Méthode de fabrication additive pour produire un article en élastomère silicone, ladite méthode comprenant les étapes suivantes : i) mettre en œuvre une composition silicone photoréticulable X et une source d’irradiation, ladite composition silicone photoréticulable X comprenant : a) au moins un organopolysiloxane A comportant au moins un groupe (méth)acrylate b) au moins un photoamorceur radicalaire B de formule (I) suivante : [Chem 37] dans laquelle, R 1 et R 3 , identiques ou différents, sont choisis parmi le groupe constitué par : un atome d’hydrogène, un hydroxyle et un groupement de formule -OZ avec le symbole O étant un atome d’oxygène et le symbole Z étant choisi parmi le groupe constitué par : -un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 3 -C 20 ou alcényle en C 2 -C 20 , -un groupe –(C=O)-R 8 , avec le radical R 8 étant choisi parmi les groupes C 1 -C 20 alkyles, C 2 -C 20 alcényles, C 3 -C 20 cycloalkyles et C 6 -C 12 aryles, et -un groupe -Si(R 9 ) 3 , où le groupement R 9 identiques ou différents sont choisis parmi les groupes C 1 -C 20 alkyles, C 2 -C 20 alcényles,C 3 -C 20 cycloalkyles, C 6 -C 12 aryles, C 1 -C 20 alkoxyles et l’atome d’hydrogène ; R 2 est choisi parmi le groupe constitué par : un atome d’hydrogène, un groupement alkyle en C 1 -C 6 , un groupe –(C=O)-R 10 avec le radical R 10 étant choisi parmi les groupes C 1 -C 20 alkyles, C 2 -C 20 alcényles, C 3 -C 20 cycloalkyles, C 6 -C 12 aryles, O-R 11 et –(N-(R 11 ) 2 avec le radical R 11 étant choisi parmi les groupes C 1 -C 12 alkyles ; R 4 , R 5 , R 6 et R 7 , identiques ou différents, sont choisis parmi le groupe constitué par : un atome d’hydrogène et un groupement alkyl en C 1 -C 6 ; et avec l’une des conditions suivantes : - au moins un des substituants R 1 ou R 3 est un groupement de formule -OZ, ou soit - le substituant R 2 est un groupement de formule –(C=O)-R 10 . c) au moins une amine tertiaire C ; ii) Irradier sélectivement au moins une partie de la composition silicone photoréticulable X au moyen de la source d’irradiation pour former une partie de l’article en élastomère silicone ; et iii) Répéter l’étape ii) un nombre de fois suffisant pour produire l’article en élastomère silicone. Méthode selon la revendication 1, dans laquelle le photoamorceur radicalaire B est un composé de formule (IX) [Chem 38] dans laquelle, R 1 et R 2 , identiques ou différents, sont choisis parmi le groupe constitué par : un atome d’hydrogène, un hydroxyle et un groupement de formule -OZ avec le symbole O étant un atome d’oxygène et le symbole Z étant choisi parmi le groupe constitué par : un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 3 -C 20 ou alcényle en C 2 -C 20 , un groupe –(C=O)-R 3 , avec le radical R 3 étant choisi parmi les groupes C 1 -C 20 alkyles, C 2 -C 20 alcényles, C 3 -C 20 cycloalkyles et C 6 -C 12 aryles, ou un groupe -Si(R 4 ) 3 , où les groupes R 4 identiques ou différents sont choisis parmi les groupes C 1 -C 20 alkyles, C 2 -C 20 alcényles, C 3 -C 20 cycloalkyles, C 6 -C 12 aryles, C 1 -C 20 alkoxyles et l’atome d’hydrogène, et avec la condition qu’au moins un des substituants R 1 ou R 2 est un groupement de formule -OZ. Méthode selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans laquelle l’amine tertiaire C est une amine tertiaire acyclique. Méthode selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que l’amine tertiaire C est une amine tertiaire acyclique de formule suivante (XIV) : [Chem 39] dans laquelle, R 1 , R 2 et R 3 identiques ou différents, sont choisis parmi : un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 2 -C 12 , préférentiellement en C 5 -C 12 , ou alcényle en C 2 -C 20 substitué ou non par au moins un groupe choisi parmi: - un groupement aryle de 6 à 18 atomes de carbones - un hétéroatome O, N ou S, - un halogène, - un groupement hydroxyle - un groupe (O-Alk) avec Alk représente un groupe alkyle comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, - un groupement amino-alkyle de la forme N(R 4 ) 2 où R 4 représente un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 3 -C 20 , - un groupement SiMe 3 , - un groupement Si(O-Alk) 3 avec Alk représente un groupe alkyle comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, préférentiellement de 1 à 6 atomes de carbones, et avec la condition qu’au moins : - un groupement R 1 , R 2 ou R 3 représente un groupe alkyle en C 5 -C 12 - un groupement R 1 , R 2 ou R 3 représente un groupe alkyle en C 1 -C 20 substitué par un groupement amino-alkyle de la forme N(R 4 ) 2 où R 4 représente un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 3 -C 20 , ou - un groupement R 1 , R 2 ou R 3 représente un groupe alkyle en C 1 -C 20 substitué par un groupement Si(O-Alk) 3 avec Alk représente un groupe alkyle comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, préférentiellement de 1 à 6 atomes de carbones. Méthode selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que l’amine tertiaire C est une amine tertiaire acyclique de formule suivante (XV) : [Chem 40] dans laquelle, R 1 , R 2 et R 3 identiques ou différents, sont choisis parmi : un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 2 -C 12 , préférentiellement en C 5 -C 12 , ou alcényle en C 2 -C 20 substitué ou non par au moins un groupe choisi parmi: - un groupement amino-alkyle de la forme N(R 4 ) 2 où R 4 représente un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 3 -C 20 , - un groupement SiMe 3 , - un groupement Si(O-Alk) 3 avec Alk représente un groupe alkyle comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, préférentiellement de 1 à 6 atomes de carbones. Méthode selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que l’amine tertiaire C est une amine tertiaire acyclique formule suivante (XVIa) : [Chem 41] dans laquelle, R 5 , R 6 et R 7 identiques ou différents, sont choisis parmi : un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 2 -C 12 , préférentiellement en C 5 -C 12 , ou alcényle en C 2 -C 20 substitué ou non par au moins un groupe choisi parmi: - un groupement aryle de 6 à 18 atomes de carbones - un hétéroatome O, N ou S, - un halogène, - un groupement hydroxyle - un groupe (O-Alk) avec Alk représente un groupe alkyle comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, - un groupement amino-alkyle de la forme N(R 8 ) 2 où R 8 représente un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 3 -C 20 , - un groupement SiMe 3 , - un groupement Si(O-Alk) 3 avec Alk représente un groupe alkyle comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, préférentiellement de 1 à 6 atomes de carbones, et avec la condition qu’au moins : - un groupement R 5 , R 6 ou R 7 représente un groupe alkyle en C 5 -C 12 . Méthode selon l’une des revendications 1 à 4, dans laquelle l’amine tertiaire C est une amine tertiaire acyclique formule suivante (XVIIa) : [Chem 42] dans laquelle, R 9 , R 10 et R 11 identiques ou différents, sont choisis parmi : un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 2 -C 12 , préférentiellement en C 5 -C 12 , ou alcényle en C 2 -C 20 substitué ou non par au moins un groupe choisi parmi: - un groupement aryle de 6 à 18 atomes de carbones - un hétéroatome O, N ou S, - un halogène, - un groupement hydroxyle - un groupe (O-Alk) avec Alk représente un groupe alkyle comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, - un groupement amino-alkyle de la forme N(R 12 ) 2 où R 12 représente un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 3 -C 20 , - un groupement SiMe 3 , - un groupement Si(O-Alk) 3 avec Alk représente un groupe alkyle comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, préférentiellement de 1 à 6 atomes de carbones, et avec la condition qu’au moins : - un groupement R 9 , R 10 ou R 11 représente un groupe alkyle en C 1 -C 20 substitué par un groupement Si(O-Alk) 3 avec Alk représente un groupe alkyle comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, préférentiellement de 1 à 6 atomes de carbones. Méthode selon l’une des revendications 1 à 4, dans laquelle l’amine tertiaire C est une amine tertiaire acyclique de formule suivante (XVIIIa) : [Chem 43] dans laquelle, R 13 , R 14 et R 15 identiques ou différents, sont choisis parmi : un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 2 -C 12 , préférentiellement en C 5 -C 12 , ou alcényle en C 2 -C 20 substitué ou non par au moins un groupe choisi parmi: - un groupement aryle de 6 à 18 atomes de carbones, - un hétéroatome O, N ou S, - un halogène, - un groupement hydroxyle, - un groupe (O-Alk) avec Alk représente un groupe alkyle comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, - un groupement amino-alkyle de la forme N(R 16 ) 2 où R 16 représente un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 3 -C 20 , - un groupement SiMe 3 , - un groupement Si(O-Alk) 3 avec Alk représente un groupe alkyle comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, préférentiellement de 1 à 6 atomes de carbones, et avec la condition qu’au moins : - un groupement R 13 , R 14 ou R 15 représente un groupe alkyle en C 1 -C 20 substitué par un groupement amino-alkyle de la forme N(R 16 ) 2 où R 16 représente un groupe alkyle en C 1 -C 20 , de préférence en C 3 -C 20 . Méthode selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans laquelle l’amine tertiaire C a un potentiel d’oxydo-réduction de 0,4 à 1,1 V/ECS, préférentiellement de 0,7 à 1,1 V/ECS, encore plus préférentiellement de 0,8 à 1 V/ECS. Méthode selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le pourcentage massique de l’amine tertiaire C est de 0,1 à 20% par rapport à la masse totale de la composition photoréticulable X , de préférence de 0,1 à 5%, préférentiellement de 0,2 à 2%, plus préférentiellement de 0,4 à 1,5% par rapport à la masse totale de la composition photoréticulable X . Méthode selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le rapport de quantité molaire d’amine tertiaire C par rapport à la quantité molaire de photoamorceur radicalaire B dans la composition photoréticulable X est de 1,5 à 13,5, de préférence de 2 à 6,5, préférentiellement de 3 à 5. Méthode selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisée en ce que la composition photoréticulable X comprend en outre une charge D . Méthode selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que la composition photoréticulable X comprend en outre un photoabsorbeur E , ou un photostabilisant F , et leurs mélanges. Méthode selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que la fabrication additive est une technologie choisie parmi le groupe consistant à l’impression par stéréolithographie laser (SLA), par traitement numérique de la lumière (DLP), par écran à cristaux liquides (LCD), par production par interface de liquide continu (CLIP), par projection d’encre (ink-jet) ou par extrusion. Article en élastomère silicone obtenu selon l’une quelconque des revendications précédentes. Composition silicone photoréticulable X2 comprenant : - de 10 à 99% massique d’au moins un organopolysiloxane A comportant au moins un groupe (meth)acrylate ; - de 0,1 à 5% d’au moins un photoamorceur radicalaire B tel que défini selon la revendication 1 ou 2; - de 0,1 à 10% d’au moins une amine tertiaire C telle que définie selon la revendication 3 à 8. Elastomère silicone obtenu par réticulation d’une composition photoréticulable X2 selon la revendication 16. Utilisation d’une composition silicone photoréticulable X2 selon la revendication 16 pour la fabrication d’un article en élastomère silicone. Utilisation d’une composition silicone photoréticulable X2 selon la revendication 16 pour la préparation de films silicones à propriétés antiadhérentes. Procédé de préparation d’un revêtement sur un support, comprenant les étapes suivantes : - application d’une composition silicone photoréticulable X2 sur un support, et - réticulation de ladite composition par irradiation électronique ou photonique, de préférence par exposition à un faisceau d’électrons, par exposition à des rayons gamma, ou par exposition à un rayonnement de longueur d’onde comprise entre 200 nm et 450 nm, notamment à un rayonnement UV.