INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon un exemple, le dispositif est associé à un transistor formé dans un substrat portant les première et deuxième électrodes et l’élément mémoire, le transistor étant configuré pour commander un passage de courant électrique dans l’élément mémoire, entre les première et deuxième électrodes. L’élément mémoire et le transistor de commande sont ainsi intégrés dans un même empilement. L’élément mémoire est typiquement intégré dans un niveau BEOL d’un circuit électronique et est connecté à un transistor d’un niveau FEOL dudit circuit, via un ou plusieurs niveaux d’interconnexions et de pistes métalliques (niveaux « métal »). La longueur de connexion est ainsi minimisée. Le délai de limitation, égal au produit de la résistance de la connexion par la capacité de la connexion reliant le filament, est minimisé. La tension de commutation est ainsi réduite.
Selon un exemple, la surgravure correspond à une prolongation de l’étape de gravure, par application d’un temps de gravure supérieur à celui permettant de graver l’empilement selon la direction verticale z. La surgravure est ainsi réalisée en continuité de la gravure de l’empilement, en prolongeant la durée de ladite gravure. Cela permet de réduire la durée totale du procédé de formation du filament, en évitant par exemple une purge pour changer la chimie du plasma de gravure. Selon un exemple, la gravure et la surgravure se font par plasma à base d’une chimie chlorée.
Selon un exemple, la gravure est configurée pour être anisotrope selon la direction verticale z, et la surgravure est configurée pour être isotrope, de sorte que l’élément mémoire forme un retrait latéral vis-à-vis des première et deuxième électrodes dans toutes les directions du plan horizontal xy, ledit élément mémoire étant ainsi sensiblement centré vis-à-vis des première et deuxième électrodes, en projection dans le plan horizontal xy. Selon un exemple, la tension de bias appliquée lors de la gravure est une tension V1 non nulle et la tension de bias appliquée lors de la surgravure est une tension de bias V2 inférieure strictement à V1, par exemple, V2 = 0V.
Selon un exemple, les premier et deuxième métaux sont choisis à base de Hf, Zr, W, Ti, Ta, TaN ou TiN, et le troisième métal est choisi à base de TixAly, ZrxAly, HfxAly, TaxAly, WxAly avec x, y > 0. En particulier, dans un plasma de gravure en chimie chlorée, l’aluminium se grave entre deux et trois fois plus vite que le métal de transition qui lui est associé. On utilise donc avantageusement cette sélectivité de gravure pour former le filament métallique, par exemple à base d’un alliage d’aluminium de titane, entre les électrodes, par exemple à base de titane. Selon une possibilité, on choisira y ≥ 0,3. Plus la concentration en aluminium y est élevée, plus la sélectivité à la gravure augmente. Cela permet par exemple de limiter le temps de surgravure. Cela permet d’obtenir des facteurs de forme importants entre le filament et les électrodes.
Selon un exemple, le procédé comprend en outre une intégration de l’empilement sur un substrat comprenant un transistor configuré pour commander un passage de courant électrique dans l’élément mémoire, entre les première et deuxième électrodes, ladite intégration comprenant au moins la formation de connexions électriques entre ledit transistor et l’une au moins parmi les première et deuxième électrodes. La formation de connexions électriques correspond typiquement à des étapes BEOL des procédés utilisés dans le domaine de la microélectronique. Elles succèdent généralement aux étapes FEOL permettant de fabriquer les composants élémentaires tels que les transistors. Ce procédé de fabrication d’un dispositif mémoire résistive s’inscrit donc parfaitement dans un flux de procédés d’intégration utilisés dans le domaine de la microélectronique.
Sauf incompatibilité, il est entendu que l’ensemble des caractéristiques optionnelles ci-dessus peuvent être combinées de façon à former un mode de réalisation qui n’est pas nécessairement illustré ou décrit. Un tel mode de réalisation n’est évidemment pas exclu de l’invention. Les caractéristiques et avantages du dispositif selon l’invention peuvent s’appliquer, mutatis mutandis , aux caractéristiques et avantages du procédé selon l’invention, et inversément.
On entend par un substrat, un empilement, une couche, « à base » d’un matériau A, un substrat, un empilement, une couche comprenant ce matériau A uniquement ou ce matériau A et éventuellement d’autres matériaux, par exemple des éléments d’alliage et/ou des éléments dopants. Ainsi, une couche à base de titane s’entend par exemple d’une couche Ti, ou par exemple TiN.
On entend par une structure « métallique » ou « à base de métal », une structure présentant des propriétés d’un métal. Ainsi, une structure métallique, par exemple le filament, comprend nécessairement au moins une partie purement métallique. Le filament peut par exemple présenter un cœur métallique entouré par une fine couche d’oxyde métallique. Seul le cœur est considéré comme étant purement métallique. L’oxyde métallique ne présente pas les propriétés de conduction électrique d’un métal. Le filament ne peut pas être entièrement à base d’oxyde métallique. Les éléments mémoire des OxRAM à base d’oxyde métallique ne peuvent pas être assimilés à un filament métallique tel que décrit et illustré dans le cadre de la présente invention.
Dans un mode de réalisation, l’acide dimère hydrogéné contient une teneur en acide trimère allant d’environ 5 à 25 % en poids, par rapport à un poids total d’acide dimère hydrogéné.
Dans un autre mode de réalisation, l’acide dimère hydrogéné contient une majorité (au moins 60 % en poids, plus préférentiellement au moins 75 % en poids, mais pas plus de 95 % en poids, ou mieux, pas plus de 90 % en poids, ou mieux encore pas plus de 85 % en poids) d’acide dimère hydrogéné (diacide en C 36 ) et contient également des acides trimères hydrogénés en C 54 (moins de 30 % en poids, plus préférentiellement moins de 25 % en poids, mais plus de 5 % en poids, plus préférentiellement plus de 10 % en poids).
Composant iii), monoacides gras enC8-C30 Les monoacides gras en C 8 - C 30 utiles pour le polyester peuvent inclure des acides gras naturels ou raffinés, tels que l’huile de colza hydrolysée, les huiles de tournesol, etc., mais ils contiennent à la fois des chaînes de PM inférieur et supérieur. Les monoacides gras utiles peuvent être des matériaux linéaires, ramifiés, saturés, insaturés et aromatiques avec une acidité fournie par des fractions acide carboxylique.
Les acides utiles incluent l’acide caprylique (C 8 ), l’acide pélargonique (C 9 ), l’acide caprique (C 10 ), l’acide undécylique (C 11 ), l’acide laurique (C 12 ), l’acide tridécylique (C 13 ), l’acide myristique (C 14 ), l’acide pentadécylique (C 15 ), l’acide palmitique (C 16 ), l’acide margarique (C 17 ), l’acide stéarique (C 18 ), l’acide isostéarique (C 18 ), l’acide nonadécylique (C 19 ), l’acide archidique (C 20 ), l’acide béhénique (C 22 ) et l’acide lignocérique (C 24 ).
Une comparaison entre acide stéarique et acide isostéarique montre que la ramification conduit à un point de fusion élevé et entraîne une faible viscosité à température ambiante pour l’acide isostéarique, par rapport à un matériau solide pour l’acide stéarique. Cette viscosité plus faible peut être utile dans la manipulation des matières premières et permet également aux esters fabriqués avec cet acide de conserver leurs propriétés de liquide. Les acides gras à chaîne ramifiée contiennent souvent une seule ramification méthyle le long de la chaîne carbonée linéaire et sont produits dans la nature par action microbienne. L’acide isotéarique est disponible sous forme de sous-produit de réaction dans la création d’acide dimère décrit ci-dessus.
Une autre voie pour obtenir un produit liquide est d’utiliser des monoacides gras linéaires et ramifiés insaturés. Ces acides non saturés peuvent inclure l’acide palmitoléique (C16:1), l’acide vaccénique (C18:1), l’acide oléique (C18:1), l’acide élaïdique (C18:1), l’acide linoléique (C18:2), l’acide linoléique (C18:2), l’acide α-linolénique (C18:3),γ l’acide linolénique (C18:3), l’acide stéaridonique (C18:4), l’acide paullinique (C20:1), l’acide gondoïque (C20:1), l’acide dihomo-linoléniqueγ(C20:3), l’acide Mead (C20:3), l’acide arachidonique (C20:4), l’acide éicosapentaénoïque (C20:5), l’acide érucique (C22:1), l’acide docosatétraénoïque (C22:4), l’acide cervonique (C22:6) et l’acide nérvonique (C24:1). Comme le savent les spécialistes de l'art, la désignation signifie que la longueur de la chaîne carbonée correspond à X atomes de carbone ; et qu'il y a un nombre Y de doubles liaisons dans la chaîne.
Dans un mode de réalisation, l’acide isostéarique sera préféré.
Dans un mode de réalisation notamment préféré, le polyester de l’invention est un produit de réaction sensiblement ou totalement non séquentiel des composants suivants :
i) au moins un polyglycérol-3 sous forme de mélange comprenant au moins 25 % en poids de diglycérol, au moins 45 % en poids de triglycérol, et au moins 10 % en poids de tétraglycérol, dans chaque cas par rapport à un poids total de polyglycérol-3 sous forme de mélange ;
ii) au moins un acide dimère hydrogéné contenant au moins 60 % en poids de diacide en C 36 hydrogéné et 5-25 % en poids de triacide en C 54 hydrogéné, dans chaque cas par rapport à un poids total d’acide hydrogéné ; et
iii) de l'acide isostéarique.
Dans un mode de réalisation, le polyester est préparé par un processus en une étape qui implique l’introduction de tous les réactifs dans un récipient de réaction, puis l'induction d'une addition entièrement statistique de l’acide dimère et de l’acide isostéarique au polyglycérol.
Dans un mode de réalisation, il est préférable d’avoir un degré total d’estérification des fractions hydroxyle de polyglycérol disponibles (estérification totale) de 24 % à 74 % et un degré d’estérification des fractions hydroxyle de polyglycérol disponibles par acide dimère seul (estérification avec acide dimère) de 20 % à 40 %. Plus important encore, le degré d’estérification par les motifs de coiffe (estérification avec monoacide) est également fixé dans cette divulgation et il est important de conserver l’estérification avec monoacide de 4 % à 40 %.
Il est préférable d’avoir une estérification totale de 28 % à 57 %, y compris une estérification avec un acide dimère de 20 % à 30 % et une estérification avec monoacide entre 8 % et 27 %.
Il est encore plus préférable d’avoir une estérification totale de 33 % à 48 %, y compris une estérification avec un acide dimère de 20 % à 28 % et une estérification avec monoacide entre 13 % et 20 %.
Il est encore plus préférable d’avoir une estérification totale de 24 % à 74 %, y compris une estérification avec un acide dimère hydrogéné de 20 % à 40 % et une estérification avec monoacide entre 4 % et 40 %.
Le conduit de contre-matrice 11 présente par exemple un axe central confondu avec l’axe de la tige du contre-poinçon 10. L’orifice créé est alors centré dans le motif découpé M, ce qui convient particulièrement pour la création de perles.
Plusieurs motifs découpés M peuvent ainsi être créés, de différentes couleurs.
Une fois les motifs découpés M, ceux-ci peuvent être enfilés à la manière de perles par exemple pour la confection de bijoux, comme un collier ou un bracelet.
Pour cela, la machine 1 peut comporter un dispositif d’assemblage 20 pour enfiler des motifs découpés ou tout autres perles non fabriquées avec la perforatrice 2, par exemple issues du commerce, en une seule opération. Le dispositif d’assemblage 20 peut également être un atelier de fabrication seul, indépendant de la perforatrice 2 et donc de la machine de perforation manuelle 1.
Dans le cas où le dispositif d’assemblage 20 forme un composant de la machine 1, le dispositif d’assemblage 20 est agencé sur le socle 14, par exemple à l’arrière de la perforatrice 2 si l’on considère que celle-ci est située à l’avant ( ).
Le dispositif d’assemblage 20 comporte par exemple une rainure 21 d’alignement ménagée dans le socle 14 conformée pour recevoir des motifs découpés M perforés ou autres perles sur la tranche (figures 3 et 5). La rainure 21 présente par exemple une forme s’inscrivant dans la forme de la tranche d’un motif découpé M. Dans l’exemple illustratif, la rainure 21 s’inscrit dans un cylindre.
Le dispositif d’assemblage 20 peut également comporter au moins un volet 22a, 22b monté pivotant sur le socle 14 (figures 1 et 2). Il y a par exemple deux volets 22a, 22b adjacents le long de l’axe de la rainure 21, chacun pouvant présenter une languette 23 facilitant sa préhension. Chaque volet 22a, 22b est configuré pour pivoter entre une position d’ouverture et une position de fermeture dans laquelle le volet 22a, 22b referme la rainure 21 le cas échéant sur les motifs découpés M. Les volets 22a, 22b peuvent être configurés pour se clipper dans le socle 14 en position de fermeture, par exemple au moyen de languettes des volets 22a, 22b se clippant dans des cavités correspondantes du socle 14. Les volets 22a, 22b sont par exemple transparents de manière à voir l’agencement des motifs découpés ou perles dans la rainure 21, notamment l’harmonie des couleurs et formes de la séquence de motifs découpés ou perles empilés. La forme des volets 22a, 22b est par exemple complémentaire à la forme de la rainure 21, de sorte qu’en position fermée, les volets 22a, 22b et la rainure 21 épousent la forme des contours des motifs découpés. Dans l’exemple illustratif, les volets 22a, 22b et la rainure 21 forment un cylindre.
Selon un exemple de réalisation, le dispositif d’assemblage 20 comporte un guide de compression 24 configuré pour coulisser dans la rainure 21 afin de pousser les motifs découpés M ou autres perles les uns contre les autres en un empilement compact (figures 5, 11 et 12). Le guide de compression 24 comporte par exemple une rondelle 24a configurée pour coulisser dans la rainure 21 solidaire d’une manette de préhension 24b permettant de faciliter sa manipulation. Un orifice central 26 peut en outre être ménagé dans le guide de compression 24, pour permettre et guider l’insertion d’une aiguille 27 pouvant tirer un liant, tel qu’un fil, dans les orifices de tous les motifs découpés M ou autres perles placés dans la rainure 21, en une seule opération.
Le guide de compression 24 peut être utilisé lorsque les volets 22a, 22b sont fermés, les volets 22a, 22b laissant d’une part, une ouverture 35 respective en position de fermeture permettant le coulissement du guide de compression 24 et d’autre part, un trou axial pour le passage de l’aiguille 27 ( ).
Il y a par exemple une ouverture 35 à chaque extrémité de la rainure 21, entre le socle 14 et les volets 22a, 22b pour le passage de la manette de préhension 24a du guide de compression 24, de sorte que le dispositif d’assemblage 20, tout comme la machine 1, soit symétrique et puisse être manipulé aussi bien par un droitier que par un gaucher.
Les volets 22a, 22b permettent ainsi de retenir les motifs découpés M ou perles dans la rainure 21, poussés en empilement compact par le guide de compression 24, le temps d’enfiler l’aiguille 27 à travers les volets 22a, 22b, le guide 24 et les motifs découpés M ou perles. Cela permet d’éviter d’éparpiller les motifs découpés ou perles dans le cas où l’aiguille 27 ne serait pas bien orientée.
Une fente rectiligne 25 peut en outre être ménagée dans le socle 14 dans le prolongement de la rainure 21, par exemple de part et d’autre des extrémités longitudinales de la rainure 21, dans l’axe de la rainure 21, la fente 25 traversant le socle 14 (figures 5 et 11) de manière à guider l’insertion de l’aiguille 27.
Ainsi, lorsqu’un utilisateur souhaite enfiler des motifs découpés et/ou des perles pour réaliser un collier ou un bracelet, il dépose les motifs découpés M et/ou les perles sur la tranche dans la rainure 21. Puis il ferme les volets 22a, 22b. Puis, il coulisse le guide de compression 24 dans la rainure 21 pour pousser les motifs découpés M et/ou les perles les uns contre les autres en un empilement compact. Puis il insère une aiguille 27 dans la fente rectiligne 25 et l’orifice central 26 du guide de compression 24 qui guident l’insertion de l’aiguille 27 dans les orifices de tous les motifs découpés M et/ou perles placés dans la rainure 21 en empilement compact, afin de les enfiler tous en une seule opération.
Procédé pour la réalisation de revêtements de sol ou mur et revêtements associés La présente invention concerne le secteur technique des revêtements de sol et mur réalisés à partir de matériaux polymères et leurs procédés de fabrication. L’invention concerne plus particulièrement les procédés de fabrication de revêtements en polychlorure de vinyle ou similaires et, plus particulièrement, les revêtements comprenant au moins une couche décorative dont le décor est réparti dans l’épaisseur de la couche.
Art antérieur Dans le domaine des revêtements de sol, il est bien connu des dalles, lames ou rouleaux comprenant au moins une couche de matière plastique, par exemple obtenue à partir de polychlorure de vinyle (PVC). Des procédés connus de réalisation de tels revêtements de sol comprennent généralement une première étape consistant à déposer une première couche de granulés de matière plastique sur un support, puis à fondre et presser au moyen d’une presse à plateau, à double-bande, ou avec un passage entre deux cylindres d’une calandre, cette couche afin de lier les granulés et obtenir une couche de revêtement de sol décorative. Le revêtement de sol ou mur obtenu peut consister en une couche décorative unique pour former un revêtement homogène ou plusieurs couches liées entre elles pour former un revêtement hétérogène, la couche décorative étant disposée dans la partie supérieure du revêtement de sol.
Ce type de couche décorative à l’avantage de présenter un décor « dans la masse », c’est-à-dire dans toute l’épaisseur de la couche décorative. De fait le décor présenté par la couche ne se dégrade pas à l’usure et sous les nettoyages successifs, ce qui confère une grande longévité au revêtement. Cependant, ces décors sont obtenus par saupoudrage aléatoire d’une épaisseur de granulés sur toute la surface d’un support de pressage, et il n’est pas possible de reproduire un motif souhaité, on parle alors de décor « approchant ».
Selon un mode de réalisation, la bride 20 présente des éléments de fixation 200 permettant de solidariser le support 2 à la platine 13. Selon un mode avantageux de réalisation permettant une fixation rapide, les éléments de fixation 200 sont des clips qui s’engagent dans des logements complémentaires 132 aménagés sur la platine 13. La fixation de la bride 20 sur la platine 13 peut toutefois être réalisée par d’autres moyens tels que vissage, crochetage, collage, aimantation, etc.
À titre d’exemple, le manchon 21 a un diamètre externe compris entre 3 cm et 9 cm. Son diamètre interne peut être compris entre 2.5 cm et 8.8 cm. Sa longueur peut être comprise entre 2 cm et 10 cm et son épaisseur comprise entre 2 mm et 5 mm.
Le manchon 21 présente une extrémité proximale en contact avec la bride 20 et une extrémité distale opposée à ladite extrémité proximale. L’axe du manchon 21, ou axe géométrique, est noté X-X sur les figures annexées.
Le manchon 21 présente des surfaces inclinées 210 ou biseaux (les deux termes étant synonymes au sens de l’invention). Sur la , le manchon 21 présente deux surfaces inclinées 210 (ou deux portions biseautées), chacun configuré pour coopérer avec un mors de serrage 4. Toutefois, l’invention ne se limite pas à cette configuration, le manchon 21 pouvant ne présenter qu’une seule surface inclinée 21 coopérant avec un seul mors, ou plus de deux surfaces inclinées, par exemple de trois à six surfaces inclinées coopérant chacune avec un mors. L'emploi de deux ou plusieurs mors 4 répartis autour du manchon 21 assure toutefois un maintien en position plus sûr.
Ces surfaces inclinées 210 sont réalisées sur la paroi externe du manchon 21 et convergent vers son extrémité distale. Selon un mode avantageux de réalisation, elles sont disposées symétriquement par rapport au plan transversal du support 2, mais cette configuration n’est pas nécessaire.
Les surfaces inclinées 210 présentent une pente ascendante depuis l’extrémité distale du manchon 21 vers l’extrémité proximale dudit manchon (c’est-à-dire vers la bride 20). L'inclinaison de cette pente par rapport à l’axe X-X est comprise entre 20° et 80°, avantageusement entre 50° et 60°, préférentiellement de 45° plus ou moins 5°. Comme expliqué plus avant dans la description, ces valeurs de pente permettent un bon glissement des mors 4, avec des frottements réduits. En outre, ces valeurs de pente offrent un bon compris entre la translation axiale et la translation radiale des mors 4. Par exemple, avec une pente de 45°, la longueur du déplacement radial correspond à celle du déplacement axial. Avec une pente de 20°, la longueur du déplacement radial est inférieure à celle du déplacement radial, ce qui permet un réglage plus fin du serrage des mors 4 dans le conduit 3, et avec des frottements réduit entre lesdits mors et le manchon 21. À l’inverse, avec une pente de 80°, la longueur du déplacement radial est supérieure à celle du déplacement radial, ce qui permet d’atteindre plus rapidement la position de blocage des mors 4 dans le conduit 3, mais avec davantage de frottement entre lesdits mors et le manchon 21.
Sur les figures annexées, les surfaces inclinées 210 s’étendent sur une partie seulement de la hauteur du manchon 21, et préférentiellement à mi-hauteur. Elles peuvent toutefois s’étendre sur toute la hauteur du manchon 21, depuis l’extrémité distale jusqu’à l’extrémité proximale.
En se rapportant à la , le manchon 21 est associé à un ou plusieurs mors de serrage rigide 4. On entend par « mors rigide », le fait que le mors 4 n'est pas déformable sous une force exercée par les doigts d'un utilisateur. Selon un mode de réalisation, le mors 4 une dureté shore D supérieure à 20, mesurée au moyen d’un duromètre conforme à la norme ISO 868 et/ou ASTM 2240. Selon un mode préféré de réalisation, chaque mors 4 est obtenu par moulage. On utilise préférentiellement un plastique de type ABS traité anti-UV.
Les figures 4 et 5 illustrent un mode préféré de réalisation d’un mors 4. Chaque mors 4 est complémentaire d’une portion biseautée du manchon 21. Ainsi, lorsque le ou les mors 4 sont en position d’insertion (figures 7 et 8), l’ensemble mors-manchon présente une paroi externe (ou est inclus dans une enveloppe) complémentaire de la paroi interne du conduit 3 dans lequel il s’engage et qui est décrit plus avant dans la description. L’ensemble mors-manchon a préférentiellement une forme cylindrique, mais peut avoir une forme conique, parallélépipédique, polyédrique, etc.
Sur la , le mors 4 présente une surface inclinée 410 qui coopère avec une surface inclinée 210 du manchon 21. Selon un mode préféré de réalisation, la surface inclinée 410 a la même pente que la surface inclinée 210, bien que ces pentes puissent être différentes. Plus précisément, la surface inclinée 410 est montée glissante sur la surface inclinée 210 de sorte que le mors 4 est mobile sur le manchon 21 selon une translation axiale et radiale. Les figures 8 et 9 schématisent cette translation axiale TA et cette translation radiale TR lorsque les mors 4 sont entraînés de la position d’insertion ( ) à la position de blocage ( ).
Selon un mode de réalisation, le manchon 21 et les mors 4 sont pourvus d’une ou plusieurs glissières de guidage complémentaires 211, 411, en prise mutuelle, et configurées pour guider les mors 4 lors de leur translation. Ces glissières 211, 411 peuvent être directement moulées sur le manchon 21 et/ou les mors 4, au niveau des surfaces inclinées 210, 410, ou être rapportées sur lesdites surfaces.
Un organe entraîne le déplacement de chaque mors 4 entre : - la position d’insertion ( ) où le mors 4 est radialement rapproché de l’axe X-X du manchon 21, et - la position de blocage ( ) où le mors 4 est radialement écarté de l’axe X-X du manchon 21.