INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le deuxième échangeur de chaleur 5 du circuit primaire 1 est configuré pour permettre un échange thermique entre une première portion du circuit primaire 1 et une deuxième portion du circuit primaire 1, pour transférer des calories entre un flux du fluide primaire relativement chaud et un flux du fluide primaire relativement froid.
Le flux du fluide primaire relativement froid est à une température proche de la température ambiante, par exemple comprise entre environ 5 °C et 50 °C. Le flux du fluide primaire relativement chaud est à une température comprise entre environ 200 °C et 600 °C.
La première portion du circuit primaire 1 est distincte de la deuxième portion du circuit primaire 1.
Le deuxième échangeur de chaleur 5 du circuit primaire 1 est configuré pour conjointement refroidir le fluide primaire en amont du circulateur primaire 3 et pour réchauffer le fluide primaire en aval du circulateur primaire 3.
Le deuxième échangeur de chaleur 5 du circuit primaire 1 est configuré pour conjointement refroidir le fluide primaire en aval du premier échangeur de chaleur 10 et réchauffer le fluide primaire en amont du réacteur nucléaire 7.
Le deuxième échangeur de chaleur 6 du circuit secondaire 2 est configuré pour permettre un échange thermique entre une première portion du circuit secondaire 2 et une deuxième portion du circuit secondaire 2, pour transférer des calories entre un flux du fluide secondaire relativement chaud et un flux du fluide secondaire relativement froid.
La première portion du circuit secondaire 2 est distincte de la deuxième portion du circuit secondaire 2.
Le deuxième échangeur de chaleur 6 du circuit secondaire 2 est configuré pour conjointement refroidir le fluide secondaire en amont du circulateur secondaire 4 et pour réchauffer le fluide secondaire en aval du circulateur secondaire 4.
Le deuxième échangeur de chaleur 6 du circuit secondaire 2 est configuré pour conjointement refroidir le fluide secondaire en aval du dispositif utilisateur 8 et réchauffer le fluide secondaire en amont du premier échangeur de chaleur 10.
Comme représenté à la , le circuit primaire 1 comporte un troisième échangeur de chaleur 13, configuré pour permettre un échange thermique entre le fluide primaire et un premier fluide de refroidissement.
Comme dans le mode de réalisation décrit précédemment, ce retrait permet de mettre à jour certaines parties de la face supérieure 11 du support 10 correspondent aux zones à traiter 13.
Comme précédemment, les zones à traiter 13 peuvent ensuite être traitées (gravure, implantation…) sans que cela n’altère le bevel, protégé par le revêtement de protection 100. La illustre par exemple une étape de gravure du support 10 à partir des zones à traiter 13. Le bevel, se trouvant sous le revêtement de protection 100, ne subit aucun dommage dû à la gravure (ou toute autre étape de traitement).
La illustre une étape facultative de retrait des parties restantes de la deuxième couche 30 ainsi que le revêtement de protection 100. On obtient alors un support présentant un bevel intact, non contaminé et avec un excellent état de surface.
Quel que soit le mode de réalisation du procédé, les dimensions du revêtement de protection sont choisies de sorte à protéger le bevel.
Le revêtement de protection 100 présente dans le plan transversal XY une dimension radiale l100 mesurée à partir du centre O du wafer. De la même façon, on définit une dimension radiale l14 de la zone périphérique 14, une dimension radiale l24 de la première portion 24, un rayon R15 de la zone centrale et un rayon R25 de la deuxième portion. Par construction, le revêtement de protection étant formé par insolation de la première portion 24, on a l100=l24.
La distance du revêtement de protection 100 à l’extrême périphérie du support 10 est caractérisée par la distance radiale d103 dans le plan XY entre le flanc 13 du support, dit premier flanc latéral 13, et le flanc 103 du revêtement 100 (voir ). Comme représenté sur les figures, le flanc 13 du support peut être incurvé. On assimile alors la position dans le plan XY de ce premier flanc latéral 13 à la position de la jointure entre le flanc 13 et la face supérieure 11 du support.
Avantageusement, la distance d103 est inférieure ou égale à 0,5 cm, de préférence inférieure ou égale à 0,2 cm. De préférence, la face inférieure 102 du revêtement de protection 100 s’étend depuis la périphérie du support 10 afin d’obtenir la meilleure protection pour le bevel : la distance d103 est alors sensiblement nulle, comme illustré aux figures 2D, 3G et 4A.
Avantageusement, le revêtement de protection 100 recouvre toute la zone périphérique 14 et on a ainsi l100=l24=l14.
Pour un wafer de rayon R, l100 est avantageusement compris entre 1% et 20% de R, de préférence entre 5% et 15%, de préférence entre 5% et 10%. Pour un wafer de 300 millimètres de diamètre, l100 est de préférence compris entre 0,5 à 3 cm.
Lors de sa formation, le revêtement de protection 100 présente en outre selon la direction une épaisseur e100. Cette épaisseur est choisie en fonction du niveau de dégradation que le revêtement 100 va subir lors des étapes subséquentes de traitement de la zone centrale 15. Le revêtement 100 doit en effet être suffisamment épais pour protéger le bevel jusqu’à la fin de ces étapes. Par exemple, si ces étapes comprennent une ou plusieurs étapes de gravure du support, le choix de l’épaisseur e100 se fait entre autres en fonction de la sélectivité de la gravure entre le matériau du support et la résine photosensible. Typiquement, e100 est supérieure ou égale à 250 nm, de préférence supérieure ou égale à 500 nm.
SYSTEME ET PROCEDE D’INSERTION D’UNE BARRE DANS UNE FENTE D’UN PANIER L’invention concerne un système d’insertion d’une barre dans une fente d’un panier, tel qu’un panier de logement de plaquettes d’un matériau semi-conducteur, comportant la barre pour le maintien des plaquettes dans le panier, et/ou d’extraction de cette barre lorsqu’elle est logée dans la fente du panier.
L’invention s’applique notamment à tout type de panier, mais trouve une application préférée dans les paniers de logement de plaquettes de matériau semi-conducteur, aussi désignées par le terme anglophone « wafers », telles que les plaquettes destinées à la fabrication de cellules photovoltaïques.
ETAT DE LA TECHNIQUE Une plaquette de matériau semi-conducteur reçoit généralement plusieurs traitements mécaniques et chimiques pour la fabrication de composants microélectroniques, telles que les cellules photovoltaïques. La plaquette de matériau semi-conducteur est logée dans un panier, qui peut recevoir plusieurs plaquettes, pour son maintien en position lors des différents traitements. Un panier de structure connue comporte un élément de verrouillage, typiquement une barre, pour maintenir la plaquette de matériau semi-conducteur dans le panier. La barre est logée de manière amovible dans une fente du panier ; laquelle fente imposant, pour l’insertion et/ou l’extraction de la barre, un mouvement simultané de cette barre en translation et en rotation.
Il existe un besoin pour automatiser le déplacement de la barre, notamment pour son insertion dans la fente et/ou son extraction depuis la fente, tout en ayant un système relativement simple, robuste et efficace.
A cet égard, l’invention a pour objet un système d’insertion d’une barre dans une fente d’un panier, tel qu’un panier de logement de plaquettes d’un matériau semi-conducteur comportant la barre pour le maintien des plaquettes dans le panier, et/ou d’extraction de cette barre lorsqu’elle est logée dans la fente. Cette fente impose, pour l’insertion et/ou l’extraction de la barre, un déplacement de la barre et un mouvement simultané de cette barre, sur au moins une partie du déplacement, en rotation autour d’un axe de rotation parallèle à la barre, et de préférence correspondant à l’axe central longitudinal de cette barre, et en translation le long d’un chemin s’inscrivant dans un plan perpendiculaire à l’axe de rotation. Le système comprend un dispositif d’entraînement d’une extrémité de la barre. Le dispositif d’entrainement comporte un support définissant un chemin de guidage dans un plan et un pion guidé dans le plan le long du chemin de guidage. Le dispositif d’entrainement comporte également un moyen d’accouplement destiné à s’accoupler à une extrémité de la barre. Le moyen d’accouplement est solidaire en translation du pion et apte à effectuer une rotation autour d’un axe de rotation perpendiculaire au plan. Le dispositif d’entrainement comporte en outre des moyens d’entraînement configurés pour déplacer le pion le long du chemin de guidage et entraîner simultanément, sur au moins une partie du déplacement pour l’insertion et/ou l’extraction de la barre, le moyen d’accouplement en rotation.
Selon une réalisation, le procédé comporte l’étape de faire circuler le fluide secondaire dans le circuit secondaire, au moyen du circulateur secondaire.
Selon une réalisation, le procédé comporte l’étape de générer de l’énergie au moyen de la première turbine et/ou de la deuxième turbine, notamment pour alimenter le circulateur primaire et/ou le circulateur secondaire.
La est une représentation schématique de l’installation selon l’invention ;
la est une représentation schématique de l’installation de la dans laquelle au moins une turbine produit de l’énergie.
En référence à la , on a représenté une installation 100 d’extraction de chaleur pour un réacteur 7.
On entend par réacteur, une source de chaleur haute température, typiquement une température de plusieurs centaines de degrés Celsius, par exemple une température supérieure à 300 °C. Un tel réacteur ou une telle source de chaleur peut comporter un réacteur ou une centrale ou tout type d’installation industrielle permettant de fournir un tel niveau de températures.
Dans l’exemple représenté, le réacteur 7 comporte un réacteur nucléaire 7, notamment à très haute température aussi connu sous l’appellation VHTR (pour « Very High Temperature Reactor » en anglais) ou HTGR (pour « High Temperature Gas-cooled Reactor » en anglais).
Comme visible sur la , l’installation 100 comprend : un circuit primaire 1 pour un fluide primaire en échange thermique avec un cœur du réacteur nucléaire 7 ; un circuit secondaire 2 pour un fluide secondaire en échange thermique avec un dispositif utilisateur 8 ; un premier échangeur de chaleur 10 configuré pour permettre un échange thermique entre le circuit primaire 1 et le circuit secondaire 2.
Le premier échangeur de chaleur 10 est configuré pour permettre un transfert d’énergie thermique du fluide primaire vers le fluide secondaire, notamment sans les mélanger.
Dans l’exemple considéré, le fluide primaire est un fluide caloporteur, présentant notamment une chaleur spécifique élevée. Le fluide primaire peut comporter de l’hélium. Par ailleurs, le fluide secondaire est un fluide caloporteur. Le fluide secondaire peut comporter du dioxyde de carbone et/ou de l’azote et/ou de l’hélium et/ou une combinaison d’au moins deux de ces gaz.
Dans l’exemple représenté, le premier échangeur de chaleur 10 comporte un premier passage d’écoulement 11 pour la circulation du fluide primaire et un deuxième passage d’écoulement 12 pour la circulation du fluide secondaire.
Le premier échangeur 10 est à contre-courant ou à courant croisé, par exemple sous la forme d’un échangeur tubes et à calandre ou d’un échangeur à plaques et à calandre ou d’un échangeur à plaques.
L’entrée du premier passage d’écoulement 11 est montée en aval du réacteur nucléaire 7. La sortie du premier passage d’écoulement 11 est montée en amont du circulateur primaire 3. L’entrée du deuxième passage d’écoulement 12 est montée en aval du circulateur secondaire 4. La sortie du deuxième passage d’écoulement 12 est montée en amont du dispositif utilisateur 8.
Dans un exemple de réalisation, le fluide primaire est à une température comprise entre environ 450 °C et 750 °C en aval du réacteur nucléaire 7. Le fluide primaire entre dans le premier passage d’écoulement 11 avec sensiblement la même température et sort du premier passage d’écoulement avec une température comprise entre environ 200 °C et 600 °C. Le fluide secondaire entre dans le deuxième passage d’écoulement à une température comprise entre environ 100 °C et 350 °C et sort du deuxième passage d’écoulement avec une température comprise entre environ 450 °C et 700 °C.
En entrant dans le premier passage d’écoulement, le fluide primaire est à une pression d’environ 10 à 50 bar, par exemple d’environ 20 bar. En sortant du deuxième passage d’écoulement, le fluide secondaire est à une pression d’environ 10 à 50 bar, par exemple d’environ 20 bar.
Également, l'intégration d'un élément non linéaire supplémentaire comme c’est le cas du commutateur radiofréquence est une possible cause d'émissions ou de bruits indésirables.
L’utilisation d’un commutateur mécanique est volumineuse et couteuse et difficile à intégrer dans un circuit imprimé. Le principal inconvénient fonctionnel de cette solution est l’apparition d’un bagotement mécanique en cas de serrage défaillant de l’antenne ou du câble coaxial. De plus, le chemin radio doit obligatoirement passer par le commutateur ce qui entraine des atténuations supplémentaires dans les performances.
Par ailleurs, les systèmes de détection ne sont pas très fiables et génèrent souvent une fausse mesure, ce qui mène à la perte immédiate de la communication.
L’invention propose de pallier au moins un des inconvénients évoqués ci-dessus.
A cet effet, l’invention propose, selon un premier aspect une antenne d’un dispositif communicant, comprenant un substrat, un point d’alimentation de l’antenne et un premier point de mise à la masse destiné à être relié à un plan de masse ; un motif antennaire métallique imprimé sur une face du substrat, le motif antennaire formant une boucle ouverte depuis le point d’alimentation vers le premier point de mise à la masse, la boucle définissant en son centre une zone non métallique ; l’antenne étant adaptée pour fonctionner seule pour rayonner un signal radio ou en association avec un coupleur disposé en face et à distance de l’antenne de manière à récupérer le signal rayonné par l’antenne, le coupleur comprenant une zone métallique complémentaire à la zone non métallique en face.
- le motif antennaire comprend depuis, le point d’alimentation, un premier motif monobloc métallique constitué de deux branches longitudinales à distance l’une de l’autre, une branche transversale reliant les deux branches longitudinales, une première branche longitudinale s’étendant depuis le point d’alimentation, une deuxième branche longitudinale s’étendant depuis la branche transversale parallèlement à la première branche, le motif antennaire comprenant un deuxième motif monobloc s’étendant depuis le premier point de mise à la masse et comprend une branche transversale parallèle et à distance de la branche transversale du premier motif monobloc, la branche transversale du deuxième motif monobloc se terminant à une distance proche de 1 à 3 mm de la deuxième branche longitudinale du premier motif sans le toucher.
- la zone non métallique est rectangulaire.
- l’antenne comprend un deuxième point de mise à la masse destiné à être relié à un plan de masse et comprend un troisième motif monobloc s’étendant depuis le deuxième point de mise à la masse.
- le premier motif, le deuxième motif et le troisième motif sont configurés pour fonctionner dans les bandes LTE 20 et 8.
L’invention concerne, selon un deuxième aspect, un coupleur d’un dispositif communicant comprenant un substrat rectangulaire comprenant un motif de couplage imprimé sur une face, le motif de couplage comprenant une zone métallique complémentaire à une zone non métallique d’une antenne destinée à être en face et distance du coupleur de manière à ce que le coupleur récupère le signal rayonné par l’antenne.
L’invention concerne, selon un troisième aspect un dispositif communicant comprenant un premier logement pour loger une antenne selon le premier aspect de l’invention et un deuxième logement pour loger un coupleur selon le deuxième aspect de l’invention, le premier logement et le deuxième logement étant configurés l’un par rapport à l’autre de manière ce que le l’antenne et le coupleur puissent être l’un en face de l’autre, la zone métallique du coupleur étant alors en face de la zone non métallique de l’antenne, le dispositif comprenant deux modes de fonctionnement : un premier mode de fonctionnement comprenant uniquement l’antenne pour rayonner un signal radio, un deuxième mode de fonctionnement comprenant l’antenne et le coupleur pour déporter un signal radio rayonné par l’antenne vers une antenne externe adaptée pour être connectée au coupleur. L’invention, selon le troisième aspect est avantageusement complétée par les caractéristiques suivantes, prises seules ou en une quelconque de leur combinaison techniquement possible :
- le deuxième logement est adapté pour maintenir le coupleur en face et à une distance comprise entre 1 et 3mm de l’antenne.
- le coupleur comprend un connecteur connecté au motif de couplage, le connecteur étant adapté à être connecté à une antenne externe au moyen d’un câble.
- l’antenne est noyée dans un capot et dans lequel le logement pour le coupleur est une rainure formée dans le capot, le coupleur étant amovible.
Selon un mode de réalisation, les composants d’électrode sont mélangés séquentiellement selon des procédés conventionnels, conduisant à une formulation d’électrode. Dans un mode de réalisation, ladite formulation d’électrodes est appliquée sur un substrat par sérigraphie électrostatique. Certains exemples de substrat sont des collecteurs de courant tels qu’une feuille métallique et une maille métallique, des films de polymère, ou une couche d’électrolyte solide d’une batterie à l’état solide.
Selon un autre aspect de la présente invention, une batterie Li-ion est fournie. Préférablement, la batterie Li-ion comprend une électrode positive, une électrode négative et un séparateur, au moins une électrode étant une électrode revêtue à sec selon la présente invention.
Méthode de mesure du pH On emploie un pH-mètre de marque Mettler Toledo SevenEasy ou équivalent et une Electrode In Lab Routine Pro. Avant l'étalonnage, on s'assure de l'état de propreté de l'électrode. Au besoin, nettoyer l'électrode avec de l'eau chaude savonneuse. On s'assure que l'électrode pH est toujours gardée remplie avec de la solution de remplissage KCl. L'appareil est étalonné avec des solutions tampons de pH 10, 7 et 4. Pour étalonner, on trempe l’électrode dans la solution tampons pH 10 et appuyer sur Cal, une fois le pH stabilisé répéter l’opération avec le tampon pH 7 puis 4. On rince à l’eau distillée et on sèche l’électrode entre chaque tampon. L'électrode est préparée au préalable avant la mesure par trempage dans une solution de l'HCl 0.1M pendant une à deux heures puis rincée à l'eau désionisée. Pour mesurer le pH, on trempe l’électrode dans le produit en l’état à tester et on agite quelques secondes. On laisse se stabiliser la mesure 15mn et on lit la valeur affichée par le pH-mètre. La mesure est faite à température ambiante.
Calcul de la température de transition vitreuse Les températures de transition vitreuse indiquées ici sont calculées à l’aide de l’équation de Fox. L'équation de Fox est une équation utilisée pour prédire la température de transition vitreuse des copolymères statistiques :
1 / Tg,copo ≈ ∑i ωi / Tg,i
Tg,copo est la température de transition vitreuse du copolymère,
Tg,i sont celles des homopolymères i correspondant à chaque comonomère,
ωi sont les fractions massiques des monomères i composant ce copolymère.
Les fractions massiques sont exprimées sans unité. Les températures de transition vitreuse sont exprimées en degré Kelvin. La température est ensuite convertie en degré Celsius.
Synthèse du polymère acrylique B Plusieurs polymères acryliques B ont été préparés
Polymère B- 1
Dans un réacteur de 1000ml en verre muni d’une agitation mécanique et d’un chauffage de bain d’huile, on a pesé 416g d’eau désionisée et 3,2g de dodecyl sulfate de sodium à 97%. Dans un premier récipient muni d’une agitation de type barreau magnétique, on a pesé 150g d’eau désionisée, 1,06g de dodecyl sulfate de sodium à 97%, 0,7g de diallyphtalate, 163 g d’acrylate d’éthyle, 116 g d’acide méthacrylique. Ce mélange est mis sous agitation constante tout au long de la polymérisation. Dans un second récipient, on a préparé une solution constituée de 0,7g de persulfate d’ammonium, 10g d’eau désionisée. Dans un troisième récipient, on a préparé une solution constituée de 0,1g de métabisulfite de sodium, 10g d’eau désionisée. Le réacteur a été chauffé à 76°C. On a introduit dans celui-ci les contenus du second récipient et du troisième récipient, puis le contenu du premier récipient a été introduit toujours sous agitation à l‘aide d’une pompe péristaltique dans le réacteur en 120mn à 76°C. La dispersion a été chauffée à 78°C pendant 60 min. Une dispersion contenant 28% de matières sèches a été obtenue. Les particules possèdent un diamètre médian mesuré par DDL de 100nm. Le pH de la dispersion aqueuse est de 3,1.
Polymère B- 2
Un procédé d’assemblage de la batterie 1 selon l’invention va maintenant être décrit. Un tel procédé d’assemblage comprend une étape de solidarisation du système de rappel élastique 18 à la première plaque 12. Une telle étape de solidarisation est, dans le cas du premier au quatrième mode de réalisation, une solidarisation par un moyen de fixation irréversible 101, notamment par collage ou soudage. La première plaque 12 est par exemple une paroi de fond du boîtier de la batterie 1. Au contraire, dans le cas du cinquième mode de réalisation, la solidarisation correspond à un enroulement du système de rappel élastique 18 autour des pions 40, 42 de la première plaque 12 de façon à former des liaisons pivot. Le procédé d’assemblage comprend par la suite une étape de disposition des cellules électrochimiques 2 en recouvrement de la première plaque 12, selon la direction d’empilement. Les cellules électrochimiques 2 peuvent à cet effet être disposées une par une, ou bien un empilement déjà formé de cellules électrochimiques 2 est déposé en une seule opération sur la première plaque 12. On comprend que les cellules électrochimiques sont déposées sur la première plaque 12 entre les systèmes de rappel élastique ou autour du système de rappel élastique, selon le nombre et la disposition des systèmes de rappel élastique sur la première plaque.
Le procédé d’assemblage se poursuit par une étape de recouvrement, lors de laquelle la deuxième plaque 14 est disposée sur l’empilement de cellules électrochimiques 2. La plaque peut venir reposer sur le système de rappel élastique, si celui-ci est déjà contraint en traction et présente une longueur supérieure à sa longueur à vide, ou bien être maintenue à distance des bras du système de rappel élastique sur lesquels cette plaque doit être fixée.
Le procédé d’assemblage comprend ensuite une seconde étape de solidarisation, qui vise à solidariser le système de rappel élastique 18 et la deuxième plaque 14, que ce soit par un moyen de fixation réversible 102, par exemple par vissage comme c’est le cas du premier au quatrième mode de réalisation, ou encore par enroulement des extrémités de la deuxième portion courbée 38 autour des pions 40, 42 de la deuxième plaque 14 comme c’est le cas dans le cinquième mode de réalisation. Au cours de cette seconde étape de solidarisation, le système de rappel élastique 18 est étiré. On comprend notamment, pour les quatre premiers modes de réalisation, que les bras 26, 28 d’une arche 20, 22 sont déformés de sorte à être écartés l’un de l’autre selon la direction verticale V au fur et à mesure du vissage. La seconde étape de solidarisation peut être facilitée par l’utilisation d’une presse, qui appuie sur l’empilement de cellules électrochimiques 2 de sorte à réduire leur volume. Une fois la solidarisation par le moyen de fixation réversible effectuée, le système de rappel élastique 18 tend à reprendre sa forme de repos, c'est-à-dire non écartée, et compresse à cette occasion l’empilement de cellules électrochimiques 2 en rapprochant ses bras 26, 28, ce qui entraîne le rapprochement de la première plaque 12 et la deuxième plaque 14 l’une vers l’autre.