INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Les figures 13A à 13D sont des vues schématiques de face du stator et du coulisseau du dispositif de récupération selon un mode de réalisation du premier aspect de l’invention, à différentes étapes du mouvement de translation aller-retour du coulisseau.
La est à lire en superposition des figures 13A à 13D. Elle illustre les moments au cours du mouvement de translation aller-retour du coulisseau durant chacun desquels un pulse électrique est généré, cette illustration prenant la forme de deux électrogrammes superposés entre eux, l’électrogramme supérieur étant relatif aux pulses électriques générés dans la partie supérieure du stator et l’électrogramme inférieur étant relatif aux pulses électriques générés dans la partie inférieure du stator.
La illustre un électrogramme issu de l’addition des deux électrogrammes illustrés sur la , après redressement d’un des deux des pulses électriques générés dans chaque partie du stator, ledit redressement étant par exemple obtenu par mise en œuvre d’un pont de diodes tel qu’illustré sur la .
La figure 16A est un graphique illustrant des évolutions de la puissance instantanée produite (en Watt), de la densité de puissance (en Watt par mètre carré et milliwatt par centimètre cube), de l’énergie convertie (en Joules) et du rendement (en pourcentage) en fonction de la valeur de résistance d’un circuit de caractérisation électrique d’un prototype du dispositif selon le premier mode de réalisation de l’invention ; chaque évolution illustrée correspond à un agencement en parallèle et/ou en série de trois sous-bobines d’induction enroulées autour du noyau ferromagnétique de chacune des parties du stator. Le prototype caractérisé a des dimensions de 73x108x93 mm3= 0,733 dm3, un aimant en Nd2Fe14B ( =15 mm, =50 mm), des bobines d’inductance =2x2,5 Henry (en série) et des ressorts de raideur =4x90 N/mm. Ce dispositif s’actionne avec une force externe =900 N en parcourant un déplacement de =2,5mm (pour une énergie mécanique : =2,25 J), en produisant en conditions non optimisées une énergie électrique =0,25 J.
La figure 16B est un graphique illustrant des évolutions d’un pic de tension (en Volt) aux bornes de la résistance du circuit de caractérisation électrique du prototype du dispositif selon le premier mode de réalisation de l’invention en fonction de la valeur de résistance , chaque évolution illustrée correspond à un des agencements en parallèle et/ou en série de trois sous-bobines d’induction enroulées autour du noyau ferromagnétique de chacune des parties du stator qui sont considérées sur la .
La figure 16C est un graphique illustrant des évolutions du courant électrique (en Ampère) du courant aux bornes de la résistance du circuit de caractérisation électrique du prototype du dispositif selon le premier mode de réalisation de l’invention en fonction de la valeur de résistance ; chaque évolution illustrée correspond à un des agencements en parallèle et/ou en série de trois sous-bobines d’induction enroulées autour du noyau ferromagnétique de chacune des parties du stator qui sont considérées sur la .
Selon un mode de réalisation de l’invention, les première et deuxième ouvertures de sortie de vapeur sont configurées pour être orientées à l’opposé du bec verseur, c’est-à-dire vers l’arrière de la bouilloire. Ces dispositions limitent encore les risques d’écoulement d’eau dans le couvercle (via les premier et deuxième orifices d’admission de vapeur et les premier et deuxième conduits d’écoulement de vapeur) lorsqu’un utilisateur verse de l’eau bouillante dans un récipient en inclinant vers l’avant et vers le bas la bouilloire. En outre, lorsque la bouilloire comprend un système de contrôle électromécanique, une telle architecture permet de faciliter le transfert de la vapeur vers la poignée et vers un système de contrôle électromécanique de la bouilloire situé en partie basse et propre à désactiver la chauffe de la bouilloire lorsqu’il détecte de la vapeur.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le premier conduit d’écoulement de vapeur présente une section de passage qui est sensiblement constante le long de la longueur du premier conduit d’écoulement de vapeur, et le deuxième conduit d’écoulement de vapeur présente une section de passage qui est sensiblement constante le long de la longueur du premier conduit d’écoulement de vapeur.
Selon un mode de réalisation de l’invention, chacun des premier et deuxième conduits d’écoulement de vapeur présente une section transversale qui est sensiblement circulaire.
Selon un mode de réalisation de l’invention, chacun des premier et deuxième conduits d’écoulement de vapeur est flexible.
Selon un mode de réalisation de l’invention, chacun des premier et deuxième conduits d’écoulement de vapeur présente une forme générale en V, la forme générale en V, définie par chacun des premier et deuxième conduits d’écoulement de vapeur, présentant une pointe qui est située dans une partie arrière du couvercle. Une telle configuration des premier et deuxième conduits d’écoulement de vapeur permet de limiter encore la quantité d’eau qui est susceptible de pénétrer dans la chambre interne délimitée par le couvercle lors d’une opération de versage de l’eau contenue dans la bouilloire.
Selon un mode de réalisation de l’invention, la pointe de chaque forme générale en V est configurée pour être orientée à l’opposé du bec verseur.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le premier orifice d’admission de vapeur est positionné à proximité de la deuxième ouverture de sortie de vapeur et le deuxième orifice d’admission de vapeur est positionné à proximité de la première ouverture de sortie de vapeur, la pointe de la forme générale en V définie par le premier conduit d’écoulement de vapeur étant située à proximité de la pointe de la forme générale en V définie par le deuxième conduit d’écoulement de vapeur.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le premier conduit d’écoulement de vapeur comporte une première portion de conduit primaire qui est sensiblement rectiligne et qui est reliée fluidiquement au premier orifice d’admission de vapeur, une deuxième portion de conduit primaire qui est sensiblement rectiligne et qui comporte la première ouverture de sortie de vapeur, et une portion intermédiaire primaire qui est courbée et qui relie les première et deuxième portions de conduit primaires entre elles, et le deuxième conduit d’écoulement de vapeur comporte une première portion de conduit secondaire qui est sensiblement rectiligne et qui est reliée fluidiquement au deuxième orifice d’admission de vapeur, une deuxième portion de conduit secondaire qui est sensiblement rectiligne et qui comporte la deuxième ouverture de sortie de vapeur, et une portion intermédiaire secondaire qui est courbée et qui relie les première et deuxième portions de conduit secondaires entre elles.
Selon un mode de réalisation de l’invention, les première et deuxième portions de conduit primaires convergent l’une vers l’autre en direction d’une partie arrière du couvercle, et par exemple sensiblement à l’opposé du bec verseur par rapport à l’axe longitudinal central du contenant, et les première et deuxième portions de conduit secondaires convergent l’une vers l’autre en direction de la partie arrière du couvercle, et par exemple sensiblement à l’opposé du bec verseur par rapport à l’axe longitudinal central du contenant.
Selon un mode de réalisation de l’invention, les premier et deuxième conduits d’écoulement de vapeur sont disposés de manière symétrique par rapport au plan vertical médian de la bouilloire.
Selon un mode de réalisation de l’invention, les premier et deuxième conduits d’écoulement de vapeur sont logés dans la chambre interne délimitée par le couvercle.
Selon un mode de réalisation de l’invention, les premier et deuxième orifices d’admission de vapeur sont situés à proximité d’un bord périphérique de la face inférieure du couvercle. Une telle disposition des premier et deuxième orifices d’admission de vapeur limite encore les risques d’écoulement d’eau bouillante hors de la bouilloire en cas de renversement de cette dernière.
Selon un mode de réalisation de l’invention, les premier et deuxième conduits d’écoulement de vapeur sont configurés pour s’étendre sensiblement horizontalement lorsque le contenant repose sur une surface horizontale.
L'interface entre l'élément 72 et la métallisation 54 a les dimensions maximales, c’est-à-dire correspond à toute la face supérieure de la métallisation 54. La résistance d'émetteur est ainsi inférieure à la résistance d'émetteur de la structure de la .
Au cours de cette étape, le transistor bipolaire est formé. Cette étape comprend ainsi, la formation du collecteur, de la base et de l'émetteur. Cette étape comprend en outre la formation des métallisations 51, 52, 54 et des espaceurs 51', 51'. Dans l'exemple de la , cette étape comprend par exemple plus précisément : - la formation des murs isolants conducteurs 18 autour de la région 17 du substrat 16 ; - la formation, par dopage du substrat des régions 30 et 32 du substrat ; - la formation d'un empilement de couche sur l'ensemble de la structure, l'empilement au moins une couche inférieure isolante, une couche intermédiaire isolante et une couche supérieure isolante, par exemple en un matériau isolant différent du matériau de la couche intermédiaire ; - la formation d'une cavité traversant l'empilement à l'emplacement de la région 34 et de la partie 40a, de manière à atteindre la région 32 ; - la formation de la région 34 et de la partie 40a dans la cavité ; - la formation des éléments 48 ; - la formation d'une couche en le matériau de l'émetteur et la gravure de ladite couche et de la couche supérieure de l'empilement de manière à former l'émetteur ; - la formation de la couche 56 ; - la formation des parties 40b, par exemple par croissance épitaxiale ; - la formation des espaceurs 51', 52' ; et - la formation des métallisations 51, 52, 54.
L'étape de la peut par exemple être remplacé par un autre procédé de fabrication d'un transistor bipolaire comprenant la formation du collecteur, de la base et de l'émetteur et la formation des métallisations 51, 52, 54 et des espaceurs 51', 51'.
La représente un dispositif résultant d'une autre étape du procédé de fabrication du mode de réalisation de la .
Au cours de cette autre étape, les espaceurs 68 et 70 sont formés. Plus précisément, une couche en le matériau des espaceurs 68 et 70 est formée sur l'ensemble de la structure. En particulier, ladite couche recouvre les métallisations 51, 52 et les espaceurs 51' et 52'.
L'étape de la comprend en outre une étape de gravure anisotrope de ladite couche en le matériau des espaceurs 68 et 70. La couche est ainsi gravée de manière à être entièrement retirée, à l'exception des espaceurs 68 et 70. Les espaceurs 68, 70 recouvrent en particulier les métallisations 51 et 52 et les espaceurs 51', 52'. Les espaceurs 68, 70 recouvrent de préférence entièrement les espaceurs 51' et 52' et recouvrent partiellement les métallisations 51, 52. Les espaceurs 68 recouvrent partiellement les métallisations 51. Plus précisément, les espaceurs 68 recouvrent la partie des métallisations 51 la plus proche des espaceurs 51'. Par exemple, les espaceurs 68 recouvrent au moins 5 % des métallisations 51. Similairement, les espaceurs 70 recouvrent partiellement les métallisations 52. Plus précisément, les espaceurs 70 recouvrent la partie des métallisations 52 la plus proche des espaceurs 52'. Par exemple, les espaceurs 70 recouvrent au moins 5 % des métallisations 52.
Au cours de cette autre étape, la couche 56 est formée sur l'ensemble de la structure. Ainsi, la couche 56 a une épaisseur supérieure à la distance entre la face supérieure du substrat 16 et la face supérieure de la métallisation 54. Le transistor est ainsi entièrement recouvert par la couche 56.
La couche 56 et les espaceurs 68, 70 sont de préférence en des matériaux différents. Par exemple, la couche 56 est en un matériau gravable sélectivement par rapport au matériau des espaceurs 68, 70.
L'étape de la comprend en outre la formation des contacts 58, 60 et de l'élément de connexion 72. La formation des contacts 58 comprend la formation de cavités traversant la couche 56 et les espaceurs 51' et 68 de manière à atteindre la métallisation 51. La formation des contacts 60 comprend la formation de cavités traversant la couche 56 et les espaceurs 52' et 70 de manière à atteindre la métallisation 52. La formation de l'élément 72 comprend la formation d'une cavité traversant la couche 56 de manière à atteindre la métallisation 54.
La formation des cavités correspondant aux contacts 58, 60 comprend par exemple plusieurs étapes de gravure correspondant aux matériaux de la couche 56 et des espaceurs 21', 52', 68, 70. La formation de la cavité correspondant à l'élément de connexion 72 comprend par exemple une unique gravure sélective du matériau de la couche 56 par rapport au matériau des espaceurs 70. Autrement dit, le matériau de la couche 56 est gravé au moins deux fois, de préférence au moins cinq fois, plus vite que le matériau des espaceurs 70. Ainsi, les espaceurs 70 ne sont par exemple pas gravés lors de la formation de la cavité correspondant à l'élément 72 ou sont gravés sur une faible hauteur, par exemple sur une hauteur inférieure à la moitié de la distance entre la face supérieure de la métallisation 54 à la face supérieure de la métallisation 52.
Par exemple, la formation des contacts 58, 60 et la formation de l'élément 72 ne sont pas effectuées simultanément. Ainsi, les cavités correspondant aux contacts 58, 60 sont formées avant la formation de la cavité correspondant à l'élément 72, les cavités étant remplies simultanément. Alternativement, la cavité correspondant à l'élément 72 est formée et remplie par l'élément 72 avant la formation de la cavité correspondant aux contacts 58, 60.
Un avantage des modes de réalisation décrits est qu'il est possible de protéger les métallisations 52 de l'élément 72.
Un autre avantage des modes de réalisation décrits est qu'il est possible de diminuer la largeur de l'émetteur sans risquer de connecter la base et l'émetteur. Il est donc possible de diminuer la résistance de base extrinsèque.
Un autre avantage des modes de réalisation décrits est qu'il est possible de rapprocher les métallisations 51 de l'émetteur, en diminuant la largeur des espaceurs 52', et ainsi de diminuer la résistance de base intrinsèque.
Optionnellement : un co-solvant pour le peptide, comme de la glycérine ou du sorbitol.
Optionnellement : ajoutés dans l’une des phases A à C (voir le tableau ci-dessous) ou via des phases supplémentaires :
Ajusteur de pH : par exemple de l’acide citrique en quantité adaptée pour avoir un pH de 5 à 6 ;
Agent bactériostatique : 1 à 6%, par exemple du 1,2-octanediol et/ou du propanediol ;
Antioxydants : 0,01 à 1%, par exemple du tocophérol.
Le tableau 1 suivant donne des exemples de formulation selon l’invention et à la suite du tableau se trouve le mode opératoire pour former une suspension de capsules selon l’invention. Les valeurs correspondent à des % en poids par rapport au poids total de la formule.
Pal-PP Pal-GHK Biot-GHK Pal-KMO 2 K Pal-GQPR Pal-KTFK Pal-KTTKS Pal-VGVAPG Phase A : Cire 2,5 2,5 2,5 2,5 2,5 2,5 2,5 2,5 Huile 2,5 / / / 4,5 4,5 4,5 / TA1 2,5 / 2,5 2,5 / 2,5 2,5 / Phase B : Huile 7,5 7,5 7,5 7,5 3 3 3 7,5 TA2 0,5 0,5 0,5 0,5 0,5 0,5 0,5 0,5 Phase C : Eau Qsp 100 Qsp 100 Qsp 100 Qsp 100 Qsp 100 Qsp 100 Qsp 100 Qsp 100 Peptide 0,01 0,01 0,01 0,01 0,01 0,01 0,01 0,024 TA1 / 2,5 2,5 / 2,5 / / 2,5 Co-solvant / 10 / / 10 / / / Ajusteur de pH 0,05 0,05 0,03 0,05 0,07 0,01 0,01 0,24
Étape 1 : préparation en parallèle des phases (A), (B) et (C) ; chauffage le cas échéant à une température adaptée pour dissoudre les matières premières solides pour rendre les phases sensiblement liquides et homogènes. Le TA1 (ici le Lauryl glycoside) est soit ajouté à la phase (A), soit à la phase (C), selon la solubilité du peptide. La phase (A) contenant la cire peut contenir une partie de l’huile de la phase (B) afin d’aider la solubilisation du peptide si nécessaire.
Le co-solvant lorsqu’il est présent est ajouté dans la phase aqueuse.
Étape 2 : mélange à chaud des trois phases (A), (B) et (C), à une température à laquelle les trois phases demeurent sensiblement liquide et homogène. Étape 3 : formation à chaud d’une émulsion. Étape 4 : Réduction de la taille des particules par homogénéisation sous haute pression à chaud (3 cycles à 500 bar). Étape 5 : refroidissement à température ambiante de manière à former la suspension de particules submicroniques selon l’invention.
B- Caractérisation des suspensions obtenues 1- Méthodes utilisées 1.1- Caractérisation macroscopique : Pour chaque suspension, sont estimées visuellement à travers un flacon transparent incolore sans aucun instrument, la présence ou l’absence d’aspects hétérogènes, de séparation de phases ou de précipité, et la couleur. La viscosité est également estimée visuellement en comparaison avec l’eau.
1.2- pH : Le pH a été mesuré directement dans la formulation (sans dilution) en utilisant un potentiomètre calibré (pH 4,0 et 7,0).
1.3- Taille des particules :
La technique de diffraction laser (Mastersizer 3000 TM , Malvern). La suspension est directement ajoutée dans l'unité de dispersion humide contenant de l'eau jusqu'à obscurcissement dans la plage de 2 à 8%. L’indice de réfraction utilisé est de 1,456 correspondant à l’indice de la cire, c’est-à-dire du cétyl palmitate. Les résultats sont exprimés en D50 correspondant aux diamètres des particules aux 50 e centile de la courbe de distribution granulométrique, représentatif de la taille moyenne des particules.
Polydispersité : la courbe de distribution montre également l’homogénéité de la taille des particules grâce au calcul de l’indice (ou étendue) : (D90-D10)/D50, D90 et D10 correspondant respectivement aux diamètres des particules aux 90e centile et 10 e centile de la courbe de distribution granulométrique. Une étendue inférieure à 2 est considérée comme une distribution étroite, décrivant une homogénéité de la taille des particules.
La zone de chargement 22 et la zone d’application 24 peuvent être configurées pour être mises en contact simultanément avec la surface cible.
Dans le présent exposé, la tête 12 d’application peut être fabriquée par fabrication additive, également appelée impression 3D.
La tête 12 d’application peut ainsi être conçue librement en fonction de la gestuelle recherchée ou encore du produit cosmétique utilisé, et ce, sans contrainte, du fait du procédé de fabrication par impression 3D.
La tête 12 d’application peut ainsi présenter diverses formes.
La paroi latérale 120 peut par exemple présenter une forme générale de cylindre de cylindre tronconique, d'ovale etc.
L’extrémité supérieure 12A peut présenter, de manière non limitative, une forme arrondie.
L’extrémité inférieure 12B peut présenter, de manière non limitative, une forme allongée.
Selon un mode de réalisation, la tête 12 d’application peut être creuse.
Par tête 12 d’application creuse on entend que la tête d’application 12 est vide à l’intérieur. On entend que l’intérieur de la tête d’application 12 est vide.
Par exemple, l’extrémité supérieure 12A, l’extrémité inférieure 12B et la paroi latérale 120 reliant les extrémités 12A, 12B délimitent un creux 50 dans la tête d’application 12 ( ).
La tête 12 d’application creuse permet de réduire le poids du dispositif d’application et de fournir en outre un dispositif d’application léger.
Dans cet exemple, la zone de chargement 22 peut comprendre une cavité 40 unique, la cavité unique étant formée par le creux 50 de la tête d’application 12 et débouchant à l’extérieur de la tête d’application 12 par au moins un orifice 100.
Ledit au moins un orifice 100 peut être formé dans la tête d’application 12 de sorte à créer un passage 30 entre l’extérieur de la tête d’application et la cavité 50 de la tête d’application ( ).
Par exemple, ledit au moins un orifice 100 peut être formé/ménagé dans la paroi latérale 120 de la tête d’application.
Par exemple, la cavité 50 peut déboucher à l’extérieur de la tête d’application 12 par un orifice unique.
Par exemple, la cavité 50 peut déboucher à l’extérieur de la tête d’application 12 par une pluralité d’orifices (figures 1 à 11).
Les premières poulies 38 sont ici identiques entre elles.
Les premières poulies 38 sont superposées entre elles selon un axe de superposition. L’axe de superposition est ici, par exemple, le premier axe de rotation commun d1.
Le premier axe de rotation commun d1 est ici vertical.
Chaque première poulie 38 présente une gorge prévue pour recevoir un passage, plus particulièrement un unique passage, du câble électrique 12.
La gorge est prévue sur un pourtour de la première poulie 38, autour du premier axe de rotation commun d1.
Les premières poulies sont maintenues par un étrier 40.
L’étrier 40 comprend une base et au moins deux, ici trois, maintiens latéraux 42.
La base s’étend d’un côté de la superposition des premières poulies 38.
Plus particulièrement ici, la base s’étend sous les premières poulies 38 selon le premier axe de rotation commun d1.
Chaque maintien latéral 42 s’étend depuis la base.
Chaque maintien latéral 42 s’étend parallèlement au premier axe de rotation commun d1 à côté des premières poulies.
Plus particulièrement, l’étrier 40 comprend deux maintiens latéraux agencés de part et d’autre des premières poulies 38 selon une direction perpendiculaire au premier axe de rotation commun d1, dite direction transversale, et un troisième maintien latéral agencé sur un côté des premières poulies 38 selon une direction perpendiculaire au premier axe de rotation commun d1 et à la direction longitudinale.
Le troisième maintien latéral est agencé du côté des premières poulies 38 à l’opposé du deuxième ensemble de poulie 16, c’est-à-dire du côté le plus éloigné du deuxième ensemble de poulie 16.
Les premières poulies sont fixées à un plateau 44, plus particulièrement par l’étrier 40 et par le premier axe de rotation commun d1.
Les premières poulies sont ici agencées sous le plateau 44 selon le premier axe de rotation commun d1.
Les premières poulies sont maintenues entre le plateau 44 et l’étrier 40, plus particulièrement la base de l’étrier, selon la direction du premier axe de rotation commun d1.
Les vannes V1 140 et V2 141 sont contrôlées en ouverture par le contrôleur CTRL 300 de sorte à réguler la température du liquide de refroidissement en entrée de ladite au moins une pile à combustible FC 110 à une première température cible TT1. La première température cible TT1 est définie en fonction d’un intervalle de température d’un cahier des charges d’utilisation de ladite au moins une pile à combustible FC 110, typiquement entre 85 et 90°C. Un capteur de température T1 160 est présent sur la première boucle 100 en entrée de ladite au moins une pile à combustible FC 110 pour réaliser des mesures de température du liquide de refroidissement et est connecté au contrôleur CTRL 300 de sorte à fournir au contrôleur CTRL 300 les mesures en question.
La première boucle 100 comporte en outre un réservoir régulateur RES 150, connecté par une conduite de régulation 102, en entrée de ladite au moins une pile à combustible FC 110. Le réservoir régulateur RES 150 permet de compenser des variations de volume de liquide de refroidissement dans le circuit de refroidissement qui sont liées aux variations de température dudit liquide de refroidissement, et le réservoir régulateur RES 150 est agencé pour assurer une pression régulée PREG en entrée de ladite au moins une pile à combustible FC 110. La pression régulée PREG est définie en fonction d’un intervalle de pression du cahier des charges d’utilisation de ladite au moins une pile à combustible FC 110. Par exemple, la conduite de régulation 102 débouche au croisement de la branche de recirculation 101 et d’une voie de retour du liquide de refroidissement en provenance de l’échangeur de chaleur à air dynamique primaire PHX 120, en entrée de ladite au moins une pile à combustible FC 110.
Le circuit de refroidissement comporte une seconde boucle 200 destinée au refroidissement d’au moins un équipement électronique de puissance PE 210.