INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans le mode de mise en œuvre de la , la fabrication 72 du dispositif 3 comprend une sous-étape de formation 7211 du guide d’onde 31 sur la fenêtre 22. Le guide d’onde 31 est par exemple formé sur un substrat différent et ensuite collé sur la fenêtre 22. Alternativement, les couches composant le guide d’onde 31 peuvent être déposées les unes après les autres à partir de la fenêtre 22. Par exemple, la formation 7211 du guide d’onde 31 peut comprendre dans un premier temps une étape de collage moléculaire d’une première couche semiconductrice, par exemple en InP, sur la face supérieure 2a du substrat 2, par exemple en Si. Un empilement de sous-couches semiconductrices peut ensuite être formé sur ladite première couche semiconductrice en InP pour permettre de former la région active 310. Une deuxième couche semiconductrice, par exemple en InP, est formé sur l’empilement de sous-couches semiconductrices. Enfin, une gravure des première et deuxième couches semiconductrices en InP et de l’empilement de sous-couches semiconductrices permet de former le guide d’onde 31.
Dans ce mode de mise en œuvre, la fabrication 72 comprend également une étape de formation 7212 du réseau de diffraction 32 sur le guide d’onde 31. Le réseau de diffraction 32 peut être formé 7212 sur le guide d’onde 31 lorsque celui-ci est formé sur un substrat différent que le substrat 2. Ainsi, l’ensemble formant le dispositif 3 est découpé et déposé (et collé) sur la fenêtre 22. De manière alternative, lorsque les couches composant le guide d’onde 31 sont déposés sur la fenêtre 22, le réseau 32 peut être formé par le dépôt d’une couche métallique sur la deuxième couches semiconductrice en InP. Une première gravure de la couche métallique permet de former le réseau de diffraction 32. Une seconde gravure, plus profonde, permet de délimiter le pourtour du réseau de diffraction 32 et du guide d’onde 31, formant ainsi le dispositif 3.
Dans le mode de mise en œuvre de la , la fabrication 72 du dispositif 3 comprend d’abord une étape de formation 7221 du réseau de diffraction 32. Le réseau de diffraction 32 est par exemple formé sur un substrat différent puis reporté sur la fenêtre 22. De manière avantageuse, le réseau de diffraction 32 est réalisé directement sur la fenêtre 22. Par exemple, une couche métallique est déposée sur la fenêtre 22 et gravée de manière à former le réseau 32. De manière alternative, un réseau de tranchées parallèles peut être gravé dans la fenêtre 22 et rempli d’un matériau métallique ou semiconducteur (mais, dans ce dernier cas, différent du matériau semiconducteur de la fenêtre 22).
Dans ce mode de mise en œuvre, la fabrication 72 du dispositif 3 comprend ensuite la formation 7222 du guide d’onde 31 sur le réseau de diffraction 32. Le guide d’onde 31 est par exemple formé sur un substrat différent puis reporté sur la fenêtre 22 et le réseau 32. Alternativement, les couches composant le guide d’onde 31 peuvent être déposée directement sur le réseau 32. Par exemple, la formation 7222 du guide d’onde 31 comprend une étape de collage moléculaire d’une première couche semiconductrice, par exemple en InP, sur la face supérieure 2a du substrat 2 et donc sur le réseau de diffraction 32. Ensuite, un empilement de sous-couches semiconductrices est formé sur ladite première couche semiconductrice en InP pour permettre de former la région active 310. Une deuxième couche semiconductrice, par exemple en InP, est formé sur l’empilement de sous-couches semiconductrices. Enfin, une gravure des première et deuxième couches semiconductrices en InP et de l’empilement de sous-couches semiconductrices permet de délimiter le guide d’onde 31, à l’aplomb du réseau 32.
Lorsque les modes de mise en œuvre des et prévoit le report du guide d’onde 3 sur la fenêtre 22 ou sur le réseau 32, le guide d’onde 3 peut être collé. Soit par collage moléculaire, soit au moyen d’une colle polymérisable. Dans ce dernier cas, une portion de colle est déposée sur la fenêtre 22 (ou le réseau de diffraction 32) et le dispositif 3 est ensuite déposé et pressé contre cette portion de colle.
Procédé de contrôle de l’adhésion entre des couches d’un panneau de construction et dispositif correspondant La présente invention se rapporte au domaine de l’industrie du bâtiment et notamment à la fabrication de panneaux de construction à base de plâtre ou d’un autre matériau tel que du ciment. L’invention concerne plus précisément :
- un procédé de contrôle d’une liaison entre une couche d’un matériau tel que du plâtre et des couches externes de matériau qui prennent cette couche de matériau en tenaille, ces différentes couches constituant un tel panneau de construction,
- un dispositif de contrôle associé et
- un procédé de fabrication de tels panneaux.
Les panneaux de construction à base de plâtre notamment sont fabriqués sur une ligne de fabrication, par étalage, sur une couche externe de papier ou de matériau à base de fibres de verre, d’une couche interne de plâtre mélangé à de l’eau, cette couche interne étant ensuite recouverte d’une autre couche externe de papier ou de matériau à base de fibres de verre. Ces couches interne et externes sont ensuite séchées et découpées en panneaux de construction. L’adhésion entre les couches externes et la couche interne se fait par enchevêtrement de cristaux de plâtre autour des fibres de papier ou de verre des couches externes, cet enchevêtrement étant favorisé par l’hydratation des matériaux qui permet la formation des cristaux et des pores entre ces cristaux. Une mauvaise adhésion entre ces couches entraîne un décollement des couches externes, préjudiciable notamment pour le séchage des panneaux ou pour leur emballage.
Actuellement, afin de vérifier la qualité de la liaison entre la couche interne de plâtre et les couches externes de papier d’un panneau de construction, un opérateur effectue des croix sur la surface du panneau qu’il prélève sur la ligne de fabrication, et tente de décoller le papier sur cette surface, ou essaie de décoller le papier directement depuis le bord du panneau. Si l’opérateur arrive à décoller entièrement le papier, sans laisser de sous-épaisseur de papier collée au plâtre, c’est que la liaison entre la couche interne de plâtre et les couches de papier du panneau de construction n’est pas satisfaisante. Dans le cas contraire la qualité de cette liaison est jugée satisfaisante. Ces vérifications manuelles sont donc consommatrices de ressources en temps, et ne sont pas répétables à l’identique, la force et la vitesse de décollement dépendant notamment de l’opérateur.
- de découpage du flux de couches de matériaux superposées et liées entre elles de sorte à former des panneaux de construction,
le procédé de fabrication étant caractérisé en ce qu’il met en œuvre le procédé de contrôle selon l’invention.
Dans un mode de réalisation de l’invention, lesdites couches de matériaux superposées sont des couches de plâtre et de papier.
L’étape de formation d’une liaison commence dès l’étape de superposition, puisque le plâtre mélangé à l’eau et déposé sur une couche de papier peut commencer à se lier avec le papier. Cette étape de formation, qui utilise l’hydratation des matériaux, peut comprendre l’ajout d’un additif, lors d’une étape de mélange préalable du plâtre et de l’eau. L’étape de découpage a lieu éventuellement pendant cette étape de formation de liaison.
Préférentiellement, l’étape de formation d’une liaison est suivie d’une étape de séchage des couches de matériaux, et l’étape de détection a lieu entre l’étape de découpage et l’étape de séchage. Ainsi un panneau défaillant peut être détecté avant de passer à l’étape de séchage.
Selon une caractéristique avantageuse du procédé de fabrication de panneaux de construction selon l’invention, l’étape de détection est suivie d’une étape d’éjection du panneau de construction de la ligne de fabrication lorsqu‘au moins une valeur représentative d’un niveau de décollement fournie par la sous-étape d’analyse est supérieure à un seuil haut. Ce seuil haut correspond par exemple à une dimension d’une bouche d’entrée d’un séchoir utilisé lors de l’étape de séchage. Ainsi lorsque le décollement est trop important, le panneau de construction n’est pas envoyé directement dans un séchoir, qu’il risque de bloquer.
Selon une autre caractéristique avantageuse du procédé de fabrication de panneaux de construction selon l’invention, l’étape de détection est suivie d’une étape d’ajustement d’au moins un paramètre de la ligne de fabrication en fonction d‘au moins une valeur représentative d’un niveau de décollement fournie par la sous-étape d’analyse, ou en fonction de la conclusion de la sous-étape de diagnostic. Ce paramètre est par exemple, lorsque les couches de matériaux comprennent une couche de plâtre et des couches de papier, une quantité d’eau utilisée par quantité de plâtre sec, lors d’une étape de mélange de ces quantités pour former la couche de plâtre, préalablement à l’étape de superposition des couches de matériaux. Ce ratio eau/plâtre sec est ajusté de manière à favoriser la formation de la liaison entre la couche de plâtre et les couches de papier. Lorsque le diagnostic correspond à une absence de défaut de liaison, cette quantité d’eau utilisée par quantité de plâtre sec est par exemple réduite lors de cette étape d’ajustement. La quantité d’eau par quantité de plâtre sec ajustée ici concerne toute la couche de plâtre ou seulement une ou plusieurs sous-couches d’interface de cette couche de plâtre, à l’interface entre la couche de plâtre et une ou plusieurs couches de matériaux externes à cette couche de plâtre. Dans ce cas l’étape de mélange peut comprendre différents mélanges, par exemple un mélange initial d’eau, de plâtre mouillé et d’autre composés éventuels, destiné à former une couche interne principale de plâtre, ce mélange initial étant ensuite modifié pour réaliser les sous-couches d’interface. Le terme « mélange » est ici utilisé au sens large et peut être compris comme une « préparation d’une mixture ».
Selon une caractéristique avantageuse du procédé de fabrication de panneaux de construction selon l’invention, lesdites couches de matériaux superposées comportent une couche de plâtre, et le procédé de fabrication comporte plusieurs étapes de détection en un point de la ligne de fabrication sur différents panneaux de construction arrivant successivement à ce point, et une sous-étape d’analyse fournissant une valeur représentative d’un niveau de décollement nul pour chaque interface entre deux des couches de matériaux superposées est suivie d’une étape d’ajustement consistant à diminuer une quantité d’eau utilisée par quantité de plâtre sec pour former, préalablement à l’étape de superposition des couches de matériaux, une mixture destinée à former la couche de plâtre ou une sous-couche d’interface de la couche de plâtre avec une autre des couches de matériaux superposées, ladite étape d’ajustement se répétant après chaque sous-étape d’analyse suivante jusqu’à ce qu’une sous-étape d’analyse ultérieure fournisse une valeur représentative d’un niveau de décollement non nul mais inférieur au seuil de décollement prédéterminé. Cette diminution d’eau affecte donc toute la couche de plâtre ou seulement une ou plusieurs sous-couches d’interface de cette couche de plâtre, à l’interface entre la couche de plâtre et une ou plusieurs couches de matériaux externes à cette couche de plâtre.
Dans un mode de réalisation de l’invention, lesdites couches de matériaux superposées comportent une couche de plâtre, et ledit au moins un paramètre est choisi dans une liste comportant :
- un ratio entre d’une part une quantité d’accélérateur d’une réaction chimique entre de l’eau et le plâtre de la couche de plâtre, et d’autre part une quantité de retardateur d’une réaction chimique entre de l’eau et le plâtre de la couche de plâtre, les quantités d’accélérateur et de retardateur étant injectées dans une mixture destinée à former la couche de plâtre lors d’une étape de mélange préalable à l’étape de superposition,
- une quantité d’agent moussant injecté dans la mixture, - une quantité de fluidifiant injecté dans la mixture,
- une quantité d’eau utilisée par quantité de plâtre sec pour former la mixture,
- une densité cible de la couche de plâtre du panneau de construction, et
- un poids cible du panneau de construction.
Plusieurs paramètres peuvent être ajustés en même temps lors de cette étape d’ajustement. La liste ci-dessus est bien entendu non limitative. La densité cible est ajustée par exemple en modifiant la quantité d’agent moussant injecté lors de l’étape de mélange, ou la quantité d’eau utilisée par quantité de plâtre sec lors de l’étape de mélange, qui affecte toute la couche de plâtre ou seulement une ou plusieurs sous-couches d’interface de cette couche de plâtre, à l’interface entre la couche de plâtre et une ou plusieurs couches de matériaux externes à cette couche de plâtre.
Par exemple, lesdites couches de matériaux superposées comportent au moins une couche de plâtre et une couche superposée à la couche de plâtre, la couche de plâtre comportant une sous-couche d’interface avec la couche superposée à la couche de plâtre, et ledit au moins un paramètre est choisi dans une liste comportant : - un ratio entre d’une part une quantité d’accélérateur d’une réaction chimique entre de l’eau et le plâtre de la sous-couche d’interface, et d’autre part une quantité de retardateur d’une réaction chimique entre de l’eau et le plâtre de la sous-couche d’interface, les quantités d’accélérateur et de retardateur étant injectées dans une mixture destinée à former la sous-couche d’interface préalablement à l’étape de superposition, - une quantité d’agent moussant injecté dans la mixture , - une quantité d’eau utilisée par quantité de plâtre sec pour former la mixture, - une densité cible de la sous-couche d’interface du panneau de construction, et - un poids cible de la sous-couche d’interface.
Elle est en outre très intéressante, en ce qu’elle conduit non pas vraiment à opérer une séparation entre deux types de sucres, mais à obtenir un type de sucre très pur, et à convertir l’autre sucre (sucre C6) en un produit valorisable comme de l’éthanol. Avec l’association des sucres C5 et de l’éthanol issu de la conversion des sucres C6 obtenue avec le procédé selon l’invention, plusieurs possibilités s’offrent, notamment selon les voies de valorisation envisagées et la proportion entre les deux types de sucres dans le jus sucré initial. Ainsi, on peut ensuite séparer les sucres C5 de l’éthanol, et obtenir d’une part des sucres C5 très purs et d’autre part de l’éthanol, valorisables séparément. On peut aussi les garder ensemble pour une valorisation commune. On peut encore regarder une faible teneur en éthanol avec les sucres C5, pour bénéficier de l’effet conservateur de l’alcool sur les sucres ….
Dispositif pour le traitement de surface électrochimique d’une surface intérieure d’un élément tubulaire en matériau électroconducteur, notamment d’un tube d’arme, et système comprenant un tel dispositif Le domaine technique de l’invention est celui du traitement de surface électrochimique.
La présente invention concerne un dispositif et un système pour le traitement de surface électrochimique d’une surface intérieure d’un élément tubulaire en matériau électroconducteur, notamment d’un tube d’arme. Il convient de souligner que la présente invention peut être appliquée pour le traitement de surface de toute pièce mécanique tubulaire en matériau électroconducteur. Le ou les traitements de surface électrochimiques mis en œuvre par la présente invention peuvent être un revêtement métallique par voie électrolytique, notamment un dépôt de chrome (chromage) ou de nickel (nickelage) électrolytique, ou encore un polissage électrolytique (électropolissage), mais sans s’y limiter.
Dans le domaine de l’armement, qui est l’une des applications de la présente invention, il est connu de revêtir la paroi intérieure d’un tube d’arme d’une fine couche de chrome afin d’améliorer la résistance du tube d’arme à l’usure et au frottement lors du passage des projectiles et, par conséquent, d’augmenter le nombre de projectiles que le tube d’arme peut tirer pendant sa durée de vie. En effet, le chrome a une dureté importante et une faible interaction chimique avec les autres métaux, ces deux propriétés conjuguées limitant considérablement l’usure des pièces. Le chromage a également l’avantage d’ajouter un revêtement résistant à la corrosion au tube d’arme, ce qui augmente la durée de vie du tube d’arme, notamment dans les environnements humides.
Cette couche de chrome est généralement appliquée par voie électrolytique. A cet effet, une anode est introduite coaxialement dans le tube d’arme et sur toute la longueur du tube d’arme. Un électrolyte approprié, tel qu’un bain d’acide chromique, est ensuite amené à circuler dans un sens dans le tube d’arme, entre l’anode et la paroi intérieure du tube d’arme, tandis qu’une tension est appliquée à l’anode et au tube d’arme. Le courant électrique circulant de l’anode au tube d’arme via l’électrolyte entraîne le dépôt d’une fine couche de chrome sur la surface intérieure du tube d’arme.
Le brevet GB712314, publié le 21/07/1954, divulgue un tel procédé de chromage de la surface intérieure d’un tube d’arme par voie électrolytique, ainsi qu’un appareil pour la mise en œuvre de ce procédé. Afin d’obtenir un dépôt régulier, le tube d’arme est positionné verticalement et est amené à tourner autour de son axe longitudinal.
Cette solution est adaptée pour des tubes d’armes légères ou de moyens calibres. Cependant, en raison du positionnement vertical du tube d’arme, cette solution présente des inconvénients dans son application à des tubes d’armes de gros calibres de plusieurs mètres de long puisqu’elle impose de disposer d’une hauteur très importante et de moyens de manutention adaptés.
La présente invention vise ainsi à proposer une solution permettant le traitement de surface électrochimique, notamment le chromage électrolytique, de la surface intérieure d’un élément tubulaire en matériau électroconducteur, notamment d’un tube d’arme de gros calibre, dans un espace ayant un volume en hauteur réduit, tout en assurant une répartition d’un dépôt métallique la plus constante possible en épaisseur dans le cas d’un revêtement métallique.
La solution selon la présente invention repose sur l’utilisation d’un dispositif permettant d’orienter l’élément tubulaire dans une orientation non verticale, comme par exemple à l’horizontale, et comprenant en outre à la fois des moyens permettant la mise en traction de l’anode et des moyens d’entraînement en rotation de l’élément tubulaire autour de son axe longitudinal. Les moyens de mise en traction de l’anode permettent de conférer à l’anode la plus grande rectitude possible et de la maintenir strictement coaxiale à l’élément tubulaire afin qu’elle demeure équidistante de la paroi intérieure de l’élément tubulaire, en évitant ainsi son fléchissement. Les moyens d’entraînement en rotation axiale de l’élément tubulaire permettent d’éviter que des gaz issus notamment de l’électrolyse s’accumulent en un point donné de l’élément tubulaire, point qui recevrait alors un moindre dépôt de métal dans le cas d’un revêtement métallique. Conjointement, les moyens de mise en traction de l’anode et les moyens d’entraînement en rotation axiale de l’élément tubulaire permettent d’éviter que ne se produise un phénomène de rétrécissement du diamètre intérieur de l’élément tubulaire, de type « effet sablier », dans lequel le dépôt métallique présente un profil comparable à celui d’un sablier.
La solution selon la présente invention repose également sur l’utilisation d’un système comprenant un tel dispositif et comprenant en outre des moyens de mise en circulation alternée aptes à faire circuler une solution de traitement à travers l’élément tubulaire dans les deux sens, de manière alternée. Dans le cas d’un revêtement métallique, les moyens de mise en circulation alternée permettent d’obtenir au final un revêtement métallique qui s’est déposé avec une même vitesse de dépôt de métal sur toute la longueur de l’élément tubulaire, même à ses deux extrémités, et ainsi d’éviter que le dépôt ne se fasse plus rapidement à une extrémité qu’à une autre, ce qui conduirait à donner à la surface intérieure de l’élément tubulaire une forme de tromblon.
La présente invention a donc pour objet un dispositif pour le traitement de surface électrochimique d’une surface intérieure d’un élément tubulaire longitudinal en matériau électroconducteur, notamment pour le revêtement métallique par voie électrolytique d’une paroi intérieure d’un tube d’arme, l’élément tubulaire ayant un axe longitudinal et étant ouvert à des première et seconde extrémités, lequel dispositif comprend : - un ensemble châssis configuré pour supporter un tel élément tubulaire de façon à autoriser l’élément tubulaire à tourner autour de son axe longitudinal ; - au moins une cathode destinée à être reliée au pôle négatif d’une source de courant et configurée pour être reliée électriquement à l’élément tubulaire ; - une anode longitudinale destinée à être reliée au pôle positif de la source de courant et configurée pour être placée à l’intérieur de l’élément tubulaire, coaxialement à l’axe longitudinal et au moins sur toute la longueur de l’élément tubulaire ; - des moyens formant interface étanche configurés pour coopérer de manière amovible avec l’élément tubulaire au niveau des première et seconde extrémités de l’élément tubulaire et pour assurer l’étanchéité desdites première et seconde extrémités, et pour coopérer avec l’anode afin d’assurer son centrage par rapport à l’élément tubulaire, les moyens formant interface étanche comprenant au moins un premier orifice d’entrée/sortie apte à communiquer avec la première extrémité ouverte de l’élément tubulaire et au moins un second orifice d’entrée/sortie apte à communiquer avec la seconde extrémité ouverte de l’élément tubulaire, de telle sorte qu’en utilisation, un passage longitudinal étanche est formé entre l’anode et la surface intérieure de l’élément tubulaire de la première à la seconde extrémité de l’élément tubulaire, les orifices d’entrée/sortie étant destinés à être reliés à une source de liquide de traitement ; et - des moyens d’entraînement en rotation de l’élément tubulaire autour de son axe longitudinal, caractérisé par le fait que l’ensemble châssis est apte à supporter l’élément tubulaire dans une orientation non verticale de ce dernier et que le dispositif comprend en outre des moyens de mise en traction de l’anode configurés pour, lorsque l’anode est montée à l’intérieur de l’élément tubulaire, agir sur au moins l’une des deux extrémités de l’anode afin d’empêcher un fléchissement de l’anode.
Grâce à la présence à la fois de moyens de mise en traction de l’anode et de moyens d’entraînement en rotation axiale de l’élément tubulaire, on s’aperçoit que l’apparition d’un effet « sablier » peut être évitée lors d’une opération de dépôt métallique mettant en œuvre le dispositif selon l’invention. De plus, il s’avère que la présence de moyens de mise en traction de l’anode permet, en utilisation, d’obtenir un traitement de surface satisfaisant même en positionnant l’élément tubulaire à l’horizontale sur l’ensemble châssis, même dans le cas d’un élément tubulaire de grande longueur. Il est alors possible d’utiliser le dispositif selon l’invention dans un atelier disposant de volumes en hauteur réduits.
Le dispositif selon l’invention peut être un dispositif de chromage, la source de liquide de traitement étant alors un bain de chromage, notamment un bain d’acide chromique.
De préférence, l’anode comprend une tige cylindrique formée d’une seule pièce en métal conducteur, notamment en cuivre, et à chaque extrémité, un fourreau en plomb brasé à la tige. Un tel fourreau en plomb permet d’améliorer la résistance à la corrosion de l’anode et de lui permettre d’avoir une tenue mécanique suffisante dans le temps.
De préférence, les moyens d’entraînement en rotation comportent des moyens de commande du sens et/ou de la vitesse de rotation.