(57)【要約】本発明の基板支持装置（２）は、互いに平行に配されると共に各々の両端が軸支され、各々が回転可能であると共に静止可能な複数の軸ユニット（２１）と、各軸ユニット（２１）の各周方向に複数突出して設けられるピンであって、各軸方向に１本又は２本以上並んでピン列を構成してなり、各軸ユニット（２１）において当該ピン（２２）の軸方向が同一となる前記ピン列がそれぞれ各軸ユニット（２１）毎に選択されることによって、基板を支えるための支持パターンが複数種形成され、前記支持パターンを成す各々の先端で基板を支える複数の支持ピン（２２）と、前記支持パターンのうちの何れか１つを形成するために、各軸ユニット（２１）の回転角度を制御する制御部とを備える。
2012141082.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに平行に配されると共に各々の両端が軸支され、各々が回転可能であると共に静止可能な複数の軸ユニットと、  各軸ユニットの各周方向に複数突出して設けられるピンであって、各軸方向に１本又は２本以上並んでピン列を構成してなり、各軸ユニットにおいて当該ピンの軸方向が同一となる前記ピン列がそれぞれ各軸ユニット毎に選択されることによって、基板を支えるための支持パターンが複数種形成され、前記支持パターンを成す各々の先端で前記基板を支える複数の支持ピンと、  前記支持パターンのうちの何れか１つを形成するために、各軸ユニットの回転角度を制御する制御部と、を備えることを特徴とする基板支持装置。
【請求項２】
前記基板が、複数の第１領域と各第１領域を区切る第２領域とからなる領域パターンを含む表裏一対の板面と、表側の前記板面を覆う塗膜とを有し、  前記支持ピンは、前記支持パターンを成す際に、各々の先端が、前記基板の前記第２領域内に収まるように、各軸ユニットの各周面上に設けられている請求項１に記載の基板支持装置。
【請求項３】
前記基板が、前記領域パターンが互いに異なる複数種のものからなり、  前記支持ピンは、前記基板の種類毎に対応した支持パターンをそれぞれ形成する請求項２に記載の基板支持装置。
【請求項４】
前記軸ユニットが、それぞれ独立して回転角度を制御できる駆動源を有する請求項１ないし３のいずれか一項に記載の基板支持装置。
【請求項５】
前記支持ピンは、各軸ユニットの各周面上に、互いに同じパターンで設けられている請求項１ないし４のいずれか一項に記載の基板支持装置。
【請求項６】
前記支持ピンに前記支持パターンを形成させるための支持パターン情報が予め記憶されている記憶部を備え、  前記制御部は、前記支持パターン情報に基づいて、各軸ユニットの回転角度を制御する請求項１ないし５のいずれか一項に記載の基板支持装置。
【請求項７】
前記基板が表示パネル用であり、前記第１領域が表示領域からなり、前記第２領域が非表示領域からなる請求項２ないし６のいずれか一項に記載の基板支持装置。
【請求項８】
前記塗膜がレジスト材料からなる請求項２ないし７のいずれか一項に記載の基板支持装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか一項に記載の基板支持装置と、  前記基板支持装置が収容される乾燥室と、を備える乾燥装置。
【請求項１０】
前記乾燥室は、減圧下で乾燥を行う請求項９に記載の乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、基板支持装置、及び乾燥装置に関する。
【背景技術】
【０００２】  液晶パネルは、液晶層を挟んで互いに向かい合う一対のガラス基板を備えている。これらのガラス基板上には、配線パターン、電極パターン等のパターンが形成されている。このようなガラス基板上のパターンは、一般的に、フォトリソグラフィ技術を利用して形成されている。【０００３】  フォトリソグラフィ技術は、パターン形成対象物上にパターン状のマスクを形成し、このマスクを介してエッチングを行うことによって、前記パターン形成対象物上にパターンを形成する技術である。そのため、フォトリソグラフィ技術を利用してガラス基板上にパターンを形成する場合、先ず、ガラス基板上にパターン状のマスクが形成される。【０００４】  ところで、このマスクは、フォトレジスト材料からなる層が、パターン状に加工されたものからなる。フォトレジスト材料は、感光性を有する物質を所定の溶剤に溶解させたもの等からなり、当初は流動性を備えている。そのため、パターン状の前記マスクを形成する度に、流動性を備えた状態のフォトレジスト材料が、ガラス基板上に塗布されている。【０００５】  ガラス基板上に塗布されたフォトレジスト材料は、その後、特許文献１に示されるように、乾燥室内で乾燥される。このような乾燥は、特許文献１に示されるように、減圧された乾燥室内で行われる。なお、乾燥室内において、前記ガラス基板は、その裏面側から複数本の支持ピンを備えた支持装置によって支えられている。【０００６】  なお、特許文献１に示されるように、前記ガラス基板が支持ピンによって支えられている部分と、その他の部分とでは、温度差が発生することが知られている。このような温度差が発生すると、フォトレジスト材料の乾燥速度に差がついてしまい、フォトレジスト材料からなる塗膜（層）に、乾燥ムラが発生する。そこで、特許文献１では、乾燥室内で、ガラス基板上のフォトレジスト材料を乾燥している最中に、前記ガラス基板を支える支持ピンの位置を、適宜、変更している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−１１１２３４号公報
【０００８】（発明が解決しようとする課題）  フォトレジスト材料が塗布されたガラス基板を、乾燥室内で乾燥させる際に、前記ガラス基板を複数本の支持ピンによって支えるパターン（支持パターン）は、前記ガラス基板の種類に応じて異なっている。そのため、乾燥対象とされる前記ガラス基板として、複数種のものがある場合、その種類毎に、それぞれ別途、前記ガラス基板を支持する装置を用意する必要があり、問題となっている。
【発明の概要】
【０００９】  本発明の目的は、複数本の支持ピンからなり基板を支えるための支持パターンを、複数種形成可能な技術を提供することである。
【００１０】（課題を解決するための手段）  本発明に係る基板支持装置は、互いに平行に配されると共に各々の両端が軸支され、各々が回転可能であると共に静止可能な複数の軸ユニットと、各軸ユニットの各周方向に複数突出して設けられるピンであって、各軸方向に１本又は２本以上並んでピン列を構成してなり、各軸ユニットにおいて当該ピンの軸方向が同一となる前記ピン列がそれぞれ各軸ユニット毎に選択されることによって、基板を支えるための支持パターンが複数種形成され、前記支持パターンを成す各々の先端で前記基板を支える複数の支持ピンと、前記支持パターンのうちの何れか１つを形成するために、各軸ユニットの回転角度を制御する制御部と、を備えることを特徴とする。
【００１１】  前記基板支持装置において、前記基板が、複数の第１領域と各第１領域を区切る第２領域とからなる領域パターンを含む表裏一対の板面と、表側の前記板面を覆う塗膜とを有し、前記支持ピンは、前記支持パターンを成す際に、各々の先端が、前記基板の前記第２領域内に収まるように、各軸ユニットの各周面上に設けられてもよい。前記基板支持装置は、前記支持ピンが、前記支持パターンを成す際に、各々の先端が、前記基板の裏側における前記第２領域内に収まるように、各軸ユニットの各周面上に設けられるため、少なくとも第１領域上を覆う部分の塗膜が、各支持ピンの先端からの影響を受けにくい。
【００１２】  前記基板支持装置において、前記基板が、前記領域パターンが互いに異なる複数種のものからなり、前記支持ピンは、前記基板の種類毎に対応した支持パターンをそれぞれ形成することが好ましい。
【００１３】  前記基板支持装置において、前記軸ユニットが、それぞれ独立して回転角度を制御できる駆動源を有してもよい。前記基板支持装置において、前記軸ユニットが、それぞれ独立して回転角度を制御できる駆動源を有していると、各軸ユニットにおける各支持ピンによって形成できる支持パターンの種類を増加できる。
【００１４】  前記基板支持装置において、前記支持ピンは、各軸ユニットの各周面上に、互いに同じパターンで設けられていてもよい。各軸ユニットの各周面上に、支持ピンが互いに同じパターンで設けられていると、用意すべき軸ユニットの種類を削減できる。
【００１５】  前記基板支持装置において、前記支持ピンに前記支持パターンを形成させるための支持パターン情報が予め記憶されている記憶部を備え、前記制御部は、前記支持パターン情報に基づいて、各軸ユニットの回転角度を制御してもよい。
【００１６】  前記基板支持装置において、前記基板が表示パネル用であり、前記第１領域が表示領域からなり、前記第２領域が非表示領域からなるものであってもよい。
【００１７】  前記基板支持装置において、前記塗膜がレジスト材料からなるものであってもよい。
【００１８】  本発明に係る乾燥装置は、前記基板支持装置と、前記基板支持装置が収容される乾燥室と、を備える。
【００１９】  前記乾燥装置において、前記乾燥室は、減圧下で乾燥を行うものであってもよい。
【００２０】（発明の効果）  本発明によれば、複数本の支持ピンからなる基板を支えるための支持パターンを、複数種形成可能な技術を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の実施形態１に係る基板支持装置を備えた乾燥装置の概略構成を模式的に表した説明図
【図２】基板支持装置の斜視図
【図３】軸方向から見た軸ユニットの説明図
【図４】各軸ユニット上の支持ピンが第１支持パターンを成した状態を示す説明図
【図５】第１支持パターンによって支持されるガラス基板の平面図
【図６】各軸ユニット上の支持ピンが第２支持パターンを成した状態を示す説明図
【図７】第２支持パターンによって支持されるガラス基板の平面図
【図８】実施形態２に係る基板支持装置の概略構成を模式的に表した説明図
【図９】各軸ユニット上の支持ピンが第３支持パターンを成した状態を示す説明図
【図１０】第３支持パターンによって支持されるガラス基板の平面図
【発明を実施するための形態】
【００２２】＜実施形態１＞  本発明の実施形態１を、図１ないし図９を参照しつつ説明する。図１は、本発明の実施形態１に係る基板支持装置２を備えた乾燥装置１の概略構成を模式的に表した説明図である。図１に示されるように、乾燥装置１は、主として、乾燥室３と、この乾燥室３内に収容された状態で使用される基板支持装置２とを備えている。
【００２３】  乾燥装置１は、ガラス基板（基板の一例）４の表面４１上に塗布されているフォトレジスト材料からなる層（以下、レジスト層）（塗膜の一例）Ｒを、乾燥室３内で乾燥させる装置である。ガラス基板４は、その裏面４２側から、乾燥室３内で、基板支持装置２によって支えられる。ガラス基板４上のレジスト層Ｒは、減圧された乾燥室３内で、基板支持装置２によって支持された状態で乾燥される。
【００２４】  図２は、基板支持装置２の斜視図である。図２に示されるように、基板支持装置２は、複数本（本実施形態では、３本）の軸ユニット２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ）を備えている。各軸ユニット２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ）は、それぞれ円柱状の本体部２３（２３Ａ，２３Ｂ，２３Ｃ）と、各本体部２３（２３Ａ，２３Ｂ，２３Ｃ）の中心部を通ると共に、各本体部２３の両端部から、それらの一部が突出した軸部２４（２４Ａ，２４Ｂ，２４Ｃ）とを備えている。
【００２５】  各軸ユニット２１は、その本体部２３の両端部から突出している部分の軸部２４，２４が、支持部材２７，２７によって軸支されている。支持部材２７，２７は、互いに平行に配されている。各軸ユニット２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ）は、それぞれ回転可能に軸支されている。そして、３本の軸ユニット２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ）は、何れもこれらの支持部材２７，２７によって軸支された状態で、互いに平行に配されている。なお、隣り合った軸ユニット２１同士の間には、所定の間隔が設けられている。この間隔は、後述する支持パターンを考慮して、適宜、設定されている。また、図１に示されるように、支持部材２７は、乾燥室３の底に立設されている支柱２８によって、水平を保った状態で固定されている。
【００２６】  図２に示されるように、支持部材２７に軸支されている各軸ユニット２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ）の一方の端部（軸部）２４（２４Ａ，２４Ｂ，２４Ｃ）には、それぞれプーリ２５（２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃ）が取り付けられている。これらのプーリ２５（２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃ）は、互いに間隔をおいて一列に並ぶように配されている。そしてその列の延長線上には、モータ６が備える出力軸６１の先端部６２が配されている。このモータ（駆動源の一例）６は、例えば、サーボモータからなり、制御部７によって、その駆動が制御される。そして、各プーリ２５（２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃ）と、モータ６の先端部６２とには、継ぎ目のない環状の（所謂、シームレス状の）伝達ベルト２６が架けられている。つまり、モータ６の出力が、伝達ベルト２６を介して各軸ユニット２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ）に伝達されるように構成されている。なお、モータ６の駆動を制御する制御部７は、例えば、ＣＰＵを中心として構成されたマイクロコンピュータからなる。
【００２７】  図２に示されるように、各軸ユニット２１の本体部２３の表面上には、複数本の支持ピン２２が設けられている。各支持ピン２２は、本体部２３の表面（周面）から外側に向かって真っ直ぐに突出するように設けられている。これらの支持ピン２２は、各軸ユニット２１の本体部２３の周面上に、それぞれ規則的に設けられている。なお、支持ピン２２は、合成樹脂製、金属製等の公知の材料から形成される。ここで、軸ユニット２１Ａを例に挙げて、その本体部２３Ａの周面上に規則的に設けられる支持ピン２２について、説明する。
【００２８】  図２に示されるように、軸ユニット２１Ａの本体部２３Ａ上には、合計６本の支持ピン２２が立設されている。これらの支持ピン２２は、設けられる個所の違いによって３組に分けられる。1つ目の組は、１本の支持ピン２２Ａ１からなり、２つ目の組は、２本の支持ピン２２Ａ２，２２Ａ２からなり、３つ目の組は、３本の支持ピン２２Ａ３，２２Ａ３，２２Ａ３からなる。
【００２９】  １つ目の組における１本の支持ピン２２Ａ１は、円柱状の本体部２３Ａの軸方向における略中央部分に突出するように設けられている。また、２つ目の組における２本の支持ピン２２Ａ２，２２Ａ２は、本体部２３Ａの軸方向に沿って一列に並んで突出するように設けられている。そして、これらの支持ピン２２Ａ２，２２Ａ２は、円柱状の本体部２３Ａを三等分するような位置に設けられている。また、３つ目の組における３本の支持ピン２２Ａ３，２２Ａ３，２２Ａ３は、本体部２３Ａの軸方向に沿って一列に並んで突出するように設けられている。これら３本の支持ピン２２Ａ３のうち、１本の支持ピン２２Ａ３は、円柱状の本体部２３Ａの軸方向における略中央部分に設けられている。そして、残りの２本の支持ピン２２Ａ３，２２Ａ３は、本体部２３Ａの端側に、それぞれ設けられている。
【００３０】  上述した１つ目の組における支持ピン２２Ａ１は、１本で１つのピン列を構成している。また、２つ目の組における支持ピン２２Ａ２は、２本で１つのピン列を構成している。また、３つ目の組における支持ピン２２Ａ３は、３本で１つのピン列を構成している。なお、本明細書における「ピン列」は、各軸ユニット２１の軸方向に、１本の又は２本以上並んだ支持ピン２２によって形成されるものとする。
【００３１】  図３は、軸方向から見た軸ユニット２１Ａの説明図である。図３に示されるように、支持ピン２２Ａ１からなるピン列２００（２００Ａ１）と、支持ピン２２Ａ２からなるピン列２００（２００Ａ２）と、支持ピン２２Ａ３からなるピン列２００（２００Ａ３）とが、軸ユニット２１Ａの周方向において互いに間隔を保って、本体部２３Ａの周面上にそれぞれ配されている。本実施形態において、ピン列２００同士は、互いに１２０°の角度を保つように本体部２３Ａの周面上に配されている。
【００３２】  なお、図２に示されるように、他の軸ユニット２１（２１Ｂ，２１Ｃ）にも、軸ユニット２１Ａと同様の規則に従って、複数の支持ピン２２（２２Ｂ１，２２Ｂ２，２２Ｂ３，２２Ｃ１，２２Ｃ２，２２Ｃ３）が設けられている。本実施形態においては、各軸ユニット２１に設けられている支持ピン２２の本数、及びそれらが設けられている個所は、何れも同じに設定されている。つまり、３本の軸ユニット２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ）同士は、互いに同じ形状である。そのため、本実施形態の場合、１種類の軸ユニット２１が、３本利用されている。
【００３３】  軸ユニット２１は、その本体部２３Ａの周面上に設けられている各支持ピン２２を、ピン列毎に、直立した状態で静止できるように構成されている。そして直立した状態の各支持ピン２２の先端が、基板４を支持するために、その裏面４２と接触できるように構成されている。なお、軸ユニット２１の端部には、軸ユニット２１の回転を防止するロック機構（不図示）が設けられており、このロック機構等によって、軸ユニット２１の回転が必要に応じて防止される。
【００３４】  また、図３に示されるように、軸ユニット２１が回転すると、直立した状態で静止するピン列が他のものに切り替わるように構成されている。なお、図３には、反時計回りに回転する軸ユニット２が示されているが、他の実施形態においては、軸ユニット２は反対回り（つまり、時計回り）に回転するように構成されてもよい。
【００３５】  モータ６が制御部７（図１参照）からの指令を受けて駆動すると、その出力軸６１が回転して、その先端部６２から伝達ベルト２６に力が伝えられる。すると、伝達ベルト２６が回転し始め、更にこの伝達ベルト２６に連動して、各軸ユニット２１が備えている各プーリ２５もそれぞれ回転し始める。すると、各プーリ２５の回転に伴って、各軸ユニット２１もそれぞれ回転し始める。本実施形態の場合、各軸ユニット２１は、互いに同じタイミングで、同じ角度回転するように構成されている。なお、各軸ユニット２１の回転角度は、モータ6の駆動（回転）に応じて、適宜、調整される。
【００３６】  このように、モータ６を駆動させると、各軸ユニット２１をそれぞれ所定の角度だけ回転させることができる。なお、各軸ユニット２１を、所定の角度だけ回転させるためにモータ６を駆動させる必要な情報（支持パターン情報）は、予め記憶部５に記憶されている。制御部７は、必要に応じて、記憶部５から前記情報を取得し、その取得された情報に基づいて、各軸ユニット２１の回転角度を調整する。
【００３７】  基板支持装置２において、各軸ユニット２１における各支持ピン２２の軸方向が同一となるピン列２００が、それぞれ各軸ユニット２１毎に選択されることによって、基板４を支えるための支持パターン（第１支持パターン）が形成される。後述するように、本実施形態の基板支持装置２は、他の基板４Ｘを支持するための支持パターン（第２支持パターン）も更に形成できる。つまり、基板支持装置２は、１つの装置で、２種類の基板４，４Ｘにそれぞれ対応した、２種類の支持パターンを形成できる。
【００３８】  ここで、図４及び図５を参照しつつ、基板４を支えるために、基板支持装置２によって形成される第１支持パターンについて説明する。図４は、各軸ユニット２１上の支持ピン２２が第１支持パターンを成した状態を示す説明図であり、図５は、第１支持パターンによって支持されるガラス基板４の平面図である。図４に示されるように、軸ユニット２１Ａでは、ピン列２００Ａ２における２本の支持ピン２２Ａ２，２２Ａ２が直立した状態にあり、軸ユニット２１Ｂでは、ピン列２００Ｂ２における２本の支持ピン２２Ｂ２，２２Ｂ２が直立した状態にあり、軸ユニット２１Ｃでは、ピン列２００Ｃ２における２本の支持ピン２２Ｃ２，２２Ｃ２が直立した状態にある。なお、支持ピン２２が直立した状態とは、支持ピン２２の先端が上方を向くと共に、その軸方向が鉛直方向に沿った状態のことである。
【００３９】  図４に示される各軸ユニット２１は、それぞれ２本の支持ピン２２からなるピン列２００が選択された状態にある。これらの直立した状態にある合計６本の支持ピン２２（２２Ａ２，２２Ａ２，２２Ｂ２，２２Ｂ２，２２Ｃ２，２２Ｃ２）が、基板４を支えるための第１支持パターンを成している。
【００４０】  図５に示されるように、基板４の表面４１上には、レジスト層Ｒがその全面に形成されている。また、基板４の表面４１上には、複数個（６個）の表示領域（第１領域の一例）４３が互いに間隔を保った状態で割り当てられている。これら６個の表示領域４３は、基板４の表面上に、横三列及び縦二列の状態で並べられている。各表示領域４３は、何れも同じ矩形状であり、同じ大きさに設定されている。
【００４１】  そして、各表示領域４３を区切るように、非表示領域（第２領域の一例）４４が、基板４の表面４１上に配されている。非表示領域４４は、各表示領域４３をそれぞれ取り囲むような枠状の領域からなる。つまり、基板４の表面４１上には、表示領域４３と非表示領域４４とからなる領域パターンが形成されている。なお、説明の便宜上、図５には、レジスト層Ｒの下側にある表示領域４３及び非表示領域４４からなる領域パターンが図示されている。
【００４２】  本実施形態における基板４は、液晶パネル（表示パネルの一例）に利用される複数のガラス基板を、まとめて製造するための基板（所謂、マザーガラス基板）である。上述した各表示領域４３は、各液晶パネルに備えられる表示領域に対応している。
【００４３】  図５に示されるように、基板４は、その裏面４２側から、上述した第１支持パターンを成す６本の支持ピン２２（２２Ａ２，２２Ａ２，２２Ｂ２，２２Ｂ２，２２Ｃ２，２２Ｃ２）によって支えられる。なお、基板４は、ロボットアーム等を利用して、第１支持パターンを成す各支持ピン２２の先端上に載せられる。各支持ピン２２の先端は、基板４の非表示領域４４内に収まるように配されている。非表示領域４４は、電極パターン等が形成されない個所であるため、非表示領域４４上を覆っている部分のレジスト層Ｒは実質的に、不要である。そのため、この非表示領域４４上のレジスト層Ｒに乾燥ムラが生じても、電極パターン等の形成に問題は生じない。本実施形態の場合、表示領域４３内に各支持ピン２２の先端が配されていないため、少なくとも表示領域４３上を覆っている部分のレジスト層Ｒに乾燥ムラは生じない。したがって、基板４を支える際に、各支持ピン２２は、非表示領域４４内に収まるように配されている。
【００４４】  なお、図４に示される各支持ピン２２からなる第１支持パターンは、基板４に形成される前記領域パターンを考慮して、予め設定されているものである。つまり、第１支持パターンは、各支持ピン２２の先端が、非表示領域４４内に収まるように予め設定されている。この他に、第１支持パターンは、基板４を水平な状態で安定して支持できること等も考慮されて、予め設定されている。そして、このような第１支持パターンを成す各支持ピン２２が、各軸ユニット２１の周面上における所定の個所に、それぞれピン列２００Ａ２，２００Ｂ２，２００Ｃ２として割り当てられている。
【００４５】  以上のように、基板支持装置２は、複数本の支持ピン２２からなり、基板４を支えるための第１支持パターンを形成できるように構成されている。
【００４６】  次いで、図６及び図７を参照しつつ、他の基板４Ｘを支えるために、基板支持装置２によって形成される支持パターン（第２支持パターン）について説明する。図６は、各軸ユニット２１上の支持ピン２２が第２支持パターンを成した状態を示す説明図であり、図７は、第２支持パターンによって支持されるガラス基板４Ｘの平面図である。図６に示されるように、軸ユニット２１Ａでは、ピン列２００Ａ３における３本の支持ピン２２Ａ３，２２Ａ３，２２Ａ３が直立した状態にある。また、軸ユニット２１Ｂでは、ピン列２００Ｂ３における３本の支持ピン２２Ｂ３，２２Ｂ３，２２Ｂ３が直立した状態にある。また、軸ユニット２１Ｃでは、ピン列２００Ｃ３における３本の支持ピン２２Ｃ３，２２Ｃ３，２２Ｃ３が直立した状態にある。
【００４７】  図６に示される各軸ユニット２１は、それぞれ３本の支持ピン２２からなるピン列２００が選択された状態にある。そして、これらの直立した状態にある合計９本の支持ピン２２（２２Ａ３，２２Ａ３，２２Ａ３，２２Ｂ３，２２Ｂ３，２２Ｂ３，２２Ｃ３，２２Ｃ３，２２Ｃ３）が、基板４Ｘを支えるための第２支持パターンを成している。
【００４８】  図７に示されるように、基板４Ｘの表面４１Ｘ上には、レジスト層Ｒがその全面に形成されている。この基板４Ｘの大きさは、上述した基板４のものと同じである。また、基板４Ｘの表面４１Ｘ上には、複数個（２個）の表示領域（第１領域の一例）４３Ｘが互いに間隔を保った状態で割り当てられている。これら２個の表示領域４３Ｘは、基板４Ｘの表面４１Ｘ上に、横一列の状態で並べられている。各表示領域４３Ｘは何れも同じ矩形状であり、同じ大きさに設定されている。なお、表示領域４３Ｘの大きさは、上述した基板４における表示領域４３よりも大きく設定されている。
【００４９】  各表示領域４３Ｘを区切るように非表示領域（第２領域の一例）４４Ｘが、基板４Ｘの表面４１Ｘ上に配されている。非表示領域４４Ｘは、各表示領域４３Ｘをそれぞれ取り囲むような枠状の領域からなる。このように、基板４Ｘの表面４１Ｘ上には、表示領域４３Ｘと非表示領域４４Ｘとからなる領域パターンが形成されている。つまり、基板４Ｘには、上述の基板４における領域パターンとは、異なった領域パターンが形成されている。なお、説明の便宜上、図７には、レジスト層Ｒの下側にある表示領域４３Ｘ及び非表示領域４４Ｘからなる領域パターンが図示されている。
【００５０】  基板４Ｘも、上述した基板４と同様、液晶パネル（表示パネルの一例）に利用される複数のガラス基板を、まとめて製造するための基板（所謂、マザーガラス基板）からなる。上述した各表示領域４３Ｘは、各液晶パネルに備えられる表示領域に対応している。
【００５１】  図７に示されるように、基板４Ｘは、その裏面４２Ｘ側から、上述した第２支持パターンを成す９本の支持ピン２２（２２Ａ３，２２Ａ３，２２Ａ３，２２Ｂ３，２２Ｂ３，２２Ｂ３，２２Ｃ３，２２Ｃ３，２２Ｃ３）によって支えられる。なお、基板４Ｘは、ロボットアーム等を利用して、第２支持パターンを成す各支持ピン２２の先端上に載せられる。各支持ピン２２の先端は、基板４Ｘの非表示領域４４Ｘ内に収まるように配されている。非表示領域４４Ｘは、上述したように、電極パターン等が形成されない個所であるため、非表示領域４４Ｘ上を覆っている部分のレジスト層Ｒは不要である。そのため、この非表示領域４４Ｘ上のレジスト層Ｒに乾燥ムラが生じても、電極パターン等の形成に問題は生じない。本実施形態の場合、表示領域４３Ｘ内に各支持ピン２２の先端が配されていないため、少なくとも表示領域４３Ｘ上を覆っている部分のレジスト層Ｒに乾燥ムラは生じない。したがって、基板４Ｘを支える際に、各支持ピン２２は、非表示領域４４Ｘ内に収まるように配されている。
【００５２】  なお、図６に示される各支持ピン２２からなる第２支持パターンは、基板４Ｘに形成される前記領域パターンを考慮して、予め設定されているものである。つまり、第２支持パターンは、各支持ピン２２の先端が非表示領域４４Ｘ内に収まるように予め設定されている。この他に、第２支持パターンは、基板４Ｘを水平な状態で安定して支持できること等も考慮されて、予め設定されている。そして、このような第２支持パターンを成す各支持ピン２２が、各軸ユニット２１の周面上における所定の個所に、それぞれピン列２００Ａ３，２００Ｂ３，２００Ｃ３として割り当てられている。
【００５３】  以上のように、基板支持装置２は、複数本の支持ピン２２からなり、基板４Ｘを支えるための第２支持パターンを形成できるように構成されている。
【００５４】  本実施形態の基板支持装置２は、１つの装置で、２種類の支持パターン（第１支持パターン及び第２支持パターン）を形成することができる。そして基板支持装置２Ａは、それらの支持パターンを利用して、２種類の基板４，４Ｘを、少なくとも各表示領域４３，４３Ｘ上を覆う部分のレジスト層Ｒにおける乾燥ムラを抑制しつつ、支持できる。したがって、基板支持装置２によれば、各基板４，４Ｘの種類に応じて、別個に支持装置を用意する必要がない。また、基板支持装置２は、支持パターンを変更する場合、各軸ユニット２１を所定角度回転させればよい。したがって、支持パターン同士の切り替えを容易に行うことができる。なお、基板支持装置２を、基板の種類が異なる毎に、乾燥室から出し入れする必要もない。
【００５５】＜実施形態２＞  次いで、本発明の実施形態２を、図１０を参照しつつ説明する。図１０は、実施形態２に係る基板支持装置２Ａの概略構成を模式的に表した説明図である。この基板支持装置２Ａは、上述した実施形態１のものと同様、図１に示される乾燥室３内に設置されて利用されるものである。また、基板支持装置２Ａの基本的な構成は、概ね実施形態１のものと同様である。ただし、本実施形態の基板支持装置２Ａは、各軸ユニット２１の端部に、それぞれ駆動源としてのモータ６３（６３Ａ，６３Ｂ，６３Ｃ）が取り付けられており、各軸ユニット２１が独立して回転できるように構成されている点が主に異なっている。以下、この点について説明する。
【００５６】  図１０に示されるように、各軸ユニット２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ）の各軸部２４（２４Ａ，２４Ｂ，２４Ｃ）は、直接、モータ６３（６３Ａ，６３Ｂ，６３Ｃ）の出力軸に接続されている。そして、各モータ６３の駆動は、制御部７によって制御されている。なお、本実施形態における各軸ユニット２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ）も、実施形態１と同様、図示されない支持部材によって軸支されている。
【００５７】  本実施形態の場合、各軸ユニット２１を回転させる角度（回転条件）は、それぞれ異なるように設定できる。例えば、軸ユニット２１Ａを反時計回りに１２０°回転させ、軸ユニット２１Ｂを反時計回りに２４０°回転させ、軸ユニット２１Ｃを回転させない（つまり、０°）ように、各モータ６３（６３Ａ，６３Ｂ，６３Ｃ）の駆動を制御することもできる。なお、各軸ユニット２１を、それぞれ同じ回転条件（回転角度）で回転させることも可能である。
【００５８】  各軸ユニット２１を、所定の角度だけ回転させるために、モータ６３を駆動させる必要な情報（支持パターン情報）は、予め記憶部５に記憶されている。制御部７は、必要に応じて、記憶部５から前記情報を取得し、その取得された情報に基づいて、各軸ユニット２１の回転角度を調整する。
【００５９】  本実施形態の基板支持装置２Ａは、各支持ピン２２によって、上述した実施形態１における第１支持パターン（図４参照）、第２支持パターン（図６参照）をそれぞれ形成できる。更に、本実施形態の基板支持装置２Ａは、他の基板４Ｙを支えるための支持パターン（第３支持パターン）も形成できる。
【００６０】  ここで、図９及び図１０を参照しつつ、基板Ｙを支えるために、基板支持装置２Ａによって形成される第３支持パターンについて説明する。図９は、基板支持装置２Ａにおける各軸ユニット２１上の支持ピン２２が第３支持パターンを成した状態を示す説明図であり、図１０は、第３支持パターンによって支持されるガラス基板４Ｙの平面図である。
【００６１】  図９に示されるように、軸ユニット２１Ａでは、ピン列２００Ａ２における２本の支持ピン２２Ａ２，２２Ａ２が直立した状態にある。また、軸ユニット２１Ｂでは、ピン列２００Ｂ３における３本の支持ピン２２Ｂ３，２２Ｂ３，２２Ｂ３が直立した状態にある。また、軸ユニット２１Ｃでは、ピン列２００Ｃ１における１本の支持ピン２２Ｃ１が直立した状態にある。
【００６２】  図９に示されるように、軸ユニット２１Ａでは、２本の支持ピン２２からなるピン列２００が選択され、軸ユニット２１Ｂでは、３本の支持ピンからなるピン列２００が選択され、軸ユニット２１Ｃでは、１本の支持ピンからなるピン列が選択された状態にある。そして、これらの直立した状態にある合計６本の支持ピン２２（２２Ａ２，２２Ａ２，２２Ｂ３，２２Ｂ３，２２Ｂ３，２２Ｃ１）が、基板４Ｙを支えるための第３支持パターンを成している。
【００６３】  図１０に示されるように、基板４Ｙの表面４１Ｙ上には、レジスト層Ｒがその全面に形成されている。この基板４Ｙの大きさは、上述した基板４のものと同じである。また、基板４Ｙの表面４１Ｙ上には、複数個（５個）の表示領域（第１領域の一例）４３Ｙ１，４３Ｙ２が、互いに間隔を保った状態で割り当てられている。
【００６４】  これら５個のうち３個の表示領域４３Ｙ１は、縦一列の状態で基板４Ｙの一方の端側（図１０における左側）に並べられている。残りの２個の表示領域４３Ｙ２は、縦一列の状態で基板４Ｙの他方の端側（図１０における右側）に並べられている。なお、表示領域４３Ｙ１と、表示領域４３Ｙ２とは、互いに大きさ、形状が異なっている。そして、表示領域４３Ｙ１は、表示領域４３Ｙ１と比べて小さく設定されている。つまり、この基板４Ｙには、大きさが異なる複数種（２種）の表示領域４３Ｙ１，４３Ｙ２が、同時に形成されている。
【００６５】  各表示領域４３Ｙ１，４３Ｙ２を区切るように非表示領域（第２領域の一例）４４Ｙが、基板４Ｙの表面４１Ｙ上に配されている。非表示領域４４Ｙは、各表示領域４３Ｙ１，４３Ｙ２をそれぞれ取り囲むような枠状の領域からなる。このように、基板４Ｙの表面４１Ｙ上には、表示領域４３Ｙ１及び４３Ｙ２と、非表示領域４４Ｙとからなる領域パターンが形成されている。なお、説明の便宜上、図１０には、レジスト層Ｒの下側にある表示領域４３Ｙ１，４３Ｙ２及び非表示領域４４Ｙからなる領域パターンが図示されている。
【００６６】  基板４Ｙも、上述した基板４と同様、液晶パネル（表示パネルの一例）に利用される複数のガラス基板を、まとめて製造するための基板（所謂、マザーガラス基板）からなる。この基板４Ｙは、特に、２種類の液晶パネルに利用されるガラス基板を、まとめて製造するためのものである。上述した各表示領域４３Ｙ１，４３Ｙ２は、各液晶パネルに備えられる表示領域に対応している。
【００６７】  図１０に示されるように、基板４Ｙは、その裏面４２Ｙ側から、上述した第３支持パターンを成す６本の支持ピン２２（２２Ａ２，２２Ａ２，２２Ｂ３，２２Ｂ３，２２Ｂ３，２２Ｃ１）によって支えられる。なお、基板４Ｙは、ロボットアーム等を利用して、第３支持パターンを成す各支持ピン２２の先端上に載せられる。各支持ピン２２の先端は、基板４Ｙの非表示領域４４Ｙ内に収まるように配されている。非表示領域４４Ｙは、上述したように、電極パターン等が形成されない個所であるため、非表示領域４４Ｙ上を覆っている部分のレジスト層Ｒは不要である。そのため、この非表示領域４４Ｙ上のレジスト層Ｒに乾燥ムラが生じても、電極パターン等の形成に問題は生じない。本実施形態の場合、表示領域４３Ｙ１及び４３Ｙ２内に各支持ピン２２の先端が配されていないため、少なくとも表示領域４３Ｙ１及び４３Ｙ２Ｘ上を覆っている部分のレジスト層Ｒに乾燥ムラは生じない。したがって、基板４Ｙを支える際に、各支持ピン２２は、非表示領域４４Ｙに収まるように配されている。
【００６８】  なお、図９に示される各支持ピン２２からなる第３支持パターンは、基板４Ｙに形成される前記領域パターンを考慮して、予め設定されているものである。つまり、第３支持パターンは、各支持ピン２２の先端が非表示領域４４Ｙ内に収まるように予め設定されている。この他に、第３支持パターンは、基板４Ｙを水平な状態で安定して支持できること等も考慮されて、予め設定されている。そして、このような支持パターン３を成す各支持ピン２２が、各軸ユニット２１の周面上における所定の個所に、にそれぞれピン列２００Ａ２，２００Ｂ３，２００Ｃ２として割り当てられている。
【００６９】  なお、第３支持パターンで選択される軸ユニット２１Ａのピン列２００Ａ２は、第１支持パターンで選択されるものと同じである。また、第３支持パターンで選択される軸ユニット２１Ｂのピン列２００Ｂ３は、第２支持パターンで選択されるものと同じである。つまり、各軸ユニット２１における各ピン列２００は、必要に応じて、複数種の支持パターンの間で兼用されてもよい。
【００７０】  以上のように、基板支持装置２Ａは、複数本の支持ピン２２からなり、基板４Ｙを支えるための第３支持パターンを形成できるように構成されている。
【００７１】  本実施形態の基板支持装置２Ａは、１つの装置で、３種類の支持パターン（第１支持パターン、第２支持パターン及び第３支持パターン）を形成することができる。つまり、本実施形態の基板支持装置２Ａは、各軸ユニット２１が各々独立して回転角度を調節できるように構成されている。そのため、各軸ユニット２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ）における各ピン列２００同士を組み合せて形成できる支持パターンの数が、実施形態１のものと比べて多くなる。
【００７２】  また、基板支持装置２Ａは、それら３種類の支持パターンを利用して、３種類の基板４，４Ｘ，４Ｙを、少なくとも各表示領域４３，４３Ｘ、４３Ｙ１及び４３Ｙ２上を覆う部分のレジスト層Ｒにおける乾燥ムラを抑制しつつ、支持できる。したがって、基板支持装置２Ａによれば、各基板４，４Ｘ，４Ｙの種類に応じて、別個に支持装置を用意する必要がない。また、基板支持装置２Ａは、実施形態１のものと同様、支持パターンを変更する場合、各軸ユニット２１を所定角度回転させればよい。したがって、支持パターン同士の切り替えを容易に行うことができる。なお、基板支持装置２Ａを、基板の種類が異なる毎に、乾燥室から出し入れする必要もない。
【００７３】  ＜他の実施形態＞  本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
【００７４】  （１）上記実施形態では、軸ユニットの周面上に、３つのピン列が形成されていたが、他の実施形態においては、例えば、軸ユニットの周面上に、２つのピン列が形成されてもよいし、或いは４つ以上のピン列が形成されてもよい。軸ユニットの周面上に設けられるピン列の数は、特に制限されるものではなく、目的に応じて、適宜、設定される。
【００７５】  （２）上記実施形態では、軸ユニットの外観形状は、円柱状であったが、他の実施形態においては、例えば、四角柱状であってもよいし、他の多角柱状であってもよい。軸ユニットの外観形状は、特に制限されるものではなく、目的に応じて、適宜、設定される。
【００７６】  （３）上記実施形態では、３本の軸ユニットが利用されていたが、他の実施形態においては、例えば、２本の軸ユニットが利用されてもよいし、４本以上の軸ユニットが利用されてもよい。利用される軸ユニットの本数は、特に制限されるものではなく、目的に応じて、適宜、設定される。
【００７７】  （４）上記実施形態では、基板の全面にレジスト層（塗膜の一例）が形成されていたが、他の実施形態においては、レジスト層が基板の一部分にのみ形成されていてもよい。たとえば、基板の表面のうち、各表示領域にのみレジスト層が形成されていてもよいし、特定の表示領域のみにレジスト層が形成されていてもよい。
【００７８】  （５）上記実施形態では、基板上に塗布されている塗膜（レジスト層）を、減圧下で乾燥させるものであったが、他の実施形態においては、例えば、常圧下で乾燥させるものであってもよい。
【００７９】  （６）上記実施形態では、基板支持装置は、乾燥室内に設置して使用されるものであったが、他の実施形態においては、乾燥室の外部で使用されるものであってもよい。
【符号の説明】
【００８０】  １…乾燥装置、２，２Ａ…基板支持装置、２１…軸ユニット、２２…支持ピン、２３…本体部、２４…軸部、２５…プーリ、２６…伝達ベルト、２７…支持部材、２００…ピン列、３…乾燥室、４，４Ｘ，４Ｙ…基板、５…記憶部、６，６３…モータ、６１…出力軸、６１…出力軸の先端部、７…制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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