Procédé de fabrication d’une gaine (4) de crayon de combustible nucléaire comprenant un substrat (14) recouvert d’un revêtement de protection (16), le procédé de fabrication comprenant la fourniture du substrat (14) ; et le dépôt du revêtement de protection (16) sur le substrat (14) par dépôt physique en phase vapeur par pulvérisation cathodique, en mettant en œuvre simultanément plusieurs techniques de dépôt physique en phase vapeur par pulvérisation cathodique, différentes les unes des autres. Procédé de fabrication selon la revendication 1, dans lequel au moins deux parmi les techniques différentes de dépôt physique en phase vapeur par pulvérisation cathodique sont mises en œuvre simultanément à l’aide d’une cathode commune (26). Procédé de fabrication selon la revendication 2, comprenant l’application à chaque cathode commune (26) d’un signal d’excitation combiné (SC) correspondant à la superposition d’au moins deux signaux d’excitation élémentaires (S1, S2), chaque signal d’excitation élémentaire (S1, S2) étant formé d’un motif périodique correspondant à une technique de dépôt physique en phase vapeur par pulvérisation cathodique respective parmi les techniques de dépôt physique en phase vapeur par pulvérisation cathodique mises en œuvre simultanément à l’aide de ladite cathode commune (26), les signaux d’excitation élémentaires (S1, S2) étant synchronisés de telle manière que leurs motifs respectifs sont présent séquentiellement dans le signal d’excitation combiné (SC). Procédé de fabrication selon la revendication 3, dans lequel chaque signal d’excitation élémentaire (S1, S2) est généré par un générateur de signal d’excitation respectif, les signaux d’excitation élémentaires (S1, S2) étant synchronisés et superposés pour former le signal d’excitation combiné (SC) appliqué à ladite cathode commune (26). Procédé de fabrication selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel aux moins une parmi les techniques de dépôt physique en phase vapeur par pulvérisation cathodique mises en œuvre simultanément est mise en œuvre à l’aide d’une cathode dédiée (26A, 26B), en appliquant à cette cathode dédiée (26A, 26B) un signal d’excitation pour la mise en œuvre de cette technique de dépôt physique en phase vapeur. Procédé de fabrication selon la revendication 1, dans lequel chacune parmi les techniques de dépôt physique en phase vapeur par pulvérisation cathodique mises en œuvre simultanément est mise en œuvre à l’aide d’une cathode dédiée (26A, 26B), en appliquant à cette cathode dédiée (26A, 26B) un signal d’excitation pour la mise en œuvre de cette technique de dépôt physique en phase vapeur. Procédé de fabrication selon la revendication 5 ou 6, dans lequel le signal d’excitation de chaque cathode dédiée (26A, 26B) est généré par un générateur de signal d’excitation (26A, 26B) respectif. Procédé de fabrication selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel les techniques de dépôt physique en phase vapeur mises en œuvre simultanément sont choisies parmi : la pulvérisation cathodique magnétron pulsée à haute puissance (HiPIMS) unipolaire ou bipolaire, la pulvérisation cathodique magnétron en courant continu (DC) unipolaire ou bipolaire, la pulvérisation cathodique magnétron en courant continu pulsé (pulsed-DC) unipolaire ou bipolaire, la pulvérisation cathodique magnétron à fréquence moyenne (MF) unipolaire ou bipolaire et la pulvérisation cathodique magnétron à fréquence radio (RF) unipolaire ou bipolaire. Procédé de fabrication selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le substrat (14) est réalisé dans un matériau à base de zirconium et/ou le revêtement de protection (16) est réalisé dans un matériau à base de chrome. Procédé de fabrication selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l’épaisseur du revêtement de protection à l’issue de l’étape de dépôt est comprise entre 5 µm et 30 µm, en particulier entre 10 µm et 20 µm. Procédé de fabrication selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le substrat présente une forme de révolution autour d’un axe central, le procédé de fabrication comprenant la mise en rotation du substrat (14) autour de l’axe central pendant l’étape de dépôt. Procédé de fabrication selon l’une quelconque des revendications précédentes, comprenant la polarisation du substrat (14) pendant le dépôt du revêtement. Gaine de crayon de combustible nucléaire comprenant un substrat (14) recouvert d’un revêtement de protection (16) déposé sur le substrat par dépôt physique en phase vapeur en mettant en œuvre simultanément une pluralité de techniques différentes de dépôt physique en phase vapeur par pulvérisation cathodique. Installation de dépôt physique en phase vapeur, comprenant une chambre (22), au moins un dispositif de contrôle d’atmosphère (24) pour générer dans la chambre (22) une atmosphère raréfiée, au moins une cathode (26, 26A, 26B) et un dispositif d’excitation (28), l’installation étant configurée pour le dépôt d’un revêtement de protection (16) sur un substrat (14) introduit dans la chambre (22) en mettant en œuvre simultanément plusieurs techniques de dépôt physique en phase vapeur par pulvérisation cathodique différentes à l’aide de la ou des cathodes (26, 26A, 26B). Installation selon la revendication 14, comprenant au moins une cathode commune (26) pour la mise en œuvre simultanée d’au moins deux parmi les techniques de dépôt physique en phase vapeur par pulvérisation cathodique mise en œuvre simultanément, le dispositif d’excitation (28) étant configuré pour générer un signal d’excitation combiné (SC) de la cathode commune (26) qui correspond à la superposition de plusieurs signaux d’excitation élémentaires (S1, S2), chaque signal d’excitation élémentaire (S1, S2) possédant un motif périodique correspondant à une respective parmi les techniques de dépôt physique en phase vapeur par pulvérisation cathodique mises en œuvre simultanément à l’aide de ladite cathode commune (26), les signaux d’excitation élémentaires (S1, S2) étant combinés de telle manière que leurs motifs respectifs sont présent séquentiellement dans le signal d’excitation combiné (SC). Installation selon la revendication 14 ou 15, comprenant au moins une cathode dédiée (26A, 26B) pour la mise en œuvre d’une parmi les techniques de dépôt physique en phase vapeur par pulvérisation cathodique mises en œuvre simultanément, le dispositif d’excitation étant configuré pour générer un signal d’excitation respectif pour chaque cathode dédiée (26A, 26B), le signal d’excitation correspondant à la technique de dépôt physique en phase vapeur par pulvérisation cathodique associée à cette cathode dédiée. Installation selon l’une quelconque des revendications 14 à 16, configurée pour la polarisation du substrat (14) pendant le dépôt du revêtement.