INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans un autre mode de réalisation de la demande, la production par synthèse du phosphate de fer et manganèse implique la dispersion du matériau ternaire pour cathode pré-enrobé dans une solution contenant des ions manganèse divalent et des ions fer à des fins de réaction, pour obtenir le matériau ternaire pour cathode enrobé de phosphate de fer et manganèse.
De préférence, dans la solution qui contient les ions manganèse divalent et les ions fer, la concentration en ions manganèse est comprise entre 0,1 et 1 mol/l, et la concentration en ions fer est comprise entre 0,1 et 1 mol/l.
De préférence, la durée de réaction est comprise entre 0,5 et 3 h.
De préférence, le matériau ternaire pour cathode est de l’oxyde de lithium, nickel, cobalt et manganèse.
Selon un second aspect de la présente divulgation, on fournit un matériau ternaire pour cathode enrobé de phosphate de fer et manganèse, qui est obtenu selon le procédé de l’un quelconque des modes de réalisation précédents.
Selon un troisième aspect de la présente divulgation, on fournit un procédé de préparation d’un matériau ternaire pour cathode enrobé de phosphate de lithium, fer et manganèse, comprenant le mélange et le broyage du matériau ternaire pour cathode enrobé de phosphate de fer et manganèse de l’un quelconque des modes de réalisation précédents avec une source de lithium et un dispersant, puis le séchage et le frittage du mélange pour obtenir le matériau ternaire pour cathode enrobé de phosphate de lithium, fer et manganèse.
Dans un autre mode de réalisation de la présente demande, le séchage est un séchage par atomisation, où la température de l’air en entrée pour le séchage par atomisation est comprise entre 200°C et 250°C, et la température de l’air en sortie pour le séchage par atomisation est comprise entre 100°C et 120°C.
De préférence, la source de lithium est une source parmi le carbonate de lithium, l’hydroxyde de lithium, l'oxalate de lithium et l’acétate de lithium.
De préférence, une durée de mélange et de broyage est comprise entre 1 et 5 h.
De préférence, le frittage est réalisé sous une atmosphère protectrice, entre 300°C et 800°C pendant une durée comprise entre 2 et 10 h.
De façon plus préférentielle, l’atmosphère protectrice est une atmosphère réductrice ou de l’argon.
Selon un mode de réalisation, la première région entoure la jonction PN principale, par exemple comporte une première portion localisée sous la jonction PN principale, et une deuxième portion s’étendant jusqu’à la première face de la photodiode.
Selon un mode de réalisation, la première région est à l’intérieur de la deuxième région.
Selon un mode de réalisation, chaque dimension de la photodiode, dans un plan parallèle à une première face de la photodiode, est inférieure à 6 µm et/ou la hauteur de la photodiode est comprise entre 3 et 15 µm, par exemple comprise entre 6 et 10 µm.
Selon un mode de réalisation, la formation de la pluralité de régions semiconductrices comprend : - la formation par croissance épitaxiale d’une couche épitaxiée du premier type de conductivité destinée à former la première région semiconductrice ; puis - la formation, par dopage partiel de la couche épitaxiée, par exemple par implantation ionique, d’au moins une première portion de la deuxième région ; et la quatrième région et la cinquième région sont formées par dopage partiel de la couche épitaxiée, par exemple par implantation ionique, à partir de la première face de la photodiode.
Selon un mode de réalisation, la portion latérale de la deuxième région est formée par dopage partiel de la couche épitaxiée, par exemple par implantation ionique, par changement partiel de conductivité de la couche épitaxiée, par diffusion à partir de la tranchée isolante profonde, ou par un matériau à inversion de charge dans la tranchée isolante profonde.
Selon un mode de réalisation, la portion enterrée de la deuxième région est formée par croissance épitaxiale, ou par dopage partiel de la couche épitaxiée, par exemple par implantation ionique à partir de la deuxième face de la photodiode.
la est une vue en coupe, partielle et schématique, représentant un exemple de photodiode ;
la est une vue en coupe, partielle et schématique, représentant une photodiode selon un mode de réalisation ;
la illustre de manière très simplifiée des profils de dopage en unité arbitraire d’une photodiode similaire à la photodiode de la ;
la est une vue en coupe, partielle et schématique, représentant un autre exemple de photodiode ;
la est une vue en coupe, partielle et schématique, représentant une photodiode selon un autre mode de réalisation ; et
la , la , la , la , la , la et la sont des vues en coupe représentant des étapes d’une méthode de fabrication d’une photodiode selon un mode de réalisation.
Par souci de clarté, seuls les étapes et éléments utiles à la compréhension des modes de réalisation décrits ont été représentés et sont détaillés. En particulier, une photodiode SPAD comprend généralement des circuits annexes, notamment un circuit de polarisation de la jonction PN à une tension supérieure à son seuil d'avalanche, un circuit de lecture adapté à détecter un déclenchement d'une avalanche de la photodiode, ainsi qu'un circuit d'extinction ("quenching circuit" en anglais) ayant pour fonction d'interrompre l'avalanche de la photodiode une fois celle-ci déclenchée. Ces circuits annexes n'ont pas été représentés sur les figures et ne seront pas détaillés, les modes de réalisation décrits étant compatibles avec les circuits annexes équipant les photodiodes SPAD connues.
Dans un autre mode de réalisation de la demande, le pré-enrobage comprend l’enrobage avec la source de phosphore et l’enrobage avec le filet conducteur de carbone,
l’enrobage avec le filet conducteur de carbone impliquant l’enrobage de la surface de la source de phosphore avec le filet conducteur de carbone au moyen d’un revêtement par dépôt en phase vapeur.
De préférence, un gaz utilisé pour le dépôt en phase vapeur est le méthane et l’acétylène.
De façon plus préférentielle, un rapport molaire entre le méthane et l’acétylène est compris entre 1:1 et 5:1.
Dans un autre mode de réalisation de la demande, les conditions de l’enrobage avec le filet conducteur de carbone comprennent une température comprise entre 300°C et 500°C, une durée comprise entre 2 et 10 h, et une pression comprise entre -18 et -22 kPa.
Dans un autre mode de réalisation de la demande, l’enrobage avec la source de phosphore implique le mélange du matériau ternaire pour cathode, de la source de phosphore et d’un dispersant, puis le broyage du mélange dans un broyeur à boulets.
De préférence, un rapport de masse entre matériau ternaire pour cathode, source de phosphore et dispersant est de (5 à 15):1 :(6 à 20).
De préférence, la source de phosphore est au moins un élément parmi le polyphosphate d’ammonium, l'orthophosphate d’ammonium, l’hydrogéno-phosphate de diammonium et le dihydrogéno-phosphate d’ammonium.
De préférence, le dispersant est un élément ou deux parmi l’éthanol et l’eau.
De préférence, les conditions pour l’étape de broyage dans un broyeur à boulets comprennent une vitesse de rotation du broyeur à boulets comprise entre 200 et 500 tr/min, un rapport entre boulets et matériau de (10 à 50):1, et une durée de broyage en broyeur à boulets comprise entre 3 et 10 h.
De façon plus préférentielle, le broyage en broyeur à boulets est réalisé dans un broyeur planétaire à boulets.
De préférence, après le broyage en broyeur à boulets, le procédé comprend un séchage entre 60°C et 100°C pendant une durée comprise entre 0,5 et 3 h.
Dans un autre mode de réalisation de la demande, le pré-enrobage implique l’enrobage du matériau ternaire pour cathode avec un mélange de la source de phosphore et d’une source de carbone.
De préférence, le matériau ternaire pour cathode est placé dans un dispositif de revêtement par atomisation pour réaliser le revêtement par atomisation, puis est soumis à un frittage.
De préférence, une solution d’enrobage utilisée dans le revêtement par atomisation est une solution mixte d'une substance organique avec de l’acide phosphorique et/ou du phosphate.
De préférence, un rapport de masse entre la substance organique et l’acide phosphorique et/ou le phosphate est de à 1:1 à 3.
Dans un troisième mode de réalisation, l’assemblage de chargements est constitué d’un chargement C1, d’au moins un chargement cylindrique C2 et d’au moins un chargement hélicoïdal C2. Les relations géométriques caractéristiques inter-chargements et des chargements C2 avec le relais d’allumage R1 décrites ci-dessus pour les deux premiers modes de réalisation sont conservées.
Comme indiqué ci-dessus, dans l’ensemble de la description et des modes de réalisation décrits, un chargement cylindrique C2 peut avec les mêmes conditions être remplacé par un chargement parallélépipédique rectangle C2.
L’invention sera illustrée à l’aide des exemples ci-après, donnés à titre indicatif.
Exemple1 La montre un exemple de configuration d’un assemblage de chargements explosifs selon le premier mode de réalisation. Les valeurs géométriques indiquées sont représentatives de celles qui conviendraient pour un chargement en explosif composite du type PBXN109, ORA86, HBU88. L’assemblage comporte un relais d’amorçage R1 (DR1 = 40 mm, LR1= 60 mm) inséré de façon coaxiale centrée dans le chargement C1 (DC1 = 160 mm, LC1 = 400 mm). L’assemblage comporte, de plus, 6 chargements cylindriques C2 (DC2 = 20 mm, LC2 = 400 mm) colinéaires à l’axe du chargement C1, chacun couplé à un relais d’amorçage R2 (DR2 = 20 mm, LR2 = 60 mm). Ces chargements C2 et relais d’amorçage R2 sont disposés radialement en couronne à une distance D du relais d’amorçage R1.
En raison d’une possible concentration des ondes de détonation des chargements C2 et de leur relais d’amorçage R2 au centre de l’assemblage, il peut être nécessaire d’augmenter la distance D (définie par le test IAD de la composition du relais d’amorçage R1) par exemple en désaxant le relais d’amorçage R1 par rapport au centre de symétrie des chargements C2. La présente ainsi une configuration comprenant deux relais d’amorçage R1 désaxés par rapport à l’axe de symétrie des chargements C2. Quatre chargements C2 et leurs relais d’amorçage R2 sont situés radialement à une distance D des deux relais d’amorçage R1.
Exemple 2 La montre un exemple d’assemblage de chargements explosifs selon le deuxième mode de réalisation comportant un chargement C1 incluant un chargement hélicoïdal C2. Les valeurs géométriques indiquées sont représentatives de celles qui conviendraient pour un assemblage en explosif composite du type PBXN109, ORA86, HBU88. L’assemblage comporte un relais d’amorçage R1 (DR1 = 40 mm, LR1 = 60 mm) inséré de façon coaxiale centrée dans le chargement C1 (DC1 = 160 mm, LC1 = 400 mm). Le chargement hélicoïdal C2 a un diamètre DHC2 = 120 mm, est de section circulaire de diamètre DC2 = 20 mm, et a une longueur axiale LC2 = 285 mm (5 spires de pas de 50 mm + 35 mm de longueur axiale pour le raccord courbe au relais d’amorçage R2). L’axe de l’hélice du chargement hélicoïdal C2 est coaxial à l’axe du chargement C1. Le chargement hélicoïdal C2 est couplé à un relais d’amorçage R2 (DR2 = 20 mm, LR2 = 60 mm). Pour cet exemple, la longueur du chargement hélicoïdal C2 ajoutée à celle du relais d’amorçage R2 est inférieure à la longueur du chargement C1. Ceci n’exclut pas qu’elle pourrait être dans une autre variante égale à la longueur du chargement C1. Le chargement hélicoïdal C2 et le relais d’amorçage R2 sont disposés radialement à une distance D du relais d’amorçage R1. La distance D’ entre le centre des spires évite une transmission de la détonation de voisinage entre les spires du chargement hélicoïdal C2.
La montre un chargement hélicoïdal C2 muni de son relais d’amorçage R2 identique à celui inclus dans le chargement C1 de la .
La montre un exemple similaire à celui de la à l’exception de la section du chargement hélicoïdal C2 qui est carrée.
La montre une vue du seul chargement hélicoïdalC2 à section carrée muni de son relais d’amorçage R2.
La montre un exemple de chargement selon l’invention comportant deux chargements hélicoïdaux C2a et C2b, de section DC2 = 20 mm et de diamètre DHC2 = 120 mm, décalés d’un angle π. La distance entre les spires du chargement C2a et du chargement C2b est de 100 mm, assurant ainsi une distance D’ bord à bord entre les spires des deux chargements C2a et C2b. Le nombre de spires est égal à 3 pour les chargements C2a et C2b . Dans la configuration de la , la longueur LC2 de l’hélice des chargements C2a et C2b ajoutée à celle de leurs relais d’amorçage R2a et R2b est égale à la longueur du chargement C1.
La montre une vue des seuls deux chargements hélicoïdaux C2a et C2b et leur relais d’amorçage R2 de la .
La montre un chargement C1 de grand diamètre DC1 = 400 mm et de longueur LC1 = 400 mm comportant deux chargements hélicoïdaux C2a et C2b concentriques de diamètre DHC2a = 120 mm et de diamètre DHC2b = 240 mm. Les chargements C2a et C2b sont de même section circulaire de diamètre DC2 = 20 mm, et de même longueur axiale LC2 = 285 mm (5 spires de pas de 50 mm + 35 mm de longueur axiale pour le raccord courbe au relais d’amorçage R2). L’axe des hélices des chargements C2a et C2b est coaxial à l’axe du chargement C1.
La montre une vue des seuls chargements hélicoïdaux C2a et C2bet de leur relais d’amorçage R2 de la .
Exemple 3 L’exemple 3 illustre le fonctionnement d’un assemblage de chargements explosifs selon le premier mode de réalisation. Le chargement C1 cylindrique (DC1 = 90 mm, LC1 = 100 mm) est en composition B2514 (contenant en pourcentage massique 14% de liant à base de polyuréthane, 22% de RDX,2 4% de perchlorate d’ammonium et 40% d’aluminium). Le diamètre critique de cette composition B2514 est d’environ 40 mm. L’assemblage comporte, de plus, 4 chargements C2 cylindriques (DC2 = 10 mm, LC2 = 100 mm) colinéaires à l’axe du chargement C1. Ces chargements C2 sont en composition ORA86 (contenant en pourcentage massique 14% de liant à base de polyuréthane et 86% HMX). Le diamètre critique et l’épaisseur IAD de cette composition ORA86 sont respectivement d’environ 4 mm et d’environ 32 mm (160 cartes d’acétate de cellulose). Chaque chargement C2 est couplé à un relais d’amorçage R2 (DR2 = 10 mm, LR2 = 16 mm) en composition Formex ® commercialisée par la société Eurenco. Ces chargements C2 insérés dans le chargement C1 sont disposés radialement avec un angle de 90° entre eux sur une couronne de 50 mm de diamètre. La montre une photographie d’une face de l’assemblage de chargements explosifs du présent exemple 3. On distingue sur cette photographie en gris clair le chargement explosifC1 et en blanc les 4 chargements explosifs C2. La puissance de détonation est mesurée par la surpression aérienne à une distance de 4 m de l’assemblage de chargements explosifs. La détonation en totalité de l’assemblage des chargements explosifsC1 et C2 conduit à une surpression aérienne d’environ 650 mbar à 4 m. L’amorçage en détonation d’un seul chargement explosif C2 conduit à une surpression aérienne mesurée de 160 mbar à 4 m.
Dans les mêmes conditions, la mise en détonation de deux chargements explosifs C2 décalés d’un angle π conduit à une surpression aérienne mesurée à 4 m de 270 mbar. La mise en détonation de 3 chargements explosifs C2 conduit à une surpression aérienne mesurée à 4 m de 390 mbar.
Dispositif d’inspection d’élément fileté La présente invention concerne un dispositif et un procédé de mesure de forme de filetage pour un élément fileté, plus particulièrement pour la mesure de forme de filets des éléments tels qu'un joint fileté pour une conduit de puits de pétrole, de stockage de dioxyde de carbone ou d'hydrogène, ou de puits de géothermie.
A l’étape E1050, le récepteur 150 reçoit le premier signal prédéfini ultra large bande émis par l’émetteur 100.
A l’étape E1051, le récepteur 150 commande l’émission d’un autre signal prédéfini ultra large bande.
A l’étape E1052, le récepteur 150 reçoit le premier message émis par l’émetteur 150.
Le premier message comprend une valeur d’un paramètre correspondant à une puissance simulée d’émission de la source du rayonnement ionisant simulé, une information représentative d’un angle correspondant à une directivité de la source de rayonnement simulée et de la position angulaire du premier récepteur par rapport au premier émetteur.
A l’étape E1053, le récepteur 150 détermine la première distance d 1 séparant le premier émetteur permettant de simuler la source d’émission d’un rayonnement ionisant et le récepteur à partir du temps d’arrivée du premier signal.
A l’étape E1054, le récepteur détermine un niveau d’exposition simulé au rayonnement ionisant en fonction de la première distance déterminée, de la valeur du paramètre, de l’information représentative d’un angle correspondant à une directivité de la source de rayonnement simulée et de la position angulaire du premier récepteur par rapport au premier émetteur compris dans le premier message.
Procédé de gestion de la consultation d’un contenu numérique Le domaine technique est celui de la consultation de contenus numériques.
Plus précisément, l’invention se rapporte à un procédé de gestion de la consultation d’un contenu numérique apte à être restitué par un dispositif de traitement de données équipé d’un processeur.
Les contenus numériques dont il est question peuvent être n’importe quel contenu qui peut être restitué par un dispositif tel qu’un ordinateur, une tablette, un ordiphone, une télévision ou tout autre dispositif similaire qui comprend un programme de lecture du contenu numérique tel qu’un programme de visionnage de vidéos, ou d’affichage de texte ou autre. Il peut s’agir d’une vidéo, ou bien d’un texte, ou bien d’une piste audio, ou plus généralement d’un mélange de ces trois types de contenus. Par exemple, un contenu numérique selon l’invention sera un contenu multimédia, formé principalement de textes, dans lequel il sera possible de naviguer via des liens hypertextes, et qui comprendra également des vidéos ou des bandes sons. Un programme permettant de lire un tel contenu numérique sera alors un navigateur Web comprenant des modules de lecture de vidéos ou de bandes son. Mais l’invention peut s’appliquer aussi bien à un contenu uniquement textuel ou à un contenu formé uniquement d’une vidéo.
L’apprentissage de domaines techniques passe souvent par la consultation de contenus numériques. Ces contenus sont des documents techniques qui peuvent être majoritairement formés de textes à lire, qui seront lus sur ordinateur et qui comprennent aussi des contenus multimédias et des liens hypertextes pour naviguer dans le document. En particulier, des informations complémentaires au contenu du document peuvent être accédées par le lecteur. Ces contenus peuvent être des contenus d’information basique sur le domaine du document, par exemple des définitions de termes, ou bien des glossaires. Ces contenus peuvent aussi être des contenus d’information avancée, par exemple des informations complémentaires, qu’il n’est pas nécessaire de consulter dans un premier temps pour comprendre les grandes lignes du domaine technique, mais qu’il est utile de consulter ultérieurement pour une meilleure compréhension du domaine.
Ceci permet de propager l’information sur l’intensité maximale rencontrée sur le chemin entre la source et le pixel courant, et de la mettre à jour si le pixel courant possède une intensité plus élevée que tous ceux rencontrés jusque-là.
L’itération S430 comprend ensuite une étape S435 consistant à vérifier si le parcours des pixels est terminé. Par exemple, si le parcours est une ligne, le parcours est considéré comme terminé si le dernier pixel de la ligne est atteint.
Si le parcours n’est pas terminé, l’itération S430 comprend un retour à l’étape S431 consistant à sélectionner le pixel suivant dans l’ordre de parcours, puis effectuer les autres opérations de l’itération. Ceci permet de borner le temps de traitement, par exemple pour respecter des contraintes temps-réel.
Il convient de noter que les étapes S434 et S434 d’un pixel courant peuvent s’effectuer avant ou après la sélection du pixel suivant, c’est-à-dire que la mise à jour des informations sur un pixel peut s’effectuer avant ou après la sélection du pixel suivant et son traitement. Ainsi, selon différents modes de réalisation de l’invention, les traitements pour chaque pixel peuvent s’appuyer sur des données de pixels précédents mises à jour ou non.
Le procédé P400 comprend, à l’issue de l’itération S430, une étape S440 de vérification d’un critère d’arrêt. Si le critère d’arrêt n’est pas vérifié, le procédé P400 comprend une nouvelle itération S430 de parcours des pixels.
Différents critères d’arrêt peuvent être utilisés, seuls ou en combinaison.
Par exemple, le critère d’arrêt peut comprendre une vérification qu’un nombre d’itérations prédéfini a été réalisé.
Par exemple, un nombre d’itérations égale à 2, 3, 4, etc… peut être réalisé.
Le critère d’arrêt peut également comprendre une vérification que le nombre de pixels modifiés au cours d’une itération est inférieur ou égal à un seuil. Ceci permet de garantir une qualité du résultat obtenu.
Ces critères sont fournis à titre d’exemple uniquement, et d’autres critères peuvent être utilisés selon différents modes de réalisation de l’invention. Les critères peuvent également être combinés. Par exemple, le critère d’arrêt peut être vérifié si un nombre d’itérations prédéfini a été réalisé ET/OU si le nombre de pixels modifiés au cours d’une itération est inférieur ou égal à un seuil.
Dans certains cas spécifiques d’images à au moins deux dimensions, il peut arriver que des pixels associés à une source lors d’une itération se retrouvent « coupés » de cette source par une série pixels associés à une autre source. Dans ce cas, une région peut se retrouver « coupée en deux » à l’issue des itérations.
Afin de corriger ces cas, dans un ensemble de modes de réalisation de l’invention, le procédé P400 peut comprendre une étape (S450) de ré-étiquetage des pixels situés dans une région sans source
En pratique, cette étape de ré-étiquetage consiste à modifier les étiquettes de des pixels situés dans une région sans source, par exemple pour que chaque pixel associé à une source soit situé dans une région de pixels contigus dont la source fait partie. Cette étape peut se réaliser de plusieurs manières.
L’étape de ré-étiquetage peut comprendre une première sous-étape de ré-étiquetage par région, dans laquelle chaque région de pixels contigus associés à la même source est étiquetée avec une étiquette de région unique.
Dit autrement, les ensembles de pixels contigus de pixels associés à une même source sont identifiés, et étiquetés comme une région unique. Il convient de noter ici que, comme indiqué ci-dessus, la source associée à cet ensemble de pixels peut ne pas s’y trouver, si les pixels de l’ensemble ont été coupés de la source. Dans ce cas, il existera au moins deux ensembles de pixels contigus associés à une même source, mais ayant deux étiquettes de régions uniques distinctes.
Ensuite, une sous-étape dite de fusion des étiquettes peut être mise en œuvre pour fusionner chaque région sans source avec une région connexe comprenant une source.
Par exemple, si les sources sont identifiées par un numéro de source 1, 2, 3… l’indice 0 peut être affecté à chaque pixel non source, afin d’indiquer qu’il n’est associé à aucune source.
Le procédé P400 comprend ensuite au moins une itération S430 de parcours de pixels successifs de l’image. Chaque itération de parcours consiste à parcourir l’image selon un ordre prédéfini, puis à effectuer sur au moins un pixel des étapes de calcul permettant d’affecter, de proche en proche des indicatifs de sources aux pixels.
Dans un ensemble de modes de réalisation de l’invention, l’ensemble des pixels sont parcourus à chaque itération.
Dans d’autres modes de réalisation, chaque pixel est de plus associé à un une étiquette indiquant si le pixel est à traiter ou non, par exemple une valeur booléenne. Dans ce cas, les sous-étapes indiquées ci-dessous ne sont effectuées que pour les pixels indiqués comme à traiter.
L’étiquette peut également être modifiée entre les différentes itérations. Par exemple, le nombre de pixels à traiter peut diminuer entre les itérations successives.