INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Avantageusement, le support 4 de maintien comprend des ouvertures 41, de réception des cellules électrochimiques 31 , notamment des ouvertures traversantes. Ces ouvertures sont par exemple des alésages qui sont configurés pour que les cellules soient montées serrées dans les alésages. Les ajustements sont par exemple du type H8m7. Ainsi, une fois insérées dans les alésages les cellules 31 forment un ensemble rigide ou qui se maintient dans sa forme. De préférence, le support 4 est dimensionné pour que l’ensemble reste rigide et se déforme peu.
De préférence, complémentairement ou alternativement, chaque module 2 comprend, comme représenté sur les figures 4 à 7 : - un support supérieur de maintien de l’ensemble 3 de cellules 31, ou coiffe supérieure 4A, et/ou - un support inférieur de maintien de l’ensemble 3 de cellules 31, ou coiffe inférieure 4A.
Par exemple, la deuxième portion 602B de type P forme une zone de passivation de la photodiode, par exemple afin que celle-ci soit moins impactée par le courant d’obscurité.
Par exemple, la deuxième portion 602B peut se faire, selon le type de passivation souhaitée : - par dopage, par exemple par implantation ionique ; - en ajoutant un matériau dopant ou un matériau à inversion de charge dans le matériau isolant lors du remplissage de la tranchée latérale 622.
Ainsi, la conductivité le long de la tranchée isolante profonde 620 peut être inversée sans implantation ionique par l'usage d’un matériau spécifique.
Les figures 6A à 6E montrent que la tranchée isolante profonde 620 est formée après les étapes de dopage. Ceci n’est pas limitatif, et, en variante, la tranchée isolante profonde peut être formée avant les étapes de dopage.
La représente une structure obtenue à l’issue d’une étape de gravure du substrat 608.
Les figures 6A à 6F montrent que la tranchée isolante profonde 620 est formée avant l’étape de gravure du substrat 608. Ceci n’est pas limitatif, et, en variante, la tranchée isolante profonde peut être formée après cette étape de gravure du substrat. En outre, la tranchée isolante profonde peut être formée à partir de la face inférieure 600B de la photodiode.
La représente une structure obtenue à l’issue d’une étape de formation, optionnelle, d’une troisième portion 602C de type P (troisième portion de la deuxième région).
La troisième portion 602C de type P peut être formée par dopage, par exemple par implantation ionique, par exemple à partir de la face inférieure 600B de la photodiode.
Alternativement, la troisième portion 602C de type P peut être formée par croissance épitaxiale, dans ce cas avant la formation par croissance épitaxiale de la couche épitaxiale 601 de type N.
Par exemple, la troisième portion 602C de type P forme une zone de passivation de la photodiode, par exemple afin que celle-ci soit moins impactée par le courant d’obscurité.
La photodiode 600 obtenue représentée en est similaire à la photodiode 200 de la .
A partir de l’exemple de méthode de fabrication décrit ci-dessus, la personne du métier peut adapter la méthode pour fabriquer d’autres photodiodes selon les modes de réalisation, par exemple la photodiode 500 de la .
Ainsi, un avantage des modes de réalisation décrits est que la photodiode peut être réalisée sans que cela n’en complexifie le procédé de fabrication.
Un autre avantage des modes de réalisation décrits est qu'ils s'adaptent à des photodiodes de petite taille, par exemple, ayant des cotés inférieurs à 6 µm, et/ou à des photodiodes de hauteur par exemple comprise entre 4 et 10 µm, voire plus.
Un autre avantage des modes de réalisation décrits est qu'ils permettent de réduire la taille, par exemple la largeur, de la photodiode sans que cela dégrade la probabilité de détection de photons et/ou augmente la gigue temporelle.
Ainsi le dispositif et le procédé selon l’invention permettent de quantifier l’azote total présent dans un échantillon d’un milieu poreux et/ou issu de la biomasse en une seule étape, sans traitement préalable, et sur de faibles quantités (de quelques mg à une centaine de mg au maximum). Le caractère dynamique (signal mesuré en continu) fournit une seconde information sur la qualité des constituants azotés présents dans un échantillon en fonction de leur stabilité thermique (enregistrement continu du signal au cours du temps et de la température). Ces paramètres permettent de mieux identifier les différents mécanismes (fixation de N 2 , nitrification, dénitrification) mis en jeu lors des processus de respiration et fermentation reliés au cycle du carbone. Par ailleurs, la présente invention, permet, du fait de la détection de chaque composé azoté (par un détecteur unique ou plusieurs détecteurs), d’avoir en plus une information du type de composés azotés présents dans l’échantillon (et pas seulement concernant le NO 2 ou le N 2 selon la méthode d’analyse utilisée), tout en l’associant à sa stabilité thermique.
Exemples Les caractéristiques et avantages du dispositif et du procédé selon l’invention apparaîtront plus clairement à la lecture de l’exemple d'application ci-après.
Des échantillons contenant des quantités d’azote variables (0,2 à 35% massique) ont été analysés par le procédé selon l’invention, au moyen du dispositif selon l’invention. Les résultats de la quantification de l’azote total sont comparables aux valeurs d’azote total mesurées par une analyse de référence telle que l’analyse élémentaire selon la méthode de Dumas.
On présente plus particulièrement ci-dessous les résultats de la mise en œuvre du procédé selon l’invention, au moyen du dispositif selon l’invention, pour un premier exemple correspondant à un échantillon d’un engrais minéral (KNO 3 ) et pour un deuxième exemple correspondant à un biodéchet digéré (digestat).
L’application du procédé selon l’invention pour le premier exemple révèle que seul le composé azoté NO est libéré dans le cas d’un minéral azoté de type KNO 3 . Autrement dit aucune quantité de N 2 , de NO 2 , de N 2 O et de NH 3 n’ont été mesurées au cours du procédé selon l’invention. A titre d’exemple, la présente des courbes représentant l’évolution de la somme de NO et de NO 2 libérés (au travers de l’intensité I du signal mesuré) en fonction de la température T (la température étant reliée au temps via la séquence de températures) au cours de la première étape pour des échantillons de KNO 3 ayant différentes masses : 4.55mg (courbe KNO3-4.55mg), 2.61 mg (courbe KNO3-2.61mg), et 1,42 mg (courbe KNO3-1.42mg). La première étape du procédé selon l’invention a été appliquée avec une séquence de températures comprenant un premier palier isotherme à 250°C maintenu pendant 10 min, suivi d’un gradient thermique de 25°C/min, jusqu’à atteindre une température de 100°C, maintenue pendant 3 minutes. On peut observer que les courbes ont des géométries similaires, mais pas la même intensité en fonction de la masse. Ainsi, la réponse du signal NO est linéaire avec la masse de l’échantillon à analyser. Le tableau 1 présente les quantités d’azote total NT (en % massique) obtenues pour les différentes masses de l’échantillon, ainsi que les quantités de N 2 , de NO 2 , de N 2 O et de NH 3 (quantités nulles), et une valeur d’azote total déterminée par une analyse élémentaire indépendante N AE . On peut observer que le % massique d’azote total, déterminé en appliquant le procédé selon l’invention, est similaire à celui déterminé par l’analyse élémentaire à 20% près.
Masse échantillon (mg) Composé azoté/Azote total (% massique) N-NO 2 N-NO N-NH 3 N-N 2 O N-N 2 NT N AE 4,55 15,83 15,83±2,8 13,85 2,61 17,1 17,1±2,8 13,85 1,42 16,87 16.87±2,8 13,85
L’application du procédé selon l’invention au deuxième exemple montre que les composés azotés suivants sont libérés dans le cas d’un échantillon de digestat : NO, NO 2 , NH 3 et N 2 . La présente des courbes représentant l’évolution de la quantité (au travers de l’intensité I du signal mesuré) de NO et de NO 2 cumulées (car le signal NO 2 mesuré était négligeable ; courbe NO+NO2), de NH 3 (courbe NH3) et de N 2 (courbe N2) libérées en fonction du temps t pendant la première étape du procédé selon l’invention, ainsi que la séquence de températures utilisée pour cette étape (évolution de la température T en fonction du temps t). Nous pouvons observer que les différents composés azotés ne sont pas libérés aux mêmes températures : notamment le NO et le NO 2 sont libérés aux plus basses températures alors que le N 2 est libéré aux plus hautes températures. Une partie du signal NO/NO 2 semble aussi corrélée avec celui du NH 3 indiquant que ces deux gaz sont issus du craquage d’une même famille chimique. Plus de 90% du contenu en NT du digestat provient du signal N 2 . Le tableau 2 présente les quantités (en % massique) d’azote total NT, de N 2 , de NO 2 , de N 2 O et de NH 3 obtenues par le procédé selon l’invention, ainsi que l’azote total déterminé par une analyse élémentaire indépendante N AE . On peut observer la quantification obtenue par le procédé selon l’invention est en bon accord avec celui de l’analyse élémentaire.
Composé/Azote total N-(NO+NO 2 ) N-NH 3 N-N 2 O N-N 2 NT NT AE Mesure (% massique) 0.01 0.37 7.9 8.28±1.7 6,5±0.34
« Système de prélèvement d’eau dans un volume d’eau tel qu’un réseau d’assainissement et procédé de prélèvement associé » L'invention se rapporte à un système et à un procédé de prélèvement d’eau par déclenchement dans un volume d’eau tel qu’un réseau d’assainissement.
Les inventeurs ont pu démontrer par des simulations qu’une photodiode selon un mode de réalisation, avec jonctions PN complémentaires, par exemple du type de la photodiode 500 de la permet de créer des lignes de champ électrique dans les régions plus profondes de la photodiode par rapport à une photodiode du type de la photodiode 400 de la , sans jonction PN complémentaire.
Les inventeurs ont également pu démontrer par des simulations qu’une photodiode selon un mode de réalisation, par exemple du type de la photodiode 500 de la , permet d’augmenter la hauteur de la photodiode sans pour autant augmenter le temps de déclenchement d’avalanche. A l’inverse, les inventeurs ont pu constater que pour une photodiode du type de la photodiode 400 de la , le fait d’augmenter sa hauteur augmente de manière importante le temps de déclenchement d’avalanche.
Ainsi, une photodiode selon un mode de réalisation permet d’augmenter la hauteur de la photodiode, et ainsi disposer d’un plus grand volume de collection à largeur égale, par exemple pour augmenter la probabilité de détection de photons (PDP), sans augmenter la gigue temporelle.
La , la , la , la , la , la et la sont des vues en coupe représentant des étapes d’une méthode de fabrication d’une photodiode selon un mode de réalisation.
La représente une structure obtenue à l’issue d’une étape de croissance épitaxiale sur un substrat 608, par exemple un substrat de silicium (Si), formant une couche épitaxiée 601 d’un premier type de conductivité, de type N dans l’exemple de méthode représentée. La croissance épitaxiale peut être réalisée à concentration de dopage constante, ou à concentration de dopage graduelle dans la direction Z, par exemple une concentration de dopage diminuant entre la face supérieure 600A de la photodiode et le substrat 608. La couche épitaxiée 601 permet de former la future première région de type N.
La représente une structure obtenue à l’issue d’une étape de dopage par implantation ionique, de manière à former, dans la couche épitaxiée 601, une première portion 602A du deuxième type de conductivité (première portion de la deuxième région), de type P dans l’exemple de méthode représentée.
La première portion 602A est, par exemple, formée à partir d’une distance d1 jusqu’à une distance d2 de la face supérieure 600A de la photodiode, par exemple en configurant les paramètres de l’implantation ionique pour permettre cette implantation entre d1 et d2.
La première portion 602A de type P délimite une première portion 601A de la couche épitaxiée de type N (première portion de la première région) localisée sous la première portion 602A de type P et une troisième portion 601C de la couche épitaxiée de type N localisée au-dessus de la première portion 602A.
L’implantation ionique dans la couche épitaxiée 601 pour former la première portion 602A peut être réalisée à travers un masque 604, par exemple un masque obtenu par photolithographie. Par exemple, le masque 604 est adapté pour que la première portion 602A présente une forme en couronne, c’est-à-dire en conservant une deuxième portion 601B de la couche épitaxiée 601 de type N (deuxième portion de la première région) au centre de la première portion 602A de type P.
Cette deuxième portion 601B de type N permet à la première région de présenter une forme en entonnoir, ce qui permet de favoriser la conduction de porteurs photogénérés depuis la première portion 601A de la première région vers la jonction PN supérieure 630 décrite plus après.
La représente une structure obtenue à l’issue de plusieurs étapes de dopage par implantation ionique, de manière à former, dans la troisième portion 601C de la couche épitaxiée 601 : - une région 604 fortement dopée de type N (quatrième région) et une région 605 fortement dopée de type P (cinquième région) lesdites quatrième et cinquième régions formant une jonction PN supérieure 630, la région 604 de type N affleurant la face supérieure 600A de la photodiode 600 et surmontant la région 605 de type P ; - une région d’anneau de garde 607 localisée autour de la région 604 de type N, et moins fortement dopée N que la région 604 ; - une région 606 fortement dopée P (sixième région) affleurant la face supérieure 600A, formée latéralement autour et à distance de la région d’anneau de garde 607.
La région 604 de type N et la région 605 de type P peuvent être formés au-dessus de la deuxième portion 601B de la couche épitaxiée 601, voire déborder partiellement au-dessus de la première portion 602A de type P.
Chaque implantation ionique peut être réalisée à travers un masque (non représenté), par exemple un masque obtenu par photolithographie, puis supprimé après implantation ionique.
La représente une structure obtenue à l’issue d’une étape de gravure sur une largeur L1 d’un bord latéral 601D sur toute la circonférence de la couche épitaxiée 601 depuis la face supérieure 600A de la photodiode, la gravure se prolongeant par exemple jusqu’à une profondeur d3 dans le substrat de silicium 608. Ceci forme une tranchée latérale 622. Alternativement, la gravure peut être réalisée jusqu’à la limite entre le substrat de silicium 608 et la couche épitaxiée 601.
La représente une structure obtenue à l’issue : - d’une étape de remplissage de la tranchée latérale 622 avec un matériau isolant, par exemple du dioxyde de silicium (SiO 2 ), afin de former une tranchée isolante profonde 620 ; et - d’une étape de formation d’une deuxième portion 602B de type P (deuxième portion de la deuxième région) latéralement entre la tranchée isolante profonde 620 et la couche épitaxiée 601 gravée.
Par exemple, la tranchée isolante profonde 620 entoure les régions précédemment formées.
– la , une vue de face dudit bloqueur en configuration ouverte ;
– la , une vue de face du bloqueur en configuration verrouillée ;
– la , une vue du dessus du bloqueur en configuration verrouillée ;
– la , une vue du dessous du bloqueur en configuration verrouillée ;
– la , une vue en perspective du mécanisme de verrouillage de ce bloqueur ;
– la , un schéma en coupe du corps inférieur, et
– la , une vue en perspective d’une cheville d’insertion avec une aiguille de verrouillage du corps inférieur selon la .
La illustre une vue en perspective d’un bloqueur 1 de deux harnais de câblage surmoulés et de son support perforé 5 d’installation. Le bloqueur 1 comporte deux corps assemblés, un corps inférieur 2 et un corps supérieur 3, qui s’étendent selon une direction transversale T.
La montre dans une vue éclatée de face perpendiculairement à la direction transversale T les éléments constitutifs du bloqueur 1, à savoir le corps inférieur 2 et le corps supérieur 3 ainsi que deux harnais de câblages 6a et 6b de diamètres différents et le support perforé 5. Chaque corps inférieur 2 et supérieur 3 présente un perçage demi-cylindrique 2a, 3a dans lesquels passent les harnais de câblage 6a, 6b. De plus le corps inférieur 2 présente une base 2c qui comporte deux chevilles creuses 2d d’insertion dans le support perforé 5. Chaque cheville creuse 2d est fendue et présente une extrémité libre 2e tout en abritant un alésage traversant (représenté en ) dans lequel est inséré une aiguille de verrouillage 4.
Dans la vue de face de la , le bloqueur 1 est installé sur le support perforé 5, les chevilles creuses 2d du corps inférieur 2 étant insérées dans le support perforé 5. Le corps inférieur 2 est assemblé au corps supérieur 3 par une charnière 7 d’un côté de la direction transversale T selon une configuration ouverte. Les harnais de câblages 6a, 6b sont disposés dans les perçages demi-cylindriques 2a du corps inférieur 2. Le bloqueur 1 est ensuite fermé par rotation du corps supérieur 3 autour de la charnière 7 et assemblage des corps supérieur 3 et inférieur 2 par un mécanisme de verrouillage Ce mécanisme est situé d’un autre côté de la direction transversale T par rapport au côté de la charnière 7 selon une configuration verrouillée des corps supérieur 3 et inférieur 2 comme illustré en .
Dans cette configuration verrouillée, les perçages demi-cylindriques 2a, 3a des corps inférieur 2 et supérieur 3 sont en vis-à-vis, réalisant ainsi deux ouvertures de passage et de maintien 1a pour les deux harnais de câblage 6a, 6b. De plus, chaque perçage demi-cylindrique 2a, 3a comporte une couche d’adaptation 2b, 3b moulée en matériau plastique souple, en silicone dans l’exemple, la souplesse du matériau permettant de bloquer les harnais de câblage 6a, 6b sans les endommager. La couche d’adaptation 3b des perçages demi-cylindriques 3a du corps supérieur 3 comporte avantageusement des arêtes de serrage 3c des harnais de câblage 6a, 6b, ces arêtes s’étendant perpendiculairement à la direction transversale T. Ces arêtes de serrage 3c permettent d’adapter en dimension les ouvertures de passage et de maintien 1a du bloqueur 1 à des harnais de câblage 6a, 6b de diamètres variés, par exemple compris entre 15mm et 20mm. Cette adaptation en dimension des ouvertures de passage et de maintien 1a autorise les harnais de câblage à glisser dans le bloqueur pour accompagner une traction appliquée sur ces harnais de câblages. Une telle traction est appliquée en particulier lorsque les harnais de câblage sont reliés à une cinématique d’une partie mobile d’une structure. Ces harnais de câblages sont alors dits dynamiques.
L’assemblage entre les corps inférieur 2 et supérieur 3 est détaillé dans la , la et la . En particulier, la et la qui sont des vues respectivement du dessus et du dessous du bloqueur 1, montrent la charnière 7 d’assemblage entre les corps inférieur 2 et supérieur 3. Le corps inférieur 2 comporte deux crochets 2h qui enserrent une barre 3d du corps supérieur 3, la liaison pivot entre les crochets 2h et la barre 3d réalisant la charnière 7 ainsi dédoublée. Cette charnière 7 est sécurisée par la présence de deux crochets 2h : en cas de rupture d’un des crochets, l’autre crochet est intact et la charnière 7 reste fonctionnelle. Alternativement, toute charnière présentant une double liaison pivot et donc conservant son fonctionnement en cas de rupture d’une de ces liaisons pivot est utilisable.
Le mécanisme de verrouillage 8, présenté en perspective dans la , est sécurisé par un dédoublage du verrouillage. Ce dédoublage est réalisé par un double clipage des corps inférieur 2 et supérieur 3. Le corps inférieur 2 comporte une languette femelle 2i en « L » solidaire du corps inférieur 2. L’extrémité libre 2j de la languette femelle 2i présente deux ergots 2k indépendants qui se clipent sur un épaulement 3e du corps supérieur. Le clipage du corps inférieur 2 sur le corps supérieur 3 est donc double : en cas de rupture d’un des ergots, le second a la capacité de conserver la fonction de verrouillage 8.
Le corps supérieur 3 est également clipé sur le corps inférieur 2. En effet, l’épaulement 3e comporte en prolongement de sa zone médiane une languette mâle 3f qui se clipe dans la languette femelle 2i du corps inférieur 2. Cette languette mâle 3f est aussi de section « L » inversée par rapport à la section en « L » de la languette femelle 2i. En extrémité libre 3g de la languette mâle 3f deux tiges dentées 3h se clipent dans la languette femelle 2i. Ces deux tiges dentées 3h sont indépendantes et la rupture d’une des tiges dentées n’affecte pas l’intégrité fonctionnelle de la seconde. Le clipage du corps supérieur 3 sur le corps inférieur 2 est donc sécurisé par le double clipage des tiges dentées 3h.
Le mécanisme de verrouillage est ainsi doublement sécurisé d’une part avec l’utilisation de deux clipages respectivement du corps supérieur 3 sur le corps inférieur 2 et du corps inférieur 2 sur le corps supérieur 3 et d’autre part avec le dédoublement de chacun de ces clipages.
Éventuellement, la solution de source de fer inclut de l’acide citrique.
Éventuellement, un soluté de la solution d’agent complexant inclut de l’oxalate d’ammonium.
Éventuellement, la solution d’agent complexant a une concentration molaire de 0,8-1,2 mol/L, par exemple 0,8 mol/L, 0,9 mol/L, 1 mol/L, 1,1 mol/L ou 1,2 mol/L, etc.
Éventuellement, le troisième solvant à l’étape (2) inclut de l’eau désionisée.
Éventuellement, la réaction est effectuée à une température de 40-60°C, par exemple 40°C, 45°C, 50°C, 55°C ou 60°C, etc.
Éventuellement, la durée de la réaction est de 3-5 heures, par exemple 3 heures, 3,5 heures, 4 heures, 4,5 heures ou 5 heures, etc.
Éventuellement, la réaction est suivie de la réalisation d’une filtration par aspiration, d’un lavage et d’un séchage du matériau précurseur obtenu.
Éventuellement, un agent de lavage pour la filtration par aspiration et le lavage inclut de l’eau désionisée et/ou de l’éthanol.
Éventuellement, la filtration par aspiration et le lavage sont effectués 2 à 4 fois, par exemple 2, 3 et 4 fois.
Éventuellement, le pH à l’étape (2) est de 4,5-5,5, par exemple 4,5, 4,8, 5, 5,2 ou 5,5, etc.
Éventuellement, le procédé d’ajustement du pH inclut l’ajout d’acide sulfurique ou d’eau ammoniaquée.
Éventuellement, la source de lithium à l’étape (3) inclut le carbonate de lithium.
Éventuellement, la source de phosphore inclut le dihydrogénophosphate d’ammonium.
Éventuellement, le matériau précurseur, l’élément lithium dans la source de lithium et la source de phosphore ont un rapport molaire de 1: (1,01-1,2): (0,8-1,2), par exemple 1: 1,01: 0,8, 1: 1,01: 1: 1, 1: 1,05: 1, 1: 1,08: 1,1 ou 1: 1,2: 1,2, etc.
Éventuellement, la source de carbone inclut le glucose.
Éventuellement, le broyage comprend le broyage humide à billes.
Dans les modes de réalisation mentionnés ci-dessus, les orifices 320 et 340 ont la même géométrie, comme représenté sur les figures. En variante non représentée, un ou plusieurs des orifices d’un demi-cadre a une géométrie différente de celle des autres orifices de ce demi-cadre et/ou un ou plusieurs des orifices d’un demi-cadre a une géométrie différente de celle d’un ou plusieurs orifices de l’autre demi-cadre.
Cartouche et son utilisation, pour maintenir en compression un empilement de cellules électrochimiques La présente invention concerne une cartouche et un système de compensation dimensionnelle, pour maintenir en compression un empilement de cellules électrochimiques appartenant à une pile à combustible, concerne une pile à combustible comprenant un tel sous ensemble de compression et concerne une utilisation d’une telle cartouche.