Dispositif de dépôt PVD ou PECVD comportant une enceinte (25) dans laquelle se trouve une pièce (22) à revêtir montée mobile sur un support (24), et une cible (20) d’un matériau d’un revêtement à évaporer et déposer sur la pièce, caractérisé en ce qu’il comporte un masque (21) pourvu d’une lumière (23) en regard de la pièce (22) à revêtir et fixe par rapport à la cible (20), ledit masque étant disposé entre la cible et la pièce, ladite pièce montée mobile, étant positionnée derrière le masque par rapport à la cible de telle sorte qu’un mouvement de la pièce derrière la lumière fasse défiler progressivement une zone à revêtir de la surface de la pièce derrière la lumière. Dispositif de dépôt PVD ou PECVD selon la revendication 1 pour lequel la lumière (23) définit une ouverture de dimension adaptée à canaliser un faisceau de dépôt vapeur sur ladite zone à revêtir derrière la lumière, une largeur de la lumière dans une direction de déplacement de la pièce étant définie entre 1 et 7 cm. Dispositif de dépôt PVD ou PECVD selon la revendication 1 ou 2 pour lequel un premier axe (X) perpendiculaire à ladite zone à revêtir de ladite surface forme un angle (α) supérieur à 0° et inférieur à 90° par rapport à un deuxième axe (Y) perpendiculaire à un plan de la cible et dirigé vers la pièce. Dispositif de dépôt PVD ou PECVD selon la revendication 3 pour lequel le premier axe (X) perpendiculaire à ladite zone à revêtir forme un angle (α) supérieur à 10° et inférieur à 80° par rapport au deuxième axe (Y) et préférablement entre 20° et 70°. Dispositif de dépôt PVD ou PECVD selon la revendication 3 ou 4 pour lequel la pièce est mise en rotation autour dudit premier axe (X). Dispositif de dépôt PVD ou PECVD selon la revendication 3 ou 4 pour lequel la pièce est mise en rotation autour d’un troisième axe (Z) perpendiculaire au premier axe (X) et au deuxième axe (Y). Dispositif de dépôt PVD ou PECVD selon l’une quelconque des revendications précédentes pour lequel la pièce présente une symétrie par rotation autour d’un axe rotatif (A), et pour lequel ledit mouvement de la pièce par rapport au support est une rotation autour de l’axe rotatif (A) de la pièce. Dispositif de dépôt PVD ou PECVD selon l’une quelconque des revendications précédentes pour lequel le masque comporte une plaquette écran (23c) disposée sur au moins un bord de la lumière et parallèle, à plus ou moins 20°, audit deuxième axe (Y). Dispositif de dépôt PVD ou PECVD selon l’une quelconque des revendications précédentes pour lequel le masque est réalisé en acier. Procédé de dépôt au moyen du dispositif selon l’une quelconque des revendications précédentes comportant : - une pose de ladite pièce à revêtir, montée mobile par rapport au support, derrière le masque par rapport à la cible, avec la lumière (23) du masque située en regard d’une zone de la surface de la pièce (22) à revêtir, - une mise en rotation de la pièce derrière ledit masque selon un mouvement de la pièce derrière la lumière adapté à faire défiler progressivement derrière la lumière ladite zone de la surface de la pièce à revêtir, - une pulvérisation de matériau de revêtement en direction de la lumière et de ladite zone en sorte de réaliser sur la pièce une zone revêtue d’un dépôt colonnaire dudit matériau. Procédé de dépôt selon la revendication 10, pour lequel, un premier axe (X) perpendiculaire à ladite zone à revêtir sous ladite lumière faisant un angle α avec un deuxième axe (Y) perpendiculaire à un plan de la cible, le procédé comprend, avant ladite pulvérisation, un ajustement dudit angle α, en fonction d’une inclinaison dudit dépôt colonnaire à réaliser.