INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
D’autres caractéristiques avantageuses et non limitatives du procédé conforme à l’invention, prises individuellement ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles, sont les suivantes : - l’enlèvement comprend un déplacement rectiligne, selon un axe principal, de la face principale par rapport à l’organe d’enlèvement de matière ; - le positionnement de l’organe d’enlèvement de matière est effectué par un mouvement selon une direction orthogonale ou inclinée par rapport à l’axe principal ; - il est prévu, lors de l’étape de mesure, la mesure d’une pluralité de distances entre une pluralité de points de référence du dispositif d’usinage et la face principale, puis, entre l’étape de mesure et l’étape d’enlèvement, la détermination d’une orientation de la face principale par rapport à une direction de référence du dispositif d’usinage, l’alignement de la face principale avec la direction de référence ; - l’organe d’enlèvement de matière est une meule rotative et la face principale est alignée de manière à être parallèle avec un axe de rotation de la meule rotative ; - le bloc aimant présente une autre face principale, l’enveloppe recouvrant aussi l’autre face principale, le procédé comprenant les étapes suivantes : mesure d’une autre distance entre un autre point de référence du dispositif d’usinage et l’autre face principale, positionnement, sur la base de l’autre distance, d’un autre organe d’enlèvement de matière du dispositif d’usinage, enlèvement d’une autre partie de l’enveloppe recouvrant l’autre face principale au moyen de l’autre organe d’enlèvement de matière, l’enlèvement de la partie de l’enveloppe et l’autre partie de l’enveloppe étant effectués simultanément ; - la mesure de la distance est réalisée au moyen d’un capteur inductif ; - l’installation comprend la préhension de l’élément à pôles magnétiques au niveau d’un bord périphérique bordant la face principale ; - l’enveloppe recouvre le bord périphérique et présente des reliefs en creux conçus pour recevoir des moyens de préhension adaptés à l’installation de l’élément à pôles magnétiques sur le dispositif d’usinage.
L’invention propose aussi un dispositif d’usinage d’un élément à pôles magnétiques comprenant un bloc aimant en matériau magnétique et une enveloppe, le bloc aimant présentant une face principale, l’enveloppe recouvrant la face principale, le dispositif comprenant : - une unité de mesure comprenant un capteur agencé pour mesurer une distance entre un point de référence du dispositif d’usinage et la face principale ; - une unité d’usinage comprenant un organe d’enlèvement de matière adapté à enlever une partie de l’enveloppe recouvrant la face principale ; - un moyen de préhension de l’élément à pôles magnétiques adapté à acheminer l’élément à pôles magnétiques de l’unité de mesure à l’unité d’usinage ; - un calculateur programmé pour déterminer, sur la base de la distance mesurée par l’unité de mesure, une position de l’organe d’enlèvement de matière du dispositif d’usinage.
est une vue schématique de côté d’un dispositif d’usinage d’un élément à pôles magnétiques selon l’invention, l’élément à pôles magnétiques étant représenté en deux positions successives au sein du dispositif ;
est une vue schématique en perspective d’un élément à pôles magnétiques destiné à être usiné par le dispositif de la ;
est une vue schématique en perspective de l’élément à pôles de la présentant en outre des reliefs en creux pour son maintien par un moyen de préhension ;
est un schéma bloc d’une séquence d’étapes permettant l’usinage de l’élément à pôles magnétiques de la par le dispositif d’usinage de la .
Un dispositif d’usinage 100 d’un élément à pôles magnétiques 200 selon l’invention est représenté sur la . Avant de décrire ce dispositif, on peut définir l’élément à pôles magnétiques 200.
L’élément à pôles magnétiques 200 est ici conçu pour être monté au sein d’un rotor de machine électrique, et plus particulièrement d’une machine électrique à flux axial. Comme le montre la , l’élément à pôles magnétiques 200 présente une forme globalement trapézoïdale.
Le rotor (non représenté) comprend classiquement un corps qui peut classiquement présenter une forme en étoile avec des branches s’étendant radialement, autour d’un axe de rotation du rotor, depuis un moyeu central. Les branches délimitent alors entre elles des encoches radialement ouvertes vers l’extérieur, un élément à pôles magnétiques étant inséré dans chaque encoche. Les éléments à pôles magnétiques peuvent ensuite être entourés d’une frette pour être bloqués.
Le rotor présente ainsi une forme globale de disque centré autour de l’axe de rotation.
La machine électrique à flux axial comprend en outre un stator, ou de préférence deux stators situés de part et d’autre du rotor. Les stators (non représentés) présentent des formes d’anneaux aplatis et sont équipés, sur leurs faces situées du côté du rotor, de dents autours desquelles sont enroulées des bobinages de fils électriquement conducteurs. Lorsque ces bobinages sont alimentés en courant électrique, ils génèrent un champ magnétique tournant entrainant les éléments à pôles magnétiques, ce qui met en mouvement le rotor autour de l’axe de rotation.
Ce mode de réalisation peut également permettre de former une protrusion présentant une hauteur E prot particulièrement importante, potentiellement plus importante encore qu’en mettant en œuvre le deuxième mode de réalisation décrit précédemment. Le retrait du deuxième matériau formant la portion de retrait 500 sélectivement au troisième matériau formant le plot 100 peut en effet être réalisé sans difficulté sur une hauteur importante, typiquement 50 à 200 nm.
Toutes les étapes décrites dans le cadre de ce deuxième mode de réalisation peuvent être mises en œuvre dans d’autres modes de réalisation du procédé selon l’invention. Les avantages que présentent ces étapes sont également transposables à d’autres modes de réalisation. Il est notamment possible d’utiliser le principe d’un amincissement par CMP pour former des plots 100 en saillie par rapport à la troisième couche primaire 100a puis une protection du sommet 101 des plots 100 au cours d’autres variantes du procédé selon l’invention.
Dans tous les modes de réalisation précédemment décrits, lors de la formation des tranchées 400, le sommet 101 des plots 100 est recouverte par la deuxième couche primaire 300a. Cela a l’avantage protéger ce sommet 101 et notamment de permettre de conserver son niveau de rugosité de surface, qui pourrait être fortement impacté lors de la formation des tranchées 400.
La rugosité de surface obtenue après amincissement de la deuxième couche primaire 300a ou des plots 100, selon le mode de réalisation, peut être contrôlée en ajustant certains paramètres d’amincissement. Notamment, la suspension de CMP, parfois appelée boue de CMP, pâte de CMP ou plus couramment « slurry » (terme anglais signifiant « boue ») de CMP, utilisée lors de l’étape d’amincissement peut être choisie en fonction de la rugosité de surface visée pour les plots 100. Ce choix peut tout particulièrement se faire en fonction de la dimension caractéristique, souvent nanométrique, des particules abrasives contenues dans la suspension de CMP. La suspension de CMP est avantageusement choisie pour que la rugosité de surface des plots 100 soit compatible avec leur collage avec une objet déterminé, en fonction des applications visées. Il peut par exemple s’agir d’un film mince à base du troisième matériau.
La rugosité R 101 du sommet 101 des plots 100 est avantageusement inférieure à 2 nm, de préférence inférieure à 1,5 nm.
Par ailleurs, une autre caractéristique commune aux modes de réalisations décrits est le fait que l’étape d’amincissement de la troisième couche primaire 100A permettant d’obtenir les plots 1 (passage de la à la dans le premier mode de réalisation, de la à la dans le deuxième mode de réalisation et de la à 4C dans le troisième mode de réalisation) se déroule avant l’étape de formation des tranchées 400. Cela permet d’éviter que, lors d’une étape de CMP subséquente à une étape de singularisation des structures 1000 (i.e. une étape de formation des tranchées 400), des résidus de suspension de CMP ne restent dans les tranchées 400. Ces résidus sont en effet très difficiles à retirer et constituent une pollution pour la suite du procédé. Ils pourraient notamment nuire à la bonne adhésion des plots 100 avec une surface sur laquelle on chercherait à les coller.
Les retraits de matière précédemment mentionnés (formation des cavités 250, formation des tranchées 400, retrait de la portion de retrait 500, retrait de la deuxième couche 300…) peuvent être effectués par gravure humide. Le retrait des différents masques de gravure 50, 60 peut notamment se faire par décapage, plus couramment désigné par le terme anglais « stripping ».
A travers les différents modes de réalisation décrits ci-dessus, il apparaît clairement que l’invention propose un procédé de préparation d’un empilement en vue d’un assemblage avec un autre empilement ou substrat simple à mettre en œuvre. Il permet de mettre, au niveau de chaque structure 1000, une portion du plot 100 en protrusion par rapport à la première couche. Ces protrusions peuvent servir au collage ou au transfert de l’empilement sur un autre empilement ou substrat. Notamment, comme mentionné précédemment, le sommet 101 des plots 100 est protégé durant le procédé et conserve une rugosité adaptée à un collage direct.
A travers les différents modes de réalisation décrits ci-dessus, il apparaît clairement que l’invention propose un empilement et un procédé de fabrication de cet empilement permettant un transfert efficace de structures d’un empilement à l’autre. La présence de protrusions selon l’invention permet en effet un collage efficace, d’un ou plusieurs plots ou structures vers un empilement de réception, ne nécessitant pas un contrôle dimensionnel supérieur au contrôle couramment accessible dans l’industrie, et ne nécessitant pas d’étape de chauffage risquant de provoquer des distorsions et/ou contraintes mécaniques fortes au sein des empilements.
Procédé de réalisation d’un dispositif électronique La présente description concerne de façon générale les dispositifs électroniques. La présente description vise plus particulièrement les procédés de réalisation de dispositifs électroniques, par exemple des dispositifs optoélectroniques comprenant des diodes électroluminescentes.
Des procédés de réalisation de dispositifs électroniques, par exemple mettant en œuvre des substrats considérés comme peu conventionnels, par exemple des substrats de relativement petites dimensions et/ou des substrats en saphir ou en un matériau semiconducteur III-V ont été proposés. Ces procédés souffrent toutefois de divers inconvénients.
Il existe un besoin d’améliorer les procédés connus de réalisation de dispositifs électroniques.
Pour cela, un mode de réalisation prévoit un procédé de réalisation d’un dispositif électronique comprenant les étapes successives suivantes : a) former une structure comprenant une première plaquette, un empilement actif disposé sur la première plaquette, et un premier empilement d’interconnexion revêtant une face de l’empilement actif opposée à la première plaquette ; et b) reporter la structure sur une deuxième plaquette par collage moléculaire du côté d’une face du premier empilement d’interconnexion opposée à la première plaquette, la deuxième plaquette présentant un diamètre strictement supérieur à celui de la première plaquette.
correspondant à l’épaisseur de la couche équivalente, c’est-à-dire de la couche de matériau absorbeur, en cm.
Les valeurs des paramètres µ n , µ p et N D du matériau absorbeur peuvent être obtenues à partir de données techniques connues selon le matériau absorbeur utilisé, ou peuvent être mesurées à l’aide d’instruments dédiés existants et connus de l’homme du métier. Par exemple, il est possible d’estimer la densité de porteurs de charge N D dans le matériau absorbeur de l’échantillon 100 en réalisant des mesures de la résistivité électrique ρ de la couche de matériau d’absorbeur à l’obscurité, par exemple par une méthode 4 pointes ou par la mise en œuvre d’une méthode TLM classique à partir de quelques paires d’électrodes de mesures adjacentes choisies (au moins 2 paires), et en utilisant ensuite l’équation suivante pour calculer la densité de porteur de charge N D à l’obscurité :
avec q correspondant à la charge élémentaire, en C ;
N D correspondant à la densité de porteurs de charge de type donneur à l’obscurité dans le matériau absorbeur, en cm -3 ;
N A correspondant à la densité de porteurs de charge de type accepteur dans le matériau absorbeur, en cm -3 (de valeur nulle dans le cas d’une couche de semi-conducteur de type n).
Dans le cas où la relation entre le taux d’injection de porteurs de charge et l’intensité lumineuse avec laquelle l’échantillon 100 est illuminé est connue (cette relation pouvant être déterminée par des mesures sans contacts et par des calculs analytiques tenant compte de l’absorption lumineuse par l’échantillon), il est possible de définir directement une intensité lumineuse permettant d’atteindre la valeur et donc .
Par exemple, il est possible d’estimer la valeur de l’intensité lumineuse à appliquer par le calcul pour obtenir le taux d’injection de porteurs de charge cible à l’aide de la formule suivante :
Un réseau d’attention de graphes est composé d’un réseau neuronal de graphes suivi d’une couche d’attention de graphe ou « Graph Attention Layer » en anglais. La couche d’attention de graphe prend en entrée un vecteur de caractéristiques h=[h 1 , h 2 , h N ] fourni en sortie du réseau neuronal de graphes et produit en sortie un vecteur de caractéristiques transformées h’ AFE =[h’ 1 , h’ 2 , h’ N’ ].
La couche d’attention de graphe introduit la notion de valeur d’attention h ij entre deux nœuds du graphe i et j, qui est définie par la relation suivante :
a() est une fonction de projection qui prend deux vecteurs en argument et délivre une valeur réelle en sortie. W’ et W’’ sont deux matrices de transformation linéaire. est le score de similarité associé à l’arête entre le nœud i et le nœud j.
La valeur d’attention h ij représente l’importance relative de l’arête reliant les nœuds i et j du graphe. Cette valeur d’attention peut être utilisée pour estimer l’importance du nœud i. Le modèle d’attention est entrainé pour apprendre des paramètres ou poids d’attention pour chaque arête du graphe et pour collecter des informations sur les nœuds voisins d’un nœud afin de déterminer les caractéristiques de sortie à l’aide de la relation suivante :
est un coefficient qui traduit l’attention relative d’une arête par rapport à un voisinage dans le graphe. Ce coefficient peut être calculé à l’aide de la relation suivante :
est l’ensemble des nœuds voisins du nœud i
est l’ensemble des arêtes qui connectent les nœuds i et n.
est une fonction d’activation, par exemple la fonction ReLU
Un objectif de la couche d’attention est d’estimer une importance relative à différents nœuds voisins du nœud considéré plutôt que de les considérer tous avec le même poids.
Lorsque plusieurs réseaux neuronaux de graphes sont utilisés, par exemple deux réseaux 405,406 comme sur l’exemple de la , un module de recombinaison 407 est appliqué pour concaténer les vecteurs de caractéristiques h’ AFE et h’ SFE en un seul vecteur, pour chacun des nœuds du réseau. Cette étape 407 est optionnelle si un seul réseau neuronal de graphes est utilisé.
Enfin, une étape 408 finale de classification des flux est appliquée à chaque vecteur de caractéristiques associé à chaque flux pour déterminer si le flux est autorisé ou malveillant. L’étape 408 de classification peut être mise en œuvre au moyen d’un réseau de neurones artificiels tel qu’un perceptron multi-couches. Par exemple, le réseau de neurones 408 peut comprendre plusieurs couches entrainées pour distinguer les flux légitimes des flux malveillants à partir de l’analyse des caractéristiques reçues en entrée.
Chaque couche peut exécuter un calcul de convolution du type donné par la relation suivante :
, sont les sorties respectives des couches d’indice l et l-1,
et sont les poids synaptiques et biais de la couche d’indice l,
est l’erreur de reconstruction et son poids correspondant.
Le réseau de communication peut comprendre également un réseau cœur 5G qui peut comprendre un serveur UPF (acronyme anglais de « User Plane Function ») et un système d’information qui peut comprendre une base d’horodatage. La base d’horodatage peut avantageusement enregistrer des informations d’horodatage sur des messages échangés entre les passerelles P1 et P2 ou entre les terminaux T1 et T2, dans le contexte de la présente divulgation. Ces informations seront décrites ultérieurement en référence aux figures 5 à 9.
La représente un second exemple d’architecture réseau pouvant mettre en œuvre des modes de réalisation de la présente invention. Dans la le terminal T1 et la passerelle P1 sont un seul terminal de même que le terminal T2 et la passerelle P2. Les autres éléments de la sont identiques à ceux portant les mêmes références dans la et ne seront pas décrits plus en détail ici. Bien entendu dans certains modes de réalisation le terminal T1 et la passerelle P1 peuvent être confondus alors que le terminal T2 et la passerelle P2 ne le sont pas ou inversement.
Lorsque le terminal T1 et la passerelle d’accès P1 forment un seul dispositif, le terminal T1 est alors configuré pour mettre en œuvre un procédé tel que décrit par la présente divulgation, et ne nécessite pas de passerelles d’horodatage supplémentaire. Dans ce cas, le terminal T1 (ou le terminal T2) est configuré pour horodater les messages, par exemples des messages de téléaction, à partir d’informations fournies par le ou les serveurs d’horodatage.
La représente un troisième exemple d’architecture réseau pouvant mettre en œuvre des modes de réalisation de la présente invention. Dans ce mode de réalisation, deux dispositifs de téléaction, dispositif-teleaction_1 et dispositif teleaction_2, sont connectés respectivement aux passerelles P1 et P2. La passerelle P1 peut par exemple interfacer le distributeur d’énergie au réseau de communication et la passerelle P2 interface le producteur d’énergie au réseau de communication. De plus, un troisième terminal, dispositif-comptage, est également situé dans le domaine du producteur d’énergie et connecté à la passerelle P2. Ce troisième terminal peut fournir des services de comptage pour l’énergie fournie par le producteur d’énergie au distributeur d’énergie. A cet effet, un système d’information, connecté au réseau de l’opérateur, peut comprendre une base de comptage pour échanger des données et messages avec le dispositif de comptage du producteur d’énergie. Le dispositif de comptage peut également bénéficier des services d’horodatage fournis par le ou les serveurs d’horodatage.
Dans d’autres modes de réalisation, outre le service de comptage, des services de flexibilité, tel que l’écrêtage appliqué par le distributeur d’énergie auprès du consommateur d’énergie, peuvent être fournis.
Dans d’autres modes de réalisation, les passerelles d’horodatage peuvent être utilisées par d’autres services mis en œuvre dans les réseaux connectés au réseau de l’opérateur par l’intermédiaire de ces passerelles. Parmi ces services, il peut être envisagé la synchronisation de robots ou de processus industriels au sein d’usines.
Les figures 4a et 4b illustrent schématiquement, deux modes de réalisation comprenant respectivement un seul opérateur de télécommunication et deux opérateurs de télécommunication. La correspond à une autre représentation de l’environnement décrit en référence aux figures 1 à 3 dans lequel les passerelles d’accès P1 et P2 sont connectées entre elles par un seul opérateur de télécommunication. La illustre un mode de réalisation dans lequel les passerelles P1 et P2 sont remplacées respectivement par des passerelles P1A et P2A qui sont également des passerelles d’horodatage comme les passerelles P1 et P2. La passerelle P1A interface le terminal T1 au réseau d’un premier opérateur télécom et la passerelle P2A interface le réseau d’un second opérateur télécom au terminal T2. Ce mode de réalisation peut être mis en œuvre lorsque le fournisseur d’énergie et le distributeur d’énergie n’ont pas souscrit un abonnement chez le même opérateur de télécommunication ou plus généralement lorsque le détenteur du terminal T1 et le détenteur du terminal T2 n’ont pas souscrit un abonnement chez le même opérateur de télécommunication. Les deux réseaux sont interconnectés entre eux par l’intermédiaire de deux passerelles P1B et P2B connectées respectivement au premier réseau et à la seconde passerelle P2B et d’autre part au second réseau et à la première passerelle P1B. Dans ce mode de réalisation, deux serveurs d’horodatage SHA et SHB situés respectivement au sein du réseau du premier opérateur et du second opérateur peuvent être synchronisés sur la même référence de temps UTC (acronyme anglais de « Universal Time Coordinated »)pour permettre une mesure du temps de transfert entre les passerelles P1B et P2B , P1A et P2A ou les terminaux T1 et T2.
Dans certains modes de réalisation, les deux bases d’horodatage BH1 et BH2 peuvent être partagées dans le sens où elles peuvent chacune enregistrer des données horodatées relatives à au moins chacun des deux opérateurs de télécommunication.
Dans certains modes de réalisation, les deux bases de données sont dédiées à chaque opérateur dans le sens où elles enregistrent uniquement des données horodatées relatives au réseau de télécommunication sur lequel elles sont connectées. Les informations d’horodatage relatives à un même message peuvent être réconciliées grâce par exemple à un identifiant du message, par exemple à un identifiant de séquence du message ou à un autre en-tête du message pouvant l’identifier et le différencier des autres messages, soit un identifiant unique pour le message.
La représente un mode de réalisation d’un procédé selon la présente divulgation et pouvant par exemple être mis en œuvre par l’un ou l’autre des exemples d’architecture donnés dans les figures précédentes. Les étapes de ce procédé sont mises en œuvre au sein de la passerelle P1, mais pourraient tout à fait être mises en œuvre de la même manière, au sein de la passerelle P2.
Les figures 5 à 9 montrent deux serveurs d’horodatage SH1 et SH2. Ces deux serveurs d’horodatage sont alors synchronisés sur une même référence de temps UTC.
Dans d’autres modes de réalisation, les deux serveurs SH1 et SH2 peuvent être remplacés par un unique serveur d’horodatage.
Les passerelles P1 et P2 échangent des messages respectivement avec les serveurs d’horodatage SH1 et SH2. Ces messages peuvent être échangés périodiquement entre les passerelles et les serveurs d’horodatage. Par périodiquement, on entend de manière régulière ou non, à intervalle régulier ou non. Il s’agit ici de garantir une synchronisation et plus les messages sont réguliers, plus la synchronisation est fine.
Ces messages contiennent une information temporelle de référence, soit une indication précise du temps, par exemple l’heure UTC, permettant la mise à jour de l’horloge interne de la passerelle et de déterminer une information d’horodatage HRE pour la passerelle P1 et HTR pour la passerelle T2, déterminée à partir de leur horloge interne. Une première information temporelle de référence est obtenue par la passerelle P1 et une seconde information temporelle de référence est obtenue par la passerelle P2.
Dans certains modes de réalisation, cette première information temporelle de référence et cette seconde information temporelle de référence peuvent être identiques et peuvent être la référence de temps UTC. Dans d’autres modes de réalisation, ces deux informations temporelles sont différentes et synchronisées.
Selon certains modes de réalisation, ces messages comprennent, en plus de cette indication précise du temps, une information de qualité associée à cette indication précise du temps, par exemple une classe de précision associée.