Puce photonique pour l’éclairage d’une scène, la puce photonique comprenant : - un substrat (10) comprenant une face avec une gravure (100), - une pluralité de guides d’onde s’étendant parallèlement à un plan formé par la face gravée du substrat (10), chaque guide d’onde (11) étant configuré pour guider au moins un faisceau lumineux, - une pluralité de réseaux de diffraction (12), chaque réseau de diffraction (12) étant respectivement formé dans un guide d’onde (11) de la pluralité de guides d’onde et chaque réseau de diffraction (12) étant configuré pour extraire, hors du guide d’onde (11) dans lequel il est formé et vers la gravure (100) du substrat (10), le faisceau lumineux se propageant dans ledit guide d’onde (11), au moins deux guides d’onde étant configurés pour recevoir des faisceaux lumineux de longueurs d’onde différentes, et dans laquelle la gravure (100) du substrat (10) est configurée pour extraire les faisceaux lumineux hors du substrat (10), vers la scène à éclairer, ladite scène se trouvant contre la face gravée du substrat (10) et au niveau de la gravure (100) du substrat (10). Puce photonique selon la revendication 1, dans laquelle la gravure (100) du substrat (10) est configurée pour être formée par une gravure isotrope du substrat (10), de sorte que la gravure (100) forme un cercle selon une vue de dessus du substrat (10). Puce photonique selon la revendication 1, dans laquelle la gravure (100) du substrat (10) est configurée pour être formée par une gravure anisotrope du substrat (10), de sorte que ladite gravure (100) du substrat (10) forme un polygone selon une vue de dessus du substrat (10). Puce photonique selon l’une des revendications 1 à 3, dans laquelle chaque réseau de diffraction (12) est positionné autour de la gravure (100) du substrat (10) selon un plan de symétrie dudit substrat (10), ledit plan de symétrie étant perpendiculaire au plan formé par la face gravée du substrat (10). Puce photonique selon l’une des revendications précédentes, comprenant en outre un guide d’onde d’entrée (13) dans lequel tous les faisceaux lumineux sont destinés à être injectés, la puce photonique comprenant en outre au moins un démultiplexeur (14) configuré pour démultiplexer les faisceaux lumineux en sortie du guide d’onde d’entrée (13) de manière à injecter au moins un faisceau lumineux dans au moins deux guide d’onde (11) de la pluralité de guides d’onde. Puce photonique selon l’une des revendications 1 à 5, comprenant en outre une pluralité de guides d’onde d’entrée dans chacun desquels une partie des faisceaux lumineux est destinée à être injectés, la puce photonique comprenant en outre autant de démultiplexeurs (14) que de guides d’onde d’entrée, chaque démultiplexeur (14) étant associé à un guide d’onde d’entrée (13), les démultiplexeurs (14) étant configurés pour démultiplexer les faisceaux lumineux en sortie du guide d’onde d’entrée (13) de manière à injecter au moins un faisceau lumineux dans des guides d’onde (11) de la pluralité de guides d’onde. Puce photonique selon l’une des revendications précédentes, dans laquelle les guides d’onde sont destinés à recevoir des faisceaux lumineux appartenant au domaine du moyen-infrarouge. Puce photonique selon l’une des revendications précédentes, dans laquelle au moins un guide d’onde (11) parmi la pluralité de guides d’onde est configuré pour recevoir au moins deux faisceaux lumineux de longueurs d’onde différentes. Système d'imagerie comprenant : ° une puce photonique selon l’une des revendications précédentes, ° au moins un module d’illumination (21) configuré pour émettre une pluralité de faisceaux lumineux appartenant, dans laquelle au moins deux faisceaux lumineux parmi la pluralité de faisceaux lumineux ont des longueurs d’onde différentes, les faisceaux lumineux étant injectés dans les guides d’onde de la puce photonique, ° une scène, ladite scène se trouvant au niveau de la gravure (100) du substrat (10), et ° un module d’imagerie. Système d’imagerie infrarouge selon la revendication 9, dans lequel la puce photonique est d’une épaisseur égale à une distance de travail entre le module d’imagerie et la scène. Système d’imagerie selon la revendication 9 ou 10, dans lequel la distance de travail entre le module d’imagerie et la scène est du même ordre de grandeur qu’une longueur d’une surface à éclairer de la scène, la distance de travail étant comprise entre 100µm et 1,5mm. Système d’imagerie selon l’une des revendications 9 à 11, dans lequel les faisceaux lumineux appartiennent au domaine de l’infrarouge.