スルファミン酸浴は電鋳用として広く用いられる。浴組成はスルファミン酸ニッケルとホウ酸が主体で、他に塩化ニッケルや必要に応じて光沢剤なども加える。スルファミン酸浴からの析出皮膜は内部応力が小さいため、めっき皮膜を素地から引き剥がしやすい。そのため、電鋳に利用されることが多い。応力の大きいめっき皮膜では反り返りが起こるため引き剥がすことは困難である。ウッド浴(ストライク浴).ウッド浴はストライク浴とも呼ばれ、被めっき物の活性力を高めるために塩化ニッケルで構成される。また、塩酸を添加し、浴を強酸性にしていることも大きな特徴の一つである。浴の水素イオン濃度を高くすることで電流効率を低下する。めっき中に陰極から大量の水素ガスを発生させ、陰極表面を還元雰囲気にすることにより、被めっき物表面の酸化物を金属に還元しながらめっきするため、非常に密着性の良いめっきが可能となる。ステンレスなど表面が酸化膜で覆われている物質に対して非常に有効なめっきである。黒色ニッケルめっき浴.めっき浴組成各成分の働き.ここでは、もっとも一般的なワット浴に関する浴組成について記述する。硫酸ニッケル.硫酸ニッケルはめっき浴のニッケルイオンの供給源および、硫酸イオンによる浴の導電性の維持の役割がある。硫酸ニッケルが不足すると、電流効率が低減しエッジ部などの高電流部に焦げが生じやすくなる。塩化ニッケル.塩化ニッケルはめっき浴のニッケルイオンの供給源であるが、主目的は塩化物イオンの供給である。塩化物イオンの腐食性により、ニッケル陽極からニッケルがイオンとして溶解することを円滑にする効果がある。塩化ニッケルが不足すると陽極が不動態化し印加電圧の上昇が起こる。一方で、塩化ニッケルが過剰となると皮膜硬度が上昇し、内部応力も高くなるので適度に管理する必要がある。ホウ酸.陽極.電解ニッケルめっきの陽極として用いる金属ニッケルは高純度で、円滑に溶解するものでなければならない。一般的に使用されるものを以下に示す。一般的には電解ニッケルが用いられるが、高電流作業などの場合それ以外の溶解性の物を用いる。