INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Avantageusement, le système de recharge de véhicule électrique ou hybride électrique peut comporter :
- un module de batterie ;
- un support métallique comportant une surface de contact plane orientée en regard du module de batterie lorsque le support métallique est monté sur le module de batterie ; et,
- une paire de barres omnibus comportant une première barre omnibus disposée au-dessus d’une deuxième barre omnibus le long du module de batterie, la paire de barres omnibus étant montée contre le module de batterie.
L’attache peut alors être montée encliquetée sur la première barre omnibus de sorte que :
- la surface plane de la tête est en contact avec la surface de contact plane du support métallique,
- la première barre omnibus est disposée dans le logement de réception, l’attache étant retenue sur la première barre omnibus par les moyens d’arrêt ;
- la deuxième jambe est également disposée le long de la deuxième barre omnibus, de préférence contre la deuxième barre omnibus.
L’invention porte encore sur un véhicule électrique ou hybride électrique comportant un système de recharge tel que décrit ci-dessus.
Avantageusement, dans le véhicule électrique ou hybride électrique, lorsque l’attache est montée encliquetée sur la première barre omnibus, une surface externe de la deuxième jambe extérieure au logement de réception peut être en appui contre un élément de châssis ou de plancher du véhicule électrique ou hybride électrique.
Dans lesquelles : R est la distance du capteur de distance 6 au centre de la surface inférieure 5, R 0 est le rayon de surface optique So mesurée, également dénommé rayon de pupille de l’arrangement constitué de l’ensemble des capteurs de distance 6, en particulier égale à environ 760 mm, xh et vh sont les coordonnées des points d’Hammersley, tels que définies dans le document référencé ci-dessus, et Θ est l’angle de la droite passant par le centre et le long de laquelle le capteur de distance 6 est placé à la distance R du centre de la surface inférieure 5.
Le nombre de capteurs de distance 6 installés est choisi en fonction des fréquences spatiales à mesurer. Le nombre minimal de capteurs de distance 6 à installer est 5, mais on utilisera, de préférence, un nombre de capteurs de distance 6 plus grand, par exemple entre 15 et 75 capteurs de distance 6, notamment entre 19 et 72 capteurs de distance 6, en particulier 19 ou 72 capteurs de distance 6.
Le profilomètre 1 comprend en outre un support d’élément optique 10, apte à assurer un maintien de la surface optique So de l’élément optique Eo à mesurer en regard des capteurs de distance 6 et du support de capteurs 3.
Le support d’élément optique 10 est supporté par un positionneur 11, en particulier un positionneur 11 à six axes de mobilité.
Sur l’exemple de réalisation de la , le support d’élément optique 10 est mobile. En effet, le positionneur 11 peut être monté sur un chariot apte à être mobile entre : une position de mesure, dans laquelle le support d’élément optique 10 est disposé en regard du support de capteurs 3, et une position de chargement/déchargement, dans laquelle le support d’élément optique 10 est écarté du support de capteurs 3 afin de permettre un chargement et/ou un déchargement de l’élément optique Eo sur le support d’élément optique 10.
Selon l’exemple de réalisation de la , le chariot sur lequel est monté le positionneur 11 repose sur des rails 12.
Un actionneur 13, notamment un télescopique 13, permet la mise en mouvement du chariot, et par conséquence du positionneur 11 et du support d’élément optique 10, le long des rails 12, entre la position de mesure et la position de chargement/déchargement. Préférentiellement, le bâti 2 est fixe.
Sur l’exemple de réalisation de la , le positionneur 11 est fixe dans une position de mesure, dans laquelle le support d’élément optique 10 est disposé en regard du support de capteurs 3.
Le positionneur 11, en particulier le positionneur 11 à six axes de mobilité, permet de positionner précisément la surface optique So de l’élément optique Eo à mesurer en regard du support de capteurs 3.
La surface inférieure 5 a été usinée pour être complémentaire de la surface de référence de telle manière que si la surface optique So de l’élément optique Eo maintenu par le support d’élément optique 10 en regard du support de capteurs 3 est exactement identique à la surface de référence, les capteurs de distance 6 vont tous mesurer la même distance. En revanche, si la surface optique So présente un défaut, au moins l’un des capteurs de distance 6 va mesurer une distance différente de celle mesurée par les autres capteurs de distance 6.
Le profilomètre 1 selon l’invention permet donc de mesurer rapidement la surface optique So d’une série d’éléments optiques Eo identiques.
Le profilomètre 1 selon l’invention permet également de mesurer la surface optique So d’éléments optiques Eo d’une autre série, pour autant que la variation entre les séries soit dans une certaine gamme de tolérances, en particulier maximum +/- 2,5 mm de la surface de référence initiale.
Si la variation entre les séries n’entre pas dans la gamme de tolérance, la surface optique So des éléments optiques Eo de cette autre série étant significativement différente de la surface optique So des éléments optiques Eo de la série précédente, c’est-à-dire correspondant à une surface de référence différente de celle utilisée pour usiner la surface optique des éléments optiques de la série précédente, il est nécessaire de remplacer le support de capteurs utilisée pour la série précédente par un support de capteurs ayant une surface de montage complémentaire de la surface de référence de la nouvelle série.
En particulier, le profilomètre 1 peut avoir une structure différente de celle décrite.
Ainsi, chacun des capteurs de distance 6 peut être monté mobile en translation sur une douille elle-même montée sur le support de capteurs 3 par une liaison rotule permettant d’orienter la douille et donc le capteur de distance 6 dans l’espace.
En variante, l’enceinte 11 peut être dépourvue de moyens capillaires, le transport de fluide frigorigène liquide de la zone formant condenseur 13 vers la zone formant évaporateur 12 pouvant être assuré par effet thermosiphon. En d’autres termes, le déplacement du fluide frigorigène est alors assuré par différence de température entre la zone formant condenseur 13 et la zone formant évaporateur 12.
L’enceinte 11 présente une forme prismatique et, en vue de dessus, une forme globalement rectangulaire. On définit par longueur la plus grande dimension de l’enceinte 11 selon un premier axe X. On définit par largeur de l’enceinte 11 la seconde plus grande dimension de l’enceinte selon un deuxième axe Y. On définit par épaisseur de l’enceinte 11 la dimension de l’enceinte suivant un troisième axe Z. Les premier, deuxième et troisième axes X, Y, Z peuvent être orthogonaux.
Les premier et deuxième axes X, Y peuvent définir un plan globalement parallèle au plan passant par les connectiques 7, 8 ou par les extrémités supérieures 6 des cellules 3. Le troisième axe Z est parallèle à la plus grande dimension des cellules 3, c’est-à-dire à l’axe longitudinal des cellules 3.
Une partie de la paroi inférieure 14 constitue la zone formant évaporateur 12 est en contact et est soudée à deux connectiques 7, 8 de deux cellules 3 adjacentes, par exemple à une anode d’une première cellule 3 et à une cathode d’une seconde cellule 3. La zone formant évaporateur 12 assure ainsi la fonction de liaison électrique entre les électrodes ou connectiques 7, 8 correspondantes.
Ainsi, dans un ensemble de cellules 3 reliées en série, par exemple une rangée de cellules 3 reliées en série, les cellules 3 adjacentes sont reliées deux à deux par l’intermédiaire des zones formant évaporateur 12 d’enceintes 11 de plusieurs dispositifs de refroidissement 10.
La connexion électrique peut être assurée par le matériau de la paroi correspondante 14 de l’enceinte 11 ou par une couche intermédiaire de matériau électriquement conducteur.
Un dispositif de refroidissement 10 assure ainsi la connexion de deux connectiques 7, 8 de deux cellules 3 adjacentes différentes.
Deux autres dispositifs de refroidissement 10 peuvent équiper les connectiques 7, 8 des cellules 3 d’extrémité de la rangée. Dans un tel cas, la zone formant évaporateur 12 de chacun de ces deux dispositifs 10 est en contact et soudée à une seule connectique 7 ou 8.
Les dispositifs de refroidissement 10 recouvrent la majeure partie de l’ensemble des cellules 3 et sont régulièrement réparties en fonction de la position des connectiques 7, 8 des cellules 3.
En fonction de l’encombrement disponible et des positions des connectiques 7, 8, les dimensions des différentes enceintes 11 peuvent varier.
Dans la forme de réalisation représentée à la , trois groupes de dispositifs de refroidissement 10 de tailles différentes sont représentés par exemple.
Un premier groupe 10a est constitué des deux dispositifs 10 équipant les connectiques d’extrémité 7, 8, non reliées à d’autres connectiques. Les deux autres groupes 10b, 10c concernent des dispositifs 10 destinés chacun à relier électriquement deux connectiques 7, 8 de deux cellules 3 différentes. Ainsi un deuxième groupe 10b comporte des dispositifs 10 dont l’enceinte 11 est de forme relativement allongée en vue de dessus et un troisième groupe 10c comporte des dispositifs 10 dont l’enceinte 11 est globalement carrée en vue de dessus.
La zone formant condenseur 13 de l’enceinte 11 est constituée par les parties des parois 14, 15 de l’enceinte 11 n’appartenant pas à la zone formant évaporateur 12. En d’autres termes, la zone formant condenseur 13 constitue la majeure partie des parois 14, 15 de l’enceinte 11, et peut être est située à la fois au niveau de la première paroi 14 et de la seconde paroi 15.
La zone formant condenseur 13 est équipée d’ailettes 19 formées par des tôles planes 19a ( ) ou par des tôles ondulées 19b (figures 1, 2) dont les ondulations présentent une forme rectangulaire ou carrée.
Certaines parties des ondulations sont planes, en contact avec lesdites parois 14, 15 et soudées aux parois 14, 15 correspondantes. Bien entendu, d’autres types d’ailettes 19 peuvent également être utilisées. Les ailettes 19 sont destinées à échanger de la chaleur avec un fluide caloporteur extérieur à l’enceinte 11, par exemple de l’air.
On notera chaque enceinte 11 peut comporter au moins un évidement 20 (figures 1 et 2) permettant de faciliter le soudage par point de l’enceinte 11 à la connectique 7, 8 correspondante depuis le côté de l’enceinte 11 opposé aux cellules 3, c’est-à-dire depuis le dessus sur les figures. Le soudage peut ainsi être réalisé dans le fond de l’évidement 20.
En référence à la , qui illustre un exemple de fonctionnement, l’unité de commande 4 commence par vérifier et le cas échéant attendre (étapes 80 et test 81) qu’une quantité suffisante de dilueur liquide a été transvasée (« transfert ») entre l’unité de préparation 1 et l’unité de distribution 2.
Dans l’affirmative, l’unité de commande 4 autorise et commande (étapes 82 et 83) le soutirage de ladite quantité Q4 de dilueur liquide dans la cuve de distribution 20.
Ensuite, l’unité de commande 4 vérifie (Etape 84) le niveau de liquide dans la cuve de distribution 20 au moyen du capteur 22, et si la cuve de distribution 20 est vide (test 85), l’unité de commande 4 vérifie (Etape 86 ) si au moins un cycle de préparation d’un lot de dilueur dans l’unité de préparation 1 doit encore être effectué. En variante, cette étape de vérification peut également être réalisée en contrôlant automatiquement, au moyen d’un compteur à eau, le volume de liquide qui a été évacué en dehors de la cuve. Dans l’affirmative (test 87), le procédé reboucle à l’étape 80 et dans la négative, le procédé de soutirage prend fin.
N ettoyage de l’unité de préparation 1 et de l’unité de distribution 2 ( )
Les étapes de nettoyage de la cuve 10 de l’unité de préparation 1 ou de nettoyage de la cuve 20 de l’unité de distribution 2 sont identiques.
Le nettoyage de la cuve 10 et le nettoyage de la cuve 20 sont par exemple lancés automatiquement ou manuellement par l’utilisateur lorsque le soutirage dans la cuve 20 est terminé.
En référence à l’exemple particulier de la , l’unité de commande 4 vérifie dans un premier temps automatiquement si la cuve 10 (ou 20) à nettoyer est vide (étape 90 et test 91).
Si la cuve est vide, l’unité de commande 4 déclenche l’alimentation en eau des buses de pulvérisation (« gicleurs ») du dispositif de lavage 14 ou 24 de la cuve (étape 92) pendant une durée de lavage prédéfinie par une temporisation (test 93).
Traçabilité de la production des lots de dilueur liquide de semences animale
Dans une variante préférée de réalisation, à chaque cycle(i) [i= 1 à N] de préparation d’un lot de dilueur liquide dans la cuve 10 de l’unité de préparation 1, l’unité de commande 4 de la machine génère et attribue de manière automatique un identifiant Id Lot (i) unique, qui est spécifique du lot de dilueur liquide de semence animale et enregistre automatiquement au moins cet identifiant Id Lot (i) de préférence en l’horodatant (date et heure), et de préférence en l’associant à un identifiant (ID dil u eur_initial ) qui identifie le lot de provenance du dilueur initial utilisé pour la production du lot de dilueur liquide de semence animale.
Dans la variante préférée de réalisation qui a été décrite en référence aux figures annexées, l’unité de préparation 1 de la machine comporte deux dispositifs de dosage 11 et 12 pilotés par l’unité de commande 4. Dans une variante de réalisation moins sophistiquée, ces dispositifs de dosage 11 et 12 pourraient ne pas être présents dans la machine, l’introduction du dilueur initial et/ou du solvant liquide pouvant être effectuée manuellement.
Punch de découpe partitionnée d’un greffon cornéal et porte-lame correspondant La présente invention concerne le domaine de la greffe de cornée, en particulier le domaine de la préparation du greffon dans le cadre des chirurgies de la cornée (ou kératoplasties), notamment la préparation de greffon pour la mise en œuvre de la technique de greffe de cornée endothéliale avec un greffon de membrane Descemet, autrement connue sous le nom de technique DMEK (Descemet Membrane Endothelial Keratoplasty).
De préférence, le matériau de cathode polycristallin et l'agent de revêtement sont dans un rapport massique de 1:(0,0003 à 0,05), où « 0,0003 à 0,05 » peut être, par exemple, 0,0003, 0,0005, 0,0008, 0,001, 0,002, 0,003, 0,004, 0,005, 0,01, 0,02, 0,03, 0,04 ou 0,05, de préférence 1:(0,0003 à 0,02).
Dans la présente demande, si la teneur de l’agent de revêtement est importante, l'épaisseur de la couche de revêtement sera relativement épaisse, et davantage de borures métalliques seront dopés sur la surface du matériau de cathode polycristallin, ce qui entraînera une diminution de l'activité de la surface du matériau de cathode polycristallin. Une trop grande quantité de bore va former un composé Li-B-Me-O (Me est Ni, Co ou Mn) dans le matériau de cathode, et une trop grande quantité de ce composé entraînera une diminution de la capacité et des performances de cycle du matériau de cathode. Si la teneur de l’agent de revêtement est faible, la morphologie du mélange de particules monocristallines primaires et de particules polycristallines secondaires ne peut pas être formée dans le matériau de cathode, ce qui entraîne une faible épaisseur de la couche de revêtement et une faible quantité de dopage, ce qui va affecter les propriétés électrochimiques du matériau de cathode.
De préférence, le procédé d’application en revêtement par pulvérisation à l'étape (1) comprend : (a) mélanger un agent de revêtement et un dispersant pour former une suspension ; (b) pulvériser le matériau de cathode polycristallin avec la suspension formée à l'étape (a).
De préférence, le dispersant est choisi dans le groupe comprenant de l'eau, une solution hydroalcoolique, et une combinaison de celles-ci.
De préférence, la pulvérisation est effectuée à une vitesse de 0,2 à 50 ml/s, telle que 0,5 ml/s, 1 ml/s, 1,5 ml/s, 2 ml/s, 5 ml/s, 10 ml/s, 15 ml/s, 20 ml/s, 25 ml/s, 30 ml/s, 35 ml/s, 40 ml/s, 45 ml/s ou 50 ml/s.
Dans la présente demande, si la vitesse de pulvérisation est basse, elle va prolonger la durée de préparation du matériau de cathode enduit, en entraînant ainsi la perte de ressources, ce qui n'est pas propice au travail de production réel. Si la vitesse de pulvérisation est élevée, il y aura une application en revêtement inégale de l'agent de revêtement, et l'agglomération de l'agent de revêtement va survenir dans le matériau de cathode enduit préparé, ce qui va affecter les performances électrochimiques du matériau de cathode enduit.
Dans un mode de réalisation de la présente demande, l'agent de revêtement de l'étape (a) représente 0,3 % à 10 % de la masse du dispersant.
De préférence, à l'étape (b), le matériau de cathode polycristallin est pulvérisé sous agitation.
De préférence, l'agitation est effectuée à une vitesse linéaire de 1 à 15 m/s, telle que 1 m/s, 3 m/s, 5 m/s, 7 m/s, 9 m/s, 11 m/s, 13 m/s ou 15 m/s.
De préférence, l'agitation est effectuée pendant 0,5 à 5 min, par exemple 1 min, 2 min, 3 min, 4 min ou 5 min.
De préférence, l'agitation est poursuivie pendant 3 à 5 min, par exemple 3 min, 4 min ou 5 min, après la fin de la pulvérisation du matériau de cathode polycristallin.
Le but de la poursuite de l'agitation est de garantir que l'agent de revêtement peut être appliqué en revêtement uniformément sur la surface du matériau de cathode polycristallin.
De préférence, à l'étape (2), la trempe est effectuée à une température de 300 à 700℃, telle que 300°C, 400°C, 500°C, 600°C ou 700°C.
De préférence, à l'étape (2), la trempe est effectuée pendant 3 à 10 heures, comme 3 heures, 5 heures, 7 heures ou 9 heures.
Une température de trempe élevée ou une longue durée de trempe va permettre à la totalité de l'agent de revêtement de pénétrer dans la limite de grain du matériau de cathode polycristallin, en entraînant la disparition de la couche de revêtement sur la surface du matériau de cathode polycristallin, en entraînant une détérioration des performances de cycle du matériau de cathode. Pendant ce temps, une température élevée va avoir également un certain impact sur le matériau de cathode lui-même, en particulier sur les matériaux à forte teneur en nickel. La trempe à haute température va aggraver le mélange de lithium et de nickel, ce qui va entraîner une détérioration de la structure cristalline du matériau de cathode. Une température de trempe basse ou une durée de trempe courte ne peuvent pas mettre pleinement en valeur le rôle de l'agent de revêtement, de sorte que le nombre de particules monocristallines primaires ne peut pas répondre aux exigences, et la densité volumique du matériau est peu augmentée. Pendant ce temps, une température de trempe basse ou une durée de trempe courte va entraîner également une réaction insuffisante entre l'agent de revêtement et le matériau de cathode ou le lithium résiduel, de sorte que la force de liaison entre l'agent de revêtement et le matériau de cathode diminue, et le produit de réaction souhaité est également insuffisant pour être dopé sur la surface du matériau de cathode. Par conséquent, la stabilité du matériau de cathode ne peut pas être améliorée de manière significative.
De préférence, le matériau de cathode enduit est tamisé après l'étape de trempe.
la est une vue de face d’un exemple de réalisation d’une buse de recouvrement de l’outillage d’extrusion conforme à l’invention,
la est une vue de profil de la buse de recouvrement de la ,
la une vue de face d’un autre exemple de réalisation d’une buse de recouvrement de l’outillage d’extrusion conforme à l’invention, et
la est une vue de profil de la buse de recouvrement de la .
Les éléments structurellement et fonctionnellement identiques présents sur plusieurs figures distinctes, sont affectés d’une même référence numérique ou alphanumérique.
La est une vue de profil d’un exemple de réalisation d’un outillage d’extrusion 1 comportant un bloc d’alimentation 2 et un bloc de recouvrement 3 fixé sous ledit bloc d’alimentation 2 par tous moyens, notamment des vis.
L’outillage d’extrusion 1 comporte également un système d’alimentation et de chauffe 4 pour injecter un matériau thermoplastique fondu dans ledit bloc d’alimentation 2. Le système d’alimentation et de chauffe 4 est par exemple vissé sur le bloc d’alimentation 2. Un écrou de blocage 5, monté sur le système d’alimentation et de chauffe 4, permet avantageusement de bloquer l’outillage d’extrusion 1 sur un support.
Le bloc d’alimentation 2 comporte une ouverture supérieure 2a pour y engager un filament de renfort 6. Ce dernier est pourvu d’un gainage en matière thermoplastique lorsqu’il est expulsé du bloc de recouvrement 3 par l’intermédiaire d’une buse de recouvrement 7 vissée dans ledit bloc de recouvrement 3. L’outillage d’extrusion 1 permet donc de délivrer un filament renforcé 8.
La est une vue en coupe de l’outillage d’extrusion 1 et la est un agrandissement partiel A de la .
L’outillage d’extrusion 1 comporte une buse d’engagement et de guidage 9 traversant le bloc d’alimentation 2, le bloc de recouvrement 3 et en partie la buse de recouvrement 7, pour engager et guider la fibre de renfort 6 à travers l’outillage d’extrusion 1. L’ouverture supérieure 2a est donc située au-dessus et en regard de l’orifice d’entrée de la buse d’engagement et de guidage 9. Cette dernière est maintenue et fixée dans le bloc d’alimentation 2 à l’aide d’une rondelle de serrage 9a et des vis 9b.
L’outillage d’extrusion 1 comporte également un canal (10) et un espace de répartition 11 aménagés respectivement dans le bloc d’alimentation 2 et à l’interface du bloc d’alimentation 2 et du bloc de recouvrement 3, ledit espace de répartition 11 s’étendant en périphérie de la buse d’engagement et de guidage 9. Le canal 10, l’espace de répartition 11 et un espace annulaire 12 entourant une partie de la buse d’engagement et de guidage 9, sont en communication fluidique pour acheminer le matériau thermoplastique M1 fondu, sous pression, dans l’espace annulaire 12 localisé autour de ladite buse d’engagement et de guidage 9 sur partie de sa longueur. Le matériau thermoplastique M1 transite donc dans cet espace annulaire 12 ménagé dans le bloc de recouvrement 3.
L’orifice de sortie de la buse d’engagement et de guidage 9 débouche dans un espace de la buse de recouvrement 7, ledit espace s’étendant dans le prolongement de l’espace annulaire 12. Ainsi, lorsque la fibre de renfort 6 débouche de l’orifice de sortie de la buse d’engagement et de guidage 9, elle est enrobée par le matériau thermoplastique M1 fondu et ce dans la buse de recouvrement 7. Cette dernière, délivre alors le filament renforcé 8.
La est une vue de face du filament renforcé 8 obtenu à l’aide de l’outillage d’extrusion 1 et la est une vue selon une coupe A-A longitudinale dudit filament renforcé 8 de la . Le filament renforcé 8 comporte donc une âme constituée par la fibre de renfort 6 et un gainage constitué par le matériau thermoplastique M1.
La est une vue en coupe d’un autre exemple de réalisation et d’une utilisation de l’outillage d’extrusion 1 directement comme tête de dépose du filament renforcé 8. La est un détail agrandi B de la . Dans cet exemple de réalisation, la buse de recouvrement 7 présente un orifice d’extrusion de révolution 7a évasé, du genre pavillon de trompette. Une telle forme facilite grandement le changement de direction de déplacement de l’outillage d’extrusion 1 lors de la dépose du filament renforcé 8 sur un support. La qualité des dépôts est donc améliorée.
La direction de déplacement de l’outillage d’extrusion 1 est par exemple indiquée par la flèche V.
La est une vue en coupe de l’outillage d’extrusion de la dans le cadre d’une autre utilisation et la est un détail agrandi C de la .
Ainsi, lorsque le terminal 2 émet un flux audio lors de la session de conférence, les paquets de données de ce flux audio sont encapsulés selon un protocole internet, sont encodés par un codec, sont éventuellement chiffrés par une clé de chiffrement puis sont envoyés à destination du serveur de session 3 qui les distribue aux terminaux tiers 4 participant à la session de conférence.