Masque de soin des matières kératiniques, comprenant : i) un substrat occlusif avec un taux de transmission de la vapeur d’eau de 0,01 à 10 g/m 2 /24h et ii) une composition imprégnée dans le substrat occlusif, dans laquelle la composition comprend : a) au moins un tensioactif choisi parmi les esters polyglycéryliques d’acide gras avec HLB > 10 et b) au moins un C-glycoside. Masque selon la revendication 1, le tensioactif y étant choisi parmi : - les monocaprylates de polyglycéryle comprenant 3 à 6 motifs glycérol, - le monolaurate de polyglycéryle comprenant 3 à 6 motifs glycérol, - le mono(iso)stéarate de polyglycéryle comprenant 3 à 6 motifs glycérol, - le monooléate de polyglycéryle comprenant 3 à 6 motifs glycérol, - le dioléate de polyglycéryle comprenant 3 à 6 motifs glycérol, et - le monocaprate de polyglycéryle comprenant 3 à 6 motifs glycérol ; et - leurs mélanges, de préférence, l’ester polyglycérylique d’acide gras est choisi parmi les monocaprylates de polyglycéryle comprenant 3 à 6 motifs glycérol, les monolaurates de polyglycéryle comprenant 3 à 6 motifs glycérol, les monocaprates de polyglycéryle comprenant 3 à 6 motifs glycérol, et leurs mélanges, de préférence, l’ester polyglycérylique d’acide gras est le caprylate de polyglycéryle-6. Le masque selon la revendication 1 ou 2 dans lequel le tensioactif est présent en une quantité allant de 0,5 % en poids à 15 % en poids, de préférence de 2 % en poids à 12 % en poids, mieux encore de 3 % en poids à 10 % en poids, par rapport au poids total de la composition. Le masque selon l’une quelconque des revendications 1 à 3, le C-glycoside étant sélectionné parmi les composée de formule (I) : (I) où : - R représente un radical alkyle saturé en C 1 à C 10 , en particulier en C 1 à C 4 qui peut facultativement être remplacé par au moins un radical choisi parmi OH, COOH ou COOR'' 2 , R'' 2 étant un radical alkyle saturé en C 1 -C 4, - S représente un monosaccharide ou un polysaccharide comprenant jusqu’à 20 motifs sucre, en particulier jusqu’à 6 motifs sucre, sous forme de pyranose et/ou de furanose et des séries L et/ou D, ledit monosaccharide ou polysaccharide pouvant être substitué par un groupe hydroxyle qui est nécessairement libre et facultativement un ou plusieurs groupes fonctionnels amine protégés, et - X représente un radical choisi parmi les groupes -CO-, -CH(OH)-, -CH(NH 2 )-, -CH(NHCH 2 CH 2 CH 2 OH)-, -CH(NHPh)- et –CH(CH 3 )- et en particulier un radical -CO-, -CH(OH)- ou -CH(NH 2 )- et plus particulièrement un radical -CH(OH)-, la liaison S-CH 2 -X représente une liaison de nature C-anomère, qui peut être α ou β, ainsi que leurs sels physiologiquement acceptables, leurs solvates, tels que les hydrates et leurs isomères optiques et géométriques. Masque selon l’une quelconque des revendications 1 à 4, le C-glycoside étant sélectionné parmi - C-β-D-xylopyranoside-n-propane-2-one, - C-α-D-xylopyranoside-n-propane-2-one, - C-β-D-xylopyranoside-2-hydroxypropane, - C-α- D-xylopyranoside-2-hydroxypropane, - 1-(C-β-D-fucopyranoside)propane-2-one, - 1-(C-α-D-fucopyranoside)propan-2-one, - 1-(C-β-L-fucopyranoside)propane-2-one, - 1-(C-α-L-fucopyranoside)propane-2-one, - 1-(C-β-D-fucopyranoside)-2-hydroxypropane, - 1-(C-α-D-fucopyranoside)-2-hydroxypropane, - 1-(C-β-L-fucopyranoside)-2-hydroxypropane, - 1-(C-α-L-fucopyranoside)-2-hydroxypropane, - 1-(C-β-D-glucopyranosyl)-2-hydroxypropane, - 1-(C-α-D-glucopyranosyl)-2-hydroxypropane, - 1-(C-β-D-galactopyranosyl)-2-hydroxypropane, - 1-(C-α-D-galactopyranosyl)-2-hydroxypropane, - 1-(C-β-D-fucofuranosyl)propane-2-one, - 1-(C-α-D-fucofuranosyl)propane-2-one, - 1-(C-β-L-fucofuranosyl)propane-2-one, - 1-(C-α-L-fucofuranosyl)propane-2-one, - C-β-D-maltopyranoside-n-propane-2-one, - C-α-D-maltopyranoside-n-propane-2-one, - C-β-D-maltopyranoside-2-hydroxypropane, - C-α-D-maltopyranoside-2-hydroxypropane, leurs isomères et leurs mélanges. Le masque selon l’une quelconque des revendications 1 à 5, comprend en outre une phase aqueuse. Masque selon la revendication 6, la phase aqueuse comprenant de l’eau et des solvants organiques miscibles dans l’eau ou au moins partiellement miscibles dans l’eau choisis parmi les monoalcools contenant de 2 à 6 atomes de carbone et des polyols contenant notamment de 2 à 20 atomes de carbone ; de préférence, le solvant organique est choisi parmi l’éthoxydiglycol, le propanediol, la glycérine et leurs combinaisons. Le masque selon l’une quelconque des revendications 1 à 7, comprend en outre au moins un co-tensioactif choisi parmi les esters d’acides gras oxyéthylénés de sorbitan, les acides gras avec point de fusion ≤ 30℃ et leurs combinaisons. Masque selon la revendication 1, comprenant : i) un substrat occlusif avec un taux de transmission de la vapeur d’eau de 0,01 à 10 g/m 2/24 h et ii) une composition imprégnée dans le substrat occlusif, ladite composition comprenant, par rapport au poids total de la composition : a) de 3 % en poids à 10 % en poids d’au moins un tensioactif choisi parmi les monocaprates de polyglycéryle comprenant 3 à 6 motifs glycérol et b) de 0,1 % en poids à 15 % en poids d’au moins un C-glycoside choisi parmi le C-β-D-xylopyranoside-2-hydroxypropane ou le C-α-D-xylopyranoside-2-hydroxypropane, et leurs combinaisons ; Procédé non thérapeutique pour le soin de matières kératiniques, comprenant l’application du masque selon l’une quelconque des revendications 1 à 9 sur les matières kératiniques.