INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Les extrémités desdits éléments de conduit et ladite au moins une partie berceau des colliers d’assemblage sont dimensionnés pour autoriser, en configuration ouverte, un emboitement élastique lors dudit positionnement et/ou dudit retrait.
De préférence, les éléments de conduit sont choisis parmi :
- les éléments de conduit dont les extrémités sont munies des formes d’emboîtement mâle/femelle, ou
- les éléments de conduit dont les extrémités sont dépourvues des formes d’emboîtement mâle/femelle.
Pour des éléments de conduit sans « formes d’emboîtement », la présente invention offre un centrage des éléments de conduit au sein de la partie berceau du collier d’assemblage, avant leur association par serrage.
Encore pour ces éléments de conduit sans « formes d’emboîtement », un avantage du collier d’assemblage selon l’invention est de pouvoir retirer un élément de conduit après montage, sans avoir à décaler les autres éléments de conduit déjà en place.
est une vue générale et en perspective d’une partie d’un réseau de conduits, comprenant deux éléments de conduit dont les extrémités sont associées par l’intermédiaire d’un collier d’assemblage selon l’invention ;
est une vue schématique qui illustre deux formes de réalisation pour les éléments de conduit, dont les extrémités sont dépourvues de formes d’emboîtement mâle/femelle (partie A. de la ) et dont les extrémités sont munies des formes d’emboîtement mâle/femelle (partie B. de la ) ;
est une vue en perspective et isolée d’un collier d’assemblage selon l’invention, dans sa configuration ouverte ;
est une vue de côté et isolée d’un collier d’assemblage selon l’invention, dans sa configuration ouverte ;
est une vue en perspective et isolée d’un collier d’assemblage selon l’invention, dans sa configuration fermée ;
Un tel dispositif peut être avantageusement utilisé pour permettre d’alimenter des microsystèmes électroniques pour la surveillance des déformations dans des infrastructures de BTP, ou dans le domaine médical, utilisé dans un implant médical.
Brève description des figures – la représente des illustrations des différentes coupes du substrat monocristallin LiNbO 3 ;
– la représente les diagrammes XRD des films de nickel déposés (cible en Cu avec une longueur d'onde de monochromateur λ = 1.54 Å) ;
– la représente la caractérisation de la tri-couche Ni/LiNbO 3 /Ni avec des champs magnétiques appliqués selon les axes x ou y
– la représente une mesure de résonance ME effectuée pour déterminer la fréquence de résonance électromécanique (EMR) de chaque échantillon dans leurs deux directions dans le plan ; deux coupes différentes de LiNbO 3 sont étudiées : (YXl) 36˚ (a) et (YXl) 163˚ (b);
– la représente le coefficient ME en fonction du HDC pour les échantillons Ni/(YXl) 36˚ Y-cut LiNbO 3 /Ni et Ni/(YXl) 36˚ Y-cut LiNbO 3 /Ni dans les directions x et y, les mesures sont effectuées à la fréquence de résonance électromécanique (EMR) de chaque échantillon ;
– la représente la magnétisation de films de Nickel dans un échantillon à trois couches et à l'état libre ;
– la figures 7 représente les boucles d'hystérésis ME et courbes (dM 2 /dH)-H des échantillons tri-couches ;
– la représente les cycles d'aimantation VSM mesurés à différentes températures dans les deux directions d'une tri-couche Ni/(YXl) 36˚ Y-cut LiNbO 3 /Ni. ; et
– la représente les diagrammes XRD dans le plan du pic (311) du Ni d’un échantillon intégrant le (YXl) 36˚ Y-cut LiNbO 3 (cible Cu sans monochromateur, λ de K_α= 1.5419 Å).
Partie Expérimentale Matériel et méthodes Dans le cadre de l’invention, le diffractomètre mis en œuvre pour la diffraction des rayon X est un diffractomètre 5 cercles multi-configurations à anode tournante « Smartlab® » Rigaku, adapté aux films minces permettant la diffraction sous incidence rasante et autres mesures à haute résolution.
Deux substrats monocristallins commerciaux (fournis sur demande spécifique auprès de la société NEYCO®) LiNbO 3 polis sur deux faces, coupés en Y à 36° - « 36° Y-cut » (20×5×0,1 mm 3 ) et coupés en Y à 163° - « 163° Y-cut » (10×5×0,1 mm 3 ) ont été utilisés pour déposer des films polycristallins épais de Ni sur chaque face par pulvérisation cathodique magnétron RF. Une cible de Ni de haute pureté (Ni > 99,95%) a été utilisée. L'axe « a » est identifié par le pic (210) des substrats LiNbO 3 monocristallins en utilisant la diffraction des rayons X (XRD) dans le plan. Il est observé que les axes « a » des deux substrats LiNbO 3 sont parallèles à leurs directions x (longueur). Comme le montre la , la coupe Y de 36° (36° Y-cut ) et la coupe Y de 163° (163° Y-cut) peuvent être également désignée par (YXl) 36° et (YXl) 163° respectivement selon la norme IEEE [ANSI/IEEE Std 176-1987 An American National Standard IEEE Standard on Piezoelectricity, 74]. Avant le dépôt, les substrats de LiNbO 3 ont été nettoyés chimiquement (bain à ultrasons avec d'abord de l'acétone puis de l'isopropanol) avant d'être introduits dans la machine de dépôt par pulvérisation cathodique, et les surfaces des substrats ont été nettoyées in situ à l'aide d'un plasma d'argon. Des films de Nickel d'une épaisseur de 5 à 35 µm ont été déposés sur les deux faces sous une pression de 10 -1 mbar avec une puissance comprise entre 100 et 500 W. Le vide limite de la chambre de pulvérisation est de 10 -7 mbar. Les dépôts ont été effectués sous atmosphère d'argon, à température ambiante ou à 200°C. La distance entre la cible et le support du substrat est de 65 mm. Une distance de 1 mm entre les bords du substrat LiNbO 3 et les bords du film de nickel a été conservée pour éviter de court-circuiter les films de nickel déposés. Les deux faces d'un même échantillon sont supposées être symétriques, avec la même quantité de Ni.
Les diagrammes XRD des films de nickel déposés (côté arbitraire) des deux échantillons sont présentés dans la , et comparés au diagramme de la cible de Ni polycristalline de référence. Les films de nickel déposés sur le substrat LiNbO 3 sont polycristallins.
Résultats et discussion Caractérisation d u comportement mag né toélectrique (M E )
Comme le montre la , les comportements ME des échantillons de Ni/LiNbO 3 /Ni sont caractérisés dans le mode dit LT, où le champ magnétique externe est appliqué longitudinalement dans la direction du plan x ou y, et la tension électrique de sortie polarisée transversalement dans la direction z. D'après les études publiées dans [6-7] , le coefficient ME αE est principalement déterminé par les constantes piézoélectriques transversales d_31^P, ainsi, les coupes (YXl) 36˚ et (YXl) 163˚ sont choisies avec des valeurs élevées [8] , c'est-à-dire d_31^P ≈ 18 pC/N pour la première et d_31^P ≈ -20 pC/N pour la deuxième respectivement, favorisant l'effet ME le long des directions x et y du montage expérimental, respectivement (voir ).
En particulier, il est utile de pouvoir contrôler les quantités respectives des différents polymères uréthanes résultant de ces méthodes de préparation, en particulier de pouvoir favoriser l’obtention de certains polyuréthanes, notamment en fonction de la proportion élevée de résidus de diol présents au sein du polymère.
Il est également très utile de pouvoir contrôler l’obtention de polymères uréthanes comprenant une quantité relative de fonctions uréthanes élevée par rapport à la masse moléculaire du polyuréthane obtenu. La densité en fonctions uréthanes du polymère peut donc être augmentée.
Le monomère polyisocyanate comprenant une chaine hydrocarbonée, le polymère uréthane peut alors également comprendre une importante proportion de résidus hydrocarbonés au sein de la chaine polymérique.
Outre les avantages directement liés à leur préparation, notamment en termes de rendement ou d’orientation vers les polymères uréthanes préférés, un meilleur contrôle des conditions de préparation des polyuréthanes doit également permettre de favoriser les propriétés recherchées, notamment en fonction du domaine d’utilisation.
Par exemple, pour la préparation de batteries secondaires, on connait des compositions d’électrode qui comprennent généralement du carbone ou un métal sous forme de particules associées à une composition liante. Cette composition liante doit pouvoir lier efficacement le carbone ou le métal à un substrat pour former une électrode. Les compositions liantes les plus courantes comprennent un polymère styrène-butadiène pour les compositions d’anode ou un polyfluorure de vinylidène pour les compositions de cathode, et permettent de fixer les particules actives sur un substrat métallique. Le pouvoir liant, la résistance mécanique ou la résistance électrochimique sont particulièrement recherchés tant lors de la fabrication que lors de l’utilisation d’une électrode. En effet, la qualité du revêtement de composition d’électrode appliqué sur le substrat métallique est essentielle à l’efficacité optimale de l’électrode ainsi qu’à sa durabilité maximale.
Une application aisée et homogène des compositions d’électrode est nécessaire afin d’obtenir une couche homogène et de limiter ou d’éviter les défauts à la surface de d’électrode, afin d’aboutir à une couche conductrice homogène et particulièrement efficace. Généralement, les compositions liantes comprennent également différents additifs comme des agents épaississants, des agents dispersants, par exemple un dérivé de cellulose. Les dérivés de cellulose les plus fréquents sont la carboxyméthylcellulose, l’hydroxyéthylcellulose et l’hydroxyméthylcellulose.
Fréquemment, les compositions d’anode comprennent du silicium afin d’augmenter la capacité des anodes préparées. Lors des cycles de charge-décharge des batteries contenant ces anodes, il est habituel de constater une déformation pouvant conduire à une altération irréversible de l’anode, en particulier du fait de l’augmentation de volume du silicium. La tolérance à la déformation est donc également une propriété recherchée.
Par ailleurs, le nombre d’ingrédients utilisés lors de la préparation des compositions d’électrode devrait pouvoir être diminué. La compatibilité des différents ingrédients des compositions d’électrode est également un facteur important lors de la préparation des compositions d’électrode ainsi qu’au moment de préparer les électrodes au moyen de ces compositions.
Le comportement thixotropique ou le comportement rhéologique dans le temps d’une composition aqueuse d’électrode doit donc être contrôlé du mieux possible.
Il est également avantageux de disposer de compositions d’électrode polyvalentes et qui conservent leurs propriétés rhéologiques lorsque leurs conditions d’utilisation diffèrent.
Une application aisée et homogène des compositions d’électrode est nécessaire afin d’obtenir une couche homogène et de limiter ou d’éviter les défauts à la surface de l’électrode, afin d’aboutir à une couche conductrice homogène et particulièrement efficace. Le nivellement de surface, la restructuration et le comportement d’écoulement d’une composition aqueuse d’électrode doivent être bien maitrisés.
Il est donc indispensable de pouvoir disposer de compositions d’électrode dont la rhéologie est très bien contrôlée. En effet, outre les difficultés d’application, une viscosité excessive entraîne généralement de nombreux défauts de la couche déposée à la surface de l’électrode. Une viscosité insuffisante conduit aux mêmes types de problème et entraîne également des écoulements incontrôlés de la composition d’électrode lors de son application.
Les compositions d’électrode doivent également être stables et homogènes lors de leur préparation, de leur stockage ou de leur application. Sédimentation, formation d’agglomérats ou d’agrégats, séparation des ingrédients doivent donc être limitées ou évitées.
La compatibilité des différents ingrédients des compositions d’électrode est également un facteur important lors de la préparation des compositions d’électrode ainsi qu’au moment de préparer des électrodes au moyen de ces compositions.
Les compositions d’électrode de l’état de la technique ne sont pas toujours satisfaisantes. Il existe donc un besoin de disposer de compositions d’électrode qui permettent d’apporter des solutions à tout ou partie des problèmes des compositions d’électrode de l’état de la technique.
Le dispositif de chauffage externe 27 est par exemple configuré pour chauffer l’enveloppe externe 19 (ou carter) du stator 2 de la pompe à vide 1. En alternative ou en complément, le dispositif de chauffage externe 27 peut être configuré pour chauffer le stator 2 au niveau du refoulement de la pompe à vide 1, notamment autour de l’orifice de refoulement 7.
Le dispositif de chauffage externe 27 comporte par exemple une ou plusieurs ceintures résistives chauffantes ou une ou plusieurs cartouches chauffantes, dont l’alimentation électrique peut être contrôlée par l’unité de contrôle 31, de façon indépendante du dispositif de chauffage interne 21. Le chauffage peut notamment être contrôlé autour d’une température de consigne au moyen d’un capteur de température additionnel configuré pour mesurer la température du stator 2. La constante de temps de régulation du dispositif de chauffage externe 27 est bien supérieure à la constante de temps de régulation du dispositif de chauffage interne 21 du fait des différences de temps de réponse des capteurs de température et des dispositifs de chauffage.
Le moteur 16 est d’une part, configuré pour pouvoir entrainer le rotor 3 avec une puissance nominale. La puissance nominale est adaptée aux caractéristiques mécaniques du rotor 3 et au pompage d’un flux de gaz maximal continu à la vitesse de rotation nominale. On considère que la puissance nominale est une valeur moyenne. Elle est par exemple comprise entre 80W et 200W. La puissance nominale est en général définie par un flux de gaz maximal continu à pomper en équivalent azote ou argon. Ces valeurs sont en général indiquées par le constructeur et disponibles dans le manuel utilisateur ou dans la fiche technique de la pompe à vide 1. Elles permettent à l’utilisateur de choisir la pompe à vide adaptée aux flux gazeux à pomper.
Par exemple, le moteur 16 est configuré pour fournir une puissance nominale adaptée pour pouvoir pomper un débit maximal continu, équivalent azote, inférieur à 3000sccm (ou 5 Pa.m 3 /s).
D’autre part, le moteur 16 est configuré pour pouvoir entrainer le rotor 3 avec une puissance de surrégime, supérieure à la puissance nominale. Cette puissance de surrégime est sollicitée sur des durées limitées dans le temps, par exemple inférieures à quinze minutes, et sous certaines conditions d’échauffement du rotor 3.
La puissance en surrégime est par exemple au moins deux fois supérieure à la puissance nominale. Elle est par exemple supérieure à 600W.
Par exemple, le moteur 16 est configuré pour fournir une puissance de surrégime adaptée pour pouvoir pomper un débit équivalent azote supérieur ou égal à 3000sccm (ou 5 Pa.m 3 /s), tel que supérieur à 4000sccm (ou 6,755) (alors que les caractéristiques mécaniques du rotor 3 sont adaptées pour le pompage d’un débit maximal continu inférieur à 3000sccm (ou 5 Pa.m 3 /s)).
Le moteur 16 est surdimensionné par rapport aux caractéristiques mécaniques du rotor 3 qui sont adaptées pour un fonctionnement nominal.
L’unité de contrôle 31, telle qu’une carte électronique, comporte un ou plusieurs contrôleurs ou microcontrôleurs ou processeurs et une mémoire, pour exécuter des suites d’instructions de programmes permettant de mettre en œuvre un procédé de contrôle des paramètres de fonctionnement de la pompe à vide 1 turbomoléculaire, notamment par le pilotage du dispositif de chauffage interne 21. L’unité de contrôle 31 est par exemple agencée dans l’embase du stator 2 et refroidie par le dispositif de refroidissement.
Le procédé de contrôle comporte un mode de fonctionnement nominal dans lequel on chauffe le rotor 3 de la pompe à vide 1 via le dispositif de chauffage interne 21, tant que la température mesurée du rotor 3 est inférieure à un seuil de température pour un paramètre représentatif de la puissance consommée par le moteur 16 donné.
Le procédé de contrôle comporte un mode de fonctionnement de surrégime (dit « boost » en anglais) dans lequel on coupe le chauffage interne du rotor 3 lorsque la température mesurée du rotor 3 est supérieure ou égale au seuil de température.
Le seuil de température dépend du paramètre représentatif de la puissance (électrique) consommée par le moteur 16 qui peut être le courant ou la puissance consommée par le moteur 16. La puissance électrique consommée par le moteur 16 est elle-même représentative du flux gazeux à pomper. Plus le flux à pomper est important et plus la puissance consommée par le moteur 16 est importante et vice-versa.
On prévoit par exemple que la puissance consommée en mode de fonctionnement de surrégime est au moins deux fois supérieure à la puissance consommée en fonctionnement nominal.
Le seuil de température est inférieur à un seuil de température maximale. Le seuil de température maximale est par exemple compris entre 130°C et 140°C. Il s’agit du seuil haut à ne pas dépasser afin de préserver la tenue mécanique du rotor 3.
Le seuil de température est variable. Il dépend du paramètre représentatif de la puissance consommée par le moteur 16, tel que la puissance ou le courant consommé par le moteur 16 sur une plage de température donnée.
Par exemple, le seuil de température diminue, par exemple linéairement, avec l’augmentation du paramètre représentatif de la puissance consommée par le moteur 16 à l’intérieur de la plage de température. Plus la puissance ou le courant consommé par le moteur 16 est élevé et plus on coupe rapidement le chauffage interne.
Les réseaux de photo-éléments 10 formant les premiers sous-pixels 110, 210 émettent dans une première plage de longueur d’ondes correspondant à la première couleur C 1 , tandis que les réseaux de photo-éléments 10 formant les deuxièmes sous-pixels 120, 220 émettent dans une deuxième plage de longueur d’ondes correspondant à la deuxième couleur C 2 .
Un réseau de photo-éléments au sens de l’invention est continu, c’est-à-dire que les photo-éléments qui le composent sont disposés de façon régulière, selon un pas donné, éventuellement plusieurs pas donnés définis dans différentes directions de l’espace. Le fait qu’un réseau soit continu se caractérise également par le fait que tous les photo-éléments qui le composent sont à base du même matériau et présentent les mêmes dimensions (typiquement le même diamètre). En ce sens, on peut dire que les photo-éléments d’un même réseau sont homogènes et réguliers. Il est entendu que l’homogénéité et la régularité d’un réseau de photo-éléments est à évaluer en prenant en compte les marges d’erreur de fabrication de ces derniers. Par ailleurs, un réseau continu ne présente aucun mur en son sein.
L’émission de chacun des réseaux se fait de préférence principalement selon une direction perpendiculaire à la face supérieure 20 du substrat 2. Selon un exemple avantageux, les photo-éléments sont configurés pour émettre un faisceau dont l’intensité selon une direction perpendiculaire à la face supérieure 20 du substrat 2 (dite normale au substrat) est au moins 20% supérieure à l’intensité maximale d’une émission lumineuse lambertienne dont le flux lumineux total sur 4π sr est égal au flux total sur 4π sr du faisceau émis par les photo-éléments. Les intensités lumineuses en question sont typiquement exprimées en W.sr -1 .
Avantageusement, le flux lumineux émis par chacun des réseaux dans un cône défini par un angle de sensiblement 30° par rapport à la normale au substrat 2 est deux fois plus élevé, de préférence trois fois plus élevé, et de façon très avantageuse quatre fois plus élevée, que si le faisceau provenait d’une source lambertienne. Avantageusement, l’intensité lumineuse émise par chacun des réseaux selon la normale au substrat 2 est deux fois plus élevée, de préférence quatre fois plus élevée, et de façon très avantageuse quinze fois plus élevée, que si le faisceau provenait d’une source lambertienne.
Une émission dirigée principalement perpendiculairement à la face supérieure 20 du substrat 2 permet d’éviter que les photo-éléments correspondant à un pixel ou sous-pixel n’éclairent les photo-éléments d’un pixel ou sous-pixel voisin. Ainsi, on garantit une isolation de l’éclairage des différents pixels ou sous-pixels sans avoir besoin de réaliser des murs entre ces éléments. On évite ainsi de rompre la continuité et la symétrie des cristaux photoniques formés par les réseaux de photo-éléments. En d’autres termes, le fait que les photo-éléments émettent principalement perpendiculairement à la face supérieure 20 du substrat 2 permet d’augmenter les dimensions des cristaux photoniques et donc d’en améliorer la qualité.
Les photo-éléments d’un même réseau présentent des diamètres sensiblement égaux à une valeur cible. Il est entendu que, du fait des imprécisions découlant des procédés de fabrication, les photo-éléments 10 d’un même réseau peuvent difficilement tous présenter un diamètre égal à cette valeur cible. Les variations de la valeur du diamètre d’un nanofil par exemple dues aux aléas de fabrication peuvent être estimées à environ 10% de la valeur cible. Il en va de même pour la valeur du pas entre deux photo-éléments voisins. Pour cette raison, tous les photo-éléments 10 n’émettent pas exactement à la même longueur d’onde. Les photos-éléments 10 d’un réseau de photo-éléments 10 émettent dans une plage de longueurs d’ondes caractérisant le réseau. On entend qu’un réseau de N photo-éléments émettant chacun un rayonnement lumineux caractérisé par une longueur d’onde λ i avec 1≤i≤N, λ i étant compris dans la plage d’émission du réseau, et tous avec une même intensité, émet un rayonnement global à une longueur d’onde de réseau λ réseau définie par :
Les longueurs d’onde dites de réseaux caractérisant les rayons lumineux émis par les réseaux formant les premiers sous-pixels 110, 210 (λ 1 ) et les deuxièmes sous-pixels 120, 220 (λ 2 ) sont notamment définies de cette façon. Bien entendu, si tous les photo-éléments 10 n’émettent pas avec la même intensité, les différentes composantes de la longueur d’onde de réseau, c’est-à-dire les longueurs d’ondes des rayonnements émis par chacun des photo-éléments 10, peuvent être pondérés par des coefficients relatifs à leurs intensités respectives.
Les premiers sous-pixels et les deuxièmes sous-pixels émettent des rayonnements correspondant à des couleurs C 1 et C 2 distinctes. On considère que les deux plages de longueurs d’ondes des deux réseaux 100, 200 sont distinctes si les longueurs d’onde de réseaux λ 1 , λ 2 les caractérisant vérifient la relation suivante :
En pratique, les longueurs d’onde λ 1 , λ 2 caractérisant les couleurs C 1 , C 2 des premiers sous-pixels et des deuxièmes sous-pixels respectivement appartiennent à des plages très éloignées. Par exemple, λ 1 se trouve dans une plage correspondant à une nuance de rouge (entre 620 à 800 nm), de vert (entre 520 à 565 nm) ou de bleu (entre 430 à 520 nm), et λ 2 dans une autre parmi ces plages. Ces plages se situent autour des longueurs d’onde fixées par la Commission Internationale de l’Eclairage (CIE) pour les trois couleurs primaires physiques : 700 nm pour le rouge, 536,1 nm pour le vert et 435,8 nm pour le bleu. Idéalement, les longueurs d’ondes émises par les réseaux de photo-éléments se rapprochent de ces valeurs.
Comme mentionné précédemment, l’émission par les premiers sous-pixels 110, 210 et les deuxièmes sous-pixels 120, 220 des couleurs C 1 et C 2 respectivement est notamment permise par le dimensionnement de leurs réseaux respectifs de photo-éléments 10. Comme illustré à la , les photo-éléments 111, 211 formant les premiers sous-pixels 110, 210 présentent des premiers diamètres cibles d 10 et sont espacés d’un premier pas cible p 10 . De la même façon, les photo-éléments 121, 221 formant les deuxièmes sous-pixels 120, 220 présentent des deuxièmes diamètres cibles d 20 et sont espacés d’un deuxième pas cible p 20 .
Le réseau de pixels 1 présente la particularité de pouvoir être défini par un motif élémentaire 1000 dont la répétition dans la première direction x et dans la deuxième direction y permet de reconstituer l’intégralité du réseau.