(57)【要約】  加温による粘着剤層の軟化が生じ難い光硬化型粘着シートの提供。  基材に光硬化型粘着剤層を積層してなる粘着シートであって、光硬化型粘着剤層を形成する光硬化型粘着剤が、（メタ）アクリル酸エステル共重合体と光重合性化合物と多官能イソシアネート硬化剤と光重合開始剤とを含み、粘着付与樹脂を含まないことを特徴とする粘着シートを提供する。この粘着シートは、粘着剤に粘着付与樹脂を含まないため、加温された場合にも粘着剤層の軟化を生じない。【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に光硬化型粘着剤層を積層してなる粘着シートであって、
前記光硬化型粘着剤層を形成する光硬化型粘着剤が、（メタ）アクリル酸エステル共重合体と光重合性化合物と多官能イソシアネート硬化剤と光重合開始剤とを含み、粘着付与樹脂を含まないことを特徴とする粘着シート。
【請求項２】
前記光硬化型粘着剤が、シリコーン系グラフト共重合体を含む請求項１記載の粘着シート。
【請求項３】
前記多官能イソシアネート硬化剤が、イソシアネート基を３個以上有する請求項１又は２記載の粘着シート。
【請求項４】
前記光重合開始剤は、２３℃から５００℃まで１０℃／分の昇温速度で昇温したときの質量減少率１０％となる温度が２５０℃以上である請求項１〜３の何れか１項に記載の粘着シート。
【請求項５】
前記基材が、プロピレン系共重合体により形成された請求項１〜４の何れか１項に記載の粘着シート。
【請求項６】
前記プロピレン系共重合体が、プロピレンと１−ブテンとエチレンとの共重合体である請求項５記載の粘着シート。
【請求項７】
電子部品の検査工程において該電子部品に貼り付けて用いられることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の粘着シート。
【請求項８】
電子部品の検査工程において該電子部品に貼り付けて用いられる粘着シートの粘着剤層を形成するための粘着剤であって、（メタ）アクリル酸エステル共重合体と光重合性化合物と多官能イソシアネート硬化剤と光重合開始剤とを含み、粘着付与樹脂を含まないことを特徴とする粘着剤。
【請求項９】
粘着シートを貼り付けた電子部品を６０〜１５０℃で加温する加温工程を含み、
前記粘着シートとして、基材に光硬化型粘着剤層を積層してなる粘着シートであって、該基材が、プロピレン系共重合体により形成され、該光硬化型粘着剤層を形成する光硬化型粘着剤が、（メタ）アクリル酸エステル共重合体と光重合性化合物と多官能イソシアネート硬化剤と光重合開始剤とを含み、粘着付与樹脂を含まない粘着シートを用いることを特徴とする電子部品の製造方法。
【請求項１０】
前記粘着シートを半導体ウエハ又は基板とリングフレームとに貼り付ける貼付工程と、
前記粘着シートが貼り付けられた半導体ウエハ又は基板を、６０〜１５０℃のステージ上に該粘着シートがステージに接するように載せ、吸着固定することにより加温し、該半導体ウエハ又は基板を検査する前記加温工程と、
前記粘着シートが貼り付けられた半導体ウエハ又は基板をダイシングして半導体チップ又は半導体部品にするダイシング工程と、
前記粘着シートの光硬化型粘着剤層に活性光線を照射する光照射工程と、
前記半導体チップ又は半導体部品同士の間隔を広げるため前記粘着シートを引き伸ばすエキスパンド工程と、
前記粘着シートから前記半導体チップ又は半導体部品をピックアップするピックアップ工程と
を含む請求項９記載の電子部品の製造方法。
【請求項１１】
前記粘着シートを半導体ウエハ又は基板とリングフレームとに貼り付ける貼付工程と、
前記粘着シートが貼り付けられた半導体ウエハ又は基板をダイシングして半導体チップ又は半導体部品にするダイシング工程と、
前記粘着シートが貼り付けられた半導体チップ又は半導体部品を、６０〜１５０℃のステージ上に粘着シートがステージに接するように載せ、吸着固定することにより加温し、該半導体チップ又は半導体部品を検査する前記加温工程と、
前記粘着シートの光硬化型粘着剤層に活性光線を照射する光照射工程と、
前記半導体チップ又は半導体部品同士の間隔を広げるため前記粘着シートを引き伸ばすエキスパンド工程と、
前記粘着シートから前記半導体チップ又は半導体部品をピックアップするピックアップ工程と
を含む請求項９記載の電子部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粘着シートおよび該粘着シートを用いた電子部品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハは、回路を形成した後に粘着シートを貼合してから、素子小片への切断（ダイシング）、洗浄、乾燥、粘着シートの延伸（エキスパンディング）、粘着シートからの素子小片の剥離（ピックアップ）、マウンティングなどの各工程へ配される。これらの工程で使用される粘着シート（ダイシングテープ）には、ダイシング工程から乾燥工程までは切断された素子小片（チップ）に対して充分な粘着力を有しながら、ピックアップ工程時には糊残りのない程度に粘着力が減少していることが望まれる。【０００３】
粘着シートとして、紫外線および／又は電子線などの活性光線に対し透過性を有する基材上に紫外線等により重合硬化反応をする粘着剤層を塗布したものがある。この粘着シートでは、ダイシング工程後に紫外線等を粘着剤層に照射し、粘着剤層を重合硬化させて粘着力を低下させた後、切断されたチップをピックアップする方法がとられる。【０００４】
このような粘着シートとしては、特許文献１および特許文献２には、基材面に例えば活性光線によって三次元網状化しうる、分子内に光重合性不飽和二重結合を有する化合物（多官能性オリゴマー）を含有してなる粘着剤を塗布した粘着シートが開示されている。【０００５】
また、特許文献３には、基材面上に、ベースポリマーと放射線重合性化合物と放射線重合性重合開始剤とからなる粘着剤層を塗布してなる半導体加工用粘着シートが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開昭６０−１９６９５６号公報
【特許文献２】特開昭６０−２２３１３９号公報
【特許文献３】特開２００２−２８５１３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
半導体ウエハの加工工程では、回路が形成された半導体ウエハの性能を試験して良品と不良品を選別する際、半導体ウエハを加温する場合がある。また、半導体ウエハの加温は、ダイシング工程での切削水を除去する際にも行われている。【０００８】
このような半導体ウエハの加温を行う場合、加温によって粘着シートの粘着剤層が軟化してしまい、粘着シートが半導体ウエハに過度に密着してしまうことがある。粘着シートが半導体ウエハに過度に密着すると、紫外線等を照射して粘着剤層を硬化させても粘着剤層の粘着力が十分に低下せず、ピックアップが困難となったり糊残りなどの不良が生じたりする原因となる。【０００９】
そこで、本発明は、加温による粘着剤層の軟化が生じ難い粘着シートを提供することを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、粘着剤に含まれる粘着付与樹脂の軟化が加温による粘着剤層の軟化の要因となっていることを見出した。
この知見に基づき、本発明は、基材に光硬化型粘着剤層を積層してなる粘着シートであって、光硬化型粘着剤層を形成する光硬化型粘着剤が、（メタ）アクリル酸エステル共重合体と光重合性化合物と多官能イソシアネート硬化剤と光重合開始剤とを含み、粘着付与樹脂を含まないことを特徴とする粘着シートを提供する。この粘着シートは、粘着剤に粘着付与樹脂を含まないため、加温された場合にも粘着剤層の軟化を生じない。
この粘着シートにおいて、前記光硬化型粘着剤は、シリコーン系グラフト共重合体を含むことが好ましく、前記多官能イソシアネート硬化剤は、イソシアネート基を３個以上有することが好ましい。また、前記光重合開始剤は、２３℃から５００℃まで１０℃／分の昇温速度で昇温したときの質量減少率１０％となる温度が２５０℃以上であることが好ましい。さらに、前記基材は、プロピレン系共重合体、特にプロピレンと１−ブテンとエチレンとの共重合体により形成されることが好ましい。
この粘着シートは、電子部品の検査工程において該電子部品に貼り付けて好適に用いられる。
また、本発明は、電子部品の検査工程において該電子部品に貼り付けて用いられる粘着シートの粘着剤層を形成するための粘着剤であって、（メタ）アクリル酸エステル共重合体と光重合性化合物と多官能イソシアネート硬化剤と光重合開始剤とを含み、粘着付与樹脂を含まないことを特徴とする粘着剤も提供する。【００１１】
さらに、本発明は、粘着シートを貼り付けた電子部品を６０〜１５０℃で加温する加温工程を含み、前記粘着シートとして、基材に光硬化型粘着剤層を積層してなる粘着シートであって、該基材が、プロピレン系共重合体により形成され、該光硬化型粘着剤層を形成する光硬化型粘着剤が、（メタ）アクリル酸エステル共重合体と光重合性化合物と多官能イソシアネート硬化剤と光重合開始剤とを含み、粘着付与樹脂を含まない粘着シートを用いることを特徴とする電子部品の製造方法をも提供する。
この電子部品の製造方法において、性能試験のための加温工程は、ダイシング工程の前後の少なくとも一方で行われ得る。すなわち、この電子部品の製造方法は、前記粘着シートを半導体ウエハ又は基板とリングフレームとに貼り付ける貼付工程と、粘着シートが貼り付けられた半導体ウエハ又は基板を、６０〜１５０℃のステージ上に粘着シートがステージに接するように載せ、吸着固定することにより加温し、半導体ウエハ又は基板を検査する加温工程と、粘着シートが貼り付けられた半導体ウエハ又は基板をダイシングして半導体チップ又は半導体部品にするダイシング工程と、粘着シートの光硬化型粘着剤層に活性光線を照射する光照射工程と、半導体チップ又は半導体部品同士の間隔を広げるため粘着シートを引き伸ばすエキスパンド工程と、粘着シートから半導体チップ又は半導体部品をピックアップするピックアップ工程とを含むものとすることができる。また、この電子部品の製造方法は、前記粘着シートを半導体ウエハ又は基板とリングフレームとに貼り付ける貼付工程と、粘着シートが貼り付けられた半導体ウエハ又は基板をダイシングして半導体チップ又は半導体部品にするダイシング工程と、粘着シートが貼り付けられた半導体チップ又は半導体部品を、６０〜１５０℃のステージ上に粘着シートがステージに接するように載せ、吸着固定することにより加温し、半導体チップ又は半導体部品を検査する加温工程と、粘着シートの光硬化型粘着剤層に活性光線を照射する光照射工程と、半導体チップ又は半導体部品同士の間隔を広げるため粘着シートを引き伸ばすエキスパンド工程と、粘着シートから半導体チップ又は半導体部品をピックアップするピックアップ工程とを含むものとしてもよい。【００１２】
ここで、「粘着付与樹脂」には、アクリル系接着剤の粘着性を高めるために従来配合されている樹脂であって、例えばロジン系樹脂、テルペン系樹脂、脂肪族石油樹脂、芳香族石油樹脂、水添石油樹脂、クロマン・インデン樹脂、スチレン系樹脂、キシレン樹脂およびこれらの樹脂の混合物などが包含されるものとする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、加温による粘着剤層の軟化が生じ難い粘着シートが提供される。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を実施するための好適な形態について説明する。なお、以下に説明する実施形態は、本発明の代表的な実施形態の一例を示したものであり、これにより本発明の範囲が狭く解釈されることはない。
１．粘着シート
（１）光硬化型粘着剤
（１−１）粘着付与樹脂
（１−２）（メタ）アクリル酸エステル共重合体
（１−３）光重合性化合物
（１−４）多官能イソシアネート硬化剤
（１−５）光重合開始剤
（２）基材
２．電子部品の製造方法
（１）貼付工程
（２）加温工程
（３）ダイシング工程
（４）光（紫外線）照射工程
（５）エキスパンド・ピックアップ工程
【００１５】
１．粘着シート
本発明に係る粘着シートは、基材に光硬化型粘着剤層（以下、単に「粘着剤層」とも称する）を積層してなり、粘着剤層に粘着付与樹脂を含まないことを特徴とする。本発明に係る粘着シートは、加温された場合にも粘着付与樹脂の軟化に起因した粘着剤層の軟化を生じないため、半導体ウエハ等に過度に密着することがない。従って、本発明に係る粘着シートでは、紫外線等の照射により粘着剤層の十分な接着力の低下が得られ、ピックアップ不良や糊残りを防止できる。
【００１６】
（１）光硬化型粘着剤
本発明に係る粘着シートの粘着剤層を形成する光硬化型粘着剤は、（メタ）アクリル酸エステル共重合体と光重合性化合物と多官能イソシアネート硬化剤と光重合開始剤とを含み、粘着付与樹脂を含まない。
【００１７】
（１−１）粘着付与樹脂
加熱による粘着剤層の軟化の原因となる粘着付与樹脂としては、特に限定されないが、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、脂肪族石油樹脂、芳香族石油樹脂、水添石油樹脂、クロマン・インデン樹脂、スチレン系樹脂、キシレン樹脂およびこれらの樹脂の混合物が挙げられる。
【００１８】
粘着剤には、粘着付与樹脂を含まない限り、剥離付与剤、老化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤および光安定剤などの各種添加剤は添加されていてもよい。剥離付与剤には、例えばシリコーン系グラフト重合体を用いることができる。
【００１９】
（１−２）（メタ）アクリル酸エステル共重合体
（メタ）アクリル酸エステル共重合体は、（メタ）アクリル酸エステル単量体のみの重合体、又は、（メタ）アクリル酸エステル単量体とビニル化合物単量体との共重合体である。なお、（メタ）アクリレートとはアクリレートおよびメタアクリレートの総称である。（メタ）アクリル酸等の（メタ）を含む化合物等も同様に、名称中に「メタ」を有する化合物と「メタ」を有さない化合物の総称である。
【００２０】
（メタ）アクリル酸エステルの単量体としては、例えばブチル（メタ）アクリレート、２−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ミリスチル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシメチル（メタ）アクリレートおよびエトキシ−ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００２１】
（メタ）アクリル酸エステル単量体に共重合可能なビニル化合物単量体としては、例えば、カルボキシル基、エポキシ基、アミド基、アミノ基、メチロール基、スルホン酸基、スルファミン酸基又は（亜）リン酸エステル基といった官能基群の１種以上を有する官能基含有単量体が挙げられる。
【００２２】
カルボキシル基を有する単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、フマール酸、アクリルアミドＮ−グリコール酸およびケイ皮酸がある。
エポキシ基を有する単量体としては、例えば、アリルグリシジルエーテルおよび（メタ）アクリル酸グリシジルエーテルがある。
アミド基を有する単量体としては、例えば、（メタ）アクリルアミドがある。
アミノ基を有する単量体としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートがある。
メチロール基を有する単量体としては、例えば、Ｎ−メチロールアクリルアミドがある。
【００２３】
（１−３）光重合性化合物
光重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、１，４−ブチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、シアヌル酸トリエチルアクリレート、市販のオリゴエステルアクリレートなどが用いられる。
【００２４】
光重合性化合物として、上記アクリレート系化合物の他に、ウレタンアクリレートオリゴマーを用いることもできる。ウレタンアクリレートオリゴマーは、ポリエステル型又はポリエーテル型などのポリオール化合物と多価イソシアネート化合物とを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマに、ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレートを反応させて得られる。
【００２５】
多価イソシアネート化合物には、例えば、２,４−トリレンジイソシアネート、２,６−トリレンジイソシアネート、１,３−キシレンジイソシアネート、１,４−キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン４,４−ジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどが用いられる。また、ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレートには、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレートなどが用いられる。
【００２６】
光重合性化合物としては、ビニル基を４個以上有するウレタンアクリレートオリゴマーが、紫外線等の照射後の粘着剤の硬化が良好である点で好ましい。
【００２７】
光重合性化合物の配合量は、（メタ）アクリル酸エステル共重合体１００質量部に対して５質量部以上２００質量部以下とすることが好ましい。光重合性化合物の配合量を少なくすると、放射線照射後の粘着シートの剥離性が低下し、半導体チップのピックアップ不良を生じやすくなる。一方、光重合性化合物の配合量を多くすると、ダイシング時の糊の掻き上げによりピックアップ不良が生じ易くなるとともに反応残渣による微小な糊残りが発生し、汚染の原因となる。
【００２８】
（１−４）多官能イソシアネート硬化剤
多官能イソシアネート硬化剤には、イソシアネート基を２個以上有するものであり、例えば芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネート、これらの二量体や三量体、アダクト体などが用いられる。
【００２９】
芳香族ポリイソシアネートとしては、例えば１，３−フェニレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、４，４’−トルイジンジイソシアネート、２，４，６−トリイソシアネートトルエン、１，３，５−トリイソシアネートベンゼン、ジアニシジンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、４，４’，４”−トリフェニルメタントリイソシアネート、ω，ω’−ジイソシアネート−１，３−ジメチルベンゼン、ω，ω’−ジイソシアネート−１，４−ジメチルベンゼン、ω，ω’−ジイソシアネート−１，４−ジエチルベンゼン、１，４−テトラメチルキシリレンジイソシアネートおよび１，３−テトラメチルキシリレンジイソシアネートがある。
【００３０】
脂肪族ポリイソシアネートとしては、例えばトリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、１，２−プロピレンジイソシアネート、２，３−ブチレンジイソシアネート、１，３−ブチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネートおよび２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートがある。
【００３１】
脂環族ポリイソシアネートとしては、例えば３−イソシアネートメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート、１，３−シクロペンタンジイソシアネート、１，３−シクロヘキサンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−２，４−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−２，６−シクロヘキサンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、１，４−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサンおよび１，４−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサンがある。
【００３２】
二量体や三量体、アダクト体としては、例えばジフェニルメタンジイソシアネートの二量体、ヘキサメチレンジイソシアネートの三量体、トリメチロールプロパンとトリレンジイソシアネートとのアダクト体、トリメチロールプロパンとヘキサメチレンジイソシアネートとのアダクト体がある。
【００３３】
上述のポリイソシアネートのうち、イソシアネート基を３個以上有するものが好ましく、特にヘキサメチレンジイソシアネートの三量体、トリメチロールプロパンとトリレンジイソシアネートとのアダクト体、トリメチロールプロパンとヘキサメチレンジイソシアネートとのアダクト体が好ましい。
【００３４】
多官能イソシアネート硬化剤の配合比は、（メタ）アクリル酸エステル共重合体１００質量部に対して０．５質量部以上２０質量部以下が好ましく、１．０質量部以上１０質量部以下がより好ましい。多官能イソシアネート硬化剤が０．５質量部以上であれば、粘着力が強すぎないので、ピックアップ不良の発生を抑制することができる。多官能イソシアネート硬化剤が２０質量部以下であれば、粘着力が低下せず、ダイシング時に半導体チップの保持性が維持される。
【００３５】
（１−５）光重合開始剤
光重合開始剤には、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル類、アセトフェノン類、アントラキノン類、チオキサントン類、ケタール類、ベンゾフェノン類またはキサントン類などが用いられる。
【００３６】
ベンゾインとしては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテルなどがある。
アセトフェノン類としては、例えばベンゾインアルキルエーテル類、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−アセトフェノン、２，２―ジエトキシ−２−アセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノンなどがある。
アントラキノン類としては、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノンなどがある。
チオキサントン類としては、例えば２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントンなどがある。
ケタール類としては、例えばアセトフェノンジメチルケータル、ベンジルジメチルメタール、ベンジルジフエニルサルフアイド、テトラメチルチウラムモノサルフアイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノンなどがある。
【００３７】
光重合開始剤は、温度２３℃から、１０℃／分の昇温速度で５００℃まで昇温し、質量減少率が１０％となった際の温度が２５０℃以上であるものが好ましい。後述する加温工程においてウエハ等に貼付けられた粘着シートを６０〜１５０℃で加温する際、光重合開始剤が揮発又は劣化すると、後工程である光照射工程における粘着剤層の硬化が不十分となり、十分な接着力の低下が得られず、続くピックアップ工程におけるピックアップ不良の要因となる。このため、上記のような性状を有し、加温による揮発や劣化が生じ難い光重合開始剤を用いることが好ましい。
【００３８】
上記温度が２５０℃以上である光重合開始剤としては、エタノン,１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（ＢＡＳＦジャパン社製、製品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０２）、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド（ＢＡＳＦジャパン社製、製品名ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ）、および２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン社製、製品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（ＢＡＳＦジャパン社製、製品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９）、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モルフォリンー４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン社製、製品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（ＢＡＳＦジャパン社製、製品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９）等が挙げられる。
【００３９】
このうち、特に上記温度が２７０℃以上である、エタノン,１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（ＢＡＳＦジャパン社製、製品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０２）、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド（ＢＡＳＦジャパン社製、製品名ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ）、および２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン社製、製品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７）が好ましい。
【００４０】
光重合開始剤の配合量は、（メタ）アクリル酸エステル重合体１００質量部に対して０．１質量部以上２０質量部以下が好ましい。配合量が少な過ぎると、放射線照射後の粘着シートの剥離性が低下し、半導体チップのピックアップ不良を生じやすくなる。一方、配合量が多過ぎると、光重合開始剤が粘着剤表面へブリードアウトし、汚染の原因となる。
【００４１】
光重合開始剤には、必要に応じて従来公知の光重合促進剤を１種または２種以上を組合せて併用してもよい。光重合促進剤には、安息香酸系や第三級アミンなどを用いることができる。第三級アミンとしては、トリエチルアミン、テトラエチルペンタアミン、ジメチルアミノエーテルなどが挙げられる。
【００４２】
粘着剤層の厚みは、３μｍ以上１００μｍが好ましく、５μｍ以上２０μｍ以下が特に好ましい。粘着剤層が厚過ぎると粘着力が高くなり過ぎ、ピックアップ性が低下する。また、粘着剤層が薄過ぎると粘着力が低くなり過ぎ、ダイシング時のチップ保持性が低下し、リングフレームとシートとの間で剥離が生じる場合がある。
【００４３】
（２）基材
基材の材料としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸−アクリル酸エステルフィルム、エチレン−エチルアクリレート共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、プロピレン系共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、および、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体やエチレン−（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等を金属イオンで架橋したアイオノマ樹脂などが挙げられる。基材は、これら樹脂の混合物又は共重合体であってよく、これら樹脂からなるフィルムやシートの積層体であってもよい。
【００４４】
基材の材料には、プロピレン系共重合体を用いることが好ましい。耐熱性と伸長性に優れるプロピレン系共重合体を材料に用いることで、加温されても軟化や溶融を起こすことがなく、収縮を生じず、またエキスパンド・ピックアップ工程で十分に引き伸ばすことが可能な粘着シートが得られる。
【００４５】
プロピレン系共重合体としては、例えばプロピレンと他成分とのランダム共重合体、プロピレンと他成分とのブロック共重合体、プロピレンと他成分の交互共重合体がある。他成分としては、エチレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン等のα−オレフィン、少なくとも２種以上のα−オレフィンからなる共重合体、スチレン−ジエン共重合体等がある。
【００４６】
プロピレン系共重合体の中でも特にプロピレンと１−ブテンとエチレンとの共重合体が好ましい。プロピレンと１−ブテンとエチレンとの共重合体は耐熱性に加えて柔軟性も備えるため、これを用いることによりエキスパンド性の良好な粘着シートが得られる。
【００４７】
基材は、上記材料からなる単層あるいは多層のフィルムあるいはシートであってよく、異なる材料からなるフィルム等を積層したものであってもよい。基材の厚さは５０〜２００μｍ、好ましくは７０〜１５０μｍである。
【００４８】
基材には、帯電防止処理を施すことが好ましい。帯電防止処理としては、基材に帯電防止剤を配合する処理、基材表面に帯電防止剤を塗布する処理、コロナ放電による処理がある。
【００４９】
帯電防止剤としては、例えば四級アミン塩単量体などを用いることができる。四級アミン塩単量体としては、例えばジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート四級塩化物、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート四級塩化物、メチルエチルアミノエチル（メタ）アクリレート四級塩化物、ｐ−ジメチルアミノスチレン四級塩化物、およびｐ−ジエチルアミノスチレン四級塩化物が挙げられる。このうち、ジメチルアミノエチルメタクリレート四級塩化物が好ましい。
【００５０】
２．電子部品の製造方法
本発明に係る電子部品の製造方法は、上述の粘着シートを貼り付けた電子部品を６０〜１５０℃で加温する工程を含む。以下、製造方法の具体的な工程を順に説明する。なお、本発明において「電子部品」は、例えば、半導体ウエハ、基板、半導体チップ、半導体部品等をいう。
【００５１】
（１）貼付工程
まず、貼付工程において、粘着シートを半導体ウエハ（又は基板）とリングフレームに貼り付ける。ウエハは、シリコンウエハおよびガリウムナイトライドウエハ、炭化ケイ素ウエハ、サファイアウエハなどの従来汎用のウエハであってよい。
【００５２】
（２）加温工程
ウエハ等に形成された回路の試験を行う場合、貼付工程後に、ウエハ等を６０〜１５０℃程度で１５分〜５時間程度加温する。具体的には、粘着シートが貼り付けられた半導体ウエハ又は基板を、６０〜１５０℃のステージ上に粘着シートがステージに接するように載せ、吸着固定することにより加温し、半導体ウエハ又は基板を検査する。また、半導体チップ又は半導体部品を得た後に回路の試験を行う場合には、次に説明するダイシング工程後に同様にして加温工程を行う。すなわち、粘着シートが貼り付けられた半導体チップ又は半導体部品を、６０〜１５０℃のステージ上に粘着シートがステージに接するように載せ、吸着固定することにより加温し、半導体チップ又は半導体部品を検査する。さらに、加温工程は、ダイシング工程後に切削水を除去する目的でも行われ、同様に半導体チップ等が６０〜１５０℃程度で１５分〜５時間程度加温される。
【００５３】
本発明に係る粘着シートは、加温された場合にも粘着付与樹脂の軟化に起因した粘着剤層の軟化を生じないため、半導体ウエハ等に過度に密着することがない。従って、本発明に電子部品の製造方法では、後述する紫外線照射工程およびピックアップ工程において、紫外線等の照射により粘着剤層の十分な接着力の低下が得られ、ピックアップ不良や糊残りを防止できる。
【００５４】
（３）ダイシング工程
ダイシング工程では、シリコンウエハ等をダイシングして半導体チップ又は半導体部品にする。ダイシング工程後、切削水を除去する目的で上記の加温工程が行われる場合がある。
【００５５】
（４）光照射工程
光照射工程では、基材側から光硬化型粘着剤層に紫外線等の活性光線を照射する。紫外線の光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプを用いることができる。また、紫外線に替えて電子線を用いてもよく、電子線の光源としてはα線、β線、γ線を用いることができる。
【００５６】
光照射により粘着剤層は三次元網状化して硬化し、粘着剤層の粘着力が低下する。この際、上述したように、本発明に係る粘着シートは加温してもウエハ等に過度に密着することがないため、紫外線等の照射により十分な接着力の低下が得られる。
【００５７】
（５）エキスパンド・ピックアップ工程
エキスパンド・ピックアップ工程では、半導体チップ又は半導体部品同士の間隔を広げるため粘着シートを引き伸ばし、チップ又は部品をニードルピン等で突き上げる。その後、チップ又は部品を真空コレットまたはエアピンセット等で吸着し、粘着シートの粘着剤層から剥離してピックアップする。この際、本発明に係る粘着シートでは紫外線等の照射により十分な接着力の低下が得られているため、チップ又は部品と粘着剤層との間の剥離が容易となり、良好なピックアップ性が得られ、糊残りなどの不良が生じることもない。
【００５８】
ピックアップ工程後は、ピックアップしたチップ又は部品を、ダイアタッチペーストを介してリードフレームに搭載する。搭載後、ダイアタッチペーストを加熱し、チップ又は部品とリードフレームとを加熱接着する。その後、リードフレームに搭載したチップ又は部品を樹脂でモールドする。
【実施例】
【００５９】
＜実施例１＞
「表１」に示す配合に従って光硬化型粘着剤を調製した。光硬化型粘着剤をポリエチレンテレフタレート製のセパレーターフィルム上に塗布し、乾燥後の粘着層の厚みが１０μｍとなるように塗工した。この粘着層を基材フィルムに積層し、４０℃で７日間熟成し、粘着シートを得た。基材フィルム（Ｋ−１）には、サンアロマー社製プロピレン系共重合体（品番：Ｘ５００Ｆ）をＴダイ押出しにより８０μｍに成膜したもの用いた。【００６０】
【表１】
2012157615.tif 000002
【００６１】
［基材フィルム］
Ｋ−１：サンアロマー社製プロピレン系共重合体（品番：Ｘ５００Ｆ）；プロピレンと１−ブテンとエチレンを重合成分として含有、ＭＦＲ（メルトフローレート）値が７．５ｇ／１０分、密度０．８９ｇ／ｃｍ３。
Ｋ−２：サンアロマー社製プロピレン系共重合体（品番：Ｑ３００Ｆ）；プロピレンとエチレンを重合成分として含有、ＭＦＲ値０．９ｇ／１０分、密度０．８９ｇ／ｃｍ３。
Ｋ−３：東ソー社製エチレン系共重合体（品番：ウルトラセン５３７）、酢酸ビニル含有率６％、ＭＦＲ値８．５ｇ／１０分、密度０．９３ｇ／ｃｍ３。
Ｋ−４：東ソー社製低密度ポリエチレン（品番：ペトロセン１７０）、ＭＦＲ値１．０ｇ／１０分、密度０．９２ｇ／ｃｍ３。【００６２】
［光硬化型粘着剤］
〔（メタ）アクリル酸エステル共重合体〕
Ａ−１：日本ゼオン社製アクリルゴムＡＲ５３Ｌ；エチルアクリレート５４％、ブチルアクリレート１９％、メトキシエチルアクリレート２４％の共重合体、乳化重合により得られる。
Ａ−２：綜研化学社製ＳＫダイン１４９６；２−エチルヘキシルアクリレート９６％、２−ヒドロキシエチルアクリレート４％の共重合体、溶液重合により得られる。
〔光重合性化合物〕
Ｂ−１：根上工業社製ＵＮ−９０５；イソホロンジイソシアネートの三量体にジペタエリスリトールペンタアクリレートを主成分とするアクリレートを反応させたものであり、ビニル基の数が１５個。
Ｂ−２：新中村化学社製Ａ−ＴＭＰＴ；トリメチロールプロパントリアクリレート、ビニル基の数が３個。
〔多官能イソシアネート硬化剤〕
Ｃ−１：日本ポリウレタン社製コロネートＬ−４５Ｅ；２，４−トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体。
Ｃ−２：トリメチレンジイソシアネート。
〔光重合開始剤〕
Ｄ−１：ＢＡＳＦジャパン社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０２；エタノン,１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、質量減少率が１０％の際の温度３２０℃。
Ｄ−２：ＢＡＳＦジャパン社製ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、質量減少率が１０％の際の温度２７０℃。
Ｄ−３：ＢＡＳＦジャパン社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７；２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、質量減少率が１０％の際の温度２７５℃。
Ｄ−４：ＢＡＳＦジャパン社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１；ベンジルジメチルケタール、質量減少率が１０％の際の温度１８５℃。
〔シリコーン系グラフト共重合体〕
Ｅ−１：綜研化学社製ＵＴＭＭ−ＬＳ２；シリコーン分子鎖の末端に（メタ）アクリロイル基を有するシリコーン系オリゴマ系単位、及びメチルメタアクリレート等からなるアクリルビニル単位を重合してなるシリコーン系グラフト共重合体。
〔粘着付与樹脂〕
Ｆ−１：ヤスハラケミカル製ＹＳポリスターＳ１４５；テルペンフェノール系粘着付与樹脂、軟化点１４５℃。【００６３】
得られた粘着シートをダミーの回路パターンを形成した直径８インチ、厚さ０．１ｍｍのシリコンウエハとリングフレームに貼り合わせ、ダイシングした。シリコンウエハを、粘着シート貼り付け面と反対側の面が接するようにホットプレート上に設置し、１２０℃で１時間加温した後、光照射およびエキスパンド・ピックアップの各工程を行った。【００６４】
ダイシング工程の条件は以下の通りとした。
ダイシング装置：ＤＩＳＣＯ社製ＤＡＤ３４１
ダイシングブレード：ＤＩＳＣＯ社製ＮＢＣ−ＺＨ２０５Ｏ−２７ＨＥＥＥ
ダイシングブレード形状：外径５５．５６ｍｍ、刃幅３５μｍ、内径１９．０５ｍｍ
ダイシングブレード回転数：４０，０００ｒｐｍ
ダイシングブレード送り速度：５０ｍｍ／秒
ダイシングサイズ：１０ｍｍ角
粘着シートへの切り込み量：１５μｍ
切削水温度：２５℃
切削水量：１．０リットル／分【００６５】
光照射工程の条件は以下の通りとした。
紫外線照射：高圧水銀灯で照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２【００６６】
エキスパンド・ピックアップ工程の条件は以下の通りとした。
ピックアップ装置：キヤノンマシナリー社製ＣＡＰ−３００ＩＩ
エキスパンド量：８ｍｍ
ニードルピン形状：２５０μｍＲ
ニードルピン数：５本
ニードルピン突き上げ高さ：０．３ｍｍ【００６７】
ダイシング工程およびエキスパンド・ピックアップ工程において、以下の評価を行った。
（１）チップ保持性
チップ保持性は、ダイシング工程後において、半導体チップが粘着シートに保持されている半導体チップの残存率に基づき、以下の基準により評価した。
優  ：チップ飛びが５％未満
良  ：チップ飛びが５％以上１０％未満
不可：チップ飛びが１０％以上【００６８】
（２）ピックアップ性
ピックアップ性は、ピックアップ工程において、半導体チップがピックアップできた率に基づき、以下の基準により評価した。
優  ：チップのピックアップ成功率が９５％以上
良  ：チップのピックアップ成功率が８０％以上９５％未満
不可：チップのピックアップ成功率が８０％未満【００６９】
評価結果を「表１」に示す。実施例１に係る粘着シートでは、チップ保持性およびピックアップ性がともに優と評価された。【００７０】
＜実施例２〜１１＞
基材フィルムの材料、（メタ）アクリル酸エステル共重合体および光重合性化合物、多官能イソシアネート硬化剤、光重合開始剤、シリコーン系グラフト共重合体の種類あるいは添加有無を「表１」に示すように変更した以外は実施例１と同様にして粘着シートを製造し、評価を行った。結果を「表１」に示す。【００７１】
＜実施例１２〜２０＞
実施例１と同様にして得た粘着シートをダミーの回路パターンを形成した直径８インチ、厚さ０．１ｍｍのシリコンウエハとリングフレームに貼り合わせ、ダイシングした。シリコンウエハを、粘着シート貼り付け面と反対側の面が接するようにホットプレート上に設置し、「表１」に示す条件で加温した後、光照射およびエキスパンド・ピックアップの各工程を実施例１と同条件で行った。結果を「表１」に示す。【００７２】
＜比較例１＞
シリコーン系グラフト共重合体を添加せず、粘着付与樹脂を添加した以外は実施例１と同様にして粘着シートを製造し、評価を行った。結果を「表１」に示す。【００７３】
実施例２〜２０では、良好なチップ保持性およびピックアップ性が確認された。一方、比較例１では、ピックアップ性が不良となり、糊残りも顕著であった。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明に係る粘着シートは、加温された場合にも粘着剤層の軟化を生じず、半導体ウエハ等に過度に密着することがないため、紫外線等の照射により粘着剤層の接着力を十分に低下させることができ、良好なピックアップ性が得られる。従って、本発明に係る粘着シートは、半導体ウエハの加工プロセスにおいて、回路が形成された半導体ウエハ等の性能試験あるいはダイシング工程での切削水除去を目的とした加温工程が含まれる場合に好適に用いられ得る。
【国際調査報告】
2012157615.tif 000003
2012157615.tif 000004
2012157615.tif 000005
2012157615.tif 000006