INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans ce premier mode de réalisation, l’étape E2 de production du champ d’illumination 200 et d’éclairement de l’échantillon 3 par le champ d’illumination 200 comprend la rotation du miroir galvanométrique 129.
Enfin, l’invention porte également sur un procédé de fabrication d’un dispositif photonique, comprenant la fabrication d’un substrat de type semi-conducteur sur isolant selon le procédé décrit ci-avant et la formation d’un composant photonique passif dans la couche semi-conductrice 12. Le composant photonique passif ainsi obtenu aura donc une concentration réduite en bore. Il peut s’agir par exemple, mais non limitativement, d’un guide d’onde, d’un modulateur ou d’un multiplexeur.
PROCÉDÉ DE FORMATION D’UNE ZONE DE FRAGISILATION DANS UN SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR DOMAINE DE L'INVENTION La présente invention concerne un procédé de formation d’une zone de fragilisation dans un substrat semi-conducteur. Ce procédé trouve avantageusement son application dans la fabrication de substrats du type semi-conducteurs sur isolant. La fabrication de tels composants semiconducteurs peut notamment servir pour la fabrication de guides d’ondes.
ETAT DE LA TECHNIQUE La fabrication de composants dans le domaine de la microélectronique, de l'optique et/ou de l'optronique, et plus particulièrement la fabrication de guide d’ondes, fait appel à des substrats de type semi-conducteur sur isolant. De tels substrats comprennent, de leur face arrière vers leur face avant, un substrat support, une couche électriquement isolante et une couche semi-conductrice monocristalline, dite couche active. La couche active de tels substrats est généralement, mais de manière non limitative, constituée de silicium, et le substrat est dit substrat silicium-sur-isolant (en anglais silicon on insulator ou SOI).
Des procédés appelés Smart Cut™, connus de l’état de la technique, permettent de fabriquer des substrats semi-conducteurs sur isolant. Ils comprennent notamment une étape d’implantation d’espèces au travers d’une surface d’un substrat donneur afin de créer une zone de fragilisation à une épaisseur voulue de celui-ci.
Classiquement, la couche électriquement isolante est formée sur le substrat donneur, notamment par oxydation, et l’implantation d’espèces est pratiquée dans le substrat donneur à travers la couche d’oxyde. Les espèces implantées doivent alors être capables de traverser la couche électriquement isolante, ainsi que la profondeur voulue du substrat donneur afin de former la couche active du substrat SOI.
Lorsque la couche électriquement isolante et/ou la couche active souhaitée est particulièrement épaisse, il est difficile en pratique d’impartir assez d’énergie aux espèces implantées pour traverser la couche électriquement isolante et la profondeur voulue du substrat donneur. Dans ce cas, il est connu de fabriquer le substrat SOI avec un collage dit « inverse » : la couche électriquement isolante est alors formée sur un substrat receveur, destiné à recevoir le substrat donneur par collage, plutôt que sur le substrat donneur lui-même, et l’implantation se fait directement au travers de la surface du substrat donneur, sans que les espèces aient à traverser la couche électriquement isolante. Suite à l’implantation, le substrat donneur implanté est collé sur la couche électriquement isolante disposée sur le substrat receveur, puis le substrat donneur est détaché le long de la zone de fragilisation sur le substrat receveur.
Cependant, suite à l’étape d’implantation, les inventeurs ont constaté que l’uniformité de profondeur d’implantation des espèces est dégradée. Cette non-uniformité de profondeur d’implantation se traduit par une non-uniformité d’épaisseur de la couche active, qui adopte un profil typiquement concave ou convexe, ce qui est préjudiciable à la qualité des composants formés ultérieurement dans cette couche active.
Certains procédés de l’état de la technique ont tenté une correction du profil de la couche active après son transfert sur le substrat receveur.
On retiendra notamment le nettoyage monoplaque (en anglais, single-wafer cleaning ou SWC). Selon ce procédé, on nettoie le substrat semi-conducteur sur isolant par distribution d’un agent de gravure chimique à son centre, qui se répand ensuite par effet centrifuge dû à une rotation du substrat autour d’un axe central. Ceci permet d’obtenir un taux de consommation du silicium par la gravure plus important au centre du substrat qu’à ses bords, et ainsi de corriger un profil de couche active convexe. Cependant, ces procédés de correction ne sont efficaces que pour des profondeurs limitées, de l’ordre du nanomètre, et l’utilisation de plusieurs étapes de SWC pour traiter des surfaces hautement convexes est très coûteuse. De plus, ces procédés ne permettent pas de corriger un profil de couche active concave, c’est-à-dire d’épaisseur plus grande dans sa région périphérique que dans sa région centrale.
Un autre procédé de correction post-implantation consiste à former une couche électriquement isolante sacrificielle sur la couche active après son transfert sur le substrat receveur. Si la formation d’oxyde consomme la couche active à des taux différents à son centre et à ses bords, un tel procédé permet alors de rectifier des profils d’implantation concaves ou convexes. Toutefois, ce taux de consommation est difficile à maîtriser, ce qui compromet la précision de tels procédés. En outre, la formation de la couche d’oxyde sacrificielle nécessite souvent de soumettre le substrat à des variations de températures complexes, ce qui s’oppose à la mise en œuvre de tels procédés à l’échelle industrielle.
Il est donc nécessaire de développer des procédés d’implantation qui permettent d’obtenir une profondeur d’implantation uniforme sur toute la surface du substrat, ou en d’autres termes de former une zone de fragilisation plane, parallèle à une surface principale du substrat, et qui puissent être mis en œuvre plus facilement que les procédés mentionnés ci-avant. Il est également nécessaire de développer des procédés d’implantation qui permettent de corriger précisément tout profil d’implantation obtenu, en fonction des conditions d’implantations utilisées.
À cet effet, l’invention propose un procédé de formation d’une zone de fragilisation dans un substrat semi-conducteur, comprenant successivement les étapes suivantes :
a. formation d’une couche écran présentant un profil contrôlé non-plan sur une première face du substrat,
b. implantation d’espèces au travers de la couche écran et de la première face du substrat pour former la zone de fragilisation,
le profil de la couche écran étant choisi pour compenser une non-uniformité de profondeur d’implantation des espèces de sorte que la zone de fragilisation soit sensiblement comprise dans un plan parallèle à la première face.
La formation d’une couche écran dont le profil est contrôlé et non-plan permet de compenser les variations de profondeur d’implantation qui pourraient avoir lieu sur la surface implantée du substrat, de sorte à obtenir une zone de fragilisation sensiblement plane, selon un plan parallèle à la surface implantée. On obtient ainsi un substrat semiconducteur sur-isolant présentant une couche active plane et permettant notamment la fabrication de composants de meilleure qualité.
A cet égard, une dragonne de poignée n'est pas satisfaisante car elle ne libère pas réellement la main; le port en bandoulière n'est pas d’avantage satisfaisant, car la canne ballote alors en tous sens et, rejetée dans le dos, crée un désagrément certain.
Il est décrit dans FR2765086 un moyen de fixation magnétique d’une canne. Toutefois, le force du champ magnétique nécessaire pour fixer de manière sûre la canne peut provoquer des désagréments aux personnes l’utilisant. Par exemple, des personnes pourvues d’un pacemaker, sensible aux champs magnétiques, ne peut pas utiliser un tel dispositif. En outre, un usage quotidien d’un tel dispositif pourrait causer des lésions dues au(x) champs magnétique(s). Enfin, de tels champs magnétiques peuvent provoquer des mal-fonctions dans des appareils électroniques portatifs, tels que des téléphones portables ou des tablettes.
L’invention a pour buts de palier les déficiences de l’art antérieur.
Ainsi, l’un des buts est de proposer un moyen permettant de rapidement fixer une canne sur un maximum de types de supports, par exemple un vêtement, un mur, une vitre, une portière de voiture, un sac, etc.
Un premier aspect selon la présente invention concerne donc une canne caractérisée en ce qu’elle comprend sur au moins une portion d’au moins l’une de ses surfaces un premier membre d’un matériau auto-agrippant configuré pour se fixer de manière réversible à un second membre d’un matériau auto-agrippant.
L’un des avantages de l’invention est donc sa facilité de mise en œuvre. En effet, si l’utilisateur est en possession d’une canne, il pourra lui appliquer sur au moins une portion d’au moins l’une de ses surfaces un premier membre d’un matériau auto-agrippant, par exemple par l’emploi d’un adhésif, par exemple un papier adhésif double face ou un matériau auto-agrippant déjà pourvu d’adhésif sur l’une de ses faces non-auto-agrippante.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le premier membre d’un matériau auto-agrippant est intégré dans la structure même de la canne. Ceci est réalisable par exemple lors du moulage de la partie de la canne concernée, en ajoutant un matériau auto-agrippant lors du moulage (par exemple en protégeant la face autoagrippant dudit matériau et en agençant les différents éléments de manière à ce que le premier membre du matériau auto-agrippant est placé sur au moins une portion d’au moins l’une des surfaces de la canne.
De manière avantageuse, le premier membre d’un matériau auto-agrippant est placé sur une extrémité de la canne comprenant une poignée pour tenir ladite canne. Ainsi, de manière avantageuse, l’utilisateur pourra faire coïncider sa prise de la canne avec le premier membre d’un matériau auto-agrippant.
De manière avantageuse, le premier membre d’un matériau auto-agrippant est placé sur une extrémité de la canne comprenant une poignée pour tenir ladite canne et plus précisément sur une face opposée à l’emplacement destinée à accueillir la main de l’utilisateur. Ainsi, lorsque l’utilisateur saisira sa canne, il l’agrippera à un emplacement dénué de matériau auto-agrippant et donc sans fixation pouvant le gêner dans sa prise.
De manière préférée, le premier membre et le second membre d’un matériau auto-agrippant sont en tissu auto-agrippant. Ainsi, sa mise en œuvre sur la canne (et sur des supports tels que des vêtements pour le deuxième membre du matériau auto-agrippant) est facilitée par la flexibilité dudit tissu.
Dans un mode de réalisation particulier, le tissu auto-agrippant est un tissu de type velours-crochet. Ce type de tissu très pratique et très utilisé, aussi connu sous la marque « Velcro® », permet de remplir parfaitement les objectifs de la présente invention.
De manière préférée, le second membre d’un matériau auto-agrippant présente une forme adaptée à la forme de la canne. Par exemple, le second membre d’un matériau auto-agrippant peut être de forme concave pour faciliter le positionnement de la canne et également permettre une surface de contact optimisant la fixation (temporaire) de la canne.
Le premier membre d’un matériau auto-agrippant peut être de toute forme applicable, préférentiellement configurée pour épouser la forme du second membre d’un matériau auto-agrippant.
De manière préférée, la canne est choisie dans la liste consistant en une canne de marche, une canne de non-voyant, une canne anglaise, une canne tripode, une canne quadripode, une canne télescopique, une canne antébrachiale et une canne axillaire. Comme expliqué ci-avant l’intérêt de la présente invention est de libérer la/les mains de l’utilisateur/utilisatrice, ce qui prend tout son sens dans les exemples de cannes listées ici.
De manière préférée, le premier membre d’un matériau auto-agrippant présente un ratio entre sa surface auto-agrippante sur le poids de la canne comprise entre 0,2 et 20 cm 2 /kg de canne.
De manière préférée, le premier membre d’un matériau auto-agrippant présente un ratio entre sa surface auto-agrippante sur le poids de la canne comprise entre 0,5 et 15 cm 2 /kg de canne, entre 1 et 10 cm 2 /kg de canne, entre 2 et 9 cm 2 /kg de canne, entre 3 et 8 cm 2 /kg de canne, entre 4 et 7 cm 2 /kg de canne ou encore entre 5 et 6 cm 2 /kg de canne.
Ainsi, lorsque au moins une de ces deux conditions est vérifiée lors d’une phase de mise à l’arrêt du véhicule automobile, alors, il est possible d’autoriser le pilotage de l’embrayage et, consécutivement, de contrôler ledit embrayage afin de l’ouvrir totalement et, ce faisant, de désaccoupler en rotation l’arbre primaire et l’arbre de sortie afin de ne plus transmettre de couple moteur à l’arbre de sortie de la chaîne de traction.
En synthèse, l’invention concerne un procédé de pilotage 1 d’un embrayage durant une phase de mise en mouvement ou de mise à l’arrêt d’un véhicule automobile, le procédé de pilotage 1 comportant une étape d’autorisation 12 durant laquelle une condition relative à une différence DR entre une consigne de régime optimal CRO et un régime réel RR d’un arbre primaire et/ou une condition relative à une dérivée DDR de ladite différence DR sont vérifiées pour, le cas échéant, piloter l’embrayage afin de respectivement l’accoupler ou le désaccoupler de l’arbre primaire.
DISPOSITIF DE FREINAGE A FRICTION La présente divulgation relève du domaine des dispositifs de freinage à friction.
L’invention concerne un dispositif de freinage à friction destiné à équiper par exemple un véhicule routier ou ferroviaire, ou encore une machine stationnaire à rotor telle qu’une éolienne ou une machine industrielle.
Un tel dispositif de freinage est notamment connu du document FR 3 057 040 B1, au nom de la Demanderesse. Celui-ci comporte classiquement un étrier dit flottant, destiné à être monté sur un support d’étrier fixe, et deux plaquettes montées de part et d’autre d’un disque de frein solidaire d’une roue d’un véhicule ou d’un rotor d’une machine stationnaire par exemple. Le dispositif comporte en particulier une plaquette dite intérieure, déplacée en translation par un piston et destinée à venir en appui sur une première surface du disque, et une plaquette dite extérieure, destinée à venir en appui sur la seconde surface du disque, opposée à la première surface. Le piston comporte une partie soumise à une pression d’un fluide hydraulique, par exemple de l’huile, exercée dans une chambre de pression. L’augmentation de la pression dans ladite chambre provoque le déplacement axial du piston par rapport à l’étrier et, ainsi, repousse la plaquette intérieure contre la première surface du disque. Simultanément, la partie arrière de l’étrier flottant repousse la plaquette extérieure contre la seconde surface du disque. Le disque est ainsi freiné par un couple résistant issu du frottement des plaquettes sur les surfaces correspondantes.
Lorsque la pression dans la chambre diminue, le piston est rétracté et l’étrier flottant est déplacé de façon à libérer les plaquettes. Ces dernières peuvent alors être écartées du disque lors de la rotation de celui-ci, du fait d’un léger voile naturellement présent dans le disque.
Chaque plaquette comporte une semelle et une garniture de friction. La garniture est destinée à venir en contact avec le disque, s’usant par abrasion au fur et à mesure du temps. L’abrasion des garnitures génère des particules et des poussières qui peuvent être nocives. Afin de limiter l’émission de telles particules, il est connu de prévoir des moyens permettant de collecter et d’aspirer les particules émises. Pour cela, chaque plaquette comporte une rainure ménagée dans la garniture et située à proximité d’un bord latéral de la plaquette, et un orifice d’aspiration débouchant dans ladite rainure et débouchant axialement dans la semelle, à l’opposé de la rainure. Une conduite permet de relier chaque orifice d’aspiration à un dispositif d’aspiration et de filtration.
Afin de limiter la libération des particules à l’extérieur du dispositif, il est nécessaire que la liaison entre chaque conduite d’aspiration et chaque orifice d’aspiration des plaquettes soit étanche. Dans le cas de la plaquette intérieure, la conduite d’aspiration correspondante peut venir directement en appui étanche sur l’orifice d’aspiration. Toutefois, dans le cas de la plaquette extérieure, la partie arrière du piston présente une épaisseur importante qui rend difficile l’appui étanche direct de la conduite d’aspiration sur l’orifice d’aspiration de la plaquette extérieure.
Par conséquent, il est nécessaire de trouver une solution pour rendre étanche la connexion entre la plaquette extérieure et la conduite d'aspiration respective.
A cet effet, il est proposé un dispositif de freinage à friction comportant un étrier, au moins une plaquette mobile en translation selon un axe par rapport à l’étrier, ladite plaquette étant destinée à coopérer avec un disque de frein, ladite plaquette comportant au moins une zone d’aspiration de particules comportant un orifice d’aspiration, caractérisé en ce que le dispositif comporte en outre une conduite d’aspiration fixée sur l’étrier, l’étrier comportant un orifice d’aspiration apte à venir en appui étanche sur la plaquette, en regard de l’orifice d’aspiration de ladite plaquette, de manière à relier ladite conduite d’aspiration et ladite zone d’aspiration de la seconde plaquette.
L’étanchéité entre la conduite d’aspiration et la plaquette est donc assurée grâce à l’appui étanche entre l’orifice d’aspiration de l’étrier et l’orifice d’aspiration de la plaquette. On limite ainsi le nombre de pièces dans le dispositif de freinage.
On note que l’orifice d’aspiration de l’étrier peut être apte à venir en appui de façon étanche sur l’orifice d’aspiration de la seconde plaquette, en cas de freinage, c’est-à-dire lorsque la plaquette est poussée contre le disque. Des particules sont produites et doivent par conséquent être aspirées dans de telles phases de freinage. C’est donc également dans ces phases qu’une étanchéité entre la conduite d’aspiration et l’orifice d’aspiration de la plaquette doit être assurée.
La conduite d’aspiration peut comporter une première extrémité fixée directement ou indirectement à l’étrier et une seconde extrémité destinée à être reliée à un dispositif d’aspiration et de filtration. On note que grâce à la fixation de la conduite d’aspiration sur l’étrier, on évite que la conduite d’aspiration exerce des efforts sur la plaquette. En effet, au lieu de fixer la conduite d’aspiration directement sur la plaquette, on prévoit l’orifice d’aspiration de l’étrier à travers lequel les particules issues du freinage sont aspirées par la conduite d’aspiration.
La montre la tête de scellage 5 de la machine 1 dans une position haute de repos.
La montre la tête de scellage 5 de la machine 1 dans une position basse de scellage.
La cloche supérieure 41 comporte un vérin de chauffe 14 déplaçant la tête de scellage entre la position haute de repos et la position basse de scellage.
L’élément presseur 6 comprend une surface d’appui 60 agencée pour plaquer le film 2 suivant un axe vertical sur le bord de scellage 30 du contenant 3 dans la position fermée de l’enceinte 4. L’élément presseur 6 présente une surface d’appui 60 correspondant à la forme du bord de scellage 30.
Dans les exemples représentés, l’élément presseur 6 est un bord inférieur du bloc de chauffe 7.
Le bloc de chauffe 7 est agencé pour chauffer l’élément presseur 6.
Le bloc de chauffe 7 est métallique. Le bloc de chauffe 7 est porté à une température de consigne par une source de chaleur. Le bloc de chauffe 7 est monté sur une surface inférieure du vérin de chauffe 14 par l’intermédiaire d’une plaque de fixation.
La pièce intermédiaire 8 est montée horizontalement sous le bloc de chauffe 7 par l’intermédiaire de plots d’entretoise 93. La pièce intermédiaire 8 est adjacente à l’élément presseur 6 en position de scellage. La pièce intermédiaire 8 comporte une face inférieure pleine délimitée par une boucle fermée ayant la forme du bord de scellage. La pièce intermédiaire 8 est située immédiatement au-dessus du film d’operculage 2.
Selon une particularité de l’invention, la tête de scellage 5 comporte un espace occupé par un élément d’isolation thermique et ménagé entre le bloc de chauffe 7 et la pièce intermédiaire 8. Les plots d’entretoise 93 de la pièce intermédiaire 8 sont dimensionnés pour optimiser l’élément d’isolation thermique afin de permettre une bonne isolation thermique tout en permettant une fixation robuste et un encombrement limité.
Dans les exemples représentés, l’élément d’isolation thermique est une lame d’air 9. En variante, l’élément d’isolation thermique peut être un élément isolant en céramique, en mica, en téflon, en silicone ou en caoutchouc.
La lame d’air 9 comprend un espace principal s’étendant radialement, l’espace principal étant délimité en partie supérieure par une face inférieure du bloc de chauffe 7, en partie inférieure par une face supérieure de la pièce intermédiaire 8 et latéralement par une face interne de l’élément presseur 6.
A titre indicatif, la lame d’air présente une épaisseur axiale de l’ordre de 5 millimètres et est comprise entre 2 millimètres et 10 millimètres.
La lame d’air 9 comprend un espace périphérique 91 délimité latéralement par une surface axiale interne de l’élément presseur 6 et une surface axiale externe de la pièce intermédiaire 8.
La pièce intermédiaire 8 comporte un dispositif de chauffe 81 et un dispositif de refroidissement 82.
Dans l’exemple représenté, le dispositif de chauffe 81 et le dispositif de refroidissement 82 comportent un réseau de circulation 89 de fluide caloporteur.
Le réseau de circulation 89 de fluide caloporteur est alimenté par un dispositif d’alimentation 85 en fluide caloporteur comportant une réserve de fluide caloporteur, une pompe de mise en circulation du fluide, un moyen de chauffage ou de refroidissement du fluide caloporteur.
Le volet d’ouverture 5 peut comporter un détecteur de position 9 ( ) destiné à être relié à un système de contrôle pour indiquer la position ouverte ou fermée du volet d’ouverture.
Concernant le ou les détecteurs d’anomalies 90 au sein du container, ceux-ci peuvent être agencés à l’intérieur du container de manière déportée par rapport au(x) dispositifs d’aération et de protection 1 comme illustré schématiquement par des lignes pointillées sur la . En variante, le dispositif d’aération et de protection 1 pourrait comprendre un ou des détecteurs d’anomalies 90 qui seraient fixés au niveau de la paroi périphérique 32 d’encastrement dudit dispositif d’aération et de protection 1. Pour piloter l’ouverture automatisée du volet d’ouverture 5, le ou les détecteurs 90 et/ou un système de contrôle et de commande recevant les données des détecteurs sont reliés aux moyens de verrouillage 6 et plus particulièrement à l’organe de blocage du verrouillage 64.
Le ou les détecteurs 90 comportent par exemple un capteur de CO2 et un capteur de COV ( pour « Composés Organique Volatils » et correspondant aux gaz résiduels autres que le CO2). De manière générale, un capteur de mesure de concentration de gaz est utilisé pour détecter un seuil de dangerosité.
Par ailleurs, le dispositif d’aération et de protection 1 peut comprendre plusieurs volets de fermeture 5 sur un même châssis 3 comme illustré sur les figures 14 et 15. De plus, le dispositif d’aération et de protection 1, en particulier le ou chacun des volets de fermeture 5 lorsqu’il y a plusieurs volets de fermeture, peut comprendre au moins un panneau thermiquement isolant 59 pour éviter ou limiter le risque de condensation à l’intérieur du conteneur 2, ce panneau thermiquement isolant 59 pouvant être agencé sur la face externe ( ) du volet d’ouverture 5 ou sur la face interne du volet d’ouverture 5 ( ).Ledit au moins un panneau thermiquement isolant 59 est obligatoirement inscrit dans la feuille 70 de rupture du panneau d’explosion 7 ; le panneau thermiquement isolant 59 ne déborde pas sur le cadre de fixation 71 du panneau d’explosion.