INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans un mode de réalisation, l’étape de réalisation d’une opération de frittage à haute température sur le matériau après le traitement de revêtement comprend spécifiquement le fait que le matériau après le traitement de revêtement est soumis à un traitement de frittage à haute température à une vitesse de chauffage de 5°C/minute à 6°C/minute, et chauffé entre 880°C et 920°C et maintenu à cette température pendant 8,5 h à 10 h.
Toutefois, l’échange d'informations d'un domaine ayant un niveau de sécurité moins élevé vers un domaine ayant un niveau de sécurité plus élevé est fortement restreint afin de ne pas compromettre la sécurité du domaine ayant le niveau de sécurité le plus élevé. En particulier, le transfert d'informations d’un domaine, dit domaine ouvert et correspondant à l’extérieur du domaine ACD, vers le domaine ACD est restreint afin de ne pas compromettre la sécurité du domaine ACD.
Le but de l’invention est alors de proposer un dispositif électronique de gestion auxiliaire du vol permettant d’améliorer la précision de la gestion du vol effectuée par le système électronique de gestion du vol, ce dernier appartenant au domaine avionique certifié.
A cet effet, l’invention a pour objet un dispositif électronique de gestion auxiliaire du vol d’un aéronef, le dispositif étant destiné à être embarqué à bord de l’aéronef et à être relié à un système électronique de gestion du vol, le dispositif comprenant :
- un module d’acquisition configuré pour acquérir un plan de vol de la part d’un équipement électronique externe à l’aéronef ;
- un module de prétraitement connecté au module d’acquisition et configuré pour appliquer au moins une action de prétraitement au plan de vol acquis, et générer un plan de vol modifié résultant de l’au moins une action de prétraitement ;
l’au moins une action de prétraitement étant d’un type choisi parmi un groupe de types d’action de prétraitement consistant en : une action relative à une grandeur météorologique, une action relative à une consommation de l’aéronef, une action relative à une performance au décollage de l’aéronef et une action relative à un format de données associé au plan de vol ;
- un module de transmission connecté au module de prétraitement et configuré pour transmettre le plan de vol modifié à destination du système de gestion du vol.
Avec le dispositif de gestion auxiliaire du vol selon l’invention, le plan de vol modifié transmis au système de gestion de vol certifié présente une précision améliorée de par l’au moins une action de prétraitement effectuée par le module de prétraitement. L’amélioration de la précision concerne notamment la gestion de l’environnement de l’aéronef lorsque l’action de prétraitement est une action relative à une grandeur météorologique. Cette amélioration concerne la gestion de la performance de l’aéronef lorsque l’action de prétraitement est une action relative à la consommation ou encore une action relative à la performance au décollage de l’aéronef. Cette amélioration concerne la gestion des données échangées lorsque l’action de prétraitement est une action relative au format de données associé au plan de vol.
En outre, en étant embarqué à bord de l’aéronef et disposé à proximité du système de gestion du vol et relié à celui-ci, le dispositif de gestion auxiliaire du vol permet également de diminuer fortement une latence dans la transmission de données entre le domaine ouvert et le domaine avionique, par rapport à une transmission de données depuis le sol.
De plus, le dispositif de gestion auxiliaire du vol est avantageusement externe au domaine avionique, tel que le domaine ACD, auquel appartient le système de gestion du vol. Ceci permet alors l’apport d’informations et/ou de fonctionnalités additionnelles dans le domaine avionique certifié depuis le domaine ouvert non certifié, notamment depuis le domaine AISD auquel appartient typiquement le dispositif de gestion auxiliaire du vol.
De préférence, le plan de vol modifié est mis à jour régulièrement, c’est-à-dire est généré régulièrement par le module de prétraitement, notamment après une modification d’une situation externe à l’aéronef, telle qu’une modification d’une situation météorologique, d’une situation de trafic aérien, d’une situation aéroportuaire, par exemple concernant une piste d’atterrissage ou de décollage. En complément, le plan de vol modifié est généré à intervalle de temps régulier, une période temporelle entre deux générations de plan de vol modifié par le module de prétraitement étant par exemple comprise entre 15 secondes et 10 minutes, et de préférence de l’ordre de 5 minutes.
De préférence encore, l’installation de gestion du vol comprend en outre un système de vérification de la conformité du plan de vol et/ou de la trajectoire permettant de faciliter encore le transfert de données entre le domaine ouvert et le domaine avionique, en particulier de l’automatiser au maximum, avec un minimum d’intervention humaine, voire sans intervention humaine. Avantageusement, si le plan de vol vérifié est conforme, le système de vérification requiert en outre une validation dudit plan de vol de la part d’un utilisateur, tel que le pilote de l’aéronef, en vue de la fusion dudit plan de vol avec un plan de vol courant du système de gestion du vol. Pour ladite validation, le système de vérification affiche préférentiellement, à destination de l’utilisateur et sur un écran d’affichage, tel que l’écran d’affichage du système de gestion du vol, un rapport contenant des écarts entre le plan de vol courant et le nouveau plan de vol généré par le dispositif de gestion auxiliaire du vol.
Suivant d’autres aspects avantageux de l’invention, le dispositif de gestion auxiliaire du vol comprend une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prises isolément ou suivant toutes les combinaisons techniquement possibles :
- le module de prétraitement est configuré pour appliquer plusieurs actions de prétraitement au plan de vol acquis, chaque action étant d’un type choisi parmi le groupe de types d’action de prétraitement ;
- le module de prétraitement est configuré pour appliquer, au plan de vol acquis, au moins une action de chacun des types du groupe de types d’action de prétraitement.
- le dispositif comprend en outre un module de calcul configuré pour calculer une trajectoire de l’aéronef à partir d’un plan de vol respectif ;
le module de calcul étant de préférence configuré pour calculer la trajectoire de l’aéronef à partir du plan de vol modifié généré par le module de prétraitement ; et
- le module de calcul est configuré en outre pour prédire un ensemble de grandeurs avioniques relatives à l’aéronef au cours du vol de la trajectoire calculée ;
l’ensemble de grandeurs avioniques comportant de préférence plusieurs grandeurs, et de préférence encore chacune des grandeurs, parmi le groupe consistant en : une vitesse de l’aéronef pour chacun des segments à venir de la trajectoire, une altitude de l’aéronef pour chacun des segments à venir de la trajectoire, une quantité restante de carburant pour chaque point à venir de la trajectoire, une quantité restante de carburant en chaque point de passage à venir du plan de vol, une heure de passage en chaque point de passage à venir du plan de vol et une information relative au vent attendu en chaque point de passage à venir du plan de vol.
L’invention a aussi pour objet une installation de gestion du vol d’un aéronef, destinée à être embarquée à bord de l’aéronef, l’installation comprenant un système électronique de gestion du vol et un dispositif électronique de gestion auxiliaire du vol de l’aéronef, le dispositif de gestion auxiliaire du vol étant tel que défini ci-dessus et relié au système électronique de gestion du vol.
Suivant d’autres aspects avantageux de l’invention, l’installation de gestion du vol comprend une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prises isolément ou suivant toutes les combinaisons techniquement possibles :
- le système de gestion du vol appartient à un domaine avionique, le dispositif de gestion auxiliaire du vol est externe au domaine avionique, et l’installation comprend en outre une passerelle de sécurité disposée entre le dispositif de gestion auxiliaire du vol et le système de gestion du vol, la passerelle de sécurité étant configurée pour réaliser au moins un filtrage d’un message de donnée(s) destiné au système de gestion du vol ;
le domaine avionique étant de préférence un domaine correspondant à un niveau de sécurité le plus élevé à bord de l'aéronef ;
le domaine avionique étant de préférence encore le domaine ACD selon la norme ARINC 811 du 20 décembre 2005 ;
- l’installation comprend en outre un système électronique de vérification configuré pour vérifier la conformité, avec une base de données du système de gestion de vol et/ou un domaine de vol de l’aéronef, d’un plan de vol généré par un appareil électronique externe au domaine avionique ;
le plan de vol vérifié par le système de vérification étant de préférence un plan de vol issu du dispositif de gestion auxiliaire du vol ;
le système de vérification étant de préférence configuré en outre, si le plan de vol vérifié est conforme, pour requérir une validation du plan de vol vérifié, de la part d’un utilisateur, tel qu’un pilote de l’aéronef ; puis pour transférer au système de gestion du vol le plan de vol vérifié et validé en vue de sa fusion avec un plan de vol courant du système de gestion du vol ; et
- le système de vérification est configuré en outre pour vérifier la conformité, avec une enveloppe de vol de l’aéronef, d’une trajectoire calculée par un appareil électronique externe au domaine avionique ;
le dispositif de gestion auxiliaire du vol étant de préférence tel que défini ci-dessus, et le système de vérification étant de préférence configuré pour vérifier la conformité, avec l’enveloppe de vol de l’aéronef, de la trajectoire calculée par le dispositif de gestion auxiliaire du vol.
L’invention a également pour objet un aéronef comprenant une installation de gestion du vol, telle que définie ci-dessus.
la est une représentation schématique d’un aéronef selon l’invention comprenant une installation de gestion du vol de l’aéronef, l’installation de gestion du vol comportant un système électronique de gestion du vol et un dispositif électronique de gestion auxiliaire du vol.
En complément facultatif, ladite composante d’excitation électrique correspond à une composante monochromatique, et dans ladite composante d’excitation acoustique est une composante large bande (i.e. ressemblant sensiblement à un paquet d’ondes), correspondant par exemple à un signal large bande comprenant n cycles de sinusoïde fenêtrés par une fenêtre de Hann tel que décrit par la suite, ou encore par d’autres types de fenêtres tel qu’une fenêtre de Blackman-Harris, une fenêtre rectangulaire, une fenêtre triangulaire, etc., ou à un signal en créneau ou en rafale (de l’anglais burst ). Autrement dit, par « large bande », on entend que la largeur de bande de ladite composante d’excitation acoustique correspond à la bande spectrale du paquet d’ondes choisi pour la composante acoustique. Etant donné que le nombre de cycles du paquet émis est en général faible, la bande spectrale est par conséquent large.
Selon un autre des aspects de l’invention, le relief de positionnement s’étend depuis le moyeu central ou la couronne externe du support multifonction.
Selon l’un des aspects de l’invention, chaque espace circonférentiel est associé à deux reliefs de positionnement en regard, appartenant respectivement au moyeu central et à la couronne externe du support multifonction.
Selon l’un des aspects de l’invention, le relief de positionnement est sous la forme d’un godron.
Selon l’un des aspects de l’invention, le support multifonction comporte un corps monobloc, notamment réalisé en matière plastique, notamment par moulage, et ce corps monobloc comprend les branches radiales, le moyeu et la couronne externe.
L’invention permet de faciliter la construction de la machine électrique à flux axial, car il est fait appel à un nombre réduit de pièces, parmi lesquelles le corps monobloc précité.
Selon l’un des aspects de l’invention, les conducteurs électriques du support multifonction sont des barreaux conducteurs.
Selon l’un des aspects de l’invention, ces barreaux conducteurs sont portés par le corps monobloc du support.
Selon l’un des aspects de l’invention, les barreaux conducteurs sont portés par la couronne externe du support multifonction.
Selon l’un des aspects de l’invention, les barreaux conducteurs présentent une forme circulaire, qui épouse sensiblement la forme de la couronne externe.
Selon l’un des aspects de l’invention, les barreaux conducteurs comprennent chacun une languette de connexion électrique avec l’un des fils électriques d’enroulement.
Selon l’un des aspects de l’invention, cette languette de connexion s’étend axialement, de manière parallèle à l’axe de rotation.
Selon l’un des aspects de l’invention, la couronne externe porte ainsi une pluralité de languettes de connexion reparties autour de l’axe de rotation.
Selon l’un des aspects de l’invention, ces barreaux sont au moins partiellement noyés dans une résine portée par la couronne externe, notamment entre ses jupes interne et externe.
Selon l’un des aspects de l’invention, le support multifonction, notamment le corps monobloc, comprend un compartiment formé sur la couronne externe, et configuré pour recevoir les extrémités de sortie électrique des barreaux conducteurs de manière à permettre une connexion électrique de ces barreaux conducteurs à un dispositif électrique externe.
Selon l’un des aspects de l’invention, le stator comporte un boîtier configuré pour coopérer avec le support multifonction de sorte à emprisonner les dents entre ce support multifonction et ce boîtier.
Selon l’un des aspects de l’invention, le boîtier et le support multifonction sont fixés ensemble à l’aide d’organes de fixation tels que des vis.
Les inventeurs proposent une cellule de transistors permettant de répondre aux besoins d'amélioration décrits précédemment, et de pallier tout ou partie des inconvénients des cellules de transistors décrites précédemment. En particulier, les inventeurs proposent une cellule de transistors, dont la largeur de la zone active de certains transistors, par exemple de transistors PMOS, puisse être augmentée, en particulier sans avoir à augmenter des dimensions des circuits de connexion de ces transistors, et/ou sans complexifier le procédé de fabrication de ces transistors, par exemple sans avoir à réaliser des formes complexes de circuits de connexion.
La représente un motif d’implantation d’une cellule de transistors 300 selon un mode de réalisation. La représente, par une vue de dessus, un détail d’une cellule de transistors similaire à celle de la . La représente, par une vue en coupe, la cellule de transistors de la .
Plus précisément, les figures 3B et 3C représentent un transistor PMOS de la cellule 300.
Similairement aux cellules 100 et 200 des figures 1A et 2A, la cellule 300 est une cellule de type CMOS contenant quatre transistors MOS : des premier et deuxième transistors PMOS P1, P2 dans une première région 310 et des premier et deuxième transistors NMOS N1, N2 dans une deuxième région 320. Le premier transistor PMOS P1 a une première grille de transistor 331 commune avec le premier transistor NMOS N1, et le deuxième transistor PMOS P2 a une deuxième grille de transistor 332 commune avec le deuxième transistor NMOS N2. Une première zone active 311 est formée dans la première région 310 où sont les transistors PMOS, et une deuxième zone active 321 est formée dans la deuxième région 320 où sont les transistors NMOS. La première zone active 311 est de type P, et est, par exemple, formée dans un substrat ou dans un caisson de type N (configuration du type "regular well"). La deuxième zone active 321 est de type N, et est, par exemple, formée dans un substrat ou dans un caisson de type P (regular well). En variante, la première zone active de type P peut être formée dans un substrat ou caisson de type P (configuration du type "flip well") et/ou la deuxième zone active de type N peut être formée dans un substrat ou caisson de type N (flip well).
Les transistors NMOS N1, N2 ont, par exemple, une région de canal en Si. Les transistors PMOS P1, P2 sont, par exemple, à région de canal contrainte, par exemple ont une région de canal en SiGe. En variante, les transistors PMOS P1, P2 peuvent avoir une région canal en Si.
Similairement aux cellules 100 et 200 des figures 1A et 2A, la région de source S1 dans la première zone active 311 est localisée entre les grilles de transistor 331, 332, et est commune aux transistors PMOS P1, P2. Un contact de source 312 est formé sur cette région de source S1 pour la relier à la tension d’alimentation Vdd via un premier rail de connexion 351 (rail d’alimentation). La région de source S2 dans la deuxième zone active 321 est aussi localisée entre les grilles de transistor 331, 332, et est commune aux transistors NMOS N1, N2. Un contact de source 322 est formé sur cette région de source S2 pour la relier à la masse Gnd via un deuxième rail de connexion 352 (rail de mise à la masse). La région de drain D1 du transistor P1 est localisée entre la première grille de transistor 331 et la première grille d’isolation 333. La région de drain D2 du transistor P2 est localisée entre la deuxième grille de transistor 332 et la deuxième grille d’isolation 334. La région de drain D3 du transistor N1 est localisée de l’autre côté de la première grille de transistor 331 par rapport à la région de source S2. La région de drain D4 du transistor N2 est localisée de l’autre côté de la deuxième grille de transistor 332 par rapport à la région de source S2. Un contact de drain 313, 314, 323, 324 est formé sur chaque région de drain D1, D2, D3, D4. Un troisième rail de connexion 353 (ou rail de connexion de drain) vient relier les contacts de drain entre eux, afin de former une connexion interne de la cellule.
La première zone active 311, ou zone active des transistors PMOS P1, P2, de la cellule 300 est isolée le long de la première direction X d’autres zones actives 361 et/ou d’autres cellules (non représentées), par des première et deuxième grilles d’isolation 333, 334. En d’autres termes, les grilles d’isolation 333, 334 forment des isolations de la première zone active 311 dans la direction X. Par exemple, chaque grille d’isolation 333, 334 est placée sur un côté latéral de la cellule 300, c’est-à-dire sur un côté s’étendant dans la direction de la largeur de la cellule. En d’autres termes, les grilles d’isolation 333, 334 délimitent latéralement la première zone active 311.
Un contact de grille d’isolation 335, 336 est relié à, par exemple formé sur, chaque grille d’isolation afin de la polariser à la tension d’alimentation Vdd, via le premier rail de connexion 351, et ce, de manière à ce que la grille d’isolation puisse effectivement isoler la zone active 311. En d’autres termes, chaque grille d’isolation est couplée au rail d’alimentation via un contact de grille d’isolation.
Par exemple, la première zone active 311 et les autres zones actives 361 forment une zone continue dans la direction X, et sont séparées par les grilles d’isolation.
Les grilles de transistor et/ou d’isolation s’étendent au-dessus des zones actives.
Par exemple, les grilles de transistor et/ou d’isolation comprennent du polysilicium, par exemple sont essentiellement constitués de polysilicium.
En dehors des zones actives, des régions d’isolation sont formées, par exemple sous forme de tranchées isolantes peu profondes, du type STI. Par exemple, une première région d’isolation 341 est localisée en dessous du premier rail de connexion 351, une deuxième région d’isolation 342 est localisée entre les première et deuxième zones actives pour les isoler l’une de l’autre, et/ou une troisième région d’isolation 343 est localisée autour de la deuxième zone active 321.
Par exemple, les première et deuxième régions d’isolation 341, 342 forment d’autres isolations de la première zone active 311 dans la deuxième direction Y.
Une couche conductrice d’interconnexion, ou couche métal 1 (M1), peut être déposée puis conformée pour former les rails de connexion, ou d’autres traces et/ou pistes (non représentées), plus largement des circuits d’interconnexion. La couche conductrice d’interconnexion peut être formée sur et/ou dans une couche isolante, par exemple principalement en SiO 2 . Ainsi, les rails de connexion, peuvent être formés sur et/ou dans la couche isolante 330, comme représenté en . Par exemple, la couche conductrice peut être formée d'aluminium ou de ses alliages, de cuivre ou de ses alliages, ou d’autres matériaux tel que le polysilicium dopé.
On a représenté en une couche isolante 301 sous les zones actives, par exemple une couche isolante enterrée (BOX, pour "Buried Oxide" en anglais). Pour ne pas alourdir la figure, on n’a pas représenté dans la le caisson ou le substrat dans lequel chaque zone active est formée, au-dessus de la couche isolante 301.
En référence aux figures 1 à 6, la méthode comprend une étape de génération GEN req , par le calculateur CLC 1 et à partir d’une deuxième commande utilisateur C 2 , d’une requête de recherche.
La deuxième commande utilisateur C 2 est distincte de la première commande utilisateur en ce qu’elle permet de générer la requête de recherche. Toutefois, cela n’exclue pas que la deuxième commande utilisateur C 2 soit identique à la première commande utilisateur C 1 en termes d’interactions de l’utilisateur avec une interface dédiée (écran tactile, souris/ clavier, microphone, etc.). Ainsi, la deuxième commande utilisateur est par exemple une commande digitale. Il peut s’agir d’une commande identique ou différente de la première commande utilisateur C 1 .
Optionnellement, la requête de recherche est générée par le calculateur C 2 suite à l’actionnement, à partir de la deuxième commande utilisateur C 2 d’un objet dédié affiché sur l’afficheur E 1 . Dans ce cas, le procédé comprend une étape préalable d’affichage dudit icone dédié sur l’afficheur E 1 . Cette icône dédiée est par exemple un élément graphique, un pictogramme, ou toute autre représentation graphique activable par l’utilisateur pour générer la requête.
Optionnellement, la requête de recherche est générée par le calculateur CLC 1 suite à un actionnement d’un premier objet A 1 , …, A x au moyen d’une commande utilisateur entraînant un déplacement d’au moins un premier objet A 1 , …, A x sur l’afficheur E 1 .
Selon un exemple dans lequel l’afficheur E 1 est un écran tactile, l’utilisateur fait glisser, au moyen d’une commande tactile, un ou plusieurs premiers objets A 1 , …, A x vers une zone de l’écran prédéterminée pour générer la requête. Dans cet exemple, des paramètres de la requête P req sont définis à partir d’informations associées aux premiers objets A 1 , …, A x actionnés par l’utilisateur. Les paramètres de requête P req définissent par exemple un filtre pour segmenter les résultats de la recherche uniquement aux résultats pertinents. Dans un exemple, un premier premier objet A 1 , …, A x symbolise un avion et un deuxième premier objet A 1 , …, A x symbolise le Japon. Dans ce premier exemple, plusieurs commandes utilisateurs ont été préalablement mises en œuvre pour obtenir l’affichage de ces premiers objets A 1 , …, A x en partant d’une granularité de recherche plus élevée, par exemple en partant d’une catégorie « transport » et d’une catégorie « destination » ou « pays ». L’utilisateur fait alors glisser les premiers objets A 1 , …, A x vers une zone prédéterminée pour initier une requête relative aux vols vers le Japon. Dans cet exemple, d’autres paramètres peuvent être pris en compte, notamment des paramètres d’horodatage et des paramètres de profil utilisateur. Par exemple, une liste de premiers objets A 1 , …, A x symbolise différents profils utilisateurs (par exemple un homme seul, un couple et un enfant, un groupe de quatre adultes…), et un autre objet permet de définir une date et une heure souhaitée pour le trajet. Dans ce cas, ces objets sont par exemple glissés par l’utilisateur au moyen d’une commande vers la zone prédéterminée pour initier la recherche en tenant compte de ces paramètres de requête P req additionnels.