INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
- dans l’une ou l’autre des variantes de réalisation, l’au moins un transducteur d’ondes est placé dans une position intermédiaire entre les pattes de fixation et la région d’intérêt optique. En d’autres termes, dans un plan formé par la surface optique, l’au moins un transducteur est situé entre, d’une part, une zone de la surface optique au niveau de laquelle passe ou sont fixées les pattes de fixation, et, d’autre part, la région d’intérêt optique. Ainsi, les ondes générées par l’au moins un transducteur d’ondes atteignent directement la région d’intérêt optique sans passer par la zone de la surface optique dans laquelle se trouvent les pattes de fixation. Cette configuration avantageuse permet de garantir un meilleur fonctionnement de l’au moins un transducteur d’ondes et, finalement, un meilleur nettoyage de la surface optique prise au niveau de la région d’intérêt optique.
- au moins appareil configuré pour capter et/ou émettre un rayonnement au travers de la région d’intérêt optique de la surface optique et au travers de l’au moins une ouverture de la surface ajourée.
En outre, dans le contexte de la présente invention, l’au moins un appareil est situé en regard de l’au moins une ouverture de la surface ajourée, de sorte à autoriser le passage du rayonnement émis et/ou capté par ledit l’au moins un appareil au travers de ladite au moins une ouverture.
- selon un premier mode de réalisation, l’au moins un transducteur d’ondes est situé d’un premier côté de la surface optique opposé à un deuxième côté au niveau duquel l’au moins un appareil est situé. En d’autres termes, l’au moins un appareil et l’au moins un transducteurs d’ondes sont situés de part et d’autre de la surface optique, relativement à une direction de propagation du rayonnement émis par l’au moins un appareil. Cette configuration avantageuse permet ainsi de placer l’au moins un transducteur du côté de la surface optique soumise à la projection de gouttes de pluies et/ou de particules et qu’il convient donc de nettoyer. Ainsi, dans cette première configuration, l’au moins un transducteur d’ondes est avantageusement configuré pour générer des ondes de surface en direction de et/ou dans la région d’intérêt optique ;
De préférence, on ajoute systématiquement et méthodiquement les oxydes pour lesquels une teneur minimale est nécessaire, ou des précurseurs de ces oxydes. De préférence, on tient compte des teneurs de ces oxydes dans les sources des autres oxydes où ils sont présents comme impuretés.
De préférence, le refroidissement est contrôlé, de préférence de manière à être effectué à une vitesse inférieure à 20°C par heure, de préférence à la vitesse d’environ 10°C par heure.
L’invention concerne aussi un four de fusion de verre comportant un produit réfractaire selon l’invention, ou un produit réfractaire fabriqué ou susceptible d’avoir été fabriqué suivant un procédé selon l’invention, en particulier dans une région destinée à être en contact avec du verre en fusion, en particulier dans une cuve de four de fusion de verre, en particulier pour constituer un bloc porte électrode, par exemple dans une sole d’une telle cuve.
L’invention concerne ainsi un four de fusion de verre comportant une cuve destinée à contenir ou contenant du verre en fusion, la cuve comportant un bloc en un produit selon l’invention.
L’invention concerne enfin un procédé de contrôle d’un four de fusion de verre selon l’invention, ledit procédé comportant les opérations suivantes : - application d’une onde électromagnétique à un bloc en un produit réfractaire selon l’invention, de préférence une onde de type radar, d’une fréquence de préférence comprise entre 1 et 10 gigahertz, voire entre 1 et 6 gigahertz ; - analyse du signal reçu en réponse à ladite application de manière à déterminer une information relative audit bloc ou à un changement de milieu, traduisant notamment une interface entre le bloc et le milieu.
Dans un mode de réalisation, l’application de l’onde électromagnétique est réalisée alors que le four est en service, le bloc étant optionnellement en contact avec du verre en fusion.
L’application de l’onde électromagnétique et l’analyse peuvent être réalisées par toutes les techniques connues, par exemple à l’aide du dispositif SmartMelter® proposé par PaneraTech.
Définitions Un produit est classiquement dit « fondu » lorsqu'il est obtenu par un procédé mettant en œuvre une fusion d’une charge jusqu’à obtention d’une matière en fusion, puis une solidification de cette matière par refroidissement.
Un bloc est un objet dont toutes les dimensions sont supérieures à 10 mm. Toutes les dimensions d’un bloc selon l’invention sont de préférence supérieures à 50 mm, de préférence supérieures à 100 mm. Un bloc selon l’invention peut par exemple avoir une forme générale parallélépipédique ou bien une forme spécifique adaptée à son utilisation. A la différence d’une couche, un bloc en un produit réfractaire fondu et coulé est classiquement obtenu par un procédé comportant des opérations de moulage et de démoulage.
Le bloc en un produit selon l’invention, avant ou après démasselottage/usinage, peut présenter une, voire deux ou trois dimensions hors tout (épaisseur, longueur, ou largeur) d'au moins 150 mm, de préférence d'au moins 250 mm, voire d'au moins 400 mm, voire d'au moins 500 mm, voire d'au moins 600 mm, voire d'au moins 800 mm ou même d'au moins 1000 mm, et/ou inférieure(s) à 2000 mm,
Sauf mention contraire, toutes les teneurs en oxydes dans un produit selon l’invention sont des pourcentages massiques sur la base des oxydes. Une teneur massique d’un oxyde d’un élément métallique se rapporte à la teneur totale de cet élément exprimée sous la forme de l'oxyde le plus stable, selon la convention habituelle de l'industrie.
HfO 2 n'est pas chimiquement dissociable de ZrO 2 . Cependant, selon la présente invention, HfO 2 n'est pas ajouté volontairement dans la charge. HfO 2 ne désigne donc que les traces d'oxyde d'hafnium, cet oxyde étant toujours naturellement présent dans les sources d’oxyde de zirconium à des teneurs généralement inférieures à 5%, généralement inférieures à 2%. Dans un bloc selon l’invention, la teneur massique en HfO 2 est inférieure à 5%, de préférence inférieure à 3%, de préférence inférieure à 2%. Par souci de clarté, on peut désigner indifféremment la teneur totale en oxyde de zirconium et en traces d'oxyde d'hafnium par « ZrO 2 » ou par « ZrO 2 + HfO 2 ». HfO 2 n'est donc pas compris dans les "autres espèces".
Par « impuretés », on entend les constituants inévitables, introduits avec les matières premières ou résultant de réactions avec ces constituants. Les impuretés ne sont pas des constituants nécessaires, mais seulement tolérés. Par exemple, les composés faisant partie du groupe des oxydes, nitrures, oxynitrures, carbures, oxycarbures, carbonitrures et espèces métalliques de fer, titane, vanadium et chrome sont des impuretés.
La porosité totale, en pourcentage, est classiquement égale à 100 x (1 - le rapport de la densité géométrique divisée par la densité absolue).
La valeur de densité absolue, exprimée en g/cm 3 , peut être mesurée en divisant la masse d'un échantillon par le volume de cet échantillon broyé de manière à sensiblement supprimer la porosité.
La illustre des étapes d’un procédé d’estimation d’une avance temporelle et/ou d’un décalage de fréquence selon des modes de réalisation de l’invention.
La illustre un exemple d’un signal de corrélation utilisé par un procédé d’estimation d’une avance temporelle et/ou d’un décalage de fréquence selon des modes de réalisation de l’invention.
La illustre un procédé d’entraînement d’un estimateur d’une avance temporelle et/ou d’un décalage de fréquence selon des modes de réalisation de l’invention.
La illustre une fonction objectif utilisée par un procédé d’entraînement d’un estimateur d’une avance temporelle et/ou d’un décalage de fréquence selon des modes de réalisation de l’invention.
La et la illustrent des performances d’un procédé d’estimation d’une avance temporelle et d’un décalage de fréquence selon des modes de réalisation de l’invention.
La illustre un exemple d’architecture matérielle d’un système de communication selon des modes de réalisation de l’invention.
La et la illustrent respectivement un système de communication et des étapes d’un procédé d’estimation d’une avance temporelle et/ou d’un décalage de fréquence selon des modes de réalisation de l’invention. En particulier, ces figures sont ici décrites pour introduire brièvement le contexte de l’invention, les dispositifs de communication impliqués et les principales étapes du procédé proposé.
Comme mentionné précédemment, l’invention est particulièrement pertinente dans le contexte de la synchronisation en liaison montante entre un terminal et une station de base dans un réseau de communication mobile. La description suivante de la présente invention fera référence à ce contexte particulier, qui n’est donné qu’à titre d’exemple illustratif et ne doit pas limiter l’invention.
Un système de communication SYS comprend, selon un mode de réalisation illustré par la , un premier dispositif de communication TX et un deuxième dispositif de communication RX. Par exemple, le premier dispositif de communication TX peut être un terminal mobile tel qu’un terminal utilisateur et le deuxième dispositif de communication RX peut être une station de base.
Les premier TX et deuxième RX dispositifs de communication communiquent entre eux en utilisant un canal, par exemple un canal sans-fil. Les communications entre le premier dispositif TX et le deuxième dispositif RX sont ainsi impactées par une avance temporelle TA et un décalage de fréquence porteuse CFO.
L’avance temporelle TA caractérise le temps mis par le signal pour se propager du premier dispositif de communication TX au deuxième dispositif de communication RX, tandis que le décalage de fréquence porteuse CFO est dû à la différence entre les fréquences des oscillateurs des premier TX et deuxième RX dispositifs de communication, ainsi qu’à l’effet Doppler lié au déplacement d’un dispositif par rapport à l’autre.
Les paramètres TA et CFO doivent être estimés et compensés en vue d’obtenir de meilleures performances de communication, e.g. en termes de débits de données atteignables et de fiabilité. À cette fin, le premier dispositif de communication TX transmet un préambule (i.e. un signal de synchronisation connu des deux dispositifs) qui est exploité par le deuxième dispositif de communication RX pour estimer les paramètres TA et CFO.
Le premier dispositif de communication TX comprend un générateur de préambule PG configuré pour générer un préambule PR à partir d’un signal de référence REF (connu des deux dispositifs), ledit préambule PR étant transmis par le premier dispositif de communication TX. La transmission du préambule PR peut impliquer, selon des modes de réalisation, différentes opérations de traitement telles que la répétition, la modulation, l’amplification, etc.
Le deuxième dispositif de communication RX comprend, selon un mode de réalisation illustré par la , au moins un des éléments suivants : un corrélateur XC ; un détecteur DET ; et un estimateur EST.
L’architecture du deuxième dispositif de communication RX est décrite ci-après en référence aux étapes de la , le deuxième dispositif de communication RX peut être configuré pour mettre en œuvre au moins une des étapes S100 à S400.
Le deuxième dispositif de communication RX est configuré, selon un mode de réalisation, pour obtenir, à l’étape S100, un signal reçu RCD. La réception du signal RCD peut impliquer différentes opérations de traitement telles que l’amplification, le filtrage, la démodulation, etc. En particulier, le signal RCD est reçu en provenance du premier dispositif de communication TX, par exemple via un canal sans-fil. En conséquence, le signal reçu RCD peut être représentatif du préambule PR transmis impacté par les effets de canal comportant du bruit, une propagation par trajets multiples, une atténuation, etc.
Dans un premier mode de réalisation illustré à la , l’élément mobile EM a la forme d’un disque dans un plan parallèle au plan P du substrat SB. De plus, l’élément conducteur EC situé au-dessus de l’élément mobile EM comprend une première partie P1 et une deuxième partie P2, la deuxième partie P2 en forme de disque, la première partie P1 entourant, au moins partiellement, la deuxième partie P2 et n’étant pas en regard de l’élément mobile EM, la deuxième partie P2 étant reliée à la première partie P1 par une ou plusieurs poutres PT et étant disposée en regard de l’élément mobile EM. De préférence, le centre de la deuxième partie P2 et le centre de l’élément mobile EM sont située sur un même axe, ledit axe étant perpendiculaire à l’élément mobile EM (c’est à dire perpendiculaire au plan P du substrat SB). De préférence, la surface de la deuxième partie P2 est inférieure à celle de l’élément mobile EM de sorte que la périphérie de l’élément mobile EM n’est pas en regard de la deuxième partie P2 (ou de la première partie P1). De préférence, comme illustré à la , des ouvertures traversantes sont réalisées dans la deuxième partie P2.
Dans un deuxième mode de réalisation illustré à la , l’élément mobile EM est en forme de disque, le disque étant disposé dans un plan parallèle au plan P du substrat SB. De plus, l’élément conducteur EC situé au-dessus de l’élément mobile EM comprend une partie principale PP entourant l’élément mécanique EM (sans être en regard de ce dernier) et servant d’ancrage, et au moins une électrode, de préférence deux électrodes, reliées à la partie principale PP, une partie de la surface desdites électrode PT1,PT2 étant en regard de l’élément mobile EM. De préférence, des ouvertures traversantes sont réalisées dans la ou les électrodes PT1,PT2, au moins dans la partie en regard avec l’élément mobile EM.
Dans un troisième mode de réalisation illustré à la , l’élément mobile EM est en forme de disque, le disque étant disposé dans un plan parallèle au plan P du substrat SB. De plus, l’élément conducteur EC situé au-dessus de l’élément mobile EM est configuré de sorte à être en regard d’au moins une partie de la périphérie dudit élément mobile EM. Autrement dit, l’élément conducteur EC situé au-dessus de l’élément mobile EM n’est pas en regard de la partie centrale de l’élément mobile EM et, de préférence, n’est en regard que d’une partie seulement de la périphérie dudit élément mobile EM. De préférence, des ouvertures traversantes sont réalisées dans l’élément conducteur EC situé au-dessus de l’élément mobile EM, au moins dans la partie en regard avec l’élément mobile EM.
Les géométries décrites précédemment sont particulièrement adaptées au résonateur à mode de galerie, en particulier lorsque ce dernier prend la forme d’un disque comme décrit précédemment.
On notera que toutes ces géométries concernent l’élément conducteur EC situé au-dessus de l’élément mobile EM (c’est à dire que l’élément mobile EM est dans un plan situé entre l’élément conducteur EC considéré et le substrat SB) et qu’un élément conducteur EC (non représenté sur les figures) est également disposé au-dessous de l’élément mobile EM (c’est à dire que l’élément conducteur EC considéré est dans un plan situé entre l’élément mobile EM et le substrat SB ou directement dans le substrat SB). Dans un mode de réalisation, l’élément conducteur EC situé au-dessous est configuré pour créer, avec l’élément conducteur EC situé au-dessus, un champ électrique dans la direction la plus couplée piézoélectriquement de sorte à favoriser le couplage électromécanique de l’élément mobile EM. Par exemple, si le matériau piézoélectrique est le AlN, le champ électrique sera de préférence hors-plan par rapport au substrat. Dans un mode de réalisation, l’élément conducteur EC situé au-dessous possède la même géométrie circulaire que l’élément mobile EM (en forme de disque).
Applications possibles
Une structure SOM selon l’invention peut être utilisée dans de nombreuses applications dont certaines seulement seront détaillées dans la suite.
Une structure SOM selon l’invention peut être utilisée dans un capteur résonant. Pour mémoire, la fréquence propre d’un résonateur mécanique dépend de plusieurs paramètres mesurables (masse, accélération, pression...). Aussi, la variation de l’un de ces paramètres induit un décalage de la fréquence de l’oscillateur. La quantification de ce décalage permet ainsi de remonter à la grandeur mesurée. Les capteurs résonants doivent avoir des systèmes d’actionnement performants capables de générer une amplitude de déplacement mécanique la plus élevée possible, couplée à une fréquence mécanique également élevée.
Une structure SOM selon l’invention peut également être utilisée dans un générateur de base de temps. Pour mémoire, le fonctionnement des bases de temps est opposé à celui des capteurs résonants : l’objectif étant de garder une fréquence la plus stable possible. Ces bases de temps servent notamment en électronique numérique et dans les télécommunications pour générer des signaux et synchroniser les différents composants. Dans ces systèmes, l’actionnement est primordial pour utiliser toute la gamme dynamique utilisable, c’est-à-dire utiliser un signal avec l’amplitude la plus large possible.
Une structure SOM selon l’invention peut encore être utilisée dans un convertisseur de fréquence. Pour rappel, les convertisseurs de fréquence sont notamment utilisés dans le cadre des technologies de l’information quantique. Ils servent à convertir des photons dans la gamme de micro-ondes en photons dans la gamme optique (visible et proche infrarouge) et vice versa. La conversion s’effectue en couplant un résonateur micro-ondes et un résonateur opto-mécanique. Les photons micro-ondes en entrée du système résonnent à leur fréquence propre dans une cavité supraconductrice et actionnent le résonateur mécanique. Un système de transduction optique permet ensuite de récupérer un signal optique modulé à la fréquence de résonance des photons micro-ondes.
Une structure SOM selon l’invention peut aussi être utilisée dans un capteur statique. Dans un tel capteur, l’élément mécanique n’est pas un résonateur, mais il est libre de se déformer et perturber le champ optique. Ce cas de figure décrit les capteurs dits statiques (d’accélération, de pression, etc.) avec une lecture opto-mécanique. Dans plusieurs cas de figure, un actionnement de l’élément mobile EM (par exemple, piézoélectrique) doit être utilisé pour effectuer des fonctions de compensation de dérives ou de décalage statique.
Procédés de fabrication
Premier procédé
Un deuxième aspect de l’invention illustré aux et à concerne un premier procédé 100 de fabrication d’une structure SOM selon l’invention, le procédé 100 en question étant réalisé à partir d’un substrat semi-conducteur SB, de préférence un substrat SB en silicium.
Dans un mode de réalisation, le procédé 100 comprend une étape 1E1 de réalisation d’un premier élément conducteur EC au niveau du substrat SB. Dans un exemple de réalisation, cet élément conducteur EC est obtenu par un dopage d’une partie au moins du substrat SB de sorte à définir ledit élément conducteur EC dans ledit substrat SB. De manière alternative, cet élément conducteur EC est obtenu par le dépôt d’une couche de métal à la surface du substrat de sorte à former ledit élément conducteur.
Le procédé comprend une étape 1E2 de dépôt (physique ou chimique) d’une couche d’un premier matériau M1 sur le substrat SB. Dans un mode de réalisation, la couche ainsi déposée a une épaisseur comprise entre 1 µm et 2 µm, de préférence égale à 1.5 µm. Cette couche du premier matériau M1 est destinée à fournir un support structurel à l’élément mobile et donc au résonateur opto-mécanique. De préférence, le premier matériau est choisi de sorte à pouvoir être gravé de manière isotrope afin de pouvoir (dans les étapes suivantes) libérer l’élément mobile de sorte que ce dernier puisse vibrer librement. Dans un exemple de réalisation, le premier matériau M1 est de l’oxyde de silicium (SiO 2 ) ou un alliage d’aluminium, de gallium et d’arsenic (AlGaAs), ces matériaux pouvant par exemple être gravés à l’aide d’acide hydrofluorique (HF).
Procédé de détection d’un mode de fonctionnement d’une machine tournante, notamment pour un aéronef en cours de vol DOMAINE TECHNIQUE DE L’INVENTION Le domaine technique de l’invention est celui de la surveillance de machines tournantes.
La présente invention concerne un procédé de détection d’un mode de fonctionnement d’une machine tournante.
ARRIERE-PLAN TECHNOLOGIQUE DE L’INVENTION La surveillance de machines tournantes, notamment en temps réel, requiert de connaître le mode de fonctionnement dans lequel se trouve la machine tournante. Ceci est notamment le cas pour du contrôle de l’état de santé (en anglais « health monitoring ») de ladite machine. En effet, il est connu que l’endommagement de certains éléments tournants peut être détecté à partir de données vibratoires hautes fréquences lorsque la machine se trouve dans un mode de fonctionnement spécifique. C’est par exemple le cas des roulements et des engrenages pour lesquels l’endommagement est détectable sous certaines conditions de fonctionnement correspondant à des conditions de chargements qui permettent la détection d’endommagements de ces éléments. Ces conditions sont notamment dépendantes de la vitesse de rotation des rotors et des vitesses de rotation stabilisées et transitoires de la machine.
En conséquence, connaître à tout instant le mode de fonctionnement de ladite machine permet de ne déclencher l’acquisition des données vibratoires qu’à la détection du mode de fonctionnement spécifique. Avantageusement, ceci permet de réduire la quantité de signaux vibratoires acquis puisqu’il n’est pas nécessaire d’acquérir ces signaux durant toute la durée du vol pour pouvoir détecter de tels endommagements, quelques périodes d’acquisition sont suffisantes. Il y a donc un intérêt d’être en mesure de détecter automatiquement des modes de fonctionnement utiles à la détection de tels endommagements.
En aéronautique, il est courant de chercher à estimer des phases de vol, par exemple le roulage, le décollage, le régime de croisière, l’atterrissage, etc. Dans le cas des moteurs d’avions, on cherche à détecter les modes de fonctionnement qui correspondent, au moins en partie, aux différentes phases de vol, ou à des régimes de fonctionnement du moteur, tel que son démarrage. Des exemples de modes de fonctionnement d’un moteur d’avion sont présentés à la .
La est un exemple de l’évolution au cours du temps de la vitesse de rotation de l’arbre N2 du moteur d’un aéronef, ainsi que son altitude. Sur la figure sont également repérés plusieurs modes de fonctionnement numérotés de 2a à 2h, qui se succèdent au cours du vol de l’aéronef. Le mode de fonctionnement 2a correspond au démarrage, 2b au taxi, 2c au décollage, 2d à la phase d’ascension, 2e au régime de croisière, 2f à la phase de descente, 2g à la phase d’approche et 2h à l’extinction des moteurs.
En outre, connaître à tout instant le régime de fonctionnement du moteur permet de renseigner le pilote sur l’état de fonctionnement des moteurs ainsi que de faciliter la régulation de la machine tournante par des systèmes automatiques (par exemple un FADEC – « Full Authority Digital Engine Control ») qui prennent en compte différents paramètres, notamment le mode de fonctionnement, pour commander le flux de kérosène, l’ouverture de vannes de décharge dans le flux d’air, etc.
Il est connu de l’état de l’art de détecter un mode de fonctionnement de machine tournante en surveillant plusieurs paramètres observables simultanément. En particulier, on surveille : La vitesse de rotation instantanée de l’un des arbres de la machine tournante ; les moteurs d’aéronefs comprenant jusqu’à trois arbres de rotation (notés N1 à N3), la vitesse de rotation de l’un ou plusieurs des arbres peut être surveillée, par exemple, sur la , c’est la vitesse de rotation de l’arbre N2 qui est mesurée. La variation au cours du temps de la vitesse instantanée surveillée, notée où est la vitesse de rotation instantanée de l’un des arbres.