(57)【要約】  第１樹脂基材１と銀反射層３とを有するフィルミミラー１０の最表面層にハードコート層８を設け、そのハードコート層８が活性エネルギー線反応性不飽和基を有する多官能アクリルモノマーとシリコン樹脂を含有する構成にした。
2012133517.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と銀反射層とを有するミラーであって、
当該ミラーの最表面層にはハードコート層が設けられており、前記ハードコート層は多官能アクリルモノマーとシリコン樹脂を含有することを特徴とするミラー。
【請求項２】
前記多官能アクリルモノマーは、活性エネルギー線反応性不飽和基を有することを特徴とする請求項１に記載のミラー。
【請求項３】
前記基材は樹脂基材であって、前記ミラーはフィルムミラーであることを特徴とする請求項１又は２に記載のミラー。
【請求項４】
前記多官能アクリルモノマーと前記シリコン樹脂を含む樹脂材料が少なくとも、多官能アクリレート及び／又は多官能メタアクリレートと、ポリオルガノシロキサン鎖を架橋させた樹脂材料であることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載のミラー。
【請求項５】
前記ハードコート層中に紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載のミラー。
【請求項６】
前記紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤であることを特徴とする請求項５に記載のミラー。
【請求項７】
前記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、下記の一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項６に記載のミラー。
【化１】
2012133517.tif 000006
【請求項８】
前記ハードコート層中に有機系酸化防止剤を含有することを特徴とする請求項１〜７の何れか一項に記載のミラー。
【請求項９】
前記ハードコート層中にポリオルガノシロキサンを含有することを特徴とする請求項１〜８の何れか一項に記載のミラー。
【請求項１０】
前記ハードコート層から前記銀反射層の間の層中に紫外線吸収層を有することを特徴とする請求項１〜９の何れか一項に記載のミラー。
【請求項１１】
前記ハードコート層から前記銀反射層の間の層中にガスバリア層を有することを特徴とする請求項１〜１０の何れか一項に記載のミラー。
【請求項１２】
前記銀反射層より光入射側に、腐食防止層を有することを特徴とする請求項１〜１１の何れか一項に記載のミラー。
【請求項１３】
前記ハードコート層の開始剤として、少なくとも２種のラジカル系開始剤を用い、前記２種のラジカル系開始剤は、互いに異なる波長を吸収するラジカル系開始剤であることを特徴とする請求項１〜１２の何れか一項に記載のミラー。
【請求項１４】
前記ミラーは、太陽熱発電用ミラーであることを特徴とする請求項１〜１３の何れか一項に記載のミラー。
【請求項１５】
請求項１４に記載のミラーを、粘着層を介して支持基材に貼り付けて形成したことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミラー及び太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーの代替エネルギーとして、自然エネルギーの利用が検討されている。その中でも、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、エネルギー量の多い太陽エネルギーが注目されている。しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが、問題となると考えられる。【０００３】
現在では、太陽電池の研究・開発が盛んに行われており、太陽光の利用効率も上昇してきているが、未だ十分な回収効率に達していないのが現状である。
太陽光をエネルギーに変換する別方式として、ミラーを用いて太陽光を集めて得られた熱を媒体として発電する、太陽熱発電が注目されている。この方式を用いれば、昼夜を問わず、発電が可能である上、長期視野でみれば、発電効率は太陽電池より高いと考えられるため、太陽光を有効に利用できる。【０００４】
太陽熱発電は砂漠地帯に建設されることが多いため、ミラー表面に砂埃が付着し、反射率が低下する。結果的に発電効率が低下するため、ミラーの汚れが大きな問題として認識されている。実際、カルフォルニアにある太陽熱発電プラントでは、ミラーの反射率が１ヵ月で２０％以上も落ちたことが観測されている。また、ミラーの反射率が１％低下すると＄１８５，０００／ｙｅａｒの損失を生むことが報告されている。現状では２週間〜２ヵ月に１回程度の頻度で、ミラーにイオン交換水を吹き付けて洗浄しているが、１回の洗浄コストが＄０．０１／ｍ２程度とすると、プラント全体のミラーを洗浄する場合、＄１，０００〜＄２０，０００と莫大な費用がかかる。また、これに加えて、年に数回ブラシでミラーを擦り洗いするため、ミラーの表面硬度も要求される（非特許文献１参照）。つまり、フィルムミラーの現状の課題として、最表面に防汚性、耐擦傷性、耐候性の３機能を備えた防汚ハードコート層を形成する必要がある。【０００５】
そこで、砂漠で汚れが付着する原因を我々が調査した。砂漠の汚れは、通常の汚れとは異なり、強固な砂の膜を形成することが分かった。これは、砂がミラー表面に大量に降り積もり、さらに朝と夜の温度差が大きいことから発生する結露がミラー表面に付着し、砂粒子同士が水分中で凝集し、さらに大気中の汚染物質と反応して、不溶性の塩を生成することで、砂の膜を形成すると考えられる。このような結果から、汚れの付着は水分が大きく関与していることが分かる。ミラー表面に付着する水分を極力少なくすることができれば、汚れ付着を防止することができ、長期に渡って高い反射率を維持することができる。【０００６】
ミラー表面に水滴付着を少なくさせる方法として、フッ素樹脂等を用いて、接触角を上げ（撥水性）、水滴の付着を少なくする方法があるが、我々が鋭意研究を重ねた結果、フィルム表面の接触角を上げるよりもむしろ、水滴が転がり落ちる角度である転落角を低下させることが砂漠における防汚として有効であることが分かった。
特許文献１では、太陽熱発電用フィルムミラーを報告しているが、最表層に比較的硬度の低いアクリル層が設けられているだけなので、傷つきやすく、汚れやすい構成になっている。
特許文献２や特許文献３では、フッ素成分やシリコン成分を含ませた樹脂を活性エネルギー線により硬化させて、耐久性、防汚性、耐擦傷性に優れたハードコートを提案しているが、屋外で用いるフィルムミラーにこれらハードコートを用いる旨は記載されていない。その上、屋外で用いるために耐久性向上するような工夫は一切行われておらず、転落角に対しては何も触れられていないため、転落角に着目した当業者が特許文献２、３の技術を適用することは通常想到し得ない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特表２００９−５２０１７４号公報
【特許文献２】特開２００９−８４４３６号公報
【特許文献３】特開２００５−３６０１８号公報
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】Ｆｉｎａｌ  ｒｅｐｏｒｔ  ｏｎ  ｔｈｅ  ｏｐｅｒａｔｉｏｎ  ａｎｄ  ｍａｉｎｔｅｎａｎｃｅ  ｉｍｐｒｏｖｅｍｅｎｔ  ｐｒｏｇｒａｍ  ｆｏｒ  ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｎｇ  ｓｏｌａｒ  ｐｏｗｅｒ  ｐｌａｎｔｓ．  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｊｕｎｅ  １９９９，  Ｇｉｌｂｅｒｔ  Ｅ．Ｃｏｈｅｎ，  Ｄａｖｉｄ  Ｗ．Ｋｅａｒｎｅｙ，  Ｇｒｅｇｏｒｙ  Ｊ．Ｋｏｌｂ
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
太陽熱発電用ミラーは、砂漠のように砂塵によるミラー表面の汚染が激しく、ほとんど雨が降らない環境に長期間設置すると、正反射率が低下する。このような場合は、汚染をブラシなどで洗い流すことにより正反射率が一部回復するが、洗浄により表面に傷が付き、初期の状態より正反射率が低下する。そのため、太陽熱発電用ミラーは、有効な防汚性や耐傷性を有することが好ましい。
但し、転落角という視点に基づく防汚性や耐傷性に関しては太陽熱発電用ミラーに限定して求められる性能ではなく、屋外で使用される他のミラーにも適用可能であるため、本発明は防汚性や耐傷性を良好としたミラー全般を提供することも課題の一つとしている。【００１０】
本発明の目的は、耐傷性、防汚性に優れ、過酷な環境に長期間設置しても、太陽光に対して良好な正反射率を長期間保ち続けることができる耐候性の優れた太陽熱発電用のミラーと、そのミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
すなわち、本発明の一の態様は、
基材と銀反射層とを有するミラーであって、
当該ミラーの最表面層にはハードコート層が設けられており、前記ハードコート層は多官能アクリルモノマーとシリコン樹脂を含有することを特徴とする。
多官能アクリルモノマーは好ましくは活性エネルギー線反応性不飽和基を有するものである。
多官能アクリルモノマー、特に、活性エネルギー線反応性不飽和基を有する多官能アクリルモノマーは一般的に紫外線により劣化しやすい樹脂である。一方、シリコン樹脂はそれを構成する原子間の結合力が高いため、紫外線照射下でも分解されず、耐久性が高い。そこで、活性エネルギー線反応性不飽和基を維持したままであっても、樹脂としてシリコン成分を含有することで、紫外線耐性が比較的高いハードコート層を開発することができた。さらに、本発明者は、シリコン成分による防汚性が発現し、転落角が低下することに着目した。即ち、本発明によって、水滴が表面に付着しにくくなり、それに伴い防汚性能が向上したミラーを得ることが可能となる。つまり、本発明のようなハードコート層を用いることで、防汚性、耐候性、耐傷性という３機能をもった最表面層を形成することができる。このようなミラーは特に、屋外で用いられるミラー、例えば、太陽熱発電用ミラー等において好適である。【００１２】
好ましくは、前記基材は樹脂基材であって、前記ミラーはフィルムミラーである。【００１３】
また、好ましくは、前記多官能アクリルモノマーと前記シリコン樹脂を含む樹脂材料が少なくとも、多官能アクリレート及び／又は多官能メタアクリレートと、ポリオルガノシロキサン鎖を架橋させた樹脂材料である。
ハードコート層の形成に際し、活性エネルギー線を用いた硬化方法の方が、生産性に優れ、環境に優しい技術であるが、該ハードコート層は活性エネルギー線の一種である紫外線に対して反応しやすいため、樹脂自体が紫外線により分解し、長期間の屋外暴露でハードコート性が急激に低下する。そこで、上記３機能を満足するために我々が鋭意研究を行った結果、多官能アクリレート及び／又は多官能メタクリレート（活性エネルギー線硬化性不飽和結合を有するものが好ましい）とポリオルガノシロキサン鎖を有するモノマー（好ましくはラジカル重合性に重結合を有するもの）をハードコート樹脂として用いることで、耐傷性が高く、転落角が低く、耐候性の高い防汚ハードコート層を形成することができることが分かった。また、基材がガラスである場合、基材であるガラスが破損した際に、ハードコート層によってガラスの欠片が飛散することを防止できるという効果も得られる。更に、本発明のハードコート層によれば、電気抵抗が低く、帯電防止機能を有するという効果も得ることができる。そのため、静電気による埃の吸着なども防止できるため、その点でも高い防汚効果を得られる。【００１４】
また、好ましくは、前記ハードコート層中に紫外線吸収剤を含有する。
ハードコート層中に紫外線吸収剤を加えることで、耐候性が向上する。【００１５】
また、好ましくは、前記紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤である。そのベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、下記の一般式（１）で表される化合物である。
【化１】
2012133517.tif 000003
ハードコート層にベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を添加することで、ミラーにおける基材等の紫外線によるダメージを極力低下させることが可能となり、耐候性を更に良好にすることが可能となる。加えて、驚くべき効果として、本発明者は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤をハードコート層（特に、活性エネルギー線硬化性不飽和結合を有した多官能アクリレート及び多官能メタアクリレートと、ポリオルガノシロキサン鎖を架橋させた樹脂）に添加することで、転落角を更に低下できることを見出した。即ち、防汚性も更に向上させることができるものである。【００１６】
また、好ましくは、前記ハードコート層中に有機系酸化防止剤を含有する。
ハードコート層中に樹脂の劣化を促進するラジカルを抑制するラジカルトラップ剤である酸化防止剤を加えることで、耐候性が向上できる。加えて、転落角を更に低下することも可能となる。【００１７】
また、好ましくは、前記ハードコート層中にポリオルガノシロキサンを含有する。これにより、耐傷性がさらに向上する。
また、好ましくは、前記ハードコート層から前記銀反射層の間の層中に紫外線吸収層を有する。
また、好ましくは、前記ハードコート層から前記銀反射層の間の層中にガスバリア層を有する。【００１８】
また、好ましくは、前記銀反射層より光入射側に、腐食防止層を有する。
腐食防止層は、銀吸着性腐食防止剤（銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤）を含有することが好ましい。腐食防止層の光入射側に、紫外線吸収層を有する構成とするか、又は銀反射層の光入射側に設けられた構成層のうち何れか一層に紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
酸化防止剤も同様に、銀反射層の光入射側に設けられた構成層のうちの何れか一層に含有することが好ましい。さらに、銀反射層の光入射側に設けられた構成層のうち何れか一層にガスバリア層を有することが好ましい。【００１９】
また、好ましくは前記ハードコート層の開始剤として、少なくとも２種のラジカル系開始剤を用い、前記２種のラジカル系開始剤は、互いに異なる波長を吸収するラジカル系開始剤である。
例えば、より短波長の波長を吸収する開始剤のみでは、反応しきれず、開始剤が残存してしまう可能性がある。一方、より長波長の波長を吸収する開始剤のみでは、反応性はよくなるが、長期使用時に開始剤が着色してしまう可能性がある。そこで、長期使用時においても着色することなく、反応性も良好にするために、互いに異なる波長を吸収するラジカル系開始剤を用いることが好ましい。【００２０】
そして、本発明のミラーは、太陽熱発電用ミラーとして用いることができる。【００２１】
また、本発明の他の態様は、太陽熱発電用反射装置であって、
上記ミラーを、粘着層を介して支持基材に貼り付けて形成したことを特徴としている。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、耐傷性、防汚性に優れ、過酷な環境に長期間設置しても、太陽光に対して良好な正反射率を長期間保ち続けることができる耐候性の優れた太陽熱発電用のミラーと、そのミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１Ａ】本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の一例を示す概略断面図である。
【図１Ｂ】本発明の太陽熱発電用反射装置の構成の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明の一態様にかかるミラーは、基材と銀反射層とを有するミラーであって、その最表面層に設けられたハードコート層が、多官能アクリルモノマーとシリコン樹脂を含有することを特徴とする。
このような構成上の特徴は、本発明に共通する主な技術的特徴である。尚、ミラーが太陽熱発電用フィルムミラーである場合に、本発明の効果を最大限に享受できるため好ましいが、本発明のミラーはそれに限られるものではなく、屋外で使用されるミラーであれば本発明の効果を享受することができる。
また、基材は、樹脂であってもガラスであってもよい。基材として１０μｍ以上、３００μｍ以下という薄い樹脂やガラスを用いれば、フィルムミラーとなり、基材として３００μｍより厚い樹脂やガラスを用いれば、リジッドなミラーとなる。
なお、前記太陽熱発電用フィルムミラーは、裏面鏡と表面鏡の形態がある。裏面鏡は、太陽光入射側と銀反射層の間に１０μｍ以上の基材を有する形態であり、表面鏡は、太陽光入射側と銀反射層の間に１０μｍ以上の基材を有しない形態である。この基材は、好ましくは樹脂製であるが、薄いガラス製であってもよい。
【００２５】
以下、本発明に係るミラーに関し、特に太陽熱発電用のフィルムミラーについて詳細について説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。
【００２６】
（１）太陽熱発電用フィルムミラーの構成概要
本発明の太陽熱発電用のミラーであるフィルムミラーの概要を説明する。
太陽熱発電用フィルムミラーは、少なくとも基材と銀反射層とを有する。更に、ミラーの最表面層にはハードコート層を有する。また、ハードコート層から銀反射層の間に必要に応じて紫外線吸収層を設けてもよい。また、ハードコート層から銀反射層の間にガスバリア層を設けてもよい。また、銀反射層より光入射側に、腐食防止層を設けてもよい。さらに、ハードコート層の光入射側と反対側にプライマー層を設けてもよい。他、接着層や粘着層や剥離層等を設けてもよい。太陽熱発電用フィルムミラー全体の厚さは、ミラーのたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から７５〜２５０μｍが好ましく、より好ましくは９０〜２３０μｍ、更に好ましくは１００〜２２０μｍである。
上述の厚さを有する太陽熱発電用フィルムミラーの好ましい層構成の一例について、図１Ａを用いて説明する。また、太陽熱発電用反射装置の概要を、図１Ｂを用いて説明する。
【００２７】
フィルムミラー１０は、図１Ａに示すように、基材としての第１樹脂基材１上に設けられた銀反射層３を備えており、ミラーの最表面層にハードコート層８が設けられている。その銀反射層３上であってハードコート層８との間に、構成層として腐食防止層４、紫外線吸収層５、接着層６、第２樹脂基材７が設けられている。また、第１樹脂基材１と銀反射層３の間に腐食防止層２が設けられている。
太陽熱発電用反射装置２０は、図１Ｂに示すように、フィルムミラー１０の第１樹脂基材１側を、支持基材１２に粘着層１１を介して貼り付けてなる反射鏡である。
【００２８】
以下、各層構成の詳細について記載する。
【００２９】
（２）基材
基材は、樹脂製でもよいしガラス製でもよい。フィルムミラーとしては、基材の厚さが１０〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。好ましくは２０〜２００μｍ、更に好ましくは３０〜１００μｍである。
【００３０】
基材として樹脂を用いる場合、銀反射層よりも光入射側から遠い位置に第１樹脂基材を設け、銀反射層よりも光入射側に近い位置に第２樹脂基材を設けるようにしてもよい。
【００３１】
第１樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。
特にポリエステル系フィルム、アクリルフィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
第１樹脂基材は、銀反射層よりも光入射側から遠い位置にあるため、紫外線が第１樹脂基材に到達しにくい。特に、第１樹脂基材よりも光入射側にある層に紫外線吸収剤を含有させたり、紫外線吸収層を設けたりする場合は、紫外線が、第１樹脂基材により到達しにくい。従って、第１樹脂基材は、第２樹脂基材に比して、紫外線に対して劣化しやすい樹脂であっても用いることが可能となる。そのような観点から、第１樹脂基材として、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを用いることが可能となる。
第１樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍである。
【００３２】
一方、第１樹脂基材よりも光入射側に設けられる第２樹脂基材は、上述と同様の樹脂を用いることができるが、紫外線の影響をより受けやすい位置となるため、紫外性に対して強いアクリルフィルムを用いることが好ましい。また、第２樹脂基材は、銀反射層よりも光入射側にあるため、光透過性を有する材料からなることが好ましい。
第２樹脂基材の厚さも、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。但し、第１樹脂基材に比べて光入射にあるため、紫外線などの透過を防止するために第２樹脂基材よりも厚いことが好ましい。例えば、一般的には、３０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは５０〜２００μｍである。第２樹脂基材に紫外線吸収剤を含有させ、紫外線吸収層を兼ねるようにしてもよい。
【００３３】
（３）腐食防止層
腐食防止層は、銀の腐食を防止する層である。従って、腐食防止層は、銀反射層に隣接して設けられることが好ましい。特に、腐食防止層が銀反射層の光入射側に隣接していることがより好ましい。図１Ａ、図１Ｂに示す例のように、銀反射層の両側に腐食防止層を隣接させてもよい。
腐食防止層は、腐食防止剤を含有しており、特に銀反射層に含まれる銀に対する腐食防止剤を含有している。腐食防止剤としては、銀に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
腐食防止層はバインダーとして樹脂を用いることができる。例えば、以下の樹脂を用いることができる。セルロースエステル系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアリレート系、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン系、ポリカーボネート、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル系樹脂等を挙げることができる。中でも、アクリル系樹脂が好ましい。腐食防止層は、厚さが３０ｎｍ以上、１μｍ以下であることが好ましい。
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
次に腐食防止剤の詳細について説明する。
（３−１）腐食防止剤
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。また、シリコン変性樹脂を用いることも可能である。シリコン変性樹脂として特に限定されない。
アミン類およびその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−２，５ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ３’５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２‐エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【００３４】
（４）銀反射層
銀反射層は、太陽光を良好に反射する機能を有する銀を主成分とする層である。銀反射層の表面反射率は８０％以上であることが好ましく、より好ましくは９０％以上である。
この銀反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。
一方、乾式法とは、真空製膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に製膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。例えば、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法において、銀反射層を銀蒸着によって形成する製造方法であることが好ましい。
銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【００３５】
（５）紫外線吸収層
紫外線吸収層は、太陽光や紫外線によるフィルムミラーの劣化防止の目的で紫外線吸収剤を含有してなる層である。紫外線吸収層は、第１樹脂基材よりも光入射側に設けることが好ましく、腐食防止層を有する場合は腐食防止層よりも光入射側に設けることが好ましい。
紫外線吸収層はバインダーとして樹脂を用いることができる。例えば、以下の樹脂を用いることができる。セルロースエステル系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアリレート系、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン系、ポリカーボネート、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル系樹脂等を挙げることができる。中でも、アクリル系樹脂が好ましい。紫外線吸収層の厚さは、１μｍ〜２００μｍであることが好ましい。
また、フィルムミラーに紫外線吸収層を設ける以外に、第１樹脂基材よりも光入射側に設けられた構成層のうちの何れか一層に紫外線吸収剤を添加し、紫外線吸収層を兼ねるようにしてもよい。また、後述するハードコート層に紫外線吸収剤を添加することも好ましい。
紫外線吸収剤としては、有機系として、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられ、また無機系として、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等が挙げられる。
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２ー（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２ー（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２ー（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
また、紫外線吸収剤としては上記以外に、紫外線の保有するエネルギーを分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物を用いることもできる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用により効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。
通常の紫外線吸収剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
紫外線吸収剤の使用量は、０．１〜２０質量％、好ましくは１〜１５質量％、より好ましくは３〜１０質量％である。これらの範囲内にすることで、他の構成層の密着性を良好に保ちつつ、耐候性を向上させる事が可能となる。
【００３６】
（６）ガスバリア層
第１樹脂基材より光入射側にガスバリア層を設けてもよい。その場合、紫外線吸収層より光入射側にガスバリア層を設けることが好ましい。
ガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による第１樹脂基材及び第１樹脂基材に支持される各構成層等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであってもよく、上記劣化防止機能を有する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。
ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、更に好ましくは０．２ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である。
また、ガスバリア層の酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
ガスバリア層の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング、イオンビームアシスト、化学気相成長法等の方法により無機酸化物を形成する方法が挙げられるが、ゾル−ゲル法による無機酸化物の前駆体を塗布した後に、その塗布膜に加熱処理及び／又は紫外線照射処理を施して、無機酸化物膜を形成する方法も好ましく用いられる。
【００３７】
（６−１）無機酸化物
無機酸化物は、有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものである。例えば、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であり、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等である。これらのうち、好ましくは、酸化ケイ素である。
本発明において無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル−ゲル法またはポリシラザン法を用いることが好ましい。ゾル−ゲル法は無機酸化物の前駆体である有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法であり、ポリシラザン法は無機酸化物の前駆体であるポリシラザンから無機酸化物を形成する方法である。
【００３８】
（６−２）無機酸化物の前駆体
ガスバリア層は、加熱により無機酸化物を形成する前駆体を塗布した後に、一般的な加熱方法が適用して形成することできるが、局所的加熱により形成することが好ましい。この前駆体は、ゾル状の有機金属化合物又はポリシラザンが好ましい。
【００３９】
（６−３）有機金属化合物
有機金属化合物は、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ランタン（Ｌａ）、イットリウム（Ｙ）、及びニオブ（Ｎｂ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。特に、有機金属化合物が、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、及びバリウム（Ｂａ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。さらに、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、及びリチウム（Ｌｉ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。
有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、金属アルコキシドが挙げられる。
この金属アルコキシドは、下記の一般式（２）で表される。
ＭＲ２ｍ（ＯＲ１）ｎ−ｍ  ・・・（２）
上記の式（２）において、Ｍは、酸化数ｎの金属を表す。Ｒ１及びＲ２は、各々独立にアルキル基を表す。ｍは、０〜（ｎ−１）の整数を表す。
また、Ｒ１及びＲ２は、同一でもよく、異なっていてもよい。Ｒ１及びＲ２としては、炭素原子４個以下のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基ＣＨ３（以下、Ｍｅで表す。）、エチル基Ｃ２Ｈ５（以下、Ｅｔで表す）、プロピル基Ｃ３Ｈ７（以下、Ｐｒで表す。）、イソプロピル基ｉ−Ｃ３Ｈ７（以下、ｉ−Ｐｒで表す。）、ブチル基Ｃ４Ｈ９（以下、Ｂｕで表す）、イソブチル基ｉ−Ｃ４Ｈ９（以下、ｉ−Ｂｕで表す）等の低級アルキル基がより好ましい。
また、上記の式（２）で表される金属アルコキシドとしては、例えば、リチウムエトキシドＬｉＯＥｔ、ニオブエトキシドＮｂ（ＯＥｔ）５、マグネシウムイソプロポキシドＭｇ（ＯＰｒ−ｉ）２、アルミニウムイソプロポキシドＡｌ（ＯＰｒ−ｉ）３、亜鉛プロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）２、テトラエトキシシランＳｉ（ＯＥｔ）４、チタンイソプロポキシドＴｉ（ＯＰｒ−ｉ）４、バリウムエトキシドＢａ（ＯＥｔ）２、バリウムイソプロポキシドＢａ（ＯＰｒ−ｉ）２、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３、ジルコニウムプロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）４、ランタンプロポキシドＬａ（ＯＰｒ）３、イットリウムプロポキシドＹ（ＯＰｒ）３、鉛イソプロポキシドＰｂ（ＯＰｒ−ｉ）２等が好適に挙げられる。これらの金属アルコキシドは何れも市販品があり、容易に入手することができる。また、金属アルコキシドは、部分的に加水分解して得られる低縮合物も市販されており、これを原料として使用することも可能である。
【００４０】
（６−４）ゾル−ゲル法
ここで、「ゾル−ゲル法」とは、有機金属化合物を加水分解すること等により、水酸化物のゾルを得て、脱水処理してゲルとし、さらにこのゲルを加熱処理することで、ある一定の形状（フィルム状、粒子状、繊維状等）の金属酸化物ガラスを調製する方法をいう。異なる複数のゾル溶液を混合する方法、他の金属イオンを添加する方法等により、多成分系の金属酸化物ガラスを得ることも可能である。
具体的には、下記の工程を有するゾル−ゲル法で、無機酸化物を製造することが好ましい。
すなわち、少なくとも水及び有機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在下にてハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５〜５．０に調整しながら、有機金属化合物を加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程、及びその反応生成物を２００℃以下の温度で加熱してガラス化する工程、を有するゾル−ゲル法により製造されてなることが、高温熱処理による微細孔の発生や膜の劣化等が発生しないという観点から特に好ましい。
このゾル−ゲル法において、原料として用いられる有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、上記した金属アルコキシドが挙げられる。
ゾル−ゲル法において、上記した有機金属化合物は、そのまま反応に用いてもよいが、反応の制御を容易にするため溶媒で希釈して用いることが好ましい。希釈用溶媒は、有機金属化合物を溶解することができ、かつ水と均一に混合することができるものであればよい。そのような希釈用溶媒としては、脂肪族の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びそれらの混合物が好適に挙げられる。また、ブタノールとセロソルブとブチルセロソルブの混合溶媒、あるいはキシロールとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンとシクロヘキサンの混合溶媒などを使用することもできる。
この有機金属化合物において、金属がＣａ、Ｍｇ、Ａｌ等である場合には、反応液中の水と反応して水酸化物を生成したり、炭酸イオンＣＯ３２−が存在すると炭酸塩を生成したりして沈殿を生ずるため、反応液に隠蔽剤としてトリエタノールアミンのアルコール溶液を添加することが好ましい。溶媒に混合溶解するときの有機金属化合物の濃度としては、７０質量％以下が好ましく、５〜７０質量％の範囲に希釈して使用することがより好ましい。
ゾル−ゲル法において用いられる反応液は、少なくとも水及び有機溶媒を含有する。有機溶媒としては、水及び酸、アルカリと均一な溶液をつくるものであればよく、通常、有機金属化合物の希釈に用いる脂肪族の低級アルコール類と同様のものが好適に挙げられる。脂肪族の低級アルコール類の中でも、メタノール、エタノールより、炭素数の多いプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、及びイソブタノールが好ましい。これは、生成する金属酸化物ガラスの膜の成長が安定であるためである。この反応液において、水の割合としては、水の濃度として０．２〜５０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
また、ゾル−ゲル法においては、反応液中において、ホウ素イオンの存在下にて、ハロゲンイオンを触媒として、有機金属化合物を加水分解する。ホウ素イオンＢ３＋を与える化合物としては、トリアルコキシボランＢ（ＯＲ）３が好適に挙げられる。その中でも、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３がより好ましい。また、反応液中のＢ３＋イオン濃度としては、１．０〜１０．０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
ハロゲンイオンとしては、フッ素イオン及び／又は塩素イオンが好適に挙げられる。即ち、フッ素イオン単独、塩素イオン単独でもよく、これらの混合物でもよい。用いる化合物としては、上記した反応液中でフッ素イオン及び／又は塩素イオンを生ずるものであればよく、例えば、フッ素イオン源として、フッ化水素アンモニウムＮＨ４ＨＦ・ＨＦ、フッ化ナトリウムＮａＦ等が好適に挙げられ、塩素イオン源として、塩化アンモニウムＮＨ４Ｃｌ等が好適に挙げられる。
また、反応液中のハロゲンイオンの濃度としては、製造しようとする無機マトリックスを有する無機組成物からなるフィルムの膜厚や、その他の条件によって異なるが、一般的には、触媒を含む反応液の合計質量に対して、０．００１〜２ｍｏｌ／ｋｇ、特に０．００２〜０．３ｍｏｌ／ｋｇの範囲が好ましい。ハロゲンイオンの濃度が０．００１ｍｏｌ／ｋｇより低いと、有機金属化合物の加水分解が十分に進行し難くなり、膜の形成が困難となる。またハロゲンイオンの濃度が２ｍｏｌ／ｋｇを超えると、生成する無機マトリックス（金属酸化物ガラス）が不均一になり易いため、いずれも好ましくない。
なお、反応時に使用したホウ素に関しては、得られる無機マトリックスの設計組成中にＢ２Ｏ３成分として含有させる場合は、その含有量に応じた有機ホウ素化合物の計算量を添加したまま生成物とすればよく、またホウ素を除去したいときは、成膜後、溶媒としてのメタノールの存在下、又はメタノールに浸漬して加熱すればホウ素はホウ素メチルエステルとして蒸発させて除去することができる。
有機金属化合物を、加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程においては、通常所定量の有機金属化合物を、所定量の水及び有機溶媒を含有する混合溶媒に混合溶解した主剤溶液、ならびに所定量のハロゲンイオンを含有する所定量の反応液を、所定の比で混合し十分に攪拌して均一な反応溶液とした後、酸又はアルカリで反応溶液のｐＨを希望の値に調整し、数時間熟成することにより進行させて反応生成物を得る。ホウ素化合物は、主剤溶液又は反応液に予め所定量を混合溶解しておく。また、アルコキシボランを用いる場合は、他の有機金属化合物と共に主剤溶液に溶解するのが有利である。
反応溶液のｐＨは、目的によって選択され、無機マトリックス（金属酸化物ガラス）を有する無機組成物からなる膜（フィルム）の形成を目的とするときは、例えば、塩酸等の酸を用いてｐＨを４．５〜５の範囲に調整して熟成するのが好ましい。この場合は、例えば、指示薬としてメチルレッドとブロモクレゾールグリーンとを混合したもの等を用いると便利である。
なお、ゾル−ゲル法においては、同一成分の同一濃度の主剤溶液、及び反応液（Ｂ３＋及びハロゲンイオンを含む。）を所定のｐＨに調整しながら、逐次同一割合で追加添加することにより簡単に継続して、反応生成物を製造することもできる。なお、反応溶液の濃度は±５０質量％の範囲で、水（酸又はアルカリを含む。）の濃度は、±３０質量％の範囲で、及びハロゲンイオンの濃度は±３０質量％の範囲で変化させることができる。
次に、前工程で得られた反応生成物（熟成後の反応溶液）を、２００℃以下の温度に加熱して乾燥しガラス化させる。加熱にあたって、特に５０〜７０℃の温度区間を注意して徐々に昇温して、予備乾燥（溶媒揮散）工程を経た後さらに昇温することが好ましい。この乾燥は、膜形成の場合、無孔化膜とするために重要である。予備乾燥工程後、加熱し乾燥する温度としては、７０〜１５０℃が好ましく、８０〜１３０℃がより好ましい。
【００４１】
（７）接着層
接着層は、層同士の接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。図１Ａ、図１Ｂに示す例においては、紫外線吸収層５と第２樹脂基材７との接着性を高めるために、接着層６が設けられている。従って、接着層は、層同士を密着する密着性、銀反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１０μｍである。
接着層が樹脂である場合、樹脂として、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。接着層６の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
また、接着層が金属酸化物である場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等、各種真空製膜法により製膜することができる。例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。
【００４２】
（８）ハードコート層
ハードコート層は、太陽熱発電用フィルムミラーの最外層に設けられる層である。ハードコート層の厚みは、０．５μｍ以上、１０μｍ以下であることが好ましい。ハードコート層は、多官能アクリルモノマーとシリコン樹脂を含有しており、多官能アクリルモノマー成分を以下「Ａ」成分とし、シリコン樹脂成分を以下「Ｂ」成分とする。
【００４３】
（８−１）「Ａ」成分
多官能アクリルモノマー「Ａ」成分は、不飽和基、特に、活性エネルギー線反応性不飽和基を有することが好ましい。尚、本明細書で言う活性エネルギー線とは、好ましくは電子線か紫外線をいう。活性エネルギー線反応性不飽和基を有する多官能アクリルモノマーとしては、ラジカル重合系モノマーが用いられ、好ましくは、分子中にα，β−不飽和二重結合を有する２官能以上の多官能モノマーである多官能アクリレート型もしくは多官能メタクリレート型モノマー等が挙げられる。他に、ビニル型モノマー、アリル型モノマーや単官能のモノマーを有していてもよい。また、ラジカル重合系モノマーは、単独でも、または架橋密度を調整すべく２種類以上のモノマーを併用することも可能である。
「Ａ」成分としては、これら比較的低分子量化合物、例えば分子量が１０００未満のいわゆる狭義のモノマーの他、ある程度分子量の大きい、例えば重量平均分子量が１０００以上１００００未満のオリゴマー、プレポリマーも用いることが可能である。
【００４４】
単官能（メタ）アクリレートモノマーとして、具体的には、２−（メタ）アクリロイロキシエチルフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシプロピルフタレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルカルビトール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、クレゾール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレ−ト、パラクミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、コハク酸（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（メタ）アクリレート、およびこれらの誘導体、変性品等が挙げられる。
【００４５】
多官能（メタ）アクリレートモノマーとして、具体的には、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールAジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールFジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ−ト、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエートトリ（メタ）アクリレート、トリス（（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル化イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、およびこれらの誘導体、変性品等が挙げられる。
【００４６】
このような重合性有機化合物である「Ａ」成分の市販品としては、例えば、東亞合成（株）製アロニックスＭ−４００、Ｍ−４０８、Ｍ−４５０、Ｍ−３０５、Ｍ−３０９、Ｍ−３１０、Ｍ−３１５、Ｍ−３２０、Ｍ−３５０、Ｍ−３６０、Ｍ−２０８、Ｍ−２１０、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２３３、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２６０、Ｍ−２７０、Ｍ−１１００、Ｍ−１２００、Ｍ−１２１０、Ｍ−１３１０、Ｍ−１６００、Ｍ−２２１、Ｍ−２０３、ＴＯ−９２４、ＴＯ−１２７０、ＴＯ−１２３１、ＴＯ−５９５、ＴＯ−７５６、ＴＯ−１３４３、ＴＯ−９０２、ＴＯ−９０４、ＴＯ−９０５、ＴＯ−１３３０、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３１０、Ｄ−３３０、ＤＰＨＡ、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０、ＤＮ−００７５、ＤＮ−２４７５、ＳＲ−２９５、ＳＲ−３５５、ＳＲ−３９９Ｅ、ＳＲ−４９４、ＳＲ−９０４１、ＳＲ−３６８、ＳＲ−４１５、ＳＲ−４４４、ＳＲ−４５４、ＳＲ−４９２、ＳＲ−４９９、ＳＲ−５０２、ＳＲ−９０２０、ＳＲ−９０３５、ＳＲ−１１１、ＳＲ−２１２、ＳＲ−２１３、ＳＲ−２３０、ＳＲ−２５９、ＳＲ−２６８、ＳＲ−２７２、ＳＲ−３４４、ＳＲ−３４９、ＳＲ−６０１、ＳＲ−６０２、ＳＲ−６１０、ＳＲ−９００３、ＰＥＴ−３０、Ｔ−１４２０、ＧＰＯ−３０３、ＴＣ−１２０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０、Ｒ−５５１、Ｒ−７１２、Ｒ−１６７、Ｒ−５２６、Ｒ−５５１、Ｒ−７１２、Ｒ−６０４、Ｒ−６８４、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ−３３０、ＴＰＡ−３２０、ＴＰＡ−３３０、ＫＳ−ＨＤＤＡ、ＫＳ−ＴＰＧＤＡ、ＫＳ−ＴＭＰＴＡ、共栄社化学（株）製ライトアクリレート  ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ、ＤＴＭＰ−４Ａ等を挙げることができる。
【００４７】
本発明に用いられる、重合性有機化合物「Ａ」成分の含有量は、防汚性や耐光性を良好にする観点から、「Ａ」＋「Ｂ」の組成物全体を１００重量％として、１０〜９０重量％であることが好ましく、１５〜８０重量％がさらに好ましい。
【００４８】
（８−２）「Ｂ」成分
シリコン樹脂「Ｂ」成分としては、活性エネルギー線反応性不飽和基を有するシリコン樹脂であることが好ましい。シリコン樹脂は、ポリオルガノシロキサンを含有し、好ましくは、活性エネルギー線硬化性不飽和結合を分子内に有したポリオルガノシロキサン鎖を有する化合物である。特に、ラジカル重合性二重結合およびポリオルガノシロキサン鎖を有する単量体（ａ）１〜５０重量％と、ラジカル重合性二重結合および反応性官能基を有する（ａ）以外の単量体（ｂ）１０〜９５重量％と、（ａ）および（ｂ）以外のラジカル重合性二重結合を有する単量体（ｃ）０〜８９重量％とを含む単量体を重合してなる重合体（α）に、前記した反応性官能基と反応可能な官能基、およびラジカル重合性二重結合を有する化合物（β）を反応させてなる数平均分子量５０００〜１０００００のビニル共重合体である活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
ラジカル重合性二重結合およびポリオルガノシロキサン鎖を有する単量体（ａ）として、具体的には、例えばチッソ（株）製のサイラプレーンＦＭ−０７１１、ＦＭ−０７２１、ＦＭ−０７２５などの片末端（メタ）アクリロキシ基含有ポリオルガノシロキサン化合物、東亜合成（株）製のＡＣ−ＳＱ  ＳＩ−２０、Ｈｙｂｒｉｄ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社製ＰＯＳＳ（Ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ Ｏｌｉｇｏｍｅｒｉｃ Ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）シリーズのアクリレート、メタクリレート含有化合物等が挙げられる。
【００４９】
「Ｂ」成分は、要求性能に応じて１種、または２種以上を混合して用いることができる。また、重合比率は、重合体を構成する単量体の総重量を基準として１〜５０重量％であることが好ましく、さらに好ましくは１０〜３５重量％である。「Ｂ」成分の共重合比率が１重量％未満の場合には、硬化物の上部表面に防汚性、耐候性を付与することが困難となり、５０重量％を越える場合には、耐擦傷性が低下する上、放射線硬化型組成物に含まれる他の成分との相溶性、基材との密着性、強靭性等の塗膜性能、および重合体の溶媒への溶解性を得ることが困難となる。
上記成分中に、ポリシロキサンを適当量含有することもでき、「Ｂ」成分の化学構造や量比によっては、ポリシロキサンを添加することによって、耐久性が向上する。
【００５０】
このハードコート層は、屈曲性があり、反りが生じないことが好ましい。
フィルムミラーの最表面層におけるハードコート層は密な架橋構造を形成する場合があり、そのためフィルムが反り曲がることや、屈曲性がないためにクラックが入りやすいようなことがあり、取り扱いが困難になる。このような場合、ハードコート層組成中の無機物の量を調整するなどして、柔軟性があり、平面性が得られるように設計することが好ましい。
【００５１】
また、ハードコート層に紫外線吸収剤や酸化防止剤を含有することが好ましい。
【００５２】
（８−３）紫外線吸収剤
紫外線吸収剤としては、有機系として、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられ、また無機系として酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等が挙げられる。
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
紫外線吸収剤の中でも特に好ましいものは、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤である。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２ー（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２ー（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２ー（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。例えば、下記の一般式（１）で表される化合物をベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として用いることができる。
【化２】
2012133517.tif 000004
ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤をハードコート層に含有させることにより、耐候性を更に良好にするだけでなく、転落角も更に低下できるという優れた効果を得ることができる。特に、上記一般式（１）で表される化合物をハードコート層に含有させた場合、転落角の低下という効果が著しい。尚、転落角とは、水平なミラー上に水滴を滴下し、その後、当該ミラーの傾斜角を徐々に上げていき、静止していた所定重量の水滴が転落する最小の角度を計測したものをいう。転落角が小さければ小さい程、水滴が表面から転がり落ちやすく、水滴が付着しにくい表面であると言える。
【００５３】
紫外線吸収能を得るためであれば、無機系紫外線吸収剤も用いることができ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ストロンチウム、酸化セリウム等を用いることができる。また、光触媒活性を抑えた加工分子を用いることも可能で、例えば、無機系紫外線吸収剤をシリカ成分で覆った加工分子や、レーザー光を照射して、紫外線吸収能を保ったまま、光触媒活性を極力抑えた分子も適用することができる。
紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。
通常の紫外線防止剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
紫外線吸収剤の使用量は、密着性を良好に保ちつつ、耐候性を良好にするために、０．１〜２０質量％であることが好ましい。さらに好ましくは０．２５〜１５質量％、より好ましくは０．５〜１０質量％である。
【００５４】
（８−４）酸化防止剤
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤およびホスファイト系酸化防止剤など、有機系酸化防止剤を使用することが好ましい。有機系酸化防止剤をハードコート層に含有させることでも、転落角を低下し得る。
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー〕、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールーテトラキスー（β−ラウリル−チオプロピオネート）等を挙げられる。
ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
【００５５】
なお、本発明においては、上記した酸化防止剤と下記の光安定剤を併用することもできる。
ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、１−メチル−８−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２、６，６−テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン等が挙げられる。
特に、ヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、または１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
その他、光安定剤としてニッケル系紫外線安定剤も使用可能であり、ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２’−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）〕−２−エチルヘキシルアミンニッケル（ＩＩ）、ニッケルコンプレックス−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル−ジチオカーバメート等が挙げられる。
【００５６】
（８−５）開始剤
ハードコート層は重合を開始するための開始剤を含有することが好ましい。紫外線などの活性エネルギー線硬化性樹脂の光重合開始剤が好ましく用いられる。例えば、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、開始剤を光増感剤と共に使用してもよい。上記開始剤も光増感剤として使用できる。また、エポキシアクリレート系の開始剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜１０質量部、より好ましくは、２〜５質量部である。２種類の開始剤を併用することもでき、特にラジカル系開始剤の場合、少なくとも２種類の開始剤、好ましくは互いに異なる波長を吸収するラジカル系開始剤を用いることである。より好ましくは、互いに紫外線吸収波長の異なる２種類の開始剤を使用することである。例えば、より短波長の波長を吸収する開始剤のみでは、開始剤によってモノマー全ての重合反応を行えない場合がある。一方、より長波長の波長を吸収する開始剤のみでは、反応性はよくなるが、長期使用時に開始剤が着色してしまう可能性がある。そこで、長期使用時においても着色することなく、耐候性を良好にし、更に、重合反応性も良好にするために、互いに異なる波長を吸収するラジカル系開始剤を用いることが好ましい。
【００５７】
（９）プライマー層
また、ハードコート層の下地となる第２樹脂基材等の層との相性によって、密着性が十分に確保できない場合、第２樹脂基材等の層上にプライマー層を形成して、密着性を確保することもできる。プライマー層としては、透明で、表面に水酸基を多量に有するような構成であれば、特に限定するものはない。好ましくは、無機層であり、シリカ、アルミナ、ジルコニア等で形成され、より好ましくは、ポリシラザンで形成されることが好ましい。形成方法として、真空製膜法もしくはゾルゲル法により製膜することができる。真空製膜法としては、例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。特に、ポリシラザンを塗布製膜し、加熱硬化した膜からなることが好ましい。プライマー層の前駆体が、ポリシラザンを含有する場合は、下記の一般式（３）で表されるポリシラザン及び有機溶剤中に必要に応じて触媒を含む溶液を塗布し、この溶剤を蒸発させて除去し、それによって第２樹脂基材等の層上に０．０５〜３．０μｍの層厚を有するポリシラザン層を残し、そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては、及び窒素の存在下に、上記のポリシラザン層を、局所的加熱することによって、第２樹脂基材上にガラス様の透明な被膜を形成する方法を採用することが好ましい。
−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−  ・・・（３）
上記の式（３）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一か又は異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ビニル又は３−（トリエトキシシリル）プロピル、３−（トリメトキシシリルプロピル）からなる群から選択される基を表し、この際、ｎは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミン又はＮ−複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１〜１０モル％、好ましくは０．５〜７モル％の範囲である。
好ましい態様の一つでは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。
【００５８】
さらに別の好ましい態様の一つでは、本発明によるコーティングは、下記の一般式（４）で表される少なくとも一種のポリシラザンを含む。
−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−（ＳｉＲ４Ｒ５−ＮＲ６）ｐ−  ・・・（４）
上記の式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ及びｐは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４及びＲ５がメチルを表す化合物、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４がメチルを表し、そしてＲ５がビニルを表す化合物、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２及びＲ５がメチルを表す化合物である。
【００５９】
また、下記の一般式（５）の少なくとも一種のポリシラザンを含む溶液も同様に好ましい。
−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−（ＳｉＲ４Ｒ５−ＮＲ６）ｐ−（ＳｉＲ７Ｒ８−ＮＲ９）ｑ−      ・・・（５）
上記の式（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ、ｐ及びｑは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ８がメチルを表し、Ｒ９が（トリエトキシシリル）プロピルを表し、そしてＲ７がアルキル又は水素を表す化合物である。
【００６０】
溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン１〜８０質量％、好ましくは５〜５０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％である。
溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えばヒドロキシル基又はアミン基）を含まずそしてポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族又は芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチル又は酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトン又はメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフラン又はジブチルエーテル、並びにモノ−及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）又はこれらの溶剤からなる混合物である。
上記ポリシラザン溶液の追加の成分は、塗料の製造に慣用されているもののような更に別のバインダーであることができる。これは、例えば、セルロースエーテル及びセルロースエステル、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート又はセルロースアセトブチレート、天然樹脂、例えばゴムもしくはロジン樹脂、又は合成樹脂、例えば重合樹脂もしくは縮合樹脂、例えばアミノプラスト、特に尿素樹脂及びメラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、又はポリシロキサンである。
当該ポリシラザン調合物の更に別の成分は、例えば、調合物の粘度、下地の濡れ、成膜性、潤滑作用又は排気性に影響を与える添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２又はＡｌ２Ｏ３であることができる。
プライマー層として形成される被膜の厚さは、１０ｎｍ〜１μｍの範囲内にすることが好ましい。このポリシラザンプライマー層は、酸素、水蒸気バリア膜としても用いることができる。
【００６１】
（１０）粘着層
太陽熱発電用反射装置は、太陽熱発電用のフィルムミラーを粘着層を介して支持基材貼り付けて形成した物である。太陽熱発電用反射装置の好ましい一態様として、図１Ｂに示す例が挙げられる。太陽熱発電用反射装置２０は、太陽熱発電用のフィルムミラー１０を粘着層１１を介して支持基材１２に貼り合せてなる例である。
フィルムミラーを支持基材に接着するための粘着層としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。粘着剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。
ラミネート法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜１００μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【００６２】
（１１）支持基材
太陽熱発電用反射装置に用いられる支持基材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料、また樹脂と金属板を組み合わせた鋼板を用いることができる。
本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。さらに好ましくは、樹脂と金属板を組み合わせた鋼板を用いることが好ましい。
【００６３】
このような構成の太陽熱発電用反射装置は、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。
この太陽熱発電用反射装置を使用する場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。
また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められる為、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーが特に好適に用いられる。
【実施例】
【００６４】
以下、本発明について実施例および比較例を用いて具体的に説明する。本実施例のフィルムミラーは、図１Ａに示す実施態様である。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実施例や比較例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。【００６５】
［反射フィルムの作製方法］
第１樹脂基材１として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。このポリエステルフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１、日本合成化学社製）とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合し、溶媒としてメチルエチルケトンを加え、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテート（和光純薬製）１０質量％となるよう調製した量を混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ６０ｎｍの腐食防止層２を形成した。
続いて腐食防止層２上に、真空蒸着によって銀反射層３を８０ｎｍになるように製膜した。
次に銀反射層３上に、腐食防止層２のグリコールジメルカプトアセテートの代わりにＴｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）を用いた以外は同様にして、腐食防止層４を形成した。
その腐食防止層４上に、紫外線吸収ポリマー「ニューコートＵＶＡ−２０４Ｗ」（新中村化学製）を厚さ５μｍになるようにグラビアコート法によりコーティングして、紫外線吸収層５を形成した。
紫外線吸収層５上に、接着剤ＴＢＳ‐７３０（大日本インキ社製）を厚さ５μｍになるようにグラビアコート法によりコーティングして接着層６を作製し、その上から紫外線吸収剤を含有したアクリル樹脂住友化学Ｓ００１（７５μｍ）をロール方式により貼り合わせて、第２樹脂基材７を形成した。
このように、ハードコート層８以外の構成層を積層した反射フィルムを作製した。【００６６】
［ハードコート液Ｎｏ．１の作製］
ハードコートの「Ｂ」成分としては、片末端メタクリロキシ基含有ポリシロキサン化合物（チッソ社製「サイラプレーンＦＭ−０７２１」）２０部、グリシジルメタクリレート７０部、ブチルメタクリレート１０部とアクリル酸３５部によって合成して得たポリオルガノシロキサン鎖を持つ放射線硬化型ビニル共重合体を用いる。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の全重量を１００重量％として、「Ｂ」成分として紫外線反応性基を有する上述のポリオルガノシロキサン鎖を持つ放射線硬化型ビニル共重合体であるシリコン樹脂を５重量％、光開始剤として１−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルケトン（チバ・ジャパン製）を４重量％、残りの９１重量％を「Ａ」成分である樹脂はトリペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ウレタンアクリレートＥＢＥＣＲＹＬ ８４０５（樹脂いずれもダイセル・サイテック社製）の比率を２対２対１として、有機溶剤中で調製して得る。【００６７】
［ハードコート液Ｎｏ．２の作製］
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の全重量を１００重量％として、光開始剤として１−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルケトン（チバ・ジャパン製）を４重量％、レベリング剤としてＢＹＫ―ＳＩＬＣＬＥＡＮ―３７００を１重量％、樹脂としてトリペンタエリスリトールヘキサアクリレートＰＥＴＲＡ、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ウレタンアクリレートＥＢＥＣＲＹＬ ８４０５（樹脂いずれもダイセル・サイテック社製）の比率を２対２対１として、有機溶剤中で調製して得る。【００６８】
［比較例１］
図１Ａに比較例１の構成を示す。
上記反射フィルム上にハードコート液Ｎｏ．２をワイヤーバーによりコートし、８０℃、にて６０秒間乾燥し、窒素雰囲気下、紫外線を照射させることにより、乾燥膜厚５μｍのハードコート層８を形成し、比較例１のフィルムミラーを作製する。【００６９】
［比較例２］
ハードコート液Ｎｏ．２に一般式（１）を満たすベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤ＲＵＶＡ−９３（大塚化学社製）を１重量％添加し、比較例１と同様の方法で、ハードコート層８を形成して、比較例２のサンプルを作製する。【００７０】
［実施例１］
上記反射フィルム上にハードコート液Ｎｏ．１をワイヤーバーによりコートし、８０℃、にて６０秒間乾燥し、窒素雰囲気下、紫外線を照射させることにより、乾燥膜厚５μｍのハードコート層８を形成し、実施例１のフィルムミラーを作製する。【００７１】
［実施例２］
ハードコート液Ｎｏ．１に一般式（１）を満たすベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤ＲＵＶＡ−９３（大塚化学社製）を１重量％添加し、実施例１と同様の方法で、ハードコート層８を形成して、実施例２のサンプルを作製する。【００７２】
［実施例３］
ハードコート液Ｎｏ．１にトリアジン系の紫外線吸収剤Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７（チバ・ジャパン社製）を１重量％添加し、実施例１と同様の方法で、ハードコート層８を形成して、実施例３のサンプルを作製する。【００７３】
［実施例４］
ハードコート液Ｎｏ．１に酸化防止剤２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト（大塚化学社製）を１重量％添加し、実施例１と同様の方法で、ハードコート層８を形成して、実施例４のサンプルを作製する。【００７４】
［実施例５］
ハードコート液Ｎｏ．１に酸化防止剤Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２（チバ・ジャパン社製）を１重量％添加し、実施例１と同様の方法でハードコート層８を形成して、実施例５のサンプルを作製する。【００７５】
［実施例６］
実施例５で作製したハードコート液の開始剤として、１−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニル−ケトン（チバ・ジャパン社製）２ｗｔ％、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（チバ・ジャパン社製）２ｗｔ％添加した以外は同様に作製し、実施例６を作製する。即ち、本実施例においては、酸化防止剤Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２も含有している。【００７６】
［実施例７］
実施例５で作製したハードコート液に含有している開始剤として、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（チバ・ジャパン社製）２．５ｗｔ％、２，４，６−トリメチルベンゾイルージフェニルーフォスフィンオキサイド（チバ・ジャパン社製）１．５ｗｔ％に変更した以外は全て同様に作製し、実施例７を作製する。即ち、本実施例においては、酸化防止剤Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２も含有している。【００７７】
［実施例８］
実施例７で作製したハードコート液にポリオルガノシロキサン（動研社製）を５ｗｔ％添加した以外は、同様に作製し、実施例８を作製する。即ち、本実施例においては、開始剤として、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（チバ・ジャパン社製）２．５ｗｔ％、２，４，６−トリメチルベンゾイルージフェニルーフォスフィンオキサイド（チバ・ジャパン社製）１．５ｗｔ％を用いると共に、酸化防止剤Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２も含有している。【００７８】
［実施例９］
実施例８で作製したハードコート液に紫外線吸収剤ＲＵＶＡ−９３（大塚化学社製）を１重量％添加した以外は同様に作製して、実施例９のサンプルを作製した。即ち、本実施例においては、開始剤として、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（チバ・ジャパン社製）２．５ｗｔ％、２，４，６−トリメチルベンゾイルージフェニルーフォスフィンオキサイド（チバ・ジャパン社製）１．５ｗｔ％を用いると共に、酸化防止剤Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２も含有し、ハードコート液にポリオルガノシロキサン（動研社製）を５ｗｔ％添加している。【００７９】
［実施例１０］
実施例８で作製したハードコート液に紫外線吸収剤Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７（チバ・ジャパン社製）を１重量％添加した以外は同様に作製して、実施例１０のサンプルを作製した。即ち、本実施例においては、開始剤として、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（チバ・ジャパン社製）２．５ｗｔ％、２，４，６−トリメチルベンゾイルージフェニルーフォスフィンオキサイド（チバ・ジャパン社製）１．５ｗｔ％を用いると共に、酸化防止剤Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２も含有し、ハードコート液にポリオルガノシロキサン（動研社製）を５ｗｔ％添加している。【００８０】
［太陽熱発電用フィルムミラーの評価］
上記のように作製した太陽熱発電用のフィルムミラー（比較例１〜２、実施例１〜１０）について、下記の方法に従って、正反射率、耐傷性（紫外線耐性）の試験としてのスチールウール試験、防汚性の尺度としての接触角試験と転落角試験、耐候性試験としての屋外暴露実地試験をそれぞれ行い、各項目について評価する。【００８１】
［正反射率の測定］
島津製作所社製の分光光度計「Ｕ−４１００」を用いて、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°の正反射率を測定した。評価は、２５０ｎｍから２５００ｎｍまでの平均反射率として測定する。【００８２】
［スチールウール試験］
耐傷性の試験として、往復摩耗試験機（新東科学（株）製ＨＥＩＤＯＮ−１４ＤＲ）に摩耗材としてスチールウール（＃００００）を取り付け、荷重５００ｇ／ｃｍ２の条件で各撥水・防汚性物品の表面を速度１０ｍｍ／ｓｅｃで１０回往復させた。その時の傷本数を評価した。また、キセノンランプ照射（ＵＶ照射）下、温度７５℃、湿度８５％ＲＨの条件で６カ月間放置後の耐傷性を、前記同様スチールウール試験で測定し、その時の傷本数を評価する。【００８３】
［接触角試験］
ＪＩＳ−Ｒ３２５７に基づいて、水３μＬ滴下してフィルムミラーの表面の接触角を接触角計ＤＭ３００（協和界面化学）を用いて測定する。【００８４】
［転落角試験］
接触角計ＤＭ５０１（協和界面化学）に滑落法キット  ＤＭ‐ＳＡ０１を取り付け、水５０μｌ滴下し、支持体を水平状態から０．５°／秒の速度で傾けていき、水滴が転がり落ちるときの角度を転落角として測定する。撥水膜の場合、転落角の小さい方が水滴が落ちやすく防汚性に優れ、好ましい。【００８５】
［屋外暴露試験］
実施例にて作製したサンプルをアルミ基材に貼り付けて太陽熱発電用反射装置を作製し、サハラ砂漠又はサハラ砂漠と同条件の環境に地面との角度が３０°となるように設置した。その後、汚れにより反射率が大幅に低下した場合は、表面をイオン交換水により水洗し、それを１年間継続後、上記条件で正反射率を測定する。また、所定のブラシと水でフィルム最表面を洗浄した後のものも同様に測定する。【００８６】
各項目についての評価結果を表１に示す。【００８７】
【表１】
2012133517.tif 000005
【００８８】
表１に示した評価結果から明らかなように本発明に係る実施例の各種特性は、比較例に対して優れていることが分かる。
比較例１、比較例２は、初期防汚性が低いため、屋外暴露試験で、表面に汚れがこびり付き、水洗しても汚れが落ちない状況ができ、反射率が大幅に低下してしまった。さらに、耐候性が低いため、汚れを洗浄した時のブラシによって傷が付いてしまい、反射率が低下してしまった。
実施例１〜１０に関しては、ハードコート層８の耐候性により、屋外暴露試験後の防汚性や耐傷性の差は若干あるものの、いずれも高い反射率を保つことができている。これは、本発明のハードコート層８により防汚性・耐傷性・耐候性という３機能をもつことができているためであると考えられる。
すなわち、本発明によれば、銀反射層３の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのでき、耐傷性、防汚性に優れ、過酷な環境に長期間設置しても、太陽光に対して良好な正反射率を長期間保ち続けることができる耐候性の優れた太陽熱発電用のフィルムミラー１０と太陽熱発電用反射装置２０を提供することができることが分かる。【００８９】
なお、本発明の適用は上述した実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【産業上の利用可能性】
【００９０】
本発明は、以上のように構成されていることから、ミラーおよび太陽熱発電用反射装置として利用できる。
【符号の説明】
【００９１】
１      第１樹脂基材（基材）
２      腐食防止層
３      銀反射層
４      腐食防止層
５      紫外線吸収層
６      接着層
７      第２樹脂基材
８      ハードコート層
１０    フィルムミラー（ミラー）
１１    粘着層
１２    支持基材
２０    太陽熱発電用反射装置
【図１Ａ】
2012133517.tif 000007
【図１Ｂ】
2012133517.tif 000008
【国際調査報告】
2012133517.tif 000009
2012133517.tif 000010
2012133517.tif 000011
2012133517.tif 000012