INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
l’algorithme de chiffrement étant de préférence choisi parmi le groupe constitué de : l’algorithme BSW07, l'algorithme CPW08, et l’algorithme AC17 ; et l’image obtenue provient d’une caméra choisie dans une liste prédéfinie de caméras, la table de correspondance associant, à chaque dispositif électronique de réception, pour chaque objet, une ou plusieurs caméras propres à capter des images pour lesquelles ledit dispositif électronique de réception est autorisé à consulter ledit objet,
la ou chaque clef secrète individuelle étant en outre fonction de la ou des caméras associées au dispositif électronique de réception correspondant dans la table de correspondance.
La présente invention a également pour objet un produit programme d’ordinateur comprenant des instructions logicielles, qui lorsqu’elles sont exécutées, mettent en œuvre un procédé de réception tel que décrit ci-dessus.
La présente invention a également pour objet un dispositif électronique d’émission, à destination d’au moins un dispositif électronique de réception, d’une image représentant au moins un objet parmi une liste prédéfinie d’objet(s), le dispositif électronique d’émission comprenant une unité de configuration comprenant : un module d’envoi configuré pour envoyer au ou à chaque dispositif électronique de réception une clef secrète individuelle respective,
le dispositif électronique d’émission comprenant en outre une unité de chiffrement comportant : un module d’obtention configuré pour obtenir l’image représentant l’au moins un objet, dans laquelle une ou des zones comportant certains pixels de l’image sont identifiées, chaque zone identifiée représentant le ou l’un des objets, un module d’application configuré pour appliquer un masquage à la ou chaque zone de l’image, pour former une image avec zone(s) obfusquée(s), un module de génération configuré pour générer un message chiffré comprenant des valeurs des pixels des zones dans l’image obtenue, dans lequel lesdites valeurs sont chiffrées, un module d’émission configuré pour émettre, à destination de chaque dispositif électronique de réception, l’image avec zone(s) obfusquée(s) et le message chiffré en vue de son déchiffrement au moins partiel, par chaque dispositif électronique de réception pour reconstituer une image partiellement reconstituée associée au dispositif électronique de réception respectif,
dans lequel chaque clef secrète individuelle est calculée à partir d’une table de correspondance, la table de correspondance associant à chaque dispositif électronique de réception, une liste respective d’objet(s) que ledit dispositif électronique de réception est autorisé à consulter par déchiffrement du message chiffrée, à partir de ladite clef secrète individuelle.
La présente invention a également pour objet un procédé de réception, par un dispositif électronique de réception et depuis un dispositif électronique d’émission, d’une image avec au moins une zone obfusquée propre à représenter un objet parmi une liste prédéfinie d’objet(s),
le procédé étant mis en œuvre par le dispositif électronique de réception et comprenant les étapes suivantes : réception de l’image avec zone(s) obfusquée(s), d’un message chiffré comprenant des valeurs chiffrées de pixels, et d’une clef secrète individuelle associée au dispositif électronique de réception,
la clef secrète individuelle étant propre à déchiffrer uniquement les valeurs chiffrées de pixels correspondant à une ou plusieurs zones de l’image avec zone(s) obfusquée(s) représentant des objets que le dispositif électronique de réception est autorisé à consulter, déchiffrement, à partir d’un algorithme de déchiffrement et de la clef secrète individuelle reçue, des valeurs chiffrées de pixels du message chiffré pour obtenir un message partiellement déchiffré, et reconstitution d’une image partiellement reconstituée, par remplacement de la ou des zones obfusquées de l’image avec zone(s) obfusquée(s) par des pixels dont les valeurs sont comprises dans le message partiellement déchiffré,
Avec le procédé de réception selon l’invention, il est possible de ne déchiffrer qu’une partie d’une image pour laquelle seulement certains objets sont autorisés à être consultés.
L’invention a également pour objet l’utilisation d’au moins un ester de colophane dans une composition bitumineuse, de préférence dans une composition bitume/polymère éventuellement réticulée, pour réduire l’empreinte carbone de ladite composition.
De préférence, l’utilisation d’ester(s) de colophane selon l’invention permet de réduire d’au moins 10% l’empreinte carbone d’une composition bitumineuse, notamment d’une composition bitume/polymère (réticulée ou non), par rapport à une même composition exempte d’ester(s) de colophane, plus préférentiellement au moins 20%, encore plus préférentiellement d'au moins 30%, avantageusement d’au moins 80%, plus avantageusement d’au moins 90%, typiquement d’au moins 95%.
Selon un mode de réalisation, l’utilisation d’ester de colophane permet de réduire d’au moins 50% l’empreinte carbone d’une composition bitumineuse, notamment d’une composition bitume/polymère (réticulée ou non), par rapport à une même composition exempte d’ester(s) de colophane, plus préférentiellement au moins 60%, encore plus préférentiellement d'au moins 70%, avantageusement d’au moins 80%, plus avantageusement d’au moins 90%, typiquement d’au moins 95%.
En particulier, l’incorporation d’ester(s) de colophane selon une teneur de 5% en masse, par rapport à la masse totale de la composition bitume/polymère (réticulée ou non), permet de réduire jusqu’à 40% l’empreinte carbone de la composition bitumineuse, par rapport à une même composition exempte d’ester(s) de colophane.
Plus particulièrement, l’incorporation d’ester(s) de colophane selon une teneur de 10% en masse, par rapport à la masse totale de la composition bitume/polymère (réticulée ou non), permet de réduire jusqu’à 80% l’empreinte carbone de la composition bitumineuse, par rapport à une même composition exempte d’ester(s) de colophane. Autrement dit, la composition bitumineuse ainsi obtenue est neutre en émission de carbone.
EXEMPLES Evaluation des compositions bitumeuses Dans les exemples ci-après, les compositions bitumineuses sont évaluées par :
- la stabilité de stockage : la stabilité au stockage des compositions concentrées préparées ci-dessus est évaluée en mesurant la différence de pénétrabilité (∆Pene) et la différence de TBA (∆TBA) de chaque composition après 3 jours de stockage à 180°C.
- le retour élastique à 25°C (R25), exprimé en %, selon la norme EN 13398,
- les propriétés mécaniques (contrainte à l’élongation maximale, élongation seuil, élongation maximale, énergie à 400%, énergie totale), mesurées selon la norme NF EN 13587.
Base Bitume (B) : bitume de grade 35/50 ayant une pénétrabilité P25 de 40 1/10 mm et une TBA de 52°C, disponible commercialement auprès de TotalEnergies sous la marque AZALT®.
En particulier, il subsiste le besoin de compositions bitumineuses présentant des propriétés mécaniques, notamment élastiques, améliorées par rapport aux compositions exemptes de polymère de l’art antérieur, et dont l’empreinte carbone est réduite, par rapport aux compositions de l’art antérieur.
Les inventeurs ont découvert qu’il était possible de réduire la teneur en matériau(x) d’origine fossile dans une composition bitumineuse, notamment dans une composition bitume/polymère, par l’intégration d’ester(s) de colophane. Les inventeurs ont également découvert qu’il était possible de réduire l’empreinte carbone des compositions bitumineuses de l’art antérieur, notamment des compositions bitume/polymère, par l’intégration d’ester(s) de colophane.
En particulier, les inventeurs ont découvert qu’il était possible d’intégrer au moins un ester de colophane dans une composition bitumineuse, notamment dans une composition bitume/polymère, sans affecter de manière significative les propriétés du matériau final. Le matériau final présente des propriétés sensiblement équivalentes, voire améliorées, par rapport à celles des compositions bitumineuses exemptes d’ester(s) de colophane de l’art antérieur, notamment par rapport aux compositions bitume/polymère exemptes d’ester de colophane de l’art antérieur.
L’invention concerne une composition bitumeuse comprenant : au moins une base bitume, au moins un ester de colophane.
De préférence, l’ester de colophane est choisi parmi les esters de pentaérythritol de colophanes naturelles, les esters de pentaérythritol de colophanes hydrogénées et l’un quelconque de leurs mélanges, plus avantageusement parmi les esters de pentaérythritol de colophanes naturelles.
De préférence, l’ester colophane présente un point de fusion, mesuré par calorimétrie différentielle à balayage, allant de 50°C à 120°C, plus préférentiellement allant de 70°C à 90°C.
De préférence, l’ester de colophane présente un taux d’acidité, mesurée selon la selon la méthode ASTM D465, inférieure ou égal à 250 mg KOH/g, plus préférentiellement inférieur ou égal à 100mg de KOH/g.
De préférence, l’ester de colophane est présent dans la composition bitumineuse selon une teneur allant de 0,1% à 50% en poids, de préférence de 0,5% à 30% en poids, de préférence de 1% à 15% en poids, par rapport au poids total de la composition.
Selon un mode de réalisation, la composition bitumineuse peut en outre comprendre moins un élastomère, de préférence choisi parmi les copolymères d’un hydrocarbure monovinyl aromatique et d’un diène conjugué.
L’invention a également pour objet une composition bitume/polymère réticulée, obtenue par réticulation, notamment chimique ou thermique, d’une composition bitumeuse telle que définie ci-dessus et décrite de manière détaillée ci-dessous.
Selon un mode de réalisation, la composition bitumineuse telle que définie ci-dessus et décrite de manière détaillé ci-dessous, présente une empreinte carbone réduite, par rapport à une même composition exempte d’ester(s) de colophane.
L’invention a également pour objet un procédé de préparation d’une composition bitumineuse telle que définie ci-dessus et décrite de manière détaillée ci-dessous, ce procédé comprenant :
1) la mise en contact des composants suivants : au moins une base bitume, et au moins un ester de colophane,
Si et Mg forment des précipités Mg 2 Si qui permettent d’obtenir les caractéristiques mécaniques après la cuisson des peintures. L’excès de Si (soustraction de la teneur en Mg à la teneur en Si) améliore la formabilité à l’état T4.
Le Cu contribue aux propriétés mécaniques à l’état T4 et T6. Un excès de Cu peut détériorer la tenue à la corrosion. Préférentiellement, le Cu est au maximum de 0,15%, plus préférentiellement 0,10%.
Le Zn peut être ajouté optionnellement pour faciliter le recyclage mais sans excès pour éviter le phénomène de corrosion.
Le Ti a un rôle pour affiner les grains. La teneur maximum en Ti est préférentiellement 0,10%.
L’alliage d’aluminium est ensuite coulé en une plaque, préférentiellement par coulée semi continue verticale. Les dimensions préférentielles des plaques selon l’invention sont de 200mm à 600mm d’épaisseur, de 1000 à 3000 mm de largeur et de 2000 à 8000 mm de longueur.
Avantageusement, la tôle fabriquée est monolithique. Ce qui est moins couteux qu’une tôle plaquée.
La plaque est ensuite homogénéisée à une température d’homogénéisation, comprise de 540°C à 580°C, préférentiellement supérieure à 550°C, suivi d’un refroidissement, préférentiellement forcé, soit jusqu’à une température de début de laminage à chaud de 400 à 520°C, soit jusqu’à une température inférieure à la température de début de laminage à chaud. La température d’homogénéisation est au-delà de la température de solvus de l’alliage, tout en évitant une fusion locale ou la brûlure. La température d’homogénéisation est préférentiellement au maximum de 580°C, préférentiellement 570°C, et au minimum de 540°C, préférentiellement au minium 550°C. Une température trop forte ou trop faible dégrade les propriétés mécaniques de la tôle après revenu. Une homogénéisation insuffisante en température ou en durée peut dégrader l’ondulation en ne mettant pas suffisamment en solution le Mg 2 Si dont les précipités ultérieurs n’auront pas la taille optimale. La durée de la l’homogénéisation est préférentiellement supérieure à 1 heure. Une durée d’homogénéisation trop courte dégrade les propriétés mécaniques de la tôle après revenu.
L’homogénéisation de la plaque est suivie d’un refroidissement, préférentiellement forcé, soit jusqu’à une température de début de laminage à chaud de 400 à 510°C soit jusqu’à une température inférieure à la température de début de laminage à chaud. Refroidir la plaque après l’homogénéisation permet d’obtenir des précipités de taille optimale de Mg 2 Si qui permettent ensuite de contrôler les recristallisations nécessaires dans les étapes ultérieures pour obtenir l’ondulation souhaitée. Laminer à chaud directement à la température d’homogénéisation par soucis de productivité aboutit à des précipités de Mg 2 Si qui provoqueront des recristallisations à gros grains dans les étapes ultérieures qui dégradent l’ondulation. Préférablement, le refroidissement est forcé pour éviter une croissance excessive des précipités de Mg 2 Si qui vont détériorer la mise en solution du Mg 2 Si, et donc les propriétés mécaniques.
Dans un mode de réalisation, la plaque homogénéisée est directement refroidie à la température de début de laminage à chaud. Ce refroidissement est préférentiellement forcé avec une vitesse de refroidissement directe d’au moins 150°C par heure. Avantageusement la vitesse de refroidissement directe est d’au maximum 500°C/h. Ce refroidissement peut typiquement être effectué par une machine telle que celle décrite par la demande WO2016012691. La vitesse minimum de 150°C est un compromis entre la cinétique de précipitation et la productivité. Une vitesse de refroidissement au-delà de 500°C/h provoque des hétérogénéités de température dans la plaque qui peuvent provoquer des hétérogénéités de précipitations du Mg 2 Si qui peuvent provoquer une microstructure mixte lors des recristallisations ultérieures. Une microstructure mixte provoque une ondulation inadéquate.
Dans un autre mode de réalisation, la plaque homogénéisée est refroidie puis réchauffée à la température de début de laminage à chaud. Préférentiellement, ce refroidissement est forcé avec des ventilateurs qui propulsent de l’air à la température ambiante sur la plaque homogénéisée pour la refroidir plus rapidement que naturellement à la température ambiante. Ce refroidissement a lieu préférentiellement jusqu’à une température inférieure à 300°C à une vitesse préférentielle de 60 à 120°C/h, plus préférentiellement 70 à 90°C/h. Préférentiellement la plaque finit de refroidir naturellement jusqu’à la température ambiante. Poursuivre le refroidissement en dessous de la température de début de laminage à chaud est avantageux car il permet de poursuivre la cinétique de précipitation du Mg 2 Si qui favorise les recristallisations lors des étapes ultérieures nécessaires à l’ondulation. La plaque est ensuite réchauffée à la température de début de laminage à chaud.
Un premier laminage à chaud de la température de début de laminage à chaud à une température de fin du premier laminage à chaud de 370 à 450°C est effectué. Ce premier laminage à chaud est préférentiellement réalisé successivement sur un laminoir, deux ou plusieurs laminoirs réversibles à chaud. L’épaisseur de fin du premier laminage à chaud est de 30 à 50 mm. Ce premier laminage à chaud est préférentiellement réalisé de telle sorte que la plaque ne se réchauffe pas à chaque passe de laminage à chaud. Préférablement, le refroidissement entre la température de début de laminage à chaud et la température de fin de premier laminage à chaud est au minimum de 0°C et au maximum de 90°C, préférablement 50°C, plus préférablement 30°C. Ce procédé de laminage à chaud permet de contrôler la poursuite de la précipitation du Mg 2 Si en particulier lorsque la plaque a été refroidie directement à la température de laminage à chaud. Cette gamme de température de premier laminage à chaud contribue au contrôle des recristallisations dans les étapes ultérieures de la fabrication. Limiter la valeur maximum du refroidissement pendant le premier laminage à chaud permet en outre de simplifier le procédé car cela contribue à ne pas avoir besoin d’un recuit intermédiaire ultérieurement.
Un second laminage à chaud est ensuite effectué de la température de fin du premier laminage à chaud à la température de fin de laminage de 250 à 380°C en une bande dans des conditions telles que la microstructure de la bande est recristallisée ou non recristallisée après le second laminage à chaud. C’est-à-dire que la microstructure ne comprend pas des zones recristallisées et des zones non recristallisées. Une structure mixte après laminage à chaud va perturber les recristallisations ultérieures et dégrader l’ondulation de la tôle à l’état T4. Ce second laminage à chaud est préférentiellement réalisé sur un laminoir à chaud en tandem comportant 2, 3, 4, 5, 6 ou plus laminoirs à chaud. La bande obtenue est ensuite bobinée. Préférentiellement la bobine refroidit naturellement jusqu’à la température ambiante. Préférentiellement aucun refroidissement forcé ou trempe n’est effectué pendant le second laminage à chaud. Préférentiellement la microstructure est caractérisée après le refroidissement à la température ambiante de la bande.
Dans un mode de réalisation, la température de fin de laminage à chaud est supérieure à 330°C, préférentiellement supérieure à 340°C, plus préférentiellement, supérieure à 350°C. Une température élevée en fin de laminage à chaud permet d’obtenir une recristallisation à grains moyens qui est favorable pour la recristallisation finale pour obtenir une ondulation inférieure à 0,50 µm. Cette température élevée permet de simplifier le procédé de fabrication en n’ayant pas besoin d’un recuit intermédiaire.
Dans un autre mode de réalisation, la température de fin de laminage à chaud est inférieure à 330°C, préférentiellement inférieure à 325°C, plus préférentiellement inférieure à 320°C. Une température basse en fin de laminage à chaud permet d’obtenir une microstructure non recristallisée qui est favorable pour obtenir les recristallisations ultérieures pour obtenir une ondulation inférieure à 0,50µm.
La bande est ensuite laminée à froid, avec optionnellement avec un recuit intermédiaire sur un four continu, et sans recuit statique. Un recuit statique est réalisé dans un four dans lequel la bande mise en bobine subit un traitement thermique de recuit. Aucun recuit statique n’est effectué avant, pendant ou après l’étape de laminage à froid. Un recuit statique ne permet pas d’obtenir le compromis entre la qualité de surface ou l’aptitude au pliage car la durée de ce traitement thermique aboutit à des gros grains.
Préférentiellement, la réduction totale à froid est au moins de 75%. La réduction totale à froid est la réduction entre l’épaisseur de fin de laminage à chaud et l’épaisseur finale. Cette réduction contribue à obtenir une ondulation inférieur ou égale 0,50µm.
Chaque longeron 12 comporte deux grandes faces opposées 12.1 et 12.2, sensiblement parallèles entre elles et qui s’étendent chacune suivant les directions X et Z en projection dans un plan XZ. L’une des deux grandes faces opposées, 12.1, est représentée en arrière-plan à la .
Chaque longeron 12 comporte également deux bords longitudinaux opposés 12.3 et 12.4 qui relient chacun les deux grandes faces opposées 12.1, 12.2 du longeron entre elles. L’un des deux bords est situé en partie haute du longeron et donc de la grille, lorsqu’elle est disposée comme sur la avec sa hauteur alignée suivant l’axe Z, et est appelé bord longitudinal supérieur 12.3, tandis que l’autre bord opposé, est situé en partie basse du longeron et donc de la grille, en-dessous du bord supérieur, et est appelé bord longitudinal inférieur 12.4 ( ).
Chacune des deux grandes faces opposées 12.1, 12.2 de chaque longeron 12 comporte, entre deux aubages consécutifs tels que ceux 14.1, 14.2 des figures 2 et 3 qui sont raccordés chacun à la grande face concernée du longeron, deux sous-surfaces SS1, SS2 qui sont décalées longitudinalement l’une par rapport à l’autre suivant l’axe longitudinal X.
Comme représenté aux figures 2 et 3, une première, notée SS1, des deux sous-surfaces SS1, SS2 est disposée de manière adjacente au premier aubage 14.1 tandis que la deuxième sous-surface, notée SS2, est adjacente au deuxième aubage 14.2.
La représente, en vue de dessus de la grille, en projection dans un plan XY, une partie de la cellule des figures 2 et 3 et montre notamment que les deux sous-surfaces SS1, SS2 forment entre elles un angle α non nul, inférieur à 90°. Cet angle explique que chaque grande face de longeron n’est pas plane. En pratique, les deux sous-surfaces SS1, SS2 forment entre elles un angle α inférieur à 10°, de préférence inférieur à 5°. Cet angle est utilisé pour démouler les pièces constitutives de la grille lors de sa fabrication par moulage par injection.
Comme représenté aux figures 2 et 3, les deux sous-surfaces SS1, SS2 sont raccordées entre elles par une troisième sous-surface SS3 qui présente, suivant une vue en projection dans un plan XZ ( ), une forme générale de triangle. Ce triangle est caractérisé par un sommet S, une base B et deux côtés C1, C2 adjacents au sommet S. Le sommet S est positionné en partie basse du longeron, à proximité du bord longitudinal inférieur 12.4 mais à distance de celui-ci, tandis que la base B est positionnée en partie haute du longeron, ici sur le bord longitudinal supérieur 12.3. Le triangle est incliné de telle manière que sa base B est décalée longitudinalement en direction du deuxième aubage 14.2 dont l’intrados fait face à la cavité C, par rapport à la position du sommet S qui est décalée longitudinalement en direction du premier aubage 14.1 dont l’extrados fait face à la cavité.
Suivant une vue en projection dans un plan XZ ( ), le côté C1 du triangle qui est adjacent à la deuxième sous-surface SS2 est incliné par rapport au bord inférieur 12.4 du longeron suivant un angle β qui est compris entre 10 et 80°, de préférence entre 30 et 70°. On notera par ailleurs que le côté opposé C2 du triangle qui est adjacent à la première sous-surface SS1 est incliné par rapport au bord inférieur 12.4 du longeron suivant un angle qui est supérieur à l’angle β et inférieur ou égal à 90°. La zone d’extension de la troisième sous-surface SS3 peut ainsi être plus ou moins étendue selon les circonstances et les besoins.
Comme décrit ci-dessus et illustré sur les figures, la troisième sous-surface SS3 définit en quelque sorte une sous-surface de transition entre les deux sous-surfaces SS1, SS2 qui assure une augmentation progressive (« douce ») de l’inclinaison de la grande face 12.1 du longeron pour passer de la sous-surface SS1 à l’inclinaison de la sous-surface SS2.
L’art antérieur représenté schématiquement à la pour des besoins de comparaison (vue similaire à celle de la ) illustre, entre les deux sous-surfaces S1 et S2 de la grande face du longeron L, une troisième sous-surface qui forme une marche M s’étendant transversalement relativement aux longerons. Cette marche est obtenue sur la grande face du longeron par suite des contraintes de fabrication de la grille par moulage par injection qui imposent la présence d’un angle de dépouille pour le démoulage des parties du moule. Une telle configuration conduit à une grande face de longeron qui présente une surface accidentée (non lisse) induisant des perturbations, et donc des pertes de charge, sur l’écoulement d’air traversant la cavité et longeant la grande face.
Contrairement à cela, le mode de réalisation décrit plus haut présente une configuration dans laquelle la troisième sous-surface SS3 est lisse ou, en tout cas, ne comporte pas d’accident de relief majeur tel que la marche de la . La troisième sous-surface SS3 inclinée ( ) est plane dans cet exemple de réalisation mais peut alternativement être convexe.
La grille d’inverseur de poussée décrite ci-dessus peut être fabriquée par moulage par injection en utilisant au moins deux moules de fabrication M1 et M2.