INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Grâce à ces dispositions, le transbordement, c’est-à-dire le chargement ou déchargement de marchandise, entre le bateau et le quai est rapide, sans nécessité de fournir une infrastructure complexe. De plus, le bateau objet de l’invention permet le transbordement de marchandises même lorsqu’il existe une différence de hauteur entre le quai et le pont du bateau amarré à charger ou décharger. De plus, le risque de renversement de marchandises ou de leur dégradation est amoindri, car le transbordement ne nécessite pas de rampe et le transfert d’unités de marchandises est réalisé au moyen d’un bras articulé maintenu sensiblement à l’horizontale.
Les caractéristiques du bateau objet de l’invention système permettent de faciliter et rationnaliser le transport par bateau. À titre d’exemple, un mode de réalisation de l’invention permet un débit de transbordement de deux palettes par minute avec un roulement journalier de 300 palettes, chacune allant jusqu’à 650 kg. Cette quantité de palettes représente l’équivalent de plusieurs dizaines de poids lourds.
Dans le cadre de la présente demande, on entend par unité de marchandise, un ou plusieurs lots de produits ou denrées arrangés sur un support standardisé en vue de leur transport par bateau.
Dans le cadre de la présente demande, on entend par support standardisé un support de petite taille permettant de supporter un ou plusieurs lots de produits ou denrées durant le temps de leur transport par bateau et éventuellement par d’autres moyens de transport. Par « petite taille », on désigne une taille proche ou égale à celles listées au paragraphe suivant et en tout cas inférieur à trois mètres par trois mètres. Par exemple, les conteneurs de transport maritime en porte-conteneurs ne sont pas des unités de marchandises au sens de l’invention.
Préférentiellement, le support standardisé est un élément rigide plat, de type palette, comportant une surélévation par rapport au sol permettant une reprise de charge par le dessous, au moyen d’une fourche ou d’un transpalette par exemple. À titre d’exemples, les dimensions de largeur, longueur et hauteur exprimées en millimètres (mm) des supports standardisés sont égales à 1 200 x 1 000 x 131 mm (palette ISO), à 1 200 x 800 x 145 mm (palette EPAL), à 600 x 400 x 145 mm (quart-palette), 600 x 800 x 145 mm (demi-palette). D’autres palettes selon les standards CP1 à CP9 peuvent aussi être employées. Dans d’autres modes de réalisation, le support standardisé est un chariot de manutention, communément appelé « roll » de manutention, qui se présente généralement sous la forme d’une base dotée de roue et équipé de 2, 3 ou 4 côtés grillagés préférentiellement amovibles. Les rolls permettent de déplacer des charges lourdes et volumineuses ou de nombreux produits en vrac.
Les premières zones Z1 du plan fragile enterré fonctionnel 12, qui ne comportent que les premières espèces hydrogène et hélium, sont à l’aplomb de régions ne bénéficiant pas d’un effet raidisseur (cavités 30) ; les caractéristiques d’implantation dans les premières zones Z1 sont ici favorables à la formation de cloques de grandes dimensions avec, éventuellement, des exfoliations locales limitées, dans les gammes de températures « élevées » souhaitées pour l’étape f) de traitement thermique de séparation.
Les deuxièmes zones Z2 du plan fragile enterré fonctionnel 12, qui comportent les premières espèces (hydrogène et hélium) et les deuxièmes espèces (Si), sont à l’aplomb de régions bénéficiant de l’effet raidisseur ; les caractéristiques d’implantation dans les deuxièmes zones Z2 sont ici favorables à un transfert dans les gammes de températures « élevées » (typiquement supérieures ou égales à 450°C).
Notons que le procédé de fabrication peut comprendre, après l’étape f), des étapes classiques de finition et/ou de lissage (mécaniques, mécano-chimiques, chimiques ou thermiques) de la surface libre 10a de la couche mince 10, dans le but d’atteindre la qualité cristalline et de surface requise pour ladite couche mince 10 dans la structure 100 finale.
Selon une variante du premier mode de réalisation de l’invention, illustrée sur les figures 6a à 6f, une étape c’) d’implantation localisée de troisièmes espèces au niveau de la face avant 11a du substrat donneur 11 peut être opérée. Cette étape c’) peut en particulier intervenir après l’étape d) de formation des cavités 30 dans le substrat donneur 11, et après retrait du masque M ( ’). Les troisièmes espèces se trouvent ainsi implantées dans les premières zones Z1 du plan fragile enterré fonctionnel 12 et dans un autre plan enterré discontinu 12’’ situé à distance et sous les deuxièmes zones Z2 du plan fragile enterré fonctionnel 12. Ces troisièmes espèces participent à modifier les caractéristiques et propriétés des premières zones Z1 du plan fragile enterré fonctionnel 12, mais n’affectent pas ou peu celles des deuxièmes zones Z2.
A l’issue du transfert de la couche mince 10, le plan enterré discontinu 12’’ se retrouve dans le reste du substrat donneur 11’ ( ).
La présente invention peut être mise à profit pour une large gamme de dispositifs MEMS ou NEMS (« Nanoelectromechanical systems »), ou pour toute autre application tirant profit d’une couche mince 10 disposée localement sur une cavité 30, au sein d’une structure 100. Comme déjà évoqué dans cette description, un substrat SOI (Silicium sur isolant) avec cavités enterrées est un exemple connu d’une telle structure 100.
Dispositif semi-conducteur à résistances diffusées, procédé de commande et capteur associés La présente description concerne de façon générale les dispositifs électroniques et plus précisément les dispositifs comprenant des résistances et leurs procédés de commande.
Une résistance est un composant électronique ou électrique dont la principale caractéristique est d'opposer une plus ou moins grande résistance à la circulation d'un courant électrique.
Dans la technologie des circuits intégrés, on connait principalement deux catégories de résistances : les résistances en silicium polycristallin et les résistances diffusées ou implantées, c'est-à-dire exploitant des dopants de types différents (typiquement P et N) dans un substrat semiconducteur (typiquement en silicium).
La présente description concerne la deuxième catégorie de résistances.
Un mode de réalisation pallie tout ou partie des inconvénients des dispositifs comprenant des résistances diffusées connus.
Un mode de réalisation prévoit un dispositif électronique comprenant des première et deuxième résistances diffusées en contact l'une avec l'autre de manière à former une jonction PN, le dispositif étant configuré pour que la différence de potentiel entre les première et deuxième résistances soit constante en tout point de la jonction PN, le dispositif étant configuré pour que la jonction PN soit polarisé en inverse.
Un autre mode de réalisation prévoit un procédé de commande d'un dispositif comprenant des première et deuxième résistances diffusées en contact l'une avec l'autre de manière à former une jonction PN, la différence de potentiel entre les première et deuxième résistances soit constante en tout point de la jonction PN, le dispositif étant configuré pour que la jonction PN soit polarisé en inverse.
Selon un mode de réalisation, chacune des première et deuxième résistances diffusées est constituée de matériaux semiconducteurs dopés, les première et deuxième résistances diffusées étant dopées de types de conductivité opposés.
Selon un mode de réalisation, la première résistance comprend une première couche enterrée dans un substrat et des premiers caissons, les premières régions s'étendant à partir de la périphérie de la première couche vers une première face du substrat, la première couche et les premiers caissons étant en un matériau semiconducteur dopé d'un premier type de conductivité ; et la deuxième résistance comprend une deuxième couche reposant sur la première couche, la deuxième couche étant en un matériau semiconducteur dopé d'un deuxième type de conductivité.
La teneur totale en tensioactif(s) non-ionique(s) choisi(s) parmi les alkyl glucosides dans lesquels le radical alkyl comprend de 8 à 16 atomes de carbone dans la composition est de préférence comprise entre 1 et 20 % en poids, de préférence entre 2 et 15 % en poids, plus préférentiellement entre 2 et 10 % en poids, et encore plus préférentiellement entre 3 et 8 % en poids, par rapport au poids total de la composition.
La teneur totale en tensioactif(s) amphotère(s) différent(s) des amidopropyl bétaïnes dans la composition est quant à elle de préférence comprise entre 1 et 10 % en poids, de préférence entre 1 et 5 % en poids, par rapport au poids total de tensioactifs contenus dans la composition.
La teneur totale en tensioactif(s) anionique(s) choisi(s) parmi les acides acyl glutamiques et leurs sels cosmétiquement acceptables, lorsque présent(s) dans la composition, est quant à elle de préférence comprise entre 1 et 30 % en poids, de préférence entre 1 et 20 % en poids et plus préférentiellement entre 5 et 15 % en poids ou entre 3 et 8 % en poids, par rapport au poids total de la composition.
Dans des modes de réalisation particuliers de l’invention, la teneur totale en tensioactif(s) anionique(s) choisi(s) parmi les acides acyl glutamiques et leurs sels cosmétiquement acceptables, lorsque présent(s) dans la composition, est en outre comprise entre 20 et 40 % en poids, notamment entre 20 et 30 % en poids, par rapport au poids total de tensioactifs contenus dans la composition.
Lorsque présent(s) dans la composition selon l’invention, le ou les tensioactif(s) anionique(s) choisi(s) parmi les acides acyl glutamiques et leurs sels cosmétiquement acceptables sont de préférence choisis parmi les acides acyl glutamiques dont le groupement acyle comprend une chaine hydrocarbonée linéaire ou ramifiée, saturée ou insaturée, à 8 à 30 atomes de carbone, de préférence à 10 à 20 atomes de carbone et de façon préférée à 12 à 18 atomes de carbone. Le groupement acyle peut notamment être choisi parmi les groupes lauroyl, myristoyl, palmitoyl, stearoyl, olivoyl, cocoyl et oleoyl. Le sel cosmétiquement acceptable de l’acide acyl glutamique peut quant à lui être choisi parmi les sels de métal alcalin, les sels de métal alcalino-terreux et les sels d’ammonium. Il est par exemple choisi parmi les sels de sodium, potassium, lithium ou magnésium, les sels de sodium et de potassium étant particulièrement préférés dans le cadre de l’invention. Le ou les tensioactif(s) anionique(s) choisi(s) parmi les acides acyl glutamiques et leurs sels cosmétiquement acceptables peuvent par exemple être choisis dans le groupe constitué des composés de noms INCI : sodium cocoyl glutamate, disodium cocoyl glutamate, sodium myristoyl glutamate, sodium lauroyl glutamate, potassium lauroyl glutamate, potassium cocoyl glutamate et sodium stearoyl glutamate. Plusieurs tensioactif(s) anionique(s) choisi(s) parmi les acides acyl glutamiques et leurs sels cosmétiquement acceptables, notamment répondant aux caractéristiques ci-dessus, peuvent être mis en œuvre dans la composition selon l’invention, qui peut par exemple contenir tout mélange de deux ou plus des composés énumérés ci-avant. Préférentiellement, la composition selon l’invention comprend un seul tensioactif anionique choisi parmi les acides acyl glutamiques et leurs sels cosmétiquement acceptables, ce tensioactif anionique répondant alors de préférence à l’une ou plusieurs des caractéristiques énoncées ci-dessus, ou aucun tel tensioactif.
Le ou les tensioactif(s) non-ionique(s) choisi(s) parmi les alkyl glucosides dans lesquels le radical alkyle comprend de 8 à 16 atomes de carbone sont de préférence choisis parmi les composés de noms INCI : octyl glucoside, lauryl glucoside et décyl glucoside. Plusieurs tensioactif(s) non-ionique(s) choisi(s) parmi les alkyl glucosides dans lesquels le radical alkyle comprend de 8 à 16 atomes de carbone peuvent être mis en œuvre dans la composition selon l’invention, qui peut par exemple contenir tout mélange de deux ou plus des composés ci-dessus (octyl glucoside, lauryl glucoside et décyl glucoside). Préférentiellement, la composition selon l’invention comprend un seul tensioactif non-ionique choisi parmi les alkyl glucosides dans lesquels le radical alkyle comprend de 8 à 16 atomes de carbone, ce tensioactif non-ionique répondant alors de préférence à l’une ou plusieurs des caractéristiques énoncées ci-dessus, ou aucun tel tensioactif.
Le ou les tensioactif(s) amphotère(s) différent(s) des amidopropyl bétaïnes peuvent par exemple être choisis parmi le caproamphoacétate de sodium, le caproamphopropionate de sodium, le capryloamphoacétate de sodium, le capryloamphopropionate de sodium, le cocoamphoacétate de sodium, le cocoamphopropionate de sodium, l’isostéaroamphoacétate de sodium, l’isostéaroamphopropionate de sodium, le lauroamphoacétate de sodium, le lauroamphopropionate de sodium, l’oléoamphoacétate de sodium, l’oléoamphopropionate de sodium, le stéaroamphoacétate de sodium, le stéaroamphopropionate de sodium, le tallow amphoacétate de sodium, le wheat germ amphoacétate de sodium, le caproamphodiacétate de disodium, le caproamphodipropionate de disodium, le capryloamphodiacétate de disodium, le cocoamphodiacétate de disodium, l’isostéaroamphodiacétate de disodium, le lauroamphodiacétate de disodium, l’oléoamphodipropionate de disodium, le capryloamphodipropionate de disodium, le cocoamphodipropionate de disodium, l’isostéaroamphodipropionate de disodium, le lauroamphodipropionate de disodium, le stéaroamphodiacétate de disodium, le tallow amphodiacétate de disodium et le wheat germ amphodiacétate de disodium.
De façon préférée, ledit au moins un tensioactif amphotère différent des amidopropyl bétaïnes est choisi parmi la lauryl bétaïne, la coco bétaïne, le cocoamphoacétate de sodium et le cocoamphodiacétate de disodium.
Plusieurs tensioactif(s) amphotère(s) différent(s) des amidopropyl bétaïnes peuvent être mis en œuvre dans la composition selon l’invention, qui peut par exemple contenir tout mélange de deux ou plus des composés ci-dessus, en particulier deux ou plus de : la lauryl bétaïne, la coco bétaïne, le cocoamphoacétate de sodium et le cocoamphodiacétate de disodium. Préférentiellement, la composition selon l’invention comprend un seul tensioactif amphotère différent des amidopropyl bétaïnes, ce tensioactif amphotère répondant alors de préférence à l’une ou plusieurs des caractéristiques énoncées ci-dessus, ou aucun tel tensioactif.
Dans la classe des amidopropyl bétaïnes, exclues de la composition selon l’invention, on peut notamment citer les composés suivants : la béhénamidopropyl bétaïne, la capryl/capramidopropyl bétaïne, la cocamidopropyl bétaïne, l’isostéaramidopropyl bétaïne, la lauramidopropyl bétaïne, la myristamidopropyl bétaïne, la stéaramidopropyl bétaïne, l’undécylèneamidopropyl bétaïne, ainsi que les amidopropyl bétaïnes dérivées de l’amande, l’abricot, l’avocat, le Babassu, le colza, l’huile de coco, l’huile de tournesol, l’avoine, l’olive, l’huile de palme, l’huile de ricin, le soja, le beurre de karité ou le germe de blé.
Le ou les tensioactif(s) anionique(s) choisi(s) parmi les acides iséthioniques et leurs sels cosmétiquement acceptables sont de préférence choisis parmi les acides acyl iséthioniques et leurs sels cosmétiquement acceptables, tels que les substances de noms INCI : sodium cocoyl iséthionate, sodium lauroyl iséthionate, sodium cocoyl méthyl iséthionate et sodium lauroyl méthyl iséthionate. Plusieurs tensioactif(s) anionique(s) choisi(s) parmi les acides iséthioniques et leurs sels cosmétiquement acceptables peuvent être mis en œuvre dans la composition selon l’invention, qui peut par exemple contenir tout mélange de deux ou plus des composés ci-dessus. Préférentiellement, la composition selon l’invention comprend un seul tensioactif anionique choisi parmi les acides iséthioniques, de préférence acides acyl iséthioniques, et leurs sels cosmétiquement acceptables, ce tensioactif anionique répondant alors de préférence à l’une ou plusieurs des caractéristiques énoncées ci-dessus, ou aucun tel tensioactif.
Le ou les tensioactif(s) anionique(s) choisi(s) parmi les acides sulfosucciniques et leurs sels cosmétiquement acceptables sont de préférence choisis parmi les acides alkyl sulfosucciniques et leurs sels cosmétiquement acceptables, tel que la substance de nom INCI disodium lauryl sulfosuccinate. Plusieurs tensioactif(s) anionique(s) choisi(s) parmi les acides sulfosucciniques et leurs sels cosmétiquement acceptables peuvent être mis en œuvre dans la composition selon l’invention. Préférentiellement, la composition selon l’invention comprend un seul tensioactif anionique choisi parmi les acides sulfosucciniques, de préférence acides alkyl sulfosucciniques, et leurs sels cosmétiquement acceptables, ce tensioactif anionique répondant alors de préférence à l’une ou plusieurs des caractéristiques énoncées ci-dessus, ou aucun tel tensioactif.
De manière générale, la composition selon l’invention contient de préférence le moins de tensioactifs possible. Ainsi, dans des modes de réalisation particuliers de l’invention, la composition ne comprend pas plus de 6 tensioactifs, de préférence pas plus de 5 tensioactifs, de préférence encore pas plus de 4 tensioactifs et préférentiellement 3 ou 2 tensioactifs. Comme indiqué ci-avant, un fort pouvoir moussant peut être obtenu avec deux ou trois des familles particulières de tensioactifs définies ci-dessus, permettant avantageusement de minimiser le nombre d’ingrédients présents dans la composition.
La composition selon l’invention peut contenir d’autres tensioactifs anioniques que ceux définis ci-avant. Préférentiellement, elle ne comporte aucun tensioactif anionique autre que des acides iséthioniques, des iséthionates, des acides sulfosucciniques, des sulfosuccinates, des acides acyl glutamiques et des acyl glutamates. De la même façon, la composition selon l’invention peut contenir d’autres tensioactifs non-ioniques que ceux définis ci-avant. Préférentiellement, elle ne comporte aucun tensioactif non-ionique autre que des alkyl glycosides dont le radical alkyle comporte 8 à 16 atomes de carbone.
Dans des modes de réalisation particuliers de l’invention, la composition contient, au titre de tensioactifs, uniquement : - un ou plusieurs, de préférence un seul, tensioactif(s) non-ionique(s) choisi(s) parmi les alkyl glucosides dans lesquels le radical alkyle comprend de 8 à 16 atomes de carbone, ou un ou plusieurs tensioactif(s) amphotère(s) différent(s) des amidopropyl bétaïnes, - un ou plusieurs, de préférence un seul, tensioactif(s) anionique(s) choisi(s) parmi les acides iséthioniques, de préférence acyl iséthioniques, et leurs sels cosmétiquement acceptables et les acides sulfosucciniques, de préférence alkyl sulfosucciniques, et leurs sels cosmétiquement acceptables, - et, optionnellement, un ou plusieurs, de préférence un seul, tensioactif(s) anionique(s) choisi(s) parmi les acides acyl glutamiques et leurs sels cosmétiquement acceptables.
Dans un mode de réalisation, le détecteur 21 est un détecteur 21 de niveau haut du liquide.
Ainsi, lorsque le liquide de nettoyage a atteint le niveau défini, l’utilisateur est alerté que le remplissage est complet, c’est-à-dire que le réservoir 9 est plein et que le remplissage peut stopper.
Dans un autre mode de réalisation, le détecteur 21 est un détecteur 21 de quantité de liquide versé dans le réservoir 9.
Ainsi, l’utilisateur est averti lorsqu’une quantité définie de liquide de nettoyage a été versée dans le réservoir 9. La quantité définie correspond à la quantité de liquide de nettoyage nécessaire pour que le remplissage du réservoir 9 soit complet.
De façon avantageuse, le détecteur 21 est situé au niveau du réservoir 9.
Il peut notamment être situé au niveau d’un corps 23 du réservoir 9 comme illustré aux figures 1 et 2. Il est de préférence situé en partie supérieure du corps 23 du réservoir 9.
Dans un mode de réalisation dans lequel le réservoir 9 comprend un col 15, le détecteur 21 peut aussi est situé au niveau du col 15 comme illustré à la .
De façon avantageuse, il peut s’agir de tout type de détecteur 21 connu de l’homme du métier qui permette de déterminer que le remplissage du réservoir 9 est complet.
De préférence, le détecteur 21 est un détecteur 21 mécanique et/ou un détecteur 21 optique et/ou un détecteur 21 à ultrason.
Dans le cas d’un détecteur 21 mécanique, il peut s’agir par exemple d’un flotteur qui une fois le liquide de nettoyage a atteint le niveau défini permet d’alerter l’utilisateur que le remplissage est complet et peut stopper.
Dans le cas d’un détecteur 21 optique, la détection du niveau défini de liquide de nettoyage peut être réalisée, par exemple, à l’aide d’un faisceau lumineux.
Dans le cas d’un détecteur 21 à ultrason, la détection du niveau défini de liquide de nettoyage se fait par l’intermédiaire d’ultrasons.
De façon avantageuse, le dispositif peut aussi comprendre un émetteur d’un signal 25, 27 d’indication de remplissage complet du réservoir 9.
Ainsi, l’utilisateur est alerté que le remplissage du réservoir 9 en liquide de nettoyage est complet et qu’il peut stopper, notamment pour éviter le débordement du réservoir 9.
Le signal peut être un signal sonore 25 et/ou un signal visuel 27.
Le signal sonore 25 ou visuel 27, peut, par exemple, est perceptible à l’extérieur du véhicule ou encore dans un habitacle du véhicule, ou les deux.
Selon un mode de réalisation, la deuxième résistance comprend une troisième couche semiconductrice dopée d'un premier type de conductivité, la troisième couche affleurant une face supérieure d'un substrat ; et la première résistance comprend une deuxième couche en un matériau semiconducteur dopé d'un deuxième type de conductivité, la troisième couche reposant sur la deuxième couche.
Selon un mode de réalisation, le dispositif comprend en outre une troisième résistance, la troisième résistance comprenant une première couche enterrée dans le substrat et des premiers caissons, les premiers caissons s'étendant à partir de la périphérie de la première couche vers la première face du substrat, la première couche et les premiers caissons étant en un matériau semiconducteur dopé d'un premier type de conductivité, la première couche et les premiers caissons délimitant la deuxième couche.
Selon un mode de réalisation, la jonction PN entre la première et la troisième résistance est configurée pour être polarisée en inverse.
Selon un mode de réalisation, la première résistance comprend un caisson semiconducteur dans un substrat, le caisson étant dopé du type opposé au type de dopage du substrat ; et la deuxième résistance comprend une troisième couche semiconductrice dopée du type opposé au type de dopage du caisson, la troisième couche affleurant une face supérieure d'un substrat.
Selon un mode de réalisation, chacune des résistances comprend une première extrémité et une deuxième extrémité, chaque résistance comprenant, au niveau des première et deuxième extrémités, une région semiconductrice, plus fortement dopée que le reste de la résistance, constituant une borne de ladite résistance.
Selon un mode de réalisation, chaque première et deuxième résistance comprend des première et deuxième bornes, les deuxièmes bornes des première et deuxième résistances étant reliées à un même premier noeud d'application d'une tension de référence.
Selon un mode de réalisation, le dispositif comprend un circuit de commande configuré pour fournir les potentiels sur les bornes des première et deuxième résistances.
Selon un mode de réalisation, le circuit de commande comprend un premier transistor relié en série avec la première résistance entre un deuxième noeud d'application d'une tension d'alimentation et le premier noeud et un deuxième transistor relié en série avec la deuxième résistance entre le deuxième noeud et le premier noeud, les premier et deuxième transistors étant montés en diode.
Selon un mode de réalisation, le premier transistor a un ratio largeur sur longueur de canal égale au ratio largeur sur longueur de canal du deuxième transistor multiplié par le quotient de la valeur de la deuxième résistance sur la valeur de la première résistance.