Procédé de fabrication d’une structure (100) comprenant une pluralité de cavités (30) confinées entre une couche mince (10) et un substrat support (20), le procédé de fabrication comprenant les étapes suivantes : a) la fourniture d’un substrat donneur (11) et d’un substrat support (20), chacun des substrats (11,20) présentant une face avant (11a, 20a) et une face arrière (11b, 20b) ; b) l’implantation de premières espèces légères dans le substrat donneur (11), pour former un plan fragile enterré uniforme (12’) délimitant avec la face avant (11a) du substrat donneur (11), la couche mince (10) à transférer ; c) l’implantation localisée de deuxièmes espèces dans le substrat donneur (11) de manière à introduire lesdites deuxièmes espèces dans le plan fragile enterré uniforme (12’) uniquement au niveau de deuxièmes zones (Z2), pour former un plan fragile enterré fonctionnel (12) présentant : - des premières zones (Z1) comportant les premières espèces légères et non les deuxièmes espèces, et - les deuxièmes zones (Z2), comportant les premières espèces légères et les deuxièmes espèces ; d) la formation d’une pluralité de cavités (30) débouchant au niveau d’une face avant (11a,20a) du substrat donneur (11) ou du substrat support (20) ; e) l’assemblage par collage direct du substrat donneur (11) sur le substrat support (20), au niveau de leurs faces avant respectives (11a, 20a), pour former une structure collée (90) dans laquelle les cavités (30) se trouvent à l’aplomb soit des premières zones (Z1), soit des deuxièmes zones (Z2) du plan fragile enterré fonctionnel (12) ; f) l’application d’un traitement thermique à la structure collée (90) pour provoquer la séparation spontanée le long du plan fragile enterré fonctionnel (12) et former d’une part la structure (100) et d’autre part le reste du substrat donneur (11’). Procédé de fabrication selon la revendication 1, dans lequel l’implantation de l’étape c) est effectuée en présence d’un masque (M), disposé sur la face avant (11a) du substrat donneur (11), à l’aplomb des premières zones (Z1) du plan fragile enterré fonctionnel (12). Procédé de fabrication selon la revendication 2, dans lequel la formation des cavités (30) à l’étape d) est réalisée par gravure locale de la face avant (20a) du substrat support (20), par exemple au moyen d’un masque (M’) disposé sur ladite face avant (20a). Procédé de fabrication selon la revendication 2, dans lequel, après l’étape c), l’étape d) de formation des cavités (30) comprend la gravure de la face avant (11a) du substrat donneur (11), à l’aplomb des deuxièmes zones (Z2), les premières zones (Z1) étant protégées de la gravure par le masque (M). Procédé de fabrication selon la revendication 4, comprenant, après l’étape d) et après retrait du masque (M), une étape c’) d’implantation localisée de troisièmes espèces au niveau de la face avant (11a) du substrat donneur (11), les troisièmes espèces se trouvant ainsi implantées dans les premières zones (Z1) du plan fragile enterré fonctionnel (12) et dans un autre plan enterré (12’’) situé à distance et sous les deuxièmes zones (Z2) du plan fragile enterré fonctionnel (12). Procédé de fabrication selon la revendication 1, dans lequel l’étape d) de formation des cavités (30) est réalisée avant l’étape c), et comprend : - l’application d’un masque (M) disposé sur la face avant (11a) du substrat donneur (11), à l’aplomb des deuxièmes zones (Z2) du plan fragile enterré fonctionnel (12) destiné à être formé à l’étape c) ultérieure, et - la gravure de la face avant (11a) du substrat donneur (11), à l’aplomb des premières zones (Z1), les deuxièmes zones (Z2) étant protégées de la gravure par le masque (M). Procédé de fabrication selon la revendication 6, dans lequel après l’étape d) et après retrait du masque (M) de la face avant (11a) du substrat donneur (11), l’étape c) d’implantation est effectuée, les deuxièmes espèces se trouvant ainsi implantées dans les deuxièmes zones du plan fragile enterré fonctionnel (12) et dans un autre plan enterré (12’’) situé à distance et sous les premières zones (Z1) du plan fragile enterré fonctionnel (12). Procédé de fabrication selon l’une des revendications 1 à 5, dans lequel : - les deuxièmes zones (Z2) du plan fragile enterré fonctionnel (12) sont à l’aplomb des cavités (30), dans la structure collée (90), et - les premières espèces légères sont des ions ou des atomes d’hydrogène, et les deuxièmes espèces sont des ions ou des atomes d’hélium. Procédé de fabrication selon l’une des revendications 1, 2, 3, 6 et 7, dans lequel : - les premières zones (Z1) du plan fragile enterré fonctionnel (12) sont à l’aplomb des cavités (30) dans la structure collée (90), - les premières espèces légères sont des ions ou des atomes d’hydrogène, ou des ions ou des atomes d’hélium, ou encore des ions ou des atomes d’hydrogène et d’hélium, et - les deuxièmes espèces sont des ions ou des atomes de silicium, susceptibles de ralentir la cinétique de croissance de microfissures dans les deuxièmes zones (Z2) du plan fragile enterré fonctionnel (12), comparativement à la cinétique de croissance de microfissures dans les premières zones (Z1). Procédé de fabrication selon l’une des revendications 1 à 9, dans lequel l’étape e) d’assemblage implique au moins une couche intermédiaire (50) disposée sur le substrat donneur (11) et/ou sur le substrat support (20), ladite couche intermédiaire (50) ayant été déposée après l’une des étapes a) à d).