INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans l’état de la technique, en entrepôt, le préparateur de commande dispose d’une part de contenus, les produits, destinés à être regroupés ensemble au sein d’un contenant formant une unité de charge logistique. On appelle cette « unité de charge logistique » généralement « colis » lorsqu’elle est associée à une livraison en cours ou terminée. Le préparateur de commandes dispose d’autre part des emballages destinés à emballer ces unités de charge logistique à expédier. Le choix de l’emballage pour chaque unité de charge logistique se fait généralement à l’œil par le préparateur de commandes en fonction de son estimation du volume des produits formant l’unité de charge logistique et de son estimation du volume de l’emballage.
Il en résulte que de nombreuses unités de charge logistique expédiées sont formées de produits agencés dans un emballage non adapté, et présentent notamment un taux de vide important. Ce taux de vide génère une surconsommation d’emballages et donc un gâchis important de quantité de matière, des émissions de gaz à effet de serre associées, ainsi que des pertes économiques majeures pour les acteurs du domaine de la livraison. Ce taux de vide moyen génère également une surconsommation d’espaces de stockage, notamment dans les points relais, cette saturation d’espace de stockage pouvant à son tour engendrer une augmentation de la distance entre le domicile du destinataire du colis et le point de relais en cas de réaffectation du colis à un point relais distant. Un vide trop important dans un emballage génère également des risques de casse et donc de livraisons supplémentaires. En complément, des produits agencés dans un emballage trop grand nécessitent du calage supplémentaire qui augmente encore le gâchis de matière première. Enfin, des emballages non adaptés sont également source d’une manutention plus difficile de ces unités de charge logistique.
Pour remédier à ce problème d’emballages non appropriés aux unités de charge logistique, une solution de l’état de la technique est la fabrication, par robot, en entrepôt, d’emballages sur-mesure, adaptés aux dimensions et au type de fragilité de chaque unité de charge logistique à emballer.
Cependant, cette solution est coûteuse en capital investi, complexe à mettre en œuvre, potentiellement chronophage, et surtout n’est pas en capacité d’absorber des pics d’activité lorsque la capacité maximum du robot est atteinte. D’autre part les déchets d’emballages qui sont générés sont deux à trois fois supérieurs à ceux générés par un emballage classique.
En outre, elle interdit par définition systématiquement l’usage d’un emballage réutilisable et a donc tendance à plutôt augmenter elle aussi les émissions de gaz à effet de serre liées à la surconsommation de carton. Elle est enfin limitée en termes de capacité de traitement à l’heure, et donc inadaptée pour la gestion des variations de volume saisonnières.
Une autre solution de l’état de la technique est une chaîne automatisée placée dans l’espace de préparation et permettant d’emballer automatiquement les produits formant une unité de charge logistique dans un emballage défini de façon prédéterminée et identique pour toutes les unités de charge logistique. Ainsi, il n’est plus nécessaire pour le préparateur de commande de choisir un emballage, tous les emballages étant identiques. La préparation de l’unité de charge logistique est encore plus rapide. En revanche, les unités de charge logistique sont emballées en moyenne dans des emballages encore moins appropriés, puisque ces emballages sont tous identiques quelle que soit l’unité de charge logistique à emballer.
L’invention a notamment pour but de permettre de diminuer le taux de vide moyen généré dans les emballages sans faire perdre de temps à la préparation de la commande et sans avoir à disposer d’un grand nombre de références d’emballages différentes.
À cet effet l’invention a pour objet un procédé de sélection d’emballages optimisés en fonction d’unités de charge logistique, mis en œuvre par ordinateur, et comprenant les étapes suivantes : obtention d’une liste d’emballages ; pour chacun des emballages de la liste obtenue, détermination d’une valeur de priorisation de l’emballage, la valeur dépendant d’au moins le volume de l’emballage de façon à ce qu’un emballage moins volumineux qu’un autre emballage, soit, toutes choses égales par ailleurs, prioritaire vis-à-vis de cet autre emballage ; tri des emballages en fonction de leurs valeurs respectives de priorisation de façon à former une liste triée des emballages ; choix d’un des emballages de la liste en fonction du tri ; obtention d’une liste d’unités de charge logistique, chaque unité de charge logistique de la liste ayant des dimensions inférieures à celles de l’emballage choisi ; pour chaque unité de charge logistique de la liste, vérification de l’adéquation entre l’emballage choisi et l’unité de charge logistique, la vérification portant au moins sur le poids de l’unité de charge logistique vis-à-vis d’un poids maximal supporté par l’emballage ; si le nombre d’unités de charge logistique vérifiées comme étant adéquates à l’emballage choisi est supérieur ou égal à un seuil prédéterminé, sélection de l’emballage et retrait, de la liste des unités de charge logistique, des unités de charge logistique vérifiées comme étant adéquates à cet emballage sélectionné.
Ainsi, alors que l’approche instinctive serait de rechercher, pour chaque unité de charge logistique, quel est l’emballage qui pourrait être le plus adéquat à cette unité de charge logistique, le procédé vise à l’inverse à rechercher, pour chaque emballage, quel est le nombre d’unités de charge logistique qui pourraient être emballées en son sein. Ce procédé permet de tester des emballages et de ne sélectionner parmi eux que ceux qui, le plus souvent, pourraient être adéquats pour les unités de charge logistique sélectionnées. Il permet donc de ne pas avoir à disposer d’une multitude de références d’emballages, mais de ne sélectionner que les emballages les plus appropriés au vu des unités de charge logistique, et donc d’économiser de l’espace de stockage d’emballages en entrepôt.
Surtout, en triant au préalable les emballages en fonction d’un critère de priorisation prenant en compte au moins le volume de chaque emballage, on s’assure de débuter les vérifications d’adéquation de chaque emballage aux unités de charge logistique par l’emballage le plus prioritaire, au moins en termes de volume, vis-à-vis des autres emballages. Or, si l’emballage est sélectionné, en les retirant de la liste des unités de charge logistique, les unités de charge logistique ayant été vérifiées comme étant adéquates à cet emballage, on s’assure que les emballages suivants de la liste triée, donc moins prioritaires au moins en terme de volume, ne peuvent être comparés qu’à d’autres unités de charge logistique. Étant donné que seuls les emballages adéquats à un nombre prédéterminé d’unités de charge logistique sont sélectionnés, on favorise donc la sélection des premiers emballages de la liste triée, c’est-à-dire les plus petits. De la sorte, on s’assure de sélectionner les emballages les plus petits possibles vis-à-vis des unités de charge logistique, et on permet donc de diminuer le plus possible les taux de vides des futures unités de charge logistique emballées par ces emballages sélectionnés.
Réservoir L’invention concerne un réservoir et plus particulièrement l’étanchéité de l’assemblage vissé entre son embase et son enveloppe.
Il est connu de réaliser l’étanchéité entre un arbre et un alésage par un joint torique. Pour cela un jeu radial est ménagé entre le diamètre extérieur de l’arbre et le diamètre intérieur de l’alésage, de manière à laisser un interstice positif entre les deux. L’un parmi l’arbre et/ou l’alésage comprend une gorge dans laquelle vient se loger le joint torique. Les dimensions sont telles que le joint torique est légèrement comprimé entre l’arbre et l’alésage. Aussi la profondeur radiale de la gorge ajoutée au jeu radial est sensiblement égale au petit diamètre du joint torique par valeur inférieure. La différence entre les deux est égale à la dimension de compression du joint torique.
L’étanchéité entre en arbre et un alésage est améliorée lorsque le joint torique détermine la position radiale de l’arbre relativement à l’alésage. Aussi, il est avantageux que l’arbre puisse s’auto-centrer dans l’alésage de manière à équilibrer les contraintes sur le joint torique tout autour de sa périphérie.
Cependant, lorsque l’arbre est assemblé par vissage avec l’alésage, le filetage, de manière classique, détermine le centrage de l’arbre relativement à l’alésage. Aussi, ce centrage peut contrarier l’auto-centrage par le joint torique et ainsi diminuer l’efficacité de l’étanchéité.
L’invention propose une solution palliant cet inconvénient.
Pour cela, la caractéristique de base de l’invention est un filetage/taraudage permettant une latitude de mouvement radial permettant un auto-centrage par le joint torique.
L’invention a pour objet un réservoir comprenant une embase, de révolution autour d’un axe, et une enveloppe comprenant un goulot de révolution autour de l’axe, l’embase et le goulot étant assemblés de manière étanche, l’assemblage comprenant un premier segment longitudinal où l’embase, respectivement le goulot comprend un filetage et le goulot, respectivement l’embase comprend un taraudage complémentaire du filetage de manière à pouvoir assembler le filetage et le taraudage par vissage et un deuxième segment longitudinal où l’embase et le goulot accueillent entre eux un joint torique et présentent un premier jeu radial, où le filetage et le taraudage présentent des profils transverses comprenant chacun un segment perpendiculaire à l’axe et un deuxième jeu radial entre eux, afin de permettre un débattement radial et un auto-centrage par le joint torique.
- le filetage et le taraudage présentent encore un jeu axial entre eux,
- le deuxième jeu radial est inférieur au premier jeu radial,
- le deuxième jeu radial est compris entre 0,1 et 0,2 mm, préférentiellement égal à 0,15 mm,
- le jeu axial est compris entre 0,25 et 0,35 mm, préférentiellement égal à 0,3 mm,
- l’embase, respectivement le goulot, est en matériau métallique, préférentiellement de l’aluminium, et le goulot, respectivement l’embase, est en matériau élastomère.
Grâce à la présence de la couche barrière 122, la diffusion d’élément métallique de la couche piézoélectrique 114 vers la couche de piégeage 102 est réduite, car la couche barrière 122 joue le rôle d‘une couche barrière de diffusion d’élément métallique. Ainsi, la passivation des pièges de charge dans la couche de piégeage 102 par des éléments métalliques provenant de la couche piézoélectrique 114 est réduite, et la couche de piégeage 102 garde son pouvoir de réduire les courants parasitiques.
Dans une variante du procédé selon le premier mode de réalisation, la structure intermédiaire 120 est formée par une pluralité de couches d’Oxyde de Tantale (Ta 2 O 5 ) et de couches à base d’un autre Oxyde, par exemple un Oxyde de Silicium ou un Nitrure de Silicium (SiN) ou un Oxynitrure de Silicium (SiO x N y ), intercalées entre elles. L’épaisseur de chaque couche d’Oxyde étant comprises entre 5nm et 100nm.
Dans une variante du procédé selon le premier mode de réalisation, la structure intermédiaire 120, ici la couche barrière de diffusion d’élément métallique 122, est réalisée sur la couche piézoélectrique 108 du substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 au lieu d’être réalisée sur le substrat support 100. Dans ce cas, l’étape de formation de la couche barrière 122 est réalisée avant ou après l’étape de formation de la zone de fragilisation 112 dans la couche piézoélectrique 108. L’interface d’assemblage du substrat support 100 avec le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 est alors faite à l’interface située entre la couche barrière 122 du substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 et la couche de piégeage 102 du substrat support 100.
Dans une autre variante du procédé selon le premier mode réalisation, la structure intermédiaire 120, ici la couche barrière 122, peut être fournie sur le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 et sur le substrat support 100. Dans ce cas, l’étape de formation de la couche barrière 122 est réalisée avant ou après l’étape de formation de la zone de fragilisation 112 dans la couche piézoélectrique 108. L’interface d’assemblage du substrat support 100 avec le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 est alors faite à l’interface entre deux couches barrières. Le fait d’assembler le substrat comprenant une couche piézoélectrique avec le substrat support par l’assemblage de deux couches barrières est avantageux pour l’assemblage, car l’assemblage se fait entre deux couches du même matériau.
Dans une variante du procédé, au lieu de réaliser l’étape IIa) de formation de la zone de fragilisation dans la couche piézoélectrique 108 du substrat comprenant une couche piézoélectrique 106, après l’étape III), l’étape IV) d’assemblage est réalisée directement entre le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 et le substrat support 100. Une étape IVa) d’amincissement (non illustrée) est ensuite réalisée pour diminuer l’épaisseur du substrat comprenant une couche piézoélectrique 106. Cette étape d’amincissement peut être une étape de meulage du substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 pour obtenir une couche piézoélectrique 114 d’une épaisseur plus mince que la couche piézoélectrique 108.
De plus, d’autres traitements de la surface libre 128 de la couche piézoélectrique 114 peuvent être réalisées pour améliorer la qualité de la surface libre 128 de la couche piézoélectrique 114.
Le substrat piézoélectrique sur isolant (POI) 130 illustré à l’étape V) de la obtenu avec le substrat support 100, la couche de piégeage 102, la couche barrière de diffusion d’élément métallique 122 et la couche piézoélectrique 114 correspond au substrat selon l’invention selon le premier mode de réalisation également.
La représente schématiquement un procédé de fabrication d’un substrat piézoélectrique sur isolant (POI) selon un deuxième mode de réalisation de l’invention.
Dans ce deuxième mode de réalisation, la seule différence avec le procédé selon le premier mode de réalisation est que l’étape de dépôt III) de la structure intermédiaire 120 comprend en plus une étape IIIa) de formation d’une couche diélectrique 132 sur, en particulier en contact direct avec, la au moins une couche barrière 122. Ainsi, la structure intermédiaire 120 comprend une couche barrière de diffusion d’élément métallique 122 et une couche diélectrique 132.
Les autres étapes I) à V) sont les mêmes que dans le premier mode de réalisation, sauf que lors de l’étape IV) l’assemblage se fait entre la couche diélectrique 132 et le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106. Toutes les caractéristiques communes avec le premier mode de réalisation et sa variante et utilisant les mêmes numéros de référence que ci-dessus ne seront pas décrites à nouveau, mais il est fait référence à leur description détaillée ci-dessus.
La couche diélectrique 132 est par exemple une couche à base d’oxyde de silicium. Mais la couche diélectrique 132 peut aussi être une couche de Nitrure de Silicium (Si 3 N 4 ), ou une couche comprenant une combinaison de Nitrure et d'Oxyde de Silicium (SiO x N y ), ou une superposition d'une couche d'Oxyde de Silicium et d'une combinaison de Nitrure et d'Oxyde de Silicium (SiO x N y ) ou une superposition d’une couche d’Oxyde de Silicium et d’une couche de Nitrure de Silicium.
La couche diélectrique 132 est réalisé par une technique de déposition telle qu’une déposition chimique en phase vapeur CVD ou LPCVD, assistée par plasma PECVD (en anglais: « Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ») ou physique en phase vapeur PVD ou par des traitements thermiques d’oxydation. La déposition PVD comprend des températures de déposition entre température ambiante et 400 o C, la technique PECVD comprend des températures de déposition entre 150 o C et 400 o C. La déposition LPCVD comprend des températures de déposition entre 600 et 700 o C. La couche diélectrique 132 est déposée sur, en particulier directement en contact avec, la couche barrière 122.
Un traitement thermique, appelé aussi traitement de densification, peut être réalisé après le dépôt de la couche diélectrique 132 pour dégazer le surplus en Hydrogène formé pendant la déposition, Hydrogène qui occupe les pièges dans la couche de piégeage 102. En plus, ou en alternative, un traitement de surface peut être réalisé pour améliorer la qualité de la surface de la couche diélectrique 132 déposée.
La couche diélectrique 132 est par exemple une couche à base de dioxyde de Silicium. Mais la couche diélectrique 132 peut aussi être une couche comprenant une combinaison de Nitrure et d'Oxyde de Silicium (SiO x N y ), ou une superposition d'une couche d'Oxyde de Silicium et d'une combinaison de Nitrure et d'Oxyde de Silicium (SiO x N y ), ou encore une couche de Nitrure de Silicium (Si 3 N 4 ), ou une couche comprenant une combinaison de Nitrure et d'Oxyde de Silicium (SiO x N y ), ou une superposition d'une couche d'Oxyde de Silicium et d'une couche de Nitrure de Silicium.
Ainsi, lors de l’étape d’assemblage V), le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 est assemblé avec le substrat support 100 pour former l’héterostructure 134, en mettant en contact la couche diélectrique 132 avec la couche piézoélectrique 108 du substrat comprenant une couche piézoélectrique 106. Ainsi, dans cette deuxième réalisation, l’interface d’assemblage 136 est située entre la couche piézoélectrique 108 et la couche diélectrique 132 du substrat support 100.
Dans une variante, la couche diélectrique 132 peut être une couche ayant une concentration d’hydrogène inférieure à 10 20 at/cm 3 , en particulier inférieure à 10 18 at/cm 3 . Après l’étape de déposition de la couche diélectrique 132 réalisée à une température typiquement comprise entre une température ambiante et 7000°C, dépendant de la technique de déposition utilisée, un recuit de densification peut être réalisé pour réduire la concentration d’hydrogène dans cette couche diélectrique 132. Par exemple, si la couche diélectrique est réalisée par une déposition PVD, la température est comprise entre la température ambiante et 400 o C, pour une déposition PECVD, entre 150 o C et 400 o C, une déposition LPCVD entre 600 o C et 7000 o C, et pour une oxydation thermique, la température est comprise entre 800 o C et 1000 o C.
Description de l’invention Le principe de l’invention consiste en l’évaluation d’un déploiement candidat de nouvelles ressources d’accès radio d’un réseau de communication à un emplacement géographique donné, dite site, basée sur la prédiction d’un indicateur de variation des performances du réseau induites par le déploiement candidat à partir de données historiques relatives au réseau de communication dans la zone géographique et la détermination d’un score à partir de cet indicateur et en fonction d’un ou plusieurs critères de priorisation.
Le déploiement candidat peut concerner l’implantation d’un nouvel équipement d’accès radio à une position géographique donnée ou bien la mise en service d’une nouvelle configuration sur un équipement d’accès radio déjà déployé. Cette nouvelle configuration peut consister en l’ajout d’une nouvelle cellule radio ou d’un ou plusieurs nouveaux secteurs à une cellule radio déjà déployée. Elle peut comprendre aussi le remplacement d’une cellule radio associée à une technologie donnée par une cellule radio associée à une technologie plus récente.
L’invention s’applique à tout type de réseau de communication comprenant un ou plusieurs réseaux d’accès radio. Elle trouve une application avantageuse dans un réseau de télécommunications mobiles dont l’architecture est conforme à la norme 3GPP dans une de ses versions actuelles ou futures.
En relation avec la , on présente à titre illustratif un exemple simplifié d’architecture d’un réseau de télécommunication mobile RM dans lequel se situe l’invention. Il comprend un réseau cœur RC et un réseau d’accès radio RAN. Le réseau d’accès radio comprend plusieurs équipements d’accès radio ER1-ER5 localisés à l’intérieur d’une zone géographique ZG. Il s’agit par exemple de stations de base équipées d’une ou plusieurs antennes radio (non représentées).
Dans la suite, on désigne par zone de couverture, une zone géographique à l’intérieur de laquelle des terminaux utilisateurs configurés pour se connecter au réseau mobile RM, peuvent s’attacher à la station de base, c’est-à-dire qu’ils sont à portée radio de cette station de base et peuvent communiquer par voie radio avec elle. Sur la , on a représenté la zone de couverture ZC associée à l’équipement d’accès radio ER2, sous la forme d’un polygone en référence à la technique de Voronoï, connue en soi, pour modéliser une telle zone de couverture.
Sur la , le réseau cœur comprend un équipement de gestion NMS (en anglais, « Network Management System »), configuré pour collecter des données de mesure de performances du réseau en provenance de modules ou agents de gestion MA1-MA5 (en anglais, « Management Agent ») placés en différentes positions du réseau d’accès radio RAN, par exemple sur les sites des équipements d’accès radio ER1-ER5 voire même, intégrés dans ces équipements d’accès radio. De façon connue en soi, un tel équipement NMS fournit généralement des fonctionnalités, dites FACPS, de surveillance des performances pour l'ensemble du réseau (en anglais, « Fault, Configuration, Accounting, Performance, Security », soit « Défaut, Configuration, Comptabilité, Performance, Sécurité »).
La illustre de façon schématique un exemple d’architecture d’un système S pour la gestion des ressources du réseau de communication, selon un mode de réalisation de l’invention. Selon ce mode de réalisation de l’invention, le système S comprend l’équipement de gestion NMS et les agents de gestion MA1-MA5.
Selon l’invention, le système S comprend aussi un dispositif 100 d’évaluation d’un déploiement d’une configuration candidate d’un équipement d’accès radio du réseau de communication RAN, configuré pour obtenir des données relatives audit réseau dans une zone géographique, par exemple ZG, comprenant le site de l’équipement d’accès radio, dites données réseau historiques, comprenant des données réseau comprenant au moins des informations topographiques relatives à des équipements d’accès radio existants dans ladite zone géographique avant le déploiement de la configuration candidate, et des mesures d’au moins un indicateur de performances du réseau de communication dans la zone géographique pendant une période temporelle écoulée, dite période de référence. Le dispositif 100 est en outre configuré pour déterminer une métrique d’évaluation du déploiement candidat, ou score, en fonction d’une variation dudit au moins un indicateur de performances du réseau de communication dans ladite zone géographique, induite par ledit déploiement candidat et d’au moins un critère de priorisation associé à une métrique représentative d’une évolution d’une performance du réseau induite par ledit déploiement, ladite variation étant prédite à partir des données historiques et d’informations topographiques relatives à la configuration candidate.