Composant optique (1) comprenant : - un réseau de diffraction, hexagonal et ayant un pas de répétition (p 12 ) d’un motif diffractant le long de trois axes de symétrie (A 12 ) du réseau de diffraction, caractérisé en ce qu’il comprend en outre : - un réseau de microlentilles, aussi hexagonal, constitué de microlentilles (11) convergentes identiques, et ayant un pas (p 11 ) des microlentilles le long de trois axes de symétrie (A 11 ) du réseau des microlentilles, le composant optique (1) étant agencé de sorte que le réseau de diffraction soit superposé au réseau de microlentilles dans un plan appelé plan de superposition (PS), ou en ce qu’une image du réseau de diffraction soit superposée au réseau de microlentilles dans le plan de superposition, le réseau de diffraction et le réseau de microlentilles étant orientés de sorte que dans le plan de superposition (PS), chaque axe de symétrie (A 12 ) du réseau de diffraction, ou une image de chaque axe de symétrie du réseau de diffraction, soit décalé(e) angulairement par rapport à un des axes de symétrie (A 1 1 ) du réseau de microlentilles d’un angle qui est compris entre 10° et 50°, et un quotient du pas des microlentilles (p 11 ) sur le pas de répétition du motif diffractant (p 12 ), ou sur un pas de répétition d’une image du motif diffractant dans le plan de superposition (PS), est compris entre 2 et 18, les valeurs 2 et 18 étant incluses. Composant optique (1) selon la revendication 1, dans lequel une taille individuelle des microlentilles (11) parallèlement au plan de superposition (PS) est telle que deux quelconques des microlentilles qui sont voisines dans le réseau de microlentilles sont contigües. Composant optique (1) selon la revendication 1 ou 2, dans lequel le réseau de diffraction est porté par le réseau de microlentilles, notamment gravé ou imprimé sur le réseau de microlentilles ou sur un film transparent, ou sur un substrat transparent rigide, ledit film ou substrat étant collé sur le réseau de microlentilles, ou le réseau de diffraction est inscrit, notamment par photoinscription, dans le réseau de microlentilles ou dans un film transparent ou substrat transparent rigide qui est collé sur le réseau de microlentilles. Composant optique (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l’un au moins parmi le réseau de diffraction et le réseau des microlentilles (11) est réalisé au moyen d’un modulateur spatial de lumière, de préférence les deux réseaux de diffraction et des microlentilles sont réalisés ensemble au moyen d’un même modulateur spatial de lumière. Composant optique (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes, comprenant en outre une indication d’une valeur prescrite λ de longueur d’onde pour un faisceau (F) de rayonnement électromagnétique à analyser qui est destiné à traverser le composant optique lors d’une utilisation dudit composant optique dans un analyseur de surface d’onde par interférences (10), ledit composant optique produisant lors de ladite utilisation des interférences entre des sous-faisceaux (SF -1 , SF +1 ) qui émergent du réseau de diffraction et qui ont traversé des microlentilles (11) voisines dans le réseau de microlentilles, le pas de répétition du motif diffractant (p 12 ), ou le pas de répétition de l’image du motif diffractant dans le plan de superposition (PS), étant compris entre λ·f/(2·3 1/2 ·p 11 ) et 4·λ·f/(3 1/2 ·p 11 ), où f est une longueur focale de chaque microlentille (11) et p 11 est le pas des microlentilles, de sorte que les interférences existent dans un plan qui est parallèle au plan de superposition et distant dudit plan de superposition de f/2, ou bien le pas de répétition du motif diffractant (p 12 ), ou le pas de répétition de l’image du motif diffractant, dans le plan de superposition (PS), étant compris entre 4·λ·f/(3 1/2 ·p 11 ) et 8·3 1/2 ·λ·f/p 11 , de sorte que les interférences existent dans un plan qui est parallèle au plan de superposition et distant dudit plan de superposition de 3·f/2. Composant optique (1) selon la revendication 5, dans lequel le motif diffractant est adapté pour produire, sur une composante spectrale du faisceau (F) de rayonnement à analyser qui possède la valeur prescrite λ comme valeur de longueur d’onde, un déphasage qui est sensiblement égal à +/-pi radians, entre deux zones (Z1, Z2) complémentaires à l’intérieur du motif diffractant et pour une direction de propagation dudit faisceau de rayonnement qui est perpendiculaire au plan de superposition (PS). Analyseur de surface d’onde par interférences (10), comprenant : - un composant optique (1) qui est conforme à l’une quelconque des revendications précédentes ; et - un capteur d’images (2), qui possède une surface photosensible plane et est agencé de sorte que la surface photosensible soit parallèle au plan de superposition (PS) du composant optique (1), de sorte que des interférogrammes produits sur ladite surface photosensible par un faisceau (F) de rayonnement électromagnétique à analyser qui traverse le composant optique en direction du capteur d’images lors d’une utilisation de l’analyseur de surface d’onde (10), soient saisis par ledit capteur d’images. Analyseur de surface d’onde (10) selon la revendication 7, comprenant en outre : - un module de traitement (3), adapté pour déterminer des valeurs d’écart de piston qui existent au niveau du plan de superposition (PS) dans une surface d’onde (S) du faisceau (F) de rayonnement à analyser, à partir des interférogrammes saisis par ledit capteur d’images. Analyseur de surface d’onde (10) selon la revendication 8, dans lequel le module de traitement (3) est adapté pour déduire une valeur pour l’écart de piston existant dans la surface d’onde (S) entre deux zones de ladite surface d’onde qui sont superposées à deux microlentilles (11) voisines, à partir d’un décalage transversal de franges existant dans un des interférogrammes qui correspond auxdites deux microlentilles. Analyseur de surface d’onde (10) selon la revendication 9, dans lequel dans lequel le module de traitement (3) est adapté en outre pour déduire des valeurs d’écarts de tilt existant entre les deux zones de la surface d’onde (S) qui sont superposées aux deux microlentilles (11) voisines, à partir d’une orientation de franges et d’un pas d’interfrange, respectivement, existant dans l’interférogramme qui correspond auxdites deux microlentilles. Analyseur de surface d’onde (10) selon l’une quelconque des revendications 7 à 10, dans lequel le composant optique (1) est conforme à la revendication 5 ou 6, et une distance de séparation entre le plan de superposition (PS) et la surface photosensible du capteur d’images (2) est comprise entre f/8 et 5·f/8 si le pas de répétition du motif diffractant (p 12 ), ou le pas de répétition de l’image du motif diffractant dans le plan de superposition, est compris entre λ·f/(2·3 1/2 ·p 11 ) et 4·λ·f/(3 1/2 ·p 11 ), ou bien la distance de séparation entre le plan de superposition (PS) et la surface photosensible du capteur d’images (2) est comprise entre 5·f/4 et 15·f/8 si le pas de répétition du motif diffractant (p 12 ), ou le pas de répétition de l’image du motif diffractant dans le plan de superposition, est compris 4·λ·f/(3 1/2 ·p 11 ) et 8·3 1/2 ·λ·f/p 11 . Procédé pour analyser une surface d’onde (S) d’un faisceau (F) de rayonnement électromagnétique, comprenant les étapes suivantes : - fournir un composant optique (1) qui est conforme à l’une quelconque des revendications 1 à 6 ; - diriger le faisceau (F) de rayonnement à travers le composant optique (1) ; - disposer un capteur d’images (2) en aval du composant optique (1) par rapport à un sens de propagation du faisceau (F) de rayonnement, de sorte qu’une surface photosensible du capteur d’images coupe des volumes de superposition de sous-faisceaux (SF -1 , SF +1 ) qui sont produits par le composant optique à partir du faisceau de rayonnement ; - activer le capteur d’images (2) de façon à saisir des interférogrammes ; et - à partir des interférogrammes saisis, déterminer des valeurs d’écart de piston qui existent au niveau du plan de superposition (PS) dans la surface d’onde (S) du faisceau (F) de rayonnement. Procédé selon la revendication 12, suivant lequel le composant optique (1) est conforme à la revendication 5, et le procédé comprend une étape initiale lors de laquelle l’un parmi un ensemble de source du faisceau (F) de rayonnement et le composant optique est sélectionné par rapport à l’autre de sorte qu’une valeur de longueur d’onde de l’ensemble de source soit proche de la valeur prescrite λ du composant optique, de façon à produire les interférogrammes, et suivant lequel le capteur d’images (2) est disposé en aval du composant optique (1) pour former un analyseur de surface d’onde (10) qui est conforme à la revendication 11. Procédé selon la revendication 12 ou 13, suivant lequel des parties du faisceau (F) de rayonnement qui traversent des microlentilles (11) différentes sont produites par des sources (1000) respectives séparées, notamment par des sources à fibres séparées, et plus particulièrement par des sources laser à fibres séparées. Procédé selon la revendication 12 ou 13, suivant lequel le rayonnement est réfléchi simultanément par des segments (2001, 2002, 2003,…) juxtaposés d’un miroir (2000), et pour chaque segment (2001, 2002, 2003,…) du miroir (2000), une partie du rayonnement qui est réfléchie par ledit segment du miroir traverse une des microlentilles (11) selon une correspondance de un-à-un entre les segments du miroir et les microlentilles, et le procédé comprend en outre de calculer des écarts de hauteur et d’inclinaison qui existent entre deux segments (2001, 2002, 2003,…) voisins du miroir (2000), à partir des valeurs des écarts de piston et de tilt qui ont été déterminées.