INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le procédé de traitement de l’invention peut être mis en œuvre par un dispositif 6 dont un exemple est illustré schématiquement sur la . Le dispositif 6 illustré est destiné à de la trempe chimique par immersion dans un bain liquide. Le dispositif 6 comporte avantageusement, une enceinte de four 60 et combinés dans cette enceinte, une chambre de pré-traitement thermique 61 et une chambre de trempe chimique 62. L’enceinte de four 60 comporte des éléments chauffants 63 qui sont agencés dans chacune des chambres et des capteurs de température 64. Les éléments chauffants 63 et les capteurs de température 64 sont connectés à un système 7 de contrôle et de régulation des températures qui est extérieur à l’enceinte. La chambre de trempe chimique 62 comporte un bain de trempe chimique 65. Le dispositif 6 comporte un panier 66 dans lequel sont destiné à être placés plusieurs articles 1 à traiter. Le dispositif 6 est conçu pour acheminer les articles 1 de la chambre de pré-traitement thermique 61 à la chambre de trempe chimique 62 sans mettre les articles en contact avec l’environnement ambiant extérieur aux chambres. A cet effet, le dispositif 6 comporte un élément de séparation 67 des chambres, tel qu’une trappe ou une cloison, qui est mobile et/ou amovible, et de préférence des moyens automatisés de transport 68 du panier 66 d’une chambre à une autre afin d’amener le panier de la chambre de pré-traitement thermique 61 jusque dans le bain de trempe chimique 65 ( ) et de l’en extraire après le traitement de trempe chimique. Dans l’exemple illustré, la trempe chimique est effectuée dans un bain 65 d’une solution de trempe chimique.
Des tests ont été réalisés afin de montrer l’intérêt du procédé de traitement de l’invention, dont les résultats sont résumés dans les tableaux 1 et 2.
Pour chacun des exemples, la trempe chimique est faite soit par immersion, soit par pulvérisation, et subit ou non un pré-traitement thermique : Exemple 1 : l’article 1 comprend un support 2 en porcelaine blanche dure émaillée (couche d’émail 3), un décor 4 référencé D1 constitué d’un aplat de couleur de 10 µm d’épaisseur, et une couverte 5 référencée C1 et d’épaisseur 9 µm. L’article a subi une trempe chimique par immersion dans un bain de nitrate de potassium KNO 3 liquide à 420°C durant 240 mn sans pré-traitement thermique ; Exemple 2 : l’article 1 comprend un support 2 en porcelaine blanche dure émaillée (couche d’émail 3), un décor 4 référencé D1 constitué d’un aplat de couleur de 10 µm d’épaisseur, et une couverte 5 référencée C1 et d’épaisseur 9 µm. L’article a subi une trempe chimique par immersion dans un bain de nitrate de potassium KNO 3 liquide à 470°C durant 360 mn avec un pré-traitement thermique à 800°C (au-dessus de la température de transition vitreuse de la couverte C1) durant 15 mn. L’exemple 2 diffère donc de l’exemple 1 par le pré-traitement thermique et par la température du bain un peu supérieure et la durée du traitement de trempe chimique supérieure ; Exemple 3 : l’article 1 comprend un support 2 en porcelaine blanche dure émaillée (couche d’émail 3), un décor 4 référencé D1 constitué d’un aplat de couleur de 10 µm d’épaisseur, et une couverte 5 référencée C1 et d’épaisseur 9 µm. L’article a subi une trempe chimique par pulvérisation d’une barbotine de trempe chimique comprenant du nitrate de potassium KNO 3 et a été chauffé avec la barbotine à 450°C durant 240 mn avec un pré-traitement thermique à 800°C durant 15 mn ; Exemple 4 : l’article 1 comprend un support 2 en porcelaine blanche dure émaillée (couche d’émail 3), un décor 4 référencé D1 constitué d’un aplat de couleur de 10 µm d’épaisseur, et une couverte 5 référencée C2 différente de la couverte C1, et d’épaisseur 9 µm. L’article a subi une trempe chimique par immersion dans un bain de nitrate de potassium KNO 3 liquide à 450°C durant 240mn, avec un pré-traitement thermique à 600°C durant 45 mn. Exemple 5 : l’article 1 comprend un support 2 en porcelaine blanche dure émaillée (couche d’émail 3), un décor 4 référencé D2 différent du décor D1 par son épaisseur de 25 µm, et une couverte 5 référencée C1. L’article a subi une trempe chimique par immersion dans un bain de nitrate de potassium KNO 3 liquide à 470°C durant 240 mn avec un pré-traitement thermique à 800°C durant 15 mn.
Pour chacun des exemples 1 à 5, il a été mesuré la colorimétrie avant la mise en œuvre du procédé de traitement de l’invention et après sa mise en œuvre afin d’établir si le procédé a tendance ou non à modifier les couleurs du décor. Les coordonnées L a* b* ont été mesurées au moyen d’un colorimètre MINOLTA CR-300 sous Illuminant D65, en cinq points de mesures sur chaque pièce. Il a ensuite été calculé l’écart de couleur ΔE (selon la méthode de mesure de différence visuelle établie en 1976 par la CIE) entre l’article avec et sans mise en œuvre du procédé de traitement de l’invention. Les résultats, exprimés en termes de ΔE, sont présentés dans les tableaux. Il est généralement admis qu’un écart de couleur ΔE inférieur à 1 n’est pas distinguable par l’œil humain et donc que la différence de couleur associée est négligeable et qu’un écart de couleur ΔE compris entre 1 et 2 est uniquement perceptible par un œil expérimenté sous un éclairage spécifique.
Il a également été mesuré les taux de libération de cobalt en microgramme par kilogramme de simulant alimentaire (μg/kg) pour l’article de chacun des exemples et pour un même article correspondant à chacun des exemples mais n’ayant pas subi le procédé de traitement de l’invention. La méthode de test (migration spécifique) et de mesure consiste à réaliser trois mises en contact successives de 24h à 22°C de la couverte 5 avec un simulant alimentaire qui est un acide acétique concentré à 4%, et à doser les ETM du simulant après la troisième mise en contact. Le dosage des ETM est réalisé par un dispositif de spectrométrie de masse à plasma à couplage inductif (ICP-MS). Puis il est calculé le facteur de gain de migration des ETM. Pour les cinq exemples, il a été dosé le taux cobalt relargué. Le facteur de gain Co(0)/Co est le rapport entre le taux de cobalt mesuré pour l’article sans traitement (Co(0)) et le taux de cobalt mesuré pour l’article traité (Co). Les résultats du facteur de gain Co(0)/Co sont donnés dans les tableaux. Pour l’exemple 5 dont le décor est bien plus épais, il a en outre été mesuré le relargage d’aluminium (par la même méthode de mesure et de calcul que pour le cobalt).
Facteur de gain Co(0)/Co Exemple 1 (D1, C1, immersion, sans pré-traitement thermique) 1,9 1,7 Exemple 2 (D1, C1, immersion, avec pré-traitement thermique) 1 7,5 Exemple 3 (D1, C1, pulvérisation, avec pré-traitement thermique) 0,5 10,4 Exemple 4 (D1, C2, immersion, avec pré-traitement thermique) 2,6 35,1 Exemple 5 (D2, C1, immersion, avec pré-traitement thermique) 0,5 8,4
Exemple 5 (D2, C1, immersion, avec pré-traitement thermique) Facteur de gain Co(0)/Co 8,4 Facteur de gain Al(0)/Al 13
Les résultats du procédé de traitement de l’invention sont par conséquent très positifs. En termes de couleur, les mesures effectuées sur tous les exemples confirment l’impression visuelle générale, à savoir une très bonne stabilité des couleurs après test de trempe (un écart ΔE inférieur à 3, majoritairement inférieur à 2). Les résultats des exemples montrent que le procédé de traitement de l’invention permet de diminuer la libération des ETM : en appliquant ne serait-ce qu’une trempe chimique sur l’exemple 1, on parvient à diminuer le relargage du cobalt de près de 50% (gain de 1,7) par rapport à un article qui n’est pas traité ; le pré-traitement thermique permet encore d’améliorer la performance de la couverte en tant que couche barrière, comme le montre l’exemple 2 dont le facteur de gain est de 7,5 par rapport à l’exemple 1 dont le facteur de gain est de 1,7, soit un facteur de gain multiplié par plus de 4 ; la trempe chimique par pulvérisation (avec pré-traitement thermique) permet également de diminuer le relargage de cobalt, le facteur de gain de l’exemple 3 atteignant 10,4 ; la nature de la couverte, combinée au procédé de traitement de l’invention, peut avoir une influence sur la diminution du relargage ; en effet, comme le montre les exemples 2 et 4 qui subissent les mêmes traitements (pré-traitement thermique et immersion) avec cependant une couverte de nature différente, on parvient à multiplier par plus de 4 la diminution du cobalt en passant de 7,5 à 34,1 ; par ailleurs, on constate qu’avec la même couverte, pour un décor plus épais (exemple 5) le résultat de diminution de relargage du cobalt reste significatif en étant de 8,4 par rapport 7,5 ; enfin, pour l’exemple 5 à couche épaisse de décor, le procédé de traitement de l’invention permet également une diminution très significative non seulement du cobalt mais également de l’aluminium (tableau 2)
Par conséquent, le procédé de traitement de l’invention conduit à un article en porcelaine décorée dont la couverte présente des propriétés de couche barrière bien plus efficaces que sans traitement de trempe chimique.
LIANT DE CONSTRUCTION ET MATÉRIAU DE CONSTRUCTION ASSOCIÉ L’invention concerne le domaine de la construction et plus particulièrement celui des matériaux de construction bas carbone. En particulier, elle concerne un liant de construction comportant une matrice argileuse crue, un activateur et au moins deux précurseurs dont une matrice argileuse calcinée. En outre, l’invention concerne un matériau de construction produit à partir d’un liant de construction selon l’invention.
Le ciment est la deuxième ressource la plus consommée au monde, avec plus de 4 milliards de tonnes produites chaque année dans le monde. Cette consommation est en constante augmentation, portée par la demande croissante de logements et d'infrastructures. Le ciment est notamment utilisé pour la fabrication d’éléments de maçonnerie qui reposent sur des matériaux cimentaires en tant que liants. En raison du développement constant de nouvelles infrastructures dans la plupart des pays du monde, il existe une demande permanente pour l’approvisionnement en liants de construction, plus particulièrement des matières premières pour la formation de ciment Portland. Cependant, la production et l’utilisation du ciment Portland est associée à une empreinte environnementale élevée. Le ciment utilisé dans le domaine de la construction est généralement un ciment Portland. C’est un liant hydraulique qui, mélangé à de l’eau, durcit et prend en masse. Après durcissement, le ciment conserve sa résistance ainsi que sa stabilité et cela même exposé à l’eau. Il existe une grande variété de ciments utilisés par le monde. Néanmoins, tous les ciments conventionnels comportent un clinker à un pourcentage variant de 5 % pour certains ciments de hauts fourneaux à un minimum de 95 % pour le ciment Portland qui est le ciment aujourd’hui le plus utilisé par le monde. Le clinker résulte de la cuisson d'un mélange composé d'environ 80 % de calcaire et de 20 % d'aluminosilicates (tels que des argiles). Cette cuisson, la clinkérisation, se fait généralement à une température de plus de 1200°C, un tel processus de préparation de ciments implique donc une forte consommation énergétique. De plus, la conversion chimique du calcaire en chaux libère également du dioxyde de carbone. En conséquence, l’industrie du ciment génère environ 8% des émissions mondiales de CO 2 .
En effet, il est estimé que la fabrication d’un liant de construction de type Portland génère en moyenne 0,8 kg de CO 2 par kg de clinker de ciment Portland produit. Différentes solutions ont donc été développées pour tenter de remplacer au moins partiellement certains composants des liants de construction utilisés pour la formation des ciments de type Portland. Ces solutions visent principalement à réduire l’empreinte carbone.
L’argile a été évitée jusqu’à récemment car de faibles concentrations suffisaient à interagir négativement avec des superplastifiants tels que les PCE utilisés dans les bétons. Ainsi, dans le béton, les argiles brutes ont été longtemps considérées comme une impureté apportée par exemple par les granulats (e.g. sable). Une faible teneur en argile inhibe l’effet des plastifiants et superplastifiants et a un impact négatif sur la demande en eau du béton. Cela induit une forte augmentation de la quantité d’eau nécessaire pour obtenir un écoulement donné, aboutissant à une perte de performances mécaniques sur le produit durci. Pourtant, il a été montré récemment que la préparation de liant de construction à partir d’argile crue, ajoutée avant même l’ajout de charges, pouvait permettre la génération de matériaux de construction présentant des niveaux élevés de résistance mécanique (WO22157209, EP3932886, WO20178538, WO20141285).
De préférence, le procédé de traitement des matières kératiniques, notamment de la peau et/ou des lèvres et/ou des cils et/ou des sourcils, et les compositions « C1 », « C2 », « C3 », « C4 » ou « C5 » mettent en œuvre ou comprennent une ou plusieurs matières colorantes différentes de la Rhodamine B, de préférence choisies parmi les pigments, les colorants directs, anioniques, cationiques, zwitterioniques ou neutres, non fluorescents ou fluorescents, mais différents de la Rhodamine B, et leurs mélanges ; plus préférentiellement le ou les pigments de l’invention sont choisis parmi le noir de carbone, les oxydes de fer notamment jaunes, rouges et noir et les micas enrobés d’oxyde de fer, les pigments triarylméthane notamment bleu et violets tel que le BLUE 1 LAKE, les pigments azoïques notamment rouges tels que le D&C RED 7 sel de métal alcalin de rouge de lithol tel que le sel de calcium du rouge de lithol B, encore plus préférentiellement les oxydes de fer rouge, oxydes de fer jaune et les pigments azoïques notamment rouges tels que le D&C RED 7.
Phase grasse – Corps gras Selon un mode de réalisation particulier, le procédé de l’invention met en œuvre en outre v) un ou plusieurs corps gras, en particulier une ou plusieurs huiles, de préférence volatiles.
En particulier, au moins une des compositions « C1 », « C2 », « C3 », « C4 » ou « C5 », en particulier au moins la composition « C4 », mises en œuvre dans le procédé de l’invention contient une phase grasse.
En particulier, au moins une des compositions « C1 », « C2 », « C3 », « C4 » ou « C5 » », en particulier au moins la composition « C4 », mises en œuvre dans le procédé de l’invention comprend un ou plusieurs corps gras, en particulier une ou plusieurs huiles, de préférence volatiles.
Les inverseurs INVA, INVB de l’étage 110 de tirage aléatoire sont couplés, pour leur alimentation haute, à un premier élément de polarisation, par exemple une ligne d’alimentation LVdd, permettant de délivrer un potentiel d’alimentation haut par exemple Vdd.
Un élément interrupteur, en particulier un transistor 115 interrupteur, ici de type NMOS, est agencé entre un deuxième élément de polarisation et l’étage 110. La grille du transistor 115 interrupteur est commandée par le signal d’activation RAND_ENABLE prévu pour activer une phase d’initialisation déterministe aléatoire.
Le deuxième élément de polarisation, par exemple une ligne d’alimentation LGND, est prévu pour délivrer un potentiel de référence ou de masse GND.
Le circuit d’initialisation 100i est ici également pourvu d’un étage 102 de commutation, doté de transistors 103, 104, en particulier de type PMOS, qui permet de connecter les deux nœuds de sortie NA et NB à un même potentiel, ici un potentiel haut Vdd hors des phases d’initialisation déterministe aléatoire. Les grilles des transistors 103, 104, sont également commandées par le signal d’activation d’initialisation RAND_ENABLE. Hors desdites phases d’« initialisation déterministe aléatoire», le transistor 115 interrupteur isole l’étage 110 du deuxième élément de polarisation, ce qui participe à un maintien des nœuds de sortie NA et NB de l’étage 110 de tirage à un même potentiel en association avec l’action de l’étage de commutation susmentionné.
Le transistor interrupteur 115 est ici prévu pour, consécutivement à la réception ou au changement d’état du signal d’activation d’initialisation RAND_ENABLE, connecter les inverseurs INVA, INVB à la ligne d’alimentation LVss dite « basse », ce qui permet aux nœuds NA et NB de pouvoir pour l’un de se maintenir, et pour l’autre de se décharger.
Lors de phases d’initialisation déterministe aléatoire, l’étage 102 de commutation permet d’isoler les deux nœuds de sortie NA et NB du potentiel d’alimentation haut Vdd, pour permettre aux nœuds de sortie NA et NB de l’étage 110 de s’établir à des potentiels différents, une fois l’étage 110 réalimenter par la mise en conduction du transistor 115.
L’étage 102 de commutation est avantageusement doté ici en outre d’un transistor 105 supplémentaire de commutation, par exemple de type PMOS, entre le premier nœud NA et le deuxième nœud NB afin d’assurer une bonne égalisation des potentiels « de départ » de ces deux nœuds préalablement à la mise sous-tension de l’étage 110 lors de la réalisation d’un nouveau tirage aléatoire.
Le transistor 105 dont la grille est commandée par le signal d’activation d’initialisation RAND_ENABLE est ainsi configuré pour, lors des phases d’« initialisation déterministe aléatoire, isoler l’un de l’autre les nœuds de sortie NA, NB de l’étage 110 de tirage et les connecter l’un à l’autre les nœuds de sortie de l’étage 110 de tirage en dehors de cette phase de tirage aléatoire.
Le circuit 100 d’initialisation comprend également ici un étage de couplage 130 formé ici d’un transistor 131, en particulier de type PMOS, agencé entre le premier nœud NA et la première ligne de bit BLT de la colonne COLi et d’un autre transistor 132, en particulier de type PMOS, agencé entre le deuxième nœud NB et la deuxième ligne de bit BLF de la colonne COLi. Dans l’exemple de réalisation particulier donné sur la , on prévoit également des inverseurs 123, 124 entre les nœuds NA, NB et l’étage 130 de couplage.
Les grilles respectives des transistors 131, 132 sont commandées par un signal qui dépend du signal RAND_ENABLE, ici en particulier un signal en sortie d’un inverseur 119, fournissant un signal complémentaire du signal RAND_ENABLE.
Hors des phases d’initialisation déterministe aléatoire (RAND_ENABLE = 0), les nœuds NA, NB sont isolés des lignes de bits BLTi, BLFi. Il s’ensuit dans cet exemple de réalisation que les lignes de bits BLTi, BLFi sont pilotées pour réaliser une initialisation libre des cellules mémoire ; les transistors d’accès des cellules étant en complément rendus non conducteurs pour éviter toute influence résiduelle des lignes de bits sur les cellules mémoire, même si les lignes de bits ne sont pas alimentées.
Lors des phases d’initialisation déterministe aléatoire (RAND_ENABLE = 1), les nœuds de sortie NA, NB sont connectées aux lignes de bits BLTi, BLFi afin de pouvoir charger ou décharger les lignes de bits BLTi, BLFi respectivement à un potentiel donné qui dépend de celui auquel s’est établi le premier nœud NA de sortie de l’étage 110 de tirage aléatoire et à un autre potentiel qui dépend de celui auquel s’est établi le deuxième nœud NB et qui correspond à un état logique complémentaire de celui auquel correspond le potentiel donné.
On impose ainsi de cette manière un même état logique à toutes les cellules de la colonne COLi qui sont initialisées par le circuit d’initialisation 110i, cet état logique étant établi de manière aléatoire par la sortie de l’étage 110 de tirage aléatoire. Pour permettre d’initialiser les cellules d’une même colonne, le circuit d’initialisation est typiquement relié à des moyens d’activation simultanée de tout ou partie des lignes de mots de la matrice de cellules.
Sur les figures 4A-4B, deux phases successives d’initialisation déterministe aléatoire d’une même colonne sont illustrées.
Lors d’une première initialisation ( ), consécutivement à la réception ou au changement d’état du signal d’activation RAND_ENABLE, par exemple un front descendant de ce signal RAND_ENABLE, les nœuds NA, NB de sortie sont mis respectivement à un premier potentiel et à un deuxième potentiel (parmi un potentiel haut VDD et un potentiel bas GND ou de référence), de sorte à charger respectivement les lignes de bits BLTi, BLFi au premier ou deuxième potentiel afin d’imposer aux nœuds NT des cellules de cette colonne, un même état logique, en particulier ‘1’ ou ‘0’, et aux nœuds NF des cellules de cette colonne un même état logique en particulier un ‘0’ ou ‘1’.
La , sert à illustrer une phase d’initialisation déterministe aléatoire effectuée sur deux colonnes distinctes d’une même matrice.
En outre, dans la description, l'angle de la rainure dans la vue en plan de la bande de roulement est mesuré au niveau de la ligne médiane de la rainure. De plus, sauf indication contraire, l'angle de la rainure désigne l'angle moyen de la rainure. L'angle moyen de la rainure est une valeur obtenue en divisant de manière égale la ligne médiane de la rainure en une pluralité de régions minuscules et en divisant la somme des angles des régions minuscules par le nombre de régions minuscules. La région minuscule est de préférence aussi petite que possible et a une longueur qui est, par exemple, égale ou inférieure à 5 mm. La même chose s'applique aux angles, par exemple, des parois de rainure qui seront décrites ci-dessous.
La largeur de la première partie de rainure 21 diminue de manière continue vers la rainure circonférentielle extérieure 4. En outre, la première partie de rainure 21 comprend deux bords de rainure qui s'étendent linéairement, et un angle θ13 entre les deux bords de rainure est de 5° à 10°. Par conséquent, comme illustré sur la , la largeur de chacune de la pluralité de premières rainures latérales d'épaulement extérieur 20 diminue de manière continue vers la rainure circonférentielle extérieure 4. En conséquence, la première partie de rainure 21 sert à supprimer l'usure inégale de la partie de sol d'épaulement extérieur 7.
Comme illustré sur la , la deuxième partie de rainure 22 comprend deux bords de rainure qui s'étendent linéairement, et les deux bords de rainure s'étendent parallèlement l'un à l'autre. Par conséquent, la deuxième partie de rainure 22 comprend une partie qui s'étend avec une largeur constante. Une longueur L10 de la deuxième partie de rainure 22 dans la direction axiale de pneumatique est de 30 % à 45 % de la longueur L9 (illustrée sur la ) de la première rainure latérale d'épaulement extérieur 20. En outre, dans ce mode de réalisation, la position où l'angle de la ligne médiane de la rainure change est la frontière entre la première partie de rainure 21 et la deuxième partie de rainure 22.
Il est souhaitable que la partie de sol d'épaulement extérieur 7 soit pourvue d'une pluralité de deuxièmes rainures latérales d'épaulement extérieur 25 qui traversent la première extrémité extérieure de contact au sol T1o et qui ont des extrémités interrompues 25a entre la première extrémité extérieure de contact au sol T1o et la rainure circonférentielle extérieure 4 comme illustré sur la . Les deuxièmes rainures latérales d'épaulement extérieur 25 selon ce mode de réalisation sont agencées avec une longueur de pas qui est la même que la longueur de pas avec laquelle les premières rainures latérales d'épaulement extérieur 20 sont agencées. De plus, les premières rainures latérales d'épaulement extérieur 20 et les deuxièmes rainures latérales d'épaulement extérieur 25 sont agencées en alternance dans la direction circonférentielle de pneumatique. En outre, les premières rainures latérales d'épaulement extérieur 20 et les deuxièmes rainures latérales d'épaulement extérieur 25 sont inclinées dans la même direction par rapport à la direction axiale de pneumatique. Les deuxièmes rainures latérales d'épaulement extérieur 25 peuvent améliorer les performances sur sol mouillé tout en supprimant l'usure inégale de la partie de sol d'épaulement extérieur 7.