MehdiAstaraki/multilingual_GP huggingface dataset:
Title: Photothermal conversion material

Abstract: The purpose of the present disclosure is to provide a photothermal conversion material having good infrared light absorption efficiency. Another purpose of the the present disclosure is to provide a method for producing two-dimensional particles used in such a photothermal conversion material. The present invention is a photothermal conversion material comprising two-dimensional particles having one or more layers, wherein the layers include a layer body represented by the formula (M 1 , M 2 ) n+1 X n (in the formula, M 1 is a group 3, 4, 5, 6, or 7 metal, M 2 is a group 3, 4, 5, 6, or 7 metal, X is a carbon atom, a nitrogen atom, or a combination thereof, and n is 1-4) and a modification or a terminal T (T includes a chlorine atom) present on the surface of the layer body, and the photothermal conversion material has a maximum absorption wavelength in the near infrared region.
Title: Matériau de conversion photothermique

Abstract: Le but de la présente divulgation est de fournir un matériau de conversion photothermique présentant une bonne efficacité d'absorption de la lumière infrarouge. Un autre objectif de la présente divulgation est de fournir un procédé de production de particules bidimensionnelles utilisées dans un tel matériau de conversion photothermique. La présente invention concerne un matériau de conversion photothermique comprenant des particules bidimensionnelles comportant une ou plusieurs couches, les couches comprenant un corps de couche représenté par la formule (M 1 , M 2 ) n + 1 X n (dans la formule, M 1 est un métal du groupe 3, 4, 5, 6 ou 7, M 2 est un métal du groupe 3, 4, 5, 6 ou 7, X est un atome de carbone, un atome d'azote, ou une combinaison de ceux-ci, et n est un nombre compris entre 1 et 4) et une modification ou un terminal T (T comprend un atome de chlore) présent sur la surface du corps de couche, et le matériau de conversion photothermique présentant une longueur d'onde d'absorption maximale dans la région proche infrarouge.
Title: Composition for forming resist underlayer film, resist underlayer film, method for forming resist pattern, and method for producing semiconductor device

Abstract: A composition for a forming resist underlayer film, said composition comprising a resin (G) that has a complex unit structure and a solvent, wherein: the complex unit structure has a unit structure (A) that has an aromatic ring and a unit structure (B) that has one or more carbon atoms; the resin (G) is obtained by a reaction that produces a covalent bond between a carbon atom of the aromatic ring of the unit structure (A) and a carbon atom of the unit structure (B); the unit structure (A) includes a unit structure (A-I) that includes a phenolic hydroxy group; the unit structure (B) includes a unit structure (B-I) that has a non-aromatic hydrocarbon ring; the number of carbon atoms constituting the non-aromatic hydrocarbon ring of the unit structure (B-I) is 5-30; and the resin (G) is not a resin that is synthesized from only 1-naphthol and dicyclopentadiene, a resin that is synthesized from only 1,5-naphthalenediol and dicyclopentadiene, or a resin that is synthesized from only phenol and dicyclopentadiene.
Title: Composition pour formation de film de sous-couche de réserve, film de sous-couche de réserve, procédé de formation de motif de réserve, et procédé de fabrication de dispositif à semi-conducteurs

Abstract: L'invention concerne une composition pour formation de film de sous-couche de réserve qui contient une résine (G) ayant une structure unitaire composite, et un solvant. Ladite structure unitaire composite possède : une structure unitaire (A) présentant un cycle aromatique ; et une structure unitaire (B) présentant au moins un atome de carbone. Ladite résine (G) est obtenue par une réaction produisant des liaisons covalentes entre des atomes de carbones configurant ledit cycle aromatique de ladite structure unitaire (A), et les atomes de carbones contenus dans ladite structure unitaire (B). Ladite structure unitaire (A) inclut une structure unitaire (A-I) contenant un groupe hydroxy phénolique. Ladite structure unitaire (B) inclut une structure unitaire (B-I) présentant un cycle hydrocarbure non aromatique. Le nombre d'atomes de carbone configurant ledit cycle hydrocarbure non aromatique de ladite structure unitaire (B-I), est compris entre 5 et 30. Ladite résine (G) ne consiste pas en une résine synthétisée uniquement à partir d'un １－naphtol et d'un dicyclopentadiène, ni en une résine synthétisée uniquement à partir d'un １，５－naphtalènediol et d'un dicyclopentadiène, ni en une résine synthétisée uniquement à partir d'un phénol et d'un dicyclopentadiène.
Title: Resist underlayer film-forming composition, resist underlayer film, resist pattern-forming method, and semiconductor device manufacturing method

Abstract: A resist underlayer film-forming composition comprising a solvent and a resin (G) having a complex unit structure, wherein the complex unit structure has a unit structure (A) having an aromatic ring and a unit structure (B) having at least one carbon atom, the resin (G) is obtained through a reaction for generating a covalent bond between a carbon atom forming the aromatic ring of the unit structure (A) and a carbon atom in the unit structure (B), the unit structure (A) includes a unit structure (A-I) including a carbon-carbon triple bond and an oxygen atom directly bound to the aromatic ring, the unit structure (B) includes a unit structure (B-I) having a nonaromatic hydrocarbon ring, and the number of carbon atoms forming the nonaromatic hydrocarbon ring of the unit structure (B-I) is 5-30.
Title: Composition pour formation de film de sous-couche de réserve, film de sous-couche de réserve, procédé de formation de motif de réserve, et procédé de fabrication de dispositif à semi-conducteurs

Abstract: L'invention concerne une composition pour formation de film de sous-couche de réserve qui contient une résine (G) ayant une structure unitaire composite, et un solvant. Ladite structure unitaire composite possède : une structure unitaire (A) présentant un cycle aromatique ; et une structure unitaire (B) présentant au moins un atome de carbone. Ladite résine (G) est obtenue par une réaction produisant des liaisons covalentes entre des atomes de carbones configurant ledit cycle aromatique de ladite structure unitaire (A), et les atomes de carbones contenus dans ladite structure unitaire (B). Ladite structure unitaire (A) inclut une structure unitaire (A-I) qui contient un atome d'oxygène directement lié au cycle aromatique, et une triple liaison carbone-carbone. Ladite structure unitaire (B) inclut une structure unitaire (B-I) présentant un cycle hydrocarbure non aromatique. Le nombre d'atomes de carbone configurant ledit cycle hydrocarbure non aromatique de ladite structure unitaire (B-I), est compris entre 5 et 30.
Title: Method and apparatus for producing plating composition

Abstract: Provided is an efficient method for producing a plating composition. This method for producing a plating composition is performed by using an electrochemical device provided with a working electrode chamber including a first working electrode and a first plating composition, and a counter electrode chamber that is separated from the working electrode chamber by a separating membrane and that includes a counter electrode and a counter electrode liquid, the method comprising: reducing, to a metal, at least a portion of first metal ions contained in the first plating composition by using the first working electrode as a cathode; and oxidizing a metal, which is of the same type as the reduced metal, into second metal ions having a lower oxidation number as compared to the first metal ions by using the first working electrode as an anode to obtain a second plating composition containing the second metal ions. In the method for producing a plating composition, the electrochemical device is provided with a plurality of such working electrode chambers and/or a plurality of such counter electrode chambers, and at least portions of the counter electrodes and the first working electrodes are alternately disposed so as to face each other with a separating membrane therebetween.
Title: Procédé et appareil de production d'une composition de placage

Abstract: L'invention concerne un procédé efficace de production d'une composition de placage. Ce procédé de production d'une composition de placage est exécuté à l'aide d'un dispositif électrochimique comprenant une chambre d'électrode de travail comportant une première électrode de travail et une première composition de placage, et une chambre de contre-électrode qui est séparée de la chambre d'électrode de travail par une membrane de séparation et qui comprend une contre-électrode et un liquide de contre-électrode, le procédé consistant à : réduire, en un métal, au moins une partie de premiers ions métalliques contenus dans la première composition de placage en utilisant la première électrode de travail en tant que cathode ; et oxyder un métal, qui est du même type que le métal réduit, en seconds ions métalliques présentant un nombre d'oxydation inférieur comparativement aux premiers ions métalliques en utilisant la première électrode de travail en tant qu'anode pour obtenir une seconde composition de placage contenant les seconds ions métalliques. Dans le procédé de production d'une composition de placage, le dispositif électrochimique comprend une pluralité de telles chambres d'électrode de travail et/ou une pluralité de telles chambres de contre-électrode, et au moins des parties des contre-électrodes et des premières électrodes de travail sont disposées en alternance de manière à se faire face, une membrane de séparation étant prévue entre elles.
Title: Plated steel sheet and component including same

Abstract: Provided are a plated steel sheet, and a component including same, the plated steel sheet comprising a base material steel sheet and plating disposed on a surface of the base material steel sheet, the plated steel sheet characterized in that: the base material steel sheet has a chemical composition containing, in terms of mass%, 0.010%-1.000% of Ni, 0.010%-1.000% of Cu, and 0.003%-1.000% of Sn; and in an elemental distribution image obtained by measuring a cross-section of the plated steel sheet with EPMA, a surface coverage of a covered region in which a surface concentration of at least one of Ni, Cu, and Sn satisfies [Ni] + [Cu] + 0.6[Sn] ≥ 10, and the surface concentration of Fe is 10 mass% or more is 25% or more, and the average length of a non-covered region not covered with any of Ni, Cu, or Sn is 10 μm or less.
Title: Tôle d'acier plaquée et composant la comprenant

Abstract: L'invention concerne une tôle d'acier plaquée et un composant la comprenant, la tôle d'acier plaquée comprenant une tôle d'acier de matériau de base et un placage disposé sur une surface de la tôle d'acier de matériau de base, la tôle d'acier plaquée étant caractérisée en ce que : la tôle d'acier de matériau de base présente une composition chimique contenant, en termes de % en masse, 0,010 % à 1,000 % de Ni, 0,010 % à 1,000 % de Cu, et 0,003 % à 1,000 % de Sn ; et sur une image de distribution élémentaire obtenue par mesure d'une section transversale de la tôle d'acier plaquée par microanalyse par sonde électronique, une couverture de surface d'une région couverte dans laquelle une concentration de surface d'au moins un élément parmi Ni, Cu et Sn satisfait [Ni] + [Cu] + 0,6[Sn] ≥ 10, et dans laquelle la concentration de surface de Fe est égale ou supérieure à10 % en masse, est égale ou supérieure à 25 %, et la longueur moyenne d'une région non couverte non recouverte de Ni, Cu ou Sn est égale ou inférieure à 10 µm.
Title: Water-soluble film for packaging chemicals

Abstract: Provided is a water-soluble film which is for packaging chemicals and contains a polyvinyl alcohol resin, and with which a molded capsule can maintain the height thereof with as much tension as possible even after storage while preventing adhesion between films and bleed-out of a plasticizer. This water-soluble film contains a water-soluble resin obtained by blending a plasticizer (B) with a polyvinyl alcohol resin (A), wherein: the polyvinyl alcohol resin (A) has a degree of saponification of 85-96 mol%, a 4% aqueous solution viscosity of 6-50 mPa∙s, and a maleic acid-modified monomer unit amount of 0.2-1.6 mol%; the blending amount of the plasticizer (B) is 5-50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyvinyl alcohol resin (A); and the moisture content of said film is 4.0-10.0 mass%.
Title: Film soluble dans l'eau pour emballer des produits chimiques

Abstract: L'invention concerne un film soluble dans l'eau qui est destiné à emballer des produits chimiques et contient une résine d'alcool polyvinylique, et avec lequel une capsule moulée peut maintenir sa hauteur avec autant de tension que possible même après stockage tout en empêchant l'adhérence entre les films et le ressuage d'un plastifiant. Ce film soluble dans l'eau contient une résine soluble dans l'eau obtenue en mélangeant un plastifiant (B) avec une résine d'alcool polyvinylique (A), la résine d'alcool polyvinylique (A) ayant un degré de saponification de 85 à 96 % en moles, une viscosité de solution aqueuse à 4 % de 6 à 50 mPa∙s et une quantité d'unité monomère modifiée par un acide maléique de 0,2 à 1,6 % ; la quantité de mélange du plastifiant (B) étant de 5 à 50 parties en masse par rapport à 100 parties en masse de la résine d'alcool polyvinylique (A) ; et la teneur en humidité dudit film étant de 4,0 à 10,0 % en masse.
Title: Zinc-containing mfi type zeolite formed body, method for producing same, catalyst for producing aromatic hydrocarbon compound, and method for producing aromatic hydrocarbon compound

Abstract: Provided is a zinc-containing MFI type zeolite formed body with which an aromatic hydrocarbon compound is easily produced even when a reaction for producing an aromatic hydrocarbon compound from an aliphatic hydrocarbon is continued. The zinc-containing MFI type zeolite formed body is characterized by containing an inorganic binder and an MFI type zeolite, and satisfying the characteristics of following (i)-(iii). (i) The contained amount of the inorganic binder is 5-50 mass%. (ii) When a reduction treatment test is performed under test conditions comprising a test temperature of 600°C, a test atmosphere provided with hydrogen in an amount of 50 mL/minute and nitrogen in an amount of 50 mL/minute, and a test period of 16 hours, the proportion of the zinc content that has decreased due to the reduction treatment test with respect to the zinc content before the reduction treatment test is 30% or less. (iii) The ratio of the zinc content with respect to the acid amount, expressed as Zinc content (mass%) / acid amount (mmol/g), is 1-15.
Title: Corps formé de zéolite de type mfi contenant du zinc, son procédé de production, catalyseur pour la production d'un composé hydrocarboné aromatique, et procédé de production d'un composé hydrocarboné aromatique

Abstract: La présente invention concerne un corps formé de zéolite de type MFI contenant du zinc avec lequel un composé hydrocarboné aromatique est facilement produit même lorsqu'une réaction de production d'un composé hydrocarboné aromatique à partir d'un hydrocarbure aliphatique est poursuivie. Le corps formé de zéolite de type MFI contenant du zinc est caractérisé en ce qu'il contient un liant inorganique et une zéolite de type MFI, et satisfait les caractéristiques suivantes (i)- (iii). (i) La quantité contenue du liant inorganique est de 5 à 50% en masse. (ii) Lorsqu'un test de traitement de réduction est effectué dans des conditions de test comprenant une température de test de 600°C, une atmosphère de test comportant de l'hydrogène dans une quantité de 50 mL/minute et de l'azote dans une quantité de 50 mL/minute, et une période de test de 16 heures, la proportion de la teneur en zinc qui a diminué en raison du test de traitement de réduction par rapport à la teneur en zinc avant le test de traitement de réduction est de 30% ou moins. (iii) Le rapport de la teneur en zinc vis-à-vis de la quantité d'acide, exprimé en teneur en zinc (% en masse)/quantité d'acide (mmol/g), est de 1 à 15.
Title: Member for apparatus to be used in bath

Abstract: The present invention provides a member for an apparatus to be used in a bath, the member being excellent in terms of sliding wear resistance and cracking resistance. Provided is a member for an apparatus to be used in a bath, the member receiving sliding wear caused by a rotating operation in a molten metal plating bath. This member for an apparatus to be used in a bath is characterized in that: a build-up layer is formed on the surface of the member for an apparatus to be used in a bath; the build-up layer includes a matrix part that contains at least Cr and C, with the balance being made up of Fe and inevitable impurities, and hard particles that are dispersed inside the matrix part; the component composition of the matrix part contains 3.0 mass% to 15.0 mass% inclusive of Cr, and 0.5 mass% to 5.0 mass% inclusive of C; the hard particles contain at least one substance that is selected from the group consisting of tungsten carbide, chromium carbide, titanium carbide, niobium carbide, and vanadium carbide; and the content of the hard particles is 1 mass% to 50 mass% inclusive when the build-up layer is taken as 100 mass%.
Title: Élément pour appareil à utiliser dans un bain

Abstract: La présente invention concerne un élément pour un appareil à utiliser dans un bain, l'élément étant excellent en termes de résistance à l'usure par glissement et de résistance à la fissuration. L'invention concerne un élément pour un appareil à utiliser dans un bain, l'élément faisant l'objet d'une usure coulissante provoquée par une opération de rotation dans un bain de placage de métal fondu. Cet élément pour un appareil destiné à être utilisé dans un bain est caractérisé en ce que : une couche d'accumulation est formée sur la surface de l'élément pour un appareil à utiliser dans un bain; la couche d'accumulation comprend une partie matrice qui contient au moins Cr et C, le reste étant constitué de Fe et d'impuretés inévitables, et des particules dures qui sont dispersées à l'intérieur de la partie matrice; la composition des composants de la partie matrice contient 3,0 % en masse à 15,0 % en masse inclus de Cr, et 0,5 % en masse à 5,0 % en masse inclus de C; les particules dures contiennent au moins une substance qui est choisie dans le groupe constitué par le carbure de tungstène, le carbure de chrome, le carbure de titane, le carbure de niobium et le carbure de vanadium; et la teneur en particules dures est de 1 % en masse à 50 % en masse inclus lorsque la couche d'accumulation est considérée comme 100 % en masse.
Title: Semiconductor substrate production method and composition for forming resist underlayer film

Abstract: Provided are a semiconductor substrate production method and a composition for forming a resist underlayer film that make it possible to form a resist underlayer film capable of exhibiting excellent pattern rectangularity and pattern defect suppression when forming a resist pattern. The semiconductor substrate production method comprises: a step in which a substrate is directly or indirectly coated with the composition for forming a resist underlayer film; a step in which a resist film is formed on the resist underlayer film formed by the step in which coating is performed with the composition for forming a resist underlayer film; a step in which the resist film is exposed to radiation; and a step in which at least the exposed resist film is developed. The composition for forming a resist underlayer film contains a polymer and a solvent. The polymer includes a repeating unit (1) represented by formula (1). (In formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms. L 1 represents a single bond or a divalent linking group. R 2 is a monovalent group containing an atom selected from the group consisting of silicon, zinc, aluminum, germanium, tin, titanium, zirconium, and hafnium.)
Title: Procédé de production de substrat semi-conducteur et composition de formation de film de sous-couche de réserve

Abstract: L'invention concerne un procédé de production de substrat semi-conducteur et une composition de formation de film de sous-couche de réserve qui permettent de former un film de sous-couche de réserve pouvant présenter une excellente rectangularité de motif et une excellente suppression de défauts de motif lors de la formation d'un motif de réserve. Le procédé de production de substrat semi-conducteur comprend : une étape consistant à revêtir directement ou indirectement un substrat avec la composition de formation de film de sous-couche de réserve; une étape consistant à former un film de réserve sur le film de sous-couche de réserve formé lors de l'étape de revêtement avec la composition de formation de film de sous-couche de réserve; une étape consistant à exposer le film de réserve à un rayonnement; et une étape consistant à développer au moins le film de réserve exposé. La composition de formation de film de sous-couche de réserve contient un polymère (A) et un solvant (B). Le polymère comprend un motif récurrent (1) représenté par la formule (1). (Dans la formule (1), R 1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent substitué ou non substitué ayant de 1 à 20 atomes de carbone. L 1 représente une liaison simple ou un groupe de liaison divalent. R 2 est un groupe monovalent contenant un atome choisi parmi le silicium, le zinc, l'aluminium, le germanium, l'étain, le titane, le zirconium et l'hafnium.)
Title: Lubricant base oil, lubricant oil composition, and cooling system

Abstract: The present invention provides: a lubricant base oil which enables a refrigerant containing the lubricant base oil to have improved chemical stability when used over a long period; and a lubricant oil composition including the lubricant base oil. This lubricant base oil is for mixing with a refrigerant, the refrigerant including a hydrocarbon compound having 1-8 carbon atoms. The lubricant base oil contains a compound represented by formula 1 and has a metal content of 10 ppm or less. Formula 1: R 1 \{(R 2 O) m R 3 \} n ; R 1 is an initiator residue; the R 2 moieties are each independently a C2-C4 hydrocarbon group; the R 3 moieties are each independently a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group, wherein at least one of the R 3 moieties is a C1-C4 alkyl group; m is 1-200; and n is 1-8.
Title: Huile de base lubrifiante, composition d'huile lubrifiante et système de refroidissement

Abstract: La présente invention concerne : une huile de base lubrifiante qui permet à un fluide frigorigène contenant l'huile de base lubrifiante d'avoir une stabilité chimique améliorée lorsqu'il est utilisé sur une longue période ; et une composition d'huile lubrifiante comprenant l'huile de base lubrifiante. Cette huile de base lubrifiante est destinée à être mélangée avec un fluide frigorigène, le fluide frigorigène comprenant un composé hydrocarboné ayant de 1 à 8 atomes de carbone. L'huile de base lubrifiante contient un composé représenté par la formule 1 et a une teneur en métal inférieure ou égale à 10 ppm. Formule 1 : R 1 \{(R 2 O) m R 3 \} n ; R 1 est un résidu initiateur ; les fractions R 2 sont chacune indépendamment un groupe hydrocarboné en C2-C4 ; les fractions R 3 sont chacune indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle en C1-C4, au moins l'une des fractions R 3 étant un groupe alkyle en C1-C4 ; m étant compris entre 1 et 200 ; et n étant compris entre 1 et 8.