INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Par ailleurs, le fait de prévoir, comme dans l’exemple illustré en , des groupes de cavités résonnantes 109 adjacentes de même épaisseur T mais dont les réseaux de diffraction 117 présentent, à l’intérieur d’un même groupe, des facteurs de remplissage différents permet au filtre optique 101 de bénéficier d’une résolution spatiale supérieure à celle que présenterait par exemple le filtre optique 101 dépourvu des réseaux de diffraction 117, par exemple en raison de limites inhérentes aux procédés mis en œuvre. Ainsi, le fait de combiner, dans le filtre optique 101, des cavités résonnantes 109 d’épaisseurs T différentes et, à l’intérieur des cavités, des réseaux de diffraction 117 présentant des facteurs de remplissage différents permet d’accéder à une bande spectrale plus étendue ou à une résolution supérieure à celle d’un filtre optique ne comportant que l’une ou l’autre de ces caractéristiques.
Le capteur multispectral 100 intégrant le filtre 101 présente avantageusement une compacité supérieure à celle des capteurs multispectraux comprenant une roue à filtres placée en vis-à-vis d’un capteur adapté à acquérir une image pour chaque filtre de la roue tout en présentant par ailleurs une bande spectrale plus large et/ou une résolution plus élevée que les capteurs multispectraux existants comprenant un filtre adapté à transmettre le rayonnement incident dans au moins deux plages de longueurs d’onde différentes.
Dans l’exemple représenté, le capteur 100 comprend en outre une couche de planarisation 121 revêtant la couche miroir 115. La couche 121 permet de compenser les différences d’épaisseur T entre les cavités 109 du filtre 101 afin d’obtenir une face (la face supérieure, dans l’orientation de la ) sensiblement plane. À titre d’exemple, la couche 121 est en un matériau organique, par exemple une résine.
Dans l’exemple illustré en , le capteur 100 comprend en outre une couche de microlentilles 123 revêtant la couche de planarisation 121. Chaque microlentille 123 est disposée en vis-à-vis de l’un des pixels 105 du capteur 103 et permet par exemple de focaliser un rayonnement incident sur une zone photosensible du pixel 105 sous-jacent. Les microlentilles 123 sont par exemple en le même matériau que la couche 121, par exemple en une résine.
À titre de variante, la couche de planarisation 121 peut être omise. Les microlentilles 123 revêtent alors la couche miroir 115, et au moins une des microlentilles 123 est située à une hauteur différente de celle à laquelle est située une autre microlentille 123 du fait de la différence d’épaisseur T entre les cavités 109 du filtre 101.
Les , , , , et sont des vues en coupe illustrant, de façon schématique et partielle, des étapes successives d’un exemple de procédé de fabrication du dispositif 100 de la .
La illustre plus précisément une structure obtenue à l’issue de la réalisation du capteur d’images 103, notamment après la formation des pixels 105 dans et sur le substrat 107.
La illustre plus précisément une structure obtenue à l’issue d’étapes successives de dépôt de la couche miroir 113, d’une couche transparente 201, par exemple une couche électriquement isolante, et d’une couche 203 en un matériau différent de celui de la couche transparente 201. Dans l’exemple représenté, la couche miroir 113 revêt une face de la matrice de pixels 105 opposée au substrat 107 (la face supérieure de la matrice de pixels 105, dans l’orientation de la ). La couche miroir 113 est revêtue de la couche transparente 201, elle-même revêtue de la couche 203.
À titre d’exemple, la couche miroir 113 est une couche métallique mince, par exemple une couche d’or, d’argent ou d’aluminium, ou une couche constituée d’un alliage d’un ou plusieurs de ces métaux. À titre de variante, la couche miroir 113 est un miroir de Bragg comprenant un empilement de couches diélectriques présentant des indices de réfraction différents.
À titre d’exemple, la couche transparente 201 est en un oxyde, par exemple le dioxyde de silicium (SiO 2 ).
La couche 203 est par exemple électriquement isolante et présente un indice de réfraction supérieur à celui de la couche transparente 201. À titre d’exemple, la couche 203 est en nitrure de silicium (SiN), en silicium amorphe, en dioxyde de titane (TiO 2 ), en alumine (Al 2 O 3 ) ou en pentoxyde de tantale (Ta 2 O 5 ).
La illustre plus précisément une structure obtenue à l’issue d’une étape de structuration, par exemple par photolithographie puis gravure, de la couche 203 de sorte à former les régions 119.
La illustre plus précisément une structure obtenue à l’issue d’étapes successives de dépôt d’une couche transparente 205 et d’une couche 207 en une résine photosensible. Dans l’exemple représenté, la couche transparente 205 comble, ou remplit totalement, tous les espaces libres s’étendant latéralement entre les régions 119 préalablement formées à partir de la couche 203 et revêt les faces des régions 119 opposées à la couche miroir 113 (les faces supérieures des régions 119, dans l’orientation de la ). Cela forme ainsi le réseau de diffraction 117. Dans l’exemple illustré en , la couche 205 est en le même matériau que la couche 201, les couches 201 et 205 formant conjointement la couche transparente 111 précédemment décrite en relation avec la . La couche 207 en résine photosensible revêt la couche 205, c’est-à-dire la couche 111 dans cet exemple.
Une étape de planarisation, par exemple par polissage mécano-chimique (« Chemical and Mechanical Polishing » - CMP, en anglais), de la face supérieure de la couche 205 peut être mise en œuvre préalablement au dépôt de la couche en résine photosensible 207 afin d’en améliorer l’état de surface.
La modification du débit de vapeur à diffuser depuis la base de diffusion de vapeur 2 vers l’accessoire de diffusion de vapeur 3, 4, 5 peut s’avérer critique selon l’accessoire de diffusion de vapeur 3, 4, 5 qui est relié à la base de diffusion de vapeur 2. C’est pourquoi, le processeur est préférentiellement configuré pour placer ce débit au sein d’une de trois gammes de débit différentes, dans lequel une première des trois gammes de débit s’étend de 30 g/min à 55 g/min, qui correspond aux débits consommés par un accessoire de nettoyage 4, une deuxième des trois gammes de débit s’étend de 120 g/min à 180 g/min, qui correspond aux débits consommés par un accessoire de repassage 3, et une troisième des trois gammes de débit s’étend de 120 g/min à 170 g/min, qui correspond aux débits consommés par un accessoire de défroissage 5. Avantageusement, cet ajustement du débit peut également être réalisé à l’aide d’un élément de restriction 76, décrit plus en détails ci-après.
Grâce au processeur, il est possible d’adapter un fonctionnement de la base de diffusion de vapeur 2 en fonction de l’accessoire de diffusion de vapeur 3, 4, 5 qui est relié à la base de diffusion de vapeur 2. Pour ce faire, la base de diffusion de vapeur 2 comprend un capteur (non représenté), typiquement agencé à l’intérieur du carter 20, par exemple du côté du canal de connexion 2022 opposé à l’ouverture de connexion 2021. Le capteur est configuré pour mesurer une valeur de la résistance électrique d’un composant électronique 82251 logé au sein de l’organe de connexion 8, décrit plus en détails ci-après. Cette mesure est mise en œuvre par le capteur une fois l’accessoire de diffusion de vapeur 3, 4, 5 relié à la base de diffusion de vapeur 2 au moyen de l’organe de connexion 8. Le processeur est alors configuré pour piloter le fonctionnement de la base de diffusion de vapeur 2 en fonction de la valeur de la résistance électrique relevée par le capteur. A cet égard, le capteur est adapté pour communiquer avec le processeur, soit par des moyens filaires, soit à distance, typiquement par l’intermédiaire d’un réseau électromagnétique du type Wifi ou Bluetooth. Ainsi, de manière simple, peu coûteuse, sûre et rapide, il est possible d’utiliser des accessoires de diffusion de vapeur de plusieurs types avec une même base de diffusion de vapeur 2.
Accessoire de diffusion de vapeur Comme visible sur la , l’accessoire de diffusion de vapeur 3, 4, 5 comprend un organe de diffusion de vapeur 6, un cordon 7 et un organe de connexion 8.
Organe de diffusion de vapeur L’organe de diffusion de vapeur 6 est prévu pour projeter la vapeur produite par la base de diffusion de vapeur 2. A cet égard, la vapeur transite par le cordon 7, une fois celui-ci relié à la base de diffusion de vapeur 2 au moyen de l’organe de connexion 8.
Pour adapter le débit de vapeur produit au sein de la base de diffusion de vapeur 2 aux organes de diffusion de vapeur 6 de l’accessoire de diffusion de vapeur 3, 4, 5, un élément de restriction 76 peut être prévu dans l’organe de connexion 8 de l’accessoire de diffusion de vapeur 3, 4, 5, comme décrit plus en détails ci-après. Le cas échéant, l’appareil électroménager 1 peut comprendre une pluralité d’accessoires de diffusion de vapeur 3, 4, 5, dont au moins un est muni d’un tel élément de restriction 76 et au moins un autre en est dépourvu, ou plus précisément dont son embout 75, décrit plus en détails ci-après, est dépourvu.
L’accessoire de diffusion de vapeur 3, 4, 5 est amovible dans la mesure où l’organe de connexion 8 est prévu pour être branché ou débranché de la base de diffusion de vapeur 2. Ceci est particulièrement utile pour adapter l’usage de l’appareil électroménager 1 aux diverses utilisations recherchées. En effet, l’usage d’un accessoire de diffusion de vapeur 3, 4, 5 est déterminé par son organe de diffusion de vapeur 6.
De manière générale, l’organe de diffusion de vapeur 6 comprend une poignée de préhension 67 de laquelle s’étend une tête de diffusion de vapeur 61. La poignée de préhension 67 peut être monobloc avec la tête de diffusion de vapeur 61, ou bien être assemblée et fixée à la tête de diffusion de vapeur 61 au moyen de tout élément de fixation approprié, par exemple des vis.
La poignée de préhension 67 permet une manipulation de l’organe de diffusion de vapeur 6 par un utilisateur, mais aussi le transport de l’accessoire de diffusion de vapeur 3, 4, 5 le cas échéant. A cet égard, la poignée de préhension 67 peut être munie d’éléments d’accroche 6770, visible sur la et la , mais aussi sur la , tels qu’une surface présentant une rugosité plus élevée que le reste de la poignée de préhension 67, la surface s’étendant à partir de la poignée de préhension 67, et ce pour faciliter sa préhension par un utilisateur, typiquement en prévenant un glissement de la main de l’utilisateur sur la poignée de préhension 67.
La poignée de préhension 67 peut relier le cordon 7 à la tête de diffusion de vapeur 61 et, dans certains cas, comme pour l’accessoire de nettoyage 4 et l’accessoire de défroissage 5, permet la diffusion de vapeur depuis le cordon 7 vers la tête de diffusion de vapeur 61. Ceci n’est en effet pas limitatif puisque le cordon 7 peut être relié à toute portion de l’organe de diffusion de vapeur 6 autre que poignée de préhension 67, typiquement au corps principal dans le cas du fer à repasser 3.
En outre, la poignée de préhension 67 peut être munie d’un interrupteur, typiquement une gâchette 671, commandant l’ouverture de l’électrovanne de la base de diffusion de vapeur 2, pour autoriser une diffusion de vapeur depuis le générateur de vapeur 21 vers l’organe de diffusion de vapeur 6, à travers le cordon 7. La gâchette 671 est montée mobile, par exemple par pivotement, sur la poignée de préhension 67 et se trouve reliée à des composants électroniques permettant de transmettre une sollicitation de la gâchette 671 par un utilisateur, par l’intermédiaire de fils électriques 730 s’étendant à l’intérieur du cordon 7, jusqu’au processeur de la base de diffusion de vapeur 2. Le cas échéant, la gâchette 671 peut être monostable, c’est-à-dire peut être amenée manuellement dans une position enfoncée actionnant l’ouverture de l’électrovanne et revenir automatiquement dans une position de repos lorsqu’aucune pression n’est exercé sur elle.
Comme notamment visible sur la , la poignée de préhension 67 peut être munie d’un élément d’accrochage 674 et d’un élément de guidage 675 qui sont, respectivement, destinés à coopérer avec l’organe de retenue 2011 et l’élément d’immobilisation 20112 agencés au niveau de l’espace de rangement 2010 de la base de diffusion de vapeur 2. L’élément d’accrochage 674 prend généralement la forme d’une boucle s’étendant à partir de l’extrémité de la poignée de préhension 67 opposée à la tête de diffusion de vapeur 61, ce qui permet d’éviter toute collision entre la tête de diffusion de vapeur 61 et l’organe de retenue 2011, et facilite le rangement de l’organe de diffusion de vapeur 6 sur la base de diffusion de vapeur 2. En outre, l’élément de guidage 675 peut prendre la forme d’une gorge ménagée au sein de la boucle pour coopérer avec la nervure de l’élément d’immobilisation 20112. Il s’agit en effet de moyens simples, sûrs et peu coûteux à fabriquer. La et la illustrent typiquement un organe de diffusion de vapeur 6 dans la position de suspension dans laquelle l’organe de retenue 2011 et l’élément d’immobilisation 20112 de la base de diffusion de vapeur 2 coopèrent, respectivement, avec l’élément d’accrochage 674 et l’élément d’immobilisation 20112 de la poignée de préhension 67 de l’organe de diffusion de vapeur 6.
La tête de diffusion de vapeur 61 est prévue pour projeter la vapeur produite par la base de diffusion de vapeur 2, sa structure étant adaptée à l’usage souhaité, par exemple le traitement du linge par repassage ou défroissage, ou bien le nettoyage des surfaces. La , la , la illustrent un organe de diffusion de vapeur 6 lorsque l’accessoire de diffusion de vapeur est un accessoire de défroissage 5 prévu pour le défroissage du linge. La , la , la et la illustrent un organe de diffusion de vapeur 6 lorsque l’accessoire de diffusion de vapeur est un fer à repasser 3. La , la , la , la , la , la , la et la illustrent un organe de diffusion de vapeur 6 lorsque l’accessoire de diffusion de vapeur est un accessoire de nettoyage 4 de surfaces.
Le cas échéant, comme notamment visible sur la et la , la tête de diffusion de vapeur 61 peut être munie d’un évidement d’accrochage 676 complémentaire à la butée 2013 de la base de diffusion de vapeur 2. La illustre que, dans le cas d’un organe de diffusion de vapeur 6 d’un accessoire de défroissage 5, l’évidement d’accrochage 676 prend la forme d’une gorge pratiquée au niveau de la surface de la tête de diffusion de vapeur 61 qui est opposée à la poignée de préhension 67, l’espace de rangement 2010 prévoyant un sous-espace 20100, au niveau de l’extrémité inférieure de l’espace de rangement 2010, c’est-à-dire l’extrémité la plus proche de la face support 200 de la base de diffusion de vapeur 2, adapté pour accueillir une portion de la tête de diffusion de vapeur 61 afin d’en limiter l’encombrement.
La , la , la et la illustrent qu’un organe de diffusion de vapeur 6 d’un accessoire de repassage 3 comprend un corps principal formant tête de diffusion de vapeur 61, et une poignée de préhension 67 reliée au corps principal.
La tête de diffusion de vapeur 61 comprend une semelle 65 chauffante destinée à venir en contact avec le linge à traiter, typiquement un vêtement à repasser. La semelle 65 chauffante comprend une matière thermiquement conductrice, telle que du métal, et peut en outre comprendre un revêtement positionné au niveau de sa surface destinée à entrer en contact avec le linge, le revêtement étant configuré pour améliorer le glissement sur le linge et/ou éviter de détériorer le linge. Une pluralité d’orifices de diffusion de vapeur (non visibles sur la ) est ménagée à travers la semelle 65 chauffante. A cet égard, la tête de diffusion de vapeur 61 comprend un circuit de diffusion adapté pour alimenter les orifices de diffusion de vapeur avec de la vapeur produite au sein de la base de diffusion de vapeur 2 et transitant par le cordon 7.
La illustre également que la tête de diffusion de vapeur 61 comprend un boîtier 66 délimitant une cavité interne 660, la semelle 65 chauffante étant montée sur la tête de diffusion de vapeur 61 de manière à délimiter, avec le boîtier 66, un passage de communication 6600 entre la cavité interne 660 et l’extérieur de la tête de diffusion de vapeur 61. Le boîtier 66 est prévu pour protéger les composants de l’organe de diffusion de vapeur 6. Typiquement, la illustre qu’un organe de chauffage 6630, 6631, 661 peut être agencé au sein de la cavité interne 660 et être configuré pour chauffer la semelle 65 chauffante. L’organe de chauffage 6630, 6631, 661 est noyé dans la semelle 65 et comporte un élément tubulaire métallique 6630, typiquement en acier cuivré, définissant la paroi externe de l’organe de chauffage 6630, 6631, 661, et un élément conducteur d’électricité, prenant typiquement la forme d’un fil électrique résistif 661, s’étendant à l’intérieur de l’élément tubulaire 6630. L’élément tubulaire 6630 est, par ailleurs, rempli de magnésie 6631 qui assure à la fois l’isolation électrique de l’élément tubulaire 6630 par rapport au fil électrique résistif 661 et la bonne conduction thermique vers la semelle 65. En outre, comme visible sur la , au moins une partie du fil électrique résistif 661 s’étend à l’extérieur de l’élément tubulaire 6630 et comporte une extrémité libre 6610 permettant son raccordement électrique à un câble d’alimentation s’étendant à travers le cordon 7.
Les spécificités du batteur dynamique BD illustré en figures 3 et 4, sont les suivantes :
Une zone d'accroche ZA épouse parfaitement la section de la barre omnibus B. Une zone sensible ZS dont la géométrie nécessité une étude paramétrique en faisant varier le diamètre et la longueur du pylône, ainsi que les rayons de raccordement du pied et de l'épaulement (Zone d’épaulement ZE). Ainsi, l'ajustement de la rigidité et l'aspect cylindrique de cette zone sensible ZS s'accorde avec la fréquence du premier mode à 45Hz d'une part, et permet au batteur d'évoluer dans lesdits premier et deuxième plans pour atteindre son gain optimal.
La zone d'épaulement ZE solidarise le lest MB de son support en élastomère, ce qui permet de privilégier les débattements dans la zone sensible ZS et donc d'activer ses modes propres.
Le téton T réalise le maintien du lest MB à l'extrémité du batteur, sans qu'elle ne puisse s'échapper au cours des sollicitations dynamiques.
L'aiguille A facilite l'insertion du lest MB et sa mise sous tension mécanique.
Enfin, la taille dans un sens longitudinal est un paramètre qui permet de conserver un contact suffisant entre le lest MB et la zone d'épaulement ZE.
Cette campagne d'essais, pour le dimensionnement optimal de cette solution, a permis de confronter 3 types de matériaux : TPU shore 60A - TPU shore 70A - TPU shore 80A. A titre d'information, les deux premiers matériaux nécessitent l'utilisation d'une imprimante 3D tandis que le dernier s'appuie sur la stéréolithographie. Deux lests MB ont également été testés pour accorder ce batteur BD (14 g puis 19 g) sous la zone d’épaulement ZE et plusieurs valeurs associées aux paramètres de la zone sensible ZS ont été utilisées. La solution finale a nécessité l'élaboration de 15 batteurs BD.
La solution retenue est donc un batteur dynamique élaboré autour d'un élastomère type TPU shore 80A, dont le diamètre du pylône est de 6 mm, la longueur de 8 mm, les rayons de raccordement de 3 mm, le téton est positionné à 5 mm de l'épaulement, avec un diamètre d'aiguille de 4mm. La masse inerte du lest est de 14 g, et la masse globale du batteur BD est de 17,5 g.
La illustre des résultats obtenus à l'aide de cette solution. La barre omnibus d’origine B0 (avec de plus fortes amplitudes sur les courbes), de la barre omnibus B équipée du batteur dynamique BD (avec de plus faibles amplitudes sur les courbes). Le graphe du haut représente le gain réalisé, pour chaque mode, en fonction de la vitesse (échelle logarithmique), et le graphe du bas représente le gain réalisé, pour chaque mode, en fonction du déplacement (échelle linéaire).
Le gain ainsi obtenu à l'aide de cette solution permet de réduire de 80% l'amplitude du débattement, et résout le problème de rupture de la barre omnibus B.
Enfin, une solution plus aboutie, en termes d'industrialisation, est en cours de réalisation. Cette ultime étape sera réalisée par injection à l'aide d'un moule en céramique spécifique qui permettra de noyer l'intégralité du lest MB dans le matériau élastomère. Il est également envisagé d'utiliser ce matériau élastomère sous sa forme recyclée.
Cette solution garantit la pérennité des packs batterie, puisqu'elle traite de manière efficace le problème de remontée vibratoire, évitant ainsi de prendre en considération son démontage/remontage au cas où il serait nécessaire de remplacer cette barre omnibus B. Elle pourrait également s'appliquer à n'importe quelle barre omnibus B de grande dimension sur n'importe quel pack batterie.
Cette solution est simple à mettre en œuvre et s'intègre parfaitement et rapidement sur la barre omnibus B sans nuire aux validations sécuritaires précédemment obtenues.
Procédé automatique de gestion écologique de puissance pour une grue L’invention se rapporte à un procédé automatique de gestion de puissance pour l’alimentation en puissance d’une grue.
Elle se rapporte plus particulièrement à un procédé automatique permettant l’usage d’un groupe électrogène et d’une source d’alimentation secondaire rechargeable pour une alimentation en puissance de la grue qui soit moins énergivore et plus écologique possible.
Dans une étape F5, le résolveur 16 résout l’identifiant de nommage compris dans la requête en résolution d’identifiant de nommage RDN et émet dans une étape F6 un message MSG comprenant une adresse IP ou un identifiant associé à au moins un serveur 15 associé à l’identifiant de nommage à résoudre à destination du serveur mandataire 11. Un tel message MSG est un message conforme au protocole DNS.
Dans une étape F7, le serveur mandataire 11 intercepte le message MSG et le transmet, dans une étape F8 à destination de l’équipement via de l’ajout de champs d’entête http propres au présent procédé tels qu’un champ d’entête DNS_ID = ‘example.com’, un champ d’entête DNS_TYPE=’A’ ou encore un champ d’entête DNS_VALUE=’ 103.168.1.1’ indiquant à l’équipement 10 qu’il doit demander le contenu identifié par l’identifiant de domaine « example.com » au serveur 15 dont l’adresse réseau est 193.168.1.1.
Le serveur mandataire 11 embarqué dans le résolveur peut en outre indiquer dans le message MSG une modification du résolveur pour cet identifiant de domaine.
Pour cela, des champs d’entête propres au présent procédé sont ajoutés au message MSG tel qu’un champ d’entête DNS_ROUTE_DOMAIN et un champ d’entête DNS_ROUTE_RESOLVER indiquant à l’équipement 10 que le résolveur 16 est maintenant le résolveur par défaut pour l’identifiant de domaine example.com. Une telle procédure est définie par l’IETF dans le document suivant : https://httpwg.org/http-extensions/draft-ietf-httpbis-message-signatures.html.
A réception du message MSG, l’équipement 10 met à jour la table de routage TRFNS avec ces informations.
Enfin dans une étape F9, l’équipement 10 établit une session de communication avec le serveur 15 dont l’identifiant, par exemple l’adresse IP, était comprise dans le message MSG afin d’obtenir par exemple le contenu associé à la requête http qu’il effectue.
On présente désormais, en relation avec la un diagramme d’échanges entre différents équipements de communication impliqués dans un troisième mode d’implémentation des procédés de traitement d’une requête en résolution d’au moins un identifiant de nommage et de génération d’une autorisation d’exécution, par un serveur mandataire, d’une fonction de résolution d’au moins un identifiant de nommage.
Au cours d’étape G0, le serveur autoritaire 17 associé à l’identifiant de nommage example.com génère une autorisation d’exécution AD associé au serveur mandataire 11 pour l’identifiant de nommage example.com.