Des aspects préférés mais non limitatifs de l’appareil selon l’invention sont les suivants : le couvercle peut comprendre un plateau de couverture, et au moins un arbre de soutien fixé au plateau de couverture, le couvercle mobile pouvant être déplacé entre : une position fermée dans laquelle le plateau de couverture recouvre totalement l’ouverture supérieure de la cuve, et une position ouverte dans laquelle l’ouverture supérieure de la cuve est au moins partiellement découverte ; le plateau de couverture peut comprendre au moins une lumière traversante et au moins un composant d’obturation associé, chaque composant d’obturation étant mobile entre : une position dégagée dans laquelle la lumière traversante est débouchée pour permettre la circulation d’un gaz entre : une première région définie entre la cuve et le plateau de couverture , et une deuxième région extérieure à la première région, une position obturée dans laquelle la lumière traversante est bouchée pour limiter la circulation du gaz entre les première et deuxième régions ; avantageusement : chaque lumière traversante peut être composée d’un évent tronconique ménagé dans le plateau de couverture, et chaque élément d’obturation associé peut être composé : d’un bouchon de forme complémentaire à l’évent tronconique et d’une tige de suspension fixée au bouchon pour permettre son déplacement en translation entre les positions dégagée et obturée ; le plateau de couverture peut comporter : une plaque incluant des perforations cylindriques, un palet rotatif configuré pour reposer sur la plaque de manière à pouvoir tourner autour d’un axe, le palet rotatif incluant des perforations traversantes pouvant être amenées, par rotation autour de l’axe, à se superposer avec les perforations traversantes de la plaque ; l’appareil peut également comprendre une unité de contrôle configuré pour piloter : la pompe d’aspiration de l’enceinte, une source d’alimentation en gaz neutre de l’enceinte, une source d’alimentation en énergie électrique des électrodes, un moteur de déplacement du couvercle ; l’unité de contrôle peut être configurée pour : lors d’une phase de prétraitement : diminuer la pression à l’intérieur de l’espace clos à une valeur inférieure à la pression atmosphérique, mettre en œuvre un chauffage résistif du mélange de matières premières, séparer le couvercle des bords de l’ouverture supérieure, lors d’une phase de carboréduction : exécuter une étape d’initiation composée des sous-étapes consistant à : augmenter la pression à l’intérieur de l’espace clos à une valeur sensiblement égale à la pression atmosphérique, mettre en œuvre un chauffage par arc électrique du mélange de matières premières, mettre le couvercle en contact avec les bords de l’ouverture supérieure, puis lorsque la température du mélange est supérieure à 2000°C, exécuter une étape de traitement consistant à : maintenir la pression à l’intérieur de l’espace clos à la valeur sensiblement égale à la pression atmosphérique, maintenir le chauffage par arc électrique du mélange de matières premières, entrouvrir le couvercle, lors d’une phase de posttraitement : diminuer la pression à l’intérieur de l’espace clos à une valeur inférieure à la pression atmosphérique, séparer le couvercle des bords de l’ouverture supérieure ; l’enceinte étanche peut comprendre : un plancher, un plafond s’étendant parallèlement au plancher, et au moins une cloison latérale s’étendant entre le plancher et le plafond ; le couvercle peut comprendre des éléments d’interface constitués dans un matériau électriquement isolant : au moins un élément d’interface étant positionné entre le plateau de couverture et une électrode de l’ensemble d’électrodes, au moins un élément d’interface étant positionné entre le plateau de couverture et la cuve.