(57)【要約】  ガス遮断器は、絶縁ガスが充填された密閉タンク１００と、密閉タンク内に相対向して配設され、接離可能な一対のアーク接触子２０，２１と、一対のアーク接触子の外周部に設けられた熱パッファ室２７と、熱パッファ室の外周に設けられてアーク接触子の軸線を中心とする円環状に形成されたシリンダで構成される機械パッファ室２８と、軸線を中心とする円環状に形成されてシリンダ内に収容され、アーク接触子の接離に合わせて移動するピストン２４と、を備える。
2012049730.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁ガスが充填された密閉タンクと、
前記密閉タンク内に相対向して配設され、接離可能な一対のアーク接触子と、
前記一対のアーク接触子の外周部に設けられた熱パッファ室と、
前記熱パッファ室の外周に設けられて前記アーク接触子の軸線を中心とする円環状に形成されたシリンダで構成される機械パッファ室と、
前記軸線を中心とする円環状に形成されて前記シリンダ内に収容され、前記アーク接触子の接離に合わせて移動するピストンと、を備えることを特徴とするガス遮断器。
【請求項２】
前記熱パッファ室は、前記アーク接触子の軸線を中心としてアーク発生領域を取り囲むように環状に形成され、その内周面には周方向に沿って開口が設けられていることを特徴とする請求項１に記載のガス遮断器。
【請求項３】
前記機械パッファ室は、前記熱パッファ室を介してアーク発生領域に連通することを特徴とする請求項１に記載のガス遮断器。
【請求項４】
前記熱パッファ室から前記機械パッファ室への絶縁ガスの流れを阻止すると共に、前記機械パッファ室の圧力が前記熱パッファ室の圧力よりも大きくなった場合には前記機械パッファ室から前記熱パッファ室への絶縁ガスの通流を可能にする逆流防止部を備えることを特徴とする請求項３に記載のガス遮断器。
【請求項５】
前記熱パッファ室を介さずに、前記機械パッファ室からアーク発生領域に連通する吹出し流路をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のガス遮断器。
【請求項６】
前記吹出し流路に設けられ、前記アーク発生領域から前記機械パッファ室への絶縁ガスの流れを阻止すると共に、前記機械パッファ室の圧力が前記アーク発生領域の圧力よりも大きくなった場合には前記機械パッファ室から前記アーク発生領域への絶縁ガスの通流を可能にする逆流防止部をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載のガス遮断器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、変電所や開閉所などの電気所に設置され、絶縁ガスの吹付けによって接触子間に生じるアークを消弧するパッファ形のガス遮断器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種のガス遮断器としては、例えば特許文献１には、絶縁ガスが満たされた容器中に、アーク接触子のうち可動側の接触子（以下、可動アーク接触子ともいう。）の外周に形成された熱パッファ室と、この熱パッファ室に隣接して軸方向に機械パッファ室とを備えたものが開示されている。【０００３】
このガス遮断器は、電流遮断時にアークエネルギーにより絶縁ガスが加熱昇圧されて熱パッファ室に蓄積され、電流零点の近傍で高圧絶縁ガスをアークに吹付け電流を遮断すると同時に、機械パッファ室で高圧になった絶縁ガスが熱パッファ室を経由してアーク発生領域に吹付けられて絶縁性能を回復するように構成されている。【０００４】
また、例えば特許文献２には、絶縁ガスが満たされた容器中に、アーク接触子のうち可動側の接触子（以下、可動アーク接触子ともいう。）の外周に形成された熱パッファ室と、この熱パッファ室の外周に複数個の円筒状の機械パッファ室とを備えたものが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−５５１６２号公報
【特許文献２】特開２００９−５９５４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記のような文献１のガス遮断器では、熱パッファと機械パッファが軸方向に直列に配置して構成されているため、消弧室の軸方向の長さが長くなってしまうという問題があった。【０００７】
また、文献２のガス遮断器では、機械パッファが熱パッファの外周部に配置して構成されているため消弧室の軸方向の長さは短いが、機械パッファは円筒形に複数個で構成されているため体積効率が悪く、全体として径方向に大きな形状となってしまうという問題があった。【０００８】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、機械パッファ室と熱パッファ室の配置効率を高めることにより、小型化を図ることのできるガス遮断器を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、絶縁ガスが充填された密閉タンクと、密閉タンク内に相対向して配設され、接離可能な一対のアーク接触子と、一対のアーク接触子の外周部に設けられた熱パッファ室と、熱パッファ室の外周に設けられてアーク接触子の軸線を中心とする円環状に形成されたシリンダで構成される機械パッファ室と、軸線を中心とする円環状に形成されてシリンダ内に収容され、アーク接触子の接離に合わせて移動するピストンと、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
この本発明によれば、機械パッファを円環状にして熱パッファの外周部に配置したことにより、熱パッファと機械パッファが軸方向に直列に配置した場合と比べて軸方向に機械パッファの長さ分だけ短くなり、また複数個の円筒形の機械パッファを熱パッファの外周部に配置した場合と比べて、機械パッファの最外部の径が短くなるので、ガス遮断器の小型化を図ることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の実施の形態１にかかるガス遮断器の通電状態を示す断面図である。
【図２】図２は、遮断状態の遮断部および通電部の一部構成を示す部分拡大断面図である。
【図３】図３は、図１に示すＩＩ−ＩＩ線における拡大断面図であり、ＩＩ−ＩＩ線に添えられた矢印の方向に視た場合の矢視断面図である。
【図４】図４は、実施の形態１の変形例にかかるガス遮断器の遮断部及び通電部の一部構成を示す部分断面図であって、電流遮断状態を示す図である。
【図５】図５は、本発明の実施の形態２にかかるガス遮断器の遮断部及び通電部の一部構成を示す部分断面図であって、電流遮断状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に、本発明の実施の形態にかかるガス遮断器を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。
【００１３】
実施の形態１．
図１は、本発明の実施の形態１にかかるガス遮断器の通電状態を示す断面図である。図２は、遮断状態の遮断部および通電部の一部構成を示す部分拡大断面図である。図１、２において、電流を通電又は遮断するための開閉部１は、例えばエポキシ樹脂などで製作された絶縁筒２と、この絶縁筒２の一端に連接された円筒容器状の固定側円筒導体３と、絶縁筒２の他端に連接された円筒容器状の可動側円筒導体４と、が一体となって構成された密閉タンク１００に収納されている。
【００１４】
この密閉タンク１００内は６フッ化硫黄（ＳＦ６）などの絶縁ガスが充填されており、支持絶縁物６と支持絶縁物７とで支持されて支持架台５上に設けられている。支持架台５には操作装置１０が設置され、この操作装置１０により、絶縁部材からなる絶縁操作ロッド１１と、リンク機構１２及びリンク機構１３とを介して、開閉部１の開閉操作が行われる。
【００１５】
なお、支持絶縁物６は、軸を水平にして設置された密閉タンク１００の端部付近を絶縁支持している。また、可動側円筒導体４の側面には、一端が密閉タンク１００の内部に設けられたリンク機構１２と接続され他端が密閉タンク１００の外部に設けられた操作装置１０に接続された絶縁操作ロッド１１を貫通させるための孔が設けられており、支持絶縁物７はこの孔が設けられた可動側円筒導体４の周辺を絶縁支持している。
【００１６】
開閉部１は、電流を遮断するための遮断部１４と定格電流を通電するための通電部１５とを有して構成されている。遮断部１４は、固定側円筒導体３に連接された固定側補助導体３００と、この固定側補助導体３００と電気的に接続された固定アーク接触子２０と、この固定アーク接触子２０と同一軸線上で相対向する可動アーク接触子２１とから構成されている。
【００１７】
この可動アーク接触子２１は固定アーク接触子２０と軸線上で接離可能であるとともに、ロッド接触子２２を介して可動側円筒導体４に連接された可動側補助導体４００と電気的に接続されている。
【００１８】
また、可動アーク接触子２１の固定アーク接触子２０とは反対側の端部はリンク機構１２に接続されており、可動アーク接触子２１はリンク機構１２及び絶縁操作ロッド１１を介して操作装置１０により軸線方向に直線的に往復移動可能となっている。
【００１９】
また、可動アーク接触子２１にはリンク機構１３が連結されており、このリンク機構１３を介して可動アーク接触子２１の動作に連動して後述の可動通電接触子が軸線方向に往復移動するように構成されている。なお、以下の説明において、固定アーク接触子２０と可動アーク接触子２１とが開離した時にアークが生じる領域をアーク発生領域３２と称する。
【００２０】
図３は、図１に示すＩＩ−ＩＩ線における拡大断面図であり、ＩＩ−ＩＩ線に添えられた矢印の方向に視た場合の矢視断面図である。図３に示すように、通電部１５は、固定側補助導体３００と電気的に接続された固定通電接触子２３及びこの固定通電接触子２３と相対向する円環状の可動通電接触子（ピストン）２４で構成されている。
【００２１】
可動通電接触子２４は、固定通電接触子２３と接離可能である。可動通電接触子２４の固定通電接触子２３側の端部は開口状態となっており、この開口端部が固定通電接触子２３に嵌入して接触状態となる。円環状の可動通電接触子２４には、リンク機構１３と連結されたピストンロッド２２１が固着される。これにより、可動アーク接触子２１の往復移動に応じてピストンロッド２２１が同方向に往復移動し、ピストンロッド２２１に連結された可動通電接触子２４も往復移動する。可動通電接触子２４が往復移動することで、各通電接触子の接離がなされる。
【００２２】
また、可動側補助導体４００には可動側導体４０１が連接されている。可動通電接触子２４は、リング状の接触子２５を介して可動側導体４０１と電気的に接触しながら摺動可能に接続されている。また、円環状の可動通電接触子２４の内径側には、一部が絶縁物である隔壁２６で構成された熱パッファ室２７が形成されている。可動通電接触子２４の内径側は、隔壁２６と摺動可能に接触している。
【００２３】
可動側補助導体４００、可動側導体４０１、可動通電接触子２４、および隔壁２６に囲まれた領域は、可動通電接触子２４を収容する機械パッファ室（シリンダ）２８を構成する。機械パッファ室２８は、図３に示すように、可動アーク接触子２１の軸線Ａを中心とする円環状に形成される。
【００２４】
可動通電接触子２４は、機械パッファ室２８内で、可動アーク接触子２１の移動に応じて往復移動することとなる。機械パッファ室２８は、可動通電接触子２４と固定通電接触子２３の開閉動作、すなわち可動通電接触子２４の移動に伴いその容積が変化する。より具体的には、可動通電接触子２４と固定通電接触子２３とが開離動作に伴って、機械パッファ室２８の容積が減少する。
【００２５】
固定側補助導体３００に連接された部材２９が固定アーク接触子２０の外周に沿って配置されている。可動側補助導体４００に連接された絶縁ノズル３０は固定側に延伸されている。絶縁ノズル３０の外周に沿って絶縁部材３１が配置されて、熱パッファ室２７が形成されている。なお、熱パッファ室２７は、軸線Ａを中心としてアーク発生領域３２を取り囲むように環状に形成されている。
【００２６】
部材２９と絶縁部材３１のそれぞれの先端は一定間隔離隔しており、この隔離部分が熱パッファ室２７の開口となる。この開口によって、熱パッファ室２７とアーク発生領域３２とが連通される。すなわち、熱パッファ室２７の開口は、熱パッファ室２７の内周面に対して、その周方向に沿って設けられている。なお、この開口は、周方向の全体にわたって形成された１個の開口であってもよいし、周方向に沿って形成された複数の開口であってもよい。
【００２７】
機械パッファ室２８は、絶縁ノズル３０と絶縁部材３１とで形成された吹出し流路３３を介して、アーク発生領域３２と連通している。すなわち、吹出し流路３３は、機械パッファ室２８とアーク発生領域３２とを、熱パッファ室２７を介さずに連通させている。
【００２８】
次に、本実施の形態にかかるガス遮断器の動作について説明する。上述のように構成されたガス遮断器において、遮断部１４の可動アーク接触子２１は、リンク機構１２及び絶縁操作ロッド１１を介して操作装置１０によって軸線方向に動作される。これにより、可動アーク接触子２１の固定アーク接触子２０に対する開閉操作がなされる。
【００２９】
また、可動アーク接触子２１の開閉動作に連動して、通電部１５の可動通電接触子２４は、リンク機構１３を介して軸線方向に動作される。これにより、可動通電接触子２４の固定通電接触子２３に対する開閉操作がなされる。
【００３０】
次に、上述のように構成された本実施の形態にかかるガス遮断器の遮断動作について説明する。まず、可動通電接触子２４が固定通電接触子２３から開離し、その後に可動アーク接触子２１が固定アーク接触子２０から開離する。この開離動作により可動アーク接触子２１と固定アーク接触子２０との間のアーク発生領域３２にアークが発生する。
【００３１】
大電流領域の遮断では、アーク発生領域３２における絶縁ガスはアークエネルギーにより加熱昇圧されて、熱パッファ室２７に蓄積される。その後に、電流零点に近づくとアーク発生領域３２の加熱昇圧が減少するので、熱パッファ室２７に蓄えられていた高圧の絶縁ガスがアーク発生領域３２のアークに吹付けられることによってアークが消弧され、電流遮断が行われる。
【００３２】
また、可動通電接触子２４の開離動作に伴って機械パッファ室２８の体積が減少する。その際、機械パッファ室２８内の絶縁ガスが圧縮され、冷たい絶縁ガスが吹出し流路３３を介してアーク発生領域３２に吹付けられることによって絶縁性能が回復する。
【００３３】
中小電流領域の遮断では、アーク発生領域３２の絶縁ガスはあまり加熱されないために、熱パッファ室２７の圧力はそれほど上昇しない。一方、絶縁ガスの加熱の有無に関わらず、機械パッファ室２８では可動通電接触子２４の開離動作に伴って絶縁ガスが圧縮される。そのため、絶縁ガスがアーク発生領域３２に吹付けられることによって、アークが消弧されて電流遮断が行われるとともに、絶縁性能が回復する。
【００３４】
電流通電（投入）時には、可動アーク接触子２１と固定アーク接触子２０とが接続され、その後に可動通電接触子２４と固定通電接触子２３とが同時に接続されることによって電流が通電される。
【００３５】
以上説明したように、本実施の形態によれば、熱パッファ室２７がアーク接触子２０，２１の周囲に設けられ、機械パッファ室２８が軸線Ａを中心とする円環状に形成されるので、ガス遮断器の軸方向長さの短縮化に寄与できる。また、ガス遮断器の周方向に対する機械パッファ室２８と熱パッファ室２７との配置効率の向上を図ることができる。これにより、ガス遮断器の小型化を図ることができる。
【００３６】
図４は、実施の形態１の変形例にかかるガス遮断器の遮断部及び通電部の一部構成を示す部分断面図であって、電流遮断状態を示す図である。本変形例では、吹出し流路３３に逆止弁３５が設置されている。逆止弁３５は、アーク発生領域３２から機械パッファ室２８への絶縁ガスの流れを阻止すると共に、機械パッファ室２８の圧力がアーク発生領域３２の圧力よりも大きくなった場合には機械パッファ室２８からアーク発生領域３２への絶縁ガスの通流を可能にする。
【００３７】
この逆止弁３５を設置したことにより、アーク発生領域３２での圧力上昇によって機械パッファ室２８に過大な圧力が加わるのを抑えることができるので、操作装置１０の操作力を小さく設定することができ、ガス遮断器の小型化に寄与することができる。
【００３８】
実施の形態２．
図５は、本発明の実施の形態２にかかるガス遮断器の遮断部及び通電部の一部構成を示す部分断面図であって、電流遮断状態を示す図である。なお、上記実施の形態１と同様の構成については、同様の符号を付して、詳細な説明を省略する。また、図５に示されていない部分の構成は、例えば図１に示す実施の形態１の構成と同様である。
【００３９】
本実施の形態では、熱パッファ室２７と機械パッファ室２８とが、可動側補助導体４００と隔壁２６の間に配設された連通孔３４で連通される。また、連通孔３４の熱パッファ室２７側に、熱パッファ室２７から機械パッファ室２８への絶縁ガスの通流を防止する逆止弁（逆流防止部）３５が配設されている。
【００４０】
次に、上述のように構成された本実施の形態にかかるガス遮断器の遮断動作について説明する。
【００４１】
大電流領域の遮断では、アーク発生領域３２における絶縁ガスはアークエネルギーにより加熱昇圧されて、熱パッファ室２７に蓄積される。この熱パッファ室２７の圧力が機械パッファ室２８の圧力より大きくなると、逆止弁３５が閉塞動作して連通孔３４は閉塞される。
【００４２】
その後に、電流零点に近づくとアーク発生領域３２の加熱昇圧が減少するので、熱パッファ室２７に蓄えられていた高圧の絶縁ガスがアーク発生領域３２のアークに吹付けられることによってアークが消弧され、電流遮断が行われる。
【００４３】
この動作に伴い、熱パッファ室２７の圧力が低下するとともに、機械パッファ室２８では可動通電接触子２４の開離動作に伴って体積が減少して絶縁ガスが圧縮される。そのため、機械パッファ室２８の圧力の方が相対的に大きくなり、逆止弁３５は開放動作する。この開放動作に伴い、機械パッファ室２８内の圧縮された冷たい絶縁ガスが熱パッファ室２７を経由してアーク発生領域３２に吹付けられることによって絶縁性能が回復する。
【００４４】
中小電流領域の遮断では、アーク発生領域３２の絶縁ガスはあまり加熱されないために、熱パッファ室２７の圧力はそれほど上昇しない。したがって、連通孔３４の逆止弁３５は、開放状態が維持される。その後に、機械パッファ室２８で圧縮された絶縁ガスが熱パッファ室２７を経由して、アーク発生領域３２に吹付けられることによってアークが消弧され、電流遮断が行われるとともに、絶縁性能が回復する。
【００４５】
本実施の形態によれば、機械パッファ室２８は、熱パッファ室２７を介してアーク発生領域３２に連通するので、アーク発生領域に通じる別途の流路の形成を省略することができ、ガス遮断器の構造の簡単化を図ることができる。
【００４６】
また、逆止弁３５を設置したことにより、熱パッファ室２７での圧力上昇によって機械パッファ室２８に過大な圧力が加わるのを抑えることができるので、操作装置１０の操作力を小さく設定することができ、ガス遮断器の小型化に寄与することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
以上のように、本発明にかかるガス遮断器は、熱パッファ室と機械パッファ室を備えるガス遮断器に有用である。
【符号の説明】
【００４８】
１  開閉部
２  絶縁筒
３  固定側円筒導体
４  可動側円筒導体
５  支持架台
６，７  支持絶縁物
１０  操作装置
１１  絶縁操作ロッド
１２，１３  リンク機構
１４  遮断部
１５  通電部
２０  固定アーク接触子
２１  可動アーク接触子
２２  ロッド接触子
２３  固定通電接触子
２４  可動通電接触子（ピストン）
２５  接触子
２６  隔壁
２７  熱パッファ室
２８  機械パッファ室（シリンダ）
２９  部材
３０  絶縁ノズル
３１  絶縁部材
３２  アーク発生領域
３３  吹出し流路
３４  連通孔
３５  逆止弁
１００  密閉タンク
２２１  ピストンロッド
３００  固定側補助導体
４００  可動側補助導体
４０１  可動側導体
Ａ  軸線
【図１】
2012049730.tif 000003
【図２】
2012049730.tif 000004
【図３】
2012049730.tif 000005
【図４】
2012049730.tif 000006
【図５】
2012049730.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月27日(2011.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁ガスが充填された密閉タンクと、
前記密閉タンク内に相対向して配設され、接離可能な一対のアーク接触子と、
前記一対のアーク接触子の外周部に設けられ、一部が隔壁で形成された熱パッファ室と、
前記熱パッファ室の外周に設けられて前記アーク接触子の軸線を中心とする円環状に形成されたシリンダで構成される機械パッファ室と、
前記軸線を中心とする円環状に形成され、その一部が前記隔壁で形成された前記シリンダ内に収容され、前記アーク接触子の接離に合わせて移動するピストンと、を備えることを特徴とするガス遮断器。
【請求項２】
前記熱パッファ室は、前記アーク接触子の軸線を中心としてアーク発生領域を取り囲むように環状に形成され、その内周面には周方向に沿って開口が設けられていることを特徴とする請求項１に記載のガス遮断器。
【請求項３】
前記機械パッファ室は、前記熱パッファ室を介してアーク発生領域に連通することを特徴とする請求項１に記載のガス遮断器。
【請求項４】
前記熱パッファ室から前記機械パッファ室への絶縁ガスの流れを阻止すると共に、前記機械パッファ室の圧力が前記熱パッファ室の圧力よりも大きくなった場合には前記機械パッファ室から前記熱パッファ室への絶縁ガスの通流を可能にする逆流防止部を備えることを特徴とする請求項３に記載のガス遮断器。
【請求項５】
前記熱パッファ室を介さずに、前記機械パッファ室からアーク発生領域に連通する吹出し流路をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のガス遮断器。
【請求項６】
前記吹出し流路に設けられ、前記アーク発生領域から前記機械パッファ室への絶縁ガスの流れを阻止すると共に、前記機械パッファ室の圧力が前記アーク発生領域の圧力よりも大きくなった場合には前記機械パッファ室から前記アーク発生領域への絶縁ガスの通流を可能にする逆流防止部をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載のガス遮断器。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月2日(2011.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁ガスが充填された密閉タンクと、
前記密閉タンク内に相対向して配設され、接離可能な一対のアーク接触子と、
前記一対のアーク接触子の外周部に設けられ、一部が隔壁で形成された熱パッファ室と、
前記熱パッファ室の外周に設けられて前記アーク接触子の軸線を中心とする円環状に形成されたシリンダで構成される機械パッファ室と、
前記軸線を中心とする円環状に形成され、その一部が前記隔壁で形成された前記シリンダ内に収容され、前記アーク接触子の接離に合わせて移動するピストンと、を備えることを特徴とするガス遮断器。
【請求項２】
前記熱パッファ室は、前記アーク接触子の軸線を中心としてアーク発生領域を取り囲むように環状に形成され、その内周面には周方向に沿って開口が設けられ、
前記ピストンは、固定通電接触子に接触して通電状態とする可動通電接触子であり、
前記隔壁は、少なくともその一部が絶縁物で構成されることを特徴とする請求項１に記載のガス遮断器。
【請求項３】
前記機械パッファ室は、前記熱パッファ室を介してアーク発生領域に連通することを特徴とする請求項１に記載のガス遮断器。
【請求項４】
前記熱パッファ室から前記機械パッファ室への絶縁ガスの流れを阻止すると共に、前記機械パッファ室の圧力が前記熱パッファ室の圧力よりも大きくなった場合には前記機械パッファ室から前記熱パッファ室への絶縁ガスの通流を可能にする逆流防止部を備えることを特徴とする請求項３に記載のガス遮断器。
【請求項５】
前記熱パッファ室を介さずに、前記機械パッファ室からアーク発生領域に連通する吹出し流路をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のガス遮断器。
【請求項６】
前記吹出し流路に設けられ、前記アーク発生領域から前記機械パッファ室への絶縁ガスの流れを阻止すると共に、前記機械パッファ室の圧力が前記アーク発生領域の圧力よりも大きくなった場合には前記機械パッファ室から前記アーク発生領域への絶縁ガスの通流を可能にする逆流防止部をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載のガス遮断器。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月13日(2011.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁ガスが充填された密閉タンクと、
前記密閉タンク内に相対向して配設され、接離可能な一対のアーク接触子と、
前記一対のアーク接触子の外周部に設けられ、一部が隔壁で形成された熱パッファ室と、
前記熱パッファ室の外周に設けられて前記アーク接触子の軸線を中心とする円環状に形成されたシリンダで構成される機械パッファ室と、
前記軸線を中心とする円環状に形成され、その一部が前記隔壁で形成された前記シリンダ内に収容され、前記アーク接触子の接離に合わせて移動するピストンと、を備え、
前記熱パッファ室は、前記アーク接触子の軸線を中心としてアーク発生領域を取り囲むように環状に形成され、その内周面には周方向に沿って開口が設けられ、
前記ピストンは、固定通電接触子に接触して通電状態とする可動通電接触子であり、
前記隔壁は、少なくともその一部が絶縁物で構成されることを特徴とするガス遮断器。
【請求項２】
前記機械パッファ室は、前記熱パッファ室を介してアーク発生領域に連通することを特徴とする請求項１に記載のガス遮断器。
【請求項３】
前記熱パッファ室から前記機械パッファ室への絶縁ガスの流れを阻止すると共に、前記機械パッファ室の圧力が前記熱パッファ室の圧力よりも大きくなった場合には前記機械パッファ室から前記熱パッファ室への絶縁ガスの通流を可能にする逆流防止部を備えることを特徴とする請求項２に記載のガス遮断器。
【請求項４】
前記熱パッファ室を介さずに、前記機械パッファ室からアーク発生領域に連通する吹出し流路をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のガス遮断器。
【請求項５】
前記吹出し流路に設けられ、前記アーク発生領域から前記機械パッファ室への絶縁ガスの流れを阻止すると共に、前記機械パッファ室の圧力が前記アーク発生領域の圧力よりも大きくなった場合には前記機械パッファ室から前記アーク発生領域への絶縁ガスの通流を可能にする逆流防止部をさらに備えることを特徴とする請求項４に記載のガス遮断器。
【国際調査報告】
2012049730.tif 000008
2012049730.tif 000009