INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Par exemple, le moyen de contre-mesure TAMP peut être capable de « geler » la ressource dans le système, c’est-à-dire de restreindre tous les (ou certains des) accès vers les ressources protégées seulement à un environnement de confiance sécurisé, c’est-à-dire par exemple seulement au dispositif maître de confiance TDMSTR, voire empêcher strictement tous les accès vers lesdites ressources. Le moyen de contre-mesure TAMP peut aussi effacer le contenu de certains registres sensibles, et est capable à cet égard de réinitialiser les registres.
Les mise en pratique sont diverses en fonction de la ressource à protéger, et peuvent par exemple inclure une génération d’un signal de type « reset » (signal de réinitialisation) ; ou une isolation de la ressource en la déconnectant de du bus d’interconnexions.
D’autre part, par exemple en fonction d’une décision prise par le dispositif maître de confiance TDMSTR, le moyen de contre-mesure TAMP peut être configuré pour éventuellement relâcher la restriction, ou effectuer d’autres actions pour empêcher l’anomalie de subsister, par exemple une désactivation d’une fonctionnalité identifiée, un redémarrage complet du système sur puce, un effacement de données en mémoires, voire une destruction du système sur puce SOC.
En outre, selon une caractéristique générale de la présente description, le circuit de protection RISUP est configuré pour générer et communiquer directement un signal d’alerte TAMP_SGNL au moyen de contre-mesure TAMP en cas de blocage d’une transaction. Le signal d’alerte TAMP_SGNL peut par exemple être adapté pour commander une action du moyen de contre-mesure TAMP, par exemple telle que présentée ci-avant pour geler le système sur puce SOC ou pour empêcher l’anomalie de subsister.
Et, si la transaction est bloquée 240, le signal d’alerte TAMP_SNGL est généré 250 par le circuit de protection RISUP, et directement transmis au moyen de contre-mesure TAMP.
Le signal d’alerte TAMP_SGNL est avantageusement communiqué via un canal d’alerte CNLa connecté directement du circuit de protection RISUP au moyen de contre-mesure TAMP et dédié à la transmission dudit signal d’alerte TAMP_SGNL.
En d’autres termes, le signal d’alerte peut être communiqué directement et sans intermédiaire via le canal d’alerte, et n’étant pas soumise à une mise en œuvre logicielle la fiabilité de la communication est améliorée.
Le système sur puce SOC comporte de manière usuelle une grande pluralité de ressources RES, par exemple plusieurs dizaines, et plusieurs de ces ressources RES (dans l’absolu, toutes les ressources) peuvent bénéficier de la communication directe du signal d’alerte TAMP_SGNL par les circuits de protections respectifs RISUP.
Ainsi, un élément multiplexeur OR est configuré pour regrouper tous les canaux d’alerte CNLa respectivement connectés auxdits circuits de protection respectifs RISUP, vers un seul canal d’alerte sortant CNLo et directement connecté au moyen de contre-mesure TAMP. Par exemple, l’élément multiplexeur a une fonction de transmission des signaux d’alerte, indistinctement de leurs provenances CNLa, du type « porte OU ».
b3) une étape de fracture destinée à initier une onde de fracture le long du plan de fragilisation permettant le détachement de couche de scellement du substrat donneur.
La présente invention fait référence à un substrat donneur et à un substrat support. Il est entendu qu’un substrat, selon les principes exposés dans le présent énoncé, comprend deux faces essentiellement parallèles entre elles et reliées par un contour ou un bord. Ledit contour ou bord décrit par ailleurs cercle.
En outre, un substrat peut comprendre une encoche qui permet notamment de repérer et/ou définir son orientation cristalline.
La suite de l’énoncé de la présente invention est consacrée à la description du mode de réalisation illustré à la .
La sous-étape a1) est illustrée à la , à la et à la .
Ainsi, la représente un substrat support 10 sur une face, dite face principale 11, duquel est formée une couche de résine 12. Il est entendu que la couche de résine recouvre entièrement la face principale 11. Par ailleurs, la résine mise en œuvre est avantageusement une résine négative du type M78Y (vendue par la société « JSR Corporation »).
La formation de la couche de résine 12 est suivie d’une étape d’insolation tel qu’illustré à la . Notamment, cette étape d’insolation permet de définir, dans la couche de résine 12, une zone périphérique 13 et une zone centrale 14 circonscrite par la zone périphérique 13. Notamment, la zone périphérique 13 s’étend sur une longueur L à partir du bord du substrat support 10. En d’autres termes, la zone périphérique 13 forme un anneau délimité extérieurement par un bord extérieur et intérieurement par un bord intérieur, ledit bord intérieur étant à une distance L du bord du substrat support 10.
L’étape d’insolation est notamment exécutée de manière à n’exposer au rayonnement lumineux que la zone périphérique 13 et ainsi induire une réticulation de cette dernière. A cet égard, un masque (non illustré) peut être mis en œuvre pour masquer une zone centrale 14 de la couche de résine 12.
La couche de résine, après insolation, est soumise à une étape de développement qui permet de retirer la zone centrale 14 de la couche de résine 12 et ainsi exposer à l’environnement extérieur une zone principale 15 de la face principale 11 ( ). Il est entendu que l’étape de développement permet de conserver la zone périphérique 13 qui est en recouvrement d’une couronne périphérique 16 de la face principale 11 et dans laquelle est circonscrite la zone principale 15. En outre, la résine formant la couche de résine 12 est adapté pour protéger la zone périphérique 16 d’une gravure physique et/ou chimique.
La sous-étape a2) est illustrée à la et à la .
Ainsi, la sous-étape a2) comprend en premier lieu la formation d’une couche de résine 17 en recouvrement de la zone principale 15 et de la zone périphérique 13 ( ).
Tel qu’illustré à la , la couche de résine 17 est exposée (ou insolée) à un rayonnement lumineux, et notamment ultraviolet, pour ensuite être développée afin de former un masque principal 17a. L’exposition (ou insolation) de la couche de résine est mise en œuvre avec une équipement de photolithographie (par exemple un photo répétiteur) qui insole la couche de résine 17 au travers d’un masque photo lithographique destiné à imprimer des motifs prédéfinis. Ainsi, après développement, le masque principal 17a comprend des ouvertures 18 définissant l’empreinte de cavités destinées à être formées par une étape de gravure.
Les sous-étapes a3) et a4) sont illustrées à la .
A cet égard, la est une représentation du substrat support 10 à l’issue d’une étape de gravure exécutée au travers du masque principal 17a et d’un retrait, après gravure, dudit masque principale et de la zone périphérique 13. Notamment, le substrat support 10 comprend des cavités 19 débouchant par la face principale 11 du substrat support 10. Il est entendu que, dans la mesure où la zone périphérique 13 masque la couronne périphérique 16, les cavités ne sont formées qu’au niveau de la zone principale. En effet, la considération de la zone périphérique 13 permet de protéger la couronne périphérique 16 de la gravure, et ainsi ménager une zone dépourvue de cavités 19.
A titre d’exemple, les cavités 19 peuvent être de forme rectangulaire et dont chaque côté présente une longueur comprise entre 2 micromètres et 500 micromètres, avantageusement entre 2 micromètres et 500 micromètres, encore plus avantageusement entre 2 micromètres et 40 micromètres.
La couronne périphérique 16 conformément à la présente invention s’étend à partir du bord du substrat support sur une longueur L.
Néanmoins, lorsque le dispositif de nettoyage ou de soufflage et plus particulièrement sa buse d’éjection d’air est disposée en position basse par rapport au dispositif de détection, des liquides tels que de l’eau de pluie ou du liquide de nettoyage peuvent entrer par gravité dans le dispositif de nettoyage ou de soufflage par la buse d’éjection d’air. Ce liquide peut réduire l’efficacité du dispositif de nettoyage ou de soufflage en bloquant ou gênant le flux d’air mais plus grave encore, ce liquide peut suivre le conduit d’air et arriver jusqu’à la source du flux d’air, généralement un ventilateur, un compresseur ou souffleur électrique, et potentiellement provoquer une détérioration de ce dernier ainsi qu’une dégradation de l’efficacité de nettoyage et de soufflage.
Un des buts de la présente invention est donc de remédier au moins partiellement aux inconvénients de l’art antérieur et de proposer un dispositif de nettoyage ou de soufflage et plus particulière une buse améliorée limitant les risques de circulation et d’accumulation de liquide au sein du dispositif de nettoyage ou de soufflage.
La présente invention concerne donc une buse d’éjection d’air pour un dispositif de nettoyage ou de soufflage pour un dispositif de détection pour véhicule automobile, ladite buse comportant une conduite de guidage du flux d’air entre une entrée d’air destinée à être connectée à une source d’un flux d’air et une sortie d’air, ladite sortie d’air étant destinée à être positionnée en position basse par rapport au dispositif de détection et orientée de sorte à projeter le flux d’air sur une surface de détection dudit dispositif de détection, ladite conduite de guidage du flux d’air comportant une première portion, comportant l’entrée d’air, et une deuxième portion, comportant la sortie d’air , lesdites première et deuxième portions étant reliée par un coude, la première portion de la conduite de guidage comportant au moins une conduite de dérivation, ladite au moins une conduite de dérivation comportant une première ouverture débouchant dans la conduite de guidage et une deuxième ouverture débouchant vers l’extérieur de la première portion.
Selon un aspect de l’invention, l’au moins une, conduite de dérivation est disposée entre l’entrée d’air et le coude formé entre la première et la deuxième portion de la conduite de guidage, ladite au moins une conduite de dérivation traversant la paroi inférieure de la buse d’éjection.
Selon un autre aspect de l’invention, la paroi inférieure de la buse d’éjection comporte, sur sa face orientée vers l’intérieur de la conduite de guidage, une rampe de guidage du flux d’air, ladite rampe étant disposée au sein de la première portion de la conduite de guidage et réduisant la hauteur de ladite conduite de guidage dans le sens de circulation du flux d’air, la conduite de dérivation étant disposée entre le coude de la conduite de guidage et ladite rampe.
Selon un autre aspect de l’invention, l’au moins une conduite de dérivation forme un angle avec la conduite de guidage compris entre 90° et 30° dans le sens de circulation du flux d’air.
Selon un autre aspect de l’invention, l’au moins une conduite de dérivation est un élargissement au moins local de l’entrée d’air de sorte que ladite conduite de dérivation comporte : - au moins un premier espace de récolte disposé sur une portion terminale de l’entrée d’air, sur la paroi inférieure de la buse d’éjection, et - au moins un deuxième espace d’évacuation disposé sur la paroi inférieure de la buse d’éjection et reliant le premier espace de récolte à l’ouverture de l’entrée d’air, lesdits premier et deuxième espaces étant destinés à coopérer avec un embout de raccordement d’une conduite de raccordement à la source du flux d’air de sorte à former la, au moins une, conduite de dérivation, ladite conduite de dérivation longeant la partie basse dudit embout de raccordement.
Selon un autre aspect de l’invention, la buse d’éjection comporte une unique conduite de dérivation s’étendant sur toute la largeur de ladite buse d’éjection.
Selon un autre aspect de l’invention, la buse d’éjection comporte une succession de conduites de dérivation alignées et réparties sur toute la largeur de la paroi inférieure de la buse d’éjection.
Selon un autre aspect de l’invention, la conduite de dérivation comporte au moins une entretoise de maintien alignée avec la conduite de guidage.
La présente invention concerne également un dispositif de nettoyage ou de soufflage pour un dispositif de détection pour véhicule automobile comportant : - une buse d’éjection d’air telle que décrite précédemment, - une source d’un flux d’air, et - une conduite de raccordement reliant la buse d’éjection et la source du flux d’air.
La présente invention concerne également un dispositif de détection pour véhicule automobile comportant un dispositif de nettoyage ou de soufflage tel que décrit précédemment.
la montre une représentation schématique en perspective d’un dispositif de nettoyage ou de soufflage,
la montre une représentation schématique en perspective de la face supérieure d’une buse d’éjection du dispositif de nettoyage ou de soufflage de la ,
la montre une représentation schématique en perspective de la face inférieure d’une buse d’éjection du dispositif de nettoyage ou de soufflage de la selon un premier mode de réalisation,
la illustre une sonde obtenue par le procédé de la ;
la illustre un substrat SOI selon l’art antérieur adapté pour être utilisé dans le procédé de la ;
la illustre de manière plus détaillée le procédé de la ;
la illustre de manière plus détaillée une pointe d’une sonde de la ;
la illustre une sonde comportant la pointe de la ;
la illustre la taille de spot laser sur deux leviers de sonde de largeurs différentes ;
la illustre un profil mesuré en fonction d’un échantillon et de la géométrie de la pointe ;
la illustre une vue de face et de profil de la pointe de la ;
la est un tableau donnant le rapport d’aspect de face et de côté de la pointe de la en fonction d’un angle θ ;
la est un zoom de l’étape 1 du procédé de la ;
la est un zoom de l’étape 3 du procédé de la ;
la est un zoom de l’étape 4 du procédé de la ;
la est un zoom de l’étape 3 du procédé de la avec des dimensions de la préforme selon une première variante de réalisation du procédé selon l’invention ;
la est un zoom de l’étape 4 du procédé de la avec des dimensions de la préforme selon la première variante de réalisation du procédé selon l’invention ;
la illustre une sonde selon une première variante de réalisation obtenue à partir des étapes du procédé de fabrication des figures 14 et 15 ;
la illustre une sonde selon une seconde variante de réalisation obtenue à partir des étapes du procédé de fabrication des figures 14 et 15 ;
En variante, le système lumineux 114 pourrait être intégré dans le tuyau 102. Dans le cas précité où le tuyau 102 serait du type multicouche, le système lumineux 114 pourrait être intégré dans une couche textile, par exemple par tissage.
Le dispositif de ravitaillement en vol 100 selon l’invention peut notamment être disposé : à l’intérieur de l’aéronef de ravitaillement 118 ; à une extrémité aval d’un fuselage de l’aéronef de ravitaillement 118 ; sous une voilure de l’aéronef de ravitaillement 118 ; et/ou dans un emport, également dénommé nacelle, installé en un point ventral de l’aéronef de ravitaillement 118, et/ou sous voilure de l’aéronef de ravitaillement 118.
L’invention permet d’améliorer la sécurité des missions de ravitaillement, en particulier de nuit, en permettant au pilote de l’aéronef à ravitailler de pouvoir réaliser une déconnexion d’urgence s’il le juge nécessaire. Dans la technique actuelle, le pilote de l’aéronef à ravitailler ne peut pas anticiper une génération d’une onde et se trouve totalement tributaire du comportement global du dispositif de ravitaillement en vol.
Contenant souple pour composition à base de nicotine Domaine de l’invention La présente invention concerne le domaine de la cigarette électronique et, plus spécifiquement.
Etat de l’art Les effets délétères de la cigarette sur la santé humaine sont connus depuis plusieurs décennies. Maintenant, le fort potentiel addictif de ces dernières rend particulièrement difficile la lutte contre le tabagisme.
De ce fait, l’avènement de la cigarette électronique, ou « e-cigarette », a aidé considérablement à la réduction du tabagisme en ce sens qu’elle a permis au consommateur de conserver la gestuelle du fumeur tout en supprimant une part significative des composés toxiques qu’elle renferme.
Cette cigarette électronique fonctionne par la vaporisation au moyen d’une résistance électrique d’un liquide, on parle de « e-liquide », qui est aromatisé ou non.
Globalement, les principaux composants des e-liquides correspondent à :
- du propylène glycol (synthétique ou végétal) ;
- du glycérol ;
- de la nicotine ;
- des arômes et colorants ;
Mélanges disponibles pour le consommateur.
Maintenant, certains consommateurs souhaitent pouvoir moduler la concentration de nicotine dans leur mélange.
A cette fin, on trouve sur le marché des contenants comprenant exclusivement une composition à base de nicotine (appelé booster de nicotine) et destinée à être mélanger avec une composition aromatisée dénuée de nicotine (on parle de base neutre).
Après la phase d’entraînement, la phase de simulation comprend tout d’abord une étape de définition d’un possible dimensionnement autrement dit de géométrie, pour la pièce à dimensionner. Cette étape est mise en œuvre par un outil appelé « optimiseur ». Ainsi, pour chaque dimensionnement de pièce, cette étape associe à chaque paramètre à dimensionner une valeur. Selon, l’exemple présenté ici, cette étape permet de définir un exemple de structure/géométrie particulière du rotor.
Lors de cette étape, l’outil Python est utilisé comme outil central. Il contient l'optimiseur, qui peut être par exemple la stratégie d'évolution de l'adaptation de la matrice de covariance (également connue sous l’appellation « CMAES » pour « Covariance Matrix Adaptation Evolution Strategy » en langue anglaise), l'estimateur de Parzen structuré en arbre (également connu sous l’appellation « TPE » pour « Tree-structured Parzen Estimator » en langue anglaise), l'algorithme génétique (également connu sous l’appellation « GA » pour « Genetic Algorithm” en langue anglaise) ou tout autre algorithme d'optimisation. L'optimiseur génère un ensemble de paramètres qui définissent la géométrie du rotor. Ensuite, certaines règles de base sont définies pour vérifier et garantir que la géométrie est réaliste et constructible (règles mécaniques sur la ).
Phase de simulation P3
Après l’étape de définition de la géométrie du rotor, le procédé comprend une phase de simulation des réseaux de neurones bayésien pour ladite géométrie définie et pour chaque indicateur de performance.
Plus précisément, pour une géométrie donnée, le modèle BNN de chaque indicateur de performance est simulé à plusieurs reprises. Ainsi, pour chaque structure/géométrie définie du rotor, chaque modèle BNN permet d’obtenir une pluralité de prédictions d’indicateur de performance. Cette pluralité de prédictions est moyennée et un écart-type est défini pour cette prédiction moyennée.
Puisque, dans notre cas, chaque rotor est caractérisé par 4 indicateurs de performance, alors la phase de simulation permet d’obtenir quatre prédictions (une pour chaque indicateur de performance).
La méthode de Monte Carlo désigne notamment le fait de simuler le modèle BNN plusieurs fois à partir de la géométrie du rotor, et d’estimer la densité de probabilité des prédictions à partir de moyenne et écart-type.
Etape de vérification du modèle BNN (indicateur de confiance BNN) : E31
A intervalle de temps ou de nombre de simulations effectués, la phase de simulation comprend une étape de vérification du modèle BNN.
Cette étape consiste, à partir d’une géométrie donnée déjà simulée par le modèle BNN, à resimuler cette même géométrie avec l’outil de simulation et de comparer les résultats obtenus. En fonction de si la différence est important ou non: augmenter ou diminuer indicateur de confiance du modèle BNN. Cela a plusieurs effets : savoir si le modèle BNN est bien entraîné ou non, identifier des espaces où le modèle BNN n’est pas fiable pour faire des prédictions.
Phase de sélection P4
Suite à la phase de simulation, le procédé comprend une phase de sélection du type de modèle à utiliser.
La phase de sélection consiste à analyser, pour chaque indicateur de performance, un coefficient de variation, défini comme le rapport entre l’écart-type et la moyenne.
Dans un premier cas : si le coefficient de variation pour le couple respecte sa condition (autrement dit si le coefficient de variation est inférieur à 0,1), et si pour chacun des trois autres indicateurs de performance (facteur de stabilité mécanique safety factor, facteur de vibrations, la fluctuation de couple): le seuil critique correspondant est en dehors d’un l’intervalle, ledit intervalle étant par exemple défini par : [(moyenne de l’indicateur de performance – écart-type de l’indicateur) ; (moyenne de l’indicateur de performance + écart-type l’indicateur)]
Alors dans ce premier cas, le modèle BNN est plutôt fiable et peut être utilisé pour déterminer le rapport entre géométrie et indicateurs de performance.
Dans un second cas, si au moins un des coefficients de variation est supérieur au seuil critique prédéfini, il est plus prudent d’utiliser le modèle de simulation classique pour chaque indicateur de performance.
Plus particulièrement, lors de cette étape, la couche en résine 25 est retirée de façon à dévoiler la face supérieure des piliers 21, la face supérieure du substrat 11 et, le cas échéant, la face supérieure de la couche de passivation 15.
A titre d'exemple, comme cela a été représenté sur la vue B de la , les métallisations de contact 23 sont formées en vis-à-vis de la première partie 211 des piliers métalliques 21.
A titre d'exemple, les métallisations de contact 23 sont par exemple destinées à être connectées à un circuit imprimé ou un autre composant électronique adapté à recevoir des composants du type du composant 200. A titre d'exemple, les métallisations de contact 23 sont similaires par leur forme et leurs dimensions aux métallisations de contact 202 des composants 200. Les métallisations de contact 23 et les piliers 21, par leurs parties 213, permettent ainsi l'adaptation de composants du type du composant 100 à une utilisation dans des circuits adaptés aux composants du type du composant 200.
A titre de variante, les métallisations de contact 23 peuvent être formées localement par sérigraphie sans dépôt préalable de la couche en résine 25.
La illustre une structure obtenue à l'issue d'une étape de formation d'une couche en résine 27 sur la face supérieure de la structure illustrée en .
Plus particulièrement, lors de cette étape, on vient par exemple déposer la couche en résine 27 pleine plaque sur la face supérieure de la structure illustrée en de sorte qu'elle recouvre entièrement le substrat 11, les piliers 21 et les métallisations de contact 23.
La couche en résine 27 est par exemple déposée par sérigraphie ou moulage.
La couche en résine 27 a, par exemple, une épaisseur permettant de rigidifier la structure pour les étapes ultérieures. A titre d'exemple, la couche en résine 27 a une épaisseur, prise à partir de la face supérieure du substrat 11, comprise entre 100 µm et 700 µm, par exemple comprise entre 300 µm et 600 µm.
A l'issue de cette étape, la structure peut par exemple être stockée en vue de son utilisation ultérieure. On parle ici de structure interposeur ou structure d’adaptation mécanique. Cette capabilité de stockage permet notamment une flexibilité dans la production de composants électroniques, par exemple des composants de protections contre des décharges électrostatiques.
La illustre une structure obtenue à l'issue d'une étape de retrait du substrat 11 de la structure illustrée en .
On notera que, dans l'exemple des figures 2H à 2N, l'orientation des structures est inversée par rapport aux vues en coupe des figures précédentes, la face supérieure de la structure illustrée en correspond alors à la face inférieure de la structure illustrée en .
Lors de cette étape, la structure illustrée en est par exemple amincie ou polie par sa face inférieure (c'est-à-dire la face supérieure de la structure illustrée en ), de façon à retirer le substrat 11 et découvrir les piliers 21. A titre d'exemple, la couche de passivation 15, et par exemple la couche d'accroche 13, sont retirées avec le substrat 11 lors de cette étape.