(57)【要約】  本発明は、歯科用陶材焼き付け用基材に対して、前記歯科用陶材焼き付け用基材の、水接触角が１０°以下、表面構成元素中の炭素原子のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）強度の割合が３０％以下、且つ、表面電荷量が０ｎＣ／ｃｍ２より大きくなるまで紫外線を照射することを特徴とする、歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法に関する。本発明によれば、歯科用陶材焼き付け用基材と、陶材又は歯科用セメント若しくは歯科用セメントを介した歯冠との接着性を向上できる歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法、歯科用陶材焼き付け用基材、歯冠修復材の製造方法、歯冠修復材の処理方法、及び歯冠修復材を提供できる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯科用陶材焼き付け用基材に対して、前記歯科用陶材焼き付け用基材の、水接触角が１０°以下、表面構成元素中の炭素原子のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）強度の割合が３０％以下、且つ、表面電荷量が０ｎＣ／ｃｍ２より大きくなるまで紫外線を照射することを特徴とする、歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法。
【請求項２】
前記紫外線が、異なる中心波長を有する２以上の紫外線を含むことを特徴とする請求項１に記載の歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法。
【請求項３】
前記紫外線が、１０〜２００ｎｍを中心波長とする紫外線一種以上と、２００〜４００ｎｍを中心波長とする紫外線一種以上とを含むことを特徴とする請求項２に記載の歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法。
【請求項４】
前記紫外線が、１０〜２００ｎｍを中心波長とする紫外線を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法。
【請求項５】
前記紫外線が、１８５ｎｍを中心波長とする紫外線を含むことを特徴とする請求項４に記載の歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の処理方法により処理されたことを特徴とする歯科用陶材焼き付け用基材。
【請求項７】
請求項６記載の歯科用陶材焼き付け用基材に、歯科用陶材を築盛し、焼成することを特徴とする歯冠修復材の製造方法。
【請求項８】
歯科用陶材焼き付け用基材に対して歯科用陶材が築盛され、焼成されてなる歯冠修復材の、前記歯科用陶材焼き付け用基材に対して、前記歯科用陶材焼き付け用基材の、水接触角が１０°以下、表面構成元素中の炭素原子のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）強度の割合が３０％以下、且つ、表面電荷量が０ｎＣ／ｃｍ２より大きくなるまで紫外線を照射することを特徴とする、歯冠修復材の処理方法。
【請求項９】
前記紫外線が、異なる中心波長を有する２以上の紫外線を含むことを特徴とする請求項８に記載の歯冠修復材の処理方法。
【請求項１０】
前記紫外線が、１０〜２００ｎｍを中心波長とする紫外線一種以上と、２００〜４００ｎｍを中心波長とする紫外線一種以上とを含むことを特徴とする請求項９に記載の歯冠修復材の処理方法。
【請求項１１】
前記紫外線が、１０〜２００ｎｍを中心波長とする紫外線を含むことを特徴とする請求項８又は９に記載の歯冠修復材の処理方法。
【請求項１２】
前記紫外線が、１８５ｎｍを中心波長とする紫外線を含むことを特徴とする請求項８又は９に記載の歯冠修復材の処理方法。
【請求項１３】
請求項８〜１２のいずれか一項に記載の処理方法により処理されたことを特徴とする歯冠修復材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法、歯科用陶材焼き付け用基材、歯冠修復材の製造方法、歯冠修復材の処理方法、及び歯冠修復材に関する。
本願は２０１０年１０月２９日に日本に出願された、特願２０１０−２４４０１６号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
歯科治療において、歯冠欠損部の修復を行う方法の代表的なものとして、クラウンやブリッジ等の歯冠修復材を用いたものがある。従来、歯冠修復材としては、その全体を金合金、銀合金、及び白金加金合金等の貴金属で形成したものが用いられていた。
しかしながら近年、歯科治療における審美的なニーズが広がりを見せ、審美歯科という言葉も徐々に認知されつつあるなか、歯冠修復材においても、審美的に優れたものが求められている。そこで、歯科用陶材焼き付け用基材（以下、単に「陶材焼き付け用基材」ということがある。）に、歯科用陶材（以下、単に「陶材」ということがある。）を築盛し、焼成して形成される陶材焼き付け歯冠修復材が広く使用されている、【０００３】
陶材焼き付け歯冠修復材を用いた場合、陶材焼き付け用基材により修復材の強度を確保した上で、前記基材に築盛及び焼成された陶材によって、自然な歯冠と同様の色調や透明感を達成することが可能となる。
陶材焼き付け歯冠修復材に用いられる陶材焼き付け用基材としては、強度に優れる金合金、銀合金、及び白金加金合金等の貴金属基材やコバルト合金基材に加えて、最近ではジルコニア、及びアルミナ等の高強度セラミックスや、生体適合性に優れるチタン等も基材として用いられている。貴金属基材やコバルト合金基材の場合、長期使用後に金属イオンの溶出等によって歯肉が黒く変色するおそれがある。一方、金属的に安定なチタン基板や非金属である高強度セラミックス基板の場合は変色のおそれがないため、多用されるようになってきている。さらに、オールセラミックス歯冠修復材と称される、高強度セラミックスを基材に用いた陶材焼き付け歯冠修復材は、陶材の材質や色調が、基材の色により影響及び制限されないため歯冠修復材全体として自然な外観が得られ、且つ、金属の接触によるアレルギーを回避できるという利点も有するため、好まれている。
また、陶材焼き付け歯冠修復材に用いられる陶材としては、主成分としてＳｉＯ２、又はＡｌ２Ｏ３等を含有するものが用いられ、陶材焼き付け用基材上で焼成した場合にも剥離、割れ、及び変形等がなく、焼成後に高強度を有し、且つ、外観に優れるものが検討されている（例えば、特許文献１〜２等）。【０００４】
上記のように陶材焼き付け歯冠修復材は多くの利点を有するものである一方、陶材と、陶材焼き付け用基材との接着力が不足している場合には、咬合力によって、主に陶材と歯科用陶材焼き付け用基材との界面から、陶材が破折や剥離するという問題がある。破折や剥離が生じた場合、口腔内に陶材焼き付け歯冠修復材を装着した状態で陶材を修復することは不可能であるため、レジン等の異種材料で欠損部を補綴するか、或いは、陶材焼き付け歯冠修復材を除去及び再作製の後、再度装着する必要がある。前者の場合は異種材料に起因して外観の美麗さが損なわれ、後者の場合は患者に時間及び費用の負担を強いることとなる。
そのため、陶材と陶材焼き付け用基材との接着性を向上させるため、種々の検討がなされている。【０００５】
例えば特許文献３には、Ｔｉ系歯台基材に陶材を築成するにあたり、基材をインナートガスで包んだ状態でバーナー焼成する陶歯製造方法が記載されている。
また、特許文献４には、金合金微粒子と、酸化防止剤及びバインダーとからなる陶材焼き付け用表面処理材において、金合金微粒子として、金と珪素の共晶合金の微粒子を含む構成とした陶材焼き付け用表面処理材が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−１２６３８０号公報
【特許文献２】特開２００７−１９０２１５号公報
【特許文献３】特開平６−２２９８７号公報
【特許文献４】特開平８−３０１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
陶材焼き付け歯冠修復材の需要が増大するなか、陶材と陶材焼き付け用基材との接着性を向上させ、陶材焼き付け歯冠修復材を長期間の咬合力に耐え得るものとすることがより一層求められている。
しかしながら、上記引用文献３〜４に記載の方法では、陶材と陶材焼き付け用基材との接着性は未だ不十分である。【０００８】
また、上記のように、貴金属基板やコバルトクロム合金基板に替えて、金属的に安定なチタン基板や、非金属であるジルコニア基板が用いられる場合が増加している。
しかしながら、チタンやジルコニア等を基材に用いた場合、従来の接着法では、陶材と前記基材との接着性が、従来の貴金属基板やコバルトクロム合金基板に比して劣るという問題がある。そのため、基材の種類に関わらず、基材と陶材との接着性を向上することができる基材の処理方法が求められている。【０００９】
基材上に陶材を築成し、焼成した後の陶材焼き付け歯冠修復材は、通常、歯科医院等において、患者の歯冠に歯科用セメントを介して接着される。
しかしながら、チタンやジルコニア等を基材に用いた場合、前記基材と歯科用セメントとの接着性が低いことに起因して、歯冠と、歯冠修復材との接着性も低くなるという問題がある。この接着性が低い場合、歯冠から歯冠修復材が脱離するおそれがある。【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、歯科用陶材焼き付け用基材と、陶材、又は、歯科用セメント若しくは歯科用セメントを介した歯冠との接着性を向上できる歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法、歯科用陶材焼き付け用基材、歯冠修復材の製造方法、歯冠修復材の処理方法、及び歯冠修復材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、基材に対して、水接触角、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）法により測定した表面構成元素中の炭素原子の割合、及び表面電荷量が一定値となるまで紫外線を照射することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。【００１２】
すなわち、本発明は、下記の特徴を有する歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法、歯科用陶材焼き付け用基材、歯冠修復材の製造方法、歯冠修復材の処理方法、及び歯冠修復材を提供するものである。
（１）歯科用陶材焼き付け用基材に対して、前記歯科用陶材焼き付け用基材の、水接触角が１０°以下、表面構成元素中の炭素原子のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）強度の割合が３０％以下、且つ、表面電荷量が０ｎＣ／ｃｍ２より大きくなるまで紫外線を照射することを特徴とする、歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法。
（２）前記紫外線が、異なる中心波長を有する２以上の紫外線を含むことを特徴とする（１）の歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法。
（３）前記紫外線が、１０〜２００ｎｍを中心波長とする紫外線一種以上と、２００〜４００ｎｍを中心波長とする紫外線一種以上とを含むことを特徴とする（２）の歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法。
（４）前記紫外線が、１０〜２００ｎｍを中心波長とする紫外線を含むことを特徴とする（１）又は（２）の歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法。
（５）前記紫外線が、１８５ｎｍを中心波長とする紫外線を含むことを特徴とする（４）の歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法。
（６）（１）〜（５）いずれかの処理方法により処理されたことを特徴とする歯科用陶材焼き付け用基材。
（７）（６）の歯科用陶材焼き付け用基材に、歯科用陶材を築盛し、焼成することを特徴とする歯冠修復材の製造方法。
（８）歯科用陶材焼き付け用基材に対して歯科用陶材が築盛され、焼成されてなる歯冠修復材の、前記歯科用陶材焼き付け用基材に対して、前記歯科用陶材焼き付け用基材の、水接触角が１０°以下、表面構成元素中の炭素原子のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）強度の割合が３０％以下、且つ、表面電荷量が０ｎＣ／ｃｍ２より大きくなるまで紫外線を照射することを特徴とする、歯冠修復材の処理方法。
（９）前記紫外線が、異なる中心波長を有する２以上の紫外線を含むことを特徴とする（８）の歯冠修復材の処理方法。
（１０）前記紫外線が、１０〜２００ｎｍを中心波長とする紫外線一種以上と、２００〜４００ｎｍを中心波長とする紫外線一種以上とを含むことを特徴とする（９）の歯冠修復材の処理方法。
（１１）前記紫外線が、１０〜２００ｎｍを中心波長とする紫外線を含むことを特徴とする（８）又は（９）の歯冠修復材の処理方法。
（１２）前記紫外線が、１８５ｎｍを中心波長とする紫外線を含むことを特徴とする（８）又は（９）の歯冠修復材の処理方法。
（１３）（８）〜（１２）のいずれか一項の処理方法により処理されたことを特徴とする歯冠修復材。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法によれば、前記処理方法により処理された基材と、陶材との接着性を向上できるため、得られる歯冠修復材の強度を高め、破折や剥離を防ぐことができる。
また、本発明の歯冠修復材の処理方法によれば、前記処理方法により処理された歯冠修復材中の基材と、歯科用セメント又は歯科用セメントを介した歯冠との接着性を向上できるため、接着された歯冠修復材が、歯冠から脱離することを防ぐことができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明において、歯冠修復材とは、歯冠の一部又は全部の欠損を補綴する人工材料を意味する。歯冠修復材としては、例えば、クラウン、及びブリッジ等の冠が挙げられる。
【００１５】
本発明において、歯科用陶材焼き付け用基材とは、その上に歯科用陶材を築盛することによって、上記した歯冠修復材として用い得るものを意味する。
ここで、歯科用陶材とは、歯科治療において用いられる陶材であれば特に限定されるものではない。歯科用陶材として具体的には、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｎａ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ、又はＫ２Ｏ等の金属酸化物を主成分として含有し、焼成した後に焼結体（セラミックス）となるものが挙げられる。なかでも、歯科用陶材としては、焼結体とした際に、自然な歯冠のエナメル質に類似した色調や質感を呈し、且つ、歯冠修復材に用いた際に必要な強度を備えるものであることが好ましい。歯科用陶材としては、市販品を用いることもできる。
市販品としては、例えば、Ｔｒｉｃｅｒａｍ（商品名、ＥＳＰＲＩＤＥＮＴ社製）を好適に用いることができる。
【００１６】
本発明における歯科用陶材焼き付け用基材としては、咬合力に耐えうる程度の強度を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、金合金、銀合金、若しくは白金加金合金等の貴金属からなる基材；コバルトクロム合金、チタン、若しくはチタン合金等の金属からなる基材；又はジルコニア、若しくはアルミナ等の金属酸化物からなる基材が挙げられる。
なかでも、歯科用陶材焼き付け用基材としては、チタン合金又はジルコニアであることが好ましい。チタン合金としては、α型チタン合金、β型チタン合金、又はα−β型チタン合金のいずれであってもよく、チタンを主成分とし、銅、鉄、マンガン、モリブデンアルミ、又はバナジウム等を併せて含むものであってもよい。なかでも、α−β型チタン合金であるＴｉ−６Ａｌ−４Ｖチタン合金（チタン９０％、アルミニウム６％、バナジウム４％）であることが特に好ましい。ジルコニアとしては、二酸化ジルコニウムを主成分とするものであれば得に限定されるものではなく、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、又は酸化イットリウム等の希土類酸化物を併せて含むものであってもよい。
【００１７】
本発明における歯科用陶材焼き付け用基材は、予め何らかの表面加工処理が施されたものであってもよい。
表面加工処理は、歯科用陶材焼き付け用基材と陶材等との接着性の向上等を目的として、歯科陶材焼き付け用基材に対して通常行われるものであれば特に限定されるものではない。表面加工処理として具体的には、旋盤、又はモーターエンジン等による表面機械研磨処理；硫酸、塩酸、又はフッ酸等による酸処理；及び酸化アルミナ粉末、又はガラスビーズ等を噴射して尾壊れるサンドブラスト処理等が挙げられる。
なお、本明細書及び特許請求の範囲では、歯科用陶材が焼き付けられる前の前記基材と、歯科用陶材が焼き付けられた後の前記基材とを総称して、「歯科用陶材焼き付け用基材」という。
【００１８】
［１．歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法］
本発明の歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法は、紫外線を照射することを含む。また前記処理方法は、所望により歯科用陶材焼き付け用基材の表面を加工処理することを含むことができる。
具体的には、本発明の歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法は、歯科用陶材焼き付け用基材に対して、前記歯科用陶材焼き付け用基材の、水接触角が１０°以下、表面構成元素中の炭素原子のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）強度の割合が３０％以下、且つ、表面電荷量が０ｎＣ／ｃｍ２より大きくなるまで紫外線を照射することを含む。
【００１９】
紫外線照射後の歯科用陶材焼き付け用基材の水接触角は、１０°以下であって、５°以下であることが好ましく、２°以下であることがより好ましい。
水接触角が上記範囲内であることにより、前記基材が水に対して十分な濡れ性を有する。そして、前記基材に築盛される陶材は、通常水を含む溶媒に分散されている。そのため、水に対して十分な濡れ性を有する基材を用いた場合、陶材がより均一に基材上に分布し、基材と陶材との接着性を向上させることができる。
本発明における水接触角は、例えば、歯科用陶材焼き付け用基材の、紫外線照射処理を行った面上に水を滴下した後、公知の接触角計を用いて測定することができる。
【００２０】
紫外線照射後の歯科用陶材焼き付け用基材の表面構成元素中の炭素原子のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）強度の割合は、３０％以下であって、２５％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましい。
表面構成元素中の炭素原子のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）強度の割合は、前記基板の製造後に、空気中等から前記基板表面に付着した不純物量を意味する。基板表面に付着した不純物量を紫外線照射により低減することで、基板表面が均一、且つ、陶材親和性となり、基板と陶材との接着性を向上させることができる。
本発明における表面構成元素中の炭素原子の割合は、例えば、歯科用陶材焼き付け用基材の、紫外線照射処理を行った面の最表面を、公知のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）装置を用いて解析し、同定された全ての表面構成元素量と、同定された炭素原子量とから算出することができる。
【００２１】
紫外線照射後の歯科用陶材焼き付け用基材の、表面電荷量は、０ｎＣ／ｃｍ２より大きく、０．５ｎＣ／ｃｍ２より大きいことが好ましく、１ｎＣ／ｃｍ２より大きいことがより好ましい。
表面電荷量が０ｎＣ／ｃｍ２より大きい、つまり、基板表面が正電荷であることにより、陶材中の負電荷成分との間に引力が生じる。前記引力によって基板と陶材とがより密着し、陶材焼成後の陶材と基板との接着性が向上すると考えられる。
本発明における表面電荷量は、例えば、歯科用陶材焼き付け用基材の紫外線照射処理を行った面において、公知のクーロンメーター等を用いることにより測定することができる。
【００２２】
なお、この歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法は、前記基材を上記接触角、炭素原子割合、及び表面電荷量を有するものとすることにより、前記基材と歯科用陶材等との接着性を格段に向上させることを目的としたものである。そのため、前記基材の接触角、炭素原子割合、及び表面電荷量は、前記基材の全面に亘って上記接触角、炭素原子割合、及び表面電荷量を達成していてもよく、前記基材が歯科用陶材等と接着される一部の面のみにおいて上記接触角、炭素原子割合、及び表面電荷量を達成していてもよい。
【００２３】
照射する紫外線としては、紫外領域に中心波長を有する電磁波、具体的には中心波長が４００ｎｍ以下である電磁波であれば特に限定されるものではなく、３１５〜４００ｎｍの中心波長を有する電磁波（ＵＶＡ）であっても、２８０〜３１５ｎｍの中心波長を有する電磁波（ＵＶＢ）であっても、２００〜２８０ｎｍの中心波長を有する電磁波（ＵＶＣ）であっても、中心波長が２００ｎｍ以下の電磁波である遠紫外線や極紫外線であってもよい。紫外線としては、上記紫外線を単一で用いてもよく、異なる中心波長を有する２以上の上記紫外線を組み合わせて用いてもよいが、２以上の紫外線を組み合わせて用いることが好ましい。
異なる中心波長を有する２以上の前記紫外線を組み合わせて用いることにより、本発明の歯科用陶材焼き付け用基材を、前記接触角、炭素原子割合、及び表面電荷量を有するものとすることができ、前記基材と歯科用陶材等との接着性を格段に向上させるという効果を高めることができる。
【００２４】
本発明では、いずれの中心波長を有する紫外線を用いた場合であっても、歯科用陶材焼き付け用基材は、上記物性値（接触角、炭素原子割合、及び表面電荷量）を達成することが可能である。しかしながら、紫外線の中心波長によって、上記物性値を達成するまでの照射時間が異なるため、波長と照射時間とは適宜決定することが好ましい。
なかでも、本発明における紫外線としては、少なくとも中心波長が１０〜２００ｎｍである遠紫外線を含むことが好ましく、少なくとも中心波長が１８５ｎｍである遠紫外線を含むことが好ましい。上記遠紫外線を含むことにより、より短時間の紫外線照射で、基板に上記特性値を達成させることができる。特に、本発明の紫外線としては、上記中心波長が１０〜２００ｎｍの紫外線一種以上と、中心波長が２００〜４００ｎｍの紫外線一種以上とを組み合わせて用いることが好ましい。
【００２５】
前記紫外線の照射時間は、１分間〜２０分間が好ましく、５分間〜１０分間がより好ましい。紫外線の照射時間が前記範囲内であると、上記物性値（接触角、炭素原子割合、及び表面電荷量）を達成することが可能である。
【００２６】
歯科用陶材焼き付け用基材に紫外線を照射する方法は特に限定されるものではなく、公知の紫外線照射装置を用いて行うことができる。例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯等の水銀灯を用いてもよく、何らかの光源から発される紫外線を含む光を、紫外線のみ分光して照射してもよい。また、紫外線は、前記基材に対して直接照射してもよく、マスクを介する等して、前記基材に対して間接的に照射してもよい。
紫外線の照射は、前記基材の全面に対して行ってもよく、一部の面のみに対して行ってもよい。
紫外線の照射は、上記のように紫外線の波長等に応じて時間を適宜調整し、上記物性値を達成するまで行う。
紫外線照射時の歯科用陶材焼き付け用基材の温度は、４〜３８℃であることが好ましく、２０〜２５℃であることがより好ましい。上記温度とすることにより、効率的に表面の炭素を可及的に少なくすることができる。
【００２７】
歯科用陶材焼き付け用基材の処理を行う時期は、前記基材上に陶材を築盛する直前〜２４時間前であることが好ましく、直前〜６時間前であることがより好ましく、直前〜１時間前であることがさらに好ましく、直前であることが特に好ましい。前記基材の処理の後、上記時間内に築盛処理を行うことにより、前記基材上への炭素等の不純物の再付着を防ぐことができる。
【００２８】
［２．歯科用陶材焼き付け用基材］
本発明の歯科用陶材焼き付け用基材は、歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法により処理されたものである。陶材焼き付け用基材の処理方法は、上記［１．歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法］と同様である。
本発明の歯科用陶材焼き付け用基材は、上記［１．歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法］により処理されたことで、陶材と接着する場合の、陶材との親和性及び接着性が向上するものである。
【００２９】
［３．歯冠修復材の製造方法］
本発明の歯冠修復材の製造方法は、上記のようにして得られる歯科用陶材焼き付け用基材に、歯科用陶材を築盛すること、並びに前記基材及び陶材を焼成することを含む。歯科用陶材焼き付け用基材は、上記［２．歯科用陶材焼き付け用基材］と同様である。また、歯科用陶材も、上記同様である。
歯科用陶材の使用量や、歯科用陶材を築盛する方法は特に限定されるものではなく、所望の形状の歯冠修復材となるよう適宜行うことができる。
歯科用陶材を築盛した後の焼成方法は特に限定されるものではなく、基材や陶材の種類にあわせて適宜温度や時間を決定することができる。通常、５００〜１５００℃において１０〜３０分間焼成を行うことにより、歯冠修復材を得ることができる。
このようにして製造される歯冠修復材は、上記［１．歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法］により処理された歯科用陶材焼き付け用基材を用いることで、前記基材と陶材との界面における接着性が極めて良好であり、前記界面における陶材の剥離や破折のリスクを低減することができる。このような歯冠修復材であれば、審美的に優れ、且つ、剥離や破折による機能不具合を伴わない状態で、長期に亘って口腔内で使用可能であるため好ましい。
【００３０】
［４．歯冠修復材の処理方法］
本発明の歯冠修復材の処理方法は、歯科用陶材焼き付け用基材に対して歯科用陶材が築盛され、焼成されてなる歯冠修復材の、前記歯科用陶材焼き付け用基材に対して、紫外線を照射することを含む。
すわなち、本発明の歯冠修復材の処理方法は、歯科用陶材焼き付け用基材に対して歯科用陶材が築盛され、焼成されてなる歯冠修復材の、前記歯科用陶材焼き付け用基材に対して、前記歯科用陶材焼き付け用基材の、水接触角が１０°以下、表面構成元素中の炭素原子のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）強度の割合が３０％以下、且つ、表面電荷量が０ｎＣ／ｃｍ２より大きくなるまで紫外線を照射することを含む。
【００３１】
歯冠修復材としては、上記［３．歯冠修復材の製造方法］と同様の方法により製造される歯冠修復材を用いてもよく、歯冠の修復において通常使用される他の歯冠修復材を用いてもよい。
紫外線としては、上記［１．歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法］と同様の紫外線を用いることができる。上記のような紫外線を照射することにより、歯冠修復材中の歯科用陶材焼き付け用基材と、歯科用セメントとの親和性及び接着性が向上する。
【００３２】
歯科用陶材焼き付け用基材に紫外線を照射する際の、装置、処理時間及び温度は、上記［１．歯科用陶材焼き付け用基材の処理方法］と同様である。
なお、本処理方法では、紫外線の照射は、歯科用陶材焼き付け用基材が表面に露出している側（歯冠に接着される側）から行うことが好ましい。
歯冠修復材の処理を行う時期は、前記歯冠修復材を歯冠に接着する、或いは、前記歯冠修復材の基材表面に接着力増強用前処理剤を塗布する直前〜２４時間前であることが好ましく、直前〜６時間前であることがより好ましく、直前〜１時間前であることがさらに好ましく、直前であることが特に好ましい。前記基材の処理の後、上記時間内に接着又は塗布処理を行うことにより、前記基材上への炭素等の不純物の再付着を防ぐことができる。
ここで、接着力増強用前処理剤（プライマー）とは、後述する歯科用セメントと、歯冠修復材との接着性を向上させるために用いられる前処理剤である。前記前処理剤としては、重合性単量体等を含有する組成物が一般に用いられている（例えば特開２００９−７２８０号公報参照）。
【００３３】
［５．歯冠修復材］
本発明の歯冠修復材は、上記歯冠修復材の処理方法により処理されたものである。歯冠修復材の処理方法は、上記［４．歯冠修復材の処理方法］と同様である。
【００３４】
上記のようにして得られる本発明の歯冠修復材は、例えば、歯科用セメントを介して、歯冠に接着することができる。
ここで歯科用セメントとは、通常、歯冠修復材と歯冠とを接着する際に用いられるものを意味し、具体的には、リン酸亜鉛セメント、ポリカルボキシレートセメント、グラスアイオノマーセメント、レジン添加型グラスアイオノマーセメント、ＰＭＭＡ系レジンセメント、コンポジット系レジンセメント、及び酸化亜鉛ユージノールセメント（ＥＢＡセメント）等が好ましいものとして挙げられる。
歯科用セメントの使用量や、歯科用セメントを歯冠修復材又は歯冠に付着させる方法は特に限定されるものではなく、用いる歯科用セメントの種類に応じて適宜決定することができる。
また、歯科用セメントを介して歯冠修復材を歯冠に接着する前に、歯冠修復材の歯科用陶材焼き付け用基材に対して、接着力増強用前処理剤（プライマー）を塗布しておくことも好ましい。前記前処理剤としては、特に限定されるものではなく、通常、歯冠修復材と歯冠とを歯科用セメントを介して接着する際に用いられるものを使用することができる。具体的には、歯科用陶材焼き付け用基材が貴金属、又は貴金属合金等からなる場合、前処理剤としてはチオリン酸系メタクリレートを主成分とするメタルプライマーＩＩ（商品名、ＧＣ社製）等が挙げられ、歯科用陶材焼き付け用基材がアルミナやジルコニア等からなる場合、前処理剤としてはアセトンや６−メタクリロキシヘキシルホスホノアセテートを主成分とするＡＺプライマー（商品名、松風社製）等が挙げられる。
【００３５】
このようにして歯冠に接着される歯冠修復材は、上記［４．歯冠修復材の処理方法］により処理された歯冠修復材を用いることで、歯科用セメントを介して歯冠と接着する場合の、歯冠修復材を構成する歯科用陶材焼き付け用基材と、歯科用セメントとの親和性及び接着性が極めて良好となり、歯冠からの歯冠修復材の脱離のリスクを低減することができる。このような歯冠修復材であれば、長期に亘って口腔内で使用可能であるため、好ましい。
【実施例】
【００３６】
次に実施例を示して本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。【００３７】
（実施例１及び比較例１〜８）
まず、陶材焼き付け用チタン合金（ＥＶＥＲＥＳＴ  Ｔ−ＢＬＡＮＫ（商品名）、Ｋａｖｏ社（ドイツ）製）を奥行１０ｍｍ×幅１０ｍｍ×厚さ２ｍｍの板状に加工し、試験片とした。
これら試験片の表面（表面）に、シリコーンポイントによる機械研磨処理、及びアルミナサンドブラスト処理を行った。
研磨処理及びサンドブラスト処理から１週間経過後、実施例１及び比較例２〜８の試験片に対して、表１に示す光源を用いて、基材表面から２０ｍｍ離間した場所から紫外線照射を５分間行った。
上記のようにして得られた９種類の試験片に対し、以下の試験を行った。【００３８】
＜水接触角の測定＞
各例の試験片表面に水滴を滴下し、水接触角を測定した。測定には、自動接触角計（協和界面科学社製）を用いた。結果を表１に併記する。【００３９】
＜表面炭素原子の割合の測定＞
各例の試験片表面の元素分析を行い、表面構成元素中の炭素原子のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）強度の占める割合を算出した。元素分析には、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）装置（島津製作所社製）を用いた。結果を表１に併記する。【００４０】
＜表面電荷量の測定＞
各例の試験片表面の表面電荷量を測定した。測定には、電荷測定器クーロンメーター（ＮＫ―１００１（商品名）、ＫＩＳＣＯ社製）を用いた。結果を表１に併記する。【００４１】
＜接着強度（最大結合力）試験＞
各例において、紫外線照射処理後１時間以内に、一枚の試験片に陶材（Ｔｒｉｃｅｒａｍ（商品名）、ＥＳＰＲＩＤＥＮＴ社製）を直径５ｍｍ、高さ２ｍｍの円柱状に築盛し、もう１枚の試験片にプライマー（メタルプライマーＩＩ（商品名）、ＧＣ社製）の塗布を行った。
陶材を築盛した試験片は、その後、７９５℃の真空中にて１０分間焼成した。
プライマーを塗布した試験片は、３０秒間静置した後、歯科用セメント（パナビアフルオロセメント（商品名）、クラレ社製）０．５ｇを円柱状に接着させた。
陶材築盛及び焼成後、又は、歯科用セメント接着後の試験片の、陶材又は歯科用セメントが接着されていない面（裏面）と、側面とを、即時重合レジンを介して接着し、試験ブロックを作製した後、小型卓上試験機Ｅｚ  Ｔｅｓｔ（商品名、島津製作所社製）上に、ジグにより前記試料ブロックを固定した。前記小型卓上試験機を用いて、圧縮剪断試験法により、圧縮剪断試験を行った（クロスヘッド速度：１ｃｍ／分）。陶材焼き付け用基材と、陶材又は歯科用セメントとの破断点を計測し、最大結合力（ＭＰａ）とした結果を表１に併記する。【００４２】
【表１】
2012057252.tif 000002
【００４３】
（実施例２及び比較例９）
陶材焼き付け用基材として、チタン合金に替えて陶材焼き付け用ジルコニウム（ＥＶＥＲＥＳＴ（商品名）、Ｋａｖｏ社（ドイツ）製）を用いた以外は、実施例１及び比較例１〜８と同様にして、実施例２及び比較例９の試験片を作製した。比較例９では紫外線照射を行わず、実施例２では表２に示す光源を紫外線照射に用いた。
実施例２及び比較例９の試験片に対して、水接触角の測定、及び接着強度（最大結合力）試験を行った。結果を表２に併記する。【００４４】
【表２】
2012057252.tif 000003
【００４５】
上記の結果から、本願発明に係る実施例１及び２では、それぞれ、比較例１〜８及び９に比べて、陶材接着強度及びセメント接着強度に優れることが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明の処理方法は、歯科分野において好適に用いることができる。
【国際調査報告】
2012057252.tif 000004
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