INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
La représente l’obtention d’un revêtement de protection en périphérie du wafer suite à l’insolation de la première portion de la première couche de résine. Le revêtement peut cependant être obtenu uniquement à l’étape représenté par la .
La illustre l’insolation de la première portion et de la deuxième portion de la première couche de résine.
Les figures 3F et 3G illustrent le développement de la deuxième portion de la première couche de résine.
La illustre la formation d’une deuxième couche de résine sur le support.
La représente l’insolation de la deuxième couche de résine au travers d’un masque de photolithographie.
La représente la formation de motifs de photolithographie dans la deuxième couche de résine.
La représente le développement des motifs dans la deuxième couche de résine, permettant de révéler des zones à traiter de la face supérieure du support.
La représente le retrait du revêtement de protection et des parties restantes de la deuxième portion de la deuxième couche de résine.
Un apprenant va alors avoir un parcours d’apprentissage spécifique selon son niveau de compétences générales et de connaissance du domaine. Un apprenant débutant aura tendance à regarder davantage les contenus d’information basique et n’ira pas consulter les compléments, alors qu’un apprenant déjà confirmé aura un parcours plus rapide de certains documents ou parties de documents et n’ira pas consulter les contenus d’information basique. Il pourra cependant s’attarder sur des contenus complémentaires.
Le besoin d’avoir un parcours de consultation différencié se trouve principalement dans la consultation de documents techniques mais peut aussi être ressenti dans la consultation de tout type de document, y compris pour des consultations de loisir. Selon son appétence, un spectateur pourra s’attarder sur certaines scènes d’un livre ou d’un film, selon sa catégorie, et au contraire vouloir accélérer sur d’autres.
Etat de la technique Il existe des systèmes d’aide à l’apprentissage qui vont faciliter le parcours d’apprentissage d’un utilisateur dans un document technique. Ces systèmes s’appuient sur l’observation de l’utilisateur pendant son parcours d’apprentissage. Une caméra va être pointée sur l’utilisateur et suivre son regard. En situation de lecture, ceci permet à un système d’aide à l’apprentissage de détecter les passages sur lesquels l’utilisateur passe davantage de temps, ou bien au contraire ceux sur lesquels l’utilisateur passe rapidement. Le système d’aide à l’apprentissage peut alors proposer des contenus complémentaires à l’utilisateur pour lui faciliter l’apprentissage d’un passage du document sur lequel il passe davantage de temps. Ces contenus complémentaires peuvent être par exemple des définitions, ou bien des versions plus détaillées ou simplifiées du même contenu et peuvent être présentées dans des fenêtres « pop-up » ou bien via des messages audios ou vidéos.
En situation de consultation d’une vidéo, le filmage de l’utilisateur va permettre de déterminer un suivi de l’attention. L’analyse du visage de l’utilisateur en train de consulter une vidéo permet de déterminer son niveau d’attention, en s’appuyant par exemple sur le mouvement des yeux, qui peuvent rouler en cas d’incompréhension, ou ne plus être fixés sur l’écran, ou bien en s’appuyant sur le froncement des sourcils ou sur tout autre indice pertinent. Le suivi de l’attention au moment du passage difficile lui-même ne révèlera pas de difficulté immédiate, mais une perte de concentration juste après. La partie qui devra être complétée par des explications supplémentaires n’est donc pas la partie dans laquelle le spectateur perd sa concentration, mais celle immédiatement précédente. La perte d’attention va en général perdurer car l’utilisateur a perdu le fil de la présentation, même si les séquences suivantes ne présentent pas de difficulté du point de vue de l’utilisateur. Les passages suivants devront donc également être complétés en général. Dans ce cas, des contenus complémentaires pourraient être proposés et pourront comprendre des messages invitant à revenir en arrière ou à visualiser une version plus simple du passage qui a déclenché la perte d’attention.
Ces propositions de contenus complémentaires ne s’appuient que sur les actions préalables de l’utilisateur. A ce titre, elles ne sont pas forcément adaptées à la nature réelle de l’utilisateur. Celui-ci peut passer davantage de temps sur un passage d’un document à un moment donné pour une raison externe, et il lui sera proposé un contenu complémentaire alors qu’il n’en a pas besoin, ce que l’utilisateur percevra comme un dysfonctionnement du système d’aide à l’apprentissage.
Un autre inconvénient de l’état de l’art est que les aides ne seront déclenchées que lorsqu’un utilisateur bute ou hésite sur un contenu particulier ou perd son attention à la suite de la vision d’un passage difficile. Ce système implique donc des arrêts de la part de l’utilisateur pour que le système puisse déterminer son hésitation. Finalement, ce système fait perdre du temps à l’utilisateur puisqu’il n’est pas possible de déterminer à l’avance, sans arrêt de l’utilisateur, quels sont les contenus qu’il sera approprié de compléter.
De plus, de tels systèmes doivent être actifs tout au long du parcours d’apprentissage de l’utilisateur, afin de lui proposer des contenus appropriés en réaction directe aux hésitations que l’utilisateur a sur certains contenus. Ce fonctionnement en continu du système d’aide à l’apprentissage est très consommateur en ressources de calcul ou autres.
L’invention Selon un premier aspect fonctionnel, l’invention a trait à un procédé de gestion de la consultation d’un contenu numérique apte à être restitué par un dispositif, caractérisé en ce qu’il comprend les étapes suivantes : Rassemblement préalable de données, dites premières données, relatives à la consultation de contenus numériques, dits premiers contenus, par un ensemble de premiers utilisateurs Classification préalable des premiers utilisateurs en différents groupes selon les premières données rassemblées au préalable Obtention de données, dites deuxièmes données, lors de la consultation d’un contenu numérique, dit deuxième contenu, par un utilisateur, dit deuxième utilisateur, lesdites deuxièmes données étant relatives à la consultation du deuxième contenu par le deuxième utilisateur Affectation du deuxième utilisateur à un des groupes des premiers utilisateurs issus de l’étape préalable de classification, en fonction des deuxièmes données Modification du deuxième contenu numérique en fonction du groupe auquel le deuxième utilisateur a été affecté précédemment
Grâce à l’invention, les modifications de contenu permettant de faciliter la consultation de celui-ci pour un utilisateur donné ne s’appuient pas seulement sur la consultation du contenu par l’utilisateur mais sur la consultation de tout un ensemble de contenus par tout un ensemble d’utilisateurs. Grâce à la classification de ces premiers utilisateurs, et à l’observation de la consultation d’un contenu par un deuxième utilisateur, il est possible de classifier le deuxième utilisateur et de modifier le contenu qu’il consulte pour faciliter sa consultation. Les premiers contenus concerneront en général un même domaine. Le deuxième contenu consulté pourra faire partie des premiers contenus, mais ce n’est pas une obligation totale. En général, le deuxième contenu appartiendra au même domaine que les premiers contenus. Ainsi des groupes d’utilisateurs pourront être définis quant à leurs compétences dans le domaine auquel appartiennent les différents contenus et donc sur les particularités de leurs parcours de consultation des contenus.
La modification du deuxième contenu numérique consulté par le deuxième utilisateur va permettre de limiter les phases d’hésitation, de reprise, sur les passages non maîtrisés par le deuxième utilisateur, et permettra aussi d’accélérer la consultation des passages maîtrisés. La modification utilise la classification de l’utilisateur qui correspond à des parcours similaires de consultation et donc de façon indirecte à un niveau de compétences ou à un ensemble d’appétences observé chez les premiers utilisateurs.
Un avantage de l’invention est donc de permettre l’économie de ressources consommées par le deuxième utilisateur pendant sa consultation du deuxième contenu en rendant plus fluide son parcours de consultation du deuxième contenu. Il diminuera sa consommation électrique et la taille occupée par le contenu consulté en mémoire pourra également diminuer. Un autre avantage est que l’utilisateur comprendra mieux le contenu consulté et gagnera donc du temps lors de sa consultation.
Selon encore un premier mode de mise en œuvre particulier de l’invention, la modification du deuxième contenu numérique se fait de surcroît en fonction des deuxièmes données obtenues.
Grâce à ce mode, les deuxièmes données, relatives au parcours de consultation du deuxième contenu par le deuxième utilisateur, sont également utilisées de façon directe, et pas seulement de façon indirecte à travers l’affectation du deuxième utilisateur à un des groupes d’utilisateurs. Ces deuxièmes données permettent de connaître un niveau de compétence de l’utilisateur face à des concepts présentés dans son parcours du deuxième contenu. Cette information a l’avantage de pouvoir rendre plus précise les modifications utiles dans le parcours du deuxième contenu. Les deuxièmes données seront enregistrées tout le long de leur obtention. Lors de consultations ultérieures, les deuxièmes données relatives à des consultations passées pourront également être utilisées et mettre en évidence les évolutions du niveau de compétence du deuxième utilisateur.
Selon un deuxième mode de mise en œuvre particulier de l’invention, qui pourra être mis en œuvre alternativement ou cumulativement avec le précédent mode, les premières données rassemblées au préalable comprennent des données relatives à la durée de consultation de passages desdits premiers contenus par lesdits premiers utilisateurs.
Grâce à ce deuxième mode, une information de durée de consultation est recueillie et permet de détecter les passages qui sont facilement assimilés par les utilisateurs lors de leur consultation ou au contraire qui sont difficiles et prennent du temps à être assimilés. Cet ensemble de données permettra d’informer la phase de classification des utilisateurs qui sera donc plus précise. Ces données sont en général davantage pertinentes quand elles concernent la consultation de contenus écrits.
La représente le revêtement de protection lorsque celui-ci ne s’étend pas jusqu’au bord du wafer.
Les figures 4A et 4B représentent une vue de dessus des étapes illustrées par les figures 2D et 3D d’une part et 3G d’autre part.
La est une variante de la dans laquelle le revêtement de protection ne s’étend pas jusqu’au bord du support.
Selon un mode de réalisation avantageux, le support présente un premier flanc latéral et le revêtement de protection présente un deuxième flanc latéral, le premier flanc latéral et le deuxième flanc latéral étant séparés, dans le plan transversal, d’une distance radiale d103 inférieure à 0,5 cm, de préférence inférieure à 0,2cm. Cela permet d’assurer une bonne protection du bord du support. Selon un exemple avantageux, d103 est sensiblement égale à 0 cm.
Selon un mode de réalisation, le procédé comprend en outre les étapes suivantes : Exposer une pluralité de zones de la zone centrale du support, dites zones à traiter, Traiter le support à partir des zones à traiter.
Selon un exemple, les zones à traiter comprennent des zones à graver et l’étape de traitement comprend une étape de gravure du support à partir des zones à graver.
Selon un exemple, les zones à traiter comprennent des zones à implanter et l’étape de traitement comprend une étape d’implantation du support à partir des zones à implanter.
Selon un mode de réalisation avantageux, l’étape d’exposition des zones à traiter comprend les étapes suivantes : Exposer la première couche avec une troisième dose D3 telle que 12 mJ/cm² Effectuer une étape de développement en mettant en contact la résine photosensible avec le développeur de sorte à faire se dissoudre les parties exposées avec D3.
Selon un mode de réalisation avantageux, le procédé comprend en outre, après l’étape d’exposition de la première portion, les étapes suivantes : Retirer la deuxième portion, Former une deuxième couche de résine photosensible surmontant le support,
et l’étape d’exposition des zones à traiter comprend les étapes suivantes : Exposer la deuxième couche avec une troisième dose D3 telle que 12 mJ/cm² Effectuer une étape de développement en mettant en contact la résine photosensible avec le développeur de sorte à faire se dissoudre les parties exposées avec D3.
Selon un exemple avantageux, la première portion s’étend dans le plan transversal sur une dimension radiale l24, avec 3mm ≤ l24, de préférence 5mm ≤ l24. Selon un exemple, l24 ≤ 3 cm. Selon un autre exemple, l24 ≤ 2 cm.
Selon un exemple avantageux, la résine photosensible est composée à au moins 5% d’un dérivé de polyhydroxystyrène, au moins 55% de lactate d’éthyle et au moins 20% d’acétate d’éther méthylique de propylène glycol (PGMEA).
Selon un exemple avantageux, le support est à base d’au moins un matériau parmi les matériaux suivants : Si, SiC, GaN, SiGe, Ge, saphir, verre, InP, AsGa. Le support est avantageusement à base d’un matériau III-V, par exemple un matériau III-N. Le support peut également être un substrat du type silicium sur isolant (couramment désigné SOI, de l’anglais Silicon-On-Insulator), du type silicium sur siliciure sur isolant (couramment désigné SSOI, de l’anglais Silicon-On-Silicide-On-Insulator), ou encore du type germanium sur isolant (couramment désigné GeOI, de l’anglais Germanium-On-Insulator).
Selon un exemple avantageux, le revêtement de protection présente dans une troisième direction perpendiculaire au plan transversal une épaisseur e100 supérieure à 250 nm, de préférence supérieure à 500 nm. Typiquement, e100 ≤ 1 µm.
L'étape de polissage est, par exemple, suivie d'une étape de recuit. A titre d'exemple, l'étape de recuit est réalisée sous une température supérieure à 800 °C, par exemple supérieure à 900 °C, par exemple comprise entre 900 °C et 1050 °C.
A l'issue de cette étape, le matériau des pistes 41 passe d'un état amorphe à un état polycristallin.
La illustre une structure obtenue à l'issue d'une étape de dépôt d'une couche 59 sur la face supérieure de la structure illustrée en .
Lors de cette étape, on vient plus particulièrement recouvrir la face supérieure de la couche 73 et la face supérieure des pistes 41 par une couche 59.
La couche 59 est, par exemple formée pleine plaque. A titre d'exemple, la couche 59 est formée de façon conforme. A titre d'exemple, la couche 41 a une épaisseur comprise entre 10 nm et 100 nm, par exemple comprise entre 30 nm et 70 nm. La couche 41 est, par exemple déposée par PECVD.
La couche 59 est, par exemple constituée d'un matériau diélectrique, par exemple d'un nitrure, par exemple de nitrure de silicium (Si x N y ) ou de carbonitrure de silicium (SiC x N y ).
La formation de la couche 59 complète la formation du niveau inférieur 31 du réseau d'interconnexion 23. Les étapes 3K à 3O illustrent la formation d'un niveau supplémentaire du réseau d'interconnexion 23, par exemple le deuxième niveau 33, ces étapes sont donc, par exemple réitérées jusqu'à obtenir le nombre de niveaux souhaité dans le réseau d'interconnexion 23.
La illustre une structure obtenue à l'issue d'une étape de formation d'une couche 79 sur la face supérieure de la structure illustrée en suivie d'une étape de formation d'ouvertures 81 dans les couches 79 et 59.
A titre d'exemple, l'étape de formation de la couche 79 est similaire à l'étape de formation de la couche 79 décrite en relation avec la et l'étape de formation des ouvertures 81 est similaire à l'étape de formation des ouvertures 41 décrite en relation avec la .
A titre d'exemple, les ouvertures 81 sont formées en vis-à-vis des pistes 41 et débouchent sur les pistes 41.
La illustre une structure obtenue à l'issue d'une étape de nettoyage du fond des ouvertures 81 et de formation d'une couche 82 sur la face supérieure de la structure illustrée en .
A titre d'exemple, lors de cette étape, on vient dans un premier temps nettoyer le fond des ouvertures 81, par exemple à l'aide d'un plasma d'argon.
Dans un second temps, on vient former une couche 82 pleine plaque, comportant par exemple une sous-couche 82a et une sous-couche 82b, sur la face supérieure de la structure illustrée en et plus particulièrement sur la face supérieure de la couche 79 et sur les flancs et dans le fond des ouvertures 81.
A titre d'exemple, la sous-couche 82a est en titane. La sous-couche 82a a, par exemple une épaisseur inférieure à 50 nm, par exemple inférieure 30 nm, par exemple comprise entre 5 nm et 30 nm. La sous-couche 82a est par exemple formée par un procédé de dépôt physique en phase vapeur ou PVD (de l’anglais "Physical Vapor Deposition"). La sous-couche 82b est, par exemple formée sur et en contact avec la sous-couche 82a. A titre d'exemple, la sous-couche 82b est en nitrure de silicium. La sous-couche 82b est par exemple formée par dépôt de couches atomiques successives ou ALD (de l’anglais "Atomic Layer Deposition"). La sous-couche 82b permet, par exemple, de protéger la sous-couche 82a de l'oxydation.
La illustre une structure obtenue à l'issue d'une étape de recuit de la structure illustrée en de façon à former un siliciure intermétallique 83 issu de la couche 82.
Lors de cette étape, la structure subie un recuit permettant de faire réagir le titane de la sous-couche 82a avec le silicium des pistes 41 de façon à former, dans le fond des ouvertures 81, un film mince d’un composé intermétallique appelé siliciure. Le siliciure est par exemple à base de silicium et de titane, le siliciure est un disiliciure de titane (TiSi 2 ) ou un siliciure de titane (TiSi) en fonction du recuit appliqué.
Pour passer de la première position à la deuxième position, la barre 93 doit effectuer simultanément un mouvement en rotation autour de son axe central longitudinal et en translation le long d’un chemin s’inscrivant à un plan perpendiculaire à l’axe central longitudinal de la barre 93. Cela permet notamment d’améliorer la sécurité de maintien de la barre 93 sur le panier 9.
Dans l’exemple illustré à la , la barre 93 effectue simultanément, pour passer de la première position à la deuxième position, une rotation de 90° dans le sens antihoraire autour de son axe central longitudinal ainsi qu’une translation le long d’un chemin rectiligne s’inscrivant dans un plan perpendiculaire à l’axe de rotation.
La barre 93 présente, au moins au niveau de ses extrémités, une section de forme allongée. Cette section a ici sensiblement une forme d’ovoïde.
La représente la section d’extrémité de la barre 93, qui présente une hauteur H suivant la direction longitudinale de cette section et une largeur L dans une direction transversale à la direction longitudinale. La largeur L est inférieure à la hauteur H. Cette section d’extrémité de la barre 93 présente, aux extrémités respectives de son axe longitudinal, une première surface arrondie 931 et une deuxième surface arrondie 932. La première surface arrondie 931 a un rayon qui est inférieur à celui de la deuxième surface arrondie 932.
La représente la fente 94 du panneau latéral comportant, dans le sens d’insertion de la barre 93, une portion d’ouverture 941, une portion amincie 942 et une portion de fond 943. La portion d’ouverture 941 est évasée, notamment afin de faciliter l’insertion de la barre 93.
La fente 94 présente au niveau de la portion amincie 942 une largeur l qui est inférieure à la hauteur H de la section d’extrémité de la barre 93, et supérieure à sa largeur L. La portion de fond 943 est pourvue d’un premier logement 945 et d’un deuxième logement 946.
Lorsque la barre 93 est dans la première position, la première surface arrondie 931 est reçue dans le premier logement 945 et la deuxième surface arrondie 932 est reçue dans le deuxième logement 946. Le premier logement 945 et le deuxième logement 946 sont disposés de sorte que, lorsque la barre 93 est dans la première position, l’axe longitudinal de la section d’extrémité de la barre 93 est sensiblement perpendiculaire à la trajectoire définie par le chemin.
Comme le montre la , une extrémité de la barre 93 est accouplée à moyen d’accouplement 7 du système d’extraction 1. Le moyen d’accouplement 7 est solidaire en translation du dispositif d’entrainement 3.
Le moyen d’accouplement 7 et la barre 93 sont configurés de sorte que, lorsqu’ils sont accouplés, la barre 93 est solidaire en rotation et en translation du moyen d’accouplement 7. Autrement dit, l’accouplement entre le moyen d’accouplement 7 et la barre 93 n’autorise aucun degré de liberté.
Dans le présent exemple, la barre 93 comporte un tenon 95 à chacune de ses extrémités, lequel tenon 95 est configuré pour s’insérer au moins partiellement dans un logement 71 du moyen d’accouplement 7.
Chaque tenon 95 saillie depuis une extrémité respective de la barre 93 et s’étend parallèlement à l’axe longitudinal de cette barre 93. Le tenon 95 s’étend sur une longueur lui permettant de dépasser du panier lorsque la barre 93 est logée dans la fente 94. De cette manière, le tenon 93 est accessible depuis l’extérieur du panier 9, et peut notamment s’insérer suffisamment dans le logement 71 du moyen d’accouplement 7.
En particulier, le tenon 95 présente une section non-circulaire, par exemple rectangulaire comme illustré à la , et le logement 71 présente une section de forme complémentaire pour recevoir le tenon 95. En particulier, le logement 71 se présente ici sous la forme d’une encoche. Cette forme non circulaire permet notamment de solidariser à la fois en translation et en rotation la barre 94 avec le moyen d’accouplement 7.
La section du logement 71 peut varier afin de s’adapter à différentes extrémités de la barre 93. Par exemple, le moyen d’accouplement 7 peut être interchangeable et choisi de sorte que son logement 71 correspond au type d’extrémité de la barre 93 à extraire.
Chaque tenon 95 présente une première extrémité raccordée à la barre 93 et une deuxième extrémité qui est libre et opposée à la première extrémité. La section du tenon 95 au niveau de la deuxième extrémité présente des dimensions inférieures à celle au niveau de la première extrémité. Cela permet de faciliter le guidage lors de l’accouplement entre la barre 93 et le moyen d’accouplement 7. Le logement 71 peut alternativement ou en complément être élargi du côté de son ouverture.
Les figures 6a, 6b et 7a, 7b montrent respectivement le dispositif d’entrainement pris de façon isolée selon un premier mode de réalisation et selon un deuxième mode de réalisation.
En référence au premier mode de réalisation illustré aux figures 6a et 6b, les moyens d’entraînement 8 comportent un élément moteur 81 et un élément suiveur 84.
La illustre plus particulièrement une structure obtenue à l’issue d’une étape de report des vignettes 121 sur le substrat 131 analogue à l’étape précédemment décrite en relation avec la . Bien que le report d’une seule vignette 121 ait été illustré en , plusieurs vignettes 121 peuvent être reportées au cours de cette étape.
L’étape illustrée en diffère de l’étape illustrée en en ce que, dans l’étape illustrée en , chaque vignette 121 est reportée à l’aplomb de plusieurs éléments de reprise de contact 203 (trois éléments de reprise de contact 203, dans l’exemple représenté).
La illustre plus particulièrement une structure obtenue à l’issue d’une étape ultérieure d’élimination du substrat 103 et de la couche tampon 107.
La illustre plus particulièrement une structure obtenue à l’issue d’une étape ultérieure de gravure de l’empilement de diode 101 de sorte à former des diodes élémentaires 301.
Dans l’exemple représenté, chaque diode élémentaire 301 est située à l’aplomb d’un élément de reprise de contact 203 distinct des éléments de reprise de contact 203 à l’aplomb desquels sont situées les autres diodes élémentaires 301. Dans cet exemple, les diodes élémentaires 301 présentent des dimensions latérales inférieures à celles des vignettes 121.