INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M550 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 1 % ( par ex. inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, ou inférieur à 0,1 %) et le niveau d’oxydation en position M1144 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 6 % ( par ex. inférieur à 5,5 %, inférieur à 5,0 %, inférieur à 4,5 %, inférieur à 4,0 %, inférieur à 3,5 %, inférieur à 3 %, inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, ou inférieur à 0,1 %).
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M550 de SEQ ID NO. 3 d'environ 0,3 % à environ 0,5 % ( par ex. , environ 0,3 %, environ 0,35 %, environ 0,4 %, environ 0,45 %, ou environ 0,5 %) et le niveau d’oxydation en position M1144 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 2 %.
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M1004 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 3 % ( par ex. inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, inférieur à 0,1 %) et le niveau d’oxydation en position M1144 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 6 % ( par ex. inférieur à 5,5 %, inférieur à 5,0 %, inférieur à 4,5 %, inférieur à 4,0 %, inférieur à 3,5 %, inférieur à 3 %, inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, ou inférieur à 0,1 %).
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M1004 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 1 % à environ 2 % ( par ex. , environ 1 %, environ 1,1 %, environ 1,2 %, environ 1,3 %, environ 1,4 %, environ 1,5 %, environ 1,6 %, environ 1,7 %, environ 1,8 %, environ 1,9 % ou environ 2 %) et le niveau d’oxydation en position M1144 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 2 %.
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M411 de SEQ ID NO. 2 est inférieur à 5 % ( par ex. inférieur à 4,5 %, inférieur à 4 %, inférieur à 3,5 %, inférieur à 3 %, inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, inférieur à 0,1 %) le niveau d’oxydation en position M550 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 1 % ( par ex. inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, ou inférieur à 0,1 %) et le niveau d’oxydation en position M1004 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 3 % ( par ex. inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, inférieur à 0,1 %).
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M411 de SEQ ID NO. 2 est d'environ 2 %, le taux d'oxydation en position M550 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 0,3 % à environ 0,5 % ( par ex. , environ 0,3 %, environ 0,35 %, environ 0,4 %, environ 0,45 %, ou environ 0,5 %), et le niveau d’oxydation en position M1004 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 1 % à environ 2 % ( par ex. , environ 1 %, environ 1,1 %, environ 1,2 %, environ 1,3 %, environ 1,4 %, environ 1,5 %, environ 1,6 %, environ 1,7 %, environ 1,8 %, environ 1,9 % ou environ 2 %).
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M411 de SEQ ID NO. 2 est inférieur à 5 % ( par ex. inférieur à 4,5 %, inférieur à 4 %, inférieur à 3,5 %, inférieur à 3 %, inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, inférieur à 0,1 %) le niveau d’oxydation en position M550 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 1 % ( par ex. inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, ou inférieur à 0,1 %) et le niveau d’oxydation en position M1144 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 6 % ( par ex. inférieur à 5,5 %, inférieur à 5,0 %, inférieur à 4,5 %, inférieur à 4,0 %, inférieur à 3,5 %, inférieur à 3 %, inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, ou inférieur à 0,1 %).
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M411 de SEQ ID NO. 2 est d'environ 2 %, le taux d'oxydation en position M550 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 0,3 % à environ 0,5 % ( par ex. , environ 0,3 %, environ 0,35 %, environ 0,4 %, environ 0,45 %, ou environ 0,5 %), et le niveau d’oxydation en position M1144 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 2 %.
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M411 de SEQ ID NO. 2 est inférieur à 5 % ( par ex. inférieur à 4,5 %, inférieur à 4 %, inférieur à 3,5 %, inférieur à 3 %, inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, inférieur à 0,1 %) le niveau d’oxydation en position M1004 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 3 % ( par ex. inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, inférieur à 0,1 %) et le niveau d’oxydation en position M1144 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 6 % ( par ex. inférieur à 5,5 %, inférieur à 5,0 %, inférieur à 4,5 %, inférieur à 4,0 %, inférieur à 3,5 %, inférieur à 3 %, inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, ou inférieur à 0,1 %).
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M411 de SEQ ID NO. 2 est d'environ 2 %, le taux d'oxydation en position M1004 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 1 % à environ 2 % ( par ex. , environ 1 %, environ 1,1 %, environ 1,2 %, environ 1,3 %, environ 1,4 %, environ 1,5 %, environ 1,6 %, environ 1,7 %, environ 1,8 %, environ 1,9 % ou environ 2 %) et le niveau d’oxydation en position M1144 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 2 %.
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M550 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 1 % ( par ex. inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, ou inférieur à 0,1 %) et le niveau d’oxydation en position M1004 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 3 % ( par ex. inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, inférieur à 0,1 %) et le niveau d’oxydation en position M1144 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 6 % ( par ex. inférieur à 5,5 %, inférieur à 5,0 %, inférieur à 4,5 %, inférieur à 4,0 %, inférieur à 3,5 %, inférieur à 3 %, inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, ou inférieur à 0,1 %).
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M550 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 0,3 % à environ 0,5 % ( par ex. , environ 0,3 %, environ 0,35 %, environ 0,4 %, environ 0,45 %, ou environ 0,5 %), le niveau d’oxydation en position M1004 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 1 % à environ 2 % ( par ex. , environ 1 %, environ 1,1 %, environ 1,2 %, environ 1,3 %, environ 1,4 %, environ 1,5 %, environ 1,6 %, environ 1,7 %, environ 1,8 %, environ 1,9 % ou environ 2 %) et le niveau d’oxydation en position M1144 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 2 %.
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M411 de SEQ ID NO. 2 est inférieur à 5 % ( par ex. inférieur à 4,5 %, inférieur à 4 %, inférieur à 3,5 %, inférieur à 3 %, inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, inférieur à 0,1 %) le niveau d’oxydation en position M550 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 1 % ( par ex. inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, ou inférieur à 0,1 %) et le niveau d’oxydation en position M1004 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 3 % ( par ex. inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, inférieur à 0,1 %) et le niveau d’oxydation en position M1144 de SEQ ID NO. 3 est inférieur à 6 % ( par ex. inférieur à 5,5 %, inférieur à 5,0 %, inférieur à 4,5 %, inférieur à 4,0 %, inférieur à 3,5 %, inférieur à 3 %, inférieur à 2,5 %, inférieur à 2,0 %, inférieur à 1,8 %, inférieur à 1,5 %, inférieur à 1,2 %, inférieur à 1,0 %, inférieur à 0,8 %, inférieur à 0,6 %, inférieur à 0,5 %, inférieur à 0,4 %, inférieur à 0,3 %, inférieur à 0,2 %, ou inférieur à 0,1 %).
Dans un mode de réalisation, le niveau d'oxydation en position M411 de SEQ ID NO. 2 d'environ 2 %, le taux d'oxydation en position M550 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 0,3 % à environ 0,5 % ( par ex. , environ 0,3 %, environ 0,35 %, environ 0,4 %, environ 0,45 %, ou environ 0,5 %), le niveau d’oxydation en position M1004 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 1 % à environ 2 % ( par ex. , environ 1 %, environ 1,1 %, environ 1,2 %, environ 1,3 %, environ 1,4 %, environ 1,5 %, environ 1,6 %, environ 1,7 %, environ 1,8 %, environ 1,9 % ou environ 2 %) et le niveau d’oxydation en position M1144 de SEQ ID NO. 3 est d'environ 2 %.
Le taux d'oxydation des compositions de BoNT/A décrites ici peut être déterminé en utilisant des procédés connus dans la technique, par ex. , par spectrométrie de masse. Dans un mode de réalisation, le taux d'oxydation est déterminé par chromatographie liquide avec spectrométrie de masse tandem (LC-MS/MS), par exemple, sans limitation, en utilisant le procédé LC-MS/MS illustré dans l'exemple 2.
Dans un mode de réalisation, une telle virole peut être monolithique, c’est-à-dire réalisée en une seule pièce sans raccordement. Dans un tel cas de figure, il sera considéré qu’une portion angulaire de la virole peut être considérée comme un secteur d’anneau externe.
Dans un mode de réalisation, le joint d’étanchéité comprend en outre un organe d’étanchéité secondaire disposé radialement au-dessus du secteur d’anneau interne de sorte à empêcher l’air de traverser axialement le joint au-dessus du secteur d’anneau.
Un tel organe d’étanchéité secondaire permet d’assurer l’étanchéité des éléments du joint situés radialement au-dessus du secteur d’anneau interne. En d’autres termes un tel organe d’étanchéité secondaire assure que le seul chemin permettant à l’air en amont du joint d’étanchéité de le franchir passe radialement entre la surface interne du secteur d’anneau interne et la surface externe en regard du joint.
Un tel organe secondaire est connu en tant que tel de l’homme du métier et peut par exemple être choisi parmi un joint à brosse, un ensemble de languettes, un tuilage.
Selon un autre de ses aspects, l’invention concerne également une turbomachine comprenant au moins un joint d’étanchéité tel que décrit ci-dessus.
Dans un mode de réalisation, la turbomachine comprend un circuit d’acheminement de l’air de refroidissement vers un disque de rotor haute pression, le circuit d’acheminement de l’air de refroidissement comprenant au moins un joint d’étanchéité décrit plus haut, ledit circuit d’acheminement de l’air de refroidissement comprenant une entrée prélevant l’air en aval du dernier disque du compresseur haute pression, une entrée prélevant l’air radialement sous la chambre de combustion et une sortie d’air débouchant dans un logement de refroidissement du disque de rotor haute pression et l’au moins un joint d’étanchéité étant disposé à une parmi les positions ci-dessous : - en aval de l’entrée prélevant l’air du compresseur à haute pression, radialement sous le dernier redresseur du compresseur haute pression ; - radialement en dessous d’un injecteur d’air de refroidissement en communication fluide avec l’entrée prélevant l’air radialement sous la chambre de combustion ; - radialement entre l’injecteur et le pied du distributeur haute pression et disposé de sorte à empêcher une fuite de l’air destinée refroidir le rotor haute pression.
De préférence, q, o, p et z valent indépendamment les uns des autres 0, 1 ou 2, plus préférentiellement q, o, p et z valent 0 ou 1.
En particulier, chaque R 8 est indépendamment l’un de l’autre un groupement alkyle ou alcényle, linéaire ou ramifié, de préférence linéaire, comprenant de 8 à 22 atomes de carbone, de préférence de 14 à 18 atomes de carbone, plus préférentiellement de 16 à 18 atomes de carbone.
Selon un mode de réalisation, les groupements R 8 sont identiques.
Selon un mode de réalisation préféré, l’amine convenant à la neutralisation opérée en étape (ii) peut être un mélange d’amines grasses comprenant : - des amines grasses de formule (V), pour lesquelles les groupements R 8 sont des groupements alkyles linéaires comprenant 16 à 18 atomes de carbone et q et z valent 0, et - des amines grasses de formule (V) pour lesquelles les groupements R 8 sont des groupements alcényles linéaires comprenant 16 à 18 atomes de carbone et q et z valent 0.
En particulier, il s’agit d’un mélange d’amines grasses comprenant des amines grasses de formule (V) dans laquelle q et z valent 0, et les groupements R 8 sont issus d’huile de suif.
Selon certaines variantes, il peut être intéressant d’utiliser des groupements R 8 au moins partiellement hydrogénés, de préférence totalement hydrogénés.
En particulier, l’amine convenant à la neutralisation opérée en étape (ii) peut être un mélange d’amines grasses comprenant : - des amines grasses de formule (VI), pour lesquelles les groupements R 8 sont des groupements alkyles linéaires comprenant 16 à 18 atomes de carbone et r vaut 1, et - des amines grasses de formule (VI), pour lesquelles les groupement R 8 sont des groupements alcényles linéaires comprenant 16 à 18 atomes de carbone et r vaut 1, les groupements R 8 étant au moins partiellement hydrogénés.
En particulier, il s’agit d’un mélange d’amines grasses comprenant des amines grasses de formule (VI) dans laquelle r vaut 1, et les groupements R 8 sont issus d’huile suif et sont au moins partiellement hydrogénés.
Selon un mode de réalisation, l’amine convenant à la neutralisation opérée en étape (ii) peut être une amine grasse alcoxylée. Par « amine grasse alcoxylée » on entends désigner une amine grasse dont au moins une fonction amine est substituée par au moins un groupement oxyde d’alkylène. Le ou les groupements oxyde d’alkylène peuvent être choisis parmi les groupements oxyde de (C 2 -C 10 )-alkylène, de préférence (C 2 -C 4 )-alkylène. Autrement dit, le(s) groupement(s) oxyde d’alkylène peuvent être des groupements butoxyle, propoxyle et/ou éthoxyle.
L’amine grasse alcoxylée peut être choisie parmi les monoamines grasses alcoxylées ou les diamines grasses alcoxylées.
Selon un mode de réalisation, l’amine convenant à la neutralisation opérée en étape (ii) peut être choisie parmi les monoamines grasses alcoxylées, en particulier de formule (VII) suivante :
dans laquelle : R 9 représente un groupement alkyle, linéaire ou ramifié, saturé ou insaturé, de préférence mono-insaturé, comprenant de 16 à 20 atomes de carbone, en particulier de 16 à 18 atomes de carbone ; chaque R 10 représente indépendamment un groupe alcane-di-yle comprenant de 2 à 4 atomes de carbone, de préférence 2 ou 3 atomes de carbone, plus préférentiellement un groupement –(CH 2 CH 2 )- ; et t et u valent indépendamment 0, 1 ou 2, au moins l’un de t ou u valant 1 ou 2.
Selon un mode de réalisation, une monoamone convenant à la neutralisation opérée en étape (ii) peut être choisie parmi l'éthylamine, la diméthylamine, la diéthylamine, la n-butylamine, la dibutylamine, l'allylamine, l'isobutylamine, la cocoamine, la stéarylamine, la laurylamine, la methyllaurylamine, l'oléylamine, la N-méthyl-octylamine, la dodécylamine, la diéthanolamine, la morpholine et l'octadécylamine, et leurs mélanges.
Les amines et mélanges d’amines tels que définis ci-dessus peuvent être obtenus par toute méthode connue de l’homme du métier. Des exemples de synthèse de telles amines sont notamment décrits dans les demandes WO 2018/220009 et WO 2018/220007. Des exemples de synthèse d’amines grasses alcoxylées sont également décrits dans la demande FR 2 094 182.
Conditions de l’étape (ii) Comme évoqué précédemment, un procédé selon l’invention comprend (ii) au moins une étape de neutralisation du composé spiroboronate obtenu à l’issue de l’étape (i) avec au moins une amine.
On utilise typiquement un traitement thermique de trempe à une température comprise entre 1200°C et 1240°C, de préférence proche de 1220°C, pendant 10 minutes 5 minutes pour améliorer la qualité métallurgique d’une pièce issue du procédé de fabrication additive décrit ci-dessus. De manière illustrative et non limitative, la vitesse de montée en température est d’environ 10°C/min.
Description détaillée de l’invention A titre préliminaire, on rappellera que le terme « comprenant » signifie « incluant », « contenant » ou « englobant », c'est-à-dire que lorsqu'un objet « comprend » un élément ou plusieurs éléments, d'autres éléments que ceux mentionnés peuvent également être compris dans l'objet. A contrario, l'expression « consistant en » signifie « constitué de », c'est-à-dire que lorsqu'un objet « consiste en » un élément ou plusieurs éléments, l'objet ne peut pas comprendre d'autres éléments que ceux mentionnés.
Saccharomyces boulardii
Une « levure » selon l'invention est un champignon, de préférence unicellulaire. La levure selon l'invention est de préférence du genre Saccharomyces , plus préférablement de l'espèce Saccharomyces cerevisiae et encore plus préférablement de l'espèce Saccharomyces cerevisae var boulardii . Comme on l’entend ici, Saccharomyces cerevisiae var. boulardii est synonyme de Saccharomyces boulardii et est bien connue de l'homme du métier et est notamment décrite dans Hennequin et al . (2001) J. Clin. Microbiol . 39 :551-559.
De manière particulièrement préférée, Saccharomyces boulardii selon l'invention est obtenue à partir de médicaments de la marque Ultra-Levure® ou de dépôts dans l' American Type Culture Collection (ATCC, USA) sous la référence 74012 ou dans la Collection Nationale de Culture et de Microorganismes (CNCM, France) sous la référence I-745. De préférence aussi, Saccharomyces boulardii est Saccharomyces boulardii CNCM I-745 ou Saccharomyces cerevisiae var. boulardii HANSEN CBS 5926.
De préférence, la levure selon l'invention est lyophilisée, telle que Saccharomyces boulardii de la marque Ultra-Levure®.
Comme on l’entend ici, la « lyophilisation » est une méthode de conservation dans laquelle la levure est congelée et est ensuite soumise à la sublimation de l'eau congelée qu'elle contient pour donner un lyophilisat sous forme de poudre de levure sèche contenant de préférence moins de 2% d'eau et plus préférentiellement moins de 1% d'eau. De préférence, les cellules de levure lyophilisées sont obtenues à partir de concentrés de cellules de levure. Tout type de méthode de lyophilisation de levure connu de l'homme du métier peut être utilisé. Cependant, la levure selon l'invention est de préférence lyophilisée au moyen de la méthode de lyophilisation suivante : cultiver la levure dans un milieu nutritif liquide jusqu'à ce que les cellules atteignent une phase stationnaire ; concentrer les cellules de levure cultivées et congeler le concentré ; lyophiliser le concentré.
Comme on l’entend ici, l’expression « préparation de levure de Saccharomyces boulardii », désigne toute préparation qui peut être obtenue à partir de levure de Saccharomyces boulardii .
De préférence, la préparation de levure de Saccharomyces boulardii est obtenue à partir de cellules de levure en elles-mêmes ou contient des sécrétions de cellules de levure, une culture de cellules de levure, un extrait de cellules de levure, un milieu conditionné de cellules de levure ou un surnageant de culture de cellules de levure.
Comme on l’entend ici, les « cellules de levure » ou la « culture de cellules de levure » comprennent les cellules de levure viables ou mortes, intactes ou sous forme de débris. De préférence, au moins une partie des cellules de levure selon l'invention ou comprises dans la culture de cellules de levure selon l'invention sont viables, en particulier viables et cultivables, avant d’être soumises à un rayonnement bêta ou gamma. De préférence, au moins une partie des cellules de levure selon l'invention ou comprises dans la culture de cellules de levure selon l'invention, plus préférablement essentiellement toutes les cellules de levure selon l'invention ou comprises dans la culture de cellules de levure selon l'invention sont mortes ou inactivée après avoir été irradiées par un rayonnement bêta ou gamma.
La viabilité d'une cellule de levure est définie comme la capacité d'une cellule de levure à se multiplier. La viabilité des cellules de levure peut notamment être déterminée par coloration au bleu de méthylène et observation microscopique. Le nombre de cellules viables et de cellules cultivables dans un échantillon peut être estimé en déterminant le nombre d'Unités Formant Colonies (UFC) contenues dans l'échantillon.
A titre d'exemple, le nombre d'UFC de cellules de levure dans un échantillon liquide contenant des levures, tel qu'une culture cellulaire de levure, peut être déterminé en étalant un volume déterminé de l'échantillon sur un milieu solide, par exemple un milieu gélifié, permettant la croissance des levures, et en incubant le milieu solide pendant une période de temps, par exemple 48 h, et à une température, par exemple 30°C, permettant la croissance des colonies de levure. Le nombre de colonies par rapport au volume étalé sur le milieu solide permet de déterminer le nombre d'UFC contenues dans l'échantillon. Un protocole détaillé de détermination des UFC selon l'invention est notamment décrit dans Toothaker et Elmer (1984) Antimicrobial Agents and Chemotherapy 26 :552-556 dans le paragraphe « Assay for S. boulardii ». Par ailleurs, lorsque l'échantillon de levure se présente sous la forme d'un solide, par exemple une poudre lyophilisée, il est préférable de déterminer le nombre d'UFC contenues dans l'échantillon après remise en suspension d'une masse déterminée de l'échantillon dans une solution aqueuse, notamment de l'eau distillée ou une solution de NaCl à 0,9% à pH 7.
De préférence, les cellules de levure ou une culture de cellules de levure selon l'invention comprennent de 10 8 UFC/g à 10 12 UFC/g, plus préférablement, de 2.10 9 UFC/g à 2.10 11 UFC/g avant soumission à un rayonnement béta ou gamma.
De nombreuses méthodes de préparation de cellules de levure, d'une culture de cellules de levure, d'un extrait de cellules de levure, d'un milieu conditionné de cellules de levure et d'un surnageant de culture de cellules de levure sont bien connues dans l’état de la technique et sont notamment décrites dans « Yeast Protocols » (1996) Methods in Cell and Molecular Biology , Ed. Ivor H. Evans, Humana Press.