INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Nom INCI (Nom commercial) Cp1 Cp2 Cp3 Ex 4 Ex5 Ex 6 Eau QSP 100 QSP 100 QSP 100 QSP 100 QSP 100 QSP 100 XANTHAN GUM 0,30 0,50 0,30 0,30 0,30 0,30 ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER (Carbopol Ultrez 21) 0,29 0,29 0,29 CARBOMER (carbopol 980) 0,40 0,35 SODIUM LAURETH SULFATE 1,40 2,10 2,10 2,10 1,40 1,40 KAOLIN (IMERCARE 04K) 25,00 25,00 22,00 22,00 22,00 20,00 ZEA MAYS (CORN) STARCH (BEAUTE-BY-ROQUETTE ST005) 4,00 4,00 4,00 4,00 4,00 cellulose + cellulose microcristalline 0,85 + 0,25 0,50 + 0,50 0,50 + 0,50 0,50 + 0,50 0,50 + 0,50 Contrôle 24h : Aspect Non conforme, texture non lisse Non conforme, texture trop souple texture lisse, brillante, mais sensorialité non conforme texture assez souple, brillante, et l’efficacité du masque nettoyant moussant confirmée ++ Texture conforme, meilleurs résultats d'efficacité +++ Conforme, résultats d'efficacité + Sensorialité NOK NOK NOK Ok OK OK pH 5,40 5,00 5,00 5,00 5,00 5,00 Viscosité (M4) 26 UD 25 UD 21 UD 19 UD 18 UD 50 UD (ici M3) Viscosité en Poises 62,00 59,00 50,00 45,00 43,00 19,00 Conclusion Non conforme (texture) Non conforme (texture) Non conforme (senso) Conforme (tout) Conforme – test BUT + Conforme – test BUT -
Conclusion : Les différents essais réalisés démontrent que la composition aqueuse selon l’invention permet l’obtention d’une formule stable, efficace, au pouvoir 3 en 1 (Masque Nettoyant Exfoliant), grâce à l’association d’au moins :
- une argile, de préférence à haute teneur, notamment supérieure à 20% en poids sur le poids total de la composition, ceci pour optimiser le pouvoir absorbant de la formule sur le sébum, et de préférence également inférieure à 25% en poids, afin de pouvoir assurer une texture d’aspect lisse pour la formule ;
- un tensioactif anionique, permettant l’obtention d’une mousse de quantité et de qualité suffisantes lors de nettoyage par la formule au contact de l’eau. Au contraire l’utilisation de tensioactif amphotère tel que coco-bétaine, ou cocamidopropyl bétaine a entraîné des problèmes d’instabilité de formule, et n’a donc pas été retenue dans la composition selon l’invention ;
- un gélifiant hydrophile, notamment choisi parmi gomme de xanthane et/ou un polymère acrylique, qui se sont montrés particulièrement robustes et non thermosensibles pour stabiliser la formule contenant au moins un exfoliant à base de cellulose de l’invention ;
- un amidon qui contribue au pouvoir absorbant de la formule, à la texture et à la sensorialité de la formule, de préférence la teneur d’amidon étant d’au moins 3%, de préférence d’au moins 4%, sur le poids total de la composition ; et
- une cellulose, de préférence l’association d’une cellulose non modifiée et d’une cellulose microcristalline, apportant l’efficacité exfoliante (ou scrubante) de la formule.
De plus, les formules selon l’invention ont été bien tolérées par tous types de peau, même sensibles, comme l’atteste le test consommateurs de l’exemple 2 ci-après. De plus, elles ne présentent pas non plus de risque ophtalmique.
Exemple 2 – Test consommateurs Protocole des tests consommateurs sur les formules des Ex5 et Ex6 du tableau 1 est indiqué dans le tableau 2 suivant :
Selon un mode de réalisation de l’invention, la partie de déversement comporte deux rebords de guidage latéraux configurés pour guider des jus de cuisson ou condensats, provenant de la plaque de cuisson, vers le bac de collecte, la nervure périphérique présentant une hauteur supérieure à la hauteur des rebords de guidage latéraux, et par exemple supérieure à sensiblement le double de la hauteur des rebords de guidage latéraux.
Selon un mode de réalisation de l’invention, les premières nervures de support latérales et les deuxièmes nervures de support latérales sont disposées de part et d’autre de la nervure de support centrale. De façon avantageuse, les premières et deuxièmes nervures de support latérales sont configurées pour guider au moins une partie des jus de cuisson ou des condensats, présents sur la plaque de cuisson, vers la nervure de support centrale, lorsque la structure chauffante supérieure est déplacée entre la position de fermeture et la position d’ouverture maximale.
Selon un mode de réalisation, les première, deuxième et troisième régions en matériau à changement de phase sont en un matériau chalcogénure.
Selon un mode de réalisation, chacune des première, deuxième et troisième régions en matériau à changement de phase est en tellurure de germanium ou en germanium-antimoine-tellure.
Selon un mode de réalisation, la troisième région en matériau à changement de phase présente un volume inférieur à celui des première et deuxième régions en matériau à changement de phase.
Selon un mode de réalisation, les première et deuxième régions en matériau à changement de phase présentent, en vue de dessus, des aires différentes.
Selon un mode de réalisation, les première et deuxième régions en matériau à changement de phase présentent, le long de la direction de conduction du commutateur, une même dimension latérale.
Selon un mode de réalisation, les première et deuxième régions en matériau à changement de phase présentent, le long d’une direction orthogonale à la direction de conduction du commutateur, des dimensions latérales différentes.
Un mode de réalisation prévoit un dispositif comprenant un commutateur tel que décrit et un plan de masse auquel est connectée la quatrième électrode du commutateur.
la et la sont des vues schématiques et partielles, respectivement de dessus et en coupe selon le plan AA de la , d’un exemple d’un commutateur à base d’un matériau à changement de phase selon un mode de réalisation ;
la , la et la sont des vues de dessus, schématiques et partielles, illustrant différents états du commutateur des figures 1A et 1B ;
la est un schéma électrique équivalant au commutateur des figures 1A et 1B ;
la est une vue de dessus, schématique et partielle, d’un exemple de ligne à microruban comprenant le commutateur des figures 1A et 1B selon un mode de réalisation ;
la est une vue de dessus, schématique et partielle, d’un exemple de ligne coplanaire comprenant le commutateur des figures 1A et 1B selon un mode de réalisation ;
la est une vue de dessus, schématique et partielle, d’un exemple d’un commutateur à base d’un matériau à changement de phase selon un mode de réalisation.
Dans le mode de réalisation de la , les organes de retenue 21 de la pièce 20 sont mutuellement bloqués en rotation autour de leur axe central A2 respectif par le bras de liaison 22.
La pièce de retenue 20 permet ainsi d’assurer une fonction sécuritaire de verrouillage additionnelle à celle réalisée par les écrous 6 autofreinés.
Pour démonter le système 10, par exemple dans le cadre d’une opération de maintenance, les écrous 6 peuvent être dévissés en appliquant un couple suffisant pour déformer le corps des organes de retenue 21 de la pièce 20 afin de le faire passer de la configuration de verrouillage à la configuration de déverrouillage.
Après retrait des écrous 6, plus précisément dès que leurs surfaces d’appui 15 ne sont plus en contact avec les organes de retenue 21, le corps de ces derniers retourne en configuration de repos compte tenu de son élasticité.
Dans la roue 1 de la , les organes d’assemblage 4 sont deux-à-deux équipés d’une telle pièce de retenue 20 en formant un système 10 tel qu’illustré à la .
Bien entendu, la description qui précède n’est pas limitative, l’invention présentant de nombreuses variantes, incluant celles décrites ci-après, autant en termes de géométrie de la pièce de retenue 20 que de domaine d’application.
Notamment, la pièce 20 de la peut avoir un bras de liaison 22 et/ou des organes de retenue 21 ayant une géométrie différente. À titre d’exemple, le bras de liaison 22 peut avoir une partie centrale 41 non incurvée et/ou être dépourvu de lignes de pliage L4 entre la partie centrale 41 et les parties d’extrémité 42.
Pour autre exemple, les pattes 27 et/ou les éléments d’appui 25 des organes de retenue 21 peuvent présenter une géométrie différente de celle de la et/ou être en nombre différent. Ainsi, dans une variante non représentée, le corps des organes de retenue 21 peut avoir une ou plusieurs pattes portant chacune plusieurs éléments d’appui. En outre, les pattes peuvent être reliées à l’embase du corps selon une liaison rigide, n’autorisant aucun déplacement des pattes par rapport à l’embase tel que cela est permis par les lignes de pliage L1 dans le mode de réalisation de la .
Les figures 5 à 11 illustrent des variantes non limitatives de pièce de retenue 20, décrites ci-dessous uniquement selon leurs différences par rapport au mode de réalisation de la . La description qui précède s’applique par analogie à ces différentes variantes.
Dans le mode de réalisation de la , chacun des organes de retenue 21 comprend des éléments d’appui 25 sous forme de languettes recourbées reliées à l’embase 26 par une unique ligne de pliage L10.
Dans le mode de réalisation de la , chacun des organes de retenue 21 comprend des éléments d’appui 25 sous forme de bras en trois parties 25A, 25B et 25C reliées entre elles et à l’embase 26 de l’organe 21 correspondant par des lignes de pliage L10, L11 et L12. Dans la configuration de repos de la , pour chacun des éléments d’appui 25, les parties 25A, 25B et 25C s’étendent dans des plans respectifs obliques les uns par rapport aux autres de manière à former une partie de contact localisée au niveau de la ligne de pliage L12. L’orientation de la partie 25C des éléments d’appui 25 permet de former une extrémité axiale évasée du corps de chacun des organes 21, à la manière des parties d’extrémité 29 des pattes 27 dans le mode de réalisation de la . Le corps des organes de retenue 21 est dans cet exemple configuré pour se déformer lors de son changement de configuration par rotation relative de la partie 25B par rapport à la partie 25A autour de la ligne de pliage L11 et par rotation relative concomitante de la partie 25A par rapport à l’embase 26 autour de la ligne de pliage L10, cela pour chacun des éléments d’appui 25.
Dans le mode de réalisation de la , chacun des organes de retenue 21 comprend des éléments d’appui 25 sous forme de bras en deux parties 25A et 25B reliées entre elles par une ligne de pliage L11, la partie 25A étant reliée à l’embase 26 correspondante par une ligne de pliage L10. Dans la configuration de repos de la , pour chacun des éléments d’appui 25 de chacun des organes 21, la partie 25A s’étend dans un plan sensiblement parallèle à l’axe A4 et la partie 25B s’étend radialement vers l’intérieur en étant dirigé axialement depuis la ligne de pliage L11 vers l’embase 26, de sorte que l’extrémité de la partie 25B opposée à la ligne de pliage L11 forme la partie de contact. Le corps des organes de retenue 21 est dans cet exemple configuré pour se déformer lors de son changement de configuration par rotation relative de la partie 25B par rapport à la partie 25A autour de la ligne de pliage L11 et rotation relative concomitante de la partie 25A par rapport à l’embase 26 autour de la ligne de pliage L10, cela pour chacun des éléments d’appui 25.
Dans le mode de réalisation de la , chacun des organes de retenue 21 comprend des éléments d’appui 25 sous forme de bras en deux parties 25A et 25B reliées entre elles par une ligne de pliage L11, la partie 25A étant reliée à l’embase 26 par une ligne de pliage L10. Dans cet exemple, l’embase 26 des organes de retenue 21 comprend un surface ou bord interne 32 de forme étoilée définie par des évidements de l’embase 26 constituant la partie 25A des éléments d’appui 25. L’embase 26 des organes de retenue 21 comprend une surface ou bord externe 33 circulaire. Pour chacun des organes de retenue 21, les éléments d’appui 25 sont donc ici reliés à l’embase 26 le long de la ligne de pliage L10, au niveau du bord interne 32.
Le mode de réalisation de la se distingue essentiellement de celui de la en ce que, pour chacun des organes de retenue 21, les éléments d’appui 25, qui présentent une forme analogue à ceux de la , sont reliés à l’embase 26 au niveau du bord externe 33 de l’embase 26, et en ce que le bord externe 33 a lui aussi une forme étoilée similaire au bord interne 32.
Dans le mode de réalisation de la , l’embase 26 de chacun des organes de retenue 21 forme non pas un anneau mais un segment ayant deux extrémités circonférentielles 26A et 26B en regard l’une de l’autre. Dans la configuration de repos de la , les extrémités 26A et 26B de chacun des organes de retenue 21 sont éloignées l’une de l’autre d’une distance B2. Les éléments d’appui 25 de chacun des organes de retenue 21, qui se présentent sous la même forme que ceux de la , sont reliés à l’embase 26 au niveau du bord externe 33 de l’embase 26, le bord externe 33 ayant dans cet exemple une forme circulaire. Ainsi, l’embase 26 de chacun des organes de retenue 21 peut être élastiquement déformée, concomitamment aux éléments d’appui 25, de sorte à modifier la distance B2 entre les extrémités 26A et 26B, notamment de sorte que cette distance soit supérieure à celle illustrée à la lorsque le corps est en configuration de verrouillage et une distance encore plus importante lorsque le corps est en configuration de déverrouillage.
Le mode de réalisation de la se distingue essentiellement de celui de la en ce que, pour chacun des organes de retenue 21, les pattes 27 sont dépourvues de partie d’extrémité (référencée 29 à la ) et par les dimensions relatives de l’embase 26 et des éléments d’appui 25.
L’organe de retenue 21 est donc dans cet exemple configuré de sorte que la déformation élastique du corps lors de son changement de configuration, en particulier entre les configurations de repos, de verrouillage et de déverrouillage, résulte à la fois d’un déplacement des éléments d’appui 25 par rapport aux pattes 27 et d’un déplacement des pattes 27 par rapport à l’anneau 26.
Dans le mode de réalisation de la , les deux organes de retenue 21 de la pièce 20 sont reliés l’un à l’autre par le bras de liaison 22.
Dans cet exemple, le bras de liaison 22 se présente globalement sous forme d’une pièce en U comportant une partie centrale 41 et deux parties d’extrémités 42.
Les parties d’extrémités 42 présentent une géométrie globale analogue à celle des pattes 27 des organes de retenue 21 – en étant toutefois dépourvues d’éléments d’appui – et sont chacune reliées d’une part à la partie centrale 41 du bras de liaison 22 le long d’une ligne de pliage L4 et, d’autre part, à l’anneau 26 de l’organe de retenue 21 correspondant le long d’une ligne de pliage L5.
Dans cet exemple, la partie centrale 41 du bras de liaison 22 est incurvée.
De manière non limitative, la pièce de retenue 20 de la peut être fabriquée par emboutissage d’une plaque métallique qui peut avoir une épaisseur compris entre 0,3 mm et 0,8 mm, par exemple une épaisseur d’environ 0,4 mm.
L’assemblage de la pièce de retenue 20 de la avec les organes d’assemblage 4 du système 10 de la peut être réalisé comme suit.
Les écrous 6 sont initialement désolidarisés des vis 5.
En référence aux figures 2 et 4, la pièce de retenue 20 est disposée sur la partie extérieure 2 de la roue 1 de sorte que l’anneau 26 de chacun des organes de retenue 21 de la pièce 20 soit disposé radialement autour de l’une respective des vis 5 et axialement en appui, par sa surface inférieure, sur une surface d’appui correspondante de la partie extérieure 2 de la roue 1. La géométrie incurvée de la partie centrale 41 du bras de liaison 22, ainsi que les lignes de pliage L4 et L5 qui autorisent une légère déformation du bras de liaison 22 par rapport aux organes de retenue 21, permettent de s’adapter aux éventuelles variations d’entraxe, c’est-à-dire de distance B1 effective entre les axes centraux A2 des vis 5 du système 10.
Chacun des écrous 6 est ensuite vissé sur la vis 5 correspondante à l’aide d’un outil de serrage (non représenté) coopérant avec la denture de la partie intermédiaire 13 de l’écrou 6 (voir ).
Lors du vissage, l’évasement formé par les parties d’extrémité 29 des pattes 27 des organes de retenue 21 favorise l’engagement de l’embase 12 de l’écrou 6 radialement entre les pattes 27 de l’organe de retenue 21 correspondant.
Pour chacun des écrous 6, lorsque l’embase 12 arrive axialement au niveau des éléments d’appui 25 de l’organe de retenue 21 correspondant, un couple de serrage suffisant est nécessaire pour déformer le corps de cet organe 21 de la manière décrite ci-dessus, afin de la faire passer de la configuration de repos à la configuration de déverrouillage (non représentée).
Lorsque le système 10 est ainsi assemblé, le corps de chacun des organes de retenue 21 de la pièce 20 est dans ladite configuration de verrouillage.
Plus précisément, en configuration de verrouillage, les éléments d’appui 25 de chacun des organes de retenue 21 s’étendent radialement à l’extérieur de l’écrou 6 correspondant en venant chacun en appui sur l’une des facettes 15 de l’embase 12 de cet écrou 6.
Pour chacun des organes de retenue 21 de la pièce 20, la disposition des éléments d’appui 25 sur les surfaces d’appui 15 de l’écrou 6 correspondant s’oppose à une rotation de l’écrou 6 autour de l’axe central A2 de la vis 5 à laquelle il est assemblé.
En référence aux figures 2 et 4, les axes A4 de la pièce de retenue 20 sont confondus avec les axes centraux A2 des vis 5 dans la configuration de verrouillage.
L’assemblage de la pièce de retenue 20 de la avec les organes d’assemblage 4 de l’ensemble 10 de la peut être réalisé comme suit.
En référence aux figures 2 et 4, la pièce de retenue 20 est disposée sur la partie extérieure 2 de la roue 1 de sorte que l’anneau 26 de chacun des organes de retenue 21 de la pièce 20 soit disposé radialement autour de l’une respective des vis 5 et axialement en appui, par sa surface inférieure, sur une surface d’appui correspondante de la partie extérieure 2 de la roue 1. La géométrie incurvée de la partie centrale 41 du bras de liaison 22, ainsi que les lignes de pliage L4 et L5 qui autorisent une légère déformation du bras de liaison 22 par rapport aux organes de retenue 21, permettent de s’adapter aux éventuelles variations d’entraxe, c’est-à-dire de distance B1 effective entre les axes centraux A2 des vis 5 de l’ensemble 10.
Dans cet exemple, une rondelle 50 telle qu’illustrée à la est préalablement disposée sur chacun des organes de retenue 21 de la pièce 20, plus précisément sur la surface 31 de l’anneau 26 de sorte que, pour chacun des organes de retenue 21, la rondelle 50 s’étende axialement entre l’anneau 26 et les éléments d’appui 25 de cet organe 21. Radialement, la rondelle 50 est ici dimensionnée de sorte que son diamètre externe soit supérieur au diamètre constituée par l’extrémité inférieure, ou partie de contact, des éléments d’appui 25 lorsque le corps est en configuration de repos.
Les écrous 6 sont vissés jusqu’au niveau de serrage requis, après quoi chacune des rondelles 50 est enserrée axialement entre l’anneau 26 de l’un des organes de retenue 21 et l’écrou 6 correspondant, selon la configuration de la . Les rondelles 50 sont configurées pour assurer un glissement relatif entre une surface inférieure des écrous 6 et la surface 31 du corps des organes de retenue 21, réduisant ainsi le frottement et la déformation de la pièce de retenue 20 sous l’action du couple de serrage.
Lorsque l’ensemble 10 est ainsi assemblé, le corps de chacun des organes de retenue 21 de la pièce 20 est dans ladite configuration de verrouillage.
Pour démonter l’ensemble 10, par exemple dans le cadre d’une opération de maintenance, les écrous 6 peuvent être dévissés en appliquant un couple suffisant pour déformer le corps des organes de retenue 21 de la pièce 20 afin de le faire passer de la configuration de verrouillage à la configuration de déverrouillage.
Selon l’état de la technique, les substrats de carbure de silicium destinés à recevoir le dépôt de circuits microélectroniques se présentent comme des plaquettes (« wafers ») de forme généralement circulaires. Ils sont fabriqués de manière industrielle grâce au procédé PVT (Physical Vapor Transfer), qui consiste à sublimer à haute température (> 2200°C) une poudre de SiC et d’en condenser les vapeurs sur un germe pour obtenir un lingot ou « boule » de SiC monocristallin. De ce lingot monocristal sont alors tranchés des substrats (wafers) monocristallins de SiC. Après amincissement et polissage, une couche de SiC cristalline est déposée par épitaxie sur l’une des faces de ce substrat, afin d’obtenir un cristal avec le moins de défauts possible. Après épitaxie, ces wafers seront prêts pour accueillir la fabrication de composants électroniques.
En outre, pour les composants de puissance, une résistance R ON la plus faible possible en mode passant est un critère déterminant pour améliorer l’efficacité énergétique du système en limitant l’échauffement par effet joule lors du passage du courant. Dans ces applications, le SiC monocristallin est dopé à la fois pour permettre de fabriquer les jonctions p/n du composant et pour réduire sa résistivité au contact du drain. L’ajout d’azote permet de doper le substrat pendant la croissance du cristal. En standard, les wafers dopés « n » ont une résistivité de l’ordre de 20 mOhm.cm. Il devient très difficile de réduire la résistivité en dessous de ce seuil sans dégrader la qualité du cristal, car un dopage trop important crée des contraintes favorisant des dislocations supplémentaires du cristal.
Une nouvelle technologie en cours de développement permettrait de combiner l’utilisation d’un substrat (wafer) SiC à bas coût aux performances électriques améliorées et d’une couche mince de SiC monocristallin de haute qualité dans laquelle serait fabriqué le composant microélectronique. La couche de SiC monocristallin est rapportée sur le substrat par un procédé de collage moléculaire tel que décrit dans WO 01/18873 (Commissariat à l‘Energie Atomique), permettant en outre de garantir une résistance de contact minimale entre le substrat et la couche monocristalline rapportée. Le document EP 3 018 696 A1 décrit un mode de réalisation d’un tel procédé, qui aboutit à une couche de SiC monocristallin rapportée sur un substrat de SiC polycristallin (noté ici « p-SiC » ou « Wafer p-SiC »).
Ces substrats de p-SiC doivent répondre à des exigences strictes de résistance électrique, conductivité thermique et planéité. On trouve aujourd’hui sur le marché des produits prototypes « Dummy wafers » vendus par des entreprises, comme par exemple la société Ferrotec. Ces wafers de diamètre 150 mm et d’épaisseur 750 µm en standard servent à équilibrer une charge complète de wafers SiC monocristallins dans certains procédés pour en améliorer l’uniformité.
Selon l’état de la technique on obtient des wafers p-SiC en déposant du SiC polycristallin par CVD sur un substrat de graphite de forme cylindrique. Après avoir éliminé par usinage la couche de SiC déposée sur le pourtour du cylindre jusqu’à accéder au graphite, on peut séparer deux disques de SiC à partir des deux faces du cylindre par oxydation sous air du graphite. Cela est décrit dans les demandes de brevet JP 1994 340994 et JP 1997 296361.