INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
La plaquette 151, la région active 153 et l’empilement d’interconnexion 155 forment par exemple un substrat 157 de type CMOS (de l’anglais « Complementary Metal-Oxide-Semiconductor » - métal-oxyde-semiconducteur complémentaire).
À titre d’exemple, les vignettes 141 précédemment décrites en relation avec la sont retournées par rapport à l’orientation de la puis mises en contact, par la face de l’empilement d’interconnexion 135 opposée à la plaquette 131 (la face inférieure de l’empilement d’interconnexion 135, dans l’orientation de la ), avec l’empilement d’interconnexion 155. Au cours de cette étape, les vignettes 141 sont fixées à la plaquette 151. À titre d’exemple, la fixation sur la plaquette 151 est obtenue par collage moléculaire entre les deux surfaces mises en contact. Le report des vignettes 141 sur la plaquette 151 est par exemple réalisé par un procédé de « pick and place » (choisir et placer), chaque vignette étant reportée de façon individuelle, ou par un procédé de report collectif.
Lors de l’étape de collage, les vignettes 141 sont par exemple alignées par rapport à la plaquette 151 avec une précision d’alignement comprise entre 500 nm et 1,5 µm, par exemple égale à environ 700 nm. Pour cela, des marques d’alignement 159, par exemple analogues ou identiques aux marques d’alignement 137, sont formées dans l’empilement d’interconnexion 155, du côté d’une face de l’empilement d’interconnexion 155 opposée à la plaquette 151. En , les marques d’alignement 159 ont été symbolisées par des carrés étant, entendu que les marques d’alignement 159 peuvent, en pratique, présenter une forme quelconque. Lors de l’opération d’alignement, les marques d’alignement 137 des vignettes 141 sont sensiblement alignées par rapport aux marques d’alignement 159 du substrat CMOS 157. Cela permet en particulier de faire en sorte que les pistes et/ou bornes de connexion électrique de l’empilement d’interconnexion 135, donc les pistes et/ou bornes de connexion électrique de l’empilement d’interconnexion 105, soient connectées aux pistes et/ou bornes de connexion de l’empilement d’interconnexion 155 sous-jacent.
À titre de variante, dans le cas où l’étape de découpe précédemment décrite en relation avec la est omise, la structure précédemment décrite en relation avec la est par exemple reportée, par collage moléculaire, sur le substrat CMOS 157 de façon analogue à ce qui est exposé ci-dessus pour les vignettes 141.
Un avantage du procédé précédemment décrit en relation avec les figures 1A à 1G tient au fait qu’il permet, pour réaliser l’empilement d’interconnexion 155 du substrat CMOS 157, d’utiliser des techniques de lithographie très précises permettant notamment de s’affranchir de contraintes liées à la précision d’alignement des vignettes 141, ou de la structure de la , par rapport au substrat CMOS 157.
illustre un exemple d’un procédé exécuté par un point d’accès d’un nœud selon un mode de réalisation ;
illustre un exemple de mesures dans une fenêtre glissante de la quantité de données d’un flux de données transitant entre une station servie par un nœud dans un cas où le flux de données est considéré comme interruptible ;
illustre un exemple de scores calculés à partir de la quantité de données d’un flux de données transitant dans une fenêtre glissante entre une station servie par un nœud dans un cas où le flux de données est considéré comme interruptible ;
illustre un exemple de mesures dans une fenêtre glissante de la quantité de données d’un flux de données transitant entre une station servie par un nœud dans un cas où le flux de données est considéré comme non interruptible ;
illustre un exemple de scores calculés à partir de la quantité de données d’un flux de données transitant dans une fenêtre glissante entre une station servie par un nœud dans un cas où le flux de données est considéré comme non interruptible ;
illustre un exemple de mesures dans une fenêtre glissante de la quantité de données d’un flux de données transitant entre une station servie par un nœud dans une situation dans laquelle le flux de données varie entre une catégorisation interruptible et non interruptible ;
illustre un exemple de scores calculés à partir de la quantité de données d’un flux de données transitant dans une fenêtre glissante entre une station servie par un nœud dans une situation dans laquelle le flux de données varie entre une catégorisation interruptible et non interruptible.
Le réseau local maillé est construit autour d’un sous-réseau d’acheminement comportant un ensemble de nœuds 100a à 100d interconnectés.
Le nœud 100a est par exemple une passerelle résidentielle, (« gateway » en anglais), qui fournit l’accès à un réseau étendu, comme par exemple le réseau Internet.
Les nœuds 100b à 100d sont des systèmes d’extension de couverture de communication sans fil qui sont utilisés afin d’augmenter la portée du réseau local en coordonnant plusieurs points d’accès AP (« Access Point » en anglais) répartis. Ces différents points d’accès AP sont intégrés aux nœuds qui sont interconnectés grâce à un sous-réseau d’acheminement ou d’amenée (« backhaul subnetwork » en anglais) et mettent tous à disposition un même réseau local sans-fil WLAN en anglais. Dans un exemple, les nœuds 100b, 100c et 100d sont des « extenders » de couverture sans fil. Dans un autre exemple, les différents points d’accès, ou un sous-ensemble de ces points d’accès, mettent tous à disposition au moins deux mêmes réseaux locaux sans fil WLAN. L’un des ces réseaux peut correspondre à un réseau sans fil WLAN privé pour des stations connus dudit réseau, tandis que l’autre correspond à un réseau sans fil WLAN public ou invité.
Le nœud 100a peut être compris dans le sous-réseau d’acheminement.
Les nœuds 100a à 100d du sous-réseau d’acheminement sont connectés les uns aux autres grâce à une structure maillée en forme d’arbre, un nœud pouvant alors servir de relais entre deux autres nœuds du sous-réseau d’acheminement. Les nœuds du sous-réseau d’acheminement sont par exemple interconnectés grâce à des liaisons sans-fil.
Chaque nœud du sous-réseau d’acheminement émet au moins un réseau sans fil qu’on appelle « Réseau FrontHaul », ou réseau frontal, sur lequel se connectent les stations de l’utilisateur. Ce réseau frontal, s’il utilise la technologie Wi-Fi / IEEE 802.11, est l’équivalent de ce qui se nomme BSS (Basic Service Set).
On connait, par le document US-A1-2022/0294319, un ensemble de brosse de mise à la terre comprenant une brosse de mise à la terre pourvue d’une pluralité de fibres conductrices, d’un support à l’intérieur duquel sont montées les fibres conductrices, et d’une plaque de montage annulaire comprenant une pluralité de languettes de retenue radiale et axiale du support. Les languettes sont formées par déformations plastiques de la plaque de montage.
Le support comprend une portion de montage et deux flancs latéraux prolongeant la portion de montage et enserrant axialement les fibres conductrices.
Selon une caractéristique générale, chaque flanc latéral du support est pourvu, à son extrémité libre, d’une surface convexe en contact contre les fibres conductrices.
Avec une telle conception du support, on limite le risque de coupures des fibres conductrices par celui-ci compte tenu de la surface convexe à l’extrémité libre de chaque flanc latéral dans la zone de contact avec les fibres conductrices.
Ainsi, contrairement à une brosse conventionnelle, il n’y a pas d’arête pointue au niveau de l’extrémité libre de chaque flanc latéral du support dans la zone de contact avec les fibres conductrices.
La surface convexe de chaque flanc latéral du support peut par exemple présenter en section un profil en arc de cercle.
Chaque flanc latéral du support peut être pourvu de deux faces frontales interne et externe délimitant l’épaisseur axiale dudit flanc latéral.
Selon une première conception, chaque flanc latéral du support est pourvu en outre d’un alésage, ladite surface convexe raccordant la face frontale interne à l’alésage.
Selon une deuxième conception, la face frontale interne de chaque flanc latéral du support comprend la surface convexe.
Dans un mode de réalisation, chaque flanc latéral du support est pourvu au moins d’une portion oblique s’étendant obliquement vers l’intérieur à partir de la portion de montage. Chaque flanc latéral du support peut être constitué par cette portion oblique.
Alternativement, chaque flanc latéral du support peut être pourvu en outre d’un rebord recourbé prolongeant vers l’extérieur la portion oblique, au moins le rebord recourbé comprenant la surface convexe.
Lorsque la mesure TLM est pratiquée sous un éclairement continu fixe (exemple sous un spectre solaire normalisé de type AM 1.5), le taux d’ombrage effectif moyen est plus élevé pour les faibles distances inter-électrodes que pour les grandes distances inter-électrodes. Les densités de porteurs de charge photo-générés sont donc plus faibles pour les électrodes faiblement espacées que pour les électrodes espacées par de plus grandes distances. Cela conduit à une conductivité de couche variable selon la paire d’électrodes considérée, ce qui ne permet pas d’appliquer correctement la méthode TLM lorsque l’échantillon est sous illumination. Lorsque l’échantillon photovoltaïque est éclairé depuis sa face arrière (face opposée à la face avant sur laquelle les électrodes sont disposées), des problèmes de variabilité de conductivité de couche apparaissent également en raison des variations de réflexion engendrées par les électrodes.
Un but de la présente invention est de proposer un procédé de caractérisation électrique d’un échantillon photovoltaïque permettant de caractériser correctement cet échantillon photovoltaïque sous illumination.
Pour cela, l’invention propose un procédé de caractérisation électrique d’un échantillon photovoltaïque comprenant au moins un empilement de couches incluant une couche de matériau absorbeur et des électrodes de mesure de forme et de dimensions identiques et disposées sur une première face de l’échantillon photovoltaïque et formant N paires d’électrodes de mesure adjacentes présentant des distances inter-électrodes d 1 - d N différentes les unes des autres, avec N nombre entier supérieur ou égal à 3, les électrodes de mesure d’une même paire d’électrodes de mesure adjacentes étant parallèles l’une par rapport à l’autre, comprenant au moins :
a) définition ou calcul d’une valeur cible de résistance de couche de la couche de matériau absorbeur ;
b) pour chaque couple de paires d’électrodes de mesure adjacentes, de distances inter-électrodes d i et d i+1 , avec i nombre entier compris entre 1 et N-1 et tel que d i+1 > d i , détermination d’une valeur I i,i+1 d’une intensité lumineuse, pour un spectre donné illuminant la première face de l’échantillon photovoltaïque ou une deuxième face, opposée à la première face, de l’échantillon photovoltaïque, telle qu’une valeur de résistance de couche (ou « Sheet Resistance » en anglais) de la couche de matériau absorbeur, déterminée par interpolation linéaire entre des valeurs et des résistances électriques dudit couple de paires d’électrodes de mesure adjacentes, soit la plus proche possible de la valeur cible ;
c) détermination d’une valeur R Sh de résistance de couche de la couche de matériau absorbeur et d’une valeur R c de résistance de contact d’une des électrodes de mesure avec la couche de matériau absorbeur, par interpolation linéaire entre au moins trois des valeurs mesurées et/ou pour les différentes valeurs I i,i+1 déterminées à l’étape b).
Contrairement à une mesure TLM classique dans laquelle la même d’illumination (intensité et caractéristiques spectrales) est appliquée sur toutes les zones de l’échantillon faisant l’objet de la mesure TLM, le procédé proposé adapte l’illumination lors des mesures de résistance électrique réalisées pour chaque couple de paires d’électrodes de mesure adjacentes afin d’obtenir la valeur cible de résistance de couche équivalente R Sh ou même résistivité électrique équivalente.
L’illumination est adaptée en modifiant au moins l’intensité lumineuse avec laquelle l’échantillon photovoltaïque est illuminé.
Ce procédé propose donc d’ajuster de façon volontaire l’illumination de l’échantillon photovoltaïque pour chacune des mesures de résistance électrique réalisées pour chaque couple de paires d’électrodes de mesure adjacentes, afin d’obtenir, pour les différentes paires d’électrode de mesure adjacentes, la même densité de porteurs photo-générés, ou la même résistance de couche équivalente ou la même résistivité électrique équivalente, dans la couche de matériau absorbeur.
Les mesures réalisées lors de l’étape b) permettent de déterminer plusieurs valeurs de résistances électriques pour chaque couple de paires d’électrodes de mesure adjacentes et son illumination adaptée.
Ensuite, la résistance de contact et la résistance de couche équivalente sont calculées, à l’étape c), à partir des équations de la méthode TLM, avec les valeurs de résistance électrique obtenues sous illumination adaptée. Ce procédé permet ainsi de compenser tout ou partie de l’influence de l’ombrage des électrodes de mesure (lorsque l’échantillon est éclairé à travers sa première face) et/ou des réflexions de l’illumination sur les électrodes de mesure (lorsque l’échantillon est éclairé à travers sa deuxième face) qui modifient localement la densité de porteurs photo-générés ou la résistance de couche équivalente dans la couche de matériau absorbeur.
Le procédé proposé apporte aussi une relation, pour chaque paire d’électrodes de mesure et chaque zone inter-électrodes, entre : - la résistance de contact et la résistance de couche estimées ; - les conditions de mesures suivantes : dimensions des électrodes de mesure, espace inter-électrodes, face de prise de contact, face d’illumination ; - l’illumination appliquée pendant les mesures.
Le matériau absorbeur peut correspondre à au moins un matériau pouvant être un constituant d’un composant ou dispositif photovoltaïque, comme par exemple du semi-conducteur amorphe ou cristallin, un oxyde transparent conducteur, un matériau pérovskite, etc. Le matériau absorbeur correspond à un matériau photosensible, absorbeur de lumière, ayant des propriétés de conduction qui varient sous éclairement grâce à la génération de porteurs de charge par cet éclairement.
La ou les couches de l’empilement éventuellement disposées entre la face de l’échantillon destinée à être illuminée et la couche de matériau absorbeur sont telles qu’elles permettent le passage d’au moins une partie du spectre lumineux utilisé pour illuminer l’échantillon photovoltaïque.
Dans ce procédé, il est fait l’hypothèse que la contribution des couches de l’empilement autres que la couche de matériau absorbeur à la résistance de couche dont la valeur cible est définie ou calculée à l’étape a) est négligeable.
Dans l’ensemble du document, la résistance de contact R c d’une des électrodes de mesure avec la couche de matériau absorbeur inclut aussi la résistance électrique de la ou des différentes couches constituants les électrodes ainsi que les contributions résistives des résistances de contact entre ces différentes couches. Il est de même pour la résistivité de contact spécifique.
Néanmoins, cette solution n’est pas optimale car il peut toujours se produire un artefact dans la communication, tel qu’un parasite, dans un son reproduit par la station, l’apparition d’un macrobloc sur un écran de la station, ou une perte d’une commande d’un jeu.
La présente invention permet de garantir que les stations qui sont connectées à un point d’accès d’un nœud ne subissent pas d’artéfact dans une communication lorsqu’un handover de la station est effectué.
A cette fin, selon un premier aspect, un mode de réalisation propose un procédé de catégorisation de flux de données transitant entre une station et un point d’accès servant la station pour déterminer si la station servie par le point d’accès peut changer de point d’accès la servant, le point d’accès étant compris dans un nœud faisant partie d’un réseau local comprenant une pluralité de nœuds permettant une extension de couverture de communication sans fil afin d’augmenter la portée du réseau local en coordonnant plusieurs points d’accès intégrés aux nœuds, caractérisé en ce que le procédé comporte les étapes, exécutées par le point d’accès servant au moins une station, de :
- identification, à partir d’un identifiant de la source et/ou du destinataire de données, de chaque flux de données transitant entre la station et le point d’accès,
- mesures, pour chaque flux de données, de la quantité de données transitant entre la station et le point d’accès,
- calcul, pour chaque flux de données, d’une moyenne à partir des mesures pour le flux,
- catégorisation de chaque flux de données comme un flux de données interruptible si la moyenne du flux de données est inférieure à un premier seuil prédéterminé,
- détermination que la station servie par le point d’accès peut être servie par un autre point d’accès si chaque flux transitant entre la station et le point d’accès est catégorisé comme un flux de données interruptible.
Un mode de réalisation concerne aussi un dispositif de catégorisation de flux de données transitant entre une station et un point d’accès servant la station pour déterminer si la station servie par le point d’accès peut changer de point d’accès la servant, le point d’accès étant compris dans un nœud faisant partie d’un réseau local comprenant une pluralité de nœuds permettant une extension de couverture de communication sans fil afin d’augmenter la portée du réseau local en coordonnant plusieurs points d’accès intégrés aux nœuds, caractérisé en ce que le dispositif est compris dans le point d’accès servant une station, et comporte :
- des moyens d’identification, à partir d’un identifiant de la source et/ou du destinataire de données, de chaque flux de données transitant entre la station et le point d’accès,
- des moyens de mesures, pour chaque flux de données, de la quantité de données transitant entre la station et le point d’accès,
- des moyens de calcul, pour chaque flux de données, d’une moyenne à partir des mesures pour le flux,
- des moyens de catégorisation de chaque flux de données comme un flux de données interruptible si la moyenne du flux de données est inférieure à un premier seuil prédéterminé,
- des moyens de détermination que la station servie par le point d’accès peut être servie par un autre point d’accès si chaque flux transitant entre la station et le point d’accès est catégorisé comme un flux de données interruptible.
Ainsi, en effectuant des opérations statistiques sur les flux de donnés, il est possible de catégoriser chaque flux de données, de limiter les effets parasites liés à une rupture inappropriée d’un flux de données considéré comme non interruptible et de limiter les handovers aux flux non critiques et aux situations strictement nécessaires.
Selon un mode de réalisation particulier, le procédé comporte en outre les étapes exécutées, si la moyenne d’au moins un flux de données est supérieure au premier seuil prédéterminé, de :
Le flanc latéral 36 prolonge une extrémité de la portion de montage 34 et le flanc latéral 38 prolonge l’extrémité opposée de celle-ci. Les flancs latéraux 36, 38 s’étendent obliquement vers l’intérieur à partir de la portion de montage 34. Les flancs latéraux 36, 38 sont symétriques entre eux par rapport à un plan radial médian du support 32. La portion de montage 34 s’étend ici axialement. Alternativement, la portion de montage 34 pourrait s’étendre obliquement.
Comme cela sera décrit plus en détail par la suite, les flancs latéraux 36, 38 du support sont conformés pour limiter le risque de coupures des fibres conductrices 31.
La plaque de montage 40 de la brosse comprend un corps 42 principal radial annulaire, et une pluralité de languettes 44 de retenue axiale et radiale de la brosse 30 s’étendant à partir du corps 42 principal. La plaque de montage 40 comprend également une pluralité de secteurs ou pattes 46 de montage et de centrage s’étendant à partir du corps principal 42.
En se référant de nouveau à la , chaque languette 44 s’étend à partir de la surface extérieure cylindrique du corps 42. Chaque languette 44 entoure localement radialement le support 32 de la brosse 30 et est en contact radial avec la portion de montage 34 dudit support. Le support 32 de la brosse 30 de mise à la terre est maintenu axialement en appui contre le corps 42 de la plaque de montage par les languettes 44. Les languettes 44 permettent de retenir axialement et radialement la brosse 30 de mise à la terre. Le flanc latéral 36 du support est en appui contre le corps 42 de la plaque de montage et le flanc latéral 38 est en appui contre les languettes 44. Les languettes 44 sont ici identiques entre elles.
Comme illustré aux figures 2 et 3, les languettes 44 de la plaque de montage 40 sont espacées les unes par rapport aux autres dans le sens circonférentiel, ici de manière régulière.
Les pattes 46 de centrage de la plaque de montage s’étendent à partir du corps principal 42. Les pattes 46 s’étendent à partir de la surface extérieure cylindrique du corps.
En se référant à la , chaque patte 46 entoure localement radialement le support 32 de la brosse 30 en restant à distance de celui-ci. Les pattes 46 sont décalées radialement vers l’extérieur en partie par rapport aux languettes 44. Les pattes 46 s’étendent ici axialement du même côté que les languettes 44. Les pattes 46 sont ici identiques entre elles. Les pattes 46 définissent le diamètre extérieur de la plaque de montage 40. Les pattes 46 permettent le centrage de la plaque de montage à l’intérieur de l’alésage du carter.
Comme illustré aux figures 2 et 3, les pattes 46 sont espacées les unes par rapport aux autres dans le sens circonférentiel, ici de manière régulière. Chaque patte 46 est située dans le sens circonférentiel entre deux languettes 44 immédiatement successives. Chaque patte 46 est espacée dans le sens circonférentiel des deux languettes 44 immédiatement adjacentes.
La plaque de montage 40 est réalisée par découpe et emboutissage. La plaque de montage 40 est réalisée en matériau électriquement conducteur, tel que par exemple en aluminium, acier inoxydable, bronze, cuivre ou autre matériau.
En se référant de nouveau au support 32, chaque flanc latéral 36, 38 est pourvu de deux faces frontales 36a, 38a interne et 36b, 38b externe opposées délimitant l’épaisseur axiale dudit flanc. Les faces frontales 36a, 38a internes des deux flancs latéraux sont axialement en regard.
Chaque flanc latéral 36, 38 est également pourvu d’un alésage 36c, 38c qui définit le diamètre intérieur dudit flanc. Dans l’exemple de réalisation illustré, l’alésage 36c, 38c de chaque flanc latéral s’étend obliquement du côté intérieur et du côté de la portion de montage 34. Alternativement, l’alésage 36c, 38c de chaque flanc latéral pourrait s’étendre axialement.
Chaque flanc latéral 36, 38 est encore pourvu d’une surface convexe 36d, 38d raccordant la face frontale 36a, 38a interne à l’alésage 36c, 38c. La surface convexe 36d, 38d forme une surface de raccordement s’étendant entre la face frontale 36a, 38a interne et l’alésage 36c, 38c et les reliant. La surface convexe 36d, 38d est située au niveau de l’extrémité libre du flanc latéral 36, 38 et est orientée du côté intérieur.
La surface convexe 36d, 38d de chaque flanc latéral est en saillie du côté des fibres conductrices 31. La surface convexe 36d, 38d de chaque flanc latéral présente en section un profil en arc de cercle dont le centre est situé axialement du côté opposé aux fibres conductrices 31.
Les fibres conductrices 31 sont en contact contre la face frontale 36a, 38a interne et contre la surface convexe 36c, 36d de chaque flanc latéral. La surface convexe 36d, 38d de chaque flanc latéral permet de limiter le risque de coupures des fibres conductrices 31 par le support 32.
Le procédé se poursuit ensuite par une étape E2 d’installation de l’élément à pôles magnétiques 200 au sein du dispositif d’usinage 100. L’étape E2 comprend ici la préhension de l’élément à pôles magnétiques 200 par le moyen de préhension 120. Au cours de l’étape E2, les extrémités 122 des tiges 121 sont emboitées dans les reliefs en creux 224.