INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Lorsqu’on débute la fabrication d’un lot d’étiquettes présentant un identifiant unique, il n’y a donc pas la connaissance certaine des étiquettes qui seront effectivement obtenues à la fin du procédé.
Le procédé selon l’invention comprend donc une étape de contrôle automatique et unitaire des étiquettes, entre une étape de découpe des étiquettes et une étape de conditionnement des étiquettes.
Ce contrôle unitaire peut comprendre les vérifications usuelles du domaine, à savoir la vérification du centrage de l’étiquette, l’absence de tâches, etc. Selon l’invention le contrôle unitaire comprend en outre la vérification de la bonne lisibilité de l’identifiant unique, et deux modes de réalisation prévoient en outre le : - le contrôle du nombre d’étiquettes conformes déjà produites de la référence en cours de contrôle, par rapport au nombre d’étiquettes commandées de cette référence ; et/ou - le contrôle de l’unicité de l’UID au sein des étiquettes produites.
La bonne lisibilité de l’identifiant unique est effectuée au moyen d’un capteur tel qu’un capteur optique, ou une caméra. Ce capteur est relié à un automate de manière à effectuer une reconnaissance optique de caractères. Le contrôle peut simplement consister en la bonne lecture par le capteur d’un code de type code à barre, ou QR code.
Dans les cas où l’unicité de l’identifiant unique doit être vérifiée, ce contrôle est effectué en comparant l’identifiant unique lu avec une liste d’identifiants uniques d’étiquettes déjà produites, dite « grande liste ». La grande liste est enregistrée dans une mémoire inscriptible de l’automate, et est actualisée au fur et à mesure du procédé de fabrication ou de la fabrication de lots successifs : - soit en temps réel à chaque lecture conforme d’un nouvel identifiant unique, - soit à intervalles réguliers lorsqu’un ensemble d’étiquettes conformes a été produit (par exemple à la fin d’un lot de fabrication).
La grande liste peut être administrée par le fabricant (30) d’étiquettes, ou par la marque (10). En pratique, elle est administrée par l’entité qui émet les identifiants uniques et en gère les contraintes afférentes, comme la garantie d’unicité des identifiants émis.
Dans les cas où la complétion de la commande de la marque (10) est vérifiée, le programme d’ordinateur compare le nombre d’étiquettes conformes déjà produites afin d’écarter les étiquettes surnuméraires, référence par référence au sein d’un modèle.
La table 1 ci-dessous illustre un exemple de commande d’une marque (10). Pour un modèle d’article (41) (« Pull NTI1823 »), trois couleurs existent (colonne « couleur »), et le pull est décliné en deux tailles (colonne « taille »).
Chaque combinaison de couleur et de taille définit un article (41) différent (colonne « SKU »), de ce même modèle de pull.
Les quantités d’étiquettes désirées sont indiquées dans la dernière colonne du tableau. Dans cet exemple simplifié, la commande totale est de 13 étiquettes.
La couche diélectrique 132 est réalisé par une technique de déposition telle qu’une déposition chimique en phase vapeur CVD ou LPCVD, assistée par plasma PECVD (en anglais: « Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition » ou physique en phase vapeur PVD ou par des traitements thermiques d’oxydation. La déposition PVD comprend des températures de déposition entre température ambiante et 400 o C, la technique PECVD comprend des températures de déposition entre 150 o C et 400 o C. La déposition LPCVD comprend des températures de déposition entre 600 et 700 o C. La couche diélectrique 132 est déposée sur, en particulier directement en contact avec, la couche barrière 122.
Ainsi, lors de l’étape d’assemblage V), le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 est assemblé avec le substrat support 100 pour former l’héterostructure 134, en mettant en contact direct la couche diélectrique 132 avec la couche piézoélectrique 108 du substrat comprenant une couche piézoélectrique 106. Ainsi, dans cette deuxième réalisation, l’interface d’assemblage 136 est située entre la couche piézoélectrique 108 et la couche diélectrique 132 du substrat support 100.
Dans une variante, la couche diélectrique 132 peut être une couche ayant une concentration d’hydrogène inférieure à 10 20 at/cm 3 , en particulier inférieure à 10 18 at/cm 3 . Après l’étape de déposition de la couche diélectrique 132 réalisée à une température typiquement comprise entre la température ambiante et 1000°C, dépendant de la technique de déposition utilisée, un recuit de densification peut être réalisé pour réduire la concentration d’hydrogène dans cette couche diélectrique 132. Par exemple, si la couche diélectrique est réalisée par une déposition PVD, la température est comprise entre la température ambiante et 400 o C, pour une déposition PECVD, entre 150 o C et 400 o C, une déposition LPCVD entre 600 o C et 700 o C, et pour une oxydation thermique, la température est comprise entre 800 o C et 1000 o C.
Ce recuit est un recuit sous atmosphère pauvre en hydrogène, i.e. inférieure à 5 ppm, et expose la couche diélectrique 132 à base d’Oxyde de Silicium à une température supérieure à sa température de dépôt. Il peut s'agir d'une atmosphère neutre ou oxydante. Préférentiellement cette température est supérieure à 800°C, typiquement comprise entre 800°C et 1000°C. Le recuit est poursuivi pendant au moins une heure, et préférentiellement pendant plusieurs heures, enfin d'exodiffuser l'hydrogène de la couche diélectrique 132, et éventuellement de la couche de piégeage 102. A l'issue de ce recuit de densification, la couche diélectrique 132 présente une concentration d'hydrogène inférieure à 10 20 at/cm 3 .
Dans une variante, la couche diélectrique 132 peut être fournie sur la couche piézoélectrique 108 du substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 au lieu d’être fournie sur le substrat support 100. Dans ce cas, l’étape de formation de la couche diélectrique 132 est réalisée avant ou après l’étape de formation de la zone de fragilisation 112 dans la couche piézoélectrique 108. Dans ce cas, l’assemblage du substrat support 100 avec le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 est réalisée à l’interface entre la couche diélectrique 132 du substrat piézoélectrique 106 et la structure barrière 120 du substrat support 100.
Dans une autre variante, une couche diélectrique peut être fournie sur les deux substrats, le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 et sur le substrat support 100. Dans ce cas, l’étape de formation de la couche diélectrique est réalisée avant ou après l’étape de formation de la zone de fragilisation 112 dans la couche piézoélectrique 108. L’assemblage du substrat support 100 avec le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 est ensuite réalisée à l’interface entre deux couches diélectriques. Par exemple, avec des liaisons de type oxyde – oxyde, en particulier une liaison de type Si-O-Si, qui permet une liaison par force moléculaire stable.
Dans une autre variante, une couche diélectrique d’un premier matériau peut être fournie sur le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 et une couche diélectrique d’un deuxième matériau peut être fournie sur le substrat support 100, le premier matériau étant différent du deuxième matériau. Par exemple, la couche diélectrique fournie sur le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 est une couche de Si 3 N 4 alors que la couche diélectrique fournie sur le substrat support 100 est une couche de SiO x N y , en particulier du SiON. Ainsi, l’assemblage du substrat support 100 avec le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 est ensuite réalisée à l’interface entre deux couches diélectriques Si 3 N 4 - SiO x N y qui permet une liaison stable.
Ainsi, lors de l’étape d’assemblage IV), le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 est assemblé avec le substrat support 100 pour former l’héterostructure 140 en mettant en contact la couche barrière 122’ avec le substrat piézoélectrique 106. Ainsi, dans cette variante, l’assemblage est réalisé à l’interface 142 entre la couche piézoélectrique 108 et la couche barrière 122’ du substrat support 100.
Dans une autre variante, la couche barrière 122’ peut être fournie sur le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 et sur le substrat support 100. Dans ce cas, l’étape de formation de la couche barrière 122’ est réalisée avant ou après l’étape de formation de la zone de fragilisation 112 dans la couche piézoélectrique 108. L’assemblage du substrat support 100 avec le substrat comprenant une couche piézoélectrique 106 est ensuite réalisée à l’interface entre les deux couches barrières.
Chacun des volets mobiles comprend ici deux lignes de motifs 18a, 18b superposées selon l’axe vertical Z. En d’autres termes, les lignes de motifs sont disposées horizontalement les unes au-dessus des autres.
Chaque ligne de motifs comprend une pluralité de motifs alignés suivant la direction transversale Y.
En variante, on pourrait prévoir que chacun des volets mobiles comprend une seule ligne de motifs alignés suivant la direction transversale Y.
On pourrait également prévoir un nombre de lignes de motifs supérieur ou égal à trois.
Les motifs 18a du premier volet 14a sont concomitants avec les motifs 18b du deuxième volet 14b de sorte que la ligne de jonction entre les deux volets 14a, 14b n’est pas rectiligne. Dans le cas de motifs en forme de losange, la ligne de jonction est en dents de scie.
Dans la position de fermeture des volets 14a, 14b, les lignes de motifs, ici de losanges, sont rapprochées de façon que les formes complémentaires des motifs se complètent.
En variante, on pourrait prévoir tout autre forme pour les motifs en reliefs des volets mobiles.
Par ailleurs, le montage du dispositif 11 de guidage du flux d’air est réalisé lors du montage du bouclier, ce qui réduit considérablement les étapes d’assemblage ultérieure et le nombres de pièces dans la ligne de montage.
La illustre uniquement l’agencement du dispositif 11 de guidage du flux d’air. Le dispositif de commande 30 n’a pas été représenté pour ne pas alourdir la figure.
Le mode de réalisation illustré sur les figures 5 et 6, dans lequel les mêmes éléments portent les mêmes références, diffère du mode de réalisation illustré en référence aux figures 1 à 4 uniquement par le fait que le dispositif 11 de guidage du flux d’air ne comprend qu’un seul cadre fixe 12 comprenant une ouverture 13.
Tel qu’illustré, le dispositif 11 de guidage du flux d’air comprend en outre une paire d’organes de guidage d’air ou volets mobiles 14a, 14b pivotant chacun entre une première position de fermeture et une deuxième position d’ouverture.
Dans la position de fermeture, les deux volets mobiles 14a, 14b sont dans une position verticale et obturent ensemble une ouverture 13 du cadre 12 selon une ligne de jonction non rectiligne ou ligne brisée L1, visible sur la .
Dans la position d’ouverture, les deux volets mobiles 14a, 14b sont dans une position horizontale de manière à laisser passer le flux d’air à travers l’ouverture 13 du cadre 12.
Modèle Couleur Taille SKU Qté Pull NTI1823 BLEU 42 NTIBLE42 2 Pull NTI1823 BLEU 44 NTIBLE44 4 Pull NTI1823 BLANC 42 NTIBLA42 3 Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 1 Pull NTI1823 ROUGE 42 NTIROU42 2 Pull NTI1823 ROUGE 44 NTIROU44 1
Le fabricant définit ensuite une première liste (31), illustrée dans la Table 2, et dans laquelle : - un identifiant unique est affecté à chaque article ; - le nombre total d’articles à fabriquer est augmenté en fonction du taux de gâche prévu (pour simplifier la lecture des tableaux, une seule ligne est rajoutée pour chaque article). Dans notre exemple, le lot de fabrication prévoit la fabrication de 19 étiquettes.
Puisque chaque article se voit affecter un UID alors que l’étiquette n’est pas encore livrée (et dans ce cas, pas encore fabriquée), il s’agit d’une affiliation amont, qui permettra à la marque (10) de procéder à des opérations de traçabilité le plus tôt possible (concernant l’étiquette seule, puis concernant l’article (41) dès que l’étiquette y sera fixée).
Modèle Couleur Taille SKU UID Pull NTI1823 BLEU 42 NTIBLE42 54 603 030 Pull NTI1823 BLEU 42 NTIBLE42 39 229 896 Pull NTI1823 BLEU 42 NTIBLE42 23 523 185 Pull NTI1823 BLEU 42 NTIBLE42 61 875 906 Pull NTI1823 BLEU 44 NTIBLE44 62 803 516 Pull NTI1823 BLEU 44 NTIBLE44 60 119 757 Pull NTI1823 BLANC 42 NTIBLA42 10 413 077 Pull NTI1823 BLANC 42 NTIBLA42 27 680 207 Pull NTI1823 BLANC 42 NTIBLA42 50 765 014 Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 58 464 565 Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 43 180 161 Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 32 628 570 Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 85 383 329 Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 98 914 481 Pull NTI1823 ROUGE 42 NTIROU42 71 321 130 Pull NTI1823 ROUGE 42 NTIROU42 67 226 307 Pull NTI1823 ROUGE 42 NTIROU42 67 546 308 Pull NTI1823 ROUGE 44 NTIROU44 63 944 348 Pull NTI1823 ROUGE 44 NTIROU44 40 719 884
Les étiquettes sont ensuite tissées, chacune présentant leur UID. - Dans certains cas, les étiquettes présentent également des données variables (dans notre exemple : couleur et/ou taille et/ou SKU). - Dans d’autres cas, les étiquettes ne présentent pas de données variables complémentaires à l’UID.
Après l’étape de découpe et avant l’étape de conditionnement, les étiquettes sont contrôlées : - les étiquettes dont l’UID n’est pas lisible sont éjectées ; - les étiquettes dont l’UID est lisible sont conditionnées, sauf si la quantité désirée par la marque (10) est déjà atteinte : dans ce cas, les étiquettes surnuméraires, sont également éjectées.
Le résultat de ce contrôle est illustré dans la table 3 ci-dessous.
Modèle Couleur Taille SKU UID Résultat du contrôle Pull NTI1823 BLEU 42 NTIBLE42 54 603 030 conforme Pull NTI1823 BLEU 42 NTIBLE42 39 229 896 conforme Pull NTI1823 BLEU 42 NTIBLE42 23 523 185 NC Pull NTI1823 BLEU 42 NTIBLE42 61 875 906 conforme Pull NTI1823 BLEU 44 NTIBLE44 62 803 516 NC Pull NTI1823 BLEU 44 NTIBLE44 60 119 757 conforme Pull NTI1823 BLANC 42 NTIBLA42 10 413 077 conforme Pull NTI1823 BLANC 42 NTIBLA42 27 680 207 conforme Pull NTI1823 BLANC 42 NTIBLA42 50 765 014 Surnuméraire Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 58 464 565 conforme Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 43 180 161 conforme Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 32 628 570 conforme Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 85 383 329 conforme Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 98 914 481 Surnuméraire Pull NTI1823 ROUGE 42 NTIROU42 71 321 130 NC Pull NTI1823 ROUGE 42 NTIROU42 67 226 307 conforme Pull NTI1823 ROUGE 42 NTIROU42 67 546 308 conforme Pull NTI1823 ROUGE 44 NTIROU44 63 944 348 NC Pull NTI1823 ROUGE 44 NTIROU44 40 719 884 conforme
Les étiquettes conformes sont conditionnées. De préférence, les UID correspondants sont enregistrés au sein d’une seconde liste (32), à destination de la marque (10). Une telle seconde liste (32) est illustrée dans la table 4 ci-dessous. Avantageusement, cette seconde liste (32) comprend en outre un champ d’unité de manutention (colonne « IUM »), permettant à la marque (10) de connaître précisément le contenu de chaque unité de manutention et de savoir facilement quels sont les UID des étiquettes qu’elle remet à chacun de ses façonniers (40).
Modèle Couleur Taille SKU UID IUM Pull NTI1823 BLEU 42 NTIBLE42 54 603 030 1 Pull NTI1823 BLEU 42 NTIBLE42 39 229 896 1 Pull NTI1823 BLEU 42 NTIBLE42 61 875 906 1 Pull NTI1823 BLEU 44 NTIBLE44 60 119 757 2 Pull NTI1823 BLANC 42 NTIBLA42 10 413 077 3 Pull NTI1823 BLANC 42 NTIBLA42 27 680 207 3 Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 58 464 565 4 Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 43 180 161 4 Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 32 628 570 4 Pull NTI1823 BLANC 44 NTIBLA44 85 383 329 4 Pull NTI1823 ROUGE 42 NTIROU42 67 226 307 5 Pull NTI1823 ROUGE 42 NTIROU42 67 546 308 5 Pull NTI1823 ROUGE 44 NTIROU44 40 719 884 6
Dans certains cas, l’unicité de l’identifiant unique ainsi que la complétion sont vérifiées lors du contrôle.
Dans tous les cas, en cas de conformité du contrôle unitaire, l’étiquette est transférée automatiquement en aval de la machine de découpe en vue de son conditionnement.
En revanche si le contrôle est non conforme, alors l’étiquette est écartée automatiquement afin de ne pas être conditionnée : il peut s’agir d’un arrêt de production de la machine, et l’opérateur doit ôter l’étiquette défectueuse avant de relancer la production. De préférence l’étiquette est éjectée automatiquement par des moyens d’éjection automatique, par exemple au moyen d’une soufflette d’air comprimé qui éjecte l’étiquette en direction d’une poubelle, de manière que la production soit ininterrompue.
Dans les cas où les UID sont fournis par la marque, le fabricant (30) peut également fournir à la marque (10) une liste des UID non conformes, c’est-à-dire ceux présents sur la première liste (31) mais absent de la seconde liste (32), afin que la marque (10) puisse désactiver ces UID au sein de son système de données.
Pour que l’acquéreur des étiquettes, c’est-à-dire la marque (10), puisse connaître les identifiants uniques des étiquettes conformes et assurer son suivi de stock ainsi que sa traçabilité, le contrôle unitaire conforme entraîne l’enregistrement de l’identifiant unique dans une seconde liste (32) qui correspond au lot de fabrication en cours. La seconde liste (32) est enregistrée sur une mémoire inscriptible de l’automate, et sera par la suite fournie à la marque (10).
De préférence la seconde liste (32) comprend au moins un champ de données de manutention, permettant de regrouper les identifiants uniques de plusieurs étiquettes au sein de troisièmes listes (33), définies par les unités de manutention des étiquettes. Par exemple, dans le cas d’une marque (10) qui commande 1000 étiquettes à conditionner par sachet de 100, alors la seconde liste (32) de 1000 étiquettes correspond à 10 troisièmes listes (33) de 100 étiquettes chacune. En cas de perte d’une unité de manutention, ou de distribution des unités de manutention à différent façonniers, alors le suivi et la traçabilité désirés par la marque (10) sont facilités.
Dans un autre mode de réalisation, l’homopolyamide de la composition du troisième élément est un homopolyamide semi-cristallin aliphatique.
Les produits des exemples 4 et 5 sont constitués pour plus de 99% en masse d’eau, de bayérite lithiée, de gibbsite et de LiCl.
Pour chaque exemple, la pâte obtenue a ensuite été mise en forme de la manière suivante.
Pour l’exemple 1, la pâte obtenue après filtration a été étalée sur une grille métallique d’épaisseur égale à 1 mm et perforée de trous circulaires de diamètre égal à 1,5 mm, puis raclée à l’aide d’une spatule de chaque côté de la grille de manière à ce que ladite pâte remplisse les trous de ladite grille. La grille est alors dite « chargée ». Une fois que la grille est chargée, elle est placée sous une circulation d’air chaud à 60°C, ce qui permet de « décharger » ladite grille, les objets formés tombant dans un récipient disposé sous la grille. Lesdits objets obtenus se présentent sous la forme de cylindres de longueur moyenne égale à 0,8 mm et de diamètre moyen égal à 1,4 mm.
Pour les exemples 2 à 5, à l’étape h), une charge de départ constituée de la pâte obtenue en fin d’étape g) et d’alginate d’ammonium a été réalisée, la teneur en ledit alginate étant égale à 1% en masse sur la base de la masse de la charge de départ après un séchage à 200°C pendant 16 heures, à la pression atmosphérique.
Ladite pâte et l’alginate d’ammonium ont été mélangés dans un batteur mélangeur planétaire sous air chaud crée par un décapeur thermique réglé sur une température égale à 100°C, pendant 120 minutes de manière à obtenir une charge de départ homogène et présentant une teneur en eau compatible avec la technique de mise en forme.
La charge de départ a ensuite été étalée sur une grille métallique d’épaisseur égale à 1 mm et perforée de trous circulaires de diamètre égal à 1,5 mm, puis raclée à l’aide d’une spatule de chaque côté de la grille de manière à ce que ladite charge de départ remplisse les trous de ladite grille. La grille est alors dite « chargée ». Une fois que la grille est chargée, elle est placée sous une circulation d’air chaud à 60°C, ce qui permet de « décharger » ladite grille, les objets formés tombant dans un récipient disposé sous la grille. Lesdits objets obtenus se présentent sous la forme de cylindres de longueur moyenne égale à 0,8 mm et de diamètre moyen égal à 1,4 mm.
Les exemples 2 et 3, selon l’invention, présentent une capacité d’adsorption du lithium élevée.
Les objets mis en forme des exemples 2 et 3, selon l’invention, présentent une capacité d’adsorption du lithium supérieure à celle de l’exemple 1, conforme à l’art antérieur. Cette comparaison met également en évidence l’importance de limiter la température à 60°C lors du procédé de fabrication du produit.
Une comparaison de l’exemple 4, hors invention et de l’exemple 3, selon l’invention, montre que dans l’exemple 4, un temps t 5 , temps pendant lequel le mélange est à une température supérieure ou égale à 50°C, égal à 35 minutes pour une température à l’étape e) de 60°C conduit à un produit présentant un taux cumulé d’hydroxyde d’aluminium et de boehmite égal à 30%, ce qui limite sa capacité d’adsorption du lithium.
Bien entendu, l'invention n'est pas limitée aux modes de réalisation décrits, fournis seulement à des fins d'illustration.
dispositif de production d’hypochlorite de sodium Description de l’invention La présente invention concerne un dispositif de génération d’hypochlorite de sodium destiné au traitement de l’eau, plus particulièrement pour des bassins privés de type piscine ou, alternativement, pour des bassins collectifs ou à usage industriel Le dispositif de l’invention relève d’un fonctionnement dit OFF-LINE ou hors ligne en ce qu’il n’est pas directement alimenté par l’eau du bassin à traiter, et ne fonctionne donc pas en série avec le circuit hydraulique du bassin proprement dit, mais produit de l’hypochlorite de sodium selon un circuit hydraulique séparé, puis injecte le cas échéant (s’il y a un raccordement) le produit généré dans ledit circuit, en continu.
Dans de tels bassins privés, l’eau est traditionnellement traitée par injection de chlore liquide régulé par des systèmes de dosage, ou par utilisation de chlore solide disponible sous forme de galets. Alternativement, des solutions de désinfection par utilisation de rayonnements ultra-violet, par ozone ou par électrolyse du sel contenu dans le bassin sont utilisés. En bassins à usage collectifs ou industriels, on utilise également du chlore liquide dont le dosage est contrôlé, ou des rayonnements ultra-violets, ou encore de l’hypochlorite de calcium sous forme solide, dosé par un système adéquat.
L’invention se situe dans la famille des systèmes qui sont basés sur l’utilisation de sel, qui mettent en œuvre une électrolyse de sel mis sous forme de solution saline, également dénommée saumure. L’invention propose à cet égard un traitement de l’eau sans adjonction de sel dans le bassin à traiter, comme c’est généralement le cas, ce qui aboutit à une bien meilleure maîtrise des quantités de sel utilisées, et évite en particulier d’en utiliser des quantités importantes non exploitées. L’objectif de l’invention est de proposer un dispositif compact qui produit en continu la quantité d’hypochlorite de sodium nécessaire et suffisante à la purification du bassin traité.
A cet effet, le dispositif de production d’hypochlorite de sodium de l’invention présente d’une part un bloc réacteur d’électrolyse comportant : Une cellule d’électrolyse ; Un premier réservoir d’eau comportant une tubulure d’alimentation en eau adoucie et dont une tubulure de sortie d’eau est reliée à une première pompe ; Un second réservoir de saumure comportant un espace de stockage de sel et comportant une tubulure d’alimentation en eau pour réaliser la saumure par mélange avec le sel stocké, et dont une tubulure de sortie est reliée à une seconde pompe ; et d’autre part une unité électronique de gestion du réacteur d’électrolyse.