INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Pour chaque chevalement des fontures, notamment pour une augmentation du nombre d’aiguilles, il est, par exemple, réalisé un bouche trou 100. Un bouche trou est une longueur donnée de fil disposé à un emplacement, destiné à combler un espace resté libre.
Un exemple de structure de tricot pour une augmentation, ici à droite sur la représentation, du nombre d’aiguilles, d’une côte, est représenté sur la [Fig 5] uniquement sur les fontures 12 et 16. La structure est identique pour les fontures 18 et 14.
le principe est similaire avec une augmentation sur la gauche, en réalisant les étapes en miroir.
De même qu’en regard de la , par soucis de clarté de la figure, seul un fil de maille de la structure est représenté, cette structure étant compatible avec le premier et le deuxième exemple de structure de maille de fond décrit précédemment en regard des figures 2 et 3.
Sur l’exemple représenté, un premier chevalement, ici vers la droite, est réalisé pour le tricotage de la face avant. Ainsi, un chevalement entre la fonture arrière haute et la fonture avant basse est réalisé.
Plus particulièrement, un point du motif de tricot avant la modification du nombre d’aiguilles, ici une côte 1 et 1, est tricotée entre la fonture arrière haute 12 et la fonture avant basse 16 sur une rangée, en réalisant en un emplacement un bouche trou 100 à la place d’une maille, plus particulièrement au niveau d’une aiguille de la fonture avant basse 16.
De manière particulièrement avantageuse, la composition élastomérique l’invention peut comprendre de 60 à 100 pce, de préférence de 70 à 100 pce, de préférence de 80 à 100 pce, de préférence de 90 à 100 pce, d’un élastomère diénique choisi dans le groupe constitué par les élastomères isoprénique, les élastomères butadiéniques et les mélanges de ces élastomères. Selon un mode de réalisation, la composition de caoutchouc peut comprendre de 60 à 99 pce, de préférence 70 à 99 pce, par exemple de 80 à 98 pce, par exemple de 90 à 97 pce, d’un élastomère diénique choisi dans le groupe constitué par les élastomères isoprénique, les élastomères butadiéniques et les mélanges de ces élastomères ; le complément pouvant être un autre élastomère diénique différent.
Par charge, on entend ici tout type de charge, qu'elle soit renforçante ou qu'elle soit non-renforçante ou inerte. A titre de charge renforçante, il est connu de l’homme du métier qu’il s’agit de noir de carbone ou des charges renforçantes inorganiques de type silice ou alumine. A titre de charge non renforçante ou inerte, il est connu de l’homme du métier qu’il s’agit de graphite, d’argile, de talc, de mica, etc. Dans le cadre de la présente invention l’oxyde de zinc n'est pas considéré comme une charge non-renforçante. Il est un activateur du système de vulcanisation.
Le taux total de charges (c’est-à-dire la somme du taux de charges renforçantes et de charges non renforçantes) dans la composition élastomérique de la présente invention est inférieur ou égal à 65 pce, de préférence inférieur ou égal à 60 pce, de préférence inférieur ou égal à 55 pce. Plus préférentiellement le taux total de charges est compris dans un domaine allant de 20 à 65 pce, plus préférentiellement compris dans un domaine allant de 25 à 60 pce, plus préférentiellement encore de 25 à 55 pce. A ce taux total de charges, on obtient un bon compromis de propriété résistance aux agressions, rigidité, déformation à la rupture et une conductivité thermique.
La composition élastomérique de l’invention comprend une charge renforçante, cette charge renforçante comprenant majoritairement un noir de carbone. Outre le noir de carbone qui est majoritaire comme charge renforçante, la composition élastomérique de l’invention peut éventuellement également comprendre une deuxième charge renforçante comme de la silice, par exemple.
Le taux total de charge renforçante, c’est-à-dire le taux de noir de carbone et le taux de silice lorsqu’elle est présente, est inférieur ou égal à 60 pce, plus préférentiellement inférieur ou égal à 55 pce, plus préférentiellement inférieur ou égal à 50 pce, plus préférentiellement inférieur ou égal à 45 pce. Ce taux de charge renforçante est avantageusement supérieur ou égal à 20 pce, plus préférentiellement supérieur ou égal à 25 pce, plus préférentiellement supérieur ou égale à 30 pce. Préférentiellement, le taux de charges renforçantes dans la composition élastomérique est compris dans un domaine allant de 20 pce à 60 pce, plus préférentiellement de 25 pce à 55 pce, plus préférentiellement de 30 pce à 45 pce.
Préférentiellement, le noir de carbone représente plus de 55% en poids du poids total de la charge renforçante, plus préférentiellement encore plus de 60% en poids, plus préférentiellement encore plus de 80 % en poids, plus préférentiellement encore représente 100% en poids du poids total de la charge renforçante.
Ainsi, préférentiellement le taux de charge renforçante est inférieur ou égal à 60 pce, plus préférentiellement inférieur ou égal à 55 pce, plus préférentiellement inférieur ou égal à 50 pce, plus préférentiellement encore inférieur ou égal à 45 pce et le noir de carbone représente plus de 55% en poids du poids total de la charge renforçante, plus préférentiellement encore plus de 60% en poids, plus préférentiellement encore plus de 80 % en poids, plus préférentiellement encore représente 100% en poids du poids total de la charge renforçante.
Les éléments de pivot de l’adaptateur 1, par exemple de type mâle et femelle, sont agencés dans le logement de connecteur 3 pour coopérer avec des éléments de pivot complémentaires du connecteur 301 du balai d’essuyage 300 pour former une liaison pivot. La rotation entre l’adaptateur 1 et le connecteur 301 est réalisée autour d’un axe de rotation parallèle à la direction transversale X.
Selon un exemple de réalisation des éléments de pivot, l’adaptateur 1 comprend d’une part un plot cylindrique 4 configuré pour coopérer avec un orifice circulaire du connecteur 301, et d’autre part une cavité 5 configurée pour coopérer avec un plot cylindrique du connecteur 301, le plot cylindrique 4 et la cavité 5 de l’adaptateur 1 étant formés dans les parois parallèles et opposées du logement de connecteur 3 (figures 4 et 5).
Le corps 2 de l’adaptateur 1 s’étend à son extrémité longitudinale avant par une tête 6 . La tête 6 de l’adaptateur 1 présente des dimensions dans les directions X, Y, Z plus grandes que les parois latérales et supérieure du logement de connecteur 3. La tête 6 forme une butée pour le montage de l’adaptateur 1 par translation dans la chape 201 du bras d’essuie-glace 200 dans la direction longitudinale Y ( ).
Le corps 2 de l’adaptateur 1 présente également deux ailes 7a, 7b s’étendant de part et d’autre de la tête 6, à l’arrière de la tête 6 (figures 4 et 5).
Chaque aile 7a, 7b s’étend vers l’arrière dans la direction longitudinale Y et porte un doigt élastique 8 respectif. Les ailes 7a, 7b sont configurées pour coopérer avec une encoche latérale 204 respective de la chape 201 afin de clipper l’adaptateur 1 à la chape 201 du bras 200 ( ).
Le corps 2 de l’adaptateur 1 s’étend à l’extrémité longitudinale opposée de la tête 6, par exemple par deux flancs 13a, 13b dans le prolongement des parois latérales du logement de connecteur 3, les flancs 13a, 13b se rejoignant à l’arrière de l’adaptateur 1 par une paroi transversale. Les flancs 13a, 13b, la paroi transversale et le logement de connecteur 3 délimitent une ouverture arrière 14 ( ).
L’adaptateur 1 comprend également une patte flexible 15 s’étendant dans l’ouverture arrière 14 ainsi ménagée dans le corps 2 de l’adaptateur 1, à l’arrière du logement de connecteur 3. La patte flexible 15 porte un bouton de verrouillage 16 à son extrémité.
Une extrémité du bouton de verrouillage 16 est prolongée latéralement par au moins un bec de verrouillage 17 dont un bord de retenue s’étend dans une direction longitudinale Y de l’adaptateur 1 pour coopérer avec une bordure latérale de l’ouverture 202 de la chape 201 du bras d’essuie-glace 200 pour verrouiller l’assemblage de l’adaptateur 1 dans la chape 201.
Le bord de retenue du bec de verrouillage 17, en face inférieure, peut être plan. Il forme une butée pour la chape 201 dans la direction verticale Z, ce qui permet le clipsage du bouton de verrouillage 16 à la chape 201 et donc le verrouillage de l’assemblage de l’adaptateur 1 avec le bras d’essuie-glace 200.
La longueur du bec de verrouillage 17 peut être plus courte, plus longue ou de même longueur que la longueur du bouton de verrouillage 16 dans la direction longitudinale Y.
Le bouton de verrouillage 16 est prolongé par un seul bec de verrouillage 17 sur les figures mais il est également possible de prévoir que le bouton de verrouillage 16 s’étende par plusieurs becs de verrouillage, comme par exemple par deux becs de verrouillage (voir ).
La patte flexible 15 s’étend depuis un flanc 13a du corps 2 de l’adaptateur 1 vers le centre de l’ouverture arrière 14 de manière à permettre le basculement du bouton de verrouillage sur le côté, autour d’un axe longitudinal Y, par déformation de la patte flexible 15 (figures 6 et 8).
La patte flexible 15 s’étend par exemple de manière à présenter le bouton de verrouillage 16 au-dessus de l’ouverture arrière 14 et au moins partiellement au-dessus d’une paroi supérieure du corps 2 de l’adaptateur 1 ( ).
Selon un exemple de réalisation, la patte flexible 15 s’étend depuis le flanc 13a du corps 2 de l’adaptateur 1 situé du même côté que celui où est agencé le bec de verrouillage 17, de sorte qu’un appui latéral sur le bouton de verrouillage 16, avec le doigt de l’utilisateur, le fasse basculer autour de l’axe longitudinal, dans l’ouverture 202 de la chape 201, pour désengager le bec de verrouillage 17 et libérer l’adaptateur 1.
Selon un exemple de réalisation mieux visible sur la , la surface supérieure du bec de verrouillage 17 présente une forme arrondie ou de plan incliné (rampe supérieure), configurée pour entrainer le pivotement progressif du bouton de verrouillage 16 lors de son insertion dans l’ouverture 202 de la chape 201. Le bouton de verrouillage 16 se repositionne par élasticité de la patte flexible 15 vers la position de verrouillage une fois que le bec de verrouillage 17 a traversé l’ouverture 202.
Toute la surface supérieure du bouton de verrouillage 16 s’étend par exemple de manière continue et arrondie.
Dans l’exemple des figures 1 à 5, la partie inférieure 41 de la jauge de contrainte est vissée sur la partie basse avant 32, en particulier sur la platine 321, au moyen de vis 40. Dans la variante de la , la jauge de contrainte est fixée sur le rail 6 par sa partie supérieure 42.
Sur les figures 1 et 2, la jauge de contrainte est non visible, cachée à la vue de l’utilisateur par un boîtier 7.
Ce boîtier 7 est positionné contre le rail horizontal 6 par sa partie supérieure et se prolonge vers le bas en s’éloignant du rail horizontal 6 à sa partie inférieure, comme on peut le voir sur la vue éclatée de la . Il est en outre fixé sur la partie basse avant 32.
La jauge de contrainte est partiellement visible sur la qui est une coupe longitudinale d’une partie du système 1.
Dans cet exemple, la jauge de contrainte est interposée entre la platine verticale 321 et un élément de maintien 17, en l’occurrence une butée, fixé au rail horizontal 6, ayant pour rôle de retenir la jauge et d’empêcher une déformation excessive de celle-ci.
La flèche représentée sur la indique le sens de l’effort qui s’applique sur la jauge de contrainte, sous l’effet du couple exercé par le poids et qui provoque sa mise en flexion.
Dans l’exemple illustré, la jauge de contrainte est de type résistif. Lorsqu’une force est appliquée sur la jauge, par exemple résultant d’une variation de la masse du produit, une variation de résistance électrique de la jauge peut être mesurée, qui est fonction de la variation de masse.
La jauge de contrainte est visible sur la , vue éclatée du système. De préférence, elle est de forme générale aplatie, orientée verticalement, de manière à mesurer une force orientée horizontalement.
Le système 1 comporte également un système de traitement 5 recevant le signal en provenance de la jauge de contrainte, résultant du couple de pivotement, configuré pour calculer une mesure du poids du distributeur 2 et du produit qu’il contient. Ce système de traitement 5 est représenté schématiquement par un bloc à la . Il est par exemple logé dans une zone arrière du système 1, derrière le rail horizontal 6.
Le système de traitement 5 peut comporter une partie électronique 19, illustrée schématiquement par un bloc à la , notamment des cartes et des câbles, servant à relier la jauge de contrainte à un module électronique 199 du système de traitement 5.
Le module électronique 199 est de préférence configuré pour calculer le poids du distributeur et du produit en fonction des signaux électriques qu’il reçoit de la jauge de contrainte.
Comme montré sur la , les composants du système peuvent être fixés les uns aux autres par des vis.
L’invention n’est pas limitée à l’exemple de réalisation décrit ci-dessus. La jauge de contrainte peut être par exemple d’un autre type que résistif. On peut utiliser un capteur de couple, placé par exemple au niveau de la partie d’accrochage haute du distributeur sur le support, auquel cas cet accrochage se fait avantageusement de manière à permettre un pivotement du distributeur autour de l’axe de mesure du capteur et l’entrainement en rotation de la partie mobile du capteur par le distributeur.
On peut encore utiliser un capteur de déplacement, et un organe élastiquement déformable, qui est déformé, par exemple comprimé, par le pivotement du distributeur ; plus le couple est important, plus l’organe élastique est déformé et la distance mesurée réduite ; l’association du capteur de distance et de l’organe élastique permet de mesure la déformation de l’organe élastique, qui est proportionnelle à la force exercée dessus par le distributeur. A la place du capteur de distance, on peut utiliser un capteur de déplacement en contact avec l’organe élastique. Notamment, l’organe élastique peut être une lame orientée verticalement et le capteur de déplacement, en contact avec la lame, peut être adapté à mesurer la déformation horizontale de cette dernière sous l’effet du pivotement vers l’arrière du distributeur.
RÉSERVOIR POUR GAZ SOUS PRESSION L’invention concerne un réservoir de gaz sous pression, tel de l’hydrogène. Plus particulièrement, l’invention vise à protéger un mode de réalisation de l’interface étanche entre l’embase et l’enveloppe ou liner.
La détection par le détecteur 112 est une image géométrique de la fente 106. En particulier, toutes les longueurs d’ondes sont présentent en chaque point de la fente 106 et sont ensuite imagées sur le détecteur 112 le long de l’axe x. Chaque point de la fente 106 est donc imagé sur un point du détecteur 112 le long de l’axe x.
Dans un mode de réalisation, le système 100 comprend un élément dispersif 1004. L’élément dispersif 1004 (tel qu’un prime ou un réseau) est placée entre la matrice de microlentilles 108 et la matrice de métasurfaces 110, le long de l’axe z. Ainsi, dans cet exemple, une dispersion le long de l’axe y est également obtenue. La détection par le détecteur 112 est donc de la largeur de la fente 106 (le long de l’axe x), avec une dispersion de la longueur d’onde dans la direction x. Par exemple, la figure 4 représente un exemple des points d’impact entre les sous-faisceaux et le détecteur 112. En particulier, l’impact entre les sous-faisceaux et le plan du détecteur 112 forme un continuum de champs incidents qui est imagé le long des colonnes du capteur (c’est-à-dire le long de l’axe x), et les composantes spectrales associées à chaque champ sont réparties le long des lignes du détecteur (c’est-à-dire le long de l’axe y). Dans un cas idéal, la séparation des caractéristiques sous-faisceaux (ayant une longueur d’onde λ et un angle de champ θ) se fait dans deux directions orthogonales au niveau du détecteur 112. La figure 4 représente un nombre discret de points de champs et de longueurs d’onde associées par soucis de visibilité, mais il existe une infinité de sous-champs et de longueurs d’onde entre chaque point. Comme représenté sur la figure 4, les rectangles 402représentent des portions de champ et de longueur d’onde adressées séparément par une métasurface de la matrice de métasurfaces 110. Dans un exemple illustré figure 4, les M métasurfaces adressent individuellement la même gamme de sous-champs (axe x), mais un nombre réduit de longueurs d’onde à mesure que celles-ci tendent vers la limite basse de la bande spectrale sondée. Dans la la limite basse de la bande spectrale sondée correspond à la valeur la plus faible de y et la limite haute correspond à la valeur la plus élevée de y. Dans cette configuration, c’est-à-dire avec un élément dispersif 1004 placé entre la fente et la matrice de métasurface, il est possible de simplifier la fabrication des métasurfaces. En effet, dans cette configuration, les métasurfaces permettent la focalisation mais une partie de la dispersion est assurée par l’élément dispersif, ce qui simplifie le design des métasurfaces et les paramètres à considérer pour leur fabrication.
Comme représenté dans la , dans un autre exemple, le système d’imagerie hyperspectral 100 comprend plusieurs détecteurs qui sont placés dans un plan c parallèle aux plans a et b. Ainsi, pour les détections de large surface, il peut être avantageux d’utiliser plusieurs détecteurs, limitant les coûts du système et permettant d’utiliser des détecteurs ayant des caractéristiques différentes.
Dans un autre exemple, le système 100 peut comprendre une matrice de détecteurs 112. Ainsi, chaque détecteur 112 de la matrice de détecteurs 112 peut détecter les sous-faisceaux d’une métasurface 110 de la matrice de métasurfaces associée. Les détecteurs 112 de la matrice de détecteurs 112 peuvent être placés dans un même plan. Alternativement, les détecteurs 112 peuvent être placés dans plusieurs plans c, d, e. Les plans c, d, e dans lesquels sont placés les détecteurs 112 peuvent être parallèles ou au moins deux des plans dans lesquels sont placés les détecteurs 112 peuvent ne pas être parallèles. Ainsi, en plaçant les détecteurs 112 sur plusieurs plans, il est possible de minimiser l’encombrement du système d’imagerie hyperspectral 100 et d’optimiser la détection des sous faisceaux de la métasurface associée à chaque détecteur.
Il est noté que les éléments du système d’imagerie hyperspectral décrits ci-dessus, c’est-à-dire l’imageur 104, la fente 106, la matrice de collimateurs 108, la matrice de métasurfaces 110 et les détecteurs sont placés le long de l’axe optique z.
Comme illustré dans les figures 5a à 5c, chaque métasurface 110 comprend un substrat 304 et des nano-éléments 302. Dans les exemples des figures 5a à 5c, le substrat est plan. Dans un autre exemple, le substrat d’au moins l’une des métasurfaces 110 est courbe. Un substrat courbe permet d’augmenter le nombre de variables décrivant la métarsurface et donc de prendre en compte des contraintes de dimensionnement supplémentaires (performance, volume…).
Dans un exemple, toutes les métasurfaces de la matrice de métasurfaces sont identiques. Dans un autre exemple, au moins deux des métasurfaces de la matrice de métasurfaces sont différentes. En effet, aux moins deux des métasurfaces peuvent avoir des designs différents, comme par exemple des nano-éléments 302 de forme et/ou de taille et/ou en matériaux différents, et/un nombre de nano-éléments 302 différent, et/ou un agencement des nano-éléments 302 différent, et/ou un substrat de taille et/ou en matériau différents. La matrice comportant des métasurfaces ayant un design différent permet optimiser l’ensemble du système 100 (par exemple en permettant la correction de la distorsion le long de l’axe x, optimiser la dispersion spectrale le long de l’axe y…).
La fonction optique souhaitée, c’est-à-dire la dispersion et la focalisation des sous-faisceaux dans le plan du ou des détecteurs 112 peut être réalisée en modifiant les caractéristiques géométriques et la proximité relative de nano-éléments 302. Pour une application dans le spectre visible, il est préférable de choisir des nano-éléments 302 en matériaux diélectriques dont l’indice de réfraction est situé entre 1.45 et 3. La hauteur h des nano-éléments 302 est choisie suffisamment importante pour moduler la phase de la lumière incidente sur une amplitude d’au moins 2π. Par exemple, pour un matériau d’indice n = 2.3 dans le visible, la hauteur h des nano-éléments 302 est de l’ordre de 900 nm. La distance d entre les nano-éléments peut être choisie de façon à être inférieure à la longueur d’onde pour éviter localement la diffraction d’ordres parasites, typiquement entre 200 et 400 nm. La multiplicité de ces paramètres (hauteur h, épaisseur e, distance d, indice du matériau n…) augmente les degrés de liberté disponibles pour concevoir un système d’imagerie hyperspectral multifonctionnel. Si la bande spectrale sondée est différente, la géométrie des nano-éléments 302 et les matériaux peuvent être modifiés en conséquence en fonction des rapports épaisseur e des nano-éléments 302 sur longueur d’onde et hauteur h des nano-éléments 302 sur longueur d’onde, ces rapport étant généralement compris entre 0.5 et 1.
Comme indiqué dans la , une distance prédéfinie (d) sépare chaque nano-élément 302 des métasurfaces. La distance prédéfinie d peut être égale entre chaque nano-élément 302. Alternativement, la distance d peut être variable.
Dans l’exemple de la , les nano-éléments 302 ont la même hauteur h et la même épaisseur e. Cependant, dans un autre exemple, au moins deux des nano-éléments 302 des métasurfaces 112 ont une épaisseur e différente, et/ou une hauteur h différente.
Comme indiqué dans la , selon un mode de réalisation les nano-éléments 302 sont de forme cylindrique. En effet, les nano-éléments peuvent être des cylindres pleins, des cylindres creux, des cylindres comprenant un autre cylindre, ou encore des cylindres de base quelconque (par exemple une base en forme de croix sur la ). Dans un autre exemple, les nano-éléments 302 ont une forme parallélépipédique.
L’architecture des métasurfaces (c’est-à-dire, la distance entre les nano-éléments, l’épaisseur des nano-éléments, la hauteur h des nano-éléments, la forme des nano-éléments, etc.) dépendent de l’application de l’imageur spectral. Par exemple, l’architecture dépendra de si l’objet est observé dans le spectre visible ou dans l’infrarouge et de l’angle d’incidence.
Comme illustré dans la , dans un exemple, deux nano-éléments 302 peuvent être empilés. Dans cet exemple, deux nano-éléments 302 ayant des épaisseurs e 1 , e 2 différentes sont empilés les uns sur les autres sur le substrat 304. Les nano-éléments 302 peuvent être à base carré ou à base ronde.
A titre d’exemple pour une détection entre 600 et 700 nm (100 nm de bande spectrale), un champ compris entre -8° et +8°, la distance centre à centre entre les deux nano-éléments 302 peut être par exemple inférieure à 600 nm. Chaque nano-élément 302 peut être caractérisé par une hauteur h comprise entre 700 nm et 1 µm, et par une épaisseur e variant entre 70 nm et 330 nm. Les matériaux des nano-éléments 302 doivent être caractérisés par un indice de réfraction suffisamment élevé pour transformer l’onde incidente en un front d’onde sphérique convergent, typiquement supérieurs à 2. De plus, les matériaux doivent être transparents, ou faiblement absorbants sur la plage spectrale d’intérêt de manière à maximiser le flux au niveau du détecteur 112.
Comme indiqué ci-dessus, le système d’imagerie hyperspectral 100 comprend une matrice de collimateurs 108 et une matrice de métasurfaces 110. Le nombre de collimateurs 108 et de métasurfaces 110 des matrices dépend d’un ensemble de paramètres liés à l’architecture optique du système d’imagerie hypersectrale 100. En effet, ces paramètres comprennent une ouverture de l’imageur 104, la distance focale de l’imageur 104, la distance entre la fente 106 et les collimateurs 108, le diamètre des collimateurs 108 et la surface des métasurfaces 108.