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Title: Procédé de traitement de substrat, dispositif de traitement de substrat et solution de traitement de substrat

Abstract: L'invention concerne un procédé de traitement de substrat, un dispositif de traitement de substrat et une solution de traitement de substrat qui permettent d'empêcher l'affaissement d'un motif formé sur la surface d'un substrat, ainsi que d'effectuer un séchage par sublimation. Un procédé de traitement de substrat selon la présente invention est destiné à traiter une surface de formation de motif d'un substrat W et comprend : une étape de fourniture dans laquelle une solution de traitement de substrat contenant une substance sublimable et un solvant est fournie à la surface de formation de motif ; une étape de solidification dans laquelle le solvant dans un film liquide de la solution de traitement de substrat qui a été fourni à la surface de formation de motif dans l'étape d'alimentation est évaporé, la substance sublimable est déposée, et un film solidifié contenant la substance sublimable est formé ; et une étape de sublimation dans laquelle le film solidifié est sublimé et le film solidifié est ainsi retiré. La substance sublimable contient du pivaloylacétonitrile et/ou de l'acide 3-méthylpyridine-2-carboxylique.
Title: Chromatographic support for purifying fc fusion protein and fc fusion protein purification method using same

Abstract: The present invention provides a chromatographic support for purifying an Fc fusion protein and an Fc fusion protein purification method using said chromatographic support. The chromatographic support comprises porous particles to which a ligand is immobilized, wherein: the porous particles are synthetic polymer-based or natural polymer-based porous particles; the ligand is at least one substance selected from the group consisting of protein A, protein G, protein L, and related substances of these; and the average pore diameter of the porous particles to which the ligand is immobilized is 75-120 nm. The Fc fusion protein purification method comprises: (step 1) a step for passing a solution containing an Fc fusion protein through a column that is provided with said chromatographic support and causing the Fc fusion protein to bind with the support; (step 2) a step for washing the support; and (step 3) a step for collecting the Fc fusion protein from the support.
Title: Support chromatographique pour purifier une protéine de fusion fc et procédé de purification de protéine de fusion fc l'utilisant

Abstract: La présente invention concerne un support chromatographique pour purifier une protéine de fusion Fc et un procédé de purification de protéine de fusion Fc utilisant ledit support chromatographique. Le support chromatographique comprend des particules poreuses auxquelles un ligand est immobilisé, les particules poreuses étant des particules poreuses à base de polymère synthétique ou à base de polymère naturel ; le ligand est au moins une substance choisie dans le groupe constitué par la protéine A, la protéine G, la protéine L et des substances apparentées de celles-ci ; et le diamètre moyen des pores des particules poreuses auxquelles le ligand est immobilisé est de 75 à 120 nm. Le procédé de purification de protéine de fusion Fc comprend : (étape 1) une étape qui consiste à faire passer une solution contenant une protéine de fusion Fc à travers une colonne qui est pourvue dudit support chromatographique et à amener la protéine de fusion Fc à se lier au support ; (étape 2) une étape qui consiste à laver le support ; et (étape 3) une étape qui consiste à collecter la protéine de fusion Fc à partir du support.
Title: Film formation device and method for controlling same

Abstract: A film formation device according to one embodiment of the present invention includes a vacuum chamber, a conveyance roller, a vapor deposition source, a monitoring section, and a control section. The conveyance roller is disposed inside the vacuum chamber and supports a film-like base material. The vapor deposition source includes: a vapor deposition boat having a storage section for storing an evaporation material to be vapor-deposited on the base material supported by the conveyance roller; and a material supply section that supplies the evaporation material to the storage section. The evaporation material stored in the storage section is melted by electrical heating of the vapor deposition boat. The monitoring section includes a camera unit that acquires images of the molten evaporation material in the storage section. The control section controls, based on the output of the monitoring section, at least one of: the supply rate or the supply position of the evaporation material in the vapor deposition source to the storage section; and the electrical power supplied to the vapor deposition boat.
Title: Dispositif de formation de film et son procédé de commande

Abstract: Un dispositif de formation de film selon un mode de réalisation de la présente invention comprend une chambre à vide, un rouleau de transport, une source de dépôt en phase vapeur, une section de surveillance et une section de commande. Le rouleau de transport est disposé à l'intérieur de la chambre à vide et supporte un matériau de base de type film. La source de dépôt en phase vapeur comprend : un bateau de dépôt en phase vapeur présentant une section de stockage pour stocker un matériau d'évaporation à déposer en phase vapeur sur le matériau de base supporté par le rouleau de transport ; et une section d'alimentation en matériau qui fournit le matériau d'évaporation à la section de stockage. Le matériau d'évaporation stocké dans la section de stockage est fondu par chauffage électrique du bateau de dépôt en phase vapeur. La section de surveillance comprend une unité de caméra qui acquiert des images du matériau d'évaporation fondu dans la section de stockage. La section de commande commande, sur la base de la sortie de la section de surveillance, au moins l'un parmi : le débit d'alimentation ou la position d'alimentation du matériau d'évaporation dans la source de dépôt en phase vapeur vers la section de stockage ; et l'énergie électrique fournie au bateau de dépôt en phase vapeur.
Title: Hydrogen production device

Abstract: This hydrogen production device (10) has a reactor (12) for producing hydrogen by thermally decomposing a hydrocarbon gas, which is a raw material gas, using a catalyst (14). The reactor is configured such that the internal pressure is set to 1-35 ata in use. The catalyst is fine solid particles that form a catalyst layer inside the reactor. The reactor is a cylindrical body extending in the vertical direction, and is configured such that a raw material gas is introduced from the lower part, and a product gas generated by thermal decomposition is derived from the upper part. A disperser (13) having a large number of holes is provided inside the reactor, and the disperser is configured to partition the inside of the reactor into a reaction chamber (12A) and an air chamber (12B) positioned below the reaction chamber. er. The catalyst layer is formed on the disperser in the reaction chamber. The catalyst forms a fluidized bed inside the reactor by blowing the raw material gas from below into the reaction chamber via the disperser.
Title: Dispositif de production d'hydrogène

Abstract: L'invention concerne un dispositif de production d'hydrogène (10) comprenant un réacteur (12) pour produire de l'hydrogène par décomposition thermique d'un gaz hydrocarboné, qui est un gaz de matière première, à l'aide d'un catalyseur (14). Le réacteur est conçu de telle sorte que la pression interne est réglée entre 1 et 35 ATA lors de l'utilisation. Le catalyseur est constitué de fines particules solides qui forment une couche de catalyseur à l'intérieur du réacteur. Le réacteur est un corps cylindrique s'étendant dans la direction verticale, et est conçu de telle sorte qu'un gaz de matière première est introduit dans la partie inférieure, et un gaz produit généré par décomposition thermique est dérivé de la partie supérieure. Un disperseur (13) ayant un grand nombre de trous est disposé à l'intérieur du réacteur, et le disperseur est conçu pour diviser l'intérieur du réacteur en une chambre de réaction (12A) et une chambre d'air (12B) positionnée au-dessous de la chambre de réaction. La couche de catalyseur est formée sur le disperseur dans la chambre de réaction. Le catalyseur forme un lit fluidisé à l'intérieur du réacteur par soufflage du gaz de matière première depuis le dessous vers la chambre de réaction par l'intermédiaire du disperseur.
Title: Aluminum alloy forging material, aluminum alloy forged product, and method for manufacturing same

Abstract: This aluminum alloy forging material has an alloy composition which contains Cu within a range of 0.25-0.55 mass%, Mg within a range of 0.85-1.25 mass%, Si within a range of 1.02-1.4 mass%, Mn within a range of 0.55-1.0 mass%, Fe within a range of 0.32-0.65 mass%, Zn within a range of 0.25 mass% or less, Cr within a range of 0.050-0.30 mass%, Ti within a range of 0.01-0.1 mass%, B within a range of 0.0010-0.030 mass%, and Zr within a range of 0.0010-0.050 mass%, and in which the ratio Fe/Mn of the Fe content with respect to the Mn content is 0.3-1.1, and the remaining portion is Al and unavoidable impurities. In a thermal analysis curve obtained by performing a differential thermal analysis (DSC) on the aluminum alloy forging material, exothermic peaks emerge within 200-300°C and within 400-500°C.
Title: Matériau pour le forgeage d'alliage d'aluminium, produit forgé en alliage d'aluminium et procédé de fabrication associé

Abstract: Ce matériau pour le forgeage d'alliage d'aluminium présente une composition d'alliage qui contient du Cu dans une plage de 0,25 à 0,55 % en masse, du Mg dans une plage de 0,85 à 1,25 % en masse, du Si dans une plage de 1,02 à 1,4 % en masse, du Mn dans une plage de 0,55 à 1,0 % en masse, du Fe dans une plage de 0,32 à 0,65 % en masse, du Zn dans une plage de 0,25 % en masse ou moins, du Cr dans une plage de 0 050 à 0,30 % en masse, du Ti dans une plage de 0,01 à 0,1 % en masse, du B dans une plage de 0,0010 à 0,030 % en masse et du Zr dans une plage de 0,0010 à 0,050 % en masse, et dans laquelle le rapport Fe/Mn de la teneur en Fe par rapport à la teneur en Mn est de 0,3 à 1,1, la partie restante étant de l'Al et des impuretés inévitables. Dans une courbe d'analyse thermique obtenue en effectuant une analyse thermique différentielle (DSC) sur le matériau pour le forgeage d'alliage d'aluminium, des pics exothermiques émergent entre 200 et 300 °C et entre 400 à 500 °C.
Title: Liquid crystal composition and liquid crystal element

Abstract: This liquid crystal composition comprises a polymerizable organic compound and a liquid crystal compound, wherein the specific resistance value of said liquid crystal composition is at least 1×10 -11 Ω∙m and less than 1×10 -5 Ω∙m. This liquid crystal element comprises: a planar first substrate; a first conductive film disposed on one surface of the first substrate and having conductivity; a liquid crystal layer disposed on the reverse side of the first conductive film from the first substrate and having a liquid crystal composition; a second conductive film disposed on the reverse side of the liquid crystal layer from the first conductive film and having conductivity; and a planar second substrate disposed on the reverse side of the second conductive film from the liquid crystal layer, wherein the liquid crystal composition contains a polymerizable organic compound and a liquid crystal compound, and the specific resistance value of the liquid crystal composition is at least 1×10 -11 Ω∙m and less than 1×10 -5 Ω∙m.
Title: Composition de cristaux liquides et élément à cristaux liquides

Abstract: La présente invention concerne une composition de cristaux liquides comprend un composé organique polymérisable et un composé de cristaux liquides, la valeur de résistance spécifique de ladite composition de cristaux liquides étant d'au moins 1×10 -11 Ω∙m et inférieure à 1×10 -5 Ω∙m et un élément à cristaux liquides comprenant : un premier substrat plan ; un premier film conducteur disposé sur une surface du premier substrat et ayant une conductivité ; une couche de cristaux liquides disposée sur le côté opposé du premier film conducteur par rapport au premier substrat et ayant une composition de cristaux liquides ; un second film conducteur disposé sur le côté opposé de la couche de cristaux liquides par rapport au premier film conducteur et ayant une conductivité ; et un second substrat plan disposé sur le côté opposé du second film conducteur par rapport à la couche de cristaux liquides, la composition de cristaux liquides contenant un composé organique polymérisable et un composé de cristaux liquides, et la valeur de résistance spécifique de la composition de cristaux liquides étant d'au moins 1×10 -11 Ω∙m et inférieure à 1×10 -5 Ω∙m
Title: Room temperature-curable organopolysiloxane composition and article

Abstract: The present invention provides a room temperature-curable organopolysiloxane composition comprising, at a specific ratio, (A) an organopolysiloxane in which one or both terminals of a molecular chain thereof are capped with a silanol group, (B) an organic silicon compound represented by formula (1) (where R 1 is a monovalent hydrocarbon group excluding an aliphatic unsaturated bond, R 2 is a hydrogen atom or an aliphatic unsaturated monovalent hydrocarbon group, R 3 is a monovalent hydrocarbon group excluding an aliphatic unsaturated bond, A is a divalent hydrocarbon group, k is 0-2, m is 3-6, k+m is 3-8, and n is 0-100), and (C) a deamidated silane represented by formula (2) (where R 4 is a methyl group, a vinyl group, or a phenyl group, and R 5 is a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group). This organopolysiloxane composition can be a cured product which exhibits excellent storage stability and which has low hardness and high elongation properties.
Title: Composition d'organopolysiloxane durcissable à température ambiante et article

Abstract: La présente invention concerne une composition d'organopolysiloxane durcissable à température ambiante comprenant, en un rapport spécifique, (A) un organopolysiloxane dans lequel une ou les deux terminaisons d'une chaîne moléculaire de celui-ci sont coiffées d'un groupe silanol, (B) un composé organosilicié représenté par la formule (1) (où R 1 est un groupe hydrocarboné monovalent à l'exclusion d'une liaison insaturée aliphatique, R 2 est un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent insaturé aliphatique, R 3 est un groupe hydrocarboné monovalent à l'exclusion d'une liaison insaturée aliphatique, A est un groupe hydrocarboné divalent, k vaut 0-2, m vaut 3-6, k + m vaut 3-8, et n vaut 0-100), et (C) un silane désamidé représenté par la formule (2) (où R 4 est un groupe méthyle, un groupe vinyle, ou un groupe phényle, et R 5 est un groupe méthyle, un groupe éthyle ou un groupe phényle). Ladite composition d'organopolysiloxane peut être un produit durci qui présente une excellente stabilité au stockage et qui présente une faible dureté et des propriétés d'allongement élevées.
Title: Thermosetting insulating film and multilayer insulating sheet

Abstract: The present invention provides: a thermosetting insulating film which is capable of achieving excellent insulating properties when used for the production of a multilayer substrate; and a multilayer insulating sheet which uses this thermosetting insulating film. Provided are: a thermosetting insulating film which contains at least a solid epoxy resin as an epoxy resin, wherein the area change rate R expressed by formula (1) is 222% or less; and a multilayer insulating sheet which uses this thermosetting insulating film. Formula (1): R = 100 × Sp/Si (In formula (1), Sp represents the area (cm 2 ) of a square film after being subjected to vacuum pressure pressing under conditions of a pressing temperature of 175°C, a pressing pressure of 2.5 MPa, and a pressing time of 30 minutes, the square film having a thickness of 100 μm and a horizontal and vertical size of 160 mm × 160 mm, and Si represents the area (cm 2 ) of the film before the vacuum heating pressing is performed.)
Title: Film isolant thermodurcissable et feuille isolante multicouche

Abstract: La présente invention concerne : un film isolant thermodurcissable apte à fournir d'excellentes propriétés isolantes lorsqu'il est utilisé pour la production d'un substrat multicouche ; et une feuille isolante multicouche qui fait appel à ce film isolant thermodurcissable. L'invention concerne : un film isolant thermodurcissable qui contient au moins une résine époxy solide en tant que résine époxy, le taux de variation de surface R exprimé par la formule (1) étant inférieur ou égal à 222 % ; et une feuille isolante multicouche qui fait appel à ce film isolant thermodurcissable. Formule (1) : R = 100 × Sp/Si (Dans la formule (1), Sp représente la surface (cm 2 ) d'un film carré après avoir été soumis à un pressage sous vide dans des conditions de température de pressage de 175 °C, de pression de pressage de 2,5 MPa et pendant une durée de pressage de 30 minutes, le film carré ayant une épaisseur de 100 μm et des dimensions horizontale et verticale de 160 mm × 160 mm, et Si représente la surface (cm 2 ) du film avant le pressage et chauffage sous vide.)
Title: Radiation-sensitive composition, pattern formation method, and radiation-sensitive acid generator

Abstract: The purpose of the present invention is to provide: a radiation-sensitive composition having excellent sensitivity and LWR when forming a pattern; a pattern formation method; and a radiation-sensitive acid generator. This radiation-sensitive composition comprises: a polymer (A) which contains a structural unit (I) having an acid-dissociable group and has an iodine group; and a solvent (D), wherein said radiation-sensitive composition contains a radiation-sensitive acid generator (B) represented by formula (1), or the polymer (A) contains a structural unit (II) represented by formula (1'). (In formula (1), R 1 is a C1-C40 monovalent organic group. When a plurality of R 2 s are present, the plurality of R2s are each independently a hydrogen atom, a nitro group, a hydroxyl group, a cyano group, a carboxy group, a thiol group, a halogen atom, or a monovalent organic group, or a C3-C20 divalent cyclic group composed of two R 2 s aligned with each other and a carbon atom to which the two R2s are bonded. n is an integer of 0-20. W represents a ring structure with 5-8 membered rings which is formed together with a carbon atom and a nitrogen atom to which W is bonded.) (In formula (1'), R 1a is a C1-C40 divalent organic group. R a is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group. R 2 , n, and W have the same meanings as those in formula (1).)
Title: Composition sensible au rayonnement, procédé de formation de motif et générateur d'acide sensible au rayonnement

Abstract: Le but de la présente invention est de fournir : une composition sensible au rayonnement ayant une excellente sensibilité et une excellente LWR lors de la formation d'un motif ; un procédé de formation de motif ; et un générateur d'acide sensible au rayonnement. Cette composition sensible au rayonnement comprend : un polymère (A) qui contient un motif constitutif (I) ayant un groupe dissociable par un acide et qui a un groupe iode ; et un solvant (D), ladite composition sensible au rayonnement contenant un générateur d'acide sensible au rayonnement (B) représenté par la formule (1), ou le polymère (A) contenant un motif constitutif (II) représenté par la formule (1'). Dans la formule (1), R 1 représente un groupe organique monovalent en C1-C40. Lorsqu'il y a plusieurs R 2 , la pluralité de R2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe nitro, un groupe hydroxyle, un groupe cyano, un groupe carboxy, un groupe thiol, un atome d'halogène ou un groupe organique monovalent, ou un groupe cyclique divalent en C3-C20 composé de deux R 2 alignés l'un avec l'autre et d'un atome de carbone auquel les deux R2 sont liés. n est un nombre entier compris entre 0 et 20. W représente une structure cyclique ayant des cycles de 5 à 8 chaînons qui est formée conjointement avec un atome de carbone et un atome d'azote auquel W est lié.) (Dans la formule (1'), R 1a représente un groupe organique divalent en C1-C40. R a représente un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe méthyle ou un groupe trifluorométhyle. R 2 , n et W ont les mêmes significations que ceux de la formule (1).)
Title: Catalyst

Abstract: Provided is a catalyst that exhibits a high initial activity and durability in oxygen reduction reactions and oxygen generation reactions. The catalyst contains a carbon carrier and a transition metal-containing catalyst supported on the carbon carrier. In the Raman spectrum, the catalyst exhibits a D1 band in the vicinity of a Raman shift of 1350 cm -1 and a G band in the vicinity of a Raman shift of 1590 cm -1 . In the XPS spectrum, the catalyst exhibits a specific boron atom peak at a binding energy of 192.0 ± 0.3 eV, as yielded by peak separation of the B 1s spectrum. The catalyst has the following properties: (p1) a D1-FWHM by Raman spectroscopy of not more than 112 cm -1 , and a specific B/C% by XPS of at least 0.7%; (p2) a D1-FWHM of at least 52 cm -1 and not more than 112 cm -1 , and a specific B/C% of at least 0.1%; (p3) an I D1 /I G ratio in Raman spectroscopy of at least 1.06, and a specific B/C% of at least 0.7%; or (p4) an I D1 /I G ratio of at least 1.06 and not more than 1.99, and a specific B/C% of at least 0.1%.
Title: Catalyseur

Abstract: L'invention concerne un catalyseur qui présente une activité initiale et une durabilité élevées dans des réactions de réduction d'oxygène et des réactions de génération d'oxygène. Le catalyseur contient un support de carbone et un catalyseur contenant un métal de transition supporté sur le support de carbone. Dans le spectre Raman, le catalyseur présente une bande D1 au voisinage d'un décalage Raman de 1350 cm -1 et une bande G au voisinage d'un décalage Raman de 1590 cm -1 . Dans le spectre XPS, le catalyseur présente un pic d'atome de bore spécifique à une énergie de liaison de 192,0 ± 0,3 eV, tel qu'obtenu par séparation de pic du spectre B 1s. Le catalyseur présente les propriétés suivantes : (p1) un D1-FWHM par spectroscopie Raman inférieur ou égal à 112 cm -1 , et un B/C % spécifique par XPS d'au moins 0,7%; (p2) un D1-FWHM d'au moins 52 cm -1 et pas plus de 112 cm -1 , et un B/C % spécifique d'au moins 0,1% ; (p3) un rapport I D1 /I G en spectroscopie Raman d'au moins 1,06, et un rapport B/C % spécifique d'au moins 0,7%; ou (p4) un rapport I D1 /I G d'au moins 1,06 et d'au plus 1,99, et un rapport B/C % spécifique d'au moins 0,1%.
Title: Optical laminate and image display device

Abstract: Provided is an optical laminate including a polarizing film and an adhesive layer, the optical laminate making it possible to suppress the occurrence of light leakage due to a localized load weight and suppress peeling between the adhesive layer and a layer adjacent thereto. Also provided is an image display device including such an optical laminate. An optical laminate according to an embodiment of the present invention is an optical laminate including a polarizing film and an adhesive layer, wherein when a piercing test is performed using a piercing jig in which the curvature radius R of the tip is 550 μm, the load after holding for 15 seconds after reaching a maximum load Fp (kgf) is denoted by F (kgf), the displacement amount when the maximum load Fp (kgf) is reached is denoted by L (μm), and the total thickness of the optical laminate is denoted by T (μm), at least one of ΔF ≤ 42 and ΔL < 80 is satisfied with respect to a residual stress attenuation rate ΔF (%) calculated by a predetermined formula and a maximum distortion rate ΔL (%) calculated by a predetermined formula.