全斗煥は韓国の歴代大統領としては初めて、現在の韓国を含む朝鮮半島が日本の領土となったことは、自分の国(当時の大韓帝国)にも責任があったと認め、当時日本でも大きく報道された。翌年の光復節記念式典においても、歴史教科書問題により日本人に対するタクシーの乗車拒否が起こるなど、反日感情が渦巻いていた韓国において前述の通り強硬的な姿勢を見せながらも、「異民族支配の苦痛と侮辱を再び経験しないため確実な保障は、我々を支配した国よりも暮らし易い国、より富強な国を作り上げる道しかあり得ない」と述べ、「克日」を強調した。訪日.その製作には、LIGAプロセスや半導体集積回路作製技術をはじめとして、立体形状や可動構造を形成するために犠牲層エッチングプロセスも用いられる。以前は、MEMSはセンサなどの既存のデバイスの代替を主な目的として研究開発が進められていたが、近年はMEMSにしか許されない環境下での実験手段として注目されている。例えば、電子顕微鏡の中は高真空で微小な空間だが、MEMSならばその小ささと機械的性質を利用して電子顕微鏡下での実験を行うことができる。また、DNAや生体試料などのナノ・マイクロメートルの物質を操作・捕獲・分析するツールとしても活躍している。市場規模が拡大して応用分野も多岐にわたるため、期待は大きく、第二のDRAMと言われたこともある。歴史.現在では後述のように多様な応用先があるため、MEMS応用の市場規模は日本国内だけでも数千億円にものぼり、将来的には数兆円規模になると言われている。CMOS回路と組み合わせたデバイスはCMOS回路とのプロセス技術の整合性からサーフェイスマイクロマシニングを用いる場合が多いが、SOIウエハを用いてバルクマイクロマシニングとCMOS回路を組み合わせたデバイスも多くなってきている。代表的なMEMSデバイス.市販されている代表的なデバイス主な応用先.研究段階の物や期待される応用分野高周波応用.主に微小な高周波スイッチや共振器を実現する。機械的な高周波スイッチの場合、半導体の高周波スイッチより動作速度は遅いものの、低損失のスイッチが実現できる。MEMSにおける特徴的なプロセス技術.集積回路作製技術以外にMEMSで用いられる技術MEMSに用いられるアクチュエータ.静電力を用いたもの.