INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
2. Premièrement, la batterie lithium-ion usagée est broyée sous une solution de chlorure de calcium, où un sel électrolytique, l'hexafluorophosphate de lithium, réagit avec le chlorure de calcium pour générer un sel de lithium, du phosphate de calcium et du fluorure de calcium, afin d'éviter la pollution de l'environnement causée par sa décomposition. Pendant le processus de trempage, le graphite est désorbé par trempage en utilisant la caractéristique selon laquelle le liant à base d'eau de l'anode est facilement soluble dans l'eau. Après flottation, le graphite et le diaphragme, etc., dans le matériau concassé flottent pour séparer les scories de graphite, et les scories de graphite sont ensuite soumises à une séparation solide-liquide pour obtenir le résidu de filtre. Pour le liant tel que le PVDF, etc., dans la cathode du résidu de filtre, le solvant organique non polaire ayant le point d'ébullition élevé est utilisé pour le rinçage et la désorption à une température légèrement élevée, à cette température, le PVDF fond et est évacuée par le solvant organique sous agitation, réalisant ainsi la désorption de la poudre de cathode, puis la poudre de cathode est ensuite tamisée à cette température pour obtenir les feuilles de cuivre et d'aluminium. Après refroidissement du matériau sous-dimensionné, en raison de l'insolubilité du PVDF dans le solvant organique non polaire ayant un point d'ébullition élevé, une séparation solide-liquide est réalisée après solidification du PVDF, pour récupérer le solvant organique et obtenir un matériau solide, et le matériau solide est calciné à haute température pour éliminer le carbone résiduel, obtenant ainsi une masse noire sans carbone et à faible teneur en cuivre et en aluminium. Par rapport à un solvant organique général, un solvant non polaire dans lequel le PVDF est insoluble est utilisé dans la présente divulgation, de sorte que le PVDF à l'état fondu puisse être éliminé par rinçage. Après refroidissement, le PVDF se solidifie puis est directement séparé du solvant organique, permettant ainsi une récupération efficace du solvant organique.
La présente divulgation sera décrite plus en détail ci-dessous en conjonction avec des dessins et des exemples annexés, dans lesquels :
est un organigramme du processus dans l'exemple 1 de la présente divulgation.
Et, le mouvement du deuxième fluide caloporteur peut être défini selon les équations suivantes :
Avec un décalage de entre la position du premier fluide caloporteur et du deuxième fluide caloporteur dans le plan perpendiculaire à la première direction D1.
Cette sur-modulation présente l’avantage de permettre d’obtenir une oscillation du fluide caloporteur à proximité de la surface d’échange thermique, c’est-à-dire un allongement de la distance parcourue par le fluide caloporteur 2 le long de la surface d’échange thermique et donc un meilleur échange avec la surface d’échange thermique 10. Ce mouvement hélicoïdal selon un axe de rotation accompagné d’une oscillation selon un axe radial à l’axe de rotation présente également l’avantage d’avoir une meilleure utilisation du volume disponible dans l’ailette de refroidissement pour le brassage ce qui permet une amélioration de l’homogénéité de la température.
En outre, l’oscillation est dans le plan de l’hélice. Il peut également être envisagé d’ajouter une oscillation complémentaire dans le sens de l’écoulement du fluide caloporteur, parallèlement à la première direction D1 comme représenté en , en combinant une modulation dans le plan de la première direction D1 à la formule d’obtention de la porteuse énoncée précédemment.
Nous obtenons alors un mouvement hélicoïdal couplé à un mouvement sinusoïdal.
En variante, il peut également être envisagé de générer par le biais de l’interface d’inversion 15 un mouvement de type polynomial. La première surface guide 140 dans la première zone d’inversion 150 et la deuxième surface guide 142 dans la deuxième zone d’inversion 152 peuvent être définies selon l’équation mathématique suivante :
dans lequel D représente le déplacement du fluide caloporteur par rapport à la première direction D1 entre l’entrée 154 de l’interface d’inversion 15 et la sortie 155 de l’interface d’inversion 15 selon la première direction D1, X représente une position du fluide caloporteur 2 le long de la première direction D1 entre l’entrée 154 de l’interface d’inversion 15 et la sortie 155 de l’interface d’inversion 15, X étant défini à 0 arbitrairement à l’entrée dans l’interface d’inversion 15, α n représente un paramètre type coefficient réel.
Dès lors, il peut être envisagé d’induire un mouvement hybride par rapport au mouvement rotationnel induit au premier fluide caloporteur et au deuxième fluide caloporteur comme indiqué aux figures 12 à 14.
Ainsi, comme représenté en , le mouvement du premier fluide caloporteur peut être défini selon les équations suivantes :
Alors que le mouvement du deuxième fluide caloporteur peut être défini selon les équations suivantes :
Avec un décalage de dans le plan perpendiculaire par rapport à la première direction D1.
Ce mouvement peut alors être assimilé comme similaire à une architecture de type ADN.
Selon un aspect de l’invention, le fluide caloporteur 2 peut être avantageusement de l’air. Néanmoins, tout fluide caloporteur disposant d’une bonne capacité d’extraction de la chaleur peut être envisagé comme fluide caloporteur 2 traversant l’ailette de refroidissement 12.
La présente invention a donc pour objet de proposer une forme d’ailette de refroidissement 12 permettant un brassage du fluide caloporteur 2 dans le sens du fluide caloporteur pour lequel l’échange thermique est souhaité.
Une image (obtenue par microscopie optique en champ clair) présentant une vue de dessus de l’élément optoélectronique obtenu à ce stade est montrée sur la . On y voit le dessus de l’électrode de contact 8.
Le procédé 10 selon l’invention comprend en outre une phase 16 de création d’une électrode 7 d’injection.
La phase 16 de dépôt de l’électrode 7 d’injection, telle que représentée sur la , comprend une étape 41 de dépôt d’une deuxième couche métallique 18, dite d’injection, sur essentiellement toute la surface de l’élément optoélectronique obtenu lors des phases précédentes du procédé. La couche métallique d’injection 18 est de préférence en argent.
Lors d’une étape 42 du procédé 10, un masque de résine 17, réalisé par photolithographie, est déposé sur la deuxième couche métallique 18. Le masque 17 couvre la deuxième couche métallique 18 au niveau de l’ouverture 5 dans la couche d’isolant 4 ainsi que de l’électrode 8 de contact.
La phase 16 du procédé comprend ensuite une étape 43 de délimitation, ou structuration, latérale de la couche métallique d’injection 18, lors de laquelle l’étendue latérale de la deuxième couche métallique 18 est définie. Cette étape peut être réalisée, par exemple, par une attaque de la couche 18 à l’aide d’une solution d’iodure de potassium (KI) et de diiode (I 2 ) dans de l’eau. Les endroits attaqués 6’ deviennent alors non-conducteurs. Lorsque la couche d’injection 18 est en argent, les endroits exposés se transforment alors en de l’iodure d'argent (AgI).
Le masque de résine 17 est ensuite enlevé par une technique de lift-off , à l’aide d’un solvant tel que de l’acétone.
La dernière étape 43 définit un pad métallique 6, par exemple en argent, qui couvre l’électrode 8 de contact ainsi que l’ouverture 5. La partie du pad 6 couvrant la couche supérieure du miroir de Bragg constitue la pastille métallique 7 précédemment mentionnée, fonctionnant en tant qu’électrode d’injection. Un mode de Tamm peut être généré et confiné à l’interface entre la pastille 7 et la couche supérieure du miroir de Bragg.
Une image (obtenue par microscopie optique en champ clair) présentant une vue de dessus de quatre éléments optoélectroniques 1 obtenu après la phase 16 du procédé est montrée sur la . On y distingue les pads métalliques 6 et les pastilles 7, les pads métalliques 6 recouvrant les électrodes de contact, respectivement. Les pastilles 7 dans la ont des diamètres différents, permettant de disposer de régions émettrices de taille variable.
Selon un autre mode de réalisation du procédé selon l’invention, les phases de création d’une électrode 8 de contact et de création d’une électrode 7 d’injection peuvent être inversées. En effet, il est possible de créer d’abord l’électrode 7 d’injection et le pad métallique 6 et poser ensuite l’électrode 8 de contact sur le pad métallique 6.
La illustre des étapes de la phase 12 de création d’une couche d’isolant électrique 4 et de la phase 16 de création d’une électrode 7 d’injection. La phase 12 de création d’une couche d’isolant 4 avec son ouverture 5 est identique à ce qui a été détaillé en référence à la . Lors de la phase 16 de création de l’électrode d’injection, la couche métallique d’injection 18 est déposée directement sur la couche d’isolant 4 et son ouverture, afin de former la pastille d’injection 7 au niveau de l’ouverture 5. L’électrode de contact pourra ensuite être déposée sur la couche d’injection 18.
Le choix de l’ordre de la réalisation de ces étapes dépend des matériaux utilisés. Il est par exemple plus aisé de faire adhérer de l’argent sur de l’or, que vice versa.
Connecteur de module accumulateur électrochimique, à portion frangible L’invention concerne le domaine des accumulateurs d’énergie électrique et concerne plus précisément le conditionnement et la mise en œuvre physique, de manière sécurisée, d’accumulateurs électrochimiques en modules pour tout type d’application, et notamment les applications embarquées et en milieu difficile, ainsi que les applications de stockage stationnaire.
Dans ces applications embarquées ou stationnaires, notamment en milieu difficile, par exemple les accumulateurs embarqués dans des véhicules électriques ou agencés dans des équipements industriels, la sécurité des éléments permettant l’agencement et le regroupement des accumulateurs est essentielle pour garantir performances, sureté de fonctionnement et sécurité des personnes, dans un domaine où la connectique électrique entre les accumulateurs est une problématique majeure.
ART ANTÉRIEUR La demande de brevet DE102011005633 décrit un accumulateur électrochimique qui comporte un dispositif de coupure mécanique des connexions électriques. Le dispositif est doté d’un actionneur adapté à déplacer l’une des bornes de l’accumulateur pour interrompre une opération de charge en fonction des indications données par des capteurs.
L’invention a pour but d’améliorer les moyens d’interconnexion pour accumulateurs électrochimiques de l’art antérieur, et leur mise en œuvre.
On retrouve ainsi le dispositif d’échappement 10 s’étendant longitudinalement à l’intérieur d’un tunnel axial 66 lequel est tapissé intérieurement d’un écran thermique 68.
Le tunnel axial 66 s’inscrit dans un repère orthogonal X, Y, Z, dans lequel l’axe X s’étend selon une direction longitudinale avant-arrière du véhicule automobile, orienté vers l’arrière ; l’axe Y s’étend selon une direction transversale du véhicule, orienté de la gauche vers la droite ; et l’axe Z s’étend selon une direction verticale, orienté à l’opposé du sol.
Ainsi, on observera que le tunnel axial 66 présente, vers l’avant du véhicule, une grande hauteur H, vis-à-vis du niveau de la garde au sol G, supérieure à une petite hauteur h, vers l’arrière du véhicule.
Partant, la section du tunnel axial 66 s’amenuise de l’avant vers l’arrière selon la direction X, et le dispositif d’échappement 10 est orienté de manière que le premier caisson cylindrique 12 soit alors situé vers l’avant dans une portion plus haute du tunnel axial 66, tandis que le deuxième caisson cylindrique 14, de section inférieure, s’étend vers l’arrière, dans une portion plus basse du tunnel 66.
De la sorte, on comprend qu’avec deux caissons cylindriques 12, 14 de sections droites différentes on peut optimiser le volume du dispositif d’échappement 10, sans se restreindre à un seul caisson cylindrique d’une section correspondant à la plus petite section du tunnel axial 66 et par conséquent peu volumineux, ni mettre en œuvre un dispositif d’échappement à deux demi-coquilles adapté à la forme du tunnel mais relativement coûteux.
La réalisation des caissons cylindriques 12, 14, est en effet peu coûteuse car elle fait appel à des outillages et à un procédé de fabrication simples.
On retrouve sur la en coupe droite, selon le plan III-III illustré sur la , le tunnel axial 66 ménagé dans la caisse du véhicule automobile et débouchant en dessous du véhicule. On retrouve également l’écran thermique 68 et la bordure amont cylindrique 52 du manchon de raccordement réducteur 16 dans lequel est emmanchée la première extrémité aval 28 du premier caisson cylindrique 12.
On observera que le tunnel axial 66 présente une paroi de fond 65 et deux parois latérales 67, 69 divergents sensiblement l’une de l’autre. Aussi, l’écran thermique 68 épouse la forme du tunnel axial 66.
On retrouve ainsi la section droite du premier caisson cylindrique 12 de forme sensiblement trapézoïdale isocèle, définie par, la première grande face 18 opposée à la première petite face 20 et les deux premières faces identiques 22, 24 inclinées l’une par rapport à l’autre.
Par ailleurs, au droit de la jonction entre le manchon de raccordement réducteur 16 et le deuxième caisson cylindrique 14, on aperçoit une cloison interne 70 présentant un grand orifice central 72 et des orifices périphériques 74 permettant l’écoulement des gaz échappement et l’atténuation sonore.
Selon une variante non représentée, la section du premier caisson est inférieure à celle du deuxième caisson afin de s’adapter aux contraintes de l’architecture environnante.
On se référera enfin à la , illustrant un dispositif d’échappement conforme à l’invention selon un autre mode de mise en œuvre. Cet autre mode de mise en œuvre permet de bénéficier plus encore du volume disponible dans le tunnel axial pour pouvoir augmenter le volume du dispositif d’échappement.
Ainsi, le dispositif d’échappement 110 présenté sur la présente trois caissons cylindriques successifs, un troisième caisson cylindrique 112 relié à un quatrième caisson cylindrique 114 par l’intermédiaire d’un premier manchon de raccordement réducteur 116 et un cinquième caisson cylindrique 118 relié dans le prolongement du quatrième 114 par l’intermédiaire d’un deuxième manchon de raccordement réducteur 120.
Aussi, le troisième caisson cylindrique 112 présente une longueur et une section comparables à celles du premier caisson cylindrique 12 décrit sur la . Le quatrième caisson cylindrique 114 présente une section supérieure à celle de la section du deuxième caisson cylindrique 14, mais une longueur moins importante. Enfin, le cinquième caisson cylindrique 118 présente une section comparable à celle du deuxième caisson cylindrique 14, mais une longueur inférieure.
En outre, le premier manchon de raccordement réducteur 116 présente une section d’entrée adaptée à recevoir l’extrémité aval du troisième caisson cylindrique 112 et une section de sortie adaptée à recevoir l’extrémité amont du quatrième caisson cylindrique 114, tandis que le deuxième manchon de raccordement réducteur 120 présente une section d’entrée adaptée à recevoir l’extrémité aval du quatrième caisson cylindrique 114 et une section de sortie adaptée à recevoir l’extrémité amont du cinquième caisson cylindrique 118.
De la sorte, selon cet autre mode de mise en œuvre, pour une même configuration de tunnel axial, on augmente plus encore l’occupation de l’espace libre du tunnel en mettant en œuvre des caissons cylindriques bon marché. En conséquence, le dispositif d’échappement présente un plus gros volume.
Il existe aussi des dispositifs de lubrification dits « passifs », c’est-à-dire dépourvus de pompe, dans lesquels des rampes sont formées au sein du carter pour favoriser les remontées de lubrifiant du bas du réducteur vers le haut et disperser ainsi le lubrifiant dans différentes zones du réducteur.
Ces solutions de lubrification passive ne donnent toutefois pas entière satisfaction et la remontée de lubrifiant du bas vers le haut du réducteur n’est parfois pas suffisante, en particulier lorsque des éléments du dispositif de réduction, par exemple un arbre de transmission portant des roues dentées, font obstacle à la remontée du lubrifiant vers le haut du réducteur.
L’invention vise à remédier à ce problème en proposant un réducteur de vitesse pour un groupe motopropulseur, comprenant : - un dispositif de réduction comprenant une première roue dentée apte à être entrainée en rotation autour d’un premier axe de rotation, la première roue dentée comprenant une gorge annulaire agencée autour du premier axe de rotation sur un flanc de la première roue dentée, - un déflecteur comprenant une rampe apte à guider un lubrifiant, une portion de la rampe étant agencée à l’intérieur de la gorge annulaire de la première roue dentée.
Ainsi, en coopérant avec la rampe du déflecteur, la gorge annulaire de la roue dentée est utilisée pour faire remonter du lubrifiant par centrifugation. En effet, le lubrifiant peut être plus efficacement transféré d’une portion basse de la première roue dentée à une portion haute de la première roue dentée. La lubrification du réducteur est ainsi améliorée.
Le réducteur peut comporter également l’une au moins des caractéristiques suivantes :
- La gorge annulaire est ouverte axialement d’un côté de la première roue dentée.
- La première roue dentée comprend un moyeu, une bande périphérique dentée agencée radialement à l’extérieur du moyeu (par rapport à l’axe de rotation X), et un voile de roue reliant le moyeu et la bande périphérique dentée.
- La gorge annulaire de la première roue dentée est délimitée sur un flanc de la première roue dentée par le moyeu, le voile de roue, et la bande périphérique dentée.
- La rampe comprend une piste principale et une protrusion axiale prolongeant la piste principale et faisant saillie axialement de la piste principale, la protrusion axiale étant agencée en partie ou en totalité à l’intérieur de la gorge annulaire de la première roue dentée.
- La piste principale est agencée en totalité en dehors de la gorge annulaire de la première roue dentée.
- Le dispositif de réduction comprend une deuxième roue dentée apte à être entrainée en rotation autour d’un deuxième axe de rotation parallèle au premier axe de rotation, la deuxième roue dentée comprenant une bande périphérique dentée disposée radialement, par rapport à ce deuxième axe, au regard de la piste principale de la rampe.
- Le diamètre de la deuxième roue dentée est supérieur au diamètre de la première roue dentée, par exemple entre 1,5 et 4 fois supérieur, et le premier axe de rotation est disposé, lorsque le réducteur est dans une position correspondant à celle prise lorsqu’ il est monté sur un véhicule stationné à l’horizontal, au-dessus du deuxième axe.
- Un plan horizontal tangent à la première roue et situé en dessous du premier axe est disposé plus haut qu’un plan horizontal tangent à la deuxième roue et situé en dessous du deuxième axe.
– La première roue est agencée au-dessus du niveau d’huile, en particulier sous le niveau nominal NN.
- La première roue dentée et la deuxième roue dentée sont décalées axialement l’une par rapport à l’autre.
- Notamment, si l’on considère d‘une part un premier plan passant par le premier axe de rotation et le deuxième axe de rotation, et d’autre part un deuxième plan correspondant au plan horizontal passant par le deuxième axe de rotation, un angle compris entre 10 et 45 degrés sépare le premier plan et le deuxième plan.
L’isolation électrique des tranchées 32 peut être faite ultérieurement lors du procédé de fabrication des dispositifs microélectroniques à partir du substrat 3, décrit ultérieurement.
Les tranchées peuvent présenter une dimension transversale minimale, c’est-à-dire une largeur sensiblement inférieure ou égale à 10 µm, de préférence sensiblement comprise entre 1 µm et 10 µm, voire inférieure à 5 µm. Ainsi, la dimension latérale est faible, ce qui permet d’occuper peu de place pour la singularisation des dispositifs microélectroniques du substrat 3 dans le plan d’extension principale des première 30 et deuxième 31 couches, ce qui peut conduire à une plus grande densité de dispositifs microélectroniques sur un substrat de taille conventionnelle. La dimension longitudinale des tranchées peut être sensiblement inférieure ou égale à 200 µm, de préférence sensiblement comprise entre 50 et 150 µm, par exemple sensiblement égale à 100 µm.
Les tranchées 32 peuvent présenter un facteur de forme sensiblement supérieur ou égal à 5, et de préférence supérieur ou égal à 10. Par facteur de forme, on entend le rapport entre la dimension la plus longue (profondeur selon l’épaisseur du substrat 3) sur la dimension la plus courte (une dimension dans le plan d’extension des couche 30, 31, 33.
Comme l’illustre par exemple la , le substrat 3 peut comprendre au moins une marque ou de façon équivalente un repère 34 permettant l’alignement du substrat 3 avec d’autres éléments. Ainsi, le placement des tranchées 32 lors du procédé de fabrication du dispositif microélectronique est fiabilisé. Ce repère 34 peut être formé par une ou plusieurs portion(s) de couche de matériau diélectrique au niveau de la première couche 30 et/ou la deuxième couche 31. Notons que la personne du métier peut tout à fait envisager d’autres variantes de repère, comme par exemple un marquage disposé sur la surface 3a avant du substrat 3.
Des étapes du procédé de fabrication du substrat 3 sont maintenant décrites en référence aux figures.
Le procédé comprend la fourniture d’un sous-substrat 1. Le sous-substrat 1 comprend au moins une première couche 10, destinée à former la première couche 30 du substrat 3 qui sera obtenue, comme l’illustre la . Le sous-substrat 1 peut comprendre en outre, comme par exemple illustré par la , une couche superficielle 11 destinée à former au moins en partie la deuxième couche 31 du substrat 3. La couche superficielle 11 est de préférence à base ou faite d’un matériau diélectrique. Le sous-substrat 1 présente en outre une surface exposée 1a, au niveau de la première couche 10 ou de la couche superficielle 11.
Comme par exemple illustré par les figures 4C et 4D, les tranchées 32 peuvent être formées par gravure, et de préférence par gravure ionique réactive profonde (communément abrégée DRIE, de l’anglais « Deep Reactive Ion Etching »). Pour former les tranchées 32, l’étape de gravure peut comprendre l’application d’un masque 12 comprenant des ouvertures 120 à partir desquelles les tranchées 32 vont être gravées, comme l’illustre par exemple la . Le masque 12 est de préférence un masque en résine. On peut prévoir que le masque soit dur, par exemple avec l’application d’un masque 12 en résine puis la gravure de la couche superficielle 11, retirer ce masque et graver la première couche 10 grâce au masque d’oxyde dit « dur » ainsi formé. Notons que la couche superficielle 11 peut être retirée après la gravure des tranchées 32, et les tranchées 32 isolées électriquement par dépôt d’une couche diélectrique par la suite.
La gravure est de préférence configurée pour obtenir les caractéristiques des tranchées 32 décrites précédemment, et notamment leurs dimensions. Par exemple, les dimensions du masque 12 et/ou le temps et la vitesse de gravure sont ajustés pour cela.
Pour former les tranchées 32, le procédé peut ensuite comprendre une formation d’un matériau diélectrique au niveau au moins de la paroi de fond 321 et de la paroi latérale 320, comme l’illustre par exemple la .
Cette formation peut être faite par oxydation thermique, par exemple à une température de sensiblement 1050°C dans une atmosphère comprenant de l’oxygène.