INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Avantageusement, le procédé comporte une étape c) ultérieure au cours de laquelle on retire le substrat, moyennant quoi on obtient une structure thermoélectrique comprenant la couche métallique et l’élément thermoélectrique.
Avantageusement, l’élément thermoélectrique est une pièce ayant la forme d’un peigne délimitant une base et une pluralité de branches, sensiblement parallèles entre elles, s’étendant sensiblement orthogonalement à partir de la base, la pluralité de branches ayant une première extrémité et une deuxième extrémité, la première extrémité étant reliée à la base, et la deuxième extrémité de la pluralité de branches étant en contact avec la couche métallique.
Avantageusement, l’élément thermoélectrique est un plot, ayant une base et une hauteur.
Selon cette variante avantageuse, la couche métallique peut avoir une même surface que la surface de la base du plot. Toujours selon cette variante avantageuse, la couche métallique peut avoir une surface supérieure à la surface de la base du plot.
Avantageusement, lors de l’étape a), la couche métallique recouvre localement le substrat de manière à former une pluralité d’ilots et un élément thermoélectrique ou plusieurs éléments thermoélectriques sont déposés sur chaque ilot lors de l’étape b).
Avantageusement, le matériau thermoélectrique est Si, SiGe, Bi 2 Te 3 , Half-Heusler, Skutterudites.
La présente divulgation propose de sélectionner un groupe de nœuds ou un nœud pour déployer une application sur au moins un des nœuds, et comprend : - une sélection d’au moins un premier groupe de nœuds comprenant au moins un nœud pour déployer l’application, la sélection étant fonction d’au moins une information d’exécution associée à l’application et comprenant au moins un critère d’exécution de l’application et d’au moins une information de capacité associée à au moins un nœud du au moins un premier groupe de nœuds, la sélection étant opérée lors d’un déploiement de l’application et/ou lors d’une exécution de l’application.
Suite à la sélection du groupe de nœuds, une requête de déploiement de l’application peut être transmise au groupe de nœuds.
Dans certains modes de réalisation, lorsque la sélection est opérée lors d’une exécution de l’application, elle peut être opérée lors de la modification de capacité d’au moins un des nœuds dudit système, ou lors d’une reconfiguration du système. Par reconfiguration, on peut entendre modification des groupes de nœuds de manière structurelle, par exemple par ajout ou retrait d’un nœud dans un groupe, ou par ajout d’une connexion (USB, …) à un nœud, ou modification de l’architecture du réseau de groupes de nœuds.
Le dispositif T1 reçoit notamment une requête d’un utilisateur, demandant le déploiement d’une application. Le terminal T1 comprend plusieurs modules et notamment un module 11 de gestion et un module 12 de pilotage. Il est entendu que le système peut comprendre plusieurs terminaux tels que le terminal T1 et que ces terminaux peuvent transmettre également des requêtes. Les modules 11 et 12 sont configurés pour sélectionner le ou les groupes de nœuds sur lequel l’application est déployée.
Dans un tel environnement, chaque groupe de nœuds peut être en charge de répartir la charge, au sein du groupe, sur les différents nœuds qui le composent grâce à un répartiteur de charge de ce groupe de nœuds. Le module 12 de pilotage du terminal T1 est lui en charge de piloter les groupes de nœuds. Le module 12 pilote la répartition de charge entre les groupes de nœuds et éventuellement entre les nœuds (directement et/ou via les répartiteurs de charge des groupes selon les modes de réalisation par exemple) et se charge de répartir le déploiement sur les groupes de nœuds qui ont été sélectionnés par le module de gestion lorsque par exemple un seul groupe de nœuds n’est pas suffisant pour le déploiement de l’application. Ainsi, il y a une répartition de charge à double niveaux, une au niveau groupe de nœuds et une au niveau nœuds.
Suite à la réception de la requête utilisateur, le module de gestion peut récupérer des informations relatives aux différents groupes de nœuds du système comme : - des informations relatives à l’organisation des groupes de nœuds, telles l’identification des différents niveaux hiérarchiques présents dans le système et la localisation des groupes de nœuds dans ce système (comme leur position hiérarchique dans le système), - des informations relatives à la capacité des groupes de nœuds et notamment pour chaque groupe de nœuds : - un identifiant du groupe de nœud ; - une adresse du groupe de nœuds ; - une identification des ressources disponibles sur le groupe, comme la capacité de traitement disponible, la capacité mémoire disponible, le nombre d’applications actives sur le groupe de nœuds, - la liste des nœuds gérés dans ce groupe.
Pour au moins un nœud (par exemple chaque) identifié dans au moins un (par exemple chaque) groupe de nœuds identifié, le module de gestion peut récupérer également les ressources disponibles du nœud, à savoir comme mentionné ci-dessus pour les groupes de nœuds, - une identification des ressources disponibles, comme la capacité de traitement disponible, la capacité mémoire disponible, le nombre d’applications actives sur le nœud.
Le module de gestion peut récupérer également des informations relatives à une information d’exécution associée à l’application et comprenant au moins un critère d’exécution de l’application.
Parmi les critères d’exécution de l’application, on peut citer par exemple: - une capacité mémoire minimale nécessaire à l’exécution de l’application, - un nombre de processeurs nécessaire à l’exécution de l’application, - un temps de latence maximal, - une information relative à la confidentialité de l’application ou des données utilisées par l’application, - l’accès à un réseau spécifique accessible localement par un nœud, - l’accès à un matériel connecté à un nœud (USB, série, etc.).
Selon les modes de réalisation, différentes méthodes peuvent être utilisées pour classifier des critères selon un ordre d’importance et sélectionner des objets ou dispositifs (comme des nœuds ou groupes de nœuds) qui répondraient au mieux à ces critères en fonction de leur capacité.
Dans certains modes de réalisation, un critère représente une condition nécessaire à l’exécution de l’application.
Dans certains modes de réalisation, plusieurs critères peuvent être spécifiés par l’application. Dans ce cas, ces critères peuvent être hiérarchisés selon un ordre d’importance. La sélection du au moins un groupe de nœuds sélectionne au moins un groupe de nœuds dont la capacité d’au moins un nœud du groupe sélectionné répond au critère d’ordre le plus élevé. Lorsque l’information d’exécution associée à une application contient plusieurs critères, ceux-ci peuvent être plus ou moins importants pour garantir la bonne exécution de l’application. Les critères peuvent être classés, par exemple du plus important au moins important, rendant possible de sélectionner un groupe de nœuds pour son déploiement, en recherchant tout d’abord le ou les groupes de nœuds répondant au critère le plus important puis ensuite parmi ces groupes de nœuds (répondant à ce critère le plus important) ceux qui répondent au second critère le plus important, et ainsi de suite. On obtient ainsi le groupe de nœuds répondant le mieux aux critères.
Dans certains modes de réalisation, les critères peuvent également être classés selon des catégories d’exigence, à savoir par exemple, nécessaire, souhaité, préféré. Un critère classé nécessaire est obligatoire pour l’exécution de l’application, un critère classé comme souhaité permet d’assurer un bon fonctionnement de l’application, lors de son exécution, et un critère classé comme préféré permet une meilleure expérience utilisateur. Ces critères peuvent être mis en relation avec les caractéristiques techniques des groupes de nœuds et des nœuds. A l’intérieur de chaque catégorie, les critères peuvent également être hiérarchisés du plus important au moins important. Ainsi, ils peuvent être classés selon une liste hiérarchisée.
Dans de tels modes de réalisation, la sélection peut sélectionner le groupe de nœuds ou le nœud en fonction d’une comparaison e entre ladite liste hiérarchisée et les caractéristiques techniques, le groupe étant sélectionné lorsque l’une au moins des caractéristiques techniques correspond à au moins un premier critère. Par exemple, les critères peuvent être parcourus dans la liste ordonnée en partant du plus important vers le moins important. Les critères, les plus importants, selon cet ordonnancement, étant par exemple les critères classés nécessaires hiérarchisés puis les critères souhaités, également hiérarchisés, puis les critères préférés également hiérarchisés.
Dans certains modes de réalisation, les groupes de nœuds possèdent l’information d’une modification future de leurs caractéristiques et cette information peut être prise en compte lors de la sélection.
Dans certains modes de réalisation, lorsqu’un seul groupe de nœuds ne possède pas à lui seul, les caractéristiques techniques nécessaires pour répondre à au moins un critère classé nécessaire, alors plusieurs groupes de nœuds sont sélectionnés pour répondre à ce besoin.
Par « atome d’halogène » on entend un atome choisi parmi le chlore, le brome, l’iode et le fluor.
DESCRIPTION DETAILLEE DE L'INVENTION Un premier objet de l’invention est l'utilisation d'un complexe du fer pour la polymérisation de diènes conjugués.
A/ Complexe du fer
Le complexe du fer utile au besoin de la présente invention est un composé de formule (I) : Fe(N(R) 2 ) 2 (I)
dans laquelle les symboles R, identiques ou différents, représentent un atome d’hydrogène, un radical aliphatique linéaire ou ramifié en C1-C20, substitué ou non, un radical cycloaliphatique en C3-C20, substitué ou non, un radical aromatique en C6-C20, substitué ou non, ou un radical silyle, substitué ou non de formule -Si(R')3 dans laquelle les symboles R', identiques ou différents, représentent un atome d’hydrogène, un radical aliphatique linéaire ou ramifié en C1-C20, substitué ou non, un radical cycloaliphatique en C3-C20, substitué ou non, ou un radical aromatique en C6-C20, substitué ou non.
De tels composés métalliques du fer sont notamment utilisés dans WO 2019008279 pour leur activité catalytique dans l'hydrosilylation et/ou la silylation déshydrogénante de composés organopolysiloxanes avec un composé comprenant au moins une fonction hydrogénosilyle.
Les radicaux aliphatique, cycloaliphatique et aromatique définissant R et R' peuvent être substitués par un ou plusieurs substituants indépendamment choisis parmi les atomes d’halogène, les (halo)cycloalkyles en C3-C6, les (halo)aryles en C6-C14.
Le radical cycloaliphatique et le radical aromatique définissant R et R' peuvent en outre ou alternativement être substitués par un ou plusieurs substituants indépendamment choisis parmi les (halo)alkyles en C1-C10, les (halo)aralkyles en C7-C12, les (halo)alcényles en C2-C10 et les (halo)alcynyles en C2-C10.
Selon certains modes de réalisation, dans la formule (I) ci-dessus, chaque R représente un radical silyle de formule -Si(R')3 dans laquelle chaque R' représente indépendamment l’un de l’autre un atome d'hydrogène ou un radical alkyle en C1-C20, de préférence un radical alkyle en C1-C10, par exemple un radical méthyle, éthyle, n-propyle, iso-propyle, n-butyle, sec-butyle, iso-butyle ou tert-butyle.
Selon certains modes de réalisation, dans la formule (I) ci-dessus, chaque R représente un radical trialkylsilyle de formule -Si(R')3 dans laquelle chaque R' représente un radical alkyle en C1-C4, par exemple un radical méthyle.
Selon certains modes de réalisation, le complexe du fer de formule (I) est un bis[N,N-bis(trialkylsilyl)amidure] de fer (II), en particulier le bis[N,N-bis(triméthylsilyl)amidure] de fer (II).
Préparation du complexe du fer :
Le complexe du fer de formule (I) peut être préparé de manière connue selon un procédé simple de réaction d'un halogénure du fer, par exemple le chlorure ou bromure de fer, en présence de THF avec un amidure de lithium de formule Li-N(SiR3)2. Un tel procédé est par exemple décrit dans WO2013043912A2, ou encore dans l'article Andersen, R. A.; Faegri, K.; Green, J. C.; Haaland, A.; Lappert, M. F.; Leung, W. P.; Rypdal, K. Inorg. Chem. 1988, 27 (10), 1782-1786, en ce qui concerne la synthèse de Fe(N(SiMe 3 ) 2 ) 2 .
Selon l'invention, le complexe du fer de formule (I) est utilisé pour la polymérisation de diènes conjugués, en particulier des 1,3-diènes, de préférence du butadiène, de l'isoprène ou de leurs mélanges.
Pour les besoins de l'invention, le complexe du fer de formule (I) est alors avantageusement utilisé au sein d'un système catalytique.
B/ Système catalytique
Ce deuxième mode de réalisation est avantageux car il permet d’utiliser directement le matériau du substrat 100 (plateau) pour la métallisation des plots 200, la tenue mécanique de la métallisation étant améliorée par la présence de la couche d’accroche 300.
Dans ces premiers modes de réalisation, le substrat 100 est découpé à la taille des plots 200.
Selon une variante de réalisation, le substrat 100 peut être découpé de manière avoir une surface supérieure à la surface de la base des plots 200.
Par exemple, selon un troisième mode de réalisation, représenté aux figures 3A à 3C, le procédé comprend les étapes suivantes :
b) déposer un plot thermoélectrique 200, en un deuxième matériau sur le substrat 100, par fabrication additive, de préférence par SLS ou FLLP, sur chaque ilot,
c) amincir et découper le substrat 100, moyennant quoi on obtient plusieurs structures comprenant chacune un film 101 en premier matériau recouvert par une couche d’accroche 300 puis par un plot thermoélectrique 200.
Avantageusement, le même procédé est mis en œuvre pour fabriquer d’autres structures thermoélectriques comprenant chacune un film 111 en premier matériau recouvert par une couche d’accroche 310 puis par un plot thermoélectrique en un quatrième matériau de conductivité opposée à la conductivité du deuxième matériau ( ). Les deux dispositifs sont ensuite assemblés pour former, de préférence, des modules squelettes ( ).
Par exemple, selon un quatrième mode de réalisation, représenté aux figures 4A à 4C, le procédé comprend les étapes suivantes :
b) déposer plusieurs plots thermoélectriques 200, 201, en un deuxième matériau sur chaque ilot de la couche d’accroche métallique 300, par fabrication additive, de préférence par SLS ou FLLP,
c) amincir et découper le substrat 100, moyennant quoi on obtient une structure comprenant un film 101 en premier matériau recouvert par une couche d’accroche 300, sur laquelle sont disposées plusieurs plots thermoélectriques 200, 201.
Avantageusement, le même procédé est mis en œuvre pour fabriquer une structure additionnelle à partir d’un substrat 110, recouvert localement par une couche d’accroche métallique 310 sur laquelle sont formées plusieurs plots 210, 211 par fabrication additive (figures 4D à 4F)
Cette structure additionnelle comprend un film 111 recouvert par une couche d’accroche 310 sur laquelle sont disposés plusieurs plots thermoélectriques 210, 211 de conductivité opposée à la conductivité des plots 200, 201 de la première structure ( ). Les deux dispositifs sont ensuite assemblés pour former, de préférence, des modules squelettes ( ).
Selon un autre mode de réalisation préférentielle de l’invention, le rail amortisseur est pressé directement par un élément de retour (ou élément enveloppant) de l’élément déflecteur contre le rail élastique. L’élément déflecteur forme, avec les éléments de retour, de préférence, chaque fois deux cavités de serrage latéraux. Grâce à la faible hauteur constructive verticale des deux éléments en forme de rail du rail élastique et du rail amortisseur, la force transmise par le rail amortisseur au rail élastique se fera sur une course minimale, ce qui donne un serrage ferme particulièrement stable.
Pour réduire avantageusement le décrochage du rail amortisseur par rapport au rail élastique, également dans la zone médiane, c’est-à-dire dans la zone de la lèvre d’essuyage, selon un autre développement particulièrement avantageux de l’invention, le rail amortisseur présente un segment rigidificateur dans la zone médiane. Ce segment rigidificateur est, de préférence, réalisé en une seule pièce avec l’élément amortisseur et/ou la lèvre d’essuyage. De façon préférentielle, le segment rigidificateur est obtenu par une accumulation locale de matière.
Une solution particulièrement simple et économique est celle d’une unité de lame d’essuyage comportant la lèvre d’essuyage, le rail amortisseur et, de préférence, l’élément de couplage en une seule pièce, notamment en un caoutchouc de lame d’essuyage, en particulier en EPDM extrudé.
Pour avoir une application par pression aussi stable que possible entre le rail élastique et l’élément amortisseur, l’unité de lame d’essuyage est un corps plein, notamment sans cavités longitudinales. Selon l’invention, une cavité longitudinale est notamment une cavité importante, entourée, comme cela est connu pour les corps de base selon l’état de la technique.
De façon préférentielle, l’élément amortisseur couvre complètement le rail élastique. Les deux éléments sont engagés dans la même cavité extérieure. Le rail amortisseur a, de préférence, une surface d’appui s’étendant dans la direction horizontale et qui est complètement couverte par le rail élastique. De façon préférentielle, le rail amortisseur s’étend sur toute l’extension longitudinale du balai d'essuie-glace. De façon préférentielle, le rail amortisseur est un élément plat pratiquement plan.
On aura une solution particulièrement solide, silencieuse dans le cas d’un rail amortisseur en une matière de forme plus stable que celle de la lèvre d’essuyage. La lèvre d’essuyage est, de préférence, en polypropylène.
L’élément déflecteur est prévu, de préférence, sur le côté du balai d'essuie-glace à l’opposé de celui de la lèvre d’essuyage et entoure le rail élastique et le rail amortisseur. L’élément déflecteur comporte, de préférence, des cavités extérieures pour pincer le rail élastique et le rail amortisseur. Le rail élastique et le rail amortisseur se glissent, de préférence, dans cette cavité verticale. La cavité est dimensionnée pour que l’élément amortisseur soit pressé à plat contre le rail élastique. De façon préférentielle, pour cela, l’élément de retour couvre le rail élastique dans la direction horizontale sur au moins un tiers. De façon préférentielle, le rail élastique et le rail amortisseur sont pratiquement parallèles, notamment sans intervalle entre eux.
La présente invention sera décrite ci-après de manière plus détaillée à l’aide de modes de réalisation d’un balai d'essuie-glace selon l’invention représenté dans les dessins annexés dans lesquels :
schéma d’un balai d'essuie-glace selon l’invention avec une unité de lame d’essuyage,
vue en coupe schématique d’un premier mode de réalisation d’un balai d'essuie-glace,
vue en coupe schématique d’un autre mode de réalisation d’un balai d'essuie-glace.
La montre un balai d'essuie-glace 10. Le balai d'essuie-glace 10 comprend au moins un rail élastique 17 (voir ). Le balai d'essuie-glace 10 comprend au moins une unité de lame d’essuyage 11. De préférence, l’unité de lame d’essuyage 11 a comme direction principale d’extension, la direction longitudinale 50a. En particulier, la direction longitudinale 50a est pratiquement parallèle à la direction principale d’extension du balai d'essuie-glace 10. La direction longitudinale 50a est, de préférence, au moins pratiquement perpendiculaire à la direction d’essuyage 30a, 30b du balai d'essuie-glace 10 notamment de l’unité de lame d’essuyage 11. Le balai d'essuie-glace 10 a, de préférence, des capuchons d’extrémité 42a, 44a non détaillés. Le balai d'essuie-glace 10 a un adaptateur de bras d’essuie-glace 46a.
La est une section du balai d'essuie-glace 10 notamment dans le plan de coupe 52a (voir ) qui est notamment au moins pratiquement perpendiculaire à la direction longitudinale 50a. La section du balai d'essuie-glace 10 a un plan de symétrie 102 qui est notamment au moins pratiquement perpendiculaire à la direction d’essuyage 50a, 50b et qui est notamment au moins pratiquement parallèle à la direction longitudinale 50a. La section de l’unité de lame d’essuyage 11 est symétrique plan par rapport au plan de symétrie 102. La direction horizontale H du balai d'essuie-glace est, de préférence, perpendiculaire au plan de symétrie.
L’unité de lame d’essuyage 11 comprend une lèvre d’essuyage 12 et un élément de couplage de lame d’essuyage 13. La lèvre d’essuyage 12 est dans le plan de symétrie 2. En particulier, la direction principale d’extension de la lèvre d’essuyage 12 est au moins pratiquement parallèle et, d’une manière particulièrement préférentielle, elle est dans le plan de symétrie 102. Selon le mode de réalisation représenté à la de l’invention, la lèvre d’essuyage a des évidements latéraux 90.
La lèvre d’essuyage 12 est symétrique-plan par rapport au plan de symétrie 102. L’unité de lame d’essuyage 11 comprend au moins un rail amortisseur 110.
Le rail amortisseur 110 est prévu sur la lèvre d’essuyage 12. Comme cela apparaît clairement à la , l’élément amortisseur 102 est au-dessus de la lèvre d’essuyage 12 par rapport à la surface extérieure à nettoyer. L’élément amortisseur 110 est directement adjacent à la lèvre d’essuyage 12. Le rail amortisseur 110 s’étend pratiquement dans la direction horizontale H. Le rail amortisseur 110 a un premier segment amortisseur 110a et un second segment amortisseur 110b. Le rail amortisseur 110 est un élément plat pratiquement plan. Le rail amortisseur 110 est réalisé pratiquement sans relief. Le rail amortisseur est un corps plein sans cavités longitudinales. Les segments de rail amortisseur 110a, 110b sont, de préférence pratiquement identiques, notamment par rapport au plan de symétrie 102 ils sont identiques symétriquement.
L’élément de couplage de lame d’essuyage 13 selon la correspond à un mode de réalisation de l’invention comme élément de rainure 13 pratiquement en forme de T. L’élément de rainure en forme de T comprend une poutre 126 et une entretoise 128. L’élément de rainure 13 en forme de T est, de préférence, réalisé en une seule pièce avec la lèvre d’essuyage 12 et est relié, de préférence, en une seule pièce à la lame d’essuyage 12 et au rail amortisseur 110. L’élément de rainure 13 en forme de T forme en commun avec le rail amortisseur 110, une fente réceptrice pour le rail élastique 17.
Selon le mode de réalisation de l’invention présenté à la , la lèvre d’essuyage 12 est pratiquement triangulaire et présente des évidements 90, supplémentaires dans une direction transversale au plan de symétrie 102. La lèvre d’essuyage 12 est symétrique par rapport au plan de symétrie 102.
Selon le mode de réalisation de l’invention représenté à la , l’unité de lame d’essuyage comprenant la lèvre d’essuyage 12, l’élément de couplage de lame d’essuyage 13 et le rail élastique 17 est en une seule pièce en caoutchouc de lame d’essuyage. L’unité de lame d’essuyage 11 est, de préférence, en EPDM extrudé. On peut également envisager de réaliser le rail amortisseur 110 en une matière de forme plus stable que celle de la lèvre d’essuyage 12. C’est ainsi que le rail amortisseur 110 est, par exemple, en polypropylène.
La lame d’essuyage comporte un élément déflecteur 100 réalisé comme déflecteur. L’élément déflecteur 100 a un couvercle 103 optimisé pour l’écoulement, des parois latérales 104a, 104b et chaque fois, de part et d’autre, des éléments de retour 105a, 105b formés sur la paroi latérale correspondante. Les éléments de retour 105a, 105b sont, de préférence, constitués sous la forme d’un relief s’étendant pratiquement dans la direction d’essuyage 30a, 30b sur la paroi latérale 104a, 104b correspondante. Les retours 105a, 105b sont partie intégrante de l’élément déflecteur 100.