INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
A cette étape du procédé 300, la structure du circuit imprimé 120 est terminée, cette structure intégrant le composant 110 encapsulé dans le matériau sacrificiel 160 (et formant ainsi le composant encapsulé 165). Le procédé 300 consiste alors à retirer le matériau sacrificiel 160 pour le remplacer par une résine chargée 140. Le procédé 300 comporte donc une étape 350 de retrait du matériau sacrificiel 160 au moyen d’un orifice de retrait 190 formé dans le circuit imprimé 120, en particulier dans le second substrat conducteur 122 et la couche de résine d’encapsulation 130 située entre la couche de matériau sacrificiel 160 et ledit second substrat conducteur 122. Cet orifice de retrait 190 est une ouverture non traversante réalisée, par exemple par laser, à travers la résine d’encapsulation 130 jusqu’à atteindre le matériau sacrificiel 160. Cet orifice de retrait 190 permet l’introduction d’eau ou de produit chimique adapté pour dissoudre la couche de matériau sacrificiel 160 et l’éliminer via ce même orifice de retrait 190.
Selon certains modes de réalisation, l’orifice de retrait 190 peut être confondu avec un des vias 150 formés dans le circuit imprimé, l’orifice de retrait étant alors métallisé.
Le procédé 300 comporte ensuite une étape 360 d’introduction de la résine chargée 140 dans l’espace 162 laissé libre par le retrait du matériau sacrificiel 160. La résine chargée 140 est coulée dans cet espace libre 162 par l’orifice de retrait 190. La résine chargée 140 remplace ainsi le matériau sacrificiel 160 autour du composant 110. Cette résine chargée 140 est identique à la résine chargée décrite précédemment en lien avec le procédé 200 et/ou le module de puissance 100. La résine chargée 140 comporte ainsi une résine de type époxy dans laquelle sont réparties de façon homogène des particules de céramiques 142. Le procédé 300 comporte donc une étape de préparation d’une résine chargée homogène, identique à l’étape préliminaire décrite en liaison avec le procédé 200. L’étape de préparation de la résine chargée 140 peut être réalisée à tout moment du procédé 300, par exemple après le retrait du matériau sacrificiel 160 ou après n’importe quelle étape préalable à l’étape 360 d’insertion de la résine chargée dans l’espace libre 162.
Le procédé 300 comporte ensuite une étape 370 d’application d’un champ électrique sur le composant de puissance 110 de sorte à faire migrer les particules 142 de la résine chargée 140 vers les zones prédéfinies, comme les points triples 115. Le champ électrique est appliqué sur le composant 110 en appliquant une tension de polarisation V directement sur les vias 150 du circuit imprimé 120. En effet, les vias 150 étant électriquement conducteurs (grâce à leur métallisation) et directement reliés au composant de puissance 110, ils peuvent avantageusement servir d’électrodes pour conduire la tension de polarisation V jusqu’au composant de puissance. En appliquant une très basse tension (de l’ordre de quelques Volts à une dizaine de Volts) aux vias 150 situés à proximité des points triples 115 (par exemple les vias 151 et 152), il est possible de polariser les substrats 111 et 112 du composant 110 et ainsi faire migrer les particules 142 de la résine chargée 140 vers les points triples 115. Les particules 142 se déplacent alors des vias 152 polarisés positivement vers les vias 151 polarisés négativement, créant un gradient de concentration en particules autour des points triples. Une fois les particules accumulées au voisinage des points triples (ou autres zones prédéfinies), la tension électrique V est coupée, laissant un gradient de concentration en particules - et donc un gradient de permittivité - autour des points triples.
Le procédé 300 comporte finalement une étape de réticulation du circuit imprimé 120 incorporant le composant de puissance 100 et les particules 142 organisées suivant un gradient de concentration 145 autour des zones prédéfinies (en particulier les points triples 115). Cette étape de réticulation consiste en un traitement thermique, par exemple réalisé à 150°C pendant 10 minutes, et permet de figer la structure du module de puissance 100 et notamment le gradient de concentration en particules autour des points triples. Le module de puissance 100 ainsi obtenu à la fin du traitement de réticulation comporte donc une densité de particules variable en fonction de l’éloignement de la zone prédéfinie (notamment point triple), les particules étant les plus denses au plus près de ladite zone prédéfinie.
La position de l’obstacle est déterminée, par le calculateur principal, de manière géométrique, sur la base de cet angle d’arrivée et de la distance D entre le véhicule automobile et l’obstacle. On peut ainsi déterminer avec précision la position de l’obstacle relativement au véhicule automobile, sans calcul de triangulation et sans qu’il soit nécessaire de disposer de plusieurs mesures de distance.
A la , le système 10’’ est représenté en utilisation avec un obstacle 30 pour lequel l’angle d’arrivée prend une valeur α 1 .
Les angles d’arrivée sont définis relativement à la normale à un axe A. L’axe A est orienté sensiblement selon la normale à un axe reliant le premier module UWB 11’’ et le deuxième module UWB 12’’.
De manière avantageuse, et comme détaillé ci-ayant, le signal émis S1 est constitué avantageusement d’une pluralité d’impulsions. A chaque impulsion I1 du signal émis S1 correspond deux impulsions I2 1 et I2 2 dans le signal reçu S2, telles que décrites ci-avant.
De manière avantageuse, le calculateur principal est alors configuré pour mettre en œuvre les traitements suivants : - pour chaque impulsion I2 1 et I2 2 du signal reçu S2, calculer une valeur respective d’angle d’arrivée, nommée valeur élémentaire d’angle d’arrivée ; - répartir les valeurs élémentaires d’angle d’arrivée en une pluralité de classes, où chaque classe est associée à un intervalle prédéterminé de valeurs élémentaires d’angle d’arrivée ; et - estimer l’angle d’arrivée de la deuxième contribution du signal reçu, à l’aide de la répartition des valeurs d’angle d’arrivée des impulsions I2 1 et I2 2 .
A la , on a représenté l’histogramme des valeurs élémentaires d’angle d’arrivée associées aux impulsions I2 1 et I2 2 , et obtenu dans l’utilisation du système 10’’ illustrée en (c’est-à-dire avec un obstacle situé sensiblement au regard du deuxième module UWB).
Sur l’histogramme, l’axe des abscisses est une valeur élémentaire d’angle d’arrivée, c’est-à-dire un angle d’arrivée d’une impulsion. L’axe des ordonnées est un nombre d’occurrences cumulées pour l’ensemble des impulsions I2 1 et I2 2 reçues (nombre normalisé). Chaque classe correspond à un intervalle de valeurs d’angle. Les différentes classes ne se superposent pas, même partiellement.
Comme le montre la , la répartition des valeurs d’angle d’arrivée comporte deux populations P’1 et P’2 distinctes.
La population P’1 regroupe un premier ensemble d’angles d’arrivée, associé aux impulsions I2 1 (ici des valeurs d’angle proches de 90°, compte tenu de l’axe de référence pour définir les angles d’arrivée)
La population P’2 regroupe un deuxième ensemble d’angles d’arrivée, associé aux impulsions I2 2 .
En pratique, on recherche des groupements de valeurs d’angle d’arrivée, afin d’identifier les deux populations P’1 et P’2.
Les angles d’arrivée étant définis relativement à la normale à un axe reliant le premier module UWB 11’’ et le deuxième module UWB 12’’.
Dans une première variante, le calculateur principal est configuré pour estimer l’angle d’arrivée de la deuxième contribution du signal reçu, à partir de la seule population P’2. Par exemple, l’angle d’arrivée de la deuxième contribution du signal reçu est défini comme étant la valeur moyenne d’angle d’arrivée sur la population P’2, ou la valeur médiane d’angle d’arrivée sur la population P2, ou une valeur d’angle d’arrivée associée à un nombre maximum d’occurrences sur la population P2.
En variante, le calculateur principal prend également en compte les angles d’arrivée de la population P’1 pour estimer l’angle d’arrivée de la deuxième contribution du signal reçu. En particulier, le calculateur principal est alors avantageusement configuré pour déterminer l’écart angulaire Δα 1 entre les populations P’1 et P’2, et pour en déduire l’angle d’arrivée de la deuxième contribution du signal reçu.
Cette variante permet de disposer d’un axe de référence invariable et connu pour définir l’angle d’arrivée, contrairement à l’angle A mentionné ci-avant. Ici, l’axe de référence est défini par l’axe reliant le premier module UWB 11’’ et le deuxième module UWB 12’’.
L’angle d’arrivée de la deuxième contribution du signal reçu peut être défini comme étant directement égal à l’écart angulaire Δα 1 . En variante, cet angle d’arrivée peut être défini comme étant égal à Δα 1 -90°.
Le terme polymère « biodégradable » dans le présent mémoire descriptif signifie que le polymère peut être dégradé ou décomposé dans un corps vivant en raison, par exemple, du métabolisme du corps vivant lui-même, ou du métabolisme des micro-organismes qui peuvent être présents dans le corps vivant. De plus, le polymère biodégradable peut être dégradé par hydrolyse.
Si le film selon la présente invention comprend un polymère biocompatible et/ou biodégradable, il est moins irritable ou non irritable pour la peau, et ne provoque aucune éruption cutanée. En outre, en raison de l’utilisation d’un polymère biocompatible et/ou biodégradable, la feuille cosmétique selon la présente invention peut bien adhérer à la peau.
Le film selon la présente invention peut être utilisé pour des traitements cosmétiques de substances kératineuses, de préférence la peau, en particulier le visage. Le film selon la présente invention peut revêtir n’importe quelle forme. Par exemple, il peut être utilisé comme feuille de masque complet ou comme timbre pour une partie du visage telle que la joue, le nez et le contour des yeux.
Si le film selon la présente invention comporte au moins un filtre UV hydrophile ou soluble dans l'eau, il peut offrir des effets d'écran aux UV dérivés du filtre UV hydrophile ou soluble dans l'eau. Normalement, un filtre UV hydrophile ou soluble dans l’eau peut être retiré de la surface d’un substrat kératineux tel que la peau par l’eau comme la transpiration et la pluie. Cependant, comme le filtre UV hydrophile ou soluble dans l’eau est inclus dans le film selon la présente invention, il est difficile de retirer le filtre UV hydrophile ou soluble dans l’eau avec de l’eau, ce qui entraîne des effets d'écran aux UV durables.
En d’autres termes, le film ci-dessus peut être résistant à l’eau dans des conditions neutres ou acides telles qu’un pH de 7 ou moins, de préférence, dans une plage de 6 ou plus et 7 ou moins et plus préférablement, dans une plage de 5 ou plus et 7 ou moins, tandis que le film cosmétique ci-dessus peut être retiré dans des conditions alcalines telles qu’un pH supérieur à 7, de préférence 8 ou plus et plus préférablement, de 9 ou plus. La limite supérieure du pH est de préférence 13, plus préférablement, 12, et encore plus préférablement, 11.
En outre, le film cosmétique ci-dessus peut avoir des effets cosmétiques tels que la capture du sébum, la matification de l'aspect d’un substrat de kératine tel que la peau, l’absorption ou l’absorption d’une mauvaise odeur, et/ou la protection de la substance kératineuse contre, par exemple, la saleté ou les polluants, en raison des propriétés du complexe polyionique dans le film cosmétique, même si le film cosmétique ne contient aucun ingrédient actif cosmétique.
De manière avantageuse, le dissipateur de chaleur 23 est en aluminium afin d’augmenter les performances d’évacuation de la chaleur. La forme du dissipateur de chaleur 23 peut être de différents types mais est propre à favoriser la conduction de la chaleur tout en optimisant l’espace occupé. Avantageusement, le refroidisseur 1 thermique est fixé sur la paroi externe du corps principal M et se forme de sorte qu’un point de la surface externe de chaque section axiale appartienne à un plan A commun. En d’autres termes, le plan A comprend un point de la surface externe de chaque section axiale du refroidisseur 1 thermique. De cette manière, et comme illustré par la la surface d’échange entre le dissipateur de chaleur 23 et l’échangeur thermique 18 est augmentée.
Le dispositif de refroidissement R comprend, avantageusement, un matelas thermique 24 positionné entre l’échangeur thermique 18 et le dissipateur de chaleur 23. Le matelas thermique 24 est par exemple matelas thermo-conducteur de type GTG formée d’une pate thermique permettant de bénéficier d’une souplesse qui assure la prise en compte de l’ensemble des aspérités de surface et assure ainsi un contact optimal tant à basses qu’à hautes températures. En d’autres termes, le matelas thermique 24 est propre à améliorer le contact entre les deux éléments en compensant les défauts de surface. En, améliorant le contact entre l’échangeur thermique 18 et le dissipateur de chaleur 23, le matelas thermique 24 augmente la dissipation de chaleur depuis l’échangeur thermique 18 vers le dissipateur de chaleur 23.
Installation et procédé de liquéfaction d'un flux de fluide L’invention concerne une installation et un procédé de liquéfaction d'un flux de fluide, par exemple du gaz naturel,
L’invention concerne plus particulièrement une installation de liquéfaction d'un flux de fluide tel que du gaz naturel, l'installation comprenant un circuit de fluide à refroidir muni d'une extrémité amont destinée à être reliée à une source de gaz à liquéfier sous pression et d'une extrémité aval destinée à être reliée à un organe receveur ou utilisateur du gaz liquéfié, l'installation comprenant, entre les extrémités amont et aval, un ensemble d'organes destinés à refroidir et liquéfier ledit fluide à refroidir et en particulier un réfrigérateur cryogénique par exemple du type à fluide de cycle comprenant au moins un échangeur de refroidissement assurant un échange thermique entre le fluide à refroidir et le fluide de cycle, le circuit de fluide à refroidir comprenant en outre une turbine de détente du flux de gaz à refroidir, la turbine de détente étant montée sur un axe tournant sustenté par au moins un palier de type statique à gaz, le circuit de fluide à refroidir comprenant une conduite d'injection de gaz sous pression ayant une extrémité amont destinée à recevoir du fluide sous pression fourni par la source et une extrémité aval reliée au palier pour assurer la sustentation de l'axe tournant, l'installation comprenant une conduite de récupération du gaz ayant été utilisé dans le palier, la conduite de récupération comprenant une extrémité amont reliée au palier, la conduite de récupération comprenant une extrémité aval reliée à l’extrémité aval du circuit de fluide à refroidir et/ou un système de récupération.
Dans les installations de liquéfaction cryogénique le flux de fluide à liquéfier (flux d’entrée ou « feed ») est parfois disponible à une pression relativement élevée par exemple de 30 à 80 barg, en particulier quand le fluide à liquéfier provient d’un réseau sous pression.
Ceci peut s’appliquer en particulier pour de la liquéfaction de gaz naturel à partir des réseaux de tuyaux de distribution.
Dans certains cas, la capacité de liquéfaction souhaitée est supérieure à la capacité habituelle du liquéfacteur. Un des leviers utilisables pour augmenter la capacité du liquéfacteur peut alors être d’augmenter la pression du fluide à liquéfier en amont de celui-ci via des compresseurs. Ce cas peut s’appliquer pour de la liquéfaction de biogaz par exemple. Ce gaz provient généralement d’un digesteur à une pression proche de la pression atmosphérique.
Cependant, les machines de liquéfaction disponibles ne permettent pas toujours d’opérer à une pression si élevée si cette pression est supérieure à la pression maximale admissible (appelée également pression de conception ou de « design ») du liquéfacteur ou de tout autre unité nécessaire au processus de liquéfaction. Par exemple, la pression de conception de certains liquéfacteurs ou réfrigérateurs peut être de l’ordre de 50 barg.
Une pression de liquéfaction élevée améliore la capacité de production étant donné qu’elle correspond à un palier de liquéfaction (zone de changement de phase gazeuse vers liquide) du fluide plus haut en température. Liquéfier les gaz à plus haute température permet théoriquement de fournir une puissance froide à une température moins froide et donc d’améliorer l’efficacité énergétique du liquéfacteur.
De plus, les turbomachines de liquéfaction disponibles ne permettent pas toujours de valoriser cette pression pour des raisons techniques (taille de roue, vitesse de rotation moteur, pression cycle trop élevée par exemple). L’optimum de fonctionnement peut se trouver à un couple pression/température palier de liquéfaction différent, parfois plus faible que le couple disponible et initial. Il est donc nécessaire de valoriser la descente en pression vers ce couple plus approprié en optimisant la chaîne globale.
Une solution simple et intuitive consiste à réduire la pression en amont du liquéfacteur et en aval du pré-refroidisseur via une vanne de détente. Cette réduction de pression permettrait pour la plupart des fluides de réduire la température en entrée du liquéfacteur par l’effet Joule-Thompson. Cependant, cet organe isenthalpique ne retire pas de puissance froide du flux ce qui n'apparaît pas comme une optimisation suffisante pour un train de production constant.
Le document WO2021063429A1 décrit un système de liquéfaction de gaz naturel dont la détente est utilisée pour refroidir un cycle de réfrigérant. Cette solution utilise une boucle d’azote dont les fuites doivent être compensées.
Le document WO20259990A1 décrit une utilisation d’une turbine en sortie du liquéfacteur. Ceci ne résout pas les problèmes de gestion de la pression dans la partie amont de l’installation.
A cette fin, l’installation selon l'invention, par ailleurs conforme à la définition générique qu’en donne le préambule ci-dessus, est essentiellement caractérisée en ce quela turbine de détente du flux de gaz à refroidir est disposée en amont du réfrigérateur cryogénique.
Par ailleurs, des modes de réalisation de l’invention peuvent comporter l'une ou plusieurs des caractéristiques suivantes : la conduite de récupération comprend une portion en échange thermique avec le fluide de cycle dans le au moins un échangeur de refroidissement du réfrigérateur cryogénique, la conduite de récupération est en échange thermique avec le au moins un échangeur de refroidissement du réfrigérateur cryogénique via un ou des passages dans le ou les échangeurs qui sont distincts des passages prévus pour le circuit de fluide à refroidir, c'est-à-dire que le fluide à refroidir et le gaz circulant dans la conduite de récupération sont refroidis de façon parallèle et séparément avant d'être mélangé en aval, la conduite d'injection de gaz comprend un organe de régulation et/ou de détente, par exemple une vanne, l’organe de régulation et/ou de détente est configuré pour maintenir le débit dans le conduite d'injection à une valeur compris entre 0,5% et 10% du débit du fluide sous pression fourni par la source, le circuit de fluide à refroidir comprend un dispositif de pré-refroidissement disposé en amont de la turbine de détente et configuré pour assurer un pré-refroidissement du flux de gaz à refroidir avant sa détente dans ladite turbine, l’installation est configurée pour fournir un flux de fluide à l’entrée de la turbine de détente à une première pression déterminée et pour détendre ce flux en sortie de la turbine de détente à une seconde pression déterminée, le dispositif de pré-refroidissement étant configuré pour refroidir le flux de fluide à l’entrée de la turbine de détente à une température déterminée amenant ledit fluide dans un état de saturation à la sortie de la turbine de détente, l'axe tournant portant la turbine de détente porte également un compresseur configuré pour récupérer le travail fourni par la turbine de détente dans un circuit fluidique de dissipation de ce travail et/ou un alternateur et/ou un frein du type à courants de Foucault.
Cas 1 : Le pigment de la composition de marquage comprend des particules de mica, des particules de dioxyde de titane (TiO 2 ), des particules de dioxyde d’étain (SnO 2 ) et des particules d’oxyde de Fer (Fe 2 O 3 ) présentant chacune une taille de particules comprise entre 10 micromètres et 60 micromètres. Par exemple, les particules de mica sont présentes à raison de 66% à 74% en poids dans la composition du pigment, les particules de TiO 2 sont présentes à raison de 15% à 19% en poids dans la composition du pigment, les particules de Fe 2 O 3 sont présentes à raison de 11% à 15% en poids dans la composition du pigment et les particules de SnO 2 sont présentes à moins de 1% en poids dans la composition de pigment. Ce pigment est mélangé à la base aqueuse comme décrite ci-dessus pour obtenir la composition de marquage 2. Suivant cet exemple, la composition de marquage 2 irradiée sur le substrat est de couleur or/dorée.
Cas 2 : Le pigment de la composition de marquage comprend dans cet exemple, des particules de mica, des particules de dioxyde de titane (TiO 2 ) et des particules d’oxyde de Fer (Fe 2 O 3 ) présentant chacune une taille de particule comprise entre 10 micromètres et 60 micromètres. Ce pigment est mélangé à la base aqueuse comme décrite ci-dessus pour obtenir la composition de marquage 2. Suivant cet exemple, la composition de marquage 2 irradiée sur le substrat est de couleur or/dorée.
Cas 3 : Le pigment de la composition de marquage comprend dans cet exemple des particules de mica, des particules d’oxyde de Fer (Fe 2 O 3 ) présentant une taille de particule comprise entre 5 micromètres et 23 micromètres. Ce pigment est mélangé à la base aqueuse comme décrite ci-dessus pour obtenir la composition de marquage 2. Suivant cet exemple, la composition de marquage 2 irradiée sur le substrat est de couleur or/dorée.
Cas 4 : Le pigment de la composition de marquage comprend dans cet exemple des particules de mica, des particules de dioxyde de titane (TiO 2 ) présentant une taille de particule comprise entre 10 micromètres et 60 micromètres. Ce pigment est mélangé dans la base aqueuse comme décrite ci-dessus pour obtenir la composition de marquage 2 Suivant cet exemple, la composition de marquage 2 irradiée sur le substrat est de couleur blanche.
Cas 5 : Le pigment de la composition de marquage comprend des particules de mica et des particules d’oxyde de fer III (Fe 2 O 3 ). Ce pigment est mélangé à la base aqueuse comme décrite ci-dessus pour obtenir la composition de marquage 2. Suivant cet exemple, la composition de marquage 2 irradiée sur le substrat est de couleur verte.
Cas 6 : Le pigment de la composition de marquage comprend des particules de mica présentes à raison de 69% à 73% en poids dans la composition du pigment et des particules de dioxyde de titane à raison de 26% à 30% en poids dans la composition du pigment. Ce pigment est mélangé à la base aqueuse comme décrite ci-dessus pour obtenir la composition de marquage 2. Suivant cet exemple, la composition de marquage 2 irradiée sur le substrat est de couleur grise.
Cas 7 : Le pigment de la composition de marquage comprend des particules de mica, des particules d’oxyde de fer et des particules de dioxyde d’étain (SnO 2 ). Ce pigment est mélangé à la base aqueuse comme décrite ci-dessus pour obtenir la composition de marquage 2. Suivant cet exemple, la composition de marquage 2 irradiée sur le substrat est de couleur jaune.
Cas 8 : Le pigment de la composition de marquage comprend des particules de mica, des particules d’oxyde de fer et des particules de de dioxyde de titane (TiO 2 ). Ce pigment est mélangé à la base aqueuse comme décrite ci-dessus pour obtenir la composition de marquage 2. Suivant cet exemple, la composition de marquage 2 irradiée sur le substrat est de couleur orange.
Cas 9 : Le pigment de la composition de marquage comprend des particules de mica, des particules de SnO 2 , et des particules de TiO 2 . Ce pigment est mélangé à la base aqueuse comme décrite ci-dessus pour obtenir la composition de marquage 2. Suivant cet exemple, la composition de marquage 2 irradiée sur le substrat est de couleur violette.