INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
De plus, on émet un rayonnement lumineux d’illumination, de longueur d’onde centrale λ c , en direction des mésas M (i) . Aussi, le rayonnement lumineux d’illumination est absorbé par les portions supérieures 14 des mésas M (1) et M (2) au niveau des pores (et non pas de manière massive) pour obtenir une porosification des portions et non pas une gravure totale de celles-ci. Dans cet exemple, il peut également être absorbé par la portion supérieure des mésas M (0) si la couche d’encapsulation 4 est transparente à la longueur d’onde λ c . Aussi, des paires électrons-trous sont photo-générées. Les électrons sont alors collectés par l’électrode de polarisation 3, et les trous sont utilisés pour l’oxydation du matériau des portions supérieures 14 des mésas M (1) et M (2) qui sont au contact de l’électrolyte liquide. Aussi, les portions supérieures 14 des mésas M (1) et M (2) sont porosifiées de manière photo-assistée. En revanche, les mésas M (0) ne sont pas porosifiées car elles ne sont pas au contact de l’électrolyte liquide. Notons que les portions inférieures 13 des mésas M (1) et M (2) ainsi que la couche tampon 12 ne sont pas porosifiées car elles sont réalisées en un matériau non porosifiable à la tension électrique V PECE . Une fois les portions supérieures 14 des mésas M (1) et M (2) porosifiées, on retire le substrat de croissance du bain électrolytique.
En référence à la , on effectue une deuxième étape de porosification électrochimique des mésas M (i) . Il s’agit ici de porosifier les portions inférieures 13 des mésas M (2) de manière non photo-assistée, sans porosifier celles des mésas M (1) . La couche inférieure 23 a été configurée en termes de niveau de dopage de sorte que, lors de la porosification ECE, les portions inférieures 13 peuvent être porosifiées si elles sont au contact de l’électrolyte liquide.
Aussi, dans le but de préserver les mésas M (1) d’une nouvelle porosification, et plus précisément pour éviter que leurs portions inférieures 13 ne soient porosifiées, on encapsule les mésas M (1) dans la couche d’encapsulation (la même couche d’encapsulation 4 ou une couche d’encapsulation distincte). Ainsi, les mésas M (1) ne seront pas au contact de l’électrolyte liquide lors de la porosification ECE. En revanche, les mésas M (2) ne sont pas recouvertes par cette couche d’encapsulation 4, de manière à être ensuite au contact de l’électrolyte liquide.
Ensuite, on plonge à nouveau le substrat de croissance 10 dans un électrolyte liquide. L’électrode de polarisation est alors connectée au générateur électrique de manière à appliquer une tension électrique de valeur V ECE . Cela se traduit par une porosification des portions inférieures 13 des mésas M (2) , qui seules sont au contact de l’électrolyte liquide. Les portions inférieures 13 des mésas M (1) et M (0) ne sont donc pas porosifiées. La tension électrique appliquée entre l’anode et la cathode peut être par exemple comprise entre 1V et 100V. Elle peut être appliquée pendant une durée allant de quelques secondes à quelques heures. Une électrode de référence peut être utilisée pour contrôler précisément la tension électrique appliquée. On retire ensuite le substrat de croissance 10 du bain électrolytique, et on supprime la couche d’encapsulation 4.
On obtient ainsi un substrat de croissance 10, comportant des mésas M (i) présentant différents taux de porosification P (i) , et formés à partir d’un même empilement cristallin 20 original. Dans la mesure où les portions de reprise d’épitaxie 15 sont présentes, il y a également relaxation des mésas, de sorte qu’elles présentent différents taux de relaxation R (i) . Cette relaxation des contraintes mécaniques différenciée d’une catégorie de mésas à l’autre est obtenue par la porosification électrochimique différenciée des mésas M (i) . Ces mésas M (i) présentent toutes une portion de reprise d’épitaxie 15 en In x Ga 1-x N avec la même proportion d’indium x3, mais avec une relaxation différente selon que l’on considère les différentes catégories de mésas M (i) . Ils sont donc adaptés à la réalisation par épitaxie d’une matrice de diodes D (i) permettant d’émettre ou de recevoir un rayonnement lumineux à différentes longueurs d’onde.
En référence à la , on fabrique ensuite la matrice de diodes D (i) , par reprise d’épitaxie à partir des mésas M (i) du substrat de croissance 10. Dans cet exemple, les diodes sont électroluminescentes. On réalise ici des diodes D (0) à partir des mésas M (0) , des diodes D (1) à partir des mésas M (1) , et des diodes D (2) à partir des mésas M (2) .
Pour cela, on peut retirer l’électrode de polarisation 3, puis déposer une couche isolante 6 (masque de croissance), ici de manière conforme, de manière à recouvrir la couche tampon 12 et les flancs des mésas M (i) . Seules les surfaces supérieures des mésas M (i) sont rendues libres, de manière à former une surface de germination. La couche isolante 6 est réalisée en un matériau électriquement isolant, et peut être un oxyde ou un nitrure de silicium de 80nm d’épaisseur déposé par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD).
On réalise les diodes D (i) de manière simultanée, par reprise d’épitaxie à partir de portions de reprise d’épitaxie 15 des différentes mésas M (i) . On forme ainsi : des diodes D (0) , à partir des mésas M (0) , adaptées à émettre à une longueur d’onde principale λ 0 , par exemple une lumière bleue dont la longueur d’onde λ 0 est par exemple comprise entre 440nm et 490nm environ ; des diodes D (1) , à partir des mésas M (1) , adaptées à émettre à une longueur d’onde principale λ 1 , par exemple une lumière verte dont la longueur d’onde λ 1 est par exemple comprise entre 495nm et 560nm environ ; et des diodes D (2) , à partir des mésas M (2) , adaptées à émettre à une longueur d’onde principale λ 2 , par exemple une lumière rouge dont la longueur d’onde λ 2 est par exemple comprise entre 600nm et 650nm environ.
Ceci est possible par le fait que les portions de reprise d’épitaxie 15 des mésas M (0) , M (1) et M (2) présentent un paramètre de maille effectif différent d’une catégorie de mésas à l’autre, du fait des taux de relaxation différents R (0) , R (1) et R (2) . Aussi, l’incorporation d’indium dans les diodes, et en particulier dans les puits quantiques des couches actives 32, dépend en effet du paramètre de maille effectif (et donc du taux de relaxation) des portions de reprise d’épitaxie 15 des différentes mésas. Plus le paramètre de maille effectif d’une couche de reprise d’épitaxie 15 est important, plus la longueur d’onde principale de la diode correspondante sera grande.
Les diodes D (i) comportent a minima deux portions dopées 31, 33, l’une de type n et l’autre de type p, et une couche active intercalaire 32 comportant des puits quantiques. Les couches dopées 31, 33 et la portion active 32 peuvent être des multicouches (ainsi les puits quantiques sont classiquement situés entre des sous-couches barrières) et comporter d’autres couches ou sous-couches telles qu’une couche de blocage d’électrons.
Par ailleurs, le procédé de fabrication de la matrice de diodes comporte également une étape de réalisation d’électrodes de polarisation des diodes D (i) . Cette étape est classique et n’est pas décrite ici. Dans le cas où les mésas M (i) sont électriquement conductrices, elles peuvent être mises à profit pour polariser les diodes. Aussi, l’électrode de polarisation 3 peut être gardée.
On obtient ainsi un dispositif optoélectronique 1 dont les diodes D (i) sont adaptées ici à émettre de manière native à des longueurs d’onde différentes, ici dans les trois couleurs RGB, ceci grâce au substrat de croissance 10 dont les mésas M (i) à différents niveaux de porosification P (i) ont été réalisées par une porosification électrochimique différenciée, sans avoir eu recours à des étapes d’implantation spatialement localisée de dopants, et qui a permis de réaliser les diodes D (i) à partir d’une seule étape de reprise d’épitaxie.
Les figures 4A à 4E illustrent différentes étapes d’un procédé de fabrication d’un substrat de croissance 10 similaire à celui de la , puis d’une matrice de diodes D (i) . Le procédé de fabrication met également en œuvre une porosification PECE de portions supérieures 14 des mésas M (i) , suivies d’une porosification ECE de portions inférieures 13. Les étapes des , et sont identiques ou similaires à celles des , et : elles ne sont pas décrites à nouveau.
En référence à la , on effectue la première étape de porosification électrochimique des mésas M (i) . Il s’agit ici de porosifier de manière photo-assistée la portion supérieure 14 des seules mésas M (2) , et non pas celles des mésas M (1) . Aussi, la couche d’encapsulation 4 recouvre les mésas M (0) ainsi que les mésas M (1) . Aussi, seules les mésas M (2) ne sont pas recouvertes par la couche d’encapsulation 4 et seront au contact de l’électrolyte liquide.
L’ensemble électrique conforme au deuxième aspect de l’invention comprend avantageusement au moins un des perfectionnements ci-dessous, les caractéristiques techniques formant ces perfectionnements pouvant être prises seules ou en combinaison :
- le module de commande comporte des moyens de communication vers un serveur distant, le module de commande étant configuré pour transmettre vers le serveur distant la puissance électrique mesurée et recevoir des instructions ;
- le module de commande comporte un organe de couplage électrique configuré pour, sélectivement, raccorder ledit au moins un système photovoltaïque au réseau électrique domestique, l’organe de couplage électrique étant configuré dans un état fermé et, désaccoupler ledit au moins un système photovoltaïque du réseau électrique domestique, l’organe de couplage électrique étant configuré dans un état ouvert, le module de commande étant configuré pour mettre en œuvre le procédé de selon l’un quelconque de ses perfectionnements.
illustre une vue synoptique du procédé de mesure conforme au premier aspect de l’invention.
De manière particulière, le contexte de l’invention se limite aussi à un ou plusieurs systèmes photovoltaïques 1 raccordés à l’une des prises électriques du réseau électrique domestique 2. Dans le cas où le réseau électrique domestique 2 comporte plusieurs systèmes photovoltaïques 1 distincts, par exemples associés à des éléments de toitures différents ou disposés selon des orientations cardinales différentes, alors il est préférable que chaque système photovoltaïque 1 soit associé à un circuit électrique 24 différents, ou à une prise électrique 25 différente. Dans le cas où plusieurs systèmes photovoltaïques 1 sont raccordés électriquement à un même circuit électrique 24 , par exemple au travers d’une même prise électrique 25 ou si les prises électriques 25 auxquelles sont raccordés électriquement les systèmes photovoltaïques 1 font parties d’un même circuit électrique 24, alors il est pertinent de d’adapter une puissance électrique de référence au-delà de laquelle il est nécessaire de ne plus faire fonctionner l’un des systèmes photovoltaïques 1 pour garantir une sécurité électrique du réseau électrique domestique 2.
Dans ce mode de réalisation, la cavité V102 débouche aussi à l’extérieur du corps principal 102 par plusieurs ports fluidiques. Chacun des ports fluidiques est différent de la première embouchure 104.
La cavité V102 débouche aussi du corps 102 par une deuxième embouchure 108, différente de la première embouchure 104 et des ports fluidiques.
La deuxième embouchure 108 est orientée à l’opposé de la première embouchure 104 selon l’axe longitudinal A102 et est configurée pour être fluidiquement connectée à un accessoire. Dans l’exemple illustré, la deuxième embouchure 108 est fluidiquement connectée au dispositif de sécurité 60 du transformateur 20. Plus précisément, la deuxième embouchure 108 du support de capteur 100 est fluidiquement connectée à l’entrée fluidique 62 du dispositif de sécurité 60.
Autrement dit, le support de capteur 100 est intercalé entre le dispositif de sécurité 60 et l’orifice 34 de la paroi 32. De préférence, la première embouchure 104 et la deuxième embouchure 108 s’étendent chacune selon un plan orthogonal à l’axe longitudinal A102. De préférence, la deuxième embouchure 108 présente un diamètre D108 qui est égal au diamètre D104 de la première embouchure 104.
Les ports fluidiques sont ici au nombre de deux, et incluent un port principal 106A, qui est configuré pour être fluidiquement connecté à un dispositif de détection 110, notamment une sonde d’hydrogène dissout, et un port de purge 106B, qui est configuré pour être fluidiquement connecté à un dispositif de purge 112.
Lorsque le dispositif de détection 110 est monté sur le port principal 106A et que le support de capteur 100 est dans une configuration d’utilisation, c’est-à-dire lorsque la première embouchure 104 est fluidiquement connectée à l’orifice 34, l’enceinte 22 étant remplie d’un liquide de refroidissement, le dispositif de détection 110 est en contact avec le liquide de refroidissement présent dans la cavité V102. Ainsi la forme de la cavité V102, notamment la hauteur 102 de la cavité V102, est choisie en fonction du type du dispositif de détection 110.
Le dispositif de purge 109 est prévu pour purger des bulles de gaz, notamment de l’air ou de l’hydrogène, qui seraient présentes dans la cavité V102 lorsque le support de capteur 100 est dans une configuration d’utilisation, c’est-à-dire lorsque la première embouchure 104 est fluidiquement connectée à l’orifice 34, l’enceinte 22 étant remplie d’un liquide de refroidissement. Le dispositif de purge 109 est ici représenté schématiquement par une vanne manuelle. Selon des alternatives non représentées, le dispositif de purge 109 est un bouchon, voire un relai de protection. L’agencement du port de purge 106B et du dispositif de purge 109 tel que représenté sur les figures est schématique et non limitatif.
Dans l’exemple de la , le dispositif de purge 109 est optionnel, car le dispositif de sécurité 60 comprend déjà la purge 65. Plus généralement, on comprend que lorsqu’un accessoire, que ce soit un accessoire du type du dispositif de sécurité 60 ou d’un autre type, est monté au support de capteur 100 et que cet accessoire comprend déjà une purge, alors il n’est pas nécessaire que le support de capteur 100 comprenne le dispositif de purge 109.
Le support de capteur 100, intercalé entre l’orifice 34 et le dispositif de sécurité 60, permet ainsi la mise en place du dispositif de détection 110, sans avoir à modifier l’enceinte 22 du transformateur. De préférence, les ports fluidiques sont répartis autour de l’axe longitudinal A102 de manière à faciliter l’installation du dispositif de détection 110, en particulier sans avoir à modifier l’orifice 34.
Dans l’exemple illustré, les ports fluidiques sont agencés radialement à l’axe longitudinal A102. De préférence, les ports fluidiques sont régulièrement répartis autour de l’axe longitudinal A102.
Dans l’exemple illustré, le support de capteur 100 comprend avantageusement un tube 120, qui présente une forme allongée s’étendant selon un axe central A120. Le tube 120 est ouvert à ses deux extrémités et présente une longueur L120, mesurée entre ses deux extrémités parallèlement à l’axe principal A120. La longueur L120 du tube 120 est au moins égale à la hauteur H102 de la cavité V102, de préférence supérieure à cette hauteur H102. Le tube 120 comprend, à chacune de ses extrémités, une ouverture d’extrémité 122. Le tube 120 est solidaire du corps 102, c’est-à-dire que le tube 120 est considéré comme fixe par rapport au corps principal 102. Par exemple, le tube 120 est fixé au corps principal 102 par des pattes de fixation, qui s’étendent entre le corps principal 102 et le tube 120. Les pattes de fixation ne sont pas représentées.
Le tube 120 est partiellement reçu dans la cavité V102 et traverse la première embouchure 104, de sorte qu’une première des deux ouvertures d’extrémité 122 débouche dans la cavité V102, tandis que l’autre ouverture d’extrémité débouche hors de la cavité V102. Ainsi, lorsque la première embouchure 104 est connectée à l’orifice 34, l’ouverture d’extrémité 122 qui débouche hors de la cavité V102 débouche dans le volume interne V22 de l’enceinte 22. En variante non représentée, le tube 120 est entièrement reçu dans la cavité V102, une des deux ouvertures d’extrémité 122 étant orientée vers la première embouchure 104.
De manière schématique, lorsque l’installation de transformation 10 est en fonctionnement, c’est-à-dire en configuration d’utilisation tandis que le dispositif de transformation 24 est alimenté en énergie électrique, le fluide de refroidissement chauffé au contact du dispositif de transformation 24 entre dans la cavité V102 en passant par le tube 120, se refroidit au contact du corps 102 du support de capteur 100, et circule de la cavité V102 dans le volume interne V22 de l’enceinte 22 en traversant la première embouchure 104, autour du tube 120. Il se crée ainsi un mouvement de convection thermique, analogue à un thermosiphon.
Autrement dit, le tube 120 favorise la circulation du fluide de refroidissement entre le volume interne V22 et la cavité V102. Plus généralement, le tube 120 est configuré pour favoriser les mouvements de convection du liquide de refroidissement dans la cavité V102 lorsque le support de capteur 100 est en configuration d’utilisation. En cas de défaut électrique, par exemple en cas de défaut générant de l’hydrogène dissout dans le liquide de refroidissement, le tube 120 contribue à accélérer l’homogénéisation de la concentration d’hydrogène dissout au sein de la cavité V102 et du volume interne V22. Lorsque le dispositif de détection 110 est une sonde à hydrogène, les valeurs mesurées par le dispositif de détection 110 sont représentatives de la concentration moyenne, autrement dit les mesures sont fiables.
Le corps principal 102 est réalisé en un matériau thermiquement conducteur, de manière à favoriser les mouvements de convection du liquide de refroidissement entrant dans la cavité V102 en passant par le tube 120. De préférence, le corps 102 est réalisé en métal, de préférence inoxydable, par exemple en acier inoxydable.
De préférence, l’axe central A120 est aligné sur l’axe longitudinal A102 de la cavité V102, de manière à favoriser le mouvement de convection du fluide de refroidissement. De préférence, une section de passage du tube 120 est égale, à ±10% près, à une section de passage de la première embouchure 104 autour du tube 120, ce qui favorise le mouvement de convection du liquide de refroidissement.
dans laquelle n représente un entier compris entre 1 et 10 ; un polyéthylèneglycol de formule (II) suivante :
dans laquelle n représente un entier compris entre 2 et 800 ; un polypropylèneglycol de formule (III) suivante :
dans laquelle n représente un entier compris entre 2 et 69 ; et leurs mélanges ; -le mélange d’esters est obtenu par estérification du polyol tel que défini ci-dessus et d’un mélange d’acides comprenant un seul acide saturé en C2-C9, qui est l’acide n-heptanoïque et l’acide 10-undécylénique.
-le rapport massique du polyol sur le mélange d’acides va de 1 :4 à 1 :10, de préférence le rapport massique du polyol sur le mélange d'acides est de 1 :5 ;
-le polyol est issu de ressources renouvelables, en particulier d’huile de ricin ;
- le mélange est présent dans des compositions cosmétiques.
-le mélange est présent dans des formulations lubrifiantes de synthèse, des peintures, notamment à base aqueuse, des adhésifs, des produits d’étanchéité, des produits de revêtement, des produits de traitement de surfaces non métalliques, des produits de traitement du bois, des détergents, des parfums, des formulations agrochimiques, des formulations destinées à l’industrie papetière, des formulations de forage de fracturation hydraulique, des formulations de liquides de batterie ; -le procédé de préparation d’un mélange tel que défini ci-dessus, comprend les étapes successives suivantes : - une étape de mise en contact du diol, triol ou polyol avec un excès du mélange d’acides tels que définis ci-dessus, -une étape de chauffage du mélange à une température comprise entre 170 et 250°C, sous une descente en vide partiel selon 3 à 10 paliers.
Par « agent conservateur », on entend au sens de la présente invention un composé présentant une activité antimicrobienne, destinée à empêcher le développement de microorganismes (bactéries, levures et moisissures). Ces conservateurs antimicrobiens sont nécessaires pour protéger les produits cosmétiques des contaminations. L’évaluation de la protection antimicrobienne d’un produit cosmétique peut être réalisée selon la norme ISO 11930 consistant à mettre en contact le produit cosmétique avec 5 souches connues de microorganismes et à évaluer la concentration de microorganismes restants à intervalles réguliers sur une période de 28 jours.
Les exigences requises dans le domaine de la cosmétique et établies par la norme ISO 11930 s’appliquent à d’autres domaines techniques et n’empêchent nullement l’utilisation de l’agent conservateur dans d’autres domaines techniques.
Mélange d’ester
Le mélange d’esters selon l’invention est obtenu par estérification d’au moins un diol en C2-C4 ou un triol en C3-C4 et d’un mélange d’acides comprenant au moins un acide gras saturé en C2-C9 et l’acide 10-undécylénique.
Ainsi, en fonction du nombre de fonctions hydroxyles dans le polyol, c’est-à-dire si il s’agit du diol ou du triol, et en fonction de la proportion de chaque acide contenu dans le mélange, ces derniers vont se répartir de manière différente sur la chaîne polyol, conduisant à un mélange d’esters.
Le diol est choisi parmi l’éthanediol, le 1,2-propanediol, le 1,3-propanediol, le 1,4-butanediol, le butylèneglycol, le 1,2-butanediol, le 2,3-butanediol, le méthylpropanediol et le triol est choisi parmi le glycérol, le 1,2,3-butanetriol et leur mélange.
L’acide saturé en C2-C9 est choisi parmi l’acide acétique, l’acide propanoïque, l’acide butyrique, l’acide n-pentanoïque, l’acide n-hexanoïque, l’acide n-heptanoïque, l’acide n-octanoïque, l’acide n-nonanoïque, en particulier l’acide n-heptanoïque.
acquérir un premier mélange contenant un matériau d'anode en graphite provenant d'une batterie lithium-ion, et effectuer une lixiviation acide humide sur le premier mélange pour obtenir un résidu lessivé contenant le matériau d'anode en graphite ;
griller le résidu lessivé dans un environnement alcalin pour obtenir un résidu grillé ;
préparer le résidu grillé et un deuxième mélange en une barbotine, et effectuer une précipitation de métal dans un environnement alcalin, le deuxième mélange contenant un sel de manganèse, un sel d'aluminium et un méta-aluminate ;
faire vieillir et filtrer la suspension, laver un gâteau de filtration jusqu'à ce que l'eau après lavage du gâteau de filtration soit neutre, et sécher pour obtenir un composite hydroxyde métallique-carbone ; et
griller le composite hydroxyde métallique-carbone.
Dans un mode de réalisation facultatif, l'étape consistant à acquérir le premier mélange contenant le matériau anodique de graphite provenant de la batterie lithium-ion, et à effectuer une lixiviation acide humide sur le premier mélange pour obtenir le résidu lixivié contenant le matériau d’anode en graphite comprend :
décharger la batterie lithium-ion, pyrolyser la batterie lithium-ion à basse température, et broyer et cribler pour obtenir le premier mélange contenant le matériau d'anode constitué de graphite ; et
ajouter de l'eau au premier mélange pour la mise en suspension, ajouter une solution d'acide sulfurique et une solution de H 2 O 2 pour une lixiviation acide humide, et filtrer pour obtenir le résidu lessivé.
Dans un mode de réalisation facultatif, un rapport massique liquide/solide de la suspension préparée en ajoutant de l'eau au premier mélange est de 1 : (1 à 1,5), et une valeur de pH est maintenue entre 0,5 et 1 pendant la lixiviation acide humide.
Dans un mode de réalisation optionnel, l'étape de griller le résidu lessivé en milieu alcalin pour obtenir le résidu grillé comprend :
mélanger le résidu lessivé avec NaOH, griller et laver un produit grillé avec de l'eau ; et
mélanger et broyer une source d'azote et le produit grillé après lavage à l'eau, et griller pour obtenir le résidu grillé.