INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
La deuxième ligne droite 126 correspond au bas-côté lui-même 134, tandis que la deuxième ligne gauche 128 correspond à l’autre ligne blanche en trait interrompu 138, de délimitation de la chaussée 132 et du bas-côté opposé 140.
Les premiers moyens de calcul 20 illustrés sur la élaborent de la même façon ces lignes 122, 124, 126, 128 sur une distance de fond de champ correspondant à une distance longitudinale de 80 m, comme illustré dans le repère (X, Y).
Pour corriger la courbure des lignes 122, 124, 126, 128 délimitant la trajectoire future du véhicule 118, on met également en œuvre le procédé d’affichage conformément à l’organigramme de la .
De la même façon, les lignes 122, 124, 126, 128 de délimitation de trajectoire vont être lissées en modifiant respectivement les coefficients C 3 , C 2 , C 1 , C 0 des fonctions polynomiales correspondantes, tout au long de l’évolution du véhicule automobile.
En l’espèce, la valeur du rayon de courbure le plus faible, calculé à la deuxième étape 44 de l’organigramme appartient au quatrième intervalle [150 ; 200[ définit ci-dessus, et par conséquent, le facteur d’amortissement correspondant est : 0,8.
Et dans la quatrième étape 48, grâce aux quatrièmes moyens de calcul 50, on applique le facteur d’amortissement, « 0,8 » au seul coefficient C 3 des quatre fonctions polynomiales correspondantes.
Après la quatrième étape 48, les quatrièmes moyens de calcul 50 provoquent alors l’affichage des quatre lignes de délimitation latérales amorties 122’, 124’, 126’, et 128’ comme illustré sur la .
L’invention concerne également un véhicule automobile équipé d’une caméra, d’un ordinateur de bord et d’un écran d’affichage permettant de mettre en œuvre le procédé d’affichage selon invention.
Procédé d’aide à la saisie de texte dans un système d’info-divertissement de véhicule automobile La présente invention concerne de manière générale le domaine des systèmes d’info-divertissement pour véhicules, notamment pour véhicule automobiles, également désigné par systèmes d’infotainment, et se rapporte plus particulièrement à un procédé d’aide à la saisie de texte en écriture manuscrite par un occupant d’un véhicule via le système d’info-divertissement sur des interfaces utilisateurs tactiles et en particulier sur des écrans tactiles.
Chaque cavité peut alors présenter une profondeur comprise entre 30 nm et 1,5 µm.
Dans certains modes de réalisation, à l’issue de l’étape (c) de retrait du substrat intermédiaire, la surface libre des portions de pavés est en relief par rapport à la surface principale du substrat receveur, le procédé comprenant en outre une étape de polissage desdites surfaces.
Selon des modes de réalisation avantageux, le premier matériau est choisi parmi :
Dans certains modes de réalisation, le procédé comprend, avant l’étape (b) d’assemblage du substrat temporaire et du substrat receveur, la formation par épitaxie d’au moins une couche additionnelle d’un troisième matériau sur chaque pavé.
Les cavités peuvent être formées par gravure chimique au travers d’un masque présentant des ouvertures à l’emplacement desdites cavités.
De manière préférée, chaque cavité est dimensionnée pour recevoir un unique pavé, ladite cavité présentant une forme identique à celle dudit pavé.
Un autre objet de l’invention concerne une structure composite comprenant :
- au moins deux pavés d’un premier matériau, et
- un substrat, dit substrat receveur, en un second matériau distinct du premier matériau, présentant une surface principale,
ladite structure composite étant caractérisée en ce que lesdits pavés sont agencés dans des cavités respectives s’étendant dans le substrat receveur à partir de la surface principale, de sorte qu’une surface libre des pavés soit sensiblement alignée avec la surface principale du substrat receveur.
Dans certains modes de réalisation, le second matériau est un matériau semi-conducteur massif, tel que du silicium ou du carbure de silicium, un matériau piézoélectrique ou du verre, ou un empilement de plusieurs couches de matériaux semi-conducteurs différents.
Dans d’autres modes de réalisation, le substrat receveur est un substrat de type semi-conducteur sur isolant comprenant successivement un substrat de base, une couche électriquement isolante et une couche du second matériau définissant la surface principale du substrat receveur, et les cavités s’étendent dans la couche du second matériau jusqu’à la couche électriquement isolante.
Dans d’autres modes de réalisation, les cavités s’étendent dans une région superficielle du substrat receveur constituée du second matériau.
On peut par exemple déterminer des positions intermédiaires entre chaque paire de marques de recalage adjacentes (chaque paire formant un groupe).
Selon un mode de mise en œuvre particulier, les paramètres de courbes d’interpolation sont des paramètres de splines (des courbes polynomiales dont les dérivées sont continues aux positions des marques de recalage et du sous-pixel associé à la couleur d’intérêt).
L’invention n’est pas limitée aux splines qui sont des courbes polynomiales, mais peut aussi être mise en œuvre avec des systèmes d’harmoniques (soit avec une base de sinus et de cosinus) en tant que courbes d’interpolation.
Selon un mode de mise en œuvre particulier, les splines sont des splines à deux variables (en x et en y) et d’ordre n (par variable, soit jusqu’à x n et y n , par exemple n=3).
Par exemple, pour chaque splines, on peut avoir des splines définis par un système de deux équations, une donnant une position horizontale (une fonction de x), et une donnant une position verticale (une fonction de y), chaque fonction étant d’ordre n.
Selon un mode de mise en œuvre particulier, au cours de l’étape b, la position intermédiaire a une position déterminée de manière relative par rapport aux positions desdites au moins deux marques de recalage obtenues et adjacentes.
Par exemple, la position intermédiaire peut être une position sur une droite reliant les positions de deux marques de recalage adjacentes, par exemple un centre ou une position à une fraction de la distance séparant les deux marques. La position intermédiaire peut être au centroïde de plus de deux marques de recalages toutes adjacentes.
Selon un mode de mise en œuvre particulier, à l’étape c, on vérifie si une distance entre la position dudit sous-pixel associé à une couleur d’intérêt et la position intermédiaire dépasse un premier seuil de distance, et, si le premier seuil de distance est dépassé, le document de sécurité est considéré comme invalide.
Par exemple, si la position du sous-pixel est trop éloignée d’une position attendue pour ce sous-pixel, il est possible qu’une déformation trop importante du document affecte la matrice, de sorte qu’il n’est plus possible d’utiliser le document pour former une image.
Lorsqu’un document est considéré comme invalide, un signal d’alerte en ce sens peut être généré (électrique, sonore, visuel, etc.).
Selon un mode de mise en œuvre particulier, à l’étape c, on vérifie si une distance entre la position dudit sous-pixel associé à une couleur d’intérêt et la position intermédiaire dépasse un deuxième seuil de distance, et, si le deuxième seuil de distance est dépassé, on remet en œuvre l’étape b avec une nouvelle position intermédiaire plus proche de l’une des marques de recalage, et l’on remet en œuvre l’étape c avec la nouvelle position intermédiaire en tant que position intermédiaire.
Par exemple, le deuxième seuil peut être inférieur au premier seuil défini ci-avant. Dans ce mode de réalisation, on considère par exemple que le document est acceptable pour ne pas être considéré comme invalide, mais la position intermédiaire ne fournit pas un point suffisamment proche pour qu’un bon niveau de confiance en ce point soit obtenu. Dès lors, on cherche un autre point plus proche de l’une des positions de marques de recalage choisie parmis les au moins deux positions de marques de recalage de l’étape b.
Ce mode de mise en œuvre particulier permet de tenir compte d’une déformation qui reste acceptable, et néanmoins d’obtenir une position de sous-pixel avec un bon niveau de confiance (c’est-à-dire à une distance en dessous du deuxième seuil de distance). Dans le cas où des itérations sont mises en œuvres, on pourra ainsi n’utiliser que des positions de sous-pixel avec un bon niveau de confiance (une distance par rapport aux positions intermédiaires (supplémentaires) inférieure au deuxième seuil de distance).
Selon un mode de mise en œuvre particulier, le procédé comprend, après la mise en œuvre de l’étape e et avant la mise en œuvre de l’étape f, une phase comprenant : une détermination de positions de sous-pixels supplémentaires agencés sur lesdites courbes d’interpolation et situés entre des marques de recalage à des positions définies par rapport au marques de recalage, une détermination d’un ensemble de paramètres de courbes d’interpolation supplémentaires passant par lesdites positions des sous-pixels supplémentaires, et dans lequel à l’étape e, on met en œuvre un recalage de la matrice de sous-pixels au moyen de l’ensemble de paramètres de courbes d’interpolation, de l’ensemble de paramètres de courbes d’interpolation supplémentaires, et de l’ensemble des positions des sous-pixels supplémentaires, des positions cibles des sous-pixels.
Selon un mode de mise en œuvre particulier, les courbes d’interpolation définissent des éléments finis, et, pour chaque élément fini, on détermine des paramètres de courbes d’interpolation supplémentaires propre à chaque élément fini, les positions des sous-pixels supplémentaires étant des points de l’élément fini.
Pour définir un élément fini, on utilise par exemple quatre courbes d’interpolation qui se croisent pour entourer une zone appelée élément fini. Les contours des éléments finis sont placés sur des courbes d’interpolation et c’est sur ces contours que l’on peut chercher les positions de sous-pixels supplémentaires.
On notera que, en variante, on pourrait surveiller en continu la pression interne pendant la période d’observation d_203, calculer en temps réel la différence entre la pression interne instantanée et la pression de référence P_ref, et conclure à la présence d’une fuite dès que cette différence excède, en valeur absolue, un seuil d’alerte prédéfini, et ce avant même que la période d’observation d_203 ne soit terminée.
Cependant, la durée totale choisie pour la période d’observation d_203 étant relativement courte, le gain de temps procuré par une telle variante ne serait pas significatif, surtout au regard de la durée qui est nécessaire pour remplacer la membrane de cuisson 10 lorsqu’une fuite est détectée.
On préférera donc, par économie d’opérations de mesure et de calcul, opter pour un simple relevé ponctuel de la pression résiduelle P_resid à l’instant t3 qui marque la fin de la période d’observation d_203, plutôt que pour une surveillance continue.
Selon une possibilité préférentielle de mise en œuvre, lors de la sous-étape (S203) d’observation, on constate, sur la période d’observation d_203, une baisse de la pression interne, ladite baisse étant d’une amplitude, en valeur absolue par rapport à la pression de référence P_ref, qui est supérieure à un seuil dit « seuil de chute » P_drop_thresh prédéterminé, et l’on conclut à une situation de fuite de la membrane de cuisson 10.
En d’autres termes, on identifie ici un premier scénario d’évolution qui est indicatif d’une situation de fuite où ladite fuite affecte la membrane de cuisson 10.
Ce premier scenario, noté « scenario 1 » et représenté en trait mixte sur la , est ici caractérisé par un écart Delta_P, c’est-à-dire une différence algébrique Delta_P = P_resid – P_ref mentionnée plus haut, dont le signe est négatif et dont l’amplitude est, en valeur absolue, supérieure au seuil de chute P_drop_thresh.
Si ce premier scenario est détecté, on déclenche, ici au moyen de l’unité de commande 27, une alerte de défaillance membrane afin de provoquer l’arrêt de la production de bandages par l’installation de cuisson 1, et le remplacement de la membrane de cuisson 10 défectueuse.
De préférence, le seuil de chute P_drop_thresh est compris, en valeur absolue, entre 10 mbar et 150 mbar, de préférence égal à 10 mbar.
De manière alternative, ou bien de manière équivalente, on pourra définir le seuil de chute P_drop_thresh comme une fraction de la pression de référence P_ref, ce qui peut par exemple se révéler utile s’il est difficile de maîtriser de manière reproductible la pression de référence P_ref d’un test à l’autre, du fait que ladite pression de référence P_ref a tendance à fluctuer d’un test à l’autre bien que la valeur de la pression de test P_test choisie soit identique pour ces différents tests. Ainsi, par exemple, on pourra choisir le seuil de chute P_drop_thresh dans une plage de valeurs comprises entre 5 % et 20 % de la pression de référence P_ref, par exemple entre 8 % et 10% de la pression de référence P_ref ; concrètement, cela peut revenir à fixer un seuil de chute P_drop_thresh de l’ordre de 10 mbar à 12 mbar au regard d’une pression de référence P_ref mesurée de l’ordre de 120 mbar.
Selon une autre possibilité préférentielle de mise en œuvre, qui peut être complémentaire de la précédente, lors de la sous-étape (S203) d’observation, on constate une augmentation de la pression interne, ladite augmentation étant d’une amplitude, en valeur absolue par rapport à la pression de référence P_ref, qui est supérieure à un seuil dit « seuil de hausse » P_rise_thresh prédéterminé, et l’on conclut, lors de la sous-étape (S204) d’analyse, à une situation de fuite de la vanne d’admission 21.
En d’autres termes, on identifie ici un second scénario d’évolution qui est indicatif d’une situation de fuite où ladite fuite affecte cette fois la vanne d’admission 21. En effet, un tel second scenario est indicatif d’une défaillance de la vanne d’admission 21 qui, mal fermée, laisse le fluide de gonflage sous pression continuer à pénétrer à l’intérieur de la membrane de cuisson 10, dans la chambre de gonflage 11.
Ce second scenario, noté « scenario 2 » et représenté en trait pointillé sur la , est ici caractérisé par un écart Delta_P, c’est-à-dire une différence algébrique Delta_P = P_resid – P_ref mentionnée plus haut, dont le signe est positif et dont l’amplitude est, en valeur absolue, supérieure au seuil de hausse P_rise_thresh.
Si ce second scenario est détecté, on déclenche, ici au moyen de l’unité de commande 27, une alerte de défaillance vanne, afin de stopper la production de bandages et de provoquer une inspection de l’installation 1 et une opération de maintenance de la vanne d’admission 21.
De façon particulièrement préférentielle, le seuil de hausse P_rise_thresh pourra être choisi égal à 0 (zéro) mbar, dans la mesure où l’on peut considérer que le moindre accroissement de la pression interne qui surviendrait, après la stabilisation offerte par la période de temporisation d202, par rapport à la pression de référence P_ref, ne peut que résulter d’une défaillance de la vanne d’admission 21.
Ainsi, selon une possibilité préférentielle de mise en œuvre, on pourra constater, sur la période d’observation d_203, une augmentation de la pression interne par rapport à la pression de référence P_ref, et l’on conclura alors à une situation de fuite de la vanne d’admission 21.
Globalement, le procédé, en l’espèce l’étape (S200) de test, prévoit donc, et permet d’identifier, au moins un scenario d’évolution de la pression interne qui soit indicatif d’une situation de fuite, et encore plus préférentiellement prévoit (au moins) deux scenarii d’évolution de la pression interne qui sont indicatifs chacun d’une situation de fuite, parmi : - un premier scenario qui est indicatif d’une fuite affectant la membrane de cuisson 10, - un second scenario qui est indicatif d’une fuite affectant la vanne d’admission 21.
La propagation des rayons lumineux dans le film flexible 111 est faite par la réflexion totale interne grâce à la différence entre l’indice de réfraction du film flexible 111 et celui d’une couche de colle ou d'adhésif appliquée sur au moins une face du film flexible.
La nappe de guidage 110, ou précisément le film flexible 111, peut comprendre une zone de mixage 111.2 et plusieurs zones d’émission lumineuse 111.1 pourvues. Lorsqu’il y a plusieurs groupes 102d’éléments d’injection de lumière, chaque groupe 102 est configuré pour illuminer une région différente dans la nappe de guidage de lumière 110. On entend par illuminer un acte de transmettre ou injecter de la lumière dans une région définie.
La zone de mixage 111.2 est disposée en amont de la zone d’émission lumineuse selon le sens de propagation des rayons lumineux au sein de la nappe de guidage 110. La lumière injectée dans la nappe de guidage de lumière 110 via la tranche 114 va être mélangée dans la région de mixage de la lumière 111.2 afin d’obtenir une meilleure homogénéité lumineuse. La lumière se propage ensuite dans les zones d’émission de lumière 111.1 par laquelle la lumière ressort de la nappe de guidage de lumière 110 selon la direction x.
Le guide de lumière 105 selon l’état de l’art comprend en outre au moins un groupe 102 d’éléments d’injection de lumière.
Un groupe 102 peut comprendre un ou plusieurs éléments d’injection de lumière 102.1. Par exemple, il comprend entre trois et dix éléments d’injection de lumière 102.1. Dans l’exemple de la , le dispositif 100 comprend deux groupes 102 avec 8 éléments d’injection de lumière 102.1 chacun.
On notera que lors du procédé de fabrication du guide de lumière 105, les éléments d’injection de lumière 102.1 et la nappe de guidage de lumière 110 sont fabriqués à partir d’une grande nappe brute qu’on vient cisailler sur une extrémité pour séparer les différents éléments d’injection de lumière 102.1 s’étendant selon l’axe Y illustré sur la ou 1b et ainsi former les différents éléments d’injection de lumière 102.1 et la nappe de guidage de lumière 110. Ainsi, les éléments d’injection de lumière 102.1 demeurent attachés à la nappe de guidage de lumière 110 sur une de leur extrémité. On entend par cisaillement de la nappe brute le découpage de toutes les couches comprises dans la nappe brute pour former des bandes parallèles constituant les éléments d’injection de lumière 102.1.
La représente un élément de support 500 au pliage des éléments d’injection de lumière 102. L’élément de support 500 comprend une série d’éléments de pliage 504 qui sont alignés selon la direction z illustrée sur la . Chaque élément de pliage 504 est associé à un élément d’injection de lumière 102 de sorte à permettre le pliage de celui-ci selon un pli 102.14 formé du contact de cet élément 102 avec une tranche de pliage 504.14 de l’élément de pliage 504.
Tel qu’illustré sur la , chaque élément d’injection de lumière102.1 dans un état plié est composé de : une partie principale 102.12 qui est découpée dans la nappe de guidage de lumière et s’étend de la nappe de guidage de lumière 110, et une partie terminale 102.13 qui s’étend le long de l’axe z.
La partie terminale 102.13 est reliée à la nappe de guidage de lumière 110 au moyen de la partie principale 102.12. La partie principale 102.12 et la partie terminale 102.13 sont séparées par un pli 102.14 au niveau d’un élément de pliage non représenté à la . La partie terminale 102.13 s’étend après le pli 102.14. Le pli 102.14 est un pli en angle droit. La illustre les parties terminales 102.13, les parties principales 102.12 d’éléments d’injection de lumière 102.1 d’un groupe 102 et le pli 102.14 qui les sépare.
Tel qu’illustré à la , les éléments d’injection de lumière 102.1 d’un groupe 102 sont pliés de sorte que leurs parties terminales 102.13 forment un empilement 123 avec épaisseur E adaptée à une surface d’émission de la source de lumière 20. L’épaisseur E est la somme des épaisseurs e de chaque élément d’injection de lumière 102.1 dont les parties terminales 102.13 forment l’empilement 123. L’empilement 123 comprend une surface d’entrée 123.1 formée par les extrémités des parties terminales 102.13 de chacun des éléments d’injection de lumière 102.1 du groupe 102. Cette surface d’entrée 123.1 forme une extrémité libre du groupe d’éléments d’injection de lumière 102 en question.
Ainsi, grâce à l’élément de support au pliage des éléments d’injection de lumière, ces derniers sont pliés de façon à pouvoir être superposés les uns sur les autres pour former un empilement dont la section correspond à la taille de la source de lumière.
Le groupe d’éléments d’injection de lumière102 est couplé avec au moins une source de lumière 104.Plus précisément, l’extrémité libre 123.1 du groupe 102 est disposée en regard de la source lumière 104de façon à recevoir les rayons lumineux R émis par ladite source dans chacun des éléments d’injection de lumière.
Etant donné que les éléments d’injection de lumière sont venus de matière avec la nappe de guidage de lumière, les rayons lumineux R vont se propager par réflexion totale interne dans les éléments d’injection de lumière 102.1 du groupe 102 de sorte à amener de la lumière jusqu’à la nappe de guidage de lumière 110 qui est adjacente et attachée aux éléments d’injection de lumière 102.1 et qui va ainsi illuminer la ou les régions de la nappe de guidage de lumière 110.
La solution technique connue de l’homme du métier illustrée aux figures 1a, 1b, 1c,1d et 1epermet de coupler la lumière à la nappe de guidage et repose sur la découpe de la nappe brute pour former des empilements d’éléments d’injection de lumière pouvant être couplés aux sources de lumière positionnées sur un circuit imprimé.
Lors de l’utilisation du guide de lumière tel que décrit pour une grande surface à illuminer, il est souvent nécessaire de segmenter la surface de la nappe de guidage en plusieurs régions, chaque région étant couplée à une source de lumière différente au moyen d’un groupe d’éléments d’injection. Cette configuration est illustrée sur la .
Afin d’obtenir la configuration telle que présentée, l’élément de support au pliage des éléments d’injection de lumière comprend deux séries d’éléments de pliage qui sont alignées, chacune de ces séries étant associée à un groupe d’éléments d’injection de lumière. Une série est positionnée plus haut que l’autre, ce qui correspond à la position des groupes d’éléments d’injection de lumière.
À l’étape S2 11 , le dispositif de surveillance APP détermine un signal associé au sous-système S A considéré et exprimé par :
avec , la moyenne synchrone du signal vibratoire associée à la fréquence définie par :
où est un nombre d’échantillons moyennés (i.e. un nombre de sections moyennées) du signal vibratoire SIG, et est le nombre d’échantillons du signal vibratoire SIG par période associée à la fréquence . Par exemple, le nombre d’échantillons , avec la fréquence d’échantillonnage du signal vibratoire SIG.
Dans l’expression ci-dessus, les moyennes synchrones M A1 -M A2 permettent d’extraire les composantes fréquentielles (i.e. la fréquence fondamentale et les harmoniques) de la contribution vibratoire de chacune des pièces L A1 -L A2 du sous-système S A . Toutefois, il convient de souligner que certaines composantes fréquentielles sont communes à plusieurs pièces L A1 -L A2 du sous-système S A , caractérisant ainsi les interférences entre ces pièces tel que précédemment discuté.
Ainsi, en sommant les contributions vibratoires de chacune des pièces L A1 -L A2 du sous-système S A tel que décrit dans l’équation 1, les composantes fréquentielles communes à plusieurs pièces sont prises en compte plusieurs fois. Autrement dit, les interférences entre les pièces L A1 -L A2 du sous-système S A sont répliquées.
Par conséquent, le signal obtenu comprend : la contribution vibratoire du sous-système S A considérée ; et la réplication des interférences entre les pièces L A1 -L A2 du sous-système S A .
À l’étape S 21 2 , le dispositif de surveillance APP détermine un signal en utilisant l’expression suivante :
avec , la plus petite fréquence multiple de et de . Plus précisément, nous avons : , avec un entier supérieur à 1 ; et , avec un entier supérieur à 1 et une marge d’erreur liée à une approximation numérique.