INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans le cas d’un solvant aqueux, le dit un ou plusieurs polymères peut être choisi parmi le polytétrafluoroéthylène (PTFE), la carboxyméthylcellulose (CMC), un copolymère à blocs de styrène et de butadiène (SBR), un alcool polyvinylique (PVA), et un mélange de ceux-ci. Dans le cas d’un solvant organique, le dit un ou plusieurs polymères peut être choisi parmi un homopolymère ou un copolymère de polyfluorure de vinylidène (PVDF) greffé ou non, un copolymère de butadiène-acrylonitrile éventuellement hydrogéné ou carboxylé. La viscosité du mélange est ajustée en faisant varier le volume du ou des solvants.
Dans une seconde étape b), on extrude le mélange composite. La viscosité du mélange a été préalablement ajustée pour faciliter son passage à travers l’extrudeuse. L’extrudeuse est munie d’une lame qui coupe le mélange extrudé à la longueur désirée. Des grains sont obtenus. Leur longueur peut varier de 0,1 à 1 cm ou de 0,1 à 0,5 cm.
Dans une troisième étape c), on évapore ledit un ou plusieurs solvants par chauffage des grains. L’homme du métier sait à partir de quelle température le ou les solvants utilisés commencent à s’évaporer.
Dans une quatrième étape d), on procède à un traitement thermique des grains en les chauffant à une température au moins égale à la température de transition vitreuse du polymère présentant la température de transition vitreuse la plus élevée. La température du traitement thermique dépend donc de la nature du ou des polymères utilisés. Elle peut se situer dans la plage allant de 100 à 350°C ou de 150 à 300°C ou de 200 à 250°C. Elle peut par exemple se situer dans la plage allant de 100 à 150°C dans le cas où le polymère liant est PVDF. La durée du traitement thermique peut aller de 30 min à 5 h ou de 45 min à 1,5 h. Le traitement thermique peut consister en un chauffage à une température allant de 100 à 350°C pendant une durée allant de 45 minutes à 5 h ou en un chauffage à la température d’environ 300°C pendant environ 1 heure.
De préférence, le traitement thermique est effectué sans exercer de compression des grains. Il provoque un fluage du ou des polymères. Ceci permet de : - consolider le réseau poreux tridimensionnel du mélange composite formé par les particules de matière active, ledit un ou plusieurs polymères, et ledit un ou plusieurs additifs conducteurs électroniques optionnels ; - homogénéiser la distribution spatiale de ce réseau poreux ; - ouvrir un maximum de pores pour les rendre accessibles comme surface réactive pour la décharge. Le traitement thermique est essentiel pour obtenir de bonnes performances de l’élément. Il permet une meilleure stabilité de la réponse en tension de l’élément en cours de décharge et une plus longue durée de vie avec une tension nominale.
Dans une cinquième étape e), on comprime des grains dans un moule pour former un bloc constitué des grains agglomérés. Les grains enrobés de polymère présentent en effet une certaine élasticité. Ils se rétractent et se densifient sous l’effet de la pression. La pression exercée peut aller de 1 à 200 bar ou de 1 à 100 bar ou de 1 à 50 bar. On peut de plus pratiquer une ouverture à travers le bloc qui soit traversante ou non.
La porosité totale du bloc obtenu après compression peut aller de 30 à 90% ou de 40 à 80% ou de 50 à 70%. La porosité est définie par le pourcentage du volume des pores rapporté au volume géométrique du bloc. Le volume des pores englobe le volume du vide présent entre les particules du bloc composite et le volume des pores à l'intérieur des particules du bloc composite. Les pores à l'intérieur des particules du matériau composite englobent les pores accessibles et les pores inaccessibles.
On peut déterminer le volume poreux total par la méthode de porosimétrie au mercure. On connaît les dimensions du bloc, donc son volume géométrique. On obtient la porosité en calculant le rapport entre le volume poreux total et le volume géométrique du bloc.
La connaissance du pourcentage de CFx dans le bloc final ainsi que de la masse totale de CFx dans le volume du bloc sont importantes car, rapportées à la masse de lithium de l'anode, elles déterminent la capacité finale de l'élément.
Dans une sixième étape f), on met en place un collecteur de courant sur le bloc, le collecteur de courant étant soit inséré dans le bloc, soit disposé au contact d’une paroi d’une ouverture pratiquée à travers le bloc.
Selon un mode de réalisation, ladite composition de nettoyage de la peau, ayant une texture solide pâteuse malléable, comprend en outre des nacres minérales.
L’aloe vera permet d’hydrater la peau.
Selon un mode de réalisation, la composition de nettoyage de la peau, ayant une texture solide pâteuse malléable, selon l’invention comprend : De 0,001 à 3% en poids de la composition d’extrait de feuille d’aloe vera.
Selon un mode de réalisation, la composition selon l’invention peut également comprendre un extrait de tige de Bambusa Arundinacea. Le produit PhytPeel Bamboo TM de Greenphyt en est un.
Selon un mode de réalisation, la composition de nettoyage de la peau, ayant une texture solide pâteuse malléable, selon l’invention comprend au moins un conservateur.
Selon un mode de réalisation, composition de nettoyage de la peau, ayant une texture solide pâteuse malléable, selon l’invention comprend du chlorure de sodium et/ou du sorbate de potassium et/ou du benzoate de sodium et/ou de l’acide citrique.
Selon un mode de réalisation, la composition de nettoyage de la peau, ayant une texture solide pâteuse malléable, selon l’invention comprend : De 1% à 5% en poids de la composition de chlorure de sodium.
Selon un mode de réalisation, la composition de nettoyage de la peau, ayant une texture solide pâteuse malléable, selon l’invention comprend : De 0,001 à 0,1% en poids de la composition de sorbate de potassium.
Selon un mode de réalisation, la composition de nettoyage de la peau, ayant une texture solide pâteuse malléable, selon l’invention comprend : De 0,001 à 0,1% en poids de la composition de benzoate de sodium.
Selon un mode de réalisation, la composition de nettoyage de la peau, ayant une texture solide pâteuse malléable, selon l’invention comprend : De 0,001 à 0,1% en poids de la composition d’acide citrique.
Selon un mode de réalisation, le bloc est une colonne cylindrique et l’ouverture pratiquée à travers le bloc est une ouverture traversante dans le sens de la longueur de la colonne cylindrique.
Selon un mode de réalisation, l’élément électrochimique comprend en outre un couvercle muni d’une traversée verre-métal, une première partie du collecteur de courant étant solidaire de la traversée verre-métal, une seconde partie du collecteur de courant étant disposée au contact de la paroi de l’ouverture traversante du bloc.
Selon un mode de réalisation, le bloc présente une porosité allant de 30 à 90%.
Selon un mode de réalisation, le séparateur comprend des fibres de verre ou des fibres de cellulose ou des fibres de para-aramides.
Selon un mode de réalisation, l’électrolyte comprend un solvant choisi parmi les carbonates cycliques ou linéaires et les lactones.
Selon un mode de réalisation, ledit un ou plusieurs polymères est choisi parmi un homopolymère ou un copolymère de polyfluorure de vinylidène (PVDF) greffé ou non, un copolymère de butadiène-acrylonitrile (NBR) éventuellement hydrogéné ou carboxylé et un mélange de ceux-ci.
Selon un mode de réalisation, ledit un ou plusieurs polymères est choisi parmi le polytétrafluoroéthylène (PTFE), la carboxyméthylcellulose (CMC), un copolymère à blocs de styrène et de butadiène (SBR), un alcool polyvinylique (PVA) et un mélange de ceux-ci.
Selon un mode de réalisation, l’électrode positive contient en outre un ou plusieurs composés conducteurs électroniques.
L’invention a également pour objet un procédé de fabrication d’une électrode positive pour un élément électrochimique Li/CFx, lequel procédé comprend les étapes de : a) mise à disposition d’un mélange comprenant un ou plusieurs solvants, un ou plusieurs composés de formule CFx avec 0 b) mise en forme du mélange par extrusion pour former des grains, c) évaporation du ou des solvants par chauffage des grains, d) traitement thermique des grains à une température au moins égale à la température de transition vitreuse du polymère présentant la température de transition vitreuse la plus élevée, e) compression des grains dans un moule pour former un bloc constitué des grains agglomérés, f) mise en place d’un collecteur de courant sur le bloc, le collecteur de courant étant soit au moins partiellement inséré dans le bloc, soit au moins partiellement disposé au contact d’une paroi d’une ouverture pratiquée à travers le bloc.
L’invention a également pour objet un procédé de fabrication d’une électrode positive pour un élément électrochimique Li/CFx, lequel procédé comprend les étapes de : a) mise à disposition d’un mélange comprenant un ou plusieurs solvants, un ou plusieurs composés de formule CFx avec 0 b) mise en forme du mélange par extrusion pour former un bloc, c) évaporation du ou des solvants par chauffage du bloc, d) traitement thermique du bloc à une température au moins égale à la température de transition vitreuse du polymère présentant la température de transition vitreuse la plus élevée, e) mise en forme du bloc par coupure du bloc aux dimensions souhaitées, le procédé étant dépourvu d’une étape de compression du bloc, f) mise en place d’un collecteur de courant sur le bloc, le collecteur de courant étant soit au moins partiellement inséré dans le bloc, soit au moins partiellement disposé au contact d’une paroi d’une ouverture pratiquée à travers le bloc.
est une coupe longitudinale d’un élément électrochimique selon un premier mode de réalisation de l’invention.
est une coupe longitudinale d’un élément électrochimique selon un second mode de réalisation de l’invention.
représente les courbes de décharge de trois éléments Li/CFx comportant une électrode positive qui est un bloc composite.
La structure générale de l’élément va maintenant être décrite dans deux modes de réalisation préférés. La montre schématiquement la structure d’un élément électrochimique selon un premier mode de réalisation dans lequel le bloc composite est constitué de grains agglomérés par compression et le collecteur de courant est une tige métallique comparable à un clou.
Selon une quatrième étape 72, on installe l’enveloppe de culture 14, contenant initialement le milieu de culture , à l'intérieur du grand logement 12 et on la raccorde de manière étanche et aseptique au dispositif de raccordement 20. L'intérieur 15 de l’enveloppe de culture 14 est bien évidemment stérile. Il contient un litre d’un milieu de culture adaptée à la culture de Pseudomonas fluorescens . Ici, on choisit du milieu LB, pour « Lurya broth » anglaise, tamponné à pH 7.
Ensuite, selon une cinquième étape 74, on procède tout d'abord au chargement de l’enveloppe de stockage 18 contenant la souche bactérienne à l'intérieur du deuxième réceptacle 16.
Le deuxième réceptacle 16 délimite une cavité étanche et après que l’enveloppe de stockage 18 a été insérée à l'intérieur, elle est refermée. Et ce n'est qu'ensuite, que l’enveloppe de stockage 18 est perforée par l'intermédiaire de l'extrémité supérieure 28 en pointe de l'organe tubulaire 24, de manière à éviter toute contamination de la souche bactérienne.
La perforation de l’enveloppe de stockage 18 permet de libérer les micro-organismes à l'intérieur du deuxième réceptacle et de pouvoir les acheminer à l'intérieur de l’enveloppe de culture 14, notamment par l'intermédiaire de la vis sans fin 30.
Et de surcroît, on commande les modules à effet Peltier 64 pour porter la température à l'intérieur 15 de l’enveloppe de culture 14, entre 28 °C et 32 °C.
Par ailleurs, lorsque le chargement en eau de l’enveloppe de culture 14 a permis d’atteindre le volume désiré, l'arrivée du mélange aqueux 38 est coupée, tandis que la pompe péristaltique 36 aspire le liquide de l’enveloppe de culture 14 à travers le premier conduit long 40 et le rejette à travers le premier conduit court 42 pour provoquer l'agitation du milieu. De la sorte, on homogénéise le contenu de l’enveloppe de culture 14 et on favorise l'accès des bactéries à leurs nutriments.
Conséquemment, les bactéries de la souche vont sortir de leur état de dormance et vont tout d'abord croître indépendamment les unes des autres avant de se multiplier. Ainsi, plusieurs phases apparaissent dans la croissance des bactéries, une phase de latence, dans lesquels les bactéries sortent précisément de leur état de dormance, une phase d'accélération où les bactéries commencent à se diviser, une phase exponentielle, ou logarithmique, une phase de décélération puis une phase stationnaire.
On obtient ainsi en fonction du temps une croissance suivant une courbe sensiblement sigmoïdale. Et il convient d'utiliser les bactéries ayant ainsi proliférées au moment opportun et selon un mode avantageux de mise en œuvre, entre le lieu de leur phase de croissance exponentielle et le début de la phase stationnaire.
Le cas échéant, et non limitativement, dans le but d'optimiser la prolifération des micro-organismes contenus dans l’enveloppe de culture 14, on procède simultanément, grâce à la pluralité 50 de cellules, aux contrôles suivants.
Ainsi, grâce à la deuxième pompe péristaltique 44 on aspire le liquide contenu à l'intérieur 15 de l’enveloppe de culture 14, dans lequel prolifèrent les micro-organismes, et on l'achemine au droit de la première cellule 52 permettant de mesurer la concentration en micro-organismes. On procède à cette mesure de manière séquentielle et à intervalles de temps réguliers, selon une première sixième étape parallèle 76, de manière à pouvoir établir la courbe de croissance des micro-organismes à l'intérieur 15 de l’enveloppe de culture 14.
Aussi, le liquide aspiré s'achemine au droit de la deuxième cellule 54 permettant, selon une première sixième étape 78, de mesurer le pH. Pour obtenir une prolifération optimale des bactéries en présence, le pH doit être compris entre 5,5 et 8,5.
Si la deuxième cellule 54 enregistre une valeur située en dehors de ces limites, un dispositif non représenté, permet d'injecter automatiquement un tampon acide lorsque le pH est supérieur à 7,5 ou un tampon basique lorsqu'il est inférieur à 6,5.
Et au droit de la troisième cellule 56, est contrôlée, dans une troisième sixième étape parallèle 80, la concentration en oxygène du liquide aspiré. L'espèce Pseudomonas fluorescens est une bactérie aérobie et elle peut se développer lorsque la concentration en oxygène est par exemple comprise entre 5 g par litre et 10 g par litre.
La troisième cellule 56 qui permet de fournir une mesure de cette concentration, permet de savoir si le liquide de l’enveloppe de culture 14 est à la concentration optimale.
Dans la négative, on procède soit à l'injection d'oxygène directement dans l’enveloppe de culture 14, lorsque l'oxygène fait défaut, soit à l'injection d'un gaz neutre, par exemple de l'azote, précisément pour chasser l'oxygène en trop dans le milieu.
De la sorte, en contrôlant ces trois paramètres à intervalles réguliers, tout en maintenant la température entre 34 °C et 36 °C, et en procédant à l'agitation du milieu, on obtient une croissance optimale de la bactérie Pseudomonas fluorescens .
Dans un autre mode de réalisation préféré, un procédé selon l'invention est caractérisé en ce que l'agent de décoloration est appliqué sur de la matière kératinique qui a été colorée par utilisation d'au moins un C 1 -C 6 -alcoxysilane organique et/ou d'un produit de condensation de celui-ci et par utilisation d'au moins un pigment, dans lequel le C 1 -C 6 -alcoxysilane organique est choisi dans le groupe constitué par
- le méthyltriméthoxysilane,
- le méthyltriéthoxysilane,
- l'éthyltriméthoxysilane,
- l'éthyltriéthoxysilane,
- le propyltriméthoxysilane,
- le propyltriéthoxysilane,
- l'hexyltriméthoxysilane,
- l'hexyltriéthoxysilane,
- l'octyltriméthoxysilane,
- l'octyltriéthoxysilane,
- le dodécyltriméthoxysilane et/ou
- le dodécyltriéthoxysilane.
Pour les produits d'hydrolyse ou, selon le cas, de condensation correspondants, il s'agit par exemple des composés suivants :
hydrolyse de C 1 -C 6 -alcoxysilane de formule (S-I) par de l'eau (schéma de réaction avec l'exemple du 3-aminopropyltriéthoxysilane) :
Selon un exemple, la couche sacrificielle est à base d’au moins l’un parmi un oxyde tel que le SiO 2 ou le SiON ou un nitrure tel que le SiN. La couche sacrificielle peut également être une couche anti-réfléchissante à base de silicium (désigné en anglais par le sigle SiARC, « Silicon containing Anti-Reflective Coating »). La couche sacrificielle est avantageusement retirable par gravure au HF ou au H 3 PO 4 . Dans le cas d’une couche sacrificielle à base d’un nitrure tel que le SiN, afin de faciliter le retrait au HF, le nitrure en question pourra avantageusement être déposé à basse température, par exemple à une température inférieure à 500°C, ou encore être oxygéné.
Selon un exemple, la couche tenseur est à base d’au moins l’un parmi le TiN, l’AlN, le SiN et le Si 3 N 4 . Avantageusement, la couche tenseur est à base d’un métal.
Selon un exemple, la couche d’intérêt est à base d’au moins l’un parmi le Si et le SiGe. Avantageusement, la couche d’intérêt est à base d’un matériau conducteur.
Selon un exemple, la couche d’intérêt est à base d’un matériau amorphe. Cela permet de s’affranchir des variations de propriétés physiques intrinsèques liées aux directions cristallines. Cela permet donc d’homogénéiser la déformation.
Selon un mode de réalisation préféré, la couche d’intérêt, après l’étape de retrait de la portion de retrait de la couche sacrificielle, forme une lentille.
Selon un mode de réalisation préféré, l’empilement comprend une pluralité de couches d’intérêt distinctes les unes des autres et contenues dans un même plan parallèle au plan horizontal avant l’étape de retrait de la portion de retrait de la couche sacrificielle.
Selon un exemple, l’empilement comprend une pluralité de couches d’intérêt distinctes les unes des autres et surmontant un unique substrat.
De préférence, chaque couche d’intérêt forme une lentille.
Selon un mode de réalisation, le procédé comprend, préalablement à l’étape de retrait de la portion de retrait de la couche sacrificielle, une étape de structuration de l’au moins une couche d’intérêt.
De préférence, l’étape de structuration de l’au moins une couche d’intérêt est effectuée avant l’étape de fourniture de l’empilement.
Selon un mode de réalisation, l’empilement comprend en outre une couche d’intérêt secondaire au-dessus de la couche tenseur, le retrait de la portion de retrait se fait également sélectivement à la couche d’intérêt secondaire, et le procédé comprend en outre, préalablement à l’étape de retrait de la portion de retrait, une étape de structuration de la couche d’intérêt secondaire.
Selon un exemple, l’étape de structuration comprend la mise en œuvre d’au moins une technique parmi la lithographie optique, l’autoassemblage de copolymères à blocs et la nanoimpression.
Les contraintes résiduelles régnant dans certains matériaux et dont il est fait mention dans la présente demande sont induites par les différentes étapes de dépôt et transformation de ces matériaux. Les contraintes résiduelles dans une couche peuvent être d’origine mécanique et notamment être générées lors de sa formation. Elles sont alors souvent liées aux méthodes et conditions de dépôt. Les contraintes résiduelles peuvent également être d’origine thermique. Elles dépendent alors des variations thermiques subies par la couche, de ses propriétés thermiques ainsi que de celles du substrat sur lequel elle repose. Cette composante thermique peut donc évoluer au cours des étapes de fabrication.
Diverses méthodes peuvent être utilisées afin de mesurer la contrainte résiduelle régnant dans une couche. On a typiquement recours à la diffraction de rayon X (DRX). En adaptant la longueur d’onde des rayons X émis en fonction du matériau étudié et en étudiant la répartition angulaire des rayons x diffractés par l’échantillon, on peut tracer une courbe reliant la distance inter-réticulaire d à l’angle mesuré et aux propriétés χ du matériaux (courbe typiquement du type d=sin²(χ)). La courbe ainsi obtenue permet de déterminer l’état et le niveau de contrainte de l’échantillon dans la direction mesurée. La contrainte résiduelle peut également être mesurée par interférométrie laser. Dans ce cas, le rayon de courbure du substrat soutenant la couche dont on souhaite connaître le niveau de contrainte résiduelle est mesuré avant et après le dépôt de la couche (ou avant et après une étape de traitement de la couche). Les valeurs de contrainte mécanique sont calculées directement en utilisant la formule de Stoney, en connaissant l’épaisseur de la couche et du substrat, leurs modules d’Young et leurs coefficients de Poisson respectifs. Par ailleurs, le niveau de contrainte résiduelle peut être mesuré par spectroscopie Raman, technique basée sur les variations des fréquences Raman des phonons optiques. Cette technique présente les avantages d’être non destructive, très sensible et de présenter une résolution spatiale sub-nanométrique.
Par ailleurs, il convient également de relever que, dès lors que les faisceaux lumineux 3 provenant de l’écran 2 de chacun des deux emplacements 21, 22 traversent l’ensemble de la surface du verre 1 optique analysé, la différence « D » des emplacements d’écran 2 autorise une identification de l’angle d’incidence α en tout point 5 déterminé de la surface du verre 1 optique sans connaître ni la géométrie de la surface de ce verre 1 optique ni le positionnement de l’un ou l’autre des points 5 de cette surface du verre 1.
La caractérisation de l’angle d’incidence α des faisceaux lumineux 3 au point 5 déterminé de la surface du verre 1 optique permet alors, par comparaison avec l’angle de réfraction des faisceaux lumineux 3 entre le verre 1 optique et le dispositif de réception 7 selon un axe parallèle à l’axe optique, de déterminer la réfraction en ce point 5 du verre 1. A partir de la réfraction du verre en un point 5, et éventuellement de mesures de la réfraction du verre 1 au sein d’un intervalle de points proches entourant le point 5 considéré du verre 1 associées à une caractérisation de l’équation de la variation de ces mesures, la puissance au point 5 considéré du verre 1 est déterminable sans difficulté, de même que la focale.
Dans le cadre de l’analyse d’un verre 1 unifocal, le positionnement d’au moins une partie du verre au niveau de l’axe optique entre l’écran 21, 22 de chacun des deux emplacements et le dispositif de réception 7 permet de caractériser la puissance du verre 1 en ce point 5. Par ailleurs, la forme géométrique d’un verre 1 unifocal étant connue et constante, la caractérisation de la puissance en un point 5 du verre 1 suffit pour caractériser la puissance du verre 1 en chacun des points.
Dans le cadre de l’analyse d’un verre 1 multifocal, le procédé selon l’invention fait intervenir un mécanisme de télécentricité 10 positionné entre le verre 1 optique à analyser et le dispositif de réception 7. Ce mécanisme de télécentricité 10 permet une distribution des différents faisceaux lumineux 3 ayant traversé le verre 1 optique vers le dispositif de réception 7 selon un arrangement parallèle à l’axe optique entre l’écran 21, 22 de chacun des deux emplacements et le dispositif de réception 7. Aussi, par approximation de la courbure du verre 1 au niveau de sa surface réfractée de sorte que cette surface du verre 1 soit assimilée à une surface plane, la caractérisation de la réfraction, la focale et la puissance en chacun des points 5 du verre 1 sont susceptibles d’être réalisées. Le mécanisme de télécentricité 10 permet ainsi d’opérer une orientation du faisceau lumineux 3 réfracté par le verre 1 selon un axe parallèle à l’axe optique de sorte que la caractérisation par le dispositif de réception 7 de la position du faisceau lumineux 3 réfracté par le verre 1 est en mesure de s’affranchir d’une éventuelle variation de l’épaisseur du verre 1 multifocal, notamment lorsque cette variation de l’épaisseur est liée à la différence de courbure entre les deux surfaces du verre 1.