INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Les premières données traitées (qui correspondent aux trois composantes de la vitesse y compris l’intégration de l’effet de la gravité, éventuellement affectées par un décalage, et nommée pour cette raison pseudo-vitesse PV ou pseudo-vitesse inertielle PVI), les premières données doublement traitées (qui correspondent aux trois composantes de la position y compris la double intégration de l’effet de la gravité, éventuellement affectées par un décalage - vitesse ou position - ou par deux décalages - vitesse et position, et nommées pour cette raison pseudo-position PP ou pseudo-position inertielle PPI), les deuxièmes données traitées (qui correspondent aux trois composantes de rotation représentative de l’attitude de l’aéronef A), et une information temporelle (un compteur de pas d’intégration ou pas de temps de l’unité de mesure inertielle entre l’instant d’échantillonnage et l’instant unique de début d’intégration, soit ici t e -t 0 ) sont mises sous la forme d’un paquet introduit dans des deuxièmes signaux à t i transmis via la liaison de données 300 à l’unité électronique de calcul de navigation 200. Ces deuxièmes signaux à t i sont les signaux de localisation à t i (dits aussi signaux de pseudo-localisation inertielle).
Pour former les signaux de localisation à t k , le premier programme est agencé pour effectuer : une première intégration, sur une durée d’intégration mesurée depuis l’instant précédent t k-1 (durée notée t k-1 -t k sur les figures 3 et 4), des deuxièmes données pour produire des deuxièmes données intégrées ; une projection des premières données dans le repère inertiel [i] pour obtenir des premières données projetées ; une première intégration des premières données projetées, sur la durée d’intégration mesurée depuis l’instant t k-1 , pour produire des premières données intégrées ; une deuxième intégration des premières données intégrées, sur la durée d’intégration mesurée depuis l’instant t k-1 , pour produire des premières données doublement intégrées ; une troisième intégration des premières données intégrées, sur la durée d’intégration mesurée depuis l’instant t k-1 , pour produire des premières données doublement intégrées.
On obtient ainsi un lot de données de localisation de t k-1 à t k dans lequel : les secondes données intégrées de t k-1 à t k sont représentatives d'un incrément de position angulaire (ou d'une orientation) ; les premières données intégrées de t k-1 à t k sont représentatives d’un incrément de vitesse linéaire ; les premières données doublement intégrées de t k-1 à t k sont représentatives d’un incrément de position linéaire ; les premières données intégrées triplement intégrées de t k-1 à t k servent à améliorer la précision comme on le verra par la suite.
Les signaux de localisation à t k peuvent également comprendre : une première intégration, sur une durée d’intégration mesurée depuis l’instant unique d’intégration t 0 (soit t k -t 0 ), des deuxièmes données pour produire des deuxièmes données intégrées ; une projection des premières données dans le repère inertiel [i] pour obtenir des premières données projetées ; une première intégration des premières données projetées, sur la durée d’intégration mesurée depuis l’instant unique d’intégration t 0 , pour produire des premières données intégrées ; un premier décalage (Shift V ou SHV) des premières données intégrées pour obtenir des premières données traitées (le premier décalage est effectué lorsque la valeur des premières données intégrées déborde d’une plage de valeurs acceptable pour leur traitement ultérieur) ; une deuxième intégration des premières données traitées, sur la durée d’intégration mesurée depuis l’instant unique de début d’intégration t 0 , pour produire des premières données doublement intégrées ; un deuxième décalage (Shift P ou SHP) des premières données doublement intégrées pour obtenir des premières données doublement traitées (le deuxième décalage est effectué lorsque la valeur des premières données doublement intégrées déborde d’une plage de valeurs acceptable pour leur traitement ultérieur).
Les décalages sont basés sur le même principe que ceux précédemment décrit.
On obtient ainsi un lot de données de localisation de t 0 à t k dans lequel : les secondes données intégrées de t 0 à t k sont représentatives d'une position angulaire (ou d'une orientation) ; les premières données intégrées de t 0 à t k sont représentatives d’une vitesse linéaire ; les premières données doublement intégrées de t 0 à t k sont représentatives d’une position linéaire.
Le lot de données de localisation de t k-1 à t k et lot de données de localisation de t 0 à t k , ainsi qu’une information temporelle pour ces dernières (un compteur de pas d’intégration ou pas de temps de l’unité de mesure inertielle entre l’instant d’échantillonnage et l’instant de début d’intégration, soit ici t k -t 0 ) sont mises sous la forme d’un paquet introduit dans des deuxièmes signaux à t k transmis via la liaison de données 300 à l’unité électronique de calcul de navigation 200. Ces deuxièmes signaux à t k sont les signaux de localisation à t k .
Le deuxième programme exécuté par l’unité électronique de calcul de navigation 200 est agencé pour extraire, des deuxièmes signaux à t i , les données traitées et l’information temporelle et met en œuvre un algorithme de navigation inertielle pour les exploiter pour calculer la localisation inertielle en tenant compte de l’évolution de la durée d’intégration depuis la dernière extraction des deuxièmes signaux.
La est une représentation schématique et selon une vue en perspective par la face avant d’une plaque de centrage selon un premier mode de réalisation de la présente invention ;
La est une représentation schématique et selon une vue en perspective par la face avant d’un logement de centrage de la plaque de centrage illustrée à la ;
La est un agrandissement du guide de centrage du logement de centrage de la ;
La représente un bord avant chanfreiné ;
La représente un bord avant formant un arrondi ;
La est une représentation schématique et selon une vue en perspective par la face avant d’un logement de centrage selon un troisième mode de réalisation de la présente invention ;
La est une représentation schématique de l’exécution de l’étape c) du procédé selon la présente invention.
DESCRIPTION DETAILLEE DE L’INVENTION La présente invention concerne une plaque de centrage qui comprend au moins un, avantageusement une pluralité, logement de centrage. Notamment, chaque logement de centrage parmi l’au moins un logement de centrage est configuré pour permettre le positionnement et le centrage d’un empilement présentant une base rectangulaire.
L’empilement a une forme de parallélépipède rectangle et peut comprendre une cale sur une face de laquelle, dite face support, une puce repose par une de ces faces, dite face contact. Notamment, la face support peut présenter une forme courbe, plus particulièrement concave, qui par exécution d’un procédé de ceintrage, peut être imposée à la puce.
A cet égard, on peut voir à la une puce 2 incurvée après exécution d’un procédé de déformation (incurvation). Notamment, sur cette , la puce 2 épouse de manière conforme la face support de la cale, et est maintenue sur ladite face support au moyen d’une substance adhésive.
La bonne exécution du procédé de déformation (ou d’incurvation) ainsi que les performances de la puce dépendent du positionnement, et notamment du centrage, de ladite puce sur la face support de la cale.
Cette dernière exigence est atteinte par la mise en œuvre de la plaque de centrage objet de la présente invention.
Ainsi, la présente invention concerne une plaque de centrage pour le centrage d’au moins un empilement présentant une base rectangulaire, la plaque de centrage comprenant au moins un logement, dit logement de centrage, débouchant par une face, dite face avant, de la plaque de centrage, chaque logement de centrage parmi l’au moins un logement de centrage comprenant :
- une section centrale, de forme rectangulaire destinée à loger, au moins pour partie, l’empilement ;
- au moins deux guides de centrage associés à la section centrale, les aux moins deux guides de centrage étant configurés pour assurer le guidage et le centrage selon une orientation prédéterminée de l’empilement lors de son positionnement dans la section centrale.
Il est entendu selon les termes de la présente invention que la forme rectangulaire de la section centrale est définie par l’intersection des quatre parois centrales avec un plan de coupe parallèle avec la face avant de ladite plaque de centrage.
le procédé de contrôle comportant une étape de contrôle par l’unité de contrôle des accès du micronoyau aux composants matériels.
Selon des modes de réalisation particuliers, le procédé de contrôle présente une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prise(s) isolément ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles :
- le calculateur embarqué comporte, en outre, une unité de gestion de mémoire, l’étape de contrôle comportant le contrôle de l’unité de gestion de mémoire.
- le procédé comporte, en outre, les étapes de :
- analyse des sections d’un binaire obtenu par compilation du micronoyau, et
- déduction des accès aux composants matériels par le micronoyau lors d’un fonctionnement normal du micronoyau, pour obtenir une configuration d’accès,
l’étape de contrôle des accès prenant en compte la configuration d’accès.
- le procédé comporte la génération d’un binaire, les étapes d’analyse et de déduction étant mises en œuvre à l’aide du binaire généré.
- lors de l’étape de déduction, la configuration d’accès correspond au nombre minimal d’accès aux composants matériels permettant le fonctionnement normal du micronoyau.
- le procédé de contrôle comporte également une étape de blocage de la modification du micronoyau.
- les composants matériels comportent une unité de calcul, le procédé étant mis en œuvre au démarrage de l’unité de calcul.
- il est défini des niveaux de privilège d’accès aux composants matériels, le niveau de privilège de l’unité de contrôle étant strictement supérieur au niveau de privilège du micronoyau.
La description se décrit aussi un calculateur embarqué propre à contrôler un système critique, le calculateur embarqué comprenant :
- un unique micronoyau adapté à mettre en œuvre un ensemble d’opérations,
- des composants matériels auxquels le micronoyau a accès pour mettre en œuvre l’ensemble d’opérations, et
- une unité de contrôle, l’unité de contrôle étant propre à contrôler les accès du micronoyau aux composants matériels, l’unité de contrôle étant isolée du micronoyau.
Où est le logit correspondant à la prédiction d’appartenance d’une identité à la classe i, y est la véritable identité de l’individu considéré.
La signature d’une piste est par exemple calculée comme étant la moyenne des signatures calculées pour chaque image de la piste.
La signature d’une identité présente dans la base de données annotées est par exemple égale à la moyenne des signatures calculées pour chaque image représentant cette identité.
A l’étape 104, on applique ensuite un algorithme de partitionnement à l’ensemble des signatures calculées à l’étape 103. L’algorithme de partitionnement est configuré pour partitionner les signatures en différents groupes, correspondant potentiellement à des identités différentes. Un objectif de l’étape de partitionnement 104 est que toutes les signatures classées dans un même groupe sont censées correspondre à la même identité. Cependant, l’algorithme de partitionnement 104 peut présenter un certain pourcentage d’erreurs de partitionnement, c’est pour cela qu’il fonctionne sous contraintes CT, de façon itérative et est associé à une étape de validation 105 des identités estimées.
La représente, sur un organigramme, les étapes de mise en œuvre de l’algorithme de partitionnement de l’étape 104.
L’algorithme reçoit en entrée les signatures calculées à la fois pour les pistes annotées et les pistes non annotées.
Il reçoit en outre des données issues de capteurs et permettant de fournir des informations de localisation spatiales et/ou temporelles des individus ainsi que des informations relatives à l’identité des individus. Les informations peuvent être absolues ou relatives (comparaison entre identités).
Par exemple, les données fournies par des capteurs sont prises parmi la liste non exhaustive suivante : Une information de localisation ponctuelle d’un individu fournie par un capteur RFID ou un QR code qui est associée à une identité absolue, Une information de localisation de longue durée fournie par un capteur de positionnement par satellite ou par un dispositif de localisation « Ultra Wide Band » et associée à une identité absolue. L’information de localisation est continue et associée à un couple (temps, position).
L’algorithme peut recevoir également des données fournies par un utilisateur relatives à l’identité absolue ou relative des individus. Ces données utilisateurs sont prises parmi la liste non exhaustive suivante : Une information d’identification absolue « positive » générée par un utilisateur qui fait une association entre une piste de suivi (ou une image de cette piste) et une identité absolue et indique qu’il s’agit du même individu, Une information d’identification absolue « négative» générée par un utilisateur qui fait une association entre une piste de suivi (ou une image dans cette piste) et une identité absolue en indiquant qu’il s’agit d’un individu différent, Une information d’identification relative « positive » générée par un utilisateur qui fait une association entre plusieurs pistes et indique qu’il s’agit du même individu, sans fournir d’identité absolue, Une information d’identification relative « négative» générée par un utilisateur qui fait une association entre plusieurs pistes et indique qu’il s’agit d’un individu différent, sans fournir d’identité absolue.
De manière générale, les informations sont, par exemple, fournies par un utilisateur au moyen d’une interaction via une interface graphique homme machine.
L’ensemble des données issues de capteurs ou d’utilisateurs sont fournies en entrée d’une étape de génération de contraintes 301 qui délivre en sortie un ensemble de contraintes à prendre en compte par l’algorithme de partitionnement.
L’étape 301 a pour but de transformer les informations reçues en entrée en contraintes à prendre en compte pour réaliser le partitionnement.
Les contraintes générées sont, par exemple, prises parmi la liste non exhaustive suivante : Une contrainte d’association entre une piste et une identité ML_Id : cette contrainte est par exemple générée lorsqu’une information d’identification est disponible pour une piste (fournie par un dispositif d’identification ou de localisation ou par un utilisateur), Une contrainte d’association entre deux pistes ML_track : cette contrainte est par exemple générée lorsqu’un utilisateur indique que deux pistes doivent correspondre à la même identité, Une contrainte de non association entre une piste et une identité CL_Id : cette contrainte est par exemple générée à partir d’informations utilisateurs ou capteurs, Une contrainte de non association entre deux pistes CL_track : cette contrainte est par exemple générée à partir d’indications spatio-temporelles relatives à des contraintes de non ubiquité ou de non téléportation.
En particulier, certaines contraintes sur l’évolution spatio-temporelle d’un individu dans la scène peuvent être prises en compte. Par exemple, une première contrainte de non ubiquité peut être prise en compte afin d’éviter l’attribution de la même identité à deux individus présents en même temps dans deux images différentes. Une seconde contrainte de non téléportation ou non déplacement à grande vitesse consiste à vérifier une certaine cohérence dans le déplacement spatio-temporel d’un individu.
Par exemple, une contrainte de non ubiquité peut être calculée de la façon suivante.
Si on note t s1 ,t e1 et t s2 ,t e2 les instants de début et de fin de deux pistes de suivi 1 et 2. Une contrainte de non ubiquité à respecter est donnée par la relation suivante : . Autrement dit les deux pistes de suivi 1 et 2 ne peuvent pas être associées à la même identité si cette relation n’est pas respectée. Ainsi, si cette condition n’est pas vérifiée, une contrainte de non association est générée pour ces deux pistes.
Il est par ailleurs entendu, sans qu’il soit nécessaire de le préciser, que les dimensions de la base rectangulaire de l’empilement sont voisines et inférieures aux dimensions de la section centrale. Notamment, les dimensions de la section centrale sont avantageusement adaptées pour ménager un jeu entre l’empilement et la section centrale.
Ce jeu peut notamment être inférieur à 300 micromètres, avantageusement inférieur à 200 micromètres, encore plus avantageusement inférieur à 100 micromètres.
Il est entendu que le jeu est considéré selon deux directions perpendiculaires appartenant à un plan parallèle à la face avant, chacune de ces deux directions appartenant à un plan défini par une paroi centrale.
La et une représentation schématique et selon une vue en perspective d’une plaque de centrage selon un premier mode de réalisation de la présente invention.
La plaque de centrage 10 représentée sur cette a la forme d’un disque. L’invention ne doit cependant pas être limitée à cet aspect, et l’homme du métier pourra, sur la base de l’énoncé de la présente invention, en adapter les principes et considérer d’autres formes. Par exemple, l’homme du métier pourra considérer une plaque de forme rectangulaire ou carrée.
La plaque de centrage 10 représentée à la comprend deux faces parallèles entre elles dites, respectivement, face avant 11 et face arrière 12, et reliées par un contour 13. Une ou plusieurs (par exemple quatre) encoches 14 peuvent être disposées au niveau du contour 13. Les encoches 14, réparties selon un pas angulaire constant, permettent notamment d’orienter la plaque de centrage 10.
La plaque de centrage 10 comprend au moins un logement dit logement de centrage 20. L’au moins un logement de centrage 20 peut comprendre une pluralité de logements de centrage 20. Notamment, les logements de centrage 20, tel qu’illustré à la , peuvent être répartis de manière matricielle sur ladite plaque de centrage.
Par « répartis de manière matricielle », on entend un ensemble de lignes et de colonnes aux intersections desquelles sont formés les logements de centrage. Il est entendu que les lignes considérées sont parallèles entre elles. De manière équivalente, les colonnes considérées sont parallèles entre elles, et non parallèles avec les lignes. Toujours de manière avantageuse, les colonnes sont perpendiculaires aux lignes.
Par ailleurs, les dimensions des logements de centrage 20 peuvent ne pas être identiques d’un logement à l’autre. Cet aspect permet notamment de considérer des empilements de dimensions différentes.
A contrario, l’ensemble des logements de centrage 20 d’une plaque de centrage 10 peuvent être identiques.
Chaque logement central 20 débouche par la face avant 11 de manière à permettre le positionnement d’un empilement dans chaque logement central 20 par la face avant 11.
Selon ce premier mode de réalisation, chaque logement de centrage 20 de centrage comprend une section centrale 21 de forme rectangulaire.
La section centrale 21 (illustrée à la ), de forme rectangulaire, est délimitée par quatre parois, dites parois centrales 23, et est destinée à loger, au moins pour partie, l’empilement. Les quatre parois centrales 23 présentent une empreinte rectangulaire dont les dimensions conditionnent les dimensions de la base rectangulaire de l’empilement destiné à être logé au moins partiellement dans la section centrale 21. En outre, il entendu que les quatre parois centrales 23 sont perpendiculaires à la face avant 11. Par ailleurs, l’intersection entre deux parois adjacentes forme un coin dit coin de centrage 23a.
Chaque logement de centrage 20 comprend au moins deux guides de centrage 24 configurés pour assurer le guidage et le centrage selon une orientation prédéterminée de l’empilement lors de son positionnement dans la section centrale. Notamment, les au moins deux guides de centrage 24 sont configurés pour assurer le guidage de l’empilement selon un mode de liaison glissière. Plus particulièrement, chaque guide de centrage est configuré pour coopérer avec une arrête de l’empilement. A cet égard, la mise en œuvre de deux guides coopérant avec deux arrêtes opposées de l’empilement est suffisante pour assurer les fonctions de guidage et de centrage dudit empilement. Toutefois, il est possible de considérer 3 ou 4 guides de centrage.
Par « coopérer avec une arrête », on entend un guide de centrage configuré pour former un appuis de part et d’autre, et à proximité, de l’arrête considérée.
Selon ce premier mode de réalisation, chaque guide de centrage 24 est formé, au moins pour partie, en correspondance avec deux coins de centrage opposés de la section centrale considérée.
De manière avantageuse, le dispositif microélectronique FET peut être tel que : - chacune des régions de source / drain soit disposée dans une cavité comprenant des parois latérales formées au moins par les espaceurs diélectriques et par un matériau diélectrique d’isolation ; - les deuxièmes zones de la couche de semi-conducteur recouvrent au moins une partie des parois des cavités dans lesquelles sont disposées les régions de source / drain.
Dans la configuration ci-dessus, les surfaces de contact des régions de source / drain avec la couche de semi-conducteur sont maximisées grâce à l’utilisation de la surface des parois des cavités, et avantageusement l’ensemble de la surface des parois de la cavité, pour former le contact entre les deuxièmes zones de la couche de semi-conducteur et les régions de source / drain, ce qui permet d’avoir de très faibles résistances de contact des régions de source / drain, et donc un plus fort courant parcourant le canal de conduction du dispositif.
Le dispositif microélectronique comporte plusieurs grilles de commande électrostatique distinctes, espacées les unes des autres et disposées sur la première zone de la couche active. Dans cette configuration, le dispositif microélectronique comporte une architecture de type « Reconfigurable FET ».
Le dispositif microélectronique FET peut comporter en outre au moins une portion diélectrique entourée par la première zone de la couche de semi-conducteur.
En variante, la première zone de la couche de semi-conducteur peut ne pas entourer de portion diélectrique.
De manière avantageuse, l’invention peut s’appliquer pour la réalisation de composants CMOS pour les nœuds technologiques 5 nm et sub-5nm.
L’invention concerne également un procédé de réalisation d’un dispositif microélectronique FET, comprenant au moins : a) réalisation d’au moins une portion de matériau temporaire sur un substrat, puis b) réalisation, au moins sur la portion de matériau temporaire, de plusieurs grilles de commande électrostatique distinctes et espacées les unes des autres, et d’espaceurs diélectriques disposés contre des flancs de chacune des grilles de commande électrostatique, puis c) gravure de la portion de matériau temporaire, puis d) réalisation d’une couche de semi-conducteur comprenant au moins une première zone configurée pour servir de canal de conduction électrique du dispositif microélectronique FET, disposée sous les grilles de commande électrostatique et les espaceurs diélectriques dans au moins un emplacement formé par la gravure de la portion de matériau temporaire, et telle que la couche de semi-conducteur se prolonge, sans discontinuité avec la première zone, en formant des deuxièmes zones couvrant au moins une partie des flancs des espaceurs diélectriques et qui ne sont pas disposées directement contre les grilles de commande électrostatique, puis e) réalisation, sur le substrat, de régions de source / drain couplées électriquement à la première zone de la couche de semi-conducteur par les deuxièmes zones de la couche de semi-conducteur, et telles que les deuxièmes zones de la couche de semi-conducteur s’étendent entre les régions de source / drain et les espaceurs diélectriques.