INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dispositifs WAIM à base de couches diélectriques
Le premier concept de dispositif WAIM a été proposé par les auteurs de [1]. Ils proposaient de corriger la dispersion de la susceptance de l’impédance d’entrée active, causée par le couplage mutuel entre les éléments du réseau, au moyen d'une couche diélectrique. Cette couche peut être considérée comme une susceptance pure qui compense la dispersion de celle des éléments du réseau lors du dépointage.
En général, ces couches ont des performances limitées, et l'effet de la couche est principalement observé pour un balayage dans le plan H, améliorant l'angle de dépointage maximal de l'antenne de 27°. Cependant, de tels dispositifs ne sont pas capables d'agir avec le plan E de manière indépendante. Ils ne disposent en effet pas de suffisamment de degrés de liberté pour mener une optimisation conjointe efficace dans les deux plans. Par ailleurs, ces couches sont dimensionnées à une fréquence donnée et, bien qu’elles ne mettent pas en œuvre de mécanisme résonant, leurs performances en bande passante sont limitées. En outre, ces couches, étant constituées de matériaux diélectriques, elles sont limitées aux matériaux disponibles et présentent les inconvénients inhérents à ces matériaux, tels que les pertes intrinsèques, le dégazage dans l'espace, ou la grande sensibilité à la température.
Dispositifs WAIM à base de métasurfaces monocouches et multicouches
Un deuxième type de dispositif WAIM est constitué de métasurfaces monocouches. Ceux-ci utilisent comme base une couche diélectrique sur laquelle sont positionnés des motifs métalliques périodiques dont la taille n’excède pas quelques dixièmes de longueur d’onde. Cela leur confère des caractéristiques que l'on ne trouve pas dans les matériaux naturels, comme la permittivité ou la perméabilité négative. Surtout, la susceptance artificielle ainsi générée peut plus facilement être réglée pour répondre à des contraintes spécifiques en termes de comportement angulaire, de dispersion ou de propriétés d’isotropie. En pratique, les principaux travaux présentés font état d’amélioration dans le plan H avec une amélioration de l'adaptation de à 55° dans [2], jusqu’à 80° dans [3] et dans l’intervalle θ = [75°,105°] dans [4].
Ces couches, grâce aux motifs imprimés implantés, ont plus de degrés de liberté, ce qui permet plus facilement d’optimiser leurs performances pour des objectifs variés, au prix toutefois d’un processus de mise au point plus complexe. Par exemple, l’utilisation d’un motif présentant une invariance par rotation de 90° conduira à un comportement identique pour deux polarisations linéaires orthogonales.
Cependant, ces dispositifs étant basés sur l’utilisation d’un matériau diélectrique, ils héritent des inconvénients associés, tels que les pertes intrinsèques, le dégazage dans l'espace, ou la grande sensibilité à la température.
Dans un deuxième mode de fonctionnement, les étapes mises en œuvre précédemment peuvent être répétées dans une ou plusieurs autres sous-bandes du spectre RF comprenant un ou plusieurs signaux souhaités.
Dans un troisième mode, il est possible de répéter les étapes mises en œuvre précédemment en masquant un ou plusieurs signaux indésirables dans le spectre, lorsque de tels signaux indésirables ont été identifiés précédemment. Pour ceci, il est possible de choisir les instants de mise en œuvre des étapes d’identification de fréquence de façon à éviter la présence de ce ou ces signaux indésirables dans le spectre analysé et/ou à annuler ce ou ces signaux précédemment identifiés dans le spectre analysé (par l’intermédiaire d’une soustraction de ce ou ces signaux). Ceci est similaire à une augmentation de la dynamique de traitement de la chaîne de réception par séparation des signaux grâce aux premiers et deuxièmes filtres passe-bande complexes de bande de base 140 1 -140 N , 142 1 -142 N , en tirant avantage de l’analyse du signal ou des signaux les plus forts dans un filtre dédié et en annulant ce ou ces signaux à travers une boucle de rétroaction.
Le pilotage des circuits du dispositif 100, à savoir l’envoi de signaux dans les divers circuits du dispositif 100 et le réglage des paramètres de ces circuits, peuvent être réalisés par un circuit de commande.
Les divers circuits du dispositif 100 peuvent être mis en œuvre sous la forme d’une puce de semi-conducteur.
En variante à la configuration montrée sur la , le dispositif 100 peut comprendre les filtres 140 1 -140 N , 142 1 -142 N et les blocs 200 1 -200 N , 202 1 -202 N , 222 1 -222 N , mais pas les blocs 200, 202 et 222. Dans cette variante, les éléments caractéristiques du signal reçu sont extraits seulement pour les différentes sous-bandes définies par les filtres 140 1 -140 N , 142 1 -142 N , et non à partir du spectre RF entier.
Dans tous les modes de réalisation décrits précédemment, il est possible que les filtres passe-bas 112, 116 correspondent à des filtres passe-bas complexes ou réels.
Procédé de détermination du type de chimie d’une batterie électrique rechargeable. La présente invention concerne le domaine des batteries électriques rechargeables, en particulier Li-ion.
Les batteries électriques Li-ion sont rechargeables. Elles emploient différents matériaux constitutifs pour leur anode et leur cathode. En fonction du choix de ces matériaux, les batteries présentent des tensions d’usage différentes.
On distingue actuellement les 3 familles suivantes de technologies Li-ion. Les batteries à tension haute, ou haute densité d’énergie, qui comprennent des anodes à base de graphite, et des cathodes à base de Cobalt, notamment à base d’oxyde de Nickel-Cobalt-Manganese ou NMC, ou à base d’oxyde de Nickel-Cobalt-Aluminium, ou NCA, ou encore LMO pour Lithium Manganese Oxide par anglicisme ou LiMnO2.
Ces batteries présentent une tension d’utilisation généralement comprise entre 2.5V et 4.2V, avec une tension nominale généralement comprise entre 3.6 V et 3.7V ; Les batteries à tension moyenne, ou moyenne densité d’énergie, qui comprennent des anodes à base de graphite, et des cathodes à base de LiFePO 4 , ou LFP.
Ces batteries présentent une tension d’utilisation généralement comprise entre 2.0V et 3.6V, avec une tension nominale généralement comprise entre 3.2 V et 3.3V ; Les batteries à tension basse, ou basse densité d’énergie, qui comprennent des anodes à base de titane, ou LTO, et des cathodes LFP, NCA ou NMC.
Ces batteries présentent une tension d’utilisation généralement comprise entre 1.5V et 2.7V, avec une tension nominale généralement comprise entre 1.9V (avec une cathode LFP) et 2.3V (avec une cathode NCA).
Dans toute la suite de la demande, on s’intéresse plus particulièrement à distinguer entre les chimies de batteries à tension haute et tension moyenne. A ce titre, les appellations de batteries NMC / NCA / LMO / LFP de la description seront relatives à des batteries avec anode à base de graphite ou carbone, et non à base titane.
La correspondance entre la tension OCV (en V) aux bornes d’une batterie Li-ion et son état de charge SOC est illustrée sur la en charge (courbe C) et en décharge (courbe D).
Il est clair sur la que la seule mesure de tension OCV aux bornes d’une batterie Li-ion ne permet pas de distinguer une cellule de type NMC / NCA / LMO d’une cellule de type LFP en particulier dans la zone inférieure à environ 3.6 V.
Par simplification, on entend indistinctement les termes « technologie », « chimie » et « électrochimie » d’une batterie.
L'évolution naturelle des métasurfaces monocouches est celle des métasurfaces multicouches. Le principe est le même que pour une couche unique, mais les performances sont un peu plus élevées, grâce à l’ajout de nouveaux degrés de liberté. Des exemples de telles structures sont donnés dans [5]. Le fait d'avoir plus d'une couche donne surtout à la structure la capacité de fonctionner sur une gamme de fréquences plus large, car chaque couche est capable de fonctionner pour un groupe de fréquences spécifique. Ces solutions héritent des mêmes inconvénients que les métasurfaces monocouches et les couches diélectriques.
WAIM à base de structures 3D
Un dernier type de dispositif WAIM concerne l’utilisation de structures 3D tel que décrit par exemple dans [6] qui présente un dispositif qui combine deux structures imprimées orthogonales, elles-mêmes positionnées perpendiculairement au plan de l’ouverture rayonnante (supposé horizontal par convention). La particularité de cette solution est que les deux couches verticales orthogonales du dispositif permettent d’agir sur le balayage dans les plans H et E de manière relativement indépendante. Grâce à cela, le domaine angulaire du balayage dans le plan E est amélioré de 10° tandis que celui dans le plan H est amélioré de 39°. Ce travail montre l’intérêt de positionner des éléments métalliques perpendiculairement à la surface rayonnante (ici verticalement).
Toutefois, il ne réussit pas à exploiter complètement cet avantage, et ceci pour deux raisons principales. La première tient au fait que les deux parties du dispositif WAIM sont verticales, ce qui ne permet pas de dissocier parfaitement les deux plans de balayage. Cet effet de « couplage » est encore accentué ici par l’imbrication entre les deux motifs orthogonaux (le second s’emboitant dans le premier avec un recouvrement partiel entre les deux). La seconde raison, conséquence directe de la première, est que cette structure ne fonctionne que pour une seule polarisation linéaire et ne peut pas, de par sa nature, être étendue à la bipolarisation. En effet, il n’est pas possible en l’état d’appliquer une invariance par rotation de 90° dans le plan horizontal sans perdre la capacité, fût-elle imparfaite, de régler indépendamment l’adaptation dans les plans de balayage E et H. Finalement, la structure requiert un processus de fabrication complexe avec de multiples couches de substrats partiellement métallisées montées orthogonalement. De plus, utilisant des matériaux diélectriques, elle conserve les mêmes inconvénients que les solutions évoquées précédemment.
On connait également des dispositifs d’adaptation d’impédance tels que décrits dans les références [7] et [8].
Il est proposé un nouveau type de dispositif d’adaptation d’impédance à grand angle basé sur un premier écran de transmission dimensionné pour adapter l’impédance active de l’antenne réseau dans le plan H pour une composante du champ électrique en polarisation linéaire et sur l’ajout de piliers métalliques verticaux permettant d’annuler la désadaptation dans le plan E sans effet sur le champ électrique dans le plan H.
L’invention a pour objet un dispositif d’adaptation d’impédance à grand angle pour antenne réseau à éléments rayonnants, comprenant : un écran de transmission ayant une première surface destinée à être positionnée en vis-à-vis du réseau d’éléments rayonnants parallèlement à l’ouverture rayonnante de l’antenne et étant configuré pour adapter l’impédance de l’antenne pour un balayage dans le plan H, et un ensemble de pointes métalliques disposées orthogonalement sur au moins une surface de l’écran de transmission, à l’intersection d’au moins une partie des plans d’antisymétrie respectifs du champ électrique rayonné par l’antenne pour un balayage dans le plan H, pour deux polarisations linéaires selon deux directions orthogonales, ledit ensemble de pointes métalliques étant configuré pour adapter l’impédance de l’antenne pour un balayage dans le plan E.
Selon un aspect particulier de l’invention, l’écran de transmission est une structure composée d’une ou plusieurs couches diélectriques.
Selon un aspect particulier de l’invention, l’écran de transmission est une structure composée de méta-surfaces monocouches ou multicouches sur laquelle est disposée une grille périodique de motifs métalliques.
Selon un aspect particulier de l’invention, l’écran de transmission est une grille périodique de plusieurs cellules, chaque cellule comprenant un cadre de support et au moins une interconnexion interne audit cadre de support, ledit cadre de support étant inscrit dans un prisme, ayant un axe Z’ donné, ledit prisme comprenant faces reliées entre elles par arêtes, orientées selon l’axe du prisme Z’, ledit cadre de support comprenant éléments de coin, chaque élément de coin ayant un bord coïncidant avec une desdites arêtes du prisme, les éléments de coins étant agencés de sorte que le cadre de support présente, sur chaque face du prisme, une fente s’étendant selon l’axe du prisme Z’ ; et en ce que chaque interconnexion interne comprend tiges inductives comprenant chacune deux extrémités, les tiges inductives ayant chacune une première extrémité reliée à un desdits bords du cadre de support, les deuxièmes extrémités des tiges inductives étant reliées entre elles au niveau d’un point de connexion de tiges, ledit point de connexion de tiges étant positionné sensiblement au centre dudit cadre de support dans un plan orthogonal à l’axe du prisme Z’,
Selon un aspect particulier de l’invention, les pointes métalliques sont positionnées dans le prolongement de chaque arête de chacune des cellules.
Selon un aspect particulier de l’invention, une pointe métallique dudit ensemble est positionnée sur ledit point de connexion de tiges.
Selon un aspect particulier de l’invention, les pointes métalliques sont disposées, au moins partiellement, sur la surface de l’écran de transmission opposée à la première surface.
L’invention a pour objet un dispositif antennaire comprenant une antenne réseau à éléments rayonnants aptes à rayonner un champ d’ondes transverses électromagnétiques et un dispositif d’adaptation d’impédance à grand angle selon l’invention et positionné sur ledit réseau d’éléments rayonnants.
Selon un aspect particulier de l’invention, le dispositif d’adaptation d’impédance à grand angle est positionné à une distance non nulle du réseau d’éléments rayonnants.
Selon un aspect particulier de l’invention, le dispositif d’adaptation d’impédance à grand angle est positionné au contact du réseau d’éléments rayonnants.
Ainsi, de préférence, on applique l’étape (S200) de test selon une fréquence, dite « fréquence de test », prédéterminée, qui prévoit d’espacer deux étapes (S200) de test consécutives, pratiquées sur une même membrane de cuisson 10, d’une pluralité d’opérations de cuisson, réalisées avec ladite même membrane de cuisson 10, de sorte que l’on réduit l’impact de la durée de l’étape (S200) de test sur le temps utile de l’installation 1 en répartissant en moyenne cette durée de l’étape (S200) de test sur le nombre d’opérations de cuisson de ladite pluralité d’opérations de cuisson.
A titre d’exemple, on espacera les tests d’étanchéité réalisés conformément à l’étape (S200) de test d’un intervalle d’au moins cinq opérations de cuisson, d’au moins dix opérations de cuisson, voire de cinquante opérations de cuisson.
En d’autres termes, la fréquence de test sera de préférence choisie de sorte que l’on réalise une étape (S200) de test toutes les cinq, ou au moins cinq, étapes de cuisson, de préférence toutes les dix, ou au moins dix, opérations de cuisson, voire toutes les cinquante, ou au moins cinquante, opérations de cuisson.
Plus particulièrement, on pourra donc avoir par exemple une fréquence de test égale à un test toutes les cinquante opérations de cuisson, ou à un test toutes les dix opérations de cuisson, ou égale à un test toutes les cinq opérations de cuisson.
De préférence, fréquence de test augmente avec le nombre d’opérations de cuisson réalisées par la même membrane de cuisson 10 considérée, selon une loi de planification prédéterminée, de sorte que ladite membrane de cuisson 10 soit soumise à une étape (S200) de test d’autant plus fréquemment que le nombre d’opérations de cuisson que ladite membrane de cuisson 10 a réalisées augmente.
En d’autres termes, plus la membrane de cuisson 10 vieillit, plus fréquemment on teste son étanchéité. Ainsi, par exemple, la fréquence de test peut être fixée à un test toutes les cinquante opérations de cuisson pour une membrane de cuisson neuve, puis ramenée à un test toutes les dix opérations de cuisson, puis à un test toutes les cinq opérations de cuisson.
Par ailleurs, on réalise de préférence, tel que cela est visible sur la , en temps masqué lors d’une opération de cuisson, et plus préférentiellement lors de chaque opération de cuisson, tandis que le moule 3 se trouve en configuration de fermeture et alors que la membrane de cuisson 10 est soumise à la pression de cuisson P_cur, par exemple dans les deux à quatre minutes qui précèdent la fin de l’opération de cuisson, une opération de pré-diagnostic selon laquelle on isole la chambre du gonflage 11 en commandant la fermeture de la vanne d’admission 21 et l’on surveille la pression interne régnant dans la membrane de cuisson afin de pouvoir détecter une baisse anormale de la pression interne indicative d’une fuite potentielle, et, en cas de détection d’une telle baisse anormale de la pression interne indicative d’une fuite potentielle durant l’opération de cuisson en cours, on conditionne le démarrage de l’opération de cuisson suivante à la réalisation d’une étape (S200) de test.
En particulier, on peut ainsi, si nécessaire, forcer le déclenchement d’une étape (S200) de test immédiatement après l’étape (S100) d’ouverture du moule qui marque le terme de l’opération de cuisson au cours de laquelle l’opération de pré-diagnostic a détecté une potentielle fuite, peu important la fréquence de test initialement prévue.
Ainsi, si l’on détecte pendant l’opération de cuisson, et donc avantageusement en temps masqué, un signe avant-coureur d’une fuite, alors on déclenche de façon anticipée un test d’étanchéité approfondi, conformément à l’étape (S200) de test, sitôt le moule 3 réouvert, afin de contrôler avec certitude l’étanchéité de la membrane de cuisson 10 avant toute reprise d’une nouvelle opération de cuisson. Bien entendu, si l’étape (S200) de test confirmer la présence d’une fuite, alors l’installation 1 sera stoppée jusqu’à ce que qu’elle soit réparée, et notamment, s’il y a lieu, jusqu’à ce que la membrane de cuisson 10 usagée soit remplacée. Priorité est ainsi donnée à la sécurité et à la qualité de la production.
Une telle disposition permet notamment de garantir, sans dégrader le temps utile de l’installation 1, un niveau de risque acceptable, malgré l’espacement des étapes (S200) de test conformément à la fréquence de test, et ainsi d’obtenir un compromis optimisé entre qualité de production et rythme de production.
L’opération de pré-diagnostic peut être avantageusement déclenchée alors que l’on achève un palier de cuisson 30 pendant lequel on a maintenu ladite pression interne au niveau d’une pression de cuisson P_cur souhaitée, tel que cela est visible sur la .
A titre d’exemple indicatif, sur une durée d’opération de cuisson de huit minutes, on pourra, conformément à l’opération de pré-diagnostic, isoler la chambre de gonflage 11, c’est-à-dire inhiber la régulation de pression, trois minutes avant la fin de l’opération de cuisson, alors que règne une pression interne de l’ordre de 16 bar à 21 bar, et observer l’évolution de la pression interne. Si l’on constate une baisse de la pression interne de plus de 80 mbar, alors on conclura à un soupçon de fuite, et l’on forcera le déclenchement de l’étape (S200) de test avant de débuter une nouvelle opération de cuisson, par exemple directement à la fin de l’opération de cuisson en cours, à la réouverture du moule 3.
On notera que le fait de réaliser l’opération de pré-diagnostic vers la fin de l’opération de cuisson permet avantageusement de s’assurer que la température du moule 3 est stabilisée, et notamment que les températures du moule 3, du bandage 2 et de la membrane de cuisson 10 sont stables, et que par conséquent une éventuelle variation de pression interne, et plus particulièrement une éventuelle chute de pression interne, sera bien attribuable à une fuite, et non à des fluctuations de la température du fluide de gonflage qui est contenu dans la membrane de cuisson 10, par exemple à des fluctuations qui seraient dues à un transfert de chaleur du fluide de gonflage vers le bandage 2.
Bien entendu, l’invention porte également en tant que telle sur une installation 1 de cuisson permettant de cuire des bandages 2, ladite installation 1 comprenant : - un moule 3 qui est agencé pour adopter alternativement une configuration de fermeture, dans laquelle la paroi interne 3_in dudit moule délimite une cavité de moulage correspondant à l’empreinte en négatif du bandage 2 et permet une opération de cuisson dudit bandage, et une configuration d’ouverture permettant d’extraire, après l’opération de cuisson, un bandage 2 cuit dudit moule et de le remplacer par un bandage 2 cru, - une membrane de cuisson 10 dont la surface interne 10_in délimite une chambre de gonflage 11 permettant de gonfler la membrane de cuisson 10, et dont la surface externe 10_out est agencée pour, durant l’opération de cuisson, et sous l’action d’une pression dite « pression de cuisson » P_cur qui est appliquée dans la chambre de gonflage 11, venir en appui contre la surface interne 2_in du bandage afin de presser le bandage 2 contre la paroi interne 3_in du moule 3, - un circuit de gonflage 20 qui comprend au moins une vanne d’admission 21 permettant d’introduire à l’intérieur de la membrane de cuisson 10, dans la chambre de gonflage 11, un fluide de gonflage sous pression afin de gonfler la membrane de cuisson 10, - un dispositif de mesure de pression 25 agencé pour mesurer la pression dite « pression interne », qui règne à l’intérieur de la membrane de cuisson 10, dans la chambre de gonflage 11, ladite installation 1 comprenant une unité de commande 27 qui est agencée pour faire exécuter à ladite installation : - une étape (S100) d’ouverture du moule 3, au cours de laquelle, après avoir dégonflé la membrane de cuisson 10, on place le moule 3 en configuration d’ouverture, - une étape (S200) de test conformément au procédé de détection de fuite selon l’une quelconque des possibilités décrites dans ce qui précède.
Banc de test automatisé comportant un support pour appareil/équipement. La présente invention concerne le domaine des bancs de tests automatisés d’appareils/équipements.
: la représente un autre exemple d’unité de commande du circuit d’alimentation sans interruption de la ;
: la représente les évolutions au cours du temps de courants et de tensions parcourant un exemple de circuit d’alimentation comprenant l’unité de commande de la .
La présente un circuit d’alimentation sans interruption 100 selon un exemple de l’invention. Le circuit d’alimentation 100 comprend de premières bornes B1 qui sont configurées pour être connectées à un premier réseau électrique alternatif 110 ayant une tension Ve. Le circuit d’alimentation 100 comprend également de deuxièmes bornes B2 configurées pour être connectées à un deuxième réseau électrique alternatif 120 ayant une tension Vs. Des troisièmes bornes B3 sont configurées pour être connectées à une source de tension continue 130 ayant une tension Vbat. Typiquement, la fonction du circuit d’alimentation 100 est de permettre une alimentation du deuxième réseau électrique alternatif 120 à partir du premier réseau électrique alternatif 110. Et en cas de défaillance, permettre une alimentation de secours du deuxième réseau électrique 120 à partir de la source de tension continue 130. En particulier, la source de tension continue 130 est rechargeable. Elle forme notamment une alimentation temporaire, le temps qu’une source électrique robuste soit mise en route, telle qu’un groupe électrogène par exemple. La source de tension continue 130 peut être, entre autres, une batterie, comme par exemple une batterie lithium/plomb, ou une super capacité. La batterie peut être embarquée dans un rack du circuit d’alimentation sans interruption.