Elément optique (30) comprenant : - un substrat transparent (32), - au moins une couche poreuse (36) s’étendant sur au moins une surface optique (34) du substrat (32), la couche poreuse (36) comprenant une pluralité d’éléments allongés (40) s’étendant depuis la surface optique (34), caractérisé en ce que les éléments allongés (40) présentent des formes hélicoïdales, chaque élément allongé (40) s’étendant le long d’un axe central (H) sensiblement perpendiculaire à la surface optique (34) et présentant un diamètre global (D), mesuré perpendiculairement à l’axe central (H), ledit diamètre global (D) étant inférieur ou égal à 100 nm. Elément optique (30) selon la revendication précédente, dans lequel le diamètre global (D) est inférieur ou égal à 80 nm, préférentiellement inférieur ou égal à 50 nm et encore plus préférentiellement inférieur ou égal à 30 nm. Elément optique (30) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel chaque élément allongé (40) comprend une pluralité de spires successives selon la direction de l’axe principal (H), deux spires voisines étant séparées par un pas (P) constant, ledit pas (P) étant supérieur ou égal à 50 nm. Elément optique (30) selon la revendication précédente, dans lequel le pas (P) est supérieur ou égal à 100 nm, préférentiellement supérieur ou égal à 200 nm, plus préférentiellement supérieur ou égal à 400 nm et mieux supérieur ou égal à 600 nm. Elément optique (30) selon la revendication 3 ou 4, dans lequel le pas (P) est inférieur ou égal à 1000 nm. Elément optique (30) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel chaque élément allongé (40) est formé d’une branche (42) inclinée, enroulée autour de l’axe principal (H) et présentant un diamètre de branche (d), mesuré perpendiculairement à une direction locale d’allongement de la branche (42), ledit diamètre de branche (d) étant inférieur ou égal à 60 nm, notamment inférieur ou égal à 40 nm, et préférentiellement inférieur ou égal à 20 nm. Elément optique (30) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel les éléments allongés (40) sont formés par un matériau à bas indice, comme par exemple SiO2, Al2O3, ou encore MgF2. Dispositif optronique comprenant au moins un élément optique (30) selon l’une des revendications précédentes, disposé(s) le long d’un même axe optique. Dispositif optronique selon la revendication précédente, dans lequel un flux lumineux destiné à traverser l’élément optique (30) comprend un rayonnement présentant au moins une longueur d’onde comprise entre 400 nm et 550 nm. Procédé de de fabrication d’un élément optique (30) selon l’une des revendications 1 à 7, comprenant des étapes de : - fourniture d’un substrat (32) et mise en place du substrat (32) dans un dispositif de dépôt, et - dépôt de la couche poreuse (36) sur une surface optique (34) du substrat (32), selon une méthode de dépôt sous incidence oblique, dans lequel un angle d’incidence d’un faisceau de dépôt, mesuré par rapport à une normale locale à la surface optique (34), est supérieur ou égal à 45°, et préférentiellement sensiblement égal à 80°, et dans lequel, au cours de l’étape de dépôt de la couche poreuse (36), le substrat (32) est maintenu en rotation azimutale à une vitesse de rotation comprise entre 0,05 tour par minute et 0,5 tour par minute, préférentiellement sensiblement égale à 0,125 tour par minute.