INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Chaque manille correspondant à un point arrière de fixation 957c-d est montée articulée par deux points arrière d’articulation à la structure horizontale 156a et par un point arrière d’articulation à la structure de l’aile 104, et chaque point arrière d’articulation consiste en une rotation autour d’un axe horizontal de rotation présentant un angle non nul avec la direction longitudinale X, c'est-à-dire que chaque manille est inscrite dans un plan vertical oblique par rapport à la direction longitudinale X. Les points arrière de fixation 957c-d compensent les efforts en X et en Z. L’angle est compris entre 30° et 60°, c'est-à-dire que les manilles sont inclinées de l’extérieur vers l’intérieur en progressant de l’arrière vers l’avant.
Cette orientation particulière permet de prendre avantage du bras de levier de la structure horizontale 156a tout en conservant un système isostatique. Cette orientation particulière est décrite plus particulièrement dans le cadre de la variante mais elle peut s’appliquer également au mode de réalisation des Figs. 2 et 3 et, dans ce cas, les points latéraux de fixation sont constitués par les points avant de fixation 957a-b.
La montre un mode de réalisation particulier pour la fixation de la boîte de vitesse 155 au châssis 156. On y retrouve les trois premiers moyens de fixation 159 entre la boîte de vitesse 155 et, d’une part, une extrémité basse de la structure verticale 156b et, d’autre part, la structure horizontale 156a. Chaque premier moyen de fixation 159 crée une liaison sphère cylindre.
Dans ce mode de réalisation, l’ensemble propulsif 151 comporte également un système de reprise 1002 assurant une reprise des moments générés par les moteurs électriques 154a sur la boîte de vitesse 155.
Le système de reprise d’effort 1002 comporte à bâbord, une barre bâbord 1004 globalement verticale et dont une première extrémité est solidaire de la boîte de vitesse 155 et une barre tribord 1006 globalement verticale et dont une première extrémité est solidaire de la boîte de vitesse 155.
Le système de reprise d’effort 1002 comporte une barre principale 1008 orientée parallèlement à la direction transversale Y, où la deuxième extrémité de la barre bâbord 1004 est liée à la barre principale 1008 par une liaison sphère cylindre et où la deuxième extrémité de la barre tribord 1006 est liée à la barre principale 1008 par une liaison rotule.
Chaque extrémité de la barre principale 1008 est solidaire du châssis 156 à travers deux liaisons rotule en série.
PANNEAU DE CAPOTAGE ET DE CONNEXION POUR UNE TURBOMACHINE D’AERONEF Domaine technique de l'invention La présente invention concerne un panneau de capotage et de connexion pour une turbomachine d’aéronef.
Chaque cellule d’alimentation 10, 20, 30, comprend un redresseur r1, r2, r3, une batterie B1, B2, B3 et une cellule de commutation C 1 0 , C 2 0 , C 3 0 .
Plus précisément, le redresseur r1, r2, r3 de chaque cellule d’alimentation 10, 20, 30 est dit bidirectionnel. Autrement dit, chaque redresseur r1, r2, r3 est apte à fournir une tension alternative à partir d’une tension continue et inversement. On dit également que c’est un redresseur « double alternance ».
en fonction de la comparaison, la validation ou l’invalidation de la détection d’un type de coup de golf.
la réalisation des mesures avec un pas d’échantillonnage supérieur à 100 Hz, par exemple égal à environ 416 Hz ou à environ 833 Hz, et le stockage en mémoire des mesures sur la durée de la fenêtre temporelle ;
Les meilleures performances sont obtenues avec un trialcoxysilane ou trichlorosilane de formule C n H 2n+1 SiR 3 où n = 8.
Pour obtenir une bonne durabilité du revêtement hydrophobe sur le substrat verrier, il est indispensable de former au préalable sur la surface à traiter une couche primaire, de préférence en silice.
Pour que cette couche primaire soit efficace pour ancrer le revêtement hydrophobe d’alkyl-trialcoxy-silane et/ou d’alkyl-trichlorosilane sur le substrat, il est important qu’elle comporte le plus possible de groupes silanol (Si-OH) actifs, c’est-à-dire capables de réagir avec les groupes silanol libérés par l’hydrolyse des groupes alcoxy ou des atomes de chlore.
Par ailleurs, il est recommandé de faire précéder l’étape de formation de la couche primaire d’une étape de polissage du substrat, par exemple au moyen d’un feutre imprégné d’une suspension aqueuse de fines particules abrasives, suivie d’un rinçage à l’eau et d’un séchage. Dans le cas d’une régénération de la fonction hydrophobe, cette étape est même indispensable pour éliminer totalement la couche dégradée préexistante.
Pour mettre en œuvre cette étape, on dissout une quantité appropriée de tétrachlorosilane et/ou de tétraalcoxysilane dans un mélange eau/alcool, typiquement un mélange eau acide/isopropanol, contenant 3 à 50% en masse, de préférence 5 à 15% en masse d’eau dont le pH a préalablement été ajusté à une valeur comprise entre 0 et 3. La teneur en tétrachlorosilane et/ou en tétraalcoxysilane de cette solution hydroalcoolique est avantageusement comprise entre 0,1 et 1% en poids, de préférence entre 0,15 et 0,8 % en poids.
Il est préférable de ne pas appliquer la solution hydro-alcoolique immédiatement après dissolution du tétrachlorosilane/tétraalcoxysilane, mais de laisser l’hydrolyse se dérouler à température ambiante (20 – 25 °C) pendant une durée comprise entre 2 minutes et 2 heures, de préférence entre 3 minutes et 1 heure, en particulier entre 5 minutes et 30 minutes.
La solution hydroalcoolique acide du tétrachlorosilane/tétraalcoxysilane peut être appliquée en principe par n’importe quelle technique permettant la formation d’un mince film liquide à la surface du substrat. On peut citer, à titre d’exemple, l’application par immersion, par rideau de liquide, par pulvérisation ( spray ) ou par chiffonnage. Le chiffonnage est le plus adapté aux régénérations sur aéronef. De préférence on utilisera la pulvérisation, ou nébulisation, et l’application au moyen d’un chiffon imbibé de la solution hydro-alcoolique de tétrachlorosilane/tetraalcoxysilane.
Après application sur la surface du substrat verrier, on laisse sécher le film liquide formé pendant une durée d’au moins 2 minutes, de préférence d’au moins 15 minutes.
Après séchage du premier dépôt, il est possible de renouveler l’application de la solution hydro-alcoolique de tétrachlorosilane/tétraalcoxysilane jusqu’à obtention de l’épaisseur de couche primaire en silice souhaitée.
Le greffage de trialcoxy-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane et/ou de trichloro-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane est mis en œuvre après au moins 2 minutes de séchage de la couche primaire de silice à température ambiante.
L’étape de greffage de l’alkyltrialcoxysilane ou alkyltrichlorosilane se fait, comme la formation de la couche primaire en silice, par une étape sol-gel dans laquelle l’alkyltrialcoxysilane et/ou l’alkyltrichlorosilane est hydrolysé en milieu hydro-alcoolique acide. Elle peut être mise en œuvre de manière similaire à celle utilisée pour la formation de la couche primaire.
La composition de greffage est une solution hydroalcoolique (eau/isopropanol) acide de l’(alkyle en C 3 -C 8 )-trialcoxysilane et/ou de l’(alkyle en C 3 -C 8 )-trichlorosilane. La teneur en (alkyle en C 3 -C 8 )-trialcoxysilane et/ou (alkyle en C 3 -C 8 )-trichlorosilane de la solution hydroalcoolique acide est de préférence comprise entre 0,1% et 4 % en poids et en particulier entre 1 et 3,5 % en poids.
Le mélange eau/alcool dans lequel on dissout l’alkyltrialcoxysilane et/ou l’alkyltrichlorosilane contient 5 à 70% en masse, préférentiellement entre 10 et 50% en masse d’eau.
La solution hydro-alcoolique d’(alkyle en C 3 -C 8 )-trialcoxysilane et/ou de l’(alkyle en C 3 -C 8 )-trichlorosilane est avantageusement laissée à température ambiante pendant une durée d’environ 10 minutes à environ 3 heures, pour permettre l’hydrolyse, avant d’être appliquée par pulvérisation ( spray ), arrosage ou chiffonnage sur le substrat verrier recouvert sur une de ses faces principales de la couche primaire de silice.
- Par « couche de recouvrement optique » (« capping layer » en langue anglaise), on entend une couche dont l’indice optique et l’épaisseur sont adaptés pour optimiser l’extraction de lumière du dispositif électroluminescent.
- Par « couche d’encapsulation », on entend une couche adaptée pour protéger le dispositif électroluminescent de l’air et de l’humidité.
- Le terme « masque d’ombre » (« shadow mask » en langue anglaise) est également connu sous le terme de pochoir.
est une vue schématique en coupe, illustrant l’étape b) d’un procédé selon l’invention.
est une vue schématique en coupe, illustrant l’étape c) d’un procédé selon l’invention. Pour des raisons de simplicité, chaque empilement de couches semi-conductrices organiques est représenté par une seule couche.
est une vue schématique en coupe, illustrant l’étape d) d’un procédé selon l’invention.
est une vue schématique en coupe, illustrant l’étape e) d’un procédé selon l’invention. Pour des raisons de simplicité, la couche de recouvrement optique et la couche d’encapsulation sont représentées par une seule couche.
est une vue schématique en coupe, illustrant une étape de formation d’un masque de gravure photosensible précédant l’étape f).
est une vue schématique en coupe, illustrant l’étape f) d’un procédé selon l’invention avec le masque de gravure illustré à la .
est une vue schématique en coupe, illustrant l’étape g) d’un procédé selon l’invention suivant l’étape f) illustrée à la .
Il est à noter que les dessins décrits ci-avant sont schématiques, et ne sont pas nécessairement à l’échelle par souci de lisibilité et pour en simplifier leur compréhension. Les coupes sont effectuées selon la normale à la surface du substrat où est formée la structure d’interconnexions.
Un objet de l’invention est un procédé de fabrication d’un dispositif électroluminescent organique, comportant les étapes : a) utiliser un empilement comportant successivement : - un substrat 1, intégrant des transistors 10 de type n en couches minces comprenant chacun un drain D, une source S et une grille G ; - une structure d’interconnexions 2, électriquement connectée aux transistors 10 de type n, et comprenant : une anode commune 20, électriquement connectée aux sources S des transistors 10 de type n ; des trous d’interconnexions 21, chacun étant électriquement connecté à un drain D d’un transistor 10 de type n ; b) former un ensemble de couches anodiques 3 et un ensemble de plots 4 de contact électrique sur la structure d’interconnexions 2, les couches anodiques 3 étant espacées entre elles de manière à former un réseau de lignes et de colonnes, chaque couche anodique 3 étant électriquement connectée à l’anode commune 20 ; chaque plot 4 de contact électrique étant adjacent à une couche anodique 3 et étant électriquement connecté à un trou d’interconnexion 21 ; c) former un ensemble d’empilements 5 de couches semi-conductrices organiques, chaque empilement 5 de couches semi-conductrices organiques s’étendant sur une couche anodique 3 et autour de ladite couche anodique 3, à distance du plot 4 de contact électrique adjacent à ladite couche anodique 3 ; d) former une couche cathodique 6 s’étendant sur la structure d’interconnexions 2, sur l’ensemble d’empilements 5 de couches semi-conductrices organiques et sur l’ensemble de plots 4 de contact électrique ; e) former successivement une couche de recouvrement optique 7 et une couche d’encapsulation 8 sur la couche cathodique 6 ; f) graver localement la couche d’encapsulation 8, la couche de recouvrement optique 7 et la couche cathodique 6 de manière à isoler électriquement les couches anodiques 3 entre elles et former une matrice de pixels ; chaque pixel comprenant une couche anodique 3 et un plot 4 de contact électrique, adjacent à ladite couche anodique 3.
Etape a) L’étape a) est illustrée à la .
Ainsi, puisque chaque batterie est isolée des autres batteries, cela permet ainsi de donner une fonction différente à chacune des batteries : une des batteries est reliée au convertisseur continu-continu et la ou les autres batteries se rechargent en énergie électrique.
De préférence, chaque cellule d’alimentation, comprend une bobine, connectée à l’entrée du redresseur. Chaque bobine permet de contrôler le courant en régulant la tension aux bornes de chaque batterie.
De préférence encore, le système d’alimentation comprend trois cellules d’alimentation. Pour une tension alternative triphasée, il est usuel et indispensable d’avoir une cellule d’alimentation par phase de ladite tension alternative.
De manière avantageuse, le module de connexion comprend : une première borne de connexion reliée électriquement à la première cellule d’alimentation, une deuxième borne de connexion, une troisième borne de connexion, un premier interrupteur, apte à relier la deuxième cellule d’alimentation à la première borne de connexion ou à la deuxième borne de connexion, un deuxième interrupteur apte à connecter la troisième cellule d’alimentation à la première borne de connexion ou à la troisième borne de connexion.
Ainsi, si la tension fournie sur la première borne de connexion est monophasée et alimente la première cellule d’alimentation, ladite tension peut également alimenter la deuxième et la troisième cellule d’alimentation. Par ailleurs, si la tension fournie sur la première borne de connexion est triphasée : chaque phase est reliée à une borne de connexion, elle-même reliée à une cellule d’alimentation. Ainsi, le chargement d’une batterie est réalisé en simultanée à l’alimentation du bus d’alimentation, à partir de tension monophasée ou triphasée.
L’invention concerne également un procédé de commande d’un système électrique tel que présenté précédemment, ledit procédé étant mis en œuvre par l’unité de contrôle et comprenant les étapes consistant à : connecter le redresseur de chaque cellule d’alimentation à une tension alternative, connecter le convertisseur continu-continu d’une part à une des cellules d’alimentation et d’autre part au bus d’alimentation électrique afin d’alimenter le bus d’alimentation en énergie électrique.
Ainsi, pour une tension appliquée en entrée de chaque cellule d’alimentation, le procédé permet en simultanée d’alimenter le bus d'alimentation à partir d’une batterie via le convertisseur DC/DC, et de recharger la ou les autres batteries. Ce procédé est simple à mettre en œuvre puisqu’il se fait par commande d’ouverture ou fermeture de certains interrupteurs.
La est un schéma électronique représentant le système d’alimentation selon l’invention.
La est un schéma électronique représentant le deuxième mode de fonctionnement du système d’alimentation selon la .
Pour évaluer l’hydrophobie des dépôts on utilise des procédures connues dans le domaine technique des revêtements hydrophobes :
La mesure de l’angle de contact d’une goutte d’eau (θ) à l’équilibre est effectuée au moyen d’un goniomètre Krüss MSA ( Mobile Surface Analyzer ) sur une goutte de 2 µl. L’observation de la goutte se fait au moyen d’une caméra rapide qui prend les photos sur lesquelles on relève ensuite l’angle de contact. Plus la valeur de l’angle de contact est élevée, plus la surface de l’échantillon testé est hydrophobe.
Mesure du volume de décrocage :
La mesure du volume de décrochage est réalisée pour une inclinaison du vitrage de 45 °. Une série de gouttes de volume calibré croissant sont positionnées au moyen d’une micropipette à la surface d’une feuille de verre inclinée. Au-delà d’un certain volume, la goutte s’écoulera par gravité à la surface du vitrage incliné. Le volume de décrochage est le plus petit volume de goutte permettant son écoulement sous son propre poids. Cette mesure est effectuée avec une précision de 1µL.
On recherche généralement à obtenir un volume de décrochage le plus faible possible.
Résistance à l’hydrolyse : La résistance à l’hydrolyse est déterminée par immersion d’une feuille de verre portant le revêtement hydrophobe à tester pendant 7 jour dans une solution saline à 35g/L de pH=9 (ajusté par NaOH) à 35°C. Après ce traitement, l’angle de contact est mesuré à nouveau.
Résistance aux UV : La résistance au rayonnement UV est déterminée à l’aide d’un appareil appelé QUV, de type QUV-B muni de lampes fluorescentes présentant un maximum d’irradiance à 313nm (dans les conditions de la norme ASTM G-154).
Les essais d’exposition aux UV alternent des phases : d’irradiation (lampes fluorescentes) à la température de 70°C pendant 16 heures sombres avec exposition à une chaleur humide à la température de 40°C avec génération de condensation à la surface des échantillons pendant 8 heures
La durée d’exposition totale à ce test est de 150H.
Exemple On fonctionnalise des échantillons de substrats verriers avec différents alkyltrialcoxysilanes en procédant de la manière suivante :
Un échantillon de 10 cm x 10 cm est nettoyé par polissage au moyen d’un feutre imprégné d’une suspension aqueuse contenant 20 % de particules d’oxyde de cérium. L’échantillon poli est rincé avec de l’eau distillée et séchée avec un chiffon sec.
Pour la formation de la couche de primaire en silice, on prépare une solution de 0,3 % en masse de tétraéthoxysilane (TEOS) dans un mélange de 10 % d’eau acide (HCl 0,3N) et 90% d’isopropanol.
Après 30 minutes de réaction à température ambiante, cette solution est appliquée au moyen d’un chiffon imbibé sur la surface du substrat verrier. On laisse sécher pendant environ 2 minutes.
Immédiatement après on applique par chiffonnage sur la couche de primaire en silice ainsi obtenue, une solution d’alkyltriéthoxysilane à 1,6 % dans dans un mélange de 10 % d’eau acide (HCl 0,3N) et 90% d’isopropanol.
On laisse sécher pendant 15 minutes à température ambiante et on élimine les traces blanchâtres par lustrage avec un chiffon imbibé d’un mélange eau/alcool contenant 70% en masse d’eau et 30% en masse d’isopropanol jusqu’à disparition des résidus diffusants à la surface du vitrage.
Ce faisant, la base 61 de la cage de connexion 60 est déplacée en direction de la quatrième face externe longitudinale 54 du corps 50 de la barre de connexion 40 (flèche F de la ).
Ainsi, pour connecter électriquement le câble électrique à la barre de connexion 40, il suffit d’introduire l’âme dénudée du câble électrique dans la zone de connexion 64 de la cage de connexion 60, puis de visser la vis de serrage 67 dans les trous taraudés 62B, 63B de la cage de connexion 60 et dans le conduit taraudé 56 du corps 50. La vis de serrage 67 arrive alors en butée contre la face interne 55B de l’orifice 55 correspondant au logement de connexion prédéterminé LP et provoque le déplacement de la cage de connexion 60 le long de l’axe de la vis de serrage 67 qui est confondu avec l’axe de vissage Z du conduit taraudé correspondant de sorte que la base 61 de la cage de connexion 60 vient serrer l’âme dénudée du câble électrique contre la quatrième face externe 54 du corps 50 de la barre de connexion.
L’enveloppe isolante 10 qui loge la barre de connexion 40 comprend un socle 30 et au moins un capot 20 (figures 1, 2, 5, 6 et 9). Elle est réalisée par exemple par moulage d’une matière plastique.
Le socle 30 présente la forme d’une goulotte s’étendant selon l’axe longitudinal X du corps 50 de la barre de connexion 40. Il présente une section transversale en U et est muni d’un fond 31 et de deux parois principales 32, 33 longitudinales parallèles. Il est fermé à ses extrémités longitudinales par des parois transverses.
L’une au moins de ces deux parois principales 32, 33 comprend deux rangées de fenêtres 34A, 34B, 35 alignées selon la direction de l’axe longitudinal X. Selon l’exemple représenté sur les figures, une première des deux paroi principales 32, appelée dans la suite du texte la paroi principale avant 32, comprend lesdites deux rangées de fenêtres 34A, 34B, 35, la deuxième des deux paroi principales 33, appelée dans la suite du texte la paroi principale arrière 33, ne comportant aucune fenêtre (figures 1, 2 et 5).
Une première rangée de fenêtres 34A, 34B est disposée à proximité du bord libre longitudinal de la paroi principale avant 32. Les fenêtres 34A, 34B de cette première rangée sont de forme circulaire (figures 1, 2 et 5). Elles présentent deux tailles différentes : une fenêtre 34A sur deux présente un diamètre sensiblement identique à celui des embouchures 55A des orifices 55 du corps 50 de la barre de connexion 40, tandis que les autres fenêtres 34B présentent un diamètre légèrement supérieur à celui des embouchures 55A.
La deuxième rangée de fenêtres 35 est disposée à proximité du fond 31 du socle 30. Chaque fenêtre 35 de cette deuxième rangée présente une forme carrée à angles arrondis, similaire à la forme des première et deuxième ouvertures 65, 66 ménagées dans les branches 62, 63 de la cage de connexion 60, et des dimensions légèrement plus grandes que celles de ces ouvertures 65, 66 (figures 1, 2 et 5).
Les fenêtres 34A, 34B, 35 de la première et de la deuxième rangée sont disposées avec un pas constant le long de l’axe longitudinal X.
Chaque fenêtre 35 de la deuxième rangée de fenêtres du socle 30 est alignée selon la direction de l’axe de vissage Z avec l’une des fenêtres 34A, 34B de la première rangée de fenêtres (voir notamment la ).
Plus précisément, les fenêtres 35 de la deuxième rangée sont disposées en correspondance avec une fenêtre sur deux de la première rangée. Il s’agit des fenêtres 34B présentant les dimensions les plus grandes.
De manière générale, les positions et les dimensions des fenêtres 34A, 34B de la première rangée de fenêtres sont telles qu’elles sont adaptées à autoriser l’accès aux logements de connexion du corps 50 de la barre de connexion 40, tandis que chaque fenêtre 35 de la deuxième rangée est adaptée à autoriser l’accès à la zone de connexion 64 de la cage de connexion 60.
Les fenêtres 34A, 34B de la première rangée sont ainsi globalement centrées sur les axes transversaux Y des orifices 55 du corps de la barre de connexion. Le pas séparant deux fenêtres 34A, 34B de la première rangée est égal au pas séparant deux orifices 55 du corps 50 de la barre de connexion.
Le socle 30 comprend par ailleurs une pluralité de murets internes 36 qui s’étendent entre chaque fenêtre 35 de la deuxième rangée, perpendiculairement à la direction de l’axe longitudinal X, de la paroi principale avant 32 à la paroi principale arrière 33, depuis le fond 31 du socle 30 et sur une hauteur H prédéterminée selon la direction de l’axe de vissage Z ( ).
Ces murets internes 36 délimitent avec le fond 31 et les parois principales avant et arrière 32, 33 du socle 30 des zones d’accueil 37 adaptées à recevoir une partie de la cage de connexion 60 ( ).
Plus particulièrement, chaque zone d’accueil 37 est adaptée à recevoir la base 61 de la cage de connexion 60 et les parties des branches 62, 63 qui comprennent les première et deuxième ouvertures 65, 66 et qui délimitent la zone de connexion 64 (figures 6 et 9).
Lors du positionnement de la barre de connexion 40 dans le socle 30 de l’enveloppe isolante 10, la base 61 de la cage de connexion 60 est guidée dans l’une des zones d’accueil 37 du socle 30 par les murets internes 36 et les parois principales avant 32 et arrière 33 dudit socle 30.
De préférence, le pH de ces compositions est égal ou supérieur à 10, mieux encore, égal ou supérieur à 12.
Mieux encore, le pH desdites compositions va de 10 à 14, encore mieux encore, de 12 à 14.
Le procédé cosmétique de l’invention est, en particulier, un procédé de renforcement des fibres kératiniques lissées, en particulier, des fibres kératiniques humaines telles que les cheveux.
Le procédé cosmétique de l’invention est, en particulier, un procédé d’amélioration des propriétés mécaniques des fibres kératiniques lissées, en particulier, des fibres kératiniques humaines telles que les cheveux.
Le procédé cosmétique de l’invention est, en particulier, un procédé d’amélioration de l’élasticité des fibres kératiniques lissées, en particulier, des fibres kératiniques humaines telles que les cheveux.
Le procédé cosmétique de l’invention est, en particulier, un procédé d’amélioration de la résistance à la rupture des fibres kératiniques lissées, en particulier, des fibres kératiniques humaines telles que les cheveux.
Le procédé de l’invention peut être appliqué sur cheveux mouillés ou secs, de préférence sur des cheveux mouillés.