INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Grâce à ce mode, des données relatives au niveau d’attention des premiers utilisateurs sont rassemblées tout au long de la consultation des premiers contenus. Ces données peuvent être obtenues par un filmage des premiers utilisateurs qui ne se limite pas au suivi du regard mais pourra également détecter des expressions complètes du visage, comprenant des mouvements d’yeux, mais aussi des froncements de sourcils, des mouvements de la tête, des battements de pied, des soupirs ou toute autre expression pertinente pour déterminer le niveau d’attention. L’avantage de ce mode est là encore d’informer au mieux la phase de classification afin d’obtenir la classification la plus exacte possible des premiers utilisateurs en différents groupes. Un avantage de ne pas se limiter au suivi du regard mais à un filmage complet de l’utilisateur est de permettre de détecter une perte d’attention y compris d’un utilisateur qui se limite à écouter un contenu uniquement sonore, tel qu’un podcast, ou une émission radiodiffusée.
Selon un cinquième mode de mise en œuvre particulier de l’invention, qui pourra être mis en œuvre alternativement ou cumulativement avec les précédents modes, les deuxièmes données obtenues comprennent des données relatives à la durée de consultation de passages dudit deuxième contenu par ledit deuxième utilisateur.
Selon un sixième mode de mise en œuvre particulier de l’invention, qui pourra être mis en œuvre cumulativement avec les modes précédents, le procédé comprend une étape de capture du suivi du regard dudit deuxième utilisateur et les deuxièmes données obtenues comprennent des données relatives au suivi du regard du deuxième utilisateur.
Selon un septième mode de mise en œuvre particulier de l’invention, qui pourra être mis en œuvre cumulativement avec les modes précédents, le procédé comprend une étape de filmage dudit deuxième utilisateur et les deuxièmes données obtenues comprennent des données relatives au niveau d’attention du deuxième utilisateur.
Grâce à ces trois modes, des données similaires à celles qui ont été rassemblées pour réaliser la classification des premiers utilisateurs sont recueillies pour le deuxième utilisateur. Ces données obtenues au sujet du deuxième utilisateur permettront de réaliser une affectation du deuxième utilisateur dans un des groupes obtenus lors de la classification des premiers utilisateurs de façon pertinente, en déterminant les passages dans le deuxième contenu qui sont faciles à consulter pour le deuxième utilisateur, ou au contraire les passages qui présentent des difficultés.
Selon un huitième mode de mise en œuvre particulier de l’invention, qui pourra être mis en œuvre cumulativement avec les modes précédents, la modification dudit deuxième contenu comprend l’insertion ou la suppression de passages dans le deuxième contenu, les passages insérés ou supprimés étant choisis en fonction du groupe auquel le deuxième utilisateur a été affecté précédemment et des deuxièmes données obtenues.
Grâce à ce mode, le procédé permet d’adapter le contenu numérique, en cours de consultation, aux connaissances ou aux appétences de l’utilisateur telles qu’elles ont pu être observées et telles qu’elles ont contribué à la classification de l’utilisateur. Comme la classification reprend des informations issues de parcours de consultation précédents des premiers utilisateurs sur le même contenu, ou sur des contenus traitant du même domaine ou présentant des passages similaires, ainsi que les deuxièmes données rassemblées sur la consultation déjà effectuée par le deuxième utilisateur, les modifications présentées ici permettront d’adapter le deuxième contenu aux connaissances du deuxième utilisateur. Cette adaptation permettra de consommer moins de ressources, par exemple en termes de mémoire ou de consommation électrique, car l’adaptation du contenu rendra le parcours de consultation par le deuxième utilisateur beaucoup plus fluide.
L’adaptation de contenu pourra également être appliquée à d’autres contenus avant que le deuxième utilisateur ne commence à consulter ceux-ci.
Selon un neuvième mode de mise en œuvre particulier de l’invention, qui pourra être mis en œuvre cumulativement avec les modes précédents, la modification dudit deuxième contenu comprend la modification de la vitesse de défilement de passages audios ou audiovisuels du deuxième contenu, la vitesse de défilement desdits passages étant choisie en fonction du groupe auquel le deuxième utilisateur a été affecté et des deuxièmes données obtenues.
Ce mode de réalisation réalise également une adaptation du contenu selon la classification dans laquelle le deuxième utilisateur a été affectée et les deuxièmes données obtenues jusqu’à présent quant à la consultation du contenu. Cette modification est spécialement adaptée aux contenus audios et audio-visuels. Des passages qui sont a priori faciles pour le deuxième utilisateur, telle que sa classification permet de le déduire, ou plus généralement des passages qui ne l’intéressent pas, seront accélérés ; et d’autres plus difficiles seront ralentis, ou en tout cas passés à vitesse normale. Grâce à ce mode, les adaptations de contenu, qui permettent de consommer moins de ressources pour la consultation du contenu, s’appliquent également à des contenus audio-visuels.
Selon un dixième mode de mise en œuvre particulier de l’invention, qui pourra être mis en œuvre cumulativement avec les modes précédents, l’ensemble des deuxièmes données obtenues lors d’une consultation du deuxième contenu par le deuxième utilisateur sont conservées et le deuxième contenu numérique est modifié lors de consultations ultérieures par le deuxième utilisateur en fonction du groupe auquel le deuxième utilisateur a été affecté et en fonction de l’ensemble des deuxièmes données conservées.
Grâce à ce mode, les deuxièmes données obtenues au fur et à mesure de consultations successives du deuxième contenu par le deuxième utilisateur sont conservées au fur et à mesure des consultations et sont utilisées pour affiner les adaptations successives du deuxième contenu. Ce mode permet par exemple de prendre en compte l’amélioration par le deuxième utilisateur de sa maîtrise du domaine traité par le deuxième contenu. L’avantage sera là encore une plus grande fluidité de la consultation du deuxième contenu par le deuxième utilisateur et donc une économie de ressources mémoire ou de consommation électrique ainsi que du temps de consultation par le deuxième utilisateur.
Selon un onzième mode de mise en œuvre particulier de l’invention, qui pourra être mis en œuvre cumulativement avec les modes précédents, d’autres contenus numériques du même domaine que les premiers contenus sont modifiés avant leur consultation par le deuxième utilisateur en fonction du groupe auquel le deuxième utilisateur a été affecté.
L’invention a également pour objet un procédé d’insertion ou d’extraction d’une barre à l’aide d’un système d’insertion et/ou d’extraction tel que décrit ci-dessus. Le procédé comprend une étape d’accouplement du moyen d’accouplement avec une extrémité de la barre, une étape de déplacement du pion le long du chemin de guidage par les moyens d’entraînement, et une étape d’entraînement du moyen d’accouplement en rotation par les moyens d’entraînement. L’entraînement du moyen d’accouplement en rotation est mis en œuvre simultanément au déplacement du pion, sur au moins une partie du déplacement pour l’insertion et/ou l’extraction de la barre.
La est une représentation schématique en perspective d’un système d’insertion et/ou d’extraction d’une barre selon un mode de réalisation l’invention et d’un panier comportant la barre à insérer et/ou extraire.
La est une vue de profil du panier de la , avec la barre qui est logée dans une fente du panier.
La représente la barre, prise de manière isolée, selon une vue de côté montrant une section d’extrémité de cette barre.
La représente une fente du panier, pris de manière isolée, selon une vue schématique en perspective.
La est une vue de détail montrant une extrémité de la barre accouplée avec un moyen d’accouplement du système d’insertion et/ou d’extraction de la .
La est une représentation schématique partielle en perspective d’un dispositif d’entrainement du système d’insertion et/ou d’extraction selon le premier mode de réalisation de l’invention.
La est similaire à celle de la , selon un autre angle de vue.
La est une représentation schématique partielle en perspective d’un dispositif d’entrainement du système d’insertion et/ou d’extraction selon un deuxième mode de réalisation de l’invention.
La est similaire à celle de la , selon un autre angle de vue ; et
La illustre un procédé d’insertion et/ou d’extraction d’une barre avec le système d’insertion et/ou d’extraction selon l’invention.
La représente un système d’insertion et/ou d’extraction 1 et un panier 9. Le panier 9 est ici un panier de logement de plaquettes d’un matériau semi-conducteur. Il comporte des panneaux latéraux 91 définissant chacun un plan, plusieurs barres fixes 92 et une barre amovible 93.
Les barres fixes 92 sont fixées aux panneaux latéraux 91 à leurs extrémités, par exemple par emmanchement, vissage ou collage. Les barres 92 servent de support pour les plaquettes de matériau semi-conducteur. Elles peuvent par exemple comporter des dentures sur une partie de leur surface périphérique afin de pouvoir recevoir les plaquettes et les maintenir à distance des unes des autres.
La barre amovible 93 empêche, lorsqu’elle est installée sur le panier 9, l’insertion des plaquettes en matériau semi-conducteur dans le panier 9 et/ou leur retrait depuis l’intérieur du panier 9. A l’inverse lorsque la barre amovible 93 n’est pas installée sur le panier 9, les plaquettes en matériau semi-conducteur peuvent être introduites à l’intérieur du panier 9 et/ou retirées du panier 9. Les plaquettes peuvent donc s’échapper du panier 9 au cours des étapes de traitement lorsque la barre amovible 93 n’est pas installée.
Dans l’exemple représenté, la barre amovible 93 est installée sur le panier 9 et le système 1 est alors configuré pour extraire cette barre 93 du panier 9. Pour simplifier la description, il est fait référence par la suite seulement à un système d’extraction, à un procédé d’extraction et plus généralement à l’extraction de la barre 93 du panier 9. Bien entendu, il est tout à fait compréhensible pour un homme du métier que le système 1 et/ou le procédé s’appliquent aussi bien pour l’insertion que pour l’extraction dès lors que l’insertion est inversement identique à l’extraction. L’utilisation du terme « système d’extraction » ou « procédé d’extraction » dans la description n’est ainsi nullement limitative sur ce point.
Le système d’extraction 1 comporte ici un bâti 2 et deux dispositifs d’entraînement 3 d’une extrémité de la barre 92 qui définissent entre eux un espace de réception du panier 9. En effet, les deux dispositifs d’entrainement 3 sont ici destinés à être disposés de part et d’autre du panier 9 comme l’illustre .
Chaque dispositif d’entrainement 3 est monté mobile en translation par rapport au bâti 2. En particulier, les dispositifs d’entrainement 3 sont montés coulissant le long d’un axe défini par le bâti 2 de sorte à pouvoir se rapprocher ou à s’écarter l’un de l’autre. De préférence, le panier 9 est disposé dans l’espace de réception de sorte que l’axe longitudinal de la barre 93 est sensiblement parallèle à l’axe de déplacement des dispositifs d’entrainement 3 sur le bâti 2. Cela rend le système 1 adaptable à des paniers de différentes dimensions.
Par exemple, le bâti 2 peut comporter une languette et chaque dispositif d’entraînement 3 comporte un support 4 sur lequel peut être ménagée une rainure coopérant avec la languette. La coopération de la languette et de la rainure autorise une liaison glissière entre le bâti 2 et chaque dispositif d’entrainement 3.
Plus particulièrement, chaque support 4 a ici globalement une forme de T où au moins une partie de la barre horizontale comporte la rainure et la barre verticale comporte un chemin de guidage 5 dans un plan P 1 . Le panier 9 est de préférence disposé dans l’espace de réception de sorte que le plan défini par chaque panneau latéral 91 est parallèle au plan P 1 .
Le chemin de guidage 5 est ici défini par une fente ménagée dans le support 4. La fente est traversante. Elle a une forme allongée et présente une section sensiblement constante sur toute sa longueur.
Chaque dispositif d’entrainement 3 comporte, en plus du support 4, un pion 6, un moyen d’accouplement 7 et des moyens d’entrainement 8.
Le pion 6 est guidé dans le plan P 1 le long du chemin de guidage 5. Il est apte à effectuer une rotation autour d’un axe de rotation perpendiculaire au plan P 1 . Dans l’exemple représenté, le pion 6 est inséré dans la fente et est apte à se déplacer le long de cette fente.
Le pion 6 présente ici une forme globalement cylindrique, mieux visible à la , dont la section est sensiblement inférieure à la section de la fente définissant le chemin de guidage 5 pour permettre son déplacement en translation et en rotation à l’intérieur de cette fente.
Le moyen d’accouplement 7 est solidaire en translation du pion 6. Lorsque le pion 6 est déplacé le long du chemin de guidage 5, le moyen d’accouplement 7 suit la même trajectoire que le pion 6. Il est également apte à effectuer une rotation autour d’un axe de rotation X perpendiculaire au plan P 1 .
De fait, l’axe de rotation X du moyen d’accouplement 7 est mobile dans le plan P 1 , tout en restant perpendiculaire à ce dernier. Dans l’exemple représenté, le moyen d’accouplement 7 est solidaire en translation et en rotation du pion 6. Le moyen d’accouplement 7 peut être raccordé mécaniquement directement au pion 6. Par exemple, le moyen d’accouplement 7 et le pion 6 peuvent être d’un seul tenant, ce qui simplifie le procédé de fabrication.
Les moyens d’entraînement 8 sont configurés pour déplacer le pion 6 le long du chemin de guidage 5 et entraîner simultanément, sur au moins une partie du déplacement pour l’extraction de la barre 93, le moyen d’accouplement 7 en rotation.
En effet, un tel mouvement est nécessaire pour extraire la barre 93 du panier 9.
Comme l’illustre la , chaque panneau latéral 91 du panier 9 comporte une fente 94 dans laquelle est logée de manière amovible la barre 93. Cette fente 94 impose un déplacement de la barre 93 pour son extraction, et un mouvement simultané de cette barre 93, sur au moins une partie de ce déplacement, en rotation autour d’un axe de rotation parallèle à la barre 93 et en translation le long d’un chemin s’inscrivant dans un plan perpendiculaire à cet axe. L’axe de rotation correspond de préférence à l’axe central longitudinal de la barre 93.
En particulier, la barre 93 est mobile dans la fente 94 entre une première position dans laquelle elle est maintenue en position dans la fente 94 et une deuxième position dans laquelle elle peut être extraite par un simple mouvement de translation.
Plus précisément, comme montré en figures 2 et 3, ce système 3 comprend un puits de cuve 30, à l’intérieur duquel sont insérées de l’extérieur vers l’intérieur une couche en matériau isolant thermique 31, une cuve secondaire 32 et la cuve primaire 10 du réacteur.
Le puits de cuve 30 est un bloc de forme générale extérieure de parallélépipède qui soutient le poids de la dalle 17 et donc des composants qu’elle-même supporte. Le puits de cuve 30 a pour fonctions de fournir une protection biologique et contre les agressions externes, et également d’assurer un refroidissement de l’environnement externe pour maintenir des faibles températures. Typiquement, le puits de cuve 30 est un bloc de béton.
La couche de matériau isolant thermique 31 garantit l’isolation thermique du puits de cuve 30. Typiquement, la couche 31 est en mousse polyuréthane ou à base de silicates.
La cuve secondaire 32 garantit la rétention du sodium primaire en cas de fuite par la cuve primaire 10 et la protection du puits de cuve 30. La cuve secondaire 32 est en appui contre le puits de cuve 30 et sa partie haute est soudée à la dalle de fermeture 17. Typiquement, la cuve secondaire 32 peut être en acier inoxydable AISI 316L.
L’espace E entre la cuve secondaire 32 et la cuve primaire 10, appelé espace inter-cuves, est rempli d’un gaz thermiquement conducteur, comme de l’azote. Il doit être suffisant pour permettre l’emplacement des systèmes d’inspections utilisés. Typiquement, l’épaisseur de l’espace inter-cuves E est d’environ 20 cm.
On décrit maintenant le système 2 selon l’invention d’évacuation de la puissance résiduelle (EPuR) au travers de la cuve primaire 10, plus particulièrement en référence aux figures 2 et 3.
Le système d’EPuR selon l’invention 2 va permettre d’évacuer de manière complètement passive la puissance résiduelle à l’extérieur de la cuve primaire 10 en captant le rayonnement à hautes températures dans l’espace inter-cuves E.
Le système 2 comprend tout d’abord un circuit fermé 4 rempli d’un métal liquide, qui comprend : un serpentin 40, agencé en hélice dans l’espace inter-cuves E autour de la cuve primaire 10, un premier collecteur froid 41, soudé directement à l’une des extrémités du serpentin 40, le collecteur froid étant agencé à l’extérieur au-dessus de la dalle de fermeture 17, un premier collecteur chaud 42, soudé directement à l’autre des extrémités du serpentin 40, le collecteur chaud étant agencé à l’extérieur au-dessus de la dalle de fermeture 17, et de préférence à l’aplomb du premier collecteur froid 41.
Les collecteurs 41 et 42 sont reliés à la source froide du système 50 par les tuyauteries 451 et 452.
La dalle de fermeture 17 présente des ouvertures de différents types pour permettre l’insertion du serpentin 40, qui rentre et qui sort par le haut de la dalle 17.
Le serpentin 40 a un diamètre qui est fonction du diamètre de la cuve primaire 10 et une hauteur suffisante pour avoir la surface nécessaire à l’évacuation de la chaleur recherchée.
Autrement dit, le nombre total de spires, l’écartement et le diamètre de ces spires qui composent le serpentin 40 dépendent du diamètre de la cuve primaire 10 et de la puissance du cœur 11 du réacteur nucléaire. Par exemple, le pas des spires du serpentin 40 peut être égal à 10 cm, ce qui est un bon compromis pour la fabrication et l’absorption de la chaleur par rayonnement.
Par exemple également, le diamètre externe du serpentin 40 est fixé à une dimension standard de 5 cm, afin de minimiser les pertes de charge, réduire l’encombrement des tuyaux dans l’inter-cuves E et maximiser la surface exposée à la cuve primaire 10. L’épaisseur du serpentin 40 dépend des contraintes mécaniques exercées par le métal liquide interne et par son poids.
Le matériau du serpentin 40 doit présenter des caractéristiques de bonne émissivité Typiquement, le matériau du serpentin est choisi parmi l’acier inoxydable AISI 316L, les aciers ferritiques, le nickel, l’inconel, l’Hastelloy. Ce matériau dépend du fluide interne utilisé pour le circuit fermé 4.
Le procédé se caractérise en ce que la réalisation du revêtement de protection comprend les étapes suivantes : Former une première couche d’une résine photosensible surmontant la face supérieure du support, la résine photosensible étant telle que : lorsque la résine est exposée à une dose d’insolation D lorsque la résine est exposée à une dose d’insolation D≥Dinversion, elle présente un comportement de résine négative et ne se dissout pas lorsqu’elle est mise en contact avec le développeur, Exposer une première portion de la première couche de résine photosensible avec une première dose d’insolation D1≥ Dinversion, la première portion couvrant strictement la même surface de la face supérieure que le revêtement de protection, de sorte à former le revêtement de protection, Exposer une deuxième portion de la première couche avec une deuxième dose d’insolation D2
Le revêtement de protection constitue une couche de protection des parties sous-jacentes du support. Le reste du support, se trouvant sous la deuxième portion de la couche de résine, peut être traité sans que cela n’altère le bevel, couvert par le revêtement. On prévient ainsi toute contamination métallique ou particulaire pouvant notamment survenir lors d’étapes de gravure de la zone centrale du support.
Le revêtement de protection est formé lors d’une étape de photolithographie pouvant s’intégrer très facilement au processus global de traitement du support. La formation du revêtement de protection peut ainsi se dérouler en ligne et ne présente aucune contrainte technologique. L’invention permet donc une réduction du nombre d’étapes de fabrication et donc un gain de temps significatif lors de la confection de dispositifs microélectroniques.
Par ailleurs, la couche de résine photosensible peut être déposée sur le support de façon conforme. L’étape d’insolation de la première portion de la résine n’altère aucunement la conformité du dépôt. Les dimensions de la première portion peuvent ainsi être choisies sans préjudice sur la conformité du revêtement de protection.
Un autre avantage du revêtement de protection formé par le procédé selon l’invention est qu’il peut conférer une bonne tenue mécanique au wafer lors d’une étape subséquente de découpe et individualisation de puces confectionnées à sa surface.
Le procédé selon l’invention permet en outre de réaliser un porte-plaquette (couramment désigné par le terme anglais « holder ») plus simplement que par les méthodes actuelles. La formation d’un holder selon le procédé décrit dans la présente demande est également avantageuse par rapport aux méthodes actuelles (ex. : meulage) en ce qu’elle apporte beaucoup moins de contraintes mécaniques au système.
Un deuxième aspect de l’invention concerne un dispositif microélectronique comprenant : un support présentant une face supérieure s’étendant principalement selon un plan formé par une première direction et une deuxième direction, dit plan transversal, un revêtement de protection, surmontant au moins partiellement une zone périphérique de la face supérieure formant un contour fermé autour d’une zone centrale de la face supérieure, la zone périphérique et la zone centrale formant ensemble l’intégralité de la face supérieure.
Le dispositif se caractérise en ce que le revêtement de protection est à base d’une résine photosensible négative.
Les figures 1A et 1B représentent la formation d’un revêtement de protection en périphérie d’un wafer selon l’art antérieur.
Les figures 2A à 2I représentent un procédé de transformation d’un support selon l’un des modes de réalisation de la présente invention. Ces figures sont toutes des vues de profil du support et des couches le surmontant. La représente la fourniture du support.
La illustre la formation d’une première couche de résine photosensible sur le support.
La illustre l’insolation d’une première portion de la première couche de résine adjacente à une deuxième portion de la première couche de résine, qui elle n’est pas insolée.
La représente l’obtention d’un revêtement de protection en périphérie du wafer suite à l’insolation de la première portion de la première couche de résine.
La représente l’insolation de la première couche de résine au travers d’un masque de photolithographie.
La représente la formation de motifs de photolithographie dans la deuxième portion de la première couche de résine.
La représente le développement des motifs, permettant de révéler des zones à traiter de la face supérieure du support.
La illustre une étape de gravure du support à partir des zones à traiter.
La représente le retrait du revêtement de protection et des parties restantes de la deuxième portion de la première couche de résine.
La représente l’obtention d’un revêtement de protection en périphérie du wafer suite à l’insolation de la première portion de la première couche de résine, dans le cas où le revêtement de protection ne s’étend pas jusqu’au bord du wafer.
Les figures 3A à 3M représentent un procédé de transformation d’un support selon un autre des modes de réalisation de la présente invention. Ces figures sont toutes des vues de profil du support et des couches le surmontant. La représente la fourniture du support.