INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
- des moyens de non-traitement des messages diffusés,
Conformément à l’invention, un bain de polissage chimique pour le polissage d'une pièce en titane ou en alliage de titane, ou d'une partie de celle-ci, comprend : - de l’eau ;
- un agent complexant fluorure apte à former un complexe avec le titane oxydé, à une concentration équivalente en fluorure comprise entre 1,40 et 2,80 mol/L ;
- de l’acide phosphorique à une concentration entre 3,0 et 6,0 mol/L (soit entre 290 et 590 g/L) ; et
- de l’acide sulfurique à une concentration entre 0,5 et 1,5 mol/L (soit entre 50 et 150 g/L).
Le présent bain de polissage chimique se présente donc sous la forme d’une solution aqueuse ayant une concentration en acides élevée. Ainsi, le pH d’un bain selon l’invention est inférieur à 2,0, de manière préférée inférieur à 1,0, de manière particulièrement préférée un bain selon l’invention présente un pH négatif. Avantageusement, les concentrations en acide phosphorique et en acide sulfurique sont telles que le pH d’un bain selon l’invention est négatif et reste négatif au cours de l’utilisation du bain malgré une consommation des acides lors du polissage de pièces en titane ou en alliage de titane.
Un des mérites de l’invention est d’avoir identifié des composés, et leurs concentrations respectives, qui permettent un abattement significatif de la rugosité, sans augmenter significativement la décote, alors que ces deux effets nécessitent en général des paramètres antagonistes.
La solution selon l’invention comprend deux acides et un agent complexant de l’oxyde le titane. La densité du bain est contrôlée par le mélange d'acide sulfurique et d'acide phosphorique. En effet, afin d’obtenir un effet de polissage, le présent bain présente une viscosité, ou densité, généralement plus importante que celle d’autres solutions d’attaque chimique, par ex. du type usinage chimique. Ainsi, l’agressivité de la présente solution est différente des solutions de décapage ou d’usinage chimique conventionnelles, et ce malgré l’utilisation de réactifs qui peuvent être similaires.
L’acide sulfurique, tout comme l’acide phosphorique, possède des propriétés oxydantes, bien que ces acides ne soient généralement pas considérés comme des agents oxydants, au contraire par exemple de l’acide nitrique. Les propriétés oxydantes des acides sulfurique et phosphorique sont cependant suffisantes pour oxyder la surface d’une pièce en titane ou en alliage de titane. En effet, le titane est un métal très sensible à l’oxydation. Ainsi, et de manière avantageuse, selon des modes de réalisations préférés, aucun agent oxydant autre que l’acide sulfurique et l’acide phosphorique n’est ajouté au bain de polissage selon l’invention.
La viscosité plus importante de la solution de polissage permet de ralentir les phénomènes de diffusion des espèces chimiques de la solution vers la surface de la pièce où ceux-ci ont été consommés. L’objectif est de rendre la diffusion plus lente que la cinétique de réaction. La surface s’appauvrit ainsi en agents d’attaque (acide sulfurique ou acide phosphorique) et en complexants, car ils ont été consommés plus vite qu’ils n’arrivent à la surface. Leur arrivée a donc lieu en premier près des sommets des reliefs des surfaces à polir où leur action sera prioritaire. Alors que les creux ne verront pas autant de réactifs (agents d'attaque et agents complexants), ceux-ci ayant déjà été consommés par une réaction sur les points les plus en relief de la pièce. Ce phénomène est ainsi responsable d’un effet de polissage de la surface par dissolution sélective des aspérités de surface.
Dans le cadre de l'invention, parler d'une augmentation de la viscosité du bain est équivalent à parler d'une augmentation de sa densité, et inversement.
Selon la compréhension actuelle de l’invention, l'efficacité du présent bain de polissage chimique repose sur la maitrise des cinétiques de diffusion des acides sulfurique et phosphorique et des agents complexants au sein du bain vers la surface de la pièce à polir, ainsi que des cinétiques de réaction des acides avec la surface de la pièce à polir. Le principe d'action du bain de polissage chimique selon l'invention est le suivant. Une viscosité appropriée (accrue par rapport aux bains classiques d’attaque chimique) du bain de polissage chimique permet de ralentir les phénomènes de diffusion des espèces chimiques actives (ici les acides – sulfurique et phosphorique – et les agents complexants) de la solution vers la surface de la pièce. Au voisinage de la surface, les espèces actives sont consommées, ce qui induit un appauvrissement local du bain. Afin de rétablir l'équilibre des concentrations, les espèces actives diffusent depuis le bain vers la surface, et ce faisant elles réagissent dès qu'elles entrent en contact avec la surface à polir. Les zones les plus accessibles étant les sommets des pics à l'origine de la rugosité de surface, l'attaque des sommets est favorisée, ce qui permet une réduction du relief de la surface et donc de la rugosité globale de la pièce.
Des premiers essais ont été réalisés avec le présent bain de polissage, pour des volumes de bain entre 100 mL et 600 L, et ont prouvé son efficacité. Le bain de polissage chimique selon l’invention a été particulièrement développé pour le polissage de pièces issues des techniques de fabrication additive, mais peut être appliqué à toutes sortes de pièces en titane ou alliage de titane, quel que soit le procédé d’obtention. En outre, les dimensions et/ou géométries peuvent être très variées. Par ailleurs, la pièce en titane à traiter peut être une partie d’un composant. C’est-à-dire que la partie de titane à traiter peut être combinée à un autre matériau, auquel elle est juxtaposée ou superposée.
Les agents complexants fluorure privilégiés se présentent sous la forme d'un sel fluoré. En d'autres termes, l'acide fluorhydrique en tant que tel n'est pas employé comme source de fluorure. Il n'est cependant pas exclu de la présente invention que de l'acide fluorhydrique se forme dans le bain suite à la dissolution de ces sels. L’acide fluorhydrique a une agressivité forte vis-à-vis du titane alors que l’ajout d’un sel fluoré a uniquement un rôle de complexation. De plus l’utilisation d’un sel fluoré permet de diminuer la dangerosité de montage de la solution. En d'autres termes, l'agent complexant fluorure est avantageusement ajouté à la solution sous forme de sel, et non pas sous forme d'acide fluorhydrique pur, car les sels sont moins dangereux à manipuler.
De manière avantageuse, l'agent complexant fluorure ajouté au bain de polissage chimique est choisi parmi NH 4 F, NH 4 F.HF, NaF, NaF.HF, KF, KF.HF, H 2 TiF 6 , H 2 SiF 6 ou leurs mélanges. Le rôle du complexant fluorure dans l’invention est de venir se combiner au titane oxydé (sous forme d’oxyde de titane hydraté, en particulier sous forme de TiO 2 , TiO(OH) 2 et/ou Ti(OH) 4 ) qui se forme en surface de la pièce en présence des acides sulfurique et phosphorique, ou qui peut être en solution.
Les agents complexants fluorure privilégiés se présentent sous la forme d'un sel fluoré et d'acide fluorhydrique. En d'autres termes, il s'agit d'un acide faible en présence de son anion, l'ion fluorure ou F - . Ainsi, l'agent complexant utilisé a également une fonction de tampon, ce qui rend possible le contrôle du pH du bain de polissage chimique.
De plus, les ions fluorures (ou F - ) sont capables de complexer une variété de métaux, ce qui est intéressant dans le cas de pièces en alliage de titane. Par ailleurs, les fluorures sont des agents complexants extrêmement stables en solution, et le risque qu'ils soient dégradés au cours du temps et forment des sous-produits mal maîtrisés est minime.
On se réfère à la montrant le véhicule automobile 1 en vue de dessus.
La description faite pour le sous-ensemble gauche 7g de l’ensemble 3 de véhicule automobile 1 s’applique de la même manière au sous-ensemble droit 7d.
Le sous-ensemble droit 7d comporte un plancher droit 11d, définissant une partie inférieure de l’habitacle du véhicule automobile 1. Lorsque les sous-ensembles gauche 7g et droit 7d sont assemblés entre eux, le plancher droit 11d définit avec le plancher gauche 11g le plancher 11 du véhicule automobile 1.
Le sous-ensemble droit 7d comporte en outre un tablier avant droit 13d, séparant une partie du moteur de l’habitacle du véhicule automobile 1 et prolongeant le plancher droit 11d à l’avant. Lorsque les sous-ensembles gauche 7g et droit 7d sont assemblés entre eux, le tablier avant droit 13d forme avec le tablier avant gauche 13g le tablier avant 13 du véhicule automobile 1.
Le sous-ensemble droit 7d comporte en outre un pare-boue avant droit 15d, s’étendant au-dessus de la roue 5 correspondante et prolongeant le tablier avant droit 13d latéralement vers l’extérieur.
Le sous-ensemble droit 7d comporte en outre un tablier arrière droit 17d, prolongeant le plancher droit 11d à l’arrière. Lorsque les sous-ensembles gauche 7g et droit 7d sont assemblés entre eux, le tablier arrière droit 17d forme avec le tablier arrière gauche 17g le tablier arrière 17 du véhicule automobile 1.
Le sous-ensemble droit 7d comporte en outre un pare-boue arrière droit 19d, s’étendant au-dessus de la roue 5 correspondante et prolongeant le tablier arrière droit 17d latéralement vers l’extérieur.
Ainsi, le sous-ensemble droit 7d comporte : - un plancher droit 11d, - un tablier avant droit 13d, - un pare-boue avant droit 15d, - un tablier arrière droit 17d, et - un pare-boue arrière droit 19d.
Selon l’invention, le sous-ensemble droit 7d consiste en une unique pièce réalisée en matériau plastique, par exemple en polypropylène.
Comme c’est le cas pour le sous-ensemble gauche 7g, le sous-ensemble droit 7d peut par exemple être obtenu par un procédé de moulage par injection plastique, connu de l’homme du métier.
On se réfère à la montrant une vue en coupe selon la ligne IV-IV de la , en perspective.
Dans un exemple de réalisation de l’ensemble 3, l’assemblage entre les sous-ensembles droit 7d et gauche 7g au niveau de la zone de jonction 9 est obtenu par emmanchement entre les sous-ensembles 7d, 7g.
Pour ce faire, un profilé femelle 25 est pratiqué sur le sous-ensemble gauche 7g.
Le sous-ensemble gauche 7g comporte une face supérieure 21g et une face inférieure 23g. De même, le sous-ensemble droit 7d comporte une face supérieure 21d et une face inférieure 23d.
Dans l’exemple de réalisation illustré, le profilé femelle 25 est pratiqué sous la face inférieure 23g du sous-ensemble gauche 7g.
Selon une variante de réalisation non illustrée, le profilé femelle 25 peut être pratiqué sur une autre face du sous-ensemble droit 7d, notamment sur la face supérieure 21g.
En particulier, le second dispositif 54 est destiné à solliciter axialement le pied 16 de l’aube 10 selon l’axe X en direction du talon 22 pour reproduire les efforts centrifuges auxquels est soumise l’aube 10 en fonctionnement. Le second dispositif 54 est également destiné à soumettre le pied 16 de l’aube 10 à un couple d’axe X qui est destiné à reproduire le couple réel auquel est soumise l’aube 10 du fait des efforts aérodynamiques s’exerçant sur la pale 12 lors de l’utilisation de l’aube 10 dans le moteur.
Le bâti 42 porte également un moyen de mesure des vibrations de la pale 12 en réponse à la mise en vibration du bâti 42 par le dispositif de mise en vibration 40. Comme l’illustre la , ce moyen de mesure peut, de manière non limitative de l’invention, être constitué par exemple d’un capteur optique 56, agencé à proximité d’une partie intermédiaire de la pale 12, qui est destiné à mesurer l’amplitude de ses mouvements. Le banc d’essai 38 comporte aussi un moyen de traitement 58 des mesures fournies par ledit moyen de mesure 38. Ce moyen de traitement 58 a été représenté de manière schématique à la . Ce moyen de mesure peut comporter de manière classique un système d’acquisition des informations fournies par le capteur optique 56 ainsi qu’un moyen de traitement informatique de ces informations permettant d’en extrapoler des relevés et des courbes de réponse en fréquence de l’aube 10.
Avantageusement, comme l’illustre la , le banc d’essai 38 peut également comporter des moyens de chauffage 60 par induction du talon 22 et d’une partie intermédiaire de l’aube 10. Ces moyens de chauffage 60 par induction consistent par exemple en un ensemble de spires qui sont traversées par l’aube 10 et qui sont destinées à provoquer son échauffement préalablement à la mesure pour recréer les conditions d’une aube 10 soumis un flux de gaz de combustion chaud.
On s’attache à présent à décrire le premier dispositif 50 en référence aux figures 5 à 7.
D’une manière générale, comme l’illustre la , le premier dispositif 50 comporte deux touches 62 et 64 qui sont mobiles indépendamment l’une de l’autre, qui sont aptes à être sollicitées au contact de chacun des ajouts de matière 30 et 32 de l’aube 10 par des moyens de sollicitation, et qui sont aptes à être verrouillées au contact de chacun desdits ajouts de matière 30 et 32 par des moyens de verrouillage. Dans leur pratique de fonctionnement, ces touches 62 et 64 sont donc préalablement écartées de la plate-forme 24 du talon 22, puis rapprochées de cette plate-forme 24 jusqu’à venir en appui sur les ajouts de matière 30 et 32 pour les immobiliser simplement sans les solliciter.
Il sera compris que la configuration du premier dispositif 50 qui va être décrite à présent n’est pas limitative de l’invention et que les touches 62 et 64 pourraient être mues selon d’autres modes de déplacement.
Comme on peut le voir sur les figures 5 et 7, le premier dispositif 50 comporte une première chape 66, perpendiculaire au bâti 42. Cette première chape comporte un alésage 68, qui est traversé par un premier rotor axial 70. Le premier rotor axial 70 comporte une première extrémité arrière 72 qui est porteuse d’un premier doigt excentré 74 qui est sensiblement parallèle à la direction axiale X de l’aube 10 et qui comporte à son extrémité une première desdites touches mobiles, c’est-à-dire la touche 64.
Ce premier rotor axial 70 comporte un alésage 76 dans lequel est reçu et monté tournant un deuxième rotor axial 78. Une première extrémité arrière 80 du deuxième rotor 78 porte une plaque 82 qui est glissante en rotation sur la première extrémité arrière 72 du premier rotor 70. À partir de cette plaque 82 s’étend un second doigt 84 qui est lui aussi parallèle à la direction axiale X de l’aube 10. Ce second doigt 84 est de même excentration que le premier doigt 74 et il comporte à son extrémité une seconde des touches mobiles, c’est-à-dire la touche 62. Le pivotement relatif des premier et deuxième rotor 70, 78 permet donc d’écarter à volonté ou de rapprocher les touches 62, 64 des ajouts de matière 30 32 de l’aube 10.
Comme on l’a vu, les touches mobiles 62, 64 sont susceptibles d’être mues par des moyens de sollicitation et verrouillées par des moyens de verrouillage.
En ce qui concerne le premier rotor axial 70, comme l’illustrent les figures 6 et 7, une seconde extrémité avant 86 de celui-ci est solidaire d’une platine 88 qui est montée glissante sur une face avant 90 de la première chape. Cette platine 88 comporte un premier moyen de sollicitation comportant une première oreille 91, excentrée radialement par rapport à l’axe X, qui est apte à être sollicitée par une première vis de pression 92. La vis de pression 92 traverse une première patte axiale 94 s’étendant à partir de la face avant 90 de la première chape 66, comme représenté à la . La vis de pression 92 permet de solliciter l’oreille 91 pour faire pivoter le premier rotor axial 70 dans sa position dans laquelle son doigt 74 se rapproche du talon 22, et dans laquelle par suite sa touche 64 entre en contact avec l’ajout de matière 30 du talon 22. Avantageusement, la vis de pression 92 peut-être bloquée par un contre-écrou 96.
Le premier rotor axial 70 comporte aussi un premier moyen de verrouillage comportant au moins une lumière en arc de cercle 98 qui est formée dans la platine 88. Cette lumière en arc de cercle 98 est centrée axialement sur l’axe X elle est traversée par une vis de serrage 100 qui est reçue dans la première chape 66 pour serrer la platine 88 contre la face avant 90 de la première chape 66. De préférence, il sera compris que le premier rotor à 70 comporte plusieurs lumières 98 et autant de vis de serrage 100.
En ce qui concerne le second rotor axial 78, pour assurer son mouvement relatif de rotation par rapport au premier rotor axial 70, celui-ci comporte un second moyen de sollicitation comportant une seconde oreille 102, qui s’étend radialement à partir d’une seconde extrémité 104 avant du second rotor 78. De la même manière que précédemment, cette seconde oreille 102 est apte à être sollicitée par une seconde vis de pression 106 traversant une seconde patte 108 axiale s’étendant à partir d’une face avant 110 de la platine.
Plus particulièrement, deux pattes axiales 108 parallèles s’étendent à partir de la face avant 110 de la platine 88 et sont disposées sensiblement de part et d’autre du second rotor 78. Ces deux pattes axiales 108 portent avantageusement une plaque transversale 112, qui a été représentée en pointillés sur la et en traits pleins sur la , et qui est fixée à l’extrémité des pattes axiales 108 par des vis 113. Cette plaque transversale 112 participe à un second moyen de verrouillage du rotor 78 qui comporte pour l’essentiel un tirant axial 114 qui est fixé au second rotor 78, qui traverse la plaque transversale 112. Ce tirant 114 comporte une extrémité avant 116 filetée, faisant saillie à partir de la plaque transversale 112, qui est apte à être tirée par un système vis-écrou 118. De la sorte le vissage du système vis-écrou 118 permet de solliciter axialement le second rotor 78 de manière que sa plaque tournante 82 se bloque contre la première extrémité arrière 72 du premier rotor 70.
On décrit à présent en référence aux figures 8 à 11 le second dispositif 54.
Pour l’essentiel, comme l’illustrent les figures 8 et 9, le second dispositif 54 comporte un dispositif de préhension comportant un mandrin 120 monté tournant au travers d’une seconde chape 122 qui est perpendiculaire au bâti. Une extrémité avant 124 du mandrin 120 comporte des mors 126 fixes qui sont aptes à emprisonner la racine 20 de l’aube 10, comme représenté à la .
Pour reproduire au mieux les sollicitations auxquelles l’aube 10 est soumise, le second dispositif 54 comporte un dispositif général de sollicitation de l’aube 10 permettant de la solliciter axialement selon l’axe X et sous couple autour de l’axe X.
Selon le mode de réalisation dans lequel le module comprend une quatrième sortie, la première vanne d’arrêt est disposée entre la cinquième zone de connexion et la sixième zone de connexion.
Le cinquième canal comprend une deuxième vanne d’arrêt disposée entre la quatrième zone de connexion et la troisième zone de connexion.
Les deux vannes d’arrêts permettent d’interrompre la circulation du fluide réfrigérant de façon à permettre différents modes de fonctionnement.
Selon un exemple de réalisation du module de distribution e fluide réfrigérant, le bloc élémentaire a sensiblement la forme d’un parallélépipède rectangle.
Cette forme permet d’intégrer facilement divers composants comme des détendeurs et des vannes d’arrêt, tout en optimisant la compacité.
Le bloc élémentaire peut être en aluminium.
Le bloc élémentaire peut ainsi avoir un poids modéré et un cout de fabrication faible.
Selon un aspect du module de distribution de fluide réfrigérant, les canaux de circulation de fluide réfrigérant sont formés par une succession de portions cylindriques rectilignes en communication fluidique les unes avec les autres.
Selon un exemple de réalisation du module de distribution de fluide réfrigérant, chaque canal de circulation de fluide réfrigérant est formé par une succession de portions cylindriques coaxiales ou s’étendant selon des axes sécants.
Le premier canal du bloc élémentaire comprend un premier logement de réception du premier détendeur.
La représente, très schématiquement, une structure comprenant du Nitrure de Gallium ;
la comprend deux vues (A) et (B) illustrant un premier type de transistor formé dans et sur une structure comprenant du Nitrure de Gallium ;
la représente comprend deux vues (A) et (B) illustrant un deuxième type de transistor formé dans une structure comprenant du Nitrure de Gallium ;
la représente, très schématiquement et sous forme de blocs, un mode de réalisation d'un dispositif électronique formé dans et sur une structure comprenant du Nitrure de Gallium ;
la représente une vue de dessus schématique d'une partie du mode de réalisation de la ;
la représente une vue de dessus détaillée du mode de réalisation de la ;
la comprend une vue (A) représentant un schéma électrique d'un premier mode de réalisation d'un circuit régulateur de tension du mode de réalisation de la , et une vue (B) représentant une vue en coupe d'une structure formant le premier mode de réalisation du circuit régulateur de tension ;
la représente un schéma électrique d'un deuxième mode de réalisation d'un circuit régulateur de tension du mode de réalisation de la ;
la représente un schéma électrique d'un troisième mode de réalisation d'un circuit régulateur de tension du mode de réalisation de la ;
la représente un schéma électrique d'un quatrième mode de réalisation d'un circuit régulateur de tension du mode de réalisation de la ;
la représente un schéma électrique d'un cinquième mode de réalisation d'un circuit régulateur de tension du mode de réalisation de la ;
la représente un schéma électrique d'un sixième mode de réalisation d'un circuit régulateur de tension du mode de réalisation de la ;
la représente un schéma électrique d'un septième mode de réalisation d'un circuit régulateur de tension du mode de réalisation de la ;
la représente un schéma électrique d'un huitième mode de réalisation d'un circuit régulateur de tension du mode de réalisation de la ;
la représente un schéma électrique d'un premier mode de réalisation d'un circuit régulateur de haute tension du mode de réalisation de la ;
la représente un schéma électrique d'un deuxième mode de réalisation d'un circuit régulateur de haute tension du mode de réalisation de la ;
Dans un mode de réalisation, l’élément mobile EM est réalisé dans du nitrure d’aluminium déposé sur de l’oxyde de silicium. Les conditions de dépôt impliquent une anisotropie du matériau selon l’axe perpendiculaire au plan (P) du substrat SB et une isotropie dans le plan parallèle au plan (P) du substrat. Pour actionner le premier mode de respiration décrit ci-dessus, il est alors nécessaire pour le matériau de se coupler à un champ électrique dont la composante verticale par rapport au plan du disque, c’est à dire au plan (P) du substrat, est non nulle.
Poutre insérée dans une cavité optique