INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
A l'étape 504, la puissance du champ électromagnétique émis par l'antenne 207 est augmentée en augmentant la tension Vdd. Pour cela, une commande est envoyée au circuit convertisseur 202. Selon un exemple, la tension de commande Vdd est augmentée par palier, par exemple par palier de 0.8 V.
A l'étape 505, la puissance du champ électromagnétique émis par l'antenne 207 est diminuée en diminuant la tension Vdd. Pour cela, une commande est envoyée au circuit convertisseur 202. Selon un exemple, la tension de commande Vdd est diminuée par palier, par exemple par palier de 0.8 V.
Ce troisième mode de mise en oeuvre présente les même avantages que les premier et deuxième modes de mise en oeuvre décrit en relation avec les figures 4 et 5.
La est un schéma-bloc illustrant un quatrième mode de mise en oeuvre d'un procédé d'adaptation de la tension de commande Vdd, décrite en relation avec la , du dispositif 100 décrit en relation avec la .
A une étape initiale 601 (Measure T), correspondant à un état initial, l'antenne 207 n'émet aucun champ électromagnétique, mais reçoit une requête indiquant qu'elle doit en émettre un pour mettre en oeuvre une communication NFC. L'antenne 207 recevant donc une commande pour émettre un champ électromagnétique, les moyens 104 du dispositif 100 sont mis en oeuvre pour mesurer la température du dispositif 100, correspondant ici à la température ambiante comme dans le mode de mise en oeuvre de la .
A une étape 602 (Select Vdd), postérieure à l'étape 601, la valeur de la tension de commande Vdd fournie par le convertisseur 202 est choisie en fonction de la valeur de la température T mesurée. Pour cela, le dispositif 100 peut utiliser une table de correspondance indiquant la valeur de tension appropriée à la tension Vdd fournie. Une fois la valeur de la tension Vdd choisie, le convertisseur 202 est commandée pour fournir la valeur en question.
A une étape 603 (Field Em.), postérieure à l'étape 602, la valeur de tension Vdd étant fixée, l'antenne 207 peut commencer à émettre un champ électromagnétique dont la puissance est configurée en utilisant la tension Vdd comme décrit en relation avec la .
A une étape 604 (T/Tmax), postérieure à l'étape 603, l'antenne 207 émet un champ électromagnétique, et la température T du dispositif 100 est mesurée par les moyens 104. Cette température T est comparée à une température maximale Tmax. Selon un mode de réalisation, cette étape a lieu périodiquement, par exemple toutes les 5 s à 1 min. Si la température T est inférieure à la température maximale Tmax (sortie T Tmax de l'étape 604), l'étape suivante est une étape 606 (Vdd dec.).
Dit autrement, selon une caractéristique non limitative du premier mode de réalisation, le dispositif de projection de liquide s’étend sur au plus 55% de la longueur de la monture de support.
Selon une caractéristique non limitative du premier mode de réalisation, la pluralité d’orifices de projection sont ménagés uniquement entre 40 et 55% de la longueur de la monture de support.
Dit autrement, selon une caractéristique non limitative du premier mode de réalisation, le dispositif de projection de liquide s’étend entre 40% et 55% de la longueur de la monture de support.
Selon une caractéristique non limitative du premier mode de réalisation, le dispositif de distribution et/ou de projection de liquide comprend en outre une buse de projection munie d’un orifice de projection, la buse de projection étant disposée au niveau de l’au moins un embout d’extrémité.
La buse de projection est configurée pour projeter du liquide depuis celle-ci en direction de la surface vitrée disposée en regard de la portion longitudinale de la paroi de la monture de support du balai d’essuie-glace, qui n’est pas muni d’orifices de projection.
Selon un deuxième mode de réalisation, la pluralité d’orifices de projection sont ménagés sur au moins 80% de la longueur de la monture de support.
Selon une caractéristique non limitative du deuxième mode de réalisation, l’au moins une rampe de distribution comprend une pluralité d’orifices de projection ménagés dans une paroi de la monture de support formant l’au moins une rampe de distribution, la pluralité d’orifices de projection étant ménagés sur au moins 80% de la longueur de la paroi de la monture de support.
Dit autrement, selon une caractéristique non limitative du deuxième mode de réalisation, le dispositif de projection de liquide s’étend sur au moins 80% de la longueur de la monture de support.
Selon une caractéristique non limitative du deuxième mode de réalisation, la pluralité d’orifices de projection sont ménagés sur au moins 90% de la longueur de la monture de support.
Selon une caractéristique non limitative du deuxième mode de réalisation, l’au moins une rampe de distribution comprend une pluralité d’orifices de projection ménagés dans une paroi de la monture de support formant l’au moins une rampe de distribution, la pluralité d’orifices de projection étant ménagés sur au moins 90% de la longueur de la paroi de la monture de support.
Dit autrement, selon une caractéristique non limitative du deuxième mode de réalisation, le dispositif de projection de liquide s’étend sur au moins 90% de la longueur de la monture de support.
Selon une caractéristique non limitative du deuxième mode de réalisation, la pluralité d’orifices de projection sont ménagés sur 100% de la longueur de la monture de support.
Selon une caractéristique non limitative du deuxième mode de réalisation, l’au moins une rampe de distribution comprend une pluralité d’orifices de projection ménagés dans une paroi de la monture de support formant l’au moins une rampe de distribution, la pluralité d’orifices de projection étant ménagés sur 100% de la longueur de la paroi de la monture de support.
Dit autrement, selon une caractéristique non limitative du deuxième mode de réalisation, le dispositif de projection de liquide s’étend sur 100% de la longueur de la monture de support.
Selon une caractéristique non limitative de l’invention (des premier et deuxième modes de réalisation), les orifices de projection de la rampe de distribution de liquide sont consécutifs et séparés entre eux par un pas d'orifices.
Selon une caractéristique non limitative de l’invention, les orifices de projection de la rampe de distribution de liquide sont alignés selon au moins la direction longitudinale du balai d'essuie-glace, le balai d’essuie-glace s’étendant dans la direction longitudinale.
La liste des types de séquences secrètes peut comprendre : - un code PIN ou séquence numérique; - une séquence alphanumérique ; - une séquence de symboles ou dessins ou figures ; - une séquence temporelle d’interactions avec un ou plusieurs objets virtuels; - toute autre séquence secrète pouvant être mémorisée et reproduite par l’utilisateur dans un espace virtuel.
En alternative, au lieu de demander à l’utilisateur de choisir un type de séquence secrète, un type de séquence secrète (ou une méthode d’authentification) est sélectionné par le serveur d’authentification ou un utilisateur administrateur parmi les types possibles.
Lors d’une étape 340, les données d’authentification de l’utilisateur correspondant à un ou des facteurs de connaissance sont acquises et enregistrées pour la ou les méthodes d’authentification (ou les types de séquences secrètes) sélectionnées à l’étape 330.
L’acquisition et l’enregistrement des données d’authentification peuvent être exécutés via l’environnement virtuel, en utilisant une représentation d’une première main de l’utilisateur dans l’espace virtuel, en affichant un ou plusieurs objets virtuels d’authentification en projection sur la représentation de la première main et en détectant des mouvements d’interaction effectués par l’utilisateur dans l’espace virtuel avec le ou les objets virtuels d’authentification pendant que le ou les objets virtuels d’authentification sont affichés en projection sur la représentation de la première main dans l’espace virtuel comme illustré par les figures 6 et 7.
Par exemple, si la méthode d’authentification choisie est basée sur un code secret (code PIN ou séquence alphanumérique), il est demandé à l’utilisateur de saisir ce code secret au moyen d’un objet virtuel d’authentification correspondant à un dispositif de saisie de code, par exemple un clavier virtuel numérique O1 ou un clavier virtuel alphanumérique O1 représenté dans l’espace virtuel comme illustré par la .
Par exemple, si la méthode d’authentification choisie est basée sur une séquence secrète de symboles, il est demandé à l’utilisateur de saisir la séquence secrète au moyen d’un objet virtuel d’authentification correspondant à un clavier virtuel présentant des touches avec un symbole par touche. L’utilisateur peut choisir quels sont les symboles affichés sur les touches et/ou le nombre de symboles du clavier. La sélection des symboles peut être effectuée par sélection de symboles dans un ensemble prédéfini de symboles qui est présenté à l’utilisateur ou par sélection (par exemple dans un contenu vidéo virtuel ou non et/ou dans des images) d’images ou blocs d’image servant de symboles.
Par exemple, si la méthode d’authentification choisie est basée sur la reproduction d’une séquence temporelle d’interactions avec des objets virtuels prédéfinis, l’utilisateur peut choisir des objets virtuels présents dans un contenu virtuel et effectuer la séquence temporelle d’interactions avec les objets virtuels choisis.
Une interaction avec un objet virtuel peut être par exemple : une action de déplacement de l’objet virtuel, une action de rotation ou pivotement de l’objet virtuel, une action de sélection de l’objet virtuel ; une action de modification de l’apparence de l’objet virtuel, etc. A chaque interaction, correspond un mouvement d’interaction qui peut être détecté par analyse des images acquises par une caméra du dispositif d’immersion.
Pour enregistrer la séquence secrète de référence lors de l'enrôlement, l'utilisateur doit sélectionner un ou plusieurs objets virtuels secrets de son environnement virtuel et définir un certain nombre d'actions ou de combinaisons d'actions sur les objets virtuels secrets 710, 711, 713, 714, par exemple : pivoter l'objet 710, changer la couleur de l'objet 711, modifier la taille de l'objet 713, déplacer l’objet 714 vers la droite, etc., comme illustré sur la . Cette séquence d’actions constitue sa séquence secrète de référence à rejouer lors de la phase d'authentification. En particulier, lors de la phase d'authentification, l’utilisateur doit sélectionner les objets virtuels secrets sélectionnés lors de l'enrôlement et interagir sur ces objets afin de rejouer la succession d'actions définie lors de la phase de l'enrôlement pour le facteur de connaissance (voir étape 440 notamment).
D’autres exemples de réalisation sont décrits par référence aux Figs. 4 à 6.
Quelle que soit la méthode d’authentification choisie, des données d’authentification de référence correspondant un facteur de connaissance sont enregistrées à l’issue de l’étape 340. Ces données d’authentification comprennent une description d’une séquence secrète (code secret ou autre), servant de référence.
Ces données d’authentification de référence sont de préférence stockées sous forme chiffrées ou bien enregistrées sous forme de condensat (« hash » en anglais) numérique. Par exemple, les données d’authentification de référence comprennent : - un condensat du code PIN saisi, - un condensat des positions des objets virtuels d’authentification sur la main ; - un condensat de la séquence secrète de référence.
Chacun des mouvements d’interaction de la séquence de référence peut être côté au moyen de mots clefs identifiant le type de mouvement d’interaction parmi des types de mouvement d’interaction (sélection de l’objet virtuel d’authentification, translation de l’objet virtuel d’authentification, rotation de l’objet virtuel d’authentification, modification de l’apparence de l’objet virtuel d’authentification, etc) avec d’éventuels paramètres propres à ce type de mouvement d’interaction. La séquence secrète est codée sous forme de liste, ordonnée ou pas, des mots clefs identifiant le type de mouvement d’interaction.
Quelle que soit la méthode d’authentification choisie, la séquence secrète est définie par une succession temporelle de mouvements d’interaction avec le ou les objets virtuels d’authentification, cette succession temporelle de mouvements d’interaction devant être reproduite par l’utilisateur dans l’espace virtuel pour être authentifié.
Dans des modes de réalisation, plusieurs séquences secrètes de référence sont enregistrées et toutes sont nécessaires pour l’authentification de l’utilisateur.
Dans des modes de réalisation, plusieurs séquences secrètes de référence sont enregistrées, mais une seule est choisie aléatoirement pour l’authentification de l’utilisateur.
Le circuit 1800 comprend, en outre, un circuit comparateur C1801, du type du circuit comparateur 1700 décrit en relation avec la . Le circuit comparateur C1801 comprend une première borne (+) d'entrée reliée, de préférence connectée, à la borne OT_SENSOR, et une deuxième borne d'entrée (-) reliée, de préférence connectée, au noeud milieu entre les résistances R1803 et R1804. Le circuit comparateur C1801 comprend une sortie reliée, de préférence connectée, à la borne DIAG_OT. Le circuit comparateur C1801 comprend, en outre, de bornes d'alimentation non représentées.
Le circuit 1800 comprend, entre le noeud milieu entre les résistances R1803 et R1804, et la borne SGND, et sur une troisième branche, une résistance R1805 et un transistor T1801 de type e-mode. Une première borne de la résistance R1805 est reliée, de préférence connectée, au noeud milieu entre les résistances R1803 et R1804, et une deuxième borne de la résistance R1805 est reliée, de préférence connectée, au drain du transistor T1801. La source du transistor T1801 est reliée, de préférence connectée, à la borne SGND. La grille du transistor T1801 est reliée, de préférence connectée, à la sortie du circuit comparateur C1801.
Le fonctionnement du circuit 1800 est le suivant. Lorsque la température au niveau de la résistance R1802 augmente, la tension aux bornes de la résistance R1802 augmente et la tension aux bornes de la résistance R1801 ne change pas. La tension entre les bornes OT_SENSOR et SGND augmente alors, et si elle dépasse une tension de référence VREF1800, la tension de sortie du circuit comparateur C1801 augmente, ce qui entraîne la baisse de la tension de sortie, c'est-à-dire la tension entre les bornes DIAG_OT et SGND. La tension de référence VREF1800 est obtenue par le pont diviseur de tension formé par les résistances R1803 et R1804, et par l'hystérésis formé par le transistor T1801 et la résistance R1805.
La représente un deuxième mode de réalisation d'un circuit protection contre les surchauffes 1900, adapté à faire partie du dispositif 400 décrit en relation avec la .
Le circuit 1900 présente des éléments communs avec le circuit 1800 de la . Ces éléments ne seront pas décrits de nouveau et seules les différences entre les circuits 1800 et 1900 seront mises en exergue.
Le circuit 1900 comprend tous les composants du circuit 1800 mais comprend en outre une quatrième branche de composants entre les bornes DZ et SGND. De plus, dans le circuit 1900 la sortie du circuit comparateur C1801 est reliée, de préférence connectée, seulement à la grille du transistor T1801 et non plus à la borne DIAG_OT.
Ladite quatrième branche comprend deux résistances R1901 et R1902, et un transistor T1901 de type e-mode. Une première borne de la résistance R1901 est reliée, de préférence connectée, à la borne DZ, et une deuxième borne de la résistance R1901 est reliée, de préférence connectée, à la borne DIAG_OT. Une première borne de la résistance R1902 est reliée, de préférence connectée, à la borne DIAG_OT, et une deuxième borne de la résistance R1902 est reliée, de préférence connectée, au drain du transistor T1901. Les résistances R1901 et R1902 ont des coefficients de température positifs toutes les deux. La source du transistor T1901 est reliée, de préférence connectée, à la borne SGND. La grille du transistor T1901 est reliée, de préférence connectée à la grille du transistor T1801 et à la sortie du circuit comparateur C1801.
Le fonctionnement du circuit 1900 est le suivant. Lorsque la température au niveau de la résistance R1802 augmente, la tension aux bornes de la résistance R1802 augmente et la tension aux bornes de la résistance R1801 ne change pas. La tension entre les bornes OT_SENSOR et SGND augmente alors, et si elle dépasse la tension de référence VREF1800, la tension de sortie du circuit comparateur C1801 augmente, ce qui entraîne la baisse de la tension de sortie, c'est-à-dire la tension entre les bornes DIAG_OT et SGND diminue aussi.
De plus, les résistances R1901, R1902 et la transistor T1901 forment un élément tampon permettant de fournir l'information d'apparition d'une surchauffe à un contrôleur externe, par exemple un microcontrôleur. La résistance R1902 est utilisée pour limiter le courant traversant le transistor T1901. En effet, dans un certain mode de fonctionnement du dispositif 400, le circuit 1900 peut être désactivé si l'utilisateur du dispositif ne veut plus avoir accès à la protection contre les surchauffes. Dans ce cas, si la borne de sortie DIAG_OT est reliée, de préférence connectée, à la borne DZ ou à la borne VDD, la résistance R1902 permet alors de réduire la tension de sortie DIAG_OT.
La est une vue de dessus du même exemple pratique de réalisation du dispositif 400 décrit en relation avec la , dans laquelle le positionnement des résistances R1801 et R1802 est représenté selon le premier mode de réalisation décrit en relation avec la .
Comme décrit précédemment, la résistance R1801 a un coefficient de température nul et est placé au niveau du circuit de commande 450 (emplacement R2 en ) de façon à être impacté au minimum par une éventuelle hausse de température du transistor 401.
La résistance R1802 a un coefficient de température positif et est placée au niveau du transistor 401 (emplacement R1 en ) de façon à voir la même variation de température que le transistor 401. Ainsi, la résistance R1802 voit la tension à ses bornes augmenter en cas de surchauffe du transistor 401.
La représente un troisième mode de réalisation, et un mode de réalisation préféré, d'un circuit protection contre les surchauffes 2100, adapté à faire partie du dispositif 400 décrit en relation avec la . La comprend deux vues (A) et (B), la vue (A) illustre, partiellement sous forme de blocs, le circuit de protection contre les surchauffes 2100, et la vue (B) illustre, une partie du circuit 2100 de protection contre les surchauffes.
Le circuit 2100 présente des éléments communs avec le circuit 1800 de la et le circuit 1900 de la . Ces éléments ne seront pas décrits de nouveau et seules les différences entre les circuits 1800, 1900, et 2100 seront mises en exergue.
Le circuit 2100 comprend la plupart des composants du circuit 1900 mais comprend, à la place de la résistance R1802 une résistance à résistance modifiable et son circuit de commande CMD1801. De plus, dans le circuit 2100 le transistor T1801 est remplacé par un interrupteur I2101 comprenant une borne de commande reliée, de préférence connectée, seulement à la grille du transistor T1901 et non plus à la borne DIAG_OT.
En , la résistance R2101 est formée par quatre résistances R2101-1 à R2101-4, dont trois résistances R2101-1 à R2101-3 sont sélectionnables l'intermédiaire d'interrupteurs I2102-1 à I2102-3. Selon un exemple, les interrupteurs I2102-1 à I2102-3 sont mis en oeuvre par des transistors de type e-mode. La personne du métier saura ajuster le nombre de résistances formant la résistance R2101 au nombre nécessaire pour son application.
La première bande métallique 26 est identique à description ci-dessus mais elle comprend en outre une échancrure plus longue qu’un diamètre du puisard 12 et plus large qu’une demi-largeur d’une bande métallique. Cette échancrure est refermée par la plaque intermédiaire 36.
Dans ce mode de réalisation à quatre pièces, la plaque intermédiaire 36 présente au moins premier bord de liaison 38 qui est échancré. Ce premier bord de liaison 38 comporte d’une part une zone d’accostage qui reçoit la plaque de fermeture 34 reliée l’une à l’autre par une soudure à clin et d’autre part deux flancs relevés 44 disposés longitudinalement de part et d’autre de la zone d’accostage. Le ou les flanc relevés 44 sont tournés vers le volume interne de la cuve, selon un angle par exemple égal à 90° par rapport à une partie plate 46 de la plaque intermédiaire 36.
Ce flanc relevé 44 est placé contre un flanc relevé d’une autre plaque intermédiaire 36 immédiatement adjacente et est rendu solidaire de ce flanc relevé par une ligne de soudure, tel qu’elle sera détaillée plus bas.
Comme cela est visible sur la , la plaque intermédiaire 36 et un bord relevé 32 de la bande métallique 26 solidaire de la plaque intermédiaire sont disposés à au moins 120mm l’un de l’autre, mesuré dans un plan parallèle à la membrane d’étanchéité primaire 20 ou secondaire 24, selon le cas. Cette distance est valable en tout point autour du puisard 12.
De plus, au moins l’une bande métallique 26 présente une longueur et une largeur, la plaque de fermeture 34 et la bande métallique 26 étant séparées l’une de l’autre par une distance strictement inférieure à la largeur de ladite bande métallique 26. De manière plus précise, la plaque de fermeture 34 et la bande métallique 26 peuvent être séparées l’une de l’autre d’une distance strictement inférieure à une demi-largeur de ladite bande métallique 26. En d’autres termes, la bande métallique 26 s’étend principalement le long de la direction longitudinale, ladite bande métallique 26 présentant une largeur mesurée le long de la direction transversale, qui pour rappel est sensiblement perpendiculaire aux directions longitudinale et verticale, les bords de la plaque de fermeture 34 et de la bande métallique 26 étant disposés à une distance l’un de l’autre strictement inférieure à la largeur de ladite bande métallique 26. Similairement à ce qui a été décrit ci-dessus, cette distance est valable en tout point autour du puisard 12.
Par ailleurs et tel que visible sur la , les plaques de fermeture 34 et les bandes métalliques 26 s’étendent dans un même premier plan, la plaque intermédiaire 36 s’étendant dans un deuxième plan distinct du premier plan, le premier plan et le deuxième plan étant sensiblement perpendiculaire à la direction verticale V. Le premier plan est un plan dans lequel s’inscrit principalement la plaque de fermeture 34 et la bande métallique 26. Avantageusement, la plaque intermédiaire 36 est disposée au-dessus de la plaque de fermeture 34 et de la bande métallique 26, en étant en contact à la fois avec la face interne 28 de la plaque de fermeture 34 et avec la face interne 50 de la bande métallique 26.
La plaque intermédiaire 36 présente au moins le premier bord de liaison 38 avec au moins la plaque de fermeture 34 et le deuxième bord de liaison 40 avec au moins l’une des bandes métalliques 26, au moins le premier bord de liaison 38 recouvre au moins partiellement ladite plaque de fermeture 34. La illustre le mode de réalisation à quatre pièces et c’est la raison pour laquelle le deuxième bord de liaison 40 recouvre au moins partiellement ladite bande métallique 26. Dans cette configuration, la face externe 30 de la plaque intermédiaire 36 est en contact de chacune des faces internes de la plaque de fermeture 34 et de la bande métallique 26.
Tel que visible sur la , la membrane d’étanchéité 20, 24 comprend au moins deux plaques intermédiaires 36 pourvues chacune d'une partie majoritairement plate 46 et de flancs relevés 44, les plaques intermédiaires 36 étant reliées l’une à l’autre par soudure de leurs flancs relevés 44. Cette caractéristique spécifique favorise l’élasticité de la membrane d’étanchéité 20, 24.