(57)【要約】  光学フィルムの幅の変更が容易な光学フィルムの製造方法を提供する。光学フィルム製造装置が準備され、光学フィルムが製造される。流延膜支持体の流延面にドープが流延され流延面に流延膜が形成される。流延膜は流延面上で乾燥固化させられ、流延膜に自己支持性が付与される。自己支持性が付与された流延膜は流延面から剥離され、ウエブが得られる。ウエブは、搬送ロール群で搬送される。搬送ロール群は、ロールスラスト方向の位置を調整できるスリップ抑制用の構造物がロールスラスト方向に離して周面に設けられた搬送ロールを含む。前回製造の光学フィルムのウエブの幅と今回製造の光学フィルムのウエブの幅とが異なる場合に、今回製造の光学フィルムのウエブの幅に合わせて構造物のロールスラスト方向の位置が調整される。
2012127893.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(a) 光学フィルム製造装置を準備する工程と、
(b) 前記工程(a)において準備された前記光学フィルム製造装置を用いて光学フィルムを製造する工程と、
を備え、
前記工程(b)は、
(b-1) 流延膜支持体の流延面にドープを流延し前記流延面に流延膜を形成する工程と、
(b-2) 前記工程(b-1)において形成された流延膜を前記流延面の上で乾燥固化し自己支持性を流延膜に付与する工程と、
(b-3) 前記工程(b-2)において自己支持性を付与された流延膜を前記流延面から剥離しウエブを得る工程と、
(b-4) 前記工程(b-3)において得られたウエブを、ロールスラスト方向の位置を調整できるスリップ抑制用の構造物がロールスラスト方向に離して周面に設けられた搬送ロールを含む搬送ロール群で搬送する工程と、
(b-5) 前記工程(b-4)において搬送されてきたウエブを巻き取る工程と、
を備え、
前記工程(a)は、
(a-1) 前回製造の光学フィルムのウエブの幅と今回製造の光学フィルムのウエブの幅とが異なる場合に、今回製造の光学フィルムのウエブの幅に合わせて前記構造物のロールスラスト方向の位置を調整する工程、
を備える溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記構造物は、
前記周面にかぶせられ、ロールスラスト方向に移動できる円筒体であり、
前記工程(a-1)は、
(a-1-1) 今回製造の光学フィルムのウエブの幅方向の周辺部が前記円筒体に乗り上げる位置に前記円筒体を移動させる工程、
を備える請求項１の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記構造物は、
流動体からなる前駆体を前記周面に塗布し硬化させることにより前記周面に形成され、前記周面から溶剤で除去できる膜体であり、
前記工程(a-1)は、
(a-1-2) 膜体を溶媒で除去する工程と、
(a-1-3) 今回製造の光学フィルムのウエブの幅方向の周辺部が乗り上げる位置に膜体を形成する工程と、
を備える請求項１の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記構造物は、
前記周面に貼りつけられ、前記周面から剥がすことができるテープ又はシートであり、
前記工程(a-1)は、
(a-1-4) テープ又はシートを剥がす工程と、
(a-1-5) 今回製造の光学フィルムのウエブの幅方向の周辺部が乗り上げる位置にテープ又はシートを貼りつける工程と、
を備える請求項１の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記構造物の前記周面からの高さが１０μｍ以上で一定である請求項２から請求項４までのいずれかの光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記構造物は、
ロールスラスト方向に移動できるニップロールであり、
前記工程(a-1)は、
(a-1-6) 今回製造の光学フィルムのウエブの幅方向の周辺部がニップされる位置に前記ニップロールを移動させる工程、
を備える請求項１の光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記構造物のロールスラスト方向の間隔が今回製造の光学フィルムのウエブの幅の８０％以上９９％以下である請求項１の光学フィルムの製造方法。
【請求項８】
光学フィルムの膜厚が２０μｍ以上８０μｍ以下である請求項１の光学フィルムの製造方法。
【請求項９】
光学フィルムの搬送速度が８０ｍ／分以上３００ｍ／分以下である請求項１の光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
溶液流延製膜法による光学フィルムの製造においては、エンドレスベルト、ドラム等の流延膜支持体の流延面にドープが流延され、流延膜が形成される。形成された流延膜は、流延面上で乾燥固化させられ、自己支持性を付与される。自己支持性を付与された流延膜は、流延面から剥離され、ウエブとなる。ウエブは、搬送ロール群で搬送される。ウエブは、テンター、乾燥ゾーン等を経由して搬送され、巻き取り器でロール状に巻き取られる。【０００３】
ウエブが搬送ロール群で搬送される場合は、搬送速度が速くなると、ウエブに伴う同伴空気がウエブと搬送ロールの周面との間に入り、周面に対するウエブのスリップが発生する。ウエブのスリップは、すりきず等の原因になり、望ましくない。【０００４】
特許文献１及び２は、この問題を解決するため、スリップ抑制用の構造を周面に付与することを提案する。【０００５】
特許文献１においては、周面に溝が形成され、ロールスラスト方向の周辺部（特許文献１では「非段差部５４」と称される。）のロール径がロールスラスト方向の中心部（特許文献１では「段差部５３」と称される。）のロール径よりも太くされる。【０００６】
特許文献２においては、周面のロールスラスト方向の周辺部（特許文献２では「耳部接触領域６０ｅ」と称される。）に溝が形成され、周辺部のロール径がロールスラスト方向の中心部（特許文献２では「製品部接触領域６０ｃ」と称される。）のロール径よりも太くされる。【０００７】
特許文献１及び２においては、溝により同伴空気が逃がされ、ウエブのスリップが抑制される。また、特許文献１及び２においては、周辺部により幅方向の引張り力がウエブに与えられ、ウエブのツレが抑制される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００２−１７９３１０号公報
【特許文献２】特開２００９−２２７４４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１及び２のいずれも、光学フィルムの幅が一定である場合には、ウエブのスリップ及びツレを抑制することに有効である。しかし、特許文献１及び２のいずれも、光学フィルムの幅が変更されるとウエブのスリップ及びツレを抑制できない場合があり、光学フィルムの幅の変更が容易ではない。【００１０】
本発明は、この問題を解決するためになされ、光学フィルムの幅の変更が容易な光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法に向けられる。【００１２】
本発明の第１の局面においては、光学フィルム製造装置が準備され、準備された光学フィルム製造装置を用いて光学フィルムが製造される。光学フィルムの製造においては、流延膜支持体の流延面にドープが流延され流延面に流延膜が形成される。形成された流延膜は流延面上で乾燥固化させられ、流延膜に自己支持性が付与される。自己支持性が付与された流延膜は流延面から剥離され、ウエブが得られる。得られたウエブは、搬送ロール群で搬送される。搬送ロール群は、ロールスラスト方向の位置を調整できるスリップ抑制用の構造物がロールスラスト方向に離して周面に設けられた搬送ロールを含む。光学フィルム製造装置の準備においては、前回製造の光学フィルムのウエブの幅と今回製造の光学フィルムのウエブの幅とが異なる場合に、今回製造の光学フィルムのウエブの幅に合わせて構造物のロールスラスト方向の位置が調整される。【００１３】
本発明の第２の局面は、本発明の第１の局面にさらなる事項を付加する。本発明の第２の局面においては、構造物は、搬送ロールの周面にかぶせられ、ロールスラスト方向に移動できる円筒体である。構造物が円筒体である場合には、今回製造の光学フィルムのウエブの幅方向の周辺部が円筒体に乗り上げる位置に円筒体を移動させることにより、構造物のロールスラスト方向の位置が調整される。【００１４】
本発明の第３の局面は、本発明の第１の局面にさらなる事項を付加する。本発明の第３の局面においては、構造体は、流動体からなる前駆体を搬送ロールの周面に塗布し硬化させることにより周面に形成され、周面から溶剤で除去できる膜体である。構造体が膜体である場合には、膜体を溶媒で除去し、今回製造の光学フィルムのウエブの幅方向の周辺部が乗り上げる位置に膜体を形成することにより、構造物のロールスラスト方向の位置が調整される。【００１５】
本発明の第４の局面は、本発明の第１の局面にさらなる事項を付加する。本発明の第４の局面においては、構造体は、搬送ロールの周面に貼りつけられ、周面から剥がすことができるテープ又はシートである。構造体がテープ又はシートである場合には、テープ又はシートを剥がし、今回製造の光学フィルムのウエブの幅方向の周辺部が乗り上げる位置にテープ又はシートを貼りつけることにより、構造物のロールスラスト方向の位置が調整される。【００１６】
本発明の第５の局面は、本発明の第２から第４までのいずれかの局面にさらなる事項を付加する。本発明の第５の局面においては、構造物の周面からの高さが１０μｍ以上で一定である。【００１７】
本発明の第６の局面は、本発明の第１の局面にさらなる事項を付加する。本発明の第６の局面においては、構造物は、ロールスラスト方向に移動できるニップロールである。構造体がニップロールである場合には、今回製造の光学フィルムのウエブの幅方向の周辺部がニップされる位置にニップロールを移動させることにより、構造物のロールスラスト方向の位置が調整される。【００１８】
本発明の第７の局面は、本発明の第１から第６までのいずれかの局面にさらなる事項を付加する。本発明の第７の局面においては、構造物のロールスラスト方向の間隔がウエブの幅の８０％以上９９％以下である。【００１９】
本発明の第８の局面は、本発明の第１から第７までのいずれかの局面にさらなる事項を付加する。本発明の第８の局面においては、光学フィルムの膜厚は２０μｍ以上８０μｍ以下である。本発明の第９の局面によれば、第１から第８までのいずれかの局面において、搬送速度が８０ｍ／分以上３００ｍ／分以下である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の第１の局面の発明によれば、スリップ抑制用の構造物のロールスラスト方向の位置の調整により光学フィルムの幅の変更に対応でき、光学フィルムの幅の変更が容易になる。【００２１】
本発明の第５の局面の発明によれば、幅方向の引張り力がウエブに与えられ、ウエブにツレが生じにくくなり、光学フィルムの物性の均一性が向上する。また、ウエブのカールしやすい極周辺部に接触する部分の段差が減り、ウエブにオレシワが生じにくくなり、光学フィルムの物性の均一性が向上する。【００２２】
本発明の第７の局面の発明によれば、ウエブのカールしやすい範囲に段差が位置せず、ウエブにオレシワが生じにくくなり、光学フィルムの物性の均一性が向上する。また、幅方向の引張り力が与えられるウエブＷの範囲が広くなり、ウエブにツレが生じにくくなり、光学フィルムの物性の均一性が向上する。さらに、凹凸が転写されにくい範囲が狭くなり、光学フィルムの物性の均一性が低下しやすくなる。【００２３】
これらの及びこれら以外の本発明の目的、特徴、局面及び利点は、添付図面とともに考慮されたときに下記の本発明の詳細な説明によってより明白となる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】光学フィルム製造装置の模式図である。
【図２】スリップ抑制用の円筒体が周面に取りつけられた搬送ロール及びウエブの斜視図である。
【図３】光学フィルムの幅の変更の準備の手順を示す模式図である。
【図４】光学フィルムの幅の変更の準備の手順を示す模式図である。
【図５】スリップ抑制用の膜体が周面に形成された搬送ロールの斜視図である。
【図６】光学フィルムの幅の変更の手順を示す模式図である。
【図７】光学フィルムの幅の変更の手順を示す模式図である。
【図８】光学フィルムの幅の変更の手順を示す模式図である。
【図９】スリップ抑制用のテープが周面に貼りつけられた搬送ロールの斜視図である。
【図１０】光学フィルムの幅の変更の手順を示す模式図である。
【図１１】光学フィルムの幅の変更の手順を示す模式図である。
【図１２】光学フィルムの幅の変更の手順を示す模式図である。
【図１３】スリップ抑制用のニップロールが周面に接触する搬送ロールの斜視図である。
【図１４】光学フィルムの幅の変更の手順を示す模式図である。
【図１５】光学フィルムの幅の変更の手順を示す模式図である。
【図１６】スリップ抑制用の構造物が設けられる搬送ロールの模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
｛第１実施形態｝
（光学フィルム製造装置）
図１の模式図は、溶液流延製膜法による光学フィルムの製造に用いられる光学フィルム製造装置を示す。
【００２６】
図１に示す光学フィルム製造装置１００は、第１のドラム１０２、第２のドラム１０４、エンドレスベルト１０６、剥離ロール１０８、搬送ロール群１１０、第１の乾燥ゾーン１１２、テンター１１４、第２の乾燥ゾーン１１６、巻き取り機１１８、流延ダイ１２０及びドープ（熱可塑性樹脂溶液）供給機構１２２を備える。流延ダイ１２０は、エンドレスベルト１０６のエンドレスベルト外面１３０に近接しエンドレスベルト外面１３０に対向する。エンドレスベルト外面１３０に代えてドラムのドラム周面にドープが流延されてもよい。エンドレスベルト１０６及びドラムは流延膜支持体の例であり、エンドレスベルト外面１３０及びドラム周面は流延面の例である。搬送ロール群１１０を構成する搬送ロールの数、位置、大きさ等は、必要に応じて変更される。
【００２７】
（光学フィルムの製造）
光学フィルム製造装置１００を用いて光学フィルムＯＦが製造されるときには、光学フィルム製造装置１００が準備された後に、第１のドラム１０２及び第２のドラム１０４が回転し、第１のドラム１０２及び第２のドラム１０４にかけられたエンドレスベルト１０６が周回し、エンドレスベルト外面１３０が流延ダイ１２０の近傍を走行する。同時に、ドープ供給機構１２２から流延ダイ１２０へドープが供給され、流延ダイ１２０からエンドレスベルト外面１３０にドープが流延され、エンドレスベルト外面１３０に流延膜ＣＦが形成される。ドープは、ドープタンク１５０から送液ポンプ１５２により流延ダイ１２０へ送られる。
【００２８】
形成された流延膜ＣＦはエンドレスベルト外面１３０上で乾燥固化させられ、流延膜ＣＦに自己支持性が付与される。自己支持性が付与された流延膜ＣＦはエンドレスベルト外面１３０から剥離され、ウエブＷが得られる。得られたウエブＷは、搬送ロール群１１０で搬送される。ウエブＷは、第１の乾燥ゾーン１１２、テンター１１４及び第２の乾燥ゾーン１１６を経由して巻き取り機１１８まで搬送される。ウエブＷは、第１の乾燥ゾーン１１２で乾燥させられ、テンター１１４で延伸され、第２の乾燥ゾーン１１６でさらに乾燥させられ、巻き取り機１１８でロール状に巻き取られる。
【００２９】
（エンドレスベルトの材質）
エンドレスベルト１０６の材質は、金属又は合金であれば特に制限されない。エンドレスベルト１０６の材質が合金である場合は、合金がＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１４等のステンレス鋼であることが望ましい。ハードクロムメッキ、アモルファスクロムメッキ等のメッキ処理がエンドレスベルト外面１３０に行われてもよい。
【００３０】
（流延ダイ）
流延ダイ１２０は、特に制限されないが、コートハンガーダイ、Ｔダイ等の加圧ダイであることが望ましい。流延膜ＣＦの膜厚を均一にすることが容易になるからである。ドクターブレード、リバースロールコータ等により流延膜ＣＦの膜厚が調整されてもよい。
【００３１】
（ドープ）
ドープは、熱可塑性樹脂及び必要な添加剤を溶媒に溶解又は分散させた粘性流体である。
【００３２】
（搬送ロール及び円筒体）
図２は、スリップ抑制用の構造物の一例である円筒体が周面に取りつけられた搬送ロール及びウエブの模式図（斜視図）である。
【００３３】
図２に示すように、搬送ロール群１１０を構成する搬送ロールの全部又は一部の搬送ロール２０６には、スリップ抑制用の円筒体２０２及び２０４が取りつけられる。円筒体２０２及び２０４は、ロールスラスト方向（ロール軸方向）に離され、周面２０８にかぶせられる。円筒体２０２及び２０４は、ロールスラスト方向に移動できる。
【００３４】
円筒体２０２の外周面２１０には溝２１２が形成され、円筒体２０４の外周面２１４には溝２１６が形成される。溝２１２及び２１６により同伴空気が逃がされ、ウエブＷと外周面２１０及び２１４との間の摩擦力が同伴空気により低下することが抑制され、ウエブＷのスリップが抑制される。溝２１２及び２１６を形成することに代えて、又は、溝２１２及び２１６を形成することに加えて、外周面２１０及び２１４がマット面にされてもよいし、外周面２１０及び２１４の表面粗さが外周面２０８より粗くされてもよい。「マット面」とは、表面が粗くされていてマット剤が分散して露出し凹凸を有する面をいう。溝２１２及び２１６が省略されるとともに外周面２１０及び２１４がマット面にされないことも許される。溝２１２及び２１６が省略されるとともに外周面２１０及び２１４がマット面にされなくても、周面２０８と外周面２１０及び２１４との段差により同伴空気が逃がされ、ウエブＷのスリップがある程度抑制されるからである。
【００３５】
（円筒体の間隔）
円筒体２０２と円筒体２０４との間のロールスラスト方向の間隔Ｄ１はウエブＷの幅Ｄ２よりも狭い。これにより、ウエブＷの幅方向の周辺部ＷＳが円筒体２０２及び２０４に乗り上げ、周辺部ＷＳと外周面２１０及び２１４との間の摩擦力がウエブＷのスリップを抑制する。ウエブＷの幅方向の中心部ＷＣは、円筒体２０２及び２０４に乗り上げず、鏡面の周面２０８に接触する。これにより、中心部ＷＣに凹凸が転写されにくくなり、光学フィルムＯＦの物性の均一性が向上する。
【００３６】
間隔Ｄ１は幅Ｄ２の８０〜９９％であることが望ましい。間隔Ｄ１がこの上限値より広くなると、外周面２１０及び２１４と周面２０８との段差がウエブＷのカールしやすい極周辺部（端部の近傍）に位置し、ウエブＷにオレシワが生じやすくなり、光学フィルムＯＦの物性の均一性が低下しやすくなるからである。間隔Ｄ１がこの下限値より狭くなると、幅方向の引張り力が与えられるウエブＷの範囲が狭くなり、ウエブＷにツレシワが生じやすくなり、光学フィルムＯＦの物性の均一性が低下しやすくなるからである。また、凹凸が転写されにくい範囲が狭くなり、光学フィルムＯＦの物性の均一性が低下しやすくなるからである。
【００３７】
円筒体２０２及び２０４は、幅Ｄ２が広いウエブＷ、例えば、幅Ｄ２が２ｍ以上のウエブＷを搬送する場合に特に大きな効果を奏する。
【００３８】
（円筒体の高さ）
周面２０８からの円筒体２０２及び２０４の高さＨ、すなわち、円筒体２０２及び２０４の肉厚は、円筒体２０２及び２０４が自重に耐える強度を持つように選択されるが、１０μｍ以上であることが望ましい。幅方向の引張り力がウエブＷに十分に与えられ、ウエブＷにツレが生じにくくなり、光学フィルムＯＦの物性の均一性が向上するからである。
【００３９】
高さＨは、一定であることが望ましい。ウエブＷのカールしやすい極周辺部に接触する段差が減り、ウエブＷにオレシワが生じにくくなり、光学フィルムＯＦの物性の均一性が向上するからである。
【００４０】
（搬送ロールの種類）
搬送ロール２０６には、駆動源により駆動される駆動ロールと駆動源に駆動されない自由回転ロールとがある。円筒体２０２及び２０４は自由回転ロールに取りつけられることが一般的であるが、自由回転ロールに代えて又は自由回転ロールに加えて駆動ロールに円筒体２０２及び２０４が取りつけられてもよい。
【００４１】
（光学フィルムの幅の変更の準備）
図３及び図４は、光学フィルム製造装置の準備のときに行われる光学フィルムの幅の変更の準備の手順を示す模式図である。
【００４２】
図３及び図４に示すように前回製造の光学フィルムＯＦのウエブＷの幅ＷＡと今回製造の光学フィルムＯＦのウエブの幅ＷＢとが異なる場合には、幅ＷＡのウエブＷの周辺部ＷＳが円筒体２０２及び２０４に乗り上げる図３に示す位置から幅ＷＢのウエブＷの周辺部ＷＳが円筒体２０２及び２０４に乗り上げる図４に示す位置へ円筒体２０２及び２０４がロールスラスト方向に移動させられ、円筒体２０２及び２０４のロールスラスト方向の位置が今回製造の光学フィルムＯＦのウエブＷの幅ＷＢに合わせて調整される。これにより、光学フィルムＯＦの幅が変更されても、周辺部ＷＳが円筒体２０２及び２０４に乗り上げる状態が維持される。すなわち、円筒体２０２及び２０４のロールスラスト方向の位置の調整により光学フィルムＯＦの幅の変更に対応でき、光学フィルムＯＦの幅の変更が容易になる。
【００４３】
熱可塑性樹脂は、特に制限されないが、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステルであることが望ましい。
【００４４】
溶媒も、特に制限されないが、良溶媒と貧溶媒との混合物であることが望ましい。熱可塑性樹脂がセルロースエステルである場合は、良溶媒にはメチレンクロライド等があり、貧溶媒にはメタノール、エタノール等がある。
【００４５】
添加剤には、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子等がある。可塑剤には、リン酸エステル系等がある。紫外線吸収剤には、ベンゾトリアゾール系等がある。微粒子には、アエロジル等がある。リタデーション調整剤その他の添加剤がドープにさらに添加されてもよい。
【００４６】
｛第２実施形態｝
（膜体）
第２実施形態は、第１実施形態のスリップ抑制用の円筒体に代えて採用されるスリップ抑制用の構造物の一例である膜体に関する。
【００４７】
図５は、スリップ抑制用の膜体が周面に形成された搬送ロールの模式図（斜視図）である。
【００４８】
図５に示すように、膜体３０２及び３０４は、ロールスラスト方向に離して周面２０８に形成され、ロール周方向に１周する。膜体３０２及び３０４は、周面２０８から溶剤で除去できる。膜体３０２及び３０４は、流動体からなる前駆体を周面２０８に塗布し硬化させることにより形成される。
【００４９】
膜体３０２及び３０４は、例えば、マトリクスにマット剤を分散させたマット層である。マトリクスは、マット剤を保持可能であって周面２０８に付加可能であれば制限されないが、例えば、ポリエステルとイソシアネート系硬化剤との混合物の硬化物等の樹脂である。マット剤は、例えば、シリコン樹脂粒子等の粉末である。マトリクスがポリエステルとイソシアネート系硬化剤との混合物の硬化物である場合には、アセトン等により膜体３０２及び３０４が周面２０８から除去される。前駆体は、例えば、樹脂及びマット剤を溶剤に溶解又は分散させた粘性流体である。膜体３０２の膜体外面３１０及び膜体３０４の膜体外面３１４は、マット剤が分散して露出し凹凸を有するマット面をなす。
【００５０】
（膜体の間隔及び高さ）
膜体３０２と膜体３０４との間のロールスラスト方向の間隔Ｄ１はウエブＷの幅Ｄ２よりも狭く、間隔Ｄ１は幅Ｄ２の８０〜９９％であることが望ましい。周面２０８からの膜体３０２及び３０４の高さＨ、すなわち、膜体３０２及び３０４の膜厚は１０μｍ以上で一定であることが望ましい。その理由は、円筒体２０２及び２０４の場合と同様である。
【００５１】
（光学フィルムの幅の変更の準備）
図６から図８までは、光学フィルム製造装置の準備のときに行われる光学フィルムの幅の変更の準備の手順を示す模式図である。
【００５２】
図６及び図８に示すように前回製造の光学フィルムＯＦのウエブＷの幅ＷＡと今回製造の光学フィルムＯＦのウエブの幅ＷＢとが異なる場合には、幅ＷＡのウエブＷの周辺部ＷＳが乗り上げる図６に示す位置に形成された古い膜体３０２及び３０４が溶媒で除去され（図７）、幅ＷＢのウエブＷの周辺部ＷＳが乗り上げる図８に示す位置に新しい膜体３０２及び３０４が形成され、膜体３０２及び３０４のロールスラスト方向の位置が今回製造の光学フィルムＯＦのウエブＷの幅ＷＢに合わせて調整される。これにより、光学フィルムＯＦの幅が変更されても、周辺部ＷＳが膜体３０２及び３０４に乗り上げる状態が維持される。すなわち、膜体３０２及び３０４のロールスラスト方向の位置の調整により光学フィルムＯＦの幅の変更に対応でき、光学フィルムＯＦの幅の変更が容易になる。
【００５３】
｛第３実施形態｝
第３実施形態は、第１実施形態のスリップ抑制用の円筒体に代えて採用されるスリップ抑制用の構造物の一例であるテープに関する。
【００５４】
図９は、スリップ抑制用のテープが周面に貼りつけられた搬送ロールの模式図（斜視図）である。
【００５５】
図９に示すように、テープ４０２及び４０４は、ロールスラスト方向に離して周面２０８に貼りつけられ、ロール周方向に約１周する。テープ４０２及び４０４は、周面２０８から剥がすことができる。テープ４０２及び４０４に代えてシリコン等からなるシートが周面２０８に貼りつけられてもよい。
【００５６】
テープ４０２及び４０４の材質は、それぞれ、テープ外面４１０及び４１４とウエブＷとの間に発生する摩擦力が周面２０８とウエブＷとの間に発生する摩擦力より大きくなるように選択される。テープ４０２及び４０４の材質は、例えば、クラフト紙である。テープ外面４１０及び４１４がマット面であってもよい。
【００５７】
（テープの幅及び高さ）
テープ４０２とテープ４０４との間のロールスラスト方向の間隔Ｄ１はウエブＷの幅Ｄ２よりも狭く、間隔Ｄ１は幅Ｄ２の８０〜９９％であることが望ましい。周面２０８からのテープ４０２及び４０４の高さＨ、すなわち、テープ４０２及び４０４の膜厚は１０μｍ以上で一定であることが望ましい。その理由は、円筒体２０２及び２０４の場合と同様である。
【００５８】
（光学フィルムの幅の変更の準備）
図１０から図１２までは、光学フィルム製造装置の準備のときに行われる光学フィルムの幅の変更の準備の手順を示す模式図である。
【００５９】
図１０及び図１２に示すように、前回製造の光学フィルムＯＦのウエブＷの幅ＷＡと今回製造の光学フィルムＯＦのウエブの幅ＷＢとが異なる場合には、幅ＷＡのウエブＷの周辺部ＷＳが乗り上げる図１０に示す位置に貼りつけられた古いテープ４０２及び４０４が剥がされ（図１１）、幅ＷＢのウエブＷの周辺部ＷＳが乗り上げる図１２に示す位置に新しいテープ４０２及び４０４が貼りつけられ、テープ４０２及び４０４のロールスラスト方向の位置が今回製造の光学フィルムＯＦのウエブＷの幅ＷＢに合わせて調整される。新しいテープを貼りつけることには、古いテープを再利用して貼りつけることも含まれる。これにより、光学フィルムＯＦの幅が変更されても、周辺部ＷＳがテープ４０２及び４０４に乗り上げる状態が維持される。すなわち、テープ４０２及び４０４のロールスラスト方向の位置の調整により光学フィルムＯＦの幅の変更に対応でき、光学フィルムＯＦの幅の変更が容易になる。
【００６０】
｛第４実施形態｝
第４実施形態は、第１実施形態のスリップ抑制用の円筒体に代えて採用されるスリップ抑制用の構造物の一例であるニップロールに関する。
【００６１】
図１３は、スリップ抑制用のニップロールが周面に接触する搬送ロールの模式図（斜視図）である。
【００６２】
図１３に示すように、ニップロール５０２及び５０４は、ロールスラスト方向に離して周面２０８に接触させられる。ニップロール５０２及び５０４は、ロールスラスト方向に移動できる。
【００６３】
（ニップロールの間隔）
ニップロール５０２とニップロール５０４との間のロールスラスト方向の間隔Ｄ１はウエブＷの幅Ｄ２よりも狭く、間隔Ｄ１は幅Ｄ２の８０〜９９％であることが望ましい。その理由は、円筒体２０２及び２０４の場合と同様である。
【００６４】
（光学フィルムの幅の変更の準備）
図１４及び図１５は、光学フィルム製造装置の準備のときに行われる光学フィルムの幅の変更の準備の手順を示す図である。
【００６５】
図１４及び図１５に示すように前回製造の光学フィルムＯＦのウエブＷの幅ＷＡと今回製造の光学フィルムＯＦのウエブＷの幅ＷＢとが異なる場合には、幅ＷＡのウエブＷの周辺部ＷＳをニップする図１４に示す位置から幅ＷＢのウエブＷの周辺部ＷＳをニップする図１５に示す位置へニップロール５０２及び５０４が移動され、ニップロール５０２及び５０４のロールスラスト方向の位置が今回製造の光学フィルムＯＦのウエブＷの幅ＷＢに合わせて調整される。これにより、光学フィルムＯＦの幅が変更されても、周辺部ＷＳがニップロール５０２及び５０４にニップされる状態が維持される。すなわち、ニップロール５０２及び５０４のロールスラスト方向の位置の調整により光学フィルムＯＦの幅の変更に対応でき、光学フィルムＯＦの幅の変更が容易になる。
【実施例】
【００６６】
（概略）
図１に示す光学フィルム製造装置１００を使用して、表１〜８に示す搬送速度でウエブＷを搬送しながら表１〜８に示す膜厚のセルロールトリアセテートフィルム（以下では「ＴＡＣフィルム」という。）を製造した。表１〜８には、スリップ抑制用の構造物の種類及び高さも示される。「構造物の種類」の欄の「なし」は、スリップ抑制用の構造物が使用されなかったことを意味し、「溝」は、スリップ抑制用の構造物が使用されず、周面２０８のうち周辺部ＷＳが接触する部分に溝が形成されたことを意味する。表１〜５のスリップ抑制用の構造物のロールスラスト方向の間隔は、光学フィルムのウエブの幅の９５〜９８％とした。比率に幅があるのは、剥離から巻き取りまでにウエブの幅が変わるため、比率が多少変動するためである。表７の場合は、７５〜９５％であった。【００６７】
ドープの成分及び各成分の含有量を以下に示す。【００６８】
セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度とプロピオニル基置換度との合計が２．４５）（Ｍｎ＝６００００，Ｍｗ＝１８００００，Ｍｗ／Ｍｎ＝３．００）：１００重量部
トリフェニルホスフェート：８重量部
エチルフタリルエチルグリコート（ＥＰＥＧ）：４重量部
チヌビン（登録商標）１０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）：０．５重量部
チヌビン（登録商標）１７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）：０．５重量部
メチレンクロライド：４１８重量部
メタノール：２３重量部
アエロジル（日本アエロジル株式会社製 AEROSIL R972V）：０．１重量部。【００６９】
第１の乾燥ゾーン１１２及び第２の乾燥ゾーン１１６における乾燥温度は、それぞれ、９０℃及び１２５℃とした。テンター１１４における延伸は、残留溶媒量１０％のときに１２０℃の雰囲気中で流延膜ＣＦが幅方向に１．３倍に延伸される条件で行った。【００７０】
エンドレスベルト１０６の材質はＳＵＳ３１６とし、エンドレスベルト外面１３０は超鏡面とした。また、コートハンガーダイを流延ダイ１２０として使用した。【００７１】
製造したＴＡＣフィルムの面内リタデーションのばらつきΔＲ0及びクロスニコルむらを評価した。【００７２】
面内リタデーションのばらつきΔＲ0の評価にあたっては、製造したＴＡＣフィルムを温度が２３℃で湿度が５５％ＲＨの環境下に２４時間放置した。【００７３】
続いて、５９０ｎｍにおけるＴＡＣフィルムのリタデーションを自動複屈折計（王子計測機器株式会社製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）で測定した。また、アッベ屈折率計で測定したＴＡＣフィルムの構成材料の平均屈折率と膜厚ｄから面内リタデーションＲ0を算出し、ＴＡＣフィルムの幅方向の両端から２０ｍｍ離れた中央領域における面内リタデーションのばらつきΔＲ0を特定した。表１〜表７には、幅ＷＡのＴＡＣフィルムの面内リタデーションのばらつきΔＲ0（ＷＡ）に対する幅ＷＢのＴＡＣフィルムの面内リタデーションのばらつきΔＲ0（ＷＢ）の比ΔＲ0（ＷＢ）／ΔＲ0（ＷＡ）を示した。幅ＷＢは幅ＷＡより広くし（ＷＡ＜ＷＢ）、幅ＷＡと幅ＷＢとの差ＷＢ−ＷＡは２００ｍｍ以上とした。幅が広くなるほど面内リタデーションのばらつきΔＲ０は大きくなるため、比ΔＲ0（ＷＢ）／ΔＲ0（ＷＡ）は１以上の値をとる。構造物の種類が溝である場合は、幅ＷＡのＴＡＣフィルムに重なるように溝の位置を決めた。【００７４】
クロスニコルムラの評価にあたっては、製造したＴＡＣフィルムを貼りつけた偏光板をクロスニコルから若干ずらした条件下で検査し、クロスニコルムラの有無を評価者の視覚で判定した。評価の基準を以下に示す。【００７５】
Ａ：全部の評価者がムラを発見しなかった、
Ｂ：一部の評価者がムラを発見した、
Ｃ：全部の評価者がムラを発見した。【００７６】
【表１】
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【００７７】
【表２】
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【００７８】
【表３】
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【００７９】
【表４】
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【００８０】
【表５】
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【００８１】
【表６】
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【００８２】
【表７】
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【００８３】
【表８】
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【００８４】
表１から表５までと表６から表８までとの対比から明らかなように、スリップ抑制用の構造物を使用した場合には、面内リタデーションのばらつきΔＲ0（ＷＢ）／ΔＲ0（ＷＡ）及びクロスニコルむらが小さく、物性の均一性が良好なＴＡＣフィルムが得られた。また、表１から表５までに示すように、搬送速度が８０〜３００ｍ／分となる高速搬送を行っても面内リタデーションのばらつきΔＲ0（ＷＢ）／ΔＲ0（ＷＡ）及びクロスニコルむらは小さかった。ただし、スリップ抑制用の構造物の種類が膜体であって搬送速度が３００ｍ／分となる高速搬送を行った試料２−７においては、ＴＡＣフィルムの１００ｍｍの長さ中に１０ヶ所のすり傷が発生していた。また、膜厚が２０〜６０又は８０μｍまで薄膜化されても面内リタデーションのばらつきΔＲ0（ＷＢ）／ΔＲ0（ＷＡ）及びクロスニコルむらは小さかった。なお、スリップ抑制用の構造物が使用されなかった場合又は構造物の高さが低い場合は、ＴＡＣフィルムの表面に傷が発生し、光学フィルムとして使用できるＴＡＣフィルムが得られなかったため、表６及び表８にはΔＲ0（ＷＢ）／ΔＲ0（ＷＡ）及びクロスニコルむらの評価結果が示されていない。【００８５】
本発明は詳細に示され記述されたが、上記の記述は全ての局面において例示であって限定的ではない。しがって、本発明の範囲からはずれることなく無数の修正及び変形が案出されうると解される。
【符号の説明】
【００８６】
１００  光学フィルム製造装置
１１０  搬送ローラ群
２０２，２０４  円筒体
２０６  搬送ローラ
２０８  周面
３０２，３０４  膜体
４０２，４０４  テープ
５０２，５０４  ニップロール
Ｗ  ウエブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【国際調査報告】
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