INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Les lamelles C1, C2, C3, C4 sont en un métal rigide compatibles avec les matériaux de la boîte froide, par exemple de l’aluminium ou de l’acier.
Alternativement l’élément en saillie I et le poteau peuvent avoir une section en forme de H, une section rectangulaire, une section circulaire.
Selon une deuxième variante, la couche barrière de diffusion d’hydrogène 158 est une couche à base d’oxyde de silicium 160. Dans cette deuxième variante, la deuxième couche barrière 160 a une concentration d’hydrogène inférieure à 10 20 at/cm 3 , en particulier inférieure à 10 18 at/cm 3 . Ceci peut être réalisée par un dépôt d'oxyde de silicium par une technique de déposition assistée par plasma PECVD ou telle qu’une déposition chimique en phase vapeur CVD ou LPCVD, assistée par plasma PECVD (en anglais: « Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ») ou physique en phase vapeur PVD (en anglais : « Physical Vapor Deposition ») ou par des traitements thermiques d’oxydation. La déposition PVD comprend des températures de déposition entre température ambiante et 400 o C, la technique PECVD comprend des températures de déposition entre 150 o C et 400 o C. La déposition LPCVD comprend des températures de déposition entre 600 et 700 o C. Dans ce cas, la couche diélectrique 160 présente une concentration en hydrogène importante de plus de 10 20 at/cm 3 .
Pour réduire la concentration d’hydrogène dans cette deuxième couche barrière 160 à base d’oxyde de silicium, un recuit, dit de densification est appliqué. Ce recuit est un recuit sous atmosphère pauvre en hydrogène, i.e. inférieure à 5 ppm, et expose la couche 160 à base d’oxyde de silicium à une température supérieure à sa température de dépôt. Il peut s'agir d'une atmosphère neutre ou oxydante. Préférentiellement cette température est supérieure à 800°C, typiquement comprise entre 800°C et 900°C. Le recuit est poursuivi pendant au moins une heure, et préférentiellement pendant plusieurs heures, afin d'exodiffuser l'hydrogène de la couche diélectrique 160, et éventuellement de la couche de piégeage 102. A l'issue de ce recuit de densification, la couche diélectrique 160 présente une concentration d'hydrogène inférieure à 10 20 at/cm 3 .
Dans une autre variante de ce mode de réalisation de l’invention, une couche diélectrique peut être fournie sur les deux substrats, le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 et sur le substrat support 100. L’interface d’assemblage du substrat support 100 avec le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 est faite à l’interface entre deux couches diélectriques, avec des liaisons de type oxyde – oxyde, en particulier une liaison de type Si-O-Si, qui est un type de liaison connue pour être stable.
Dans une autre variante de ce mode de réalisation de l’invention, une couche diélectrique d’un premier matériau peut être fournie sur le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 et une couche diélectrique d’un deuxième matériau peut être fournie sur le substrat support 100, le premier matériau étant diffèrent du deuxième matériau. Par exemple, la couche diélectrique fournie sur le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 est une couche de Si 3 N 4 alors que la couche diélectrique fournie sur le substrat support 100 est une couche de SiO x N y , en particulier du SiON. Ainsi, l’assemblage du substrat support 100 avec le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 est ensuite réalisée à l’interface entre deux couches diélectriques Si 3 N 4 - SiO x N y qui permet une liaison stable.
L’objet de l’invention est réalisé par un substrat piézoélectrique sur isolant (POI) comprenant un substrat support, en particulier un substrat à base de Silicium, comprenant une couche de piégeage sur une surface libre du substrat support, en particulier une couche à base de Silicium poly cristallin ou amorphe ou poreux, une couche piézoélectrique, en particulier une couche de Tantalate de Lithium (LiTaO 3 ) ou de Niobate de Lithium (LiNbO 3 ) et une structure intermédiaire positionnée en sandwich entre la couche piézoélectrique et la couche de piégeage du substrat support, dans lequel la structure intermédiaire comprend au moins une couche barrière de diffusion d’éléments métalliques, en particulier de Lithium, à base d’Oxyde d’Aluminium (Al 2 O 3 ) ayant une épaisseur t EM supérieure à une épaisseur prédéterminée, ladite épaisseur prédéterminée étant déterminée en fonction de l’épaisseur de la couche de piégeage de telle manière que la dose d’élément métallique dans la couche de piégeage est inférieure à une dose seuil prédéterminée, en particulier une dose seuil d’élément métallique inférieure à 1.2*10 12 at/cm 2 , en particulier inférieure à 5*10 11 at/cm 2 .
Il est en outre souhaitable de pouvoir utiliser ces matériaux dans des procédés industriels, avec des coûts maitrisés.
Ce matériau doit toutefois permettre d'obtenir des lames d'essuyage dont les propriétés mécaniques et physiques sont adaptées à l'essuyage d'une vitre de véhicule automobile.
Le remplacement du noir de carbone dans les charges de renfort est ainsi délicat.
En effet, il est difficile de proposer des charges d'origine naturelle, comme la silice ou le kaolin, qui soient équivalentes en termes de pouvoir renforçant.
De même, les charges végétales de type fibres (bois ou cellulose) ont une compatibilité limitée avec les polymères élastomères, ce qui restreint leur utilisation.
Une autre solution pour diminuer l'empreinte carbone de la fabrication des lames d''essuyage de balai d'essuie-glace, est d'utiliser des matériaux recyclés dans les charges de renfort.
De manière inattendue, il a été trouvé dans le cadre de la présente invention que des cendres issues de procédés industriels peuvent être utilisées dans des formulations de caoutchouc pour remplacer tout ou partie des charges de renfort, en conférant des propriétés mécaniques similaires à celles du noir de carbone.
C'est pourquoi la présente invention a pour objet une lame d'essuyage pour balai d'essuie-glace, au moins une partie de ladite lame comprenant un matériau à base (i) d'élastomère contenant du caoutchouc naturel et de l'éthylène-propylène-diène monomère (EPDM), vulcanisé et (ii) des charges de renfort, les charges de renfort comprenant une pouzzolane.
L'invention a également pour objet l'utilisation de pouzzolane dans la fabrication d'une lame d'essuyage pour balai d'essuie-glace, ladite lame comprenant un matériau à base d'élastomère contenant du caoutchouc naturel et de l'éthylène-propylène-diène monomère (EPDM) vulcanisé, et au moins des charges de renfort.
La pouzzolane est une roche naturelle constituée par des scories (projections) volcaniques basaltiques ou de composition proche. Elle a une structure alvéolaire.
Les pouzzolanes correspondent de manière générale à des substances qui, en présence d'eau, peuvent se combiner à la chaux pour donner des hydrates très peu solubles.
Au sens de l'invention, pouzzolane désigne des substances silico-alumineuses telles que des cendres volantes issues de procédés industriels annexes tels que ceux de la cimenterie. Ces scories émanant en cours de procédé sont récupérées sous la forme de poudre de particules dures qui peuvent être réutilisées en tant que charge.
Les pouzzolanes utiles selon l'invention peuvent par exemple être issues de la combustion des charbons schisteux brulés en centrale thermique employées dans la confection des ciments.
Les pouzzolanes sont des aluminosilicates. La composition en éléments Al, O et Si peut être déterminée par spectrométrie, en particulier par microscope à balayage couplé à un spectromètre à sélection d’énergie silicium Xmax 80N. Les pouzzolanes contiennent également, en quantité moindre, des métaux alcalin ou alcalino-terreux, ou des métaux de transition ; elles contiennent notamment des taux de Na, Mg, Fe, Au et du calcium. Un exemple de composition de pouzzolane convenant à la mise en œuvre de l'invention est représenté sur la .
Pour la mise en œuvre de l'invention, on utilise de préférence des pouzzolanes qui se présentent sous forme de particules amorphes ; de préférence, au moins 90% des particules de pouzzolane selon l'invention sont sous forme amorphe.
Avantageusement, les particules de pouzzolane ont une forme sphéroïde.
La pouzzolane selon l'invention est sous forme de particules de taille moyenne d'environ 4 µm à 5 µm, notamment d'environ 4 µm. la taille moyenne des particules de pouzzolane est de préférence inférieure ou égale à 5 µm, c’est-à-dire que 95% de la population de l'ensemble des particules a une taille inférieure ou égale à 5 µm.
La taille moyenne des particules est déterminée par des méthodes connues de l'homme du métier, comme par exemple la diffraction laser.
Une pouzzolane convenant particulièrement à la mise en œuvre de l'invention est la cendre volante de numéro de CAS 68131-74-8.
La pouzzolane sous forme de telles particules peut être utilisé comme charge de renfort dans un matériau à base d'élastomère. Elle confère un caractère renforçant, par rapport à un mélange de même composition mais ne contenant pas de charge.
De manière surprenante, des quantités importantes de pouzzolane peuvent être incorporées dans des matériaux à base de caoutchouc et d'EPDM, sans altérer les propriétés élastiques dudit matériau. En effet, il est connu de l’état de la technique dans le domaine des matériaux à base d’élastomère que si es charges permettent de rigidifier les matériaux, une trop grande quantité de ceux-ci par rapport à l’élastomère modifiera certes la rigidité du matériau mais au détriment de l’élasticité. Aussi, l’homme du métier sait que la quantité de charge doit être au plus égale à la quantité d’élastomère.
L'invention a donc notamment pour objet des lames d'essuyage pour balai d'essuie-glace comprenant un matériau présentant une ou plusieurs caractéristiques définies dans ce qui précède, et dans lesquelles le matériau contient de 70 à 230 pce de pouzzolane.
Les quantités exprimées en pce (parties pour cent d'élastomère) -correspondant à phr (pour « parts per hundred of rubber ») en anglais – sont très supérieures à celles acceptables pour du noir de carbone.
Selon des modes de réalisation, la pouzzolane peut être présente dans le matériau à raison de 100 à 160 pce.
La composition du matériau peut ainsi contenir de fortes quantités de charges, ce qui permet de réduire la quantité de caoutchouc/EPDM et donc de réduire les coûts de production.
Ainsi, l'étude des courbes de contrainte allongement montre qu'un mélange chargé à 160 pce en pouzzolane présente un module 25% similaire à celui d'un mélange à 50 pce de noir de carbone.
Selon certains modes de réalisation de l'invention, les charges de renfort sont constituées intégralement de pouzzolane.
La pouzzolane peut constituer de 40 à 100% en masse des charges de renfort, notamment de 50 à 100% des charges de renfort, en particulier de 50 à 70%.
Selon un mode de réalisation, le matériau comprend en outre au moins un agent choisi parmi les plastifiants, les agents de protection contre les UV, les anti-oxydants et les agents de vulcanisation, notamment parmi les plastifiants et les anti-oxydants.
En particulier, il comprend au moins un plastifiant. Un plastifiant est un composant permettant de rendre le matériau plus souple et/ou plus facile à mettre en œuvre pour la fabrication d'une lame d'essuyage (en matériau élastomérique). De manière générale, les plastifiants sont souvent des compositions comprenant des acides gras, notamment des huiles minérales ou végétales.
En particulier, une position relative optimale corrigée 27 est définie. Le repère 26 est agencé sur le premier composant tubulaire non pas en fonction de la position nominale mais en fonction de cette position relative optimale corrigée 27, ci-après appelée position corrigée 27. Cette position corrigée 27 est définie en fonction de la position nominale définie dans les spécifications mais également en fonction d’un diamètre externe OD du premier composant tubulaire 2, d’une épaisseur Wt du premier composant tubulaire 2 ainsi que du pas de filetage Pdf du premier filetage 8. Le diamètre externe OD, l’épaisseur Wt et le pas de filetage Pdf sont mesurés, calculé ou obtenus par tout autre moyen sur le premier composant tubulaire 2 après sa fabrication, il s’agit donc des paramètres réels dudit premier composant tubulaire.
La position corrigée 27 est également positionnée en fonction du couple cible CC de la connexion tubulaire 1.
Ainsi, une correction de positionnement de la position relative optimale est calculée pour le repère. Cette correction répond à l’équation : dans laquelle ST est un seuil de tolérance, OD est le diamètre externe du premier composant tubulaire 2, Wt est l’épaisseur du premier composant tubulaire 2, CC est le couple cible de la connexion tubulaire 2 et PdF est le pas de filetage du premier filetage 8, de préférence le plus grand parmi un pas de filetage du flanc de chargement et un pas de filetage du flanc d’engagement du premier filetage 8.
Le seuil de tolérance ST peut être déterminé de nombreuses manières. De façon préférentielle, ce seuil de tolérance ST peut être déterminé de manière arbitraire, par exemple à une valeur de 96000, cette valeur étant adaptée à l’ensemble des connexions selon l’invention. Un seul de tolérance ST peut également être calculé par analyse de l’inclinaison des filetages ainsi que des pas de filetage, en particulier du « wedge ratio », c’est-à-dire une différence entre le pas de filetage des flancs d’engagement et les pas de filetage des flancs de chargement.
Cette équation permet d’obtenir une distance de déplacement de la position nominale. Ainsi, la position corrigée 27, et donc la position d’agencement du repère 26 sur le premier composant tubulaire 2, est obtenue en appliquant à la position nominale un déplacement d’une valeur correspondant à la correction obtenue.
Cette correction permet de positionner repère 26 de façon précise et fiable. En particulier, la position corrigée 27 prend en compte les tolérances de fabrication du premier composant tubulaire 2 et de la connexion tubulaire 1 de sorte que cette position corrigée 27 correspond à un positionnement relatif de la deuxième extrémité libre 12 par rapport au repère 26 dans lequel les surfaces d’étanchéité 7, 9, 13 et 15 sont effectivement correctement positionnées pour assurer l’étanchéité de la connexion tubulaire 1.
Par ailleurs, le repère 26 agencé à partir de la position corrigée 27 comporte une borne inférieure corrigée 28 et une borne supérieure corrigée 29 qui peuvent être déterminées de nombreuses manières.
Par exemple, la borne inférieure corrigée 28 et/ou la borne supérieure corrigée 29 peuvent-être déterminées par, respectivement, une borne inférieure nominale et/ou une borne supérieure nominale. Le repère 26 comporte dans ce cas des zones de tolérances inférieure et supérieure déterminées par la position corrigée 27 et ces bornes nominales.
Alternativement, la borne inférieure corrigée 28 et/ou la borne supérieure corrigée 29 peuvent-être déterminées sur la base de statistiques de bornes acceptables.
De préférence, de façon analogue à la position corrigée 27, la borne inférieure corrigée 28 et/ou la borne supérieure corrigée 29 sont également déterminées à partir des paramètres structurels réels de la connexion tubulaire 1 afin d’améliorer encore la fiabilité et la précision du repère 26.
Ainsi, la borne inférieure corrigée 28 est avantageusement déterminée en fonction de l’interférence minimale souhaitée entre les surfaces d’étanchéité 7, 9, 13 et 15. De même, la borne supérieure corrigée 29 est avantageusement corrigée en fonction de l’interférence souhaitée entre les surfaces d’étanchéité7, 9, 13 et 15.
Idéalement, la borne inférieure est déterminée en fonction de l’interférence minimale souhaitée entre les surfaces d’étanchéité 7, 9, 13 et 15 mais également en fonction de l’interférence entre les filetages 8 et 14. De même, idéalement, la borne supérieure corrigée 29 est déterminée en fonction de l’interférence souhaitée entre les surfaces d’étanchéité 7, 9, 13 et 15 mais également en fonction de l’interférence entre les filetages 8 et 14.
Dans le cadre d’une connexion comportant une pluralité d’étanchéités comme illustrée sur la , une borne inférieure corrigée est déterminée pour chacune des étanchéités de manière à obtenir une pluralité de borne inférieures corrigées. La borne inférieure corrigée utilisée pour définir le repère 26 est alors la plus petite borne inférieure corrigée parmi cette pluralité de bornes inférieures corrigées. De façon analogue, une borne supérieure corrigée est calculée pour chacune des étanchéités et la borne supérieure corrigée utilisée pour définir le repère 26 est la plus petite borne supérieure corrigée parmi la pluralité de bornes supérieures corrigées obtenues en fonction de la pluralité d’étanchéité.
Ainsi, dans le cadre de la connexion tubulaire illustrée sur la comportant une étanchéité interne formée conjointement par la première surface d’étanchéité interne 9 et la deuxième surface d’étanchéité interne 13 et une étanchéité externe formée conjointement par la première surface d’étanchéité externe 7 et la deuxième surface d’étanchéité externe 15, des bornes corrigées sont déterminées pour l’étanchéité interne et des bornes corrigées sont déterminées pour l’étanchéité externe. La borne inférieure corrigée 28 du repère 26 est alors la plus petite borne inférieure corrigée parmi celles déterminées pour l’étanchéité interne et pour l’étanchéité externe. De même, la borne supérieure corrigée 29 du repère 26 est alors la plus petite borne supérieure corrigée parmi celles déterminées pour l’étanchéité interne et pour l’étanchéité externe.
Il est décrit ci-dessous le positionnement de borne inférieure corrigée et de borne supérieure corrigée de façon générique pour une zone d’étanchéité, la description ci-dessous étant applicable pour chacune des différentes étanchéités.
Selon un mode de réalisation prenant en compte l’interférence réelle entre les surfaces d’étanchéité, la borne inférieure corrigée 28 répond à l’équation : dans laquelle SI est un pourcentage d’interférence à l’étanchéité, R1 est une perte d’interférence acceptable entre les surfaces d’étanchéité, ST1 est une inclinaison de la première surface d’étanchéité, ST2 est une inclinaison de la deuxième surface d’étanchéité.
La piscine 1 décrite ci-avant peut être obtenue par la mise en œuvre du procédé décrit ci-avant.
L’acier inoxydable utilisé est choisi parmi les aciers résistant à la corrosion de l’eau et aux produits d’entretiens, comme de l’acier inoxydable référencé dans les normes sous l’appellation « acier inoxydable 316L ».
Piscine en métal, en particulier en acier inoxydable, et procédé de construction d’une telle piscine Le domaine de l’invention est celui de la conception et de la fabrication de piscines en métal.
L’invention concerne plus particulièrement une piscine formée par une pluralité de tôles en métal, en particulier en acier inoxydable, assemblées les unes aux autres.
Dans le domaine de l’invention, le document de brevet publié sous le n°GB1238832 décrit une piscine en métal.
Cette piscine est en particulier en aluminium.
La piscine comprend une pluralité de tôles qui sont assemblées ensemble pour délimiter un bassin.
Les tôles présentent sur leur périphérie un retour replié vers l’extérieur du bassin. Les retours sont conçus pour être en contact l’une contre l’autre, suite au positionnement des tôles les unes par rapport aux autres pour former le bassin.
L’assemblage des tôles est alors réalisé par le biais d’une soudure continue réalisée le long des retours à l’intérieur du bassin, et par des soudures par points réalisées le long des retours pour coupler les retours les uns aux autres.
Une telle piscine présente une résistance mécanique insuffisante à la jonction entre les tôles.
Plus particulièrement, des ruptures de la soudure continue le long des retours peuvent être constatées et ce, notamment si un meulage et un polissage de ce cordon de soudure est réalisé pour améliorer la qualité perçue de ces cordons de soudure à l’intérieur du bassin, ce qui est notamment recherché lors de la fabrication d’une piscine en métal.
Le document de brevet publié sous le n° FR1604439 divulgue une piscine en métal qui est plus particulièrement en acier inoxydable.
Cette piscine comprend une pluralité de tôles qui sont assemblées ensemble pour délimiter un bassin.
Comme pour la piscine précédemment décrite, les tôles présentent sur leur périphérie des retours repliés vers l’extérieur du bassin.
Les retours sont fixés entre eux à l’aide d’un boulonnage régulier par l’extérieur du bassin.
De plus, un joint continu en résine est réalisé à la jonction entre les deux tôles au niveau des retours, dans une gorge préformée sur les tôles au niveau des retours.
le lavage à l’eau du produit semi-fini de matériau d’électrode de blanc de Prusse, et la filtration du produit semi-fini lavé de matériau d’électrode de blanc de Prusse pour obtenir un second résidu de filtration ; et
le séchage du second résidu de filtration pour obtenir le matériau d’électrode de blanc de Prusse.
Dans certains autres modes de réalisation, l’acétal cyclique comprend au moins l’un parmi le 1,3-dioxolane, le propylène glycol formal, et le diéthylène glycol formal.
Dans certains autres modes de réalisation, la solution de formaldéhyde comprend au moins l’une d’une solution de formaldéhyde à 40%-50% et d’une solution de polyoxyméthylène dont le degré de polymérisation est inférieur à 4.
Dans certains autres modes de réalisation, l’initiateur comprend au moins l’un du trifluorure de bore et du tétrachlorure de titane.
Dans d’autres modes de réalisation, la masse de l’acétal cyclique est de 5% à 8% de la masse de formaldéhyde dans la solution de formaldéhyde.
Dans certains autres modes de réalisation, la somme de la masse de l’acétal cyclique et de la solution de formaldéhyde représente 1,8% à 2,5% de la masse du premier résidu de filtration.
Dans certains autres modes de réalisation, l’initiateur est utilisé à raison de 0,1 mmol à 0,5 mmol.
Dans certains autres modes de réalisation, le broyage dans un broyeur à boulets est effectué à une température de 80°C à 100°C pendant 2 h à 4 h.
Dans certains autres modes de réalisation, la filtration est centrifuge.
Dans certains autres modes de réalisation, le matériau d’électrode de blanc de Prusse est obtenu en utilisant le procédé de préparation du matériau d’électrode de blanc de Prusse décrit dans l’un quelconque des modes de réalisation ci-dessus.
Par rapport aux technologies connexes, les modes de réalisation de la présente demande présentent au moins les avantages suivants.