(57)【要約】  レンズ（１１）は、複数の凸部（２１）及び凹部（２２）が配列されてなり、凸部（２１）及び凹部（２２）の周期以上の波長の光の反射を抑制する反射防止凹凸構造（１３）を備えている。反射防止凹凸構造（１３）は、凸部（２１）が相対的に低く且つ凹部（２２）が相対的に浅い領域と、凸部（２１）が相対的に高く且つ凹部（２２）が相対的に深い領域とを有している。凸部（２１）が相対的に低く且つ凹部（２２）が相対的に浅い領域においては、凸部（２１）の頂部と凹部（２２）の底部とに第１及び第２平坦面（１６，１７）が形成されている。
2012114714.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の凸部及び凹部が配列されてなり、該凸部及び凹部の周期以上の波長の光の反射を抑制する反射防止凹凸構造を備えた光学部材であって、
前記反射防止凹凸構造は、前記凸部が相対的に低く且つ前記凹部が相対的に浅い領域と、前記凸部が相対的に高く且つ前記凹部が相対的に深い領域とを有し、
前記凸部が相対的に低く且つ前記凹部が相対的に浅い領域においては、前記凸部の頂部と前記凹部の底部とに平坦面が形成されている光学部材。
【請求項２】
前記平坦面は、前記凸部が低くなるほど、又は、前記凹部が浅くなるほど、大きくなる、請求項１に記載の光学部材。
【請求項３】
前記反射防止凹凸構造は、曲面上に形成されており、
前記曲面は、中央部に比べて周辺部の傾斜が急な形状であり、
前記曲面の中央部よりも前記曲面の周辺部の方が、前記凸部が低く且つ前記凹部が浅い、請求項１に記載の光学部材。
【請求項４】
前記凸部は、前記曲面の中央部から前記曲面の周辺部に向かって低くなり、
前記凹部は、前記曲面の中央部から前記曲面の周辺部に向かって浅くなる、請求項３に記載の光学部材。
【請求項５】
前記反射防止構造は、中央部に比べて周辺部の傾斜が急な曲面上に形成されており、
前記曲面の周辺部よりも前記曲面の中央部の方が、前記凸部が低く且つ前記凹部が浅い、請求項１に記載の光学部材。
【請求項６】
前記凸部は、前記曲面の周辺部から前記曲面の中央部に向かって低くなり、
前記凹部は、前記曲面の周辺部から前記曲面の中央部に向かって浅くなる、請求項５に記載の光学部材。
【請求項７】
前記凸部が相対的に低く且つ前記凹部が相対的に浅い領域と、前記凸部が相対的に高く且つ前記凹部が相対的に深い領域とが、交互に並んで形成されている、請求項１に記載の光学部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ここに開示された技術は、光学部材に関する。特に、ここに開示された技術は、入射光の反射を抑制する反射防止凹凸構造が表面に形成された光学部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光の反射を抑制する反射防止処理が表面に施された種々の光学部材が提案されている。【０００３】
反射防止処理の１つとして、光学部材の表面に入射光の波長以下のピッチで微細構造（例えば、規則的に配列された線条凸部又は線条凹部からなる微細構造や、規則的に配列された錐体状若しくは柱状の凸部又はすり鉢状若しくは筒状の凹部からなる微細構造等。以下、このような微細構造が複数配列されてなる構造を「反射防止凹凸構造」又は「ＳＷＳ（Subwavelength Structure）」と称することがある。）形成する処理が提案されている。【０００４】
例えば、特許文献１は、反射防止凹凸構造のパターンが外周に向かって徐々に凹凸形状の溝の深さが浅く形成されている光学素子を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−２８３８１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、反射抑制効果は微細構造の高さ又は深さによって異なるため、微細構造が低くなると反射抑制機能も低くなる虞がある。【０００７】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、微細構造の高さ又は深さが領域によって異なる反射防止構造体において、反射抑制機能を向上させることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
構造単位が規則的に複数配列されてなり、該構造単位の周期以上の波長の光の反射を抑制する反射防止凹凸構造が形成された少なくともひとつの曲面を有する光学部材であって、前記反射防止凹凸構造は、前記構造単位の高さが相対的に小さい領域と、前記構造単位の高さが相対的に大きい領域と、を有し、前記構造単位の高さが相対的に小さい領域の前記反射防止凹凸構造の上面および下面に略平坦面が形成されている、光学部材。
【発明の効果】
【０００９】
本発明では、構造単位の高さが低い領域の反射防止凹凸構造の上面および下面に略平坦面が形成されている。略平坦面である上面および下面で光の干渉を起こすことができる。この光の干渉を利用することで、構造単位の高さが低い領域の反射防止効果をより高めることができる。その結果、微細構造の高さが領域によってことなる反射防止構造体において、従来よりも優れた反射防止機能を実現する反射防止構造体を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、第1実施形態のレンズの断面図である。
【図２】図２は、第１実施形態の反射防止凹凸構造の部分拡大図である。
【図３】図３は、レンズ金型を作製するための工程を示す図である。
【図４】図４は、実施例における波長と反射率の関係を示すグラフである。
【図５】図５は、第２実施形態のレンズの断面図である。
【図６】図６は、第３実施形態のレンズの断面図である。
【図７】図７は、第３実施形態の第１光学面のベース面を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を用いて実施の形態について説明する。
【００１２】
《実施形態１》
［レンズの概要］
図１に、実施形態１に係るレンズ１１の断面図を示す。
【００１３】
実施形態１に係るレンズ１１は、反射防止凹凸構造を有する。レンズ１１は、光学部材の一例である。レンズ１１は、第１光学面１４と、第２光学面１５と、コバ面１２とを有している。第１光学面１４と第２光学面１５とは、互いに対向している。コバ面１２は、第１及び第２光学面１４，１５の外周に形成され、第１及び第２光学面１４，１５の外周縁に接続されている。第１光学面１４には、反射防止凹凸構造（以下、ＳＷＳと称することがある。）１３が形成されている。
【００１４】
ＳＷＳ１３は、複数の凸部２１及び凹部２２が交互に配列されて、該凸部及び凹部の周期以上の波長の光の反射を抑制する。換言すると、ＳＷＳ１３は、構造単位（凸部又は凹部）が規則的に複数配列されてなり、該構造単位の周期以上の波長の光の反射を抑制する。詳しくは、ＳＷＳ１３は、凸部２１の先端から凹部２２の底に向かって屈折率を漸次変化させることになり、光の反射を抑制する。凸部２１は、略円錐状に形成されている。凹部２２は、略すり鉢状に形成されている。凸部２１又は凹部２２の周期は、レンズ１１に入射する光の波長をレンズ１１の屈折率で除した値以下に設定されることが好ましい。また、凸部２１の高さ又は凹部２２の深さは、レンズ１１に入射する光の波長の０．４倍以上であることが好ましい。これらを満たすことによって、十分な反射抑制効果を発揮させることができる。ここで、凸部２１の高さは、凹部２２の底部を通る曲面（以下、下ベース面ともいう）から、凸部２１の頂部までの、レンズ１１の光軸Ｘが延びる方向（以下、光軸方向ともいう）の寸法である。凹部２２の深さは、凸部２１の頂部を通る曲面（以下、上ベース面ともいう）から、凹部２２の底部までの光軸方向の寸法である。凸部２１の周期は、隣接する凸部２１の頂部間の、光軸Ｘと直交する面と平行な方向への間隔である。凹部２２の周期は、隣接する凹部２２の底部間の、光軸Ｘと直交する面と平行な方向への間隔である。凸部２１と凹部２２とは交互に配列されているので、凸部２１の高さと凹部２２の深さとは略一致し、凸部２１の周期と凹部２２の周期とは略一致する。例えば、屈折率１．５のレンズ１１に入射する可視光（波長：約４００〜７００ｎｍ）の反射を抑制したい場合、凸部２１又は凹部２２の周期が約２６６ｎｍ以下、凸部２１の高さ又は凹部２２の深さが約２８０ｎｍ以上であれば、十分な反射抑制効果が期待できる。
【００１５】
ここで、凸部２１の高さ又は凹部２２の深さは、第１光学面１４に亘って均一ではない。すなわち、凸部２１の高さ又は凹部２２の深さは、場所によって異なる。例えば、レンズなどの曲面は、光軸Ｘに対する傾きが場所によって異なるので、曲面上にＳＷＳ１３を形成する場合には、凸部２１の高さ又は凹部２２の深さを均一にすることが困難である。本実施形態に係るＳＷＳ１３は、第１光学面１４の周辺部では凸部２１の高さが相対的に高く、第１光学面１４の中心部では凸部２１の高さが相対的に低い。詳しくは、ＳＷＳ１３は、第１光学面１４の周辺部ほど凸部２１の高さが高く、第１光学面１４の中心部に向かうにつれて凸部２１の高さが低くなっている。第１光学面１４の周辺部は、凸部２１の高さが相対的に小さい領域の一例である。また、第１光学面１４の中心部は、凸部２１の高さが相対的に大きい領域の一例である。
【００１６】
［ＳＷＳの詳細構造］
図２に、レンズ１１の反射防止凹凸構造１３の中央部における部分拡大断面図を示す。第１光学面１４の中央部においては、凸部２１の頂部に第１平坦部１６が形成され、凹部２２の底部に第２平坦部１７が形成されている。第１光学面１４の周辺部においては、図１に示すように、凸部２１の頂部及び凹部２２の底部は、尖鋭な形状をしており、平坦部が形成されていない。これら第１及び第２平坦部１６，１７が平坦面を構成する。
【００１７】
本実施形態では、第１及び第２平坦部１６，１７は、光軸Ｘに対して略直交する。すなわち、第１及び第２平坦部１６，１７は、互いに略平行である。第１及び第２平坦部１６，１７は、略円形である。また、第１及び第２平坦部１６，１７の面積は、第１光学面１４の中心に向かうにつれて大きく、即ち、凸部２１の高さが低くなるにつれて、凹部２２の深さが浅くなるにつれて大きくなる。尚、第１及び第２平坦部１６，１７は、厳密に平坦である必要はなく、実質的に平坦であればよい。
【００１８】
また、第１及び第２平坦部１６，１７が形成されている場合には、第１平坦部１６のうち下ベース面から光軸方向に最も離れた部分を凸部２１の頂部とし、第２平坦部１７のうち上ベース面から光軸方向に最も離れた部分を凹部２２の底部として、前記下ベース面、上ベース面、凸部２１の高さ、凸部２１の周期、凹部２２の深さ、及び凹部２２の周期を観念する。本実施形態のように、第１及び第２平坦部１６，１７が光軸Ｘに略直交する場合には、第１平坦部１６の中心を凸部２１の頂部とし、第２平坦部１７の中心を凹部２２の頂部とする。例えば、下ベース面は、第２平坦部１７を有さない凹部２２については底部を、第２平坦部１７を有する凹部２２については、第２平坦部１７の中心を通る曲面である。凸部２１の高さは、下ベース面から第１平坦部１６の中心までの光軸方向の寸法である。凸部２１の周期は、隣接する凸部２１の第１平坦部１６の中心間の、光軸Ｘと直交する面と平行な方向への間隔である。
【００１９】
このように、第１及び第２平坦部１６，１７を形成することによって、第１光学面１４全面で反射抑制効果を向上させることができる。詳しくは、反射抑制効果の観点からは、凸部２１は高く、凹部２２は深いことが好ましい。すなわち、凸部２１が低い又は凹部２２が浅い部分は、凸部２１が高い又は凹部２２が深い部分に比べて、反射抑制効果が小さい。それに対し、第１及び第２平坦部１６，１７を設けると、第１及び第２平坦部１６，１７で屈折率が急激に変化することになり、第１及び第２平坦部１６，１７では入射した光の一部が反射する。しかしながら、凸部２１と凹部２２との両方に平坦部が設けられているので、第１平坦部１６で反射した光と第２平坦部１５で反射した光とは、互いに干渉して弱め合う。その結果、第１光学面１４全体としての反射光が抑制される。つまり、本来的には反射抑制効果が相対的に小さい部分であっても、光の干渉効果を利用することによって光の反射を抑制することができる。
【００２０】
［製造方法］
続いて、レンズ１１の製造方法について説明する。レンズ１１は、レンズ金型を用いた成形により製造する。レンズ金型は、ＳＷＳ１３の反転形状を有している。レンズ１１の材料がガラスの場合には、例えば、ヒートプレス成形によりレンズ１１が成形される。レンズ１１の材料が樹脂の場合には、例えば、射出成形やＵＶ成形によりレンズ１１が成形される。
【００２１】
次に、成形に用いるレンズ金型の作製について説明する。図３に、レンズ金型３７を作製するための工程図を示す。
【００２２】
まず、金型母材３１を用意する。そして、図３（Ａ）に示すように、機械加工により金型母材３１にレンズ形状（ＳＷＳ１３が形成される前の状態）を形成する。
【００２３】
次に、図３（Ｂ）に示すように、レンズ形状に形成した金型母材３１の表面に金属マスク３２を形成する。金属マスク３２の形成方法としては、スパッタリング法・蒸着法などが好ましい。
【００２４】
次に、図３（Ｃ）に示すように、金属マスク３２の上にレジストマスク３３を形成する。レジストマスク３３の形成方法としてはスピンコート法、スプレーコート法が好ましい。
【００２５】
次に、図３（Ｄ）に示すように、レジストマスク３３から、ＳＷＳ１３に対応したレジストドットパターン３４を形成する。レジストドットパターン３４の形成方法としては、電子ビーム描画法や干渉露光（ホログラム露光）法などが好ましい。また、レジストドットパターン３４の穴径は全面均一であることが好ましい。
【００２６】
次に、図３（Ｅ）に示すように、ドライエッチングによりレジストドットパターン３４を金属マスク３２に転写する。それにより、金属マスクドットパターン３５が形成される。なお、金属マスクドットパターン３５の形成方法としては、ウェットエッチングでもよい。
【００２７】
次に、図３（Ｆ）に示すように、ドライエッチングにより金属マスクドットパターン３５を金型母材３１に転写する。これにより、金型母材３１表面にＳＷＳ１３の反転形状３６が形成されたレンズ金型３７が完成する。
【００２８】
一般に、ドライエッチング装置内で発生したプラズマ（イオン）は、被加工材の突起部もしくは角部に集中する。前記プロセスにおいて金型母材３１をドライエッチング加工する場合、金型母材３１の端部３８にプラズマ（イオン）が集中しやすい。そのため、プラズマが集中する端部３８のエッチング速度が速く、中央部のエッチング速度が遅くなる。図３（Ｄ）で示すように、均一な穴径を有するレジストドットパターン３４を用いてドライエッチング加工を行うと、金型母材３１の周辺部ではエッチング速度が速いため凸部が高く、凹部が深くなる一方、金型母材３１の中央部ではエッチング速度が遅いため凸部が低く、凹部が浅くなる。このとき、エッチング時間を制御することによって、金型母剤３１の中央部においては凸部の頂部と凹部の底部に平坦部を残しつつ、金型母材３１の周辺部の凸部の高さ及び凹部の深さを最大とすることができる。
【００２９】
このようなプロセスを用いることにより、レンズ金型３７の周辺部では凸部が高く且つ凹部が深く、中央部に向かうに従って凸部の高さが徐々に低く且つ凹部の深さが徐々に浅くなる。また、レンズ金型３７の中央部の凸部の頂部及び凹部の底部には、平坦部が形成されている。
【００３０】
［効果］
前記実施形態によれば、レンズ１１は、複数の凸部２１及び凹部２２が配列されてなり、該凸部２１及び凹部２２の周期以上の波長の光の反射を抑制する反射防止凹凸構造１３を備えている。前記反射防止凹凸構造１３は、前記凸部２１が相対的に低く且つ前記凹部２２が相対的に浅い領域と、前記凸部２１が相対的に高く且つ前記凹部２２が相対的に深い領域とを有し、前記凸部２１が相対的に低く且つ前記凹部２２が相対的に浅い領域においては、前記凸部２１の頂部と前記凹部２２の底部とにそれぞれ第１及び第２平坦部１６，１７が形成されている。
【００３１】
換言すれば、レンズ１１は、構造単位が規則的に複数配列されてなり、該構造単位の周期以上の波長の光の反射を抑制する反射防止凹凸構造が形成された少なくともひとつの曲面を有する光学部材であって、前記反射防止凹凸構造は、前記構造単位の高さが相対的に小さい領域と、前記構造単位の高さが相対的に大きい領域と、を有し、前記構造単位の高さが相対的に小さい領域の前記反射防止凹凸構造の上面及び下面に略平坦部が形成されている。
【００３２】
前記の構成によれば、前記凸部２１が相対的に低く且つ前記凹部２２が相対的に浅い領域では、凸部２１及び凹部２２のそれ自体の反射抑制効果は相対的に小さい。しかし、凸部２１の頂部に第１平坦部１６を形成し、凹部２２の底部に第２平坦部１７を形成することによって、第１平坦部１６における反射光と第２平坦部１７における反射光との干渉効果により反射抑制効果を向上させることができる。その結果、凸部２１が相対的に低く且つ凹部２２が相対的に浅い領域と、凸部２１が相対的に高く且つ凹部２２が相対的に深い領域とが混在する構成であっても、反射抑制効果を全体的に向上させることができる。また、凸部２１を低く且つ凹部２２を浅くすることによって、反射防止凹凸構造１３を形成し易くすることができる。つまり、反射防止凹凸構造１３の作り易さが求められる領域においては凸部２１を低く且つ凹部２２を浅くし且つ凸部２１の頂部及び凹部２２の底部に第１及び第２平坦部１６，１７を形成することによって、反射防止凹凸構造１３の作り易さを向上させつつ、反射抑制効果の悪化を防止することができる。つまり、従来は解決できなかった、反射防止凹凸構造１３の作り易さと反射抑制効果の両立を図ることができる。
【００３３】
また、前記第１及び第２平坦部１６，１７は、前記凸部２１が低くなるほど、又は、前記凹部２２が浅くなるほど、大きくなっている。
【００３４】
つまり、凹部２２が浅くなるほど、凸部２１及び凹部２２のそれ自体の反射抑制効果は小さくなる。それに対して、凸部２１が低くなるほど第１平坦部１６を大きくし、凹部２２が浅くなるほど第２平坦部１７を大きくすることによって、干渉による反射抑制効果を大きくすることができる。
【実施例】
【００３５】
以下、実施例について説明する。本実施例のレンズは実施形態１のレンズ１１に対応している。【００３６】
〈実施例〉
実施例として、以下のレンズを成形した。【００３７】
環状オレフィンポリマ（例えば、ZEONEX（登録商標）（日本ゼオン株式会社製）、ARTON（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、アペル（登録商標）（三井化学株式会社製）など）をレンズ材料として、レンズ金型を用いて射出成形によってレンズを成形した。【００３８】
レンズ金型３７については、まず、金型母材３１としてシリコンカーバイド（ＳｉＣ）を用意した。機械加工により、金型母材３１にレンズ形状を形成し、スパッタリング法によりタングステンシリサイド（ＷＳｉ）を形成した後、スピンコート法により電子ビーム用レジスト（ポジ型）を塗布した。その後、電子ビーム描画によりドット形状を描画した。【００３９】
レジストドットパターンをマスクとして、アルゴンガスを用いたドライエッチングによりＷＳｉマスクにドットパターンを形成した。その後、フルオロカーボン系ガスを用いたドライエッチングにより、金型母材３１のＳｉＣ表面にＳＷＳの反転形状を形成した。【００４０】
こうして作製されたレンズ金型３７を、フッ素系離型剤に浸漬して離型処理した。この離型処理したレンズ金型３７を用いて、レンズを射出成形した。【００４１】
こうして製造されたレンズ１１は、両凸レンズであり、その有効径は１６ｍｍで、レンズ厚は２．４ｍｍであった。【００４２】
実施例に用いたレンズ１１において、凸部２１及び凹部２２の周期は、第１光学面１４全面に亘って２５０ｎｍであった。凸部２１の高さ及び凹部２２の深さは、レンズの周辺部では３５０ｎｍで、レンズ１１の中央部では２１０ｎｍであり、中央部に向かうにつれて徐々に高さが低くなっていた。また、レンズ１１の中央部の凸部２１の頂部及び凹部２２の底部にはそれぞれ、第１及び第２平坦部１６，１７が形成されていた。レンズ１１の中央における第１平坦部１６の外径は、約６０ｎｍであった。第１及び第２平坦部１６，１７の面積は、レンズ１１の周辺部に向かうにつれて小さくなっていた。【００４３】
〈比較例〉
また、比較例として、第１及び第２平坦部１６，１７が形成されていないレンズを成形した。すなわち、比較例に係るレンズは、実施例に係るレンズにおいて凸部２１に第１平坦部１６を形成せず、尖鋭な形状とし、凹部２２に第２平坦部１７を形成せず、尖鋭な形状とした。そのため、比較例と実施例とでは、凸部２１及び凹部２２の周期は同じであるが、第１及び第２平坦部１６，１７が形成されていない分、比較例の方が凸部２１が高く、凹部２２が深い。そうはいっても、比較例に係るレンズにおいては、中央部の方が、周辺部に比べて凸部２１が低く、凹部２２が浅い。それ以外については、実施例のレンズと比較例のレンズとは同様である。【００４４】
〈測定結果〉
図４に、実施例及び比較例について、レンズ表面の反射率を測定した結果を示す。反射率は、オリンパス社製の光学測定装置USPM-RU IIIを用いた。一般的な光学ガラスであるＢＫ７をリファレンスとして、実施例及び比較例の反射率を測定した。具体的には、前記光学測定装置に、測定対象（実施例又は比較例）とリファレンスとをセットし、４００〜７００ｎｍの光を照射し、反射率を測定した。図７のグラフは、実施例及び比較例の各波長に対する反射率を示す。図７の横軸は波長であり、縦軸は反射率である。グラフ（ａ），（ｂ）は、実施例の反射率を示すグラフである。具体的には、グラフ（ａ）は、実施例に係るレンズ１１のうち凸部２１が低く且つ凹部２２が浅く、さらには凸部２１の頂部及び凹部２２の底部に平坦部が設けられた領域での反射率を示している。グラフ（ｂ）は、実施例に係るレンズ１１のうち凸部２１が高く且つ凹部２２が深い領域での反射率を示している。一方、グラフ（ｃ）は、比較例に係るレンズのうちの凸部が低く且つ凹部が浅い領域（レンズの中央部）での反射率を示している。比較例では、平坦部が設けられていない。【００４５】
比較例については、凸部が低く且つ凹部が浅い領域では、可視光に対する反射率は、約１．４％未満であった。特に、可視光のうち波長が長い光に対する反射率が大きい。凸部が低く且つ凹部が浅い領域では、凸部の高さ及び凹部の深さは約２１０ｎｍであって、可視光のうち波長が長い成分に対しては凸部の高さ及び凹部の深さが波長の０．４倍未満となっている。そのため、可視光の反射を十分には抑制できていない。尚、図示は省略するが、凸部が高く且つ凹部が深い領域（レンズの周辺部）では、可視光に対する反射率は、約０．１５％以下であった。このように、変形例においては、凸部が高く且つ凹部が深い領域においては高い反射抑制効果が発揮されているが、凸部が低く且つ凹部が浅い領域においては反射抑制効果が小さい。【００４６】
それに対して、実施例については、凸部２１が高く且つ凹部２２が深い領域（レンズの周辺部）では、可視光域全域に亘って反射率を約０．１％程度に抑えることができた。これは、凸部２１の高さ及び凹部２２の深さが約３５０ｎｍであって、可視光の波長に対して十分な高さ及び深さを有しているためである。また、凸部２１が低く且つ凹部２２が深い領域（レンズの中央部）では、可視光全域に亘って反射率を約０．１５％以下に抑えることができた。これは、凸部２１の第１平坦部１６と凹部２２の第２平坦部１７とによる干渉効果が発揮され、それによる反射抑制効果が発現したためである。このように、実施例においては、凸部２１が低く且つ凹部２２が浅い領域の反射抑制効果を向上させることができる。さらには、凸部２１が高く且つ凹部２２が深い領域と凸部２１が低く且つ凹部２２が浅い領域とで反射抑制効果を同等にすることができ、ひいては、レンズ１１の全面に亘って、均一且つ高い反射抑制効果を発揮させることができる。【００４７】
《実施形態２》
以下、実施形態２について図面を参照しながら説明する。実施形態２に係るレンズは、光学面上に設けられたＳＷＳの形状が実施形態１のレンズとは異なる。以下、実施形態１との相違点を中心に説明する。【００４８】
図５は、レンズ４１の断面図である。レンズ４１は、第１光学面４４と、第２光学面４５と、コバ面４２とを有している。第１光学面４４には、ＳＷＳ４３が形成されている。ＳＷＳ４３は、交互に配列された複数の凸部４８及び凹部４９を有している。第１光学面４４の中央部では、相対的に、凸部４８の高さが高く且つ凹部４９の深さが深い。凸部４８の高さ及び凹部４９の深さは、第１光学面４４の周辺部に向かうにつれて低く、浅くなっている。第１光学面４４の周辺部においては、凸部４８の頂部に第１平坦部４６が形成され、凹部４９の底部に第２平坦部４７が形成されている。また、第１及び第２平坦部４６，４７の面積は、第１光学面４４の周辺部に向かうにつれて大きくなる。【００４９】
レンズ４１の製造方法は、実施形態１に係るレンズ１１の製造方法とほぼ同様である。レンズ４１用のレンズ金型を作製においては、図３（Ｄ）で示したレジストドットパターン３４を形成する際に、周辺部のレジスト穴径を中央部に比べて大きくする。レジストドットパターン３４の穴径を調整するには、例えば電子ビーム描画のドーズ量（露光量）を変化させればよい。【００５０】
本実施形態によれば、相対的に低い凸部４８及び浅い凹部４９に第１及び第２平坦部４６，４７が形成されている。つまり、低い凸部４８及び浅い凹部４９では、高い凸部４８及び深い凹部４９に比べて、微小凹凸部による反射抑制効果が小さいが、干渉効果による反射抑制効果でそれを補うことができる。その結果、実施形態１と同様に、第１光学面４４全面での可視光に対する反射率を小さく抑えることができる。【００５１】
また、第１光学面４４の周辺部は、第１光学面４４の傾斜が最も大きい部分であり、レンズ成形において離型し難い部分である。例えば、青色光を集光可能な対物レンズのように傾斜角の大きいレンズでは、成形時の硝材変形量が周辺部ほど大きく、レンズ金型への負荷が周辺部ほど大きくなる。そのため、周辺部においては、レンズの凹凸とレンズ金型の凹凸とがきつく噛み合ってしまい、離型し難くなる。また、成形時の冷却工程におけるレンズの収縮量は、周辺部ほど大きくなる。この点においても、レンズの凹凸とレンズ金型の凹凸とが周辺部できつく噛み合ってしまい、離型し難くなる。特に、ＳＷＳ４３のような微細構造を有する構成においては表面積が増大するため、さらに離型し難くなる。それに対し、本実施形態では、周辺部における凸部４８を低くし且つ凹部４９を浅くし、それに加えて、第１及び第２平坦部４６，４７を形成することによって、前述の問題を解決することができ、成形を容易にすることができる。つまり、レンズの作り易さと反射抑制効果の向上の両立を図ることができる。【００５２】
《実施形態３》
以下、実施形態３について図面を参照しながら説明する。実施形態３に係るレンズは、光学面上に形成されたＳＷＳの形状が、実施形態１，２のレンズと異なる。以下、実施形態１，２との相違点を中心に説明する。【００５３】
図６は、レンズ５１の断面図である。レンズ５１は、第１光学面５４と、第２光学面５５と、コバ面５２とを有している。第１光学面５４には、ＳＷＳ５３が形成されている。ＳＷＳ５３は、交互に配列された複数の凸部５８及び凹部５９を有している。ＳＷＳ５３は、凸部５８の高さ及び凹部５９の深さが第１光学面５４に亘って均一ではなく、場所によって異なっている。さらに、凸部５８の高さ及び凹部５９の深さは、第１光学面５４の半径方向位置に応じて単調に変化するのではなく、増加したり減少したりする。【００５４】
詳しくは、第１光学面５４は、図７に示すようなベース面６１を有している。ベース面６１は、領域Ａ〜Ｅを有している。領域Ａ，Ｅは、ベース面６１の最も周辺に位置する領域であり、光軸Ｘに対する傾斜角（以下、単に「傾斜角」という）が大きい領域である。領域Ｃは、ベース面６１の中央部に位置する領域であり、中央の傾斜角が緩やかな部分と、その周辺の傾斜角が急な部分とを含んでいる。領域Ｂは、領域Ａと領域Ｃとの間に位置する領域であり、傾斜角が緩やかで略水平な部分を含んでいる。領域Ｄは、領域Ｅと領域Ｃとの間に位置する領域であり、傾斜角が緩やかで略水平な部分を含んでいる。【００５５】
領域Ａ，Ｅでは、傾斜角が大きいので、凸部５８を低く且つ凹部５９を浅くしている。領域Ｂ，Ｄでは、傾斜角が小さいので、凸部５８を高く且つ凹部５９を深くしている。領域Ｃでは、傾斜角は小さいものの、金型の作り易さ及びレンズ成形のし易さを優先して、凸部５８を低く且つ凹部５９を浅くしている。そして、凸部５８が低く且つ凹部５９が浅い領域Ａ，Ｃ，Ｅにおいては、凸部５８の頂部に第１平坦部５６が形成され、凹部５９の底部に第２平坦部５７が形成されている。【００５６】
これにより、凸部５８が低く且つ凹部５９が浅い領域であっても、干渉効果により反射抑制効果を向上させることができる。その結果、実施形態１，２と同様に、第１光学面５４全面で可視光に対する反射率を小さく抑えることができる。また、領域Ａ，Ｅのように傾斜角が大きい領域においても、反射抑制効果を悪化させることなく、成形時に離型し易い構造とすることができる。また、領域Ｃのように、傾斜角にかかわらず、ＳＷＳ１３の作り易さを向上させたい領域においても、反射抑制効果を悪化させることなく、作り易さを向上させることができる。さらに、領域Ｂ，Ｄのように、ＳＷＳ１３の高さ及び深さを小さくする必要がない領域においては、凸部５９を高く、凹部５９を深くすることによって高い反射抑制効果を発揮させることができる。【００５７】
尚、このようなＳＷＳ５３を成形するためのレンズ金型は、実施形態２と同様に、レジストドットパターン３４を形成する際の穴径を制御することにより作製できる。【００５８】
以上、実施形態１〜３で説明したとおり、傾斜角などのレンズ形状や、中央部や周辺部などのレンズの位置に応じて、凸部の高さ及び凹部の深さを変化させている。これにより、金型作製及び成形（特に、離型）を容易にすることができる。それに加えて、相対的に凸部が低く且つ凹部が浅い領域においては、凸部の頂部及び凹部の底部に平坦部を設けることによって、反射抑制効果を向上させることができる。つまり、種々の理由により凸部を低く且つ凹部を浅くする場合があるが、そのような場合であっても反射抑制効果の悪化を防止することができる。その結果、光学面全面で反射抑制効果の高いレンズを実現できる。【００５９】
《その他の実施形態》
前記実施形態について、以下のような構成としてもよい。【００６０】
レンズの製造方法及びレンズ金型の作製方法は、前記実施形態に限られるものではない。【００６１】
例えば、金型母材は、高強度で且つエッチングにより微細加工し易い材料であればよい。例えば、石英ＳｉＯ２、シリコンカーバイド（ＳｉＣ）、シリコン（Ｓｉ）、グラッシーカーボン（Ｃ）、超硬（ＷＣ）などでもよい。【００６２】
金属マスク材料としては、Ｃｒ、Ｔａ、ＷＳｉ、Ｎｉ、Ｗなどでもよい。【００６３】
前記実施形態では、レンズ金型の作製に電子ビーム描画法を用いたが、これに限られるものではない。干渉露光（ホログラム露光）法、Ｘ線リソグラフィなどのリソグラフィでもよい。また、ナノインプリントや粒子配列によってマスクを形成してもよい。【００６４】
レンズ金型を用いてレンズ成形を行う場合は、成形前に金型の成形面を離型処理したほうがよい。ガラス成形であれば、カーボン、窒化硼素、ＤＬＣ、貴金属膜（白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、オスミウム（Ｏｓ）、ルテニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）のうち、少なくとも１種類以上の金属を含む合金）などの薄膜を表面に形成すればよい。樹脂成形であれば、フッ素系離型剤を成形面に塗布すればよい。このような離型処理を行うことで、成形品の離型性を高めることができる。【００６５】
また、レンズの構成は、前記実施形態に限られるものではない。【００６６】
例えば、前記実施形態では、凸レンズについて説明したが、凹レンズであってもよい。【００６７】
さらには、ＳＷＳが形成される光学部材は、レンズに限られるものではない。ディスプレイの表面、鏡筒の内周面、プリズム等に前記構成のＳＷＳを適用してもよい。すなわち、ＳＷＳ１３が形成されるベース面は、平面であってもよい。【００６８】
前記実施形態では、ＳＷＳは第１光学面上にのみ設けられているが、これに限られない。ＳＷＳは、第１光学面と第２光学面の両方に設けられてもよいし、第２光学面のみに設けられてもよい。【００６９】
前記実施形態では、凸部は円錐状であり、凹部はすり鉢状であるが、これに限られるものではない。例えば、凸部は、四角錘や三角錐等の角錐であってもよく、凹部は、それらの反転形状であってもよい。また、凸部及び凹部は、錐体状及びその反転形状に限られるものではなく、任意の形状を採用することができる。また、凸部は、光軸Ｘ周りの周方向に延びる線条凸部であってもよく、凹部は、光軸Ｘ周りの周方向に延びる線条凹部であってもよい。その場合、凸部の頂部及び凹部の底部に形成される平坦部は、凸部が低くなるにつれて、凹部が浅くなるにつれて、光軸Ｘを中心とする半径方向の幅が大きくなる。【００７０】
本発明は、前記実施形態に限定されず、その精神または主要な特徴から逸脱することなく他のいろいろな形で実施することができる。このように、上述の実施形態はあらゆる点で単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には何ら拘束されない。さらに、請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、すべて本発明の範囲内のものである。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明に係る光学部材は、反射抑制効果及び高い耐環境性を有し、レンズ鏡筒や、レンズ等に代表される光学素子等として有用である。本発明に係る光学部材を用いることによって、高品位な結像光学系、対物光学系、走査光学系、ピックアップ光学系等の各種光学系、レンズ鏡筒ユニット、光ピックアップユニット、撮像ユニット等の各種光学ユニット、及び撮像装置、光ピックアップ装置、光走査装置等を実現することが可能となる。
【符号の説明】
【００７２】
１１、４１、５１  レンズ
１２  コバ面
１３、４３、５３  反射防止凹凸構造
１４、４４、５４  第１光学面
１５、４５、５５  第２光学面
１６、４６、５６  第１平坦部（平坦面）
１７、４７、５７  第２平坦部（平坦面）
２１、４８、５８  凸部
２２、４９、５９  凹部
３１  金型母材
３２  金属マスク
３３  レジストマスク
３４  レジストドットパターン
３５  金属マスクドットパターン
３６  反転形状
３７  レンズ金型
【図１】
2012114714.tif 000003
【図２】
2012114714.tif 000004
【図３】
2012114714.tif 000005
【図５】
2012114714.tif 000006
【図６】
2012114714.tif 000007
【図７】
2012114714.tif 000008
【図４】
2012114714.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月14日(2012.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ここに開示された技術は、光学部材に関する。特に、ここに開示された技術は、入射光の反射を抑制する反射防止凹凸構造が表面に形成された光学部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光の反射を抑制する反射防止処理が表面に施された種々の光学部材が提案されている。
【０００３】
反射防止処理の１つとして、光学部材の表面に入射光の波長以下のピッチで微細構造（例えば、規則的に配列された線条凸部又は線条凹部からなる微細構造や、規則的に配列された錐体状若しくは柱状の凸部又はすり鉢状若しくは筒状の凹部からなる微細構造等。以下、このような微細構造が複数配列されてなる構造を「反射防止凹凸構造」又は「ＳＷＳ（Subwavelength Structure）」と称することがある。）形成する処理が提案されている。
【０００４】
例えば、特許文献１は、反射防止凹凸構造のパターンが外周に向かって徐々に凹凸形状の溝の深さが浅く形成されている光学素子を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−２８３８１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、反射抑制効果は微細構造の高さ又は深さによって異なるため、微細構造が低くなると反射抑制機能も低くなる虞がある。
【０００７】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、微細構造の高さ又は深さが領域によって異なる反射防止構造体において、反射抑制機能を向上させることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
構造単位が規則的に複数配列されてなり、該構造単位の周期以上の波長の光の反射を抑制する反射防止凹凸構造が形成された少なくともひとつの曲面を有する光学部材であって、前記反射防止凹凸構造は、前記構造単位の高さが相対的に小さい領域と、前記構造単位の高さが相対的に大きい領域と、を有し、前記構造単位の高さが相対的に小さい領域の前記反射防止凹凸構造の上面および下面に略平坦面が形成されている、光学部材。
【発明の効果】
【０００９】
本発明では、構造単位の高さが低い領域の反射防止凹凸構造の上面および下面に略平坦面が形成されている。略平坦面である上面および下面で光の干渉を起こすことができる。この光の干渉を利用することで、構造単位の高さが低い領域の反射防止効果をより高めることができる。その結果、微細構造の高さが領域によってことなる反射防止構造体において、従来よりも優れた反射防止機能を実現する反射防止構造体を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、第1実施形態のレンズの断面図である。
【図２】図２は、第１実施形態の反射防止凹凸構造の部分拡大図である。
【図３】図３は、レンズ金型を作製するための工程を示す図である。
【図４】図４は、実施例における波長と反射率の関係を示すグラフである。
【図５】図５は、第２実施形態のレンズの断面図である。
【図６】図６は、第３実施形態のレンズの断面図である。
【図７】図７は、第３実施形態の第１光学面のベース面を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を用いて実施の形態について説明する。
【００１２】
《実施形態１》
［レンズの概要］
図１に、実施形態１に係るレンズ１１の断面図を示す。
【００１３】
実施形態１に係るレンズ１１は、反射防止凹凸構造を有する。レンズ１１は、光学部材の一例である。レンズ１１は、第１光学面１４と、第２光学面１５と、コバ面１２とを有している。第１光学面１４と第２光学面１５とは、互いに対向している。コバ面１２は、第１及び第２光学面１４，１５の外周に形成され、第１及び第２光学面１４，１５の外周縁に接続されている。第１光学面１４には、反射防止凹凸構造（以下、ＳＷＳと称することがある。）１３が形成されている。
【００１４】
ＳＷＳ１３は、複数の凸部２１及び凹部２２が交互に配列されて、該凸部及び凹部の周期以上の波長の光の反射を抑制する。換言すると、ＳＷＳ１３は、構造単位（凸部又は凹部）が規則的に複数配列されてなり、該構造単位の周期以上の波長の光の反射を抑制する。詳しくは、ＳＷＳ１３は、凸部２１の先端から凹部２２の底に向かって屈折率を漸次変化させることになり、光の反射を抑制する。凸部２１は、略円錐状に形成されている。凹部２２は、略すり鉢状に形成されている。凸部２１又は凹部２２の周期は、レンズ１１に入射する光の波長をレンズ１１の屈折率で除した値以下に設定されることが好ましい。また、凸部２１の高さ又は凹部２２の深さは、レンズ１１に入射する光の波長の０．４倍以上であることが好ましい。これらを満たすことによって、十分な反射抑制効果を発揮させることができる。ここで、凸部２１の高さは、凹部２２の底部を通る曲面（以下、下ベース面ともいう）から、凸部２１の頂部までの、レンズ１１の光軸Ｘが延びる方向（以下、光軸方向ともいう）の寸法である。凹部２２の深さは、凸部２１の頂部を通る曲面（以下、上ベース面ともいう）から、凹部２２の底部までの光軸方向の寸法である。凸部２１の周期は、隣接する凸部２１の頂部間の、光軸Ｘと直交する面と平行な方向への間隔である。凹部２２の周期は、隣接する凹部２２の底部間の、光軸Ｘと直交する面と平行な方向への間隔である。凸部２１と凹部２２とは交互に配列されているので、凸部２１の高さと凹部２２の深さとは略一致し、凸部２１の周期と凹部２２の周期とは略一致する。例えば、屈折率１．５のレンズ１１に入射する可視光（波長：約４００〜７００ｎｍ）の反射を抑制したい場合、凸部２１又は凹部２２の周期が約２６６ｎｍ以下、凸部２１の高さ又は凹部２２の深さが約２８０ｎｍ以上であれば、十分な反射抑制効果が期待できる。
【００１５】
ここで、凸部２１の高さ又は凹部２２の深さは、第１光学面１４に亘って均一ではない。すなわち、凸部２１の高さ又は凹部２２の深さは、場所によって異なる。例えば、レンズなどの曲面は、光軸Ｘに対する傾きが場所によって異なるので、曲面上にＳＷＳ１３を形成する場合には、凸部２１の高さ又は凹部２２の深さを均一にすることが困難である。本実施形態に係るＳＷＳ１３は、第１光学面１４の周辺部では凸部２１の高さが相対的に高く、第１光学面１４の中心部では凸部２１の高さが相対的に低い。詳しくは、ＳＷＳ１３は、第１光学面１４の周辺部ほど凸部２１の高さが高く、第１光学面１４の中心部に向かうにつれて凸部２１の高さが低くなっている。第１光学面１４の周辺部は、凸部２１の高さが相対的に小さい領域の一例である。また、第１光学面１４の中心部は、凸部２１の高さが相対的に大きい領域の一例である。
【００１６】
［ＳＷＳの詳細構造］
図２に、レンズ１１の反射防止凹凸構造１３の中央部における部分拡大断面図を示す。第１光学面１４の中央部においては、凸部２１の頂部に第１平坦部１６が形成され、凹部２２の底部に第２平坦部１７が形成されている。第１光学面１４の周辺部においては、図１に示すように、凸部２１の頂部及び凹部２２の底部は、尖鋭な形状をしており、平坦部が形成されていない。これら第１及び第２平坦部１６，１７が平坦面を構成する。
【００１７】
本実施形態では、第１及び第２平坦部１６，１７は、光軸Ｘに対して略直交する。すなわち、第１及び第２平坦部１６，１７は、互いに略平行である。第１及び第２平坦部１６，１７は、略円形である。また、第１及び第２平坦部１６，１７の面積は、第１光学面１４の中心に向かうにつれて大きく、即ち、凸部２１の高さが低くなるにつれて、凹部２２の深さが浅くなるにつれて大きくなる。尚、第１及び第２平坦部１６，１７は、厳密に平坦である必要はなく、実質的に平坦であればよい。
【００１８】
また、第１及び第２平坦部１６，１７が形成されている場合には、第１平坦部１６のうち下ベース面から光軸方向に最も離れた部分を凸部２１の頂部とし、第２平坦部１７のうち上ベース面から光軸方向に最も離れた部分を凹部２２の底部として、前記下ベース面、上ベース面、凸部２１の高さ、凸部２１の周期、凹部２２の深さ、及び凹部２２の周期を観念する。本実施形態のように、第１及び第２平坦部１６，１７が光軸Ｘに略直交する場合には、第１平坦部１６の中心を凸部２１の頂部とし、第２平坦部１７の中心を凹部２２の頂部とする。例えば、下ベース面は、第２平坦部１７を有さない凹部２２については底部を、第２平坦部１７を有する凹部２２については、第２平坦部１７の中心を通る曲面である。凸部２１の高さは、下ベース面から第１平坦部１６の中心までの光軸方向の寸法である。凸部２１の周期は、隣接する凸部２１の第１平坦部１６の中心間の、光軸Ｘと直交する面と平行な方向への間隔である。
【００１９】
このように、第１及び第２平坦部１６，１７を形成することによって、第１光学面１４全面で反射抑制効果を向上させることができる。詳しくは、反射抑制効果の観点からは、凸部２１は高く、凹部２２は深いことが好ましい。すなわち、凸部２１が低い又は凹部２２が浅い部分は、凸部２１が高い又は凹部２２が深い部分に比べて、反射抑制効果が小さい。それに対し、第１及び第２平坦部１６，１７を設けると、第１及び第２平坦部１６，１７で屈折率が急激に変化することになり、第１及び第２平坦部１６，１７では入射した光の一部が反射する。しかしながら、凸部２１と凹部２２との両方に平坦部が設けられているので、第１平坦部１６で反射した光と第２平坦部１５で反射した光とは、互いに干渉して弱め合う。その結果、第１光学面１４全体としての反射光が抑制される。つまり、本来的には反射抑制効果が相対的に小さい部分であっても、光の干渉効果を利用することによって光の反射を抑制することができる。
【００２０】
［製造方法］
続いて、レンズ１１の製造方法について説明する。レンズ１１は、レンズ金型を用いた成形により製造する。レンズ金型は、ＳＷＳ１３の反転形状を有している。レンズ１１の材料がガラスの場合には、例えば、ヒートプレス成形によりレンズ１１が成形される。レンズ１１の材料が樹脂の場合には、例えば、射出成形やＵＶ成形によりレンズ１１が成形される。
【００２１】
次に、成形に用いるレンズ金型の作製について説明する。図３に、レンズ金型３７を作製するための工程図を示す。
【００２２】
まず、金型母材３１を用意する。そして、図３（Ａ）に示すように、機械加工により金型母材３１にレンズ形状（ＳＷＳ１３が形成される前の状態）を形成する。
【００２３】
次に、図３（Ｂ）に示すように、レンズ形状に形成した金型母材３１の表面に金属マスク３２を形成する。金属マスク３２の形成方法としては、スパッタリング法・蒸着法などが好ましい。
【００２４】
次に、図３（Ｃ）に示すように、金属マスク３２の上にレジストマスク３３を形成する。レジストマスク３３の形成方法としてはスピンコート法、スプレーコート法が好ましい。
【００２５】
次に、図３（Ｄ）に示すように、レジストマスク３３から、ＳＷＳ１３に対応したレジストドットパターン３４を形成する。レジストドットパターン３４の形成方法としては、電子ビーム描画法や干渉露光（ホログラム露光）法などが好ましい。また、レジストドットパターン３４の穴径は全面均一であることが好ましい。
【００２６】
次に、図３（Ｅ）に示すように、ドライエッチングによりレジストドットパターン３４を金属マスク３２に転写する。それにより、金属マスクドットパターン３５が形成される。なお、金属マスクドットパターン３５の形成方法としては、ウェットエッチングでもよい。
【００２７】
次に、図３（Ｆ）に示すように、ドライエッチングにより金属マスクドットパターン３５を金型母材３１に転写する。これにより、金型母材３１表面にＳＷＳ１３の反転形状３６が形成されたレンズ金型３７が完成する。
【００２８】
一般に、ドライエッチング装置内で発生したプラズマ（イオン）は、被加工材の突起部もしくは角部に集中する。前記プロセスにおいて金型母材３１をドライエッチング加工する場合、金型母材３１の端部３８にプラズマ（イオン）が集中しやすい。そのため、プラズマが集中する端部３８のエッチング速度が速く、中央部のエッチング速度が遅くなる。図３（Ｄ）で示すように、均一な穴径を有するレジストドットパターン３４を用いてドライエッチング加工を行うと、金型母材３１の周辺部ではエッチング速度が速いため凸部が高く、凹部が深くなる一方、金型母材３１の中央部ではエッチング速度が遅いため凸部が低く、凹部が浅くなる。このとき、エッチング時間を制御することによって、金型母剤３１の中央部においては凸部の頂部と凹部の底部に平坦部を残しつつ、金型母材３１の周辺部の凸部の高さ及び凹部の深さを最大とすることができる。
【００２９】
このようなプロセスを用いることにより、レンズ金型３７の周辺部では凸部が高く且つ凹部が深く、中央部に向かうに従って凸部の高さが徐々に低く且つ凹部の深さが徐々に浅くなる。また、レンズ金型３７の中央部の凸部の頂部及び凹部の底部には、平坦部が形成されている。
【００３０】
［効果］
前記実施形態によれば、レンズ１１は、複数の凸部２１及び凹部２２が配列されてなり、該凸部２１及び凹部２２の周期以上の波長の光の反射を抑制する反射防止凹凸構造１３を備えている。前記反射防止凹凸構造１３は、前記凸部２１が相対的に低く且つ前記凹部２２が相対的に浅い領域と、前記凸部２１が相対的に高く且つ前記凹部２２が相対的に深い領域とを有し、前記凸部２１が相対的に低く且つ前記凹部２２が相対的に浅い領域においては、前記凸部２１の頂部と前記凹部２２の底部とにそれぞれ第１及び第２平坦部１６，１７が形成されている。
【００３１】
換言すれば、レンズ１１は、構造単位が規則的に複数配列されてなり、該構造単位の周期以上の波長の光の反射を抑制する反射防止凹凸構造が形成された少なくともひとつの曲面を有する光学部材であって、前記反射防止凹凸構造は、前記構造単位の高さが相対的に小さい領域と、前記構造単位の高さが相対的に大きい領域と、を有し、前記構造単位の高さが相対的に小さい領域の前記反射防止凹凸構造の上面及び下面に略平坦部が形成されている。
【００３２】
前記の構成によれば、前記凸部２１が相対的に低く且つ前記凹部２２が相対的に浅い領域では、凸部２１及び凹部２２のそれ自体の反射抑制効果は相対的に小さい。しかし、凸部２１の頂部に第１平坦部１６を形成し、凹部２２の底部に第２平坦部１７を形成することによって、第１平坦部１６における反射光と第２平坦部１７における反射光との干渉効果により反射抑制効果を向上させることができる。その結果、凸部２１が相対的に低く且つ凹部２２が相対的に浅い領域と、凸部２１が相対的に高く且つ凹部２２が相対的に深い領域とが混在する構成であっても、反射抑制効果を全体的に向上させることができる。また、凸部２１を低く且つ凹部２２を浅くすることによって、反射防止凹凸構造１３を形成し易くすることができる。つまり、反射防止凹凸構造１３の作り易さが求められる領域においては凸部２１を低く且つ凹部２２を浅くし且つ凸部２１の頂部及び凹部２２の底部に第１及び第２平坦部１６，１７を形成することによって、反射防止凹凸構造１３の作り易さを向上させつつ、反射抑制効果の悪化を防止することができる。つまり、従来は解決できなかった、反射防止凹凸構造１３の作り易さと反射抑制効果の両立を図ることができる。
【００３３】
また、前記第１及び第２平坦部１６，１７は、前記凸部２１が低くなるほど、又は、前記凹部２２が浅くなるほど、大きくなっている。
【００３４】
つまり、凹部２２が浅くなるほど、凸部２１及び凹部２２のそれ自体の反射抑制効果は小さくなる。それに対して、凸部２１が低くなるほど第１平坦部１６を大きくし、凹部２２が浅くなるほど第２平坦部１７を大きくすることによって、干渉による反射抑制効果を大きくすることができる。
【実施例】
【００３５】
以下、実施例について説明する。本実施例のレンズは実施形態１のレンズ１１に対応している。
【００３６】
〈実施例〉
実施例として、以下のレンズを成形した。
【００３７】
環状オレフィンポリマ（例えば、ZEONEX（登録商標）（日本ゼオン株式会社製）、ARTON（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、アペル（登録商標）（三井化学株式会社製）など）をレンズ材料として、レンズ金型を用いて射出成形によってレンズを成形した。
【００３８】
レンズ金型３７については、まず、金型母材３１としてシリコンカーバイド（ＳｉＣ）を用意した。機械加工により、金型母材３１にレンズ形状を形成し、スパッタリング法によりタングステンシリサイド（ＷＳｉ）を形成した後、スピンコート法により電子ビーム用レジスト（ポジ型）を塗布した。その後、電子ビーム描画によりドット形状を描画した。
【００３９】
レジストドットパターンをマスクとして、アルゴンガスを用いたドライエッチングによりＷＳｉマスクにドットパターンを形成した。その後、フルオロカーボン系ガスを用いたドライエッチングにより、金型母材３１のＳｉＣ表面にＳＷＳの反転形状を形成した。
【００４０】
こうして作製されたレンズ金型３７を、フッ素系離型剤に浸漬して離型処理した。この離型処理したレンズ金型３７を用いて、レンズを射出成形した。
【００４１】
こうして製造されたレンズ１１は、両凸レンズであり、その有効径は１６ｍｍで、レンズ厚は２．４ｍｍであった。
【００４２】
実施例に用いたレンズ１１において、凸部２１及び凹部２２の周期は、第１光学面１４全面に亘って２５０ｎｍであった。凸部２１の高さ及び凹部２２の深さは、レンズの周辺部では３５０ｎｍで、レンズ１１の中央部では２１０ｎｍであり、中央部に向かうにつれて徐々に高さが低くなっていた。また、レンズ１１の中央部の凸部２１の頂部及び凹部２２の底部にはそれぞれ、第１及び第２平坦部１６，１７が形成されていた。レンズ１１の中央における第１平坦部１６の外径は、約６０ｎｍであった。第１及び第２平坦部１６，１７の面積は、レンズ１１の周辺部に向かうにつれて小さくなっていた。
【００４３】
〈比較例〉
また、比較例として、第１及び第２平坦部１６，１７が形成されていないレンズを成形した。すなわち、比較例に係るレンズは、実施例に係るレンズにおいて凸部２１に第１平坦部１６を形成せず、尖鋭な形状とし、凹部２２に第２平坦部１７を形成せず、尖鋭な形状とした。そのため、比較例と実施例とでは、凸部２１及び凹部２２の周期は同じであるが、第１及び第２平坦部１６，１７が形成されていない分、比較例の方が凸部２１が高く、凹部２２が深い。そうはいっても、比較例に係るレンズにおいては、中央部の方が、周辺部に比べて凸部２１が低く、凹部２２が浅い。それ以外については、実施例のレンズと比較例のレンズとは同様である。
【００４４】
〈測定結果〉
図４に、実施例及び比較例について、レンズ表面の反射率を測定した結果を示す。反射率は、オリンパス社製の光学測定装置USPM-RU IIIを用いた。一般的な光学ガラスであるＢＫ７をリファレンスとして、実施例及び比較例の反射率を測定した。具体的には、前記光学測定装置に、測定対象（実施例又は比較例）とリファレンスとをセットし、４００〜７００ｎｍの光を照射し、反射率を測定した。図７のグラフは、実施例及び比較例の各波長に対する反射率を示す。図７の横軸は波長であり、縦軸は反射率である。グラフ（ａ），（ｂ）は、実施例の反射率を示すグラフである。具体的には、グラフ（ａ）は、実施例に係るレンズ１１のうち凸部２１が低く且つ凹部２２が浅く、さらには凸部２１の頂部及び凹部２２の底部に平坦部が設けられた領域での反射率を示している。グラフ（ｂ）は、実施例に係るレンズ１１のうち凸部２１が高く且つ凹部２２が深い領域での反射率を示している。一方、グラフ（ｃ）は、比較例に係るレンズのうちの凸部が低く且つ凹部が浅い領域（レンズの中央部）での反射率を示している。比較例では、平坦部が設けられていない。
【００４５】
比較例については、凸部が低く且つ凹部が浅い領域では、可視光に対する反射率は、約１．４％未満であった。特に、可視光のうち波長が長い光に対する反射率が大きい。凸部が低く且つ凹部が浅い領域では、凸部の高さ及び凹部の深さは約２１０ｎｍであって、可視光のうち波長が長い成分に対しては凸部の高さ及び凹部の深さが波長の０．４倍未満となっている。そのため、可視光の反射を十分には抑制できていない。尚、図示は省略するが、凸部が高く且つ凹部が深い領域（レンズの周辺部）では、可視光に対する反射率は、約０．１５％以下であった。このように、変形例においては、凸部が高く且つ凹部が深い領域においては高い反射抑制効果が発揮されているが、凸部が低く且つ凹部が浅い領域においては反射抑制効果が小さい。
【００４６】
それに対して、実施例については、凸部２１が高く且つ凹部２２が深い領域（レンズの周辺部）では、可視光域全域に亘って反射率を約０．１％程度に抑えることができた。これは、凸部２１の高さ及び凹部２２の深さが約３５０ｎｍであって、可視光の波長に対して十分な高さ及び深さを有しているためである。また、凸部２１が低く且つ凹部２２が深い領域（レンズの中央部）では、可視光全域に亘って反射率を約０．１５％以下に抑えることができた。これは、凸部２１の第１平坦部１６と凹部２２の第２平坦部１７とによる干渉効果が発揮され、それによる反射抑制効果が発現したためである。このように、実施例においては、凸部２１が低く且つ凹部２２が浅い領域の反射抑制効果を向上させることができる。さらには、凸部２１が高く且つ凹部２２が深い領域と凸部２１が低く且つ凹部２２が浅い領域とで反射抑制効果を同等にすることができ、ひいては、レンズ１１の全面に亘って、均一且つ高い反射抑制効果を発揮させることができる。
【００４７】
《実施形態２》
以下、実施形態２について図面を参照しながら説明する。実施形態２に係るレンズは、光学面上に設けられたＳＷＳの形状が実施形態１のレンズとは異なる。以下、実施形態１との相違点を中心に説明する。
【００４８】
図５は、レンズ４１の断面図である。レンズ４１は、第１光学面４４と、第２光学面４５と、コバ面４２とを有している。第１光学面４４には、ＳＷＳ４３が形成されている。ＳＷＳ４３は、交互に配列された複数の凸部４８及び凹部４９を有している。第１光学面４４の中央部では、相対的に、凸部４８の高さが高く且つ凹部４９の深さが深い。凸部４８の高さ及び凹部４９の深さは、第１光学面４４の周辺部に向かうにつれて低く、浅くなっている。第１光学面４４の周辺部においては、凸部４８の頂部に第１平坦部４６が形成され、凹部４９の底部に第２平坦部４７が形成されている。また、第１及び第２平坦部４６，４７の面積は、第１光学面４４の周辺部に向かうにつれて大きくなる。
【００４９】
レンズ４１の製造方法は、実施形態１に係るレンズ１１の製造方法とほぼ同様である。レンズ４１用のレンズ金型を作製においては、図３（Ｄ）で示したレジストドットパターン３４を形成する際に、周辺部のレジスト穴径を中央部に比べて大きくする。レジストドットパターン３４の穴径を調整するには、例えば電子ビーム描画のドーズ量（露光量）を変化させればよい。
【００５０】
本実施形態によれば、相対的に低い凸部４８及び浅い凹部４９に第１及び第２平坦部４６，４７が形成されている。つまり、低い凸部４８及び浅い凹部４９では、高い凸部４８及び深い凹部４９に比べて、微小凹凸部による反射抑制効果が小さいが、干渉効果による反射抑制効果でそれを補うことができる。その結果、実施形態１と同様に、第１光学面４４全面での可視光に対する反射率を小さく抑えることができる。
【００５１】
また、第１光学面４４の周辺部は、第１光学面４４の傾斜が最も大きい部分であり、レンズ成形において離型し難い部分である。例えば、青色光を集光可能な対物レンズのように傾斜角の大きいレンズでは、成形時の硝材変形量が周辺部ほど大きく、レンズ金型への負荷が周辺部ほど大きくなる。そのため、周辺部においては、レンズの凹凸とレンズ金型の凹凸とがきつく噛み合ってしまい、離型し難くなる。また、成形時の冷却工程におけるレンズの収縮量は、周辺部ほど大きくなる。この点においても、レンズの凹凸とレンズ金型の凹凸とが周辺部できつく噛み合ってしまい、離型し難くなる。特に、ＳＷＳ４３のような微細構造を有する構成においては表面積が増大するため、さらに離型し難くなる。それに対し、本実施形態では、周辺部における凸部４８を低くし且つ凹部４９を浅くし、それに加えて、第１及び第２平坦部４６，４７を形成することによって、前述の問題を解決することができ、成形を容易にすることができる。つまり、レンズの作り易さと反射抑制効果の向上の両立を図ることができる。
【００５２】
《実施形態３》
以下、実施形態３について図面を参照しながら説明する。実施形態３に係るレンズは、光学面上に形成されたＳＷＳの形状が、実施形態１，２のレンズと異なる。以下、実施形態１，２との相違点を中心に説明する。
【００５３】
図６は、レンズ５１の断面図である。レンズ５１は、第１光学面５４と、第２光学面５５と、コバ面５２とを有している。第１光学面５４には、ＳＷＳ５３が形成されている。ＳＷＳ５３は、交互に配列された複数の凸部５８及び凹部５９を有している。ＳＷＳ５３は、凸部５８の高さ及び凹部５９の深さが第１光学面５４に亘って均一ではなく、場所によって異なっている。さらに、凸部５８の高さ及び凹部５９の深さは、第１光学面５４の半径方向位置に応じて単調に変化するのではなく、増加したり減少したりする。
【００５４】
詳しくは、第１光学面５４は、図７に示すようなベース面６１を有している。ベース面６１は、領域Ａ〜Ｅを有している。領域Ａ，Ｅは、ベース面６１の最も周辺に位置する領域であり、光軸Ｘに対する傾斜角（以下、単に「傾斜角」という）が大きい領域である。領域Ｃは、ベース面６１の中央部に位置する領域であり、中央の傾斜角が緩やかな部分と、その周辺の傾斜角が急な部分とを含んでいる。領域Ｂは、領域Ａと領域Ｃとの間に位置する領域であり、傾斜角が緩やかで略水平な部分を含んでいる。領域Ｄは、領域Ｅと領域Ｃとの間に位置する領域であり、傾斜角が緩やかで略水平な部分を含んでいる。
【００５５】
領域Ａ，Ｅでは、傾斜角が大きいので、凸部５８を低く且つ凹部５９を浅くしている。領域Ｂ，Ｄでは、傾斜角が小さいので、凸部５８を高く且つ凹部５９を深くしている。領域Ｃでは、傾斜角は小さいものの、金型の作り易さ及びレンズ成形のし易さを優先して、凸部５８を低く且つ凹部５９を浅くしている。そして、凸部５８が低く且つ凹部５９が浅い領域Ａ，Ｃ，Ｅにおいては、凸部５８の頂部に第１平坦部５６が形成され、凹部５９の底部に第２平坦部５７が形成されている。
【００５６】
これにより、凸部５８が低く且つ凹部５９が浅い領域であっても、干渉効果により反射抑制効果を向上させることができる。その結果、実施形態１，２と同様に、第１光学面５４全面で可視光に対する反射率を小さく抑えることができる。また、領域Ａ，Ｅのように傾斜角が大きい領域においても、反射抑制効果を悪化させることなく、成形時に離型し易い構造とすることができる。また、領域Ｃのように、傾斜角にかかわらず、ＳＷＳ１３の作り易さを向上させたい領域においても、反射抑制効果を悪化させることなく、作り易さを向上させることができる。さらに、領域Ｂ，Ｄのように、ＳＷＳ１３の高さ及び深さを小さくする必要がない領域においては、凸部５９を高く、凹部５９を深くすることによって高い反射抑制効果を発揮させることができる。
【００５７】
尚、このようなＳＷＳ５３を成形するためのレンズ金型は、実施形態２と同様に、レジストドットパターン３４を形成する際の穴径を制御することにより作製できる。
【００５８】
以上、実施形態１〜３で説明したとおり、傾斜角などのレンズ形状や、中央部や周辺部などのレンズの位置に応じて、凸部の高さ及び凹部の深さを変化させている。これにより、金型作製及び成形（特に、離型）を容易にすることができる。それに加えて、相対的に凸部が低く且つ凹部が浅い領域においては、凸部の頂部及び凹部の底部に平坦部を設けることによって、反射抑制効果を向上させることができる。つまり、種々の理由により凸部を低く且つ凹部を浅くする場合があるが、そのような場合であっても反射抑制効果の悪化を防止することができる。その結果、光学面全面で反射抑制効果の高いレンズを実現できる。
【００５９】
《その他の実施形態》
前記実施形態について、以下のような構成としてもよい。
【００６０】
レンズの製造方法及びレンズ金型の作製方法は、前記実施形態に限られるものではない。
【００６１】
例えば、金型母材は、高強度で且つエッチングにより微細加工し易い材料であればよい。例えば、石英ＳｉＯ２、シリコンカーバイド（ＳｉＣ）、シリコン（Ｓｉ）、グラッシーカーボン（Ｃ）、超硬（ＷＣ）などでもよい。
【００６２】
金属マスク材料としては、Ｃｒ、Ｔａ、ＷＳｉ、Ｎｉ、Ｗなどでもよい。
【００６３】
前記実施形態では、レンズ金型の作製に電子ビーム描画法を用いたが、これに限られるものではない。干渉露光（ホログラム露光）法、Ｘ線リソグラフィなどのリソグラフィでもよい。また、ナノインプリントや粒子配列によってマスクを形成してもよい。
【００６４】
レンズ金型を用いてレンズ成形を行う場合は、成形前に金型の成形面を離型処理したほうがよい。ガラス成形であれば、カーボン、窒化硼素、ＤＬＣ、貴金属膜（白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、オスミウム（Ｏｓ）、ルテニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）のうち、少なくとも１種類以上の金属を含む合金）などの薄膜を表面に形成すればよい。樹脂成形であれば、フッ素系離型剤を成形面に塗布すればよい。このような離型処理を行うことで、成形品の離型性を高めることができる。
【００６５】
また、レンズの構成は、前記実施形態に限られるものではない。
【００６６】
例えば、前記実施形態では、凸レンズについて説明したが、凹レンズであってもよい。
【００６７】
さらには、ＳＷＳが形成される光学部材は、レンズに限られるものではない。ディスプレイの表面、鏡筒の内周面、プリズム等に前記構成のＳＷＳを適用してもよい。すなわち、ＳＷＳ１３が形成されるベース面は、平面であってもよい。
【００６８】
前記実施形態では、ＳＷＳは第１光学面上にのみ設けられているが、これに限られない。ＳＷＳは、第１光学面と第２光学面の両方に設けられてもよいし、第２光学面のみに設けられてもよい。
【００６９】
前記実施形態では、凸部は円錐状であり、凹部はすり鉢状であるが、これに限られるものではない。例えば、凸部は、四角錘や三角錐等の角錐であってもよく、凹部は、それらの反転形状であってもよい。また、凸部及び凹部は、錐体状及びその反転形状に限られるものではなく、任意の形状を採用することができる。また、凸部は、光軸Ｘ周りの周方向に延びる線条凸部であってもよく、凹部は、光軸Ｘ周りの周方向に延びる線条凹部であってもよい。その場合、凸部の頂部及び凹部の底部に形成される平坦部は、凸部が低くなるにつれて、凹部が浅くなるにつれて、光軸Ｘを中心とする半径方向の幅が大きくなる。
【００７０】
本発明は、前記実施形態に限定されず、その精神または主要な特徴から逸脱することなく他のいろいろな形で実施することができる。このように、上述の実施形態はあらゆる点で単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には何ら拘束されない。さらに、請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、すべて本発明の範囲内のものである。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明に係る光学部材は、反射抑制効果及び高い耐環境性を有し、レンズ鏡筒や、レンズ等に代表される光学素子等として有用である。本発明に係る光学部材を用いることによって、高品位な結像光学系、対物光学系、走査光学系、ピックアップ光学系等の各種光学系、レンズ鏡筒ユニット、光ピックアップユニット、撮像ユニット等の各種光学ユニット、及び撮像装置、光ピックアップ装置、光走査装置等を実現することが可能となる。
【符号の説明】
【００７２】
１１、４１、５１  レンズ
１２  コバ面
１３、４３、５３  反射防止凹凸構造
１４、４４、５４  第１光学面
１５、４５、５５  第２光学面
１６、４６、５６  第１平坦部（平坦面）
１７、４７、５７  第２平坦部（平坦面）
２１、４８、５８  凸部
２２、４９、５９  凹部
３１  金型母材
３２  金属マスク
３３  レジストマスク
３４  レジストドットパターン
３５  金属マスクドットパターン
３６  反転形状
３７  レンズ金型
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の凸部及び凹部が配列されてなり、該凸部及び凹部の周期以上の波長の光の反射を抑制する反射防止凹凸構造を備えた光学部材であって、
前記反射防止凹凸構造は、前記凸部が相対的に低く且つ前記凹部が相対的に浅い領域と、前記凸部が相対的に高く且つ前記凹部が相対的に深い領域とを有し、
前記凸部が相対的に低く且つ前記凹部が相対的に浅い領域においては、前記凸部の頂部と前記凹部の底部とに平坦面が形成されている光学部材。
【請求項２】
前記平坦面は、前記凸部が低くなるほど、又は、前記凹部が浅くなるほど、大きくなる、請求項１に記載の光学部材。
【請求項３】
前記反射防止凹凸構造は、曲面上に形成されており、
前記曲面は、中央部に比べて周辺部の傾斜が急な形状であり、
前記曲面の中央部よりも前記曲面の周辺部の方が、前記凸部が低く且つ前記凹部が浅い、請求項１に記載の光学部材。
【請求項４】
前記凸部は、前記曲面の中央部から前記曲面の周辺部に向かって低くなり、
前記凹部は、前記曲面の中央部から前記曲面の周辺部に向かって浅くなる、請求項３に記載の光学部材。
【請求項５】
前記反射防止構造は、中央部に比べて周辺部の傾斜が急な曲面上に形成されており、
前記曲面の周辺部よりも前記曲面の中央部の方が、前記凸部が低く且つ前記凹部が浅い、請求項１に記載の光学部材。
【請求項６】
前記凸部は、前記曲面の周辺部から前記曲面の中央部に向かって低くなり、
前記凹部は、前記曲面の周辺部から前記曲面の中央部に向かって浅くなる、請求項５に記載の光学部材。
【請求項７】
前記凸部が相対的に低く且つ前記凹部が相対的に浅い領域と、前記凸部が相対的に高く且つ前記凹部が相対的に深い領域とが、交互に並んで形成されている、請求項１に記載の光学部材。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2012114714.tif 000010
【図２】
2012114714.tif 000011
【図３】
2012114714.tif 000012
【図５】
2012114714.tif 000013
【図６】
2012114714.tif 000014
【図７】
2012114714.tif 000015
【図４】
2012114714.tif 000016
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月11日(2013.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の凸部及び凹部が配列されてなり、該凸部及び凹部の周期以上の波長の光の反射を抑制する反射防止凹凸構造を備えた光学部材であって、
前記反射防止凹凸構造は、前記凸部が相対的に低く且つ前記凹部が相対的に浅い領域と、前記凸部が相対的に高く且つ前記凹部が相対的に深い領域とを有し、
前記凸部が相対的に低く且つ前記凹部が相対的に浅い領域においては、前記凸部の頂部と前記凹部の底部とに平坦面が形成され、
前記平坦面は、前記凸部が低くなるほど、及び、前記凹部が浅くなるほど、大きくなる光学部材。
【請求項２】
前記反射防止凹凸構造は、曲面上に形成されており、
前記曲面は、中央部に比べて周辺部の傾斜が急な形状であり、
前記曲面の中央部よりも前記曲面の周辺部の方が、前記凸部が低く且つ前記凹部が浅い、請求項１に記載の光学部材。
【請求項３】
前記凸部は、前記曲面の中央部から前記曲面の周辺部に向かって低くなり、
前記凹部は、前記曲面の中央部から前記曲面の周辺部に向かって浅くなる、請求項２に記載の光学部材。
【請求項４】
前記反射防止構造は、中央部に比べて周辺部の傾斜が急な曲面上に形成されており、
前記曲面の周辺部よりも前記曲面の中央部の方が、前記凸部が低く且つ前記凹部が浅い、請求項１に記載の光学部材。
【請求項５】
前記凸部は、前記曲面の周辺部から前記曲面の中央部に向かって低くなり、
前記凹部は、前記曲面の周辺部から前記曲面の中央部に向かって浅くなる、請求項４に記載の光学部材。
【請求項６】
前記凸部が相対的に低く且つ前記凹部が相対的に浅い領域と、前記凸部が相対的に高く且つ前記凹部が相対的に深い領域とが、交互に並んで形成されている、請求項１に記載の光学部材。
【国際調査報告】
2012114714.tif 000017
2012114714.tif 000018