INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
« résistant à l'eau », tel qu’il est utilisé ici, fait référence à la capacité à repousser l’eau et à la permanence vis-à-vis de l’eau. Les propriétés de résistance à l'eau peuvent être évaluées grâce à n'importe quel procédé connu dans l'art pour l'évaluation de telles propriétés. Par exemple, une composition peut être appliquée sur un substrat, qui peut ensuite être placé dans l’eau pendant un certain temps, tel que, par exemple 20 minutes. À l’expiration de la durée prédéterminée, le substrat peut être retiré de l’eau et passé sur un matériau tel qu’une feuille de papier par exemple. L’étendue des résidus laissés sur le matériau peut ensuite être évaluée et comparée à d’autres compositions, telles que, par exemple, des compositions disponibles dans le commerce. Par exemple, une composition peut être résistant à l'eau à l’eau si une majorité du produit est laissée sur l’utilisateur ou sur la matière kératineuse ou le substrat sur lequel ou laquelle la composition a été appliquée. Dans un mode de réalisation préféré de la présente invention, peu ou pas de composition est transférée de l’utilisateur ou de la matière kératineuse vers l’autre matière.
« Substitué » tel qu'utilisé ici signifie comprenant au moins un substituant. Des exemples non limitatifs de substituants incluent des atomes, tels que des atomes d'oxygène et des atomes d'azote, ainsi que des groupes fonctionnels, tels que des groupes hydroxyle, des groupes éther, des groupes alcoxy, des groupes acyloxyalkyle, des groupes oxyalkylène, des groupes polyoxyalkylène, des groupes acide carboxylique, des groupes amine, des groupes acylamino, des groupes amide, des groupes contenant de l'halogène, des groupes ester, des groupes thiol, des groupes sulfonate, des groupes thiosulfate, des groupes siloxane et des groupes polysiloxane. Le(s) substituant(s) peu(ven)t être encore substitué(s).
« Non volatil », tel qu’utilisé ici, signifie ayant un point éclair supérieur à environ 100°C.
« Résultat de maquillage » tel qu'utilisé ici se réfère à des compositions où la couleur reste la même ou sensiblement la même qu'au moment de l'application, telle que vue à l'œil nu, après une période de temps prolongée. Le « résultat de maquillage » peut être évalué en évaluant les propriétés de longue tenue grâce à n'importe quel procédé connu dans l'art pour l'évaluation de telles propriétés telles que celles évoquées ci-dessus.
Le terme « Maquillage », tel qu’il est utilisé ici, désigne la décoration (par exemple, la couleur) de la matière kératineuse sur laquelle elle est appliquée.
Les compositions et procédés de la présente invention peuvent comprendre, consister en, ou consister essentiellement en les éléments essentiels et limitations de l'invention décrite ici, ainsi que n'importe quel ingrédient, composant ou limitation supplémentaire ou facultatif décrit ici ou utile par ailleurs. Par exemple, le composant tensioactif de la composition d’émulsion peut « consister essentiellement en » ou « consister en » un ou de plusieurs tensioactifs ayant des propriétés lipophiles (par exemple, esters de sorbitan), ou des tensioactifs ayant des valeurs HLB inférieures à une valeur indiquée (par exemple, une valeur HLB inférieure à 8, 7, 6, 5 ou 4).
Au sens des compositions d’émulsion et des composants de la présente invention qui « consistent essentiellement en " des composés d’ingrédients identifiés, les « propriétés fondamentales et novatrices » de ces compositions et composants sont la minimisation de l’effet parapluie.
Comme dans le premier mode de réalisation, l’empilement 100 selon le deuxième mode de réalisation est réalisé sur le substrat 102 et comporte des premières couches 104, des deuxièmes couches 106 et au moins une troisième couche 108 (une seule sur l’exemple de la ). Les matériaux de ces couches 104, 106 et 108 sont similaires à ceux précédemment décrits en lien avec le premier mode de réalisation.
Dans ce deuxième mode de réalisation, les premières et deuxièmes couches 104 et 106 de l’empilement 100 sont réparties en formant plusieurs sous-empilements chacun séparé l’un de l’autre par une troisième couche 108. Sur l’exemple de la , l’empilement 100 comporte : - un premier sous-empilement 121 formé d’une alternance de premières et deuxièmes couches 104, 106 tel que chaque première couche 104 du premier sous-empilement 121 soit disposé entre deux deuxièmes couches 106 du premier sous-empilement 121 ; - un deuxième sous-empilement 122 formé d’une alternance de premières et deuxièmes couches 104, 106 tel que chaque première couche 104 du deuxième sous-empilement 122 soit disposé entre deux deuxièmes couches 106 du deuxième sous-empilement 122.
Sur l’exemple de la , chacun des premier et deuxième sous-empilements 121, 122 comporte quatre premières couches 104 et cinq deuxièmes couches 106.
Les caractéristiques individuelles (épaisseur, dopage, etc.) de chacune des couches 104, 106, 108 de l’empilement selon ce deuxième mode de réalisation sont par exemple identiques à celles précédemment décrites pour l’empilement 100 selon le premier mode de réalisation.
Un procédé de réalisation de dispositifs microélectroniques à architecture 3D 200 comprenant des transistors, mis en œuvre à partir de l’empilement 100 selon le deuxième mode de réalisation, est décrit ci-dessous en lien avec les figures 5 et 6.
Comme dans les procédés précédemment décrits, des tranchées et/ou des cavités sont ensuite gravées à travers au moins une partie de l’épaisseur de l’empilement 100 (à travers toute l’épaisseur de l’empilement 100 dans l’exemple de réalisation décrit ici), de manière à ce que des portions restantes des différentes couches 104, 106 et 108 de l’empilement 100 forment des nanofils ou des nano-feuilles. Sur les figures 5 et 6, une partie de ces tranchées gravées sont désignées par la référence 124.
Une gravure sélective d’au moins une partie des portions restantes de la troisième couche 108, et de préférence de l’ensemble des portions restantes des troisièmes couches 108, est ensuite mise en œuvre, puis au moins un premier matériau diélectrique 126, par exemple du SiO 2 ou du SiN, est déposé dans des premiers espaces formés entre les sous-empilements 121, 122. Ce premier matériau diélectrique 126 assure une isolation électrique entre les matériaux semi-conducteurs des sous-empilements 121, 122. La structure obtenue à ce stade du procédé est représentée sur la .
Une gravure sélective d’au moins une partie des portions restantes des deuxièmes couches 106 des sous-empilements 121, 122, et de préférence de l’ensemble des portions restantes des deuxièmes couches 106 des sous-empilements 121, 122, est mise en œuvre postérieurement. Au moins un diélectrique de grille et au moins un matériau conducteur de grille sont ensuite déposés dans des deuxièmes espaces formés par la précédente gravure sélective des portions restantes des deuxièmes couches 106, formant une grille 128 au-dessus et en-dessous de chacune des portions restantes des premières couches 104 des sous-empilements 121, 122. La structure obtenue est représentée sur la .
D’autres étapes, non décrites ici, telles que la réalisation des espaceurs, des régions de source et de drain, des contacts électriques, etc., sont également mises en œuvre pour achever la réalisation des dispositifs microélectroniques à architecture 3D 200. Ces dispositifs peuvent comporter des transistors de type CFET tels que l’un des transistors de type NMOS ou PMOS comporte un canal formé par les portions restantes des premières couches 104 du premier sous-empilement 121 et l’autre des transistors, respectivement de type PMOS ou NMOS, comporte un canal formé par les portions restantes des premières couches 104 du deuxième sous-empilement 122.
En variante de la configuration représentée sur la , il est possible que l’empilement 100 comporte : - un premier sous-empilement 121 formé d’une alternance de premières et deuxièmes couches 104, 106 tel que chaque deuxième couche 106 du premier sous-empilement 121 soit disposée entre deux premières couches 104 du premier sous-empilement 121 ; - un deuxième sous-empilement 122 formé d’une alternance de premières et deuxièmes couches 104, 106 tel que chaque deuxième couche 106 du deuxième sous-empilement 122 soit disposée entre deux premières couches 104 du deuxième sous-empilement 122.
Dans ce cas, lors de la réalisation de dispositifs microélectroniques à architecture 3D à partir d’un tel empilement, ce sont les portions restantes des premières couches 104 des sous-empilements 121, 122 qui sont gravées sélectivement vis-à-vis des portions restantes des deuxièmes couches 106. Les grilles 128 sont réalisées ensuite au-dessus et en-dessous de chacune des portions restantes des deuxièmes couches 106 des sous-empilements 121, 122 qui sont destinées à former les canaux des transistors.
Un empilement 100 de couches de matériaux monocristallins adapté à la réalisation de dispositifs microélectroniques à architecture 3D comprenant des transistors de type GAA, selon une variante du deuxième mode de réalisation, est décrit ci-dessous en lien avec la .
Comme dans les précédents modes de réalisation, l’empilement 100 selon cette variante du deuxième mode de réalisation est réalisé sur le substrat 102 et comporte des premières couches 104, des deuxièmes couches 106 et au moins une troisième couche 108 (une seule sur l’exemple de la ). Les matériaux de ces couches 104, 106 et 108 sont similaires à ceux précédemment décrits en lien avec les premier et deuxième modes de réalisation.
Comme dans le deuxième mode de réalisation, les premières et deuxièmes couches 104 et 106 de l’empilement 100 sont réparties en formant plusieurs sous-empilements chacun séparé l’un de l’autre par une troisième couche 108. Sur l’exemple de la , l’empilement 100 comporte : - un premier sous-empilement 121 formé d’une alternance de premières et deuxièmes couches 104, 106 tel que chaque première couche 104 du premier sous-empilement 121 soit disposée entre deux deuxièmes couches 106 du premier sous-empilement 121 ; - un deuxième sous-empilement 122 formé d’une alternance de premières et deuxièmes couches 104, 106 tel que chaque deuxième couche 106 du deuxième sous-empilement 122 soit disposée entre deux premières couches 104 du deuxième sous-empilement 122.
Comme il est d’usage dans la technique, « DX » correspond à la taille de particules telle que X% du volume de particules ont une taille inférieure ou égale à cette valeur. Afin de calculer les valeurs de D30, D70 et D95, ou plus généralement toute valeur de « DX », la distribution volumique de tailles de particules est de préférence déterminée par analyse dynamique d’image (en particulier selon la norme ISO 13322-2). La mesure est notamment réalisée à l’aide d’un appareil Camsizer X2 (Retsch-Microtrac), la grandeur considérée étant X c Min, aussi appelée « minimum chord diameter », soit « diamètre minimal de corde ». Pour réaliser la mesure, les particules sont mises en suspension dans l’air.
Les granulats, notamment les granulats ayant une taille supérieure ou égale à 63 µm, en particulier les sables, comprennent de préférence des granulats recyclés, par exemple issus de la démolition de bâtiments ou d’infrastructures, des sous-produits industriels, et/ou des sables issus de concassage de roche. Il peut par exemple s’agir de déchets de démolition concassés, de sables de fonderie et/ou de verre broyé. Les déchets de démolition sont par exemple des morceaux de béton, de mortier, de gypse ou encore de verre. Ces différentes matières sont généralement concassées afin d’atteindre les tailles voulues, et présentent de ce fait un faible arrondi et une faible sphéricité. Autrement dit, elles sont anguleuses et plutôt allongées, contrairement aux particules de sables de rivière. La proportion de ces matières est de préférence d’au moins 50%, voire d’au moins 60%, par rapport au poids de granulats.
Les fillers sont de préférence choisis parmi les fillers calcaires et les fillers dolomitiques.
La teneur totale en liant hydraulique par rapport au poids de composition sèche de mortier est de préférence comprise entre 1 et 40%, notamment entre 5 et 30%, voire entre 10 et 20%.
Le liant hydraulique peut être un mélange de plusieurs liants hydrauliques.
Le liant hydraulique est de préférence choisi parmi les ciments Portland, les ciments alumineux, les ciments sulfoalumineux, la chaux hydratée, les laitiers (notamment les laitiers de haut fourneau granulés broyés), les cendres volantes et les mélanges de deux ou plus de ces composés. Les ciments Portland recouvrent notamment les ciments de type CEM I et CEM II tels que définis par la norme EN 197-1. Un ciment CEM I comprend au moins 95% de clinker tandis qu’un ciment CEM II comprend au moins 65% de clinker et au plus 35% de laitier de haut-fourneau, de fumée de silice, de pouzzolane, de cendres volantes, de schiste calciné et/ou de calcaire.
Le liant hydraulique est de préférence constitué de ciment Portland, ou est un mélange constitué de ciment Portland, de ciment alumineux et d’une source de sulfate de calcium, telle que le plâtre, l’hémihydrate ou l’anhydrite, éventuellement additionné de laitier de haut-fourneau granulé broyé.
Dans un mode de réalisation préféré, le liant hydraulique est constitué de ciment Portland, de ciment alumineux et d’une source de sulfate de calcium. Le liant comprend alors de préférence 5 à 40% de ciment Portland, 20 à 80% de ciment alumineux et 10 à 50% d’une source de sulfate de calcium, par rapport au poids de liant hydraulique. De tels liants sont particulièrement adaptés à la réalisation de produits de sol autonivelants, par exemple des chapes.
La composition sèche de mortier comprend de préférence des additifs, notamment en une teneur allant de 0,1 à 10% par rapport au poids de composition sèche de mortier.
Ces additifs sont notamment choisis parmi les plastifiants, les superplastifiants, les accélérateurs, les retardateurs, les agents démoussants, les agents stabilisants, les poudres de polymère redispersables, les agents réducteurs de retrait, les agents de rhéologie et les agents réducteurs d’eau.
Les accélérateurs sont par exemple des sels alcalins, comme les sulfates ou les carbonates de lithium (ou de potassium), ou des sels organiques comme le formiate de calcium. La quantité totale d'accélérateurs est de préférence de 0,001 à 0,5 % en poids. Les retardateurs sont par exemple des acides carboxyliques tels que les acides tartrique ou citrique ou leurs sels. La quantité totale de retardateurs est de préférence de 0,01 à 1,0% en poids par rapport au poids de composition sèche de mortier. La composition sèche de mortier comprend de préférence à la fois des accélérateurs et des retardateurs afin de bien contrôler la prise et le durcissement du liant hydraulique.
Les agents stabilisants et rétenteurs d’eau comprennent de préférence des éthers de cellulose. Leur teneur est de préférence de 0,05 à 1,0% en poids par rapport au poids de composition sèche de mortier.
Les poudres de polymère redispersables sont de préférence obtenues à partir d’au moins un monomère choisi parmi les esters vinyliques (en particulier les esters vinyliques d’acides carboxyliques, ramifiés ou non, comprenant de 1 à 15 atomes de carbone), les (méth)acrylates (en particulier les (méth)acrylates d’alcools comprenant de 1 à 10 atomes de carbone), les acides (méth)acryliques, les vinyles aromatiques, les alcènes tels que l’éthylène ou le propylène, les diènes et les halogénures de vinyle. En particulier, les poudres de polymère redispersables convenant à l’invention sont choisies parmi les poudres de polymères obtenus à partir d’au moins deux des monomères cités précédemment, de préférence parmi les poudres des copolymères choisis parmi : les copolymères acétate de vinyle-éthylène, les copolymères ester de vinyle-éthylène-chlorure de vinyle, les copolymères acétate de vinyle, les copolymères acétate de vinyle-acrylate, copolymères de méthacrylate de méthyle avec l'acrylate de n-butyle et/ou l'acrylate de 2-éthylhexyle, copolymères de méthacrylate de méthyle avec le 1,3-butadiène, copolymères chlorure de vinyle-éthylène, copolymères chlorure de vinyle-acrylate, copolymères styrène-butadiène, copolymères styrène-acrylate, terpolymères acétate de vinyle-acide (méth)acrylique-éthylène. Leur teneur est de préférence de 0,2 à 10% en poids, notamment de 0,5 à 5% en poids par rapport au poids de composition sèche de mortier.
La composition sèche de mortier selon l’invention peut être gâchée avec de l’eau afin d’obtenir un mortier humide, puis après durcissement un mortier durci.
Le taux de gâchage, c’est-à-dire le poids d’eau par rapport au poids de composition sèche de mortier, est de préférence compris entre 8% et 28%.
Le durcissement se fait de préférence à l’air et à température ambiante, donc sans chauffage ni refroidissement.
30 Cavité
36 Conducteur
40 Enveloppe en fluoropolymère
F Composante de la force
Support pour buse de nettoyage d'un capteur pour véhicule automobile L’invention se rapporte au domaine des dispositifs de nettoyage des surfaces de détection de capteurs de véhicules automobiles.
Les véhicules automobiles sont équipés d'un nombre grandissant de capteurs, notamment, par exemple, pour le fonctionnement des systèmes d'aide à la conduite. Pour un fonctionnement optimal des systèmes associés, les surfaces de détection de tels capteurs doivent être aussi propres que possible, afin que la fiabilité et la répétabilité de la détection réalisée soient maximales. Pour ce faire, des systèmes de nettoyage sont généralement installés au voisinage de ces surfaces de détection. De tels systèmes de nettoyage comportent classiquement au moins une buse par laquelle un fluide de nettoyage et/ou de séchage est projeté sur la surface de détection, ainsi qu'un circuit d'acheminement de ce fluide vers la buse et un ensemble de pilotage et de contrôle de la projection de ce fluide vers la surface de détection du capteur. La présente invention trouve une application privilégiée, mais non exclusive, à de tels systèmes de nettoyage dans lesquels la ou les buses sont mobiles entre une position de repos dans laquelle la buse est escamotée et n’entrave pas le champ de détection du capteur, et donc dans laquelle aucun fluide n'est projeté sur la surface de détection du capteur, et une position de travail dans laquelle la buse est déployée pour être disposée sensiblement en regard de la surface de détection et dans laquelle le fluide de nettoyage et/ou de séchage est projeté sur la surface de détection du capteur.
Le problème technique auquel la présente invention se propose d'apporter une solution est celui de la position relative d'une buse de projection telle qu'elle vient d'être évoquée par rapport à la surface de détection d'un capteur à laquelle cette buse est associée. On comprend en effet aisément que l'efficacité du nettoyage est conditionnée par une projection du fluide de nettoyage et/ou de séchage aussi précise que possible sur la surface de détection du capteur associé. De plus, un ajustement précis de la position relative de la buse de projection par rapport à la surface de détection du capteur permet de réduire la consommation de fluide de nettoyage et/ou de séchage en évitant tout gaspillage de celui-ci. La présente invention a donc pour but de proposer une solution simple et efficace de positionnement d'une buse d'un système de nettoyage par rapport à une surface de détection d'un capteur de véhicule automobile auquel le système de nettoyage est associé.
Selon un mode de réalisation de l’invention, la butée anti-basculement arrière fait saillie depuis la face inférieure de la semelle.
Selon un mode de réalisation de l’invention, la butée anti-basculement arrière est configurée pour interagir avec une surface à nettoyer lorsque le suceur d’aspirateur est déplacé sur ladite surface à nettoyer. Une telle configuration de la butée anti-basculement arrière permet de limiter encore le basculement vers l’arrière de la semelle lorsque le suceur d’aspirateur est déplacé vers l’arrière.
Selon un mode de réalisation de l’invention, la butée anti-basculement arrière comporte une première rangée de poils et une deuxième rangée de poils qui sont situées de part et d’autre d’un plan longitudinal médian du suceur d’aspirateur et qui s’étendent chacune transversalement par rapport à l’axe de pivotement transversal. Une telle configuration de la butée anti-basculement arrière permet d’améliorer la stabilité du suceur d’aspirateur, tout en limitant les coûts de fabrication du suceur d’aspirateur.
Selon un mode de réalisation de l’invention, chacune des première et deuxième rangées de poils s’étend sensiblement parallèlement au plan longitudinal médian du suceur d’aspirateur. Une telle configuration de la butée anti-basculement arrière limite la trainée engendrée par la butée anti-basculement arrière, et donc les frottements générés par cette dernière lors des déplacements du suceur d’aspirateur sur la surface à nettoyer.
Selon un mode de réalisation de l’invention, les première et deuxième rangées de poils s’étendent parallèlement au plan longitudinal médian du suceur d’aspirateur.
Selon un autre mode de réalisation de l’invention, chacune des première et deuxième rangées de poils est inclinée par rapport au plan longitudinal médian du suceur d’aspirateur d’un angle d’inclinaison inférieur à 10°, et par exemple inférieur à 5°.
Selon un mode de réalisation de l’invention, chacune des première et deuxième rangées de poils s’étend de manière rectiligne. Ces dispositions permettent de limiter encore les frottements générés par la butée anti-basculement arrière.
Selon un mode de réalisation de l’invention, les poils de chacune des première et deuxième rangées de poils présentent des hauteurs supérieures à 5 mm. Une telle configuration des poils assure un contact doux entre la butée anti-basculement arrière et le sol à nettoyer lors des déplacements du suceur d’aspirateur, tout en permettant de maintenir ce contact malgré d’éventuels défauts de reliefs de la surface à nettoyer.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le suceur d’aspirateur comporte une première barrette de fixation fixée, par exemple manière amovible, au corps principal, et par exemple à la semelle, et une deuxième barrette de fixation fixée, par exemple manière amovible, au corps principal, et par exemple à la semelle, les poils de la première rangée de poils étant fixés, par exemple par collage, sertissage ou soudage, à la première barrette de fixation et les poils de la deuxième rangée de poils étant fixés, par exemple par collage, sertissage ou soudage, à la deuxième barrette de fixation. Une telle configuration du suceur d’aspirateur permet de limiter les coûts de fabrication de la butée anti-basculement arrière et donc du suceur d’aspirateur.
Selon un mode de réalisation, le pourcentage massique d’eau de la phase gélifiée aqueuse et/ou grasse peut être compris entre 0,5 et 50%, de préférence entre 1 et 40%, en particulier entre 2,5 et 30%, et mieux entre 5 et 20%, en poids par rapport à la masse totale de la phase gélifiée aqueuse et/ou grasse.
Agent gélifiant hydrophile La phase gélifiée aqueuse et/ou grasse peut comprendre au moins un agent gélifiant hydrophile, c'est-à-dire soluble ou dispersible dans l’eau. Les agents gélifiant hydrophiles permettent de moduler la fluidité de la phase le comprenant, et donc la sensorialité et/ou galénique, que l'on souhaite obtenir et/ou concourent à améliorer encore la stabilité cinétique de la composition.