MehdiAstaraki/multilingual_GP huggingface dataset:
Title: Feuille d'acier traitée en surface et son procédé de production

Abstract: Est proposée une feuille d'acier traitée en surface qui peut être produite sans utiliser de chrome hexavalent et qui présente une résistance à la corrosion par film, une résistance à la corrosion par peinture, une adhésivité humide de film et une aptitude au soudage excellentes. La feuille d'acier traitée en surface comprend une feuille d'acier et une couche contenant du chrome disposée sur au moins une surface de la feuille d'acier. Le S/L déterminé par un procédé prescrit est de 0,10 à 0,70. La couche contenant du chrome présente un rapport atomique C à Cr de 0,2 % à 50,0 %.
Title: Surface-treated steel sheet and method for producing same

Abstract: Provided is a surface-treated steel sheet which can be produced without using hexavalent chromium and has excellent film corrosion resistance, coating corrosion resistance, coating secondary adhesiveness, and weldability. The surface-treated steel sheet comprises a steel sheet and a chromium-containing layer disposed on at least one surface of the steel sheet, wherein: the N/L determined by a prescribed method is 0.023 nm -1 to 0.085 nm -1 ; and the chromium-containing layer has an atomic ratio of C to Cr of 0.2% to 50.0%.
Title: Tôle d'acier traitée en surface et son procédé de production

Abstract: L'invention concerne une tôle d'acier traitée en surface qui peut être produite sans utiliser de chrome hexavalent et présente une excellente résistance à la corrosion par film, une excellente résistance à la corrosion de revêtement, une adhésivité secondaire de revêtement, ainsi qu'une excellente soudabilité. La tôle d'acier traitée en surface comprend une tôle d'acier et une couche contenant du chrome située sur au moins une surface de la tôle d'acier, le N/L déterminé par un procédé prescrit étant compris entre 0,023 nm -1 et 0,085 nm -1 ; et la couche contenant du chrome ayant un rapport atomique de C à Cr compris entre 0,2 % et 50,0 %.
Title: Surface-treated steel sheet and method for producing same

Abstract: Provided is a surface-treated steel sheet which can be produced without using hexavalent chromium and has excellent film corrosion resistance, coating corrosion resistance, and weldability. Specifically provided is a surface-treated steel sheet which comprises a steel sheet and a chromium-containing layer that is disposed on at least one surface of the steel sheet, wherein: with respect to the roughness curve thereof obtained by a specific method, the arithmetic mean roughness is not less than 0.20 nm but less than 1.30 nm; and the chromium-containing layer has an atomic ratio of C to Cr of 0.2% to 50.0% inclusive.
Title: Tôle d'acier traitée en surface et son procédé de production

Abstract: L'invention concerne une tôle d'acier traitée en surface qui peut être produite sans utiliser de chrome hexavalent et qui présente une résistance à la corrosion par film, une résistance à la corrosion par revêtement et une soudabilité qui sont excellentes. L'invention concerne spécifiquement une tôle d'acier traitée en surface qui comprend une tôle d'acier et une couche contenant du chrome qui est disposée sur au moins une surface de la tôle d'acier. Par rapport à la courbe de rugosité de la tôle, la courbe étant obtenue par un procédé spécifique, la rugosité moyenne arithmétique est supérieure ou égale à 0,20 nm mais inférieure à 1,30 nm ; et la couche contenant du chrome a un rapport atomique de C sur Cr qui se trouve entre 0,2 % et 50,0 %, limites incluses.
Title: Surface-treated steel sheet

Abstract: Provided is a surface-treated steel sheet which can be produced without using hexavalent chromium and is excellent in terms of all of film anticorrosion, coating anticorrosion, and weldability. The surface-treated steel sheet comprises a steel sheet and a chromium-containing layer disposed on at least one surface of the steel sheet. The chromium-containing layer has granular protrusions on the outermost surface thereof. A centroid distribution of the granular protrusions, when subjected to Voronoi tessellation, gives Voronoi polygons which have an average area of from 10.00 nm 2 to 1,000.00 nm 2 inclusive. The chromium-containing layer has an atomic proportion of C to Cr of 0.2% to 50.0%.
Title: Feuille d'acier traitée en surface

Abstract: L'invention concerne une feuille d'acier traitée en surface qui peut être produite sans utilisation de chrome hexavalent et qui présente d'excellentes performances d'anticorrosion de film, d'anticorrosion de revêtement et de soudabilité. La feuille d'acier traitée en surface se compose d'une feuille d'acier et d'une couche contenant du chrome disposée sur au moins une surface de la feuille d'acier. La couche contenant du chrome présente des saillies granulaires sur sa surface la plus à l'extérieur. Une distribution centroïde des saillies granulaires, lorsqu'elle est soumise à une tessellation de Voronoi, donne des polygones de Voronoi dont la surface moyenne est comprise entre 10,00 nm 2 et 1 000,00 nm 2 inclus. La couche contenant du chrome a une proportion atomique de C à Cr comprise entre 0,2 % et 50,0 %.
Title: Surface-treated steel sheet

Abstract: Provided is a surface-treated steel sheet that can be produced without using hexavalent chromium and has excellent film corrosion resistance, coating corrosion resistance, and weldability. The surface-treated steel sheet comprises a steel sheet and a chromium-containing layer disposed on at least one surface of the steel sheet, wherein, in a 0th-order persistence diagram created from a distribution image of granular protrusions present on the outermost surface of the chromium-containing layer, the minimum birth size, the maximum death size, and the number of data points having a death size of 0.5 nm to 15 nm inclusive are each within a predetermined range, and the chromium-containing layer has an atomic ratio of C to Cr of 0.2% to 50.0% inclusive.
Title: Feuille d'acier traitée en surface

Abstract: Est proposée une feuille d'acier traitée en surface qui peut être produite sans utiliser de chrome hexavalent et qui présente une résistance à la corrosion par film, une résistance à la corrosion par revêtement et une soudabilité excellentes. La feuille d'acier traitée en surface comprend une feuille d'acier et une couche contenant du chrome disposée sur au moins une surface de la feuille d'acier, dans un diagramme de persistance d'ordre 0 créé à partir d'une image de distribution de saillies granulaires présentes sur la surface la plus à l'extérieur de la couche contenant du chrome, la taille de naissance minimale, la taille de mort maximale et le nombre de points de données présentant une taille de mort de 0,5 nm à 15 nm inclus étant chacun dans une plage prédéterminée, la couche contenant du chrome présentant un rapport atomique de C à Cr de 0,2 % à 50,0 % inclus.
Title: Dental curable composition, two-component dental curable composition, one-component dental curable composition, dental cement, dental abutment construction material, dental filling repair material, dental double syringe, and dental single syringe

Abstract: The present invention achieves exceptional mechanical strength in a cured product, makes it possible to achieve both exceptional dischargeability and exceptional sagging properties even without using fumed silica, and achieves exceptional sagging properties even after long-term storage. This dental curable composition contains 100 parts by mass of a polymerizable monomer (A), 0.2-25 parts by mass of a polyoxyethylene sorbitan ester (B), an inorganic filler (C), and a polymerization initiator (D) containing at least one selected from the group consisting of chemical polymerization initiators (D1) and photopolymerization initiators (D2).
Title: Composition dentaire durcissable, composition dentaire durcissable à deux composants, composition dentaire durcissable à un composant, ciment dentaire, matériau de construction de pilier dentaire, matériau de réparation de remplissage dentaire, double seringue dentaire et seringue unique dentaire

Abstract: La présente invention permet d'obtenir une résistance mécanique exceptionnelle dans un produit durci, permet d'obtenir à la fois une capacité de décharge exceptionnelle et des propriétés d'affaissement exceptionnelles même sans utiliser de silice fumée, et permet d'obtenir des propriétés d'affaissement exceptionnelles même après un stockage à long terme. Cette composition durcissable dentaire contient 100 parties en masse d'un monomère polymérisable (A), 0,2 à 25 parties en masse d'un ester de polyoxyéthylène sorbitane (B), une charge inorganique (C), et un initiateur de polymérisation (D) contenant au moins un élément choisi dans le groupe constitué par les initiateurs de polymérisation chimique (D1) et les initiateurs de photopolymérisation (D2).
Title: Film forming method and film forming apparatus

Abstract: [Problem] To suppress the occurrence of a constriction in a first film when the first film is formed selectively and vertically on a top part of a pattern. [Solution] Disclosed is a film forming apparatus in which a wafer having a trench is housed in a chamber, plasma is generated from a film forming gas with use of high-frequency power so as to selectively and vertically form a carbon-based film on a top part of the trench, an insulating film that covers the resulting carbon-based film is formed, and a carbon-based film is vertically formed again after the insulating film is formed. The material that constitutes the carbon-based film is different from the material that constitutes the insulating film, or alternatively, the material that constitutes the insulating film is the same as the material that constitutes the carbon-based film.
Title: Procédé et appareil de formation de film

Abstract: Le problème traité par la présente invention consiste à limiter l'apparition d'un étranglement dans un premier film lorsque le premier film est formé sélectivement et verticalement sur une partie supérieure d'un motif. La solution selon l'invention porte sur un appareil de formation de film dans lequel une tranche présentant une tranchée est logée dans une chambre, du plasma est généré à partir d'un gaz de formation de film à l'aide d'une puissance haute fréquence de façon à former sélectivement et verticalement un film à base de carbone sur une partie supérieure de la tranchée, un film isolant qui recouvre le film à base de carbone résultant est formé, et un film à base de carbone est à nouveau formé verticalement après la formation du film isolant. Le matériau qui constitue le film à base de carbone est différent du matériau qui constitue le film isolant, ou en variante, le matériau qui constitue le film isolant est le même que le matériau qui constitue le film à base de carbone.
Title: Zinc oxide particle aggregate and method for producing same

Abstract: [Problem] To provide a technique for obtaining a new zinc oxide having little variation in particle size and aspect ratio, to provide a zinc oxide having a new average aspect ratio which has not been proposed in the prior art, and to provide a new zinc oxide production method which has not been proposed in the prior art. [Solution] A zinc oxide particle aggregate satisfying at least one of the following conditions: i) an average aspect ratio of 2.0-19.4 with a standard deviation of the aspect ratio being less than 2.0; ii) a standard deviation of a major axis of a plurality of zinc oxide particles being 4.5 μm or less; and iii) an average aspect ratio of more than 10.
Title: Agrégat de particules d'oxyde de zinc et son procédé de production

Abstract: Le problème décrit par la présente invention est de fournir une technique d'obtention d'un nouvel oxyde de zinc présentant peu de variation de taille de particule et de rapport d'aspect, pour fournir un oxyde de zinc présentant un nouveau rapport d'aspect moyen qui n'a pas été proposé dans l'état de la technique, et pour fournir un nouveau procédé de production d'oxyde de zinc qui n'a pas été proposé dans l'état de la technique. La solution selon l'invention porte sur un agrégat de particules d'oxyde de zinc satisfaisant au moins l'une des conditions suivantes : i) un rapport d'aspect moyen de 2,0 à 19,4 avec un écart type du rapport d'aspect inférieur à 2,0 ; ii) un écart type d'un axe principal d'une pluralité de particules d'oxyde de zinc inférieur ou égal à 4,5 µm ; et iii) un rapport d'aspect moyen supérieur à 10.
Title: Methane production reactor

Abstract: The present invention provides a methane production reactor which is capable of remarkably improving the methane conversion rate and efficiently producing methane. A methane production reactor according to one embodiment of the present invention comprises a ceramic base material and a methanation reaction catalyst. The ceramic base material defines a gas flow path. The gas flow path is supplied with a starting material gas that contains carbon oxide and hydrogen. The methanation reaction catalyst can promote a reaction for producing methane. The methanation reaction catalyst is disposed so as to be able to come into contact with the starting material gas supplied to the gas flow path. The thermal conductivity of the ceramic base material is 5 W/m∙K or more. The mass of the methanation reaction catalyst per unit volume of the gas flow path is 50 g/L or more.
Title: Réacteur de production de méthane

Abstract: La présente invention concerne un réacteur de production de méthane qui permet d'améliorer considérablement le taux de conversion du méthane et de produire efficacement du méthane. Un réacteur de production de méthane selon un mode de réalisation de la présente invention comprend un matériau céramique de base et un catalyseur de réaction de méthanation. Le matériau céramique de base définit un trajet d'écoulement de gaz. Le trajet d'écoulement de gaz est alimenté en gaz de départ qui contient de l'oxyde de carbone et de l'hydrogène. Le catalyseur de réaction de méthanation peut favoriser une réaction de production de méthane. Le catalyseur de réaction de méthanation est disposé de façon à pouvoir entrer en contact avec le gaz de départ fourni au trajet d'écoulement de gaz. La conductivité thermique du matériau céramique de base est égale ou supérieure à 5 W/m∙K. La masse du catalyseur de réaction de méthanation par unité de volume du trajet d'écoulement de gaz est égale ou supérieure à 50 g/l.
Title: Gas recovery system and gas recovery method

Abstract: A gas recovery system 100 according to the present invention includes: a first gas separation device 11 that separates a first gas G1 including a gas A and a gas B different from the gas A to obtain a second gas G2 having a higher content of the gas A than the first gas G1; a recovery unit 20 having an adsorbent 202 for adsorbing the gas A contained in the second gas G2; and a third gas circulation passage 61 for guiding the third gas G3 discharged from the recovery unit 20 to an upstream side of the first gas separation device 11. A gas recovery method according to the present invention includes: a first gas separation step for separating a first gas containing a gas A and a gas B different from the gas A by a first gas separation device to obtain a second gas having a higher content of the gas A than the first gas; an adsorption step for adsorbing the gas A contained in the second gas by an adsorption material included in a recovery unit and discharging a third gas from the recovery unit; and a third gas circulation step for sending the third gas to the upstream side of the first gas separation device.
Title: Système et procédé de récupération de gaz

Abstract: Le système de récupération de gaz (100) de l'invention est équipé : d'un dispositif de séparation de premier gaz (11) qui sépare un premier gaz (G1) contenant un gaz (A) et un gaz (B) différent du gaz (A), et qui obtient un second gaz (G2) dont la teneur en gaz (A) est supérieure à celle du premier gaz (G1) ; d'une partie récupération (20) qui possède un matériau d'adsorption (202) adsorbant le gaz (A) contenu dans le second gaz (G2) ; et d'un trajet de circulation de troisième gaz (61) qui guide un troisième gaz (G3) déchargé depuis la partie récupération (20) vers le côté amont du dispositif de séparation de premier gaz (11). Le procédé de récupération de gaz de l'invention inclut : une étape de séparation de premier gaz au cours de laquelle le premier gaz (G1) contenant un gaz (A) et un gaz (B) différent du gaz (A), est séparé par le dispositif de séparation de premier gaz (11), et un second gaz (G2) dont la teneur en gaz (A) est supérieure à celle du premier gaz (G1), est obtenu ; une étape d'adsorption au cours de laquelle le gaz (A) contenu dans le second gaz (G2), est adsorbé par le matériau d'adsorption (202) appartenant à la partie récupération (20), et simultanément le troisième gaz (G3) est déchargé depuis la partie récupération (20) ; et une étape de circulation de troisième gaz au cours de laquelle le troisième gaz (G3) est envoyé côté amont du dispositif de séparation de premier gaz (11).
Title: Gas recovery system and gas recovery method

Abstract: A gas recovery system 100 according to the present invention comprises: a first gas separating device 11 that separates a first gas G1 containing a gas A and a gas B different from the gas A to obtain a second gas G2 with a higher gas A content than the first gas G1 and a third gas G3 with a lower gas A content than the second gas G2; a recovery unit 20 having an adsorbent 202 that adsorbs the gas A contained in the second gas G2 and the third gas G3; a main recovery path 60 that leads the second gas G2 discharged from the first gas separating device 11 to the recovery unit 20; and a first sub-recovery path 61 that leads the third gas G3 discharged from the first gas separating device 11 to the recovery unit 20.
Title: Système et procédé de récupération de gaz

Abstract: Le système de récupération de gaz (100) de l'invention est équipé : d'un dispositif de séparation de premier gaz (11) qui sépare un premier gaz (G1) contenant un gaz (A) et un gaz (B) différent du gaz (A), et qui obtient un second gaz (G2) dont la teneur en gaz (A) est supérieure à celle du premier gaz (G1), et un troisième gaz (G3) dont la teneur en gaz (A) est inférieure à celle du second gaz (G2) ; d'une partie récupération (20) qui possède un matériau d'adsorption (202) adsorbant le gaz (A) contenu dans le second gaz (G2) et dans le troisième gaz (G3) ; d'un trajet de récupération principal (60) qui guide le second gaz (G2) déchargé depuis le dispositif de séparation de premier gaz (11) vers la partie récupération (20) ; et d'un premier trajet de récupération secondaire (61) qui guide le troisième gaz (G3) déchargé depuis le dispositif de séparation de premier gaz (11) vers la partie récupération (20).
Title: Stage

Abstract: This stage includes: a base material including a first surface and a second surface opposite the first surface; and an insulating film which is provided on the first surface including pores defined by a scale parameter α (the numerical value α is greater than 0) of 0-2.5 and by a pore diameter λ of 5-8. The scale parameter α and the pore diameter λ are coefficients defining mathematical expression (1) calculated provided that y is a double logarithm of cumulative probability F(x) calculated for a plurality of the pore diameters included in the insulating film, and x is the pore diameter of the pores.
Title: Plateau

Abstract: Ce plateau comprend : un matériau de base comprenant une première surface et une seconde surface opposée à la première surface ; et un film isolant qui est disposé sur la première surface comprenant des pores définis par un paramètre d'échelle α (la valeur numérique α est supérieure à 0) de 0 à 2,5 et par un diamètre de pore λ de 5 à 8. Le paramètre d'échelle α et le diamètre de pore λ sont des coefficients définissant une expression mathématique (1) calculée à condition que y soit un logarithme double de probabilité cumulative F(x) calculé pour une pluralité des diamètres de pore inclus dans le film isolant, et que x soit le diamètre de pore des pores.
Title: Stage and method for manufacturing stage

Abstract: This stage for mounting a substrate thereon includes: a base material having a first surface, and a second surface on the side opposite first surface; a first insulating film that is disposed on the base material and that includes a third surface, a fourth surface in contact with the first surface and on the side opposite the third surface, and a plurality of holes provided on the third surface side; and a second insulating film that is disposed on the first insulating film and that includes a fifth surface, a sixth surface in contact with the third surface and on the side opposite the fifth surface, and an intrusion part in contact with side walls of the plurality of holes and intruding into the plurality of holes.
Title: Plateau et procédé de fabrication d'un plateau

Abstract: Le présent plateau, destiné au montage d'un substrat sur celui-ci, comprend : un matériau de base ayant une première surface, et une seconde surface du côté opposé à la première surface ; un premier film isolant qui est disposé sur le matériau de base et qui comprend une troisième surface, une quatrième surface en contact avec la première surface et du côté opposé à la troisième surface, et une pluralité de trous disposés sur le troisième côté de surface ; et un second film isolant qui est disposé sur le premier film isolant et qui comprend une cinquième surface, une sixième surface en contact avec la troisième surface et du côté opposé à la cinquième surface, et une partie d'intrusion en contact avec des parois latérales de la pluralité de trous et pénétrant dans la pluralité de trous.
Title: Sputtering device

Abstract: A sputtering device (100) is provided with: a substrate placement unit (11) on which a substrate (1) is placed; a target placement unit (21) on which a target (2) facing the substrate placement unit (11) is placed; a shutter (41) that is provided between the substrate placement unit (11) and the target (2) and that is driven to open or shield the target (2) with respect to the substrate placement unit (11); and a deposition member (50) that is provided between the target (2) and the shutter (41) and is detachably attached to the shutter (41).
Title: Dispositif de pulvérisation cathodique

Abstract: Un dispositif de pulvérisation cathodique (100) comprend : une unité de placement de substrat (11) sur laquelle un substrat (1) est placé ; une unité de placement de cible (21) sur laquelle une cible (2) faisant face à l'unité de placement de substrat (11) est placée ; un obturateur (41) qui est disposé entre l'unité de placement de substrat (11) et la cible (2) et qui est entraîné pour ouvrir ou protéger la cible (2) par rapport à l'unité de placement de substrat (11) ; et un élément de dépôt (50) qui est disposé entre la cible (2) et l'obturateur (41) et qui est fixé de manière amovible à l'obturateur (41).
Title: Composition, photoelectric conversion element, imaging element, optical sensor, and production method for imaging element

Abstract: The present invention addresses the problem of providing a composition that makes it possible to form a photoelectric conversion element for which response speed has little dependence on electric field strength. This composition includes a compound represented by formula (1) and a compound represented by formula (2), the compound represented by formula (2) content relative to the total mass of the compound represented by formula (1) being 0.2–7.5 mass%.
Title: Composition, élément de conversion photoélectrique, élément d'imagerie, capteur optique et procédé de production d'élément d'imagerie

Abstract: La présente invention concerne une composition qui permet de former un élément de conversion photoélectrique dont la vitesse de réponse ne dépend que peu de l'intensité du champ électrique. Cette composition contient un composé représenté par la formule (1) et un composé représenté par la formule (2), la teneur du composé représenté par la formule (2) par rapport à la masse totale du composé représenté par la formule (1) étant de 0,2 à 7,5 en pourcentage en masse.