MehdiAstaraki/multilingual_GP huggingface dataset:
Title: Tôle d'acier ainsi que procédé de fabrication de celle-ci, et tube d'acier

Abstract: Selon un mode de réalisation de l'invention, une tôle d'acier est telle que dans une structure de métal en une position à 0,1mm de profondeur depuis sa surface, le total des rapports surfaciques d'une ferrite polygonale et d'une bainite granulaire est compris entre ７０ et １００％, et le rapport surfacique de la ferrite polygonale est supérieur ou égal à ７０％. Le diamètre particulaire moyen de la structure de métal en une position à 0,1mm de profondeur depuis sa surface, est inférieur ou égal à ３０,０μｍ. Dans une structure de métal en une position à 0,5mm de profondeur depuis sa surface, le total des rapports surfaciques de la ferrite polygonale et de la bainite granulaire est compris entre ７５ et ９５％, et le rapport surfacique de la ferrite polygonale est supérieur ou égal à 50%. Dans une structure de métal en une position à ２ｔ／５ de profondeur depuis la surface de la tôle d'acier, le total des rapports surfaciques de la ferrite polygonale et de la bainite granulaire est compris entre ５０ et ９７％. Le diamètre particulaire moyen de la structure de métal en une position à ２ｔ／５ de profondeur depuis la surface, est inférieur ou égal à ２０,０μｍ. La valeur Ｈｖｍａｘ qui consiste en la dureté maximale dans une partie superficielle, est inférieure ou égale à ２２０Ｈｖ. Le rapport de limite élastique est supérieur ou égal à 70%.
Title: Thermally conductive addition-curable silicone composition

Abstract: The present invention is a thermally conductive addition-curable silicone composition comprising: (A) an organopolysiloxane having at least one alkynyl group in one molecule and having a kinetic viscosity at 25°C of 60-100,000 mm 2 /s; (B) at least one thermally conductive filler selected from the group consisting of metals, metal oxides, metal hydroxides, metal nitrides, metal carbides, and allotropes of carbon; (C) an organohydrogenpolysiloxane having, in one molecule, two or more hydrogen atoms each bonded to a silicon atom; (D) a platinum group metal catalyst; and (E) one or more addition curing reaction control agents selected from the group consisting of acetylene compounds, nitrogen compounds, organophosphorus compounds, oxime compounds, and organochlorine compounds. Thereby provided is a thermally conductive addition-curable silicone composition which provides a cured product having a low storage elastic modulus G' and a high elongation when the composition is heated and cured.
Title: Composition de silicone durcissable par addition thermoconductrice

Abstract: La présente invention concerne une composition de silicone durcissable par addition thermoconductrice comprenant : (A) un organopolysiloxane ayant au moins un groupe alcynyle dans une molécule et ayant une viscosité cinétique à 25 °C de 60 à 100 000 mm 2 /s ; (B) au moins une charge thermoconductrice choisie dans le groupe constitué par les métaux, les oxydes métalliques, les hydroxydes métalliques, les nitrures métalliques, les carbures métalliques et les allotropes de carbone ; (C) un organohydrogénopolysiloxane ayant, dans une molécule, au moins deux atomes d'hydrogène liés chacun à un atome de silicium ; (D) un catalyseur métallique du groupe du platine ; et (E) un ou plusieurs agents de régulation de réaction de durcissement par addition choisis dans le groupe constitué par les composés acétyléniques, les composés azotés, les composés organophosphorés, les composés oxime et les composés organochlorés. L'invention concerne ainsi une composition de silicone durcissable par addition thermoconductrice qui fournit un produit durci ayant un faible module d'élasticité de conservation G' et un allongement élevé lorsque la composition est chauffée et durcie.
Title: Sputtering target and alloy thin film

Abstract: Provided is a novel target that makes it possible to suppress the occurrence of cracks during sputtering and suppress the adhesion of particles to a thin film. Also provided is a novel alloy thin film that maintains excellent surface smoothness even after heating. The target is composed of Ta, Cr, and Fe, has a relative density of 97% or more and an average coercive force of 500 MPa or more, preferably has an average Vickers hardness of 550 HV or less, and more preferably comprises 10-40 atom% of Cr and 15-50 atom% of Fe, with the balance being Ta and inevitable impurities. In addition, the alloy thin film is composed of Ta, Cr, and Fe, has a crystallite diameter of 1.50 nm or less, preferably has a crystallite diameter of 1.60 nm or less after heating at 650°C and 700°C, and comprises 10-40 atom% of Cr and 15-50 atom% of Fe, with the balance being Ta and inevitable impurities.
Title: Cible de pulvérisation et film mince d'alliage

Abstract: L'invention concerne une nouvelle cible qui permet de supprimer l'apparition de fissures pendant une pulvérisation et de supprimer l'adhérence de particules à un film mince. L'invention concerne également un nouveau film mince d'alliage qui maintient un excellent lissé de surface même après chauffage. La cible est composée de Ta, Cr et Fe, présente une densité relative de 97 % ou plus et une force coercitive moyenne de 500 MPa ou plus, présente de préférence une dureté Vickers moyenne de 550 HV ou moins, et comprend plus préférablement de 10 à 40 % en atomes de Cr et de 15 à 50 % en atomes de Fe, le reste étant du Ta et des impuretés inévitables. De plus, le film mince d'alliage est composé de Ta, Cr et Fe, présente un diamètre de cristallite de 1,50 nm ou moins, présente de préférence un diamètre de cristallite de 1,60 nm ou moins après chauffage à 650 °C et 700 °C, et comprend de 10 à 40 % en atomes de Cr et de 15 à 50 % en atomes de Fe, le reste étant du Ta et des impuretés inévitables.
Title: Coated arc-welding rod, welded joint, and weld metal

Abstract: Provided is a coated arc-welding rod which is for use in welding a structure in an extremely low temperature range, and from which it is possible to obtain a weld metal that has excellent strength and that exhibits a lateral swelling amount equal to or more than a desired value. The coated arc-welding rod contains Fe, C, Cr, Ni, and the like in amounts specified with respect to the total mass of the welding rod, and contains 0.001-0.400 mass% of Nb, 0.001-0.400 mass% of V, and 0.001-0.020 mass% of N. In addition, value A1 is 0.120-0.500 and value A2 is 0.10 or less as determined by A1=[Nb] W +[V] W and A2=1.22×([Cr] W +[Mo] W +0.7×[Nb] W )-([Ni] W +35×[C] W +20×[N] W +0.25×[Cu] W )-10.0. [Element] W represents a value indicating, in mass%, the amount of the element contained in the coated arc-welding rod.
Title: Tige de soudage à l'arc revêtue, jonction soudée et métal de soudure

Abstract: L'invention concerne une tige de soudage à l'arc revêtue qui est destinée à être utilisée dans le soudage d'une structure dans une plage de température extrêmement basse, et à partir de laquelle il est possible d'obtenir un métal de soudure qui présente une excellente résistance et qui présente une quantité de gonflement latéral supérieure ou égale à une valeur souhaitée. La tige de soudage à l'arc revêtue contient du Fe, C, Cr, Ni, etc. dans des quantités spécifiées par rapport à la masse totale de la tige de soudage, et contient 0,001 à 0,400 % en masse de Nb, 0,001 à 0,400 % en masse de V, et 0,001 à 0,020 % en masse de N. En outre, la valeur A1 est de 0,120 à 0,500 et la valeur A2 est de 0,10 ou moins telles que déterminées par A1 = [Nb] W + [V] W et A2 = 1,22 × ([Cr] W + [Mo] W + 0,7 × [Nb] W ) - ([Ni] W + 35 × [C] W + 20 × [N] W + 0,25 × [Cu] W ) - 10,0. [Élément] W représente une valeur indiquant, en % en masse, la quantité de l'élément présente dans la tige de soudage à l'arc revêtue.
Title: Ink set, inkjet recording method, and recording device

Abstract: A problem addressed by the present invention is to provide an ink set and an inkjet recording method capable of suppressing color bleeding and achieving a wide color gamut. Also, to provide a recording device capable of reducing drying load while maintaining high quality. In an ink set composed of a treatment liquid and an aqueous pigment ink containing two or more pigment dispersions X, the aqueous pigment ink contains at least two or more pigment dispersions X containing a pigment dispersion A and a pigment dispersion B. The absolute value of the difference between the maximum absorption wavelengths of the pigment dispersion A and the pigment dispersion B is 50 nm or more, and the aggregability of all the pigment dispersions contained in the mixture of the treatment liquid and the aqueous pigment ink and the aggregability of all the pigment dispersions themselves are set within specific ranges.
Title: Ensemble encres, procédé d'impression à jet d'encre et dispositif d'enregistrement

Abstract: Un problème abordé par la présente invention consiste à fournir un ensemble encres et un procédé d'enregistrement à jet d'encre permettant de supprimer le coulage de couleur et d'obtenir une large gamme de couleurs. L'invention concerne également un dispositif d'enregistrement capable de réduire la charge de séchage tout en maintenant une qualité élevée. Dans un ensemble encres composé d'un liquide de traitement et d'une encre pigmentaire aqueuse contenant au moins deux dispersions X de pigment, l'encre pigmentaire aqueuse contient au moins deux dispersions X de pigment ou plus contenant une dispersion A de pigment a et une dispersion B de pigment. La valeur absolue de la différence entre les longueurs d'onde d'absorption maximales de la dispersion A de pigment et de la dispersion B de pigment est de 50 nm ou plus, et l'agrégabilité de toutes les dispersions de pigment contenues dans le mélange du liquide de traitement et de l'encre pigmentaire aqueuse et l'agrégabilité de toutes les dispersions de pigment elles-mêmes sont définies dans des plages spécifiques.
Title: Radiation-sensitive composition and method for forming pattern

Abstract: Provided are: a radiation-sensitive composition which exhibits excellent sensitivity and CDU when a pattern is formed, and which exhibits good storage stability; and a method for forming a pattern. This radiation-sensitive composition contains: a polymer containing a structural unit (I) having an acid-dissociable group; a radiation-sensitive acid generator which contains a second organic acid anion and a second onium cation that is free from the second organic acid anion and which, upon exposure to light, generates an acid that dissociates the acid-dissociable group; an acid diffusion control agent which contains a third organic acid anion and a third onium cation that is free from the third organic acid anion and which, upon exposure to light, generates an acid that does not dissociate the acid-dissociable group; and a solvent. The radiation-sensitive acid generator contains a compound represented by formula (1). The polymer includes, at least, a first organic acid anion and an iodonium cation that is free from the first organic acid anion and includes a structural unit (II) that includes an acid-generating structure which, upon exposure to light, generates an acid that dissociates the acid-dissociable group, or at least a part of the second onium cation or the third onium cation is an iodonium cation. [Chemical formula 1] In formula (1), W is a 5- to 20-membered aromatic ring having a valency of (p+q+1). In a case where multiple W moieties are present, the multiple W moieties may be the same as, or different from, each other. L is a linking group having a valency of (r+1). r is an integer between 1 and 3. p is an integer between 0 and 3. In a case where multiple p values occur, the multiple p values may be the same as, or different from, each other. q is an integer between 1 and 3. In a case where multiple q values occur, the multiple q values may be the same as, or different from, each other. M + is a monovalent onium cation.
Title: Composition sensible au rayonnement et procédé de formation de motif

Abstract: L'invention concerne : une composition sensible au rayonnement qui présente une excellente sensibilité et une excellente CDU lors de la formation d'un motif, et qui présente une bonne stabilité au stockage ; et un procédé de formation de motif. Cette composition sensible au rayonnement contient : un polymère contenant un motif structural (I) ayant un groupe dissociable par un acide ; un générateur d'acide sensible au rayonnement qui contient un deuxième anion d'acide organique et un deuxième cation onium qui n'est pas lié au deuxième anion d'acide organique et qui génère un acide qui dissocie le groupe dissociable par un acide lorsqu'il est exposé à la lumière ; un agent de régulation de diffusion d'acide qui contient un troisième anion d'acide organique et un troisième cation onium qui n'est pas lié au troisième anion d'acide organique et qui génère un acide qui ne dissocie pas le groupe dissociable par un acide lorsqu'il est exposé à la lumière ; et un solvant. Le générateur d'acide sensible au rayonnement contient un composé représenté par la formule (1). Le polymère comprend au moins un premier anion d'acide organique et un cation iodonium qui n'est pas lié au premier anion d'acide organique et qui comprend un motif structural (II) qui comprend une structure de génération d'acide qui génère un acide qui dissocie le groupe dissociable par un acide lorsqu'elle est exposée à la lumière, ou au moins une partie du deuxième cation onium ou du troisième cation onium est un cation iodonium. [Formule chimique 1] Dans la formule (1), W représente un cycle aromatique de 5 à 20 chaînons ayant une valence de (p + q + 1). Lorsque de multiples fractions W sont présentes, les multiples fractions W peuvent être identiques ou différentes les unes des autres. L est un groupe de liaison ayant une valence de (r + 1). r est un nombre entier compris entre 1 et 3. p est un nombre entier compris entre 0 et 3. Lorsqu'il y a de multiples valeurs p, les multiples valeurs p peuvent être identiques ou différentes les unes des autres. q est un nombre entier compris entre 1 et 3. Lorsqu'il y a de multiples valeurs q, les multiples valeurs q peuvent être identiques ou différentes les unes des autres. M + est un cation onium monovalent.
Title: Forged aluminum alloy material

Abstract: The present invention provides a forged aluminum alloy material which is excellent in terms of strength, ductility, fatigue characteristics, and corrosion resistance in spite of containing Fe in excess of 0.4 mass%. The present invention relates to the forged aluminum alloy material which contains Si: 0.7 mass% to 1.5 mass% inclusive, Fe: more than 0.4 mass% but not more than 0.67 mass%, Cu: more than 0.4 mass% but not more than 0.8 mass%, Mg: 0.85 mass% to 1.3 mass% inclusive, Ti: 0.005 mass% to 0.07 mass% inclusive, and Zn: 0.25 mass% or less, which additionally contains at least one selected from the group consisting of Mn: 0.1 mass% to 0.95 mass% inclusive, Cr: more than 0.1 mass% but not more than 0.4 mass%, and Zr: 0.05 mass% to 0.3 mass% inclusive, with the balance being made up of unavoidable impurities and Al, and which has a crystallized product area ratio of 3.2% or less and an average crystallized product size of 8 μm or less.
Title: Matériau d'alliage d'aluminium forgé

Abstract: La présente invention concerne un matériau d'alliage d'aluminium forgé qui est excellent en termes de résistance, de ductilité, de caractéristiques de fatigue et de résistance à la corrosion malgré une teneur en Fe supérieure à 0,4 % en masse. La présente invention se rapporte au matériau d'alliage d'aluminium forgé qui contient : Si : de 0,7 % en masse à 1,5 % en masse inclus, Fe : plus de 0,4 % en masse mais pas plus de 0,67 % en masse, Cu : plus de 0,4 % en masse mais pas plus de 0,8 % en masse, Mg : de 0,85 % en masse à 1,3% en masse inclus, Ti : de 0,005 % en masse à 0,07 % en masse inclus, et Zn : 0,25 % en masse ou moins, qui contient en outre au moins un élément choisi dans le groupe constitué par Mn : de 0,1 % en masse à 0,95 % en masse inclus, Cr : plus de 0,1 % en masse mais pas plus de 0,4 % en masse, et Zr : de 0,05 % en masse à 0,3% en masse inclus, le reste étant constitué d'impuretés inévitables et d'Al, et qui présente un rapport de surface de produit cristallisé de 3,2 % ou moins et une taille moyenne de produit cristallisé de 8 µm ou moins.
Title: Film formation post-processing method and substrate processing device

Abstract: [Problem] To suppress the occurrence of metal contamination on, and adhesion of particles to, a zirconium film formed on a substrate. [Solution] Provided is a film formation post-processing method for performing a process on a chamber having a processing space in which is performed a film formation process for supplying a zirconium-chloride-containing processing gas in a state in which a substrate is accommodated and forming a film configured from zirconium on the substrate, at least a part of the chamber exposed to the processing space being configured from an aluminum-containing material, wherein the method has a processing gas discharge step for stopping the supply of the processing gas after the film formation process and discharging the processing gas from the processing space, and a hydrogen-nitride-based gas supply step for supplying a hydrogen-nitride-based gas into the processing space after the processing gas discharge step.
Title: Procédé post-traitement de formation de film et dispositif de traitement de substrat

Abstract: Le problème décrit par la présente invention est de supprimer l'apparition d'une contamination métallique sur un film de zirconium formé sur un substrat et l'adhérence de particules à celui-ci. La solution selon l'invention porte sur un procédé post-traitement de formation de film pour appliquer un processus à une chambre ayant un espace de traitement, dans lequel est effectué un processus de formation de film pour l'alimenter en un gaz de traitement contenant du chlorure de zirconium, dans un état dans lequel un substrat est reçu et former un film conçu à partir de zirconium sur le substrat, au moins une partie de la chambre exposée à l'espace de traitement étant conçue à partir d'un matériau contenant de l'aluminium, le procédé comprenant une étape d'évacuation de gaz de traitement pour arrêter l'alimentation en gaz de traitement après le processus de formation de film et évacuer le gaz de traitement de l'espace de traitement, et une étape d'alimentation en gaz à base de nitrure d'hydrogène pour alimenter un gaz à base de nitrure d'hydrogène dans l'espace de traitement après l'étape d'évacuation de gaz de traitement.
Title: Reaction device and method for producing product

Abstract: The present disclosure provides a technique that is advantageous from the viewpoint of suppressing deterioration of an enzyme while continuously activating a coenzyme. A reaction device (1a) according to the present disclosure comprises an enzyme reactor (10), an enzyme (15), and an electrochemical reactor (20). The enzyme (15) is disposed inside the enzyme reactor (10). In the reaction device (1a), the enzyme reactor (10) and the electrochemical reactor (20) are configured such that a reaction liquid (R) circulates between the enzyme reactor (10) and the electrochemical reactor (20). The reaction liquid (R) contains a substrate and a coenzyme. The enzyme (15) is, for example, an oxidoreductase. The substrate is oxidized or reduced by the enzyme (15). The coenzyme restores the activity of the enzyme (15) after the enzyme has reacted with the substrate.
Title: Dispositif de réaction, et procédé de fabrication de produit

Abstract: L'invention fournit une technique qui tout en activant en continu un coenzyme, est avantageuse d'un point de vue de l'inhibition de la dégradation d'enzyme. Plus précisément, l'invention concerne un dispositif de réaction (1a) qui est équipé d'un réacteur enzymatique (10), d'un enzyme (15) et d'un réacteur électrochimique (20). L'enzyme (15) est disposé dans la partie interne du réacteur enzymatique (10). Dans ce dispositif de réaction (1a), le réacteur enzymatique (10) et le réacteur électrochimique (20) sont configurés de sorte qu'un liquide de réaction (R) circule entre eux. Le liquide de réaction (R) contient un substrat et le coenzyme. L'enzyme (15) consiste, par exemple, en une oxydoréductase. Le substrat est soumis à une oxydation ou à une réduction au moyen de l'enzyme (15). Le coenzyme rétablit l'activité de l'enzyme (15) après réaction avec le substrat.
Title: Reaction device and method for producing product

Abstract: The present disclosure provides a technique that is advantageous from the viewpoint of increasing the speed of a treatment in which a coenzyme is continuously activated to cause an enzymatic reaction. A reaction device (1a) according to the present disclosure comprises a first enzyme reactor (10a), a first electrochemical reactor (20a), a second enzyme reactor (10b), a second electrochemical reactor (20b), and an enzyme (15). The enzyme (15) is disposed inside the first enzyme reactor (10a) and inside the second enzyme reactor (10b). The first enzyme reactor (10a), the first electrochemical reactor (20a), the second enzyme reactor (10b), and the second electrochemical reactor (20b) are disposed such that a reaction liquid (R) passes through the first enzyme reactor (10a), the first electrochemical reactor (20a), the second enzyme reactor (10b), and the second electrochemical reactor (20b) in a specific order and circulates. The reaction liquid (R) contains a substrate and a coenzyme. The coenzyme restores the activity of the enzyme (15) after the enzyme has reacted with the substrate. The first electrochemical reactor (20a) and the second electrochemical reactor (20b) electrochemically restore the activity of the coenzyme contained in the reaction liquid (R).
Title: Dispositif de réaction, et procédé de fabrication de produit

Abstract: L'invention fournit une technique avantageuse du point de vue de l'augmentation de la vitesse d'un traitement produisant une réaction enzymatique par activation en continu d'un coenzyme. Plus précisément, l'invention concerne un dispositif de réaction (1a) qui est équipé : d'un premier réacteur enzymatique (10a) ; d'un premier réacteur électrochimique (20a) ; d'un second réacteur enzymatique (10b) ; d'un second réacteur électrochimique (20b) ; et d'un enzyme (15). L'enzyme (15) est disposé dans la partie interne du premier réacteur enzymatique (10a), et dans la partie interne du second réacteur enzymatique (10b). Le premier réacteur enzymatique (10a), le premier réacteur électrochimique (20a), le second réacteur enzymatique (10b) et le second réacteur électrochimique (20b) sont disposés de sorte qu'un liquide de réaction (R) circule en les traversant selon un ordre spécifique. Le liquide de réaction (R) contient un substrat et le coenzyme. Le coenzyme rétablit l'activité de l'enzyme (15) après réaction avec le substrat. Le premier et le second réacteur électrochimique (20a, 20b) rétablissent de manière électrochimique l'activité du coenzyme contenu dans le liquide de réaction (R).
Title: Reaction device and method for producing product

Abstract: The present disclosure provides technology which is useful in terms of increasing the speed of a process for continuously activating a coenzyme to cause a plurality of types of enzyme reactions. The present disclosure provides a reaction device (1a) wherein a first enzyme reaction vessel (10a), a first electrochemical reaction vessel (20a), a second enzyme reaction vessel (10b), and a second electrochemical reaction vessel (20b) are disposed such that a reaction solution (R) passes and circulates therethrough in a specific order. The reaction solution (R) contains a first substrate, a second substrate, and a coenzyme. The first substrate is oxidized or reduced by a first enzyme (15a). The second substrate is oxidized or reduced by a second enzyme (15b). The first enzyme (15a) is stored inside the first enzyme reaction vessel (10a). The second enzyme (15b) is stored inside the second enzyme reaction vessel (10b). The first electrochemical reaction vessel (20a) and the second electrochemical reaction vessel (20b) electrochemically restore the activity of the coenzyme.