INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Ces produits de recyclage sont tout d’abord démagnétisés. Cette démagnétisation est typiquement obtenue par chauffage au-delà de la température de Curie, et typiquement 350°C pour les aimants Nd-Fe-B .
Puis ils sont réduits en poudre afin d’atteindre typiquement une granulométrie idéalement comprise entre 100 et 500 micromètres, en l’espèce par une étape de concassage (100), suivie par une étape de broyage (101).
La poudre ainsi obtenue subit alors une première sous-oxydation (102), afin d’aboutir à une oxydation partielle des terres rares présentes dans ladite poudre.
Par capillarité, le liquide L assure le mouillage de toute la surface de la membrane M et entraine avec lui les particules précédemment collectées.
On verra ci-après que l'unité d'analyse peut être réalisée selon différentes configurations.
Selon l'invention, la membrane M de collecte est conçue pour assurer : Le rôle de support de collecte des particules aéroportées P et de piégeage des particules aéroportées ; Le rôle de support d'élution afin de faciliter la récupération des particules P collectées en vue de leur analyse sans risque de dispersion du liquide si le dispositif est penché ou s’il est secoué ou encore s’il vibre ; Eventuellement et avantageusement le rôle d'électrode de collecte ;
La membrane M est conçue avec des matériaux compatibles aux réactions d'analyse pouvant être mises en œuvre et listées ci-dessus.
Par membrane, on entend une bande composée d'une ou plusieurs couches de matière présentant une épaisseur faible (quelques micromètres à quelques millimètres) au regard de sa longueur et de sa largeur.
La membrane comporte au moins une couche hydrophile 3.
De manière avantageuse, la membrane M se présente sous une forme composite, à partir de : La couche hydrophile 3 de collecte des particules ; Une matrice 40 réalisée à partir d'un mélange d'un matériau polymère et d'une charge 41 réalisée dans un matériau conducteur de l'électricité ;
Par caractère hydrophile, on entend que la couche hydrophile 3 est capable de drainer un liquide L, par exemple un liquide tel que l'eau, par capillarité. Pour rappel, on définit la mouillabilité d’un matériau en observant l’angle de contact (le plus souvent noté α) qu’a ce dernier avec une goutte d’eau : Lorsque cet angle (aussi appelé angle de contact, ou angle de raccordement) est inférieur à 90°, la surface est dite plus ou moins hydrophile (la surface de contact entre l’eau et le matériau est élevé) ; Lorsqu’il est supérieur à 90°, la surface est dite plus ou moins hydrophobe (la surface de contact entre l’eau et le matériau est faible) ;
De manière non limitative, les différentes étapes de fabrication d'une membrane telle que celle de l'invention sont illustrées par la et décrites ci-dessous.
De manière avantageuse, la couche hydrophile 3 peut être fabriquée dans un matériau fibreux ou alvéolée, pouvant drainer un liquide tel que le liquide L d'élution. A titre d'exemple, elle peut être réalisée dans un matériau à base de cellulose (par exemple papier filtre ou équivalent), dans un matériau de type tissu à caractère hydrophile, de type mousse (éponge) ou de type fibre de verre.
Etape E2 : Une deuxième couche 4 est fabriquée à cette étape. Cette deuxième couche 4 est composée d'un mélange d'une matrice 40 réalisée en matériau polymère et d'une charge 41 réalisée dans un matériau conducteur de l'électricité. La charge 41 est ajoutée à la matrice afin de conférer à la membrane son caractère conducteur.
L'interface de liaison peut comprendre une paire de moyens de liaison, portée par le dissipateur de chaleur, et au moins un élément de liaison, le module lumineux étant monté mobile relativement à la platine par l’intermédiaire de la paire de moyens de liaison et l’au moins un élément de liaison comprenant un corps creux disposé sur au moins l’un des moyens de liaison de sorte à s’étendre entre le dissipateur de chaleur et la platine, le corps comprenant la couche périphérique externe.
Selon un exemple de réalisation, le dissipateur de chaleur et la paire de moyens de liaison peuvent former un ensemble monobloc.
Egalement : - le moyen de liaison peut comprendre un moyen de retenue de l’élément de liaison et/ou l’élément de liaison peut comprendre un élément de blocage d’un déplacement de l’élément de liaison relativement à l’un des moyens de liaison ; et/ou - l’élément de liaison peut être surmoulé sur l’un des moyens de liaison ou l’élément de liaison peut être fixé sur l’un des moyens de liaison.
Notamment, le module lumineux peut être monté mobile en rotation relativement à la platine autour d’un axe de rotation, l’interface de liaison étant positionnée sur un tel axe.
Optionnellement, le dispositif d’éclairage peut être configuré pour coopérer avec au moins un moyen de réglage de sorte à mettre en œuvre une correction d'assiette dynamique.
L’invention concerne également un véhicule automobile comprenant un dispositif d’éclairage selon l’invention.
La est une vue schématique d’un exemple de réalisation d’un véhicule comprenant un projecteur comportant dispositif d’éclairage.
La est une représentation en perspective d’un exemple de réalisation du dispositif d’éclairage selon l’invention comprenant un module lumineux et une platine.
La est une représentation en perspective du module lumineux.
La est une représentation partielle du dispositif d’éclairage illustrant la coopération entre la platine et le module lumineux.
La est une représentation partielle en coupe du dispositif d’éclairage illustrant la coopération entre la platine et le module lumineux.
La est une représentation en coupe de la coopération entre la platine et le module lumineux.
La illustre schématiquement un véhicule 1 automobile équipé d’un projecteur 2, lequel comprend au moins un dispositif d’éclairage 3. Les figures 2 à 7 représentent un exemple de réalisation d’un tel dispositif d’éclairage 3. En l’espèce et de manière non limitative, le projecteur 2 considéré est un projecteur 2 avant.
Par convention dans la description ci-après, la direction selon laquelle un véhicule 1 automobile se déplace en ligne droite est définie comme étant la direction longitudinale X. Le sens avant correspond au sens dans lequel le véhicule 1 automobile se déplace habituellement le long de la direction longitudinale et est opposé au sens arrière. La direction perpendiculaire à la direction longitudinale et située dans un plan parallèle au sol est nommée direction transversale Y. La direction perpendiculaire aux directions X et Y, autrement dit orthogonale au sol sur lequel repose le véhicule 1, est nommée direction verticale Z. Le terme « haut » détermine une orientation vers le toit et/ou le capot du véhicule 1, tandis que le terme « bas » détermine une orientation vers un bas de caisse du véhicule 1. Ainsi, on définit un repère direct XYZ représenté dans les figures le nécessitant.
Les nœuds et/ou la position de la signalisation ferroviaire sont alors stockés dans la ou les cartes numériques utilisées pour décrire les infrastructures ferroviaires.
Dans un mode de réalisation, la ou les cartes numériques comprennent également une ou plusieurs contraintes, notamment l’accélération radiale, au moins une vitesse maximale autorisée du véhicule ferroviaire 6, en particulier sur le segment de la voie ferrée, le rayon minimal de la voie ferrée, la variation maximale de courbure du rail, la variation maximale de torsion du rail, une accélération maximale radiale autorisée et/ou une secousse maximale latérale autorisée. Notamment la carte numérique comprend la ou les contraintes utilisées pour le calcul de nombre des nœuds et/ou nécessaires pour déterminer une trajectoire.
Le véhicule ferroviaire 6, en particulier un contrôleur 6a pour un véhicule ferroviaire 6 est propre à calculer la trajectoire du segment de la voie ferrée à partir des nœuds 5 stockés dans la ou les cartes numériques et les contraintes de l’infrastructure ferroviaire.
Dans un mode de réalisation, le contrôleur comprend un ou plusieurs processeurs. Le contrôleur est placé dans le véhicule ferroviaire 6 ou en dehors du véhicule ferroviaire 6, par exemple sur un serveur.
La ou les contraintes de l’infrastructure ferroviaire sont soit stockées dans la ou les cartes numériques ou soit connues en avance par le contrôleur 6a ou soit partiellement stockées dans la ou les cartes numériques et partiellement connues en avance par le contrôleur 6a.
Dans un mode de réalisation, la ou les contraintes de l’infrastructure ferroviaire sont notamment au moins une vitesse maximale autorisée du véhicule ferroviaire 6, en particulier sur le segment de la voie ferrée 1, le rayon minimal de la voie ferrée, la variation maximale de courbure du rail, la variation maximale de torsion du rail, une accélération maximale radiale autorisée et/ou une secousse maximale latérale autorisée.
La montre en outre deux autres trajectoires possibles 7a, 7b de la voie ferrée qui peuvent former une ou plusieurs clothoïdes. Chaque trajectoire 7a, 7b possède des paramètres différents l’une par rapport à l’autre.
La montre schématiquement une trajectoire 9 d’une voie ferrée calculée à partir des nœuds 5 et les contraintes de l’infrastructure ferroviaire comme décrites ci-dessus. Les nœuds 5 désignent respectivement un point géographique. La trajectoire 9 correspond à la meilleure estimation d’une trajectoire.
Par exemple un repère de Serret-Frenet, en particulier avec un développement de Taylor, peut être utilisé à cette fin pour construire la trajectoire, en particulier une trajectoire polyligne.
La repère de Serret-Frenet, en particulier son développement de Taylor, comprends trois vecteurs décrivant la courbe, notamment le vecteurs T, N, B, aussi appelés ensemble en anglais « TNB frame ». Les trois vecteurs T, N, B sont unitaires et forment une base orthonormale directe. T est le vecteur tangent unitaire, N et le vecteur normale et B est le vecteur binormal. Les vecteurs ont les relations suivantes entre eux :
équation (1) équation (2) , équation (3)
avec d/ds étant la dérivée par rapport à l’abscisse curviligne s, κ étant la courbure de la courbe et τ étant la torsion de la courbe.
Pour déterminer les paramètres, notamment κ et τ, du repère de Serret-Frenet pour déterminer la trajectoire de la voie ferrée la plus probable, une ou plusieurs contraintes de l’infrastructure sont utilisées, par exemple le rayon minimal, la variation maximale de courbure du rail et/ou la variation maximale de torsion du rail, et la distance respective de la trajectoire aux nœuds est minimisé, les variations de la courbure de rail sont minimisées et/ou les variations de la torsion de rail sont minimisées. Dans un mode de réalisation l’erreur maximale latérale est prise également en compte pour déterminer la trajectoire la plus probable.
montre schématiquement des coordonnées mesurées 11 d’un système de positionnement par satellite 12a et/ou d’une centrale inertielle 12b superposées à la trajectoire 9 d’une voie ferrée calculée. Les coordonnées 11 mesurées sont obtenues par des données de position du système de positionnement par satellite et/ou de la centrale inertielle.
Une centrale inertielle 12b est un instrument propre à mesurer le mouvement d’un véhicule dans laquelle la centrale inertielle est montée. Par exemple, la centrale inertielle est propre à estimer une orientation, une vitesse et une position du véhicule, en particulier à partir d’une mesure de l’accélération et de la vitesse angulaire. Une centrale inertielle est dénommée « Inertial Measurement Unit (IMU) » en anglais.
Un système de positionnement par satellite 12a, également connu sous le nom anglais « Global navigation satellite system (GNSS) » est un système propre à déterminer sa position et sa vitesse à partir des signaux reçus des satellites. Par exemple, un système de positionnement par satellite est le GPS (Global Positioning System), Glonass ou Galileo.
Une tension de polarisation est ensuite appliquée de façon à faire circuler un courant dans la couche semiconductrice dopée 210b. A titre d’exemple, la tension est appliquée entre une première électrode (non visible sur la figure) connectée à la couche 210a et l’électrolyte (non visible sur la figure) connecté par la tranche à la couche 210c.
Sous l’effet du courant de polarisation, les portions de la couche 210b en contact, par leurs flancs, avec l’électrolyte, c’est à dire les portions de la couche 210b comprises dans les plots de support SP des photodiodes P du dispositif, deviennent poreuses. Les portions de la couche 210b protégées du contact avec l’électrolyte, c’est à dire les portions de la couche 210b comprises dans les plots de support SL des LED L du dispositif, restent en revanche intactes (non poreuses).
On notera que, dans cet exemple, les niveaux de dopage des couches 210a, 210b et 210c de l’empilement de support sont choisis de façon que seule la couche 210b soit rendue poreuse lors de l’étape d’électroporosification.
A l’issue de cette étape, la couche de protection revêtant les flancs des plots de support SL peut être retirée.
La illustre la structure obtenue à l’issue d’une étape d’épitaxie commune au cours de laquelle est formé, sur chaque plot de support SL et sur chaque plot de support SP, un empilement actif semiconducteur 103. L’épitaxie est par exemple localisée dans des ouvertures préalablement gravées dans une couche diélectrique, non représentée.
Sur chaque plot de support SL et SP, l’empilement actif 103 recouvre par exemple toute la surface supérieure du plot. La portion de l’empilement actif 103 revêtant chaque plot SL définit une LED du dispositif. La portion de l’empilement actif 103 revêtant chaque plot SP définit une photodiode du dispositif.
Sur chaque plot de support SP et SL, l’empilement actif 103 comprend, dans l’ordre à partir de la surface supérieure du plot, une couche semiconductrice 103a, une couche semiconductrice 103b, et une couche semiconductrice 103c, par exemple identiques ou similaires à ce qui a été décrit précédemment en relation avec les figures 1A à 1D. Les couches 103a, 103b et 103c sont par exemple formées successivement par épitaxie à partir de la face supérieure des plots SP et SL. A titre d’exemple, dans chaque plot SP et SL, la couche semiconductrice inférieure 103a de l’empilement actif 103 est en contact, par sa face inférieure, avec la face supérieure de la couche 210c.
Du fait de la présence de la couche poreuse 210b dans les plots de support SP, on obtient une relaxation mécanique plus importante dans l’empilement actif des photodiodes P que dans l’empilement actif des LED L. Il en résulte, pendant l’épitaxie, une incorporation des espèces différentes dans la couche active 103b de l’empilement actif des LED L et dans la couche active 103b de l’empilement actif des photodiodes P. En particulier, dans le cas d’une couche active 103b à base d’InGaN, il en résulte une incorporation d’indium plus importante dans la couche active 103b des photodiodes P que dans la couche active 103b des LED L. Ainsi, la présence de la couche poreuse 210b dans les plots de support SP des photodiodes P conduit à décaler le pic d’absorption des photodiodes P vers le haut en longueur d’onde (vers le rouge), et ainsi à le rapprocher du pic d’émission des LED L.
La illustre la structure obtenue à l’issue d’une étape de formation, sur chaque LED L, d’une métallisation de contact 232L sur et en contact avec la face supérieure de la couche semiconductrice supérieure 103c de l’empilement actif 103 de la LED, et, sur chaque photodiode P, d’une métallisation de contact 232P sur et en contact avec la face supérieure de la couche semiconductrice supérieure 103c de l’empilement actif 103 de la photodiode.
La illustre en outre une étape de remplissage des tranchées 220 et de l’espace entre les LED L et les photodiodes P par un matériau électriquement isolant 234, par exemple de l’oxyde de silicium.
Après le remplissage, une étape de planarisation peut être mise en oeuvre, par exemple par polissage mécano-chimique (CMP), de façon que les métallisations de contact 232L, 232P affleurent au niveau de la face supérieure du matériau de remplissage 234.
La illustre une étape de report et de fixation de la structure de la sur un circuit intégré de contrôle 110, par exemple similaire à celui de la .
Lors de cette étape, les métallisations de contact 232L, 232P de la structure de la sont mises en contact, par leur face opposée au substrat de support 101, avec la face des métallisations de contact 113L, 113P du circuit de contrôle 110 opposée au substrat 111.
A titre d’exemple, la structure de la est fixée et connectée électriquement au circuit intégré de contrôle 110 par collage moléculaire, par exemple par collage hybride métal-métal / oxyde-oxyde.
Après assemblage des deux structures, le substrat de support 101 de la structure de la peut être retiré. En outre, tout ou partie de l’empilement semiconducteur de support 210 peut être retiré, par exemple par meulage ou gravure.
Dans l’exemple représenté, la couche 210a de l’empilement de support 210 est entièrement retirée, et les couches 210b et 210c sont conservées. Les modes de réalisation décrits ne se limitent toutefois pas à cet exemple.
Dans certains cas, la composition peut être stable ou considérée comme stable lorsqu'elle est mesurée stable à un certain premier temps t0 et à un certain second temps t1 , où t1 suit t0 ou est séparé de t0 par un laps de tempsΔ T d'au moins 1 seconde, 1 minute, 1 heure, 1 jour, 1 mois, 3 mois, 6 mois, 1, 2, 5 ou 10 ans. PendantΔ T, la composition est de préférence stockée.
Dans certains cas, la nanoparticule peut être suspendue dans un liquide ou dispersée dans une matrice ou une partie du corps pour donner une dispersion homogène de nanoparticules ou une composition ou suspension de nanoparticules très stable.
Dans un mode de réalisation de l'invention, le cryoprotecteur sert à maintenir la chaîne ou la figure géométrique stable pendant une période de temps, de préférenceΔ T, de préférence au moins un ou six mois. Dans ce cas, la chaîne ou la figure géométrique peut préférentiellement être observée ou mesurée, préférentiellement par microscopie électronique, à un premier moment t0 et à un second moment t1 , où t1 est préférentiellement séparé de t0 parΔ T.
Dans un mode de réalisation de l'invention, le cryoprotecteur protège ou maintient l'agencement d'au moins deux nanoparticules dans au moins une chaîne ou dans au moins une figure géométrique.
Dans certains cas, la protection ou le maintien de l'agencement d'au moins deux nanoparticules en au moins une chaîne ou en au moins une figure géométrique se fait à une température préférentiellement inférieure ou égale à 103 , 500, 100, 50, 10, 5, 2, 1, 0, -5, -10, -20, -50 -100, -200, ou -273 °C de la composition.
Dans d'autres cas, la protection ou le maintien de l'agencement d'au moins deux nanoparticules en au moins une chaîne ou en au moins une figure géométrique se fait à une température de la composition préférentiellement supérieure ou égale à -273, -200, -100, -50 -20, -10, -5, 0, 1, 2, 5, 10, 50, 100, 500, ou 103 °C.
Dans certains cas, la protection ou le maintien de l'agencement d'au moins deux nanoparticules en au moins une chaîne ou en au moins une figure géométrique se produit pendant une durée préférentiellement supérieure à 10-10 , 10-5 , 10-3 , 10-1 , 0, 1, 2, 5, 10, 102 , 103 ou 105 minutes ou secondes.
Dans certains autres cas, la protection ou le maintien de l'agencement d'au moins deux nanoparticules en au moins une chaîne ou en au moins une figure géométrique se produit pendant une durée préférentiellement inférieure à 1010 , 105 , 103 , 10, 5, 2, 1, 0, 10-1 , 10-3 ou 10-5 minutes ou secondes.
L'invention concerne la composition selon l'invention, où la au moins une chaîne est en suspension liquide et la composition présente préférentiellement au moins une des propriétés suivantes : i) il est isotonique au plasma ou au sang animal ou humain, ii) le volume occupé par l'eau dans la composition est plus grand que le volume occupé par la au moins une chaîne dans la composition, et iii) le pourcentage en masse d'eau dans la composition est supérieur au pourcentage en masse de la au moins une chaîne dans la composition.
Dans un mode de réalisation de l'invention, la au moins une chaîne est en suspension liquide lorsqu'elle est mélangée avec un liquide. Dans certains cas, le liquide peut être de l'eau, un liquide isotonique, un liquide comprenant un excipient, un tensioactif, ou une huile.
Dans certains cas, la composition est isotonique, c'est-à-dire qu'elle présente préférentiellement : la même pression osmotique que celle d'une partie du corps telle qu'une cellule, un fluide corporel, le plasma, le sang, de préférence d'un être humain ou d'un animal, la valeur de abs(OPBP - OPComp )/OPBP est inférieure à 100, 50, 10, 5, 2, 1 ou 10-3 %, où OPBP et OPComp sont les pressions osmotiques de la partie du corps et de la composition, respectivement.
Dans un autre mode de réalisation de l'invention, OPBP et/ou OPComp est/sont supérieur(s) à 10-10 , 10-5 , 10-3 , 10-1, 0, 1, 5, 10, 50 ou 100 bar ou atm.
Dans un autre mode de réalisation de l'invention, OPBP et/ou OPComp est/sont inférieur(s) à 1010 , 105 , 103 , 10, 0, 10-1 , 10-3 , 10-5 , ou 10-10 bar ou atm.
Dans un mode de réalisation, la valeur de abs(OPBP - OPComp )/OPBP est maintenue basse ou la composition est maintenue isotonique pour éviter une augmentation de la pression sanguine, de préférence pendant ou après l'administration de la composition à la partie du corps.
Dans certains cas, la composition peut être hypertonique, c'est-à-dire que, de préférence dans ce cas, la composition provoque le rétrécissement d'au moins une cellule ou partie du corps.
Dans d'autres cas, la composition peut être hypotonique, c'est-à-dire que, de préférence dans ce cas, la composition fait gonfler au moins une cellule ou une partie du corps.
Les saillies 95 et/ou les creux 96 sont formés uniquement sur la pièce rapportée 112, dans une partie de la pièce rapportée 112 située à proximité d’une extrémité la plus éloignée radialement de l’axe principal X du propulseur aéronautique.
Lorsque les saillies 95 et/ou les creux 96 sont formés sur la pièce rapportée 112, ces saillies et ces creux peuvent être formés par usinage directement dans le renfort métallique 112.
Dans une sixième configuration illustrée sur la , les saillies 95 et/ou les creux 96 sont formés uniquement sur l’âme en matériau composite 111. Cela permet de limiter le poids de l’aube, notamment lorsqu’une pièce de renfort métallique n’est pas nécessaire pour des raisons de tenue mécanique à l’ingestion d’oiseau.
Sur les figures 15C, 15D, 15E et 15F, les saillies 95 et/ou les creux 96 sont situés dans une position radiale soit au-dessus de la position radiale du maximum de corde locale C, soit au-dessus de la position du ventre du bord d’attaque 86, dans une zone où des décollements en régime partiel sont susceptibles de se produire.
Lorsque les saillies 95 et/ou les creux 96 sont formés sur l’âme en matériau composite 111, ces saillies et/ou ces creux peuvent être formés directement dans le matériau composite ou dans un film qui est rapporté sur la surface d’extrados 89, par exemple par collage.
Machine à fluide à canal latéral L’invention concerne une machine à fluide à canal latéral, aussi appelée machine régénérative. Il peut s’agir d’une pompe, d’un ventilateur ou d’un compresseur à canal latéral.
En tant que pompe, la machine à fluide selon l’invention peut être utilisée par exemple dans la dilution de l’Hélium 3 dans l’Hélium 4. On parlera alors de cryo-pompe. En tant que ventilateur, la machine à fluide selon l’invention peut servir par exemple de respirateur à usage médical.
Le terme « machine à fluide » ou machine à “traitement de fluide” s’entend d’une machine configurée pour convertir une énergie stockée par un fluide en une énergie mécanique ou vice versa. Le terme « canal latéral » s’entend d’un canal périphérique autour d’une zone centrale de la machine et qui présente un plan moyen parallèle à deux faces planes opposées de la machine.