INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
La sélectivité entre les premier, deuxième et troisième matériau a pour conséquence directe la hauteur E prot de la protrusion formée lors du retrait de la portion de retrait 500. Ainsi, la hauteur E prot peut être contrôlée par le choix de ces matériaux.
Ce mode de réalisation se caractérise par sa simplicité de mise en œuvre, notamment car relativement peu d’étapes sont nécessaires à la formation de des protrusions.
Ceci permet, lorsqu’en fin de traitement des pixels associés à une source ne sont pas situés dans une région de pixels contigus dont fait partie la source, de redéfinir les étiquettes de sources de pixels, pour fusionner des régions et associer chaque pixel à la meilleure source possible, qui sera située dans la même région de pixels contigus que lui.
Dans certains modes de réalisation, le voisinage du pixel courant comprend l’ensemble des pixels contigus au pixel courant.
L’utilisation d’un voisinage comprenant l’ensemble des pixels contigus au pixel courant permet une propagation plus efficace des informations relatives aux sources et aux extrema, ce qui peut permettre dans certains cas de limiter le nombre d’itérations de calcul.
Dans certains modes de réalisation, l’utilisation d’une pluralité de sens de parcours de pixels différents lors de plusieurs itérations successives respectivement.
L’utilisation de plusieurs parcours différents permet une convergence plus rapide du procédé, car les données sont propagées dans plusieurs directions différentes voire opposées.
Dans certains modes de réalisation, le procédé comprend au moins deux sens de parcours parmi un groupe comprenant 4 sens de parcours, correspondant respectivement à un parcours de l’image de gauche à droite et de haut en bas ; un parcours de l’image de droite à gauche et de bas en haut; un parcours de l’image de droite à gauche et de haut en bas; un parcours de l’image de gauche à droite et de bas en haut.
L’utilisation d’au moins deux sens de parcours distincts permet une convergence particulièrement rapide des valeurs de pixels, et donc de limiter le nombre d’itérations de calcul.
montre un exemple d’image servant de base à une segmentation par partage des eaux.
montre un exemple de définition de sources lumineuses dans l’image de la en vue de l’application d’une segmentation par partage des eaux.
montre un exemple de segmentation de l’image de la en régions par une segmentation par partage des eaux.
montre un exemple de procédé de segmentation d’image par partage selon un ensemble de modes de réalisation de l’invention.
montre un exemple simplifié en fonction d’une seule dimension spatiale le principe de segmentation par partage des eaux selon un ensemble de modes de réalisation de l’invention. Dans cet exemple simplifié, les sources sont des minima locaux de l’intensité.
montre deux exemples de voisinages d’un pixel selon deux modes de réalisations de l’invention.
montre quatre exemples de parcours possibles d’une image en deux dimensions dans un ensemble de modes de réalisation de l’invention.
montre l’évolution de la variation des pixels d’une image au cours des itérations successives, en fonction des sens de parcours utilisés, dans un exemple de mode de réalisation de l’invention.
Toutes les étapes décrites dans le cadre de ce premier mode de réalisation peuvent être mises en œuvre dans d’autres modes de réalisation du procédé selon l’invention. Les avantages que présentent ces étapes sont également transposables à d’autres modes de réalisation. Il est notamment possible d’utiliser une gravure sélective entre le premier, le deuxième et le troisième matériau telle que décrite plus haut pour la formation de la protrusion au cours d’autres variantes du procédé selon l’invention.
Deuxième exemple de mise en œuvre du procédé selon l’invention
Un deuxième mode de réalisation du procédé selon l’invention va maintenant être décrit en référence aux figures 3A à 3J.
Une première étape consiste en la fourniture d’un empilement comprenant le substrat 10, une première couche primaire 200a surmontant le substrat 10 et une première sous-couche primaire 310a surmontant la première couche primaire 200a ( ). La première sous-couche primaire 310a est de préférence au contact direct de la première couche primaire 200a.
Un premier masque de gravure 50 présentant des ouvertures 55 est ensuite déposé sur la face supérieure 311a de la première sous-couche primaire 310a ( ). Les parties de la première sous-couche primaire 310a et de la première couche primaire 200a se trouvant au droit des ouvertures 55 sont retirées ( ), puis, de préférence, le masque de gravure 50 est retiré. Ce retrait permet de former des cavités secondaires 250’. Les cavités secondaires 250’ s’étendent de préférence jusqu’à la face supérieure 11 du substrat 10.
Suite à la formation des cavités secondaires 250’ dans la première couche primaire 200a et dans la première sous-couche primaire 310a, ces dernières sont remplies par le troisième matériau. Comme illustré aux figures 3F et 3G, il est par exemple possible de former une troisième couche primaire 100a s’étendant dans les cavités secondaires 250’, à l’aplomb des cavités secondaire 250’ selon la troisième direction Z et sur la première sous-couche primaire 310a ( ). Le dépôt de la troisième couche primaire 100a est de préférence conforme. La troisième couche primaire 100a peut ensuite être amincie, par exemple par CMP, de sorte qu’elle se trouve de niveau avec la première sous-couche primaire 310a ( ).
Une deuxième sous-couche primaire 320a est ensuite formée sur, et de préférence au contact direct de, la face supérieure 311A de la première sous-couche primaire 310a et sur, et de préférence au contact direct de, le sommet 101 des plots 100 ( ). L’ensemble constitué de la première sous-couche primaire 310a et de la deuxième sous-couche primaire 320a est nommé deuxième couche primaire 300a.
Des tranchées 400 sont ensuite formées dans la deuxième couche primaire 300a et la première couche primaire 200a. Les tranchées 400 traversent la deuxième couche primaire 300a sur toute son épaisseur. Elles traversent de préférence également la première couche primaire 200a sur toute son épaisseur.
La formation des tranchées 400 permet de diviser la première couche primaire 200a en une pluralité de premières couches 200 et la deuxième couche primaire 300a en une pluralité de deuxième couches 300. Plus exactement, la première sous-couche primaire 310a est divisées en une pluralité de premières sous-couches 310 des deuxièmes couches 300, et la deuxième sous-couche primaire 320a est divisées en une pluralité de deuxièmes sous-couches 320 des deuxièmes couches 300. Avantageusement, certaines au moins des tranchées 400 s’étendent dans le substrat 10. Cela peut permettre, selon les applications visées, de singulariser différentes zones du substrat 10, par exemple pour les isoler électriquement les unes des autres.
Comme décrit dans le cadre du premier mode de réalisation, les tranchées 400 peuvent être formées au travers d’ouvertures 65 d’un deuxième masque de gravure 60 déposé sur la deuxième couche primaire 300a (figures 3G et 3H). Ce deuxième masque de gravure 60 est avantageusement retiré après la formation des tranchées 400.
Dans le cadre du deuxième mode de réalisation, la deuxième couche 300 – plus exactement la première sous-couche 310 de la deuxième couche 300 – recouvre une partie du flanc 103. Préalablement à l’étape de retrait, la première couche 200 s’étend sur une portion seulement du flanc 103 du plot 100 et ne s’étend pas jusqu’au sommet 101 du plot 100. Ainsi, pour une structure 100, la portion de retrait 500 est au moins formée par la première sous-couche 310 de la deuxième couche 300. Selon un exemple avantageux illustré à la , la portion de retrait 500 s’étend uniquement dans la première sous-couche 310 de la deuxième couche 300. Il est cependant également envisageable de retirer une partie de la première couche 200 pour former la protrusion.
La portion de retrait 500 est retirée sélectivement par rapport au plot 100 après la formation des tranchées 400.
Comme illustré par le passage de la à la , le retrait de la portion de retrait 500 comprend avantageusement le retrait de l’intégralité de la deuxième couche 300, toujours sélectivement par rapport au plot 100.
Dans ce deuxième mode de réalisation, les plots 100 se trouvent en saillie par rapport à la première couche primaire 200 dès leur formation. Cela vient du fait que les plots 100 sont formés dans les cavités secondaires 250’, délimitées, dans tout plan parallèle au plan transversal XY, d’une part par la première couche primaire 200a et d’autre part par la première sous-couche primaire 310a. La hauteur E prot de la protrusion obtenue après retrait de la portion de retrait 500 est donc typiquement définie par l’épaisseur E 310a , mesurée selon la troisième direction Z, de la première sous-couche primaire 310a. Notamment, si, pour une structure 1000, la couche de retrait 500 correspond à la première sous-couche 310 de la troisième couche 300, on a sensiblement E prot = E 310a .
Un avantage du deuxième mode de réalisation est l’excellent contrôle de la hauteur E prot de la protrusion. Comme mentionné précédemment, cette hauteur peut être définie dès le dépôt de la première sous-couche primaire 310a, or l’épaisseur d’une couche lors de son dépôt est un paramètre très bien maîtrisé dans l’industrie. On peut donc contrôler avec précision E 310a et donc E prot .
Dans la présente invention, les informations d’évaluation simple de conduite en virage sont des informations concernant la technique de conduite du conducteur établies sur la base d’un indice d'évaluation prédéterminé, pour chaque résultat d’évaluation de critère d’évaluation simple de conduite en virage. Lesdites informations d’évaluation simple de conduite en virage incluent plusieurs commentaires sur la technique de conduite du conducteur lorsqu'il conduit en virage avec un indice d'évaluation prédéterminé. De plus, lesdites informations d’évaluation simple de conduite en virage peuvent inclure les informations d’évaluation simple de conduite en virage ayant une note élevée et celles ayant une note faible selon un indice d'évaluation prédéterminé, pour chaque critère d'évaluation simple de conduite en virage. Les informations d’évaluation simple de conduite en virage peuvent inclure les informations relatives aux plages de vitesses, aux situations, et aux manœuvres du véhicule.
Critère d’évaluation détaillée de conduite en ligne droite
Dans la présente invention, un critère d'évaluation détaillée de conduite en ligne droite désigne un critère d’évaluation segmenté sur la base d’une situation de conduite en ligne droite du véhicule, afin d’évaluer la technique de conduite du conducteur lorsqu’il conduit ledit véhicule en ligne droite. Ledit critère d'évaluation détaillée de conduite en ligne droite est un critère d’évaluation servant à évaluer des grandeurs physiques prédéterminées, incluses dans les données de conduite dudit véhicule lors d’une conduite en ligne droite, sur la base d’un indice d'évaluation prédéterminé. Une information d’évaluation détaillée de conduite en ligne droite sur la technique de conduite dudit conducteur, lorsqu’il conduit ledit véhicule en ligne droite, est affectée audit critère d'évaluation détaillée de conduite en ligne droite. Ledit critère d'évaluation détaillée de conduite en ligne droite peut être défini, par exemple, par au moins une combinaison, ou par au moins deux combinaisons parmi plusieurs plages de vitesse dudit véhicule, plusieurs situations de conduite dudit véhicule, et plusieurs manœuvres dudit véhicule lors d’une conduite en ligne droite dudit véhicule.
Critère d'évaluation détaillée de conduite en virage
Dans la présente invention, un critère d'évaluation détaillée de conduite en virage désigne un critère d’évaluation segmenté sur la base d’une situation de conduite en virage du véhicule, afin d’évaluer la technique de conduite du conducteur lorsqu’il conduit ledit véhicule en virage. Ledit critère d'évaluation détaillée de conduite en virage est un critère d’évaluation servant à évaluer des grandeurs physiques prédéterminées, incluses dans les données de conduite dudit véhicule lors d’une conduite en virage, sur la base d’un indice d'évaluation prédéterminé. Une information d’évaluation détaillée de conduite en virage sur la technique de conduite dudit conducteur, lorsqu’il conduit ledit véhicule en virage, est affectée audit critère d'évaluation détaillée de conduite en virage. Ledit critère d'évaluation détaillée de conduite en virage peut être défini, par exemple, par au moins une combinaison, ou par au moins deux combinaisons parmi plusieurs plages de vitesse dudit véhicule, plusieurs situations de conduite dudit véhicule, et plusieurs manœuvres dudit véhicule lors d’une conduite en virage dudit véhicule.
Informations d’évaluation détaillée de conduite en ligne droite
Dans la présente invention, les informations d’évaluation détaillée de conduite en ligne droite sont des informations concernant la technique de conduite du conducteur établies sur la base d’un indice d'évaluation prédéterminé, pour les critères d'évaluation détaillée de conduite en ligne droite. Lesdites informations d’évaluation détaillée de conduite en ligne droite incluent plusieurs commentaires sur la technique de conduite dudit conducteur lorsqu'il conduit en ligne droite. Les informations d’évaluation détaillée de conduite en ligne droite peuvent inclure les informations relatives aux plages de vitesses, aux situations, et aux manœuvres du véhicule. Lesdites informations d’évaluation détaillée de conduite en ligne droite peuvent chacune inclure une information d’évaluation détaillée de conduite en ligne droite ayant une note élevée et celle ayant une note faible selon un indice d'évaluation prédéterminé, pour chaque critère d'évaluation détaillée de conduite en ligne droite susmentionné.
Informations d’évaluation détaillée de conduite en virage
Dans la présente invention, les informations d’évaluation détaillée de conduite en virage sont des informations concernant la technique de conduite du conducteur établies sur la base d’un indice d'évaluation prédéterminé, pour les critères d'évaluation détaillée de conduite en virage. Lesdites informations d’évaluation détaillée de conduite en virage incluent plusieurs commentaires sur la technique de conduite dudit conducteur lorsqu'il conduit en virage. Les informations d’évaluation détaillée de conduite en virage peuvent inclure les informations relatives aux plages de vitesses, aux situations, et aux manœuvres du véhicule. Lesdites informations d’évaluation détaillée de conduite en virage peuvent chacune inclure une information d’évaluation détaillée de conduite en virage ayant une note élevée et celle ayant une note faible selon un indice d'évaluation prédéterminé, pour chaque critère d'évaluation détaillée de conduite en virage.
Indice d'évaluation prédéterminé
Dans la présente invention, un indice d'évaluation prédéterminé désigne la grandeur, la fréquence d'occurrence, l’importance du décalage de position, l’écart de variation, l’importance de la valeur moyenne, l’ampleur du changement, entre autres, des grandeurs physiques qui sont l’axe d’évaluation servant à évaluer des grandeurs physiques prédéterminées, pour les critères d'évaluation simple de conduite en ligne droite, les critères d'évaluation simple de conduite en virage, les critères d'évaluation détaillée de conduite en ligne droite, et les critères d'évaluation détaillée de conduite en virage. La supériorité ou l’infériorité de chaque critère d'évaluation est déterminée sur la base d’un indice d'évaluation prédéterminé. L’indice d’évaluation du vacillement de la carrosserie correspond, par exemple, à l’importance de la vitesse angulaire sur l’axe transversal, l’importance du changement de la vitesse angulaire, la fréquence d'occurrence de la vitesse angulaire, entre autres.
Conditions prédéterminées
Dans la présente invention, les conditions prédéterminées désignent les conditions qui sélectionnent, parmi les critères d'évaluation simple et les critères d'évaluation détaillée, les critères d'évaluation simple ou détaillée qui affichent les informations d’évaluation simple ou les informations d’évaluation détaillée. Les conditions prédéterminées incluent les critères de sélection tels que le classement des résultats d’évaluation, les valeurs, les valeurs de référence, la catégorie des critères d'évaluation, pour plusieurs critères d'évaluation simple ou détaillée évalués selon un indice d'évaluation prédéterminé. Les conditions prédéterminées sont, par exemple, la note la plus élevée et la plus faible selon un indice d'évaluation prédéterminé, pour plusieurs critères d'évaluation détaillée de conduite en ligne droite et plusieurs critères d'évaluation détaillée de conduite en virage.
Un cycle de conduite
Dans le présent document, un cycle de conduite signifie un déplacement du véhicule durant lequel la position dudit véhicule et la vitesse sur l’axe antéro-postérieur reviennent à une situation donnée, après qu’elles ont changé à partir de ladite situation donnée. La position du véhicule peut être définie par rapport à la direction de gravité. Autrement dit, la position du véhicule peut être déterminée en fonction de la direction prise par l’axe vertical, l’axe transversal et l’axe antéro-postérieur du véhicule, par rapport à la direction de gravité. Ledit cycle de conduite peut signifier, par exemple, un déplacement où le véhicule démarre à partir d’une position à l’arrêt, puis, se déplace jusqu’à ce qu’il soit à l'arrêt. Ladite position du véhicule au début et à la fin du cycle de conduite peut être une position à l’équilibre, ou une position inclinée. Ladite vitesse du véhicule au début et à la fin du cycle de conduite peut être nulle ou non.
Un cycle de conduite dans le cas où le véhicule est un véhicule à inclinaison
Le plot 100 a typiquement la forme d’un cylindre, de préférence un cylindre droit dont les droites génératrices définissant une ou plusieurs faces latérales du plot 100 s’étendent de préférence selon la troisième direction Z. Le plot 100 peut par exemple présenter une forme polygonale dans le plan transversal XY. Le plot 100 présente alors plusieurs faces latérales. Dans le cas particulier d’un plot 100 présentant une forme rectangulaire voire carrée dans le plan transversal XY, le plot 100 présente quatre faces latérales 103a, 103b, 103c, 103d, comme représenté sur la . Le plot 100 peut également avoir une forme cylindrique circulaire, comme illustré à la . Il ne présente alors qu’une seule face latérale. Dans le cas d’un plot cylindrique, l’au moins un flanc 103 du plot 100 correspond à une ou la face latérale du plot 100.
Le plot 100 est de préférence à base d’un matériau métallique, par exemple du cuivre, de l’aluminium, du tungstène ou encore du titane.
Chaque plot 100 recouvre avantageusement au moins un élément photoémetteur compris dans la couche émettrice 15. Les éléments photoémetteurs se trouvent ainsi au droit des plots 100 en projection selon le plan transversal XY. Ils peuvent être en contact direct avec les plots 100, éventuellement par l’intermédiaire d’une couche dite couche contact 16 pouvant par exemple être à base d’aluminium, de titane ou de nitrure de titane.
Chacune des structures comprend de plus une première couche 200 présentant une face supérieure 201 s’étendant de préférence dans un plan parallèle au plan transversal XY. Selon un exemple, la première couche 200 surmonte directement le substrat 10, c’est-à-dire que sa face inférieure 202 est au contact du substrat 10. Elle présente une épaisseur E 200 selon la troisième direction Z. La première couche 200 recouvre au moins une partie du flanc 103 du plot 100. Elle est ainsi au contact du plot 100 sur une hauteur E recouvrement non nulle inférieure ou égale à la hauteur du flanc E flanc .
Chacune des structures 1000 comprend en outre une deuxième couche 300 recouvrant au moins le sommet 101 du plot 100. Elle peut également recouvrir une partie au moins de la première couche 200. La deuxième couche 300 est de préférence en contact direct avec le sommet 101 du plot 100 et éventuellement la première couche 200. Elle présente une face supérieure 301 s’étendant de préférence dans un plan parallèle au plan transversal XY.
L’empilement 1 fourni lors du procédé selon l’invention peut par exemple être obtenu selon les étapes ci-dessous : Fournir un empilement primaire 1a comprenant, comme illustré à la : Le substrat 10, Une première couche primaire 200a à base du premier matériau et recouvrant le substrat 10. Former dans la première couche primaire 200a des cavités 250 traversant entièrement la première couche primaire 200a selon la troisième direction Z. Cette étape est illustrée par les figures 2B et 2C. Remplir les cavités 250 par le troisième matériau, formant ainsi les plots 100 (figures 2E, 4C). Former une deuxième couche primaire 300a à base du deuxième matériau et surmontant les plots 100 et les premières couches 200 (figures 2F, 3A, 3F, 4D). Former les tranchées 400 traversant entièrement la deuxième couche primaire 300a et la première couche primaire 200a selon la troisième direction Z. La formation des tranchées 400 permet de singulariser et former les structures 1000, comme illustré en figures 2H, 3J, 4F. Elles séparent notamment les premières couches 200 formées dans la première couche primaire 200a, et les deuxièmes couches 300 formées dans la deuxième couche primaire 300a, qui feront chacune partie d’une structure 1000.
Il est entendu cependant que l’empilement 1 peut être obtenu selon tout autre mode réalisation.
Suite à la fourniture de l’empilement 1, une étape de retrait d’une portion de retrait 500 est mise en œuvre au niveau de chaque structure 1000.
La portion de retrait 500 est formée par au moins l’une parmi la première couche 200 et la deuxième couche 300. Elle recouvre une partie supérieure 104 du flanc 103 du plot 100. Dit autrement, elle est adjacente, dans un plan parallèle au plan XY, au flanc 103 du plot 100, et ce en tout point de la partie supérieure 104 du flanc 103. La portion de retrait 500 est de préférence au contact direct de la partie supérieure 104 du flanc 103 du plot 100. Dans le cas particulier d’un plot 100 présentant plusieurs flancs, la partie supérieure 104 s’étendant avantageusement dans chacun des flancs 103 du plot 100.
La partie supérieure 104 du flanc 103 s’étend depuis le sommet 101 du plot 100. Plus précisément, la partie supérieure 104 s’étend depuis la ou les arêtes du plot 100 délimitant son sommet 101 et son flanc 103. Elle présente selon la troisième direction Z une hauteur E 104 . La portion de retrait 500 s’étend selon la troisième direction Z sur une distance inférieure à la hauteur du flanc 103. On a ainsi E 104 flanc .
La portion de retrait 500 peut ainsi s’étendre, selon la troisième direction Z, entre le plan supérieur 501 dans lequel s’étend le sommet 101 des plots 100, et un plan inférieur 502 s’étendant, selon la troisième direction Z, entre le plan transversal XY et le plan supérieur 501.
Lors de l’étape de retrait de la portion de retrait 500, une portion de recouvrement 600 est laissée en place.
La portion de recouvrement 600 est formée par la première couche 200. Elle recouvre une partie inférieure 105 du flanc 103 du plot 100. Dit autrement, elle est adjacente, dans un plan parallèle au plan XY, au flanc 103 du plot 100, et ce en tout point de la partie inférieure 105 du flanc 103. La portion de recouvrement 600 est de préférence au contact direct de la partie inférieure 105 du flanc 103 du plot 100.
La portion de recouvrement 600 s’étend depuis la portion de retrait 500, c’est-à-dire que la partie supérieure 104 et la partie inférieure 105 du flanc 103 du plot 100 sont en contact.
La partie inférieure 105 du flanc 103 présente selon la troisième direction Z une hauteur E 105 . Selon un exemple, la portion de retrait 500 et la portion de recouvrement 600 recouvrent ensemble le flanc 103 du plot 100 sur toute la hauteur. On a alors E 104 +E 105 = E flanc .
La partie inférieure 105 du flanc 103 est, lors du retrait de la portion de retrait 500, laissée recouverte par la portion de recouvrement 600.
Données de conduite en séries temporelles