INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
- d’une butée à aiguilles, sur laquelle repose la goupille, permettant la rotation de la vis de liaison par rapport au couvercle.
BREVE DESCRIPTION DES FIGURES D’autres caractéristiques, buts et avantages ressortiront de la description qui suit, qui est purement illustrative et non limitative, et qui doit être lue en regard des dessins annexés sur lesquels :
La illustre une vue en perspective d’un dispositif de freinage et de récupération de projectiles, selon un mode de réalisation de la présente invention ;
Les figures 2A et 2B illustrent des vues en coupe d’une plaque sur laquelle des tubes seront fixés, selon un mode de réalisation de la présente invention ;
La illustre une section d’un dispositif de freinage et de récupération de projectiles, selon un mode de réalisation de la présente invention ;
La illustre une vue schématique de dessus d’une fixation du moteur à la vis de liaison, selon un mode de réalisation de la présente invention.
DESCRIPTION DETAILLEE DE MODES DE REALISATION Dans la suite de la description on appellera radial ce qui est dirigé par un vecteur colinéaire à un rayon et axial ce qui est dirigé par un vecteur colinéaire à un axe de rotation. De plus, le dispositif faisant l’objet de l’invention étant prévu pour être positionné par rapport au sol, on appellera partie inférieure la partie d’une pièce plus proche du sol dans le sens de la gravité par rapport à une partie, dite supérieure, moins proche du sol dans le sens de la gravité.
Un dispositif 1 de freinage et de récupération de projectiles P , tel qu’illustré par la , comprend une plaque 2 , des tubes 3 et un moteur 4 . Le moteur entraine en rotation la plaque à laquelle sont suspendus les tubes 3 .
La plaque 2 , comme illustré par les figures 2A et 2B , comprend une face dite inférieure 2a , une face dite supérieure 2b et une tranche 2c . La plaque 2 comprend en outre un barycentre O et un axe orthogonal aux faces inférieure 2a et supérieure 2b et passant par le barycentre O. Par la suite, et du fait de la géométrie de la plaque 2 , on assimilera la plaque à un plan unique. La plaque 2 comprend une longueur maximale et une longueur minimale dans le plan orthogonale à l’axe. La forme de la plaque 2 est telle que la différence entre les dimensions de la longueur maximale et la longueur minimale est faible devant la dimension de la longueur maximale. De cette manière, l’évolution de la longueur de la projection de la tranche 2c , sur un plan fixe orthogonal à la plaque 2 , au cours de la rotation de la plaque 2 autour de son axe, est faible par rapport à la longueur maximale de la plaque 2 . Ainsi, la surface présentée par les tubes 3 suspendus à la plaque 2 en rotation est relativement constant dans le temps. Avantageusement, la plaque 2 forme un polygone régulier ou préférentiellement un cercle. Selon un mode de réalisation préféré, la plaque 2 est un disque.
Les tubes 3 comprennent une extrémité supérieure 3b et une extrémité inférieure 3a . Leur extrémité supérieure 3b est accrochée sur la face inférieure 2a de la plaque 2 et leur extrémité inférieure 3a est libre de tout mouvement. La plaque 2 comprend pour chaque tube 3 un trou 2d dans lequel le tube 3 peut coulisser librement. Chaque tube 3 comprend un capuchon 31 . Le capuchon 31 comprend une tête 311 plus large que le trou 2d de la plaque 2 et un pion 312 s’étendant depuis la tête 311 et autour duquel une partie creuse 32 de l’extrémité supérieure 3b du tube 3 vient s’emmancher. Chaque capuchon 31 permet donc de fixer un tube 3 sur la plaque 2. Une telle fixation permet de faciliter le remplacement d’un seul tube 3 et de simplifier la fixation de chaque tube 3 sur la plaque 2 . Le capuchon 31 est par exemple un rivet sapin.
Les tubes 3 sont suspendus à la plaque 2 par gravité et sont donc tous parallèles entre eux. Ainsi un mouvement de balancier leur est permis de manière à ce qu’ils puissent absorber l’énergie de projectiles P par leur déformation et par leur mouvement.
Les tubes 3 sont préférentiellement de forme cylindrique et de section circulaire, de sorte à ne pas présenter de parties anguleuses aux projectiles P . De cette manière, lorsque le projectile P vient au contact d’un tube 3 , cette forme cylindrique favorise l’effet de repoussement latéral du tube 3 et réduit ainsi le risque de sectionnement de celui-ci.
Selon un mode de réalisation particulièrement préféré, la présente invention propose une composition fluide de soin de la peau sous la forme d’une émulsion huile dans eau comprenant, par rapport au poids total de la composition : (i) au moins un filtre UV ; (ii) de 0,05 % à 10 % en poids d’un polymère acrylique lipophile comprenant des unités monomériques de formules (A) et (B) : [chem 1] dans lesquelles : R1, indépendamment l’un de l’autre est choisi parmi les radicaux alkyle ou alcényle, et au moins 60 % en poids des groupes R1 sont des radicaux choisis parmi les radicaux stéaryle et béhényle, le pourcentage en poids se rapportant à la somme de tous les groupes R1 présents dans le polymère, et le ratio pondéral de la somme de toutes les unités acrylate d’hydroxyéthyle sur la somme de toutes les unités acrylates portant le groupe R1 va de 1 :30 à 1 : 1, et la somme du total des unités A et B est d’au moins 95 % en poids du poids total du polymère ; (iii) de 0,2 % en poids à 0,8 % en poids d'au moins une cire d'ester de jojoba de formule 3 : [chem 3] où R 1 est CH 3 - (CH 2 ) y -, y est 16, 18, 20 ou 22 ; (iv) de 0,5 % en poids à 2 % en poids d'au moins un alcool gras saturé en C 12 -C 24 choisi parmi l'alcool cétylique, l'alcool stéarylique et l'alcool cétéarylique ; (v) de 0,2 % en poids à 0,8 % en poids d'au moins un ester d'acide gras en C 12 -C 24 de glycérol choisi parmi le laurate de glycéryle, l'oléate de glycéryle, le stéarate de glycéryle, le palmitate de glycéryle et un mélange de ceux-ci ; et (vi) de 0,1 % en poids à 0,5 % en poids d'au moins un tensioactif choisi parmi les acides acyl glutamiques (nom INCI : acyl glutamic acid) et leurs sels (acyl glutamates), le groupement acyle étant en C 10 -C 30 , de préférence en C 12 -C 22 , encore plus préférentiellement il s’agit du radical stéaroyle.
e) l’assemblage par collage direct du substrat donneur sur le substrat support, au niveau de leurs faces avant respectives, pour former une structure collée dans laquelle les cavités se trouvent à l’aplomb soit des premières zones, soit des deuxièmes zones du plan fragile enterré fonctionnel ;
f) l’application d’un traitement thermique à la structure collée pour provoquer la séparation spontanée le long du plan fragile enterré fonctionnel et former d’une part la structure et d’autre part le reste du substrat donneur.
Selon des caractéristiques avantageuses de l’invention, prises seules ou selon toute combinaison réalisable : l’implantation de l’étape c) est effectuée en présence d’un masque, disposé sur la face avant du substrat donneur, à l’aplomb des premières zones du plan fragile enterré fonctionnel ; la formation des cavités à l’étape d) est réalisée par gravure locale de la face avant du substrat support, par exemple au moyen d’un masque disposé sur ladite face avant ; après l’étape c), l’étape d) de formation des cavités comprend la gravure de la face avant du substrat donneur, à l’aplomb des deuxièmes zones, les premières zones étant protégées de la gravure par le masque ; le procédé comprend, après l’étape d) et après retrait du masque, une étape c’) d’implantation localisée de troisièmes espèces au niveau de la face avant du substrat donneur, les troisièmes espèces se trouvant ainsi implantées dans les premières zones du plan fragile enterré fonctionnel et dans un autre plan enterré situé à distance et sous les deuxièmes zones du plan fragile enterré fonctionnel ; l’étape d) de formation des cavités est réalisée avant l’étape c), et comprend : l’application d’un masque disposé sur la face avant du substrat donneur, à l’aplomb des deuxièmes zones du plan fragile enterré fonctionnel destiné à être formé à l’étape c) ultérieure, et la gravure de la face avant du substrat donneur, à l’aplomb des premières zones, les deuxièmes zones étant protégées de la gravure par le masque ; après l’étape d) et après retrait du masque de la face avant du substrat donneur, l’étape c) d’implantation est effectuée, les deuxièmes espèces se trouvant ainsi implantées dans les deuxièmes zones du plan fragile enterré fonctionnel et dans un autre plan enterré situé à distance et sous les premières zones du plan fragile enterré fonctionnel ; les deuxièmes zones du plan fragile enterré fonctionnel sont à l’aplomb des cavités, dans la structure collée, et les premières espèces légères sont des ions ou des atomes d’hydrogène, et les deuxièmes espèces sont des ions ou des atomes d’hélium ; les premières zones du plan fragile enterré fonctionnel sont à l’aplomb des cavités dans la structure collée, les premières espèces légères sont des ions ou des atomes d’hydrogène, ou des ions ou des atomes d’hélium, ou encore des ions ou des atomes d’hydrogène et d’hélium, et les deuxièmes espèces sont des ions ou des atomes de silicium, susceptibles de ralentir la cinétique de croissance de microfissures dans les deuxièmes zones du plan fragile enterré fonctionnel, comparativement à la cinétique de croissance de microfissures dans les premières zones ; l’étape e) d’assemblage implique au moins une couche intermédiaire disposée sur le substrat donneur et/ou sur le substrat support, ladite couche intermédiaire ayant été déposée après l’une des étapes a) à d).
La présente deux structures élaborées selon le procédé de fabrication conforme à la présente invention ;
Les figures 2a à 2f présentent des étapes du procédé de fabrication selon un premier mode de réalisation de la présente invention ;
Les figures 3a à 3f présentent des étapes du procédé de fabrication selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention ;
Les figures 4a à 4f présentent des étapes du procédé de fabrication selon un troisième mode de réalisation de la présente invention ; notons que l’étape d) ( ) intervient avant l’étape c) ( ) dans ce troisième mode de réalisation ;
La présente des images en vue de dessus de structures SOI avec cavités non conformes à l’invention, obtenues après l’application de recuits isothermes à différentes températures ;
Les figures 6a à 6f présentent des étapes du procédé de fabrication selon une variante du premier mode de réalisation de la présente invention ; notons qu’une étape c’) supplémentaire est ajoutée après l’étape d) dans cette variante, par rapport au premier mode de réalisation illustrée sur les figures 2a à 2f.
Certaines figures sont des représentations schématiques qui, dans un objectif de lisibilité, ne sont pas à l’échelle. En particulier, les épaisseurs des couches selon l’axe z ne sont pas à l’échelle par rapport aux dimensions latérales selon les axes x et y. Les mêmes références sur les figures pourront être utilisées pour des éléments de même nature.
DESCRIPTION DETAILLEE DE L’INVENTION L’invention concerne un procédé de fabrication d’une structure 100 comprenant une pluralité de cavités 30 confinées entre une couche mince 10 et un substrat support 20, comme illustré sur la . La structure 100 peut éventuellement comprendre au moins une couche intermédiaire 50 entre la couche mince 10 et le substrat support 20.
Une première étape a) du procédé de fabrication consiste en la fourniture d’un substrat donneur 11, duquel la couche mince 10 sera transférée, et d’un substrat support 20 ( , , , ).
Le substrat donneur 11 et le substrat support 20 ont avantageusement la forme d’une plaquette, de diamètre typiquement supérieur à 100mm, par exemple 150mm, 200mm ou 300mm, et présentent chacun une face avant 11a,20a et une face arrière 11b,20b. Leur épaisseur est habituellement comprise entre 200 et 900 microns.
Le substrat donneur 11 peut être formé d’au moins un matériau choisi parmi le silicium, le germanium, les composés semi-conducteurs III-V, le carbure de silicium, le tantalate de lithium, le niobate de lithium, ou autre matériau d’intérêt pour l’application visée. Le substrat support 20 peut être formé d’au moins un matériau choisi parmi le silicium, le germanium, les composés semi-conducteurs III-V, le carbure de silicium, le tantalate de lithium, le niobate de lithium, un verre, une céramique ou autre matériau d’intérêt pour l’application visée.
L’étape b) suivante du procédé correspond à une implantation de premières espèces légères dans le substrat donneur 11, à travers la totalité de sa face avant 11a (dit autrement, en pleine surface ou « pleine plaque »), de manière à former un plan fragile enterré uniforme 12’, délimitant avec ladite face avant 11a, la couche mince 10 à transférer ( , , , ). Le terme uniforme signifie ici que les caractéristiques d’implantation sont les mêmes sur toute l’étendue du plan fragile enterré 12’.
Condition de défaut C5 associée à P 12 :
C51) -dispositif de protection 8 4 : présence de défaut dans le sens 1 ou absence de détection de défaut ;
C52) -dispositif de protection 8 12 : présence de défaut dans le sens 1 ou absence de détection de défaut ;
C53) dispositif de protection 8 8 : absence de détection de défaut.
Dans le cas où la condition de défaut en P 12 est validée, le déclenchement (e.g. l’ouverture) en priorité des dispositifs de protection 8 4 et 8 1 2 , lorsqu’ils détectent la présence d’un défaut, est commandé, avec une temporisation de déclenchement inférieure à la temporisation nominale, voir égale à zéro.
Avantageusement, lorsqu’une condition de défaut associée à un point de surveillance est validée, le déclenchement rapide des dispositifs de protection du voisinage supprime la présence de défaut, et donc d’autres dispositifs de protection, qui détectent également une présence de défaut, ne se déclenchement pas.
De plus, le déclenchement priorisé d’un des dispositifs de protection permet de supprimer la condition de défaut, et donc d’éviter le déclenchement des autres dispositifs de protection.
Par exemple, lorsque la condition de défaut C1 est validée, le déclenchement rapide, dans la durée de déclenchement, du dispositif 8 9 permettra d’éviter le déclenchement du dispositif 8 2 . En l’absence du mécanisme proposé, le dispositif de protection 8 2 se déclencherait également.
Il est également à noter que la sécurité demeure assurée, car la temporisation de déclenchement nominale T 0 reste applicable, si un défaut est détecté pendant cette durée.
Les conditions de défaut associées aux points de surveillance déterminées sont mises en œuvre par un ou plusieurs dispositifs, de manière à assurer le déclenchement sélectif des dispositifs de protection en fonction de la validation des conditions de défaut.
Dans un mode de réalisation, illustré dans la , un système de protection 12 est réalisé par la mise en œuvre des conditions de défaut multi-règles associées à chaque point de surveillance du réseau de distribution 2 par des câblages entre les dispositifs de protection 8, permettant de réaliser, au niveau de chaque dispositif de protection, une mise en œuvre, par logique câblée, de la ou des conditions de défaut multi-règles de chaque point de surveillance au voisinage duquel le dispositif de protection appartient.
Par exemple, le dispositif de protection 8 9 est dans le voisinage du point de surveillance P 2 et également dans le voisinage du point de surveillance P 5 , donc via la logique câblée, les conditions de défaut C1 et C2 sont vérifiées par le dispositif de protection 8 9 .
En pratique, pour vérifier une condition de défaut associée à un point de surveillance, pour chaque dispositif de protection donné, appartenant au voisinage du point de surveillance, les signaux binaires indicatifs de présence d’un courant de défaut et indicatifs du sens du courant de chaque autre dispositif de protection appartenant au voisinage du point de surveillance sont amenés, par logique câblée, en entrée dudit dispositif de protection donné.
Optionnellement, des dispositifs 14 sont associés aux dispositifs de protection 8, et configurés pour mettre en œuvre, en coopération avec les dispositifs de protection 8, les conditions de défaut.
Les dispositifs 14 sont par exemple des modules d’interface des dispositifs de protection, également connus sous le nom de modules RIM (pour « restraint interface module »), ce qui permet d’apporter une isolation électrique pour la mise en œuvre de plusieurs conditions de défaut.
De plus, des relais câblés à l’intérieur de chaque dispositif de protection sont également utilisés pour la mise en œuvre des règles des conditions de défaut déterminées.
Selon la charge, il est également possible d’utiliser l’entretoise réglable 5 pour ouvrir l’angle (α) au maximum et relever ainsi la charge CH puis terminer le mouvement de relevage en basculant le châssis 1 avec les poignées jusqu’à arriver dans sa position quasi-verticale ; ensuite on replie les modules 3 contre le châssis 1. A la fin de la manœuvre de virage, on remet le châssis 1 dans sa position normale de circulation en abaissant d’abord les modules 3 au maximum (angle (α) maximum) puis on complète par le basculement du châssis 1 chargé jusqu’à ce que la surface principale d’appui SA1 des modules 3 repose sur la surface de roulement S ; ensuite on règle l’angle (α) pour avoir la bonne hauteur des poignées 12.
La vue de dessus ( ) montre le polygone de sustentation ainsi réalisé avec les deux roues 31 et les roulettes 351.
Les roulettes 351 pivotant librement autour de leur axe les reliant au bras 35 s’orientent naturellement par rapport au centre de rotation CR pour une rotation plus ou moins circulaire imposée au chariot 100 dans son état représenté aux figures 4 et 8. Les roues 31 n’étant pas orientables, le centre de rotation CR se situe normalement sur l’axe des deux roues 31, par exemple, ou de préférence à mi-distance entre les deux roues 31 ; les roulettes 351 libres s’orientent alors pour être perpendiculaires au rayon les reliant respectivement au centre de rotation CR. Mais le différentiel permet une manœuvre particulièrement adaptée à chaque passage étroit, courbe, en combinant les mouvements de rotation plus ou moins sur place et les mouvements d’avance et de recul, pour faire passer le rectangle composé des deux paires de roulettes et des deux roues 31, 32 sur lesquelles s’appuie le chariot en position redressée.
Les figures 5, 6, 7, 8 montrent un mode de réalisation du chariot 100 schématisé aux figures 1, 2, 3.
Le chariot 100 se compose d’un châssis 1 formé de côtés en tôle pliée 101, assemblés sur une structure intermédiaire 102 ( ) portant à l’avant la surface de support 103 avec, en variante, un support de charge 2 coulissant dans deux rails latéraux formés par les côtés repliés 101.
En partie inférieure, le châssis 1 ou son support de charge 2 sont équipés d’une fourche à deux dents 11 recevant chacune un bras 35 avec une paire de roulettes 351, libres en pivotement et en rotation ; un bras 35 est emmanché et fixé à chaque dent 11 dont il est amovible ; il n’équipe les dents 11 que de façon occasionnelle.
Le support de charge 2 est positionné en hauteur par un mécanisme 21 autobloquant non détaillé et actionné par une roue à vis à manivelle 22 accessible au dos du châssis sous la poignée 12.
Le mécanisme 21 dont la transmission à roue à vis est naturellement non réversible, constitue le moyen d’actionnement et de blocage le plus simple du pivotement du châssis 1. Seule la manœuvre de la manivelle 22 permet de régler la position du support de charge 2.
Les modules 3 sont couverts par un capot 341 sur le dessus de la chenille 34 et les côtés des modules 3 sont prolongés vers l’arrière au-delà du contour de la chenille 34 autour de la roue d’extrémité aval 32 pour éviter un éventuel contact du pied du conducteur (voir également la ).
Selon la , les deux entretoises réglables 5 se composent chacune d’un corps 51, avec un amortisseur 52 relié au module 3 par l’articulation 511 et en partie supérieure à l’articulation mobile 512. Cette articulation mobile 512 est composée d’un coulisseau 5121 auquel est relié le corps 51. Le coulisseau 5121 est déplacé de manière commandée dans une coulisse 5122 ou un rail non détaillé dans cette figure.
Le détail du mécanisme 6 des entretoises réglables 5 apparaît à la . Il se compose de deux profilés parallèles 61 munis des paires de coulisses 5122 traversées par une tête formant le coulisseau 5121 portée par un guide intermédiaire 62 avec un écrou engagé sur une vis 64 parallèle aux profilés 61 et entraînée en rotation par un motoréducteur 65 en partie basse du mécanisme. Le motoréducteur 65 est relié à la structure formée par les deux profilés 61, la traverse basse 66 et la traverse haute, cette dernière n’apparaissant pas dans cette .
Le mécanisme 6 est protégé par un carter 67 en tôle ( ). La commande de la vis formant le vérin électrique se fait à partir de la poignée 12.
La montre la butée 68 côté intérieur de l’extrémité du module 3 venant contre l’appui du châssis 1 lorsque le module 3 (les deux modules) est replié contre le châssis 1 dans la position de la .
La montre le groupe d’entraînement 7 en partie basse du châssis 1 au-dessus de l’axe de transmission 71 à différentiel relié aux deux modules 3.
La montre la position redressée du châssis 1 pour tourner quasiment sur place comme cela a été expliqué à l’aide des figures 4, 4A.
La quantité d’agent de transfert dans le polymère hydrosoluble est avantageusement comprise entre 0 et 100 000 ppm, par rapport au poids total des monomères du polymère, préférentiellement entre 0 et 10 000 ppm, plus préférentiellement entre 0 et 1 000 ppm, encore plus préférentiellement entre 0 et 100 ppm. Lorsqu’il est présent, l’agent de transfert représente au moins 0,1 ppm, par rapport au poids total des monomères du polymère hydrosoluble, préférentiellement au moins 1 ppm.
La polymérisation est généralement une polymérisation radicalaire de préférence par polymérisation en émulsion inverse ou par polymérisation en gel. Par polymérisation radicalaire, nous incluons la polymérisation par radicaux libres au moyen d’initiateurs UV, azoïques, redox ou thermiques ainsi que les techniques de polymérisation radicalaire contrôlée (PCR) ou les techniques de polymérisation sur matrice.
Comme déjà indiqué, le polymère hydrosoluble peut être post hydrolysé. La post hydrolyse est la réaction d’hydrolyse du polymère après sa formation par polymérisation de monomère(s). Cette étape consiste en la réaction de groupes fonctionnels hydrolysables de monomères avantageusement non ioniques, plus avantageusement les fonctions amide ou ester, avec un agent d’hydrolyse. Cet agent d’hydrolyse peut être une enzyme, une résine échangeuse d’ion, ou un acide de de Brønsted (par exemple un acide halogénohydrique) ou une base de Brønsted (par exemple un hydroxyde alcalin ou un hydroxyde alcalino-terreux). Préférentiellement, l’agent d’hydrolyse est une base de Brønsted. Durant cette étape de post-hydrolyse du polymère hydrosoluble, le nombre de fonctions acide carboxylique augmente. En effet, la réaction entre la base et les fonctions amides ou esters présentes dans le polymère hydrosoluble produit des groupes carboxylate.
Le polymère hydrosoluble peut se présenter sous forme liquide, gel ou solide lorsque sa préparation inclut une étape de séchage tel que le séchage par pulvérisation (« spray drying » en anglais), le séchage sur tambour, le séchage par rayonnement tel que le séchage micro-ondes, ou encore le séchage en lit fluidisé.
Le polymère hydrosoluble a avantageusement un poids moléculaire d’au moins 0,5 million g/mol, préférentiellement entre 0,5 et 40 millions g/mol, plus préférentiellement entre 5 et 30 millions g/mol. Le poids moléculaire s’entend en poids moléculaire moyen en poids. Selon un mode de réalisation particulier, le polymère hydrosoluble peut avoir un poids moléculaire entre 5 000 et 100 000 g/mol ou entre 100 000 et 500 000 g/mol.