マイクロ波誘導プラズマイオン源は、無電極ガス放電を励起して、微量元素質量分析用のイオンを生成できる。マイクロ波プラズマは、GHz範囲の高周波電磁放射を有するプラズマの一種であり、無電極ガス放電を励起できる。表面波持続モードで適用された場合、それらは高プラズマ密度の大面積プラズマを生成するのに特に適している。それらが表面波と共振器モードの両方にある場合、高度の空間的局在化を示すことができる。これにより、プラズマ生成の場所を表面処理の場所から空間的に分離することがでる。このような分離は、（適切なガスフロースキームとともに）処理された基板から放出された粒子が気相のプラズマ化学に及ぼす可能性のある悪影響を減らすのに役立つ。
グロー放電.
デュオプラズマトロンは、ガスをイオン化するために使用されるプラズマを生成するカソード （ 熱陰極または冷陰極 ）で構成されるグロー放電イオン源の一種である。デュオプラズマトロンは、正または負のイオンを生成できる。デュオプラズマトロンは、二次イオン質量分析 、イオンビームエッチング、および、高エネルギー物理学 で使用される。
フローイング・アフターグロー.
スパークイオン化.
スパークイオン化は、固体サンプルから気相イオンを生成するために使用される。スパークイオン化を用いる質量分析計は、スパークイオン化質量分析計またはスパークソース質量分析計（SSMS）と呼ばれる。
光イオン化.
光イオン化は、光子と原子または分子との相互作用からイオンが形成されるイオン化プロセスを指す。
多光子イオン化.
大気圧光イオン化.
脱着イオン化.
フィールド脱着.
粒子衝撃.
高速原子衝撃.
二次イオン化.
プラズマ脱離イオン化.
レーザー脱離イオン化.
表面支援レーザー脱離/イオン化.
表面増強レーザー脱離/イオン化.
シリコン上の脱離イオン化.
シリコン上の脱離イオン化（DIOS）は、多孔質シリコン表面に堆積したサンプルのレーザー脱離/イオン化を指す。
スモーリーソース.
エアロゾルイオン化.
飛行時間分析によるエアロゾル質量分析では、大気から抽出されたマイクロメートルサイズの固体エアロゾル粒子は、飛行時間イオン抽出装置の中心を通過する際に、正確なタイミングのレーザーパルスによって同時に脱着およびイオン化される。
スプレーイオン化.