Dispositif d’affichage électroluminescent comprenant une matrice de pixels électroluminescents formée d’une pluralité de pixels déposés sur un substrat (210), selon un arrangement matriciel en lignes et en colonnes, chaque pixel étant formé d’au moins trois zones émettrices élémentaires, chacune desdites au moins trois zones émettrices élémentaires appartenant à un groupe de zones émettrices élémentaires différent qui se distingue des zones émettrices élémentaires appartenant à d’autres groupes par sa couleur d’émission, chaque zone d’émission élémentaire comprenant un empilement électroluminescent de couches organiques (205), appelé « empilement OLED », qui comprend au moins une couche organique émettrice de lumière, ledit empilement OLED (205) étant disposé entre une électrode de commande (202) et une électrode supérieure (207) transparente, ladite électrode supérieure (207) transparente étant traversée par la lumière émise par l’empilement OLED (205), ledit dispositif d’affichage électroluminescent étant caractérisé en ce que : deux électrodes de commande (202a,202b ; 202b,202c ; 202c, 202a) voisines appartenant à deux zones émettrices élémentaires voisines qui appartiennent chacune à un groupe de zones émettrices élémentaires différent sont séparées par un espace (211) formant une tranchée et présentant une surface isolante (223) qui couvre au moins les flancs verticaux desdites électrodes voisines et les isole électriquement l’une de l’autre, et deux électrodes de commande (202a,202a ; 202b,202b, 202c,202c) voisines appartenant à deux zones émettrices élémentaires voisines qui appartiennent chacune au même groupe de zones émettrices élémentaires sont séparées par un espace (211) formant une tranchée, ledit espace étant rempli d’un élément de remplissage (203) qui isole lesdites électrodes voisines électriquement l’une de l’autre et remplit l’espace naturel entre lesdites deux électrodes, dans chaque groupe de zones émettrices élémentaires, l’ensemble de l’empilement OLED avec son électrode supérieure correspondante (205a avec 207a, 205b avec 207b, 205c avec 207c) est séparé des ensembles voisins appartenant à un autre groupe par une couche d’encapsulation (290) qui protège ledit empilement OLED sur sa face supérieure et ses flancs latéraux contre l’air ambiant, formant ainsi des ilôts (225) protégés, chaque îlot comprenant des ensembles d’empilements OLED d’un même groupe, avec leur électrode supérieure. Dispositif selon la revendication, caractérisé en ce que lesdites couleurs d’émission sont rouge, bleu et vert. Dispositif selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que la largeur dudit espace formant tranchée est comprise entre 0,3 µm et 1,0 µm. Dispositif selon l’une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que la profondeur dudit espace formant tranchée est comprise entre environ 150 nm et environ 850 nm, et de préférence entre 150 nm et 450 nm. Dispositif selon l’une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que l’épaisseur desdites électrodes de commande (202) est comprise entre environ 150 nm et environ 800 nm, et de préférence entre 150 nm et 450 nm. Dispositif selon l’une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que l’épaisseur desdites électrodes de commande (202) est supérieure à celui des empilements OLED (205). Dispositif selon l’une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que ledit élément de remplissage (203) remplit l’espace naturel entre deux électrodes de commande (202) voisines de manière à ce que ladite électrode supérieure (207) soit sensiblement plane. Dispositif selon l’une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que le pas des zones émettrices élémentaires est inférieur à environ 20 µm, de préférence inférieur à environ 15 µm, plus préférentiellement inférieur à environ 10 µm, et encore plus préférentiellement compris entre environ 1 µm et environ 5 µm, et en ce que la largeur de l’espace entre des électrodes de commande est inférieur à environ 1 µm, et de préférence compris entre environ 0,3 µm et environ 1,0 µm. Dispositif selon l’une quelconque des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que sur l’élément de remplissage à surface isolante 203, l’angle alpha par rapport à la surface supérieure horizontale de l’électrode 202 ne dépasse en aucun endroit une valeur qui est d’environ 40°, de préférence d’environ 30°, plus préférentiellement d’environ 25°, et encore plus préférentiellement d’environ 20°, sachant qu’il peut s’agir d’un angle positif ou négatif. Procédé de fabrication d’un dispositif d’affichage électroluminescent comprenant une matrice de pixels électroluminescents formée d’une pluralité de pixels déposés sur un substrat (210), selon un arrangement matriciel en lignes et en colonnes, chaque pixel étant formé d’au moins trois zones émettrices élémentaires, chacune desdites au moins trois zones émettrices élémentaires appartenant à un groupe de zones émettrices élémentaires différent qui se distingue des zones émettrices élémentaires appartenant à d’autres groupes par sa couleur d’émission, chaque zone d’émission élémentaire comprenant un empilement électroluminescent de couches organiques (205), appelé « empilement OLED », qui comprend au moins une couche organique émettrice de lumière, dans lequel procédé : on approvisionne un substrat (210) pourvu d’une électrode de commande (202a,202b,202c) pour chaque zone émettrice élémentaire et d’une couche d’isolant (223) entre deux électrodes (202a,202b,202c) voisines, et pourvu d’éléments de remplissage entre deux zones émettrices élémentaires voisines appartenant au même groupe de zones émettrices élémentaires, dans un premier groupe d’étapes on dépose d’abord un premier empilement OLED (205a), une électrode supérieure (207a) et, à l’aide d’une technique de dépôt conforme, une première couche d’encapsulation (290a), puis on aménage à l’endroit des zones d’émission élémentaires du premier groupe un photoresist qui protège la surface horizontale et le flanc de ladite couche d’encapsulation (290a) à l’endroit desdites zones d’émission élémentaires du premier groupe, et on grave les zones non protégées par le photorésist jusqu’à la surface supérieure de l’électrode de commande (202b et 202c), et enfin on enlève ledit photorésist, dans un deuxième groupe d’étapes on dépose d’abord un deuxième empilement OLED (205b), une électrode supérieure (207b) et, à l’aide d’une technique de dépôt conforme, une deuxième couche d’encapsulation (290b), puis on aménage à l’endroit des zones d’émission du deuxième groupe un photorest qui protège la surface horizontale et le flanc de ladite couche d’encapsulation (290b) à l’endroit desdites zones d’émission élémentaires du deuxième groupe, et on grave les zones non protégées par le photorésist jusqu’à la surface supérieure de l’électrode de commande (202c) pour les zones d’émission élémentaire du troisième groupe et jusqu’à la surface de la première couche d’encapsulation pour les zone d’émission élémentaire du premier groupe, et enfin on enlève ledit photorésist, dans un troisième groupe d’étapes on dépose d’abord un troisième empilement OLED (205c), une électrode supérieure (207c) et, à l’aide d’une technique de dépôt conforme, une troisième couche d’encapsulation (290c), puis on aménage à l’endroit des zones d’émission du troisième groupe un photoresist qui protège la surface horizontale et le flanc de ladite couche d’encapsulation (290c) à l’endroit desdites zones d’émission élémentaires du troisième groupe, et on grave les zones non protégées par le photorésist jusqu’à la surface de la première couche d’encapsulation pour les zones d’émission élémentaire du premier et du deuxième groupe, et enfin on enlève ledit photorésist.