INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon une autre caractéristique conforme à la divulgation, on réalise de préférence une passe d’usinage après le dépôt de la couche de réparation pour éliminer les surépaisseurs.
Dans l’exemple illustré sur la , l’obturateur 50 est situé dans la portion cylindrique 3 du corps 2. Selon un mode de réalisation possible, un logement 5 est ménagé dans ladite portion cylindrique 3 pour recevoir l’obturateur 50. Le logement 5 est monté avec étanchéité à l’intérieur de la portion cylindrique 3 et s’étend sur sensiblement toute la hauteur de la portion cylindrique 3.
Le logement 5 possède la forme d’une cloche convergeant vers le haut. Il présente une ouverture inférieure 6 située au voisinage de la lumière 24 ménagée dans le deuxième conduit 20 et, à sa partie supérieure, une collerette intérieure 7 définissant une ouverture centrale sensiblement ronde et d’axe vertical qui forme l’orifice 4 de prise d’air. Ainsi, l’orifice 4 de prise d’air est ménagé dans une paroi sensiblement horizontale.
Le fonctionnement du système d’amenée d’eau 1 est le suivant.
Lorsque le réservoir 101 est rempli, le flotteur 37 est en position haute et le système d’amenée d’eau 1 est alors dans un état inactif où le clapet 32 est en position fermée et l’obturateur 50 en position basse (figures 1 à 3).
En partant de cet état inactif du système 1, lorsque le niveau d’eau dans le réservoir 101 baisse, typiquement après que le système de chasse d’eau a été actionné, le flotteur 37 descend, entraînant le pivotement du levier 35 et l’ouverture du clapet 32. L’eau provenant du réseau d’alimentation peut alors s’écouler dans le deuxième conduit 20. Cet écoulement en soi ne permettrait pas à l’obturateur 50 d’être déplacé vers sa position haute, puisque l’obturateur 50 est trop dense pour pouvoir flotter. En revanche, l’écoulement d’eau dans le dispositif de modification de l’écoulement 40 crée une contre-pression. Cette augmentation de pression en aval du dispositif de modification de l’écoulement 40 exerce sur l’obturateur 50 une force suffisante pour occasionner son déplacement jusqu’à sa position haute (figures 4 et 5).
Puisque la montée de l’obturateur 50 n’intervient pas immédiatement, par le phénomène de flottaison, mais intervient avec un décalage le temps que se crée la contre-pression, l’air présent dans le corps 2, et en particulier dans le logement 5, peut s’évacuer par l’orifice de prise d’air 4 qui n’est pas immédiatement obturé.
La forme convergente du logement 5 permet de guider le déplacement de l’obturateur 50. Ceci permet d’éviter des coincements de l’obturateur 50, notamment lorsque celui-ci n’est pas parfaitement aligné verticalement avec l’orifice de prise d’air 4, comme on le voit par exemple sur la . La forme convergente du logement 5 permet également de canaliser l’air vers l’orifice de prise d’air 4.
Afin d’augmenter encore le temps nécessaire à l’obturation de l’orifice de prise d’air 4, pour permettre l’évacuation de davantage d’air, on peut prévoir que la distance d à parcourir par l’obturateur 50 entre la position basse et la position haute soit relativement importante. Ainsi, cette distance d peut être supérieure à la moitié de la hauteur h de l’obturateur 50 (c'est-à-dire au diamètre de l’obturateur lorsque celui-ci est une bille), et de préférence supérieure à cette hauteur h. A titre exemple, la distance d peut être de l’ordre de 1,25 x h. Selon un mode de réalisation, à titre d’exemple, la distance d peut être comprise entre 10 et 15 mm.
Dans la mesure où l’orifice de prise d’air 4 n’est pas obturé immédiatement lorsque l’eau commence à s’écouler dans le deuxième conduit 20, des gouttelettes sont susceptibles de passer par cet orifice, ce qui n’est pas souhaitable. Pour limiter les éclaboussures, on peut prévoir un capuchon 52 qui est monté sur le corps 2 au-dessus de l’orifice de prise d’air 4. Le capuchon 52 peut comporter une jupe 53 qui est par exemple vissée ou clipée sur la portion cylindrique 3 du corps 2, une paroi transversale 54, et un canal 55 qui est situé au-dessus de la paroi transversale 54 et qui s’étend par exemple sensiblement parallèlement à cette dernière. Le canal 55 possède un trou situé en regard de l’orifice de prise d’air 4 et débouche à l’extérieur du corps 2, via un trou 56. Ainsi, des gouttes projetées depuis l’intérieur du corps via l’orifice de prise d’air 4 peuvent entrer dans le canal 55, en étant projetées contre sa paroi supérieure, puis retomber toujours dans le canal 55 où elles sont guidées jusqu’au trou 56, pour finalement retomber dans le réservoir 101 dans lequel est monté le système d’amenée d’eau 1.
Bien entendu, l’air peut également entrer via le canal 55 jusqu’à l’orifice de prise d’air 4.
En outre, un déflecteur 60 (voir figures 4 et 5) peut être monté au-dessus du capuchon 52, afin que les éclaboussures soient le moins visible et le moins sonore que possible.
Un tel système d’amenée d’eau 1 est destiné à faire partie de toilettes 100 comprenant en outre un réservoir de chasse d’eau 101 et une cuvette 102. Ledit système 1 est généralement logé dans le réservoir 101. Le système d’amenée d’eau 1 peut être utilisé de différentes façons comme on le verra ci-après.
On se réfère aux figures 6 à 8 qui illustrent un premier mode de réalisation.
Dans ce cas, le dispositif de modification de l’écoulement 40 comprend un embout 41 qui est fixé à l’extrémité aval 26 du deuxième conduit 20. Plus spécifiquement, l’extrémité aval 26 du deuxième conduit 20 peut être située à proximité de la paroi de fond 103 du réservoir 101, comme illustré schématiquement sur la , et l’embout 41 peut être fixé à l’extrémité aval 26 du deuxième conduit 20 via un conduit intermédiaire 15. Le conduit intermédiaire 15 peut présenter une forme coudée permettant de faire passer l’écoulement d’eau d’une direction sensiblement verticale descendante à une direction sensiblement verticale ascendante. Ainsi, l’embout 41 est traversé par un flux d’eau ascendant. L’entrée 16 du conduit intermédiaire 15, fixée directement à l’extrémité aval 26 du deuxième conduit 20, et la sortie 17 du conduit intermédiaire 15 peuvent être situées sensiblement à la même hauteur.
L’embout 41 possède une section convergente. Il peut comporter une section amont sensiblement cylindrique prolongée par une section aval sensiblement tronconique.
En outre, un tube d’éjection 42 vertical ascendant est monté sur l’embout 41. A cet effet, l’embout 41 peut comporter une collerette 43 à son extrémité aval sur laquelle l’extrémité amont du tube d’éjection 42 vient se fixer, en regard de l’embout 41. La collerette 43 est pourvue d’au moins un orifice 44 et, de préférence, d’ailettes 45 de renfort. De plus, un tube de déversement 46 est monté à l’extrémité aval du tube d’éjection 42.
Avantageusement, l’inoculant est un ferroalliage à base de silicium et comprend du calcium et les éléments d’au moins l’un des deux groupes consistant d’une part en Zr, Mn et Ba et d’autre part en Ce et Bi, dans les plages de teneurs mentionnées ci-dessus.
Des exemples de composition des inoculants sont indiqués dans le tableau 3 suivant (% en poids, le reste étant du fer) :
Si Ca Al Zr Mn Ba Ce Bi 68 - 70 1.2 - 2.1 0.5 - 1 - - - - - 62 - 69 0,6 - 1,9 0,55 - 1,3 2,8 - 4,5 2,5 - 3,5 3,0 - 5,0 - - 70 - 76 0,75 - 1,25 0,75 - 1,25 - - - 1,5 - 2 0,8 - 1,3
En utilisant l’agent d’inoculation du tableau 3 ci-dessus, la fonte à graphite lamellaire obtenue contient des éléments résiduels qui comprennent du Calcium (Ca) et de l’Aluminium (Al). Les éléments résiduels peuvent également comprendre un ou plusieurs des éléments pris dans la liste consistant en : Zirconium (Zr), Manganèse (Mn) et Baryum (Ba). Les éléments résiduels peuvent également comprendre un ou plusieurs des éléments pris dans la liste consistant en au moins une terre rare, notamment le cérium (Ce) et le Bismuth (Bi).
La fonte à graphite lamellaire ainsi obtenue a une résistance à la traction Rm supérieure à 200 MPa, de préférence une résistance à la traction Rm supérieure à 340 MPa et notamment supérieure à 380 MPa.
La fonte à graphite lamellaire ainsi obtenue a une résistance à l’écrasement Re supérieure à 350 MPa, de préférence supérieure à 490 MPa et notamment supérieure à 520 MPa.
En outre, la fonte à graphite lamellaire de l’objet tubulaire selon l’invention a une dureté Brinell HB inférieure ou égale à 260HB, et notamment inférieure ou égale à 230 HB.
La fonte à graphite lamellaire a avantageusement une résistance aux chocs suivant la norme NF A 48-730 comprise entre 1,30 m inclus et 2,00 m inclus. Bien que cette norme NF A 48-730 ne soit généralement plus appliquée, elle permet de définir la résistance aux chocs d’un objet en fonte lamellaire.
En se référant à nouveau à la , l’élément de tuyauterie 15 ou le corps de base 16 a un diamètre extérieur DE et une épaisseur de paroi e . L’élément de tuyauterie 15 ou le corps de base 16 a également un diamètre nominal DN . Le diamètre nominal DN est par exemple inférieur ou égal à 400 mm ou inférieur ou égal à 300. Le diamètre nominal DN est supérieur ou égal à 100mm.
Les objets ou tuyaux fabriqués par les installations 2 ou procédés selon l’invention comprennent une épaisseur de paroi e spécifique en fonction du diamètre extérieur DE . C es objets ou tuyaux peuvent avoir une masse relative MRL par tronçon cylindrique d’un mètre (1000mm) de long qui est fonction du diamètre extérieur DE et de l’épaisseur de paroi e . La relation entre le diamètre extérieur DE et l’épaisseur de paroi e est indiquée dans le tableau 4 suivant. Les masses relatives MRL ont été calculées en considérant que la masse volumique des objets tubulaires selon l’invention est de 7,15 kg/dm 3 . A titre indicatif le diamètre nominal associé est également indiqué.
Diamètre Nominal (mm) Diamètre extérieur (mm) Tolérance (mm) du diamètre extérieur Epaisseur de paroi maximum (mm ) Epaisseur de paroi minimum (mm) MRL minimale (kg/m) MRL maximale (kg/m) 100 110 +2,0/-1,0 3,0 2,0 4,825 7,210 125 135 +2,0/-2,0 3,5 2,5 7,441 10,338 150 160 +2,0/-2,0 3,5 2,5 8,845 12,304 200 210 +2,5/-2,5 4,0 3,0 13,949 18,509 250 274 +2,5/-2,5 4,5 3,5 21,266 27,241 300 326 +2,5/-2,5 5,0 4,0 28,932 36,052
Les épaisseurs de paroi pour chaque diamètre extérieur sont généralement situées à chaque fois entre l’épaisseur de paroi minimum indiquée incluse et l’épaisseur maximum indiquée incluse. De même, les valeurs limites entre lesquelles se situent les masses MRL des tronçons cylindriques linéaires sont à chaque fois incluses pour chacun des diamètres extérieurs du tableau 4.
On comprend que pour un tuyau à bout à emboitement, les valeurs de l’épaisseur de paroi et/ou de masse relative par rapport à la longueur MRL sont considérées exclusivement sur la partie courante strictement cylindrique et donc hors bout à emboitement.
Pour un tuyau comprenant deux bouts unis, les valeurs ci-dessus peuvent être considérées exclusivement sur la partie courante, donc hors extrémités pourvues d’un chanfrein. Pour un raccord tubulaire, les valeurs ci-dessus peuvent être considérées exclusivement sur la partie courante, hors extrémités du raccord.
La partie courante est donc la partie d’un objet tubulaire hors bout à emboitement. La partie courante peut donc être la partie à forme de cylindre creux.
Les épaisseurs de paroi peuvent également être situées à chaque fois entre l’épaisseur de paroi minimum indiquée incluse et l’épaisseur de paroi maximum indiquée exclue.
L'installation 2 comprend une poche d’alimentation 4, un dispositif verseur 6, un canal de coulée 8, un dispositif d’inoculation 9, un moule rotatif 10, un dispositif de refroidissement 12 et un dispositif 14 d'extraction.
L'installation 2 sert à fabriquer par centrifugation des éléments de tuyauterie 15, tels que des tuyaux. L’élément de tuyauterie 15 forme un objet tubulaire ou un corps de base 16 en fonte à graphite lamellaire.
La poche d’alimentation 4 est un creuset en matière réfractaire contenant du métal liquide, tel que de la fonte.
Le dispositif verseur 6, également appelé "basket", a un volume correspondant à la quantité de métal liquide nécessaire pour fabriquer un ou plusieurs corps de base 16. Le dispositif verseur 6 peut être incliné dans une position de versement du métal liquide dans le canal de coulée 8.
Le canal de coulée 8 conduit le métal liquide du dispositif verseur 6 jusqu’au moule 10. Il comprend une entrée 20 située à proximité du dispositif verseur 6 et une sortie 22 s'étendant dans le moule 10. Le canal de coulée 8 est incliné par rapport à l'horizontale de telle sorte que la sortie 22 soit située plus bas que l'entrée 20, permettant ainsi à la fonte liquide de s'écouler par gravité.
Le moule rotatif 10, également appelé "coquille", a une forme à symétrie de révolution, dans l’exemple présent généralement cylindrique, d'axe X-X, incliné par rapport à l'horizontale de telle sorte qu'il soit parallèle au canal de coulée 8. Dans ce qui suit les expressions "axialement" et "radialement" seront utilisées en référence à cet axe X-X. Le moule 10 a une surface intérieure 24 de forme qui est la surface négative du corps de base 16, ainsi qu'une surface extérieure cylindrique 26. La surface intérieure 24 est pourvue d’une rugosité contrôlée appelée "peening", permettant d’entraîner le métal liquide en rotation lors de sa coulée dans le moule 10.
Le moule 10 comprend une extrémité bout uni 28, tournée vers l'entrée 20, et une extrémité bout à emboîtement 30, qui est tournée à l'opposé de l'entrée 20 et qui est munie d’un noyau (non représenté). L’extrémité bout uni 28 forme le bout uni du corps de base 16, tandis que l’extrémité bout à emboîtement 30 forme le bout à emboîtement du corps de base 16.
Le moule 10 peut être entraîné en rotation autour de l'axe X-X. Par ailleurs, le moule 10 peut être entraîné en translation le long de l'axe X-X entre une position de début de coulée, dans laquelle la sortie 22 est en face de l'extrémité bout à emboîtement 30, et une position de fin de coulée, dans laquelle la sortie 22 est en face de l'extrémité bout uni 28.
Le dispositif de refroidissement 12 comprend un moyen d'arrosage qui est adapté pour projeter du liquide de refroidissement, par exemple de l'eau, sur la surface extérieure 26 du moule 10. En variante non représentée, le dispositif de refroidissement peut comprendre un moyen de refroidissement autre qu’un moyen d’arrosage de la surface extérieure du moule, comme par exemple un carter d’eau enveloppant la surface extérieure du moule.
Le dispositif d'extraction 14 est adapté pour extraire axialement du moule 10 l’ébauche de corps de base 16 obtenue à l’issue de la coulée du métal liquide dans le moule.
Les dispositifs verseur 6, de refroidissement 12 et d'extraction 14, la poche d’alimentation 4 ainsi que le canal de coulée 8 sont connus en soi et ne sont pas décrits plus en détail. Le moule 10 est par exemple entièrement en acier forgé.
L’installation comprend par ailleurs un four de traitement thermique 40.
La fabrication de l’objet tubulaire ou du corps de base 16 selon l'invention moyennant l'installation 2 est effectuée comme suit.
Le procédé de fabrication mis en œuvre est un procédé ayant les caractéristiques du procédé de fabrication appelé « DeLavaud ».
De la fonte liquide est introduite dans la poche d’alimentation 4. La fonte liquide dans la poche 4 est telle que l’objet tubulaire ou corps de base 16 obtenu avec le procédé de fabrication selon l’invention a la composition chimique définie ci-après. L’établissement de la teneur finale en Silicium de l’objet tubulaire ou du corps de base 16 peut être faite avant l’étape de coulée dans le moule 10, par des ajouts de matériaux contenant du silicium, notamment des alliages de FeSi. Les apports éventuels en silicium résultant de traitements d’inoculation utilisant des agents à base de silicium peuvent être pris en compte pour déterminer la quantité de silicium à ajouter au métal liquide pour obtenir un objet tubulaire ou corps de base 16 ayant une teneur en silicium conforme à l’invention.
Ainsi, l’établissement de la teneur finale en Silicium de l’objet tubulaire ou du corps de base 16, faite avant l’étape de coulée dans le moule 10, peut être effectué en ajoutant à la fonte une teneur en Silicium égale à celle de l’objet moins la teneur apportée par l’inoculation.
De préférence, le procédé peut comprendre une étape ultérieure c) de fabrication d’un revêtement transparent 110 pour les longueurs d’onde comprise entre 400 nm et 1700 nm, la fabrication étant réalisée par dépôt de couche, sur la face de l’émetteur optique 35 opposée au substrat 30 et la face du détecteur optique 40 opposée au substrat 30.
Optimisation d’une microsonde WDS pour une détection du lithium Le domaine technique de l’invention est celui de l’analyse élémentaire des matériaux contenant du lithium dans le cadre du recyclage des déchets ou de l’économie circulaire (batterie Li-ion, alliage aéronautique, verres, etc.).
ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE Le lithium, 3 ème élément de la classification périodique du tableau de Mendeleïev, est utilisé pour de nombreuses applications allant du domaine de l’énergie, comme pour les batteries Li-ion des véhicules électriques, jusqu’aux domaines des matériaux céramiques, des verres industriels et des vitrocéramiques.
Dans le cadre de la présente invention, on cherche à réaliser une analyse quantitative, locale et non destructive du lithium.
Actuellement, l’analyse quantitative du lithium dans les matériaux est réalisée par des techniques destructives sur d’importantes masses d’échantillon (de l’ordre du gramme), telles que la spectrométrie de masse avec plasma à couplage inductif par ablation laser (LA-ICP-MS) ou la spectroscopie de plasma induit par laser (LIBS). Une analyse quantitative du lithium par des techniques non destructives n’est pas possible avec des instruments actuels standards d’analyse X.
Il faut également que l’analyse élémentaire soit locale. Une analyse élémentaire du lithium à l’échelle micrométrique, et plus précisément une analyse élémentaire locale par microstructure, est en effet fondamentale, car elle permet d’accéder localement à des grandeurs d’intérêts majeurs pour les procédés d’élaboration de matériaux contenant du lithium, comme, par exemple, les mécanismes de diffusion du lithium dans un matériau contenant différentes microstructures (par exemple une batterie lithium ayant subi de nombreux cycles d’utilisation). Une telle analyse permet également de quantifier les performances des matériaux, ce qui est particulièrement utile dans le domaine du stockage de l’énergie (batteries) ou du recyclage et de la valorisation des matières premières.
L’analyse élémentaire locale par microstructure est réalisée par des techniques d’analyse de surface, qui permettent de caractériser des matériaux qui ne sont pas forcément organisés de manière structurale, tels que les matériaux amorphes.
Cependant, les techniques d’analyse de surface des matériaux contenant du lithium sont un vrai challenge pour la mesure du lithium, car il s’agit d’un élément ultra léger dont la signature élémentaire par la raie Li Kα est de très faible énergie (proche de 50 eV).
Des techniques d’analyse qualitative locale peuvent être utilisées telles que : - la spectroscopie de perte en énergie des électrons (EELS) couplée aux observations de microscopie électronique en transmission ; - le nano SIMS « Secondary-Ion Mass Spectrometry », technique consistant à pulvériser les couches atomiques superficielles d'un échantillon solide en le bombardant par un faisceau d'ions, puis à mesurer les « ions secondaires » émis par un spectromètre de masse ; - la technique XPS par l’analyse d’électron Auger ; - l’analyse par spectroscopie Raman.
Toutefois, ces techniques sont des méthodes d’analyse qualitatives ou semi-quantitatives et ne permettent pas d’accéder à une mesure quantitative de précision, notamment sur des microstructures locales pouvant être hétérogènes (document [ 1 ] ).
Des techniques de spectrométrie en microanalyse X peuvent également être utilisées.
On peut par exemple utiliser la spectrométrie EDS équipée de détecteurs spécifiques sans fenêtres de séparation (document [ 2 ] ). Cette technique d’analyse par spectrométrie permet de détecter l’élément lithium dans une matrice échantillon. Toutefois, cette technique souffre d’une très faible résolution spectrale et elle ne pourra pas réaliser la détection du lithium dans le cas de matériaux contenant certains éléments tels que Al, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Si, en raison du recouvrement spectral de leurs raies d’émission avec celle du lithium (document [3] ).
Une autre technique de microanalyse X utilisant des spectromètres à réseaux gravés (SXES) permet de détecter le lithium avec une bonne résolution. Toutefois l’appareil est très couteux et aucune mesure quantitative n’a été réalisée à ce jour.
Comme précisé précédemment, les inventeurs ont cherché comment obtenir une mesure locale, quantitative et de précision (c’est-à-dire de l’ordre de 0,5 % massique élémentaire) du lithium.
Ce but est atteint grâce à une microsonde WDS optimisée pour une détection de lithium dans un échantillon, la microsonde WDS comprenant une microsonde de Castaing couplée à un spectromètre WDS, l’échantillon, inclus dans une enceinte de la microsonde de Castaing, étant destiné à être bombardé par un faisceau d’électrons, pour émettre des photons X, qui sont destinés à être diffractés par un cristal monochromateur inclus dans le spectromètre WDS, des rayons X diffractés pénétrant dans un compteur proportionnel, et un spectre WDS étant obtenu, la microsonde WDS étant caractérisée en ce que : - le cristal monochromateur du spectromètre WDS est un pseudo cristal multicouche ayant un domaine spectral incluant les longueurs d’onde d’émission du lithium sous sa forme métal et sous au moins l’une de ses formes oxydes ; - une première fenêtre de séparation est disposée à une interface entre le spectromètre WDS et l’enceinte de la microsonde de Castaing ; - une deuxième fenêtre de séparation est disposée à une entrée du compteur proportionnel, les rayons X diffractés traversant cette deuxième fenêtre de séparation en pénétrant dans le compteur proportionnel ; - chacune des première et deuxième fenêtres de séparation étant un film en nitrure de silicium, d’une épaisseur comprise entre 18 nm et 22 nm ; - chaque film en nitrure de silicium étant supporté par une grille en silicium polycristallin, d’une épaisseur comprise entre 7,5 µm et 8,5 µm, déposée sur l’une des deux faces du film en nitrure de silicium ; - le film en nitrure de silicium de la deuxième fenêtre de séparation comprenant en outre un film en aluminium, d’une épaisseur comprise entre 1 nm et 2 nm, déposée sur l’autre des deux faces du film en nitrure de silicium ; - lorsque l’échantillon est bombardé par le faisceau d’électrons, le spectromètre WDS est destiné à être maintenu sous une pression inférieure à 9,1.10 -1 Pa et l’enceinte de la microsonde de Castaing est destinée à être maintenue sous une pression comprise entre 9,3.10 -5 Pa et 2,5.10 -5 Pa ; - un moyen pour protéger la première fenêtre de séparation d’une surpression ou d’une sous pression lors de l’introduction ou le retrait de l’échantillon dans l’enceinte de la microsonde de Castaing.
Selon une autre caractéristique conforme à la divulgation, de préférence, on réalise une opération de dépôt d’une surcouche de protection contre l’usure sur la couche de réparation en trempant la portion à réparer dans un bain de protection contre l’usure, composé d’une solution aqueuse de protection contre l’usure comprenant des ions d’un métal d’apport de protection contre l’usure, des ions de métal de protection contre l’usure et un agent réducteur.
Ainsi, comme pour l’opération de de protection contre la corrosion, l’opération de protection contre l’usure permet à la pièce d’être plus résistante après réparation qu’avant usage.
le métal d’apport de protection contre la corrosion ou contre l’usure peut être, de préférence, du nickel, du chrome, du phosphore et/ou de l’aluminium, considéré individuellement ou en combinaison ;
l’agent réducteur de protection contre la corrosion ou contre l’usure peut être, de préférence, de l’argent, du cuivre et/ou de l’or, considéré individuellement ou en combinaison.
représente schématiquement une vue en coupe d’une turbomachine comprenant une pièce comprenant une portion à réparer ;