INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon certains modes de réalisation, P2 est un poly-éther-cétone-cétone essentiellement constitué de, et préférentiellement constitué de : un motif téréphtalique et un motif isophtalique, le pourcentage molaire en motifs téréphtalique par rapport à la somme des motifs téréphtalique et isophtalique étant de 0% à 5% ou de 45% à 67%, et, P1 est un poly-éther-cétone-cétone essentiellement constitué de, et préférentiellement constitué de : un motif téréphtalique et un motif isophtalique, le pourcentage molaire en motifs téréphtalique par rapport à la somme des motifs téréphtalique et isophtalique étant de 63% à 73%.
Selon certains modes de réalisation, P2 est un poly-éther-cétone-cétone essentiellement constitué de, et préférentiellement constitué de : un motif téréphtalique et un motif isophtalique, le pourcentage molaire en motifs téréphtalique par rapport à la somme des motifs téréphtalique et isophtalique étant de 58% à 67%, et P1 est un poly-éther-cétone-cétone essentiellement constitué de, et préférentiellement constitué de : un motif téréphtalique et un motif isophtalique, le pourcentage molaire en motifs téréphtalique par rapport à la somme des motifs téréphtalique et isophtalique étant de 63% à 73%. Avantageusement, P2 représente au moins 50% en poids des polyaryléthercétones ayant une température de fusion inférieure ou égale à 340°C.
Dans les modes de réalisation où le mélange M comprend en outre un polyaryléthercétone ayant une température de fusion strictement supérieure à 340°C, ce dernier peut être un homopolymère de PEEK constitué de l’unité de répétition (III) ; un copolymère de PEEK-PEDEK, essentiellement constitué, ou constitué, des unités de répétition de formule (III) et de formule (IV), la proportion molaire de motifs de formule (III) par rapport au nombre total de moles de motifs (III) et (IV) étant strictement supérieure à 45%, notamment supérieure ou égale à 50%; ou encore un PEKK, essentiellement constitué, ou constitué, des unités de répétition téréphtalique (T) e isophtalique (I), la proportion molaire en unité de répétition téréphtalique par rapport au nombre total de moles d’unités de répétition téréphtalique et isophtalique étant strictement supérieure à 74%, notamment supérieure ou égale à 75%, ou supérieure ou égale à 76%, ou supérieure ou égale à 77%, ou supérieure ou égale à 78%.
Selon certains modes de réalisation, le mélange M comprend deux polyaryléthercétones P3 et P4, P3 étant un polyaryléthercétone semi-cristallin ou pseudo-amorphe ayant une température de fusion inférieure ou égale à 340°C, préférentiellement inférieure ou égale à 320°C, et P4 étant un polyaryléthercétone ayant une température de fusion strictement supérieure à 340°C. Le polymère P4 peut notamment représenter 25% en poids ou moins, 20% en poids ou moins, 15% en poids ou moins, ou encore 10% en poids ou moins en poids par rapport au poids total de mélange M. Selon des modes de réalisation particuliers, le polymère P3 peut être un poly-éther-cétone-cétone essentiellement constitué de, et préférentiellement constitué de : un motif téréphtalique et un motif isophtalique, le pourcentage molaire en motifs téréphtalique par rapport au nombre total de moles de motifs téréphtalique et isophtalique du poly-éther-éther-cétone étant de 0% à 5% ou de 45% à 67%, et, le polymère P4 peut être un poly-éther-cétone-cétone essentiellement constitué de, et préférentiellement constitué de : un motif téréphtalique et un motif isophtalique, le pourcentage molaire en motifs téréphtalique par rapport au nombre total de moles de motifs téréphtalique et isophtalique du poly-éther-cétone-cétone étant de 78% à 85%.
Selon certains modes de réalisation, le mélange M comprend un poly-éther-cétone-cétone ayant une proportion massique de motifs T par rapport à la somme des motifs T et I de 78% à 85%. La proportion molaire de motifs T par rapport à la somme des motifs T et I peut notamment être d’environ 80%. Un tel poly-éther-cétone-cétone est disponible dans le commerce sous le nom de Kepstan® chez la société Arkema.
Selon certains modes de réalisation, le mélange M comprend un poly-éther-cétone-cétone essentiellement constitué de, et préférentiellement constitué de : un motif téréphtalique et un motif isophtalique, le pourcentage molaire en motifs téréphtalique par rapport au nombre total de moles de motifs téréphtalique et isophtalique du poly-éther-cétone-cétone étant de 0% à 5% ou de 45% à 67%, et,
un poly-éther-cétone-cétone essentiellement constitué de, et préférentiellement constitué de : un motif téréphtalique et un motif isophtalique, le pourcentage molaire en motifs téréphtalique par rapport au nombre total de moles de motifs téréphtalique et isophtalique du poly-éther-cétone-cétone étant de 78% à 85%.
Avantageusement, le mélange M comprend 25% en poids ou moins, 20% en poids ou moins, 15% en poids ou moins, ou encore 10% en poids ou moins dudit poly-éther-cétone-cétone ayant un ratio molaire T/(T+I) de 78% à 85%, par rapport au poids total de mélange M.
Copolymère poly(étherimide-siloxane) Le copolymère poly(étherimide-siloxane) permet notamment d’améliorer la ténacité, la flexibilité, l’allongement à la rupture et la résistance à la propagation de fissures de la composition C.
Le mélange M de polymères comprend de 5% à 40% en poids d’un copolymère poly(étherimide-siloxane), par rapport au poids total du mélange.
Préférentiellement, le mélange M comprend moins de 30%, et encore préférentiellement moins de 25% en poids du copolymère poly(étherimide-siloxane), par rapport au poids total du mélange.
Selon certains modes de réalisation, le mélange M peut comprendre moins de 20% en poids, ou moins de 17,5% en poids, ou moins de 15% en poids du copolymère poly(étherimide-siloxane), par rapport au poids total du mélange.
Préférentiellement, le mélange M comprend plus de 7,5% en poids du copolymère poly(étherimide-siloxane), par rapport au poids total du mélange. Le mélange M peut notamment comprendre plus de 8,0 % en poids du copolymère poly(étherimide-siloxane), par rapport au poids total du mélange.
Selon certains modes de réalisation, le mélange M comprend de 5% à 8% en poids du copolymère poly(étherimide-siloxane), par rapport au poids total du mélange.
Parmi les catalyseurs nucléophiles, on peut citer les anions suivants : le difluorotriméthylsilicate(IV), le bifluorure d’hydrogène, le fluorure, l’azide, le cyanide, le 4-cyanobenzoate, le 2-nitrobenzoate, le cyanoacétate, le 2,4,6-trichlorophénolate, le 4-méthylbenzenesulfinate, l’acrylate, le biacétate, le bibenzoate, et les cations suivants : le tris(diméthylamino)sulfonium, le tripiperidin-1-ylsulfonium, le tétrabutylammonium, le tétraéthylammonium.
Parmi les bases de Lewis, on peut citer le 1,3-diisopropyl-imidazol-2-ylidene, le 1,3-di-t-butyl-imidazol-2-ylidène et le 1,3-diisopropyl-4,5-diméthyl-imidazol-2-ylidène.
Parmi les acides de Lewis, on peut citer le dibromo-zinc, le diéthyl chloro aluminium, le diiodo mercure, le tris(trifluorométhylsulfonyloxy)ytterbium, le tris(trifluorométhylsulfonyloxy)ytterbium triflate, le tris(trifluorométhylsulfonyloxy)scandium ou encore le tetrakis(pentafluorophényl)borate trityl.
Il s’ensuit qu’il est possible d’obtenir l’empreinte carbone d’une structure 10 comportant un ensemble de périphériques 14 en considérant l’empreinte carbone Ec calculée sur tout ou partie des périphériques 14 .
Par ailleurs, les flux réseaux 13 peuvent également être récupérés en captant également un protocole et/ou un port utilisé pour chaque flux réseau. Ainsi, l'empreinte carbone Ec d'un périphérique 14 ou d’une structure 10 peut être obtenue pour chaque protocole et/ou chaque port captés dans l’ensemble de flux réseaux 13 . Il est ainsi possible d’anticiper l’impact de la limitation des fonctionnalités pour les utilisateurs, par exemple si certains protocoles ou certains port sont bloqués sur les ordinateurs des salariés d’une entreprise de service.
L’invention permet ainsi de donner des métriques pour limiter l’empreinte carbone numérique, c’est-à-dire l'empreinte carbone des échanges réseaux d’un périphérique ou d'un ensemble de périphériques d'une structure par rapport à des stratégies de gestion du parc informatique.
La Demanderesse a aussi étudié des articles scientifiques. Parmi ceux-ci, l'article de Calabrese et al. “ Estimating origin -destination flows using mobile phone location data ”, IEEE Pervasive Computing (Volume: 10, Issue: 4, April 2011) décrit l'utilisation de données de téléphonie mobile et définit, parmi une suite de localisations, les arrêts comme étant constitués des ensembles de localisations dont les distances deux à deux sont inférieures à un seuil donné, typiquement un kilomètre. Cette approche est simpliste et ne permet pas de traiter le problème du bagot, c’est-à-dire l'attache successive à différentes antennes, potentiellement très éloignées, alors qu'il n'y a pas ou peu de mouvement réel.
L'article de Leontiadis et al., “ From cells to streets : Estimating mobile paths with cellular- side data ”, CoNEXT 2014 - Proceedings of the 2014 Conference on Emerging Networking Experiments and Technologies, 121-132, utilise un seuil de temps pour classifier la stationnarité, mais dans une approche où le seuil de distance est “remplacé” par des considérations d’intersection entre la couverture d’une antenne et une case d’une grille découpant le territoire, des localisations sur des antennes étant considérées comme “proches” si leurs couvertures recouvrent la même case de cette grille. Là encore, le bagot n'est pas traité de manière optimale.
Ce dispositif est particulièrement avantageux car il permet de déterminer des données de trajectoire qui sont plus pertinentes que par les méthodes connues. En effet, grâce au lissage qu'elle propose, la gestion du bagot télécom est grandement améliorée, et les données de trajectoire bien plus fidèles à la réalité que dans les solutions de l'état de l'art.
Selon divers modes de réalisation, l’invention peut présenter une ou plusieurs des caractéristiques suivantes : - l'unité de traitement est agencée, avant d'appliquer le lisseur, * pour associer, à chaque segment de trajectoire dont les emplacements des évènements de signalisation qui le composent présentent entre eux une distance qui excède une deuxième distance seuil et qui, rapportée à la durée entre les marqueurs de temps desdits évènements de signalisation qui le compose est inférieure à une première vitesse seuil, un label de type arrêt-mouvement, * pour associer, à chaque segment de trajectoire dont les emplacements des évènements de signalisation qui le composent présentent entre eux une distance qui est inférieure à une troisième distance seuil, un label de type arrêt, et * pour exclure du traitement par le lisseur les évènements de signalisation dont le marqueur de temps est compris dans un segment de trajectoire associé à un label de type arrêt-mouvement ou de type arrêt,
- l'unité de post-traitement est agencée, après avoir parcouru les segments de trajectoire associés à un label de type mouvement, et avant de parcourir les segments de trajectoire associés à un label de type arrêt, pour parcourir les segments de trajectoire associés à un label de type arrêt-mouvement, et, pour un tel segment de trajectoire donné, si le segment de trajectoire donné est entouré par deux segments de trajectoire dont l'un est associé à un label de type arrêt et l'autre à un label de type mouvement, pour déterminer un marqueur de temps de répartition parmi les marqueurs de temps des évènements de signalisation dont les marqueurs de temps sont compris entre les marqueurs de temps de ses bornes en fonction de la vitesse observée sur les évènements du segment associé à un label de type mouvement les plus proches du segment de trajectoire donné, et pour redéfinir d'une part le segment de trajectoire associé à un label de type arrêt pour qu'il incorpore les évènements du segment de trajectoire donné dont les marqueurs de temps lui sont le plus proches jusqu'au marqueur de temps de répartition et d'autre part le segment de trajectoire associé à un label de type mouvement pour qu'il incorpore les évènements du segment de trajectoire donné dont les marqueurs de temps lui sont le plus proches jusqu'au marqueur de temps de répartition, - l'unité de post-traitement est agencée, après avoir parcouru les segments de trajectoire associés à un label de type arrêt, pour parcourir les segments de trajectoire associés à un label de type arrêt-mouvement, et pour leur associer un label de type arrêt ou un label de type mouvement, - l'unité de post-traitement est agencée, pendant le parcours des segments de trajectoire associés à un label de type mouvement, pour changer le label d'un segment de trajectoire dont la durée entre ses bornes est inférieure à une troisième durée seuil en un label de type arrêt lorsqu'un segment de trajectoire immédiatement voisin est associé à un label de type arrêt, et en un label de type présence dans le cas contraire, et - l'unité de post-traitement est agencée, pendant le parcours des segments de trajectoire associés à un label de type arrêt, pour changer le label d'un segment de trajectoire dont la durée entre ses bornes est inférieure à une cinquième durée seuil en un label de type mouvement lorsqu'un segment de trajectoire immédiatement voisin est associé à un label de type mouvement, et en un label de type présence dans le cas contraire.
Selon certains modes de réalisation, la charge nucléante a une distribution de tailles de particules, mesurée par sédimentation par gravité dans un liquide selon la norme ISO 13317-3 :2001, de telle sorte que le diamètre médian d50 est tel que d50 ≤ 4 µm, et préférentiellement tel que d50 ≤ 2 µm.
Selon certains modes de réalisation, la charge nucléante a une distribution de tailles de particules, mesurée par sédimentation par gravité dans un liquide selon la norme ISO 13317-3 :2001, de telle sorte que le diamètre médian d50 est tel que d50 ≤ 1,5 µm.
Selon certains modes de réalisation, la charge nucléante a une distribution de tailles de particules mesurée par sédimentation par gravité dans un liquide selon la norme ISO 13317-3 :2001, de telle sorte que d95 ≤ 8 µm, et préférentiellement tel que d95 ≤ 4 µm.
L’invention concerne également un procédé de fabrication d’une pièce, d’un article ou d’un revêtement de composition C comprenant : la fourniture des éléments constitutifs d’une composition C selon l’invention ; une étape de chauffage de telle sorte à obtenir la composition C à l’état fondu ; une étape de refroidissement de la composition C, depuis l’état fondu jusqu’à un état solide, de sorte à obtenir une pièce, un article, ou un revêtement solidifié ; et, optionnellement une étape de recuit de la pièce, de l’article, ou du revêtement solidifié ;
dans lequel toute ou partie de la composition C est, au cours de l’étape de refroidissement et de l’étape de recuit, dans les modes de réalisation où une étape de recuit est mise en œuvre, à une température dans la gamme de températures comprises entre la température de transition vitreuse du polyaryléthercétone, notée Tg, et la température de fusion du polyaryléthercétone, notée Tf, préférentiellement dans la gamme de températures allant de Tg+10°C à Tf-10°C, pendant une durée au moins 2 fois supérieure, ou au moins 5 fois supérieure, ou au moins 10 fois supérieure, ou au moins 25 fois supérieure, ou au moins 100 fois supérieure à son temps de demi-cristallisation isotherme minimal.
Selon certains modes de réalisation, ledit procédé est choisi parmi les procédés suivants : moulage, notamment moulage par injection ou moulage par compression, fabrication additive par fusion de filament (FFF), extrusion de films de feuilles, ou de plaques, extrusion calandrage, extrusion de tubes, de tuyaux ou de barreaux, extrusion gainage, extrusion-compression, injection-compression, filage, rotomoulage, thermoformage, et enduction.
Préférentiellement, ledit procédé est choisi parmi les procédés suivants : extrusion de feuilles ou de plaques, extrusion de barreaux et extrusion-compression.
L’invention concerne aussi un objet (pièce, article ou revêtement) obtenu par l’un quelconque des procédés cités ci-dessus, ayant une épaisseur supérieure à 1 mm, ou supérieure à 2 mm, ou supérieure à 3 mm, ou supérieure à 4 mm, ou supérieure à 5 mm, ou supérieure à 6 mm. Avantageusement, l’objet a des sphérulites de taille moyenne inférieure strictement à 4 micromètres. Avantageusement encore, l’objet a un allongement à la rupture supérieur à l’allongement au seuil dans au moins 30% des cas.
Le copolymère peut être à structure homogène, notamment de type statistique, alterné ou aléatoire, ou à structure hétérogène, notamment de type séquencé ou à blocs.
On entend par « poudre » signifier un état fractionné de la matière, se présentant généralement sous forme de particules de très petite taille, en général de l’ordre de la centaine de micromètre ou moins. On entend par «pulvérulente» signifier un état de la matière qui est dans son ensemble sous la forme d’une poudre.
Maintenant sera décrit un exemple de système d’injection 23 reçu dans l’une des cavités 25, les systèmes d’injection 23 reçus dans chacune des autres cavités 25 étant similaires ou identiques à celui décrit dans ce qui suit.
Le système d’injection 23 comprend un bol mélangeur 50 (illustré sur la ) monté dans l’ouverture 25 respective de la paroi de fond de chambre 22.
Le bol mélangeur 50 comprend une paroi sensiblement tronconique 56 d’axe central 70. La paroi 56 est évasée vers l'aval et reliée à son extrémité aval à un rebord cylindrique 58 s'étendant vers l'amont et monté axialement dans l'ouverture 25 de la paroi de fond de chambre 22 avec un déflecteur annulaire 60.
La paroi tronconique 56 du bol comporte une partie 68 pourvue d’une rangée annulaire d'orifices 64 d'injection d'air régulièrement répartis autour de l'axe 70 du système d’injection 23.
Les centres des orifices 64 d’injection d’air sont par exemple espacés les uns des autres par une même distance. Généralement, les orifices 64 d'injection d'air présentent tous la même forme et la même surface. Les orifices 64 d'injection d'air sont par exemple circulaires.
Les orifices 64 permettent d’introduire un flux d’air issu du compresseur haute pression à l’intérieur du bol 50, et donc, à l’intérieur de la chambre 10.
Chaque système d’injection 23 peut comprendre par ailleurs au moins une vrille de turbulences. En l’espèce, le système 23 comprend une vrille amont 46 et une vrille aval 48 coaxiales. Les vrilles 46, 48 sont séparées l'une de l'autre par une paroi radiale 52.
La vrille aval 48 est fixée à l’extrémité amont de la paroi tronconique 56 du bol 50 par une pièce annulaire intermédiaire 62.
Comme il ressort de la , la vrille 46 comprend une pluralité d'aubes 47 s'étendant radialement autour de l'axe de la vrille 46 et régulièrement réparties autour de cet axe. La vrille 48, non visible sur cette figure, a une structure similaire ou identique à celle de la vrille 46. Un orifice d’introduction d’air 49 est ainsi formé entre deux aubes 47 consécutives de la même vrille 46, 48, de sorte à former dans chaque vrille 46, 48 une rangée annulaire d’orifices d’introduction d’air 49 autour de l’axe central 70. Un flux d’air issu du compresseur haute pression s’écoule à travers la rangée d’orifices d’introduction d’air 49 des vrilles 46, 48. Un écoulement d’air est donc issu de chacune des vrilles 46, 48, ces écoulements d’air étant ultérieurement reçus à l’intérieur du bol 50. En particulier, l’écoulement d’air issu de chaque vrille 46, 48 est un flux d’air tournant.
Un venturi 54 peut être relié à une extrémité radialement interne de la paroi radiale 52, comme visible sur l’exemple de la . Le venturi 54 s'étend axialement vers l'aval à l'intérieur de la vrille aval 48 et sépare les écoulements d'air tournant introduits via les orifices 49. Une première veine annulaire d'écoulement d'air est formée à l'intérieur du venturi 54 et une seconde veine annulaire d'écoulement d'air est formée à l'extérieur du venturi 54.
Comme indiqué ci-avant, les flux d’air sortant des orifices 49 des vrilles 46, 48 et des orifices 64 du bol 50 sont reçus à l’intérieur du bol 50. Aussi, les orifices 49, 64 forment des moyens d’amenée d’air à l’intérieur du bol 50. L’air amené à l’intérieur du bol 50 est en particulier employé pour produire une nappe de mélange air-carburant avec le carburant injecté par l’injecteur 36 correspondant, comme il va être détaillé par la suite.
Le système d’injection 23 comporte en outre une bague 72 agencée en amont du bol mélangeur 50 autour de l’axe central 70. Selon un exemple de réalisation non limitatif, la bague 72 est montée autour des vrilles 46, 48. La bague 72 peut avoir une forme sensiblement cylindrique.
Avantageusement, la bague 72 est montée mobile en rotation autour de l’axe central 70, notamment entre une première position angulaire et une deuxième position angulaire par rapport au bol mélangeur 50. Bien entendu, la bague 72 peut aussi adopter une pluralité de positions angulaires comprises entre la première position angulaire et la deuxième position angulaire par rapport au bol mélangeur 50. Dans ce qui suit, toute position angulaire de la bague 72 comprise entre la première position angulaire et la deuxième position angulaire sera appelée troisième position angulaire.
La bague 72 peut comporter des ouvertures 75, visibles sur la , reparties autour de l’axe central 70. Par exemple, la bague 72 peut comprendre une première rangée annulaire d’ouvertures 75 en regard de la vrille amont 46 et une seconde rangée annulaire d’ouvertures 75 en regard de la vrille aval 48. Les ouvertures 75 permettent le passage d’air au travers des orifices 49 des vrilles 46, 48.
La bague 72 peut en outre être munie d’une collerette d’obturation 76 qui s’étend en amont et contre la partie 68 de la paroi tronconique. En particulier, la collerette d’obturation 76 peut épouser une partie de la paroi tronconique du bol 50. La collerette d’obturation 76 comprend au moins une ouverture disposée sensiblement en regard de la partie 68 de la paroi tronconique. Sur les figures, la collerette d’obturation 76 comprend plusieurs ouvertures, référencées 78, 86, 88, 92, 94, 98 ou 100, formant une rangée annulaire d’ouvertures qui sont réparties autour de l’axe 70 du système d’injection 23.
Les ouvertures 78, 86, 88, 92, 94, 98, 100 peuvent présenter différentes formes et/ou différentes sections. Les figures 4 et 8 à 11, montrant une vue du bol 50 et de la bague 72 depuis l’amont du bol 50, présentent différents exemples de réalisation non limitatifs des ouvertures de la collerette 76.
Le mélange M peut notamment comprendre moins de 30 % en poids, ou moins de 25% en poids, ou moins de 20% en poids, ou moins de 15% en poids, ou moins de 10% en poids, d’un polyaryléthercétone ayant une température de fusion strictement supérieure à 340°C comme autre polymère thermoplastique, par rapport au poids total de mélange M.
Selon certains modes de réalisation, le mélange M ne comprend pas d’autre polyaryléthercétone que ledit au moins un polyaryléthercétone ayant une température de fusion inférieure ou égale à 340°C.
Un polyaryléthercétone (PAEK) comporte les motifs de formules suivantes :
- Ar et Ar 1 désignent chacun un radical aromatique divalent ;
Avantageusement, le(s) PAEK(s) peut/peuvent être choisi(s) parmi :
Selon certains modes de réalisation, le PAEK est un poly-éther-cétone-cétone (PEKK) essentiellement constitué de, et préférentiellement constitué de : un motif de répétition téréphtalique et, le cas échéant, un motif de répétition isophtalique, le motif de répétition téréphtalique (« motif T ») ayant pour formule :
La proportion massique de motifs T par rapport à la somme des motifs T et I peut varier de 0% à 100%.
Le choix de la proportion molaire de motifs T par rapport à la somme des motifs T et I est l’un des facteurs qui permet d’ajuster la température de fusion ainsi que les propriétés de vitesse de cristallisation des poly-éther-cétone-cétones. Une proportion molaire donnée de motifs T par rapport à la somme des motifs T et I peut être obtenue en ajustant les concentrations respectives des réactifs lors de la polymérisation, de manière connue en soi.
Préférentiellement, le poly-éther-cétone-cétone a une structure homogène, et peut notamment être de type statistique.