Procédé d’hydrophobisation d’un substrat verrier, de préférence d’un vitrage de cockpit d’aéronef, comprenant les étapes successives suivantes : - formation d’une couche primaire, de préférence en silice, sur une des surfaces principales du substrat verrier, - greffage d’une couche de trialcoxy-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane et/ou de trichloro-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane sur la couche primaire. Procédé selon la revendication 1, caractérisé par le fait qu’il comprend en outre, après l’étape de greffage, une étape de lustrage au moyen d’une étoffe imbibée d’un mélange eau/alcool, de préférence eau/isopropanol, contenant de 30 % à 90 % en poids d’eau, de préférence de 50 % à 80 % en poids d’eau. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que le trialcoxy(alkyle en C 3 -C 8 )-silane est un trialcoxy-alkylsilane de formule C n H 2n+1 SiR 3 où n = 3 – 8, de préférence n = 5 – 8, et chaque R représente un groupe alcoxy en C 1-3 , de préférence un groupe méthoxy ou éthoxy. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 ou 2, caractérisé par le fait que le trichloro(alkyle en C 3 -C 8 )-silane est un trichloro-alkylsilane de formule C n H 2n+1 SiR 3 où n = 3 – 8, de préférence n = 5 – 8, et chaque R représente un atome de chlore. Procédé selon la revendication 3 ou 4, caractérisé par le fait que n = 8. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que la couche primaire est en silice et que la formation de la couche primaire en silice se fait par une étape sol-gel dans laquelle un tétrachlorosilane et/ou un tétraalcoxysilane, de préférence du tétraéthoxysilane, est hydrolysé en milieu hydro-alcoolique acide. Procédé selon la revendication 6, caractérisé par le fait que l’étape sol-gel pour la formation de la couche primaire en silice est mise en œuvre avec une solution hydroalcoolique acide contenant de 0,1 % à 1 % en poids de tétrachlorosilane et/ou de tétraalcoxysilane dans un mélange eau/alcool contenant 3 à 50% en masse, de préférence 5 à 15% en masse d’eau dont le pH a préalablement été ajusté à une valeur comprise entre 0 et 3. Procédé selon la revendication 7, caractérisé par le fait que la solution hydro-alcoolique de tétrachlorosilane et/ou tétraalcoxysilane est laissée à température ambiante pendant une durée comprise entre 2 minutes et 2 heures, de préférence entre 3 minutes et 1 heure, en particulier entre 5 et 30 minutes, avant d’être appliquée sur le substrat verrier par immersion, rideau de liquide, pulvérisation ou chiffonnage. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que l’étape de greffage de trialcoxy-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane et/ou de trichloro-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane se fait par une étape sol-gel dans laquelle le trialcoxy-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane et/ou le trichloro-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane est hydrolysé en milieu hydro-alcoolique acide. Procédé selon la revendication 9, caractérisé par le fait que l’étape de greffage de trialcoxy-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane et/ou de trichloro-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane est mise en œuvre avec une solution hydroalcoolique acide contenant de 0,1 % à 4 % en poids, de préférence de 1 à 3,5 % en poids de trialcoxy-( alkyle en C 3 -C 8 )-silane et/ou de trichloro-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane dans un mélange eau/alcool contenant 5 à 70% en masse, de préférence 10 à 50% en masse d’eau. Procédé selon la revendication 10, dans lequel la solution hydro-alcoolique de trialcoxy-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane et/ou de trichloro-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane est laissée à température ambiante pendant une durée d’environ 10 minutes à environ 3 heures, avant d’être appliquée par pulvérisation ou chiffonnage sur le substrat verrier recouvert sur une de ses faces principales de la couche primaire de silice. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que le greffage de trialcoxy-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane et/ou de trichloro-(alkyle en C 3 -C 8 )-silane est mis en œuvre après au moins 2 minutes de séchage de la couche primaire de silice à température ambiante. Substrat verrier hydrophobe obtenu par le procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, comportant un substrat verrier transparent, couvert, sur une de ses faces principales, d’une couche primaire de silice, ladite couche primaire de silice étant greffée de groupes (alkyle en C 3 -C 8 )silyle. Substrat verrier hydrophobe selon la revendication 13, caractérisé par le fait que la couche primaire en silice a une épaisseur comprise entre 5 nm et 250 nm, de préférence entre 10 nm et 100 nm, en particulier entre 15 nm et 75 nm. Substrat verrier hydrophobe selon la revendication 13 ou 14, caractérisé par le fait qu’il s’agit d’un vitrage de cockpit d’aéronef.