(57)【要約】  本発明は、プリズム部内に励起光αを入射させる励起光射出部と、金属膜と隣接する領域において生じる光を測定する光測定部と、を備え、励起光射出部は、励起光光源と、複数の光学レンズによって構築され、励起光αのビーム径を変更可能な径変更光学系とを有し、径変更光学系は、金属膜における励起光αの照射領域が金属膜における光測定部の測定領域に含まれるように励起光αのビーム径を変更することを特徴とする。
2012093437.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリズム部上に設けられた金属膜において生じる表面プラズモン共鳴に起因する蛍光を測定することにより検体の分析を行う表面プラズモン共鳴蛍光分析装置であって、
前記金属膜で反射されるように前記プリズム部内にビーム状の励起光を入射させる励起光射出部と、
前記励起光が金属膜によって反射されることにより当該金属膜と隣接する領域において生じる光を測定する光測定部と、を備え、
前記励起光射出部は、前記励起光を射出する励起光光源と、複数の光学レンズによって構築され、前記励起光のビーム径を変更可能な径変更光学系とを有し、
前記径変更光学系は、前記励起光が前記金属膜で反射されるときの当該金属膜における励起光の照射領域が前記光測定部の前記金属膜における前記光の測定領域に含まれるように、前記励起光のビーム径を変更することを特徴とする表面プラズモン共鳴蛍光分析装置。
【請求項２】
前記励起光射出部は、前記プリズム部内に入射するときの励起光がその光軸を回転中心にして回転するように前記プリズム部に対する姿勢を変更可能に前記励起光光源を保持する光源保持部と、前記励起光光源を駆動して前記プリズム部に対する姿勢を変更させる姿勢変更駆動部とを有し、
前記光測定部の測定領域は、前記金属膜において円形の輪郭を有し、
前記励起光光源は、光軸と直交する断面形状の輪郭が楕円形状の励起光を射出し、
前記姿勢変更駆動は、前記照射領域の輪郭が円形若しくは略円形となる姿勢に前記励起光光源を駆動することを特徴とする請求項１に記載の表面プラズモン共鳴蛍光分析装置。
【請求項３】
表面プラズモン共鳴に起因する蛍光を測定することにより検体の分析を行う表面プラズモン共鳴蛍光分析装置において用いられる分析チップであって、
前記表面プラズモン共鳴が生じる金属膜と、
前記金属膜が設けられる反射面、及び前記表面プラズモン共鳴を生じさせるための励起光が内部に進入する面である入射面をその表面に含むプリズム部と、を備え、
前記プリズム部において、光軸と直交する断面の輪郭が楕円形状の励起光が前記断面の短軸方向を前記入射面に対する前記反射面の傾き方向と一致させた状態で前記入射面からプリズム部内に入射したあと前記表面プラズモン共鳴に起因する電場の強度が最大となる入射角で当該励起光が前記金属膜に入射する場合に、前記入射面と前記反射面とのなす角度であるプリズム角が当該励起光の金属膜における照射領域が円形若しくは略円形となるような角度であることを特徴とする表面プラズモン共鳴蛍光分析装置で用いられる分析チップ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面プラズモン共鳴（Surface Plasmon Resonance：ＳＰＲ）を利用して試料溶液中に含まれる検体の分析を行う表面プラズモン共鳴蛍光分析装置、及びこの分析装置において用いられる分析チップに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、タンパク質やＤＮＡ等を検出するバイオ測定において、検体（被検出物質）を高感度に検出する装置として、表面プラズモン共鳴蛍光分析（表面プラズモン励起増強蛍光分光：ＳＰＦＳ）法を用いた分析装置が知られている（特許文献１参照）。【０００３】
このＳＰＦＳ法では、金や銀等からなる金属膜が所定の面上に形成されたプリズム内に、前記所定の面に対して全反射条件となるように励起光が入射させられ、金属膜において励起光が反射する際にこの金属膜からしみ出すエバネッセント波（電場）が利用される。【０００４】
具体的に、上記の分析装置では、金属膜が設けられたプリズム内に励起光が入射すると、励起光が所定の入射角（プラズモン共鳴角）となるように金属膜に入射したときに、当該金属膜において表面プラズモン共鳴が生じてエバネッセント波（電場）が増強される。この状態において、金属膜の表面（プリズムと反対側の面）と接するように試料溶液が流されると、試料溶液に含まれる検体又はこの検体に付された蛍光物質（標識物質）が前記増強された電場によって励起されて蛍光（励起蛍光）を発する。上記の分析装置は、この励起蛍光を測定することによって検体の存在又はその量を高感度且つ高精度に検出する。【０００５】
上記の分析装置では、検体の分析の際に、金属膜において反射するようにプリズム内に励起光が入射すると、この励起光に起因する自家蛍光がプリズム内において生じる。この自家蛍光は、プリズムの材料特性に基づくものであり、励起光（光）がプリズム内を進行することによって生じる。このようなプリズム内に生じた自家蛍光が検体の分析の際に励起蛍光を測定する光測定部等に入射すると、この自家蛍光がノイズとなりＳＮ比が低下する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】日本国特許第４３７０３８３号公報
【発明の概要】
【０００７】
本発明の目的は、ＳＰＦＳ法を利用した分析装置において、金属膜に生じさせた表面プラズモン共鳴に起因する光を測定して得られる信号のＳＮ比の低下を抑えることができる表面プラズモン共鳴蛍光分析装置、及びこの分析装置において用いられる分析チップを提供することである。
【０００８】
本発明に係る表面プラズモン共鳴蛍光分析装置、及びこの分析装置において用いられる分析チップは、励起光が金属膜によって反射されるときの当該金属膜における励起光の照射領域が光測定部の金属膜における光の測定領域に含まれるように、励起光のビーム径を変更する。このため、本発明によれば、金属膜に生じさせた表面プラズモン共鳴に起因する光を測定して得られる信号のＳＮ比の低下を抑えることができる表面プラズモン共鳴蛍光分析装置、及びこの分析装置において用いられる分析チップを提供することができる。
【０００９】
上記並びにその他の本発明の目的、特徴及び利点は、以下の詳細な記載と添付図面から明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本実施形態に係る表面プラズモン共鳴蛍光分析装置に分析チップが設置された状態の構成を示す機能ブロック図である。
【図２】図２は、前記表面プラズモン共鳴蛍光分析装置のチップ保持部及びこのチップ保持部に保持された状態の分析チップの構成を示す拡大図である。
【図３】図３は、前記表面プラズモン共鳴蛍光分析装置における励起光の偏光状態及び金属膜における励起光の照射領域を示す図である。
【図４】図４（Ａ）は、前記表面プラズモン共鳴蛍光分析装置の光源保持部を説明するための平面図であり、図４（Ｂ）は図４（Ａ）のＩＶＢ−ＩＶＢ断面図である。
【図５】図５（Ａ）及び図５（Ｂ）は、光源保持部の回動動作を説明するための底面図である。
【図６】図６（Ａ）は、金属膜における生理活性物質が固定された領域と、測定領域と、照射領域と、の大小関係を説明するための図であって、金属膜の表面に沿った方向から見た図である。図６（Ｂ）は、金属膜における生理活性物質が固定された領域と、測定領域と、照射領域と、の大小関係を説明するための図であって、金属膜の表面と直交する方向から見た図である。
【図７】図７は、前記表面プラズモン共鳴蛍光分析装置の測定光学系を説明するための図である。
【図８】図８は、前記表面プラズモン共鳴蛍光分析装置において検体を分析するときの基本シーケンスを示すフローチャートである。
【図９】図９は、図８の共鳴角走査シーケンスを示すフローチャートである。
【図１０】図１０は、図８の最適位置走査シーケンスを示すフローチャートである。
【図１１】図１１は、図８の複屈折測定シーケンスを示すフローチャートである。
【図１２】図１２は、図８の励起蛍光測定シーケンスを示すフローチャートである。
【図１３】図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）は、前記表面プラズモン共鳴蛍光分析装置における反射部材の第２の位置決めを説明する図である。
【図１４】図１４（Ａ）は、プリズム内における光測定部の検出視野内の自家蛍光領域を示す図であって、照射領域が測定領域よりも大きくなるようなビーム径の励起光をプリズム内に入射させた状態を示す図であり、図１４（Ｂ）は、プリズム内における光測定部の検出視野内の自家蛍光領域を示す図であって、照射領域が測定領域よりも小さくなるようなビーム径の励起光をプリズム内に入射させた状態を示す図である。
【図１５】図１５は、他実施形態に係る分析チップの中央縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の一実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。
【００１２】
本実施形態に係る表面プラズモン共鳴蛍光分析装置（以下、単に「分析装置」とも称する。）は、プリズムの反射界面に対して全反射条件となるように当該プリズムに入射した励起光が反射界面において反射したときの当該反射界面からしみ出すエバネッセント波（増強電場）を利用し、被検出物質（以下、単に「検体」とも称する。）に標識された（付された）蛍光物質を励起させる。そして、分析装置は、この蛍光物質の励起により生じた蛍光の光量を検出することによって検体の検出を行う。
【００１３】
分析装置は、図１に示すように、分析チップ５０を保持するチップ保持部１２と、チップ保持部１２に保持された状態の分析チップ５０に励起光を出射する励起光射出部２０と、分析チップ５０において生じた光の強度を測定する光測定部４０と、これらチップ保持部１２、励起光射出部２０、及び光測定部４０等の分析装置１０の各構成要素の制御を行うと共に、各種演算処理を行う制御処理部１４（制御部）と、演算結果等の各種情報を表示する表示部１６と、を備える。また、分析装置１０は、患者からの血液等の前処理を行う前処理部（図示省略）も備える。この前処理部は、試薬チップ（図略）を受け入れ、この試薬チップに注入されている血液等の前処理（血球分離や希釈、混合等）を行って試料溶液を生成し、この試料溶液を分析チップ５０に注入する。試薬チップには、複数の収納部が設けられ、各収納部には、血液等の他に、試薬、希釈液、洗浄液等が個別に封入されている。
【００１４】
分析チップ５０は、図２にも示すように、プリズム５１と、プリズム５１の表面に形成される金属膜５５と、検体を含む試料溶液や洗浄液等が金属膜５５上を当該金属膜５５に接しつつ流れる流路５８を形成する流路部材５７と、を備える。本実施形態の分析チップ５０は、検体の検出（分析）毎に交換される。
【００１５】
プリズム５１は、励起光射出部２０からの励起光αをプリズム５１の内部に入射させる入射面５２と、プリズム５１の内部に入射した励起光αを反射する金属膜５５が形成される成膜面（反射面）５３と、金属膜５５によって反射された励起光αがプリズム５１の外部に射出される射出面５４と、をその表面に含む。このプリズム５１は、透明なガラス又は樹脂により形成される。射出面５４は、励起光αが金属膜５５によって反射された後に最初に当る面である。射出面５４は、金属膜５５によって反射された励起光αのＳ波成分の光がプリズム５１の内部に留まらないように、入射面５２と同様に、光学面に形成される。
【００１６】
本実施形態の励起光射出部２０は、扁平な（詳しくは、光軸と直交する断面の輪郭が楕円形状である）ビーム状の励起光αを射出する。そして、プリズム５１において、励起光αがその断面の短軸方向を入射面５２に対する成膜面５３の傾き方向と一致させた状態となるように入射面５２からプリズム５１内に入射したあと、当該励起光αが表面プラズモン共鳴に起因する電場（増強電場）の強度が最大となる入射角θｌで金属膜５５に入射する場合に、入射面５２と成膜面５３とのなす角度であるプリズム角θＡが当該励起光αの金属膜５５における照射領域が円形若しくは略円形となるような角度となっている（図３参照）。プリズム５１の材料の屈折率、金属膜５５の厚さ及び屈折率、試料溶液の屈折率等から表面プラズモン共鳴による電場増強が最大となる共鳴角は予測できる。このため、前記プリズム角θＡは、設計値に基づいて決定される。このとき、各パラメータのばらつき、測定対象物の濃度等により、前記共鳴角がある程度の幅を持つため、設計中心値において照射領域が真円となるようにプリズム角θＡが設定される。また、本実施形態のプリズム５１は、複屈折特性を有する。具体的に、プリズム５１は、屈折率が１．４〜１．６程度の透明な樹脂（誘電体）により形成されている。尚、プリズム５１は、ガラスにより形成されてもよい。また、プリズム５１は、入射面５２と成膜面５３と射出面５４とを当該プリズム５１の表面に含む形状であればよい。即ち、プリズム５１は、入射面５２から内部に入射した励起光αが成膜面５３上の金属膜５５によって全反射され、この励起光α（詳細には、励起光αのＳ波成分）がプリズム５１の内部において乱反射して留まらずに射出面５４から外部に射出される形状であればよい。
【００１７】
金属膜５５は、プリズム５１の成膜面５３上に成膜（形成）された金属製の薄膜である。本実施形態の金属膜５５は、金により形成されている。この金属膜５５は、成膜面５３に対して全反射条件となるようにプリズム５１内に入射した励起光αが金属膜５５の形成された成膜面５３において反射することにより生じたエバネッセント波（増強電場）を増幅する。即ち、成膜面５３上に金属膜５５が設けられ、この金属膜５５に表面プラズモン共鳴が生じることにより、金属膜５５のない面（成膜面５３）において励起光αが全反射してエバネッセント波が生じた場合に比べ、形成されるエバネッセント波が増幅されている（即ち、金属膜５５の表面５５ａ近傍に増強された電場（増強電場）が形成される）。
【００１８】
尚、金属膜５５の素材は、金に限定されず、表面プラズモン共鳴を生じさせる金属であればよい。例えば、金属膜５５は、銀、銅、アルミ等（合金を含む）であってもよい。
【００１９】
また、金属膜５５の表面（プリズム５１と反対側の面）５５ａには、特定の抗原を捕捉するための捕捉体（生理活性物質）５６が固定されている。この捕捉体５６は、表面処理によって金属膜５５の表面５５ａに固定される。
【００２０】
流路部材５７は、プリズム５１の成膜面５３（詳しくは、金属膜５５）上に設けられ、これにより、成膜面５３と共同して試料溶液が流れる流路５８を形成する。この流路部材５７は、透明な樹脂により形成される。この流路部材５７は、接着剤、レーザー溶着や超音波溶着、クランプ部材を用いた圧着等によりプリズム５１に接合される。流路５８は、金属膜５５と試料溶液とが接する領域が光測定部４０の測定領域よりも広くなるような形状を有する。
【００２１】
以上のように構成される分析チップ５０は、分析装置１０の前処理部に設置されると、この前処理部において前処理された試料溶液が流路５８内に注入（供給）される。そして、試料溶液が注入された分析チップ５０は、金属膜５５上に固定された捕捉体５６と検体（特定の抗原）との反応が終了すると、チップ保持部１２まで搬送される。チップ保持部１２まで搬送された分析チップ５０は、分析装置１０に対して所定の姿勢となるようにチップ保持部１２に保持される。
【００２２】
チップ保持部１２は、検体の検出のときに、分析チップ５０が分析装置１０に対して所定の姿勢となるように当該分析チップ５０を保持する。前記所定の姿勢とは、励起光射出部２０から射出された励起光αが成膜面５３に対して全反射条件となるように入射面５２からプリズム５１内に入射し、この入射した励起光αが成膜面５３上の金属膜５５において反射されるような姿勢である。また、チップ保持部１２は、着脱可能に分析チップ５０を保持する。本実施形態のチップ保持部１２は、流路部材５７の下側にプリズム５１が位置する姿勢となるように分析チップ５０を保持する。
【００２３】
尚、分析装置１０では、射出面５４から射出された光の影響が光測定部４０に及ばないように、チップ保持部１２に保持された状態の分析チップ５０の射出面５４近傍に、光吸収体（図示省略）が配置されている。
【００２４】
励起光射出部２０は、チップ保持部１２において保持された状態の分析チップ５０に含まれるプリズム５１の金属膜５５によって反射されるように、当該プリズム５１内に励起光αを入射させる。具体的に、励起光射出部２０は、直線偏光された励起光αを射出する光源部２１と、光源部２１から出射された励起光αをプリズム５１の入射面５２まで案内する励起光学系３０と、を有する。
【００２５】
光源部２１は、励起光源（励起光光源）２２を含む光源ユニット部２３と、励起光源２２から射出された励起光αを整波する第１整波部２４と、を有する。本実施形態の光源部２１は、下方に向けて励起光αを射出する。
【００２６】
光源ユニット部２３は、励起光源２２が射出した励起光αの平行化（コリメート）を行う。また、光源ユニット部２３は、プリズム５１の金属膜５５に励起光αが短軸側から入射するように励起光源２２の姿勢を調整及び維持する。具体的に、光源ユニット部２３は、励起光源２２と、この励起光源２２のプリズム５１に対する姿勢を変更可能に当該励起光源２２を保持する光源保持部１２２と、励起光源２２を駆動してその姿勢を変更させる姿勢変更駆動部１２３と、励起光源２２の温度調整（温調）を行う温調回路２５とを有する。
【００２７】
本実施形態の励起光源２２は、レーザーダイオード（半導体レーザー素子）である。この励起光源２２は、上述のように、図３に示すような扁平な（詳しくは、光軸と直交する断面の輪郭が楕円形状である）ビーム状の励起光αを射出する。
【００２８】
光源保持部１２２は、入射面５２からプリズム５１内に入射するときの励起光αがその光軸を回転中心にして回転可能となるように、励起光源２２を保持する。本実施形態の光源保持部１２２は、図４（Ａ）乃至図５（Ｂ）にも示すように、励起光源２２が取り付けられる回路基板（レーザー駆動回路基板）１２４と、励起光αを平行化するためのコリメートレンズ１２５と、コリメートレンズ１２５を保持するレンズ鏡胴１２６と、当該分析装置１０に固定された基板取付台１２７と、を備える。
【００２９】
レンズ鏡胴１２６は、保持したコリメートレンズ１２５の光軸と、励起光源２２が射出する励起光αと、の光軸とが一致するように回路基板１２４に固定されている。本実施形態のレンズ鏡胴１２６は、円柱面形状の外周面１２６ａを有する。このレンズ鏡胴１２６は、回路基板１２４に対し、励起光αの光軸と当該レンズ鏡胴１２６が保持するコリメートレンズ１２５の光軸とが一致するように固定されている（図４（Ｂ）参照）。
【００３０】
基板取付台１２７は、励起光αの光軸を回転中心にして回動可能となるように、レンズ鏡胴１２６の固定されている回路基板１２４を保持する（図４（Ａ）、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）の矢印ε参照）。本実施形態では、基板取付台１２７の上面１２７ａから下面１２７ｂに向けて貫通する穴部１２８にレンズ鏡胴１２６が挿入された状態で、回路基板１２４が基板取付台１２７の上面（図４（Ｂ）における上面）１２７ａと摺接する。この穴部１２８は、レンズ鏡胴１２６の外周面１２６ａに対応する内径の内周面を有する鏡胴保持部１２８ａと、この鏡胴保持部１２８ａよりも内径の小さな励起光通過部１２８ｂとを有する。回路基板１２４には、励起光αの光軸を中心とする円周上に間隔をおいて複数の被案内部（本実施形態では円弧形状のスリット）１２４ａが設けられている。そして、各スリット１２４ａ内を通過するように案内部材（本実施形態ではビス）Ｂが基板取付台１２７に取り付けられている。これにより、回路基板１２４は、励起光αの光軸を回転中心にして回動可能となる（図５（Ａ）及び図５（Ｂ）参照）。
【００３１】
姿勢変更駆動部１２３は、制御処理部１４と接続され、この制御処理部１４からの指示信号に基づいて励起光源２２のプリズム５１に対する姿勢を変更させる。具体的に、姿勢変更駆動部１２３は、励起光αが金属膜５５に対して全反射条件（成膜面５３に対して浅い角度）となるように入射したときに、励起光αの成膜面５３における照射領域の輪郭が凡そ円形となるように（図３参照）励起光源２２の姿勢を変更させる。本実施形態の姿勢変更駆動部１２３は、アクチュエータやモータ等によって構成される。この姿勢変更駆動部１２３は、上記のレンズ鏡胴１２６が固定され且つ基板取付台１２７に保持された回路基板１２４を回動させる（図５（Ａ）及び図５（Ｂ）参照）。これにより、励起光αの成膜面５３における照射領域の輪郭が凡そ円形となるように、励起光源２２の姿勢が変更される。
【００３２】
尚、本実施形態では、光源保持部１２２及び姿勢変更駆動部１２３によって、入射面５２からプリズム５１内に入射するときの励起光αがその光軸を回転中心にして回転可能に構成されるが、これに限定されない。例えば、姿勢変更駆動部１２３が設けられていない分析装置において、作業者等が、回路基板（光源保持部）１２４を回動させ、励起光αが成膜面５３に対して全反射条件となるようにプリズム５１に入射したときに、励起光αの成膜面５３における照射領域の輪郭が凡そ円形となるようにする。そして、この状態のままビスによって回路基板１２４が基板取付台１２７に固定される。
【００３３】
温調回路２５は、励起光源（レーザーダイオード）２２の温調を行うための回帰回路である。具体的に、温調回路２５は、コリメート化後に励起光αの光線から分岐させた光線光量をフォトダイオード等（図示省略）により監視し、これにより、射出される励起光αの波長及び光量が一定となるように励起光源２２の温度を調整する。これは、温度によって励起光源２２が射出する光の波長と射出エネルギーとが変動するためである。
【００３４】
第１整波部２４は、複数のフィルター（光フィルター）によって光源ユニット部２３から射出された励起光αを整波し、当該励起光αを偏光方向が一意な励起波長にする。具体的に、第１整波部２４は、第１バンドパスフィルター（以下、単に「第１ＢＰＦ」と称する。）２６と、直線偏光フィルター（以下、単に「ＬＰＦ」と称する。）２７と、第１ＮＤフィルター（以下、単に「第１ＮＤＦ」と称する。）２８と、を有する。第１ＢＰＦ２６は、励起光源２２からの射出光が若干の波長分布幅を有しているため、これを中心波長のみの挟帯域にろ波する。また、ＬＰＦ２７は、励起光源２２からの射出光が若干の異位相差成分を有しているため、これを純粋な直線偏光にろ波する。また、第１ＮＤＦ２８は、いわゆる減光フィルターである。即ち、第１ＮＤＦ２８は、励起光源２２から射出された光を減光することにより、光源部２１から射出される励起光αの光量を調整する。尚、励起光源２２から射出される射出光の強度によっては、第１整波部２４に第１ＮＤＦ２８が設けられなくてもよい。
【００３５】
励起光学系３０は、光源部２１から、チップ保持部１２に保持された状態の分析チップ５０のプリズム５１まで、励起光αを案内する。この励起光学系３０は、励起光αの偏光方向を変更する偏光方向調整部３１と、励起光αのビームの輪郭形状等を調整する整形光学系（径変更光学系）３２と、励起光αのプリズム５１内への入射経路を変更して金属膜５５における励起光αの反射位置や、金属膜５５に対する励起光αの入射角θを変更する入射経路調整部３５と、を有する。
【００３６】
偏光方向調整部３１は、１／２波長板３３と、この１／２波長板３３を回転させる回転駆動部３４と、を有する。
【００３７】
１／２波長板３３は、励起光学系３０の光路上に配置され、励起光αの偏光方向を連続的に回転させる偏光回転子として用いられる。回転駆動部３４は、１／２波長板３３を回転させることにより、金属膜５５に対する励起光αの偏光方向を回転させる。本実施形態の回転駆動部３４は、ステップモーターを有し、制御処理部１４からの指示信号に基づいてステップモーターを駆動して１／２波長板３３を回転させる。このように１／２波長板３３が回転すると、第１整波部２４において直線偏光された励起光αの偏光方向が回転する。これにより、金属膜５５に入射する励起光αにおけるＰ波成分の量とＳ波成分の量とが変化する。即ち、回転駆動部３４が１／２波長板３３を回転させることにより、金属膜５５においてエバネッセント波が最大限しみ出す条件（即ち、金属膜５５の表面５５ａ近傍に形成される増強電場の電場増強度が最大となる条件）から、全くしみ出さない条件（即ち、金属膜５５の表面５５ａ近傍に増強電場が全く形成されない条件）まで、偏光方向を自在に変化させることが可能となる。
【００３８】
整形光学系３２は、複数の光学レンズ３２ａ，３２ａ，…によって構築される。この整形光学系３２は、金属膜５５における励起光αの照射領域の輪郭が所定の直径を有する円形（略円形）になるように、励起光αのビームサイズ（ビーム径）やビームの輪郭形状を調整する。具体的に、整形光学系３２は、互いに光軸が一致するように並べられた複数の光学レンズ３２ａ，３２ａ，…を有し、各光学レンズ３２ａ，３２ａ間の距離を変更等することによって励起光αのビーム径を変更する。整形光学系３２は、ビーム径を変更した後の励起光αも平行光となるように構成される。本実施形態の整形光学系３２は、いわゆるレーザービームエキスパンダである。
【００３９】
尚、整形光学系３２は、上記の構成に限定されない。例えば、整形光学系は、一軸方向にのみ変倍するプリズムや円筒レンズ等であってもよい。また、本実施形態の金属膜５５における励起光αの照射領域は、光測定部４０における測定領域に含まれ、且つ、照射領域と略一致する大きさに調整される（図６（Ａ）及び図６（Ｂ）参照）。詳しくは、金属膜５５上において、捕捉体５６が固定されている領域よりも測定領域が小さい。そして、整形光学系３２は、この測定領域よりも前記照射領域が僅かに小さくなるように、励起光αのビーム径を調整する。
【００４０】
入射経路調整部３５は、光源部２１からの励起光αを反射する反射部材３６と、この反射部材３６を駆動する反射部材駆動部（駆動部）３７とを有する。
【００４１】
反射部材３６は、励起光αを反射する反射面３６ａを有する。本実施形態の反射部材３６は、反射鏡である。この反射部材３６では、反射面３６ａに入射する前の励起光αと、当該反射面３６ａによって反射された後の励起光αと、において位相のずれや減光等が生じない誘電体多層膜（詳しくは、励起光波長においてＰ波成分とＳ波成分とのいずれとも波長依存性をなくした誘電体多層膜）が反射面３６ａ上に成膜されている。これにより、当該分析装置１０における検体の検出精度及び感度が向上する。
【００４２】
また、反射部材３６の裏面３６ｂには、励起光αを反射することなく吸収する無反射光吸収物質が貼り付けられている。無反射光吸収物質は、例えば、吸収型ＮＤフィルム、植毛布等である。
【００４３】
反射部材駆動部３７は、ステージ３７ａと、このステージ３７ａに設けられ、反射部材３６を支持すると共に回転駆動する回転駆動機構（図示省略）と、ステージ３７ａを往復駆動する往復駆動機構（図示省略）と、を有する。
【００４４】
回転駆動機構は、反射部材３６を回転させる（図１の矢印β参照）ことにより、反射面３６ａの向きを変える。具体的に、回転駆動機構は、反射部材３６に入射する励起光αの光路と、反射部材３６による反射後の励起光αの光路と、を含む面（図１の紙面）に対して反射面３６ａが直交する姿勢となるように反射部材３６を支持する。そして、回転駆動機構は、反射部材３６の前記直交姿勢（反射面３６ａが前記光路を含む面に対して直交する姿勢）を維持しつつ反射面３６ａが前記光路を含む面に沿って回転するように、制御処理部１４の指示信号に基づいて反射部材３６を回転させる。この回転駆動機構は、回転モーターを有し、この回転モーターによって直接的又は間接的に反射部材３６を回転駆動して反射面３６ａの向きを変える。また、回転駆動機構は、制御処理部１４からの指示信号に基づいて、光源部２１からの励起光αが反射部材３６の裏面３６ｂに入射するまで反射部材３６を回転させることもある。本実施形態では、重心が回転中心近くを通るように反射部材３６が回転駆動機構に取り付けられ、回転モーターは、トルクが十分な大きさとなるように設定されている。本実施形態の回転モーターは、高分解能のステップモーターである。この回転モーターは、制御処理部１４からの指示信号によって、所定の角度間隔となるように（即ち、回転方向において段階的に）反射部材３６を回転させる。前記所定の角度間隔は、反射面３６ａの向きの調整における分解能に関係するものであり、本機の性能によって適宜に設定される。
【００４５】
往復駆動機構は、光源部２１からの励起光αの光軸に沿って、ステージ３７ａ、即ち、反射部材３６を直線的に移動させる（図１における矢印γ参照）。本実施形態の往復駆動機構は、光源部２１からの励起光αの光軸方向、即ち、上下方向にステージ３７ａを往復駆動する。具体的に、往復駆動機構では、制御処理部１４からの指示信号によりステップモーターが制御され、このステップモーターにより駆動されるねじ送り機構によって、回転駆動機構と反射部材３６とが搭載されたステージ３７ａが上下方向に往復移動する。即ち、往復駆動機構は、制御処理部１４の指示信号に従い、光源部２１からの励起光αの光軸に対する反射面３６ａの向きを一定に保ったまま、前記光軸上の所定位置に反射部材３６を高精度に移動させる。
【００４６】
光測定部４０は、受光部４１と、分析チップ５０から受光部４１まで光を案内する測定光学系４２と、測定光学系４２において案内される光を整波する第２整波部４３と、を有する。また、光測定部４０は、分析チップ５０の金属膜５５及びこの金属膜５５と隣接する領域において生じる光（以下、単に「金属膜５５において生じる光」とも称する。）の強度（本実施形態では光量）を測定する。
【００４７】
受光部４１は、光を受光してその光量に応じた強度信号を出力する。本実施形態では、検体に標識された蛍光物質を励起させることによって生じる蛍光（励起蛍光）等の微弱な光を検出するため、感度とＳ／Ｎ比の高い光電子倍増管（Photomultiplier Tube：ＰＭＴ）が受光部４１として用いられる。尚、受光部４１は、ＰＭＴに限定されず、冷却ＣＣＤ型イメージセンサ等でもよい。
【００４８】
測定光学系４２は、図７にも示すように、迷光の影響を受け難い共役光学系であり、集光レンズ４４と結像レンズ４５とを有する。本実施形態の測定光学系４２は、群間、即ち、集光レンズ４４と結像レンズ４５との間を進行する光が平行光若しくは略平行光となる２群共役光学系である。
【００４９】
第２整波部４３は、測定光学系４２において案内される光から励起光成分（例えば、プラズモン散乱光やラマン散乱光、拡散光等）を除去し、測定光学系４２において案内される光の光量（強度）を調整する。この第２整波部４３は、第２バンドパスフィルター（第１の光フィルター）４６と、第２ＮＤフィルター（第２の光フィルター）４７と、各フィルター４６，４７の位置の切り換えを行う位置切換部４８と、を有する。
【００５０】
第２バンドパスフィルター（以下、単に「第２ＢＰＦ」と称する。）４６は、励起光αと同じ波長（励起波長）の光を遮る。これにより、第２ＢＰＦ４６は、受光部４１に蛍光（検体に標識された蛍光物質が増強電場により励起して生じた光）の波長以外の波長の光（例えば、励起光射出部２０からの漏れ光やプラズモン散乱光、拡散光等）が入射することを防ぐことができる。即ち、第２ＢＰＦ４６は、受光部４１に入射する光からノイズ成分を除去し、これにより受光部４１における微弱な蛍光の検出精度及び感度の向上を図る。
【００５１】
第２ＮＤフィルター４７（以下、単に「第２ＮＤＦ」と称する。）は、いわゆる減光フィルターであり、入射した光を減衰させて出射する。この第２ＮＤＦ４７は、測定光学系４２において案内されるプラズモン散乱光や拡散光等を減光することにより、微弱な光（本実施形態では蛍光）を検出するための受光部（本実施形態ではＰＭＴ）４１において、プラズモン散乱光等を測定することを可能とする。具体的には、検体の検出のときに測定される励起蛍光の光量に比べて、増強電場が最大となる励起光αの入射角θ１を求めるために測定される光の光量が非常に大きい。このため、共通の受光部４１が用いられる場合、増強電場が最大になる励起光αの入射角θ１を求めるために測定される光を第２ＮＤＦ４７が減光することにより、受光部４１の損傷が防がれる。
【００５２】
これら第２ＢＰＦ４６と第２ＮＤＦ４７とは、光軸に対して略垂直な同一平面（詳しくは、測定光学系４２を進む光の光軸と略直交する平面）に沿って並ぶように共通の保持フレーム４９に保持されている。
【００５３】
位置切換部４８は、第２ＢＰＦ４６及び第２ＮＤＦ４７の位置をフィルタリング位置と退避位置との間で切り換える。
【００５４】
尚、フィルタリング位置とは、測定光学系４２における光路上の位置である。具体的に、フィルタリング位置は、集光レンズ４４と結像レンズ４５との間において、各フィルター４６，４７がこれらレンズ４４，４５間の平行光若しくは略平行光の光軸と直交し且つ当該平行光若しくは略平行光を横断する位置である。これにより、分析装置１０では、検体を精度よく検出することができる。即ち、第２ＢＰＦ４６又第２ＮＤＦ４７がレンズ４４，４５間を進行する平行光等の光軸に対して傾斜していると、第２ＢＰＦ４６又は第２ＮＤＦ４７を通過した光の光軸がシフトするため、光測定部４０における測定精度が低下する。
【００５５】
一方、退避位置とは、測定光学系４２における光路から外れた位置である。
【００５６】
位置切換部４８は、第２ＢＰＦ４６がフィルタリング位置のときに第２ＮＤＦ４７が退避位置となり（図７参照）、第２ＢＰＦ４６が退避位置のときに第２ＮＤＦ４７がフィルタリング位置となるように、各フィルター４６，４７の位置をそれぞれ切り換える。本実施形態の位置切換部４８は、第２ＢＰＦ４６と第２ＮＤＦ４７とが並んでいる平面に沿って保持フレーム４９を往復移動させる（図７の矢印δ参照）ことにより、各フィルター４６，４７の位置の切り換えを行う。これにより、二つのフィルター４６，４７の位置の切り換えが１つの駆動源によって同時に行われる。
【００５７】
この位置切換部４８は、制御処理部１４からの指示信号に従って各フィルター４６，４７の位置の切り換えを行う。
【００５８】
尚、本実施形態の第２整波部４３には、第２ＢＰＦ４６と第２ＮＤＦ４７とが設けられているが、これに限定されない。測定される光の光量が受光部４１の許容量を超えなければ、第２整波部４３に第２ＮＤＦ４７がなくてもよい。また、測定する光によって受光部が切り換えられる構成、即ち、分析装置が、蛍光を受光するための受光部４１と、蛍光よりも光量の大きな光を受光するための受光部と、を切り換える構成を有する場合にも、第２ＮＤＦ４７がなくてもよい。
【００５９】
また、本実施形態では、位置切換部４８が保持フレーム４９を往復移動させることによって、各フィルター４６，４７の位置の切り換えが行われているが、これに限定されない。例えば、第２ＢＰＦ４６と第２ＮＤＦ４７とが同一平面上に並ぶように、円板状の保持フレームが各フィルター４６，４７をそれぞれ保持し、位置切換部がこの第２ＢＰＦ４６と第２ＮＤＦ４７との中間位置を回転中心にして円板状の保持フレームを回転させてもよい。この構成によっても、各フィルター４６，４７の位置の切り換えが行われる。また、位置切換部が２つの駆動源を有し、第２ＢＰＦ４６の位置の切り換えと、第２ＮＤＦ４７の位置の切り換えと、が別々の駆動源によって行われてもよい。
【００６０】
制御処理部１４は、当該分析装置１０を構成する各構成要素の制御を行う。例えば、当該分析装置１０が検体を分析するときに、制御処理部１４が、姿勢変更駆動部１２３によって励起光源２２の姿勢を変更させる等、光源部２１、偏光方向調整部３１、入射経路調整部３５、及び光測定部４０等を制御する。これにより、当該分析装置１０では、共鳴角走査工程、最適位置走査工程、複屈折測定工程、励起蛍光測定工程等が行われる。
【００６１】
また、制御処理部１４は、当該分析装置１０において検体を分析するときに、光測定部４０（詳しくは、受光部４１）から送られてきた出力信号に基づいて演算し、この光測定部４０により測定された蛍光に関する分析を行う。例えば、制御処理部１４は、光測定部４０により検出した単位面積あたりの蛍光の数のカウントや、時間の経過に伴う蛍光の増加量の算出等を行う。
【００６２】
制御処理部１４による演算結果は、この制御処理部１４に接続される表示部１６に出力される。尚、制御処理部１４による具体的な制御や演算についての詳細は後述する。
【００６３】
表示部１６は、制御処理部１４からの出力信号に基づき、制御処理部１４における演算結果を表示する。表示部１６は、液晶ディスプレイ等のように演算結果等を画面に表示するものでもよく、プリンター等のように演算結果等をプリントアウトするものであってもよい。また、表示部１６は、画面の表示とプリントアウトとを組み合わせたものでもよい。
【００６４】
以上の構成の分析装置１０における検体の分析について、図８乃至図１２も参照しつつ以下に説明する。尚、制御処理部１４による分析装置１０の各構成要素の制御、及び制御処理部１４において行われる演算等についての詳細も併せて説明する。
【００６５】
図８は、当該分析装置１０において検体を分析するときの基本シーケンスを示すフローチャートである。図９は、共鳴角走査シーケンスを示すフローチャートである。図１０は、最適位置走査シーケンスを示すフローチャートである。図１１は、複屈折測定シーケンスを示すフローチャートである。図１２は、励起蛍光測定シーケンスを示すフローチャートである。
【００６６】
<前処理工程>
患者から血液等が採取され、この採取された血液等が試薬チップに注入される。この血液等が注入された試薬チップが分析装置１０の前処理部にセットされる。制御処理部１４は、前処理部によってこのセットされた試薬チップの血液等の前処理（血球分離や希釈、混合等）を行い、これにより、試料溶液を生成する。次に、分析チップ５０が前処理部に設置されると、制御処理部１４は、前処理の終わった試料溶液を前処理部によって分析チップ５０の流路５８内に注入し、金属膜５５の表面に固定された捕捉体５６に検体（特定の抗原）を捕捉させる。即ち、前処理部は、捕捉体５６と検体とを反応させる。本実施形態では、捕捉体５６が蛍光物質（本実施形態では、蛍光色素）の標識された検体を捕捉しているが（図６（Ａ）参照）、これに限定されない。例えば、捕捉体５６が検体を捕捉した後に分析チップ５０に蛍光物質が注入されることにより、この蛍光物質が捕捉体５６に捕捉された状態の検体に対して標識されてもよい。
【００６７】
前記反応が行われた分析チップ５０は、チップ保持部１２まで搬送され、チップ保持部１２に保持される（ステップＳ１）。
【００６８】
<励起光源２２の温調>
一方、励起光源（本実施形態では、レーザーダイオード）２２は、波長変動の少ない安定的な波長の出力光を出力させるために、温調回路２５によって常に温調されて定温に維持される。これは、波長がずれると表面プラズモン共鳴条件やエバネッセント波（増強電場）のしみ出し量が変化するため、血液中のタンパク質等を定量する装置において必須である。維持温度になるまでに時間がかかるため、通常、励起光源２２は、分析装置１０の電源投入時から温調回路２５によって常に温度維持される。
【００６９】
<共鳴角走査工程>
分析チップ５０がチップ保持部１２に保持されると、制御処理部１４は、当該分析チップ５０における最適な表面プラズモン共鳴条件の走査（共鳴角走査）を行う。そして、この走査の結果に基づき、制御処理部１４は、金属膜５５において生じる増強電場の電場強度が最も大きくなる入射角（励起入射角θ１）で励起光αが金属膜５５に入射するように、反射部材３６の位置決め（第１の位置決め）を行う（ステップＳ２）。
【００７０】
具体的には、制御処理部１４は、反射部材駆動部３７によって反射部材３６を駆動することにより、分析チップ５０に含まれるプリズム５１の金属膜５５への励起光αの入射条件（励起入射角θ１）の走査を行う。詳しくは、分析チップ５０に含まれるプリズム５１の材質、形状、流路充填液（試料溶液）屈折率等により、表面プラズモン共鳴に基づく増強電場（エバネッセント波）の強度が最も大きくなる励起光の入射角θ１は決まっている。しかし、捕捉体５６に捕捉された検体の分子量やこの分子を構成する物質、プリズム５１側の製造誤差等により、励起光入射条件（励起入射角θ１）のゆらぎが発生する。このため、制御処理部１４は、設計に基づく励起入射角θ１ａを中心にして±１０°未満の入射角度となるように励起光αを金属膜５５に入射させる。そして、このときに金属膜５５において生じる光の光量に基づいて、当該分析チップ５０における励起入射角θ１が求められる。
【００７１】
より詳しくは、先ず、制御処理部１４が第２整波部４３の位置切換部４８によって第２ＢＰＦ４６を退避位置に移動させると共に、第２ＮＤＦ４７をフィルタリング位置に移動させる（ステップＳ２１）。このとき、偏光方向調整部３１の１／２波長板３３は、励起光射出部２０から励起光αが射出されたときに金属膜５５へ入射する励起光αにおいて、Ｐ波成分が最も多くなるように設計的に求められた状態（初期状態）となっている。
【００７２】
制御処理部１４は、反射部材駆動部３７の回転駆動機構と往復駆動機構とにより、反射部材３６を最大離反位置に移動させる（ステップＳ２２）。この最大離反位置とは、励起光射出部２０から励起光αが射出されたときに、励起光αが金属膜５５の特定の位置（本実施形態では光測定部４０の測定領域内）において反射された状態で、且つ、金属膜５５の表面５５ａ近傍領域にエバネッセント波がしみ出さない入射角θとなる、反射部材３６の位置及び反射面３６ａの向きである。
【００７３】
この状態において、制御処理部１４は、金属膜５５において生じた光の光量を光測定部４０によって測定する。そして、制御処理部１４は、その測定結果を、光測定部４０（詳しくは受光部４１）からの出力信号によって取得する。この反射部材３６が最大離反位置のときに光測定部４０が測定する光は、プリズム５１における表面拡散光（又は表面散乱光）ＳＫである。
【００７４】
制御処理部１４は、励起光αの金属膜５５に対する入射角θと、光測定部４０により測定した光の強度と、を関連付けて記憶する（ステップＳ２３）。このとき、第２ＢＰＦ４６が退避位置であるため、受光部４１が受光する光には、励起光αの励起波長と同じ波長の光が含まれる。この励起波長と同じ波長の光は、金属膜５５において生じたプラズモン散乱光やラマン散乱光、拡散光等である。これら励起波長と同じ波長の光は、金属膜５５において生じた表面プラズモン共鳴により増強される。このため、前記励起波長と同じ波長の光の光量は、検体に標識された蛍光物質が励起して発した励起蛍光の光量に比べて十分大きい。そこで、制御処理部１４が第２ＢＰＦ４６を位置切換部４８によって測定光学系４２の光路上から退避させることにより、受光部４１が励起波長の光を受光し、これにより、金属膜５５において生じる光の光量が精度よく測定される。
【００７５】
尚、本実施形態では、光量の小さな励起蛍光を測定する受光部４１が、励起蛍光よりも光量の非常に大きな表面プラズモン散乱光や拡散光等も測定する。このため、本実施形態の分析装置１０では、位置切換部４８が第２ＢＰＦ４６を退避位置に退避させると共に第２ＮＤＦ４７をフィルタリング位置に移動させることにより、同一の受光部（本実施形態ではＰＭＴ）４１による両光（散乱光等と励起蛍光）の光量の測定が可能となる。
【００７６】
制御処理部１４は、光源部２１から励起光αを射出させた状態において、入射経路調整部３５により、反射部材３６の位置を調整する。具体的に、制御処理部１４は、金属膜５５上における励起光αの照射位置をずらさないように、回転駆動機構によって反射面３６ａの向きを回転させる（ステップＳ２４）と共に、往復駆動機構によって反射部材３６の位置を移動させる（ステップＳ２５）。詳しくは、制御処理部１４は、反射部材３６の位置と、その位置において反射面３６ａにより反射された励起光αがプリズム５１内に入射して金属膜５５の特定の位置に到達するような反射面３６ａの向きと、を対応づけたテーブルを予め記憶している。そして、制御処理部１４は、このテーブルに基づいて、回転駆動機構と往復移動機構とを制御して、反射部材３６を移動させる。これにより、機構的に互いにリンクしていない往復駆動機構と回転駆動機構とによって反射部材３６の位置の変更と反射面３６ａの向きの調整とを行っても、金属膜５５における励起光αの照射位置を変えることなく金属膜５５に対する励起光αの入射角θだけを変更することができる。尚、このステップＳ２４とステップＳ２５とにおいては、いずれか一方のステップが先に行われた後に他方のステップが行われてもよく、また、両ステップが同時に行われてもよい。
【００７７】
光測定部４０は、金属膜５５において生じた光の光量を測定してその測定結果を制御処理部１４に出力し、制御処理部１４は、入射角θと関連付けてこの測定結果を記憶する（ステップＳ２６）。
【００７８】
このように、制御処理部１４は、金属膜５５における照射位置がずれないようにして入射角θを変更しつつ光測定部４０により光の光量を測定し、その測定結果を記憶する。
【００７９】
制御処理部１４は、所定の走査領域（例えば、設計に基づく励起入射角θ１ａを中心にして±１０°未満の入射角θ）における光の光量の測定を光測定部４０によって行った後、光源部２１からの励起光αの射出を止める（ステップＳ２７）。そして、制御処理部１４は、記憶した光量の最大値と最小値とを選出し、これらを記憶する（ステップＳ２８）。また、制御処理部１４は、最大光量が得られたときの反射部材３６の位置及び反射面３６ａの向きとなるように反射部材駆動部３７によって反射部材３６を駆動する（ステップＳ２９）。
【００８０】
この状態で、制御処理部１４は、姿勢変更駆動部１２３によって励起光源２２の姿勢を変更することにより、金属膜５５における励起光αの照射領域の輪郭を円形若しくは略円形にする。
【００８１】
<最適位置走査工程>
反射部材３６の第１の位置決めが終わると、制御処理部１４は、金属膜５５への励起光αの照射位置（入射位置）が光測定部４０の測定領域の中心部となるように、反射部材３６の位置決め（第２の位置決め）を行う（ステップＳ３）。
【００８２】
詳しくは、先ず、制御処理部１４は、反射部材駆動部３７の往復駆動機構によって反射部材３６を上端位置に移動させる（ステップＳ３１）。この上端位置とは、励起光αが金属膜５５に入射したときに、その入射位置が光測定部４０の測定領域よりも外側となる位置である（図１３（Ａ）の位置Ａ参照）。制御処理部１４は、反射部材３６がこの位置のときに光源部２１により励起光αを射出させ、このときに金属膜５５において生じる光の光量を光測定部４０により測定し、その測定結果を記憶する（ステップＳ３２）。制御処理部１４は、反射部材３６が下端位置か否かを判断する（ステップＳ３３）。この下端位置についての詳細は後述する。制御処理部１４は、反射部材３６が下端位置でないと判断すると、往復駆動機構によって反射部材３６を所定量下方に移動させる（ステップＳ３４）。このとき、制御処理部１４は、回転駆動機構により反射部材３６を回転させることなく、往復駆動機構のみによって反射部材３６を移動させる。即ち、制御処理部１４は、光源部２１からの励起光αに対する反射面３６ａの向きを変えることなく、反射部材３６の位置のみを移動させる。反射部材３６の移動後、制御処理部１４は、光源部２１から励起光を射出させ、このときに金属膜５５において生じる光の光量を光測定部４０により測定し、その測定結果を記憶する（ステップＳ３２）。そして、制御処理部１４は、反射部材３６が下端位置か否かを判断する（ステップＳ３３）。制御処理部１４は、反射部材３６が下端位置に移動するまで、このステップＳ３２〜ステップＳ３４を順に繰り返す。
【００８３】
制御処理部１４は、光測定部４０による測定結果が記憶した各光量のうちの最大光量と比べて光量が５０％減少したか否かにより、反射部材３６が下端位置に到達したか否かを判断する。詳しくは、最初は、金属膜５５において励起光αの照射領域が光測定部４０の測定領域の外であるため、光測定部４０により測定される光量は小さい。そして、反射部材３６が次第に下方に移動し、励起光αの照射領域が光測定部４０の測定領域内に入ってくると（図１３(Ａ)の位置Ｂ参照）、光測定部４０により測定される光の光量が次第に大きくなる。更に反射部材３６が下方に移動し、励起光αの照射領域全体が光測定部４０の測定領域内に完全に含まれた状態となったとき（図１３（Ａ）の位置Ｃ参照）に、光測定部４０によって測定される金属膜５５において生じる光の光量は最大となる。そして、更に反射部材３６が下方に移動すると、励起光αの照射領域が光測定部４０の測定領域における反対側の端部から外側に移動する（図１３(Ａ)の位置Ｄ参照）ため、光測定部４０により測定される光の光量が減少する。即ち、ケラレ（光量落ち）が発生する。制御処理部１４は、これらの光の光量と、その光量が測定されたときの反射部材３６の上下方向の位置と、を関連付けて記憶すると共に、測定される光が最大光量の５０％落ちとなったか否かを判断する。そして、制御処理部１４は、光測定部４０により測定される光の光量が最大光量の５０％落ちとなったときに、反射部材３６が下端位置に到達したと判断する。
【００８４】
制御処理部１４は、反射部材３６が下端位置に移動したと判断すると、記憶している光量の各値から最大光量の５０％落ちとなっている値を選出する（ステップＳ３５）。このとき、選出される値は、２つある（図１３(Ａ)の位置Ｂと位置Ｄ参照）。制御処理部１４は、光測定部４０により測定される光量が最大光量の５０％落ちとなったときの反射部材３６の位置をそれぞれ選出する。そして、制御処理部１４は、その中心位置（図１３(Ａ)の位置Ｃｅ参照）を算出し、これを記憶する（ステップＳ３６）。制御処理部１４は、往復動駆動機構により反射部材３６を移動させて、求めた中心位置Ｃｅに照射領域を移動させる（ステップＳ３７、図１３（Ｂ）参照）。
【００８５】
これにより、光測定部４０により測定される分析チップ５０毎の自家蛍光の光量を一定にすることができる。詳しくは、プリズム５１内を進行する励起光αにより、プリズム５１内部において蛍光が発生する（自家蛍光）。この蛍光は、金属膜５５において生じる散乱光等（プラズモン散乱光や拡散光等）に比べて微弱である。しかし、前記蛍光は、試料溶液中の検体の濃度が低い場合にこの検体に標識された蛍光物質が発する励起蛍光と比べた場合に同等レベルとなるため、励起蛍光の測定においてノイズとなる。この自家蛍光は微弱であるため、励起蛍光の測定においてノイズとなり得るのは、金属膜５５における励起光αの照射領域近傍の光が殆どである。表面プラズモン共鳴が生じているときに金属膜５５によって反射される励起光αが殆んどなくなるため、光測定部４０の測定領域の入射側（図１３（Ａ）における左側）からの自家蛍光が問題となる。この自家蛍光の光量は、光路長に比例する。このため、検体の分析毎に、光測定部４０の測定領域にある入射側の光路長が一定になるように、励起光αの照射位置を調整することが必要となる。そこで、上記のようにして、検体の分析毎に、光測定部４０の測定領域において励起光αの照射位置が常に中心となるように調整することにより、光測定部４０の測定領域における励起光αの入射側の光路長が一定となる。その結果、分析チップ５０（プリズム５１）毎の自家蛍光の差が抑えられ、検体の分析精度を向上させることができる。
【００８６】
また、本実施形態では、励起光αの照射により金属膜５５において表面プラズモン共鳴が生じる範囲（照射領域）が光測定部４０の測定領域内に含まれるように励起光αのビーム径が調整されることにより、金属膜５５における前記測定領域以外の領域までも励起光αによって照射する場合（図１４（Ａ）参照）に比べて、ビーム径が小さくなる（図１４（Ｂ）参照）。このため、光測定部４０によって測定される自家蛍光の光量が抑えられる。その結果、金属膜５５に生じさせた表面プラズモン共鳴に起因する光（励起蛍光）が測定されたときに得られる信号のＳＮ比の低下が抑制される。
【００８７】
<複屈折測定工程>
次に、制御処理部１４は、励起光αがプリズム５１中を進行する際に複屈折が生じるため、この複屈折を測定する（ステップＳ４）。そして、制御処理部１４は、検体に標識された蛍光物質からの励起蛍光の測定の際に前記複屈折を考慮することにより、検体の測定精度を向上させる。詳しくは、複屈折は、媒体中を光が透過する際に生じる。光が樹脂等の誘電体を透過する場合に複屈折が大きくなる。この複屈折は、媒体中の密度差等によって生じ、この密度差は媒体の成形時に生じる。そのため、個々のプリズム５１によって複屈折の度合いが異なる。複屈折によりプリズム５１中を進む励起光αに位相回転が生じ、これにより金属膜５５に対してＰ波だけ入射させたいにも関わらずこの複屈折による位相回転によって励起光αにＳ波成分が生じる。この複屈折によって生じたＳ波成分の量に応じて増強電場によって励起された励起蛍光の光量が減少する。そのため、制御処理部１４がこの減少分を補正することにより、分析装置１０における検体の検出精度及び感度が向上する。
【００８８】
具体的に、制御処理部１４は、光源部２１から励起光αを射出させ、金属膜５５において生じた光の光量を光測定部４０によって測定する。このとき、１／２波長板３３は、初期状態である（ステップＳ４１）。そして、制御処理部１４は、１／２波長板３３を回転駆動部によって回転させつつ、光測定部４０により測定した光の光量を１／２波長板３３の回転位置（初期状態からの回転角度）と関連付けて記憶する（ステップＳ４２及びステップＳ４３）。制御処理部１４が１／２波長板３３を回転させることにより、金属膜５５に入射する励起光αのＰ波成分とＳ波成分とがそれぞれ増減する。このＰ波成分とＳ波成分との増減に伴って、光測定部４０により測定される光の光量が増減する。このとき、励起光αにおいてＰ波成分が多くなるとこれに伴ってＳ波成分が少なくなり、Ｐ波成分が少なくなるとこれに伴ってＳ波成分が多くなる。そして、金属膜５５に入射する励起光αにおいてＰ波成分が多くなるほど、光測定部４０により測定される光の光量が大きくなる。一方、Ｓ波成分が多くなるほど光測定部４０により測定される光の光量が小さくなる。これは、Ｐ波成分は表面プラズモン共鳴に寄与するが、Ｓ波成分は表面プラズモン共鳴に寄与しないためである。
【００８９】
制御処理部１４は、光測定部４０により測定される光の光量の最大値ＤＲｍａｘと最小値ＤＲｍｉｎとが得られるまで、ステップＳ４２及びステップＳ４３を順に繰り返す（ステップＳ４４）。制御処理部１４は、最大値ＤＲｍａｘと最小値ＤＲｍｉｎとが得られると、記憶した光量と１／２波長板３３の回転位置とから、これら最大値ＤＲｍａｘと最小値ＤＲｍｉｎとを選出する（ステップＳ４５）と共に、これら各値が得られたときの１／２波長板３３の回転位置（具体的には、最大値ＤＲｍａｘが得られたときの第１回転位置と、最小値ＤＲｍｉｎが得られたときの第２回転位置と）を選出し、これらを記憶する。
【００９０】
次に、制御処理部１４は、記憶した最大値ＤＲｍａｘ及び最小値ＤＲｍｉｎと、共鳴角走査工程において記憶していた表面拡散光ＳＫの光量とから、以下の式（１）及び式（２）により、当該プリズム５１における複屈折による長軸回転量θｉと、補正係数Ｋとを導出し、これらを記憶する（ステップＳ４６）。
2012093437.tif 000003
2012093437.tif 000004
【００９１】
そして、制御処理部１４は、回転駆動部３４により最大値ＤＲｍａｘが得られたときの回転位置まで１／２波長板３３を回転させる。これにより、Ｐ波成分が最も多い状態で（即ち、Ｓ波成分が最も少ない状態で）励起光αが金属膜５５に入射する。
【００９２】
<励起蛍光測定工程>
次に、制御処理部１４は、第１の位置決め及び第２の位置決めが行われた状態の反射部材３６に対して光源部２１により励起光αを照射する。これにより、励起光αが金属膜５５に表面プラズモン共鳴を生じさせる。この表面プラズモン共鳴に基づく増強電場によって金属膜５５の捕捉体５６に捕捉された検体に標識された蛍光物質が励起し、これにより、蛍光（励起蛍光）を発する。そして、制御処理部１４は、光測定部４０により励起蛍光の測定を行う（ステップＳ５）。
【００９３】
具体的に、制御処理部１４は、位置切換部４８により第２ＢＰＦ４６をフィルタリング位置に移動させると共に第２ＮＤＦ４７を退避位置に退避させる（ステップＳ５１：図１及び図７参照）。そして、制御処理部１４は、光源部２１から射出される励起光αが反射部材３６の裏面３６ｂに設けられた無反射光吸収物質に入射するように、反射部材駆動部３７の回転駆動機構により反射部材３６を回転させる（ステップＳ５２）。これにより、プリズム５１に励起光αが入射していない状態となる。このとき、制御処理部１４は、光測定部４０により測定を行い、このときの光測定部４０からの出力（暗ノイズＤＮ）を記憶する（ステップＳ５３）。制御処理部１４は、再び、反射部材３６の反射面３６ａに光源部２１からの励起光αが入射するように、反射部材駆動部３７の回転駆動機構により反射部材３６を回転させる（ステップＳ５４）。このときの反射面３６ａの向きは、共鳴角走査工程のステップＳ２９において設定された向きである。
【００９４】
制御処理部１４は、光源部２１から励起光αを射出させ、金属膜５５近傍に生じ且つ増強電場に起因する励起蛍光の光量を光測定部４０により測定し、これを記憶する（ステップＳ５５）。これにより、制御処理部１４は、測定最大光量（第１光量値）Ｓｍａｘを得る。これは、１／２波長板３３が複屈折測定工程において求められた第１回転位置（即ち、励起光αが金属膜５５に入射したときに金属膜５５において生じる光の光量が最大値ＤＲｍａｘとなるに回転位置）まで回転させられているため、金属膜５５近傍の増強電場の強度が最も大きくなっているからである。
【００９５】
次に、制御処理部１４は、複屈折工程において求められた第２回転位置（即ち、励起光αが金属膜５５に入射したときに金属膜５５において生じる光の光量が最小値ＤＲｍｉｎとなる回転位置）まで回転駆動部３４によって１／２波長板３３を回転させる（ステップＳ５６）。そして、制御処理部１４は、光測定部４０により励起蛍光の光量を測定し、これを記憶する（ステップＳ５７）。これにより、制御処理部１４は、測定最小光量（第２光量値）Ｓｍｉｎを得る。
【００９６】
制御処理部１４は、記憶している測定最大光量Ｓｍａｘと、測定最小光量Ｓｍｉｎと、暗ノイズＤＮとから、以下の式（３−１）〜式（８）に示すようにして、プリズムにおける自家蛍光の光量ｈと、励起蛍光の光量Ｈとを導出し、これを記憶する（ステップＳ５８）。ここで、Ｓｍａｘが得られたときの励起蛍光の光量をＨ１、自家蛍光の光量をｈ１とし、Ｓｍｉｎが得られたときの励起蛍光の光量をＨ２、自家蛍光の光量をｈ２とする。
【００９７】
まず、
2012093437.tif 000005
より、
2012093437.tif 000006
また、
2012093437.tif 000007
より、
2012093437.tif 000008
そして、式（４）と式（６）とにより、
2012093437.tif 000009
が得られ、複屈折測定工程において求められた補正係数Ｋが用いられて、
2012093437.tif 000010
が導出される。
【００９８】
尚、プリズム５１が複屈折のない、若しくは微小な材料（樹脂も含む）によって形成されている場合、制御処理部１４は、以下の近似式（９）により、励起蛍光の光量Ｈを求める。
2012093437.tif 000011
【００９９】
さらに、暗ノイズＤＮが非常に少ない測定系の場合、制御処理部１４は、以下の近似式（１０）により、励起蛍光の光量Ｈを求める。
2012093437.tif 000012
【０１００】
<記憶・表示工程>
以上のようにして制御処理部１４は、複屈折の影響等を取り除いた真の励起蛍光の光量Ｈを求めた後、これを検体番号と関連付けて記憶する（ステップＳ６）。そして、制御処理部１４は、その他の記憶を消去する。また、制御処理部１４は、この検体番号と関連付けて記憶した励起蛍光の光量Ｈに基づく情報を表示部１６に出力する。表示部１６は、前記光量Ｈに基づく情報を表示する。
【０１０１】
最後に、制御処理部１４は、反射部材３６を初期位置に復帰させて（ステップＳ７）、一連の測定を終了する。
【０１０２】
本実施形態の分析装置１０によれば、励起光αの照射により金属膜５５に生じる表面プラズモン共鳴の範囲（照射範囲）が光測定部４０の測定領域内に含まれるように、励起光射出部２０の射出する励起光αのビーム径が変更（調整）されることによって、金属膜５５における前記測定領域以外の領域までも励起光αによって照射する場合（図１４（Ａ）参照）に比べて、ビーム径が小さくなる（図１４（Ｂ）参照）。このため、プリズム５１内で発生する自家蛍光の光量が抑えられる。その結果、金属膜５５に生じさせた表面プラズモン共鳴に起因する光（励起蛍光）が測定されたときに得られる信号のＳＮ比の低下が抑えられる。
【０１０３】
しかも、複数の光学レンズ３２ａ，３２ａ，…によって構築される整形光学系３２がビーム径を変更することにより、遮光マスク等のピンホールの設けられた遮光部材がビーム径を変更する場合のような金属膜５５における励起光αの光量むら及びこの光量むらを抑えるための装置の大型化が防止される。具体的には、ビーム径が遮光マスク等によって変更させられると、励起光αがピンホールを通過したときに生じる回折光と、当該励起光αと、の干渉により金属膜５５の照射領域において光量むらが生じる。しかし、本発明のように遮光マスク等が用いられず、光学レンズ３２ａによって構築される整形光学系３２がビーム径を変更することにより、回折光の発生が抑えられる。
【０１０４】
また、上記実施形態の分析装置１０では、光源保持部１２２と、姿勢変更駆動部１２３とが設けられることにより、光軸と直交する断面形状の輪郭が楕円形状の励起光αを射出するダイオードレーザー等による励起光源２２が用いられても、金属膜５５における照射領域の輪郭を測定領域の輪郭と同じ円形若しくは略円形とすることができる。これにより、金属膜５５において測定領域内の略全域に表面プラズモン共鳴が生じて検体の分析が効果的に行われる。
【０１０５】
また、本実施形態によれば、上述のプリズム角θＡを有する分析チップ５０が用いられるため、円形若しくは略円形の照射領域が測定領域内に含まれるようなビーム径の励起光αが入射面５２からプリズム５１内に入射させられることにより、プリズム５１内において発生する自家蛍光の光量が抑えられつつ測定領域内の略全域に表面プラズモン共鳴を生じさせることが可能となる。その結果、励起蛍光が測定されたときに得られる信号のＳＮ比の低下が抑えられて検体の高感度且つ高精度な分析が行われる。しかも、照射領域が円形若しくは略円形となる入射角θで励起光αが金属膜５５に入射したときに、金属膜近傍の電場の強度が最大となることによって励起蛍光の光量が大きくなり、これにより、励起蛍光のより高感度且つ高精度な検出が可能となる。
【０１０６】
また、本実施形態によれば、測定結果からプリズム５１における自家蛍光の影響が取り除かれ、これにより、広範なダイナミックレンジが確保される。
【０１０７】
詳しくは、金属膜５５に対する励起光αの偏光方向を変えつつ金属膜５５に生じる光が測定されることにより、検出された光の光量（強度）の増減から金属膜５５によって反射されるときの励起光αにおいてＳ波成分（表面プラズモン共鳴に寄与しない成分）が最も多くなるときの１／２波長板３３の回転位置と、前記励起光においてＰ波成分（表面プラズモン共鳴に寄与する成分）が最も多くなるときの１／２波長板３３の回転位置とがそれぞれ求められる。そして、励起光αの偏光方向が金属膜５５での反射時においてＳ波成分の最も多くなる状態となるように１／２波長板３３が調整され、光測定部４０が励起蛍光を測定することにより、プリズム５１における自家蛍光の光量が求められる。これにより、１／２波長板３３が調整されて励起光αの偏光状態が金属膜５５へ入射した時にＰ波成分が最も多くなる状態となったときの光測定部４０による励起蛍光の測定結果から、自家蛍光の影響を取り除くことができ、励起蛍光の抽出が可能となる。その結果、当該分析装置１０では、自家蛍光の影響が抑えられて励起蛍光が精度よく検出され、広範なダイナミックレンジが確保される。
【０１０８】
また、本実施形態によれば、反射部材３６が駆動されることによって金属膜５５に対する励起光αの入射角θが変わるため、入射角θの変更による金属膜５５における励起光αの反射位置のずれが抑えられる。即ち、上記の構成によれば、反射部材３６の位置と反射面３６ａの向きとが変更及び調整されることによって金属膜５５に対する励起光αの入射角θが変わる。このため、従来のように光源や複数のレンズ等からなる励起光学系全体が動かされて入射角θが調整される場合に比べて可動部品の数及び可動部分の重量等が抑えられる。これにより、可動部分における駆動誤差やガタつきが抑制される。その結果、励起光αの入射角θの変更による金属膜５５での励起光αの反射位置のずれが好適に抑制される。
【０１０９】
しかも、プリズム５１内に１つの励起光αが入射して金属膜５５近傍に表面プラズモン共鳴に基づく増強電場が生じるため、従来のように入射角θの異なる複数の励起光α、α、…がプリズム５１内に同時に入射する場合のような自家蛍光の光量の増加が防がれる。これにより、表面プラズモン共鳴によって金属膜５５近傍に生じた光が測定されたときに得られる信号において、自家蛍光に起因するＳＮ比の低下が抑えられる。
【０１１０】
また、本実施形態によれば、表面プラズモン共鳴によって増強電場の電場強度が最も大きくなるように、金属膜５５に対する励起光αの入射角θが精度よく設定される。具体的には、金属膜５５における反射光の角度スペクトルにおける吸収ピークと、増強電場の電場強度のピークとにはズレが生じる。しかし、表面プラズモン共鳴に起因して生じる光（金属膜５５において生じる光）の強度ピークは、増強電場の電場強度のピークと一致する。そのため、この金属膜５５において生じる光の強度が最大となったときの反射部材３６の位置と反射面３６ａの向きとになるように反射部材３６が調整されることにより、金属膜５５に入射する励起光αが、増強電場の電場強度が最も大きくなる励起入射角θ１となる。
【０１１１】
また、本実施形態によれば、検体の高感度且つ高精度の検出が可能となる。具体的には、表面プラズモン共鳴によって金属膜５５において生じる光の光量が測定されることにより、金属膜５５の表面５５ａ近傍に形成される増強電場の強度が最大となる金属膜５５への励起光αの入射角（励起入射角）θ１が精度よく得られる。このとき、金属膜５５において生じる光は、プラズモン散乱光や表面拡散光等の励起波長の光である。このため、この波長成分を遮る第２ＢＰＦ４６の位置が退避位置に切り換えられることにより、表面プラズモン共鳴に基づいて金属膜５５において生じる光の光量の増減が精度よく測定される。しかも、検体の検出時においては、測定光学系４２の光路上に第２ＢＰＦ４６が入れられることにより、光測定部４０において測定される光からプラズモン散乱光や表面拡散光等の励起波長の光の成分が除かれる。これにより、検体に標識された蛍起物質が発した励起蛍光が精度よく測定される。従って、測定により得られる信号のＳＮ比が高く、検体の高精度且つ高感度な検出が可能となる。
【０１１２】
尚、本発明の表面プラズモン共鳴蛍光分析装置及びこの分析装置に用いられる分析チップは、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
【０１１３】
上記実施形態では、扁平なビーム状の励起光αを射出する励起光源２２が用いられているが、これに限定されない。例えば、光軸と直交する断面の輪郭が円形のビーム状の励起光を射出する励起光源が用いられてもよい。尚、この場合、金属膜５５において照射領域の輪郭が円形若しくは略円形となるように、複数の光学レンズや偏光素子等により構築される整形光学系が、励起光のビーム形状（光軸と直交する断面の輪郭）を変形させる。但し、照射領域内において光量むらが生じないように、整形光学系を構築する光学素子において、光の回折を生じさせるような遮光マスク（ピンホールが設けられた遮光部材）等は用いられない。
【０１１４】
分析チップ５０の具体的形状は、限定されない。上記実施形態の分析チップ５０は、プリズム５１と流路部材５７とを備え、プリズム５１の成膜面５３に金属膜５５が成膜されているが、これに限定されない。例えば、分析チップは、図１５に示すように、流路部材５７とプリズム部６０とを備え、このプリズム部６０は、透明な板状の基板６１と、この基板６１の一方の面６１Ａの面上に設けられる金属膜５５とを有してもよい。具体的には、基板６１の一方の面６１Ａがプリズム５１と反対側を向くようにして基板６１がプリズム５１の所定の面５３の面上に配置され、これにより、プリズム部６０が構築される。そして、このプリズム部６０における基板６１の一方の面６１Ａ側から流路部材５７が当接することによって分析チップ５０Ａが構築される。このとき、このプリズム部６０では、金属膜５５がプリズム５１と反対側を向いた姿勢の基板６１がプリズム５１の所定の面５３の面上に配置される。このとき、基板６１は、マッチングオイルｍを介してプリズム５１上に配置される。この場合、プリズム角θＡは、基板６１の一方の面６１Ａとプリズム５１の入射面５２とのなす角度である。
【０１１５】
［実施の形態の概要］
以上の実施形態をまとめると、以下の通りである。
【０１１６】
本実施形態に係る表面プラズモン共鳴蛍光分析装置は、プリズム部上に設けられた金属膜において生じる表面プラズモン共鳴に起因する蛍光を測定することにより検体の分析を行う表面プラズモン共鳴蛍光分析装置であって、前記金属膜によって反射されるように前記プリズム部内にビーム状の励起光を入射させる励起光射出部と、前記励起光が金属膜で反射されることにより当該金属膜と隣接する領域において生じる光を測定する光測定部と、を備える。そして、前記励起光射出部は、前記励起光を射出する励起光光源と、複数の光学レンズによって構築され、前記励起光のビーム径を変更可能な径変更光学系とを有し、前記径変更光学系は、前記励起光が前記金属膜で反射されるときの当該金属膜における励起光の照射領域が前記光測定部の前記金属膜における前記光の測定領域に含まれるように、前記励起光のビーム径を変更することを特徴とする。
【０１１７】
かかる構成によれば、励起光のビーム径が、当該励起光の照射により金属膜に生じる表面プラズモン共鳴の範囲がこの共鳴に起因する光を測定する測定領域内に含まれるような大きさであるため、金属膜における光測定部の測定領域以外の領域までも励起光によって照射する場合（図１４（Ａ）参照）に比べて、ビーム径を小さくすることができる（図１４（Ｂ）参照）。これにより、プリズム部内で発生する自家蛍光の光量が抑えられる。その結果、金属膜に生じさせた表面プラズモン共鳴に起因する光が測定されたときに得られる信号のＳＮ比の低下が抑えられる。
【０１１８】
しかも、複数の光学レンズによって構築される径変更光学系がビーム径を変更することにより、遮光マスク等のピンホールの設けられた遮光部材がビーム径を変更する場合のような金属膜における励起光の光量むらや、この光量むらを抑えるための装置の大型化が防止できる。具体的には、遮光マスク等によってビーム径が変更されると、励起光がピンホールを通過したときに生じた回折光と、当該励起光と、の干渉により金属膜の照射領域において光量むらが生じる。しかし、本発明のように、光学レンズによって構築される径変更光学系（即ち、遮光マスク等が用いられていない光学系）がビーム径を変更することにより、回折光の発生が抑えられる。
【０１１９】
本実施形態に係る表面プラズモン共鳴蛍光分析装置において、前記励起光射出部は、前記プリズム部内に入射するときの励起光がその光軸を回転中心にして回転するように前記プリズム部に対する姿勢を変更可能に前記励起光光源を保持する光源保持部と、前記励起光光源を駆動して前記プリズム部に対する姿勢を変更させる姿勢変更駆動部とを有し、前記光測定部の測定領域は、前記金属膜において円形の輪郭を有し、前記励起光光源は、光軸と直交する断面形状の輪郭が楕円形状の励起光を射出し、前記姿勢変更駆動は、前記照射領域の輪郭が円形若しくは略円形となる姿勢に前記励起光光源を駆動してもよい。
【０１２０】
かかる構成によれば、光軸と直交する断面形状の輪郭が楕円形状の励起光を射出する光源が用いられても、金属膜における照射領域の輪郭が測定領域の輪郭と同じ円形若しくは略円形となる。これにより、金属膜において表面プラズモン共鳴が励起光の測定領域内の略全域に生じ、検体の分析が効果的に行われる。その結果、励起光光源として、例えば、半導体レーザー等の小型で安価な光源の使用が可能となる。
【０１２１】
また、本実施形態に係る表面プラズモン共鳴蛍光分析装置に用いられる分析チップは、表面プラズモン共鳴に起因する蛍光を測定することにより検体の分析を行う表面プラズモン共鳴蛍光分析装置において用いられる分析チップであって、前記表面プラズモン共鳴が生じる金属膜と、前記金属膜が設けられる反射面、及び前記表面プラズモン共鳴を生じさせるための励起光が内部に進入する面である入射面をその表面に含むプリズム部と、を備える。そして、前記プリズム部において、光軸と直交する断面の輪郭が楕円形状の励起光が前記断面の短軸方向を前記入射面に対する前記反射面の傾き方向と一致させた状態で前記入射面からプリズム部内に入射したあと前記表面プラズモン共鳴に起因する電場の強度が最大となる入射角で当該励起光が前記金属膜に入射する場合に、前記入射面と前記反射面とのなす角度であるプリズム角が当該励起光の金属膜における照射領域が円形若しくは略円形となるような角度である。
【０１２２】
この分析チップが用いられて検体の分析が行われることにより、円形若しくは略円形の照射領域が測定領域内に含まれるようなビーム径の励起光を入射面からプリズム部内に入射させることによって、プリズム部内において発生する自家蛍光の光量が抑えられつつ測定領域内の略全域に表面プラズモン共鳴が生じる。その結果、金属膜に生じさせた表面プラズモン共鳴に起因する光が測定されたときに得られる信号のＳＮ比の低下が抑えられて検体の高感度且つ高精度な分析が行われる。しかも、照射領域が円形若しくは略円形となる入射角で励起光が金属膜に入射したときに金属膜近傍の電場の強度が最大となるため、表面プラズモン共鳴に起因する光の光量が大きくなる。これにより、この光のより高感度且つ高精度な検出が可能となる。
【０１２３】
尚、この出願は、２０１１年１月６日に出願された日本国特許出願特願２０１１−００１０５９を基礎とするものであり、その内容は、本願に含まれるものである。
【産業上の利用可能性】
【０１２４】
以上のように、本発明に係る表面プラズモン共鳴蛍光分析装置及びこの分析装置において用いられる分析チップは、表面プラズモン共鳴を利用して試料溶液中に含まれる検体の分析を行うのに有用であり、金属膜に生じさせた表面プラズモン共鳴に起因する光を測定して得られる信号のＳＮ比の低下を抑えるのに適している。
【図１】
2012093437.tif 000013
【図２】
2012093437.tif 000014
【図３】
2012093437.tif 000015
【図４】
2012093437.tif 000016
【図５】
2012093437.tif 000017
【図６】
2012093437.tif 000018
【図７】
2012093437.tif 000019
【図８】
2012093437.tif 000020
【図９】
2012093437.tif 000021
【図１０】
2012093437.tif 000022
【図１１】
2012093437.tif 000023
【図１２】
2012093437.tif 000024
【図１３】
2012093437.tif 000025
【図１４】
2012093437.tif 000026
【図１５】
2012093437.tif 000027
【国際調査報告】
2012093437.tif 000028
2012093437.tif 000029
2012093437.tif 000030
2012093437.tif 000031
2012093437.tif 000032
2012093437.tif 000033