INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
L’invention concerne également un ensemble de levage de charge comprenant : - une grue comprenant au moins plusieurs équipements électriques et un système de contrôle-commande en communication avec lesdits plusieurs équipements électriques, ladite grue requérant pour fonctionner et déplacer une charge une puissance de fonctionnement pouvant atteindre une valeur maximale de fonctionnement, la puissance de fonctionnement étant égale à une somme de puissances demandées par les équipements électriques ; - une source d’alimentation principale comprenant un groupe électrogène muni d’un moteur endothermique apte à fournir à la grue un courant alternatif principal pour une puissance principale pouvant atteindre une valeur maximale principale ; le groupe électrogène étant dimensionné en fonction d’un rapport de puissance tel que la valeur maximale principale est égale à la valeur maximale de fonctionnement multipliée par ledit rapport de puissance qui est inférieur à 1,2, et le groupe électrogène présente une plage de puissance optimale bornée par une valeur optimale minimale et une valeur optimale maximale qui est inférieure à la valeur maximale principale ; - une source d’alimentation secondaire comprenant au moins une batterie électrique rechargeable, qui présente un niveau de charge compris entre zéro et un niveau de charge maximal, et qui est apte à fournir un courant alternatif secondaire pour délivrer une puissance secondaire et apte à recevoir une puissance de charge pour être rechargée électriquement ; - un circuit de couplage électrique entre la grue, le groupe électrogène et la source d’alimentation secondaire ; dans lequel le système de contrôle-commande est en communication avec : - la source d’alimentation secondaire pour recevoir le niveau de charge et pour ajuster une valeur secondaire de la puissance secondaire et une valeur de charge de la puissance de charge ; et - le circuit de couplage électrique pour piloter des couplages entre la grue, le groupe électrogène et la source d’alimentation secondaire ; et dans lequel ledit système de contrôle-commande comprend un programme pour la mise en œuvre du procédé automatique de gestion de puissance conforme à la précédente description.
Comme indiqué, le procédé automatique de gestion de puissance est contenu dans un programme implémenté dans le système de contrôle-commande de la grue. Le système de contrôle-commande a pour rôle de déterminer quel mode de gestion de puissance (mode principal, mode mixte, mode hybride, mode de charge) doit être mis en œuvre en fonction du contexte applicatif. Ce système de contrôle-commande est raccordé à l’ensemble des équipements électriques équipant la grue, comme par exemple les actionneurs propres à déplacer une charge et/ou déplacer un élément de la grue, et les accessoires électriques comme les lumières, alarmes, capteurs, dispositifs de régulation de température, poste de commande, etc.
Avantageusement, selon la conception du procédé automatique, pour déterminer quel mode de gestion de puissance doit être sélectionner, la seule source d’alimentation avec laquelle le système de contrôle-commande ait besoin de communiquer est la source d’alimentation secondaire. Il n’est donc pas nécessaire d’installer un moyen de communication, par exemple un bus de communication, entre le groupe électrogène et la grue pour procéder à de l’échange d’information.
Egalement, le groupe électrogène n’échange pas d’information avec la source d’alimentation secondaire.
Le groupe électrogène ne fait que délivrer de la puissance à la grue et/ou à la source d’alimentation secondaire que lorsqu’il est relié électriquement à elle(s) via le circuit de couplage électrique, et selon la demande de puissance en provenance de celle(s)-ci.
Par conséquent, la mise en œuvre du procédé automatique est donc plus pratique et moins coûteuse, avec moins de moyens hardware, software ou protocolaire à concevoir et/ou à installer.
Une fois le mode de gestion de puissance sélectionné, le système de contrôle-commande communique avec le circuit de couplage électrique pour que celui-ci mette en œuvre électriquement le mode de gestion de puissance sélectionné, comme expliqué ci-après.
Selon une caractéristique de l’invention, le système de contrôle-commande est conformé pour envoyer un ordre de commande au circuit de couplage électrique, lequel est conformé à réception de l’ordre de commande pour relier ou non électriquement la source d’alimentation principale à la source d’alimentation secondaire, la source d’alimentation principale à la grue, et la source d’alimentation secondaire à la grue.
Comme indiqué ci-dessus, la mise en œuvre électrique d’un mode de gestion de puissance est assurée par le circuit de couplage électrique tel que : - dans le mode principal, le circuit de couplage électrique connecte le groupe électrogène à la grue et déconnecte la source d’alimentation secondaire de la grue et du groupe électrogène ; - dans le mode mixte, il connecte le groupe électrogène à la grue et à la source d’alimentation secondaire, et la source d’alimentation secondaire n’est cependant pas connectée à la grue ; - dans le mode hybride, il connecte la grue au groupe électrogène et à la source d’alimentation secondaire, et le groupe électrogène et la source d’alimentation secondaire ne sont par contre pas connectées entre elles ; - dans le mode de charge, le groupe électrogène et à la source d’alimentation sont connectées entre elles et déconnectées toutes les deux de la grue.
Le circuit de couplage électrique met en œuvre électriquement les différents modes de gestion de puissance en fonction d’instructions contenues dans un ordre de commande qu’il reçoit en provenance du système de contrôle-commande.
Dans l’orientation verticale de la cigarette 10, la partie la plus basse du réservoir 18 peut être située plus bas que le point le plus bas de l’orifice 46. Cependant dans cette configuration, du liquide 50 peut rester dans le réservoir 18 sans que des mouvements habituels de l’utilisateur ne permettent à du liquide 50 situé au plus bas du réservoir 18 de venir remplir la chambre 42. Il est alors avantageux que l’orifice 46 s’ouvre sur la partie la plus basse du réservoir 18 dans l’orientation verticale de la cigarette 10. Ainsi, même lorsque le réservoir 18 est peu rempli, la communication du liquide 50 avec la chambre 42 est assurée.
En pratique, le réservoir 18 doit alimenter périodiquement la chambre 42 pour que celle-ci puisse, à son tour, maintenir un film liquide sur la zone centrale 20c de la membrane 20. On a constaté qu’en moyenne une aspiration d’un utilisateur dure de l’ordre de quelques secondes, typiquement 3 secondes. La chambre 42 est dimensionnée, notamment son diamètre extérieur, pour contenir un volume équivalent à 30 à 50 secondes d’aspiration ce qui représente plus d’une dizaine d’aspirations. Durant la période pendant laquelle un utilisateur va réaliser cette dizaine d’aspirations, la probabilité qu’il modifie l’orientation de la cigarette 10 est très forte et notamment qu’il oriente la cigarette 10 dans une position où le niveau 52 du liquide atteint la chambre 42 au moins le temps nécessaire au remplissage de la chambre 42. Les orientations de la cigarette 10 représentées sur les figures 3a et 4a ne sont que des exemples permettant de comprendre comment la chambre 42 peut se remplir ou ne pas se remplir au moyen du liquide 50 contenu dans le réservoir 18. En pratique, lors de l’utilisation de la cigarette 10, l’utilisateur modifie régulièrement l’orientation de la cigarette 10 dans toute orientation intermédiaire entre celles représentées. De façon générale, il faut comprendre que le remplissage de la chambre 42 peut se faire lorsque le niveau 52 du liquide 50 atteint la chambre 42 et s’interrompt lorsque le niveau 52 ne l’atteint pas.
Lors de la nébulisation, il a été constaté que quelques bulles d’air tendent à se former sur la face 20a de la membrane 20 au niveau de la zone centrale 20c dans le film de liquide présent sur la membrane 20 du côté du réservoir 18, c’est-à-dire sur la face 20a de la membrane 20. Il a été constaté que les bulles d’air ne se forment pas dans la chambre 42, c’est-à-dire sur la partie périphérique de la membrane 20 mais uniquement au niveau de la zone centrale 20c. Si ces bulles d’air restent en contact avec la membrane 20, la nébulisation est dégradée. La présence de l’orifice 46 faisant face à la zone centrale 20c permet l’évacuation de ces bulles d’air vers le réservoir 18 au-dessus du niveau 52 de liquide. Le fait que les bulles d’air puissent être évacuées par l’orifice 46 permet de ne pas gêner la nébulisation. Ainsi afin d’améliorer la nébulisation, il est avantageux que l’orifice 46 soit situé en regard de la zone centrale 20c de la membrane 20.
Chaussure de sport équipée d’une sangle de serrage L’invention s’applique au domaine des chaussures destinées aux activités sportives et s’intéresse, plus particulièrement, aux moyens d’ajustement de la tension de serrage de la partie haute de ces chaussures autour du pied et/ou de la jambe du sportif.
En particulier, ces moyens de serrage sont indispensables sur les chaussures destinées à la pratique des sports de glisse (ski de fond, patinage, snowboard, …) et, en particulier, à celles utilisées pour le ski alpin et le ski de randonnée, car la partie haute de ces chaussures monte généralement très haut sur la jambe autour du tibia et au-dessus des malléoles.
En général, les chaussures de ski sont formées par une coque externe, comprenant un bas de coque destiné à entourer le pied de l’utilisateur, sur lequel est articulé en rotation un collier, destiné à entourer le bas de la jambe de l’utilisateur. Un chausson interne est ensuite logé, au moins en partie, et de façon amovible ou non, dans la coque externe. Ainsi, de façon traditionnelle, le chausson dépasse au moins par segments au-dessus de l’extrémité supérieure du collier. Le chausson interne comprend, en outre, un évidement sur sa partie avant, délimité par deux rabats latéraux et dans lequel se positionne une languette qui fait face au tibia de l’utilisateur.
Or, il s’avère que la maîtrise de la trajectoire et donc les performances ainsi que la sécurité du skieur nécessitent l’absence de jeu ou tout au moins une forte tension de serrage entre la jambe et l’ouverture supérieure de la chaussure. Cette contrainte implique, à la fois, une emprise de la jambe dans la partie haute de la chaussure et un contact d’appui ferme de la partie avant du tibia contre la languette portée par le chausson intérieur logé dans la coque rigide de la chaussure de ski.
En outre, ces moyens de serrage sont essentiels du fait que, pour des raisons de confort, le chausson intérieur et sa languette sont généralement réalisés en une matière relativement souple (mousse, matières plastiques légères, textile…) et donc élastiquement déformable. Par conséquent, il est nécessaire de comprimer cette matière sous contraintes autour du tibia dans la partie avant de la jambe pour éviter la présence d’un jeu trop important et assurer une transmission efficace des efforts de la jambe vers la chaussure, puis de la chaussure vers le ski.
Enfin, les différences de morphologie entre les skieurs imposent naturellement des réglages différents de la tension de serrage du collier de la chaussure autour de leur jambe.
Le brevet US 8 359 771 décrit une chaussure de ski équipée d’une sangle comprenant deux éléments de serrage parallèles, disposés l'un au-dessus de l'autre dans le sens vertical, et dont les extrémités respectives sont reliées à la sangle au moyen d’un élément de couplage. Le premier élément est destiné à venir en appui sur le chausson ou sur sa languette tandis que le deuxième élément vient en appui sur la partie haute du collier rigide de la chaussure.
Le brevet US 9 549 592 décrit une sangle de réglage de la tension composée de trois portions, une première portion en contact avec le collier de la chaussure de ski, une seconde portion en contact avec le chausson et une troisième portion rigide assurant la liaison entre la première et la seconde portion.
Cependant, les sangles connues par cet art antérieur ne sont pas satisfaisantes car elles n’offrent pas aux skieurs la possibilité d’un réglage fin et adapté du serrage à leur propre morphologie, ni une capacité d’appui à la fois sur le collier de la coque de la chaussure et sur la languette du chausson interne. En outre, la surface de contact entre ces sangles et la partie haute de la chaussure n’est pas suffisante pour assurer un serrage efficace et fiable dans le temps.
En particulier, il a été observé, qu’avec les sangles existantes, il subsiste un jeu important, en partie haute du chausson intérieur, entre ses rabats latéraux et la partie centrale de la languette, ce qui ne permet pas d’assurer un maintien ferme du tibia du skieur. En outre, la partie haute du chausson interne et sa languette sont généralement positionnées en retrait, par rapport à la coque externe et à son collier. Aussi, un jeu important existe entre la sangle de serrage classique et la partie haute du chausson, en retrait dans la coque. Une partie de la surface de la sangle de serrage traditionnelle appuie alors dans le vide, l’autre partie appuyant uniquement sur le collier.
Dans ce contexte, l’invention vise à surmonter les problèmes techniques soulevés précédemment en proposant une sangle de réglage perfectionné offrant plusieurs degrés d’ajustement de la tension de serrage de la jambe au niveau de la languette du chausson intérieur ainsi que différentes orientations et adaptations de la force d’appui sur le collier ou plus globalement sur la coque de la chaussure.
Le but de l’invention est atteint au moyen d’une chaussure de sport comprenant une coque extérieure formée d’un bas de coque destiné à entourer le pied d'un utilisateur et d’un collier prolongeant le bas de coque vers le haut pour entourer la partie inférieure de la jambe, ladite chaussure étant munie, d’une part, d’un chausson intérieur logé dans la coque extérieure et pourvu d’une languette dépassant au moins partiellement au-dessus de l'extrémité supérieure du collier de la chaussure et, d’autre part, d’au moins une sangle de serrage s'étendant autour de la partie d’extrémité supérieure de la chaussure, caractérisée en ce que ladite sangle comprend au moins deux éléments de traction solidarisés au moins partiellement l’un avec l'autre et pourvus d’organes de réglage et de verrouillage de la tension, un premier élément de traction étant destiné à venir en appui sur le chausson ou sur sa languette, tandis qu’un second élément de traction est destiné à venir en appui à la fois sur la partie d'extrémité supérieure du collier et sur le premier élément de traction qu’il recouvre.
Selon un mode de réalisation préférentiel de la chaussure de l’invention, les éléments de traction sont formés de deux lanières planes réunies à plat l’une contre l’autre par un élément de liaison monté à distance de leurs extrémités respectives.
Dans cet exemple, le capteur C1 est collé au capteur C2 par collage moléculaire. Pour cela, le capteur C1 comprend une couche 126a, par exemple en oxyde de silicium, située du côté de la face avant du substrat 100. De plus, le capteur C2 comprend une couche 126b de même nature que la couche 126a, par exemple en oxyde de silicium, située du côté de la face arrière du substrat 130. La face de la couche 126a opposée au substrat 100 est mise en contact avec la face de la couche 126b opposée au substrat 130 de façon à réaliser un collage moléculaire du capteur C2 au capteur C1. À titre d’exemple, la couche 126a, respectivement 126b, s’étend de façon continue sur sensiblement toute la surface du capteur C1, respectivement C2.
Dans l’exemple représenté, le capteur C1 comprend en outre, du côté de la face avant du substrat 100, entre l’empilement d’interconnexion 110 et la couche 126a, une couche 128 d’un matériau d’indice de réfraction différent de celui des couches 126a et 126b, par exemple un matériau d’indice de réfraction supérieur à celui des couches 126a et 126b, par exemple du nitrure de silicium. À titre d’exemple, la couche 128 s’étend de façon continue sur sensiblement toute la surface du capteur C1. La couche 126a est par exemple en contact, par sa face tournée vers le substrat 100, avec la couche 128.
De plus, dans cet exemple, le capteur C2 comprend en outre, du côté de la face arrière du substrat 130, entre le substrat 130 et la couche 126b, une couche 132 d’un matériau d’indice de réfraction différent de celui des couches 126a et 126b, par exemple une couche en le même matériau que la couche 128. La couche 132 présente par exemple une fonction de passivation et une fonction antireflet. La couche 132 est par exemple identique ou similaire à la couche 115. La couche 132 est par exemple plus précisément une couche en alumine ou en oxyde de tantale, ou un empilement de plusieurs couches en ces matériaux, la couche ou l’empilement de couches pouvant par ailleurs être structuré. À titre d’exemple, la couche 132 s’étend de façon continue sur sensiblement toute la surface du capteur C2. La couche 126b est par exemple en contact, par sa face tournée vers le substrat 130, avec la couche 132.
Bien que cela n’ait pas été illustré en , des structures de diffraction dites à rendement quantique élevé (« High Quantum Efficiency » - HQE, en anglais) peuvent être prévues dans le substrat 130.
Dans cet exemple, l’empilement des couches 128-126a-126b-132 forme un empilement antireflet favorisant le passage de la lumière de chaque pixel P1′ vers la région photosensible du pixel P2 sous-jacent. L’épaisseur des couches 128, 126a, 126b, 132 peut être choisie en fonction de la longueur d’onde d’émission de la source lumineuse, de façon à favoriser la fonction anti-reflet de l’empilement à la longueur d’onde d’émission de la source lumineuse, par exemple de façon que le coefficient de réflexion de l’empilement à la longueur d’onde d’émission de la source lumineuse soit inférieur à 6 %. À titre d’exemple non limitatif, pour une longueur d’onde de fonctionnement de la source lumineuse de 940 nm et dans le cas où la couche 128 est en nitrure de silicium, où la couche 132 est analogue à la couche 115 et où les couches 126a et 126b sont en oxyde de silicium, les couches 128 et 132 peuvent présenter chacune une épaisseur de l’ordre de 119 nm, et la somme des épaisseurs des couches 126a et 126b peut être de l’ordre de 200 nm.
Chaque pixel P2 du capteur C2 comprend une photodiode 133 formée dans le substrat 130, en vis-à-vis de la région 50 du capteur C1. La photodiode 133 comprend une ou plusieurs régions semiconductrices localisées formées dans le substrat semiconducteur 130. À titre d’exemple, chaque photodiode 133 comprend notamment une région photosensible, de préférence en silicium dans le cas où la source lumineuse présente une longueur d’onde centrale d’émission de l’ordre de 940 nm. À titre de variante, la région photosensible de chaque photodiode 133 peut être à base d’arséniure de gallium-indium (InGaAs), de germanium (Ge) ou d’au moins un matériau semiconducteur organique, par exemple de type polymère. La région photosensible de chaque photodiode 133 peut comprendre des boîtes quantiques (« quantum dots », en anglais), par exemple comprenant des nanocristaux semiconducteurs.
Le pixel de profondeur P2 peut être réalisé dans toute technologie adaptée à la mise en œuvre d’une mesure de distance. À titre d’exemple, la photodiode 133 du pixel P2 peut être de type SPAD (de l’anglais « Single Photon Avalanche Diode » - diode à avalanche à photon unique) ou être une photodiode adaptée à effectuer des mesures de distance par lumière structurée. À titre de variante, le pixel P2 peut être de type « lock-in », tel que décrit dans les demandes de brevet français N°16/62341 et N°16/62340 précédemment déposées par la demanderesse, c’est-à-dire un pixel comprenant plusieurs zones mémoire couplées à une même zone de détection, et permettant de mesurer un déphasage entre un signal lumineux modulé en amplitude, émis par la source lumineuse, et un signal lumineux reçu par la zone de photodétection du pixel, après réflexion sur la scène.
Chaque pixel P2 peut en outre comprendre un ou plusieurs composants supplémentaires (non représentés), par exemple des transistors de contrôle, formés du côté de la face avant du substrat 130, par exemple dans le substrat 130 et sur la face avant du substrat 130. Le capteur C2 comprend en outre un empilement d’interconnexion 140, constitué de couches diélectriques et conductrices alternées revêtant la face avant du substrat 130, dans lequel sont formées des pistes et/ou bornes de connexion électrique 141 connectant les pixels P2 du capteur à un circuit périphérique de commande et d’alimentation, non représenté.
Dans l’exemple représenté, dans chaque pixel P2 du capteur C2, la photodiode 133 du pixel est entièrement entourée par un mur d’isolation vertical 135 traversant le substrat 130 sur toute son épaisseur. Le mur 135 remplit notamment une fonction d’isolation optique, et peut en outre présenter une fonction d’isolation électrique. À titre d’exemple, le mur d’isolation vertical 135 est en un matériau diélectrique, par exemple de l’oxyde de silicium. À titre de variante, le mur d’isolation vertical 135 est un mur multicouche comprenant une couche intérieure en un matériau diélectrique, par exemple de l’oxyde de silicium, une ou plusieurs couches intermédiaires comprenant au moins une couche métallique, et une couche extérieure en un matériau diélectrique, par exemple de l’oxyde de silicium.
Dans l’exemple représenté, les dimensions latérales des zones de détection des pixels P2 (délimitées par les murs 135) sont supérieures aux dimensions latérales des zones de détection des pixels P1′ (délimitées par les murs 103), ce qui permet de relâcher les contraintes d’alignement lors de l’assemblage des capteurs C1 et C2. À titre d’exemple, les pixels P1 et P1′ d’image 2D du capteur C1 présentent un pas inférieur à 2 µm, par exemple de l’ordre de 1 µm, et les pixels P2 de profondeur du capteur C2 présentent un pas inférieur à 4 µm, par exemple sensiblement égal au double du pas des pixels P1 et P1′ d’image 2D, par exemple de l’ordre de 2 µm. Les modes de réalisation décrits ne se limitent toutefois pas à ce cas particulier. À titre de variante, les dimensions latérales des zones de détection des pixels P2 sont sensiblement identiques à celles des pixels P1′. Dans ce cas, le mur d’isolation vertical 135 du pixel P2 peut être situé sensiblement à l’aplomb du mur d’isolation vertical 103 entourant la zone de détection du pixel P1′ sus-jacent.
Les murs 103 et 135, ainsi que le guidage vertical à travers la région 50, permettent de limiter le risque que des rayons lumineux reçus par un pixel P1 voisin du pixel P1′ ne viennent activer la photodiode du pixel P2 correspondant, ce qui pourrait conduire à une mesure de profondeur erronée.
Bien que cela n’ait pas été illustré en , le capteur C2 peut en outre, à titre de variante, comporter un écran métallique revêtant sensiblement toute la face arrière du substrat 130, à l’exception des portions de substrat 130 situées à l’intérieur des murs 135 (correspondant aux zones de photodétection des pixels P2). L’écran métallique est par exemple disposé entre le substrat 130 et la couche diélectrique 132. Là encore, la fonction de l’écran métallique est une fonction d’isolation optique, visant à éviter que des rayons lumineux reçus par un pixel P1 voisin du pixel P1′ ne viennent activer la photodiode du pixel P2 correspondant. À titre de variante, l’écran métallique n’est pas continu mais est constitué d’une pluralité de couronnes disjointes entourant respectivement, en vue de dessus, les zones de photodétection des différents pixels P2 du capteur. Cela permet avantageusement de limiter les réflexions parasites de lumière par l’écran métallique en direction des pixels P1′ du capteur C1.
L’épaisseur du substrat 130 est par exemple comprise entre 5 et 50 µm, par exemple entre 8 et 20 µm.