INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans ce mode de réalisation, le procédé de contrôle comprend une étape de détection de la mise en mouvement de la tête de pipetage 1 par la détection, par les moyens de mesure 501, d’un coulissement de chacun des deux pions 551a, 551b dans les deux trous oblongs 520a, 520b depuis une position par défaut dans laquelle chacun des deux pions 551a, 551b est centré par rapport au trou oblong 520a, 520b dans lequel il est monté coulissant, et une position décalée dans laquelle chacun des deux pions 551a, 551b est décalé par rapport au centre du trou oblong 520a, 520b dans lequel il est monté coulissant.
De ce fait, et suite à l’étape de détection de la mise en mouvement de la tête de pipetage 1, le procédé de contrôle comprend une étape de contrôle de la vitesse de rotation du moteur 50, par les moyens de commande 503, de sorte à ramener chacun des deux pions 551a, 551b dans la position par défaut.
Avant une utilisation, tel qu’un protocole de pipetage, ou au début d’une journée, le procédé de contrôle peut également comprendre une étape préalable de calibrage des moyens de mesure 501 de sorte à les étalonner avant de procéder à des prélèvements ou des titrages par exemple.
En outre, avant une utilisation, tel qu’un protocole de pipetage, ou au début d’une journée, le procédé de contrôle peut également comprendre une étape de positionnement de la tête de pipetage 1 depuis une position de rangement vers la plage de mouvement prédéfinie.
Selon une variante, aucune mémoire 34 ne stocke la base des clés de déchiffrement fonctionnel, la base des clés de déchiffrement fonctionnel étant stockée dans la mémoire 64 du dispositif d’enrôlement 6. Un dispositif participant 3 qui met en œuvre l’étape d’obtention d’un score (étape E106) peut alors obtenir la clé de déchiffrement fonctionnel requise pour l’exécution de cette étape, du dispositif d’enrôlement (par l’intermédiaire de l’interface de communication 32 dudit dispositif participant et de l‘interface de communication 62 du dispositif d’enrôlement) puis effacer ladite clé de déchiffrement reçue une fois l’exécution de l’étape d’obtention d’un score terminée.
Dans ce qui précède, il a été discuté une application particulière du procédé, dans laquelle le résultat du contrôle conditionne un accès à une zone sécurisée. Il est toutefois entendu que le procédé décrit peut être utilisé pour d’autres applications.
Commande d’une interface à retour haptique La présente description concerne de façon générale les interfaces à retour haptique et, plus particulièrement, la commande électronique d’une telle interface. La présente description s’applique aux interfaces à retour haptique équipant par exemple des écrans d’affichage.
Une interface à retour haptique est basée sur l’association d’actionneurs piézoélectriques et d’une surface destinée au toucher d’un utilisateur. Les actionneurs peuvent être commandés à une fréquence ultrasonique de façon à faire vibrer la surface et procurer à l’utilisateur une sensation de texture de la surface. Une technique de retour haptique, dite de lubrification ultrasonique, consiste à produire un effet de modulation de friction à la surface de contact.
La commande ou pilotage des actionneurs piézoélectriques est un aspect critique du fonctionnement d’une interface à retour haptique car cette commande conditionne la qualité du retour haptique apportée par la surface de contact.
Il existe un besoin d’amélioration des procédés et systèmes de commande des interfaces à retour haptique.
Un mode de réalisation pallie tout ou partie des inconvénients des procédés et circuits de commande ou pilotage des interfaces à retour haptique.
Un mode de réalisation prévoit un dispositif à retour haptique comportant une plaque définissant une surface de contact destinée à être touchée par un corps externe et des actionneurs piézoélectriques configurés pour mettre en vibration la plaque, les actionneurs piézoélectriques étant reliés en parallèle à un premier élément inductif et, à un circuit d’application d’une tension alternative par l’intermédiaire d’un deuxième élément inductif série, dans lequel : - la valeur du deuxième élément inductif est choisie pour être au moins dix fois supérieure au rapport entre la résistance électrique équivalente de l’ensemble actionneurs et plaque et la pulsation de résonance mécanique de cet ensemble ; et - la valeur Lp du premier élément inductif est choisie par application de la formule suivante : (4) où Ls représente la valeur du deuxième élément inductif, ω0 la pulsation de résonance mécanique, C0 la capacité statique des actionneurs piézoélectriques et Cm la capacité équivalente de l’ensemble actionneurs et plaque.
Selon un mode de réalisation, le dispositif comporte un transformateur d’amplification de ladite tension alternative, un enroulement primaire du transformateur étant en parallèle avec le premier élément inductif, un enroulement secondaire du transformateur étant en parallèle avec l’ensemble des actionneurs piézoélectriques.
Selon un mode de réalisation, les valeurs de la capacité statique et de la capacité équivalente de l’ensemble actionneurs et plaque correspondent aux valeurs ramenées au primaires du transformateur.
Selon un mode de réalisation, le dispositif comporte en outre un circuit d’asservissement de la fréquence de pilotage des actionneurs pour qu’elle corresponde à la fréquence de résonance mécanique de l’ensemble actionneurs et plaque.
Selon un mode de réalisation, le circuit d'asservissement exploite une mesure de déphasage entre la tension aux bornes de l’ensemble actionneurs et plaque et la tension fournie par le circuit d’application d’une tension alternative ou le courant circulant dans l’ensemble actionneurs et plaque.
Selon un mode de réalisation, le circuit d’asservissement comporte au moins un capteur piézoélectrique configuré pour mesurer une tension, le déphasage entre cette tension, et la tension aux bornes de l'ensemble actionneurs et plaque ou la tension fournie par le circuit d'application d'une tension alternative, étant utilisé pour asservir la fréquence de pilotage.
Selon un mode de réalisation, la fréquence de résonance mécanique est comprise entre 20 et 200 kHz, de préférence entre 60 et 80 kHz.
Selon un mode de réalisation, la plaque constitue la plaque d’un écran de tableau de bord d’un véhicule automobile.
Selon un mode de réalisation, la première inductance (Lp) est comprise entre 200 et 400 µH.
est une vue en perspective de la seconde partie de support 80. est une vue en perspective du corps principal de chauffe-eau 10 autour de la seconde partie de support 80 où le corps principal de chauffe-eau 10 est cassé suivant la ligne VIII-VIII de .
Comme le montre , la seconde partie de support 80 comprend un second corps de support 89, deux troisièmes matériaux de rembourrage 82C et un quatrième matériau de rembourrage 83C. Le second corps de support 89 est un élément plaque constitué de métal et formé par emboutissage. Le troisième matériau de rembourrage 82C et le quatrième matériau de rembourrage 83C sont constitués du même matériau que le premier matériau de rembourrage 50C et le deuxième matériau de rembourrage 90C.
Le second corps de support 89 comprend une partie plaque de corps principal 81, deux parties plaques de renfort 84, deux pièces de fixation 85, deux premières pièces saillantes 82 et une seconde pièce saillante 83. La partie plaque de corps principal 81 présente une forme de plaque orthogonale à la direction avant-arrière X. La partie plaque de corps principal 81 présente une forme sensiblement rectangulaire lorsqu’elle est vue dans la direction avant-arrière X. La partie plaque de corps principal 81 comprend une partie saillante 81a située dans une partie extrême inférieure. La partie saillante 81a est située sensiblement au centre de la partie plaque de corps principal 81 dans la direction droite-gauche Y. De plus, la partie plaque de corps principal 81 est munie d’un trou traversant 81h pénétrant dans la partie plaque de corps principal 81 dans le sens de l’épaisseur. Le trou traversant 81h présente une forme sensiblement rectangulaire lorsqu’il est vu dans la direction avant-arrière X.
Les deux parties plaques de renfort 84 présentent une forme de plaque orthogonale à la direction droite-gauche Y. Les deux parties plaques de renfort 84 sont formées pour être pliées vers le côté avant à partir des deux parties extrêmes de la partie plaque de corps principal 81 dans la direction droite-gauche Y. La pièce de fixation 85 présente une forme de plaque orthogonale à la direction verticale Z. Chacune des deux pièces de fixation 85 est reliée à une partie extrême inférieure des parties plaques de renfort 84 situées sur les deux côtés dans la direction droite-gauche Y.
Les deux premières pièces saillantes 82 sont disposées en parallèle dans la direction droite-gauche Y. Chacune des deux premières pièces saillantes 82 est reliée à un bord extrême supérieur de la partie plaque de corps principal 81. La première pièce saillante 82 comprend une première partie saillante arrière 82b et une partie saillante supérieure 82a. La première partie saillante arrière 82b présente une forme de plaque orthogonale à la direction verticale Z. La partie saillante supérieure 82a présente une forme de plaque orthogonale à la direction avant-arrière X. La première partie saillante arrière 82b et la partie saillante supérieure 82a sont formées pour être pliées en forme de L lorsqu’elles sont vues dans la direction droite-gauche Y. La première partie saillante arrière 82b s’étend vers le côté arrière à partir de la partie plaque de corps principal 81. La première partie saillante arrière 82b comprend une deuxième surface de support 82g en regard du côté inférieur. La partie saillante supérieure 82a s’étend vers le côté supérieur à partir d’une partie extrême sur le côté arrière de la première partie saillante arrière 82b. La partie saillante supérieure 82a comprend une quatrième surface de support 82f en regard du côté arrière. Autrement dit, la première pièce saillante 82 comprend une deuxième surface de support 82g et une quatrième surface de support 82f. Le troisième matériau de rembourrage 82C est fixé à la première pièce saillante 82. Le troisième matériau de rembourrage 82C est collé et fixé à la deuxième surface de support 82g et à la quatrième surface de support 82f.
La seconde pièce saillante 83 est reliée à un bord extrême supérieur du trou traversant 81h de la partie plaque de corps principal 81. La seconde pièce saillante 83 comprend une seconde partie saillante arrière 83b et une partie saillante inférieure 83a. La seconde partie saillante arrière 83b présente une forme de plaque orthogonale à la direction verticale Z. La partie saillante inférieure 83a présente une forme de plaque orthogonale à la direction avant-arrière X. La seconde partie saillante arrière 83b et la partie saillante inférieure 83a sont formées pour être pliées en forme de L lorsqu’elles sont vues dans la direction droite-gauche Y. La seconde partie saillante arrière 83b s’étend vers le côté arrière à partir de la partie plaque de corps principal 81. La partie saillante inférieure 83a s’étend vers le côté inférieur à partir d’une partie extrême sur le côté arrière de la seconde partie saillante arrière 83b. La partie saillante inférieure 83a comprend une quatrième surface de support 83f en regard du côté arrière. Autrement dit, la seconde pièce saillante 83 comprend la quatrième surface de support 83f. Le quatrième matériau de rembourrage 83C est fixé à la seconde pièce saillante 83. Le quatrième matériau de rembourrage 83C est collé et fixé à la quatrième surface de support 83f et à une surface en regard du côté supérieur de la seconde partie saillante arrière 83b.
Comme le montre , une surface inférieure de la pièce de fixation 85 est montée sur une surface supérieure de la partie structure supérieure 71a de la structure de support 71. La pièce de fixation 85 est raccordée à la partie structure supérieure 71a par un raccord tel qu’une soudure. De cette manière, la seconde partie de support 80 est fixée à une partie extrême supérieure de la structure de support 71. Comme le montre la , la structure de support 71 est fixée aux deux parties parois latérales 11b de l’enceinte 11. Autrement dit, la seconde partie de support 80 est fixée à l’enceinte 11 par l’intermédiaire de la structure de support 71. La structure de support 71 est fixée à l’enceinte 11 dans un état où la seconde partie de support 80 est soudée et fixée à l’avance.
Comme le montre , la première pièce saillante 82 est située sur le côté supérieur de la partie de bride d’accouplement 50f du réservoir d’expansion 50. De plus, la seconde pièce saillante 83 est située sur le côté inférieur de la partie de bride d’accouplement 50f. La deuxième surface de support 82g de la première pièce saillante 82 entre en contact avec une surface supérieure de la partie de bride d’accouplement 50f par l’intermédiaire du premier matériau de rembourrage 50C et du troisième matériau de rembourrage 82C par le côté supérieur. Le premier matériau de rembourrage 50C et le troisième matériau de rembourrage 82C sont comprimés dans la direction verticale Z entre la partie de bride d’accouplement 50f et la deuxième surface de support 82g.
La quatrième surface de support 82f de la première pièce saillante 82 entre en contact avec une surface en regard du côté avant du réservoir d’expansion 50 par l’intermédiaire du troisième matériau de rembourrage 82C. Le troisième matériau de rembourrage 82C est comprimé dans la direction avant-arrière X entre la surface avant du réservoir d’expansion 50 et la quatrième surface de support 82f. La quatrième surface de support 83f de la seconde pièce saillante 83 entre en contact avec une surface en regard du côté avant du réservoir d’expansion 50 par l’intermédiaire du quatrième matériau de rembourrage 83C par le côté avant. Le quatrième matériau de rembourrage 83C est comprimé dans la direction avant-arrière X entre la surface avant du réservoir d’expansion 50 et la quatrième surface de support 82f.
La seconde partie de support 80 supporte le réservoir d’expansion 50 par le côté supérieur sur la deuxième surface de support 82g et supporte le réservoir d’expansion 50 par l’avant sur les quatrièmes surfaces de support 82f et 83f. De plus, les quatrièmes surfaces de support 82f et 83f du présent mode de réalisation supportent chacune une région sur le côté supérieur et une région sur le côté inférieur du réservoir d’expansion 50, tandis que la partie de bride d’accouplement 50f est intercalée entre elles.
Comme le montre , la partie soupape 59 du réservoir d’expansion 50 est disposée entre les deux premières pièces saillantes 82 dans la direction droite-gauche Y. Un bord extrême supérieur de la seconde partie de support 80 est situé sur le côté inférieur par rapport à la partie soupape 59 dans une région située entre les deux premières pièces saillantes 82. Par conséquent, la seconde partie de support 80 est située sur le côté inférieur de la partie soupape 59. Selon le présent mode de réalisation, la seconde partie de support 80 n’est pas disposée sur le côté supérieur de la partie soupape 59, et un opérateur de maintenance peut facilement accéder à la partie soupape 59 par le côté supérieur. Selon le présent mode de réalisation, un fonctionnement de la partie soupape 59 est moins susceptible d’être entravé par la seconde partie de support 80, et la partie soupape 59 peut être facilement actionnée par l’opérateur de maintenance.
Comme le montre , le chauffe-eau 100 du mode de réalisation décrit ci-dessus comprend l’enceinte 11, l’unité de chauffage 13 logée à l’intérieur de l’enceinte 11, le réservoir d’expansion 50 logé à l’intérieur de l’enceinte 11, la première partie de chemin de circulation 12A traversant l’unité de chauffage 13, la partie de chemin de dérivation 17 dérivant de la première partie de chemin de circulation 12A et raccordée au réservoir d’expansion 50, et la partie de support de réservoir 10A supportant le réservoir d’expansion 50 à l’intérieur de l’enceinte 11 (voir ). Comme le montre , la partie de support de réservoir 10A comprend la première partie de support 90 située sur le côté arrière par rapport au réservoir d’expansion 50, et la seconde partie de support 80 située sur le côté avant par rapport au réservoir d’expansion 50. Comme le montre , la première partie de support 90 comprend la première surface de support 92a supportant le réservoir d’expansion 50 par le côté inférieur. Comme le montre , la seconde partie de support 80 comprend la deuxième surface de support 82g supportant le réservoir d’expansion 50 par le côté supérieur. Selon cette configuration, le réservoir d’expansion 50 est supporté des deux côtés dans la direction verticale Z par la première surface de support 92a et la deuxième surface de support 82g. Par conséquent, il est possible de supprimer le cliquetis du réservoir d’expansion 50 à l’intérieur de l’enceinte 11, et il est possible de supprimer une possibilité que le réservoir d’expansion 50 vibre en résonance avec les vibrations de la pompe 15 lorsque la pompe 15 est entraînée. De cette manière, le chauffe-eau 100 selon l’invention peut être très silencieux. Selon cette configuration, la partie de support de réservoir 10A fixe le réservoir d’expansion 50 en pressant la première surface de support 92a et la deuxième surface de support 82g contre la surface du réservoir d’expansion 50 des deux côtés dans la direction verticale Z. Par conséquent, il n’est pas nécessaire d’inclure de procédure compliquée, comme un vissage, dans un processus de fixation du réservoir d’expansion 50, et un processus d’assemblage du chauffe-eau 100 peut être simplifié. Par conséquent, le chauffe-eau 100 permet de supprimer le cliquetis du réservoir d’expansion sans compliquer le processus d’assemblage.
Dans le chauffe-eau 100 du mode de réalisation décrit ci-dessus, comme le montre , le premier matériau de rembourrage 50C est disposé entre la première surface de support 92a et le réservoir d’expansion 50. De plus, comme le montre , le premier matériau de rembourrage 50C et le troisième matériau de rembourrage 82C sont disposés entre la deuxième surface de support 82g et le réservoir d’expansion 50. Selon cette configuration, une erreur dans les dimensions d’assemblage de la première surface de support 92a et de la deuxième surface de support 82g peut être absorbée par la compression des matériaux de rembourrage 50C et 82C, et le cliquetis du réservoir d’expansion 50 peut être avantageusement supprimé.
Comme le montre , dans le chauffe-eau 100 du mode de réalisation décrit ci-dessus, la première partie de support 90 comprend la troisième surface de support 97f supportant le réservoir d’expansion 50 par le côté arrière. Comme le montre , la seconde partie de support 80 comprend les quatrièmes surfaces de support 82f et 83f supportant le réservoir d’expansion 50 par le côté avant. Selon cette configuration, le réservoir d’expansion 50 est en outre supporté des deux côtés dans la direction avant-arrière X par la troisième surface de support 97f et les quatrièmes surfaces de support 82f et 83f. Par conséquent, il est possible de supprimer le cliquetis du réservoir d’expansion 50 dans la direction avant-arrière X à l’intérieur de l’enceinte 11.
Comme le montre , dans le chauffe-eau 100 du mode de réalisation décrit ci-dessus, le premier matériau de rembourrage 50C et le deuxième matériau de rembourrage 90C sont disposés entre la troisième surface de support 97f et le réservoir d’expansion 50. Comme le montre , le troisième matériau de rembourrage 82C ou le quatrième matériau de rembourrage 83C est disposé entre les quatrièmes surfaces de support 82f, 83f et le réservoir d’expansion 50. Selon cette configuration, une erreur dans les dimensions d’assemblage de la troisième surface de support 97f et des quatrièmes surfaces de support 82f et 83f peut être absorbée par la compression des matériaux de rembourrage 50C, 90C, 82C et 83C, et le cliquetis du réservoir d’expansion 50 dans la direction avant-arrière X peut être avantageusement supprimé.
Comme le montre , dans le chauffe-eau 100 du mode de réalisation décrit ci-dessus, le réservoir d’expansion 50 comprend l’élément supérieur 51 et l’élément inférieur 52 qui forment l’espace de stockage B. L’élément supérieur 51 et l’élément inférieur 52 ont respectivement la partie de bride 51f, 52f accouplée pour se faire face l’un à l’autre dans la direction verticale Z. La première partie de support 90 supporte la partie de bride d’accouplement 50f à laquelle les parties de brides 51f et 52f sont accouplées par le côté inférieur. La seconde partie de support 80 supporte la partie de bride d’accouplement 50f par le côté supérieur. En général, le réservoir d’expansion 50 est constitué d’un matériau métallique afin de garantir une résistance thermique élevée. Par conséquent, le réservoir d’expansion 50 comprend la partie de bride d’accouplement 50f prévue lorsque l’élément inférieur 52 et l’élément supérieur 51 sont accouplés l’un à l’autre. Selon cette configuration, le réservoir d’expansion 50 peut être supporté au moyen de la partie de bride d’accouplement 50f du réservoir d’expansion 50. Par conséquent, les coûts de fabrication du réservoir d’expansion 50 peuvent être réduits par rapport à un corps cible de support supporté par la première partie de support 90 et la seconde partie de support 80 qui sont apportées séparément dans le réservoir d’expansion 50.
On peut alors approximer :
Où et est un réel paramétrable.
Si la différence entre la moyenne de et celle de est supérieure ou égale à on estime que
En effet, quand (soit alors ), Inversement, si (soit alors ), Sinon,
Notons que pour tout , on a .
En effet, si l’on considère une fonction , alors la dérivée de est . Son tableau de variation est :
Ainsi, pour tout En divisant par D’où,
En appliquant ce résultat, on obtient,
Dans le cas où l’écart entre les quantités n’est pas très grand, on approxime
Avantageusement, comme montré ci-après en lien avec la , l’erreur sur l’estimation du coefficient de corrélation impacte peu la précision de l’estimation des paramètres caractéristiques du SINR à l’échelle logarithmique (moyenne et variance). En résumé :
Dans la suite, on considère que si l’écart entre est supérieur à une valeur fixée Cela signifie où Ainsi,
Le même raisonnement s’applique pour la quantité entre les variables aléatoires et :
En se basant sur ces approximations de , les expressions de deviennent calculables facilement. Ainsi, on peut en déduire On injecte ensuite au cours d’une étape E36, l’expression de dans l’équation EQ2 ci-dessus pour obtenir le coefficient de corrélation entre et pour
Notons que la structure de déformation 20 peut comporter des couches minces supplémentaires. Ainsi, une couche mince de protection 41 s’étend de manière à recouvrir une surface libre des bras 23.1, et s’étend ici sur la face supérieure et des flancs des bras 23.1. Elle s’étend ici sur l’électrode supérieure 32 (mais elle peut être située entre la face supérieure de chaque bras 23.1 et l’électrode supérieure 32). Elle est réalisée en un matériau inerte ici à un agent chimique utilisé lors d’une attache chimique permettant de réaliser la cavité et la suspension des bras 23.2. Elle permet de protéger les bras 23.1 lors de cette attaque chimique, ici à l’acide fluorhydrique (HF) en phase vapeur. Elle peut être réalisée en silicium amorphe d’une épaisseur de 60nm environ, et peut être déposée de manière conforme par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD).
Par ailleurs, des couches minces de collage 42 (42.1 et 42.2, cf. ) peuvent être situées entre et au contact de la portion cristalline semiconductrice 10 et les bras 23.1. Elles peuvent être réalisées en un matériau métallique, par exemple en aluminium, en or Au ou en ses composés, entre autres. Comme décrit plus loin, ces couches minces de collage 42 assurent le collage (ici par thermocompression) de la portion cristalline semiconductrice 10 sur les bras 23.1 de la couche mince structurée 23.