の光学特性を比較的損ない難く、表示装置に好適であることが知られている。特に、投影型静電容量方式（プロジェクテッドキャパシティブ方式）のタッチパネルは、指などの接触体の多点検出が可能なため、複雑な指示情報を入力できるという良好な操作性を有する。【０００４】
投影型静電容量方式のタッチパネルは、表示領域と対応する領域に配置されたタッチ位置を検出可能なタッチ領域と、表示領域外側の非表示領域に対応する領域に配置された額縁領域とを有している。タッチ領域には、タッチ位置検出用の電極として、一方向に整列した複数の第１電極からなる第１電極群が互いに平行に複数列並ぶと共に、該各第１電極群と直交する方向に整列した複数の第２電極からなる第２電極群が互いに平行に複数列並んでいる（例えば、特許文献１参照）。第１電極及び第２電極は、表示パネルの表示画面を透視可能なようにインジウムスズ酸化物（Indium Tin Oxide、以下、ＩＴＯと称する）などの導電率の低い透明導電性酸化物により形成されている。【０００５】
各第１電極群の隣り合う第１電極同士は第１連結部により連結され、各第２電極群の隣り合う第２電極同士は第２連結部により連結されている。第１連結部及び第２連結部は、第１電極及び第２電極と同様に透明導電性酸化物からなる。そして、第１電極群と第２電極群との各交差部では、第１連結部と第２連結部とが層間絶縁膜を介して設けられており互いに絶縁されている。これら各第１電極群及び各第２電極群には、額縁領域上をタッチ領域側から額縁領域の端部に位置する端子領域側に引き出されたそれぞれ別個の引出配線が電気的に接続されている。これら各引出配線は、層間絶縁膜によって覆われている。【０００６】
各引出配線の引き出し基端部には接続導電部が接続されている。各接続導電部は、第１電極群又は第２電極群に接続されている。一方、各引出配線の引き出し先端部には外部接続端子が接続されている。各外部接続端子は、第１電極群及び第２電極群に交流電圧を印加すると共に、各第１電極及び各第２電極に対応する箇所の静電容量を検出する容量検出回路に接続されている。上記第１電極及び第２電極は、保護のための絶縁膜によって覆われている。【０００７】
そして、当該タッチパネルでは、タッチ領域で絶縁膜がタッチされると、タッチ位置にある第１電極及び第２電極が、指などの接触体との間に形成される静電容量を介し人体を通じて接地され、このときのタッチ位置の第１電極及び第２電極と接触体との間に形成される静電容量の変化が容量検出回路によって検出される。こうして、上記静電容量の変化に基づいてタッチ位置が検出される仕組みとなっている。【０００８】
このような投影型静電容量方式のタッチパネルにおいて、タッチ領域の周辺には、タッチ位置検出用の電極（第１電極及び第２電極）と引出配線との間を横切るようにグランド配線が形成されている。このグランド配線は、層間絶縁膜によって覆われ、製造工程を簡素化するために引出配線と同一膜から形成されている。【０００９】
また、接続導電部は、層間絶縁膜を介して上記グランド配線を跨ぐように設けられ、該グランド配線と絶縁されている。この接続導電部は、例えば上記第１連結部又は第２連結部と同一膜から形成され、透明導電酸化物からなる。そして、接続導電部は、層間絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介して引出配線の引き出し基端部に接続されている。この引出配線には、なるべく低抵抗化を図ると共に上記接続導電部などの透明導電層との接続において電触反応を防止するために、高融点金属層、アルミニウム層及び高融点金属層が順に積層された積層構造が好適に採用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１０−２５７４４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上述した投影型静電容量方式のタッチパネルでは、高精細なタッチ位置の検出を実現すべく多数の第１電極群及び第２電極群が隣り合う電極同士を近接させた状態で形成され、それに伴い、引出配線も額縁領域に互いに並んで延びるように多数形成される。このようなタッチパネルを、非表示領域である額縁領域が狭い狭額縁構造の表示パネルに適用する場合には、当該タッチパネルの額縁領域も表示パネルの額縁領域に合わせて狭額縁構造にする必要があるので、多数の引出配線を密集させて形成し、その線幅も狭くせざるを得ない。【００１２】
しかしながら、上記接続導電部は、グランド配線と絶縁した構成とするために層間絶縁膜上に形成されているので、該層間絶縁膜に形成したコンタクトホールを介して引出配線の引き出し基端部に接続する必要があるが、引出配線の線幅が狭いと、その程度によっては層間絶縁膜をフォトリソグラフィーにより形成する際、通常の解像度では引出配線の引き出し基端部上に収まるようにコンタクトホールを形成できない場合がある。この場合には、引出配線の端面を含む状態にコンタクトホールを形成することになる。また、フォトリソグラフィーの解像度からして引出配線の引き出し基端部上に収まるようにコンタクトホールを形成できる場合であっても、線幅の狭い引出配線の引き出し基端部に対してコンタクトホールの形成位置が少しでもずれたときには、同様に引出配線の端面を含む状態にコンタクトホールが形成されることになる。【００１３】
このように引出配線の端面を含む状態にコンタクトホールを形成すると、引出配線の低抵抗化に寄与するアルミニウム層は、フォトリソグラフィーで用いられる現像液に溶解する性質であるのに、層間絶縁膜形成時の現像液に引出配線の端面において晒されるため溶解し、最悪の場合、配線幅方向の全体に亘って消失して、当該引出配線の引き出し基端部が部分的に剥がれる事態を招く。そうなると、接続導電部と引出配線とに接続不良が生じ、ひいてはタッチ位置検出用の電極と容量検出回路との間に導通不良を引き起こして、タッチ位置検出機能が損なわれてしまう。【００１４】
本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、タッチ領域周辺の周辺配線と接続導電部とを層間絶縁膜を介し絶縁した構成において、接続導電部と引出配線とを確実に接続して良好なタッチ位置検出機能を得ることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記の目的を達成するために、この発明は、接続導電部を２層の接続層によって構成し、これら２層の接続層の引出配線に対する接続構造を工夫したものである。【００１６】
具体的には、本発明は、接触体により接触されたタッチ位置を検出するための領域であるタッチ領域と、該タッチ領域の外側に設けられ、外部回路と接続するための領域である端子領域と、上記タッチ領域に配置されたタッチ位置検出用の第１導電パターンと、該第１導電パターンの少なくとも一部を覆うように設けられた層間絶縁膜と、該層間絶縁膜を介して上記第１導電パターンと交差するように設けられた第２導電パターンと、上記タッチ領域側から上記端子領域側に引き出され、上記層間絶縁膜に覆われた引出配線と、上記第１導電パターン及び第２導電パターンの少なくとも一方と上記引出配線の引き出し基端部との間を横切るように上記タッチ領域の周辺に延び、上記層間絶縁膜に覆われた周辺配線と、該周辺配線を上記層間絶縁膜を介して跨ぐように設けられて、上記第１導電パターン及び第２導電パターンの少なくとも一方に接続されていると共に上記引出配線の引き出し基端部に接続され、これらタッチ領域内部の導電パターンと引出配線とを電気的に接続する接続導電部とを備えたタッチパネル、及びそれを備えた表示装置並びにタッチパネルの製造方法を対象とし、以下の解決手段を講じたものである。【００１７】
すなわち、第１の発明は、タッチパネルであって、上記接続導電部が、上記層間絶縁膜よりも下層で上記引出配線の引き出し基端部と重ねて接続された第１接続層と、該第１接続層に接続されて上記周辺配線を跨ぐ第２接続層とを有していることを特徴とする。【００１８】
この第１の発明では、第１接続層が層間絶縁膜よりも下層で引出配線の引き出し基端部と重ねて接続されているので、該第１接続層によって接続導電部と引出配線とが確実に接続される。そして、この第１接続層には層間絶縁膜を介して周辺配線を跨ぐ第２接続層が接続されているので、該第２接続層によって接続導電部が周辺配線と絶縁した状態に構成される。したがって、タッチ領域周辺の周辺配線と接続導電部とを層間絶縁膜を介し絶縁した構成において、接続導電部と引出配線とを確実に接続することができ、良好なタッチ位置検出機能を得ることができる。【００１９】
第２の発明は、第１の発明のタッチパネルにおいて、上記第１接続層は、上記第１導電パターンと同一膜から形成され、上記第２接続層は、上記第２導電パターンと同一膜から形成されていることを特徴とする。【００２０】
この第２の発明では、第１接続層が第１導電パターンと同一膜から、第２接続層が第２導電パターンと同一膜からそれぞれ形成されている。すなわち、第１導電パターン及び第２導電パターンを形成する既存の工程を利用して、接続導電部を上記２層の接続層からなる接続構造に構成することができる。このため、第１導電パターン及び第２導電パターンを形成するための工程とは別個に当該接続導電部を形成するための工程を追加する必要がなく、製造工程を増やさずに済んで、製造コストを増大させることがない。【００２１】
第３の発明は、第１又は第２の発明のタッチパネルにおいて、上記引出配線の引き出し基端部は、当該引出配線の両端部間の中間部よりも幅広に形成され、互いの間に隙間を有するように一体に形成された複数の細線部により構成されていることを特徴とする。【００２２】
この第３の発明では、引出配線の引き出し基端部が当該引出配線の両端部間の中間部よりも幅広に形成されているので、引出配線の引き出し基端部が当該引出配線の中間部と同等かそれ以下の幅で形成されている場合に比べて、該引出配線の引き出し基端部と接続導電部との接続面積を増大させて、これら引出配線と接続導電部との間の導電性を向上させることができる。その上、接続導電部及び引出配線の形成位置のずれに対するマージンが確保されるので、これら接続導電部と引出配線とをよりいっそう確実に接続することができる。【００２３】
ところで、タッチパネルは、液晶表示パネルを構成する基板表面や、２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置で用いられる２Ｄ表示と３Ｄ表示とを切り替えるためのスイッチング液晶パネルと呼ばれる液晶パネルを構成する基板表面に直接に形成することが液晶表示装置を全体として薄型化する観点から好ましい。【００２４】
また、これら液晶表示パネル又はスイッチング液晶パネルを製造する方法としては、生産効率の点で有利ないわゆる滴下注入法が好適に用いられる。滴下注入法では、一対の基板のうち一方の基板表面に紫外線硬化型の樹脂からなるシール材を枠状に描画し、該シール材の内側領域に液晶材料を滴下した後、該基板を他方の基板と貼り合わせ、シール材に紫外線を照射することにより、該シール材を硬化させて両基板を接着させる。【００２５】
しかしながら、例えば、一方の基板表面にタッチパネルを形成した後に、該タッチパネル付きの基板を、シール材を介して他方の基板と貼り合わせて液晶表示パネル又はスイッチング液晶パネルを製造する場合、つまり一対の基板を貼り合わせる前に先だって一方の基板にタッチパネルを形成する場合には、引出配線が幅広に形成されている部分があると、その部分でタッチパネル側から照射した紫外線が遮られてシール材にまで透過しないため、シール材中に未硬化部分が残る場合がある。この場合には、両基板間の接着力が低下することは勿論、そればかりか未硬化のシール材の成分が液晶層中に混入して、液晶分子の配向状態が不安定になったり、画像表示に滲みやムラなどが発生し、表示品位が低下するおそれがある。【００２６】
この点について、上記第３の発明によると、引出配線の引き出し基端部は、幅広に形成されているものの、互いの間に隙間を有するように一体に形成された複数の細線部により構成されているので、細線部間の隙間を通してシール材に紫外線を照射することができ、シール材中の未硬化部分を低減することができる。【００２７】
第４の発明は、第１〜第３の発明のいずれか１つのタッチパネルにおいて、上記第１接続層は、上記引出配線の引き出し基端部と重なる領域からその外側領域に延出しており、上記第２接続層は、上記第１接続層の延出部分に一部を重ねて接続され、上記引出配線の全体が層間絶縁膜によって覆われていることを特徴とする。【００２８】
この第４の発明では、引出配線の引き出し基端部と重なる領域の外側領域に延出した第１接続層の延出部分に第２接続層が一部を重ねて接続されている。このような第１接続層と第２接続層との接続構造によれば、引出配線に対応する箇所には層間絶縁膜にコンタクトホールを形成する必要がないので、引出配線の全体を層間絶縁膜によって覆うことができ、層間絶縁膜形成時の現像液によって引出配線が溶解することを回避できる。これにより、引出配線の一部消失、ひいてはそれに起因する引出配線の剥がれを防止することができる。そして、このように良好な引出配線の形成状態において、接続導電部と引出配線とを確実に接続することができる。【００２９】
第５の発明は、第３の発明のタッチパネルにおいて、上記層間絶縁膜には、上記細線部間の隙間の一部に対応するように上記第１接続層に達するコンタクトホールが形成され、上記第２接続層は、上記コンタクトホールを介して上記第１接続層に接続されていることを特徴とする。【００３０】
この第５の発明では、細線部間の隙間の一部に対応するように層間絶縁膜にコンタクトホールが形成されているので、該コンタクトホールが細線部間の隙間を通して第１接続層に達している。そして、第２接続層と第１接続層とは、細線部間の隙間に対応する部分でコンタクトホールを介して接続されている。このような構成のタッチパネルにおいても、本願発明の作用効果が具体的に奏される。【００３１】
第６の発明は、第５の発明のタッチパネルにおいて、上記複数の細線部は、上記第１接続層を部分的に囲む枠状部を構成するように組み合わせられており、上記コンタクトホールは、上記枠状部の内側に収まるように形成され、上記引出配線の全体が上記層間絶縁膜によって覆われていることを特徴とする。【００３２】
この第６の発明では、複数の細線部が構成する枠状部の内側に収まるようにコンタクトホールが形成されているので、引出配線の全体を層間絶縁膜によって覆うことができ、該層間絶縁膜形成時の現像液によって引出配線が溶解することを回避できる。これにより、引出配線の一部消失、ひいてはそれに起因する引出配線の剥がれを防止することができる。そして、このように良好な引出配線の形成状態において、接続導電部と引出配線とを確実に接続することができる。【００３３】
第７の発明は、第５の発明のタッチパネルにおいて、上記コンタクトホールは、一部の上記細線部の端面を含むように形成され、上記第２接続層は、上記コンタクトホールを介して上記第１接続層及び細線部に接続されていることを特徴とする。【００３４】
この第７の発明では、コンタクトホールが一部の細線部の端面を含むように形成されているため、層間絶縁膜形成時の現像液によって一部の細線部がその端面において部分的に溶解し消失するが、当該コンタクトホール形成箇所を除く部分では、他の細線部が層間絶縁膜に覆われているので、該層間絶縁膜に覆われた細線部と第１接続層とは確実に接続される。したがって、層間絶縁膜形成時の現像液によってコンタクトホール形成箇所で一部の細線部が部分的に溶解し消失したとしても、接続導電部と引出配線とを確実に接続することができる。【００３５】
第８の発明は、第１〜第７の発明のいずれか１つのタッチパネルにおいて、上記第１接続層及び第２接続層は、透明導電酸化物により形成され、上記引出配線は、高融点金属層、アルミニウム層及び高融点金属層が順に積層されてなることを特徴とする。【００３６】
この第８の発明では、引出配線が透明導電酸化物と電触反応を起こしにくい高融点金属層と、比較的低抵抗なアルミニウム層との積層構造を有するので、引出配線をなるべく低抵抗化して優れた導電性を得ると共に、第１接続層及び第２接続層と引出配線との電触反応を防止することができる。【００３７】
第９の発明では、第１〜第８の発明のいずれか１つのタッチパネルにおいて、上記第１導電パターン及び第２導電パターンの一方は、各々一方向に整列した複数の第１電極で構成され互いに平行に並ぶ複数の第１電極群と、各々該各第１電極群と交差する方向に整列した複数の第２電極で構成され互いに平行に並ぶ複数の第２電極群と、上記各第１電極群の隣り合う第１電極同士を連結する第１連結部とを有し、上記第１導電パターン及び第２導電パターンの他方は、上記第２電極群の隣り合う第２電極同士を連結する第２連結部を有していることを特徴とする。【００３８】
この第９の発明によると、投影型静電容量方式（プロジェクテッドキャパシティブ方式）のタッチパネルを具体的に実現することができる。そして、当該タッチパネルでは、第１電極群と第２電極群とが同一層に設けられているので、タッチ位置における第１電極及び第２電極と指などの接触体との間に形成される静電容量の変化を同程度に生じさせることができる。これにより、第１電極と第２電極とで静電容量の変化の感度差を少なくすることができる。したがって、感度の良いタッチ位置の検出を行うことができる。【００３９】
第１０の発明は、表示装置であって、第１〜第９の発明のいずれか１つに記載のタッチパネルを備えることを特徴とする。【００４０】
この第１０の発明によると、第１〜第９の発明のタッチパネルが、接続導電部と引出配線とを確実に接続して良好なタッチ位置検出機能を得ることができるという優れた特性を備えているので、指やペンなどの接触体を用いて各種操作を行うことにより正確に情報を入力可能な表示装置を実現することができる。【００４１】
第１１の発明は、第１０の発明の表示装置において、入力される画像データに応じて表示画像を生成する表示パネルと、該表示パネルによって生成された表示画像における第１の表示領域と第２の表示領域とにそれぞれ異なる特定の視野角を与える視差バリア手段と、上記視差バリア手段の効果の有効と無効とを切り替えることにより第１の表示状態と第２の表示状態とを切り替えるスイッチング液晶パネルとを備え、上記タッチパネルは、上記スイッチング液晶パネルを構成する基板表面に直接形成されていることを特徴とする。【００４２】
この第１１の発明によると、正確に情報を入力可能なタッチパネルを備え、第１の表示状態と第２の表示状態とを切替可能な第１表示／第２表示切替型の表示装置を実現することができる。そして、スイッチング液晶パネルを構成する基板表面に直接にタッチパネルが形成されているので、タッチパネルを備えた第１表示／第２表示切替型の表示装置を全体として薄型に構成することができる。【００４３】
第１２の発明は、第１の発明のタッチパネルを製造する方法であって、ベース基板上に透明導電性酸化物からなる透明導電膜を成膜し、該透明導電膜を第１のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、上記第１導電パターン及び第１接続層を形成する第１パターニング工程と、上記第１導電パターン及び第１接続層を覆うように金属膜を成膜し、該金属膜を第２のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、上記第１接続層に引き出し基端部を重ねて接続するように上記引出配線を形成する第２パターニング工程と、上記第１導電パターン、第１接続層及び引出配線を覆うように絶縁膜を成膜し、該絶縁膜の第３のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、上記第１導電パターン及び第１接続層の少なくとも一部を露出させるように層間絶縁膜を形成する第３パターニング工程と、上記層間絶縁膜上に透明導電性酸化物からなる透明導電膜を成膜し、該透明導電膜を第４のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、第２導電パターンを形成すると共に第１導電パターン及び第１接続層に接続するように上記第２接続層を形成する第４パターニング工程と、上記第２導電パターン及び第２接続層を覆うように絶縁膜を成膜し、該絶縁膜を第５のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、上記保護絶縁膜を形成する第５パターニング工程とを含むことを特徴とする。【００４４】
この第１２の発明では、第１パターニング工程にて、一枚のフォトマスクを用いて同一膜から第１導電パターンと共に第１接続層が形成される。また、第４パターニング工程にて、一枚のフォトマスクを用いて同一膜から第２導電パターンと共に第２接続層が形成される。このように第１導電パターン及び第２導電パターンを形成する既存の工程を利用して第１接続層及び第２接続層を形成することにより、製造工程を増やさずに接続導電部を上記２層の接続層からなる接続構造に構成することができるので、製造コストを増大させることなく接続導電部と引出配線とを確実に接続して、良好なタッチ位置検出機能を備えた第１の発明のタッチパネルを製造することができる。
【発明の効果】
【００４５】
本発明によれば、タッチ領域内部の導電パターンと引出配線とを電気的に接続する接続導電部が、層間絶縁膜よりも下層で引出配線の引き出し基端部と重ねて接続された第１接続層と、該第１接続層に接続されて周辺配線を跨ぐ第２接続層とを有しているので、タッチ領域周辺の周辺配線と接続導電部とを層間絶縁膜を介し絶縁した構成において、接続導電部と引出配線とを確実に接続して良好なタッチ位置検出機能を得ることができる。その結果、タッチ位置検出用の導電パターンと外部回路との間に導通不良が生じることを防止でき、指又はペンなどの接触体を用いて各種操作を行うことにより正確に情報を入力可能な表示装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】図１は、実施形態１に係る２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置の断面構造を概略的に示す断面図である。
【図２】図２は、実施形態１に係るタッチパネルを概略的に示す平面図である。
【図３】図３は、実施形態１に係るタッチパネルのタッチ位置検出用の電極と外部接続端子との接続構造を拡大して示す平面図である。
【図４】図４は、図３のIV−IV線における断面構造を示す断面図である。
【図５】図５は、図３のV−V線における断面構造を示す断面図である。
【図６】図６は、実施形態１に係る接続導電部と引出配線との接続構造を拡大して示す平面図である。
【図７】図７は、図６のVII−VII線における断面構造を示す断面図である。
【図８】図８は、実施形態１における２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置の製造方法を示すフローチャート図である。
【図９】図９は、液晶表示パネル製造工程の概略を示すフローチャート図である。
【図１０】図１０は、実施形態１に係るタッチパネルの製造方法における第１パターニング工程を示す図４、図５及び図７対応箇所の断面図である。
【図１１】図１１は、実施形態１に係るタッチパネルの製造方法における第２パターニング工程を示す図４、図５及び図７対応箇所の断面図である。
【図１２】図１２は、実施形態１に係るタッチパネルの製造方法における第３パターニング工程を示す図４、図５及び図７対応箇所の断面図である。
【図１３】図１３は、実施形態１に係るタッチパネルの製造方法における第４パターニング工程を示す図４、図５及び図７対応箇所の断面図である。
【図１４】図１４は、実施形態１に係るタッチパネルの製造方法における第５パターニング工程を示す図４、図５及び図７対応箇所の断面図である。
【図１５】図１５は、実施形態２に係る接続導電部と引出配線との接続構造を拡大して示す平面図である。
【図１６】図１６は、図１５のXVI−XVI線における断面構造を示す断面図である。
【図１７】図１７は、図１５のXVII−XVII線における断面構造を示す断面図である。
【図１８】図１８は、実施形態３に係る接続導電部と引出配線との接続構造を拡大して示す平面図である。
【図１９】図１９は、図１８のXIX−XIX線における断面構造を示す断面図である。
【図２０】図２０は、図１８のXX−XX線における断面構造を示す断面図である。
【図２１】図２１は、その他の実施形態における２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置の断面構造を概略的に示す断面図である。
【図２２】図２２は、その他の実施形態における液晶表示装置の断面構造を概略的に示す断面図である。
【図２３】図２３は、その他の実施形態における２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置の製造方法を示すフローチャート図である。
【発明を実施するための形態】
【００４７】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。
【００４８】
《発明の実施形態１》
この実施形態１では、表示装置の一例として、通常の２Ｄ表示（２次元平面表示）と３Ｄ表示（３次元立体表示）とを切り替え可能に構成された２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓについて説明する。
【００４９】
−２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓの構成−
本実施形態の２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓの断面構造を図１に示す。
【００５０】
２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓは、タッチパネルＴＰ付きの透過型液晶表示装置であって、液晶表示パネルＤＰと、該液晶表示パネルＤＰの背面側に配置された光源装置であるバックライトユニットＢＬと、上記液晶表示パネルＤＰの表面側、つまり反バックライトユニットＢＬ側に配置されたスイッチング液晶パネルＳＰと、該スイッチング液晶パネルＳＰの表面側に設けられたタッチパネルＴＰとを備えている。
【００５１】
＜液晶表示パネルＤＰの構成＞
液晶表示パネルＤＰは、入力された画像データに応じて表示画像を生成する表示素子である。この液晶表示パネルＤＰは、互いに対向するように配置された薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称する）基板１及び対向基板２と、これらＴＦＴ基板１及び対向基板２の両外周縁部同士を接着する枠状のシール材３と、ＴＦＴ基板１と対向基板２との間にシール材３により囲まれて封入された液晶層４とを備えている。
【００５２】
また、液晶表示パネルＤＰは、ＴＦＴ基板１と対向基板２とが重なる領域であって、シール材３の内側、つまり液晶層４が設けられた領域に画像表示を行う表示領域Ｄを有している。この表示領域Ｄは、画像の最小単位である画素がマトリクス状に複数配列されてなる。また、表示用液晶パネルＤＰは、表示領域Ｄの外側にＴＦＴ基板１が対向基板２から突出して外部に露出した端子領域（不図示）を有している。この端子領域には、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuits）などの配線基板が異方性導電膜を介して実装され、該配線基板を介して外部回路から表示すべき画像に対応した画像データを含む表示用信号が液晶表示パネルＤＰに入力されるようになっている。
【００５３】
ＴＦＴ基板１は、図示しないが、ベース基板であるガラス基板などの絶縁性基板上に、互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート配線と、該各ゲート配線と交差する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース配線と、これら各ゲート配線と各ソース配線との交差部毎に各画素に対応するように設けられたＴＦＴ及びそのドレインに接続された画素電極とを備え、各ＴＦＴのオン／オフを切り替えることにより該各ＴＦＴに対応する画素電極に選択的に電位が印加されるように構成されている。
【００５４】
対向基板２は、図示しないが、ベース基板であるガラス基板などの絶縁性基板上に、上記ゲート配線及びソース配線に対応するように格子状に設けられたブラックマトリクスと、該ブラックマトリクスの格子間に各画素に対応して周期的に配列するように設けられた赤色層、緑色層及び青色層からなる複数のカラーフィルタと、それらブラックマトリクス及び各カラーフィルタを覆うように設けられ、上記画素電極の群と対向する共通電極と、該共通電極上に柱状に設けられたフォトスペーサとを備えている。
【００５５】
これらＴＦＴ基板１及び対向基板２は、例えば矩形状に形成され、互いに対向する内側表面に配向膜（不図示）がそれぞれ設けられていると共に、外側表面に第１偏光板Ｈ１及び第２偏光板Ｈ２がそれぞれ設けられている。ＴＦＴ基板１上の第１偏光板Ｈ１と対向基板２上の第２偏光板Ｈ２とは、透過軸が９０°異なっている。液晶層４は、例えば電気光学特性を有するネマチックの液晶材料などにより構成されている。
【００５６】
＜バックライトユニットＢＬの構成＞
バックライトユニットＢＬは、図示しないが、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）や冷陰極管などの光源、導光板、及び反射シートや拡散シート、プリズムシートなどの複数の光学シートを備え、光源から導光板に入射させた光を、その導光板の出射面から各光学シートを介して液晶表示パネルＤＰ側へ均一な面状の光として出射するように構成されている。
【００５７】
＜スイッチング液晶パネルＳＰの構成＞
スイッチング液晶パネルＳＰは、２Ｄ表示を行う第１の表示状態である２Ｄ表示状態と、３Ｄ表示を行う第２の表示状態である３Ｄ表示状態とを切り替えるスイッチング素子である。このスイッチング液晶パネルＳＰは、両面テープなどの貼付材９を介して液晶表示パネルＤＰに貼り付けられており、互いに対向するように配置されたスイッチング対向基板５及びスイッチング駆動基板６と、これらスイッチング対向基板５及びスイッチング駆動基板６の両外周縁部同士を接着する枠状のシール材７と、スイッチング対向基板５とスイッチング駆動基板６との間にシール材７により囲まれて封入された液晶層８とを備えている。
【００５８】
また、スイッチング液晶パネルＳＰは、スイッチング対向基板５とスイッチング駆動基板６とが重なる領域であって、シール材７の内側、つまり液晶層８が設けられた領域に表示領域Ｄと重なる視差バリア領域Ｂを有している。この視差バリア領域Ｂは、後述する第３偏光板Ｈ３との組合せにより、画面横方向において遮光部と透光部とがストライプ状に交互に並ぶ視差バリアとしての機能を発揮可能に構成されている。
【００５９】
また、スイッチング液晶パネルＳＰは、視差バリア領域Ｂの外側に、スイッチング駆動基板６がスイッチング対向基板５から突出して外部に露出した端子領域（不図示）を有している。この端子領域には、ＦＰＣなどの配線基板が異方性導電膜を介して実装され、該配線基板を介して外部回路から駆動状態のオン／オフを制御する制御信号がスイッチング液晶パネルＳＰに入力されるようになっている。
【００６０】
スイッチング対向基板５は、液晶表示パネルＤＰ側に配置されており、図示しないが、ベース基板であるガラス基板などの絶縁性基板上に、視差バリア領域Ｂの全面に亘って形成された対向電極を備えている。
【００６１】
スイッチング駆動基板６は、図示しないが、ベース基板であるガラス基板などの絶縁性基板１０上に、各々画面縦方向に延びる線状に形成され、画面横方向に所定の間隔をあけて互いに平行にストライプ状に配列された複数の駆動電極を備えており、これら複数の駆動電極に同じ電位が同時に印加されるように構成されている。
【００６２】
これらスイッチング対向基板５及びスイッチング駆動基板６は、例えば矩形状に形成され、互いに対向する内側表面に配向膜（不図示）がそれぞれ設けられている。さらに、スイッチング駆動基板６の外側表面には第３偏光板Ｈ３が設けられている。このスイッチング駆動基板６上の第３偏光板Ｈ３は、対向基板２上の第２偏光板Ｈ２と透過軸の方向が同じである。液晶層８は、例えば電気光学特性を有するネマチックの液晶材料などにより構成されている。
【００６３】
＜２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓの表示動作＞
上記構成の液晶表示装置Ｓでは、通常の２Ｄ表示を行う２Ｄ表示状態と、観察者の左右それぞれの目に異なる視点から見た像を視認させることにより視差を与えて３Ｄ表示を行う３Ｄ表示状態とのいずれかの表示状態で画像表示が行われる。
【００６４】
液晶表示装置Ｓの表示動作時には、液晶表示パネルＤＰにおいて、ゲート信号が各ゲート配線に順に出力されてゲート配線が駆動され、駆動された同一のゲート配線に接続されているＴＦＴが一斉にオン状態になったときに、各ソース配線を介してソース信号がオン状態の各ＴＦＴに送られ、該各ＴＦＴを介して画素電極に所定の電荷が書き込まれる。このような画素電極への選択的な電荷の書き込み動作が線順次で表示領域Ｄをなす画素の全行に対して実施される。このとき、ＴＦＴ基板１の各画素電極と対向基板２の対向電極との間において電位差が生じ、液晶層に所定の電圧が印加される。そして、液晶表示パネルＤＰでは、液晶層４に印加する電圧の大きさによって液晶分子の配向状態を変えることにより、液晶層４でのバックライトユニットＢＬからの光の透過率を調整して画像が表示される。
【００６５】
３Ｄ表示状態での表示動作時には、液晶表示パネルＤＰにおいて、右目用画像と左目用画像とが各々画面横方向に複数列に分割されて互いの列が交互に並ぶように混合された複合画像が表示される。
【００６６】
そして、スイッチング液晶パネルＳＰでは、その駆動をオン状態とし、各駆動電極に対して対向電極とは異なる電位が印加される。このとき、各駆動電極と対向電極との間に電位差が生じ、各駆動電極に対応する領域毎に液晶層８に所定の電圧が印加され、該各駆動電極に対応する領域を通過した光の偏光軸が駆動電極間の隙間を通過した光の偏光軸に対して９０°変えられる。したがって、スイッチング液晶パネルＳＰの駆動がオン状態のときには、該スイッチング液晶パネルＳＰの駆動電極間の隙間を通過した光は、その偏光軸が第２偏光板Ｈ２の透過軸と平行であるので、第３偏光板Ｈ３を透過する。一方、各駆動電極に対応する領域を通過した光は、その偏光軸が第３偏光板Ｈ３の透過軸と９０°の角度をなすので、第３偏光板Ｈ３を透過しない。
【００６７】
本実施形態では、スイッチング液晶パネルＳＰと第３偏光板Ｈ３との関連した光学作用によって、スイッチング液晶パネルＳＰにおける各駆動電極に対応する領域が遮光部、駆動電極間の隙間に対応する領域が透光部となり、これら遮光部と透光部とが画面横方向においてストライプ状に交互に並ぶ視差バリアとしての機能が有効に発揮される。つまり、スイッチング液晶パネルＳＰ及び第３偏光板Ｈ３の組合せにより、本発明の視差バリア手段が構成されている。
【００６８】
上記液晶表示パネルＤＰに表示された右目用画像と左目用画像との複合画像は、上記スイッチング液晶パネルＳＰ及び第３偏光板Ｈ３がなす視差バリアを介することで、観察者の左右それぞれの目に異なる視点から見た像が視認されるように右目用画像と左目用画像とが異なる視野角に分離され、３Ｄ表示が行われる。すなわち、液晶表示パネルＤＰにおいて、右目用画像に対応する画素により構成される領域及び左目用画像に対応する画素により構成される領域のそれぞれが本発明の第１の表示領域及び第２の表示領域となる。
【００６９】
一方、２Ｄ表示状態による表示動作時には、液晶表示パネルＤＰにおいて、通常の２次元平面画像が表示される。そして、スイッチング液晶パネルＳＰでは、その駆動をオフ状態とし、各駆動電極と対向電極とに同じ電位が印加されることにより、視差バリアとしての機能を無効にして、入射した光をそのままの偏光軸で出射させる。これにより、観察者の両目に同じ像が視認され、２Ｄ表示が行われる。
【００７０】
＜タッチパネルＴＰの構成＞
タッチパネルＴＰの構成を図２〜図７に示す。図２は、タッチパネルＴＰの概略平面図である。図３は、タッチパネルＴＰにおけるタッチ位置検出用の電極１１，１７と外部接続端子３５との接続構造を拡大して示す平面図である。図４は、図３のIV−IV線における断面構造を示す断面図である。図５は、図３のV−V線における断面構造を示す断面図である。図６は、接続導電部３３と引出配線３０との接続構造を拡大して示す平面図である。図７は、図６のVII−VII線における断面構造を示す断面図である。
【００７１】
本実施形態のタッチパネルＴＰは、スイッチング液晶パネルＳＰを構成するスイッチング駆動基板６の表面に直接形成され、タッチパネルＴＰ付き液晶表示装置Ｓを全体として薄型に構成している。タッチパネルＴＰは、投影型静電容量方式（プロジェクテッドキャパシティブ方式）のタッチパネルに構成され、図２に示すように、接触体（使用者の指など）により接触されたタッチ位置を検出するための領域である例えば矩形状のタッチ領域Ｔ１と、該タッチ領域Ｔ１の周囲に設けられたタッチ位置を検出不可能な領域である例えば矩形枠状の額縁領域Ｔ２と、該額縁領域Ｔ２の一辺側（図２中右側）にスイッチング駆動基板６の端縁に沿って設けられた端子領域Ｔ３とを備えている。タッチ領域Ｔ１は、液晶表示パネルＤＰの表示領域Ｄに対応する領域に配置され、額縁領域Ｔ２は、非表示領域に対応する領域に配置されている。
【００７２】
そして、タッチパネルＴＰは、タッチ領域Ｔ１に配置されたタッチ位置検出用の電極１１，１７と、該タッチ位置検出用の電極１１，１７に電気的に接続されて額縁領域Ｔ２上をタッチ領域Ｔ１側から端子領域Ｔ３側に引き出された複数の引出配線３１と、該各引出配線３０とタッチ位置検出用の電極１１，１７との間を横切るようにタッチ領域Ｔ１の周辺に延びる周辺配線であるグランド配線３２と、該各引出配線３０の引き出し基に設けられた接続導電部３３と、各引出配線３０の引き出し先に設けられて端子領域Ｔ３に配列された外部接続端子３５と、該各外部接続端子３５に電気的に接続された外部回路であるコントローラ４１とを備えている。
【００７３】
＜タッチ位置検出用の電極１１，１７の構成＞
タッチ位置検出用の電極１１，１７は、マトリクス状に配置された複数の第１電極１１（図２で斜線を付した電極）と、同じくマトリクス状に配置された複数の第２電極１７（図２で白抜きの電極）とで構成されている。これら第１電極１１及び第２電極１７は、図２で斜め方向に交互に並ぶように全体としてハニカム状に配置されている。
【００７４】
第１電極１１は、例えば略矩形状に形成され、図２で左右方向（Ｘ軸方向）及び上下方向（Ｙ軸方向）に互いの角部を突き合わせるように所定間隔で配置されている。そして、Ｘ軸方向に整列する複数の第１電極１１は、図３に示すように、隣り合う第１電極１１同士が第１連結部１３により連結されて一体に形成され、第１電極群１５を構成している。つまり、第１電極１１及び第１連結部１３は、Ｘ軸方向に交互に配置されており、この第１連結部１３を介して一体に形成された第１電極１１の列からなる第１電極群１５が、Ｙ軸方向に互いに平行に複数列並んでいる。第１電極１１及び第１連結部１３は、ＩＴＯ又はインジウム亜鉛酸化物（Indium Zinc Oxide、以下、ＩＺＯと称する）などの透明導電酸化物からなる。
【００７５】
第２電極１７も、例えば略矩形状に形成され、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に互いの角部を突き合わせるように所定間隔で配置されている。そして、Ｙ軸方向に整列する複数の第２電極１７は、隣り合う第２電極１７同士が第２連結部１９により連結されて電気的に接続され、第２電極群２１を構成している。つまり、第２電極１７及び第２連結部１９は、Ｙ軸方向に交互に配置されており、この第２連結部１９を介して電気的に接続された第２電極１７の列からなる第２電極群２１が、Ｘ軸方向に互いに平行に複数列に並んでいる。第２電極１７及び第２連結部１９も、ＩＴＯ又はＩＺＯなどの透明導電酸化物からなる。
【００７６】
上記第１電極群１５（第１電極１１）、第１連結部１３及び第２電極群２１（第２電極１７）は、図４に示すように、スイッチング対向基板５を構成する絶縁性基板１０の外側表面に形成されている。そして、第１連結部１３だけが島状の層間絶縁膜２３によって覆われている。一方、第２連結部１９は、層間絶縁膜２３上を第１連結部１３と交差する方向に延びて、該層間絶縁膜２３を介して第１連結部１３を跨ぐ架橋構造を構成しており、その両端部が第２電極１７の角部に接続されている。
【００７７】
このように本実施形態では、第１電極群１５と第２電極群２１とが同一層に設けられているので、タッチ位置における第１電極１１及び第２電極１７と指などの接触体との間に形成される静電容量の変化を同程度に生じさせることができる。これによって、第１電極１１と第２電極１７とで静電容量の変化の感度差を少なくすることができ、感度の良いタッチ位置の検出を行うことができる。
【００７８】
なお、本実施形態では、第１電極群１５（第１電極１１）、第１連結部１３及び第２電極群２１（第２電極１７）が本発明のタッチ位置検出用の第１導電パターンを構成し、第２連結部１９が本発明のタッチ位置検出用の第２導電パターンを構成している。
【００７９】
上記第１電極群１５（第１電極１１）、第２電極群２１（第２電極１７）、第２連結部１９及び層間絶縁膜２３は、保護絶縁膜２５によって覆われている。この保護絶縁膜２５は、アクリルベースの有機絶縁材料などからなり、図３及び図５に示すように、端子領域Ｔ３には形成されておらず、上記各外部接続端子３５を外部に露出させている。
【００８０】
＜引出配線３０の構成＞
引出配線３０は、図３に示すように、タッチ領域Ｔ１の周辺から端子領域Ｔ３の手前まで互いに並んで多数延びている。これら各引出配線３０は、層間絶縁膜２３及び保護絶縁膜２５によって覆われており、図５に示すように、その全体が両絶縁膜２３，２５の外縁よりも内側に配置されている。これによって、層間絶縁膜２３及び保護絶縁膜２５の２層の絶縁膜により外部から引出配線３０側への湿気等の進入が阻止されて、引出配線３０の腐食が良好に防止される。
【００８１】
各引出配線３０の引き出し基端部３０ｓ及び引き出し先端部３０ｅは、図３に示すように、これら両端部３０ｓ，３０ｅ間の中間部よりも幅広に形成されている。これによって、引出配線３０の両端部３０ｓ，３０ｅが当該引出配線３０の中間部と同等かそれ以下の幅で形成されている場合に比べて、該引出配線３０の引き出し基端部３０ｓと接続導電部３３との接続面積、引出配線３０の引き出し先端部３０ｅと外部接続端子３５との接続面積をそれぞれ増大させて、これら接続導電部３３及び外部接続端子３５と引出配線３０との間の導電性を向上させることができる。その上、接続導電部３３及び外部接続端子３５と引出配線３０との形成位置のずれに対するマージンが確保される。
【００８２】
各引出配線３０の引き出し基端部３０ｓは、図６に示すように、互いの間に隙間を有するように一体に形成された複数の細線部３１ａ，３１ｂにより構成されている。具体的には、本実施形態における各引出配線３０の引き出し基端部３０ｓは、引出配線３０の中間部から続けて延びる基幹細線部３１ａと、該基幹細線部３１ａから互いに間隔をあけて両側方に突出した複数の分岐細線部３１ｂとからなる。
【００８３】
各引出配線３０は、高融点金属層、アルミニウム（Ａｌ）層及び高融点金属層が順に積層された積層構造を有し、例えば、モリブデンニオブ合金（ＭｏＮｂ）層、アルミニウム（Ａｌ）層及びモリブデンニオブ合金（ＭｏＮｂ）層、若しくは、窒化モリブデン（ＭｏＮ）層、アルミニウム（Ａｌ）層及び窒化モリブデン（ＭｏＮ）層、又は、モリブデン（Ｍｏ）層、アルミニウム（Ａｌ）層及びモリブデン（Ｍｏ）層が順に積層されてなる。
【００８４】
＜グランド配線３２の構成＞
グランド配線３２は、図３に示すようにタッチ領域Ｔ１の周囲に延びており、電磁波防止用のシールドとしても機能するものである。なお、図３では、グランド配線３２を１本の配線として示したが、グランド配線３２は、図６に示すように複数本（例えば３本）に分割して細線化されている。このグランド配線３２は、引出配線３０と同一膜から形成され、引出配線３０と同様な積層構造（例えば、ＭｏＮｂ／Ａｌ／ＭｏＮｂ、ＭｏＮ／Ａｌ／ＭｏＮ、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ）を有する。また、グランド配線３２の全体は、引出配線３０と同様に層間絶縁膜２３によって覆われている。
【００８５】
＜接続導電部３３及び外部接続端子３５の構成＞
接続導電部３３は、図３に示すように、引出配線３０の引き出し基端部３０ｓに接続されていると共に、第１電極群１５又は第２電極群２１に接続され、タッチ領域Ｔ１の周辺に沿って多数並んでいる。これら各接続導電部３３は、図６及び図７に示すように、第１接続層３４Ａ及び第２接続層３４Ｂにより構成され、これら第１接続層３４Ａ及び第２接続層３４Ｂが引出配線３０に対して直列に接続された直列接続構造を有している。
【００８６】
第１接続層３４Ａは、層間絶縁膜２３よりも下層、具体的には引出配線３０の下層に設けられ、引出配線３０の引き出し基端部３０ｓが重ねられてその下側表面に接続されている。この第１接続層３４Ａは、引出配線３０の引き出し基端部３０ｓと重なる領域からそのタッチ領域Ｔ１側の外側領域に延出している。一方、第２接続層３４Ｂは、第１接続層３４Ａの延出部分に一部を重ねて接続されている。そして、この第２接続層３４Ｂは、グランド配線３２と交差する方向に延びて、層間絶縁膜２３を介してグランド配線３２を跨ぐ架橋構造を構成しており、第１電極群１５の一方の最端部に位置する第１電極１１、又は第２電極群２１の一方の最端部に位置する第２電極１７に一部を重ねて接続されている。
【００８７】
このような直列接続構造によれば、タッチ領域Ｔ１周辺のグランド配線３２と接続導電部３３とを層間絶縁膜２３を介し絶縁した構成において、接続導電部３３と引出配線３０とを確実に接続することができる。つまり、第１接続層３４Ａが引出配線３０の下層で該引出配線３０の引き出し基端部３０ｓと重ねて接続されているので、該第１接続層３４Ａによって接続導電部３３と引出配線３０とが確実に接続することができる。そして、この第１接続層３４Ａには層間絶縁膜２３を介してグランド配線３２を跨ぐ第２接続層３４Ｂが接続されているので、該第２接続層３４Ｂによって接続導電部３３がグランド配線３２と絶縁した状態に構成される。
【００８８】
しかも、引出配線３０に対応する箇所には層間絶縁膜２３にコンタクトホールを形成する必要がないので、引出配線３０の全体を層間絶縁膜２３で覆うことができ、層間絶縁膜２３形成時の現像液によって引出配線３０が溶解することを回避できる。これにより、引出配線３０の一部消失、ひいてはそれに起因する引出配線３０の剥がれを防止することができ、このような良好な引出配線３０の形成状態において、接続導電部３３と引出配線３０とを確実に接続することができる。
【００８９】
外部接続端子３５は、図３に示すように、引出配線３０の引き出し先端部３０ｅに接続され、層間絶縁膜２３及び保護絶縁膜２５の外部に引き出されて端子領域Ｔ３に多数密集して並んでいる。これら各外部接続端子３５は、図５に示すように、引出配線３０の下層に設けられてその下側表面に接続されており、層間絶縁膜２３及び保護絶縁膜２５が設けられた領域からその外側の端子領域Ｔ３に延出している。
【００９０】
後に詳述するが、第１接続層３４Ａ及び外部接続端子３５は、第１電極群１５（第１電極１１）、第１連結部１３及び第２電極群２１（第２電極１７）と同一膜から形成され、第２接続層３４Ｂは、第２連結部１９と同一膜から形成される。
【００９１】
＜コントローラ４１の構成＞
コントローラ４１は、例えばＴＡＢ（Tape Automated Bonding）と呼ばれる駆動集積回路として端子領域Ｔ３に実装されている。コントローラ４１は、検出回路４３として、タッチ領域Ｔ１が接触体にタッチされることにより、タッチ位置にある第１電極１１及び第２電極１７と接触体との間に生じる静電容量の変化を検出する静電容量検出回路、或いは、タッチされることによりタッチ位置にある第１電極１１及び第２電極１７のそれぞれに生じるインピーダンスの変化を検出するインピーダンス検出回路を備えている。そして、コントローラ４１は、接続導電部３３及び引出配線３１を経由して検出回路４３により検出される各外部接続端子３５からの信号同士を比較することにより、タッチ領域Ｔ１における接触体のタッチ位置、及びそのタッチ位置の移動動作を検出するように構成されている。
【００９２】
−製造方法−
次に、上記タッチパネルＴＰ付きの２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓの製造方法について、図８及び図９を参照しながら一例を挙げて説明する。本実施形態では、スイッチング対向基板５とスイッチング駆動基板６とを一枚ずつ製造し、それら両基板５，６を貼り合わせて１枚のスイッチング液晶パネルＳＰを製造する枚葉方式の製造方法を例に挙げて説明するが、複数のセル単位を含むマザーパネルを作製し、該マザーパネルをセル単位毎に分断することにより、複数のスイッチング液晶パネルＳＰを同時に作製する多面取り方式の製造方法にも適用することができる。このことは液晶表示パネルＤＰについても同様である。
【００９３】
図８は、タッチパネルＴＰ付きの２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓの製造方法を示すフローチャート図である。タッチパネルＴＰ付きの２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓの製造方法は、タッチパネル製造工程Ｓｔ０１と、スイッチング駆動基板製造工程Ｓｔ０２と、スイッチング対向基板製造工程Ｓｔ０３と、貼合工程Ｓｔ０４と、バックライトユニット製造工程Ｓｔ０５と、液晶表示パネル製造工程Ｓｔ０６と、モジュール化工程Ｓｔ０７とを含む。
【００９４】
＜タッチパネル製造工程Ｓｔ０１＞
予め準備したガラス基板などの絶縁性基板１０上に、第１電極１１、第１連結部１３、第２電極１７、引出配線３０、層間絶縁膜２３、第２連結部１９、接続導電部３３（第１接続層３４Ａ及び第２接続層３４Ｂ）、外部接続端子３５及び保護絶縁膜２５を、公知のフォトリソグラフィーを繰り返し行って形成することにより、タッチパネルＴＰを製造する。
【００９５】
＜スイッチング駆動基板製造工程Ｓｔ０２＞
タッチパネルＴＰが形成された基板１０の裏面側に、駆動電極などを公知のフォトリソグラフィーで形成することにより、タッチパネルＴＰ付きのスイッチング駆動基板６を製造する。
【００９６】
＜スイッチング対向基板製造工程Ｓｔ０３＞
予め準備したガラス基板などの絶縁性基板上に、対向電極などを公知のフォトリソグラフィーで形成することにより、スイッチング対向基板５を製造する。
【００９７】
＜貼合工程Ｓｔ０４＞
スイッチング対向基板５及びスイッチング駆動基板６の表面に対して、印刷法などにより配向膜を形成した後に、必要に応じてラビング処理を行う。次いで、ディスペンサなどにより紫外線硬化型の樹脂からなるシール材７を枠状に描画し、該シール材７の内側領域に液晶材料を所定量滴下する。
【００９８】
そして、スイッチング対向基板５とスイッチング駆動基板６とをシール材７及び液晶材料を介して減圧下で貼り合わせて液晶層８を構成した後、その貼り合わせた貼合体を大気圧下に開放することにより、貼合体の表面を加圧する。さらにその状態で、シール材７を紫外線の照射によって硬化させることにより、スイッチング対向基板５とスイッチング駆動基板６とを接着してスイッチング液晶パネルＳＰを作製する。
【００９９】
このとき、引出配線３０の引き出し基端部３０ｓは、シール材７と重なる位置で幅広に形成されているが、互いの間に隙間を有するように一体に形成された複数の細線部３１ａ，３１ｂにより構成されているので、細線部３１ａ，３１ｂ間の隙間を通してシール材７に紫外線を照射することができ、シール材７中の未硬化部分を低減することができる。これによって、両基板５，６の接着強度を高めることができる上に、未硬化のシール材７の成分が液晶層８中に混入することを防げるので、液晶分子の配向状態が不安定になったり、画像表示に滲みやムラなどが発生し、表示品位が低下することを防止できる。
【０１００】
次いで、スイッチング対向基板５とスイッチング駆動基板６との間でシール材７外側に隙間がある場合には、必要に応じてその隙間にシール材７を充填し硬化させて当該隙間を埋める。しかる後、スイッチング駆動基板６の外側表面に対して第３偏光板Ｈ３を貼り付ける。
【０１０１】
＜バックライトユニット製造工程Ｓｔ０５＞
まず、公知の射出成型装置などを用いて導光板のベースとなるアクリル樹脂板を成型し、該アクリル樹脂板に光を散乱させるための例えばドット形状のパターンを形成することにより、導光板を製造する。次いで、この導光板に反射フィルムや拡散シート、プリズムシートなどの光学シートを貼り付けて組み立てる。その後、導光板と光学シートとの貼合体にＬＥＤや冷陰極管などの光源を取り付けることにより、バックライトユニットＢＬを製造する。
【０１０２】
＜液晶表示パネル製造工程Ｓｔ０６＞
図９は、液晶表示パネル製造工程Ｓｔ０６の概略を示すフローチャート図である。液晶表示パネル製造工程Ｓｔ０６は、ＴＦＴ基板製造工程Ｓｔ１１と、対向基板製造工程Ｓｔ１２と、貼合工程Ｓｔ１３とを含む。
【０１０３】
＜ＴＦＴ基板製造工程Ｓｔ１１＞
予め準備したガラス基板などの絶縁性基板上に、ゲート配線、ソース配線、ＴＦＴ及び画素電極を、フォトリソグラフィーを繰り返し行う周知の方法で形成することにより、ＴＦＴ基板１を製造する。
【０１０４】
＜対向基板製造工程Ｓｔ１２＞
予め準備したガラス基板などの絶縁性基板上に、ブラックマトリクス、カラーフィルタ、共通電極及びフォトスペーサを、フォトリソグラフィーを繰り返し行う周知の方法で形成することにより、対向基板２を製造する。
【０１０５】
＜貼合工程Ｓｔ１３＞
ＴＦＴ基板１及び対向基板２の表面に対して、印刷法により配向膜を形成した後に、必要に応じてラビング処理を行う。次いで、ディスペンサなどにより紫外線硬化型の樹脂からなるシール材３を枠状に描画し、該シール材３の内側領域に液晶材料を所定量滴下する。そして、ＴＦＴ基板１と対向基板２とをシール材３及び液晶材料を介して減圧下で貼り合わせて液晶層４を構成した後、その貼り合わせた貼合体を大気圧下に開放することにより、貼合体の表面を加圧する。さらにその状態で、シール材３を紫外線の照射によって硬化させることで、ＴＦＴ基板１と対向基板２とを接着して液晶表示パネルＤＰを作製する。
【０１０６】
次いで、ＴＦＴ基板１と対向基板２との間でシール材３外側に隙間がある場合には、必要に応じてその隙間にシール材３を充填し硬化させて当該隙間を埋める。しかる後、上記貼合体の両面、すなわちＴＦＴ基板１及び対向基板２の外側表面に対して、第１偏光板Ｈ１及び第２偏光板Ｈ２をそれぞれ貼り付ける。
【０１０７】
＜モジュール化工程Ｓｔ０７＞
液晶表示パネルＤＰ及びスイッチング液晶パネルＳＰの端子領域に対し、異方性導電膜を介してＦＰＣなどの配線基板をそれぞれ実装する。また、タッチパネルＴＰの端子領域Ｔ３に対してコントローラ４１を実装する。そして、液晶表示パネルＤＰとスイッチング液晶パネルＳＰとを両面テープなどの貼付材９を介して貼り合わせ、液晶表示パネルＤＰの背面側にバックライトユニットＢＬを搭載する。このようにして、液晶表示パネルＤＰ、タッチパネルＴＰ付きスイッチング液晶パネルＳＰ及びバックライトユニットＢＬをモジュール化する。
【０１０８】
以上の工程を行って、図１に示すタッチパネルＴＰ付きの２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓを製造することができる。
【０１０９】
本発明に係るタッチパネルＴＰ付きの２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓは、特にタッチパネルＴＰの構成に特徴があるので、タッチパネル製造工程Ｓｔ０１について、以下に図１０〜図１４を参照しながら詳述する。タッチパネル製造工程Ｓｔ０１は、第１〜第５パターニング工程を含んでいる。図１０〜図１４は、タッチパネル製造工程における第１〜第５パターニング工程を順に示している。なお、これら図１０〜図１４は、左側から順に図４，図７及び図５の対応箇所を示している。
【０１１０】
＜第１パターニング工程＞
まず、絶縁性基板１０上に、スパッタリング法により、図１０（ａ）に示すように、例えばＩＴＯ又はＩＺＯなどからなる透明導電膜５１を成膜する。そして、この透明導電膜５１を第１のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、図１０（ｂ）に示すように、第１電極１１、第１連結部１３、第２電極１７、第１接続層３４Ａ及び外部接続端子３５を形成して、第１電極群１５及び第２電極群２１を構成する。
【０１１１】
＜第２パターニング工程＞
第１電極群１５（第１電極１１）、第１連結部１３、第２電極群２１（第２電極１７）、第１接続層３４Ａ及び外部接続端子３５が形成された基板上に、スパッタリング法によりこれらを覆うように、例えば、モリブデンニオブ合金（ＭｏＮｂ）膜、アルミニウム（Ａｌ）膜及びモリブデンニオブ合金（ＭｏＮｂ）膜、若しくは、窒化モリブデン（ＭｏＮ）膜、アルミニウム（Ａｌ）膜及び窒化モリブデン（ＭｏＮ）膜、又は、モリブデン（Ｍｏ）膜、アルミニウム（Ａｌ）膜及びモリブデン（Ｍｏ）膜を順に成膜して、図１１（ａ）に示す金属積層膜５３を形成する。続いて、この金属積層膜５３を、第２のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、図１１（ｂ）に示すように、第１接続層３４Ａに引き出し基端部３０ｓを、外部接続端子３５に引き出し先端部３０ｅをそれぞれ重ねて接続するように引出配線３０を形成すると共に、グランド配線３２を形成する。
【０１１２】
＜第３パターニング工程＞
引出配線３０及びグランド配線３２が形成された基板上に、気相化学成長法（Chemical Vapor Deposition；ＣＶＤ）法により、第１電極群１５（第１電極１１）、第１連結部１３、第２電極群２１（第２電極１７）、第１接続層３４Ａ、引出配線３０及びグランド配線３２を覆うように、図１２（ａ）に示す例えば窒化珪素（ＳｉＮ）からなる絶縁膜５５を成膜する。次いで、この絶縁膜５５を、第３のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、図１２（ｂ）に示すように、第１電極群１５及び第２電極群２１を露出させると共に、第１接続層３４Ａ及び外部接続端子３５をそれぞれ部分的に露出させて、絶縁膜５５から第１連結部１３、引出配線３０及びグランド配線３２を覆う層間絶縁膜２３を形成する。
【０１１３】
＜第４パターニング工程＞
層間絶縁膜２３が形成された基板上に、スパッタリング法により、図１３（ａ）に示すように、例えばＩＴＯ又はＩＺＯなどからなる透明導電膜５７を成膜する。そして、この透明導電膜５７を、第４のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、図１３（ｂ）に示すように、層間絶縁膜２３を跨いで同一の第２電極群２１における隣り合う第２電極１７同士を接続するように第２連結部１９を形成すると共に、同じく層間絶縁膜２３を跨いで第１接続層３４Ａ及びタッチ位置検出用の電極（第１電極１１又は第２電極１７）に一部を重ねて接続するように第２接続層３４Ｂを形成して、接続導電部３３を構成する。
【０１１４】
＜第５パターニング工程＞
第２連結部１９及び第２接続層３４Ｂが形成された基板上に、スピンコート法又はスリットコート法によりこれらを覆うように、図１４（ａ）に示す例えばアクリルベースの有機絶縁膜材料からなる絶縁膜５９を成膜する。続いて、この絶縁膜５９を、第５のフォトマスクを用いてパターニングすることにより、図１４（ｂ）に示すように、端子領域Ｔ３にある絶縁膜部分を除去して当該絶縁膜５９から外部接続端子３５を露出させ、絶縁膜５９から保護絶縁膜２５を形成する。
【０１１５】
以上の工程によって、タッチパネルＴＰを製造することができる。
【０１１６】
−実施形態１の効果−
この実施形態１によると、接続導電部３３が、引出配線３０に対して直列に接続された第１接続層３４Ａ及び第２接続層３４Ｂからなる直列接続構造を有し、第１接続層３４Ａが引出配線３０の下層に設けられてその引き出し基端部３０ｓと重ねて接続され、該第１接続層３４Ａと接続された第２接続層３４Ｂが層間絶縁膜２３を介してグランド配線３２を跨ぐように形成されているので、タッチ領域Ｔ１周辺のグランド配線３２と接続導電部３３とを層間絶縁膜２３を介し絶縁した構成において、接続導電部３３と引出配線３０とを確実に接続することができる。
【０１１７】
しかも、引出配線３０の引き出し基端部３０ｓが当該引出配線３０の中間部よりも幅広に形成されていることにより、接続導電部３３及び引出配線３０の形成位置のずれに対するマージンが確保されるので、これら接続導電部３３と引出配線３０とをよりいっそう確実に接続することができる。
【０１１８】
また、第１接続層３４Ａが第１電極１１及び第２電極１７などと同一膜から、第２接続層３４Ｂが第２連結部１９と同一膜からそれぞれ形成されているので、接続導電部３３を上記２層の接続層３４Ａ，３４Ｂからなる接続構造にするために製造工程を増やさずに済む。
【０１１９】
したがって、製造コストを増大させることなく、良好なタッチ位置検出機能を得ることができる。その結果、指又はペンなどの接触体を用いて各種操作を行うことにより正確に情報を入力可能な２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓを実現することができる。
【０１２０】
《発明の実施形態２》
図１５は、この実施形態２に係る接続導電部３３と引出配線３０との接続構造を拡大して示す平面図である。図１６は、図１５のXVI−XVI線における断面構造を示す断面図である。図１７は、図１５のXVII−XVII線における断面構造を示す断面図である。
【０１２１】
本実施形態では、タッチパネルＴＰの構成が上記実施形態１と部分的に異なる他は上記実施形態１と同様に構成されているので、構成の異なるタッチパネル部分についてのみ説明する。なお、以降の実施形態では、図１〜図１４と同一の構成箇所については同一符合を付して上記実施形態１の説明に譲ることにし、その詳細な説明を省略する。
【０１２２】
上記実施形態１では、引出配線３０の引き出し基端部３０ｓと重なる領域からその外側領域に延出した第１接続層３４Ａの延出部分に第２接続層３４Ｂが一部を重ねて接続されているとしたが、本実施形態では、層間絶縁膜２３に形成されたコンタクトホール２３ａを介して第２接続層３４Ｂが第１接続層３４Ａに接続されている。
【０１２３】
本実施形態における引出配線３０の引き出し基端部３０ｓは、図１５に示すように、複数の細線部３１ｃが第１接続層３４Ａの中間部分を囲む枠状部３１Ｆを構成するように組み合わせられてなる。層間絶縁膜２３には、図１５〜図１７に示すように、上記枠状部３１Ｆの内側に収まるように第１接続層３４Ａに達するコンタクトホール２３ａが形成され、引出配線３０の全体が層間絶縁膜２３によって覆われている。そして、第２接続層３４Ｂがコンタクトホール２３ａを介して第１接続層３４Ａに接続されている。また、第１接続層３４Ａは、図１６に示すように、層間絶縁膜２３の外側に若干突出しており、該第１接続層３４Ａの突出部分にも第２接続層３４Ｂが接続されている。
【０１２４】
このような構成のタッチパネルＴＰは、上記実施形態１の第３パターニング工程にて、層間絶縁膜２３にコンタクトホール２３ａを形成し、第４パターニング工程にて、コンタクトホール２３ａを介して第１接続層３４Ａに接続するように第２接続層３４Ｂを形成することにより、製造することができる。
【０１２５】
−実施形態２の効果−
この実施形態２によると、複数の細線部３１ｃが構成する枠状部３１Ｆの内側に収まるようにコンタクトホール２３ａが形成され、引出配線３０の全体が層間絶縁膜２３で覆われているので、該層間絶縁膜２３形成時の現像液によって引出配線３０が溶解することを回避できる。これにより、上記実施形態１と同様に、引出配線３０の一部消失、ひいてはそれに起因する引出配線３０の剥がれを防止することができる。そして、このように良好な引出配線３０の形成状態において、接続導電部３３と引出配線３０とを確実に接続することができる。
【０１２６】
また、層間絶縁膜２３に形成されたコンタクトホール２３ａを介して第２接続層３４Ｂが第１接続層３４Ａに接続されているので、引出配線３０の引き出し基端部３０ｓと重なる領域からその外側領域に第２接続層３４Ｂと接続するために第１接続層３４Ｂを長く延出させる必要がない。これによって、上記実施形態１のタッチパネルＴＰに比べて、第１接続層３４Ａを小面積に形成できる分だけタッチパネルＴＰを狭額縁化することができる。
【０１２７】
《発明の実施形態３》
図１８は、実施形態３に係る接続導電部３３と引出配線３０との接続構造を拡大して示す平面図である。図１９は、図１８のXIX−XIX線における断面構造を示す断面図である。図２０は、図１８のXX−XX線における断面構造を示す断面図である。
【０１２８】
上記実施形態２では、コンタクトホール２３ａが細線部３１ｃの端面を含まないように形成された構成について説明したが、本実施形態では、コンタクトホール２３ａが細線部３１ｄの端面を含むように形成されている。
【０１２９】
本実施形態の引出配線３０の引き出し基端部３０ｓは、図１８に示すように、複数の細線部３１ｄが格子状に組み合わせられてなる。層間絶縁膜２３には、第１接続層３４Ａの中央部分に位置する一部の細線部３１ｄの端面を含むようにコンタクトホール２３ａが形成され、該コンタクトホール２３ａ内に位置する細線部３１ｄの端面においては、図２０に示すように、アルミニウム層が一部溶解し消失しており、欠損部１００が生じている。そして、第２接続層３４Ｂは、図１９及び図２０に示すように、コンタクトホール２３ａを介して第１接続層３４Ａに接続されると共にコンタクトホール２３ａ内に位置する細線部３１ｄにも直接接続されている。また、第１接続層３４Ａは、図１９に示すように、層間絶縁膜２３の外側に若干突出しており、該第１接続層３４Ａの突出部分にも第２接続層３４Ｂが接続されている。
【０１３０】
このような構成のタッチパネルＴＰは、上記実施形態１の第３パターニング工程にて、層間絶縁膜２３にコンタクトホール２３ａを形成し、第４パターニング工程にて、コンタクトホール２３ａを介して第１接続層３４Ａ及び細線部３１ｄに接続するように第２接続層３４Ｂを形成することにより、製造することができる。
【０１３１】
−実施形態３の効果−
この実施形態３によると、コンタクトホール２３ａが一部の細線部３１ｄの端面を含むように形成されているため、層間絶縁膜２３形成時の現像液によって一部の細線部３１ｄのアルミニウム層がその端面において部分的に溶解し消失するが、当該コンタクトホール２３ａ形成箇所を除く部分では、他の細線部３１ｄが層間絶縁膜２３に覆われているので、該層間絶縁膜２３に覆われた細線部３１ｄと第１接続層３４Ａとは確実に接続される。したがって、層間絶縁膜２３形成時の現像液によってコンタクトホール２３ａ形成箇所で一部の細線部３１ｄのアルミニウム層に欠損部１００が生じたとしても、第１接続層３４Ａによって接続導電部３３と引出配線３０とを確実に接続することができる。
【０１３２】
また、上記実施形態２と同様に、層間絶縁膜２３に形成されたコンタクトホール２３ａを介して第２接続層３４Ｂが第１接続層３４Ａに接続されているので、引出配線３０の引き出し基端部３０ｓと重なる領域からその外側領域に第２接続層３４Ｂと接続するために第１接続層３４Ｂを長く延出させる必要がなく、上記実施形態１のタッチパネルＴＰに比べて、第１接続層３４Ａを小面積に形成できる分だけタッチパネルＴＰを狭額縁化することができる。
【０１３３】
《その他の実施形態》
上記実施形態１〜３については、以下の構成及び製造方法としてもよい。
【０１３４】
＜第１接続層３４Ａ及び外部接続端子３５と引出配線３０との配置＞
上記実施形態１〜３では、第１接続層３４Ａ及び外部接続端子３５が引出配線３０の下層に設けられているとしたが、本発明はこれに限らず、第１接続層３４Ａ及び外部接続端子３５は引出配線３０の上層に設けられていても構わない。
【０１３５】
＜液晶表示装置Ｓの構成＞
図２１は、その他の実施形態における２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓの断面構造を概略的に示す断面図である。図２２は、その他の実施形態における液晶表示装置Ｓの断面構造を概略的に示す断面図である。
【０１３６】
上記実施形態１では、液晶表示パネルＤＰの前面側にスイッチング液晶パネルＳＰが配置された構成の２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓについて説明したが、本発明はこれに限らない。例えば、図２１に示すように、液晶表示パネルＤＰの背面側にスイッチング液晶パネルＳＰが配置された構成の２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓであってもよい。また、図２２に示すように、スイッチング液晶パネルＳＰを備えない通常の２Ｄ表示のみを行う液晶表示装置Ｓであっても構わない。これらの場合にも、液晶表示装置Ｓを全体として薄型化する観点から、液晶表示パネルＤＰを構成する基板（例えば対向基板２）表面にタッチパネルＴＰが直接形成されていることが好ましい。
【０１３７】
またその他、タッチパネルＴＰは、液晶表示パネルＤＰやスイッチング液晶パネルＳＰを構成する基板には直接形成されずに、これら液晶パネルＤＰ，ＳＰを構成する基板とは別個のガラス基板などの透明基板上に形成され、液晶表示パネルＤＰ又はスイッチング液晶パネルＳＰに貼り合わされて液晶表示装置Ｓを構成していてもよい。
【０１３８】
＜液晶表示装置Ｓの製造方法＞
図２３は、その他の実施形態における２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓの製造方法の概略を示すフローチャート図である。
【０１３９】
上記実施形態１では、タッチパネルＴＰ付きのスイッチング駆動基板６を製造した後に、該スイッチング駆動基板６と別途製造したスイッチング対向基板５とを貼り合わせるとしたが、本発明はこれに限らず、図２３に示すように、スイッチング駆動基板製造工程Ｓｔ２１にてスイッチング駆動基板６を、スイッチング対向基板製造工程Ｓｔ２２にてスイッチング対向基板５をそれぞれ製造し、これら両基板５，６を貼合工程Ｓｔ２３にて互いに貼り合わせてスイッチング液晶パネルＳＰを作製した後、該スイッチング液晶パネルＳＰの表面（スイッチング駆動基板６の表面）にタッチパネル製造工程Ｓｔ２４にてタッチパネルＴＰを形成して、タッチパネルＴＰ付きスイッチング液晶パネルＳＰを製造してもよい。なお、図２３中のバックライト製造工程Ｓｔ２５、液晶表示パネル製造工程Ｓｔ２６及びモジュール化工程Ｓｔ２７は、上記実施形態１におけるバックライト製造工程Ｓｔ０５、液晶表示パネル製造工程Ｓｔ０６及びモジュール化工程Ｓｔ０７と同様な工程である。
【０１４０】
また、上記実施形態１では、貼合工程Ｓｔ４において、スイッチング対向基板５又はスイッチング駆動基板６にシール材７を枠状に描画し、該シール材７の内側に液晶材料を滴下した後、これらシール材７及び液晶材料を介してスイッチング対向基板５とスイッチング駆動基板６とを貼り合わせる、いわゆる滴下注入法によりスイッチング液晶パネルＳＰを作製するとしたが、スイッチング対向基板５又はスイッチング駆動基板６に切れ目を有する略枠状にシール材を描画し、該シール材を介して両基板５，６とを貼り合わせて空隙セルを有する貼合体を構成し、該貼合体の空隙セルにシール材の切れ目により構成された注入口から真空引きによる気圧差を利用して液晶材料を注入し、その後に、封止材により注入口を封止する、いわゆる真空注入法によりスイッチング液晶パネルＳＰを作製してもよい。このことは液晶表示パネルＤＰについても同様である。
【０１４１】
上記実施形態１〜３では、２Ｄ／３Ｄ切替型の液晶表示装置Ｓを例に挙げて説明したが、本発明はこれに限らず、第２の表示状態において異なる視野角に分離される画像は、右目用画像及び左目用画像のように相互に関連を必要とするものだけでない。
【０１４２】
例えば、自動車の運転席のドライバーにカーナビゲーションシステムの映像を表示し、且つ助手席の同乗者にテレビ放送の映像を表示するような表示装置への利用が考えられる。複数の観察者に異なる映像を表示する場合には、視差バリアを介して視認される液晶表示パネルＤＰの画像が、所定の距離をおいた複数の観察者のそれぞれが観察すべき画像として分離できるように、視差バリアの遮光部と透光部の配置パターン、すなわちスイッチング駆動基板６における駆動電極の配置パターンを適宜設定すればよい。
【０１４３】
また、本発明に係るタッチパネルＴＰは、液晶表示装置だけでなく、有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置や無機ＥＬ表示装置、プラズマ表示装置、ＦＥＤ（Field Emission Display；電界放出ディスプレイ）、ＳＥＤ（Surface-conduction Electron-emitter Display；表面電界ディスプレイ）などの他の各種表示装置にも適用することができ、タッチパネルＴＰを備える表示装置であれば広く適用することができる。
【０１４４】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明の技術的範囲は、上記の実施形態の範囲に限定されない。上記実施形態が例示であり、それらの各構成要素や各処理プロセスの組合せに、さらにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。
【産業上の利用可能性】
【０１４５】
以上説明したように、本発明は、タッチパネル及びそれを備えた表示装置並びにタッチパネルの製造方法について有用であり、特に、タッチ領域周辺の周辺配線と接続導電部とを層間絶縁膜を介し絶縁した構成において、接続導電部と引出配線とを確実に接続して良好なタッチ位置検出機能を得ることが要望されるタッチパネル及びそれを備えた表示装置並びにタッチパネルの製造方法に適している。
【符号の説明】
【０１４６】
Ｓ                液晶表示装置
ＤＰ              液晶表示パネル
ＳＰ              スイッチング液晶パネル
ＴＰ              タッチパネル
Ｔ１              タッチ領域
Ｔ３              端子領域
１１              第１電極（第１導電パターン）
１３              第１連結部（第１導電パターン）
１５              第１電極群（第１導電パターン）
１７              第２電極（第１導電パターン）
１９              第２連結部（第２導電パターン）
２１              第２電極群（第１導電パターン）
２３              層間絶縁膜
２３ａ            コンタクトホール
３０              引出配線
３０ｓ            引き出し基端部
３１ａ            基幹細線部（細線部）
３１ｂ            分岐細線部（細線部）
３１ｃ，３１ｄ    細線部
３２              グランド配線（周辺配線）
３３              内部導電部
３４Ａ            第１接続層
３４Ｂ            第２接続層
４１              コントローラ（外部回路）
５１，５７        透明導電膜
５３              金属積層膜（金属膜）
５５，５９        絶縁膜
【図１】
2012090446.tif 000003
【図２】
2012090446.tif 000004
【図３】
2012090446.tif 000005
【図４】
2012090446.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【国際調査報告】
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