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Title: Matériau composite conducteur d'éther de polyphényle et procédé de préparation associé

Abstract: La présente demande se rapporte au domaine technique des plastiques techniques et concerne un matériau composite conducteur d'éther de polyphényle et un procédé de préparation associé. Dans le matériau composite conducteur d'éther de polyphényle fourni par la présente invention, un matériau composite de nanotubes de carbone, au lieu d'un agent conducteur à base de carbone classique, est ajouté à un matériau de base en résine en tant que charge conductrice, de telle sorte que la quantité d'addition de la charge conductrice est réduite ; en outre, étant donné qu'un nanotube de carbone a une structure fibreuse, la résistance à l'usure du matériau peut être améliorée, ce qui permet d'obtenir un effet de réduction de perte de poussière. Le nanotube de carbone modifié dans la présente invention comprend un mélange d'un nanotube de carbone à parois multiples, de graphène et de silicate de calcium, le graphène, qui a une structure bidimensionnelle, pouvant améliorer l'énergie d'interface entre le nanotube de carbone et le matériau de base en résine ; en outre, le silicate de calcium peut remplir des espaces entre le nanotube de carbone et le graphène et le matériau de base en résine, ce qui permet de réduire le stripage entre le nanotube de carbone et le matériau de base, conduisant à une liaison étanche. De plus, en formant les nanotubes de carbone modifiés et le polystyrène en un matériau composite, la présente invention présente une dispersion améliorée du nanotube de carbone et une performance de traitement améliorée.
Title: Method for preparing hydrogel carrying mscs with high hgf expression and use thereof

Abstract: Disclosed is a method for preparing a hydrogel carrying MSCs with high HGF expression and use thereof. The nucleotide sequence of the HGF gene is set forth in SEQ ID NO: 1. The method comprises: constructing a recombinant vector overexpressing HGF; preparing MSC cells overexpressing HGF; and preparing the hydrogel carrying MSCs overexpressing HGF. The prepared hydrogel carrying MSCs overexpressing HGF can promote wound healing and thus possesses great clinical prospects.
Title: Procédé de préparation d'hydrogel portant des csm à haute expression de hgf et son utilisation

Abstract: L'invention concerne un procédé de préparation d'un hydrogel portant des cellules souches mésenchymateuses (CSM) à une expression élevée de HGF et son utilisation. La séquence nucléotidique du gène HGF est présentée dans SEQ ID NO : 1. Le procédé comprend : la construction d'un vecteur recombinant surexprimant HGF ; la préparation de CSM surexprimant HGF ; et la préparation de l'hydrogel portant les CSM surexprimant HGF. L'hydrogel préparé portant des CSM surexprimant le HGF peut favoriser la cicatrisation des plaies et possède ainsi de grandes perspectives cliniques.
Title: Initiator composition, negative photosensitive resin composition, preparation method for patterned cured film, and insulating film

Abstract: The present invention belongs to the technical field of photocurable photosensitive materials, and particularly relates to an initiator composition, a negative photosensitive resin composition, a preparation method for a patterned cured film, and an insulating film. The initiator composition comprises: 0.1-10 parts of a photoinitiator, 0.5-5 parts of an auxiliary photoinitiator, and 0.5-10 parts of a thermal initiator, wherein the photoinitiator is a hydrogen-abstracting photoinitiator; the auxiliary photoinitiator is a cationic photoinitiator; and the thermal initiator is a peroxide initiator. The negative photosensitive resin composition comprises: 100 parts of a polyimide precursor, 1.1-25 parts of the initiator, 0.1-10 parts of a polymerization inhibitor, and 5-50 parts of a cross-linking agent. The preparation method for a patterned cured film comprises: dissolving the negative photosensitive resin composition in an organic solvent, and performing exposing, developing and curing. The insulating film is formed by curing the negative photosensitive resin composition. The formed negative photosensitive resin composition has good storage stability, and has significantly improved exposure sensitivity during a pattern curing process; and the formed cured film has good elongation at break.
Title: Composition d'initiateur, composition de résine photosensible négative, procédé de préparation de film durci à motifs et film isolant

Abstract: La présente invention appartient au domaine technique des matériaux photosensibles photodurcissables, et elle concerne en particulier une composition d'initiateur, une composition de résine photosensible négative, un procédé de préparation de film durci à motifs et un film isolant. La composition d'initiateur comprend : de 0,1 à 10 parties d'un photo-initiateur, de 0,5 à 5 parties d'un photo-initiateur auxiliaire, et de 0,5 à 10 parties d'un initiateur thermique, le photo-initiateur étant un photo-initiateur à abstraction d'hydrogène ; le photo-initiateur auxiliaire étant un photo-initiateur cationique ; et l'initiateur thermique étant un initiateur à base de peroxyde. La composition de résine photosensible négative comprend : 100 parties d'un précurseur de polyimide, de 1,1 à 25 parties de l'initiateur, de 0,1 à 10 parties d'un inhibiteur de polymérisation et de 5 à 50 parties d'un agent de réticulation. Le procédé de préparation de film durci à motifs consiste à dissoudre la composition de résine photosensible négative dans un solvant organique et à effectuer des étapes d'exposition, de développement et de durcissement. Le film isolant est formé par le durcissement de la composition de résine photosensible négative. La composition de résine photosensible négative formée présente une bonne stabilité au stockage, et elle présente une sensibilité à l'exposition qui est significativement améliorée pendant un processus de durcissement de motif ; et le film durci formé présente un bon allongement à la rupture.
Title: Latent curing agent, low-temperature-curable photosensitive resin composition, method for preparing patterned cured film, and insulating film

Abstract: The present invention relates to the technical field of photocurable photosensitive materials. Disclosed are a latent curing agent, a low-temperature-curable photosensitive resin composition, a method for preparing a patterned cured film, and an insulating film. The latent curing agent is a quaternary ammonium salt composed of quaternary ammonium cations, and anions containing a sulfonamide structure. A low-temperature-curable thermosetting resin composition comprises the following components in parts by mass: 100 parts of a polyimide precursor, 0.1-10 parts of the latent curing agent, 1-10 parts of a photoinitiator, and 5-50 parts of a cross-linking agent. The method for preparing the patterned cured film comprises: dissolving the low-temperature-curable thermosetting resin composition in an organic solvent, and carrying out exposure, development, and curing. In addition, the insulating film is formed by means of curing. The low-temperature-curable thermosetting resin composition of the present invention comprises a latent curing agent, exhibits a significant effect on improving the development film retention rate of the low-temperature-curable thermosetting resin composition in a patterning process and the tensile strength of a cured thin film, and has a relatively long stable storage period.
Title: Agent de durcissement latent, composition de résine photosensible durcissable à basse température, procédé de préparation de film durci à motifs et film isolant

Abstract: La présente invention relève du domaine technique des matériaux photosensibles photodurcissables. L'invention concerne un agent de durcissement latent, une composition de résine photosensible durcissable à basse température, un procédé de préparation d'un film durci à motifs, et un film isolant. L'agent de durcissement latent est un sel d'ammonium quaternaire composé de cations d'ammonium quaternaire, et des anions contenant une structure de sulfonamide. Une composition de résine thermodurcissable durcissable à basse température comprend les composants suivants en parties en masse : 100 parties d'un précurseur de polyimide, 0,1 à 10 parties de l'agent de durcissement latent, 1 à 10 parties d'un photoinitiateur, et 5 à 50 parties d'un agent de réticulation. Le procédé de préparation du film durci à motifs comprend : la dissolution de la composition de résine thermodurcissable durcissable à basse température dans un solvant organique, et la réalisation d'une exposition, d'un développement et d'un durcissement. De plus, le film isolant est formé par durcissement. La composition de résine thermodurcissable durcissable à basse température selon la présente invention comprend un agent de durcissement latent, présente un effet significatif sur l'amélioration du taux de rétention de film de développement de la composition de résine thermodurcissable durcissable à basse température dans un procédé de formation de motifs et la résistance à la traction d'un film mince durci, et a une période de stockage stable relativement longue.
Title: Model mouse with microglia-specific vdbp gene knocked out and construction method therefor

Abstract: The present invention relates to a model mouse with a microglia-specific vitamin D binding protein (VDBP) gene knocked out and a construction method therefor. The construction method comprises the following steps: constructing a VDBPloxp/loxp gene mouse; hybridizing the VDBPloxp/loxp gene mouse with a Cre/ERT2 gene mouse to obtain a Cre+/--VDBP+/+ gene mouse, wherein the microglia of the Cre/ERT2 gene mouse carry Cre gene; and inducing the expression of the Cre gene in the Cre+/--VDBP+/+ gene mouse to obtain the model mouse with a microglia-specific VDBP gene knocked out. According to the construction method, a VDBP in the microglia of the model mouse can be specifically knocked out on the basis of Cre-loxP recombination, specific knockdown of the expression of the gene of the VDBP in the microglia is achieved, and the knockdown efficiency reaches 80% or more, facilitating more detailed study of the function of the molecule in the brain.
Title: Souris modèle avec gène vdbp spécifique de microglie inactivé et procédé de construction s'y rapportant

Abstract: La présente invention concerne une souris modèle avec un gène de protéine de liaison à la vitamine D (VDBP) spécifique de microglie inactivé et un procédé de construction s'y rapportant. Le procédé de construction comprend les étapes suivantes consistant à : construire une souris de gène VDBPloxp/loxp ; hybrider la souris de gène VDBPloxp/loxp avec une souris de gène Cre/ERT2 pour obtenir une souris de gène Cre+/--VDBP+/+, la microglie de la souris d gène Cre/ERT2 portant un gène Cre ; et induire l'expression du gène Cre dans la souris de gène Cre+/--VDBP+/+ pour obtenir la souris modèle avec un gène VDBP spécifique de microglie inactivé. Selon le procédé de construction, une VDBP dans la microglie de la souris modèle peut être spécifiquement inactivée sur la base d'une recombinaison Cre-loxP, une inactivation spécifique de l'expression du gène de la VDBP dans la microglie est obtenue et l'efficacité de l'inactivation atteint 80 % ou plus, facilitant une étude plus détaillée de la fonction de la molécule dans le cerveau.
Title: Ultra-small high-performance near-infrared long-afterglow nanoparticle, and preparation method therefor and use thereof

Abstract: Disclosed in the present invention are an ultra-small high-performance near-infrared long-afterglow nanoparticle, and a preparation method therefor and a use thereof. The preparation method comprises the following steps: S1, adding gallium acetylacetonate, zinc acetylacetonate, chromium acetylacetonate, and a long-chain alkyl diol to a mixed solution containing oleic acid, oleylamine, and octadecene, and carrying out stirring, vacuumizing and heating to 50-110°C, wherein the long-chain alkyl diol contains 10-18 carbon atoms; S2, heating to 160-240°C under nitrogen protection and maintaining the temperature; and S3, continuing heating to 260-340°C, maintaining the temperature, and carrying out post-treatment to obtain the ultra-small high-performance near-infrared long-afterglow nanoparticle. The ultra-small high-performance near-infrared long-afterglow nanoparticle prepared by the present invention has an average diameter of less than 5 nm and an excellent long-afterglow luminescence duration, and has wide prospects for application in the fields of optical imaging and the development of biomedical diagnostic reagents.
Title: Nanoparticule ultra-petite à longue post-décharge proche infrarouge à performance élevée, son procédé de préparation et son utilisation

Abstract: La présente invention divulgue une nanoparticule ultra-petite à longue post-décharge proche infrarouge à performance élevée, son procédé de préparation, ainsi que son utilisation. Le procédé de préparation comprend les étapes suivantes consistant à : S1, ajouter de l'acétylacétonate de gallium, de l'acétylacétonate de zinc, de l'acétylacétonate de chrome et un alkyldiol à longue chaîne à une solution mixte contenant de l'acide oléique, de l'oléylamine et de l'octadécène, et effectuer une agitation, une mise sous vide et un chauffage à 50-110°C, l'alkyldiol à longue chaîne contenant de 10 à 18 atomes de carbone ; S2, chauffer à 160-240°C sous protection d'azote et maintenir la température ; et S3, poursuivre le chauffage à 260-340°C, maintenir la température, et effectuer un post-traitement pour obtenir la nanoparticule ultra-petite à longue post-décharge proche infrarouge à performance élevée. La nanoparticule ultra-petite à longue post-décharge proche infrarouge à performance élevée préparée par la présente invention présente un diamètre moyen inférieur à 5 nm et une excellente durée de luminescence de post-décharge, et présente de larges perspectives d'application dans les domaines de l'imagerie optique et du développement de réactifs de diagnostic biomédicaux.
Title: Method for precise cell manipulation based on torque balance

Abstract: The present invention relates to the technical field of cell-level microscopic operations. Provided is a method for precise cell manipulation based on torque balance, the method comprising the following steps: S1, analyzing a torque balance condition at a critical cell holding state, and determining the minimum holding force required to keep a cell fixed without detaching from a holding pipette; S2, performing a stress analysis on the cell that is being manipulated, and determining the expression for the minimum manipulation force required to balance the torque acting on the cell; S3, determining the friction coefficients between the holding pipette and the cell, and between a manipulation needle and the cell; and S4, carrying out manipulation on the basis of torque balance so as to reduce damage to the cell and to improve the manipulation precision. The cell is fixed by using the minimum holding force, and the minimum manipulation force is applied to a target cell by the force site control of the manipulation needle, such that the cell is in a torque-balanced state. The average cell deformation during the manipulation is reduced to be 15% or less of that observed during manual operations, and the error in cell manipulation is reduced to be within 1°.
Title: Procédé de manipulation précise de cellules sur la base d'un équilibre de couple

Abstract: La présente invention se rapporte au domaine technique des opérations microscopiques de niveau cellulaire. L'invention concerne un procédé de manipulation précise de cellules sur la base d'un équilibre de couple, le procédé comprenant les étapes suivantes : S1, analyser une condition d'équilibre de couple à un état de maintien de cellule critique et déterminer la force de maintien minimale requise pour maintenir une cellule fixe sans se détacher d'une pipette de maintien; S2, effectuer une analyse de contrainte sur la cellule qui est manipulée et déterminer l'expression de la force de manipulation minimale requise pour équilibrer le couple agissant sur la cellule; S3, déterminer les coefficients de frottement entre la pipette de maintien et la cellule, ainsi qu'entre une aiguille de manipulation et la cellule; et S4, effectuer une manipulation sur la base d'un équilibre de couple de façon à réduire les dommages causés à la cellule et à améliorer la précision de manipulation. La cellule est fixée à l'aide de la force de maintien minimale et la force de manipulation minimale est appliquée à une cellule cible par la commande de site de force de l'aiguille de manipulation, de telle sorte que la cellule est dans un état de couple équilibré. La déformation de cellule moyenne pendant la manipulation est réduite pour être inférieure ou égale à 15 % de celle observée pendant des opérations manuelles et l'erreur dans la manipulation de cellule est réduite pour être dans les limites de 1°.
Title: Qtl related to high-temperature tolerance trait of gossypium hirsutum l., molecular marker and use thereof

Abstract: The present invention belongs to the technical field of biological agriculture, and specifically relates to a QTL related to the high-temperature tolerance trait of Gossypium hirsutum L., and a molecular marker and the use thereof. Provided are a QTL related to the high-temperature tolerance trait of Gossypium hirsutum L. and a molecular marker thereof. The QTL comprises one or more of qPV-A01-1, qPV-D01-1, qPV-D05-1 and qPV-D12-1. The QTL is significantly related to the high-temperature tolerance trait of Gossypium hirsutum L. Moreover, on the basis of a molecular marker tightly linked to the QTL, a corresponding primer and detection kit are designed, and a method for identifying high-temperature-tolerant Gossypium hirsutum L. is further provided, thereby realizing the identification and screening of high-temperature-tolerant Gossypium hirsutum L.
Title: Qtl lié à la tolérance aux hautes températures chez gossypium hirsutum l., marqueur moléculaire et utilisation associés

Abstract: La présente invention appartient au domaine technique de l'agriculture biologique, et concerne spécifiquement un QTL lié à la tolérance aux hautes températures chez Gossypium hirsutum L., ainsi qu'un marqueur moléculaire et une utilisation associés. Sont fournis un QTL lié à la tolérance aux hautes températures chez Gossypium hirsutum L. et un marqueur moléculaire associé. Le QTL comporte un ou plusieurs des gènes qPV-A01-1, qPV-D01-1, qPV-D05-1 et qPV-D12-1. Le QTL est étroitement lié à la tolérance aux hautes températures chez Gossypium hirsutum L. De plus, il a été possible de concevoir une amorce et un kit de détection correspondants en se basant sur un marqueur moléculaire étroitement lié au QTL, et un procédé d'identification du Gossypium hirsutum L. tolérant aux hautes températures a également été élaboré, permettant ainsi l'identification et le criblage du Gossypium hirsutum L. tolérant aux hautes températures.
Title: Organic small molecule inhibitor and use method therefor in thin film deposition

Abstract: The present invention belongs to the technical field of semiconductor processing. Disclosed are an organic small molecule inhibitor and a use method therefor in thin film deposition, and. The inhibitor comprises a urea compound, an amino acid compound, and an amidine compound. The use method comprises: putting an HAR substrate into an atomic layer deposition device, loading the organic small molecule inhibitor into a stainless steel source bottle, introducing the organic small molecule inhibitor into a reaction cavity in a pulse form, installing a precursor in a stainless steel source bottle, taking an inert gas as a carrier gas, and introducing the precursor into the reaction cavity in a pulse form; introducing an oxygen source into the reaction cavity in a pulse form to generate an oxide thin film; and introducing inert gas into the reaction cavity, purging excessive oxygen source and reaction byproducts, and repeating the described steps until a preset thickness is reached. Compared with reported inhibitor molecules, the inhibitor of the present invention has two or more N and O atoms in the molecular structure, so that a plurality of hydrogen bonds can be formed, achieving a better inhibitory effect and significantly improving the step coverage rate.
Title: Inhibiteur de petites molécules organiques et procédé d'utilisation associé dans le dépôt de film mince

Abstract: La présente invention appartient au domaine technique du traitement de semi-conducteurs. L'invention divulgue un inhibiteur de petites molécules organiques et un procédé d'utilisation associé dans le dépôt de film mince, et l'inhibiteur comprend un composé d'urée, un composé d'acide aminé et un composé d'amidine. Le procédé d'utilisation consiste à : placer un substrat de HAR dans un dispositif de dépôt de couche atomique, charger l'inhibiteur de petites molécules organiques dans une bouteille source en acier inoxydable, introduire l'inhibiteur de petites molécules organiques dans une cavité de réaction sous une forme d'impulsion, installer un précurseur dans une bouteille source en acier inoxydable, prendre un gaz inerte en tant que gaz porteur et introduire le précurseur dans la cavité de réaction sous une forme d'impulsion ; introduire une source d'oxygène dans la cavité de réaction sous une forme d'impulsion afin de générer un film mince d'oxyde ; et introduire un gaz inerte dans la cavité de réaction, purger une source d'oxygène excessive et des sous-produits de réaction et répéter les étapes décrites jusqu'à ce qu'une épaisseur prédéfinie soit atteinte. Par rapport à des molécules inhibitrices rapportées, l'inhibiteur de la présente invention présente au moins deux atomes de N et d'O dans la structure moléculaire, de telle sorte qu'une pluralité de liaisons hydrogène peuvent être formées, ce qui permet d'obtenir un meilleur effet inhibiteur et d'améliorer significativement le taux de couverture de l'étape.
Title: Oled manufacturing device and oled manufacturing method using same

Abstract: The present invention relates to an OLED manufacturing device and an OLED manufacturing method using same. The OLED manufacturing device is characterized by comprising: a vacuum chamber in which a deposition substrate is provided; an FMM attached to the deposition substrate and having a plurality of pattern holes formed therein; and an organic material deposition container for supplying an organic substance to the deposition substrate through the pattern holes of the FMM to deposit pixels on the deposition substrate.
Title: Dispositif de fabrication de delo et procédé de fabrication de delo l'utilisant

Abstract: La présente invention concerne un dispositif de fabrication de DELO et un procédé de fabrication de DELO l'utilisant. Le dispositif de fabrication de DELO est caractérisé en ce qu'il comprend : une chambre à vide dans laquelle un substrat de dépôt est disposé ; un FMM fixé au substrat de dépôt et ayant une pluralité de trous de motif formés à l'intérieur de celui-ci ; et un contenant de dépôt de matériau organique destiné à fournir une substance organique au substrat de dépôt à travers les trous de motif du FMM pour déposer des pixels sur le substrat de dépôt.