読書家であった彼は、学校の勉強を他の生徒よりかなり早く終わらせていた。化学の教師であったルシール・クリッチローの勧めで、地元の工業化学者でガラスやガラスの破壊を研究していたの研究室で働くことになった。ラストは高校生の時にプレストンの研究室で働き始め、大学生になっても休みがあればプレストンのもとで働き続けた。
このプログラムは、イーストマン・コダック社やボシュロム社と深いつながりがあった。最後のの授業は、コダックのルドルフ・キングスレイクが担当した。
マサチューセッツ工科大学（MIT）で学ばないかとの提案を受け入れ、物理学者の研究室に入り、強誘電体物質の物理構造を研究することになった。
ゼネラル・エレクトリック、ベル研究所、で働ける可能性があり、アーノルド・ベックマンの紹介で、ウィリアム・ショックレーに師事することになった。ショックレーは、ベックマン・インスツルメンツの一部門としてショックレー半導体研究所を立ち上げたところだった。ショックレーは、ラストを採用するためにMITに飛んで鮮烈な印象を残した。
ショックレーの登場について、ラストは「なんてこった、こんなに素晴らしい人に会ったことがないと思った。私は自分のキャリアプランを全部変えて、カリフォルニアに行ってこの人と一緒に働きたいと言ったんです」。
半導体集積回路開発.
ショックレー半導体研究所時代.
ラストは、ショックレーを「非凡で輝かしい人物」と評価した。「彼は正しい決断をした。彼は優秀な人材を雇った... 。正しい技術、正しい材料、それを実現するための適切なグループ、そしてドカンと来た」 
新会社の目標について、ラストはこう語った。
フェアチャイルドセミコンダクター社では、ラストは集積回路開発の責任者として働き、最初のシリコン回路チップの作成に貢献した。 ラストは、新会社の協力的な性格と、グループが対等に協力し合うことを強調した。
この間、ラストは、フォトリソグラフィー、フォトマスキング、フォトレジスト、メサエッチングなど、トランジスタ製造に必要な技術開発に貢献した。また、フォトマスクを作るためのステップ・アンド・リピート・カメラや、マスクの位置合わせの方法の設計にも貢献した。フェアチャイルドで開発された技術の多くは、半導体産業によるトランジスタと集積回路の創出の基礎となった。
集積回路開発の時期.